光記録媒体の製造方法および光記録媒体
【課題】 低コストで、かつ、高い生産性をもって、ハードコート層を備え、かつ、反射層の変質や腐食が効果的に抑制された光記録媒体を製造することができる光記録媒体の製造方法、および、低コストで、優れた光学的特性を有するハードコート層を備えた光記録媒体を提供する。
【解決手段】 光透過性を有する基板のレーザビームが入射すべき面に、低揮発性の反応開始剤を含む紫外線硬化性樹脂組成物を塗布して塗膜を形成し、前記塗膜に紫外線を照射して前記塗膜を硬化させてハードコート層を形成し、前記ハードコート層に対して、前記基板の反対側の面に、気相成長法によってＡｇからなる材料で反射層を形成することを特徴とする光記録媒体の製造方法、および、基板のレーザビームが入射すべき面に低揮発性の反応開始剤またはその分解物が含まれているハードコート層を備えた光記録媒体。
【解決手段】 光透過性を有する基板のレーザビームが入射すべき面に、低揮発性の反応開始剤を含む紫外線硬化性樹脂組成物を塗布して塗膜を形成し、前記塗膜に紫外線を照射して前記塗膜を硬化させてハードコート層を形成し、前記ハードコート層に対して、前記基板の反対側の面に、気相成長法によってＡｇからなる材料で反射層を形成することを特徴とする光記録媒体の製造方法、および、基板のレーザビームが入射すべき面に低揮発性の反応開始剤またはその分解物が含まれているハードコート層を備えた光記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光記録媒体の製造方法および光記録媒体に関するものであり、さらに詳細には、低コストで、かつ、高い生産性をもって、ハードコート層を備え、かつ、反射層の変質や腐食が効果的に抑制された光記録媒体を製造することができる光記録媒体の製造方法、および、低コストで、優れた光学的特性を有するハードコート層を備えた光記録媒体に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、大容量のデジタルデータを記録するための記録媒体として、ＣＤやＤＶＤに代表される光記録媒体が広く用いられている。
【０００３】
ＤＶＤは、記録・再生のために照射するレーザビームとして、ＣＤよりも波長が短いレーザビームを用いるとともに、記録光学系および再生光学系の対物レンズとして、ＣＤの記録および再生に用いる対物レンズよりも開口数の大きい対物レンズを用いることによって、大容量のデータを、高密度に記録し、再生することができるように構成されている。
【０００４】
このようなＤＶＤにおいては、照射するレーザビームの波長が短く、対物レンズの開口数が大きいほど、ディスクの反りによって、コマ収差が発生しやすく、データの記録および再生精度が低下する傾向がある。
【０００５】
したがって、ディスクの反りに対するマージンを増大させ、データの記録および再生精度の低下を防止するために、光透過性を有する基板は、ＣＤの基板の厚さの約半分の約０．６ｍｍの厚さに形成され、ＤＶＤは、この基板と、約０．６ｍｍの厚さを有するダミー基板と、これらの間に記録層や反射層などを備えた１．２ｍｍの厚さを有するディスク構造を有している。
【０００６】
また、ＤＶＤにおいては、光透過性を有する基板の表面に傷がついたときは、ＣＤの場合に比して、より悪影響が大きくなる。したがって、基板の表面に、傷がつくことを防止するために、基板の表面に、基板の材料よりも硬く、傷が付きにくいハードコート層を形成したＤＶＤが提案されている。
【０００７】
このような基板の表面にハードコート層が形成されたＤＶＤは、たとえば、基板のレーザビームが入射すべき面に、高い表面硬度を有するハードコート層を形成し、次いで、ハードコート層に対して、基板の反対側の面に、記録層や反射層などを、たとえば、気相成長法によって形成して、ハードコート層と、基板と、記録層や反射層などとを備えた積層体を作製し、この積層体とダミー基板との間に、紫外線硬化性樹脂を含む接着剤組成物を介在させて、スピンコーティング装置によって、接着剤組成物を、積層体とダミー基板の間で展開させ、さらに、紫外線を照射して、接着剤組成物を硬化させることによって、製造されることが、基板を成形後にハードコート層を設けるため、基板のレーザビームが入射すべき面に異物などが付着することが少なくなり、高い歩留が得られる点で好ましく、このようなＤＶＤの製造方法が実用化されつつある。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、このような製造方法において、反射層をＡｇからなる材料を用いて形成した場合には、反射層が容易に変質され、腐食されて、光記録媒体に記録したデータを再生したときの再生信号のジッタが悪化し、また、再生信号のエラーレート（ＰＩエラー）が劣化してしまい、光記録媒体の光学的特性が著しく低下するという問題があった。
【０００９】
かかる問題は、ハードコート層を形成した後に、ハードコート層をアニール処理することなどによって解決することができるが、一旦、形成されたハードコート層をアニール処理する場合などには、生産性が高いインライン製造や生産ラインを一本化することが困難であり、したがって、光記録媒体の製造工程数の増加に伴って、光記録媒体の製造コストが高くなるだけでなく、生産性が著しく悪化してしまう。
【００１０】
また、反射層が容易に変質され、腐食されるという問題は、Ａｇを主成分として含む優れた耐食性を有する合金材料を用いて、反射層を形成することによって解決することができるが、このような合金材料は非常に高価であるため、光記録媒体の製造コストが高くなってしまうという問題があった。
【００１１】
したがって、本発明の目的は、低コストで、かつ、高い生産性をもって、ハードコート層を備え、かつ、反射層の変質や腐食が効果的に抑制された光記録媒体を製造することができる光記録媒体の製造方法を提供することにある。
【００１２】
また、本発明の別の目的は、低コストで、優れた光学的特性を有するハードコート層を備えた光記録媒体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明者は、本発明のかかる目的を達成するため、鋭意研究を重ねた結果、基板のレーザビームが入射すべき面に、ハードコート層を形成し、次いで、ハードコート層に対して、基板の反対側の面に、気相成長法によって、高真空中で、記録層や反射層などを形成する際に、ハードコート層を形成するために用いられた紫外線硬化性樹脂組成物に含まれた反応開始剤やその分解物などが、ガス化して、形成されつつある記録層や反射層に取り込まれ、あるいは、形成された記録層表面や反射層表面に吸着または接触することによって、Ａｇからなる材料によって形成された反射層に悪影響を与え、その結果、反射層が変質され、腐食されやすいことを見出した。
【００１４】
本発明者はかかる知見に基づいて、さらに研究を重ねた結果、基板のレーザビームが入射すべき面に、低揮発性の反応開始剤を含む紫外線硬化性樹脂組成物によって、ハードコート層を形成し、次いで、ハードコート層に対して、基板の反対側の面に、気相成長法によって、高真空中で、記録層や反射層などを形成した場合には、反射層を形成するための材料として安価なＡｇを用いても、反射層が変質し、腐食することを効果的に防止して、ハードコート層を備えた光記録媒体を製造することが可能になり、また、単に、紫外線硬化性樹脂組成物によって、ハードコート層を形成するだけで、一旦、形成したハードコート層をアニール処理などする必要がないから、生産性が高いインライン製造や生産ラインを一本化することが容易になり、したがって、低コストで、かつ、高い生産性をもって、ハードコート層を備え、かつ、反射層の変質や腐食が効果的に抑制された光記録媒体を製造し得ることを見出した。
【００１５】
本発明はかかる知見に基づくものであり、本発明によれば、本発明の前記目的は、光透過性を有する基板のレーザビームが入射すべき面に、低揮発性の反応開始剤を含む紫外線硬化性樹脂組成物を、塗布して、塗膜を形成し、前記塗膜に紫外線を照射して、前記塗膜を硬化させて、ハードコート層を形成し、前記ハードコート層に対して、前記基板の反対側の面に、気相成長法によって、Ａｇからなる材料で、反射層を形成することを特徴とする光記録媒体の製造方法によって達成される。
【００１６】
本明細書において、「Ａｇからなる材料」とは、Ａｇのみからなる材料に加えて、不可避的な不純物を除いてＡｇからなる材料を含んでいる。
【００１７】
本発明において、ハードコート層を形成するための紫外線硬化性樹脂組成物は、紫外線硬化性オリゴマーまたは紫外線硬化性モノマー、および、低揮発性の反応開始剤を含んでいる。
【００１８】
この紫外線硬化性樹脂組成物は、紫外線が照射されて、硬化されると、その後に、気相成長法によって、真空中で、記録層や反射層などを形成する際に、高真空中でも、紫外線硬化性樹脂組成物に含まれた反応開始剤またはその分解物のガスなどを発生することが少ないから、この紫外線硬化性樹脂組成物によって、ハードコート層を形成した場合には、その後に、Ａｇからなる材料によって反射層を形成しても、反射層が変質し、腐食することを効果的に抑制することができる。
【００１９】
したがって、この紫外線硬化性樹脂組成物を用いて、ハードコート層を形成した場合には、その後に、安価なＡｇからなる材料によって反射層を形成することが可能になるとともに、反射層が変質し、腐食することを効果的に抑制することができるため、初期からより高品位の電気信号（ノイズ成分が少ない）が得られ、このハードコート層を備えた光記録媒体を長い期間にわたって保存することもできるから、優れた光学的特性を有するハードコート層を備えた光記録媒体を製造することが可能になる。
【００２０】
また、この紫外線硬化性樹脂組成物を用いて、ハードコート層を形成した場合には、単に、紫外線硬化性樹脂組成物によってハードコート層を形成するだけで、形成したハードコート層をアニール処理などする必要がないから、生産性が高いインライン製造や生産ラインを一本化することが容易になり、したがって、低コストで、かつ、高い生産性をもって、反射層が変質し、腐食することが効果的に抑制された光記録媒体を製造することが可能になる。
【００２１】
本発明において、反射層を形成するために用いられる気相成長法は、真空中で行われるものであれば、とくに限定されるものではないが、たとえば、真空蒸着法、スパッタリング法などが挙げられ、スパッタリング法によって、反射層が形成されることが好ましい。
【００２２】
本発明において、紫外線硬化性樹脂組成物に含まれている反応開始剤は、反応開始剤自体、または、紫外線が照射されることによって、分解された反応開始剤の分解物や変性物などが、低揮発性を有しているものであれば、とくに限定されるものではなく、たとえば、紫外線が照射されて紫外線硬化性樹脂組成物が硬化する際に、反応開始剤またはその分解物が、紫外線硬化性オリゴマーまたは紫外線硬化性モノマーと共重合し、紫外線硬化性オリゴマーまたは紫外線硬化性モノマーとともに、ハードコート層を形成することが可能になるように、少なくとも１つのラジカル反応性基を有する共重合可能な反応開始剤、または、分子量が比較的大きく、その揮発性を低下させた高分子量の反応開始剤などが挙げられる。
【００２３】
本発明において、少なくとも１つのラジカル反応性基を有する共重合可能な反応開始剤としては、反応開始剤が少なくとも１つのラジカル反応性基を有していれば、とくに限定されるものではない。反応開始剤が少なくとも１つのラジカル反応性基を有している場合には、紫外線硬化性樹脂組成物が硬化する際に、反応開始剤またはその分解物が、紫外線硬化性オリゴマーまたは紫外線硬化性モノマーと共重合し、これらとともに、ハードコート層を形成しうるから、反応開始剤またはその分解物のガスなどが発生することを効果的に抑制することが可能になる。
【００２４】
本明細書において、ラジカル反応性基は、紫外線を照射することによって、ラジカル重合反応しうる基であれば、とくに限定されるものではないが、エチレン性不飽和結合であることが好ましく、ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ）−基（ここに、Ｒは、水素原子またはメチル基である。）、あるいは、ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ）−ＣＯＯ−基（ここに、Ｒは、水素原子またはメチル基である。）であることがとくに好ましい。
【００２５】
本発明において、共重合可能な反応開始剤として、２つ以上のラジカル反応性基を有している反応開始剤を用いることもできる。２つ以上のラジカル反応性基を有している反応開始剤を用いる場合には、反応開始剤またはその分解物が、紫外線硬化性オリゴマーまたは紫外線硬化性モノマーと共重合しやすくなり、反応開始剤またはその分解物のガスなどを発生することを効果的に抑制することが可能になる。
【００２６】
このような２つ以上のラジカル反応性基を有している反応開始剤としては、紫外線が照射されて反応開始剤が解裂または分解した場合に、発生するそれぞれの分解物などに少なくとも１つのラジカル反応性基を有するように、反応開始剤が２つ以上のラジカル反応性基を有していることが好ましい。それぞれの分解物などに少なくとも１つのラジカル反応性基を有している場合には、それぞれの分解物などを紫外線硬化性オリゴマーまたは紫外線硬化性モノマーと共重合させることができ、これらのガスなどを発生することを、より一層、効果的に抑制することが可能になる。
【００２７】
本発明において、高分子量の反応開始剤としては、反応開始剤が高分子量を有しているものであれば、とくに限定されるものではないが、たとえば、上述の共重合可能な反応開始剤の分子中に有する少なくとも１つのラジカル反応性基を、ラジカル重合させて、オリゴマーまたはポリマーとした反応開始剤が好ましい。反応開始剤が、オリゴマーまたはポリマーとされた場合には、反応開始剤自体の揮発性が低下し、また、その分解物なども高分子量となるため、これらのガスなどを発生することを効果的に抑制することが可能になる。
【００２８】
本明細書において、オリゴマーまたはポリマーとされた反応開始剤の数平均分子量は、とくに限定されるものではないが、たとえば、２０００以上、好ましくは、３０００以上であることが好ましい。
【００２９】
また、本発明者のさらなる研究によれば、紫外線が照射されて反応開始剤が解裂または分解した分解物などがベンゾイルラジカル部分を含んでいる場合には、反射層が変質され、腐食されやくなることが見出されている。
【００３０】
