光導波板用シリコーンゴム組成物及び光導波板
【解決手段】（Ａ）成分として下記平均組成式（Ｉ）
Ｒ1aＳｉＯ(4-a)/2 （Ｉ）
（Ｒ1は同一又は異種の非置換又は置換一価炭化水素基であり、かつ１分子中の少なくとも２個は脂肪族不飽和基、ａは１．９５〜２．０５の正数）
で表される重合度が１００以上のオルガノポリシロキサン １００質量部、
（Ｂ）比表面積が２００ｍ2／ｇを超える煙霧質シリカ ７０〜１５０質量部、
（Ｃ）１分子中に少なくとも２個のケイ素原子と結合した水素原子を含有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン ０．１〜３０質量部、
（Ｄ）ヒドロシリル化反応触媒 触媒量
からなる光導波板用シリコーンゴム組成物。
【効果】本発明のシリコーンゴム組成物は、押し出し成型、カレンダー成型等が可能なミラブルタイプの材料であり、その硬化物はシリカを含有していても、高い透明性を持ち、携帯電話の等のキーパッド照光用バックライト装置の光導波板として最適である。
Ｒ1aＳｉＯ(4-a)/2 （Ｉ）
（Ｒ1は同一又は異種の非置換又は置換一価炭化水素基であり、かつ１分子中の少なくとも２個は脂肪族不飽和基、ａは１．９５〜２．０５の正数）
で表される重合度が１００以上のオルガノポリシロキサン １００質量部、
（Ｂ）比表面積が２００ｍ2／ｇを超える煙霧質シリカ ７０〜１５０質量部、
（Ｃ）１分子中に少なくとも２個のケイ素原子と結合した水素原子を含有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン ０．１〜３０質量部、
（Ｄ）ヒドロシリル化反応触媒 触媒量
からなる光導波板用シリコーンゴム組成物。
【効果】本発明のシリコーンゴム組成物は、押し出し成型、カレンダー成型等が可能なミラブルタイプの材料であり、その硬化物はシリカを含有していても、高い透明性を持ち、携帯電話の等のキーパッド照光用バックライト装置の光導波板として最適である。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、オルガノポリシロキサンを主成分とし、ヒドロシリル化反応によって硬化するミラブルタイプの光導波板用シリコーンゴム組成物及び光導波板に関し、特に高透明、高硬度の成型物が得られるため、携帯電話のキーパッド照光用バックライト装置の光導波板に好適に用いられるものである。
【背景技術】
【０００２】
携帯電話の夜間使用のため、多くのキーパッドは照光用バックライト装置を備えているが、従来は発光ダイオード（ＬＥＤ）をキーパッドの裏側に多数個配置する構成であった。しかし、最近の携帯電話の高機能化に伴い、照光用バックライト装置にも薄型化、軽量化、高輝度化、コストダウンの要求が高まっており、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）でも採用されている光導波板による照光用バックライト装置が提案された。これは、ＬＥＤ光源と、該光源に対向する端面から光を内部に導入して拡散し、照光したいキー部分に設置した反射面で光を反射して反射光を外部に投射する光導波板から構成されている（特許文献１：特開２００３−５９３２１号公報参照）。この装置の特徴は、ＬＥＤを横方向に設置することで薄型化が可能になり、従来の裏側にＬＥＤを設置したタイプに比べてＬＥＤ個数を減少してもキーパッド全面を均一に、高輝度に照光可能となった。また、消費電力も低下したので電池の小型、軽量化も進み、低コスト化にも寄与した。
【０００３】
ＬＣＤバックライト装置の光導波板は、光学的特性のみを要求されるが、ＬＥＤを光源とするキーパッド照光用バックライト装置の光導波板は、キー入力の変位（クリック）をスイッチング素子に伝達する役目も担うので、高透明であることに加え、弾性やその温度依存性が小さいこと、薄く均一な厚みで表面平滑なフィルムを成型できること等も必要となる。一般にアクリル樹脂やポリカーボネート樹脂は高透明でフィルム成型性は良好であるが、弾性の温度依存性、特に低温領域では脆化のため、キー入力時にクラックが発生することがあった。そこで、ＬＥＤの封止材等の光学材料にも応用されている高透明なシリコーン系樹脂（特許文献２：特開２００２−２６５７８７号公報、特許文献３：特開２００６−２０２９５２号公報、特許文献４：特開２００６−３４２２００号公報参照）が低温特性に優れている点で注目された。しかしながらこれらに用いられている材料は液状タイプの材料であり、光導波板を製造する際の工程が煩雑となり、コストアップの要因となる問題があった。
【０００４】
【特許文献１】特開２００３−５９３２１号公報
【特許文献２】特開２００２−２６５７８７号公報
【特許文献３】特開２００６−２０２９５２号公報
【特許文献４】特開２００６−３４２２００号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は上記事情に鑑みなされたもので、液状タイプに比べ、カレンダー成型、押し出し成型性に優れた透明性の高いミラブル型シリコーンゴム組成物からなり、特にバックライト装置用として好適な光導波板用シリコーンゴム組成物及び光導波板を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは、上記目的を達成するために鋭意検討を重ねた結果、ミラブルタイプのシリコーンゴム組成物に、所定量以上のシリカを分散させることにより、シリカが充填された系でも高透明の材料が得られることを見出し、本発明に至ったものである。
【０００７】
即ち、本発明は、下記光導波板用シリコーンゴム組成物及び光導波板を提供する。
（１）（Ａ）成分として下記平均組成式（Ｉ）
Ｒ1aＳｉＯ(4-a)/2 （Ｉ）
（式中、Ｒ1は同一又は異種の非置換又は置換一価炭化水素基であり、かつ１分子中の少なくとも２個は脂肪族不飽和基である。ａは１．９５〜２．０５の正数である。）
で表される重合度が１００以上のオルガノポリシロキサン １００質量部、
（Ｂ）ＢＥＴ比表面積が２００ｍ2／ｇを超える煙霧質シリカ ７０〜１５０質量部、
（Ｃ）１分子中に少なくとも２個のケイ素原子と結合した水素原子を含有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン ０．１〜３０質量部、
（Ｄ）ヒドロシリル化反応触媒 触媒量
からなることを特徴とする光導波板用シリコーンゴム組成物。
