光学異方性化合物及びこれを含む樹脂組成物
本発明は、光学異方性が大きく、高分子樹脂との相溶性に優れた化１で表されるシリコン含有化合物に関する。また、本発明は、前記化合物及び高分子樹脂を含む樹脂組成物及び前記樹脂組成物を含む光学部材に関する。本発明の化１で表されるシリコン含有化合物は、高分子樹脂との相溶性に優れ、かつ光学異方性に優れている。従って、化１で表されるシリコン含有化合物を含む高分子樹脂組成物を用いて光学部材を製造することにより、相分離現象がなく、少量で目的の光特性を実現することができる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、高分子樹脂との相溶性に優れ、かつ高い光学異方性を有するシリコン含有化合物に関する。また、本発明は、前記化合物を含む樹脂組成物及び前記樹脂組成物を含む光学部材に関する。
【背景技術】
【０００２】
最近、電子産業が発達するに従い、光学用高分子樹脂の使用が急増している。例えば、ストレージ媒体として使用される光ディスク基板、光学用レンズ、光通信に使用される光ファイバー、映写スクリーン用フレネルレンズ及び液晶ディスプレイに使用されるプリズムシート、偏光板保護フィルム、補償フィルムなど種々の光学用高分子に対する需要が急増している。
【０００３】
このような光学用高分子樹脂は、通常光学的に等方性が要求されているが、高分子樹脂の構造または加工中の応力によって最終生産品の高分子樹脂が異方性を持つことがあり得る。また、光学樹脂が多層構造に挿入されている場合は、各層間での熱膨張／収縮などによって光学的に異方性を持つことがあり得る。
【０００４】
このような光学異方性を持つフィルム、レンズなどが光路中に存在する場合、相変化を起こして信号読取りに悪影響を与えるおそれがあるため、異方性をできるだけ抑制した光学樹脂で構成される光学部材を使用することが好ましい。
【０００５】
一方、人為的に光学的複屈折性を付与する場合もある。例えば、液晶ディスプレイでは、液晶と偏光フィルムに起因した光学的複屈折性によって、斜め方向から見た場合は、コントラストが低下するという問題点がある。この問題を改善するため、特定方向の光学的異方性を付与した高分子樹脂を用いて液晶と偏光フィルムに起因した複屈折性を補償することで、視野角を改善する方法もある。このように、光学的目的として使用される高分子樹脂においては、希望の方向に光特性を制御する必要がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開平２−１２９２１１号
【特許文献２】特開２０００−４４６１４号
【特許文献３】特開２００４−３５３４７号
【特許文献４】特開平８−１１０４０２号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
高分子の光特性を制御する従来の技術としては、特開平２−１２９２１１及び特開２０００−４４６１４のように高分子樹脂の構造を調節して複屈折性を制御する方法が知られている。しかし、この方法は、複屈折性を制御するために共重合体のモノマー組成を変えるなどの煩わしさがあり、モノマーの組成変化による高分子樹脂の他の物性が変化するという問題点がある。
【０００８】
また、高分子樹脂の複屈折性を制御する方法として、異方性物質を添加する方法が知られている。特開２００４−３５３４７号では、光特性を調節するため、異方性物質として針状の無機粒子を導入している。しかし、無機微粒子は、溶媒に対する溶解度が低く、密度が高いため、溶媒への均一な分散が難しく、安定性が落ちて凝集が起こり易くなり、高分子樹脂の透明性を害するおそれがある。また、特開平８−１１０４０２では、低分子有機化合物を添加して高分子樹脂の光特性を調節する方法が開示されている。しかし、通常、大きな異方性を持つ化合物は、結晶化度が高く、溶媒に対する溶解度が低くかつ高分子樹脂との相溶性が低いため、混合後、結晶化して析出されるという問題点があり、しかも、溶媒に溶解されないことがあるが、この問題に対する具体的な解決策は提示されていない。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、上記のような問題点を解決するためになされたもので、本発明の目的は、光学異方性が高く、少量使用で効果的に高分子樹脂の光学特性を制御することができると共に、溶媒に対する溶解度が優れており、高分子樹脂との相溶性に優れた、析出などの問題点がない光学異方性化合物を提供することにある。
【００１０】
また、本発明の目的は、前記光学異方性物質及び高分子樹脂を含む樹脂組成物を提供することにある。
【００１１】
本発明は、下記の化１で表されるシリコン含有化合物を提供する。
【００１２】
【化１】
【００１３】
（式中、
【００１４】
【化２】
【００１５】
は、
【００１６】
【化３】
【００１７】
または
【００１８】
【化４】
【００１９】
を示し、
【００２０】
【化５】
【００２１】
は、
【００２２】
【化６】
【００２３】
または
【００２４】
【化７】
【００２５】
を示し、
【００２６】
【化８】
【００２７】
は、
【００２８】
【化９】
【００２９】
または
【００３０】
【化１０】
【００３１】
を示し、
【００３２】
【化１１】
【００３３】
は、
【００３４】
【化１２】
【００３５】
または
【００３６】
【化１３】
【００３７】
を示し、
Ｑ１乃至Ｑ１２は、それぞれ独立に、−Ｈ、−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｉ、−ＣＮ、−ＣＦ３、−ＯＣＦ３、−Ｒ６、−ＯＲ６、−ＮＨＲ６、−ＮＲ６Ｒ６または−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ６を示し、
Ｚは、ＣまたはＮを示し（ＺがＮの場合、対応するＱ１乃至Ｑ１２との結合は存在しない）、
ｌ、ｍ及びｎは、それぞれ独立に、０〜２の整数を示し（ｌ＋ｍ＋ｎは、１以上の整数である）、
Ｙ、Ｇ１及びＧ２は、それぞれ独立に、−（ＣＨ２）ｒＳｉＷ１Ｗ２（ＣＨ２）ｓ−、−Ｏ−、−ＮＲ６−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−（ＣＨ２）ｑ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ（ＣＨ２）ｑ−、−ＯＣ（＝Ｏ）（ＣＨ２）ｑ−、−（ＣＨ２）ｑＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−（ＣＨ２）ｑＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）（ＣＨ２）ｑ−、−（ＣＨ２）ｑＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ６−、−ＮＲ６Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｓ−または−ＳＣ（＝Ｏ）−を示し（ｑは、０〜５の整数、ｒ及びｓは、それぞれ独立に０〜２の整数である）、
Ｅは、−Ｈ、−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｉ、−ＣＮ、−ＮＣＯ、−ＮＣＳ、−ＳｉＷ１Ｗ２Ｒ６、−Ｒ６、−Ｎ（Ｒ６）２、−ＯＲ６、−ＣＦ３または−ＯＣＦ３を示し、
Ｘ１乃至Ｘ５は、それぞれ独立に、−ＳｉＷ１Ｗ２−、−Ｏ−、−ＮＲ６−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−（ＣＨ２）ｐ−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ６−、−ＮＲ６Ｃ（＝Ｏ）−、−ＮＲ６Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ６−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−または−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−を示し（ｐは、０〜２の整数である）、
Ｗ１は、−Ｒ７、−ＯＲ７、−ＮＨＲ７または−Ｎ（Ｒ７）２を示し、
Ｗ２は、−Ｒ８、−ＯＲ８、−ＮＨＲ８または−Ｎ（Ｒ８）２を示し、
Ｒ１乃至Ｒ８は、それぞれ独立に、−Ｈ、Ｃ１〜Ｃ２０のアルキル、Ｃ１〜Ｃ２０のフルオロアルキル、Ｃ２〜Ｃ２０のアルケニル、Ｃ２〜Ｃ２０のフルオロアルケニル、Ｃ２〜Ｃ２０のアルキニル、Ｃ２〜Ｃ２０のフルオロアルキニル、−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｔＣＨ３、−（ＣＨ２ＣＨＣＨ３Ｏ）ｔＣＨ３または−（ＣＨＣＨ３ＣＨ２Ｏ）ｔＣＨ３を示し（ｔは、１〜５の整数である）、
