公衆浴場の入口洗浄設備
【課題】公衆浴場の浴室の入口に配置される身体洗浄用の洗浄設備であって、十分な消毒効果、洗浄効果を発揮し得る公衆浴場の入口洗浄設備を提供する。
【解決手段】公衆浴場の入口洗浄設備は、浴室へ向かう通路として、消毒エリア１Ａと洗浄エリア１Ｂとを順次に設けて構成される。消毒エリア１Ａには、２５〜４０℃の消毒液を横方向に噴射するシャワー１０が高さ６０〜１２０ｃｍの範囲で壁に設けられ、かつ、シャワー１０から噴射された消毒液を貯留する深さ５〜３０ｃｍの足洗パン１１が床に設けられる。洗浄エリア１Ｂには、かかり湯としての３０〜４２℃の温水を貯留する温水槽１６が設けられる。
【解決手段】公衆浴場の入口洗浄設備は、浴室へ向かう通路として、消毒エリア１Ａと洗浄エリア１Ｂとを順次に設けて構成される。消毒エリア１Ａには、２５〜４０℃の消毒液を横方向に噴射するシャワー１０が高さ６０〜１２０ｃｍの範囲で壁に設けられ、かつ、シャワー１０から噴射された消毒液を貯留する深さ５〜３０ｃｍの足洗パン１１が床に設けられる。洗浄エリア１Ｂには、かかり湯としての３０〜４２℃の温水を貯留する温水槽１６が設けられる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、公衆浴場の入口洗浄設備に関するものであり、詳しくは、公衆浴場の浴室の入口に配置される身体洗浄用の洗浄設備に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
共同浴場などの公衆浴場では、浴槽の湯を循環利用するため、病原性大腸菌、レジオネラ属菌などによる感染症を予防する観点から、次亜塩素酸ナトリウム等の塩素系殺菌剤を添加して循環水や循環設備を消毒している。上記のような細菌類は、入浴者によって浴槽内へ持ち込まれるが、人体への影響から殺菌剤の過剰な添加は好ましくなく、斯かる観点からも、浴槽内への細菌の持込みを低減することが重要である。入浴前の身体の洗浄については、スイミング・プールを利用する場合と同様に、シャワーによる洗浄が考えられるが、実際、入浴者のモラルに期待している状況である。
【０００３】
ちなみに、スイミング・プールにおける身体洗浄のための技術としては、床に足洗槽が設けられた樋状の通路と、当該通路の左右の側壁に取り付けられたシャワー用の横向ノズルと、通路上部に配置され且つシャワー用の下向ノズルが取り付けられた門形フレームとからなるシャワー装置が開示されている（特許文献１参照）。また、左右に側壁を有する足洗パンと、当該足洗パンの上方に側壁に沿って設けられ且つスプレーノズルが取り付けられた給水管と、左右の側壁に跨がって足洗パンの上方に設けられ且つスプレーノズルが取り付けられたアーチ形給水管とからなるシャワーユニットが開示されている（特許文献２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平１０−３３１４６５号公報
【特許文献２】特開２００２−４５３０２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、公衆浴場においては、湯の温度が菌の繁殖に適した温度であり、しかも、スイミング・プールに比べ、浴槽の水量に対する利用者数が多いため、スイミング・プール以上に身体の前洗浄が必要である。特に、入浴前の身体の洗浄では、股間、足先などの下半身を十分に消毒・洗浄する必要がある。しかしながら、スイミング・プールに適用される身体洗浄技術では、水道水などを全身に浴びせるだけであり、十分な洗浄効果が得られない。また、浴場の場合は、洗髪しない場合は髪を濡らしたくないと言う要望もある。
【０００６】
本発明は、上記のような実情に鑑みてなされたものであり、その目的は、公衆浴場の浴室の入口に配置される身体洗浄用の洗浄設備であって、十分な消毒効果および洗浄効果を発揮し得る公衆浴場の入口洗浄設備を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、上記の課題を解決するため、消毒エリアと洗浄エリアとを順次に設け、消毒エリアを通過する際、消毒液のシャワーで入浴者の下半身を消毒し且つ消毒液が貯留された床の足洗パンで入浴者の足先を消毒すると共に、洗浄エリアにおいて、かかり湯により、身体に付着した消毒液を洗い流し且つ上半身を洗浄できるようにした。しかも、消毒液の温度およびかかり湯に使用する温水の温度を特定の温度に設定することにより、消毒・洗浄効果を高め、かつ、入浴者に不快感を与えないようにした。