（２）（Ｂ）成分が、表面処理されたシリカであることを特徴とする（１）記載の光導波板用シリコーンゴム組成物。
（３）シリカの表面処理剤がヘキサメチルジシラザンである（１）又は（２）記載の光導波板用シリコーンゴム組成物。
（４）平均組成式（Ｉ）において、脂肪族不飽和基を除くＲ1がメチル基である（１）〜（３）のいずれかに記載の光導波板用シリコーンゴム組成物。
（５）該シリコーンゴム組成物の厚さ２ｍｍの硬化物シートの全光線透過率が９０％以上であることを特徴とする（１）〜（４）のいずれかに記載の光導波板用シリコーンゴム組成物。
（６）該シリコーンゴム組成物の厚さ２ｍｍの硬化物フィルムのヘイズ値が１０以下であることを特徴とする（１）〜（５）のいずれかに記載の光導波板用シリコーンゴム組成物。
（７）キーパッド照光用のバックライト装置用である（５）又は（６）記載の光導波板用シリコーンゴム組成物。
（８）（１）〜（７）のいずれかに記載のシリコーンゴム組成物を硬化させてなる光導波板。
【発明の効果】
【０００８】
本発明のシリコーンゴム組成物は、押し出し成型、カレンダー成型等が可能なミラブルタイプ（即ち、ロールミル等の混練機での混練が可能な）の材料であり、その硬化物はシリカを含有していても、高い透明性を持ち、携帯電話等のキーパッド照光用バックライト装置の光導波板として最適である。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
本発明のシリコーンゴム組成物において、主剤（ベースポリマー）としての（Ａ）成分は下記平均組成式（Ｉ）で表される重合度が１００以上のオルガノポリシロキサンである。
Ｒ1aＳｉＯ(4-a)/2 （Ｉ）
（式中、Ｒ1は同一又は異種の非置換又は置換一価炭化水素基であり、かつ１分子中の少なくとも２個は脂肪族不飽和基である。ａは１．９５〜２．０５の正数である。）
【００１０】
上記平均組成式（Ｉ）中、Ｒ1は同一又は異種の非置換又は置換の一価炭化水素基を示し、通常、炭素数１〜１２、特に炭素数１〜８のものが好ましく、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ヘキシル基、オクチル基等のアルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基、ビニル基、アリル基、プロペニル基等のアルケニル基、シクロヘキセニル基等のシクロアルケニル基、フェニル基、トリル基等のアリール基、ベンジル基、２−フェニルエチル基等のアラルキル基、あるいはこれらの基の水素原子の一部又は全部をハロゲン原子又はシアノ基等で置換した基が挙げられ、メチル基、ビニル基、フェニル基、トリフルオロプロピル基が好ましく、特にメチル基、ビニル基が好ましい。
【００１１】
具体的には、該オルガノポリシロキサンの主鎖を構成するジオルガノシロキサン単位（Ｒ12ＳｉＯ2/2）がジメチルシロキサン単位の繰り返しからなるもの、又はこの主鎖を構成するジメチルシロキサン単位の繰り返しからなるジメチルポリシロキサン構造の一部にフェニル基、ビニル基、３，３，３−トリフルオロプロピル基等を有するジフェニルシロキサン単位、メチルフェニルシロキサン単位、メチルビニルシロキサン単位、メチル−３，３，３−トリフルオロプロピルシロキサン単位等を導入したもの等が好適である。
【００１２】
特に、オルガノポリシロキサンは、１分子中に２個以上のアルケニル基、シクロアルケニル基等の脂肪族不飽和基を有するものが好ましく、この脂肪族不飽和基としてはアルケニル基、特にビニル基であることが好ましい。この場合、全Ｒ1中０．０１〜２０モル％、特に０．０２〜１０モル％、更には０．０２〜５モル％が脂肪族不飽和基であることが好ましい。なお、この脂肪族不飽和基は、分子鎖末端でケイ素原子に結合していても、分子鎖の途中のケイ素原子に結合していても、その両方であってもよいが、少なくとも分子鎖末端のケイ素原子に結合していることが好ましい。また、ａは１．９５〜２．０５、好ましくは１．９８〜２．０２、より好ましくは１．９９〜２．０１の正数である。また、全Ｒ1中９０モル％以上、好ましくは９５モル％以上、更に好ましくは脂肪族不飽和基を除く全てのＲ1がアルキル基、特にはメチル基であることが、透明性の確保の点から望ましい。
【００１３】
（Ａ）成分のオルガノポリシロキサンは、分子鎖末端がトリメチルシロキシ基、ジメチルフェニルシロキシ基、ジメチルヒドロキシシロキシ基、ジメチルビニルシロキシ基、メチルジビニルシロキシ基、トリビニルシロキシ基等のトリオルガノシロキシ基（Ｒ13ＳｉＯ1/2）で封鎖され、主鎖が前記したジオルガノシロキサン単位（Ｒ12ＳｉＯ2/2）の繰り返しからなる直鎖状のものを好ましく挙げることができる。
特に好ましいものとしては、メチルビニルポリシロキサン、メチルフェニルビニルポリシロキサン、メチルトリフルオロプロピルビニルポリシロキサン等を挙げることができる。
【００１４】
このようなオルガノポリシロキサンは、例えばオルガノハロゲノシランの１種又は２種以上を（共）加水分解縮合することにより、あるいは環状ポリシロキサン（シロキサンの３量体、４量体等）をアルカリ性又は酸性の触媒を用いて開環重合することによって得ることができる。これらは基本的に直鎖状のジオルガノポリシロキサンであるが、（Ａ）成分としては、分子量（重合度）や分子構造の異なる２種又は３種以上の混合物であってもよい。
【００１５】
なお、上記オルガノポリシロキサンの重合度は１００以上、好ましくは１００〜１００，０００、より好ましくは１，０００〜１００，０００、特に好ましくは２，０００〜５０，０００、更に好ましくは３，０００〜２０，０００であり、特に室温（２５℃）において自己流動性のない生ゴム状であるものが好ましい。なお、この重合度は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）分析によるポリスチレン換算の重量平均重合度として測定することができる。
【００１６】
（Ｂ）成分のＢＥＴ比表面積２００ｍ2／ｇを超える煙霧質シリカは、透明性に優れ、また機械的強度の優れたシリコーンゴム組成物を得るために添加されるもの（即ち、補強性充填剤）である。またシリコーンゴム組成物の透明性向上のため、ＢＥＴ比表面積が２００ｍ2／ｇを超える必要があり、好ましくは２１０ｍ2／ｇ以上、より好ましくは２５０ｍ2／ｇ以上である。ＢＥＴ比表面積が２００ｍ2／ｇ以下だと、硬化物の透明性が低下してしまう。なお、ＢＥＴ比表面積の上限には特に制限はないが、作業性等の点から、通常、５００ｍ2／ｇ以下、好ましくは４００ｍ2／ｇ以下程度のものであればよい。
