光防御組成物およびフィルム、ならびに製造方法
本発明は、フォトニック材料の粒子、特に少なくとも２層が両親媒性ポリマーを含むポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む光防御組成物、特に化粧料組成物を提供する。本発明は太陽紫外線から物質を光防御する方法を提供し、本方法は、フォトニック材料の粒子、特に少なくとも２層が両親媒性ポリマーを含むポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む光防御組成物で前記物質を処理する工程、または少なくとも組成物を前記物質に一体化する工程にある。前記物質は、特に、インキ、塗料、ガラス、テキスタイル、紙、およびポリマーから選択されてもよい。本発明は、太陽紫外線から光防御するフィルムも提供し、本フィルムは、太陽紫外線を遮蔽するフォトニック材料、特に、少なくとも２層が両親媒性ポリマーを含むポリマー多層干渉構造を有するフォトニック材料を含む。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フォトニックゲルから得られるフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子を使用して様々な物質を光防御する組成物および方法に関する。
【０００２】
さらに、本発明は、ヒトケラチン物質を処置する組成物および方法に関する。
【背景技術】
【０００３】
現在の光防御組成物は、様々な遮蔽剤、とりわけ可溶性または不溶性有機遮蔽剤を併用している。前記遮蔽剤のそれぞれの吸収スペクトルが紫外線スペクトル全域をカバーするほど十分に広いことは稀であり、併用が必要である。
【０００４】
さらに、多くの可溶性有機遮蔽剤は、それらの中に通常含有される成分との相溶性の問題を、とりわけ他の有機遮蔽剤または活性分子（酸化防止剤もしくはビタミンなど）との相互作用の結果として引き起こすことがあり、それらの光安定性は十分に満足のいくものではないことがある。この問題の解決に関する多くの特許がある、即ち、この問題が繰り返し生じることを表している。
【０００５】
多くの非化粧品産業部門でも、紫外線、特に太陽紫外線の作用から様々な物質を光防御する紫外線遮蔽剤が使用されている。
【０００６】
これは、特に、建築材、自動車産業で使用される材料、またはプラスチック包装材などの紫外線に永久的に曝露される物質に塗布される塗料、インキ、または保護コーティング配合物に当てはまる。特に、透明で、光安定性があり、前記配合物に含有される通常の成分との相溶性があり、目的の色に耐光性を付与するのに有効でなければならない着色剤配合物用の紫外線遮蔽剤が開発されている。
【０００７】
特に、貯蔵安定性のあるプラスチック材料の製造に使用されるポリマー組成物にも同様の考慮事項が当てはまり；それらは、特に、ポリマーの製造および成形方法に適合する紫外線遮蔽剤の開発を必要とし、特に、それらは押出中に使用される高温に耐えることができなければならない。
【０００８】
天然繊維および／または人造繊維および／または合成繊維産業では、耐高温性があり、押出中に紫外線防御剤を配合することができる前記繊維の製造方法（特に、ナイロンなどのポリアミドで製造される繊維の製造に関する方法）に適合し、広いスペクトルで光安定性を有する紫外線遮蔽剤が開発されている。さらに、良好な親和性、繊維に対する良好な付着性を有し、従って、特に、頻繁に洗濯する場合でも良好な耐性が得られる紫外線遮蔽剤が開発されている。開発されている紫外線遮蔽剤は、また、テキスタイル繊維の十分な保護と、前記繊維と接触する皮膚および他のヒトケラチン物質の十分な保護の両方を提供しなければならない。
【０００９】
無機および有機ガラス産業、特に眼科学で使用されるガラスの産業では、広いスペクトルを有する（ＵＶＡ領域およびＵＶＢ領域で有効である）必要があり、且つ、光安定性があり、透明で、ガラス基材への固定方法または光防御コーティングの塗布方法などの様々なガラス処理方法との（例えば、ポリカーボネートガラスとの）適合性がある紫外線遮蔽剤を開発している。
【００１０】
多層構造によって構成される干渉材を遮蔽剤として使用してもよい。ポリマー多層干渉構造を有するフィルムは、層が、例えば、数百以下の数に達してもよい。このようなフィルムは押出によって製造することができ、通常、透明であり、厚さが数百μｍ［マイクロメートル］である。
【００１１】
例えば、ＴｉＯ２またはＺｎＯなどの金属層を使用することにより屈折率の差を大きくすることができ、フィルムを構成する層の数を低減することができる。しかし、その方法を使用するフィルムは可視光線不透過性となることがあり、また剛性がかなり高くなることもある。
【００１２】
変形態様において、フィルムが厚く、多くの層を有する場合、それを破砕して粒子にすると、その効率が著しく低下することがある。フィルムの厚さが大きいため、「エッジ効果」により、干渉の発生が非常に大きく低減する可能性がある。
【００１３】
紫外線スペクトルの反射を生じさせるためにホログラム顔料を使用することが、仏国特許出願公開第２９２１５５９号明細書に開示されている。
【００１４】
仏国特許出願公開第２８８８４９１号明細書は、多層干渉構造を有する遮蔽剤を含む光防御組成物を開示しており、この遮蔽剤は高屈折率層と低屈折率層が交互に積層されている。
【００１５】
異なる誘電率を有する少なくとも２つのポリマー部分を周期的に配置することによって構成されている「フォトニック材料」または「フォトニック結晶」が、米国特許出願公開第２００９／００８６２０８号明細書に開示されている。特に、それらのポリマーフォトニック材料は、変化を引き起こす刺激の影響を受けて、寸法、形状、誘電率、屈折率、色、または他のパラメータを含む少なくとも１つの物理的特性、化学的特性、または誘電特性の変化を生じさせることができる少なくとも１つのポリマー部分を含有する。その変化により、フォトニック材料によって回折される電磁放射線の波長が変化する。
【００１６】
フォトニックゲルはポリマー多層構造を有するフィルムであり、これは支持体上に堆積する時、自発的にラメラ周期構造を形成するブロックポリマーを含み得る。このような材料は、例えば、膨潤剤と接触すると、干渉特性を有し得る。
【００１７】
フォトニックゲルは、Ｅ．Ｔｈｏｍａｓによる出版物：Ｎａｔ Ｍａｔ Ｖｏｌ ６，９５７−９６０，２００８およびＪ Ａｍ Ｃｈｅｍ Ｓｏｃ ２００９，１３１，７５３８−７５３９に開示されている。
【００１８】
前述のものなどの光防御材に適合する新規な紫外線遮蔽系の恩恵を受ける必要がある。
【００１９】
ＵＶＡおよび／またはＵＶＢスペクトルをカバーするのに使用でき、完全に無害で、環境に対して不活性で、光安定性があり、光反応性ではなく、それらを含有する組成物の他の構成成分と相溶性の問題を有しておらず、包装材の材料の機械的特性を低下させない、不溶性遮蔽材の恩恵を受ける必要がある。
【００２０】
完全に無害で、環境に対して不活性で、光安定性があり、光反応性ではなく、それらを含有する組成物の他の構成成分と相溶性の問題を有しておらず、包装材の材料の機械的特性を低下させない着色効果材料の恩恵を受ける必要がある。
【００２１】
また、粒子に破砕されても光学的特性が僅かしか影響を受けない、または全く影響を受けない、複数部分からなる構造を有する、特にポリマー多層干渉構造を有するすぐに入手可能なポリマーフィルムが必要である。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００２２】
本発明は、前述の必要性の一部または全部を満足することを目的としており、フォトニック材料、特にフォトニックゲルから得られるフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子の使用を提供する。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】本発明のポリマー多層干渉構造を有する粒子を示す図である。
【図２】本発明のポリマー多層干渉構造を有するフィルムおよび粒子の製造方法の一例を示す図である。
【図３】膨潤剤と接触する前の、支持体Ｓ上に堆積したフォトニックゲル１を概略的且つ部分的に示す図である。
【図４】膨潤剤と接触した後の図３のフォトニックゲル１を示す図である。
【図５】出版物、Ｎａｔ Ｍａｔ．Ｖｏｌ ６，９５７−９６０，２００８に記載のＰＳ−Ｐ２ＶＰフォトニックゲルの２つの吸収スペクトルを示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
「光防御」用途
光防御組成物およびフィルム
第１の例示的実施形態では、本発明は、フォトニック材料の粒子を含む光防御組成物、特に化粧料組成物を提供する。
【００２５】
フォトニック材料の粒子は、特に、少なくとも２層がポリマーを含むポリマー多層干渉構造を有する粒子であってもよい。前記ポリマーは、前記構造の少なくとも２層を形成する両親媒性ポリマーであってもよい。換言すれば、前記構造の少なくとも２層は、両親媒性ポリマーによって形成されてもよい。
【００２６】
本発明に関して、「光防御組成物」という用語は、任意の物質、特にヒトケラチン物質を紫外線から保護することができる組成物を意味するのに使用される。特に、光防御組成物は、前記物質に塗布する前に測定した透過率が、２５０ｎｍ〜４００ｎｍの範囲の少なくとも１つの波長で、より好ましくは前記範囲全体にわたって、７０％以下、６０％以下、５０％以下、４０％以下、３０％以下、２０％以下、１０％以下、５％以下、あるいは、より好ましくは１％以下である。２５０ｎｍ〜４００ｎｍの範囲における透過率が低いとき、遮蔽効果がずっと高い。
【００２７】
本発明に関して、「フォトニック材料」という用語は、電磁放射線に干渉し、それを変化させることができる周期的に配置された複数の異なる部分を含むポリマー材料に対して使用され、その少なくとも第１の部分と第２の部分はそれぞれ各誘電率を有し、変化を引き起こす刺激を受けたとき、１０ｎｍ〜１０マイクロメートルの連続波長域に対してそれらの部分の誘電率の比が少なくとも１となるように、電磁放射線を少なくとも５ｎｍ寸法的に変化させる能力をそれぞれ有する。
【００２８】
本発明に関して、「ポリマー多層干渉構造」という用語は、少なくとも２層、好ましくは３層以上のポリマーの積層体に対して使用され、積層体は、用途に応じて、例えば紫外線を遮蔽し、例えばＵＶＡから保護し、それによって皮膚の褐色化を制限するように、および／または色を発現するように、および／または肌色を明るくようするように、および／またはスペクトル反射率が変化するように、干渉を生じさせることができる。
【００２９】
干渉は、２５０ｎｍ〜８００ｎｍの波長範囲に１つ以上の透過極小を含む透過スペクトル、または１つ以上の反射ピークを含む反射スペクトルを有する、ポリマー多層干渉構造を提供し得る。
【００３０】
「両親媒性ポリマー」という用語は、親水基と疎水基を含むポリマーを意味するものと理解すべきである。両親媒性ポリマーは、例えば、少なくとも１つの親水性ブロックと少なくとも１つの疎水性ブロックを含むブロック共重合体であってもよい。
【００３１】
他の例示的実施形態によれば、本発明は、紫外線遮蔽剤を内包するポリマーを含むフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む組成物、特に化粧料組成物を提供する。ポリマーは、例えば両親媒性ポリマー、例えば前述の両親媒性ポリマーである。
【００３２】
「紫外線遮蔽剤を内包するポリマー」という用語は、紫外線遮蔽性を有し、前記ポリマーを形成する群とは異なる粒子が、前記ポリマーによって形成される構造に閉じ込められていることを意味するものと理解すべきである。換言すれば、紫外線遮蔽剤は、前記ポリマーによって形成される構造中に添加されている。
【００３３】
他の例示的実施形態によれば、本発明は、物質、特にヒトケラチン物質に施与される太陽紫外線から光防御するフィルムを提供し、本フィルムは、太陽紫外線を遮蔽するフォトニック材料、特に多層干渉構造を含み、その構造の少なくとも２層は両親媒性ポリマーを含む。
【００３４】
両親媒性ポリマーは、太陽紫外線を遮蔽するポリマー多層干渉構造の少なくとも２層を形成し得る。換言すれば、粒子の場合と同様に、構造の少なくとも２層は両親媒性ポリマーによって形成されてもよい。
【００３５】
他の例示的実施形態によれば、本発明は、物質、特にヒトケラチン物質に施与される光防御フィルムを提供し、本フィルムは、例えば前述のような、紫外線遮蔽剤を内包するポリマーを含むフォトニック材料、より詳細にはポリマー多層干渉構造を含む。
【００３６】
前述の光防御フィルムは、例えば、少なくとも１種類の合成または天然ポリマーから製造される物質、有機または無機ガラス、および少なくとも天然繊維および／または人造繊維および／または合成繊維を含む物質（テキスタイルまたは紙など）から選択される物質に施与されてもよい。
【００３７】
光防御フィルムの配合は、目的の物質、特にケラチン物質に施与される前に測定した透過率が、２５０ｎｍ〜４００ｎｍの範囲の少なくとも１つの波長で、より好ましくは前記範囲全体にわたって、７０％以下、６０％以下、５０％以下、４０％以下、３０％以下、２０％以下、１０％以下、５％以下、あるいは、より好ましくは１％以下となるように選択される。２５０ｎｍ〜４００ｎｍの範囲における透過率が低いとき、遮蔽効果がさらに高い。
【００３８】
製造方法
他の例示的実施形態では、本発明は前述の光防御組成物の製造方法を提供し、前記方法は：
ａ）膨潤剤をフォトニック材料、特に、少なくとも２層が両親媒性ポリマーを含むポリマー多層構造を有するフォトニック材料と接触させる工程；
ｂ）フォトニック材料のフィルム、特に、少なくとも２層が両親媒性ポリマーを含むポリマー多層構造を有するフィルムを破砕して、最大寸法１００μｍ以下および／または最小寸法１００ｎｍ以上のフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層構造を有する粒子にする工程；および
ｃ）工程ａ）および工程ｂ）の実施後に得られるフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子を、適した媒体に分散させる工程；
を含み、
工程ｂ）は、工程ａ）の前または後に実施される。
【００３９】
他の例示的実施形態によれば、本発明は前述の光防御組成物の製造方法を提供し、前記方法は：
ａ）紫外線遮蔽剤を溶解含有する膨潤剤をフォトニック材料、特にポリマー多層構造を有するフォトニック材料と接触させる工程；
ｂ）フォトニック材料のフィルム、特にポリマー多層構造を有するフィルムを破砕して、最大寸法１００μｍ以下および／または最小寸法１００ｎｍ以上のフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層構造を有する粒子にする工程；および
ｃ）工程ａ）および工程ｂ）の実施後に得られるフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子を、適した媒体に分散させる工程；
を含み、
工程ｂ）は、工程ａ）の前または後に実施される。
【００４０】
前述の方法で製造される光防御組成物は光防御化粧料組成物であってもよく、このとき工程ｃ）の分散は、化粧料として許容される媒体中で行われる。
【００４１】
光防御組成物およびフィルムの使用
他の例示的実施形態によれば、本発明は、太陽紫外線から物質を光防御する方法を提供し、本方法は：
−フォトニック材料の粒子、より詳細には、少なくとも２層が両親媒性ポリマーを含むポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む光防御組成物で前記物質を処理する工程；または
−少なくとも前記組成物を前記物質に一体化する工程；
を含む。
【００４２】
他の例示的実施形態によれば、本発明は、ヒトケラチン物質を太陽紫外線から光防御する非治療的方法、特に化粧方法を提供し、本方法は、フォトニック材料の粒子、より詳細には、少なくとも２層が両親媒性ポリマーを含むポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む光防御化粧料組成物を、ヒトケラチン物質に塗布する工程を含む。
【００４３】
本発明の他の例示的実施形態は、また、太陽紫外線からヒトケラチン物質を光防御する方法、特に皮膚癌の発症リスクを低減する方法に使用される生理学的に許容される組成物、特に化粧料組成物を提供し、前記組成物は、フォトニック材料の粒子、より詳細には、少なくとも２層が両親媒性ポリマーを含むポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む。特記しない限り、前記組成物は本発明の化粧料組成物の特徴を全て有してもよい。
【００４４】
他の例示的実施形態によれば、本発明は、インキ、塗料、またはコーティングを光防御する方法を提供し、本方法は、前記インキまたは前記塗料または前記コーティングに、フォトニック材料の粒子、より詳細には、少なくとも２層が両親媒性ポリマーを含むポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む、少なくとも１種類の組成物を配合する工程を含む。
【００４５】
他の例示的実施形態によれば、本発明は、少なくとも１種類の合成または天然ポリマーから製造される物質を光防御する方法を提供し、本方法は：
−前記ポリマーを、フォトニック材料の粒子、より詳細には少なくとも２層が両親媒性ポリマーを含むポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む組成物で処理する工程；または前記組成物を前記物質に一体化する工程；
を含む。
【００４６】
他の例示的実施形態によれば、本発明は、有機または無機ガラスを光防御する方法を提供し、本方法は：
−フォトニック材料の粒子、より詳細には少なくとも２層が両親媒性ポリマーを含むポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む、少なくとも１種類の組成物で前記ガラスを処理する工程；または、前記組成物を前記ガラスに一体化する工程；
を含む。
【００４７】
他の例示的実施形態によれば、本発明は、少なくとも天然繊維および／または人造繊維および／または合成繊維を含む物質（テキスタイルまたは紙など）を光防御する方法を提供し、本方法は：
−フォトニック材料の粒子、より詳細には少なくとも２層が両親媒性ポリマーを含むポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む、少なくとも１種類の組成物で前記物質を処理する工程；または前記組成物を前記物質に一体化する工程、
を含む。
【００４８】
他の例示的実施形態によれば、本発明は太陽紫外線から物質を光防御する方法を提供し、本方法は：
−紫外線遮蔽剤を内包するポリマー（例えば、前述の両親媒性ポリマー）を含むフォトニック材料の粒子、より詳細にはポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む光防御組成物で前記物質を処理する工程；または
−少なくとも前記組成物を前記物質に一体化する工程；
を含む。
【００４９】
他の例示的実施形態によれば、本発明はヒトケラチン物質を太陽紫外線から光防御する非治療的方法、特に化粧方法を提供し、本方法は、紫外線遮蔽剤を内包するポリマー（例えば、前述の両親媒性ポリマー）を含むフォトニック材料の粒子、より詳細にはポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む光防御化粧料組成物をヒトケラチン物質に塗布する工程を含む。
【００５０】
本発明の他の例示的実施形態は、また、太陽紫外線からヒトケラチン物質を光防御する方法、特に皮膚癌の発症リスクを低減する方法に使用される、生理学的に許容される組成物、特に化粧料組成物も提供し、前記組成物は、紫外線遮蔽剤を内包するポリマー（例えば、前述の両親媒性ポリマー）を含むフォトニック材料の粒子、より詳細にはポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む。特記しない限り、前記組成物は本発明の化粧料組成物の特徴を全て有してもよい。
【００５１】
他の例示的実施形態によれば、本発明はインキ、塗料またはコーティングを光防御する方法を提供し、本方法は、紫外線遮蔽剤を内包するポリマー（例えば、前述の両親媒性ポリマー）を含むフォトニック材料の粒子、より詳細にはポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む少なくとも１種類の組成物を前記インキまたは塗料または前記コーティングに配合する工程を含む。
【００５２】
他の例示的実施形態によれば、本発明は少なくとも１種類の合成または天然ポリマーから製造される物質を光防御する方法を提供し、本方法は：
−前記ポリマーを、紫外線遮蔽剤を内包するポリマー（例えば、前述の両親媒性ポリマー）を含むフォトニック材料の粒子、より詳細にはポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む組成物で処理する工程；または、前記組成物を前記物質に一体化する工程、
を含む。
【００５３】
他の例示的実施形態によれば、本発明は有機または無機ガラスを光防御する方法を提供し、本方法は：
−紫外線遮蔽剤を内包するポリマー（例えば、前述の両親媒性ポリマー）を含むフォトニック材料の粒子、より詳細にはポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む、少なくとも１種類の組成物で前記ガラスを処理する工程；または、前記組成物を前記ガラスに一体化する工程；
を含む。
【００５４】
他の例示的実施形態によれば、本発明は少なくとも天然繊維および／または人造繊維および／または合成繊維を含む物質（テキスタイルまたは紙など）を光防御する方法を提供し、本方法は：
−紫外線遮蔽剤を内包するポリマー（例えば、前述の両親媒性ポリマー）を含むフォトニック材料の粒子、より詳細にはポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む、少なくとも１種類の組成物で前記物質を処理する工程；または、前記組成物を前記物質に一体化する工程；
を含む。
【００５５】
例として、本発明の光防御方法に使用される組成物およびフィルムの、ケラチン物質に適用する前に測定したＳＰＦ指数は、少なくとも１０、より好ましくは少なくとも１５、より好ましくは少なくとも３０、４５、または６０である。ＳＰＦ（サンスクリーンプロテクションファクター）指数は、論文“Ａ ｎｅｗ ｓｕｂｓｔｒａｔｅ ｔｏ ｍｅａｓｕｒｅ ｓｕｎｓｃｒｅｅｎ ｐｒｏｔｅｃｔｉｏｎ ｆａｃｔｏｒｓ ｔｈｒｏｕｇｈｏｕｔ ｔｈｅ ｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔ ｓｐｅｃｔｒｕｍ”，Ｊ Ｓｏｃ Ｃｏｓｍｅｔ Ｃｈｅｍ，４０，１２７−１３３（Ｍａｙ／Ｊｕｎｅ １９８９）に定義されている。
【００５６】
「蛍光」用途
組成物およびフィルム
他の例示的実施形態では、本発明は、例えば前述のような、蛍光剤を内包するポリマーを含むフォトニック材料の粒子、より詳細にはポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む化粧料組成物を提供する。ポリマーは、例えば、両親媒性ポリマーであってもよい。
【００５７】
「蛍光剤を内包するポリマー」という用語は、蛍光特性を有し、前記ポリマーを形成する群とは異なる粒子が前記ポリマーによって形成される構造に閉じ込められていることを意味するために使用される。換言すれば、蛍光特性を有する粒子が、前記ポリマーによって形成される構造中に添加されている。
【００５８】
製造方法
他の例示的実施形態では、本発明は、例えば前述のような、蛍光剤を内包するポリマーを含むフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む化粧料組成物の製造方法を提供し、前記方法は：
ａ）蛍光剤を溶解含有する膨潤剤をフォトニック材料、特にポリマー多層構造を有するフォトニック材料と接触させる工程；
ｂ）フォトニック材料のフィルム、特に、前記ポリマー多層構造を有するフィルムを破砕して、最大寸法１００μｍ以下および／または最小寸法１００ｎｍ以上のフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層構造を有する粒子にする工程；および
ｃ）工程ａ）および工程ｂ）の実施後に得られるフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子を化粧料として許容される媒体に分散させる工程；
を含み、
工程ｂ）は、工程ａ）の前または後に実施される。
【００５９】
組成物およびフィルムの使用
他の例示的実施形態では、本発明はヒトケラチン物質の色を明るくする方法を提供し、本方法は、例えば前述のような、蛍光剤を内包するポリマーを含むフォトニック材料の粒子、より詳細にはポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む化粧料組成物を塗布する工程を含む。
【００６０】
他の例示的実施形態によれば、本発明はヒトケラチン物質に施与される肌色を明るくするためのフィルムを提供し、本フィルムは、例えば前述のような、蛍光剤を内包するポリマーを含むフォトニック材料、より詳細にはポリマー多層干渉構造を含む。
【００６１】
「着色」用途
組成物およびフィルム
他の例示的実施形態では、本発明は、可視色を発現するフォトニック材料の粒子、より詳細にはポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む化粧料組成物を提供する。
【００６２】
他の例示的実施形態によれば、本発明は、例えば前述のような、着色剤を内包するポリマーを含むフォトニック材料の粒子、より詳細にはポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む化粧料組成物を提供する。
【００６３】
「着色剤を内包するポリマー」という用語は、前記ポリマーを形成する群とは異なる着色剤が、前記ポリマーによって形成される構造に閉じ込められていることを意味するために使用される。換言すれば、着色剤が、前記ポリマーによって形成される構造中に添加されている。
【００６４】
他の例示的実施形態によれば、本発明は、ヒトケラチン物質に施与される化粧用のフィルム、例えば、肌色を均一にするためのフィルムを提供し、本フィルムは、可視色を発現するフォトニック材料の粒子、より詳細にはポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む。
【００６５】
他の例示的実施形態によれば、本発明は、ヒトケラチン物質に施与される、化粧用のフィルム、例えば、肌色を均一にするためのフィルムを提供し、本フィルムは、着色剤を内包するポリマーを含むフォトニック材料構造、特にポリマー多層干渉構造を含む。
【００６６】
ポリマー多層干渉構造を有する粒子は、前述の両親媒性ポリマーを含んでもよい。
【００６７】
製造方法
他の例示的実施形態では、本発明は、例えば両親媒性ポリマーを含み、可視色を発現するフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む化粧料組成物の製造方法を提供し、本方法は：
ａ）膨潤剤をフォトニック材料、特にポリマー多層構造を有するフォトニック材料と接触させる工程；
ｂ）フォトニック材料のフィルム、特にポリマー多層構造を有するフィルムを破砕して、最大寸法１００μｍ以下および／または最小寸法１００ｎｍ以上のフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層構造を有する粒子にする工程；および
ｃ）工程ａ）および工程ｂ）の実施後に得られる前記粒子を化粧料として許容される媒体に分散させる工程；
を含み、
工程ｂ）は、工程ａ）の前または後に実施される。
【００６８】
他の例示的実施形態によれば、本発明は、例えば前述のような、着色剤を内包するポリマーを含むフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む化粧料組成物の製造方法を提供し、前記方法は：
ａ）フォトニック材料、特にポリマー多層構造を有するフォトニック材料を、着色剤を溶解含有する膨潤剤と接触させる工程；
ｂ）フォトニック材料のフィルム、特にポリマー多層構造を有するフィルムを破砕して、最大寸法１００μｍ以下および／または最小寸法１００ｎｍ以上のフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層構造を有する粒子にする工程；
ｃ）工程ａ）および工程ｂ）の実施後に得られる前記粒子を化粧料として許容される媒体に分散させる工程；
を含み、
工程ｂ）は工程ａ）の前または後に実施される。
【００６９】
組成物およびフィルムの使用
他の例示的実施形態では、本発明は、化粧方法、例えば、肌色を均一にする方法を提供し、本方法は、例えば前述の両親媒性ポリマーを含み、可視色を発現するフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む化粧料組成物をヒトケラチン物質に塗布する工程を含み、前記方法はさらに、処置されるケラチン物質の色および／またはスペクトル反射率に応じて組成を選択する工程を含んでもよい。
【００７０】
他の例示的実施形態によれば、本発明は、化粧方法、例えば、肌色を均一にする方法を提供し、本方法は、着色剤を内包するポリマー（例えば、前述の両親媒性ポリマー）を含むフォトニック材料の粒子、より詳細にはポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む化粧料組成物をヒトケラチン物質に塗布する工程を含み、前記方法はさらに、処置されるケラチン物質の色および／またはスペクトル反射率に応じて組成を選択する工程を含んでもよい。
【００７１】
フォトニック材料およびポリマー多層干渉構造
材料の様々な部分の特定の構造配置および前記部分の誘電率により、少なくとも一方向で、材料に照射された特定の周波数の電磁放射線を反射させることができる。材料の様々な部分の構造配置および前記部分の誘電率により、１つまたは複数の特定の周波数付近の光線を回折または反射するフォトニック材料を形成することができる。特に、ポリマーフォトニック材料は、変化を引き起こす刺激により、寸法、形状、誘電率、屈折率、色、または他のパラメータを含む少なくとも１つの物理的特性、化学的特性、または誘電特性の変化を生じさせることができる少なくとも１つのポリマー部分を含有する。この変化により、フォトニック材料によって回折される電磁放射線の波長が変化する。一例として、溶媒タイプの膨潤剤でフォトニック材料の１部分を膨潤させることにより、寸法の変化（即ち、体積変化）を生じさせることができる。寸法変化により、フォトニック材料の構造配置、およびその結果としてフォトニック材料の１部分の誘電率を変化させることができる、または、それによりフォトニック材料によって反射される電磁放射線を変化させることができる。一例として、光学的特性の変化は、特に、類似部分間の周期的な間隔により起こり得る。フォトニック材料は、体積または別の寸法の変化を生じさせる変化を引き起こす刺激に反応する第１の部分と、反応しないまたは別のタイプの刺激に反応する第２の部分を含んでもよい。
【００７２】
フォトニック材料またはフォトニック結晶は、可視、紫外、赤外、およびマイクロ波波長を含む広い波長領域にわたり電磁放射線を回折および／または反射することができる。ある場合には、それらは、１００ｎｍ〜１６００ｎｍの範囲の波長を有する電磁放射線を回折することができる。他の場合には、フォトニック材料は、外部刺激の作用を受けて、約６００％の顕著な波長シフトを示すことができる。
【００７３】
本発明の特定の実施形態では、変化を引き起こす刺激（即ち、膨潤剤）の影響を受けて、それらの少なくとも１部分の電磁放射線の寸法が別の部分と比較して変化し、回折される電磁放射線の１つの波長が少なくとも１０ｎｍ、少なくとも２５ｎｍ、少なくとも５０ｎｍ、少なくとも１５０ｎｍ、少なくとも２００ｎｍ、または少なくとも２５０ｎｍ変化する。
【００７４】
本発明のフォトニック材料は、回折される電磁放射線の波長を少なくとも５０％、少なくとも２５％、または少なくとも１０％変化させることもできる。一例として、変化を引き起こす刺激の存在下で、それらの少なくとも１部分の電磁放射線の寸法が他の部分と比較して変化し、フォトニック材料によって回折される電磁放射線の１つの波長が少なくとも１％、５％、１０％、２５％またはそれより多く変化し得る場合、本発明のフォトニック材料は７００ｎｍより長波長の電磁放射線（赤外、マイクロ波）を回折させることができる。前記回折される波長の変化率は、次式：
［（λｉ−λ０）／λ０］×１００
を使用して算出することができ、式中、λ０は、変化を引き起こす刺激と接触する前のまたは変化を引き起こす刺激の非存在下における、回折される波長のピークに対応し、λｉは、変化を引き起こす刺激との接触中に回折される波長のピークに対応する。
【００７５】
本発明のフォトニック材料は米国特許出願公開第２００９／００８６２０８号明細書に記載されており、それらは、その文献に記載されている方法を使用して製造される。
【００７６】
フォトニック材料、特にポリマー多層干渉構造を有するフォトニック材料のフィルムおよび粒子
本発明に関して、「フォトニック材料」、特に「ポリマー多層干渉構造」という用語は、フォトニック材料、特にポリマー多層干渉構造を有するフォトニック材料のフィルムおよび粒子を包含する。
【００７７】
本発明に関して、フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子が化粧料組成物中に存在してもよい。
【００７８】
全組成物重量に対する、フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子の重量含有率は、０．１％〜５０％の範囲、例えば１％〜２０％の範囲、例えば５％〜１５％の範囲であってもよい。
【００７９】
フォトニック材料のフィルム、特にポリマー多層干渉構造を有するフィルムを使用することも可能であり、前記フィルムは、ケラチン物質ならびに前述のものなどの物質に施与することも可能である。
【００８０】
前記フィルムは、例えば、太陽紫外線から保護するために、または肌色を明るくするために、または化粧するために、例えば肌色を均一にするために、ケラチン物質の外面の一部に局所的に堆積されてもよい。
【００８１】
前記フィルムは任意の型に切断されてもよく、例えば、皮膚の欠陥、即ち、しみ、皺、白斑等を隠蔽するのに使用されてもよい。
【００８２】
本発明のフィルムは任意選択により粘着性であってもよい。フィルムは、例えばケラチン物質、例えば皮膚に施与されることが意図されている場合、粘着性であってもよい。本発明のフィルムは、ケラチン物質上にｉｎ ｓｉｔｕで形成されてもよい。
【００８３】
ポリマー多層干渉構造のサイズおよび形状
図１は、本発明のポリマー多層干渉構造を有する粒子を示す。
【００８４】
膨潤剤の非存在下または存在下で、粒子の長さＬ１および幅Ｌ２は１μｍ〜１００μｍの範囲であってもよい。
【００８５】
粒子の厚さＬ３は、膨潤剤の非存在下では０．１μｍ〜５０μｍの範囲、膨潤剤の存在下では０．１μｍ〜１００μｍの範囲であってもよい。
【００８６】
膨潤剤の非存在下または存在下で、ポリマー多層干渉構造を有する粒子の最大寸法は、１００μｍ以下であってもよい。
【００８７】
膨潤剤の非存在下で、粒子の最大寸法は１００μｍ以下、例えば７５μｍ以下、例えば５０μｍ以下であってもよい。
【００８８】
膨潤剤の非存在下または存在下で、ポリマー多層干渉構造を有する粒子の最小寸法は０．１μｍ以上、例えば１μｍ以上であってもよい。
【００８９】
ポリマー多層干渉構造を有するフィルムの最大寸法は、１ｍｍ〜５０ｃｍの範囲であってもよい。
【００９０】
ポリマー多層干渉構造の形状係数（ｆｏｒｍ ｆａｃｔｏｒ）は、１〜１０００の範囲であってもよい。
【００９１】
「形状係数」という用語は、ポリマー多層干渉構造の最大寸法と最小寸法の比を意味する。
【００９２】
ポリマー多層干渉構造は平板状であってもよい、即ち、形状係数が少なくとも３、例えば少なくとも１０であってもよい。
【００９３】
ポリマー多層干渉構造は、例えば、両親媒性ポリマーの存在に関連付けられるラメラ構造を有してもよい。両親媒性ポリマーはラメラ構造を有してもよい。
【００９４】
ポリマー多層干渉構造は、少なくとも３層、例えば少なくとも５層、１０層または５０層を含んでもよい。
【００９５】
ポリマー多層干渉構造は１００層未満を含んでもよい。
【００９６】
ポリマー多層干渉構造の製造方法
前述のように、ポリマー多層干渉構造を有する粒子は、Ｅ．Ｔｈｏｍａｓによる出版物：Ｎａｔ Ｍａｔ Ｖｏｌ ６，９５７−９６０，２００８およびＪ Ａｍ Ｃｈｅｍ Ｓｏｃ ２００９，１３１，７５３８−７５３９に記載のように製造され得るフォトニックゲルから得られてもよい。
【００９７】
図２は、本発明のポリマー多層干渉構造を有するフィルムおよび粒子の製造方法の一例を示す。
【００９８】
フォトニックゲルは、例えば、フィルムプラー（ｐｕｌｌｅｒ）で展延することにより、ディップコートすることにより、またはスピンコートすることにより、および任意の印刷法により、例えば、両親媒性ブロックポリマーを溶媒に溶解した溶液をインクジェット印刷することにより、フィルムの形態で得られる（工程Ｉ）。支持体上に堆積されると、それは多層ポリマー構造、例えばラメラ構造に自発的に組織化する。その場合、フォトニックゲルは交互に積層した親水層と疎水層を含む。
【００９９】
フォトニックゲルの多層構造の層数は１００以下であってもよく、乾燥後の厚さは１５μｍ以下であってもよい。
【０１００】
堆積後、膨潤剤の非存在下で、フォトニックゲルは２５０ｎｍ〜８００ｎｍの波長範囲で干渉特性を有する必要はない。
【０１０１】
例えば、出版物、Ｎａｔ Ｍａｔ Ｖｏｌ ６，９５７−９６０，２００８に記載のように、１−ブロモエタンとの接触により、フォトニックゲルを四級化してもよい。
【０１０２】
詳細に後述する性質を有する膨潤剤との接触（工程ＩＩＩ）により、フォトニックゲルの膨潤が、例えば、その親水層または疎水層で起こり得、このようにしてポリマー多層干渉構造が生じ得る。
【０１０３】
下記に詳述するように、１種類以上の紫外線遮蔽剤および／または１種類以上の蛍光剤および／または１種類以上の着色剤をポリマー多層構造に導入するために、膨潤剤との接触工程を有利に使用することができる。
【０１０４】
干渉波長は、濃度、様々な層間の屈折率の差、膨潤剤のｐＨ、ポリマー多層干渉構造中に存在するポリマーの分子量および架橋度に応じて変化し得る。これらのパラメータを変化させることによって、例えば、全ＵＶＡまたはＵＶＢスペクトルをカバーすることが可能である。
【０１０５】
図３および図４では、分かり易くするために、図示する様々な要素の相対的割合は必ずしも維持しなかった。
【０１０６】
図３は、膨潤剤と接触する前の、支持体Ｓ上に堆積したフォトニックゲル１を概略的且つ部分的に示す。
【０１０７】
このフォトニックゲル１は、例えば、図示するように、親水性１０ラメラ層と疎水性２０ラメラ層を交互に積層することによって構成され得るポリマー多層構造を含む。
【０１０８】
図３に示す実施形態では、フォトニックゲルは、例えば、２５０ｎｍ〜８００ｎｍの範囲の波長を有する放射線Ｒに対して透明である。
【０１０９】
「透明」という用語は、フォトニックゲルが４５０ｎｍ〜８００ｎｍの波長範囲にバンドギャップを有していないことを意味する。一例として、フォトニックゲルは、当該波長範囲で８０％以上、例えば９０％の透過率を有してもよい。
【０１１０】
図４は、膨潤剤と接触した後の図３のフォトニックゲル１を示す。図４の例では、疎水層２０のみが膨潤剤に対する感受性を有する。
【０１１１】
変形態様では、親水層１０のみが膨潤剤に対する感受性を有する可能性がある。
【０１１２】
図示するように、膨潤剤との接触により、フォトニックゲル１が放射線Ｒを反射し、例えば、太陽紫外線に対する光防御特性を付与するおよび／または可視色を発現することが可能となり得る。膨潤工程を実施した後、本発明のフィルムを使用してもよい。
【０１１３】
ポリマー多層構造を膨潤剤と接触させた後、好ましくは破砕工程の前または後に、フォトニックゲルを凝固させる凝固工程（工程ＩＶ）を実施してもよい。それは、ポリマー多層構造を凝固剤と接触させる工程を含んでもよく、凝固剤は、シリカもしくはその前駆体（例えば、ＴＥＯＳ）などの無機物質、またはグリコール、例えば、グリセリン、ジプロピレングリコール、ソルビトール、ブチレングリコール、４００ｇ／ｍｏｌ〜５００００ｇ／ｍｏｌの範囲の分子量を有するＰＥＧなどであってもよい。ゾルゲル法においてシリカ前駆体であるＴＥＯＳを使用する凝固工程が、出版物、Ｊ Ａｍ Ｃｈｅｍ Ｓｏｃ ２００９，１３１，７５３８−７５３９に記載されている。
【０１１４】
凝固工程の実施は、粒子を化粧料として許容される媒体に分散させた後、粒子がその物理化学的特性、とりわけその干渉特性を維持できることを意味し得る。
【０１１５】
凝固剤を含むポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む組成物は、塗布中、および組成物をケラチン物質に塗布した後、少なくとも２時間、例えば３時間、その干渉特性を維持できる。
【０１１６】
凝固剤を含むポリマー多層干渉構造を有するフィルムは、施与中、および組成物をケラチン物質に塗布した後、少なくとも２時間、例えば３時間、その干渉特性を維持できる。
【０１１７】
図２に示すように、膨潤剤と接触させる工程の後、および凝固剤と接触させる任意の工程の後、フォトニックゲルのポリマー多層構造を破砕する破砕工程（Ｖ）を実施してもよい。変形態様では、膨潤剤と接触させる工程の前に破砕工程を実施し、その後、任意の凝固工程を実施することも可能である。
【０１１８】
破砕は、例えば、レーザー切断、またはエアジェットミル、クライオミル、ボールミル、または湿式ミルで行ってもよい。
【０１１９】
膨潤剤
幾つかの例示的実施形態では、フォトニック材料、特にポリマー多層干渉構造はさらに、膨潤剤（特に、不揮発性膨潤剤）を、前記材料の一方または両方の部分を膨潤させることができる量で含んでもよい。フォトニック材料がポリブタジエン／スチレンブロック共重合体を含む場合、そのポリブタジエン部分を膨潤させるために、膨潤剤は、例えば、鉱物油であってもよい。
【０１２０】
例えば、水性溶媒または有機溶媒などの任意の適切な溶媒を膨潤剤として使用してもよい。本発明の幾つかの特定の実施形態では、酸性、中性、または塩基性の溶媒を使用してもよい。
【０１２１】
本発明に関して、フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子は、膨潤剤を含んでもよい。
【０１２２】
膨潤剤は、フォトニック材料の膨潤が起こる部分、特にポリマー多層干渉構造の膨潤が起こる層の性質に応じて、親水性であってもまたは疎水性であってもよい。
【０１２３】
膨潤剤は、少なくとも１種類の光学活性物質、例えば、紫外線遮蔽剤、蛍光剤、着色剤、およびこれらの混合物を溶解含有してもよい。
【０１２４】
光学活性物質は、例えば、疎水性であっても、または親水性であってもよい。
【０１２５】
膨潤剤は、例えば、光学活性物質の混合物、例えば、紫外線遮蔽剤と蛍光剤の混合物、紫外線遮蔽剤と着色剤の混合物、蛍光剤と着色剤の混合物、あるいは紫外線遮蔽剤と蛍光剤と着色剤との混合物を含んでもよい。
【０１２６】
膨潤剤として水、ならびに、０．０１Ｍ〜５Ｍの範囲の濃度を有する有機または無機塩水、例えば、ナトリウム塩、マグネシウム塩、カリウム塩、カルシウム塩または銅塩の溶液、リン酸塩の溶液、またはアンモニウム塩の溶液などを使用することが可能である。
【０１２７】
