光学活性４，４−二置換オキサゾリジン誘導体の製造方法
【課題】光学活性４，４−二置換オキサゾリジン誘導体の製造方法の提供。
【解決手段】下記一般式（Ｉａ）
を有する化合物を製造する方法。
【解決手段】下記一般式（Ｉａ）
を有する化合物を製造する方法。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（ＩＩ）を有する化合物
【化１】
［上記式中、
Ｒは、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ２−Ｃ６アルケニル基、フェニル基又はベンジル基を示し、
Ｒ２は、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ３−Ｃ１０シクロアルキル基又はフェニル基を示し、
Ｒ３は、Ｃ２−Ｃ６アルカノイル基、Ｃ１−Ｃ６アルキルオキシカルボニル基、ベンゾイル基、フェニルオキシカルボニル基又はベンジルオキシカルボニル基を示す。］と、
一般式（ＩＩＩ）を有する化合物
【化２】
［上記式中、
Ｒ４は、Ｃ１−Ｃ６アルキル基又はＣ２−Ｃ６アルケニル基を示し、
Ｚは、ハロゲン原子又は一般式−Ｏ−Ｓ（Ｏ）２ＲＣで表される基を示し、
ＲＣは、メトキシ基、１乃至３個のハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルキル基、ハロゲン原子及びメチル基からなる群から選択される１乃至３個の基で置換されていてもよいフェニル基を示す。］とをアルカリ金属アルコキシド類である塩基及び配位性試薬の存在下、溶媒存在下若しくは非存在下反応を行なうことにより、下記一般式（Ｉａ）
【化３】
［上記式中、Ｒ、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、前記と同意義を示す。］を有する化合物を製造する方法。
【請求項２】
請求項１において、
置換基Ｚのハロゲン原子が、臭素原子又はヨウ素原子である、一般式（Ｉａ）を有する化合物の製造方法。
【請求項３】
請求項１又は２において、
使用される配位性試薬が、ＤＭＰＵ、ＤＭＩ、ＮＭＰ、ＤＭＡｃ、ＤＭＦ、ＤＭＳＯ、ジグライム、トリグライム及びテトラグライムからなる群より選択される１種又は２種以上である、一般式（Ｉａ）を有する化合物の製造方法。
【請求項４】
請求項１又は２において、
使用される配位性試薬が、トリグライム又はテトラグライムである、
一般式（Ｉａ）を有する化合物の製造方法。
【請求項５】
請求項１−４から選択されるいずれか１項において、
使用されるアルカリ金属アルコキシド類である塩基が、ナトリウムｔ−ブトキシド又はカリウムｔ−ブトキシドである、
一般式（Ｉａ）を有する化合物の製造方法。
【請求項６】
請求項１−４から選択されるいずれか１項において、
使用される塩基が、カリウムｔ−ブトキシドである、
一般式（Ｉａ）を有する化合物の製造方法。
【請求項７】
請求項１−６から選択されるいずれか１項において、
使用される溶媒が、テトラヒドロフラン、１，３−ジオキソラン、１，４−ジオキサン及び１，２−ジメトキシエタンからなる群より選択される１種又は２種以上である、
一般式（Ｉａ）を有する化合物の製造方法。
【請求項８】
請求項１−６から選択されるいずれか１項において、
使用される溶媒が、テトラヒドロフラン又は１，２−ジメトキシエタンである、
一般式（Ｉａ）を有する化合物の製造方法。
【請求項９】
請求項１−８から選択されるいずれか１項において、
反応温度が、−２５℃以上１０℃以下である、
一般式（Ｉａ）を有する化合物の製造方法。
【請求項１０】
請求項１−９から選択されるいずれか１項において、
溶媒に配位性試薬、一般式（ＩＩ）を有する化合物及び一般式（ＩＩＩ）を有する化合物を加えた後に塩基を加える、
一般式（Ｉａ）を有する化合物の製造方法。
【請求項１１】
請求項１−１０から選択されるいずれか１項によって製造された
下記一般式（Ｉａ）を有する化合物
【化４】
［上記式中、
Ｒは、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ２−Ｃ６アルケニル基、フェニル基又はベンジル基を示し、
Ｒ２は、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ３−Ｃ１０シクロアルキル基又はフェニル基を示し、
