光学補償フィルム、偏光板、及び液晶表示装置
【課題】消光度が小さく、コントラストの改善に寄与する光学補償フィルム及び偏光板、ならびにコントラストが改善された液晶表示装置の提供。
【解決手段】透明支持体上に液晶化合物を含有する組成物からなる光学異方性層を有する光学補償フィルムであって、該透明支持体がラクトン環単位又はグルタル酸無水物単位を有する重合体を含有するフィルムからなることを特徴とする光学補償フィルム；及び偏光子と、前記光学補償フィルムとを少なくとも有する偏光板である。また、前記偏光板を有する液晶表示装置である。
【解決手段】透明支持体上に液晶化合物を含有する組成物からなる光学異方性層を有する光学補償フィルムであって、該透明支持体がラクトン環単位又はグルタル酸無水物単位を有する重合体を含有するフィルムからなることを特徴とする光学補償フィルム；及び偏光子と、前記光学補償フィルムとを少なくとも有する偏光板である。また、前記偏光板を有する液晶表示装置である。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学補償フィルム、ならびにそれを用いた偏光板及び液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、液晶表示装置の光学補償フィルムとして、ポリマーフィルムからなる透明支持体上に、液晶組成物からなる光学異方性層を有する光学補償フィルムが種々提案されている（例えば、特許文献１）。光学補償フィルムを利用して液晶表示装置を光学補償し、コントラストを改善するためには、光学補償フィルムの消光度を低下させることが重要である。
一方、光学フィルムの作製に有用なポリマー材料が種々提案され、例えば、ラクトン環含有重合体を利用した光学フィルムが提案されている（特許文献２及び３）。
【特許文献１】特許第２５８７３９８号公報
【特許文献２】特開２００６−１７１４６４号公報
【特許文献３】ＷＯ２００６／０２５４４５Ａ１号報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
本発明は、消光度が小さく、コントラストの改善に寄与する光学補償フィルム、及びそれを有する偏光板を提供することを課題とする。
また、本発明は、正面及び斜め方向のコントラストが改善された液晶表示装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
前記課題を解決するための手段は、以下の通りである。
［１］ 透明支持体上に液晶化合物を含有する組成物からなる光学異方性層を有する光学補償フィルムであって、該透明支持体がラクトン環単位又はグルタル酸無水物単位を有する重合体を含有するフィルムからなることを特徴とする光学補償フィルム。
［２］ 前記ラクトン環単位を有する重合体が、下記一般式（１）で表される単位を有する重合体であることを特徴とする［１］の光学補償フィルム。
【化１】
（式中、Ｒ11、Ｒ12及びＲ13はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜２０の有機残基を表す。なお、有機残基は酸素原子を含んでいてもよい。）
【０００５】
［３］ 前記グルタル酸無水物単位を有する重合体が、下記一般式（３）で表される単位を有する重合体であることを特徴とする［１］の光学補償フィルム。
【化２】
（式中、Ｒ31及びＲ32はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜２０の有機残基を表す。なお、有機残基は酸素原子を含んでいてもよい。）
【０００６】
［４］ 前記透明支持体が、更にシアン化ビニル系単量体から誘導される単位と芳香族ビニル系単量体から誘導される単位とを有する共重合体を含むことを特徴とする［１］〜［３］のいずれかの光学補償フィルム。
［５］ 前記透明支持体が、１分子中に２個以上の芳香族環を有するレターデーション上昇剤を更に含むことを特徴とする［１］〜［４］のいずれかの光学補償フィルム。
［６］ 前記透明支持体と前記光学異方性層との間に、配向膜を有することを特徴とする［１］〜［５］のいずれかの光学補償フィルム。
［７］ 偏光子と、［１］〜［６］のいずれかの光学補償フィルムとを少なくとも有する偏光板。
［８］ ［７］の偏光板を少なくとも一枚有する液晶表示装置。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、液晶表示装置の光学補償に寄与するとともに、消光度が小さい光学補償フィルム、及びそれを有する偏光板を提供することができる。
また、本発明によれば、正面及び斜め方向のコントラストが改善された液晶表示装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
以下、本発明について詳細に説明する。なお、本明細書において「〜」とはその前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。
［光学補償フィルム］
本発明は、透明支持体上に液晶化合物を含有する組成物からなる光学異方性層を有する光学補償フィルムであって、該透明支持体がラクトン環単位又はグルタル酸無水物単位を有する重合体を含有するフィルムからなることを特徴とする光学補償フィルムに関する。本発明では、透明支持体として、ラクトン環単位又はグルタル酸無水物単位を有する重合体を含有するフィルムを用いることで、光学補償フィルムとしての消光度を低下させている。本発明の光学補償フィルムは、消光度０．００１５以下を達成可能である。この消光度は、小さければ小さいほどよいが、許容できる上限の値は、消光度と共に連動して変化する他のパラメータの値（例えばヘイズ値など）を考慮して決定される。なお、消光度は、クロスニコルに配置した２枚の偏光板間に、透過率が最小になるように位相差膜を配置した時に測定される透過光量を、偏光板をパラニコルにして光学補償フィルムを置かない時の透過光量で割った値として測定することができる。
【０００９】
（支持体）
本発明では、前記透明支持体として、ラクトン環単位又はグルタル酸無水物単位を有する重合体を含有するフィルムを用いる。
・ ラクトン環単位を有する重合体（以下、「ラクトン環含有重合体」という）
本発明に使用可能なラクトン環含有重合体は、重合体中にラクトン環構造を有するものであり、好ましくは下記一般式（１）で表されるラクトン環構造を有するものである。
【００１０】
【化３】
【００１１】
式中、Ｒ11、Ｒ12及びＲ13はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜２０の有機残基を表す。なお、ここでいう有機残基は、酸素原子を含んでいてもよい。有機残基の炭素原子数は１〜１５が好ましく、１〜１２がより好ましく、１〜８がさらに好ましく、１〜５がさらにより好ましい。有機残基として、置換又は無置換のアルキル基、置換又は無置換のアリール基、置換又は無置換のアルコシ基などを挙げることができ、アルキル基が好ましい。置換基としては、アルキル基、アリール基、アルコキシ基などを挙げることができる。Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13として、より好ましくは水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基であり、さらに好ましくは水素原子、メチル基、エチル基であり、さらにより好ましくは水素原子、メチル基である。
【００１２】
ラクトン環含有重合体構造中の一般式（１）で表されるラクトン環構造の含有割合は、好ましくは５〜９０質量％、より好ましくは１０〜７０質量％、さらに好ましくは１０〜６０質量％、特に好ましくは１０〜５０質量％である。ラクトン環含有重合体構造中の一般式（１）で表されるラクトン環構造の含有割合が５質量％以上であれば、十分な耐熱性、耐溶剤性、表面硬度が得られやすい傾向がある。また、ラクトン環含有重合体構造中の一般式（１）で表されるラクトン環構造の含有割合が９０質量％以下であれば、より高い成形加工性が得られやすい傾向がある。
【００１３】
ラクトン環含有重合体は、一般式（１）で表されるラクトン環構造以外の構造を有していてもよい。一般式（１）で表されるラクトン環構造以外の構造としては、特に限定されないが、ラクトン環含有重合体の製造方法として、後に説明するような（メタ）アクリル酸エステル、水酸基含有単量体、不飽和カルボン酸、及び下記一般式（２ａ）で表される単量体から選ばれる少なくとも１種を重合して構築される重合体構造単位（繰り返し構造単位）が好ましい。
【００１４】
【化４】
【００１５】
（式中、Ｒ24は水素原子又はメチル基を表し、Ｘは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、アリール基、アセテート基、シアノ基、−ＣＯ−Ｒ25基、又はＣＯ−Ｏ−Ｒ26基を表し、Ｒ25及びＲ26は水素原子又は炭素数１〜２０の有機残基を表す。炭素数１〜２０の有機残基については、上記一般式（１）における有機残基の説明を参照することができる。
ラクトン環含有重合体構造中の一般式（１）で表されるラクトン環構造以外の構造の含有割合は、（メタ）アクリル酸エステルを重合して構築される重合体構造単位（繰り返し構造単位）の場合、好ましくは１０〜９５質量％、より好ましくは１０〜９０質量％、さらに好ましくは４０〜９０質量％、特に好ましくは５０〜９０質量％であり、水酸基含有単量体を重合して構築される重合体構造単位（繰り返し構造単位）の場合、好ましくは０〜３０質量％、より好ましくは０〜２０質量％、さらに好ましくは０〜１５質量％、特に好ましくは０〜１０質量％である。不飽和カルボン酸を重合して構築される重合体構造単位（繰り返し構造単位）の場合、好ましくは０〜３０質量％、より好ましくは０〜２０質量％、さらに好ましくは０〜１５質量％、特に好ましくは０〜１０質量％である。一般式（２ａ）で表される単量体を重合して構築される重合体構造単位（繰り返し構造単位）の場合、好ましくは０〜３０質量％、より好ましくは０〜２０質量％、さらに好ましくは０〜１５質量％、特に好ましくは０〜１０質量％である。
【００１６】
ラクトン環含有重合体の製造方法については、特に限定はされないが、好ましくは、重合工程によって分子鎖中に水酸基とエステル基とを有する重合体（ａ）を得た後に、得られた重合体（ａ）を加熱処理することによりラクトン環構造を重合体に導入するラクトン環化縮合工程を行う方法である。
【００１７】
重合工程においては、例えば下記一般式（１ａ）で表される単量体を含む単量体組成物を用いて重合反応を行うことにより、分子鎖中に水酸基とエステル基とを有する重合体を得ることができる。
【００１８】
【化５】
【００１９】
式中、Ｒ17及びＲ18はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜２０の有機残基を表す。炭素数１〜２０の有機残基については、上記一般式（１）における有機残基の説明を参照することができる。
一般式（１ａ）で表される単量体としては、例えば、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチル、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸エチル、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸イソプロピル、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸ｎ−ブチル、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸ｔｅｒｔ−ブチルなどが挙げられる。これらの中でも、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチル、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸エチルが好ましく、耐熱性向上効果が高い点で、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチルが特に好ましい。一般式（１ａ）で表される単量体は、１種のみ用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００２０】
重合工程に供する単量体組成物中の一般式（１ａ）で表される単量体の含有割合は、好ましくは５〜９０質量％、より好ましくは１０〜７０質量％、さらに好ましくは１０〜６０質量％、特に好ましくは１０〜５０質量％である。重合工程に供する単量体組成物中の一般式（１ａ）で表される単量体の含有割合が５質量％以上であれば、十分な耐熱性、耐溶剤性、表面硬度が得られやすい傾向がある。重合工程に供する単量体組成物中の一般式（１ａ）で表される単量体の含有割合が９０質量％以下であれば、ラクトン環化時にゲル化が起きるのを十分に防ぐことができ、より高い成形加工性を有する重合体が得られやすい傾向がある。
【００２１】
重合工程に供する単量体組成物中には、一般式（１ａ）で表される単量体以外の単量体を含んでいてもよい。このような単量体としては、特に限定されないが、例えば、（メタ）アクリル酸エステル、水酸基含有単量体、不飽和カルボン酸、又は上記一般式（２ａ）で表される単量体が好ましく挙げられる。一般式（１ａ）で表される単量体以外の単量体は、１種のみ用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００２２】
（メタ）アクリル酸エステルとしては、前記一般式（１ａ）で表される単量体以外の（メタ）アクリル酸エステルであり、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ｎ−ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸ｔｅｒｔ−ブチル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸ベンジルなどのアクリル酸エステル；メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ｎ−ブチル、メタクリル酸イソブチル、メタクリル酸ｔｅｒｔ−ブチル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ベンジルなどのメタクリル酸エステル；などが挙げられ、これらは１種のみ用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。これらの中でも特に、耐熱性、透明性が優れる点から、メタクリル酸メチルが好ましい。
【００２３】
一般式（１ａ）で表される単量体以外の（メタ）アクリル酸エステルを用いる場合、重合工程に供する単量体組成物中のその含有割合は、本発明の効果を十分に発揮させる上で、好ましくは１０〜９５質量％、より好ましくは１０〜９０質量％、さらに好ましくは４０〜９０質量％、特に好ましくは５０〜９０質量％である。
【００２４】
水酸基含有単量体としては、一般式（１ａ）で表される単量体以外の水酸基含有単量体であれば特に限定されないが、例えば、α−ヒドロキシメチルスチレン、α−ヒドロキシエチルスチレン、２−（ヒドロキシエチル）アクリル酸メチルなどの２−（ヒドロキシアルキル）アクリル酸エステル；２−（ヒドロキシエチル）アクリル酸などの２−（ヒドロキシアルキル）アクリル酸；などが挙げられ、これらは１種のみ用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００２５】
一般式（１ａ）で表される単量体以外の水酸基含有単量体を用いる場合、重合工程に供する単量体組成物中のその含有割合は、本発明の効果を十分に発揮させる上で、好ましくは０〜３０質量％、より好ましくは０〜２０質量％、さらに好ましくは０〜１５質量％、特に好ましくは０〜１０質量％である。
【００２６】
不飽和カルボン酸としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、α−置換アクリル酸、α−置換メタクリル酸などが挙げられ、これらは１種のみ用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。これらの中でも特に、本発明の効果を十分に発揮させる点で、アクリル酸、メタクリル酸が好ましい。
【００２７】
不飽和カルボン酸を用いる場合、重合工程に供する単量体組成物中のその含有割合は、本発明の効果を十分に発揮させる上で、好ましくは０〜３０質量％、より好ましくは０〜２０質量％、さらに好ましくは０〜１５質量％、特に好ましくは０〜１０質量％である。
【００２８】
一般式（２ａ）で表される単量体としては、例えば、スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン、アクリロニトリル、メチルビニルケトン、エチレン、プロピレン、酢酸ビニルなどが挙げられ、これらは１種のみ用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。これらの中でも特に、本発明の効果を十分に発揮させる点で、スチレン、α−メチルスチレンが好ましい。
【００２９】
一般式（２ａ）で表される単量体を用いる場合、重合工程に供する単量体組成物中のその含有割合は、本発明の効果を十分に発揮させる上で、好ましくは０〜３０質量％、より好ましくは０〜２０質量％、さらに好ましくは０〜１５質量％、特に好ましくは０〜１０質量％である。
【００３０】
重合温度、重合時間は、使用する単量体の種類、使用比率等によって異なるが、好ましくは、重合温度が０〜１５０℃、重合時間が０．５〜２０時間であり、より好ましくは、重合温度が８０〜１４０℃、重合時間が１〜１０時間である。
【００３１】
溶剤を用いた重合形態の場合、重合溶剤は特に限定されず、例えば、トルエン、キシレン、エチルベンゼンなどの芳香族炭化水素系溶剤；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンケトンなどのケトン系溶剤；テトラヒドロフランなどのエーテル系溶剤；などが挙げられ、これらの１種のみを用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。また、使用する溶剤の沸点が高すぎると、最終的に得られるラクトン環含有重合体の残存揮発分が多くなることから、沸点が５０〜２００℃のものが好ましい。
【００３２】
重合反応時には、必要に応じて、重合開始剤を添加してもよい。重合開始剤としては特に限定されないが、例えば、クメンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート、ｔｅｒｔ−アミルパーオキシ−２−エチルヘキサノエートなどの有機過酸化物；２，２’−アゾビス（イソブチロニトリル）、１，１’−アゾビス（シクロヘキサンカルボニトリル）、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）などのアゾ化合物；などが挙げられ、これらは１種のみを用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。重合開始剤の使用量は、用いる単量体の組み合わせや反応条件などに応じて適宜設定すればよく、特に限定されない。
【００３３】
重合を行う際には、反応液のゲル化を抑止するために、重合反応混合物中の生成した重合体の濃度が５０質量％以下となるように制御することが好ましい。具体的には、重合反応混合物中の生成した重合体の濃度が５０質量％を超える場合には、重合溶剤を重合反応混合物に適宜添加して５０質量％以下となるように制御することが好ましい。重合反応混合物中の生成した重合体の濃度は、より好ましくは４５質量％以下、さらに好ましくは４０質量％以下である。なお、重合反応混合物中の重合体の濃度があまりに低すぎると生産性が低下するため、重合反応混合物中の重合体の濃度は、１０質量％以上であることが好ましく、２０質量％以上であることがより好ましい。
【００３４】
重合溶剤を重合反応混合物に適宜添加する形態としては、特に限定されず、連続的に重合溶剤を添加してもよいし、間欠的に重合溶剤を添加してもよい。このように重合反応混合物中の生成した重合体の濃度を制御することによって、反応液のゲル化をより十分に抑止することができ、特に、ラクトン環含有割合を増やして耐熱性を向上させるために分子鎖中の水酸基とエステル基の割合を高めた場合であってもゲル化を十分に抑制できる。添加する重合溶剤としては、重合反応の初期仕込み時に用いた溶剤と同じ種類の溶剤であってもよいし、異なる種類の溶剤であってもよいが、重合反応の初期仕込み時に用いた溶剤と同じ種類の溶剤を用いることが好ましい。また、添加する重合溶剤は、１種のみの溶剤であってもよいし、２種以上の混合溶剤であってもよい。
【００３５】
以上の重合工程を終了した時点で得られる重合反応混合物中には、通常、得られた重合体以外に溶剤が含まれているが、溶剤を完全に除去して重合体を固体状態で取り出す必要はなく、溶剤を含んだ状態で続くラクトン環化縮合工程に導入することが好ましい。また、必要な場合は、固体状態で取り出した後に、続くラクトン環化縮合工程に好適な溶剤を再添加してもよい。
【００３６】
重合工程で得られた重合体は、分子鎖中に水酸基とエステル基とを有する重合体（ａ）であり、重合体（ａ）の重量平均分子量は、好ましくは１，０００〜２，０００，０００、より好ましくは５，０００〜１，０００，０００、さらに好ましくは１０，０００〜５００，０００、特に好ましくは５０，０００〜５００，０００である。重合工程で得られた重合体（ａ）は、続くラクトン環化縮合工程において、加熱処理されることによりラクトン環構造が重合体に導入され、ラクトン環含有重合体となる。
【００３７】
重合体（ａ）中にラクトン環構造を導入するための反応は、加熱により、重合体（ａ）の分子鎖中に存在する水酸基とエステル基が環化縮合してラクトン環構造を生じる反応であり、その環化縮合によってアルコールが副生する。ラクトン環構造が重合体の分子鎖中（重合体の主骨格中）に形成されることにより、高い耐熱性が付与される。ラクトン環構造を導く環化縮合反応の反応率が不十分であると、耐熱性が十分に向上しなかったり、成形時の加熱処理によって成形途中に縮合反応が起こり、生じたアルコールが成形品中に泡やシルバーストリークとなって存在してしまったりするので好ましくない。
【００３８】
ラクトン環化縮合工程において得られるラクトン環含有重合体は、好ましくは、上記一般式（１）で表されるラクトン環構造を有する。
【００３９】
重合体（ａ）を加熱処理する方法については特に限定されず、公知の方法が利用できる。例えば、重合工程によって得られた、溶剤を含む重合反応混合物を、そのまま加熱処理してもよい。また、溶剤の存在下で、必要に応じて閉環触媒を用いて加熱処理してもよい。また、揮発成分を除去するための真空装置あるいは脱揮装置を持つ加熱炉や反応装置、脱揮装置のある押出機等を用いて加熱処理を行うこともできる。
【００４０】
環化縮合反応を行う際に、重合体（ａ）に加えて、他の熱可塑性樹脂を共存させてもよい。また、環化縮合反応を行う際には、必要に応じて、環化縮合反応の触媒として一般に用いられるｐ−トルエンスルホン酸等のエステル化触媒又はエステル交換触媒を用いてもよいし、酢酸、プロピオン酸、安息香酸、アクリル酸、メタクリル酸等の有機カルボン酸類を触媒として用いてもよい。特開昭６１−２５４６０８号公報や特開昭６１−２６１３０３号公報に示されている様に、塩基性化合物、有機カルボン酸塩、炭酸塩などを用いてもよい。
【００４１】
環化縮合反応を行う際には、特開２００１−１５１８１４号公報に示されているように有機リン化合物を触媒として用いることが好ましい。触媒として有機リン化合物を用いることにより、環化縮合反応率を向上させることができるとともに、得られるラクトン環含有重合体の着色を大幅に低減することができる。さらに、有機リン化合物を触媒として用いることにより、後述の脱揮工程を併用する場合において起こり得る分子量低下を抑制することができ、優れた機械的強度を付与することができる。
【００４２】
環化縮合反応の際に用いる触媒の使用量は、特に限定されないが、重合体（ａ）に対して、好ましくは０．００１〜５質量％、より好ましくは０．０１〜２．５質量％、さらに好ましくは０．０１〜１質量％、特に好ましくは０．０５〜０．５質量％である。触媒の使用量が０．００１質量％以上であれば、環化縮合反応の反応率の向上を十分に図りやすくなる傾向があり、一方、５質量％以下であれば、着色や架橋を防いで良好な溶融賦形性が得られやすくなる傾向がある。
【００４３】
触媒の添加時期は特に限定されず、反応初期に添加しても、反応途中に添加しても、それらの両方で添加してもよい。
【００４４】
環化縮合反応は溶剤の存在下で行い、且つ環化縮合反応の際に、脱揮工程を併用することが好ましい。この場合、環化縮合反応の全体を通じて脱揮工程を併用する形態、及び、脱揮工程を環化縮合反応の過程全体にわたっては併用せずに過程の一部においてのみ併用する形態が挙げられる。脱揮工程を併用する方法では、縮合環化反応で副生するアルコールを強制的に脱揮させて除去するので、反応の平衡が生成側に有利となる。
【００４５】
脱揮工程とは、溶剤、残存単量体等の揮発分と、ラクトン環構造を導く環化縮合反応により副生したアルコールを、必要により減圧加熱条件下で、除去処理する工程をいう。この除去処理が不十分であると、生成した樹脂中の残存揮発分が多くなり、成形時の変質等によって着色したり、泡やシルバーストリークなどの成形不良が起こったりする問題等が生じる。
【００４６】
環化縮合反応の全体を通じて脱揮工程を併用する形態の場合、使用する装置については特に限定されないが、本発明をより効果的に行うために、熱交換器と脱揮槽からなる脱揮装置やベント付き押出機、また、前記脱揮装置と前記押出機を直列に配置したものを用いることが好ましく、熱交換器と脱揮槽からなる脱揮装置又はベント付き押出機を用いることがより好ましい。
【００４７】
前記熱交換器と脱揮槽からなる脱揮装置を用いる場合の反応処理温度は、１５０〜３５０℃の範囲が好ましく、２００〜３００℃の範囲がより好ましい。反応処理温度が１５０℃以上であれば、環化縮合反応が十分に進行して残存揮発分量を抑えやすくなる傾向があり、３５０℃以下であれば、着色や分解を防ぎやすくなる傾向がある。
【００４８】
前記熱交換器と脱揮槽からなる脱揮装置を用いる場合の、反応処理時の圧力は、９３１〜１．３３ｈＰａ（７００〜１ｍｍＨｇ）の範囲が好ましく、７９８〜６６．５ｈＰａ（６００〜５０ｍｍＨｇ）の範囲がより好ましい。上記圧力が９３１ｈＰａ以上であれば、アルコールを含めた揮発分の残存を十分に防ぎやすくなる傾向があり、１．３３ｈＰａ以下であれば、工業的な実施がより容易になる傾向がある。
【００４９】
前記ベント付き押出機を用いる場合、ベントは１個でも複数個でもいずれでもよいが、複数個のベントを有する方が好ましい。
【００５０】
前記ベント付き押出機を用いる場合の反応処理温度は、１５０〜３５０℃の範囲が好ましく、２００〜３００℃の範囲がより好ましい。上記温度が１５０℃以上であれば、環化縮合反応が十分に進行して残存揮発分量を抑えやすくなる傾向があり、３５０℃以下であれば、着色や分解を防ぎやすくなる傾向がある。
【００５１】
前記ベント付き押出機を用いる場合の、反応処理時の圧力は、９３１〜１．３３ｈＰａ（７００〜１ｍｍＨｇ）の範囲が好ましく、７９８〜１３．３ｈＰａ（６００〜１０ｍｍＨｇ）の範囲がより好ましい。上記圧力が９３１ｈＰａ以上であれば、アルコールを含めた揮発分の残存を十分に防ぎやすくなる傾向があり、１．３３ｈＰａ以下であれば、工業的な実施がより容易になる傾向がある。
【００５２】
なお、環化縮合反応の全体を通じて脱揮工程を併用する形態の場合、後述するように、厳しい熱処理条件では得られるラクトン環含有重合体の物性が悪化するおそれがあるので、好ましくは、上述した脱アルコール反応の触媒を使用し、できるだけ温和な条件で、ベント付き押出機等を用いて行うことが好ましい。
【００５３】
また、環化縮合反応の全体を通じて脱揮工程を併用する形態の場合、好ましくは、重合工程で得られた重合体（ａ）を溶剤とともに環化縮合反応装置系に導入するが、この場合、必要に応じて、もう一度ベント付き押出機等の上記反応装置系に通してもよい。
【００５４】
脱揮工程を環化縮合反応の過程全体にわたっては併用せずに、過程の一部においてのみ併用する形態を行ってもよい。例えば、重合体（ａ）を製造した装置を、さらに加熱し、必要に応じて脱揮工程を一部併用して、環化縮合反応を予めある程度進行させておき、その後に引き続いて脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応を行い、反応を完結させる形態である。
【００５５】
先に述べた環化縮合反応の全体を通じて脱揮工程を併用する形態では、例えば、重合体（ａ）を、２軸押出機を用いて、２５０℃近い、あるいはそれ以上の高温で熱処理する時に、熱履歴の違いにより環化縮合反応が起こる前に一部分解等が生じ、得られるラクトン環含有重合体の物性が悪くなるおそれがある。そこで、脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応を行う前に、予め環化縮合反応をある程度進行させておくと、後半の反応条件を緩和でき、得られるラクトン環含有重合体の物性の悪化を抑制できるので好ましい。特に好ましい形態としては、脱揮工程を環化縮合反応の開始から時間をおいて開始する形態、すなわち、重合工程で得られた重合体（ａ）の分子鎖中に存在する水酸基とエステル基をあらかじめ環化縮合反応させて環化縮合反応率をある程度上げておき、引き続き、脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応を行う形態が挙げられる。具体的には、例えば、予め釜型の反応器を用いて溶剤の存在下で環化縮合反応をある程度の反応率まで進行させておき、その後、脱揮装置のついた反応器、例えば、熱交換器と脱揮槽とからなる脱揮装置や、ベント付き押出機等で、環化縮合反応を完結させる形態が好ましく挙げられる。特にこの形態の場合、環化縮合反応用の触媒が存在していることがより好ましい。
【００５６】
上述のように、重合工程で得られた重合体（ａ）の分子鎖中に存在する水酸基とエステル基を予め環化縮合反応させて環化縮合反応率をある程度上げておき、引き続き、脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応を行う方法は、本発明においてラクトン環含有重合体を得る上で好ましい形態である。この形態により、ガラス転移温度がより高く、環化縮合反応率もより高まり、耐熱性に優れたラクトン環含有重合体が得られる。この場合、環化縮合反応率の目安としては、実施例に示すダイナッミクＴＧ測定における、１５０〜３００℃間での質量減少率が２％以下であることが好ましく、より好ましくは１．５％以下であり、さらに好ましくは１％以下である。
【００５７】
脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応の前に予め行う環化縮合反応の際に採用できる反応器は特に限定されないが、好ましくは、オートクレーブ、釜型反応器、熱交換器と脱揮槽とからなる脱揮装置等が挙げられ、さらに、脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応に好適なベント付き押出機も使用できる。より好ましくは、オートクレーブ、釜型反応器である。しかしながら、ベント付き押出機等の反応器を使用するときでも、ベント条件を温和にしたり、ベントをさせなかったり、温度条件やバレル条件、スクリュウ形状、スクリュウ運転条件等を調整することで、オートクレーブや釜型反応器での反応状態と同じ様な状態で環化縮合反応を行うことが可能である。
【００５８】
脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応の前に予め行う環化縮合反応の際には、好ましくは、重合工程で得られた重合体（ａ）と溶剤とを含む混合物を、（ｉ）触媒を添加して、加熱反応させる方法、（ｉｉ）無触媒で加熱反応させる方法、及び、前記（ｉ）又は（ｉｉ）を加圧下で行う方法が挙げられる。
【００５９】
