加熱調理器
【課題】食品の加熱調理に係る効率の向上を図ることができる加熱調理器を提供すること。
【解決手段】加熱調理器１では、ヒータ２９が加熱室２０内を加熱し、スチーム供給ユニット４０が加熱室２０内にスチームを供給することによって、加熱室２０内の食品を加熱調理する。ヒータ２９による加熱室２０内の加熱が開始されてから、加熱室２０内の温度が１００℃以下の所定温度において、制御部７０が、スチーム供給ユニット４０により、加熱室２０内に所定量のスチームを供給する。加熱室２０内の温度が１００℃以下の所定温度にあるときには、加熱室２０内の食品の加熱はあまり進んでおらず、食品とスチームとの温度差が比較的大きい。この場合において加熱室２０内に所定量のスチームを供給することによって、加熱室２０内の食品に対する加熱効果を高めることができる。
【解決手段】加熱調理器１では、ヒータ２９が加熱室２０内を加熱し、スチーム供給ユニット４０が加熱室２０内にスチームを供給することによって、加熱室２０内の食品を加熱調理する。ヒータ２９による加熱室２０内の加熱が開始されてから、加熱室２０内の温度が１００℃以下の所定温度において、制御部７０が、スチーム供給ユニット４０により、加熱室２０内に所定量のスチームを供給する。加熱室２０内の温度が１００℃以下の所定温度にあるときには、加熱室２０内の食品の加熱はあまり進んでおらず、食品とスチームとの温度差が比較的大きい。この場合において加熱室２０内に所定量のスチームを供給することによって、加熱室２０内の食品に対する加熱効果を高めることができる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、加熱調理器に関する。
【背景技術】
【０００２】
加熱調理器として、過熱蒸気によって食品を加熱調理する過熱蒸気調理装置が知られている（特許文献１参照）。
特許文献１に記載の過熱蒸気調理装置は、内部に調理室が形成された本体と、調理室内に過熱蒸気を供給する過熱蒸気発生装置とを備えている。本体の前面部には、ドアが取り付けられていて、ドアを開くことによって、調理室に食品を入出することができる。
【０００３】
調理室に食品を入れてからドアを閉じ、過熱蒸気調理装置の運転を開始すると、過熱蒸気発生装置が、過熱蒸気を発生させて調理室内に供給する。これにより、調理室の食品が加熱調理される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００５−８３７３５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
加熱調理器では、調理時間を短縮するために、食品の加熱調理に係る効率の向上が常に望まれている。
この発明は、かかる背景のもとでなされたもので、食品の加熱調理に係る効率の向上を図ることができる加熱調理器を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
請求項１記載の発明は、被調理食品を収容するための加熱室と、前記加熱室内を加熱するためのヒータと、前記加熱室内にスチームを供給するためのスチーム供給ユニットとを備え、前記ヒータによる前記加熱室内の加熱が開始されてから、前記加熱室内の温度が１００℃以下の所定温度において、前記スチーム供給ユニットにより、前記加熱室内に所定量のスチームを供給するスチーム供給制御手段を含むことを特徴とする、加熱調理器である。
【０００７】
請求項２記載の発明は、前記所定温度は、７０℃を含むことを特徴とする、請求項１記載の加熱調理器である。
請求項３記載の発明は、前記スチーム供給制御手段は、前記加熱室内の温度が１００℃を超えて所定の目標温度に到達するまでの間に、少なくとも１回は、前記スチーム供給ユニットにより、前記加熱室内にスチームを供給することを特徴とする、請求項１または２記載の加熱調理器である。
【０００８】
請求項４記載の発明は、前記加熱室内で空気を循環させるためのファンと、前記スチーム供給ユニットがスチームを供給するのに連動させ、前記ファンを運転させる手段とを含むことを特徴とする、請求項１〜３のいずれかに記載の加熱調理器である。
【発明の効果】
【０００９】
請求項１記載の発明によれば、加熱調理器では、ヒータが加熱室内を加熱し、スチーム供給ユニットが加熱室内にスチームを供給することによって、加熱室内の被調理食品を加熱調理することができる。
そして、ヒータによる加熱室内の加熱が開始されてから、加熱室内の温度が１００℃以下の所定温度において、スチーム供給制御手段が、スチーム供給ユニットにより、加熱室内に所定量のスチームを供給する。加熱室内の温度が１００℃以下の所定温度にあるときには、加熱室内の被調理食品の加熱はあまり進んでおらず、被調理食品とスチームとの温度差が比較的大きい。この場合において加熱室内に所定量のスチームを供給することによって、加熱室内の被調理食品に対する加熱効果を高めることができる。
【００１０】
この結果、食品の加熱調理に係る効率の向上を図ることができる。
ここで、前記所定温度は、請求項２記載の発明によれば、７０℃を含んでいる。
請求項３記載の発明によれば、スチーム供給制御手段は、加熱室内の温度が１００℃を超えて所定の目標温度に到達するまでの間に、少なくとも１回は、スチーム供給ユニットにより、加熱室内にスチームを供給する。これにより、加熱室内の温度が目標温度に到達するまでの間に加熱室内の被調理食品が乾燥してしまうことを防止できる。
【００１１】
つまり、加熱室内の温度が目標温度に到達するまでの間において、加熱室内の被調理食品を最適な状態で加熱調理することができる。
請求項４記載の発明によれば、スチーム供給ユニットがスチームを供給するのに連動して、ファンが運転されて加熱室内で空気を循環させる。つまり、ファンが常に運転されるわけではないので、スチームが加熱室から機外へ不必要に排出されることはない。そのため、加熱室内の被調理食品をスチームによって効率的に加熱調理することができる。また、スチーム供給ユニットがスチームを供給するのに連動してファンが運転されるので、スチームがスチーム供給ユニットに留まることはなく、スチーム供給ユニット自体がスチームによって過熱されることを防止できる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】図１は、この発明の一実施形態に係る加熱調理器１の斜視図であって、開閉扉２１を開いた状態を示している。
【図２】図２は、加熱調理器１の正面図であって、開閉扉２１を取り除いた状態を示している。
【図３】図３は、加熱調理器１の左側断面図であって、開閉扉２１を開いた状態を示している。
【図４】図４は、加熱調理器１の左側断面図であって、開閉扉２１を閉じた状態を示している。
【図５】図５は、加熱調理器１の右側断面図であって、開閉扉２１を閉じた状態を示している。
【図６】図６は、加熱調理器１の平断面図である。
【図７】図７は、加熱調理器１の正断面図である。
【図８】図８は、図７の要部拡大図である。
【図９】図９は、加熱調理器１の右側断面図であって、開閉扉２１を取り除いた状態を示している。
【図１０】図１０は、図９の要部拡大図である。
【図１１】図１１は、スチーム供給ユニット４０の側面図である。
【図１２】図１２は、スチーム供給ユニット４０の正面図である。
【図１３】図１３は、スチーム供給ユニット４０の背面図である。
【図１４】図１４は、スチーム供給ユニット４０の分解斜視図である。
【図１５】図１５は、スチーム供給ユニット４０の内部構造を示す背面図である。
【図１６】図１６は、加熱調理器１における加熱室２０の下部の構造を示す部分拡大断面図である。
【図１７】図１７は、加熱調理器１の背面側における要部の平断面図である。
【図１８】図１８は、加熱調理器１の制御回路ブロック図である。
【図１９】図１９は、加熱調理器１において行われる制御動作の一例を示すフローチャートである。
【図２０Ａ】図２０Ａは、加熱調理器１において行われる加熱調理を説明するための図である。
【図２０Ｂ】図２０Ｂは、加熱調理器１において行われる加熱調理を説明するための図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下には、図面を参照して、この発明の実施形態について具体的に説明する。
図１を参照して、この発明の一実施形態に係る加熱調理器１は、レンジ台やテーブル等の水平な支持面の上に置いて用いられる。
加熱調理器１は、板金を主材料とする直方体形状の筐体１０を備えている。筐体１０の内部には、同じく板金（好ましくはステンレススチールのような錆びにくい板金）により、加熱室２０が設けられている。加熱室２０は、筐体１０の正面に向かって開口している直方体形状である。加熱室２０の正面の開口２０Ａは、左右方向に長手の略矩形状である。開口２０Ａから食品（被調理食品）を投入して、加熱室２０内に収容することができる。加熱室２０は、その内部で食品の加熱調理を行う調理庫を構成している。
【００１４】
筐体１０の正面には、開閉扉２１が設けられており、開閉扉２１は、加熱室２０の正面の開口２０Ａを開閉自在に覆う。開閉扉２１は、加熱室２０へ食品を入出する際に開閉される。
加熱室２０は、正面から見て、筐体１０において左寄りに配置されており、筐体１０の正面において加熱室２０の右隣の領域には、キー入力部１１と表示部１４とが設けられている。キー入力部１１は、各種形状の操作スイッチ１２およびダイヤル１３を含んでいる。操作スイッチ１２およびダイヤル１３は、加熱調理器１における調理条件（目標加熱温度や調理時間）を設定したり、調理を開始したり、調理を中止したりするために操作される。表示部１４は、液晶パネル等によって構成されている。
【００１５】
筐体１０の正面において、キー入力部１１および表示部１４より下の下端部には操作扉１５が設けられている。操作扉１５は、後述するスチーム供給ユニット４０（図３参照）に水を供給する給水タンク（図示せず）を筐体１０に対して着脱するために操作される。