【０００８】
すなわち、本発明の要旨は、公衆浴場の浴室の入口に配置される身体洗浄用の洗浄設備であって、浴室へ向かう通路として、消毒エリアと洗浄エリアとを順次に設けてなり、消毒エリアには、２５〜４０℃の消毒液を横方向に噴射するシャワーが高さ６０〜１２０ｃｍの範囲で壁に設けられ、かつ、シャワーから噴射された消毒液を貯留する深さ５〜３０ｃｍの足洗パンが床に設けられ、洗浄エリアには、かかり湯としての３０〜４２℃の温水を貯留する温水槽が設けられていることを特徴とする公衆浴場の入口洗浄設備に存する。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、消毒エリアにおいて、特定の温度の消毒液を噴射するシャワーにより入浴者の下半身を消毒し且つ消毒液を貯留する足洗パンにより入浴者の足先を消毒し、洗浄エリアにおいて、かかり湯により、身体に付着した消毒液を洗い流し且つ上半身を洗浄できるため、浴室内への細菌類の持込みを低減できる。その結果、浴槽内への殺菌剤の過剰な添加も抑制できる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明に係る入口洗浄設備の主要部の構造を示す斜視図である。
【図２】図１の入口洗浄設備における機器の配置および使用方法を示す平面図である。
【図３】本発明に係る入口洗浄設備の他の態様における機器の配置および使用方法を示す平面図である。
【図４】公衆浴場に設置される出口洗浄設備の一例を示す平面図である。
【図５】本発明に係る入口洗浄設備の設置例を示す公衆浴場の平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
本発明に係る公衆浴場の入口洗浄設備（以下、「洗浄設備」と略記する。）の実施形態を図面に基づいて説明する。
【００１２】
本発明の洗浄設備は、図５に符号１で示すように、公衆浴場の浴室３の入口に配置される身体洗浄用の設備である。図５は、大規模公衆浴場を例示したものであり、図５に示す公衆浴場は、脱衣室２及び浴室３とから主に構成されている。浴室３には、洗い場４、浴槽５が設置されている。また、浴室３には、サウナ室７及び水浴用の浴槽８が設けられている。更に、浴室３の庭として構築された屋外部分には、露天風呂を構成する浴槽６が設置されている。そして、浴槽６の周囲には、景観を高めるための人口の岩石が配置されている。
【００１３】
本発明の洗浄設備１は、図５に示すように、脱衣室２から浴室へ向かう通路として設置されており、図２に示すように、消毒エリア１Ａと洗浄エリア１Ｂとを順次に設けて構成されている。消毒エリア１Ａは、入浴者の身体、特に下半身および足先を消毒するために設けられており、洗浄エリア１Ｂは、身体に付着した消毒液を洗い流し、上半身を洗浄するために設けられている。
【００１４】
図１及び図２に示すように、消毒エリア１Ａには、２５〜４０℃の消毒液を横方向に噴射するシャワー１０が高さ６０〜１２０ｃｍの範囲で壁に設けられている。消毒液としては、通常、次亜塩素酸ナトリウム水溶液（塩素濃度１００〜６００ｐｐｍ）が使用される。シャワー１０は、水平方向に伸長された配管にスプレーノズルを取り付けて構成されており、シャワー１０の配管は、消毒エリア１Ａの左右の壁側に沿ってそれぞれ水平に配置されている。シャワー１０を構成するスプレーノズルは、１つの配管に対して３〜１０個取り付けられている。通常、左右のシャワー１０の間隔（配管の間隔）は、６０〜７０ｃｍ程度であり、１つのシャワー１０の長さ（スプレーノズルが取り付けられた配管の水平方向長さ）は１〜１．５ｍ程度である。
【００１５】
シャワー１０は、ポンプ１３の稼働および当該ポンプの下流部に取り付けられた電磁弁（図示省略）の作動により、立上がり配管（図１中の手前左側の縦配管）、床下配管（図１、図２中に仮想線で示した横配管）及び立上がり配管（図１中の手前右側の縦配管）を通じて消毒液タンク１２の消毒液を上記の水平な各配管に供給し、そして、スプレーノズルから噴射するようになされている。消毒液を貯留する消毒液タンク１２は、高濃度の消毒液原液を貯留する原液タンク（図示省略）と、希釈用の水を供給する給水管と、スクリュー等の攪拌機と、消毒液の濃度を検出する濃度計（図示省略）とを備えており、消毒液タンク１２おいては、後述する制御装置による消毒液原液および水の供給制御により、消毒液の貯液量と濃度を一定に維持するようになされている。消毒液タンク１２は、予め一定濃度に調整された消毒液を残量に応じて供給するように構成されていてもよい。なお、シャワー１０を作動させるための上記の電磁弁は、後述する入口のセンサー１ｓの信号に基づいて制御されるようになされている。