したがって、本発明においては、上述した反応開始剤のなかでも、紫外線が照射されて、解裂または分解したときに、ベンゾイルラジカルを発生する部分に、ラジカル反応性基の少なくとも１つを有していること、または、ベンゾイルラジカルを発生する部分が、オリゴマーまたはポリマーの主鎖に結合していることがより好ましい。紫外線が照射されて、解裂または分解したときに、ベンゾイルラジカルを発生する部分に、ラジカル反応性基の少なくとも１つを有している場合には、ベンゾイルラジカルを発生しても、ベンゾイルラジカルを発生する部分が、紫外線硬化性オリゴマーまたは紫外線硬化性モノマーと共重合し、これらとともに、ハードコート層を形成するから、または、ベンゾイルラジカルを発生する部分が、オリゴマーまたはポリマーの主鎖に結合している場合には、高分子量であって低揮発性を有しているから、ベンゾイルラジカルを発生する部分のガスなどが発生することを、より一層、効果的に抑制することが可能になる。
【００３１】
また、本発明者の研究によれば、紫外線が照射されて反応開始剤が解裂または分解したときに、発生するガスなどが、構成原子として、イオウ原子および塩素原子を含んでいる場合には、Ａｇからなる材料によって形成された反射層が変質され、腐食されやすいことが見出されている。
【００３２】
したがって、本発明においては、上述した反応開始剤のなかでも、紫外線が照射されて、反応開始剤が、解裂または分解したときに、ラジカル反応性基を有する部分以外の部分、または、オリゴマーまたはポリマーの主鎖に結合している部分以外の部分に、構成原子として、イオウ原子および塩素原子を含んでいないことがさらに好ましい。紫外線が照射されて、反応開始剤が、解裂または分解したときに、ラジカル反応性基を有する部分以外の部分、または、オリゴマーまたはポリマーの主鎖に結合している部分以外の部分に、構成原子として、イオウ原子および塩素原子を含んでいない場合には、この部分がガス化したとしても、Ａｇからなる材料によって形成された反射層に、大きな悪影響を与えることが少なく、したがって、反射層が変質され、腐食されることを確実に防止することが可能になる。
【００３３】
本発明において、反応開始剤の含有量は、とくに限定されるものではないが、たとえば、紫外線硬化性樹脂組成物の総質量に対して、０．３質量％ないし７質量％程度であることが好ましく、０．５質量％ないし５質量％程度であることがより好ましい。反応開始剤の含有量が、０．３質量％未満であると、紫外線硬化性樹脂組成物を充分に硬化させることが困難であり、７質量％を超えていると、反応開始剤自身が不純物として働きハードコート層の特性、とくに表面硬度を低下させてしまうおそれがあり、また、反応開始剤やその分解物などに由来するガスが増えるため、記録層や反射層に悪影響を与え、その結果的、光記録媒体の光学的特性が著しく低下してしまうおそれがある。
【００３４】
本発明において、低揮発性の反応開始剤を含む紫外線硬化性樹脂組成物は、基板のレーザビームが入射すべき面に、塗布されて、ハードコート層とされるため、紫外線硬化性樹脂組成物は、ハードコート層とされたときに、６５０ｎｍ程度の波長を有するレーザビームに対して、高い光透過率を有していることが必要である。
【００３５】
本発明において、紫外線硬化性樹脂組成物は、紫外線硬化性オリゴマーまたは紫外線硬化性モノマーおよび低揮発性の反応開始剤を含んでいればよく、これらに加えて、所望により、増感剤、光開始助剤などを添加してもよい。紫外線硬化性樹脂組成物が、さらに、増感剤、光開始助剤などを含んでいる場合には、紫外線硬化性樹脂組成物の硬化性を向上させることができ、より一層、高い表面硬度を有するハードコート層を形成することが可能になる。
【００３６】
また、紫外線硬化性樹脂組成物は、ハードコート層の特性を向上させるための無機微粒子、撥水性、撥油性および潤滑性に優れた表面を形成するためのシリコーン系化合物またはフッ素系化合物、有機フィラー、重合禁止剤、酸化防止剤、光安定剤、消泡剤、レベリング剤、顔料、帯電防止剤などの添加剤を含んでいてもよい。紫外線硬化性樹脂組成物が、これらの添加剤を含んでいる場合には、ハードコート層の表面硬度が、より一層、高くなり、また、ハードコート層表面のスリップ性が向上して、ハードコート層表面が傷つきにくくなり、さらに、ハードコート層表面にゴミなどが付着しにくくなる。
【００３７】
本発明において、低揮発性の反応開始剤を含む紫外線硬化性樹脂組成物によって、ハードコート層を形成する方法は、とくに限定されるものではないが、たとえば、基板のレーザビームが入射すべき面に、低揮発性の反応開始剤を含む紫外線硬化性樹脂組成物を、塗布して、塗膜を形成し、塗膜に紫外線を照射して、塗膜を硬化させて、ハードコート層を形成する方法、あるいは、低揮発性の反応開始剤を含む紫外線硬化性樹脂組成物によって、成形された樹脂フィルムを、基板のレーザビームが入射すべき面に、接着剤によって、貼り合わせて、ハードコート層を形成する方法などが挙げられる。
【００３８】
本発明においては、ハードコート層が、基板のレーザビームが入射すべき面に、低揮発性の反応開始剤を含む紫外線硬化性樹脂組成物を、塗布して、塗膜を形成し、塗膜に紫外線を照射して、塗膜を硬化させて、形成されることが、生産性が高く、好ましい。このようにしてハードコート層を形成する場合には、紫外線硬化性樹脂組成物は、スピンコーティング法によって、塗布されることが好ましいが、その塗布方法は、とくに限定されるものではない。
【００３９】
基板のレーザビームが入射すべき面に、紫外線硬化性樹脂組成物を、塗布して、塗膜を形成し、塗膜に紫外線を照射して、塗膜を硬化させて、ハードコート層を形成する際に、紫外線を照射する際の雰囲気は、とくに限定されるものではないが、窒素ガス、希ガス、二酸化炭素ガスなどの不活性ガス雰囲気中で、紫外線を照射することが好ましい。不活性ガス雰囲気中で、紫外線を照射する場合には、紫外線硬化性樹脂組成物を硬化させる際に、酸素阻害を防止することができるため、ハードコート層表面の架橋密度を向上させることができ、したがって、高い表面硬度を有するハードコート層を形成することが可能になる。
【００４０】
基板のレーザビームが入射すべき面に、紫外線硬化性樹脂組成物を塗布して、塗膜を形成し、前記塗膜に紫外線を照射して、前記塗膜を硬化させて、ハードコート層を形成する際に、紫外線の照射量などは、紫外線硬化性樹脂組成物が硬化するのに十分な量の紫外線が照射されれば、とくに限定されるものではないが、たとえば、高圧水銀灯などを用いて、照度７００ｍＷ／ｃｍ２以上、照射量１．０Ｊ／ｃｍ２以上の照射条件で、紫外線を照射することが好ましい。この照射条件で、紫外線を照射する場合には、反応開始剤を速やかに分解して、ラジカルを効率的に発生させることができるため、ハードコート層表面の架橋密度を向上させることができ、したがって、高い表面硬度を有するハードコート層を形成することが可能になる。
【００４１】
本発明の光記録媒体の製造方法によって製造可能な光記録媒体は、基板の表面にプリピットが形成された再生専用型（ＲＯＭ型）のＤＶＤとして構成されていてもよく、また、基板と反射層との間に、さらに、記録層を備えたＤＶＤとして構成されていてもよい。記録層は、とくに限定されるものではなく、有機色素や無機材料などを含む一層または二層以上の追記型の記録層として構成されていても、相変化材料を含む書き換え型の記録層として構成されていてもよい。
【００４２】
また、本発明の別の目的は、少なくとも、光透過性を有する基板と、ダミー基板と、前記基板と前記ダミー基板との間に、Ａｇからなる材料によって形成された反射層と、前記反射層と前記ダミー基板との間に設けられた接着層と、前記基板のレーザビームが入射すべき面に、紫外線硬化性樹脂組成物に含まれた低揮発性の反応開始剤またはその分解物などが含まれているハードコート層とを備えた光記録媒体によって達成される。
【００４３】
本発明において、ハードコート層に、低揮発性の反応開始剤またはその分解物などが含まれていることは、高真空中に、ハードコート層を放置して、ハードコート層からガス化した成分を捕捉し、または、ハードコート層を溶剤中に浸漬し、ハードコート層から溶出した成分を抽出し、これらの成分を、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）や高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）で、容易に確認することができる。
【００４４】
本発明者の研究によれば、ハードコート層に、低揮発性の反応開始剤またはその分解物などが含まれており、これらは、ハードコート層を形成し、または、揮発性が低いから、ハードコート層から反応開始剤またはその分解物のガスなどを発生することが少なく、したがって、反射層が変質され、腐食されることがなく、反射層を形成するための材料として安価なＡｇからなる材料を用いても、反射層が変質し、腐食することを効果的に抑制することができるから、光記録媒体に記録したデータを再生したときの再生信号のジッタが悪化し、また、再生信号のエラーレート（ＰＩエラー）が劣化することを効果的に防止することが可能になる。
【００４５】
本発明において、光記録媒体は、前記基板の表面にプリピットが形成された再生専用型（ＲＯＭ型）のＤＶＤとして構成されていてもよく、また、前記基板と前記反射層との間に記録層を、さらに、備えたＤＶＤとして構成されていてもよい。記録層は、とくに限定されるものではなく、有機色素や無機材料などを含む一層または二層以上の追記型の記録層として構成されていても、相変化材料を含む書き換え型の記録層として構成されていてもよい。
【００４６】
本発明において、前記光記録媒体は、さらに、前記反射層と前記接着層の間に、保護層を備えていることが好ましい。
【発明の効果】
【００４７】
本発明によれば、低コストで、かつ、高い生産性をもって、ハードコート層を備え、かつ、反射層の変質や腐食が効果的に抑制された光記録媒体を製造することができる光記録媒体の製造方法を提供することが可能になる。
【００４８】
また、本発明によれば、低コストで、優れた光学的特性を有するハードコート層を備えた光記録媒体を提供することが可能になる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４９】
本発明において、ハードコート層を形成するための紫外線硬化性樹脂組成物は、紫外線硬化性オリゴマーまたは紫外線硬化性モノマー、ならびに、低揮発性の反応開始剤を含んでいる。
【００５０】
この紫外線硬化性樹脂組成物は、反応開始剤またはその分解物のガスなどを発生することが少ないから、この紫外線硬化性樹脂組成物によってハードコート層を形成した場合には、その後に、Ａｇからなる材料によって反射層を形成しても、反射層が変質し、腐食することを効果的に抑制することができる。
【００５１】
したがって、この紫外線硬化性樹脂組成物を用いて、ハードコート層を形成した場合には、その後に、安価なＡｇからなる材料によって反射層を形成することが可能になるとともに、反射層が変質し、腐食することを効果的に抑制することができるため、初期からより高品位の電気信号（ノイズ成分が少ない）が得られ、このハードコート層を備えた光記録媒体を長い期間にわたって保存することもできるから、優れた光学的特性を有するハードコート層を備えた光記録媒体を製造することが可能になる。
【００５２】
本発明において、低揮発性の反応開始剤を含む紫外線硬化性樹脂組成物は、基板のレーザビームが入射すべき面に、塗布されて、ハードコート層とされるため、紫外線硬化性樹脂組成物は、ハードコート層とされたときに、６５０ｎｍ程度の波長を有するレーザビームに対して、高い光透過率を有していることが必要である。
【００５３】
本発明において、紫外線硬化性樹脂組成物に含まれている反応開始剤は、反応開始剤自体、または、紫外線が照射されることによって、分解された反応開始剤の分解物や変性物などが、低揮発性を有しているものであれば、とくに限定されるものではなく、たとえば、紫外線が照射されて紫外線硬化性樹脂組成物が硬化する際に、反応開始剤またはその分解物が、紫外線硬化性オリゴマーまたは紫外線硬化性モノマーと共重合し、紫外線硬化性オリゴマーまたは紫外線硬化性モノマーとともに、ハードコート層を形成することが可能になるように、少なくとも１つのラジカル反応性基を有する共重合可能な反応開始剤、または、分子量が比較的大きく、その揮発性を低下させた高分子量の反応開始剤などが挙げられる。
【００５４】
本発明において、少なくとも１つのラジカル反応性基を有する共重合可能な反応開始剤としては、反応開始剤が少なくとも１つのラジカル反応性基を有していれば、とくに限定されるものではない。この場合には、反応開始剤またはその分解物のガスなどが発生することを効果的に抑制することが可能になる。
【００５５】
このような共重合可能な反応開始剤としては、たとえば、４−（２−アクリロイルオキシエトキシ）フェニル−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−［４−（１−メチルビニル）フェニル］プロパン、アクリル化ベンゾフェノン（たとえば、ダイセルＵＣＢ株式会社製、商品名「ＥＢ Ｐ３６」）などが挙げられる。
【００５６】
このような少なくとも１つのラジカル反応性基を有している反応開始剤は、市販品を用いてもよく、また、通常の方法により、適宜製造してもよい。たとえば、４−（２−アクリロイルオキシエトキシ）フェニル−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトンは、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン（たとえば、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製、商品名：「イルガキュア２９５９」）の４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル基のヒドロキシ基と、アクリル酸クロライドなどを選択的に反応させることによって、製造することができる。
【００５７】
本発明において、共重合可能な反応開始剤として、２つ以上のラジカル反応性基を有している反応開始剤を用いることもできる。この場合には、反応開始剤またはその分解物のガスなどを発生することを効果的に抑制することが可能になる。
【００５８】
このような２つ以上のラジカル反応性基を有している反応開始剤としては、紫外線が照射されて反応開始剤が解裂または分解した場合に、発生するそれぞれの分解物などに少なくとも１つのラジカル反応性基を有するように、反応開始剤が２つ以上のラジカル反応性基を有していることが好ましい。この場合には、それぞれの分解物などを紫外線硬化性オリゴマーまたは紫外線硬化性モノマーと共重合させることができ、これらのガスなどを発生することを、より一層、効果的に抑制することが可能になる。
【００５９】
