共役オレフィンのホモ重合又は共重合方法
【課題】エチレン系不飽和付加モノマーの重合又は共重合に適した新たな触媒の提供。
【解決手段】Ａ）式３，４及び５の金属錯体とＢ）特定の活性剤との反応生成物である、エチレン系不飽和付加重合性モノマーの重合又は共重合の触媒に適した、金属錯体触媒を開示する。
【解決手段】Ａ）式３，４及び５の金属錯体とＢ）特定の活性剤との反応生成物である、エチレン系不飽和付加重合性モノマーの重合又は共重合の触媒に適した、金属錯体触媒を開示する。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ａ）式３、４及び５：
【化１】
［式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10及びＸ2は、それぞれ独立に、水素、ハロゲン原子又は１〜８０個（水素は数えずに）の原子を有する基、即ち、ヒドロカルビル、ヒドロカルビルシリル、ハロ−置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルオキシ−置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルアミノ−置換ヒドロカルビル又はヒドロカルビルシリル−置換ヒドロカルビルであり；
ＭIはランタン、セリウム、プラセオジム又はプロメチウムであり；
ＭIIはリチウム、ナトリウム、カリウム又はマグネシウムであり；
Ｎは窒素原子であり；
Ｘ1はフッ化物、塩化物、臭化物又はヨウ化物であり；
ＤはＴＨＦ、ＤＭＥ又はＥｔ2Ｏであり；
ｔは０、１、２、３、４、５又は６の数であり；
ｓは０、１又は２の数であり；
ｏは１又は２の数であり；
ｐは１又は２の数であり；
ｋは０、１、２、３又は４の数であり；
ｉ、ｉｉは０、１又は２の数であって、ｉ及びｉｉの合計が１、２又は３の数の１つを表す］の金属錯体；並びに
Ｂ）ａ）Ｃ1〜Ｃ30有機硼素化合物又は有機アルミニウム化合物
ｂ）ポリマー又はオリゴマーアルモキサン
ｃ）非ポリマー相溶性、非配位性、イオン形成性化合物、並びに
ｄ）ヒドロカルビルナトリウム、ヒドロカルビルリチウム、ヒドロカルビル亜鉛、ヒドロカルビルマグネシウムハロゲン化物及びジヒドロカルビルマグネシウム
から選ばれる少なくとも１種の活性剤
のＡ）及びＢ）を−７８℃〜２５０℃の温度で反応媒体中で一緒にした反応生成物である、エチレン系不飽和付加モノマーの重合又は共重合を触媒するのに適した金属錯体触媒。
【請求項２】
反応媒体が、温度−５℃〜１６０℃の、脂肪族炭化水素、芳香族炭化水素及びハロ炭化水素の少なくとも１種から選ばれたものである請求項１に記載の触媒。
【請求項３】
ＭIがネオジムであり、ＭIIがリチウム、ナトリウム又はカリウムである請求項１に記載の触媒。
【請求項４】
担体を更に含む請求項１に記載の触媒。
【請求項５】
担体がクレイ、シリカ、層状珪酸塩、アルミナ、活性炭、グラファイト及びカーボンブラックの少なくとも一つから選ばれる請求項４に記載の触媒。
【請求項６】
活性剤が
ａ）各アルキル基の炭素数が１〜４であるトリアルキルアルミニウム化合物及び
ｂ）それぞれ炭素数が１〜２０のヒドロカルビル基を有する、ハロゲン化トリ（ヒドロカルビル）硼素化合物又はハロゲン化テトラキス（ヒドロカルビル）硼素もしくはアルミニウム化合物
の組合せを含む請求項１に記載の触媒。
【請求項７】
活性剤が
ａ）トリス（ペンタフルオロフェニル）ボラン、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート又はテトラキス（３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル）ボレート及び
ｂ）ポリマー又はオリゴマーアルモキサン
の組合せを含む請求項１に記載の触媒。
【請求項８】
活性剤が
ａ）トリアルキルアルミニウム又はジアルキルアルミニウムヒドリド及び
ｂ）三フッ化硼素、三塩化硼素、三臭化硼素、三フッ化アルミニウム、三塩化アルミニウム、三臭化アルミニウム、三フッ化スカンジウム又は四フッ化チタン
の組合せを含む請求項１に記載の触媒。
【請求項９】
下記式：
【化２】
［式中、ＭIは元素周期表の第３族、第４族若しくは第５族の金属、ランタニド金属又はアクチニド金属であるが、但し、金属錯体が式Ｉａ又はＩｂである場合にはＭIはランタン、セリウム、プラセオジム、ネオジム、プロメチウム若しくは元素周期表の第３族金属又はアクチニド元素であり；
ＭIIは元素周期表の第１族又は第２族の一つの金属であり；
Ｔは窒素又は燐であり；
Ｐは炭素原子、窒素原子又は燐原子であり；
