光硬化性インクジェットインク
【課題】十分な光硬化性を有し、基板に対する密着性、光透過性に優れ、さらに耐熱性にも優れる硬化膜およびマイクロレンズを形成することが可能な光硬化性インクジェットインクを提供すること。
【解決手段】下記式（１）で表される（メタ）アクリル酸エステル（Ａ）および光重合開始剤（Ｂ）を含有する光硬化性インクジェットインクであって、
前記光重合開始剤（Ｂ）が、光重合開始剤濃度０．００１重量％のアセトニトリル溶液のＵＶ吸収スペクトル測定による、３００ｎｍ以上の波長領域における吸光度が０．１以下である光重合開始剤であり、
該インクより得られた硬化膜（膜厚２．０〜３．０μｍ）を７０℃で１００時間熱処理した後の膜の波長４００ｎｍにおける光透過率が９８％以上である、光硬化性インクジェットインク。
【解決手段】下記式（１）で表される（メタ）アクリル酸エステル（Ａ）および光重合開始剤（Ｂ）を含有する光硬化性インクジェットインクであって、
前記光重合開始剤（Ｂ）が、光重合開始剤濃度０．００１重量％のアセトニトリル溶液のＵＶ吸収スペクトル測定による、３００ｎｍ以上の波長領域における吸光度が０．１以下である光重合開始剤であり、
該インクより得られた硬化膜（膜厚２．０〜３．０μｍ）を７０℃で１００時間熱処理した後の膜の波長４００ｎｍにおける光透過率が９８％以上である、光硬化性インクジェットインク。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶ディスプレイなどの光学機器を製造するために好適に用いられる光硬化性インクジェットインクに関する。更に詳しくは、本発明は、バックライト装置に使用されるマイクロレンズアレイや、タッチパネル等に使用される透明絶縁膜などに適した光硬化性インクジェットインクに関する。
【背景技術】
【０００２】
かねてより、液晶ディスプレイなどの液晶表示素子には、バックライトに使用されるマイクロレンズアレイを有する導光板などが用いられており、また、タッチパネルには透明絶縁膜などが用いられている。
【０００３】
特に導光板やタッチパネル用透明絶縁膜は高い光透過性が求められ、また、これらを液晶表示素子に使用する場合、発生する熱によって色味が変化（黄色化）しないことが求められている。
【０００４】
特開平２−６５６２号公報（特許文献１）、特開２００３−１９２９４３号公報（特許文献２）、特開２００７−３２１０３４号公報（特許文献３）、特開２０１０−２９１２号公報（特許文献４）、特開２０１０−２４８３５２号公報（特許文献５）では、光透過性に優れた組成物が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平２−６５６２号公報
【特許文献２】特開２００３−１９２９４３号公報
【特許文献３】特開２００７−３２１０３４号公報
【特許文献４】特開２０１０−２９１２号公報
【特許文献５】特開２０１０−２４８３５２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
これらの組成物から形成される硬化膜は、光透過率は高いものの、耐熱性が低く、例えば７０℃で１００時間熱処理した後の膜の波長４００ｎｍにおける光透過率は低くなるといった問題があったため、該硬化膜は、マイクロレンズアレイ形成用またはタッチパネル用透明絶縁膜などとして用いることができなかった。
【０００７】
本発明は前記の問題点に鑑みてなされたもので、十分な光硬化性を有し、基板に対する密着性および光透過性に優れ、さらに耐熱性にも優れる硬化膜およびマイクロレンズを形成することが可能な光硬化性インクジェットインクを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者等は、特定の（メタ）アクリル酸エステルおよび光重合開始剤を含有する光硬化性インクジェットインクであって、該インクより得られた硬化膜（膜厚２．０〜３．０μｍ）を７０℃で１００時間熱処理した後の膜の波長４００ｎｍにおける光透過率が９８％以上となる、光硬化性インクジェットインクが、光硬化性に優れること、光透過性に優れ、さらに耐熱性にも優れる硬化膜およびマイクロレンズを形成できることを見出し、本発明を完成した。
すなわち本発明は、以下の項を含む。
【０００９】
［１］ 下記式（１）で表される（メタ）アクリル酸エステル（Ａ）および光重合開始剤（Ｂ）を含有する光硬化性インクジェットインクであって、
前記光重合開始剤（Ｂ）が、光重合開始剤濃度０．００１重量％のアセトニトリル溶液のＵＶ吸収スペクトル測定による、３００ｎｍ以上の波長領域における吸光度が０．１以下である光重合開始剤であり、
該インクより得られた硬化膜（膜厚２．０〜３．０μｍ）を７０℃で１００時間熱処理した後の膜の波長４００ｎｍにおける光透過率が９８％以上である、光硬化性インクジェットインク。
【００１０】
【化１】
（式（１）中、ｎ個のＲ1はそれぞれ独立に水素または炭素数１〜６のアルキルであり、Ｒ2は脂環構造またはヘテロ環構造を有する（但し、下記式（２−１）または式（２−２）で表される構造を含まない）有機基であり、ｎは１〜１０の整数である。）
【００１１】
【化２】
【００１２】
［２］ 前記光重合開始剤（Ｂ）が、光硬化性インクジェットインクの総量（固形分換算）１００重量％に対し、１〜２０重量％の量で含まれる、［１］に記載の光硬化性インクジェットインク。
［３］ 前記光重合開始剤（Ｂ）が、オキシフェニル酢酸エステル系開始剤、フェニルグリオキシレート系開始剤およびヒドロキシフェニルケトン系開始剤からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物である、［１］または［２］に記載の光硬化性インクジェットインク。
【００１３】
［４］前記光重合開始剤（Ｂ）が、オキシフェニル酢酸エステル系開始剤およびフェニルグリオキシレート系開始剤からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物である、［１］〜［３］のいずれかに記載の光硬化性インクジェットインク。
［５］ 前記光重合開始剤（Ｂ）が、オキシ−フェニル−アセチックアシッド２−[２−オキソ−２−フェニル−アセトキシ−エトキシ]−エチルエステル、オキシ−フェニル−アセチックアシッド２−[２−ヒドロキシ−エトキシ]−エチルエステル、およびフェニルグリオキシリックアシッドメチルエステルからなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物である、［１］〜［４］のいずれかに記載の光硬化性インクジェットインク。
【００１４】
［６］ 前記式（１）において、Ｒ2がシクロヘキサン、シクロペンタン、ビシクロ[２.２.１]ヘプタン、トリシクロデカン、テトラヒドロフラン、５員以上のラクトン、ジシクロペンタン、ジシクロペンテン、アダマンタン、ピペリジン、イミド環、環状ホルマールおよび１，３，５−トリアジン−２，４，６−トリオンからなる群より選ばれる少なくとも１種を有する有機基である、［１］〜［５］のいずれかに記載の光硬化性インクジェットインク。
【００１５】
［７］ 前記（メタ）アクリル酸エステル（Ａ）が、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、シクロヘキシルジメタノールジ（メタ）アクリレート、γ−ブチロラクトン（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキサイド変性ジ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキサイド変性トリ（メタ）アクリレート、およびε-カプロラクトン変性トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレートからなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物である、［１］〜［６］のいずれかに記載の光硬化性インクジェットインク。
【００１６】
［８］ さらに、前記（メタ）アクリル酸エステル（Ａ）以外のラジカル重合性二重結合を有する化合物（Ｃ）を含む、［１］〜［７］のいずれかに記載の光硬化性インクジェットインク。
［９］ 前記化合物（Ｃ）が、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、メトキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシブチル（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、およびカプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートからなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物である、［８］に記載の光硬化性インクジェットインク。
【００１７】
［１０］ さらに、界面活性剤（Ｄ）を含む、［１］〜［９］のいずれかに記載の光硬化性インクジェットインク。
［１１］ 前記界面活性剤（Ｄ）がシリコーン系界面活性剤、アクリル系界面活性剤およびフッ素系界面活性剤からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物である、［１０］に記載の光硬化性インクジェットインク。
【００１８】
［１２］ さらに、紫外線吸収剤（Ｅ）を含む、［１］〜［１１］のいずれかに記載の光硬化性インクジェットインク。
［１３］ さらに、酸化防止剤（Ｆ）を含む、［１］〜［１２］のいずれかに記載の光硬化性インクジェットインク。
【００１９】
［１４］ ［１］〜［１３］のいずれかに記載の光硬化性インクジェットインクを硬化させて得られる硬化膜。
［１５］ ［１］〜［１３］のいずれかに記載の光硬化性インクジェットインクを硬化させて得られるマイクロレンズ。
【００２０】
［１６］ ［１５］に記載のマイクロレンズを有する光学部品。
［１７］ ［１６］に記載の光学部品を有する液晶ディスプレイ。
【発明の効果】
【００２１】
本発明の光硬化性インクジェットインクは光硬化性が良好であり、高い光透過性、高い耐熱性および高い強度を示し、基板に対する密着性に優れる硬化膜およびマイクロレンズを形成することができる。また、本発明の光硬化性インクジェットインクによれば、表面撥液性基板上に、密着性が良好なマイクロレンズを形成することができる。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
［１．光硬化性インクジェットインク］
本発明の光硬化性インクジェットインク（以下単に「本発明のインク」ともいう。）は、前記式（１）で表される（メタ）アクリル酸エステル（Ａ）および光重合開始剤（Ｂ）を含んでなり、
前記光重合開始剤（Ｂ）が、光重合開始剤濃度０．００１重量％のアセトニトリル溶液のＵＶ吸収スペクトル測定による、３００ｎｍ以上の波長領域における吸光度が０．１以下である光重合開始剤であり、
該インクより得られた硬化膜（膜厚２．０〜３．０μｍ）を７０℃で１００時間熱処理した後の膜の波長４００ｎｍにおける光透過率が９８％以上を示す、光硬化性インクジェットインクである。
【００２３】
本発明のインクは、前記特定の（メタ）アクリル酸エステル（Ａ）および光重合開始剤（Ｂ）を含んでなるため、光硬化性が良好であり、光透過性、耐熱性、強度および基板に対する密着性に優れる硬化膜およびマイクロレンズ、特に高温下等の過酷な環境下におかれても光透過性の変化が少ない硬化膜およびマイクロレンズを形成することができる。
なお、以下本明細書では、「硬化膜およびマイクロレンズ」を「硬化膜等」ともいう。
【００２４】
また、本発明のインクは、必要に応じて、前記（メタ）アクリル酸エステル（Ａ）以外のラジカル重合性二重結合を有する化合物（Ｃ）、界面活性剤（Ｄ）、紫外線吸収剤（Ｅ）、酸化防止剤（Ｆ）、重合禁止剤、フェノール性水酸基を含有する樹脂、マレイミド化合物、メラミン樹脂、シランカップリング剤、エポキシ樹脂、エポキシ硬化剤および溶媒などを含んでもよい。
【００２５】
本発明のインクは、光透過率の観点からは無色が好ましいが、発明の効果を妨げない範囲でさらに有色の化合物を含有してもよい。この場合、得られる硬化膜等の色が黄色味を帯びないことが好ましく、例えば、青色の化合物を用いることができる。また、例えば、硬化膜等の状態を検査する際に基板との識別を容易にするために、着色剤を含んでもよい。
【００２６】
＜１．１．式（１）で表される（メタ）アクリル酸エステル（Ａ）＞
本発明のインクが、前記式（１）で表される（メタ）アクリル酸エステル（Ａ）（以下「化合物（Ａ）」ともいう。）を含むと、光硬化性に優れるインクとなり、高い光透過性および高い耐熱性を示す硬化膜等を形成することができる。
【００２７】
なお、本明細書において、「（メタ）アクリレート」は、アクリレートとメタクリレートの両者または一方を示す。
【００２８】
前記式（１）中、ｎ個のＲ1はそれぞれ独立に水素または炭素数１〜６のアルキルであるが、この中でも特に、ｎ個のＲ1がそれぞれ独立にＨまたはＣＨ3であると、光硬化性に優れるインクが得られ、また、高い光透過性を示す硬化膜等が得られることから好ましい。さらにＲ1が水素であると、光硬化性がより良好なインクが得られ、光透過率がより高い硬化膜等が得られるため好ましい。
【００２９】
前記式（１）中、Ｒ2の脂環構造またはヘテロ環構造を有する有機基の具体例としては、シクロヘキサン、シクロペンタン、ビシクロ[２.２.１]ヘプタン、トリシクロデカン、テトラヒドロフラン、５員以上のラクトン、ジシクロペンタン、ジシクロペンテン、アダマンタン、ピペリジン、イミド環、環状ホルマールおよび１，３，５−トリアジン−２，４，６−トリオンからなる群より選ばれる少なくとも１種を有する有機基が挙げられる。
【００３０】
この中でも、式（１）中のＲ2が特に、シクロヘキサン、ビシクロ[２.２.１]ヘプタン、トリシクロデカン、テトラヒドロフラン、ジシクロペンタンおよび１，３，５−トリアジン−２，４，６−トリオンからなる群より選ばれる少なくとも１種を有する有機基であると、光硬化性に優れるインクが得られ、基板に対する密着性および光透過性に優れるだけでなく、耐熱性の良好な硬化膜等が得られるため好ましい。
【００３１】
なお、前記式（１）中のＲ2は前記式（２−１）または式（２−２）で表される構造を含まない。
本発明のインクから形成される硬化膜等は、脂環構造またはヘテロ環構造を有する樹脂を含むことが、高い耐熱性、高い強度および基板に対する高い密着性等の点から好ましい。これに対し、前記式（２−１）または式（２−２）で表される構造を含む(メタ)アクリル酸エステルは活性が高いため、前記式（２−１）または式（２−２）で表される環は水分や環境温度の影響を受けやすく、特に高温多湿条件下においては、開環し易い。このため、本発明の化合物（Ａ）として、前記式（２−１）または式（２−２）で表される構造を有する(メタ)アクリル酸エステルのみを含むインクから形成される硬化膜等は、長期信頼性に劣る傾向がある。
【００３２】
化合物（Ａ）の具体例としては、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、シクロペンチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、４−ブチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−メチル−２−アダマンチル（メタ）アクリレート、２−エチル−２−アダマンチル（メタ）アクリレート、３，５−ジメチル−７−ヒドロキシアダマンチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシ−１−アダマンチル（メタ）アクリレート、メタクリロイルオキシノルボルナン（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、シクロヘキシルジメタノールモノ（メタ）アクリレート、シクロヘキシルジメタノールジ（メタ）アクリレート、ペンタメチルピペリジニル（メタ）アクリレート、イミド環を有する（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキサイド変性ジ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキサイド変性トリ（メタ）アクリレート、ε−カプロラクトン変性トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、環状トリメチロールプロパンホルマール（メタ）アクリレート、γ-ブチロラクトン（メタ）アクリレートおよびメバロノラクトン（メタ）アクリレートが挙げられる。
【００３３】
この中でも特に、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、シクロヘキシルジメタノールジ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキサイド変性ジ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキサイド変性トリ（メタ）アクリレート、ε−カプロラクトン変性トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレートまたはγ−ブチロラクトン（メタ）アクリレートを用いると、光硬化性に優れるインクが得られ、光透過性に優れるだけでなく、耐熱性の良好な硬化膜等が得られるため好ましい。
【００３４】
さらに化合物（Ａ）として、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレートまたはε−カプロラクトン変性トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレートを用いると、より耐熱性の良好な硬化膜等が得られるため好ましい。
【００３５】
前記化合物（Ａ）は、上述した化合物等から選ばれる１種の化合物であってもよく、またこれらの２種以上の混合物であってもよい。
２種以上の化合物（Ａ）を用いる場合には、単官能の化合物（Ａ）と多官能の化合物（Ａ）との混合物を用いることが、インクの光硬化性、ならびに得られる硬化膜等の光透過性、耐熱性および基板との密着性等の点から好ましい。
【００３６】
なお、「単官能の化合物」とは、１分子中に１つの（メタ）アクリロイル基等の重合性基を有する化合物のことであり、「多官能の化合物」とは、１分子中に２つ以上の（メタ）アクリロイル基等の重合性基を有する化合物のことである。
【００３７】
前記化合物（Ａ）としては、公知の方法で製造した化合物を用いてもよいし、また市販品を用いてもよい。
【００３８】
市販品としては、例えば、シクロヘキシルメタクリレート（商品名：ライトエステルＣＨ；共栄社化学（株）製）、シクロヘキシルアクリレート（商品名：Ｖ＃１５５；大阪有機化学工業（株）製）、テトラヒドロフルフリルメタクリレート（商品名：ライトエステルＴＨＦ；共栄社化学（株）製）、テトラヒドロフルフリルアクリレート（商品名：ライトアクリレートＴＨＦ−Ａ；共栄社化学（株）製）、イソボルニルメタクリレート（商品名：ＳＲ−４２３Ｄ；米国サートマー社製）、ジシクロペンテニルアクリレート（商品名：ＦＡ−５１１ＡＳ；日立化成工業（株）製）、ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレート（商品名：ＦＡ−５１２ＡＳ；日立化成工業（株）製）、ジシクロペンタニルアクリレート（商品名：ＦＡ−５１３ＡＳ；日立化成工業（株）製）、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート（商品名：ＩＲＲ２１４−Ｋ；ダイセル・サイテック（株）製）、イソシアヌル酸エチレンオキサイド変性トリアクリレート（商品名：Ｍ−３１５；東亞合成（株）製）、およびε−カプロラクトン変性トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート（商品名：Ｍ−３２７；東亞合成（株）製）が挙げられる。
【００３９】
本発明のインクにおいて、前記化合物（Ａ）の含有量が、該インク総量（固形分換算）１００重量％に対し、１０〜８０重量％であると、光硬化性に優れるインクが得られるだけでなく、光透過率、基板に対する密着性および強度にバランス良く優れる硬化膜等が得られるため好ましく、化合物（Ａ）の含有量は、より好ましくは１５〜７０重量％であり、さらに好ましくは２０〜６５重量％であり、特に好ましくは２５〜６５重量％である。
【００４０】
＜１．２．光重合開始剤（Ｂ）＞
本発明のインクは、光重合開始剤（Ｂ）を含む。前記光重合開始剤（Ｂ）は、光重合開始剤濃度０．００１重量％のアセトニトリル溶液のＵＶ吸収スペクトル測定（（株）日立ハイテクノロジーズ製 Ｕ−３３１０（商品名））による、３００ｎｍ以上の波長領域における吸光度が０．１以下、好ましくは０．０５以下である光重合開始剤である。
【００４１】
前記光重合開始剤（Ｂ）としては、特に制限されないが、紫外線または可視光線の照射によりラジカルを発生することのできる化合物であることが好ましく、オキシフェニル酢酸エステル系開始剤、フェニルグリオキシレート系開始剤またはヒドロキシフェニルケトン系開始剤が好ましく、この中でも特にオキシフェニル酢酸エステル系開始剤またはフェニルグリオキシレート系開始剤が、インクの光硬化性、該インクから得られる硬化膜等の光透過率などの観点からより好ましい。
【００４２】
前記光重合開始剤（Ｂ）の具体例としては、２，２’−ジメトキシ−１,２−ジフェニルエタン−１−オン、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン、１−[４−(２−ヒドロキシエトキシ)−フェニル]−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−１−｛４−[４−(２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル)−ベンジル]−フェニル｝−２−メチルプロパン−１−オン、オキシ−フェニル−アセチックアシッド２−[２−オキソ−２−フェニル−アセトキシ−エトキシ]−エチルエステル、オキシ−フェニル−アセチックアシッド２−[２−ヒドロキシ−エトキシ]−エチルエステル、およびフェニルグリオキシリックアシッドメチルエステルが挙げられる。
【００４３】
この中でも特に、オキシ−フェニル−アセチックアシッド２−[２−オキソ−２−フェニル−アセトキシ−エトキシ]−エチルエステル、オキシ−フェニル−アセチックアシッド２−[２−ヒドロキシ−エトキシ]−エチルエステル、フェニルグリオキシリックアシッドメチルエステル、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトンを用いると、光硬化性に優れるインクが得られ、光透過性に優れる硬化膜等が得られるため好ましく、オキシ−フェニル−アセチックアシッド２−[２−オキソ−２−フェニル−アセトキシ−エトキシ]−エチルエステル、オキシ−フェニル−アセチックアシッド２−[２−ヒドロキシ−エトキシ]−エチルエステル、フェニルグリオキシリックアシッドメチルエステルを用いると、より光硬化性に優れるインクが得られるため好ましい。
