説明

入力センサスイッチ

【課題】プランジャがセンサ層の電極パターンに悪影響を及ぼすのを防ぎ、スムーズで的確な操作感を得ることのできる入力センサスイッチを提供する。
【解決手段】キートップが押圧操作される絶縁性の操作層と、操作層の裏面に被覆される静電容量型のセンサ層10と、操作層のキートップの押圧操作によりスイッチ層のメタルドームを変形させるプランジャ層20とを備え、センサ層10とプランジャ層20に可撓性をそれぞれ付与する。センサ層10を、操作層に積層される絶縁性の基材11と、基材11のXY方向に印刷される導電性の複数の電極パターン12とから形成し、各電極パターン12を、間隔をおいて並ぶ複数の電極14間を導電ライン15により接続することで形成し、センサ層10の各電極14に、プランジャ層20のプランジャ21に対向する不導通の損傷回避部50を形成することで、プランジャ層20の変形に伴う電極パターン12の損傷を防止する。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、携帯電話に代表される携帯機器や通信機器、端末機器、家電製品、ゲーム機器等に使用される入力センサスイッチに関するものである。
【背景技術】
【0002】
携帯電話、コンピュータ機器、ゲーム機器等に使用される入力スイッチには、キートップを指で押圧操作するメカニカルタイプ、電極パターンと導電体である指との間にキャパシタを形成してその静電容量の変化を検出する静電容量タイプの他、これらを組み合わせた結合タイプがある(特許文献1、2、3参照)。
【0003】
このメカニカルタイプと静電容量タイプとを組み合わせた入力スイッチは、図示しないが、例えば押圧操作用のキートップを有する絶縁性の操作層と、この操作層の裏面側に位置するキャパシタ形成用のセンサ層と、操作層のキートップの押圧操作によりスイッチ層をプランジャでONするプランジャ層とを備えて構成されている。
センサ層とプランジャ層とは、厚さ方向に積層され、かつ可撓性がそれぞれ付与されている。また、操作層のキートップ、センサ層の電極パターン、及びプランジャ層から突出してスイッチ層のスイッチを圧接ONするプランジャは、厚さ方向において対向する。
【0004】
係る構成の入力スイッチは、操作層のキートップが指で押圧操作される場合には、プランジャ層が変形してスイッチ層のスイッチをプランジャでONし、操作層やそのキートップに指が接触したり、スライドする場合には、センサ層の電極パターンと指との間にキャパシタが形成され、静電容量の変化により所定の別の機能を実現する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
【特許文献1】特開2007‐115440号公報
【特許文献2】特開2006‐59649号公報
【特許文献3】特開2002‐366304号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
メカニカルタイプと静電容量タイプとを組み合わせた入力スイッチは、以上のように構成され、キートップを大きくして操作しやすくしたり、メカ的操作感、タッチ寿命、反応速度、分解能力等の性能をバランス良く実現することができる。
【0007】
しかしながら、操作層のキートップが操作され、プランジャ層が繰り返し変形すると、このプランジャ層のプランジャが対向するセンサ層の電極パターンにストレスを加えて悪影響を及ぼし、電極パターンが損傷して抵抗値を上昇させたり、静電容量の変化を検出することができない事態が予想される。
【0008】
このような事態を防ぐには、センサ層の電極パターンの配置を変更してプランジャ層のプランジャと電極パターンとの対向関係を解消する方法があげられる。しかし、この方法を採用する場合には、直感的に操作したい箇所に電極パターンが存在しなくなるので、位置ずれにより操作に支障を来たすおそれがあり、スムーズで的確な操作感が妨げられるという事態が新たに予想される。
【0009】
本発明は上記に鑑みなされたもので、プランジャがセンサ層の電極パターンに悪影響を及ぼすのを防ぎ、スムーズで的確な操作感を得ることのできる入力センサスイッチを提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【0010】
本発明においては上記課題を解決するため、キートップが押圧操作される絶縁性の操作層と、この操作層に被覆される静電容量型のセンサ層と、操作層のキートップの押圧操作によりスイッチ層のスイッチを変形させるプランジャとを備え、センサ層に可撓性を付与したものであって、
センサ層は、操作層の裏面側に配置される絶縁性の基材と、この基材に形成される導電性の電極パターンとを含み、電極パターンを、間隔をおいて並ぶ複数の電極間を導電ラインにより接続することで形成し、