開閉扉２１について詳しく説明すると、開閉扉２１は、加熱室２０の開口２０Ａを覆い得る大きさを有する板状であり、その下端を支点として回動することで開閉可能である。開閉扉２１は、水平に延びて開口２０Ａを前方へ開放する開位置（図１参照）と、垂直に延びて開口２０Ａを前側から塞ぐ閉位置（図４参照）との間で前後に約９０°回動する。開閉扉２１は、開位置にあるときには開いていて、閉位置にあるときには閉じている。
【００１６】
開閉扉２１において、回動中心とは反対側の自由端には、開閉扉２１を開閉する際に把持されるハンドル２２が設けられ、開閉扉２１の中央には、耐熱ガラスをはめ込んだ覗き窓２３が設けられている。開閉扉２１が閉位置にある状態において、覗き窓２３から加熱室２０内を視認することができる。
加熱室２０の左右側壁には、互いに向き合う形のラックガイド２４がプレス成型で形成されている。ラックガイド２４は、ステンレス鋼線からなるワイヤーラック２５を水平に、かつ前後方向にスライド可能に支持する。開閉扉２１の内面にはワイヤーラック２５の前端を引っ掛けるフック２６が形成されている。フック２６は、開閉扉２１を開くときはワイヤーラック２５を加熱室２０から前方へ引き出し、開閉扉２１を閉じるときはワイヤーラック２５を加熱室２０の中に押し込む。
【００１７】
図５を参照して、加熱調理器１は、加熱室２０内に配置されたヒータ２９と、加熱室２０の背面側に配置されたスチーム供給ユニット４０とを含んでいる。加熱室２０における食品の加熱調理は、ヒータ２９およびスチーム供給ユニット４０によって行われる。最初に、ヒータ２９による加熱の仕組みを説明する。
ヒータ２９は、加熱室２０内を加熱するものであり、上ヒータ３０および下ヒータ３１を含んでいる。
【００１８】
ここで、加熱室２０の内部において、ワイヤーラック２５自身、またはその上に載置されるトレイ６３等が、加熱室２０の床面の上で食品を支持する食品支持部２７を構成する。食品支持部２７より上の位置に上ヒータ３０が配置され、食品支持部２７より下の位置に下ヒータ３１が配置されている。
上ヒータ３０は、石英ガラスの管の中に発熱線を入れた棒状のガラス管ヒータにより構成されている。上ヒータ３０は、加熱室２０の天井面の下に、当該天井面からやや距離を置いて水平に配置されている。上ヒータ３０の軸線方向（長手方向）は、加熱室２０の左右方向に沿っている（図７参照）。
【００１９】
下ヒータ３１は、金属管の中に発熱線を入れたシースヒータにより構成されている。下ヒータ３１は、所定の形状に曲げられ、加熱室２０の床面の上、かつ食品支持部２７より下の位置に配置されている。
上ヒータ３０および下ヒータ３１が発生する熱は、輻射だけでなく、対流（コンベクション）によっても食品に伝えられる。そのため、筐体１０と加熱室２０との間においてキー入力部１１（図１参照）の裏側にあたる空間には、図６に示すコンベクションファン３２（ファン）が配置されている。
【００２０】
コンベクションファン３２は、遠心ファン３３と、それを回転させるコンベクションモータ３４とを含んでいる。ここで、加熱室２０の右側壁の外面には、溶接等の手段でファンケーシング３５が固定されている。ファンケーシング３５は、左右に扁平なボックス状である。コンベクションモータ３４は、その出力軸がファンケーシング３５内で水平（左右）に延びた状態で、ファンケーシング３５によって支持されている。遠心ファン３３は、ファンケーシング３５内でコンベクションモータ３４の出力軸に取り付けられている。
【００２１】
図４に示すように、加熱室２０の右側壁には、ファンケーシング３５の内部に連通する小孔が多数打ち抜かれている。小孔は数群の集合を形成している。第１の集合は、吸気口３６を形成し、吸気口３６は、遠心ファン３３の真正面の位置に配置されている（図８参照）。吸気口３６を囲むように小孔の集合が３群配置されている。これらの集合は、いずれも空気吹出口３７であり、開閉扉２１に近い側を前、それと反対の側を後とした場合、２つの空気吹出口３７は、吸気口３６を前後から挟む形で配置され、残りの空気吹出口３７は、吸気口３６の上に配置されている。
【００２２】
上ヒータ３０と吸気口３６とは、上下に並ぶ位置（前後方向で同じ位置）に配置されている。また、吸気口３６と、それを前後から挟む２つの空気吹出口３７とでは、それぞれの下端の小孔が、遠心ファン３３の回転中心とほぼ並ぶ高さに位置している。
加熱室２０の右側壁の小孔の中で、吸気口３６および空気吹出口３７を構成しなかったものは、ファンケーシング３５の内部空間の最下部に連通する貫通孔３８となる。
【００２３】
コンベクションファン３２を駆動したときの空気の流れは後で説明する。上ヒータ３０の発生熱量、または、上ヒータ３０と下ヒータ３１との合計発生熱量は、加熱調理器１をコンベクションオーブンとして機能させるに足る数値に設定されている。
続いてスチーム供給ユニット４０による加熱の仕組みを説明する。ここで、スチーム供給ユニット４０は、加熱室２０の背面側壁の外側、詳しくは、加熱室２０の背面側壁と筐体１０の背面側壁との間に配置されている（図５参照）。スチーム供給ユニット４０は、加熱室２０内に蒸気（スチーム）を供給する。
【００２４】
図１４に示すように、スチーム供給ユニット４０は、背面側が全面的に開口した金属製の正面側ケーシング４１と、正面側ケーシング４１の背面開口を閉ざす金属製の背面側ケーシング４２と、スチームヒータ４３とを含んでいる。正面側ケーシング４１および背面側ケーシング４２は、たとえば、アルミニウムで形成されている。
スチームヒータ４３は、左右に長手の棒状であり、正面側ケーシング４１の下部を左右に貫通している。正面側ケーシング４１の正面上部には、図１２に示すように、２つの蒸気噴出口４４が横一列に並ぶ形で形成されている。スチーム供給ユニット４０は、これらの蒸気噴出口４４を加熱室２０の内部に露出させ、加熱室２０内にスチームを吹き込む（図５参照）。
【００２５】
背面側ケーシング４２には、図１３に示すように、給水口４５と温度検知装置取付部４６とが形成されている。背面視において、給水口４５は、背面側ケーシング４２の右端近くに配置されており、温度検知装置取付部４６は背面側ケーシング４２の左端近くに配置されている。給水口４５には、一端が給水タンク（図示せず）につながった給水パイプ（図示せず）の他端が接続されている。
【００２６】
ここで、図１７を参照して、筐体１０の背面側壁には、横方向に間隔を隔てた複数の位置に膨出部１６を有している。筐体１０の背面側壁は、膨出部１６において後側へ円弧状に膨出している。前述したレンジ台やテーブル等に加熱調理器１が載置された状態で加熱調理器１の背後に室内の壁等が存在する場合、膨出部１６が室内の壁等に接触することによって、筐体１０の背面側壁（膨出部１６以外の部分）と室内の壁等との間に適切な隙間が確保される。これにより、筐体１０の背面側壁が室内の壁等に密着することが防止される。
【００２７】
そして、図１７では、前述した給水パイプに、符号１７が付されている。給水パイプ１７は、たとえばシリコンチューブである。給水パイプ１７は、筐体１０の背面側壁の内側面に沿って延びていて、途中でいずれかの膨出部１６内にはみ出ながら前側へ湾曲して、給水口４５に接続されている。つまり、膨出部１６によって給水パイプ１７を湾曲させるスペースを比較的大きく確保することによって、給水パイプ１７を大きく湾曲させて給水口４５に接続することができる。これにより、給水パイプ１７が小さく折れ曲って腰折れすることで給水パイプ１７における水の流れが悪くなることを防止できる。
【００２８】
特に、加熱調理器１全体の小型化を図る一方で、加熱室２０を極力大きくしようとすると、どうしても、加熱室２０の背面側壁と筐体１０の背面側壁との間におけるスチーム供給ユニット４０を配置するスペースが狭くなってしまう。しかし、そのような場合であっても、膨出部１６内で給水パイプ１７を大きく湾曲させることで、給水パイプ１７における円滑な水の流れを確保している。また、給水パイプ１７を湾曲させることができるから、この給水パイプ１７は、比較的安価な通常の直線状のパイプであってよいので、比較的高価なＬ字状のパイプを給水パイプ１７として使用せずに済む。
【００２９】
正面側ケーシング４１の内面には、図１５に示す通り、蒸気噴出口４４より少し下の位置に、３つのリブ４７が形成されている。リブ４７はいずれもほぼ水平に延びている。３つのリブ４７のうち、２つのリブ４７は、左右に間隔を隔てて配置されていて、残る１つのリブ４７は、２つのリブ４７にまたがる形で、これらの２つのリブ４７から上方に間隔を隔てた位置に配置されている。これら３つのリブ４７は、正面側ケーシング４１の内部空間の底面（内底面４１Ａ）側の液体の水が蒸気噴出口４４に到達するのを邪魔するラビリンス通路４８を構成する。
【００３０】
給水口４５および温度検知装置取付部４６は、下側２つのリブ４７よりも下の位置にある（図１４参照）。正面側ケーシング４１の内底面４１Ａには、背面視で左に向かって下がる緩やかな傾斜がつけられている。
正面側ケーシング４１と背面側ケーシング４２は、合わせ目から水やスチームが漏れないよう、合わせ目にシリコン接着剤を塗布した上で、図示しないねじにより締め付け固定される（図１１および図１４参照）。
【００３１】
図９に示すように、加熱室２０の背面側壁には、正面から見て矩形状であって背面側へ窪む凹部５０が、プレス成型で形成されている。スチーム供給ユニット４０は、加熱室２０の背面側壁における凹部５０の外面に取り付けられており、蒸気噴出口４４は、凹部５０に形成された貫通孔（図示せず）から加熱室２０内に突き出ている。
加熱室２０の背面側壁には、凹部５０の蒸気噴出口４４の前面に前から対向する位置に、反射板５１が設けられている。反射板５１は、横長の金属板であり、蒸気噴出口４４の前に、所定の間隔を隔てて立ち塞がっている。
【００３２】