また、グリセリン、４００ｇ／ｍｏｌ〜５００００ｇ／ｍｏｌの範囲の分子量を有するＰＥＧ、少なくとも１重量％の割合で水に可溶な単糖類、二糖類、およびオリゴ糖類、ソルビトール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、エチレングリコール、ブチレングリコール、水溶性ポリオール、水混和性の低級アルコール、例えば、メタノール、エタノールまたはイソプロパノール、または１−ブタノールを膨潤剤として、単独で、混合物として、または水溶液として、任意の割合で使用することも可能である。
【０１２８】
「低級アルコール」という用語は、炭素数６未満のアルコールを意味する。
【０１２９】
他の適した溶媒の例としては、ベンゼン、アセトン、β−メチル酪酸、α−エチル酪酸、２，２，２−トリフルオロエタノール、１−ブタノール、１，４−ブタンジオール、クロロホルム、ブロモエタン、酢酸メチル、酢酸エチル、ジメチルホルムアミド、ブタン−２−オン、ジビニルベンゼン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、および酢酸溶液を挙げることができる。
【０１３０】
膨潤剤は、さらに、紫外線遮蔽剤溶液、例えば、中和されたまたは中和されていない有機紫外線遮蔽剤溶液を含んでも、あるいはそれからなってもよい。次の溶液：テレフタリリデンジカンファースルホン酸（例えば、Ｍｅｘｏｒｙｌ ＳＸ）またはフェニルベンズイミダゾールスルホン酸（例えば、Ｅｕｓｏｌｅｘ ２３２）を挙げることができる。
【０１３１】
１種または複数種の非中和有機紫外線遮蔽剤の溶液の使用は、ｐＨが変化し得る、従って、フォトニック材料、とりわけポリマー多層構造、例えば両親媒性ポリマーの膨潤も変化し得ることを意味する。
【０１３２】
また、フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子、例えば両親媒性ポリマーが、少なくとも、疎水性で膨潤剤に対する感受性のある部分、特に、層を含む場合、膨潤剤は、例えば、ラウロイルイソプロピルサルコシネート、オクチルドデカノール、安息香酸Ｃ１２〜Ｃ１５アルキル（Ｆｉｎｓｏｌｖ ＴＮ）、ウンデカンおよびトリデカンなどの極性油、ならびに、例えば、有機遮蔽剤の油性溶液から選択してもよい。
【０１３３】
膨潤剤のｐＨは１〜１２の範囲であってもよい。膨潤剤のｐＨは、例えば、酢酸、乳酸、塩酸、硝酸、硫酸、マレイン酸、およびコハク酸、ならびに水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、トリエタノールアミンなどの塩基から選択される酸および塩基、またはリシンおよびアルギニンの溶液との接触により調整されてもよい。
【０１３４】
固定化剤（Ｆｉｘｉｎｇ ａｇｅｎｔ）
フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子は、固定化剤を含んでもよい。
【０１３５】
固定化剤は、例えば、シリカおよびその前駆体（例えば、ＴＥＯＳ）などの無機化合物、またはグリコール、例えば、グリセリン、ジプロピレングリコール、ソルビトール、ブチレングリコール、または４００ｇ／ｍｏｌ〜５００００ｇ／ｍｏｌの範囲の分子量を有するＰＥＧから選択されてもよい。
【０１３６】
固定化剤とポリマー多層干渉構造の層の屈折率の差は、０．０５〜１．５の範囲であってもよい。
【０１３７】
フォトニック材料およびポリマー多層干渉構造のポリマー
本発明のフォトニック材料、特にポリマー多層干渉構造は、単独重合体、共重合体、ブロック共重合体、単独重合体の混合物、ブロック共重合体の混合物、単独重合体とブロック共重合体との混合物、着色剤などの添加剤または無機化合物が添加されたポリマー材料を含んでもよい。
【０１３８】
幾つかの例示的実施形態では、フォトニック材料は、ポリマーの混合物、またはポリマーと非ポリマーもしくは他のものとの混合物を含んでもよく、組成が異なるおよび／または化学的特性、物理的特性、または誘電特性が異なる少なくとも２つの部分を含んでもよい。
【０１３９】
さらに、本発明のフォトニック材料は、その少なくとも１部分の寸法、化学的特性または物理的特性を変化させるのに使用し得る他のポリマーまたは非ポリマー添加剤を含有してもよい。さらに、フォトニック材料の構造中に存在する非ポリマー添加剤は、周期構造中の２つの部分を分離する部位を構成してもよい。一例として、分離されたポリマー部分のサイズは、その部分の体積の一部を変化させることにより、例えば、補助的ナノ粒子、補助的単独重合体、補助的モノマー、または、ｉｎ ｓｉｔｕで重合、グラフト化、および／または架橋される架橋性化合物を配合することにより、制御されてもよい。前述のものなどの添加剤は、その部分の数／タイプ、および／またはその部分の寸法を変化させるために使用することができるが、変化を引き起こす刺激の影響を受けてもフォトニック材料の挙動に影響を及ぼさないものである。
【０１４０】
ブロック共重合体
本発明のフォトニック材料中に存在するブロック共重合体により、異なる組成および／または異なる物理的特性を特徴とする別々の部分に配置された一次元、二次元、または三次元の周期構造を得ることができる。
【０１４１】
「周期構造」という用語は、少なくとも一方向の直線が構造を通り、少なくとも２つの別々の部分と規則的な間隔で交差するように配置された構造を意味するのに使用される。一例として、「一次元構造」とは、一方向の直線が構造を通り、少なくとも２つの分離された部分と規則的な間隔で交差するように、三次元直交座標系（Ｘ、Ｙ、Ｚ方向の成分）で配置され得る構造である。「二次元構造」とは、二方向の直線が構造を通り、少なくとも２つの別々の部分と規則的な間隔で交差するように、三次元座標系で配置され得る構造である。「三次元構造」とは、三方向のいずれかの直線が構造を通り、少なくとも２つの別々の部分と規則的な間隔で交差するように、三次元座標系で配置され得る構造である。さらに、「周期構造」という用語は、フォトニック材料中の類似の寸法と間隔を有する類似部分を特徴とする、規則的周期性のある部分を有する材料を指す。「部分」という用語は、フォトニック材料の明確に異なる部位を定義し、それを隣接部分または周囲部分のものと区別する特定の組成および／または特定の物理的特性によって特徴付けられる。
【０１４２】
フォトニック材料、特にポリマー多層干渉構造を構成するポリマーは、両親媒性であってもよく、例えば、ブロック共重合体、例えば：
・Ａ−Ｂの形態のジブロック共重合体であって、Ａが、例えば、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリシクロヘキシルメタクリレート、ポリイソボルニルアクリレート、ポリイソボルニルメタクリレート、ポリイソブチルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、ポリＮ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、およびポリイソプロピルメタクリレートから選択される疎水性ブロックであり、Ｂが：
●例えば、ポリ（２−ビニルピリジン）、ポリ（４−ビニルピリジン）、ポリ（ジメチルアミノエチルメタクリレート）、ポリ（ジエチルアミノエチルメタクリレート）、ポリ（ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド）、およびポリ（Ｎ−ビニルピロリドン）から選択される親水性陽イオン性ブロック；
●例えば、ポリ（アクリル酸）、ポリ（メタクリル酸）、ポリ（マレイン酸）、ポリ（イタコン酸）、ポリ（フマル酸）、ポリ（クロトン酸）、ポリ（アクリルアミドグリコール酸）、およびポリ（アクリルアミド２−メチルプロパンスルホン酸）から選択される親水性陰イオン性ブロック；もしくは
●例えば、ポリ（ＰＥＧメタクリレート）から選択される親水性非イオン性ブロック；
であるジブロック共重合体、
・Ａ−Ｂ−Ｃの形態のトリブロック共重合体であって：
●ＡとＣが、例えば、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリシクロヘキシルメタクリレート、ポリイソボルニルアクリレート、ポリイソボルニルメタクリレート、ポリイソブチルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、ポリＮ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、およびポリイソプロピルメタクリレートから選択される、異なる疎水性ブロックであり、Ｂが、
○例えば、ポリ（２−ビニルピリジン）、ポリ（４−ビニルピリジン）、ポリ（ジメチルアミノエチルメタクリレート）、ポリ（ジエチルアミノエチルメタクリレート）、ポリ（ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド）、およびポリ（Ｎ−ビニルピロリドン）から選択される親水性陽イオン性ブロック；
○例えば、ポリ（アクリル酸）、ポリ（メタクリル酸）、ポリ（マレイン酸）、ポリ（イタコン酸）、ポリ（フマル酸）、ポリ（クロトン酸）、ポリ（アクリルアミドグリコール酸）、およびポリ（アクリルアミド２−メチルプロパンスルホン酸）から選択される親水性陰イオン性ブロック；もしくは
○例えば、ポリ（ＰＥＧメタクリレート）から選択される親水性非イオン性ブロック；
であるトリブロック共重合体、または
●Ｂが、例えば、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリシクロヘキシルメタクリレート、ポリイソボルニルアクリレート、ポリイソボルニルメタクリレート、ポリイソブチルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、ポリＮ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、およびポリイソプロピルメタクリレートから選択される疎水性ブロックであり、ＡとＣが異なり、以下：
○例えば、ポリ（２−ビニルピリジン）、ポリ（４−ビニルピリジン）、ポリ（ジメチルアミノエチルメタクリレート）、ポリ（ジエチルアミノエチルメタクリレート）、ポリ（ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド）、およびポリ（Ｎ−ビニルピロリドン）から選択される親水性陽イオン性ブロック；
○例えば、ポリ（アクリル酸）、ポリ（メタクリル酸）、ポリ（マレイン酸）、ポリ（イタコン酸）、ポリ（フマル酸）、ポリ（クロトン酸）、ポリ（アクリルアミドグリコール酸）、およびポリ（アクリルアミド２−メチルプロパンスルホン酸）から選択される親水性陰イオン性ブロック；もしくは
○例えば、ポリ（ＰＥＧメタクリレート）から選択される親水性非イオン性ブロック；
から選択されるトリブロック共重合体、
を含んでも、またはこれらのものであってもよい。
【０１４３】
疎水性ブロックと親水性陽イオン性ブロックを含む共重合体は、塩の形態であってもまたは四級化された形態であってもよい。
【０１４４】
前記ブロックのそれぞれの分子質量は、１００００ｇ／ｍｏｌ〜５０００００ｇ／ｍｏｌの範囲であってもよい。
【０１４５】
疎水性ブロックと親水性陰イオン性ブロックを含む共重合体は、塩の形態であってもよい。
【０１４６】
前記ブロックのそれぞれの分子質量は、１０００ｇ／ｍｏｌ〜５０００００ｇ／ｍｏｌの範囲であってもよい。
【０１４７】
ＭＰＥＧの分子量は、５００ｇ／ｍｏｌ〜１００００ｇ／ｍｏｌの範囲であってもよい。
【０１４８】
当該実施形態はいずれも、親水性ブロックが膨潤剤に対する感受性を有していてもよい。
【０１４９】
変形態様では、疎水性ブロックは、膨潤剤に対する感受性を有していてもよい。例えば、疎水性ブロックがポリイソボルニルアクリレート、ポリイソボルニルメタクリレートおよびポリイソブチルメタクリレートから選択される場合、膨潤剤は、極性油または極性油に溶解したサンスクリーン剤の溶液であってもよい。
【０１５０】
フォトニック材料、特にポリマー多層干渉構造は、両親媒性ポリマー、例えば、蛍光剤、および／または紫外線遮蔽剤、および／または着色剤を内包する両親媒性ポリマーを含んでもよく、両親媒性ポリマーは共重合体であってもよい。
【０１５１】
特に好ましくは、ポリマーは、ポリスチレン／ポリ（２−ビニルピリジン）ジブロック共重合体を含む。
【０１５２】
紫外線遮蔽剤
フォトニック材料、特にポリマー多層干渉構造は、紫外線遮蔽剤を内包するポリマー（例えば、両親媒性ポリマー）を含んでもよい。
【０１５３】
フォトニック材料、特にポリマー多層干渉構造、およびその中に存在する紫外線遮蔽剤は、波長２５０ｎｍ〜４００ｎｍの放射線に対する相補的遮蔽作用を有してもよい。
【０１５４】
紫外線遮蔽剤は、例えば、ＵＶＡが遮蔽され、皮膚の褐色化が制限されるように選択することができる。
【０１５５】
紫外線遮蔽剤は、有機紫外線遮蔽剤であってもよい。
【０１５６】
紫外線遮蔽剤は、疎水性であっても、または水溶性であってもよい。
【０１５７】
紫外線遮蔽剤は、膨潤剤に溶解することによって、フォトニック材料、特にポリマー多層干渉構造に導入されてもよい。
【０１５８】
紫外線遮蔽剤は、本発明の組成物中に遊離状態で、即ち、フォトニック材料外に、特にポリマー多層干渉構造外に存在してもよい。
【０１５９】
簡略化するために、遊離状態で、またはフォトニック材料、特にポリマー多層干渉構造中に紫外線遮蔽剤として使用し得る紫外線遮蔽剤の一覧を下記に記載する。
【０１６０】
３２０ｎｍ〜４００ｎｍの範囲の紫外線（ＵＶＡ）を吸収できる疎水性遮蔽剤
ジベンゾイルメタン誘導体
・特に、「ＰＡＲＳＯＬ １７８９」の商標名でＤＳＭ Ｎｕｔｒｉｔｉｏｎａｌ Ｐｒｏｄｕｃｔｓ，Ｉｎｃにより販売されている、ブチルメトキシジベンゾイルメタン；
・イソプロピルジベンゾイルメタン。
【０１６１】
アミノベンゾフェノン
「ＵＶＩＮＵＬ Ａ＋」の商標名でＢＡＳＦにより販売されている、２−（４−ジエチルアミノ２−ヒドロキシベンゾイル）安息香酸ｎ−ヘキシル。
【０１６２】
アントラニル酸誘導体
「ＮＥＯ ＨＥＬＩＯＰＡＮ ＭＡ」の商標名でＳＹＭＲＩＳＥにより販売されている、アントラニル酸メンチル。
【０１６３】
４，４−ジアリールブタジエン誘導体
１，１−ジカルボキシ（２，２’−ジメチル−プロピル）−４，４−ジフェニルジフェニルブタジエン。
【０１６４】
２８０ｎｍ〜３２０ｎｍの範囲の紫外線（ＵＶＢ）を吸収できる疎水性遮蔽剤
パラアミノ安息香酸エステル
・エチルＰＡＢＡ；「ＰＡＢＡ」は、ｐ−アミノ安息香酸を表す；
・エチルジヒドロキシプロピルＰＡＢＡ；
・エチルヘキシルジメチルＰＡＢＡ（ＩＳＰ製のＥＳＣＡＬＯＬ ５０７）。
【０１６５】
サリチル酸誘導体
・「Ｅｕｓｏｌｅｘ ＨＭＳ」の名称でＲｏｎａ／ＥＭ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓにより販売されている、ホモサレート；
・「ＮＥＯ ＨＥＬＩＯＰＡＮ ＯＳ」の名称でＳＹＭＲＩＳＥにより販売されている、サリチル酸エチルヘキシル；
・「ＤＩＰＳＡＬ」の名称でＳＣＨＥＲにより販売されている、サリチル酸ジプロピレングリコール；
・「ＮＥＯ ＨＥＬＩＯＰＡＮ ＴＳ」の名称でＳＹＭＲＩＳＥにより販売されている、サリチル酸ＴＥＡ。
【０１６６】
桂皮酸エステル
・特に、「ＰＡＲＳＯＬ ＭＣＸ」の商標名でＤＳＭ Ｎｕｔｒｉｔｉｏｎａｌ Ｐｒｏｄｕｃｔｓ，Ｉｎｃにより販売されている、メトキシ桂皮酸エチルヘキシル；
・メトキシ桂皮酸イソプロピル；
・「ＮＥＯ ＨＥＬＩＯＰＡＮ Ｅ １０００」の商標名でＳＹＭＲＩＳＥにより販売されている、メトキシ桂皮酸イソアミル；
・メチル桂皮酸ジイソプロピル；
・シノキサート；
・エチルヘキサン酸ジメトキシ桂皮酸グリセリル。
【０１６７】
β，β’−ジフェニルアクリレート誘導体
・特に、「ＵＶＩＮＵＬ Ｎ５３９」の商標名でＢＡＳＦにより販売されている、オクトクリレン；
・特に、「ＵＶＩＮＵＬ Ｎ３５」の商標名でＢＡＳＦにより販売されている、エトクリレン。
【０１６８】
ベンジリデンカンファー誘導体
・「ＭＥＸＯＲＹＬ ＳＤ」の商標名でＣＨＩＭＥＸにより製造されている、３−ベンジリデンカンファー；
・「ＥＵＳＯＬＥＸ ６３００」の商標名でＭＥＲＣＫにより販売されている、メチルベンジリデンカンファー；
・「ＭＥＸＯＲＹＬ ＳＷ」の名称でＣＨＩＭＥＸにより製造されている、ポリアクリルアミドメチルベンジリデンカンファー。
【０１６９】
トリアジン誘導体
・特に、「ＵＶＩＮＵＬ Ｔ１５０」の商標名でＢＡＳＦにより販売されている、エチルヘキシルトリアゾン；
・「ＵＶＡＳＯＲＢ ＨＥＢ」の商標名でＳＩＧＭＡ ３Ｖにより販売されている、ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン；
・２，４，６−トリス（ジネオペンチル４’−アミノベンザルマロネート）−ｓ−トリアジン；
・２，４，６−トリス（ジイソブチル４’−アミノベンザルマロネート）−ｓ−トリアジン；
・２，４−ビス（ジネオペンチル４’−アミノベンザルマロネート）−６−（４’−ｎ−ブチルアミノベンゾエート）−ｓ−トリアジン；
・２，４−ビス（ｎ−ブチル４’−アミノベンゾエート）−６−（アミノプロピルトリシロキサン）−ｓ−トリアジン；
・米国特許第６，２２５，４６７号明細書、国際公開第２００４／０８５４１２号パンフレット（化合物６〜９参照）または文献“Ｓｙｍｍｅｔｒｉｃａｌ Ｔｒｉａｚｉｎｅ Ｄｅｒｉｖａｔｉｖｅｓ”，ＩＰ．ＣＯＭ Ｊｏｕｒｎａｌ，ＩＰ．ＣＯＭ ＩＮＣ ＷＥＳＴ ＨＥＮＲＩＥＴＴＡ，ＮＹ，ＵＳ（２０ Ｓｅｐｔｅｍｂｅｒ ２００４）に記載の対称トリアジン遮蔽剤、特に、２，４，６−トリス−（ビフェニル）１，３，５−トリアジン（特に、２，４，６−トリス（ビフェニル−４−イル−１，３，５−トリアジン）、およびＢＥＩＥＲＳＤＯＲＦによる出願、国際公開第０６／０３５０００号パンフレット、国際公開第０６／０３４９８２号パンフレット、国際公開第０６／０３４９９１号パンフレット、国際公開第０６／０３５００７号パンフレット、国際公開第２００６／０３４９９２号パンフレット、国際公開第２００６／０３４９８５号パンフレットに記載の２，４，６−トリス（ターフェニル）−１，３，５−トリアジン。
【０１７０】
イミダゾリン誘導体
ジメトキシベンジリデンジオキソイミダゾリンプロピオン酸エチルヘキシル。
【０１７１】
ベンザルマロネート誘導体
・「ＰＡＲＳＯＬ ＳＬＸ」の商標名でＤＳＭ Ｎｕｔｒｉｔｉｏｎａｌ Ｐｒｏｄｕｃｔｓ，Ｉｎｃにより販売されているポリシリコーン１５などの、ベンザルマロネート官能基を有するポリオルガノシロキサン；
・４’−メトキシベンザルマロン酸ジネオペンチル。
【０１７２】
メロシアニン誘導体
オクチル−５−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ−２−フェニルスルホニル−２，４−ペンタジエノエート。
【０１７３】
ＵＶＡとＵＶＢの両方を吸収できる混合疎水性遮蔽剤
ベンゾフェノン誘導体
・「ＵＶＩＮＵＬ ４００」の商標名でＢＡＳＦにより販売されている、ベンゾフェノン−１；
・「ＵＶＩＮＵＬ Ｄ５０」の商標名でＢＡＳＦにより販売されている、ベンゾフェノン−２；
・「ＵＶＩＮＵＬ Ｍ４０」の商標名でＢＡＳＦにより販売されている、ベンゾフェノン−３またはオキシベンゾン；
・ベンゾフェノン−５；
・「Ｈｅｌｉｓｏｒｂ １１」の商標名でＮｏｒｑｕａｙにより販売されている、ベンゾフェノン−６；
・「Ｓｐｅｃｔｒａ−Ｓｏｒｂ ＵＶ ２４」の商標名でＡｍｅｒｉｃａｎ Ｃｙａｎａｍｉｄにより販売されている、ベンゾフェノン−８；
・ベンゾフェノン−１０；
・ベンゾフェノン−１１；
・ベンゾフェノン−１２。
【０１７４】
フェニルベンゾトリアゾール誘導体
・「Ｓｉｌａｔｒｉｚｏｌｅ」の名称でＲＨＯＤＩＡ ＣＨＩＭＩＥにより販売されている、ドロメトリゾールトリシロキサン；
・固形状で「ＭＩＸＸＩＭ ＢＢ／１００」の商標名でＦＡＩＲＭＯＵＮＴ ＣＨＥＭＩＣＡＬにより、または微粒子状で水性分散液として「ＴＩＮＯＳＯＲＢ Ｍ」の商標名でＣＩＢＡ ＳＰＥＣＩＡＬＴＹ ＣＨＥＭＩＣＡＬＳにより販売されている、メチレンビス−ベンゾトリアゾリルテトラメチルブチルフェノール。
【０１７５】
ビス−レゾルシニルトリアジン誘導体
「ＴＩＮＯＳＯＲＢ Ｓ」の商標名でＣＩＢＡ ＧＥＩＧＹにより販売されている、ビス−エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン。
【０１７６】
ベンゾキサゾール誘導体
Ｕｖａｓｏｒｂ Ｋ２Ａの名称でＳｉｇｍａ ３Ｖにより販売されている、２，４−ビス−［５−１（ジメチルプロピル）ベンゾキサゾール−２−イル−（４−フェニル）−イミノ］−６−（２−エチルヘキシル）−イミノ−１，３，５−トリアジン。
【０１７７】
３２０ｎｍ〜４００ｎｍの範囲の紫外線（ＵＶＡ）を吸収できる水溶性遮蔽剤
「ＭＥＸＯＲＹＬ ＳＸ」の名称でＣＨＩＭＥＸにより製造されている、テレフタリリデンジカンファースルホン酸。
欧州特許第０６６９３２３号明細書および米国特許第２，４６３，２６４号明細書に記載のビス−ベンゾアゾリル誘導体、より詳細には「ＮＥＯ ＨＥＬＩＯＰＡＮ ＡＰ」の商標名でＨａａｒｍａｎｎ ａｎｄ ＲＥＩＭＥＲにより販売されている化合物、フェニルジベンズイミダゾールテトラスルホン酸ニナトリウム。
【０１７８】
２８０ｎｍ〜３２０ｎｍの範囲の紫外線（ＵＶＢ）を吸収できる水溶性遮蔽剤
ｐ−アミノ安息香酸誘導体（ＰＡＢＡ）
・ＰＡＢＡ；
・グリセリルＰＡＢＡ；および
・「ＵＶＩＮＵＬ Ｐ２５」の名称でＢＡＳＦにより販売されている、ＰＥＧ−２５ＰＡＢＡ；
・特に、「ＥＵＳＯＬＥＸ ２３２」の商標名でＭＥＲＣＫにより販売されている、フェニルベンズイミダゾールスルホン酸；
・フェルラ酸；
・サリチル酸；
・メトキシ桂皮酸ＤＥＡ；
・「ＭＥＸＯＲＹＬ ＳＬ」の名称でＣＨＩＭＥＸにより製造されている、ベンジリデンカンファースルホン酸；
・「ＭＥＸＯＲＹＬ ＳＯ」の名称でＣＨＩＭＥＸにより製造されている、カンファーベンザルコニウムメトサルフェート。
【０１７９】
混合ＵＶＡおよびＵＶＢ水溶性遮蔽剤
少なくとも１つのスルホン酸基を含むベンゾフェノン誘導体
・「ＵＶＩＮＵＬ ＭＳ４０」の商標名でＢＡＳＦにより販売されている、ベンゾフェノン−４；
・ベンゾフェノン−５；および
・ベンゾフェノン−９。
【０１８０】
蛍光剤
フォトニック材料、特にポリマー多層干渉構造中に存在し得る蛍光剤は、ＩＲまたはＵＶ蛍光剤であってもよい。
【０１８１】
蛍光剤は、例えば、ＵＶＡを遮蔽し、皮膚の褐色化を制限するように選択されてもよい。
【０１８２】
本発明のフォトニック材料、特にポリマー多層干渉構造は、白色光で照明したとき、それぞれ赤色、緑色、および青色を発現する３種類の異なる蛍光剤を含んでもよい。このような構造は、加算合成により白色光を発生させ、ケラチン物質の色を明るくする方法に使用することができる。
【０１８３】
蛍光剤は、例えば、スチルベン誘導体（特に、ポリスチリルスチルベンおよびトリアジンスチルベン）、クマリン誘導体（特に、ヒドロキシクマリンおよびアミノクマリン）、オキサゾール、ベンゾキサゾール、イミダゾール、トリアゾールまたはピラゾリン誘導体、ピレン誘導体およびポルフィリン誘導体、および／またはこれらの混合物の溶液から選択される蛍光増白剤であってもよい。
【０１８４】
このような化合物は、例えば、Ｔｉｎｏｐａｌ ＳＯＰおよびＵｖｉｔｅｘ ＯＢの商標名で供給業者ＣＩＢＡ ＧＥＩＧＹから入手可能である。
【０１８５】
また、例えば、Ｔｉｎｏｐａｌ ＣＢＳ Ｘの商標名で供給業者ＣＩＢＡから入手可能な、ジスチリルビフェニルジスルホン酸二ナトリウムの水溶液を蛍光増白剤として使用することも可能である。
【０１８６】
着色剤
着色剤は水溶性であっても、または脂溶性であってもよい。
【０１８７】
当該実施形態のいずれに関しても、着色剤がフォトニック材料中に、特にポリマー多層干渉構造中に、または遊離状態で、即ち前記構造外に存在してもよい。
【０１８８】
一例として、着色が望ましい場合、化粧料組成物は、例えば、フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子によって発現するものと実質的に同じ色を有し得る着色剤を遊離状態で含んでもよい。変形態様では、遊離状態の着色剤は、フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子によって発現するものとは異なる色を有してもよい。
【０１８９】
簡略化するために、遊離状態で、またはフォトニック材料、特にポリマー多層干渉構造中に使用される着色剤の一覧を下記に記載する。
【０１９０】
脂溶性着色剤は、例えば、ＤＣレッド１７、ＤＣレッド２１、ＤＣレッド２７、ＤＣグリーン６、ＤＣイエロー１１、ＤＣバイオレット２、ＤＣオレンジ５、スダンレッド、カロチン（β−カロチン、リコピン）、キサントフィル（カプサンシン、カプソルビン、ルテイン）、パーム油、スダンブラウン、キノリンイエロー、アナトー、およびクルクミンから選択されてもよい。
【０１９１】
水溶性着色剤は、例えば、ＦＤＣレッド４、ＤＣレッド６、ＤＣレッド２２、ＤＣレッド２８、ＤＣレッド３０、ＤＣレッド３３、ＤＣオレンジ４、ＤＣイエロー５、ＤＣイエロー６、ＤＣイエロー８、ＦＤＣグリーン３、ＤＣグリーン５、ＦＤＣブルー１、ベタニン（ビートの根）、カーミン、銅クロロフィリン、メチレンブルー、アントシアニン（エノシアニン、ブラックキャロット、ハイビスカス、ニワトコ）、およびリボフラビンから選択されてもよい。
【０１９２】
着色剤は、また、アントラキノン、カラメル、カーボンブラック、アズレンブルー、メトキサレン、トリオキサレン、グアイアズレン、カマズレン、ローズベンガル、コサイン１０Ｂ（ｃｏｓｉｎｅ １０Ｂ）、シアノシン、ダフィニン（ｄａｐｈｉｎｉｎ）、ジュグロン（ｊｕｇｌｏｎｅ）およびローソン（ｌａｗｓｏｎｅ）から選択されてもよい。
【０１９３】
フォトニック材料、および特にポリマー多層干渉構造の光学的特性
本発明に関して、フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子の反射スペクトルおよび透過率は、前記粒子を適した媒体に分散させる前に測定される。
【０１９４】
フォトニック材料のフィルム、特にポリマー多層干渉構造を有するフィルムの反射および透過スペクトルは、目的の物質に、特にケラチン物質に施与する前に測定される。
【０１９５】
本発明のフォトニック材料、特にポリマー多層干渉構造は、任意選択により角度依存多色性（ｇｏｎｉｏｃｈｒｏｍａｔｉｃ）であってもよい。
【０１９６】
フォトニック材料、特にポリマー多層干渉構造が可視色を発現する場合、それらは、任意選択により紫外線遮蔽性を有してもよい。
【０１９７】
フォトニック材料、特にポリマー多層干渉構造が紫外線遮蔽性を有する場合、それらは任意選択により可視色を発現してもよい。
【０１９８】
太陽紫外線に対する光防御用途
フォトニック材料、特にポリマー多層干渉構造は、例えば２５０ｎｍ〜４００ｎｍの波長範囲に、例えば２９０ｎｍ〜４００ｎｍの範囲に、例えば３３０ｎｍ〜４００ｎｍの範囲に少なくとも１つの反射ピークを含む反射スペクトルを有してもよい。反射ピークは、干渉次数１を有するピークであってもよい。
【０１９９】
フォトニック材料、特にポリマー多層干渉構造は、例えば、２５０ｎｍ〜８００ｎｍの波長範囲に、それぞれ異なる干渉次数に対応する幾つかの反射ピークを含む反射スペクトルを有してもよい。フォトニックゲルに関するこのような反射スペクトルについては、出版物、Ｎａｔ Ｍａｔ，Ｖｏｌ ６，９５７−９６０，２００８に記載されている。このような場合、２５０ｎｍ〜４００ｎｍの波長範囲の反射ピークは、干渉次数少なくとも２、例えば３、例えば４、例えば５に対応し得る。
【０２００】
フォトニック材料、特にポリマー多層干渉構造は、４５０ｎｍ〜８００ｎｍの波長範囲で透明であってもよい。
【０２０１】
本発明に関して、フォトニック材料、特にポリマー多層干渉構造は、当該波長範囲で透過率が８０％以上、例えば、９０％である場合、透明であるものとする。
【０２０２】
フォトニック材料、特にポリマー多層干渉構造は、紫外線遮蔽剤または蛍光剤などの別の光学活性物質を、例えば、両親媒性ポリマー中に含んでもよい。
【０２０３】
フォトニック材料、特にポリマー多層干渉構造、および、適宜それらの中に存在する紫外線遮蔽剤は、２５０ｎｍ〜４００ｎｍの波長範囲の放射線に対する相補的遮蔽作用を有してもよい。
【０２０４】
従って、紫外線遮蔽剤を内包するポリマーを含むフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む化粧料組成物は、ケラチン物質に塗布する前に、２５０ｎｍ〜４００ｎｍの波長範囲に少なくとも２つの極小を含む透過スペクトルを有してもよい。極小は、例えば、少なくとも５０ｎｍ分離していてもよい。
【０２０５】
肌色を明るくするための用途
蛍光剤を内包するポリマー（例えば、両親媒性ポリマー）を含むフォトニック材料、特にポリマー多層干渉構造は、２５０ｎｍ〜８００ｎｍ、例えば２５０ｎｍ〜４００ｎｍの波長範囲に反射ピークを含む反射スペクトルを有してもよい。
【０２０６】
さらに、フォトニック材料、特にポリマー多層干渉構造が、蛍光剤を内包するポリマーを含む場合、ケラチン物質に塗布する前に、それらは２５０ｎｍ〜８００ｎｍの波長範囲に少なくとも２つの極小を含む透過スペクトルを有してもよい。
【０２０７】
これらの場合、第１の透過極小は２５０ｎｍ〜４００ｎｍの波長範囲にあり、第２の透過極小は４００ｎｍ〜８００ｎｍの波長範囲、例えば４００ｎｍ〜５００ｎｍの範囲にあってもよい。極小は、例えば、少なくとも５０ｎｍ、例えば１００ｎｍ分離していてもよい。
【０２０８】
従って、蛍光剤を内包するポリマー（例えば、両親媒性ポリマー）を含むフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む化粧料組成物は、ケラチン物質に塗布する前に、２５０ｎｍ〜８００ｎｍの波長範囲に２つの極小を含む透過スペクトルを有してもよい。
【０２０９】
極小は、少なくとも５０ｎｍ、例えば１００ｎｍ分離していてもよい。
【０２１０】
少なくとも１つの極小は、２５０ｎｍ〜４００ｎｍの波長範囲にあってもよく、少なくとも１つの極小は４００ｎｍ〜８００ｎｍの波長範囲、例えば、４００ｎｍ〜５５０ｎｍにあってもよい。
【０２１１】
化粧用途
フォトニック材料、特に多層干渉構造が、それらの着色特性のために使用される場合、ケラチン物質に塗布する前に、４００ｎｍ〜８００ｎｍの波長範囲に少なくとも１つの反射ピークを含む反射スペクトルを有してもよい。フォトニックゲルに関するこのような反射スペクトルについては、出版物、Ｎａｔ Ｍａｔ，Ｖｏｌ ６，９５７−９６０，２００８に記載されている。
【０２１２】
フォトニック材料、特にポリマー多層干渉構造は、可視スペクトルの色を全て、例えば、黄色、黄橙色、または紫色を発現することができる。
【０２１３】
フォトニック材料、特にポリマー多層干渉構造は、金属色または金属様の外観を発現し得る。
【０２１４】
従って、例えば両親媒性ポリマーを含む、可視色を発現するフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む組成物は、ケラチン物質に塗布する前に、４００ｎｍ〜８００ｎｍの波長範囲に反射ピークを含む反射スペクトルを有してもよい。
【０２１５】
さらに、着色剤を内包するポリマー、例えば、着色剤を内包する両親媒性ポリマーを含むフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む化粧料組成物は、ケラチン物質に塗布する前に、４００ｎｍ〜８００ｎｍの波長範囲に反射ピークを含む反射スペクトルを有し得る。
【０２１６】
着色剤によって発現する色が、フォトニック材料によって、特にポリマー多層干渉構造によって発現する色を補強してもよい。
【０２１７】
フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子の混合物
本発明の組成物は、本発明の１種類のフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子、または、例えば、２５０ｎｍ〜４００ｎｍの波長範囲でそれぞれ異なる透過および／または反射スペクトルを有する少なくとも２種類の異なるフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子の混合物を含んでもよい。
【０２１８】
組成物は、例えば、１種類のフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子であって、前記構造の少なくとも２層を形成する両親媒性ポリマーを含む粒子と、多層干渉構造を有する別の種類の粒子との混合物を含んでもよい。
【０２１９】
組成物は、例えば、第１の紫外線遮蔽剤を内包するポリマーを含む１種類のフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子と、第１の紫外線遮蔽剤とは異なる第２の紫外線遮蔽剤を内包するポリマーを含む別の種類のフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子との混合物を含んでもよい。
【０２２０】
組成物は、例えば、蛍光剤を内包するポリマーを含む１種類のフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子と、可視色を発現する別の種類のフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子との混合物を含んでもよい。
【０２２１】
組成物は、例えば、蛍光剤を内包するポリマーを含む１種類のフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子と、紫外線遮蔽剤を内包するポリマーを含む別の種類のフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子との混合物を含んでもよい。
【０２２２】
組成物は、例えば、可視色を発現する１種類のフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子と、紫外線遮蔽剤を内包するポリマーを含む別の種類のフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子との混合物を含んでもよい。
【０２２３】
フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子を含有する媒体
フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子は、化粧料として許容される媒体、即ち、ヒトケラチン物質、特に皮膚、粘膜、または毛髪もしくは爪に塗布するのに適した無毒性媒体に含有されてもよい。
【０２２４】
前記媒体は、組成物が塗布される支持体の性質および組成物が包装される形態に適合するものとする。
【０２２５】
媒体は、フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子を含有する２５℃で液体の相を含んでもよい。
【０２２６】
フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子が凝集することを防止するため、媒体は、塗布する前にフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子の媒体への分散を促進するように選択されてもよい。一例として、フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子を含有する媒体の表面張力を３５ｍＮ／Ｍ未満に低下させる１種類以上の薬剤を使用することが可能な場合もある。
【０２２７】
「水性媒体」という用語は、周囲温度および周囲圧力で液体であり、媒体の総重量に対して含有する水の割合が多い媒体を表す。水性媒体中の水の量は、例えば、３０重量％以上、好ましくは４０％以上、またはより好ましくは５０％以上である。
【０２２８】
媒体は、一相であっても、または多相であってもよい。本発明の組成物は、水相と脂肪相を含んでもよい。
【０２２９】
媒体は透明であってもまたは半透明であってもよく、有色であってもまたは無色であってもよい。フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子を含有する媒体は、顔料または着色剤を含有しなくてもよい。
【０２３０】
媒体は、揮発性溶媒を含んでもよい。
【０２３１】
「揮発性溶媒」という用語は、周囲温度および周囲圧力でケラチン物質と接触して蒸発することができる任意の液体を意味する。
【０２３２】
媒体は、特に、組成物が揮発性溶媒を少なくとも５％、あるいは少なくとも３０％含有するように選択されてもよい。
【０２３３】
媒体は、防御持続性を改善するフィルム形成ポリマーを含んでもよい。
【０２３４】
フィルム形成ポリマー
本発明では、「フィルム形成ポリマー」という用語は、単独でまたは補助的皮膜形成剤の存在下で、ケラチン物質に粘着する巨視的に連続したフィルム、好ましくは凝集性フィルム、より好ましくは、例えば前記フィルムをＴｅｆｌｏｎまたはシリコーン表面などの非粘着面に流延することによって製造する場合、前記フィルムを単離し、単独で操作できるような凝集性と機械的特性を有するフィルムを形成することができるポリマーを意味する。
【０２３５】
組成物は水相を含んでもよく、フィルム形成ポリマーは前記水相に存在してもよい。これらの場合、それは、好ましくはポリマー分散液（ｐｏｌｙｍｅｒ ｉｎ ｄｉｓｐｅｒｓｉｏｎ）であるか、または両親媒性もしくは会合性ポリマーである。
【０２３６】
「ポリマー分散液」という用語は、水に不溶で、様々なサイズの粒子の形態になっているポリマーを意味する。ポリマーは、任意選択により架橋されてもよい。平均粒子サイズは、通常、２５ｎｍ〜５００ｎｍの範囲、好ましくは５０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲である。次のポリマー水性分散液を使用してもよい：Ｕｌｔｒａｓｏｌ ２０７５（登録商標）（Ｇａｎｚ Ｃｈｅｍｉｃａｌ製）、Ｄａｉｔｏｓｏｌ ５０００ＡＤ（登録商標）（大東化成工業（Ｄａｉｔｏ Ｋａｓｅｉ）製）、Ａｖａｌｕｒｅ ＵＲ ４５０（登録商標）（Ｎｏｖｅｏｎ製）、ＤＹＮＡＭＸ（登録商標）（Ｎａｔｉｏｎａｌ Ｓｔａｒｃｈ製）、Ｓｙｎｔｒａｎ ５７６０（登録商標）（Ｉｎｔｅｒｐｏｌｙｍｅｒ製）、Ａｃｕｓｏｌ ＯＰ ３０１（登録商標）（Ｒｏｈｍ＆Ｈａａｓ製）、およびＮｅｏｃｒｙｌ Ａ １０９０（登録商標）（Ａｖｅｃｉａ製）。
【０２３７】
水分散性フィルム形成ポリマーの粒子の水性分散液の他の例としては、Ｎｅｏｃｒｙｌ ＸＫ−９０（登録商標）、Ｎｅｏｃｒｙｌ Ａ−１０７０（登録商標）、Ｎｅｏｃｒｙｌ Ａ−１０９０（登録商標）、Ｎｅｏｃｒｙｌ ＢＴ−６２（登録商標）、Ｎｅｏｃｒｙｌ Ａ −１０７９（登録商標）およびＮｅｏｃｒｙｌ Ａ−５２３（登録商標）の名称で供給業者ＡＶＥＣＩＡ−ＮＥＯＲＥＳＩＮＳにより、Ｄｏｗ Ｌａｔｅｘ ４３２（登録商標）の名称で供給業者ＤＯＷ ＣＨＥＭＩＣＡＬにより、ダイトゾール（Ｄａｉｔｏｓｏｌ）５０００ＡＤ（登録商標）またはダイトゾール（Ｄａｉｔｏｓｏｌ）５０００ＳＪ（登録商標）の名称で供給業者大東化成工業（ＤＡＩＴＯ ＫＡＳＥＹ ＫＯＧＹＯ）により、Ｓｙｎｔｒａｎ ５７６０（登録商標）の名称で供給業者Ｉｎｔｅｒｐｏｌｙｍｅｒにより、Ａｌｌｉａｎｚ ＯＰＴの名称で供給業者ＲＯＨＭ ＆ ＨＡＡＳにより販売されているアクリル分散液、ＪＯＮＣＲＹＬ（登録商標）の商標名で供給業者ＪＯＨＮＳＯＮ ＰＯＬＹＭＥＲにより販売されているアクリルまたはスチレン／アクリルポリマーの水性分散液、またはＮｅｏｒｅｚ Ｒ−９８１（登録商標）およびＮｅｏｒｅｚ Ｒ−９７４（登録商標）の名称で供給業者ＡＶＥＣＩＡ−ＮＥＯＲＥＳＩＮＳにより、Ａｖａｌｕｒｅ ＵＲ−４０５（登録商標）、Ａｖａｌｕｒｅ ＵＲ−４１０（登録商標）、Ａｖａｌｕｒｅ ＵＲ−４２５（登録商標）、Ａｖａｌｕｒｅ ＵＲ−４５０（登録商標）、Ｓａｎｃｕｒｅ ８７５（登録商標）、Ｓａｎｃｕｒｅ ８６１（登録商標）、Ｓａｎｃｕｒｅ ８７８（登録商標）およびＳａｎｃｕｒｅ ２０６０（登録商標）の名称で供給業者ＧＯＯＤＲＩＣＨにより、Ｉｍｐｒａｎｉｌ ８５（登録商標）の名称で供給業者ＢＡＹＥＲにより、Ａｑｕａｍｅｒｅ Ｈ−１５１１（登録商標）の名称で供給業者ＨＹＤＲＯＭＥＲにより販売されているポリウレタンの水性分散液、Ｅａｓｔｍａｎ ＡＱ（登録商標）の商標名で供給業者Ｅａｓｔｍａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｐｒｏｄｕｃｔｓにより販売されているスルホポリエステル、Ｍｅｘｏｍｅｒｅ ＰＡＭ（登録商標）（供給業者ＣＨＩＭＥＸ）などのビニル分散液、およびこれらの混合物がある。
【０２３８】
「両親媒性または会合性ポリマー」という用語は、ポリマーを部分的に水に可溶にする１つ以上の親水性部分と、ポリマーが会合または相互作用するようにする１つ以上の疎水性部分とを含むポリマーを意味する。次の会合性ポリマー：Ｎｕｖｉｓ ＦＸ１１００（登録商標）（Ｅｌｅｍｅｎｔｉｓ製）、Ａｃｕｌｙｎ ２２（登録商標）、Ａｃｕｌｙｎ ４４（登録商標）、Ａｃｕｌｙｎ ４６（登録商標）（Ｒｏｈｍ＆Ｈａａｓ製）、およびＶｉｓｃｏｐｈｏｂｅ ＤＢ１０００（登録商標）（ＡＭＥＲＣＨＯＬ製）を使用してもよい。また、親水性ブロック（ポリアクリレート、ポリエチレングリコール）と疎水性ブロック（ポリスチレン、ポリシロキサン）によって構成されるジブロック共重合体を使用してもよい。
【０２３９】
組成物は油相を含んでもよく、前記油相中にフィルム形成ポリマーが存在してもよい。ポリマーは分散液の状態であっても、または溶液の状態であってもよい。ＮＡＤタイプのポリマーまたはマイクロゲル（例えば、ＫＳＧ）、ならびにＰＳ−ＰＡタイプのポリマーまたはスチレンをベースにする共重合体（Ｋｒａｔｏｎ，Ｒｅｇａｌｉｔｅ）を使用してもよい。
【０２４０】
少なくとも１種類の安定剤で表面を安定化させることができるポリマー（特に、ブロック、グラフトまたはランダムポリマー）の粒子を１種類以上のシリコーン油および／または炭化水素油に分散させた非水性分散液の例としては、Ｍｅｘｏｍｅｒｅ ＰＡＰ（登録商標）（供給業者ＣＨＩＭＥＸ）などのアクリルのイソドデカン分散液、およびグラフトエチレン性ポリマー、好ましくはアクリルポリマー粒子を液体脂肪相に分散させた分散液、特に、文献、国際公開第０４／０５５０８１号パンフレットに記載されているものなどの、エチレン性ポリマーが他の粒子表面安定剤の非存在下で有利に分散されているものを挙げることができる。
【０２４１】
本発明の組成物に使用され得るフィルム形成ポリマーとしては、ラジカルまたは重縮合タイプの合成ポリマー、天然ポリマー、およびこれらの混合物を挙げることができる。
【０２４２】
特に、ラジカルタイプのフィルム形成ポリマーは単独重合体であっても共重合体であってもよく、それはビニル、とりわけアクリルポリマーである。
【０２４３】
フィルム形成ビニルポリマーは、不飽和α，β−エチレン性不飽和カルボン酸、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、マレイン酸またはイタコン酸などの少なくとも１つの酸基を有するエチレン性不飽和結合を含有するモノマーおよび／または前記酸モノマーのエステルおよび／または前記酸モノマーのアミドを重合することによって得ることができる。
【０２４４】
天然のポリマー、任意選択により変性された天然ポリマーは、シェラック樹脂、サンダラックゴム、ダンマル、エレミ、コーパル、およびセルロースポリマー（ニトロセルロース、エチルセルロース、または、例えば酢酸セルロース、セルロースアセトブチレート、セルロースアセトプロピオネートから選択されるニトロセルロースエステルなど）、および、これらの混合物から選択されてもよい。
【０２４５】