【００４４】
前記光重合開始剤（Ｂ）は、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。
【００４５】
前記光重合開始剤（Ｂ）としては、公知の方法で製造した化合物を用いてもよいし、また、市販品を用いてもよい。
【００４６】
市販品としては、例えば、２，２’−ジメトキシ−１,２−ジフェニルエタン−１−オン（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ６５１；ＢＡＳＦ製）、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４；ＢＡＳＦ製）、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ１１７３；ＢＡＳＦ製）、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトンとベンゾフェノンとの混合物（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ５００；ＢＡＳＦ製）、１−[４−(２−ヒドロキシエトキシ)−フェニル]−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ２９５９；ＢＡＳＦ製）、２−ヒドロキシ−１−｛４−[４−(２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル)−ベンジル]−フェニル｝−２−メチルプロパン−１−オン（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ１２７；ＢＡＳＦ製）、オキシ−フェニル−アセチックアシッド２−[２−オキソ−２−フェニル−アセトキシ−エトキシ]−エチルエステルとオキシ−フェニル−アセチックアシッド２−[２−ヒドロキシ−エトキシ]−エチルエステルとの混合物（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ７５４；ＢＡＳＦ製）、フェニルグリオキシリックアシッドメチルエステル（商品名：ＤＡＲＯＣＵＲ ＭＢＦ；ＢＡＳＦ製）、および１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトンとビス(２,６−ジメトキシベンゾイル)−２,４,４−トリメチル−ペンチルフォスフィンオキサイドとの混合物（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８００；ＢＡＳＦ製）が挙げられる。
【００４７】
本発明のインクにおいて、前記光重合開始剤（Ｂ）の含有量が、該インク総量（固形分換算）１００重量％に対し、１〜２０重量％であると、紫外線に対する光硬化性に特に優れるインクが得られ、光透過性に優れる硬化膜等が得られるため好ましく、より好ましくは２〜１５重量％であり、さらに好ましくは３〜１０重量％である。
【００４８】
＜１．３．化合物（Ａ）以外のラジカル重合性二重結合を有する化合物（Ｃ）＞
前記化合物（Ａ）以外のラジカル重合性二重結合を有する化合物（Ｃ）は、本発明のインクのインクジェット装置による吐出性（ジェッティング性）および光硬化性、ならびに、該インクから得られる硬化膜等の光透過性および耐熱性に影響を与えない範囲で添加することができる。
【００４９】
前記化合物（Ａ）として、単官能の（メタ）アクリル酸エステルのみを用いる場合には、多官能の化合物（Ｃ）を用いることが、前記化合物（Ａ）として、多官能の（メタ）アクリル酸エステルのみを用いる場合には、単官能の化合物（Ｃ）を用いることが、インクの光硬化性、ならびに、得られる硬化膜等の光透過性、耐熱性および基板との密着性等の点から好ましい。
【００５０】
つまり、本発明のインクは、単官能の重合性化合物と多官能の重合性化合物の両方を含むことが、インクの光硬化性、ならびに、得られる硬化膜等の光透過性、耐熱性および基板との密着性等の点から好ましい。このようなインクとしては、単官能の化合物（Ａ）および多官能の化合物（Ａ）を含むインク、単官能の化合物（Ａ）および多官能の化合物（Ｃ）を含むインク、単官能の化合物（Ｃ）および多官能の化合物（Ａ）を含むインク等を挙げることができる。
【００５１】
前記化合物（Ｃ）は特に限定されないが、前記化合物（Ｃ）として、特にｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、メトキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシブチル（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、および／またはジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートを用いた場合、ジェッティング性および光硬化性に優れるインクが得られ、光透過性および耐熱性にバランス良く優れる硬化膜等が得られるため好ましい。
【００５２】
その他の化合物（Ｃ）としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、ｎ-ヘキシル（メタ）アクリレート、へプチル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシジプロピレングリコール（メタ）アクリレート、エチルジグリコール（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦ エチレンオキサイド（ＥＯ）変性ジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ ＥＯ変性ジ（メタ）アクリレート、グリセロールモノ（メタ）アクリレート、トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、メチルグリシジル（メタ）アクリレート、３−メチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、３−メチル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタン、３−エチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、３−エチル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタン、ｐ−ビニルフェニル−３−エチルオキセタン−３−イルメチルエーテル、２−フェニル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、２−トリフロロメチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、（３−エチル−３−オキセタニル）メチル（メタ）アクリレート、ポリメチルメタクリレートマクロモノマー、Ｎ−ビニルホルムアミド、（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−イソプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、ビニルピリジン、トリメチロールプロパントリオキシエチル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸ダイマー、クロトン酸、α−クロルアクリル酸、ケイ皮酸、マレイン酸、フマル酸、β−カルボキシルエチル（メタ）アクリレート、ω−カルボキシポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレート、コハク酸モノ［２−（メタ）アクリロイロキシエチル］、フタル酸モノヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、マレイン酸モノ［２−（メタ）アクリロイロキシエチル］、２−（メタ）アクリロイロキシエチルアシッドホスフェート、フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、メチルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、２−フェノキシエチル（メタ）アクリレート、２−フェノキシエチル（メタ）アクリレートのエチレンオキサイドおよび／またはプロピレンオキサイド付加モノマー、２-ヒドロキシ-３-フェノキシプロピルアクリレート、ビニルトルエン、スチレン、メチルスチレン、クロルメチルスチレンおよびポリスチレンマクロモノマー等が挙げられる。
【００５３】
前記化合物（Ｃ）は、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。
【００５４】
本発明のインクにおいて、前記化合物（Ｃ）の含有量が、該インク総量（固形分換算）１００重量％に対し、１〜８５重量％であると、インク粘度を調整しやすく、また、光硬化性に優れるインクが得られ、光透過性および基板との密着性に優れる硬化膜等が得られるため好ましい。
【００５５】
＜１．４．界面活性剤（Ｄ）＞
本発明のインクは、例えば、基板への濡れ性や該インクから得られる硬化膜等の膜面均一性および基板との密着性を向上させるために界面活性剤を含んでもよい。
【００５６】
界面活性剤（Ｄ）としては、シリコーン系界面活性剤、アクリル系界面活性剤およびフッ素系界面活性剤などが好ましい。
【００５７】
界面活性剤の具体例としては、ＢＹＫ−３００、同３０６、同３３５、同３１０、同３４１、同３４４および同３７０（商品名：ビックケミー・ジャパン（株）製）などのシリコーン系界面活性剤、ＢＹＫ−３５４、同３５８および同３６１（商品名：ビックケミー・ジャパン（株）製）などのアクリル系界面活性剤、ＤＦＸ−１８、フタージェント２５０、同２５１（商品名：（株）ネオス製）、メガファックＦ−４７５、Ｆ−４７７、Ｆ−５５３、Ｆ−５５４（商品名：ＤＩＣ（株）製）などのフッ素系界面活性剤を挙げることができる。
【００５８】
また、界面活性剤（Ｄ）が反応性官能基を有する化合物であると、インクジェット法で形成された硬化膜等から界面活性剤がブリードアウトしにくく、直径、高さのばらつきが小さいマイクロレンズを形成することができるため、より好ましい。
【００５９】
前記反応性官能基としてはヒドロキシ、カルボキシ、酸無水物、アミノ、エポキシ、オキセタン、オキサゾリン、オキサゾール、および（メタ）アクリロイル等が好ましく、エポキシ、オキセタン、および（メタ）アクリロイルがより好ましく、（メタ）アクリロイルが最も好ましい。
【００６０】
（メタ）アクリロイル基を有する界面活性剤の具体例としては、ＲＳ−７２Ｋ（商品名：ＤＩＣ（株）製）、ＢＹＫ ＵＶ ３５００、ＢＹＫ ＵＶ ３５７０（商品名：ビックケミー・ジャパン（株）製）、ＴＥＧＯ Ｒａｄ ２２２０Ｎ、ＴＥＧＯ Ｒａｄ ２２５０、ＴＥＧＯ Ｒａｄ ２３００、ＴＥＧＯ Ｒａｄ ２５００（商品名：エボニック・デグサ・ジャパン製）を挙げることができる。また、エポキシ基を有する界面活性剤としては、ＲＳ−２１１Ｋ（商品名：ＤＩＣ（株）製）を挙げることができる。
【００６１】
本発明のインクに用いられうる界面活性剤（Ｄ）は、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。
【００６２】
本発明のインクにおいて、界面活性剤（Ｄ）の含有量が、該インク総量（固形分換算）１００重量％に対し、０．０１〜１０重量％であると、インクジェット法で形成された硬化膜等から界面活性剤がブリードアウトしにくく、直径、高さのばらつきが小さいマイクロレンズを形成することができるため好ましい。
【００６３】
＜１．５．紫外線吸収剤（Ｅ）＞
本発明のインクは、得られる硬化膜等がバックライトなどの光によって劣化することを防止するために、紫外線吸収剤（Ｅ）を含有してもよい。
【００６４】
紫外線吸収剤（Ｅ）としては、２−（５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−アミル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール等のベンゾトリアゾール化合物、２−（４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン−２−イル）−５−［（ヘキシル）オキシ］−フェノール等のトリアジン化合物、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクチルオキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン化合物、および２−エトキシ−２’−エチルオキサリック酸ビスアニリド等のシュウ酸アニリド化合物などが挙げられる。
【００６５】
本発明のインクに用いられうる紫外線吸収剤（Ｅ）は、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。
【００６６】
本発明のインクにおいて、紫外線吸収剤（Ｅ）の含有量は、該インク総量（固形分換算）１００重量％に対し、通常３重量％以下、添加効果および硬化性等の観点から好ましくは０．００５〜２重量％である。
【００６７】
＜１．６．酸化防止剤（Ｆ）＞
本発明のインクは、得られる硬化膜等の酸化を防止するために、酸化防止剤（Ｆ）を含有してもよい。
【００６８】
酸化防止剤（Ｆ）としては、トリエチレングリコール−ビス−［３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、１，６−ヘキサンジオール−ビス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネートジエチルエステル等のヒンダードフェノール化合物、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、ジエチルアミノメチルメタクリレート等のアミン化合物などが挙げられる。
【００６９】
本発明のインクに用いられうる酸化防止剤（Ｆ）は、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。
【００７０】
本発明のインクにおいて、酸化防止剤（Ｆ）の含有量は、該インク総量（固形分換算）１００重量％に対し、通常３重量％以下、添加効果および塗工安定性等の観点から好ましくは０．００５〜２重量％である。
【００７１】
＜１．７．その他＞
本発明のインクは、各種特性を向上させるために重合禁止剤、フェノール性水酸基を含有する樹脂、マレイミド化合物、メラミン樹脂、シランカップリング剤、エポキシ樹脂、エポキシ硬化剤および溶媒などのその他の成分を本発明の効果を損なわない範囲で含んでもよい。
【００７２】
＜１．７−１．重合禁止剤＞
本発明のインクは、保存安定性を向上させるために重合禁止剤を含有してもよい。重合禁止剤の具体例としては、４−メトキシフェノール、ヒドロキノンおよびフェノチアジンを挙げることができる。これらの中でもフェノチアジンを用いることが長期の保存においても粘度の増加が小さいインクが得られるため好ましい。
本発明のインクに用いられうる重合禁止剤は、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。
【００７３】
本発明のインクにおいて、重合禁止剤の含有量が、該インク総量（固形分換算）１００重量％に対し、０．０１〜１重量％であると、長期の保存においても粘度の増加が小さいインクが得られるために好ましく、他特性とのバランスを考慮すると、より好ましくは０．０１〜０．５重量％であり、さらに好ましくは０．０１〜０．１重量％である。
【００７４】
＜１．７−２．溶媒＞
本発明のインクは、インクジェット法による塗布時の吐出性および光硬化性、ならびに、得られる硬化膜等の基板に対する密着性および光透過性を損なわない範囲で、溶媒を含有してもよい。
インクジェット法による塗布時にインクジェットヘッドを加熱する場合は、溶媒を含まないインクを用いることが好ましい。
【００７５】
本発明に用いることができる溶媒としては、沸点が１００〜３００℃の溶媒が、インクジェット法による塗布時の吐出性が良好になるため好ましい。また、インクジェットヘッドを高温（例えば７０〜１２０℃）に加熱する場合に溶媒を用いるとすれば、沸点が２００〜３００℃の溶媒が好ましい。
【００７６】
沸点が１００〜３００℃である溶媒の具体例としては、酢酸ブチル、プロピオン酸ブチル、乳酸エチル、オキシ酢酸メチル、オキシ酢酸エチル、オキシ酢酸ブチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、３−オキシプロピオン酸メチル、３−オキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、２−オキシプロピオン酸メチル、２−オキシプロピオン酸エチル、２−オキシプロピオン酸プロピル、２−メトキシプロピオン酸メチル、２−メトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシプロピオン酸プロピル、２−エトキシプロピオン酸メチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−オキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−オキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、２−メトキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−エトキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、２−オキソブタン酸メチル、２−オキソブタン酸エチル、ジオキサン、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、トルエン、キシレン、アニソール、γ−ブチロラクトン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドンおよびジメチルイミダゾリジノンが挙げられる。
【００７７】
本発明のインクに用いられうる溶媒は１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。
【００７８】
本発明のインクにおいて、溶媒の含有量が、該インク総量（固形分換算）１００重量％に対し、１〜６０重量％であると、インクジェット法によりインクを塗布する際に、インクジェットヘッドの吐出孔が閉塞しにくくなるため好ましい。他特性とのバランスを考慮すると、より好ましくは１〜５０重量％であり、さらに好ましくは１〜４０重量％である。
【００７９】
＜１．７−３．エポキシ樹脂＞
本発明のインクは、得られる硬化膜等の強度を向上させるために、エポキシ樹脂を含有してもよい。
前記エポキシ樹脂は、１分子中に少なくとも１つの下記式（２−１）または式（２−２）で表される構造を有する樹脂であれば、特に限定されない。
【００８０】
【化３】
【００８１】
エポキシ樹脂の具体例としては、ノボラック型（フェノールノボラック型およびクレゾールノボラック型）、ビスフェノールＡ型、ビスフェノールＦ型、トリスフェノールメタン型、水添ビスフェノールＡ型、水添ビスフェノールＦ型、ビスフェノールＳ型、テトラフェニロールエタン型、ビキシレノール型、ビフェノール型エポキシ樹脂、脂環式および複素環式エポキシ樹脂、ならびに、ジシクロペンタジエン骨格やナフタレン骨格を有するエポキシ樹脂が挙げられ、好ましくはノボラック型、ビスフェノールＡ型またはビスフェノールＦ型またはトリスフェノールメタン型エポキシ樹脂である。
【００８２】
エポキシ樹脂としては公知の方法で製造した樹脂を用いてもよいし、また市販品を用いてもよい。
【００８３】
市販品の例としては、ｊＥＲ８２８、同８３４、同１００１、同１００４（商品名：三菱化学（株）製）、エピクロン８４０、同８５０、同１０５０、同２０５５、（商品名：ＤＩＣ（株）製）、エポトートＹＤ−０１１、同ＹＤ−０１３、同ＹＤ−１２７、同ＹＤ−１２８（商品名：新日鐵化学（株）製）、Ｄ.Ｅ.Ｒ.３１７、同３３１、同６６１、同６６４（商品名：ダウ・ケミカル日本（株）製）、アラルダイト６０７１、同６０８４、同ＧＹ２５０、同ＧＹ２６０（商品名：ハンツマン・ジャパン（株）製）、スミ−エポキシＥＳＡ−０１１、同ＥＳＡ−０１４、同ＥＬＡ−１１５、同ＥＬＡ−１２８（商品名：住友化学工業（株）製）、Ａ.Ｅ.Ｒ.３３０、同３３１、同６６１、同６６４（商品名：旭化成イーマテリアルズ（株）製）等のビスフェノールＡ型エポキシ樹脂；
ｊＥＲ１５２、１５４（商品名：三菱化学（株）製）、Ｄ.Ｅ.Ｒ.４３１、同４３８（商品名：ダウ・ケミカル日本（株）製）、エピクロンＮ−７３０、同Ｎ−７７０、同Ｎ−８６５（商品名：ＤＩＣ（株）製）、エポトートＹＤＣＮ−７０１、同ＹＤＣＮ−７０４（商品名：新日鐵化学（株）製）、アラルダイトＥＣＮ１２３５、同ＥＣＮ１２７３、同ＥＣＮ１２９９（商品名：ハンツマン・ジャパン（株）製）、ＸＰＹ３０７、ＥＰＰＮ−２０１、ＥＯＣＮ−１０２５、ＥＯＣＮ−１０２０、ＥＯＣＮ−１０４Ｓ、ＲＥ−３０６（商品名：日本化薬（株）製）、スミ−エポキシＥＳＣＮ−１９５Ｘ、同ＥＳＣＮ−２２０（商品名：住友化学工業（株）製）、Ａ.Ｅ.Ｒ.ＥＣＮ−２３５、同ＥＣＮ−２９９（商品名：旭化成イーマテリアルズ（株）製）等のノボラック型エポキシ樹脂；
エピクロン８３０（商品名：ＤＩＣ（株）製）、ｊＥＲ８０７（商品名：三菱化学（株）製）、エポトートＹＤＦ−１７０（商品名：新日鐵化学（株）製）、ＹＤＦ−１７５、ＹＤＦ−２００１、ＹＤＦ−２００４、アラルダイトＸＰＹ３０６（商品名：ハンツマン・ジャパン（株）製）等のビスフェノールＦ型エポキシ樹脂；
エポトートＳＴ−２００４、同ＳＴ−２００７、同ＳＴ−３０００（商品名：新日鐵化学（株）製）等の水添ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂；
セロキサイド２０２１Ｐ（商品名：ダイセル化学工業（株）製）、アラルダイトＣＹ１７５、同ＣＹ１７９（商品名：ハンツマン・ジャパン（株）製）等の脂環式エポキシ樹脂；
ＹＬ−６０５６、ＹＸ−４０００、ＹＬ−６１２１（商品名：三菱化学（株）製）等のビキシレノール型もしくはビフェノール型エポキシ樹脂またはそれらの混合物；
ＥＢＰＳ−２００（商品名：日本化薬（株）製）、ＥＰＸ−３０（商品名：（株）ＡＤＥＫＡ製）、ＥＸＡ−１５１４（商品名：ＤＩＣ（株）製）等のビスフェノールＳ型エポキシ樹脂；
ｊＥＲ１５７Ｓ（商品名：三菱化学（株）製）等のビスフェノールＡノボラック型エポキシ樹脂；
ＹＬ−９３１（商品名：三菱化学（株）製）、アラルダイト１６３（商品名：ハンツマン・ジャパン（株）製）等のテトラフェニロールエタン型エポキシ樹脂；
