光安定性有機日焼け止め組成物
本発明は、ｉ）少なくとも１種のＵＶ−Ａ有機日焼け止めおよびｉｉ）少なくとも１種の光安定剤を含む日焼け止めカプセルに関し、さらに、これらのカプセルを含む局所適用のための組成物と、これらのカプセルと組成物の製造および使用方法に関する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本出願は、米国特許出願第０９／９０４９０４号（２００１年７月１６日に出願され；ＵＳ２００３０１０８４９２Ａ１の下に公開された）および米国特許出願第１０／０２２３４３号（２００１年１２月２０日に出願され；ＵＳ２００３０１５７０３５Ａ１の下に公開された）に関連する。米国の国内段階のためにはこの出願は、Ｃｈａｕｄｈｕｒｉ，Ｒａｔａｎ Ｋ．により２００３年６月３日に出願され、「光安定性有機日焼け止め組成物」という名称の出願番号１０／４５２１９９（代理人整理番号ＥＭＩ−００５７）の一部係属出願である。
【０００２】
本発明は、ｉ）少なくとも１種のＵＶ−Ａ有機日焼け止めおよびｉｉ）少なくとも１種の光安定剤を含む日焼け止めカプセルに関し、さらに、それは、これらのカプセルを含む局所適用のための組成物と、これらのカプセルと組成物の製造および使用方法に関する。
【背景技術】
【０００３】
局所用日焼け止め組成物は、例えば日焼け、ガンおよび光老化のような、日光による急性または慢性の悪影響に対して、露出された皮膚を保護する手段として、屋外での仕事または余暇の際に広く使用されている。多くの効果的な日焼け止め製剤が市販され、あるいは、美容または薬学文献に記載されている。一般に、日焼け止め製剤は、活性成分として紫外線吸収化合物を含む、クリーム、ローションまたはオイルとして調合されている。日焼け止めは、紫外線の透過を遮り、それが皮膚に進入することを防止することにより機能する。
【０００４】
Ｚｅｃｃｈｉｎｏら（米国特許第５００８１００号）によれば、日焼け止め剤を、有効性が低下する順に強い発色体（低分子量有機化合物と、二酸化チタンのような無機化合物）および微弱な発色体（高分子有機固体）とすることができる。
【０００５】
有機日焼け止めは、それらが吸収する放射線のタイプに応じて、ＵＶ−Ａフィルター、ＵＶ−Ｂフィルターまたは広域スペクトルフィルター（１つの分子にＵＶ−ＡおよびＵＶ−Ｂ官能性がある）に分類される。ＵＶ−Ａ日焼け止めは、紫外スペクトルの３２０〜４００ｎｍの領域にある放射線を吸収し、ＵＶ−Ｂ日焼け止めは、紫外スペクトルの２９０〜３２０ｎｍ領域にある放射線を吸収する。
【０００６】
広帯域日焼け止め（ＵＶ−ＡおよびＵＶ−Ｂ官能性）は、紫外スペクトルの２９０〜４００ｎｍの領域にある放射線を吸収し、２つの極大をもち、１つはＵＶ−Ｂ領域に、他方はＵＶ−Ａ領域にある。
【０００７】
ＵＶ日焼け止めに関する代表的な参考文献は次の通りである。米国特許第３２７８４４８号は、ケイ皮酸誘導体、例えば、２欄２０行に４−ヒドロキシ−３，５−ジｔｅｒｔブチル−αカルボエトキシ−ケイ皮酸エーテルエステルを開示し、米国特許第３５３８２２６号は、１欄１５〜３１行、２欄１〜１２行ならびに３欄３０〜５５行および６０行にケイ皮酸アルキルエステル誘導体を記載し、米国特許第５１７５３４０号は、フェニル環上にヒドロキシル基およびアルコキシ基をもつケイ皮酸アルキルエステル誘導体を記載し、また、米国特許第５８３０４４１号は、２欄１〜２１行の一般式によりシアノまたはシンナミル基を含むＵＶ吸収剤を記載する。
【０００８】
シンナミド化合物を開示する他の参考文献としては、米国特許第５６０１８１１号、米国特許第４３３５０５４号、米国特許第５１２４３５４号、米国特許第５２９４６４３号および米国特許第５５１４７１１号が挙げられる。
【０００９】
残念ながら、日焼け止め組成物またはカプセルに用いられる高発色性低分子有機化合物のいくつかは光安定性でなく、太陽光による損傷からの保護は行われなくなる。例えばＵＶ−Ａ日焼け止めであるアボベンゾンのようなジベンゾイルメタン誘導体は、通常、光不安定性である。さらに、アボベンゾンの光不安定性は、オクチルメトキシシンナメート（ＵＶ−Ｂ有機日焼け止め）と組み合わされた場合、相当に増大する。ほとんどの研究において、オクチルメトキシシンナメート（ＯＭＣ）は、比較的光安定性であると見なされてきた。アボベンゾン（約３６０ｎｍ）およびＯＭＣ（約３１０ｎｍ）の吸収極大は、励起１重項−１重項のエネルギー移動が直接起こることを許すほど十分に重なっていない。しかし、一方の励起３重項から他方への移動は、エネルギーレベルが適切であれば可能である。
【００１０】
ＯＭＣの３重項状態は、８−メトキシソラレンおよび５−メトキシソラレンの３重項状態を消滅させ、続いて、Ｅ／Ｚ異性化を受けることが示された（Ｍｏｒｌｉｅｒｅ Ｐ．，Ｏ．Ａｖｉｃｅ，Ｔ．Ｓ．Ｍｅｌｏ，Ｌ．Ｄｕｂｅｒｔｒｅｔ，Ｍ．Ｇｉｒａｕｄ ａｎｄ Ｒ．Ｓａｎｔｕｓ，「定常状態および閃光光分解による、いくつかのシンナメート日焼け止めの光化学的性質の研究」Ｐｈｏｔｏｃｈｅｍ．Ｐｈｏｔｏｂｉｏｌ，３６，３９５−３９９（１９８２）；Ｍｏｒｌｉｅｒｅ Ｐ．，Ｇ．Ｈｕｐｐｅ，Ｄ．Ａｖｅｒｂｅｃｋ，Ａ．Ｒ．Ｙｏｕｎｇ，Ｒ．ＳａｎｔｕｓおよびＬ．Ｄｕｂｅｒｔｒｅｔ，「ベルガモット油のｉｎ−ｖｉｔｒｏ光安定性および光増感性」．シンナメート日焼け止めの効果．Ｊ．Ｐｈｏｔｏｃｈｅｍ．Ｐｈｏｔｏｂｉｏｌ．Ｂ，Ｂｉｏｌ，７，１９９−２０８（１９９０））。これは、ＯＭＣの３重項状態が３重項エネルギー移動に利用可能であり、続いて化学反応が起こることを明白に示している。
【００１１】
驚くべきことに、アボベンゾンの３重項状態が利用できて、適切に重なった３重項状態をもつ近くの別の分子にエネルギーを移せる。ＯＭＣが存在すれば適切な標的受容体となる。ＯＭＣは３重項状態エネルギー移動を受けると、Ｅ／Ｚ光異性化し、次にＯＭＣは光分解する。アボベンゾンの光不安定性により、それらが一緒に存在する場合に、ＯＭＣの光分解が引き起こされると思われる。このために、ジベンゾイルメタン誘導体（例えばアボベンゾン）とオクチルメトキシシンナメートを組み合わせた広いスペクトル（ＵＶ−ＡおよびＵＶ−Ｂ）の日焼け止め組成物またはカプセルを得ることには限界がある。
【００１２】
多くの有機日焼け止めは光安定性がないだけでなく、それらは皮膚または体毛を保護する酸化防止性をもたない。
【００１３】
理想的な日焼け止め配合物／組成物は、無毒で、皮膚組織に非刺激性であり、一様で連続的な膜として簡便に塗布することができなければならない。製品は、保管に際しての貯蔵寿命が許容できるものであるように、化学的に、また物理的に安定でなければならない。製剤を付けた後、長期間に渡ってその保護作用が保持されることは特に望ましい。そのためには、活性剤が皮膚上に存在する際には、化学および／または光分解を起こしてはならない。
【００１４】
ＵＶ吸収組成物を安定化する方法は知られている。この分野における代表的開示として、米国特許第５５６７４１８号、米国特許第５５３８７１６号、米国特許第５９５１９６８号および米国特許第５６７０１４０号が挙げられる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１５】
酸化防止剤は、遊離基による損傷から保護することにより機能すると考えられている。有効な失活剤であるためには、遊離基が発生している所に酸化防止剤が適切な濃度で存在していなければならないと考えられる。酸化防止剤は低濃度で用いられ、別個の成分であるから、それらは発生している所で利用できない恐れがあり、望ましいレベルの皮膚保護を低下させる。これらの欠点から、１つの分子に酸化防止と日焼け止め機能をもつ光安定剤が存在して、皮膚、体毛、塗料、繊維、木材、プラスチック、ポリマー、着色剤、着色ワックス系粒子などを太陽光による損傷に対して保護する効果を向上させた、光安定性日焼け止め組成物またはカプセルを提供することが求められている。
【００１６】
ジベンゾイルメタン誘導体を安定化させるのに適する新たな種類の光安定剤が、国際特許出願ＷＯ２００３／００７９０６Ａにより知られている。そこに開示されている最も好ましい光安定剤は、ジアルキルベンザルマロネートまたはそれらの誘導体である。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
こうして、本発明は、（ａ１）少なくとも１種のＵＶ−Ａ有機日焼け止めおよび（ｂ）少なくとも１種の光安定剤を含むカプセルに関する。
【００１８】
このカプセルは、所望により、（ａ２）少なくとも１種のＵＶ−Ｂ液体有機日焼け止めおよび／または（ｃ）少なくとも１種の可溶化剤、および／または（ｄ）少なくとも１種の化学的または薬学的に許容される担体を含有する。特に好ましい組成物は、（ａ１）、（ａ２）、（ｂ）および／または（ｃ）と、所望により（ｄ）を含有する。
【００１９】
さらに、本発明は、前記の日焼け止めカプセルおよび、局所適用に適する少なくとも１種の担体を含む、局所適用に適する組成物に関する。
【００２０】
前記日焼け止めカプセルは、通常、全組成物の重量に対して、０．５〜１０％、好ましくは１〜８％のＵＶ−Ａ有機日焼け止めがあるのに必要とされる量で存在する。
【００２１】
カプセル中に、前記の少なくとも１種のＵＶ−Ａ有機日焼け止めと前記の少なくとも１種の光安定剤は、通常約３：１〜約１：３、好ましくは約１：０．８〜１：２の重量比で存在する。
【００２２】
特定の実施形態において、本発明は、ジベンゾイルメタンまたはその誘導体類に属する少なくとも１種のＵＶ−Ａ有機日焼け止め；ジアルキルベンザルマロネートまたはその誘導体類に属する少なくとも１種の光安定剤；サリチレートまたはシンナメートまたはこれらの組合せに属することが好ましい少なくとも１種のＵＶ−Ｂ液体有機日焼け止め、および／または、エステル、長鎖脂肪酸もしくはアルコールであることが好ましい少なくとも１種の可溶化剤；さらに、所望により、少なくとも１種の化粧品または医薬として許容できる担体を含む、光安定性日焼け止め組成物またはカプセルに関する。
【００２３】
前記日焼け止めカプセルは、所望により好ましくは事実上液体でＵＶ−Ａ有機日焼け止めを好ましくは少なくとも１５％まで可溶化できる、１種以上の長鎖脂肪アルコールまたはエステルまたはアミドあるいはこれらの組合せを含有する。これらのアルコールまたはエステルは、単独であるいは共可溶化剤として、有機ＵＶ−Ｂ日焼け止めと組み合わせて、使用できる。本発明に適する例示的な長鎖アルコールまたはエステルとしては、ココグリセリド、デシルオレアート、Ｃ12〜Ｃ15アルキルベンゾエート、カプリン／カプリントリグリセリド、セタリルエチルヘキシルヘキサノエート、ジオクチルアジペート、グリセリルジラウレート、ステアラミド、ジメチルベハナミド、ｂ−アラニン誘導体、例えば、エチルブチルアセチルアミノプロパン（ＩＲ３５３５）などが挙げられる。長鎖脂肪アルコールまたはエステルは、通常０〜８０％の範囲の量でカプセルに存在する。
【００２４】
カプセル化された形で有機ＵＶフィルターを用いると利点がある。具体的には、カプセル化により以下の利点が生じる。
【００２５】
− ＵＶフィルターの溶解性とは無関係にカプセル壁を親水性にできる。第１に、例えば、疎水性のＵＶフィルターでさえ純粋に水性の配合物に組み入れることが可能である。さらに、疎水性ＵＶフィルターを含む製剤を付けた際にしばしば不快に感じられるオイルのような印象を防げる。
【００２６】
− 特定のＵＶ−Ａフィルター、特にジベンゾイルメタン誘導体は、美容配合物においては劣った光安定性しか示さない。これらのフィルターまたはこれらのフィルターの光安定性を損なう化合物、例えば前記のケイ皮酸誘導体をカプセル化することにより、全体としての配合物の光安定性を向上させることが可能である。ジベンゾイルメタン誘導体を他の光安定剤と一緒にカプセル化することにより、配合物全体の光安定性をさらに向上させることができる。
【００２７】
− 文献には、有機ＵＶフィルターが皮膚に浸透すること、およびヒトの皮膚に直接付けた際のそれらに付随する刺激性が繰り返し議論されている。本明細書に提案する相当物質のカプセル化により、皮膚への浸透の問題が克服される。
【００２８】
− 日焼け止め製品は、世界中であらゆる年齢と性別の人々により広く使用されているが、これらの製品中の活性成分のいくつかは接触皮膚炎を引き起こす可能性があると言われているだけでなく、いくつかのこれら化学物質の光励起された化学種は光接触皮膚炎を引き起こすかもしれない。また、いくつかの日焼け止め化合物はまた日光の下で１重項酸素の生成を促進する。したがって、シリカのような透明マトリックス中に日焼け止め活性成分をカプセル化することは、それらおよび／または潜在的光分解生成物を、生組織から実質的に隔離しながら、日焼け止めの光吸収能からの利益を得るうまいやり方である。
【００２９】
− 一般に、個々のＵＶフィルターまたは他の成分をカプセル化することにより、相互作用が妨げられるので、結晶化過程、沈殿および塊状化のような、個々の配合成分が互いに相互作用する結果として生じる配合の問題を避けることが可能である。本発明の好ましい一実施形態において、ＵＶ−Ａ日焼け止めおよび光安定剤は、可溶化剤と一緒にカプセル化されて、これらの成分の日焼け止め性能はさらに最大限に活用される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３０】
こうして本発明によれば、ＵＶ−Ａフィルター、光安定剤および所望により加えられる１種以上の前述した他のＵＶフィルターが、カプセル状で存在する。カプセルが非常に小さく、それらが直接目で確認できなければ、さらに有利である。前記の効果を実現するには、カプセルが十分に安定で、カプセル化された活性成分（ＵＶフィルター）を周囲に放出しないかあるいは僅かな程度にそれを放出するだけであることもまた必要とされる。
【００３１】
適切なカプセルは無機または有機ポリマーからなる壁を有する。例えば米国特許６２４２０９９号は、キチン、キチン誘導体またはポリヒドロキシル化ポリアミンからなる球殻を有する適切なカプセルの調製を記載する。
【００３２】
本発明により特に好ましく使用できるカプセルは、出願ＷＯ００／０９６５２号、ＷＯ００／７２８０６号およびＷＯ００／７１０８４号に記載されているゾル−ゲル法により得られる壁をもつ。本発明の場合においては、それらの壁がシリカゲル（シリカ；不定形酸化ケイ素水酸化物）からなるカプセルが好ましい。対応するカプセルの調製は、例えば上記引用特許出願により当業者に知られており、当該出願内容はまた明らかに本出願の主題の一部をなす。
【００３３】
別の好ましい実施形態において、カプセルは、主にオルガノポリシロキサンからなるカプセル壁をもつ。オルガノポリシロキサン壁をもつカプセルを製造する方法は、例えば米国特許第６３３７０８９号および米国特許第６２５２３１３号に記載されており、これらの特許は参考文献として本明細書に含められる。好ましくは、オルガノポリシロキサンは、次の一般式により表される１種以上の化合物を重縮合させることにより合成される：
ＲnＳｉ（ＯＨ）mＹ(4-m-n)
（式中、ｍ＋ｎ≦４という条件で、ｍは１〜４の整数を表し、ｎは０〜３の整数を表し；Ｒは、１個の炭素原子が直接ケイ素原子に結合している有機の基を表し、ｎが１を超える場合、Ｒ基の各々は同じであっても異なっていてもよく；また、Ｙは、アルコキシ基、水素およびシロキシ基からなる群から選択される少なくとも１種の基を表し、（４−ｍ−ｎ）が１を超える場合、各基Ｙは同じであっても異なっていてもよい）。
【００３４】
光安定性を増すために、好ましくは、本発明の日焼け止めカプセルは、米国特許第６４６８５０９号、米国特許第６４３６３７５号および米国特許第６２３８６５０号に記載されるゾル−ゲルカプセル化法により調製される。
【００３５】
こうして、少なくとも１種のＵＶ−Ａ有機日焼け止めおよび少なくとも１種の光安定剤をカプセル壁の前駆体物質と混合し、前駆体を縮合させることによって壁を形成することによる、日焼け止めカプセルの製造方法は、本発明の他の実施形態である。
【００３６】
好ましい一実施形態において、前記方法は、前駆体の重縮合がゾル−ゲル過程の間に起こることを含む。
【００３７】
前記方法の別の好ましい実施形態において、前駆体はポリシロキサンプレポリマーである。
【００３８】
本発明に適する例示的なジベンゾイルメタン誘導体としては、これらに限定されないが、２−メチルジベンゾイルメタン、４−メチルジベンゾイルメタン、４−イソプロピルジベンゾイルメタン、４−ｔｅｒｔ−ブチルジベンゾイルメタン、２，４−ジメチルジベンゾイルメタン、２，５−ジメチルジベンゾイルメタン、４，４’−ジイソプロピルジベンゾイルメタン、４，４’−ジメチルジベンゾイルメタン、４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン、２−メチル−５−イソプロピル−４’−メトキシジベンゾイルメタン、２−メチル−５−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン、２，４−ジメチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン、２，６−ジメチル−４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタンが挙げられる。
【００３９】
特に好ましいのは、１（ｐ−ｔｅｒｔ ブチルフェニル）−３−（ｐ−メトキシフェニル）−１，３−プロパンジオン（ＣＡＳ ７０３５６−０９−１）と同じである、４−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４’−メトキシジベンゾイルメタン（一般名称はアボベンゾンである）であり、ロッシュより「パルゾール１７８９」、あるいは、メルクＫＧａＡ／ＥＭＤケミカルズにより「ユーソレックス９０２０」の商標で市販されている。この日焼け止めは次の構造式をもつ。
【００４０】
【化１】
【００４１】
アボベンゾンのエノール形が好ましい日焼け止めである。
【００４２】
ジベンゾイルメタン誘導体は、好ましい組成物に、組成物の全重量に対して、０．５重量％〜３５重量％の範囲、好ましくは１０重量％〜２５重量％の範囲の濃度で存在する。
【００４３】
本発明の組成物の光安定剤は、通常、日焼け止め活性をもつ化合物である、すなわち、それらは２９０〜４００ｎｍの紫外線領域内で発色性であり、また酸化防止性も示す。
【００４４】
好ましくは、光安定剤は、ＷＯ２００３／００７９０６号において開示されているものの中から選択され、この特許の内容は明らかに本出願の主題の一部をなす。
【００４５】
さらに、光安定剤は、好ましくは、式ＩまたはIIの化合物である：
【００４６】
【化２】
【００４７】
式中、Ａは、発色性を付与する部分であり；Ｒ1は、−Ｃ（Ｏ）ＣＨ3、−ＣＯ2Ｒ3、−Ｃ（Ｏ）ＮＨ2、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ4）2および−ＣＮからなる群から選択され；Ｘは、ＯまたはＮＨまたはＮ−Ｃ1〜Ｃ8アルキルであり；Ｒ2は、直鎖もしくは分岐状のＣ1〜Ｃ20アルキルであり；Ｒ3は、直鎖もしくは分岐状のＣ1〜Ｃ20アルキルであり；各Ｒ4は、独立して、水素または直鎖もしくは分岐状のＣ1〜Ｃ8アルキルであり；Ｒ5は、水素または直鎖もしくは分岐状Ｃ1〜Ｃ8アルキルまたは直鎖もしくは分岐状Ｃ1〜Ｃ8アルコキシであり；Ｒ6は、独立して、直鎖もしくは分岐状Ｃ1〜Ｃ8アルキルである。
【００４８】
式ＩのＡは、好ましくは、紫外線波長範囲内で発色して式Ｉの前記化合物にＵＶ吸収活性を付与する部分であって、部分Ａは１つの２価の基または２つの１価の基を含み、少なくとも１つの基がカルボニル（Ｃ＝Ｏ）官能基をもつ。
【００４９】
好ましい実施形態において、−Ｒ5および−Ｏ−Ｒ6は、互いに独立して、直鎖もしくは分岐状Ｃ1〜Ｃ8アルコキシ基から選択され、好ましくは前記の少なくとも１種の式ＩまたはIIの化合物は、式IIIまたはIVの化合物から選択される少なくとも１種の化合物である。
【００５０】
【化３】
【００５１】
式中、Ｒ1は、−Ｃ（Ｏ）ＣＨ3、−ＣＯ2（Ｃ1〜Ｃ8アルキル）、−Ｃ（Ｏ）ＮＨ2、−Ｃ（Ｏ）ＮＨ（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）2および−ＣＮからなる群から選択され；Ｘは、ＯまたはＮＨまたはＮ−Ｃ１〜８アルキルであり；Ｒ2は、Ｃ1〜Ｃ12アルキルである。
【００５２】
本発明による好ましいカプセルは、式ＶまたはＶＩの化合物から選択される少なくとも１種の化合物である、少なくとも１種の式ＩまたはIIの化合物を含む。
【００５３】
【化４】
【００５４】
式中、 Ｒ1は、−Ｃ（Ｏ）ＣＨ3、−ＣＯ2（Ｃ1〜Ｃ8アルキル）、−Ｃ（Ｏ）ＮＨ2、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）2、および−ＣＮからなる群から選択され；Ｘは、ＯまたはＮＨまたはＮ−Ｃ１〜８−アルキルであり；Ｒ2は、Ｃ1〜Ｃ12アルキルであり；Ｒ5は、Ｃ1〜Ｃ8直鎖もしくは分岐状アルキルである。
【００５５】
別の好ましいカプセルは少なくとも１種の式ＩおよびIIの化合物を含み、−Ｒ5および−Ｏ−Ｒ6が、互いに独立して、直鎖もしくは分岐状Ｃ1〜Ｃ4アルコキシであり、好ましくは、−Ｒ5および−Ｏ−Ｒ6は同じであって、メトキシまたはエトキシである。
【００５６】
別の好ましいカプセルは少なくとも１種の式ＩおよびIIの化合物を含み、Ｘが酸素であり、Ｒ2は、好ましくは、直鎖もしくは分岐状Ｃ1〜Ｃ4アルキルである。
【００５７】
別の好ましいカプセルは少なくとも１種の式ＩおよびIIの化合物を含み、Ｒ1が、ＣＯ2Ｒ3、好ましくは、Ｃ（Ｏ）ＣＨ3であり、Ｒ3は、直鎖もしくは分岐状のＣ1〜Ｃ4アルキルである。
【００５８】
別の好ましいカプセルは少なくとも１種の式ＩおよびIIの化合物を含み、Ｒ1は、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ4）2であって、少なくとも１つのＲ4は水素であり、他方は水素または直鎖もしくは分岐状のＣ1〜Ｃ4アルキルである。
【００５９】
別の好ましいカプセルは少なくとも１種の式ＩおよびIIの化合物を含み、Ｒ1は、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ4）2であって、各Ｒ4は、独立して直鎖もしくは分岐状のＣ1〜Ｃ4アルキルである。
【００６０】
別の好ましいカプセルは少なくとも１種の式ＩおよびIIの化合物を含み、ＸはＮ−メチルまたはＮ−エチルである。
【００６１】
別の好ましいカプセルは少なくとも１種の式ＩおよびIIの化合物を含み、Ｒ2およびＲ3の少なくとも一方は、直鎖もしくは分岐状のＣ8〜Ｃ20アルキルであって、好ましくは、Ｒ2およびＲ3は、それぞれ、直鎖もしくは分岐状Ｃ8アルキルであるか、あるいは、Ｒ2およびＲ3の少なくとも一方が、直鎖もしくは分岐状のＣ12〜Ｃ20アルキルである。
【００６２】
別の好ましいカプセルは少なくとも１種の式ＩおよびはIIの化合物を含み、式ＩまたはＩＩの前記化合物は、エチル−α−アセチル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシシンナメート、イソプロピル−α−アセチル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシシンナメート、イソアミル−α−アセチル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシシンナメート、２−エチルヘキシル−α−アセチル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシシンナメート、ジエチル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート、ジ−（２−エチルヘキシル）−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート、ジイソアミル−３，５−ジメトキシ４−ヒドロキシベンジリデンマロネート、ジパルミトイル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート、ジ−ドデシル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート、ジ−イソプロピル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート、エチル−α−シアノ−３−メトキシ−４−ヒドロキシシンナメート、エチル−α−アセチル−３−メトキシ−４−ヒドロキシシンナメート、イソプロピル−α−アセチル−３−メトキシ−４−ヒドロキシシンナメート、イソアミル−α−アセチル−３−メトキシ−４−ヒドロキシシンナメート、２−エチルヘキシル−α−アセチル−３−メトキシ−４−ヒドロキシシンナメート、ジエチル−３−メトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート、ジ−（２−エチルヘキシル）−３−メトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート、ジイソアミル−３−メトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート、ジパルミトイル−３−メトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート、ジ−ドデシル−３−メトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート、ジ−イソプロピル−３−メトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート、ジ−（２−エチルヘキシル）−３−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−イソプロピル−ベンジリデンマロネート、ジ−イソアミル−３−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ．ブチル−ベンジリデンマロネート、イソアミル−α−アセチル−３−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−イソプロピルシンナメート、およびイソアミル−α−アセチル−３−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ．ブチルシンナメートからなる群から選択される。
【００６３】
式ＩまたはIIの化合物の１種以上は、好ましくは、日光に曝されることによる光分解に対して他の日焼け止め剤を安定化させることができる。
【００６４】
好ましい化合物は、下の式IIaの化合物である。
【００６５】
【化５】
【００６６】
式中、各Ｒは、独立して、直鎖もしくは分岐状のＣ1〜Ｃ8アルキルであり；Ｒ1は、−Ｃ（Ｏ）ＣＨ3、−ＣＯ2Ｒ3、−Ｃ（Ｏ）ＮＨ2、および−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ4）2、および、−ＣＮからなる群から選択され；Ｘは、ＯまたはＮＨまたはＮ−Ｃ1〜Ｃ8アルキルであり；Ｒ2は、直鎖もしくは分岐状のＣ1〜Ｃ20アルキルであり；Ｒ3は、直鎖もしくは分岐状のＣ1〜Ｃ20アルキルであり；各Ｒ4は、独立して、水素または直鎖もしくは分岐状のＣ1〜Ｃ8アルキルである。
