分散安定剤及びこの製造方法
【課題】
分散安定性（特に顔料の分散安定性）に優れた分散安定剤を提供することである。
【解決手段】
両親媒性粒子（ａ）と油性成分（ｂ）とを含む分散安定剤であって、両親媒性粒子（ａ）が、親水性表面と疎水性表面とを有し、ＢＥＴ比表面積が５０〜３００ｍ２／ｇの乾式親水性シリカ微粒子を疎水化剤で表面改質して得られ、Ｍ値が１〜２０である両親媒性粒子であることを特徴とする分散安定剤を用いる。この分散安定剤を製造する方法であって、乾式親水性シリカ微粒子を油性成分（ｂ）に分散して親水性シリカ微粒子油性成分分散体を得る分散工程；親水性シリカ微粒子油性成分分散体中に分散された乾式シリカ微粒子を表面改質して疎水化シリカ微粒子油性成分分散体を得る表面改質工程；及び疎水化シリカ微粒子油性成分分散体に含まれる疎水化シリカ微粒子を破砕して両親媒性粒子（ａ）を得る破砕工程を含むことを特徴とする製造方法を用いる。
分散安定性（特に顔料の分散安定性）に優れた分散安定剤を提供することである。
【解決手段】
両親媒性粒子（ａ）と油性成分（ｂ）とを含む分散安定剤であって、両親媒性粒子（ａ）が、親水性表面と疎水性表面とを有し、ＢＥＴ比表面積が５０〜３００ｍ２／ｇの乾式親水性シリカ微粒子を疎水化剤で表面改質して得られ、Ｍ値が１〜２０である両親媒性粒子であることを特徴とする分散安定剤を用いる。この分散安定剤を製造する方法であって、乾式親水性シリカ微粒子を油性成分（ｂ）に分散して親水性シリカ微粒子油性成分分散体を得る分散工程；親水性シリカ微粒子油性成分分散体中に分散された乾式シリカ微粒子を表面改質して疎水化シリカ微粒子油性成分分散体を得る表面改質工程；及び疎水化シリカ微粒子油性成分分散体に含まれる疎水化シリカ微粒子を破砕して両親媒性粒子（ａ）を得る破砕工程を含むことを特徴とする製造方法を用いる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は分散安定剤及びこの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、疎水性無機酸化物を親水性有機化合物の存在下で水性媒体中に分散させた無機分散安定剤が知られている（特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開平１０−２３７２１６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、従来の無機分散安定剤は分散安定性が低く、特に顔料の分散性が著しく低いという問題がある。すなわち、本発明の目的は、分散安定性（特に顔料の分散安定性）に優れた分散安定剤を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の分散安定剤の特徴は、両親媒性粒子（ａ）と油性成分（ｂ）とを含む分散安定剤であって、
両親媒性粒子（ａ）が、親水性表面と疎水性表面とを有し、ＢＥＴ比表面積が５０〜３００ｍ２／ｇの乾式親水性シリカ微粒子を疎水化剤で表面改質して得られ、Ｍ値が１〜２０である両親媒性粒子であることを要旨とする。
【０００６】
本発明の製造方法の特徴は、上記の分散安定剤を製造する方法であって、
乾式親水性シリカ微粒子を油性成分（ｂ）に分散して親水性シリカ微粒子油性成分分散体を得る分散工程；
親水性シリカ微粒子油性成分分散体中に分散された乾式親水性シリカ微粒子を表面改質して疎水化シリカ微粒子油性成分分散体を得る表面改質工程；及び
疎水化シリカ微粒子油性成分分散体に含まれる疎水化シリカ微粒子を破砕して両親媒性粒子（ａ）を得る破砕工程を含むことを要旨とする。
【発明の効果】
【０００７】
本発明の分散安定剤は、分散安定性（特に顔料の分散安定性）に優れる。したがって、本発明の分散安定剤は、懸濁・乳化重合用分散安定剤、繊維工業用分散安定剤、インク用分散安定剤、塗料用分散安定剤、プラスチック用分散安定剤、農薬工業用分散安定剤等として好適である。
なお、分散安定性には乳化安定性を含み、分散安定剤には乳化安定剤を含む（以下同様）。
【０００８】
本発明の製造方法は、上記の分散安定剤を製造するのに適しており、上記の分散安定剤を容易に製造できる。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
＜両親媒性粒子（ａ）＞
両親媒性粒子（ａ）は、親水性表面と疎水性表面とを有するシリカ微粒子であり、シリカ微粒子の表面が親水性表面と疎水性表面とに分割されている。このようなシリカ微粒子としては、乾式親水性シリカ微粒子を疎水化剤で表面改質（疎水化処理）した後、破砕して得られる微粒子が含まれる。乾式親水性シリカ微粒子を表面改質（疎水化処理）した後、破砕した場合、乾式親水性シリカ微粒子のもともとの表面（破砕によって現れた面）は親水性表面であり、表面改質された表面は疎水性表面となる。
【００１０】
なお、分割とは、一つの磁石の中で正極と負極が局在するがごとく、親水性表面と疎水性表面とが一つのシリカ粒子の表面に局在していることを意味する（一つのシリカ粒子の表面に親水性表面と疎水性表面とが散在しているものとは相違する）。
【００１１】
両親媒性粒子（ａ）の表面が、親水性表面と疎水性表面とに分割されていることは、以下の方法で確認することができる。
＜表面が分割されていることの確認方法＞
イオン交換水５ｍＬとｎ−ヘキサン５ｍＬとを試験管に入れ、これにイソプロパノールに１重量％の濃度で測定試料（両親媒性粒子（ａ）等）を分散した分散液を０．０２ｇ加え、６０分間静置する（各測定試薬の純度は９９重量％以上のものを使用する）。
測定試料の表面が親水性表面と疎水性表面とに分割されている場合、水とｎ−ヘキサンとの界面に測定試料（両親媒性粒子（ａ））の均一な集合層を形成し、その上層と下層は測定試料（両親媒性粒子（ａ）等）を含まない清浄な層をなす。
一方、表面が親水性表面と疎水性表面とに分割されていない場合（親水性表面と疎水性表面とが粒子表面に均一に分散（散在）した粒子等の場合）、測定試料（粒子）は水相若しくはｎ−ヘキサン層に分散、又は水とｎ−ヘキサンとの界面に凝集塊を形成し、界面に均一な集合層を形成しない。
【００１２】
なお、両親媒性粒子（ａ）は、本発明の分散安定剤から次のようにして単離できる。すなわち、分散安定剤５０ｇをｎ−ヘキサン４５０ｇと混合して生じた白色沈殿物を遠心分離にて取り出し、１００℃の順風式乾燥機にて１２時間乾燥することにより、両親媒性粒子（ａ）を単離することができる。
【００１３】
両親媒性粒子（ａ）のＭ値は、１〜２０であるが、分散安定剤の分散安定性（以下、単に分散安定性という。）の観点から、５〜１５が好ましく、さらに好ましくは７〜１３である。Ｍ値は、微粒子の疎水性の程度を表す概念であり、Ｍ値が高いほど親水性が低いことを示し、水・メタノール混合溶液に測定試料を均一分散させる際、必要最低量のメタノールの容量割合で表され、次の方法で求めることができる。
【００１４】
＜Ｍ値算出法＞
測定試料（両親媒性粒子（ａ）等）０．２ｇを容量２５０ｍＬのビーカー中の５０ｍＬの水に添加し、続いてメタノールをビュレットから測定試料の全量が懸濁するまで滴下する。この際ビーカー内の溶液をマグネティックスターラーで常時撹拌し、測定試料の全量が溶液中に均一懸濁された時点を終点とし、終点におけるビーカーの液体混合物のメタノールの容量百分率がＭ値となる。
【００１５】
なお、両親媒性粒子（ａ）は、前記の＜表面が分割されていることの確認方法＞に記載した方法と同様の方法で単離することができる。
【００１６】
乾式親水性シリカ微粒子は、珪素塩化合物（四塩化珪素等）等の気体を酸素水素炎中で燃焼させて得られるシリカである｛アルカリ性環境下にて珪酸ソーダを酸で中和し、生じた析出物をろ過、乾燥することによって得られるシリカ（沈殿法シリカ）、及び酸性環境下にて珪酸ソーダを酸で中和し、生じた析出物をろ過、乾燥することによって得られるシリカ（ゲル法シリカ）とは異なる。｝。
【００１７】
乾式親水性シリカ微粒子としては、市場から容易に入手でき、たとえば、以下に例示する商品が挙げられる。
【００１８】
Ａｅｒｏｓｉｌシリーズ｛日本アエロジル株式会社及びエボニック デグサ社、「Ａｅｒｏｓｉｌ」はエボニック デグサ ゲーエムベーハーの登録商標である。｝、Ｒｅｏｌｏｓｉｌシリーズ｛株式会社トクヤマ、「Ｒｅｏｒｏｓｉｌ」は株式会社トクヤマの登録商標である。｝、Ｃａｂ−Ｏ−Ｓｉｌシリーズ｛キャボット社、「Ｃａｂ−Ｏ−Ｓｉｌ」はキャボットコーポレーションの登録商標である。｝、ＨＤＫシリーズ｛旭化成ワッカーシリコーン株式会社、ＨＤＫは、ＷＡＣＫＥＲ ＣＨＥＭＩＥ ＡＧの登録商標である。｝等。
【００１９】
乾式親水性シリカ微粒子のＢＥＴ法による比表面積（ｍ２／ｇ）は５０〜３００であるが、分散安定性の観点から、１００〜２００が好ましい。
【００２０】
なお、ＢＥＴ法による比表面積は、ＪＩＳ Ｒ１６２６−１９９６（一点法）に準拠して測定される値である｛測定試料：５０ｍｇ（２００℃で１５分間加熱処理したサンプル）、吸着量の測定方法：定溶法、吸着質：混合ガス（Ｎ２７０体積％、Ｈｅ３０体積％）、測定平衡相対圧：０．３、装置：たとえば、大倉理研社製、全自動粉体表面測定装置 ＡＭＳ−８０００｝。
【００２１】
疎水化剤としては、ハロシラン、アルコキシシラン、シラザン、炭素数３〜３６の脂肪族アルコール、及びシリコーン化合物等が使用できる。
【００２２】
ハロシランとしては、炭素数１〜１２のアルキル基をもつアルキルハロシラン、及び炭素数６〜１２のアリール基をもつアリールハロシランが含まれ、メチルトリクロロシラン、ジメチルジクロロシラン、トリメチルクロロシラン、トリメチルブロモシラン、エチルトリクロロシラン、フェニルトリクロロシラン、ジフェニルジクロロシラン、及びｔ−ブチルジメチルクロロシラン等が挙げられる。
【００２３】
アルコキシシランとしては、炭素数１〜１２のアルキル基（メタクリロキシアルキルを含む）、アルケニル基又はアリール基と炭素数１〜２のアルコキシ基とをもつアルコキシシランが含まれ、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ｏ−メチルフェニルトリメトキシシラン、ｐ−メチルフェニルトリメトキシシラン、ｎ−ブチルトリメトキシシラン、ｉ−ブチルトリメトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、オクチルトリメトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、ドデシルトリメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、ｉ−ブチルトリエトキシシラン、デシルトリエトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、及びγ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。
【００２４】
シラザンとしては、ヘキサメチルジシラザン等が挙げられる。
【００２５】
炭素数３〜３６の脂肪族アルコールとしては、イソプロパノール、ノルマルブタノール、ノルマルペンタノール、ノルマルオクタノール、ドデカノール、ステアリルアルコール、及びベヘニルアルコール等が挙げられる。
【００２６】
シリコーン化合物としては、ジメチルポリシロキサン、水酸基変性ポリシロキサン、及びメチルハイドロジェンポリシロキサン等が挙げられる。
【００２７】
ジメチルポリシロキサンとしては、２５℃での動粘度が１〜１００００ｍｍ２／ｓのもの等が使用できる。
【００２８】
水酸基変性ポリシロキサン及びメチルハイドロジェンジメチルポリシロキサンとしては、２５℃での動粘度が１〜１００００ｍｍ２／ｓであり、官能基当量が３００〜８０００ｇ／ｍｏｌのもの等が使用できる。
【００２９】
乾式親水性シリカ微粒子を表面改質するのに用いる疎水化剤として、以上の他に、公知のカップリング剤（上記以外のシランカップリング剤、チタネートカップリング剤、及びジルコアルミネートカップリング剤等）等も使用できる。
【００３０】
これらの疎水化剤のうち、分散安定性等の観点から、ハロシラン、シラザン、及びアルコキシシランが好ましい。
【００３１】
疎水化剤による表面改質は、公知の方法が適用でき、たとえば、以下の＜表面改質方法１＞〜＜表面改質方法３＞に記載の方法等により行うことができる。
【００３２】
＜表面改質方法１＞
乾式親水性シリカ微粒子と疎水化剤との混合物を撹拌機で撹拌しながら表面改質し、疎水化シリカ微粒子を得る表面改質方法（乾式法）。
【００３３】
＜表面改質方法２＞
乾式親水性シリカ微粒子の入った撹拌機付き反応容器に、加熱、気化した疎水化剤を含む気体を導入して表面改質し、疎水化シリカ微粒子を得る表面改質方法（気相法）。
【００３４】
＜表面改質方法３＞
乾式親水性シリカ微粒子を油性成分（ｂ）に分散して乾式親水性シリカ微粒子油性成分分散体を得てから、引き続き乾式親水性シリカ微粒子油性成分分散体を撹拌しながら、疎水化剤を加えて疎水化シリカ微粒子油性成分分散体を得る表面改質方法（液中法）。