反射板５１は、図３に示すように、左右方向から見て後側へ窪む扁平な略Ｖ字状の断面を有している。ここで、加熱室２０の背面側壁の凹部５０における前面と、反射板５１との間には、蒸気通路５２が形成されているが、左右方向から見て、蒸気通路５２の前後の幅は、蒸気噴出口４４より上の箇所よりも、蒸気噴出口４４より下の箇所の方において広い。また、反射板５１の上端は、前方に折り曲げられていて、蒸気噴出口４４からのスチームを斜め上方に誘導するようになっている。
【００３３】
凹部５０の内側壁は、奥側（背面側）に向かってテーパ状にすぼんでいる。これにより、凹部５０の上部内側壁は、蒸気噴出口４４からのスチームを上ヒータ３０の方向に誘導する斜面５３となり、凹部５０の下部内側壁は、蒸気噴出口４４からのスチームを下ヒータ３１の方向に誘導する斜面５４となっている。
図９に示すように、加熱室２０の開口２０Ａの周囲にパッキン６０が取り付けられている。パッキン６０は耐熱性を備えたゴムまたは合成樹脂からなり、図１０に示す断面形状を有している。パッキン６０は、一体成型されたピン６１を有している。ピン６１を筐体１０の正面に形成された貫通孔１０Ａに押し込むことによって、パッキン６０は、加熱室２０の開口２０Ａを取り込んだ状態で筐体１０に取り付けられている（図１参照）。パッキン６０は、閉じた状態（前述した閉位置）の開閉扉２１（図４参照）の内面に当たることによって、加熱室２０の開口２０Ａの周囲と開閉扉２１との間の気密性を保つ。パッキン６０は、加熱室２０の内部に向かって開いた断面形状を有していることから、加熱室２０の内圧が高まるにつれ、開閉扉２１により密着するようになっている（図１０参照）。
【００３４】
図３に示すように、加熱室２０の床面の上、かつ、下ヒータ３１の下という位置に、前方から受皿６２が挿入されている。受皿６２は、落下した食品の一部や、食品から滴り落ちる油脂や水分等を受け止める。
調理中や調理後に加熱室２０の側壁が冷えると、加熱室２０内の気体に含まれていた水分が結露する。結露した水滴を受け止めるのも受皿６２の役目である。水滴が受皿６２の外にこぼれないよう、加熱室２０の側壁と受皿６２との間には図１６に示すような工夫が施されている。すなわち、加熱室２０の側壁２８は、それが背面側壁、左側壁、右側壁のいずれであってもよいが、受皿６２の上に位置している。さらに、側壁２８の下の角には、受皿６２に向かって下向きに突き出す鋭角部２８Ａが形成されている。
【００３５】
また、ワイヤーラック２５には、図５に示すトレイ６３が載置される。トレイ６３は、食品支持部２７を構成するものであり、ワイヤーラック２５と共に、開閉扉２１の開閉に連動して前後にスライドする（図３参照）。ワイヤーラック２５の後端には、上方に向かって突き出すストッパ２５Ａが形成されている。ストッパ２５Ａは、トレイ６３を背後から支え、トレイ６３がワイヤーラック２５に対しそれ以上後方へ相対移動しないようにする。
【００３６】
次に、加熱調理器１の動作を説明する。まず、開閉扉２１を開け、ワイヤーラック２５と、その上に載置されたトレイ６３を前方に引き出す（図３参照）。トレイ６３の上に食品を載せ、開閉扉２１を閉じる。開閉扉２１が閉位置に到達すると、それまで後方に移動していたワイヤーラック２５が停止する。
この際、トレイ６３は慣性で後方に移動しようとするが、ストッパ２５Ａがトレイ６３を背後から支えているので、ワイヤーラック２５に対するトレイ６３の後方への相対移動は生じない。これにより、トレイ６３の後端と加熱室２０の背面側壁との間に、スチームを通過させる間隙が確保される。
【００３７】
加熱室２０の中に食品を収納し終わった後、キー入力部１１の操作スイッチ１２やダイヤル１３（図１参照）を操作して、調理に関する様々な設定を行う。設定完了後、キー入力部１１を操作すれば、調理が開始される。
設定した調理内容が「蒸気調理（スチーム調理）」であった場合は、ポンプ（図示せず）が駆動され、給水タンク（図示せず）から給水パイプ１７を介してスチーム供給ユニット４０内に給水が行われるとともに、スチームヒータ４３（図１４参照）に対し通電が行われ、スチームの生成が開始される。この時、スチーム供給ユニット４０内の水の水位は、リブ４７よりも下に設定されている（図１４参照）。
【００３８】
水は、スチーム供給ユニット４０の中で沸騰して飽和蒸気（スチーム）となり、蒸気噴出口４４から噴出する。噴出したスチームは反射板５１に当たり、反射板５１の断面形状により、一部は上方に向かい、残部は下方に向かう（図５の太線矢印参照）。
スチームには、上昇する性質があるので、もしも反射板５１が垂直な平板であったとすると、上方に向かうスチームの方が多くなる。しかしながら、前述したように、反射板５１の断面形状により、蒸気通路５２の前後の幅が、蒸気噴出口４４より上の箇所よりも、蒸気噴出口４４より下の箇所の方で広くなっているので、上方と下方にバランス良くスチームを分配することができる。すなわち反射板５１は、自身の断面形状により、当たったスチームの一部を上ヒータ３０に向かわせ、残部を下ヒータ３１に向かわせるというスチーム分配機能を備えている。
【００３９】
図５の太線矢印を参照して、反射板５１で反射して上方に向かったスチームは、凹部５０の上部の斜面５３に当たり、上ヒータ３０の方向に向きを変える。反射板５１で反射して下方に向かったスチームは、凹部５０の下部の斜面５４に当たり、下ヒータ３１の方向に向きを変える。この時点で上ヒータ３０と下ヒータ３１は、通電により発熱状態にあり、これらのヒータにスチーム（飽和蒸気）が吹き付けられることにより、スチームは過熱蒸気（過熱スチーム）となる。上下で発生した過熱蒸気が、トレイ６３内の食品を包み込むことにより、食品は効率よく加熱される。
【００４０】
前述したように上ヒータ３０の軸線方向が加熱室２０の左右方向に沿っていることから、上ヒータ３０の長手方向は、加熱室２０の背面側壁と平行である（図７参照）。この上ヒータ３０に、加熱室２０の背面側壁に横一列に並んだ蒸気噴出口４４からのスチームが当たるから、上ヒータ３０にスチームがムラなく当たり、スチーム（飽和蒸気）から過熱蒸気への転換が効率良く行われる。
【００４１】
蒸気噴出口４４の前に反射板５１が存在するので、調理中または調理後において、蒸気噴出口４４からスチームが噴出している間に開閉扉２１が開けられても、使用者の方にスチームが噴出されることはない。
また、反射板５１により上方と下方とにスチームを分配するものであるから、安価な構造で、スチームの分配を適切に行うことができる。スチームの分配を弁で行っていたりすると、スケールの堆積で弁の機能に障害が生じることがあるが、反射板５１であれば、スケールが付着してもスチーム分配機能には影響がないから、メンテナンスが長期間不要である。
【００４２】
図１３を参照して、スチーム発生中、スチーム供給ユニット４０には、前述した給水パイプ（図示せず）を介して給水口４５から給水が行われる。この際、温度検知装置取付部４６に取り付けられたスチームサーミスタ７１（図１８参照）がスチーム供給ユニット４０の内部温度を監視する。そして、スチームサーミスタ７１の検知した温度に基づき、スチームヒータ４３のＯＮ／ＯＦＦ制御が行われる。
【００４３】
ここで、冷水が流入する給水口４５と温度検知装置取付部４６とが接近した位置にあると、スチームサーミスタ７１はスチーム供給ユニット４０の中で最も温度の低い部分の温度を測定することになり、スチームヒータ４３のＯＮ時間の割合が多くなる。これにより、給水口４５から離れた箇所の温度が上がりすぎ、正面側ケーシング４１と背面側ケーシング４２の合わせ目に塗布されている前述したシリコン接着剤の耐熱温度を超える場合がある。しかしながら本実施形態では、給水口４５と温度検知装置取付部４６とが横方向に離れた位置にあるので、スチームサーミスタ７１は給水口４５の冷水の影響を受けにくく、スチーム供給ユニット４０を過度にＯＮにすることがない。このため、シリコン接着剤は耐熱温度以下に保たれる。
【００４４】
図１５を参照して、正面側ケーシング４１の内部空間の内底面４１Ａは、背面視で左に向かって下がるように傾斜している。そのため、給水口４５から流入した冷水は、内底面４１Ａの傾斜に沿って背面視で左側に流れ、内底面４１Ａ全体にムラなく行き渡る。このため、スチームヒータ４３の発生する熱が効率良く水に伝わる。
スチーム供給ユニット４０の中の水は沸騰して躍り上がるので、そのままでは蒸気噴出口４４から水滴が噴出する。しかしながら、本実施形態では、スチーム供給ユニット４０の中の水の水面と蒸気噴出口４４の間に、リブ４７によるラビリンス通路４８が設けられているので、スチームは蒸気噴出口４４まで流れるものの、液体の水はリブ４７に邪魔されて蒸気噴出口４４まで到達しない。このため、蒸気噴出口４４から水滴が飛び出して加熱室２０内の食品に付着するといった事態は発生しない。
【００４５】
リブ４７の上面に水が多少飛び上がったとしても、それが速やかに下方の水面に戻るよう、下方のリブ４７には正面側ケーシング４１の中央方向に下がる傾斜がつけられており、上方のリブ４７は、中央が高く両端が低い山形形状になっている。
図５を参照して、蒸気調理に用いられるスチームや、食品から発生する蒸気は、加熱室２０の側壁に付着して冷却されると結露する。結露した水滴は、加熱室２０の底面へ向かってに流れ落ちようとする。水滴には油脂等が含まれていることが多いので、それが加熱室２０の底面に流れることをそのままにしておくと、加熱室２０の内部が不潔になる。しかしながら、前述したように、図１６に示すように、加熱室２０の側壁２８が受皿６２の上に位置しているので、側壁２８を伝って流下する水滴は受皿６２に受け止められ、加熱室２０の底面には流れない。受皿６２は取り出して洗うことができるから、加熱室２０の内部を清潔に保つことができる。
【００４６】
特に、側壁２８の下の角に鋭角部２８Ａを形成しておけば、側壁２８を伝って流下する水滴を確実に受皿６２に落下させることができる。