【００６７】
好ましい化合物に含まれるのは、Ｒが直鎖もしくは分岐状Ｃ1〜Ｃ4アルキルであり、Ｘが酸素であり、また、Ｒ2が直鎖もしくは分岐状Ｃ1〜Ｃ12アルキルである、式IIaの化合物である。これらの化合物の中で、より好ましいものは、Ｃ（Ｏ）ＣＨ3またはＣＯ2Ｒ3（Ｒ3は直鎖もしくは分岐状のＣ1〜Ｃ4アルキルである）のＲ1をもつ。Ｒ1がＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒ4）2である化合物では、Ｒ4は、好ましくは、水素または直鎖もしくは分岐状Ｃ1〜Ｃ4アルキルである。
【００６８】
Ｒ2およびＲ3としてＣ1〜Ｃ4アルキルをもつ化合物が好ましいが、Ｒ2およびＲ3が直鎖もしくは分岐状のＣ8〜Ｃ20アルキルまたはＣ12〜Ｃ20アルキルである化合物は相当に有用である。
【００６９】
好ましい化合物群は、Ｒ1およびＲ2が式IIに対して定義されたものであって、Ｒ3がＣ1〜Ｃ8アルキルであり、また、Ｒ4がＣ1〜Ｃ8アルキルである、式IIIまたはIVの化合物である。
【００７０】
【化６】
【００７１】
１種以上の式ＩまたはIIの化合物は、好ましくは、日光に曝されることによる光分解に対して日焼け止め剤を安定化させることができる。
【００７２】
好ましい化合物に含まれるのは、Ｒ1が直鎖もしくは分岐状のＣ1〜Ｃ4アルキルであり、Ｘが酸素であり、また、Ｒ2が直鎖もしくは分岐状のＣ1〜Ｃ12アルキルである、式IIの化合物である。これらの化合物の中で、より好ましいものは、Ｃ（Ｏ）ＣＨ3またはＣＯ2Ｒ3（Ｒ3は直鎖もしくは分岐状のＣ1〜Ｃ4アルキルである）のＲ1をもつ。Ｒ1がＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒ4）2である化合物では、Ｒ4は、好ましくは、水素または直鎖もしくは分岐状Ｃ1〜Ｃ4アルキルである。
【００７３】
Ｒ2およびＲ3としてＣ1〜Ｃ4アルキルをもつ化合物が好ましいが、Ｒ2およびＲ3が直鎖もしくは分岐状のＣ8〜Ｃ20アルキルまたはＣ12〜Ｃ20アルキルである化合物は相当に有用であってもよい。
【００７４】
以下において、日焼け止め配合物または日焼け止め組成物として、局所適用に適する組成物がしばしば言及される。これは、これらの組成物が、少なくとも１種のカプセル化されたＵＶ−Ａ日焼け止め化合物を必ず含んでいるという事実による。しかし、本発明による組成物は必ずしも日焼け止め配合物として市販されるわけではない。本発明の組成物は、例えばデイケア、スキンケア、ヘアケアまたはパーソナルケア組成物として市販してもよい。
【００７５】
本発明は少なくとも１種の式Ｉ〜VIの化合物を含む日焼け止め用配合物も提供する。このような組成物中の式Ｉ〜VIの化合物の量は、通常、日焼け止めの全重量に対して、０．１〜４０ｗｔ％の範囲である。
【００７６】
これらの日焼け止め配合物は、ＵＶ−Ｂおよび／またはＵＶ−Ａ線のフィルターとして１種以上の追加の有機日焼け止め剤を含んでいてもよく、あるいは、それらは、１種以上の金属酸化物日焼け止め剤、例えば二酸化チタンまたは酸化亜鉛をさらに含んでもよい。
【００７７】
これらの日焼け止め配合物は、さらに、担体と、分散剤、保存剤、消泡剤、芳香剤、オイル、ワックス、噴霧剤、染料、顔料、乳化剤、界面活性剤、増粘剤、湿潤剤、皮膚摩擦剤（ｅｘｆｏｌｉａｎｔ）およびエモリエントからなる群から選択される少なくとも１種の成分とを含んでもよい。これらの日焼け止め配合物は、化粧品として許容できる担体と、１種以上の化粧品用補助剤を含む化粧組成物の形態であってもよい。前記日焼け止め配合物は、所望により、ＵＶ吸収性をもたない通常の酸化防止剤または他の安定剤を含んでいてもよい。
【００７８】
これらの日焼け止め組成物またはカプセルを用いる方法並びに日焼け止め配合物の光安定性を向上させる方法も提供される。日焼け止め配合物を用いる方法は、式Ｉ〜VIの化合物を含む日焼け止め配合物を基質に塗布することを含む。好ましい基質は皮膚と体毛である。他の基質としては、これらに限定されないが、塗料、繊維、木材、プラスチック、ポリマー、着色剤、着色ワックス系物品などが挙げられ、本発明の組成物は、これらの基質に塗布されるか、あるいは、このような基質の調製の間に混合される。
【００７９】
日焼け止め配合物、特にカプセル内の日焼け止め配合物の光安定性を向上させるために、日焼け止め配合物に光が当てられた時の日焼け止めのＵＶ吸収の低下を少なくするのに十分な量で式Ｉ〜VIの化合物が日焼け止め配合物に添加される。典型的な量は、前記日焼け止め配合物の全重量に対して、０．１％〜４０ｗｔ％の範囲にある。より典型的には、前記の量は、１ｗｔ％〜２５ｗｔ％の範囲内にある。式Ｉ〜VIの有機日焼け止め化合物の量は、好ましくは、日焼け止め配合物の約３ｗｔ％〜約１５ｗｔ％の範囲である。先に言及され、また以下により詳細に説明される他の成分は、それぞれ、一般に、日焼け止め配合物の約０．１ｗｔ％〜約１０ｗｔ％の量で用いられる。残りの部分としては、化粧品または医薬として許容できる担体が含まれる。
【００８０】
日焼け止め配合物は、活性成分が一様な層として塗布される助けとなるように、分散剤、乳化剤または増粘剤を含んでもよい。日焼け止め配合物に適する分散剤には、例えばキトサンを含めて、水相、油相において、またはエマルジョンの一部として、有機または無機日焼け止め剤を分散させるのに有用であるものが含まれる。
【００８１】
乳化剤は、日焼け止め配合物に、１種以上の式Ｉ〜VIの化合物あるいは日焼け止め配合物の他の成分を分散させるために使用できる。適切な乳化剤としては、例えば、グリセロールステアレート、ステアリルアルコール、セチルアルコール、ジメチコンコポリホスフェート、ヘキサデシル−Ｄ−グルコシド、オクタデシル−Ｄ−グルコシドなどのような通常の乳化剤が挙げられる。
【００８２】
増粘剤は、日焼け止め配合物の粘度を増加させるために使用できる。適切な増粘剤には、カルボマー、アクリレート／アクリロニトリルのコポリマー、キサンタンガムおよびこれらの組合せが含まれる。カルボマー増粘剤には、Ｂ．Ｆ．グッドリッチの架橋カルボポールアクリルポリマーが含まれる。日焼け止め配合物中の増粘剤の量は、水を除いた固形分重量に対して、約０．００１〜約５重量％、好ましくは、０．０１〜約１重量％、最適には、約０．１〜約０．５重量％の範囲である。
【００８３】
皮膚または体毛に塗布される日焼け止め配合物の重要でない任意的な補助成分としては、保存剤、防水剤、香料、消泡剤、植物抽出物（アロエベラ、ウィッチヘーゼル、キュウリなど）、乳白剤、スキンコンディショニング剤および着色剤が挙げられ、それぞれ個々の機能を果たすのに効果のある量で用いられる。
【００８４】
日焼け止め配合物は、所望により防水性を高める成分、例えばジメチコンコポリオールホスフェート、ジイソステアロイルトリメチロールプロパン、シロキシシリケート、キトサン、ジメチコン、ポリエチレン、ポリビニルピロリドン／ビニルアセテート、ＰＶＰ／エイコセンのコポリマーおよびアジピン酸／ジエチレングリコール／グリセリンのクロスポリマーなどのようなポリマー膜を形成する化合物を含んでもよい。防水剤は、約０．０１〜約１０重量％のレベルで存在する。
【００８５】
所望により、日焼け止め配合物は、１種以上のスキンコンディショニング剤を含み得る。これらには、湿潤剤、皮膚摩擦剤およびエモリエントが含まれる。
【００８６】
湿潤剤は、潤いを与え、鱗屑の形成を減らし、また、蓄積した鱗屑が皮膚から取り除かれるように促すことを目的とする多価アルコールである。典型的な多価アルコールには、ポリアルキレングリコール、より好ましくは、アルキレンポリオールとそれらの誘導体が含まれる。例としては、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ソルビトール、２−ピロリドン−５−カルボキシレート、ヒドロキシプロピルソルビトール、へキシレングリコール、エトキシジグリコール１，３−ブチレングリコール、１，２，６−ヘキサントリオール、グリセリン、エトキシル化グリセリン、プロポキシル化グリセリンおよびこれらの混合物が含まれる。最も好ましい湿潤剤はグリセリンである。湿潤剤の量は、日焼け止め組成物またはカプセルの重量に対して、１〜３０重量％、好ましくは、２〜２０重量％、最適には、約５〜１０重量％の範囲である。
【００８７】
本発明において使用するのに適する皮膚摩擦剤は、α−ヒドロキシカルボン酸、βヒドロキシカルボン酸およびこれらの酸の塩から選択できる。最も好ましいのは、グリコール酸、乳酸およびサリチル酸、ならびにこれらのアルカリ金属またはアンモニウムの塩である。
【００８８】
適切なエモリエントには、皮膚または体毛を柔軟にする目的で知られている作用剤が含まれ、それらは、炭化水素、脂肪酸、脂肪アルコールおよびエステルから選択できる。ワセリンは、一般的な炭化水素性のエモリエントコンディショニング剤である。使用できる他の炭化水素には、アルキルベンゾエート、ミネラルオイル、ポリデセンのようなポリオレフィン、およびイソヘキサデカンのようなパラフィンが含まれる。脂肪酸および脂肪アルコールは、通常、約１０〜３０個の炭素原子をもつ。例には、ミリスチン、イソステアリン、ヒドロキシステアリン、オレイン、リノール、リシノール、ベヘンおよびエルカの酸ならびにアルコールがある。エステルエモリエントは、トリグリセリドエステル、アセトグリセリドエステル、エトキシル化グリセリド、脂肪酸のアルキルエステル、エーテルエステル、多価アルコールエステルおよびワックスエステルから選択される１種以上であってもよい。他のエモリエントまたは疎水性の作用剤としては、Ｃ12〜Ｃ15アルキルベンゾエート、ジオクチルアジペート、オクチルステアレート、オクチルドデカノール、ヘキシルラウレート、オクチルドデシルネオペンタノエート、シクロメチコン、ジカプリルエーテル、ジメチコン、フェニルトリメチコン、イソプロピルミリステート、カプリル／カプリングリセリド、プロピレングリコールジカプリレート／ジカプレート、およびデシルオレエートが挙げられる。
【００８９】
日焼け止め配合物は、所望により微細な表面処理二酸化チタンと、微細な未処理および表面処理酸化亜鉛を含む１種以上の前記無機日焼け止め剤を含んでもよい。好ましくは、日焼け止め組成物またはカプセル中の二酸化チタンは、５〜１５０ｎｍ、好ましくは１０〜１００ｎｍの平均１次粒子径をもつ。二酸化チタンは、アナターゼ、ルチルまたは非晶質構造であってもよい。好ましくは、日焼け止め組成物またはカプセル中の酸化亜鉛は、５ｎｍ〜１５０ｎｍ、好ましくは１０ｎｍ〜１００ｎｍの平均１次粒子径をもつ。
修飾二酸化チタン組成物の例としては、以下が挙げられる。
【００９０】
ユーソレックス（登録商標）Ｔ−４５Ｄ（アルミナおよびシメチコンで表面処理、４５％のイソノニルイソノノエート（ｉｓｏｎｏｎｏａｔｅ）分散物）；
ユーソレックス（登録商標）Ｔ−Ａｑｕａ（水酸化アルミニウムで表面処理、２５％の水分散物）；
ユーソレックス（登録商標）Ｔ−２０００（アルミナおよびシメチコンで表面処理）；および
ユーソレックス（登録商標）Ｔ−ＡＶＯ（シリカで表面処理）；全てメルクＫＧａＡ／ＥＭＤケミカルズから入手可能。
【００９１】
日焼け止め配合物はまた、１種以上の追加の低分子有機発色化合物も含んでもよい。これらは、ＵＶ−Ａ、ＵＶ−Ｂまたは広帯域フィルターであってもよい。適切なＵＶ−Ａ日焼け止めには、ベンゾフェノン誘導体、メンチルアンスラニレート、ブチルメトキシジベンゾイルメタン、およびベンジリデン−ジオキソイミダゾリン誘導体が含まれる。
【００９２】
ＵＶ−Ｂ有機日焼け止めは、好ましくは液体であり、好ましくはジベンゾイルメタン誘導体を、好ましくは少なくとも１５％まで可溶化できる。適切なＵＶ−Ｂ日焼け止めの例としては、シンナメート、サリチレートおよびジフェニルアクリレート、これらの誘導体およびこれらの組合せが挙げられる。好ましいＵＶ−Ｂ日焼け止めは、サリチレートまたはシンナメート単独、あるいは組合せである。特に、本発明に適する好ましいＵＶ−Ｂ有機日焼け止めとしては、サリチレート誘導体およびシンナメート誘導体が挙げられる。
【００９３】
サリチレート、例えば、ホモサラート、エチルヘキシルサリチレートおよびジプロピレングリコールサリチレートは、λｍａｘ約３０６ｎｍをもつＵＶ−Ｂ吸収剤である。
【００９４】
【化７】
【００９５】
他のサリチレートもまた本発明により含まれる。本発明の組成物は、所望により０〜８０％の範囲の量で存在する少なくとも１種のサリチレートを含む。
【００９６】
シンナメート誘導体、例えば、エチルヘキシルメトキシシンナメート（４Ａ）、イソアミル−ｐ−メトキシシンナメート（４Ｂ）、シノキサート（４Ｃ），イソプロピルメトキシシンナメート（４Ｄ），ジイソプロピルメチルシンナメート（４Ｅ）およびグリセリルエチルヘキサノエートジメトキシシンナメート（４Ｆ）は、全て、λｍａｘ約３１０ｎｍをもつＵＶ−Ｂ吸収剤である。
【００９７】
【化８】
【００９８】
他のシンナメートもまた本発明により含まれる。本発明の組成物は、所望により０〜８０％の範囲の量で存在する少なくとも１種のシンナメートを含む。
【００９９】
適切な広帯域日焼け止めの例としては、ベンゾトリアゾール誘導体および、アニソトリアゾン（ａｎｉｓｏｔｒｉａｚｏｎｅ）のようなトリアジン誘導体が含まれる。他には、エチルヘキシルトリアゾンおよびジエチルヘキシルブタミドトリアゾンが挙げられる。
【０１００】
導入し得る特に有用な有機日焼け止め剤は、２−エチルヘキシル−ｐ−メトキシシンナメート、４，４’−ｔ−ブチルメトキシジベンゾイルメタン、２ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、オクチルジメチル ｐ−アミノ安息香酸、２，２−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、エチル−４−［ビス（ヒドロキシプロピル）］アミノベンゾエート、２−エチルヘキシル−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート、２−エチルヘキシルサリチレート、グリセロール ｐ−アミノベンゾエート、３，３，５−トリメチルシクロヘキシルサリチレート、メチルアントラニレート、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸、２−エチルヘキシル ｐ−ジメチルアミノベンゾエート、２−フェニルベンズイミダゾール−５−５−スルホン酸、２−（ｐ−ジメチルアミノフェニル−５−スルホニオベンゾオキサゾン酸およびこれらの混合物である。
【０１０１】
導入し得る有用な市販の有機日焼け止め剤の例には、２−フェニルベンゾイミダゾール−５−スルホン酸、２−（４−メチルベンジリデン）−カンファー、４−イソプロピルジベンゾイルメタンがあり、全て、ＥＭＤケミカルズ社（米国）およびメルクＫＧａＡ（ダルムシュタット、ドイツ）により販売されている、ユーソレックス（商標）シリーズである。所望により、全ての追加の有機ＵＶフィルターは、別に、あるいは混合物としてカプセル化されて、カプセル化された形で使用できる。これらの有機ＵＶフィルターは、通常、０．５〜１０重量％、好ましくは１〜８％の量で配合物中に組み込まれる。
【０１０２】
日焼け止め配合物はさらなる酸化防止剤を含んでもよい。安定性を付与する適切な酸化防止剤の例には、ｐ−ヒドロキシ安息香酸およびその誘導体（ｐ−ヒドロキシ安息香酸のエチルイソブチル、グリセリルエステル）；サリチレート（オクチルアミル、フェニル、ベンジル、メンチル、グリセロールおよびジプロピレングリコールエステル）；クマリン誘導体；フラボン類；ヒドロキシもしくはメトキシ置換ベンゾフェノン；尿酸またはタンニン酸およびその誘導体が含まれる。
【０１０３】
ＵＶを吸収するレベルで日焼け止め活性を付与する以外に、式Ｉ〜VIの化合物を、スキンケア配合物、ヘアケア配合物または、化粧品配合物のような他のパーソナルケア配合物に、酸化防止活性を付与するレベルで組み入れることができる。これらの化合物は、ヘアケア、スキンケアおよび化粧品の配合物などのパーソナルケア配合物に、通常の酸化防止剤と共に、あるいはそれなしで使用できる。
【０１０４】
さらなる酸化防止機能をもたせるためには、式ＩまたはIIの化合物のフェニル基は、「３，５−アルコキシ，４−ヒドロキシ」または「３−アルコキシ−４−ヒドロキシ」の置換基様式をもつべきであることが見出された。式ＩまたはＩＩの化合物はまた、ＵＶ吸収機能（ＵＶ領域における発色）を与える、拡張された芳香環との共役をもつ。非芳香族官能基の構造は広い範囲で変わり得て、上の式II、III、およびIVにおいて例が与えられている。
【０１０５】
好ましくは、本発明の日焼け止め配合物により、約２９０ｎｍ〜４００ｎｍの波長をもつ紫外線から、好ましくは約２９０〜３７０ｎｍの範囲の波長から保護される。本発明の日焼け止め配合物はまた、通常、約２〜６０の範囲の日焼け防止指数（ＳＰＦ）、好ましくは約１０〜約４５のＳＰＦ範囲を有する。目標とするＳＰＦ範囲は、無機および有機発色化合物の組合せにより実現できる。ＳＰＦは、連邦官報，Ａｕｇｕｓｔ ２５，１９７８，Ｖｏｌ．４３，Ｎｏ．１６６，ｐａｇｅｓ ３８２５９−３８２６９（処方箋なしで販売されるヒト用の日焼け止め薬剤），連邦食品医薬品局）に記載のように、ヒトの皮膚上で当技術分野で周知の方法により求められる。例えば、Ｊ．Ｓｏｃ．Ｃｏｓｍｅｔ．Ｃｈｅｍ．４４：１２７−１３３ （Ｍａｙ／Ｊｕｎｅ １９８９）に記載のようにｉｎ−ｖｉｔｒｏモデルを用いて、ＳＰＦのおよその値を求めることも可能である。
【０１０６】
本発明の組成物は、通常の手段により、記載されるようにして調製できる。前記の日焼け止めカプセルと局所適用に適する担体とを混合することによる、局所適用のための組成物の製造方法は、本発明の他の実施形態である。
【０１０７】
ＷＯ２００３／００７９０６Ａに記載されているようにして、式Ｉ〜ＶＩの化合物を得ることができる。例えば、好ましい化合物は、対応する、式Ｂの３，５−ジアルコキシ，４−ヒドロキシベンズアルデヒド（式中、Ｒは上に定義された通りである）：
【０１０８】
【化９】
【０１０９】
と、先に定義されたＵＶ吸収部分「Ａ」を与える化合物との縮合により得ることができる。例は、式、Ｒ1−ＣＨ2−Ｃ（Ｏ）ＸＲ2（Ｒ1およびＲ2およびＸは先に定義された通りである）の化合物である。
【０１１０】
式Ｂのベンズアルデヒドは市販品から得られる、あるいは、４位の選択的脱モノメチル化により３，４，５−トリメトキシベンズアルデヒドから調製できる。別法として、シリンガアルデヒドは、３−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ブロモベンズアルデヒドから、ナトリウムメトキサイドを用いてブロムをメトキシで置換することにより調製できる。この方法によりシリンガアルデヒドが得られる。次に、シリンガアルデヒドを、マロン酸エステルまたはアセチルアセトアセテートまたは類似の化合物と縮合させて、望みのＵＶ吸収構造が得られる。
【０１１１】
本発明での２種の化合物の調製方法が下に例示される。
【０１１２】
【化１０】
【０１１３】
一実施形態において、本発明は、ｉ）少なくとも１種のＵＶ−Ａ有機日焼け止めおよびｉｉ）少なくとも１種の式VIIの化合物：
【０１１４】
【化１１】
【０１１５】
（式中、各Ｒは、独立して、直鎖もしくは分岐状のＣ1〜Ｃ8アルキルであり；Ｒ1は、−Ｃ（Ｏ）ＣＨ3、−ＣＯ2Ｒ3、−Ｃ（Ｏ）ＮＨ2、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ4）2および−ＣＮからなる群から選択され；Ｘは、ＯまたはＮＨまたはＮ−Ｃ1〜Ｃ8アルキル、好ましくはＮ−メチルまたはＮ−エチルであり；Ｒ2は、直鎖もしくは分岐状のＣ1〜Ｃ20アルキルであり；Ｒ3は、直鎖もしくは分岐状のＣ1〜Ｃ20アルキルであり；また、Ｒ4は、独立して、水素または直鎖もしくは分岐状のＣ1〜Ｃ8アルキルである）を含む、日焼け止め組成物またはカプセルに関し、前記組成物は、所望により、少なくとも１種のＵＶ−Ｂ液体有機日焼け止めおよび／または少なくとも１種の可溶化剤を含む。
【０１１６】
別の実施形態において、式IIのＲ1は、−Ｃ（Ｏ）ＣＨ3、−ＣＯ2Ｒ3、−Ｃ（Ｏ）ＮＨ2および−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ4）2からなる群から選択される。別の実施形態において、ＲはＣ1〜Ｃ4アルキルであり、Ｘは酸素であり、またＲ2は、直鎖もしくは分岐状のＣ1〜Ｃ4アルキルである。さらに別の実施形態において、Ｒ1はＣＯ2Ｒ3であり、Ｒ3は直鎖もしくは分岐状のＣ1〜Ｃ4アルキルである。別の実施形態において、Ｒ1はＣ（Ｏ）ＣＨ3である。さらに別の実施形態において、Ｒ1は−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ4）2であり、少なくとも１つのＲ4は水素であり、他方は水素または直鎖もしくは分岐状のＣ1〜Ｃ4アルキルである。さらに別の実施形態において、Ｒ1は−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ4）2であり、各Ｒ4は、独立して、直鎖もしくは分岐状のＣ1〜Ｃ4アルキルである。さらに別の実施形態において、ＲはＣ1〜Ｃ4アルキルであり、Ｒ1はＣＯ2Ｒ3であり、Ｒ2およびＲ3の少なくとも１つは直鎖もしくは分岐状のＣ8〜Ｃ20アルキルである。別の実施形態において、Ｒ2およびＲ3はそれぞれ直鎖もしくは分岐状のＣ8アルキルである。さらに別の実施形態において、Ｒ2およびＲ3の少なくとも１つは直鎖もしくは分岐状のＣ12〜Ｃ20アルキルである。別の実施形態において、Ｒはメチルまたはエチルである。
【０１１７】
別の実施形態において、ＵＶ−Ａ有機日焼け止めは、４−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４’−メトキシジベンゾイルメタンであり、式IIの化合物は、ジ−２−エチルヘキシル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシ−ベンザルマロネートである。
【０１１８】
別の実施形態において、前記の４−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４’−メトキシジベンゾイルメタンとジ−２−エチルヘキシル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシ−ベンザルマロネートは、約３：１〜約１：３、好ましくは、約１：０．８〜１：２の重量比で存在する。
【０１１９】
さらに別の実施形態において、本発明のカプセルは、４−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４’−メトキシジベンゾイルメタンを含み、式IIの化合物は、ジ−２−エチルヘキシル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシ−ベンザルマロネートおよびホモサラートである。
【０１２０】
別の実施形態において、ＵＶ−Ａ有機日焼け止めは、４−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４’−メトキシジベンゾイルメタンであり、式IIの化合物は、ジ−２−エチルヘキシル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシ−ベンザルマロネートである。別の実施形態において、前記の４−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４’−メトキシジベンゾイルメタンとジ−２−エチルヘキシル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシ−ベンザルマロネートは、１：２または１：３の比で存在する。
【０１２１】
さらに別の実施形態において、本発明のカプセルは、４−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４’−メトキシジベンゾイルメタン、ジ−２−エチルヘキシル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシ−ベンザルマロネートおよびオクチルメトキシシンナメート（オクチノキセート）を含む。
【０１２２】
別の実施形態において、本発明の日焼け止め組成物またはカプセルは、ｉ）少なくとも１種のＵＶ−Ａ有機日焼け止めおよびｉｉ）少なくとも１種の式IIIまたはIVの化合物
【０１２３】
【化１２】
【０１２４】
（式中、Ｒ1は、−Ｃ（Ｏ）ＣＨ3、−ＣＯ2（Ｃ1〜Ｃ8アルキル）、−Ｃ（Ｏ）ＮＨ2、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）2および−ＣＮからなる群から選択され；ＸはＯまたはＮＨまたはＮ−Ｃl〜Ｃ8アルキルであり；Ｒ2は、Ｃ1〜Ｃ12アルキルである）を含み、前記組成物は、所望により、少なくとも１種のＵＶ−Ｂ液体有機日焼け止めおよび／または少なくとも１種の可溶化剤を含む。
【０１２５】
別の実施形態において、式IIIまたはIVのＲ1は、−Ｃ（Ｏ）ＣＨ3、−ＣＯ2（Ｃ1〜Ｃ8アルキル）、−Ｃ（Ｏ）ＮＨ2、−Ｃ（Ｏ）ＮＨ（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）、および−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）2からなる群から選択される。別の実施形態において、Ｘは酸素であり、Ｒ2は直鎖もしくは分岐状のＣ1〜Ｃ4アルキルであり、Ｒ1は，−ＣＯ2（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）、−Ｃ（Ｏ）ＮＨ（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）、−Ｃ（Ｏ）ＣＨ3、−Ｃ（Ｏ）ＮＨ2、および−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）2からなる群から選択される。さらに別の実施形態において、Ｒ1は、−ＣＯ2Ｃ8Ｈ18である。
【０１２６】
別の実施形態において、式IIの化合物は、以下からなる群から選択される：エチル−α−アセチル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシシンナメート；イソプロピル−α−アセチル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシシンナメート；イソアミル−α−アセチル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシシンナメート；２−エチルヘキシル−α−アセチル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシシンナメート；ジエチル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート；ジ−（２−エチルヘキシル）−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート；ジイソアミル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート；ジパルミトイル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート；ジ−ドデシル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート；およびジ−イソプロピル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート。
