説明

光記録媒体

【課題】高速記録時のパワーマージンを改善し、Inを主成分とするパーティクルの発生を減らし、原材料コストを低減すること。
【解決手段】案内溝を形成した基板21上に、順次積層された反射層23と、色素を主成分とする記録層22と、界面層30と、カバー層24と、を備える膜面入射型の光記録媒体20であって、酸化スズを20重量%以上含有する界面層30を用いることにより、高速記録における高いパワーマージンを維持し、パーティクルの発生を抑えた光記録媒体20。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は光記録媒体に関し、より詳しくは、色素を含有する記録層を有する光記録媒体に関する。
【背景技術】
【0002】
近年、超高密度の記録が可能となる青色レーザの開発は急速に進んでおり、それに対応した追記型の光記録媒体の開発が行なわれている。中でも、比較的安価のコストで効率的な生産が可能となる色素塗布型の追記型媒体の開発が強く望まれている。
【0003】
例えば、安定に成形できる比較的浅い溝深さの基板を用いて、良好な記録再生特性を有する極めて高密度の色素塗布型の追記型光記録媒体が提案されている(特許文献1、2)。即ち、案内溝が形成された基板と、基板上に光反射機能を有する層と、未記録状態において記録再生光波長に対して光吸収機能を有する色素を主成分として含有する記録層と、前記記録層に対して記録再生光が入射するカバー層とをこの順に備え、前記記録再生光を集束して得られる記録再生光ビームが前記カバー層に入射する面から遠い側の案内溝部を記録溝部とするとき、前記記録溝部に形成された記録ピット部の反射光強度が、主として位相変化により当該記録溝部における未記録時の反射光強度より増加するように構成された光記録媒体である。
【0004】
ここで、前記特許文献1では、記録層とカバー層との間に、界面層としてZnS−SiO等を用いることを提案している。また、前記特許文献2では、記録層の変形、特に、カバー層側へのふくらみ変形を促進したり、抑制することによって良好な記録特性を得ることを目的とし、記録層とカバー層との間に界面層としてITO(In−SnO(90:10重量%))を用いることを提案している。ITO界面層は、ZnS−SiO界面層に比べ、良好な記録再生特性を示すことが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
【特許文献1】特開2005−228402号公報
【特許文献2】特開2009−026378号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
しかしながら、これらの従来の光記録媒体においては、以下のような課題があることが明らかになってきた。追記型の光記録媒体においては、記録時間短縮のため、より高速に記録可能なことが求められるが、従来用いられているITO(In−SnO(90:10重量%))では、記録速度が増加するとパワーマージンが低速記録時に比べ狭くなり、記録再生安定性の確保が難しくなる。
【0007】
また、製造上ITOをスパッタする際、Inを主成分とするパーティクルが非常に多く発生するため、歩留まりを悪化させたり、パーティクル除去のため製造設備の稼働率を落とす原因となっている。
【0008】
さらに希金属であるInは高価であり、近年その価格が上昇傾向にあるため、原材料コストを上昇させる原因となっている。
【0009】
本発明は、上記の課題に鑑みてなされたものであり、その目的は高速記録時のパワーマージンを改善し、Inを主成分とするパーティクルの発生を減らし、原材料コストを低減することのできる光記録媒体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0010】
そこで本発明者等は、上記課題について鋭意検討を行った結果本発明に到達した。
即ち、本発明の要旨は、少なくとも、案内溝が形成された基板と、前記基板上に光反射機能を有する反射層と、未記録状態において記録再生光波長に対して光吸収機能を有する色素を主成分として含有する記録層と、前記記録層に接する界面層と、前記記録層に対して記録再生光が入射するカバー層とをこの順に備え、前記記録再生光を集束して得られる記録再生光ビームが前記カバー層に入射する面から遠い側の案内溝部を記録溝部とするとき、前記記録溝部に形成された記録ピット部の反射光強度が、当該記録溝部における未記録時の反射光強度より増加する光記録媒体において、前記界面層に酸化スズが20重量%以上含有されることを特徴とする光記録媒体に存する(請求項1)。
【0011】
このとき、前記界面層に酸化スズが40重量%以上含有されることが好ましい(請求項2)。
【0012】
さらに、前記界面層に酸化スズが60重量%以上含有されることが好ましい(請求項3)。
【0013】
さらに、前記界面層に酸化スズが80重量%以上含有されることが好ましい(請求項4)。
【0014】
また、前記界面層にZnO及び/又はSiOが含有されることも好ましい(請求項5)。
【0015】
このとき、ZnO及び/又はSiOは、合計で5重量%以上、20重量%以下含有されることも好ましい(請求項6)。
【発明の効果】
【0016】
本発明によれば、高速記録時において十分なパワーマージンを有し、製造時にInを主成分とするパーティクルの発生を減らし、原材料コストを低減することのできる光記録媒体が得られる。
【図面の簡単な説明】
【0017】
【図1】本発明に係る光記録媒体の第1実施形態の構成を説明する図である。
【図2】本発明に係る光記録媒体の第2実施形態の構成を説明する図である。
【符号の説明】
【0018】
20,100 光記録媒体
21,101 基板
22,102,112 記録層
23,103 反射層
24,111 カバー層
25 カバー層溝間部
26 カバー層溝部
27,107 記録再生光ビーム
28,108 対物レンズ
29 記録再生光ビームが入射する面
30 界面層
113 半透明反射層
114 中間層
【発明を実施するための形態】
【0019】
以下、本発明の実施の形態につき、大容量の光記録媒体である追記型のブルーレイディスクを想定して詳細に説明するが、本発明は以下の実施の形態に制限されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、任意に変形して実施することができる。
【0020】
[1.第1実施形態]
図1は、本発明の光記記録媒体の第1実施形態の構成を説明する図である。第1実施形態では、色素を主成分とする記録層を有する「膜面入射構成」の追記型媒体を用いて説明する。
【0021】
第1実施形態の光記録媒体20においては、少なくとも、案内溝を形成した基板21上に、反射機能を有する反射層23と、未記録(記録前)状態において記録再生光に対して吸収を有する色素を主成分とする、光吸収機能を有する記録層22と、前記記録層22に接する界面層30及びカバー層24とが順次積層された構造を有している。第1実施形態の光記録媒体20は、膜面入射構成(Reverse stackともいう)をとっており、記録再生をカバー層24側から対物レンズ28を介して集光された記録再生光ビーム27を入射して行う。
【0022】