フィルム形成ポリマーは、一般にラテックスまたは擬似ラテックスとして知られている水性または油性分散液中の固体粒子の形態で存在してもよい。フィルム形成ポリマーは、１種類以上のポリマーからなる略球状のポリマー粒子が生理学的に許容される液体脂肪相に分散した安定な分散液を１種類以上含んでもよい。ポリマー水性分散液であるラテックスに対して、これらの分散液は一般にポリマーＮＡＤと称される。これらの分散液は、特に、ポリマーのナノ粒子が前記脂肪相に分散した安定な分散液の形態であってもよい。ナノ粒子のサイズは、好ましくは５ｎｍ〜６００ｎｍの範囲である。前記分散液の製造方法は当業者に周知である。
【０２４６】
組成物は、フィルム形成線状ブロックエチレン性ポリマーであるフィルム形成ポリマーを少なくとも１種類含んでもよい。前記ポリマーは、少なくとも１つの第１の配列（ブロック）と、異なるガラス転移温度（Ｔｇ）を有する少なくとも１つの第２の配列とを含んでもよく、前記第１の配列と第２の配列は、第１の配列の少なくとも１種類の構成モノマーと第２の配列の少なくとも１種類の構成モノマーを含む中間配列を介して互いに連結されている。一例として、第１の配列と第２の配列とブロックポリマーは、互いに不相溶性である。このようなポリマーは、例えば、文献、欧州特許第１４１１０６９号明細書または国際公開第０４／０２８４８８号パンフレットに記載されており、これらは参照により本明細書に援用される。
【０２４７】
水相
本発明の組成物は、少なくとも１つの水相を含んでもよい。
【０２４８】
本発明の組成物は水相を含んでもよく、水相は、フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子を含んでもよい。
【０２４９】
水相の含水率は、例えば３０重量％以上、より好ましくは４０重量％以上、非常に好ましくは５０重量％以上である。
【０２５０】
水相は、水と、炭素数１〜５の低級モノアルコール（エタノール、イソプロパノールなど）、炭素数２〜８のグリコール（プロピレングリコール、エチレングリコール、１，３−ブチレングリコール、ジプロピレングリコールなど）、Ｃ３〜Ｃ４ケトン、およびＣ２〜Ｃ４アルデヒドなどの水混和性の１種または複数種の有機溶媒（２５℃における水混和性が５０重量％より大きいもの）との混合物を含んでもよい。
【０２５１】
水相は、当該組成物の総重量に対して１重量％〜９９重量％の範囲、特に３重量％〜８０重量％の範囲、より詳細には５重量％〜６０重量％の範囲の量で存在してもよい。
【０２５２】
脂肪相
当該実施形態の全てにおいて、本発明の組成物は脂肪相を含んでもよい。
【０２５３】
脂肪相は、例えば、フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子を含有していなくてもよい。
【０２５４】
組成物は、例えば、合成エステルまたはエーテル、鉱物または合成由来の直鎖または分枝鎖炭化水素、炭素数８〜２６の脂肪アルコール、部分フッ素化炭化水素油および／またはシリコーン油、直鎖または環状シリコーン鎖を有するポリメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）などのシリコーン油、およびこれらの混合物などの油を含んでもよく、これらは、任意選択により揮発性であってもよく、周囲温度で液体であってもまたはペースト状であってもよく；他の例は下記に記載する。
【０２５５】
従って、本発明の組成物は、少なくとも１種類の揮発性油を含んでもよい。
【０２５６】
揮発性油
本発明に関して、「揮発性油」という用語は、周囲温度および周囲圧力で、皮膚と接触して１時間未満で蒸発することができる油（または非水性媒体）を意味する。
【０２５７】
揮発性油は、周囲温度で液体の揮発性化粧油、特に周囲温度および周囲圧力でゼロでない蒸気圧を有する、特に０．１３Ｐａ〜４００００Ｐａ（１０−３ｍｍＨｇ〜３００ｍｍＨｇ）の範囲、特に１．３Ｐａ〜１３０００Ｐａ（０．０１ｍｍＨｇ〜１００ｍｍＨｇ）の範囲、より詳細には１．３Ｐａ〜１３００Ｐａ（０．０１ｍｍＨｇ〜１０ｍｍＨｇ）の範囲の蒸気圧を有する揮発性化粧油である。
【０２５８】
揮発性炭化水素油は、動物または植物由来の炭素数８〜１６の炭化水素油、特に、イソドデカン（２，２，４，４，６−ペンタメチルヘプタンとも称される）、イソデカン、イソヘキサデカン、および、例えば、Ｉｓｏｐａｒｓ（登録商標）またはＰｅｒｍｅｔｈｙｌｓ（登録商標）の商標名で販売されている油などの分枝鎖Ｃ８〜Ｃ１６アルカン（イソパラフィンとも称される）から選択されてもよい。
【０２５９】
同様に使用し得る揮発性油の例としては、揮発性シリコーン、例えば、直鎖または環状揮発性シリコーン油、とりわけ≦８センチストローク（ｃＳｔ）（８×１０−６ｍ２／ｓ）の粘度を有するもの、とりわけ２〜１０個のケイ素原子、特に２〜７個のケイ素原子を含有するものがあり、前記シリコーンは、任意選択により、炭素数１〜１０のアルキル基またはアルコキシ基を含む。本発明に使用し得る揮発性シリコーン油の例としては、５ｃＳｔ〜６ｃＳｔの粘度を有するジメチコン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、ドデカメチルシクロヘキサシロキサン、ヘプタメチルヘキシルトリシロキサン、ヘプタメチルオクチルトリシロキサン、ヘキサメチルジシロキサン、オクタメチルトリシロキサン、デカメチルテトラシロキサン、ドデカメチルペンタシロキサン、およびこれらの混合物を挙げることができる。
【０２６０】
また、ノナフルオロメトキシブタンまたはパーフルオロメチルシクロペンタン、およびこれらの混合物などのフッ素化揮発性油を使用することも可能である。
【０２６１】
また、前述の油の混合物を使用することも可能である。
【０２６２】
不揮発性油
本発明の組成物は、不揮発性油を含んでもよい。
【０２６３】
本発明に関して、「不揮発性油」という用語は、０．１３Ｐａ未満の蒸気圧を有する油、特に、高分子質量の油を意味する。
【０２６４】
不揮発性油は、特に、必要に応じてフッ素化された炭化水素油、および／または不揮発性シリコーン油から選択されてもよい。
【０２６５】
本発明の実施に適している可能性がある不揮発性炭化水素油の例としては、特に：
−動物由来の炭化水素油；
−植物由来の炭化水素油、例えば、オレイン酸フィトステアリル、イソステアリン酸フィソステアリル、または、例えば、ＥＬＤＥＷ ＰＳ２０３の名称で味の素株式会社（ＡＪＩＮＯＭＯＴＯ）により販売されているグルタミン酸ラウロイル／オクチルドデシル／フィトステアリルなどのフィトステアリルエステル、脂肪酸とグリセリンのエステルによって構成されるトリグリセリド（脂肪酸はＣ４〜Ｃ２４の範囲の鎖長を有してもよく、直鎖または分枝鎖、飽和または不飽和であってもよい）；前記油は、特に、ヘプタン酸もしくはオクタン酸トリグリセリド、または小麦胚芽油、ヒマワリ油、ブドウ種子油、ゴマ油、コーン油、杏仁油、ヒマシ油、シア油、アボカド油、オリーブ油、大豆油、甘扁桃油、パーム油、ナタネ油、綿実油、ヘーゼルナッツ油、マカダミアナッツ油、ホホバ油、アルファルファ油、ケシ油、北海道カボチャ（Ｈｏｋｋａｉｄｏ ｓｑｕａｓｈ）油、ウリ科植物（ｇｏｕｒｄ）油、黒スグリ油、マツヨイグサ油、アワ油、大麦油、キノア油、ライ麦油、紅花油、ククイ油、トケイソウ油、またはマスクローズ油；シアバター；または供給業者ＳＴＥＡＲＩＮＥＲＩＥＳ ＤＵＢＯＩＳにより販売されているもの、もしくはＭＩＧＬＹＯＬ ８１０（登録商標）、８１２（登録商標）および８１８（登録商標）の名称で供給業者ＤＹＮＡＭＩＴ ＮＯＢＥＬにより販売されているものなどのカプリル酸／カプリン酸トリグリセリドである；
−鉱物または合成由来の炭化水素油、例えば：
●炭素数１０〜４０の合成エーテル；
●鉱物または合成由来の直鎖または分枝鎖炭化水素、例えば、ワセリン、ポリデセン、水添ポリイソブテン（パールリームなど）、スクワラン、およびこれらの混合物、特に、水添ポリイソブテン；
●式Ｒ１ＣＯＯＲ２（式中、Ｒ１は炭素数１〜４０の直鎖または分枝鎖脂肪酸の残基を表し、Ｒ２は炭素数１〜４０の炭化水素鎖、とりわけ分枝炭化水素鎖を表し、但し、Ｒ１＋Ｒ２≧１０とする）を有する油などの合成エステルなど；
を挙げることができる。
【０２６６】
特に、エステルは、特に、例えば：
●オクタン酸セトステアリル、イソプロピルアルコールのエステル（ミリスチン酸イソプロピル、パルミチン酸イソプロピルなど）、パルミチン酸エチル、パルミチン酸２−エチルヘキシル、ステアリン酸またはイソステアリン酸イソプロピル、イソステアリン酸イソステアリル、ステアリン酸オクチル、ヒドロキシルエステル（乳酸イソステアリル、ヒドロキシステアリン酸オクチルなど）、アジピン酸ジイソプロピル、ヘプタン酸エステル、特にヘプタン酸イソステアリル、アルコールまたはポリアルコールのオクタン酸、デカン酸またはリシノール酸エステル（ジオクタン酸プロピレングリコール、オクタン酸セチル、オクタン酸トリデシルなど）、４−ジヘプタン酸およびパルミチン酸２−エチルヘキシル、安息香酸アルキル、ジヘプタン酸ポリエチレングリコール、２−ジエチルヘキサン酸プロピレングリコールおよびこれらの混合物、Ｃ１２〜Ｃ１５アルコール安息香酸エステル、ラウリン酸ヘキシル、ネオペンタ酸エステル（ネオペンタン酸イソデシル、ネオペンタン酸イソトリデシル、ネオペンタン酸イソステアリル、ネオペンタン酸オクチルドデシルなど）、イソノナン酸エステル（イソノナン酸イソノニル、イソノナン酸イソトリデシル、イソノナン酸オクチルなど）、またはヒドロキシルエステル（乳酸イソステアリルまたはリンゴ酸ジイソステアリルなど）；
●ポリオールのエステルおよびペンタエリスリトールエステル、例えば、テトラヒドロキシステアリン酸／テトライソステアリン酸ジペンタエリスリトール；
●ジオールダイマーと二酸ダイマーのエステル、例えば、供給業者、日本精化株式会社（ＮＩＰＰＯＮ ＦＩＮＥ ＣＨＥＭＩＣＡＬ）により販売され、仏国特許出願公開第０３０２８０９号明細書に記載されているＬｕｓｐｌａｎ ＤＤ−ＤＡ５（登録商標）およびＬｕｓｐｌａｎ ＤＤ−ＤＡ７（登録商標）；
●周囲温度で液体であり、炭素数１２〜２６の分枝および／または不飽和炭素鎖を有する脂肪アルコール、例えば、２−オクチルドデカノール、イソステアリルアルコール、オレイルアルコール、２−ヘキシルデカノール、２−ブチルオクタノール、または２−ウンデシルペンタデカノール；
●高級脂肪酸、例えば、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸およびこれらの混合物；ならびに
●炭酸ジアルキル（２つのアルキル鎖は同一であってもまたは異なってもよい）、例えば、Ｃｅｔｉｏｌ ＣＣ（登録商標）の名称でＣｏｇｎｉｓにより販売されている炭酸ジカプリリル；
●不揮発性シリコーン油、例えば、不揮発性ポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）、ペンダントのアルキル基またはアルコキシ基を含むおよび／またはシリコーン鎖末端を有するポリジメチルシロキサン（これらの基の炭素数はそれぞれ２〜２４である）、フェニルシリコーン（フェニルトリメチコン、フェニルジメチコン、フェニルトリメチルシロキシジフェニルシロキサン、ジフェニルジメチコン、ジフェニルメチルジフェニルトリシロキサン、または２−フェニルエチルトリメチルシロキシシリケートなど）、または１００ｃＳｔ以下の粘度を有するジメチコンもしくはフェニルトリメチコン、およびこれらの混合物；
−ならびに、これらの混合物；
などの脂肪酸のエステルから選択されてもよい。
【０２６７】
界面活性剤
本発明の組成物は、さらに、例えば、全組成物重量に対して０．１重量％〜３０重量％の範囲の割合で存在する乳化および補助乳化界面活性剤を含有してもよい。
【０２６８】
前記界面活性剤は、陰イオン性または非イオン性界面活性剤から選択されてもよい。界面活性剤の特性および機能の定義に関しては、文献、“Ｔｈｅ Ｅｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａ ｏｆ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，ＫＩＲＫ−ＯＴＨＭＥＲ，ｖｏｌｕｍｅ ２２，ｐｐ ３３３−４３２，ｔｈｉｒｄ ｅｄｉｔｉｏｎ，１９７９，ＷＩＬＥＹ、陰イオン性および非イオン性界面活性剤に関しては、特に、前記参考文献の３４７〜３７７頁を参照されたい。
【０２６９】
本発明に使用することができ、Ｗ／Ｏエマルションの製造に適している界面活性剤の例としては、ＤＣ ５２２５ Ｃの名称で供給業者Ｄｏｗ Ｃｏｒｎｉｎｇにより販売されているシクロメチコンとジメチコンコポリオールの混合物などのジメチコンコポリオール、およびＤｏｗ Ｃｏｒｎｉｎｇ ５２００ Ｆｏｒｍｕｌａｔｉｏｎ Ａｉｄの名称で供給業者Ｄｏｗ Ｃｏｒｎｉｎｇにより販売されているラウリルメチコンコポリオール、およびＡＢＩＬ ＥＭ ９０Ｒの名称で供給業者ＧＯＬＤＳＣＨＭＩＤＴにより販売されているセチルジメチコンコポリオールなどのジメチコンコポリオール、またはＡＢＩＬ ＷＥ ０９の名称で供給業者ＧＯＬＤＳＣＨＭＩＤＴにより販売されているイソイソステアリン酸ポリグリセリル−４／セチルジメチコンコポリオール／ラウリン酸ヘキシルを挙げることができる。
【０２７０】
例えば、アルキル化ポリオールエステルを含む群から選択され得る１種類以上の補助乳化剤をそれに添加することが可能である。アルキル化ポリオールエステルの特定の例としては、グリセリンおよび／またはソルビタンのエステル、例えば、Ｉｓｏｌａｎ ＧＩ ３４の名称で供給業者ＧＯＬＤＳＣＨＭＩＤＴにより販売されている組成物などのイソステアリン酸ポリグリセリン、ＡＲＬＡＣＥＬ ９８７の名称で供給業者ＩＣＩにより販売されている組成物などのイソステアリン酸ソルビタン、ＡＲＬＡＣＥＬ ９８６の名称で供給業者ＩＣＩにより販売されている組成物などのイソステアリン酸ソルビタングリセリン、およびこれらの混合物を挙げることができる。
【０２７１】
Ｌｕｂｒｉｚｏｌ ５６０３およびＣｈｅｍｃｉｎｎａｔｅ ２０００の名称で供給業者ＬｕｂｒｉｚｏｌおよびＣｈｅｍｒｏｎにより販売されているものなどのエステル化コハク酸末端基を含有するポリイソブチレン界面活性剤を、Ｗ／Ｏエマルションを得るのに適した乳化剤として使用することもできる。
【０２７２】
同様に使用し得るＷ／Ｏエマルション用の界面活性剤としては、文献、米国特許第５，４１２，００４号明細書の実施例３、４および８の方法、および米国特許第５，８１１，４８７号明細書の実施例の方法に従って得られるもの、とりわけ、米国特許第５，４１２，００４号明細書の実施例３（合成例）の生成物、ならびにＫＳＧ２１の品名で供給業者、信越化学工業株式会社（Ｓｈｉｎ−Ｅｔｓｕ）により販売されている製品などの、少なくとも１つのオキシアルキレン基を含む固体の架橋エラストマーオルガノポリシロキサンが挙げられる。
【０２７３】
Ｗ／Ｏエマルションを得るに適している、本発明に使用し得る界面活性剤の例としては、非イオン性界面活性剤、とりわけ、ポリオールと、例えば、炭素数８〜２４、より好ましくは炭素数１２〜２２の飽和または不飽和鎖を有する脂肪酸とのエステル、およびそれらのオキシアルキレン化誘導体、即ち、オキシエチレン化および／またはオキシプロピレン化単位を含有する誘導体、例えば、Ｃ８〜Ｃ２４脂肪酸のグリセリルエステルおよびそれらのオキシアルキレン化誘導体；Ｃ８〜Ｃ２４脂肪酸のポリエチレングリコールエステル、およびそれらのオキシアルキレン化誘導体；Ｃ８〜Ｃ２４脂肪酸のソルビトールエステル、およびそれらのオキシアルキレン化誘導体；Ｃ８〜Ｃ２４脂肪酸の糖（ショ糖、グルコースまたはアルキルグルコース）エステル、およびそれらのオキシアルキレン化誘導体；脂肪アルコールのエーテル；Ｃ８〜Ｃ２４脂肪アルコールの糖エーテル；グルコースまたはアルキルグルコースのオキシエチレン化脂肪酸エーテル；およびこれらの混合物が挙げられる。
【０２７４】
脂肪酸のグリセリルエステルとしては、特に、ステアリン酸グリセリル（モノ−、ジ−および／またはトリステアリン酸グリセリル）（ＣＴＦＡ名：ステアリン酸グリセリル）またはリシノール酸グリセリル、およびこれらの混合物を挙げることができる。
【０２７５】
脂肪酸のポリエチレングリコールエステルとしては、特に、ステアリン酸ポリエチレングリコール（モノ−、ジ−および／またはトリステアリン酸ポリエチレングリコール）、とりわけモノステアリン酸ポリエチレングリコール５０ＯＥ（ＣＴＦＡ名：ステアリン酸ＰＥＧ−５０）、モノステアリン酸ポリエチレングリコール１００ＯＥ（ＣＴＦＡ名：ステアリン酸ＰＥＧ−１００）およびこれらの混合物を挙げることができる。
【０２７６】
また、これらの界面活性剤の混合物、例えば、ＡＲＬＡＣＥＬ １６５の名称で供給業者Ｕｎｉｑｅｍａにより販売されているステアリン酸グリセリルとステアリン酸ＰＥＧ−１００を含有する製品、およびＴＥＧＩＮの名称で供給業者ＧＯＬＤＳＣＨＭＩＤＴにより販売されているステアリン酸グリセリル（モノ−ジステアリン酸グリセリル）およびステアリン酸カリウムを含有する製品（ＣＴＦＡ名：ステアリン酸グリセリルＳＥ）を使用することも可能である。
【０２７７】
グルコースまたはアルキルグルコースの脂肪酸エステルとしては、特に、パルミチン酸グルコース、セスキステアリン酸アルキルグルコース（セスキステアリン酸メチルグルコースなど）、パルミチン酸アルキルグルコース（パルミチン酸メチルグルコースまたはエチルグルコースなど）、メチルグルコシドの脂肪エステル、とりわけメチルグルコシドとオレイン酸のジエステル（ＣＴＦＡ名：ジオレイン酸メチルグルコース）；メチルグルコシドとオレイン酸／ヒドロキシステアリン酸混合物の混合エステル（ＣＴＦＡ名：ジオレイン酸／ヒドロキシステアリン酸メチルグルコース）；メチルグルコシドとイソステアリン酸のエステル（ＣＴＦＡ名：イソステアリン酸メチルグルコース）；メチルグルコシドとラウリン酸のエステル（ＣＴＦＡ名：ラウリン酸メチルグルコース）；メチルグルコシドとイソステアリン酸のモノエステルとジエステルの混合物（ＣＴＦＡ名：セスキイソステアリン酸メチルグルコース）；メチルグルコシドとステアリン酸のモノエステルとジエステルの混合物（ＣＴＦＡ名：セスキステアリン酸メチルグルコース）、特に、Ｇｌｕｃａｔｅ ＳＳの名称で供給業者ＡＭＥＲＣＨＯＬにより販売されている製品、およびこれらの混合物を挙げることができる。
【０２７８】
脂肪酸とグルコースまたはアルキルグルコースのオキシエチレン化エーテルの例としては、脂肪酸とメチルグルコースのオキシエチレン化エーテル、例えば、エチレンオキサイドを約２０ｍｏｌ含有する、メチルグルコースとステアリン酸のジエステルのポリエチレングリコールエーテル（ＣＴＦＡ名：ジステアリン酸ＰＥＧ−２０メチルグルコース）（Ｇｌｕｃａｍ Ｅ−２０ ｄｉｓｔｅａｒａｔｅの名称で供給業者ＡＭＥＲＣＨＯＬにより販売されている製品など）；エチレンオキサイドを約２０ｍｏｌ含有する、メチルグルコースとステアリン酸のモノエステルとジエステルの混合物のポリエチレングリコールエーテル（ＣＴＦＡ名：セスキステアリン酸ＰＥＧ−２０メチルグルコース）（例えば、Ｇｌｕｃａｍａｔｅ ＳＳＥ−２０の名称で供給業者ＡＭＥＲＣＨＯＬにより販売されている製品、およびＧｒｉｌｌｏｃｏｓｅ ＰＳＥ−２０の名称で供給業者ＧＯＬＤＳＣＨＭＩＤＴにより販売されている製品）、およびこれらの混合物を挙げることができる。
【０２７９】
ショ糖エステルの例としては、ショ糖パルミトステアリン酸エステル、ショ糖ステアリン酸エステルおよびショ糖モノラウリン酸エステルを挙げることができる。脂肪アルコールのエーテルの例としては、炭素数８〜３０、とりわけ炭素数１０〜２２の脂肪アルコールのポリエチレングリコールエーテル、例えば、セチルアルコール、ステアリルアルコールまたはセテアリルアルコール（セチルアルコールとステアリルアルコールの混合物）のポリエチレングリコールエーテルなどを挙げることができる。例としては、１〜２００個、好ましくは２〜１００個のオキシエチレン基を含むエーテル（ＣＴＦＡ名、セテアレス−２０およびセテアレス−３０のものなど）、およびこれらの混合物を挙げることができる。
【０２８０】
糖エーテルとしては、特に、アルキルポリグルコシド、例えば、マイドール（ＭＹＤＯＬ）１０の名称で供給業者、花王ケミカルズ（Ｋａｏ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ）により販売されている製品、ＰＬＡＮＴＡＲＥＮ ２０００の名称で供給業者Ｈｅｎｋｅｌにより販売されている製品、およびＯＲＡＭＩＸ ＮＳ １０の名称で供給業者ＳＥＰＰＩＣにより販売されている製品などのデシルグルコシド；ＯＲＡＭＩＸ ＣＧ １１０の名称で供給業者ＳＥＰＰＩＣにより、またはＬＵＴＥＮＳＯＬ ＧＤ ７０の名称で供給業者ＢＡＳＦにより販売されている製品などのカプリリル／カプリルグルコシド；ＰＬＡＮＴＡＲＥＮ １２００ ＮおよびＰＬＡＮＴＡＣＡＲＥ １２００の名称で供給業者Ｈｅｎｋｅｌにより販売されている製品などのラウリルグルコシド；ＰＬＡＮＴＡＣＡＲＥ ８１８／ＵＰの名称で供給業者Ｈｅｎｋｅｌにより販売されている製品などのココグルコシド；例えば、ＭＯＮＴＡＮＯＶ ６８の名称で供給業者ＳＥＰＰＩＣにより、ＴＥＧＯ−ＣＡＲＥ ＣＧ９０の名称で供給業者ＧＯＬＤＳＣＨＭＩＤＴにより、およびＥＭＵＬＧＡＤＥ ＫＥ３３０２の名称で供給業者Ｈｅｎｋｅｌにより販売されている、任意選択によりセトステアリルアルコールとの混合物となっているセトステアリルグルコシド；例えば、ＭＯＮＴＡＮＯＶ ２０２の名称で供給業者ＳＥＰＰＩＣにより販売されている、アラキジルアルコールとベヘニルアルコールとアラキジルグルコシドとの混合物の形態のアラキジルグルコシド；例えば、ＭＯＮＴＡＮＯＶ ８２の名称で供給業者ＳＥＰＰＩＣにより販売されているセチルアルコールとステアリルアルコールとの混合物（３５／６５）の形態のココイルエチルグルコシド、およびこれらの混合物を挙げることができる。
【０２８１】
本発明の組成物は、また、両親媒性ポリマーを乳化剤または補助乳化剤として含有してもよい。
【０２８２】
「両親媒性ポリマー」という用語は、極性の異なる２種類の液体を分離する、従って直接分散、逆分散、または多分散タイプの液−液分散液の安定化を可能にする、親水性部分と疎水性部分の両方を含む任意のポリマーを意味する。
【０２８３】
両親媒性ポリマーは、どのような油でも、水／油界面張力を１０ｍＮ／ｍに低下させることができる。これらのポリマーは、イオン性（陰イオン性または陽イオン性）または両性である。
【０２８４】
本発明の両親媒性ポリマーの数平均分子量は、一般に１０００ｇ／ｍｏｌ〜２０００００００ｇ／ｍｏｌの範囲、好ましくは２００００〜８００００００の範囲、例えば１０００００ｇ／ｍｏｌ〜７０００００ｇ／ｍｏｌの範囲である。本発明に従って使用される両親媒性ポリマーの量は、０．０１重量％〜２０重量％、好ましくは０．１重量％〜１０重量％、例えば０．２重量％〜５重量％の範囲であってもよい。
【０２８５】
使用し得る特定の例としては、ＰＥＭＵＬＥＮ ＴＲ１、ＰＥＭＵＬＥＮ ＴＲ２およびＣＡＲＢＯＰＯＬ １３８２の名称で供給業者ＧＯＯＤＲＩＣＨにより販売されている製品、またはこれらの混合物などのアクリレート／Ｃ１０〜Ｃ３０−アルキルアクリレート共重合体がある。また、ＳＴＲＵＣＴＵＲＥ ２００１およびＳＴＲＵＣＴＵＲＥ ３００１の名称で供給業者ＮＡＴＩＯＮＡＬ ＳＴＡＲＣＨにより販売されているアクリレート／イタコン酸ステアレス−２０共重合体およびアクリレート／イタコン酸セテス−２０共重合体を使用することも可能である。特に適した架橋または非架橋両親媒性ポリマーは、ＡＲＩＳＴＯＦＬＥＸ ＬＮＣ、ＡＲＩＳＴＯＦＬＥＸ ＳＮＣおよびＡＲＩＳＴＯＦＬＥＸ ＨＭＳの名称で供給業者ＣＬＡＲＩＡＮＴにより販売されている製品である。
【０２８６】
三元共重合体の例としては、供給業者ＡＭＥＲＣＨＯＬによりＶＩＳＣＯＰＨＯＢＥ ＤＢ １０００ ＮＰ３−ＮＰ４の名称で販売されている、４０個のＥＯ単位でエトキシ化された、メタクリル酸／アクリル酸メチル／ベヘニルジメチル−ｍ−イソプロペニルベンジルイソシアネート三元共重合体を挙げることができる。
【０２８７】
また、供給業者ＡＬＬＩＥＤ ＣＯＬＬＯＩＤＳによりＳＡＬＣＡＲＥ ＳＣ ８０の名称で販売されているものなどの、メタクリル酸、アクリル酸エチル、ポリエチレングリコールステアリルエーテル（１０ＥＯ）（ステアレス１０）の架橋三元共重合体を挙げることも可能である。
【０２８８】
本発明に使用される陰イオン性ポリマーの例としては、イソフタル酸またはスルホイソフタル酸のポリマー、特に、「Ｅａｓｔｍａｎ ＡＱ Ｐｏｌｙｍｅｒ」（ＡＱ ３５Ｓ，ＡＱ ３８Ｓ、ＡＱ ５５ＳおよびＡＱ ４８ Ｕｌｔｒａ）の名称で供給業者Ｅａｓｔｍａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌにより販売されているフタレート／スルホイソフタレート／グリコール（例えば、ジエチレングリコール／フタレート／イソフタレート／ｌ，４−シクロヘキサンジメタノール）の共重合体がある。
【０２８９】
添加剤
フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む組成物は、充填剤、軟化剤、着色剤、界面活性剤、親水性または親油性ゲル化剤、水溶性または脂溶性の有効成分、防腐剤、保湿剤（ポリオール、特にグリセリンなど）、金属イオン封鎖剤、酸化防止剤、溶媒、香料、物理的および化学的サンスクリーン剤、とりわけＵＶＡおよび／またはＵＶＢに対するもの、脱臭剤、ｐＨ調整剤（酸または塩基）およびこれらの混合物などの化粧品分野で通常用いられる補助剤から選択される少なくとも１種類の添加剤を含んでもよい。
【０２９０】
組成物は、酸化防止剤、色素沈着防止および脱色に関連する美白剤、または老化防止有効成分などの日焼け防止分野の相補的作用を有する少なくとも１種類の有効成分を含有してもよい。
【０２９１】
ＣＴＦＡ Ｃｏｓｍｅｔｉｃ Ｉｎｇｒｅｄｉｅｎｔ Ｈａｎｄｂｏｏｋ，１０ｔｈ Ｅｄｉｔｉｏｎ，Ｃｏｓｍｅｔｉｃ ａｎｄ Ｆｒａｇｒａｎｃｅ Ａｓｓｎ，Ｉｎｃ，Ｗａｓｈｉｎｇｔｏｎ ＤＣ（２００４）に記載のものから１種類または複数種類の添加剤を選択してもよく、この文献は参照により本明細書に援用される。
【０２９２】
ガレヌス（Ｇａｌｅｎｉｃａｌ）剤形
フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子は、皮膚、唇、毛髪または爪用の、ローション、クリーム、乳液、香膏、ポマード、ゲル、エマルション、フィルム、施与剤、スティック（例えば、リップスティック）、粉末、またはペースト中に使用されてもよい。
【０２９３】
本発明の粒子は、例えば、任意のタイプの化粧料組成物、例えば、グロス、リップスティック、アイライナー、マスカラ、ファンデーション、アイシャドウ、マニキュア液等のタイプのものに配合されてもよい。
【０２９４】
本発明のフォトニック材料のフィルム、特にポリマー多層干渉構造を有するフィルムは、転写により施与されてもよい。前記フィルムは、ケラチン物質に施与する前に、粘着剤層に結合されてもよい。
【０２９５】
太陽紫外線から毛髪を保護するために本発明の化粧料組成物を使用する場合、それはシャンプー、ローション、ゲル、エマルション、または非イオン性ベシクル分散液の形態であってもよく、例えば、洗い流すタイプの組成物、シャンプーの前もしくは後に、染毛もしくは脱染の前もしくは後に、パーマもしくはストレートパーマをかける前、かけている時、もしくはかけた後に、セット用またはトリートメント用ローション、ドライヤーでブローするまたはセットするためのローションもしくはゲルとして塗布される組成物、パーマもしくはストレートパーマ用組成物、または毛髪を染毛もしくは脱染するための組成物を構成してもよい。
【０２９６】
塗布方法
フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む組成物は、手でまたは塗布具を使用して塗布されてもよい。
【０２９７】
塗布は、スプレー、もしくは、例えば圧電装置を使用して放出することにより、または、中間支持体上に堆積された組成物の層を転写することにより達成されてもよい。
【０２９８】
包装
組成物は、任意の包装具、とりわけ熱可塑性材料から形成されたものに、または、その目的で提供される任意の支持体に包装されてもよい。
【０２９９】
包装具は、ボトル、ポンプボトル、エアゾールボトル、チューブ、小袋、またはポットであってもよい。
【実施例】
【０３００】
実施例１
厚さ３μｍ（乾燥）のポリスチレン−ポリ（２−ビニルピリジン）四級化ジブロック共重合体（ＰＳ−ｂ−Ｑ−Ｐ２ＶＰ）（１９０Ｋ／１９０Ｋ）のゲルは、ＰＳ−ｂ−Ｑ−Ｐ２ＶＰの５重量％プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液から硬質表面にディップコートすることにより得られた。次いで、２．５Ｍ ＮＨ４Ｃｌ水溶液を使用してゲルを膨潤させた。３４０ｎｍ〜３８５ｎｍの波長範囲で干渉するフォトニックゲルを得た。このフォトニックゲルフィルムは、ケラチン物質の光防御剤として使用するのに適していた。
【０３０１】
実施例２
実施例１のゲルを硬質支持体から剥離した後、膨潤させる前に乾式ボールミルを使用して最大寸法５０μｍ未満の粒子に破砕した。次いで、このようにして得られた粒子を２．５Ｍ ＮＨ４Ｃｌ水溶液に分散させた。
【０３０２】
濾過により分離した後、紫外領域（３４０ｎｍ〜３８５ｎｍ）で干渉するポリマー多層干渉構造を有する粒子を得た。
【０３０３】
実施例３
厚さ（乾燥）３μｍのＰＳ−ｂ−Ｑ−Ｐ２ＶＰ（１９０Ｋ／１９０Ｋ）ゲルを硬質支持体上に展延した後、膨潤させる前に乾式ボールミルを使用して最大寸法５０μｍ未満の粒子に破砕した。次いで、このようにして得られた粒子を、グリセリン５０重量％と２．５Ｍ ＮＨ４Ｃｌ水溶液５０重量％とを含有する混合物に分散させた。分離後、３４０ｎｍ〜３８５ｎｍの波長範囲で干渉するポリマー多層干渉構造を有する粒子を得た。
【０３０４】
グリセリンの導入により、乾燥後、フォトニックゲルの干渉特性を維持する効果があった。
【０３０５】
実施例４：フォトニックゲル粒子をベースにする光防御化粧料組成物
【０３０６】
【表１】
【０３０７】
【表２】
【０３０８】
実施例５：シリカで凝固したフォトニックゲル粒子の製造
ＰＳ−ｂ−Ｑ−Ｐ２ＶＰの５％プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液から硬質表面にディップコートすることにより、厚さ（乾燥）３μｍのＰＳ−ｂ−Ｑ−Ｐ２ＶＰ（１９０Ｋ／１９０Ｋ）ゲルを得た。次いで、ゲルを、膨潤させる前に乾式ボールミルを使用して最大寸法５０μｍ未満の粒子に破砕した。次いで、得られた粒子をメタノールに分散させ、膨潤させた。
【０３０９】
次いで、０．４５Ｍの濃度を有するＴＥＯＳ（テトラエトキシシラン）の水溶液を添加した。激しく攪拌しながら２．５Ｍ ＮＨ４Ｃｌ水溶液を添加した。３４０ｎｍ〜３８５ｎｍの波長範囲で干渉し、分散媒体に対して非感受性のポリマー多層干渉構造を有する粒子を得た。
【０３１０】
実施例６：サンスクリーン剤水溶液で膨潤したフォトニックゲル
ＰＳ−ｂ−Ｑ−Ｐ２ＶＰの５％プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液から硬質表面にディップコートすることにより、厚さ（乾燥）３μｍのＰＳ−ｂ−Ｑ−Ｐ２ＶＰ（１９０Ｋ／１９０Ｋ）ゲルを得た。次いで、このゲルをＭｅｘｏｒｙｌ ＳＸ（Ｃｈｉｍｅｘ）（テレフタリリデンジカンファースルホン酸、３３％水溶液）の３％水溶液で膨潤させた。このようにして、３３０ｎｍ〜３８５ｎｍの波長範囲で干渉し、ゴニオクロマチック効果が著しく低減したフォトニックゲルを得た。
【０３１１】
前記フォトニックゲルフィルムは、ケラチン物質の光防御剤として使用するのに適していた。
【０３１２】
実施例７：サンスクリーン剤水溶液で膨潤したフォトニックゲル
ＰＳ−ｂ−Ｑ−Ｐ２ＶＰの５％プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液から硬質表面にディップコートすることにより、厚さ（乾燥）３μｍのＰＳ−ｂ−Ｑ−Ｐ２ＶＰ（１９０Ｋ／１９０Ｋ）ゲルを得た。このゲルをＥｕｓｏｌｅｘ ２３２（Ｍｅｒｃｋ）（フェニルベンズイミダゾールスルホン酸）の０．５％水溶液で膨潤させた。このようにして、２９０ｎｍ〜３８５ｎｍの波長範囲で干渉するフォトニックゲルを得た。
【０３１３】
前記フォトニックゲルフィルムは、ケラチン物質の光防御剤として使用するのに適していた。
【０３１４】
実施例８：紫外線に対して異なる相補的な干渉を生じる、ポリマー多層干渉構造を有する２種類の粒子を含む光防御化粧料組成物
【０３１５】
【表３】
【０３１６】
【表４】
【０３１７】
実施例９：紫外線に対して異なる相補的な干渉を生じる、ポリマー多層干渉構造を有する２種類の粒子を含む光防御化粧料組成物
【０３１８】
【表５】
【０３１９】
【表６】
【０３２０】
実施例１０：蛍光増白剤溶液で膨潤させたフォトニックゲル
ＰＳ−ｂ−Ｑ−Ｐ２ＶＰの５％プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液から硬質表面にディップコートすることにより、厚さ（乾燥）３μｍのＰＳ−ｂ−Ｑ−Ｐ２ＶＰ（１９０Ｋ／１９０Ｋ）ゲルを得た。次いで、前記ゲルをＴｉｎｏｐａｌ ＣＢＳ Ｘ（ＣＩＢＡ）（ジスチリルビフェニルジスルホン酸二ナトリウム）の０．５％水溶液で膨潤させた。紫外領域で干渉し、青色を発現するフォトニックゲルを得たが、これは、破砕した後、ヒトケラチン物質、例えば、皮膚の色を明るくするために使用するのに適していた。
【０３２１】
実施例１１：有色フォトニックゲル
ＰＳ−ｂ−Ｑ−Ｐ２ＶＰの５％プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液から硬質表面にディップコートすることにより、厚さ（乾燥）３μｍのＰＳ−ｂ−Ｑ−Ｐ２ＶＰ（１９０Ｋ／１９０Ｋ）ゲルを得た。次いで、前記ゲルを１．５Ｍ ＮＨ４Ｃｌ水溶液で膨潤させた。透過極小に対応する反射波長は、約５５０ｎｍ、即ち、黄色であった。
【０３２２】
フィルムは、例えば、破砕の前または後に、肌色を均一にするために使用するのに適していた。
【０３２３】
実施例１２：有色フォトニックゲル
ＰＳ−ｂ−Ｑ−Ｐ２ＶＰの５重量％プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液から硬質表面にディップコートすることにより厚さ（乾燥）３μｍのＰＳ−ｂ−Ｑ−Ｐ２ＶＰ（１９０Ｋ／１９０Ｋ）ゲルを得た。前記ゲルを０．５ Ｍ ＮＨ４Ｃｌ水溶液で膨潤させた。透過極小に対応する反射波長は、約４１０〜４２０ｎｍ、即ち、紫色であった。
【０３２４】
フィルムは、例えば、破砕の前または後に、肌色を均一にするために使用するのに適していた。
【０３２５】
実施例１３：有色フォトニックゲル
ＰＳ−ｂ−Ｑ−Ｐ２ＶＰの５重量％プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液から硬質表面にディップコートすることにより、厚さ（乾燥）３μｍのＰＳ−ｂ−Ｑ−Ｐ２ＶＰ（１９０Ｋ／１９０Ｋ）ゲルを得た。次いで、前記ゲルを１Ｍ ＮＨ４Ｃｌ水溶液で膨潤させた。透過極小に対応する反射波長は、約６００ｎｍ、即ち、黄橙色であった。フィルムは、例えば、破砕の前または後に、肌色を均一にするために使用するのに適していた。
【０３２６】
実施例１１〜１３に記載のフォトニックゲルは、実施例２の方法を使用しても破砕することができる。
【０３２７】
前述のフォトニックゲル、例えば、実施例１１〜１３の有色フォトニックゲルをシリカ前駆体（ＴＥＯＳ）の作用により、または実施例３のようにグリセリンを用いて凝固させることができる。
【０３２８】
実施例１４：フォトニックゲルの反射スペクトル
図５は、出版物、Ｎａｔ Ｍａｔ．Ｖｏｌ ６，９５７−９６０，２００８に記載のＰＳ−Ｐ２ＶＰフォトニックゲルの２つの吸収スペクトルを示す。
【０３２９】
測定した吸収ピークは、フォトニックゲルの透過極小および反射ピークに対応する。
【０３３０】
膨潤剤の非存在下で、吸収スペクトルはピークを有しておらず、フォトニックゲルは干渉特性を有していなかった。
【０３３１】
対照的に、フォトニックゲルを純水で膨潤させた場合、吸収スペクトルは、図示するように、それぞれ異なる干渉次数に対応する５つの反射帯域を有することができる。この実施例の紫外線のピークは干渉次数５に対応する。
【０３３２】
特記しない限り、「１つの〜を含む」という表現は、「少なくとも１つの〜を含む」を意味するものと解釈すべきである。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フォトニックゲルから得られるフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子を使用して様々な物質を光防御する組成物および方法に関する。
【０００２】
さらに、本発明は、ヒトケラチン物質を処置する組成物および方法に関する。
【背景技術】
【０００３】
現在の光防御組成物は、様々な遮蔽剤、とりわけ可溶性または不溶性有機遮蔽剤を併用している。前記遮蔽剤のそれぞれの吸収スペクトルが紫外線スペクトル全域をカバーするほど十分に広いことは稀であり、併用が必要である。
【０００４】
さらに、多くの可溶性有機遮蔽剤は、それらの中に通常含有される成分との相溶性の問題を、とりわけ他の有機遮蔽剤または活性分子（酸化防止剤もしくはビタミンなど）との相互作用の結果として引き起こすことがあり、それらの光安定性は十分に満足のいくものではないことがある。この問題の解決に関する多くの特許がある、即ち、この問題が繰り返し生じることを表している。
【０００５】
多くの非化粧品産業部門でも、紫外線、特に太陽紫外線の作用から様々な物質を光防御する紫外線遮蔽剤が使用されている。
【０００６】
これは、特に、建築材、自動車産業で使用される材料、またはプラスチック包装材などの紫外線に永久的に曝露される物質に塗布される塗料、インキ、または保護コーティング配合物に当てはまる。特に、透明で、光安定性があり、前記配合物に含有される通常の成分との相溶性があり、目的の色に耐光性を付与するのに有効でなければならない着色剤配合物用の紫外線遮蔽剤が開発されている。
【０００７】
特に、貯蔵安定性のあるプラスチック材料の製造に使用されるポリマー組成物にも同様の考慮事項が当てはまり；それらは、特に、ポリマーの製造および成形方法に適合する紫外線遮蔽剤の開発を必要とし、特に、それらは押出中に使用される高温に耐えることができなければならない。
【０００８】
天然繊維および／または人造繊維および／または合成繊維産業では、耐高温性があり、押出中に紫外線防御剤を配合することができる前記繊維の製造方法（特に、ナイロンなどのポリアミドで製造される繊維の製造に関する方法）に適合し、広いスペクトルで光安定性を有する紫外線遮蔽剤が開発されている。さらに、良好な親和性、繊維に対する良好な付着性を有し、従って、特に、頻繁に洗濯する場合でも良好な耐性が得られる紫外線遮蔽剤が開発されている。開発されている紫外線遮蔽剤は、また、テキスタイル繊維の十分な保護と、前記繊維と接触する皮膚および他のヒトケラチン物質の十分な保護の両方を提供しなければならない。
【０００９】
無機および有機ガラス産業、特に眼科学で使用されるガラスの産業では、広いスペクトルを有する（ＵＶＡ領域およびＵＶＢ領域で有効である）必要があり、且つ、光安定性があり、透明で、ガラス基材への固定方法または光防御コーティングの塗布方法などの様々なガラス処理方法との（例えば、ポリカーボネートガラスとの）適合性がある紫外線遮蔽剤を開発している。
【００１０】
多層構造によって構成される干渉材を遮蔽剤として使用してもよい。ポリマー多層干渉構造を有するフィルムは、層が、例えば、数百以下の数に達してもよい。このようなフィルムは押出によって製造することができ、通常、透明であり、厚さが数百μｍ［マイクロメートル］である。
【００１１】
例えば、ＴｉＯ２またはＺｎＯなどの金属層を使用することにより屈折率の差を大きくすることができ、フィルムを構成する層の数を低減することができる。しかし、その方法を使用するフィルムは可視光線不透過性となることがあり、また剛性がかなり高くなることもある。
【００１２】
変形態様において、フィルムが厚く、多くの層を有する場合、それを破砕して粒子にすると、その効率が著しく低下することがある。フィルムの厚さが大きいため、「エッジ効果」により、干渉の発生が非常に大きく低減する可能性がある。
【００１３】
紫外線スペクトルの反射を生じさせるためにホログラム顔料を使用することが、仏国特許出願公開第２９２１５５９号明細書に開示されている。
【００１４】
仏国特許出願公開第２８８８４９１号明細書は、多層干渉構造を有する遮蔽剤を含む光防御組成物を開示しており、この遮蔽剤は高屈折率層と低屈折率層が交互に積層されている。
【００１５】
異なる誘電率を有する少なくとも２つのポリマー部分を周期的に配置することによって構成されている「フォトニック材料」または「フォトニック結晶」が、米国特許出願公開第２００９／００８６２０８号明細書に開示されている。特に、それらのポリマーフォトニック材料は、変化を引き起こす刺激の影響を受けて、寸法、形状、誘電率、屈折率、色、または他のパラメータを含む少なくとも１つの物理的特性、化学的特性、または誘電特性の変化を生じさせることができる少なくとも１つのポリマー部分を含有する。その変化により、フォトニック材料によって回折される電磁放射線の波長が変化する。
【００１６】
フォトニックゲルはポリマー多層構造を有するフィルムであり、これは支持体上に堆積する時、自発的にラメラ周期構造を形成するブロックポリマーを含み得る。このような材料は、例えば、膨潤剤と接触すると、干渉特性を有し得る。
【００１７】
フォトニックゲルは、Ｅ．Ｔｈｏｍａｓによる出版物：Ｎａｔ Ｍａｔ Ｖｏｌ ６，９５７−９６０，２００８およびＪ Ａｍ Ｃｈｅｍ Ｓｏｃ ２００９，１３１，７５３８−７５３９に開示されている。
【００１８】
前述のものなどの光防御材に適合する新規な紫外線遮蔽系の恩恵を受ける必要がある。
【００１９】
ＵＶＡおよび／またはＵＶＢスペクトルをカバーするのに使用でき、完全に無害で、環境に対して不活性で、光安定性があり、光反応性ではなく、それらを含有する組成物の他の構成成分と相溶性の問題を有しておらず、包装材の材料の機械的特性を低下させない、不溶性遮蔽材の恩恵を受ける必要がある。
【００２０】
完全に無害で、環境に対して不活性で、光安定性があり、光反応性ではなく、それらを含有する組成物の他の構成成分と相溶性の問題を有しておらず、包装材の材料の機械的特性を低下させない着色効果材料の恩恵を受ける必要がある。
【００２１】
また、粒子に破砕されても光学的特性が僅かしか影響を受けない、または全く影響を受けない、複数部分からなる構造を有する、特にポリマー多層干渉構造を有するすぐに入手可能なポリマーフィルムが必要である。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００２２】
本発明は、前述の必要性の一部または全部を満足することを目的としており、フォトニック材料、特にフォトニックゲルから得られるフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子の使用を提供する。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】本発明のポリマー多層干渉構造を有する粒子を示す図である。
【図２】本発明のポリマー多層干渉構造を有するフィルムおよび粒子の製造方法の一例を示す図である。
【図３】膨潤剤と接触する前の、支持体Ｓ上に堆積したフォトニックゲル１を概略的且つ部分的に示す図である。
【図４】膨潤剤と接触した後の図３のフォトニックゲル１を示す図である。
【図５】出版物、Ｎａｔ Ｍａｔ．Ｖｏｌ ６，９５７−９６０，２００８に記載のＰＳ−Ｐ２ＶＰフォトニックゲルの２つの吸収スペクトルを示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
「光防御」用途
光防御組成物およびフィルム