【００１７】
通常、シリコーンゴム組成物に使用される補強性シリカとしては煙霧質シリカ（即ち、ヒュームドシリカ）、沈降シリカ等が挙げられるが、沈降シリカを用いると透明性が低下するため、本発明においては煙霧質シリカが用いられる。
またこれらの表面をクロロシラン、アルコキシシラン、ヘキサメチルジシラザン等で疎水化処理したものも好適に用いられる。特にヘキサメチルジシラザンによる処理が、透明性が高くなり、好ましい。
【００１８】
（Ｂ）成分の煙霧質シリカの添加量は、（Ａ）成分のオルガノポリシロキサン１００質量部に対して、７０〜１５０質量部、好ましくは７０〜１２０質量部である。７０質量部未満だと、シリコーンゴムコンパウンドを硬化させたシートの透明性が低下する。１５０質量部を超えると、シリコーンポリマー中へのシリカの分散が困難となる。
【００１９】
本発明のシリコーンゴム組成物の（Ｃ）成分のオルガノハイドロジェンポリシロキサンは、架橋剤として作用するものであり、１分子中に少なくとも２個のケイ素原子と結合した水素原子（ＳｉＨ基）を含有するもので、下記平均組成式（ＩＩ）
Ｒ2bＨcＳｉＯ(4-b-c)/2 （ＩＩ）
（ここで、Ｒ2は炭素数１〜６の置換又は非置換の一価炭化水素基で、好ましくは脂肪族不飽和結合を有さないものである。具体例としてはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等のアルキル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基、フェニル基等のアリール基、ベンジル基等のアラルキル基等の非置換の一価炭化水素基、３，３，３−トリフルオロプロピル基、シアノメチル基等の上記一価炭化水素基の水素原子の少なくとも一部がハロゲン原子やシアノ基で置換された置換アルキル基等の置換の一価炭化水素基である。ｂは０．７〜２．１、ｃは０．０１〜１．０、かつｂ＋ｃは０．８〜３．０、好ましくはｂは０．８〜２．０、ｃは０．１０〜１．０、より好ましくは０．１８〜１．０、更に好ましくは０．２〜１．０、かつｂ＋ｃは１．０〜２．５を満足する正数で示される。）
で示される従来から公知のオルガノハイドロジェンポリシロキサンが適用可能である。また、オルガノハイドロジェンポリシロキサンの分子構造は、直鎖状、環状、分岐状、三次元網目状のいずれの構造であってもよい。この場合、１分子中のケイ素原子の数（又は重合度）は２〜３００個、特に４〜２００個程度の室温で液状のものが好適に用いられる。なお、ケイ素原子に結合する水素原子（ＳｉＨ基）は分子鎖末端にあっても側鎖にあっても、その両方にあってもよく、１分子中に少なくとも２個（通常２〜３００個）、好ましくは３個以上（例えば３〜２００個）、より好ましくは４〜１５０個程度含有するものが使用される。
【００２０】
上記の（Ｃ）成分のオルガノハイドロジェンポリシロキサンとして具体的には、１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン、１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサン、メチルハイドロジェンシクロポリシロキサン、メチルハイドロジェンシロキサン・ジメチルシロキサン環状共重合体、トリス（ジメチルハイドロジェンシロキシ）メチルシラン、トリス（ジメチルハイドロジェンシロキシ）フェニルシラン、両末端トリメチルシロキシ基封鎖メチルハイドロジェンポリシロキサン、両末端トリメチルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルハイドロジェンシロキサン共重合体、両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン、両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルハイドロジェンシロキサン共重合体、両末端トリメチルシロキシ基封鎖メチルハイドロジェンシロキサン・ジフェニルシロキサン共重合体、両末端トリメチルシロキシ基封鎖メチルハイドロジェンシロキサン・ジフェニルシロキサン・ジメチルシロキサン共重合体、環状メチルハイドロジェンポリシロキサン、環状メチルハイドロジェンシロキサン・ジメチルシロキサン共重合体、環状メチルハイドロジェンシロキサン・ジフェニルシロキサン・ジメチルシロキサン共重合体、（ＣＨ3）2ＨＳｉＯ1/2単位とＳｉＯ4/2単位とから成る共重合体、（ＣＨ3）2ＨＳｉＯ1/2単位とＳｉＯ4/2単位と（Ｃ6Ｈ5）ＳｉＯ3/2単位とからなる共重合体等や上記各例示化合物において、メチル基の一部又は全部がエチル基、プロピル基等の他のアルキル基やフェニル基等のアリール基で置換されたもの等が挙げられる。
【００２１】
このオルガノハイドロジェンポリシロキサンの配合量は、（Ａ）成分のオルガノポリシロキサン１００質量部に対して０．１〜３０質量部、より好ましくは０．１〜１０質量部、更に好ましくは０．３〜１０質量部とすることが好ましい。
【００２２】
また、このオルガノハイドロジェンポリシロキサンは、（Ａ）成分中のケイ素原子に結合したアルケニル基等の脂肪族不飽和基に対する（Ｃ）成分中のケイ素原子に結合した水素原子（即ち、ＳｉＨ基）のモル比が０．５〜５モル／モル、好ましくは０．８〜４モル／モル、より好ましくは１〜３モル／モルとなる量で配合される。
【００２３】
（Ｄ）成分のヒドロシリル化反応触媒は、公知のものが適用可能で、例えば、白金黒、塩化第二白金、塩化白金酸、塩化白金酸と一価アルコールとの反応物、塩化白金酸とオレフィン類との錯体、白金ビスアセトアセテート等の白金系触媒、パラジウム系触媒、ロジウム系触媒等の白金族金属触媒が挙げられる。なお、このヒドロシリル化反応触媒の配合量は触媒量とすることができ、通常、白金族金属として（Ａ）成分に対し、０．５〜１，０００ｐｐｍ、好ましくは１〜２００ｐｐｍ程度である。
【００２４】
本発明のシリコーンゴム組成物には、上記成分以外に、本発明の目的を損なわない範囲で、難燃性付与剤、着色剤等を添加することができる。
【００２５】
本発明のシリコーンゴム組成物は、上述した成分の所定量を２本ロール、ニーダー、バンバリーミキサー等で混練りすることによって得ることができる。