【００１６】
シャワー１０の設置高さ（スプレーノズルの高さ）は、通常は６０〜１２０ｃｍの範囲、好ましくは９０〜１００ｃｍの範囲で設定される。シャワー１０の高さを上記の範囲で設定することにより、身体の股間や臀部を直接消毒、洗浄することができ、浴室３内への細菌や汚れの持込みを確実に低減できる。シャワー１０から噴射される消毒液の温度は、消毒エリア１Ａを通過する入浴者に不快感を与えないため、通常は２５〜４０℃、好ましくは３０〜３５℃に設定される。上記の消毒液タンク１２には、ヒーター及び温度計（図示省略）が付設されており、検出温度に基づいてヒーターの通電を制御することにより、消毒液タンク１２においては、消毒液の温度が一定、例えば３０〜３５℃に保持するようになされている。
【００１７】
消毒エリア１Ａには、シャワーから噴射された消毒液を貯留する深さ５〜３０ｃｍの足洗パン１１が床に設けられている。足洗パン１１は、上記のシャワー１０から噴射された消毒液を一時的に貯留し、消毒エリア１Ａを通過する入浴者の足を消毒するため、床に落し込まれた構造で設けられている。足洗パン１１に貯留される消毒液の温度は、シャワー１０から噴射される消毒液の温度調節により、２０〜３５℃に設定されている。足洗パン１１の深さは、通常は５〜３０ｃｍ、好ましくは１０〜２０ｃｍに設定されている。足洗パン１１の深さを上記の範囲に設定することにより、歩行を困難にすることなく且つ足先の消毒、洗浄を効果的に行うことができる。なお、足洗パン１１の消毒液は、後述する洗浄エリア１Ｂの床の排水ピット１１ｐを通じて系外に排出されて入れ替るようになされている。
【００１８】
また、消毒エリア１Ａの一方の壁には、高さ１２０〜１５０ｃｍの位置に棚１４が設けられている。すなわち、棚１４は、上記のシャワー１０よりも高い位置に配置されている。斯かる棚１４は、入浴者が消毒エリア１Ａを通過する際、浴室３へ持ち込む手荷物を濡らさないように一時的に載せておくためのものである。更に、図１に示すように、棚１４の下方に棚１５が設けられ、入浴者が手先や上半身を別途消毒するための消毒液の容器が載せられていてもよい。
【００１９】
図１及び図２に示すように、洗浄エリア１Ｂには、かかり湯としての３０〜４２℃の温水を貯留する温水槽１６が設けられている。温水槽１６の温水としては、洗浄効果を高めるため、例えば逆浸透膜を通して得られた純水（ＲＯ水）、または、硬度８０以下のいわゆる軟水が使用される。特に、洗浄効果の観点からは上記の純水が好ましい。斯かる純水（ＲＯ水）は、以下の純水製造装置によって製造することができる。
【００２０】
すなわち、純水製造装置は、井戸水などの原水を貯留する原水槽と、粒状の塩を収容した殺菌用の塩素添加装置と、砂濾過器、無撚糸膜フィルター及び粒状炭素が収容されたカーボンフィルターを配置してなる前処理装置と、中空糸膜、スパイラル膜またはチューブラー膜からなる逆浸透膜モジュールと、逆浸透膜モジュールを透過させて得られた水を貯留する濾過水槽とから主として構成されている。そして、原水槽の水をポンプで塩素添加装置、前処理装置に供給することにより、殺菌処理を施し且つ異物や臭気を除去した後、更にポンプで逆浸透膜モジュールに供給することにより、塩類やその他の不純物、細菌類が完全に除去された純水を製造し、濾過水槽に蓄えるようになされている。上記のような純水製造装置の基本的な構造は周知であり、特開２００７−３２６０２９、特開２００８−１６１８１８、特開２０１０−０８２６１等に開示されている。
【００２１】
温水槽１６は、洗浄エリア１Ｂの一方の壁側に沿って設けられている。温水槽１６は、幅２５〜４０ｃｍ程度、長さ８０〜１５０ｃｍ程度、上端高さ８０〜１００ｃｍ程度の細長の箱状の水槽であり、その貯水量は８０〜３００リットル程度とされている。温水槽１６の湯の温度は、入浴者に不快感を与えないため、通常は３０〜４２℃、好ましくは３５〜４０℃に設定されている。温水槽１６は、上記の純水製造装置で製造され且つ加熱器で一定温度に加熱された温水が当該温水槽内の給湯口（図示省略）及び壁側の給湯口１６ｃを通じて供給されるように構成されている。
【００２２】