以下においては、反射機能を有する反射層を単に「反射層23」、色素を主成分とする光吸収機能を有する記録層22を単に「記録層22」と呼ぶ。膜面入射構成のカバー層24側に記録再生光ビーム27を入射するに当たり、高密度記録のために、通常、NA(開口数)=0.6〜0.9程度の高NA(開口数)の対物レンズ28が用いられる。記録再生光波長λは、赤色から青紫色波長(350nm〜600nm程度)がよく用いられる。さらに、高密度記録のためには、350nm〜450nmの波長域を用いることが好ましいが、必ずしもこれに限定されない。
【0023】
本実施形態においては、図1において、記録再生光ビーム27のカバー層24への入射面(記録再生光ビームが入射する面29)から見て遠い側の案内溝部を記録溝部とし、記録溝部に形成した記録ピット部の反射光強度が、記録溝部の未記録時の反射光強度より高くなるような記録(以下、LtoH記録という)を行う。その主たるメカニズムは、反射光強度の増加が、主として前記記録ピット部での反射光の位相変化による。即ち、主として記録溝部における反射光の往復光路長の、記録前後での変化を利用する。
【0024】
ここで、膜面入射型の光記録媒体20では、記録再生光ビーム27のカバー層24への入射面(記録再生光ビームが入射する面29)から遠い案内溝部(基板21の溝部と一致)をカバー層溝間部25(in−groove)、記録再生光ビームが入射する面29から近い案内溝間部(基板21の溝間部と一致)をカバー層溝部26(on−groove)と呼ぶことにする。
【0025】
ここで、溝形状や各層の屈折率等の光学特性を制御することにより、カバー層溝間部25(in−groove)を記録トラックとする(以下、in−groove記録と記載)LtoH記録を実現することが可能となる。
【0026】
<具体的な層構成及び材料の好ましい態様について>
以下において、図1で示す層構成の具体的材料・態様について、青色波長レーザの開発が進んでいる状況を考慮して、特に、記録再生光ビーム27の波長λが405nm近傍の場合を想定して説明する。
【0027】
(基板21)
基板21は、膜面入射構成で用いる場合には、適度な加工性と剛性を有するプラスチック、金属、ガラス等を用いることができる。従来の基板入射構成(基板側から記録再生光ビームを入射する構成)と異なり、透明性や複屈折に対する制限はない。表面に案内溝を形成するのであるが、金属、ガラスでは、表面に光や熱硬化性の薄い樹脂層を設け、そこに、溝を形成する必要がある。この点、プラスチック材料を用い、射出成型によって、基板形状(特には円盤状)と、表面の案内溝とを一挙に形成するほうが製造上は好ましい。
【0028】
射出成型できるプラスチック材料としては、従来CDやDVDで用いられたポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂等を用いることができる。基板21の厚みとしては、0.5mm〜1.2mm程度とするのが好ましい。中でも、光記録媒体20の厚みを、従来のCDやDVDと同じ1.2mmとすることが好ましい。従来のCDやDVDで使われるケ−ス等をそのまま用いることができ、また記録再生装置の互換性を図るためにも好ましいからである。なお、ブルーレイディスクフォーマットの規格上、基板21の厚みを1.1mm、カバー層24の厚みを0.1mmとすることが、ブルーレイディスクでは規定されている。
【0029】
基板21にはトラッキング用の案内溝が形成されている。第1実施形態において、カバー層溝間部25が記録溝部となるトラックピッチは、CD−R、DVD−Rより高密度化を達成するために、0.1μm以上が好ましく、0.2μmがより好ましく、また0.6μm以下が好ましく、0.4μm以下がより好ましい。溝深さは、概ね20nm〜60nmの範囲にあることが好ましい。溝深さは、前記範囲内で、未記録状態の記録溝部反射率、記録信号の信号特性、プッシュプル信号特性、記録層22の光学特性等を考慮して適宜最適化される。
【0030】
本実施形態では、主として記録溝部と記録溝間部とにおけるそれぞれの反射光の位相差による干渉を利用しているから、両方が集束光スポット内に存在することが好ましい。このため、記録溝幅(カバー層溝間部25の幅)は、記録再生光ビーム27の記録層面におけるスポット径(溝横断方向の直径)より小さくするのが好ましい。記録再生光波長λ=405nm、NA(開口数)=0.85の光学系で、トラックピッチを0.32μmとする場合、スポット系は0.1μm以上0.2μm以下の範囲とするのが好ましい。これらの範囲外では、溝部または溝間部の形成が困難となる場合が多い。
【0031】
案内溝は、通常は、アドレスや同期信号等の付加情報を付与するために、溝蛇行、溝深さ変調等の溝形状の変調、記録溝部あるいは記録溝間部の断続による凹凸ピット等による付加信号を有する。例えば、ブルーレイディスクでは、MSK(minimum−shift−keying)とSTW(saw−tooth−wobbles)という2変調方式を用いたウォブル・アドレス方式が用いられている。
【0032】
(反射層23)
光反射機能を有する反射層23には、記録再生光ビーム27の波長に対する反射率が高く、記録再生光ビーム27の波長に対して70%以上の反射率を有するものが好ましい。記録再生光ビーム27の波長として用いられる可視光、特に、青色波長域で高反射率を示すものとして、Au、Ag、Al及びこれらを主成分とする合金が挙げられる。より好ましくは、波長λ=405nmでの反射率が高く、吸収が小さいAgを主成分とする合金である。Agを主成分として、Au、Cu、希土類元素(特に、Nd)、Nb、Ta、V、Mo、Mn、Mg、Cr、Bi、Al、Si、Ge等を0.01原子%以上10原子%以下添加することで、水分、酸素、硫黄等に対する耐食性を高めることができ好ましい。この他に、誘電体層を複数積層した誘電体ミラーを用いることも可能である。
【0033】
反射層23の膜厚は、基板21表面の溝段差を保持するために、70nm以下が好ましく、より好ましくは65nm以下とする。後述の、2層媒体を形成する場合(本発明の光記録媒体の第2実施形態)を除いて、反射層膜厚の下限は、30nm以上が好ましく、より好ましくは40nm以上とする。
【0034】
反射層23の表面粗さRaは、5nm以下であることが好ましく、1nm以下であることがより好ましい。Agは添加物の添加によって平坦性が増す性質があり、この意味でも、上記の添加元素は0.1原子%以上が好ましく、さらに好ましくは、0.5原子%以上である。
【0035】
反射層23の形成方法は、スパッタリング法、イオンプレーティング法や、電子ビーム蒸着法など、従来公知の方法で形成することができる。中でもスパッタリング法が好ましい。膜厚や組成が制御しやすく、量産性も優れているためである。
【0036】
(記録層22)
本発明の光記録媒体の記録層22に含有される色素は、300nm〜800nmの可視光(及びその近傍)波長領域に、その構造に起因した顕著な吸収帯を有する有機化合物である。このような色素を記録層22として形成した未記録(記録前)の状態において、記録再生光ビーム27の波長λに吸収を有し、記録により変質して記録層22に再生光の反射光強度の変化として検出されうる光学的変化を起こす色素を、「主成分色素」と呼ぶ。主成分色素は、複数の色素の混合物として、上記の機能を発揮するものであってもよい。
【0037】