Ｒ３は、Ｃ２−Ｃ６アルカノイル基、Ｃ１−Ｃ６アルキルオキシカルボニル基、ベンゾイル基、フェニルオキシカルボニル基又はベンジルオキシカルボニル基を示し、
Ｒ４は、Ｃ１−Ｃ６アルキル基又はＣ２−Ｃ６アルケニル基を示す。］
を還元剤と溶媒中反応を行なうことにより、下記一般式（Ｉｂ）を有する化合物
【化５】
［上記式中、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、前記と同意義を示す。］を製造する方法。
【請求項１２】
請求項１１において、
使用される還元剤が、水素化ホウ素カリウムと塩化リチウムの組み合わせである、
一般式（Ｉｂ）を有する化合物の製造方法。
【請求項１３】
請求項１１又は１２によって製造された下記一般式（Ｉｂ）を有する化合物
【化６】
［上記式中、
Ｒ２は、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ３−Ｃ１０シクロアルキル基又はフェニル基を示し、
Ｒ３は、Ｃ２−Ｃ６アルカノイル基、Ｃ１−Ｃ６アルキルオキシカルボニル基、ベンゾイル基、フェニルオキシカルボニル基又はベンジルオキシカルボニル基を示し、
Ｒ４は、Ｃ１−Ｃ６アルキル基又はＣ２−Ｃ６アルケニル基を示す。］
を酸化剤と溶媒中反応を行なうことにより、下記一般式（Ｉｃ）を有する化合物
【化７】
［上記式中、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、前記と同意義を示す。］を製造する方法。
【請求項１４】
請求項１３において、
使用される酸化剤が、ＴＥＭＰＯ、臭化ナトリウム、次亜塩素酸ナトリウム及び炭酸水素ナトリウムの組み合わせである、
一般式（Ｉｃ）を有する化合物の製造方法。
【請求項１５】
請求項１−１０から選択されるいずれか１項によって製造された
下記一般式（Ｉａ）を有する化合物
【化８】
［上記式中、
Ｒは、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ２−Ｃ６アルケニル基、フェニル基又はベンジル基を示し、
Ｒ２は、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ３−Ｃ１０シクロアルキル基又はフェニル基を示し、
Ｒ３は、Ｃ２−Ｃ６アルカノイル基、Ｃ１−Ｃ６アルキルオキシカルボニル基、ベンゾイル基、フェニルオキシカルボニル基又はベンジルオキシカルボニル基を示し、
Ｒ４は、Ｃ１−Ｃ６アルキル基又はＣ２−Ｃ６アルケニル基を示す。］
を還元剤と溶媒中反応を行なうことにより、下記一般式（Ｉｃ）を有する化合物
【化９】
［上記式中、
Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、前記と同意義を示す。］
を製造する方法。
【請求項１６】
請求項１５において、
使用される還元剤が、水素化ビス（２−メトキシエトキシ）アルミニウムナトリウムである、一般式（Ｉｃ）を有する化合物の製造方法。
【請求項１７】
請求項１３-１６から選択されるいずれか１項によって製造された下記一般式（Ｉｃ）を有する化合物
【化１０】
［上記式中、
Ｒ２は、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ３−Ｃ１０シクロアルキル基又はフェニル基を示し、
Ｒ３は、Ｃ２−Ｃ６アルカノイル基、Ｃ１−Ｃ６アルキルオキシカルボニル基、ベンゾイル基、フェニルオキシカルボニル基又はベンジルオキシカルボニル基を示し、
Ｒ４は、Ｃ１−Ｃ６アルキル基又はＣ２−Ｃ６アルケニル基を示す。］と、
下記一般式（ＩＶ）を有する化合物
【化１１】
［上記式中、
Ｗは、ホスホニウム塩又はホスホン酸エステルを示し、
Ｘは、ビニレン基、硫黄原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基で置換された窒素原子、シリル基で置換された窒素原子、アシル基で置換された窒素原子又は酸素原子を示し、
Ｙは、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、Ｃ１−Ｃ８アルキル基、Ｃ１−Ｃ８アルコキシ基又はＣ２−Ｃ８アルカノイル基を示す。］
とを塩基の存在下、溶媒中縮合反応を行ない、
