処理装置、処理方法、コンピュータプログラムおよび記憶媒体
【課題】処理槽から引き上げられた被処理体から立ち上る処理液の蒸気が、搬送駆動部の設けられた隔壁の他方側に侵入することを防止すること。
【解決手段】処理装置は、間隙２５を有する隔壁２８と、隔壁２８の一方側に配置され、被処理体Ｗｇを処理する処理液Ｃ１が貯留された処理槽３１と、隔壁２８の間隙２５を通過可能な支持部２１と、隔壁２８の他方側に設けられ支持部２１を移動させる搬送駆動部２３と、を有する搬送機構と、被処理体Ｗｇを、処理液Ｃ１内から取り出して引き上げ位置に位置づける上下方向移動部３２と、を備えている。処理槽３１の上方には、上方から第一気体を供給する第一気体供給部２７が設けられている。処理装置は、引き上げ位置に位置づけられた被処理体Ｗｇに向かって第二気体を噴出する気体噴出部１０も備えている。
【解決手段】処理装置は、間隙２５を有する隔壁２８と、隔壁２８の一方側に配置され、被処理体Ｗｇを処理する処理液Ｃ１が貯留された処理槽３１と、隔壁２８の間隙２５を通過可能な支持部２１と、隔壁２８の他方側に設けられ支持部２１を移動させる搬送駆動部２３と、を有する搬送機構と、被処理体Ｗｇを、処理液Ｃ１内から取り出して引き上げ位置に位置づける上下方向移動部３２と、を備えている。処理槽３１の上方には、上方から第一気体を供給する第一気体供給部２７が設けられている。処理装置は、引き上げ位置に位置づけられた被処理体Ｗｇに向かって第二気体を噴出する気体噴出部１０も備えている。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被処理体を処理する処理装置と、当該処理装置を用いた処理方法と、当該処理方法を実行させるコンピュータプログラムと、当該コンピュータプログラムを格納した記憶媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、装置内空間を処理室と駆動室とに仕切り、かつ開口を有する隔壁と、処理室内に設けられて処理液によって基板に処理を施す処理槽と、基板（被処理体）を保持して隔壁の開口を通じて処理室内に配される基板保持部及び駆動室に配されて開口が存在する範囲で基板保持部を移動させて基板保持部に保持した基板を処理槽に搬送する駆動部を有するハンドリング手段と、装置内空間に気流を流下させるとともに隔壁に沿って他の部分よりも高圧力の気流を流下させる気流流下手段とを備えた基板処理装置（処理装置）が知られている（特許文献１参照）。
【特許文献１】特開平９−２８３４８２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
上述のような従来技術では、処理室から駆動室への処理液の蒸気の侵入を防止するために、気流流下手段によって、装置内空間に気流を流下させて隔壁に沿って気流を流下させている。しかしながら、例えば高温に加熱した処理液を用いた場合には、処理槽から引き上げられた基板から立ち上る処理液の蒸気が、処理室から駆動室へ侵入することを防止することができず、十分なものではない。
【０００４】
本発明は、このような点を考慮してなされたものであり、処理槽から引き上げられた被処理体から立ち上る処理液の蒸気が、搬送駆動部の設けられた隔壁の他方側に侵入することを防止することができる処理装置と、当該処理装置を用いた処理方法と、当該処理方法を実行させるコンピュータプログラムと、当該コンピュータプログラムを格納した記憶媒体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明による処理装置は、
間隙を有する隔壁と、
前記隔壁の一方側に配置され、被処理体を処理する処理液が貯留された処理槽と、
前記隔壁の前記間隙を通過可能な支持部と、該隔壁の他方側に設けられ該支持部を移動させる搬送駆動部と、を有する搬送機構と、
前記被処理体を、該処理液内から取り出して引き上げ位置に位置づける上下方向移動部と、
前記処理槽の上方から第一気体を供給する第一気体供給部と、
引き上げ位置に位置づけられた前記被処理体に向かって第二気体を噴出する気体噴出部と、
を備えている。
【０００６】
本発明による処理装置において、
前記気体噴出部は、前記被処理体が前記上下方向移動部によって前記処理液内から取り出される前から前記第二気体を噴出し始めてもよい。
【０００７】
本発明による処理装置において、
前記気体噴出部は、前記第二気体として、乾燥された空気または乾燥された不活性ガスを噴出してもよい。
【０００８】
本発明による処理装置において、
前記隔壁の一方側に設けられ、該隔壁の一方側の雰囲気を吸引して排出する排出部をさらに備え、
前記排出部は、前記上下方向移動部によって前記引き上げ位置に位置づけられた前記被処理体の下端よりも上方に位置づけられていてもよい。
【０００９】
本発明による処理装置において、
前記排出部は、前記上下方向移動部によって前記引き上げ位置に位置づけられた前記被処理体の中心よりも上方に位置づけられていてもよい。
【００１０】
本発明による処理装置において、
前記排出部は、前記上下方向移動部によって前記引き上げ位置に位置づけられた前記被処理体の上端よりも上方に位置づけられていてもよい。
【００１１】
本発明による処理装置において、
前記排出部は、前記被処理体が前記上下方向移動部によって前記処理液内から取り出されている間、または、前記処理液内から取り出された後で、前記隔壁の一方側の雰囲気を吸引して排出し始めてもよい。
【００１２】
本発明による処理装置において、
前記気体噴出部は、下方または斜め下方に向かって第二気体を噴出し、
前記排出部は、前記気体噴出部よりも上方に位置づけられていてもよい。
【００１３】
本発明による処理装置において、
前記排出部は、前記気体噴出部が第二気体を噴出し始めた後で、前記隔壁の一方側の雰囲気を吸引して排出し始めてもよい。
【００１４】
本発明による処理装置において、
前記第一気体供給部から供給される第一気体の流量は調整可能となっており、
前記第一気体供給部から供給される第一気体の流量は、前記気体噴出部が第二気体を噴出する際において、該気体噴出部が第二気体を噴出し始める前と比較して減少されてもよい。
【００１５】
本発明による処理装置において、
前記第一気体供給部は、前記気体噴出部が第二気体を噴出する際に第一気体の供給を停止してもよい。
【００１６】
本発明による処理方法は、
間隙を有する隔壁と、前記隔壁の一方側に配置されて被処理体を処理する処理液が貯留された処理槽と、前記隔壁の前記間隙を通過可能な支持部と該隔壁の他方側に設けられて該支持部を移動させる搬送駆動部とを有する搬送機構とを含む処理装置を用いた処理方法において、
第一気体供給部によって、前記処理槽の上方から第一気体を供給する工程と、
前記搬送駆動部によって、前記支持部上に載置された前記被処理体を移動させる工程と、
上下方向移動部によって、前記支持部から前記被処理体を受け取り、該被処理体を前記処理液内に浸漬させる工程と、
前記上下方向移動部によって、前記被処理体を前記処理液から取り出して引き上げ位置に位置づける工程と、
気体噴出部によって、引き上げ位置に位置づけられた前記被処理体に向かって第二気体を噴出する工程と、
を備えている。
【００１７】
本発明によるコンピュータプログラムは、
間隙を有する隔壁と、前記隔壁の一方側に配置されて被処理体を処理する処理液が貯留された処理槽と、前記隔壁の前記間隙を通過可能な支持部と該隔壁の他方側に設けられて該支持部を移動させる搬送駆動部とを有する搬送機構とを含む処理装置に処理方法を実行させるためのコンピュータプログラムにおいて、
前記処理方法が、
第一気体供給部によって、前記処理槽の上方から第一気体を供給する工程と、
前記搬送駆動部によって、前記支持部上に載置された前記被処理体を移動させる工程と、
上下方向移動部によって、前記支持部から前記被処理体を受け取り、該被処理体を前記処理液内に浸漬させる工程と、
前記上下方向移動部によって、前記被処理体を前記処理液から取り出して引き上げ位置に位置づける工程と、
気体噴出部によって、引き上げ位置に位置づけられた前記被処理体に向かって第二気体を噴出する工程と、
を備えた方法からなっている。
【００１８】
本発明による記憶媒体は、
間隙を有する隔壁と、前記隔壁の一方側に配置されて被処理体を処理する処理液が貯留された処理槽と、前記隔壁の前記間隙を通過可能な支持部と該隔壁の他方側に設けられて該支持部を移動させる搬送駆動部とを有する搬送機構とを含む処理装置に処理方法を実行させるためのコンピュータプログラムを格納した記憶媒体において、
前記処理方法が、
第一気体供給部によって、前記処理槽の上方から第一気体を供給する工程と、
前記搬送駆動部によって、前記支持部上に載置された前記被処理体を移動させる工程と、
上下方向移動部によって、前記支持部から前記被処理体を受け取り、該被処理体を前記処理液内に浸漬させる工程と、
前記上下方向移動部によって、前記被処理体を前記処理液から取り出して引き上げ位置に位置づける工程と、
気体噴出部によって、引き上げ位置に位置づけられた前記被処理体に向かって第二気体を噴出する工程と、
を備えた方法からなっている。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によれば、第一気体供給部によって処理槽の上方から供給される第一気体とは別に、気体噴出部によって、引き上げ位置に位置づけられた被処理体に向かって第二気体を噴出することができる。このため、処理槽から引き上げられた被処理体から立ち上る処理液の蒸気が、搬送駆動部の設けられた隔壁の他方側に侵入することを防止することができる。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
実施の形態
以下、本発明に係る処理装置、処理方法、コンピュータプログラムおよび記憶媒体の実施の形態について、図面を参照して説明する。ここで、図１乃至図６は本発明の実施の形態を示す図である。
【００２１】
図１に示すように、処理装置は、筐体１と、筐体１内に設けられ、複数のウエハ（以下、ウエハ群Ｗｇとも呼ぶ）（図３参照）が収納されているキャリア（図示せず）を搬入出するためのキャリア搬入出部（図示せず）と、当該キャリア搬入出部からキャリアを受け取って保管するキャリアストック部（図示せず）と、処理するときにキャリアストック部に保管されたウエハ群Ｗｇが移動されるキャリア搬入出ステージ３と、当該キャリア搬入出ステージ３からウエハ群Ｗｇを取り出す第一搬送機構５と、当該第一搬送機構５からウエハ群Ｗｇを受け取るローダ部７１と、を備えている。このうち、キャリア搬入出ステージ３は、第一搬送機構５が接近すると開状態となり、第一搬送機構５が離れると閉状態となるキャリア搬入扉３ａを有している。
【００２２】
また、図１および図２に示すように、処理装置は、第一薬液Ｃ１でウエハを処理する第一薬液処理部３０と、第二薬液Ｃ２でウエハを処理する第二薬液処理部３５とを有する薬液処理機構と、第一リンス液Ｒ１でウエハを処理する第一リンス液処理部４０と、第二リンス液Ｒ２でウエハを処理する第二リンス液処理部４５とを有するリンス液処理機構と、を備えている。
【００２３】