【００２６】
本発明のシリコーンゴム組成物を成形する場合、成形方法としては、特に限定されないが、プレス成型、押し出し成型、カレンダー成型等が可能である。また、その硬化条件は特に限定されない。一般的には、８０〜３００℃、特に１００〜２５０℃で５秒〜１時間、特に３０秒〜３０分程度の加熱硬化を採用することができる。また、１００〜２００℃で１０分〜１０時間程度ポストキュアーをしてもよい。
【００２７】
本発明のシリコーンゴム組成物は、プレス成型等の方法で成形、硬化することにより高透明なシリコーンゴムが得られ、これらは通常ＬＥＤを光源とする携帯電話のキーパッド照光用バックライト装置の光導波板等に好適に用いられるものである。
【００２８】
また、厚さ２ｍｍの硬化物シートの全光線透過率が、スガ試験機（株）製直読ヘイズコンピューターＨＧＭ−２による測定値で９０％以上（即ち、９０〜１００％）であることが好ましい。該全光線透過率が９０％未満であると光導波板等に使用したときの光拡散が大きすぎ、入射光が光導波板の最遠部まで届かず、輝度にムラが生じてしまう。
【００２９】
更に、厚さ２ｍｍの硬化物シートのヘイズ値が、スガ試験機（株）製直読ヘイズコンピューターＨＧＭ−２による測定値で１０以下（即ち、０〜１０）、特に８以下（０〜８）であることが好ましい。該ヘイズ値が１０を超える場合は光拡散が大きすぎて、光導波板等に使用したときの入射光が光導波板の最遠部まで届かず、輝度にムラが生じてしまう。
【実施例】
【００３０】
以下、実施例と比較例により本発明を具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。なお、配合量の単位は質量部である。また、重量平均分子量、重量平均重合度は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）分析におけるポリスチレン換算値である。
【００３１】
［実施例１］
ジメチルシロキサン単位（（ＣＨ3）2ＳｉＯ2/2）９９．４２５モル％、メチルビニルシロキサン単位（（ＣＨ2＝ＣＨ）（ＣＨ3）ＳｉＯ2/2）０．５０モル％、ジメチルビニルシロキシ単位（（ＣＨ2＝ＣＨ）（ＣＨ3）2ＳｉＯ1/2）０．０２５モル％からなり、平均重合度が約６，０００であるオルガノポリシロキサン１００部、ＢＥＴ比表面積３００ｍ2／ｇのヒュームドシリカ（商品名アエロジル３００、日本アエロジル（株）製）７０部、分散剤としてヘキサメチルジシラザン１６部、水４部を添加し、ニーダーにて混練りし、１７０℃にて２時間加熱処理してコンパウンドを調製した。
上記コンパウンド１００部に対し、付加架橋硬化剤としてＣ−２５Ａ（白金触媒）／Ｃ−２５Ｂ（オルガノハイドロジェンポリシロキサン）（共に信越化学工業（株）製）それぞれ０．５部／２．０部を２本ロールで混練後添加し、均一に混合した後、１２０℃、７０ｋｇｆ／ｃｍ2の条件で１０分間プレスキュアーを行い、次いで２００℃で４時間ポストキュアーを行い、試験用シートを作製した。
【００３２】
［実施例２］
ＢＥＴ比表面積３００ｍ2／ｇのヒュームドシリカ（商品名アエロジル３００、日本アエロジル（株）製）の添加量を８０部、ヘキサメチルジシラザン１８．５部、水４．６部
とした以外は実施例１と同様な方法によりシートを成型した。
【００３３】
［実施例３］
ＢＥＴ比表面積３００ｍ2／ｇのヒュームドシリカ（商品名アエロジル３００、日本アエロジル（株）製）の添加量を１００部、ヘキサメチルジシラザン２３部、水５．７部
とした以外は実施例１と同様な方法によりシートを成型した。
【００３４】
［実施例４］
ＢＥＴ比表面積３８０ｍ2／ｇのヒュームドシリカ（商品名アエロジル３８０、日本アエロジル（株）製）の添加量を７０部、ヘキサメチルジシラザン２０．３部、水５．１部とした以外は実施例１と同様な方法によりシートを成型した。
【００３５】
［比較例１］
ＢＥＴ比表面積３００ｍ2／ｇのヒュームドシリカ（商品名アエロジル３００、日本アエロジル（株）製）の添加量を５０部、ヘキサメチルジシラザン１１．４部、水２．９部
とした以外は実施例１と同様な方法によりシートを成型した。
【００３６】
［比較例２］
ＢＥＴ比表面積２００ｍ2／ｇのヒュームドシリカ（商品名アエロジル２００、日本アエロジル（株）製）の添加量を７０部、ヘキサメチルジシラザン１６部、水４部とした以外は実施例１と同様な方法によりシートを成型した。
【００３７】
【表１】
【００３８】
透明性評価方法：厚さ２ｍｍシートの全光線透過率、ヘイズ値を測定した。
スガ試験機（株）製直読ヘイズコンピューターＨＧＭ−２による測定値
物性特性測定法
ゴム組成物を１２０℃／１０分の条件で硬化させ、ＪＩＳ Ｋ６２４９に準じて、可塑度及び硬さ（デュロメーターＡ）を測定した。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、オルガノポリシロキサンを主成分とし、ヒドロシリル化反応によって硬化するミラブルタイプの光導波板用シリコーンゴム組成物及び光導波板に関し、特に高透明、高硬度の成型物が得られるため、携帯電話のキーパッド照光用バックライト装置の光導波板に好適に用いられるものである。
【背景技術】
【０００２】
携帯電話の夜間使用のため、多くのキーパッドは照光用バックライト装置を備えているが、従来は発光ダイオード（ＬＥＤ）をキーパッドの裏側に多数個配置する構成であった。しかし、最近の携帯電話の高機能化に伴い、照光用バックライト装置にも薄型化、軽量化、高輝度化、コストダウンの要求が高まっており、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）でも採用されている光導波板による照光用バックライト装置が提案された。これは、ＬＥＤ光源と、該光源に対向する端面から光を内部に導入して拡散し、照光したいキー部分に設置した反射面で光を反射して反射光を外部に投射する光導波板から構成されている（特許文献１：特開２００３−５９３２１号公報参照）。この装置の特徴は、ＬＥＤを横方向に設置することで薄型化が可能になり、従来の裏側にＬＥＤを設置したタイプに比べてＬＥＤ個数を減少してもキーパッド全面を均一に、高輝度に照光可能となった。また、消費電力も低下したので電池の小型、軽量化も進み、低コスト化にも寄与した。
【０００３】