【００３５】
これらの表面改質方法のうち、＜表面改質方法３＞が好ましい。これらの好ましい方法を適用すると、分散安定性がさらに良好となる。これは、両親媒性粒子（ａ）の表面にある親水性表面と疎水性表面とが局在しやすくなり、両親媒性粒子（ａ）の界面活性が良好となるためと考えられる。
【００３６】
＜表面改質方法３＞による表面改質を行う場合、溶剤（ｓ）を併用してもよい。溶剤（ｓ）としては、アルコール、ケトン、エステル、エーテル、芳香族炭化水素、脂環式炭化水素、及び脂肪族炭化水素等が含まれる。
【００３７】
アルコールとしては、炭素数１〜１０のアルコール等が使用でき、メタノール、エタノール、ノルマルプロパノール、イソプロパノール、ノルマルブタノール、イソブタノール、セカンダリーブタノール、３−メトキシ−３−メチル−１−ブタノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、及びプロピレングリコールモノブチルエーテル等が挙げられる。
【００３８】
ケトンとしては、炭素数３〜６のケトン等が使用でき、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、及びシクロヘキサノン等が挙げられる。
【００３９】
エステルとしては、炭素数４〜１０のエステル等が使用でき、酢酸エチル、酢酸ブチル、エチルセロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、ブチルカルビトールアセテート、及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等が挙げられる。
【００４０】
エーテルとしては、炭素数４〜１０のエーテル等が使用でき、エチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、及び１，４−ジオキサン等が挙げられる。
【００４１】
芳香族炭化水素としては、炭素数６〜９の芳香族炭化水素等が使用でき、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、及びトリメチルベンゼン等が挙げられる。
【００４２】
脂環式炭化水素としては、炭素数５〜１０の脂環式炭化水素等が使用でき、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロペプタン、シクロオクタン、シクロノナン、及びシクロデカン等が挙げられる。
【００４３】
脂肪族炭化水素としては、炭素数５〜１０の脂肪族炭化水素等が使用でき、ペンタン、ヘキサン、ペプタン、オクタン、ノナン、及びデカン等が挙げられる。
【００４４】
以上の他に、塩素系溶剤（ジクロロメタン、トリクロロメタン、メチルクロライド、ジクロロエタン、テトラクロロエタン、及びエチルクロライド等）、石油エーテル、及び石油ナフサ等も使用できる。これらの溶剤（ｓ）のうち、芳香族炭化水素、脂環式炭化水素、及び脂肪族炭化水素が好ましい。
【００４５】
溶剤（ｓ）を併用する場合、溶剤（ｓ）の添加量（重量％）は、油性成分（ｂ）の合計重量に基づいて１０〜５０が好ましい。
【００４６】
＜表面改質方法３＞において、乾式親水性シリカ微粒子油性成分分散体を得る方法としては、以下の＜分散方法１＞〜＜分散方法３＞等が適用できる。
【００４７】
＜分散方法１＞
分散容器に乾式親水性シリカ微粒子と油性成分（ｂ）とを同時に入れて均一分散する方法。
【００４８】
＜分散方法２＞
あらかじめ乾式親水性シリカ微粒子の入った分散容器に、油性成分（ｂ）を加えて均一分散を行う方法。
【００４９】
＜分散方法３＞
あらかじめ油性成分（ｂ）の入った分散容器に、乾式親水性シリカ微粒子を加えて均一分散する方法。
【００５０】
これらの分散方法のうち、分散安定性がさらに良好となりやすい点から、＜分散方法１＞及び＜分散方法３＞が好ましく、さらに好ましくは＜分散方法３＞である。
【００５１】
分散には、公知の分散機｛櫂型羽型撹拌機、高速剪断式分散機（高速回転型ホモミキサー、高圧ホモジナイザー、及び高速回転遠心放射型撹拌機等｝、ニーダー、三本ロールミル、超音波分散機、遊星型ミキサー、３軸遊星型ミキサー、湿式媒体型分散機｛ビーズミル、サンドグラインダー、コロイドミル、アトライタ（日本コークス工業株式会社製、「アトライタ」は日本コークス工業株式会社の登録商標である。）等｝、垂直単軸型粉体撹拌機｛ヘンシェルミキサ（三井鉱山株式会社製、「ヘンシエルミキサ」は三井鉱山株式会社の登録商標。）等｝、水平単軸型撹拌機（リボンミキサー等）、及び垂直単複軸撹拌機（万能ミキサー、らいかい機等）等が使用できる。
【００５２】
なお、遊星型ミキサーは、容器及び／又は撹拌羽根が遊星回転運動を行う分散機であり、遊星運動を行う２枚のブレード型撹拌羽根をもつプラネタリミキサー、遊星式撹拌脱泡装置（たとえば、特開平７−２８９８７３号公報記載の撹拌・脱泡装置）等が挙げられ、３軸遊星型ミキサーとしては、遊星運動を行う２枚のブレード型撹拌羽根と少なくとも１つの遊星運動を行う小型の高速回転羽根をもつ遊星型ミキサー（たとえば、登録実用新案第３０２６０４３号）等が挙げられる。
【００５３】
これらの分散機のうちでも、分散安定性がさらに良好となる点から、高速剪断式分散機及び３軸遊星型ミキサーが好ましい。
【００５４】
分散の温度は特に制限なく、油性成分（ｂ）の種類に応じて適宜選択することができるが、３０〜１５０℃（さらに好ましくは５０〜１２０℃）が好ましい。また、分散に要する時間は、５分〜１０時間が好ましく、さらに好ましくは１０分〜５時間、特に好ましくは１５分〜３時間である。
【００５５】
＜表面改質方法３＞において、乾式親水性シリカ微粒子の含有量（重量％）は、油性成分（ｂ）の合計重量に基づいて、０．１〜１０（さらに好ましくは０．５〜８、特に好ましくは１〜５）が好ましい。この範囲であると、分散安定性がさらに良好となる。
【００５６】
＜表面改質方法１＞〜＜表面改質方法３＞において、撹拌には上記の公知の分散機等が使用できる。
上記の分散機のうち、＜表面改質方法１＞及び＜表面改質方法２＞においては、遊星型混合分散機、垂直単軸型粉体撹拌機、水平単軸型撹拌機、及び垂直単複軸撹拌機が好ましく、さらに好ましくは単軸型粉体撹拌機、水平単軸型撹拌機、及び垂直単複軸撹拌機であり、＜表面改質方法３＞においては、高速剪断式分散機、遊星型ミキサー、及び３軸遊星型ミキサーが好ましい。
【００５７】
疎水化剤の使用量（重量％）としては、乾式親水性シリカ微粒子の重量に基づいて、０．５〜２０が好ましく、さらに好ましくは１〜５である。この範囲であると、分散安定性がさらに良好となる。
【００５８】
＜表面改質方法３＞で得られた疎水化シリカ微粒子油性成分分散体は、そのまま用いてもよく、疎水化シリカ微粒子油性成分分散体から油性成分（ｂ）を除去し、乾燥して、疎水化シリカ微粒子を取り出してから用いてもよい。
【００５９】
油性成分（ｂ）の除去は、（１）加熱装置及び撹拌装置つきの減圧可能な反応容器やロータリーエバポレーター等を使用して油性成分（ｂ）を蒸留して除去する方法、（２）溶剤で希釈した疎水化シリカ微粒子油性成分分散体をろ過し、固液分離する方法、（３）溶剤で希釈した疎水化シリカ微粒子油性成分分散体を遠心分離し、上澄みを除去する方法等の公知の方法で行うことができる。
疎水化シリカ微粒子油性成分分散体を希釈する溶剤としては、前記の溶剤（ｓ）と同じものが使用できる。
【００６０】
乾燥は、加熱乾燥（例えば３０〜１５０℃に加熱した乾燥炉にて１０〜１２０分加熱乾燥する）や減圧乾燥等の公知の方法で行うことができ、遠赤外線式乾燥機、真空乾燥機、温風式乾燥機、及び流動層乾燥機等を使用できる。
【００６１】
両親媒性粒子（ａ）は、疎水化シリカ微粒子を破砕することにより得ることができる。
破砕とは、１個の疎水化シリカ微粒子を、少なくとも２つの微粒子に分割することを意味し、破砕によって、疎水化シリカ微粒子の表面が、親水性表面（破砕によって生じた新たな表面）と疎水性表面（疎水化処理によって疎水化された表面）とに分割されるものである。
【００６２】
破砕は、疎水化シリカ微粒子分散体を湿式破砕する方法で行うことができる。
【００６３】
湿式破砕における疎水化シリカ微粒子分散体としては、以下の疎水化シリカ微粒子分散体が使用できる。
（分散体１）疎水化シリカ微粒子を油性成分（ｂ）に分散した疎水化シリカ微粒子分散体。
（分散体２）＜表面改質方法３＞で得られた疎水化シリカ微粒子油性成分分散体。
【００６４】
（分散体１）において、疎水化シリカ微粒子と、油性成分（ｂ）との分散には、上記の分散で用いる公知の分散機等が使用でき、好ましい分散機も同じである。（分散体１）の分散方法は、前記の＜分散方法１＞〜＜分散方法３＞と同じ方法で行うことができ、好ましい方法も同じである。
【００６５】
疎水化シリカ微粒子分散体中の疎水化シリカ微粒子の割合（重量％）は、油性成分（ｂ）の合計重量に基づいて、０．１〜１０（さらに好ましくは０．５〜８、特に好ましくは１〜５）が好ましい。この範囲であると、分散安定性がさらに良好となる。これは分散体の粘度が低くなり、破砕が良好に進むためと考えられる。
【００６６】
破砕は、公知の破砕分散機等を用いて行うことができ、破砕分散機としては、湿式媒体型粉砕分散機｛ビーズミル、サンドグラインダー、コロイドミル、アトライタ（日本コークス工業株式会社製、「アトライタ」は日本コークス工業株式会社の登録商標である。）、ＤＩＳＰＥＲＭＡＴ（ＶＭＡ−ＧＥＴＡＭＡＮＮ ＧＭＢＨ社製）等｝、高圧噴射型破砕分散機｛ナノマイザー（吉田機械株式会社製、「ナノマイザー」はエス・ジーエンジニアリング株式会社の登録商標である。）、スターバースト（株式会社スギノマシン製、「スターバースト」は株式会社スギノマシンの登録商標である。）、ゴーリンホモジナイザー（ＡＰＶ社製）等｝、及び高速剪断型分散機（高速回転型ホモミキサー、高圧ホモジナイザー、ディゾルバー、及び３軸遊星型ミキサー等）等が使用できる。これらのうち、高速剪断型分散機が、疎水化シリカ微粒子の再凝集が起こりにくく、分散安定性がさらに良好となる点で好ましい。
【００６７】
破砕温度は特に制限なく、疎水化シリカ微粒子油性成分分散体の油性成分（ｂ）の種類に応じて適宜選択することができ、例えば、３０〜１５０℃（好ましくは５０〜１２０℃）で行うことができる。
また、破砕時間は、５分〜１０時間が好ましく、さらに好ましくは１０分〜５時間、特に好ましくは１５分〜３時間である。
【００６８】
両親媒性粒子（ａ）は、破砕工程後の疎水化シリカ微粒子油性成分分散体から、油性成分（ｂ）を除去し、乾燥して、用いてもよい。
油性成分（ｂ）の除去は、前記の公知の方法と同様に行うことができ、除去した後の乾燥も前記の公知の方法で同様に行うことができる。
【００６９】
両親媒性粒子（ａ）の体積平均粒子径（μｍ）は、０．０５〜１が好ましく、さらに好ましくは０．１〜０．５である。この範囲であると、分散安定性がさらに良好となる。
【００７０】
両親媒性粒子（ａ）の体積平均粒子径は、両親媒性粒子（ａ）を１重量％の濃度となるようにイソプロパノールに分散した分散液を測定試料とし、ＪＩＳ Ｚ８８２５−１：２００１に準拠したレーザー回折式粒度分析計｛例えば、Ｌｅｅｄｓ＆Ｎｏｒｔｈｒｕｐ社製Ｍｉｃｒｏｔｒａｃシリーズ、株式会社堀場製作所製ＰａｒｔｉｃａＬＡシリーズ等｝を用い、測定温度２５±５℃で測定した後、イソプロパノールの屈折率として１．３７７を、測定試料の屈折率として１．４５７を用いて、５０％積算体積平均粒子径として求められる。
なお、体積平均粒子径の測定に用いる両親媒性粒子（ａ）は、両親媒性粒子（ａ）を含む分散体５０ｇをｎ−ヘキサン４５０ｇと混合して生じた白色沈殿物を遠心分離にて取り出し、１００℃の順風式乾燥機にて１２時間乾燥することで単離することができる。
【００７１】
＜油性成分（ｂ）＞
油性成分（ｂ）としては、炭化水素油、脂肪酸、脂肪酸アミド、脂肪酸エステル、高級アルコール、シリコーン、及びポリオキシアルキレン化合物等が使用できる。
【００７２】
炭化水素油としては、４０℃での動粘度が０．１〜３５００ｍｍ２／ｓの炭化水素油が使用でき、パラフィン、ポリオレフィン、ポリオレフィンを水素化した水添炭化水素、アルキルベンゼン、アルキルナフタレン、及びこれらの混合物が含まれる。
【００７３】
パラフィンとしては、ノルマルパラフィン及びイソパラフィン等が挙げられる。
【００７４】
ポリオレフィンとしては、ポリブテン、１−デセンオリゴマー、及び１−デセンとエチレンとのコオリゴマー等が挙げられる。
【００７５】
ポリオレフィンを水素化した水添炭化水素としては、ポリオレフィンを水素化して得られる水素化炭化水素が含まれ、水添ポリブテン及び水添ポリイソブテン等が挙げられる。
【００７６】
アルキルベンゼンとしては、アルキル基の炭素数が１〜８のアルキルベンゼンが含まれ、モノアルキルベンゼン、及びジアルキルベンゼン等が挙げられる。
【００７７】
アルキルナフタレンとしては、アルキル基の炭素数が１〜１８のアルキルナフタレンが含まれ、モノアルキルナフタレン、ジアルキルナフタレン、及びポリアルキルナフタレン等が挙げられる。