主成分色素含有量は、重量%にして50%以上が好ましく、80%以上がより好ましく、90%以上がさらに好ましい。主成分色素は、単独の色素が記録再生光ビーム27の波長λに対して吸収があり、記録によって変質して上記光学的変化を生じることが好ましいが、記録再生光ビーム27の波長λに対する吸収を有し、発熱することで、間接的に他方の色素を変質させ光学的変化を起こさせるように機能分担されていてもよい。
【0038】
主成分色素にはこの他、光吸収機能を有する色素の経時安定性(温度、湿度、光に対する安定性)を改善するためのいわゆるクエンチャーとしての色素が混合されていてもよい。主成分色素以外の含有物としては、低・高分子材料からなる結合剤(バインダー)、誘電体等が挙げられる。
【0039】
主成分色素は、特に構造によって限定されるものではない。本実施形態においては、記録により、記録層22内に屈折率が減少する変化を生じさせるものであり、未記録(記録前)状態での吸収係数が0より大きい値である限り、原則として光学的特性に対する強い制約はない。主成分色素が記録再生光ビーム27の波長λに対する吸収を有し、且つ、自らの吸光、発熱によって、変質を起こし、屈折率の低下を生じればよい。ここで、変質とは、具体的には、主成分色素の吸収・発熱による膨張、分解、昇華、溶融等の現象をいう。主成分となる色素そのものが変質して、なんらかの構造変化を伴い、屈折率が低下してもよい。また、屈折率の低下は記録層22内及び/または界面に空洞が形成されてもよいし、記録層22の熱膨張による屈折率低下であってもよい。
【0040】
このような変質を示す温度としては、保存安定性、耐再生光劣化の観点からは、100℃以上が好ましく、150℃以上がさらに好ましい。また、高線速度でのジッタ特性の観点から、500℃以下が好ましく、350℃以下がさらに好ましく、300℃以下がより好ましく、280℃以下が特に好ましい。分解温度が300℃以下であれば、特に10m/s以上の高線速度でのジッタ特性が良好になる傾向があり好ましい。分解温度が280℃以下であることが、さらに高速記録での特性を良好にする可能性があるので好ましい。通常は、以上で述べた変質挙動は、主成分色素の熱特性として測定され、熱重量分析−示差熱分析(TG−DTA)法によって、重量減少開始温度として分解温度を測定できる。
【0041】
上記のような特性を有する色素としては、メチン系、(含金)アゾ系、ヒドラジド系、ピロン系、ポルフィリン系化合物等及びこれらの混合物が挙げられる。より具体的には、含金アゾ系色素、ヒドラジド系色素、ピロン系色素は、本来、耐光性に優れ、かつ、TG−DTAでの重量減少開始温度Tdが、150℃以上400℃以下にあり、急峻な減量特性(分解物の揮発性が高く、空洞を形成しやすい)を有する点で好ましい。特に好ましいのは、含金アゾ系色素や含金ヒドラジド系色素である。色素は1種を単独で用いてもよく、2種以上を任意の組合せ及び比率で混合して用いてもよい。
【0042】
《アゾ系色素》
アゾ系色素としては、下記式[I]または[II]で示される環状β−ジケトンアゾ化合物と金属イオンからなる含金属環状β−ジケトンアゾ化合物が好ましい。
【化1】

(式[I]〜[II]中、環Aは、炭素原子及び窒素原子とともに形成される含窒素複素芳香環であり、X、X’、Y、Y’、Zは各々独立に、水素原子以外に置換基(スピロ含む)を有していてもよい炭素原子、酸素原子、硫黄原子、N−Rで表される窒素原子、C=O、C=S、C=NRのいずれかを表し、βジケトン構造とともに5または6員環構造を形成する。Rは水素原子、直鎖又は分岐のアルキル基、環状アルキル基、アラルキル基、アリール基、複素環基、−CORで表されるアシル基、−NRを表すアミノ基のいずれかを表し、Rは水素原子、直鎖又は分岐のアルキル基、アリール基を表す。Rは炭化水基、又は複素環基を表し、R、Rは水素原子、炭化水素基または複素環基を表す。またこれらは必要に応じて置換されてもよい。またX、X’、Y、Y’、Zが炭素原子またはN−Rで表される窒素原子の場合、隣接する両者の結合は単結合であっても二重結合であってもよい。さらに、X、X’、Y、Y’、Zが炭素原子、N−Rで表される窒素原子、C=NRの場合、隣接するもの同士で互いに縮合して、飽和又は不飽和の炭化水素環あるいは複素環を形成してもよい。)
【0043】
また、アゾ系色素としては、下記式[III]〜[V]を有する含金属ピリドンアゾ化合物が好ましい。
【化2】

(式[III]〜[V]中、R〜R15は、それぞれ独立に、水素原子または1価の官能基である。)
【0044】
アゾ系色素としては、下記式[VI]で示される化合物と金属からなる含金族アゾ化合物もまた好ましい
【化3】

(式[VI]中、Aは、これが結合している炭素原子及び窒素原子とともに複素芳香環を形成する残基を表し、Xは活性水素を有する基を表し、R16及びR17は各々独立に水素または任意の置換基を表す。)
【0045】
さらに、アゾ系色素としては、下記式[VII]で表される含金族アゾ化合物も挙げられる。
【化4】

(式[VII]中、環Aは、炭素原子及び窒素原子とともに形成される含窒素複素芳香環であり、XLは、Lが脱離することによりXが陰イオンとなり金属が配位可能となる置換基を表す。R18、R19は、それぞれ独立に、水素原子、直鎖または分岐のアルキル基、環状アルキル基、アラルキル基又はアルケニル基を表し、これらは各々隣接する置換基同士または互いに縮合環を形成してもよい。R20、R21、R22は各々独立に水素または任意の置換基を表す。)
【0046】
これらのアゾ系色素は、従来CD−RやDVD−Rで用いられたアゾ系色素より、さらに、短波長よりの主吸収帯を有しており、400nm近傍での吸収係数kが、0.3〜1程度の大きな値となるので好ましい。金属イオンとしては、Ni、Co、Cu、Zn、Fe、Mnの2価の金属イオンが挙げられるが、特に、Ni、Coを含有する場合が、耐光性、耐高温高湿環境性に優れており、好ましい。
【0047】
《ヒドラジド系色素》
ヒドラジド系色素としては、より具体的には下記式[VIII]を有する化合物が好ましい。
【化5】

(式[VIII]中、Aは、連結基Yと結合し、任意のカチオンを有する、置換基を有していても良い芳香族置換基、または、任意のカチオンを有する、置換基を有していても良い非芳香族置換基を示し、Bは、任意のカチオンを有する、置換基を有していても良い芳香族置換基、または、任意のカチオンを有する、置換基を有していても良い非芳香族置換基を示す。AとBは、どちらかがカチオンを有していても良く、または、両方がカチオンを有しても良い。Xは、カチオンA、かつ/または、カチオンBとで中性になる任意のアニオンを示す。連結基Yは、任意である。mは、0または1である。R23、R24、R25はそれぞれ独立に、水素原子、または、置換基を有していても良い芳香族置換基、または、置換基を有していても良い非芳香族置換基を示す。nは、0または1である。また、Xは、A内、または、B内で分子内塩を形成するか、あるいは、A,または、Bに結合した任意の置換基を介して、分子内塩を形成しても良い。Yは、Aと直接縮合環を形成しても良い。)
【0048】
式[VIII]で表される化合物としては、通常、分子量1500以下、好ましくは、1000以下、より好ましくは750以下であるである。式[VIII]において、Aが「AのYへの結合点が、ヘテロ原子の場合」と「AのYへの結合点が、炭素原子の場合」とに分ける。