また、図２に示すように、洗浄エリア１Ｂには、かかり湯としての３０〜４２℃の温水を噴射するシャワー１９が壁に設けられていてもよい。シャワー１９は、温水槽１６に供給する温水の一部、すなわち、純水製造装置で製造されて加熱器で一定温度に加熱された温水を噴射するようになされている。更に、図１及び図２に示すように、洗浄エリア１Ｂの壁には、高さ１２０〜１５０ｃｍの位置に棚１７が設けられている。斯かる棚１７は、入浴者が洗浄エリア１Ｂを通過する際、浴室３へ持ち込む手荷物を濡らさないように一時的に載せておくためのものである。なお、洗浄エリア１Ｂの床には、足洗パン１１から溢れた消毒液、かかり湯として使用した水、温水槽１６から溢れた水を系外に排出する排水ピット１１ｐが温水槽１６の下方に設けられている。
【００２３】
本発明の洗浄設備１は、別途設けられた制御装置（図示省略）及び入口のセンサー１ｓによって作動するように構成されている。すなわち、図１及び図２に示すように、消毒エリア１Ａの入口には、光源および受光部からなる光センサー等のセンサー１ｓが付設されており、シャワー１０は、消毒エリア１Ａに入った入浴者をセンサー１ｓで検出し、制御装置の働きで作動するようになされている。
【００２４】
具体的には、洗浄設備１においては、入浴者が消毒エリア１Ａに入るとシャワー１０が作動し、消毒エリア１Ａを通過する際、シャワー１０により入浴者の下半身を消毒することができる。また、消毒液が貯留された床の足洗パン１１により入浴者の足先を消毒することができる。更に、入浴者は、洗浄エリア１Ｂにおいて、温水槽１６の温水を使用し、かかり湯によって身体に付着した消毒液や汚れを洗い流し且つ上半身を洗浄することができる。かかり湯としてシャワー１９を使用することもできる。しかも、本発明では、消毒液の温度およびかかり湯に使用する温水の温度が特定の温度に設定されているため、消毒・洗浄効果を高めることができ、かつ、入浴者に不快感を与えることがない。
【００２５】
上記のように、本発明の洗浄設備１を使用した場合には、浴室３へ入室する入浴者の身体をその行動の流れにおいて消毒・洗浄するため、浴室３内への細菌類の持込みを確実に低減できる。その結果、浴槽５，６の湯の汚れも低減でき、浴槽内への殺菌剤の過剰な添加も抑制できる。また、浴室３内への細菌類の持込みが減るため、感染症の発生を抑制することもできる。
【００２６】
なお、本発明の洗浄設備は、図３に示すように、浴場の規模に応じて複数基、例えば２基を並列に配置することもできる。また、図５に示すように、浴場には、身体洗浄用の出口洗浄設備９が浴室３の出口に配置されていてもよい。出口洗浄設備９は、図４に示すように、洗浄エリアとして構成された洗浄設備であり、かかり湯としての温水を貯留する温水槽９１が設置されている。また、かかり湯としての温水を噴射するシャワー９３が壁に設けられている。符号９２，９４は、退室者がかかり湯を浴びる際に手荷物を置く棚を示している。そして、かかり湯に使用する温水としては、前述の洗浄設備１におけるかかり湯と同様に、逆浸透膜を通して得られた純水（ＲＯ水）が好ましい。公衆浴場に上記のような出口洗浄設備９を設けた場合には、家庭への細菌類の持ち帰りを減らすことができる。
【符号の説明】
【００２７】
１ ：入口洗浄設備
１Ａ：消毒エリア
１Ｂ：洗浄エリア
１ｓ：センサー
１０：シャワー
１１：足洗パン
１１ｐ：排水ピット
１２：消毒液タンク
１３：ポンプ
１４：棚
１５：棚
１６：温水槽
１６ｃ：給湯口
１７：棚
１８：桶
１９：シャワー
２ ：脱衣室
３ ：浴室
【技術分野】
【０００１】
本発明は、公衆浴場の入口洗浄設備に関するものであり、詳しくは、公衆浴場の浴室の入口に配置される身体洗浄用の洗浄設備に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
共同浴場などの公衆浴場では、浴槽の湯を循環利用するため、病原性大腸菌、レジオネラ属菌などによる感染症を予防する観点から、次亜塩素酸ナトリウム等の塩素系殺菌剤を添加して循環水や循環設備を消毒している。上記のような細菌類は、入浴者によって浴槽内へ持ち込まれるが、人体への影響から殺菌剤の過剰な添加は好ましくなく、斯かる観点からも、浴槽内への細菌の持込みを低減することが重要である。入浴前の身体の洗浄については、スイミング・プールを利用する場合と同様に、シャワーによる洗浄が考えられるが、実際、入浴者のモラルに期待している状況である。
【０００３】