アラルダイトＰＴ８１０（商品名：ハンツマン・ジャパン（株）製）、ＴＥＰＩＣ（商品名：日産化学工業（株）製）等の複素環式エポキシ樹脂；
ＨＰ−４０３２、ＥＸＡ−４７５０、ＥＸＡ−４７００（商品名：ＤＩＣ（株）製）等のナフタレン基含有エポキシ樹脂；
ＨＰ−７２００、ＨＰ−７２００Ｈ、ＨＰ−７２００ＨＨ（商品名：ＤＩＣ（株）製）等のジシクロペンタジエン骨格を有するエポキシ樹脂；
テクモアＶＧ３１０１Ｌ（商品名：三井化学（株）製）、ＹＬ−９３３（商品名：三菱化学（株）製）、ＥＰＰＮ−５０１、ＥＰＰＮ−５０２（商品名：ダウ・ケミカル日本（株）製）等のトリスフェノールメタン型エポキシ樹脂が挙げられる。
【００８４】
これらの中でも、ｊＥＲ８２８、同８３４、同１００１、同１００４（商品名：三菱化学（株）製）、ＴＥＣＨＭＯＲＥ ＶＧ３１０１Ｌ（商品名：三井化学（株）製）、ＥＰＰＮ−５０１、ＥＰＰＮ−５０２（商品名：ダウ・ケミカル日本（株）製）を用いると、各種基板への密着性が高い硬化膜等が得られるため好ましい。
本発明のインクに用いられうるエポキシ樹脂は、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。
【００８５】
エポキシ樹脂の含有量が、本発明のインク総量（固形分換算）１００重量％に対し、０．５〜２０重量％であると、得られる硬化膜等の各種基板に対する密着性が向上するため好ましく、より好ましくは０．５〜１０重量％であり、さらに好ましくは０．５〜７重量％である。
【００８６】
＜１．７−４．マレイミド化合物＞
マレイミド化合物としては、特に制限されないが、例えば、下記式（６）で表される化合物が好ましい。下記式（６）で表されるマレイミド化合物は、例えばジアミンと酸無水物とを反応させて得ることができる。
【００８７】
【化４】
【００８８】
式（６）中、Ｒ10およびＲ12はそれぞれ独立に水素またはメチルであり、Ｒ11は下記式（７）で表される二価の基である。
【００８９】
【化５】
【００９０】
式（７）中、Ｒ13およびＲ14はそれぞれ独立に、連続しない（隣り合わない）任意のメチレンが酸素で置き換えられてもよい炭素数１〜１８のアルキレン、置換基を有してもよい芳香環を有する二価の基、または置換基を有してもよいシクロアルキレンである。前記置換基としては、例えば、カルボキシル、ヒドロキシ、炭素数１〜５のアルキル、および炭素数１〜５のアルコキシが挙げられる。耐熱性の高い硬化膜等が得られる点で、Ｒ13およびＲ14はそれぞれ独立に下記群（８）から選ばれる１種の二価の基であることが好ましい。
【００９１】
【化６】
【００９２】
式（７）中、Ｘは下記群（９）から選ばれる１種の二価の基である。
【００９３】
【化７】
【００９４】
本発明のインクに用いられうるマレイミド化合物は１種の化合物でも、２種以上の化合物の混合物でもよい。
【００９５】
＜１．７−５．フェノール性水酸基を含有する樹脂＞
フェノール性水酸基を含有する樹脂としては、フェノール性水酸基を有する芳香族化合物とアルデヒド類との縮合反応により得られるノボラック樹脂、ビニルフェノールの単独重合体（水素添加物を含む）、ビニルフェノールとこれと共重合可能な化合物とのビニルフェノール系共重合体（水素添加物を含む）などが好ましく用いられる。
【００９６】
フェノール性水酸基を有する芳香族化合物としては、フェノール、ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール、ｏ−エチルフェノール、ｍ−エチルフェノール、ｐ−エチルフェノール、ｏ−ブチルフェノール、ｍ−ブチルフェノール、ｐ−ブチルフェノール、２，３−キシレノール、２，４−キシレノール、２，５−キシレノール、２，６−キシレノール、３，４−キシレノール、３，５−キシレノール、２，３，５−トリメチルフェノール、３，４，５−トリメチルフェノール、ｐ−フェニルフェノール、レゾルシノール、ヒドロキノン、ヒドロキノンモノメチルエーテル、ピロガロール、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、テルペン骨格含有ジフェノール、没食子酸、没食子酸エステル、α−ナフトール、およびβ−ナフトールなどが挙げられる。
【００９７】
アルデヒド類としては、ホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド、フルフラール、ベンズアルデヒド、ニトロベンズアルデヒド、およびアセトアルデヒドなどが挙げられる。
【００９８】
ビニルフェノールと共重合可能な化合物としては、（メタ）アクリル酸またはその誘導体、スチレンまたはその誘導体、無水マレイン酸、酢酸ビニル、およびアクリロニトリルなどが挙げられる。
【００９９】
フェノール性水酸基を含有する樹脂の具体例としては、レヂトップＰＳＭ−６２００（商品名：群栄化学工業（株）製）、ショウノールＢＲＧ−５５５（商品名：昭和電工（株）製）、マルカリンカーＭＳ−２Ｐ、マルカリンカーＣＳＴ７０、マルカリンカーＰＨＭ−Ｃ（商品名：丸善石油化学（株）製）が挙げられる。
【０１００】
本発明のインクに用いられうるフェノール性水酸基を含有する樹脂は１種の化合物でも、２種以上の化合物の混合物でもよい。
【０１０１】
＜１．７−６．メラミン樹脂＞
メラミン樹脂は、メラミンとホルムアルデヒドとの重縮合により製造される樹脂であれば特に限定されず、メチロールメラミン、エーテル化メチロールメラミン、ベンゾグアナミン、メチロールベンゾグアナミンおよびエーテル化メチロールベンゾグアナミン等の縮合物などが挙げられる。これらの中でも、得られる硬化膜等の耐薬品性が良好である点で、エーテル化メチロールメラミンの縮合物が好ましい。
【０１０２】
メラミン樹脂の具体例としては、ニカラックＭＷ−３０、ＭＷ−３０ＨＭ、ＭＷ−３９０、ＭＷ−１００ＬＭ、ＭＸ−７５０ＬＭ（商品名：三和ケミカル（株）製）が挙げられる。
本発明のインクに用いられうるメラミン樹脂は１種の化合物でも、２種以上の化合物の混合物でもよい。
【０１０３】
＜１．７−７．エポキシ硬化剤＞
本発明のインクは、得られる硬化膜等の耐薬品性をより向上させるためにエポキシ硬化剤を含有してもよい。エポキシ硬化剤としては、酸無水物系硬化剤またはポリアミン系硬化剤などが好ましい。
【０１０４】
酸無水物系硬化剤としては、マレイン酸無水物、テトラヒドロフタル酸無水物、ヘキサヒドロフタル酸無水物、メチルヘキサヒドロフタル酸無水物、ヘキサヒドロトリメリット酸無水物、フタル酸無水物、トリメリット酸無水物、およびスチレン−無水マレイン酸共重合体などが挙げられる。
【０１０５】
ポリアミン系硬化剤としては、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ジシアンジアミド、ポリアミドアミン（ポリアミド樹脂）、ケチミン化合物、イソホロンジアミン、ｍ−キシレンジアミン、ｍ−フェニレンジアミン、１，３−ビス（アミノメチル）シクロヘキサン、Ｎ−アミノエチルピペラジン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノ−３，３’−ジエチルジフェニルメタン、およびジアミノジフェニルスルフォンなどが挙げられる。
本発明のインクに用いられうるエポキシ硬化剤は１種の化合物でも、２種以上の化合物の混合物でもよい。
【０１０６】
＜１．７−８．シランカップリング剤＞
本発明のインクは、得られる硬化膜等の基板への密着性を向上させるためにシランカップリング剤を含有してもよい。シランカップリング剤の具体例としては、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、および３−メルカプトプロピルトリメトキシシランを挙げることができる。これらの中でも３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、および３−グリシドキシプロピルトリメトキシシランは、反応基を有しており他成分と共重合することができるので好ましい。
本発明のインクに用いられうるシランカップリング剤は、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。
【０１０７】
＜１．８．インクの粘度＞
本発明のインクの、Ｅ型粘度計で測定した２５℃における粘度は２００ｍＰａ・ｓ以下であることが好ましく、粘度が１〜２００ｍＰａ・ｓであると、インクジェット装置によるジェッティング特性が良好なインクとなりより好ましい。インクの粘度は、さらに好ましくは２〜１００ｍＰａ・ｓであり、特に好ましくは３〜５０ｍＰａ・ｓである。
【０１０８】
２５℃における粘度が３０ｍＰａ・ｓを超えるインクを使用する場合には、インクジェットヘッドを加温して吐出時のインクの粘度を下げることで、より安定した吐出が可能となる。インクジェットヘッドを加温してジェッティングを行う場合は、加温温度（好ましくは２５〜１２０℃）におけるインクジェットインクの粘度は１〜３０ｍＰａ・ｓであることが好ましく、２〜２５ｍＰａ・ｓであることがさらに好ましく、３〜２０ｍＰａ・ｓであることが特に好ましい。
【０１０９】
＜１．９．インクの調製方法＞
本発明のインクは、原料となる各成分を公知の方法により混合することで調製することができる。
特に、本発明のインクは、前記（Ａ）および（Ｂ）成分ならびに必要に応じて前記（Ｃ）〜（Ｆ）成分および／またはその他の成分を混合し、得られた溶液を、例えばフッ素樹脂製のメンブレンフィルターを用いてろ過して脱気することにより調製されることが好ましい。このようにして調製されたインクは、ジェッティング性に優れる。
【０１１０】
＜１．１０．インクの保存＞
本発明のインクは、−２０〜２５℃で保存すると保存中の粘度変化（増加）が小さく、保存安定性が良好となる。
【０１１１】
［２．インクジェット法によるインクの塗布］
本発明のインクは、公知のインクジェット法を用いて塗布することができる。インクジェット法としては、例えば、インクに力学的エネルギーを作用させてインクをインクジェットヘッドから吐出（塗布）させる方法（いわゆるピエゾ方式）、およびインクに熱エネルギーを作用させてインクを塗布する塗布方法（いわゆるサーマル方式）が挙げられる。
【０１１２】
インクジェット法を用いることにより、本発明のインクを予め定められたパターン状に容易に塗布することができ、均一なパターンを大きな基板上に形成することができる。
【０１１３】
インクジェットヘッドとしては、例えば、金属および／または金属酸化物からなる発熱部を有するものが挙げられる。金属および／または金属酸化物の具体例としては、Ｔａ、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｎｉ、Ａｌ等の金属、およびこれらの金属の酸化物が挙げられる。
【０１１４】
本発明のインクを用いて塗布を行う際に用いる好ましい塗布装置としては、例えば、インクが収容されるインク収容部を有するインクジェットヘッド内のインクに、塗布信号に対応したエネルギーを与え、前記エネルギーによりインク液滴を発生させながら、前記塗布信号に対応した塗布（描画）を行う装置が挙げられる。
【０１１５】
前記インクジェット塗布装置は、インクジェットヘッドとインク収容部とが分離されているものに限らず、それらが分離不能に一体になったものを用いてもよい。また、インク収容部はインクジェットヘッドに対し分離可能または分離不能に一体化されて、キャリッジに搭載されるものでもよく、装置の固定部位に設けられてもよい。後者の場合、インク供給部材、例えばチューブを介してインクジェットヘッドにインクを供給する形態のものでもよい。
【０１１６】
また、塗布（ジェッティング）温度は１０〜１２０℃が好ましく、このジェッティング温度における本発明のインクの粘度は、１〜３０ｍＰａ・ｓであることが好ましい。
【０１１７】
［３．インクの用途］
本発明のインクは、光硬化性が良好であり、高い光透過性、高い耐熱性および高い強度を示し、基板に対する密着性に優れる硬化膜等を形成することができるので、バックライト装置等に使用されるマイクロレンズアレイや、タッチパネル等に使用される透明絶縁膜等の製造に好適に用いられる。
【０１１８】
［４．硬化膜等］
本発明の硬化膜およびマイクロレンズは、上述した本発明のインクを硬化させることで得られ、上述した本発明のインクをインクジェット法により基板表面に塗布した後に、該インクに紫外線や可視光線等の光を照射して塗膜やドットを硬化させることで得られる膜やレンズが好ましい。
本発明の硬化膜およびマイクロレンズは、本発明のインクを硬化させることで得られるため、高い光透過性であり、高温下等の過酷な環境下におかれても光透過性の変化が少ない高い信頼性の硬化膜およびマイクロレンズである。
【０１１９】
本発明の硬化膜（膜厚２．０〜３．０μｍ）は、７０℃で１００時間熱処理した後の波長４００ｎｍにおける光透過率が９８％以上、好ましくは９８．５％以上である。このような硬化膜は、前記化合物（Ａ）および光重合開始剤（Ｂ）を含むインクをインクジェット法により基板表面に塗布し塗膜を形成した後に、該塗膜に紫外線や可視光線等の光を照射して塗膜を硬化させることで得ることができ、特に、前記化合物（Ａ）およびインクの総量（固形分換算）１００重量％に対し１〜２０重量％の光重合開始剤（Ｂ）を含むインクをインクジェット法により基板表面に塗布し塗膜を形成した後に、該塗膜に紫外線や可視光線等の光を照射して塗膜を硬化させることで得ることができる。
【０１２０】
紫外線や可視光線等を照射する場合、照射する露光量は、本発明のインクの組成に応じて適宜調節すればよいが、積算光量計（ＣＵＳＴＯＭ ＵＶメーター ＵＶＣ−２５４）で測定した値で、１００〜３，０００ｍＪ／ｃｍ2程度が好ましく、２００〜２，０００ｍＪ／ｃｍ2程度がより好ましく、３００〜１，０００ｍＪ／ｃｍ2程度がさらに好ましい。また、照射する紫外線や可視光線等の波長は、２００〜５００ｎｍが好ましく、２００〜４００ｎｍがより好ましく、２００〜３００ｎｍがさらに好ましい。
なお、以下実施例に記載の紫外線（ＵＶ）露光量は積算光量計（ＣＵＳＴＯＭ ＵＶメーター ＵＶＣ−２５４）で測定した値である。
【０１２１】
光を照射するには露光機を用いればよく、露光機としては、高圧水銀灯ランプ、低圧水銀灯ランプ、無電極ランプ、メタルハライドランプまたはハロゲンランプ等を搭載し、２００〜５００ｎｍの範囲で、紫外線や可視光線等を照射する装置であれば特に限定されないが、２００〜３００ｎｍの範囲で、強い紫外線を照射することが可能な低圧水銀灯ランプ、無電極ランプまたはメタルハライドランプを搭載する露光機がより好ましい。
【０１２２】
また、必要に応じて、光の照射により硬化した本発明の硬化膜等をさらに加熱・焼成してもよく、例えば、８０〜２５０℃で１０〜６０分間加熱・焼成することによって、より強固な硬化膜等を得ることができる。
【０１２３】
本発明のインクが塗布される「基板」は、本発明のインクが塗布される対象となり得るものであれば特に限定されず、その形状は平板状に限られず、曲面状等であってもよい。
【０１２４】
前記基板としては、特に限定されないが、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）およびポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）などからなるポリエステル系樹脂基板；ポリエチレンおよびポリプロピレンなどからなるポリオレフィン樹脂基板；ポリ塩化ビニル、フッ素樹脂、アクリル系樹脂、ポリアミド、ポリカーボネートおよびポリイミドなどからなる有機高分子フィルム；セロハンからなる基板；金属箔；ポリイミドと金属箔との積層フィルム；目止め効果があるグラシン紙、パーチメント紙、ポリエチレン、クレーバインダー、ポリビニルアルコール、でんぷんまたはカルボキシメチルセルロース（ＣＭＣ）などで目止め処理した紙；およびガラス基板を挙げることができる。
これらの中でも、アクリル系樹脂基板を用いることが好ましい。
【０１２５】
前記基板としては、本発明の効果に悪影響を及ぼさない範囲において、酸化防止剤、劣化防止剤、充填剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤および／または電磁波防止剤などの添加剤を含有した基板を用いてもよい。また、前記基板としては、基板の表面の少なくとも一部に、必要により撥液処理、コロナ処理、プラズマ処理またはブラスト処理など表面処理を施した基板であってもよく、表面に易接着層やカラーフィルター用保護膜、ハードコート膜を設けた基板であってもよい。
本発明のインクをマイクロレンズ形成用として用いる際には、撥液処理したアクリル系樹脂基板等の基板を用いることが好ましい。
【０１２６】
前記基板の厚さは特に限定されないが、通常、１０μｍ〜４ｍｍ程度であり、使用する目的により適宜調整されるが、５０μｍ〜２ｍｍが好ましく、１００μｍ〜１ｍｍがさらに好ましい。
【０１２７】
本発明の硬化膜等の用途は特に限定されないが、本発明の硬化膜等は基板に対する密着性に優れ、高い光透過性を示すため、特に、バックライト装置等に使用されるマイクロレンズアレイやタッチパネル等に使用される透明絶縁膜等の製造に用いることが好ましい。
【０１２８】
なお、本発明のインクからマイクロレンズを形成する際には、該マイクロレンズのレンズ（ドット）径は特に限定されないが、通常１０〜１００μｍが好ましく、２０〜６０μｍがさらに好ましく、３０〜５０μｍが特に好ましい。
レンズ（ドット）高さについても特に限定されないが、通常０．５〜２０μｍが好ましく、２〜１５μｍがさらに好ましく、４〜１０μｍが特に好ましい。
また、レンズ径に対するレンズ高さの比は特に限定されないが、光の取り出し効率に優れる光学部品等を製造できる点から、好ましくは０．１８以上、より好ましくは０．２以上である。
【０１２９】
また、本発明のインクから絶縁膜を形成する際には、該絶縁膜の膜厚は特に限定されないが、好ましくは０．１〜３０μｍであり、より好ましくは０．２〜２０μｍであり、さらに好ましくは０．３〜１０μｍである。
【０１３０】
本発明の硬化膜は、膜厚（２．０〜３．０μｍ）における光透過率が好ましくは９８％以上、より好ましくは９８．５％以上である。また、７０℃で１００時間熱処理した後の光透過率は９８％以上であり、好ましくは９８．５％以上である。本発明の硬化膜等は、マイクロレンズアレイや透明絶縁膜に用いられる。このため、バックライト等からの光を有効に利用し、高い信頼性の光学部品を得るためには、本発明の硬化膜の膜厚（２．０〜３．０μｍ）における光透過率が９８％以上であることが必要である。
【０１３１】
［５．光学部品］
本発明の光学部品は、前記マイクロレンズを有する。このため、高い光透過性であり、信頼性の高い光学部品である。
【０１３２】
［６．液晶ディスプレイ］
本発明の液晶ディスプレイは、前記光学部品を有する。このため、表示特性に優れ、信頼性の高い液晶ディスプレイである。
【実施例】
【０１３３】
以下、実施例により本発明をさらに説明するが、本発明はこれらによって限定されるものではない。
【０１３４】
＜インクジェットインクの調製および硬化膜付基板の作製＞
まず、インクジェットインクの調製および該インクを用いて形成した硬化膜付基板について説明する。
【０１３５】
［実施例１］
化合物（Ａ）として、テトラヒドロフルフリルアクリレートであるライトアクリレートＴＨＦ−Ａ（商品名：共栄社化学（株）製、以後「ＴＨＦ−Ａ」と略す。）と、光重合開始剤（Ｂ）として、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトンであるＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４（商品名：ＢＡＳＦ製、以後「Ｉｒ１８４」と略す。光重合開始剤濃度０．００１重量％のアセトニトリル溶液のＵＶ吸収スペクトル測定による、３００ｎｍ以上の波長領域における吸光度が０．１以下である。）と、化合物（Ｃ）として、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートであるアロニックスＭ−３０５（商品名：東亞合成（株）製、以後「Ｍ３０５」と略す。）とを下記組成割合にて混合し、溶液を得た後、孔径１μｍのポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）製のメンブレンフィルターでろ過し、ろ液（インクジェットインク１）を得た。
（Ａ） ＴＨＦ−Ａ：５０．００ｇ
（Ｂ） Ｉｒ１８４： ７．００ｇ
（Ｃ） Ｍ３０５： ５０．００ｇ
【０１３６】
Ｅ型粘度計（東機産業（株）製 ＴＶ−２２（商品名）、以下同じ）を用い、２５℃におけるインクジェットインク１の粘度を測定した結果、１８．２ｍＰａ・ｓであった。
【０１３７】
（硬化膜の形成）
ＵＶオゾンクリーナー（セン特殊光源（株）製）によるＵＶアッシングを行って表面の親液性を高めた４ｃｍ角のガラス基板（厚さ：０．７ｍｍ）を用意した。インクジェットインク１をインクジェットカートリッジに注入し、これをインクジェット装置（ＦＵＪＩＦＩＬＭ Ｄｉｍａｔｉｘ Ｉｎｃ．製のＤＭＰ−２８３１（商品名））に装着し、１０ｐｌ（ピコリットル）用のインクジェットヘッドを用いて、吐出電圧（ピエゾ電圧）２０Ｖ、ヘッド温度３４℃、駆動周波数５ｋＨｚ、塗布回数１回の吐出条件で、印刷解像度を５１２ｄｐｉに設定して一片が３ｃｍの正方形パターンを塗布した。このガラス基板に、波長２５４ｎｍでの露光照度が１５ｍＷ／ｃｍである低圧水銀灯を用いて、波長２５４ｎｍでのＵＶ露光量が３００ｍＪ／ｃｍ2または５００ｍＪ／ｃｍ2になるように調整して光を照射することで、正方形パターンの硬化膜付基板１ａ（ＵＶ露光量；３００ｍＪ／ｃｍ2）および基板１ｂ（ＵＶ露光量；５００ｍＪ／ｃｍ2）を得た。
【０１３８】
次に、得られた１ｂ基板の硬化膜の一部をカッターで削り、段差部分の膜厚をＫＬＡ−Ｔｅｎｃｏｒ Ｊａｐａｎ（株）製触針式膜厚計Ｐ−１５（商品名）を使用して測定したところ、３箇所の測定の平均値は２．５μｍであった。
【０１３９】
［実施例２］
光重合開始剤（Ｂ）として、Ｉｒ１８４の代わりに、フェニルグリオキシリックアシッドメチルエステル（ＤＡＲＯＣＵＲ ＭＢＦ（商品名；ＢＡＳＦ製、以後「ＭＢＦ」と略す。光重合開始剤濃度０．００１重量％のアセトニトリル溶液のＵＶ吸収スペクトル測定による、３００ｎｍ以上の波長領域における吸光度が０．１以下である。）を用い、下記組成割合とした以外は、実施例１と同様にして、インクジェットインク２を調製した。
（Ａ） ＴＨＦ−Ａ：５０．００ｇ
（Ｂ） ＭＢＦ： ７．００ｇ
（Ｃ） Ｍ３０５： ５０．００ｇ
【０１４０】
Ｅ型粘度計を用い、２５℃におけるインクジェットインク２の粘度を測定した結果、１５．８ｍＰａ・ｓであった。
【０１４１】
インクジェットインク２を用い、ヘッド温度を３２℃にした以外は実施例１と同様の方法で一片が３ｃｍの正方形パターンの硬化膜付基板２ａおよび２ｂを得た。
次に、基板２ｂを用い、実施例１と同様の方法で膜厚測定を行った結果、膜厚は２．３μｍであった。
【０１４２】
［実施例３］