このうち、第一薬液処理部３０は、第一薬液Ｃ１を貯留した第一薬液槽（処理槽）３１と、後述する第二搬送機構（搬送機構）２０からウエハ群Ｗｇを受け取って第一薬液槽３１内にウエハ群Ｗｇを搬送する第一薬液昇降機構（上下方向移動部）３２とを有している。また、第二薬液処理部３５は、第二薬液Ｃ２を貯留した第二薬液槽３６と、第二搬送機構２０からウエハ群Ｗｇを受け取って第二薬液槽３６内にウエハ群Ｗｇを搬送する第二薬液昇降機構３７とを有している。
【００２４】
また、第一リンス液処理部４０は、第一リンス液Ｒ１を貯留した第一リンス液槽４１と、第二搬送機構２０からウエハ群Ｗｇを受け取って第一リンス液槽４１内にウエハ群Ｗｇを搬送する第一リンス液昇降機構４２とを有している。また、第二リンス液処理部４５は、第二リンス液Ｒ２を貯留した第二リンス液槽４６と、第二搬送機構２０からウエハ群Ｗｇを受け取って第二リンス液槽４６内にウエハ群Ｗｇを搬送する第二リンス液昇降機構４７とを有している。
【００２５】
ところで、本願において薬液としては、例えば、濃フッ酸、希フッ酸、アンモニア過水(ＳＣ１)、塩酸過水(ＳＣ２)、リン酸、ＳＰＭ（Ｈ２ＳＯ４とＨ２Ｏ２の混合液）などを用いることができる。他方、リンス液としては、例えば、純水（ＤＩＷ）、オゾン水などを用いることができる。この点、本実施の形態では、第一薬液Ｃ１として高温（約１３０℃）のＳＰＭ（Ｈ２ＳＯ４とＨ２Ｏ２の混合液）を用い、第二薬液Ｃ２としてＳＣ１を用い、第一リンス液Ｒ１、第二リンス液Ｒ２および後述する第三リンス液Ｒ３として純水を用いた態様によって、以下説明する。なお、高温の処理液としては、約１３０℃のＳＰＭ以外にも、約７０℃のＳＣ１や、約１５０℃のリン酸などを用いることができる。
【００２６】
図１に示すように、処理装置は、ローダ部７１に載置されたウエハ群Ｗｇを当該ローダ部７１から持ち上げるとともに、搬送機構洗浄部６５、第一薬液処理部３０、第一リンス液処理部４０、第二薬液処理部３５、第二リンス液処理部４５および後述する乾燥部６０間で、当該ウエハ群Ｗｇを移動させる第二搬送機構（搬送機構）２０を備えている。なお、搬送機構洗浄部６５は、第二搬送機構２０を適宜洗浄するために用いられる。
【００２７】
また、図１および図２に示すように、第一薬液処理部３０、第一リンス液処理部４０、第二薬液処理部３５、第二リンス液処理部４５および乾燥部６０には、これらが一方側（図１の紙面奥側）に位置するように隔壁２８が設けられている。なお、この隔壁２８は、図２に示すように、水平方向に延びた間隙２５を有している。
【００２８】
また、図４に示すように、第二搬送機構２０は、隔壁２８の間隙２５を通過可能な支持部２１と、駆動部側（隔壁２８の他方側、つまり図１の紙面手前側）に設けられて第二搬送機構２０自体を水平方向に案内する水平ガイド２２と、駆動部側に設けられて支持部２１を水平ガイド２２に沿って移動させるモータなどからなる搬送駆動部２３とを有している。
【００２９】
上述のような態様で隔壁２８が設けられているので、処理槽側（隔壁２８の一方側）に、第一薬液槽３１、第一リンス液槽４１、第二薬液槽３６、第二リンス液槽４６および第三リンス液槽６１が配置され、駆動部側（隔壁２８の他方側）に搬送駆動部２３および水平ガイド２２が配置されることとなる。
【００３０】
また、図２および図３に示すように、第一薬液槽３１、第一リンス液槽４１、第二薬液槽３６、第二リンス液槽４６および後述する第三リンス液槽６１の上方位置には、これら第一薬液槽３１、第一リンス液槽４１、第二薬液槽３６、第二リンス液槽４６および第三リンス液槽６１の上方から清浄空気（第一気体）を供給するファン・フィルター・ユニット（第一気体供給部）２７が設けられている。
【００３１】
なお、ファン・フィルター・ユニット２７から第一薬液槽３１の上方に供給される清浄空気の流量は調整可能となっており、ファン・フィルター・ユニット２７から第一薬液槽３１の上方に供給される清浄空気の流量は、後述する気体噴出部１０が第二気体を噴出する際において、当該気体噴出部１０が第二気体を噴出し始める前と比較して減少されるように構成されている。
【００３２】
ところで、本実施の形態では、以下、ファン・フィルター・ユニット２７から第一薬液槽３１の上方に供給される第一気体の流量が気体噴出部１０が第二気体を噴出する際において減少される態様を用いて説明するが、これに限られることはなく、ファン・フィルター・ユニット２７から第一薬液槽３１の上方への清浄空気の供給は、気体噴出部１０が第二気体を噴出する際に停止されるように構成されていてもよい。
【００３３】
また、図２および図３に示すように、高温のＳＰＭが貯留された第一薬液槽３１の上方位置には、第一薬液昇降機構３２によって第一薬液槽３１から取り出されて引き上げ位置に位置づけられたウエハ群Ｗｇに向かって（下方または斜め下方に向かって）、乾燥された空気（ドライエア）または乾燥された不活性ガス（例えばドライ窒素など）からなる第二気体を噴出する気体噴出部１０が設けられている。なお、本実施の形態では、第二気体として乾燥された空気または乾燥された不活性ガスを用いて説明するが、これに限られることはない。また、第二気体としては、露点温度が−２０℃以下からなるガスを用いることが好ましく、露点温度が−６０℃以下からなるガスを用いることがさらに好ましい。
【００３４】
なお、気体噴出部１０は、ウエハ群Ｗｇが第一薬液槽３１内の高温のＳＰＭ内から取り出される前から、乾燥された空気または乾燥された不活性ガスを噴出し始めるように構成されている。
【００３５】
また、図２および図３に示すように、処理槽側に設けられた後壁２９であって、第一薬液槽３１と第一リンス液槽４１の上方には、第一薬液槽３１上方と第一リンス液槽４１上方の雰囲気を吸引して排出する排出部１１が設けられている。
【００３６】
なお、この排出部１１は、第一薬液昇降機構３２によって引き上げ位置に位置づけられたウエハ群Ｗｇの上端よりも上方に位置づけられている（図３参照）。また、排出部１１は、気体噴出部１０よりも上方に位置づけられている。ところで、本実施の形態において、排出部１１は、気体噴出部１０が第二気体を噴出し始めた後で、処理槽側の雰囲気を吸引して排出し始めるように構成されている。
【００３７】
ところで、本実施の形態では、以下、第一薬液槽３１と第一リンス液槽４１の上方に排出部１１が設けられている態様を用いて説明する。しかしながら、これに限られることなく、第二薬液槽３６の上方、第二リンス液槽４６の上方または第三リンス液槽６１の上方に、適宜選択的に、排出部１１が設けられていてもよい。また、逆に、第一薬液槽３１の上方のみに排出部１１が設けられ、第一リンス液槽４１の上方には排出部１１が設けられていない態様を用いても良い。
【００３８】
なお、本実施の形態の排出部１１は、ウエハ群Ｗｇが第一薬液昇降機構３２によって第一薬液槽３１内の高温のＳＰＭ内から取り出されている間に、第一薬液槽３１上方の雰囲気を吸引して排出し始めるように構成されている。
【００３９】
また、図２および図３に示すように、隔壁２８のうち、（第一薬液槽３１、第一リンス液槽４１、第二薬液槽３６、第二リンス液槽４６および後述する第三リンス液槽６１からなる）処理槽と隔壁２８との間には、間隙２５を覆う遮蔽部１２が設けられている。この遮蔽部１２は、図２に示すように、可塑性を有し、上下方向に延在する複数の延在遮蔽部１３からなっている。そして、この延在遮蔽部１３は、耐薬品性を有するＰＴＦＥなどのフッ素系樹脂からなっている。なお、本実施の形態では、延在遮蔽部１３がフッ素系樹脂からなる態様を用いて説明するが、これに限られることはなく、延在遮蔽部１３は例えばフッ素系ゴムからなっていてもよい。
【００４０】
また、図５に示すように、遮蔽部１２は、処理槽側に配置された一方側遮蔽部１２ａと、当該一方側遮蔽部１２ａより駆動部側に配置された他方側遮蔽部１２ｂとを有している。そして、一方側遮蔽部１２ａの延在遮蔽部１３と、他方側遮蔽部１２ｂの延在遮蔽部１３は、互い違いに配置されている。なお、本実施の形態では、一方側遮蔽部１２ａと他方側遮蔽部１２ｂとが二段構成になっている態様を用いて説明するが、これに限られることなく、遮蔽部１２は三段以上から構成されてもよいし、一段のみから構成されていてもよい（なお、処理槽側と駆動部側との間の遮蔽効果を向上させる点からすると、遮蔽部１２は複数段以上から構成されることが好ましい）。この場合には、ある一段が一方側遮蔽部１２ａを構成し、一方側遮蔽部１２ａより駆動部側に配置された別の一段が他方側遮蔽部１２ｂを構成することとなる。
【００４１】
また、乾燥部６０は、図１および図２に示すように、第三リンス液Ｒ３（本実施の形態では純水）を収容する第三リンス液槽６１と、当該第三リンス液槽６１の上方に設けられた乾燥室６３と、第三リンス液槽６１と乾燥室６３との間に開閉自在に設けられたシャッタ（図示せず）と、第三リンス液槽６１と乾燥室６３との間を昇降する乾燥昇降機構６２と、を有している。また、乾燥室６３には、ＩＰＡなどの乾燥液を供給する乾燥液供給部（図示せず）と、Ｎ２などの不活性ガスを供給する不活性ガス供給部（図示せず）が設けられている。
【００４２】
また、図１に示すように、処理装置は、乾燥部６０で乾燥された後のウエハ群Ｗｇを、第二搬送機構２０から受け取るアンローダ部７２も備えている。なお、このアンローダ部７２に載置されたウエハ群Ｗｇは、第一搬送機構５によって持ち上げられて、キャリア搬入出ステージ３へと搬送されるように構成されている。
【００４３】
ところで、本実施の形態において、後述する処理方法を実行させるためのコンピュータプログラムが記憶媒体５２に格納されている（図１参照）。そして、処理装置は、記憶媒体５２を受け付けるコンピュータ５５と、当該コンピュータ５５からの信号を受けて、処理装置自身を制御する制御装置５０とを備えている。そして、記憶媒体５２をコンピュータ５５に挿入する（または取り付ける）ことで、制御装置５０によって、後述する一連の処理方法を処理装置に実行させることができる。なお、本願において記憶媒体５２とは、ＣＤ，ＤＶＤ，ＭＤ，ハードディスク、ＲＡＭなどを意味している。
【００４４】
次に、このような構成からなる本実施の形態の作用について述べる。
【００４５】
まず、第一搬送機構５がキャリア搬入出ステージ３に接近し、キャリア搬入扉３ａが開状態となる。その後、第一搬送機構５によって、キャリア搬入出ステージ３内に載置されたウエハ群Ｗｇ（例えば２５枚のウエハ）が取り出された後で、キャリア搬入扉３ａが閉状態となる（図１参照）。なお、このとき、ファン・フィルター・ユニット２７によって、第一薬液槽３１、第一リンス液槽４１、第二薬液槽３６、第二リンス液槽４６および第三リンス液槽６１の上方から、清浄空気（第一気体）が供給されている。
【００４６】
次に、第一搬送機構５が、ローダ部７１に向かって９０°回転されつつ、ウエハ群Ｗｇをその面が鉛直方向に延在するように回転させる。その後、面が鉛直方向に延在した状態のウエハがローダ部７１に載置される（図１参照）。
【００４７】
次に、上述した工程を再度繰り返して、さらに複数（例えば２５枚）のウエハをローダ部７１に載置させる。このとき、先に載置させたウエハと今回載置させるウエハとは、入れ子状に載置されることとなり、ウエハがキャリアに収納されていたピッチの１／２のピッチからなるウエハ群Ｗｇが形成される（ローダ載置工程）（図１参照）。
【００４８】