センサ層の電極に、プランジャに対向する不導通の損傷回避部を形成することにより、電極パターンの損傷を防ぐようにしたことを特徴としている。
【0011】
なお、キートップが押圧操作される絶縁性の操作層と、この操作層に被覆される静電容量型のセンサ層と、操作層のキートップの押圧操作によりスイッチ層のスイッチを変形させるプランジャ層とを備え、センサ層とプランジャ層とに可撓性をそれぞれ付与したものであって、
センサ層は、操作層の裏面側に配置される絶縁性の基材と、この基材に形成される導電性の電極パターンとを含み、電極パターンを、間隔をおいて並ぶ複数の電極間を導電ラインにより接続することで形成し、
プランジャ層は、可撓性の基材から突出してスイッチ層のスイッチに対向するプランジャを備え、
センサ層の電極に、プランジャ層のプランジャに対向する不導通の損傷回避部を形成することにより、プランジャ層の変形に伴う電極パターンの損傷を防ぐようにしたことを特徴とすることができる。
【0012】
また、光源からの光線を導光して操作層方向に照射する可撓性のライトガイド層を操作層とスイッチ層との間に介在し、操作層の少なくとも一部、センサ層、及びライトガイド層に光透過性をそれぞれ付与することができる。
また、光源からの光線を導光して操作層方向に照射する可撓性のライトガイド層をスイッチ層とプランジャ層との間に介在し、操作層の少なくとも一部、センサ層、及びライトガイド層に光透過性をそれぞれ付与することができる。
【0013】
また、操作層の裏面にセンサ層を積層することができる。
また、センサ層を、プランジャを備えたプランジャ層とライトガイド層との間に介在することも可能である。
また、損傷回避部を、センサ層の電極に形成される絶縁部、あるいはセンサ層の電極に設けられる孔とすることも可能である。
さらに、センサ層の表面側にプランジャを備えたプランジャ層を配置し、電極の損傷回避部を貫通孔に形成し、この貫通孔にプランジャを嵌め入れることも可能である。
【0014】
ここで、特許請求の範囲におけるセンサ層は、操作層の裏面に積層されることが好ましいが、プランジャを備えたプランジャ層の裏面に積層されるものでも良い。このセンサ層の基材は、単数複数を特に問うものではない。また、プランジャ層の基材は、操作層と別体でも良いが、操作層と一体でも良いし、操作層自体でも良い。したがって、プランジャは、操作層から突出してスイッチ層のスイッチに対向する場合がある。損傷回避部は、プランジャ層のプランジャに対向する電極の中央部や周縁部のみに形成しても良いが、各電極の中央部や周縁部に形成しても良い。この損傷回避部の孔は、貫通していても良いし、そうでなくても良い。
【0015】
光源としては、単数複数の発光素子等を適宜用いることができる。さらに、本発明に係る入力センサスイッチは、携帯電話に代表される携帯機器や通信機器、端末機器、コンピュータ機器、家電製品、ゲーム機器やそのコントローラ等に使用される。
【0016】
本発明によれば、操作層のキートップを押して操作すると、センサ層が変形し、プランジャによりスイッチが変形して所定の機能を実現することができる。この際、プランジャに対向するセンサ層の電極の対向部分が導電部ではなく、電流や信号の流れに寄与しない不導通の損傷回避部なので、例えプランジャが変形しても、電極にストレスを加えて悪影響を及ぼすことが少ない。
【発明の効果】
【0017】
本発明によれば、プランジャがセンサ層の電極パターンに悪影響を及ぼすのを防ぎ、しかも、スムーズで的確な操作感を得ることができるという効果がある。
【0018】
また、光源からの光線を導光して操作層方向に照射する可撓性のライトガイド層を操作層とスイッチ層との間に介在し、操作層の少なくとも一部、センサ層、及びライトガイド層に光透過性をそれぞれ付与すれば、操作層の少なくとも一部を照光して夜間における操作の便宜を図ったり、操作層のデザインや美観の向上等を図ることができる。
【0019】
さらに、操作層の裏面にセンサ層を積層すれば、操作層の裏面からセンサ層が離れている場合に比べ、比較的高い静電容量を得ることができるので、センサ層の検出感度や分解能を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【0020】
【図1】本発明に係る入力センサスイッチの実施形態を模式的に示す断面説明図である。
【図2】本発明に係る入力センサスイッチの実施形態における複数の電極パターンを模式的に示す平面説明図である。
【図3】本発明に係る入力センサスイッチの実施形態におけるセンサ層の電極、プランジャ層、損傷回避部を模式的に示す要部拡大断面図である。