前記Ｙ、Ｇ１、Ｇ２、Ｅ及びＸ１乃至Ｘ５の少なくとも１つは、Ｓｉ含有置換基を示す（前記Ｓｉ含有置換基は、Ｙ、Ｇ１及びＧ２の場合は、−（ＣＨ２）ｒＳｉＷ１Ｗ２（ＣＨ２）ｓ−、Ｅの場合は、−ＳｉＷ１Ｗ２Ｒ６、Ｘ１乃至Ｘ５の場合は、−ＳｉＷ１Ｗ２−である））
【００３８】
また、本発明は、高分子樹脂及び前記化１で表されるシリコン含有化合物を含む樹脂組成物を提供する。
【００３９】
さらに、本発明は、前記樹脂組成物を含む光学部材を提供する。
【発明の効果】
【００４０】
本発明の化１で表されるシリコン含有化合物は、高分子樹脂との相溶性に優れ、かつ光学異方性に優れた化合物である。従って、化１で表されるシリコン含有化合物を含む高分子樹脂組成物を用いて光学部材を製造することにより、相分離現象がなく、少量で目的の光特性を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４１】
【図１】図１及び図２は、それぞれ実施例３及び実施例４に係る相溶性評価の結果を示す光学顕微鏡写真（ｘ５）である。
【図２】図３及び図４は、それぞれ比較例１及び比較例２に係る相溶性評価の結果を示す光学顕微鏡写真（ｘ５）である。
【発明を実施するための形態】
【００４２】
以下、本発明の詳細を説明する。
【００４３】
本発明の前記化１で表される化合物は、屈折率異方性が０．２以上の光学異方性化合物であって、必ず少なくとも１つのシリコン基を持つ化合物である。具体的には、前記化１において、前記Ｙ、Ｇ１、Ｇ２、Ｅ及びＸ１乃至Ｘ５の少なくとも１つは、Ｓｉ含有置換基であり、前記Ｓｉ含有置換基は、Ｙ、Ｇ１及びＧ２の場合は、−（ＣＨ２）ｒＳｉＷ１Ｗ２（ＣＨ２）ｓ−、Ｅの場合は、−ＳｉＷ１Ｗ２Ｒ６、Ｘ１乃至Ｘ５の場合は、−ＳｉＷ１Ｗ２−である。
【００４４】
本発明の化１において、Ｒ１乃至Ｒ８のＣ１〜Ｃ２０アルキルとしては、例えば、−ＣＨ３、−ＣＨ２ＣＨ３、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３、−ＣＨ（ＣＨ３）２、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３、−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ３、−ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）２などの線状または分岐状アルキルが挙げられるが、これらに限定されない。なお、化１において、Ｒ１乃至Ｒ８のＣ１〜Ｃ２０のフルオロアルキルは、前述のように定義されたアルキル基に少なくとも１つのフルオロ基が水素の代わりに置換されたものであることができる。
【００４５】
また、化１において、Ｒ１乃至Ｒ８のＣ２〜Ｃ２０のアルケニルとしては、例えば、−ＣＨ＝ＣＨ２、−ＣＨ＝ＣＨＣＨ３、−ＣＣＨ３＝ＣＨ２、−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２、−ＣＨ＝ＣＨＣＨ２ＣＨ３、−ＣＨ＝Ｃ（ＣＨ３）２、−ＣＣＨ３＝ＣＨＣＨ３、−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨＣＨ３、−ＣＨ２ＣＣＨ３＝ＣＨ２、−ＣＨＣＨ３ＣＨ＝ＣＨ２、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２などの線状または分岐状アルケニルが挙げられるが、これらに限定されない。なお、化１において、Ｒ１乃至Ｒ８のＣ２〜Ｃ２０のフルオロアルケニルは、前述のように定義されたアルケニル基に少なくとも１つのフルオロ基が水素の代わりに置換されたものであることができる。
【００４６】
さらに、化１において、Ｒ１乃至Ｒ８のＣ２〜Ｃ２０のアルキニルとしては、例えば、−Ｃ≡ＣＨ、−ＣＨ２Ｃ≡ＣＨ、−Ｃ≡ＣＣＨ３、−ＣＨ２ＣＨ２Ｃ≡ＣＨ、−ＣＨＣＨ３Ｃ≡ＣＨ、−ＣＨ２Ｃ≡ＣＣＨ３、−Ｃ≡ＣＣＨ２ＣＨ３などの線状または分岐状アルキニルが挙げられるが、これらに限定されない。なお、 Ｒ１乃至Ｒ８のＣ２〜Ｃ２０のフルオロアルキニルは、前述のように定義されたアルキニル基に少なくとも１つのフルオロ基が水素の代わりに置換されたものであることができる。
【００４７】
また、前記化１において、ｌ＋ｍ＋ｎは、１以上の整数であり、好ましくは、１〜４の整数、より好ましくは、１〜３の整数である。
【００４８】
本発明の化１で表される化合物は、種々の高分子樹脂との混合が容易で、低温でも溶解度が高く、液晶表示装置が通常使用される条件下で、物理的及び化学的に安定しており、かつ熱及び光に対しても安定している。
【００４９】
これによって、前記化１で表される化合物は、種々の高分子樹脂と混合して高分子樹脂の光特性制御に使用されることができる。
【００５０】
前記化１で表される化合物は、より詳しくは、下記の化合物の通りであるが、本発明に係る化合物は、これらに限定されない。
【００５１】
【化１４】
【００５２】
前記化１で表される化合物の製造方法は、次の通りである。但し、下記の反応式は、例示に過ぎず、本発明に係る化合物の製造方法は、これらの反応式に限定されない。
【００５３】
前記化１で表される化合物は、下記の反応式１で製造されることができる。
【００５４】
［反応式１］
【００５５】
【化１５】
【００５６】
（式中、環Ａ、環Ｂ、環Ｃ、環Ｄ、ｌ、ｍ、ｎ、Ｇ１、Ｇ２及びＥは、化１で定義した通りであり、Ｌ１及びＬ２は、それぞれ独立に、ハライド、メシラート、トシラートまたはトリフラートなどの脱離基を示す）
【００５７】
反応式１において、トリメチルシリルアセチレンなどのアセチレン類とＰｄ触媒を用いて上記のトラン化合物を製造することができる。
【００５８】
また、前記化１で表される化合物は、下記の反応式２で製造されることができる。
【００５９】
［反応式２］
【００６０】
【化１６】
【００６１】
（式中、環Ａ、環Ｂ、環Ｃ、環Ｄ、ｌ、ｍ、ｎ、Ｗ１、Ｗ２、ｒ、ｓ、Ｇ１、Ｇ２及びＥは、化１で定義した通りであり、Ｌ１及びＬ２は、反応式１で定義した通りであり、ＬｉまたはＭｇは、アニオンを形成し得る金属であって、Ｌｉ、ｎ−ＢｕＬｉ、Ｍｇなどを意味する）
【００６２】
また、前記化１で表される化合物は、下記の反応式３で製造されることができる。
【００６３】
［反応式３］
【００６４】
【化１７】
【００６５】
（式中、環Ａ、環Ｂ、環Ｃ、環Ｄ、ｌ、ｍ、ｎ、Ｇ１、Ｇ２、Ｒ６及びＥは、化１で定義した通りであり、Ｌ１は、反応式１で定義した通りである）
【００６６】
また、前記化１で表される化合物は、下記の反応式４で製造されることができる。
【００６７】
［反応式４］
【００６８】
【化１８】
【００６９】
（式中、環Ａ、環Ｂ、環Ｃ、環Ｄ、ｌ、ｍ、ｎ、Ｇ１、Ｇ２及びＥは、化１で定義した通りである）
【００７０】
反応式３及び４において、アリール置換反応を用いてＹ＝ＮＲ６、Ｏ、Ｓなどのある化合物を合成することができ、酸化反応によりＳＯ及びＳＯ２を導入することができる。
【００７１】
また、前記化１で表される化合物は、下記の反応式５で製造されることができる。
【００７２】
［反応式５］
【００７３】
【化１９】
【００７４】
（式中、環Ａ、環Ｂ、環Ｃ、環Ｄ、ｌ、ｍ、ｎ、ｑ、Ｇ１、Ｇ２及びＥは、化１で定義した通りであり、Ｌ１及びＬ２は、反応式１で定義した通りであり、ＬｉまたはＭｇは、アニオンを形成し得る金属であって、Ｌｉ、ｎ−ＢｕＬｉ、Ｍｇなどを意味する）
【００７５】
反応式５のように、親核置換反応を通じてＹ＝（ＣＨ２）ｑ、ＣＨ＝ＣＨ、ＣＯの化合物を作ることができる。
【００７６】
また、前記化１で表される化合物は、下記の反応式６で製造されることができる。
【００７７】
［反応式６］
【化２０】
【００７８】
（式中、環Ａ、環Ｂ、環Ｃ、環Ｄ、ｌ、ｍ、ｎ、ｑ、Ｇ１、Ｇ２、Ｒ６及びＥは、化１で定義した通りであり、Ｌ１は、反応式１で定義した通りであり、ＬｉまたはＭｇは、アニオンを形成し得る金属であって、Ｌｉ、ｎ−ＢｕＬｉ、Ｍｇなどを意味する）
【００７９】
また、前記化１で表される化合物は、下記の反応式７で製造されることができる。
【００８０】
［反応式７］
【００８１】
【化２１】
【００８２】
（式中、環Ａ、環Ｂ、環Ｃ、環Ｄ、ｌ、ｍ、ｎ、ｑ、Ｇ１、Ｇ２、Ｒ６及びＥは、化１で定義した通りであり、Ｌ１は、反応式１で定義した通りであり、ＬｉまたはＭｇは、アニオンを形成し得る金属であって、Ｌｉ、ｎ−ＢｕＬｉ、Ｍｇなどを意味し、Ｐは、保護基を示す）
【００８３】
反応式６及び７によれば、ＣＯ２ガスをバブリングしてＣＯ２Ｈ基を作ることができ、（Ｍｅ３ＳｉＯ）２を用いてＯＨ基を導入することができる。ここに、ＳＯＣｌ２、ＣＯＣｌ２、ＭｓＣｌ、ＴｓＣｌ、ＥＤＣ、ＤＣＣなどを用いてエステル化合物を作ることができ、または、ディーン・スタークを用いてエステル化反応を行うことができる。
【００８４】
本発明に係る化１で表される化合物の製造方法は、前記反応式１乃至７で使用した反応物と同一または類似した効果を奏する反応物を使用することができ、または、前記反応式１乃至７と類似したスキームで製造する方法をも含む。