次に、水素添加反応を行なうことにより、下記一般式（Ｉｄ）を有する化合物
【化１２】
［上記式中、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｘ及びＹは、前記と同意義を示す。］を製造する方法。
【請求項１８】
請求項１７において、
Ｗが、トリフェニルホスホニウムヨージドである、一般式（Ｉｄ）を有する化合物の製造方法。
【請求項１９】
請求項１７又は１８において、
塩基が、カリウムｔ−ブトキシドである、一般式（Ｉｄ）を有する化合物の製造方法。
【請求項２０】
一般式（ＩＶ’’）を有する化合物
【化１３】
［上記式中、
Ｒ５は、置換基群αから選択される基で置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルキル基又は置換基群αから選択される基で置換されていてもよい５−１０員芳香族環基を示すか、
或いは二つのＲ５基は、二つのＲ５基に結合している窒素原子と一緒になって、置換基群αから選択される基で置換されていてもよい４−８員含窒素複素環基を示し、
Ｘは、ビニレン基、硫黄原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基で置換された窒素原子、シリル基で置換された窒素原子、アシル基で置換された窒素原子又は酸素原子を示し、
Ｙは、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、Ｃ１−Ｃ８アルキル基、Ｃ１−Ｃ８アルコキシ基又はＣ２−Ｃ８アルカノイル基を示し、
置換基群αは、ハロゲン原子、シアノ基、Ｃ１−Ｃ８アルキル基、Ｃ１−Ｃ８アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ８アルキルチオ基及びアシル基を示す。］又はその塩と、
一般式（Ａ）を有する化合物
【化１４】
［上記式中、
Ｒ６は、置換基群αから選択される基で置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルキル基、置換基群αから選択される基で置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルコキシ基、置換基群αから選択される基で置換されていてもよい５−１０員芳香族環基基又は置換基群αから選択される基で置換されていてもよい５−１０員芳香族環オキシ基を示し、置換基群αは、上記と同意義を示す。］とを、
一般式（Ｂ）を有する化合物：Ｒ７−Ｖ （Ｂ）
［式中、
Ｒ７は、アシル基を示し、
Ｖは、ハロゲン原子又は一般式−Ｏ−Ｓ（Ｏ）２ＲＣで表される基であり、
ＲＣは、メトキシ基、１乃至３個のハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルキル基又はハロゲン原子及びメチル基からなる群から選択される１乃至３個の基で置換されていてもよいフェニル基を示す。］の存在下に溶媒中反応させて製造した一般式（ＩＶ’）を有する化合物
【化１５】
［上記式中、Ｒ６、Ｖ、Ｘ及びＹは、上記と同意義を示す。］と、
一般式（Ｉｃ）を有する化合物
【化１６】
［上記式中、
Ｒ２は、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ３−Ｃ１０シクロアルキル基又はフェニル基を示し、
Ｒ３は、Ｃ２−Ｃ６アルカノイル基、Ｃ１−Ｃ６アルキルオキシカルボニル基、ベンゾイル基、フェニルオキシカルボニル基又はベンジルオキシカルボニル基を示し、
Ｒ４は、Ｃ１−Ｃ６アルキル基又はＣ２−Ｃ６アルケニル基を示す。］とを塩基の存在下、溶媒中縮合反応を行ない、
次に、水素添加反応を行なうことにより、一般式（Ｉｄ）を有する化合物
【化１７】
［上記式中、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｘ及びＹは、前記と同意義を示す。］を製造する方法。
【請求項１】
下記一般式（ＩＩ）を有する化合物
【化１】
［上記式中、
Ｒは、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ２−Ｃ６アルケニル基、フェニル基又はベンジル基を示し、
Ｒ２は、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ３−Ｃ１０シクロアルキル基又はフェニル基を示し、