【0049】
・AのYへの結合点が、ヘテロ原子の場合
Aの具体例として、置換基を有していても良い複素環基(例えば、ピリジン環、キノリン環、イミダゾール環、ベンズイミダゾール環、ピラゾール環、インダゾール環、イソオキサゾール環、ベンゾイソオキサゾール環、イソチアゾール環、ベンゾイソチアゾール環、オキサゾール環、ベンゾオキサゾール環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、フタラジン環、ナフチリジン環、キノキサリン環、キナゾリン環、シンノリン環、カルバゾール環、パーイミジン環、アクリジン環、などの窒素含有の単環、縮合環の芳香族へテロ環や、トリピラゾリン環、ピペリジン環、ピペラジン環、インドリン環、イソインドリン環、キナクリジン環、モルホリン環などの窒素含有の単環、縮合環の非芳香族へテロ環や、アルキルアミンなどの窒素含有の非環式非芳香族アミン)などが挙げられる。
【0050】
特に、窒素含有の単環、縮合環の芳香族へテロ環では、ピリジン環、キノリン環、イソキノリン環、イミダゾール環、ベンゾイミダゾール環が好ましい。また、窒素含有の単環、縮合環の非芳香族へテロ環やアルキルアミンは、反応性が高いことから好ましい。
また、置換基を有していても良いアミノ基があげられる。
【0051】
Yの具体例として、置換基を有しても良い芳香族置換基(例えば、フェニル基、ナフチル基、フリル基、チエニル基、ベンゾフリル基、ベンゾチエニル基)などがあげられる。
また、置換基を有していても良い非芳香族置換基(例えば、メチレン基、ジメチルメチレン基、シアノメチレン基)など、置換基を有してもよいメチレン基、あるいは、アルカン(C=C)やアルキン(C≡C)からなる連結基が挙げられる。
【0052】
(ケース1)AとYの結合点でカチオンになる場合と、(ケース2)AとYの結合点では、中性で、Aがカチオンになる場合がある。(ケース2)の場合、上記Aの具体例で述べた具体例のヘテロ原子に14族原子が結合し、カチオンになる。この14族原子は、具体的に、芳香環基あるいは非芳香環基あるいは、置換基を有するケイ素原子でもよいが、好ましくは、溶解性の面で、非芳香環基であり、より好ましくは、置換基を有していても良いアルキル基であり、感度向上の面から、特に好ましくは、炭素数が、1〜5のアルキル基である。
【0053】
・AのYへの結合点が、炭素原子の場合
Aの具体例としては、上述した「AのYへの結合点が、ヘテロ原子の場合」で挙げたものが当てはまる。Yの具体例としては、上述した「AのYへの結合点が、ヘテロ原子の場合」で挙げたものが当てはまる。ヘテロ原子を有する連結基、(例えば、−NH−、C=O、−O−、−S−)などがあげられる。AとXが、リンカーを介して、あるいは、直接、分子内塩を形成してもよいが、より好ましくは、Xが、分子間で塩を形成している方が、好ましい。
【0054】
このとき、該芳香環基、複素環基、非芳香環基の置換基としては、錯体の性能に悪影響を与えない基であれば、特に限定されないが、例えば、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、複素環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、複素環オキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、複素環チオ基、アミノ基、アシル基、アミノアシル基、ウレイド基、スルホンアミド基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルファモイルアミノ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、複素環オキシカルボニル基、イミド基、及び、シリル基などからなる群より選択された基が挙げられる。
【0055】
これらの置換基として具体的には、メチル基、エチル基などの炭素数1〜6のアルキル基、エチニル基、プロペニル基などの炭素数1〜6のアルケニル基、アセチレニル基などの炭素数1〜6のアルキニル基、フェニル基、ナフチル基などの炭素数6〜20のアリール基、チエニル基、フリル基、ピリジル基などの炭素数3〜20の複素環基、エトキシ、プロポキシ基などの炭素数1〜6のアルコキシ基、フェノキシ基、ナフトキシ基などの炭素数6〜20のアリールオキシ基、ピリジルオキシ基、チエニルオキシ基などの炭素数3〜20の複素環オキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基などの炭素数1〜6のアルキルチオ基、フェニルチオ基、ナフチルチオ基などの炭素数6〜20のアリールチオ基、ピリジルチオ基、チエニルチオ基などの炭素数3〜20の複素環チオ基、ジメチルアミノ基、ジフェニルアミノ基などの炭素数1〜20の置換基を有してもよいアミノ基、アセチル基、ピバロイル基などの炭素数2〜20のアシル基、アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基などの炭素数2〜20のアシルアミノ基、3−メチルウレイド基などの炭素数2〜20のウレイド基、メタンスルホンアミド基、ベンゼンスルホンアミド基などの炭素数1〜20のスルホンアミド基、ジメチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基などの炭素数1〜20のあるバモイル基、エチルスルファモイル基などの炭素数1〜20のスルファモイル基、ジメチルスルファモイルアミノ基などの炭素数1〜20のスルファモイルアミノ基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などの炭素数2〜6のアルコキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、ナフトキシカルボニル基などの炭素数6〜20のアリールオキシカルボニル基、ピリジルオキシカルボニル基などの炭素数6〜20の複素環オキシカルボニル基、メタンスルホニル基、エタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基などの炭素数1〜6のアルキルスルホニル基、ベンゼンスルホニル基、モノフルオロベンゼンスルホニル基などの炭素数6〜20のアリールスルホニル基、チエニルスルホニル基などの炭素数3〜20の複素環スルホニル基、フタルイミドなどの炭素数4〜20のイミド基、又は、アルキル基及びアリール基の群から選ばれる置換基で3置換されているシリル基があげられる。
【0056】
Xは、一般に、カチオンを中和するアニオン種であればよいが、例えば、ハロゲン原子、AsF、SbF、PF、BF、(CFSO、(CFSO、CFSO、CFCO、CHCO、B(Cなどが挙げられる。特に、PFとCFSOが安定性の面で好ましい。
mは、0または1を表す。mは1であることが錯体化合物の耐性向上の面で好ましい。
nは0もしくは1を表す。nは0であることが錯体化合物の耐性向上の面で好ましい。
【0057】
《キレート錯体化合物》
色素としては、ヒドラジド化合物の錯体であってもよい。例えば、下記式[IX]で表される化合物が挙げられる。
【化6】