【００８５】
本発明に係る樹脂組成物は、高分子樹脂と本発明の化１で表されるシリコン含有化合物を含むものである。なお、前記化１で表されるシリコン含有化合物は、高分子樹脂の光学特性を制御する役割を果たすことができる。
【００８６】
このような目的として使用する場合、前記化１で表されるシリコン含有化合物は、１種または２種以上を混合して使用することもできる。また、樹脂組成物内において高分子樹脂及び化１で表される化合物の使用量は、重量比で高分子樹脂：化１で表される異方性化合物＝５０：５０〜９９：１、好ましくは、７０：３０〜９９：１、より好ましくは、８０：２０〜９９：１であることができる。
【００８７】
前記化１で表される化合物と混合可能な前記高分子樹脂は、特に制限されず、通常光学的目的として使用される高分子樹脂を使用することができる。例えば、前記高分子樹脂としては、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリアミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルケトン、ポリケトンスルフィド、ポリエーテルスルホン、シクロオレフィンポリマー、ポリスルホン、ポリフェニレンスルフィド、ポリフェニレンオキシド、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアセタール、ポリカーボネート、ポリアクリレート、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール、ポリプロピレン、セルロース、トリアセチルセルロース、エポキシ樹脂、フェノール樹脂などが挙げられるが、これらに制限されない。なお、これらの高分子樹脂は、単独または２種以上を混合して使用することができ、使用量は、特に限定されない。
【００８８】
また、本発明の樹脂組成物は、高分子樹脂と異方性化合物に加え、必要によっては有機溶媒を含むことができる。有機溶媒を含むことで、本発明の樹脂組成物を使用して基材上に塗布（コーティング）することが容易になる。
【００８９】
前記有機溶媒としては、特に限定されず、当該技術分野で公知のものを使用することができる。例えば、シクロヘキサン、シクロペンタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、ブチルベンゼンなどの炭化水素類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン類；酢酸エチル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ガンマ−ブチロラクトンなどのエステル類；２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどのアミド類；クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素、ジクロロエタン、テトラクロロエタン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼンなどのハロゲン類；ｔ−ブチルアルコール、ジアセトンアルコール、グリセリン、モノアセチン、エチレングリコール、トリエチレングリコール、ヘキシレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテルなどのアルコール類；フェノール、パラクロロフェノールなどのフェノール類；メトキシベンゼン、１，２−ジメトキシベンゼン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテルなどのエーテル類などが挙げられるが、これらに制限されない。また、これらの有機溶媒は、単独または２種以上を混合して使用することができ、使用量は、特に限定されない。
【００９０】
また、本発明の樹脂組成物は、必要によって界面活性剤を含むことができる。界面活性剤は、基材上への塗布を容易にするため使用することができる。前記界面活性剤としては、特に限定されず、当該技術分野で公知のものを使用することができ、その添加量は、界面活性剤の種類、混合物の構成成分の組成比、溶媒の種類、基材の種類によって異なる。
【００９１】
また、本発明の樹脂組成物は、他の添加剤として応力緩和剤、平滑化剤などを含むことができる。
【００９２】
本発明に係る光学部材は、本発明の樹脂組成物を含む。
【００９３】
なお、本発明の樹脂組成物を用いてフィルム状の光学部材を製造する場合、前記化１で表される化合物を含む樹脂固形分が、溶媒を含む全体樹脂組成物に対して、通常０．１〜９０重量％、好ましくは、１〜５０重量％、より好ましくは、５〜４０重量％になるようにする。樹脂組成物の濃度が上記の範囲を下回る場合は、フィルムの厚さを確保し難くなり、上記の範囲を上回る場合は、溶液の粘度が大きすぎて均一な厚さのフィルムを得ることが難しい。
【００９４】
また、本発明の樹脂組成物を使用して製造される前記フィルムは、一軸延伸フィルムまたは二軸延伸フィルムであることができ、前記高分子フィルムは、親水性処理や疎水性処理などの表面処理が施されたものであることができ、積層フィルムまたはガラスであることができる。
【００９５】
また、前記フィルムは、本発明の樹脂組成物を使用して、溶融成形法または溶剤キャスト法などで透明フィルムとすることができる。溶剤キャスト法による透明フィルムの製造では、前記樹脂組成物を、金属ドラム、スチールベルト、ポリエステルフィルム、テフロン（登録商標）などの支持体上に塗布し、ローラーを用いて乾燥炉で溶媒を乾燥させた後、支持体からフィルムを剥離して製造することができる。透明フィルム中の残留溶媒量は、通常１０重量％以下、好ましくは、５重量％以下、より好ましくは、１重量％以下である。残留溶媒量が上記の上限を上回る場合は、フィルムの耐熱性が低くなる傾向を示す。なお、製造された透明フィルムは、一軸延伸または二軸延伸によって高分子樹脂の光特性を制御することもできる。
【実施例】
【００９６】
以下、本発明の実施例を挙げて本発明を詳細に説明する。但し、これらの実施例は、本発明の例示に過ぎず、本発明はこれらに限定されない。
【００９７】
（実施例１）
【００９８】
【化２２】
【００９９】
１，４−ジブロモベンゼンを無水ＴＨＦ溶媒に溶かし、−７８℃で１．０当量のｎ−ＢｕＬｉを徐々に加えた。低温で２時間程度攪拌してアニオンを生成した後、１．０５当量の化合物１を滴加した。滴加完了後、徐々に昇温し、常温で２時間程度攪拌を行った。反応終了後、ヘキサンと水で増量し、シリカゲルで精製することで、９５％の収率で化合物２を得た。
【０１００】
化合物２を無水ＴＨＦ溶媒に溶かし、−７８℃で１．０５当量のｎ−ＢｕＬｉを徐々に加えた。低温で２時間程度攪拌してアニオンを生成した後、過量のＣＯ２をバブリングした。反応終了後、１０％ＨＣｌでｐＨを約３程度に調節し、エーテルと水で増量し、シリカゲルで精製することで、８０％の収率で化合物３を得た。
【０１０１】
化合物３と４−シアノ−４’−ヒドロキシビフェニルをＣＨ２Ｃｌ２に溶解させ、ここに１．１当量のＥＤＣと０．１当量のＤＭＡＰを入れ、常温で１０時間程度攪拌を行った。反応終了後、ＣＨ２Ｃｌ２で増量し、ヘキセンで再結晶することで、８５％以上の収率で最終化合物４を得た。この化合物４の１ＨＮＭＲは、下記の通りである。
1HNMR (400MHz, CDCl3): δ 0.30 (s, 6H), 0.69-0.81 (m, 2H), 0.85-0.93 (m, 3H), 1.20-1.39 (m, 8H), 7.62 (d, 2H), 7.35 (d, 2H), 7.67 (d, 2H), 7.70 (d, 2H), 7.74 (d, 2H), 8.17 (d, 2H).
【０１０２】
（実施例２）
【０１０３】
【化２３】
【０１０４】
１，４−ジヨードベンゼンを無水ＴＨＦ溶媒に溶かし、−７８℃で１．０当量のｎ−ＢｕＬｉを徐々に加えた。低温で２時間程度攪拌してアニオンを生成した後、１．０５当量の化合物５を滴加した。滴加完了後、徐々に昇温し、常温で２時間程度攪拌を行った。反応終了後、ヘキサンと水で増量し、シリカゲルで精製することで、９２％の収率で化合物６を得た。
【０１０５】
化合物６をベンゼンに溶かし、０．１当量のＣｕＩ、０．０３当量のＰｄＣｌ２（ＰＰｈ３）２、５．０当量のＤＢＵ、０．５当量のトリメチルシリルアセチレン及び０．４当量のＨ２Ｏを入れ、６０℃で１０時間程度攪拌を行った。反応終了後、１０％ＨＣｌとエーテルで増量し、シリカゲルで精製することで、８３％の収率で最終化合物７を製造した。この化合物７の１ＨＮＭＲは、下記の通りである。
1HNMR (400MHz, CDCl3): δ 0.31 (s, 12H), 0.69-0.80 (m, 4H), 0.86-0.92 (m, 6H), 1.62-1.71 (m, 4H), 7.45-7.54 (m, 8H).