第１の例示的実施形態では、本発明は、フォトニック材料の粒子を含む光防御組成物、特に化粧料組成物を提供する。
【００２５】
フォトニック材料の粒子は、特に、少なくとも２層がポリマーを含むポリマー多層干渉構造を有する粒子であってもよい。前記ポリマーは、前記構造の少なくとも２層を形成する両親媒性ポリマーであってもよい。換言すれば、前記構造の少なくとも２層は、両親媒性ポリマーによって形成されてもよい。
【００２６】
本発明に関して、「光防御組成物」という用語は、任意の物質、特にヒトケラチン物質を紫外線から保護することができる組成物を意味するのに使用される。特に、光防御組成物は、前記物質に塗布する前に測定した透過率が、２５０ｎｍ〜４００ｎｍの範囲の少なくとも１つの波長で、より好ましくは前記範囲全体にわたって、７０％以下、６０％以下、５０％以下、４０％以下、３０％以下、２０％以下、１０％以下、５％以下、あるいは、より好ましくは１％以下である。２５０ｎｍ〜４００ｎｍの範囲における透過率が低いとき、遮蔽効果がずっと高い。
【００２７】
本発明に関して、「フォトニック材料」という用語は、電磁放射線に干渉し、それを変化させることができる周期的に配置された複数の異なる部分を含むポリマー材料に対して使用され、その少なくとも第１の部分と第２の部分はそれぞれ各誘電率を有し、変化を引き起こす刺激を受けたとき、１０ｎｍ〜１０マイクロメートルの連続波長域に対してそれらの部分の誘電率の比が少なくとも１となるように、電磁放射線を少なくとも５ｎｍ寸法的に変化させる能力をそれぞれ有する。
【００２８】
本発明に関して、「ポリマー多層干渉構造」という用語は、少なくとも２層、好ましくは３層以上のポリマーの積層体に対して使用され、積層体は、用途に応じて、例えば紫外線を遮蔽し、例えばＵＶＡから保護し、それによって皮膚の褐色化を制限するように、および／または色を発現するように、および／または肌色を明るくようするように、および／またはスペクトル反射率が変化するように、干渉を生じさせることができる。
【００２９】
干渉は、２５０ｎｍ〜８００ｎｍの波長範囲に１つ以上の透過極小を含む透過スペクトル、または１つ以上の反射ピークを含む反射スペクトルを有する、ポリマー多層干渉構造を提供し得る。
【００３０】
「両親媒性ポリマー」という用語は、親水基と疎水基を含むポリマーを意味するものと理解すべきである。両親媒性ポリマーは、例えば、少なくとも１つの親水性ブロックと少なくとも１つの疎水性ブロックを含むブロック共重合体であってもよい。
【００３１】
他の例示的実施形態によれば、本発明は、紫外線遮蔽剤を内包するポリマーを含むフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む組成物、特に化粧料組成物を提供する。ポリマーは、例えば両親媒性ポリマー、例えば前述の両親媒性ポリマーである。
【００３２】
「紫外線遮蔽剤を内包するポリマー」という用語は、紫外線遮蔽性を有し、前記ポリマーを形成する群とは異なる粒子が、前記ポリマーによって形成される構造に閉じ込められていることを意味するものと理解すべきである。換言すれば、紫外線遮蔽剤は、前記ポリマーによって形成される構造中に添加されている。
【００３３】
他の例示的実施形態によれば、本発明は、物質、特にヒトケラチン物質に施与される太陽紫外線から光防御するフィルムを提供し、本フィルムは、太陽紫外線を遮蔽するフォトニック材料、特に多層干渉構造を含み、その構造の少なくとも２層は両親媒性ポリマーを含む。
【００３４】
両親媒性ポリマーは、太陽紫外線を遮蔽するポリマー多層干渉構造の少なくとも２層を形成し得る。換言すれば、粒子の場合と同様に、構造の少なくとも２層は両親媒性ポリマーによって形成されてもよい。
【００３５】
他の例示的実施形態によれば、本発明は、物質、特にヒトケラチン物質に施与される光防御フィルムを提供し、本フィルムは、例えば前述のような、紫外線遮蔽剤を内包するポリマーを含むフォトニック材料、より詳細にはポリマー多層干渉構造を含む。
【００３６】
前述の光防御フィルムは、例えば、少なくとも１種類の合成または天然ポリマーから製造される物質、有機または無機ガラス、および少なくとも天然繊維および／または人造繊維および／または合成繊維を含む物質（テキスタイルまたは紙など）から選択される物質に施与されてもよい。
【００３７】
光防御フィルムの配合は、目的の物質、特にケラチン物質に施与される前に測定した透過率が、２５０ｎｍ〜４００ｎｍの範囲の少なくとも１つの波長で、より好ましくは前記範囲全体にわたって、７０％以下、６０％以下、５０％以下、４０％以下、３０％以下、２０％以下、１０％以下、５％以下、あるいは、より好ましくは１％以下となるように選択される。２５０ｎｍ〜４００ｎｍの範囲における透過率が低いとき、遮蔽効果がさらに高い。
【００３８】
製造方法
他の例示的実施形態では、本発明は前述の光防御組成物の製造方法を提供し、前記方法は：
ａ）膨潤剤をフォトニック材料、特に、少なくとも２層が両親媒性ポリマーを含むポリマー多層構造を有するフォトニック材料と接触させる工程；
ｂ）フォトニック材料のフィルム、特に、少なくとも２層が両親媒性ポリマーを含むポリマー多層構造を有するフィルムを破砕して、最大寸法１００μｍ以下および／または最小寸法１００ｎｍ以上のフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層構造を有する粒子にする工程；および
ｃ）工程ａ）および工程ｂ）の実施後に得られるフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子を、適した媒体に分散させる工程；
を含み、
工程ｂ）は、工程ａ）の前または後に実施される。
【００３９】
他の例示的実施形態によれば、本発明は前述の光防御組成物の製造方法を提供し、前記方法は：
ａ）紫外線遮蔽剤を溶解含有する膨潤剤をフォトニック材料、特にポリマー多層構造を有するフォトニック材料と接触させる工程；
ｂ）フォトニック材料のフィルム、特にポリマー多層構造を有するフィルムを破砕して、最大寸法１００μｍ以下および／または最小寸法１００ｎｍ以上のフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層構造を有する粒子にする工程；および
ｃ）工程ａ）および工程ｂ）の実施後に得られるフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子を、適した媒体に分散させる工程；
を含み、
工程ｂ）は、工程ａ）の前または後に実施される。
【００４０】
前述の方法で製造される光防御組成物は光防御化粧料組成物であってもよく、このとき工程ｃ）の分散は、化粧料として許容される媒体中で行われる。
【００４１】
光防御組成物およびフィルムの使用
他の例示的実施形態によれば、本発明は、太陽紫外線から物質を光防御する方法を提供し、本方法は：
−フォトニック材料の粒子、より詳細には、少なくとも２層が両親媒性ポリマーを含むポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む光防御組成物で前記物質を処理する工程；または
−少なくとも前記組成物を前記物質に一体化する工程；
を含む。
【００４２】
他の例示的実施形態によれば、本発明は、ヒトケラチン物質を太陽紫外線から光防御する非治療的方法、特に化粧方法を提供し、本方法は、フォトニック材料の粒子、より詳細には、少なくとも２層が両親媒性ポリマーを含むポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む光防御化粧料組成物を、ヒトケラチン物質に塗布する工程を含む。
【００４３】
本発明の他の例示的実施形態は、また、太陽紫外線からヒトケラチン物質を光防御する方法、特に皮膚癌の発症リスクを低減する方法に使用される生理学的に許容される組成物、特に化粧料組成物を提供し、前記組成物は、フォトニック材料の粒子、より詳細には、少なくとも２層が両親媒性ポリマーを含むポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む。特記しない限り、前記組成物は本発明の化粧料組成物の特徴を全て有してもよい。
【００４４】
他の例示的実施形態によれば、本発明は、インキ、塗料、またはコーティングを光防御する方法を提供し、本方法は、前記インキまたは前記塗料または前記コーティングに、フォトニック材料の粒子、より詳細には、少なくとも２層が両親媒性ポリマーを含むポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む、少なくとも１種類の組成物を配合する工程を含む。
【００４５】
他の例示的実施形態によれば、本発明は、少なくとも１種類の合成または天然ポリマーから製造される物質を光防御する方法を提供し、本方法は：
−前記ポリマーを、フォトニック材料の粒子、より詳細には少なくとも２層が両親媒性ポリマーを含むポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む組成物で処理する工程；または前記組成物を前記物質に一体化する工程；
を含む。
【００４６】
他の例示的実施形態によれば、本発明は、有機または無機ガラスを光防御する方法を提供し、本方法は：
−フォトニック材料の粒子、より詳細には少なくとも２層が両親媒性ポリマーを含むポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む、少なくとも１種類の組成物で前記ガラスを処理する工程；または、前記組成物を前記ガラスに一体化する工程；
を含む。
【００４７】
他の例示的実施形態によれば、本発明は、少なくとも天然繊維および／または人造繊維および／または合成繊維を含む物質（テキスタイルまたは紙など）を光防御する方法を提供し、本方法は：
−フォトニック材料の粒子、より詳細には少なくとも２層が両親媒性ポリマーを含むポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む、少なくとも１種類の組成物で前記物質を処理する工程；または前記組成物を前記物質に一体化する工程、
を含む。
【００４８】
他の例示的実施形態によれば、本発明は太陽紫外線から物質を光防御する方法を提供し、本方法は：
−紫外線遮蔽剤を内包するポリマー（例えば、前述の両親媒性ポリマー）を含むフォトニック材料の粒子、より詳細にはポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む光防御組成物で前記物質を処理する工程；または
−少なくとも前記組成物を前記物質に一体化する工程；
を含む。
【００４９】
他の例示的実施形態によれば、本発明はヒトケラチン物質を太陽紫外線から光防御する非治療的方法、特に化粧方法を提供し、本方法は、紫外線遮蔽剤を内包するポリマー（例えば、前述の両親媒性ポリマー）を含むフォトニック材料の粒子、より詳細にはポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む光防御化粧料組成物をヒトケラチン物質に塗布する工程を含む。
【００５０】
本発明の他の例示的実施形態は、また、太陽紫外線からヒトケラチン物質を光防御する方法、特に皮膚癌の発症リスクを低減する方法に使用される、生理学的に許容される組成物、特に化粧料組成物も提供し、前記組成物は、紫外線遮蔽剤を内包するポリマー（例えば、前述の両親媒性ポリマー）を含むフォトニック材料の粒子、より詳細にはポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む。特記しない限り、前記組成物は本発明の化粧料組成物の特徴を全て有してもよい。
【００５１】
他の例示的実施形態によれば、本発明はインキ、塗料またはコーティングを光防御する方法を提供し、本方法は、紫外線遮蔽剤を内包するポリマー（例えば、前述の両親媒性ポリマー）を含むフォトニック材料の粒子、より詳細にはポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む少なくとも１種類の組成物を前記インキまたは塗料または前記コーティングに配合する工程を含む。
【００５２】
他の例示的実施形態によれば、本発明は少なくとも１種類の合成または天然ポリマーから製造される物質を光防御する方法を提供し、本方法は：
−前記ポリマーを、紫外線遮蔽剤を内包するポリマー（例えば、前述の両親媒性ポリマー）を含むフォトニック材料の粒子、より詳細にはポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む組成物で処理する工程；または、前記組成物を前記物質に一体化する工程、
を含む。
【００５３】
他の例示的実施形態によれば、本発明は有機または無機ガラスを光防御する方法を提供し、本方法は：
−紫外線遮蔽剤を内包するポリマー（例えば、前述の両親媒性ポリマー）を含むフォトニック材料の粒子、より詳細にはポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む、少なくとも１種類の組成物で前記ガラスを処理する工程；または、前記組成物を前記ガラスに一体化する工程；
を含む。
【００５４】
他の例示的実施形態によれば、本発明は少なくとも天然繊維および／または人造繊維および／または合成繊維を含む物質（テキスタイルまたは紙など）を光防御する方法を提供し、本方法は：
−紫外線遮蔽剤を内包するポリマー（例えば、前述の両親媒性ポリマー）を含むフォトニック材料の粒子、より詳細にはポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む、少なくとも１種類の組成物で前記物質を処理する工程；または、前記組成物を前記物質に一体化する工程；
を含む。
【００５５】
例として、本発明の光防御方法に使用される組成物およびフィルムの、ケラチン物質に適用する前に測定したＳＰＦ指数は、少なくとも１０、より好ましくは少なくとも１５、より好ましくは少なくとも３０、４５、または６０である。ＳＰＦ（サンスクリーンプロテクションファクター）指数は、論文“Ａ ｎｅｗ ｓｕｂｓｔｒａｔｅ ｔｏ ｍｅａｓｕｒｅ ｓｕｎｓｃｒｅｅｎ ｐｒｏｔｅｃｔｉｏｎ ｆａｃｔｏｒｓ ｔｈｒｏｕｇｈｏｕｔ ｔｈｅ ｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔ ｓｐｅｃｔｒｕｍ”，Ｊ Ｓｏｃ Ｃｏｓｍｅｔ Ｃｈｅｍ，４０，１２７−１３３（Ｍａｙ／Ｊｕｎｅ １９８９）に定義されている。
【００５６】
「蛍光」用途
組成物およびフィルム
他の例示的実施形態では、本発明は、例えば前述のような、蛍光剤を内包するポリマーを含むフォトニック材料の粒子、より詳細にはポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む化粧料組成物を提供する。ポリマーは、例えば、両親媒性ポリマーであってもよい。
【００５７】
「蛍光剤を内包するポリマー」という用語は、蛍光特性を有し、前記ポリマーを形成する群とは異なる粒子が前記ポリマーによって形成される構造に閉じ込められていることを意味するために使用される。換言すれば、蛍光特性を有する粒子が、前記ポリマーによって形成される構造中に添加されている。
【００５８】
製造方法
他の例示的実施形態では、本発明は、例えば前述のような、蛍光剤を内包するポリマーを含むフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む化粧料組成物の製造方法を提供し、前記方法は：
ａ）蛍光剤を溶解含有する膨潤剤をフォトニック材料、特にポリマー多層構造を有するフォトニック材料と接触させる工程；
ｂ）フォトニック材料のフィルム、特に、前記ポリマー多層構造を有するフィルムを破砕して、最大寸法１００μｍ以下および／または最小寸法１００ｎｍ以上のフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層構造を有する粒子にする工程；および
ｃ）工程ａ）および工程ｂ）の実施後に得られるフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子を化粧料として許容される媒体に分散させる工程；
を含み、
工程ｂ）は、工程ａ）の前または後に実施される。
【００５９】
組成物およびフィルムの使用
他の例示的実施形態では、本発明はヒトケラチン物質の色を明るくする方法を提供し、本方法は、例えば前述のような、蛍光剤を内包するポリマーを含むフォトニック材料の粒子、より詳細にはポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む化粧料組成物を塗布する工程を含む。
【００６０】
他の例示的実施形態によれば、本発明はヒトケラチン物質に施与される肌色を明るくするためのフィルムを提供し、本フィルムは、例えば前述のような、蛍光剤を内包するポリマーを含むフォトニック材料、より詳細にはポリマー多層干渉構造を含む。
【００６１】
「着色」用途
組成物およびフィルム
他の例示的実施形態では、本発明は、可視色を発現するフォトニック材料の粒子、より詳細にはポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む化粧料組成物を提供する。
【００６２】
他の例示的実施形態によれば、本発明は、例えば前述のような、着色剤を内包するポリマーを含むフォトニック材料の粒子、より詳細にはポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む化粧料組成物を提供する。
【００６３】
「着色剤を内包するポリマー」という用語は、前記ポリマーを形成する群とは異なる着色剤が、前記ポリマーによって形成される構造に閉じ込められていることを意味するために使用される。換言すれば、着色剤が、前記ポリマーによって形成される構造中に添加されている。
【００６４】
他の例示的実施形態によれば、本発明は、ヒトケラチン物質に施与される化粧用のフィルム、例えば、肌色を均一にするためのフィルムを提供し、本フィルムは、可視色を発現するフォトニック材料の粒子、より詳細にはポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む。
【００６５】
他の例示的実施形態によれば、本発明は、ヒトケラチン物質に施与される、化粧用のフィルム、例えば、肌色を均一にするためのフィルムを提供し、本フィルムは、着色剤を内包するポリマーを含むフォトニック材料構造、特にポリマー多層干渉構造を含む。
【００６６】
ポリマー多層干渉構造を有する粒子は、前述の両親媒性ポリマーを含んでもよい。
【００６７】
製造方法
他の例示的実施形態では、本発明は、例えば両親媒性ポリマーを含み、可視色を発現するフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む化粧料組成物の製造方法を提供し、本方法は：
ａ）膨潤剤をフォトニック材料、特にポリマー多層構造を有するフォトニック材料と接触させる工程；
ｂ）フォトニック材料のフィルム、特にポリマー多層構造を有するフィルムを破砕して、最大寸法１００μｍ以下および／または最小寸法１００ｎｍ以上のフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層構造を有する粒子にする工程；および
ｃ）工程ａ）および工程ｂ）の実施後に得られる前記粒子を化粧料として許容される媒体に分散させる工程；
を含み、
工程ｂ）は、工程ａ）の前または後に実施される。
【００６８】
他の例示的実施形態によれば、本発明は、例えば前述のような、着色剤を内包するポリマーを含むフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む化粧料組成物の製造方法を提供し、前記方法は：
ａ）フォトニック材料、特にポリマー多層構造を有するフォトニック材料を、着色剤を溶解含有する膨潤剤と接触させる工程；
ｂ）フォトニック材料のフィルム、特にポリマー多層構造を有するフィルムを破砕して、最大寸法１００μｍ以下および／または最小寸法１００ｎｍ以上のフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層構造を有する粒子にする工程；
ｃ）工程ａ）および工程ｂ）の実施後に得られる前記粒子を化粧料として許容される媒体に分散させる工程；
を含み、
工程ｂ）は工程ａ）の前または後に実施される。
【００６９】
組成物およびフィルムの使用
他の例示的実施形態では、本発明は、化粧方法、例えば、肌色を均一にする方法を提供し、本方法は、例えば前述の両親媒性ポリマーを含み、可視色を発現するフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む化粧料組成物をヒトケラチン物質に塗布する工程を含み、前記方法はさらに、処置されるケラチン物質の色および／またはスペクトル反射率に応じて組成を選択する工程を含んでもよい。
【００７０】
他の例示的実施形態によれば、本発明は、化粧方法、例えば、肌色を均一にする方法を提供し、本方法は、着色剤を内包するポリマー（例えば、前述の両親媒性ポリマー）を含むフォトニック材料の粒子、より詳細にはポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む化粧料組成物をヒトケラチン物質に塗布する工程を含み、前記方法はさらに、処置されるケラチン物質の色および／またはスペクトル反射率に応じて組成を選択する工程を含んでもよい。
【００７１】
フォトニック材料およびポリマー多層干渉構造
材料の様々な部分の特定の構造配置および前記部分の誘電率により、少なくとも一方向で、材料に照射された特定の周波数の電磁放射線を反射させることができる。材料の様々な部分の構造配置および前記部分の誘電率により、１つまたは複数の特定の周波数付近の光線を回折または反射するフォトニック材料を形成することができる。特に、ポリマーフォトニック材料は、変化を引き起こす刺激により、寸法、形状、誘電率、屈折率、色、または他のパラメータを含む少なくとも１つの物理的特性、化学的特性、または誘電特性の変化を生じさせることができる少なくとも１つのポリマー部分を含有する。この変化により、フォトニック材料によって回折される電磁放射線の波長が変化する。一例として、溶媒タイプの膨潤剤でフォトニック材料の１部分を膨潤させることにより、寸法の変化（即ち、体積変化）を生じさせることができる。寸法変化により、フォトニック材料の構造配置、およびその結果としてフォトニック材料の１部分の誘電率を変化させることができる、または、それによりフォトニック材料によって反射される電磁放射線を変化させることができる。一例として、光学的特性の変化は、特に、類似部分間の周期的な間隔により起こり得る。フォトニック材料は、体積または別の寸法の変化を生じさせる変化を引き起こす刺激に反応する第１の部分と、反応しないまたは別のタイプの刺激に反応する第２の部分を含んでもよい。
【００７２】
フォトニック材料またはフォトニック結晶は、可視、紫外、赤外、およびマイクロ波波長を含む広い波長領域にわたり電磁放射線を回折および／または反射することができる。ある場合には、それらは、１００ｎｍ〜１６００ｎｍの範囲の波長を有する電磁放射線を回折することができる。他の場合には、フォトニック材料は、外部刺激の作用を受けて、約６００％の顕著な波長シフトを示すことができる。
【００７３】
本発明の特定の実施形態では、変化を引き起こす刺激（即ち、膨潤剤）の影響を受けて、それらの少なくとも１部分の電磁放射線の寸法が別の部分と比較して変化し、回折される電磁放射線の１つの波長が少なくとも１０ｎｍ、少なくとも２５ｎｍ、少なくとも５０ｎｍ、少なくとも１５０ｎｍ、少なくとも２００ｎｍ、または少なくとも２５０ｎｍ変化する。
【００７４】
本発明のフォトニック材料は、回折される電磁放射線の波長を少なくとも５０％、少なくとも２５％、または少なくとも１０％変化させることもできる。一例として、変化を引き起こす刺激の存在下で、それらの少なくとも１部分の電磁放射線の寸法が他の部分と比較して変化し、フォトニック材料によって回折される電磁放射線の１つの波長が少なくとも１％、５％、１０％、２５％またはそれより多く変化し得る場合、本発明のフォトニック材料は７００ｎｍより長波長の電磁放射線（赤外、マイクロ波）を回折させることができる。前記回折される波長の変化率は、次式：
［（λｉ−λ０）／λ０］×１００
を使用して算出することができ、式中、λ０は、変化を引き起こす刺激と接触する前のまたは変化を引き起こす刺激の非存在下における、回折される波長のピークに対応し、λｉは、変化を引き起こす刺激との接触中に回折される波長のピークに対応する。
【００７５】
本発明のフォトニック材料は米国特許出願公開第２００９／００８６２０８号明細書に記載されており、それらは、その文献に記載されている方法を使用して製造される。
【００７６】
フォトニック材料、特にポリマー多層干渉構造を有するフォトニック材料のフィルムおよび粒子
本発明に関して、「フォトニック材料」、特に「ポリマー多層干渉構造」という用語は、フォトニック材料、特にポリマー多層干渉構造を有するフォトニック材料のフィルムおよび粒子を包含する。
【００７７】
本発明に関して、フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子が化粧料組成物中に存在してもよい。
【００７８】
全組成物重量に対する、フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子の重量含有率は、０．１％〜５０％の範囲、例えば１％〜２０％の範囲、例えば５％〜１５％の範囲であってもよい。
【００７９】
フォトニック材料のフィルム、特にポリマー多層干渉構造を有するフィルムを使用することも可能であり、前記フィルムは、ケラチン物質ならびに前述のものなどの物質に施与することも可能である。
【００８０】
前記フィルムは、例えば、太陽紫外線から保護するために、または肌色を明るくするために、または化粧するために、例えば肌色を均一にするために、ケラチン物質の外面の一部に局所的に堆積されてもよい。
【００８１】
前記フィルムは任意の型に切断されてもよく、例えば、皮膚の欠陥、即ち、しみ、皺、白斑等を隠蔽するのに使用されてもよい。
【００８２】
本発明のフィルムは任意選択により粘着性であってもよい。フィルムは、例えばケラチン物質、例えば皮膚に施与されることが意図されている場合、粘着性であってもよい。本発明のフィルムは、ケラチン物質上にｉｎ ｓｉｔｕで形成されてもよい。
【００８３】
ポリマー多層干渉構造のサイズおよび形状
図１は、本発明のポリマー多層干渉構造を有する粒子を示す。
【００８４】
膨潤剤の非存在下または存在下で、粒子の長さＬ１および幅Ｌ２は１μｍ〜１００μｍの範囲であってもよい。
【００８５】
粒子の厚さＬ３は、膨潤剤の非存在下では０．１μｍ〜５０μｍの範囲、膨潤剤の存在下では０．１μｍ〜１００μｍの範囲であってもよい。
【００８６】
膨潤剤の非存在下または存在下で、ポリマー多層干渉構造を有する粒子の最大寸法は、１００μｍ以下であってもよい。
【００８７】
膨潤剤の非存在下で、粒子の最大寸法は１００μｍ以下、例えば７５μｍ以下、例えば５０μｍ以下であってもよい。
【００８８】
膨潤剤の非存在下または存在下で、ポリマー多層干渉構造を有する粒子の最小寸法は０．１μｍ以上、例えば１μｍ以上であってもよい。
【００８９】
ポリマー多層干渉構造を有するフィルムの最大寸法は、１ｍｍ〜５０ｃｍの範囲であってもよい。
【００９０】
ポリマー多層干渉構造の形状係数（ｆｏｒｍ ｆａｃｔｏｒ）は、１〜１０００の範囲であってもよい。
【００９１】
「形状係数」という用語は、ポリマー多層干渉構造の最大寸法と最小寸法の比を意味する。
【００９２】
ポリマー多層干渉構造は平板状であってもよい、即ち、形状係数が少なくとも３、例えば少なくとも１０であってもよい。
【００９３】
ポリマー多層干渉構造は、例えば、両親媒性ポリマーの存在に関連付けられるラメラ構造を有してもよい。両親媒性ポリマーはラメラ構造を有してもよい。
【００９４】
ポリマー多層干渉構造は、少なくとも３層、例えば少なくとも５層、１０層または５０層を含んでもよい。
【００９５】
ポリマー多層干渉構造は１００層未満を含んでもよい。
【００９６】
ポリマー多層干渉構造の製造方法
前述のように、ポリマー多層干渉構造を有する粒子は、Ｅ．Ｔｈｏｍａｓによる出版物：Ｎａｔ Ｍａｔ Ｖｏｌ ６，９５７−９６０，２００８およびＪ Ａｍ Ｃｈｅｍ Ｓｏｃ ２００９，１３１，７５３８−７５３９に記載のように製造され得るフォトニックゲルから得られてもよい。
【００９７】
図２は、本発明のポリマー多層干渉構造を有するフィルムおよび粒子の製造方法の一例を示す。
【００９８】
フォトニックゲルは、例えば、フィルムプラー（ｐｕｌｌｅｒ）で展延することにより、ディップコートすることにより、またはスピンコートすることにより、および任意の印刷法により、例えば、両親媒性ブロックポリマーを溶媒に溶解した溶液をインクジェット印刷することにより、フィルムの形態で得られる（工程Ｉ）。支持体上に堆積されると、それは多層ポリマー構造、例えばラメラ構造に自発的に組織化する。その場合、フォトニックゲルは交互に積層した親水層と疎水層を含む。
【００９９】
フォトニックゲルの多層構造の層数は１００以下であってもよく、乾燥後の厚さは１５μｍ以下であってもよい。
【０１００】
堆積後、膨潤剤の非存在下で、フォトニックゲルは２５０ｎｍ〜８００ｎｍの波長範囲で干渉特性を有する必要はない。
【０１０１】
例えば、出版物、Ｎａｔ Ｍａｔ Ｖｏｌ ６，９５７−９６０，２００８に記載のように、１−ブロモエタンとの接触により、フォトニックゲルを四級化してもよい。
【０１０２】
詳細に後述する性質を有する膨潤剤との接触（工程ＩＩＩ）により、フォトニックゲルの膨潤が、例えば、その親水層または疎水層で起こり得、このようにしてポリマー多層干渉構造が生じ得る。
【０１０３】
下記に詳述するように、１種類以上の紫外線遮蔽剤および／または１種類以上の蛍光剤および／または１種類以上の着色剤をポリマー多層構造に導入するために、膨潤剤との接触工程を有利に使用することができる。
【０１０４】
干渉波長は、濃度、様々な層間の屈折率の差、膨潤剤のｐＨ、ポリマー多層干渉構造中に存在するポリマーの分子量および架橋度に応じて変化し得る。これらのパラメータを変化させることによって、例えば、全ＵＶＡまたはＵＶＢスペクトルをカバーすることが可能である。
【０１０５】
図３および図４では、分かり易くするために、図示する様々な要素の相対的割合は必ずしも維持しなかった。
【０１０６】
図３は、膨潤剤と接触する前の、支持体Ｓ上に堆積したフォトニックゲル１を概略的且つ部分的に示す。
【０１０７】
このフォトニックゲル１は、例えば、図示するように、親水性１０ラメラ層と疎水性２０ラメラ層を交互に積層することによって構成され得るポリマー多層構造を含む。
【０１０８】
図３に示す実施形態では、フォトニックゲルは、例えば、２５０ｎｍ〜８００ｎｍの範囲の波長を有する放射線Ｒに対して透明である。
【０１０９】
「透明」という用語は、フォトニックゲルが４５０ｎｍ〜８００ｎｍの波長範囲にバンドギャップを有していないことを意味する。一例として、フォトニックゲルは、当該波長範囲で８０％以上、例えば９０％の透過率を有してもよい。
【０１１０】
図４は、膨潤剤と接触した後の図３のフォトニックゲル１を示す。図４の例では、疎水層２０のみが膨潤剤に対する感受性を有する。
【０１１１】
変形態様では、親水層１０のみが膨潤剤に対する感受性を有する可能性がある。
【０１１２】
図示するように、膨潤剤との接触により、フォトニックゲル１が放射線Ｒを反射し、例えば、太陽紫外線に対する光防御特性を付与するおよび／または可視色を発現することが可能となり得る。膨潤工程を実施した後、本発明のフィルムを使用してもよい。
【０１１３】
ポリマー多層構造を膨潤剤と接触させた後、好ましくは破砕工程の前または後に、フォトニックゲルを凝固させる凝固工程（工程ＩＶ）を実施してもよい。それは、ポリマー多層構造を凝固剤と接触させる工程を含んでもよく、凝固剤は、シリカもしくはその前駆体（例えば、ＴＥＯＳ）などの無機物質、またはグリコール、例えば、グリセリン、ジプロピレングリコール、ソルビトール、ブチレングリコール、４００ｇ／ｍｏｌ〜５００００ｇ／ｍｏｌの範囲の分子量を有するＰＥＧなどであってもよい。ゾルゲル法においてシリカ前駆体であるＴＥＯＳを使用する凝固工程が、出版物、Ｊ Ａｍ Ｃｈｅｍ Ｓｏｃ ２００９，１３１，７５３８−７５３９に記載されている。
【０１１４】
凝固工程の実施は、粒子を化粧料として許容される媒体に分散させた後、粒子がその物理化学的特性、とりわけその干渉特性を維持できることを意味し得る。
【０１１５】
凝固剤を含むポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む組成物は、塗布中、および組成物をケラチン物質に塗布した後、少なくとも２時間、例えば３時間、その干渉特性を維持できる。
【０１１６】
凝固剤を含むポリマー多層干渉構造を有するフィルムは、施与中、および組成物をケラチン物質に塗布した後、少なくとも２時間、例えば３時間、その干渉特性を維持できる。
【０１１７】
図２に示すように、膨潤剤と接触させる工程の後、および凝固剤と接触させる任意の工程の後、フォトニックゲルのポリマー多層構造を破砕する破砕工程（Ｖ）を実施してもよい。変形態様では、膨潤剤と接触させる工程の前に破砕工程を実施し、その後、任意の凝固工程を実施することも可能である。
【０１１８】
破砕は、例えば、レーザー切断、またはエアジェットミル、クライオミル、ボールミル、または湿式ミルで行ってもよい。
【０１１９】
膨潤剤
幾つかの例示的実施形態では、フォトニック材料、特にポリマー多層干渉構造はさらに、膨潤剤（特に、不揮発性膨潤剤）を、前記材料の一方または両方の部分を膨潤させることができる量で含んでもよい。フォトニック材料がポリブタジエン／スチレンブロック共重合体を含む場合、そのポリブタジエン部分を膨潤させるために、膨潤剤は、例えば、鉱物油であってもよい。
【０１２０】
例えば、水性溶媒または有機溶媒などの任意の適切な溶媒を膨潤剤として使用してもよい。本発明の幾つかの特定の実施形態では、酸性、中性、または塩基性の溶媒を使用してもよい。
【０１２１】
本発明に関して、フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子は、膨潤剤を含んでもよい。
【０１２２】
膨潤剤は、フォトニック材料の膨潤が起こる部分、特にポリマー多層干渉構造の膨潤が起こる層の性質に応じて、親水性であってもまたは疎水性であってもよい。
【０１２３】
膨潤剤は、少なくとも１種類の光学活性物質、例えば、紫外線遮蔽剤、蛍光剤、着色剤、およびこれらの混合物を溶解含有してもよい。
【０１２４】
光学活性物質は、例えば、疎水性であっても、または親水性であってもよい。
【０１２５】
膨潤剤は、例えば、光学活性物質の混合物、例えば、紫外線遮蔽剤と蛍光剤の混合物、紫外線遮蔽剤と着色剤の混合物、蛍光剤と着色剤の混合物、あるいは紫外線遮蔽剤と蛍光剤と着色剤との混合物を含んでもよい。
【０１２６】
膨潤剤として水、ならびに、０．０１Ｍ〜５Ｍの範囲の濃度を有する有機または無機塩水、例えば、ナトリウム塩、マグネシウム塩、カリウム塩、カルシウム塩または銅塩の溶液、リン酸塩の溶液、またはアンモニウム塩の溶液などを使用することが可能である。
【０１２７】
また、グリセリン、４００ｇ／ｍｏｌ〜５００００ｇ／ｍｏｌの範囲の分子量を有するＰＥＧ、少なくとも１重量％の割合で水に可溶な単糖類、二糖類、およびオリゴ糖類、ソルビトール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、エチレングリコール、ブチレングリコール、水溶性ポリオール、水混和性の低級アルコール、例えば、メタノール、エタノールまたはイソプロパノール、または１−ブタノールを膨潤剤として、単独で、混合物として、または水溶液として、任意の割合で使用することも可能である。
【０１２８】
「低級アルコール」という用語は、炭素数６未満のアルコールを意味する。
【０１２９】
他の適した溶媒の例としては、ベンゼン、アセトン、β−メチル酪酸、α−エチル酪酸、２，２，２−トリフルオロエタノール、１−ブタノール、１，４−ブタンジオール、クロロホルム、ブロモエタン、酢酸メチル、酢酸エチル、ジメチルホルムアミド、ブタン−２−オン、ジビニルベンゼン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、および酢酸溶液を挙げることができる。
【０１３０】
膨潤剤は、さらに、紫外線遮蔽剤溶液、例えば、中和されたまたは中和されていない有機紫外線遮蔽剤溶液を含んでも、あるいはそれからなってもよい。次の溶液：テレフタリリデンジカンファースルホン酸（例えば、Ｍｅｘｏｒｙｌ ＳＸ）またはフェニルベンズイミダゾールスルホン酸（例えば、Ｅｕｓｏｌｅｘ ２３２）を挙げることができる。
【０１３１】
１種または複数種の非中和有機紫外線遮蔽剤の溶液の使用は、ｐＨが変化し得る、従って、フォトニック材料、とりわけポリマー多層構造、例えば両親媒性ポリマーの膨潤も変化し得ることを意味する。
【０１３２】
また、フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子、例えば両親媒性ポリマーが、少なくとも、疎水性で膨潤剤に対する感受性のある部分、特に、層を含む場合、膨潤剤は、例えば、ラウロイルイソプロピルサルコシネート、オクチルドデカノール、安息香酸Ｃ１２〜Ｃ１５アルキル（Ｆｉｎｓｏｌｖ ＴＮ）、ウンデカンおよびトリデカンなどの極性油、ならびに、例えば、有機遮蔽剤の油性溶液から選択してもよい。
【０１３３】
膨潤剤のｐＨは１〜１２の範囲であってもよい。膨潤剤のｐＨは、例えば、酢酸、乳酸、塩酸、硝酸、硫酸、マレイン酸、およびコハク酸、ならびに水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、トリエタノールアミンなどの塩基から選択される酸および塩基、またはリシンおよびアルギニンの溶液との接触により調整されてもよい。
【０１３４】
固定化剤（Ｆｉｘｉｎｇ ａｇｅｎｔ）
フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子は、固定化剤を含んでもよい。
【０１３５】
固定化剤は、例えば、シリカおよびその前駆体（例えば、ＴＥＯＳ）などの無機化合物、またはグリコール、例えば、グリセリン、ジプロピレングリコール、ソルビトール、ブチレングリコール、または４００ｇ／ｍｏｌ〜５００００ｇ／ｍｏｌの範囲の分子量を有するＰＥＧから選択されてもよい。
【０１３６】
固定化剤とポリマー多層干渉構造の層の屈折率の差は、０．０５〜１．５の範囲であってもよい。
【０１３７】
フォトニック材料およびポリマー多層干渉構造のポリマー
本発明のフォトニック材料、特にポリマー多層干渉構造は、単独重合体、共重合体、ブロック共重合体、単独重合体の混合物、ブロック共重合体の混合物、単独重合体とブロック共重合体との混合物、着色剤などの添加剤または無機化合物が添加されたポリマー材料を含んでもよい。
【０１３８】
幾つかの例示的実施形態では、フォトニック材料は、ポリマーの混合物、またはポリマーと非ポリマーもしくは他のものとの混合物を含んでもよく、組成が異なるおよび／または化学的特性、物理的特性、または誘電特性が異なる少なくとも２つの部分を含んでもよい。
【０１３９】
さらに、本発明のフォトニック材料は、その少なくとも１部分の寸法、化学的特性または物理的特性を変化させるのに使用し得る他のポリマーまたは非ポリマー添加剤を含有してもよい。さらに、フォトニック材料の構造中に存在する非ポリマー添加剤は、周期構造中の２つの部分を分離する部位を構成してもよい。一例として、分離されたポリマー部分のサイズは、その部分の体積の一部を変化させることにより、例えば、補助的ナノ粒子、補助的単独重合体、補助的モノマー、または、ｉｎ ｓｉｔｕで重合、グラフト化、および／または架橋される架橋性化合物を配合することにより、制御されてもよい。前述のものなどの添加剤は、その部分の数／タイプ、および／またはその部分の寸法を変化させるために使用することができるが、変化を引き起こす刺激の影響を受けてもフォトニック材料の挙動に影響を及ぼさないものである。
【０１４０】
ブロック共重合体
本発明のフォトニック材料中に存在するブロック共重合体により、異なる組成および／または異なる物理的特性を特徴とする別々の部分に配置された一次元、二次元、または三次元の周期構造を得ることができる。
【０１４１】
「周期構造」という用語は、少なくとも一方向の直線が構造を通り、少なくとも２つの別々の部分と規則的な間隔で交差するように配置された構造を意味するのに使用される。一例として、「一次元構造」とは、一方向の直線が構造を通り、少なくとも２つの分離された部分と規則的な間隔で交差するように、三次元直交座標系（Ｘ、Ｙ、Ｚ方向の成分）で配置され得る構造である。「二次元構造」とは、二方向の直線が構造を通り、少なくとも２つの別々の部分と規則的な間隔で交差するように、三次元座標系で配置され得る構造である。「三次元構造」とは、三方向のいずれかの直線が構造を通り、少なくとも２つの別々の部分と規則的な間隔で交差するように、三次元座標系で配置され得る構造である。さらに、「周期構造」という用語は、フォトニック材料中の類似の寸法と間隔を有する類似部分を特徴とする、規則的周期性のある部分を有する材料を指す。「部分」という用語は、フォトニック材料の明確に異なる部位を定義し、それを隣接部分または周囲部分のものと区別する特定の組成および／または特定の物理的特性によって特徴付けられる。
【０１４２】
フォトニック材料、特にポリマー多層干渉構造を構成するポリマーは、両親媒性であってもよく、例えば、ブロック共重合体、例えば：
・Ａ−Ｂの形態のジブロック共重合体であって、Ａが、例えば、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリシクロヘキシルメタクリレート、ポリイソボルニルアクリレート、ポリイソボルニルメタクリレート、ポリイソブチルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、ポリＮ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、およびポリイソプロピルメタクリレートから選択される疎水性ブロックであり、Ｂが：
●例えば、ポリ（２−ビニルピリジン）、ポリ（４−ビニルピリジン）、ポリ（ジメチルアミノエチルメタクリレート）、ポリ（ジエチルアミノエチルメタクリレート）、ポリ（ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド）、およびポリ（Ｎ−ビニルピロリドン）から選択される親水性陽イオン性ブロック；
●例えば、ポリ（アクリル酸）、ポリ（メタクリル酸）、ポリ（マレイン酸）、ポリ（イタコン酸）、ポリ（フマル酸）、ポリ（クロトン酸）、ポリ（アクリルアミドグリコール酸）、およびポリ（アクリルアミド２−メチルプロパンスルホン酸）から選択される親水性陰イオン性ブロック；もしくは
●例えば、ポリ（ＰＥＧメタクリレート）から選択される親水性非イオン性ブロック；
であるジブロック共重合体、
・Ａ−Ｂ−Ｃの形態のトリブロック共重合体であって：
●ＡとＣが、例えば、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリシクロヘキシルメタクリレート、ポリイソボルニルアクリレート、ポリイソボルニルメタクリレート、ポリイソブチルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、ポリＮ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、およびポリイソプロピルメタクリレートから選択される、異なる疎水性ブロックであり、Ｂが、