ちなみに、スイミング・プールにおける身体洗浄のための技術としては、床に足洗槽が設けられた樋状の通路と、当該通路の左右の側壁に取り付けられたシャワー用の横向ノズルと、通路上部に配置され且つシャワー用の下向ノズルが取り付けられた門形フレームとからなるシャワー装置が開示されている（特許文献１参照）。また、左右に側壁を有する足洗パンと、当該足洗パンの上方に側壁に沿って設けられ且つスプレーノズルが取り付けられた給水管と、左右の側壁に跨がって足洗パンの上方に設けられ且つスプレーノズルが取り付けられたアーチ形給水管とからなるシャワーユニットが開示されている（特許文献２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平１０−３３１４６５号公報
【特許文献２】特開２００２−４５３０２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、公衆浴場においては、湯の温度が菌の繁殖に適した温度であり、しかも、スイミング・プールに比べ、浴槽の水量に対する利用者数が多いため、スイミング・プール以上に身体の前洗浄が必要である。特に、入浴前の身体の洗浄では、股間、足先などの下半身を十分に消毒・洗浄する必要がある。しかしながら、スイミング・プールに適用される身体洗浄技術では、水道水などを全身に浴びせるだけであり、十分な洗浄効果が得られない。また、浴場の場合は、洗髪しない場合は髪を濡らしたくないと言う要望もある。
【０００６】
本発明は、上記のような実情に鑑みてなされたものであり、その目的は、公衆浴場の浴室の入口に配置される身体洗浄用の洗浄設備であって、十分な消毒効果および洗浄効果を発揮し得る公衆浴場の入口洗浄設備を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、上記の課題を解決するため、消毒エリアと洗浄エリアとを順次に設け、消毒エリアを通過する際、消毒液のシャワーで入浴者の下半身を消毒し且つ消毒液が貯留された床の足洗パンで入浴者の足先を消毒すると共に、洗浄エリアにおいて、かかり湯により、身体に付着した消毒液を洗い流し且つ上半身を洗浄できるようにした。しかも、消毒液の温度およびかかり湯に使用する温水の温度を特定の温度に設定することにより、消毒・洗浄効果を高め、かつ、入浴者に不快感を与えないようにした。
【０００８】
すなわち、本発明の要旨は、公衆浴場の浴室の入口に配置される身体洗浄用の洗浄設備であって、浴室へ向かう通路として、消毒エリアと洗浄エリアとを順次に設けてなり、消毒エリアには、２５〜４０℃の消毒液を横方向に噴射するシャワーが高さ６０〜１２０ｃｍの範囲で壁に設けられ、かつ、シャワーから噴射された消毒液を貯留する深さ５〜３０ｃｍの足洗パンが床に設けられ、洗浄エリアには、かかり湯としての３０〜４２℃の温水を貯留する温水槽が設けられていることを特徴とする公衆浴場の入口洗浄設備に存する。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、消毒エリアにおいて、特定の温度の消毒液を噴射するシャワーにより入浴者の下半身を消毒し且つ消毒液を貯留する足洗パンにより入浴者の足先を消毒し、洗浄エリアにおいて、かかり湯により、身体に付着した消毒液を洗い流し且つ上半身を洗浄できるため、浴室内への細菌類の持込みを低減できる。その結果、浴槽内への殺菌剤の過剰な添加も抑制できる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明に係る入口洗浄設備の主要部の構造を示す斜視図である。
【図２】図１の入口洗浄設備における機器の配置および使用方法を示す平面図である。
【図３】本発明に係る入口洗浄設備の他の態様における機器の配置および使用方法を示す平面図である。
【図４】公衆浴場に設置される出口洗浄設備の一例を示す平面図である。
【図５】本発明に係る入口洗浄設備の設置例を示す公衆浴場の平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
本発明に係る公衆浴場の入口洗浄設備（以下、「洗浄設備」と略記する。）の実施形態を図面に基づいて説明する。
【００１２】