【０１２７】
別の実施形態において、式IIの化合物は、２９０〜４００ｎｍの範囲、好ましくは３２０ｎｍを超える波長の放射線を吸収するのに有効な量で存在する。
【０１２８】
一実施形態において、日焼け止め組成物またはカプセルは、０．１〜４０ｗｔ％の式IIの化合物と、所望により、ＵＶ−Ｂ線、ＵＶ−Ａ線または両方のフィルターとなる追加の有機日焼け止め剤を含み、前記作用剤は無機金属酸化物日焼け止め剤であってもよい。好ましくは、式IIの化合物は、追加の日焼け止め剤を光に曝されることによる分解に対して安定化する。
【０１２９】
別の実施形態において、本発明は、本発明の日焼け止め組成物またはカプセルまたはパーソナルケア組成物を基質、例えば皮膚または毛髪に塗布することを含む、紫外線から基質を保護する方法に関する。
【０１３０】
別の実施形態において、本発明は、ｉ）少なくとも１種のＵＶ−Ａ有機日焼け止めおよびｉｉ）エチル−α−アセチル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシシンナメート；イソプロピル−α−アセチル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシシンナメート；イソアミル−α−アセチル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシシンナメート；２−エチルヘキシル−α−アセチル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシシンナメート；ジエチル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート；ジ−（２−エチルヘキシル）−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート；ジイソアミル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート；ジパルミトイル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート；ジ−ドデシル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート；およびジ−イソプロピル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネートからなる群から選択される少なくとも１種の化合物を含む、日焼け止め組成物またはカプセルに関する。この日焼け止めは、さらに、少なくとも１種のＵＶ−Ｂ液体有機日焼け止めおよび／または少なくとも１種の可溶化剤を含んでいてもよく、ゾル−ゲル法によるカプセル化により調製されることが好ましい。
【０１３１】
別の実施形態において、日焼け止め組成物またはカプセルは、式IIの化合物以外の酸化防止剤をさらに含む。この酸化防止剤は、例えば、トコフェロール、トコフェリルアセテート、アスコルビン酸、エンブリカ酸化防止剤、プロアントシアニジン、ローズマリー酸化防止剤、緑茶ポリフェノール、没食子酸、エラグ酸、ブチルヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）および／またはブチルヒドロキシアニソール（ＢＨＡ）であってもよい。
【０１３２】
別の実施形態において、式ＩまたはIIの化合物は、エチル−α−シアノ−３−メトキシ−４−ヒドロキシシンナメート；エチル−α−アセチル−３−メトキシ−４−ヒドロキシシンナメート；イソプロピル−α−アセチル−３−メトキシ−４−ヒドロキシシンナメート；イソアミル−α−アセチル−３−メトキシ−４−ヒドロキシシンナメート；２−エチルヘキシル−α−アセチル−３−メトキシ−４−ヒドロキシシンナメート；ジエチル−３−メトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート；ジ−（２−エチルヘキシル）−３−メトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート；ジイソアミル−３−メトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート；ジパルミトイル−３−メトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート；ジ−ドデシル−３−メトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート；ジ−イソプロピル−３−メトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート；ジ−（２−エチルヘキシル）−３−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−イソプロピル−ベンジリデンマロネート；ジ−イソアミル−３−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ．ブチル−ベンジリデンマロネート；イソアミル−α−アセチル−３−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−イソプロピルシンナメート；およびイソアミル−α−アセチル−３−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ．ブチルシンナメートからなる群から選択される。
【０１３３】
別の実施形態において、式ＩまたはIIの化合物は、２９０〜４００ｎｍの範囲、好ましくは３２０ｎｍを超える波長の放射線を吸収するのに有効な量で存在する。
【０１３４】
一実施形態において、日焼け止め組成物またはカプセルは、０．１〜４０ｗｔ％の式ＩまたはＩＩの化合物を含み、所望により、ＵＶ−Ｂ線、ＵＶ−Ａ線または両線のフィルターとなる追加の有機日焼け止め剤を含み、この日焼け止め剤は、無機金属酸化物日焼け止め剤であってもよい。好ましくは、式ＩまたはIIの化合物は、追加の日焼け止め剤を光に曝されることによる分解に対して安定化する。
【０１３５】
ｉ）少なくとも１種の前記のカプセルおよびｉｉ）局所適用に適する担体を含む局所適用のための組成物は、本発明のさらなる実施形態である。
【０１３６】
好ましくは、局所適用のための組成物は、ｉｉｉ）保存剤、消泡剤、芳香剤、オイル、ワックス、噴霧剤、染料、顔料、防水剤、乳化剤、界面活性剤、増粘剤、湿潤剤、皮膚摩擦剤およびエモリエントからなる群から選択される、少なくとも１種の補助剤をさらに含む。
【０１３７】
局所適用のための組成物は、好ましくは、クリーム、軟膏、懸濁液、粉末、油性ローション、含油アルコールローション、脂肪ゲル、含油アルコールゲル、固形スティック、気泡、エマルジョン、分散液、スプレー、エアロゾル、口紅、ファンデーション、メイクアップ、ルースまたはプレス粉末、アイブラッシュ、アイシャドウおよびネイルエナメルからなる群から選択される形態になっている。
【０１３８】
局所適用のための組成物は、好ましくは、ＵＶ−Ｂ線、ＵＶ−Ａ線または両線のフィルターとなる少なくとも１種の追加の有機日焼け止め剤を含み、好ましくは、ＵＶ−Ｂ線、ＵＶ−Ａ線または両線のフィルターとなる追加の有機日焼け止め剤の少なくとも１種はカプセル化されている。
【０１３９】
別の実施形態において、局所適用のための組成物は、トコフェロール、トコフェリルアセテート、アスコルビン酸、エンブリカ酸化防止剤、プロアントシアニジン、ローズマリー酸化防止剤、緑茶ポリフェノール、没食子酸、エラグ酸、ブチルヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）およびブチルヒドロキシアニソール（ＢＨＡ）からなる群から好ましくは選択される、少なくとも１種の他の酸化防止剤を含む。
【０１４０】
さらに別の実施形態において、日焼け止め組成物またはカプセルは、式Ｖの化合物以外の光安定剤を含まず、式Ｖの化合物は、前記日焼け止め配合物の０．１％〜４０ｗｔ％の範囲内の量で存在する。
【０１４１】
別の実施形態において、日焼け止め組成物またはカプセルは、式Ｖの化合物以外の酸化防止剤を含み、他の前記の酸化防止剤は、例えば、トコフェロール、トコフェリルアセテート、アスコルビン酸、エンブリカ酸化防止剤、プロアントシアニジン、ローズマリー酸化防止剤、緑茶ポリフェノール、没食子酸、エラグ酸、ブチルヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）およびブチルヒドロキシアニソール（ＢＨＡ）であってもよい。
【０１４２】
さらに別の実施形態において、式Ｖの化合物は、酸化から配合物の成分を保護するのに有効な量で存在する。
【０１４３】
さらに別の実施形態において、本発明は、前記の日焼け止め組成物またはカプセルを基質に塗布することを含む、紫外線から基質を保護する方法に関する。
【０１４４】
さらに詳細に記載しなくても、当業者は、これまでの説明を用いて、本発明を十分に利用することができると考えられる。したがって、以下の好ましい具体的な実施形態は、単なる例示であり、如何なる仕方においても開示の他の部分を制限しないと解釈されるべきである。本明細書において引用された全ての出願、特許および公報の全ての開示と優先権書類の開示は、参照を通じて本明細書に組み込まれる。以下の実施例は全てが必ずしも実際に実施されたわけではない。
【実施例】
【０１４５】
Ａ．光安定剤の調製
実施例Ｉ
２−エチルヘキシル−α−アセト−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシシンナメート
３，４，５−トリメトキシベンズアルデヒドの硫酸を用いる４０℃で８時間のモノ脱メチル化により３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンズアルデヒド（シリンガアルデヒド）が生成する。シリンガアルデヒドと２−エチルヘキシルアセトアセテートを、反応媒体としてのピペリジン−酢酸およびベンゼンの存在下、還流温度で持続的な共沸下で水を除去しながら縮合することにより、標記生成物を得る。反応は約１．５時間で終了する。収量は代表的には９２％である。
実施例II
ジエチル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート
３，４，５−トリメトキシベンズアルデヒドの硫酸を用いる４０℃で８時間のモノ脱メチル化により上記実施例Ｉと同様にシリンガアルデヒドを生成する。
【０１４６】
３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンズアルデヒド（シリンガアルデヒド）とジエチルマロネートを、反応媒体としてのピペリジン−酢酸およびベンゼンの存在下、還流温度で持続的な共沸下で水を除去しながら縮合することにより、標記生成物を得る。反応は約７．５時間で終了する。
実施例III
エチル−α−メチル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシシンナメート
３，４，５−トリメトキシベンズアルデヒドの硫酸を用いる４０℃で８時間のモノ脱メチル化により上記実施例Ｉと同様にシリンガアルデヒドが生成する。
【０１４７】
トリフェニルホスフィンとエチル−２−ブロモプロピオネートをベンゼン媒体中で７０〜７５℃で８時間反応させ、次いで１Ｎ水酸化ナトリウムによりフェノールフタレインの終点まで室温で塩基性化することにより、ウィッティヒ塩を調製する。ベンゼンによる抽出、ベンゼン抽出物の濃縮および石油エーテル（６０〜８０℃）の添加によりトリフェニルメチルカルボエトキシメチレンホスホランが固体生成物として生成する。３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンズアルデヒド（シリンガアルデヒド）とトリフェニルメチルカルボエトキシメチレンホスホランをキシレン中、還流温度で７時間縮合し、後処理した後標記の化合物が生成する。
実施例IV
エチル−α−アセチル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシ−シンナメート
３，４，５−トリメトキシベンズアルデヒドの硫酸を用いる４０℃で８時間のモノ脱メチル化により上記実施例Ｉと同様にシリンガアルデヒドが生成する。
【０１４８】
３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンズアルデヒド（シリンガアルデヒド）とエチルアセトアセテートを反応媒体としてピペリジン−酢酸およびベンゼンの存在下、還流温度で縮合することにより標記生成物を得る。反応は約３．５時間で終了する。
実施例Ｖ
ジ−（２−エチルヘキシル）−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート
３，４，５−トリメトキシベンズアルデヒドの硫酸を用いる４０℃で８時間のモノ脱メチル化により上記実施例Ｉと同様にシリンガアルデヒドが生成する。２−エチルヘキシルアルコールを用い、窒素雰囲気中、硫酸の存在下、１４０〜１５５℃で２時間、無溶媒条件でジエチルマロネートをエステル交換し、後処理した後高真空の蒸留をすることにより、ジ−６−エチルヘキシルマロネートを得る。
【０１４９】
３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンズアルデヒド（シリンガアルデヒド）とジ−２−エチルヘキシルマロネートを反応媒体としてピペリジン−酢酸およびベンゼンの存在下、還流温度で持続的な共沸下で水を除去しながら縮合することにより、ジ−２−エチルヘキシル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネートが生成する。反応は約９時間で終了する。収量は代表的には９１％である。
実施例VI
ジ−イソアミル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート
ジ−２−エチルヘキシルマロネートをジ−イソアミルマロネートで置き換えて縮合工程を行う以外、実施例Ｖを繰り返した。収量は代表的には９０％を超えた。
実施例VII
ジ−イソプロピル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート
ジ−２−エチルヘキシルマロネートをジ−イソプロピルマロネートで置き換えて縮合工程を行う以外、実施例Ｖを繰り返した。収量は代表的には９０％を超えた。
実施例VIII
ジ−ドデシル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート
ジ−２−エチルヘキシルマロネートをジ−ドデシルマロネートで置き換えて縮合工程を行う以外、実施例Ｖを繰り返した。収量は代表的には９０％を超えた。
実施例IX
イソ−プロピル−α−アセチル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシ−シンナメート
エチルアセトアセテートをイソ−プロピルアセトアセテートで置き換えて縮合工程を行う以外、実施例IVを繰り返した。目的物の収量は８８％であった。
実施例Ｘ
イソ−ブチル−α−アセチル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシ−シンナメート
エチルアセトアセテートをイソ−ブチル−アセトアセテートで置き換えて縮合工程を行う以外、実施例ＩＶを繰り返した。目的物の収量は８９％であった。
実施例XI
イソ−アミル−α−アセチル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシ−シンナメート
エチルアセトアセテートをイソ−アミルアセトアセテートで置き換えて縮合工程を行う以外、実施例IVを繰り返した。目的物の収量は８９％であった。
実施例XII
エチル−α−シアノ−３−メトキシ−４−ヒドロキシシンナメート
バニリンとエチルシアノアセテートを反応媒体としてピペリジン−酢酸およびベンゼンの存在下、還流温度で持続的な共沸下で水を除去しながら縮合することにより、標記の生成物を得る。反応は約１．５時間で終了する。収量は代表的には９５％である。
実施例XIII
ジエチル−３−メトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート
３−メトキシ−４−ヒドロキシベンズアルデヒド（バニリン）とジエチルマロネートを反応媒体としてピペリジン−酢酸およびベンゼンの存在下、還流温度で持続的な共沸下で水を除去しながら縮合することにより、標記の生成物を得る。反応は約６．５時間で終了する。
実施例XIV
エチル−α−アセチル−３−メトキシ−４−ヒドロキシ−シンナメート
３−メトキシ−４−ヒドロキシベンズアルデヒド（バニリン）とエチルアセトアセテートを反応媒体としてピペリジン−酢酸およびベンゼンの存在下、還流温度で縮合することにより標記の生成物を得る。反応は約３．５時間で終了する。
実施例XV
ジ−（２−エチルヘキシル）−３−メトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート
２−エチルヘキシルアルコールを用い、窒素雰囲気中、硫酸の存在下、１４０〜１５５℃で２時間、無溶媒条件でジメチルマロネートをエステル交換し、後処理した後高真空の蒸留をすることにより、ジ−６−エチルヘキシルマロネートを得る。
【０１５０】
３−メトキシ−４−ヒドロキシベンズアルデヒド（バニリン）とジ−２−エチルヘキシルマロネートを、反応媒体としてのピペリジン−酢酸およびベンゼンの存在下、還流温度で持続的な共沸下で水を除去しながら縮合することにより、ジ−２−エチルヘキシル−３−メトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネートを生成する。反応は約９時間で終了する。収量は代表的には９１％である。
実施例XVI
ジ−イソアミル−３−メトキシ−４−ヒドロキシ−ベンジリデンマロネート
ジ−２−エチルヘキシルマロネートをジ−イソアミルマロネートで置き換えて縮合工程を行う以外、実施例IVを繰り返す。収量は代表的には９０％を超える。
実施例XVII
ジ−イソプロピル−３−エトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート
ジ−２−エチルヘキシルマロネートをジ−イソプロピルマロネートで置き換えて縮合工程を行う以外、実施例IVを繰り返す。収量は代表的には９０％を超える。
実施例XVIII
ジ−ドデシル−３−メトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート
ジ−２−エチルヘキシルマロネートをジ−ドデシルマロネートで置き換えて縮合工程を行う以外、実施例IVを繰り返す。収量は代表的には９０％を超える。
実施例XIX
イソ−プロピル−α−アセチル−３−メトキシ−４−ヒドロキシ−シンナメート
エチルアセトアセテートをイソ−プロピルアセトアセテートで置き換えて縮合工程を行う以外、実施例IIIを繰り返す。目的物の収量は８８％である。
実施例XX
イソ−ブチル−α−アセチル−３−メトキシ−４−ヒドロキシ−シンナメート
エチルアセトアセテートをイソ−ブチルアセトアセテートで置き換えて縮合工程を行う以外、実施例IIIを繰り返す。目的物の収量は８９％である。
実施例XXI
イソ−アミル−α−アセチル−３−メトキシ−４−ヒドロキシ−シンナメート
エチルアセトアセテートをイソ−アミルアセトアセテートで置き換えて縮合工程を行う以外、実施例IIIを繰り返す。目的物の収量は８９％である。
実施例XXII
ジイソアミル−３−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−イソプロピルベンジリデンマロネート
３−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−イソプロピルベンズアルデヒドとジ−イソアミルマロネートを、反応媒体としてのピペリジン−酢酸およびベンゼンの存在下、還流温度で持続的な共沸下で水を除去しながら縮合することにより、標記の生成物を得る。反応は約３時間で終了する。収量は代表的には９０〜９５％である。
実施例XXIII
イソアミル−α−アセチル−３−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−イソプロピル−シンナメート
３−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−イソプロピルベンズアルデヒドとイソアミルアセトアセテートを、反応媒体としてのピペリジン−酢酸およびベンゼンの存在下、還流温度で持続的な共沸下で水を除去しながら縮合することにより、標記の生成物を得る。反応は約４時間で終了する。収量は代表的には９０〜９５％である。
Ｂ．同時カプセル封入材料の調製
実施例１Ａ：ホモメチルサリチレート（ホモサラート，ＨＭＳ），ブチルメトキシジベンゾイルメタン（アボベンゾン，ＢＭＤＢＭ）およびジエチルヘキシル３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート（オキシネックスＳＴ）の同時カプセル封入
１０ｇのＢＭＤＢＭを３０ｇのＨＭＳおよび１０ｇのオキシネックスＳＴに溶解する。得られた混合物を５１．４ｇのテトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）に溶解し、基本的にＳ２５ＫＲ−１８Ｇ分散装置（ＩＫＡ）を備えたウルトラ−トゥラックスＴ−２５を用い、高剪断力で、有機相を１％のセチルトリメチルアンモニウムクロライド（ＣＴＡＣ）を含有する２４０ｇの水溶液に１９，０００ｒｐｍで乳化させる。均一化プロセスの間、容器壁を氷−水浴に浸漬することにより冷却する。ｐＨ１１．３の３５０ＮａＯＨ水溶液を含有する、ユーロスターパワーコントロール−ビスクＰ４撹拌機を備えたＩＫＡ ＬＲ−Ａ１０００実験室用反応装置中に得られた乳濁液を注ぐ。乳濁液を室温で２４時間撹拌する。生成物を２０，０００ｇの遠心分離により沈殿させ、脱イオン水に再懸濁させることにより洗浄し、再度沈殿させ、最後に１％のポリビニルピロリドン（ＰＶＰＫ３０、ＩＳＰ）中に再懸濁させ、懸濁液中に２１．４％のＨＭＳ、７．５％のＢＭＤＢＭおよび７．８％のオキシネックスＳＴを含有する安定な分散物を得る。
【０１５１】
得られた懸濁液は１．８２８の粒径Ｄ−９０を有し、滑らかで、心地よい感触があり、種々の化粧品媒体と組み合わせて日焼け防止組成物または紫外線から皮膚を保護するのに有効なカプセルを得ることができる。
実施例２Ａ：ホモサラート（ＨＭＳ）、ブチルメトキシジベンゾイルメタン（アボベンゾン）およびジエチルヘキシル３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート（オキシネックスＳＴ）の同時カプセル封入
ジエチルヘキシル３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート（オキシネックスＳＴ）の量を１５ｇに増やし、かつＨＭＳの量を２５ｇに減らす以外、実施例１Ａを繰り返す。上記の通常の方法により懸濁液中に１８．２％のＨＭＳ、７．４％のＢＭＤＢＭおよび１２．１％のオキシネックスＳＴを含有する安定な分散を得る。
実施例３Ａ：ホモサラート（ＨＭＳ）、ブチルメトキシジベンゾイルメタン（アボベンゾン）およびイソアミル−α−アセチル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシシンナメートの同時カプセル封入
ジエチルヘキシル３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネートの代わりにイソアミル−α−アセチル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシシンナメートを用いる以外、実施例１Ａを繰り返す。
実施例４Ａ：オクチルサリチレート、ブチルメトキシジベンゾイルメタン（アボベンゾン）およびジエチルヘキシル３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネートの同時カプセル封入
ホモメチルサリチレートをオクチルサリチレートで置き換える以外、実施例１Ａを繰り返す。
実施例５Ａ：カプリル酸／カプリン酸トリグリセリド、ブチルメトキシジベンゾイルメタン（アボベンゾン）およびジエチルヘキシル３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネートの同時カプセル封入
ホモメチルサリチレートをカプリル酸／カプリン酸トリグリセリドで置き換える以外、実施例１Ａを繰り返す。
実施例６Ａ：メトキシ（エトキシ）ｎ−プロピルジヒドロキシメチルシラン、メチルトリエトキシシランおよびフェニルトリエトキシシランの加水分解物の共重縮合物から構成されるオルガノポリシロキサンからなるカプセル壁を有する、ホモサラート（ＨＭＳ）、ブチルメトキシジベンゾイルメタン（アボベンゾン）およびジエチルヘキシル３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート（オキシネックスＳＴ）の同時カプセル封入
ａ）カプセル壁の前駆ポリマーの調製
１２ｃｍの内径を有し、機械撹拌装置を備え、滴下漏斗および還流冷却器を備えた上蓋を有する２リットルの丸底筒状ガラス反応容器に予め９０ｇの水、１０ｇのポリオキシエチレン修飾シリコーン［信越シリコーン株式会社製、ＫＦ−３５４Ａ（商標名）、およびメトキシ（エトキシ）ｎ−プロピルジヒドロキシメチルシランの両末端をトリメチルシリル基で置換することにより調製する］および０．２ｇの１８％塩酸を装入する。４．４ｇのメチルトリエトキシシランおよび１．２ｇのフェニルトリエトキシシランの混合物を５０℃で撹拌しながら滴下漏斗から滴下して加える。混合物をさらに５０℃で６時間撹拌し、次いで撹拌しながら１．６ｇの４％水酸化ナトリウム水溶液を滴下して加え、ｐＨを７．０に調整する。その後混合物を５０℃で１時間撹拌する。
【０１５２】
ｂ）コア材料の添加および乳化
５．０ｇのホモサラート（ＨＭＳ）、ブチルメトキシジベンゾイルメタン（ＢＭＤＢＭ）およびジエチルヘキシル３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート（３：１：１ｗ／ｗ比）の混合物を１）の方法で調製した反応溶液に６００ｒｐｍで撹拌しながら加え、混合物をさらに６００ｒｐｍで４時間撹拌する。
【０１５３】
ｃ）凝固防止およびカプセル壁の硬化処理
