処理装置及び処理方法
【課題】従来の処理装置では、処理効率を向上させることが困難である。
【解決手段】ワークＷを支持する２つのワークテーブル２５と、ワークテーブル２５のそれぞれを、２つのワークテーブル２５間で共通する経路である共通経路を含む移動経路で案内するガイドレール２３及びガイドレール２４と、前記共通経路において、ワークテーブル２５のそれぞれに支持されたワークＷに対向した状態で、対向するワークＷに対して描画処理を施す吐出ヘッド１９と、前記共通経路においてワークテーブル２５のそれぞれが吐出ヘッド１９に対向し得る領域である処理領域７３の外側に設けられ、ワークテーブル２５に支持されたワークＷの高さ位置を、処理領域７３の外側で検出する第１検出装置１４及び第２検出装置１５と、吐出ヘッド１９とワークＷとの間の隙間量を調整する昇降モーター１８と、を有する、ことを特徴とする処理装置。
【解決手段】ワークＷを支持する２つのワークテーブル２５と、ワークテーブル２５のそれぞれを、２つのワークテーブル２５間で共通する経路である共通経路を含む移動経路で案内するガイドレール２３及びガイドレール２４と、前記共通経路において、ワークテーブル２５のそれぞれに支持されたワークＷに対向した状態で、対向するワークＷに対して描画処理を施す吐出ヘッド１９と、前記共通経路においてワークテーブル２５のそれぞれが吐出ヘッド１９に対向し得る領域である処理領域７３の外側に設けられ、ワークテーブル２５に支持されたワークＷの高さ位置を、処理領域７３の外側で検出する第１検出装置１４及び第２検出装置１５と、吐出ヘッド１９とワークＷとの間の隙間量を調整する昇降モーター１８と、を有する、ことを特徴とする処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、処理装置及び処理方法等に関する。
【背景技術】
【０００２】
基板などのワークに種々の処理を施す処理装置の１つに、ペーストや液体などの液状体を吐出する吐出ヘッドとワークとを相対的に変位させながら吐出ヘッドから液状体を吐出することによって、液状体でワークに所望のパターンを描画する描画装置がある。
このような描画装置では、従来、吐出ヘッドの１つであるシリンジを搬送する装置にシリンジと一体的に設けられた検出器でワークの高さ位置を検出し、検出したワークの高さ位置に応じてシリンジの高さを変化させることができるものが知られている（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００７−１５２２６１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上記特許文献１に記載された描画装置によれば、シリンジを搬送する装置にシリンジと一体的に設けられた検出器でワークの高さ位置を検出し、検出したワークの高さ位置に応じてシリンジの高さを変化させることができる。これにより、シリンジのノズルとワークとの間のギャップをワークの面にわたって一定に維持しやすくすることができる。この結果、液状体の塗布精度を高く維持しやすくすることができるので、ワークにおけるパターンの描画品位を向上させやすくすることができる。
【０００５】
ところで、ワークを支持したり保持したりするテーブルが移動可能に構成されたステージ装置を有する処理装置では、テーブルにワークを供給したり、テーブルからワークを除材したりするエリアである給除材エリアと、ワークに対して処理を施すエリアである処理エリアとの間でテーブルを移動可能に構成することができる。さらに、複数のテーブルを設ければ、処理エリアと給除材エリアとの間で、複数のテーブルを交互に往復移動させることによって、処理エリア内にあるテーブルにおけるワークに対して処理を施す間に、給除材エリアにあるテーブルに対して他のワークを給除材することが可能になる。つまり、１つのワークに処理を施している間に、次に処理すべきワークの準備を整えておくことができる。この構成により、この処理装置では、処理効率を向上させやすくすることができる。
【０００６】
このような複数のテーブルを有するステージ装置に、上記特許文献１に記載された検出器を適用することができる。しかしながら、この構成では、検出器は、処理領域において吐出ヘッド（シリンジ）と一体的に設けられる。つまり、この構成では、処理領域において、ワークの高さ位置が検出される。このため、この構成では、ワークに対する処理を中断した状態でワークの高さ位置を検出したり、ワークの高さ位置を検出しながらワークに対する処理をしたりしなければならない。この結果、処理装置における処理効率を向上させることが困難となる。
つまり、従来の処理装置では、処理効率を向上させることが困難であるという課題がある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態又は適用例として実現され得る。
【０００８】
［適用例１］ワークを支持する複数のテーブルと、前記複数のテーブルのそれぞれを、前記複数のテーブル間で共通する経路である共通経路を含む移動経路で案内するガイド部と、前記共通経路において、前記複数のテーブルの前記テーブルごとに、前記複数のテーブルのそれぞれに支持された前記ワークに対向した状態で、対向する前記ワークに対して処理を施す処理部と、前記共通経路において前記複数のテーブルのそれぞれが前記処理部に対向し得る領域である処理領域の外側に設けられ、前記テーブルに支持された前記ワークの高さ位置を、前記処理領域の外側で検出する検出装置と、前記処理部と前記ワークとの間の隙間量を調整する隙間量調整装置と、を有する、ことを特徴とする処理装置。
【０００９】
この適用例の処理装置は、複数のテーブルと、ガイド部と、処理部と、検出装置と、隙間量調整装置と、を有する。
複数のテーブルは、それぞれ、ワークを支持する。
ガイド部は、複数のテーブルのそれぞれを、複数のテーブル間で共通する経路である共通経路を含む移動経路で案内する。
処理部は、複数のテーブルのテーブルごとに、ワークに対して処理を施す。処理部は、共通経路において、複数のテーブルのそれぞれに支持されたワークに対向した状態で、対向するワークに対して処理を施す。
検出装置は、処理領域の外側に設けられている。処理領域は、共通経路において複数のテーブルのそれぞれが処理部に対向し得る領域である。検出装置は、テーブルに支持されたワークの高さ位置を、処理領域の外側で検出する。
隙間量調整装置は、処理部とワークとの間の隙間量を調整する。
この処理装置では、検出装置は、処理領域の外側に設けられており、ワークの高さ位置を、処理領域の外側で検出する。このため、処理領域でワークに処理を施しているときに、処理領域の外側で他のワークの高さ位置を検出することができる。そして、このワークに対する処理を施すときに、検出したワークの高さ位置に基づいて、処理部とワークとの間の隙間量を調整することができる。この結果、処理装置における処理効率を向上させやすくすることができる。
【００１０】
［適用例２］上記の処理装置であって、前記検出装置での前記ワークの高さ位置の検出結果に基づいて、前記隙間量調整装置を制御する制御部を有する、ことを特徴とする処理装置。
【００１１】
この適用例の処理装置は、検出装置でのワークの高さ位置の検出結果に基づいて、隙間量調整装置を制御する制御部を有する。これにより、検出したワークの高さ位置に基づいて、処理部とワークとの間の隙間量を調整することができる。この結果、ワークの高さ位置に応じた隙間量でワークに処理を施しやすくすることができる。
【００１２】
［適用例３］上記の処理装置であって、前記処理部は、液状体を吐出する吐出ヘッドを有する、ことを特徴とする処理装置。
【００１３】
この適用例では、処理部は、液状体を吐出する吐出ヘッドを有する。これにより、ワークに対して、処理の１つである液状体の塗布処理を、ワークの高さ位置に応じた隙間量で施すことができる。この結果、液状体の塗布精度を高く維持しやすくすることができる。
【００１４】
［適用例４］上記の処理装置であって、前記隙間量調整装置は、前記処理部を変位させる変位装置を有する、ことを特徴とする処理装置。
【００１５】
この適用例では、隙間量調整装置は、処理部を変位させる変位装置を有する。これにより、処理部を変位させることによって、隙間量を調整することができる。
【００１６】
［適用例５］ワークを支持する複数のテーブルと、前記複数のテーブルのそれぞれを、前記複数のテーブル間で共通する経路である共通経路を含む移動経路で案内するガイド部と、前記共通経路において、前記複数のテーブルの前記テーブルごとに、前記複数のテーブルのそれぞれに支持された前記ワークに対向した状態で、対向する前記ワークに対して処理を施す処理部と、を有する処理装置の前記共通経路で前記複数のテーブルのそれぞれが前記処理部に対向し得る領域である処理領域において、前記複数のテーブルのうちの１つの前記テーブルに支持された前記ワークに対して前記処理部が処理を施しているときに、前記処理領域の外側で、前記複数のテーブルのうちの他の前記テーブルに支持された処理前の前記ワークの高さ位置を把握し、前記１つのテーブルに支持された前記ワークに対する処理が終了した後に、前記処理領域において、前記他のテーブルに支持された前記ワークに対する処理を施すときに、前記ワークの高さ位置の把握結果に基づいて、前記処理部と前記ワークとの間の隙間量を調整する、ことを特徴とする処理方法。
【００１７】
この適用例の処理方法は、複数のテーブルと、ガイド部と、処理部と、を有する処理装置に適用され得る。
複数のテーブルは、それぞれ、ワークを支持する。
ガイド部は、複数のテーブルのそれぞれを、複数のテーブル間で共通する経路である共通経路を含む移動経路で案内する。
処理部は、複数のテーブルのテーブルごとに、ワークに対して処理を施す。処理部は、共通経路において、複数のテーブルのそれぞれに支持されたワークに対向した状態で、対向するワークに対して処理を施す。
この処理装置には、処理領域がある。処理領域は、共通経路で複数のテーブルのそれぞれが処理部に対向し得る領域である。
そして、この適用例の処理方法では、処理領域において、複数のテーブルのうちの１つのテーブルに支持されたワークに対して処理部が処理を施しているときに、処理領域の外側で、複数のテーブルのうちの他のテーブルに支持された処理前のワークの高さ位置を把握する。
そして、１つのテーブルに支持されたワークに対する処理が終了した後に、処理領域において、他のテーブルに支持されたワークに対する処理を施すときに、ワークの高さ位置の把握結果に基づいて、処理部とワークとの間の隙間量を調整する。
この処理方法によれば、処理領域でワークに処理を施しているときに、処理領域の外側で処理前のワークの高さ位置を把握するので、この処理前のワークに処理を施す際の隙間量の調整に必要な準備を整えておくことができる。この結果、ワークの処理における処理効率を向上させやすくすることができる。
【００１８】
［適用例６］上記の処理方法であって、前記ワークの高さ位置を把握するときに、前記ワークの複数の箇所における前記高さ位置を把握する、ことを特徴とする処理方法。
【００１９】
この適用例では、ワークの高さ位置を把握するときに、ワークの複数の箇所における高さ位置を把握するので、例えば、処理を施すときに検出箇所ごとに隙間量を調整することができる。
【００２０】
［適用例７］上記の処理方法であって、前記ワークの高さ位置を把握するときに、前記ワークの高さ位置を検出することによって、前記ワークの高さ位置を把握する、ことを特徴とする処理方法。
【００２１】
この適用例では、ワークの高さ位置を把握するときに、ワークの高さ位置を検出することによって、ワークの高さ位置を把握するので、高さ位置の精度を高めやすくすることができる。
【００２２】
［適用例８］上記の処理方法であって、前記ワークの高さ位置を把握するときに、前記テーブルの複数の検出箇所における高さ位置を検出したそれぞれの結果に、前記テーブルの前記検出箇所の数よりも少ない数の箇所で検出した前記ワークの高さ位置の結果を加算することによって、前記ワークの高さ位置を把握する、ことを特徴とする処理方法。
【００２３】
この適用例では、ワークの高さ位置を把握するときに、テーブルの複数の検出箇所における高さ位置を検出したそれぞれの結果に、テーブルの検出箇所の数よりも少ない数の箇所で検出したワークの高さ位置の結果を加算することによって、ワークの高さ位置を把握する。
ここで、例えば、テーブルの複数の検出箇所における高さ位置は、テーブルごとに予め把握しておくことができる。テーブルの高さ位置は、変化しにくい。従って、ワークに処理を施す頻度よりも低い頻度で把握することが合理的である。
また、例えば、基板などのワークでは、ワークの部位ごとに厚みが大きく異なることは稀である。従って、テーブルの高さ位置の検出箇所の数よりも少ない数の箇所で厚みを検出することが合理的である。
このため、予め把握されているテーブルの高さ位置の結果に、ワークごとの厚みを加算した結果をワークの高さ位置として把握することが合理的である。これにより、ワークの処理における処理効率を一層向上させやすくすることができる。なお、このとき、ワークごとの厚みとして、テーブルに支持された状態でのワークの高さ位置として検出することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】本実施形態における液滴吐出装置の概略の構成を示す斜視図。
【図２】本実施形態におけるキャリッジを図１中のＡ視方向に見たときの正面図。
【図３】本実施形態における吐出ヘッドの底面図。
【図４】図２中のＢ−Ｂ線における断面図。
【図５】本実施形態における液滴吐出装置を図１中のＣ視方向に見たときの側面図。