図４を参照して、結露が生じるのは加熱室２０の内部に限らない。ファンケーシング３５（図６参照）の内部にも生じる。加熱室２０においてファンケーシング３５を固定した右側壁には、ファンケーシング３５の内部空間の最下部に連通する貫通孔３８が形成されているから、ファンケーシング３５に生じた水滴は貫通孔３８を通って加熱室２０の内部に流れ出し、受皿６２に受けられる。そのため、ファンケーシング３５の中に水が溜まることがない。従って、ファンケーシング３５の中に溜まった水がファンケーシング３５と加熱室２０の右側壁との合わせ目から漏れ出して筐体１０内の電装部品を濡らしたり、ファンケーシング３５を腐食させたりすることがない。
【００４７】
開閉扉２１の内面にも結露が生じたり、油が付着したりする。パッキン６０（図１０参照）が開閉扉２１側に設けられていると、開閉扉２１を開閉した時にパッキン６０の襞部分に水や油が垂れ落ち、不潔になる。本実施形態では、開閉扉２１側でなく筐体１０側にパッキン６０を取り付けたので、上記のような不都合を避けることができる。
また、筐体１０を構成する板金部材のうち、加熱室２０の開口２０Ａ周囲を構成する部材と、加熱室２０の内部を構成する部材とは、ビス締めやスポット溶接等の手法で接合されるが、それらの接合痕をパッキン６０で隠すことができる（図９参照）。そのため、念入りな塗装を施したり、飾り部品を取り付けたりするというコスト高な手段で接合痕を隠す必要がなくなる。
【００４８】
そして、蒸気調理が終了すれば、そのことが音声または表示部１４（図１参照）の表示で報知される。これを受けてユーザは、開閉扉２１を開け、調理済みの食品を取り出す。給水タンク（図示せず）の中の水が減っていれば補給し、次回の蒸気調理に備える。
このような蒸気調理では、過熱蒸気によって肉や魚から余分な油脂や塩分を取り除くことができるが、さらには、パン（米粉パン等）をふっくらと加熱することもできる。
【００４９】
一方、設定した調理内容が「熱風調理（オーブン調理）」であった場合は、加熱室２０内にスチームは供給されない。上ヒータ３０および下ヒータ３１に通電した状態で、コンベクションファン３２を運転して、調理が進められる。
コンベクションファン３２を運転すると、吸気口３６から加熱室２０内の空気が吸い込まれる。上ヒータ３０とコンベクションファン３２とは軸線方向が一致し、また、上ヒータ３０は吸気口３６と上下に並ぶ位置に配置されている。これにより、上ヒータ３０で加熱された空気は真っ直ぐ吸気口３６に吸い込まれる。その空気が空気吹出口３７から吹き出されて加熱室２０全体に回るから、上ヒータ３０の直下とそれ以外の箇所との温度差が小さくなり、加熱室２０内における加熱ムラを低減することができる。
【００５０】
吸気口３６を通って遠心ファン３３に吸い込まれた空気は、遠心ファン３３から放射方向に吐出される。その空気（加熱空気）は、図６において太線矢印で示すように、空気吹出口３７から吹き出されて加熱室２０の内部を隅々まで行き渡ってから吸気口３６に戻る。つまり、遠心ファン３３（コンベクションファン３２）は、加熱室２０内で空気を循環させる。
【００５１】
ここで、吸気口３６より前方にある空気吹出口３７（図４参照）から吹き出される空気は、開閉扉２１の覗き窓２３の方に向かい、覗き窓２３を掃くように流れるので、覗き窓２３の結露や曇りを一掃することができる。
図４を参照して、前述したように、吸気口３６を前後から挟む２つの空気吹出口３７では、下端の小孔が遠心ファン３３の回転中心とほぼ並ぶ高さに位置している。すなわち、空気吹出口３７を構成する小孔は、遠心ファン３３の回転中心よりも上側に多く配分されている。これにより、コンベクションファン３２が吐出する空気は、主として加熱室２０の上方に向かって多く吹き出されることになる。熱気は加熱室２０の上部に溜まりやすいが、加熱室２０の上方に向かって吹き出された空気によって加熱室２０の上部の熱気を吹き飛ばし、加熱室２０の下部へ送ることができるので、加熱室２０内の熱気配分を上下方向で均等化することができる。熱風調理の場合のみならず、蒸気調理の際にもコンベクションファン３２を運転することにより、同様の効果が得られる。
【００５２】
熱風調理が終了すれば、そのことが音声または表示部１４（図１参照）の表示で報知される。これを受けてユーザは、開閉扉２１を開け、調理済みの食品を取り出す。
ここで、加熱室２０の背面側壁の左上の隅には、加熱室２０および筐体１９の両方の背面側壁を貫通する排気口１８が形成されており、熱風調理および蒸気調理のそれぞれにおいて、余分な熱風やスチームは、排気口１８から機外に排出される（図２参照）。
【００５３】
図１８を参照して、加熱調理器１には、マイクロコンピュータ等で構成された制御部７０（スチーム供給制御手段）が備えられている。制御部７０は、加熱調理器１の動作を制御する。制御部７０は、計時を行う計時部７０Ａと、必要な情報を記憶するメモリ部７０Ｂとを含んでいる。
制御部７０には、前述したスチーム供給ユニット４０、上ヒータ３０、下ヒータ３１、コンベクションモータ３４、表示部１４、キー入力部１１およびスチームサーミスタ７１と、オーブンサーミスタ７２とが電気的に接続されている。
【００５４】
制御部７０は、スチーム供給ユニット４０のスチームヒータ４３および前述したポンプ（図示せず）を駆動させてスチーム供給ユニット４０をＯＮにして（運転して）、スチームを発生させ、スチーム供給ユニット４０により、スチームを加熱室２０内に供給する。
制御部７０は、上ヒータ３０および下ヒータ３１（ヒータ２９）をＯＮにして、加熱室２０内を加熱する。
【００５５】
制御部７０は、コンベクションモータ３４をＯＮにして遠心ファン３３を回転させる。つまり、制御部７０は、コンベクションモータ３４をＯＮにすることでコンベクションファン３２を運転させ、これにより、加熱室２０内で空気を循環させる。
ここで、制御部７０は、スチーム供給ユニット４０がスチームを加熱室２０内に供給するのに連動させ、コンベクションファン３２を運転させる。具体的には、スチーム供給ユニット４０がスチームを供給している蒸気調理中において、たとえば４０秒間に４秒程度コンベクションファン３２を運転させる。つまり、コンベクションファン３２が常に運転されるわけではないので、スチームが排気口１８（図２参照）を介して加熱室２０から機外へ不必要に排出されることはない。そのため、加熱室２０内の食品をスチームによって効率的に加熱調理することができる。
【００５６】
また、スチーム供給ユニット４０がスチームを供給するのに連動してコンベクションファン３２が運転されるので、スチームがスチーム供給ユニット４０に留まることはなく、スチーム供給ユニット４０自体がスチームによって過熱されることを防止できる。これにより、スチーム供給ユニット４０と加熱室２０内との温度差が大きくなることを防止できる。
【００５７】
オーブンサーミスタ７２は、ファンケーシング３５内に配置されている（図６参照）。ファンケーシング３５内と加熱室２０内とは、加熱室２０の右側壁の小孔（吸気口３６、空気吹出口３７および貫通孔３８）を介して連通しているので、オーブンサーミスタ７２は、当該小孔を介して、調理中に加熱室２０内の温度（雰囲気温度）を検出する。厳密には、オーブンサーミスタ７２は、ファンケーシング３５内の温度を検出していて、加熱室２０内とファンケーシング３５内とでは温度差があり、この温度差は、実験によって予め把握されて、メモリ部７０Ｂに記憶されている。そして、オーブンサーミスタ７２の検出結果（ファンケーシング３５内の温度）に前記温度差を加えた値が、加熱室２０内の実際の温度となる。つまり、オーブンサーミスタ７２は、ファンケーシング３５内の温度を検出することで、加熱室２０内の温度を間接的に検出する。
【００５８】
制御部７０は、オーブンサーミスタ７２の検出結果から、加熱室２０内の温度（庫内温度）を把握する。そして、制御部７０は、オーブンサーミスタ７２の検出温度（つまり、庫内温度）に基づいて、上ヒータ３０および下ヒータ３１やスチーム供給ユニット４０をＯＮ／ＯＦＦすることで、加熱調理のために加熱室２０内の温度を制御する。
次に、図１９を参照して、蒸気調理に関して制御部７０が行う制御動作の一例を説明する。
【００５９】
図１９を参照して、制御部７０は、ユーザによってキー入力部１１（図１参照）が操作されたのに応じて、上ヒータ３０および下ヒータ３１をＯＮにし、加熱室２０の予熱を開始する。ここで、予熱開始に先立って、ユーザによるキー入力部１１（操作スイッチ１２やダイヤル１３）の操作によって、庫内温度の設定温度Ａや調理時間が設定される。設定温度Ａは、食品を加熱する温度の目標値（目標温度）であり、１００℃より高く、ここでは、２００℃とされる。設定温度Ａは、最大２５０℃まで設定できる。調理時間は、調理開始（予熱開始）から調理終了までの時間であり、計時部７０Ａ（図１８参照）によって計時される。なお、庫内温度が設定温度Ａに到達するまでに調理時間が経過すると、制御部７０は、加熱調理器１の運転を停止する。
【００６０】
そして、制御部７０は、予熱を開始したのに応じて、オーブンサーミスタ７２（図１８参照）による庫内温度の検知を開始する（ステップＳ１）。
予熱により、庫内温度は次第に上昇していく。この際、制御部７０は、オーブンサーミスタ７２が所定のスチーム投入温度を検知したか否かを監視している（ステップＳ２）。つまり、制御部７０は、庫内温度がスチーム投入温度に達したか否かを監視している。スチーム投入温度は、１００℃以下の温度であり、この実施形態では、７０℃である。
【００６１】