【０１０６】
（実施例３）相溶性の評価
【０１０７】
汎用のアクリレート高分子樹脂（Ｍｗ＝１００，０００）９０重量部と実施例１で合成した化合物１０重量部をエチルアセテート４００重量部（濃度＝２０ｗｔ％）に溶解させ、ガラス上に塗布した後、１１０℃で３分間焼いた。２４時間常温で保管した後、表面から固体が析出されるか否かを光学顕微鏡または肉眼で確認し、その結果を図１に示した。相溶性評価の結果、２４時間後も異方性化合物は析出されなかった。
【０１０８】
（実施例４）相溶性の評価
【０１０９】
実施例１で合成した化合物の代わりに、実施例２で合成した化合物を１０重量部使用した以外は、実施例３と同様にして相溶性を評価し、その結果を図２に示した。相溶性評価の結果、２４時間後も異方性化合物は析出されなかった。
【０１１０】
（比較例１）相溶性の評価
【０１１１】
【化２４】
【０１１２】
ｐ−ヒドロキシ安息香酸をエタノール：水＝７：３の混合溶媒に溶かした後、１．０当量のブロモヘキサンと２．２当量のＫＯＨを入れ、９０℃で１０時間程度攪拌を行った。エタノールを減圧蒸留した後、１０％ＨＣｌ（ａｑ）を徐々に加えてｐＨを１〜３に調節した。生成した固体をろ過及び乾燥処理した後、１．０当量の４−シアノ−４’−ヒドロキシビフェニルと共にＣＨ２Ｃｌ２に溶解させた。ここに１．１当量のＥＤＣと０．１当量のＤＭＡＰを入れ、常温で１０時間程度攪拌を行った。反応終了後、ＣＨ２Ｃｌ２で増量し、シリカゲルで精製することで、最終化合物８を製造した。
【０１１３】
実施例１で合成した化合物の代わりに化合物８を１０重量部使用した以外は、実施例３と同様にして相溶性を評価し、その結果を図３に示した。相溶性評価の結果、フィルム製造後、常温で化合物８がフィルムの表面から析出した。
【０１１４】
（比較例２）相溶性の評価
【０１１５】
【化２５】
【０１１６】
ｐ−ヨードフェノールと同当量のブロモプロパンを１，４−ジオキサンに溶解させ、Ｋ２ＣＯ３ベースでアルキル化反応を行った後、実施例２のＰｄカップリング反応から化合物９を得た。
【０１１７】
実施例１で合成した化合物の代わりに化合物９を１０重量部使用した以外は、実施例３と同様にして相溶性を評価し、その結果を図４に示した。相溶性評価の結果、フィルム製造後、常温で化合物９がフィルムの表面から析出した。
【０１１８】
実施例３〜４及び比較例１〜２の結果から、化１で表される異方性シリコン化合物は、高分子樹脂との相溶性に優れていることがわかる。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、高分子樹脂との相溶性に優れ、かつ高い光学異方性を有するシリコン含有化合物に関する。また、本発明は、前記化合物を含む樹脂組成物及び前記樹脂組成物を含む光学部材に関する。
【背景技術】
【０００２】
最近、電子産業が発達するに従い、光学用高分子樹脂の使用が急増している。例えば、ストレージ媒体として使用される光ディスク基板、光学用レンズ、光通信に使用される光ファイバー、映写スクリーン用フレネルレンズ及び液晶ディスプレイに使用されるプリズムシート、偏光板保護フィルム、補償フィルムなど種々の光学用高分子に対する需要が急増している。
【０００３】
このような光学用高分子樹脂は、通常光学的に等方性が要求されているが、高分子樹脂の構造または加工中の応力によって最終生産品の高分子樹脂が異方性を持つことがあり得る。また、光学樹脂が多層構造に挿入されている場合は、各層間での熱膨張／収縮などによって光学的に異方性を持つことがあり得る。
【０００４】
このような光学異方性を持つフィルム、レンズなどが光路中に存在する場合、相変化を起こして信号読取りに悪影響を与えるおそれがあるため、異方性をできるだけ抑制した光学樹脂で構成される光学部材を使用することが好ましい。
【０００５】
一方、人為的に光学的複屈折性を付与する場合もある。例えば、液晶ディスプレイでは、液晶と偏光フィルムに起因した光学的複屈折性によって、斜め方向から見た場合は、コントラストが低下するという問題点がある。この問題を改善するため、特定方向の光学的異方性を付与した高分子樹脂を用いて液晶と偏光フィルムに起因した複屈折性を補償することで、視野角を改善する方法もある。このように、光学的目的として使用される高分子樹脂においては、希望の方向に光特性を制御する必要がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開平２−１２９２１１号
【特許文献２】特開２０００−４４６１４号
【特許文献３】特開２００４−３５３４７号
【特許文献４】特開平８−１１０４０２号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
高分子の光特性を制御する従来の技術としては、特開平２−１２９２１１及び特開２０００−４４６１４のように高分子樹脂の構造を調節して複屈折性を制御する方法が知られている。しかし、この方法は、複屈折性を制御するために共重合体のモノマー組成を変えるなどの煩わしさがあり、モノマーの組成変化による高分子樹脂の他の物性が変化するという問題点がある。
【０００８】
また、高分子樹脂の複屈折性を制御する方法として、異方性物質を添加する方法が知られている。特開２００４−３５３４７号では、光特性を調節するため、異方性物質として針状の無機粒子を導入している。しかし、無機微粒子は、溶媒に対する溶解度が低く、密度が高いため、溶媒への均一な分散が難しく、安定性が落ちて凝集が起こり易くなり、高分子樹脂の透明性を害するおそれがある。また、特開平８−１１０４０２では、低分子有機化合物を添加して高分子樹脂の光特性を調節する方法が開示されている。しかし、通常、大きな異方性を持つ化合物は、結晶化度が高く、溶媒に対する溶解度が低くかつ高分子樹脂との相溶性が低いため、混合後、結晶化して析出されるという問題点があり、しかも、溶媒に溶解されないことがあるが、この問題に対する具体的な解決策は提示されていない。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、上記のような問題点を解決するためになされたもので、本発明の目的は、光学異方性が高く、少量使用で効果的に高分子樹脂の光学特性を制御することができると共に、溶媒に対する溶解度が優れており、高分子樹脂との相溶性に優れた、析出などの問題点がない光学異方性化合物を提供することにある。
【００１０】
また、本発明の目的は、前記光学異方性物質及び高分子樹脂を含む樹脂組成物を提供することにある。
【００１１】
本発明は、下記の化１で表されるシリコン含有化合物を提供する。
【００１２】
【化１】
【００１３】
（式中、
【００１４】
【化２】
【００１５】
は、
【００１６】
【化３】
【００１７】
または
【００１８】
【化４】
【００１９】
を示し、
【００２０】
【化５】
【００２１】
は、
【００２２】
【化６】
【００２３】
または
【００２４】
【化７】
【００２５】
を示し、
【００２６】
【化８】
【００２７】
は、
【００２８】
【化９】
【００２９】
または
【００３０】
【化１０】
【００３１】
を示し、
【００３２】
【化１１】
【００３３】
は、
【００３４】
【化１２】
【００３５】
または
【００３６】
【化１３】
【００３７】
を示し、
Ｑ１乃至Ｑ１２は、それぞれ独立に、−Ｈ、−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｉ、−ＣＮ、−ＣＦ３、−ＯＣＦ３、−Ｒ６、−ＯＲ６、−ＮＨＲ６、−ＮＲ６Ｒ６または−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ６を示し、
Ｚは、ＣまたはＮを示し（ＺがＮの場合、対応するＱ１乃至Ｑ１２との結合は存在しない）、
ｌ、ｍ及びｎは、それぞれ独立に、０〜２の整数を示し（ｌ＋ｍ＋ｎは、１以上の整数である）、
Ｙ、Ｇ１及びＧ２は、それぞれ独立に、−（ＣＨ２）ｒＳｉＷ１Ｗ２（ＣＨ２）ｓ−、−Ｏ−、−ＮＲ６−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−（ＣＨ２）ｑ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ（ＣＨ２）ｑ−、−ＯＣ（＝Ｏ）（ＣＨ２）ｑ−、−（ＣＨ２）ｑＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−（ＣＨ２）ｑＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）（ＣＨ２）ｑ−、−（ＣＨ２）ｑＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ６−、−ＮＲ６Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｓ−または−ＳＣ（＝Ｏ）−を示し（ｑは、０〜５の整数、ｒ及びｓは、それぞれ独立に０〜２の整数である）、
Ｅは、−Ｈ、−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｉ、−ＣＮ、−ＮＣＯ、−ＮＣＳ、−ＳｉＷ１Ｗ２Ｒ６、−Ｒ６、−Ｎ（Ｒ６）２、−ＯＲ６、−ＣＦ３または−ＯＣＦ３を示し、