【図６】本実施形態における液滴吐出装置を図１中のＣ視方向に見たときの側面図。
【図７】本実施形態における液滴吐出装置を図１中のＣ視方向に見たときの側面図。
【図８】本実施形態における液滴吐出装置の概略の構成を示すブロック図。
【図９】本実施形態におけるワークテーブル及びワークを示す平面図。
【図１０】本実施形態におけるワークテーブル及びワークを示す平面図。
【図１１】第２実施形態におけるワークテーブルを示す平面図。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
（第１実施形態）
図面を参照しながら、液滴吐出装置を例に、実施形態について説明する。なお、各図面において、それぞれの構成を認識可能な程度の大きさにするために、構成や部材の縮尺が異なっていることがある。
【００２６】
本実施形態における液滴吐出装置１は、概略の構成を示す斜視図である図１に示すように、ワーク搬送装置３と、キャリッジ７と、キャリッジ搬送装置１１と、第１検出装置１４と、第２検出装置１５と、を有している。
キャリッジ７には、ヘッドユニット１７と、昇降モーター１８と、が設けられている。
液滴吐出装置１では、ヘッドユニット１７と基板などのワークＷとの平面視での相対位置を変化させつつ、ヘッドユニット１７に設けられた吐出ヘッド１９から液状体を液滴として吐出させることによって、ワークＷに液状体で所望のパターンを描画（記録）することができる。つまり、液滴吐出装置１は、ワークＷに描画（記録）処理を施す処理装置の１つである。
【００２７】
なお、図中のＹ方向はワークＷの移動方向を示し、Ｘ方向は平面視でＹ方向とは直交する方向を示している。また、Ｘ方向及びＹ方向によって規定されるＸＹ平面と直交する方向は、Ｚ方向として規定される。さらに、Ｚ方向に沿った軸を中心に回転する方向は、θ方向として規定される。本実施形態では、Ｚ方向は、鉛直方向に沿っている。
昇降モーター１８は、ヘッドユニット１７をＺ方向に沿って昇降させるための動力を発生する。昇降モーター１８からの動力は、図示しない昇降機構を介してヘッドユニット１７に伝達される。これにより、液滴吐出装置１では、吐出ヘッド１９をＺ方向に沿って昇降させることができる。
【００２８】
このような液滴吐出装置１は、基板や布帛、用紙、樹脂フィルムなどの種々のワークＷへの描画（記録）処理に適用され得る。
液滴吐出装置１は、例えば、液晶表示パネル等に用いられるカラーフィルターの製造や、有機ＥＬ（Electro Luminescence）装置の製造などにも適用され得る。
赤、緑及び青の３色のフィルターエレメントを有するカラーフィルターの場合、液滴吐出装置１は、例えば、基板に赤、緑及び青の各着色層を形成する工程で好適に使用され得る。この場合、ヘッドユニット１７から各着色層に対応する各液体を、ワークＷに液滴として吐出させることによって、ワークＷに赤、緑及び青のそれぞれのフィルターエレメントのパターンが描画される。
また、有機ＥＬ装置の製造では、例えば、赤、緑及び青の画素ごとに、各色に対応する機能層（有機層）を形成する工程で好適に使用され得る。この場合、ヘッドユニット１７から各色の機能層に対応する各液状体を、ワークＷに液滴として吐出されることによって、ワークＷに赤、緑及び青のそれぞれの機能層のパターンが描画される。
【００２９】
ここで、液滴吐出装置１の各構成について、詳細を説明する。
ワーク搬送装置３は、図１に示すように、ベース部２１と、ガイドレール２３と、ガイドレール２４と、２つのワークテーブル２５と、を有している。
ベース部２１は、例えば石などの経時変化が小さい材料で構成されており、Ｙ方向に沿って延びるように据えられている。
ガイドレール２３及びガイドレール２４は、それぞれ、例えば石などの経時変化が小さい材料で構成されており、ベース部２１の上面２２上に配設されている。ガイドレール２３及びガイドレール２４は、それぞれ、Ｙ方向に沿って延在している。ガイドレール２３とガイドレール２４とは、互いにＸ方向に隙間をあけた状態で並んでいる。
【００３０】
２つのワークテーブル２５は、それぞれ、ガイドレール２３及びガイドレール２４を挟んでベース部２１の上面２２に対向した状態で設けられている。２つのワークテーブル２５は、それぞれ、ベース部２１から浮いた状態でガイドレール２３及びガイドレール２４上に載置されている。つまり、ガイドレール２３及びガイドレール２４上には、２つのワークテーブル２５が並存している。２つのワークテーブル２５は、Ｙ方向において、互いに対峙している。
本実施形態では、２つのワークテーブル２５は、互いに同じ大きさを有している。
以下において、２つのワークテーブル２５のそれぞれを識別する場合には、２つのワークテーブル２５は、それぞれ、ワークテーブル２５ａ及びワークテーブル２５ｂと表記される。
【００３１】
２つのワークテーブル２５は、それぞれ、ワークＷが載置される面である載置面２８を有している。以下において、ワークテーブル２５ａに載置されているワークＷと、ワークテーブル２５ｂに載置されているワークＷとを、互いに識別する場合に、ワークテーブル２５ａに載置されているワークＷがワークＷ１と表記され、ワークテーブル２５ｂに載置されているワークＷがワークＷ２と表記される。
載置面２８は、それぞれ、ベース部２１側とは反対側（上側）に向けられている。ワークテーブル２５ａ及びワークテーブル２５ｂは、それぞれ、ガイドレール２３及びガイドレール２４によってＹ方向に沿って案内され、ベース部２１上をＹ方向に沿って往復移動可能に構成されている。
【００３２】
２つのワークテーブル２５は、それぞれ、図示しない移動機構及び動力源によって、互いに独立して（個別に）Ｙ方向に往復動可能に構成されている。移動機構としては、例えば、ボールねじとボールナットとを組み合わせた機構や、リニアモーター機構などが採用され得る。また、本実施形態では、２つのワークテーブル２５のそれぞれをＹ方向に沿って移動させるための動力源として、後述するワーク搬送モーターが採用されている。ワーク搬送モーターとしては、ステッピングモーター、サーボモーター、リニアモーターなどの種々のモーターが採用され得る。
ワーク搬送モーターからの動力は、移動機構を介して２つのワークテーブル２５のそれぞれに伝達される。これにより、２つのワークテーブル２５は、それぞれ、ガイドレール２３及びガイドレール２４に沿って、すなわちＹ方向に沿って個別に往復移動することができる。つまり、ワーク搬送装置３は、ワークテーブル２５ａの載置面２８に載置されたワークＷ１を、Ｙ方向に沿って往復移動させることができる。また、ワーク搬送装置３は、ワークテーブル２５ｂの載置面２８に載置されたワークＷ２を、Ｙ方向に沿って往復移動させることができる。
【００３３】
ヘッドユニット１７は、キャリッジ７を図１中のＡ視方向に見たときの正面図である図２に示すように、ヘッドプレート３１を有している。吐出ヘッド１９は、ヘッドプレート３１に設けられている。
吐出ヘッド１９は、底面図である図３に示すように、ノズル面３５を有している。ノズル面３５には、複数のノズル３７が形成されている。なお、図３では、ノズル３７をわかりやすく示すため、ノズル３７が誇張され、且つノズル３７の個数が減じられている。
吐出ヘッド１９において、複数のノズル３７は、Ｙ方向に沿って配列するノズル列３９を構成している。ノズル列３９において、複数のノズル３７は、Ｙ方向に沿って所定のノズル間隔Ｐで形成されている。
【００３４】
吐出ヘッド１９は、図２中のＢ−Ｂ線における断面図である図４に示すように、ノズルプレート４６と、キャビティープレート４７と、振動板４８と、複数の駆動素子４９と、を有している。本実施形態では駆動素子４９として、縦振動型の圧電素子が採用されている。
ノズルプレート４６は、ノズル面３５を有している。複数のノズル３７は、ノズルプレート４６に設けられている。
キャビティープレート４７は、ノズルプレート４６のノズル面３５とは反対側の面に設けられている。キャビティープレート４７には、複数のキャビティー５１が形成されている。各キャビティー５１は、各ノズル３７に対応して設けられており、対応する各ノズル３７に連通している。各キャビティー５１には、図示しないタンクから液状体である機能液５３が供給される。
【００３５】
振動板４８は、キャビティープレート４７のノズルプレート４６側とは反対側の面に設けられている。振動板４８は、Ｚ方向に振動（縦振動）することによって、キャビティー５１内の容積を拡大したり、縮小したりする。
複数の駆動素子４９は、それぞれ、振動板４８のキャビティープレート４７側とは反対側の面に設けられている。各駆動素子４９は、各キャビティー５１に対応して設けられており、振動板４８を挟んで各キャビティー５１に対向している。各駆動素子４９は、駆動信号に基づいて、伸長する。これにより、振動板４８がキャビティー５１内の容積を縮小させる。このとき、キャビティー５１内の機能液５３に圧力が付与される。その結果、ノズル３７から、機能液５３が液滴５５として吐出される。吐出ヘッド１９による液滴５５の吐出法は、インクジェット法の１つである。インクジェット法は、塗布法の１つである。
【００３６】
上記の構成を有する吐出ヘッド１９は、図２に示すように、ノズル面３５がヘッドプレート３１から突出した状態で、ヘッドプレート３１に支持されている。
キャリッジ７は、図２に示すように、ヘッドユニット１７を支持している。ここで、ヘッドユニット１７は、ノズル面３５がＺ方向の下方に向けられた状態でキャリッジ７に支持されている。
上記により、ワークＷには、吐出ヘッド１９から機能液５３が塗布され得る。
なお、本実施形態では、駆動素子４９として、縦振動型の圧電素子が採用されているが、機能液５３に圧力を付与するための駆動素子４９は、これに限定されず、例えば、下電極と圧電体層と上電極とを積層形成した撓み変形型の圧電素子も採用され得る。また、駆動素子４９としては、振動板と電極との間に静電気を発生させて、静電気力によって振動板を変形させてノズル３７から液滴５５を吐出させるいわゆる静電式アクチュエーターなども採用され得る。さらに、発熱体を用いてノズル３７内に泡を発生させ、その泡によって機能液５３に圧力を付与する構成も採用され得る。
【００３７】
キャリッジ搬送装置１１は、図１に示すように、架台６１と、ガイドレール６３と、を有している。
架台６１は、Ｘ方向に延在しており、ワーク搬送装置３をＸ方向にまたいでいる。架台６１は、ワークテーブル２５のベース部２１側とは反対側で、ワーク搬送装置３に対向している。架台６１は、一対の支柱６７によって支持されている。一対の支柱６７は、ベース部２１を挟んでＸ方向に互いに対峙する位置に設けられている。
なお、以下においては、一対の支柱６７のそれぞれを識別する場合に、支柱６７ａ及び支柱６７ｂという表記が用いられる。支柱６７ａ及び支柱６７ｂは、それぞれ、２つのワークテーブル２５のそれぞれよりもＺ方向の上方に突出している。これにより、架台６１と２つのワークテーブル２５のそれぞれとの間には、隙間が保たれている。
【００３８】
ガイドレール６３は、架台６１のベース部２１側に設けられている。ガイドレール６３は、Ｘ方向に沿って延在しており、架台６１のＸ方向における幅にわたって設けられている。
前述したキャリッジ７は、ガイドレール６３に支持されている。キャリッジ７がガイドレール６３に支持された状態において、吐出ヘッド１９のノズル面３５は、Ｚ方向において２つのワークテーブル２５側に向いている。キャリッジ７は、ガイドレール６３によってＸ方向に沿って案内され、Ｘ方向に往復動可能な状態でガイドレール６３に支持されている。なお、平面視で、キャリッジ７が２つのワークテーブル２５のそれぞれに重なっている状態において、ノズル面３５と載置面２８のそれぞれとは、互いに隙間を保った状態で対向する。
【００３９】
キャリッジ７は、図示しない移動機構及び動力源によって、Ｘ方向に往復動可能に構成されている。移動機構としては、例えば、ボールねじとボールナットとを組み合わせた機構や、リニアガイド機構などが採用され得る。また、本実施形態では、キャリッジ７をＸ方向に沿って移動させるための動力源として、後述するキャリッジ搬送モーターが採用されている。キャリッジ搬送モーターとしては、ステッピングモーター、サーボモーター、リニアモーターなどの種々のモーターが採用され得る。
キャリッジ搬送モーターからの動力は、移動機構を介してキャリッジ７に伝達される。これにより、キャリッジ７は、ガイドレール６３に沿って、すなわちＸ方向に沿って往復移動することができる。つまり、キャリッジ搬送装置１１は、キャリッジ７に支持されたヘッドユニット１７を、Ｘ方向に沿って往復移動させることができる。
【００４０】
ワーク搬送装置３について、詳細を説明する。
本実施形態では、ワーク搬送装置３は、図１に示すように、Ｙ方向に沿って、第１待機領域７１と、処理領域７３と、第２待機領域７５と、に区分される。
第１待機領域７１は、Ｙ方向に沿って延在するベース部２１において、Ｙ方向に並ぶ２つのワークテーブル２５のうちのワークテーブル２５ａ側の一端側に設定されている。
第２待機領域７５は、Ｙ方向に沿って延在するベース部２１において、第１待機領域７１側とは反対側の他端側に設定されている。
処理領域７３は、Ｙ方向に沿って延在するベース部２１において、第１待機領域７１と第２待機領域７５との間に設定されている。
【００４１】
キャリッジ搬送装置１１は、処理領域７３において、ベース部２１をＸ方向にまたいでいる。このため、キャリッジ７に設けられたヘッドユニット１７は、処理領域７３において、ワーク搬送装置３を交差してＸ方向に移動する。
処理領域７３は、液滴吐出装置１を図１中のＣ視向に見たときの側面図である図５に示すように、吐出ヘッド１９のＹ方向における位置ｈｙを境にして、２つのワークテーブル２５を互いに当接させた状態で並べた分の領域を有している。