○例えば、ポリ（２−ビニルピリジン）、ポリ（４−ビニルピリジン）、ポリ（ジメチルアミノエチルメタクリレート）、ポリ（ジエチルアミノエチルメタクリレート）、ポリ（ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド）、およびポリ（Ｎ−ビニルピロリドン）から選択される親水性陽イオン性ブロック；
○例えば、ポリ（アクリル酸）、ポリ（メタクリル酸）、ポリ（マレイン酸）、ポリ（イタコン酸）、ポリ（フマル酸）、ポリ（クロトン酸）、ポリ（アクリルアミドグリコール酸）、およびポリ（アクリルアミド２−メチルプロパンスルホン酸）から選択される親水性陰イオン性ブロック；もしくは
○例えば、ポリ（ＰＥＧメタクリレート）から選択される親水性非イオン性ブロック；
であるトリブロック共重合体、または
●Ｂが、例えば、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリシクロヘキシルメタクリレート、ポリイソボルニルアクリレート、ポリイソボルニルメタクリレート、ポリイソブチルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、ポリＮ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、およびポリイソプロピルメタクリレートから選択される疎水性ブロックであり、ＡとＣが異なり、以下：
○例えば、ポリ（２−ビニルピリジン）、ポリ（４−ビニルピリジン）、ポリ（ジメチルアミノエチルメタクリレート）、ポリ（ジエチルアミノエチルメタクリレート）、ポリ（ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド）、およびポリ（Ｎ−ビニルピロリドン）から選択される親水性陽イオン性ブロック；
○例えば、ポリ（アクリル酸）、ポリ（メタクリル酸）、ポリ（マレイン酸）、ポリ（イタコン酸）、ポリ（フマル酸）、ポリ（クロトン酸）、ポリ（アクリルアミドグリコール酸）、およびポリ（アクリルアミド２−メチルプロパンスルホン酸）から選択される親水性陰イオン性ブロック；もしくは
○例えば、ポリ（ＰＥＧメタクリレート）から選択される親水性非イオン性ブロック；
から選択されるトリブロック共重合体、
を含んでも、またはこれらのものであってもよい。
【０１４３】
疎水性ブロックと親水性陽イオン性ブロックを含む共重合体は、塩の形態であってもまたは四級化された形態であってもよい。
【０１４４】
前記ブロックのそれぞれの分子質量は、１００００ｇ／ｍｏｌ〜５０００００ｇ／ｍｏｌの範囲であってもよい。
【０１４５】
疎水性ブロックと親水性陰イオン性ブロックを含む共重合体は、塩の形態であってもよい。
【０１４６】
前記ブロックのそれぞれの分子質量は、１０００ｇ／ｍｏｌ〜５０００００ｇ／ｍｏｌの範囲であってもよい。
【０１４７】
ＭＰＥＧの分子量は、５００ｇ／ｍｏｌ〜１００００ｇ／ｍｏｌの範囲であってもよい。
【０１４８】
当該実施形態はいずれも、親水性ブロックが膨潤剤に対する感受性を有していてもよい。
【０１４９】
変形態様では、疎水性ブロックは、膨潤剤に対する感受性を有していてもよい。例えば、疎水性ブロックがポリイソボルニルアクリレート、ポリイソボルニルメタクリレートおよびポリイソブチルメタクリレートから選択される場合、膨潤剤は、極性油または極性油に溶解したサンスクリーン剤の溶液であってもよい。
【０１５０】
フォトニック材料、特にポリマー多層干渉構造は、両親媒性ポリマー、例えば、蛍光剤、および／または紫外線遮蔽剤、および／または着色剤を内包する両親媒性ポリマーを含んでもよく、両親媒性ポリマーは共重合体であってもよい。
【０１５１】
特に好ましくは、ポリマーは、ポリスチレン／ポリ（２−ビニルピリジン）ジブロック共重合体を含む。
【０１５２】
紫外線遮蔽剤
フォトニック材料、特にポリマー多層干渉構造は、紫外線遮蔽剤を内包するポリマー（例えば、両親媒性ポリマー）を含んでもよい。
【０１５３】
フォトニック材料、特にポリマー多層干渉構造、およびその中に存在する紫外線遮蔽剤は、波長２５０ｎｍ〜４００ｎｍの放射線に対する相補的遮蔽作用を有してもよい。
【０１５４】
紫外線遮蔽剤は、例えば、ＵＶＡが遮蔽され、皮膚の褐色化が制限されるように選択することができる。
【０１５５】
紫外線遮蔽剤は、有機紫外線遮蔽剤であってもよい。
【０１５６】
紫外線遮蔽剤は、疎水性であっても、または水溶性であってもよい。
【０１５７】
紫外線遮蔽剤は、膨潤剤に溶解することによって、フォトニック材料、特にポリマー多層干渉構造に導入されてもよい。
【０１５８】
紫外線遮蔽剤は、本発明の組成物中に遊離状態で、即ち、フォトニック材料外に、特にポリマー多層干渉構造外に存在してもよい。
【０１５９】
簡略化するために、遊離状態で、またはフォトニック材料、特にポリマー多層干渉構造中に紫外線遮蔽剤として使用し得る紫外線遮蔽剤の一覧を下記に記載する。
【０１６０】
３２０ｎｍ〜４００ｎｍの範囲の紫外線（ＵＶＡ）を吸収できる疎水性遮蔽剤
ジベンゾイルメタン誘導体
・特に、「ＰＡＲＳＯＬ １７８９」の商標名でＤＳＭ Ｎｕｔｒｉｔｉｏｎａｌ Ｐｒｏｄｕｃｔｓ，Ｉｎｃにより販売されている、ブチルメトキシジベンゾイルメタン；
・イソプロピルジベンゾイルメタン。
【０１６１】
アミノベンゾフェノン
「ＵＶＩＮＵＬ Ａ＋」の商標名でＢＡＳＦにより販売されている、２−（４−ジエチルアミノ２−ヒドロキシベンゾイル）安息香酸ｎ−ヘキシル。
【０１６２】
アントラニル酸誘導体
「ＮＥＯ ＨＥＬＩＯＰＡＮ ＭＡ」の商標名でＳＹＭＲＩＳＥにより販売されている、アントラニル酸メンチル。
【０１６３】
４，４−ジアリールブタジエン誘導体
１，１−ジカルボキシ（２，２’−ジメチル−プロピル）−４，４−ジフェニルジフェニルブタジエン。
【０１６４】
２８０ｎｍ〜３２０ｎｍの範囲の紫外線（ＵＶＢ）を吸収できる疎水性遮蔽剤
パラアミノ安息香酸エステル
・エチルＰＡＢＡ；「ＰＡＢＡ」は、ｐ−アミノ安息香酸を表す；
・エチルジヒドロキシプロピルＰＡＢＡ；
・エチルヘキシルジメチルＰＡＢＡ（ＩＳＰ製のＥＳＣＡＬＯＬ ５０７）。
【０１６５】
サリチル酸誘導体
・「Ｅｕｓｏｌｅｘ ＨＭＳ」の名称でＲｏｎａ／ＥＭ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓにより販売されている、ホモサレート；
・「ＮＥＯ ＨＥＬＩＯＰＡＮ ＯＳ」の名称でＳＹＭＲＩＳＥにより販売されている、サリチル酸エチルヘキシル；
・「ＤＩＰＳＡＬ」の名称でＳＣＨＥＲにより販売されている、サリチル酸ジプロピレングリコール；
・「ＮＥＯ ＨＥＬＩＯＰＡＮ ＴＳ」の名称でＳＹＭＲＩＳＥにより販売されている、サリチル酸ＴＥＡ。
【０１６６】
桂皮酸エステル
・特に、「ＰＡＲＳＯＬ ＭＣＸ」の商標名でＤＳＭ Ｎｕｔｒｉｔｉｏｎａｌ Ｐｒｏｄｕｃｔｓ，Ｉｎｃにより販売されている、メトキシ桂皮酸エチルヘキシル；
・メトキシ桂皮酸イソプロピル；
・「ＮＥＯ ＨＥＬＩＯＰＡＮ Ｅ １０００」の商標名でＳＹＭＲＩＳＥにより販売されている、メトキシ桂皮酸イソアミル；
・メチル桂皮酸ジイソプロピル；
・シノキサート；
・エチルヘキサン酸ジメトキシ桂皮酸グリセリル。
【０１６７】
β，β’−ジフェニルアクリレート誘導体
・特に、「ＵＶＩＮＵＬ Ｎ５３９」の商標名でＢＡＳＦにより販売されている、オクトクリレン；
・特に、「ＵＶＩＮＵＬ Ｎ３５」の商標名でＢＡＳＦにより販売されている、エトクリレン。
【０１６８】
ベンジリデンカンファー誘導体
・「ＭＥＸＯＲＹＬ ＳＤ」の商標名でＣＨＩＭＥＸにより製造されている、３−ベンジリデンカンファー；
・「ＥＵＳＯＬＥＸ ６３００」の商標名でＭＥＲＣＫにより販売されている、メチルベンジリデンカンファー；
・「ＭＥＸＯＲＹＬ ＳＷ」の名称でＣＨＩＭＥＸにより製造されている、ポリアクリルアミドメチルベンジリデンカンファー。
【０１６９】
トリアジン誘導体
・特に、「ＵＶＩＮＵＬ Ｔ１５０」の商標名でＢＡＳＦにより販売されている、エチルヘキシルトリアゾン；
・「ＵＶＡＳＯＲＢ ＨＥＢ」の商標名でＳＩＧＭＡ ３Ｖにより販売されている、ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン；
・２，４，６−トリス（ジネオペンチル４’−アミノベンザルマロネート）−ｓ−トリアジン；
・２，４，６−トリス（ジイソブチル４’−アミノベンザルマロネート）−ｓ−トリアジン；
・２，４−ビス（ジネオペンチル４’−アミノベンザルマロネート）−６−（４’−ｎ−ブチルアミノベンゾエート）−ｓ−トリアジン；
・２，４−ビス（ｎ−ブチル４’−アミノベンゾエート）−６−（アミノプロピルトリシロキサン）−ｓ−トリアジン；
・米国特許第６，２２５，４６７号明細書、国際公開第２００４／０８５４１２号パンフレット（化合物６〜９参照）または文献“Ｓｙｍｍｅｔｒｉｃａｌ Ｔｒｉａｚｉｎｅ Ｄｅｒｉｖａｔｉｖｅｓ”，ＩＰ．ＣＯＭ Ｊｏｕｒｎａｌ，ＩＰ．ＣＯＭ ＩＮＣ ＷＥＳＴ ＨＥＮＲＩＥＴＴＡ，ＮＹ，ＵＳ（２０ Ｓｅｐｔｅｍｂｅｒ ２００４）に記載の対称トリアジン遮蔽剤、特に、２，４，６−トリス−（ビフェニル）１，３，５−トリアジン（特に、２，４，６−トリス（ビフェニル−４−イル−１，３，５−トリアジン）、およびＢＥＩＥＲＳＤＯＲＦによる出願、国際公開第０６／０３５０００号パンフレット、国際公開第０６／０３４９８２号パンフレット、国際公開第０６／０３４９９１号パンフレット、国際公開第０６／０３５００７号パンフレット、国際公開第２００６／０３４９９２号パンフレット、国際公開第２００６／０３４９８５号パンフレットに記載の２，４，６−トリス（ターフェニル）−１，３，５−トリアジン。
【０１７０】
イミダゾリン誘導体
ジメトキシベンジリデンジオキソイミダゾリンプロピオン酸エチルヘキシル。
【０１７１】
ベンザルマロネート誘導体
・「ＰＡＲＳＯＬ ＳＬＸ」の商標名でＤＳＭ Ｎｕｔｒｉｔｉｏｎａｌ Ｐｒｏｄｕｃｔｓ，Ｉｎｃにより販売されているポリシリコーン１５などの、ベンザルマロネート官能基を有するポリオルガノシロキサン；
・４’−メトキシベンザルマロン酸ジネオペンチル。
【０１７２】
メロシアニン誘導体
オクチル−５−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ−２−フェニルスルホニル−２，４−ペンタジエノエート。
【０１７３】
ＵＶＡとＵＶＢの両方を吸収できる混合疎水性遮蔽剤
ベンゾフェノン誘導体
・「ＵＶＩＮＵＬ ４００」の商標名でＢＡＳＦにより販売されている、ベンゾフェノン−１；
・「ＵＶＩＮＵＬ Ｄ５０」の商標名でＢＡＳＦにより販売されている、ベンゾフェノン−２；
・「ＵＶＩＮＵＬ Ｍ４０」の商標名でＢＡＳＦにより販売されている、ベンゾフェノン−３またはオキシベンゾン；
・ベンゾフェノン−５；
・「Ｈｅｌｉｓｏｒｂ １１」の商標名でＮｏｒｑｕａｙにより販売されている、ベンゾフェノン−６；
・「Ｓｐｅｃｔｒａ−Ｓｏｒｂ ＵＶ ２４」の商標名でＡｍｅｒｉｃａｎ Ｃｙａｎａｍｉｄにより販売されている、ベンゾフェノン−８；
・ベンゾフェノン−１０；
・ベンゾフェノン−１１；
・ベンゾフェノン−１２。
【０１７４】
フェニルベンゾトリアゾール誘導体
・「Ｓｉｌａｔｒｉｚｏｌｅ」の名称でＲＨＯＤＩＡ ＣＨＩＭＩＥにより販売されている、ドロメトリゾールトリシロキサン；
・固形状で「ＭＩＸＸＩＭ ＢＢ／１００」の商標名でＦＡＩＲＭＯＵＮＴ ＣＨＥＭＩＣＡＬにより、または微粒子状で水性分散液として「ＴＩＮＯＳＯＲＢ Ｍ」の商標名でＣＩＢＡ ＳＰＥＣＩＡＬＴＹ ＣＨＥＭＩＣＡＬＳにより販売されている、メチレンビス−ベンゾトリアゾリルテトラメチルブチルフェノール。
【０１７５】
ビス−レゾルシニルトリアジン誘導体
「ＴＩＮＯＳＯＲＢ Ｓ」の商標名でＣＩＢＡ ＧＥＩＧＹにより販売されている、ビス−エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン。
【０１７６】
ベンゾキサゾール誘導体
Ｕｖａｓｏｒｂ Ｋ２Ａの名称でＳｉｇｍａ ３Ｖにより販売されている、２，４−ビス−［５−１（ジメチルプロピル）ベンゾキサゾール−２−イル−（４−フェニル）−イミノ］−６−（２−エチルヘキシル）−イミノ−１，３，５−トリアジン。
【０１７７】
３２０ｎｍ〜４００ｎｍの範囲の紫外線（ＵＶＡ）を吸収できる水溶性遮蔽剤
「ＭＥＸＯＲＹＬ ＳＸ」の名称でＣＨＩＭＥＸにより製造されている、テレフタリリデンジカンファースルホン酸。
欧州特許第０６６９３２３号明細書および米国特許第２，４６３，２６４号明細書に記載のビス−ベンゾアゾリル誘導体、より詳細には「ＮＥＯ ＨＥＬＩＯＰＡＮ ＡＰ」の商標名でＨａａｒｍａｎｎ ａｎｄ ＲＥＩＭＥＲにより販売されている化合物、フェニルジベンズイミダゾールテトラスルホン酸ニナトリウム。
【０１７８】
２８０ｎｍ〜３２０ｎｍの範囲の紫外線（ＵＶＢ）を吸収できる水溶性遮蔽剤
ｐ−アミノ安息香酸誘導体（ＰＡＢＡ）
・ＰＡＢＡ；
・グリセリルＰＡＢＡ；および
・「ＵＶＩＮＵＬ Ｐ２５」の名称でＢＡＳＦにより販売されている、ＰＥＧ−２５ＰＡＢＡ；
・特に、「ＥＵＳＯＬＥＸ ２３２」の商標名でＭＥＲＣＫにより販売されている、フェニルベンズイミダゾールスルホン酸；
・フェルラ酸；
・サリチル酸；
・メトキシ桂皮酸ＤＥＡ；
・「ＭＥＸＯＲＹＬ ＳＬ」の名称でＣＨＩＭＥＸにより製造されている、ベンジリデンカンファースルホン酸；
・「ＭＥＸＯＲＹＬ ＳＯ」の名称でＣＨＩＭＥＸにより製造されている、カンファーベンザルコニウムメトサルフェート。
【０１７９】
混合ＵＶＡおよびＵＶＢ水溶性遮蔽剤
少なくとも１つのスルホン酸基を含むベンゾフェノン誘導体
・「ＵＶＩＮＵＬ ＭＳ４０」の商標名でＢＡＳＦにより販売されている、ベンゾフェノン−４；
・ベンゾフェノン−５；および
・ベンゾフェノン−９。
【０１８０】
蛍光剤
フォトニック材料、特にポリマー多層干渉構造中に存在し得る蛍光剤は、ＩＲまたはＵＶ蛍光剤であってもよい。
【０１８１】
蛍光剤は、例えば、ＵＶＡを遮蔽し、皮膚の褐色化を制限するように選択されてもよい。
【０１８２】
本発明のフォトニック材料、特にポリマー多層干渉構造は、白色光で照明したとき、それぞれ赤色、緑色、および青色を発現する３種類の異なる蛍光剤を含んでもよい。このような構造は、加算合成により白色光を発生させ、ケラチン物質の色を明るくする方法に使用することができる。
【０１８３】
蛍光剤は、例えば、スチルベン誘導体（特に、ポリスチリルスチルベンおよびトリアジンスチルベン）、クマリン誘導体（特に、ヒドロキシクマリンおよびアミノクマリン）、オキサゾール、ベンゾキサゾール、イミダゾール、トリアゾールまたはピラゾリン誘導体、ピレン誘導体およびポルフィリン誘導体、および／またはこれらの混合物の溶液から選択される蛍光増白剤であってもよい。
【０１８４】
このような化合物は、例えば、Ｔｉｎｏｐａｌ ＳＯＰおよびＵｖｉｔｅｘ ＯＢの商標名で供給業者ＣＩＢＡ ＧＥＩＧＹから入手可能である。
【０１８５】
また、例えば、Ｔｉｎｏｐａｌ ＣＢＳ Ｘの商標名で供給業者ＣＩＢＡから入手可能な、ジスチリルビフェニルジスルホン酸二ナトリウムの水溶液を蛍光増白剤として使用することも可能である。
【０１８６】
着色剤
着色剤は水溶性であっても、または脂溶性であってもよい。
【０１８７】
当該実施形態のいずれに関しても、着色剤がフォトニック材料中に、特にポリマー多層干渉構造中に、または遊離状態で、即ち前記構造外に存在してもよい。
【０１８８】
一例として、着色が望ましい場合、化粧料組成物は、例えば、フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子によって発現するものと実質的に同じ色を有し得る着色剤を遊離状態で含んでもよい。変形態様では、遊離状態の着色剤は、フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子によって発現するものとは異なる色を有してもよい。
【０１８９】
簡略化するために、遊離状態で、またはフォトニック材料、特にポリマー多層干渉構造中に使用される着色剤の一覧を下記に記載する。
【０１９０】
脂溶性着色剤は、例えば、ＤＣレッド１７、ＤＣレッド２１、ＤＣレッド２７、ＤＣグリーン６、ＤＣイエロー１１、ＤＣバイオレット２、ＤＣオレンジ５、スダンレッド、カロチン（β−カロチン、リコピン）、キサントフィル（カプサンシン、カプソルビン、ルテイン）、パーム油、スダンブラウン、キノリンイエロー、アナトー、およびクルクミンから選択されてもよい。
【０１９１】
水溶性着色剤は、例えば、ＦＤＣレッド４、ＤＣレッド６、ＤＣレッド２２、ＤＣレッド２８、ＤＣレッド３０、ＤＣレッド３３、ＤＣオレンジ４、ＤＣイエロー５、ＤＣイエロー６、ＤＣイエロー８、ＦＤＣグリーン３、ＤＣグリーン５、ＦＤＣブルー１、ベタニン（ビートの根）、カーミン、銅クロロフィリン、メチレンブルー、アントシアニン（エノシアニン、ブラックキャロット、ハイビスカス、ニワトコ）、およびリボフラビンから選択されてもよい。
【０１９２】
着色剤は、また、アントラキノン、カラメル、カーボンブラック、アズレンブルー、メトキサレン、トリオキサレン、グアイアズレン、カマズレン、ローズベンガル、コサイン１０Ｂ（ｃｏｓｉｎｅ １０Ｂ）、シアノシン、ダフィニン（ｄａｐｈｉｎｉｎ）、ジュグロン（ｊｕｇｌｏｎｅ）およびローソン（ｌａｗｓｏｎｅ）から選択されてもよい。
【０１９３】
フォトニック材料、および特にポリマー多層干渉構造の光学的特性
本発明に関して、フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子の反射スペクトルおよび透過率は、前記粒子を適した媒体に分散させる前に測定される。
【０１９４】
フォトニック材料のフィルム、特にポリマー多層干渉構造を有するフィルムの反射および透過スペクトルは、目的の物質に、特にケラチン物質に施与する前に測定される。
【０１９５】
本発明のフォトニック材料、特にポリマー多層干渉構造は、任意選択により角度依存多色性（ｇｏｎｉｏｃｈｒｏｍａｔｉｃ）であってもよい。
【０１９６】
フォトニック材料、特にポリマー多層干渉構造が可視色を発現する場合、それらは、任意選択により紫外線遮蔽性を有してもよい。
【０１９７】
フォトニック材料、特にポリマー多層干渉構造が紫外線遮蔽性を有する場合、それらは任意選択により可視色を発現してもよい。
【０１９８】
太陽紫外線に対する光防御用途
フォトニック材料、特にポリマー多層干渉構造は、例えば２５０ｎｍ〜４００ｎｍの波長範囲に、例えば２９０ｎｍ〜４００ｎｍの範囲に、例えば３３０ｎｍ〜４００ｎｍの範囲に少なくとも１つの反射ピークを含む反射スペクトルを有してもよい。反射ピークは、干渉次数１を有するピークであってもよい。
【０１９９】
フォトニック材料、特にポリマー多層干渉構造は、例えば、２５０ｎｍ〜８００ｎｍの波長範囲に、それぞれ異なる干渉次数に対応する幾つかの反射ピークを含む反射スペクトルを有してもよい。フォトニックゲルに関するこのような反射スペクトルについては、出版物、Ｎａｔ Ｍａｔ，Ｖｏｌ ６，９５７−９６０，２００８に記載されている。このような場合、２５０ｎｍ〜４００ｎｍの波長範囲の反射ピークは、干渉次数少なくとも２、例えば３、例えば４、例えば５に対応し得る。
【０２００】
フォトニック材料、特にポリマー多層干渉構造は、４５０ｎｍ〜８００ｎｍの波長範囲で透明であってもよい。
【０２０１】
本発明に関して、フォトニック材料、特にポリマー多層干渉構造は、当該波長範囲で透過率が８０％以上、例えば、９０％である場合、透明であるものとする。
【０２０２】
フォトニック材料、特にポリマー多層干渉構造は、紫外線遮蔽剤または蛍光剤などの別の光学活性物質を、例えば、両親媒性ポリマー中に含んでもよい。
【０２０３】
フォトニック材料、特にポリマー多層干渉構造、および、適宜それらの中に存在する紫外線遮蔽剤は、２５０ｎｍ〜４００ｎｍの波長範囲の放射線に対する相補的遮蔽作用を有してもよい。
【０２０４】
従って、紫外線遮蔽剤を内包するポリマーを含むフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む化粧料組成物は、ケラチン物質に塗布する前に、２５０ｎｍ〜４００ｎｍの波長範囲に少なくとも２つの極小を含む透過スペクトルを有してもよい。極小は、例えば、少なくとも５０ｎｍ分離していてもよい。
【０２０５】
肌色を明るくするための用途
蛍光剤を内包するポリマー（例えば、両親媒性ポリマー）を含むフォトニック材料、特にポリマー多層干渉構造は、２５０ｎｍ〜８００ｎｍ、例えば２５０ｎｍ〜４００ｎｍの波長範囲に反射ピークを含む反射スペクトルを有してもよい。
【０２０６】
さらに、フォトニック材料、特にポリマー多層干渉構造が、蛍光剤を内包するポリマーを含む場合、ケラチン物質に塗布する前に、それらは２５０ｎｍ〜８００ｎｍの波長範囲に少なくとも２つの極小を含む透過スペクトルを有してもよい。
【０２０７】
これらの場合、第１の透過極小は２５０ｎｍ〜４００ｎｍの波長範囲にあり、第２の透過極小は４００ｎｍ〜８００ｎｍの波長範囲、例えば４００ｎｍ〜５００ｎｍの範囲にあってもよい。極小は、例えば、少なくとも５０ｎｍ、例えば１００ｎｍ分離していてもよい。
【０２０８】
従って、蛍光剤を内包するポリマー（例えば、両親媒性ポリマー）を含むフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む化粧料組成物は、ケラチン物質に塗布する前に、２５０ｎｍ〜８００ｎｍの波長範囲に２つの極小を含む透過スペクトルを有してもよい。
【０２０９】
極小は、少なくとも５０ｎｍ、例えば１００ｎｍ分離していてもよい。
【０２１０】
少なくとも１つの極小は、２５０ｎｍ〜４００ｎｍの波長範囲にあってもよく、少なくとも１つの極小は４００ｎｍ〜８００ｎｍの波長範囲、例えば、４００ｎｍ〜５５０ｎｍにあってもよい。
【０２１１】
化粧用途
フォトニック材料、特に多層干渉構造が、それらの着色特性のために使用される場合、ケラチン物質に塗布する前に、４００ｎｍ〜８００ｎｍの波長範囲に少なくとも１つの反射ピークを含む反射スペクトルを有してもよい。フォトニックゲルに関するこのような反射スペクトルについては、出版物、Ｎａｔ Ｍａｔ，Ｖｏｌ ６，９５７−９６０，２００８に記載されている。
【０２１２】
フォトニック材料、特にポリマー多層干渉構造は、可視スペクトルの色を全て、例えば、黄色、黄橙色、または紫色を発現することができる。
【０２１３】
フォトニック材料、特にポリマー多層干渉構造は、金属色または金属様の外観を発現し得る。
【０２１４】
従って、例えば両親媒性ポリマーを含む、可視色を発現するフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む組成物は、ケラチン物質に塗布する前に、４００ｎｍ〜８００ｎｍの波長範囲に反射ピークを含む反射スペクトルを有してもよい。
【０２１５】
さらに、着色剤を内包するポリマー、例えば、着色剤を内包する両親媒性ポリマーを含むフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む化粧料組成物は、ケラチン物質に塗布する前に、４００ｎｍ〜８００ｎｍの波長範囲に反射ピークを含む反射スペクトルを有し得る。
【０２１６】
着色剤によって発現する色が、フォトニック材料によって、特にポリマー多層干渉構造によって発現する色を補強してもよい。
【０２１７】
フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子の混合物
本発明の組成物は、本発明の１種類のフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子、または、例えば、２５０ｎｍ〜４００ｎｍの波長範囲でそれぞれ異なる透過および／または反射スペクトルを有する少なくとも２種類の異なるフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子の混合物を含んでもよい。
【０２１８】
組成物は、例えば、１種類のフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子であって、前記構造の少なくとも２層を形成する両親媒性ポリマーを含む粒子と、多層干渉構造を有する別の種類の粒子との混合物を含んでもよい。
【０２１９】
組成物は、例えば、第１の紫外線遮蔽剤を内包するポリマーを含む１種類のフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子と、第１の紫外線遮蔽剤とは異なる第２の紫外線遮蔽剤を内包するポリマーを含む別の種類のフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子との混合物を含んでもよい。
【０２２０】
組成物は、例えば、蛍光剤を内包するポリマーを含む１種類のフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子と、可視色を発現する別の種類のフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子との混合物を含んでもよい。
【０２２１】
組成物は、例えば、蛍光剤を内包するポリマーを含む１種類のフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子と、紫外線遮蔽剤を内包するポリマーを含む別の種類のフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子との混合物を含んでもよい。
【０２２２】
組成物は、例えば、可視色を発現する１種類のフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子と、紫外線遮蔽剤を内包するポリマーを含む別の種類のフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子との混合物を含んでもよい。
【０２２３】
フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子を含有する媒体
フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子は、化粧料として許容される媒体、即ち、ヒトケラチン物質、特に皮膚、粘膜、または毛髪もしくは爪に塗布するのに適した無毒性媒体に含有されてもよい。
【０２２４】
前記媒体は、組成物が塗布される支持体の性質および組成物が包装される形態に適合するものとする。
【０２２５】
媒体は、フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子を含有する２５℃で液体の相を含んでもよい。
【０２２６】
フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子が凝集することを防止するため、媒体は、塗布する前にフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子の媒体への分散を促進するように選択されてもよい。一例として、フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子を含有する媒体の表面張力を３５ｍＮ／Ｍ未満に低下させる１種類以上の薬剤を使用することが可能な場合もある。
【０２２７】
「水性媒体」という用語は、周囲温度および周囲圧力で液体であり、媒体の総重量に対して含有する水の割合が多い媒体を表す。水性媒体中の水の量は、例えば、３０重量％以上、好ましくは４０％以上、またはより好ましくは５０％以上である。
【０２２８】
媒体は、一相であっても、または多相であってもよい。本発明の組成物は、水相と脂肪相を含んでもよい。
【０２２９】
媒体は透明であってもまたは半透明であってもよく、有色であってもまたは無色であってもよい。フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子を含有する媒体は、顔料または着色剤を含有しなくてもよい。
【０２３０】
媒体は、揮発性溶媒を含んでもよい。
【０２３１】
「揮発性溶媒」という用語は、周囲温度および周囲圧力でケラチン物質と接触して蒸発することができる任意の液体を意味する。
【０２３２】
媒体は、特に、組成物が揮発性溶媒を少なくとも５％、あるいは少なくとも３０％含有するように選択されてもよい。
【０２３３】
媒体は、防御持続性を改善するフィルム形成ポリマーを含んでもよい。
【０２３４】
フィルム形成ポリマー
本発明では、「フィルム形成ポリマー」という用語は、単独でまたは補助的皮膜形成剤の存在下で、ケラチン物質に粘着する巨視的に連続したフィルム、好ましくは凝集性フィルム、より好ましくは、例えば前記フィルムをＴｅｆｌｏｎまたはシリコーン表面などの非粘着面に流延することによって製造する場合、前記フィルムを単離し、単独で操作できるような凝集性と機械的特性を有するフィルムを形成することができるポリマーを意味する。
【０２３５】
組成物は水相を含んでもよく、フィルム形成ポリマーは前記水相に存在してもよい。これらの場合、それは、好ましくはポリマー分散液（ｐｏｌｙｍｅｒ ｉｎ ｄｉｓｐｅｒｓｉｏｎ）であるか、または両親媒性もしくは会合性ポリマーである。
【０２３６】
「ポリマー分散液」という用語は、水に不溶で、様々なサイズの粒子の形態になっているポリマーを意味する。ポリマーは、任意選択により架橋されてもよい。平均粒子サイズは、通常、２５ｎｍ〜５００ｎｍの範囲、好ましくは５０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲である。次のポリマー水性分散液を使用してもよい：Ｕｌｔｒａｓｏｌ ２０７５（登録商標）（Ｇａｎｚ Ｃｈｅｍｉｃａｌ製）、Ｄａｉｔｏｓｏｌ ５０００ＡＤ（登録商標）（大東化成工業（Ｄａｉｔｏ Ｋａｓｅｉ）製）、Ａｖａｌｕｒｅ ＵＲ ４５０（登録商標）（Ｎｏｖｅｏｎ製）、ＤＹＮＡＭＸ（登録商標）（Ｎａｔｉｏｎａｌ Ｓｔａｒｃｈ製）、Ｓｙｎｔｒａｎ ５７６０（登録商標）（Ｉｎｔｅｒｐｏｌｙｍｅｒ製）、Ａｃｕｓｏｌ ＯＰ ３０１（登録商標）（Ｒｏｈｍ＆Ｈａａｓ製）、およびＮｅｏｃｒｙｌ Ａ １０９０（登録商標）（Ａｖｅｃｉａ製）。
【０２３７】
水分散性フィルム形成ポリマーの粒子の水性分散液の他の例としては、Ｎｅｏｃｒｙｌ ＸＫ−９０（登録商標）、Ｎｅｏｃｒｙｌ Ａ−１０７０（登録商標）、Ｎｅｏｃｒｙｌ Ａ−１０９０（登録商標）、Ｎｅｏｃｒｙｌ ＢＴ−６２（登録商標）、Ｎｅｏｃｒｙｌ Ａ −１０７９（登録商標）およびＮｅｏｃｒｙｌ Ａ−５２３（登録商標）の名称で供給業者ＡＶＥＣＩＡ−ＮＥＯＲＥＳＩＮＳにより、Ｄｏｗ Ｌａｔｅｘ ４３２（登録商標）の名称で供給業者ＤＯＷ ＣＨＥＭＩＣＡＬにより、ダイトゾール（Ｄａｉｔｏｓｏｌ）５０００ＡＤ（登録商標）またはダイトゾール（Ｄａｉｔｏｓｏｌ）５０００ＳＪ（登録商標）の名称で供給業者大東化成工業（ＤＡＩＴＯ ＫＡＳＥＹ ＫＯＧＹＯ）により、Ｓｙｎｔｒａｎ ５７６０（登録商標）の名称で供給業者Ｉｎｔｅｒｐｏｌｙｍｅｒにより、Ａｌｌｉａｎｚ ＯＰＴの名称で供給業者ＲＯＨＭ ＆ ＨＡＡＳにより販売されているアクリル分散液、ＪＯＮＣＲＹＬ（登録商標）の商標名で供給業者ＪＯＨＮＳＯＮ ＰＯＬＹＭＥＲにより販売されているアクリルまたはスチレン／アクリルポリマーの水性分散液、またはＮｅｏｒｅｚ Ｒ−９８１（登録商標）およびＮｅｏｒｅｚ Ｒ−９７４（登録商標）の名称で供給業者ＡＶＥＣＩＡ−ＮＥＯＲＥＳＩＮＳにより、Ａｖａｌｕｒｅ ＵＲ−４０５（登録商標）、Ａｖａｌｕｒｅ ＵＲ−４１０（登録商標）、Ａｖａｌｕｒｅ ＵＲ−４２５（登録商標）、Ａｖａｌｕｒｅ ＵＲ−４５０（登録商標）、Ｓａｎｃｕｒｅ ８７５（登録商標）、Ｓａｎｃｕｒｅ ８６１（登録商標）、Ｓａｎｃｕｒｅ ８７８（登録商標）およびＳａｎｃｕｒｅ ２０６０（登録商標）の名称で供給業者ＧＯＯＤＲＩＣＨにより、Ｉｍｐｒａｎｉｌ ８５（登録商標）の名称で供給業者ＢＡＹＥＲにより、Ａｑｕａｍｅｒｅ Ｈ−１５１１（登録商標）の名称で供給業者ＨＹＤＲＯＭＥＲにより販売されているポリウレタンの水性分散液、Ｅａｓｔｍａｎ ＡＱ（登録商標）の商標名で供給業者Ｅａｓｔｍａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｐｒｏｄｕｃｔｓにより販売されているスルホポリエステル、Ｍｅｘｏｍｅｒｅ ＰＡＭ（登録商標）（供給業者ＣＨＩＭＥＸ）などのビニル分散液、およびこれらの混合物がある。
【０２３８】
「両親媒性または会合性ポリマー」という用語は、ポリマーを部分的に水に可溶にする１つ以上の親水性部分と、ポリマーが会合または相互作用するようにする１つ以上の疎水性部分とを含むポリマーを意味する。次の会合性ポリマー：Ｎｕｖｉｓ ＦＸ１１００（登録商標）（Ｅｌｅｍｅｎｔｉｓ製）、Ａｃｕｌｙｎ ２２（登録商標）、Ａｃｕｌｙｎ ４４（登録商標）、Ａｃｕｌｙｎ ４６（登録商標）（Ｒｏｈｍ＆Ｈａａｓ製）、およびＶｉｓｃｏｐｈｏｂｅ ＤＢ１０００（登録商標）（ＡＭＥＲＣＨＯＬ製）を使用してもよい。また、親水性ブロック（ポリアクリレート、ポリエチレングリコール）と疎水性ブロック（ポリスチレン、ポリシロキサン）によって構成されるジブロック共重合体を使用してもよい。
【０２３９】
組成物は油相を含んでもよく、前記油相中にフィルム形成ポリマーが存在してもよい。ポリマーは分散液の状態であっても、または溶液の状態であってもよい。ＮＡＤタイプのポリマーまたはマイクロゲル（例えば、ＫＳＧ）、ならびにＰＳ−ＰＡタイプのポリマーまたはスチレンをベースにする共重合体（Ｋｒａｔｏｎ，Ｒｅｇａｌｉｔｅ）を使用してもよい。
【０２４０】
少なくとも１種類の安定剤で表面を安定化させることができるポリマー（特に、ブロック、グラフトまたはランダムポリマー）の粒子を１種類以上のシリコーン油および／または炭化水素油に分散させた非水性分散液の例としては、Ｍｅｘｏｍｅｒｅ ＰＡＰ（登録商標）（供給業者ＣＨＩＭＥＸ）などのアクリルのイソドデカン分散液、およびグラフトエチレン性ポリマー、好ましくはアクリルポリマー粒子を液体脂肪相に分散させた分散液、特に、文献、国際公開第０４／０５５０８１号パンフレットに記載されているものなどの、エチレン性ポリマーが他の粒子表面安定剤の非存在下で有利に分散されているものを挙げることができる。
【０２４１】
本発明の組成物に使用され得るフィルム形成ポリマーとしては、ラジカルまたは重縮合タイプの合成ポリマー、天然ポリマー、およびこれらの混合物を挙げることができる。
【０２４２】
特に、ラジカルタイプのフィルム形成ポリマーは単独重合体であっても共重合体であってもよく、それはビニル、とりわけアクリルポリマーである。
【０２４３】
フィルム形成ビニルポリマーは、不飽和α，β−エチレン性不飽和カルボン酸、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、マレイン酸またはイタコン酸などの少なくとも１つの酸基を有するエチレン性不飽和結合を含有するモノマーおよび／または前記酸モノマーのエステルおよび／または前記酸モノマーのアミドを重合することによって得ることができる。
【０２４４】
天然のポリマー、任意選択により変性された天然ポリマーは、シェラック樹脂、サンダラックゴム、ダンマル、エレミ、コーパル、およびセルロースポリマー（ニトロセルロース、エチルセルロース、または、例えば酢酸セルロース、セルロースアセトブチレート、セルロースアセトプロピオネートから選択されるニトロセルロースエステルなど）、および、これらの混合物から選択されてもよい。
【０２４５】
フィルム形成ポリマーは、一般にラテックスまたは擬似ラテックスとして知られている水性または油性分散液中の固体粒子の形態で存在してもよい。フィルム形成ポリマーは、１種類以上のポリマーからなる略球状のポリマー粒子が生理学的に許容される液体脂肪相に分散した安定な分散液を１種類以上含んでもよい。ポリマー水性分散液であるラテックスに対して、これらの分散液は一般にポリマーＮＡＤと称される。これらの分散液は、特に、ポリマーのナノ粒子が前記脂肪相に分散した安定な分散液の形態であってもよい。ナノ粒子のサイズは、好ましくは５ｎｍ〜６００ｎｍの範囲である。前記分散液の製造方法は当業者に周知である。
【０２４６】
組成物は、フィルム形成線状ブロックエチレン性ポリマーであるフィルム形成ポリマーを少なくとも１種類含んでもよい。前記ポリマーは、少なくとも１つの第１の配列（ブロック）と、異なるガラス転移温度（Ｔｇ）を有する少なくとも１つの第２の配列とを含んでもよく、前記第１の配列と第２の配列は、第１の配列の少なくとも１種類の構成モノマーと第２の配列の少なくとも１種類の構成モノマーを含む中間配列を介して互いに連結されている。一例として、第１の配列と第２の配列とブロックポリマーは、互いに不相溶性である。このようなポリマーは、例えば、文献、欧州特許第１４１１０６９号明細書または国際公開第０４／０２８４８８号パンフレットに記載されており、これらは参照により本明細書に援用される。
【０２４７】
水相
本発明の組成物は、少なくとも１つの水相を含んでもよい。
【０２４８】
本発明の組成物は水相を含んでもよく、水相は、フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子を含んでもよい。
【０２４９】
水相の含水率は、例えば３０重量％以上、より好ましくは４０重量％以上、非常に好ましくは５０重量％以上である。
【０２５０】
水相は、水と、炭素数１〜５の低級モノアルコール（エタノール、イソプロパノールなど）、炭素数２〜８のグリコール（プロピレングリコール、エチレングリコール、１，３−ブチレングリコール、ジプロピレングリコールなど）、Ｃ３〜Ｃ４ケトン、およびＣ２〜Ｃ４アルデヒドなどの水混和性の１種または複数種の有機溶媒（２５℃における水混和性が５０重量％より大きいもの）との混合物を含んでもよい。
【０２５１】
水相は、当該組成物の総重量に対して１重量％〜９９重量％の範囲、特に３重量％〜８０重量％の範囲、より詳細には５重量％〜６０重量％の範囲の量で存在してもよい。
【０２５２】
脂肪相
当該実施形態の全てにおいて、本発明の組成物は脂肪相を含んでもよい。
【０２５３】
脂肪相は、例えば、フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子を含有していなくてもよい。
【０２５４】
組成物は、例えば、合成エステルまたはエーテル、鉱物または合成由来の直鎖または分枝鎖炭化水素、炭素数８〜２６の脂肪アルコール、部分フッ素化炭化水素油および／またはシリコーン油、直鎖または環状シリコーン鎖を有するポリメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）などのシリコーン油、およびこれらの混合物などの油を含んでもよく、これらは、任意選択により揮発性であってもよく、周囲温度で液体であってもまたはペースト状であってもよく；他の例は下記に記載する。
【０２５５】
従って、本発明の組成物は、少なくとも１種類の揮発性油を含んでもよい。
【０２５６】
揮発性油
本発明に関して、「揮発性油」という用語は、周囲温度および周囲圧力で、皮膚と接触して１時間未満で蒸発することができる油（または非水性媒体）を意味する。
【０２５７】
揮発性油は、周囲温度で液体の揮発性化粧油、特に周囲温度および周囲圧力でゼロでない蒸気圧を有する、特に０．１３Ｐａ〜４００００Ｐａ（１０−３ｍｍＨｇ〜３００ｍｍＨｇ）の範囲、特に１．３Ｐａ〜１３０００Ｐａ（０．０１ｍｍＨｇ〜１００ｍｍＨｇ）の範囲、より詳細には１．３Ｐａ〜１３００Ｐａ（０．０１ｍｍＨｇ〜１０ｍｍＨｇ）の範囲の蒸気圧を有する揮発性化粧油である。
【０２５８】
揮発性炭化水素油は、動物または植物由来の炭素数８〜１６の炭化水素油、特に、イソドデカン（２，２，４，４，６−ペンタメチルヘプタンとも称される）、イソデカン、イソヘキサデカン、および、例えば、Ｉｓｏｐａｒｓ（登録商標）またはＰｅｒｍｅｔｈｙｌｓ（登録商標）の商標名で販売されている油などの分枝鎖Ｃ８〜Ｃ１６アルカン（イソパラフィンとも称される）から選択されてもよい。
【０２５９】
同様に使用し得る揮発性油の例としては、揮発性シリコーン、例えば、直鎖または環状揮発性シリコーン油、とりわけ≦８センチストローク（ｃＳｔ）（８×１０−６ｍ２／ｓ）の粘度を有するもの、とりわけ２〜１０個のケイ素原子、特に２〜７個のケイ素原子を含有するものがあり、前記シリコーンは、任意選択により、炭素数１〜１０のアルキル基またはアルコキシ基を含む。本発明に使用し得る揮発性シリコーン油の例としては、５ｃＳｔ〜６ｃＳｔの粘度を有するジメチコン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、ドデカメチルシクロヘキサシロキサン、ヘプタメチルヘキシルトリシロキサン、ヘプタメチルオクチルトリシロキサン、ヘキサメチルジシロキサン、オクタメチルトリシロキサン、デカメチルテトラシロキサン、ドデカメチルペンタシロキサン、およびこれらの混合物を挙げることができる。
【０２６０】
また、ノナフルオロメトキシブタンまたはパーフルオロメチルシクロペンタン、およびこれらの混合物などのフッ素化揮発性油を使用することも可能である。
【０２６１】
また、前述の油の混合物を使用することも可能である。
【０２６２】
不揮発性油
本発明の組成物は、不揮発性油を含んでもよい。
【０２６３】
本発明に関して、「不揮発性油」という用語は、０．１３Ｐａ未満の蒸気圧を有する油、特に、高分子質量の油を意味する。
【０２６４】
不揮発性油は、特に、必要に応じてフッ素化された炭化水素油、および／または不揮発性シリコーン油から選択されてもよい。
【０２６５】
本発明の実施に適している可能性がある不揮発性炭化水素油の例としては、特に：
−動物由来の炭化水素油；
−植物由来の炭化水素油、例えば、オレイン酸フィトステアリル、イソステアリン酸フィソステアリル、または、例えば、ＥＬＤＥＷ ＰＳ２０３の名称で味の素株式会社（ＡＪＩＮＯＭＯＴＯ）により販売されているグルタミン酸ラウロイル／オクチルドデシル／フィトステアリルなどのフィトステアリルエステル、脂肪酸とグリセリンのエステルによって構成されるトリグリセリド（脂肪酸はＣ４〜Ｃ２４の範囲の鎖長を有してもよく、直鎖または分枝鎖、飽和または不飽和であってもよい）；前記油は、特に、ヘプタン酸もしくはオクタン酸トリグリセリド、または小麦胚芽油、ヒマワリ油、ブドウ種子油、ゴマ油、コーン油、杏仁油、ヒマシ油、シア油、アボカド油、オリーブ油、大豆油、甘扁桃油、パーム油、ナタネ油、綿実油、ヘーゼルナッツ油、マカダミアナッツ油、ホホバ油、アルファルファ油、ケシ油、北海道カボチャ（Ｈｏｋｋａｉｄｏ ｓｑｕａｓｈ）油、ウリ科植物（ｇｏｕｒｄ）油、黒スグリ油、マツヨイグサ油、アワ油、大麦油、キノア油、ライ麦油、紅花油、ククイ油、トケイソウ油、またはマスクローズ油；シアバター；または供給業者ＳＴＥＡＲＩＮＥＲＩＥＳ ＤＵＢＯＩＳにより販売されているもの、もしくはＭＩＧＬＹＯＬ ８１０（登録商標）、８１２（登録商標）および８１８（登録商標）の名称で供給業者ＤＹＮＡＭＩＴ ＮＯＢＥＬにより販売されているものなどのカプリル酸／カプリン酸トリグリセリドである；
−鉱物または合成由来の炭化水素油、例えば：
●炭素数１０〜４０の合成エーテル；
●鉱物または合成由来の直鎖または分枝鎖炭化水素、例えば、ワセリン、ポリデセン、水添ポリイソブテン（パールリームなど）、スクワラン、およびこれらの混合物、特に、水添ポリイソブテン；
●式Ｒ１ＣＯＯＲ２（式中、Ｒ１は炭素数１〜４０の直鎖または分枝鎖脂肪酸の残基を表し、Ｒ２は炭素数１〜４０の炭化水素鎖、とりわけ分枝炭化水素鎖を表し、但し、Ｒ１＋Ｒ２≧１０とする）を有する油などの合成エステルなど；
を挙げることができる。
【０２６６】
特に、エステルは、特に、例えば：