０．５ｇのトリメチルクロロシランを反応容器中の２）の方法で調製した溶液に５０℃、６００ｒｐｍで撹拌しながら加え、次いで、直ちに１ｇの２０％水酸化ナトリウム水溶液を滴下して加える。反応溶液の温度が次第に上昇し還流する。アルコールを含む蒸気を留去し、残存する混合物をさらに１５０ｒｐｍで撹拌しながら６時間加熱し、還流させる。この反応溶液を室温で１５０ｒｐｍで撹拌しながら冷却し、コア材料を含有するマイクロカプセルを得る。
【０１５４】
実施例７Ａ：メトキシ（エトキシ）ｎ−プロピルジヒドロキシメチルシラン、メチルトリエトキシシランおよびフェニルトリエトキシシランの加水分解物の共重縮合物から構成されるオルガノポリシロキサンからなるカプセル壁を有する、ホモサラート（ＨＭＳ）、ブチルメトキシジベンゾイルメタン（アボベンゾン）およびジエチルヘキシル３−メトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネートの同時カプセル封入
ジエチルヘキシル３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネートをジエチルヘキシル３−メトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネートで置き換える以外、実施例７Ａを繰り返す。
【０１５５】
実施例８Ａ：メトキシ（エトキシ）ｎ−プロピルジヒドロキシメチルシラン、メチルトリエトキシシランおよびフェニルトリエトキシシランの加水分解物の共重縮合物から構成されるオルガノポリシロキサンからなるカプセル壁を有する、カプリル酸／カプリン酸トリグリセリド、ブチルメトキシジベンゾイルメタン（アボベンゾン）およびジエチルヘキシル３−メトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネートの同時カプセル封入
ホモサラートをカプリル酸／カプリン酸トリグリセリドに置き換える以外、実施例６Ａを繰り返す。
Ｃ．同時カプセル封入材料の処方
実施例１Ｂ：実施例１Ａからの同時カプセル封入材料を用いる日焼け止めローション
【０１５６】
【表１】
【０１５７】
実施例２Ｂ：実施例１Ａからの同時カプセル封入材料を用いる日焼け止めローション
【０１５８】
【表２】
【０１５９】
実施例３Ｂ：ＤＨＡを含む同時カプセル封入材料を用いる日焼け止めローション
【０１６０】
【表３】
【０１６１】
実施例４Ｂ：同時カプセル封入材料および防虫剤（ＩＲ３５３５等）を含む日焼け止めローション
【０１６２】
【表４】
【０１６３】
実施例５Ｂ：同時カプセル封入材料および美白剤を含む日焼け止めローション
【０１６４】
【表５】
【０１６５】
実施例６Ｂ：別々に調製した２種の同時カプセル封入材料を含む日焼け止めローション
【０１６６】
【表６】
【０１６７】
実施例７ｂ：アボベンゾン、オクチルメトキシシンナメートおよび光安定剤のゾル−ゲルカプセルを含む日焼け止めローション
【０１６８】
【表７】
【０１６９】
実施例８ｂ：アボベンゾン、ホモサラートおよび光安定剤のゾル−ゲルカプセルを含む日焼け止めローション
操作は、オクチノキセートをホモサラートで置き換える以外、実施例４に記載された操作と同様である。
【０１７０】
実施例９ｂ：アボベンゾン、溶解剤および光安定剤のゾル−ゲルカプセルを含む噴霧用日焼け止めローション
【０１７１】
【表８】
【０１７２】
Ｄ．光安定性の検討
この実施例は、アボベンゾンの光安定性におけるジ−２−エチルヘキシル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンザルマロネート（オキシネックスＳＴ）の効果を示す。ジ−２−エチルヘキシル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンザルマロネートは３３２ｎｍにλmax（ＭｅＯＨ、εmax１８，６００ｃｍ-1ｍｏｌ-1）または３３７ｎｍにλmax（ＥｔＯＨ：Ｈ2Ｏ／７０：３０、εmax１９，８４０ｃｍ-1ｍｏｌ-1）を有する黄色の粘性液体である。これはジフェニルピクリルヒドラジド（ＤＰＰＨ）試験法により決定される抗酸化活性（ＩＣ50＝８５±８μｇ／ｍｌ）を有する。
方法
約１４．８ｍｇの配合物を顕微鏡スライド（マイクロスライド、１つの表面をつや消しにしてある、サイズ、７６×２６ｍｍ、チャンスプロパー社、スポンレイン、英国）の粗面側に均一に延展する。蒸発（約２０分）させた後、スライドを秤量し、各スライドをある係数により５枚の平均値に規格化する。次に３枚のスライドに照射（５および１０ＭＥＤ；５ＭＥＤ：３時間１９分；１０ＭＥＤ：６時間３８分）し、２枚のスライドには照射せずにおく。照射終了後、混合物を含む完成スライドをメタノールで洗浄し、残存するアボベンゾンをＵＶスペクトル分析およびＨＰＬＣにより測定する。
【０１７３】
【表９】
【０１７４】
【表１０】
【０１７５】
【表１１】
【０１７６】
【表１２】
【０１７７】
ＤＰＰＨ試験法
２５０ｍＬのエタノール（ＵＳＰ）に溶解した、２５ｍｇの１，１−ジフェニル−２−ピクリル−ヒドラジルＡＣＳ＃１８９８−６６−４（シグマ＃Ｄ−９１３２、ロット９９Ｈ３６０１）のＤＰＰＨ濃縮物（２．５Ｘ）を測定日に新たに調製する。ＤＰＰＨ使用液は、１００ｍＬのこの濃縮液を最終容量２５０ｍＬ（１００μＭ／ｍＬ）に希釈することにより調製する。ブランクの１３×１００ｍｍのホウケイ酸ガラス製ねじ蓋式エタノール（ＵＳＰ）管を分光計（ミルトンロイスペクトロニック２０＋）の５１７ｎｍでのゼロとして用い、ＤＰＰＨ使用溶液の対照管を同じ条件で測定し、０％活性として採用する。各０．２５％および０．５％（ＲＴおよび４５℃）の試験溶液を管に加え、４ｍＬのＤＰＰＨ使用液を直ちに加え、直ちに蓋をして混合する。２０分後各試料の吸収を５１７ｎｍで読み取る。
【０１７８】
活性減少のパーセント（％ＲＡ）は以下の式：
％活性減少＝１００ Ａ（０）−Ａ（２０）／Ａ（０）
を用いて計算する。
【０１７９】
ここで、Ａ（０）は５１７ｎｍにおけるＤＰＰＨ使用液のゼロとしたエタノールブランクに対する吸光度であり、Ａ（２０）は抗酸化剤とＤＰＰＨ使用液を併せた２０分後の５１７ｎｍにおける吸光度である。
【０１８０】
最終分析混合物中の抗酸化剤（ｍｇ／ｍｌ）の濃度は、最終分析容量中の各化合物の個々の分量の希釈度、および希釈系列の各濃度において活性パーセントとして表示し、プロットした％ＲＡに基づいて計算する。
【０１８１】
アボベンゾン（配合物中）の光安定化は２枚のガラススライドの間に設けられた配合材料の薄いフィルム（約５０〜１００μの厚さで、非吸収領域における透過信号が８５％を超えていなければならない）を用いて実施し、次いでＵＶ−Ｂ光（Ｑ−ＵＶ加速耐候試験機、Ｑパネル社）により照射した。アボベンゾンの光分解は照射前後の配合物品中のアボベンゾンの相対的減少により計算した。ＵＶ−Ｂ光下での１時間の照射は１．４ＭＥＤ（最小赤斑線量）と同等である。この検討にはベックマンコウルターＤＵ−６４０分光計を１２０ｎｍ／分のスキャン速度で用いた。すべてのスペクトルは２００〜６００ｎｍで記録した。オキシネックス（登録商標）ＳＴの有効性をコラパンＴＱ（ジ−２−エチルヘキシルナフタレート、Ｈ＆Ｒ）と比較した。配合物中のアボベンゾンのＨＭＳおよびオキシネックス（登録商標）ＳＴまたはＴＱにおけるアボベンゾン光安定化を２：６：２の比率（ｗ／ｗ）を用いることにより測定した。
【０１８２】
アボベンゾンの安定性は、オキシネックス（登録商標）ＳＴ光安定剤（１：１、ｗ／ｗ）の存在下で３倍（２４％〜８１％）増大することを認めた。さらに、オキシネックス（登録商標）ＳＴを１：２または１：３の比で用いるとき、アボベンゾンの安定化はさらに改善された。他方、ＴＱは単独で使用するとき、アボベンゾンの光安定化に実質的に影響しなかった。ＴＱはホモサラートと組み合わせたときもアボベンゾンを安定化できなかった。しかし、ＨＭＳの存在下での、アボベンゾンに対するオキシネックス（登録商標）ＳＴの安定化効果は約３倍（１４％〜５６％）高かった。オキシネックスＳＴもＯＭＣ存在下のアボベンゾンの光安定化を約２倍（３６％〜７３％）改善する。
【０１８３】
ｉｎ ｖｉｔｒｏ試験により、ＨＭＳ（６％）およびオキシネックス（登録商標）ＳＴ（２％）の存在下、アボベンゾン（２％）が適切な臨界波長およびＳＰＦ（＞３０）を有することが示された。アボベンゾンの溶解性をオキシネックス（登録商標）ＳＴおよびＨＭＳの種々の比率において試験した。
【０１８４】
結果を以下にまとめる。
【０１８５】
【表１３】
【０１８６】
ＨＭＳおよびオキシネックス（登録商標）ＳＴの様々な比率でのアボベンゾンの溶解性を考慮すると、ゾル−ゲル法を用いるアボベンゾン（ＵＶ−パールＡｖｏ）のカプセル化については以下の比率：アボベンゾン／オキシネックス（登録商標）ＳＴ／ＨＭＳ：２０／２０／６０および２５／２５／５０が好ましい。
【０１８７】
【表１４】
【０１８８】
ＯＭＣおよびオキシネックス（登録商標）ＳＴの様々な比率でのアボベンゾンの溶解性を考慮すると、ゾル−ゲル法を用いるアボベンゾン（ＵＶ−パールアボ）のカプセル化については以下の比率：アボベンゾン／オキシネックス（登録商標）ＳＴ／ＯＭＣ：２０／２０／６０および２５／２５／５０が好ましい。
【０１８９】
上記の実施例は、一般的または具体的に記載された反応物および／または実施例で用いた本発明の操作条件を置き換えることにより、同様の効果を繰り返すことができる。以上の記載から、当業者は本発明の本質的な特徴を容易に解明することができ、本発明の思想および範囲から外れることなく、種々の用途および条件に合わせるために本発明を変更および修正することができる。
【技術分野】
【０００１】
本出願は、米国特許出願第０９／９０４９０４号（２００１年７月１６日に出願され；ＵＳ２００３０１０８４９２Ａ１の下に公開された）および米国特許出願第１０／０２２３４３号（２００１年１２月２０日に出願され；ＵＳ２００３０１５７０３５Ａ１の下に公開された）に関連する。米国の国内段階のためにはこの出願は、Ｃｈａｕｄｈｕｒｉ，Ｒａｔａｎ Ｋ．により２００３年６月３日に出願され、「光安定性有機日焼け止め組成物」という名称の出願番号１０／４５２１９９（代理人整理番号ＥＭＩ−００５７）の一部係属出願である。
【０００２】
本発明は、ｉ）少なくとも１種のＵＶ−Ａ有機日焼け止めおよびｉｉ）少なくとも１種の光安定剤を含む日焼け止めカプセルに関し、さらに、それは、これらのカプセルを含む局所適用のための組成物と、これらのカプセルと組成物の製造および使用方法に関する。
【背景技術】
【０００３】
局所用日焼け止め組成物は、例えば日焼け、ガンおよび光老化のような、日光による急性または慢性の悪影響に対して、露出された皮膚を保護する手段として、屋外での仕事または余暇の際に広く使用されている。多くの効果的な日焼け止め製剤が市販され、あるいは、美容または薬学文献に記載されている。一般に、日焼け止め製剤は、活性成分として紫外線吸収化合物を含む、クリーム、ローションまたはオイルとして調合されている。日焼け止めは、紫外線の透過を遮り、それが皮膚に進入することを防止することにより機能する。
【０００４】
Ｚｅｃｃｈｉｎｏら（米国特許第５００８１００号）によれば、日焼け止め剤を、有効性が低下する順に強い発色体（低分子量有機化合物と、二酸化チタンのような無機化合物）および微弱な発色体（高分子有機固体）とすることができる。
【０００５】
有機日焼け止めは、それらが吸収する放射線のタイプに応じて、ＵＶ−Ａフィルター、ＵＶ−Ｂフィルターまたは広域スペクトルフィルター（１つの分子にＵＶ−ＡおよびＵＶ−Ｂ官能性がある）に分類される。ＵＶ−Ａ日焼け止めは、紫外スペクトルの３２０〜４００ｎｍの領域にある放射線を吸収し、ＵＶ−Ｂ日焼け止めは、紫外スペクトルの２９０〜３２０ｎｍ領域にある放射線を吸収する。
【０００６】
広帯域日焼け止め（ＵＶ−ＡおよびＵＶ−Ｂ官能性）は、紫外スペクトルの２９０〜４００ｎｍの領域にある放射線を吸収し、２つの極大をもち、１つはＵＶ−Ｂ領域に、他方はＵＶ−Ａ領域にある。
【０００７】
ＵＶ日焼け止めに関する代表的な参考文献は次の通りである。米国特許第３２７８４４８号は、ケイ皮酸誘導体、例えば、２欄２０行に４−ヒドロキシ−３，５−ジｔｅｒｔブチル−αカルボエトキシ−ケイ皮酸エーテルエステルを開示し、米国特許第３５３８２２６号は、１欄１５〜３１行、２欄１〜１２行ならびに３欄３０〜５５行および６０行にケイ皮酸アルキルエステル誘導体を記載し、米国特許第５１７５３４０号は、フェニル環上にヒドロキシル基およびアルコキシ基をもつケイ皮酸アルキルエステル誘導体を記載し、また、米国特許第５８３０４４１号は、２欄１〜２１行の一般式によりシアノまたはシンナミル基を含むＵＶ吸収剤を記載する。
【０００８】
シンナミド化合物を開示する他の参考文献としては、米国特許第５６０１８１１号、米国特許第４３３５０５４号、米国特許第５１２４３５４号、米国特許第５２９４６４３号および米国特許第５５１４７１１号が挙げられる。
【０００９】
残念ながら、日焼け止め組成物またはカプセルに用いられる高発色性低分子有機化合物のいくつかは光安定性でなく、太陽光による損傷からの保護は行われなくなる。例えばＵＶ−Ａ日焼け止めであるアボベンゾンのようなジベンゾイルメタン誘導体は、通常、光不安定性である。さらに、アボベンゾンの光不安定性は、オクチルメトキシシンナメート（ＵＶ−Ｂ有機日焼け止め）と組み合わされた場合、相当に増大する。ほとんどの研究において、オクチルメトキシシンナメート（ＯＭＣ）は、比較的光安定性であると見なされてきた。アボベンゾン（約３６０ｎｍ）およびＯＭＣ（約３１０ｎｍ）の吸収極大は、励起１重項−１重項のエネルギー移動が直接起こることを許すほど十分に重なっていない。しかし、一方の励起３重項から他方への移動は、エネルギーレベルが適切であれば可能である。
【００１０】
ＯＭＣの３重項状態は、８−メトキシソラレンおよび５−メトキシソラレンの３重項状態を消滅させ、続いて、Ｅ／Ｚ異性化を受けることが示された（Ｍｏｒｌｉｅｒｅ Ｐ．，Ｏ．Ａｖｉｃｅ，Ｔ．Ｓ．Ｍｅｌｏ，Ｌ．Ｄｕｂｅｒｔｒｅｔ，Ｍ．Ｇｉｒａｕｄ ａｎｄ Ｒ．Ｓａｎｔｕｓ，「定常状態および閃光光分解による、いくつかのシンナメート日焼け止めの光化学的性質の研究」Ｐｈｏｔｏｃｈｅｍ．Ｐｈｏｔｏｂｉｏｌ，３６，３９５−３９９（１９８２）；Ｍｏｒｌｉｅｒｅ Ｐ．，Ｇ．Ｈｕｐｐｅ，Ｄ．Ａｖｅｒｂｅｃｋ，Ａ．Ｒ．Ｙｏｕｎｇ，Ｒ．ＳａｎｔｕｓおよびＬ．Ｄｕｂｅｒｔｒｅｔ，「ベルガモット油のｉｎ−ｖｉｔｒｏ光安定性および光増感性」．シンナメート日焼け止めの効果．Ｊ．Ｐｈｏｔｏｃｈｅｍ．Ｐｈｏｔｏｂｉｏｌ．Ｂ，Ｂｉｏｌ，７，１９９−２０８（１９９０））。これは、ＯＭＣの３重項状態が３重項エネルギー移動に利用可能であり、続いて化学反応が起こることを明白に示している。
【００１１】
驚くべきことに、アボベンゾンの３重項状態が利用できて、適切に重なった３重項状態をもつ近くの別の分子にエネルギーを移せる。ＯＭＣが存在すれば適切な標的受容体となる。ＯＭＣは３重項状態エネルギー移動を受けると、Ｅ／Ｚ光異性化し、次にＯＭＣは光分解する。アボベンゾンの光不安定性により、それらが一緒に存在する場合に、ＯＭＣの光分解が引き起こされると思われる。このために、ジベンゾイルメタン誘導体（例えばアボベンゾン）とオクチルメトキシシンナメートを組み合わせた広いスペクトル（ＵＶ−ＡおよびＵＶ−Ｂ）の日焼け止め組成物またはカプセルを得ることには限界がある。
【００１２】
多くの有機日焼け止めは光安定性がないだけでなく、それらは皮膚または体毛を保護する酸化防止性をもたない。
【００１３】
理想的な日焼け止め配合物／組成物は、無毒で、皮膚組織に非刺激性であり、一様で連続的な膜として簡便に塗布することができなければならない。製品は、保管に際しての貯蔵寿命が許容できるものであるように、化学的に、また物理的に安定でなければならない。製剤を付けた後、長期間に渡ってその保護作用が保持されることは特に望ましい。そのためには、活性剤が皮膚上に存在する際には、化学および／または光分解を起こしてはならない。
【００１４】
ＵＶ吸収組成物を安定化する方法は知られている。この分野における代表的開示として、米国特許第５５６７４１８号、米国特許第５５３８７１６号、米国特許第５９５１９６８号および米国特許第５６７０１４０号が挙げられる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１５】
酸化防止剤は、遊離基による損傷から保護することにより機能すると考えられている。有効な失活剤であるためには、遊離基が発生している所に酸化防止剤が適切な濃度で存在していなければならないと考えられる。酸化防止剤は低濃度で用いられ、別個の成分であるから、それらは発生している所で利用できない恐れがあり、望ましいレベルの皮膚保護を低下させる。これらの欠点から、１つの分子に酸化防止と日焼け止め機能をもつ光安定剤が存在して、皮膚、体毛、塗料、繊維、木材、プラスチック、ポリマー、着色剤、着色ワックス系粒子などを太陽光による損傷に対して保護する効果を向上させた、光安定性日焼け止め組成物またはカプセルを提供することが求められている。
【００１６】
ジベンゾイルメタン誘導体を安定化させるのに適する新たな種類の光安定剤が、国際特許出願ＷＯ２００３／００７９０６Ａにより知られている。そこに開示されている最も好ましい光安定剤は、ジアルキルベンザルマロネートまたはそれらの誘導体である。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
こうして、本発明は、（ａ１）少なくとも１種のＵＶ−Ａ有機日焼け止めおよび（ｂ）少なくとも１種の光安定剤を含むカプセルに関する。
【００１８】
このカプセルは、所望により、（ａ２）少なくとも１種のＵＶ−Ｂ液体有機日焼け止めおよび／または（ｃ）少なくとも１種の可溶化剤、および／または（ｄ）少なくとも１種の化学的または薬学的に許容される担体を含有する。特に好ましい組成物は、（ａ１）、（ａ２）、（ｂ）および／または（ｃ）と、所望により（ｄ）を含有する。
【００１９】
さらに、本発明は、前記の日焼け止めカプセルおよび、局所適用に適する少なくとも１種の担体を含む、局所適用に適する組成物に関する。
【００２０】
前記日焼け止めカプセルは、通常、全組成物の重量に対して、０．５〜１０％、好ましくは１〜８％のＵＶ−Ａ有機日焼け止めがあるのに必要とされる量で存在する。
【００２１】
カプセル中に、前記の少なくとも１種のＵＶ−Ａ有機日焼け止めと前記の少なくとも１種の光安定剤は、通常約３：１〜約１：３、好ましくは約１：０．８〜１：２の重量比で存在する。
【００２２】
特定の実施形態において、本発明は、ジベンゾイルメタンまたはその誘導体類に属する少なくとも１種のＵＶ−Ａ有機日焼け止め；ジアルキルベンザルマロネートまたはその誘導体類に属する少なくとも１種の光安定剤；サリチレートまたはシンナメートまたはこれらの組合せに属することが好ましい少なくとも１種のＵＶ−Ｂ液体有機日焼け止め、および／または、エステル、長鎖脂肪酸もしくはアルコールであることが好ましい少なくとも１種の可溶化剤；さらに、所望により、少なくとも１種の化粧品または医薬として許容できる担体を含む、光安定性日焼け止め組成物またはカプセルに関する。
【００２３】
前記日焼け止めカプセルは、所望により好ましくは事実上液体でＵＶ−Ａ有機日焼け止めを好ましくは少なくとも１５％まで可溶化できる、１種以上の長鎖脂肪アルコールまたはエステルまたはアミドあるいはこれらの組合せを含有する。これらのアルコールまたはエステルは、単独であるいは共可溶化剤として、有機ＵＶ−Ｂ日焼け止めと組み合わせて、使用できる。本発明に適する例示的な長鎖アルコールまたはエステルとしては、ココグリセリド、デシルオレアート、Ｃ12〜Ｃ15アルキルベンゾエート、カプリン／カプリントリグリセリド、セタリルエチルヘキシルヘキサノエート、ジオクチルアジペート、グリセリルジラウレート、ステアラミド、ジメチルベハナミド、ｂ−アラニン誘導体、例えば、エチルブチルアセチルアミノプロパン（ＩＲ３５３５）などが挙げられる。長鎖脂肪アルコールまたはエステルは、通常０〜８０％の範囲の量でカプセルに存在する。
【００２４】
カプセル化された形で有機ＵＶフィルターを用いると利点がある。具体的には、カプセル化により以下の利点が生じる。
【００２５】
− ＵＶフィルターの溶解性とは無関係にカプセル壁を親水性にできる。第１に、例えば、疎水性のＵＶフィルターでさえ純粋に水性の配合物に組み入れることが可能である。さらに、疎水性ＵＶフィルターを含む製剤を付けた際にしばしば不快に感じられるオイルのような印象を防げる。
【００２６】
− 特定のＵＶ−Ａフィルター、特にジベンゾイルメタン誘導体は、美容配合物においては劣った光安定性しか示さない。これらのフィルターまたはこれらのフィルターの光安定性を損なう化合物、例えば前記のケイ皮酸誘導体をカプセル化することにより、全体としての配合物の光安定性を向上させることが可能である。ジベンゾイルメタン誘導体を他の光安定剤と一緒にカプセル化することにより、配合物全体の光安定性をさらに向上させることができる。
【００２７】
− 文献には、有機ＵＶフィルターが皮膚に浸透すること、およびヒトの皮膚に直接付けた際のそれらに付随する刺激性が繰り返し議論されている。本明細書に提案する相当物質のカプセル化により、皮膚への浸透の問題が克服される。
【００２８】
− 日焼け止め製品は、世界中であらゆる年齢と性別の人々により広く使用されているが、これらの製品中の活性成分のいくつかは接触皮膚炎を引き起こす可能性があると言われているだけでなく、いくつかのこれら化学物質の光励起された化学種は光接触皮膚炎を引き起こすかもしれない。また、いくつかの日焼け止め化合物はまた日光の下で１重項酸素の生成を促進する。したがって、シリカのような透明マトリックス中に日焼け止め活性成分をカプセル化することは、それらおよび／または潜在的光分解生成物を、生組織から実質的に隔離しながら、日焼け止めの光吸収能からの利益を得るうまいやり方である。
【００２９】
− 一般に、個々のＵＶフィルターまたは他の成分をカプセル化することにより、相互作用が妨げられるので、結晶化過程、沈殿および塊状化のような、個々の配合成分が互いに相互作用する結果として生じる配合の問題を避けることが可能である。本発明の好ましい一実施形態において、ＵＶ−Ａ日焼け止めおよび光安定剤は、可溶化剤と一緒にカプセル化されて、これらの成分の日焼け止め性能はさらに最大限に活用される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３０】
こうして本発明によれば、ＵＶ−Ａフィルター、光安定剤および所望により加えられる１種以上の前述した他のＵＶフィルターが、カプセル状で存在する。カプセルが非常に小さく、それらが直接目で確認できなければ、さらに有利である。前記の効果を実現するには、カプセルが十分に安定で、カプセル化された活性成分（ＵＶフィルター）を周囲に放出しないかあるいは僅かな程度にそれを放出するだけであることもまた必要とされる。
【００３１】
適切なカプセルは無機または有機ポリマーからなる壁を有する。例えば米国特許６２４２０９９号は、キチン、キチン誘導体またはポリヒドロキシル化ポリアミンからなる球殻を有する適切なカプセルの調製を記載する。
【００３２】
本発明により特に好ましく使用できるカプセルは、出願ＷＯ００／０９６５２号、ＷＯ００／７２８０６号およびＷＯ００／７１０８４号に記載されているゾル−ゲル法により得られる壁をもつ。本発明の場合においては、それらの壁がシリカゲル（シリカ；不定形酸化ケイ素水酸化物）からなるカプセルが好ましい。対応するカプセルの調製は、例えば上記引用特許出願により当業者に知られており、当該出願内容はまた明らかに本出願の主題の一部をなす。
【００３３】
別の好ましい実施形態において、カプセルは、主にオルガノポリシロキサンからなるカプセル壁をもつ。オルガノポリシロキサン壁をもつカプセルを製造する方法は、例えば米国特許第６３３７０８９号および米国特許第６２５２３１３号に記載されており、これらの特許は参考文献として本明細書に含められる。好ましくは、オルガノポリシロキサンは、次の一般式により表される１種以上の化合物を重縮合させることにより合成される：
ＲnＳｉ（ＯＨ）mＹ(4-m-n)
（式中、ｍ＋ｎ≦４という条件で、ｍは１〜４の整数を表し、ｎは０〜３の整数を表し；Ｒは、１個の炭素原子が直接ケイ素原子に結合している有機の基を表し、ｎが１を超える場合、Ｒ基の各々は同じであっても異なっていてもよく；また、Ｙは、アルコキシ基、水素およびシロキシ基からなる群から選択される少なくとも１種の基を表し、（４−ｍ−ｎ）が１を超える場合、各基Ｙは同じであっても異なっていてもよい）。
【００３４】
光安定性を増すために、好ましくは、本発明の日焼け止めカプセルは、米国特許第６４６８５０９号、米国特許第６４３６３７５号および米国特許第６２３８６５０号に記載されるゾル−ゲルカプセル化法により調製される。
【００３５】
こうして、少なくとも１種のＵＶ−Ａ有機日焼け止めおよび少なくとも１種の光安定剤をカプセル壁の前駆体物質と混合し、前駆体を縮合させることによって壁を形成することによる、日焼け止めカプセルの製造方法は、本発明の他の実施形態である。
【００３６】
好ましい一実施形態において、前記方法は、前駆体の重縮合がゾル−ゲル過程の間に起こることを含む。
【００３７】
前記方法の別の好ましい実施形態において、前駆体はポリシロキサンプレポリマーである。
【００３８】
本発明に適する例示的なジベンゾイルメタン誘導体としては、これらに限定されないが、２−メチルジベンゾイルメタン、４−メチルジベンゾイルメタン、４−イソプロピルジベンゾイルメタン、４−ｔｅｒｔ−ブチルジベンゾイルメタン、２，４−ジメチルジベンゾイルメタン、２，５−ジメチルジベンゾイルメタン、４，４’−ジイソプロピルジベンゾイルメタン、４，４’−ジメチルジベンゾイルメタン、４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン、２−メチル−５−イソプロピル−４’−メトキシジベンゾイルメタン、２−メチル−５−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン、２，４−ジメチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン、２，６−ジメチル−４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタンが挙げられる。
【００３９】
特に好ましいのは、１（ｐ−ｔｅｒｔ ブチルフェニル）−３−（ｐ−メトキシフェニル）−１，３−プロパンジオン（ＣＡＳ ７０３５６−０９−１）と同じである、４−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４’−メトキシジベンゾイルメタン（一般名称はアボベンゾンである）であり、ロッシュより「パルゾール１７８９」、あるいは、メルクＫＧａＡ／ＥＭＤケミカルズにより「ユーソレックス９０２０」の商標で市販されている。この日焼け止めは次の構造式をもつ。
【００４０】
【化１】
【００４１】
アボベンゾンのエノール形が好ましい日焼け止めである。
【００４２】
ジベンゾイルメタン誘導体は、好ましい組成物に、組成物の全重量に対して、０．５重量％〜３５重量％の範囲、好ましくは１０重量％〜２５重量％の範囲の濃度で存在する。
【００４３】