また、本発明において、高分子量の反応開始剤としては、反応開始剤が高分子量を有しているものであれば、とくに限定されるものではないが、たとえば、上述の共重合可能な反応開始剤の分子中に有する少なくとも１つのラジカル反応性基を、ラジカル重合させて、オリゴマーまたはポリマーとした反応開始剤が好ましい。この場合には、反応開始剤またはその分解物のガスなどが発生することを効果的に抑制することが可能になる。
【００６０】
このような高分子量の反応開始剤としては、たとえば、上述の共重合可能な反応開始剤を重合させた反応開始剤が挙げられ、より具体的には、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−［４−（１−メチルビニル）フェニル］プロパンを重合させた２−ヒドロキシ−２−メチル−１−［４−（１−メチルビニル）フェニル］プロパンのオリゴマー（たとえば、日本シイベルヘグナー株式会社製、商品名「ＫＩＰ１５０」）などが挙げられる。
【００６１】
このような高分子量の反応開始剤は、市販品を用いてもよく、また、通常の方法により、上述の共重合可能な反応開始剤を適宜重合させて製造してもよい。
【００６２】
また、本発明者のさらなる研究によれば、紫外線が照射されて反応開始剤が解裂または分解した分解物などがベンゾイルラジカル部分を含んでいる場合には、反射層が変質され、腐食されやくなることが見出されている。
【００６３】
したがって、本発明においては、上述した反応開始剤のなかでも、紫外線が照射されて、解裂または分解したときに、ベンゾイルラジカルを発生する部分に、ラジカル反応性基の少なくとも１つを有していること、または、ベンゾイルラジカルを発生する部分が、オリゴマーまたはポリマーの主鎖に結合していることがより好ましい。これらの場合には、ベンゾイルラジカルを発生する部分のガスなどが発生することを、より一層、効果的に抑制することが可能になる。
【００６４】
また、本発明者の研究によれば、紫外線が照射されて反応開始剤が解裂または分解したときに、発生するガスなどが、構成原子として、イオウ原子および塩素原子を含んでいる場合には、Ａｇからなる材料によって形成された反射層が変質され、腐食されやすいことが見出されている。
【００６５】
したがって、本発明においては、上述した反応開始剤のなかでも、紫外線が照射されて、反応開始剤が、解裂または分解したときに、ラジカル反応性基を有する部分以外の部分、または、オリゴマーまたはポリマーの主鎖に結合している部分以外の部分に、構成原子として、イオウ原子および塩素原子を含んでいないことがさらに好ましい。この場合には、反射層が変質され、腐食されることを確実に防止することが可能になる。
【００６６】
本発明において、反応開始剤は、一種単独で用いてもよいし、二種以上を混合して用いてもよい。
【００６７】
本発明において、反応開始剤の含有量は、とくに限定されるものではないが、たとえば、紫外線硬化性樹脂組成物の総質量に対して、０．３質量％ないし７質量％程度であることが好ましく、０．５質量％ないし５質量％程度であることがより好ましい。反応開始剤の含有量が、０．３質量％未満であると、紫外線硬化性樹脂組成物を充分に硬化させることが困難であり、７質量％を超えていると、反応開始剤自身が不純物として働きハードコート層の特性、とくに表面硬度を低下させてしまうおそれがあり、また、反応開始剤やその分解物などに由来するガスが増えるため、記録層や反射層に悪影響を与え、その結果的、光記録媒体の光学的特性が著しく低下してしまうおそれがある。
【００６８】
紫外線硬化性樹脂組成物に含まれている紫外線硬化性オリゴマーまたは紫外線硬化性モノマーは、６５０ｎｍ程度の波長を有するレーザビームに対して、高い光透過率を有し、（メタ）アクリロイル基、ビニル基およびアリル基からなる群から選ばれる少なくとも１つの重合性基を有しているオリゴマーまたはモノマーであれば、とくに限定されるものではない。紫外線硬化性オリゴマーまたは紫外線硬化性モノマーは、一種単独で用いてもよいし、二種以上を混合して用いてもよい。
【００６９】
本発明において、紫外線硬化性樹脂組成物がさらに増感剤を含んでいることが好ましい。紫外線硬化性樹脂組成物がさらに増感剤を含んでいる場合には、紫外線硬化性樹脂組成物の硬化性を向上させることができ、より一層、高い表面硬度を有するハードコート層を形成することが可能になる。
【００７０】
本発明において、増感剤は、とくに限定されるものではないが、構成原子として、イオウ原子および塩素原子を含んでいないことがより好ましい。構成原子として、イオウ原子および塩素原子を含んでいない増感剤を用いる場合には、Ａｇからなる反射層の変質や腐食を防止することができる。このような増感剤の具体例としては、たとえば、カンファーキノン、３−クマリン、アンスラキノン、トリベンジルアミン、Ｎ−エチルモルホリン、α−ナフチル、アセナフセン、Ｐ，Ｐ’−ジメトキシベンジルなどを挙げることができる。
【００７１】
増感剤の含有量は、とくに限定されるものではないが、１００質量部の反応開始剤に対して、０．５質量部ないし５０質量部であることが好ましく、５質量部ないし１０質量部であることがより好ましい。増感剤の含有量が、０．５質量部未満であると、増感剤を含ませた効果が充分に発揮されず、５０質量部を超えていると、形成されるハードコート層が着色する場合がある。
【００７２】
また、本発明において、紫外線硬化性樹脂組成物が、さらに、光開始助剤を含んでいることがより好ましい。紫外線硬化性樹脂組成物が、さらに、光開始助剤を含んでいる場合には、より一層、高い表面硬度を有するハードコート層を形成することが可能になる。
【００７３】
本発明において、光開始助剤は、とくに限定されるものではないが、脂肪族アミン、芳香族アミンなどが好ましく用いられる。このような光開始助剤の具体例としては、たとえば、トリエチルアミン、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリプロパノールアミン、４，４’−ジメチルアミノベンゾフェノン、４，４’−ジエチルアミノベンゾフェノン、２−ジメチルアミノエチル安息香酸、２−ジメチルアミノエチル安息香酸エチルなどを挙げることができる。
【００７４】
光開始助剤の含有量は、とくに限定されるものではないが、１００質量部の反応開始剤に対して、０．５質量部ないし５０質量部であることが好ましく、５質量部ないし１０質量部であることがより好ましい。光開始助剤の含有量が、０．５質量部未満であると、光開始助剤を含ませた効果が充分に発揮されず、５０質量部を超えていると、反射層を形成する際に、ガス化して、反射層に悪影響を与えることがある。
【００７５】
本発明において、紫外線硬化性樹脂組成物は、紫外線硬化性オリゴマーまたは紫外線硬化性モノマーおよび低揮発性の反応開始剤を含んでいればよく、これらに加えて、所望により、ハードコート層の特性を向上させるための無機微粒子、撥水性、撥油性および潤滑性に優れた表面を形成するためのシリコーン系化合物またはフッ素系化合物、有機フィラー、重合禁止剤、酸化防止剤、光安定剤、消泡剤、レベリング剤、顔料、帯電防止剤などの添加剤を含んでいてもよい。紫外線硬化性樹脂組成物が、これらの添加剤を含んでいる場合には、ハードコート層の表面硬度が、より一層、高くなり、また、ハードコート層表面のスリップ性が向上して、ハードコート層表面が傷つきにくくなり、さらに、ハードコート層表面にゴミなどが付着しにくくなる。
【００７６】
紫外線硬化性樹脂組成物は、紫外線硬化性オリゴマーまたは紫外線硬化性モノマーと、低揮発性の反応開始剤と、所望により、増感剤、光開始助剤などの添加剤とを、常温（約２０℃）ないし８０℃の温度で、均一になるまで混合して、調製される。
【００７７】
以下、添付図面に基づいて、本発明の好ましい実施態様につき、詳細に説明を加える。
【００７８】
図１は、本発明の好ましい実施態様にかかる光記録媒体の製造方法によって、製造された光記録媒体の一部切り欠き略斜視図であり、図２は、図１において、Ａで示された部分の略拡大断面図である。
【００７９】
図１に示されるように、光記録媒体１０は、円盤状に形成され、１２０ｍｍの外径と、約１．２ｍｍの厚さを有している。
【００８０】
図２に示されるように、光記録媒体１０は、再生専用型（ＲＯＭ型）の光記録媒体として構成され、ハードコート層１１と、光透過性を有する基板１２と、反射層１３と、保護層１４と、接着層１５と、ダミー基板１６とを、この順に備えている。本実施態様においては、ハードコート層１１、基板１２、反射層１３、保護層１４によって、積層体２０が構成されている。
【００８１】
本実施態様においては、レーザビームＬは、ハードコート層１１および基板１２に照射され、ハードコート層１１の表面によって、光入射面１１ａが構成されている。
【００８２】
ハードコート層１１は、基板１２の表面に、傷がつくことを防止する機能を有しており、０．５μｍないし５μｍの厚さを有するように形成されることが好ましい。ハードコート層１１の厚さが、０．５μｍ未満であると、ハードコート層１１としての機能を十分に発揮することができず、一方、５μｍを超えていると、紫外線硬化性樹脂組成物を硬化してハードコート層１１を形成する際に、この組成物が硬化収縮することによって、光記録媒体１０に反りが発生してしまう場合がある。
【００８３】
本実施態様において、ハードコート層１１は、低揮発性の反応開始剤を含む紫外線硬化性樹脂組成物によって、形成されている。したがって、ハードコート層１１の形成後に、Ａｇからなる材料によって、高真空中で、反射層１３を形成する場合に、ハードコート層１１から、反応開始剤またはその分解物のガスなどを発生することが少ないから、この紫外線硬化性樹脂組成物によってハードコート層１１を形成した場合には、その後に、Ａｇからなる材料によって反射層１３を形成しても、反射層１３が変質し、腐食することを効果的に抑制することができる。
【００８４】
基板１２は、光記録媒体１０の機械的強度を確保する機能を有し、約０．６ｍｍの厚さを有している。ハードコート層１１に対して、基板１２の反対側の表面には、データが記録されたプリピット（図示しない）が形成されている。基板１１を形成するための材料としては、レーザビームＬの波長領域において光透過率が十分に高い材料であれば、とくに限定されるものではなく、たとえば、ポリカーボネート樹脂によって、形成される。
【００８５】
反射層１３は、基板１２を介して、入射したレーザビームＬを反射し、再び、基板１２から出射させる機能を有するとともに、さらに、多重干渉効果により再生信号（Ｃ／Ｎ比）を高める機能を有している。反射層１３は、Ａｇからなる材料によって、形成されている。反射層１３の厚さは、とくに限定されるものではないが、２０ｎｍないし２００ｎｍであることが好ましい。
【００８６】
保護層１４は、反射層１３を物理的および化学的に保護する機能を有している。保護層１４を形成するための材料としては、反射層１３を物理的および化学的に保護することができれば、とくに限定されるものではなく、たとえば、アクリル系の紫外線硬化型樹脂によって、形成される。
【００８７】
接着層１５は、ハードコート層１１と、基板１２と、反射層１３と、保護層１４とからなる積層体２０と、ダミー基板１６とを接着するための層であり、たとえば、紫外線硬化性樹脂を含む接着剤組成物によって、形成される。
【００８８】
ダミー基板１６は、光記録媒体１０に求められる厚さ（約１．２ｍｍ）を確保するための支持体として、機能し、約０．６ｍｍの厚さを有している。ダミー基板１６を形成するための材料は、とくに限定されるものではないが、たとえば、ポリカーボネート樹脂によって、形成される。
【００８９】
本実施態様によれば、以上のような構成を有する光記録媒体１０は、以下のようにして製造される。
【００９０】
まず、スタンパを用いて、表面に、プリピットを有する基板１２が、射出成形によって作製される。また、同様にして、表面に、プリピットが形成されていないダミー基板１６が、射出成型法によって、作製される。
【００９１】
次いで、プリピットが形成された基板１２のレーザビームが入射すべき面（プリピットが形成されていない表面）上に、ハードコート層１１が形成される。
【００９２】
本実施態様においては、ハードコート層１１は、基板１２のレーザビームが入射すべき面に、低揮発性の反応開始剤を含む紫外線硬化性樹脂組成物を、塗布して、塗膜を形成し、塗膜に紫外線を照射して、塗膜を硬化させて、形成される。
【００９３】
すなわち、ハードコート層１１を形成するにあたっては、まず、紫外線硬化性オリゴマーまたは紫外線硬化性モノマー、および、低揮発性の反応開始剤を含む紫外線硬化性樹脂組成物が調製される。
【００９４】
必要に応じて、この紫外線硬化性樹脂組成物の溶液が調製される。紫外線硬化性樹脂組成物の溶液を調製するために用いられる溶剤は、とくに限定されるものではなく、たとえば、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、酢酸ブチル、イソプロピルアルコールなどが用いられる。
【００９５】
紫外線硬化性樹脂組成物または紫外線硬化性樹脂組成物の溶液の塗布方法は、とくに限定されるものではなく、スピンコーティング法、ディップコーティング法、グラビアコーティング法などを用いることができるが、作業性に優れる点で、スピンコーティング法が、好ましく使用される。
【００９６】
紫外線硬化性樹脂組成物の塗布量は、とくに限定されるものではないが、所望の厚さを有するハードコート層１１が形成されるように、紫外線硬化性樹脂組成物の塗布量を決定することが好ましい。
【００９７】
本実施態様において、紫外線硬化性樹脂組成物が溶剤を含んでいる場合には、紫外線硬化性樹脂組成物を塗布して、塗膜を形成した後に、紫外線硬化性樹脂組成物を加熱して、溶剤を除去し、次いで、紫外線を照射して、塗膜を硬化させ、ハードコート層１１を形成することが好ましい。このときの乾燥条件は、紫外線硬化性樹脂組成物の溶液に含まれた溶剤を除去することができる条件であれば、とくに限定されるものではなく、たとえば、温度４０℃以上、８０℃以下で加熱されることが好ましい。
【００９８】
本実施態様において、塗膜に紫外線を照射する際の雰囲気は、とくに限定されるものではないが、窒素ガス、希ガス、二酸化炭素ガスなどの不活性ガス雰囲気中で、紫外線を照射することが好ましい。不活性ガス雰囲気中で、紫外線を照射する場合には、高い表面硬度を有するハードコート層１１を形成することが可能になる。
【００９９】
また、紫外線の照射量などは、紫外線硬化性樹脂組成物が硬化するのに十分な量の紫外線が照射されれば、とくに限定されるものではないが、たとえば、高圧水銀灯などを用いて、照度７００ｍＷ／ｃｍ２以上、照射量１．０Ｊ／ｃｍ２以上の照射条件で、塗膜に、紫外線を照射することが好ましい。この照射条件で、塗膜に紫外線を照射する場合には、高い表面硬度を有するハードコート層１１を形成することが可能になる。