(式[IX]中、A、B、X、Y、R26、R27、R28、m、および、nは、いずれも式[VIII]と同義であり、Mは、遷移金属原子を表し、aとbは、分子全体を中性にする整数の組み合わせを示す。さらに、上記分子は、さらに、カウンターイオンを有しても良い。)
【0058】
式[IX]において、Mは2〜12族元素を表す。その具体例としては、ヒドラジド化合物と錯体を形成し得るものであれば何でもよく、具体例としてはTi,V,Cr,Mn,Fe,Co,Ni,Cu,Mo,Ru,Rh,Pd,Ag,Pt,Au,Er等が挙げられる。
【0059】
該2〜12族元素カチオンを構成する元素は、周期表第4周期元素であることが好ましく、耐光性向上の面からCo、Ni、Cuが好ましく、溶解性をあわせて、特に、Coであることが特に好ましい。aは1〜3の整数である。
【0060】
なお、錯体の中心該2〜12族元素カチオンはヒドラジド化合物の他に、溶媒や他のキレート配位子と追加的に配位しても良い。
【0061】
溶媒としては、アルコール性溶媒、ケトン系溶媒あるいはアミノ系溶媒など金属のアキシアル位あるいは別の位置から配位可能なものが挙げられる。
【0062】
他のキレートとしては、ピリジン、ピリミジン、ピリダジンあるいはピラジンなどの配位性原子を有する配位子が挙げられる。
【0063】
また、ヒドラジドキレート錯体化合物は、該化合物が分子全体として電気的に中性となるように、カウンターイオンを適宜有していても良い。この場合、有していても良いカウンターアニオンとしては、具体的には、BF、ClO、PF、ハロゲンイオン、水酸化物イオン、酢酸イオンなどが挙げられ、カウンターカチオンとしては、周期表第1族カチオンなど、特に1価のカチオンが挙げられる。
【0064】
本発明に記載の錯体化合物の分子量は、該2〜12族元素カチオンとヒドラジドを合計して通常2,000以下、中でも1,500以下であることが好ましい。カウンターイオンは、これに含めない。ヒドラジドキレート錯体化合物は、記録媒体の保存安定性を向上させる理由から、通常水不溶性であることが好ましい。ここで「水不溶性」とは、25℃、1気圧の条件下における水に対する溶解度が、通常0.1重量%以下、好ましくは0.01重量%以下であることを言う。
【0065】
記録層22の形成方法としては、塗布法、真空蒸着法等で形成することができるが、特に、塗布法で形成することが好ましい。即ち、上記色素を主成分に結合剤、クエンチャー等とともに適当な溶剤に溶解して記録層塗布液を調整し、前述の反射層23上に塗布する。
【0066】
溶解液中の主成分色素の濃度は、通常0.01重量%以上、好ましくは0.1重量%以上、さらに好ましくは0.2重量%以上、また、通常10重量%以下、好ましくは5重量%以下、さらに好ましくは2重量%以下である。これにより、通常、1nm〜100nm程度の厚みに記録層22が形成される。その厚みを50nm未満とするために、上記色素濃度を1重量%未満とするのが好ましく、0.8重量%未満とするのがより好ましい。また、塗布の回転数をさらに調整することも好ましい。
【0067】
主成分色素材料等を溶解する溶剤としては、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノールジアセトンアルコール等のアルコール;テトラフルオロプロパノール(TFP)、オクタフルオロペンタノール(OFP)等のフッ素化炭化水素系溶剤;エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類;酢酸ブチル、乳酸エチル、セロソルブアセテート等のエステル;ジクロルメタン、クロロホルム等の塩素化炭化水素;ジメチルシクロヘキサン等の炭化水素;テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサン等のエーテル;メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン等のケトン等を挙げることができる。これらの溶剤を溶解すべき主成分色素材料等の溶解性を考慮して適宜選択し、また、2種以上を混合して用いることができる。
【0068】
結合剤としては、セルロース誘導体、天然高分子物質、炭化水素系樹脂、ビニル系樹脂、アクリル樹脂、ポリビニールアルコール、エポキシ樹脂等の有機高分子等を使うことができる。さらに、記録層22には、耐光性を向上させるために、種々の色素又は色素以外の褪色防止剤を含有させることができる。
【0069】
褪色防止剤としては、一般的に一重項酸素クエンチャーが用いられる。一重項クエンチャー等の褪色防止剤の使用量は、前記記録層22の材料に対して、通常0.1重量%以上、好ましくは1重量%以上、さらに好ましくは5重量%以上、また、好ましくは50重量%以下、好ましくは30重量%以下、さらに好ましくは25重量%以下である。
【0070】
また、本発明において、耐光性が低い色素については、耐光性が良好な他の色素や、例えば、従来CD−R等に使用されている有機色素化合物等を混合することにより、耐光性を光記録媒体20の実用レベルに向上させることが可能である。カップラー成分との組み合わせや金属の種類により変動するが、およその傾向として耐光性はジアゾ成分に由来する割合が高く、波長的に短いジアゾ成分であるイソキサゾール、トリアゾールが低めの傾向が見られ、波長的に長いチアゾールやベンゾチアゾール、ピラゾールの方が耐光性のよい結果が得られている。一方で、耐光性が良好な色素は光感応性が低いため記録感度が低下する傾向がある。
【0071】
本発明においては、後述する第2実施形態に用いる色素材料は、より記録感度を高くする必要がある。そのため、イソキサゾールをジアゾ成分として含む耐光性が低く光感応性が高い(記録感度がよい)含金アゾ色素AAとピラゾールをジアゾ成分として含む耐光性が高く記録感度の悪い含金アゾ色素BBを混合する際に、AAの色素の比率をBBの色素に対して多くすることで、感度が良く、かつ耐光性に優れた色素を含有する記録層22を形成することが好ましい。
【0072】
このように、本願発明においては、特性の異なる2種類以上の色素を混合することにより記録特性を補うことが可能である。
【0073】
(界面層30)
本実施の形態においては、特に、記録層22とカバー層24との間に適当な界面層30を設けることで、高速記録時のパワーマージンを改善し、パーティクルの発生を減らし、原材料コストを低減することができる。
【0074】
本発明の界面層30は、酸化スズを20重量%以上含有するものである。酸化スズは、SnO、SnO、SnOのいずれでもよいが、比較的高い導電性を有するSnOが好ましい。酸化スズは上述のうち1種を単独で用いてもよく、2種以上を任意の組合せ及び比率で混合して用いてもよい。酸化スズの含有量は40重量%以上が好ましく、更に好ましくは60重量%以上、特に好ましくは80重量%以上である。また、酸化スズ90重量%以下が好ましい。この範囲にあると、良好なパワーマージンが得やすく、パーティクルが発生しにくいため好ましい。これは、上記範囲の酸化スズを含有することで、界面層30が記録による変形に対して適度な硬度を有するためと推定している。
【0075】
従来用いられているITO(In−SnO)においては、InとSnOとの重量比が、In:90重量%、SnO:10重量%であり、本願発明の範囲からは外れている。
【0076】