次に、第二搬送機構２０の支持部２１によって、複数（例えば５０枚）のウエハからなるウエハ群（被処理体）Ｗｇが、ローダ部７１から持ち上げられ、その後、第一薬液処理部３０まで搬送される（第一薬液搬送工程）（図６の（１）、参照）。そして、当該第一薬液処理部３０において、第一薬液昇降機構３２によって、ウエハ群Ｗｇが第二搬送機構２０から受け取られ、第一薬液槽３１内に浸漬される（第一薬液処理工程）（図２および図３参照）。このことによって、ウエハ群Ｗｇは、第一薬液Ｃ１である高温のＳＰＭによって処理されることとなる。
【００４９】
次に、気体噴出部１０から、乾燥された空気または乾燥された不活性ガス（第二気体）が噴出され始める（第二気体噴出工程）（図２および図３参照）。このとき、ファン・フィルター・ユニット２７によって第一薬液槽３１の上方に供給される清浄空気の流量は、減少される。
【００５０】
このように、本実施の形態では、気体噴出部１０から第二気体が噴出される際にファン・フィルター・ユニット２７から第一薬液槽３１の上方に供給される清浄空気の量が減少されるので、第一薬液槽３１の上方の雰囲気の流れが乱されることはない。
【００５１】
すなわち、ファン・フィルター・ユニット２７から供給される清浄空気の量を変えることなく、気体噴出部１０から第二気体が噴出されると、第一薬液槽３１の上方の雰囲気が乱されるという不都合が生じる可能性がある。しかしながら、本実施の形態によれば、気体噴出部１０から第二気体が噴出される際にファン・フィルター・ユニット２７から第一薬液槽３１の上方に供給される清浄空気の量が減少されるので、第一薬液槽３１の上方の雰囲気の流れが乱されることはない。なお、ファン・フィルター・ユニット２７から第一薬液槽３１の上方への清浄空気の供給が、気体噴出部１０が第二気体を噴出する際に停止される態様を用いた場合でも、同様の効果を得ることができる。
【００５２】
次に、第一薬液昇降機構３２によって、ウエハ群Ｗｇが高温のＳＰＭ内から取り出されて引き上げ位置に位置づけられる（上方位置づけ工程）（図３参照）。このことによって、気体噴出部１０によって、引き上げ位置に位置づけられたウエハ群Ｗｇに向かって第二気体が噴出されることとなる。
【００５３】
このように、本実施の形態によれば、引き上げ位置に位置づけられたウエハ群Ｗｇに向かって、ファン・フィルター・ユニット２７によって供給される清浄空気（第一気体）とは別に、清浄空気よりも水分量の少ない第二気体を噴出することができる。
【００５４】
このため、ウエハ群Ｗｇから立ち上るＳＰＭの蒸気が、駆動部側（搬送駆動部２３の設けられた隔壁２８の他方側）に侵入することを防止することができ、ひいては、搬送駆動部２３のＳＰＭによる劣化を防止することができる。
【００５５】
すなわち、従来技術であれば、ファン・フィルター・ユニット２７によってしか、ウエハ群Ｗｇから立ち上るＳＰＭなどの高温の処理液の蒸気を抑えることができず、（耐薬品処理を施すことが困難な）搬送駆動部２３への悪影響を防止することができなかった。しかしながら、本実施の形態によれば、ファン・フィルター・ユニット２７よりも強力に気体噴出部１０から噴出され、第一気体よりも露点の低い第二気体によって、ウエハ群Ｗｇから立ち上るＳＰＭの蒸気を抑えることができるので、ウエハ群Ｗｇから立ち上るＳＰＭの蒸気が、駆動部側に侵入することを防止することができる。
【００５６】
なお、本実施の形態では、ウエハ群Ｗｇが高温のＳＰＭ内から取り出される前から、気体噴出部１０によって乾燥された空気または乾燥された不活性ガスからなる第二気体が噴出され始めるので、引き上げ位置に位置づけられたウエハ群Ｗｇから立ち上るＳＰＭの蒸気が、駆動部側に侵入することをより確実に防止することができる。
【００５７】
また、本実施の形態では、処理槽側に設けられた後壁２９のうち、引き上げ位置に位置づけられたウエハ群Ｗｇの上端よりも上方に、第一薬液槽３１の上方と第一リンス液槽４１の上方の雰囲気を吸引して排出する排出部１１が設けられている（図２および図３参照）。
【００５８】
そして、この排出部１１によって、ウエハ群Ｗｇが第一薬液昇降機構３２によって第一薬液槽３１内の高温のＳＰＭから取り出されている間に、第一薬液槽３１の上方と第一リンス液槽４１の上方の雰囲気が吸引されて排出され始める（排出工程）。
【００５９】
このため、ウエハ群Ｗｇから立ち上るＳＰＭの蒸気を吸引して排出することができ、ウエハ群Ｗｇから立ち上るＳＰＭの蒸気が、駆動部側に侵入することをより確実に防止することができる。
【００６０】
なお、本実施の形態では、排出部１１が気体噴出部１０よりも上方に位置づけられているので、気体噴出部１０から下方または斜め下方に向かって噴出された第二気体は、ウエハ群Ｗｇを経た後、上方側へ回り込んで排出部１１から排出されることとなる。このため、気体噴出部１０から噴出された第二気体が、ウエハ群Ｗｇに達する前に排出部１１によって排出されるようなことを防止することができ、ウエハ群Ｗｇから立ち上るＳＰＭの蒸気が駆動部側に侵入することを効率よく防止することができる。
【００６１】
また、上述のように、排出部１１は、気体噴出部１０が第二気体を噴出し始めた後で（ウエハ群Ｗｇが第一薬液槽３１内の高温のＳＰＭから取り出されている間に）、処理槽側の雰囲気を吸引して排出し始めるので、気体噴出部１０から噴出された第二気体がウエハ群Ｗｇを経ることなく排出部１１から排出されることを、より確実に防止することができる。
【００６２】
また、ウエハ群Ｗｇが高温のＳＰＭから取り出されている間という早い段階から、排出部１１によって第一薬液槽３１の上方と第一リンス液槽４１の上方の雰囲気を吸引して排出し始める。このため、ウエハ群Ｗｇから立ち上るＳＰＭの蒸気が、駆動部側に侵入することをさらにより確実に防止することができる。
【００６３】
さらに、本実施の形態では、隔壁２８の処理槽側に、可塑性を有し、上下方向に延在する複数の延在遮蔽部１３が、間隙２５を覆うようにして設けられている（図２および図５参照）。このため、第一薬液槽３１内の高温のＳＰＭから引き上げられたウエハ群Ｗｇから立ち上るＳＰＭの蒸気が、駆動部側に侵入することをより確実に防止することができる。
【００６４】
そして、本実施の形態では、遮蔽部１２は、処理槽側に配置された一方側遮蔽部１２ａと、当該一方側遮蔽部１２ａより搬送駆動部２３側に配置された他方側遮蔽部１２ｂとを有しており、一方側遮蔽部１２ａの延在遮蔽部１３と、他方側遮蔽部１２ｂの延在遮蔽部１３が、互い違いに配置されている（図５参照）。このため、第一薬液槽３１内の高温のＳＰＭから引き上げられたウエハ群Ｗｇから立ち上るＳＰＭの蒸気が、駆動部側に侵入することをさらにより確実に防止することができる。なお、延在遮蔽部１３は、耐薬品性を有するフッ素系樹脂からなっており、ＳＰＭの蒸気によって劣化しにくくなっている。
【００６５】
なお、図２に示すように、本実施の形態では、第一薬液槽３１、第一リンス液槽４１、第二薬液槽３６、第二リンス液槽４６および第三リンス液槽６１の各々に対応する間隙２５の全領域に亘って、遮蔽部１２が設けられている。このため、引き上げられたウエハ群Ｗｇから立ち上るＳＰＭの蒸気が、処理槽側から駆動部側へ侵入することをさらにより確実に防止することができる。
【００６６】
ところで、上述のように、上下方向に延在する複数の延在遮蔽部１３が可塑性を有しているので、第二搬送機構２０の支持部２１が間隙２５の間を通過する際でも、支持部２１の移動が妨げられることはない。
【００６７】
上述のように、第一薬液処理部３０でのウエハ群Ｗｇの処理が終了すると、第二搬送機構２０によって、ウエハ群Ｗｇが第一薬液昇降機構３２から受け取られ、第一リンス液処理部４０に搬送される（第一リンス液搬送工程）（図６の（２）、参照）。なお、このとき、減少された第一薬液槽３１の上方から供給される清浄空気の流量は元の流量に戻される。
【００６８】
次に、第一リンス液処理部４０において、第一リンス液昇降機構４２によって、ウエハ群Ｗｇが第二搬送機構２０から受け取られる。その後、第一リンス液昇降機構４２によって、ウエハ群Ｗｇが第一リンス液槽４１内に浸漬され、ウエハ群Ｗｇが純水（第一リンス液Ｒ１）によって処理される（第一リンス液処理工程）。
【００６９】
次に、第一リンス液昇降機構４２によって、ウエハ群Ｗｇが上昇され、第一リンス液槽４１内から搬出される。そして、第二搬送機構２０によって、ウエハ群Ｗｇが第一リンス液昇降機構４２から受け取られ、第二薬液処理部３５に搬送される（第二薬液搬送工程）（図６の（３）、参照）。
【００７０】
次に、第二薬液処理部３５において、第二薬液昇降機構３７によって、ウエハ群Ｗｇが第二搬送機構２０から受け取られる。その後、第二薬液昇降機構３７によって、ウエハ群Ｗｇが第二薬液槽３６内に浸漬され、ウエハ群ＷｇがＳＣ１（第二薬液Ｃ２）によって処理される（第二薬液処理工程）。
【００７１】
次に、第二薬液昇降機構３７によって、ウエハ群Ｗｇが上昇され、第二薬液槽３６内から搬出される。そして、第二搬送機構２０によって、ウエハ群Ｗｇが第二薬液昇降機構３７から受け取られ、第二リンス液処理部４５に搬送される（第二リンス液搬送工程）（図６の（４）、参照）。
【００７２】
次に、第二リンス液処理部４５において、第二リンス液昇降機構４７によって、ウエハ群Ｗｇが第二搬送機構２０から受け取られる。その後、第二リンス液昇降機構４７によって、ウエハ群Ｗｇが第二リンス液槽４６内に浸漬され、ウエハ群Ｗｇが純水（第二リンス液Ｒ２）によって処理される（第二リンス液処理工程）。
【００７３】
次に、第二リンス液昇降機構４７によって、ウエハ群Ｗｇが上昇され、第二リンス液槽４６内から搬出される。そして、第二搬送機構２０によって、ウエハ群Ｗｇが第二リンス液昇降機構４７から受け取られ、乾燥部６０に搬送される（乾燥搬送工程）（図６の（５）、参照）。
【００７４】
次に、乾燥部６０において、乾燥昇降機構６２によって、ウエハ群Ｗｇが第二搬送機構２０から受け取られる。その後、乾燥昇降機構６２によって、ウエハ群Ｗｇが第三リンス液槽６１内に浸漬され、ウエハ群Ｗｇが純水（第三リンス液Ｒ３）によって処理される（第三リンス液処理工程）。
【００７５】
次に、乾燥昇降機構６２によってウエハ群Ｗｇが上昇される。そして、上昇されたウエハ群Ｗｇに、ＩＰＡなどの乾燥液が供給された後で、Ｎ２などの不活性ガスが供給され、当該ウエハ群Ｗｇは乾燥される（乾燥工程）。
【００７６】
次に、第二搬送機構２０によって、ウエハ群Ｗｇが乾燥昇降機構６２から受け取られ、当該ウエハ群Ｗｇはアンローダ部７２に搬送され、当該アンローダ部７２に載置される（アンローダ載置工程）（図６の（６）、参照）。その後、ウエハ群Ｗｇは、第一搬送機構５によって持ち上げられて、キャリア搬入出ステージ３へと搬送される。このように、第二搬送機構２０からアンローダ部７２にウエハ群Ｗｇが受け渡されると、第二搬送機構２０はローダ部７１に移動される（図６の（７）、参照）。
【００７７】
ところで、上記の態様において、第二搬送機構２０は、搬送機構洗浄部６５によって、適宜洗浄されてもよい。
【００７８】
すなわち、第二搬送機構２０は、第一薬液搬送工程（図６の（１）参照）と第一リンス液搬送工程（図６の（２）参照）の間、第一リンス液搬送工程（図６の（２）参照）と第二薬液搬送工程（図６の（３）参照）の間、第二薬液搬送工程（図６の（３）参照）と第二リンス液搬送工程（図６の（４）参照）の間、第二リンス液搬送工程（図６の（４）参照）と乾燥搬送工程（図６の（５）参照）の間、乾燥搬送工程（図６の（５）参照）とアンローダ載置工程（図６の（６）参照）の間、および、アンローダ載置工程（図６の（６）参照）とウエハ群がローダ部７１に移動される工程（図６の（７）参照）の間の各々において、必要に応じて適宜、搬送機構洗浄部６５まで移動され、当該搬送機構洗浄部６５で洗浄された後で、元の位置に戻ってきてもよい。