【０１００】
このようにして、基板１２のレーザビームが入射すべき面に、ハードコート層１１が形成される。
【０１０１】
本実施態様においては、この紫外線硬化性樹脂組成物によって、単に、ハードコート層１１を形成するだけで、形成したハードコート層１１をアニール処理などする必要がないから、生産性が高いインライン製造や生産ラインを一本化することが容易になり、したがって、低コストで、かつ、高い生産性をもって、光記録媒体１０を製造することが可能になる。
【０１０２】
次いで、ハードコート層１１に対して、基板１２の反対側の面に、Ａｇからなる材料を用いて、気相成長法によって、反射層１３が形成される。気相成長法としては、真空中で行われるものであれば、とくに限定されるものではないが、たとえば、真空蒸着法、スパッタリング法などが挙げられるが、スパッタリング法によって、反射層１３が形成されることが好ましい。
【０１０３】
本実施態様において、紫外線硬化性樹脂組成物は、低揮発性の反応開始剤を含んでいるため、この紫外線硬化性樹脂組成物を用いて、ハードコート層１１を形成した後に、気相成長法によって、真空中で、記録層や反射層などを形成する際に、高真空中でも、紫外線硬化性樹脂組成物に含まれた反応開始剤またはその分解物のガスなどを発生することが少ないから、この紫外線硬化性樹脂組成物によってハードコート層１１を形成した場合には、その後に、Ａｇからなる材料によって反射層１３を形成しても、反射層１３が変質し、腐食することが効果的に抑制することができる。
【０１０４】
したがって、この紫外線硬化性樹脂組成物を用いて、ハードコート層１１を形成した場合には、その後に、安価なＡｇからなる材料によって反射層１３を形成することが可能になるとともに、反射層１３が変質し、腐食することを効果的に抑制することができるため、初期からより高品位の電気信号（ノイズ成分が少ない）が得られ、このハードコート層１１を備えた光記録媒体１０を長い期間にわたって保存することもできるから、優れた光学的特性を有するハードコート層１１を備えた光記録媒体１０を製造することが可能になる。
【０１０５】
次いで、反射層１３上に、紫外線硬化型アクリル樹脂によって、塗膜を形成し、塗膜に紫外線を照射して、硬化させ、保護層１４が形成される。
【０１０６】
このようにして、ハードコート層１１と、基板１２と、反射層１３と、保護層１４とを備えた積層体２０が作製される。
【０１０７】
次いで、保護層１４上に、紫外線硬化性樹脂を含む接着剤組成物によって、塗膜が形成され、塗膜の表面に、ダミー基板１６を貼り合わせ、ダミー基板１６側から紫外線を照射して、塗膜を硬化させて、接着層１５が形成され、光記録媒体１０が作製される。
【０１０８】
以上のように構成された光記録媒体１０においては、光入射面１１ａに、たとえば、６５０ｎｍ程度の波長を有するレーザビームＬが照射されて、データが再生される。
【実施例】
【０１０９】
以下、本発明の効果をより明瞭なものとするため、実施例を掲げる。
【０１１０】
まず、射出成型法により、約０．６ｍｍの厚さと、約１２０ｍｍの外径を有し、表面にプリピットが形成されたポリカーボネート樹脂からなるディスク状の基板を作製した。
【０１１１】
次いで、同様にして、射出成型法により、約０．６ｍｍの厚さと、約１２０ｍｍの外径を有し、表面にプリピットが形成されていないポリカーボネート樹脂からなるディスク状のダミー基板を作製した。
【０１１２】
次いで、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製、商品名：「イルガキュア２９５９」）とアクリル酸クロライドとを、定法にしたがって、反応させて、４−（２−アクリロイルオキシエトキシ）フェニル−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトンを得た。
【０１１３】
次いで、プロピレングリコールモノメチルエーテル（溶剤）６０質量部に、ジペンタエリスルトールヘキサアクリレート（紫外線硬化性モノマー、日本化薬株式会社製：商品名「ＤＰＨＡ」）３５質量部、テトラヒドロフルフリルアクリレート（紫外線硬化性モノマー、共栄社油脂株式会社製：商品名「ＴＨＦ−Ａ」）５質量部、および、４−（２−アクリロイルオキシエトキシ）フェニル−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン（反応開始剤、製造品）２．１質量部（紫外線硬化性樹脂組成物の総質量４２．１質量部に対して、５質量％）を加えて混合し、紫外線硬化性樹脂組成物の溶液を調製した。
【０１１４】
さらに、基板を、スピンコーティング装置にセットし、２ｇの紫外線硬化性樹脂組成物の溶液を、基板の中心孔近傍に吐出して、基板を、所定速度で、回転させて、紫外線硬化性樹脂組成物の溶液を基板の表面に展開し、塗膜を形成した。
【０１１５】
次いで、形成した塗膜を、温度８０℃で、３分時間にわたって、加熱し、乾燥させた。
【０１１６】
こうして得られた塗膜に、空気中、２５℃で、紫外線を、照度５００ｍＷ／ｃｍ２、照射量０．７Ｊ／ｃｍ２となるように、照射して、塗膜を硬化させ、３μｍの厚さを有するハードコート層を形成した。
【０１１７】
次いで、ハードコート層が形成された基板をスパッタリング装置にセットし、プリピットが形成された表面に、アルゴンガス雰囲気中で、Ａｇからなるターゲットを用いたスパッタリング法によって、１００ｎｍの厚さを有する反射層を形成した。
【０１１８】
次いで、ハードコート層および反射層が形成された基板を再び、スピンコーティング装置にセットし、反射膜上に、紫外線硬化型アクリル樹脂を吐出して、基板を、所定速度で、回転させて、紫外線硬化性樹脂組成物の溶液を反射層の表面に展開し、塗膜を形成し、塗膜に紫外線を照射して、硬化させ、保護層を形成した。
【０１１９】
さらに、保護層上に、紫外線硬化性樹脂を含む接着剤組成物を滴下して、塗膜を形成し、塗膜の表面に、ダミー基板を貼り合わせ、ダミー基板側から紫外線を照射して、塗膜を硬化させて、接着層を形成した。
【０１２０】
こうして、光記録媒体サンプル＃１を作製した。
【０１２１】
次いで、４−（２−アクリロイルオキシエトキシ）フェニル−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトンに代えて、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−［４−（１−メチルビニル）フェニル］プロパンを用いた点を除き、光記録媒体サンプル＃１と同様にして、光記録媒体サンプル＃２を作製した。
【０１２２】
次いで、４−（２−アクリロイルオキシエトキシ）フェニル−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトンに代えて、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−［４−（１−メチルビニル）フェニル］プロパンのオリゴマー（反応開始剤、日本シイベルヘグナー株式会社製、商品名：「ＫＩＰ−１５０」）を用いた点を除き、光記録媒体サンプル＃１と同様にして、光記録媒体サンプル＃３を作製した。
【０１２３】
次いで、紫外線硬化性樹脂組成物の溶液を塗布して得られた塗膜に、高圧水銀灯を用いて、窒素ガス雰囲気中、２５℃で、紫外線を、照度７００ｍＷ／ｃｍ２、照射量１．０Ｊ／ｃｍ２となるように、照射した点を除き、光記録媒体サンプル＃１と同様にして、光記録媒体サンプル＃４を作製した。
【０１２４】
次いで、４−（２−アクリロイルオキシエトキシ）フェニル−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトンに代えて、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン（反応開始剤、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製、商品名：「イルガキュア９０７」）を用いた点を除き、光記録媒体サンプル＃１と同様にして、光記録媒体比較サンプル＃１を作製した。
【０１２５】
次いで、４−（２−アクリロイルオキシエトキシ）フェニル−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトンに代えて、４−フェノキシジクロロアセトフェノンを用いた点を除き、光記録媒体サンプル＃１と同様にして、光記録媒体比較サンプル＃２を作製した。
【０１２６】
次いで、４−（２−アクリロイルオキシエトキシ）フェニル−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトンに代えて、チオキサントン（反応開始剤、日本曹達株式会社製、商品名：「ＴＸ」）を用いた点を除き、光記録媒体サンプル＃１と同様にして、光記録媒体比較サンプル＃３を作製した。
【０１２７】
次いで、４−（２−アクリロイルオキシエトキシ）フェニル−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトンに代えて、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノ−１−オン（反応開始剤、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製、商品名：「イルガキュア９０７」）を用い、さらに、Ａｇからなるターゲットに代えて、９８原子％のＡｇ、１原子％のＰｄおよび１原子％のＣｕを主成分とする合金からなるターゲットを用いた点を除き、光記録媒体サンプル＃１と同様にして、光記録媒体比較サンプル＃４を作製した。
【０１２８】
こうして得られた光記録媒体サンプル＃１ないし＃４および光記録媒体比較サンプル＃１ないし＃４を、８０℃、８５ＲＨ％の環境下に、５０時間にわたって、保存し、高温高湿保存試験を行い、高温高湿保存試験の前後における反射層の状態を、ハードコート層および基板を介して、目視で確認した。その結果、光記録媒体サンプル＃１ないし＃４および光記録媒体比較サンプル＃４においては、いずれも、高温高湿保存試験の前後において、反射層が変質され、または、腐食されていることを確認できなかったのに対し、光記録媒体比較サンプル＃１ないし＃３においては、いずれも、高温高湿保存試験の前後において、反射膜が変色しており、高温高湿保存試験によって、反射層が変質され、または、腐食されていることを確認できた。
【０１２９】
なお、光記録媒体サンプル＃１ないし＃４および光記録媒体比較サンプル＃４は、いずれも、高温高湿保存試験を行っても、再生信号のジッタが悪化し、再生信号のエラーレート（ＰＩエラー）が劣化することは確認できなかったのに対し、光記録媒体比較サンプル＃１ないし＃３は、いずれも、高温高湿保存試験を行った後は、再生信号のジッタが悪化し、再生信号のエラーレート（ＰＩエラー）も劣化していたことが確認できた。
【０１３０】
また、光記録媒体サンプル＃１ないし＃４および光記録媒体比較サンプル＃１ないし＃４のハードコート層の表面硬度を、ＪＩＳ−Ｋ７２０４：１９９９に準拠して、摩耗輪試験したところ、光記録媒体サンプル＃１ないし＃３は、いずれにおいても、光記録媒体比較サンプル＃１ないし＃４と同等の硬度を有しており、光記録媒体サンプル＃４は、光記録媒体比較サンプル＃１ないし＃４よりも高い表面硬度を有していた。
【０１３１】
本発明は、以上の実施態様に限定されることなく、特許請求の範囲に記載された発明の範囲内で種々の変更が可能であり、それらも本発明の範囲内に包含されるものであることはいうまでもない。
【０１３２】
たとえば、前記実施態様においては、基板１１およびダミー基板１６を、スタンパを用いて、射出成形によって、形成しているが、２Ｐ法などの他の方法によって、基板１１およびダミー基板１６を作製してもよい。
【０１３３】
さらに、前記実施態様においては、光記録媒体１０は、再生専用型（ＲＯＭ型）の光記録媒体として構成されているが、光記録媒体１０が、ＲＯＭ型の光記録媒体として構成されていることは必ずしも必要でなく、有機色素や無機材料などを含む一層または二層以上の追記型の記録層が、基板の表面上に形成されて追記型の光記録媒体として構成されても、相変化材料を含む書き換え型の記録層が、基板の表面上に形成されて書き換え型の光記録媒体として、構成されていてもよい。
【０１３４】
また、前記実施態様においては、光記録媒体１０は、データが記録されたプリピット（図示しない）が予め形成された基板１２の表面と、反射層１３とをよって形成された一層の情報層を備えているが、光記録媒体が一層の情報層を備えていることは必ずしも必要でなく、光記録媒体が２以上の情報層を備えていてもよい。
【図面の簡単な説明】
【０１３５】
【図１】図１は、本発明の好ましい実施態様にかかる光記録媒体の製造方法によって、製造された光記録媒体の一部切り欠き略斜視図である。
【図２】図２は、図１において、Ａで示された部分の略拡大断面図である。
【符号の説明】
【０１３６】
１０ 光記録媒体
１１ ハードコート層
１２ 基板
１３ 反射層
１４ 保護層
１５ 接着層
１６ ダミー基板
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光記録媒体の製造方法および光記録媒体に関するものであり、さらに詳細には、低コストで、かつ、高い生産性をもって、ハードコート層を備え、かつ、反射層の変質や腐食が効果的に抑制された光記録媒体を製造することができる光記録媒体の製造方法、および、低コストで、優れた光学的特性を有するハードコート層を備えた光記録媒体に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、大容量のデジタルデータを記録するための記録媒体として、ＣＤやＤＶＤに代表される光記録媒体が広く用いられている。
【０００３】
ＤＶＤは、記録・再生のために照射するレーザビームとして、ＣＤよりも波長が短いレーザビームを用いるとともに、記録光学系および再生光学系の対物レンズとして、ＣＤの記録および再生に用いる対物レンズよりも開口数の大きい対物レンズを用いることによって、大容量のデータを、高密度に記録し、再生することができるように構成されている。
【０００４】
このようなＤＶＤにおいては、照射するレーザビームの波長が短く、対物レンズの開口数が大きいほど、ディスクの反りによって、コマ収差が発生しやすく、データの記録および再生精度が低下する傾向がある。
【０００５】