●オクタン酸セトステアリル、イソプロピルアルコールのエステル（ミリスチン酸イソプロピル、パルミチン酸イソプロピルなど）、パルミチン酸エチル、パルミチン酸２−エチルヘキシル、ステアリン酸またはイソステアリン酸イソプロピル、イソステアリン酸イソステアリル、ステアリン酸オクチル、ヒドロキシルエステル（乳酸イソステアリル、ヒドロキシステアリン酸オクチルなど）、アジピン酸ジイソプロピル、ヘプタン酸エステル、特にヘプタン酸イソステアリル、アルコールまたはポリアルコールのオクタン酸、デカン酸またはリシノール酸エステル（ジオクタン酸プロピレングリコール、オクタン酸セチル、オクタン酸トリデシルなど）、４−ジヘプタン酸およびパルミチン酸２−エチルヘキシル、安息香酸アルキル、ジヘプタン酸ポリエチレングリコール、２−ジエチルヘキサン酸プロピレングリコールおよびこれらの混合物、Ｃ１２〜Ｃ１５アルコール安息香酸エステル、ラウリン酸ヘキシル、ネオペンタ酸エステル（ネオペンタン酸イソデシル、ネオペンタン酸イソトリデシル、ネオペンタン酸イソステアリル、ネオペンタン酸オクチルドデシルなど）、イソノナン酸エステル（イソノナン酸イソノニル、イソノナン酸イソトリデシル、イソノナン酸オクチルなど）、またはヒドロキシルエステル（乳酸イソステアリルまたはリンゴ酸ジイソステアリルなど）；
●ポリオールのエステルおよびペンタエリスリトールエステル、例えば、テトラヒドロキシステアリン酸／テトライソステアリン酸ジペンタエリスリトール；
●ジオールダイマーと二酸ダイマーのエステル、例えば、供給業者、日本精化株式会社（ＮＩＰＰＯＮ ＦＩＮＥ ＣＨＥＭＩＣＡＬ）により販売され、仏国特許出願公開第０３０２８０９号明細書に記載されているＬｕｓｐｌａｎ ＤＤ−ＤＡ５（登録商標）およびＬｕｓｐｌａｎ ＤＤ−ＤＡ７（登録商標）；
●周囲温度で液体であり、炭素数１２〜２６の分枝および／または不飽和炭素鎖を有する脂肪アルコール、例えば、２−オクチルドデカノール、イソステアリルアルコール、オレイルアルコール、２−ヘキシルデカノール、２−ブチルオクタノール、または２−ウンデシルペンタデカノール；
●高級脂肪酸、例えば、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸およびこれらの混合物；ならびに
●炭酸ジアルキル（２つのアルキル鎖は同一であってもまたは異なってもよい）、例えば、Ｃｅｔｉｏｌ ＣＣ（登録商標）の名称でＣｏｇｎｉｓにより販売されている炭酸ジカプリリル；
●不揮発性シリコーン油、例えば、不揮発性ポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）、ペンダントのアルキル基またはアルコキシ基を含むおよび／またはシリコーン鎖末端を有するポリジメチルシロキサン（これらの基の炭素数はそれぞれ２〜２４である）、フェニルシリコーン（フェニルトリメチコン、フェニルジメチコン、フェニルトリメチルシロキシジフェニルシロキサン、ジフェニルジメチコン、ジフェニルメチルジフェニルトリシロキサン、または２−フェニルエチルトリメチルシロキシシリケートなど）、または１００ｃＳｔ以下の粘度を有するジメチコンもしくはフェニルトリメチコン、およびこれらの混合物；
−ならびに、これらの混合物；
などの脂肪酸のエステルから選択されてもよい。
【０２６７】
界面活性剤
本発明の組成物は、さらに、例えば、全組成物重量に対して０．１重量％〜３０重量％の範囲の割合で存在する乳化および補助乳化界面活性剤を含有してもよい。
【０２６８】
前記界面活性剤は、陰イオン性または非イオン性界面活性剤から選択されてもよい。界面活性剤の特性および機能の定義に関しては、文献、“Ｔｈｅ Ｅｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａ ｏｆ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，ＫＩＲＫ−ＯＴＨＭＥＲ，ｖｏｌｕｍｅ ２２，ｐｐ ３３３−４３２，ｔｈｉｒｄ ｅｄｉｔｉｏｎ，１９７９，ＷＩＬＥＹ、陰イオン性および非イオン性界面活性剤に関しては、特に、前記参考文献の３４７〜３７７頁を参照されたい。
【０２６９】
本発明に使用することができ、Ｗ／Ｏエマルションの製造に適している界面活性剤の例としては、ＤＣ ５２２５ Ｃの名称で供給業者Ｄｏｗ Ｃｏｒｎｉｎｇにより販売されているシクロメチコンとジメチコンコポリオールの混合物などのジメチコンコポリオール、およびＤｏｗ Ｃｏｒｎｉｎｇ ５２００ Ｆｏｒｍｕｌａｔｉｏｎ Ａｉｄの名称で供給業者Ｄｏｗ Ｃｏｒｎｉｎｇにより販売されているラウリルメチコンコポリオール、およびＡＢＩＬ ＥＭ ９０Ｒの名称で供給業者ＧＯＬＤＳＣＨＭＩＤＴにより販売されているセチルジメチコンコポリオールなどのジメチコンコポリオール、またはＡＢＩＬ ＷＥ ０９の名称で供給業者ＧＯＬＤＳＣＨＭＩＤＴにより販売されているイソイソステアリン酸ポリグリセリル−４／セチルジメチコンコポリオール／ラウリン酸ヘキシルを挙げることができる。
【０２７０】
例えば、アルキル化ポリオールエステルを含む群から選択され得る１種類以上の補助乳化剤をそれに添加することが可能である。アルキル化ポリオールエステルの特定の例としては、グリセリンおよび／またはソルビタンのエステル、例えば、Ｉｓｏｌａｎ ＧＩ ３４の名称で供給業者ＧＯＬＤＳＣＨＭＩＤＴにより販売されている組成物などのイソステアリン酸ポリグリセリン、ＡＲＬＡＣＥＬ ９８７の名称で供給業者ＩＣＩにより販売されている組成物などのイソステアリン酸ソルビタン、ＡＲＬＡＣＥＬ ９８６の名称で供給業者ＩＣＩにより販売されている組成物などのイソステアリン酸ソルビタングリセリン、およびこれらの混合物を挙げることができる。
【０２７１】
Ｌｕｂｒｉｚｏｌ ５６０３およびＣｈｅｍｃｉｎｎａｔｅ ２０００の名称で供給業者ＬｕｂｒｉｚｏｌおよびＣｈｅｍｒｏｎにより販売されているものなどのエステル化コハク酸末端基を含有するポリイソブチレン界面活性剤を、Ｗ／Ｏエマルションを得るのに適した乳化剤として使用することもできる。
【０２７２】
同様に使用し得るＷ／Ｏエマルション用の界面活性剤としては、文献、米国特許第５，４１２，００４号明細書の実施例３、４および８の方法、および米国特許第５，８１１，４８７号明細書の実施例の方法に従って得られるもの、とりわけ、米国特許第５，４１２，００４号明細書の実施例３（合成例）の生成物、ならびにＫＳＧ２１の品名で供給業者、信越化学工業株式会社（Ｓｈｉｎ−Ｅｔｓｕ）により販売されている製品などの、少なくとも１つのオキシアルキレン基を含む固体の架橋エラストマーオルガノポリシロキサンが挙げられる。
【０２７３】
Ｗ／Ｏエマルションを得るに適している、本発明に使用し得る界面活性剤の例としては、非イオン性界面活性剤、とりわけ、ポリオールと、例えば、炭素数８〜２４、より好ましくは炭素数１２〜２２の飽和または不飽和鎖を有する脂肪酸とのエステル、およびそれらのオキシアルキレン化誘導体、即ち、オキシエチレン化および／またはオキシプロピレン化単位を含有する誘導体、例えば、Ｃ８〜Ｃ２４脂肪酸のグリセリルエステルおよびそれらのオキシアルキレン化誘導体；Ｃ８〜Ｃ２４脂肪酸のポリエチレングリコールエステル、およびそれらのオキシアルキレン化誘導体；Ｃ８〜Ｃ２４脂肪酸のソルビトールエステル、およびそれらのオキシアルキレン化誘導体；Ｃ８〜Ｃ２４脂肪酸の糖（ショ糖、グルコースまたはアルキルグルコース）エステル、およびそれらのオキシアルキレン化誘導体；脂肪アルコールのエーテル；Ｃ８〜Ｃ２４脂肪アルコールの糖エーテル；グルコースまたはアルキルグルコースのオキシエチレン化脂肪酸エーテル；およびこれらの混合物が挙げられる。
【０２７４】
脂肪酸のグリセリルエステルとしては、特に、ステアリン酸グリセリル（モノ−、ジ−および／またはトリステアリン酸グリセリル）（ＣＴＦＡ名：ステアリン酸グリセリル）またはリシノール酸グリセリル、およびこれらの混合物を挙げることができる。
【０２７５】
脂肪酸のポリエチレングリコールエステルとしては、特に、ステアリン酸ポリエチレングリコール（モノ−、ジ−および／またはトリステアリン酸ポリエチレングリコール）、とりわけモノステアリン酸ポリエチレングリコール５０ＯＥ（ＣＴＦＡ名：ステアリン酸ＰＥＧ−５０）、モノステアリン酸ポリエチレングリコール１００ＯＥ（ＣＴＦＡ名：ステアリン酸ＰＥＧ−１００）およびこれらの混合物を挙げることができる。
【０２７６】
また、これらの界面活性剤の混合物、例えば、ＡＲＬＡＣＥＬ １６５の名称で供給業者Ｕｎｉｑｅｍａにより販売されているステアリン酸グリセリルとステアリン酸ＰＥＧ−１００を含有する製品、およびＴＥＧＩＮの名称で供給業者ＧＯＬＤＳＣＨＭＩＤＴにより販売されているステアリン酸グリセリル（モノ−ジステアリン酸グリセリル）およびステアリン酸カリウムを含有する製品（ＣＴＦＡ名：ステアリン酸グリセリルＳＥ）を使用することも可能である。
【０２７７】
グルコースまたはアルキルグルコースの脂肪酸エステルとしては、特に、パルミチン酸グルコース、セスキステアリン酸アルキルグルコース（セスキステアリン酸メチルグルコースなど）、パルミチン酸アルキルグルコース（パルミチン酸メチルグルコースまたはエチルグルコースなど）、メチルグルコシドの脂肪エステル、とりわけメチルグルコシドとオレイン酸のジエステル（ＣＴＦＡ名：ジオレイン酸メチルグルコース）；メチルグルコシドとオレイン酸／ヒドロキシステアリン酸混合物の混合エステル（ＣＴＦＡ名：ジオレイン酸／ヒドロキシステアリン酸メチルグルコース）；メチルグルコシドとイソステアリン酸のエステル（ＣＴＦＡ名：イソステアリン酸メチルグルコース）；メチルグルコシドとラウリン酸のエステル（ＣＴＦＡ名：ラウリン酸メチルグルコース）；メチルグルコシドとイソステアリン酸のモノエステルとジエステルの混合物（ＣＴＦＡ名：セスキイソステアリン酸メチルグルコース）；メチルグルコシドとステアリン酸のモノエステルとジエステルの混合物（ＣＴＦＡ名：セスキステアリン酸メチルグルコース）、特に、Ｇｌｕｃａｔｅ ＳＳの名称で供給業者ＡＭＥＲＣＨＯＬにより販売されている製品、およびこれらの混合物を挙げることができる。
【０２７８】
脂肪酸とグルコースまたはアルキルグルコースのオキシエチレン化エーテルの例としては、脂肪酸とメチルグルコースのオキシエチレン化エーテル、例えば、エチレンオキサイドを約２０ｍｏｌ含有する、メチルグルコースとステアリン酸のジエステルのポリエチレングリコールエーテル（ＣＴＦＡ名：ジステアリン酸ＰＥＧ−２０メチルグルコース）（Ｇｌｕｃａｍ Ｅ−２０ ｄｉｓｔｅａｒａｔｅの名称で供給業者ＡＭＥＲＣＨＯＬにより販売されている製品など）；エチレンオキサイドを約２０ｍｏｌ含有する、メチルグルコースとステアリン酸のモノエステルとジエステルの混合物のポリエチレングリコールエーテル（ＣＴＦＡ名：セスキステアリン酸ＰＥＧ−２０メチルグルコース）（例えば、Ｇｌｕｃａｍａｔｅ ＳＳＥ−２０の名称で供給業者ＡＭＥＲＣＨＯＬにより販売されている製品、およびＧｒｉｌｌｏｃｏｓｅ ＰＳＥ−２０の名称で供給業者ＧＯＬＤＳＣＨＭＩＤＴにより販売されている製品）、およびこれらの混合物を挙げることができる。
【０２７９】
ショ糖エステルの例としては、ショ糖パルミトステアリン酸エステル、ショ糖ステアリン酸エステルおよびショ糖モノラウリン酸エステルを挙げることができる。脂肪アルコールのエーテルの例としては、炭素数８〜３０、とりわけ炭素数１０〜２２の脂肪アルコールのポリエチレングリコールエーテル、例えば、セチルアルコール、ステアリルアルコールまたはセテアリルアルコール（セチルアルコールとステアリルアルコールの混合物）のポリエチレングリコールエーテルなどを挙げることができる。例としては、１〜２００個、好ましくは２〜１００個のオキシエチレン基を含むエーテル（ＣＴＦＡ名、セテアレス−２０およびセテアレス−３０のものなど）、およびこれらの混合物を挙げることができる。
【０２８０】
糖エーテルとしては、特に、アルキルポリグルコシド、例えば、マイドール（ＭＹＤＯＬ）１０の名称で供給業者、花王ケミカルズ（Ｋａｏ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ）により販売されている製品、ＰＬＡＮＴＡＲＥＮ ２０００の名称で供給業者Ｈｅｎｋｅｌにより販売されている製品、およびＯＲＡＭＩＸ ＮＳ １０の名称で供給業者ＳＥＰＰＩＣにより販売されている製品などのデシルグルコシド；ＯＲＡＭＩＸ ＣＧ １１０の名称で供給業者ＳＥＰＰＩＣにより、またはＬＵＴＥＮＳＯＬ ＧＤ ７０の名称で供給業者ＢＡＳＦにより販売されている製品などのカプリリル／カプリルグルコシド；ＰＬＡＮＴＡＲＥＮ １２００ ＮおよびＰＬＡＮＴＡＣＡＲＥ １２００の名称で供給業者Ｈｅｎｋｅｌにより販売されている製品などのラウリルグルコシド；ＰＬＡＮＴＡＣＡＲＥ ８１８／ＵＰの名称で供給業者Ｈｅｎｋｅｌにより販売されている製品などのココグルコシド；例えば、ＭＯＮＴＡＮＯＶ ６８の名称で供給業者ＳＥＰＰＩＣにより、ＴＥＧＯ−ＣＡＲＥ ＣＧ９０の名称で供給業者ＧＯＬＤＳＣＨＭＩＤＴにより、およびＥＭＵＬＧＡＤＥ ＫＥ３３０２の名称で供給業者Ｈｅｎｋｅｌにより販売されている、任意選択によりセトステアリルアルコールとの混合物となっているセトステアリルグルコシド；例えば、ＭＯＮＴＡＮＯＶ ２０２の名称で供給業者ＳＥＰＰＩＣにより販売されている、アラキジルアルコールとベヘニルアルコールとアラキジルグルコシドとの混合物の形態のアラキジルグルコシド；例えば、ＭＯＮＴＡＮＯＶ ８２の名称で供給業者ＳＥＰＰＩＣにより販売されているセチルアルコールとステアリルアルコールとの混合物（３５／６５）の形態のココイルエチルグルコシド、およびこれらの混合物を挙げることができる。
【０２８１】
本発明の組成物は、また、両親媒性ポリマーを乳化剤または補助乳化剤として含有してもよい。
【０２８２】
「両親媒性ポリマー」という用語は、極性の異なる２種類の液体を分離する、従って直接分散、逆分散、または多分散タイプの液−液分散液の安定化を可能にする、親水性部分と疎水性部分の両方を含む任意のポリマーを意味する。
【０２８３】
両親媒性ポリマーは、どのような油でも、水／油界面張力を１０ｍＮ／ｍに低下させることができる。これらのポリマーは、イオン性（陰イオン性または陽イオン性）または両性である。
【０２８４】
本発明の両親媒性ポリマーの数平均分子量は、一般に１０００ｇ／ｍｏｌ〜２０００００００ｇ／ｍｏｌの範囲、好ましくは２００００〜８００００００の範囲、例えば１０００００ｇ／ｍｏｌ〜７０００００ｇ／ｍｏｌの範囲である。本発明に従って使用される両親媒性ポリマーの量は、０．０１重量％〜２０重量％、好ましくは０．１重量％〜１０重量％、例えば０．２重量％〜５重量％の範囲であってもよい。
【０２８５】
使用し得る特定の例としては、ＰＥＭＵＬＥＮ ＴＲ１、ＰＥＭＵＬＥＮ ＴＲ２およびＣＡＲＢＯＰＯＬ １３８２の名称で供給業者ＧＯＯＤＲＩＣＨにより販売されている製品、またはこれらの混合物などのアクリレート／Ｃ１０〜Ｃ３０−アルキルアクリレート共重合体がある。また、ＳＴＲＵＣＴＵＲＥ ２００１およびＳＴＲＵＣＴＵＲＥ ３００１の名称で供給業者ＮＡＴＩＯＮＡＬ ＳＴＡＲＣＨにより販売されているアクリレート／イタコン酸ステアレス−２０共重合体およびアクリレート／イタコン酸セテス−２０共重合体を使用することも可能である。特に適した架橋または非架橋両親媒性ポリマーは、ＡＲＩＳＴＯＦＬＥＸ ＬＮＣ、ＡＲＩＳＴＯＦＬＥＸ ＳＮＣおよびＡＲＩＳＴＯＦＬＥＸ ＨＭＳの名称で供給業者ＣＬＡＲＩＡＮＴにより販売されている製品である。
【０２８６】
三元共重合体の例としては、供給業者ＡＭＥＲＣＨＯＬによりＶＩＳＣＯＰＨＯＢＥ ＤＢ １０００ ＮＰ３−ＮＰ４の名称で販売されている、４０個のＥＯ単位でエトキシ化された、メタクリル酸／アクリル酸メチル／ベヘニルジメチル−ｍ−イソプロペニルベンジルイソシアネート三元共重合体を挙げることができる。
【０２８７】
また、供給業者ＡＬＬＩＥＤ ＣＯＬＬＯＩＤＳによりＳＡＬＣＡＲＥ ＳＣ ８０の名称で販売されているものなどの、メタクリル酸、アクリル酸エチル、ポリエチレングリコールステアリルエーテル（１０ＥＯ）（ステアレス１０）の架橋三元共重合体を挙げることも可能である。
【０２８８】
本発明に使用される陰イオン性ポリマーの例としては、イソフタル酸またはスルホイソフタル酸のポリマー、特に、「Ｅａｓｔｍａｎ ＡＱ Ｐｏｌｙｍｅｒ」（ＡＱ ３５Ｓ，ＡＱ ３８Ｓ、ＡＱ ５５ＳおよびＡＱ ４８ Ｕｌｔｒａ）の名称で供給業者Ｅａｓｔｍａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌにより販売されているフタレート／スルホイソフタレート／グリコール（例えば、ジエチレングリコール／フタレート／イソフタレート／ｌ，４−シクロヘキサンジメタノール）の共重合体がある。
【０２８９】
添加剤
フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む組成物は、充填剤、軟化剤、着色剤、界面活性剤、親水性または親油性ゲル化剤、水溶性または脂溶性の有効成分、防腐剤、保湿剤（ポリオール、特にグリセリンなど）、金属イオン封鎖剤、酸化防止剤、溶媒、香料、物理的および化学的サンスクリーン剤、とりわけＵＶＡおよび／またはＵＶＢに対するもの、脱臭剤、ｐＨ調整剤（酸または塩基）およびこれらの混合物などの化粧品分野で通常用いられる補助剤から選択される少なくとも１種類の添加剤を含んでもよい。
【０２９０】
組成物は、酸化防止剤、色素沈着防止および脱色に関連する美白剤、または老化防止有効成分などの日焼け防止分野の相補的作用を有する少なくとも１種類の有効成分を含有してもよい。
【０２９１】
ＣＴＦＡ Ｃｏｓｍｅｔｉｃ Ｉｎｇｒｅｄｉｅｎｔ Ｈａｎｄｂｏｏｋ，１０ｔｈ Ｅｄｉｔｉｏｎ，Ｃｏｓｍｅｔｉｃ ａｎｄ Ｆｒａｇｒａｎｃｅ Ａｓｓｎ，Ｉｎｃ，Ｗａｓｈｉｎｇｔｏｎ ＤＣ（２００４）に記載のものから１種類または複数種類の添加剤を選択してもよく、この文献は参照により本明細書に援用される。
【０２９２】
ガレヌス（Ｇａｌｅｎｉｃａｌ）剤形
フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子は、皮膚、唇、毛髪または爪用の、ローション、クリーム、乳液、香膏、ポマード、ゲル、エマルション、フィルム、施与剤、スティック（例えば、リップスティック）、粉末、またはペースト中に使用されてもよい。
【０２９３】
本発明の粒子は、例えば、任意のタイプの化粧料組成物、例えば、グロス、リップスティック、アイライナー、マスカラ、ファンデーション、アイシャドウ、マニキュア液等のタイプのものに配合されてもよい。
【０２９４】
本発明のフォトニック材料のフィルム、特にポリマー多層干渉構造を有するフィルムは、転写により施与されてもよい。前記フィルムは、ケラチン物質に施与する前に、粘着剤層に結合されてもよい。
【０２９５】
太陽紫外線から毛髪を保護するために本発明の化粧料組成物を使用する場合、それはシャンプー、ローション、ゲル、エマルション、または非イオン性ベシクル分散液の形態であってもよく、例えば、洗い流すタイプの組成物、シャンプーの前もしくは後に、染毛もしくは脱染の前もしくは後に、パーマもしくはストレートパーマをかける前、かけている時、もしくはかけた後に、セット用またはトリートメント用ローション、ドライヤーでブローするまたはセットするためのローションもしくはゲルとして塗布される組成物、パーマもしくはストレートパーマ用組成物、または毛髪を染毛もしくは脱染するための組成物を構成してもよい。
【０２９６】
塗布方法
フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む組成物は、手でまたは塗布具を使用して塗布されてもよい。
【０２９７】
塗布は、スプレー、もしくは、例えば圧電装置を使用して放出することにより、または、中間支持体上に堆積された組成物の層を転写することにより達成されてもよい。
【０２９８】
包装
組成物は、任意の包装具、とりわけ熱可塑性材料から形成されたものに、または、その目的で提供される任意の支持体に包装されてもよい。
【０２９９】
包装具は、ボトル、ポンプボトル、エアゾールボトル、チューブ、小袋、またはポットであってもよい。
【実施例】
【０３００】
実施例１
厚さ３μｍ（乾燥）のポリスチレン−ポリ（２−ビニルピリジン）四級化ジブロック共重合体（ＰＳ−ｂ−Ｑ−Ｐ２ＶＰ）（１９０Ｋ／１９０Ｋ）のゲルは、ＰＳ−ｂ−Ｑ−Ｐ２ＶＰの５重量％プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液から硬質表面にディップコートすることにより得られた。次いで、２．５Ｍ ＮＨ４Ｃｌ水溶液を使用してゲルを膨潤させた。３４０ｎｍ〜３８５ｎｍの波長範囲で干渉するフォトニックゲルを得た。このフォトニックゲルフィルムは、ケラチン物質の光防御剤として使用するのに適していた。
【０３０１】
実施例２
実施例１のゲルを硬質支持体から剥離した後、膨潤させる前に乾式ボールミルを使用して最大寸法５０μｍ未満の粒子に破砕した。次いで、このようにして得られた粒子を２．５Ｍ ＮＨ４Ｃｌ水溶液に分散させた。
【０３０２】
濾過により分離した後、紫外領域（３４０ｎｍ〜３８５ｎｍ）で干渉するポリマー多層干渉構造を有する粒子を得た。
【０３０３】
実施例３
厚さ（乾燥）３μｍのＰＳ−ｂ−Ｑ−Ｐ２ＶＰ（１９０Ｋ／１９０Ｋ）ゲルを硬質支持体上に展延した後、膨潤させる前に乾式ボールミルを使用して最大寸法５０μｍ未満の粒子に破砕した。次いで、このようにして得られた粒子を、グリセリン５０重量％と２．５Ｍ ＮＨ４Ｃｌ水溶液５０重量％とを含有する混合物に分散させた。分離後、３４０ｎｍ〜３８５ｎｍの波長範囲で干渉するポリマー多層干渉構造を有する粒子を得た。
【０３０４】
グリセリンの導入により、乾燥後、フォトニックゲルの干渉特性を維持する効果があった。
【０３０５】
実施例４：フォトニックゲル粒子をベースにする光防御化粧料組成物
【０３０６】
【表１】
【０３０７】
【表２】
【０３０８】
実施例５：シリカで凝固したフォトニックゲル粒子の製造
ＰＳ−ｂ−Ｑ−Ｐ２ＶＰの５％プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液から硬質表面にディップコートすることにより、厚さ（乾燥）３μｍのＰＳ−ｂ−Ｑ−Ｐ２ＶＰ（１９０Ｋ／１９０Ｋ）ゲルを得た。次いで、ゲルを、膨潤させる前に乾式ボールミルを使用して最大寸法５０μｍ未満の粒子に破砕した。次いで、得られた粒子をメタノールに分散させ、膨潤させた。
【０３０９】
次いで、０．４５Ｍの濃度を有するＴＥＯＳ（テトラエトキシシラン）の水溶液を添加した。激しく攪拌しながら２．５Ｍ ＮＨ４Ｃｌ水溶液を添加した。３４０ｎｍ〜３８５ｎｍの波長範囲で干渉し、分散媒体に対して非感受性のポリマー多層干渉構造を有する粒子を得た。
【０３１０】
実施例６：サンスクリーン剤水溶液で膨潤したフォトニックゲル
ＰＳ−ｂ−Ｑ−Ｐ２ＶＰの５％プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液から硬質表面にディップコートすることにより、厚さ（乾燥）３μｍのＰＳ−ｂ−Ｑ−Ｐ２ＶＰ（１９０Ｋ／１９０Ｋ）ゲルを得た。次いで、このゲルをＭｅｘｏｒｙｌ ＳＸ（Ｃｈｉｍｅｘ）（テレフタリリデンジカンファースルホン酸、３３％水溶液）の３％水溶液で膨潤させた。このようにして、３３０ｎｍ〜３８５ｎｍの波長範囲で干渉し、ゴニオクロマチック効果が著しく低減したフォトニックゲルを得た。
【０３１１】
前記フォトニックゲルフィルムは、ケラチン物質の光防御剤として使用するのに適していた。
【０３１２】
実施例７：サンスクリーン剤水溶液で膨潤したフォトニックゲル
ＰＳ−ｂ−Ｑ−Ｐ２ＶＰの５％プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液から硬質表面にディップコートすることにより、厚さ（乾燥）３μｍのＰＳ−ｂ−Ｑ−Ｐ２ＶＰ（１９０Ｋ／１９０Ｋ）ゲルを得た。このゲルをＥｕｓｏｌｅｘ ２３２（Ｍｅｒｃｋ）（フェニルベンズイミダゾールスルホン酸）の０．５％水溶液で膨潤させた。このようにして、２９０ｎｍ〜３８５ｎｍの波長範囲で干渉するフォトニックゲルを得た。
【０３１３】
前記フォトニックゲルフィルムは、ケラチン物質の光防御剤として使用するのに適していた。
【０３１４】
実施例８：紫外線に対して異なる相補的な干渉を生じる、ポリマー多層干渉構造を有する２種類の粒子を含む光防御化粧料組成物
【０３１５】
【表３】
【０３１６】
【表４】
【０３１７】
実施例９：紫外線に対して異なる相補的な干渉を生じる、ポリマー多層干渉構造を有する２種類の粒子を含む光防御化粧料組成物
【０３１８】
【表５】
【０３１９】
【表６】
【０３２０】
実施例１０：蛍光増白剤溶液で膨潤させたフォトニックゲル
ＰＳ−ｂ−Ｑ−Ｐ２ＶＰの５％プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液から硬質表面にディップコートすることにより、厚さ（乾燥）３μｍのＰＳ−ｂ−Ｑ−Ｐ２ＶＰ（１９０Ｋ／１９０Ｋ）ゲルを得た。次いで、前記ゲルをＴｉｎｏｐａｌ ＣＢＳ Ｘ（ＣＩＢＡ）（ジスチリルビフェニルジスルホン酸二ナトリウム）の０．５％水溶液で膨潤させた。紫外領域で干渉し、青色を発現するフォトニックゲルを得たが、これは、破砕した後、ヒトケラチン物質、例えば、皮膚の色を明るくするために使用するのに適していた。
【０３２１】
実施例１１：有色フォトニックゲル
ＰＳ−ｂ−Ｑ−Ｐ２ＶＰの５％プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液から硬質表面にディップコートすることにより、厚さ（乾燥）３μｍのＰＳ−ｂ−Ｑ−Ｐ２ＶＰ（１９０Ｋ／１９０Ｋ）ゲルを得た。次いで、前記ゲルを１．５Ｍ ＮＨ４Ｃｌ水溶液で膨潤させた。透過極小に対応する反射波長は、約５５０ｎｍ、即ち、黄色であった。
【０３２２】
フィルムは、例えば、破砕の前または後に、肌色を均一にするために使用するのに適していた。
【０３２３】
実施例１２：有色フォトニックゲル
ＰＳ−ｂ−Ｑ−Ｐ２ＶＰの５重量％プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液から硬質表面にディップコートすることにより厚さ（乾燥）３μｍのＰＳ−ｂ−Ｑ−Ｐ２ＶＰ（１９０Ｋ／１９０Ｋ）ゲルを得た。前記ゲルを０．５ Ｍ ＮＨ４Ｃｌ水溶液で膨潤させた。透過極小に対応する反射波長は、約４１０〜４２０ｎｍ、即ち、紫色であった。
【０３２４】
フィルムは、例えば、破砕の前または後に、肌色を均一にするために使用するのに適していた。
【０３２５】
実施例１３：有色フォトニックゲル
ＰＳ−ｂ−Ｑ−Ｐ２ＶＰの５重量％プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液から硬質表面にディップコートすることにより、厚さ（乾燥）３μｍのＰＳ−ｂ−Ｑ−Ｐ２ＶＰ（１９０Ｋ／１９０Ｋ）ゲルを得た。次いで、前記ゲルを１Ｍ ＮＨ４Ｃｌ水溶液で膨潤させた。透過極小に対応する反射波長は、約６００ｎｍ、即ち、黄橙色であった。フィルムは、例えば、破砕の前または後に、肌色を均一にするために使用するのに適していた。
【０３２６】
実施例１１〜１３に記載のフォトニックゲルは、実施例２の方法を使用しても破砕することができる。
【０３２７】
前述のフォトニックゲル、例えば、実施例１１〜１３の有色フォトニックゲルをシリカ前駆体（ＴＥＯＳ）の作用により、または実施例３のようにグリセリンを用いて凝固させることができる。
【０３２８】
実施例１４：フォトニックゲルの反射スペクトル
図５は、出版物、Ｎａｔ Ｍａｔ．Ｖｏｌ ６，９５７−９６０，２００８に記載のＰＳ−Ｐ２ＶＰフォトニックゲルの２つの吸収スペクトルを示す。
【０３２９】
測定した吸収ピークは、フォトニックゲルの透過極小および反射ピークに対応する。
【０３３０】
膨潤剤の非存在下で、吸収スペクトルはピークを有しておらず、フォトニックゲルは干渉特性を有していなかった。
【０３３１】
対照的に、フォトニックゲルを純水で膨潤させた場合、吸収スペクトルは、図示するように、それぞれ異なる干渉次数に対応する５つの反射帯域を有することができる。この実施例の紫外線のピークは干渉次数５に対応する。
【０３３２】
特記しない限り、「１つの〜を含む」という表現は、「少なくとも１つの〜を含む」を意味するものと解釈すべきである。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む光防御化粧料組成物であって、前記構造の少なくとも２層が両親媒性ポリマーを含む、光防御化粧料組成物。
【請求項２】
前記ポリマー多層干渉構造を有する粒子が、２５０ｎｍ〜４００ｎｍの波長範囲に反射ピークを含む反射スペクトルを有する、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記両親媒性ポリマーが膨潤剤を含む、請求項１または２に記載の組成物。
【請求項４】
脂肪相と水相を含み、前記水相がポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む、請求項１〜３のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項５】
前記ポリマー多層干渉構造を有する粒子が、無機物質、例えば、シリカおよびその前駆体（例えば、ＴＥＯＳ）、グリコール、例えば、グリセリン、ジプロピレングリコール、ソルビトール、ブチレングリコール、および４００ｇ／ｍｏｌ〜５００００ｇ／ｍｏｌの範囲の分子量を有するＰＥＧから選択される固定化剤を含む、請求項１〜４のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項６】
ポリマー多層干渉構造を有する少なくとも２種類の異なる粒子を含み、各種類の粒子が２５０ｎｍ〜４００ｎｍの波長範囲で異なる透過スペクトルを有する、請求項１〜５のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項７】
前記両親媒性ポリマーがラメラ構造を有する、請求項１〜６のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項８】
前記両親媒性ポリマーがブロック共重合体を含む、請求項１〜７のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項９】
前記両親媒性ポリマーが、
・Ａ−Ｂの形態のジブロック共重合体であって、Ａが、例えば、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリシクロヘキシルメタクリレート、ポリイソボルニルアクリレート、ポリイソボルニルメタクリレート、ポリイソブチルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、ポリＮ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、およびポリイソプロピルメタクリレートから選択される疎水性ブロックであり、Ｂが：
●例えば、ポリ（２−ビニルピリジン）、ポリ（４−ビニルピリジン）、ポリ（ジメチルアミノエチルメタクリレート）、ポリ（ジエチルアミノエチルメタクリレート）、ポリ（ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド）、およびポリ（Ｎ−ビニルピロリドン）から選択される親水性陽イオン性ブロック；
●例えば、ポリ（アクリル酸）、ポリ（メタクリル酸）、ポリ（マレイン酸）、ポリ（イタコン酸）、ポリ（フマル酸）、ポリ（クロトン酸）、ポリ（アクリルアミドグリコール酸）、およびポリ（アクリルアミド２−メチルプロパンスルホン酸）から選択される親水性陰イオン性ブロック；もしくは
●例えば、ポリ（ＰＥＧメタクリレート）から選択される親水性非イオン性ブロック；
であるジブロック共重合体、
・Ａ−Ｂ−Ｃの形態のトリブロック共重合体であって：
●ＡとＣが、例えば、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリシクロヘキシルメタクリレート、ポリイソボルニルアクリレート、ポリイソボルニルメタクリレート、ポリイソブチルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、ポリＮ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、およびポリイソプロピルメタクリレートから選択される、異なる疎水性ブロックであり、Ｂが、
○例えば、ポリ（２−ビニルピリジン）、ポリ（４−ビニルピリジン）、ポリ（ジメチルアミノエチルメタクリレート）、ポリ（ジエチルアミノエチルメタクリレート）、ポリ（ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド）、およびポリ（Ｎ−ビニルピロリドン）から選択される親水性陽イオン性ブロック；
○例えば、ポリ（アクリル酸）、ポリ（メタクリル酸）、ポリ（マレイン酸）、ポリ（イタコン酸）、ポリ（フマル酸）、ポリ（クロトン酸）、ポリ（アクリルアミドグリコール酸）、およびポリ（アクリルアミド２−メチルプロパンスルホン酸）から選択される親水性陰イオン性ブロック；もしくは
○例えば、ポリ（ＰＥＧメタクリレート）から選択される親水性非イオン性ブロック；
であるトリブロック共重合体、または
●Ｂが、例えば、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリシクロヘキシルメタクリレート、ポリイソボルニルアクリレート、ポリイソボルニルメタクリレート、ポリイソブチルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、ポリＮ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、およびポリイソプロピルメタクリレートから選択される疎水性ブロックであり、ＡとＣが異なり、以下：
○例えば、ポリ（２−ビニルピリジン）、ポリ（４−ビニルピリジン）、ポリ（ジメチルアミノエチルメタクリレート）、ポリ（ジエチルアミノエチルメタクリレート）、ポリ（ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド）、およびポリ（Ｎ−ビニルピロリドン）から選択される親水性陽イオン性ブロック；
○例えば、ポリ（アクリル酸）、ポリ（メタクリル酸）、ポリ（マレイン酸）、ポリ（イタコン酸）、ポリ（フマル酸）、ポリ（クロトン酸）、ポリ（アクリルアミドグリコール酸）、およびポリ（アクリルアミド２−メチルプロパンスルホン酸）から選択される親水性陰イオン性ブロック；もしくは
○例えば、ポリ（ＰＥＧメタクリレート）から選択される親水性非イオン性ブロック；
から選択されるトリブロック共重合体、
を含む、特にこれらからなる、請求項８に記載の組成物。
【請求項１０】
前記両親媒性ポリマーがＡ−Ｂの形態のジブロック共重合体を含み、特に、Ａ−Ｂの形態のジブロック共重合体からなり、式中、Ａがポリスチレンであり、Ｂがポリ（２−ビニルピリジン）である、請求項１〜９のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項１１】
前記ポリマー多層干渉構造を有する粒子が平板状である、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項１２】
前記ポリマー多層干渉構造を有する粒子が、別の光学活性物質を、例えば、前記両親媒性ポリマー中に含む、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項１３】
前記膨潤剤が、
−水、および０．０１Ｍ〜５Ｍの範囲の濃度を有する有機または無機塩水、例えば、ナトリウム塩、マグネシウム塩、カリウム塩、カルシウム塩または銅塩の溶液、リン酸塩の溶液、およびアンモニウム塩の溶液；
−以下の化合物単独、以下の化合物の混合物または水溶液：
○グリセリン、４００ｇ／ｍｏｌ〜 ５００００ｇ／ｍｏｌの範囲の分子量を有するＰＥＧ、少なくとも１重量％で水に可溶の単糖類、二糖類、およびオリゴ糖類、ソルビトール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ブチレングリコール、水溶性ポリオール、水混和性の低級アルコール、例えば、メタノール、エタノールまたはイソプロパノール；
○紫外線遮蔽剤の中和されたまたは中和されていない溶液；および
○極性油、例えば、ラウロイルイソプロピルサルコシネート、オクチルドデカノール、ウンデカンおよびトリデカン、ならびに有機遮蔽剤の油性溶液、
から選択される、請求項３〜１２のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項１４】
請求項３〜１３のいずれか１項に記載の化粧料組成物の製造方法であって、
ａ）膨潤剤を、少なくとも２層が両親媒性ポリマーを含むポリマー多層構造と接触させる工程；
ｂ）少なくとも２層が両親媒性ポリマーを含むポリマー多層構造を有するフィルムを破砕して、最大寸法１００μｍ未満および最小寸法１００ｎｍ以上のポリマー多層構造を有する粒子にする工程；および
ｃ）工程ａ）および工程ｂ）の実施後に得られるポリマー多層干渉構造を有する粒子を、化粧料として許容される媒体に分散させる工程；
を含み、
工程ｂ）が工程ａ）の前または後に実施される方法。
【請求項１５】
太陽紫外線からヒトケラチン物質を光防御する非治療的方法、特に化粧方法であって、請求項１〜１３のいずれか１項に記載の化粧料組成物をヒトケラチン物質に塗布する工程を含む方法。
【請求項１６】
ヒトケラチン物質に施与される太陽紫外線に対する光防御フィルムであって、太陽紫外線を遮蔽する多層干渉構造を含み、前記構造の少なくとも２層が両親媒性ポリマーを含むフィルム。
【請求項１７】
フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子、を含む光防御組成物において、前記構造の少なくとも２層が両親媒性ポリマーを含む、前記粒子。
【請求項１８】
前記フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子が、２５０ｎｍ〜４００ｎｍの波長範囲に反射ピークを含む反射スペクトルを有する、請求項１７に記載の組成物。
【請求項１９】
前記フォトニック材料が少なくとも１種類の膨潤剤を含む、請求項１７または１８に記載の組成物。
【請求項２０】
脂肪相と水相を含み、前記水相がフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む、請求項１７〜１９のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項２１】
前記フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子が、無機物質、例えば、シリカおよびその前駆体（例えば、ＴＥＯＳ）、グリコール、例えば、グリセリン、ジプロピレングリコール、ソルビトール、ブチレングリコール、および４００ｇ／ｍｏｌ〜５００００ｇ／ｍｏｌの範囲の分子量を有するＰＥＧから選択される固定化剤を含む、請求項１７〜２０のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項２２】
少なくとも２種類の異なるフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子を含み、各種類の粒子が２５０ｎｍ〜４００ｎｍの波長範囲で異なる透過スペクトルを有する、請求項１７〜２１のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項２３】
前記両親媒性ポリマーがラメラ構造を有する、請求項１〜２２のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項２４】
前記両親媒性ポリマーがブロック共重合体を含む、特にブロック共重合体からなる、請求項１〜２３のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項２５】
前記両親媒性ポリマーが、
・Ａ−Ｂの形態のジブロック共重合体であって、Ａが、例えば、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリシクロヘキシルメタクリレート、ポリイソボルニルアクリレート、ポリイソボルニルメタクリレート、ポリイソブチルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、ポリＮ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、およびポリイソプロピルメタクリレートから選択される疎水性ブロックであり、Ｂが：
●例えば、ポリ（２−ビニルピリジン）、ポリ（４−ビニルピリジン）、ポリ（ジメチルアミノエチルメタクリレート）、ポリ（ジエチルアミノエチルメタクリレート）、ポリ（ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド）、およびポリ（Ｎ−ビニルピロリドン）から選択される親水性陽イオン性ブロック；
●例えば、ポリ（アクリル酸）、ポリ（メタクリル酸）、ポリ（マレイン酸）、ポリ（イタコン酸）、ポリ（フマル酸）、ポリ（クロトン酸）、ポリ（アクリルアミドグリコール酸）、およびポリ（アクリルアミド２−メチルプロパンスルホン酸）から選択される親水性陰イオン性ブロック；もしくは
●例えば、ポリ（ＰＥＧメタクリレート）から選択される親水性非イオン性ブロック；
であるジブロック共重合体、
・Ａ−Ｂ−Ｃの形態のトリブロック共重合体であって：
●ＡとＣが、例えば、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリシクロヘキシルメタクリレート、ポリイソボルニルアクリレート、ポリイソボルニルメタクリレート、ポリイソブチルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、ポリＮ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、およびポリイソプロピルメタクリレートから選択される異なる疎水性ブロックであり、Ｂが、
○例えば、ポリ（２−ビニルピリジン）、ポリ（４−ビニルピリジン）、ポリ（ジメチルアミノエチルメタクリレート）、ポリ（ジエチルアミノエチルメタクリレート）、ポリ（ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド）、およびポリ（Ｎ−ビニルピロリドン）から選択される親水性陽イオン性ブロック；
○例えば、ポリ（アクリル酸）、ポリ（メタクリル酸）、ポリ（マレイン酸）、ポリ（イタコン酸）、ポリ（フマル酸）、ポリ（クロトン酸）、ポリ（アクリルアミドグリコール酸）、およびポリ（アクリルアミド２−メチルプロパンスルホン酸）から選択される親水性陰イオン性ブロック；もしくは
○例えば、ポリ（ＰＥＧメタクリレート）から選択される親水性非イオン性ブロック；
であるトリブロック共重合体、または
●Ｂが、例えば、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリシクロヘキシルメタクリレート、ポリイソボルニルアクリレート、ポリイソボルニルメタクリレート、ポリイソブチルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、ポリＮ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、およびポリイソプロピルメタクリレートから選択される疎水性ブロックであり、ＡとＣが異なり、以下：
○例えば、ポリ（２−ビニルピリジン）、ポリ（４−ビニルピリジン）、ポリ（ジメチルアミノエチルメタクリレート）、ポリ（ジエチルアミノエチルメタクリレート）、ポリ（ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド）、およびポリ（Ｎ−ビニルピロリドン）から選択される親水性陽イオン性ブロック；
○例えば、ポリ（アクリル酸）、ポリ（メタクリル酸）、ポリ（マレイン酸）、ポリ（イタコン酸）、ポリ（フマル酸）、ポリ（クロトン酸）、ポリ（アクリルアミドグリコール酸）、およびポリ（アクリルアミド２−メチルプロパンスルホン酸）から選択される親水性陰イオン性ブロック；もしくは