【００７９】
なお、上記では、ウエハ群Ｗｇから立ち上るＳＰＭの蒸気を効率よく吸引して排出するために、排出部１１が、第一薬液昇降機構３２によって引き上げ位置に位置づけられたウエハ群Ｗｇの上端よりも上方に位置づけられている態様を用いて説明した。
【００８０】
しかしながら、これに限ることなく、処理液の温度や種類によっては、排出部１１は、引き上げ位置に位置づけられたウエハ群Ｗｇの中心よりも上方に位置づけられたり（図３の符号１１ａ参照）、ウエハ群Ｗｇの下端よりも上方に位置づけられていればよく（図３の符号１１ｂ参照）、引き上げ位置に位置づけられたウエハ群Ｗｇの上端よりも上方に位置づけられていなくてもよい。ただし、一般的には、排出部１１は、より上方側に位置づけられていることが好ましく、引き上げ位置に位置づけられたウエハ群Ｗｇの中心よりも上方に位置づけられていることが好ましく、引き上げ位置に位置づけられたウエハ群Ｗｇの上端よりも上方に位置づけられていることがさらに好ましい。
【００８１】
また、上記では、ウエハ群Ｗｇが高温のＳＰＭ内から取り出される前から、気体噴出部１０によって乾燥された空気または乾燥された不活性ガスからなる第二気体が噴出される態様を用いて説明した。しかしながら、これに限ることなく、ウエハ群Ｗｇから立ち上る蒸気の量がそれほど多くない場合には、ウエハ群Ｗｇが高温のＳＰＭから取り出された後や、ウエハ群Ｗｇが上方位置に位置づけられた後で、気体噴出部１０によって第二気体が噴出され始める態様を用いてもよい。
【００８２】
さらに、上記では、ウエハ群Ｗｇが第一薬液昇降機構３２によって第一薬液槽３１内の高温のＳＰＭから取り出されている間に、排出部１１によって第一薬液槽３１上方の雰囲気が吸引されて排出され始める態様を用いて説明した。しかしながら、これに限ることなく、ウエハ群Ｗｇから立ち上る蒸気の量がそれほど多くない場合には、ウエハ群Ｗｇが上方位置に位置づけられた後で、排出部１１によって第一薬液槽３１上方および第一リンス液槽４１上方の雰囲気が吸引されて排出され始める態様を用いてもよい。
【００８３】
変形例
次に、図７により、本発明の実施の形態の変形例について説明する。図７に示す実施の形態の変形例は、遮蔽部１２に、当該遮蔽部１２を上下方向に駆動する複数の遮蔽駆動部８０が設けられたものであり、その他の構成は図１乃至図６に示す上述した実施の形態と略同一である。
【００８４】
図７に示す実施の形態の変形例において、図１乃至図６に示す実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。
【００８５】
本変形例では、第一薬液処理部３０、第一リンス液処理部４０、第二薬液処理部３５、第二リンス液処理部４５および乾燥部６０の各々に対応する位置に、遮蔽部１２を上下方向に駆動する遮蔽駆動部８０が設けられている。そして、この遮蔽駆動部８０は、遮蔽保持部８１と、当該遮蔽保持部８１を上下方向に案内する溝８２ａを有する遮蔽ガイド８２と、を有している。
【００８６】
遮蔽駆動部８０の各々は、第二搬送機構２０の支持部２１が通過する際に、対応する遮蔽部１２を上方に移動させる（図７（ｂ）では、第一薬液処理部３０に対応する遮蔽駆動部８０が遮蔽部１２を上方に移動させている）。このため、支持部２１に遮蔽部１３が衝突することがなくなり、支持部２１の移動が妨げられることをより確実に防止することができる。
【００８７】
ところで、上記の実施の形態および実施の形態の変形例において、隔壁２８に遮蔽部１２が設けられている態様を用いて説明した。しかしながら、処理液の温度や種類によっては、このような遮蔽部１２がなくてもよく、例えば図８に示すように、排出部１１と気体噴出部１０だけが設けられている態様であってもよい。さらに、ウエハ群Ｗｇから立ち上る蒸気の量が多くない場合には、排出部１１が設けられずに、気体噴出部１０だけが設けられている態様であってもよい。
【図面の簡単な説明】
【００８８】
【図１】本発明の実施の形態による処理装置の構成を示す概略図。
【図２】本発明の実施の形態による処理装置を示す正面図。
【図３】本発明の実施の形態による処理装置を示す側方図。
【図４】本発明の実施の形態による処理装置の搬送機構を示す斜視図。
【図５】本発明の実施の形態による処理装置の遮蔽部を示す上方図。
【図６】本発明の実施の形態による処理装置による処理方法を説明するための概略図。
【図７】本発明の実施の形態の変形例による処理装置を示す正面図。
【図８】本発明の実施の形態の別の変形例による処理装置を示す正面図。
【符号の説明】
【００８９】
１０ 気体噴出部
１１ 排出部
１２ 遮蔽部
１２ａ 一方側遮蔽部
１２ｂ 他方側遮蔽部
１３ 延在遮蔽部
２０ 第二搬送機構（搬送機構）
２１ 支持部
２３ 搬送駆動部
２５ 間隙
２８ 隔壁
２７ ファン・フィルター・ユニット（第一気体供給部）
３０ 第一薬液処理部
３１ 第一薬液槽（処理槽）
３２ 第一薬液昇降機構（上下方向移動部）
３５ 第二薬液処理部
３６ 第二薬液槽（処理槽）
３７ 第二薬液昇降機構（上下方向移動部）
４０ 第一リンス液処理部
４１ 第一リンス液槽
４２ 第一リンス液昇降機構
４５ 第二リンス液処理部
４６ 第二リンス液槽
４７ 第二リンス液昇降機構
Ｃ１ 第一薬液
Ｃ２ 第二薬液
Ｒ１ 第一リンス液
Ｒ２ 第二リンス液
Ｗｇ 被処理体
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被処理体を処理する処理装置と、当該処理装置を用いた処理方法と、当該処理方法を実行させるコンピュータプログラムと、当該コンピュータプログラムを格納した記憶媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、装置内空間を処理室と駆動室とに仕切り、かつ開口を有する隔壁と、処理室内に設けられて処理液によって基板に処理を施す処理槽と、基板（被処理体）を保持して隔壁の開口を通じて処理室内に配される基板保持部及び駆動室に配されて開口が存在する範囲で基板保持部を移動させて基板保持部に保持した基板を処理槽に搬送する駆動部を有するハンドリング手段と、装置内空間に気流を流下させるとともに隔壁に沿って他の部分よりも高圧力の気流を流下させる気流流下手段とを備えた基板処理装置（処理装置）が知られている（特許文献１参照）。
【特許文献１】特開平９−２８３４８２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
上述のような従来技術では、処理室から駆動室への処理液の蒸気の侵入を防止するために、気流流下手段によって、装置内空間に気流を流下させて隔壁に沿って気流を流下させている。しかしながら、例えば高温に加熱した処理液を用いた場合には、処理槽から引き上げられた基板から立ち上る処理液の蒸気が、処理室から駆動室へ侵入することを防止することができず、十分なものではない。
【０００４】
本発明は、このような点を考慮してなされたものであり、処理槽から引き上げられた被処理体から立ち上る処理液の蒸気が、搬送駆動部の設けられた隔壁の他方側に侵入することを防止することができる処理装置と、当該処理装置を用いた処理方法と、当該処理方法を実行させるコンピュータプログラムと、当該コンピュータプログラムを格納した記憶媒体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明による処理装置は、
間隙を有する隔壁と、
前記隔壁の一方側に配置され、被処理体を処理する処理液が貯留された処理槽と、
前記隔壁の前記間隙を通過可能な支持部と、該隔壁の他方側に設けられ該支持部を移動させる搬送駆動部と、を有する搬送機構と、
前記被処理体を、該処理液内から取り出して引き上げ位置に位置づける上下方向移動部と、
前記処理槽の上方から第一気体を供給する第一気体供給部と、
引き上げ位置に位置づけられた前記被処理体に向かって第二気体を噴出する気体噴出部と、
を備えている。
【０００６】
本発明による処理装置において、
前記気体噴出部は、前記被処理体が前記上下方向移動部によって前記処理液内から取り出される前から前記第二気体を噴出し始めてもよい。
【０００７】
本発明による処理装置において、
前記気体噴出部は、前記第二気体として、乾燥された空気または乾燥された不活性ガスを噴出してもよい。
【０００８】
本発明による処理装置において、
前記隔壁の一方側に設けられ、該隔壁の一方側の雰囲気を吸引して排出する排出部をさらに備え、
前記排出部は、前記上下方向移動部によって前記引き上げ位置に位置づけられた前記被処理体の下端よりも上方に位置づけられていてもよい。
【０００９】
本発明による処理装置において、
前記排出部は、前記上下方向移動部によって前記引き上げ位置に位置づけられた前記被処理体の中心よりも上方に位置づけられていてもよい。
【００１０】
本発明による処理装置において、
前記排出部は、前記上下方向移動部によって前記引き上げ位置に位置づけられた前記被処理体の上端よりも上方に位置づけられていてもよい。
【００１１】
本発明による処理装置において、
前記排出部は、前記被処理体が前記上下方向移動部によって前記処理液内から取り出されている間、または、前記処理液内から取り出された後で、前記隔壁の一方側の雰囲気を吸引して排出し始めてもよい。
【００１２】
本発明による処理装置において、
前記気体噴出部は、下方または斜め下方に向かって第二気体を噴出し、
前記排出部は、前記気体噴出部よりも上方に位置づけられていてもよい。
【００１３】
本発明による処理装置において、
前記排出部は、前記気体噴出部が第二気体を噴出し始めた後で、前記隔壁の一方側の雰囲気を吸引して排出し始めてもよい。
【００１４】
本発明による処理装置において、
前記第一気体供給部から供給される第一気体の流量は調整可能となっており、
前記第一気体供給部から供給される第一気体の流量は、前記気体噴出部が第二気体を噴出する際において、該気体噴出部が第二気体を噴出し始める前と比較して減少されてもよい。
【００１５】
本発明による処理装置において、
前記第一気体供給部は、前記気体噴出部が第二気体を噴出する際に第一気体の供給を停止してもよい。
【００１６】
本発明による処理方法は、
間隙を有する隔壁と、前記隔壁の一方側に配置されて被処理体を処理する処理液が貯留された処理槽と、前記隔壁の前記間隙を通過可能な支持部と該隔壁の他方側に設けられて該支持部を移動させる搬送駆動部とを有する搬送機構とを含む処理装置を用いた処理方法において、
第一気体供給部によって、前記処理槽の上方から第一気体を供給する工程と、
前記搬送駆動部によって、前記支持部上に載置された前記被処理体を移動させる工程と、
上下方向移動部によって、前記支持部から前記被処理体を受け取り、該被処理体を前記処理液内に浸漬させる工程と、
前記上下方向移動部によって、前記被処理体を前記処理液から取り出して引き上げ位置に位置づける工程と、
気体噴出部によって、引き上げ位置に位置づけられた前記被処理体に向かって第二気体を噴出する工程と、
を備えている。
【００１７】
本発明によるコンピュータプログラムは、