本発明の洗浄設備は、図５に符号１で示すように、公衆浴場の浴室３の入口に配置される身体洗浄用の設備である。図５は、大規模公衆浴場を例示したものであり、図５に示す公衆浴場は、脱衣室２及び浴室３とから主に構成されている。浴室３には、洗い場４、浴槽５が設置されている。また、浴室３には、サウナ室７及び水浴用の浴槽８が設けられている。更に、浴室３の庭として構築された屋外部分には、露天風呂を構成する浴槽６が設置されている。そして、浴槽６の周囲には、景観を高めるための人口の岩石が配置されている。
【００１３】
本発明の洗浄設備１は、図５に示すように、脱衣室２から浴室へ向かう通路として設置されており、図２に示すように、消毒エリア１Ａと洗浄エリア１Ｂとを順次に設けて構成されている。消毒エリア１Ａは、入浴者の身体、特に下半身および足先を消毒するために設けられており、洗浄エリア１Ｂは、身体に付着した消毒液を洗い流し、上半身を洗浄するために設けられている。
【００１４】
図１及び図２に示すように、消毒エリア１Ａには、２５〜４０℃の消毒液を横方向に噴射するシャワー１０が高さ６０〜１２０ｃｍの範囲で壁に設けられている。消毒液としては、通常、次亜塩素酸ナトリウム水溶液（塩素濃度１００〜６００ｐｐｍ）が使用される。シャワー１０は、水平方向に伸長された配管にスプレーノズルを取り付けて構成されており、シャワー１０の配管は、消毒エリア１Ａの左右の壁側に沿ってそれぞれ水平に配置されている。シャワー１０を構成するスプレーノズルは、１つの配管に対して３〜１０個取り付けられている。通常、左右のシャワー１０の間隔（配管の間隔）は、６０〜７０ｃｍ程度であり、１つのシャワー１０の長さ（スプレーノズルが取り付けられた配管の水平方向長さ）は１〜１．５ｍ程度である。
【００１５】
シャワー１０は、ポンプ１３の稼働および当該ポンプの下流部に取り付けられた電磁弁（図示省略）の作動により、立上がり配管（図１中の手前左側の縦配管）、床下配管（図１、図２中に仮想線で示した横配管）及び立上がり配管（図１中の手前右側の縦配管）を通じて消毒液タンク１２の消毒液を上記の水平な各配管に供給し、そして、スプレーノズルから噴射するようになされている。消毒液を貯留する消毒液タンク１２は、高濃度の消毒液原液を貯留する原液タンク（図示省略）と、希釈用の水を供給する給水管と、スクリュー等の攪拌機と、消毒液の濃度を検出する濃度計（図示省略）とを備えており、消毒液タンク１２おいては、後述する制御装置による消毒液原液および水の供給制御により、消毒液の貯液量と濃度を一定に維持するようになされている。消毒液タンク１２は、予め一定濃度に調整された消毒液を残量に応じて供給するように構成されていてもよい。なお、シャワー１０を作動させるための上記の電磁弁は、後述する入口のセンサー１ｓの信号に基づいて制御されるようになされている。
【００１６】
シャワー１０の設置高さ（スプレーノズルの高さ）は、通常は６０〜１２０ｃｍの範囲、好ましくは９０〜１００ｃｍの範囲で設定される。シャワー１０の高さを上記の範囲で設定することにより、身体の股間や臀部を直接消毒、洗浄することができ、浴室３内への細菌や汚れの持込みを確実に低減できる。シャワー１０から噴射される消毒液の温度は、消毒エリア１Ａを通過する入浴者に不快感を与えないため、通常は２５〜４０℃、好ましくは３０〜３５℃に設定される。上記の消毒液タンク１２には、ヒーター及び温度計（図示省略）が付設されており、検出温度に基づいてヒーターの通電を制御することにより、消毒液タンク１２においては、消毒液の温度が一定、例えば３０〜３５℃に保持するようになされている。
【００１７】
消毒エリア１Ａには、シャワーから噴射された消毒液を貯留する深さ５〜３０ｃｍの足洗パン１１が床に設けられている。足洗パン１１は、上記のシャワー１０から噴射された消毒液を一時的に貯留し、消毒エリア１Ａを通過する入浴者の足を消毒するため、床に落し込まれた構造で設けられている。足洗パン１１に貯留される消毒液の温度は、シャワー１０から噴射される消毒液の温度調節により、２０〜３５℃に設定されている。足洗パン１１の深さは、通常は５〜３０ｃｍ、好ましくは１０〜２０ｃｍに設定されている。足洗パン１１の深さを上記の範囲に設定することにより、歩行を困難にすることなく且つ足先の消毒、洗浄を効果的に行うことができる。なお、足洗パン１１の消毒液は、後述する洗浄エリア１Ｂの床の排水ピット１１ｐを通じて系外に排出されて入れ替るようになされている。
【００１８】