本発明の組成物の光安定剤は、通常、日焼け止め活性をもつ化合物である、すなわち、それらは２９０〜４００ｎｍの紫外線領域内で発色性であり、また酸化防止性も示す。
【００４４】
好ましくは、光安定剤は、ＷＯ２００３／００７９０６号において開示されているものの中から選択され、この特許の内容は明らかに本出願の主題の一部をなす。
【００４５】
さらに、光安定剤は、好ましくは、式ＩまたはIIの化合物である：
【００４６】
【化２】
【００４７】
式中、Ａは、発色性を付与する部分であり；Ｒ1は、−Ｃ（Ｏ）ＣＨ3、−ＣＯ2Ｒ3、−Ｃ（Ｏ）ＮＨ2、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ4）2および−ＣＮからなる群から選択され；Ｘは、ＯまたはＮＨまたはＮ−Ｃ1〜Ｃ8アルキルであり；Ｒ2は、直鎖もしくは分岐状のＣ1〜Ｃ20アルキルであり；Ｒ3は、直鎖もしくは分岐状のＣ1〜Ｃ20アルキルであり；各Ｒ4は、独立して、水素または直鎖もしくは分岐状のＣ1〜Ｃ8アルキルであり；Ｒ5は、水素または直鎖もしくは分岐状Ｃ1〜Ｃ8アルキルまたは直鎖もしくは分岐状Ｃ1〜Ｃ8アルコキシであり；Ｒ6は、独立して、直鎖もしくは分岐状Ｃ1〜Ｃ8アルキルである。
【００４８】
式ＩのＡは、好ましくは、紫外線波長範囲内で発色して式Ｉの前記化合物にＵＶ吸収活性を付与する部分であって、部分Ａは１つの２価の基または２つの１価の基を含み、少なくとも１つの基がカルボニル（Ｃ＝Ｏ）官能基をもつ。
【００４９】
好ましい実施形態において、−Ｒ5および−Ｏ−Ｒ6は、互いに独立して、直鎖もしくは分岐状Ｃ1〜Ｃ8アルコキシ基から選択され、好ましくは前記の少なくとも１種の式ＩまたはIIの化合物は、式IIIまたはIVの化合物から選択される少なくとも１種の化合物である。
【００５０】
【化３】
【００５１】
式中、Ｒ1は、−Ｃ（Ｏ）ＣＨ3、−ＣＯ2（Ｃ1〜Ｃ8アルキル）、−Ｃ（Ｏ）ＮＨ2、−Ｃ（Ｏ）ＮＨ（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）2および−ＣＮからなる群から選択され；Ｘは、ＯまたはＮＨまたはＮ−Ｃ１〜８アルキルであり；Ｒ2は、Ｃ1〜Ｃ12アルキルである。
【００５２】
本発明による好ましいカプセルは、式ＶまたはＶＩの化合物から選択される少なくとも１種の化合物である、少なくとも１種の式ＩまたはIIの化合物を含む。
【００５３】
【化４】
【００５４】
式中、 Ｒ1は、−Ｃ（Ｏ）ＣＨ3、−ＣＯ2（Ｃ1〜Ｃ8アルキル）、−Ｃ（Ｏ）ＮＨ2、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）2、および−ＣＮからなる群から選択され；Ｘは、ＯまたはＮＨまたはＮ−Ｃ１〜８−アルキルであり；Ｒ2は、Ｃ1〜Ｃ12アルキルであり；Ｒ5は、Ｃ1〜Ｃ8直鎖もしくは分岐状アルキルである。
【００５５】
別の好ましいカプセルは少なくとも１種の式ＩおよびIIの化合物を含み、−Ｒ5および−Ｏ−Ｒ6が、互いに独立して、直鎖もしくは分岐状Ｃ1〜Ｃ4アルコキシであり、好ましくは、−Ｒ5および−Ｏ−Ｒ6は同じであって、メトキシまたはエトキシである。
【００５６】
別の好ましいカプセルは少なくとも１種の式ＩおよびIIの化合物を含み、Ｘが酸素であり、Ｒ2は、好ましくは、直鎖もしくは分岐状Ｃ1〜Ｃ4アルキルである。
【００５７】
別の好ましいカプセルは少なくとも１種の式ＩおよびIIの化合物を含み、Ｒ1が、ＣＯ2Ｒ3、好ましくは、Ｃ（Ｏ）ＣＨ3であり、Ｒ3は、直鎖もしくは分岐状のＣ1〜Ｃ4アルキルである。
【００５８】
別の好ましいカプセルは少なくとも１種の式ＩおよびIIの化合物を含み、Ｒ1は、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ4）2であって、少なくとも１つのＲ4は水素であり、他方は水素または直鎖もしくは分岐状のＣ1〜Ｃ4アルキルである。
【００５９】
別の好ましいカプセルは少なくとも１種の式ＩおよびIIの化合物を含み、Ｒ1は、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ4）2であって、各Ｒ4は、独立して直鎖もしくは分岐状のＣ1〜Ｃ4アルキルである。
【００６０】
別の好ましいカプセルは少なくとも１種の式ＩおよびIIの化合物を含み、ＸはＮ−メチルまたはＮ−エチルである。
【００６１】
別の好ましいカプセルは少なくとも１種の式ＩおよびIIの化合物を含み、Ｒ2およびＲ3の少なくとも一方は、直鎖もしくは分岐状のＣ8〜Ｃ20アルキルであって、好ましくは、Ｒ2およびＲ3は、それぞれ、直鎖もしくは分岐状Ｃ8アルキルであるか、あるいは、Ｒ2およびＲ3の少なくとも一方が、直鎖もしくは分岐状のＣ12〜Ｃ20アルキルである。
【００６２】
別の好ましいカプセルは少なくとも１種の式ＩおよびはIIの化合物を含み、式ＩまたはＩＩの前記化合物は、エチル−α−アセチル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシシンナメート、イソプロピル−α−アセチル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシシンナメート、イソアミル−α−アセチル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシシンナメート、２−エチルヘキシル−α−アセチル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシシンナメート、ジエチル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート、ジ−（２−エチルヘキシル）−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート、ジイソアミル−３，５−ジメトキシ４−ヒドロキシベンジリデンマロネート、ジパルミトイル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート、ジ−ドデシル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート、ジ−イソプロピル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート、エチル−α−シアノ−３−メトキシ−４−ヒドロキシシンナメート、エチル−α−アセチル−３−メトキシ−４−ヒドロキシシンナメート、イソプロピル−α−アセチル−３−メトキシ−４−ヒドロキシシンナメート、イソアミル−α−アセチル−３−メトキシ−４−ヒドロキシシンナメート、２−エチルヘキシル−α−アセチル−３−メトキシ−４−ヒドロキシシンナメート、ジエチル−３−メトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート、ジ−（２−エチルヘキシル）−３−メトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート、ジイソアミル−３−メトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート、ジパルミトイル−３−メトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート、ジ−ドデシル−３−メトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート、ジ−イソプロピル−３−メトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート、ジ−（２−エチルヘキシル）−３−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−イソプロピル−ベンジリデンマロネート、ジ−イソアミル−３−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ．ブチル−ベンジリデンマロネート、イソアミル−α−アセチル−３−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−イソプロピルシンナメート、およびイソアミル−α−アセチル−３−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ．ブチルシンナメートからなる群から選択される。
【００６３】
式ＩまたはIIの化合物の１種以上は、好ましくは、日光に曝されることによる光分解に対して他の日焼け止め剤を安定化させることができる。
【００６４】
好ましい化合物は、下の式IIaの化合物である。
【００６５】
【化５】
【００６６】
式中、各Ｒは、独立して、直鎖もしくは分岐状のＣ1〜Ｃ8アルキルであり；Ｒ1は、−Ｃ（Ｏ）ＣＨ3、−ＣＯ2Ｒ3、−Ｃ（Ｏ）ＮＨ2、および−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ4）2、および、−ＣＮからなる群から選択され；Ｘは、ＯまたはＮＨまたはＮ−Ｃ1〜Ｃ8アルキルであり；Ｒ2は、直鎖もしくは分岐状のＣ1〜Ｃ20アルキルであり；Ｒ3は、直鎖もしくは分岐状のＣ1〜Ｃ20アルキルであり；各Ｒ4は、独立して、水素または直鎖もしくは分岐状のＣ1〜Ｃ8アルキルである。
【００６７】
好ましい化合物に含まれるのは、Ｒが直鎖もしくは分岐状Ｃ1〜Ｃ4アルキルであり、Ｘが酸素であり、また、Ｒ2が直鎖もしくは分岐状Ｃ1〜Ｃ12アルキルである、式IIaの化合物である。これらの化合物の中で、より好ましいものは、Ｃ（Ｏ）ＣＨ3またはＣＯ2Ｒ3（Ｒ3は直鎖もしくは分岐状のＣ1〜Ｃ4アルキルである）のＲ1をもつ。Ｒ1がＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒ4）2である化合物では、Ｒ4は、好ましくは、水素または直鎖もしくは分岐状Ｃ1〜Ｃ4アルキルである。
【００６８】
Ｒ2およびＲ3としてＣ1〜Ｃ4アルキルをもつ化合物が好ましいが、Ｒ2およびＲ3が直鎖もしくは分岐状のＣ8〜Ｃ20アルキルまたはＣ12〜Ｃ20アルキルである化合物は相当に有用である。
【００６９】
好ましい化合物群は、Ｒ1およびＲ2が式IIに対して定義されたものであって、Ｒ3がＣ1〜Ｃ8アルキルであり、また、Ｒ4がＣ1〜Ｃ8アルキルである、式IIIまたはIVの化合物である。
【００７０】
【化６】
【００７１】
１種以上の式ＩまたはIIの化合物は、好ましくは、日光に曝されることによる光分解に対して日焼け止め剤を安定化させることができる。
【００７２】
好ましい化合物に含まれるのは、Ｒ1が直鎖もしくは分岐状のＣ1〜Ｃ4アルキルであり、Ｘが酸素であり、また、Ｒ2が直鎖もしくは分岐状のＣ1〜Ｃ12アルキルである、式IIの化合物である。これらの化合物の中で、より好ましいものは、Ｃ（Ｏ）ＣＨ3またはＣＯ2Ｒ3（Ｒ3は直鎖もしくは分岐状のＣ1〜Ｃ4アルキルである）のＲ1をもつ。Ｒ1がＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒ4）2である化合物では、Ｒ4は、好ましくは、水素または直鎖もしくは分岐状Ｃ1〜Ｃ4アルキルである。
【００７３】
Ｒ2およびＲ3としてＣ1〜Ｃ4アルキルをもつ化合物が好ましいが、Ｒ2およびＲ3が直鎖もしくは分岐状のＣ8〜Ｃ20アルキルまたはＣ12〜Ｃ20アルキルである化合物は相当に有用であってもよい。
【００７４】
以下において、日焼け止め配合物または日焼け止め組成物として、局所適用に適する組成物がしばしば言及される。これは、これらの組成物が、少なくとも１種のカプセル化されたＵＶ−Ａ日焼け止め化合物を必ず含んでいるという事実による。しかし、本発明による組成物は必ずしも日焼け止め配合物として市販されるわけではない。本発明の組成物は、例えばデイケア、スキンケア、ヘアケアまたはパーソナルケア組成物として市販してもよい。
【００７５】
本発明は少なくとも１種の式Ｉ〜VIの化合物を含む日焼け止め用配合物も提供する。このような組成物中の式Ｉ〜VIの化合物の量は、通常、日焼け止めの全重量に対して、０．１〜４０ｗｔ％の範囲である。
【００７６】
これらの日焼け止め配合物は、ＵＶ−Ｂおよび／またはＵＶ−Ａ線のフィルターとして１種以上の追加の有機日焼け止め剤を含んでいてもよく、あるいは、それらは、１種以上の金属酸化物日焼け止め剤、例えば二酸化チタンまたは酸化亜鉛をさらに含んでもよい。
【００７７】
これらの日焼け止め配合物は、さらに、担体と、分散剤、保存剤、消泡剤、芳香剤、オイル、ワックス、噴霧剤、染料、顔料、乳化剤、界面活性剤、増粘剤、湿潤剤、皮膚摩擦剤（ｅｘｆｏｌｉａｎｔ）およびエモリエントからなる群から選択される少なくとも１種の成分とを含んでもよい。これらの日焼け止め配合物は、化粧品として許容できる担体と、１種以上の化粧品用補助剤を含む化粧組成物の形態であってもよい。前記日焼け止め配合物は、所望により、ＵＶ吸収性をもたない通常の酸化防止剤または他の安定剤を含んでいてもよい。
【００７８】
これらの日焼け止め組成物またはカプセルを用いる方法並びに日焼け止め配合物の光安定性を向上させる方法も提供される。日焼け止め配合物を用いる方法は、式Ｉ〜VIの化合物を含む日焼け止め配合物を基質に塗布することを含む。好ましい基質は皮膚と体毛である。他の基質としては、これらに限定されないが、塗料、繊維、木材、プラスチック、ポリマー、着色剤、着色ワックス系物品などが挙げられ、本発明の組成物は、これらの基質に塗布されるか、あるいは、このような基質の調製の間に混合される。
【００７９】
日焼け止め配合物、特にカプセル内の日焼け止め配合物の光安定性を向上させるために、日焼け止め配合物に光が当てられた時の日焼け止めのＵＶ吸収の低下を少なくするのに十分な量で式Ｉ〜VIの化合物が日焼け止め配合物に添加される。典型的な量は、前記日焼け止め配合物の全重量に対して、０．１％〜４０ｗｔ％の範囲にある。より典型的には、前記の量は、１ｗｔ％〜２５ｗｔ％の範囲内にある。式Ｉ〜VIの有機日焼け止め化合物の量は、好ましくは、日焼け止め配合物の約３ｗｔ％〜約１５ｗｔ％の範囲である。先に言及され、また以下により詳細に説明される他の成分は、それぞれ、一般に、日焼け止め配合物の約０．１ｗｔ％〜約１０ｗｔ％の量で用いられる。残りの部分としては、化粧品または医薬として許容できる担体が含まれる。
【００８０】
日焼け止め配合物は、活性成分が一様な層として塗布される助けとなるように、分散剤、乳化剤または増粘剤を含んでもよい。日焼け止め配合物に適する分散剤には、例えばキトサンを含めて、水相、油相において、またはエマルジョンの一部として、有機または無機日焼け止め剤を分散させるのに有用であるものが含まれる。
【００８１】
乳化剤は、日焼け止め配合物に、１種以上の式Ｉ〜VIの化合物あるいは日焼け止め配合物の他の成分を分散させるために使用できる。適切な乳化剤としては、例えば、グリセロールステアレート、ステアリルアルコール、セチルアルコール、ジメチコンコポリホスフェート、ヘキサデシル−Ｄ−グルコシド、オクタデシル−Ｄ−グルコシドなどのような通常の乳化剤が挙げられる。
【００８２】
増粘剤は、日焼け止め配合物の粘度を増加させるために使用できる。適切な増粘剤には、カルボマー、アクリレート／アクリロニトリルのコポリマー、キサンタンガムおよびこれらの組合せが含まれる。カルボマー増粘剤には、Ｂ．Ｆ．グッドリッチの架橋カルボポールアクリルポリマーが含まれる。日焼け止め配合物中の増粘剤の量は、水を除いた固形分重量に対して、約０．００１〜約５重量％、好ましくは、０．０１〜約１重量％、最適には、約０．１〜約０．５重量％の範囲である。
【００８３】
皮膚または体毛に塗布される日焼け止め配合物の重要でない任意的な補助成分としては、保存剤、防水剤、香料、消泡剤、植物抽出物（アロエベラ、ウィッチヘーゼル、キュウリなど）、乳白剤、スキンコンディショニング剤および着色剤が挙げられ、それぞれ個々の機能を果たすのに効果のある量で用いられる。
【００８４】
日焼け止め配合物は、所望により防水性を高める成分、例えばジメチコンコポリオールホスフェート、ジイソステアロイルトリメチロールプロパン、シロキシシリケート、キトサン、ジメチコン、ポリエチレン、ポリビニルピロリドン／ビニルアセテート、ＰＶＰ／エイコセンのコポリマーおよびアジピン酸／ジエチレングリコール／グリセリンのクロスポリマーなどのようなポリマー膜を形成する化合物を含んでもよい。防水剤は、約０．０１〜約１０重量％のレベルで存在する。
【００８５】
所望により、日焼け止め配合物は、１種以上のスキンコンディショニング剤を含み得る。これらには、湿潤剤、皮膚摩擦剤およびエモリエントが含まれる。
【００８６】
湿潤剤は、潤いを与え、鱗屑の形成を減らし、また、蓄積した鱗屑が皮膚から取り除かれるように促すことを目的とする多価アルコールである。典型的な多価アルコールには、ポリアルキレングリコール、より好ましくは、アルキレンポリオールとそれらの誘導体が含まれる。例としては、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ソルビトール、２−ピロリドン−５−カルボキシレート、ヒドロキシプロピルソルビトール、へキシレングリコール、エトキシジグリコール１，３−ブチレングリコール、１，２，６−ヘキサントリオール、グリセリン、エトキシル化グリセリン、プロポキシル化グリセリンおよびこれらの混合物が含まれる。最も好ましい湿潤剤はグリセリンである。湿潤剤の量は、日焼け止め組成物またはカプセルの重量に対して、１〜３０重量％、好ましくは、２〜２０重量％、最適には、約５〜１０重量％の範囲である。
【００８７】
本発明において使用するのに適する皮膚摩擦剤は、α−ヒドロキシカルボン酸、βヒドロキシカルボン酸およびこれらの酸の塩から選択できる。最も好ましいのは、グリコール酸、乳酸およびサリチル酸、ならびにこれらのアルカリ金属またはアンモニウムの塩である。
【００８８】
適切なエモリエントには、皮膚または体毛を柔軟にする目的で知られている作用剤が含まれ、それらは、炭化水素、脂肪酸、脂肪アルコールおよびエステルから選択できる。ワセリンは、一般的な炭化水素性のエモリエントコンディショニング剤である。使用できる他の炭化水素には、アルキルベンゾエート、ミネラルオイル、ポリデセンのようなポリオレフィン、およびイソヘキサデカンのようなパラフィンが含まれる。脂肪酸および脂肪アルコールは、通常、約１０〜３０個の炭素原子をもつ。例には、ミリスチン、イソステアリン、ヒドロキシステアリン、オレイン、リノール、リシノール、ベヘンおよびエルカの酸ならびにアルコールがある。エステルエモリエントは、トリグリセリドエステル、アセトグリセリドエステル、エトキシル化グリセリド、脂肪酸のアルキルエステル、エーテルエステル、多価アルコールエステルおよびワックスエステルから選択される１種以上であってもよい。他のエモリエントまたは疎水性の作用剤としては、Ｃ12〜Ｃ15アルキルベンゾエート、ジオクチルアジペート、オクチルステアレート、オクチルドデカノール、ヘキシルラウレート、オクチルドデシルネオペンタノエート、シクロメチコン、ジカプリルエーテル、ジメチコン、フェニルトリメチコン、イソプロピルミリステート、カプリル／カプリングリセリド、プロピレングリコールジカプリレート／ジカプレート、およびデシルオレエートが挙げられる。
【００８９】
日焼け止め配合物は、所望により微細な表面処理二酸化チタンと、微細な未処理および表面処理酸化亜鉛を含む１種以上の前記無機日焼け止め剤を含んでもよい。好ましくは、日焼け止め組成物またはカプセル中の二酸化チタンは、５〜１５０ｎｍ、好ましくは１０〜１００ｎｍの平均１次粒子径をもつ。二酸化チタンは、アナターゼ、ルチルまたは非晶質構造であってもよい。好ましくは、日焼け止め組成物またはカプセル中の酸化亜鉛は、５ｎｍ〜１５０ｎｍ、好ましくは１０ｎｍ〜１００ｎｍの平均１次粒子径をもつ。
修飾二酸化チタン組成物の例としては、以下が挙げられる。
【００９０】
ユーソレックス（登録商標）Ｔ−４５Ｄ（アルミナおよびシメチコンで表面処理、４５％のイソノニルイソノノエート（ｉｓｏｎｏｎｏａｔｅ）分散物）；
ユーソレックス（登録商標）Ｔ−Ａｑｕａ（水酸化アルミニウムで表面処理、２５％の水分散物）；
ユーソレックス（登録商標）Ｔ−２０００（アルミナおよびシメチコンで表面処理）；および
ユーソレックス（登録商標）Ｔ−ＡＶＯ（シリカで表面処理）；全てメルクＫＧａＡ／ＥＭＤケミカルズから入手可能。
【００９１】
日焼け止め配合物はまた、１種以上の追加の低分子有機発色化合物も含んでもよい。これらは、ＵＶ−Ａ、ＵＶ−Ｂまたは広帯域フィルターであってもよい。適切なＵＶ−Ａ日焼け止めには、ベンゾフェノン誘導体、メンチルアンスラニレート、ブチルメトキシジベンゾイルメタン、およびベンジリデン−ジオキソイミダゾリン誘導体が含まれる。
【００９２】
ＵＶ−Ｂ有機日焼け止めは、好ましくは液体であり、好ましくはジベンゾイルメタン誘導体を、好ましくは少なくとも１５％まで可溶化できる。適切なＵＶ−Ｂ日焼け止めの例としては、シンナメート、サリチレートおよびジフェニルアクリレート、これらの誘導体およびこれらの組合せが挙げられる。好ましいＵＶ−Ｂ日焼け止めは、サリチレートまたはシンナメート単独、あるいは組合せである。特に、本発明に適する好ましいＵＶ−Ｂ有機日焼け止めとしては、サリチレート誘導体およびシンナメート誘導体が挙げられる。
【００９３】
サリチレート、例えば、ホモサラート、エチルヘキシルサリチレートおよびジプロピレングリコールサリチレートは、λｍａｘ約３０６ｎｍをもつＵＶ−Ｂ吸収剤である。
【００９４】
【化７】
【００９５】
他のサリチレートもまた本発明により含まれる。本発明の組成物は、所望により０〜８０％の範囲の量で存在する少なくとも１種のサリチレートを含む。
【００９６】
シンナメート誘導体、例えば、エチルヘキシルメトキシシンナメート（４Ａ）、イソアミル−ｐ−メトキシシンナメート（４Ｂ）、シノキサート（４Ｃ），イソプロピルメトキシシンナメート（４Ｄ），ジイソプロピルメチルシンナメート（４Ｅ）およびグリセリルエチルヘキサノエートジメトキシシンナメート（４Ｆ）は、全て、λｍａｘ約３１０ｎｍをもつＵＶ−Ｂ吸収剤である。
【００９７】
【化８】
【００９８】
他のシンナメートもまた本発明により含まれる。本発明の組成物は、所望により０〜８０％の範囲の量で存在する少なくとも１種のシンナメートを含む。
【００９９】
適切な広帯域日焼け止めの例としては、ベンゾトリアゾール誘導体および、アニソトリアゾン（ａｎｉｓｏｔｒｉａｚｏｎｅ）のようなトリアジン誘導体が含まれる。他には、エチルヘキシルトリアゾンおよびジエチルヘキシルブタミドトリアゾンが挙げられる。
【０１００】
導入し得る特に有用な有機日焼け止め剤は、２−エチルヘキシル−ｐ−メトキシシンナメート、４，４’−ｔ−ブチルメトキシジベンゾイルメタン、２ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、オクチルジメチル ｐ−アミノ安息香酸、２，２−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、エチル−４−［ビス（ヒドロキシプロピル）］アミノベンゾエート、２−エチルヘキシル−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート、２−エチルヘキシルサリチレート、グリセロール ｐ−アミノベンゾエート、３，３，５−トリメチルシクロヘキシルサリチレート、メチルアントラニレート、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸、２−エチルヘキシル ｐ−ジメチルアミノベンゾエート、２−フェニルベンズイミダゾール−５−５−スルホン酸、２−（ｐ−ジメチルアミノフェニル−５−スルホニオベンゾオキサゾン酸およびこれらの混合物である。
【０１０１】
導入し得る有用な市販の有機日焼け止め剤の例には、２−フェニルベンゾイミダゾール−５−スルホン酸、２−（４−メチルベンジリデン）−カンファー、４−イソプロピルジベンゾイルメタンがあり、全て、ＥＭＤケミカルズ社（米国）およびメルクＫＧａＡ（ダルムシュタット、ドイツ）により販売されている、ユーソレックス（商標）シリーズである。所望により、全ての追加の有機ＵＶフィルターは、別に、あるいは混合物としてカプセル化されて、カプセル化された形で使用できる。これらの有機ＵＶフィルターは、通常、０．５〜１０重量％、好ましくは１〜８％の量で配合物中に組み込まれる。
【０１０２】
日焼け止め配合物はさらなる酸化防止剤を含んでもよい。安定性を付与する適切な酸化防止剤の例には、ｐ−ヒドロキシ安息香酸およびその誘導体（ｐ−ヒドロキシ安息香酸のエチルイソブチル、グリセリルエステル）；サリチレート（オクチルアミル、フェニル、ベンジル、メンチル、グリセロールおよびジプロピレングリコールエステル）；クマリン誘導体；フラボン類；ヒドロキシもしくはメトキシ置換ベンゾフェノン；尿酸またはタンニン酸およびその誘導体が含まれる。
【０１０３】
ＵＶを吸収するレベルで日焼け止め活性を付与する以外に、式Ｉ〜VIの化合物を、スキンケア配合物、ヘアケア配合物または、化粧品配合物のような他のパーソナルケア配合物に、酸化防止活性を付与するレベルで組み入れることができる。これらの化合物は、ヘアケア、スキンケアおよび化粧品の配合物などのパーソナルケア配合物に、通常の酸化防止剤と共に、あるいはそれなしで使用できる。
【０１０４】
さらなる酸化防止機能をもたせるためには、式ＩまたはIIの化合物のフェニル基は、「３，５−アルコキシ，４−ヒドロキシ」または「３−アルコキシ−４−ヒドロキシ」の置換基様式をもつべきであることが見出された。式ＩまたはＩＩの化合物はまた、ＵＶ吸収機能（ＵＶ領域における発色）を与える、拡張された芳香環との共役をもつ。非芳香族官能基の構造は広い範囲で変わり得て、上の式II、III、およびIVにおいて例が与えられている。
【０１０５】
好ましくは、本発明の日焼け止め配合物により、約２９０ｎｍ〜４００ｎｍの波長をもつ紫外線から、好ましくは約２９０〜３７０ｎｍの範囲の波長から保護される。本発明の日焼け止め配合物はまた、通常、約２〜６０の範囲の日焼け防止指数（ＳＰＦ）、好ましくは約１０〜約４５のＳＰＦ範囲を有する。目標とするＳＰＦ範囲は、無機および有機発色化合物の組合せにより実現できる。ＳＰＦは、連邦官報，Ａｕｇｕｓｔ ２５，１９７８，Ｖｏｌ．４３，Ｎｏ．１６６，ｐａｇｅｓ ３８２５９−３８２６９（処方箋なしで販売されるヒト用の日焼け止め薬剤），連邦食品医薬品局）に記載のように、ヒトの皮膚上で当技術分野で周知の方法により求められる。例えば、Ｊ．Ｓｏｃ．Ｃｏｓｍｅｔ．Ｃｈｅｍ．４４：１２７−１３３ （Ｍａｙ／Ｊｕｎｅ １９８９）に記載のようにｉｎ−ｖｉｔｒｏモデルを用いて、ＳＰＦのおよその値を求めることも可能である。
【０１０６】
本発明の組成物は、通常の手段により、記載されるようにして調製できる。前記の日焼け止めカプセルと局所適用に適する担体とを混合することによる、局所適用のための組成物の製造方法は、本発明の他の実施形態である。
【０１０７】
ＷＯ２００３／００７９０６Ａに記載されているようにして、式Ｉ〜ＶＩの化合物を得ることができる。例えば、好ましい化合物は、対応する、式Ｂの３，５−ジアルコキシ，４−ヒドロキシベンズアルデヒド（式中、Ｒは上に定義された通りである）：
【０１０８】
【化９】
【０１０９】