ＬＣＤバックライト装置の光導波板は、光学的特性のみを要求されるが、ＬＥＤを光源とするキーパッド照光用バックライト装置の光導波板は、キー入力の変位（クリック）をスイッチング素子に伝達する役目も担うので、高透明であることに加え、弾性やその温度依存性が小さいこと、薄く均一な厚みで表面平滑なフィルムを成型できること等も必要となる。一般にアクリル樹脂やポリカーボネート樹脂は高透明でフィルム成型性は良好であるが、弾性の温度依存性、特に低温領域では脆化のため、キー入力時にクラックが発生することがあった。そこで、ＬＥＤの封止材等の光学材料にも応用されている高透明なシリコーン系樹脂（特許文献２：特開２００２−２６５７８７号公報、特許文献３：特開２００６−２０２９５２号公報、特許文献４：特開２００６−３４２２００号公報参照）が低温特性に優れている点で注目された。しかしながらこれらに用いられている材料は液状タイプの材料であり、光導波板を製造する際の工程が煩雑となり、コストアップの要因となる問題があった。
【０００４】
【特許文献１】特開２００３−５９３２１号公報
【特許文献２】特開２００２−２６５７８７号公報
【特許文献３】特開２００６−２０２９５２号公報
【特許文献４】特開２００６−３４２２００号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は上記事情に鑑みなされたもので、液状タイプに比べ、カレンダー成型、押し出し成型性に優れた透明性の高いミラブル型シリコーンゴム組成物からなり、特にバックライト装置用として好適な光導波板用シリコーンゴム組成物及び光導波板を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは、上記目的を達成するために鋭意検討を重ねた結果、ミラブルタイプのシリコーンゴム組成物に、所定量以上のシリカを分散させることにより、シリカが充填された系でも高透明の材料が得られることを見出し、本発明に至ったものである。
【０００７】
即ち、本発明は、下記光導波板用シリコーンゴム組成物及び光導波板を提供する。
（１）（Ａ）成分として下記平均組成式（Ｉ）
Ｒ1aＳｉＯ(4-a)/2 （Ｉ）
（式中、Ｒ1は同一又は異種の非置換又は置換一価炭化水素基であり、かつ１分子中の少なくとも２個は脂肪族不飽和基である。ａは１．９５〜２．０５の正数である。）
で表される重合度が１００以上のオルガノポリシロキサン １００質量部、
（Ｂ）ＢＥＴ比表面積が２００ｍ2／ｇを超える煙霧質シリカ ７０〜１５０質量部、
（Ｃ）１分子中に少なくとも２個のケイ素原子と結合した水素原子を含有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン ０．１〜３０質量部、
（Ｄ）ヒドロシリル化反応触媒 触媒量
からなることを特徴とする光導波板用シリコーンゴム組成物。
（２）（Ｂ）成分が、表面処理されたシリカであることを特徴とする（１）記載の光導波板用シリコーンゴム組成物。
（３）シリカの表面処理剤がヘキサメチルジシラザンである（１）又は（２）記載の光導波板用シリコーンゴム組成物。
（４）平均組成式（Ｉ）において、脂肪族不飽和基を除くＲ1がメチル基である（１）〜（３）のいずれかに記載の光導波板用シリコーンゴム組成物。
（５）該シリコーンゴム組成物の厚さ２ｍｍの硬化物シートの全光線透過率が９０％以上であることを特徴とする（１）〜（４）のいずれかに記載の光導波板用シリコーンゴム組成物。
（６）該シリコーンゴム組成物の厚さ２ｍｍの硬化物フィルムのヘイズ値が１０以下であることを特徴とする（１）〜（５）のいずれかに記載の光導波板用シリコーンゴム組成物。
（７）キーパッド照光用のバックライト装置用である（５）又は（６）記載の光導波板用シリコーンゴム組成物。
（８）（１）〜（７）のいずれかに記載のシリコーンゴム組成物を硬化させてなる光導波板。
【発明の効果】
【０００８】
本発明のシリコーンゴム組成物は、押し出し成型、カレンダー成型等が可能なミラブルタイプ（即ち、ロールミル等の混練機での混練が可能な）の材料であり、その硬化物はシリカを含有していても、高い透明性を持ち、携帯電話等のキーパッド照光用バックライト装置の光導波板として最適である。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
本発明のシリコーンゴム組成物において、主剤（ベースポリマー）としての（Ａ）成分は下記平均組成式（Ｉ）で表される重合度が１００以上のオルガノポリシロキサンである。
Ｒ1aＳｉＯ(4-a)/2 （Ｉ）
（式中、Ｒ1は同一又は異種の非置換又は置換一価炭化水素基であり、かつ１分子中の少なくとも２個は脂肪族不飽和基である。ａは１．９５〜２．０５の正数である。）
【００１０】
上記平均組成式（Ｉ）中、Ｒ1は同一又は異種の非置換又は置換の一価炭化水素基を示し、通常、炭素数１〜１２、特に炭素数１〜８のものが好ましく、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ヘキシル基、オクチル基等のアルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基、ビニル基、アリル基、プロペニル基等のアルケニル基、シクロヘキセニル基等のシクロアルケニル基、フェニル基、トリル基等のアリール基、ベンジル基、２−フェニルエチル基等のアラルキル基、あるいはこれらの基の水素原子の一部又は全部をハロゲン原子又はシアノ基等で置換した基が挙げられ、メチル基、ビニル基、フェニル基、トリフルオロプロピル基が好ましく、特にメチル基、ビニル基が好ましい。
【００１１】
具体的には、該オルガノポリシロキサンの主鎖を構成するジオルガノシロキサン単位（Ｒ12ＳｉＯ2/2）がジメチルシロキサン単位の繰り返しからなるもの、又はこの主鎖を構成するジメチルシロキサン単位の繰り返しからなるジメチルポリシロキサン構造の一部にフェニル基、ビニル基、３，３，３−トリフルオロプロピル基等を有するジフェニルシロキサン単位、メチルフェニルシロキサン単位、メチルビニルシロキサン単位、メチル−３，３，３−トリフルオロプロピルシロキサン単位等を導入したもの等が好適である。
【００１２】