なお、ラクトン環化縮合工程において環化縮合反応に導入する「重合体（ａ）と溶剤とを含む混合物」とは、重合工程で得られた重合反応混合物をそのまま使用してもよいし、一旦溶剤を除去したのちに環化縮合反応に適した溶剤を再添加してもよいことを意味する。
【００６０】
脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応の前にあらかじめ行う環化縮合反応の際に再添加できる溶剤としては、特に限定されず、例えば、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素類；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類；クロロホルム、ＤＭＳＯ、テトラヒドロフランなどでもよいが、好ましくは、重合工程で用いることができる溶剤と同じ種類の溶剤である。
【００６１】
上記方法（ｉ）で添加する触媒としては、一般に用いられるｐ−トルエンスルホン酸等のエステル化触媒又はエステル交換触媒、塩基性化合物、有機カルボン酸塩、炭酸塩などが挙げられるが、本発明においては、前述の有機リン化合物を用いることが好ましい。触媒の添加時期は特に限定されず、反応初期に添加しても、反応途中に添加しても、それらの両方で添加してもよい。添加する触媒の量は特に限定されないが、重合体（ａ）の質量に対し、好ましくは０．００１〜５質量％、より好ましくは０．０１〜２．５質量％、さらに好ましくは０．０１〜１質量％、特に好ましくは０．０５〜０．５質量％である。方法（ｉ）の加熱温度と加熱時間は特に限定されないが、加熱温度としては、好ましくは室温以上、より好ましくは５０℃以上であり、加熱時間としては、好ましくは１〜２０時間、より好ましくは２〜１０時間である。加熱温度が低いと、あるいは、加熱時間が短いと、環化縮合反応率が低下するので好ましくない。また、加熱時間が長すぎると、樹脂の着色や分解が起こる場合があるので好ましくない。
【００６２】
上記方法（ｉｉ）としては、例えば、耐圧性の釜などを用いて、重合工程で得られた重合反応混合物をそのまま加熱する方法等が挙げられる。加熱温度としては、好ましくは１００℃以上、さらに好ましくは１５０℃以上である。加熱時間としては、好ましくは１〜２０時間、より好ましくは２〜１０時間である。加熱温度が低いと、あるいは、加熱時間が短いと、環化縮合反応率が低下するので好ましくない。また、加熱時間が長すぎると、樹脂の着色や分解が起こる場合があるので好ましくない。
【００６３】
上記方法（ｉ）、（ｉｉ）ともに、条件によっては加圧下となっても何ら問題はない。
【００６４】
脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応の前に予め行う環化縮合反応の際には、溶剤の一部が反応中に自然に揮発しても何ら問題ではない。
【００６５】
脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応の前に予め行う環化縮合反応の終了時、すなわち、脱揮工程開始直前における、ダイナミックＴＧ測定における１５０〜３００℃の間での質量減少率は、２％以下が好ましく、より好ましくは１．５％以下であり、さらに好ましくは１％以下である。質量減少率が２％以下であれば、続けて脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応を行ったときに、環化縮合反応率が十分高いレベルまで上がり、得られるラクトン環含有重合体の物性が向上すやすい傾向がある。なお、上記の環化縮合反応を行う際に、重合体（ａ）に加えて、他の熱可塑性樹脂を共存させてもよい。
【００６６】
重合工程で得られた重合体（ａ）の分子鎖中に存在する水酸基とエステル基を予め環化縮合反応させて環化縮合反応率をある程度上げておき、引き続き、脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応を行う形態の場合、予め行う環化縮合反応で得られた重合体（分子鎖中に存在する水酸基とエステル基の少なくとも一部が環化縮合反応した重合体）と溶剤を、そのまま脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応に導入してもよいし、必要に応じて、前記重合体（分子鎖中に存在する水酸基とエステル基の少なくとも一部が環化縮合反応した重合体）を単離してから溶剤を再添加する等のその他の処理を経てから脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応に導入しても構わない。
【００６７】
脱揮工程は環化縮合反応と同時に終了することには限らず、環化縮合反応の終了から時間をおいて終了しても構わない。
【００６８】
ラクトン環含有重合体は、重量平均分子量が、好ましくは１，０００〜２，０００，０００、より好ましくは５，０００〜１，０００，０００、さらに好ましくは１０，０００〜５００，０００、特に好ましくは５０，０００〜５００，０００である。
【００６９】
ラクトン環含有重合体は、ダイナミックＴＧ測定における１５０〜３００℃の間での質量減少率が１％以下であることが好ましく、より好ましくは０．５％以下、さらに好ましくは０．３％以下である。
【００７０】
ラクトン環含有重合体は、環化縮合反応率が高いので、成形後の成形品中に泡やシルバーストリークが入るという欠点が回避できる。さらに、高い環化縮合反応率によってラクトン環構造が重合体に十分に導入されるため、得られたラクトン環含有重合体が十分に高い耐熱性を有している。
【００７１】
ラクトン環含有重合体は、１５質量％のクロロホルム溶液中での着色度（ＹＩ）が６以下となるものが好ましく、より好ましくは３以下、さらに好ましくは２以下、最も好ましくは１以下である。着色度（ＹＩ）が６以下であれば、着色を防いでより高い透明性が得られやすい傾向がある。
【００７２】
ラクトン環含有重合体は、熱質量分析（ＴＧ）における５％質量減少温度が、２８０℃以上であることが好ましく、より好ましくは２９０℃以上、さらに好ましくは３００℃以上である。熱質量分析（ＴＧ）における５％質量減少温度は、熱安定性の指標である。これが２８０℃以上であれば、十分な熱安定性を発揮しやすい。
【００７３】
ラクトン環含有重合体は、ガラス転移温度（Ｔｇ）が、好ましくは１１５℃以上、より好ましくは１２５℃以上、さらに好ましくは１３０℃以上、さらに好ましくは１３５℃以上、最も好ましくは１４０℃以上である。
【００７４】
ラクトン環含有重合体は、それに含まれる残存揮発分の総量が、好ましくは５０００ｐｐｍ以下、より好ましくは２０００ｐｐｍ以下である。残存揮発分の総量が５０００ｐｐｍ以下であれば、成形時の変質等によって着色したり、発泡したり、シルバーストリークしたりするなどの成形不良をより効果的に防ぎやすくなる傾向がある。
【００７５】
ラクトン環含有重合体は、射出成形により得られる成形品の、ＡＳＴＭ−Ｄ−１００３に準じた方法で測定された全光線透過率が、好ましくは８５％以上、より好ましくは８８％以上、さらに好ましくは９０％以上である。全光線透過率は、透明性の目安である。
【００７６】
・グルタル酸無水物単位を有する重合体（以下、「グルタル酸無水物単位含有重合体」という）
本発明に使用可能なグルタル酸無水物単位含有重合体は、下記一般式（３）で表される単位を有する重合体であることが好ましい。
【００７７】
【化６】
【００７８】
一般式（３）中、Ｒ31及びＲ32は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜２０の有機残基を表す。なお、有機残基は酸素原子を含んでいてもよい。Ｒ31及びＲ32は、特に好ましくは、同一又は相異なる、水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基を表す。
【００７９】
本発明に用いるグルタル酸無水物単位含有重合体は、グルタル酸無水物単位以外の単位を含んでいてもよい。例えば、アクリル系の単位（不飽和カルボン酸アルキルエステル又は不飽和カルボン酸から誘導される単位）を含有するアクリル系共重合体であることが好ましい。アクリル系共重合体中のグルタル酸無水物単位の含有量としては、５〜５０質量％が好ましく、より好ましくは１０〜４５質量％である。５質量％以上、より好ましくは１０質量％以上とすることにより、耐熱性向上の効果を得ることができ、さらには耐候性向上の効果を得ることもできる。前記グルタル酸無水物単位含有重合体は、耐熱性の点から１２０℃以上のガラス転移温度（Ｔｇ）を有することが好ましい。
【００８０】
例えば、前記グルタル酸無水物単位含有重合体は、不飽和カルボン酸アルキルエステルに基づく繰り返し単位を含むことが好ましい。不飽和カルボン酸アルキルエステルに基づく繰り返し単位として、例えば、下記一般式（４）で表されるものが好ましい。
一般式（４）：―［ＣＨ2―Ｃ（Ｒ41）（ＣＯＯＲ42）］―
一般式（４）中、Ｒ41は水素又は炭素数１〜５のアルキル基を表し、Ｒ42は炭素数１〜６の脂肪族もしくは脂環式炭化水素基、又は１個以上炭素数以下の数の水酸基もしくはハロゲンで置換された炭素数１〜６の脂肪族もしくは脂環式炭化水素基を表す。
【００８１】
一般式（４）で表される繰り返し単位に対応する単量体は、下記一般式（５）で表される。
一般式（５）：ＣＨ2＝Ｃ（Ｒ41）（ＣＯＯＲ42）
このような単量体の好ましい具体例には、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ｎ−プロピル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｎ−へキシル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸クロロメチル、（メタ）アクリル酸２−クロロエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸２，３，４，５，６−ペンタヒドロキシヘキシル及び（メタ）アクリル酸２，３，４，５−テトラヒドロキシペンチルなどが含まれ、中でもメタクリル酸メチルが最も好ましく用いられる。これらはその１種を単独で用いてもよいし、又は２種以上を併用してもよい。
【００８２】
前記グルタル酸無水物単位含有重合体中の不飽和カルボン酸アルキルエステル単位の含有量は、５０〜９５質量％が好ましく、より好ましくは５５〜９０質量％である。グルタル酸無水物単位と不飽和カルボン酸アルキルエステル系単位とを有するアクリル系熱可塑性共重合体は、例えば、不飽和カルボン酸アルキルエステル系単位と不飽和カルボン酸単位とを有する共重合体を重合環化させることにより得ることができる。
【００８３】
また、前記グルタル酸無水物単位含有重合体は、前記不飽和カルボン酸アルキルエステル単位とともに、又はそれに代えて、不飽和カルボン酸単位を含んでいてもよい。
不飽和カルボン酸単位としては、例えば、下記一般式（６）で表されるものが好ましい。
一般式（６）：―［ＣＨ2―Ｃ（Ｒ51）（ＣＯＯＨ）］―
ここでＲ51は水素又は炭素数１〜５のアルキル基を表す。
【００８４】
前記不飽和カルボン酸単位を誘導する単量体の好ましい具体例としては、一般式（６）で表される繰り返し単位に対応する単量体である下記一般式（７）で表される化合物、ならびにマレイン酸、及び更には無水マレイン酸の加水分解物などが挙げられるが、熱安定性が優れる点でアクリル酸、メタクリル酸が好ましく、より好ましくはメタクリル酸である。
一般式（７）：ＣＨ2＝Ｃ（Ｒ51）（ＣＯＯＨ）
【００８５】
これらはその１種を単独で用いてもよいし、又は２種以上を併用してもよい。上記のように、グルタル酸無水物単位と不飽和カルボン酸アルキルエステル系単位とを有するアクリル系熱可塑性共重合体は、例えば不飽和カルボン酸アルキルエステル系単位と不飽和カルボン酸単位とを有する共重合体を重合環化させることにより得ることができるものであるから、その構成単位中に不飽和カルボン酸単位を残して有していてもよい。
【００８６】
前記グルタル酸無水物単位含有重合体中の不飽和カルボン酸単位の含有量としては、１０質量％以下が好ましく、より好ましくは５質量％以下である。１０質量％以下とすることで、無色透明性、滞留安定性の低下を防ぐことができる。
【００８７】
また、前記前記グルタル酸無水物単位含有重合体は、本発明の効果を損なわない範囲で、芳香環を含まないその他のビニル系単量体単位を有していてもよい。芳香環を含まないその他のビニル系重合性モノマー由来の単位を含有していてもよい。他のビニル系重合性モノマーの具体例には、対応する単量体でいうと、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、エタクリロニトリルなどのシアン化ビニル系単量体；アリルグリシジルエーテル；無水マレイン酸、無水イタコン酸；Ｎ−メチルマレイミド、Ｎ−エチルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−メチルアクリルアミド、ブトキシメチルアクリルアミド、Ｎ−プロピルメタクリルアミド；アクリル酸アミノエチル、アクリル酸プロピルアミノエチル、メタクリル酸ジメチルアミノエチル、メタクリル酸エチルアミノプロピル、メタクリル酸シクロヘキシルアミノエチル；Ｎ−ビニルジエチルアミン、Ｎ−アセチルビニルアミン、アリルアミン、メタアリルアミン、Ｎ−メチルアリルアミン；２−イソプロペニル−オキサゾリン、２−ビニル−オキサゾリン、２−アクロイル−オキサゾリンなど；が含まれる。これらはその１種を単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００８８】
前記グルタル酸無水物単位含有重合体中において、その他のビニル系重合性モノマー（ただし、芳香環を含まない）由来の単位の含有量は、３５質量％以下が好ましい。
【００８９】
前記グルタル酸無水物単位含有重合体は、芳香環を含むビニル系重合性モノマー、例えば、Ｎ−フェニルマレイミド、メタクリル酸フェニルアミノエチル、ｐ−グリシジルスチレン、ｐ−アミノスチレン、２−スチリル−オキサゾリンなど、由来の単位を含んでいてもよいが、耐擦傷性、耐候性を低下させる傾向にあるため、含む場合も、含有量としては１質量％以下にとどめるのが好ましい。
【００９０】
本発明において、前記透明支持体として用いられるフィルムは、前記ラクトン環単位含有重合体又はグルタル酸無水物単位含有重合体を主成分として含む他、所望により、他の材料を含んでいてもよい。
・ 他の熱可塑性樹脂
本発明に支持体として用いられるフィルムは、前記ラクトン環単位含有重合体又はグルタル酸無水物単位含有重合体以外の熱可塑性樹脂を１種以上含んでいてもよい。他の熱可塑性樹脂の例には、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、ポリ（４−メチル−１−ペンテン）等のオレフィン系ポリマー；塩化ビニル、塩素化ビニル樹脂等の含ハロゲン系ポリマー；ポリメタクリル酸メチル等のアクリル系ポリマー；ポリスチレン、スチレン−メタクリル酸メチル共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレンブロック共重合体等のスチレン系ポリマー；ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル；ナイロン６、ナイロン６６、ナイロン６１０等のポリアミド；ポリアセタール；ポリカーボネート；ポリフェニレンオキシド；ポリフェニレンスルフィド；ポリエーテルエーテルケトン；ポリサルホン；ポリエーテルサルホン；ポリオキシベンジレン；ポリアミドイミド；ポリブタジエン系ゴム、アクリル系ゴムを配合したＡＢＳ樹脂やＡＳＡ樹脂等のゴム質重合体；などが含まれる。ゴム質重合体は、表面に、前記ラクトン環単位含有重合体等と相溶し得る組成のグラフト部を有するのが好ましく、また、ゴム質重合体の平均粒子径は、フィルム状とした際の透明性向上の観点から、１００ｎｍ以下である事が好ましく、７０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。
【００９１】
ラクトン環単位含有重合体と熱力学的に相溶する熱可塑性樹脂としては、シアン化ビニル系単量体から誘導される単位と芳香族ビニル系単量体から誘導される単位とを含む共重合体、具体的にはアクリロニトリル−スチレン系共重合体やポリ塩化ビニル樹脂、メタクリル酸エステル類を５０質量％以上含有する重合体を用いるとよい。それらの中でもアクリロニトリル−スチレン系共重合体を用いるとガラス転移温度が１２０℃以上、Ｒｅが２０ｎｍ以下で、全光線透過率が８５％以上である光学フィルムが容易に得られる。なお、ラクトン環単位含有重合体等と、その他の熱可塑性樹脂とが熱力学的に相溶することは、これらを混合して得られた熱可塑性樹脂組成物のガラス転移点を測定することによって確認することができる。具体的には、示差走査熱量測定器により測定されるガラス転移点が、ラクトン環単位含有重合体等とその他の熱可塑性樹脂との混合物について１点のみ観測されることによって、熱力学的に相溶していると言える。
その他の熱可塑性樹脂としてアクリロニトリル−スチレン系共重合体を用いる場合、その製造方法は、乳化重合法や懸濁重合法、溶液重合法、バルク重合法等を用いることが可能であるが、得られるフィルムの透明性や光学性能の観点から溶液重合法かバルク重合法で得られたものであることが好ましい。
【００９２】
他の熱可塑性樹脂を添加する場合、前記ラクトン環単位含有重合体等（成分（Ａ）と他の熱可塑性樹脂（成分（Ｂ）との割合は、［（Ａ）／｛（Ａ）＋（Ｂ）｝］の質量割合で、好ましくは６０〜９９質量％、より好ましくは７０〜９７質量％、さらに好ましくは８０〜９５質量％である。支持体中の成分（Ａ）の含有割合が６０質量％よりも少ないと、消光度を十分に低下できない場合がある。（Ｂ）成分を併用することで位相差を調整することができる。
【００９３】
・ レターデーション上昇剤
本発明において透明支持体として用いるフィルムは、前記ラクトン環単位含有重合体等とともに、レターデーション上昇剤を含有していてもよい。「レターデーション上昇剤」とは、添加されることによって、少なくとも無添加のものと比較して、面内レターデーション（Ｒｅ）及び厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）の少なくとも一方の絶対値を増加させる性質を有する剤をいう。レターデーション上昇剤は、１分子中に２個以上の芳香族環を有する化合物から選択されるのが好ましい。１分子中に２個以上の芳香族環を有する化合物の分子では、通常、２つの芳香族環の立体配座を立体障害しなければ、２つの芳香族環は、同一平面を形成する。本発明者の研究によれば、ラクトン環単位又はグルタル酸無水物単位を有する重合体を含有するフィルムのレターデーションを上昇させるためには、複数の芳香族環により同一平面を形成することが重要である。かかるレターデーション上昇剤の例には、特開２００２−３６３３４３号公報の段落番号［００１１］〜［００３１］に記載された化合物と実質的に同一の、直線的な分子構造を有する棒状化合物；特開２０００−１１１９１４号公報の段落番号［００１１］〜［００８５］に記載された化合物と、実質的に同一の、立体障害しない立体配座となっている２つの芳香族環を含有する化合物；少なくとも１つの芳香族環を置換基として有する１，３，５−トリアジン化合物；及び、特開２００１−１６６１４４号公報に記載された、ポルフィリン骨格を有する化合物；が含まれる。
特に、少なくとも一つの芳香族環を置換基として有する１，３，５−トリアジン化合物が好ましい。この場合、該トリアジン環がもう一つの芳香環となる。
具体的には、特開２００１−１６６１４４号公報の段落番号［００１６］に記載の一般式（Ｉ）で表される１，３，５−トリアジン化合物がレターデーション上昇剤として好ましい。
【００９４】
前記レターデーション上昇剤用化合物の種類及び使用量を選択することで、所望のレターデーションのフィルムを作製することができる。フィルム中のレターデーション上昇剤の添加量は、０〜２０質量％（対綿）であるのが好ましく、０〜１０質量％（対綿）であるのがより好ましい。
【００９５】
・ その他の添加剤
本発明において支持体として用いられるポリマーフィルムは、種々の添加剤から選らばれる１種以上を含んでいてもよい。
添加剤の例には、ヒンダードフェノール系、リン系、イオウ系等の酸化防止剤；耐光安定剤、耐候安定剤、熱安定剤等の安定剤；ガラス繊維、炭素繊維等の補強材；サリチル酸フェニル、（２，２’−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−ヒドロキシベンゾフェノン等の紫外線吸収剤；近赤外線吸収剤；リン酸トリス（ジブロモプロピル）、リン酸トリアリル、酸化アンチモン等の難燃剤；アニオン系、カチオン系、ノニオン系の界面活性剤等の帯電防止剤；無機顔料、有機顔料、染料等の着色剤；有機フィラーや無機フィラー；樹脂改質剤；有機充填剤や無機充填剤；可塑剤；滑剤；帯電防止剤；及び難燃剤；などが含まれる。
【００９６】
前記その他の添加剤の前記ポリマーフィルム中の含有割合は、好ましくは０〜５質量％、より好ましくは０〜２質量％、さらに好ましくは０〜０．５質量％である。
【００９７】
・ポリマーフィルムの製造方法
本発明において、支持体として用いるポリマーフィルムの製造方法は、特に限定されるものではないが、例えば、前記ラクトン環単位含有重合体等と、必要に応じて、レターデーション上昇剤、及び他の熱可塑性樹脂などを、公知の混合方法で混合して得られたポリマー組成物を、フィルム状に成形することにより得られる。さらに、フィルム状に成形後、延伸することによって延伸フィルムとしてもよい。
【００９８】
フィルム成形の方法としては、種々のフィルム成形方法を利用することができ、例えば、溶液キャスト法（溶液流延法）、溶融押出法、カレンダー法、圧縮成形法などが挙げられる。これらのフィルム成形方法のうち、溶液キャスト法（溶液流延法）、溶融押出法が特に好ましい。
【００９９】
溶液キャスト法（溶液流延法）に使用される溶媒としては、例えば、クロロホルム、ジクロロメタンなどの塩素系溶媒；トルエン、キシレン、ベンゼンなどの芳香族系溶媒；メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、２−ブタノールなどのアルコール系溶媒；メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジオキサン、シクロヘキサノン、テトラヒドロフラン、アセトン、メチルエチルケトン、酢酸エチル、ジエチルエーテル；などが挙げられる。これら溶媒は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。
【０１００】
溶液キャスト法（溶液流延法）を行うための装置としては、例えば、ドラム式キャスティングマシン、バンド式キャスティングマシン、スピンコーターなどが挙げられる。
【０１０１】
溶融押出法としては、Ｔダイ法、インフレーション法などが挙げられ、その際の、フィルムの成形温度は、好ましくは１５０〜３５０℃、より好ましくは２００〜３００℃である。
【０１０２】
延伸を行う方法としては、従来の種々の延伸方法が利用でき、例えば、一軸延伸、逐次二軸延伸、同時二軸延伸などを用いることができる。延伸は、好ましくは、フィルム原料の重合体のガラス転移温度付近で行われる。具体的な延伸温度としては、好ましくは（ガラス転移温度−３０℃）〜（ガラス転移温度＋１００℃）、より好ましくは（ガラス転移温度−２０℃）〜（ガラス転移温度＋８０℃）である。延伸温度を（ガラス転移温度−３０℃）以上とすることにより、充分な延伸倍率が得られやすい傾向にあり、延伸温度を（ガラス転移温度＋１００℃）以下とすることにより、樹脂が流動して安定な延伸を行いやすい傾向にある。面積比で定義した延伸倍率は、好ましくは１．１〜２５倍、より好ましくは１．３〜１０倍である。延伸倍率を１．１倍以下とすることにより、延伸による靭性の向上が得られ易い傾向にある。逆に、延伸倍率を２５倍以上とすることにより、延伸倍率を上げるだけの効果がより認められやすい傾向にある。
【０１０３】
延伸速度（一方向）としては、好ましくは１０〜２０，０００％／分、より好ましくは１００〜１０，０００％／分である。延伸速度を１０％／分以上とすることにより、充分な延伸倍率を得る時間を短縮できる傾向にあり、製造コストを抑えることが可能になる。逆に、延伸速度を２０，０００％／分以上とすることにより、延伸フィルムの破断などが起こり難くなる。フィルムの光学的等方性や機械的特性を安定化させるために、延伸処理後に熱処理（アニーリング）などを行うこともできる。
【０１０４】
本発明において支持体として用いるポリマーフィルムの膜厚は、１０μｍ〜５００μｍが好ましく、より好ましくは２０μｍ〜３００μｍである。１０μｍ未満では、均一に作製するのが困難であり、また５００μｍを超えるとディスプレイの表面フィルムが厚くなりすぎ薄層化・軽量化の流れに逆行する。
【０１０５】
前記ポリマーフィルムの光学特性については特に制限はない。本発明の光学補償フィルムが用いられる液晶表示装置のモードなどに応じて、組み合わせられる光学異方性層の光学特性との関係で、面内レターデーションＲｅ又は厚み方向のレターデーションＲｔｈの好ましい範囲を決定し、必要であれば、上記レターデーション上昇剤や、他の熱可塑性樹脂を添加して、所望の範囲となるように調整することができる。
例えば、上記１，３，５−トリアジン環系の化合物をレターデーション上昇剤として前記ラクトン環単位含有重合体に混合することで、Ｒｅが０〜２００ｎｍ程度、及びＲｔｈが０〜５００ｎｍ程度のポリマーフィルムを製造することができる。
【０１０６】
前記ポリマーフィルムには、隣接して形成される層（例えば、光学異方性層、又はその形成に利用される配向膜等）との接着性を改善するために、表面処理を施すのが好ましい。表面処理としては、コロナ放電処理又は大気圧プラズマ処理が好ましい。コロナ放電処理も大別すると大気圧プラズマ処理に含まれるが、ここでは直接コロナ放電によるプラズマ領域に直接被処理体を曝すものをコロナ放電処理と呼称し、プラズマ領域と被処理体表面が離れているものを大気圧プラズマ処理と呼称する。コロナ処理は工業的な実用例が豊富で低コストである反面、処理体表面の物理的ダメージが大きいというデメリットがある。一方、大気圧プラズマ処理の実用例は比較的少なく、コストもコロナ処理よりは高い反面、処理体表面のダメージが小さく、比較的処理強度が高く設定可能というメリットがある。従って、使用するポリマーフィルムのダメージと処理後の接着性の改善レベルとの関係によって、両者の内で好ましい方の処理法を選択すればよい。
【０１０７】
これらの処理を施されたポリマーフィルムの処理面は、親水化する。親水化の目安として、処理面における水の接触角を利用してもよい。具体的には、処理面の水の接触角は５５°以下であるのが好ましく、５０°以下であるのがより好ましい。処理面の水の接触角が前記範囲であると、配向膜との接着性が改善され、剥離等の不良が生じ難くなる。下限値については特に制限はないが、ポリマーフィルムを破損することがないように設定することが好ましい。なお、接触角の測定は、ＪＩＳ Ｒ ３２５７（１９９９）に従って行なうことができる。コロナ放電処理及び大気圧プラズマ処理は、それぞれ、接触角が前記範囲となる様に、処理条件が決定される。変動させる処理条件としては、何れの処理法においても、印加電圧、周波数、雰囲気ガス種、処理時間等がある。
これらの処理の詳細については、高分子表面改質（近代編集社）Ｐ．８８〜、高分子表面の基礎と応用（下）（化学同人）Ｐ．３１〜、大気圧プラズマの原理・特徴と高分子フィルム・ガラス基板の表面改質技術（技術情報協会）等にそれぞれ記載があり、その内容を参照することができる。
【０１０８】
前記ポリマーフィルムのコロナ放電処理又は大気圧プラズマ処理を施された表面（以下、「処理面」という場合がある）を除塵した後に、配向膜を形成するのが好ましい。除塵方法については特に制限されない。超音波を利用する超音波除塵が好ましい。超音波除塵については、特開平７−３３３６１３号公報等に詳細な記載があり、参照することができる。
【０１０９】
前記ポリマーフィルム上に隣接して形成される層の塗布組成物中の塗布溶剤が、前記ポリマーフィルムをある程度膨潤させることで、両層の間の接着性を改善することも可能である。具体的には、前記ポリマーフィルムを膨潤可能な溶剤と、膨潤させない溶剤を所定の比率で混合した溶媒にすることで塗布層の白化を起こさずに接着性を好ましく改良することができる。
【０１１０】
（光学異方性層）
本発明の光学補償フィルムは、液晶組成物からなる光学異方性層を有する。前記液晶組成物は、硬化性であるのが好ましい。前記液晶組成物は、少なくとも一種の液晶化合物を含有する。該液晶化合物としては、棒状液晶化合物又はディスコティック液晶化合物が好ましい。
棒状液晶化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類及びアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。これらの棒状液晶化合物の固定は、棒状液晶化合物の末端構造に重合性基を導入（後述の円盤状液晶と同様）し、この重合・硬化反応を利用して行われている。具体例としては、重合性ネマチック棒状液晶化合物を紫外線硬化した例が特開２００６−２０９０７３号公報に記載されている。また、上述の低分子液晶化合物だけではなく、高分子液晶化合物も用いることができる。高分子液晶化合物は、以上のような低分子液晶化合物に相当する側鎖を有するポリマーである。高分子液晶化合物を用いた光学補償シートについては、特開平５−５３０１６号公報等に記載がある。
【０１１１】
ディスコティック液晶化合物については、様々な文献（Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅ ｅｔ ａｌ．，Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｒ．Ｌｉｑ．Ｃｒｙｓｔ．，ｖｏｌ．７１，ｐａｇｅ１１１（１９８１）；日本化学会編、季刊化学総説、Ｎｏ．２２、液晶の化学、第５章、第１０章第２節（１９９４）；Ｂ．Ｋｏｈｎｅ ｅｔ ａｌ．，Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍ．，ｐａｇｅ１７９４（１９８５）；Ｊ．Ｚｈａｎｇ ｅｔ ａｌ．，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，ｖｏｌ．１１６，ｐａｇｅ２６５５（１９９４））に記載されている。ディスコティック液晶化合物の重合については、特開平８−２７２８４号公報に記載がある。
ディスコティック液晶化合物を重合により固定するためには、ディスコティック液晶化合物の円盤状コアに、置換基として重合性基を結合させる必要がある。ただし、円盤状コアに重合性基を直結させると、重合反応において配向状態を保つことが困難になる。そこで、円盤状コアと重合性基との間に、連結基を導入する。従って、重合性基を有するディスコティック液晶化合物は、下記式（Ａ）で表わされる化合物であることが好ましい。
【０１１２】
（Ａ） Ｄ（−Ｌ−Ｐ）n
式中、Ｄは円盤状コアであり；Ｌは二価の連結基であり；Ｐは重合性基であり；そして、ｎは３〜１２の整数である。
円盤状コア（Ｄ）の例を以下に示す。以下の各例において、ＬＰ（又はＰＬ）は、二価の連結基（Ｌ）と重合性基（Ｐ）との組み合わせを意味する。
【０１１３】
【化７】
【０１１４】
【化８】
【０１１５】
【化９】
【０１１６】
【化１０】
【０１１７】
【化１１】
【０１１８】
【化１２】
【０１１９】
【化１３】
【０１２０】
【化１４】
【０１２１】
【化１５】
【０１２２】
また、特開２００６−７６９９２号公報明細書中の段落番号［００５２］、及び特開２００７−２２２０号公報明細書中の段落番号［００４０］〜［００６３］に記載の化合物のような、３置換ベンゼン骨格を含む化合物は、その複屈折波長分散が、液晶セル中の液晶化合物の複屈折の波長分散により近いので、好ましく用いることができる。特に好ましい骨格を以下に示す。
【０１２３】
【化１６】
【０１２４】