Ｒ３は、Ｃ２−Ｃ６アルカノイル基、Ｃ１−Ｃ６アルキルオキシカルボニル基、ベンゾイル基、フェニルオキシカルボニル基又はベンジルオキシカルボニル基を示す。］と、
一般式（ＩＩＩ）を有する化合物
【化２】
［上記式中、
Ｒ４は、Ｃ１−Ｃ６アルキル基又はＣ２−Ｃ６アルケニル基を示し、
Ｚは、ハロゲン原子又は一般式−Ｏ−Ｓ（Ｏ）２ＲＣで表される基を示し、
ＲＣは、メトキシ基、１乃至３個のハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルキル基、ハロゲン原子及びメチル基からなる群から選択される１乃至３個の基で置換されていてもよいフェニル基を示す。］とをアルカリ金属アルコキシド類である塩基及び配位性試薬の存在下、溶媒存在下若しくは非存在下反応を行なうことにより、下記一般式（Ｉａ）
【化３】
［上記式中、Ｒ、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、前記と同意義を示す。］を有する化合物を製造する方法。
【請求項２】
請求項１において、
置換基Ｚのハロゲン原子が、臭素原子又はヨウ素原子である、一般式（Ｉａ）を有する化合物の製造方法。
【請求項３】
請求項１又は２において、
使用される配位性試薬が、ＤＭＰＵ、ＤＭＩ、ＮＭＰ、ＤＭＡｃ、ＤＭＦ、ＤＭＳＯ、ジグライム、トリグライム及びテトラグライムからなる群より選択される１種又は２種以上である、一般式（Ｉａ）を有する化合物の製造方法。
【請求項４】
請求項１又は２において、
使用される配位性試薬が、トリグライム又はテトラグライムである、
一般式（Ｉａ）を有する化合物の製造方法。
【請求項５】
請求項１−４から選択されるいずれか１項において、
使用されるアルカリ金属アルコキシド類である塩基が、ナトリウムｔ−ブトキシド又はカリウムｔ−ブトキシドである、
一般式（Ｉａ）を有する化合物の製造方法。
【請求項６】
請求項１−４から選択されるいずれか１項において、
使用される塩基が、カリウムｔ−ブトキシドである、
一般式（Ｉａ）を有する化合物の製造方法。
【請求項７】
請求項１−６から選択されるいずれか１項において、
使用される溶媒が、テトラヒドロフラン、１，３−ジオキソラン、１，４−ジオキサン及び１，２−ジメトキシエタンからなる群より選択される１種又は２種以上である、
一般式（Ｉａ）を有する化合物の製造方法。
【請求項８】
請求項１−６から選択されるいずれか１項において、
使用される溶媒が、テトラヒドロフラン又は１，２−ジメトキシエタンである、
一般式（Ｉａ）を有する化合物の製造方法。
【請求項９】
請求項１−８から選択されるいずれか１項において、
反応温度が、−２５℃以上１０℃以下である、
一般式（Ｉａ）を有する化合物の製造方法。
【請求項１０】
請求項１−９から選択されるいずれか１項において、
溶媒に配位性試薬、一般式（ＩＩ）を有する化合物及び一般式（ＩＩＩ）を有する化合物を加えた後に塩基を加える、
一般式（Ｉａ）を有する化合物の製造方法。
【請求項１１】
請求項１−１０から選択されるいずれか１項によって製造された
下記一般式（Ｉａ）を有する化合物
【化４】
［上記式中、
Ｒは、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ２−Ｃ６アルケニル基、フェニル基又はベンジル基を示し、
Ｒ２は、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ３−Ｃ１０シクロアルキル基又はフェニル基を示し、
Ｒ３は、Ｃ２−Ｃ６アルカノイル基、Ｃ１−Ｃ６アルキルオキシカルボニル基、ベンゾイル基、フェニルオキシカルボニル基又はベンジルオキシカルボニル基を示し、
Ｒ４は、Ｃ１−Ｃ６アルキル基又はＣ２−Ｃ６アルケニル基を示す。］
を還元剤と溶媒中反応を行なうことにより、下記一般式（Ｉｂ）を有する化合物
【化５】
［上記式中、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、前記と同意義を示す。］を製造する方法。
【請求項１２】
請求項１１において、
使用される還元剤が、水素化ホウ素カリウムと塩化リチウムの組み合わせである、
一般式（Ｉｂ）を有する化合物の製造方法。
【請求項１３】