したがって、ディスクの反りに対するマージンを増大させ、データの記録および再生精度の低下を防止するために、光透過性を有する基板は、ＣＤの基板の厚さの約半分の約０．６ｍｍの厚さに形成され、ＤＶＤは、この基板と、約０．６ｍｍの厚さを有するダミー基板と、これらの間に記録層や反射層などを備えた１．２ｍｍの厚さを有するディスク構造を有している。
【０００６】
また、ＤＶＤにおいては、光透過性を有する基板の表面に傷がついたときは、ＣＤの場合に比して、より悪影響が大きくなる。したがって、基板の表面に、傷がつくことを防止するために、基板の表面に、基板の材料よりも硬く、傷が付きにくいハードコート層を形成したＤＶＤが提案されている。
【０００７】
このような基板の表面にハードコート層が形成されたＤＶＤは、たとえば、基板のレーザビームが入射すべき面に、高い表面硬度を有するハードコート層を形成し、次いで、ハードコート層に対して、基板の反対側の面に、記録層や反射層などを、たとえば、気相成長法によって形成して、ハードコート層と、基板と、記録層や反射層などとを備えた積層体を作製し、この積層体とダミー基板との間に、紫外線硬化性樹脂を含む接着剤組成物を介在させて、スピンコーティング装置によって、接着剤組成物を、積層体とダミー基板の間で展開させ、さらに、紫外線を照射して、接着剤組成物を硬化させることによって、製造されることが、基板を成形後にハードコート層を設けるため、基板のレーザビームが入射すべき面に異物などが付着することが少なくなり、高い歩留が得られる点で好ましく、このようなＤＶＤの製造方法が実用化されつつある。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、このような製造方法において、反射層をＡｇからなる材料を用いて形成した場合には、反射層が容易に変質され、腐食されて、光記録媒体に記録したデータを再生したときの再生信号のジッタが悪化し、また、再生信号のエラーレート（ＰＩエラー）が劣化してしまい、光記録媒体の光学的特性が著しく低下するという問題があった。
【０００９】
かかる問題は、ハードコート層を形成した後に、ハードコート層をアニール処理することなどによって解決することができるが、一旦、形成されたハードコート層をアニール処理する場合などには、生産性が高いインライン製造や生産ラインを一本化することが困難であり、したがって、光記録媒体の製造工程数の増加に伴って、光記録媒体の製造コストが高くなるだけでなく、生産性が著しく悪化してしまう。
【００１０】
また、反射層が容易に変質され、腐食されるという問題は、Ａｇを主成分として含む優れた耐食性を有する合金材料を用いて、反射層を形成することによって解決することができるが、このような合金材料は非常に高価であるため、光記録媒体の製造コストが高くなってしまうという問題があった。
【００１１】
したがって、本発明の目的は、低コストで、かつ、高い生産性をもって、ハードコート層を備え、かつ、反射層の変質や腐食が効果的に抑制された光記録媒体を製造することができる光記録媒体の製造方法を提供することにある。
【００１２】
また、本発明の別の目的は、低コストで、優れた光学的特性を有するハードコート層を備えた光記録媒体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明者は、本発明のかかる目的を達成するため、鋭意研究を重ねた結果、基板のレーザビームが入射すべき面に、ハードコート層を形成し、次いで、ハードコート層に対して、基板の反対側の面に、気相成長法によって、高真空中で、記録層や反射層などを形成する際に、ハードコート層を形成するために用いられた紫外線硬化性樹脂組成物に含まれた反応開始剤やその分解物などが、ガス化して、形成されつつある記録層や反射層に取り込まれ、あるいは、形成された記録層表面や反射層表面に吸着または接触することによって、Ａｇからなる材料によって形成された反射層に悪影響を与え、その結果、反射層が変質され、腐食されやすいことを見出した。
【００１４】
本発明者はかかる知見に基づいて、さらに研究を重ねた結果、基板のレーザビームが入射すべき面に、低揮発性の反応開始剤を含む紫外線硬化性樹脂組成物によって、ハードコート層を形成し、次いで、ハードコート層に対して、基板の反対側の面に、気相成長法によって、高真空中で、記録層や反射層などを形成した場合には、反射層を形成するための材料として安価なＡｇを用いても、反射層が変質し、腐食することを効果的に防止して、ハードコート層を備えた光記録媒体を製造することが可能になり、また、単に、紫外線硬化性樹脂組成物によって、ハードコート層を形成するだけで、一旦、形成したハードコート層をアニール処理などする必要がないから、生産性が高いインライン製造や生産ラインを一本化することが容易になり、したがって、低コストで、かつ、高い生産性をもって、ハードコート層を備え、かつ、反射層の変質や腐食が効果的に抑制された光記録媒体を製造し得ることを見出した。
【００１５】
本発明はかかる知見に基づくものであり、本発明によれば、本発明の前記目的は、光透過性を有する基板のレーザビームが入射すべき面に、低揮発性の反応開始剤を含む紫外線硬化性樹脂組成物を、塗布して、塗膜を形成し、前記塗膜に紫外線を照射して、前記塗膜を硬化させて、ハードコート層を形成し、前記ハードコート層に対して、前記基板の反対側の面に、気相成長法によって、Ａｇからなる材料で、反射層を形成することを特徴とする光記録媒体の製造方法によって達成される。
【００１６】
本明細書において、「Ａｇからなる材料」とは、Ａｇのみからなる材料に加えて、不可避的な不純物を除いてＡｇからなる材料を含んでいる。
【００１７】
本発明において、ハードコート層を形成するための紫外線硬化性樹脂組成物は、紫外線硬化性オリゴマーまたは紫外線硬化性モノマー、および、低揮発性の反応開始剤を含んでいる。
【００１８】
この紫外線硬化性樹脂組成物は、紫外線が照射されて、硬化されると、その後に、気相成長法によって、真空中で、記録層や反射層などを形成する際に、高真空中でも、紫外線硬化性樹脂組成物に含まれた反応開始剤またはその分解物のガスなどを発生することが少ないから、この紫外線硬化性樹脂組成物によって、ハードコート層を形成した場合には、その後に、Ａｇからなる材料によって反射層を形成しても、反射層が変質し、腐食することを効果的に抑制することができる。
【００１９】
したがって、この紫外線硬化性樹脂組成物を用いて、ハードコート層を形成した場合には、その後に、安価なＡｇからなる材料によって反射層を形成することが可能になるとともに、反射層が変質し、腐食することを効果的に抑制することができるため、初期からより高品位の電気信号（ノイズ成分が少ない）が得られ、このハードコート層を備えた光記録媒体を長い期間にわたって保存することもできるから、優れた光学的特性を有するハードコート層を備えた光記録媒体を製造することが可能になる。
【００２０】
また、この紫外線硬化性樹脂組成物を用いて、ハードコート層を形成した場合には、単に、紫外線硬化性樹脂組成物によってハードコート層を形成するだけで、形成したハードコート層をアニール処理などする必要がないから、生産性が高いインライン製造や生産ラインを一本化することが容易になり、したがって、低コストで、かつ、高い生産性をもって、反射層が変質し、腐食することが効果的に抑制された光記録媒体を製造することが可能になる。
【００２１】
本発明において、反射層を形成するために用いられる気相成長法は、真空中で行われるものであれば、とくに限定されるものではないが、たとえば、真空蒸着法、スパッタリング法などが挙げられ、スパッタリング法によって、反射層が形成されることが好ましい。
【００２２】
本発明において、紫外線硬化性樹脂組成物に含まれている反応開始剤は、反応開始剤自体、または、紫外線が照射されることによって、分解された反応開始剤の分解物や変性物などが、低揮発性を有しているものであれば、とくに限定されるものではなく、たとえば、紫外線が照射されて紫外線硬化性樹脂組成物が硬化する際に、反応開始剤またはその分解物が、紫外線硬化性オリゴマーまたは紫外線硬化性モノマーと共重合し、紫外線硬化性オリゴマーまたは紫外線硬化性モノマーとともに、ハードコート層を形成することが可能になるように、少なくとも１つのラジカル反応性基を有する共重合可能な反応開始剤、または、分子量が比較的大きく、その揮発性を低下させた高分子量の反応開始剤などが挙げられる。
【００２３】
本発明において、少なくとも１つのラジカル反応性基を有する共重合可能な反応開始剤としては、反応開始剤が少なくとも１つのラジカル反応性基を有していれば、とくに限定されるものではない。反応開始剤が少なくとも１つのラジカル反応性基を有している場合には、紫外線硬化性樹脂組成物が硬化する際に、反応開始剤またはその分解物が、紫外線硬化性オリゴマーまたは紫外線硬化性モノマーと共重合し、これらとともに、ハードコート層を形成しうるから、反応開始剤またはその分解物のガスなどが発生することを効果的に抑制することが可能になる。
【００２４】
本明細書において、ラジカル反応性基は、紫外線を照射することによって、ラジカル重合反応しうる基であれば、とくに限定されるものではないが、エチレン性不飽和結合であることが好ましく、ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ）−基（ここに、Ｒは、水素原子またはメチル基である。）、あるいは、ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ）−ＣＯＯ−基（ここに、Ｒは、水素原子またはメチル基である。）であることがとくに好ましい。
【００２５】
本発明において、共重合可能な反応開始剤として、２つ以上のラジカル反応性基を有している反応開始剤を用いることもできる。２つ以上のラジカル反応性基を有している反応開始剤を用いる場合には、反応開始剤またはその分解物が、紫外線硬化性オリゴマーまたは紫外線硬化性モノマーと共重合しやすくなり、反応開始剤またはその分解物のガスなどを発生することを効果的に抑制することが可能になる。
【００２６】
このような２つ以上のラジカル反応性基を有している反応開始剤としては、紫外線が照射されて反応開始剤が解裂または分解した場合に、発生するそれぞれの分解物などに少なくとも１つのラジカル反応性基を有するように、反応開始剤が２つ以上のラジカル反応性基を有していることが好ましい。それぞれの分解物などに少なくとも１つのラジカル反応性基を有している場合には、それぞれの分解物などを紫外線硬化性オリゴマーまたは紫外線硬化性モノマーと共重合させることができ、これらのガスなどを発生することを、より一層、効果的に抑制することが可能になる。
【００２７】
本発明において、高分子量の反応開始剤としては、反応開始剤が高分子量を有しているものであれば、とくに限定されるものではないが、たとえば、上述の共重合可能な反応開始剤の分子中に有する少なくとも１つのラジカル反応性基を、ラジカル重合させて、オリゴマーまたはポリマーとした反応開始剤が好ましい。反応開始剤が、オリゴマーまたはポリマーとされた場合には、反応開始剤自体の揮発性が低下し、また、その分解物なども高分子量となるため、これらのガスなどを発生することを効果的に抑制することが可能になる。
【００２８】
本明細書において、オリゴマーまたはポリマーとされた反応開始剤の数平均分子量は、とくに限定されるものではないが、たとえば、２０００以上、好ましくは、３０００以上であることが好ましい。
【００２９】
また、本発明者のさらなる研究によれば、紫外線が照射されて反応開始剤が解裂または分解した分解物などがベンゾイルラジカル部分を含んでいる場合には、反射層が変質され、腐食されやくなることが見出されている。
【００３０】
したがって、本発明においては、上述した反応開始剤のなかでも、紫外線が照射されて、解裂または分解したときに、ベンゾイルラジカルを発生する部分に、ラジカル反応性基の少なくとも１つを有していること、または、ベンゾイルラジカルを発生する部分が、オリゴマーまたはポリマーの主鎖に結合していることがより好ましい。紫外線が照射されて、解裂または分解したときに、ベンゾイルラジカルを発生する部分に、ラジカル反応性基の少なくとも１つを有している場合には、ベンゾイルラジカルを発生しても、ベンゾイルラジカルを発生する部分が、紫外線硬化性オリゴマーまたは紫外線硬化性モノマーと共重合し、これらとともに、ハードコート層を形成するから、または、ベンゾイルラジカルを発生する部分が、オリゴマーまたはポリマーの主鎖に結合している場合には、高分子量であって低揮発性を有しているから、ベンゾイルラジカルを発生する部分のガスなどが発生することを、より一層、効果的に抑制することが可能になる。
【００３１】
また、本発明者の研究によれば、紫外線が照射されて反応開始剤が解裂または分解したときに、発生するガスなどが、構成原子として、イオウ原子および塩素原子を含んでいる場合には、Ａｇからなる材料によって形成された反射層が変質され、腐食されやすいことが見出されている。
【００３２】
したがって、本発明においては、上述した反応開始剤のなかでも、紫外線が照射されて、反応開始剤が、解裂または分解したときに、ラジカル反応性基を有する部分以外の部分、または、オリゴマーまたはポリマーの主鎖に結合している部分以外の部分に、構成原子として、イオウ原子および塩素原子を含んでいないことがさらに好ましい。紫外線が照射されて、反応開始剤が、解裂または分解したときに、ラジカル反応性基を有する部分以外の部分、または、オリゴマーまたはポリマーの主鎖に結合している部分以外の部分に、構成原子として、イオウ原子および塩素原子を含んでいない場合には、この部分がガス化したとしても、Ａｇからなる材料によって形成された反射層に、大きな悪影響を与えることが少なく、したがって、反射層が変質され、腐食されることを確実に防止することが可能になる。
【００３３】
本発明において、反応開始剤の含有量は、とくに限定されるものではないが、たとえば、紫外線硬化性樹脂組成物の総質量に対して、０．３質量％ないし７質量％程度であることが好ましく、０．５質量％ないし５質量％程度であることがより好ましい。反応開始剤の含有量が、０．３質量％未満であると、紫外線硬化性樹脂組成物を充分に硬化させることが困難であり、７質量％を超えていると、反応開始剤自身が不純物として働きハードコート層の特性、とくに表面硬度を低下させてしまうおそれがあり、また、反応開始剤やその分解物などに由来するガスが増えるため、記録層や反射層に悪影響を与え、その結果的、光記録媒体の光学的特性が著しく低下してしまうおそれがある。
【００３４】
本発明において、低揮発性の反応開始剤を含む紫外線硬化性樹脂組成物は、基板のレーザビームが入射すべき面に、塗布されて、ハードコート層とされるため、紫外線硬化性樹脂組成物は、ハードコート層とされたときに、６５０ｎｍ程度の波長を有するレーザビームに対して、高い光透過率を有していることが必要である。