式（Ａ）において、二価の連結基（Ｌ）は、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−Ｏ−、−Ｓ−及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。二価の連結基（Ｌ）は、アルキレン基、アリーレン基、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−Ｏ−及びＳ−からなる群より選ばれる二価の基を少なくとも二つ組み合わせた二価の連結基であることがさらに好ましい。二価の連結基（Ｌ）は、アルキレン基、アリーレン基、−ＣＯ−及びＯ−からなる群より選ばれる二価の基を少なくとも二つ組み合わせた二価の連結基であることが最も好ましい。アルキレン基の炭素原子数は、１〜１２であることが好ましい。アルケニレン基の炭素原子数は、２〜１２であることが好ましい。アリーレン基の炭素原子数は、６〜１０であることが好ましい。
二価の連結基（Ｌ）の例を以下に示す。左側が円盤状コア（Ｄ）に結合し、右側が重合性基（Ｐ）に結合する。ＡＬはアルキレン基又はアルケニレン基、ＡＲはアリーレン基を意味する。なお、アルキレン基、アルケニレン基及びアリーレン基は、置換基（例、アルキル基）を有していてもよい。
【０１２５】
Ｌ１：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−
Ｌ２：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−
Ｌ３：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−
Ｌ４：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ５：−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−
Ｌ６：−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−
Ｌ７：−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ８：−ＣＯ−ＮＨ−ＡＬ−
Ｌ９：−ＮＨ−ＡＬ−Ｏ−
Ｌ１０：−ＮＨ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ１１：−Ｏ−ＡＬ−
Ｌ１２：−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−
Ｌ１３：−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ１４：−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−ＮＨ−ＡＬ−
Ｌ１５：−Ｏ−ＡＬ−Ｓ−ＡＬ−
Ｌ１６：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−ＣＯ−
Ｌ１７：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ１８：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ１９：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ２０：−Ｓ−ＡＬ−
Ｌ２１：−Ｓ−ＡＬ−Ｏ−
Ｌ２２：−Ｓ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ２３：−Ｓ−ＡＬ−Ｓ−ＡＬ−
Ｌ２４：−Ｓ−ＡＲ−ＡＬ−
【０１２６】
式（Ａ）の重合性基（Ｐ）は、重合反応の種類に応じて決定する。重合性基（Ｐ）の例を以下に示す。
【０１２７】
【化１７】
【０１２８】
【化１８】
【０１２９】
【化１９】
【０１３０】
【化２０】
【０１３１】
【化２１】
【０１３２】
【化２２】
【０１３３】
重合性基（Ｐ）は、不飽和重合性基（Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ７、Ｐ８、Ｐ１５、Ｐ１６、Ｐ１７）又はエポキシ基（Ｐ６、Ｐ１８）であることが好ましく、不飽和重合性基であることがさらに好ましく、エチレン性不飽和重合性基（Ｐ１、Ｐ７、Ｐ８、Ｐ１５、Ｐ１６、Ｐ１７）であることが最も好ましい。
式（Ａ）において、ｎは３〜１２の整数である。具体的な数字は、円盤状コア（Ｄ）の種類に応じて決定される。なお、複数のＬとＰの組み合わせは、異なっていてもよいが、同一であることが好ましい。
【０１３４】
前記液晶組成物中、液晶化合物は組成物の全量（溶媒を含む場合は固形分）に対し、５０質量％〜９９．９質量％であるのが好ましく、７０質量％〜９９．９質量％がより好ましく、８０質量％〜９９．５質量％がよりさらに好ましい。
【０１３５】
上記の液晶化合物と共に、液晶性組成物中には、可塑剤、界面活性剤、重合性モノマー等を併用して、塗工膜の均一性、膜の強度、液晶化合物の配向性等を向上させることができる。これらの素材は液晶化合物と相溶性を有し、配向を阻害しないことが好ましい。
重合性モノマーとしては、ラジカル重合性若しくはカチオン重合性の化合物が挙げられる。好ましくは、多官能性ラジカル重合性モノマーであり、上記の重合性基含有の液晶化合物と共重合性のものが好ましい。例えば、特開２００２−２９６４２３号公報明細書中の段落番号［００１８］〜［００２０］記載のものが挙げられる。上記化合物の添加量は、円盤状液晶性分子に対して一般に０．１〜５０質量％の範囲にあり、０．５〜３０質量％の範囲にあることが好ましい。
【０１３６】
液晶化合物とともに使用するポリマーは、塗布液を増粘できることが好ましい。ポリマーの例としては、セルロースエステルを挙げることができる。セルロースエステルの好ましい例としては、特開２０００−１５５２１６号公報明細書中の段落番号［０１７８］記載のものが挙げられる。液晶化合物の配向を阻害しないように、上記ポリマーの添加量は、液晶性分子に対して０．１〜１０質量％であることが好ましく、０．１〜８質量％であることがより好ましい。
【０１３７】
界面活性剤としては、従来公知の化合物が挙げられるが、フッ素系化合物が好ましい。具体的には、例えば特開２００１−３３０７２５号公報明細書中の段落番号［００２８］〜［００５６］記載の化合物、特願２００３−２９５２１２号明細書中の段落番号［００６９］〜［０１２６］記載の化合物が挙げられる。特に好ましい例として、特開２００５−２９２３５１号公報明細書中の段落番号［００５４］から［０１０９］に記載のフルオロ脂肪族基含有ポリマーが挙げられる。
【０１３８】
光学異方性層は、上記成分を含む液晶性組成物を、配向膜の表面（好ましくは、ラビング処理面）上に塗布し、液晶相−固相転移温度以下で配向させ、その後、ＵＶ照射によって、重合反応を進行させて、液晶化合物をその配向状態に固定することにより形成することができる。液晶組成物の塗布は、公知の方法（例、バーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法）により実施できる。液晶相−固相転移温度としては７０℃〜３００℃が好ましく、特に７０℃〜１７０℃が好ましい。液晶化合物の重合反応としては、光重合反応が行われる。液晶化合物の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましく、照射エネルギーは、２０〜５０００ｍＪ／ｃｍ2であることが好ましく、１００〜８００ｍＪ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよく、加熱条件に特に制限はないが、液晶化合物の配向度を低下させないために、１２０℃程度以下であることがより好ましい。
【０１３９】
前記光学異方性層の厚さは、０．５〜１００μｍであることが好ましく、０．５〜３０μｍであることが更に好ましい。
【０１４０】
［光学補償フィルムの特性評価］
（Ｒｅ（λ）及びＲｔｈ（λ））
本明細書では、Ｒｅ（λ）は波長λにおける面内レターデーション（ｎｍ）を意味し、及びＲｔｈ（λ）は波長λにおける厚み方向レターデーション（ｎｍ）を意味する。
測定対象のフィルムのＲｅ（λ）はＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲ（王子計測機器（株）製）において各波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。
測定されるフィルムが１軸又は２軸の屈折率楕円体で表されるものである場合には、以下の方法により、厚み方向レターデーションＲｔｈ（λ）は算出される。
Ｒｔｈ（λ）は前記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）のフィルム法線方向に対して法線方向から片側５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて全部で６点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。
上記において、法線方向から面内の遅相軸を回転軸として、ある傾斜角度にレターデーションの値がゼロとなる方向をもつフィルムの場合には、その傾斜角度より大きい傾斜角度でのレターデーション値はその符号を負に変更した後、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。
尚、遅相軸を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）、任意の傾斜した２方向からレターデーション値を測定し、その値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基に、以下の式（１０）及び式（１１）よりＲｔｈを算出することもできる。
【０１４１】
【数１】
式中、上記のＲｅ（θ）は法線方向から角度θ傾斜した方向におけるレターデーション値をあらわす。
また式中、ｎｘは面内における遅相軸方向の屈折率を表し、ｎｙは面内においてｎｘに直交する方向の屈折率を表し、ｎｚはｎｘ及びｎｙに直交する方向の屈折率を表し、ｄは膜厚を表す。
【０１４２】
測定されるフィルムが１軸や２軸の屈折率楕円体で表現できないもの、いわゆる光学軸（ｏｐｔｉｃ ａｘｉｓ）がないフィルムの場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）は算出される。
Ｒｔｈ（λ）は前記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して−５０度から＋５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて１１点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。
上記の測定において、平均屈折率の仮定値は ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：
セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。
これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。この算出されたｎｘ、ｎｙ、ｎｚよりＮｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）がさらに算出される。
また、本明細書において、測定波長を特に付記しない場合は、波長５５０ｎｍにおけるＲｅ及びＲｔｈであるとする。
【０１４３】
（ヘイズ値）
本明細書において、支持体用フィルム及び光学補償フィルムのヘイズ値は、ＪＩＳ Ｋ−７１３６に準じて測定した値である。
本発明の光学補償フィルムは、透明支持体そのもののヘイズが小さいのみならず、該透明支持体上に光学異方性層を形成しても、そのことによるヘイズの上昇が小さく、光学補償フィルムとしても、ヘイズが小さいという特徴がある。本発明に用いる透明支持体のヘイズは、０〜０．２％程度であり、当該支持体上に光学異方性層を形成した本発明の光学補償フィルムでも、ヘイズ０．３％以下を達成可能である。光学異方性層を形成することによるヘイズの上昇は０．０８％以下であるのが好ましい。
【０１４４】
［偏光板］
本発明は、偏光膜と、本発明の光学補償フィルムとを少なくとも有する偏光板にも関する。本発明の偏光板の一例は、偏光膜の一方の表面の保護フィルムとして、本発明の光学補償フィルムを有する偏光板である。保護フィルムとして用いる場合は、支持体であるラクトン環単位含有共重合体等を含有するポリマーフィルムの裏面（配向膜が形成されていない側の面）を、所望により表面処理して親水化してから、偏光膜の表面に貼り付けるのが好ましい。
偏光膜には、例えば、ポリビニルアルコールフィルムをヨウ素にて染色し、延伸を行うことによって得られる偏光膜などが用いられる。
偏光膜の他方の表面にも保護フィルムが貼り付けられているのが好ましく、かかる保護フィルムとしては、セルロースアシレートフィルムや環状ポリオレフィン系ポリマーフィルム等が用いられる。
【０１４５】
［液晶表示装置］
本発明の光学補償フィルム及び偏光板は、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＦＬＣ（Ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ Ｂｅｎｄ）、ＳＴＮ（Ｓｕｐｐｅｒ Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ Ａｌｉｇｎｅｄ）及びＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ Ａｌｉｇｎｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）のような、様々な表示モードの液晶表示装置に用いることができる。
【０１４６】
液晶表示装置は長時間の使用により、バックライトの熱によって内部の温度が上昇することがしばしばある。また、ノートブック型パーソナルコンピューターや携帯電話用の液晶表示装置は、屋内のみならず、屋外において使用されるものである。従って、これらの液晶表示装置には、環境湿度や温度の変化による表示特性の変動が小さいことが求められる。本発明の光学補償フィルムを有する液晶表示装置、特に、本発明の光学補償フィルムを偏光膜の保護フィルムとして利用している液晶表示装置は、温湿度の変化による表示特性の変動が小さいという特徴があり、種々の用途の液晶表示装置として有用である。特に、本発明の液晶表示装置は、温湿度変化に依存する輝度の変動が小さいことが一つの特徴である。黒表示時の輝度が１ｃｄ／ｃｍ2以上変動する（輝度が増加する）と、視認性が大きく悪化するのに対し、本発明によれば、黒輝度の変化を０．５ｃｄ／ｃｍ2以下に抑えることができ、種々の環境下でも良好な表示性能を維持する液晶表示装置を提供することができる。
【実施例】
【０１４７】
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。
【０１４８】
（環含有重合体の製造）
合成例１：ラクトン環含有重合体ペレット（Ｐ−１）の作製
攪拌装置、温度センサー、冷却管、窒素導入管を付した３０Ｌ反応釜に、メタクリル酸メチル（ＭＭＡ）８０００ｇ、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチル（ＭＨＭＡ）２０００ｇ、４−メチル−２−ペンタノン（メチルイソブチルケトン、ＭＩＢＫ）１００００ｇ、ｎ−ドデシルメルカプタン５ｇを仕込み、これに窒素を通じつつ、１０５℃まで昇温し、還流したところで、開始剤としてｔ−ブチルペルオキシイソプロピルカルボナート｛化薬アクゾ（株）製、「カヤカルボン Ｂｉｃ−７５」（商品名）｝５．０ｇを添加すると同時に、ｔ−ブチルペルオキシイソプロピルカルボナート１０．０ｇとＭＩＢＫ２３０ｇからなる溶液を２時間かけて滴下しながら、還流下（約１０５〜１２０℃）で溶液重合を行い、さらに４時間かけて熟成を行った。
【０１４９】
得られた重合体溶液に、リン酸ステアリル／リン酸ジステアリル混合物｛堺化学工業（株）製、“Ｐｈｏｓｌｅｘ Ａ−１８”（商品名）｝３０ｇを加え、還流下（約９０〜１２０℃）で５時間、環化縮合反応を行った。次いで、この環化縮合反応で得られた重合体溶液を、バレル温度２６０℃、回転数１００ｒｐｍ、減圧度１３．３〜４００ｈＰａ（１０〜３００ｍｍＨｇ）、リアベント数１個、フォアベント数４個のベントタイプスクリュー二軸押出し機（φ＝２９．７５ｍｍ、Ｌ／Ｄ＝３０）に、樹脂量換算で２．０ｋｇ／時間の処理速度で導入し、該押出し機内で環化縮合反応と脱揮を行い、押出すことにより、透明なペレット（Ｐ−１）を得た。
【０１５０】
得られたペレット（Ｐ−１）について、ダイナミックＴＧの測定を行ったところ、０．１７質量％の質量減少を検知した。この質量減少から算出される脱アルコール反応率は９６．６％であった。また、ペレットの質量平均分子量は１３３，０００であり、メルトフローレートは６．５ｇ／１０分、ガラス転移温度は１３１℃であった。
【０１５１】
合成例２：グルタル酸無水物単位を含有するアクリル系熱可塑性共重合体ペレット（Ｐ−２）の作製
メタクリル酸メチル２０質量部、アクリルアミド８０質量部、過硫酸カリウム０．３質量部、イオン交換水１５００質量部を反応器中に仕込み、単量体が完全に重合体に転化するまで、反応器中を窒素ガスで置換しながら７０℃に保ち、メタクリル酸メチル／アクリルアミド共重合体系懸濁剤水溶液を調製した。
【０１５２】
得られたメタクリル酸メチル／アクリルアミド共重合体系懸濁剤水溶液０．０５部を、更にイオン交換水１６５部に溶解させた溶液にして、ステンレス製のオートクレーブに供給し、撹拌し、系内を窒素ガスで置換した。次に、下記の単量体混合物を、反応系を撹拌しながら添加し、７０℃に昇温した。
メタクリル酸（ＭＡＡ） ３０質量部
メタクリル酸メチル（ＭＭＡ） ７０質量部
ｔ−ドデシルメルカプタン ０．６質量部
２，２’−アゾビスイソブチロニトリル ０．４質量部
【０１５３】
内温が７０℃に達した時点を重合開始時として、１８０分間保った後、重合を終了した。以降、通常の方法に従い、反応系の冷却、ポリマーの分離、洗浄、乾燥を行い、ビーズ状の共重合体Ｄを製造した。この共重合体Ｄ製造時の重合率は９８％であった。
【０１５４】
このビーズ状の共重合体Ｄ及びナトリウムメトキシドを、共重合体Ｄ１００質量部、ナトリウムメトキシド０．５質量部の割合で、ベント付き同方向回転２軸押出機に、そのホッパー口より供給して、樹脂温度２５０℃で溶融押出し、ペレット状の、グルタル酸無水物単位を含有するアクリル系熱可塑性共重合体（Ｐ−２）を製造した。得られたアクリル系熱可塑性共重合体を、赤外分光光度計を用いて分析した結果、１８００ｃｍ-1及び１７６０ｃｍ-1に吸収ピークが確認され、グルタル酸無水物単位が形成されていることを確認した。また、このアクリル系熱可塑性共重合体を重ジメチルスルホキシドに溶解させ、室温（２３℃）にて1Ｈ−ＮＭＲを測定し、共重合体組成を決定したところ、メタクリル酸メチル単位７０質量％、グルタル酸無水物単位３０質量％、メタクリル酸単位０質量％であった。また、そのガラス転移温度は１４５℃であった。
【０１５５】
（透明支持体の作製）
製造例１：支持体（ＳＰ−１）の作製
上記ペレット（Ｐ−１）とアクリロニトリル−スチレン（ＡＳ）樹脂｛東洋スチレン（株）製、「トーヨーＡＳ ＡＳ２０」（商品名）｝をＰ−１／ＡＳ樹脂＝９０／１０の質量比で単軸押出し機（φ＝３０ｍｍ）を用いて混錬することにより、透明なペレットを得た。得られたペレットのガラス転移温度は１２７℃であった。このペレットをメチルエチルケトン（ＭＥＫ）に溶解させ、溶液キャスト法で６０μｍのフィルム（ＳＰ−１）を作製した。
得られたフィルムについてＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨにて測定波長５５０ｎｍでの光学特性を測定したしたところ、面内レターデーションＲｅ＝０．５ｎｍ、厚み方向レターデーションＲｔｈ＝−２．０ｎｍ、ＪＩＳ Ｋ−７１３６に準じて測定したヘイズ値は０．１５％であった。
【０１５６】
製造例２：支持体（ＳＰ−２）の作製
製造例１で得られた支持体（ＳＰ−１）のフィルムを、１００℃で０．１ｍ／分の速度で１．５倍に単軸延伸することで５０μｍの延伸フィルム（ＳＰ−２）を得た。
【０１５７】
製造例３：支持体（ＳＰ−３）の作製
合成例２で得られたペレット（Ｐ−２）をＭＥＫに溶解させ、溶液キャスト法で６０μｍのフィルム（ＳＰ−３）を作製した。
【０１５８】
製造例４：支持体（ＳＰ−４）の作製
上記ペレット（Ｐ−１）とアクリロニトリル−スチレン（ＡＳ）樹脂｛東洋スチレン（株）製、「トーヨーＡＳ ＡＳ２０」（商品名）｝をＰ−１／ＡＳ樹脂＝９０／１０の質量比で単軸押出し機（φ＝３０ｍｍ）を用いて混錬することにより、透明なペレットを得た。得られたペレットのガラス転移温度は１２７℃であった。このペレット及び、下記構造のレターデーション上昇剤１をペレット／レターデーション上昇剤＝１００／３の質量比でメチルエチルケトン（ＭＥＫ）に溶解させ、溶液キャスト法で８０μｍのフィルム（ＳＰ−４）を作製した。得られたフィルムの光学特性をＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨにて測定波長５５０ｎｍでの光学特性を測定したしたところ、面内レターデーションＲｅ＝０．５ｎｍ、厚み方向レターデーションＲｔｈ＝９２ｎｍであった。
【０１５９】
【化２３】
【０１６０】
製造例５：支持体（ＳＰ−５）の作製
上記ペレット（Ｐ−１）とアクリロニトリル−スチレン（ＡＳ）樹脂｛東洋スチレン（株）製、「トーヨーＡＳ ＡＳ２０」（商品名）｝をＰ−１／ＡＳ樹脂＝９０／１０の質量比で単軸押出し機（φ＝３０ｍｍ）を用いて混錬することにより、透明なペレットを得た。得られたペレットのガラス転移温度は１２７℃であった。このペレット及び、下記構造のレターデーション上昇剤２をペレット／レターデーション上昇剤＝１００／５の質量比でメチルエチルケトン（ＭＥＫ）に溶解させ、溶液キャスト法で８５μｍのフィルムを得た。さらに１００℃で０．１ｍ／分の速度で幅方向に１．２５倍にテンター延伸することで８０μｍの延伸フィルム（ＳＰ−５）を作製した。得られたフィルムの光学特性をＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨにて測定波長５５０ｎｍでの光学特性を測定したところ、面内レターデーションＲｅ＝３８ｎｍ（遅相軸：幅方向）、厚み方向レターデーションＲｔｈ＝１８０ｎｍであり、ヘイズ値は０．１５％であった。
【０１６１】
【化２４】
【０１６２】
製造例６：支持体（ＳＰ−６）の作製
レターデーション上昇剤２を下記構造のレターデーション上昇剤３に置き換えた以外は製造例４と同様にして、溶液キャスト法で８０μｍのフィルム（ＳＰ−６）を作製した。得られたフィルムの光学特性をＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨにて測定波長５５０ｎｍでの光学特性を測定したしたところ、面内レターデーションＲｅ＝０．５ｎｍ、厚み方向レターデーションＲｔｈ＝９２ｎｍであり、ヘイズ値は０．１５％であった。
【０１６３】
【化２５】
【０１６４】
製造例７：支持体（ＳＰ−７）の作製
レターデーション上昇剤２を下記構造のレターデーション上昇剤４に置き換えた以外は製造例４と同様にして、溶液キャスト法で８０μｍのフィルム（ＳＰ−７）を作製した。得られたフィルムの光学特性をＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨにて測定波長５５０ｎｍでの光学特性を測定したしたところ、面内レターデーションＲｅ＝０．５ｎｍ、厚み方向レターデーションＲｔｈ＝９２ｎｍであり、ヘイズ値は０．１５％であった。
【０１６５】
【化２６】
【０１６６】
製造例８：支持体（ＳＰ−８）の作製
レターデーション上昇剤２を下記構造のレターデーション上昇剤５に置き換えた以外は製造例４と同様にして、溶液キャスト法で８０μｍのフィルム（ＳＰ−８）を作製した。得られたフィルムの光学特性をＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨにて測定波長５５０ｎｍでの光学特性を測定したしたところ、面内レターデーションＲｅ＝０．５ｎｍ、厚み方向レターデーションＲｔｈ＝９２ｎｍであり、ヘイズ値は０．１５％であった。
【０１６７】
【化２７】
【０１６８】
製造例９：支持体（ＳＰ−９）の作製
レターデーション上昇剤２を下記構造のレターデーション上昇剤６に置き換えた以外は製造例４と同様にして、溶液キャスト法で８０μｍのフィルム（ＳＰ−９）を作製した。得られたフィルムの光学特性をＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨにて測定波長５５０ｎｍでの光学特性を測定したしたところ、面内レターデーションＲｅ＝０．５ｎｍ、厚み方向レターデーションＲｔｈ＝９２ｎｍであり、ヘイズ値は０．１５％であった。
【０１６９】
【化２８】
【０１７０】
製造例１０：支持体（ＳＰ−１０）の作製
レターデーション上昇剤２を下記構造のレターデーション上昇剤７に置き換えた以外は製造例４と同様にして、溶液キャスト法で８０μｍのフィルム（ＳＰ−１０）を作製した。得られたフィルムの光学特性をＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨにて測定波長５５０ｎｍでの光学特性を測定したしたところ、面内レターデーションＲｅ＝０．５ｎｍ、厚み方向レターデーションＲｔｈ＝９２ｎｍであり、ヘイズ値は０．１５％であった。
【０１７１】
【化２９】
【０１７２】
［実施例１］
（配向膜の形成）
製造例４で作製した支持体（ＳＰ−４）の片面に大気圧プラズマ処理（電極：積水化学工業（株）製、条件：雰囲気酸素濃度：３体積％（９７％窒素）、周波数：３０Ｈｚ、フィルム搬送速度：１ｍ／分）して、片面を親水化処理した。親水化処理により、水の接触角は９０°から２８°に低減し、充分に親水化されていた。
この処理面に、下記の組成の配向膜形成用硬化性組成物を＃１４のワイヤーバーで２４ｍＬ／ｍ2のウエット塗布量で塗布して、１００℃で２分間乾燥した。配向膜１の厚さは、１．０μｍであった。
【０１７３】
配向膜形成用硬化性組成物：
下記式の変性ポリビニルアルコール ４０質量部
水 ７２８質量部
メタノール ２２８質量部
グルタルアルデヒド ２質量部
クエン酸 ０．０８質量部
クエン酸モノエチルエステル ０．２９質量部
クエン酸ジエチルエステル ０．２７質量部
クエン酸トリエチルエステル ０．０５質量部
【０１７４】
【化３０】
【０１７５】
下記の組成の光学異方性層形成用液晶組成物１の塗布液を調製した。
光学異方性層形成用液晶組成物１：
メチルエチルケトン １０２．００質量部
下記構造式に示す円盤状液晶化合物１ ４１．０１質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパンアクリレート（Ｖ３６０、大阪有機化学（株）製） ４．０６質量部
セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ５３１−１、イーストマンケミカル社製）
０．１１質量部
セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ５５１−０．２、イーストマンケミカル社製）
０．３４質量部
光重合開始剤「イルガキュア９０７」チバガイギー社製 １．３５質量部
増感剤「カヤキュアーＤＥＴＸ」日本化薬（株）製 ０．４５質量部
下記構造式に示すフルオロ脂肪族基含有ポリマー１ ０．０３質量部
下記構造式に示すフルオロ脂肪族基含有ポリマー２ ０．２３質量部
【０１７６】
【化３１】
【０１７７】
【化３２】
【０１７８】
【化３３】
【０１７９】
（光学異方性層１の形成）
配向膜を塗工したロール状態のフィルムを送り出し、その先に配置されたラビング装置によって搬送方向に沿って逆回転にラビングロールを回転させて配向膜の表面をラビング処理し、続いてラビング処理面を超音波除塵した。除塵後に、ラビング処理面に、上記組成の光学異方性層形成用液晶組成物１の塗布液を＃３のワイヤーバーで５．２ｍｌ／ｍ2のウエット塗布量で塗布して、１２０℃で１．５分間乾燥して、配向させ、その後、８０℃にフィルム温度を保った状態で１２０Ｗ／ｃｍのメタルハライドランプで照射量５００ｍＪ／ｃｍ2のＵＶ光を照射して、重合反応を進行させて、配向状態を固定して、光学異方性層１を形成し、巻き取り部でロールフィルム状態に巻き取った。光学異方性層１の厚さは、１．４μｍであった。得られたフィルムの光学異方性層のみをガラス板に転写してＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨにて測定波長５５０ｎｍでの光学特性を測定した結果、Ｒｅ＝５０ｎｍ、Ｒｔｈ＝８６ｎｍであった。フィルムのヘイズは０．２０％、消光度は０．００１０であった。表１に光学補償フィルムの構成を、表２に評価結果を示す。
以上の様にして、光学補償フィルム１を作製した。
【０１８０】
（偏光板１の作製）
延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を作製した。
その後、作製した光学補償フィルム１の光学異方性層１を形成した面の反対側の面を、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、前記偏光膜の一方の面に貼り付け、前記偏光膜の他方の面には、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、鹸化処理を行った市販のセルローストリアセテートフィルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士フイルム（株）製）を貼り付けた。このようにして、偏光板１を作製した。
【０１８１】
（ＴＮモード液晶表示装置１の作製）
ＴＮ型液晶セルを使用した２２インチの液晶表示装置（ＡＣＥＲ製 ＡＬ２２１６Ｗ）に設けられている一対の偏光板（上側偏光板、及び下側偏光板）を剥がし、代わりに作製した偏光板１を、光学異方性層が液晶セル側となるように粘着剤を介して、観察者側及びバックライト側に一枚ずつ貼り付けて、偏光板１を２枚有するＴＮモード液晶表示装置１を作製した。このとき、観察者側の偏光板（上側偏光板）の透過軸と、バックライト側の偏光板（下側偏光板）の透過軸とが直交するように各偏光板を配置した。
【０１８２】
（表示性能評価）
常温常湿（２５℃６０％ＲＨ）の部屋で１週間放置した前記液晶表示装置を測定機（ＥＺ−Ｃｏｎｔｒａｓｔ１６０Ｄ、ＥＬＤＩＭ社製）を用いて、パネル正面方向におけるコントラスト比（白表示時の透過率／黒表示時の透過率）、及び、左右／上下のコントラスト視野角（コントラスト１０以上を維持する視野角）を評価した。評価結果を表２に示す。
【０１８３】
［比較例１］
製造例４で作製した支持体（ＳＰ−４）の代わりに、以下に示す製造法にて作製した支持体（ＳＰ−１１）を用い、表面親水化処理を大気圧プラズマ処理から以下に示す鹸化処理に変更した以外は実施例１と同様にして配向膜形成、光学異方性層を形成することによって、光学補償フィルム２を作製した。実施例１と同様にして光学補償フィルム２を片面に有する偏光板２を作製し、実施例１と同様にしてＴＮモード液晶表示装置２を作製し、同様の評価を行った。表１に光学補償フィルムの構成を、表２に評価結果を示す。
【０１８４】
支持体（ＳＰ−１１）の作製：
下記表に示す組成物をミキシングタンクに投入し、３０℃に加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアシレート溶液を調製した。セルロースアシレートは、全アシル置換度が２．８３のものを用いた。
【０１８５】
内層用ドープ組成物：
アセチル置換度２．８３のセルロースアシレート １００質量部
トリフェニルフォスフェート ８質量部
ビフェニルフォスフェート ４質量部
メチレンクロライド ２９３質量部
メタノール ７１質量部
１−ブタノール ２質量部
【０１８６】
外層用ドープ組成物：
アセチル置換度２．８３のセルロースアシレート １００質量部
トリフェニルフォスフェート ８質量部
ビフェニルフォスフェート ４質量部
メチレンクロライド ３１４質量部