また、消毒エリア１Ａの一方の壁には、高さ１２０〜１５０ｃｍの位置に棚１４が設けられている。すなわち、棚１４は、上記のシャワー１０よりも高い位置に配置されている。斯かる棚１４は、入浴者が消毒エリア１Ａを通過する際、浴室３へ持ち込む手荷物を濡らさないように一時的に載せておくためのものである。更に、図１に示すように、棚１４の下方に棚１５が設けられ、入浴者が手先や上半身を別途消毒するための消毒液の容器が載せられていてもよい。
【００１９】
図１及び図２に示すように、洗浄エリア１Ｂには、かかり湯としての３０〜４２℃の温水を貯留する温水槽１６が設けられている。温水槽１６の温水としては、洗浄効果を高めるため、例えば逆浸透膜を通して得られた純水（ＲＯ水）、または、硬度８０以下のいわゆる軟水が使用される。特に、洗浄効果の観点からは上記の純水が好ましい。斯かる純水（ＲＯ水）は、以下の純水製造装置によって製造することができる。
【００２０】
すなわち、純水製造装置は、井戸水などの原水を貯留する原水槽と、粒状の塩を収容した殺菌用の塩素添加装置と、砂濾過器、無撚糸膜フィルター及び粒状炭素が収容されたカーボンフィルターを配置してなる前処理装置と、中空糸膜、スパイラル膜またはチューブラー膜からなる逆浸透膜モジュールと、逆浸透膜モジュールを透過させて得られた水を貯留する濾過水槽とから主として構成されている。そして、原水槽の水をポンプで塩素添加装置、前処理装置に供給することにより、殺菌処理を施し且つ異物や臭気を除去した後、更にポンプで逆浸透膜モジュールに供給することにより、塩類やその他の不純物、細菌類が完全に除去された純水を製造し、濾過水槽に蓄えるようになされている。上記のような純水製造装置の基本的な構造は周知であり、特開２００７−３２６０２９、特開２００８−１６１８１８、特開２０１０−０８２６１等に開示されている。
【００２１】
温水槽１６は、洗浄エリア１Ｂの一方の壁側に沿って設けられている。温水槽１６は、幅２５〜４０ｃｍ程度、長さ８０〜１５０ｃｍ程度、上端高さ８０〜１００ｃｍ程度の細長の箱状の水槽であり、その貯水量は８０〜３００リットル程度とされている。温水槽１６の湯の温度は、入浴者に不快感を与えないため、通常は３０〜４２℃、好ましくは３５〜４０℃に設定されている。温水槽１６は、上記の純水製造装置で製造され且つ加熱器で一定温度に加熱された温水が当該温水槽内の給湯口（図示省略）及び壁側の給湯口１６ｃを通じて供給されるように構成されている。
【００２２】
また、図２に示すように、洗浄エリア１Ｂには、かかり湯としての３０〜４２℃の温水を噴射するシャワー１９が壁に設けられていてもよい。シャワー１９は、温水槽１６に供給する温水の一部、すなわち、純水製造装置で製造されて加熱器で一定温度に加熱された温水を噴射するようになされている。更に、図１及び図２に示すように、洗浄エリア１Ｂの壁には、高さ１２０〜１５０ｃｍの位置に棚１７が設けられている。斯かる棚１７は、入浴者が洗浄エリア１Ｂを通過する際、浴室３へ持ち込む手荷物を濡らさないように一時的に載せておくためのものである。なお、洗浄エリア１Ｂの床には、足洗パン１１から溢れた消毒液、かかり湯として使用した水、温水槽１６から溢れた水を系外に排出する排水ピット１１ｐが温水槽１６の下方に設けられている。
【００２３】
本発明の洗浄設備１は、別途設けられた制御装置（図示省略）及び入口のセンサー１ｓによって作動するように構成されている。すなわち、図１及び図２に示すように、消毒エリア１Ａの入口には、光源および受光部からなる光センサー等のセンサー１ｓが付設されており、シャワー１０は、消毒エリア１Ａに入った入浴者をセンサー１ｓで検出し、制御装置の働きで作動するようになされている。
【００２４】
具体的には、洗浄設備１においては、入浴者が消毒エリア１Ａに入るとシャワー１０が作動し、消毒エリア１Ａを通過する際、シャワー１０により入浴者の下半身を消毒することができる。また、消毒液が貯留された床の足洗パン１１により入浴者の足先を消毒することができる。更に、入浴者は、洗浄エリア１Ｂにおいて、温水槽１６の温水を使用し、かかり湯によって身体に付着した消毒液や汚れを洗い流し且つ上半身を洗浄することができる。かかり湯としてシャワー１９を使用することもできる。しかも、本発明では、消毒液の温度およびかかり湯に使用する温水の温度が特定の温度に設定されているため、消毒・洗浄効果を高めることができ、かつ、入浴者に不快感を与えることがない。
【００２５】