間隙を有する隔壁と、前記隔壁の一方側に配置されて被処理体を処理する処理液が貯留された処理槽と、前記隔壁の前記間隙を通過可能な支持部と該隔壁の他方側に設けられて該支持部を移動させる搬送駆動部とを有する搬送機構とを含む処理装置に処理方法を実行させるためのコンピュータプログラムにおいて、
前記処理方法が、
第一気体供給部によって、前記処理槽の上方から第一気体を供給する工程と、
前記搬送駆動部によって、前記支持部上に載置された前記被処理体を移動させる工程と、
上下方向移動部によって、前記支持部から前記被処理体を受け取り、該被処理体を前記処理液内に浸漬させる工程と、
前記上下方向移動部によって、前記被処理体を前記処理液から取り出して引き上げ位置に位置づける工程と、
気体噴出部によって、引き上げ位置に位置づけられた前記被処理体に向かって第二気体を噴出する工程と、
を備えた方法からなっている。
【００１８】
本発明による記憶媒体は、
間隙を有する隔壁と、前記隔壁の一方側に配置されて被処理体を処理する処理液が貯留された処理槽と、前記隔壁の前記間隙を通過可能な支持部と該隔壁の他方側に設けられて該支持部を移動させる搬送駆動部とを有する搬送機構とを含む処理装置に処理方法を実行させるためのコンピュータプログラムを格納した記憶媒体において、
前記処理方法が、
第一気体供給部によって、前記処理槽の上方から第一気体を供給する工程と、
前記搬送駆動部によって、前記支持部上に載置された前記被処理体を移動させる工程と、
上下方向移動部によって、前記支持部から前記被処理体を受け取り、該被処理体を前記処理液内に浸漬させる工程と、
前記上下方向移動部によって、前記被処理体を前記処理液から取り出して引き上げ位置に位置づける工程と、
気体噴出部によって、引き上げ位置に位置づけられた前記被処理体に向かって第二気体を噴出する工程と、
を備えた方法からなっている。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によれば、第一気体供給部によって処理槽の上方から供給される第一気体とは別に、気体噴出部によって、引き上げ位置に位置づけられた被処理体に向かって第二気体を噴出することができる。このため、処理槽から引き上げられた被処理体から立ち上る処理液の蒸気が、搬送駆動部の設けられた隔壁の他方側に侵入することを防止することができる。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
実施の形態
以下、本発明に係る処理装置、処理方法、コンピュータプログラムおよび記憶媒体の実施の形態について、図面を参照して説明する。ここで、図１乃至図６は本発明の実施の形態を示す図である。
【００２１】
図１に示すように、処理装置は、筐体１と、筐体１内に設けられ、複数のウエハ（以下、ウエハ群Ｗｇとも呼ぶ）（図３参照）が収納されているキャリア（図示せず）を搬入出するためのキャリア搬入出部（図示せず）と、当該キャリア搬入出部からキャリアを受け取って保管するキャリアストック部（図示せず）と、処理するときにキャリアストック部に保管されたウエハ群Ｗｇが移動されるキャリア搬入出ステージ３と、当該キャリア搬入出ステージ３からウエハ群Ｗｇを取り出す第一搬送機構５と、当該第一搬送機構５からウエハ群Ｗｇを受け取るローダ部７１と、を備えている。このうち、キャリア搬入出ステージ３は、第一搬送機構５が接近すると開状態となり、第一搬送機構５が離れると閉状態となるキャリア搬入扉３ａを有している。
【００２２】
また、図１および図２に示すように、処理装置は、第一薬液Ｃ１でウエハを処理する第一薬液処理部３０と、第二薬液Ｃ２でウエハを処理する第二薬液処理部３５とを有する薬液処理機構と、第一リンス液Ｒ１でウエハを処理する第一リンス液処理部４０と、第二リンス液Ｒ２でウエハを処理する第二リンス液処理部４５とを有するリンス液処理機構と、を備えている。
【００２３】
このうち、第一薬液処理部３０は、第一薬液Ｃ１を貯留した第一薬液槽（処理槽）３１と、後述する第二搬送機構（搬送機構）２０からウエハ群Ｗｇを受け取って第一薬液槽３１内にウエハ群Ｗｇを搬送する第一薬液昇降機構（上下方向移動部）３２とを有している。また、第二薬液処理部３５は、第二薬液Ｃ２を貯留した第二薬液槽３６と、第二搬送機構２０からウエハ群Ｗｇを受け取って第二薬液槽３６内にウエハ群Ｗｇを搬送する第二薬液昇降機構３７とを有している。
【００２４】
また、第一リンス液処理部４０は、第一リンス液Ｒ１を貯留した第一リンス液槽４１と、第二搬送機構２０からウエハ群Ｗｇを受け取って第一リンス液槽４１内にウエハ群Ｗｇを搬送する第一リンス液昇降機構４２とを有している。また、第二リンス液処理部４５は、第二リンス液Ｒ２を貯留した第二リンス液槽４６と、第二搬送機構２０からウエハ群Ｗｇを受け取って第二リンス液槽４６内にウエハ群Ｗｇを搬送する第二リンス液昇降機構４７とを有している。
【００２５】
ところで、本願において薬液としては、例えば、濃フッ酸、希フッ酸、アンモニア過水(ＳＣ１)、塩酸過水(ＳＣ２)、リン酸、ＳＰＭ（Ｈ２ＳＯ４とＨ２Ｏ２の混合液）などを用いることができる。他方、リンス液としては、例えば、純水（ＤＩＷ）、オゾン水などを用いることができる。この点、本実施の形態では、第一薬液Ｃ１として高温（約１３０℃）のＳＰＭ（Ｈ２ＳＯ４とＨ２Ｏ２の混合液）を用い、第二薬液Ｃ２としてＳＣ１を用い、第一リンス液Ｒ１、第二リンス液Ｒ２および後述する第三リンス液Ｒ３として純水を用いた態様によって、以下説明する。なお、高温の処理液としては、約１３０℃のＳＰＭ以外にも、約７０℃のＳＣ１や、約１５０℃のリン酸などを用いることができる。
【００２６】
図１に示すように、処理装置は、ローダ部７１に載置されたウエハ群Ｗｇを当該ローダ部７１から持ち上げるとともに、搬送機構洗浄部６５、第一薬液処理部３０、第一リンス液処理部４０、第二薬液処理部３５、第二リンス液処理部４５および後述する乾燥部６０間で、当該ウエハ群Ｗｇを移動させる第二搬送機構（搬送機構）２０を備えている。なお、搬送機構洗浄部６５は、第二搬送機構２０を適宜洗浄するために用いられる。
【００２７】
また、図１および図２に示すように、第一薬液処理部３０、第一リンス液処理部４０、第二薬液処理部３５、第二リンス液処理部４５および乾燥部６０には、これらが一方側（図１の紙面奥側）に位置するように隔壁２８が設けられている。なお、この隔壁２８は、図２に示すように、水平方向に延びた間隙２５を有している。
【００２８】
また、図４に示すように、第二搬送機構２０は、隔壁２８の間隙２５を通過可能な支持部２１と、駆動部側（隔壁２８の他方側、つまり図１の紙面手前側）に設けられて第二搬送機構２０自体を水平方向に案内する水平ガイド２２と、駆動部側に設けられて支持部２１を水平ガイド２２に沿って移動させるモータなどからなる搬送駆動部２３とを有している。
【００２９】
上述のような態様で隔壁２８が設けられているので、処理槽側（隔壁２８の一方側）に、第一薬液槽３１、第一リンス液槽４１、第二薬液槽３６、第二リンス液槽４６および第三リンス液槽６１が配置され、駆動部側（隔壁２８の他方側）に搬送駆動部２３および水平ガイド２２が配置されることとなる。
【００３０】
また、図２および図３に示すように、第一薬液槽３１、第一リンス液槽４１、第二薬液槽３６、第二リンス液槽４６および後述する第三リンス液槽６１の上方位置には、これら第一薬液槽３１、第一リンス液槽４１、第二薬液槽３６、第二リンス液槽４６および第三リンス液槽６１の上方から清浄空気（第一気体）を供給するファン・フィルター・ユニット（第一気体供給部）２７が設けられている。
【００３１】
なお、ファン・フィルター・ユニット２７から第一薬液槽３１の上方に供給される清浄空気の流量は調整可能となっており、ファン・フィルター・ユニット２７から第一薬液槽３１の上方に供給される清浄空気の流量は、後述する気体噴出部１０が第二気体を噴出する際において、当該気体噴出部１０が第二気体を噴出し始める前と比較して減少されるように構成されている。
【００３２】
ところで、本実施の形態では、以下、ファン・フィルター・ユニット２７から第一薬液槽３１の上方に供給される第一気体の流量が気体噴出部１０が第二気体を噴出する際において減少される態様を用いて説明するが、これに限られることはなく、ファン・フィルター・ユニット２７から第一薬液槽３１の上方への清浄空気の供給は、気体噴出部１０が第二気体を噴出する際に停止されるように構成されていてもよい。
【００３３】
また、図２および図３に示すように、高温のＳＰＭが貯留された第一薬液槽３１の上方位置には、第一薬液昇降機構３２によって第一薬液槽３１から取り出されて引き上げ位置に位置づけられたウエハ群Ｗｇに向かって（下方または斜め下方に向かって）、乾燥された空気（ドライエア）または乾燥された不活性ガス（例えばドライ窒素など）からなる第二気体を噴出する気体噴出部１０が設けられている。なお、本実施の形態では、第二気体として乾燥された空気または乾燥された不活性ガスを用いて説明するが、これに限られることはない。また、第二気体としては、露点温度が−２０℃以下からなるガスを用いることが好ましく、露点温度が−６０℃以下からなるガスを用いることがさらに好ましい。
【００３４】
なお、気体噴出部１０は、ウエハ群Ｗｇが第一薬液槽３１内の高温のＳＰＭ内から取り出される前から、乾燥された空気または乾燥された不活性ガスを噴出し始めるように構成されている。
【００３５】
また、図２および図３に示すように、処理槽側に設けられた後壁２９であって、第一薬液槽３１と第一リンス液槽４１の上方には、第一薬液槽３１上方と第一リンス液槽４１上方の雰囲気を吸引して排出する排出部１１が設けられている。
【００３６】
なお、この排出部１１は、第一薬液昇降機構３２によって引き上げ位置に位置づけられたウエハ群Ｗｇの上端よりも上方に位置づけられている（図３参照）。また、排出部１１は、気体噴出部１０よりも上方に位置づけられている。ところで、本実施の形態において、排出部１１は、気体噴出部１０が第二気体を噴出し始めた後で、処理槽側の雰囲気を吸引して排出し始めるように構成されている。
【００３７】
ところで、本実施の形態では、以下、第一薬液槽３１と第一リンス液槽４１の上方に排出部１１が設けられている態様を用いて説明する。しかしながら、これに限られることなく、第二薬液槽３６の上方、第二リンス液槽４６の上方または第三リンス液槽６１の上方に、適宜選択的に、排出部１１が設けられていてもよい。また、逆に、第一薬液槽３１の上方のみに排出部１１が設けられ、第一リンス液槽４１の上方には排出部１１が設けられていない態様を用いても良い。
【００３８】
なお、本実施の形態の排出部１１は、ウエハ群Ｗｇが第一薬液昇降機構３２によって第一薬液槽３１内の高温のＳＰＭ内から取り出されている間に、第一薬液槽３１上方の雰囲気を吸引して排出し始めるように構成されている。
【００３９】
また、図２および図３に示すように、隔壁２８のうち、（第一薬液槽３１、第一リンス液槽４１、第二薬液槽３６、第二リンス液槽４６および後述する第三リンス液槽６１からなる）処理槽と隔壁２８との間には、間隙２５を覆う遮蔽部１２が設けられている。この遮蔽部１２は、図２に示すように、可塑性を有し、上下方向に延在する複数の延在遮蔽部１３からなっている。そして、この延在遮蔽部１３は、耐薬品性を有するＰＴＦＥなどのフッ素系樹脂からなっている。なお、本実施の形態では、延在遮蔽部１３がフッ素系樹脂からなる態様を用いて説明するが、これに限られることはなく、延在遮蔽部１３は例えばフッ素系ゴムからなっていてもよい。