○例えば、ポリ（ＰＥＧメタクリレート）から選択される親水性非イオン性ブロック；
から選択されるトリブロック共重合体、
を含む、特にこれらからなる、請求項２４に記載の組成物。
【請求項２６】
前記両親媒性ポリマーがＡ−Ｂの形態のジブロック共重合体を含み、特に、Ａ−Ｂの形態のジブロック共重合体からなり、式中、Ａがポリスチレンであり、Ｂがポリ（２−ビニルピリジン）である、請求項２５に記載の組成物。
【請求項２７】
前記ポリマー多層干渉構造を有する粒子が平板状である、請求項１７〜２６のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項２８】
前記フォトニック材料の粒子、特に前記ポリマー多層干渉構造を有する粒子が、別の光学活性物質を、例えば、前記両親媒性ポリマー中に含む、請求項１７〜２７のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項２９】
前記膨潤剤が、
−水、および０．０１Ｍ〜５Ｍの範囲の濃度を有する有機または無機塩水、例えば、ナトリウム塩、マグネシウム塩、カリウム塩、カルシウム塩または銅塩の溶液、リン酸塩の溶液、およびアンモニウム塩の溶液；
−以下の化合物単独、以下の化合物の混合物または水溶液：
○グリセリン、４００ｇ／ｍｏｌ〜 ５００００ｇ／ｍｏｌの範囲の分子量を有するＰＥＧ、少なくとも１重量％で水に可溶の単糖類、二糖類、およびオリゴ糖類、ソルビトール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ブチレングリコール、水溶性ポリオール、水混和性の低級アルコール（例えば、メタノール、エタノールまたはイソプロパノール）、ベンゼン、アセトン、β−メチル酪酸、α−エチル酪酸、２，２，２−トリフルオロエタノール、１−ブタノール、１，４−ブタンジオール、クロロホルム、ブロモエタン、酢酸メチル、酢酸エチル、ジメチルホルムアミド、ブタン−２−オン、ジビニルベンゼン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、および酢酸溶液；
○紫外線遮蔽剤の中和されたまたは中和されていない溶液；および
○極性油、例えば、ラウロイルイソプロピルサルコシネート、オクチルドデカノール、安息香酸Ｃ１２〜Ｃ１５アルキル、ウンデカンおよびトリデカンならびに有機遮蔽剤の油性溶液、
から選択される、請求項１９〜２８のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項３０】
化粧料として許容される媒体中に、請求項１７〜２９のいずれか１項に記載の少なくともフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む、化粧料組成物。
【請求項３１】
請求項１９〜３０のいずれか１項に記載の組成物の製造方法であって、
ａ）膨潤剤を、フォトニック材料、特に少なくとも２層が両親媒性ポリマーを含むポリマー多層構造を有するフォトニック材料と接触させる工程；
ｂ）フォトニック材料のフィルム、特に少なくとも２層が両親媒性ポリマーを含むポリマー多層構造を有するフィルムを破砕して、最大寸法１００μｍ未満および最小寸法１００ｎｍ以上のフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層構造を有する粒子にする工程；および
ｃ）工程ａ）および工程ｂ）の実施後に得られるフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子を、適した媒体に分散させる工程；
を含み、
工程ｂ）が工程ａ）の前または後に実施される方法。
【請求項３２】
太陽紫外線から物質を光防御する方法であって、少なくとも前記物質を請求項１７〜３０のいずれか１項に記載の光防御組成物で処理する工程、または少なくとも前記組成物を前記物質に一体化する工程を含む方法。
【請求項３３】
太陽紫外線からヒトケラチン物質を光防御する非治療的方法、特に化粧方法であって、少なくとも、請求項３０に記載の化粧料組成物をヒトケラチン物質に施与する工程を含む方法。
【請求項３４】
インキ、塗料、またはコーティングを光防御する方法であって、請求項１７〜２９のいずれか１項に記載の少なくとも１種類の組成物を前記インキまたは前記塗料または前記コーティングに配合する工程を含む方法。
【請求項３５】
少なくとも１種類の合成または天然ポリマーから製造される物質を光防御する方法であって、少なくとも、前記ポリマーを請求項１７〜２９のいずれか１項に記載の少なくとも１種類の組成物で処理する工程、または少なくとも前記組成物を前記物質に一体化する工程を含む、方法。
【請求項３６】
有機または無機ガラスを光防御する方法であって、少なくとも前記ガラスを請求項１７〜２９のいずれか１項に記載の少なくとも１種類の組成物で処理する工程、または少なくとも前記組成物を前記ガラスに一体化する工程を含む方法。
【請求項３７】
少なくとも天然繊維および／または人造繊維および／または合成繊維を含む物質、例えばテキスタイルまたは紙、を光防御する方法であって、前記物質を請求項１７〜２９のいずれか１項に記載の少なくとも１種類の組成物で少なくとも処理する工程、または少なくとも前記組成物を前記物質に一体化する工程を含む方法。
【請求項３８】
太陽紫外線から光防御するためのフィルムであって、太陽紫外線を遮蔽するフォトニック材料、特に少なくとも２層が両親媒性ポリマーを含む多層干渉構造を含むフィルム。
【請求項３９】
両親媒性ポリマーを含み可視色を発現するフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む化粧料組成物。
【請求項４０】
ケラチン物質に施与する前に、４００ｎｍ〜８００ｎｍの波長範囲に反射ピークを含む反射スペクトルを有する、請求項３９に記載の組成物。
【請求項４１】
前記フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子が、膨潤剤を含む、請求項３９または請求項４０に記載の組成物。
【請求項４２】
追加の着色剤をさらに含む、請求項３９〜４１のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項４３】
前記追加の着色剤が前記組成物中に遊離状態で存在する、請求項４２に記載の組成物。
【請求項４４】
前記膨潤剤が、
−水、および０．０１Ｍ〜５Ｍの範囲の濃度を有する有機または無機塩水、例えば、ナトリウム塩、マグネシウム塩、カリウム塩、カルシウム塩または銅塩、リン酸塩の溶液、およびアンモニウム塩の溶液；
−以下の化合物単独、以下の化合物の混合物または水溶液：
○グリセリン、４００ｇ／ｍｏｌ〜 ５００００ｇ／ｍｏｌの範囲の分子量を有するＰＥＧ、少なくとも１重量％で水に可溶の単糖類、二糖類、およびオリゴ糖類、ソルビトール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ブチレングリコール、水溶性ポリオール、水混和性の低級アルコール、例えば、メタノール、エタノールまたはイソプロパノール、ベンゼン、アセトン、β−メチル酪酸、α−エチル酪酸、２，２，２−トリフルオロエタノール、１−ブタノール、１，４−ブタンジオール、クロロホルム、ブロモエタン、酢酸メチル、酢酸エチル、ジメチルホルムアミド、ブタン−２−オン、ジビニルベンゼン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、および酢酸溶液；
○紫外線遮蔽剤の中和されたまたは中和されていない溶液；および
○極性油、例えば、ラウロイルイソプロピルサルコシネート、オクチルドデカノール、ウンデカンおよびトリデカン、ならびに有機遮蔽剤の油性溶液、
から選択される、請求項４１〜４３のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項４５】
前記着色剤が
ｉ．脂溶性着色剤、例えば、ＤＣレッド１７、ＤＣレッド２１、ＤＣレッド２７、ＤＣグリーン６、ＤＣイエロー１１、ＤＣバイオレット２、ＤＣオレンジ５、スダンレッド、カロチン、例えばβ−カロチンまたはリコピン、キサントフィル。例えばカプサンシン、カプソルビン、ルテインなど、パーム油、スダンブラウン、キノリンイエロー、アナトー、クルクミン；
ｉｉ．水溶性着色剤、例えば、ＦＤＣレッド４、ＤＣレッド６、ＤＣレッド２２、ＤＣレッド２８、ＤＣレッド３０、ＤＣレッド３３、ＤＣオレンジ４、ＤＣイエロー５、ＤＣイエロー６、ＤＣイエロー８、ＦＤＣグリーン３、ＤＣグリーン５、ＦＤＣブルー１、ベタニン、カーミン、銅クロロフィリン、メチレンブルー、アントシアニン、リボフラビン、
から選択される、請求項３９〜４４のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項４６】
前記フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子が、ラメラ構造を有する、請求項３９〜４５のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項４７】
前記両親媒性ポリマーが、共重合体、特にブロック共重合体を含む、請求項３９〜４６のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項４８】
前記両親媒性ポリマーが、
・Ａ−Ｂの形態のジブロック共重合体であって、Ａが、例えば、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリシクロヘキシルメタクリレート、ポリイソボルニルアクリレート、ポリイソボルニルメタクリレート、ポリイソブチルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、ポリＮ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、およびポリイソプロピルメタクリレートから選択される疎水性ブロックであり、Ｂが：
●例えば、ポリ（２−ビニルピリジン）、ポリ（４−ビニルピリジン）、ポリ（ジメチルアミノエチルメタクリレート）、ポリ（ジエチルアミノエチルメタクリレート）、ポリ（ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド）、およびポリ（Ｎ−ビニルピロリドン）から選択される親水性陽イオン性ブロック；
●例えば、ポリ（アクリル酸）、ポリ（メタクリル酸）、ポリ（マレイン酸）、ポリ（イタコン酸）、ポリ（フマル酸）、ポリ（クロトン酸）、ポリ（アクリルアミドグリコール酸）、およびポリ（アクリルアミド２−メチルプロパンスルホン酸）から選択される親水性陰イオン性ブロック；もしくは
●例えば、ポリ（ＰＥＧメタクリレート）から選択される親水性非イオン性ブロック；
であるジブロック共重合体、
・Ａ−Ｂ−Ｃの形態のトリブロック共重合体であって：
●ＡとＣが、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリシクロヘキシルメタクリレート、ポリイソボルニルアクリレート、ポリイソボルニルメタクリレート、ポリイソブチルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、ポリＮ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、およびポリイソプロピルメタクリレートから選択される、異なる疎水性ブロックであり、Ｂが、
○例えば、ポリ（２−ビニルピリジン）、ポリ（４−ビニルピリジン）、ポリ（ジメチルアミノエチルメタクリレート）、ポリ（ジエチルアミノエチルメタクリレート）、ポリ（ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド）、およびポリ（Ｎ−ビニルピロリドン）から選択される親水性陽イオン性ブロック；
○例えば、ポリ（アクリル酸）、ポリ（メタクリル酸）、ポリ（マレイン酸）、ポリ（イタコン酸）、ポリ（フマル酸）、ポリ（クロトン酸）、ポリ（アクリルアミドグリコール酸）、およびポリ（アクリルアミド２−メチルプロパンスルホン酸）から選択される親水性陰イオン性ブロック；もしくは
○例えば、ポリ（ＰＥＧメタクリレート）から選択される親水性非イオン性ブロック；
であるトリブロック共重合体、または
●Ｂが、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリシクロヘキシルメタクリレート、ポリイソボルニルアクリレート、ポリイソボルニルメタクリレート、ポリイソブチルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、ポリＮ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、およびポリイソプロピルメタクリレートから選択される疎水性ブロックであり、ＡとＣが異なり、以下：
○例えば、ポリ（２−ビニルピリジン）、ポリ（４−ビニルピリジン）、ポリ（ジメチルアミノエチルメタクリレート）、ポリ（ジエチルアミノエチルメタクリレート）、ポリ（ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド）、およびポリ（Ｎ−ビニルピロリドン）から選択される親水性陽イオン性ブロック；
○例えば、ポリ（アクリル酸）、ポリ（メタクリル酸）、ポリ（マレイン酸）、ポリ（イタコン酸）、ポリ（フマル酸）、ポリ（クロトン酸）、ポリ（アクリルアミドグリコール酸）、およびポリ（アクリルアミド２−メチルプロパンスルホン酸）から選択される親水性陰イオン性ブロック；もしくは
○例えば、ポリ（ＰＥＧメタクリレート）から選択される親水性非イオン性ブロック；
から選択されるトリブロック共重合体、
を含む、特にこれらからなる、請求項４７に記載の組成物。
【請求項４９】
前記両親媒性ポリマーがＡ−Ｂの形態のジブロック共重合体を含み、特に、Ａ−Ｂの形態のジブロック共重合体からなり、式中、Ａがポリスチレンであり、Ｂがポリ（２−ビニルピリジン）である、請求項４８に記載の組成物。
【請求項５０】
前記フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子が平板状の形状である、請求項３９〜４９のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項５１】
化粧方法、例えば、肌色を均一にする方法であって、請求項３９〜５０のいずれか１項に記載の組成物をヒトケラチン物質に施与する工程を含む方法。
【請求項５２】
ヒトケラチン物質に施与される化粧用のフィルム、例えば、肌色を均一にするためのフィルムであって、両親媒性ポリマーを含み可視色を発現するフォトニック材料、特にポリマー多層干渉構造を含むフィルム。
【請求項５３】
請求項４１〜５０のいずれか１項に記載の化粧料組成物の製造方法であって、
ａ）膨潤剤を、両親媒性ポリマーを含むフォトニック材料、特にポリマー多層構造を有するフォトニック材料と接触させる工程；
ｂ）フォトニック材料のフィルム、特にポリマー多層構造を有するフィルムを破砕して、最大寸法１００μｍ未満および最小寸法１００ｎｍ以上のフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層構造を有する粒子にする工程；および
ｃ）工程ａ）および工程ｂ）の実施後に得られる、両親媒性ポリマーを含み可視色を発現する前記フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子を、化粧料として許容される媒体に分散させる工程；
を含み、
工程ｂ）が工程ａ）の前または後に実施される方法。
【請求項５４】
蛍光剤を内包するポリマーを含むフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む化粧料組成物。
【請求項５５】
前記フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子が、２５０ｎｍ〜８００ｎｍの波長範囲に反射ピークを含む反射スペクトルを有する、請求項５４に記載の組成物。
【請求項５６】
前記フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子が、膨潤剤を含む、請求項５４または請求項５５に記載の組成物。
【請求項５７】
前記蛍光剤が前記膨潤剤に溶解されている、請求項５６に記載の組成物。
【請求項５８】
前記ケラチン物質に塗布する前に、２５０ｎｍ〜８００ｎｍの波長範囲に２つの極小を含む透過スペクトルを有する、請求項５５〜５７のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項５９】
前記極小が少なくとも５０ｎｍ分離している、請求項５８に記載の組成物。
【請求項６０】
少なくとも１つの極小が２５０ｎｍ〜４００ｎｍの波長範囲にあり、少なくとも１つの極小が４００ｎｍ〜８００ｎｍの波長範囲、例えば４００ｎｍ〜５５０ｎｍの範囲にある、請求項５８または請求項５９に記載の組成物。
【請求項６１】
前記蛍光剤が、スチルベン誘導体、特にポリスチリルスチルベンおよびトリアジンスチルベン、クマリン誘導体、特にヒドロキシクマリンおよびアミノクマリン、オキサゾール、ベンゾキサゾール、イミダゾール、トリアゾールまたはピラゾリン誘導体、ピレン誘導体およびポルフィリン誘導体、および／またはこれらの混合物の溶液、およびジスチリルビフェニルジスルホン酸二ナトリウムの水溶液から選択される蛍光増白剤である、請求項５４〜６０のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項６２】
前記フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子が、平板状である、請求項５４〜６１のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項６３】
前記フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子が、ラメラ構造を有する、請求項５４〜６２のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項６４】
前記両親媒性ポリマーが、共重合体、例えばブロック共重合体を含む、請求項５４〜６３のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項６５】
前記ポリマーが、
・Ａ−Ｂの形態のジブロック共重合体であって、Ａが、例えば、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリシクロヘキシルメタクリレート、ポリイソボルニルアクリレート、ポリイソボルニルメタクリレート、ポリイソブチルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、ポリＮ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、およびポリイソプロピルメタクリレートから選択される疎水性ブロックであり、Ｂが：
●例えば、ポリ（２−ビニルピリジン）、ポリ（４−ビニルピリジン）、ポリ（ジメチルアミノエチルメタクリレート）、ポリ（ジエチルアミノエチルメタクリレート）、ポリ（ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド）、およびポリ（Ｎ−ビニルピロリドン）から選択される親水性陽イオン性ブロック；
●例えば、ポリ（アクリル酸）、ポリ（メタクリル酸）、ポリ（マレイン酸）、ポリ（イタコン酸）、ポリ（フマル酸）、ポリ（クロトン酸）、ポリ（アクリルアミドグリコール酸）、およびポリ（アクリルアミド２−メチルプロパンスルホン酸）から選択される親水性陰イオン性ブロック；もしくは
●例えば、ポリ（ＰＥＧメタクリレート）から選択される親水性非イオン性ブロック；
であるジブロック共重合体、
・Ａ−Ｂ−Ｃの形態のトリブロック共重合体であって：
●ＡとＣが、例えば、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリシクロヘキシルメタクリレート、ポリイソボルニルアクリレート、ポリイソボルニルメタクリレート、ポリイソブチルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、ポリＮ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、およびポリイソプロピルメタクリレートから選択される、異なる疎水性ブロックであり、Ｂが、
○例えば、ポリ（２−ビニルピリジン）、ポリ（４−ビニルピリジン）、ポリ（ジメチルアミノエチルメタクリレート）、ポリ（ジエチルアミノエチルメタクリレート）、ポリ（ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド）、およびポリ（Ｎ−ビニルピロリドン）から選択される親水性陽イオン性ブロック；
○例えば、ポリ（アクリル酸）、ポリ（メタクリル酸）、ポリ（マレイン酸）、ポリ（イタコン酸）、ポリ（フマル酸）、ポリ（クロトン酸）、ポリ（アクリルアミドグリコール酸）、およびポリ（アクリルアミド２−メチルプロパンスルホン酸）から選択される親水性陰イオン性ブロック；もしくは
○例えば、ポリ（ＰＥＧメタクリレート）などの親水性非イオン性ブロック；
であるトリブロック共重合体、または
●Ｂが、例えば、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリシクロヘキシルメタクリレート、ポリイソボルニルアクリレート、ポリイソボルニルメタクリレート、ポリイソブチルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、ポリＮ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、およびポリイソプロピルメタクリレートから選択される疎水性ブロックであり、ＡとＣが異なり、以下：
○例えば、ポリ（２−ビニルピリジン）、ポリ（４−ビニルピリジン）、ポリ（ジメチルアミノエチルメタクリレート）、ポリ（ジエチルアミノエチルメタクリレート）、ポリ（ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド）、およびポリ（Ｎ−ビニルピロリドン）から選択される親水性陽イオン性ブロック；
○例えば、ポリ（アクリル酸）、ポリ（メタクリル酸）、ポリ（マレイン酸）、ポリ（イタコン酸）、ポリ（フマル酸）、ポリ（クロトン酸）、ポリ（アクリルアミドグリコール酸）、およびポリ（アクリルアミド２−メチルプロパンスルホン酸）から選択される親水性陰イオン性ブロック；もしくは
○例えば、ポリ（ＰＥＧメタクリレート）などの親水性非イオン性ブロック；
から選択されるトリブロック共重合体、
から選択される両親媒性ポリマーを含む、特にこれらから選択される両親媒性ポリマーからなる、請求項６４に記載の組成物。
【請求項６６】
前記両親媒性ポリマーがＡ−Ｂの形態のジブロック共重合体を含み、特に、Ａ−Ｂの形態のジブロック共重合体からなり、式中、Ａがポリスチレンであり、Ｂがポリ（２−ビニルピリジン）である、請求項６５に記載の組成物。
【請求項６７】
ヒトケラチン物質の色を明るくする方法であって、請求項５４〜６６のいずれか１項に記載の化粧料組成物を施与する工程を含む方法。
【請求項６８】
ヒトケラチン物質に施与される、肌色を明るくするためのフィルムであって、蛍光剤を内包するポリマーを含むフォトニック材料、特にポリマー多層干渉構造を含むフィルム。
【請求項６９】
請求項５７〜６８のいずれか１項に記載の化粧料組成物の製造方法であって、
ａ）蛍光剤を溶解含有する膨潤剤を、フォトニック材料、特にポリマー多層構造を有するフォトニック材料と接触させる工程；
ｂ）フォトニック材料のフィルム、特に前記ポリマー多層構造を有するフィルムを破砕して、最大寸法１００μｍ以下および最小寸法１００ｎｍ超のフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層構造を有する粒子にする工程；および
ｃ）工程ａ）および工程ｂ）の実施後に得られる前記フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子を、化粧料として許容される媒体に分散させる工程；
を含み、
工程ｂ）が工程ａ）の前または後に実施される方法。
【請求項７０】
紫外線遮蔽剤を内包するポリマーを含むフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む光防御組成物、特に化粧料組成物。
【請求項７１】
前記フォトニック材料の粒子、特に前記ポリマー多層干渉構造を有する粒子が、２５０ｎｍ〜４００ｎｍの波長範囲に反射ピークを含む反射スペクトルを有する、請求項７０に記載の組成物。
【請求項７２】
前記ケラチン物質に塗布する前に、２５０ｎｍ〜４００ｎｍの波長範囲に２つの極小を含む透過スペクトルを有し、前記極小が少なくとも５０ｎｍ分離している、請求項７０または請求項７１に記載の組成物。
【請求項７３】
ＳＰＦが１０以上である、請求項７０〜７２のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項７４】
前記フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子が、ラメラ構造を有する、請求項７０〜７３のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項７５】
前記ポリマーが共重合体、特にブロック共重合体を含む、請求項７０〜７４のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項７６】
前記ポリマーが、
・Ａ−Ｂの形態のジブロック共重合体であって、Ａが、例えば、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリシクロヘキシルメタクリレート、ポリイソボルニルアクリレート、ポリイソボルニルメタクリレート、ポリイソブチルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、ポリＮ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、およびポリイソプロピルメタクリレートから選択される疎水性ブロックであり、Ｂが：
●例えば、ポリ（２−ビニルピリジン）、ポリ（４−ビニルピリジン）、ポリ（ジメチルアミノエチルメタクリレート）、ポリ（ジエチルアミノエチルメタクリレート）、ポリ（ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド）、およびポリ（Ｎ−ビニルピロリドン）から選択される親水性陽イオン性ブロック；
●例えば、ポリ（アクリル酸）、ポリ（メタクリル酸）、ポリ（マレイン酸）、ポリ（イタコン酸）、ポリ（フマル酸）、ポリ（クロトン酸）、ポリ（アクリルアミドグリコール酸）、およびポリ（アクリルアミド２−メチルプロパンスルホン酸）から選択される親水性陰イオン性ブロック；もしくは
●例えば、ポリ（ＰＥＧメタクリレート）から選択される親水性非イオン性ブロック；
であるジブロック共重合体、
・Ａ−Ｂ−Ｃの形態のトリブロック共重合体であって：
●ＡとＣが、例えば、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリシクロヘキシルメタクリレート、ポリイソボルニルアクリレート、ポリイソボルニルメタクリレート、ポリイソブチルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、ポリＮ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、およびポリイソプロピルメタクリレートから選択される、異なる疎水性ブロックであり、Ｂが、
○例えば、ポリ（２−ビニルピリジン）、ポリ（４−ビニルピリジン）、ポリ（ジメチルアミノエチルメタクリレート）、ポリ（ジエチルアミノエチルメタクリレート）、ポリ（ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド）、およびポリ（Ｎ−ビニルピロリドン）から選択される親水性陽イオン性ブロック；
○例えば、ポリ（アクリル酸）、ポリ（メタクリル酸）、ポリ（マレイン酸）、ポリ（イタコン酸）、ポリ（フマル酸）、ポリ（クロトン酸）、ポリ（アクリルアミドグリコール酸）、およびポリ（アクリルアミド２−メチルプロパンスルホン酸）から選択される親水性陰イオン性ブロック；もしくは
○例えば、ポリ（ＰＥＧメタクリレート）などの親水性非イオン性ブロック；
であるトリブロック共重合体、または
●Ｂが、例えば、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリシクロヘキシルメタクリレート、ポリイソボルニルアクリレート、ポリイソボルニルメタクリレート、ポリイソブチルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、ポリＮ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、およびポリイソプロピルメタクリレートから選択される疎水性ブロックであり、ＡとＣが異なり、以下：
○例えば、ポリ（２−ビニルピリジン）、ポリ（４−ビニルピリジン）、ポリ（ジメチルアミノエチルメタクリレート）、ポリ（ジエチルアミノエチルメタクリレート）、ポリ（ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド）、およびポリ（Ｎ−ビニルピロリドン）から選択される親水性陽イオン性ブロック；
○例えば、ポリ（アクリル酸）、ポリ（メタクリル酸）、ポリ（マレイン酸）、ポリ（イタコン酸）、ポリ（フマル酸）、ポリ（クロトン酸）、ポリ（アクリルアミドグリコール酸）、およびポリ（アクリルアミド２−メチルプロパンスルホン酸）から選択される親水性陰イオン性ブロック；もしくは
○例えば、ポリ（ＰＥＧメタクリレート）などの親水性非イオン性ブロック；
から選択されるトリブロック共重合体、
を含む、特にこれらからなる、請求項７５に記載の組成物。
【請求項７７】
前記両親媒性ポリマーがＡ−Ｂの形態のジブロック共重合体を含み、特に、Ａ−Ｂの形態のジブロック共重合体からなり、式中、Ａがポリスチレンであり、Ｂがポリ（２−ビニルピリジン）である、請求項７６に記載の組成物。
【請求項７８】
前記フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子が、膨潤剤を含む、請求項７０〜７７のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項７９】
前記紫外線遮蔽剤が前記膨潤剤に溶解されている、請求項７８に記載の組成物。
【請求項８０】
前記紫外線遮蔽剤が、
−例えば、ジベンゾイルメタン誘導体、アミノベンゾフェノン、アントラニル酸誘導体、４，４−ジアリールブタジエン誘導体、パラアミノ安息香酸エステル、サリチル酸誘導体、桂皮酸エステル、β，β’−ジフェニルアクリレート誘導体、ベンジリデンカンファー誘導体、トリアジン誘導体、イミダゾリン誘導体、ベンザルマロネート誘導体、メロシアニン誘導体、ベンゾフェノン誘導体、フェニルベンゾトリアゾール誘導体、ビス−レゾルシニルトリアジン誘導体、およびベンゾキサゾール誘導体などの疎水性遮蔽剤；ならびに
−例えば、テレフタリリデンジカンファースルホン酸、ビス−ベンゾアゾリル誘導体、ｐ−アミノ安息香酸（ＰＡＢＡ）誘導体、および少なくとも１つのスルホン酸基を含むベンゾフェノン誘導体などの水溶性遮蔽剤、
から選択される、請求項１〜７９のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項８１】
前記フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子が、平板状である、請求項７０〜８０のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項８２】
化粧料として許容される媒体中に、少なくとも請求項７０〜８１のいずれか１項に記載のフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む化粧料組成物。
【請求項８３】
請求項７０〜８２のいずれか１項に記載の組成物の製造方法であって、
ａ）紫外線遮蔽剤を溶解含有する膨潤剤を、フォトニック材料、特にポリマー多層構造を有するフォトニック材料と接触させる工程；
ｂ）フォトニック材料のフィルム、特に前記ポリマー多層構造を有するフィルムを破砕して、最大寸法１００μｍ未満および最小寸法１００ｎｍ超のフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層構造を有する粒子にする工程；および
ｃ）工程ａ）および工程ｂ）の実施後に得られる前記フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子を適した媒体に分散させる工程；
を含み、
工程ｂ）が工程ａ）の前または後に実施される方法。
【請求項８４】
太陽紫外線から物質を光防御する方法であって、前記物質を請求項７０〜８２のいずれか１項に記載の光防御組成物で処理する工程、または少なくとも前記組成物を前記物質に一体化する工程を含む方法。
【請求項８５】
太陽紫外線からヒトケラチン物質を光防御する非治療的方法、特に化粧方法であって、請求項８２に記載の化粧料組成物をヒトケラチン物質に塗布する工程を含む方法。
【請求項８６】
インキ、塗料、またはコーティングを光防御する方法であって、請求項７０〜８２のいずれか１項に記載の少なくとも１種類の組成物を前記インキまたは前記塗料または前記コーティングに配合する工程を含む方法。
【請求項８７】
少なくとも１種類の合成または天然ポリマーから製造される物質を光防御する方法であって、前記ポリマーを請求項７０〜８２のいずれか１項に記載の少なくとも１種類の組成物で処理する工程、または少なくとも前記組成物を前記物質に一体化する工程を含む、方法。
【請求項８８】
有機または無機ガラスを光防御する方法であって、前記ガラスを請求項７０〜８２のいずれか１項に記載の少なくとも１種類の組成物で処理する工程、または少なくとも前記組成物を前記ガラスに一体化する工程にある、方法。
【請求項８９】
少なくとも天然繊維および／または人造繊維および／または合成繊維を含む物質（テキスタイルまたは紙など）を光防御する方法であって、請求項７０〜８２のいずれか１項に記載の少なくとも１種類の組成物で前記物質を処理する工程、または少なくとも前記組成物を前記物質に一体化する工程を含む、方法。
【請求項９０】
太陽紫外線から光防御するフィルムであって、フォトニック材料、太陽紫外線を遮蔽する多層干渉構造を特に含み、前記構造の少なくとも２層が紫外線遮蔽剤を内包する両親媒性ポリマーを含む、フィルム。
【請求項１】
ポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む光防御化粧料組成物であって、前記構造の少なくとも２層が両親媒性ポリマーを含む、光防御化粧料組成物。
【請求項２】
前記ポリマー多層干渉構造を有する粒子が、２５０ｎｍ〜４００ｎｍの波長範囲に反射ピークを含む反射スペクトルを有する、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記両親媒性ポリマーが膨潤剤を含む、請求項１または２に記載の組成物。
【請求項４】
脂肪相と水相を含み、前記水相がポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む、請求項１〜３のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項５】
前記ポリマー多層干渉構造を有する粒子が、無機物質、例えば、シリカおよびその前駆体（例えば、ＴＥＯＳ）、グリコール、例えば、グリセリン、ジプロピレングリコール、ソルビトール、ブチレングリコール、および４００ｇ／ｍｏｌ〜５００００ｇ／ｍｏｌの範囲の分子量を有するＰＥＧから選択される固定化剤を含む、請求項１〜４のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項６】
ポリマー多層干渉構造を有する少なくとも２種類の異なる粒子を含み、各種類の粒子が２５０ｎｍ〜４００ｎｍの波長範囲で異なる透過スペクトルを有する、請求項１〜５のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項７】
前記両親媒性ポリマーがラメラ構造を有する、請求項１〜６のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項８】
前記両親媒性ポリマーがブロック共重合体を含む、請求項１〜７のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項９】
前記両親媒性ポリマーが、
・Ａ−Ｂの形態のジブロック共重合体であって、Ａが、例えば、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリシクロヘキシルメタクリレート、ポリイソボルニルアクリレート、ポリイソボルニルメタクリレート、ポリイソブチルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、ポリＮ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、およびポリイソプロピルメタクリレートから選択される疎水性ブロックであり、Ｂが：
●例えば、ポリ（２−ビニルピリジン）、ポリ（４−ビニルピリジン）、ポリ（ジメチルアミノエチルメタクリレート）、ポリ（ジエチルアミノエチルメタクリレート）、ポリ（ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド）、およびポリ（Ｎ−ビニルピロリドン）から選択される親水性陽イオン性ブロック；
●例えば、ポリ（アクリル酸）、ポリ（メタクリル酸）、ポリ（マレイン酸）、ポリ（イタコン酸）、ポリ（フマル酸）、ポリ（クロトン酸）、ポリ（アクリルアミドグリコール酸）、およびポリ（アクリルアミド２−メチルプロパンスルホン酸）から選択される親水性陰イオン性ブロック；もしくは
●例えば、ポリ（ＰＥＧメタクリレート）から選択される親水性非イオン性ブロック；
であるジブロック共重合体、
・Ａ−Ｂ−Ｃの形態のトリブロック共重合体であって：
●ＡとＣが、例えば、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリシクロヘキシルメタクリレート、ポリイソボルニルアクリレート、ポリイソボルニルメタクリレート、ポリイソブチルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、ポリＮ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、およびポリイソプロピルメタクリレートから選択される、異なる疎水性ブロックであり、Ｂが、
○例えば、ポリ（２−ビニルピリジン）、ポリ（４−ビニルピリジン）、ポリ（ジメチルアミノエチルメタクリレート）、ポリ（ジエチルアミノエチルメタクリレート）、ポリ（ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド）、およびポリ（Ｎ−ビニルピロリドン）から選択される親水性陽イオン性ブロック；
○例えば、ポリ（アクリル酸）、ポリ（メタクリル酸）、ポリ（マレイン酸）、ポリ（イタコン酸）、ポリ（フマル酸）、ポリ（クロトン酸）、ポリ（アクリルアミドグリコール酸）、およびポリ（アクリルアミド２−メチルプロパンスルホン酸）から選択される親水性陰イオン性ブロック；もしくは
○例えば、ポリ（ＰＥＧメタクリレート）から選択される親水性非イオン性ブロック；
であるトリブロック共重合体、または
●Ｂが、例えば、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリシクロヘキシルメタクリレート、ポリイソボルニルアクリレート、ポリイソボルニルメタクリレート、ポリイソブチルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、ポリＮ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、およびポリイソプロピルメタクリレートから選択される疎水性ブロックであり、ＡとＣが異なり、以下：
○例えば、ポリ（２−ビニルピリジン）、ポリ（４−ビニルピリジン）、ポリ（ジメチルアミノエチルメタクリレート）、ポリ（ジエチルアミノエチルメタクリレート）、ポリ（ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド）、およびポリ（Ｎ−ビニルピロリドン）から選択される親水性陽イオン性ブロック；
○例えば、ポリ（アクリル酸）、ポリ（メタクリル酸）、ポリ（マレイン酸）、ポリ（イタコン酸）、ポリ（フマル酸）、ポリ（クロトン酸）、ポリ（アクリルアミドグリコール酸）、およびポリ（アクリルアミド２−メチルプロパンスルホン酸）から選択される親水性陰イオン性ブロック；もしくは
○例えば、ポリ（ＰＥＧメタクリレート）から選択される親水性非イオン性ブロック；
から選択されるトリブロック共重合体、
を含む、特にこれらからなる、請求項８に記載の組成物。
【請求項１０】
前記両親媒性ポリマーがＡ−Ｂの形態のジブロック共重合体を含み、特に、Ａ−Ｂの形態のジブロック共重合体からなり、式中、Ａがポリスチレンであり、Ｂがポリ（２−ビニルピリジン）である、請求項１〜９のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項１１】
前記ポリマー多層干渉構造を有する粒子が平板状である、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項１２】
前記ポリマー多層干渉構造を有する粒子が、別の光学活性物質を、例えば、前記両親媒性ポリマー中に含む、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項１３】
前記膨潤剤が、
−水、および０．０１Ｍ〜５Ｍの範囲の濃度を有する有機または無機塩水、例えば、ナトリウム塩、マグネシウム塩、カリウム塩、カルシウム塩または銅塩の溶液、リン酸塩の溶液、およびアンモニウム塩の溶液；
−以下の化合物単独、以下の化合物の混合物または水溶液：
○グリセリン、４００ｇ／ｍｏｌ〜 ５００００ｇ／ｍｏｌの範囲の分子量を有するＰＥＧ、少なくとも１重量％で水に可溶の単糖類、二糖類、およびオリゴ糖類、ソルビトール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ブチレングリコール、水溶性ポリオール、水混和性の低級アルコール、例えば、メタノール、エタノールまたはイソプロパノール；
○紫外線遮蔽剤の中和されたまたは中和されていない溶液；および
○極性油、例えば、ラウロイルイソプロピルサルコシネート、オクチルドデカノール、ウンデカンおよびトリデカン、ならびに有機遮蔽剤の油性溶液、
から選択される、請求項３〜１２のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項１４】
請求項３〜１３のいずれか１項に記載の化粧料組成物の製造方法であって、
ａ）膨潤剤を、少なくとも２層が両親媒性ポリマーを含むポリマー多層構造と接触させる工程；
ｂ）少なくとも２層が両親媒性ポリマーを含むポリマー多層構造を有するフィルムを破砕して、最大寸法１００μｍ未満および最小寸法１００ｎｍ以上のポリマー多層構造を有する粒子にする工程；および