Ｘ１乃至Ｘ５は、それぞれ独立に、−ＳｉＷ１Ｗ２−、−Ｏ−、−ＮＲ６−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−（ＣＨ２）ｐ−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ６−、−ＮＲ６Ｃ（＝Ｏ）−、−ＮＲ６Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ６−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−または−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−を示し（ｐは、０〜２の整数である）、
Ｗ１は、−Ｒ７、−ＯＲ７、−ＮＨＲ７または−Ｎ（Ｒ７）２を示し、
Ｗ２は、−Ｒ８、−ＯＲ８、−ＮＨＲ８または−Ｎ（Ｒ８）２を示し、
Ｒ１乃至Ｒ８は、それぞれ独立に、−Ｈ、Ｃ１〜Ｃ２０のアルキル、Ｃ１〜Ｃ２０のフルオロアルキル、Ｃ２〜Ｃ２０のアルケニル、Ｃ２〜Ｃ２０のフルオロアルケニル、Ｃ２〜Ｃ２０のアルキニル、Ｃ２〜Ｃ２０のフルオロアルキニル、−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｔＣＨ３、−（ＣＨ２ＣＨＣＨ３Ｏ）ｔＣＨ３または−（ＣＨＣＨ３ＣＨ２Ｏ）ｔＣＨ３を示し（ｔは、１〜５の整数である）、
前記Ｙ、Ｇ１、Ｇ２、Ｅ及びＸ１乃至Ｘ５の少なくとも１つは、Ｓｉ含有置換基を示す（前記Ｓｉ含有置換基は、Ｙ、Ｇ１及びＧ２の場合は、−（ＣＨ２）ｒＳｉＷ１Ｗ２（ＣＨ２）ｓ−、Ｅの場合は、−ＳｉＷ１Ｗ２Ｒ６、Ｘ１乃至Ｘ５の場合は、−ＳｉＷ１Ｗ２−である））
【００３８】
また、本発明は、高分子樹脂及び前記化１で表されるシリコン含有化合物を含む樹脂組成物を提供する。
【００３９】
さらに、本発明は、前記樹脂組成物を含む光学部材を提供する。
【発明の効果】
【００４０】
本発明の化１で表されるシリコン含有化合物は、高分子樹脂との相溶性に優れ、かつ光学異方性に優れた化合物である。従って、化１で表されるシリコン含有化合物を含む高分子樹脂組成物を用いて光学部材を製造することにより、相分離現象がなく、少量で目的の光特性を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４１】
【図１】図１及び図２は、それぞれ実施例３及び実施例４に係る相溶性評価の結果を示す光学顕微鏡写真（ｘ５）である。
【図２】図３及び図４は、それぞれ比較例１及び比較例２に係る相溶性評価の結果を示す光学顕微鏡写真（ｘ５）である。
【発明を実施するための形態】
【００４２】
以下、本発明の詳細を説明する。
【００４３】
本発明の前記化１で表される化合物は、屈折率異方性が０．２以上の光学異方性化合物であって、必ず少なくとも１つのシリコン基を持つ化合物である。具体的には、前記化１において、前記Ｙ、Ｇ１、Ｇ２、Ｅ及びＸ１乃至Ｘ５の少なくとも１つは、Ｓｉ含有置換基であり、前記Ｓｉ含有置換基は、Ｙ、Ｇ１及びＧ２の場合は、−（ＣＨ２）ｒＳｉＷ１Ｗ２（ＣＨ２）ｓ−、Ｅの場合は、−ＳｉＷ１Ｗ２Ｒ６、Ｘ１乃至Ｘ５の場合は、−ＳｉＷ１Ｗ２−である。
【００４４】
本発明の化１において、Ｒ１乃至Ｒ８のＣ１〜Ｃ２０アルキルとしては、例えば、−ＣＨ３、−ＣＨ２ＣＨ３、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３、−ＣＨ（ＣＨ３）２、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３、−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ３、−ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）２などの線状または分岐状アルキルが挙げられるが、これらに限定されない。なお、化１において、Ｒ１乃至Ｒ８のＣ１〜Ｃ２０のフルオロアルキルは、前述のように定義されたアルキル基に少なくとも１つのフルオロ基が水素の代わりに置換されたものであることができる。
【００４５】
また、化１において、Ｒ１乃至Ｒ８のＣ２〜Ｃ２０のアルケニルとしては、例えば、−ＣＨ＝ＣＨ２、−ＣＨ＝ＣＨＣＨ３、−ＣＣＨ３＝ＣＨ２、−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２、−ＣＨ＝ＣＨＣＨ２ＣＨ３、−ＣＨ＝Ｃ（ＣＨ３）２、−ＣＣＨ３＝ＣＨＣＨ３、−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨＣＨ３、−ＣＨ２ＣＣＨ３＝ＣＨ２、−ＣＨＣＨ３ＣＨ＝ＣＨ２、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２などの線状または分岐状アルケニルが挙げられるが、これらに限定されない。なお、化１において、Ｒ１乃至Ｒ８のＣ２〜Ｃ２０のフルオロアルケニルは、前述のように定義されたアルケニル基に少なくとも１つのフルオロ基が水素の代わりに置換されたものであることができる。
【００４６】
さらに、化１において、Ｒ１乃至Ｒ８のＣ２〜Ｃ２０のアルキニルとしては、例えば、−Ｃ≡ＣＨ、−ＣＨ２Ｃ≡ＣＨ、−Ｃ≡ＣＣＨ３、−ＣＨ２ＣＨ２Ｃ≡ＣＨ、−ＣＨＣＨ３Ｃ≡ＣＨ、−ＣＨ２Ｃ≡ＣＣＨ３、−Ｃ≡ＣＣＨ２ＣＨ３などの線状または分岐状アルキニルが挙げられるが、これらに限定されない。なお、 Ｒ１乃至Ｒ８のＣ２〜Ｃ２０のフルオロアルキニルは、前述のように定義されたアルキニル基に少なくとも１つのフルオロ基が水素の代わりに置換されたものであることができる。
【００４７】
また、前記化１において、ｌ＋ｍ＋ｎは、１以上の整数であり、好ましくは、１〜４の整数、より好ましくは、１〜３の整数である。
【００４８】
本発明の化１で表される化合物は、種々の高分子樹脂との混合が容易で、低温でも溶解度が高く、液晶表示装置が通常使用される条件下で、物理的及び化学的に安定しており、かつ熱及び光に対しても安定している。
【００４９】
これによって、前記化１で表される化合物は、種々の高分子樹脂と混合して高分子樹脂の光特性制御に使用されることができる。
【００５０】
前記化１で表される化合物は、より詳しくは、下記の化合物の通りであるが、本発明に係る化合物は、これらに限定されない。
【００５１】
【化１４】
【００５２】
前記化１で表される化合物の製造方法は、次の通りである。但し、下記の反応式は、例示に過ぎず、本発明に係る化合物の製造方法は、これらの反応式に限定されない。
【００５３】
前記化１で表される化合物は、下記の反応式１で製造されることができる。
【００５４】
［反応式１］
【００５５】
【化１５】
【００５６】
（式中、環Ａ、環Ｂ、環Ｃ、環Ｄ、ｌ、ｍ、ｎ、Ｇ１、Ｇ２及びＥは、化１で定義した通りであり、Ｌ１及びＬ２は、それぞれ独立に、ハライド、メシラート、トシラートまたはトリフラートなどの脱離基を示す）
【００５７】
反応式１において、トリメチルシリルアセチレンなどのアセチレン類とＰｄ触媒を用いて上記のトラン化合物を製造することができる。
【００５８】
また、前記化１で表される化合物は、下記の反応式２で製造されることができる。
【００５９】
［反応式２］
【００６０】
【化１６】
【００６１】
（式中、環Ａ、環Ｂ、環Ｃ、環Ｄ、ｌ、ｍ、ｎ、Ｗ１、Ｗ２、ｒ、ｓ、Ｇ１、Ｇ２及びＥは、化１で定義した通りであり、Ｌ１及びＬ２は、反応式１で定義した通りであり、ＬｉまたはＭｇは、アニオンを形成し得る金属であって、Ｌｉ、ｎ−ＢｕＬｉ、Ｍｇなどを意味する）
【００６２】
また、前記化１で表される化合物は、下記の反応式３で製造されることができる。
【００６３】
［反応式３］
【００６４】
【化１７】
【００６５】
（式中、環Ａ、環Ｂ、環Ｃ、環Ｄ、ｌ、ｍ、ｎ、Ｇ１、Ｇ２、Ｒ６及びＥは、化１で定義した通りであり、Ｌ１は、反応式１で定義した通りである）
【００６６】
また、前記化１で表される化合物は、下記の反応式４で製造されることができる。
【００６７】
［反応式４］
【００６８】
【化１８】
【００６９】
（式中、環Ａ、環Ｂ、環Ｃ、環Ｄ、ｌ、ｍ、ｎ、Ｇ１、Ｇ２及びＥは、化１で定義した通りである）
【００７０】
反応式３及び４において、アリール置換反応を用いてＹ＝ＮＲ６、Ｏ、Ｓなどのある化合物を合成することができ、酸化反応によりＳＯ及びＳＯ２を導入することができる。
【００７１】
また、前記化１で表される化合物は、下記の反応式５で製造されることができる。
【００７２】
［反応式５］
【００７３】
【化１９】
【００７４】
（式中、環Ａ、環Ｂ、環Ｃ、環Ｄ、ｌ、ｍ、ｎ、ｑ、Ｇ１、Ｇ２及びＥは、化１で定義した通りであり、Ｌ１及びＬ２は、反応式１で定義した通りであり、ＬｉまたはＭｇは、アニオンを形成し得る金属であって、Ｌｉ、ｎ−ＢｕＬｉ、Ｍｇなどを意味する）
【００７５】
反応式５のように、親核置換反応を通じてＹ＝（ＣＨ２）ｑ、ＣＨ＝ＣＨ、ＣＯの化合物を作ることができる。
【００７６】
また、前記化１で表される化合物は、下記の反応式６で製造されることができる。
【００７７】
［反応式６］
【化２０】
【００７８】
（式中、環Ａ、環Ｂ、環Ｃ、環Ｄ、ｌ、ｍ、ｎ、ｑ、Ｇ１、Ｇ２、Ｒ６及びＥは、化１で定義した通りであり、Ｌ１は、反応式１で定義した通りであり、ＬｉまたはＭｇは、アニオンを形成し得る金属であって、Ｌｉ、ｎ−ＢｕＬｉ、Ｍｇなどを意味する）
【００７９】
また、前記化１で表される化合物は、下記の反応式７で製造されることができる。
【００８０】
［反応式７］
【００８１】
【化２１】
【００８２】
（式中、環Ａ、環Ｂ、環Ｃ、環Ｄ、ｌ、ｍ、ｎ、ｑ、Ｇ１、Ｇ２、Ｒ６及びＥは、化１で定義した通りであり、Ｌ１は、反応式１で定義した通りであり、ＬｉまたはＭｇは、アニオンを形成し得る金属であって、Ｌｉ、ｎ−ＢｕＬｉ、Ｍｇなどを意味し、Ｐは、保護基を示す）