特に、オルガノポリシロキサンは、１分子中に２個以上のアルケニル基、シクロアルケニル基等の脂肪族不飽和基を有するものが好ましく、この脂肪族不飽和基としてはアルケニル基、特にビニル基であることが好ましい。この場合、全Ｒ1中０．０１〜２０モル％、特に０．０２〜１０モル％、更には０．０２〜５モル％が脂肪族不飽和基であることが好ましい。なお、この脂肪族不飽和基は、分子鎖末端でケイ素原子に結合していても、分子鎖の途中のケイ素原子に結合していても、その両方であってもよいが、少なくとも分子鎖末端のケイ素原子に結合していることが好ましい。また、ａは１．９５〜２．０５、好ましくは１．９８〜２．０２、より好ましくは１．９９〜２．０１の正数である。また、全Ｒ1中９０モル％以上、好ましくは９５モル％以上、更に好ましくは脂肪族不飽和基を除く全てのＲ1がアルキル基、特にはメチル基であることが、透明性の確保の点から望ましい。
【００１３】
（Ａ）成分のオルガノポリシロキサンは、分子鎖末端がトリメチルシロキシ基、ジメチルフェニルシロキシ基、ジメチルヒドロキシシロキシ基、ジメチルビニルシロキシ基、メチルジビニルシロキシ基、トリビニルシロキシ基等のトリオルガノシロキシ基（Ｒ13ＳｉＯ1/2）で封鎖され、主鎖が前記したジオルガノシロキサン単位（Ｒ12ＳｉＯ2/2）の繰り返しからなる直鎖状のものを好ましく挙げることができる。
特に好ましいものとしては、メチルビニルポリシロキサン、メチルフェニルビニルポリシロキサン、メチルトリフルオロプロピルビニルポリシロキサン等を挙げることができる。
【００１４】
このようなオルガノポリシロキサンは、例えばオルガノハロゲノシランの１種又は２種以上を（共）加水分解縮合することにより、あるいは環状ポリシロキサン（シロキサンの３量体、４量体等）をアルカリ性又は酸性の触媒を用いて開環重合することによって得ることができる。これらは基本的に直鎖状のジオルガノポリシロキサンであるが、（Ａ）成分としては、分子量（重合度）や分子構造の異なる２種又は３種以上の混合物であってもよい。
【００１５】
なお、上記オルガノポリシロキサンの重合度は１００以上、好ましくは１００〜１００，０００、より好ましくは１，０００〜１００，０００、特に好ましくは２，０００〜５０，０００、更に好ましくは３，０００〜２０，０００であり、特に室温（２５℃）において自己流動性のない生ゴム状であるものが好ましい。なお、この重合度は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）分析によるポリスチレン換算の重量平均重合度として測定することができる。
【００１６】
（Ｂ）成分のＢＥＴ比表面積２００ｍ2／ｇを超える煙霧質シリカは、透明性に優れ、また機械的強度の優れたシリコーンゴム組成物を得るために添加されるもの（即ち、補強性充填剤）である。またシリコーンゴム組成物の透明性向上のため、ＢＥＴ比表面積が２００ｍ2／ｇを超える必要があり、好ましくは２１０ｍ2／ｇ以上、より好ましくは２５０ｍ2／ｇ以上である。ＢＥＴ比表面積が２００ｍ2／ｇ以下だと、硬化物の透明性が低下してしまう。なお、ＢＥＴ比表面積の上限には特に制限はないが、作業性等の点から、通常、５００ｍ2／ｇ以下、好ましくは４００ｍ2／ｇ以下程度のものであればよい。
【００１７】
通常、シリコーンゴム組成物に使用される補強性シリカとしては煙霧質シリカ（即ち、ヒュームドシリカ）、沈降シリカ等が挙げられるが、沈降シリカを用いると透明性が低下するため、本発明においては煙霧質シリカが用いられる。
またこれらの表面をクロロシラン、アルコキシシラン、ヘキサメチルジシラザン等で疎水化処理したものも好適に用いられる。特にヘキサメチルジシラザンによる処理が、透明性が高くなり、好ましい。
【００１８】
（Ｂ）成分の煙霧質シリカの添加量は、（Ａ）成分のオルガノポリシロキサン１００質量部に対して、７０〜１５０質量部、好ましくは７０〜１２０質量部である。７０質量部未満だと、シリコーンゴムコンパウンドを硬化させたシートの透明性が低下する。１５０質量部を超えると、シリコーンポリマー中へのシリカの分散が困難となる。
【００１９】
本発明のシリコーンゴム組成物の（Ｃ）成分のオルガノハイドロジェンポリシロキサンは、架橋剤として作用するものであり、１分子中に少なくとも２個のケイ素原子と結合した水素原子（ＳｉＨ基）を含有するもので、下記平均組成式（ＩＩ）
Ｒ2bＨcＳｉＯ(4-b-c)/2 （ＩＩ）
（ここで、Ｒ2は炭素数１〜６の置換又は非置換の一価炭化水素基で、好ましくは脂肪族不飽和結合を有さないものである。具体例としてはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等のアルキル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基、フェニル基等のアリール基、ベンジル基等のアラルキル基等の非置換の一価炭化水素基、３，３，３−トリフルオロプロピル基、シアノメチル基等の上記一価炭化水素基の水素原子の少なくとも一部がハロゲン原子やシアノ基で置換された置換アルキル基等の置換の一価炭化水素基である。ｂは０．７〜２．１、ｃは０．０１〜１．０、かつｂ＋ｃは０．８〜３．０、好ましくはｂは０．８〜２．０、ｃは０．１０〜１．０、より好ましくは０．１８〜１．０、更に好ましくは０．２〜１．０、かつｂ＋ｃは１．０〜２．５を満足する正数で示される。）
で示される従来から公知のオルガノハイドロジェンポリシロキサンが適用可能である。また、オルガノハイドロジェンポリシロキサンの分子構造は、直鎖状、環状、分岐状、三次元網目状のいずれの構造であってもよい。この場合、１分子中のケイ素原子の数（又は重合度）は２〜３００個、特に４〜２００個程度の室温で液状のものが好適に用いられる。なお、ケイ素原子に結合する水素原子（ＳｉＨ基）は分子鎖末端にあっても側鎖にあっても、その両方にあってもよく、１分子中に少なくとも２個（通常２〜３００個）、好ましくは３個以上（例えば３〜２００個）、より好ましくは４〜１５０個程度含有するものが使用される。
【００２０】