【００７８】
これらの炭化水素油は、石油の蒸留精製又は溶剤精製、オレフィンモノマーの重合反応、及び有機合成反応（フィッシャー・トロプシュ法等）等によって得ることができる。
【００７９】
脂肪酸としては、炭素数８〜２８の脂肪酸が含まれ、オクタン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、イソステアリン酸、２−エチルヘキサン酸、オレイン酸、カプリン酸、ベヘン（ベヘニン）酸、１２−ヒドロキシステアリン酸、２−ヘプチルウンデカン酸、ウンデシレン酸、及びモンタン酸等が挙げられる。
【００８０】
脂肪酸アミドとしては、前記脂肪酸の酸アミド（ラウリン酸アミド、ステアリン酸アミド、及びエルカ酸アミド等）、及びＮ−置換酸アミド（Ｎ，Ｎ’−エチレンビスラウリン酸アミド、Ｎ，Ｎ’−メチレンビスステアリン酸アミド、Ｎ，Ｎ’−エチレンビスステアリン酸アミド、Ｎ，Ｎ’−エチレンビスオレイン酸アミド、Ｎ，Ｎ’−エチレンビスベヘン酸アミド、Ｎ，Ｎ’−ブチレンビスステアリン酸アミド、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビスステアリン酸アミド、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビスオレイン酸アミド、Ｎ，Ｎ’−キシリレンビスステアリン酸アミド、ステアリン酸モノメチロールアミド、ステアリン酸ジエタノールアミド、Ｎ−オレイルステアリン酸アミド、Ｎ−オレイルオレイン酸アミド、Ｎ−ステアリルステアリン酸アミド、Ｎ−ステアリルオレイン酸アミド、Ｎ−オレイルパルミチン酸アミド、及びＮ−ステアリルエルカ酸アミド等）等が挙げられる。
【００８１】
脂肪酸エステルとしては、前記脂肪酸のエステル（ミリスチン酸イソプロピル、オクタン酸セチル、ミリスチン酸オクチルドデシル、パルミチン酸イソプロピル、ステアリン酸ブチル、ラウリン酸ヘキシル、ミリスチン酸ミリスチル、オレイン酸デシル、２，２−ジメチルオクタン酸２−ヘキシルデシル、ステアリン酸イソセチル、イソステアリン酸イソセチル、１２−ヒドロキシステアリル酸コレステリル、エチレングリコール２−エチルヘキサン酸ジエステル、ネオペンチルグリコールカプリン酸ジエステル、グリセリン２−ヘプチルウンデカン酸ジエステル、トリメチロールプロパン２−エチルヘキサン酸トリエステル、トリメチロールプロパンイソステアリン酸トリエステル、ペンタンエリスリトール２−エチルへサン酸テトラエステル、グリセリン２−エチルヘキサン酸トリエステル、トリメチロールプロパンイソステアリン酸トリエステル、パルミチン酸２−エチルヘキシル、グリセリンミリスチン酸トリエステル、グリセリン２−ヘプチルウンデカン酸トリエステル、ヒマシ油脂肪酸メチルエステル、オレイン酸オレイル、パルミチン酸２−ヘプチルウンデシル、ラウリン酸エチル、ミリスチン酸２−ヘキシルデシル、及びパルミチン酸２−ヘキシルデシル等）、及び後記高級アルコールのエステル（乳酸セチル、乳酸ミリスチル、酢酸ラノリル、リンゴ酸ジイソステアリル、アジピン酸ジ−２−ヘプチルウンデシル、及び２−エチルヘキサン酸セチル等）、多価アルコールの酢酸エステル（グリセリントリアセテート、及びトリメチロ−ルプロパントリアセテート等）、及び低級（炭素数１〜４）アルコールの多価脂肪酸（炭素数６〜１０）エステル（アジピン酸ジイソブチル、セバチン酸ジイソプロピル、及びリンゴ酸ジプロピル等）等が挙げられる。
【００８２】
高級アルコールとしては、炭素数１２〜３６の脂肪族アルコール（セチルアルコール、ステアリルアルコール、イソステアリルアルコール、２−ヘプチルウンデシルアルコール、ラノリンアルコール、ベヘニルアルコール、及びミリスチルアルコール等）等が挙げられる。
【００８３】
シリコーンとしては、前記のシリコーン化合物及び環状シリコーン（ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、及びドデカメチルシクロヘキサシロキサン等）等が挙げられる。
【００８４】
ポリオキシアルキレン化合物としては、数平均分子量９５０〜４０００のポリオキシプロピレングリコール等が使用できる。
【００８５】
油性成分（ｂ）としては、これらの他に、動物又は植物から抽出される物質及びその水素添加物（アボカド油、ツバキ油、タートル油、マカデミアナッツ油、トウモロコシ油、ミンク油、オリーブ油、ナタネ油、卵黄油、ゴマ油、パーシック油、小麦胚芽油、サザンカ油、ヒマシ油、アマニ油、サフラワー油、綿実油、エノ油、大豆油、落花生油、茶実油、カヤ油、コメヌカ油、シナギリ油、日本キリ油、ホホバ油、胚芽油、カカオ脂、ヤシ油、馬脂、硬化ヤシ油、パーム油、牛脂、羊脂、硬化牛脂、パーム核油、豚脂、牛骨脂、モクロウ核油、硬化油、牛脚脂、スクアレン、スクアラン、及びその他のテルペン等）を用いることもできる。
【００８６】
油性成分（ｂ）としては、分散安定性の観点から、炭化水素油、及びシリコーンが好ましく、さらに好ましくは４０℃における動粘度が１〜２０ｍｍ２／ｓの炭化水素油、及び２５℃における動粘度が１〜５０ｍｍ２／ｓのシリコーン、特に好ましくは４０℃における動粘度が１〜２０ｍｍ２／ｓの炭化水素油である。
【００８７】
これらの炭化水素油及びシリコーンは市場から容易に入手することができ、以下に商品名を例示する。
【００８８】
＜炭化水素油＞商品名の後に続く括弧内の数字は４０℃における動粘度ｍｍ２／ｓである。
ＩＰソルベント１０１６（０．５）、ＩＰソルベント２０２８（２）、及びＩＰソルベント２８３５（１２）（出光興産株式会社）；
コスモＳＣ２２（２１）、コスモＳＰ１０（１０）、コスモＲＣスピンドル油（１０）、コスモＲＢスピンドル油（１５）、コスモニュートラル１５０（３２）、コスモピュアスピンＧ（２１）、コスモピュアスピンＥ（５）、コスモホワイトＰ６０（６０）、コスモホワイトＰ１２０（１２０）、コスモホワイトＰ２００（２００）、及びコスモホワイトＰ３５０Ｐ（２５０）（コスモ石油ルブリカンツ株式会社、「コスモ」は、コスモ石油株式会社の登録商標である。）；
日石スーパーオイルＣ（９３）、日石スーパーオイルＤ（１４１）、日石スーパーオイルＢ（５４）、日石ポリブテンＬＶ−７（１２）、日石ポリブテンＬＶ−５０（１１０）、日石ポリブテンＬＶ−１００（２００）、及び日石ポリブテンＬＶ−１５０（３５００）（ＪＸ日鉱日石エネルギー株式会社）；
スタノール４３Ｎ（２７）、スタノール５２（５６）、スタノール６９（１４５）、スタノール３５（９）、及びスタノールＬＰ３５（１１）（エッソ石油株式会社）；
フッコールＮＴ１００（２１）、フッコールＮＴ１５０（２８）、フッコールＮＴ２００（３９）、フッコールＮＴ６０（１０）、及びフッコールＳＴマシン（９）（富士興産株式会社、「フッコール」は新日本石油株式会社の登録商標である。）；
パールリーム４（３）、パールリームＥＸ（１０）、及びパールリーム６（２０）（日油株式会社製、「パールリーム」は日油株式会社の登録商標である。）；
エクソールシリーズ及びアイソパーシリーズ（エクソン モービル ケミカル社）；
シェルゾールシリーズ（シェル ケミカル社）；並びに
ニッサンポリブテン及びＮＡソルベントシリーズ（日油株式会社製、「ニッサン」は日油株式会社の登録商標である。）等
【００８９】
＜ジメチルポリシロキサン＞
ＫＦ−９６−１０ｃｓ、ＫＦ−９６−２０ｃｓ、ＫＦ−９６−３０ｃｓ、ＫＦ−９６−５０ｃｓ、ＫＦ−９６−１００ｃｓ、ＫＦ−９６−２００ｃｓ、ＫＦ−９６−３００ｃｓ、ＫＦ−９６−３５０ｃｓ、ＫＦ−９６−５００ｃｓ、ＫＦ−９６−１，０００ｃｓ、ＫＦ−９６−３，０００ｃｓ、ＫＦ−９６−５，０００ｃｓ、ＫＦ−９６Ｈ−６，０００ｃｓ、ＫＦ−９６Ｈ−１万ｃｓ、ＫＦ−９６Ｈ−１２，５００ｃｓ、ＫＦ−９６Ｈ−３万ｃｓ、ＫＦ−９６Ｈ−５万ｃｓ、ＫＦ−９６Ｈ−６万ｃｓ、及びＫＦ−９６Ｈ−１０万ｃｓ｛信越化学工業株式会社；商品名の終り（ｃｓの直前）に記載されている数字は動粘度を表し、例えば、「１０」は１０ｍｍ２／ｓである。｝；
ＳＨ２００ Ｃ Ｆｌｕｉｄ １０ｃｓ、ＳＨ２００ Ｃ Ｆｌｕｉｄ ２０ｃｓ、ＳＨ２００ Ｃ Ｆｌｕｉｄ ５０ｃｓ、ＳＨ２００ Ｃ Ｆｌｕｉｄ １００ｃｓ、ＳＨ２００ Ｃ Ｆｌｕｉｄ ２００ｃｓ、ＳＨ２００ Ｃ Ｆｌｕｉｄ ３５０ｃｓ、ＳＨ２００ Ｃ Ｆｌｕｉｄ ５００ｃｓ、ＳＨ２００ Ｃ Ｆｌｕｉｄ １，０００ｃｓ、ＳＨ２００ Ｃ Ｆｌｕｉｄ ３，０００ｃｓ、ＳＨ２００ Ｃ Ｆｌｕｉｄ ５，０００ｃｓ、ＳＨ２００Ｈ Ｃ Ｆｌｕｉｄ １万ｃｓ、ＳＨ２００Ｈ Ｃ Ｆｌｕｉｄ １．２５万ｃｓ、ＳＨ２００Ｈ Ｃ Ｆｌｕｉｄ ３万ｃｓ、ＳＨ２００Ｈ Ｃ Ｆｌｕｉｄ ６万ｃｓ、及びＳＨ２００Ｈ Ｃ Ｆｌｕｉｄ １０万ｃｓ｛東レ・ダウコーニングシリコーン株式会社製；商品名の終り（ｃｓの直前）に記載されている数字は動粘度を表し、例えば、「１０」は１０ｍｍ２／ｓである。｝；並びに
ＴＳＦ４５１−１０、ＴＳＦ４５１−２０、ＴＳＦ４５１−３０、ＴＳＦ４５１−５０、ＴＳＦ４５１−１００、ＴＳＦ４５１−２００、ＴＳＦ４５１−３００、ＴＳＦ４５１−３５０、ＴＳＦ４５１−５００、ＴＳＦ４５１−１０００、ＴＳＦ４５１−１５００、ＴＳＦ４５１−２０００、ＴＳＦ４５１−３０００、ＴＳＦ４５１−５０００、ＴＳＦ４５１−６０００、ＴＳＦ４５１Ｈ−１Ｍ、ＴＳＦ４５１Ｈ−１２５００、ＴＳＦ４５１Ｈ−２Ｍ、ＴＳＦ４５１Ｈ−３Ｍ、ＴＳＦ４５１Ｈ−５Ｍ、ＴＳＦ４５１Ｈ−６Ｍ、及びＴＳＦ４５１Ｈ−１０Ｍ｛モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製；商品名の終りに記載されている数字は動粘度を表し、例えば、「１０」は１０ｍｍ２／ｓである。なお、Ｍは万を表し、たとえば１Ｍは１万ｍｍ２／ｓである。｝等
【００９０】
本発明の分散安定剤は、以下の＜製造方法１＞〜＜製造方法３＞等の方法で得ることができる。
【００９１】
＜製造方法１＞
両親媒性粒子（ａ）を油性成分（ｂ）に分散する方法。
【００９２】
＜製造方法２＞
疎水化シリカ微粒子油性成分分散体を破砕して、両親媒性粒子（ａ）と油性成分（ｂ）とを含む分散液を得た後、この分散液に油性成分（ｂ）を加えるか、又はこの分散液を濃縮することにより濃度調整する方法。
【００９３】
＜製造方法３＞
疎水化シリカ微粒子油性成分分散体を破砕して、両親媒性粒子（ａ）と油性成分（ｂ）とを含む分散液を得た後、この分散液をそのまま使用する方法。
【００９４】
濃縮は、加熱装置及び撹拌装置つきの減圧可能な反応容器やロータリーエバポレーター等を使用する方法等の公知の方法で行うことができる。
【００９５】
これらの製造方法のうち、＜製造方法３＞が好ましく、さらに好ましくは乾式親水性シリカ微粒子を油性成分（ｂ）に分散して親水性シリカ微粒子油性成分分散体を得る分散工程と、続いて、親水性シリカ微粒子油性成分分散体中に分散された乾式親水性シリカ微粒子を表面改質して疎水化シリカ微粒子油性成分分散体を得る表面改質工程と、疎水化シリカ微粒子油性成分分散体に含まれる疎水化シリカ微粒子を破砕して両親媒性粒子（ａ）を得る破砕工程を含む製造方法である。
【００９６】
本発明の分散安定剤において、両親媒性粒子（ａ）の含有量（重量％）は、油性成分（ｂ）の重量に基づいて、０．１〜１０が好ましく、さらに好ましくは０．５〜８、特に好ましくは１〜５である。この範囲であると、分散安定性がさらに良好となる。
【００９７】
本発明の分散安定剤は、分散安定性に優れ、特に顔料の分散安定性に優れる。そのため、懸濁・乳化重合用分散安定剤、繊維工業用分散安定剤、インク用分散安定剤、塗料用分散安定剤、プラスチック用分散安定剤、農薬工業用分散安定剤等として用いることができる。
【００９８】
本発明の分散安定剤には、その効果を損なわない範囲において、他の成分（たとえば、希釈剤、抗菌剤、光安定剤、及び粘度調整剤等）を配合できる。
【実施例】
【００９９】
以下、実施例により本発明を更に説明するが、本発明はこれに限定されない。なお、特記しない限り、部は重量部を意味する。
【０１００】
実施例１〜８で得た両親媒性粒子（ａ）及び比較例１〜３の疎水化シリカ微粒子のＭ値は以下の方法で測定した。
【０１０１】
＜Ｍ値の測定＞
測定試料（実施例１〜８で得た両親媒性粒子（ａ）又は比較例１〜２の疎水化シリカ微粒子）０．２ｇを容量２５０ｍＬのビーカー中の５０ｍＬのイオン交換水に添加して、ビーカー内の液体をマグネティックスターラーで常時撹拌しながら、この中にメタノール（関東化学株式会社、試薬特級、以下同様。）をビュレットからビーカーの壁を伝わせながら徐々に滴下し、測定試料の全量がイオン交換水に懸濁するまで、メタノールの滴下を続けた。測定試料の全量が懸濁された時点でのメタノールの滴下量（ｇ）を記録し、下記式からＭ値を算出した。
【０１０２】
（Ｍ値）＝１００×（メタノールの滴下量：ｇ）／｛（メタノールの滴下量：ｇ）＋５０｝
【０１０３】
＜実施例１＞