【００８３】
反応式６及び７によれば、ＣＯ２ガスをバブリングしてＣＯ２Ｈ基を作ることができ、（Ｍｅ３ＳｉＯ）２を用いてＯＨ基を導入することができる。ここに、ＳＯＣｌ２、ＣＯＣｌ２、ＭｓＣｌ、ＴｓＣｌ、ＥＤＣ、ＤＣＣなどを用いてエステル化合物を作ることができ、または、ディーン・スタークを用いてエステル化反応を行うことができる。
【００８４】
本発明に係る化１で表される化合物の製造方法は、前記反応式１乃至７で使用した反応物と同一または類似した効果を奏する反応物を使用することができ、または、前記反応式１乃至７と類似したスキームで製造する方法をも含む。
【００８５】
本発明に係る樹脂組成物は、高分子樹脂と本発明の化１で表されるシリコン含有化合物を含むものである。なお、前記化１で表されるシリコン含有化合物は、高分子樹脂の光学特性を制御する役割を果たすことができる。
【００８６】
このような目的として使用する場合、前記化１で表されるシリコン含有化合物は、１種または２種以上を混合して使用することもできる。また、樹脂組成物内において高分子樹脂及び化１で表される化合物の使用量は、重量比で高分子樹脂：化１で表される異方性化合物＝５０：５０〜９９：１、好ましくは、７０：３０〜９９：１、より好ましくは、８０：２０〜９９：１であることができる。
【００８７】
前記化１で表される化合物と混合可能な前記高分子樹脂は、特に制限されず、通常光学的目的として使用される高分子樹脂を使用することができる。例えば、前記高分子樹脂としては、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリアミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルケトン、ポリケトンスルフィド、ポリエーテルスルホン、シクロオレフィンポリマー、ポリスルホン、ポリフェニレンスルフィド、ポリフェニレンオキシド、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアセタール、ポリカーボネート、ポリアクリレート、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール、ポリプロピレン、セルロース、トリアセチルセルロース、エポキシ樹脂、フェノール樹脂などが挙げられるが、これらに制限されない。なお、これらの高分子樹脂は、単独または２種以上を混合して使用することができ、使用量は、特に限定されない。
【００８８】
また、本発明の樹脂組成物は、高分子樹脂と異方性化合物に加え、必要によっては有機溶媒を含むことができる。有機溶媒を含むことで、本発明の樹脂組成物を使用して基材上に塗布（コーティング）することが容易になる。
【００８９】
前記有機溶媒としては、特に限定されず、当該技術分野で公知のものを使用することができる。例えば、シクロヘキサン、シクロペンタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、ブチルベンゼンなどの炭化水素類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン類；酢酸エチル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ガンマ−ブチロラクトンなどのエステル類；２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどのアミド類；クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素、ジクロロエタン、テトラクロロエタン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼンなどのハロゲン類；ｔ−ブチルアルコール、ジアセトンアルコール、グリセリン、モノアセチン、エチレングリコール、トリエチレングリコール、ヘキシレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテルなどのアルコール類；フェノール、パラクロロフェノールなどのフェノール類；メトキシベンゼン、１，２−ジメトキシベンゼン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテルなどのエーテル類などが挙げられるが、これらに制限されない。また、これらの有機溶媒は、単独または２種以上を混合して使用することができ、使用量は、特に限定されない。
【００９０】
また、本発明の樹脂組成物は、必要によって界面活性剤を含むことができる。界面活性剤は、基材上への塗布を容易にするため使用することができる。前記界面活性剤としては、特に限定されず、当該技術分野で公知のものを使用することができ、その添加量は、界面活性剤の種類、混合物の構成成分の組成比、溶媒の種類、基材の種類によって異なる。
【００９１】
また、本発明の樹脂組成物は、他の添加剤として応力緩和剤、平滑化剤などを含むことができる。
【００９２】
本発明に係る光学部材は、本発明の樹脂組成物を含む。
【００９３】
なお、本発明の樹脂組成物を用いてフィルム状の光学部材を製造する場合、前記化１で表される化合物を含む樹脂固形分が、溶媒を含む全体樹脂組成物に対して、通常０．１〜９０重量％、好ましくは、１〜５０重量％、より好ましくは、５〜４０重量％になるようにする。樹脂組成物の濃度が上記の範囲を下回る場合は、フィルムの厚さを確保し難くなり、上記の範囲を上回る場合は、溶液の粘度が大きすぎて均一な厚さのフィルムを得ることが難しい。
【００９４】
また、本発明の樹脂組成物を使用して製造される前記フィルムは、一軸延伸フィルムまたは二軸延伸フィルムであることができ、前記高分子フィルムは、親水性処理や疎水性処理などの表面処理が施されたものであることができ、積層フィルムまたはガラスであることができる。
【００９５】
また、前記フィルムは、本発明の樹脂組成物を使用して、溶融成形法または溶剤キャスト法などで透明フィルムとすることができる。溶剤キャスト法による透明フィルムの製造では、前記樹脂組成物を、金属ドラム、スチールベルト、ポリエステルフィルム、テフロン（登録商標）などの支持体上に塗布し、ローラーを用いて乾燥炉で溶媒を乾燥させた後、支持体からフィルムを剥離して製造することができる。透明フィルム中の残留溶媒量は、通常１０重量％以下、好ましくは、５重量％以下、より好ましくは、１重量％以下である。残留溶媒量が上記の上限を上回る場合は、フィルムの耐熱性が低くなる傾向を示す。なお、製造された透明フィルムは、一軸延伸または二軸延伸によって高分子樹脂の光特性を制御することもできる。
【実施例】
【００９６】
以下、本発明の実施例を挙げて本発明を詳細に説明する。但し、これらの実施例は、本発明の例示に過ぎず、本発明はこれらに限定されない。
【００９７】
（実施例１）
【００９８】
【化２２】
【００９９】
１，４−ジブロモベンゼンを無水ＴＨＦ溶媒に溶かし、−７８℃で１．０当量のｎ−ＢｕＬｉを徐々に加えた。低温で２時間程度攪拌してアニオンを生成した後、１．０５当量の化合物１を滴加した。滴加完了後、徐々に昇温し、常温で２時間程度攪拌を行った。反応終了後、ヘキサンと水で増量し、シリカゲルで精製することで、９５％の収率で化合物２を得た。
【０１００】
化合物２を無水ＴＨＦ溶媒に溶かし、−７８℃で１．０５当量のｎ−ＢｕＬｉを徐々に加えた。低温で２時間程度攪拌してアニオンを生成した後、過量のＣＯ２をバブリングした。反応終了後、１０％ＨＣｌでｐＨを約３程度に調節し、エーテルと水で増量し、シリカゲルで精製することで、８０％の収率で化合物３を得た。
【０１０１】
化合物３と４−シアノ−４’−ヒドロキシビフェニルをＣＨ２Ｃｌ２に溶解させ、ここに１．１当量のＥＤＣと０．１当量のＤＭＡＰを入れ、常温で１０時間程度攪拌を行った。反応終了後、ＣＨ２Ｃｌ２で増量し、ヘキセンで再結晶することで、８５％以上の収率で最終化合物４を得た。この化合物４の１ＨＮＭＲは、下記の通りである。
1HNMR (400MHz, CDCl3): δ 0.30 (s, 6H), 0.69-0.81 (m, 2H), 0.85-0.93 (m, 3H), 1.20-1.39 (m, 8H), 7.62 (d, 2H), 7.35 (d, 2H), 7.67 (d, 2H), 7.70 (d, 2H), 7.74 (d, 2H), 8.17 (d, 2H).
【０１０２】
（実施例２）
【０１０３】
【化２３】
【０１０４】
１，４−ジヨードベンゼンを無水ＴＨＦ溶媒に溶かし、−７８℃で１．０当量のｎ−ＢｕＬｉを徐々に加えた。低温で２時間程度攪拌してアニオンを生成した後、１．０５当量の化合物５を滴加した。滴加完了後、徐々に昇温し、常温で２時間程度攪拌を行った。反応終了後、ヘキサンと水で増量し、シリカゲルで精製することで、９２％の収率で化合物６を得た。
【０１０５】
化合物６をベンゼンに溶かし、０．１当量のＣｕＩ、０．０３当量のＰｄＣｌ２（ＰＰｈ３）２、５．０当量のＤＢＵ、０．５当量のトリメチルシリルアセチレン及び０．４当量のＨ２Ｏを入れ、６０℃で１０時間程度攪拌を行った。反応終了後、１０％ＨＣｌとエーテルで増量し、シリカゲルで精製することで、８３％の収率で最終化合物７を製造した。この化合物７の１ＨＮＭＲは、下記の通りである。
1HNMR (400MHz, CDCl3): δ 0.31 (s, 12H), 0.69-0.80 (m, 4H), 0.86-0.92 (m, 6H), 1.62-1.71 (m, 4H), 7.45-7.54 (m, 8H).