上記の（Ｃ）成分のオルガノハイドロジェンポリシロキサンとして具体的には、１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン、１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサン、メチルハイドロジェンシクロポリシロキサン、メチルハイドロジェンシロキサン・ジメチルシロキサン環状共重合体、トリス（ジメチルハイドロジェンシロキシ）メチルシラン、トリス（ジメチルハイドロジェンシロキシ）フェニルシラン、両末端トリメチルシロキシ基封鎖メチルハイドロジェンポリシロキサン、両末端トリメチルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルハイドロジェンシロキサン共重合体、両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン、両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルハイドロジェンシロキサン共重合体、両末端トリメチルシロキシ基封鎖メチルハイドロジェンシロキサン・ジフェニルシロキサン共重合体、両末端トリメチルシロキシ基封鎖メチルハイドロジェンシロキサン・ジフェニルシロキサン・ジメチルシロキサン共重合体、環状メチルハイドロジェンポリシロキサン、環状メチルハイドロジェンシロキサン・ジメチルシロキサン共重合体、環状メチルハイドロジェンシロキサン・ジフェニルシロキサン・ジメチルシロキサン共重合体、（ＣＨ3）2ＨＳｉＯ1/2単位とＳｉＯ4/2単位とから成る共重合体、（ＣＨ3）2ＨＳｉＯ1/2単位とＳｉＯ4/2単位と（Ｃ6Ｈ5）ＳｉＯ3/2単位とからなる共重合体等や上記各例示化合物において、メチル基の一部又は全部がエチル基、プロピル基等の他のアルキル基やフェニル基等のアリール基で置換されたもの等が挙げられる。
【００２１】
このオルガノハイドロジェンポリシロキサンの配合量は、（Ａ）成分のオルガノポリシロキサン１００質量部に対して０．１〜３０質量部、より好ましくは０．１〜１０質量部、更に好ましくは０．３〜１０質量部とすることが好ましい。
【００２２】
また、このオルガノハイドロジェンポリシロキサンは、（Ａ）成分中のケイ素原子に結合したアルケニル基等の脂肪族不飽和基に対する（Ｃ）成分中のケイ素原子に結合した水素原子（即ち、ＳｉＨ基）のモル比が０．５〜５モル／モル、好ましくは０．８〜４モル／モル、より好ましくは１〜３モル／モルとなる量で配合される。
【００２３】
（Ｄ）成分のヒドロシリル化反応触媒は、公知のものが適用可能で、例えば、白金黒、塩化第二白金、塩化白金酸、塩化白金酸と一価アルコールとの反応物、塩化白金酸とオレフィン類との錯体、白金ビスアセトアセテート等の白金系触媒、パラジウム系触媒、ロジウム系触媒等の白金族金属触媒が挙げられる。なお、このヒドロシリル化反応触媒の配合量は触媒量とすることができ、通常、白金族金属として（Ａ）成分に対し、０．５〜１，０００ｐｐｍ、好ましくは１〜２００ｐｐｍ程度である。
【００２４】
本発明のシリコーンゴム組成物には、上記成分以外に、本発明の目的を損なわない範囲で、難燃性付与剤、着色剤等を添加することができる。
【００２５】
本発明のシリコーンゴム組成物は、上述した成分の所定量を２本ロール、ニーダー、バンバリーミキサー等で混練りすることによって得ることができる。
【００２６】
本発明のシリコーンゴム組成物を成形する場合、成形方法としては、特に限定されないが、プレス成型、押し出し成型、カレンダー成型等が可能である。また、その硬化条件は特に限定されない。一般的には、８０〜３００℃、特に１００〜２５０℃で５秒〜１時間、特に３０秒〜３０分程度の加熱硬化を採用することができる。また、１００〜２００℃で１０分〜１０時間程度ポストキュアーをしてもよい。
【００２７】
本発明のシリコーンゴム組成物は、プレス成型等の方法で成形、硬化することにより高透明なシリコーンゴムが得られ、これらは通常ＬＥＤを光源とする携帯電話のキーパッド照光用バックライト装置の光導波板等に好適に用いられるものである。
【００２８】
また、厚さ２ｍｍの硬化物シートの全光線透過率が、スガ試験機（株）製直読ヘイズコンピューターＨＧＭ−２による測定値で９０％以上（即ち、９０〜１００％）であることが好ましい。該全光線透過率が９０％未満であると光導波板等に使用したときの光拡散が大きすぎ、入射光が光導波板の最遠部まで届かず、輝度にムラが生じてしまう。
【００２９】
更に、厚さ２ｍｍの硬化物シートのヘイズ値が、スガ試験機（株）製直読ヘイズコンピューターＨＧＭ−２による測定値で１０以下（即ち、０〜１０）、特に８以下（０〜８）であることが好ましい。該ヘイズ値が１０を超える場合は光拡散が大きすぎて、光導波板等に使用したときの入射光が光導波板の最遠部まで届かず、輝度にムラが生じてしまう。
【実施例】
【００３０】
以下、実施例と比較例により本発明を具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。なお、配合量の単位は質量部である。また、重量平均分子量、重量平均重合度は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）分析におけるポリスチレン換算値である。
【００３１】
［実施例１］
ジメチルシロキサン単位（（ＣＨ3）2ＳｉＯ2/2）９９．４２５モル％、メチルビニルシロキサン単位（（ＣＨ2＝ＣＨ）（ＣＨ3）ＳｉＯ2/2）０．５０モル％、ジメチルビニルシロキシ単位（（ＣＨ2＝ＣＨ）（ＣＨ3）2ＳｉＯ1/2）０．０２５モル％からなり、平均重合度が約６，０００であるオルガノポリシロキサン１００部、ＢＥＴ比表面積３００ｍ2／ｇのヒュームドシリカ（商品名アエロジル３００、日本アエロジル（株）製）７０部、分散剤としてヘキサメチルジシラザン１６部、水４部を添加し、ニーダーにて混練りし、１７０℃にて２時間加熱処理してコンパウンドを調製した。
上記コンパウンド１００部に対し、付加架橋硬化剤としてＣ−２５Ａ（白金触媒）／Ｃ−２５Ｂ（オルガノハイドロジェンポリシロキサン）（共に信越化学工業（株）製）それぞれ０．５部／２．０部を２本ロールで混練後添加し、均一に混合した後、１２０℃、７０ｋｇｆ／ｃｍ2の条件で１０分間プレスキュアーを行い、次いで２００℃で４時間ポストキュアーを行い、試験用シートを作製した。
【００３２】
［実施例２］
ＢＥＴ比表面積３００ｍ2／ｇのヒュームドシリカ（商品名アエロジル３００、日本アエロジル（株）製）の添加量を８０部、ヘキサメチルジシラザン１８．５部、水４．６部
とした以外は実施例１と同様な方法によりシートを成型した。
【００３３】
［実施例３］
ＢＥＴ比表面積３００ｍ2／ｇのヒュームドシリカ（商品名アエロジル３００、日本アエロジル（株）製）の添加量を１００部、ヘキサメチルジシラザン２３部、水５．７部
とした以外は実施例１と同様な方法によりシートを成型した。
【００３４】
［実施例４］