メタノール ７６質量部
１−ブタノール ２質量部
シリカ微粒子（ＡＥＲＯＳＩＬ９７２、日本アエロジル（株）製）
０．８質量部
【０１８７】
得られた内層用ドープ及び外層用ドープを、三層共流延ダイを用いて、０℃に冷却したドラム上に流延した。残留溶剤量が７０質量％のフィルムをドラムから剥ぎ取り、両端をピンテンターにて固定して搬送方向のドロー比を１１５％として搬送しながら８０℃で乾燥させ、残留溶剤量が１０％となったところで、１１０℃で乾燥させた。その後、１５５℃の温度で２０分乾燥し、残留溶剤が０．３質量％のセルロースアセテートフィルム（外層：３μｍ、内層：７４μｍ、外層：３μｍ）を製造した。このように支持体（ＳＰ−１１）を作製した。得られたフィルムの光学特性をＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨにて測定波長５５０ｎｍでの光学特性を測定したしたところ、面内レターデーションＲｅ＝０．３ｎｍ、厚み方向レターデーションＲｔｈ＝３５ｎｍであった。また、ヘイズ値は０．２０％であった。
得られた透明支持体の片面に、１．０Ｎの水酸化カリウム溶液（溶媒：水／イソプロピルアルコール／プロピレングリコール＝６９．２質量部／１５質量部／１５．８質量部）を１０ｍＬ／ｍ2塗布し、約４０℃の状態で３０秒間保持した後、アルカリ液を掻き取り、純水で水洗し、エアーナイフで水滴を削除し、その後、１００℃で１５秒間乾燥して、片面を鹸化処理した。
【０１８８】
［実施例２］
製造例４で作製した支持体（ＳＰ−４）の代わりに製造例５で作製した支持体（ＳＰ−５）を用いた以外は実施例１と同様にして、鹸化処理、配向膜形成を行った。
【０１８９】
（光学異方性層２の形成）
以下の組成の光学異方性層形成用液晶組成物２の塗布液を調製した。
光学異方性層形成用液晶組成物２：
メチルエチルケトン １４７．７８質量部
上記円盤状液晶化合物１ ４１．０１質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパンアクリレート（Ｖ３６０、大阪有機化学（株）製） ４．０６質量部
セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ５３１−１、イーストマンケミカル社製）
０．２３質量部
光重合開始剤「イルガキュア９０７」チバガイギー社製 １．３５質量部
増感剤「カヤキュアーＤＥＴＸ」日本化薬（株）製 ０．４５質量部
フルオロ脂肪族基含有ポリマー
（メガファックＦ７８０、（大日本インキ化学工業（株）製） ０．４５質量部
【０１９０】
ロール状態のフィルムをラビング装置によって搬送方向に対して４５°方向に逆回転にラビングロールを回転させて配向膜の表面をラビング処理し、続いてラビング処理面を超音波除塵した。除塵後に、ラビング処理面に、上記組成の光学異方性層形成用液晶組成物２を＃３のワイヤーバーで５．２ｍＬ／ｍ2のウエット塗布量で塗布して、１２０℃で１．５分間乾燥して、配向させ、その後、８０℃にフィルム温度を保った状態で１２０Ｗ／ｃｍのメタルハライドランプで照射量５００ｍＪ／ｃｍ2のＵＶ光を照射して、重合反応を進行させて、配向状態を固定して、光学異方性層２を形成し、巻き取り部でロールフィルム状態に巻き取った。光学異方性層２の厚さは、１．３μｍであった。得られたフィルムの光学異方性層のみをガラス板に転写してＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨにて測定波長５５０ｎｍでの光学特性を測定した結果、Ｒｅ＝３０ｎｍ、Ｒｔｈ＝９０ｎｍであった。フィルムのヘイズは０．２０％、消光度は０．００１０であった。以上の結果を表１に示す。
以上のようにして、光学補償フィルム３を作製した。
【０１９１】
（偏光板３の作製）
光学補償フィルム１の代わりに光学補償フィルム３を用いた以外は実施例１と同様にして、偏光板３を作製した。
【０１９２】
（ＯＣＢモード液晶表示装置１の作製）
（ＯＣＢモード液晶セルの作製）
ＩＴＯ電極付きのガラス基板に、ポリイミド膜を配向膜として設け、配向膜にラビング処理を行った。得られた二枚のガラス基板をラビング方向が平行となる配置で向かい合わせ、液晶セルの厚さを７．２μｍに設定した。液晶セルの間隙にΔｎが０．１３９６の液晶化合物（ＺＬＩ１１３２、メルク社製）を注入し、ベンド配向したＯＣＢモード液晶セルを作製した。
【０１９３】
（液晶表示装置の作製）
上記ベンド配向液晶セルと、上記一対の偏光板３とを組み合わせて液晶表示装置を作製した。
なお、ベンド配向液晶セルと、一対の偏光板との配置は、偏光板が第１の光学異方性層、及びベンド配向液晶セルの基板が対面し、ベンド配向液晶セルのラビング方向とそれに対向する第１の光学異方性層のラビング方向とが反平行になるようにした。
作製したベンド配向液晶セルを挟むように、それぞれ別の透明基板に、視認側、及びバックライト側に偏光板をそれぞれ貼り付けた。
偏光板の第１の光学異方性層が前記透明基板に対向し、ベンド配向液晶セルのラビング方向とそれに対向する第１の光学異方性層のラビング方向とが反平行となるように配置し、ベンド配向液晶セルの大きさが２０インチである液晶表示装置を作製した。
（表示性能評価）
実施例１と同様にして、パネル正面方向におけるコントラスト比（白表示時の透過率／黒表示時の透過率）を評価した。結果を表１に示す。
【０１９４】
［比較例２］
製造例５で作製した支持体（ＳＰ−５）の代わりに特開２００７−１４７９６６公報中に記載の比較例３で用いられているセルロースアシレートフィルム（ＣＡ−２）と同様にして膜厚８８μｍのフィルムＳＰ−１２を作製した。得られたフィルムの光学特性をＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨにて測定波長５５０ｎｍでの光学特性を測定したところ、面内レターデーションＲｅ＝３６ｎｍ（遅相軸：幅方向）、厚み方向レターデーションＲｔｈ＝１７５ｎｍであった。
【０１９５】
［実施例３〜８］
製造例４で作製した支持体（ＳＰ−４）の代わりに製造例１で作製した支持体（ＳＰ−１）を用いた以外は実施例１と同様にして、光学補償フィルム５、偏光板５、ＴＮモード液晶表示装置３を作製した（実施例３）。
同様に、製造例４で作製した支持体（ＳＰ−４）の代わりに製造例６で作製した支持体（ＳＰ−６）を用いた以外は実施例１と同様にして、光学補償フィルム６、偏光板６、ＴＮモード液晶表示装置４を作製した（実施例４）。
同様に、製造例４で作製した支持体（ＳＰ−４）の代わりに製造例７で作製した支持体（ＳＰ−７）を用いた以外は実施例１と同様にして、光学補償フィルム７、偏光板７、ＴＮモード液晶表示装置５を作製した（実施例５）。
同様に、製造例４で作製した支持体（ＳＰ−４）の代わりに製造例８で作製した支持体（ＳＰ−８）を用いた以外は実施例１と同様にして、光学補償フィルム８、偏光板８、ＴＮモード液晶表示装置６を作製した（実施例６）。
同様に、製造例４で作製した支持体（ＳＰ−４）の代わりに製造例９で作製した支持体（ＳＰ−９）を用いた以外は実施例１と同様にして、光学補償フィルム９、偏光板９、ＴＮモード液晶表示装置７を作製した（実施例７）。
同様に、製造例４で作製した支持体（ＳＰ−４）の代わりに製造例１０で作製した支持体（ＳＰ−１０）を用いた以外は実施例１と同様にして、光学補償フィルム１０、偏光板１０、ＴＮモード液晶表示装置８を作製した（実施例８）。
【０１９６】
【表１】
【０１９７】
【表２】
【０１９８】
上記表に示す結果から、実施例１〜８では、透明支持体として、ラクトン環単位含有共重合体を含むフィルムを用いているので、他のポリマーフィルムを透明支持体として用いた場合と比較して、消光度がより小さくなり、ＴＮモード、ＩＰＳモード等の液晶表示装置に組み込んだ際のコントラストが向上したことが理解できる。
【０１９９】
製造例１３：支持体（ＳＰ−１３）の作製
レターデーション上昇剤１をレターデーション上昇剤３に置き換えた以外は製造例４と同様にして、溶液キャスト法で８０μｍのフィルム（ＳＰ−１３）を作製した。得られたフィルムの光学特性をＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨにて測定波長５５０ｎｍでの光学特性を測定したしたところ、面内レターデーションＲｅ＝０．５ｎｍ、厚み方向レターデーションＲｔｈ＝９２ｎｍであった。また、ヘイズ値は０．１５％であった。
【０２００】
製造例１４：支持体（ＳＰ−１４）の作製
レターデーション上昇剤１をレターデーション上昇剤４に置き換えた以外は製造例４と同様にして、溶液キャスト法で８０μｍのフィルム（ＳＰ−１４）を作製した。得られたフィルムの光学特性をＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨにて測定波長５５０ｎｍでの光学特性を測定したしたところ、面内レターデーションＲｅ＝０．５ｎｍ、厚み方向レターデーションＲｔｈ＝９２ｎｍであった。また、ヘイズ値は０．１５％であった。
【０２０１】
製造例１５：支持体（ＳＰ−１５）の作製
レターデーション上昇剤１をレターデーション上昇剤５に置き換えた以外は製造例４と同様にして、溶液キャスト法で８０μｍのフィルム（ＳＰ−１５）を作製した。得られたフィルムの光学特性をＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨにて測定波長５５０ｎｍでの光学特性を測定したしたところ、面内レターデーションＲｅ＝０．５ｎｍ、厚み方向レターデーションＲｔｈ＝９２ｎｍであった。また、ヘイズ値は０．１５％であった。
【０２０２】
製造例１６：支持体（ＳＰ−１６）の作製
レターデーション上昇剤１をレターデーション上昇剤６に置き換えた以外は製造例４と同様にして、溶液キャスト法で８０μｍのフィルム（ＳＰ−１６）を作製した。得られたフィルムの光学特性をＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨにて測定波長５５０ｎｍでの光学特性を測定したしたところ、面内レターデーションＲｅ＝０．５ｎｍ、厚み方向レターデーションＲｔｈ＝９２ｎｍであった。また、ヘイズ値は０．１５％であった。
【０２０３】
製造例１７：支持体（ＳＰ−１７）の作製
レターデーション上昇剤１をレターデーション上昇剤７に置き換えた以外は製造例４と同様にして、溶液キャスト法で８０μｍのフィルム（ＳＰ−１７）を作製した。得られたフィルムの光学特性をＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨにて測定波長５５０ｎｍでの光学特性を測定したしたところ、面内レターデーションＲｅ＝０．５ｎｍ、厚み方向レターデーションＲｔｈ＝９２ｎｍであった。また、ヘイズ値は０．１５％であった。
【０２０４】
製造例１８：支持体（ＳＰ−１８）の作製
合成例２で得られたペレット（Ｐ−２）、及びレターデーション上昇剤１をペレット／レターデーション上昇剤＝１００／６の質量比でメチルエチルケトン（ＭＥＫ）に溶解させ、溶液キャスト法で６０μｍのフィルム（ＳＰ−１８）を作製した。得られたフィルムの光学特性をＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨにて測定波長５５０ｎｍでの光学特性を測定したしたところ、Ｒｅ＝２ｎｍ、及びＲｔｈ＝９３ｎｍであった。また、ヘイズ値は０．１６％であった。
【０２０５】
製造例１９：支持体（ＳＰ−１９）の作製
合成例２で得られたペレット（Ｐ−２）、及びレターデーション上昇剤１をペレット／レターデーション上昇剤＝１００／３の質量比でメチルエチルケトン（ＭＥＫ）に溶解させ、溶液キャスト法で６０μｍのフィルムを作製した。さらに１００℃で０．１ｍ／分の速度で幅方向に１．１７倍にテンター延伸することで５３μｍの延伸フィルム（ＳＰ−１９）を作製した。得られたフィルムの光学特性をＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨにて測定波長５５０ｎｍでの光学特性を測定したところ、面内レターデーションＲｅ＝７５ｎｍ（遅相軸：幅方向）、厚み方向レターデーションＲｔｈ＝６２ｎｍであった。また、ヘイズ値は０．１７％であった。
【０２０６】
製造例２０：支持体（ＳＰ−２０）の作製
製造例１８で得られたＳＰ−１８を１００℃で０．１ｍ／分の速度で幅方向に１．２５倍にテンター延伸することで５０μｍの延伸フィルム（ＳＰ−２０）を作製した。得られたフィルムの光学特性をＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨにて測定波長５５０ｎｍでの光学特性を測定したところ、面内レターデーションＲｅ＝４０ｎｍ（遅相軸：幅方向）、厚み方向レターデーションＲｔｈ＝１８２ｎｍであった。また、ヘイズ値は０．１７％であった。
【０２０７】
（実施例９〜１４）
製造例４で作製した支持体（ＳＰ−４）の代わりに製造例１３で作製した支持体（ＳＰ−１３）を用いた以外は実施例１と同様にして、光学補償フィルム１１、偏光板１１、ＴＮモード液晶表示装置９を作製した（実施例９）。
同様に、製造例４で作製した支持体（ＳＰ−４）の代わりに製造例１４で作製した支持体（ＳＰ−１４）を用いた以外は実施例１と同様にして、光学補償フィルム１２、偏光板１２、ＴＮモード液晶表示装置１０を作製した（実施例１０）。
同様に、製造例４で作製した支持体（ＳＰ−４）の代わりに製造例１５で作製した支持体（ＳＰ−１５）を用いた以外は実施例１と同様にして、光学補償フィルム１３、偏光板１３、ＴＮモード液晶表示装置１１を作製した（実施例１１）。
同様に、製造例４で作製した支持体（ＳＰ−４）の代わりに製造例１６で作製した支持体（ＳＰ−１６）を用いた以外は実施例１と同様にして、光学補償フィルム１４、偏光板１４、ＴＮモード液晶表示装置１２を作製した（実施例１２）。
同様に、製造例４で作製した支持体（ＳＰ−４）の代わりに製造例１７で作製した支持体（ＳＰ−１７）を用いた以外は実施例１と同様にして、光学補償フィルム１５、偏光板１５、ＴＮモード液晶表示装置１３を作製した（実施例１３）。
同様に、製造例４で作製した支持体（ＳＰ−４）の代わりに製造例２で作製した支持体（ＳＰ−２）を用いた以外は実施例１と同様にして、光学補償フィルム１６、偏光板１６、ＴＮモード液晶表示装置１４を作製した（実施例１４）。
【０２０８】
（実施例１５）
製造例４で作製した支持体（ＳＰ−４）の片面に実施例１と同様に大気圧プラズマ処理を行い、該処理面に配向膜を形成した。
【０２０９】
（光学異方性層形成用液晶組成物３の調製）
下記の組成の光学異方性層形成用液晶組成物３の塗布液を調製した。
メチルエチルケトン ２７０．０質量部
円盤状液晶化合物１ １０．０質量部
下記の円盤状液晶化合物２ ９０．０質量部
下記の空気界面配向制御剤１ １．０質量部
光重合開始剤「イルガキュア９０７」チバガイギー社製 ３．０質量部
増感剤「カヤキュアーＤＥＴＸ」日本化薬（株）製 １．０質量部
【０２１０】
【化３４】
【０２１１】
【化３５】
【０２１２】
配向膜を塗工したロール状態のフィルムを送り出し、その先に配置されたラビング装置によって搬送方向に沿って逆回転にラビングロールを回転させて配向膜の表面をラビング処理し、続いてラビング処理面を超音波除塵した。除塵後に、ラビング処理面に、上記組成の光学異方性層形成用液晶組成物３の塗布液を＃１．６のワイヤーバーで２．８ｍｌ／ｍ2のウエット塗布量で塗布して、１１５℃で１．５分間乾燥して、配向させ、その後、８０℃にフィルム温度を保った状態で１２０Ｗ／ｃｍのメタルハライドランプで照射量２００ｍＪ／ｃｍ2のＵＶ光を照射して、重合反応を進行させて、配向状態を固定して、光学異方性層３を形成し、巻き取り部でロールフィルム状態に巻き取った。光学異方性層３の厚さは、０．９μｍであった。得られたフィルムの光学異方性層のみをガラス板に転写してＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨにて測定波長５５０ｎｍでの光学特性を測定した結果、Ｒｅ＝４６ｎｍ、Ｒｔｈ＝８０ｎｍであった。フィルムのヘイズ値は０．１８％、消光度は０．０００８であった。以上の様にして、光学補償フィルム１７を作製した。
【０２１３】
この光学補償フィルム１７を用い、実施例１と同様に偏光板１７、ＴＮモード液晶表示装置１５を作製し、表示性能評価を行った。
【０２１４】
（実施例１６）
製造例４で作製した支持体（ＳＰ−４）の代わりに製造例５で作製した支持体（ＳＰ−５）を用いた以外は実施例１と同様にして、支持体ＳＰ−５の表面に対して大気圧プラズマ処理を行い、該処理面に配向膜を形成した。
実施例２と同様にして、光学異方性層形成用液晶組成物２の塗布液を調製し、前記配向膜の表面に塗布し、光学補償フィルム１８を作製した。
この光学補償フィルム１８を用い、実施例２と同様に偏光板１８、ＯＣＢモード液晶表示装置３を作製し、表示性能評価を行った。
【０２１５】
（実施例１７）
製造例３で作製した支持体（ＳＰ−３）を用いたこと以外は実施例１と同様に、支持体ＳＰ−３の表面を大気圧プラズマ処理、該処理面に配向膜を形成した。
実施例１５と同様にして、光学異方性層形成用液晶組成物３の塗布液を調製し、前記配向膜の表面に塗布し、光学補償フィルム１９を作製し、これを有する偏光板１９を作製した。
【０２１６】
（ＴＮモード液晶表示装置の作製）
２６インチのＴＮ型液晶セルを使用した液晶表示装置（ＬＣ−２６ＨＵ２５、Ｘｏｃｅｃｏ社製）に設けられている一対の偏光板を剥がし、代わりに上記の作製した偏光板１９を、光学補償フィルム１９が液晶セル側となるように粘着剤を介して、観察者側及びバックライト側に一枚ずつ貼り付けた。このとき、観察者側の偏光板の透過軸と、バックライト側の偏光板の透過軸とが直交するように配置した。このようにして、ＴＮモード液晶表示装置１６を作製した。
【０２１７】
（表示性能評価）
実施例１と同様にして、正面コントラスト及び視野角を評価した。
（温湿度変化による輝度変化の評価）
さらに作製した液晶表示装置１６について、電源ＯＦＦ状態で２時間以上放置した状態から電源ＯＮにして５分以内に上下左右の辺の中央で、端部から１ｃｍ中心寄りの点での輝度を輝度計（ＴＯＰＣＯＮ製ＢＭ−５）で測定し、その平均を求めたところ、０．３ｃｄ／ｃｍ2であった。さらに点灯後１時間経過した時点で同様の測定を行ったところ、０．５ｃｄ／ｃｍ2であった。即ち、液晶表示装置１６の温度変化による輝度変化は、０．２ｃｄ／ｃｍ2であった。
また、作製した液晶表示装置１６を、電源ＯＦＦ状態で２５℃・１０％ＲＨ下に２４時間放置し、点灯後すぐに同様の測定を行ったところ、０．５ｃｄ／ｃｍ2であった。即ち、液晶表示装置１６の湿度変化による輝度変化は、０．２ｃｄ／ｃｍ2であった。
【０２１８】
（実施例１８）
製造例１８で作製した支持体（ＳＰ−１８）を用いたこと以外は実施例１と同様に、支持体ＳＰ−１８の表面を大気圧プラズマ処理し、該処理面に配向膜を形成した。
実施例１５と同様に、光学異方性層形成用液晶組成物３の塗布液を調製し、前記配向膜の表面に塗布し、光学補償フィルム２０を作製し、これを有する偏光板２０を作製した。
偏光板２０を用い、実施例１７と同様にしてＴＮモード液晶表示装置１７を作製し、表示性能評価を行った。
【０２１９】
（実施例１９）
製造例１８で作製した支持体（ＳＰ−１８）を用いたこと以外は実施例１と同様に、支持体ＳＰ−１８の表面を大気圧プラズマ処理し、該処理面に配向膜を形成した。
【０２２０】
（光学異方性層形成用液晶組成物４の調製）
下記の組成の光学異方性層形成用液晶組成物４の塗布液を調製した。
メチルエチルケトン ２７０．０質量部
上記円盤状液晶化合物２ １００．０質量部
空気界面配向制御剤１ １．０質量部
光重合開始剤「イルガキュア９０７」チバガイギー社製 ３．０質量部
増感剤「カヤキュアーＤＥＴＸ」日本化薬（株）製 １．０質量部
【０２２１】
光学異方性層形成用液晶組成物３の塗布液を、光学異方性層形成用液晶組成物４の塗布液に代えた以外は実施例１５と同様に光学異方性層４を形成し、光学補償フィルム２１を作製し、さらにこれを有する偏光板２１を作製した。
偏光板２１を用い、実施例１７と同様にしてＴＮモード液晶表示装置１８を作製し、表示性能評価を行った。
【０２２２】
（実施例２０）
製造例１９で作製した支持体（ＳＰ−１９）を用いたこと以外は実施例１と同様に、支持体ＳＰ−１９の表面を大気圧プラズマ処理を行い、該処理面に配向膜を形成した。
次に、配向膜を有するロール状態に巻き取られた長尺のフィルムを送り出し、搬送方向の下流に配置されたラビング装置によって、搬送方向に沿って逆回転にラビングロールを回転させて、配向膜の表面をラビング処理し、続いてラビング処理面を超音波除塵した。除塵後に、ラビング処理面に、上記組成の光学異方性層形成用液晶組成物２の塗布液を＃２のワイヤーバーで３．５ｍＬ／ｍ2のウエット塗布量で塗布して、１２０℃で１．５分間乾燥して、液晶を配向させた。その後、８０℃にフィルム温度を保った状態で１２０Ｗ／ｃｍのメタルハライドランプで照射量５００ｍＪ／ｃｍ2のＵＶ光を照射して、重合反応を進行させて、配向状態を固定して、光学異方性層５を形成し、巻き取り部でロールフィルム状態に巻き取った。光学異方性層５の厚さは、１．４μｍであった。得られたフィルムの光学異方性層５のみをガラス板に転写してＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨにて測定波長５５０ｎｍでの光学特性を測定した結果、Ｒｅ＝３２ｎｍ、Ｒｔｈ＝９０ｎｍであった。フィルムのヘイズ値は０．２１％、消光度は０．００１１であった。以上の様にして、光学補償フィルム２２を作製した。
【０２２３】
この光学補償フィルム２２を用い、実施例１７と同様に偏光板２２、及びＴＮモード液晶表示装置１９を作製し、表示性能評価を行った。
【０２２４】
（実施例２１）
製造例１９で作製した支持体（ＳＰ−１９）を用いたこと以外は実施例１と同様に、支持体ＳＰ−１９の表面を大気圧プラズマ処理し、該処理面に配向膜を形成した。
【０２２５】
（光学異方性層形成用液晶組成物５の調製）
下記の組成の光学異方性層形成用液晶組成物５の塗布液を調製した。
メチルエチルケトン ２７０．０質量部
上記円盤状液晶化合物１ １０．０質量部
上記円盤状液晶化合物２ ９０．０質量部
空気界面配向制御剤１ ２．０質量部
光重合開始剤「イルガキュア９０７」チバガイギー社製 ３．０質量部
増感剤「カヤキュアーＤＥＴＸ」日本化薬（株）製 １．０質量部
【０２２６】
光学異方性層形成用液晶組成物３の塗布液の代わりに、光学異方性層形成用液晶組成物５の塗布液を用いた以外は、実施例１５と同様にして、光学補償フィルム２３を作製した。
この光学補償フィルム２３を用い、実施例１７と同様にして、偏光板２３、及びＴＮモード液晶表示装置２０を作製し、表示性能評価を行った。
【０２２７】
（実施例２２）
製造例１８で作製した支持体（ＳＰ−１８）を用いたこと以外は実施例１と同様に、支持体ＳＰ−１８の表面を大気圧プラズマ処理し、該処理面に配向膜を形成した。
【０２２８】
（光学異方性層形成用液晶組成物６の調製）
下記の組成の光学異方性層形成用液晶組成物６の塗布液を調製した。
メチルエチルケトン ３００．０質量部
下記に示す棒状液晶化合物１ ８７．０質量部
下記に示す棒状液晶化合物２ １３．０質量部
セルロースアセテートブチレート
（ＣＡＢ５５１−０．２、イーストマンケミカル社製） ０．４質量部
フルオロ脂肪族基含有ポリマー
（メガファックＦ７８０、（大日本インキ化学工業（株）製） ０．６質量部
光重合開始剤「イルガキュア９０７」チバガイギー社製 ３．０質量部
増感剤「カヤキュアーＤＥＴＸ」日本化薬（株）製 １．０質量部
【０２２９】
【化３６】
【０２３０】
【化３７】
【０２３１】
光学異方性層形成用液晶組成物３の塗布液の代わりに、光学異方性層形成用液晶組成物６の塗布液を用いた以外は、実施例１５と同様にして光学補償フィルム２４を作製した。
この光学補償フィルム２４を用い、実施例１７と同様にして、偏光板２４、及びＴＮモード液晶表示装置２１を作製し、表示性能評価を行った。
【０２３２】
（実施例２３）
製造例２０で作製した支持体（ＳＰ−２０）を用いたこと以外は実施例１と同様にして、支持体ＳＰ−２０の表面を大気圧プラズマ処理し、該処理面に配向膜を形成した。
光学異方性層形成用液晶組成物２の塗布液の代わりに、光学異方性層形成用液晶組成物５の塗布液を用いた以外は実施例２と同様にして、光学補償フィルム２５を作製した。
この光学補償フィルム２５を用い、実施例２と同様にして、偏光板２５、及びＯＣＢモード液晶表示装置４を作製し、表示性能評価を行った。
また、実施例１７と同様にして、ＯＣＢモード液晶表示装置４の温湿度変化による輝度の変化を評価した。
【０２３３】
（実施例２４）
製造例２０で作製した支持体（ＳＰ−２０）を用いたこと以外は実施例１と同様にして、支持体ＳＰ−２０の表面を大気圧プラズマ処理し、該処理面に配向膜を形成した。
【０２３４】
（光学異方性層形成用液晶組成物７の調製）
下記の組成の光学異方性層形成用液晶組成物７の塗布液を調製した。
メチルエチルケトン ２７０．０質量部
上記円盤状液晶化合物２ １００．０質量部
空気界面配向制御剤１ ２．０質量部
光重合開始剤「イルガキュア９０７」チバガイギー社製 ３．０質量部
増感剤「カヤキュアーＤＥＴＸ」日本化薬（株）製 １．０質量部
【０２３５】
光学異方性層形成用液晶組成物２の塗布液の代わりに、光学異方性層形成用液晶組成物７の塗布液を用いた以外は実施例２と同様にして、光学補償フィルム２６を作製した。
この光学補償フィルム２６を用い、実施例２と同様にして、偏光板２６、及びＯＣＢモード液晶表示装置５を作製し、表示性能評価を行った。
また、実施例１７と同様にして、ＯＣＢモード液晶表示装置５の温湿度変化による輝度の変化を評価した。
【０２３６】
（実施例２５）
（開環重合環状ポリオレフィンドープの調製）
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解した後、平均孔径３４μｍのろ紙及び平均孔径１０μｍの焼結金属フィルターでろ過した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
環状ポリオレフィン溶液Ａ
―――――――――――――――――――――――――――――――――
アートンＧ（ＪＳＲ株式会社製） １５０質量部
メチレンクロライド ５５０質量部
エタノール ５０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【０２３７】
次に上記方法で調製した開環重合環状ポリオレフィン溶液を含む下記組成物を分散機に投入し、マット剤分散液を調製した。
――――――――――――――――――――――――――――――――――
マット剤分散液
――――――――――――――――――――――――――――――――――
平均粒径１６ｎｍのシリカ粒子
（ａｅｒｏｓｉｌ Ｒ９７２ 日本アエロジル（株）製） ２質量部
メチレンクロライド ７５質量部
エタノール ５質量部
環状ポリオレフィン溶液Ａ １０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――
上記環状ポリオレフィン溶液を１００質量部、及びマット剤分散液を１．１質量を混合し、製膜用ドープを調製した。
【０２３８】
（環状ポリオレフィンフィルムの作製）
上述のドープをバンド流延機を用いて流延した。残留溶剤量が約２２質量％でバンドから剥離した。その後テンタークリップで保持し、搬送ゾーンにて延伸を行った後に、１３０℃で乾燥し巻き取った。できた環状ポリオレフィンフィルムの厚さは３０μｍであった。このフィルムを真鍮製の上下電極間（アルゴンガス雰囲気）で、グロー放電処理（周波数３０００Ｈｚ、４２００Ｖの高周波数電圧を上下電極間に引加、２０秒処理）して開環重合環状ポリオレフィンフィルムを作製した。
【０２３９】
製造例１８で作製した支持体（ＳＰ−１８）を用いたこと以外は実施例１と同様にして、支持体ＳＰ−１８の表面を大気圧プラズマ処理し、該処理面に配向膜を形成した。さらに配向膜を形成していない面と、環状ポリオレフィンフィルムとを、粘着剤ＳＫ−１４７８（綜研化学社製）を介して積層した。
【０２４０】
得られた積層フィルムの光学特性をＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨにて、測定波長５５０ｎｍでの光学特性を測定したところ、面内レターデーションＲｅ＝４７ｎｍ（遅相軸：幅方向）、厚み方向レターデーションＲｔｈ＝３００ｎｍであった。また、ヘイズ値は０．１８％であった。
【０２４１】
光学異方性層形成用液晶組成物２の塗布液に代えて、光学異方性層形成用液晶組成物５の塗布液を用いた以外は、実施例２と同様にして、光学補償フィルム２７を作製し、これを用いて、偏光板２７、及びＯＣＢモード液晶表示装置６を作製して、さらに表示性能評価を行った。
また、実施例１７と同様にして、ＯＣＢモード液晶表示装置６の温湿度変化による輝度の変化を評価した。
【０２４２】
比較例１及び２の液晶表示装置についても、実施例１７と同様にして、温湿度変化による輝度の変化を評価した。
【０２４３】
【表３】
【０２４４】
【表４】
【０２４５】
【表５】
【０２４６】
【表６】
【０２４７】
（実施例２６〜３１）
実施例２１と同様に、ＳＰ−１９の支持体に大気圧プラズマ処理し、配向膜を形成した。
【０２４８】
（光学異方性層形成用液晶組成物の調製）
下記の組成の塗布液を調製した。
メチルエチルケトン ２７０．０質量部
下表に示す円盤状液晶化合物（Ａ） ９０．０質量部
下表に示す円盤状液晶化合物（Ｂ） １０．０質量部
（化３５）に示す空気界面配向制御剤１ ２．０質量部
光重合開始剤「イルガキュア９０７」チバガイギー社製 ３．０質量部
増感剤「カヤキュアーＤＥＴＸ」日本化薬（株）製 １．０質量部
【０２４９】
【表７】
【０２５０】
上記組成の塗布液を用いること以外は、実施例２１と同様にして、実施例２６〜３１の光学補償フィルムをそれぞれ作製した。
作製した各光学補償フィルムを用い、実施例２１と同様にして、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製し、同様に表示性能評価を行った。
【０２５１】
【表８】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学補償フィルム、ならびにそれを用いた偏光板及び液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、液晶表示装置の光学補償フィルムとして、ポリマーフィルムからなる透明支持体上に、液晶組成物からなる光学異方性層を有する光学補償フィルムが種々提案されている（例えば、特許文献１）。光学補償フィルムを利用して液晶表示装置を光学補償し、コントラストを改善するためには、光学補償フィルムの消光度を低下させることが重要である。
一方、光学フィルムの作製に有用なポリマー材料が種々提案され、例えば、ラクトン環含有重合体を利用した光学フィルムが提案されている（特許文献２及び３）。
【特許文献１】特許第２５８７３９８号公報
【特許文献２】特開２００６−１７１４６４号公報
【特許文献３】ＷＯ２００６／０２５４４５Ａ１号報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
本発明は、消光度が小さく、コントラストの改善に寄与する光学補償フィルム、及びそれを有する偏光板を提供することを課題とする。
また、本発明は、正面及び斜め方向のコントラストが改善された液晶表示装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
前記課題を解決するための手段は、以下の通りである。
［１］ 透明支持体上に液晶化合物を含有する組成物からなる光学異方性層を有する光学補償フィルムであって、該透明支持体がラクトン環単位又はグルタル酸無水物単位を有する重合体を含有するフィルムからなることを特徴とする光学補償フィルム。
［２］ 前記ラクトン環単位を有する重合体が、下記一般式（１）で表される単位を有する重合体であることを特徴とする［１］の光学補償フィルム。
【化１】
（式中、Ｒ11、Ｒ12及びＲ13はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜２０の有機残基を表す。なお、有機残基は酸素原子を含んでいてもよい。）