オーブンサーミスタ７２がスチーム投入温度を検知すると（ステップＳ２でＹＥＳ）、制御部７０は、スチーム供給ユニット４０（図１８参照）を運転させて加熱室２０内に所定量のスチームを投入する（ステップＳ３）。つまり、制御部７０は、上ヒータ３０および下ヒータ３１（ヒータ２９）による加熱室２０内の加熱が開始されてから、庫内温度が１００℃以下の所定温度（スチーム投入温度）において、スチーム供給ユニット４０により、加熱室２０内に所定量のスチームを供給する。庫内温度が１００℃以下のスチーム投入温度である予熱期間には、加熱室２０内の食品の加熱はあまり進んでおらず、食品とスチームとの温度差が比較的大きい。特に、加熱室２０内においてスチームは、上ヒータ３０および下ヒータ３１のいずれかを通ることで、前述した過熱蒸気になることから、食品とスチーム（過熱蒸気）との温度差は一層大きくなる。そのため、加熱室２０内に所定量のスチームを供給することにより、食品とスチームとの温度差が大きくなるほど、大熱量を有するスチームが食品内に浸透することによって、加熱室２０内の食品に対する加熱効果を高めることができる。この結果、食品の加熱調理に係る効率の向上を図ることができる。特に、過熱蒸気は食品内に吸い込まれやすいので、過熱蒸気は食品内に吸い込まれる代わりに、食品内部の油脂や塩分が食品の表面から滲み出て食品から取り除かれる。
【００６２】
その後、制御部７０は、オーブンサーミスタ７２が第１温度Ｂを検知したか否かを監視する（ステップＳ４）。第１温度Ｂは、設定温度Ａより低いものの、１００℃より高く、ここでは、たとえば１４５℃程度とされる。ここでは、制御部７０は、庫内温度がスチーム投入温度から第１温度Ｂまで上昇したか否かを監視している。
オーブンサーミスタ７２が第１温度Ｂを検知すると（ステップＳ４でＹＥＳ）、制御部７０は、スチーム供給ユニット４０を運転させて加熱室２０内に所定量のスチームを投入する（ステップＳ５）。
【００６３】
その後、制御部７０は、オーブンサーミスタ７２が第２温度Ｃを検知したか否かを監視する（ステップＳ６）。第２温度Ｃは、設定温度Ａより低いものの、第１温度Ｂより高く、ここでは、たとえば１７０℃程度とされる。ここでは、制御部７０は、庫内温度が第１温度Ｂから第２温度Ｃまで上昇したか否かを監視している。
オーブンサーミスタ７２が第２温度Ｃを検知すると（ステップＳ６でＹＥＳ）、制御部７０は、スチーム供給ユニット４０を運転して加熱室２０内に所定量のスチームを投入する（ステップＳ７）。
【００６４】
ステップＳ５およびＳ７において、制御部７０は、庫内温度が１００℃を超えて所定の目標温度（設定温度Ａ）に到達するまでの間に、少なくとも１回は、スチーム供給ユニット４０により、加熱室２０内にスチームを供給している。これにより、庫内温度が目標温度に到達するまでの間に加熱室２０内の食品が乾燥してしまうことを防止できる。つまり、庫内温度が目標温度に到達するまでの間において、加熱室２０内の食品を最適な状態で加熱調理することができる。なお、庫内温度が１００℃を超えて目標温度（設定温度Ａ）に到達するまでの間において、スチーム供給ユニット４０により加熱室２０内にスチームを供給する回数は、２回以上の任意の回数であってよい。
【００６５】
その後、制御部７０は、オーブンサーミスタ７２が設定温度Ａを検知したか否かを監視する（ステップＳ８）。つまり、制御部７０は、庫内温度が第２温度Ｃから設定温度Ａまで上昇したか否かを監視する。
オーブンサーミスタ７２が設定温度Ａを検知すると（ステップＳ８でＹＥＳ）、制御部７０は、上ヒータ３０および下ヒータ３１のＯＮ／ＯＦＦとスチームヒータ４３の運転とを制御することによって、庫内温度を設定温度Ａに維持する（ステップＳ９）。
【００６６】
そして、予め定められた調理時間が経過すると、制御部７０は、加熱調理器１の運転を停止して、調理を終了する。
このように、ステップＳ３、Ｓ５およびＳ７において、庫内温度が目標温度に到達するまでの比較的早い段階（食品の温度が低い段階）から、スチームを加熱室２０内の食品に供給している。そのため、庫内温度が目標温度に到達してから初めてスチームを加熱室２０内の食品に供給する場合に比べて、食品の乾燥を抑えた効果的な加熱調理が可能となる。
【００６７】
次に、図２０Ａおよび図２０Ｂを参照して、図１９における制御動作を具体的に説明する。
図２０Ａは、蒸気調理に関して、調理開始から調理終了までの調理時間を、第１ステージ、第２ステージ…というふうに複数のステージに区切り、次のステージへの移行条件を表にして示している。また、図２０Ａでは、各ステージにおいてスチーム供給ユニット４０が運転されるか否かを示している。ここで、加熱調理中において、スチーム供給ユニット４０が運転されている場合には、電力供給の都合等により、上ヒータ３０および下ヒータ３１の一方がＯＦＦになっている。スチーム供給ユニット４０が停止されている場合には、上ヒータ３０および下ヒータ３１の両方がＯＮになっている。
【００６８】
図２０Ｂは、縦軸を加熱室２０内の温度（庫内温度）とし、横軸を時間とするグラフであって、調理開始から調理終了前までの間を示している。なお、説明の便宜上、縦軸および横軸のそれぞれのスケール（目盛間隔）を領域に応じて意図的に変えている。
加熱調理が開始されると、第１ステージとして、スチーム供給ユニット４０が停止された状態で上ヒータ３０および下ヒータ３１がＯＮになり、この状態が、庫内温度が７０℃以上まで上昇するまで、最長で１８０秒間継続される。第１ステージは、前述した制御動作におけるスタートからステップＳ２のＹＥＳの直前までの期間に相当する（図１９参照）。
【００６９】
庫内温度が７０℃まで上昇すると（前述したステップＳ２のＹＥＳ）、第１ステージから第２ステージに移行し、スチーム供給ユニット４０が、最短でも６０秒間の所定時間だけ運転される。これにより、加熱室２０内に所定量のスチームが投入される。第２ステージは、前述したステップＳ３に相当する（図１９参照）。第２ステージでは、上ヒータ３０および下ヒータ３１の一方がＯＦＦになっているので庫内温度はあまり上昇しないが（図２０Ｂ参照）、加熱室２０内の食品の温度は、庫内温度に比べて急激に上昇する。
【００７０】
加熱室２０内に所定量のスチームが投入されると、スチーム供給ユニット４０が停止され、第２ステージから第３ステージに移行して、上ヒータ３０および下ヒータ３１の両方がＯＮになる。第３ステージは、庫内温度が前述した第１温度Ｂ以上まで上昇するまで継続される。ここでは、第１温度Ｂは、設定温度Ａより５５℃低い温度（Ａ−５５℃）である。第３ステージは、前述したステップＳ３の直後からステップＳ４のＹＥＳの直前までの期間に相当する（図１９参照）。
【００７１】
庫内温度が第１温度Ｂ（Ａ−５５℃）まで上昇すると（前述したステップＳ４のＹＥＳ）、第３ステージから第４ステージに移行し、庫内温度が設定温度Ａより４５℃低い温度（Ａ−４５）℃以上まで上昇するまで、スチーム供給ユニット４０が９０秒間運転される。これにより、加熱室２０内に所定量のスチームが投入される。第４ステージは、前述したステップＳ５に相当する（図１９参照）。
【００７２】
庫内温度がＡ−４５℃まで上昇すると、スチーム供給ユニット４０が停止され、第４ステージから第５ステージに移行して、上ヒータ３０および下ヒータ３１の両方がＯＮになる。第５ステージは、庫内温度が前述した第２温度Ｃ以上まで上昇するまで継続される。ここでは、第２温度Ｃは、設定温度Ａより３０℃低い温度（Ａ−３０℃）である。第５ステージは、前述したステップＳ５の直後からステップＳ６のＹＥＳの直前までの期間に相当する（図１９参照）。
【００７３】
庫内温度が第２温度Ｃ（Ａ−３０℃）まで上昇すると（前述したステップＳ６のＹＥＳ）、第５ステージから第６ステージに移行し、庫内温度が設定温度Ａより１５℃低い温度（Ａ−１５℃）以上まで上昇するまで、スチーム供給ユニット４０が最長で３０秒間運転される。これにより、加熱室２０内に所定量のスチームが投入される。第６ステージは、前述したステップＳ７に相当する（図１９参照）。
【００７４】
庫内温度がＡ−１５℃まで上昇すると、スチーム供給ユニット４０が停止され、第６ステージから第７ステージに移行して、上ヒータ３０および下ヒータ３１の両方がＯＮになる。第７ステージは、庫内温度が設定温度Ａより１℃高い温度（Ａ＋１℃）以上まで上昇するまで最長で１５０秒間継続される。
詳しくは、第７ステージにおいて庫内温度が設定温度Ａに到達すると（前述したステップＳ８でＹＥＳ）、第７ステージを含む以降のステージでは、庫内温度を設定温度Ａに維持するような処理（前述したステップＳ９）が行われるとともに、この処理とは別に、スチームを加熱室２０内に投入する処理が行われる。加熱室２０内に投入されたスチームが、過熱蒸気となって、加熱室２０内の食品に対して、減塩等を伴う加熱をおこなう。
【００７５】
具体的には、第７ステージにおいて庫内温度がＡ＋１℃まで上昇すると、第７ステージから第８ステージに移行する。第８ステージでは、スチーム供給ユニット４０が最短で４０秒間運転され、加熱室２０内に所定量のスチームが投入される。この間、前述したように、上ヒータ３０および下ヒータ３１の一方がＯＦＦになっているので、庫内温度が低下する。
【００７６】
そこで、加熱室２０内に所定量のスチームが投入された後に、スチーム供給ユニット４０が停止され、第８ステージから第９ステージに移行する。第９ステージでは、上ヒータ３０および下ヒータ３１の両方がＯＮになるので、庫内温度が上昇する。第９ステージは、庫内温度がＡ＋１℃以上まで上昇するまで、最短で３秒間、最長で２分間継続される。
庫内温度がＡ＋１℃まで上昇すると、第９ステージから第１０ステージに移行する。第１０ステージでは、たとえば、上ヒータ３０および下ヒータ３１の一方または両方がＯＦＦされることで、庫内温度が下がる。第１０ステージは、庫内温度が設定温度Ａより１℃低い温度（Ａ−１℃）を下回るまで、最短で３５秒間、最長で１８０秒間継続され、その間、スチーム供給ユニット４０は、最短で０秒間、最長で３５秒間運転される。
【００７７】
そして、予め設定された調理時間について、まだ残り時間がある場合、第９ステージおよび第１０ステージが、第８ステージから第９ステージに移行したときから最長で３５分間のリピート期間内、交互に繰り返される。