光重合開始剤（Ｂ）として、Ｉｒ１８４の代わりに、オキシ−フェニル−アセチックアシッド２−[２−オキソ−２−フェニル−アセトキシ−エトキシ]−エチルエステルとオキシ−フェニル−アセチックアシッド２−[２−ヒドロキシ−エトキシ]−エチルエステルとの混合物であるＩＲＧＡＣＵＲＥ７５４（商品名：ＢＡＳＦ製、以後「Ｉｒ７５４」と略す。光重合開始剤濃度０．００１重量％のアセトニトリル溶液のＵＶ吸収スペクトル測定による、３００ｎｍ以上の波長領域における吸光度が０．１以下である。）を用い、下記組成割合とした以外は、実施例１と同様にして、インクジェットインク３を調製した。
（Ａ） ＴＨＦ−Ａ：５０．００ｇ
（Ｂ） Ｉｒ７５４： ７．００ｇ
（Ｃ） Ｍ３０５： ５０．００ｇ
【０１４３】
Ｅ型粘度計を用い、２５℃におけるインクジェットインク３の粘度を測定した結果、１７．２ｍＰａ・ｓであった。
【０１４４】
インクジェットインク３を用い、ヘッド温度を３３℃にした以外は実施例１と同様の方法で一片が３ｃｍの正方形パターンの硬化膜付基板３ａおよび３ｂを得た。
次に、基板３ｂを用い、実施例１と同様の方法で膜厚測定を行った結果、膜厚は２．４μｍであった。
【０１４５】
［実施例４］
化合物（Ａ）として、ＴＨＦ−Ａの代わりに、シクロヘキシルアクリレートであるＶ＃１５５（商品名：大阪有機化学工業（株）製）を用い、下記組成割合とした以外は、実施例３と同様にして、インクジェットインク４を調製した。
（Ａ） Ｖ＃１５５：５０．００ｇ
（Ｂ） Ｉｒ７５４： ７．００ｇ
（Ｃ） Ｍ３０５： ５０．００ｇ
【０１４６】
Ｅ型粘度計を用い、２５℃におけるインクジェットインク４の粘度を測定した結果、１７．０ｍＰａ・ｓであった。
【０１４７】
インクジェットインク４を用い、ヘッド温度を３３℃にした以外は実施例１と同様の方法で一片が３ｃｍの正方形パターンの硬化膜付基板４ａおよび４ｂを得た。
次に、基板４ｂを用い、実施例１と同様の方法で膜厚測定を行った結果、膜厚は２．４μｍであった。
【０１４８】
［実施例５］
化合物（Ａ）として、ＴＨＦ−Ａの代わりに、ジシクロペンタニルアクリレートであるＦＡ−５１３ＡＳ（商品名：日立化成工業（株）製）を用い、下記組成割合とした以外は、実施例３と同様にして、インクジェットインク５を調製した。
（Ａ） ＦＡ−５１３ＡＳ：５８．３０ｇ
（Ｂ） Ｉｒ７５４： ７．００ｇ
（Ｃ） Ｍ３０５： ４１．７０ｇ
【０１４９】
Ｅ型粘度計を用い、２５℃におけるインクジェットインク５の粘度を測定した結果、１８．５ｍＰａ・ｓであった。
【０１５０】
インクジェットインク５を用い、実施例１と同様の方法で一片が３ｃｍの正方形パターンの硬化膜付基板５ａおよび５ｂを得た。
次に、基板５ｂを用い、実施例１と同様の方法で膜厚測定を行った結果、膜厚は２．５μｍであった。
【０１５１】
［実施例６］
化合物（Ａ）として、ＴＨＦ−Ａの代わりに、ε-カプロラクトン変性トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレートであるアロニックスＭ−３２７（商品名：東亞合成（株）製、以後「Ｍ−３２７」と略す。）を用い、化合物（Ｃ）として、Ｍ３０５の代わりに、４−ヒドロキシブチルアクリレートである４ＨＢＡ（商品名：日本化成（株）製）を用い、下記組成割合とした以外は、実施例２と同様にして、インクジェットインク６を調製した。
（Ａ） Ｍ−３２７：３３．３０ｇ
（Ｂ） ＭＢＦ： ７．００ｇ
（Ｃ） ４ＨＢＡ： ６６．７０ｇ
【０１５２】
Ｅ型粘度計を用い、２５℃におけるインクジェットインク６の粘度を測定した結果、３２．０ｍＰａ・ｓであった。
【０１５３】
インクジェットインク６を用い、ヘッド温度を５０℃にした以外は実施例１と同様の方法で一片が３ｃｍの正方形パターンの硬化膜付基板６ａおよび６ｂを得た。
次に、基板６ｂを用い、実施例１と同様の方法で膜厚測定を行った結果、膜厚は２．８μｍであった。
【０１５４】
［実施例７］
化合物（Ａ）としてＭ−３２７（３３．３０ｇ）およびＦＡ−５１３ＡＳ（３３．３０ｇ）を用い、下記組成割合とした以外は、実施例６と同様にして、インクジェットインク７を調製した。
（Ａ） Ｍ−３２７： ３３．３０ｇ
（Ａ） ＦＡ−５１３ＡＳ：３３．３０ｇ
（Ｂ） ＭＢＦ： ７．００ｇ
（Ｃ） ４ＨＢＡ： ３３．４０ｇ
【０１５５】
Ｅ型粘度計を用い、２５℃におけるインクジェットインク７の粘度を測定した結果、３５．２ｍＰａ・ｓであった。
【０１５６】
インクジェットインク７を用い、ヘッド温度を５２℃にした以外は実施例１と同様の方法で一片が３ｃｍの正方形パターンの硬化膜付基板７ａおよび７ｂを得た。
次に、基板７ｂを用い、実施例１と同様の方法で膜厚測定を行った結果、膜厚は２．８μｍであった。
【０１５７】
［実施例８］
化合物（Ｃ）として、Ｍ３０５の代わりに、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートであるＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＣＡ−２０（商品名：日本化薬（株）製）を用い、下記組成割合とした以外は、実施例３と同様にして、インクジェットインク８を調製した。
（Ａ） ＴＨＦ−Ａ： ６０．００ｇ
（Ｂ） Ｉｒ７５４： ７．００ｇ
（Ｃ） ＤＰＣＡ−２０：４０．００ｇ
【０１５８】
Ｅ型粘度計を用い、２５℃におけるインクジェットインク８の粘度を測定した結果、１５．８ｍＰａ・ｓであった。
【０１５９】
インクジェットインク８を用い、ヘッド温度を３２℃にした以外は実施例１と同様の方法で一片が３ｃｍの正方形パターンの硬化膜付基板８ａおよび８ｂを得た。
次に、基板８ｂを用い、実施例１と同様の方法で膜厚測定を行った結果、膜厚は２．４μｍであった。
【０１６０】
［比較例１］
光重合開始剤（Ｂ）であるＩｒ１８４の代わりに、光重合開始剤として、２−メチル−１−[４−（メチルチオ）フェニル]−２−モルフォリノプロパン−１−オンであるＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７（商品名：ＢＡＳＦ製、以後「Ｉｒ９０７」と略す。光重合開始剤濃度０．００１重量％のアセトニトリル溶液のＵＶ吸収スペクトル測定による、３００ｎｍ以上の波長領域における吸光度が０．１を超える。）を用い、下記組成割合とした以外は、実施例１と同様にして、インクジェットインク９を調製した。
（Ａ） ＴＨＦ−Ａ：５０．００ｇ
（Ｂ） Ｉｒ９０７： ７．００ｇ
（Ｃ） Ｍ３０５： ５０．００ｇ
【０１６１】
Ｅ型粘度計を用い、２５℃におけるインクジェットインク９の粘度を測定した結果、１８．１ｍＰａ・ｓであった。
【０１６２】
インクジェットインク９を用い、ヘッド温度を３４℃にした以外は実施例１と同様の方法で一片が３ｃｍの正方形パターンの硬化膜付基板９ａおよび９ｂを得た。
次に、基板９ｂを用い、実施例１と同様の方法で膜厚測定を行った結果、膜厚は２．５μｍであった。
【０１６３】
［比較例２］
化合物（Ａ）であるＴＨＦ−Ａの代わりに、化合物（Ｃ）であるフェノキシアクリレート（Ｖ＃１９２（商品名）、大阪有機化学工業（株）製、以後「Ｖ＃１９２」と略す。）を用い、下記組成割合とした以外は、実施例３と同様にして、インクジェットインク１０を調製した。
（Ｂ） Ｉｒ７５４： ７．００ｇ
（Ｃ） Ｍ３０５： ５０．００ｇ
（Ｃ） Ｖ＃１９２：５０．００ｇ
【０１６４】
Ｅ型粘度計を用い、２５℃におけるインクジェットインク１０の粘度を測定した結果、２２．２ｍＰａ・ｓであった。
【０１６５】
インクジェットインク１０を用い、ヘッド温度を４０℃にした以外は実施例１と同様の方法で一片が３ｃｍの正方形パターンの硬化膜付基板１０ａおよび１０ｂを得た。
次に、基板１０ｂを用い、実施例１と同様の方法で膜厚測定を行った結果、膜厚は２．６μｍであった。
【０１６６】
［比較例３］
化合物（Ａ）であるＴＨＦ−Ａの代わりに、化合物（Ｃ）である４ＨＢＡを用い、下記組成割合とした以外は、実施例３と同様にして、インクジェットインク１１を調製した。
（Ｂ） Ｉｒ７５４： ７．００ｇ
（Ｃ） Ｍ３０５： ５０．００ｇ
（Ｃ） ４ＨＢＡ： ５０．００ｇ
【０１６７】
Ｅ型粘度計を用い、２５℃におけるインクジェットインク１１の粘度を測定した結果、２１．６ｍＰａ・ｓであった。
【０１６８】
インクジェットインク１１を用い、ヘッド温度を３９℃にした以外は実施例１と同様の方法で一片が３ｃｍの正方形パターンの硬化膜付基板１１ａおよび１１ｂを得た。
次に、基板１１ｂを用い、実施例１と同様の方法で膜厚測定を行った結果、膜厚は２．２μｍであった。
【０１６９】
［比較例４］
化合物（Ａ）であるＭ−３２７の代わりに、化合物（Ｃ）であるビスフェノールＦ型ＥＯ変性ジアクリレート（Ｍ２０８（商品名）、東亞合成（株）製、以後「Ｍ−２０８」と略す。）を用い、下記組成割合とした以外は、実施例６と同様にして、インクジェットインク１２を調製した。
（Ｂ） ＭＢＦ： ７．００ｇ
（Ｃ） Ｍ−２０８：５０．００ｇ
（Ｃ） ４ＨＢＡ： ５０．００ｇ
【０１７０】
Ｅ型粘度計を用い、２５℃におけるインクジェットインク１２の粘度を測定した結果、２５．４ｍＰａ・ｓであった。
【０１７１】
インクジェットインク１２用い、ヘッド温度を４５℃にした以外は実施例１と同様の方法で一片が３ｃｍの正方形パターンの硬化膜付基板１２ａおよび１２ｂを得た。
次に、基板１１ｂを用い、実施例１と同様の方法で膜厚測定を行った結果、膜厚は２．６μｍであった。
【０１７２】
＜インクジェットインクおよび硬化膜の評価＞
続いて、上記で得られたインクジェットインクの光硬化性、硬化膜の透過率、耐熱試験後の透過率および強度を評価した。
また、表面撥液性基板（基板１３）上にインクジェットインク（１〜１２）を１５０μｍ間隔に１滴ずつ吐出し、ＵＶ硬化することで形成されたマイクロレンズの形状、ドット径および基板との密着性を観察した。
なお、各試験方法は以下のとおりで、評価結果を表１〜４に示す。
【０１７３】
（光硬化性試験）
各実施例および比較例で得られた３ｃｍ角の正方形パターンの硬化膜付基板（１ａ〜１２ａおよび１ｂ〜１２ｂ）の表面を指触し、硬化膜の表面状態を顕微鏡観察した。評価基準は以下のとおりである。
◎：基板ａおよびｂのどちらにおいても硬化膜表面に指触跡が全く残らない。
○：基板ｂにおいては硬化膜表面に指触跡が全く残らないが、基板ａでは硬化膜表面に指触跡が僅かに残る。
△：基板ａおよびｂどちらにおいても硬化膜表面に指触跡が僅かに残る。
×：基板ａおよびｂどちらにおいても硬化膜表面に指触跡が完全に残る。
【０１７４】
（硬化膜の透過率測定）
透過率測定装置Ｖ−６７０（商品名：日本分光（株）製）を用いて各実施例および比較例で得られた３ｃｍ角の正方形パターンの硬化膜付基板（１ｂ〜１２ｂ）を用い、波長４００ｎｍでの透過率を測定した。なお、リファレンスとして、硬化膜を形成していない４ｃｍ角のガラス基板（厚さ：０．７ｍｍ）を用いた。
【０１７５】
（耐熱試験後の透過率）
各実施例および比較例で得られた３ｃｍ角の正方形パターンの硬化膜付基板（１ｂ〜１２ｂ）を用い、７０℃で１００時間静置させた後の波長４００ｎｍでの透過率を透過率測定装置Ｖ−６７０を用いて測定した。なお、リファレンスとして、７０℃で１００時間静置させた後の硬化膜を形成していない４ｃｍ角のガラス基板（厚さ：０．７ｍｍ）を用いた。
【０１７６】
（強度測定）
各実施例および比較例で得られた３ｃｍ角の正方形パターンの硬化膜付基板（１ｂ〜１２ｂ）を用い、ＪＩＳ Ｋ ５４００に準じて、鉛筆硬度を測定することで、強度を調べた。
【０１７７】
（マイクロレンズ形状の観察）
インクジェットインク１をインクジェットカートリッジに注入し、これをインクジェット装置（ＦＵＪＩＦＩＬＭ Ｄｉｍａｔｉｘ Ｉｎｃ．製のＤＭＰ−２８３１（商品名））に装着し、１０ｐｌ用のインクジェットヘッドを用いて、吐出電圧（ピエゾ電圧）２０Ｖ、ヘッド温度３４℃、駆動周波数５ｋＨｚ、塗布回数１回の吐出条件で、印刷解像度を１７０ｄｐｉに設定して、１５０μｍ間隔に１滴ずつ表面撥液性基板（基板１３）上に吐出し、この基板に波長２５４ｎｍでの露光照度が１５ｍＷ／ｃｍである低圧水銀灯を用いて波長２５４ｎｍでのＵＶ露光量が５００ｍＪ／ｃｍ2になるように調整して光を照射することでドットパターン付基板１ｃを得た。同様に、インクジェットインク２〜１２を用いて、それぞれドットパターン付基板２ｃ〜１２ｃを得た。その後、基板（１ｃ〜１２ｃ）上に形成されたマイクロレンズの形状を光学顕微鏡で観察した結果、きれいな円形で大きさが揃っている場合を○、形がいびつになっていたり、大きさにばらつきがある場合を×とした。また、マイクロレンズのドット径（Ｄ）、高さ（Ｈ）、ドット形状（Ｈ／Ｄ）も測定した。なお、ドット径測定については、ＯＬＹＭＰＵＳ（株）製光学式顕微鏡ＢＸ５１（商品名）を用い、高さ測定については、ＫＬＡ−Ｔｅｎｃｏｒ Ｊａｐａｎ（株）製触針式膜厚計Ｐ−１５（商品名）を使用して測定した。得られたドット高さをドット径で割った値をドット形状（Ｈ／Ｄ）とした。
【０１７８】
表面撥液性基板（基板１３）の製造方法を以下に示す。
表面処理剤１をインクジェットカートリッジに注入し、これをインクジェット装置（ＦＵＪＩＦＩＬＭ Ｄｉｍａｔｉｘ Ｉｎｃ．製のＤＭＰ−２８３１（商品名））に装着し、１０ｐｌ用のインクジェットヘッドを用いて、吐出電圧（ピエゾ電圧）１６Ｖ、ヘッド温度３０℃、駆動周波数５ｋＨｚ、塗布回数１回の吐出条件で、アクリル基板（厚さ：２．０ｍｍ）上に、印刷解像度を５１２ｄｐｉに設定して一片が３ｃｍの正方形パターンを塗布した。この塗布基板に、波長２５４ｎｍでの露光照度が１５ｍＷ／ｃｍである低圧水銀灯を用いて波長２５４ｎｍでのＵＶ露光量が５００ｍＪ／ｃｍ2になるように調整して照射することで、表面撥液性基板（基板１３、撥液性硬化膜付基板）を得た。
【０１７９】
なお、表面の撥液性硬化膜の一部をカッターで削り、段差部分の膜厚をＫＬＡ−Ｔｅｎｃｏｒ Ｊａｐａｎ（株）製触針式膜厚計Ｐ−１５（商品名）を使用して測定したところ、３箇所の測定の平均値は０．９６μｍであった。
【０１８０】
続いて、表面処理剤１の調製方法を以下に示す。
プロピレングリコールモノメチルエーテル（東京化成（株）製、以後「ＰＧＭＥ」と略す。）、Ｍ４０２（商品名：東亞合成（株）製、以後「Ｍ４０２」と略す。）、下記式（１０）で表されるウレタンアクリレートを含む成分であるＵ６ＬＰＡ（商品名：新中村化学工業（株）製、以後「Ｕ６ＬＰＡ」と略す。）、ＢＹＫ ＵＶ ３５００（商品名：ビックケミー・ジャパン（株）製、以後「ＢＹＫ３５００」と略す。）、およびＩｒ７５４を下記組成にて混合した後、超高分子量ポリエチレン（ＵＰＥ）製のメンブレンフィルター（孔径０．２μｍ）でろ過し、ろ液（表面処理剤１）を得た。
【０１８１】
【化８】
【０１８２】
ＰＧＭＥ： ７．０００ｇ
Ｍ４０２： ２．５６０ｇ
Ｕ６ＬＰＡ： ２．５６０ｇ
ＢＹＫ３５００：０．３３０ｇ
Ｉｒ７５４： ０．７７０ｇ
【０１８３】
Ｅ型粘度計（東機産業（株）製 ＴＶ−２２（商品名）、以下同じ）を用い、２５℃における表面処理剤１の粘度を測定した結果、５．１ｍＰａ・ｓであった。
【０１８４】
（表面処理基板に対するマイクロレンズの密着性試験）
得られたドットパターン付基板（１ｃ〜１２ｃ）に粘着テープ（住友スリーエム（株）製「Ｎｏ．６００」テープ（商品名））を貼り付け、その後、剥離した際に基板上に残ったドットパターンの状態を観察することで、マイクロレンズの表面撥液性基板への密着性を評価した。なお、評価基準は以下の通りである。
○：ドットパターンは全く変化なかった
×：一部もしくは、全てのドットが剥がれた
【０１８５】
【表１】
【０１８６】
【表２】
【０１８７】
【表３】
【０１８８】
【表４】
【０１８９】
表１に示す結果から明らかなように、実施例１の基板１ａは硬化膜表面に指触跡が僅かに残るものの、実施例１の基板１ｂおよび実施例２〜８については全ての基板において、硬化膜表面に指触跡が全く残らず、本発明のインクの光硬化性は良好であった。
【０１９０】
波長４００ｎｍでの透過率を測定したところ、インクジェットインク１〜８から得られる硬化膜は９８％以上と高い透過率を示し、光透過性は良好であったが、インクジェットインク９から得られる硬化膜の透過率は９８％以下と低い値を示した。
さらに、７０℃で１００時間静置させた後の波長４００ｎｍでの透過率を測定したところ、インクジェットインク１〜８から得られる硬化膜は９８％以上と高い透過率を示し、光透過性は良好であったが、インクジェットインク９〜１２から得られる硬化膜の透過率は９８％以下と低い値を示した。
【０１９１】
基板１ｃ〜８ｃ上のマイクロレンズ形状を確認したところ、どの基板もきれいな円形で大きさが揃っていた。また、ドット径を測定したところ、本発明のインクから得られる、マイクロレンズのドット径は３２μｍ〜３４μｍと小さく、Ｈ／Ｄは、０．２以上であった。このため、本発明のインクは、光の取り出し効率に優れる導光板などの光学部品の製造に好適に用いられる。
【０１９２】
また、表面撥液性基板に対するマイクロレンズの密着性を確認したところ、本発明のインクから得られるマイクロレンズは該基板から剥離せず、良好な密着性を示した。
【産業上の利用可能性】
【０１９３】
本発明のインクは、光硬化性が良好で、得られる硬化膜およびマイクロレンズは高い光透過性、高い耐熱性、高い強度を示す。このため、本発明のインクはバックライト装置等に使用されるマイクロレンズアレイやタッチパネル等に使用される透明絶縁膜等の製造に好適に用いられる。
また、表面撥液性基板上においては、密着性が良好なマイクロレンズを形成することができることから、特に液晶ディスプレイや表示パネルの導光板などを製造するために好適に用いることができる。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶ディスプレイなどの光学機器を製造するために好適に用いられる光硬化性インクジェットインクに関する。更に詳しくは、本発明は、バックライト装置に使用されるマイクロレンズアレイや、タッチパネル等に使用される透明絶縁膜などに適した光硬化性インクジェットインクに関する。
【背景技術】
【０００２】
かねてより、液晶ディスプレイなどの液晶表示素子には、バックライトに使用されるマイクロレンズアレイを有する導光板などが用いられており、また、タッチパネルには透明絶縁膜などが用いられている。
【０００３】
特に導光板やタッチパネル用透明絶縁膜は高い光透過性が求められ、また、これらを液晶表示素子に使用する場合、発生する熱によって色味が変化（黄色化）しないことが求められている。
【０００４】
特開平２−６５６２号公報（特許文献１）、特開２００３−１９２９４３号公報（特許文献２）、特開２００７−３２１０３４号公報（特許文献３）、特開２０１０−２９１２号公報（特許文献４）、特開２０１０−２４８３５２号公報（特許文献５）では、光透過性に優れた組成物が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平２−６５６２号公報
【特許文献２】特開２００３−１９２９４３号公報
【特許文献３】特開２００７−３２１０３４号公報
【特許文献４】特開２０１０−２９１２号公報
【特許文献５】特開２０１０−２４８３５２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
これらの組成物から形成される硬化膜は、光透過率は高いものの、耐熱性が低く、例えば７０℃で１００時間熱処理した後の膜の波長４００ｎｍにおける光透過率は低くなるといった問題があったため、該硬化膜は、マイクロレンズアレイ形成用またはタッチパネル用透明絶縁膜などとして用いることができなかった。
【０００７】
本発明は前記の問題点に鑑みてなされたもので、十分な光硬化性を有し、基板に対する密着性および光透過性に優れ、さらに耐熱性にも優れる硬化膜およびマイクロレンズを形成することが可能な光硬化性インクジェットインクを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者等は、特定の（メタ）アクリル酸エステルおよび光重合開始剤を含有する光硬化性インクジェットインクであって、該インクより得られた硬化膜（膜厚２．０〜３．０μｍ）を７０℃で１００時間熱処理した後の膜の波長４００ｎｍにおける光透過率が９８％以上となる、光硬化性インクジェットインクが、光硬化性に優れること、光透過性に優れ、さらに耐熱性にも優れる硬化膜およびマイクロレンズを形成できることを見出し、本発明を完成した。
すなわち本発明は、以下の項を含む。
【０００９】
［１］ 下記式（１）で表される（メタ）アクリル酸エステル（Ａ）および光重合開始剤（Ｂ）を含有する光硬化性インクジェットインクであって、
前記光重合開始剤（Ｂ）が、光重合開始剤濃度０．００１重量％のアセトニトリル溶液のＵＶ吸収スペクトル測定による、３００ｎｍ以上の波長領域における吸光度が０．１以下である光重合開始剤であり、
該インクより得られた硬化膜（膜厚２．０〜３．０μｍ）を７０℃で１００時間熱処理した後の膜の波長４００ｎｍにおける光透過率が９８％以上である、光硬化性インクジェットインク。
【００１０】
【化１】
（式（１）中、ｎ個のＲ1はそれぞれ独立に水素または炭素数１〜６のアルキルであり、Ｒ2は脂環構造またはヘテロ環構造を有する（但し、下記式（２−１）または式（２−２）で表される構造を含まない）有機基であり、ｎは１〜１０の整数である。）
【００１１】
【化２】
【００１２】
［２］ 前記光重合開始剤（Ｂ）が、光硬化性インクジェットインクの総量（固形分換算）１００重量％に対し、１〜２０重量％の量で含まれる、［１］に記載の光硬化性インクジェットインク。
［３］ 前記光重合開始剤（Ｂ）が、オキシフェニル酢酸エステル系開始剤、フェニルグリオキシレート系開始剤およびヒドロキシフェニルケトン系開始剤からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物である、［１］または［２］に記載の光硬化性インクジェットインク。
【００１３】
［４］前記光重合開始剤（Ｂ）が、オキシフェニル酢酸エステル系開始剤およびフェニルグリオキシレート系開始剤からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物である、［１］〜［３］のいずれかに記載の光硬化性インクジェットインク。
［５］ 前記光重合開始剤（Ｂ）が、オキシ−フェニル−アセチックアシッド２−[２−オキソ−２−フェニル−アセトキシ−エトキシ]−エチルエステル、オキシ−フェニル−アセチックアシッド２−[２−ヒドロキシ−エトキシ]−エチルエステル、およびフェニルグリオキシリックアシッドメチルエステルからなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物である、［１］〜［４］のいずれかに記載の光硬化性インクジェットインク。
【００１４】
［６］ 前記式（１）において、Ｒ2がシクロヘキサン、シクロペンタン、ビシクロ[２.２.１]ヘプタン、トリシクロデカン、テトラヒドロフラン、５員以上のラクトン、ジシクロペンタン、ジシクロペンテン、アダマンタン、ピペリジン、イミド環、環状ホルマールおよび１，３，５−トリアジン−２，４，６−トリオンからなる群より選ばれる少なくとも１種を有する有機基である、［１］〜［５］のいずれかに記載の光硬化性インクジェットインク。