このため、処理領域７３において、２つのワークテーブル２５は、それぞれ、吐出ヘッド１９のＹ方向における位置ｈｙを越えて往復移動することができる。この結果、ワークＷ１及びワークＷ２のそれぞれと吐出ヘッド１９とを、処理領域７３内で互いに交差させることができる。つまり、処理領域７３内でワークＷの全域にわたって、ワークＷと吐出ヘッド１９とを対向させることができる。これにより、液滴吐出装置１では、処理領域７３内でワークＷの全域にわたって処理を施すことができる。
【００４２】
なお、図１に示す第１待機領域７１及び第２待機領域７５も、それぞれ、２つのワークテーブル２５を互いに当接させた状態で並べた分の領域を有している。
本実施形態では、ワークテーブル２５ａは、第１待機領域７１と処理領域７３とを含めた領域にわたって移動することができる。つまり、第１待機領域７１と処理領域７３とを含めた領域が、ワークテーブル２５ａの可動領域として設定されている。
また、ワークテーブル２５ｂは、第２待機領域７５と処理領域７３とを含めた領域にわたって移動することができる。つまり、第２待機領域７５と処理領域７３とを含めた領域が、ワークテーブル２５ｂの可動領域として設定されている。
つまり、ワークテーブル２５ａとワークテーブル２５ｂとは、それぞれの移動経路のうちで処理領域７３における経路を共通経路として共有している。
【００４３】
第１検出装置１４及び第２検出装置１５のそれぞれの構成について、詳細を説明する。
第１検出装置１４は、図１に示すように、処理領域７３の外側に設けられている。本実施形態では、第１検出装置１４は、第１待機領域７１の内側に設けられている。第１検出装置１４は、ワークＷ１の高さ位置を検出する検出センサー７７を有している。本実施形態では、検出センサー７７を介してワークＷ１の高さ位置が検出される。
第２検出装置１５は、処理領域７３の外側に設けられている。本実施形態では、第２検出装置１５は、第２待機領域７５の内側に設けられている。第２検出装置１５は、ワークＷ２の高さ位置を検出する検出センサー７８を有している。本実施形態では、検出センサー７８を介してワークＷ２の高さ位置が検出される。
【００４４】
検出センサー７７及び検出センサー７８としては、それぞれ、例えば、レーザー変位計などの各種光学式センサーが採用され得る。なお、本実施形態では、第１検出装置１４の検出センサー７７と、第２検出装置１５の検出センサー７８とは、互いに同じものが採用されている。そして、第１検出装置１４と第２検出装置１５とは、互いに同じ構成を有している。このため、以下においては、第１検出装置１４の構成について説明し、第２検出装置１５の構成については、第１検出装置１４の構成と同一の符号を付して詳細な説明を省略する。
第１検出装置１４は、搬送装置８１を有している。また、第２検出装置１５は、搬送装置８３を有している。
搬送装置８１は、検出センサー７７をＸ方向に沿って搬送する。搬送装置８３は、検出センサー７８をＸ方向に沿って搬送する。
搬送装置８１と搬送装置８３とは、それぞれ、キャリッジ８５と、架台８７と、ガイドレール８９と、を有している。
【００４５】
搬送装置８１において、キャリッジ８５は、検出センサー７７を支持している。また、搬送装置８３において、キャリッジ８５は、検出センサー７８を支持している。
搬送装置８１及び搬送装置８３のそれぞれにおいて、架台８７は、Ｘ方向に延在しており、ワーク搬送装置３をＸ方向にまたいでいる。架台８７は、ワークテーブル２５のベース部２１側とは反対側で、ワーク搬送装置３に対向している。架台８７は、一対の支柱９１によって支持されている。一対の支柱９１は、ベース部２１を挟んでＸ方向に互いに対峙する位置に設けられている。
搬送装置８１及び搬送装置８３のそれぞれにおいて、一対の支柱９１は、それぞれ、２つのワークテーブル２５のそれぞれよりもＺ方向の上方に突出している。これにより、各架台８７と２つのワークテーブル２５のそれぞれとの間には、隙間が保たれている。
搬送装置８１及び搬送装置８３のそれぞれにおいて、ガイドレール８９は、架台８７のベース部２１側に設けられている。ガイドレール８９は、Ｘ方向に沿って延在しており、架台８７のＸ方向における幅にわたって設けられている。
【００４６】
搬送装置８１及び搬送装置８３のそれぞれにおいて、キャリッジ８５は、ガイドレール８９に支持されている。キャリッジ８５がガイドレール８９に支持された状態において、検出センサー７７及び検出センサー７８は、それぞれ、Ｚ方向において２つのワークテーブル２５側に向いている。キャリッジ８５は、ガイドレール８９によってＸ方向に沿って案内され、Ｘ方向に往復動可能な状態でガイドレール８９に支持されている。なお、平面視で、各キャリッジ８５が２つのワークテーブル２５のそれぞれに重なっている状態において、検出センサー７７及び検出センサー７８のそれぞれと載置面２８のそれぞれとは、互いに隙間を保った状態で対向する。
搬送装置８１及び搬送装置８３は、それぞれ、キャリッジ８５をＸ方向に移動させるための移動機構及び動力源（図示せず）を有している。
【００４７】
搬送装置８１及び搬送装置８３のそれぞれにおいて、キャリッジ８５は、図示しない移動機構及び動力源によって、Ｘ方向に往復動可能に構成されている。移動機構としては、例えば、ボールねじとボールナットとを組み合わせた機構や、リニアガイド機構などが採用され得る。また、本実施形態では、キャリッジ８５をＸ方向に沿って移動させるための動力源として、後述するセンサー搬送モーターが採用されている。センサー搬送モーターとしては、ステッピングモーター、サーボモーター、リニアモーターなどの種々のモーターが採用され得る。
搬送装置８１及び搬送装置８３のそれぞれにおいて、センサー搬送モーターからの動力は、移動機構を介してキャリッジ８５に伝達される。これにより、キャリッジ８５は、ガイドレール８９に沿って、すなわちＸ方向に沿って往復移動することができる。つまり、搬送装置８１及び搬送装置８３は、それぞれ、キャリッジ８５に支持された検出センサー７７及び検出センサー７８のそれぞれを、Ｘ方向に沿って往復移動させることができる。
【００４８】
搬送装置８１の架台８７及びガイドレール８９は、第１待機領域７１において、ベース部２１をＸ方向にまたいでいる。このため、キャリッジ８５に設けられた検出センサー７７は、第１待機領域７１において、ワーク搬送装置３を交差してＸ方向に移動する。
第１待機領域７１は、液滴吐出装置１を図１中のＣ視向に見たときの側面図である図６に示すように、検出センサー７７のＹ方向における位置ｓ１を境にして、２つのワークテーブル２５を互いに当接させた状態で並べた分の領域を有している。
このため、第１待機領域７１において、ワークテーブル２５ａは、検出センサー７７のＹ方向における位置ｓ１を越えて往復移動することができる。この結果、ワークＷ１と検出センサー７７とを、第１待機領域７１内で互いに交差させることができる。つまり、第１待機領域７１内でワークＷ１の全域にわたって、ワークＷ１と検出センサー７７とを対向させることができる。これにより、液滴吐出装置１では、第１待機領域７１内でワークＷ１の任意の箇所における高さ位置を検出することができる。
【００４９】
搬送装置８３の架台８７及びガイドレール８９は、第２待機領域７５において、ベース部２１をＸ方向にまたいでいる。このため、キャリッジ８５に設けられた検出センサー７８は、第２待機領域７５において、ワーク搬送装置３を交差してＸ方向に移動する。
第２待機領域７５は、液滴吐出装置１を図１中のＣ視向に見たときの側面図である図７に示すように、検出センサー７８のＹ方向における位置ｓ２を境にして、２つのワークテーブル２５を互いに当接させた状態で並べた分の領域を有している。
このため、第２待機領域７５において、ワークテーブル２５ｂは、検出センサー７８のＹ方向における位置ｓ２を越えて往復移動することができる。この結果、ワークＷ２と検出センサー７８とを、第２待機領域７５内で互いに交差させることができる。つまり、第２待機領域７５内でワークＷ２の全域にわたって、ワークＷ２と検出センサー７８とを対向させることができる。これにより、液滴吐出装置１では、第２待機領域７５内でワークＷ２の任意の箇所における高さ位置を検出することができる。
【００５０】
液滴吐出装置１は、図８に示すように、上記の各構成の動作を制御する制御部１１１を有している。制御部１１１は、ＣＰＵ（Central Processing Unit）１１３と、駆動制御部１１５と、メモリー部１１７と、を有している。駆動制御部１１５及びメモリー部１１７は、バス１１９を介してＣＰＵ１１３に接続されている。
また、液滴吐出装置１は、キャリッジ搬送モーター１２１と、ワーク搬送モーター１２３と、ワーク搬送モーター１２４と、センサー搬送モーター１２５と、センサー搬送モーター１２６と、入力装置１２９と、表示装置１３１と、を有している。
キャリッジ搬送モーター１２１、ワーク搬送モーター１２３、ワーク搬送モーター１２４、センサー搬送モーター１２５、及びセンサー搬送モーター１２６は、それぞれ、入出力インターフェイス１３３とバス１１９とを介して制御部１１１に接続されている。また、入力装置１２９及び表示装置１３１も、それぞれ、入出力インターフェイス１３３とバス１１９とを介して制御部１１１に接続されている。
【００５１】
キャリッジ搬送モーター１２１は、キャリッジ７を駆動するための動力を発生させる。
ワーク搬送モーター１２３は、ワークテーブル２５ａを駆動するための動力を発生させる。ワーク搬送モーター１２４は、ワークテーブル２５ｂを駆動するための動力を発生させる。
センサー搬送モーター１２５は、検出センサー７７が搭載されているキャリッジ８５を駆動するための動力を発生させる。センサー搬送モーター１２６は、検出センサー７８が搭載されているキャリッジ８５を駆動するための動力を発生させる。
入力装置１２９は、各種の加工条件を入力する装置である。表示装置１３１は、加工条件や、作業状況を表示する装置である。液滴吐出装置１を操作するオペレーターは、表示装置１３１に表示される情報を確認しながら、入力装置１２９を介して種々の情報を入力することができる。
なお、昇降モーター１８、吐出ヘッド１９、検出センサー７７及び検出センサー７８も、それぞれ、入出力インターフェイス１３３とバス１１９とを介して制御部１１１に接続されている。
【００５２】
ＣＰＵ１１３は、プロセッサーとして各種の演算処理を行う。駆動制御部１１５は、各構成の駆動を制御する。メモリー部１１７は、ＲＡＭ（Random Access Memory）や、ＲＯＭ（Read Only Memory）などを含んでいる。メモリー部１１７には、液滴吐出装置１における動作の制御手順が記述されたプログラムソフト１３５を記憶する領域や、各種のデータを一時的に展開する領域であるデータ展開部１３７などが設定されている。データ展開部１３７に展開されるデータとしては、例えば、描画すべきパターンが示される記録データや、記録処理等のプログラムデータなどが挙げられる。
駆動制御部１１５は、モーター制御部１４１と、センサー制御部１４３と、吐出制御部１４５と、表示制御部１５１と、を有している。
【００５３】
モーター制御部１４１は、ＣＰＵ１１３からの指令に基づいて、キャリッジ搬送モーター１２１の駆動と、ワーク搬送モーター１２３の駆動と、ワーク搬送モーター１２４の駆動と、センサー搬送モーター１２５の駆動と、センサー搬送モーター１２６の駆動と、昇降モーター１８の駆動とを、個別に制御する。
センサー制御部１４３は、ＣＰＵ１１３からの指令に基づいて、検出センサー７７及び検出センサー７８のそれぞれを個別に制御する。
吐出制御部１４５は、ＣＰＵ１１３からの指令に基づいて、吐出ヘッド１９の駆動を制御する。
表示制御部１５１は、ＣＰＵ１１３からの指令に基づいて、表示装置１３１の駆動を制御する。
【００５４】
なお、センサー制御部１４３は、ＣＰＵ１１３からの指令に基づいて、検出センサー７７及び検出センサー７８のそれぞれにワークＷの高さ位置を検出させ、且つ高さ位置の検出結果をメモリー部１１７やＣＰＵ１１３に出力する。
このとき、ＣＰＵ１１３は、検出センサー７７や検出センサー７８が検出した高さ位置の結果に基づいて、吐出ヘッド１９とワークＷとの間の隙間量に対する調整量を演算する。次いで、ＣＰＵ１１３は、モーター制御部１４１に昇降モーター１８に対する駆動指令を出力する。このとき、ＣＰＵ１１３は、演算した調整量に応じた駆動量を、昇降モーター１８の駆動量としてモーター制御部１４１に指示する。
【００５５】
上記の構成を有する液滴吐出装置１では、図１に示す第１待機領域７１において、ワークテーブル２５ａに対するワークＷ１の給材（供給）及び除材や、ワークＷ１の高さ位置検出処理などが行われる。
第１待機領域７１において、ワークテーブル２５ａにワークＷ１が給材（供給）される（給材工程）と、このワークＷ１に高さ位置検出処理とが行われる。
高さ位置検出処理とは、液滴吐出装置１に対するワークＷの高さ位置を検出する処理である。
液滴吐出装置１では、図２に示す吐出ヘッド１９のノズル面３５とワークＷとの間の隙間量ＧｐがワークＷの全域にわたって均一であることが、描画処理における描画品位の向上の観点から、望まれる。
本実施形態では、ワークＷの高さ位置を検出した結果に基づいて、吐出ヘッド１９のノズル面３５とワークＷとの間の隙間量Ｇｐが調整される。ノズル面３５とワークＷとの間の隙間量Ｇｐは、昇降モーター１８を駆動することによって調整される。昇降モーター１８を駆動することによって、吐出ヘッド１９をＺ方向に沿って昇降させることができるので、ノズル面３５とワークＷとの間の隙間量Ｇｐが調整され得る。
【００５６】