リピート期間経過後も調理時間に残りがある場合において、第１０ステージで庫内温度がＡ−１℃を下回ると、第１０ステージから第１１ステージに移行する。第１１ステージでは、スチーム供給ユニット４０が停止される一方で、上ヒータ３０および下ヒータ３１の両方がＯＮになっており、この状態が、庫内温度がＡ＋１℃以上まで上昇するまで、最短で３秒間、最長で５分間継続される。
【００７８】
庫内温度がＡ＋１℃まで上昇すると、第１１ステージから第１２ステージに移行する。第１２ステージでは、たとえば、上ヒータ３０および下ヒータ３１の一方または両方がＯＦＦされることで、庫内温度が下げられる。第１２ステージは、庫内温度がＡ−１℃を下回るまで、最短で２５秒間、最長で１８０秒間継続され、その間、スチーム供給ユニット４０は、最短で０秒間、最長で５秒間運転される。
【００７９】
そして、第１１ステージおよび第１２ステージが、第１０ステージから第１１ステージに移行したときから運転終了までの間、交互に繰り返される。
以上の結果、第８ステージから第１２ステージでは、庫内温度が、設定温度Ａに対して±２℃の微小範囲内で変動するように維持されている。つまり、庫内温度が、設定温度Ａに維持されている。
【００８０】
なお、運転終了後（調理時間経過後）、ユーザが開閉扉２１を開いて加熱室２０内の食品を見て、食品の焼き加減が甘いと判断すると、食品の加熱調理を延長することができる。その場合、ユーザが、開閉扉２１を閉じてキー入力部１１（図１参照）を所定手順で操作して、加熱調理の延長を選択する。これに応じて、制御部７０は、第１１ステージおよび第１２ステージの処理を、ユーザによって設定された延長時間（最長２０分間）だけ繰り返して、食品を設定温度Ａで再び加熱調理する。
【００８１】
また、熱風調理中において、ユーザがキー入力部１１を所定手順で操作することによって、蒸気調理に切り替えることができる。その場合、制御部７０は、第４ステージから処理を開始する。なお、この場合、庫内温度が既に、各ステージにおける次のステージへの移行条件温度を上回っていれば、途中のステージの処理は省略される。
また、庫内温度が、設定温度Ａより２０℃高い値まで上昇すると、過熱防止のため、制御部７０は、上ヒータ３０および下ヒータ３１を強制的にＯＦＦにし、スチーム供給ユニット４０を強制的に停止する。
【００８２】
この発明は、以上に説明した実施形態に限定されるものではなく、請求項記載の範囲内において種々の変更が可能である。
【符号の説明】
【００８３】
１ 加熱調理器
２０ 加熱室
２９ ヒータ
３２ コンベクションファン
４０ スチーム供給ユニット
７０ 制御部
【技術分野】
【０００１】
この発明は、加熱調理器に関する。
【背景技術】
【０００２】
加熱調理器として、過熱蒸気によって食品を加熱調理する過熱蒸気調理装置が知られている（特許文献１参照）。
特許文献１に記載の過熱蒸気調理装置は、内部に調理室が形成された本体と、調理室内に過熱蒸気を供給する過熱蒸気発生装置とを備えている。本体の前面部には、ドアが取り付けられていて、ドアを開くことによって、調理室に食品を入出することができる。
【０００３】
調理室に食品を入れてからドアを閉じ、過熱蒸気調理装置の運転を開始すると、過熱蒸気発生装置が、過熱蒸気を発生させて調理室内に供給する。これにより、調理室の食品が加熱調理される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００５−８３７３５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
加熱調理器では、調理時間を短縮するために、食品の加熱調理に係る効率の向上が常に望まれている。
この発明は、かかる背景のもとでなされたもので、食品の加熱調理に係る効率の向上を図ることができる加熱調理器を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
請求項１記載の発明は、被調理食品を収容するための加熱室と、前記加熱室内を加熱するためのヒータと、前記加熱室内にスチームを供給するためのスチーム供給ユニットとを備え、前記ヒータによる前記加熱室内の加熱が開始されてから、前記加熱室内の温度が１００℃以下の所定温度において、前記スチーム供給ユニットにより、前記加熱室内に所定量のスチームを供給するスチーム供給制御手段を含むことを特徴とする、加熱調理器である。
【０００７】
請求項２記載の発明は、前記所定温度は、７０℃を含むことを特徴とする、請求項１記載の加熱調理器である。
請求項３記載の発明は、前記スチーム供給制御手段は、前記加熱室内の温度が１００℃を超えて所定の目標温度に到達するまでの間に、少なくとも１回は、前記スチーム供給ユニットにより、前記加熱室内にスチームを供給することを特徴とする、請求項１または２記載の加熱調理器である。
【０００８】
請求項４記載の発明は、前記加熱室内で空気を循環させるためのファンと、前記スチーム供給ユニットがスチームを供給するのに連動させ、前記ファンを運転させる手段とを含むことを特徴とする、請求項１〜３のいずれかに記載の加熱調理器である。
【発明の効果】
【０００９】
請求項１記載の発明によれば、加熱調理器では、ヒータが加熱室内を加熱し、スチーム供給ユニットが加熱室内にスチームを供給することによって、加熱室内の被調理食品を加熱調理することができる。
そして、ヒータによる加熱室内の加熱が開始されてから、加熱室内の温度が１００℃以下の所定温度において、スチーム供給制御手段が、スチーム供給ユニットにより、加熱室内に所定量のスチームを供給する。加熱室内の温度が１００℃以下の所定温度にあるときには、加熱室内の被調理食品の加熱はあまり進んでおらず、被調理食品とスチームとの温度差が比較的大きい。この場合において加熱室内に所定量のスチームを供給することによって、加熱室内の被調理食品に対する加熱効果を高めることができる。
【００１０】
この結果、食品の加熱調理に係る効率の向上を図ることができる。
ここで、前記所定温度は、請求項２記載の発明によれば、７０℃を含んでいる。
請求項３記載の発明によれば、スチーム供給制御手段は、加熱室内の温度が１００℃を超えて所定の目標温度に到達するまでの間に、少なくとも１回は、スチーム供給ユニットにより、加熱室内にスチームを供給する。これにより、加熱室内の温度が目標温度に到達するまでの間に加熱室内の被調理食品が乾燥してしまうことを防止できる。
【００１１】
つまり、加熱室内の温度が目標温度に到達するまでの間において、加熱室内の被調理食品を最適な状態で加熱調理することができる。
請求項４記載の発明によれば、スチーム供給ユニットがスチームを供給するのに連動して、ファンが運転されて加熱室内で空気を循環させる。つまり、ファンが常に運転されるわけではないので、スチームが加熱室から機外へ不必要に排出されることはない。そのため、加熱室内の被調理食品をスチームによって効率的に加熱調理することができる。また、スチーム供給ユニットがスチームを供給するのに連動してファンが運転されるので、スチームがスチーム供給ユニットに留まることはなく、スチーム供給ユニット自体がスチームによって過熱されることを防止できる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】図１は、この発明の一実施形態に係る加熱調理器１の斜視図であって、開閉扉２１を開いた状態を示している。
【図２】図２は、加熱調理器１の正面図であって、開閉扉２１を取り除いた状態を示している。
【図３】図３は、加熱調理器１の左側断面図であって、開閉扉２１を開いた状態を示している。
【図４】図４は、加熱調理器１の左側断面図であって、開閉扉２１を閉じた状態を示している。
【図５】図５は、加熱調理器１の右側断面図であって、開閉扉２１を閉じた状態を示している。
【図６】図６は、加熱調理器１の平断面図である。
【図７】図７は、加熱調理器１の正断面図である。
【図８】図８は、図７の要部拡大図である。
【図９】図９は、加熱調理器１の右側断面図であって、開閉扉２１を取り除いた状態を示している。
【図１０】図１０は、図９の要部拡大図である。
【図１１】図１１は、スチーム供給ユニット４０の側面図である。
【図１２】図１２は、スチーム供給ユニット４０の正面図である。
【図１３】図１３は、スチーム供給ユニット４０の背面図である。
【図１４】図１４は、スチーム供給ユニット４０の分解斜視図である。
【図１５】図１５は、スチーム供給ユニット４０の内部構造を示す背面図である。
【図１６】図１６は、加熱調理器１における加熱室２０の下部の構造を示す部分拡大断面図である。
【図１７】図１７は、加熱調理器１の背面側における要部の平断面図である。
【図１８】図１８は、加熱調理器１の制御回路ブロック図である。
【図１９】図１９は、加熱調理器１において行われる制御動作の一例を示すフローチャートである。
【図２０Ａ】図２０Ａは、加熱調理器１において行われる加熱調理を説明するための図である。
【図２０Ｂ】図２０Ｂは、加熱調理器１において行われる加熱調理を説明するための図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下には、図面を参照して、この発明の実施形態について具体的に説明する。
図１を参照して、この発明の一実施形態に係る加熱調理器１は、レンジ台やテーブル等の水平な支持面の上に置いて用いられる。
加熱調理器１は、板金を主材料とする直方体形状の筐体１０を備えている。筐体１０の内部には、同じく板金（好ましくはステンレススチールのような錆びにくい板金）により、加熱室２０が設けられている。加熱室２０は、筐体１０の正面に向かって開口している直方体形状である。加熱室２０の正面の開口２０Ａは、左右方向に長手の略矩形状である。開口２０Ａから食品（被調理食品）を投入して、加熱室２０内に収容することができる。加熱室２０は、その内部で食品の加熱調理を行う調理庫を構成している。
【００１４】