【００３５】
本発明において、紫外線硬化性樹脂組成物は、紫外線硬化性オリゴマーまたは紫外線硬化性モノマーおよび低揮発性の反応開始剤を含んでいればよく、これらに加えて、所望により、増感剤、光開始助剤などを添加してもよい。紫外線硬化性樹脂組成物が、さらに、増感剤、光開始助剤などを含んでいる場合には、紫外線硬化性樹脂組成物の硬化性を向上させることができ、より一層、高い表面硬度を有するハードコート層を形成することが可能になる。
【００３６】
また、紫外線硬化性樹脂組成物は、ハードコート層の特性を向上させるための無機微粒子、撥水性、撥油性および潤滑性に優れた表面を形成するためのシリコーン系化合物またはフッ素系化合物、有機フィラー、重合禁止剤、酸化防止剤、光安定剤、消泡剤、レベリング剤、顔料、帯電防止剤などの添加剤を含んでいてもよい。紫外線硬化性樹脂組成物が、これらの添加剤を含んでいる場合には、ハードコート層の表面硬度が、より一層、高くなり、また、ハードコート層表面のスリップ性が向上して、ハードコート層表面が傷つきにくくなり、さらに、ハードコート層表面にゴミなどが付着しにくくなる。
【００３７】
本発明において、低揮発性の反応開始剤を含む紫外線硬化性樹脂組成物によって、ハードコート層を形成する方法は、とくに限定されるものではないが、たとえば、基板のレーザビームが入射すべき面に、低揮発性の反応開始剤を含む紫外線硬化性樹脂組成物を、塗布して、塗膜を形成し、塗膜に紫外線を照射して、塗膜を硬化させて、ハードコート層を形成する方法、あるいは、低揮発性の反応開始剤を含む紫外線硬化性樹脂組成物によって、成形された樹脂フィルムを、基板のレーザビームが入射すべき面に、接着剤によって、貼り合わせて、ハードコート層を形成する方法などが挙げられる。
【００３８】
本発明においては、ハードコート層が、基板のレーザビームが入射すべき面に、低揮発性の反応開始剤を含む紫外線硬化性樹脂組成物を、塗布して、塗膜を形成し、塗膜に紫外線を照射して、塗膜を硬化させて、形成されることが、生産性が高く、好ましい。このようにしてハードコート層を形成する場合には、紫外線硬化性樹脂組成物は、スピンコーティング法によって、塗布されることが好ましいが、その塗布方法は、とくに限定されるものではない。
【００３９】
基板のレーザビームが入射すべき面に、紫外線硬化性樹脂組成物を、塗布して、塗膜を形成し、塗膜に紫外線を照射して、塗膜を硬化させて、ハードコート層を形成する際に、紫外線を照射する際の雰囲気は、とくに限定されるものではないが、窒素ガス、希ガス、二酸化炭素ガスなどの不活性ガス雰囲気中で、紫外線を照射することが好ましい。不活性ガス雰囲気中で、紫外線を照射する場合には、紫外線硬化性樹脂組成物を硬化させる際に、酸素阻害を防止することができるため、ハードコート層表面の架橋密度を向上させることができ、したがって、高い表面硬度を有するハードコート層を形成することが可能になる。
【００４０】
基板のレーザビームが入射すべき面に、紫外線硬化性樹脂組成物を塗布して、塗膜を形成し、前記塗膜に紫外線を照射して、前記塗膜を硬化させて、ハードコート層を形成する際に、紫外線の照射量などは、紫外線硬化性樹脂組成物が硬化するのに十分な量の紫外線が照射されれば、とくに限定されるものではないが、たとえば、高圧水銀灯などを用いて、照度７００ｍＷ／ｃｍ２以上、照射量１．０Ｊ／ｃｍ２以上の照射条件で、紫外線を照射することが好ましい。この照射条件で、紫外線を照射する場合には、反応開始剤を速やかに分解して、ラジカルを効率的に発生させることができるため、ハードコート層表面の架橋密度を向上させることができ、したがって、高い表面硬度を有するハードコート層を形成することが可能になる。
【００４１】
本発明の光記録媒体の製造方法によって製造可能な光記録媒体は、基板の表面にプリピットが形成された再生専用型（ＲＯＭ型）のＤＶＤとして構成されていてもよく、また、基板と反射層との間に、さらに、記録層を備えたＤＶＤとして構成されていてもよい。記録層は、とくに限定されるものではなく、有機色素や無機材料などを含む一層または二層以上の追記型の記録層として構成されていても、相変化材料を含む書き換え型の記録層として構成されていてもよい。
【００４２】
また、本発明の別の目的は、少なくとも、光透過性を有する基板と、ダミー基板と、前記基板と前記ダミー基板との間に、Ａｇからなる材料によって形成された反射層と、前記反射層と前記ダミー基板との間に設けられた接着層と、前記基板のレーザビームが入射すべき面に、紫外線硬化性樹脂組成物に含まれた低揮発性の反応開始剤またはその分解物などが含まれているハードコート層とを備えた光記録媒体によって達成される。
【００４３】
本発明において、ハードコート層に、低揮発性の反応開始剤またはその分解物などが含まれていることは、高真空中に、ハードコート層を放置して、ハードコート層からガス化した成分を捕捉し、または、ハードコート層を溶剤中に浸漬し、ハードコート層から溶出した成分を抽出し、これらの成分を、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）や高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）で、容易に確認することができる。
【００４４】
本発明者の研究によれば、ハードコート層に、低揮発性の反応開始剤またはその分解物などが含まれており、これらは、ハードコート層を形成し、または、揮発性が低いから、ハードコート層から反応開始剤またはその分解物のガスなどを発生することが少なく、したがって、反射層が変質され、腐食されることがなく、反射層を形成するための材料として安価なＡｇからなる材料を用いても、反射層が変質し、腐食することを効果的に抑制することができるから、光記録媒体に記録したデータを再生したときの再生信号のジッタが悪化し、また、再生信号のエラーレート（ＰＩエラー）が劣化することを効果的に防止することが可能になる。
【００４５】
本発明において、光記録媒体は、前記基板の表面にプリピットが形成された再生専用型（ＲＯＭ型）のＤＶＤとして構成されていてもよく、また、前記基板と前記反射層との間に記録層を、さらに、備えたＤＶＤとして構成されていてもよい。記録層は、とくに限定されるものではなく、有機色素や無機材料などを含む一層または二層以上の追記型の記録層として構成されていても、相変化材料を含む書き換え型の記録層として構成されていてもよい。
【００４６】
本発明において、前記光記録媒体は、さらに、前記反射層と前記接着層の間に、保護層を備えていることが好ましい。
【発明の効果】
【００４７】
本発明によれば、低コストで、かつ、高い生産性をもって、ハードコート層を備え、かつ、反射層の変質や腐食が効果的に抑制された光記録媒体を製造することができる光記録媒体の製造方法を提供することが可能になる。
【００４８】
また、本発明によれば、低コストで、優れた光学的特性を有するハードコート層を備えた光記録媒体を提供することが可能になる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４９】
本発明において、ハードコート層を形成するための紫外線硬化性樹脂組成物は、紫外線硬化性オリゴマーまたは紫外線硬化性モノマー、ならびに、低揮発性の反応開始剤を含んでいる。
【００５０】
この紫外線硬化性樹脂組成物は、反応開始剤またはその分解物のガスなどを発生することが少ないから、この紫外線硬化性樹脂組成物によってハードコート層を形成した場合には、その後に、Ａｇからなる材料によって反射層を形成しても、反射層が変質し、腐食することを効果的に抑制することができる。
【００５１】
したがって、この紫外線硬化性樹脂組成物を用いて、ハードコート層を形成した場合には、その後に、安価なＡｇからなる材料によって反射層を形成することが可能になるとともに、反射層が変質し、腐食することを効果的に抑制することができるため、初期からより高品位の電気信号（ノイズ成分が少ない）が得られ、このハードコート層を備えた光記録媒体を長い期間にわたって保存することもできるから、優れた光学的特性を有するハードコート層を備えた光記録媒体を製造することが可能になる。
【００５２】
本発明において、低揮発性の反応開始剤を含む紫外線硬化性樹脂組成物は、基板のレーザビームが入射すべき面に、塗布されて、ハードコート層とされるため、紫外線硬化性樹脂組成物は、ハードコート層とされたときに、６５０ｎｍ程度の波長を有するレーザビームに対して、高い光透過率を有していることが必要である。
【００５３】
本発明において、紫外線硬化性樹脂組成物に含まれている反応開始剤は、反応開始剤自体、または、紫外線が照射されることによって、分解された反応開始剤の分解物や変性物などが、低揮発性を有しているものであれば、とくに限定されるものではなく、たとえば、紫外線が照射されて紫外線硬化性樹脂組成物が硬化する際に、反応開始剤またはその分解物が、紫外線硬化性オリゴマーまたは紫外線硬化性モノマーと共重合し、紫外線硬化性オリゴマーまたは紫外線硬化性モノマーとともに、ハードコート層を形成することが可能になるように、少なくとも１つのラジカル反応性基を有する共重合可能な反応開始剤、または、分子量が比較的大きく、その揮発性を低下させた高分子量の反応開始剤などが挙げられる。
【００５４】
本発明において、少なくとも１つのラジカル反応性基を有する共重合可能な反応開始剤としては、反応開始剤が少なくとも１つのラジカル反応性基を有していれば、とくに限定されるものではない。この場合には、反応開始剤またはその分解物のガスなどが発生することを効果的に抑制することが可能になる。
【００５５】
このような共重合可能な反応開始剤としては、たとえば、４−（２−アクリロイルオキシエトキシ）フェニル−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−［４−（１−メチルビニル）フェニル］プロパン、アクリル化ベンゾフェノン（たとえば、ダイセルＵＣＢ株式会社製、商品名「ＥＢ Ｐ３６」）などが挙げられる。
【００５６】
このような少なくとも１つのラジカル反応性基を有している反応開始剤は、市販品を用いてもよく、また、通常の方法により、適宜製造してもよい。たとえば、４−（２−アクリロイルオキシエトキシ）フェニル−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトンは、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン（たとえば、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製、商品名：「イルガキュア２９５９」）の４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル基のヒドロキシ基と、アクリル酸クロライドなどを選択的に反応させることによって、製造することができる。
【００５７】
本発明において、共重合可能な反応開始剤として、２つ以上のラジカル反応性基を有している反応開始剤を用いることもできる。この場合には、反応開始剤またはその分解物のガスなどを発生することを効果的に抑制することが可能になる。
【００５８】
このような２つ以上のラジカル反応性基を有している反応開始剤としては、紫外線が照射されて反応開始剤が解裂または分解した場合に、発生するそれぞれの分解物などに少なくとも１つのラジカル反応性基を有するように、反応開始剤が２つ以上のラジカル反応性基を有していることが好ましい。この場合には、それぞれの分解物などを紫外線硬化性オリゴマーまたは紫外線硬化性モノマーと共重合させることができ、これらのガスなどを発生することを、より一層、効果的に抑制することが可能になる。
【００５９】
また、本発明において、高分子量の反応開始剤としては、反応開始剤が高分子量を有しているものであれば、とくに限定されるものではないが、たとえば、上述の共重合可能な反応開始剤の分子中に有する少なくとも１つのラジカル反応性基を、ラジカル重合させて、オリゴマーまたはポリマーとした反応開始剤が好ましい。この場合には、反応開始剤またはその分解物のガスなどが発生することを効果的に抑制することが可能になる。
【００６０】
このような高分子量の反応開始剤としては、たとえば、上述の共重合可能な反応開始剤を重合させた反応開始剤が挙げられ、より具体的には、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−［４−（１−メチルビニル）フェニル］プロパンを重合させた２−ヒドロキシ−２−メチル−１−［４−（１−メチルビニル）フェニル］プロパンのオリゴマー（たとえば、日本シイベルヘグナー株式会社製、商品名「ＫＩＰ１５０」）などが挙げられる。
【００６１】
このような高分子量の反応開始剤は、市販品を用いてもよく、また、通常の方法により、上述の共重合可能な反応開始剤を適宜重合させて製造してもよい。
【００６２】
また、本発明者のさらなる研究によれば、紫外線が照射されて反応開始剤が解裂または分解した分解物などがベンゾイルラジカル部分を含んでいる場合には、反射層が変質され、腐食されやくなることが見出されている。
【００６３】
したがって、本発明においては、上述した反応開始剤のなかでも、紫外線が照射されて、解裂または分解したときに、ベンゾイルラジカルを発生する部分に、ラジカル反応性基の少なくとも１つを有していること、または、ベンゾイルラジカルを発生する部分が、オリゴマーまたはポリマーの主鎖に結合していることがより好ましい。これらの場合には、ベンゾイルラジカルを発生する部分のガスなどが発生することを、より一層、効果的に抑制することが可能になる。
【００６４】
また、本発明者の研究によれば、紫外線が照射されて反応開始剤が解裂または分解したときに、発生するガスなどが、構成原子として、イオウ原子および塩素原子を含んでいる場合には、Ａｇからなる材料によって形成された反射層が変質され、腐食されやすいことが見出されている。
【００６５】
したがって、本発明においては、上述した反応開始剤のなかでも、紫外線が照射されて、反応開始剤が、解裂または分解したときに、ラジカル反応性基を有する部分以外の部分、または、オリゴマーまたはポリマーの主鎖に結合している部分以外の部分に、構成原子として、イオウ原子および塩素原子を含んでいないことがさらに好ましい。この場合には、反射層が変質され、腐食されることを確実に防止することが可能になる。
【００６６】
本発明において、反応開始剤は、一種単独で用いてもよいし、二種以上を混合して用いてもよい。
【００６７】