と、先に定義されたＵＶ吸収部分「Ａ」を与える化合物との縮合により得ることができる。例は、式、Ｒ1−ＣＨ2−Ｃ（Ｏ）ＸＲ2（Ｒ1およびＲ2およびＸは先に定義された通りである）の化合物である。
【０１１０】
式Ｂのベンズアルデヒドは市販品から得られる、あるいは、４位の選択的脱モノメチル化により３，４，５−トリメトキシベンズアルデヒドから調製できる。別法として、シリンガアルデヒドは、３−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ブロモベンズアルデヒドから、ナトリウムメトキサイドを用いてブロムをメトキシで置換することにより調製できる。この方法によりシリンガアルデヒドが得られる。次に、シリンガアルデヒドを、マロン酸エステルまたはアセチルアセトアセテートまたは類似の化合物と縮合させて、望みのＵＶ吸収構造が得られる。
【０１１１】
本発明での２種の化合物の調製方法が下に例示される。
【０１１２】
【化１０】
【０１１３】
一実施形態において、本発明は、ｉ）少なくとも１種のＵＶ−Ａ有機日焼け止めおよびｉｉ）少なくとも１種の式VIIの化合物：
【０１１４】
【化１１】
【０１１５】
（式中、各Ｒは、独立して、直鎖もしくは分岐状のＣ1〜Ｃ8アルキルであり；Ｒ1は、−Ｃ（Ｏ）ＣＨ3、−ＣＯ2Ｒ3、−Ｃ（Ｏ）ＮＨ2、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ4）2および−ＣＮからなる群から選択され；Ｘは、ＯまたはＮＨまたはＮ−Ｃ1〜Ｃ8アルキル、好ましくはＮ−メチルまたはＮ−エチルであり；Ｒ2は、直鎖もしくは分岐状のＣ1〜Ｃ20アルキルであり；Ｒ3は、直鎖もしくは分岐状のＣ1〜Ｃ20アルキルであり；また、Ｒ4は、独立して、水素または直鎖もしくは分岐状のＣ1〜Ｃ8アルキルである）を含む、日焼け止め組成物またはカプセルに関し、前記組成物は、所望により、少なくとも１種のＵＶ−Ｂ液体有機日焼け止めおよび／または少なくとも１種の可溶化剤を含む。
【０１１６】
別の実施形態において、式IIのＲ1は、−Ｃ（Ｏ）ＣＨ3、−ＣＯ2Ｒ3、−Ｃ（Ｏ）ＮＨ2および−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ4）2からなる群から選択される。別の実施形態において、ＲはＣ1〜Ｃ4アルキルであり、Ｘは酸素であり、またＲ2は、直鎖もしくは分岐状のＣ1〜Ｃ4アルキルである。さらに別の実施形態において、Ｒ1はＣＯ2Ｒ3であり、Ｒ3は直鎖もしくは分岐状のＣ1〜Ｃ4アルキルである。別の実施形態において、Ｒ1はＣ（Ｏ）ＣＨ3である。さらに別の実施形態において、Ｒ1は−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ4）2であり、少なくとも１つのＲ4は水素であり、他方は水素または直鎖もしくは分岐状のＣ1〜Ｃ4アルキルである。さらに別の実施形態において、Ｒ1は−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ4）2であり、各Ｒ4は、独立して、直鎖もしくは分岐状のＣ1〜Ｃ4アルキルである。さらに別の実施形態において、ＲはＣ1〜Ｃ4アルキルであり、Ｒ1はＣＯ2Ｒ3であり、Ｒ2およびＲ3の少なくとも１つは直鎖もしくは分岐状のＣ8〜Ｃ20アルキルである。別の実施形態において、Ｒ2およびＲ3はそれぞれ直鎖もしくは分岐状のＣ8アルキルである。さらに別の実施形態において、Ｒ2およびＲ3の少なくとも１つは直鎖もしくは分岐状のＣ12〜Ｃ20アルキルである。別の実施形態において、Ｒはメチルまたはエチルである。
【０１１７】
別の実施形態において、ＵＶ−Ａ有機日焼け止めは、４−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４’−メトキシジベンゾイルメタンであり、式IIの化合物は、ジ−２−エチルヘキシル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシ−ベンザルマロネートである。
【０１１８】
別の実施形態において、前記の４−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４’−メトキシジベンゾイルメタンとジ−２−エチルヘキシル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシ−ベンザルマロネートは、約３：１〜約１：３、好ましくは、約１：０．８〜１：２の重量比で存在する。
【０１１９】
さらに別の実施形態において、本発明のカプセルは、４−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４’−メトキシジベンゾイルメタンを含み、式IIの化合物は、ジ−２−エチルヘキシル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシ−ベンザルマロネートおよびホモサラートである。
【０１２０】
別の実施形態において、ＵＶ−Ａ有機日焼け止めは、４−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４’−メトキシジベンゾイルメタンであり、式IIの化合物は、ジ−２−エチルヘキシル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシ−ベンザルマロネートである。別の実施形態において、前記の４−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４’−メトキシジベンゾイルメタンとジ−２−エチルヘキシル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシ−ベンザルマロネートは、１：２または１：３の比で存在する。
【０１２１】
さらに別の実施形態において、本発明のカプセルは、４−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４’−メトキシジベンゾイルメタン、ジ−２−エチルヘキシル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシ−ベンザルマロネートおよびオクチルメトキシシンナメート（オクチノキセート）を含む。
【０１２２】
別の実施形態において、本発明の日焼け止め組成物またはカプセルは、ｉ）少なくとも１種のＵＶ−Ａ有機日焼け止めおよびｉｉ）少なくとも１種の式IIIまたはIVの化合物
【０１２３】
【化１２】
【０１２４】
（式中、Ｒ1は、−Ｃ（Ｏ）ＣＨ3、−ＣＯ2（Ｃ1〜Ｃ8アルキル）、−Ｃ（Ｏ）ＮＨ2、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）2および−ＣＮからなる群から選択され；ＸはＯまたはＮＨまたはＮ−Ｃl〜Ｃ8アルキルであり；Ｒ2は、Ｃ1〜Ｃ12アルキルである）を含み、前記組成物は、所望により、少なくとも１種のＵＶ−Ｂ液体有機日焼け止めおよび／または少なくとも１種の可溶化剤を含む。
【０１２５】
別の実施形態において、式IIIまたはIVのＲ1は、−Ｃ（Ｏ）ＣＨ3、−ＣＯ2（Ｃ1〜Ｃ8アルキル）、−Ｃ（Ｏ）ＮＨ2、−Ｃ（Ｏ）ＮＨ（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）、および−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）2からなる群から選択される。別の実施形態において、Ｘは酸素であり、Ｒ2は直鎖もしくは分岐状のＣ1〜Ｃ4アルキルであり、Ｒ1は，−ＣＯ2（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）、−Ｃ（Ｏ）ＮＨ（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）、−Ｃ（Ｏ）ＣＨ3、−Ｃ（Ｏ）ＮＨ2、および−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）2からなる群から選択される。さらに別の実施形態において、Ｒ1は、−ＣＯ2Ｃ8Ｈ18である。
【０１２６】
別の実施形態において、式IIの化合物は、以下からなる群から選択される：エチル−α−アセチル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシシンナメート；イソプロピル−α−アセチル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシシンナメート；イソアミル−α−アセチル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシシンナメート；２−エチルヘキシル−α−アセチル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシシンナメート；ジエチル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート；ジ−（２−エチルヘキシル）−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート；ジイソアミル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート；ジパルミトイル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート；ジ−ドデシル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート；およびジ−イソプロピル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート。
【０１２７】
別の実施形態において、式IIの化合物は、２９０〜４００ｎｍの範囲、好ましくは３２０ｎｍを超える波長の放射線を吸収するのに有効な量で存在する。
【０１２８】
一実施形態において、日焼け止め組成物またはカプセルは、０．１〜４０ｗｔ％の式IIの化合物と、所望により、ＵＶ−Ｂ線、ＵＶ−Ａ線または両方のフィルターとなる追加の有機日焼け止め剤を含み、前記作用剤は無機金属酸化物日焼け止め剤であってもよい。好ましくは、式IIの化合物は、追加の日焼け止め剤を光に曝されることによる分解に対して安定化する。
【０１２９】
別の実施形態において、本発明は、本発明の日焼け止め組成物またはカプセルまたはパーソナルケア組成物を基質、例えば皮膚または毛髪に塗布することを含む、紫外線から基質を保護する方法に関する。
【０１３０】
別の実施形態において、本発明は、ｉ）少なくとも１種のＵＶ−Ａ有機日焼け止めおよびｉｉ）エチル−α−アセチル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシシンナメート；イソプロピル−α−アセチル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシシンナメート；イソアミル−α−アセチル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシシンナメート；２−エチルヘキシル−α−アセチル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシシンナメート；ジエチル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート；ジ−（２−エチルヘキシル）−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート；ジイソアミル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート；ジパルミトイル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート；ジ−ドデシル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート；およびジ−イソプロピル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネートからなる群から選択される少なくとも１種の化合物を含む、日焼け止め組成物またはカプセルに関する。この日焼け止めは、さらに、少なくとも１種のＵＶ−Ｂ液体有機日焼け止めおよび／または少なくとも１種の可溶化剤を含んでいてもよく、ゾル−ゲル法によるカプセル化により調製されることが好ましい。
【０１３１】
別の実施形態において、日焼け止め組成物またはカプセルは、式IIの化合物以外の酸化防止剤をさらに含む。この酸化防止剤は、例えば、トコフェロール、トコフェリルアセテート、アスコルビン酸、エンブリカ酸化防止剤、プロアントシアニジン、ローズマリー酸化防止剤、緑茶ポリフェノール、没食子酸、エラグ酸、ブチルヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）および／またはブチルヒドロキシアニソール（ＢＨＡ）であってもよい。
【０１３２】
別の実施形態において、式ＩまたはIIの化合物は、エチル−α−シアノ−３−メトキシ−４−ヒドロキシシンナメート；エチル−α−アセチル−３−メトキシ−４−ヒドロキシシンナメート；イソプロピル−α−アセチル−３−メトキシ−４−ヒドロキシシンナメート；イソアミル−α−アセチル−３−メトキシ−４−ヒドロキシシンナメート；２−エチルヘキシル−α−アセチル−３−メトキシ−４−ヒドロキシシンナメート；ジエチル−３−メトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート；ジ−（２−エチルヘキシル）−３−メトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート；ジイソアミル−３−メトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート；ジパルミトイル−３−メトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート；ジ−ドデシル−３−メトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート；ジ−イソプロピル−３−メトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート；ジ−（２−エチルヘキシル）−３−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−イソプロピル−ベンジリデンマロネート；ジ−イソアミル−３−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ．ブチル−ベンジリデンマロネート；イソアミル−α−アセチル−３−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−イソプロピルシンナメート；およびイソアミル−α−アセチル−３−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ．ブチルシンナメートからなる群から選択される。
【０１３３】
別の実施形態において、式ＩまたはIIの化合物は、２９０〜４００ｎｍの範囲、好ましくは３２０ｎｍを超える波長の放射線を吸収するのに有効な量で存在する。
【０１３４】
一実施形態において、日焼け止め組成物またはカプセルは、０．１〜４０ｗｔ％の式ＩまたはＩＩの化合物を含み、所望により、ＵＶ−Ｂ線、ＵＶ−Ａ線または両線のフィルターとなる追加の有機日焼け止め剤を含み、この日焼け止め剤は、無機金属酸化物日焼け止め剤であってもよい。好ましくは、式ＩまたはIIの化合物は、追加の日焼け止め剤を光に曝されることによる分解に対して安定化する。
【０１３５】
ｉ）少なくとも１種の前記のカプセルおよびｉｉ）局所適用に適する担体を含む局所適用のための組成物は、本発明のさらなる実施形態である。
【０１３６】
好ましくは、局所適用のための組成物は、ｉｉｉ）保存剤、消泡剤、芳香剤、オイル、ワックス、噴霧剤、染料、顔料、防水剤、乳化剤、界面活性剤、増粘剤、湿潤剤、皮膚摩擦剤およびエモリエントからなる群から選択される、少なくとも１種の補助剤をさらに含む。
【０１３７】
局所適用のための組成物は、好ましくは、クリーム、軟膏、懸濁液、粉末、油性ローション、含油アルコールローション、脂肪ゲル、含油アルコールゲル、固形スティック、気泡、エマルジョン、分散液、スプレー、エアロゾル、口紅、ファンデーション、メイクアップ、ルースまたはプレス粉末、アイブラッシュ、アイシャドウおよびネイルエナメルからなる群から選択される形態になっている。
【０１３８】
局所適用のための組成物は、好ましくは、ＵＶ−Ｂ線、ＵＶ−Ａ線または両線のフィルターとなる少なくとも１種の追加の有機日焼け止め剤を含み、好ましくは、ＵＶ−Ｂ線、ＵＶ−Ａ線または両線のフィルターとなる追加の有機日焼け止め剤の少なくとも１種はカプセル化されている。
【０１３９】
別の実施形態において、局所適用のための組成物は、トコフェロール、トコフェリルアセテート、アスコルビン酸、エンブリカ酸化防止剤、プロアントシアニジン、ローズマリー酸化防止剤、緑茶ポリフェノール、没食子酸、エラグ酸、ブチルヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）およびブチルヒドロキシアニソール（ＢＨＡ）からなる群から好ましくは選択される、少なくとも１種の他の酸化防止剤を含む。
【０１４０】
さらに別の実施形態において、日焼け止め組成物またはカプセルは、式Ｖの化合物以外の光安定剤を含まず、式Ｖの化合物は、前記日焼け止め配合物の０．１％〜４０ｗｔ％の範囲内の量で存在する。
【０１４１】
別の実施形態において、日焼け止め組成物またはカプセルは、式Ｖの化合物以外の酸化防止剤を含み、他の前記の酸化防止剤は、例えば、トコフェロール、トコフェリルアセテート、アスコルビン酸、エンブリカ酸化防止剤、プロアントシアニジン、ローズマリー酸化防止剤、緑茶ポリフェノール、没食子酸、エラグ酸、ブチルヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）およびブチルヒドロキシアニソール（ＢＨＡ）であってもよい。
【０１４２】
さらに別の実施形態において、式Ｖの化合物は、酸化から配合物の成分を保護するのに有効な量で存在する。
【０１４３】
さらに別の実施形態において、本発明は、前記の日焼け止め組成物またはカプセルを基質に塗布することを含む、紫外線から基質を保護する方法に関する。
【０１４４】
さらに詳細に記載しなくても、当業者は、これまでの説明を用いて、本発明を十分に利用することができると考えられる。したがって、以下の好ましい具体的な実施形態は、単なる例示であり、如何なる仕方においても開示の他の部分を制限しないと解釈されるべきである。本明細書において引用された全ての出願、特許および公報の全ての開示と優先権書類の開示は、参照を通じて本明細書に組み込まれる。以下の実施例は全てが必ずしも実際に実施されたわけではない。
【実施例】
【０１４５】
Ａ．光安定剤の調製
実施例Ｉ
２−エチルヘキシル−α−アセト−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシシンナメート
３，４，５−トリメトキシベンズアルデヒドの硫酸を用いる４０℃で８時間のモノ脱メチル化により３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンズアルデヒド（シリンガアルデヒド）が生成する。シリンガアルデヒドと２−エチルヘキシルアセトアセテートを、反応媒体としてのピペリジン−酢酸およびベンゼンの存在下、還流温度で持続的な共沸下で水を除去しながら縮合することにより、標記生成物を得る。反応は約１．５時間で終了する。収量は代表的には９２％である。
実施例II
ジエチル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート
３，４，５−トリメトキシベンズアルデヒドの硫酸を用いる４０℃で８時間のモノ脱メチル化により上記実施例Ｉと同様にシリンガアルデヒドを生成する。
【０１４６】
３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンズアルデヒド（シリンガアルデヒド）とジエチルマロネートを、反応媒体としてのピペリジン−酢酸およびベンゼンの存在下、還流温度で持続的な共沸下で水を除去しながら縮合することにより、標記生成物を得る。反応は約７．５時間で終了する。
実施例III
エチル−α−メチル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシシンナメート
３，４，５−トリメトキシベンズアルデヒドの硫酸を用いる４０℃で８時間のモノ脱メチル化により上記実施例Ｉと同様にシリンガアルデヒドが生成する。
【０１４７】
トリフェニルホスフィンとエチル−２−ブロモプロピオネートをベンゼン媒体中で７０〜７５℃で８時間反応させ、次いで１Ｎ水酸化ナトリウムによりフェノールフタレインの終点まで室温で塩基性化することにより、ウィッティヒ塩を調製する。ベンゼンによる抽出、ベンゼン抽出物の濃縮および石油エーテル（６０〜８０℃）の添加によりトリフェニルメチルカルボエトキシメチレンホスホランが固体生成物として生成する。３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンズアルデヒド（シリンガアルデヒド）とトリフェニルメチルカルボエトキシメチレンホスホランをキシレン中、還流温度で７時間縮合し、後処理した後標記の化合物が生成する。
実施例IV
エチル−α−アセチル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシ−シンナメート
３，４，５−トリメトキシベンズアルデヒドの硫酸を用いる４０℃で８時間のモノ脱メチル化により上記実施例Ｉと同様にシリンガアルデヒドが生成する。
【０１４８】
３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンズアルデヒド（シリンガアルデヒド）とエチルアセトアセテートを反応媒体としてピペリジン−酢酸およびベンゼンの存在下、還流温度で縮合することにより標記生成物を得る。反応は約３．５時間で終了する。
実施例Ｖ
ジ−（２−エチルヘキシル）−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート
３，４，５−トリメトキシベンズアルデヒドの硫酸を用いる４０℃で８時間のモノ脱メチル化により上記実施例Ｉと同様にシリンガアルデヒドが生成する。２−エチルヘキシルアルコールを用い、窒素雰囲気中、硫酸の存在下、１４０〜１５５℃で２時間、無溶媒条件でジエチルマロネートをエステル交換し、後処理した後高真空の蒸留をすることにより、ジ−６−エチルヘキシルマロネートを得る。
【０１４９】
３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンズアルデヒド（シリンガアルデヒド）とジ−２−エチルヘキシルマロネートを反応媒体としてピペリジン−酢酸およびベンゼンの存在下、還流温度で持続的な共沸下で水を除去しながら縮合することにより、ジ−２−エチルヘキシル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネートが生成する。反応は約９時間で終了する。収量は代表的には９１％である。
実施例VI
ジ−イソアミル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート
ジ−２−エチルヘキシルマロネートをジ−イソアミルマロネートで置き換えて縮合工程を行う以外、実施例Ｖを繰り返した。収量は代表的には９０％を超えた。
実施例VII
ジ−イソプロピル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート
ジ−２−エチルヘキシルマロネートをジ−イソプロピルマロネートで置き換えて縮合工程を行う以外、実施例Ｖを繰り返した。収量は代表的には９０％を超えた。
実施例VIII
ジ−ドデシル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート
ジ−２−エチルヘキシルマロネートをジ−ドデシルマロネートで置き換えて縮合工程を行う以外、実施例Ｖを繰り返した。収量は代表的には９０％を超えた。
実施例IX
イソ−プロピル−α−アセチル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシ−シンナメート
エチルアセトアセテートをイソ−プロピルアセトアセテートで置き換えて縮合工程を行う以外、実施例IVを繰り返した。目的物の収量は８８％であった。
実施例Ｘ
イソ−ブチル−α−アセチル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシ−シンナメート
エチルアセトアセテートをイソ−ブチル−アセトアセテートで置き換えて縮合工程を行う以外、実施例ＩＶを繰り返した。目的物の収量は８９％であった。
実施例XI
イソ−アミル−α−アセチル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシ−シンナメート
エチルアセトアセテートをイソ−アミルアセトアセテートで置き換えて縮合工程を行う以外、実施例IVを繰り返した。目的物の収量は８９％であった。
実施例XII
エチル−α−シアノ−３−メトキシ−４−ヒドロキシシンナメート
バニリンとエチルシアノアセテートを反応媒体としてピペリジン−酢酸およびベンゼンの存在下、還流温度で持続的な共沸下で水を除去しながら縮合することにより、標記の生成物を得る。反応は約１．５時間で終了する。収量は代表的には９５％である。
実施例XIII
ジエチル−３−メトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート
３−メトキシ−４−ヒドロキシベンズアルデヒド（バニリン）とジエチルマロネートを反応媒体としてピペリジン−酢酸およびベンゼンの存在下、還流温度で持続的な共沸下で水を除去しながら縮合することにより、標記の生成物を得る。反応は約６．５時間で終了する。
実施例XIV
エチル−α−アセチル−３−メトキシ−４−ヒドロキシ−シンナメート
３−メトキシ−４−ヒドロキシベンズアルデヒド（バニリン）とエチルアセトアセテートを反応媒体としてピペリジン−酢酸およびベンゼンの存在下、還流温度で縮合することにより標記の生成物を得る。反応は約３．５時間で終了する。
実施例XV
ジ−（２−エチルヘキシル）−３−メトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート
２−エチルヘキシルアルコールを用い、窒素雰囲気中、硫酸の存在下、１４０〜１５５℃で２時間、無溶媒条件でジメチルマロネートをエステル交換し、後処理した後高真空の蒸留をすることにより、ジ−６−エチルヘキシルマロネートを得る。
【０１５０】