ｃ）工程ａ）および工程ｂ）の実施後に得られるポリマー多層干渉構造を有する粒子を、化粧料として許容される媒体に分散させる工程；
を含み、
工程ｂ）が工程ａ）の前または後に実施される方法。
【請求項１５】
太陽紫外線からヒトケラチン物質を光防御する非治療的方法、特に化粧方法であって、請求項１〜１３のいずれか１項に記載の化粧料組成物をヒトケラチン物質に塗布する工程を含む方法。
【請求項１６】
ヒトケラチン物質に施与される太陽紫外線に対する光防御フィルムであって、太陽紫外線を遮蔽する多層干渉構造を含み、前記構造の少なくとも２層が両親媒性ポリマーを含むフィルム。
【請求項１７】
フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子、を含む光防御組成物において、前記構造の少なくとも２層が両親媒性ポリマーを含む、前記粒子。
【請求項１８】
前記フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子が、２５０ｎｍ〜４００ｎｍの波長範囲に反射ピークを含む反射スペクトルを有する、請求項１７に記載の組成物。
【請求項１９】
前記フォトニック材料が少なくとも１種類の膨潤剤を含む、請求項１７または１８に記載の組成物。
【請求項２０】
脂肪相と水相を含み、前記水相がフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む、請求項１７〜１９のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項２１】
前記フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子が、無機物質、例えば、シリカおよびその前駆体（例えば、ＴＥＯＳ）、グリコール、例えば、グリセリン、ジプロピレングリコール、ソルビトール、ブチレングリコール、および４００ｇ／ｍｏｌ〜５００００ｇ／ｍｏｌの範囲の分子量を有するＰＥＧから選択される固定化剤を含む、請求項１７〜２０のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項２２】
少なくとも２種類の異なるフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子を含み、各種類の粒子が２５０ｎｍ〜４００ｎｍの波長範囲で異なる透過スペクトルを有する、請求項１７〜２１のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項２３】
前記両親媒性ポリマーがラメラ構造を有する、請求項１〜２２のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項２４】
前記両親媒性ポリマーがブロック共重合体を含む、特にブロック共重合体からなる、請求項１〜２３のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項２５】
前記両親媒性ポリマーが、
・Ａ−Ｂの形態のジブロック共重合体であって、Ａが、例えば、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリシクロヘキシルメタクリレート、ポリイソボルニルアクリレート、ポリイソボルニルメタクリレート、ポリイソブチルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、ポリＮ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、およびポリイソプロピルメタクリレートから選択される疎水性ブロックであり、Ｂが：
●例えば、ポリ（２−ビニルピリジン）、ポリ（４−ビニルピリジン）、ポリ（ジメチルアミノエチルメタクリレート）、ポリ（ジエチルアミノエチルメタクリレート）、ポリ（ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド）、およびポリ（Ｎ−ビニルピロリドン）から選択される親水性陽イオン性ブロック；
●例えば、ポリ（アクリル酸）、ポリ（メタクリル酸）、ポリ（マレイン酸）、ポリ（イタコン酸）、ポリ（フマル酸）、ポリ（クロトン酸）、ポリ（アクリルアミドグリコール酸）、およびポリ（アクリルアミド２−メチルプロパンスルホン酸）から選択される親水性陰イオン性ブロック；もしくは
●例えば、ポリ（ＰＥＧメタクリレート）から選択される親水性非イオン性ブロック；
であるジブロック共重合体、
・Ａ−Ｂ−Ｃの形態のトリブロック共重合体であって：
●ＡとＣが、例えば、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリシクロヘキシルメタクリレート、ポリイソボルニルアクリレート、ポリイソボルニルメタクリレート、ポリイソブチルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、ポリＮ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、およびポリイソプロピルメタクリレートから選択される異なる疎水性ブロックであり、Ｂが、
○例えば、ポリ（２−ビニルピリジン）、ポリ（４−ビニルピリジン）、ポリ（ジメチルアミノエチルメタクリレート）、ポリ（ジエチルアミノエチルメタクリレート）、ポリ（ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド）、およびポリ（Ｎ−ビニルピロリドン）から選択される親水性陽イオン性ブロック；
○例えば、ポリ（アクリル酸）、ポリ（メタクリル酸）、ポリ（マレイン酸）、ポリ（イタコン酸）、ポリ（フマル酸）、ポリ（クロトン酸）、ポリ（アクリルアミドグリコール酸）、およびポリ（アクリルアミド２−メチルプロパンスルホン酸）から選択される親水性陰イオン性ブロック；もしくは
○例えば、ポリ（ＰＥＧメタクリレート）から選択される親水性非イオン性ブロック；
であるトリブロック共重合体、または
●Ｂが、例えば、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリシクロヘキシルメタクリレート、ポリイソボルニルアクリレート、ポリイソボルニルメタクリレート、ポリイソブチルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、ポリＮ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、およびポリイソプロピルメタクリレートから選択される疎水性ブロックであり、ＡとＣが異なり、以下：
○例えば、ポリ（２−ビニルピリジン）、ポリ（４−ビニルピリジン）、ポリ（ジメチルアミノエチルメタクリレート）、ポリ（ジエチルアミノエチルメタクリレート）、ポリ（ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド）、およびポリ（Ｎ−ビニルピロリドン）から選択される親水性陽イオン性ブロック；
○例えば、ポリ（アクリル酸）、ポリ（メタクリル酸）、ポリ（マレイン酸）、ポリ（イタコン酸）、ポリ（フマル酸）、ポリ（クロトン酸）、ポリ（アクリルアミドグリコール酸）、およびポリ（アクリルアミド２−メチルプロパンスルホン酸）から選択される親水性陰イオン性ブロック；もしくは
○例えば、ポリ（ＰＥＧメタクリレート）から選択される親水性非イオン性ブロック；
から選択されるトリブロック共重合体、
を含む、特にこれらからなる、請求項２４に記載の組成物。
【請求項２６】
前記両親媒性ポリマーがＡ−Ｂの形態のジブロック共重合体を含み、特に、Ａ−Ｂの形態のジブロック共重合体からなり、式中、Ａがポリスチレンであり、Ｂがポリ（２−ビニルピリジン）である、請求項２５に記載の組成物。
【請求項２７】
前記ポリマー多層干渉構造を有する粒子が平板状である、請求項１７〜２６のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項２８】
前記フォトニック材料の粒子、特に前記ポリマー多層干渉構造を有する粒子が、別の光学活性物質を、例えば、前記両親媒性ポリマー中に含む、請求項１７〜２７のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項２９】
前記膨潤剤が、
−水、および０．０１Ｍ〜５Ｍの範囲の濃度を有する有機または無機塩水、例えば、ナトリウム塩、マグネシウム塩、カリウム塩、カルシウム塩または銅塩の溶液、リン酸塩の溶液、およびアンモニウム塩の溶液；
−以下の化合物単独、以下の化合物の混合物または水溶液：
○グリセリン、４００ｇ／ｍｏｌ〜 ５００００ｇ／ｍｏｌの範囲の分子量を有するＰＥＧ、少なくとも１重量％で水に可溶の単糖類、二糖類、およびオリゴ糖類、ソルビトール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ブチレングリコール、水溶性ポリオール、水混和性の低級アルコール（例えば、メタノール、エタノールまたはイソプロパノール）、ベンゼン、アセトン、β−メチル酪酸、α−エチル酪酸、２，２，２−トリフルオロエタノール、１−ブタノール、１，４−ブタンジオール、クロロホルム、ブロモエタン、酢酸メチル、酢酸エチル、ジメチルホルムアミド、ブタン−２−オン、ジビニルベンゼン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、および酢酸溶液；
○紫外線遮蔽剤の中和されたまたは中和されていない溶液；および
○極性油、例えば、ラウロイルイソプロピルサルコシネート、オクチルドデカノール、安息香酸Ｃ１２〜Ｃ１５アルキル、ウンデカンおよびトリデカンならびに有機遮蔽剤の油性溶液、
から選択される、請求項１９〜２８のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項３０】
化粧料として許容される媒体中に、請求項１７〜２９のいずれか１項に記載の少なくともフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む、化粧料組成物。
【請求項３１】
請求項１９〜３０のいずれか１項に記載の組成物の製造方法であって、
ａ）膨潤剤を、フォトニック材料、特に少なくとも２層が両親媒性ポリマーを含むポリマー多層構造を有するフォトニック材料と接触させる工程；
ｂ）フォトニック材料のフィルム、特に少なくとも２層が両親媒性ポリマーを含むポリマー多層構造を有するフィルムを破砕して、最大寸法１００μｍ未満および最小寸法１００ｎｍ以上のフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層構造を有する粒子にする工程；および
ｃ）工程ａ）および工程ｂ）の実施後に得られるフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子を、適した媒体に分散させる工程；
を含み、
工程ｂ）が工程ａ）の前または後に実施される方法。
【請求項３２】
太陽紫外線から物質を光防御する方法であって、少なくとも前記物質を請求項１７〜３０のいずれか１項に記載の光防御組成物で処理する工程、または少なくとも前記組成物を前記物質に一体化する工程を含む方法。
【請求項３３】
太陽紫外線からヒトケラチン物質を光防御する非治療的方法、特に化粧方法であって、少なくとも、請求項３０に記載の化粧料組成物をヒトケラチン物質に施与する工程を含む方法。
【請求項３４】
インキ、塗料、またはコーティングを光防御する方法であって、請求項１７〜２９のいずれか１項に記載の少なくとも１種類の組成物を前記インキまたは前記塗料または前記コーティングに配合する工程を含む方法。
【請求項３５】
少なくとも１種類の合成または天然ポリマーから製造される物質を光防御する方法であって、少なくとも、前記ポリマーを請求項１７〜２９のいずれか１項に記載の少なくとも１種類の組成物で処理する工程、または少なくとも前記組成物を前記物質に一体化する工程を含む、方法。
【請求項３６】
有機または無機ガラスを光防御する方法であって、少なくとも前記ガラスを請求項１７〜２９のいずれか１項に記載の少なくとも１種類の組成物で処理する工程、または少なくとも前記組成物を前記ガラスに一体化する工程を含む方法。
【請求項３７】
少なくとも天然繊維および／または人造繊維および／または合成繊維を含む物質、例えばテキスタイルまたは紙、を光防御する方法であって、前記物質を請求項１７〜２９のいずれか１項に記載の少なくとも１種類の組成物で少なくとも処理する工程、または少なくとも前記組成物を前記物質に一体化する工程を含む方法。
【請求項３８】
太陽紫外線から光防御するためのフィルムであって、太陽紫外線を遮蔽するフォトニック材料、特に少なくとも２層が両親媒性ポリマーを含む多層干渉構造を含むフィルム。
【請求項３９】
両親媒性ポリマーを含み可視色を発現するフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む化粧料組成物。
【請求項４０】
ケラチン物質に施与する前に、４００ｎｍ〜８００ｎｍの波長範囲に反射ピークを含む反射スペクトルを有する、請求項３９に記載の組成物。
【請求項４１】
前記フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子が、膨潤剤を含む、請求項３９または請求項４０に記載の組成物。
【請求項４２】
追加の着色剤をさらに含む、請求項３９〜４１のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項４３】
前記追加の着色剤が前記組成物中に遊離状態で存在する、請求項４２に記載の組成物。
【請求項４４】
前記膨潤剤が、
−水、および０．０１Ｍ〜５Ｍの範囲の濃度を有する有機または無機塩水、例えば、ナトリウム塩、マグネシウム塩、カリウム塩、カルシウム塩または銅塩、リン酸塩の溶液、およびアンモニウム塩の溶液；
−以下の化合物単独、以下の化合物の混合物または水溶液：
○グリセリン、４００ｇ／ｍｏｌ〜 ５００００ｇ／ｍｏｌの範囲の分子量を有するＰＥＧ、少なくとも１重量％で水に可溶の単糖類、二糖類、およびオリゴ糖類、ソルビトール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ブチレングリコール、水溶性ポリオール、水混和性の低級アルコール、例えば、メタノール、エタノールまたはイソプロパノール、ベンゼン、アセトン、β−メチル酪酸、α−エチル酪酸、２，２，２−トリフルオロエタノール、１−ブタノール、１，４−ブタンジオール、クロロホルム、ブロモエタン、酢酸メチル、酢酸エチル、ジメチルホルムアミド、ブタン−２−オン、ジビニルベンゼン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、および酢酸溶液；
○紫外線遮蔽剤の中和されたまたは中和されていない溶液；および
○極性油、例えば、ラウロイルイソプロピルサルコシネート、オクチルドデカノール、ウンデカンおよびトリデカン、ならびに有機遮蔽剤の油性溶液、
から選択される、請求項４１〜４３のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項４５】
前記着色剤が
ｉ．脂溶性着色剤、例えば、ＤＣレッド１７、ＤＣレッド２１、ＤＣレッド２７、ＤＣグリーン６、ＤＣイエロー１１、ＤＣバイオレット２、ＤＣオレンジ５、スダンレッド、カロチン、例えばβ−カロチンまたはリコピン、キサントフィル。例えばカプサンシン、カプソルビン、ルテインなど、パーム油、スダンブラウン、キノリンイエロー、アナトー、クルクミン；
ｉｉ．水溶性着色剤、例えば、ＦＤＣレッド４、ＤＣレッド６、ＤＣレッド２２、ＤＣレッド２８、ＤＣレッド３０、ＤＣレッド３３、ＤＣオレンジ４、ＤＣイエロー５、ＤＣイエロー６、ＤＣイエロー８、ＦＤＣグリーン３、ＤＣグリーン５、ＦＤＣブルー１、ベタニン、カーミン、銅クロロフィリン、メチレンブルー、アントシアニン、リボフラビン、
から選択される、請求項３９〜４４のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項４６】
前記フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子が、ラメラ構造を有する、請求項３９〜４５のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項４７】
前記両親媒性ポリマーが、共重合体、特にブロック共重合体を含む、請求項３９〜４６のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項４８】
前記両親媒性ポリマーが、
・Ａ−Ｂの形態のジブロック共重合体であって、Ａが、例えば、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリシクロヘキシルメタクリレート、ポリイソボルニルアクリレート、ポリイソボルニルメタクリレート、ポリイソブチルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、ポリＮ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、およびポリイソプロピルメタクリレートから選択される疎水性ブロックであり、Ｂが：
●例えば、ポリ（２−ビニルピリジン）、ポリ（４−ビニルピリジン）、ポリ（ジメチルアミノエチルメタクリレート）、ポリ（ジエチルアミノエチルメタクリレート）、ポリ（ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド）、およびポリ（Ｎ−ビニルピロリドン）から選択される親水性陽イオン性ブロック；
●例えば、ポリ（アクリル酸）、ポリ（メタクリル酸）、ポリ（マレイン酸）、ポリ（イタコン酸）、ポリ（フマル酸）、ポリ（クロトン酸）、ポリ（アクリルアミドグリコール酸）、およびポリ（アクリルアミド２−メチルプロパンスルホン酸）から選択される親水性陰イオン性ブロック；もしくは
●例えば、ポリ（ＰＥＧメタクリレート）から選択される親水性非イオン性ブロック；
であるジブロック共重合体、
・Ａ−Ｂ−Ｃの形態のトリブロック共重合体であって：
●ＡとＣが、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリシクロヘキシルメタクリレート、ポリイソボルニルアクリレート、ポリイソボルニルメタクリレート、ポリイソブチルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、ポリＮ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、およびポリイソプロピルメタクリレートから選択される、異なる疎水性ブロックであり、Ｂが、
○例えば、ポリ（２−ビニルピリジン）、ポリ（４−ビニルピリジン）、ポリ（ジメチルアミノエチルメタクリレート）、ポリ（ジエチルアミノエチルメタクリレート）、ポリ（ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド）、およびポリ（Ｎ−ビニルピロリドン）から選択される親水性陽イオン性ブロック；
○例えば、ポリ（アクリル酸）、ポリ（メタクリル酸）、ポリ（マレイン酸）、ポリ（イタコン酸）、ポリ（フマル酸）、ポリ（クロトン酸）、ポリ（アクリルアミドグリコール酸）、およびポリ（アクリルアミド２−メチルプロパンスルホン酸）から選択される親水性陰イオン性ブロック；もしくは
○例えば、ポリ（ＰＥＧメタクリレート）から選択される親水性非イオン性ブロック；
であるトリブロック共重合体、または
●Ｂが、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリシクロヘキシルメタクリレート、ポリイソボルニルアクリレート、ポリイソボルニルメタクリレート、ポリイソブチルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、ポリＮ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、およびポリイソプロピルメタクリレートから選択される疎水性ブロックであり、ＡとＣが異なり、以下：
○例えば、ポリ（２−ビニルピリジン）、ポリ（４−ビニルピリジン）、ポリ（ジメチルアミノエチルメタクリレート）、ポリ（ジエチルアミノエチルメタクリレート）、ポリ（ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド）、およびポリ（Ｎ−ビニルピロリドン）から選択される親水性陽イオン性ブロック；
○例えば、ポリ（アクリル酸）、ポリ（メタクリル酸）、ポリ（マレイン酸）、ポリ（イタコン酸）、ポリ（フマル酸）、ポリ（クロトン酸）、ポリ（アクリルアミドグリコール酸）、およびポリ（アクリルアミド２−メチルプロパンスルホン酸）から選択される親水性陰イオン性ブロック；もしくは
○例えば、ポリ（ＰＥＧメタクリレート）から選択される親水性非イオン性ブロック；
から選択されるトリブロック共重合体、
を含む、特にこれらからなる、請求項４７に記載の組成物。
【請求項４９】
前記両親媒性ポリマーがＡ−Ｂの形態のジブロック共重合体を含み、特に、Ａ−Ｂの形態のジブロック共重合体からなり、式中、Ａがポリスチレンであり、Ｂがポリ（２−ビニルピリジン）である、請求項４８に記載の組成物。
【請求項５０】
前記フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子が平板状の形状である、請求項３９〜４９のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項５１】
化粧方法、例えば、肌色を均一にする方法であって、請求項３９〜５０のいずれか１項に記載の組成物をヒトケラチン物質に施与する工程を含む方法。
【請求項５２】
ヒトケラチン物質に施与される化粧用のフィルム、例えば、肌色を均一にするためのフィルムであって、両親媒性ポリマーを含み可視色を発現するフォトニック材料、特にポリマー多層干渉構造を含むフィルム。
【請求項５３】
請求項４１〜５０のいずれか１項に記載の化粧料組成物の製造方法であって、
ａ）膨潤剤を、両親媒性ポリマーを含むフォトニック材料、特にポリマー多層構造を有するフォトニック材料と接触させる工程；
ｂ）フォトニック材料のフィルム、特にポリマー多層構造を有するフィルムを破砕して、最大寸法１００μｍ未満および最小寸法１００ｎｍ以上のフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層構造を有する粒子にする工程；および
ｃ）工程ａ）および工程ｂ）の実施後に得られる、両親媒性ポリマーを含み可視色を発現する前記フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子を、化粧料として許容される媒体に分散させる工程；
を含み、
工程ｂ）が工程ａ）の前または後に実施される方法。
【請求項５４】
蛍光剤を内包するポリマーを含むフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む化粧料組成物。
【請求項５５】
前記フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子が、２５０ｎｍ〜８００ｎｍの波長範囲に反射ピークを含む反射スペクトルを有する、請求項５４に記載の組成物。
【請求項５６】
前記フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子が、膨潤剤を含む、請求項５４または請求項５５に記載の組成物。
【請求項５７】
前記蛍光剤が前記膨潤剤に溶解されている、請求項５６に記載の組成物。
【請求項５８】
前記ケラチン物質に塗布する前に、２５０ｎｍ〜８００ｎｍの波長範囲に２つの極小を含む透過スペクトルを有する、請求項５５〜５７のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項５９】
前記極小が少なくとも５０ｎｍ分離している、請求項５８に記載の組成物。
【請求項６０】
少なくとも１つの極小が２５０ｎｍ〜４００ｎｍの波長範囲にあり、少なくとも１つの極小が４００ｎｍ〜８００ｎｍの波長範囲、例えば４００ｎｍ〜５５０ｎｍの範囲にある、請求項５８または請求項５９に記載の組成物。
【請求項６１】
前記蛍光剤が、スチルベン誘導体、特にポリスチリルスチルベンおよびトリアジンスチルベン、クマリン誘導体、特にヒドロキシクマリンおよびアミノクマリン、オキサゾール、ベンゾキサゾール、イミダゾール、トリアゾールまたはピラゾリン誘導体、ピレン誘導体およびポルフィリン誘導体、および／またはこれらの混合物の溶液、およびジスチリルビフェニルジスルホン酸二ナトリウムの水溶液から選択される蛍光増白剤である、請求項５４〜６０のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項６２】
前記フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子が、平板状である、請求項５４〜６１のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項６３】
前記フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子が、ラメラ構造を有する、請求項５４〜６２のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項６４】
前記両親媒性ポリマーが、共重合体、例えばブロック共重合体を含む、請求項５４〜６３のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項６５】
前記ポリマーが、
・Ａ−Ｂの形態のジブロック共重合体であって、Ａが、例えば、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリシクロヘキシルメタクリレート、ポリイソボルニルアクリレート、ポリイソボルニルメタクリレート、ポリイソブチルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、ポリＮ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、およびポリイソプロピルメタクリレートから選択される疎水性ブロックであり、Ｂが：
●例えば、ポリ（２−ビニルピリジン）、ポリ（４−ビニルピリジン）、ポリ（ジメチルアミノエチルメタクリレート）、ポリ（ジエチルアミノエチルメタクリレート）、ポリ（ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド）、およびポリ（Ｎ−ビニルピロリドン）から選択される親水性陽イオン性ブロック；
●例えば、ポリ（アクリル酸）、ポリ（メタクリル酸）、ポリ（マレイン酸）、ポリ（イタコン酸）、ポリ（フマル酸）、ポリ（クロトン酸）、ポリ（アクリルアミドグリコール酸）、およびポリ（アクリルアミド２−メチルプロパンスルホン酸）から選択される親水性陰イオン性ブロック；もしくは
●例えば、ポリ（ＰＥＧメタクリレート）から選択される親水性非イオン性ブロック；
であるジブロック共重合体、
・Ａ−Ｂ−Ｃの形態のトリブロック共重合体であって：
●ＡとＣが、例えば、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリシクロヘキシルメタクリレート、ポリイソボルニルアクリレート、ポリイソボルニルメタクリレート、ポリイソブチルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、ポリＮ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、およびポリイソプロピルメタクリレートから選択される、異なる疎水性ブロックであり、Ｂが、
○例えば、ポリ（２−ビニルピリジン）、ポリ（４−ビニルピリジン）、ポリ（ジメチルアミノエチルメタクリレート）、ポリ（ジエチルアミノエチルメタクリレート）、ポリ（ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド）、およびポリ（Ｎ−ビニルピロリドン）から選択される親水性陽イオン性ブロック；
○例えば、ポリ（アクリル酸）、ポリ（メタクリル酸）、ポリ（マレイン酸）、ポリ（イタコン酸）、ポリ（フマル酸）、ポリ（クロトン酸）、ポリ（アクリルアミドグリコール酸）、およびポリ（アクリルアミド２−メチルプロパンスルホン酸）から選択される親水性陰イオン性ブロック；もしくは
○例えば、ポリ（ＰＥＧメタクリレート）などの親水性非イオン性ブロック；
であるトリブロック共重合体、または
●Ｂが、例えば、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリシクロヘキシルメタクリレート、ポリイソボルニルアクリレート、ポリイソボルニルメタクリレート、ポリイソブチルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、ポリＮ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、およびポリイソプロピルメタクリレートから選択される疎水性ブロックであり、ＡとＣが異なり、以下：
○例えば、ポリ（２−ビニルピリジン）、ポリ（４−ビニルピリジン）、ポリ（ジメチルアミノエチルメタクリレート）、ポリ（ジエチルアミノエチルメタクリレート）、ポリ（ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド）、およびポリ（Ｎ−ビニルピロリドン）から選択される親水性陽イオン性ブロック；
○例えば、ポリ（アクリル酸）、ポリ（メタクリル酸）、ポリ（マレイン酸）、ポリ（イタコン酸）、ポリ（フマル酸）、ポリ（クロトン酸）、ポリ（アクリルアミドグリコール酸）、およびポリ（アクリルアミド２−メチルプロパンスルホン酸）から選択される親水性陰イオン性ブロック；もしくは
○例えば、ポリ（ＰＥＧメタクリレート）などの親水性非イオン性ブロック；
から選択されるトリブロック共重合体、
から選択される両親媒性ポリマーを含む、特にこれらから選択される両親媒性ポリマーからなる、請求項６４に記載の組成物。
【請求項６６】
前記両親媒性ポリマーがＡ−Ｂの形態のジブロック共重合体を含み、特に、Ａ−Ｂの形態のジブロック共重合体からなり、式中、Ａがポリスチレンであり、Ｂがポリ（２−ビニルピリジン）である、請求項６５に記載の組成物。
【請求項６７】
ヒトケラチン物質の色を明るくする方法であって、請求項５４〜６６のいずれか１項に記載の化粧料組成物を施与する工程を含む方法。
【請求項６８】
ヒトケラチン物質に施与される、肌色を明るくするためのフィルムであって、蛍光剤を内包するポリマーを含むフォトニック材料、特にポリマー多層干渉構造を含むフィルム。
【請求項６９】
請求項５７〜６８のいずれか１項に記載の化粧料組成物の製造方法であって、
ａ）蛍光剤を溶解含有する膨潤剤を、フォトニック材料、特にポリマー多層構造を有するフォトニック材料と接触させる工程；
ｂ）フォトニック材料のフィルム、特に前記ポリマー多層構造を有するフィルムを破砕して、最大寸法１００μｍ以下および最小寸法１００ｎｍ超のフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層構造を有する粒子にする工程；および
ｃ）工程ａ）および工程ｂ）の実施後に得られる前記フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子を、化粧料として許容される媒体に分散させる工程；
を含み、
工程ｂ）が工程ａ）の前または後に実施される方法。
【請求項７０】
紫外線遮蔽剤を内包するポリマーを含むフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む光防御組成物、特に化粧料組成物。
【請求項７１】
前記フォトニック材料の粒子、特に前記ポリマー多層干渉構造を有する粒子が、２５０ｎｍ〜４００ｎｍの波長範囲に反射ピークを含む反射スペクトルを有する、請求項７０に記載の組成物。
【請求項７２】
前記ケラチン物質に塗布する前に、２５０ｎｍ〜４００ｎｍの波長範囲に２つの極小を含む透過スペクトルを有し、前記極小が少なくとも５０ｎｍ分離している、請求項７０または請求項７１に記載の組成物。
【請求項７３】
ＳＰＦが１０以上である、請求項７０〜７２のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項７４】
前記フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子が、ラメラ構造を有する、請求項７０〜７３のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項７５】
前記ポリマーが共重合体、特にブロック共重合体を含む、請求項７０〜７４のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項７６】
前記ポリマーが、
・Ａ−Ｂの形態のジブロック共重合体であって、Ａが、例えば、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリシクロヘキシルメタクリレート、ポリイソボルニルアクリレート、ポリイソボルニルメタクリレート、ポリイソブチルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、ポリＮ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、およびポリイソプロピルメタクリレートから選択される疎水性ブロックであり、Ｂが：
●例えば、ポリ（２−ビニルピリジン）、ポリ（４−ビニルピリジン）、ポリ（ジメチルアミノエチルメタクリレート）、ポリ（ジエチルアミノエチルメタクリレート）、ポリ（ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド）、およびポリ（Ｎ−ビニルピロリドン）から選択される親水性陽イオン性ブロック；
●例えば、ポリ（アクリル酸）、ポリ（メタクリル酸）、ポリ（マレイン酸）、ポリ（イタコン酸）、ポリ（フマル酸）、ポリ（クロトン酸）、ポリ（アクリルアミドグリコール酸）、およびポリ（アクリルアミド２−メチルプロパンスルホン酸）から選択される親水性陰イオン性ブロック；もしくは
●例えば、ポリ（ＰＥＧメタクリレート）から選択される親水性非イオン性ブロック；
であるジブロック共重合体、
・Ａ−Ｂ−Ｃの形態のトリブロック共重合体であって：
●ＡとＣが、例えば、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリシクロヘキシルメタクリレート、ポリイソボルニルアクリレート、ポリイソボルニルメタクリレート、ポリイソブチルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、ポリＮ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、およびポリイソプロピルメタクリレートから選択される、異なる疎水性ブロックであり、Ｂが、
○例えば、ポリ（２−ビニルピリジン）、ポリ（４−ビニルピリジン）、ポリ（ジメチルアミノエチルメタクリレート）、ポリ（ジエチルアミノエチルメタクリレート）、ポリ（ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド）、およびポリ（Ｎ−ビニルピロリドン）から選択される親水性陽イオン性ブロック；
○例えば、ポリ（アクリル酸）、ポリ（メタクリル酸）、ポリ（マレイン酸）、ポリ（イタコン酸）、ポリ（フマル酸）、ポリ（クロトン酸）、ポリ（アクリルアミドグリコール酸）、およびポリ（アクリルアミド２−メチルプロパンスルホン酸）から選択される親水性陰イオン性ブロック；もしくは
○例えば、ポリ（ＰＥＧメタクリレート）などの親水性非イオン性ブロック；
であるトリブロック共重合体、または
●Ｂが、例えば、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリシクロヘキシルメタクリレート、ポリイソボルニルアクリレート、ポリイソボルニルメタクリレート、ポリイソブチルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、ポリＮ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、およびポリイソプロピルメタクリレートから選択される疎水性ブロックであり、ＡとＣが異なり、以下：
○例えば、ポリ（２−ビニルピリジン）、ポリ（４−ビニルピリジン）、ポリ（ジメチルアミノエチルメタクリレート）、ポリ（ジエチルアミノエチルメタクリレート）、ポリ（ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド）、およびポリ（Ｎ−ビニルピロリドン）から選択される親水性陽イオン性ブロック；
○例えば、ポリ（アクリル酸）、ポリ（メタクリル酸）、ポリ（マレイン酸）、ポリ（イタコン酸）、ポリ（フマル酸）、ポリ（クロトン酸）、ポリ（アクリルアミドグリコール酸）、およびポリ（アクリルアミド２−メチルプロパンスルホン酸）から選択される親水性陰イオン性ブロック；もしくは
○例えば、ポリ（ＰＥＧメタクリレート）などの親水性非イオン性ブロック；
から選択されるトリブロック共重合体、
を含む、特にこれらからなる、請求項７５に記載の組成物。
【請求項７７】
前記両親媒性ポリマーがＡ−Ｂの形態のジブロック共重合体を含み、特に、Ａ−Ｂの形態のジブロック共重合体からなり、式中、Ａがポリスチレンであり、Ｂがポリ（２−ビニルピリジン）である、請求項７６に記載の組成物。
【請求項７８】
前記フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子が、膨潤剤を含む、請求項７０〜７７のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項７９】
前記紫外線遮蔽剤が前記膨潤剤に溶解されている、請求項７８に記載の組成物。
【請求項８０】
前記紫外線遮蔽剤が、
−例えば、ジベンゾイルメタン誘導体、アミノベンゾフェノン、アントラニル酸誘導体、４，４−ジアリールブタジエン誘導体、パラアミノ安息香酸エステル、サリチル酸誘導体、桂皮酸エステル、β，β’−ジフェニルアクリレート誘導体、ベンジリデンカンファー誘導体、トリアジン誘導体、イミダゾリン誘導体、ベンザルマロネート誘導体、メロシアニン誘導体、ベンゾフェノン誘導体、フェニルベンゾトリアゾール誘導体、ビス−レゾルシニルトリアジン誘導体、およびベンゾキサゾール誘導体などの疎水性遮蔽剤；ならびに
−例えば、テレフタリリデンジカンファースルホン酸、ビス−ベンゾアゾリル誘導体、ｐ−アミノ安息香酸（ＰＡＢＡ）誘導体、および少なくとも１つのスルホン酸基を含むベンゾフェノン誘導体などの水溶性遮蔽剤、
から選択される、請求項１〜７９のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項８１】
前記フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子が、平板状である、請求項７０〜８０のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項８２】
化粧料として許容される媒体中に、少なくとも請求項７０〜８１のいずれか１項に記載のフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子を含む化粧料組成物。
【請求項８３】
請求項７０〜８２のいずれか１項に記載の組成物の製造方法であって、
ａ）紫外線遮蔽剤を溶解含有する膨潤剤を、フォトニック材料、特にポリマー多層構造を有するフォトニック材料と接触させる工程；
ｂ）フォトニック材料のフィルム、特に前記ポリマー多層構造を有するフィルムを破砕して、最大寸法１００μｍ未満および最小寸法１００ｎｍ超のフォトニック材料の粒子、特にポリマー多層構造を有する粒子にする工程；および
ｃ）工程ａ）および工程ｂ）の実施後に得られる前記フォトニック材料の粒子、特にポリマー多層干渉構造を有する粒子を適した媒体に分散させる工程；
を含み、
工程ｂ）が工程ａ）の前または後に実施される方法。
【請求項８４】
太陽紫外線から物質を光防御する方法であって、前記物質を請求項７０〜８２のいずれか１項に記載の光防御組成物で処理する工程、または少なくとも前記組成物を前記物質に一体化する工程を含む方法。
【請求項８５】
太陽紫外線からヒトケラチン物質を光防御する非治療的方法、特に化粧方法であって、請求項８２に記載の化粧料組成物をヒトケラチン物質に塗布する工程を含む方法。
【請求項８６】
インキ、塗料、またはコーティングを光防御する方法であって、請求項７０〜８２のいずれか１項に記載の少なくとも１種類の組成物を前記インキまたは前記塗料または前記コーティングに配合する工程を含む方法。
【請求項８７】
少なくとも１種類の合成または天然ポリマーから製造される物質を光防御する方法であって、前記ポリマーを請求項７０〜８２のいずれか１項に記載の少なくとも１種類の組成物で処理する工程、または少なくとも前記組成物を前記物質に一体化する工程を含む、方法。
【請求項８８】
有機または無機ガラスを光防御する方法であって、前記ガラスを請求項７０〜８２のいずれか１項に記載の少なくとも１種類の組成物で処理する工程、または少なくとも前記組成物を前記ガラスに一体化する工程にある、方法。
【請求項８９】
少なくとも天然繊維および／または人造繊維および／または合成繊維を含む物質（テキスタイルまたは紙など）を光防御する方法であって、請求項７０〜８２のいずれか１項に記載の少なくとも１種類の組成物で前記物質を処理する工程、または少なくとも前記組成物を前記物質に一体化する工程を含む、方法。
【請求項９０】
太陽紫外線から光防御するフィルムであって、フォトニック材料、太陽紫外線を遮蔽する多層干渉構造を特に含み、前記構造の少なくとも２層が紫外線遮蔽剤を内包する両親媒性ポリマーを含む、フィルム。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【公表番号】特表２０１３−５０８３５１（Ｐ２０１３−５０８３５１Ａ）
【公表日】平成２５年３月７日（２０１３．３．７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１２−５３４８１６（Ｐ２０１２−５３４８１６）
【出願日】平成２２年１０月２１日（２０１０．１０．２１）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＩＢ２０１０／０５４７７８
【国際公開番号】ＷＯ２０１１／０４８５７０
【国際公開日】平成２３年４月２８日（２０１１．４．２８）
【公序良俗違反の表示】
（特許庁注：以下のものは登録商標）
１．ＴＥＦＬＯＮ
【出願人】（５９５１００３７０）ロレアル (108)
【氏名又は名称原語表記】Ｌ′ＯＲＥＡＬ
【Ｆターム（参考）】
【公表日】平成２５年３月７日（２０１３．３．７）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年１０月２１日（２０１０．１０．２１）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＩＢ２０１０／０５４７７８
【国際公開番号】ＷＯ２０１１／０４８５７０
【国際公開日】平成２３年４月２８日（２０１１．４．２８）
【公序良俗違反の表示】
（特許庁注：以下のものは登録商標）
１．ＴＥＦＬＯＮ
【出願人】（５９５１００３７０）ロレアル (108)
【氏名又は名称原語表記】Ｌ′ＯＲＥＡＬ
【Ｆターム（参考）】
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