本願発明の界面層30は、酸化スズが上記規定の含有率で含有されていれば、他の化合物との混合物であっても構わない。他の化合物としては、金属、半導体等の酸化物、窒化物、炭化物、硫化物、マグネシウム(Mg)、カルシウム(Ca)等のフッ化物等の誘電体化合物やその混合物が好ましい。これら他の化合物を混合する場合、その種類は一種だけに限定されず、2種以上の混合物を任意の組み合わせ及び割合で混合することができる。中でも、他の化合物としてZnO及び/又はSiOを少なくとも含有することが特に好ましい。界面層30に含有されるZnO及び/又はSiOの合計の含有量は、5重量%以上が好ましく、更に好ましくは10重量%以上である。また、20重量%以下が好ましい。この範囲にあると、適度な硬度となり記録感度が良好となるため好ましい。
【0077】
上記材料を界面層30に用いることで、高速記録時のパワーマージンを改善できる理由については、詳細は不明であるが以下のように推定している。
【0078】
先行するマークの記録によって発生する熱や変形が、その次のマークの記録生成に影響を与え、その始まりの位置ずれが発生することが記録マークの始まりのジッタ(リーディングジッタ)悪化の大きな原因の1つであり、一般に記録速度が速くなるほどその影響度合いが大きくなるとされている。本発明ではリーディングジッタの改善が顕著であることから、この影響度合いが抑制されるためと推定している。
【0079】
界面層30の膜厚は1nm以上が好ましく、更に好ましくは5nm以上、特に好ましくは10nm以上である。また、50nm以下が好ましく、更に好ましくは30nm以下、特に好ましくは20nm以下である。
【0080】
界面層30はスパッタリング法、イオンプレーティング法や、電子ビーム蒸着法など従来公知の方法で形成することができる。この中では、生産性等の観点より、スパッタリング法で形成することが好ましい。
【0081】
スパッタリング法で形成する場合、チャンバー内で発生したパーティクルが光記録媒体20上に付着することにより、記録再生時のエラーを増加させる懸念がある。このパーティクルの発生原因は、主にITOに含有されるインジウムであると思量される。
【0082】
従来のITOにおいては、例えばInが90重量%含まれるなど、パーティクルの発生が顕著な傾向にあった。しかし、本発明の光記録媒体に用いられる材料は、通常のITOに比べInの含有量が少なく、パーティクルの発生を抑えることが可能となると思量される。
【0083】
さらには、本発明の光記録媒体に用いられる材料は、通常のITOに比べInの含有量が少ないため、高価なInを用いる量が減り、コストの削減を図ることができる。
【0084】
(カバー層24)
カバー層24は、記録再生光ビーム27に対して透明で複屈折の少ない材料が選ばれ、通常は、プラスチック板(以下、シートとよぶことがある)を接着剤で貼り合せるか、カバー層24を形成する成分を含有する塗布液を塗布後、光、放射線、または熱等で硬化して形成する。
【0085】
カバー層24は、記録再生光ビーム27の波長λに対して透過率70%以上であることが好ましく、80%以上であることがより好ましい。
【0086】
シートの材料として用いられるプラスチックは、ポリカーボネート、ポリオレフィン、アクリル、三酢酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート等である。接着には、光、放射線硬化、熱硬化樹脂や、感圧性の接着剤が用いられる。感圧性接着剤としては、また、アクリル系、メタクリレート系、ゴム系、シリコン系、ウレタン系の各ポリマーからなる粘着剤を使用できる。これらの材料は1種を単独で用いてもよく、2種以上を任意の組合せ及び比率で混合して用いてもよい。
【0087】
例えば、接着層を構成する光硬化性樹脂を適当な溶剤に溶解して塗布液を調製した後、この塗布液を記録層22または界面層30上に塗布して塗布膜を形成し、塗布膜上にポリカーボネートシートを重ね合わせる。その後、必要に応じて重ね合わせた状態で、媒体を回転させるなどして塗布液をさらに延伸展開した後、UVランプで紫外線を照射して硬化させる。あるいは、感圧性接着剤をあらかじめシートに塗布しておき、シートを記録層22あるいは界面層30上に重ね合わせた後、適度な圧力で押さえつけて圧着する。
【0088】
前記粘着剤としては、透明性、耐久性の観点から、アクリル系、メタクリレート系のポリマー粘着剤が好ましい。より具体的には、2−エチルヘキシルアクリレート、n−ブチルアクリレート、iso−オクチルアクリレートなどを主成分モノマーとし、これらの主成分モノマーを、アクリル酸、メタクリル酸、アクリルアミド誘導体、マレイン酸、ヒドロキシルエチルアクリレート、グリシジルアクリレート等の極性モノマーを共重合させる。主成分モノマーの分子量調整、その短鎖成分の混合、アクリル酸による架橋点密度の調整により、ガラス転移温度Tg、タック性能(低い圧力で接触させたときに直ちに形成される接着力)、剥離強度、せん断保持力等の物性を制御することができる。アクリル系ポリマーの溶剤としては、酢酸エチル、酢酸ブチル、トルエン、メチルエチルケトン、シクロヘキサン等が用いられる。上記粘着剤は、さらに、ポリイソシアネート系架橋剤を含有することが好ましい。粘着剤は1種を単独で用いてもよく、2種以上を任意の組合せ及び比率で混合して用いてもよい。
【0089】
また、粘着剤は、前述のような材料を用いるが、カバー層24用のシートの記録層22側に接する表面に所定量を均一に塗布し、溶剤を乾燥させた後、記録層22側表面(界面層30を有する場合はその表面)に貼り合わせローラー等により圧力をかけて硬化させる。該粘着剤を塗布されたカバー層24用のシートを、記録層22を形成した記録媒体表面に接着する際には、空気を巻き込んで泡を形成しないように、真空中で貼り合せるのが好ましい。
【0090】
また、離型フィルム上に上記粘着剤を塗布して溶剤を乾燥した後、カバー層24用のシートを貼り合わせ、さらに離型フィルムを剥離してカバー層24用のシートと粘着剤層とを一体化した後、記録媒体と貼りあわせても良い。
【0091】
塗布法によってカバー層24を形成する場合には、スピンコート法、ディップ法等が用いられるが、特に、ディスク状媒体に対してはスピンコート法を用いることが多い。塗布によるカバー層24用の材料としては、同様に、ウレタン、エポキシ、アクリル系の樹脂等を用い、塗布後、紫外線、電子線、放射線を照射し、ラジカル重合もしくは、カチオン重合を促進して硬化する。
【0092】
カバー層24は、さらにその入射光側表面に耐擦傷性、耐指紋付着性といった機能を付与するために、表面に厚さ0.1μm〜50μm程度の層を別途設けることもある。カバー層24の厚みは、記録再生光ビーム27の波長λや対物レンズ28のNA(開口数)にもよるが、0.01mm以上が好ましく、0.05mm以上がさらに好ましく、また0.3mm以下が好ましく、0.15mm以下がより好ましい。接着層やハードコート層等の厚みを含む全体の厚みが、光学的に許容される厚み範囲となるようにするのが好ましい。たとえば、ブルーレイディスクでは、100μm±3μm程度以下に制御するのが好ましい。
【0093】
(その他の構成)