筐体１０の正面には、開閉扉２１が設けられており、開閉扉２１は、加熱室２０の正面の開口２０Ａを開閉自在に覆う。開閉扉２１は、加熱室２０へ食品を入出する際に開閉される。
加熱室２０は、正面から見て、筐体１０において左寄りに配置されており、筐体１０の正面において加熱室２０の右隣の領域には、キー入力部１１と表示部１４とが設けられている。キー入力部１１は、各種形状の操作スイッチ１２およびダイヤル１３を含んでいる。操作スイッチ１２およびダイヤル１３は、加熱調理器１における調理条件（目標加熱温度や調理時間）を設定したり、調理を開始したり、調理を中止したりするために操作される。表示部１４は、液晶パネル等によって構成されている。
【００１５】
筐体１０の正面において、キー入力部１１および表示部１４より下の下端部には操作扉１５が設けられている。操作扉１５は、後述するスチーム供給ユニット４０（図３参照）に水を供給する給水タンク（図示せず）を筐体１０に対して着脱するために操作される。
開閉扉２１について詳しく説明すると、開閉扉２１は、加熱室２０の開口２０Ａを覆い得る大きさを有する板状であり、その下端を支点として回動することで開閉可能である。開閉扉２１は、水平に延びて開口２０Ａを前方へ開放する開位置（図１参照）と、垂直に延びて開口２０Ａを前側から塞ぐ閉位置（図４参照）との間で前後に約９０°回動する。開閉扉２１は、開位置にあるときには開いていて、閉位置にあるときには閉じている。
【００１６】
開閉扉２１において、回動中心とは反対側の自由端には、開閉扉２１を開閉する際に把持されるハンドル２２が設けられ、開閉扉２１の中央には、耐熱ガラスをはめ込んだ覗き窓２３が設けられている。開閉扉２１が閉位置にある状態において、覗き窓２３から加熱室２０内を視認することができる。
加熱室２０の左右側壁には、互いに向き合う形のラックガイド２４がプレス成型で形成されている。ラックガイド２４は、ステンレス鋼線からなるワイヤーラック２５を水平に、かつ前後方向にスライド可能に支持する。開閉扉２１の内面にはワイヤーラック２５の前端を引っ掛けるフック２６が形成されている。フック２６は、開閉扉２１を開くときはワイヤーラック２５を加熱室２０から前方へ引き出し、開閉扉２１を閉じるときはワイヤーラック２５を加熱室２０の中に押し込む。
【００１７】
図５を参照して、加熱調理器１は、加熱室２０内に配置されたヒータ２９と、加熱室２０の背面側に配置されたスチーム供給ユニット４０とを含んでいる。加熱室２０における食品の加熱調理は、ヒータ２９およびスチーム供給ユニット４０によって行われる。最初に、ヒータ２９による加熱の仕組みを説明する。
ヒータ２９は、加熱室２０内を加熱するものであり、上ヒータ３０および下ヒータ３１を含んでいる。
【００１８】
ここで、加熱室２０の内部において、ワイヤーラック２５自身、またはその上に載置されるトレイ６３等が、加熱室２０の床面の上で食品を支持する食品支持部２７を構成する。食品支持部２７より上の位置に上ヒータ３０が配置され、食品支持部２７より下の位置に下ヒータ３１が配置されている。
上ヒータ３０は、石英ガラスの管の中に発熱線を入れた棒状のガラス管ヒータにより構成されている。上ヒータ３０は、加熱室２０の天井面の下に、当該天井面からやや距離を置いて水平に配置されている。上ヒータ３０の軸線方向（長手方向）は、加熱室２０の左右方向に沿っている（図７参照）。
【００１９】
下ヒータ３１は、金属管の中に発熱線を入れたシースヒータにより構成されている。下ヒータ３１は、所定の形状に曲げられ、加熱室２０の床面の上、かつ食品支持部２７より下の位置に配置されている。
上ヒータ３０および下ヒータ３１が発生する熱は、輻射だけでなく、対流（コンベクション）によっても食品に伝えられる。そのため、筐体１０と加熱室２０との間においてキー入力部１１（図１参照）の裏側にあたる空間には、図６に示すコンベクションファン３２（ファン）が配置されている。
【００２０】
コンベクションファン３２は、遠心ファン３３と、それを回転させるコンベクションモータ３４とを含んでいる。ここで、加熱室２０の右側壁の外面には、溶接等の手段でファンケーシング３５が固定されている。ファンケーシング３５は、左右に扁平なボックス状である。コンベクションモータ３４は、その出力軸がファンケーシング３５内で水平（左右）に延びた状態で、ファンケーシング３５によって支持されている。遠心ファン３３は、ファンケーシング３５内でコンベクションモータ３４の出力軸に取り付けられている。
【００２１】
図４に示すように、加熱室２０の右側壁には、ファンケーシング３５の内部に連通する小孔が多数打ち抜かれている。小孔は数群の集合を形成している。第１の集合は、吸気口３６を形成し、吸気口３６は、遠心ファン３３の真正面の位置に配置されている（図８参照）。吸気口３６を囲むように小孔の集合が３群配置されている。これらの集合は、いずれも空気吹出口３７であり、開閉扉２１に近い側を前、それと反対の側を後とした場合、２つの空気吹出口３７は、吸気口３６を前後から挟む形で配置され、残りの空気吹出口３７は、吸気口３６の上に配置されている。
【００２２】
上ヒータ３０と吸気口３６とは、上下に並ぶ位置（前後方向で同じ位置）に配置されている。また、吸気口３６と、それを前後から挟む２つの空気吹出口３７とでは、それぞれの下端の小孔が、遠心ファン３３の回転中心とほぼ並ぶ高さに位置している。
加熱室２０の右側壁の小孔の中で、吸気口３６および空気吹出口３７を構成しなかったものは、ファンケーシング３５の内部空間の最下部に連通する貫通孔３８となる。
【００２３】
コンベクションファン３２を駆動したときの空気の流れは後で説明する。上ヒータ３０の発生熱量、または、上ヒータ３０と下ヒータ３１との合計発生熱量は、加熱調理器１をコンベクションオーブンとして機能させるに足る数値に設定されている。
続いてスチーム供給ユニット４０による加熱の仕組みを説明する。ここで、スチーム供給ユニット４０は、加熱室２０の背面側壁の外側、詳しくは、加熱室２０の背面側壁と筐体１０の背面側壁との間に配置されている（図５参照）。スチーム供給ユニット４０は、加熱室２０内に蒸気（スチーム）を供給する。
【００２４】
図１４に示すように、スチーム供給ユニット４０は、背面側が全面的に開口した金属製の正面側ケーシング４１と、正面側ケーシング４１の背面開口を閉ざす金属製の背面側ケーシング４２と、スチームヒータ４３とを含んでいる。正面側ケーシング４１および背面側ケーシング４２は、たとえば、アルミニウムで形成されている。
スチームヒータ４３は、左右に長手の棒状であり、正面側ケーシング４１の下部を左右に貫通している。正面側ケーシング４１の正面上部には、図１２に示すように、２つの蒸気噴出口４４が横一列に並ぶ形で形成されている。スチーム供給ユニット４０は、これらの蒸気噴出口４４を加熱室２０の内部に露出させ、加熱室２０内にスチームを吹き込む（図５参照）。
【００２５】
背面側ケーシング４２には、図１３に示すように、給水口４５と温度検知装置取付部４６とが形成されている。背面視において、給水口４５は、背面側ケーシング４２の右端近くに配置されており、温度検知装置取付部４６は背面側ケーシング４２の左端近くに配置されている。給水口４５には、一端が給水タンク（図示せず）につながった給水パイプ（図示せず）の他端が接続されている。
【００２６】
ここで、図１７を参照して、筐体１０の背面側壁には、横方向に間隔を隔てた複数の位置に膨出部１６を有している。筐体１０の背面側壁は、膨出部１６において後側へ円弧状に膨出している。前述したレンジ台やテーブル等に加熱調理器１が載置された状態で加熱調理器１の背後に室内の壁等が存在する場合、膨出部１６が室内の壁等に接触することによって、筐体１０の背面側壁（膨出部１６以外の部分）と室内の壁等との間に適切な隙間が確保される。これにより、筐体１０の背面側壁が室内の壁等に密着することが防止される。
【００２７】
そして、図１７では、前述した給水パイプに、符号１７が付されている。給水パイプ１７は、たとえばシリコンチューブである。給水パイプ１７は、筐体１０の背面側壁の内側面に沿って延びていて、途中でいずれかの膨出部１６内にはみ出ながら前側へ湾曲して、給水口４５に接続されている。つまり、膨出部１６によって給水パイプ１７を湾曲させるスペースを比較的大きく確保することによって、給水パイプ１７を大きく湾曲させて給水口４５に接続することができる。これにより、給水パイプ１７が小さく折れ曲って腰折れすることで給水パイプ１７における水の流れが悪くなることを防止できる。
【００２８】
特に、加熱調理器１全体の小型化を図る一方で、加熱室２０を極力大きくしようとすると、どうしても、加熱室２０の背面側壁と筐体１０の背面側壁との間におけるスチーム供給ユニット４０を配置するスペースが狭くなってしまう。しかし、そのような場合であっても、膨出部１６内で給水パイプ１７を大きく湾曲させることで、給水パイプ１７における円滑な水の流れを確保している。また、給水パイプ１７を湾曲させることができるから、この給水パイプ１７は、比較的安価な通常の直線状のパイプであってよいので、比較的高価なＬ字状のパイプを給水パイプ１７として使用せずに済む。
【００２９】
正面側ケーシング４１の内面には、図１５に示す通り、蒸気噴出口４４より少し下の位置に、３つのリブ４７が形成されている。リブ４７はいずれもほぼ水平に延びている。３つのリブ４７のうち、２つのリブ４７は、左右に間隔を隔てて配置されていて、残る１つのリブ４７は、２つのリブ４７にまたがる形で、これらの２つのリブ４７から上方に間隔を隔てた位置に配置されている。これら３つのリブ４７は、正面側ケーシング４１の内部空間の底面（内底面４１Ａ）側の液体の水が蒸気噴出口４４に到達するのを邪魔するラビリンス通路４８を構成する。
【００３０】
給水口４５および温度検知装置取付部４６は、下側２つのリブ４７よりも下の位置にある（図１４参照）。正面側ケーシング４１の内底面４１Ａには、背面視で左に向かって下がる緩やかな傾斜がつけられている。