ＢＥＴ比表面積３８０ｍ2／ｇのヒュームドシリカ（商品名アエロジル３８０、日本アエロジル（株）製）の添加量を７０部、ヘキサメチルジシラザン２０．３部、水５．１部とした以外は実施例１と同様な方法によりシートを成型した。
【００３５】
［比較例１］
ＢＥＴ比表面積３００ｍ2／ｇのヒュームドシリカ（商品名アエロジル３００、日本アエロジル（株）製）の添加量を５０部、ヘキサメチルジシラザン１１．４部、水２．９部
とした以外は実施例１と同様な方法によりシートを成型した。
【００３６】
［比較例２］
ＢＥＴ比表面積２００ｍ2／ｇのヒュームドシリカ（商品名アエロジル２００、日本アエロジル（株）製）の添加量を７０部、ヘキサメチルジシラザン１６部、水４部とした以外は実施例１と同様な方法によりシートを成型した。
【００３７】
【表１】
【００３８】
透明性評価方法：厚さ２ｍｍシートの全光線透過率、ヘイズ値を測定した。
スガ試験機（株）製直読ヘイズコンピューターＨＧＭ−２による測定値
物性特性測定法
ゴム組成物を１２０℃／１０分の条件で硬化させ、ＪＩＳ Ｋ６２４９に準じて、可塑度及び硬さ（デュロメーターＡ）を測定した。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）成分として下記平均組成式（Ｉ）
Ｒ1aＳｉＯ(4-a)/2 （Ｉ）
（式中、Ｒ1は同一又は異種の非置換又は置換一価炭化水素基であり、かつ１分子中の少なくとも２個は脂肪族不飽和基である。ａは１．９５〜２．０５の正数である。）
で表される重合度が１００以上のオルガノポリシロキサン １００質量部、
（Ｂ）ＢＥＴ比表面積が２００ｍ2／ｇを超える煙霧質シリカ ７０〜１５０質量部、
（Ｃ）１分子中に少なくとも２個のケイ素原子と結合した水素原子を含有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン ０．１〜３０質量部、
（Ｄ）ヒドロシリル化反応触媒 触媒量
からなることを特徴とする光導波板用シリコーンゴム組成物。
【請求項２】
（Ｂ）成分が、表面処理されたシリカであることを特徴とする請求項１記載の光導波板用シリコーンゴム組成物。
【請求項３】
シリカの表面処理剤がヘキサメチルジシラザンである請求項１又は２記載の光導波板用シリコーンゴム組成物。
【請求項４】
平均組成式（Ｉ）において、脂肪族不飽和基を除くＲ1がメチル基である請求項１乃至３のいずれか１項記載の光導波板用シリコーンゴム組成物。
【請求項５】
該シリコーンゴム組成物の厚さ２ｍｍの硬化物シートの全光線透過率が９０％以上であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項記載の光導波板用シリコーンゴム組成物。
【請求項６】
該シリコーンゴム組成物の厚さ２ｍｍの硬化物フィルムのヘイズ値が１０以下であることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項記載の光導波板用シリコーンゴム組成物。
【請求項７】
キーパッド照光用のバックライト装置用である請求項５又は６記載の光導波板用シリコーンゴム組成物。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれか１項に記載のシリコーンゴム組成物を硬化させてなる光導波板。
【請求項１】
（Ａ）成分として下記平均組成式（Ｉ）
Ｒ1aＳｉＯ(4-a)/2 （Ｉ）
（式中、Ｒ1は同一又は異種の非置換又は置換一価炭化水素基であり、かつ１分子中の少なくとも２個は脂肪族不飽和基である。ａは１．９５〜２．０５の正数である。）
で表される重合度が１００以上のオルガノポリシロキサン １００質量部、
（Ｂ）ＢＥＴ比表面積が２００ｍ2／ｇを超える煙霧質シリカ ７０〜１５０質量部、
（Ｃ）１分子中に少なくとも２個のケイ素原子と結合した水素原子を含有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン ０．１〜３０質量部、
（Ｄ）ヒドロシリル化反応触媒 触媒量
からなることを特徴とする光導波板用シリコーンゴム組成物。
【請求項２】
（Ｂ）成分が、表面処理されたシリカであることを特徴とする請求項１記載の光導波板用シリコーンゴム組成物。
【請求項３】
シリカの表面処理剤がヘキサメチルジシラザンである請求項１又は２記載の光導波板用シリコーンゴム組成物。
【請求項４】
平均組成式（Ｉ）において、脂肪族不飽和基を除くＲ1がメチル基である請求項１乃至３のいずれか１項記載の光導波板用シリコーンゴム組成物。
【請求項５】
該シリコーンゴム組成物の厚さ２ｍｍの硬化物シートの全光線透過率が９０％以上であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項記載の光導波板用シリコーンゴム組成物。
【請求項６】
該シリコーンゴム組成物の厚さ２ｍｍの硬化物フィルムのヘイズ値が１０以下であることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項記載の光導波板用シリコーンゴム組成物。
【請求項７】
キーパッド照光用のバックライト装置用である請求項５又は６記載の光導波板用シリコーンゴム組成物。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれか１項に記載のシリコーンゴム組成物を硬化させてなる光導波板。
【公開番号】特開２０１０−８３９７８（Ｐ２０１０−８３９７８Ａ）
【公開日】平成２２年４月１５日（２０１０．４．１５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−２５３６９０（Ｐ２００８−２５３６９０）
【出願日】平成２０年９月３０日（２００８．９．３０）
【出願人】（０００００２０６０）信越化学工業株式会社 (3,361)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年４月１５日（２０１０．４．１５）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年９月３０日（２００８．９．３０）
【出願人】（０００００２０６０）信越化学工業株式会社 (3,361)
【Ｆターム（参考）】
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