ワークＷ１に対する高さ位置検出処理は、第１検出装置１４を介してワークＷ１の高さ位置を検出する（検出工程）ことによって行われる。
ワークテーブル２５ａは、第１待機領域７１でワークＷ１に対する高さ位置検出処理が行われてから、ワークＷ１を処理領域７３に搬送する（搬送工程）。
処理領域７３では、ワークテーブル２５ａに載置されたワークＷ１に対して描画処理が施される（処理工程）。液滴吐出装置１では、描画処理によって、ワークＷへのパターンの描画が行われる。
【００５７】
液滴吐出装置１では、吐出ヘッド１９をワークＷに対向させた状態で、吐出ヘッド１９とワークＷとを相対的に往復移動させながら、吐出ヘッド１９から液滴５５を吐出させることによって、ワークＷへのパターンの描画が行われる。
ワークＷ１に対する描画処理では、ワークＷ１の高さ位置を検出した結果に基づいて、吐出ヘッド１９のノズル面３５とワークＷ１との間の隙間量Ｇｐが調整される。
描画処理が施されたワークＷ１は、ワークテーブル２５ａによって、処理領域７３から第１待機領域７１に搬送される。
ワークテーブル２５ａによって第１待機領域７１に搬送されたワークＷ１は、第１待機領域７１において、ワークテーブル２５ａから除材される。そして、ワークテーブル２５ａには、新たなワークＷ１が給材される。
【００５８】
他方で、第２待機領域７５では、ワークテーブル２５ｂに対するワークＷ２の給材（供給）及び除材や、ワークＷ２の高さ位置検出処理などが行われる。
第２待機領域７５において、ワークテーブル２５ｂにワークＷ２が給材（供給）される（給材工程）と、このワークＷ２に対する高さ位置検出処理が行われる。ワークＷ２に対する高さ位置検出処理は、第２検出装置１５（図１）を介してワークＷ２の高さ位置を検出する（検出工程）ことによって行われる。
ワークテーブル２５ｂは、第２待機領域７５でワークＷ２に対する高さ位置検出処理が行われてから、ワークＷ２を処理領域７３に搬送する（搬送工程）。
【００５９】
処理領域７３では、ワークテーブル２５ｂに載置されたワークＷ２に対して描画処理が施される（処理工程）。
このとき、ワークＷ２に対する描画処理では、ワークＷ２の高さ位置を検出した結果に基づいて、吐出ヘッド１９のノズル面３５とワークＷ２との間の隙間量Ｇｐが調整される。
描画処理が施されたワークＷ２は、ワークテーブル２５ｂによって、処理領域７３から第２待機領域７５に搬送される。
ワークテーブル２５ｂによって第２待機領域７５に搬送されたワークＷ２は、第２待機領域７５において、ワークテーブル２５ｂから除材される。そして、ワークテーブル２５ｂには、新たなワークＷ２が給材される。
【００６０】
上述したように、液滴吐出装置１では、描画処理において、ワークＷの高さ位置を検出した結果に基づいて、吐出ヘッド１９のノズル面３５とワークＷとの間の隙間量Ｇｐを調整することができる。
本実施形態では、ワークテーブル２５及びワークＷの平面図である図９に示すように、１つのワークＷにおいて、複数の検出箇所Ｋｐが設定される。検出箇所Ｋｐは、高さ位置を検出センサー７７や検出センサー７８で検出する箇所である。
液滴吐出装置１では、各ワークテーブル２５の載置面２８に座標系が設定されている。そして、複数の検出箇所Ｋｐには、それぞれ、各ワークテーブル２５の載置面２８に設定された座標系に基づく座標が規定されている。従って、複数の検出箇所Ｋｐは、それぞれ、規定された座標によって個別に識別される。
このため、検出センサー７７や検出センサー７８によって検出箇所Ｋｐごとに検出した高さ位置の結果は、検出箇所Ｋｐごとに識別され得る。
【００６１】
そして、ワークＷに対する描画処理では、このワークＷにおける検出箇所Ｋｐごとの高さ位置の結果に基づいて、吐出ヘッド１９のノズル面３５とワークＷとの間の隙間量Ｇｐが、検出箇所Ｋｐごとに調整される。本実施形態では、ワークＷは、図１０に示すように、検出箇所Ｋｐごとに、１つの検出箇所Ｋｐだけを包含する複数の制御エリアＳａに区分される。本実施形態では、ワークＷに対する描画処理において、制御エリアＳａごとに、吐出ヘッド１９のノズル面３５とワークＷとの間の隙間量Ｇｐを調整する方法が採用されている。これにより、吐出ヘッド１９のノズル面３５とワークＷとの間の隙間量Ｇｐが、検出箇所Ｋｐごとに調整され得る。
この結果、ワークＷへの機能液５３の塗布精度を、ワークＷにわたって高く維持しやすくすることができるので、ワークＷにおける描画品位を向上させやすくすることができる。
【００６２】
本実施形態において、ワークテーブル２５がテーブルに対応し、ガイドレール２３及びガイドレール２４がガイド部に対応し、吐出ヘッド１９が処理部に対応し、昇降モーター１８が隙間量調整装置及び変位装置に対応し、ＣＰＵ１１３が制御部に対応している。
本実施形態では、２つのワークテーブル２５のいずれか一方に載置されたワークＷに処理領域７３で描画処理が施されている間に、他方のワークテーブル２５におけるワークＷの高さ位置検出処理が実施される。このため、本実施形態では、描画処理の効率を向上させやすくすることができる。
【００６３】
（第２実施形態）
第１実施形態では、１つのワークＷに対して複数の検出箇所Ｋｐが設定されているが、検出箇所Ｋｐの設定方法は、これに限定されない。検出箇所Ｋｐの設定方法としては、複数の検出箇所Ｋｐを各ワークテーブル２５の載置面２８に設定する方法も採用され得る。
複数の検出箇所Ｋｐを各ワークテーブル２５の載置面２８に設定する例を第２実施形態として以下に説明する。なお、第２実施形態における液滴吐出装置１は、第１実施形態における液滴吐出装置１と同様の構成を有している。このため、第２実施形態において、第１実施形態と同様の構成については、第１実施形態と同一の符号を付して詳細な説明を省略する。
【００６４】
基板などのワークＷでは、１つのワークＷにおいて、ワークＷの部位ごとに厚みが大きく異なるということは稀なことと考えられる。このため、１つのワークＷに対して多くの検出箇所Ｋｐを設定することは、描画処理の効率と描画品位の向上とを比較考量すると、合理的でない場合がある。
そこで、このような場合には、図１１に示すように、各ワークテーブル２５の載置面２８に複数の検出箇所Ｋｐを設定する方法が有効であると考えられる。この場合でも、ワークＷが載置される領域内に複数の検出箇所Ｋｐを設定することが望ましい。
載置面２８に複数の検出箇所Ｋｐを設定することにより、載置面２８の凹凸や、載置面２８の傾斜などの載置面２８の状態が検出され得る。
載置面２８の凹凸や、載置面２８の傾斜などの載置面２８の状態は、頻繁に変化するものではない。このため、載置面２８に複数の検出箇所Ｋｐを設定するこの例では、載置面２８の複数の検出箇所Ｋｐにおける高さ位置を、ワークＷの給除材のたびに検出することは合理的でないと考えられる。そこで、載置面２８の複数の検出箇所Ｋｐにおける高さ位置を検出する頻度としては、例えば、１日に１回とか、液滴吐出装置１を休止状態から稼動状態に立ち上げるごとなど、合理的な頻度が設定され得る。
【００６５】
載置面２８の複数の検出箇所Ｋｐにおける高さ位置の結果は、メモリー部１１７にデータとして保存される。そして、合理的な頻度で検出するたびに、載置面２８の複数の検出箇所Ｋｐにおける高さ位置の結果が更新される。
このように、載置面２８の複数の検出箇所Ｋｐにおける高さ位置が把握されれば、ワークＷごとの厚みを載置面２８の高さ位置に加算することによって、ワークＷの高さ位置が把握され得る。凹凸が発生したり、傾斜したりした載置面２８に基板などのワークＷを載置すると、載置面２８の凹凸や傾斜がワークＷに反映する。つまり、このワークＷでは、吐出ヘッド１９とワークＷとの間の隙間量Ｇｐが載置面２８の凹凸や傾斜に応じて変化する。
【００６６】
このため、載置面２８に載置されたワークＷにおいて、各検出箇所Ｋｐに対応する箇所の高さ位置は、載置面２８の各検出箇所Ｋｐにおける高さ位置にワークＷの厚みを加算することによって算出され得る。
第２実施形態では、ワークＷごとにワークＷの厚みを検出センサー７７や検出センサー７８で検出する方法が採用される。つまり、第２実施形態では、載置面２８に載置されたワークＷの厚みを高さ位置として検出する。
前述したように、基板などのワークＷでは、１つのワークＷにおいて、ワークＷの部位ごとに厚みが大きく異なるということは稀なことと考えられる。従って、ワークＷの厚みを検出する箇所の数としては、検出箇所Ｋｐの数よりも少ない数で差し支えない。
第２実施形態では、ワークＷの厚みを検出する箇所を１つとしている。
【００６７】
上述したように、第２実施形態では、複数の検出箇所Ｋｐにおける高さ位置を検出する頻度を軽減することができるので、描画処理の効率を一層向上させやすくすることができる。
また、第２実施形態では、第１待機領域７１及び第２待機領域７５のそれぞれの領域を軽減することができる。
第１実施形態では、第１待機領域７１及び第２待機領域７５のそれぞれにワークテーブル２５の２つ分の領域が必要になる。これは、処理領域７３において描画処理を行っているときに、第１待機領域７１や第２待機領域７５でワークＷの高さ位置を検出するためである。
これに対し、第２実施形態では、複数の検出箇所Ｋｐにおける高さ位置を検出する頻度が、ワークＷの給除材の頻度よりも低い。このため、載置面２８の複数の検出箇所Ｋｐにおける高さ位置を検出するときには、描画処理を停止させても支障ない。このため、第２実施形態では、第１実施形態における第１待機領域７１及び第２待機領域７５のそれぞれから、ワークテーブル２５の１つ分の領域が軽減され得る。そして、載置面２８の複数の検出箇所Ｋｐにおける高さ位置は、第１待機領域７１や第２待機領域７５から処理領域７３までを利用することによって検出され得る。
【００６８】
第１実施形態及び第２実施形態では、それぞれ、第１検出装置１４と第２検出装置１５とを有する構成が採用されているが、液滴吐出装置１の構成は、これに限定されない。液滴吐出装置１の構成としては、例えば、第１検出装置１４及び第２検出装置１５のいずれか一方を省略した構成も採用され得る。そして、この場合、第１検出装置１４及び第２検出装置１５のうちの残した他方を、第１待機領域７１と第２待機領域７５との間で往復移動可能に構成することによって、第１待機領域７１及び第２待機領域７５のそれぞれにおいて、ワークＷの高さ位置を検出することができる。
【符号の説明】
【００６９】
１…液滴吐出装置、３…ワーク搬送装置、１４…第１検出装置、１５…第２検出装置、１８…昇降モーター、１９…吐出ヘッド、２３…ガイドレール、２４…ガイドレール、２５，２５ａ，２５ｂ…ワークテーブル、２８…載置面、３５…ノズル面、５３…機能液、５５…液滴、７１…第１待機領域、７３…処理領域、７５…第２待機領域、７７…検出センサー、７８…検出センサー、８１…搬送装置、８３…搬送装置、８５…キャリッジ、８７…架台、８９…ガイドレール、９１…支柱、Ｇｐ…隙間量、Ｋｐ…検出箇所、Ｗ，Ｗ１，Ｗ２…ワーク。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、処理装置及び処理方法等に関する。
【背景技術】
【０００２】
基板などのワークに種々の処理を施す処理装置の１つに、ペーストや液体などの液状体を吐出する吐出ヘッドとワークとを相対的に変位させながら吐出ヘッドから液状体を吐出することによって、液状体でワークに所望のパターンを描画する描画装置がある。
このような描画装置では、従来、吐出ヘッドの１つであるシリンジを搬送する装置にシリンジと一体的に設けられた検出器でワークの高さ位置を検出し、検出したワークの高さ位置に応じてシリンジの高さを変化させることができるものが知られている（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００７−１５２２６１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上記特許文献１に記載された描画装置によれば、シリンジを搬送する装置にシリンジと一体的に設けられた検出器でワークの高さ位置を検出し、検出したワークの高さ位置に応じてシリンジの高さを変化させることができる。これにより、シリンジのノズルとワークとの間のギャップをワークの面にわたって一定に維持しやすくすることができる。この結果、液状体の塗布精度を高く維持しやすくすることができるので、ワークにおけるパターンの描画品位を向上させやすくすることができる。
【０００５】
ところで、ワークを支持したり保持したりするテーブルが移動可能に構成されたステージ装置を有する処理装置では、テーブルにワークを供給したり、テーブルからワークを除材したりするエリアである給除材エリアと、ワークに対して処理を施すエリアである処理エリアとの間でテーブルを移動可能に構成することができる。さらに、複数のテーブルを設ければ、処理エリアと給除材エリアとの間で、複数のテーブルを交互に往復移動させることによって、処理エリア内にあるテーブルにおけるワークに対して処理を施す間に、給除材エリアにあるテーブルに対して他のワークを給除材することが可能になる。つまり、１つのワークに処理を施している間に、次に処理すべきワークの準備を整えておくことができる。この構成により、この処理装置では、処理効率を向上させやすくすることができる。
【０００６】
このような複数のテーブルを有するステージ装置に、上記特許文献１に記載された検出器を適用することができる。しかしながら、この構成では、検出器は、処理領域において吐出ヘッド（シリンジ）と一体的に設けられる。つまり、この構成では、処理領域において、ワークの高さ位置が検出される。このため、この構成では、ワークに対する処理を中断した状態でワークの高さ位置を検出したり、ワークの高さ位置を検出しながらワークに対する処理をしたりしなければならない。この結果、処理装置における処理効率を向上させることが困難となる。