【０００５】
［３］ 前記グルタル酸無水物単位を有する重合体が、下記一般式（３）で表される単位を有する重合体であることを特徴とする［１］の光学補償フィルム。
【化２】
（式中、Ｒ31及びＲ32はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜２０の有機残基を表す。なお、有機残基は酸素原子を含んでいてもよい。）
【０００６】
［４］ 前記透明支持体が、更にシアン化ビニル系単量体から誘導される単位と芳香族ビニル系単量体から誘導される単位とを有する共重合体を含むことを特徴とする［１］〜［３］のいずれかの光学補償フィルム。
［５］ 前記透明支持体が、１分子中に２個以上の芳香族環を有するレターデーション上昇剤を更に含むことを特徴とする［１］〜［４］のいずれかの光学補償フィルム。
［６］ 前記透明支持体と前記光学異方性層との間に、配向膜を有することを特徴とする［１］〜［５］のいずれかの光学補償フィルム。
［７］ 偏光子と、［１］〜［６］のいずれかの光学補償フィルムとを少なくとも有する偏光板。
［８］ ［７］の偏光板を少なくとも一枚有する液晶表示装置。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、液晶表示装置の光学補償に寄与するとともに、消光度が小さい光学補償フィルム、及びそれを有する偏光板を提供することができる。
また、本発明によれば、正面及び斜め方向のコントラストが改善された液晶表示装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
以下、本発明について詳細に説明する。なお、本明細書において「〜」とはその前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。
［光学補償フィルム］
本発明は、透明支持体上に液晶化合物を含有する組成物からなる光学異方性層を有する光学補償フィルムであって、該透明支持体がラクトン環単位又はグルタル酸無水物単位を有する重合体を含有するフィルムからなることを特徴とする光学補償フィルムに関する。本発明では、透明支持体として、ラクトン環単位又はグルタル酸無水物単位を有する重合体を含有するフィルムを用いることで、光学補償フィルムとしての消光度を低下させている。本発明の光学補償フィルムは、消光度０．００１５以下を達成可能である。この消光度は、小さければ小さいほどよいが、許容できる上限の値は、消光度と共に連動して変化する他のパラメータの値（例えばヘイズ値など）を考慮して決定される。なお、消光度は、クロスニコルに配置した２枚の偏光板間に、透過率が最小になるように位相差膜を配置した時に測定される透過光量を、偏光板をパラニコルにして光学補償フィルムを置かない時の透過光量で割った値として測定することができる。
【０００９】
（支持体）
本発明では、前記透明支持体として、ラクトン環単位又はグルタル酸無水物単位を有する重合体を含有するフィルムを用いる。
・ ラクトン環単位を有する重合体（以下、「ラクトン環含有重合体」という）
本発明に使用可能なラクトン環含有重合体は、重合体中にラクトン環構造を有するものであり、好ましくは下記一般式（１）で表されるラクトン環構造を有するものである。
【００１０】
【化３】
【００１１】
式中、Ｒ11、Ｒ12及びＲ13はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜２０の有機残基を表す。なお、ここでいう有機残基は、酸素原子を含んでいてもよい。有機残基の炭素原子数は１〜１５が好ましく、１〜１２がより好ましく、１〜８がさらに好ましく、１〜５がさらにより好ましい。有機残基として、置換又は無置換のアルキル基、置換又は無置換のアリール基、置換又は無置換のアルコシ基などを挙げることができ、アルキル基が好ましい。置換基としては、アルキル基、アリール基、アルコキシ基などを挙げることができる。Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13として、より好ましくは水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基であり、さらに好ましくは水素原子、メチル基、エチル基であり、さらにより好ましくは水素原子、メチル基である。
【００１２】
ラクトン環含有重合体構造中の一般式（１）で表されるラクトン環構造の含有割合は、好ましくは５〜９０質量％、より好ましくは１０〜７０質量％、さらに好ましくは１０〜６０質量％、特に好ましくは１０〜５０質量％である。ラクトン環含有重合体構造中の一般式（１）で表されるラクトン環構造の含有割合が５質量％以上であれば、十分な耐熱性、耐溶剤性、表面硬度が得られやすい傾向がある。また、ラクトン環含有重合体構造中の一般式（１）で表されるラクトン環構造の含有割合が９０質量％以下であれば、より高い成形加工性が得られやすい傾向がある。
【００１３】
ラクトン環含有重合体は、一般式（１）で表されるラクトン環構造以外の構造を有していてもよい。一般式（１）で表されるラクトン環構造以外の構造としては、特に限定されないが、ラクトン環含有重合体の製造方法として、後に説明するような（メタ）アクリル酸エステル、水酸基含有単量体、不飽和カルボン酸、及び下記一般式（２ａ）で表される単量体から選ばれる少なくとも１種を重合して構築される重合体構造単位（繰り返し構造単位）が好ましい。
【００１４】
【化４】
【００１５】
（式中、Ｒ24は水素原子又はメチル基を表し、Ｘは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、アリール基、アセテート基、シアノ基、−ＣＯ−Ｒ25基、又はＣＯ−Ｏ−Ｒ26基を表し、Ｒ25及びＲ26は水素原子又は炭素数１〜２０の有機残基を表す。炭素数１〜２０の有機残基については、上記一般式（１）における有機残基の説明を参照することができる。
ラクトン環含有重合体構造中の一般式（１）で表されるラクトン環構造以外の構造の含有割合は、（メタ）アクリル酸エステルを重合して構築される重合体構造単位（繰り返し構造単位）の場合、好ましくは１０〜９５質量％、より好ましくは１０〜９０質量％、さらに好ましくは４０〜９０質量％、特に好ましくは５０〜９０質量％であり、水酸基含有単量体を重合して構築される重合体構造単位（繰り返し構造単位）の場合、好ましくは０〜３０質量％、より好ましくは０〜２０質量％、さらに好ましくは０〜１５質量％、特に好ましくは０〜１０質量％である。不飽和カルボン酸を重合して構築される重合体構造単位（繰り返し構造単位）の場合、好ましくは０〜３０質量％、より好ましくは０〜２０質量％、さらに好ましくは０〜１５質量％、特に好ましくは０〜１０質量％である。一般式（２ａ）で表される単量体を重合して構築される重合体構造単位（繰り返し構造単位）の場合、好ましくは０〜３０質量％、より好ましくは０〜２０質量％、さらに好ましくは０〜１５質量％、特に好ましくは０〜１０質量％である。
【００１６】
ラクトン環含有重合体の製造方法については、特に限定はされないが、好ましくは、重合工程によって分子鎖中に水酸基とエステル基とを有する重合体（ａ）を得た後に、得られた重合体（ａ）を加熱処理することによりラクトン環構造を重合体に導入するラクトン環化縮合工程を行う方法である。
【００１７】
重合工程においては、例えば下記一般式（１ａ）で表される単量体を含む単量体組成物を用いて重合反応を行うことにより、分子鎖中に水酸基とエステル基とを有する重合体を得ることができる。
【００１８】
【化５】
【００１９】
式中、Ｒ17及びＲ18はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜２０の有機残基を表す。炭素数１〜２０の有機残基については、上記一般式（１）における有機残基の説明を参照することができる。
一般式（１ａ）で表される単量体としては、例えば、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチル、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸エチル、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸イソプロピル、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸ｎ−ブチル、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸ｔｅｒｔ−ブチルなどが挙げられる。これらの中でも、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチル、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸エチルが好ましく、耐熱性向上効果が高い点で、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチルが特に好ましい。一般式（１ａ）で表される単量体は、１種のみ用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００２０】
重合工程に供する単量体組成物中の一般式（１ａ）で表される単量体の含有割合は、好ましくは５〜９０質量％、より好ましくは１０〜７０質量％、さらに好ましくは１０〜６０質量％、特に好ましくは１０〜５０質量％である。重合工程に供する単量体組成物中の一般式（１ａ）で表される単量体の含有割合が５質量％以上であれば、十分な耐熱性、耐溶剤性、表面硬度が得られやすい傾向がある。重合工程に供する単量体組成物中の一般式（１ａ）で表される単量体の含有割合が９０質量％以下であれば、ラクトン環化時にゲル化が起きるのを十分に防ぐことができ、より高い成形加工性を有する重合体が得られやすい傾向がある。
【００２１】
重合工程に供する単量体組成物中には、一般式（１ａ）で表される単量体以外の単量体を含んでいてもよい。このような単量体としては、特に限定されないが、例えば、（メタ）アクリル酸エステル、水酸基含有単量体、不飽和カルボン酸、又は上記一般式（２ａ）で表される単量体が好ましく挙げられる。一般式（１ａ）で表される単量体以外の単量体は、１種のみ用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００２２】
（メタ）アクリル酸エステルとしては、前記一般式（１ａ）で表される単量体以外の（メタ）アクリル酸エステルであり、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ｎ−ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸ｔｅｒｔ−ブチル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸ベンジルなどのアクリル酸エステル；メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ｎ−ブチル、メタクリル酸イソブチル、メタクリル酸ｔｅｒｔ−ブチル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ベンジルなどのメタクリル酸エステル；などが挙げられ、これらは１種のみ用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。これらの中でも特に、耐熱性、透明性が優れる点から、メタクリル酸メチルが好ましい。
【００２３】
一般式（１ａ）で表される単量体以外の（メタ）アクリル酸エステルを用いる場合、重合工程に供する単量体組成物中のその含有割合は、本発明の効果を十分に発揮させる上で、好ましくは１０〜９５質量％、より好ましくは１０〜９０質量％、さらに好ましくは４０〜９０質量％、特に好ましくは５０〜９０質量％である。
【００２４】
水酸基含有単量体としては、一般式（１ａ）で表される単量体以外の水酸基含有単量体であれば特に限定されないが、例えば、α−ヒドロキシメチルスチレン、α−ヒドロキシエチルスチレン、２−（ヒドロキシエチル）アクリル酸メチルなどの２−（ヒドロキシアルキル）アクリル酸エステル；２−（ヒドロキシエチル）アクリル酸などの２−（ヒドロキシアルキル）アクリル酸；などが挙げられ、これらは１種のみ用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００２５】
一般式（１ａ）で表される単量体以外の水酸基含有単量体を用いる場合、重合工程に供する単量体組成物中のその含有割合は、本発明の効果を十分に発揮させる上で、好ましくは０〜３０質量％、より好ましくは０〜２０質量％、さらに好ましくは０〜１５質量％、特に好ましくは０〜１０質量％である。
【００２６】
不飽和カルボン酸としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、α−置換アクリル酸、α−置換メタクリル酸などが挙げられ、これらは１種のみ用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。これらの中でも特に、本発明の効果を十分に発揮させる点で、アクリル酸、メタクリル酸が好ましい。
【００２７】
不飽和カルボン酸を用いる場合、重合工程に供する単量体組成物中のその含有割合は、本発明の効果を十分に発揮させる上で、好ましくは０〜３０質量％、より好ましくは０〜２０質量％、さらに好ましくは０〜１５質量％、特に好ましくは０〜１０質量％である。
【００２８】
一般式（２ａ）で表される単量体としては、例えば、スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン、アクリロニトリル、メチルビニルケトン、エチレン、プロピレン、酢酸ビニルなどが挙げられ、これらは１種のみ用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。これらの中でも特に、本発明の効果を十分に発揮させる点で、スチレン、α−メチルスチレンが好ましい。
【００２９】
一般式（２ａ）で表される単量体を用いる場合、重合工程に供する単量体組成物中のその含有割合は、本発明の効果を十分に発揮させる上で、好ましくは０〜３０質量％、より好ましくは０〜２０質量％、さらに好ましくは０〜１５質量％、特に好ましくは０〜１０質量％である。
【００３０】
重合温度、重合時間は、使用する単量体の種類、使用比率等によって異なるが、好ましくは、重合温度が０〜１５０℃、重合時間が０．５〜２０時間であり、より好ましくは、重合温度が８０〜１４０℃、重合時間が１〜１０時間である。
【００３１】
溶剤を用いた重合形態の場合、重合溶剤は特に限定されず、例えば、トルエン、キシレン、エチルベンゼンなどの芳香族炭化水素系溶剤；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンケトンなどのケトン系溶剤；テトラヒドロフランなどのエーテル系溶剤；などが挙げられ、これらの１種のみを用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。また、使用する溶剤の沸点が高すぎると、最終的に得られるラクトン環含有重合体の残存揮発分が多くなることから、沸点が５０〜２００℃のものが好ましい。
【００３２】
重合反応時には、必要に応じて、重合開始剤を添加してもよい。重合開始剤としては特に限定されないが、例えば、クメンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート、ｔｅｒｔ−アミルパーオキシ−２−エチルヘキサノエートなどの有機過酸化物；２，２’−アゾビス（イソブチロニトリル）、１，１’−アゾビス（シクロヘキサンカルボニトリル）、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）などのアゾ化合物；などが挙げられ、これらは１種のみを用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。重合開始剤の使用量は、用いる単量体の組み合わせや反応条件などに応じて適宜設定すればよく、特に限定されない。
【００３３】
重合を行う際には、反応液のゲル化を抑止するために、重合反応混合物中の生成した重合体の濃度が５０質量％以下となるように制御することが好ましい。具体的には、重合反応混合物中の生成した重合体の濃度が５０質量％を超える場合には、重合溶剤を重合反応混合物に適宜添加して５０質量％以下となるように制御することが好ましい。重合反応混合物中の生成した重合体の濃度は、より好ましくは４５質量％以下、さらに好ましくは４０質量％以下である。なお、重合反応混合物中の重合体の濃度があまりに低すぎると生産性が低下するため、重合反応混合物中の重合体の濃度は、１０質量％以上であることが好ましく、２０質量％以上であることがより好ましい。
【００３４】
重合溶剤を重合反応混合物に適宜添加する形態としては、特に限定されず、連続的に重合溶剤を添加してもよいし、間欠的に重合溶剤を添加してもよい。このように重合反応混合物中の生成した重合体の濃度を制御することによって、反応液のゲル化をより十分に抑止することができ、特に、ラクトン環含有割合を増やして耐熱性を向上させるために分子鎖中の水酸基とエステル基の割合を高めた場合であってもゲル化を十分に抑制できる。添加する重合溶剤としては、重合反応の初期仕込み時に用いた溶剤と同じ種類の溶剤であってもよいし、異なる種類の溶剤であってもよいが、重合反応の初期仕込み時に用いた溶剤と同じ種類の溶剤を用いることが好ましい。また、添加する重合溶剤は、１種のみの溶剤であってもよいし、２種以上の混合溶剤であってもよい。
【００３５】
以上の重合工程を終了した時点で得られる重合反応混合物中には、通常、得られた重合体以外に溶剤が含まれているが、溶剤を完全に除去して重合体を固体状態で取り出す必要はなく、溶剤を含んだ状態で続くラクトン環化縮合工程に導入することが好ましい。また、必要な場合は、固体状態で取り出した後に、続くラクトン環化縮合工程に好適な溶剤を再添加してもよい。
【００３６】
重合工程で得られた重合体は、分子鎖中に水酸基とエステル基とを有する重合体（ａ）であり、重合体（ａ）の重量平均分子量は、好ましくは１，０００〜２，０００，０００、より好ましくは５，０００〜１，０００，０００、さらに好ましくは１０，０００〜５００，０００、特に好ましくは５０，０００〜５００，０００である。重合工程で得られた重合体（ａ）は、続くラクトン環化縮合工程において、加熱処理されることによりラクトン環構造が重合体に導入され、ラクトン環含有重合体となる。
【００３７】
重合体（ａ）中にラクトン環構造を導入するための反応は、加熱により、重合体（ａ）の分子鎖中に存在する水酸基とエステル基が環化縮合してラクトン環構造を生じる反応であり、その環化縮合によってアルコールが副生する。ラクトン環構造が重合体の分子鎖中（重合体の主骨格中）に形成されることにより、高い耐熱性が付与される。ラクトン環構造を導く環化縮合反応の反応率が不十分であると、耐熱性が十分に向上しなかったり、成形時の加熱処理によって成形途中に縮合反応が起こり、生じたアルコールが成形品中に泡やシルバーストリークとなって存在してしまったりするので好ましくない。
【００３８】
ラクトン環化縮合工程において得られるラクトン環含有重合体は、好ましくは、上記一般式（１）で表されるラクトン環構造を有する。
【００３９】
重合体（ａ）を加熱処理する方法については特に限定されず、公知の方法が利用できる。例えば、重合工程によって得られた、溶剤を含む重合反応混合物を、そのまま加熱処理してもよい。また、溶剤の存在下で、必要に応じて閉環触媒を用いて加熱処理してもよい。また、揮発成分を除去するための真空装置あるいは脱揮装置を持つ加熱炉や反応装置、脱揮装置のある押出機等を用いて加熱処理を行うこともできる。
【００４０】
環化縮合反応を行う際に、重合体（ａ）に加えて、他の熱可塑性樹脂を共存させてもよい。また、環化縮合反応を行う際には、必要に応じて、環化縮合反応の触媒として一般に用いられるｐ−トルエンスルホン酸等のエステル化触媒又はエステル交換触媒を用いてもよいし、酢酸、プロピオン酸、安息香酸、アクリル酸、メタクリル酸等の有機カルボン酸類を触媒として用いてもよい。特開昭６１−２５４６０８号公報や特開昭６１−２６１３０３号公報に示されている様に、塩基性化合物、有機カルボン酸塩、炭酸塩などを用いてもよい。
【００４１】
環化縮合反応を行う際には、特開２００１−１５１８１４号公報に示されているように有機リン化合物を触媒として用いることが好ましい。触媒として有機リン化合物を用いることにより、環化縮合反応率を向上させることができるとともに、得られるラクトン環含有重合体の着色を大幅に低減することができる。さらに、有機リン化合物を触媒として用いることにより、後述の脱揮工程を併用する場合において起こり得る分子量低下を抑制することができ、優れた機械的強度を付与することができる。
【００４２】
環化縮合反応の際に用いる触媒の使用量は、特に限定されないが、重合体（ａ）に対して、好ましくは０．００１〜５質量％、より好ましくは０．０１〜２．５質量％、さらに好ましくは０．０１〜１質量％、特に好ましくは０．０５〜０．５質量％である。触媒の使用量が０．００１質量％以上であれば、環化縮合反応の反応率の向上を十分に図りやすくなる傾向があり、一方、５質量％以下であれば、着色や架橋を防いで良好な溶融賦形性が得られやすくなる傾向がある。
【００４３】
触媒の添加時期は特に限定されず、反応初期に添加しても、反応途中に添加しても、それらの両方で添加してもよい。
【００４４】
環化縮合反応は溶剤の存在下で行い、且つ環化縮合反応の際に、脱揮工程を併用することが好ましい。この場合、環化縮合反応の全体を通じて脱揮工程を併用する形態、及び、脱揮工程を環化縮合反応の過程全体にわたっては併用せずに過程の一部においてのみ併用する形態が挙げられる。脱揮工程を併用する方法では、縮合環化反応で副生するアルコールを強制的に脱揮させて除去するので、反応の平衡が生成側に有利となる。
【００４５】
脱揮工程とは、溶剤、残存単量体等の揮発分と、ラクトン環構造を導く環化縮合反応により副生したアルコールを、必要により減圧加熱条件下で、除去処理する工程をいう。この除去処理が不十分であると、生成した樹脂中の残存揮発分が多くなり、成形時の変質等によって着色したり、泡やシルバーストリークなどの成形不良が起こったりする問題等が生じる。
【００４６】
環化縮合反応の全体を通じて脱揮工程を併用する形態の場合、使用する装置については特に限定されないが、本発明をより効果的に行うために、熱交換器と脱揮槽からなる脱揮装置やベント付き押出機、また、前記脱揮装置と前記押出機を直列に配置したものを用いることが好ましく、熱交換器と脱揮槽からなる脱揮装置又はベント付き押出機を用いることがより好ましい。
【００４７】
前記熱交換器と脱揮槽からなる脱揮装置を用いる場合の反応処理温度は、１５０〜３５０℃の範囲が好ましく、２００〜３００℃の範囲がより好ましい。反応処理温度が１５０℃以上であれば、環化縮合反応が十分に進行して残存揮発分量を抑えやすくなる傾向があり、３５０℃以下であれば、着色や分解を防ぎやすくなる傾向がある。
【００４８】
前記熱交換器と脱揮槽からなる脱揮装置を用いる場合の、反応処理時の圧力は、９３１〜１．３３ｈＰａ（７００〜１ｍｍＨｇ）の範囲が好ましく、７９８〜６６．５ｈＰａ（６００〜５０ｍｍＨｇ）の範囲がより好ましい。上記圧力が９３１ｈＰａ以上であれば、アルコールを含めた揮発分の残存を十分に防ぎやすくなる傾向があり、１．３３ｈＰａ以下であれば、工業的な実施がより容易になる傾向がある。
【００４９】
前記ベント付き押出機を用いる場合、ベントは１個でも複数個でもいずれでもよいが、複数個のベントを有する方が好ましい。
【００５０】
前記ベント付き押出機を用いる場合の反応処理温度は、１５０〜３５０℃の範囲が好ましく、２００〜３００℃の範囲がより好ましい。上記温度が１５０℃以上であれば、環化縮合反応が十分に進行して残存揮発分量を抑えやすくなる傾向があり、３５０℃以下であれば、着色や分解を防ぎやすくなる傾向がある。
【００５１】
前記ベント付き押出機を用いる場合の、反応処理時の圧力は、９３１〜１．３３ｈＰａ（７００〜１ｍｍＨｇ）の範囲が好ましく、７９８〜１３．３ｈＰａ（６００〜１０ｍｍＨｇ）の範囲がより好ましい。上記圧力が９３１ｈＰａ以上であれば、アルコールを含めた揮発分の残存を十分に防ぎやすくなる傾向があり、１．３３ｈＰａ以下であれば、工業的な実施がより容易になる傾向がある。
【００５２】
なお、環化縮合反応の全体を通じて脱揮工程を併用する形態の場合、後述するように、厳しい熱処理条件では得られるラクトン環含有重合体の物性が悪化するおそれがあるので、好ましくは、上述した脱アルコール反応の触媒を使用し、できるだけ温和な条件で、ベント付き押出機等を用いて行うことが好ましい。
【００５３】
また、環化縮合反応の全体を通じて脱揮工程を併用する形態の場合、好ましくは、重合工程で得られた重合体（ａ）を溶剤とともに環化縮合反応装置系に導入するが、この場合、必要に応じて、もう一度ベント付き押出機等の上記反応装置系に通してもよい。
【００５４】
脱揮工程を環化縮合反応の過程全体にわたっては併用せずに、過程の一部においてのみ併用する形態を行ってもよい。例えば、重合体（ａ）を製造した装置を、さらに加熱し、必要に応じて脱揮工程を一部併用して、環化縮合反応を予めある程度進行させておき、その後に引き続いて脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応を行い、反応を完結させる形態である。
【００５５】
先に述べた環化縮合反応の全体を通じて脱揮工程を併用する形態では、例えば、重合体（ａ）を、２軸押出機を用いて、２５０℃近い、あるいはそれ以上の高温で熱処理する時に、熱履歴の違いにより環化縮合反応が起こる前に一部分解等が生じ、得られるラクトン環含有重合体の物性が悪くなるおそれがある。そこで、脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応を行う前に、予め環化縮合反応をある程度進行させておくと、後半の反応条件を緩和でき、得られるラクトン環含有重合体の物性の悪化を抑制できるので好ましい。特に好ましい形態としては、脱揮工程を環化縮合反応の開始から時間をおいて開始する形態、すなわち、重合工程で得られた重合体（ａ）の分子鎖中に存在する水酸基とエステル基をあらかじめ環化縮合反応させて環化縮合反応率をある程度上げておき、引き続き、脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応を行う形態が挙げられる。具体的には、例えば、予め釜型の反応器を用いて溶剤の存在下で環化縮合反応をある程度の反応率まで進行させておき、その後、脱揮装置のついた反応器、例えば、熱交換器と脱揮槽とからなる脱揮装置や、ベント付き押出機等で、環化縮合反応を完結させる形態が好ましく挙げられる。特にこの形態の場合、環化縮合反応用の触媒が存在していることがより好ましい。
【００５６】
上述のように、重合工程で得られた重合体（ａ）の分子鎖中に存在する水酸基とエステル基を予め環化縮合反応させて環化縮合反応率をある程度上げておき、引き続き、脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応を行う方法は、本発明においてラクトン環含有重合体を得る上で好ましい形態である。この形態により、ガラス転移温度がより高く、環化縮合反応率もより高まり、耐熱性に優れたラクトン環含有重合体が得られる。この場合、環化縮合反応率の目安としては、実施例に示すダイナッミクＴＧ測定における、１５０〜３００℃間での質量減少率が２％以下であることが好ましく、より好ましくは１．５％以下であり、さらに好ましくは１％以下である。
【００５７】
脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応の前に予め行う環化縮合反応の際に採用できる反応器は特に限定されないが、好ましくは、オートクレーブ、釜型反応器、熱交換器と脱揮槽とからなる脱揮装置等が挙げられ、さらに、脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応に好適なベント付き押出機も使用できる。より好ましくは、オートクレーブ、釜型反応器である。しかしながら、ベント付き押出機等の反応器を使用するときでも、ベント条件を温和にしたり、ベントをさせなかったり、温度条件やバレル条件、スクリュウ形状、スクリュウ運転条件等を調整することで、オートクレーブや釜型反応器での反応状態と同じ様な状態で環化縮合反応を行うことが可能である。
【００５８】
脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応の前に予め行う環化縮合反応の際には、好ましくは、重合工程で得られた重合体（ａ）と溶剤とを含む混合物を、（ｉ）触媒を添加して、加熱反応させる方法、（ｉｉ）無触媒で加熱反応させる方法、及び、前記（ｉ）又は（ｉｉ）を加圧下で行う方法が挙げられる。
【００５９】
なお、ラクトン環化縮合工程において環化縮合反応に導入する「重合体（ａ）と溶剤とを含む混合物」とは、重合工程で得られた重合反応混合物をそのまま使用してもよいし、一旦溶剤を除去したのちに環化縮合反応に適した溶剤を再添加してもよいことを意味する。
【００６０】
脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応の前にあらかじめ行う環化縮合反応の際に再添加できる溶剤としては、特に限定されず、例えば、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素類；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類；クロロホルム、ＤＭＳＯ、テトラヒドロフランなどでもよいが、好ましくは、重合工程で用いることができる溶剤と同じ種類の溶剤である。
【００６１】
上記方法（ｉ）で添加する触媒としては、一般に用いられるｐ−トルエンスルホン酸等のエステル化触媒又はエステル交換触媒、塩基性化合物、有機カルボン酸塩、炭酸塩などが挙げられるが、本発明においては、前述の有機リン化合物を用いることが好ましい。触媒の添加時期は特に限定されず、反応初期に添加しても、反応途中に添加しても、それらの両方で添加してもよい。添加する触媒の量は特に限定されないが、重合体（ａ）の質量に対し、好ましくは０．００１〜５質量％、より好ましくは０．０１〜２．５質量％、さらに好ましくは０．０１〜１質量％、特に好ましくは０．０５〜０．５質量％である。方法（ｉ）の加熱温度と加熱時間は特に限定されないが、加熱温度としては、好ましくは室温以上、より好ましくは５０℃以上であり、加熱時間としては、好ましくは１〜２０時間、より好ましくは２〜１０時間である。加熱温度が低いと、あるいは、加熱時間が短いと、環化縮合反応率が低下するので好ましくない。また、加熱時間が長すぎると、樹脂の着色や分解が起こる場合があるので好ましくない。
【００６２】
上記方法（ｉｉ）としては、例えば、耐圧性の釜などを用いて、重合工程で得られた重合反応混合物をそのまま加熱する方法等が挙げられる。加熱温度としては、好ましくは１００℃以上、さらに好ましくは１５０℃以上である。加熱時間としては、好ましくは１〜２０時間、より好ましくは２〜１０時間である。加熱温度が低いと、あるいは、加熱時間が短いと、環化縮合反応率が低下するので好ましくない。また、加熱時間が長すぎると、樹脂の着色や分解が起こる場合があるので好ましくない。
【００６３】
上記方法（ｉ）、（ｉｉ）ともに、条件によっては加圧下となっても何ら問題はない。
【００６４】
脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応の前に予め行う環化縮合反応の際には、溶剤の一部が反応中に自然に揮発しても何ら問題ではない。
【００６５】
脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応の前に予め行う環化縮合反応の終了時、すなわち、脱揮工程開始直前における、ダイナミックＴＧ測定における１５０〜３００℃の間での質量減少率は、２％以下が好ましく、より好ましくは１．５％以下であり、さらに好ましくは１％以下である。質量減少率が２％以下であれば、続けて脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応を行ったときに、環化縮合反応率が十分高いレベルまで上がり、得られるラクトン環含有重合体の物性が向上すやすい傾向がある。なお、上記の環化縮合反応を行う際に、重合体（ａ）に加えて、他の熱可塑性樹脂を共存させてもよい。
【００６６】
重合工程で得られた重合体（ａ）の分子鎖中に存在する水酸基とエステル基を予め環化縮合反応させて環化縮合反応率をある程度上げておき、引き続き、脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応を行う形態の場合、予め行う環化縮合反応で得られた重合体（分子鎖中に存在する水酸基とエステル基の少なくとも一部が環化縮合反応した重合体）と溶剤を、そのまま脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応に導入してもよいし、必要に応じて、前記重合体（分子鎖中に存在する水酸基とエステル基の少なくとも一部が環化縮合反応した重合体）を単離してから溶剤を再添加する等のその他の処理を経てから脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応に導入しても構わない。
【００６７】
脱揮工程は環化縮合反応と同時に終了することには限らず、環化縮合反応の終了から時間をおいて終了しても構わない。
【００６８】
ラクトン環含有重合体は、重量平均分子量が、好ましくは１，０００〜２，０００，０００、より好ましくは５，０００〜１，０００，０００、さらに好ましくは１０，０００〜５００，０００、特に好ましくは５０，０００〜５００，０００である。
【００６９】
ラクトン環含有重合体は、ダイナミックＴＧ測定における１５０〜３００℃の間での質量減少率が１％以下であることが好ましく、より好ましくは０．５％以下、さらに好ましくは０．３％以下である。
【００７０】
ラクトン環含有重合体は、環化縮合反応率が高いので、成形後の成形品中に泡やシルバーストリークが入るという欠点が回避できる。さらに、高い環化縮合反応率によってラクトン環構造が重合体に十分に導入されるため、得られたラクトン環含有重合体が十分に高い耐熱性を有している。
【００７１】
ラクトン環含有重合体は、１５質量％のクロロホルム溶液中での着色度（ＹＩ）が６以下となるものが好ましく、より好ましくは３以下、さらに好ましくは２以下、最も好ましくは１以下である。着色度（ＹＩ）が６以下であれば、着色を防いでより高い透明性が得られやすい傾向がある。
【００７２】
ラクトン環含有重合体は、熱質量分析（ＴＧ）における５％質量減少温度が、２８０℃以上であることが好ましく、より好ましくは２９０℃以上、さらに好ましくは３００℃以上である。熱質量分析（ＴＧ）における５％質量減少温度は、熱安定性の指標である。これが２８０℃以上であれば、十分な熱安定性を発揮しやすい。
【００７３】
ラクトン環含有重合体は、ガラス転移温度（Ｔｇ）が、好ましくは１１５℃以上、より好ましくは１２５℃以上、さらに好ましくは１３０℃以上、さらに好ましくは１３５℃以上、最も好ましくは１４０℃以上である。
【００７４】
ラクトン環含有重合体は、それに含まれる残存揮発分の総量が、好ましくは５０００ｐｐｍ以下、より好ましくは２０００ｐｐｍ以下である。残存揮発分の総量が５０００ｐｐｍ以下であれば、成形時の変質等によって着色したり、発泡したり、シルバーストリークしたりするなどの成形不良をより効果的に防ぎやすくなる傾向がある。
【００７５】
ラクトン環含有重合体は、射出成形により得られる成形品の、ＡＳＴＭ−Ｄ−１００３に準じた方法で測定された全光線透過率が、好ましくは８５％以上、より好ましくは８８％以上、さらに好ましくは９０％以上である。全光線透過率は、透明性の目安である。
【００７６】
・グルタル酸無水物単位を有する重合体（以下、「グルタル酸無水物単位含有重合体」という）
本発明に使用可能なグルタル酸無水物単位含有重合体は、下記一般式（３）で表される単位を有する重合体であることが好ましい。
【００７７】
【化６】
【００７８】
一般式（３）中、Ｒ31及びＲ32は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜２０の有機残基を表す。なお、有機残基は酸素原子を含んでいてもよい。Ｒ31及びＲ32は、特に好ましくは、同一又は相異なる、水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基を表す。
【００７９】
本発明に用いるグルタル酸無水物単位含有重合体は、グルタル酸無水物単位以外の単位を含んでいてもよい。例えば、アクリル系の単位（不飽和カルボン酸アルキルエステル又は不飽和カルボン酸から誘導される単位）を含有するアクリル系共重合体であることが好ましい。アクリル系共重合体中のグルタル酸無水物単位の含有量としては、５〜５０質量％が好ましく、より好ましくは１０〜４５質量％である。５質量％以上、より好ましくは１０質量％以上とすることにより、耐熱性向上の効果を得ることができ、さらには耐候性向上の効果を得ることもできる。前記グルタル酸無水物単位含有重合体は、耐熱性の点から１２０℃以上のガラス転移温度（Ｔｇ）を有することが好ましい。
【００８０】
例えば、前記グルタル酸無水物単位含有重合体は、不飽和カルボン酸アルキルエステルに基づく繰り返し単位を含むことが好ましい。不飽和カルボン酸アルキルエステルに基づく繰り返し単位として、例えば、下記一般式（４）で表されるものが好ましい。
一般式（４）：―［ＣＨ2―Ｃ（Ｒ41）（ＣＯＯＲ42）］―
一般式（４）中、Ｒ41は水素又は炭素数１〜５のアルキル基を表し、Ｒ42は炭素数１〜６の脂肪族もしくは脂環式炭化水素基、又は１個以上炭素数以下の数の水酸基もしくはハロゲンで置換された炭素数１〜６の脂肪族もしくは脂環式炭化水素基を表す。
【００８１】
一般式（４）で表される繰り返し単位に対応する単量体は、下記一般式（５）で表される。
一般式（５）：ＣＨ2＝Ｃ（Ｒ41）（ＣＯＯＲ42）
このような単量体の好ましい具体例には、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ｎ−プロピル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｎ−へキシル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸クロロメチル、（メタ）アクリル酸２−クロロエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸２，３，４，５，６−ペンタヒドロキシヘキシル及び（メタ）アクリル酸２，３，４，５−テトラヒドロキシペンチルなどが含まれ、中でもメタクリル酸メチルが最も好ましく用いられる。これらはその１種を単独で用いてもよいし、又は２種以上を併用してもよい。
【００８２】
前記グルタル酸無水物単位含有重合体中の不飽和カルボン酸アルキルエステル単位の含有量は、５０〜９５質量％が好ましく、より好ましくは５５〜９０質量％である。グルタル酸無水物単位と不飽和カルボン酸アルキルエステル系単位とを有するアクリル系熱可塑性共重合体は、例えば、不飽和カルボン酸アルキルエステル系単位と不飽和カルボン酸単位とを有する共重合体を重合環化させることにより得ることができる。
【００８３】
また、前記グルタル酸無水物単位含有重合体は、前記不飽和カルボン酸アルキルエステル単位とともに、又はそれに代えて、不飽和カルボン酸単位を含んでいてもよい。
不飽和カルボン酸単位としては、例えば、下記一般式（６）で表されるものが好ましい。
一般式（６）：―［ＣＨ2―Ｃ（Ｒ51）（ＣＯＯＨ）］―
ここでＲ51は水素又は炭素数１〜５のアルキル基を表す。
【００８４】
前記不飽和カルボン酸単位を誘導する単量体の好ましい具体例としては、一般式（６）で表される繰り返し単位に対応する単量体である下記一般式（７）で表される化合物、ならびにマレイン酸、及び更には無水マレイン酸の加水分解物などが挙げられるが、熱安定性が優れる点でアクリル酸、メタクリル酸が好ましく、より好ましくはメタクリル酸である。
一般式（７）：ＣＨ2＝Ｃ（Ｒ51）（ＣＯＯＨ）
【００８５】
これらはその１種を単独で用いてもよいし、又は２種以上を併用してもよい。上記のように、グルタル酸無水物単位と不飽和カルボン酸アルキルエステル系単位とを有するアクリル系熱可塑性共重合体は、例えば不飽和カルボン酸アルキルエステル系単位と不飽和カルボン酸単位とを有する共重合体を重合環化させることにより得ることができるものであるから、その構成単位中に不飽和カルボン酸単位を残して有していてもよい。
【００８６】
前記グルタル酸無水物単位含有重合体中の不飽和カルボン酸単位の含有量としては、１０質量％以下が好ましく、より好ましくは５質量％以下である。１０質量％以下とすることで、無色透明性、滞留安定性の低下を防ぐことができる。
【００８７】
また、前記前記グルタル酸無水物単位含有重合体は、本発明の効果を損なわない範囲で、芳香環を含まないその他のビニル系単量体単位を有していてもよい。芳香環を含まないその他のビニル系重合性モノマー由来の単位を含有していてもよい。他のビニル系重合性モノマーの具体例には、対応する単量体でいうと、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、エタクリロニトリルなどのシアン化ビニル系単量体；アリルグリシジルエーテル；無水マレイン酸、無水イタコン酸；Ｎ−メチルマレイミド、Ｎ−エチルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−メチルアクリルアミド、ブトキシメチルアクリルアミド、Ｎ−プロピルメタクリルアミド；アクリル酸アミノエチル、アクリル酸プロピルアミノエチル、メタクリル酸ジメチルアミノエチル、メタクリル酸エチルアミノプロピル、メタクリル酸シクロヘキシルアミノエチル；Ｎ−ビニルジエチルアミン、Ｎ−アセチルビニルアミン、アリルアミン、メタアリルアミン、Ｎ−メチルアリルアミン；２−イソプロペニル−オキサゾリン、２−ビニル−オキサゾリン、２−アクロイル−オキサゾリンなど；が含まれる。これらはその１種を単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００８８】
前記グルタル酸無水物単位含有重合体中において、その他のビニル系重合性モノマー（ただし、芳香環を含まない）由来の単位の含有量は、３５質量％以下が好ましい。
【００８９】
前記グルタル酸無水物単位含有重合体は、芳香環を含むビニル系重合性モノマー、例えば、Ｎ−フェニルマレイミド、メタクリル酸フェニルアミノエチル、ｐ−グリシジルスチレン、ｐ−アミノスチレン、２−スチリル−オキサゾリンなど、由来の単位を含んでいてもよいが、耐擦傷性、耐候性を低下させる傾向にあるため、含む場合も、含有量としては１質量％以下にとどめるのが好ましい。
【００９０】
本発明において、前記透明支持体として用いられるフィルムは、前記ラクトン環単位含有重合体又はグルタル酸無水物単位含有重合体を主成分として含む他、所望により、他の材料を含んでいてもよい。
・ 他の熱可塑性樹脂
本発明に支持体として用いられるフィルムは、前記ラクトン環単位含有重合体又はグルタル酸無水物単位含有重合体以外の熱可塑性樹脂を１種以上含んでいてもよい。他の熱可塑性樹脂の例には、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、ポリ（４−メチル−１−ペンテン）等のオレフィン系ポリマー；塩化ビニル、塩素化ビニル樹脂等の含ハロゲン系ポリマー；ポリメタクリル酸メチル等のアクリル系ポリマー；ポリスチレン、スチレン−メタクリル酸メチル共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレンブロック共重合体等のスチレン系ポリマー；ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル；ナイロン６、ナイロン６６、ナイロン６１０等のポリアミド；ポリアセタール；ポリカーボネート；ポリフェニレンオキシド；ポリフェニレンスルフィド；ポリエーテルエーテルケトン；ポリサルホン；ポリエーテルサルホン；ポリオキシベンジレン；ポリアミドイミド；ポリブタジエン系ゴム、アクリル系ゴムを配合したＡＢＳ樹脂やＡＳＡ樹脂等のゴム質重合体；などが含まれる。ゴム質重合体は、表面に、前記ラクトン環単位含有重合体等と相溶し得る組成のグラフト部を有するのが好ましく、また、ゴム質重合体の平均粒子径は、フィルム状とした際の透明性向上の観点から、１００ｎｍ以下である事が好ましく、７０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。
【００９１】
ラクトン環単位含有重合体と熱力学的に相溶する熱可塑性樹脂としては、シアン化ビニル系単量体から誘導される単位と芳香族ビニル系単量体から誘導される単位とを含む共重合体、具体的にはアクリロニトリル−スチレン系共重合体やポリ塩化ビニル樹脂、メタクリル酸エステル類を５０質量％以上含有する重合体を用いるとよい。それらの中でもアクリロニトリル−スチレン系共重合体を用いるとガラス転移温度が１２０℃以上、Ｒｅが２０ｎｍ以下で、全光線透過率が８５％以上である光学フィルムが容易に得られる。なお、ラクトン環単位含有重合体等と、その他の熱可塑性樹脂とが熱力学的に相溶することは、これらを混合して得られた熱可塑性樹脂組成物のガラス転移点を測定することによって確認することができる。具体的には、示差走査熱量測定器により測定されるガラス転移点が、ラクトン環単位含有重合体等とその他の熱可塑性樹脂との混合物について１点のみ観測されることによって、熱力学的に相溶していると言える。
その他の熱可塑性樹脂としてアクリロニトリル−スチレン系共重合体を用いる場合、その製造方法は、乳化重合法や懸濁重合法、溶液重合法、バルク重合法等を用いることが可能であるが、得られるフィルムの透明性や光学性能の観点から溶液重合法かバルク重合法で得られたものであることが好ましい。
【００９２】
他の熱可塑性樹脂を添加する場合、前記ラクトン環単位含有重合体等（成分（Ａ）と他の熱可塑性樹脂（成分（Ｂ）との割合は、［（Ａ）／｛（Ａ）＋（Ｂ）｝］の質量割合で、好ましくは６０〜９９質量％、より好ましくは７０〜９７質量％、さらに好ましくは８０〜９５質量％である。支持体中の成分（Ａ）の含有割合が６０質量％よりも少ないと、消光度を十分に低下できない場合がある。（Ｂ）成分を併用することで位相差を調整することができる。
【００９３】
・ レターデーション上昇剤
本発明において透明支持体として用いるフィルムは、前記ラクトン環単位含有重合体等とともに、レターデーション上昇剤を含有していてもよい。「レターデーション上昇剤」とは、添加されることによって、少なくとも無添加のものと比較して、面内レターデーション（Ｒｅ）及び厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）の少なくとも一方の絶対値を増加させる性質を有する剤をいう。レターデーション上昇剤は、１分子中に２個以上の芳香族環を有する化合物から選択されるのが好ましい。１分子中に２個以上の芳香族環を有する化合物の分子では、通常、２つの芳香族環の立体配座を立体障害しなければ、２つの芳香族環は、同一平面を形成する。本発明者の研究によれば、ラクトン環単位又はグルタル酸無水物単位を有する重合体を含有するフィルムのレターデーションを上昇させるためには、複数の芳香族環により同一平面を形成することが重要である。かかるレターデーション上昇剤の例には、特開２００２−３６３３４３号公報の段落番号［００１１］〜［００３１］に記載された化合物と実質的に同一の、直線的な分子構造を有する棒状化合物；特開２０００−１１１９１４号公報の段落番号［００１１］〜［００８５］に記載された化合物と、実質的に同一の、立体障害しない立体配座となっている２つの芳香族環を含有する化合物；少なくとも１つの芳香族環を置換基として有する１，３，５−トリアジン化合物；及び、特開２００１−１６６１４４号公報に記載された、ポルフィリン骨格を有する化合物；が含まれる。
特に、少なくとも一つの芳香族環を置換基として有する１，３，５−トリアジン化合物が好ましい。この場合、該トリアジン環がもう一つの芳香環となる。
具体的には、特開２００１−１６６１４４号公報の段落番号［００１６］に記載の一般式（Ｉ）で表される１，３，５−トリアジン化合物がレターデーション上昇剤として好ましい。
【００９４】
前記レターデーション上昇剤用化合物の種類及び使用量を選択することで、所望のレターデーションのフィルムを作製することができる。フィルム中のレターデーション上昇剤の添加量は、０〜２０質量％（対綿）であるのが好ましく、０〜１０質量％（対綿）であるのがより好ましい。
【００９５】
・ その他の添加剤
本発明において支持体として用いられるポリマーフィルムは、種々の添加剤から選らばれる１種以上を含んでいてもよい。
添加剤の例には、ヒンダードフェノール系、リン系、イオウ系等の酸化防止剤；耐光安定剤、耐候安定剤、熱安定剤等の安定剤；ガラス繊維、炭素繊維等の補強材；サリチル酸フェニル、（２，２’−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−ヒドロキシベンゾフェノン等の紫外線吸収剤；近赤外線吸収剤；リン酸トリス（ジブロモプロピル）、リン酸トリアリル、酸化アンチモン等の難燃剤；アニオン系、カチオン系、ノニオン系の界面活性剤等の帯電防止剤；無機顔料、有機顔料、染料等の着色剤；有機フィラーや無機フィラー；樹脂改質剤；有機充填剤や無機充填剤；可塑剤；滑剤；帯電防止剤；及び難燃剤；などが含まれる。
【００９６】
前記その他の添加剤の前記ポリマーフィルム中の含有割合は、好ましくは０〜５質量％、より好ましくは０〜２質量％、さらに好ましくは０〜０．５質量％である。
【００９７】
・ポリマーフィルムの製造方法
本発明において、支持体として用いるポリマーフィルムの製造方法は、特に限定されるものではないが、例えば、前記ラクトン環単位含有重合体等と、必要に応じて、レターデーション上昇剤、及び他の熱可塑性樹脂などを、公知の混合方法で混合して得られたポリマー組成物を、フィルム状に成形することにより得られる。さらに、フィルム状に成形後、延伸することによって延伸フィルムとしてもよい。
【００９８】
フィルム成形の方法としては、種々のフィルム成形方法を利用することができ、例えば、溶液キャスト法（溶液流延法）、溶融押出法、カレンダー法、圧縮成形法などが挙げられる。これらのフィルム成形方法のうち、溶液キャスト法（溶液流延法）、溶融押出法が特に好ましい。
【００９９】
溶液キャスト法（溶液流延法）に使用される溶媒としては、例えば、クロロホルム、ジクロロメタンなどの塩素系溶媒；トルエン、キシレン、ベンゼンなどの芳香族系溶媒；メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、２−ブタノールなどのアルコール系溶媒；メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジオキサン、シクロヘキサノン、テトラヒドロフラン、アセトン、メチルエチルケトン、酢酸エチル、ジエチルエーテル；などが挙げられる。これら溶媒は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。
【０１００】
溶液キャスト法（溶液流延法）を行うための装置としては、例えば、ドラム式キャスティングマシン、バンド式キャスティングマシン、スピンコーターなどが挙げられる。
【０１０１】
溶融押出法としては、Ｔダイ法、インフレーション法などが挙げられ、その際の、フィルムの成形温度は、好ましくは１５０〜３５０℃、より好ましくは２００〜３００℃である。
【０１０２】
延伸を行う方法としては、従来の種々の延伸方法が利用でき、例えば、一軸延伸、逐次二軸延伸、同時二軸延伸などを用いることができる。延伸は、好ましくは、フィルム原料の重合体のガラス転移温度付近で行われる。具体的な延伸温度としては、好ましくは（ガラス転移温度−３０℃）〜（ガラス転移温度＋１００℃）、より好ましくは（ガラス転移温度−２０℃）〜（ガラス転移温度＋８０℃）である。延伸温度を（ガラス転移温度−３０℃）以上とすることにより、充分な延伸倍率が得られやすい傾向にあり、延伸温度を（ガラス転移温度＋１００℃）以下とすることにより、樹脂が流動して安定な延伸を行いやすい傾向にある。面積比で定義した延伸倍率は、好ましくは１．１〜２５倍、より好ましくは１．３〜１０倍である。延伸倍率を１．１倍以下とすることにより、延伸による靭性の向上が得られ易い傾向にある。逆に、延伸倍率を２５倍以上とすることにより、延伸倍率を上げるだけの効果がより認められやすい傾向にある。
【０１０３】
延伸速度（一方向）としては、好ましくは１０〜２０，０００％／分、より好ましくは１００〜１０，０００％／分である。延伸速度を１０％／分以上とすることにより、充分な延伸倍率を得る時間を短縮できる傾向にあり、製造コストを抑えることが可能になる。逆に、延伸速度を２０，０００％／分以上とすることにより、延伸フィルムの破断などが起こり難くなる。フィルムの光学的等方性や機械的特性を安定化させるために、延伸処理後に熱処理（アニーリング）などを行うこともできる。
【０１０４】
本発明において支持体として用いるポリマーフィルムの膜厚は、１０μｍ〜５００μｍが好ましく、より好ましくは２０μｍ〜３００μｍである。１０μｍ未満では、均一に作製するのが困難であり、また５００μｍを超えるとディスプレイの表面フィルムが厚くなりすぎ薄層化・軽量化の流れに逆行する。
【０１０５】
前記ポリマーフィルムの光学特性については特に制限はない。本発明の光学補償フィルムが用いられる液晶表示装置のモードなどに応じて、組み合わせられる光学異方性層の光学特性との関係で、面内レターデーションＲｅ又は厚み方向のレターデーションＲｔｈの好ましい範囲を決定し、必要であれば、上記レターデーション上昇剤や、他の熱可塑性樹脂を添加して、所望の範囲となるように調整することができる。
例えば、上記１，３，５−トリアジン環系の化合物をレターデーション上昇剤として前記ラクトン環単位含有重合体に混合することで、Ｒｅが０〜２００ｎｍ程度、及びＲｔｈが０〜５００ｎｍ程度のポリマーフィルムを製造することができる。
【０１０６】
前記ポリマーフィルムには、隣接して形成される層（例えば、光学異方性層、又はその形成に利用される配向膜等）との接着性を改善するために、表面処理を施すのが好ましい。表面処理としては、コロナ放電処理又は大気圧プラズマ処理が好ましい。コロナ放電処理も大別すると大気圧プラズマ処理に含まれるが、ここでは直接コロナ放電によるプラズマ領域に直接被処理体を曝すものをコロナ放電処理と呼称し、プラズマ領域と被処理体表面が離れているものを大気圧プラズマ処理と呼称する。コロナ処理は工業的な実用例が豊富で低コストである反面、処理体表面の物理的ダメージが大きいというデメリットがある。一方、大気圧プラズマ処理の実用例は比較的少なく、コストもコロナ処理よりは高い反面、処理体表面のダメージが小さく、比較的処理強度が高く設定可能というメリットがある。従って、使用するポリマーフィルムのダメージと処理後の接着性の改善レベルとの関係によって、両者の内で好ましい方の処理法を選択すればよい。
【０１０７】
これらの処理を施されたポリマーフィルムの処理面は、親水化する。親水化の目安として、処理面における水の接触角を利用してもよい。具体的には、処理面の水の接触角は５５°以下であるのが好ましく、５０°以下であるのがより好ましい。処理面の水の接触角が前記範囲であると、配向膜との接着性が改善され、剥離等の不良が生じ難くなる。下限値については特に制限はないが、ポリマーフィルムを破損することがないように設定することが好ましい。なお、接触角の測定は、ＪＩＳ Ｒ ３２５７（１９９９）に従って行なうことができる。コロナ放電処理及び大気圧プラズマ処理は、それぞれ、接触角が前記範囲となる様に、処理条件が決定される。変動させる処理条件としては、何れの処理法においても、印加電圧、周波数、雰囲気ガス種、処理時間等がある。
これらの処理の詳細については、高分子表面改質（近代編集社）Ｐ．８８〜、高分子表面の基礎と応用（下）（化学同人）Ｐ．３１〜、大気圧プラズマの原理・特徴と高分子フィルム・ガラス基板の表面改質技術（技術情報協会）等にそれぞれ記載があり、その内容を参照することができる。
【０１０８】
前記ポリマーフィルムのコロナ放電処理又は大気圧プラズマ処理を施された表面（以下、「処理面」という場合がある）を除塵した後に、配向膜を形成するのが好ましい。除塵方法については特に制限されない。超音波を利用する超音波除塵が好ましい。超音波除塵については、特開平７−３３３６１３号公報等に詳細な記載があり、参照することができる。
【０１０９】
前記ポリマーフィルム上に隣接して形成される層の塗布組成物中の塗布溶剤が、前記ポリマーフィルムをある程度膨潤させることで、両層の間の接着性を改善することも可能である。具体的には、前記ポリマーフィルムを膨潤可能な溶剤と、膨潤させない溶剤を所定の比率で混合した溶媒にすることで塗布層の白化を起こさずに接着性を好ましく改良することができる。
【０１１０】
（光学異方性層）
本発明の光学補償フィルムは、液晶組成物からなる光学異方性層を有する。前記液晶組成物は、硬化性であるのが好ましい。前記液晶組成物は、少なくとも一種の液晶化合物を含有する。該液晶化合物としては、棒状液晶化合物又はディスコティック液晶化合物が好ましい。
棒状液晶化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類及びアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。これらの棒状液晶化合物の固定は、棒状液晶化合物の末端構造に重合性基を導入（後述の円盤状液晶と同様）し、この重合・硬化反応を利用して行われている。具体例としては、重合性ネマチック棒状液晶化合物を紫外線硬化した例が特開２００６−２０９０７３号公報に記載されている。また、上述の低分子液晶化合物だけではなく、高分子液晶化合物も用いることができる。高分子液晶化合物は、以上のような低分子液晶化合物に相当する側鎖を有するポリマーである。高分子液晶化合物を用いた光学補償シートについては、特開平５−５３０１６号公報等に記載がある。
【０１１１】
ディスコティック液晶化合物については、様々な文献（Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅ ｅｔ ａｌ．，Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｒ．Ｌｉｑ．Ｃｒｙｓｔ．，ｖｏｌ．７１，ｐａｇｅ１１１（１９８１）；日本化学会編、季刊化学総説、Ｎｏ．２２、液晶の化学、第５章、第１０章第２節（１９９４）；Ｂ．Ｋｏｈｎｅ ｅｔ ａｌ．，Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍ．，ｐａｇｅ１７９４（１９８５）；Ｊ．Ｚｈａｎｇ ｅｔ ａｌ．，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，ｖｏｌ．１１６，ｐａｇｅ２６５５（１９９４））に記載されている。ディスコティック液晶化合物の重合については、特開平８−２７２８４号公報に記載がある。
ディスコティック液晶化合物を重合により固定するためには、ディスコティック液晶化合物の円盤状コアに、置換基として重合性基を結合させる必要がある。ただし、円盤状コアに重合性基を直結させると、重合反応において配向状態を保つことが困難になる。そこで、円盤状コアと重合性基との間に、連結基を導入する。従って、重合性基を有するディスコティック液晶化合物は、下記式（Ａ）で表わされる化合物であることが好ましい。
【０１１２】
（Ａ） Ｄ（−Ｌ−Ｐ）n
式中、Ｄは円盤状コアであり；Ｌは二価の連結基であり；Ｐは重合性基であり；そして、ｎは３〜１２の整数である。
円盤状コア（Ｄ）の例を以下に示す。以下の各例において、ＬＰ（又はＰＬ）は、二価の連結基（Ｌ）と重合性基（Ｐ）との組み合わせを意味する。
【０１１３】
【化７】
【０１１４】
【化８】
【０１１５】
【化９】
【０１１６】
【化１０】
【０１１７】
【化１１】
【０１１８】
【化１２】
【０１１９】
【化１３】
【０１２０】
【化１４】
【０１２１】
【化１５】
【０１２２】
また、特開２００６−７６９９２号公報明細書中の段落番号［００５２］、及び特開２００７−２２２０号公報明細書中の段落番号［００４０］〜［００６３］に記載の化合物のような、３置換ベンゼン骨格を含む化合物は、その複屈折波長分散が、液晶セル中の液晶化合物の複屈折の波長分散により近いので、好ましく用いることができる。特に好ましい骨格を以下に示す。
【０１２３】
【化１６】
【０１２４】
式（Ａ）において、二価の連結基（Ｌ）は、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−Ｏ−、−Ｓ−及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。二価の連結基（Ｌ）は、アルキレン基、アリーレン基、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−Ｏ−及びＳ−からなる群より選ばれる二価の基を少なくとも二つ組み合わせた二価の連結基であることがさらに好ましい。二価の連結基（Ｌ）は、アルキレン基、アリーレン基、−ＣＯ−及びＯ−からなる群より選ばれる二価の基を少なくとも二つ組み合わせた二価の連結基であることが最も好ましい。アルキレン基の炭素原子数は、１〜１２であることが好ましい。アルケニレン基の炭素原子数は、２〜１２であることが好ましい。アリーレン基の炭素原子数は、６〜１０であることが好ましい。
二価の連結基（Ｌ）の例を以下に示す。左側が円盤状コア（Ｄ）に結合し、右側が重合性基（Ｐ）に結合する。ＡＬはアルキレン基又はアルケニレン基、ＡＲはアリーレン基を意味する。なお、アルキレン基、アルケニレン基及びアリーレン基は、置換基（例、アルキル基）を有していてもよい。
【０１２５】
Ｌ１：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−
Ｌ２：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−
Ｌ３：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−
Ｌ４：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ５：−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−
Ｌ６：−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−
Ｌ７：−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ８：−ＣＯ−ＮＨ−ＡＬ−
Ｌ９：−ＮＨ−ＡＬ−Ｏ−
Ｌ１０：−ＮＨ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ１１：−Ｏ−ＡＬ−
Ｌ１２：−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−
Ｌ１３：−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ１４：−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−ＮＨ−ＡＬ−
Ｌ１５：−Ｏ−ＡＬ−Ｓ−ＡＬ−
Ｌ１６：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−ＣＯ−
Ｌ１７：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ１８：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ１９：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ２０：−Ｓ−ＡＬ−