【０１０６】
（実施例３）相溶性の評価
【０１０７】
汎用のアクリレート高分子樹脂（Ｍｗ＝１００，０００）９０重量部と実施例１で合成した化合物１０重量部をエチルアセテート４００重量部（濃度＝２０ｗｔ％）に溶解させ、ガラス上に塗布した後、１１０℃で３分間焼いた。２４時間常温で保管した後、表面から固体が析出されるか否かを光学顕微鏡または肉眼で確認し、その結果を図１に示した。相溶性評価の結果、２４時間後も異方性化合物は析出されなかった。
【０１０８】
（実施例４）相溶性の評価
【０１０９】
実施例１で合成した化合物の代わりに、実施例２で合成した化合物を１０重量部使用した以外は、実施例３と同様にして相溶性を評価し、その結果を図２に示した。相溶性評価の結果、２４時間後も異方性化合物は析出されなかった。
【０１１０】
（比較例１）相溶性の評価
【０１１１】
【化２４】
【０１１２】
ｐ−ヒドロキシ安息香酸をエタノール：水＝７：３の混合溶媒に溶かした後、１．０当量のブロモヘキサンと２．２当量のＫＯＨを入れ、９０℃で１０時間程度攪拌を行った。エタノールを減圧蒸留した後、１０％ＨＣｌ（ａｑ）を徐々に加えてｐＨを１〜３に調節した。生成した固体をろ過及び乾燥処理した後、１．０当量の４−シアノ−４’−ヒドロキシビフェニルと共にＣＨ２Ｃｌ２に溶解させた。ここに１．１当量のＥＤＣと０．１当量のＤＭＡＰを入れ、常温で１０時間程度攪拌を行った。反応終了後、ＣＨ２Ｃｌ２で増量し、シリカゲルで精製することで、最終化合物８を製造した。
【０１１３】
実施例１で合成した化合物の代わりに化合物８を１０重量部使用した以外は、実施例３と同様にして相溶性を評価し、その結果を図３に示した。相溶性評価の結果、フィルム製造後、常温で化合物８がフィルムの表面から析出した。
【０１１４】
（比較例２）相溶性の評価
【０１１５】
【化２５】
【０１１６】
ｐ−ヨードフェノールと同当量のブロモプロパンを１，４−ジオキサンに溶解させ、Ｋ２ＣＯ３ベースでアルキル化反応を行った後、実施例２のＰｄカップリング反応から化合物９を得た。
【０１１７】
実施例１で合成した化合物の代わりに化合物９を１０重量部使用した以外は、実施例３と同様にして相溶性を評価し、その結果を図４に示した。相溶性評価の結果、フィルム製造後、常温で化合物９がフィルムの表面から析出した。
【０１１８】
実施例３〜４及び比較例１〜２の結果から、化１で表される異方性シリコン化合物は、高分子樹脂との相溶性に優れていることがわかる。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記の化１で表されるシリコン含有化合物。
【化１】
（式中、
【化２】
は、
【化３】
または
【化４】
を示し、
【化５】
は、
【化６】
または
【化７】
を示し、
【化８】
は、
【化９】
または
【化１０】
を示し、
【化１１】
は、
【化１２】
または
【化１３】
を示し、
Ｑ１乃至Ｑ１２は、それぞれ独立に、−Ｈ、−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｉ、−ＣＮ、−ＣＦ３、−ＯＣＦ３、−Ｒ６、−ＯＲ６、−ＮＨＲ６、−ＮＲ６Ｒ６または−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ６を示し、
Ｚは、ＣまたはＮを示し（ＺがＮの場合、対応するＱ１乃至Ｑ１２との結合は存在しない）、
ｌ、ｍ及びｎは、それぞれ独立に、０〜２の整数を示し（ｌ＋ｍ＋ｎは、１以上の整数である）、
Ｙ、Ｇ１及びＧ２は、それぞれ独立に、−（ＣＨ２）ｒＳｉＷ１Ｗ２（ＣＨ２）ｓ−、−Ｏ−、−ＮＲ６−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−（ＣＨ２）ｑ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ（ＣＨ２）ｑ−、−ＯＣ（＝Ｏ）（ＣＨ２）ｑ−、−（ＣＨ２）ｑＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−（ＣＨ２）ｑＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）（ＣＨ２）ｑ−、−（ＣＨ２）ｑＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ６−、−ＮＲ６Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｓ−または−ＳＣ（＝Ｏ）−を示し（ｑは、０〜５の整数、ｒ及びｓは、それぞれ独立に０〜２の整数である）、
Ｅは、−Ｈ、−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｉ、−ＣＮ、−ＮＣＯ、−ＮＣＳ、−ＳｉＷ１Ｗ２Ｒ６、−Ｒ６、−Ｎ（Ｒ６）２、−ＯＲ６、−ＣＦ３または−ＯＣＦ３を示し、
Ｘ１乃至Ｘ５は、それぞれ独立に、−ＳｉＷ１Ｗ２−、−Ｏ−、−ＮＲ６−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−（ＣＨ２）ｐ−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ６−、−ＮＲ６Ｃ（＝Ｏ）−、−ＮＲ６Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ６−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−または−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−を示し（ｐは、０〜２の整数である）、
Ｗ１は、−Ｒ７、−ＯＲ７、−ＮＨＲ７または−Ｎ（Ｒ７）２を示し、
Ｗ２は、−Ｒ８、−ＯＲ８、−ＮＨＲ８または−Ｎ（Ｒ８）２を示し、
Ｒ１乃至Ｒ８は、それぞれ独立に、−Ｈ、Ｃ１〜Ｃ２０のアルキル、Ｃ１〜Ｃ２０のフルオロアルキル、Ｃ２〜Ｃ２０のアルケニル、Ｃ２〜Ｃ２０のフルオロアルケニル、Ｃ２〜Ｃ２０のアルキニル、Ｃ２〜Ｃ２０のフルオロアルキニル、−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｔＣＨ３、−（ＣＨ２ＣＨＣＨ３Ｏ）ｔＣＨ３または−（ＣＨＣＨ３ＣＨ２Ｏ）ｔＣＨ３を示し（ｔは、１〜５の整数である）、
前記Ｙ、Ｇ１、Ｇ２、Ｅ及びＸ１乃至Ｘ５の少なくとも１つは、Ｓｉ含有置換基を示す（前記Ｓｉ含有置換基は、Ｙ、Ｇ１及びＧ２の場合は、−（ＣＨ２）ｒＳｉＷ１Ｗ２（ＣＨ２）ｓ−、Ｅの場合は、−ＳｉＷ１Ｗ２Ｒ６、Ｘ１乃至Ｘ５の場合は、−ＳｉＷ１Ｗ２−である））
【請求項２】
前記ｌ＋ｍ＋ｎは、１〜３の整数であることを特徴とする請求項１に記載のシリコン含有化合物。
【請求項３】
屈折率異方性が０．２以上であることを特徴とする請求項１に記載のシリコン含有化合物。
【請求項４】
下記の反応式１で製造されることを特徴とする請求項１に記載の化合物。
［反応式１］
【化１４】
（式中、環Ａ、環Ｂ、環Ｃ、環Ｄ、ｌ、ｍ、ｎ、Ｇ１、Ｇ２及びＥは、請求項１で定義した通りであり、Ｌ１及びＬ２は、それぞれ独立に、ハライド、メシラート、トシラートまたはトリフラートを示す）
【請求項５】
下記の反応式２で製造されることを特徴とする請求項１に記載の化合物。
［反応式２］
【化１５】
（式中、環Ａ、環Ｂ、環Ｃ、環Ｄ、ｌ、ｍ、ｎ、Ｗ１、Ｗ２、ｒ、ｓ、Ｇ１、Ｇ２及びＥは、請求項１で定義した通りであり、Ｌ１及びＬ２は、それぞれ独立に、ハライド、メシラート、トシラートまたはトリフラートを示す）
【請求項６】
下記の反応式３で製造されることを特徴とする請求項１に記載の化合物。
［反応式３］
【化１６】
（式中、環Ａ、環Ｂ、環Ｃ、環Ｄ、ｌ、ｍ、ｎ、Ｇ１、Ｇ２、Ｒ６及びＥは、請求項１で定義した通りであり、Ｌ１は、ハライド、メシラート、トシラートまたはトリフラートを示す）
【請求項７】
下記の反応式４で製造されることを特徴とする請求項１に記載の化合物。
［反応式４］
【化１７】
（式中、環Ａ、環Ｂ、環Ｃ、環Ｄ、ｌ、ｍ、ｎ、Ｇ１、Ｇ２及びＥは、請求項１で定義した通りである）
【請求項８】
下記の反応式５で製造されることを特徴とする請求項１に記載の化合物。
［反応式５］
【化１８】
（式中、環Ａ、環Ｂ、環Ｃ、環Ｄ、ｌ、ｍ、ｎ、ｑ、Ｇ１、Ｇ２及びＥは、請求項１で定義した通りであり、Ｌ１及びＬ２は、それぞれ独立に、ハライド、メシラート、トシラートまたはトリフラートを示す）
【請求項９】
下記の反応式６で製造されることを特徴とする請求項１に記載の化合物。
［反応式６］
【化１９】
（式中、環Ａ、環Ｂ、環Ｃ、環Ｄ、ｌ、ｍ、ｎ、ｑ、Ｇ１、Ｇ２、Ｒ６及びＥは、請求項１で定義した通りであり、Ｌ１は、ハライド、メシラート、トシラートまたはトリフラートを示す）
【請求項１０】
下記の反応式７で製造されることを特徴とする請求項１に記載の化合物。
［反応式７］
【化２０】