つまり、従来の処理装置では、処理効率を向上させることが困難であるという課題がある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態又は適用例として実現され得る。
【０００８】
［適用例１］ワークを支持する複数のテーブルと、前記複数のテーブルのそれぞれを、前記複数のテーブル間で共通する経路である共通経路を含む移動経路で案内するガイド部と、前記共通経路において、前記複数のテーブルの前記テーブルごとに、前記複数のテーブルのそれぞれに支持された前記ワークに対向した状態で、対向する前記ワークに対して処理を施す処理部と、前記共通経路において前記複数のテーブルのそれぞれが前記処理部に対向し得る領域である処理領域の外側に設けられ、前記テーブルに支持された前記ワークの高さ位置を、前記処理領域の外側で検出する検出装置と、前記処理部と前記ワークとの間の隙間量を調整する隙間量調整装置と、を有する、ことを特徴とする処理装置。
【０００９】
この適用例の処理装置は、複数のテーブルと、ガイド部と、処理部と、検出装置と、隙間量調整装置と、を有する。
複数のテーブルは、それぞれ、ワークを支持する。
ガイド部は、複数のテーブルのそれぞれを、複数のテーブル間で共通する経路である共通経路を含む移動経路で案内する。
処理部は、複数のテーブルのテーブルごとに、ワークに対して処理を施す。処理部は、共通経路において、複数のテーブルのそれぞれに支持されたワークに対向した状態で、対向するワークに対して処理を施す。
検出装置は、処理領域の外側に設けられている。処理領域は、共通経路において複数のテーブルのそれぞれが処理部に対向し得る領域である。検出装置は、テーブルに支持されたワークの高さ位置を、処理領域の外側で検出する。
隙間量調整装置は、処理部とワークとの間の隙間量を調整する。
この処理装置では、検出装置は、処理領域の外側に設けられており、ワークの高さ位置を、処理領域の外側で検出する。このため、処理領域でワークに処理を施しているときに、処理領域の外側で他のワークの高さ位置を検出することができる。そして、このワークに対する処理を施すときに、検出したワークの高さ位置に基づいて、処理部とワークとの間の隙間量を調整することができる。この結果、処理装置における処理効率を向上させやすくすることができる。
【００１０】
［適用例２］上記の処理装置であって、前記検出装置での前記ワークの高さ位置の検出結果に基づいて、前記隙間量調整装置を制御する制御部を有する、ことを特徴とする処理装置。
【００１１】
この適用例の処理装置は、検出装置でのワークの高さ位置の検出結果に基づいて、隙間量調整装置を制御する制御部を有する。これにより、検出したワークの高さ位置に基づいて、処理部とワークとの間の隙間量を調整することができる。この結果、ワークの高さ位置に応じた隙間量でワークに処理を施しやすくすることができる。
【００１２】
［適用例３］上記の処理装置であって、前記処理部は、液状体を吐出する吐出ヘッドを有する、ことを特徴とする処理装置。
【００１３】
この適用例では、処理部は、液状体を吐出する吐出ヘッドを有する。これにより、ワークに対して、処理の１つである液状体の塗布処理を、ワークの高さ位置に応じた隙間量で施すことができる。この結果、液状体の塗布精度を高く維持しやすくすることができる。
【００１４】
［適用例４］上記の処理装置であって、前記隙間量調整装置は、前記処理部を変位させる変位装置を有する、ことを特徴とする処理装置。
【００１５】
この適用例では、隙間量調整装置は、処理部を変位させる変位装置を有する。これにより、処理部を変位させることによって、隙間量を調整することができる。
【００１６】
［適用例５］ワークを支持する複数のテーブルと、前記複数のテーブルのそれぞれを、前記複数のテーブル間で共通する経路である共通経路を含む移動経路で案内するガイド部と、前記共通経路において、前記複数のテーブルの前記テーブルごとに、前記複数のテーブルのそれぞれに支持された前記ワークに対向した状態で、対向する前記ワークに対して処理を施す処理部と、を有する処理装置の前記共通経路で前記複数のテーブルのそれぞれが前記処理部に対向し得る領域である処理領域において、前記複数のテーブルのうちの１つの前記テーブルに支持された前記ワークに対して前記処理部が処理を施しているときに、前記処理領域の外側で、前記複数のテーブルのうちの他の前記テーブルに支持された処理前の前記ワークの高さ位置を把握し、前記１つのテーブルに支持された前記ワークに対する処理が終了した後に、前記処理領域において、前記他のテーブルに支持された前記ワークに対する処理を施すときに、前記ワークの高さ位置の把握結果に基づいて、前記処理部と前記ワークとの間の隙間量を調整する、ことを特徴とする処理方法。
【００１７】
この適用例の処理方法は、複数のテーブルと、ガイド部と、処理部と、を有する処理装置に適用され得る。
複数のテーブルは、それぞれ、ワークを支持する。
ガイド部は、複数のテーブルのそれぞれを、複数のテーブル間で共通する経路である共通経路を含む移動経路で案内する。
処理部は、複数のテーブルのテーブルごとに、ワークに対して処理を施す。処理部は、共通経路において、複数のテーブルのそれぞれに支持されたワークに対向した状態で、対向するワークに対して処理を施す。
この処理装置には、処理領域がある。処理領域は、共通経路で複数のテーブルのそれぞれが処理部に対向し得る領域である。
そして、この適用例の処理方法では、処理領域において、複数のテーブルのうちの１つのテーブルに支持されたワークに対して処理部が処理を施しているときに、処理領域の外側で、複数のテーブルのうちの他のテーブルに支持された処理前のワークの高さ位置を把握する。
そして、１つのテーブルに支持されたワークに対する処理が終了した後に、処理領域において、他のテーブルに支持されたワークに対する処理を施すときに、ワークの高さ位置の把握結果に基づいて、処理部とワークとの間の隙間量を調整する。
この処理方法によれば、処理領域でワークに処理を施しているときに、処理領域の外側で処理前のワークの高さ位置を把握するので、この処理前のワークに処理を施す際の隙間量の調整に必要な準備を整えておくことができる。この結果、ワークの処理における処理効率を向上させやすくすることができる。
【００１８】
［適用例６］上記の処理方法であって、前記ワークの高さ位置を把握するときに、前記ワークの複数の箇所における前記高さ位置を把握する、ことを特徴とする処理方法。
【００１９】
この適用例では、ワークの高さ位置を把握するときに、ワークの複数の箇所における高さ位置を把握するので、例えば、処理を施すときに検出箇所ごとに隙間量を調整することができる。
【００２０】
［適用例７］上記の処理方法であって、前記ワークの高さ位置を把握するときに、前記ワークの高さ位置を検出することによって、前記ワークの高さ位置を把握する、ことを特徴とする処理方法。
【００２１】
この適用例では、ワークの高さ位置を把握するときに、ワークの高さ位置を検出することによって、ワークの高さ位置を把握するので、高さ位置の精度を高めやすくすることができる。
【００２２】
［適用例８］上記の処理方法であって、前記ワークの高さ位置を把握するときに、前記テーブルの複数の検出箇所における高さ位置を検出したそれぞれの結果に、前記テーブルの前記検出箇所の数よりも少ない数の箇所で検出した前記ワークの高さ位置の結果を加算することによって、前記ワークの高さ位置を把握する、ことを特徴とする処理方法。
【００２３】
この適用例では、ワークの高さ位置を把握するときに、テーブルの複数の検出箇所における高さ位置を検出したそれぞれの結果に、テーブルの検出箇所の数よりも少ない数の箇所で検出したワークの高さ位置の結果を加算することによって、ワークの高さ位置を把握する。
ここで、例えば、テーブルの複数の検出箇所における高さ位置は、テーブルごとに予め把握しておくことができる。テーブルの高さ位置は、変化しにくい。従って、ワークに処理を施す頻度よりも低い頻度で把握することが合理的である。
また、例えば、基板などのワークでは、ワークの部位ごとに厚みが大きく異なることは稀である。従って、テーブルの高さ位置の検出箇所の数よりも少ない数の箇所で厚みを検出することが合理的である。
このため、予め把握されているテーブルの高さ位置の結果に、ワークごとの厚みを加算した結果をワークの高さ位置として把握することが合理的である。これにより、ワークの処理における処理効率を一層向上させやすくすることができる。なお、このとき、ワークごとの厚みとして、テーブルに支持された状態でのワークの高さ位置として検出することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】本実施形態における液滴吐出装置の概略の構成を示す斜視図。
【図２】本実施形態におけるキャリッジを図１中のＡ視方向に見たときの正面図。
【図３】本実施形態における吐出ヘッドの底面図。
【図４】図２中のＢ−Ｂ線における断面図。
【図５】本実施形態における液滴吐出装置を図１中のＣ視方向に見たときの側面図。
【図６】本実施形態における液滴吐出装置を図１中のＣ視方向に見たときの側面図。
【図７】本実施形態における液滴吐出装置を図１中のＣ視方向に見たときの側面図。
【図８】本実施形態における液滴吐出装置の概略の構成を示すブロック図。
【図９】本実施形態におけるワークテーブル及びワークを示す平面図。
【図１０】本実施形態におけるワークテーブル及びワークを示す平面図。
【図１１】第２実施形態におけるワークテーブルを示す平面図。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
（第１実施形態）
図面を参照しながら、液滴吐出装置を例に、実施形態について説明する。なお、各図面において、それぞれの構成を認識可能な程度の大きさにするために、構成や部材の縮尺が異なっていることがある。
【００２６】
本実施形態における液滴吐出装置１は、概略の構成を示す斜視図である図１に示すように、ワーク搬送装置３と、キャリッジ７と、キャリッジ搬送装置１１と、第１検出装置１４と、第２検出装置１５と、を有している。
キャリッジ７には、ヘッドユニット１７と、昇降モーター１８と、が設けられている。
液滴吐出装置１では、ヘッドユニット１７と基板などのワークＷとの平面視での相対位置を変化させつつ、ヘッドユニット１７に設けられた吐出ヘッド１９から液状体を液滴として吐出させることによって、ワークＷに液状体で所望のパターンを描画（記録）することができる。つまり、液滴吐出装置１は、ワークＷに描画（記録）処理を施す処理装置の１つである。
【００２７】
なお、図中のＹ方向はワークＷの移動方向を示し、Ｘ方向は平面視でＹ方向とは直交する方向を示している。また、Ｘ方向及びＹ方向によって規定されるＸＹ平面と直交する方向は、Ｚ方向として規定される。さらに、Ｚ方向に沿った軸を中心に回転する方向は、θ方向として規定される。本実施形態では、Ｚ方向は、鉛直方向に沿っている。
昇降モーター１８は、ヘッドユニット１７をＺ方向に沿って昇降させるための動力を発生する。昇降モーター１８からの動力は、図示しない昇降機構を介してヘッドユニット１７に伝達される。これにより、液滴吐出装置１では、吐出ヘッド１９をＺ方向に沿って昇降させることができる。
【００２８】
このような液滴吐出装置１は、基板や布帛、用紙、樹脂フィルムなどの種々のワークＷへの描画（記録）処理に適用され得る。
液滴吐出装置１は、例えば、液晶表示パネル等に用いられるカラーフィルターの製造や、有機ＥＬ（Electro Luminescence）装置の製造などにも適用され得る。
赤、緑及び青の３色のフィルターエレメントを有するカラーフィルターの場合、液滴吐出装置１は、例えば、基板に赤、緑及び青の各着色層を形成する工程で好適に使用され得る。この場合、ヘッドユニット１７から各着色層に対応する各液体を、ワークＷに液滴として吐出させることによって、ワークＷに赤、緑及び青のそれぞれのフィルターエレメントのパターンが描画される。
また、有機ＥＬ装置の製造では、例えば、赤、緑及び青の画素ごとに、各色に対応する機能層（有機層）を形成する工程で好適に使用され得る。この場合、ヘッドユニット１７から各色の機能層に対応する各液状体を、ワークＷに液滴として吐出されることによって、ワークＷに赤、緑及び青のそれぞれの機能層のパターンが描画される。
【００２９】
ここで、液滴吐出装置１の各構成について、詳細を説明する。
ワーク搬送装置３は、図１に示すように、ベース部２１と、ガイドレール２３と、ガイドレール２４と、２つのワークテーブル２５と、を有している。
ベース部２１は、例えば石などの経時変化が小さい材料で構成されており、Ｙ方向に沿って延びるように据えられている。
ガイドレール２３及びガイドレール２４は、それぞれ、例えば石などの経時変化が小さい材料で構成されており、ベース部２１の上面２２上に配設されている。ガイドレール２３及びガイドレール２４は、それぞれ、Ｙ方向に沿って延在している。ガイドレール２３とガイドレール２４とは、互いにＸ方向に隙間をあけた状態で並んでいる。
【００３０】
２つのワークテーブル２５は、それぞれ、ガイドレール２３及びガイドレール２４を挟んでベース部２１の上面２２に対向した状態で設けられている。２つのワークテーブル２５は、それぞれ、ベース部２１から浮いた状態でガイドレール２３及びガイドレール２４上に載置されている。つまり、ガイドレール２３及びガイドレール２４上には、２つのワークテーブル２５が並存している。２つのワークテーブル２５は、Ｙ方向において、互いに対峙している。
本実施形態では、２つのワークテーブル２５は、互いに同じ大きさを有している。