油性成分（ｂ１）｛４０℃での動粘度１ｍｍ２／ｓのイソパラフィン（出光興産株式会社製、商品名 ＩＰソルベント１６２０）｝１００部と乾式親水性シリカ微粒子（ｐ１）｛商品名 Ａｅｒｏｓｉｌ １３０（ＢＥＴ法による比表面積１３０ｍ２／ｇ）｝５部を減圧装置及び加熱装置付き３軸プラネタリミキサ（浅田鉄工株式会社製プラネタリディスパ）に入れ、減圧下（およそ５ｋＰａ）で６０分間、撹拌・分散（低速撹拌羽根；５０ｒｐｍ、高速撹拌羽根；３０００ｒｐｍ）して、親水性シリカ微粒子油性成分分散体（ｈｄ１）を得た。
【０１０４】
続いて常圧（およそ１０１ｋＰａ）にて撹拌（低速撹拌羽根；５０ｒｐｍ、高速撹拌羽根；３０００ｒｐｍ）を継続しながら、疎水化剤（ｍ１）｛ヘキサメチルジシラザン（信越化学工業株式会社製、商品名 ＨＭＤＳ−３）｝０．１５部（乾式親水性シリカ微粒子の重量に対して３重量％）を添加し、６０分間撹拌を継続することにより疎水化処理を行い、疎水化シリカ微粒子油性成分分散体（ｐｄ１）を得た。
【０１０５】
その後、常圧（およそ１０１ｋＰａ）にて撹拌（低速撹拌羽根；５０ｒｐｍ、高速撹拌羽根；４０００ｒｐｍ）を継続しながら１００℃まで加熱し、その温度で６０分間撹拌してから、撹拌を継続したまま室温（２５±３℃、以下同じである。）まで冷却することにより、破砕処理して、両親媒性粒子（ａ１）を含む本発明の分散安定剤（ｑ１）を得た。
【０１０６】
分散安定剤（ｑ１）５ｇとｎ−ヘキサン（関東化学株式会社、試薬１級）１００ｇとを容量１００ｍＬのふた付きガラス容器に入れ、３０秒間手で上下に振ることで撹拌した後、６時間、室温下で静置し、透明な上澄み層をスポイトで除去した。続いて、残留した下層を容量４０ｍＬのサンプルチューブに入れて遠心分離（回転数；４０００ｒｐｍ、時間；１０分間）にて固液分離して沈殿物を取り出し、１３０±５℃に温調した温風式乾燥機にて３時間加熱、乾燥して両親媒性粒子（ａ１）を得た。
両親媒性粒子（ａ１）のＭ値は１３、体積平均粒子径は０．２μｍであった。
【０１０７】
＜実施例２＞
「油性成分（ｂ１）」を「油性成分（ｂ２）｛４０℃での動粘度１０ｍｍ２／ｓの水添ポリブテン（日油株式会社製、商品名 パールリームＥＸ）｝」に変更したこと、「乾式親水性シリカ微粒子（ｐ１）５部」を「乾式親水性シリカ微粒子（ｐ２）｛商品名 Ａｅｒｏｓｉｌ ５０（ＢＥＴ法による比表面積５０ｍ２／ｇ）｝８部」に変更したこと、「疎水化剤（ｍ１）０．１５部」を「疎水化剤（ｍ２）｛メチルトリメトキシシラン（信越化学工業株式会社製、商品名 ＫＢＭ−１３）｝０．４部（乾式親水性シリカ微粒子の重量に対し５重量％）」に変更したこと以外、実施例１と同様にして、本発明の分散安定剤（ｑ２）及び両親媒性粒子（ａ２）を得た。
両親媒性粒子（ａ２）のＭ値は１５、体積平均粒子径は０．１μｍであった。
【０１０８】
＜実施例３＞
「油性成分（ｂ１）」を「油性成分（ｂ３）｛４０℃での動粘度２０ｍｍ２／ｓの流動パラフィン（コスモ石油ルブリカンツ株式会社製、商品名 コスモホワイトＰ１２０）｝」に変更したこと、「乾式親水性シリカ微粒子（ｐ１）５部」を「乾式親水性シリカ微粒子（ｐ３）｛商品名 Ａｅｒｏｓｉｌ ３００（ＢＥＴ法による比表面積３００ｍ２／ｇ）｝１部」に変更したこと、「疎水化剤（ｍ１）０．１５部」を「疎水化剤（ｍ１）０．０１部（乾式親水性シリカ微粒子の重量に対し１重量％）」に変更したこと以外、実施例１と同様にして、本発明の分散安定剤（ｑ３）及び両親媒性粒子（ａ３）を得た。両親媒性粒子（ａ３）のＭ値は５、体積平均粒子径は０．３μｍであった。
【０１０９】
＜実施例４＞
「油性成分（ｂ１）」を「油性成分（ｂ５）｛４０℃での動粘度９ｍｍ２／ｓの流動パラフィン（コスモ石油ルブリカンツ株式会社製、商品名 コスモホワイトＰ６０）｝」に変更したこと、「乾式親水性シリカ微粒子（ｐ１）５部」を「乾式親水性シリカ微粒子（ｐ５）｛商品名 ＨＤＫ Ｔ１２５（ＢＥＴ法による比表面積１２５ｍ２／ｇ）５部」に変更したこと、「疎水化剤（ｍ１）０．１５部」を「疎水化剤（ｍ１）０．１部（乾式親水性シリカ微粒子の重量に対し２重量％）」に変更したこと以外、実施例１と同様にして、本発明の分散安定剤（ｑ４）及び両親媒性粒子（ａ４）を得た。両親媒性粒子（ａ４）のＭ値は７、体積平均粒子径は０．２μｍであった。
【０１１０】
＜実施例５＞
「油性成分（ｂ１）」を「油性成分（ｂ５）｛２５℃での動粘度５０ｍｍ２／ｓのジメチルポリシロキサン（信越化学工業株式会社製、商品名 ＫＦ−９６−５０ｃｓ）｝」に変更したこと、「乾式親水性シリカ微粒子（ｐ１）５部」を「乾式親水性シリカ微粒子（ｐ２）１０部」に変更したこと、「疎水化剤（ｍ１）０．１５部」を「疎水化剤（ｍ３）０．０７部（乾式親水性シリカ微粒子の重量に対し０．７重量％）」に変更したこと以外、実施例１と同様にして、本発明の分散安定剤（ｑ５）及び両親媒性粒子（ａ５）を得た。両親媒性粒子（ａ５）のＭ値は１、体積平均粒子径は０．５μｍであった。
【０１１１】
＜実施例６＞
油性成分（ｂ６）｛４０℃での動粘度５０ｍｍ２／ｓの流動パラフィン（コスモ石油ルブリカンツ株式会社製、商品名 コスモホワイトＰ２６０）｝１００部と乾式親水性シリカ微粒子（ｐ５）｛商品名 Ａｅｒｏｓｉｌ ２００（ＢＥＴ法による比表面積２００ｍ２／ｇ）｝０．５部を加熱装置付きステンレス製混合容器に入れ、直径約４ｃｍののこぎり歯状ディスクインペラーを装着した高速回転遠心放射型撹拌機（プライミクス株式会社製、Ｔ．Ｋ．ホモミクサー）を用いて常圧（およそ１０１ｋＰａ）にて４０００ｒｐｍで６０分間、撹拌・分散して分散工程を行った。続いて撹拌を継続しながら、疎水化剤（ｍ１）０．０５部（乾式親水性シリカ微粒子の重量に対して１０重量％）を添加し、続いて撹拌を６０分間継続した後、撹拌下で１００℃まで加熱し、その温度で撹拌を６０分間維持して疎水化工程を行い、撹拌を継続したまま室温まで冷却することにより、本発明の分散安定剤（ｑ６）を得た。
「分散安定剤（ｑ１）５ｇ」を「分散安定剤（ｑ６）５ｇ」に変更したこと以外、実施例１と同様にして得た両親媒性粒子（ａ６）のＭ値は２０、体積平均粒子径は０．１μｍであった。
【０１１２】
＜実施例７＞
「油性成分（ｂ６）」を「油性成分（ｂ７）｛２５℃での動粘度２ｍｍ２／ｓのジメチルポリシロキサン（信越化学工業株式会社製、商品名 ＫＦ−９６Ｌ−２ｃｓ）｝」に変更したこと、「乾式親水性シリカ微粒子（ｐ５）０．５部」を「乾式親水性シリカ微粒子（ｐ２）１０部」に変更したこと以外、実施例６と同様にして、本発明の分散安定剤（ｑ７）及び両親媒性粒子（ｐ７）を得た。両親媒性粒子（ｐ７）のＭ値は１、体積平均粒子径は１μｍであった
【０１１３】
＜実施例８＞
「油性成分（ｂ６）」を「油性成分（ｂ４）」に変更したこと、「乾式親水性シリカ微粒子（ｐ５）０．５部」を「乾式親水性シリカ微粒子（ｐ５）７部」に変更したこと、「疎水化剤（ｍ１）０．０５部」を「疎水化剤（ｍ１）０．１部（乾式親水性シリカ微粒子の重量に対して１．４重量％）」に変更したこと以外、実施例６と同様にして、本発明の分散安定剤（ｑ８）及び両親媒性粒子（ｐ８）を得た。両親媒性粒子（ｐ８）のＭ値は２０、体積平均粒子径は０．０５μｍであった
【０１１４】
＜比較例１＞
沈降法親水性シリカ粒子（ｐ６）｛沈降法シリカＮｉｐｓｉｌ ＡＹ−２００（ＢＥＴ法による比表面積 ３００ｍ２／ｇ）｝１００部をヒーター付きヘンシェルミキサに入れ、低速撹拌（７５０ｒｐｍ）しながら、疎水化剤（ｍ４）８部を噴霧した。次いでヘンシェルミキサを２０〜２５℃の常温にて高速回転（２０００ｒｐｍ）を１５分間行い、均一に混合した。次いでヒーターでヘンシェルミキサを加熱し、２３０℃にて３時間加熱処理を行ない、疎水化シリカ微粒子（ｈｐ１）を得た。続いて、疎水化シリカ微粒子（ｈｐ１）１５部と油性成分（ｂ２）１００部を櫂型羽型撹拌機（ヤマト科学株式会社製、スリーワンモータＢＬ１２００、以下、同様）にて２５±３℃にて１５分間撹拌して、比較用の分散安定剤（ｈｑ１）を得た。
なお、疎水化シリカ微粒子（ｈｐ１）のＭ値は５０、体積平均粒子径は１１μｍであった。
【０１１５】
＜比較例２＞
疎水化シリカ微粒子（ｈｐ２）｛乾式親水性シリカ微粒子を気相法で疎水化した乾式疎水性シリカ微粒子（日本アエロジル株式会社製、商品名 ＡｅｒｏｓｉｌＲ９７６）｝１０部とエタノール９０部を櫂型羽型撹拌機にて２５±３℃にて１５分間撹拌して、比較用の分散安定剤（ｈｑ２）を得た。
なお、疎水化シリカ微粒子（ｈｐ２）のＭ値は４０、体積平均粒子径は０．３μｍであった。
【０１１６】
＜比較例３＞
「エタノール９０部」を「油性成分（ｂ５）９０部」に変更したこと以外、比較例２と同様にして、比較用の分散安定剤（ｈｑ３）を得た。
【０１１７】
実施例１〜８で得た両親媒性粒子（ａ１〜ａ８）１部をイソプロパノール９９部に超音波分散機（ｈｅｉｌｓｃｈｅｒ社製 ＵＰ４００）を用いて出力７０％にて１分間分散して得た１重量％の分散液０．０２ｇを、イオン交換水５ｍＬとｎ−ヘキサン５ｍＬとの入った試験管に加えて６０分間静置したところ、イオン交換水とｎ−ヘキサンとの界面に両性媒体粒子の均一な集合層が形成され、その上層と下層は両親媒性粒子を含まない清浄な層であった。このことから、粒子表面が親水性表面と疎水性表面とに二分割されていると考えられる。
【０１１８】
比較例１〜３で用いた疎水化シリカ微粒子（ｈｐ１及びｈｐ２）１部をイソプロパノール９９部に超音波分散機を用いて出力７０％にて１分間分散して得た１重量％の分散液０．０２ｇを、イオン交換水５ｍＬとｎ−ヘキサン５ｍＬとの入った試験管に加えて６０分間静置したところ、粒子はｎ−ヘキサン層に分散してｎ−ヘキサン層全体が白濁し、２時間後にはイオン交換水とｎ−ヘキサンとの界面に疎水化無機微粒子の凝集塊が生じた。このことから、粒子表面が親水性表面と疎水性表面とに二分割されていないと考えられる。
【０１１９】
＜＜分散安定性の評価＞＞
実施例１〜８で得た本発明の分散安定剤（ｑ１〜ｑ８）と比較例１〜３で得た比較用の分散安定剤（ｈｑ１〜ｈｑ３）を用いて顔料分散組成物を作成し、顔料の分散安定性の評価を行った。
【０１２０】
＜＜顔料分散組成物の作成＞＞
表１又は表２に記載した各成分を一括で内径４０ｍｍ、容量１７０ｍＬのガラス容器に入れ、のこぎり歯状ディスクインペラーを装着したホモジナイザー（ハイフレックスディスパーサーＨＧ−９２Ｇ タイテック（株）製、以下、同様）にて４０００ｒｐｍにて２５±３℃にて１５分間撹拌して、本発明の分散安定剤を用いた顔料分散組成物（ｃｄ１〜ｃｄ８）及び比較用の分散安定剤を用いた顔料分散組成物（ｈｃｄ１〜ｈｃｄ３）を調製した。
【０１２１】
なお、表１及び表２中の各成分に対応する数値は重量部を表し、「顔料微粒子（ｃ１）」は酸化チタンからなる親水性無機顔料微粒子（堺化学工業株式会社製、商品名 Ｒ−６８０）を、「顔料微粒子（ｃ２）」は、カーボンブラックからなる疎水性無機顔料微粒子（三菱化学株式会社製、ＭＡ−１００）を、「顔料微粒子（ｃ３）」は、アントラキノン系顔料からなる有機顔料微粒子（三菱化学株式会社製、商品名 ダイアレジン ブルーＫ）を、「顔料微粒子（ｃ４）」は、結晶性セルロースからなる高分子微粒子（Ａｌｆａ Ａｅｓａｒ社製、商品名 Ｃｅｌｌｕｌｏｓｅ，Ｍｉｃｒｏｃｒｙｓｔａｌｌｉｎｅ）を、「希釈剤（ｄ１）」は流動イソパラフィン（エクソンモービルケミカル社製、商品名 アイソパーＧ）を、「希釈剤（ｄ２）」は、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ダイセル化学工業株式会社製、商品名 ＭＭＰＧ）を表す。
【０１２２】
＜顔料分散状態の観察＞
上記で得た各顔料分散組成物について、静置１時間後及び静置１２時間後での顔料分散状態（顔料微粒子の凝集の程度）を光学顕微鏡（４００倍）を用いて目視観察した。静置１時間後における顔料分散状態を初期分散性とし、また、静置１２時間後における顔料分散状態を分散安定性とし、それぞれを次の基準で評価し、結果を表１及び２に記載した。
【０１２３】
採点基準
凝集がない ； ◎
凝集がわずかにある ； ○
凝集が非常に多くある ； ×
【０１２４】
【表１】
【０１２５】
【表２】
【０１２６】
本発明の分散安定剤を用いた顔料分散組成物（ｃｄ１〜ｃｄ８）は、比較用の分散安定剤を用いた顔料分散組成物（ｈｃｄ１〜ｈｃｄ３）に比較して、初期分散性及び分散安定性に著しく優れていることを確認できた。
【産業上の利用可能性】
【０１２７】
本発明の分散安定剤は、分散安定性が高く、懸濁・乳化重合用分散安定剤、繊維工業用分散安定剤、インク用分散安定剤、塗料用分散安定剤、プラスチック用分散安定剤、農薬工業用分散安定剤等として利用できる。
【技術分野】
【０００１】
本発明は分散安定剤及びこの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、疎水性無機酸化物を親水性有機化合物の存在下で水性媒体中に分散させた無機分散安定剤が知られている（特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開平１０−２３７２１６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、従来の無機分散安定剤は分散安定性が低く、特に顔料の分散性が著しく低いという問題がある。すなわち、本発明の目的は、分散安定性（特に顔料の分散安定性）に優れた分散安定剤を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の分散安定剤の特徴は、両親媒性粒子（ａ）と油性成分（ｂ）とを含む分散安定剤であって、