本実施の形態においては、前述の記録層22とカバー層24との間の界面層30の他に、基板21、反射層23、記録層22、のそれぞれの界面に、相互の層の接触・拡散防止や、位相差及び反射率の調整のために界面機能層を挿入することができる。界面機能層は、本発明の効果を著しく制限しない限り、界面層30と同様の層としてもよいし、他の材料、構成を有する層であってもよい。
【0094】
[2.第2実施形態]
図2は、本発明の光記記録媒体の第2実施形態の構成を説明する図である。第2実施形態は、第1実施形態に比べて反射層の膜厚を薄くし、記録再生光の略50%以上が透過する半透明反射層を設けることで、1枚の光記録媒体に複数の記録層を備えさせることを可能とした多層記録媒体である。即ち、基板上に、複数の記録層及び反射層(以下、併せて情報層と呼ぶ)を設けた記録媒体である。
【0095】
第2実施形態の光記録媒体100は、少なくとも、案内溝を形成した基板101上に、反射層103と、記録層102と、前記記録層102に接する図示されない界面層と、信号の混信を防止するための中間層114と、記録再生光の略50%以上が透過する半透明反射層113と、記録層112と、前記記録層112に接する図示されない界面層と、カバー層111とが順次積層された構造を有している。すなわち、2層の情報層を有している。第2実施形態の光記録媒体100も、膜面入射構成をとっている。
【0096】
(基板101)
基板101は、上述の基板21と同様の構成とすることができ、その材料、製法、形状、厚みなども同様とすることができる。
【0097】
(情報層)
2層の情報層のうち、記録再生光ビーム107が入射する側の情報層をL1層、奥側にある情報層をL0層と呼ぶ。
【0098】
L1層は、透過率50%以上であることが好ましい。そのため、L1層の半透明反射層113が、例えば、Ag合金であれば、Ag合金の膜厚を好ましくは1nm以上、さらに好ましくは5nm以上、また、好ましくは50nm以下、より好ましくは30nm以下、さらに好ましくは20nm以下とすることが好ましい。その他、半透明反射層113の材質や形成方法などは、上記の反射層23と同様とすることができる。さらに記録層112の構成、材質、製法、形状等も上記の記録層22と同様とすることができる。
【0099】
L0層については、透過率など制限がないため、反射層103や記録層102の構成、材質、製法、形状等は、第1実施形態の反射層23および記録層22と同様とすることができる。
【0100】
L0層、L1層それぞれに、異なる層構成を用いてもよいし、同一の層構成を用いてもよい。それぞれの情報層に用いる色素を主成分とする記録層102,112の組成や材料が異なっていても良いし、同じでもよい。
【0101】
本実施の形態においては、特に、主として位相変化を利用しているので、記録前後でL1層を透過する光量がほとんど変化しないことが期待される。これは、L1層が記録・未記録であるにかかわらず、L0層への透過光量、L0層からの反射光量がほとんど変化しないことを意味し、L1層の状態に関わらず、安定的にL0層の記録再生ができるので好ましいことである。
【0102】
(中間層114)
L0層とL1層との間には、それぞれの信号の混信を防止するために、透明な中間層114が設けられる。
【0103】
中間層114の材料としては、放射線硬化性樹脂や熱硬化性樹脂がある。これら材料の中で、工業的に好ましいのは、放射線硬化性樹脂である。放射線硬化性樹脂としては、電子線や紫外線の照射で硬化する材料を挙げることができるが、工業生産性を考慮すると、紫外線硬化性樹脂を用いることが好ましい。紫外線硬化性樹脂としては、公知のラジカル系紫外線硬化性樹脂とカチオン系紫外線硬化性樹脂とが挙げられ、いずれも使用することができる。
【0104】
中間層114の形成方法としては、2層DVD−R等で公知である、フォトポリメリゼーション法(Photo Polymerization:以下、「2P法」と記すことがある。)と呼ばれる製造方法により製造されるのが好ましい。
2P法の場合は、中間層は、通常、以下のようにして製造される。すなわち、まず、L0層上に、紫外線硬化性樹脂原料等を塗布して樹脂原料層を形成した後、この上に転写用の凹凸形状(以下適宜、「転写用凹凸形状」という)を有するスタンパを載置する。次いで、上記紫外線硬化性樹脂原料等を硬化させた後に、スタンパを剥離する。このようにして、紫外線硬化性樹脂の表面にスタンパの転写用凹凸形状を転写させて、凹凸形状を有する中間層を形成することができるようになっている。
【0105】
中間層114の厚みとしては、例えば記録再生光ビーム107の波長λ=405nm、NA(開口数)=0.85の光学系において、約25μmとされる。中間層114の厚み分布は、同様に±2μm程度以下とするのが好ましい。
【0106】
(カバー層111)
カバー層111は、上述のカバー層24と同様の構成とすることができ、その材料、製法、形状なども同様とすることができる。その厚みは、中間層114が上述の条件下で約25μmとされる場合、カバー層111の厚みは約75μm程度とされる。
【0107】
(界面層)
第2実施形態においては、記録層112とカバー層111との間に界面層を設ける。また、記録層102と中間層114との間に界面層を設けてもよい。2カ所以上に界面層を設ける場合は、各界面層の成分や厚みなどは同一であってもよく、異なっていてもよい。各界面層の構成、材料、製法、形状等は、上述の界面層30と同様とすることができる。
【0108】
(その他の構成)
本実施の形態においては、前述の界面層の他に、基板101、反射層103、記録層102、中間層114、半透明反射層113、記録層112、カバー層111のそれぞれの界面に、相互の層の接触・拡散防止や、位相差及び反射率の調整のために界面機能層を挿入することができる。界面機能層は、本発明の効果を著しく制限しない限り、界面層と同様の層としてもよいし、他の材料、構成を有する層であってもよい。
【0109】
[3.本発明に用いる光記録装置について]
本発明に用いる記録装置の基本構造は、従来の光記録装置と同じものを用いることができる。例えば、そのフォーカスサーボ方式や、トラッキングサーボ方式は、従来公知の方式を適用できる。集束ビームの焦点位置のスポットが、カバー層溝間部25に照射され、トラッキングサーボによって、該カバー層溝間部25を追従するようになっていればよい。通常は、プッシュプル信号が利用されている。
【0110】
カバー層溝間部25に記録を行う場合、集束された記録再生光ビーム27,107は、記録層22,102,112の主成分色素を昇温・発熱せしめて、変質(膨張、分解、昇華、溶融等)を起こさせる。マーク長変調記録を行う場合、記録再生光ビーム27,107のパワー(記録パワー)をマーク長に従って、強弱変調させる。なお、マーク長変調方式は、特に制限は無く、通常用いられるRun−Length−Limited符号である、EFM変調(CD)、EFM+変調(DVD)、1−7PP変調(ブルーレイディスク)等を適用できる。
【0111】
ただし、HtoL極性信号を前提とした記録再生系においては、LtoH記録に当たって、マークとスペースでの記録信号極性が逆になるように記録データ信号の極性を予め反転させておくことがある。こうすれば、記録後の信号は、見かけ上、HtoL極性の信号と同等にできる。
【0112】