（式中、環Ａ、環Ｂ、環Ｃ、環Ｄ、ｌ、ｍ、ｎ、ｑ、Ｇ１、Ｇ２、Ｒ６及びＥは、請求項１で定義した通りであり、Ｌ１は、ハライド、メシラート、トシラートまたはトリフラートを示し、Ｐは、保護基を示す）
【請求項１１】
高分子樹脂と請求項１乃至１０のいずれか１つに記載のシリコン含有化合物を含む樹脂組成物。
【請求項１２】
前記高分子樹脂：化１で表されるシリコン含有化合物の重量比は、５０：５０〜９９：１であることを特徴とする請求項１１に記載の樹脂組成物。
【請求項１３】
請求項１１に記載の樹脂組成物を含む光学部材。
【請求項１】
下記の化１で表されるシリコン含有化合物。
【化１】
（式中、
【化２】
は、
【化３】
または
【化４】
を示し、
【化５】
は、
【化６】
または
【化７】
を示し、
【化８】
は、
【化９】
または
【化１０】
を示し、
【化１１】
は、
【化１２】
または
【化１３】
を示し、
Ｑ１乃至Ｑ１２は、それぞれ独立に、−Ｈ、−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｉ、−ＣＮ、−ＣＦ３、−ＯＣＦ３、−Ｒ６、−ＯＲ６、−ＮＨＲ６、−ＮＲ６Ｒ６または−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ６を示し、
Ｚは、ＣまたはＮを示し（ＺがＮの場合、対応するＱ１乃至Ｑ１２との結合は存在しない）、
ｌ、ｍ及びｎは、それぞれ独立に、０〜２の整数を示し（ｌ＋ｍ＋ｎは、１以上の整数である）、
Ｙ、Ｇ１及びＧ２は、それぞれ独立に、−（ＣＨ２）ｒＳｉＷ１Ｗ２（ＣＨ２）ｓ−、−Ｏ−、−ＮＲ６−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−（ＣＨ２）ｑ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ（ＣＨ２）ｑ−、−ＯＣ（＝Ｏ）（ＣＨ２）ｑ−、−（ＣＨ２）ｑＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−（ＣＨ２）ｑＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）（ＣＨ２）ｑ−、−（ＣＨ２）ｑＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ６−、−ＮＲ６Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｓ−または−ＳＣ（＝Ｏ）−を示し（ｑは、０〜５の整数、ｒ及びｓは、それぞれ独立に０〜２の整数である）、
Ｅは、−Ｈ、−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｉ、−ＣＮ、−ＮＣＯ、−ＮＣＳ、−ＳｉＷ１Ｗ２Ｒ６、−Ｒ６、−Ｎ（Ｒ６）２、−ＯＲ６、−ＣＦ３または−ＯＣＦ３を示し、
Ｘ１乃至Ｘ５は、それぞれ独立に、−ＳｉＷ１Ｗ２−、−Ｏ−、−ＮＲ６−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−（ＣＨ２）ｐ−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ６−、−ＮＲ６Ｃ（＝Ｏ）−、−ＮＲ６Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ６−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−または−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−を示し（ｐは、０〜２の整数である）、
Ｗ１は、−Ｒ７、−ＯＲ７、−ＮＨＲ７または−Ｎ（Ｒ７）２を示し、
Ｗ２は、−Ｒ８、−ＯＲ８、−ＮＨＲ８または−Ｎ（Ｒ８）２を示し、
Ｒ１乃至Ｒ８は、それぞれ独立に、−Ｈ、Ｃ１〜Ｃ２０のアルキル、Ｃ１〜Ｃ２０のフルオロアルキル、Ｃ２〜Ｃ２０のアルケニル、Ｃ２〜Ｃ２０のフルオロアルケニル、Ｃ２〜Ｃ２０のアルキニル、Ｃ２〜Ｃ２０のフルオロアルキニル、−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｔＣＨ３、−（ＣＨ２ＣＨＣＨ３Ｏ）ｔＣＨ３または−（ＣＨＣＨ３ＣＨ２Ｏ）ｔＣＨ３を示し（ｔは、１〜５の整数である）、
前記Ｙ、Ｇ１、Ｇ２、Ｅ及びＸ１乃至Ｘ５の少なくとも１つは、Ｓｉ含有置換基を示す（前記Ｓｉ含有置換基は、Ｙ、Ｇ１及びＧ２の場合は、−（ＣＨ２）ｒＳｉＷ１Ｗ２（ＣＨ２）ｓ−、Ｅの場合は、−ＳｉＷ１Ｗ２Ｒ６、Ｘ１乃至Ｘ５の場合は、−ＳｉＷ１Ｗ２−である））
【請求項２】
前記ｌ＋ｍ＋ｎは、１〜３の整数であることを特徴とする請求項１に記載のシリコン含有化合物。
【請求項３】
屈折率異方性が０．２以上であることを特徴とする請求項１に記載のシリコン含有化合物。
【請求項４】
下記の反応式１で製造されることを特徴とする請求項１に記載の化合物。
［反応式１］
【化１４】
（式中、環Ａ、環Ｂ、環Ｃ、環Ｄ、ｌ、ｍ、ｎ、Ｇ１、Ｇ２及びＥは、請求項１で定義した通りであり、Ｌ１及びＬ２は、それぞれ独立に、ハライド、メシラート、トシラートまたはトリフラートを示す）
【請求項５】
下記の反応式２で製造されることを特徴とする請求項１に記載の化合物。
［反応式２］
【化１５】
（式中、環Ａ、環Ｂ、環Ｃ、環Ｄ、ｌ、ｍ、ｎ、Ｗ１、Ｗ２、ｒ、ｓ、Ｇ１、Ｇ２及びＥは、請求項１で定義した通りであり、Ｌ１及びＬ２は、それぞれ独立に、ハライド、メシラート、トシラートまたはトリフラートを示す）
【請求項６】
下記の反応式３で製造されることを特徴とする請求項１に記載の化合物。
［反応式３］
【化１６】
（式中、環Ａ、環Ｂ、環Ｃ、環Ｄ、ｌ、ｍ、ｎ、Ｇ１、Ｇ２、Ｒ６及びＥは、請求項１で定義した通りであり、Ｌ１は、ハライド、メシラート、トシラートまたはトリフラートを示す）
【請求項７】
下記の反応式４で製造されることを特徴とする請求項１に記載の化合物。
［反応式４］
【化１７】
（式中、環Ａ、環Ｂ、環Ｃ、環Ｄ、ｌ、ｍ、ｎ、Ｇ１、Ｇ２及びＥは、請求項１で定義した通りである）
【請求項８】
下記の反応式５で製造されることを特徴とする請求項１に記載の化合物。
［反応式５］
【化１８】
（式中、環Ａ、環Ｂ、環Ｃ、環Ｄ、ｌ、ｍ、ｎ、ｑ、Ｇ１、Ｇ２及びＥは、請求項１で定義した通りであり、Ｌ１及びＬ２は、それぞれ独立に、ハライド、メシラート、トシラートまたはトリフラートを示す）
【請求項９】
下記の反応式６で製造されることを特徴とする請求項１に記載の化合物。
［反応式６］
【化１９】
（式中、環Ａ、環Ｂ、環Ｃ、環Ｄ、ｌ、ｍ、ｎ、ｑ、Ｇ１、Ｇ２、Ｒ６及びＥは、請求項１で定義した通りであり、Ｌ１は、ハライド、メシラート、トシラートまたはトリフラートを示す）
【請求項１０】
下記の反応式７で製造されることを特徴とする請求項１に記載の化合物。
［反応式７］
【化２０】
（式中、環Ａ、環Ｂ、環Ｃ、環Ｄ、ｌ、ｍ、ｎ、ｑ、Ｇ１、Ｇ２、Ｒ６及びＥは、請求項１で定義した通りであり、Ｌ１は、ハライド、メシラート、トシラートまたはトリフラートを示し、Ｐは、保護基を示す）
【請求項１１】
高分子樹脂と請求項１乃至１０のいずれか１つに記載のシリコン含有化合物を含む樹脂組成物。
【請求項１２】
前記高分子樹脂：化１で表されるシリコン含有化合物の重量比は、５０：５０〜９９：１であることを特徴とする請求項１１に記載の樹脂組成物。
【請求項１３】
請求項１１に記載の樹脂組成物を含む光学部材。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図２】
【図３】
【図４】
【公表番号】特表２０１０−５２８１１０（Ｐ２０１０−５２８１１０Ａ）
【公表日】平成２２年８月１９日（２０１０．８．１９）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−５１０２３３（Ｐ２０１０−５１０２３３）
【出願日】平成２０年６月４日（２００８．６．４）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＫＲ２００８／００３１２７
【国際公開番号】ＷＯ２００８／１５００９９
【国際公開日】平成２０年１２月１１日（２００８．１２．１１）
【出願人】（５００２３９８２３）エルジー・ケム・リミテッド (1,221)
【Ｆターム（参考）】
【公表日】平成２２年８月１９日（２０１０．８．１９）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年６月４日（２００８．６．４）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＫＲ２００８／００３１２７
【国際公開番号】ＷＯ２００８／１５００９９
【国際公開日】平成２０年１２月１１日（２００８．１２．１１）
【出願人】（５００２３９８２３）エルジー・ケム・リミテッド (1,221)
【Ｆターム（参考）】
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