以下において、２つのワークテーブル２５のそれぞれを識別する場合には、２つのワークテーブル２５は、それぞれ、ワークテーブル２５ａ及びワークテーブル２５ｂと表記される。
【００３１】
２つのワークテーブル２５は、それぞれ、ワークＷが載置される面である載置面２８を有している。以下において、ワークテーブル２５ａに載置されているワークＷと、ワークテーブル２５ｂに載置されているワークＷとを、互いに識別する場合に、ワークテーブル２５ａに載置されているワークＷがワークＷ１と表記され、ワークテーブル２５ｂに載置されているワークＷがワークＷ２と表記される。
載置面２８は、それぞれ、ベース部２１側とは反対側（上側）に向けられている。ワークテーブル２５ａ及びワークテーブル２５ｂは、それぞれ、ガイドレール２３及びガイドレール２４によってＹ方向に沿って案内され、ベース部２１上をＹ方向に沿って往復移動可能に構成されている。
【００３２】
２つのワークテーブル２５は、それぞれ、図示しない移動機構及び動力源によって、互いに独立して（個別に）Ｙ方向に往復動可能に構成されている。移動機構としては、例えば、ボールねじとボールナットとを組み合わせた機構や、リニアモーター機構などが採用され得る。また、本実施形態では、２つのワークテーブル２５のそれぞれをＹ方向に沿って移動させるための動力源として、後述するワーク搬送モーターが採用されている。ワーク搬送モーターとしては、ステッピングモーター、サーボモーター、リニアモーターなどの種々のモーターが採用され得る。
ワーク搬送モーターからの動力は、移動機構を介して２つのワークテーブル２５のそれぞれに伝達される。これにより、２つのワークテーブル２５は、それぞれ、ガイドレール２３及びガイドレール２４に沿って、すなわちＹ方向に沿って個別に往復移動することができる。つまり、ワーク搬送装置３は、ワークテーブル２５ａの載置面２８に載置されたワークＷ１を、Ｙ方向に沿って往復移動させることができる。また、ワーク搬送装置３は、ワークテーブル２５ｂの載置面２８に載置されたワークＷ２を、Ｙ方向に沿って往復移動させることができる。
【００３３】
ヘッドユニット１７は、キャリッジ７を図１中のＡ視方向に見たときの正面図である図２に示すように、ヘッドプレート３１を有している。吐出ヘッド１９は、ヘッドプレート３１に設けられている。
吐出ヘッド１９は、底面図である図３に示すように、ノズル面３５を有している。ノズル面３５には、複数のノズル３７が形成されている。なお、図３では、ノズル３７をわかりやすく示すため、ノズル３７が誇張され、且つノズル３７の個数が減じられている。
吐出ヘッド１９において、複数のノズル３７は、Ｙ方向に沿って配列するノズル列３９を構成している。ノズル列３９において、複数のノズル３７は、Ｙ方向に沿って所定のノズル間隔Ｐで形成されている。
【００３４】
吐出ヘッド１９は、図２中のＢ−Ｂ線における断面図である図４に示すように、ノズルプレート４６と、キャビティープレート４７と、振動板４８と、複数の駆動素子４９と、を有している。本実施形態では駆動素子４９として、縦振動型の圧電素子が採用されている。
ノズルプレート４６は、ノズル面３５を有している。複数のノズル３７は、ノズルプレート４６に設けられている。
キャビティープレート４７は、ノズルプレート４６のノズル面３５とは反対側の面に設けられている。キャビティープレート４７には、複数のキャビティー５１が形成されている。各キャビティー５１は、各ノズル３７に対応して設けられており、対応する各ノズル３７に連通している。各キャビティー５１には、図示しないタンクから液状体である機能液５３が供給される。
【００３５】
振動板４８は、キャビティープレート４７のノズルプレート４６側とは反対側の面に設けられている。振動板４８は、Ｚ方向に振動（縦振動）することによって、キャビティー５１内の容積を拡大したり、縮小したりする。
複数の駆動素子４９は、それぞれ、振動板４８のキャビティープレート４７側とは反対側の面に設けられている。各駆動素子４９は、各キャビティー５１に対応して設けられており、振動板４８を挟んで各キャビティー５１に対向している。各駆動素子４９は、駆動信号に基づいて、伸長する。これにより、振動板４８がキャビティー５１内の容積を縮小させる。このとき、キャビティー５１内の機能液５３に圧力が付与される。その結果、ノズル３７から、機能液５３が液滴５５として吐出される。吐出ヘッド１９による液滴５５の吐出法は、インクジェット法の１つである。インクジェット法は、塗布法の１つである。
【００３６】
上記の構成を有する吐出ヘッド１９は、図２に示すように、ノズル面３５がヘッドプレート３１から突出した状態で、ヘッドプレート３１に支持されている。
キャリッジ７は、図２に示すように、ヘッドユニット１７を支持している。ここで、ヘッドユニット１７は、ノズル面３５がＺ方向の下方に向けられた状態でキャリッジ７に支持されている。
上記により、ワークＷには、吐出ヘッド１９から機能液５３が塗布され得る。
なお、本実施形態では、駆動素子４９として、縦振動型の圧電素子が採用されているが、機能液５３に圧力を付与するための駆動素子４９は、これに限定されず、例えば、下電極と圧電体層と上電極とを積層形成した撓み変形型の圧電素子も採用され得る。また、駆動素子４９としては、振動板と電極との間に静電気を発生させて、静電気力によって振動板を変形させてノズル３７から液滴５５を吐出させるいわゆる静電式アクチュエーターなども採用され得る。さらに、発熱体を用いてノズル３７内に泡を発生させ、その泡によって機能液５３に圧力を付与する構成も採用され得る。
【００３７】
キャリッジ搬送装置１１は、図１に示すように、架台６１と、ガイドレール６３と、を有している。
架台６１は、Ｘ方向に延在しており、ワーク搬送装置３をＸ方向にまたいでいる。架台６１は、ワークテーブル２５のベース部２１側とは反対側で、ワーク搬送装置３に対向している。架台６１は、一対の支柱６７によって支持されている。一対の支柱６７は、ベース部２１を挟んでＸ方向に互いに対峙する位置に設けられている。
なお、以下においては、一対の支柱６７のそれぞれを識別する場合に、支柱６７ａ及び支柱６７ｂという表記が用いられる。支柱６７ａ及び支柱６７ｂは、それぞれ、２つのワークテーブル２５のそれぞれよりもＺ方向の上方に突出している。これにより、架台６１と２つのワークテーブル２５のそれぞれとの間には、隙間が保たれている。
【００３８】
ガイドレール６３は、架台６１のベース部２１側に設けられている。ガイドレール６３は、Ｘ方向に沿って延在しており、架台６１のＸ方向における幅にわたって設けられている。
前述したキャリッジ７は、ガイドレール６３に支持されている。キャリッジ７がガイドレール６３に支持された状態において、吐出ヘッド１９のノズル面３５は、Ｚ方向において２つのワークテーブル２５側に向いている。キャリッジ７は、ガイドレール６３によってＸ方向に沿って案内され、Ｘ方向に往復動可能な状態でガイドレール６３に支持されている。なお、平面視で、キャリッジ７が２つのワークテーブル２５のそれぞれに重なっている状態において、ノズル面３５と載置面２８のそれぞれとは、互いに隙間を保った状態で対向する。
【００３９】
キャリッジ７は、図示しない移動機構及び動力源によって、Ｘ方向に往復動可能に構成されている。移動機構としては、例えば、ボールねじとボールナットとを組み合わせた機構や、リニアガイド機構などが採用され得る。また、本実施形態では、キャリッジ７をＸ方向に沿って移動させるための動力源として、後述するキャリッジ搬送モーターが採用されている。キャリッジ搬送モーターとしては、ステッピングモーター、サーボモーター、リニアモーターなどの種々のモーターが採用され得る。
キャリッジ搬送モーターからの動力は、移動機構を介してキャリッジ７に伝達される。これにより、キャリッジ７は、ガイドレール６３に沿って、すなわちＸ方向に沿って往復移動することができる。つまり、キャリッジ搬送装置１１は、キャリッジ７に支持されたヘッドユニット１７を、Ｘ方向に沿って往復移動させることができる。
【００４０】
ワーク搬送装置３について、詳細を説明する。
本実施形態では、ワーク搬送装置３は、図１に示すように、Ｙ方向に沿って、第１待機領域７１と、処理領域７３と、第２待機領域７５と、に区分される。
第１待機領域７１は、Ｙ方向に沿って延在するベース部２１において、Ｙ方向に並ぶ２つのワークテーブル２５のうちのワークテーブル２５ａ側の一端側に設定されている。
第２待機領域７５は、Ｙ方向に沿って延在するベース部２１において、第１待機領域７１側とは反対側の他端側に設定されている。
処理領域７３は、Ｙ方向に沿って延在するベース部２１において、第１待機領域７１と第２待機領域７５との間に設定されている。
【００４１】
キャリッジ搬送装置１１は、処理領域７３において、ベース部２１をＸ方向にまたいでいる。このため、キャリッジ７に設けられたヘッドユニット１７は、処理領域７３において、ワーク搬送装置３を交差してＸ方向に移動する。
処理領域７３は、液滴吐出装置１を図１中のＣ視向に見たときの側面図である図５に示すように、吐出ヘッド１９のＹ方向における位置ｈｙを境にして、２つのワークテーブル２５を互いに当接させた状態で並べた分の領域を有している。
このため、処理領域７３において、２つのワークテーブル２５は、それぞれ、吐出ヘッド１９のＹ方向における位置ｈｙを越えて往復移動することができる。この結果、ワークＷ１及びワークＷ２のそれぞれと吐出ヘッド１９とを、処理領域７３内で互いに交差させることができる。つまり、処理領域７３内でワークＷの全域にわたって、ワークＷと吐出ヘッド１９とを対向させることができる。これにより、液滴吐出装置１では、処理領域７３内でワークＷの全域にわたって処理を施すことができる。
【００４２】
なお、図１に示す第１待機領域７１及び第２待機領域７５も、それぞれ、２つのワークテーブル２５を互いに当接させた状態で並べた分の領域を有している。
本実施形態では、ワークテーブル２５ａは、第１待機領域７１と処理領域７３とを含めた領域にわたって移動することができる。つまり、第１待機領域７１と処理領域７３とを含めた領域が、ワークテーブル２５ａの可動領域として設定されている。
また、ワークテーブル２５ｂは、第２待機領域７５と処理領域７３とを含めた領域にわたって移動することができる。つまり、第２待機領域７５と処理領域７３とを含めた領域が、ワークテーブル２５ｂの可動領域として設定されている。
つまり、ワークテーブル２５ａとワークテーブル２５ｂとは、それぞれの移動経路のうちで処理領域７３における経路を共通経路として共有している。
【００４３】
第１検出装置１４及び第２検出装置１５のそれぞれの構成について、詳細を説明する。
第１検出装置１４は、図１に示すように、処理領域７３の外側に設けられている。本実施形態では、第１検出装置１４は、第１待機領域７１の内側に設けられている。第１検出装置１４は、ワークＷ１の高さ位置を検出する検出センサー７７を有している。本実施形態では、検出センサー７７を介してワークＷ１の高さ位置が検出される。
第２検出装置１５は、処理領域７３の外側に設けられている。本実施形態では、第２検出装置１５は、第２待機領域７５の内側に設けられている。第２検出装置１５は、ワークＷ２の高さ位置を検出する検出センサー７８を有している。本実施形態では、検出センサー７８を介してワークＷ２の高さ位置が検出される。
【００４４】
検出センサー７７及び検出センサー７８としては、それぞれ、例えば、レーザー変位計などの各種光学式センサーが採用され得る。なお、本実施形態では、第１検出装置１４の検出センサー７７と、第２検出装置１５の検出センサー７８とは、互いに同じものが採用されている。そして、第１検出装置１４と第２検出装置１５とは、互いに同じ構成を有している。このため、以下においては、第１検出装置１４の構成について説明し、第２検出装置１５の構成については、第１検出装置１４の構成と同一の符号を付して詳細な説明を省略する。
第１検出装置１４は、搬送装置８１を有している。また、第２検出装置１５は、搬送装置８３を有している。
搬送装置８１は、検出センサー７７をＸ方向に沿って搬送する。搬送装置８３は、検出センサー７８をＸ方向に沿って搬送する。
搬送装置８１と搬送装置８３とは、それぞれ、キャリッジ８５と、架台８７と、ガイドレール８９と、を有している。
【００４５】
搬送装置８１において、キャリッジ８５は、検出センサー７７を支持している。また、搬送装置８３において、キャリッジ８５は、検出センサー７８を支持している。
搬送装置８１及び搬送装置８３のそれぞれにおいて、架台８７は、Ｘ方向に延在しており、ワーク搬送装置３をＸ方向にまたいでいる。架台８７は、ワークテーブル２５のベース部２１側とは反対側で、ワーク搬送装置３に対向している。架台８７は、一対の支柱９１によって支持されている。一対の支柱９１は、ベース部２１を挟んでＸ方向に互いに対峙する位置に設けられている。
搬送装置８１及び搬送装置８３のそれぞれにおいて、一対の支柱９１は、それぞれ、２つのワークテーブル２５のそれぞれよりもＺ方向の上方に突出している。これにより、各架台８７と２つのワークテーブル２５のそれぞれとの間には、隙間が保たれている。
搬送装置８１及び搬送装置８３のそれぞれにおいて、ガイドレール８９は、架台８７のベース部２１側に設けられている。ガイドレール８９は、Ｘ方向に沿って延在しており、架台８７のＸ方向における幅にわたって設けられている。
【００４６】