請求項１１又は１２によって製造された下記一般式（Ｉｂ）を有する化合物
【化６】
［上記式中、
Ｒ２は、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ３−Ｃ１０シクロアルキル基又はフェニル基を示し、
Ｒ３は、Ｃ２−Ｃ６アルカノイル基、Ｃ１−Ｃ６アルキルオキシカルボニル基、ベンゾイル基、フェニルオキシカルボニル基又はベンジルオキシカルボニル基を示し、
Ｒ４は、Ｃ１−Ｃ６アルキル基又はＣ２−Ｃ６アルケニル基を示す。］
を酸化剤と溶媒中反応を行なうことにより、下記一般式（Ｉｃ）を有する化合物
【化７】
［上記式中、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、前記と同意義を示す。］を製造する方法。
【請求項１４】
請求項１３において、
使用される酸化剤が、ＴＥＭＰＯ、臭化ナトリウム、次亜塩素酸ナトリウム及び炭酸水素ナトリウムの組み合わせである、
一般式（Ｉｃ）を有する化合物の製造方法。
【請求項１５】
請求項１−１０から選択されるいずれか１項によって製造された
下記一般式（Ｉａ）を有する化合物
【化８】
［上記式中、
Ｒは、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ２−Ｃ６アルケニル基、フェニル基又はベンジル基を示し、
Ｒ２は、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ３−Ｃ１０シクロアルキル基又はフェニル基を示し、
Ｒ３は、Ｃ２−Ｃ６アルカノイル基、Ｃ１−Ｃ６アルキルオキシカルボニル基、ベンゾイル基、フェニルオキシカルボニル基又はベンジルオキシカルボニル基を示し、
Ｒ４は、Ｃ１−Ｃ６アルキル基又はＣ２−Ｃ６アルケニル基を示す。］
を還元剤と溶媒中反応を行なうことにより、下記一般式（Ｉｃ）を有する化合物
【化９】
［上記式中、
Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、前記と同意義を示す。］
を製造する方法。
【請求項１６】
請求項１５において、
使用される還元剤が、水素化ビス（２−メトキシエトキシ）アルミニウムナトリウムである、一般式（Ｉｃ）を有する化合物の製造方法。
【請求項１７】
請求項１３-１６から選択されるいずれか１項によって製造された下記一般式（Ｉｃ）を有する化合物
【化１０】
［上記式中、
Ｒ２は、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ３−Ｃ１０シクロアルキル基又はフェニル基を示し、
Ｒ３は、Ｃ２−Ｃ６アルカノイル基、Ｃ１−Ｃ６アルキルオキシカルボニル基、ベンゾイル基、フェニルオキシカルボニル基又はベンジルオキシカルボニル基を示し、
Ｒ４は、Ｃ１−Ｃ６アルキル基又はＣ２−Ｃ６アルケニル基を示す。］と、
下記一般式（ＩＶ）を有する化合物
【化１１】
［上記式中、
Ｗは、ホスホニウム塩又はホスホン酸エステルを示し、
Ｘは、ビニレン基、硫黄原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基で置換された窒素原子、シリル基で置換された窒素原子、アシル基で置換された窒素原子又は酸素原子を示し、
Ｙは、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、Ｃ１−Ｃ８アルキル基、Ｃ１−Ｃ８アルコキシ基又はＣ２−Ｃ８アルカノイル基を示す。］
とを塩基の存在下、溶媒中縮合反応を行ない、
次に、水素添加反応を行なうことにより、下記一般式（Ｉｄ）を有する化合物
【化１２】
［上記式中、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｘ及びＹは、前記と同意義を示す。］を製造する方法。
【請求項１８】
請求項１７において、
Ｗが、トリフェニルホスホニウムヨージドである、一般式（Ｉｄ）を有する化合物の製造方法。
【請求項１９】
請求項１７又は１８において、
塩基が、カリウムｔ−ブトキシドである、一般式（Ｉｄ）を有する化合物の製造方法。
【請求項２０】
一般式（ＩＶ’’）を有する化合物
【化１３】
［上記式中、
Ｒ５は、置換基群αから選択される基で置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルキル基又は置換基群αから選択される基で置換されていてもよい５−１０員芳香族環基を示すか、