【００１５】
［７］ 前記（メタ）アクリル酸エステル（Ａ）が、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、シクロヘキシルジメタノールジ（メタ）アクリレート、γ−ブチロラクトン（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキサイド変性ジ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキサイド変性トリ（メタ）アクリレート、およびε-カプロラクトン変性トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレートからなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物である、［１］〜［６］のいずれかに記載の光硬化性インクジェットインク。
【００１６】
［８］ さらに、前記（メタ）アクリル酸エステル（Ａ）以外のラジカル重合性二重結合を有する化合物（Ｃ）を含む、［１］〜［７］のいずれかに記載の光硬化性インクジェットインク。
［９］ 前記化合物（Ｃ）が、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、メトキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシブチル（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、およびカプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートからなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物である、［８］に記載の光硬化性インクジェットインク。
【００１７】
［１０］ さらに、界面活性剤（Ｄ）を含む、［１］〜［９］のいずれかに記載の光硬化性インクジェットインク。
［１１］ 前記界面活性剤（Ｄ）がシリコーン系界面活性剤、アクリル系界面活性剤およびフッ素系界面活性剤からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物である、［１０］に記載の光硬化性インクジェットインク。
【００１８】
［１２］ さらに、紫外線吸収剤（Ｅ）を含む、［１］〜［１１］のいずれかに記載の光硬化性インクジェットインク。
［１３］ さらに、酸化防止剤（Ｆ）を含む、［１］〜［１２］のいずれかに記載の光硬化性インクジェットインク。
【００１９】
［１４］ ［１］〜［１３］のいずれかに記載の光硬化性インクジェットインクを硬化させて得られる硬化膜。
［１５］ ［１］〜［１３］のいずれかに記載の光硬化性インクジェットインクを硬化させて得られるマイクロレンズ。
【００２０】
［１６］ ［１５］に記載のマイクロレンズを有する光学部品。
［１７］ ［１６］に記載の光学部品を有する液晶ディスプレイ。
【発明の効果】
【００２１】
本発明の光硬化性インクジェットインクは光硬化性が良好であり、高い光透過性、高い耐熱性および高い強度を示し、基板に対する密着性に優れる硬化膜およびマイクロレンズを形成することができる。また、本発明の光硬化性インクジェットインクによれば、表面撥液性基板上に、密着性が良好なマイクロレンズを形成することができる。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
［１．光硬化性インクジェットインク］
本発明の光硬化性インクジェットインク（以下単に「本発明のインク」ともいう。）は、前記式（１）で表される（メタ）アクリル酸エステル（Ａ）および光重合開始剤（Ｂ）を含んでなり、
前記光重合開始剤（Ｂ）が、光重合開始剤濃度０．００１重量％のアセトニトリル溶液のＵＶ吸収スペクトル測定による、３００ｎｍ以上の波長領域における吸光度が０．１以下である光重合開始剤であり、
該インクより得られた硬化膜（膜厚２．０〜３．０μｍ）を７０℃で１００時間熱処理した後の膜の波長４００ｎｍにおける光透過率が９８％以上を示す、光硬化性インクジェットインクである。
【００２３】
本発明のインクは、前記特定の（メタ）アクリル酸エステル（Ａ）および光重合開始剤（Ｂ）を含んでなるため、光硬化性が良好であり、光透過性、耐熱性、強度および基板に対する密着性に優れる硬化膜およびマイクロレンズ、特に高温下等の過酷な環境下におかれても光透過性の変化が少ない硬化膜およびマイクロレンズを形成することができる。
なお、以下本明細書では、「硬化膜およびマイクロレンズ」を「硬化膜等」ともいう。
【００２４】
また、本発明のインクは、必要に応じて、前記（メタ）アクリル酸エステル（Ａ）以外のラジカル重合性二重結合を有する化合物（Ｃ）、界面活性剤（Ｄ）、紫外線吸収剤（Ｅ）、酸化防止剤（Ｆ）、重合禁止剤、フェノール性水酸基を含有する樹脂、マレイミド化合物、メラミン樹脂、シランカップリング剤、エポキシ樹脂、エポキシ硬化剤および溶媒などを含んでもよい。
【００２５】
本発明のインクは、光透過率の観点からは無色が好ましいが、発明の効果を妨げない範囲でさらに有色の化合物を含有してもよい。この場合、得られる硬化膜等の色が黄色味を帯びないことが好ましく、例えば、青色の化合物を用いることができる。また、例えば、硬化膜等の状態を検査する際に基板との識別を容易にするために、着色剤を含んでもよい。
【００２６】
＜１．１．式（１）で表される（メタ）アクリル酸エステル（Ａ）＞
本発明のインクが、前記式（１）で表される（メタ）アクリル酸エステル（Ａ）（以下「化合物（Ａ）」ともいう。）を含むと、光硬化性に優れるインクとなり、高い光透過性および高い耐熱性を示す硬化膜等を形成することができる。
【００２７】
なお、本明細書において、「（メタ）アクリレート」は、アクリレートとメタクリレートの両者または一方を示す。
【００２８】
前記式（１）中、ｎ個のＲ1はそれぞれ独立に水素または炭素数１〜６のアルキルであるが、この中でも特に、ｎ個のＲ1がそれぞれ独立にＨまたはＣＨ3であると、光硬化性に優れるインクが得られ、また、高い光透過性を示す硬化膜等が得られることから好ましい。さらにＲ1が水素であると、光硬化性がより良好なインクが得られ、光透過率がより高い硬化膜等が得られるため好ましい。
【００２９】
前記式（１）中、Ｒ2の脂環構造またはヘテロ環構造を有する有機基の具体例としては、シクロヘキサン、シクロペンタン、ビシクロ[２.２.１]ヘプタン、トリシクロデカン、テトラヒドロフラン、５員以上のラクトン、ジシクロペンタン、ジシクロペンテン、アダマンタン、ピペリジン、イミド環、環状ホルマールおよび１，３，５−トリアジン−２，４，６−トリオンからなる群より選ばれる少なくとも１種を有する有機基が挙げられる。
【００３０】
この中でも、式（１）中のＲ2が特に、シクロヘキサン、ビシクロ[２.２.１]ヘプタン、トリシクロデカン、テトラヒドロフラン、ジシクロペンタンおよび１，３，５−トリアジン−２，４，６−トリオンからなる群より選ばれる少なくとも１種を有する有機基であると、光硬化性に優れるインクが得られ、基板に対する密着性および光透過性に優れるだけでなく、耐熱性の良好な硬化膜等が得られるため好ましい。
【００３１】
なお、前記式（１）中のＲ2は前記式（２−１）または式（２−２）で表される構造を含まない。
本発明のインクから形成される硬化膜等は、脂環構造またはヘテロ環構造を有する樹脂を含むことが、高い耐熱性、高い強度および基板に対する高い密着性等の点から好ましい。これに対し、前記式（２−１）または式（２−２）で表される構造を含む(メタ)アクリル酸エステルは活性が高いため、前記式（２−１）または式（２−２）で表される環は水分や環境温度の影響を受けやすく、特に高温多湿条件下においては、開環し易い。このため、本発明の化合物（Ａ）として、前記式（２−１）または式（２−２）で表される構造を有する(メタ)アクリル酸エステルのみを含むインクから形成される硬化膜等は、長期信頼性に劣る傾向がある。
【００３２】
化合物（Ａ）の具体例としては、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、シクロペンチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、４−ブチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−メチル−２−アダマンチル（メタ）アクリレート、２−エチル−２−アダマンチル（メタ）アクリレート、３，５−ジメチル−７−ヒドロキシアダマンチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシ−１−アダマンチル（メタ）アクリレート、メタクリロイルオキシノルボルナン（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、シクロヘキシルジメタノールモノ（メタ）アクリレート、シクロヘキシルジメタノールジ（メタ）アクリレート、ペンタメチルピペリジニル（メタ）アクリレート、イミド環を有する（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキサイド変性ジ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキサイド変性トリ（メタ）アクリレート、ε−カプロラクトン変性トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、環状トリメチロールプロパンホルマール（メタ）アクリレート、γ-ブチロラクトン（メタ）アクリレートおよびメバロノラクトン（メタ）アクリレートが挙げられる。
【００３３】
この中でも特に、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、シクロヘキシルジメタノールジ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキサイド変性ジ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキサイド変性トリ（メタ）アクリレート、ε−カプロラクトン変性トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレートまたはγ−ブチロラクトン（メタ）アクリレートを用いると、光硬化性に優れるインクが得られ、光透過性に優れるだけでなく、耐熱性の良好な硬化膜等が得られるため好ましい。
【００３４】
さらに化合物（Ａ）として、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレートまたはε−カプロラクトン変性トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレートを用いると、より耐熱性の良好な硬化膜等が得られるため好ましい。
【００３５】
前記化合物（Ａ）は、上述した化合物等から選ばれる１種の化合物であってもよく、またこれらの２種以上の混合物であってもよい。
２種以上の化合物（Ａ）を用いる場合には、単官能の化合物（Ａ）と多官能の化合物（Ａ）との混合物を用いることが、インクの光硬化性、ならびに得られる硬化膜等の光透過性、耐熱性および基板との密着性等の点から好ましい。
【００３６】
なお、「単官能の化合物」とは、１分子中に１つの（メタ）アクリロイル基等の重合性基を有する化合物のことであり、「多官能の化合物」とは、１分子中に２つ以上の（メタ）アクリロイル基等の重合性基を有する化合物のことである。
【００３７】
前記化合物（Ａ）としては、公知の方法で製造した化合物を用いてもよいし、また市販品を用いてもよい。
【００３８】
市販品としては、例えば、シクロヘキシルメタクリレート（商品名：ライトエステルＣＨ；共栄社化学（株）製）、シクロヘキシルアクリレート（商品名：Ｖ＃１５５；大阪有機化学工業（株）製）、テトラヒドロフルフリルメタクリレート（商品名：ライトエステルＴＨＦ；共栄社化学（株）製）、テトラヒドロフルフリルアクリレート（商品名：ライトアクリレートＴＨＦ−Ａ；共栄社化学（株）製）、イソボルニルメタクリレート（商品名：ＳＲ−４２３Ｄ；米国サートマー社製）、ジシクロペンテニルアクリレート（商品名：ＦＡ−５１１ＡＳ；日立化成工業（株）製）、ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレート（商品名：ＦＡ−５１２ＡＳ；日立化成工業（株）製）、ジシクロペンタニルアクリレート（商品名：ＦＡ−５１３ＡＳ；日立化成工業（株）製）、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート（商品名：ＩＲＲ２１４−Ｋ；ダイセル・サイテック（株）製）、イソシアヌル酸エチレンオキサイド変性トリアクリレート（商品名：Ｍ−３１５；東亞合成（株）製）、およびε−カプロラクトン変性トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート（商品名：Ｍ−３２７；東亞合成（株）製）が挙げられる。
【００３９】
本発明のインクにおいて、前記化合物（Ａ）の含有量が、該インク総量（固形分換算）１００重量％に対し、１０〜８０重量％であると、光硬化性に優れるインクが得られるだけでなく、光透過率、基板に対する密着性および強度にバランス良く優れる硬化膜等が得られるため好ましく、化合物（Ａ）の含有量は、より好ましくは１５〜７０重量％であり、さらに好ましくは２０〜６５重量％であり、特に好ましくは２５〜６５重量％である。
【００４０】
＜１．２．光重合開始剤（Ｂ）＞
本発明のインクは、光重合開始剤（Ｂ）を含む。前記光重合開始剤（Ｂ）は、光重合開始剤濃度０．００１重量％のアセトニトリル溶液のＵＶ吸収スペクトル測定（（株）日立ハイテクノロジーズ製 Ｕ−３３１０（商品名））による、３００ｎｍ以上の波長領域における吸光度が０．１以下、好ましくは０．０５以下である光重合開始剤である。
【００４１】
前記光重合開始剤（Ｂ）としては、特に制限されないが、紫外線または可視光線の照射によりラジカルを発生することのできる化合物であることが好ましく、オキシフェニル酢酸エステル系開始剤、フェニルグリオキシレート系開始剤またはヒドロキシフェニルケトン系開始剤が好ましく、この中でも特にオキシフェニル酢酸エステル系開始剤またはフェニルグリオキシレート系開始剤が、インクの光硬化性、該インクから得られる硬化膜等の光透過率などの観点からより好ましい。
【００４２】
前記光重合開始剤（Ｂ）の具体例としては、２，２’−ジメトキシ−１,２−ジフェニルエタン−１−オン、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン、１−[４−(２−ヒドロキシエトキシ)−フェニル]−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−１−｛４−[４−(２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル)−ベンジル]−フェニル｝−２−メチルプロパン−１−オン、オキシ−フェニル−アセチックアシッド２−[２−オキソ−２−フェニル−アセトキシ−エトキシ]−エチルエステル、オキシ−フェニル−アセチックアシッド２−[２−ヒドロキシ−エトキシ]−エチルエステル、およびフェニルグリオキシリックアシッドメチルエステルが挙げられる。
【００４３】
この中でも特に、オキシ−フェニル−アセチックアシッド２−[２−オキソ−２−フェニル−アセトキシ−エトキシ]−エチルエステル、オキシ−フェニル−アセチックアシッド２−[２−ヒドロキシ−エトキシ]−エチルエステル、フェニルグリオキシリックアシッドメチルエステル、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトンを用いると、光硬化性に優れるインクが得られ、光透過性に優れる硬化膜等が得られるため好ましく、オキシ−フェニル−アセチックアシッド２−[２−オキソ−２−フェニル−アセトキシ−エトキシ]−エチルエステル、オキシ−フェニル−アセチックアシッド２−[２−ヒドロキシ−エトキシ]−エチルエステル、フェニルグリオキシリックアシッドメチルエステルを用いると、より光硬化性に優れるインクが得られるため好ましい。
【００４４】
前記光重合開始剤（Ｂ）は、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。
【００４５】
前記光重合開始剤（Ｂ）としては、公知の方法で製造した化合物を用いてもよいし、また、市販品を用いてもよい。
【００４６】
市販品としては、例えば、２，２’−ジメトキシ−１,２−ジフェニルエタン−１−オン（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ６５１；ＢＡＳＦ製）、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４；ＢＡＳＦ製）、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ１１７３；ＢＡＳＦ製）、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトンとベンゾフェノンとの混合物（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ５００；ＢＡＳＦ製）、１−[４−(２−ヒドロキシエトキシ)−フェニル]−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ２９５９；ＢＡＳＦ製）、２−ヒドロキシ−１−｛４−[４−(２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル)−ベンジル]−フェニル｝−２−メチルプロパン−１−オン（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ１２７；ＢＡＳＦ製）、オキシ−フェニル−アセチックアシッド２−[２−オキソ−２−フェニル−アセトキシ−エトキシ]−エチルエステルとオキシ−フェニル−アセチックアシッド２−[２−ヒドロキシ−エトキシ]−エチルエステルとの混合物（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ７５４；ＢＡＳＦ製）、フェニルグリオキシリックアシッドメチルエステル（商品名：ＤＡＲＯＣＵＲ ＭＢＦ；ＢＡＳＦ製）、および１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトンとビス(２,６−ジメトキシベンゾイル)−２,４,４−トリメチル−ペンチルフォスフィンオキサイドとの混合物（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８００；ＢＡＳＦ製）が挙げられる。
【００４７】
本発明のインクにおいて、前記光重合開始剤（Ｂ）の含有量が、該インク総量（固形分換算）１００重量％に対し、１〜２０重量％であると、紫外線に対する光硬化性に特に優れるインクが得られ、光透過性に優れる硬化膜等が得られるため好ましく、より好ましくは２〜１５重量％であり、さらに好ましくは３〜１０重量％である。
【００４８】
＜１．３．化合物（Ａ）以外のラジカル重合性二重結合を有する化合物（Ｃ）＞
前記化合物（Ａ）以外のラジカル重合性二重結合を有する化合物（Ｃ）は、本発明のインクのインクジェット装置による吐出性（ジェッティング性）および光硬化性、ならびに、該インクから得られる硬化膜等の光透過性および耐熱性に影響を与えない範囲で添加することができる。
【００４９】
前記化合物（Ａ）として、単官能の（メタ）アクリル酸エステルのみを用いる場合には、多官能の化合物（Ｃ）を用いることが、前記化合物（Ａ）として、多官能の（メタ）アクリル酸エステルのみを用いる場合には、単官能の化合物（Ｃ）を用いることが、インクの光硬化性、ならびに、得られる硬化膜等の光透過性、耐熱性および基板との密着性等の点から好ましい。
【００５０】
つまり、本発明のインクは、単官能の重合性化合物と多官能の重合性化合物の両方を含むことが、インクの光硬化性、ならびに、得られる硬化膜等の光透過性、耐熱性および基板との密着性等の点から好ましい。このようなインクとしては、単官能の化合物（Ａ）および多官能の化合物（Ａ）を含むインク、単官能の化合物（Ａ）および多官能の化合物（Ｃ）を含むインク、単官能の化合物（Ｃ）および多官能の化合物（Ａ）を含むインク等を挙げることができる。
【００５１】
前記化合物（Ｃ）は特に限定されないが、前記化合物（Ｃ）として、特にｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、メトキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシブチル（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、および／またはジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートを用いた場合、ジェッティング性および光硬化性に優れるインクが得られ、光透過性および耐熱性にバランス良く優れる硬化膜等が得られるため好ましい。
【００５２】