Ｌ２１：−Ｓ−ＡＬ−Ｏ−
Ｌ２２：−Ｓ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ２３：−Ｓ−ＡＬ−Ｓ−ＡＬ−
Ｌ２４：−Ｓ−ＡＲ−ＡＬ−
【０１２６】
式（Ａ）の重合性基（Ｐ）は、重合反応の種類に応じて決定する。重合性基（Ｐ）の例を以下に示す。
【０１２７】
【化１７】
【０１２８】
【化１８】
【０１２９】
【化１９】
【０１３０】
【化２０】
【０１３１】
【化２１】
【０１３２】
【化２２】
【０１３３】
重合性基（Ｐ）は、不飽和重合性基（Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ７、Ｐ８、Ｐ１５、Ｐ１６、Ｐ１７）又はエポキシ基（Ｐ６、Ｐ１８）であることが好ましく、不飽和重合性基であることがさらに好ましく、エチレン性不飽和重合性基（Ｐ１、Ｐ７、Ｐ８、Ｐ１５、Ｐ１６、Ｐ１７）であることが最も好ましい。
式（Ａ）において、ｎは３〜１２の整数である。具体的な数字は、円盤状コア（Ｄ）の種類に応じて決定される。なお、複数のＬとＰの組み合わせは、異なっていてもよいが、同一であることが好ましい。
【０１３４】
前記液晶組成物中、液晶化合物は組成物の全量（溶媒を含む場合は固形分）に対し、５０質量％〜９９．９質量％であるのが好ましく、７０質量％〜９９．９質量％がより好ましく、８０質量％〜９９．５質量％がよりさらに好ましい。
【０１３５】
上記の液晶化合物と共に、液晶性組成物中には、可塑剤、界面活性剤、重合性モノマー等を併用して、塗工膜の均一性、膜の強度、液晶化合物の配向性等を向上させることができる。これらの素材は液晶化合物と相溶性を有し、配向を阻害しないことが好ましい。
重合性モノマーとしては、ラジカル重合性若しくはカチオン重合性の化合物が挙げられる。好ましくは、多官能性ラジカル重合性モノマーであり、上記の重合性基含有の液晶化合物と共重合性のものが好ましい。例えば、特開２００２−２９６４２３号公報明細書中の段落番号［００１８］〜［００２０］記載のものが挙げられる。上記化合物の添加量は、円盤状液晶性分子に対して一般に０．１〜５０質量％の範囲にあり、０．５〜３０質量％の範囲にあることが好ましい。
【０１３６】
液晶化合物とともに使用するポリマーは、塗布液を増粘できることが好ましい。ポリマーの例としては、セルロースエステルを挙げることができる。セルロースエステルの好ましい例としては、特開２０００−１５５２１６号公報明細書中の段落番号［０１７８］記載のものが挙げられる。液晶化合物の配向を阻害しないように、上記ポリマーの添加量は、液晶性分子に対して０．１〜１０質量％であることが好ましく、０．１〜８質量％であることがより好ましい。
【０１３７】
界面活性剤としては、従来公知の化合物が挙げられるが、フッ素系化合物が好ましい。具体的には、例えば特開２００１−３３０７２５号公報明細書中の段落番号［００２８］〜［００５６］記載の化合物、特願２００３−２９５２１２号明細書中の段落番号［００６９］〜［０１２６］記載の化合物が挙げられる。特に好ましい例として、特開２００５−２９２３５１号公報明細書中の段落番号［００５４］から［０１０９］に記載のフルオロ脂肪族基含有ポリマーが挙げられる。
【０１３８】
光学異方性層は、上記成分を含む液晶性組成物を、配向膜の表面（好ましくは、ラビング処理面）上に塗布し、液晶相−固相転移温度以下で配向させ、その後、ＵＶ照射によって、重合反応を進行させて、液晶化合物をその配向状態に固定することにより形成することができる。液晶組成物の塗布は、公知の方法（例、バーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法）により実施できる。液晶相−固相転移温度としては７０℃〜３００℃が好ましく、特に７０℃〜１７０℃が好ましい。液晶化合物の重合反応としては、光重合反応が行われる。液晶化合物の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましく、照射エネルギーは、２０〜５０００ｍＪ／ｃｍ2であることが好ましく、１００〜８００ｍＪ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよく、加熱条件に特に制限はないが、液晶化合物の配向度を低下させないために、１２０℃程度以下であることがより好ましい。
【０１３９】
前記光学異方性層の厚さは、０．５〜１００μｍであることが好ましく、０．５〜３０μｍであることが更に好ましい。
【０１４０】
［光学補償フィルムの特性評価］
（Ｒｅ（λ）及びＲｔｈ（λ））
本明細書では、Ｒｅ（λ）は波長λにおける面内レターデーション（ｎｍ）を意味し、及びＲｔｈ（λ）は波長λにおける厚み方向レターデーション（ｎｍ）を意味する。
測定対象のフィルムのＲｅ（λ）はＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲ（王子計測機器（株）製）において各波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。
測定されるフィルムが１軸又は２軸の屈折率楕円体で表されるものである場合には、以下の方法により、厚み方向レターデーションＲｔｈ（λ）は算出される。
Ｒｔｈ（λ）は前記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）のフィルム法線方向に対して法線方向から片側５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて全部で６点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。
上記において、法線方向から面内の遅相軸を回転軸として、ある傾斜角度にレターデーションの値がゼロとなる方向をもつフィルムの場合には、その傾斜角度より大きい傾斜角度でのレターデーション値はその符号を負に変更した後、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。
尚、遅相軸を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）、任意の傾斜した２方向からレターデーション値を測定し、その値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基に、以下の式（１０）及び式（１１）よりＲｔｈを算出することもできる。
【０１４１】
【数１】
式中、上記のＲｅ（θ）は法線方向から角度θ傾斜した方向におけるレターデーション値をあらわす。
また式中、ｎｘは面内における遅相軸方向の屈折率を表し、ｎｙは面内においてｎｘに直交する方向の屈折率を表し、ｎｚはｎｘ及びｎｙに直交する方向の屈折率を表し、ｄは膜厚を表す。
【０１４２】
測定されるフィルムが１軸や２軸の屈折率楕円体で表現できないもの、いわゆる光学軸（ｏｐｔｉｃ ａｘｉｓ）がないフィルムの場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）は算出される。
Ｒｔｈ（λ）は前記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して−５０度から＋５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて１１点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。
上記の測定において、平均屈折率の仮定値は ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：
セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。
これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。この算出されたｎｘ、ｎｙ、ｎｚよりＮｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）がさらに算出される。
また、本明細書において、測定波長を特に付記しない場合は、波長５５０ｎｍにおけるＲｅ及びＲｔｈであるとする。
【０１４３】
（ヘイズ値）
本明細書において、支持体用フィルム及び光学補償フィルムのヘイズ値は、ＪＩＳ Ｋ−７１３６に準じて測定した値である。
本発明の光学補償フィルムは、透明支持体そのもののヘイズが小さいのみならず、該透明支持体上に光学異方性層を形成しても、そのことによるヘイズの上昇が小さく、光学補償フィルムとしても、ヘイズが小さいという特徴がある。本発明に用いる透明支持体のヘイズは、０〜０．２％程度であり、当該支持体上に光学異方性層を形成した本発明の光学補償フィルムでも、ヘイズ０．３％以下を達成可能である。光学異方性層を形成することによるヘイズの上昇は０．０８％以下であるのが好ましい。
【０１４４】
［偏光板］
本発明は、偏光膜と、本発明の光学補償フィルムとを少なくとも有する偏光板にも関する。本発明の偏光板の一例は、偏光膜の一方の表面の保護フィルムとして、本発明の光学補償フィルムを有する偏光板である。保護フィルムとして用いる場合は、支持体であるラクトン環単位含有共重合体等を含有するポリマーフィルムの裏面（配向膜が形成されていない側の面）を、所望により表面処理して親水化してから、偏光膜の表面に貼り付けるのが好ましい。
偏光膜には、例えば、ポリビニルアルコールフィルムをヨウ素にて染色し、延伸を行うことによって得られる偏光膜などが用いられる。
偏光膜の他方の表面にも保護フィルムが貼り付けられているのが好ましく、かかる保護フィルムとしては、セルロースアシレートフィルムや環状ポリオレフィン系ポリマーフィルム等が用いられる。
【０１４５】
［液晶表示装置］
本発明の光学補償フィルム及び偏光板は、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＦＬＣ（Ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ Ｂｅｎｄ）、ＳＴＮ（Ｓｕｐｐｅｒ Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ Ａｌｉｇｎｅｄ）及びＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ Ａｌｉｇｎｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）のような、様々な表示モードの液晶表示装置に用いることができる。
【０１４６】
液晶表示装置は長時間の使用により、バックライトの熱によって内部の温度が上昇することがしばしばある。また、ノートブック型パーソナルコンピューターや携帯電話用の液晶表示装置は、屋内のみならず、屋外において使用されるものである。従って、これらの液晶表示装置には、環境湿度や温度の変化による表示特性の変動が小さいことが求められる。本発明の光学補償フィルムを有する液晶表示装置、特に、本発明の光学補償フィルムを偏光膜の保護フィルムとして利用している液晶表示装置は、温湿度の変化による表示特性の変動が小さいという特徴があり、種々の用途の液晶表示装置として有用である。特に、本発明の液晶表示装置は、温湿度変化に依存する輝度の変動が小さいことが一つの特徴である。黒表示時の輝度が１ｃｄ／ｃｍ2以上変動する（輝度が増加する）と、視認性が大きく悪化するのに対し、本発明によれば、黒輝度の変化を０．５ｃｄ／ｃｍ2以下に抑えることができ、種々の環境下でも良好な表示性能を維持する液晶表示装置を提供することができる。
【実施例】
【０１４７】
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。
【０１４８】
（環含有重合体の製造）
合成例１：ラクトン環含有重合体ペレット（Ｐ−１）の作製
攪拌装置、温度センサー、冷却管、窒素導入管を付した３０Ｌ反応釜に、メタクリル酸メチル（ＭＭＡ）８０００ｇ、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチル（ＭＨＭＡ）２０００ｇ、４−メチル−２−ペンタノン（メチルイソブチルケトン、ＭＩＢＫ）１００００ｇ、ｎ−ドデシルメルカプタン５ｇを仕込み、これに窒素を通じつつ、１０５℃まで昇温し、還流したところで、開始剤としてｔ−ブチルペルオキシイソプロピルカルボナート｛化薬アクゾ（株）製、「カヤカルボン Ｂｉｃ−７５」（商品名）｝５．０ｇを添加すると同時に、ｔ−ブチルペルオキシイソプロピルカルボナート１０．０ｇとＭＩＢＫ２３０ｇからなる溶液を２時間かけて滴下しながら、還流下（約１０５〜１２０℃）で溶液重合を行い、さらに４時間かけて熟成を行った。
【０１４９】
得られた重合体溶液に、リン酸ステアリル／リン酸ジステアリル混合物｛堺化学工業（株）製、“Ｐｈｏｓｌｅｘ Ａ−１８”（商品名）｝３０ｇを加え、還流下（約９０〜１２０℃）で５時間、環化縮合反応を行った。次いで、この環化縮合反応で得られた重合体溶液を、バレル温度２６０℃、回転数１００ｒｐｍ、減圧度１３．３〜４００ｈＰａ（１０〜３００ｍｍＨｇ）、リアベント数１個、フォアベント数４個のベントタイプスクリュー二軸押出し機（φ＝２９．７５ｍｍ、Ｌ／Ｄ＝３０）に、樹脂量換算で２．０ｋｇ／時間の処理速度で導入し、該押出し機内で環化縮合反応と脱揮を行い、押出すことにより、透明なペレット（Ｐ−１）を得た。
【０１５０】
得られたペレット（Ｐ−１）について、ダイナミックＴＧの測定を行ったところ、０．１７質量％の質量減少を検知した。この質量減少から算出される脱アルコール反応率は９６．６％であった。また、ペレットの質量平均分子量は１３３，０００であり、メルトフローレートは６．５ｇ／１０分、ガラス転移温度は１３１℃であった。
【０１５１】
合成例２：グルタル酸無水物単位を含有するアクリル系熱可塑性共重合体ペレット（Ｐ−２）の作製
メタクリル酸メチル２０質量部、アクリルアミド８０質量部、過硫酸カリウム０．３質量部、イオン交換水１５００質量部を反応器中に仕込み、単量体が完全に重合体に転化するまで、反応器中を窒素ガスで置換しながら７０℃に保ち、メタクリル酸メチル／アクリルアミド共重合体系懸濁剤水溶液を調製した。
【０１５２】
得られたメタクリル酸メチル／アクリルアミド共重合体系懸濁剤水溶液０．０５部を、更にイオン交換水１６５部に溶解させた溶液にして、ステンレス製のオートクレーブに供給し、撹拌し、系内を窒素ガスで置換した。次に、下記の単量体混合物を、反応系を撹拌しながら添加し、７０℃に昇温した。
メタクリル酸（ＭＡＡ） ３０質量部
メタクリル酸メチル（ＭＭＡ） ７０質量部
ｔ−ドデシルメルカプタン ０．６質量部
２，２’−アゾビスイソブチロニトリル ０．４質量部
【０１５３】
内温が７０℃に達した時点を重合開始時として、１８０分間保った後、重合を終了した。以降、通常の方法に従い、反応系の冷却、ポリマーの分離、洗浄、乾燥を行い、ビーズ状の共重合体Ｄを製造した。この共重合体Ｄ製造時の重合率は９８％であった。
【０１５４】
このビーズ状の共重合体Ｄ及びナトリウムメトキシドを、共重合体Ｄ１００質量部、ナトリウムメトキシド０．５質量部の割合で、ベント付き同方向回転２軸押出機に、そのホッパー口より供給して、樹脂温度２５０℃で溶融押出し、ペレット状の、グルタル酸無水物単位を含有するアクリル系熱可塑性共重合体（Ｐ−２）を製造した。得られたアクリル系熱可塑性共重合体を、赤外分光光度計を用いて分析した結果、１８００ｃｍ-1及び１７６０ｃｍ-1に吸収ピークが確認され、グルタル酸無水物単位が形成されていることを確認した。また、このアクリル系熱可塑性共重合体を重ジメチルスルホキシドに溶解させ、室温（２３℃）にて1Ｈ−ＮＭＲを測定し、共重合体組成を決定したところ、メタクリル酸メチル単位７０質量％、グルタル酸無水物単位３０質量％、メタクリル酸単位０質量％であった。また、そのガラス転移温度は１４５℃であった。
【０１５５】
（透明支持体の作製）
製造例１：支持体（ＳＰ−１）の作製
上記ペレット（Ｐ−１）とアクリロニトリル−スチレン（ＡＳ）樹脂｛東洋スチレン（株）製、「トーヨーＡＳ ＡＳ２０」（商品名）｝をＰ−１／ＡＳ樹脂＝９０／１０の質量比で単軸押出し機（φ＝３０ｍｍ）を用いて混錬することにより、透明なペレットを得た。得られたペレットのガラス転移温度は１２７℃であった。このペレットをメチルエチルケトン（ＭＥＫ）に溶解させ、溶液キャスト法で６０μｍのフィルム（ＳＰ−１）を作製した。
得られたフィルムについてＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨにて測定波長５５０ｎｍでの光学特性を測定したしたところ、面内レターデーションＲｅ＝０．５ｎｍ、厚み方向レターデーションＲｔｈ＝−２．０ｎｍ、ＪＩＳ Ｋ−７１３６に準じて測定したヘイズ値は０．１５％であった。
【０１５６】
製造例２：支持体（ＳＰ−２）の作製
製造例１で得られた支持体（ＳＰ−１）のフィルムを、１００℃で０．１ｍ／分の速度で１．５倍に単軸延伸することで５０μｍの延伸フィルム（ＳＰ−２）を得た。
【０１５７】
製造例３：支持体（ＳＰ−３）の作製
合成例２で得られたペレット（Ｐ−２）をＭＥＫに溶解させ、溶液キャスト法で６０μｍのフィルム（ＳＰ−３）を作製した。
【０１５８】
製造例４：支持体（ＳＰ−４）の作製
上記ペレット（Ｐ−１）とアクリロニトリル−スチレン（ＡＳ）樹脂｛東洋スチレン（株）製、「トーヨーＡＳ ＡＳ２０」（商品名）｝をＰ−１／ＡＳ樹脂＝９０／１０の質量比で単軸押出し機（φ＝３０ｍｍ）を用いて混錬することにより、透明なペレットを得た。得られたペレットのガラス転移温度は１２７℃であった。このペレット及び、下記構造のレターデーション上昇剤１をペレット／レターデーション上昇剤＝１００／３の質量比でメチルエチルケトン（ＭＥＫ）に溶解させ、溶液キャスト法で８０μｍのフィルム（ＳＰ−４）を作製した。得られたフィルムの光学特性をＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨにて測定波長５５０ｎｍでの光学特性を測定したしたところ、面内レターデーションＲｅ＝０．５ｎｍ、厚み方向レターデーションＲｔｈ＝９２ｎｍであった。
【０１５９】
【化２３】
【０１６０】
製造例５：支持体（ＳＰ−５）の作製
上記ペレット（Ｐ−１）とアクリロニトリル−スチレン（ＡＳ）樹脂｛東洋スチレン（株）製、「トーヨーＡＳ ＡＳ２０」（商品名）｝をＰ−１／ＡＳ樹脂＝９０／１０の質量比で単軸押出し機（φ＝３０ｍｍ）を用いて混錬することにより、透明なペレットを得た。得られたペレットのガラス転移温度は１２７℃であった。このペレット及び、下記構造のレターデーション上昇剤２をペレット／レターデーション上昇剤＝１００／５の質量比でメチルエチルケトン（ＭＥＫ）に溶解させ、溶液キャスト法で８５μｍのフィルムを得た。さらに１００℃で０．１ｍ／分の速度で幅方向に１．２５倍にテンター延伸することで８０μｍの延伸フィルム（ＳＰ−５）を作製した。得られたフィルムの光学特性をＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨにて測定波長５５０ｎｍでの光学特性を測定したところ、面内レターデーションＲｅ＝３８ｎｍ（遅相軸：幅方向）、厚み方向レターデーションＲｔｈ＝１８０ｎｍであり、ヘイズ値は０．１５％であった。
【０１６１】
【化２４】
【０１６２】
製造例６：支持体（ＳＰ−６）の作製
レターデーション上昇剤２を下記構造のレターデーション上昇剤３に置き換えた以外は製造例４と同様にして、溶液キャスト法で８０μｍのフィルム（ＳＰ−６）を作製した。得られたフィルムの光学特性をＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨにて測定波長５５０ｎｍでの光学特性を測定したしたところ、面内レターデーションＲｅ＝０．５ｎｍ、厚み方向レターデーションＲｔｈ＝９２ｎｍであり、ヘイズ値は０．１５％であった。
【０１６３】
【化２５】
【０１６４】
製造例７：支持体（ＳＰ−７）の作製
レターデーション上昇剤２を下記構造のレターデーション上昇剤４に置き換えた以外は製造例４と同様にして、溶液キャスト法で８０μｍのフィルム（ＳＰ−７）を作製した。得られたフィルムの光学特性をＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨにて測定波長５５０ｎｍでの光学特性を測定したしたところ、面内レターデーションＲｅ＝０．５ｎｍ、厚み方向レターデーションＲｔｈ＝９２ｎｍであり、ヘイズ値は０．１５％であった。
【０１６５】
【化２６】
【０１６６】
製造例８：支持体（ＳＰ−８）の作製
レターデーション上昇剤２を下記構造のレターデーション上昇剤５に置き換えた以外は製造例４と同様にして、溶液キャスト法で８０μｍのフィルム（ＳＰ−８）を作製した。得られたフィルムの光学特性をＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨにて測定波長５５０ｎｍでの光学特性を測定したしたところ、面内レターデーションＲｅ＝０．５ｎｍ、厚み方向レターデーションＲｔｈ＝９２ｎｍであり、ヘイズ値は０．１５％であった。
【０１６７】
【化２７】
【０１６８】
製造例９：支持体（ＳＰ−９）の作製
レターデーション上昇剤２を下記構造のレターデーション上昇剤６に置き換えた以外は製造例４と同様にして、溶液キャスト法で８０μｍのフィルム（ＳＰ−９）を作製した。得られたフィルムの光学特性をＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨにて測定波長５５０ｎｍでの光学特性を測定したしたところ、面内レターデーションＲｅ＝０．５ｎｍ、厚み方向レターデーションＲｔｈ＝９２ｎｍであり、ヘイズ値は０．１５％であった。
【０１６９】
【化２８】
【０１７０】
製造例１０：支持体（ＳＰ−１０）の作製
レターデーション上昇剤２を下記構造のレターデーション上昇剤７に置き換えた以外は製造例４と同様にして、溶液キャスト法で８０μｍのフィルム（ＳＰ−１０）を作製した。得られたフィルムの光学特性をＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨにて測定波長５５０ｎｍでの光学特性を測定したしたところ、面内レターデーションＲｅ＝０．５ｎｍ、厚み方向レターデーションＲｔｈ＝９２ｎｍであり、ヘイズ値は０．１５％であった。
【０１７１】
【化２９】
【０１７２】
［実施例１］
（配向膜の形成）
製造例４で作製した支持体（ＳＰ−４）の片面に大気圧プラズマ処理（電極：積水化学工業（株）製、条件：雰囲気酸素濃度：３体積％（９７％窒素）、周波数：３０Ｈｚ、フィルム搬送速度：１ｍ／分）して、片面を親水化処理した。親水化処理により、水の接触角は９０°から２８°に低減し、充分に親水化されていた。
この処理面に、下記の組成の配向膜形成用硬化性組成物を＃１４のワイヤーバーで２４ｍＬ／ｍ2のウエット塗布量で塗布して、１００℃で２分間乾燥した。配向膜１の厚さは、１．０μｍであった。
【０１７３】
配向膜形成用硬化性組成物：
下記式の変性ポリビニルアルコール ４０質量部
水 ７２８質量部
メタノール ２２８質量部
グルタルアルデヒド ２質量部
クエン酸 ０．０８質量部
クエン酸モノエチルエステル ０．２９質量部
クエン酸ジエチルエステル ０．２７質量部
クエン酸トリエチルエステル ０．０５質量部
【０１７４】
【化３０】
【０１７５】
下記の組成の光学異方性層形成用液晶組成物１の塗布液を調製した。
光学異方性層形成用液晶組成物１：
メチルエチルケトン １０２．００質量部
下記構造式に示す円盤状液晶化合物１ ４１．０１質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパンアクリレート（Ｖ３６０、大阪有機化学（株）製） ４．０６質量部
セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ５３１−１、イーストマンケミカル社製）
０．１１質量部
セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ５５１−０．２、イーストマンケミカル社製）
０．３４質量部
光重合開始剤「イルガキュア９０７」チバガイギー社製 １．３５質量部
増感剤「カヤキュアーＤＥＴＸ」日本化薬（株）製 ０．４５質量部
下記構造式に示すフルオロ脂肪族基含有ポリマー１ ０．０３質量部
下記構造式に示すフルオロ脂肪族基含有ポリマー２ ０．２３質量部
【０１７６】
【化３１】
【０１７７】
【化３２】
【０１７８】
【化３３】
【０１７９】
（光学異方性層１の形成）
配向膜を塗工したロール状態のフィルムを送り出し、その先に配置されたラビング装置によって搬送方向に沿って逆回転にラビングロールを回転させて配向膜の表面をラビング処理し、続いてラビング処理面を超音波除塵した。除塵後に、ラビング処理面に、上記組成の光学異方性層形成用液晶組成物１の塗布液を＃３のワイヤーバーで５．２ｍｌ／ｍ2のウエット塗布量で塗布して、１２０℃で１．５分間乾燥して、配向させ、その後、８０℃にフィルム温度を保った状態で１２０Ｗ／ｃｍのメタルハライドランプで照射量５００ｍＪ／ｃｍ2のＵＶ光を照射して、重合反応を進行させて、配向状態を固定して、光学異方性層１を形成し、巻き取り部でロールフィルム状態に巻き取った。光学異方性層１の厚さは、１．４μｍであった。得られたフィルムの光学異方性層のみをガラス板に転写してＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨにて測定波長５５０ｎｍでの光学特性を測定した結果、Ｒｅ＝５０ｎｍ、Ｒｔｈ＝８６ｎｍであった。フィルムのヘイズは０．２０％、消光度は０．００１０であった。表１に光学補償フィルムの構成を、表２に評価結果を示す。
以上の様にして、光学補償フィルム１を作製した。
【０１８０】
（偏光板１の作製）
延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を作製した。
その後、作製した光学補償フィルム１の光学異方性層１を形成した面の反対側の面を、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、前記偏光膜の一方の面に貼り付け、前記偏光膜の他方の面には、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、鹸化処理を行った市販のセルローストリアセテートフィルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士フイルム（株）製）を貼り付けた。このようにして、偏光板１を作製した。
【０１８１】
（ＴＮモード液晶表示装置１の作製）
ＴＮ型液晶セルを使用した２２インチの液晶表示装置（ＡＣＥＲ製 ＡＬ２２１６Ｗ）に設けられている一対の偏光板（上側偏光板、及び下側偏光板）を剥がし、代わりに作製した偏光板１を、光学異方性層が液晶セル側となるように粘着剤を介して、観察者側及びバックライト側に一枚ずつ貼り付けて、偏光板１を２枚有するＴＮモード液晶表示装置１を作製した。このとき、観察者側の偏光板（上側偏光板）の透過軸と、バックライト側の偏光板（下側偏光板）の透過軸とが直交するように各偏光板を配置した。
【０１８２】
（表示性能評価）
常温常湿（２５℃６０％ＲＨ）の部屋で１週間放置した前記液晶表示装置を測定機（ＥＺ−Ｃｏｎｔｒａｓｔ１６０Ｄ、ＥＬＤＩＭ社製）を用いて、パネル正面方向におけるコントラスト比（白表示時の透過率／黒表示時の透過率）、及び、左右／上下のコントラスト視野角（コントラスト１０以上を維持する視野角）を評価した。評価結果を表２に示す。
【０１８３】
［比較例１］
製造例４で作製した支持体（ＳＰ−４）の代わりに、以下に示す製造法にて作製した支持体（ＳＰ−１１）を用い、表面親水化処理を大気圧プラズマ処理から以下に示す鹸化処理に変更した以外は実施例１と同様にして配向膜形成、光学異方性層を形成することによって、光学補償フィルム２を作製した。実施例１と同様にして光学補償フィルム２を片面に有する偏光板２を作製し、実施例１と同様にしてＴＮモード液晶表示装置２を作製し、同様の評価を行った。表１に光学補償フィルムの構成を、表２に評価結果を示す。
【０１８４】
支持体（ＳＰ−１１）の作製：
下記表に示す組成物をミキシングタンクに投入し、３０℃に加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアシレート溶液を調製した。セルロースアシレートは、全アシル置換度が２．８３のものを用いた。
【０１８５】
内層用ドープ組成物：
アセチル置換度２．８３のセルロースアシレート １００質量部
トリフェニルフォスフェート ８質量部
ビフェニルフォスフェート ４質量部
メチレンクロライド ２９３質量部
メタノール ７１質量部
１−ブタノール ２質量部
【０１８６】
外層用ドープ組成物：
アセチル置換度２．８３のセルロースアシレート １００質量部
トリフェニルフォスフェート ８質量部
ビフェニルフォスフェート ４質量部
メチレンクロライド ３１４質量部
メタノール ７６質量部
１−ブタノール ２質量部
シリカ微粒子（ＡＥＲＯＳＩＬ９７２、日本アエロジル（株）製）
０．８質量部
【０１８７】
得られた内層用ドープ及び外層用ドープを、三層共流延ダイを用いて、０℃に冷却したドラム上に流延した。残留溶剤量が７０質量％のフィルムをドラムから剥ぎ取り、両端をピンテンターにて固定して搬送方向のドロー比を１１５％として搬送しながら８０℃で乾燥させ、残留溶剤量が１０％となったところで、１１０℃で乾燥させた。その後、１５５℃の温度で２０分乾燥し、残留溶剤が０．３質量％のセルロースアセテートフィルム（外層：３μｍ、内層：７４μｍ、外層：３μｍ）を製造した。このように支持体（ＳＰ−１１）を作製した。得られたフィルムの光学特性をＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨにて測定波長５５０ｎｍでの光学特性を測定したしたところ、面内レターデーションＲｅ＝０．３ｎｍ、厚み方向レターデーションＲｔｈ＝３５ｎｍであった。また、ヘイズ値は０．２０％であった。
得られた透明支持体の片面に、１．０Ｎの水酸化カリウム溶液（溶媒：水／イソプロピルアルコール／プロピレングリコール＝６９．２質量部／１５質量部／１５．８質量部）を１０ｍＬ／ｍ2塗布し、約４０℃の状態で３０秒間保持した後、アルカリ液を掻き取り、純水で水洗し、エアーナイフで水滴を削除し、その後、１００℃で１５秒間乾燥して、片面を鹸化処理した。
【０１８８】
［実施例２］
製造例４で作製した支持体（ＳＰ−４）の代わりに製造例５で作製した支持体（ＳＰ−５）を用いた以外は実施例１と同様にして、鹸化処理、配向膜形成を行った。
【０１８９】
（光学異方性層２の形成）
以下の組成の光学異方性層形成用液晶組成物２の塗布液を調製した。
光学異方性層形成用液晶組成物２：
メチルエチルケトン １４７．７８質量部
上記円盤状液晶化合物１ ４１．０１質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパンアクリレート（Ｖ３６０、大阪有機化学（株）製） ４．０６質量部
セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ５３１−１、イーストマンケミカル社製）
０．２３質量部
光重合開始剤「イルガキュア９０７」チバガイギー社製 １．３５質量部
増感剤「カヤキュアーＤＥＴＸ」日本化薬（株）製 ０．４５質量部
フルオロ脂肪族基含有ポリマー
（メガファックＦ７８０、（大日本インキ化学工業（株）製） ０．４５質量部
【０１９０】
ロール状態のフィルムをラビング装置によって搬送方向に対して４５°方向に逆回転にラビングロールを回転させて配向膜の表面をラビング処理し、続いてラビング処理面を超音波除塵した。除塵後に、ラビング処理面に、上記組成の光学異方性層形成用液晶組成物２を＃３のワイヤーバーで５．２ｍＬ／ｍ2のウエット塗布量で塗布して、１２０℃で１．５分間乾燥して、配向させ、その後、８０℃にフィルム温度を保った状態で１２０Ｗ／ｃｍのメタルハライドランプで照射量５００ｍＪ／ｃｍ2のＵＶ光を照射して、重合反応を進行させて、配向状態を固定して、光学異方性層２を形成し、巻き取り部でロールフィルム状態に巻き取った。光学異方性層２の厚さは、１．３μｍであった。得られたフィルムの光学異方性層のみをガラス板に転写してＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨにて測定波長５５０ｎｍでの光学特性を測定した結果、Ｒｅ＝３０ｎｍ、Ｒｔｈ＝９０ｎｍであった。フィルムのヘイズは０．２０％、消光度は０．００１０であった。以上の結果を表１に示す。