或いは二つのＲ５基は、二つのＲ５基に結合している窒素原子と一緒になって、置換基群αから選択される基で置換されていてもよい４−８員含窒素複素環基を示し、
Ｘは、ビニレン基、硫黄原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基で置換された窒素原子、シリル基で置換された窒素原子、アシル基で置換された窒素原子又は酸素原子を示し、
Ｙは、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、Ｃ１−Ｃ８アルキル基、Ｃ１−Ｃ８アルコキシ基又はＣ２−Ｃ８アルカノイル基を示し、
置換基群αは、ハロゲン原子、シアノ基、Ｃ１−Ｃ８アルキル基、Ｃ１−Ｃ８アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ８アルキルチオ基及びアシル基を示す。］又はその塩と、
一般式（Ａ）を有する化合物
【化１４】
［上記式中、
Ｒ６は、置換基群αから選択される基で置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルキル基、置換基群αから選択される基で置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルコキシ基、置換基群αから選択される基で置換されていてもよい５−１０員芳香族環基基又は置換基群αから選択される基で置換されていてもよい５−１０員芳香族環オキシ基を示し、置換基群αは、上記と同意義を示す。］とを、
一般式（Ｂ）を有する化合物：Ｒ７−Ｖ （Ｂ）
［式中、
Ｒ７は、アシル基を示し、
Ｖは、ハロゲン原子又は一般式−Ｏ−Ｓ（Ｏ）２ＲＣで表される基であり、
ＲＣは、メトキシ基、１乃至３個のハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルキル基又はハロゲン原子及びメチル基からなる群から選択される１乃至３個の基で置換されていてもよいフェニル基を示す。］の存在下に溶媒中反応させて製造した一般式（ＩＶ’）を有する化合物
【化１５】
［上記式中、Ｒ６、Ｖ、Ｘ及びＹは、上記と同意義を示す。］と、
一般式（Ｉｃ）を有する化合物
【化１６】
［上記式中、
Ｒ２は、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ３−Ｃ１０シクロアルキル基又はフェニル基を示し、
Ｒ３は、Ｃ２−Ｃ６アルカノイル基、Ｃ１−Ｃ６アルキルオキシカルボニル基、ベンゾイル基、フェニルオキシカルボニル基又はベンジルオキシカルボニル基を示し、
Ｒ４は、Ｃ１−Ｃ６アルキル基又はＣ２−Ｃ６アルケニル基を示す。］とを塩基の存在下、溶媒中縮合反応を行ない、
次に、水素添加反応を行なうことにより、一般式（Ｉｄ）を有する化合物
【化１７】
［上記式中、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｘ及びＹは、前記と同意義を示す。］を製造する方法。
【公開番号】特開２０１２−１７６９５４（Ｐ２０１２−１７６９５４Ａ）
【公開日】平成２４年９月１３日（２０１２．９．１３）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１２−８９９３１（Ｐ２０１２−８９９３１）
【出願日】平成２４年４月１１日（２０１２．４．１１）
【分割の表示】特願２００５−３１０８６９（Ｐ２００５−３１０８６９）の分割
【原出願日】平成１７年１０月２６日（２００５．１０．２６）
【出願人】（３０７０１０１６６）第一三共株式会社 (196)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年９月１３日（２０１２．９．１３）
【国際特許分類】
【出願日】平成２４年４月１１日（２０１２．４．１１）
【分割の表示】特願２００５−３１０８６９（Ｐ２００５−３１０８６９）の分割
【原出願日】平成１７年１０月２６日（２００５．１０．２６）
【出願人】（３０７０１０１６６）第一三共株式会社 (196)
【Ｆターム（参考）】
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