通常は、マーク部で記録パワーを高レベルPwとし、マーク間(スペース)で低レベルPsとする。Ps/Pwは、通常0.5以下とする。Psは一回だけの照射では、記録層22,102,112に上記変質を生じさせないようなパワーであり、Pwに先行して記録層22,102,112を予熱したりするために利用される。公知の記録パルスストラテジーは、本発明記録方法及び記録装置においても適宜使用される。例えば、記録マーク部に対応する記録パワーPw照射時間はさらに、短い時間で断続的に照射されたり、複数のパワーレベルに変調したり、Pw照射後、Psに移行するまでの一定時間Psよりもさらに低いパワーレベルPbを照射する、等の記録ストラテジーが使用できる。
【実施例】
【0113】
以下、実施例に基づき本実施の形態をさらに詳細に説明する。尚、本実施の形態は実施例に限定されない。
【0114】
(実施例1、2、3および比較例1)
トラックピッチ0.32μmで溝幅約0.18μm、溝深さ約40nmの案内溝を形成したポリカーボネート樹脂基板上に、Ag98.1Nd1.0Cu0.9合金ターゲット(組成はいずれも原子%)をスパッタして厚さ約50nmの反射層を形成した。
【0115】
その上に、下記構造式で表される配位子Aと二価のNiとからなる含金アゾ色素AWと、配位子Bと二価のCoとからなる含金アゾ色素BWとを、重量%でAW:BW=60:40の割合で混合し、トリフルオロペンタノール(TFP)で0.7重量%に希釈した混合溶液をスピンコートで成膜して記録層を形成した。
【0116】
【化7】

【化8】

【0117】
スピンコート法の条件は、以下のとおりである。すなわち、前記混合溶液をディスク中央付近に0.6g環状に塗布し、ディスクを250rpmで3秒間回転させ混合溶液を延伸し、その後、6000rpmで2秒間回転させ混合溶液を振り切ることによる塗布を行った。尚、塗布後にはディスクを40℃の環境下に20分間保持することで溶媒であるTFPを蒸発除去した。
【0118】
その後、色素記録層上にSnOターゲット(実施例1)、SnO−ZnO(80:20重量%)ターゲット(実施例2)、SnO−SiO(80:20重量%)ターゲット(実施例3)、またはITO(In−SnO(90:10重量%))ターゲット(比較例1)をスパッタして約16nmの厚みの界面層を形成した。
【0119】
その上に、厚さ75μmのポリカーボネート樹脂のシートと厚み25μmの感圧接着剤層からなる合計100μmの透明なカバー層を貼り合わせ、光記録媒体を作製した。
作製した光記録媒体の記録再生評価を下記の通り行った。
【0120】
[記録再生評価]
光記録媒体の記録再生評価は、記録再生光波長λ=406nm、NA(開口数)=0.85、集束ビームスポット径約0.42μm(1/eの強度となる領域)の光学系を有するパルステック社製ODU1000テスターを用いて行った。
【0121】
光記録媒体は、線速度9.83m/s(以下、2xと記載)もしくは、29.50m/s(以下、6xと記載)で回転させ、記録光のパワーを変化させて記録を行った。再生は線速度を4.92m/sとし、再生光のパワーは0.30mWとした。記録には、マーク変調信号(1−7PP)を用いた。基準クロック周期Tは15.15ns(チャンネルクロック周波数66MHz)とした。
【0122】
(ジッタ)
ジッタ測定は、記録信号をリミット・イコライザーにより波形等化した後、2値化を行い、2値化した信号の立ち上がりエッジ及び立ち下がりエッジと、チャンネルクロック信号の立ち上がりエッジとの時間差の分布σをタイムインターバルアナライザにより測定し、基準クロック周期をTとして、σ/T×100(%)をジッタと定義した(データ・トゥー・クロック・ジッタ Data to Clock Jitter)。ジッタの値が小さいほど、エラーの発生が少ない記録再生が可能となる。
【0123】
(パワーマージン)
パワーマージンは、ジッタ値が最適、即ち最小となる記録パワーをPwo、ジッタの絶対値が10%となる記録パワー値における、Pwoより高パワー側の記録パワーをPwh、低パワー側の記録パワーをPwlとした場合に、((Pwh−Pwl)/Pwo)×100(%)と定義して求めた。パワーマージンの値が大きいほど、記録再生時における記録パワーの変動に対するジッタのマージンが大きく、優れた光記録媒体であるといえる。実用に際しては、パワーマージンが30%以上あることが好ましい。
【0124】
[結果]
界面層にSnOを用いたものを実施例1、SnO−ZnOを用いたものを実施例2、SnO−SiOを用いたものを実施例3、ITOを用いたものを比較例1として、上記のようにして求めたパワーマージンの値を表1に示す。
【0125】
【表1】

【0126】
2x記録時では、実施例1〜3のパワーマージンは、比較例1と同程度となっているが、6x記録時では、比較例1のパワーマージンが大きく低下するのに対し、実施例1〜3のパワーマージンは30%以上の値を維持していることが判る。
【0127】
即ち、本発明の界面層を用いることにより、特に高速記録におけるパワーマージンが改善されていることが明らかである。
【0128】
また、比較例1においては、ITOのスパッタチャンバー内に、主にInOからなるパーティクルが発生していたが、実施例1〜3の場合においてパーティクルは発生しなかった。

【特許請求の範囲】
【請求項1】
少なくとも、
案内溝が形成された基板と、
前記基板上に光反射機能を有する反射層と、
未記録状態において記録再生光波長に対して光吸収機能を有する色素を主成分として含有する記録層と、
前記記録層に接する界面層と、
前記記録層に対して記録再生光が入射するカバー層とをこの順に備え、
前記記録再生光を集束して得られる記録再生光ビームが前記カバー層に入射する面から遠い側の案内溝部を記録溝部とするとき、
前記記録溝部に形成された記録ピット部の反射光強度が、当該記録溝部における未記録時の反射光強度より増加する光記録媒体において、
前記界面層に酸化スズが20重量%以上含有されることを特徴とする光記録媒体。
【請求項2】
前記界面層に酸化スズが40重量%以上含有されることを特徴とする請求項1記載の光記録媒体。
【請求項3】
前記界面層に酸化スズが60重量%以上含有されることを特徴とする請求項1記載の光記録媒体。
【請求項4】
前記界面層に酸化スズが80重量%以上含有されることを特徴とする請求項1記載の光記録媒体。
【請求項5】
前記界面層にZnO及び/又はSiOが含有されることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の光記録媒体。
【請求項6】
前記界面層にZnO及び/又はSiOが合計で5重量%以上20重量%以下含有されることを特徴とする請求項5に記載の光記録媒体。

【図1】
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【図2】
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【公開番号】特開2011−129201(P2011−129201A)
【公開日】平成23年6月30日(2011.6.30)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2009−286626(P2009−286626)
【出願日】平成21年12月17日(2009.12.17)
【出願人】(501495237)三菱化学メディア株式会社 (105)
【Fターム(参考)】