本発明において、反応開始剤の含有量は、とくに限定されるものではないが、たとえば、紫外線硬化性樹脂組成物の総質量に対して、０．３質量％ないし７質量％程度であることが好ましく、０．５質量％ないし５質量％程度であることがより好ましい。反応開始剤の含有量が、０．３質量％未満であると、紫外線硬化性樹脂組成物を充分に硬化させることが困難であり、７質量％を超えていると、反応開始剤自身が不純物として働きハードコート層の特性、とくに表面硬度を低下させてしまうおそれがあり、また、反応開始剤やその分解物などに由来するガスが増えるため、記録層や反射層に悪影響を与え、その結果的、光記録媒体の光学的特性が著しく低下してしまうおそれがある。
【００６８】
紫外線硬化性樹脂組成物に含まれている紫外線硬化性オリゴマーまたは紫外線硬化性モノマーは、６５０ｎｍ程度の波長を有するレーザビームに対して、高い光透過率を有し、（メタ）アクリロイル基、ビニル基およびアリル基からなる群から選ばれる少なくとも１つの重合性基を有しているオリゴマーまたはモノマーであれば、とくに限定されるものではない。紫外線硬化性オリゴマーまたは紫外線硬化性モノマーは、一種単独で用いてもよいし、二種以上を混合して用いてもよい。
【００６９】
本発明において、紫外線硬化性樹脂組成物がさらに増感剤を含んでいることが好ましい。紫外線硬化性樹脂組成物がさらに増感剤を含んでいる場合には、紫外線硬化性樹脂組成物の硬化性を向上させることができ、より一層、高い表面硬度を有するハードコート層を形成することが可能になる。
【００７０】
本発明において、増感剤は、とくに限定されるものではないが、構成原子として、イオウ原子および塩素原子を含んでいないことがより好ましい。構成原子として、イオウ原子および塩素原子を含んでいない増感剤を用いる場合には、Ａｇからなる反射層の変質や腐食を防止することができる。このような増感剤の具体例としては、たとえば、カンファーキノン、３−クマリン、アンスラキノン、トリベンジルアミン、Ｎ−エチルモルホリン、α−ナフチル、アセナフセン、Ｐ，Ｐ’−ジメトキシベンジルなどを挙げることができる。
【００７１】
増感剤の含有量は、とくに限定されるものではないが、１００質量部の反応開始剤に対して、０．５質量部ないし５０質量部であることが好ましく、５質量部ないし１０質量部であることがより好ましい。増感剤の含有量が、０．５質量部未満であると、増感剤を含ませた効果が充分に発揮されず、５０質量部を超えていると、形成されるハードコート層が着色する場合がある。
【００７２】
また、本発明において、紫外線硬化性樹脂組成物が、さらに、光開始助剤を含んでいることがより好ましい。紫外線硬化性樹脂組成物が、さらに、光開始助剤を含んでいる場合には、より一層、高い表面硬度を有するハードコート層を形成することが可能になる。
【００７３】
本発明において、光開始助剤は、とくに限定されるものではないが、脂肪族アミン、芳香族アミンなどが好ましく用いられる。このような光開始助剤の具体例としては、たとえば、トリエチルアミン、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリプロパノールアミン、４，４’−ジメチルアミノベンゾフェノン、４，４’−ジエチルアミノベンゾフェノン、２−ジメチルアミノエチル安息香酸、２−ジメチルアミノエチル安息香酸エチルなどを挙げることができる。
【００７４】
光開始助剤の含有量は、とくに限定されるものではないが、１００質量部の反応開始剤に対して、０．５質量部ないし５０質量部であることが好ましく、５質量部ないし１０質量部であることがより好ましい。光開始助剤の含有量が、０．５質量部未満であると、光開始助剤を含ませた効果が充分に発揮されず、５０質量部を超えていると、反射層を形成する際に、ガス化して、反射層に悪影響を与えることがある。
【００７５】
本発明において、紫外線硬化性樹脂組成物は、紫外線硬化性オリゴマーまたは紫外線硬化性モノマーおよび低揮発性の反応開始剤を含んでいればよく、これらに加えて、所望により、ハードコート層の特性を向上させるための無機微粒子、撥水性、撥油性および潤滑性に優れた表面を形成するためのシリコーン系化合物またはフッ素系化合物、有機フィラー、重合禁止剤、酸化防止剤、光安定剤、消泡剤、レベリング剤、顔料、帯電防止剤などの添加剤を含んでいてもよい。紫外線硬化性樹脂組成物が、これらの添加剤を含んでいる場合には、ハードコート層の表面硬度が、より一層、高くなり、また、ハードコート層表面のスリップ性が向上して、ハードコート層表面が傷つきにくくなり、さらに、ハードコート層表面にゴミなどが付着しにくくなる。
【００７６】
紫外線硬化性樹脂組成物は、紫外線硬化性オリゴマーまたは紫外線硬化性モノマーと、低揮発性の反応開始剤と、所望により、増感剤、光開始助剤などの添加剤とを、常温（約２０℃）ないし８０℃の温度で、均一になるまで混合して、調製される。
【００７７】
以下、添付図面に基づいて、本発明の好ましい実施態様につき、詳細に説明を加える。
【００７８】
図１は、本発明の好ましい実施態様にかかる光記録媒体の製造方法によって、製造された光記録媒体の一部切り欠き略斜視図であり、図２は、図１において、Ａで示された部分の略拡大断面図である。
【００７９】
図１に示されるように、光記録媒体１０は、円盤状に形成され、１２０ｍｍの外径と、約１．２ｍｍの厚さを有している。
【００８０】
図２に示されるように、光記録媒体１０は、再生専用型（ＲＯＭ型）の光記録媒体として構成され、ハードコート層１１と、光透過性を有する基板１２と、反射層１３と、保護層１４と、接着層１５と、ダミー基板１６とを、この順に備えている。本実施態様においては、ハードコート層１１、基板１２、反射層１３、保護層１４によって、積層体２０が構成されている。
【００８１】
本実施態様においては、レーザビームＬは、ハードコート層１１および基板１２に照射され、ハードコート層１１の表面によって、光入射面１１ａが構成されている。
【００８２】
ハードコート層１１は、基板１２の表面に、傷がつくことを防止する機能を有しており、０．５μｍないし５μｍの厚さを有するように形成されることが好ましい。ハードコート層１１の厚さが、０．５μｍ未満であると、ハードコート層１１としての機能を十分に発揮することができず、一方、５μｍを超えていると、紫外線硬化性樹脂組成物を硬化してハードコート層１１を形成する際に、この組成物が硬化収縮することによって、光記録媒体１０に反りが発生してしまう場合がある。
【００８３】
本実施態様において、ハードコート層１１は、低揮発性の反応開始剤を含む紫外線硬化性樹脂組成物によって、形成されている。したがって、ハードコート層１１の形成後に、Ａｇからなる材料によって、高真空中で、反射層１３を形成する場合に、ハードコート層１１から、反応開始剤またはその分解物のガスなどを発生することが少ないから、この紫外線硬化性樹脂組成物によってハードコート層１１を形成した場合には、その後に、Ａｇからなる材料によって反射層１３を形成しても、反射層１３が変質し、腐食することを効果的に抑制することができる。
【００８４】
基板１２は、光記録媒体１０の機械的強度を確保する機能を有し、約０．６ｍｍの厚さを有している。ハードコート層１１に対して、基板１２の反対側の表面には、データが記録されたプリピット（図示しない）が形成されている。基板１１を形成するための材料としては、レーザビームＬの波長領域において光透過率が十分に高い材料であれば、とくに限定されるものではなく、たとえば、ポリカーボネート樹脂によって、形成される。
【００８５】
反射層１３は、基板１２を介して、入射したレーザビームＬを反射し、再び、基板１２から出射させる機能を有するとともに、さらに、多重干渉効果により再生信号（Ｃ／Ｎ比）を高める機能を有している。反射層１３は、Ａｇからなる材料によって、形成されている。反射層１３の厚さは、とくに限定されるものではないが、２０ｎｍないし２００ｎｍであることが好ましい。
【００８６】
保護層１４は、反射層１３を物理的および化学的に保護する機能を有している。保護層１４を形成するための材料としては、反射層１３を物理的および化学的に保護することができれば、とくに限定されるものではなく、たとえば、アクリル系の紫外線硬化型樹脂によって、形成される。
【００８７】
接着層１５は、ハードコート層１１と、基板１２と、反射層１３と、保護層１４とからなる積層体２０と、ダミー基板１６とを接着するための層であり、たとえば、紫外線硬化性樹脂を含む接着剤組成物によって、形成される。
【００８８】
ダミー基板１６は、光記録媒体１０に求められる厚さ（約１．２ｍｍ）を確保するための支持体として、機能し、約０．６ｍｍの厚さを有している。ダミー基板１６を形成するための材料は、とくに限定されるものではないが、たとえば、ポリカーボネート樹脂によって、形成される。
【００８９】
本実施態様によれば、以上のような構成を有する光記録媒体１０は、以下のようにして製造される。
【００９０】
まず、スタンパを用いて、表面に、プリピットを有する基板１２が、射出成形によって作製される。また、同様にして、表面に、プリピットが形成されていないダミー基板１６が、射出成型法によって、作製される。
【００９１】
次いで、プリピットが形成された基板１２のレーザビームが入射すべき面（プリピットが形成されていない表面）上に、ハードコート層１１が形成される。
【００９２】
本実施態様においては、ハードコート層１１は、基板１２のレーザビームが入射すべき面に、低揮発性の反応開始剤を含む紫外線硬化性樹脂組成物を、塗布して、塗膜を形成し、塗膜に紫外線を照射して、塗膜を硬化させて、形成される。
【００９３】
すなわち、ハードコート層１１を形成するにあたっては、まず、紫外線硬化性オリゴマーまたは紫外線硬化性モノマー、および、低揮発性の反応開始剤を含む紫外線硬化性樹脂組成物が調製される。
【００９４】
必要に応じて、この紫外線硬化性樹脂組成物の溶液が調製される。紫外線硬化性樹脂組成物の溶液を調製するために用いられる溶剤は、とくに限定されるものではなく、たとえば、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、酢酸ブチル、イソプロピルアルコールなどが用いられる。
【００９５】
紫外線硬化性樹脂組成物または紫外線硬化性樹脂組成物の溶液の塗布方法は、とくに限定されるものではなく、スピンコーティング法、ディップコーティング法、グラビアコーティング法などを用いることができるが、作業性に優れる点で、スピンコーティング法が、好ましく使用される。
【００９６】
紫外線硬化性樹脂組成物の塗布量は、とくに限定されるものではないが、所望の厚さを有するハードコート層１１が形成されるように、紫外線硬化性樹脂組成物の塗布量を決定することが好ましい。
【００９７】
本実施態様において、紫外線硬化性樹脂組成物が溶剤を含んでいる場合には、紫外線硬化性樹脂組成物を塗布して、塗膜を形成した後に、紫外線硬化性樹脂組成物を加熱して、溶剤を除去し、次いで、紫外線を照射して、塗膜を硬化させ、ハードコート層１１を形成することが好ましい。このときの乾燥条件は、紫外線硬化性樹脂組成物の溶液に含まれた溶剤を除去することができる条件であれば、とくに限定されるものではなく、たとえば、温度４０℃以上、８０℃以下で加熱されることが好ましい。
【００９８】
本実施態様において、塗膜に紫外線を照射する際の雰囲気は、とくに限定されるものではないが、窒素ガス、希ガス、二酸化炭素ガスなどの不活性ガス雰囲気中で、紫外線を照射することが好ましい。不活性ガス雰囲気中で、紫外線を照射する場合には、高い表面硬度を有するハードコート層１１を形成することが可能になる。
【００９９】
また、紫外線の照射量などは、紫外線硬化性樹脂組成物が硬化するのに十分な量の紫外線が照射されれば、とくに限定されるものではないが、たとえば、高圧水銀灯などを用いて、照度７００ｍＷ／ｃｍ２以上、照射量１．０Ｊ／ｃｍ２以上の照射条件で、塗膜に、紫外線を照射することが好ましい。この照射条件で、塗膜に紫外線を照射する場合には、高い表面硬度を有するハードコート層１１を形成することが可能になる。
【０１００】
このようにして、基板１２のレーザビームが入射すべき面に、ハードコート層１１が形成される。
【０１０１】
本実施態様においては、この紫外線硬化性樹脂組成物によって、単に、ハードコート層１１を形成するだけで、形成したハードコート層１１をアニール処理などする必要がないから、生産性が高いインライン製造や生産ラインを一本化することが容易になり、したがって、低コストで、かつ、高い生産性をもって、光記録媒体１０を製造することが可能になる。
【０１０２】
次いで、ハードコート層１１に対して、基板１２の反対側の面に、Ａｇからなる材料を用いて、気相成長法によって、反射層１３が形成される。気相成長法としては、真空中で行われるものであれば、とくに限定されるものではないが、たとえば、真空蒸着法、スパッタリング法などが挙げられるが、スパッタリング法によって、反射層１３が形成されることが好ましい。
【０１０３】
本実施態様において、紫外線硬化性樹脂組成物は、低揮発性の反応開始剤を含んでいるため、この紫外線硬化性樹脂組成物を用いて、ハードコート層１１を形成した後に、気相成長法によって、真空中で、記録層や反射層などを形成する際に、高真空中でも、紫外線硬化性樹脂組成物に含まれた反応開始剤またはその分解物のガスなどを発生することが少ないから、この紫外線硬化性樹脂組成物によってハードコート層１１を形成した場合には、その後に、Ａｇからなる材料によって反射層１３を形成しても、反射層１３が変質し、腐食することが効果的に抑制することができる。
【０１０４】
したがって、この紫外線硬化性樹脂組成物を用いて、ハードコート層１１を形成した場合には、その後に、安価なＡｇからなる材料によって反射層１３を形成することが可能になるとともに、反射層１３が変質し、腐食することを効果的に抑制することができるため、初期からより高品位の電気信号（ノイズ成分が少ない）が得られ、このハードコート層１１を備えた光記録媒体１０を長い期間にわたって保存することもできるから、優れた光学的特性を有するハードコート層１１を備えた光記録媒体１０を製造することが可能になる。
【０１０５】
次いで、反射層１３上に、紫外線硬化型アクリル樹脂によって、塗膜を形成し、塗膜に紫外線を照射して、硬化させ、保護層１４が形成される。
【０１０６】
このようにして、ハードコート層１１と、基板１２と、反射層１３と、保護層１４とを備えた積層体２０が作製される。
【０１０７】
次いで、保護層１４上に、紫外線硬化性樹脂を含む接着剤組成物によって、塗膜が形成され、塗膜の表面に、ダミー基板１６を貼り合わせ、ダミー基板１６側から紫外線を照射して、塗膜を硬化させて、接着層１５が形成され、光記録媒体１０が作製される。