その他の化合物（Ｃ）としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、ｎ-ヘキシル（メタ）アクリレート、へプチル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシジプロピレングリコール（メタ）アクリレート、エチルジグリコール（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦ エチレンオキサイド（ＥＯ）変性ジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ ＥＯ変性ジ（メタ）アクリレート、グリセロールモノ（メタ）アクリレート、トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、メチルグリシジル（メタ）アクリレート、３−メチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、３−メチル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタン、３−エチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、３−エチル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタン、ｐ−ビニルフェニル−３−エチルオキセタン−３−イルメチルエーテル、２−フェニル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、２−トリフロロメチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、（３−エチル−３−オキセタニル）メチル（メタ）アクリレート、ポリメチルメタクリレートマクロモノマー、Ｎ−ビニルホルムアミド、（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−イソプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、ビニルピリジン、トリメチロールプロパントリオキシエチル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸ダイマー、クロトン酸、α−クロルアクリル酸、ケイ皮酸、マレイン酸、フマル酸、β−カルボキシルエチル（メタ）アクリレート、ω−カルボキシポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレート、コハク酸モノ［２−（メタ）アクリロイロキシエチル］、フタル酸モノヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、マレイン酸モノ［２−（メタ）アクリロイロキシエチル］、２−（メタ）アクリロイロキシエチルアシッドホスフェート、フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、メチルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、２−フェノキシエチル（メタ）アクリレート、２−フェノキシエチル（メタ）アクリレートのエチレンオキサイドおよび／またはプロピレンオキサイド付加モノマー、２-ヒドロキシ-３-フェノキシプロピルアクリレート、ビニルトルエン、スチレン、メチルスチレン、クロルメチルスチレンおよびポリスチレンマクロモノマー等が挙げられる。
【００５３】
前記化合物（Ｃ）は、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。
【００５４】
本発明のインクにおいて、前記化合物（Ｃ）の含有量が、該インク総量（固形分換算）１００重量％に対し、１〜８５重量％であると、インク粘度を調整しやすく、また、光硬化性に優れるインクが得られ、光透過性および基板との密着性に優れる硬化膜等が得られるため好ましい。
【００５５】
＜１．４．界面活性剤（Ｄ）＞
本発明のインクは、例えば、基板への濡れ性や該インクから得られる硬化膜等の膜面均一性および基板との密着性を向上させるために界面活性剤を含んでもよい。
【００５６】
界面活性剤（Ｄ）としては、シリコーン系界面活性剤、アクリル系界面活性剤およびフッ素系界面活性剤などが好ましい。
【００５７】
界面活性剤の具体例としては、ＢＹＫ−３００、同３０６、同３３５、同３１０、同３４１、同３４４および同３７０（商品名：ビックケミー・ジャパン（株）製）などのシリコーン系界面活性剤、ＢＹＫ−３５４、同３５８および同３６１（商品名：ビックケミー・ジャパン（株）製）などのアクリル系界面活性剤、ＤＦＸ−１８、フタージェント２５０、同２５１（商品名：（株）ネオス製）、メガファックＦ−４７５、Ｆ−４７７、Ｆ−５５３、Ｆ−５５４（商品名：ＤＩＣ（株）製）などのフッ素系界面活性剤を挙げることができる。
【００５８】
また、界面活性剤（Ｄ）が反応性官能基を有する化合物であると、インクジェット法で形成された硬化膜等から界面活性剤がブリードアウトしにくく、直径、高さのばらつきが小さいマイクロレンズを形成することができるため、より好ましい。
【００５９】
前記反応性官能基としてはヒドロキシ、カルボキシ、酸無水物、アミノ、エポキシ、オキセタン、オキサゾリン、オキサゾール、および（メタ）アクリロイル等が好ましく、エポキシ、オキセタン、および（メタ）アクリロイルがより好ましく、（メタ）アクリロイルが最も好ましい。
【００６０】
（メタ）アクリロイル基を有する界面活性剤の具体例としては、ＲＳ−７２Ｋ（商品名：ＤＩＣ（株）製）、ＢＹＫ ＵＶ ３５００、ＢＹＫ ＵＶ ３５７０（商品名：ビックケミー・ジャパン（株）製）、ＴＥＧＯ Ｒａｄ ２２２０Ｎ、ＴＥＧＯ Ｒａｄ ２２５０、ＴＥＧＯ Ｒａｄ ２３００、ＴＥＧＯ Ｒａｄ ２５００（商品名：エボニック・デグサ・ジャパン製）を挙げることができる。また、エポキシ基を有する界面活性剤としては、ＲＳ−２１１Ｋ（商品名：ＤＩＣ（株）製）を挙げることができる。
【００６１】
本発明のインクに用いられうる界面活性剤（Ｄ）は、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。
【００６２】
本発明のインクにおいて、界面活性剤（Ｄ）の含有量が、該インク総量（固形分換算）１００重量％に対し、０．０１〜１０重量％であると、インクジェット法で形成された硬化膜等から界面活性剤がブリードアウトしにくく、直径、高さのばらつきが小さいマイクロレンズを形成することができるため好ましい。
【００６３】
＜１．５．紫外線吸収剤（Ｅ）＞
本発明のインクは、得られる硬化膜等がバックライトなどの光によって劣化することを防止するために、紫外線吸収剤（Ｅ）を含有してもよい。
【００６４】
紫外線吸収剤（Ｅ）としては、２−（５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−アミル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール等のベンゾトリアゾール化合物、２−（４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン−２−イル）−５−［（ヘキシル）オキシ］−フェノール等のトリアジン化合物、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクチルオキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン化合物、および２−エトキシ−２’−エチルオキサリック酸ビスアニリド等のシュウ酸アニリド化合物などが挙げられる。
【００６５】
本発明のインクに用いられうる紫外線吸収剤（Ｅ）は、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。
【００６６】
本発明のインクにおいて、紫外線吸収剤（Ｅ）の含有量は、該インク総量（固形分換算）１００重量％に対し、通常３重量％以下、添加効果および硬化性等の観点から好ましくは０．００５〜２重量％である。
【００６７】
＜１．６．酸化防止剤（Ｆ）＞
本発明のインクは、得られる硬化膜等の酸化を防止するために、酸化防止剤（Ｆ）を含有してもよい。
【００６８】
酸化防止剤（Ｆ）としては、トリエチレングリコール−ビス−［３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、１，６−ヘキサンジオール−ビス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネートジエチルエステル等のヒンダードフェノール化合物、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、ジエチルアミノメチルメタクリレート等のアミン化合物などが挙げられる。
【００６９】
本発明のインクに用いられうる酸化防止剤（Ｆ）は、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。
【００７０】
本発明のインクにおいて、酸化防止剤（Ｆ）の含有量は、該インク総量（固形分換算）１００重量％に対し、通常３重量％以下、添加効果および塗工安定性等の観点から好ましくは０．００５〜２重量％である。
【００７１】
＜１．７．その他＞
本発明のインクは、各種特性を向上させるために重合禁止剤、フェノール性水酸基を含有する樹脂、マレイミド化合物、メラミン樹脂、シランカップリング剤、エポキシ樹脂、エポキシ硬化剤および溶媒などのその他の成分を本発明の効果を損なわない範囲で含んでもよい。
【００７２】
＜１．７−１．重合禁止剤＞
本発明のインクは、保存安定性を向上させるために重合禁止剤を含有してもよい。重合禁止剤の具体例としては、４−メトキシフェノール、ヒドロキノンおよびフェノチアジンを挙げることができる。これらの中でもフェノチアジンを用いることが長期の保存においても粘度の増加が小さいインクが得られるため好ましい。
本発明のインクに用いられうる重合禁止剤は、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。
【００７３】
本発明のインクにおいて、重合禁止剤の含有量が、該インク総量（固形分換算）１００重量％に対し、０．０１〜１重量％であると、長期の保存においても粘度の増加が小さいインクが得られるために好ましく、他特性とのバランスを考慮すると、より好ましくは０．０１〜０．５重量％であり、さらに好ましくは０．０１〜０．１重量％である。
【００７４】
＜１．７−２．溶媒＞
本発明のインクは、インクジェット法による塗布時の吐出性および光硬化性、ならびに、得られる硬化膜等の基板に対する密着性および光透過性を損なわない範囲で、溶媒を含有してもよい。
インクジェット法による塗布時にインクジェットヘッドを加熱する場合は、溶媒を含まないインクを用いることが好ましい。
【００７５】
本発明に用いることができる溶媒としては、沸点が１００〜３００℃の溶媒が、インクジェット法による塗布時の吐出性が良好になるため好ましい。また、インクジェットヘッドを高温（例えば７０〜１２０℃）に加熱する場合に溶媒を用いるとすれば、沸点が２００〜３００℃の溶媒が好ましい。
【００７６】
沸点が１００〜３００℃である溶媒の具体例としては、酢酸ブチル、プロピオン酸ブチル、乳酸エチル、オキシ酢酸メチル、オキシ酢酸エチル、オキシ酢酸ブチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、３−オキシプロピオン酸メチル、３−オキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、２−オキシプロピオン酸メチル、２−オキシプロピオン酸エチル、２−オキシプロピオン酸プロピル、２−メトキシプロピオン酸メチル、２−メトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシプロピオン酸プロピル、２−エトキシプロピオン酸メチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−オキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−オキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、２−メトキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−エトキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、２−オキソブタン酸メチル、２−オキソブタン酸エチル、ジオキサン、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、トルエン、キシレン、アニソール、γ−ブチロラクトン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドンおよびジメチルイミダゾリジノンが挙げられる。
【００７７】
本発明のインクに用いられうる溶媒は１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。
【００７８】
本発明のインクにおいて、溶媒の含有量が、該インク総量（固形分換算）１００重量％に対し、１〜６０重量％であると、インクジェット法によりインクを塗布する際に、インクジェットヘッドの吐出孔が閉塞しにくくなるため好ましい。他特性とのバランスを考慮すると、より好ましくは１〜５０重量％であり、さらに好ましくは１〜４０重量％である。
【００７９】
＜１．７−３．エポキシ樹脂＞
本発明のインクは、得られる硬化膜等の強度を向上させるために、エポキシ樹脂を含有してもよい。
前記エポキシ樹脂は、１分子中に少なくとも１つの下記式（２−１）または式（２−２）で表される構造を有する樹脂であれば、特に限定されない。
【００８０】
【化３】
【００８１】
エポキシ樹脂の具体例としては、ノボラック型（フェノールノボラック型およびクレゾールノボラック型）、ビスフェノールＡ型、ビスフェノールＦ型、トリスフェノールメタン型、水添ビスフェノールＡ型、水添ビスフェノールＦ型、ビスフェノールＳ型、テトラフェニロールエタン型、ビキシレノール型、ビフェノール型エポキシ樹脂、脂環式および複素環式エポキシ樹脂、ならびに、ジシクロペンタジエン骨格やナフタレン骨格を有するエポキシ樹脂が挙げられ、好ましくはノボラック型、ビスフェノールＡ型またはビスフェノールＦ型またはトリスフェノールメタン型エポキシ樹脂である。
【００８２】
エポキシ樹脂としては公知の方法で製造した樹脂を用いてもよいし、また市販品を用いてもよい。
【００８３】
市販品の例としては、ｊＥＲ８２８、同８３４、同１００１、同１００４（商品名：三菱化学（株）製）、エピクロン８４０、同８５０、同１０５０、同２０５５、（商品名：ＤＩＣ（株）製）、エポトートＹＤ−０１１、同ＹＤ−０１３、同ＹＤ−１２７、同ＹＤ−１２８（商品名：新日鐵化学（株）製）、Ｄ.Ｅ.Ｒ.３１７、同３３１、同６６１、同６６４（商品名：ダウ・ケミカル日本（株）製）、アラルダイト６０７１、同６０８４、同ＧＹ２５０、同ＧＹ２６０（商品名：ハンツマン・ジャパン（株）製）、スミ−エポキシＥＳＡ−０１１、同ＥＳＡ−０１４、同ＥＬＡ−１１５、同ＥＬＡ−１２８（商品名：住友化学工業（株）製）、Ａ.Ｅ.Ｒ.３３０、同３３１、同６６１、同６６４（商品名：旭化成イーマテリアルズ（株）製）等のビスフェノールＡ型エポキシ樹脂；
ｊＥＲ１５２、１５４（商品名：三菱化学（株）製）、Ｄ.Ｅ.Ｒ.４３１、同４３８（商品名：ダウ・ケミカル日本（株）製）、エピクロンＮ−７３０、同Ｎ−７７０、同Ｎ−８６５（商品名：ＤＩＣ（株）製）、エポトートＹＤＣＮ−７０１、同ＹＤＣＮ−７０４（商品名：新日鐵化学（株）製）、アラルダイトＥＣＮ１２３５、同ＥＣＮ１２７３、同ＥＣＮ１２９９（商品名：ハンツマン・ジャパン（株）製）、ＸＰＹ３０７、ＥＰＰＮ−２０１、ＥＯＣＮ−１０２５、ＥＯＣＮ−１０２０、ＥＯＣＮ−１０４Ｓ、ＲＥ−３０６（商品名：日本化薬（株）製）、スミ−エポキシＥＳＣＮ−１９５Ｘ、同ＥＳＣＮ−２２０（商品名：住友化学工業（株）製）、Ａ.Ｅ.Ｒ.ＥＣＮ−２３５、同ＥＣＮ−２９９（商品名：旭化成イーマテリアルズ（株）製）等のノボラック型エポキシ樹脂；
エピクロン８３０（商品名：ＤＩＣ（株）製）、ｊＥＲ８０７（商品名：三菱化学（株）製）、エポトートＹＤＦ−１７０（商品名：新日鐵化学（株）製）、ＹＤＦ−１７５、ＹＤＦ−２００１、ＹＤＦ−２００４、アラルダイトＸＰＹ３０６（商品名：ハンツマン・ジャパン（株）製）等のビスフェノールＦ型エポキシ樹脂；
エポトートＳＴ−２００４、同ＳＴ−２００７、同ＳＴ−３０００（商品名：新日鐵化学（株）製）等の水添ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂；
セロキサイド２０２１Ｐ（商品名：ダイセル化学工業（株）製）、アラルダイトＣＹ１７５、同ＣＹ１７９（商品名：ハンツマン・ジャパン（株）製）等の脂環式エポキシ樹脂；
ＹＬ−６０５６、ＹＸ−４０００、ＹＬ−６１２１（商品名：三菱化学（株）製）等のビキシレノール型もしくはビフェノール型エポキシ樹脂またはそれらの混合物；
ＥＢＰＳ−２００（商品名：日本化薬（株）製）、ＥＰＸ−３０（商品名：（株）ＡＤＥＫＡ製）、ＥＸＡ−１５１４（商品名：ＤＩＣ（株）製）等のビスフェノールＳ型エポキシ樹脂；
ｊＥＲ１５７Ｓ（商品名：三菱化学（株）製）等のビスフェノールＡノボラック型エポキシ樹脂；
ＹＬ−９３１（商品名：三菱化学（株）製）、アラルダイト１６３（商品名：ハンツマン・ジャパン（株）製）等のテトラフェニロールエタン型エポキシ樹脂；
アラルダイトＰＴ８１０（商品名：ハンツマン・ジャパン（株）製）、ＴＥＰＩＣ（商品名：日産化学工業（株）製）等の複素環式エポキシ樹脂；
ＨＰ−４０３２、ＥＸＡ−４７５０、ＥＸＡ−４７００（商品名：ＤＩＣ（株）製）等のナフタレン基含有エポキシ樹脂；
ＨＰ−７２００、ＨＰ−７２００Ｈ、ＨＰ−７２００ＨＨ（商品名：ＤＩＣ（株）製）等のジシクロペンタジエン骨格を有するエポキシ樹脂；
テクモアＶＧ３１０１Ｌ（商品名：三井化学（株）製）、ＹＬ−９３３（商品名：三菱化学（株）製）、ＥＰＰＮ−５０１、ＥＰＰＮ−５０２（商品名：ダウ・ケミカル日本（株）製）等のトリスフェノールメタン型エポキシ樹脂が挙げられる。
【００８４】
これらの中でも、ｊＥＲ８２８、同８３４、同１００１、同１００４（商品名：三菱化学（株）製）、ＴＥＣＨＭＯＲＥ ＶＧ３１０１Ｌ（商品名：三井化学（株）製）、ＥＰＰＮ−５０１、ＥＰＰＮ−５０２（商品名：ダウ・ケミカル日本（株）製）を用いると、各種基板への密着性が高い硬化膜等が得られるため好ましい。
本発明のインクに用いられうるエポキシ樹脂は、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。
【００８５】
エポキシ樹脂の含有量が、本発明のインク総量（固形分換算）１００重量％に対し、０．５〜２０重量％であると、得られる硬化膜等の各種基板に対する密着性が向上するため好ましく、より好ましくは０．５〜１０重量％であり、さらに好ましくは０．５〜７重量％である。
【００８６】
＜１．７−４．マレイミド化合物＞
マレイミド化合物としては、特に制限されないが、例えば、下記式（６）で表される化合物が好ましい。下記式（６）で表されるマレイミド化合物は、例えばジアミンと酸無水物とを反応させて得ることができる。
【００８７】
【化４】
【００８８】
式（６）中、Ｒ10およびＲ12はそれぞれ独立に水素またはメチルであり、Ｒ11は下記式（７）で表される二価の基である。
【００８９】
【化５】
【００９０】
式（７）中、Ｒ13およびＲ14はそれぞれ独立に、連続しない（隣り合わない）任意のメチレンが酸素で置き換えられてもよい炭素数１〜１８のアルキレン、置換基を有してもよい芳香環を有する二価の基、または置換基を有してもよいシクロアルキレンである。前記置換基としては、例えば、カルボキシル、ヒドロキシ、炭素数１〜５のアルキル、および炭素数１〜５のアルコキシが挙げられる。耐熱性の高い硬化膜等が得られる点で、Ｒ13およびＲ14はそれぞれ独立に下記群（８）から選ばれる１種の二価の基であることが好ましい。
【００９１】
【化６】
【００９２】
式（７）中、Ｘは下記群（９）から選ばれる１種の二価の基である。
【００９３】
【化７】
【００９４】
本発明のインクに用いられうるマレイミド化合物は１種の化合物でも、２種以上の化合物の混合物でもよい。
【００９５】
＜１．７−５．フェノール性水酸基を含有する樹脂＞
フェノール性水酸基を含有する樹脂としては、フェノール性水酸基を有する芳香族化合物とアルデヒド類との縮合反応により得られるノボラック樹脂、ビニルフェノールの単独重合体（水素添加物を含む）、ビニルフェノールとこれと共重合可能な化合物とのビニルフェノール系共重合体（水素添加物を含む）などが好ましく用いられる。
【００９６】
フェノール性水酸基を有する芳香族化合物としては、フェノール、ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール、ｏ−エチルフェノール、ｍ−エチルフェノール、ｐ−エチルフェノール、ｏ−ブチルフェノール、ｍ−ブチルフェノール、ｐ−ブチルフェノール、２，３−キシレノール、２，４−キシレノール、２，５−キシレノール、２，６−キシレノール、３，４−キシレノール、３，５−キシレノール、２，３，５−トリメチルフェノール、３，４，５−トリメチルフェノール、ｐ−フェニルフェノール、レゾルシノール、ヒドロキノン、ヒドロキノンモノメチルエーテル、ピロガロール、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、テルペン骨格含有ジフェノール、没食子酸、没食子酸エステル、α−ナフトール、およびβ−ナフトールなどが挙げられる。
【００９７】
アルデヒド類としては、ホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド、フルフラール、ベンズアルデヒド、ニトロベンズアルデヒド、およびアセトアルデヒドなどが挙げられる。
【００９８】
ビニルフェノールと共重合可能な化合物としては、（メタ）アクリル酸またはその誘導体、スチレンまたはその誘導体、無水マレイン酸、酢酸ビニル、およびアクリロニトリルなどが挙げられる。
【００９９】
フェノール性水酸基を含有する樹脂の具体例としては、レヂトップＰＳＭ−６２００（商品名：群栄化学工業（株）製）、ショウノールＢＲＧ−５５５（商品名：昭和電工（株）製）、マルカリンカーＭＳ−２Ｐ、マルカリンカーＣＳＴ７０、マルカリンカーＰＨＭ−Ｃ（商品名：丸善石油化学（株）製）が挙げられる。
【０１００】
本発明のインクに用いられうるフェノール性水酸基を含有する樹脂は１種の化合物でも、２種以上の化合物の混合物でもよい。
【０１０１】
＜１．７−６．メラミン樹脂＞
メラミン樹脂は、メラミンとホルムアルデヒドとの重縮合により製造される樹脂であれば特に限定されず、メチロールメラミン、エーテル化メチロールメラミン、ベンゾグアナミン、メチロールベンゾグアナミンおよびエーテル化メチロールベンゾグアナミン等の縮合物などが挙げられる。これらの中でも、得られる硬化膜等の耐薬品性が良好である点で、エーテル化メチロールメラミンの縮合物が好ましい。
【０１０２】
メラミン樹脂の具体例としては、ニカラックＭＷ−３０、ＭＷ−３０ＨＭ、ＭＷ−３９０、ＭＷ−１００ＬＭ、ＭＸ−７５０ＬＭ（商品名：三和ケミカル（株）製）が挙げられる。
本発明のインクに用いられうるメラミン樹脂は１種の化合物でも、２種以上の化合物の混合物でもよい。
【０１０３】
＜１．７−７．エポキシ硬化剤＞
本発明のインクは、得られる硬化膜等の耐薬品性をより向上させるためにエポキシ硬化剤を含有してもよい。エポキシ硬化剤としては、酸無水物系硬化剤またはポリアミン系硬化剤などが好ましい。
【０１０４】
酸無水物系硬化剤としては、マレイン酸無水物、テトラヒドロフタル酸無水物、ヘキサヒドロフタル酸無水物、メチルヘキサヒドロフタル酸無水物、ヘキサヒドロトリメリット酸無水物、フタル酸無水物、トリメリット酸無水物、およびスチレン−無水マレイン酸共重合体などが挙げられる。
【０１０５】
ポリアミン系硬化剤としては、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ジシアンジアミド、ポリアミドアミン（ポリアミド樹脂）、ケチミン化合物、イソホロンジアミン、ｍ−キシレンジアミン、ｍ−フェニレンジアミン、１，３−ビス（アミノメチル）シクロヘキサン、Ｎ−アミノエチルピペラジン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノ−３，３’−ジエチルジフェニルメタン、およびジアミノジフェニルスルフォンなどが挙げられる。