【図4】本発明に係る入力センサスイッチの第2の実施形態を模式的に示す要部拡大断面図である。
【図5】本発明に係る入力センサスイッチの第3の実施形態を模式的に示す要部拡大断面図である。
【発明を実施するための形態】
【0021】
以下、図面を参照して本発明の実施形態を説明すると、本実施形態における入力センサスイッチは、図1ないし図3に示すように、キートップ3が指4で操作される操作層1と、この操作層1に被覆されるセンサ層10と、操作層1のキートップ3の押圧操作によりスイッチ層30のメタルドーム32を座屈変形させるプランジャ層20と、小型の発光素子41からの光線を内部に導光して操作層1方向に照射するライトガイド層40とを備えて携帯電話の筐体に搭載される多層のスイッチで、操作層1の裏面に静電容量型のセンサ層10を積層し、このセンサ層10の各電極14に絶縁性の損傷回避部50を形成するようにしている。
【0022】
操作層1、センサ層10、プランジャ層20、及びライトガイド層40は、図1の上下方向、すなわち厚さ方向に積層され、少なくともセンサ層10、プランジャ層20、及びライトガイド層40には、可撓性、弾性、光透過性がそれぞれ付与される。
【0023】
操作層1は、図1に示すように、絶縁性を有するシート2の表面XY方向に押圧操作用の複数のキートップ3が配列形成され、シート2や各キートップ3の表面に操作用の模様(例えば、文字、図形、記号等)が適宜スクリーン印刷される。この操作層1は、例えばシート2が弾力や摩擦抵抗に優れるウレタン樹脂等により平面矩形に形成され、各キートップ3が耐衝撃性に優れるポリカーボネート等により平面矩形、多角形、円形、楕円形等に形成される。操作層1の一部、すなわちシート2とキートップ3との境界、キートップ3の表面、模様は、必要に応じ、光線を透過する透明に形成される。
【0024】
センサ層10は、図1ないし図3に示すように、優れた検出感度や分解能を得る観点から、操作層1の裏面に積層される絶縁性の基材11と、この基材11の表面XY方向にダイヤモンドパターンに配列形成される導電性の複数の電極パターン12とを備え、これら基材11と複数の電極パターン12とが操作層1の裏面に接着される透明の保護シート13により被覆される。
【0025】
基材11は、例えば光や熱に対して安定で透明のポリエチレンテレフタレート製のシートにより形成される。また、XY方向に所定の間隔で並ぶ複数の電極パターン12は、光透過性に優れる導電インクによりスクリーン印刷される。各電極パターン12は、間隔をおいてX方向あるいはY方向に並ぶ複数の電極14を備え、この複数の電極14の端部間に細長い導電ライン15が一体的に接続される。
【0026】
各電極14は、平面略菱形で透明の薄膜に形成され、キートップ3の直下に対向して位置する。また、XY方向に並ぶ電極パターン12の導電ライン15は、線状で透明の薄膜に形成され、短絡を防止する観点から、一方が他方を僅かな間隙をおいて跨ぐジャンパー構造に形成される。
【0027】
プランジャ層20は、図1に示すように、例えば弾力や摩擦抵抗に優れるウレタン樹脂やシリコーンゴム等からなる平面矩形のシートを備え、センサ層10の裏面に接着層を介して接着されており、下方のスイッチ層30にライトガイド層40を介し対向する。このプランジャ層20の裏面XY方向には、ライトガイド層40の表面に接触する複数のプランジャ21が並べて突出形成され、各プランジャ21が上方のキートップ3や電極14に対向する円錐台形に形成される。
【0028】
スイッチ層30は、フレキシブルプリント配線板等からなる回路基板31を備え、この回路基板31の表面XY方向に複数のメタルドーム32が配列形成されており、この複数のメタルドーム32がライトガイド層40の裏面に接触する。各メタルドーム32は、座屈変形可能な断面略逆碗形に湾曲形成されてキートップ3、電極14、プランジャ21の直下に位置し、キートップ3の押圧操作時にライトガイド層40に圧接されることにより座屈変形する。こうしてメタルドーム32が座屈変形すると、回路基板31に形成されている2種の導電パターン間が短絡することにより、回路がONされる。
【0029】
ライトガイド層40は、例えば耐熱性や耐候性に優れ、使用温度範囲が広い透明のシリコーンゴム等からなるシートにより形成され、スイッチ層30とプランジャ層20との間に介在されており、回路基板31の端部に実装された発光素子41に周面が僅かな隙間を介して対向する。
【0030】
ライトガイド層40の表面XY方向には、導光された光線(図1の矢印参照)を出射して面発光する複数の光学パターンが配列形成され、この光学パターンから光線がプランジャ層20とセンサ層10を通過して操作層1方向に照射され、この操作層1のシート2とキートップ3との境界、キートップ3の表面、模様を均一に照明する。