３−メトキシ−４−ヒドロキシベンズアルデヒド（バニリン）とジ−２−エチルヘキシルマロネートを、反応媒体としてのピペリジン−酢酸およびベンゼンの存在下、還流温度で持続的な共沸下で水を除去しながら縮合することにより、ジ−２−エチルヘキシル−３−メトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネートを生成する。反応は約９時間で終了する。収量は代表的には９１％である。
実施例XVI
ジ−イソアミル−３−メトキシ−４−ヒドロキシ−ベンジリデンマロネート
ジ−２−エチルヘキシルマロネートをジ−イソアミルマロネートで置き換えて縮合工程を行う以外、実施例IVを繰り返す。収量は代表的には９０％を超える。
実施例XVII
ジ−イソプロピル−３−エトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート
ジ−２−エチルヘキシルマロネートをジ−イソプロピルマロネートで置き換えて縮合工程を行う以外、実施例IVを繰り返す。収量は代表的には９０％を超える。
実施例XVIII
ジ−ドデシル−３−メトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート
ジ−２−エチルヘキシルマロネートをジ−ドデシルマロネートで置き換えて縮合工程を行う以外、実施例IVを繰り返す。収量は代表的には９０％を超える。
実施例XIX
イソ−プロピル−α−アセチル−３−メトキシ−４−ヒドロキシ−シンナメート
エチルアセトアセテートをイソ−プロピルアセトアセテートで置き換えて縮合工程を行う以外、実施例IIIを繰り返す。目的物の収量は８８％である。
実施例XX
イソ−ブチル−α−アセチル−３−メトキシ−４−ヒドロキシ−シンナメート
エチルアセトアセテートをイソ−ブチルアセトアセテートで置き換えて縮合工程を行う以外、実施例IIIを繰り返す。目的物の収量は８９％である。
実施例XXI
イソ−アミル−α−アセチル−３−メトキシ−４−ヒドロキシ−シンナメート
エチルアセトアセテートをイソ−アミルアセトアセテートで置き換えて縮合工程を行う以外、実施例IIIを繰り返す。目的物の収量は８９％である。
実施例XXII
ジイソアミル−３−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−イソプロピルベンジリデンマロネート
３−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−イソプロピルベンズアルデヒドとジ−イソアミルマロネートを、反応媒体としてのピペリジン−酢酸およびベンゼンの存在下、還流温度で持続的な共沸下で水を除去しながら縮合することにより、標記の生成物を得る。反応は約３時間で終了する。収量は代表的には９０〜９５％である。
実施例XXIII
イソアミル−α−アセチル−３−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−イソプロピル−シンナメート
３−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−イソプロピルベンズアルデヒドとイソアミルアセトアセテートを、反応媒体としてのピペリジン−酢酸およびベンゼンの存在下、還流温度で持続的な共沸下で水を除去しながら縮合することにより、標記の生成物を得る。反応は約４時間で終了する。収量は代表的には９０〜９５％である。
Ｂ．同時カプセル封入材料の調製
実施例１Ａ：ホモメチルサリチレート（ホモサラート，ＨＭＳ），ブチルメトキシジベンゾイルメタン（アボベンゾン，ＢＭＤＢＭ）およびジエチルヘキシル３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート（オキシネックスＳＴ）の同時カプセル封入
１０ｇのＢＭＤＢＭを３０ｇのＨＭＳおよび１０ｇのオキシネックスＳＴに溶解する。得られた混合物を５１．４ｇのテトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）に溶解し、基本的にＳ２５ＫＲ−１８Ｇ分散装置（ＩＫＡ）を備えたウルトラ−トゥラックスＴ−２５を用い、高剪断力で、有機相を１％のセチルトリメチルアンモニウムクロライド（ＣＴＡＣ）を含有する２４０ｇの水溶液に１９，０００ｒｐｍで乳化させる。均一化プロセスの間、容器壁を氷−水浴に浸漬することにより冷却する。ｐＨ１１．３の３５０ＮａＯＨ水溶液を含有する、ユーロスターパワーコントロール−ビスクＰ４撹拌機を備えたＩＫＡ ＬＲ−Ａ１０００実験室用反応装置中に得られた乳濁液を注ぐ。乳濁液を室温で２４時間撹拌する。生成物を２０，０００ｇの遠心分離により沈殿させ、脱イオン水に再懸濁させることにより洗浄し、再度沈殿させ、最後に１％のポリビニルピロリドン（ＰＶＰＫ３０、ＩＳＰ）中に再懸濁させ、懸濁液中に２１．４％のＨＭＳ、７．５％のＢＭＤＢＭおよび７．８％のオキシネックスＳＴを含有する安定な分散物を得る。
【０１５１】
得られた懸濁液は１．８２８の粒径Ｄ−９０を有し、滑らかで、心地よい感触があり、種々の化粧品媒体と組み合わせて日焼け防止組成物または紫外線から皮膚を保護するのに有効なカプセルを得ることができる。
実施例２Ａ：ホモサラート（ＨＭＳ）、ブチルメトキシジベンゾイルメタン（アボベンゾン）およびジエチルヘキシル３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート（オキシネックスＳＴ）の同時カプセル封入
ジエチルヘキシル３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート（オキシネックスＳＴ）の量を１５ｇに増やし、かつＨＭＳの量を２５ｇに減らす以外、実施例１Ａを繰り返す。上記の通常の方法により懸濁液中に１８．２％のＨＭＳ、７．４％のＢＭＤＢＭおよび１２．１％のオキシネックスＳＴを含有する安定な分散を得る。
実施例３Ａ：ホモサラート（ＨＭＳ）、ブチルメトキシジベンゾイルメタン（アボベンゾン）およびイソアミル−α−アセチル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシシンナメートの同時カプセル封入
ジエチルヘキシル３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネートの代わりにイソアミル−α−アセチル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシシンナメートを用いる以外、実施例１Ａを繰り返す。
実施例４Ａ：オクチルサリチレート、ブチルメトキシジベンゾイルメタン（アボベンゾン）およびジエチルヘキシル３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネートの同時カプセル封入
ホモメチルサリチレートをオクチルサリチレートで置き換える以外、実施例１Ａを繰り返す。
実施例５Ａ：カプリル酸／カプリン酸トリグリセリド、ブチルメトキシジベンゾイルメタン（アボベンゾン）およびジエチルヘキシル３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネートの同時カプセル封入
ホモメチルサリチレートをカプリル酸／カプリン酸トリグリセリドで置き換える以外、実施例１Ａを繰り返す。
実施例６Ａ：メトキシ（エトキシ）ｎ−プロピルジヒドロキシメチルシラン、メチルトリエトキシシランおよびフェニルトリエトキシシランの加水分解物の共重縮合物から構成されるオルガノポリシロキサンからなるカプセル壁を有する、ホモサラート（ＨＭＳ）、ブチルメトキシジベンゾイルメタン（アボベンゾン）およびジエチルヘキシル３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート（オキシネックスＳＴ）の同時カプセル封入
ａ）カプセル壁の前駆ポリマーの調製
１２ｃｍの内径を有し、機械撹拌装置を備え、滴下漏斗および還流冷却器を備えた上蓋を有する２リットルの丸底筒状ガラス反応容器に予め９０ｇの水、１０ｇのポリオキシエチレン修飾シリコーン［信越シリコーン株式会社製、ＫＦ−３５４Ａ（商標名）、およびメトキシ（エトキシ）ｎ−プロピルジヒドロキシメチルシランの両末端をトリメチルシリル基で置換することにより調製する］および０．２ｇの１８％塩酸を装入する。４．４ｇのメチルトリエトキシシランおよび１．２ｇのフェニルトリエトキシシランの混合物を５０℃で撹拌しながら滴下漏斗から滴下して加える。混合物をさらに５０℃で６時間撹拌し、次いで撹拌しながら１．６ｇの４％水酸化ナトリウム水溶液を滴下して加え、ｐＨを７．０に調整する。その後混合物を５０℃で１時間撹拌する。
【０１５２】
ｂ）コア材料の添加および乳化
５．０ｇのホモサラート（ＨＭＳ）、ブチルメトキシジベンゾイルメタン（ＢＭＤＢＭ）およびジエチルヘキシル３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート（３：１：１ｗ／ｗ比）の混合物を１）の方法で調製した反応溶液に６００ｒｐｍで撹拌しながら加え、混合物をさらに６００ｒｐｍで４時間撹拌する。
【０１５３】
ｃ）凝固防止およびカプセル壁の硬化処理
０．５ｇのトリメチルクロロシランを反応容器中の２）の方法で調製した溶液に５０℃、６００ｒｐｍで撹拌しながら加え、次いで、直ちに１ｇの２０％水酸化ナトリウム水溶液を滴下して加える。反応溶液の温度が次第に上昇し還流する。アルコールを含む蒸気を留去し、残存する混合物をさらに１５０ｒｐｍで撹拌しながら６時間加熱し、還流させる。この反応溶液を室温で１５０ｒｐｍで撹拌しながら冷却し、コア材料を含有するマイクロカプセルを得る。
【０１５４】
実施例７Ａ：メトキシ（エトキシ）ｎ−プロピルジヒドロキシメチルシラン、メチルトリエトキシシランおよびフェニルトリエトキシシランの加水分解物の共重縮合物から構成されるオルガノポリシロキサンからなるカプセル壁を有する、ホモサラート（ＨＭＳ）、ブチルメトキシジベンゾイルメタン（アボベンゾン）およびジエチルヘキシル３−メトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネートの同時カプセル封入
ジエチルヘキシル３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネートをジエチルヘキシル３−メトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネートで置き換える以外、実施例７Ａを繰り返す。
【０１５５】
実施例８Ａ：メトキシ（エトキシ）ｎ−プロピルジヒドロキシメチルシラン、メチルトリエトキシシランおよびフェニルトリエトキシシランの加水分解物の共重縮合物から構成されるオルガノポリシロキサンからなるカプセル壁を有する、カプリル酸／カプリン酸トリグリセリド、ブチルメトキシジベンゾイルメタン（アボベンゾン）およびジエチルヘキシル３−メトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネートの同時カプセル封入
ホモサラートをカプリル酸／カプリン酸トリグリセリドに置き換える以外、実施例６Ａを繰り返す。
Ｃ．同時カプセル封入材料の処方
実施例１Ｂ：実施例１Ａからの同時カプセル封入材料を用いる日焼け止めローション
【０１５６】
【表１】
【０１５７】
実施例２Ｂ：実施例１Ａからの同時カプセル封入材料を用いる日焼け止めローション
【０１５８】
【表２】
【０１５９】
実施例３Ｂ：ＤＨＡを含む同時カプセル封入材料を用いる日焼け止めローション
【０１６０】
【表３】
【０１６１】
実施例４Ｂ：同時カプセル封入材料および防虫剤（ＩＲ３５３５等）を含む日焼け止めローション
【０１６２】
【表４】
【０１６３】
実施例５Ｂ：同時カプセル封入材料および美白剤を含む日焼け止めローション
【０１６４】
【表５】
【０１６５】
実施例６Ｂ：別々に調製した２種の同時カプセル封入材料を含む日焼け止めローション
【０１６６】
【表６】
【０１６７】
実施例７ｂ：アボベンゾン、オクチルメトキシシンナメートおよび光安定剤のゾル−ゲルカプセルを含む日焼け止めローション
【０１６８】
【表７】
【０１６９】
実施例８ｂ：アボベンゾン、ホモサラートおよび光安定剤のゾル−ゲルカプセルを含む日焼け止めローション
操作は、オクチノキセートをホモサラートで置き換える以外、実施例４に記載された操作と同様である。
【０１７０】
実施例９ｂ：アボベンゾン、溶解剤および光安定剤のゾル−ゲルカプセルを含む噴霧用日焼け止めローション
【０１７１】
【表８】
【０１７２】
Ｄ．光安定性の検討
この実施例は、アボベンゾンの光安定性におけるジ−２−エチルヘキシル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンザルマロネート（オキシネックスＳＴ）の効果を示す。ジ−２−エチルヘキシル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンザルマロネートは３３２ｎｍにλmax（ＭｅＯＨ、εmax１８，６００ｃｍ-1ｍｏｌ-1）または３３７ｎｍにλmax（ＥｔＯＨ：Ｈ2Ｏ／７０：３０、εmax１９，８４０ｃｍ-1ｍｏｌ-1）を有する黄色の粘性液体である。これはジフェニルピクリルヒドラジド（ＤＰＰＨ）試験法により決定される抗酸化活性（ＩＣ50＝８５±８μｇ／ｍｌ）を有する。
方法
約１４．８ｍｇの配合物を顕微鏡スライド（マイクロスライド、１つの表面をつや消しにしてある、サイズ、７６×２６ｍｍ、チャンスプロパー社、スポンレイン、英国）の粗面側に均一に延展する。蒸発（約２０分）させた後、スライドを秤量し、各スライドをある係数により５枚の平均値に規格化する。次に３枚のスライドに照射（５および１０ＭＥＤ；５ＭＥＤ：３時間１９分；１０ＭＥＤ：６時間３８分）し、２枚のスライドには照射せずにおく。照射終了後、混合物を含む完成スライドをメタノールで洗浄し、残存するアボベンゾンをＵＶスペクトル分析およびＨＰＬＣにより測定する。
【０１７３】
【表９】
【０１７４】
【表１０】
【０１７５】
【表１１】
【０１７６】
【表１２】
【０１７７】
ＤＰＰＨ試験法
２５０ｍＬのエタノール（ＵＳＰ）に溶解した、２５ｍｇの１，１−ジフェニル−２−ピクリル−ヒドラジルＡＣＳ＃１８９８−６６−４（シグマ＃Ｄ−９１３２、ロット９９Ｈ３６０１）のＤＰＰＨ濃縮物（２．５Ｘ）を測定日に新たに調製する。ＤＰＰＨ使用液は、１００ｍＬのこの濃縮液を最終容量２５０ｍＬ（１００μＭ／ｍＬ）に希釈することにより調製する。ブランクの１３×１００ｍｍのホウケイ酸ガラス製ねじ蓋式エタノール（ＵＳＰ）管を分光計（ミルトンロイスペクトロニック２０＋）の５１７ｎｍでのゼロとして用い、ＤＰＰＨ使用溶液の対照管を同じ条件で測定し、０％活性として採用する。各０．２５％および０．５％（ＲＴおよび４５℃）の試験溶液を管に加え、４ｍＬのＤＰＰＨ使用液を直ちに加え、直ちに蓋をして混合する。２０分後各試料の吸収を５１７ｎｍで読み取る。
【０１７８】
活性減少のパーセント（％ＲＡ）は以下の式：
％活性減少＝１００ Ａ（０）−Ａ（２０）／Ａ（０）
を用いて計算する。
【０１７９】
ここで、Ａ（０）は５１７ｎｍにおけるＤＰＰＨ使用液のゼロとしたエタノールブランクに対する吸光度であり、Ａ（２０）は抗酸化剤とＤＰＰＨ使用液を併せた２０分後の５１７ｎｍにおける吸光度である。
【０１８０】
最終分析混合物中の抗酸化剤（ｍｇ／ｍｌ）の濃度は、最終分析容量中の各化合物の個々の分量の希釈度、および希釈系列の各濃度において活性パーセントとして表示し、プロットした％ＲＡに基づいて計算する。
【０１８１】
アボベンゾン（配合物中）の光安定化は２枚のガラススライドの間に設けられた配合材料の薄いフィルム（約５０〜１００μの厚さで、非吸収領域における透過信号が８５％を超えていなければならない）を用いて実施し、次いでＵＶ−Ｂ光（Ｑ−ＵＶ加速耐候試験機、Ｑパネル社）により照射した。アボベンゾンの光分解は照射前後の配合物品中のアボベンゾンの相対的減少により計算した。ＵＶ−Ｂ光下での１時間の照射は１．４ＭＥＤ（最小赤斑線量）と同等である。この検討にはベックマンコウルターＤＵ−６４０分光計を１２０ｎｍ／分のスキャン速度で用いた。すべてのスペクトルは２００〜６００ｎｍで記録した。オキシネックス（登録商標）ＳＴの有効性をコラパンＴＱ（ジ−２−エチルヘキシルナフタレート、Ｈ＆Ｒ）と比較した。配合物中のアボベンゾンのＨＭＳおよびオキシネックス（登録商標）ＳＴまたはＴＱにおけるアボベンゾン光安定化を２：６：２の比率（ｗ／ｗ）を用いることにより測定した。
【０１８２】
アボベンゾンの安定性は、オキシネックス（登録商標）ＳＴ光安定剤（１：１、ｗ／ｗ）の存在下で３倍（２４％〜８１％）増大することを認めた。さらに、オキシネックス（登録商標）ＳＴを１：２または１：３の比で用いるとき、アボベンゾンの安定化はさらに改善された。他方、ＴＱは単独で使用するとき、アボベンゾンの光安定化に実質的に影響しなかった。ＴＱはホモサラートと組み合わせたときもアボベンゾンを安定化できなかった。しかし、ＨＭＳの存在下での、アボベンゾンに対するオキシネックス（登録商標）ＳＴの安定化効果は約３倍（１４％〜５６％）高かった。オキシネックスＳＴもＯＭＣ存在下のアボベンゾンの光安定化を約２倍（３６％〜７３％）改善する。
【０１８３】
ｉｎ ｖｉｔｒｏ試験により、ＨＭＳ（６％）およびオキシネックス（登録商標）ＳＴ（２％）の存在下、アボベンゾン（２％）が適切な臨界波長およびＳＰＦ（＞３０）を有することが示された。アボベンゾンの溶解性をオキシネックス（登録商標）ＳＴおよびＨＭＳの種々の比率において試験した。
【０１８４】
結果を以下にまとめる。
【０１８５】
【表１３】
【０１８６】
ＨＭＳおよびオキシネックス（登録商標）ＳＴの様々な比率でのアボベンゾンの溶解性を考慮すると、ゾル−ゲル法を用いるアボベンゾン（ＵＶ−パールＡｖｏ）のカプセル化については以下の比率：アボベンゾン／オキシネックス（登録商標）ＳＴ／ＨＭＳ：２０／２０／６０および２５／２５／５０が好ましい。
【０１８７】
【表１４】
【０１８８】
ＯＭＣおよびオキシネックス（登録商標）ＳＴの様々な比率でのアボベンゾンの溶解性を考慮すると、ゾル−ゲル法を用いるアボベンゾン（ＵＶ−パールアボ）のカプセル化については以下の比率：アボベンゾン／オキシネックス（登録商標）ＳＴ／ＯＭＣ：２０／２０／６０および２５／２５／５０が好ましい。
【０１８９】
上記の実施例は、一般的または具体的に記載された反応物および／または実施例で用いた本発明の操作条件を置き換えることにより、同様の効果を繰り返すことができる。以上の記載から、当業者は本発明の本質的な特徴を容易に解明することができ、本発明の思想および範囲から外れることなく、種々の用途および条件に合わせるために本発明を変更および修正することができる。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ｉ）少なくとも１種のＵＶ−Ａ有機日焼け止め、および
ii）少なくとも１種の光安定剤、
を含む日焼け止めカプセル。
【請求項２】
前記光安定剤が、式ＩまたはIIの化合物である請求項１に記載の日焼け止めカプセル。
【化１】
（式中、Ａは、発色性を付与する部分であり、Ｒ1は、−Ｃ（Ｏ）ＣＨ3、−ＣＯ2Ｒ3、−Ｃ（Ｏ）ＮＨ2、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ4）2および−ＣＮからなる群から選択され、Ｘは、ＯまたはＮＨまたはＮ−Ｃ1〜Ｃ8アルキルであり、Ｒ2は、直鎖もしくは分岐状のＣ1〜Ｃ20アルキルであり、Ｒ3は、直鎖もしくは分岐状のＣ1〜Ｃ20アルキルであり、また各Ｒ4は、独立して、水素または直鎖もしくは分岐状のＣ1〜Ｃ8アルキルであり、Ｒ5は、水素または直鎖もしくは分岐状Ｃ1〜Ｃ8アルキルまたは直鎖もしくは分岐状Ｃ1〜Ｃ8アルコキシであり、Ｒ6は、独立して、直鎖もしくは分岐状Ｃ1〜Ｃ8アルキルである。）
【請求項３】
Ａが、紫外線波長範囲内で発色することにより、式Ｉの前記化合物にＵＶ吸収活性を付与する部分であって、部分Ａが１つの２価の基または２つの１価の基を含み、少なくとも１つの前期基がカルボニル（Ｃ＝Ｏ）官能基を有する請求項２に記載の日焼け止めカプセル。
【請求項４】
−Ｒ5および−Ｏ−Ｒ6が、互いに独立して、直鎖もしくは分岐状Ｃ1〜Ｃ8アルコキシ基であって、好ましくは、前記の式ＩまたはIIの少なくとも１種の化合物が、式IIIまたはIVの化合物から選択される少なくとも１種の化合物である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の日焼け止めカプセル。
【化２】
（式中、Ｒ1は、−Ｃ（Ｏ）ＣＨ3、−ＣＯ2（Ｃ1〜Ｃ8アルキル）、−Ｃ（Ｏ）ＮＨ2、−Ｃ（Ｏ）ＮＨ（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）2および−ＣＮからなる群から選択され、アルキルであり、またＲ2は、Ｃ1〜Ｃ12アルキルである。）
【請求項５】
前記の式ＩまたはIIの化合物の少なくとも１種が、式ＶまたはVIの化合物から選択される少なくとも１種の化合物である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の日焼け止めカプセル。
【化３】
（式中、Ｒ1は、−Ｃ（Ｏ）ＣＨ3、−ＣＯ2（Ｃ1〜Ｃ8アルキル）、−Ｃ（Ｏ）ＮＨ2、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）2、および−ＣＮからなる群から選択され、Ｘは、ＯまたはＮＨまたはＮ−Ｃ1〜Ｃ8アルキルであり、Ｒ2は、Ｃ1〜Ｃ12アルキルであり、またＲ5は、Ｃ1〜Ｃ8直鎖もしくは分岐状アルキルである。）
【請求項６】
−Ｒ5および−Ｏ−Ｒ6が、互いに独立して、直鎖もしくは分岐状Ｃ1〜Ｃ4アルコキシ基であり、好ましくは、−Ｒ5および−Ｏ−Ｒ6が同じであって、メトキシまたはエトキシである、請求項１〜３のいずれか一項に記載の日焼け止めカプセル。
【請求項７】
Ｘが酸素であり、Ｒ2が好ましくは直鎖もしくは分岐状Ｃ1〜Ｃ4アルキルである、請求項１〜３および６のいずれか一項に記載の日焼け止めカプセル。
【請求項８】
Ｒ1が、ＣＯ2Ｒ3、好ましくはＣ（Ｏ）ＣＨ3であって、Ｒ3が直鎖もしくは分岐状のＣ1〜Ｃ4アルキルである、請求項１〜３、６および７のいずれか一項に記載の日焼け止めカプセル。
【請求項９】
Ｒ1が、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ4）2であって、少なくとも１つのＲ4が水素であり、他方が水素または直鎖もしくは分岐状のＣ1〜Ｃ4アルキルである、請求項１〜３、６および７のいずれか一項に記載の日焼け止めカプセル。
【請求項１０】
Ｒ1が、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ4）2であって、各Ｒ4が、独立して、直鎖もしくは分岐状のＣ1〜Ｃ4アルキルである、請求項１〜３、６および７のいずれか一項に記載の日焼け止めカプセル。
【請求項１１】
Ｒ2およびＲ3の少なくとも一方が、直鎖もしくは分岐状のＣ8〜Ｃ20アルキルであって、好ましくは、Ｒ2およびＲ3が、それぞれ、直鎖もしくは分岐状のＣ8アルキルであるか、または、Ｒ2およびＲ3の少なくとも一方が、直鎖もしくは分岐状のＣ12〜Ｃ20アルキルである、請求項１〜５のいずれか一項に記載の日焼け止めカプセル。
【請求項１２】
式ＩまたはIIの前記化合物が、エチル−α−アセチル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシシンナメート、イソプロピル−α−アセチル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシシンナメート、イソアミル−α−アセチル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシシンナメート、２−エチルヘキシル−α−アセチル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシシンナメート、ジエチル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート、ジ−（２−エチルヘキシル）−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート、ジイソアミル−３，５−ジメトキシ４−ヒドロキシベンジリデンマロネート、ジパルミトイル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート、ジ−ドデシル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート、ジ−イソプロピル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート、エチル−α−シアノ−３−メトキシ−４−ヒドロキシシンナメート、エチル−α−アセチル−３−メトキシ−４−ヒドロキシシンナメート、イソプロピル−α−アセチル−３−メトキシ−４−ヒドロキシシンナメート、イソアミル−α−アセチル−３−メトキシ−４−ヒドロキシシンナメート、２−エチルヘキシル−α−アセチル−３−メトキシ−４−ヒドロキシシンナメート、ジエチル−３−メトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート、ジ−（２−エチルヘキシル）−３−メトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート、ジイソアミル−３−メトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート、ジパルミトイル−３−メトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート、ジ−ドデシル−３−メトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート、ジ−イソプロピル−３−メトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート、ジ−（２−エチルヘキシル）−３−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−イソプロピル−ベンジリデンマロネート、ジ−イソアミル−３−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ．ブチル−ベンジリデンマロネート、イソアミル−α−アセチル−３−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−イソプロピルシンナメート、およびイソアミル−α−アセチル−３−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ．ブチルシンナメートからなる群から選択される、請求項１または２に記載の日焼け止めカプセル。
【請求項１３】
前記カプセルがゾル−ゲル法カプセル化により調製され、前記カプセルの壁が、好ましくは、本質的にシリカゲルおよび／またはシリカからなる請求項１〜１２のいずれか一項に記載の日焼け止めカプセル。
【請求項１４】
前記カプセル壁が主にオルガノポリシロキサンからなり、前記オルガノポリシロキサンの壁が、好ましくは、次の一般式により表される１種または複数の化合物を重縮合させることにより合成される、請求項１〜１３のいずれか一項に記載の日焼け止めカプセル：