両親媒性粒子（ａ）が、親水性表面と疎水性表面とを有し、ＢＥＴ比表面積が５０〜３００ｍ２／ｇの乾式親水性シリカ微粒子を疎水化剤で表面改質して得られ、Ｍ値が１〜２０である両親媒性粒子であることを要旨とする。
【０００６】
本発明の製造方法の特徴は、上記の分散安定剤を製造する方法であって、
乾式親水性シリカ微粒子を油性成分（ｂ）に分散して親水性シリカ微粒子油性成分分散体を得る分散工程；
親水性シリカ微粒子油性成分分散体中に分散された乾式親水性シリカ微粒子を表面改質して疎水化シリカ微粒子油性成分分散体を得る表面改質工程；及び
疎水化シリカ微粒子油性成分分散体に含まれる疎水化シリカ微粒子を破砕して両親媒性粒子（ａ）を得る破砕工程を含むことを要旨とする。
【発明の効果】
【０００７】
本発明の分散安定剤は、分散安定性（特に顔料の分散安定性）に優れる。したがって、本発明の分散安定剤は、懸濁・乳化重合用分散安定剤、繊維工業用分散安定剤、インク用分散安定剤、塗料用分散安定剤、プラスチック用分散安定剤、農薬工業用分散安定剤等として好適である。
なお、分散安定性には乳化安定性を含み、分散安定剤には乳化安定剤を含む（以下同様）。
【０００８】
本発明の製造方法は、上記の分散安定剤を製造するのに適しており、上記の分散安定剤を容易に製造できる。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
＜両親媒性粒子（ａ）＞
両親媒性粒子（ａ）は、親水性表面と疎水性表面とを有するシリカ微粒子であり、シリカ微粒子の表面が親水性表面と疎水性表面とに分割されている。このようなシリカ微粒子としては、乾式親水性シリカ微粒子を疎水化剤で表面改質（疎水化処理）した後、破砕して得られる微粒子が含まれる。乾式親水性シリカ微粒子を表面改質（疎水化処理）した後、破砕した場合、乾式親水性シリカ微粒子のもともとの表面（破砕によって現れた面）は親水性表面であり、表面改質された表面は疎水性表面となる。
【００１０】
なお、分割とは、一つの磁石の中で正極と負極が局在するがごとく、親水性表面と疎水性表面とが一つのシリカ粒子の表面に局在していることを意味する（一つのシリカ粒子の表面に親水性表面と疎水性表面とが散在しているものとは相違する）。
【００１１】
両親媒性粒子（ａ）の表面が、親水性表面と疎水性表面とに分割されていることは、以下の方法で確認することができる。
＜表面が分割されていることの確認方法＞
イオン交換水５ｍＬとｎ−ヘキサン５ｍＬとを試験管に入れ、これにイソプロパノールに１重量％の濃度で測定試料（両親媒性粒子（ａ）等）を分散した分散液を０．０２ｇ加え、６０分間静置する（各測定試薬の純度は９９重量％以上のものを使用する）。
測定試料の表面が親水性表面と疎水性表面とに分割されている場合、水とｎ−ヘキサンとの界面に測定試料（両親媒性粒子（ａ））の均一な集合層を形成し、その上層と下層は測定試料（両親媒性粒子（ａ）等）を含まない清浄な層をなす。
一方、表面が親水性表面と疎水性表面とに分割されていない場合（親水性表面と疎水性表面とが粒子表面に均一に分散（散在）した粒子等の場合）、測定試料（粒子）は水相若しくはｎ−ヘキサン層に分散、又は水とｎ−ヘキサンとの界面に凝集塊を形成し、界面に均一な集合層を形成しない。
【００１２】
なお、両親媒性粒子（ａ）は、本発明の分散安定剤から次のようにして単離できる。すなわち、分散安定剤５０ｇをｎ−ヘキサン４５０ｇと混合して生じた白色沈殿物を遠心分離にて取り出し、１００℃の順風式乾燥機にて１２時間乾燥することにより、両親媒性粒子（ａ）を単離することができる。
【００１３】
両親媒性粒子（ａ）のＭ値は、１〜２０であるが、分散安定剤の分散安定性（以下、単に分散安定性という。）の観点から、５〜１５が好ましく、さらに好ましくは７〜１３である。Ｍ値は、微粒子の疎水性の程度を表す概念であり、Ｍ値が高いほど親水性が低いことを示し、水・メタノール混合溶液に測定試料を均一分散させる際、必要最低量のメタノールの容量割合で表され、次の方法で求めることができる。
【００１４】
＜Ｍ値算出法＞
測定試料（両親媒性粒子（ａ）等）０．２ｇを容量２５０ｍＬのビーカー中の５０ｍＬの水に添加し、続いてメタノールをビュレットから測定試料の全量が懸濁するまで滴下する。この際ビーカー内の溶液をマグネティックスターラーで常時撹拌し、測定試料の全量が溶液中に均一懸濁された時点を終点とし、終点におけるビーカーの液体混合物のメタノールの容量百分率がＭ値となる。
【００１５】
なお、両親媒性粒子（ａ）は、前記の＜表面が分割されていることの確認方法＞に記載した方法と同様の方法で単離することができる。
【００１６】
乾式親水性シリカ微粒子は、珪素塩化合物（四塩化珪素等）等の気体を酸素水素炎中で燃焼させて得られるシリカである｛アルカリ性環境下にて珪酸ソーダを酸で中和し、生じた析出物をろ過、乾燥することによって得られるシリカ（沈殿法シリカ）、及び酸性環境下にて珪酸ソーダを酸で中和し、生じた析出物をろ過、乾燥することによって得られるシリカ（ゲル法シリカ）とは異なる。｝。
【００１７】
乾式親水性シリカ微粒子としては、市場から容易に入手でき、たとえば、以下に例示する商品が挙げられる。
【００１８】
Ａｅｒｏｓｉｌシリーズ｛日本アエロジル株式会社及びエボニック デグサ社、「Ａｅｒｏｓｉｌ」はエボニック デグサ ゲーエムベーハーの登録商標である。｝、Ｒｅｏｌｏｓｉｌシリーズ｛株式会社トクヤマ、「Ｒｅｏｒｏｓｉｌ」は株式会社トクヤマの登録商標である。｝、Ｃａｂ−Ｏ−Ｓｉｌシリーズ｛キャボット社、「Ｃａｂ−Ｏ−Ｓｉｌ」はキャボットコーポレーションの登録商標である。｝、ＨＤＫシリーズ｛旭化成ワッカーシリコーン株式会社、ＨＤＫは、ＷＡＣＫＥＲ ＣＨＥＭＩＥ ＡＧの登録商標である。｝等。
【００１９】
乾式親水性シリカ微粒子のＢＥＴ法による比表面積（ｍ２／ｇ）は５０〜３００であるが、分散安定性の観点から、１００〜２００が好ましい。
【００２０】
なお、ＢＥＴ法による比表面積は、ＪＩＳ Ｒ１６２６−１９９６（一点法）に準拠して測定される値である｛測定試料：５０ｍｇ（２００℃で１５分間加熱処理したサンプル）、吸着量の測定方法：定溶法、吸着質：混合ガス（Ｎ２７０体積％、Ｈｅ３０体積％）、測定平衡相対圧：０．３、装置：たとえば、大倉理研社製、全自動粉体表面測定装置 ＡＭＳ−８０００｝。
【００２１】
疎水化剤としては、ハロシラン、アルコキシシラン、シラザン、炭素数３〜３６の脂肪族アルコール、及びシリコーン化合物等が使用できる。
【００２２】
ハロシランとしては、炭素数１〜１２のアルキル基をもつアルキルハロシラン、及び炭素数６〜１２のアリール基をもつアリールハロシランが含まれ、メチルトリクロロシラン、ジメチルジクロロシラン、トリメチルクロロシラン、トリメチルブロモシラン、エチルトリクロロシラン、フェニルトリクロロシラン、ジフェニルジクロロシラン、及びｔ−ブチルジメチルクロロシラン等が挙げられる。
【００２３】
アルコキシシランとしては、炭素数１〜１２のアルキル基（メタクリロキシアルキルを含む）、アルケニル基又はアリール基と炭素数１〜２のアルコキシ基とをもつアルコキシシランが含まれ、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ｏ−メチルフェニルトリメトキシシラン、ｐ−メチルフェニルトリメトキシシラン、ｎ−ブチルトリメトキシシラン、ｉ−ブチルトリメトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、オクチルトリメトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、ドデシルトリメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、ｉ−ブチルトリエトキシシラン、デシルトリエトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、及びγ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。
【００２４】
シラザンとしては、ヘキサメチルジシラザン等が挙げられる。
【００２５】
炭素数３〜３６の脂肪族アルコールとしては、イソプロパノール、ノルマルブタノール、ノルマルペンタノール、ノルマルオクタノール、ドデカノール、ステアリルアルコール、及びベヘニルアルコール等が挙げられる。
【００２６】
シリコーン化合物としては、ジメチルポリシロキサン、水酸基変性ポリシロキサン、及びメチルハイドロジェンポリシロキサン等が挙げられる。
【００２７】
ジメチルポリシロキサンとしては、２５℃での動粘度が１〜１００００ｍｍ２／ｓのもの等が使用できる。
【００２８】
水酸基変性ポリシロキサン及びメチルハイドロジェンジメチルポリシロキサンとしては、２５℃での動粘度が１〜１００００ｍｍ２／ｓであり、官能基当量が３００〜８０００ｇ／ｍｏｌのもの等が使用できる。
【００２９】
乾式親水性シリカ微粒子を表面改質するのに用いる疎水化剤として、以上の他に、公知のカップリング剤（上記以外のシランカップリング剤、チタネートカップリング剤、及びジルコアルミネートカップリング剤等）等も使用できる。
【００３０】
これらの疎水化剤のうち、分散安定性等の観点から、ハロシラン、シラザン、及びアルコキシシランが好ましい。
【００３１】
疎水化剤による表面改質は、公知の方法が適用でき、たとえば、以下の＜表面改質方法１＞〜＜表面改質方法３＞に記載の方法等により行うことができる。
【００３２】
＜表面改質方法１＞
乾式親水性シリカ微粒子と疎水化剤との混合物を撹拌機で撹拌しながら表面改質し、疎水化シリカ微粒子を得る表面改質方法（乾式法）。
【００３３】
＜表面改質方法２＞
乾式親水性シリカ微粒子の入った撹拌機付き反応容器に、加熱、気化した疎水化剤を含む気体を導入して表面改質し、疎水化シリカ微粒子を得る表面改質方法（気相法）。
【００３４】
＜表面改質方法３＞
乾式親水性シリカ微粒子を油性成分（ｂ）に分散して乾式親水性シリカ微粒子油性成分分散体を得てから、引き続き乾式親水性シリカ微粒子油性成分分散体を撹拌しながら、疎水化剤を加えて疎水化シリカ微粒子油性成分分散体を得る表面改質方法（液中法）。
【００３５】
これらの表面改質方法のうち、＜表面改質方法３＞が好ましい。これらの好ましい方法を適用すると、分散安定性がさらに良好となる。これは、両親媒性粒子（ａ）の表面にある親水性表面と疎水性表面とが局在しやすくなり、両親媒性粒子（ａ）の界面活性が良好となるためと考えられる。
【００３６】
＜表面改質方法３＞による表面改質を行う場合、溶剤（ｓ）を併用してもよい。溶剤（ｓ）としては、アルコール、ケトン、エステル、エーテル、芳香族炭化水素、脂環式炭化水素、及び脂肪族炭化水素等が含まれる。
【００３７】
アルコールとしては、炭素数１〜１０のアルコール等が使用でき、メタノール、エタノール、ノルマルプロパノール、イソプロパノール、ノルマルブタノール、イソブタノール、セカンダリーブタノール、３−メトキシ−３−メチル−１−ブタノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、及びプロピレングリコールモノブチルエーテル等が挙げられる。
【００３８】
ケトンとしては、炭素数３〜６のケトン等が使用でき、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、及びシクロヘキサノン等が挙げられる。
【００３９】
エステルとしては、炭素数４〜１０のエステル等が使用でき、酢酸エチル、酢酸ブチル、エチルセロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、ブチルカルビトールアセテート、及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等が挙げられる。
【００４０】
エーテルとしては、炭素数４〜１０のエーテル等が使用でき、エチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、及び１，４−ジオキサン等が挙げられる。
【００４１】
芳香族炭化水素としては、炭素数６〜９の芳香族炭化水素等が使用でき、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、及びトリメチルベンゼン等が挙げられる。
【００４２】
脂環式炭化水素としては、炭素数５〜１０の脂環式炭化水素等が使用でき、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロペプタン、シクロオクタン、シクロノナン、及びシクロデカン等が挙げられる。
【００４３】