【００４０】
また、図５に示すように、遮蔽部１２は、処理槽側に配置された一方側遮蔽部１２ａと、当該一方側遮蔽部１２ａより駆動部側に配置された他方側遮蔽部１２ｂとを有している。そして、一方側遮蔽部１２ａの延在遮蔽部１３と、他方側遮蔽部１２ｂの延在遮蔽部１３は、互い違いに配置されている。なお、本実施の形態では、一方側遮蔽部１２ａと他方側遮蔽部１２ｂとが二段構成になっている態様を用いて説明するが、これに限られることなく、遮蔽部１２は三段以上から構成されてもよいし、一段のみから構成されていてもよい（なお、処理槽側と駆動部側との間の遮蔽効果を向上させる点からすると、遮蔽部１２は複数段以上から構成されることが好ましい）。この場合には、ある一段が一方側遮蔽部１２ａを構成し、一方側遮蔽部１２ａより駆動部側に配置された別の一段が他方側遮蔽部１２ｂを構成することとなる。
【００４１】
また、乾燥部６０は、図１および図２に示すように、第三リンス液Ｒ３（本実施の形態では純水）を収容する第三リンス液槽６１と、当該第三リンス液槽６１の上方に設けられた乾燥室６３と、第三リンス液槽６１と乾燥室６３との間に開閉自在に設けられたシャッタ（図示せず）と、第三リンス液槽６１と乾燥室６３との間を昇降する乾燥昇降機構６２と、を有している。また、乾燥室６３には、ＩＰＡなどの乾燥液を供給する乾燥液供給部（図示せず）と、Ｎ２などの不活性ガスを供給する不活性ガス供給部（図示せず）が設けられている。
【００４２】
また、図１に示すように、処理装置は、乾燥部６０で乾燥された後のウエハ群Ｗｇを、第二搬送機構２０から受け取るアンローダ部７２も備えている。なお、このアンローダ部７２に載置されたウエハ群Ｗｇは、第一搬送機構５によって持ち上げられて、キャリア搬入出ステージ３へと搬送されるように構成されている。
【００４３】
ところで、本実施の形態において、後述する処理方法を実行させるためのコンピュータプログラムが記憶媒体５２に格納されている（図１参照）。そして、処理装置は、記憶媒体５２を受け付けるコンピュータ５５と、当該コンピュータ５５からの信号を受けて、処理装置自身を制御する制御装置５０とを備えている。そして、記憶媒体５２をコンピュータ５５に挿入する（または取り付ける）ことで、制御装置５０によって、後述する一連の処理方法を処理装置に実行させることができる。なお、本願において記憶媒体５２とは、ＣＤ，ＤＶＤ，ＭＤ，ハードディスク、ＲＡＭなどを意味している。
【００４４】
次に、このような構成からなる本実施の形態の作用について述べる。
【００４５】
まず、第一搬送機構５がキャリア搬入出ステージ３に接近し、キャリア搬入扉３ａが開状態となる。その後、第一搬送機構５によって、キャリア搬入出ステージ３内に載置されたウエハ群Ｗｇ（例えば２５枚のウエハ）が取り出された後で、キャリア搬入扉３ａが閉状態となる（図１参照）。なお、このとき、ファン・フィルター・ユニット２７によって、第一薬液槽３１、第一リンス液槽４１、第二薬液槽３６、第二リンス液槽４６および第三リンス液槽６１の上方から、清浄空気（第一気体）が供給されている。
【００４６】
次に、第一搬送機構５が、ローダ部７１に向かって９０°回転されつつ、ウエハ群Ｗｇをその面が鉛直方向に延在するように回転させる。その後、面が鉛直方向に延在した状態のウエハがローダ部７１に載置される（図１参照）。
【００４７】
次に、上述した工程を再度繰り返して、さらに複数（例えば２５枚）のウエハをローダ部７１に載置させる。このとき、先に載置させたウエハと今回載置させるウエハとは、入れ子状に載置されることとなり、ウエハがキャリアに収納されていたピッチの１／２のピッチからなるウエハ群Ｗｇが形成される（ローダ載置工程）（図１参照）。
【００４８】
次に、第二搬送機構２０の支持部２１によって、複数（例えば５０枚）のウエハからなるウエハ群（被処理体）Ｗｇが、ローダ部７１から持ち上げられ、その後、第一薬液処理部３０まで搬送される（第一薬液搬送工程）（図６の（１）、参照）。そして、当該第一薬液処理部３０において、第一薬液昇降機構３２によって、ウエハ群Ｗｇが第二搬送機構２０から受け取られ、第一薬液槽３１内に浸漬される（第一薬液処理工程）（図２および図３参照）。このことによって、ウエハ群Ｗｇは、第一薬液Ｃ１である高温のＳＰＭによって処理されることとなる。
【００４９】
次に、気体噴出部１０から、乾燥された空気または乾燥された不活性ガス（第二気体）が噴出され始める（第二気体噴出工程）（図２および図３参照）。このとき、ファン・フィルター・ユニット２７によって第一薬液槽３１の上方に供給される清浄空気の流量は、減少される。
【００５０】
このように、本実施の形態では、気体噴出部１０から第二気体が噴出される際にファン・フィルター・ユニット２７から第一薬液槽３１の上方に供給される清浄空気の量が減少されるので、第一薬液槽３１の上方の雰囲気の流れが乱されることはない。
【００５１】
すなわち、ファン・フィルター・ユニット２７から供給される清浄空気の量を変えることなく、気体噴出部１０から第二気体が噴出されると、第一薬液槽３１の上方の雰囲気が乱されるという不都合が生じる可能性がある。しかしながら、本実施の形態によれば、気体噴出部１０から第二気体が噴出される際にファン・フィルター・ユニット２７から第一薬液槽３１の上方に供給される清浄空気の量が減少されるので、第一薬液槽３１の上方の雰囲気の流れが乱されることはない。なお、ファン・フィルター・ユニット２７から第一薬液槽３１の上方への清浄空気の供給が、気体噴出部１０が第二気体を噴出する際に停止される態様を用いた場合でも、同様の効果を得ることができる。
【００５２】
次に、第一薬液昇降機構３２によって、ウエハ群Ｗｇが高温のＳＰＭ内から取り出されて引き上げ位置に位置づけられる（上方位置づけ工程）（図３参照）。このことによって、気体噴出部１０によって、引き上げ位置に位置づけられたウエハ群Ｗｇに向かって第二気体が噴出されることとなる。
【００５３】
このように、本実施の形態によれば、引き上げ位置に位置づけられたウエハ群Ｗｇに向かって、ファン・フィルター・ユニット２７によって供給される清浄空気（第一気体）とは別に、清浄空気よりも水分量の少ない第二気体を噴出することができる。
【００５４】
このため、ウエハ群Ｗｇから立ち上るＳＰＭの蒸気が、駆動部側（搬送駆動部２３の設けられた隔壁２８の他方側）に侵入することを防止することができ、ひいては、搬送駆動部２３のＳＰＭによる劣化を防止することができる。
【００５５】
すなわち、従来技術であれば、ファン・フィルター・ユニット２７によってしか、ウエハ群Ｗｇから立ち上るＳＰＭなどの高温の処理液の蒸気を抑えることができず、（耐薬品処理を施すことが困難な）搬送駆動部２３への悪影響を防止することができなかった。しかしながら、本実施の形態によれば、ファン・フィルター・ユニット２７よりも強力に気体噴出部１０から噴出され、第一気体よりも露点の低い第二気体によって、ウエハ群Ｗｇから立ち上るＳＰＭの蒸気を抑えることができるので、ウエハ群Ｗｇから立ち上るＳＰＭの蒸気が、駆動部側に侵入することを防止することができる。
【００５６】
なお、本実施の形態では、ウエハ群Ｗｇが高温のＳＰＭ内から取り出される前から、気体噴出部１０によって乾燥された空気または乾燥された不活性ガスからなる第二気体が噴出され始めるので、引き上げ位置に位置づけられたウエハ群Ｗｇから立ち上るＳＰＭの蒸気が、駆動部側に侵入することをより確実に防止することができる。
【００５７】
また、本実施の形態では、処理槽側に設けられた後壁２９のうち、引き上げ位置に位置づけられたウエハ群Ｗｇの上端よりも上方に、第一薬液槽３１の上方と第一リンス液槽４１の上方の雰囲気を吸引して排出する排出部１１が設けられている（図２および図３参照）。
【００５８】
そして、この排出部１１によって、ウエハ群Ｗｇが第一薬液昇降機構３２によって第一薬液槽３１内の高温のＳＰＭから取り出されている間に、第一薬液槽３１の上方と第一リンス液槽４１の上方の雰囲気が吸引されて排出され始める（排出工程）。
【００５９】
このため、ウエハ群Ｗｇから立ち上るＳＰＭの蒸気を吸引して排出することができ、ウエハ群Ｗｇから立ち上るＳＰＭの蒸気が、駆動部側に侵入することをより確実に防止することができる。
【００６０】
なお、本実施の形態では、排出部１１が気体噴出部１０よりも上方に位置づけられているので、気体噴出部１０から下方または斜め下方に向かって噴出された第二気体は、ウエハ群Ｗｇを経た後、上方側へ回り込んで排出部１１から排出されることとなる。このため、気体噴出部１０から噴出された第二気体が、ウエハ群Ｗｇに達する前に排出部１１によって排出されるようなことを防止することができ、ウエハ群Ｗｇから立ち上るＳＰＭの蒸気が駆動部側に侵入することを効率よく防止することができる。
【００６１】
また、上述のように、排出部１１は、気体噴出部１０が第二気体を噴出し始めた後で（ウエハ群Ｗｇが第一薬液槽３１内の高温のＳＰＭから取り出されている間に）、処理槽側の雰囲気を吸引して排出し始めるので、気体噴出部１０から噴出された第二気体がウエハ群Ｗｇを経ることなく排出部１１から排出されることを、より確実に防止することができる。
【００６２】
また、ウエハ群Ｗｇが高温のＳＰＭから取り出されている間という早い段階から、排出部１１によって第一薬液槽３１の上方と第一リンス液槽４１の上方の雰囲気を吸引して排出し始める。このため、ウエハ群Ｗｇから立ち上るＳＰＭの蒸気が、駆動部側に侵入することをさらにより確実に防止することができる。
【００６３】
さらに、本実施の形態では、隔壁２８の処理槽側に、可塑性を有し、上下方向に延在する複数の延在遮蔽部１３が、間隙２５を覆うようにして設けられている（図２および図５参照）。このため、第一薬液槽３１内の高温のＳＰＭから引き上げられたウエハ群Ｗｇから立ち上るＳＰＭの蒸気が、駆動部側に侵入することをより確実に防止することができる。
【００６４】
そして、本実施の形態では、遮蔽部１２は、処理槽側に配置された一方側遮蔽部１２ａと、当該一方側遮蔽部１２ａより搬送駆動部２３側に配置された他方側遮蔽部１２ｂとを有しており、一方側遮蔽部１２ａの延在遮蔽部１３と、他方側遮蔽部１２ｂの延在遮蔽部１３が、互い違いに配置されている（図５参照）。このため、第一薬液槽３１内の高温のＳＰＭから引き上げられたウエハ群Ｗｇから立ち上るＳＰＭの蒸気が、駆動部側に侵入することをさらにより確実に防止することができる。なお、延在遮蔽部１３は、耐薬品性を有するフッ素系樹脂からなっており、ＳＰＭの蒸気によって劣化しにくくなっている。
【００６５】
なお、図２に示すように、本実施の形態では、第一薬液槽３１、第一リンス液槽４１、第二薬液槽３６、第二リンス液槽４６および第三リンス液槽６１の各々に対応する間隙２５の全領域に亘って、遮蔽部１２が設けられている。このため、引き上げられたウエハ群Ｗｇから立ち上るＳＰＭの蒸気が、処理槽側から駆動部側へ侵入することをさらにより確実に防止することができる。
【００６６】
ところで、上述のように、上下方向に延在する複数の延在遮蔽部１３が可塑性を有しているので、第二搬送機構２０の支持部２１が間隙２５の間を通過する際でも、支持部２１の移動が妨げられることはない。
【００６７】