ＲnＳｉ（ＯＨ）mＹ(4-m-n)
（式中、ｍ＋ｎ≦４という条件で、ｍは１〜４の整数を表し、ｎは０〜３の整数を表し；Ｒは、１個の炭素原子が直接ケイ素原子に結合している有機の基を表し、ｎが１を超える場合、Ｒ基の各々は同じであっても異なっていてもよく；また、Ｙは、アルコキシ基、水素およびシロキシ基からなる群から選択される少なくとも１種の基を表し、（４−ｍ−ｎ）が１を超える場合、各基Ｙは同じであっても異なっていてもよい。）
【請求項１５】
前記の少なくとも１種のＵＶ−Ａ有機日焼け止めが、２−メチルジベンゾイルメタン、４−メチルジベンゾイルメタン、４−イソプロピルジベンゾイルメタン、４−ｔｅｒｔ−ブチルジベンゾイルメタン、２，４−ジメチルジベンゾイルメタン、２，５−ジメチルジベンゾイルメタン、４，４’−ジイソプロピルジベンゾイルメタン、４，４’−ジメチルジベンゾイルメタン、４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン、２−メチル−５−イソプロピル−４’−メトキシジベンゾイルメタン、２−メチル−５−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン、２，４−ジメチル−４’−メトキシジベンゾイルメタンおよび２，６−ジメチル−４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタンからなる群から選択される、請求項１〜１４のいずれか一項に記載の日焼け止めカプセル。
【請求項１６】
０．１〜４０ｗｔ％の少なくとも１種の式ＩまたはIIの化合物を含む、請求項１〜１５のいずれか一項に記載の日焼け止めカプセル。
【請求項１７】
サリチレート類もしくはシンナメート類に属するか、またはそれらの組合せであることが好ましい少なくとも１種のＵＶ−Ｂ有機日焼け止め液体、ならびに／あるいは、エステル、長鎖脂肪酸またはアルコールであることが好ましい少なくとも１種の可溶化剤をさらに含む、請求項１〜１６のいずれか一項に記載の日焼け止めカプセル。
【請求項１８】
ｉ）２−メチルジベンゾイルメタン、４−メチルジベンゾイルメタン、４−イソプロピルジベンゾイルメタン、４−ｔｅｒｔ−ブチルジベンゾイルメタン、２，４−ジメチルジベンゾイルメタン、２，５−ジメチルジベンゾイルメタン、４，４’−ジイソプロピルジベンゾイルメタン、４，４’−ジメチルジベンゾイルメタン、４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン、２−メチル−５−イソプロピル−４’−メトキシジベンゾイルメタン、２−メチル−５−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン、２，４−ジメチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン、および２，６−ジメチル−４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタンからなる群から選択される少なくとも１種のＵＶ−Ａ有機日焼け止め；および
ii）エチル−α−アセチル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシシンナメート、イソプロピル−α−アセチル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシシンナメート、イソアミル−α−アセチル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシシンナメート、２−エチルヘキシル−α−アセチル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシシンナメート、ジエチル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート、ジ−（２−エチルヘキシル）−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート、ジイソアミル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート、ジパルミトイル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート、ジ−ドデシル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート、およびジ−イソプロピル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネートからなる群から選択される式ＩまたはIIの化合物の少なくとも１種、
を含む請求項１または２に記載の日焼け止めカプセル。
【請求項１９】
前記の少なくとも１種のＵＶ−Ａ有機日焼け止めおよび前記の少なくとも１種の光安定剤が、約３：１〜約１：３、好ましくは約１：０．８〜１：２の重量比で存在する、請求項１〜１８のいずれか一項に記載の日焼け止めカプセル。
【請求項２０】
前記光安定剤が、好ましくは、ジ−２−エチルヘキシル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシ−ベンザルマロネートである、請求項１〜１９のいずれか一項に記載の日焼け止めカプセル。
【請求項２１】
ｉ）請求項１〜２０のいずれか一項に記載の少なくとも１種のカプセル、および
ii）局所適用に適する担体、
を含む局所適用のための組成物。
【請求項２２】
iii）保存剤、消泡剤、芳香剤、オイル、ワックス、噴霧剤、染料、顔料、防水剤、乳化剤、界面活性剤、増粘剤、湿潤剤、皮膚摩擦剤およびエモリエントからなる群から選択される少なくとも１種の補助剤、を含む請求項２１に記載の局所適用のための組成物。
【請求項２３】
クリーム、軟膏、懸濁液、粉末、油性ローション、含油アルコールローション、脂肪ゲル、含油アルコールゲル、固形スティック、気泡、エマルジョン、分散液、スプレー、エアロゾル、口紅、ファンデーション、メイクアップ、ルースまたはプレス粉末、アイブラッシュ、アイシャドウまたはネイルエナメルからなる群から選択される形態を取る、請求項２１または２２に記載の局所適用のための組成物。
【請求項２４】
ＵＶ−Ｂ線、ＵＶ−Ａ線または両方のフィルターとなる少なくとも１種の追加の有機日焼け止め剤を含み、好ましくは、ＵＶ−Ｂ線、ＵＶ−Ａ線または両方のフィルターとなる前記少なくとも１種の追加の有機日焼け止め剤がカプセル化されている、請求項２１〜２３のいずれか一項に記載の局所適用のための組成物。
【請求項２５】
トコフェロール、トコフェリルアセテート、アスコルビン酸、エンブリカ酸化防止剤、プロアントシアニジン、ローズマリー酸化防止剤、緑茶ポリフェノール、没食子酸、エラグ酸、ブチルヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）および／またはブチルヒドロキシアニソール（ＢＨＡ）から選択されることが好ましい、少なくとも１種の追加の酸化防止剤を含む、請求項２１〜２４のいずれか一項に記載の局所適用のための組成物。
【請求項２６】
請求項２１〜２５のいずれか一項に記載の組成物を基質に塗布することを含む、紫外線から基質を保護する方法。
【請求項２７】
前記基質が皮膚または体毛である、請求項２６に記載の紫外線から基質を保護する方法。
【請求項２８】
前記基質が、塗料、繊維、木材、プラスチック、ポリマー、着色剤、またはワックス系着色物品である、請求項２６に記載の紫外線から基質を保護する方法。
【請求項２９】
少なくとも１種のＵＶ−Ａ有機日焼け止めと少なくとも１種の光安定剤を、カプセル壁の前駆体物質と混合し、前記前駆体を縮合させることによって前記壁を形成することによる日焼け止めカプセルの製造方法。
【請求項３０】
前記前駆体の前記縮合がゾル−ゲル過程の間に起こる請求項２９に記載の方法。
【請求項３１】
前記前駆体がポリシロキサンプレポリマーである請求２９に記載の方法。
【請求項３２】
請求項１〜２０のいずれか一項に記載の少なくとも１種のカプセルと、局所適用に適する担体を混合することによる、局所適用のための組成物の製造方法。
【請求項１】
ｉ）少なくとも１種のＵＶ−Ａ有機日焼け止め、および
ii）少なくとも１種の光安定剤、
を含む日焼け止めカプセル。
【請求項２】
前記光安定剤が、式ＩまたはIIの化合物である請求項１に記載の日焼け止めカプセル。
【化１】
（式中、Ａは、発色性を付与する部分であり、Ｒ1は、−Ｃ（Ｏ）ＣＨ3、−ＣＯ2Ｒ3、−Ｃ（Ｏ）ＮＨ2、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ4）2および−ＣＮからなる群から選択され、Ｘは、ＯまたはＮＨまたはＮ−Ｃ1〜Ｃ8アルキルであり、Ｒ2は、直鎖もしくは分岐状のＣ1〜Ｃ20アルキルであり、Ｒ3は、直鎖もしくは分岐状のＣ1〜Ｃ20アルキルであり、また各Ｒ4は、独立して、水素または直鎖もしくは分岐状のＣ1〜Ｃ8アルキルであり、Ｒ5は、水素または直鎖もしくは分岐状Ｃ1〜Ｃ8アルキルまたは直鎖もしくは分岐状Ｃ1〜Ｃ8アルコキシであり、Ｒ6は、独立して、直鎖もしくは分岐状Ｃ1〜Ｃ8アルキルである。）
【請求項３】
Ａが、紫外線波長範囲内で発色することにより、式Ｉの前記化合物にＵＶ吸収活性を付与する部分であって、部分Ａが１つの２価の基または２つの１価の基を含み、少なくとも１つの前期基がカルボニル（Ｃ＝Ｏ）官能基を有する請求項２に記載の日焼け止めカプセル。
【請求項４】
−Ｒ5および−Ｏ−Ｒ6が、互いに独立して、直鎖もしくは分岐状Ｃ1〜Ｃ8アルコキシ基であって、好ましくは、前記の式ＩまたはIIの少なくとも１種の化合物が、式IIIまたはIVの化合物から選択される少なくとも１種の化合物である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の日焼け止めカプセル。
【化２】
（式中、Ｒ1は、−Ｃ（Ｏ）ＣＨ3、−ＣＯ2（Ｃ1〜Ｃ8アルキル）、−Ｃ（Ｏ）ＮＨ2、−Ｃ（Ｏ）ＮＨ（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）2および−ＣＮからなる群から選択され、アルキルであり、またＲ2は、Ｃ1〜Ｃ12アルキルである。）
【請求項５】
前記の式ＩまたはIIの化合物の少なくとも１種が、式ＶまたはVIの化合物から選択される少なくとも１種の化合物である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の日焼け止めカプセル。
【化３】
（式中、Ｒ1は、−Ｃ（Ｏ）ＣＨ3、−ＣＯ2（Ｃ1〜Ｃ8アルキル）、−Ｃ（Ｏ）ＮＨ2、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）2、および−ＣＮからなる群から選択され、Ｘは、ＯまたはＮＨまたはＮ−Ｃ1〜Ｃ8アルキルであり、Ｒ2は、Ｃ1〜Ｃ12アルキルであり、またＲ5は、Ｃ1〜Ｃ8直鎖もしくは分岐状アルキルである。）
【請求項６】
−Ｒ5および−Ｏ−Ｒ6が、互いに独立して、直鎖もしくは分岐状Ｃ1〜Ｃ4アルコキシ基であり、好ましくは、−Ｒ5および−Ｏ−Ｒ6が同じであって、メトキシまたはエトキシである、請求項１〜３のいずれか一項に記載の日焼け止めカプセル。
【請求項７】
Ｘが酸素であり、Ｒ2が好ましくは直鎖もしくは分岐状Ｃ1〜Ｃ4アルキルである、請求項１〜３および６のいずれか一項に記載の日焼け止めカプセル。
【請求項８】
Ｒ1が、ＣＯ2Ｒ3、好ましくはＣ（Ｏ）ＣＨ3であって、Ｒ3が直鎖もしくは分岐状のＣ1〜Ｃ4アルキルである、請求項１〜３、６および７のいずれか一項に記載の日焼け止めカプセル。
【請求項９】
Ｒ1が、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ4）2であって、少なくとも１つのＲ4が水素であり、他方が水素または直鎖もしくは分岐状のＣ1〜Ｃ4アルキルである、請求項１〜３、６および７のいずれか一項に記載の日焼け止めカプセル。
【請求項１０】
Ｒ1が、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ4）2であって、各Ｒ4が、独立して、直鎖もしくは分岐状のＣ1〜Ｃ4アルキルである、請求項１〜３、６および７のいずれか一項に記載の日焼け止めカプセル。
【請求項１１】
Ｒ2およびＲ3の少なくとも一方が、直鎖もしくは分岐状のＣ8〜Ｃ20アルキルであって、好ましくは、Ｒ2およびＲ3が、それぞれ、直鎖もしくは分岐状のＣ8アルキルであるか、または、Ｒ2およびＲ3の少なくとも一方が、直鎖もしくは分岐状のＣ12〜Ｃ20アルキルである、請求項１〜５のいずれか一項に記載の日焼け止めカプセル。
【請求項１２】
式ＩまたはIIの前記化合物が、エチル−α−アセチル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシシンナメート、イソプロピル−α−アセチル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシシンナメート、イソアミル−α−アセチル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシシンナメート、２−エチルヘキシル−α−アセチル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシシンナメート、ジエチル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート、ジ−（２−エチルヘキシル）−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート、ジイソアミル−３，５−ジメトキシ４−ヒドロキシベンジリデンマロネート、ジパルミトイル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート、ジ−ドデシル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート、ジ−イソプロピル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート、エチル−α−シアノ−３−メトキシ−４−ヒドロキシシンナメート、エチル−α−アセチル−３−メトキシ−４−ヒドロキシシンナメート、イソプロピル−α−アセチル−３−メトキシ−４−ヒドロキシシンナメート、イソアミル−α−アセチル−３−メトキシ−４−ヒドロキシシンナメート、２−エチルヘキシル−α−アセチル−３−メトキシ−４−ヒドロキシシンナメート、ジエチル−３−メトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート、ジ−（２−エチルヘキシル）−３−メトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート、ジイソアミル−３−メトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート、ジパルミトイル−３−メトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート、ジ−ドデシル−３−メトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート、ジ−イソプロピル−３−メトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート、ジ−（２−エチルヘキシル）−３−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−イソプロピル−ベンジリデンマロネート、ジ−イソアミル−３−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ．ブチル−ベンジリデンマロネート、イソアミル−α−アセチル−３−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−イソプロピルシンナメート、およびイソアミル−α−アセチル−３−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ．ブチルシンナメートからなる群から選択される、請求項１または２に記載の日焼け止めカプセル。
【請求項１３】
前記カプセルがゾル−ゲル法カプセル化により調製され、前記カプセルの壁が、好ましくは、本質的にシリカゲルおよび／またはシリカからなる請求項１〜１２のいずれか一項に記載の日焼け止めカプセル。
【請求項１４】
前記カプセル壁が主にオルガノポリシロキサンからなり、前記オルガノポリシロキサンの壁が、好ましくは、次の一般式により表される１種または複数の化合物を重縮合させることにより合成される、請求項１〜１３のいずれか一項に記載の日焼け止めカプセル：
ＲnＳｉ（ＯＨ）mＹ(4-m-n)
（式中、ｍ＋ｎ≦４という条件で、ｍは１〜４の整数を表し、ｎは０〜３の整数を表し；Ｒは、１個の炭素原子が直接ケイ素原子に結合している有機の基を表し、ｎが１を超える場合、Ｒ基の各々は同じであっても異なっていてもよく；また、Ｙは、アルコキシ基、水素およびシロキシ基からなる群から選択される少なくとも１種の基を表し、（４−ｍ−ｎ）が１を超える場合、各基Ｙは同じであっても異なっていてもよい。）
【請求項１５】
前記の少なくとも１種のＵＶ−Ａ有機日焼け止めが、２−メチルジベンゾイルメタン、４−メチルジベンゾイルメタン、４−イソプロピルジベンゾイルメタン、４−ｔｅｒｔ−ブチルジベンゾイルメタン、２，４−ジメチルジベンゾイルメタン、２，５−ジメチルジベンゾイルメタン、４，４’−ジイソプロピルジベンゾイルメタン、４，４’−ジメチルジベンゾイルメタン、４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン、２−メチル−５−イソプロピル−４’−メトキシジベンゾイルメタン、２−メチル−５−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン、２，４−ジメチル−４’−メトキシジベンゾイルメタンおよび２，６−ジメチル−４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタンからなる群から選択される、請求項１〜１４のいずれか一項に記載の日焼け止めカプセル。
【請求項１６】
０．１〜４０ｗｔ％の少なくとも１種の式ＩまたはIIの化合物を含む、請求項１〜１５のいずれか一項に記載の日焼け止めカプセル。
【請求項１７】
サリチレート類もしくはシンナメート類に属するか、またはそれらの組合せであることが好ましい少なくとも１種のＵＶ−Ｂ有機日焼け止め液体、ならびに／あるいは、エステル、長鎖脂肪酸またはアルコールであることが好ましい少なくとも１種の可溶化剤をさらに含む、請求項１〜１６のいずれか一項に記載の日焼け止めカプセル。
【請求項１８】
ｉ）２−メチルジベンゾイルメタン、４−メチルジベンゾイルメタン、４−イソプロピルジベンゾイルメタン、４−ｔｅｒｔ−ブチルジベンゾイルメタン、２，４−ジメチルジベンゾイルメタン、２，５−ジメチルジベンゾイルメタン、４，４’−ジイソプロピルジベンゾイルメタン、４，４’−ジメチルジベンゾイルメタン、４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン、２−メチル−５−イソプロピル−４’−メトキシジベンゾイルメタン、２−メチル−５−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン、２，４−ジメチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン、および２，６−ジメチル−４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタンからなる群から選択される少なくとも１種のＵＶ−Ａ有機日焼け止め；および
ii）エチル−α−アセチル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシシンナメート、イソプロピル−α−アセチル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシシンナメート、イソアミル−α−アセチル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシシンナメート、２−エチルヘキシル−α−アセチル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシシンナメート、ジエチル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート、ジ−（２−エチルヘキシル）−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート、ジイソアミル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート、ジパルミトイル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート、ジ−ドデシル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート、およびジ−イソプロピル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネートからなる群から選択される式ＩまたはIIの化合物の少なくとも１種、
を含む請求項１または２に記載の日焼け止めカプセル。
【請求項１９】
前記の少なくとも１種のＵＶ−Ａ有機日焼け止めおよび前記の少なくとも１種の光安定剤が、約３：１〜約１：３、好ましくは約１：０．８〜１：２の重量比で存在する、請求項１〜１８のいずれか一項に記載の日焼け止めカプセル。
【請求項２０】
前記光安定剤が、好ましくは、ジ−２−エチルヘキシル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシ−ベンザルマロネートである、請求項１〜１９のいずれか一項に記載の日焼け止めカプセル。
【請求項２１】
ｉ）請求項１〜２０のいずれか一項に記載の少なくとも１種のカプセル、および
ii）局所適用に適する担体、
を含む局所適用のための組成物。
【請求項２２】
iii）保存剤、消泡剤、芳香剤、オイル、ワックス、噴霧剤、染料、顔料、防水剤、乳化剤、界面活性剤、増粘剤、湿潤剤、皮膚摩擦剤およびエモリエントからなる群から選択される少なくとも１種の補助剤、を含む請求項２１に記載の局所適用のための組成物。
【請求項２３】
クリーム、軟膏、懸濁液、粉末、油性ローション、含油アルコールローション、脂肪ゲル、含油アルコールゲル、固形スティック、気泡、エマルジョン、分散液、スプレー、エアロゾル、口紅、ファンデーション、メイクアップ、ルースまたはプレス粉末、アイブラッシュ、アイシャドウまたはネイルエナメルからなる群から選択される形態を取る、請求項２１または２２に記載の局所適用のための組成物。
【請求項２４】
ＵＶ−Ｂ線、ＵＶ−Ａ線または両方のフィルターとなる少なくとも１種の追加の有機日焼け止め剤を含み、好ましくは、ＵＶ−Ｂ線、ＵＶ−Ａ線または両方のフィルターとなる前記少なくとも１種の追加の有機日焼け止め剤がカプセル化されている、請求項２１〜２３のいずれか一項に記載の局所適用のための組成物。
【請求項２５】
トコフェロール、トコフェリルアセテート、アスコルビン酸、エンブリカ酸化防止剤、プロアントシアニジン、ローズマリー酸化防止剤、緑茶ポリフェノール、没食子酸、エラグ酸、ブチルヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）および／またはブチルヒドロキシアニソール（ＢＨＡ）から選択されることが好ましい、少なくとも１種の追加の酸化防止剤を含む、請求項２１〜２４のいずれか一項に記載の局所適用のための組成物。
【請求項２６】
請求項２１〜２５のいずれか一項に記載の組成物を基質に塗布することを含む、紫外線から基質を保護する方法。
【請求項２７】
前記基質が皮膚または体毛である、請求項２６に記載の紫外線から基質を保護する方法。
【請求項２８】
前記基質が、塗料、繊維、木材、プラスチック、ポリマー、着色剤、またはワックス系着色物品である、請求項２６に記載の紫外線から基質を保護する方法。
【請求項２９】
少なくとも１種のＵＶ−Ａ有機日焼け止めと少なくとも１種の光安定剤を、カプセル壁の前駆体物質と混合し、前記前駆体を縮合させることによって前記壁を形成することによる日焼け止めカプセルの製造方法。
【請求項３０】
前記前駆体の前記縮合がゾル−ゲル過程の間に起こる請求項２９に記載の方法。
【請求項３１】
前記前駆体がポリシロキサンプレポリマーである請求２９に記載の方法。
【請求項３２】
請求項１〜２０のいずれか一項に記載の少なくとも１種のカプセルと、局所適用に適する担体を混合することによる、局所適用のための組成物の製造方法。
【公表番号】特表２００７−５２４５９３（Ｐ２００７−５２４５９３Ａ）
【公表日】平成１９年８月３０日（２００７．８．３０）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００６−５０８２１３（Ｐ２００６−５０８２１３）
【出願日】平成１６年５月２７日（２００４．５．２７）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＥＰ２００４／００５７１６
【国際公開番号】ＷＯ２００４／１０５７１２
【国際公開日】平成１６年１２月９日（２００４．１２．９）
【出願人】（５９１０３２５９６）メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフトング (1,043)
【氏名又は名称原語表記】Ｍｅｒｃｋ Ｐａｔｅｎｔ Ｇｅｓｅｌｌｓｃｈａｆｔ ｍｉｔ ｂｅｓｃｈｒａｅｎｋｔｅｒ Ｈａｆｔｕｎｇ
【住所又は居所原語表記】Ｆｒａｎｋｆｕｒｔｅｒ Ｓｔｒ． ２５０，Ｄ−６４２９３ Ｄａｒｍｓｔａｄｔ，Ｆｅｄｅｒａｌ Ｒｅｐｕｂｌｉｃ ｏｆ Ｇｅｒｍａｎｙ
【Ｆターム（参考）】
【公表日】平成１９年８月３０日（２００７．８．３０）
【国際特許分類】
【出願日】平成１６年５月２７日（２００４．５．２７）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＥＰ２００４／００５７１６
【国際公開番号】ＷＯ２００４／１０５７１２
【国際公開日】平成１６年１２月９日（２００４．１２．９）
【出願人】（５９１０３２５９６）メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフトング (1,043)
【氏名又は名称原語表記】Ｍｅｒｃｋ Ｐａｔｅｎｔ Ｇｅｓｅｌｌｓｃｈａｆｔ ｍｉｔ ｂｅｓｃｈｒａｅｎｋｔｅｒ Ｈａｆｔｕｎｇ
【住所又は居所原語表記】Ｆｒａｎｋｆｕｒｔｅｒ Ｓｔｒ． ２５０，Ｄ−６４２９３ Ｄａｒｍｓｔａｄｔ，Ｆｅｄｅｒａｌ Ｒｅｐｕｂｌｉｃ ｏｆ Ｇｅｒｍａｎｙ
【Ｆターム（参考）】
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