脂肪族炭化水素としては、炭素数５〜１０の脂肪族炭化水素等が使用でき、ペンタン、ヘキサン、ペプタン、オクタン、ノナン、及びデカン等が挙げられる。
【００４４】
以上の他に、塩素系溶剤（ジクロロメタン、トリクロロメタン、メチルクロライド、ジクロロエタン、テトラクロロエタン、及びエチルクロライド等）、石油エーテル、及び石油ナフサ等も使用できる。これらの溶剤（ｓ）のうち、芳香族炭化水素、脂環式炭化水素、及び脂肪族炭化水素が好ましい。
【００４５】
溶剤（ｓ）を併用する場合、溶剤（ｓ）の添加量（重量％）は、油性成分（ｂ）の合計重量に基づいて１０〜５０が好ましい。
【００４６】
＜表面改質方法３＞において、乾式親水性シリカ微粒子油性成分分散体を得る方法としては、以下の＜分散方法１＞〜＜分散方法３＞等が適用できる。
【００４７】
＜分散方法１＞
分散容器に乾式親水性シリカ微粒子と油性成分（ｂ）とを同時に入れて均一分散する方法。
【００４８】
＜分散方法２＞
あらかじめ乾式親水性シリカ微粒子の入った分散容器に、油性成分（ｂ）を加えて均一分散を行う方法。
【００４９】
＜分散方法３＞
あらかじめ油性成分（ｂ）の入った分散容器に、乾式親水性シリカ微粒子を加えて均一分散する方法。
【００５０】
これらの分散方法のうち、分散安定性がさらに良好となりやすい点から、＜分散方法１＞及び＜分散方法３＞が好ましく、さらに好ましくは＜分散方法３＞である。
【００５１】
分散には、公知の分散機｛櫂型羽型撹拌機、高速剪断式分散機（高速回転型ホモミキサー、高圧ホモジナイザー、及び高速回転遠心放射型撹拌機等｝、ニーダー、三本ロールミル、超音波分散機、遊星型ミキサー、３軸遊星型ミキサー、湿式媒体型分散機｛ビーズミル、サンドグラインダー、コロイドミル、アトライタ（日本コークス工業株式会社製、「アトライタ」は日本コークス工業株式会社の登録商標である。）等｝、垂直単軸型粉体撹拌機｛ヘンシェルミキサ（三井鉱山株式会社製、「ヘンシエルミキサ」は三井鉱山株式会社の登録商標。）等｝、水平単軸型撹拌機（リボンミキサー等）、及び垂直単複軸撹拌機（万能ミキサー、らいかい機等）等が使用できる。
【００５２】
なお、遊星型ミキサーは、容器及び／又は撹拌羽根が遊星回転運動を行う分散機であり、遊星運動を行う２枚のブレード型撹拌羽根をもつプラネタリミキサー、遊星式撹拌脱泡装置（たとえば、特開平７−２８９８７３号公報記載の撹拌・脱泡装置）等が挙げられ、３軸遊星型ミキサーとしては、遊星運動を行う２枚のブレード型撹拌羽根と少なくとも１つの遊星運動を行う小型の高速回転羽根をもつ遊星型ミキサー（たとえば、登録実用新案第３０２６０４３号）等が挙げられる。
【００５３】
これらの分散機のうちでも、分散安定性がさらに良好となる点から、高速剪断式分散機及び３軸遊星型ミキサーが好ましい。
【００５４】
分散の温度は特に制限なく、油性成分（ｂ）の種類に応じて適宜選択することができるが、３０〜１５０℃（さらに好ましくは５０〜１２０℃）が好ましい。また、分散に要する時間は、５分〜１０時間が好ましく、さらに好ましくは１０分〜５時間、特に好ましくは１５分〜３時間である。
【００５５】
＜表面改質方法３＞において、乾式親水性シリカ微粒子の含有量（重量％）は、油性成分（ｂ）の合計重量に基づいて、０．１〜１０（さらに好ましくは０．５〜８、特に好ましくは１〜５）が好ましい。この範囲であると、分散安定性がさらに良好となる。
【００５６】
＜表面改質方法１＞〜＜表面改質方法３＞において、撹拌には上記の公知の分散機等が使用できる。
上記の分散機のうち、＜表面改質方法１＞及び＜表面改質方法２＞においては、遊星型混合分散機、垂直単軸型粉体撹拌機、水平単軸型撹拌機、及び垂直単複軸撹拌機が好ましく、さらに好ましくは単軸型粉体撹拌機、水平単軸型撹拌機、及び垂直単複軸撹拌機であり、＜表面改質方法３＞においては、高速剪断式分散機、遊星型ミキサー、及び３軸遊星型ミキサーが好ましい。
【００５７】
疎水化剤の使用量（重量％）としては、乾式親水性シリカ微粒子の重量に基づいて、０．５〜２０が好ましく、さらに好ましくは１〜５である。この範囲であると、分散安定性がさらに良好となる。
【００５８】
＜表面改質方法３＞で得られた疎水化シリカ微粒子油性成分分散体は、そのまま用いてもよく、疎水化シリカ微粒子油性成分分散体から油性成分（ｂ）を除去し、乾燥して、疎水化シリカ微粒子を取り出してから用いてもよい。
【００５９】
油性成分（ｂ）の除去は、（１）加熱装置及び撹拌装置つきの減圧可能な反応容器やロータリーエバポレーター等を使用して油性成分（ｂ）を蒸留して除去する方法、（２）溶剤で希釈した疎水化シリカ微粒子油性成分分散体をろ過し、固液分離する方法、（３）溶剤で希釈した疎水化シリカ微粒子油性成分分散体を遠心分離し、上澄みを除去する方法等の公知の方法で行うことができる。
疎水化シリカ微粒子油性成分分散体を希釈する溶剤としては、前記の溶剤（ｓ）と同じものが使用できる。
【００６０】
乾燥は、加熱乾燥（例えば３０〜１５０℃に加熱した乾燥炉にて１０〜１２０分加熱乾燥する）や減圧乾燥等の公知の方法で行うことができ、遠赤外線式乾燥機、真空乾燥機、温風式乾燥機、及び流動層乾燥機等を使用できる。
【００６１】
両親媒性粒子（ａ）は、疎水化シリカ微粒子を破砕することにより得ることができる。
破砕とは、１個の疎水化シリカ微粒子を、少なくとも２つの微粒子に分割することを意味し、破砕によって、疎水化シリカ微粒子の表面が、親水性表面（破砕によって生じた新たな表面）と疎水性表面（疎水化処理によって疎水化された表面）とに分割されるものである。
【００６２】
破砕は、疎水化シリカ微粒子分散体を湿式破砕する方法で行うことができる。
【００６３】
湿式破砕における疎水化シリカ微粒子分散体としては、以下の疎水化シリカ微粒子分散体が使用できる。
（分散体１）疎水化シリカ微粒子を油性成分（ｂ）に分散した疎水化シリカ微粒子分散体。
（分散体２）＜表面改質方法３＞で得られた疎水化シリカ微粒子油性成分分散体。
【００６４】
（分散体１）において、疎水化シリカ微粒子と、油性成分（ｂ）との分散には、上記の分散で用いる公知の分散機等が使用でき、好ましい分散機も同じである。（分散体１）の分散方法は、前記の＜分散方法１＞〜＜分散方法３＞と同じ方法で行うことができ、好ましい方法も同じである。
【００６５】
疎水化シリカ微粒子分散体中の疎水化シリカ微粒子の割合（重量％）は、油性成分（ｂ）の合計重量に基づいて、０．１〜１０（さらに好ましくは０．５〜８、特に好ましくは１〜５）が好ましい。この範囲であると、分散安定性がさらに良好となる。これは分散体の粘度が低くなり、破砕が良好に進むためと考えられる。
【００６６】
破砕は、公知の破砕分散機等を用いて行うことができ、破砕分散機としては、湿式媒体型粉砕分散機｛ビーズミル、サンドグラインダー、コロイドミル、アトライタ（日本コークス工業株式会社製、「アトライタ」は日本コークス工業株式会社の登録商標である。）、ＤＩＳＰＥＲＭＡＴ（ＶＭＡ−ＧＥＴＡＭＡＮＮ ＧＭＢＨ社製）等｝、高圧噴射型破砕分散機｛ナノマイザー（吉田機械株式会社製、「ナノマイザー」はエス・ジーエンジニアリング株式会社の登録商標である。）、スターバースト（株式会社スギノマシン製、「スターバースト」は株式会社スギノマシンの登録商標である。）、ゴーリンホモジナイザー（ＡＰＶ社製）等｝、及び高速剪断型分散機（高速回転型ホモミキサー、高圧ホモジナイザー、ディゾルバー、及び３軸遊星型ミキサー等）等が使用できる。これらのうち、高速剪断型分散機が、疎水化シリカ微粒子の再凝集が起こりにくく、分散安定性がさらに良好となる点で好ましい。
【００６７】
破砕温度は特に制限なく、疎水化シリカ微粒子油性成分分散体の油性成分（ｂ）の種類に応じて適宜選択することができ、例えば、３０〜１５０℃（好ましくは５０〜１２０℃）で行うことができる。
また、破砕時間は、５分〜１０時間が好ましく、さらに好ましくは１０分〜５時間、特に好ましくは１５分〜３時間である。
【００６８】
両親媒性粒子（ａ）は、破砕工程後の疎水化シリカ微粒子油性成分分散体から、油性成分（ｂ）を除去し、乾燥して、用いてもよい。
油性成分（ｂ）の除去は、前記の公知の方法と同様に行うことができ、除去した後の乾燥も前記の公知の方法で同様に行うことができる。
【００６９】
両親媒性粒子（ａ）の体積平均粒子径（μｍ）は、０．０５〜１が好ましく、さらに好ましくは０．１〜０．５である。この範囲であると、分散安定性がさらに良好となる。
【００７０】
両親媒性粒子（ａ）の体積平均粒子径は、両親媒性粒子（ａ）を１重量％の濃度となるようにイソプロパノールに分散した分散液を測定試料とし、ＪＩＳ Ｚ８８２５−１：２００１に準拠したレーザー回折式粒度分析計｛例えば、Ｌｅｅｄｓ＆Ｎｏｒｔｈｒｕｐ社製Ｍｉｃｒｏｔｒａｃシリーズ、株式会社堀場製作所製ＰａｒｔｉｃａＬＡシリーズ等｝を用い、測定温度２５±５℃で測定した後、イソプロパノールの屈折率として１．３７７を、測定試料の屈折率として１．４５７を用いて、５０％積算体積平均粒子径として求められる。
なお、体積平均粒子径の測定に用いる両親媒性粒子（ａ）は、両親媒性粒子（ａ）を含む分散体５０ｇをｎ−ヘキサン４５０ｇと混合して生じた白色沈殿物を遠心分離にて取り出し、１００℃の順風式乾燥機にて１２時間乾燥することで単離することができる。
【００７１】
＜油性成分（ｂ）＞
油性成分（ｂ）としては、炭化水素油、脂肪酸、脂肪酸アミド、脂肪酸エステル、高級アルコール、シリコーン、及びポリオキシアルキレン化合物等が使用できる。
【００７２】
炭化水素油としては、４０℃での動粘度が０．１〜３５００ｍｍ２／ｓの炭化水素油が使用でき、パラフィン、ポリオレフィン、ポリオレフィンを水素化した水添炭化水素、アルキルベンゼン、アルキルナフタレン、及びこれらの混合物が含まれる。
【００７３】
パラフィンとしては、ノルマルパラフィン及びイソパラフィン等が挙げられる。
【００７４】
ポリオレフィンとしては、ポリブテン、１−デセンオリゴマー、及び１−デセンとエチレンとのコオリゴマー等が挙げられる。
【００７５】
ポリオレフィンを水素化した水添炭化水素としては、ポリオレフィンを水素化して得られる水素化炭化水素が含まれ、水添ポリブテン及び水添ポリイソブテン等が挙げられる。
【００７６】
アルキルベンゼンとしては、アルキル基の炭素数が１〜８のアルキルベンゼンが含まれ、モノアルキルベンゼン、及びジアルキルベンゼン等が挙げられる。
【００７７】
アルキルナフタレンとしては、アルキル基の炭素数が１〜１８のアルキルナフタレンが含まれ、モノアルキルナフタレン、ジアルキルナフタレン、及びポリアルキルナフタレン等が挙げられる。
【００７８】
これらの炭化水素油は、石油の蒸留精製又は溶剤精製、オレフィンモノマーの重合反応、及び有機合成反応（フィッシャー・トロプシュ法等）等によって得ることができる。
【００７９】
脂肪酸としては、炭素数８〜２８の脂肪酸が含まれ、オクタン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、イソステアリン酸、２−エチルヘキサン酸、オレイン酸、カプリン酸、ベヘン（ベヘニン）酸、１２−ヒドロキシステアリン酸、２−ヘプチルウンデカン酸、ウンデシレン酸、及びモンタン酸等が挙げられる。
【００８０】
脂肪酸アミドとしては、前記脂肪酸の酸アミド（ラウリン酸アミド、ステアリン酸アミド、及びエルカ酸アミド等）、及びＮ−置換酸アミド（Ｎ，Ｎ’−エチレンビスラウリン酸アミド、Ｎ，Ｎ’−メチレンビスステアリン酸アミド、Ｎ，Ｎ’−エチレンビスステアリン酸アミド、Ｎ，Ｎ’−エチレンビスオレイン酸アミド、Ｎ，Ｎ’−エチレンビスベヘン酸アミド、Ｎ，Ｎ’−ブチレンビスステアリン酸アミド、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビスステアリン酸アミド、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビスオレイン酸アミド、Ｎ，Ｎ’−キシリレンビスステアリン酸アミド、ステアリン酸モノメチロールアミド、ステアリン酸ジエタノールアミド、Ｎ−オレイルステアリン酸アミド、Ｎ−オレイルオレイン酸アミド、Ｎ−ステアリルステアリン酸アミド、Ｎ−ステアリルオレイン酸アミド、Ｎ−オレイルパルミチン酸アミド、及びＮ−ステアリルエルカ酸アミド等）等が挙げられる。
【００８１】