以上のようにして、光学補償フィルム３を作製した。
【０１９１】
（偏光板３の作製）
光学補償フィルム１の代わりに光学補償フィルム３を用いた以外は実施例１と同様にして、偏光板３を作製した。
【０１９２】
（ＯＣＢモード液晶表示装置１の作製）
（ＯＣＢモード液晶セルの作製）
ＩＴＯ電極付きのガラス基板に、ポリイミド膜を配向膜として設け、配向膜にラビング処理を行った。得られた二枚のガラス基板をラビング方向が平行となる配置で向かい合わせ、液晶セルの厚さを７．２μｍに設定した。液晶セルの間隙にΔｎが０．１３９６の液晶化合物（ＺＬＩ１１３２、メルク社製）を注入し、ベンド配向したＯＣＢモード液晶セルを作製した。
【０１９３】
（液晶表示装置の作製）
上記ベンド配向液晶セルと、上記一対の偏光板３とを組み合わせて液晶表示装置を作製した。
なお、ベンド配向液晶セルと、一対の偏光板との配置は、偏光板が第１の光学異方性層、及びベンド配向液晶セルの基板が対面し、ベンド配向液晶セルのラビング方向とそれに対向する第１の光学異方性層のラビング方向とが反平行になるようにした。
作製したベンド配向液晶セルを挟むように、それぞれ別の透明基板に、視認側、及びバックライト側に偏光板をそれぞれ貼り付けた。
偏光板の第１の光学異方性層が前記透明基板に対向し、ベンド配向液晶セルのラビング方向とそれに対向する第１の光学異方性層のラビング方向とが反平行となるように配置し、ベンド配向液晶セルの大きさが２０インチである液晶表示装置を作製した。
（表示性能評価）
実施例１と同様にして、パネル正面方向におけるコントラスト比（白表示時の透過率／黒表示時の透過率）を評価した。結果を表１に示す。
【０１９４】
［比較例２］
製造例５で作製した支持体（ＳＰ−５）の代わりに特開２００７−１４７９６６公報中に記載の比較例３で用いられているセルロースアシレートフィルム（ＣＡ−２）と同様にして膜厚８８μｍのフィルムＳＰ−１２を作製した。得られたフィルムの光学特性をＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨにて測定波長５５０ｎｍでの光学特性を測定したところ、面内レターデーションＲｅ＝３６ｎｍ（遅相軸：幅方向）、厚み方向レターデーションＲｔｈ＝１７５ｎｍであった。
【０１９５】
［実施例３〜８］
製造例４で作製した支持体（ＳＰ−４）の代わりに製造例１で作製した支持体（ＳＰ−１）を用いた以外は実施例１と同様にして、光学補償フィルム５、偏光板５、ＴＮモード液晶表示装置３を作製した（実施例３）。
同様に、製造例４で作製した支持体（ＳＰ−４）の代わりに製造例６で作製した支持体（ＳＰ−６）を用いた以外は実施例１と同様にして、光学補償フィルム６、偏光板６、ＴＮモード液晶表示装置４を作製した（実施例４）。
同様に、製造例４で作製した支持体（ＳＰ−４）の代わりに製造例７で作製した支持体（ＳＰ−７）を用いた以外は実施例１と同様にして、光学補償フィルム７、偏光板７、ＴＮモード液晶表示装置５を作製した（実施例５）。
同様に、製造例４で作製した支持体（ＳＰ−４）の代わりに製造例８で作製した支持体（ＳＰ−８）を用いた以外は実施例１と同様にして、光学補償フィルム８、偏光板８、ＴＮモード液晶表示装置６を作製した（実施例６）。
同様に、製造例４で作製した支持体（ＳＰ−４）の代わりに製造例９で作製した支持体（ＳＰ−９）を用いた以外は実施例１と同様にして、光学補償フィルム９、偏光板９、ＴＮモード液晶表示装置７を作製した（実施例７）。
同様に、製造例４で作製した支持体（ＳＰ−４）の代わりに製造例１０で作製した支持体（ＳＰ−１０）を用いた以外は実施例１と同様にして、光学補償フィルム１０、偏光板１０、ＴＮモード液晶表示装置８を作製した（実施例８）。
【０１９６】
【表１】
【０１９７】
【表２】
【０１９８】
上記表に示す結果から、実施例１〜８では、透明支持体として、ラクトン環単位含有共重合体を含むフィルムを用いているので、他のポリマーフィルムを透明支持体として用いた場合と比較して、消光度がより小さくなり、ＴＮモード、ＩＰＳモード等の液晶表示装置に組み込んだ際のコントラストが向上したことが理解できる。
【０１９９】
製造例１３：支持体（ＳＰ−１３）の作製
レターデーション上昇剤１をレターデーション上昇剤３に置き換えた以外は製造例４と同様にして、溶液キャスト法で８０μｍのフィルム（ＳＰ−１３）を作製した。得られたフィルムの光学特性をＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨにて測定波長５５０ｎｍでの光学特性を測定したしたところ、面内レターデーションＲｅ＝０．５ｎｍ、厚み方向レターデーションＲｔｈ＝９２ｎｍであった。また、ヘイズ値は０．１５％であった。
【０２００】
製造例１４：支持体（ＳＰ−１４）の作製
レターデーション上昇剤１をレターデーション上昇剤４に置き換えた以外は製造例４と同様にして、溶液キャスト法で８０μｍのフィルム（ＳＰ−１４）を作製した。得られたフィルムの光学特性をＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨにて測定波長５５０ｎｍでの光学特性を測定したしたところ、面内レターデーションＲｅ＝０．５ｎｍ、厚み方向レターデーションＲｔｈ＝９２ｎｍであった。また、ヘイズ値は０．１５％であった。
【０２０１】
製造例１５：支持体（ＳＰ−１５）の作製
レターデーション上昇剤１をレターデーション上昇剤５に置き換えた以外は製造例４と同様にして、溶液キャスト法で８０μｍのフィルム（ＳＰ−１５）を作製した。得られたフィルムの光学特性をＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨにて測定波長５５０ｎｍでの光学特性を測定したしたところ、面内レターデーションＲｅ＝０．５ｎｍ、厚み方向レターデーションＲｔｈ＝９２ｎｍであった。また、ヘイズ値は０．１５％であった。
【０２０２】
製造例１６：支持体（ＳＰ−１６）の作製
レターデーション上昇剤１をレターデーション上昇剤６に置き換えた以外は製造例４と同様にして、溶液キャスト法で８０μｍのフィルム（ＳＰ−１６）を作製した。得られたフィルムの光学特性をＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨにて測定波長５５０ｎｍでの光学特性を測定したしたところ、面内レターデーションＲｅ＝０．５ｎｍ、厚み方向レターデーションＲｔｈ＝９２ｎｍであった。また、ヘイズ値は０．１５％であった。
【０２０３】
製造例１７：支持体（ＳＰ−１７）の作製
レターデーション上昇剤１をレターデーション上昇剤７に置き換えた以外は製造例４と同様にして、溶液キャスト法で８０μｍのフィルム（ＳＰ−１７）を作製した。得られたフィルムの光学特性をＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨにて測定波長５５０ｎｍでの光学特性を測定したしたところ、面内レターデーションＲｅ＝０．５ｎｍ、厚み方向レターデーションＲｔｈ＝９２ｎｍであった。また、ヘイズ値は０．１５％であった。
【０２０４】
製造例１８：支持体（ＳＰ−１８）の作製
合成例２で得られたペレット（Ｐ−２）、及びレターデーション上昇剤１をペレット／レターデーション上昇剤＝１００／６の質量比でメチルエチルケトン（ＭＥＫ）に溶解させ、溶液キャスト法で６０μｍのフィルム（ＳＰ−１８）を作製した。得られたフィルムの光学特性をＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨにて測定波長５５０ｎｍでの光学特性を測定したしたところ、Ｒｅ＝２ｎｍ、及びＲｔｈ＝９３ｎｍであった。また、ヘイズ値は０．１６％であった。
【０２０５】
製造例１９：支持体（ＳＰ−１９）の作製
合成例２で得られたペレット（Ｐ−２）、及びレターデーション上昇剤１をペレット／レターデーション上昇剤＝１００／３の質量比でメチルエチルケトン（ＭＥＫ）に溶解させ、溶液キャスト法で６０μｍのフィルムを作製した。さらに１００℃で０．１ｍ／分の速度で幅方向に１．１７倍にテンター延伸することで５３μｍの延伸フィルム（ＳＰ−１９）を作製した。得られたフィルムの光学特性をＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨにて測定波長５５０ｎｍでの光学特性を測定したところ、面内レターデーションＲｅ＝７５ｎｍ（遅相軸：幅方向）、厚み方向レターデーションＲｔｈ＝６２ｎｍであった。また、ヘイズ値は０．１７％であった。
【０２０６】
製造例２０：支持体（ＳＰ−２０）の作製
製造例１８で得られたＳＰ−１８を１００℃で０．１ｍ／分の速度で幅方向に１．２５倍にテンター延伸することで５０μｍの延伸フィルム（ＳＰ−２０）を作製した。得られたフィルムの光学特性をＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨにて測定波長５５０ｎｍでの光学特性を測定したところ、面内レターデーションＲｅ＝４０ｎｍ（遅相軸：幅方向）、厚み方向レターデーションＲｔｈ＝１８２ｎｍであった。また、ヘイズ値は０．１７％であった。
【０２０７】
（実施例９〜１４）
製造例４で作製した支持体（ＳＰ−４）の代わりに製造例１３で作製した支持体（ＳＰ−１３）を用いた以外は実施例１と同様にして、光学補償フィルム１１、偏光板１１、ＴＮモード液晶表示装置９を作製した（実施例９）。
同様に、製造例４で作製した支持体（ＳＰ−４）の代わりに製造例１４で作製した支持体（ＳＰ−１４）を用いた以外は実施例１と同様にして、光学補償フィルム１２、偏光板１２、ＴＮモード液晶表示装置１０を作製した（実施例１０）。
同様に、製造例４で作製した支持体（ＳＰ−４）の代わりに製造例１５で作製した支持体（ＳＰ−１５）を用いた以外は実施例１と同様にして、光学補償フィルム１３、偏光板１３、ＴＮモード液晶表示装置１１を作製した（実施例１１）。
同様に、製造例４で作製した支持体（ＳＰ−４）の代わりに製造例１６で作製した支持体（ＳＰ−１６）を用いた以外は実施例１と同様にして、光学補償フィルム１４、偏光板１４、ＴＮモード液晶表示装置１２を作製した（実施例１２）。
同様に、製造例４で作製した支持体（ＳＰ−４）の代わりに製造例１７で作製した支持体（ＳＰ−１７）を用いた以外は実施例１と同様にして、光学補償フィルム１５、偏光板１５、ＴＮモード液晶表示装置１３を作製した（実施例１３）。
同様に、製造例４で作製した支持体（ＳＰ−４）の代わりに製造例２で作製した支持体（ＳＰ−２）を用いた以外は実施例１と同様にして、光学補償フィルム１６、偏光板１６、ＴＮモード液晶表示装置１４を作製した（実施例１４）。
【０２０８】
（実施例１５）
製造例４で作製した支持体（ＳＰ−４）の片面に実施例１と同様に大気圧プラズマ処理を行い、該処理面に配向膜を形成した。
【０２０９】
（光学異方性層形成用液晶組成物３の調製）
下記の組成の光学異方性層形成用液晶組成物３の塗布液を調製した。
メチルエチルケトン ２７０．０質量部
円盤状液晶化合物１ １０．０質量部
下記の円盤状液晶化合物２ ９０．０質量部
下記の空気界面配向制御剤１ １．０質量部
光重合開始剤「イルガキュア９０７」チバガイギー社製 ３．０質量部
増感剤「カヤキュアーＤＥＴＸ」日本化薬（株）製 １．０質量部
【０２１０】
【化３４】
【０２１１】
【化３５】
【０２１２】
配向膜を塗工したロール状態のフィルムを送り出し、その先に配置されたラビング装置によって搬送方向に沿って逆回転にラビングロールを回転させて配向膜の表面をラビング処理し、続いてラビング処理面を超音波除塵した。除塵後に、ラビング処理面に、上記組成の光学異方性層形成用液晶組成物３の塗布液を＃１．６のワイヤーバーで２．８ｍｌ／ｍ2のウエット塗布量で塗布して、１１５℃で１．５分間乾燥して、配向させ、その後、８０℃にフィルム温度を保った状態で１２０Ｗ／ｃｍのメタルハライドランプで照射量２００ｍＪ／ｃｍ2のＵＶ光を照射して、重合反応を進行させて、配向状態を固定して、光学異方性層３を形成し、巻き取り部でロールフィルム状態に巻き取った。光学異方性層３の厚さは、０．９μｍであった。得られたフィルムの光学異方性層のみをガラス板に転写してＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨにて測定波長５５０ｎｍでの光学特性を測定した結果、Ｒｅ＝４６ｎｍ、Ｒｔｈ＝８０ｎｍであった。フィルムのヘイズ値は０．１８％、消光度は０．０００８であった。以上の様にして、光学補償フィルム１７を作製した。
【０２１３】
この光学補償フィルム１７を用い、実施例１と同様に偏光板１７、ＴＮモード液晶表示装置１５を作製し、表示性能評価を行った。
【０２１４】
（実施例１６）
製造例４で作製した支持体（ＳＰ−４）の代わりに製造例５で作製した支持体（ＳＰ−５）を用いた以外は実施例１と同様にして、支持体ＳＰ−５の表面に対して大気圧プラズマ処理を行い、該処理面に配向膜を形成した。
実施例２と同様にして、光学異方性層形成用液晶組成物２の塗布液を調製し、前記配向膜の表面に塗布し、光学補償フィルム１８を作製した。
この光学補償フィルム１８を用い、実施例２と同様に偏光板１８、ＯＣＢモード液晶表示装置３を作製し、表示性能評価を行った。
【０２１５】
（実施例１７）
製造例３で作製した支持体（ＳＰ−３）を用いたこと以外は実施例１と同様に、支持体ＳＰ−３の表面を大気圧プラズマ処理、該処理面に配向膜を形成した。
実施例１５と同様にして、光学異方性層形成用液晶組成物３の塗布液を調製し、前記配向膜の表面に塗布し、光学補償フィルム１９を作製し、これを有する偏光板１９を作製した。
【０２１６】
（ＴＮモード液晶表示装置の作製）
２６インチのＴＮ型液晶セルを使用した液晶表示装置（ＬＣ−２６ＨＵ２５、Ｘｏｃｅｃｏ社製）に設けられている一対の偏光板を剥がし、代わりに上記の作製した偏光板１９を、光学補償フィルム１９が液晶セル側となるように粘着剤を介して、観察者側及びバックライト側に一枚ずつ貼り付けた。このとき、観察者側の偏光板の透過軸と、バックライト側の偏光板の透過軸とが直交するように配置した。このようにして、ＴＮモード液晶表示装置１６を作製した。
【０２１７】
（表示性能評価）
実施例１と同様にして、正面コントラスト及び視野角を評価した。
（温湿度変化による輝度変化の評価）
さらに作製した液晶表示装置１６について、電源ＯＦＦ状態で２時間以上放置した状態から電源ＯＮにして５分以内に上下左右の辺の中央で、端部から１ｃｍ中心寄りの点での輝度を輝度計（ＴＯＰＣＯＮ製ＢＭ−５）で測定し、その平均を求めたところ、０．３ｃｄ／ｃｍ2であった。さらに点灯後１時間経過した時点で同様の測定を行ったところ、０．５ｃｄ／ｃｍ2であった。即ち、液晶表示装置１６の温度変化による輝度変化は、０．２ｃｄ／ｃｍ2であった。
また、作製した液晶表示装置１６を、電源ＯＦＦ状態で２５℃・１０％ＲＨ下に２４時間放置し、点灯後すぐに同様の測定を行ったところ、０．５ｃｄ／ｃｍ2であった。即ち、液晶表示装置１６の湿度変化による輝度変化は、０．２ｃｄ／ｃｍ2であった。
【０２１８】
（実施例１８）
製造例１８で作製した支持体（ＳＰ−１８）を用いたこと以外は実施例１と同様に、支持体ＳＰ−１８の表面を大気圧プラズマ処理し、該処理面に配向膜を形成した。
実施例１５と同様に、光学異方性層形成用液晶組成物３の塗布液を調製し、前記配向膜の表面に塗布し、光学補償フィルム２０を作製し、これを有する偏光板２０を作製した。
偏光板２０を用い、実施例１７と同様にしてＴＮモード液晶表示装置１７を作製し、表示性能評価を行った。
【０２１９】
（実施例１９）
製造例１８で作製した支持体（ＳＰ−１８）を用いたこと以外は実施例１と同様に、支持体ＳＰ−１８の表面を大気圧プラズマ処理し、該処理面に配向膜を形成した。
【０２２０】
（光学異方性層形成用液晶組成物４の調製）
下記の組成の光学異方性層形成用液晶組成物４の塗布液を調製した。
メチルエチルケトン ２７０．０質量部
上記円盤状液晶化合物２ １００．０質量部
空気界面配向制御剤１ １．０質量部
光重合開始剤「イルガキュア９０７」チバガイギー社製 ３．０質量部
増感剤「カヤキュアーＤＥＴＸ」日本化薬（株）製 １．０質量部
【０２２１】
光学異方性層形成用液晶組成物３の塗布液を、光学異方性層形成用液晶組成物４の塗布液に代えた以外は実施例１５と同様に光学異方性層４を形成し、光学補償フィルム２１を作製し、さらにこれを有する偏光板２１を作製した。
偏光板２１を用い、実施例１７と同様にしてＴＮモード液晶表示装置１８を作製し、表示性能評価を行った。
【０２２２】
（実施例２０）
製造例１９で作製した支持体（ＳＰ−１９）を用いたこと以外は実施例１と同様に、支持体ＳＰ−１９の表面を大気圧プラズマ処理を行い、該処理面に配向膜を形成した。
次に、配向膜を有するロール状態に巻き取られた長尺のフィルムを送り出し、搬送方向の下流に配置されたラビング装置によって、搬送方向に沿って逆回転にラビングロールを回転させて、配向膜の表面をラビング処理し、続いてラビング処理面を超音波除塵した。除塵後に、ラビング処理面に、上記組成の光学異方性層形成用液晶組成物２の塗布液を＃２のワイヤーバーで３．５ｍＬ／ｍ2のウエット塗布量で塗布して、１２０℃で１．５分間乾燥して、液晶を配向させた。その後、８０℃にフィルム温度を保った状態で１２０Ｗ／ｃｍのメタルハライドランプで照射量５００ｍＪ／ｃｍ2のＵＶ光を照射して、重合反応を進行させて、配向状態を固定して、光学異方性層５を形成し、巻き取り部でロールフィルム状態に巻き取った。光学異方性層５の厚さは、１．４μｍであった。得られたフィルムの光学異方性層５のみをガラス板に転写してＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨにて測定波長５５０ｎｍでの光学特性を測定した結果、Ｒｅ＝３２ｎｍ、Ｒｔｈ＝９０ｎｍであった。フィルムのヘイズ値は０．２１％、消光度は０．００１１であった。以上の様にして、光学補償フィルム２２を作製した。
【０２２３】
この光学補償フィルム２２を用い、実施例１７と同様に偏光板２２、及びＴＮモード液晶表示装置１９を作製し、表示性能評価を行った。
【０２２４】
（実施例２１）
製造例１９で作製した支持体（ＳＰ−１９）を用いたこと以外は実施例１と同様に、支持体ＳＰ−１９の表面を大気圧プラズマ処理し、該処理面に配向膜を形成した。
【０２２５】
（光学異方性層形成用液晶組成物５の調製）
下記の組成の光学異方性層形成用液晶組成物５の塗布液を調製した。
メチルエチルケトン ２７０．０質量部
上記円盤状液晶化合物１ １０．０質量部
上記円盤状液晶化合物２ ９０．０質量部
空気界面配向制御剤１ ２．０質量部
光重合開始剤「イルガキュア９０７」チバガイギー社製 ３．０質量部
増感剤「カヤキュアーＤＥＴＸ」日本化薬（株）製 １．０質量部
【０２２６】
光学異方性層形成用液晶組成物３の塗布液の代わりに、光学異方性層形成用液晶組成物５の塗布液を用いた以外は、実施例１５と同様にして、光学補償フィルム２３を作製した。
この光学補償フィルム２３を用い、実施例１７と同様にして、偏光板２３、及びＴＮモード液晶表示装置２０を作製し、表示性能評価を行った。
【０２２７】
（実施例２２）
製造例１８で作製した支持体（ＳＰ−１８）を用いたこと以外は実施例１と同様に、支持体ＳＰ−１８の表面を大気圧プラズマ処理し、該処理面に配向膜を形成した。
【０２２８】
（光学異方性層形成用液晶組成物６の調製）
下記の組成の光学異方性層形成用液晶組成物６の塗布液を調製した。
メチルエチルケトン ３００．０質量部
下記に示す棒状液晶化合物１ ８７．０質量部
下記に示す棒状液晶化合物２ １３．０質量部
セルロースアセテートブチレート
（ＣＡＢ５５１−０．２、イーストマンケミカル社製） ０．４質量部
フルオロ脂肪族基含有ポリマー
（メガファックＦ７８０、（大日本インキ化学工業（株）製） ０．６質量部
光重合開始剤「イルガキュア９０７」チバガイギー社製 ３．０質量部
増感剤「カヤキュアーＤＥＴＸ」日本化薬（株）製 １．０質量部
【０２２９】
【化３６】
【０２３０】
【化３７】
【０２３１】
光学異方性層形成用液晶組成物３の塗布液の代わりに、光学異方性層形成用液晶組成物６の塗布液を用いた以外は、実施例１５と同様にして光学補償フィルム２４を作製した。
この光学補償フィルム２４を用い、実施例１７と同様にして、偏光板２４、及びＴＮモード液晶表示装置２１を作製し、表示性能評価を行った。
【０２３２】
（実施例２３）
製造例２０で作製した支持体（ＳＰ−２０）を用いたこと以外は実施例１と同様にして、支持体ＳＰ−２０の表面を大気圧プラズマ処理し、該処理面に配向膜を形成した。
光学異方性層形成用液晶組成物２の塗布液の代わりに、光学異方性層形成用液晶組成物５の塗布液を用いた以外は実施例２と同様にして、光学補償フィルム２５を作製した。
この光学補償フィルム２５を用い、実施例２と同様にして、偏光板２５、及びＯＣＢモード液晶表示装置４を作製し、表示性能評価を行った。
また、実施例１７と同様にして、ＯＣＢモード液晶表示装置４の温湿度変化による輝度の変化を評価した。
【０２３３】
（実施例２４）
製造例２０で作製した支持体（ＳＰ−２０）を用いたこと以外は実施例１と同様にして、支持体ＳＰ−２０の表面を大気圧プラズマ処理し、該処理面に配向膜を形成した。
【０２３４】
（光学異方性層形成用液晶組成物７の調製）
下記の組成の光学異方性層形成用液晶組成物７の塗布液を調製した。
メチルエチルケトン ２７０．０質量部
上記円盤状液晶化合物２ １００．０質量部
空気界面配向制御剤１ ２．０質量部
光重合開始剤「イルガキュア９０７」チバガイギー社製 ３．０質量部
増感剤「カヤキュアーＤＥＴＸ」日本化薬（株）製 １．０質量部
【０２３５】
光学異方性層形成用液晶組成物２の塗布液の代わりに、光学異方性層形成用液晶組成物７の塗布液を用いた以外は実施例２と同様にして、光学補償フィルム２６を作製した。
この光学補償フィルム２６を用い、実施例２と同様にして、偏光板２６、及びＯＣＢモード液晶表示装置５を作製し、表示性能評価を行った。
また、実施例１７と同様にして、ＯＣＢモード液晶表示装置５の温湿度変化による輝度の変化を評価した。
【０２３６】
（実施例２５）
（開環重合環状ポリオレフィンドープの調製）
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解した後、平均孔径３４μｍのろ紙及び平均孔径１０μｍの焼結金属フィルターでろ過した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
環状ポリオレフィン溶液Ａ
―――――――――――――――――――――――――――――――――
アートンＧ（ＪＳＲ株式会社製） １５０質量部
メチレンクロライド ５５０質量部
エタノール ５０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【０２３７】
次に上記方法で調製した開環重合環状ポリオレフィン溶液を含む下記組成物を分散機に投入し、マット剤分散液を調製した。
――――――――――――――――――――――――――――――――――
マット剤分散液
――――――――――――――――――――――――――――――――――
平均粒径１６ｎｍのシリカ粒子
（ａｅｒｏｓｉｌ Ｒ９７２ 日本アエロジル（株）製） ２質量部
メチレンクロライド ７５質量部
エタノール ５質量部
環状ポリオレフィン溶液Ａ １０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――
上記環状ポリオレフィン溶液を１００質量部、及びマット剤分散液を１．１質量を混合し、製膜用ドープを調製した。
【０２３８】
（環状ポリオレフィンフィルムの作製）
上述のドープをバンド流延機を用いて流延した。残留溶剤量が約２２質量％でバンドから剥離した。その後テンタークリップで保持し、搬送ゾーンにて延伸を行った後に、１３０℃で乾燥し巻き取った。できた環状ポリオレフィンフィルムの厚さは３０μｍであった。このフィルムを真鍮製の上下電極間（アルゴンガス雰囲気）で、グロー放電処理（周波数３０００Ｈｚ、４２００Ｖの高周波数電圧を上下電極間に引加、２０秒処理）して開環重合環状ポリオレフィンフィルムを作製した。
【０２３９】
製造例１８で作製した支持体（ＳＰ−１８）を用いたこと以外は実施例１と同様にして、支持体ＳＰ−１８の表面を大気圧プラズマ処理し、該処理面に配向膜を形成した。さらに配向膜を形成していない面と、環状ポリオレフィンフィルムとを、粘着剤ＳＫ−１４７８（綜研化学社製）を介して積層した。
【０２４０】
得られた積層フィルムの光学特性をＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨにて、測定波長５５０ｎｍでの光学特性を測定したところ、面内レターデーションＲｅ＝４７ｎｍ（遅相軸：幅方向）、厚み方向レターデーションＲｔｈ＝３００ｎｍであった。また、ヘイズ値は０．１８％であった。
【０２４１】
光学異方性層形成用液晶組成物２の塗布液に代えて、光学異方性層形成用液晶組成物５の塗布液を用いた以外は、実施例２と同様にして、光学補償フィルム２７を作製し、これを用いて、偏光板２７、及びＯＣＢモード液晶表示装置６を作製して、さらに表示性能評価を行った。
また、実施例１７と同様にして、ＯＣＢモード液晶表示装置６の温湿度変化による輝度の変化を評価した。
【０２４２】
比較例１及び２の液晶表示装置についても、実施例１７と同様にして、温湿度変化による輝度の変化を評価した。
【０２４３】
【表３】
【０２４４】
【表４】
【０２４５】
【表５】
【０２４６】
【表６】
【０２４７】
（実施例２６〜３１）
実施例２１と同様に、ＳＰ−１９の支持体に大気圧プラズマ処理し、配向膜を形成した。
【０２４８】
（光学異方性層形成用液晶組成物の調製）
下記の組成の塗布液を調製した。
メチルエチルケトン ２７０．０質量部
下表に示す円盤状液晶化合物（Ａ） ９０．０質量部
下表に示す円盤状液晶化合物（Ｂ） １０．０質量部
（化３５）に示す空気界面配向制御剤１ ２．０質量部
光重合開始剤「イルガキュア９０７」チバガイギー社製 ３．０質量部
増感剤「カヤキュアーＤＥＴＸ」日本化薬（株）製 １．０質量部
【０２４９】
【表７】
【０２５０】
上記組成の塗布液を用いること以外は、実施例２１と同様にして、実施例２６〜３１の光学補償フィルムをそれぞれ作製した。
作製した各光学補償フィルムを用い、実施例２１と同様にして、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製し、同様に表示性能評価を行った。
【０２５１】
【表８】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明支持体上に液晶化合物を含有する組成物からなる光学異方性層を有する光学補償フィルムであって、該透明支持体がラクトン環単位又はグルタル酸無水物単位を有する重合体を含有するフィルムからなることを特徴とする光学補償フィルム。
【請求項２】
前記ラクトン環単位を有する重合体が、下記一般式（１）で表される単位を有する重合体であることを特徴とする請求項１に記載の光学補償フィルム。
【化１】
（式中、Ｒ11、Ｒ12及びＲ13はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜２０の有機残基を表す。なお、有機残基は酸素原子を含んでいてもよい。）
【請求項３】
前記グルタル酸無水物単位を有する重合体が、下記一般式（３）で表される単位を有する重合体であることを特徴とする請求項１に記載の光学補償フィルム。
【化２】
（式中、Ｒ31及びＲ32はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜２０の有機残基を表す。なお、有機残基は酸素原子を含んでいてもよい。）
【請求項４】
前記透明支持体が、更にシアン化ビニル系単量体から誘導される単位と芳香族ビニル系単量体から誘導される単位とを有する共重合体を含むことを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の光学補償フィルム。
【請求項５】
前記透明支持体が、１分子中に２個以上の芳香族環を有するレターデーション上昇剤を更に含むことを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の光学補償フィルム。
【請求項６】
前記透明支持体と前記光学異方性層との間に、配向膜を有することを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の光学補償フィルム。
【請求項７】
偏光子と、請求項１〜６のいずれか１項に記載の光学補償フィルムとを少なくとも有する偏光板。
【請求項８】
請求項７に記載の偏光板を少なくとも一枚有する液晶表示装置。
【請求項１】
透明支持体上に液晶化合物を含有する組成物からなる光学異方性層を有する光学補償フィルムであって、該透明支持体がラクトン環単位又はグルタル酸無水物単位を有する重合体を含有するフィルムからなることを特徴とする光学補償フィルム。
【請求項２】
前記ラクトン環単位を有する重合体が、下記一般式（１）で表される単位を有する重合体であることを特徴とする請求項１に記載の光学補償フィルム。
【化１】
（式中、Ｒ11、Ｒ12及びＲ13はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜２０の有機残基を表す。なお、有機残基は酸素原子を含んでいてもよい。）
【請求項３】
前記グルタル酸無水物単位を有する重合体が、下記一般式（３）で表される単位を有する重合体であることを特徴とする請求項１に記載の光学補償フィルム。
【化２】
（式中、Ｒ31及びＲ32はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜２０の有機残基を表す。なお、有機残基は酸素原子を含んでいてもよい。）
【請求項４】
前記透明支持体が、更にシアン化ビニル系単量体から誘導される単位と芳香族ビニル系単量体から誘導される単位とを有する共重合体を含むことを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の光学補償フィルム。
【請求項５】
前記透明支持体が、１分子中に２個以上の芳香族環を有するレターデーション上昇剤を更に含むことを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の光学補償フィルム。
【請求項６】
前記透明支持体と前記光学異方性層との間に、配向膜を有することを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の光学補償フィルム。
【請求項７】
偏光子と、請求項１〜６のいずれか１項に記載の光学補償フィルムとを少なくとも有する偏光板。
【請求項８】
請求項７に記載の偏光板を少なくとも一枚有する液晶表示装置。
【公開番号】特開２００９−２６５５９７（Ｐ２００９−２６５５９７Ａ）
【公開日】平成２１年１１月１２日（２００９．１１．１２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−２３７４１８（Ｐ２００８−２３７４１８）
【出願日】平成２０年９月１７日（２００８．９．１７）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２１年１１月１２日（２００９．１１．１２）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年９月１７日（２００８．９．１７）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【Ｆターム（参考）】
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