上述のように、第一薬液処理部３０でのウエハ群Ｗｇの処理が終了すると、第二搬送機構２０によって、ウエハ群Ｗｇが第一薬液昇降機構３２から受け取られ、第一リンス液処理部４０に搬送される（第一リンス液搬送工程）（図６の（２）、参照）。なお、このとき、減少された第一薬液槽３１の上方から供給される清浄空気の流量は元の流量に戻される。
【００６８】
次に、第一リンス液処理部４０において、第一リンス液昇降機構４２によって、ウエハ群Ｗｇが第二搬送機構２０から受け取られる。その後、第一リンス液昇降機構４２によって、ウエハ群Ｗｇが第一リンス液槽４１内に浸漬され、ウエハ群Ｗｇが純水（第一リンス液Ｒ１）によって処理される（第一リンス液処理工程）。
【００６９】
次に、第一リンス液昇降機構４２によって、ウエハ群Ｗｇが上昇され、第一リンス液槽４１内から搬出される。そして、第二搬送機構２０によって、ウエハ群Ｗｇが第一リンス液昇降機構４２から受け取られ、第二薬液処理部３５に搬送される（第二薬液搬送工程）（図６の（３）、参照）。
【００７０】
次に、第二薬液処理部３５において、第二薬液昇降機構３７によって、ウエハ群Ｗｇが第二搬送機構２０から受け取られる。その後、第二薬液昇降機構３７によって、ウエハ群Ｗｇが第二薬液槽３６内に浸漬され、ウエハ群ＷｇがＳＣ１（第二薬液Ｃ２）によって処理される（第二薬液処理工程）。
【００７１】
次に、第二薬液昇降機構３７によって、ウエハ群Ｗｇが上昇され、第二薬液槽３６内から搬出される。そして、第二搬送機構２０によって、ウエハ群Ｗｇが第二薬液昇降機構３７から受け取られ、第二リンス液処理部４５に搬送される（第二リンス液搬送工程）（図６の（４）、参照）。
【００７２】
次に、第二リンス液処理部４５において、第二リンス液昇降機構４７によって、ウエハ群Ｗｇが第二搬送機構２０から受け取られる。その後、第二リンス液昇降機構４７によって、ウエハ群Ｗｇが第二リンス液槽４６内に浸漬され、ウエハ群Ｗｇが純水（第二リンス液Ｒ２）によって処理される（第二リンス液処理工程）。
【００７３】
次に、第二リンス液昇降機構４７によって、ウエハ群Ｗｇが上昇され、第二リンス液槽４６内から搬出される。そして、第二搬送機構２０によって、ウエハ群Ｗｇが第二リンス液昇降機構４７から受け取られ、乾燥部６０に搬送される（乾燥搬送工程）（図６の（５）、参照）。
【００７４】
次に、乾燥部６０において、乾燥昇降機構６２によって、ウエハ群Ｗｇが第二搬送機構２０から受け取られる。その後、乾燥昇降機構６２によって、ウエハ群Ｗｇが第三リンス液槽６１内に浸漬され、ウエハ群Ｗｇが純水（第三リンス液Ｒ３）によって処理される（第三リンス液処理工程）。
【００７５】
次に、乾燥昇降機構６２によってウエハ群Ｗｇが上昇される。そして、上昇されたウエハ群Ｗｇに、ＩＰＡなどの乾燥液が供給された後で、Ｎ２などの不活性ガスが供給され、当該ウエハ群Ｗｇは乾燥される（乾燥工程）。
【００７６】
次に、第二搬送機構２０によって、ウエハ群Ｗｇが乾燥昇降機構６２から受け取られ、当該ウエハ群Ｗｇはアンローダ部７２に搬送され、当該アンローダ部７２に載置される（アンローダ載置工程）（図６の（６）、参照）。その後、ウエハ群Ｗｇは、第一搬送機構５によって持ち上げられて、キャリア搬入出ステージ３へと搬送される。このように、第二搬送機構２０からアンローダ部７２にウエハ群Ｗｇが受け渡されると、第二搬送機構２０はローダ部７１に移動される（図６の（７）、参照）。
【００７７】
ところで、上記の態様において、第二搬送機構２０は、搬送機構洗浄部６５によって、適宜洗浄されてもよい。
【００７８】
すなわち、第二搬送機構２０は、第一薬液搬送工程（図６の（１）参照）と第一リンス液搬送工程（図６の（２）参照）の間、第一リンス液搬送工程（図６の（２）参照）と第二薬液搬送工程（図６の（３）参照）の間、第二薬液搬送工程（図６の（３）参照）と第二リンス液搬送工程（図６の（４）参照）の間、第二リンス液搬送工程（図６の（４）参照）と乾燥搬送工程（図６の（５）参照）の間、乾燥搬送工程（図６の（５）参照）とアンローダ載置工程（図６の（６）参照）の間、および、アンローダ載置工程（図６の（６）参照）とウエハ群がローダ部７１に移動される工程（図６の（７）参照）の間の各々において、必要に応じて適宜、搬送機構洗浄部６５まで移動され、当該搬送機構洗浄部６５で洗浄された後で、元の位置に戻ってきてもよい。
【００７９】
なお、上記では、ウエハ群Ｗｇから立ち上るＳＰＭの蒸気を効率よく吸引して排出するために、排出部１１が、第一薬液昇降機構３２によって引き上げ位置に位置づけられたウエハ群Ｗｇの上端よりも上方に位置づけられている態様を用いて説明した。
【００８０】
しかしながら、これに限ることなく、処理液の温度や種類によっては、排出部１１は、引き上げ位置に位置づけられたウエハ群Ｗｇの中心よりも上方に位置づけられたり（図３の符号１１ａ参照）、ウエハ群Ｗｇの下端よりも上方に位置づけられていればよく（図３の符号１１ｂ参照）、引き上げ位置に位置づけられたウエハ群Ｗｇの上端よりも上方に位置づけられていなくてもよい。ただし、一般的には、排出部１１は、より上方側に位置づけられていることが好ましく、引き上げ位置に位置づけられたウエハ群Ｗｇの中心よりも上方に位置づけられていることが好ましく、引き上げ位置に位置づけられたウエハ群Ｗｇの上端よりも上方に位置づけられていることがさらに好ましい。
【００８１】
また、上記では、ウエハ群Ｗｇが高温のＳＰＭ内から取り出される前から、気体噴出部１０によって乾燥された空気または乾燥された不活性ガスからなる第二気体が噴出される態様を用いて説明した。しかしながら、これに限ることなく、ウエハ群Ｗｇから立ち上る蒸気の量がそれほど多くない場合には、ウエハ群Ｗｇが高温のＳＰＭから取り出された後や、ウエハ群Ｗｇが上方位置に位置づけられた後で、気体噴出部１０によって第二気体が噴出され始める態様を用いてもよい。
【００８２】
さらに、上記では、ウエハ群Ｗｇが第一薬液昇降機構３２によって第一薬液槽３１内の高温のＳＰＭから取り出されている間に、排出部１１によって第一薬液槽３１上方の雰囲気が吸引されて排出され始める態様を用いて説明した。しかしながら、これに限ることなく、ウエハ群Ｗｇから立ち上る蒸気の量がそれほど多くない場合には、ウエハ群Ｗｇが上方位置に位置づけられた後で、排出部１１によって第一薬液槽３１上方および第一リンス液槽４１上方の雰囲気が吸引されて排出され始める態様を用いてもよい。
【００８３】
変形例
次に、図７により、本発明の実施の形態の変形例について説明する。図７に示す実施の形態の変形例は、遮蔽部１２に、当該遮蔽部１２を上下方向に駆動する複数の遮蔽駆動部８０が設けられたものであり、その他の構成は図１乃至図６に示す上述した実施の形態と略同一である。
【００８４】
図７に示す実施の形態の変形例において、図１乃至図６に示す実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。
【００８５】
本変形例では、第一薬液処理部３０、第一リンス液処理部４０、第二薬液処理部３５、第二リンス液処理部４５および乾燥部６０の各々に対応する位置に、遮蔽部１２を上下方向に駆動する遮蔽駆動部８０が設けられている。そして、この遮蔽駆動部８０は、遮蔽保持部８１と、当該遮蔽保持部８１を上下方向に案内する溝８２ａを有する遮蔽ガイド８２と、を有している。
【００８６】
遮蔽駆動部８０の各々は、第二搬送機構２０の支持部２１が通過する際に、対応する遮蔽部１２を上方に移動させる（図７（ｂ）では、第一薬液処理部３０に対応する遮蔽駆動部８０が遮蔽部１２を上方に移動させている）。このため、支持部２１に遮蔽部１３が衝突することがなくなり、支持部２１の移動が妨げられることをより確実に防止することができる。
【００８７】
ところで、上記の実施の形態および実施の形態の変形例において、隔壁２８に遮蔽部１２が設けられている態様を用いて説明した。しかしながら、処理液の温度や種類によっては、このような遮蔽部１２がなくてもよく、例えば図８に示すように、排出部１１と気体噴出部１０だけが設けられている態様であってもよい。さらに、ウエハ群Ｗｇから立ち上る蒸気の量が多くない場合には、排出部１１が設けられずに、気体噴出部１０だけが設けられている態様であってもよい。
【図面の簡単な説明】
【００８８】
【図１】本発明の実施の形態による処理装置の構成を示す概略図。
【図２】本発明の実施の形態による処理装置を示す正面図。
【図３】本発明の実施の形態による処理装置を示す側方図。
【図４】本発明の実施の形態による処理装置の搬送機構を示す斜視図。
【図５】本発明の実施の形態による処理装置の遮蔽部を示す上方図。
【図６】本発明の実施の形態による処理装置による処理方法を説明するための概略図。
【図７】本発明の実施の形態の変形例による処理装置を示す正面図。
【図８】本発明の実施の形態の別の変形例による処理装置を示す正面図。
【符号の説明】
【００８９】
１０ 気体噴出部
１１ 排出部
１２ 遮蔽部
１２ａ 一方側遮蔽部
１２ｂ 他方側遮蔽部
１３ 延在遮蔽部
２０ 第二搬送機構（搬送機構）
２１ 支持部
２３ 搬送駆動部
２５ 間隙
２８ 隔壁
２７ ファン・フィルター・ユニット（第一気体供給部）
３０ 第一薬液処理部
３１ 第一薬液槽（処理槽）
３２ 第一薬液昇降機構（上下方向移動部）
３５ 第二薬液処理部
３６ 第二薬液槽（処理槽）
３７ 第二薬液昇降機構（上下方向移動部）
４０ 第一リンス液処理部
４１ 第一リンス液槽
４２ 第一リンス液昇降機構
４５ 第二リンス液処理部
４６ 第二リンス液槽
４７ 第二リンス液昇降機構
Ｃ１ 第一薬液
Ｃ２ 第二薬液
Ｒ１ 第一リンス液
Ｒ２ 第二リンス液
Ｗｇ 被処理体
【特許請求の範囲】
【請求項１】
間隙を有する隔壁と、
前記隔壁の一方側に配置され、被処理体を処理する処理液が貯留された処理槽と、
前記隔壁の前記間隙を通過可能な支持部と、該隔壁の他方側に設けられ該支持部を移動させる搬送駆動部と、を有する搬送機構と、
前記被処理体を、該処理液内から取り出して引き上げ位置に位置づける上下方向移動部と、
前記処理槽の上方から第一気体を供給する第一気体供給部と、
引き上げ位置に位置づけられた前記被処理体に向かって第二気体を噴出する気体噴出部と、
を備えたことを特徴とする処理装置。
【請求項２】
前記気体噴出部は、前記被処理体が前記上下方向移動部によって前記処理液内から取り出される前から前記第二気体を噴出し始めることを特徴とする請求項１に記載の処理装置。
【請求項３】
前記気体噴出部は、前記第二気体として、露点温度が−２０℃以下からなるガスを噴出することを特徴とする請求項１または２のいずれか１項に記載の処理装置。
【請求項４】
前記隔壁の一方側に設けられ、該隔壁の一方側の雰囲気を吸引して排出する排出部をさらに備え、
前記排出部は、前記上下方向移動部によって前記引き上げ位置に位置づけられた前記被処理体の下端よりも上方に位置づけられていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の処理装置。
【請求項５】
前記排出部は、前記上下方向移動部によって前記引き上げ位置に位置づけられた前記被処理体の中心よりも上方に位置づけられていることを特徴とする請求項４に記載の処理装置。
【請求項６】
前記排出部は、前記上下方向移動部によって前記引き上げ位置に位置づけられた前記被処理体の上端よりも上方に位置づけられていることを特徴とする請求項４に記載の処理装置。