本発明のインクに用いられうるエポキシ硬化剤は１種の化合物でも、２種以上の化合物の混合物でもよい。
【０１０６】
＜１．７−８．シランカップリング剤＞
本発明のインクは、得られる硬化膜等の基板への密着性を向上させるためにシランカップリング剤を含有してもよい。シランカップリング剤の具体例としては、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、および３−メルカプトプロピルトリメトキシシランを挙げることができる。これらの中でも３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、および３−グリシドキシプロピルトリメトキシシランは、反応基を有しており他成分と共重合することができるので好ましい。
本発明のインクに用いられうるシランカップリング剤は、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。
【０１０７】
＜１．８．インクの粘度＞
本発明のインクの、Ｅ型粘度計で測定した２５℃における粘度は２００ｍＰａ・ｓ以下であることが好ましく、粘度が１〜２００ｍＰａ・ｓであると、インクジェット装置によるジェッティング特性が良好なインクとなりより好ましい。インクの粘度は、さらに好ましくは２〜１００ｍＰａ・ｓであり、特に好ましくは３〜５０ｍＰａ・ｓである。
【０１０８】
２５℃における粘度が３０ｍＰａ・ｓを超えるインクを使用する場合には、インクジェットヘッドを加温して吐出時のインクの粘度を下げることで、より安定した吐出が可能となる。インクジェットヘッドを加温してジェッティングを行う場合は、加温温度（好ましくは２５〜１２０℃）におけるインクジェットインクの粘度は１〜３０ｍＰａ・ｓであることが好ましく、２〜２５ｍＰａ・ｓであることがさらに好ましく、３〜２０ｍＰａ・ｓであることが特に好ましい。
【０１０９】
＜１．９．インクの調製方法＞
本発明のインクは、原料となる各成分を公知の方法により混合することで調製することができる。
特に、本発明のインクは、前記（Ａ）および（Ｂ）成分ならびに必要に応じて前記（Ｃ）〜（Ｆ）成分および／またはその他の成分を混合し、得られた溶液を、例えばフッ素樹脂製のメンブレンフィルターを用いてろ過して脱気することにより調製されることが好ましい。このようにして調製されたインクは、ジェッティング性に優れる。
【０１１０】
＜１．１０．インクの保存＞
本発明のインクは、−２０〜２５℃で保存すると保存中の粘度変化（増加）が小さく、保存安定性が良好となる。
【０１１１】
［２．インクジェット法によるインクの塗布］
本発明のインクは、公知のインクジェット法を用いて塗布することができる。インクジェット法としては、例えば、インクに力学的エネルギーを作用させてインクをインクジェットヘッドから吐出（塗布）させる方法（いわゆるピエゾ方式）、およびインクに熱エネルギーを作用させてインクを塗布する塗布方法（いわゆるサーマル方式）が挙げられる。
【０１１２】
インクジェット法を用いることにより、本発明のインクを予め定められたパターン状に容易に塗布することができ、均一なパターンを大きな基板上に形成することができる。
【０１１３】
インクジェットヘッドとしては、例えば、金属および／または金属酸化物からなる発熱部を有するものが挙げられる。金属および／または金属酸化物の具体例としては、Ｔａ、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｎｉ、Ａｌ等の金属、およびこれらの金属の酸化物が挙げられる。
【０１１４】
本発明のインクを用いて塗布を行う際に用いる好ましい塗布装置としては、例えば、インクが収容されるインク収容部を有するインクジェットヘッド内のインクに、塗布信号に対応したエネルギーを与え、前記エネルギーによりインク液滴を発生させながら、前記塗布信号に対応した塗布（描画）を行う装置が挙げられる。
【０１１５】
前記インクジェット塗布装置は、インクジェットヘッドとインク収容部とが分離されているものに限らず、それらが分離不能に一体になったものを用いてもよい。また、インク収容部はインクジェットヘッドに対し分離可能または分離不能に一体化されて、キャリッジに搭載されるものでもよく、装置の固定部位に設けられてもよい。後者の場合、インク供給部材、例えばチューブを介してインクジェットヘッドにインクを供給する形態のものでもよい。
【０１１６】
また、塗布（ジェッティング）温度は１０〜１２０℃が好ましく、このジェッティング温度における本発明のインクの粘度は、１〜３０ｍＰａ・ｓであることが好ましい。
【０１１７】
［３．インクの用途］
本発明のインクは、光硬化性が良好であり、高い光透過性、高い耐熱性および高い強度を示し、基板に対する密着性に優れる硬化膜等を形成することができるので、バックライト装置等に使用されるマイクロレンズアレイや、タッチパネル等に使用される透明絶縁膜等の製造に好適に用いられる。
【０１１８】
［４．硬化膜等］
本発明の硬化膜およびマイクロレンズは、上述した本発明のインクを硬化させることで得られ、上述した本発明のインクをインクジェット法により基板表面に塗布した後に、該インクに紫外線や可視光線等の光を照射して塗膜やドットを硬化させることで得られる膜やレンズが好ましい。
本発明の硬化膜およびマイクロレンズは、本発明のインクを硬化させることで得られるため、高い光透過性であり、高温下等の過酷な環境下におかれても光透過性の変化が少ない高い信頼性の硬化膜およびマイクロレンズである。
【０１１９】
本発明の硬化膜（膜厚２．０〜３．０μｍ）は、７０℃で１００時間熱処理した後の波長４００ｎｍにおける光透過率が９８％以上、好ましくは９８．５％以上である。このような硬化膜は、前記化合物（Ａ）および光重合開始剤（Ｂ）を含むインクをインクジェット法により基板表面に塗布し塗膜を形成した後に、該塗膜に紫外線や可視光線等の光を照射して塗膜を硬化させることで得ることができ、特に、前記化合物（Ａ）およびインクの総量（固形分換算）１００重量％に対し１〜２０重量％の光重合開始剤（Ｂ）を含むインクをインクジェット法により基板表面に塗布し塗膜を形成した後に、該塗膜に紫外線や可視光線等の光を照射して塗膜を硬化させることで得ることができる。
【０１２０】
紫外線や可視光線等を照射する場合、照射する露光量は、本発明のインクの組成に応じて適宜調節すればよいが、積算光量計（ＣＵＳＴＯＭ ＵＶメーター ＵＶＣ−２５４）で測定した値で、１００〜３，０００ｍＪ／ｃｍ2程度が好ましく、２００〜２，０００ｍＪ／ｃｍ2程度がより好ましく、３００〜１，０００ｍＪ／ｃｍ2程度がさらに好ましい。また、照射する紫外線や可視光線等の波長は、２００〜５００ｎｍが好ましく、２００〜４００ｎｍがより好ましく、２００〜３００ｎｍがさらに好ましい。
なお、以下実施例に記載の紫外線（ＵＶ）露光量は積算光量計（ＣＵＳＴＯＭ ＵＶメーター ＵＶＣ−２５４）で測定した値である。
【０１２１】
光を照射するには露光機を用いればよく、露光機としては、高圧水銀灯ランプ、低圧水銀灯ランプ、無電極ランプ、メタルハライドランプまたはハロゲンランプ等を搭載し、２００〜５００ｎｍの範囲で、紫外線や可視光線等を照射する装置であれば特に限定されないが、２００〜３００ｎｍの範囲で、強い紫外線を照射することが可能な低圧水銀灯ランプ、無電極ランプまたはメタルハライドランプを搭載する露光機がより好ましい。
【０１２２】
また、必要に応じて、光の照射により硬化した本発明の硬化膜等をさらに加熱・焼成してもよく、例えば、８０〜２５０℃で１０〜６０分間加熱・焼成することによって、より強固な硬化膜等を得ることができる。
【０１２３】
本発明のインクが塗布される「基板」は、本発明のインクが塗布される対象となり得るものであれば特に限定されず、その形状は平板状に限られず、曲面状等であってもよい。
【０１２４】
前記基板としては、特に限定されないが、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）およびポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）などからなるポリエステル系樹脂基板；ポリエチレンおよびポリプロピレンなどからなるポリオレフィン樹脂基板；ポリ塩化ビニル、フッ素樹脂、アクリル系樹脂、ポリアミド、ポリカーボネートおよびポリイミドなどからなる有機高分子フィルム；セロハンからなる基板；金属箔；ポリイミドと金属箔との積層フィルム；目止め効果があるグラシン紙、パーチメント紙、ポリエチレン、クレーバインダー、ポリビニルアルコール、でんぷんまたはカルボキシメチルセルロース（ＣＭＣ）などで目止め処理した紙；およびガラス基板を挙げることができる。
これらの中でも、アクリル系樹脂基板を用いることが好ましい。
【０１２５】
前記基板としては、本発明の効果に悪影響を及ぼさない範囲において、酸化防止剤、劣化防止剤、充填剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤および／または電磁波防止剤などの添加剤を含有した基板を用いてもよい。また、前記基板としては、基板の表面の少なくとも一部に、必要により撥液処理、コロナ処理、プラズマ処理またはブラスト処理など表面処理を施した基板であってもよく、表面に易接着層やカラーフィルター用保護膜、ハードコート膜を設けた基板であってもよい。
本発明のインクをマイクロレンズ形成用として用いる際には、撥液処理したアクリル系樹脂基板等の基板を用いることが好ましい。
【０１２６】
前記基板の厚さは特に限定されないが、通常、１０μｍ〜４ｍｍ程度であり、使用する目的により適宜調整されるが、５０μｍ〜２ｍｍが好ましく、１００μｍ〜１ｍｍがさらに好ましい。
【０１２７】
本発明の硬化膜等の用途は特に限定されないが、本発明の硬化膜等は基板に対する密着性に優れ、高い光透過性を示すため、特に、バックライト装置等に使用されるマイクロレンズアレイやタッチパネル等に使用される透明絶縁膜等の製造に用いることが好ましい。
【０１２８】
なお、本発明のインクからマイクロレンズを形成する際には、該マイクロレンズのレンズ（ドット）径は特に限定されないが、通常１０〜１００μｍが好ましく、２０〜６０μｍがさらに好ましく、３０〜５０μｍが特に好ましい。
レンズ（ドット）高さについても特に限定されないが、通常０．５〜２０μｍが好ましく、２〜１５μｍがさらに好ましく、４〜１０μｍが特に好ましい。
また、レンズ径に対するレンズ高さの比は特に限定されないが、光の取り出し効率に優れる光学部品等を製造できる点から、好ましくは０．１８以上、より好ましくは０．２以上である。
【０１２９】
また、本発明のインクから絶縁膜を形成する際には、該絶縁膜の膜厚は特に限定されないが、好ましくは０．１〜３０μｍであり、より好ましくは０．２〜２０μｍであり、さらに好ましくは０．３〜１０μｍである。
【０１３０】
本発明の硬化膜は、膜厚（２．０〜３．０μｍ）における光透過率が好ましくは９８％以上、より好ましくは９８．５％以上である。また、７０℃で１００時間熱処理した後の光透過率は９８％以上であり、好ましくは９８．５％以上である。本発明の硬化膜等は、マイクロレンズアレイや透明絶縁膜に用いられる。このため、バックライト等からの光を有効に利用し、高い信頼性の光学部品を得るためには、本発明の硬化膜の膜厚（２．０〜３．０μｍ）における光透過率が９８％以上であることが必要である。
【０１３１】
［５．光学部品］
本発明の光学部品は、前記マイクロレンズを有する。このため、高い光透過性であり、信頼性の高い光学部品である。
【０１３２】
［６．液晶ディスプレイ］
本発明の液晶ディスプレイは、前記光学部品を有する。このため、表示特性に優れ、信頼性の高い液晶ディスプレイである。
【実施例】
【０１３３】
以下、実施例により本発明をさらに説明するが、本発明はこれらによって限定されるものではない。
【０１３４】
＜インクジェットインクの調製および硬化膜付基板の作製＞
まず、インクジェットインクの調製および該インクを用いて形成した硬化膜付基板について説明する。
【０１３５】
［実施例１］
化合物（Ａ）として、テトラヒドロフルフリルアクリレートであるライトアクリレートＴＨＦ−Ａ（商品名：共栄社化学（株）製、以後「ＴＨＦ−Ａ」と略す。）と、光重合開始剤（Ｂ）として、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトンであるＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４（商品名：ＢＡＳＦ製、以後「Ｉｒ１８４」と略す。光重合開始剤濃度０．００１重量％のアセトニトリル溶液のＵＶ吸収スペクトル測定による、３００ｎｍ以上の波長領域における吸光度が０．１以下である。）と、化合物（Ｃ）として、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートであるアロニックスＭ−３０５（商品名：東亞合成（株）製、以後「Ｍ３０５」と略す。）とを下記組成割合にて混合し、溶液を得た後、孔径１μｍのポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）製のメンブレンフィルターでろ過し、ろ液（インクジェットインク１）を得た。
（Ａ） ＴＨＦ−Ａ：５０．００ｇ
（Ｂ） Ｉｒ１８４： ７．００ｇ
（Ｃ） Ｍ３０５： ５０．００ｇ
【０１３６】
Ｅ型粘度計（東機産業（株）製 ＴＶ−２２（商品名）、以下同じ）を用い、２５℃におけるインクジェットインク１の粘度を測定した結果、１８．２ｍＰａ・ｓであった。
【０１３７】
（硬化膜の形成）
ＵＶオゾンクリーナー（セン特殊光源（株）製）によるＵＶアッシングを行って表面の親液性を高めた４ｃｍ角のガラス基板（厚さ：０．７ｍｍ）を用意した。インクジェットインク１をインクジェットカートリッジに注入し、これをインクジェット装置（ＦＵＪＩＦＩＬＭ Ｄｉｍａｔｉｘ Ｉｎｃ．製のＤＭＰ−２８３１（商品名））に装着し、１０ｐｌ（ピコリットル）用のインクジェットヘッドを用いて、吐出電圧（ピエゾ電圧）２０Ｖ、ヘッド温度３４℃、駆動周波数５ｋＨｚ、塗布回数１回の吐出条件で、印刷解像度を５１２ｄｐｉに設定して一片が３ｃｍの正方形パターンを塗布した。このガラス基板に、波長２５４ｎｍでの露光照度が１５ｍＷ／ｃｍである低圧水銀灯を用いて、波長２５４ｎｍでのＵＶ露光量が３００ｍＪ／ｃｍ2または５００ｍＪ／ｃｍ2になるように調整して光を照射することで、正方形パターンの硬化膜付基板１ａ（ＵＶ露光量；３００ｍＪ／ｃｍ2）および基板１ｂ（ＵＶ露光量；５００ｍＪ／ｃｍ2）を得た。
【０１３８】
次に、得られた１ｂ基板の硬化膜の一部をカッターで削り、段差部分の膜厚をＫＬＡ−Ｔｅｎｃｏｒ Ｊａｐａｎ（株）製触針式膜厚計Ｐ−１５（商品名）を使用して測定したところ、３箇所の測定の平均値は２．５μｍであった。
【０１３９】
［実施例２］
光重合開始剤（Ｂ）として、Ｉｒ１８４の代わりに、フェニルグリオキシリックアシッドメチルエステル（ＤＡＲＯＣＵＲ ＭＢＦ（商品名；ＢＡＳＦ製、以後「ＭＢＦ」と略す。光重合開始剤濃度０．００１重量％のアセトニトリル溶液のＵＶ吸収スペクトル測定による、３００ｎｍ以上の波長領域における吸光度が０．１以下である。）を用い、下記組成割合とした以外は、実施例１と同様にして、インクジェットインク２を調製した。
（Ａ） ＴＨＦ−Ａ：５０．００ｇ
（Ｂ） ＭＢＦ： ７．００ｇ
（Ｃ） Ｍ３０５： ５０．００ｇ
【０１４０】
Ｅ型粘度計を用い、２５℃におけるインクジェットインク２の粘度を測定した結果、１５．８ｍＰａ・ｓであった。
【０１４１】
インクジェットインク２を用い、ヘッド温度を３２℃にした以外は実施例１と同様の方法で一片が３ｃｍの正方形パターンの硬化膜付基板２ａおよび２ｂを得た。
次に、基板２ｂを用い、実施例１と同様の方法で膜厚測定を行った結果、膜厚は２．３μｍであった。
【０１４２】
［実施例３］
光重合開始剤（Ｂ）として、Ｉｒ１８４の代わりに、オキシ−フェニル−アセチックアシッド２−[２−オキソ−２−フェニル−アセトキシ−エトキシ]−エチルエステルとオキシ−フェニル−アセチックアシッド２−[２−ヒドロキシ−エトキシ]−エチルエステルとの混合物であるＩＲＧＡＣＵＲＥ７５４（商品名：ＢＡＳＦ製、以後「Ｉｒ７５４」と略す。光重合開始剤濃度０．００１重量％のアセトニトリル溶液のＵＶ吸収スペクトル測定による、３００ｎｍ以上の波長領域における吸光度が０．１以下である。）を用い、下記組成割合とした以外は、実施例１と同様にして、インクジェットインク３を調製した。
（Ａ） ＴＨＦ−Ａ：５０．００ｇ
（Ｂ） Ｉｒ７５４： ７．００ｇ
（Ｃ） Ｍ３０５： ５０．００ｇ
【０１４３】
Ｅ型粘度計を用い、２５℃におけるインクジェットインク３の粘度を測定した結果、１７．２ｍＰａ・ｓであった。
【０１４４】
インクジェットインク３を用い、ヘッド温度を３３℃にした以外は実施例１と同様の方法で一片が３ｃｍの正方形パターンの硬化膜付基板３ａおよび３ｂを得た。
次に、基板３ｂを用い、実施例１と同様の方法で膜厚測定を行った結果、膜厚は２．４μｍであった。
【０１４５】
［実施例４］
化合物（Ａ）として、ＴＨＦ−Ａの代わりに、シクロヘキシルアクリレートであるＶ＃１５５（商品名：大阪有機化学工業（株）製）を用い、下記組成割合とした以外は、実施例３と同様にして、インクジェットインク４を調製した。
（Ａ） Ｖ＃１５５：５０．００ｇ
（Ｂ） Ｉｒ７５４： ７．００ｇ
（Ｃ） Ｍ３０５： ５０．００ｇ
【０１４６】
Ｅ型粘度計を用い、２５℃におけるインクジェットインク４の粘度を測定した結果、１７．０ｍＰａ・ｓであった。
【０１４７】
インクジェットインク４を用い、ヘッド温度を３３℃にした以外は実施例１と同様の方法で一片が３ｃｍの正方形パターンの硬化膜付基板４ａおよび４ｂを得た。
次に、基板４ｂを用い、実施例１と同様の方法で膜厚測定を行った結果、膜厚は２．４μｍであった。
【０１４８】
［実施例５］
化合物（Ａ）として、ＴＨＦ−Ａの代わりに、ジシクロペンタニルアクリレートであるＦＡ−５１３ＡＳ（商品名：日立化成工業（株）製）を用い、下記組成割合とした以外は、実施例３と同様にして、インクジェットインク５を調製した。
（Ａ） ＦＡ−５１３ＡＳ：５８．３０ｇ
（Ｂ） Ｉｒ７５４： ７．００ｇ
（Ｃ） Ｍ３０５： ４１．７０ｇ
【０１４９】
Ｅ型粘度計を用い、２５℃におけるインクジェットインク５の粘度を測定した結果、１８．５ｍＰａ・ｓであった。
【０１５０】
インクジェットインク５を用い、実施例１と同様の方法で一片が３ｃｍの正方形パターンの硬化膜付基板５ａおよび５ｂを得た。
次に、基板５ｂを用い、実施例１と同様の方法で膜厚測定を行った結果、膜厚は２．５μｍであった。
【０１５１】
［実施例６］
化合物（Ａ）として、ＴＨＦ−Ａの代わりに、ε-カプロラクトン変性トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレートであるアロニックスＭ−３２７（商品名：東亞合成（株）製、以後「Ｍ−３２７」と略す。）を用い、化合物（Ｃ）として、Ｍ３０５の代わりに、４−ヒドロキシブチルアクリレートである４ＨＢＡ（商品名：日本化成（株）製）を用い、下記組成割合とした以外は、実施例２と同様にして、インクジェットインク６を調製した。
（Ａ） Ｍ−３２７：３３．３０ｇ
（Ｂ） ＭＢＦ： ７．００ｇ
（Ｃ） ４ＨＢＡ： ６６．７０ｇ
【０１５２】
Ｅ型粘度計を用い、２５℃におけるインクジェットインク６の粘度を測定した結果、３２．０ｍＰａ・ｓであった。
【０１５３】
インクジェットインク６を用い、ヘッド温度を５０℃にした以外は実施例１と同様の方法で一片が３ｃｍの正方形パターンの硬化膜付基板６ａおよび６ｂを得た。
次に、基板６ｂを用い、実施例１と同様の方法で膜厚測定を行った結果、膜厚は２．８μｍであった。
【０１５４】
［実施例７］
化合物（Ａ）としてＭ−３２７（３３．３０ｇ）およびＦＡ−５１３ＡＳ（３３．３０ｇ）を用い、下記組成割合とした以外は、実施例６と同様にして、インクジェットインク７を調製した。
（Ａ） Ｍ−３２７： ３３．３０ｇ
（Ａ） ＦＡ−５１３ＡＳ：３３．３０ｇ
（Ｂ） ＭＢＦ： ７．００ｇ
（Ｃ） ４ＨＢＡ： ３３．４０ｇ
【０１５５】
Ｅ型粘度計を用い、２５℃におけるインクジェットインク７の粘度を測定した結果、３５．２ｍＰａ・ｓであった。
【０１５６】
インクジェットインク７を用い、ヘッド温度を５２℃にした以外は実施例１と同様の方法で一片が３ｃｍの正方形パターンの硬化膜付基板７ａおよび７ｂを得た。
次に、基板７ｂを用い、実施例１と同様の方法で膜厚測定を行った結果、膜厚は２．８μｍであった。
【０１５７】
［実施例８］
化合物（Ｃ）として、Ｍ３０５の代わりに、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートであるＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＣＡ−２０（商品名：日本化薬（株）製）を用い、下記組成割合とした以外は、実施例３と同様にして、インクジェットインク８を調製した。
（Ａ） ＴＨＦ−Ａ： ６０．００ｇ
（Ｂ） Ｉｒ７５４： ７．００ｇ
（Ｃ） ＤＰＣＡ−２０：４０．００ｇ
【０１５８】
Ｅ型粘度計を用い、２５℃におけるインクジェットインク８の粘度を測定した結果、１５．８ｍＰａ・ｓであった。
【０１５９】
インクジェットインク８を用い、ヘッド温度を３２℃にした以外は実施例１と同様の方法で一片が３ｃｍの正方形パターンの硬化膜付基板８ａおよび８ｂを得た。
次に、基板８ｂを用い、実施例１と同様の方法で膜厚測定を行った結果、膜厚は２．４μｍであった。
【０１６０】
［比較例１］
光重合開始剤（Ｂ）であるＩｒ１８４の代わりに、光重合開始剤として、２−メチル−１−[４−（メチルチオ）フェニル]−２−モルフォリノプロパン−１−オンであるＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７（商品名：ＢＡＳＦ製、以後「Ｉｒ９０７」と略す。光重合開始剤濃度０．００１重量％のアセトニトリル溶液のＵＶ吸収スペクトル測定による、３００ｎｍ以上の波長領域における吸光度が０．１を超える。）を用い、下記組成割合とした以外は、実施例１と同様にして、インクジェットインク９を調製した。
（Ａ） ＴＨＦ−Ａ：５０．００ｇ
（Ｂ） Ｉｒ９０７： ７．００ｇ
（Ｃ） Ｍ３０５： ５０．００ｇ
【０１６１】
Ｅ型粘度計を用い、２５℃におけるインクジェットインク９の粘度を測定した結果、１８．１ｍＰａ・ｓであった。
【０１６２】
インクジェットインク９を用い、ヘッド温度を３４℃にした以外は実施例１と同様の方法で一片が３ｃｍの正方形パターンの硬化膜付基板９ａおよび９ｂを得た。
次に、基板９ｂを用い、実施例１と同様の方法で膜厚測定を行った結果、膜厚は２．５μｍであった。
【０１６３】
［比較例２］
化合物（Ａ）であるＴＨＦ−Ａの代わりに、化合物（Ｃ）であるフェノキシアクリレート（Ｖ＃１９２（商品名）、大阪有機化学工業（株）製、以後「Ｖ＃１９２」と略す。）を用い、下記組成割合とした以外は、実施例３と同様にして、インクジェットインク１０を調製した。