脂肪酸エステルとしては、前記脂肪酸のエステル（ミリスチン酸イソプロピル、オクタン酸セチル、ミリスチン酸オクチルドデシル、パルミチン酸イソプロピル、ステアリン酸ブチル、ラウリン酸ヘキシル、ミリスチン酸ミリスチル、オレイン酸デシル、２，２−ジメチルオクタン酸２−ヘキシルデシル、ステアリン酸イソセチル、イソステアリン酸イソセチル、１２−ヒドロキシステアリル酸コレステリル、エチレングリコール２−エチルヘキサン酸ジエステル、ネオペンチルグリコールカプリン酸ジエステル、グリセリン２−ヘプチルウンデカン酸ジエステル、トリメチロールプロパン２−エチルヘキサン酸トリエステル、トリメチロールプロパンイソステアリン酸トリエステル、ペンタンエリスリトール２−エチルへサン酸テトラエステル、グリセリン２−エチルヘキサン酸トリエステル、トリメチロールプロパンイソステアリン酸トリエステル、パルミチン酸２−エチルヘキシル、グリセリンミリスチン酸トリエステル、グリセリン２−ヘプチルウンデカン酸トリエステル、ヒマシ油脂肪酸メチルエステル、オレイン酸オレイル、パルミチン酸２−ヘプチルウンデシル、ラウリン酸エチル、ミリスチン酸２−ヘキシルデシル、及びパルミチン酸２−ヘキシルデシル等）、及び後記高級アルコールのエステル（乳酸セチル、乳酸ミリスチル、酢酸ラノリル、リンゴ酸ジイソステアリル、アジピン酸ジ−２−ヘプチルウンデシル、及び２−エチルヘキサン酸セチル等）、多価アルコールの酢酸エステル（グリセリントリアセテート、及びトリメチロ−ルプロパントリアセテート等）、及び低級（炭素数１〜４）アルコールの多価脂肪酸（炭素数６〜１０）エステル（アジピン酸ジイソブチル、セバチン酸ジイソプロピル、及びリンゴ酸ジプロピル等）等が挙げられる。
【００８２】
高級アルコールとしては、炭素数１２〜３６の脂肪族アルコール（セチルアルコール、ステアリルアルコール、イソステアリルアルコール、２−ヘプチルウンデシルアルコール、ラノリンアルコール、ベヘニルアルコール、及びミリスチルアルコール等）等が挙げられる。
【００８３】
シリコーンとしては、前記のシリコーン化合物及び環状シリコーン（ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、及びドデカメチルシクロヘキサシロキサン等）等が挙げられる。
【００８４】
ポリオキシアルキレン化合物としては、数平均分子量９５０〜４０００のポリオキシプロピレングリコール等が使用できる。
【００８５】
油性成分（ｂ）としては、これらの他に、動物又は植物から抽出される物質及びその水素添加物（アボカド油、ツバキ油、タートル油、マカデミアナッツ油、トウモロコシ油、ミンク油、オリーブ油、ナタネ油、卵黄油、ゴマ油、パーシック油、小麦胚芽油、サザンカ油、ヒマシ油、アマニ油、サフラワー油、綿実油、エノ油、大豆油、落花生油、茶実油、カヤ油、コメヌカ油、シナギリ油、日本キリ油、ホホバ油、胚芽油、カカオ脂、ヤシ油、馬脂、硬化ヤシ油、パーム油、牛脂、羊脂、硬化牛脂、パーム核油、豚脂、牛骨脂、モクロウ核油、硬化油、牛脚脂、スクアレン、スクアラン、及びその他のテルペン等）を用いることもできる。
【００８６】
油性成分（ｂ）としては、分散安定性の観点から、炭化水素油、及びシリコーンが好ましく、さらに好ましくは４０℃における動粘度が１〜２０ｍｍ２／ｓの炭化水素油、及び２５℃における動粘度が１〜５０ｍｍ２／ｓのシリコーン、特に好ましくは４０℃における動粘度が１〜２０ｍｍ２／ｓの炭化水素油である。
【００８７】
これらの炭化水素油及びシリコーンは市場から容易に入手することができ、以下に商品名を例示する。
【００８８】
＜炭化水素油＞商品名の後に続く括弧内の数字は４０℃における動粘度ｍｍ２／ｓである。
ＩＰソルベント１０１６（０．５）、ＩＰソルベント２０２８（２）、及びＩＰソルベント２８３５（１２）（出光興産株式会社）；
コスモＳＣ２２（２１）、コスモＳＰ１０（１０）、コスモＲＣスピンドル油（１０）、コスモＲＢスピンドル油（１５）、コスモニュートラル１５０（３２）、コスモピュアスピンＧ（２１）、コスモピュアスピンＥ（５）、コスモホワイトＰ６０（６０）、コスモホワイトＰ１２０（１２０）、コスモホワイトＰ２００（２００）、及びコスモホワイトＰ３５０Ｐ（２５０）（コスモ石油ルブリカンツ株式会社、「コスモ」は、コスモ石油株式会社の登録商標である。）；
日石スーパーオイルＣ（９３）、日石スーパーオイルＤ（１４１）、日石スーパーオイルＢ（５４）、日石ポリブテンＬＶ−７（１２）、日石ポリブテンＬＶ−５０（１１０）、日石ポリブテンＬＶ−１００（２００）、及び日石ポリブテンＬＶ−１５０（３５００）（ＪＸ日鉱日石エネルギー株式会社）；
スタノール４３Ｎ（２７）、スタノール５２（５６）、スタノール６９（１４５）、スタノール３５（９）、及びスタノールＬＰ３５（１１）（エッソ石油株式会社）；
フッコールＮＴ１００（２１）、フッコールＮＴ１５０（２８）、フッコールＮＴ２００（３９）、フッコールＮＴ６０（１０）、及びフッコールＳＴマシン（９）（富士興産株式会社、「フッコール」は新日本石油株式会社の登録商標である。）；
パールリーム４（３）、パールリームＥＸ（１０）、及びパールリーム６（２０）（日油株式会社製、「パールリーム」は日油株式会社の登録商標である。）；
エクソールシリーズ及びアイソパーシリーズ（エクソン モービル ケミカル社）；
シェルゾールシリーズ（シェル ケミカル社）；並びに
ニッサンポリブテン及びＮＡソルベントシリーズ（日油株式会社製、「ニッサン」は日油株式会社の登録商標である。）等
【００８９】
＜ジメチルポリシロキサン＞
ＫＦ−９６−１０ｃｓ、ＫＦ−９６−２０ｃｓ、ＫＦ−９６−３０ｃｓ、ＫＦ−９６−５０ｃｓ、ＫＦ−９６−１００ｃｓ、ＫＦ−９６−２００ｃｓ、ＫＦ−９６−３００ｃｓ、ＫＦ−９６−３５０ｃｓ、ＫＦ−９６−５００ｃｓ、ＫＦ−９６−１，０００ｃｓ、ＫＦ−９６−３，０００ｃｓ、ＫＦ−９６−５，０００ｃｓ、ＫＦ−９６Ｈ−６，０００ｃｓ、ＫＦ−９６Ｈ−１万ｃｓ、ＫＦ−９６Ｈ−１２，５００ｃｓ、ＫＦ−９６Ｈ−３万ｃｓ、ＫＦ−９６Ｈ−５万ｃｓ、ＫＦ−９６Ｈ−６万ｃｓ、及びＫＦ−９６Ｈ−１０万ｃｓ｛信越化学工業株式会社；商品名の終り（ｃｓの直前）に記載されている数字は動粘度を表し、例えば、「１０」は１０ｍｍ２／ｓである。｝；
ＳＨ２００ Ｃ Ｆｌｕｉｄ １０ｃｓ、ＳＨ２００ Ｃ Ｆｌｕｉｄ ２０ｃｓ、ＳＨ２００ Ｃ Ｆｌｕｉｄ ５０ｃｓ、ＳＨ２００ Ｃ Ｆｌｕｉｄ １００ｃｓ、ＳＨ２００ Ｃ Ｆｌｕｉｄ ２００ｃｓ、ＳＨ２００ Ｃ Ｆｌｕｉｄ ３５０ｃｓ、ＳＨ２００ Ｃ Ｆｌｕｉｄ ５００ｃｓ、ＳＨ２００ Ｃ Ｆｌｕｉｄ １，０００ｃｓ、ＳＨ２００ Ｃ Ｆｌｕｉｄ ３，０００ｃｓ、ＳＨ２００ Ｃ Ｆｌｕｉｄ ５，０００ｃｓ、ＳＨ２００Ｈ Ｃ Ｆｌｕｉｄ １万ｃｓ、ＳＨ２００Ｈ Ｃ Ｆｌｕｉｄ １．２５万ｃｓ、ＳＨ２００Ｈ Ｃ Ｆｌｕｉｄ ３万ｃｓ、ＳＨ２００Ｈ Ｃ Ｆｌｕｉｄ ６万ｃｓ、及びＳＨ２００Ｈ Ｃ Ｆｌｕｉｄ １０万ｃｓ｛東レ・ダウコーニングシリコーン株式会社製；商品名の終り（ｃｓの直前）に記載されている数字は動粘度を表し、例えば、「１０」は１０ｍｍ２／ｓである。｝；並びに
ＴＳＦ４５１−１０、ＴＳＦ４５１−２０、ＴＳＦ４５１−３０、ＴＳＦ４５１−５０、ＴＳＦ４５１−１００、ＴＳＦ４５１−２００、ＴＳＦ４５１−３００、ＴＳＦ４５１−３５０、ＴＳＦ４５１−５００、ＴＳＦ４５１−１０００、ＴＳＦ４５１−１５００、ＴＳＦ４５１−２０００、ＴＳＦ４５１−３０００、ＴＳＦ４５１−５０００、ＴＳＦ４５１−６０００、ＴＳＦ４５１Ｈ−１Ｍ、ＴＳＦ４５１Ｈ−１２５００、ＴＳＦ４５１Ｈ−２Ｍ、ＴＳＦ４５１Ｈ−３Ｍ、ＴＳＦ４５１Ｈ−５Ｍ、ＴＳＦ４５１Ｈ−６Ｍ、及びＴＳＦ４５１Ｈ−１０Ｍ｛モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製；商品名の終りに記載されている数字は動粘度を表し、例えば、「１０」は１０ｍｍ２／ｓである。なお、Ｍは万を表し、たとえば１Ｍは１万ｍｍ２／ｓである。｝等
【００９０】
本発明の分散安定剤は、以下の＜製造方法１＞〜＜製造方法３＞等の方法で得ることができる。
【００９１】
＜製造方法１＞
両親媒性粒子（ａ）を油性成分（ｂ）に分散する方法。
【００９２】
＜製造方法２＞
疎水化シリカ微粒子油性成分分散体を破砕して、両親媒性粒子（ａ）と油性成分（ｂ）とを含む分散液を得た後、この分散液に油性成分（ｂ）を加えるか、又はこの分散液を濃縮することにより濃度調整する方法。
【００９３】
＜製造方法３＞
疎水化シリカ微粒子油性成分分散体を破砕して、両親媒性粒子（ａ）と油性成分（ｂ）とを含む分散液を得た後、この分散液をそのまま使用する方法。
【００９４】
濃縮は、加熱装置及び撹拌装置つきの減圧可能な反応容器やロータリーエバポレーター等を使用する方法等の公知の方法で行うことができる。
【００９５】
これらの製造方法のうち、＜製造方法３＞が好ましく、さらに好ましくは乾式親水性シリカ微粒子を油性成分（ｂ）に分散して親水性シリカ微粒子油性成分分散体を得る分散工程と、続いて、親水性シリカ微粒子油性成分分散体中に分散された乾式親水性シリカ微粒子を表面改質して疎水化シリカ微粒子油性成分分散体を得る表面改質工程と、疎水化シリカ微粒子油性成分分散体に含まれる疎水化シリカ微粒子を破砕して両親媒性粒子（ａ）を得る破砕工程を含む製造方法である。
【００９６】
本発明の分散安定剤において、両親媒性粒子（ａ）の含有量（重量％）は、油性成分（ｂ）の重量に基づいて、０．１〜１０が好ましく、さらに好ましくは０．５〜８、特に好ましくは１〜５である。この範囲であると、分散安定性がさらに良好となる。
【００９７】
本発明の分散安定剤は、分散安定性に優れ、特に顔料の分散安定性に優れる。そのため、懸濁・乳化重合用分散安定剤、繊維工業用分散安定剤、インク用分散安定剤、塗料用分散安定剤、プラスチック用分散安定剤、農薬工業用分散安定剤等として用いることができる。
【００９８】
本発明の分散安定剤には、その効果を損なわない範囲において、他の成分（たとえば、希釈剤、抗菌剤、光安定剤、及び粘度調整剤等）を配合できる。
【実施例】
【００９９】
以下、実施例により本発明を更に説明するが、本発明はこれに限定されない。なお、特記しない限り、部は重量部を意味する。
【０１００】
実施例１〜８で得た両親媒性粒子（ａ）及び比較例１〜３の疎水化シリカ微粒子のＭ値は以下の方法で測定した。
【０１０１】
＜Ｍ値の測定＞
測定試料（実施例１〜８で得た両親媒性粒子（ａ）又は比較例１〜２の疎水化シリカ微粒子）０．２ｇを容量２５０ｍＬのビーカー中の５０ｍＬのイオン交換水に添加して、ビーカー内の液体をマグネティックスターラーで常時撹拌しながら、この中にメタノール（関東化学株式会社、試薬特級、以下同様。）をビュレットからビーカーの壁を伝わせながら徐々に滴下し、測定試料の全量がイオン交換水に懸濁するまで、メタノールの滴下を続けた。測定試料の全量が懸濁された時点でのメタノールの滴下量（ｇ）を記録し、下記式からＭ値を算出した。
【０１０２】
（Ｍ値）＝１００×（メタノールの滴下量：ｇ）／｛（メタノールの滴下量：ｇ）＋５０｝
【０１０３】
＜実施例１＞
油性成分（ｂ１）｛４０℃での動粘度１ｍｍ２／ｓのイソパラフィン（出光興産株式会社製、商品名 ＩＰソルベント１６２０）｝１００部と乾式親水性シリカ微粒子（ｐ１）｛商品名 Ａｅｒｏｓｉｌ １３０（ＢＥＴ法による比表面積１３０ｍ２／ｇ）｝５部を減圧装置及び加熱装置付き３軸プラネタリミキサ（浅田鉄工株式会社製プラネタリディスパ）に入れ、減圧下（およそ５ｋＰａ）で６０分間、撹拌・分散（低速撹拌羽根；５０ｒｐｍ、高速撹拌羽根；３０００ｒｐｍ）して、親水性シリカ微粒子油性成分分散体（ｈｄ１）を得た。
【０１０４】
続いて常圧（およそ１０１ｋＰａ）にて撹拌（低速撹拌羽根；５０ｒｐｍ、高速撹拌羽根；３０００ｒｐｍ）を継続しながら、疎水化剤（ｍ１）｛ヘキサメチルジシラザン（信越化学工業株式会社製、商品名 ＨＭＤＳ−３）｝０．１５部（乾式親水性シリカ微粒子の重量に対して３重量％）を添加し、６０分間撹拌を継続することにより疎水化処理を行い、疎水化シリカ微粒子油性成分分散体（ｐｄ１）を得た。
【０１０５】
その後、常圧（およそ１０１ｋＰａ）にて撹拌（低速撹拌羽根；５０ｒｐｍ、高速撹拌羽根；４０００ｒｐｍ）を継続しながら１００℃まで加熱し、その温度で６０分間撹拌してから、撹拌を継続したまま室温（２５±３℃、以下同じである。）まで冷却することにより、破砕処理して、両親媒性粒子（ａ１）を含む本発明の分散安定剤（ｑ１）を得た。
【０１０６】
分散安定剤（ｑ１）５ｇとｎ−ヘキサン（関東化学株式会社、試薬１級）１００ｇとを容量１００ｍＬのふた付きガラス容器に入れ、３０秒間手で上下に振ることで撹拌した後、６時間、室温下で静置し、透明な上澄み層をスポイトで除去した。続いて、残留した下層を容量４０ｍＬのサンプルチューブに入れて遠心分離（回転数；４０００ｒｐｍ、時間；１０分間）にて固液分離して沈殿物を取り出し、１３０±５℃に温調した温風式乾燥機にて３時間加熱、乾燥して両親媒性粒子（ａ１）を得た。
両親媒性粒子（ａ１）のＭ値は１３、体積平均粒子径は０．２μｍであった。
【０１０７】
＜実施例２＞
「油性成分（ｂ１）」を「油性成分（ｂ２）｛４０℃での動粘度１０ｍｍ２／ｓの水添ポリブテン（日油株式会社製、商品名 パールリームＥＸ）｝」に変更したこと、「乾式親水性シリカ微粒子（ｐ１）５部」を「乾式親水性シリカ微粒子（ｐ２）｛商品名 Ａｅｒｏｓｉｌ ５０（ＢＥＴ法による比表面積５０ｍ２／ｇ）｝８部」に変更したこと、「疎水化剤（ｍ１）０．１５部」を「疎水化剤（ｍ２）｛メチルトリメトキシシラン（信越化学工業株式会社製、商品名 ＫＢＭ−１３）｝０．４部（乾式親水性シリカ微粒子の重量に対し５重量％）」に変更したこと以外、実施例１と同様にして、本発明の分散安定剤（ｑ２）及び両親媒性粒子（ａ２）を得た。