搬送装置８１及び搬送装置８３のそれぞれにおいて、キャリッジ８５は、ガイドレール８９に支持されている。キャリッジ８５がガイドレール８９に支持された状態において、検出センサー７７及び検出センサー７８は、それぞれ、Ｚ方向において２つのワークテーブル２５側に向いている。キャリッジ８５は、ガイドレール８９によってＸ方向に沿って案内され、Ｘ方向に往復動可能な状態でガイドレール８９に支持されている。なお、平面視で、各キャリッジ８５が２つのワークテーブル２５のそれぞれに重なっている状態において、検出センサー７７及び検出センサー７８のそれぞれと載置面２８のそれぞれとは、互いに隙間を保った状態で対向する。
搬送装置８１及び搬送装置８３は、それぞれ、キャリッジ８５をＸ方向に移動させるための移動機構及び動力源（図示せず）を有している。
【００４７】
搬送装置８１及び搬送装置８３のそれぞれにおいて、キャリッジ８５は、図示しない移動機構及び動力源によって、Ｘ方向に往復動可能に構成されている。移動機構としては、例えば、ボールねじとボールナットとを組み合わせた機構や、リニアガイド機構などが採用され得る。また、本実施形態では、キャリッジ８５をＸ方向に沿って移動させるための動力源として、後述するセンサー搬送モーターが採用されている。センサー搬送モーターとしては、ステッピングモーター、サーボモーター、リニアモーターなどの種々のモーターが採用され得る。
搬送装置８１及び搬送装置８３のそれぞれにおいて、センサー搬送モーターからの動力は、移動機構を介してキャリッジ８５に伝達される。これにより、キャリッジ８５は、ガイドレール８９に沿って、すなわちＸ方向に沿って往復移動することができる。つまり、搬送装置８１及び搬送装置８３は、それぞれ、キャリッジ８５に支持された検出センサー７７及び検出センサー７８のそれぞれを、Ｘ方向に沿って往復移動させることができる。
【００４８】
搬送装置８１の架台８７及びガイドレール８９は、第１待機領域７１において、ベース部２１をＸ方向にまたいでいる。このため、キャリッジ８５に設けられた検出センサー７７は、第１待機領域７１において、ワーク搬送装置３を交差してＸ方向に移動する。
第１待機領域７１は、液滴吐出装置１を図１中のＣ視向に見たときの側面図である図６に示すように、検出センサー７７のＹ方向における位置ｓ１を境にして、２つのワークテーブル２５を互いに当接させた状態で並べた分の領域を有している。
このため、第１待機領域７１において、ワークテーブル２５ａは、検出センサー７７のＹ方向における位置ｓ１を越えて往復移動することができる。この結果、ワークＷ１と検出センサー７７とを、第１待機領域７１内で互いに交差させることができる。つまり、第１待機領域７１内でワークＷ１の全域にわたって、ワークＷ１と検出センサー７７とを対向させることができる。これにより、液滴吐出装置１では、第１待機領域７１内でワークＷ１の任意の箇所における高さ位置を検出することができる。
【００４９】
搬送装置８３の架台８７及びガイドレール８９は、第２待機領域７５において、ベース部２１をＸ方向にまたいでいる。このため、キャリッジ８５に設けられた検出センサー７８は、第２待機領域７５において、ワーク搬送装置３を交差してＸ方向に移動する。
第２待機領域７５は、液滴吐出装置１を図１中のＣ視向に見たときの側面図である図７に示すように、検出センサー７８のＹ方向における位置ｓ２を境にして、２つのワークテーブル２５を互いに当接させた状態で並べた分の領域を有している。
このため、第２待機領域７５において、ワークテーブル２５ｂは、検出センサー７８のＹ方向における位置ｓ２を越えて往復移動することができる。この結果、ワークＷ２と検出センサー７８とを、第２待機領域７５内で互いに交差させることができる。つまり、第２待機領域７５内でワークＷ２の全域にわたって、ワークＷ２と検出センサー７８とを対向させることができる。これにより、液滴吐出装置１では、第２待機領域７５内でワークＷ２の任意の箇所における高さ位置を検出することができる。
【００５０】
液滴吐出装置１は、図８に示すように、上記の各構成の動作を制御する制御部１１１を有している。制御部１１１は、ＣＰＵ（Central Processing Unit）１１３と、駆動制御部１１５と、メモリー部１１７と、を有している。駆動制御部１１５及びメモリー部１１７は、バス１１９を介してＣＰＵ１１３に接続されている。
また、液滴吐出装置１は、キャリッジ搬送モーター１２１と、ワーク搬送モーター１２３と、ワーク搬送モーター１２４と、センサー搬送モーター１２５と、センサー搬送モーター１２６と、入力装置１２９と、表示装置１３１と、を有している。
キャリッジ搬送モーター１２１、ワーク搬送モーター１２３、ワーク搬送モーター１２４、センサー搬送モーター１２５、及びセンサー搬送モーター１２６は、それぞれ、入出力インターフェイス１３３とバス１１９とを介して制御部１１１に接続されている。また、入力装置１２９及び表示装置１３１も、それぞれ、入出力インターフェイス１３３とバス１１９とを介して制御部１１１に接続されている。
【００５１】
キャリッジ搬送モーター１２１は、キャリッジ７を駆動するための動力を発生させる。
ワーク搬送モーター１２３は、ワークテーブル２５ａを駆動するための動力を発生させる。ワーク搬送モーター１２４は、ワークテーブル２５ｂを駆動するための動力を発生させる。
センサー搬送モーター１２５は、検出センサー７７が搭載されているキャリッジ８５を駆動するための動力を発生させる。センサー搬送モーター１２６は、検出センサー７８が搭載されているキャリッジ８５を駆動するための動力を発生させる。
入力装置１２９は、各種の加工条件を入力する装置である。表示装置１３１は、加工条件や、作業状況を表示する装置である。液滴吐出装置１を操作するオペレーターは、表示装置１３１に表示される情報を確認しながら、入力装置１２９を介して種々の情報を入力することができる。
なお、昇降モーター１８、吐出ヘッド１９、検出センサー７７及び検出センサー７８も、それぞれ、入出力インターフェイス１３３とバス１１９とを介して制御部１１１に接続されている。
【００５２】
ＣＰＵ１１３は、プロセッサーとして各種の演算処理を行う。駆動制御部１１５は、各構成の駆動を制御する。メモリー部１１７は、ＲＡＭ（Random Access Memory）や、ＲＯＭ（Read Only Memory）などを含んでいる。メモリー部１１７には、液滴吐出装置１における動作の制御手順が記述されたプログラムソフト１３５を記憶する領域や、各種のデータを一時的に展開する領域であるデータ展開部１３７などが設定されている。データ展開部１３７に展開されるデータとしては、例えば、描画すべきパターンが示される記録データや、記録処理等のプログラムデータなどが挙げられる。
駆動制御部１１５は、モーター制御部１４１と、センサー制御部１４３と、吐出制御部１４５と、表示制御部１５１と、を有している。
【００５３】
モーター制御部１４１は、ＣＰＵ１１３からの指令に基づいて、キャリッジ搬送モーター１２１の駆動と、ワーク搬送モーター１２３の駆動と、ワーク搬送モーター１２４の駆動と、センサー搬送モーター１２５の駆動と、センサー搬送モーター１２６の駆動と、昇降モーター１８の駆動とを、個別に制御する。
センサー制御部１４３は、ＣＰＵ１１３からの指令に基づいて、検出センサー７７及び検出センサー７８のそれぞれを個別に制御する。
吐出制御部１４５は、ＣＰＵ１１３からの指令に基づいて、吐出ヘッド１９の駆動を制御する。
表示制御部１５１は、ＣＰＵ１１３からの指令に基づいて、表示装置１３１の駆動を制御する。
【００５４】
なお、センサー制御部１４３は、ＣＰＵ１１３からの指令に基づいて、検出センサー７７及び検出センサー７８のそれぞれにワークＷの高さ位置を検出させ、且つ高さ位置の検出結果をメモリー部１１７やＣＰＵ１１３に出力する。
このとき、ＣＰＵ１１３は、検出センサー７７や検出センサー７８が検出した高さ位置の結果に基づいて、吐出ヘッド１９とワークＷとの間の隙間量に対する調整量を演算する。次いで、ＣＰＵ１１３は、モーター制御部１４１に昇降モーター１８に対する駆動指令を出力する。このとき、ＣＰＵ１１３は、演算した調整量に応じた駆動量を、昇降モーター１８の駆動量としてモーター制御部１４１に指示する。
【００５５】
上記の構成を有する液滴吐出装置１では、図１に示す第１待機領域７１において、ワークテーブル２５ａに対するワークＷ１の給材（供給）及び除材や、ワークＷ１の高さ位置検出処理などが行われる。
第１待機領域７１において、ワークテーブル２５ａにワークＷ１が給材（供給）される（給材工程）と、このワークＷ１に高さ位置検出処理とが行われる。
高さ位置検出処理とは、液滴吐出装置１に対するワークＷの高さ位置を検出する処理である。
液滴吐出装置１では、図２に示す吐出ヘッド１９のノズル面３５とワークＷとの間の隙間量ＧｐがワークＷの全域にわたって均一であることが、描画処理における描画品位の向上の観点から、望まれる。
本実施形態では、ワークＷの高さ位置を検出した結果に基づいて、吐出ヘッド１９のノズル面３５とワークＷとの間の隙間量Ｇｐが調整される。ノズル面３５とワークＷとの間の隙間量Ｇｐは、昇降モーター１８を駆動することによって調整される。昇降モーター１８を駆動することによって、吐出ヘッド１９をＺ方向に沿って昇降させることができるので、ノズル面３５とワークＷとの間の隙間量Ｇｐが調整され得る。
【００５６】
ワークＷ１に対する高さ位置検出処理は、第１検出装置１４を介してワークＷ１の高さ位置を検出する（検出工程）ことによって行われる。
ワークテーブル２５ａは、第１待機領域７１でワークＷ１に対する高さ位置検出処理が行われてから、ワークＷ１を処理領域７３に搬送する（搬送工程）。
処理領域７３では、ワークテーブル２５ａに載置されたワークＷ１に対して描画処理が施される（処理工程）。液滴吐出装置１では、描画処理によって、ワークＷへのパターンの描画が行われる。
【００５７】
液滴吐出装置１では、吐出ヘッド１９をワークＷに対向させた状態で、吐出ヘッド１９とワークＷとを相対的に往復移動させながら、吐出ヘッド１９から液滴５５を吐出させることによって、ワークＷへのパターンの描画が行われる。
ワークＷ１に対する描画処理では、ワークＷ１の高さ位置を検出した結果に基づいて、吐出ヘッド１９のノズル面３５とワークＷ１との間の隙間量Ｇｐが調整される。
描画処理が施されたワークＷ１は、ワークテーブル２５ａによって、処理領域７３から第１待機領域７１に搬送される。
ワークテーブル２５ａによって第１待機領域７１に搬送されたワークＷ１は、第１待機領域７１において、ワークテーブル２５ａから除材される。そして、ワークテーブル２５ａには、新たなワークＷ１が給材される。
【００５８】
他方で、第２待機領域７５では、ワークテーブル２５ｂに対するワークＷ２の給材（供給）及び除材や、ワークＷ２の高さ位置検出処理などが行われる。
第２待機領域７５において、ワークテーブル２５ｂにワークＷ２が給材（供給）される（給材工程）と、このワークＷ２に対する高さ位置検出処理が行われる。ワークＷ２に対する高さ位置検出処理は、第２検出装置１５（図１）を介してワークＷ２の高さ位置を検出する（検出工程）ことによって行われる。
ワークテーブル２５ｂは、第２待機領域７５でワークＷ２に対する高さ位置検出処理が行われてから、ワークＷ２を処理領域７３に搬送する（搬送工程）。
【００５９】
処理領域７３では、ワークテーブル２５ｂに載置されたワークＷ２に対して描画処理が施される（処理工程）。
このとき、ワークＷ２に対する描画処理では、ワークＷ２の高さ位置を検出した結果に基づいて、吐出ヘッド１９のノズル面３５とワークＷ２との間の隙間量Ｇｐが調整される。
描画処理が施されたワークＷ２は、ワークテーブル２５ｂによって、処理領域７３から第２待機領域７５に搬送される。
ワークテーブル２５ｂによって第２待機領域７５に搬送されたワークＷ２は、第２待機領域７５において、ワークテーブル２５ｂから除材される。そして、ワークテーブル２５ｂには、新たなワークＷ２が給材される。
【００６０】
上述したように、液滴吐出装置１では、描画処理において、ワークＷの高さ位置を検出した結果に基づいて、吐出ヘッド１９のノズル面３５とワークＷとの間の隙間量Ｇｐを調整することができる。
本実施形態では、ワークテーブル２５及びワークＷの平面図である図９に示すように、１つのワークＷにおいて、複数の検出箇所Ｋｐが設定される。検出箇所Ｋｐは、高さ位置を検出センサー７７や検出センサー７８で検出する箇所である。
液滴吐出装置１では、各ワークテーブル２５の載置面２８に座標系が設定されている。そして、複数の検出箇所Ｋｐには、それぞれ、各ワークテーブル２５の載置面２８に設定された座標系に基づく座標が規定されている。従って、複数の検出箇所Ｋｐは、それぞれ、規定された座標によって個別に識別される。
このため、検出センサー７７や検出センサー７８によって検出箇所Ｋｐごとに検出した高さ位置の結果は、検出箇所Ｋｐごとに識別され得る。
【００６１】
そして、ワークＷに対する描画処理では、このワークＷにおける検出箇所Ｋｐごとの高さ位置の結果に基づいて、吐出ヘッド１９のノズル面３５とワークＷとの間の隙間量Ｇｐが、検出箇所Ｋｐごとに調整される。本実施形態では、ワークＷは、図１０に示すように、検出箇所Ｋｐごとに、１つの検出箇所Ｋｐだけを包含する複数の制御エリアＳａに区分される。本実施形態では、ワークＷに対する描画処理において、制御エリアＳａごとに、吐出ヘッド１９のノズル面３５とワークＷとの間の隙間量Ｇｐを調整する方法が採用されている。これにより、吐出ヘッド１９のノズル面３５とワークＷとの間の隙間量Ｇｐが、検出箇所Ｋｐごとに調整され得る。
この結果、ワークＷへの機能液５３の塗布精度を、ワークＷにわたって高く維持しやすくすることができるので、ワークＷにおける描画品位を向上させやすくすることができる。
【００６２】
本実施形態において、ワークテーブル２５がテーブルに対応し、ガイドレール２３及びガイドレール２４がガイド部に対応し、吐出ヘッド１９が処理部に対応し、昇降モーター１８が隙間量調整装置及び変位装置に対応し、ＣＰＵ１１３が制御部に対応している。