【0031】
発光素子41は、例えば、高輝度で省電力、長寿命のLED等からなり、携帯電話の電源投入やキートップ3の押圧操作等に連動して発光し、光線を対向するライトガイド層40の周面に向けて照射する。この照射により、発光素子41の光線は、ライトガイド層40の内部XY方向に導光される。
【0032】
損傷回避部50は、図2や図3に示すように、例えばセンサ層10の各電極14の中央部に丸く形成される絶縁部51からなり、プランジャ層20のプランジャ21に上方から対向しており、プランジャ層20の変形に伴う電極パターン12の損傷を防止し、電気信号の導通に支障を来たすのを防ぐよう機能する。絶縁部51は、電極14のスクリーン印刷の際、プランジャ21との干渉が予想される電極14の中央部に導電インクをスクリーン印刷しないことで形成される。
【0033】
上記構成において、操作層1の複数のキートップ3中、所定のキートップ3を指4で押圧操作すると、センサ層10、プランジャ層20、ライトガイド層40がそれぞれ変形し、ライトガイド層40が圧下してスイッチ層30のメタルドーム32を機械的に座屈変形させ、2種の導電パターン間が短絡することにより、携帯電話の所定の機能が実現される。
【0034】
この際、プランジャ層20のプランジャ21に相対する電極14の中央部が導電部ではなく、損傷しても支障のない不導通の絶縁部51なので、例えプランジャ層20やプランジャ21が変形して電極14の中央部に干渉しても、電極14がストレスで破壊されて導通に悪影響を及ぼすことがない。
【0035】
また、操作層1やそのキートップ3に指4を接触させたり、前後左右方向等にスライドすると、センサ層10の電極パターン12と指4との間にキャパシタが形成され、静電容量の変化により携帯電話の別の機能を実現することができる。
この際、キートップ3を押圧操作しながら前後左右方向等に別の指4をスライドさせたり、回したりしても、静電容量の変化により携帯電話の他の機能を実現することができる。
【0036】
上記構成によれば、例えプランジャ層20が繰り返し変形しても、プランジャ層20のプランジャ21が対向する電極14の導電部に悪影響を及ぼすことがなく、検出精度の低下を招くのを抑制防止することができる。したがって、電極14が損傷して抵抗値を上昇させたり、不導通で静電容量の変化を検出することができない事態を有効に排除することができる。また、電極14とプランジャ21との対向関係を解消する必要がないので、直感的に操作したい箇所に電極パターン12が存在することとなり、スムーズで的確な操作感を得ることができる。
【0037】
また、プランジャ層20のプランジャ21と対向する電極14のみに損傷回避部50を形成するのではなく、各電極14に同じ大きさの損傷回避部50を形成するので、静電容量の均一化を図ることができる他、センサ層10の製造の迅速化や容易化を図ることが可能となる。また、操作層1の裏面から離れた箇所にセンサ層10が位置するのではなく、操作層1の裏面直下にセンサ層10が近接して積層されるので、必要十分な高い静電容量を得ることができ、センサ層10の検出感度や分解能を著しく向上させることが可能になる。
【0038】
また、複数の電極パターン12が光透過性の低い材料(例えば、銅や銀フィラー含有の材料)で形成されるのではなく、光透過性の導電インク(例えば、カーボンナノワイヤー、銀ナノワイヤー、導電性ポリマー、ITOインク、金属酸化物、金属薄膜の蒸着形成等)により透明に形成されるので、操作層1やそのキートップ3等の発光に何ら支障を来たすことがない。さらに、面発光タイプのライトガイド層40を使用するので、操作層1の裏面全域にセンサ層10を支障なく配置したり、従来よりも発光素子41の使用数を削減したり、発光素子41の配置の自由度を高めることが可能になる。
【0039】
次に、図4は本発明の第2の実施形態を示すもので、この場合には、損傷回避部50を、センサ層10の基材11、保護シート13、及び各電極14の中央部に連通して丸く穿孔される不導通の貫通孔52とするようにしている。その他の部分については、上記実施形態と略同様であるので説明を省略する。
本実施形態においても上記実施形態と同様の作用効果が期待でき、しかも、簡易な構成で損傷回避部50の構成の多様化を図ることができ、貫通孔52により良好なクリック感を得ることもできる。
【0040】
次に、図5は本発明の第3の実施形態を示すもので、この場合には、操作層1と複数のプランジャ21とを一体化してプランジャ層20を省略し、電極14の損傷回避部50を複数の貫通孔52に形成し、各貫通孔52にプランジャ21を遊嵌するようにしている。
【0041】