（Ｂ） Ｉｒ７５４： ７．００ｇ
（Ｃ） Ｍ３０５： ５０．００ｇ
（Ｃ） Ｖ＃１９２：５０．００ｇ
【０１６４】
Ｅ型粘度計を用い、２５℃におけるインクジェットインク１０の粘度を測定した結果、２２．２ｍＰａ・ｓであった。
【０１６５】
インクジェットインク１０を用い、ヘッド温度を４０℃にした以外は実施例１と同様の方法で一片が３ｃｍの正方形パターンの硬化膜付基板１０ａおよび１０ｂを得た。
次に、基板１０ｂを用い、実施例１と同様の方法で膜厚測定を行った結果、膜厚は２．６μｍであった。
【０１６６】
［比較例３］
化合物（Ａ）であるＴＨＦ−Ａの代わりに、化合物（Ｃ）である４ＨＢＡを用い、下記組成割合とした以外は、実施例３と同様にして、インクジェットインク１１を調製した。
（Ｂ） Ｉｒ７５４： ７．００ｇ
（Ｃ） Ｍ３０５： ５０．００ｇ
（Ｃ） ４ＨＢＡ： ５０．００ｇ
【０１６７】
Ｅ型粘度計を用い、２５℃におけるインクジェットインク１１の粘度を測定した結果、２１．６ｍＰａ・ｓであった。
【０１６８】
インクジェットインク１１を用い、ヘッド温度を３９℃にした以外は実施例１と同様の方法で一片が３ｃｍの正方形パターンの硬化膜付基板１１ａおよび１１ｂを得た。
次に、基板１１ｂを用い、実施例１と同様の方法で膜厚測定を行った結果、膜厚は２．２μｍであった。
【０１６９】
［比較例４］
化合物（Ａ）であるＭ−３２７の代わりに、化合物（Ｃ）であるビスフェノールＦ型ＥＯ変性ジアクリレート（Ｍ２０８（商品名）、東亞合成（株）製、以後「Ｍ−２０８」と略す。）を用い、下記組成割合とした以外は、実施例６と同様にして、インクジェットインク１２を調製した。
（Ｂ） ＭＢＦ： ７．００ｇ
（Ｃ） Ｍ−２０８：５０．００ｇ
（Ｃ） ４ＨＢＡ： ５０．００ｇ
【０１７０】
Ｅ型粘度計を用い、２５℃におけるインクジェットインク１２の粘度を測定した結果、２５．４ｍＰａ・ｓであった。
【０１７１】
インクジェットインク１２用い、ヘッド温度を４５℃にした以外は実施例１と同様の方法で一片が３ｃｍの正方形パターンの硬化膜付基板１２ａおよび１２ｂを得た。
次に、基板１１ｂを用い、実施例１と同様の方法で膜厚測定を行った結果、膜厚は２．６μｍであった。
【０１７２】
＜インクジェットインクおよび硬化膜の評価＞
続いて、上記で得られたインクジェットインクの光硬化性、硬化膜の透過率、耐熱試験後の透過率および強度を評価した。
また、表面撥液性基板（基板１３）上にインクジェットインク（１〜１２）を１５０μｍ間隔に１滴ずつ吐出し、ＵＶ硬化することで形成されたマイクロレンズの形状、ドット径および基板との密着性を観察した。
なお、各試験方法は以下のとおりで、評価結果を表１〜４に示す。
【０１７３】
（光硬化性試験）
各実施例および比較例で得られた３ｃｍ角の正方形パターンの硬化膜付基板（１ａ〜１２ａおよび１ｂ〜１２ｂ）の表面を指触し、硬化膜の表面状態を顕微鏡観察した。評価基準は以下のとおりである。
◎：基板ａおよびｂのどちらにおいても硬化膜表面に指触跡が全く残らない。
○：基板ｂにおいては硬化膜表面に指触跡が全く残らないが、基板ａでは硬化膜表面に指触跡が僅かに残る。
△：基板ａおよびｂどちらにおいても硬化膜表面に指触跡が僅かに残る。
×：基板ａおよびｂどちらにおいても硬化膜表面に指触跡が完全に残る。
【０１７４】
（硬化膜の透過率測定）
透過率測定装置Ｖ−６７０（商品名：日本分光（株）製）を用いて各実施例および比較例で得られた３ｃｍ角の正方形パターンの硬化膜付基板（１ｂ〜１２ｂ）を用い、波長４００ｎｍでの透過率を測定した。なお、リファレンスとして、硬化膜を形成していない４ｃｍ角のガラス基板（厚さ：０．７ｍｍ）を用いた。
【０１７５】
（耐熱試験後の透過率）
各実施例および比較例で得られた３ｃｍ角の正方形パターンの硬化膜付基板（１ｂ〜１２ｂ）を用い、７０℃で１００時間静置させた後の波長４００ｎｍでの透過率を透過率測定装置Ｖ−６７０を用いて測定した。なお、リファレンスとして、７０℃で１００時間静置させた後の硬化膜を形成していない４ｃｍ角のガラス基板（厚さ：０．７ｍｍ）を用いた。
【０１７６】
（強度測定）
各実施例および比較例で得られた３ｃｍ角の正方形パターンの硬化膜付基板（１ｂ〜１２ｂ）を用い、ＪＩＳ Ｋ ５４００に準じて、鉛筆硬度を測定することで、強度を調べた。
【０１７７】
（マイクロレンズ形状の観察）
インクジェットインク１をインクジェットカートリッジに注入し、これをインクジェット装置（ＦＵＪＩＦＩＬＭ Ｄｉｍａｔｉｘ Ｉｎｃ．製のＤＭＰ−２８３１（商品名））に装着し、１０ｐｌ用のインクジェットヘッドを用いて、吐出電圧（ピエゾ電圧）２０Ｖ、ヘッド温度３４℃、駆動周波数５ｋＨｚ、塗布回数１回の吐出条件で、印刷解像度を１７０ｄｐｉに設定して、１５０μｍ間隔に１滴ずつ表面撥液性基板（基板１３）上に吐出し、この基板に波長２５４ｎｍでの露光照度が１５ｍＷ／ｃｍである低圧水銀灯を用いて波長２５４ｎｍでのＵＶ露光量が５００ｍＪ／ｃｍ2になるように調整して光を照射することでドットパターン付基板１ｃを得た。同様に、インクジェットインク２〜１２を用いて、それぞれドットパターン付基板２ｃ〜１２ｃを得た。その後、基板（１ｃ〜１２ｃ）上に形成されたマイクロレンズの形状を光学顕微鏡で観察した結果、きれいな円形で大きさが揃っている場合を○、形がいびつになっていたり、大きさにばらつきがある場合を×とした。また、マイクロレンズのドット径（Ｄ）、高さ（Ｈ）、ドット形状（Ｈ／Ｄ）も測定した。なお、ドット径測定については、ＯＬＹＭＰＵＳ（株）製光学式顕微鏡ＢＸ５１（商品名）を用い、高さ測定については、ＫＬＡ−Ｔｅｎｃｏｒ Ｊａｐａｎ（株）製触針式膜厚計Ｐ−１５（商品名）を使用して測定した。得られたドット高さをドット径で割った値をドット形状（Ｈ／Ｄ）とした。
【０１７８】
表面撥液性基板（基板１３）の製造方法を以下に示す。
表面処理剤１をインクジェットカートリッジに注入し、これをインクジェット装置（ＦＵＪＩＦＩＬＭ Ｄｉｍａｔｉｘ Ｉｎｃ．製のＤＭＰ−２８３１（商品名））に装着し、１０ｐｌ用のインクジェットヘッドを用いて、吐出電圧（ピエゾ電圧）１６Ｖ、ヘッド温度３０℃、駆動周波数５ｋＨｚ、塗布回数１回の吐出条件で、アクリル基板（厚さ：２．０ｍｍ）上に、印刷解像度を５１２ｄｐｉに設定して一片が３ｃｍの正方形パターンを塗布した。この塗布基板に、波長２５４ｎｍでの露光照度が１５ｍＷ／ｃｍである低圧水銀灯を用いて波長２５４ｎｍでのＵＶ露光量が５００ｍＪ／ｃｍ2になるように調整して照射することで、表面撥液性基板（基板１３、撥液性硬化膜付基板）を得た。
【０１７９】
なお、表面の撥液性硬化膜の一部をカッターで削り、段差部分の膜厚をＫＬＡ−Ｔｅｎｃｏｒ Ｊａｐａｎ（株）製触針式膜厚計Ｐ−１５（商品名）を使用して測定したところ、３箇所の測定の平均値は０．９６μｍであった。
【０１８０】
続いて、表面処理剤１の調製方法を以下に示す。
プロピレングリコールモノメチルエーテル（東京化成（株）製、以後「ＰＧＭＥ」と略す。）、Ｍ４０２（商品名：東亞合成（株）製、以後「Ｍ４０２」と略す。）、下記式（１０）で表されるウレタンアクリレートを含む成分であるＵ６ＬＰＡ（商品名：新中村化学工業（株）製、以後「Ｕ６ＬＰＡ」と略す。）、ＢＹＫ ＵＶ ３５００（商品名：ビックケミー・ジャパン（株）製、以後「ＢＹＫ３５００」と略す。）、およびＩｒ７５４を下記組成にて混合した後、超高分子量ポリエチレン（ＵＰＥ）製のメンブレンフィルター（孔径０．２μｍ）でろ過し、ろ液（表面処理剤１）を得た。
【０１８１】
【化８】
【０１８２】
ＰＧＭＥ： ７．０００ｇ
Ｍ４０２： ２．５６０ｇ
Ｕ６ＬＰＡ： ２．５６０ｇ
ＢＹＫ３５００：０．３３０ｇ
Ｉｒ７５４： ０．７７０ｇ
【０１８３】
Ｅ型粘度計（東機産業（株）製 ＴＶ−２２（商品名）、以下同じ）を用い、２５℃における表面処理剤１の粘度を測定した結果、５．１ｍＰａ・ｓであった。
【０１８４】
（表面処理基板に対するマイクロレンズの密着性試験）
得られたドットパターン付基板（１ｃ〜１２ｃ）に粘着テープ（住友スリーエム（株）製「Ｎｏ．６００」テープ（商品名））を貼り付け、その後、剥離した際に基板上に残ったドットパターンの状態を観察することで、マイクロレンズの表面撥液性基板への密着性を評価した。なお、評価基準は以下の通りである。
○：ドットパターンは全く変化なかった
×：一部もしくは、全てのドットが剥がれた
【０１８５】
【表１】
【０１８６】
【表２】
【０１８７】
【表３】
【０１８８】
【表４】
【０１８９】
表１に示す結果から明らかなように、実施例１の基板１ａは硬化膜表面に指触跡が僅かに残るものの、実施例１の基板１ｂおよび実施例２〜８については全ての基板において、硬化膜表面に指触跡が全く残らず、本発明のインクの光硬化性は良好であった。
【０１９０】
波長４００ｎｍでの透過率を測定したところ、インクジェットインク１〜８から得られる硬化膜は９８％以上と高い透過率を示し、光透過性は良好であったが、インクジェットインク９から得られる硬化膜の透過率は９８％以下と低い値を示した。
さらに、７０℃で１００時間静置させた後の波長４００ｎｍでの透過率を測定したところ、インクジェットインク１〜８から得られる硬化膜は９８％以上と高い透過率を示し、光透過性は良好であったが、インクジェットインク９〜１２から得られる硬化膜の透過率は９８％以下と低い値を示した。
【０１９１】
基板１ｃ〜８ｃ上のマイクロレンズ形状を確認したところ、どの基板もきれいな円形で大きさが揃っていた。また、ドット径を測定したところ、本発明のインクから得られる、マイクロレンズのドット径は３２μｍ〜３４μｍと小さく、Ｈ／Ｄは、０．２以上であった。このため、本発明のインクは、光の取り出し効率に優れる導光板などの光学部品の製造に好適に用いられる。
【０１９２】
また、表面撥液性基板に対するマイクロレンズの密着性を確認したところ、本発明のインクから得られるマイクロレンズは該基板から剥離せず、良好な密着性を示した。
【産業上の利用可能性】
【０１９３】
本発明のインクは、光硬化性が良好で、得られる硬化膜およびマイクロレンズは高い光透過性、高い耐熱性、高い強度を示す。このため、本発明のインクはバックライト装置等に使用されるマイクロレンズアレイやタッチパネル等に使用される透明絶縁膜等の製造に好適に用いられる。
また、表面撥液性基板上においては、密着性が良好なマイクロレンズを形成することができることから、特に液晶ディスプレイや表示パネルの導光板などを製造するために好適に用いることができる。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（１）で表される（メタ）アクリル酸エステル（Ａ）および光重合開始剤（Ｂ）を含有する光硬化性インクジェットインクであって、
前記光重合開始剤（Ｂ）が、光重合開始剤濃度０．００１重量％のアセトニトリル溶液のＵＶ吸収スペクトル測定による、３００ｎｍ以上の波長領域における吸光度が０．１以下である光重合開始剤であり、
該インクより得られた硬化膜（膜厚２．０〜３．０μｍ）を７０℃で１００時間熱処理した後の膜の波長４００ｎｍにおける光透過率が９８％以上である、光硬化性インクジェットインク。
【化１】
（式（１）中、ｎ個のＲ1はそれぞれ独立に水素または炭素数１〜６のアルキルであり、Ｒ2は脂環構造またはヘテロ環構造を有する（但し、下記式（２−１）または式（２−２）で表される構造を含まない）有機基であり、ｎは１〜１０の整数である。）
【化２】
【請求項２】
前記光重合開始剤（Ｂ）が、光硬化性インクジェットインクの総量（固形分換算）１００重量％に対し、１〜２０重量％の量で含まれる、請求項１に記載の光硬化性インクジェットインク。
【請求項３】
前記光重合開始剤（Ｂ）が、オキシフェニル酢酸エステル系開始剤、フェニルグリオキシレート系開始剤およびヒドロキシフェニルケトン系開始剤からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物である、請求項１または２に記載の光硬化性インクジェットインク。
【請求項４】
前記光重合開始剤（Ｂ）が、オキシフェニル酢酸エステル系開始剤およびフェニルグリオキシレート系開始剤からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の光硬化性インクジェットインク。
【請求項５】
前記光重合開始剤（Ｂ）が、オキシ−フェニル−アセチックアシッド２−[２−オキソ−２−フェニル−アセトキシ−エトキシ]−エチルエステル、オキシ−フェニル−アセチックアシッド２−[２−ヒドロキシ−エトキシ]−エチルエステル、およびフェニルグリオキシリックアシッドメチルエステルからなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の光硬化性インクジェットインク。
【請求項６】
前記式（１）において、Ｒ2がシクロヘキサン、シクロペンタン、ビシクロ[２.２.１]ヘプタン、トリシクロデカン、テトラヒドロフラン、５員以上のラクトン、ジシクロペンタン、ジシクロペンテン、アダマンタン、ピペリジン、イミド環、環状ホルマールおよび１，３，５−トリアジン−２，４，６−トリオンからなる群より選ばれる少なくとも１種を有する有機基である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の光硬化性インクジェットインク。
【請求項７】
前記（メタ）アクリル酸エステル（Ａ）が、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、シクロヘキシルジメタノールジ（メタ）アクリレート、γ−ブチロラクトン（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキサイド変性ジ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキサイド変性トリ（メタ）アクリレート、およびε−カプロラクトン変性トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレートからなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物である、請求項１〜６のいずれか１項に記載の光硬化性インクジェットインク。
【請求項８】
さらに、前記（メタ）アクリル酸エステル（Ａ）以外のラジカル重合性二重結合を有する化合物（Ｃ）を含む、請求項１〜７のいずれか１項に記載の光硬化性インクジェットインク。
【請求項９】
前記化合物（Ｃ）が、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、メトキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシブチル（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、およびカプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートからなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物である、請求項８に記載の光硬化性インクジェットインク。
【請求項１０】
さらに、界面活性剤（Ｄ）を含む、請求項１〜９のいずれか１項に記載の光硬化性インクジェットインク。
【請求項１１】
前記界面活性剤（Ｄ）がシリコーン系界面活性剤、アクリル系界面活性剤およびフッ素系界面活性剤からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物である、請求項１０に記載の光硬化性インクジェットインク。
【請求項１２】
さらに、紫外線吸収剤（Ｅ）を含む、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の光硬化性インクジェットインク。
【請求項１３】
さらに、酸化防止剤（Ｆ）を含む、請求項１〜１２のいずれか１項に記載の光硬化性インクジェットインク。
【請求項１４】
請求項１〜１３のいずれか１項に記載の光硬化性インクジェットインクを硬化させて得られる硬化膜。
【請求項１５】
請求項１〜１３のいずれか１項に記載の光硬化性インクジェットインクを硬化させて得られるマイクロレンズ。
【請求項１６】
請求項１５に記載のマイクロレンズを有する光学部品。
【請求項１７】
請求項１６に記載の光学部品を有する液晶ディスプレイ。
【請求項１】
下記式（１）で表される（メタ）アクリル酸エステル（Ａ）および光重合開始剤（Ｂ）を含有する光硬化性インクジェットインクであって、
前記光重合開始剤（Ｂ）が、光重合開始剤濃度０．００１重量％のアセトニトリル溶液のＵＶ吸収スペクトル測定による、３００ｎｍ以上の波長領域における吸光度が０．１以下である光重合開始剤であり、
該インクより得られた硬化膜（膜厚２．０〜３．０μｍ）を７０℃で１００時間熱処理した後の膜の波長４００ｎｍにおける光透過率が９８％以上である、光硬化性インクジェットインク。
【化１】
（式（１）中、ｎ個のＲ1はそれぞれ独立に水素または炭素数１〜６のアルキルであり、Ｒ2は脂環構造またはヘテロ環構造を有する（但し、下記式（２−１）または式（２−２）で表される構造を含まない）有機基であり、ｎは１〜１０の整数である。）
【化２】
【請求項２】
前記光重合開始剤（Ｂ）が、光硬化性インクジェットインクの総量（固形分換算）１００重量％に対し、１〜２０重量％の量で含まれる、請求項１に記載の光硬化性インクジェットインク。
【請求項３】
前記光重合開始剤（Ｂ）が、オキシフェニル酢酸エステル系開始剤、フェニルグリオキシレート系開始剤およびヒドロキシフェニルケトン系開始剤からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物である、請求項１または２に記載の光硬化性インクジェットインク。
【請求項４】
前記光重合開始剤（Ｂ）が、オキシフェニル酢酸エステル系開始剤およびフェニルグリオキシレート系開始剤からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の光硬化性インクジェットインク。
【請求項５】
前記光重合開始剤（Ｂ）が、オキシ−フェニル−アセチックアシッド２−[２−オキソ−２−フェニル−アセトキシ−エトキシ]−エチルエステル、オキシ−フェニル−アセチックアシッド２−[２−ヒドロキシ−エトキシ]−エチルエステル、およびフェニルグリオキシリックアシッドメチルエステルからなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の光硬化性インクジェットインク。
【請求項６】
前記式（１）において、Ｒ2がシクロヘキサン、シクロペンタン、ビシクロ[２.２.１]ヘプタン、トリシクロデカン、テトラヒドロフラン、５員以上のラクトン、ジシクロペンタン、ジシクロペンテン、アダマンタン、ピペリジン、イミド環、環状ホルマールおよび１，３，５−トリアジン−２，４，６−トリオンからなる群より選ばれる少なくとも１種を有する有機基である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の光硬化性インクジェットインク。
【請求項７】
前記（メタ）アクリル酸エステル（Ａ）が、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、シクロヘキシルジメタノールジ（メタ）アクリレート、γ−ブチロラクトン（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキサイド変性ジ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキサイド変性トリ（メタ）アクリレート、およびε−カプロラクトン変性トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレートからなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物である、請求項１〜６のいずれか１項に記載の光硬化性インクジェットインク。
【請求項８】
さらに、前記（メタ）アクリル酸エステル（Ａ）以外のラジカル重合性二重結合を有する化合物（Ｃ）を含む、請求項１〜７のいずれか１項に記載の光硬化性インクジェットインク。
【請求項９】
前記化合物（Ｃ）が、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、メトキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシブチル（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、およびカプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートからなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物である、請求項８に記載の光硬化性インクジェットインク。
【請求項１０】
さらに、界面活性剤（Ｄ）を含む、請求項１〜９のいずれか１項に記載の光硬化性インクジェットインク。
【請求項１１】
前記界面活性剤（Ｄ）がシリコーン系界面活性剤、アクリル系界面活性剤およびフッ素系界面活性剤からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物である、請求項１０に記載の光硬化性インクジェットインク。
【請求項１２】
さらに、紫外線吸収剤（Ｅ）を含む、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の光硬化性インクジェットインク。
【請求項１３】
さらに、酸化防止剤（Ｆ）を含む、請求項１〜１２のいずれか１項に記載の光硬化性インクジェットインク。
【請求項１４】
請求項１〜１３のいずれか１項に記載の光硬化性インクジェットインクを硬化させて得られる硬化膜。
【請求項１５】
請求項１〜１３のいずれか１項に記載の光硬化性インクジェットインクを硬化させて得られるマイクロレンズ。
【請求項１６】
請求項１５に記載のマイクロレンズを有する光学部品。
【請求項１７】
請求項１６に記載の光学部品を有する液晶ディスプレイ。
【公開番号】特開２０１３−１４７４０（Ｐ２０１３−１４７４０Ａ）
【公開日】平成２５年１月２４日（２０１３．１．２４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−２７９９０４（Ｐ２０１１−２７９９０４）
【出願日】平成２３年１２月２１日（２０１１．１２．２１）
【出願人】（３１１００２０６７）ＪＮＣ株式会社 (208)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２５年１月２４日（２０１３．１．２４）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年１２月２１日（２０１１．１２．２１）
【出願人】（３１１００２０６７）ＪＮＣ株式会社 (208)
【Ｆターム（参考）】
[ Back to top ]