両親媒性粒子（ａ２）のＭ値は１５、体積平均粒子径は０．１μｍであった。
【０１０８】
＜実施例３＞
「油性成分（ｂ１）」を「油性成分（ｂ３）｛４０℃での動粘度２０ｍｍ２／ｓの流動パラフィン（コスモ石油ルブリカンツ株式会社製、商品名 コスモホワイトＰ１２０）｝」に変更したこと、「乾式親水性シリカ微粒子（ｐ１）５部」を「乾式親水性シリカ微粒子（ｐ３）｛商品名 Ａｅｒｏｓｉｌ ３００（ＢＥＴ法による比表面積３００ｍ２／ｇ）｝１部」に変更したこと、「疎水化剤（ｍ１）０．１５部」を「疎水化剤（ｍ１）０．０１部（乾式親水性シリカ微粒子の重量に対し１重量％）」に変更したこと以外、実施例１と同様にして、本発明の分散安定剤（ｑ３）及び両親媒性粒子（ａ３）を得た。両親媒性粒子（ａ３）のＭ値は５、体積平均粒子径は０．３μｍであった。
【０１０９】
＜実施例４＞
「油性成分（ｂ１）」を「油性成分（ｂ５）｛４０℃での動粘度９ｍｍ２／ｓの流動パラフィン（コスモ石油ルブリカンツ株式会社製、商品名 コスモホワイトＰ６０）｝」に変更したこと、「乾式親水性シリカ微粒子（ｐ１）５部」を「乾式親水性シリカ微粒子（ｐ５）｛商品名 ＨＤＫ Ｔ１２５（ＢＥＴ法による比表面積１２５ｍ２／ｇ）５部」に変更したこと、「疎水化剤（ｍ１）０．１５部」を「疎水化剤（ｍ１）０．１部（乾式親水性シリカ微粒子の重量に対し２重量％）」に変更したこと以外、実施例１と同様にして、本発明の分散安定剤（ｑ４）及び両親媒性粒子（ａ４）を得た。両親媒性粒子（ａ４）のＭ値は７、体積平均粒子径は０．２μｍであった。
【０１１０】
＜実施例５＞
「油性成分（ｂ１）」を「油性成分（ｂ５）｛２５℃での動粘度５０ｍｍ２／ｓのジメチルポリシロキサン（信越化学工業株式会社製、商品名 ＫＦ−９６−５０ｃｓ）｝」に変更したこと、「乾式親水性シリカ微粒子（ｐ１）５部」を「乾式親水性シリカ微粒子（ｐ２）１０部」に変更したこと、「疎水化剤（ｍ１）０．１５部」を「疎水化剤（ｍ３）０．０７部（乾式親水性シリカ微粒子の重量に対し０．７重量％）」に変更したこと以外、実施例１と同様にして、本発明の分散安定剤（ｑ５）及び両親媒性粒子（ａ５）を得た。両親媒性粒子（ａ５）のＭ値は１、体積平均粒子径は０．５μｍであった。
【０１１１】
＜実施例６＞
油性成分（ｂ６）｛４０℃での動粘度５０ｍｍ２／ｓの流動パラフィン（コスモ石油ルブリカンツ株式会社製、商品名 コスモホワイトＰ２６０）｝１００部と乾式親水性シリカ微粒子（ｐ５）｛商品名 Ａｅｒｏｓｉｌ ２００（ＢＥＴ法による比表面積２００ｍ２／ｇ）｝０．５部を加熱装置付きステンレス製混合容器に入れ、直径約４ｃｍののこぎり歯状ディスクインペラーを装着した高速回転遠心放射型撹拌機（プライミクス株式会社製、Ｔ．Ｋ．ホモミクサー）を用いて常圧（およそ１０１ｋＰａ）にて４０００ｒｐｍで６０分間、撹拌・分散して分散工程を行った。続いて撹拌を継続しながら、疎水化剤（ｍ１）０．０５部（乾式親水性シリカ微粒子の重量に対して１０重量％）を添加し、続いて撹拌を６０分間継続した後、撹拌下で１００℃まで加熱し、その温度で撹拌を６０分間維持して疎水化工程を行い、撹拌を継続したまま室温まで冷却することにより、本発明の分散安定剤（ｑ６）を得た。
「分散安定剤（ｑ１）５ｇ」を「分散安定剤（ｑ６）５ｇ」に変更したこと以外、実施例１と同様にして得た両親媒性粒子（ａ６）のＭ値は２０、体積平均粒子径は０．１μｍであった。
【０１１２】
＜実施例７＞
「油性成分（ｂ６）」を「油性成分（ｂ７）｛２５℃での動粘度２ｍｍ２／ｓのジメチルポリシロキサン（信越化学工業株式会社製、商品名 ＫＦ−９６Ｌ−２ｃｓ）｝」に変更したこと、「乾式親水性シリカ微粒子（ｐ５）０．５部」を「乾式親水性シリカ微粒子（ｐ２）１０部」に変更したこと以外、実施例６と同様にして、本発明の分散安定剤（ｑ７）及び両親媒性粒子（ｐ７）を得た。両親媒性粒子（ｐ７）のＭ値は１、体積平均粒子径は１μｍであった
【０１１３】
＜実施例８＞
「油性成分（ｂ６）」を「油性成分（ｂ４）」に変更したこと、「乾式親水性シリカ微粒子（ｐ５）０．５部」を「乾式親水性シリカ微粒子（ｐ５）７部」に変更したこと、「疎水化剤（ｍ１）０．０５部」を「疎水化剤（ｍ１）０．１部（乾式親水性シリカ微粒子の重量に対して１．４重量％）」に変更したこと以外、実施例６と同様にして、本発明の分散安定剤（ｑ８）及び両親媒性粒子（ｐ８）を得た。両親媒性粒子（ｐ８）のＭ値は２０、体積平均粒子径は０．０５μｍであった
【０１１４】
＜比較例１＞
沈降法親水性シリカ粒子（ｐ６）｛沈降法シリカＮｉｐｓｉｌ ＡＹ−２００（ＢＥＴ法による比表面積 ３００ｍ２／ｇ）｝１００部をヒーター付きヘンシェルミキサに入れ、低速撹拌（７５０ｒｐｍ）しながら、疎水化剤（ｍ４）８部を噴霧した。次いでヘンシェルミキサを２０〜２５℃の常温にて高速回転（２０００ｒｐｍ）を１５分間行い、均一に混合した。次いでヒーターでヘンシェルミキサを加熱し、２３０℃にて３時間加熱処理を行ない、疎水化シリカ微粒子（ｈｐ１）を得た。続いて、疎水化シリカ微粒子（ｈｐ１）１５部と油性成分（ｂ２）１００部を櫂型羽型撹拌機（ヤマト科学株式会社製、スリーワンモータＢＬ１２００、以下、同様）にて２５±３℃にて１５分間撹拌して、比較用の分散安定剤（ｈｑ１）を得た。
なお、疎水化シリカ微粒子（ｈｐ１）のＭ値は５０、体積平均粒子径は１１μｍであった。
【０１１５】
＜比較例２＞
疎水化シリカ微粒子（ｈｐ２）｛乾式親水性シリカ微粒子を気相法で疎水化した乾式疎水性シリカ微粒子（日本アエロジル株式会社製、商品名 ＡｅｒｏｓｉｌＲ９７６）｝１０部とエタノール９０部を櫂型羽型撹拌機にて２５±３℃にて１５分間撹拌して、比較用の分散安定剤（ｈｑ２）を得た。
なお、疎水化シリカ微粒子（ｈｐ２）のＭ値は４０、体積平均粒子径は０．３μｍであった。
【０１１６】
＜比較例３＞
「エタノール９０部」を「油性成分（ｂ５）９０部」に変更したこと以外、比較例２と同様にして、比較用の分散安定剤（ｈｑ３）を得た。
【０１１７】
実施例１〜８で得た両親媒性粒子（ａ１〜ａ８）１部をイソプロパノール９９部に超音波分散機（ｈｅｉｌｓｃｈｅｒ社製 ＵＰ４００）を用いて出力７０％にて１分間分散して得た１重量％の分散液０．０２ｇを、イオン交換水５ｍＬとｎ−ヘキサン５ｍＬとの入った試験管に加えて６０分間静置したところ、イオン交換水とｎ−ヘキサンとの界面に両性媒体粒子の均一な集合層が形成され、その上層と下層は両親媒性粒子を含まない清浄な層であった。このことから、粒子表面が親水性表面と疎水性表面とに二分割されていると考えられる。
【０１１８】
比較例１〜３で用いた疎水化シリカ微粒子（ｈｐ１及びｈｐ２）１部をイソプロパノール９９部に超音波分散機を用いて出力７０％にて１分間分散して得た１重量％の分散液０．０２ｇを、イオン交換水５ｍＬとｎ−ヘキサン５ｍＬとの入った試験管に加えて６０分間静置したところ、粒子はｎ−ヘキサン層に分散してｎ−ヘキサン層全体が白濁し、２時間後にはイオン交換水とｎ−ヘキサンとの界面に疎水化無機微粒子の凝集塊が生じた。このことから、粒子表面が親水性表面と疎水性表面とに二分割されていないと考えられる。
【０１１９】
＜＜分散安定性の評価＞＞
実施例１〜８で得た本発明の分散安定剤（ｑ１〜ｑ８）と比較例１〜３で得た比較用の分散安定剤（ｈｑ１〜ｈｑ３）を用いて顔料分散組成物を作成し、顔料の分散安定性の評価を行った。
【０１２０】
＜＜顔料分散組成物の作成＞＞
表１又は表２に記載した各成分を一括で内径４０ｍｍ、容量１７０ｍＬのガラス容器に入れ、のこぎり歯状ディスクインペラーを装着したホモジナイザー（ハイフレックスディスパーサーＨＧ−９２Ｇ タイテック（株）製、以下、同様）にて４０００ｒｐｍにて２５±３℃にて１５分間撹拌して、本発明の分散安定剤を用いた顔料分散組成物（ｃｄ１〜ｃｄ８）及び比較用の分散安定剤を用いた顔料分散組成物（ｈｃｄ１〜ｈｃｄ３）を調製した。
【０１２１】
なお、表１及び表２中の各成分に対応する数値は重量部を表し、「顔料微粒子（ｃ１）」は酸化チタンからなる親水性無機顔料微粒子（堺化学工業株式会社製、商品名 Ｒ−６８０）を、「顔料微粒子（ｃ２）」は、カーボンブラックからなる疎水性無機顔料微粒子（三菱化学株式会社製、ＭＡ−１００）を、「顔料微粒子（ｃ３）」は、アントラキノン系顔料からなる有機顔料微粒子（三菱化学株式会社製、商品名 ダイアレジン ブルーＫ）を、「顔料微粒子（ｃ４）」は、結晶性セルロースからなる高分子微粒子（Ａｌｆａ Ａｅｓａｒ社製、商品名 Ｃｅｌｌｕｌｏｓｅ，Ｍｉｃｒｏｃｒｙｓｔａｌｌｉｎｅ）を、「希釈剤（ｄ１）」は流動イソパラフィン（エクソンモービルケミカル社製、商品名 アイソパーＧ）を、「希釈剤（ｄ２）」は、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ダイセル化学工業株式会社製、商品名 ＭＭＰＧ）を表す。
【０１２２】
＜顔料分散状態の観察＞
上記で得た各顔料分散組成物について、静置１時間後及び静置１２時間後での顔料分散状態（顔料微粒子の凝集の程度）を光学顕微鏡（４００倍）を用いて目視観察した。静置１時間後における顔料分散状態を初期分散性とし、また、静置１２時間後における顔料分散状態を分散安定性とし、それぞれを次の基準で評価し、結果を表１及び２に記載した。
【０１２３】
採点基準
凝集がない ； ◎
凝集がわずかにある ； ○
凝集が非常に多くある ； ×
【０１２４】
【表１】
【０１２５】
【表２】
【０１２６】
本発明の分散安定剤を用いた顔料分散組成物（ｃｄ１〜ｃｄ８）は、比較用の分散安定剤を用いた顔料分散組成物（ｈｃｄ１〜ｈｃｄ３）に比較して、初期分散性及び分散安定性に著しく優れていることを確認できた。
【産業上の利用可能性】
【０１２７】
本発明の分散安定剤は、分散安定性が高く、懸濁・乳化重合用分散安定剤、繊維工業用分散安定剤、インク用分散安定剤、塗料用分散安定剤、プラスチック用分散安定剤、農薬工業用分散安定剤等として利用できる。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
両親媒性粒子（ａ）と油性成分（ｂ）とを含む分散安定剤であって、
両親媒性粒子（ａ）が、親水性表面と疎水性表面とを有し、ＢＥＴ比表面積が５０〜３００ｍ２／ｇの乾式親水性シリカ微粒子を疎水化剤で表面改質して得られ、Ｍ値が１〜２０である両親媒性粒子であることを特徴とする分散安定剤。
【請求項２】
両親媒性粒子（ａ）の体積平均粒子径が０．０５〜１μｍである請求項１に記載の分散安定剤。
【請求項３】
請求項１又は２に記載された分散安定剤を製造する方法であって、
乾式親水性シリカ微粒子を油性成分（ｂ）に分散して親水性シリカ微粒子油性成分分散体を得る分散工程；
親水性シリカ微粒子油性成分分散体中に分散された乾式親水性シリカ微粒子を表面改質して疎水化シリカ微粒子油性成分分散体を得る表面改質工程；及び
疎水化シリカ微粒子油性成分分散体に含まれる疎水化シリカ微粒子を破砕して両親媒性粒子（ａ）を得る破砕工程を含むことを特徴とする製造方法。
【請求項１】
両親媒性粒子（ａ）と油性成分（ｂ）とを含む分散安定剤であって、
両親媒性粒子（ａ）が、親水性表面と疎水性表面とを有し、ＢＥＴ比表面積が５０〜３００ｍ２／ｇの乾式親水性シリカ微粒子を疎水化剤で表面改質して得られ、Ｍ値が１〜２０である両親媒性粒子であることを特徴とする分散安定剤。
【請求項２】
両親媒性粒子（ａ）の体積平均粒子径が０．０５〜１μｍである請求項１に記載の分散安定剤。
【請求項３】
請求項１又は２に記載された分散安定剤を製造する方法であって、
乾式親水性シリカ微粒子を油性成分（ｂ）に分散して親水性シリカ微粒子油性成分分散体を得る分散工程；
親水性シリカ微粒子油性成分分散体中に分散された乾式親水性シリカ微粒子を表面改質して疎水化シリカ微粒子油性成分分散体を得る表面改質工程；及び
疎水化シリカ微粒子油性成分分散体に含まれる疎水化シリカ微粒子を破砕して両親媒性粒子（ａ）を得る破砕工程を含むことを特徴とする製造方法。
【公開番号】特開２０１２−１４０５３０（Ｐ２０１２−１４０５３０Ａ）
【公開日】平成２４年７月２６日（２０１２．７．２６）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−２９３９２０（Ｐ２０１０−２９３９２０）
【出願日】平成２２年１２月２８日（２０１０．１２．２８）
【出願人】（５９２２６２５４３）日本メナード化粧品株式会社 (223)
【出願人】（０００１０６４３８）サンノプコ株式会社 (124)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年７月２６日（２０１２．７．２６）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年１２月２８日（２０１０．１２．２８）
【出願人】（５９２２６２５４３）日本メナード化粧品株式会社 (223)
【出願人】（０００１０６４３８）サンノプコ株式会社 (124)
【Ｆターム（参考）】
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