本実施形態では、２つのワークテーブル２５のいずれか一方に載置されたワークＷに処理領域７３で描画処理が施されている間に、他方のワークテーブル２５におけるワークＷの高さ位置検出処理が実施される。このため、本実施形態では、描画処理の効率を向上させやすくすることができる。
【００６３】
（第２実施形態）
第１実施形態では、１つのワークＷに対して複数の検出箇所Ｋｐが設定されているが、検出箇所Ｋｐの設定方法は、これに限定されない。検出箇所Ｋｐの設定方法としては、複数の検出箇所Ｋｐを各ワークテーブル２５の載置面２８に設定する方法も採用され得る。
複数の検出箇所Ｋｐを各ワークテーブル２５の載置面２８に設定する例を第２実施形態として以下に説明する。なお、第２実施形態における液滴吐出装置１は、第１実施形態における液滴吐出装置１と同様の構成を有している。このため、第２実施形態において、第１実施形態と同様の構成については、第１実施形態と同一の符号を付して詳細な説明を省略する。
【００６４】
基板などのワークＷでは、１つのワークＷにおいて、ワークＷの部位ごとに厚みが大きく異なるということは稀なことと考えられる。このため、１つのワークＷに対して多くの検出箇所Ｋｐを設定することは、描画処理の効率と描画品位の向上とを比較考量すると、合理的でない場合がある。
そこで、このような場合には、図１１に示すように、各ワークテーブル２５の載置面２８に複数の検出箇所Ｋｐを設定する方法が有効であると考えられる。この場合でも、ワークＷが載置される領域内に複数の検出箇所Ｋｐを設定することが望ましい。
載置面２８に複数の検出箇所Ｋｐを設定することにより、載置面２８の凹凸や、載置面２８の傾斜などの載置面２８の状態が検出され得る。
載置面２８の凹凸や、載置面２８の傾斜などの載置面２８の状態は、頻繁に変化するものではない。このため、載置面２８に複数の検出箇所Ｋｐを設定するこの例では、載置面２８の複数の検出箇所Ｋｐにおける高さ位置を、ワークＷの給除材のたびに検出することは合理的でないと考えられる。そこで、載置面２８の複数の検出箇所Ｋｐにおける高さ位置を検出する頻度としては、例えば、１日に１回とか、液滴吐出装置１を休止状態から稼動状態に立ち上げるごとなど、合理的な頻度が設定され得る。
【００６５】
載置面２８の複数の検出箇所Ｋｐにおける高さ位置の結果は、メモリー部１１７にデータとして保存される。そして、合理的な頻度で検出するたびに、載置面２８の複数の検出箇所Ｋｐにおける高さ位置の結果が更新される。
このように、載置面２８の複数の検出箇所Ｋｐにおける高さ位置が把握されれば、ワークＷごとの厚みを載置面２８の高さ位置に加算することによって、ワークＷの高さ位置が把握され得る。凹凸が発生したり、傾斜したりした載置面２８に基板などのワークＷを載置すると、載置面２８の凹凸や傾斜がワークＷに反映する。つまり、このワークＷでは、吐出ヘッド１９とワークＷとの間の隙間量Ｇｐが載置面２８の凹凸や傾斜に応じて変化する。
【００６６】
このため、載置面２８に載置されたワークＷにおいて、各検出箇所Ｋｐに対応する箇所の高さ位置は、載置面２８の各検出箇所Ｋｐにおける高さ位置にワークＷの厚みを加算することによって算出され得る。
第２実施形態では、ワークＷごとにワークＷの厚みを検出センサー７７や検出センサー７８で検出する方法が採用される。つまり、第２実施形態では、載置面２８に載置されたワークＷの厚みを高さ位置として検出する。
前述したように、基板などのワークＷでは、１つのワークＷにおいて、ワークＷの部位ごとに厚みが大きく異なるということは稀なことと考えられる。従って、ワークＷの厚みを検出する箇所の数としては、検出箇所Ｋｐの数よりも少ない数で差し支えない。
第２実施形態では、ワークＷの厚みを検出する箇所を１つとしている。
【００６７】
上述したように、第２実施形態では、複数の検出箇所Ｋｐにおける高さ位置を検出する頻度を軽減することができるので、描画処理の効率を一層向上させやすくすることができる。
また、第２実施形態では、第１待機領域７１及び第２待機領域７５のそれぞれの領域を軽減することができる。
第１実施形態では、第１待機領域７１及び第２待機領域７５のそれぞれにワークテーブル２５の２つ分の領域が必要になる。これは、処理領域７３において描画処理を行っているときに、第１待機領域７１や第２待機領域７５でワークＷの高さ位置を検出するためである。
これに対し、第２実施形態では、複数の検出箇所Ｋｐにおける高さ位置を検出する頻度が、ワークＷの給除材の頻度よりも低い。このため、載置面２８の複数の検出箇所Ｋｐにおける高さ位置を検出するときには、描画処理を停止させても支障ない。このため、第２実施形態では、第１実施形態における第１待機領域７１及び第２待機領域７５のそれぞれから、ワークテーブル２５の１つ分の領域が軽減され得る。そして、載置面２８の複数の検出箇所Ｋｐにおける高さ位置は、第１待機領域７１や第２待機領域７５から処理領域７３までを利用することによって検出され得る。
【００６８】
第１実施形態及び第２実施形態では、それぞれ、第１検出装置１４と第２検出装置１５とを有する構成が採用されているが、液滴吐出装置１の構成は、これに限定されない。液滴吐出装置１の構成としては、例えば、第１検出装置１４及び第２検出装置１５のいずれか一方を省略した構成も採用され得る。そして、この場合、第１検出装置１４及び第２検出装置１５のうちの残した他方を、第１待機領域７１と第２待機領域７５との間で往復移動可能に構成することによって、第１待機領域７１及び第２待機領域７５のそれぞれにおいて、ワークＷの高さ位置を検出することができる。
【符号の説明】
【００６９】
１…液滴吐出装置、３…ワーク搬送装置、１４…第１検出装置、１５…第２検出装置、１８…昇降モーター、１９…吐出ヘッド、２３…ガイドレール、２４…ガイドレール、２５，２５ａ，２５ｂ…ワークテーブル、２８…載置面、３５…ノズル面、５３…機能液、５５…液滴、７１…第１待機領域、７３…処理領域、７５…第２待機領域、７７…検出センサー、７８…検出センサー、８１…搬送装置、８３…搬送装置、８５…キャリッジ、８７…架台、８９…ガイドレール、９１…支柱、Ｇｐ…隙間量、Ｋｐ…検出箇所、Ｗ，Ｗ１，Ｗ２…ワーク。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ワークを支持する複数のテーブルと、
前記複数のテーブルのそれぞれを、前記複数のテーブル間で共通する経路である共通経路を含む移動経路で案内するガイド部と、
前記共通経路において、前記複数のテーブルの前記テーブルごとに、前記複数のテーブルのそれぞれに支持された前記ワークに対向した状態で、対向する前記ワークに対して処理を施す処理部と、
前記共通経路において前記複数のテーブルのそれぞれが前記処理部に対向し得る領域である処理領域の外側に設けられ、前記テーブルに支持された前記ワークの高さ位置を、前記処理領域の外側で検出する検出装置と、
前記処理部と前記ワークとの間の隙間量を調整する隙間量調整装置と、を有する、
ことを特徴とする処理装置。
【請求項２】
前記検出装置での前記ワークの高さ位置の検出結果に基づいて、前記隙間量調整装置を制御する制御部を有する、
ことを特徴とする請求項１に記載の処理装置。
【請求項３】
前記処理部は、液状体を吐出する吐出ヘッドを有する、
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の処理装置。
【請求項４】
前記隙間量調整装置は、前記処理部を変位させる変位装置を有する、
ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の処理装置。
【請求項５】
ワークを支持する複数のテーブルと、
前記複数のテーブルのそれぞれを、前記複数のテーブル間で共通する経路である共通経路を含む移動経路で案内するガイド部と、
前記共通経路において、前記複数のテーブルの前記テーブルごとに、前記複数のテーブルのそれぞれに支持された前記ワークに対向した状態で、対向する前記ワークに対して処理を施す処理部と、
を有する処理装置の前記共通経路で前記複数のテーブルのそれぞれが前記処理部に対向し得る領域である処理領域において、前記複数のテーブルのうちの１つの前記テーブルに支持された前記ワークに対して前記処理部が処理を施しているときに、前記処理領域の外側で、前記複数のテーブルのうちの他の前記テーブルに支持された処理前の前記ワークの高さ位置を把握し、
前記１つのテーブルに支持された前記ワークに対する処理が終了した後に、前記処理領域において、前記他のテーブルに支持された前記ワークに対する処理を施すときに、前記ワークの高さ位置の把握結果に基づいて、前記処理部と前記ワークとの間の隙間量を調整する、
ことを特徴とする処理方法。
【請求項６】
前記ワークの高さ位置を把握するときに、前記ワークの複数の箇所における前記高さ位置を把握する、
ことを特徴とする請求項５に記載の処理方法。
【請求項７】
前記ワークの高さ位置を把握するときに、前記ワークの高さ位置を検出することによって、前記ワークの高さ位置を把握する、
ことを特徴とする請求項６に記載の処理方法。
【請求項８】
前記ワークの高さ位置を把握するときに、前記テーブルの複数の検出箇所における高さ位置を検出したそれぞれの結果に、前記テーブルの前記検出箇所の数よりも少ない数の箇所で検出した前記ワークの高さ位置の結果を加算することによって、前記ワークの高さ位置を把握する、
ことを特徴とする請求項６に記載の処理方法。
【請求項１】
ワークを支持する複数のテーブルと、
前記複数のテーブルのそれぞれを、前記複数のテーブル間で共通する経路である共通経路を含む移動経路で案内するガイド部と、
前記共通経路において、前記複数のテーブルの前記テーブルごとに、前記複数のテーブルのそれぞれに支持された前記ワークに対向した状態で、対向する前記ワークに対して処理を施す処理部と、
前記共通経路において前記複数のテーブルのそれぞれが前記処理部に対向し得る領域である処理領域の外側に設けられ、前記テーブルに支持された前記ワークの高さ位置を、前記処理領域の外側で検出する検出装置と、
前記処理部と前記ワークとの間の隙間量を調整する隙間量調整装置と、を有する、
ことを特徴とする処理装置。
【請求項２】
前記検出装置での前記ワークの高さ位置の検出結果に基づいて、前記隙間量調整装置を制御する制御部を有する、
ことを特徴とする請求項１に記載の処理装置。
【請求項３】
前記処理部は、液状体を吐出する吐出ヘッドを有する、
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の処理装置。
【請求項４】
前記隙間量調整装置は、前記処理部を変位させる変位装置を有する、
ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の処理装置。
【請求項５】
ワークを支持する複数のテーブルと、
前記複数のテーブルのそれぞれを、前記複数のテーブル間で共通する経路である共通経路を含む移動経路で案内するガイド部と、
前記共通経路において、前記複数のテーブルの前記テーブルごとに、前記複数のテーブルのそれぞれに支持された前記ワークに対向した状態で、対向する前記ワークに対して処理を施す処理部と、
を有する処理装置の前記共通経路で前記複数のテーブルのそれぞれが前記処理部に対向し得る領域である処理領域において、前記複数のテーブルのうちの１つの前記テーブルに支持された前記ワークに対して前記処理部が処理を施しているときに、前記処理領域の外側で、前記複数のテーブルのうちの他の前記テーブルに支持された処理前の前記ワークの高さ位置を把握し、
前記１つのテーブルに支持された前記ワークに対する処理が終了した後に、前記処理領域において、前記他のテーブルに支持された前記ワークに対する処理を施すときに、前記ワークの高さ位置の把握結果に基づいて、前記処理部と前記ワークとの間の隙間量を調整する、
ことを特徴とする処理方法。
【請求項６】
前記ワークの高さ位置を把握するときに、前記ワークの複数の箇所における前記高さ位置を把握する、
ことを特徴とする請求項５に記載の処理方法。
【請求項７】
前記ワークの高さ位置を把握するときに、前記ワークの高さ位置を検出することによって、前記ワークの高さ位置を把握する、
ことを特徴とする請求項６に記載の処理方法。
【請求項８】
前記ワークの高さ位置を把握するときに、前記テーブルの複数の検出箇所における高さ位置を検出したそれぞれの結果に、前記テーブルの前記検出箇所の数よりも少ない数の箇所で検出した前記ワークの高さ位置の結果を加算することによって、前記ワークの高さ位置を把握する、
ことを特徴とする請求項６に記載の処理方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【公開番号】特開２０１３−６１５８（Ｐ２０１３−６１５８Ａ）
【公開日】平成２５年１月１０日（２０１３．１．１０）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−１４１４８３（Ｐ２０１１−１４１４８３）
【出願日】平成２３年６月２７日（２０１１．６．２７）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２５年１月１０日（２０１３．１．１０）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年６月２７日（２０１１．６．２７）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
[ Back to top ]