【０１０８】
以上のように構成された光記録媒体１０においては、光入射面１１ａに、たとえば、６５０ｎｍ程度の波長を有するレーザビームＬが照射されて、データが再生される。
【実施例】
【０１０９】
以下、本発明の効果をより明瞭なものとするため、実施例を掲げる。
【０１１０】
まず、射出成型法により、約０．６ｍｍの厚さと、約１２０ｍｍの外径を有し、表面にプリピットが形成されたポリカーボネート樹脂からなるディスク状の基板を作製した。
【０１１１】
次いで、同様にして、射出成型法により、約０．６ｍｍの厚さと、約１２０ｍｍの外径を有し、表面にプリピットが形成されていないポリカーボネート樹脂からなるディスク状のダミー基板を作製した。
【０１１２】
次いで、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製、商品名：「イルガキュア２９５９」）とアクリル酸クロライドとを、定法にしたがって、反応させて、４−（２−アクリロイルオキシエトキシ）フェニル−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトンを得た。
【０１１３】
次いで、プロピレングリコールモノメチルエーテル（溶剤）６０質量部に、ジペンタエリスルトールヘキサアクリレート（紫外線硬化性モノマー、日本化薬株式会社製：商品名「ＤＰＨＡ」）３５質量部、テトラヒドロフルフリルアクリレート（紫外線硬化性モノマー、共栄社油脂株式会社製：商品名「ＴＨＦ−Ａ」）５質量部、および、４−（２−アクリロイルオキシエトキシ）フェニル−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン（反応開始剤、製造品）２．１質量部（紫外線硬化性樹脂組成物の総質量４２．１質量部に対して、５質量％）を加えて混合し、紫外線硬化性樹脂組成物の溶液を調製した。
【０１１４】
さらに、基板を、スピンコーティング装置にセットし、２ｇの紫外線硬化性樹脂組成物の溶液を、基板の中心孔近傍に吐出して、基板を、所定速度で、回転させて、紫外線硬化性樹脂組成物の溶液を基板の表面に展開し、塗膜を形成した。
【０１１５】
次いで、形成した塗膜を、温度８０℃で、３分時間にわたって、加熱し、乾燥させた。
【０１１６】
こうして得られた塗膜に、空気中、２５℃で、紫外線を、照度５００ｍＷ／ｃｍ２、照射量０．７Ｊ／ｃｍ２となるように、照射して、塗膜を硬化させ、３μｍの厚さを有するハードコート層を形成した。
【０１１７】
次いで、ハードコート層が形成された基板をスパッタリング装置にセットし、プリピットが形成された表面に、アルゴンガス雰囲気中で、Ａｇからなるターゲットを用いたスパッタリング法によって、１００ｎｍの厚さを有する反射層を形成した。
【０１１８】
次いで、ハードコート層および反射層が形成された基板を再び、スピンコーティング装置にセットし、反射膜上に、紫外線硬化型アクリル樹脂を吐出して、基板を、所定速度で、回転させて、紫外線硬化性樹脂組成物の溶液を反射層の表面に展開し、塗膜を形成し、塗膜に紫外線を照射して、硬化させ、保護層を形成した。
【０１１９】
さらに、保護層上に、紫外線硬化性樹脂を含む接着剤組成物を滴下して、塗膜を形成し、塗膜の表面に、ダミー基板を貼り合わせ、ダミー基板側から紫外線を照射して、塗膜を硬化させて、接着層を形成した。
【０１２０】
こうして、光記録媒体サンプル＃１を作製した。
【０１２１】
次いで、４−（２−アクリロイルオキシエトキシ）フェニル−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトンに代えて、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−［４−（１−メチルビニル）フェニル］プロパンを用いた点を除き、光記録媒体サンプル＃１と同様にして、光記録媒体サンプル＃２を作製した。
【０１２２】
次いで、４−（２−アクリロイルオキシエトキシ）フェニル−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトンに代えて、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−［４−（１−メチルビニル）フェニル］プロパンのオリゴマー（反応開始剤、日本シイベルヘグナー株式会社製、商品名：「ＫＩＰ−１５０」）を用いた点を除き、光記録媒体サンプル＃１と同様にして、光記録媒体サンプル＃３を作製した。
【０１２３】
次いで、紫外線硬化性樹脂組成物の溶液を塗布して得られた塗膜に、高圧水銀灯を用いて、窒素ガス雰囲気中、２５℃で、紫外線を、照度７００ｍＷ／ｃｍ２、照射量１．０Ｊ／ｃｍ２となるように、照射した点を除き、光記録媒体サンプル＃１と同様にして、光記録媒体サンプル＃４を作製した。
【０１２４】
次いで、４−（２−アクリロイルオキシエトキシ）フェニル−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトンに代えて、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン（反応開始剤、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製、商品名：「イルガキュア９０７」）を用いた点を除き、光記録媒体サンプル＃１と同様にして、光記録媒体比較サンプル＃１を作製した。
【０１２５】
次いで、４−（２−アクリロイルオキシエトキシ）フェニル−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトンに代えて、４−フェノキシジクロロアセトフェノンを用いた点を除き、光記録媒体サンプル＃１と同様にして、光記録媒体比較サンプル＃２を作製した。
【０１２６】
次いで、４−（２−アクリロイルオキシエトキシ）フェニル−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトンに代えて、チオキサントン（反応開始剤、日本曹達株式会社製、商品名：「ＴＸ」）を用いた点を除き、光記録媒体サンプル＃１と同様にして、光記録媒体比較サンプル＃３を作製した。
【０１２７】
次いで、４−（２−アクリロイルオキシエトキシ）フェニル−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトンに代えて、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノ−１−オン（反応開始剤、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製、商品名：「イルガキュア９０７」）を用い、さらに、Ａｇからなるターゲットに代えて、９８原子％のＡｇ、１原子％のＰｄおよび１原子％のＣｕを主成分とする合金からなるターゲットを用いた点を除き、光記録媒体サンプル＃１と同様にして、光記録媒体比較サンプル＃４を作製した。
【０１２８】
こうして得られた光記録媒体サンプル＃１ないし＃４および光記録媒体比較サンプル＃１ないし＃４を、８０℃、８５ＲＨ％の環境下に、５０時間にわたって、保存し、高温高湿保存試験を行い、高温高湿保存試験の前後における反射層の状態を、ハードコート層および基板を介して、目視で確認した。その結果、光記録媒体サンプル＃１ないし＃４および光記録媒体比較サンプル＃４においては、いずれも、高温高湿保存試験の前後において、反射層が変質され、または、腐食されていることを確認できなかったのに対し、光記録媒体比較サンプル＃１ないし＃３においては、いずれも、高温高湿保存試験の前後において、反射膜が変色しており、高温高湿保存試験によって、反射層が変質され、または、腐食されていることを確認できた。
【０１２９】
なお、光記録媒体サンプル＃１ないし＃４および光記録媒体比較サンプル＃４は、いずれも、高温高湿保存試験を行っても、再生信号のジッタが悪化し、再生信号のエラーレート（ＰＩエラー）が劣化することは確認できなかったのに対し、光記録媒体比較サンプル＃１ないし＃３は、いずれも、高温高湿保存試験を行った後は、再生信号のジッタが悪化し、再生信号のエラーレート（ＰＩエラー）も劣化していたことが確認できた。
【０１３０】
また、光記録媒体サンプル＃１ないし＃４および光記録媒体比較サンプル＃１ないし＃４のハードコート層の表面硬度を、ＪＩＳ−Ｋ７２０４：１９９９に準拠して、摩耗輪試験したところ、光記録媒体サンプル＃１ないし＃３は、いずれにおいても、光記録媒体比較サンプル＃１ないし＃４と同等の硬度を有しており、光記録媒体サンプル＃４は、光記録媒体比較サンプル＃１ないし＃４よりも高い表面硬度を有していた。
【０１３１】
本発明は、以上の実施態様に限定されることなく、特許請求の範囲に記載された発明の範囲内で種々の変更が可能であり、それらも本発明の範囲内に包含されるものであることはいうまでもない。
【０１３２】
たとえば、前記実施態様においては、基板１１およびダミー基板１６を、スタンパを用いて、射出成形によって、形成しているが、２Ｐ法などの他の方法によって、基板１１およびダミー基板１６を作製してもよい。
【０１３３】
さらに、前記実施態様においては、光記録媒体１０は、再生専用型（ＲＯＭ型）の光記録媒体として構成されているが、光記録媒体１０が、ＲＯＭ型の光記録媒体として構成されていることは必ずしも必要でなく、有機色素や無機材料などを含む一層または二層以上の追記型の記録層が、基板の表面上に形成されて追記型の光記録媒体として構成されても、相変化材料を含む書き換え型の記録層が、基板の表面上に形成されて書き換え型の光記録媒体として、構成されていてもよい。
【０１３４】
また、前記実施態様においては、光記録媒体１０は、データが記録されたプリピット（図示しない）が予め形成された基板１２の表面と、反射層１３とをよって形成された一層の情報層を備えているが、光記録媒体が一層の情報層を備えていることは必ずしも必要でなく、光記録媒体が２以上の情報層を備えていてもよい。
【図面の簡単な説明】
【０１３５】
【図１】図１は、本発明の好ましい実施態様にかかる光記録媒体の製造方法によって、製造された光記録媒体の一部切り欠き略斜視図である。
【図２】図２は、図１において、Ａで示された部分の略拡大断面図である。
【符号の説明】
【０１３６】
１０ 光記録媒体
１１ ハードコート層
１２ 基板
１３ 反射層
１４ 保護層
１５ 接着層
１６ ダミー基板
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光透過性を有する基板のレーザビームが入射すべき面に、低揮発性の反応開始剤を含む紫外線硬化性樹脂組成物を、塗布して、塗膜を形成し、前記塗膜に紫外線を照射して、前記塗膜を硬化させて、ハードコート層を形成し、前記ハードコート層に対して、前記基板の反対側の面に、気相成長法によって、Ａｇからなる材料で、反射層を形成することを特徴とする光記録媒体の製造方法。
【請求項２】
前記低揮発性の反応開始剤が、少なくとも１つのラジカル反応性基を有する共重合可能な反応開始剤、または、高分子量の反応開始剤であることを特徴とする請求項１に記載の光記録媒体の製造方法。
【請求項３】
前記共重合可能な反応開始剤が、紫外線が照射されて、解裂または分解したときに、前記ラジカル反応性基を有している部分以外の部分に、構成原子として、イオウ原子および塩素原子を含んでいないことを特徴とする請求項２に記載の光記録媒体の製造方法。
【請求項４】
前記高分子量の反応開始剤が、紫外線が照射されて、解裂または分解したときに、オリゴマーまたはポリマーの主鎖に結合している部分以外の部分に、構成原子として、イオウ原子および塩素原子を含んでいないことを特徴とする請求項２に記載の光記録媒体の製造方法。
【請求項５】
少なくとも、光透過性を有する基板と、ダミー基板と、前記基板と前記ダミー基板との間に、Ａｇからなる材料によって形成された反射層と、前記反射層と前記ダミー基板との間に設けられた接着層と、前記基板のレーザビームが入射すべき面に、紫外線硬化性樹脂組成物に含まれた低揮発性の反応開始剤またはその分解物が含まれているハードコート層とを備えた光記録媒体。
【請求項１】
光透過性を有する基板のレーザビームが入射すべき面に、低揮発性の反応開始剤を含む紫外線硬化性樹脂組成物を、塗布して、塗膜を形成し、前記塗膜に紫外線を照射して、前記塗膜を硬化させて、ハードコート層を形成し、前記ハードコート層に対して、前記基板の反対側の面に、気相成長法によって、Ａｇからなる材料で、反射層を形成することを特徴とする光記録媒体の製造方法。
【請求項２】
前記低揮発性の反応開始剤が、少なくとも１つのラジカル反応性基を有する共重合可能な反応開始剤、または、高分子量の反応開始剤であることを特徴とする請求項１に記載の光記録媒体の製造方法。
【請求項３】
前記共重合可能な反応開始剤が、紫外線が照射されて、解裂または分解したときに、前記ラジカル反応性基を有している部分以外の部分に、構成原子として、イオウ原子および塩素原子を含んでいないことを特徴とする請求項２に記載の光記録媒体の製造方法。
【請求項４】
前記高分子量の反応開始剤が、紫外線が照射されて、解裂または分解したときに、オリゴマーまたはポリマーの主鎖に結合している部分以外の部分に、構成原子として、イオウ原子および塩素原子を含んでいないことを特徴とする請求項２に記載の光記録媒体の製造方法。
【請求項５】
少なくとも、光透過性を有する基板と、ダミー基板と、前記基板と前記ダミー基板との間に、Ａｇからなる材料によって形成された反射層と、前記反射層と前記ダミー基板との間に設けられた接着層と、前記基板のレーザビームが入射すべき面に、紫外線硬化性樹脂組成物に含まれた低揮発性の反応開始剤またはその分解物が含まれているハードコート層とを備えた光記録媒体。
【図１】
【図２】
【図２】
【公開番号】特開２００６−５３９９７（Ｐ２００６−５３９９７Ａ）
【公開日】平成１８年２月２３日（２００６．２．２３）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００４−２３５０２６（Ｐ２００４−２３５０２６）
【出願日】平成１６年８月１２日（２００４．８．１２）
【出願人】（０００００３０６７）ＴＤＫ株式会社 (7,238)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１８年２月２３日（２００６．２．２３）
【国際特許分類】
【出願日】平成１６年８月１２日（２００４．８．１２）
【出願人】（０００００３０６７）ＴＤＫ株式会社 (7,238)
【Ｆターム（参考）】
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