【請求項７】
前記排出部は、前記被処理体が前記上下方向移動部によって前記処理液内から取り出されている間、または、前記処理液内から取り出された後で、前記隔壁の一方側の雰囲気を吸引して排出し始めることを特徴とする請求項４乃至６のいずれか１項に記載の処理装置。
【請求項８】
前記気体噴出部は、下方または斜め下方に向かって第二気体を噴出し、
前記排出部は、前記気体噴出部よりも上方に位置づけられていることを特徴とする請求項４乃至７のいずれか１項に記載の処理装置。
【請求項９】
前記排出部は、前記気体噴出部が第二気体を噴出し始めた後で、前記隔壁の一方側の雰囲気を吸引して排出し始めることを特徴とする請求項４乃至８のいずれか１項に記載の処理装置。
【請求項１０】
前記第一気体供給部から供給される第一気体の流量は調整可能となっており、
前記第一気体供給部から供給される第一気体の流量は、前記気体噴出部が第二気体を噴出する際において、該気体噴出部が第二気体を噴出し始める前と比較して減少されることを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載の処理装置。
【請求項１１】
前記第一気体供給部は、前記気体噴出部が第二気体を噴出する際に第一気体の供給を停止することを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の処理装置。
【請求項１２】
間隙を有する隔壁と、前記隔壁の一方側に配置されて被処理体を処理する処理液が貯留された処理槽と、前記隔壁の前記間隙を通過可能な支持部と該隔壁の他方側に設けられて該支持部を移動させる搬送駆動部とを有する搬送機構とを含む処理装置を用いた処理方法において、
第一気体供給部によって、前記処理槽の上方から第一気体を供給する工程と、
前記搬送駆動部によって、前記支持部上に載置された前記被処理体を移動させる工程と、
上下方向移動部によって、前記支持部から前記被処理体を受け取り、該被処理体を前記処理液内に浸漬させる工程と、
前記上下方向移動部によって、前記被処理体を前記処理液から取り出して引き上げ位置に位置づける工程と、
気体噴出部によって、引き上げ位置に位置づけられた前記被処理体に向かって第二気体を噴出する工程と、
を備えたことを特徴とする処理方法。
【請求項１３】
間隙を有する隔壁と、前記隔壁の一方側に配置されて被処理体を処理する処理液が貯留された処理槽と、前記隔壁の前記間隙を通過可能な支持部と該隔壁の他方側に設けられて該支持部を移動させる搬送駆動部とを有する搬送機構とを含む処理装置に処理方法を実行させるためのコンピュータプログラムにおいて、
前記処理方法は、
第一気体供給部によって、前記処理槽の上方から第一気体を供給する工程と、
前記搬送駆動部によって、前記支持部上に載置された前記被処理体を移動させる工程と、
上下方向移動部によって、前記支持部から前記被処理体を受け取り、該被処理体を前記処理液内に浸漬させる工程と、
前記上下方向移動部によって、前記被処理体を前記処理液から取り出して引き上げ位置に位置づける工程と、
気体噴出部によって、引き上げ位置に位置づけられた前記被処理体に向かって第二気体を噴出する工程と、
を備えた方法からなることを特徴とするコンピュータプログラム。
【請求項１４】
間隙を有する隔壁と、前記隔壁の一方側に配置されて被処理体を処理する処理液が貯留された処理槽と、前記隔壁の前記間隙を通過可能な支持部と該隔壁の他方側に設けられて該支持部を移動させる搬送駆動部とを有する搬送機構とを含む処理装置に処理方法を実行させるためのコンピュータプログラムを格納した記憶媒体において、
前記処理方法は、
第一気体供給部によって、前記処理槽の上方から第一気体を供給する工程と、
前記搬送駆動部によって、前記支持部上に載置された前記被処理体を移動させる工程と、
上下方向移動部によって、前記支持部から前記被処理体を受け取り、該被処理体を前記処理液内に浸漬させる工程と、
前記上下方向移動部によって、前記被処理体を前記処理液から取り出して引き上げ位置に位置づける工程と、
気体噴出部によって、引き上げ位置に位置づけられた前記被処理体に向かって第二気体を噴出する工程と、
を備えた方法からなることを特徴とする記憶媒体。
【請求項１】
間隙を有する隔壁と、
前記隔壁の一方側に配置され、被処理体を処理する処理液が貯留された処理槽と、
前記隔壁の前記間隙を通過可能な支持部と、該隔壁の他方側に設けられ該支持部を移動させる搬送駆動部と、を有する搬送機構と、
前記被処理体を、該処理液内から取り出して引き上げ位置に位置づける上下方向移動部と、
前記処理槽の上方から第一気体を供給する第一気体供給部と、
引き上げ位置に位置づけられた前記被処理体に向かって第二気体を噴出する気体噴出部と、
を備えたことを特徴とする処理装置。
【請求項２】
前記気体噴出部は、前記被処理体が前記上下方向移動部によって前記処理液内から取り出される前から前記第二気体を噴出し始めることを特徴とする請求項１に記載の処理装置。
【請求項３】
前記気体噴出部は、前記第二気体として、露点温度が−２０℃以下からなるガスを噴出することを特徴とする請求項１または２のいずれか１項に記載の処理装置。
【請求項４】
前記隔壁の一方側に設けられ、該隔壁の一方側の雰囲気を吸引して排出する排出部をさらに備え、
前記排出部は、前記上下方向移動部によって前記引き上げ位置に位置づけられた前記被処理体の下端よりも上方に位置づけられていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の処理装置。
【請求項５】
前記排出部は、前記上下方向移動部によって前記引き上げ位置に位置づけられた前記被処理体の中心よりも上方に位置づけられていることを特徴とする請求項４に記載の処理装置。
【請求項６】
前記排出部は、前記上下方向移動部によって前記引き上げ位置に位置づけられた前記被処理体の上端よりも上方に位置づけられていることを特徴とする請求項４に記載の処理装置。
【請求項７】
前記排出部は、前記被処理体が前記上下方向移動部によって前記処理液内から取り出されている間、または、前記処理液内から取り出された後で、前記隔壁の一方側の雰囲気を吸引して排出し始めることを特徴とする請求項４乃至６のいずれか１項に記載の処理装置。
【請求項８】
前記気体噴出部は、下方または斜め下方に向かって第二気体を噴出し、
前記排出部は、前記気体噴出部よりも上方に位置づけられていることを特徴とする請求項４乃至７のいずれか１項に記載の処理装置。
【請求項９】
前記排出部は、前記気体噴出部が第二気体を噴出し始めた後で、前記隔壁の一方側の雰囲気を吸引して排出し始めることを特徴とする請求項４乃至８のいずれか１項に記載の処理装置。
【請求項１０】
前記第一気体供給部から供給される第一気体の流量は調整可能となっており、
前記第一気体供給部から供給される第一気体の流量は、前記気体噴出部が第二気体を噴出する際において、該気体噴出部が第二気体を噴出し始める前と比較して減少されることを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載の処理装置。
【請求項１１】
前記第一気体供給部は、前記気体噴出部が第二気体を噴出する際に第一気体の供給を停止することを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の処理装置。
【請求項１２】
間隙を有する隔壁と、前記隔壁の一方側に配置されて被処理体を処理する処理液が貯留された処理槽と、前記隔壁の前記間隙を通過可能な支持部と該隔壁の他方側に設けられて該支持部を移動させる搬送駆動部とを有する搬送機構とを含む処理装置を用いた処理方法において、
第一気体供給部によって、前記処理槽の上方から第一気体を供給する工程と、
前記搬送駆動部によって、前記支持部上に載置された前記被処理体を移動させる工程と、
上下方向移動部によって、前記支持部から前記被処理体を受け取り、該被処理体を前記処理液内に浸漬させる工程と、
前記上下方向移動部によって、前記被処理体を前記処理液から取り出して引き上げ位置に位置づける工程と、
気体噴出部によって、引き上げ位置に位置づけられた前記被処理体に向かって第二気体を噴出する工程と、
を備えたことを特徴とする処理方法。
【請求項１３】
間隙を有する隔壁と、前記隔壁の一方側に配置されて被処理体を処理する処理液が貯留された処理槽と、前記隔壁の前記間隙を通過可能な支持部と該隔壁の他方側に設けられて該支持部を移動させる搬送駆動部とを有する搬送機構とを含む処理装置に処理方法を実行させるためのコンピュータプログラムにおいて、
前記処理方法は、
第一気体供給部によって、前記処理槽の上方から第一気体を供給する工程と、
前記搬送駆動部によって、前記支持部上に載置された前記被処理体を移動させる工程と、
上下方向移動部によって、前記支持部から前記被処理体を受け取り、該被処理体を前記処理液内に浸漬させる工程と、
前記上下方向移動部によって、前記被処理体を前記処理液から取り出して引き上げ位置に位置づける工程と、
気体噴出部によって、引き上げ位置に位置づけられた前記被処理体に向かって第二気体を噴出する工程と、
を備えた方法からなることを特徴とするコンピュータプログラム。
【請求項１４】
間隙を有する隔壁と、前記隔壁の一方側に配置されて被処理体を処理する処理液が貯留された処理槽と、前記隔壁の前記間隙を通過可能な支持部と該隔壁の他方側に設けられて該支持部を移動させる搬送駆動部とを有する搬送機構とを含む処理装置に処理方法を実行させるためのコンピュータプログラムを格納した記憶媒体において、
前記処理方法は、
第一気体供給部によって、前記処理槽の上方から第一気体を供給する工程と、
前記搬送駆動部によって、前記支持部上に載置された前記被処理体を移動させる工程と、
上下方向移動部によって、前記支持部から前記被処理体を受け取り、該被処理体を前記処理液内に浸漬させる工程と、
前記上下方向移動部によって、前記被処理体を前記処理液から取り出して引き上げ位置に位置づける工程と、
気体噴出部によって、引き上げ位置に位置づけられた前記被処理体に向かって第二気体を噴出する工程と、
を備えた方法からなることを特徴とする記憶媒体。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【公開番号】特開２０１０−１８２７３５（Ｐ２０１０−１８２７３５Ａ）
【公開日】平成２２年８月１９日（２０１０．８．１９）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−２２７１３（Ｐ２００９−２２７１３）
【出願日】平成２１年２月３日（２００９．２．３）
【出願人】（０００２１９９６７）東京エレクトロン株式会社 (5,184)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年８月１９日（２０１０．８．１９）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年２月３日（２００９．２．３）
【出願人】（０００２１９９６７）東京エレクトロン株式会社 (5,184)
【Ｆターム（参考）】
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