操作層1は、シート2の裏面XY方向に複数のプランジャ21が配列形成され、各プランジャ21が硬質樹脂により円柱形あるいは円錐台形に形成されてライトガイド層40の表面に接触する。プランジャ21の高さは、センサ層10の厚みとメタルドーム32のストローク(例えば0.2mm程度)とを考慮して設定される。センサ層10は、プランジャ層20の省略により、ライトガイド層40の表面に隙間を介して対向する。その他の部分については、上記実施形態と略同様であるので説明を省略する。
【0042】
本実施形態においても上記実施形態と同様の作用効果が期待でき、しかも、貫通孔52内にプランジャ21が嵌入するので、貫通孔52にプランジャ21をガイドさせてメタルドーム32を適切に変形させることができるのは明らかである。
【0043】
なお、上記実施形態ではセンサ層10の基材11の表面XY方向に複数の電極パターン12を配列形成したが、基材11の表面X方向に複数の電極パターン12を配列形成するとともに、基材11の裏面Y方向に複数の電極パターン12を配列形成しても良い。また、基材11の表面X方向に複数の電極パターン12を配列形成するとともに、別の基材11の表面Y方向に複数の電極パターン12を配列形成し、この一対の基材11・11を対向させて接着しても良い。また、センサ層10の保護シート13は省略しても良い。
【0044】
センサ層10の電極14は、平面矩形、多角形、三角形、円形等に形成することができる。また、プランジャ21は、円柱形や角柱形等に形成することができ、プランジャ層20のシートと別体でも良い。また、操作層1の照明に支障を来たさなければ、ライトガイド層40の表面に複数の光学パターンを配列形成するのではなく、ライトガイド層40の裏面に複数の光学パターンを配列形成することも可能である。さらに、損傷回避部50の絶縁部51は、必要に応じ、平面矩形、多角形、楕円形等に形成することもできる。この絶縁部51は、電極14の中央部をエッチング等することで形成しても良い。
【符号の説明】
【0045】
1 操作層
3 キートップ
10 センサ層
11 基材
12 電極パターン
14 電極
15 導電ライン
20 プランジャ層
21 プランジャ
30 スイッチ層
31 回路基板
32 メタルドーム(スイッチ)
40 ライトガイド層
41 発光素子(光源)
50 損傷回避部
51 絶縁部
52 貫通孔(孔)

【特許請求の範囲】
【請求項1】
キートップが押圧操作される絶縁性の操作層と、この操作層に被覆される静電容量型のセンサ層と、操作層のキートップの押圧操作によりスイッチ層のスイッチを変形させるプランジャとを備え、センサ層に可撓性を付与した入力センサスイッチであって、
センサ層は、操作層の裏面側に配置される絶縁性の基材と、この基材に形成される導電性の電極パターンとを含み、電極パターンを、間隔をおいて並ぶ複数の電極間を導電ラインにより接続することで形成し、
センサ層の電極に、プランジャに対向する不導通の損傷回避部を形成することにより、電極パターンの損傷を防ぐようにしたことを特徴とする入力センサスイッチ。
【請求項2】
光源からの光線を導光して操作層方向に照射する可撓性のライトガイド層を操作層とスイッチ層との間に介在し、操作層の少なくとも一部、センサ層、及びライトガイド層に光透過性をそれぞれ付与した請求項1記載の入力センサスイッチ。
【請求項3】
操作層の裏面にセンサ層を積層した請求項1又は2記載の入力センサスイッチ。
【請求項4】
損傷回避部を、センサ層の電極に形成される絶縁部、あるいはセンサ層の電極に設けられる孔とした請求項1、2、又は3記載の入力センサスイッチ。

【図1】
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【図2】
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【図3】
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【図4】
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【図5】
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【公開番号】特開2011−150885(P2011−150885A)
【公開日】平成23年8月4日(2011.8.4)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2010−11032(P2010−11032)
【出願日】平成22年1月21日(2010.1.21)
【出願人】(000190116)信越ポリマー株式会社 (1,394)
【Fターム(参考)】