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ5及びＲ6は、それぞれ独立に、水素、ハロゲン原子又は１〜８０個（水素を数えずに）の原子を有する、ヒドロカルビル、ヒドロカルビルシリル、ハロ−置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルオキシ−置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルアミノ−置換ヒドロカルビル及びヒドロカルビルシリル−置換ヒドロカルビルからなる群から選ばれる基であり；且つ基Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は互いに結合でき；
Ｙは２つの基を結合する二価架橋基であり、Ｙは１〜８０個（水素を数えずに）の原子を有する基、即ち、ヒドロカルビル、ヒドロカルビルシリル、ハロ−置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルオキシ−置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルアミノ−置換ヒドロカルビル又はヒドロカルビルシリル−置換ヒドロカルビルであり；
Ｘ1、Ｘ2は、それぞれ独立して、６０個以下の原子を有するアニオン性配位子基であるが、但し、Ｘ1又はＸ2は、Ｍにπ結合した非局在化芳香族基又はＭにπ結合した非局在化アリル基ではなく；
Ｄは、それぞれ独立に、３０個以下の非水素原子を有する中性ルイス塩基配位子であり；
ｓは０、１、３又は４の数であり；
ｏは１又は２の数であり；
ｋは０、１、２、３又は４の数であり；
ｉ，ｉｉは、それぞれ独立に、０、１、２、３又は４の数であり；
ｐは１又は２であり；
ｍは０又は１の数であり；
ａ、ｂ、ｃ、ｄ及びｅは、それぞれ独立に、１、２、３又は４の数であり；
ｔは０〜５の数の１つであり；且つ
ｙは１〜２０の数の１つである］
の一つに係る金属錯体。
【請求項１】
Ａ）式３、４及び５：
【化１】
［式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10及びＸ2は、それぞれ独立に、水素、ハロゲン原子又は１〜８０個（水素は数えずに）の原子を有する基、即ち、ヒドロカルビル、ヒドロカルビルシリル、ハロ−置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルオキシ−置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルアミノ−置換ヒドロカルビル又はヒドロカルビルシリル−置換ヒドロカルビルであり；
ＭIはランタン、セリウム、プラセオジム又はプロメチウムであり；
ＭIIはリチウム、ナトリウム、カリウム又はマグネシウムであり；
Ｎは窒素原子であり；
Ｘ1はフッ化物、塩化物、臭化物又はヨウ化物であり；
ＤはＴＨＦ、ＤＭＥ又はＥｔ2Ｏであり；
ｔは０、１、２、３、４、５又は６の数であり；
ｓは０、１又は２の数であり；
ｏは１又は２の数であり；
ｐは１又は２の数であり；
ｋは０、１、２、３又は４の数であり；
ｉ、ｉｉは０、１又は２の数であって、ｉ及びｉｉの合計が１、２又は３の数の１つを表す］の金属錯体；並びに
Ｂ）ａ）Ｃ1〜Ｃ30有機硼素化合物又は有機アルミニウム化合物
ｂ）ポリマー又はオリゴマーアルモキサン
ｃ）非ポリマー相溶性、非配位性、イオン形成性化合物、並びに
ｄ）ヒドロカルビルナトリウム、ヒドロカルビルリチウム、ヒドロカルビル亜鉛、ヒドロカルビルマグネシウムハロゲン化物及びジヒドロカルビルマグネシウム
から選ばれる少なくとも１種の活性剤
のＡ）及びＢ）を−７８℃〜２５０℃の温度で反応媒体中で一緒にした反応生成物である、エチレン系不飽和付加モノマーの重合又は共重合を触媒するのに適した金属錯体触媒。
【請求項２】
反応媒体が、温度−５℃〜１６０℃の、脂肪族炭化水素、芳香族炭化水素及びハロ炭化水素の少なくとも１種から選ばれたものである請求項１に記載の触媒。
【請求項３】
ＭIがネオジムであり、ＭIIがリチウム、ナトリウム又はカリウムである請求項１に記載の触媒。
【請求項４】
担体を更に含む請求項１に記載の触媒。
【請求項５】
担体がクレイ、シリカ、層状珪酸塩、アルミナ、活性炭、グラファイト及びカーボンブラックの少なくとも一つから選ばれる請求項４に記載の触媒。
【請求項６】
活性剤が
ａ）各アルキル基の炭素数が１〜４であるトリアルキルアルミニウム化合物及び
ｂ）それぞれ炭素数が１〜２０のヒドロカルビル基を有する、ハロゲン化トリ（ヒドロカルビル）硼素化合物又はハロゲン化テトラキス（ヒドロカルビル）硼素もしくはアルミニウム化合物
の組合せを含む請求項１に記載の触媒。
【請求項７】
活性剤が