上記のように、本発明の洗浄設備１を使用した場合には、浴室３へ入室する入浴者の身体をその行動の流れにおいて消毒・洗浄するため、浴室３内への細菌類の持込みを確実に低減できる。その結果、浴槽５，６の湯の汚れも低減でき、浴槽内への殺菌剤の過剰な添加も抑制できる。また、浴室３内への細菌類の持込みが減るため、感染症の発生を抑制することもできる。
【００２６】
なお、本発明の洗浄設備は、図３に示すように、浴場の規模に応じて複数基、例えば２基を並列に配置することもできる。また、図５に示すように、浴場には、身体洗浄用の出口洗浄設備９が浴室３の出口に配置されていてもよい。出口洗浄設備９は、図４に示すように、洗浄エリアとして構成された洗浄設備であり、かかり湯としての温水を貯留する温水槽９１が設置されている。また、かかり湯としての温水を噴射するシャワー９３が壁に設けられている。符号９２，９４は、退室者がかかり湯を浴びる際に手荷物を置く棚を示している。そして、かかり湯に使用する温水としては、前述の洗浄設備１におけるかかり湯と同様に、逆浸透膜を通して得られた純水（ＲＯ水）が好ましい。公衆浴場に上記のような出口洗浄設備９を設けた場合には、家庭への細菌類の持ち帰りを減らすことができる。
【符号の説明】
【００２７】
１ ：入口洗浄設備
１Ａ：消毒エリア
１Ｂ：洗浄エリア
１ｓ：センサー
１０：シャワー
１１：足洗パン
１１ｐ：排水ピット
１２：消毒液タンク
１３：ポンプ
１４：棚
１５：棚
１６：温水槽
１６ｃ：給湯口
１７：棚
１８：桶
１９：シャワー
２ ：脱衣室
３ ：浴室
【特許請求の範囲】
【請求項１】
公衆浴場の浴室の入口に配置される身体洗浄用の洗浄設備であって、浴室へ向かう通路として、消毒エリアと洗浄エリアとを順次に設けてなり、消毒エリアには、２５〜４０℃の消毒液を横方向に噴射するシャワーが高さ６０〜１２０ｃｍの範囲で壁に設けられ、かつ、シャワーから噴射された消毒液を貯留する深さ５〜３０ｃｍの足洗パンが床に設けられ、洗浄エリアには、かかり湯としての３０〜４２℃の温水を貯留する温水槽が設けられていることを特徴とする公衆浴場の入口洗浄設備。
【請求項２】
洗浄エリアには、かかり湯としての３０〜４２℃の温水を噴射するシャワーが壁に設けられている請求項１に記載の入口洗浄設備。
【請求項３】
消毒エリア及び洗浄エリアの各壁には、高さ１２０〜１５０ｃｍの位置に荷物棚が設けられている請求項１又は２に記載の入口洗浄設備。
【請求項４】
かかり湯としての温水が、逆浸透膜を通して得られた純水である請求項１〜３の何れかに記載の入口洗浄設備。
【請求項１】
公衆浴場の浴室の入口に配置される身体洗浄用の洗浄設備であって、浴室へ向かう通路として、消毒エリアと洗浄エリアとを順次に設けてなり、消毒エリアには、２５〜４０℃の消毒液を横方向に噴射するシャワーが高さ６０〜１２０ｃｍの範囲で壁に設けられ、かつ、シャワーから噴射された消毒液を貯留する深さ５〜３０ｃｍの足洗パンが床に設けられ、洗浄エリアには、かかり湯としての３０〜４２℃の温水を貯留する温水槽が設けられていることを特徴とする公衆浴場の入口洗浄設備。
【請求項２】
洗浄エリアには、かかり湯としての３０〜４２℃の温水を噴射するシャワーが壁に設けられている請求項１に記載の入口洗浄設備。
【請求項３】
消毒エリア及び洗浄エリアの各壁には、高さ１２０〜１５０ｃｍの位置に荷物棚が設けられている請求項１又は２に記載の入口洗浄設備。
【請求項４】
かかり湯としての温水が、逆浸透膜を通して得られた純水である請求項１〜３の何れかに記載の入口洗浄設備。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【公開番号】特開２０１２−１５８９３５（Ｐ２０１２−１５８９３５Ａ）
【公開日】平成２４年８月２３日（２０１２．８．２３）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−２０１００（Ｐ２０１１−２０１００）
【出願日】平成２３年２月１日（２０１１．２．１）
【出願人】（３９６０２０３０５）株式会社イフェクト (6)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年８月２３日（２０１２．８．２３）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年２月１日（２０１１．２．１）
【出願人】（３９６０２０３０５）株式会社イフェクト (6)
【Ｆターム（参考）】
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