ａ）トリス（ペンタフルオロフェニル）ボラン、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート又はテトラキス（３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル）ボレート及び
ｂ）ポリマー又はオリゴマーアルモキサン
の組合せを含む請求項１に記載の触媒。
【請求項８】
活性剤が
ａ）トリアルキルアルミニウム又はジアルキルアルミニウムヒドリド及び
ｂ）三フッ化硼素、三塩化硼素、三臭化硼素、三フッ化アルミニウム、三塩化アルミニウム、三臭化アルミニウム、三フッ化スカンジウム又は四フッ化チタン
の組合せを含む請求項１に記載の触媒。
【請求項９】
下記式：
【化２】
［式中、ＭIは元素周期表の第３族、第４族若しくは第５族の金属、ランタニド金属又はアクチニド金属であるが、但し、金属錯体が式Ｉａ又はＩｂである場合にはＭIはランタン、セリウム、プラセオジム、ネオジム、プロメチウム若しくは元素周期表の第３族金属又はアクチニド元素であり；
ＭIIは元素周期表の第１族又は第２族の一つの金属であり；
Ｔは窒素又は燐であり；
Ｐは炭素原子、窒素原子又は燐原子であり；
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ5及びＲ6は、それぞれ独立に、水素、ハロゲン原子又は１〜８０個（水素を数えずに）の原子を有する、ヒドロカルビル、ヒドロカルビルシリル、ハロ−置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルオキシ−置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルアミノ−置換ヒドロカルビル及びヒドロカルビルシリル−置換ヒドロカルビルからなる群から選ばれる基であり；且つ基Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は互いに結合でき；
Ｙは２つの基を結合する二価架橋基であり、Ｙは１〜８０個（水素を数えずに）の原子を有する基、即ち、ヒドロカルビル、ヒドロカルビルシリル、ハロ−置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルオキシ−置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルアミノ−置換ヒドロカルビル又はヒドロカルビルシリル−置換ヒドロカルビルであり；
Ｘ1、Ｘ2は、それぞれ独立して、６０個以下の原子を有するアニオン性配位子基であるが、但し、Ｘ1又はＸ2は、Ｍにπ結合した非局在化芳香族基又はＭにπ結合した非局在化アリル基ではなく；
Ｄは、それぞれ独立に、３０個以下の非水素原子を有する中性ルイス塩基配位子であり；
ｓは０、１、３又は４の数であり；
ｏは１又は２の数であり；
ｋは０、１、２、３又は４の数であり；
ｉ，ｉｉは、それぞれ独立に、０、１、２、３又は４の数であり；
ｐは１又は２であり；
ｍは０又は１の数であり；
ａ、ｂ、ｃ、ｄ及びｅは、それぞれ独立に、１、２、３又は４の数であり；
ｔは０〜５の数の１つであり；且つ
ｙは１〜２０の数の１つである］
の一つに係る金属錯体。
【公開番号】特開２０１１−９３９３４（Ｐ２０１１−９３９３４Ａ）
【公開日】平成２３年５月１２日（２０１１．５．１２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−２０７７７（Ｐ２０１１−２０７７７）
【出願日】平成２３年２月２日（２０１１．２．２）
【分割の表示】特願２００６−５０３７１６（Ｐ２００６−５０３７１６）の分割
【原出願日】平成１６年２月１８日（２００４．２．１８）
【出願人】（５０２１４１０５０）ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー (1,383)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年５月１２日（２０１１．５．１２）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年２月２日（２０１１．２．２）
【分割の表示】特願２００６−５０３７１６（Ｐ２００６−５０３７１６）の分割
【原出願日】平成１６年２月１８日（２００４．２．１８）
【出願人】（５０２１４１０５０）ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー (1,383)
【Ｆターム（参考）】
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