正面側ケーシング４１と背面側ケーシング４２は、合わせ目から水やスチームが漏れないよう、合わせ目にシリコン接着剤を塗布した上で、図示しないねじにより締め付け固定される（図１１および図１４参照）。
【００３１】
図９に示すように、加熱室２０の背面側壁には、正面から見て矩形状であって背面側へ窪む凹部５０が、プレス成型で形成されている。スチーム供給ユニット４０は、加熱室２０の背面側壁における凹部５０の外面に取り付けられており、蒸気噴出口４４は、凹部５０に形成された貫通孔（図示せず）から加熱室２０内に突き出ている。
加熱室２０の背面側壁には、凹部５０の蒸気噴出口４４の前面に前から対向する位置に、反射板５１が設けられている。反射板５１は、横長の金属板であり、蒸気噴出口４４の前に、所定の間隔を隔てて立ち塞がっている。
【００３２】
反射板５１は、図３に示すように、左右方向から見て後側へ窪む扁平な略Ｖ字状の断面を有している。ここで、加熱室２０の背面側壁の凹部５０における前面と、反射板５１との間には、蒸気通路５２が形成されているが、左右方向から見て、蒸気通路５２の前後の幅は、蒸気噴出口４４より上の箇所よりも、蒸気噴出口４４より下の箇所の方において広い。また、反射板５１の上端は、前方に折り曲げられていて、蒸気噴出口４４からのスチームを斜め上方に誘導するようになっている。
【００３３】
凹部５０の内側壁は、奥側（背面側）に向かってテーパ状にすぼんでいる。これにより、凹部５０の上部内側壁は、蒸気噴出口４４からのスチームを上ヒータ３０の方向に誘導する斜面５３となり、凹部５０の下部内側壁は、蒸気噴出口４４からのスチームを下ヒータ３１の方向に誘導する斜面５４となっている。
図９に示すように、加熱室２０の開口２０Ａの周囲にパッキン６０が取り付けられている。パッキン６０は耐熱性を備えたゴムまたは合成樹脂からなり、図１０に示す断面形状を有している。パッキン６０は、一体成型されたピン６１を有している。ピン６１を筐体１０の正面に形成された貫通孔１０Ａに押し込むことによって、パッキン６０は、加熱室２０の開口２０Ａを取り込んだ状態で筐体１０に取り付けられている（図１参照）。パッキン６０は、閉じた状態（前述した閉位置）の開閉扉２１（図４参照）の内面に当たることによって、加熱室２０の開口２０Ａの周囲と開閉扉２１との間の気密性を保つ。パッキン６０は、加熱室２０の内部に向かって開いた断面形状を有していることから、加熱室２０の内圧が高まるにつれ、開閉扉２１により密着するようになっている（図１０参照）。
【００３４】
図３に示すように、加熱室２０の床面の上、かつ、下ヒータ３１の下という位置に、前方から受皿６２が挿入されている。受皿６２は、落下した食品の一部や、食品から滴り落ちる油脂や水分等を受け止める。
調理中や調理後に加熱室２０の側壁が冷えると、加熱室２０内の気体に含まれていた水分が結露する。結露した水滴を受け止めるのも受皿６２の役目である。水滴が受皿６２の外にこぼれないよう、加熱室２０の側壁と受皿６２との間には図１６に示すような工夫が施されている。すなわち、加熱室２０の側壁２８は、それが背面側壁、左側壁、右側壁のいずれであってもよいが、受皿６２の上に位置している。さらに、側壁２８の下の角には、受皿６２に向かって下向きに突き出す鋭角部２８Ａが形成されている。
【００３５】
また、ワイヤーラック２５には、図５に示すトレイ６３が載置される。トレイ６３は、食品支持部２７を構成するものであり、ワイヤーラック２５と共に、開閉扉２１の開閉に連動して前後にスライドする（図３参照）。ワイヤーラック２５の後端には、上方に向かって突き出すストッパ２５Ａが形成されている。ストッパ２５Ａは、トレイ６３を背後から支え、トレイ６３がワイヤーラック２５に対しそれ以上後方へ相対移動しないようにする。
【００３６】
次に、加熱調理器１の動作を説明する。まず、開閉扉２１を開け、ワイヤーラック２５と、その上に載置されたトレイ６３を前方に引き出す（図３参照）。トレイ６３の上に食品を載せ、開閉扉２１を閉じる。開閉扉２１が閉位置に到達すると、それまで後方に移動していたワイヤーラック２５が停止する。
この際、トレイ６３は慣性で後方に移動しようとするが、ストッパ２５Ａがトレイ６３を背後から支えているので、ワイヤーラック２５に対するトレイ６３の後方への相対移動は生じない。これにより、トレイ６３の後端と加熱室２０の背面側壁との間に、スチームを通過させる間隙が確保される。
【００３７】
加熱室２０の中に食品を収納し終わった後、キー入力部１１の操作スイッチ１２やダイヤル１３（図１参照）を操作して、調理に関する様々な設定を行う。設定完了後、キー入力部１１を操作すれば、調理が開始される。
設定した調理内容が「蒸気調理（スチーム調理）」であった場合は、ポンプ（図示せず）が駆動され、給水タンク（図示せず）から給水パイプ１７を介してスチーム供給ユニット４０内に給水が行われるとともに、スチームヒータ４３（図１４参照）に対し通電が行われ、スチームの生成が開始される。この時、スチーム供給ユニット４０内の水の水位は、リブ４７よりも下に設定されている（図１４参照）。
【００３８】
水は、スチーム供給ユニット４０の中で沸騰して飽和蒸気（スチーム）となり、蒸気噴出口４４から噴出する。噴出したスチームは反射板５１に当たり、反射板５１の断面形状により、一部は上方に向かい、残部は下方に向かう（図５の太線矢印参照）。
スチームには、上昇する性質があるので、もしも反射板５１が垂直な平板であったとすると、上方に向かうスチームの方が多くなる。しかしながら、前述したように、反射板５１の断面形状により、蒸気通路５２の前後の幅が、蒸気噴出口４４より上の箇所よりも、蒸気噴出口４４より下の箇所の方で広くなっているので、上方と下方にバランス良くスチームを分配することができる。すなわち反射板５１は、自身の断面形状により、当たったスチームの一部を上ヒータ３０に向かわせ、残部を下ヒータ３１に向かわせるというスチーム分配機能を備えている。
【００３９】
図５の太線矢印を参照して、反射板５１で反射して上方に向かったスチームは、凹部５０の上部の斜面５３に当たり、上ヒータ３０の方向に向きを変える。反射板５１で反射して下方に向かったスチームは、凹部５０の下部の斜面５４に当たり、下ヒータ３１の方向に向きを変える。この時点で上ヒータ３０と下ヒータ３１は、通電により発熱状態にあり、これらのヒータにスチーム（飽和蒸気）が吹き付けられることにより、スチームは過熱蒸気（過熱スチーム）となる。上下で発生した過熱蒸気が、トレイ６３内の食品を包み込むことにより、食品は効率よく加熱される。
【００４０】
前述したように上ヒータ３０の軸線方向が加熱室２０の左右方向に沿っていることから、上ヒータ３０の長手方向は、加熱室２０の背面側壁と平行である（図７参照）。この上ヒータ３０に、加熱室２０の背面側壁に横一列に並んだ蒸気噴出口４４からのスチームが当たるから、上ヒータ３０にスチームがムラなく当たり、スチーム（飽和蒸気）から過熱蒸気への転換が効率良く行われる。
【００４１】
蒸気噴出口４４の前に反射板５１が存在するので、調理中または調理後において、蒸気噴出口４４からスチームが噴出している間に開閉扉２１が開けられても、使用者の方にスチームが噴出されることはない。
また、反射板５１により上方と下方とにスチームを分配するものであるから、安価な構造で、スチームの分配を適切に行うことができる。スチームの分配を弁で行っていたりすると、スケールの堆積で弁の機能に障害が生じることがあるが、反射板５１であれば、スケールが付着してもスチーム分配機能には影響がないから、メンテナンスが長期間不要である。
【００４２】
図１３を参照して、スチーム発生中、スチーム供給ユニット４０には、前述した給水パイプ（図示せず）を介して給水口４５から給水が行われる。この際、温度検知装置取付部４６に取り付けられたスチームサーミスタ７１（図１８参照）がスチーム供給ユニット４０の内部温度を監視する。そして、スチームサーミスタ７１の検知した温度に基づき、スチームヒータ４３のＯＮ／ＯＦＦ制御が行われる。
【００４３】
ここで、冷水が流入する給水口４５と温度検知装置取付部４６とが接近した位置にあると、スチームサーミスタ７１はスチーム供給ユニット４０の中で最も温度の低い部分の温度を測定することになり、スチームヒータ４３のＯＮ時間の割合が多くなる。これにより、給水口４５から離れた箇所の温度が上がりすぎ、正面側ケーシング４１と背面側ケーシング４２の合わせ目に塗布されている前述したシリコン接着剤の耐熱温度を超える場合がある。しかしながら本実施形態では、給水口４５と温度検知装置取付部４６とが横方向に離れた位置にあるので、スチームサーミスタ７１は給水口４５の冷水の影響を受けにくく、スチーム供給ユニット４０を過度にＯＮにすることがない。このため、シリコン接着剤は耐熱温度以下に保たれる。
【００４４】
図１５を参照して、正面側ケーシング４１の内部空間の内底面４１Ａは、背面視で左に向かって下がるように傾斜している。そのため、給水口４５から流入した冷水は、内底面４１Ａの傾斜に沿って背面視で左側に流れ、内底面４１Ａ全体にムラなく行き渡る。このため、スチームヒータ４３の発生する熱が効率良く水に伝わる。
スチーム供給ユニット４０の中の水は沸騰して躍り上がるので、そのままでは蒸気噴出口４４から水滴が噴出する。しかしながら、本実施形態では、スチーム供給ユニット４０の中の水の水面と蒸気噴出口４４の間に、リブ４７によるラビリンス通路４８が設けられているので、スチームは蒸気噴出口４４まで流れるものの、液体の水はリブ４７に邪魔されて蒸気噴出口４４まで到達しない。このため、蒸気噴出口４４から水滴が飛び出して加熱室２０内の食品に付着するといった事態は発生しない。
【００４５】
リブ４７の上面に水が多少飛び上がったとしても、それが速やかに下方の水面に戻るよう、下方のリブ４７には正面側ケーシング４１の中央方向に下がる傾斜がつけられており、上方のリブ４７は、中央が高く両端が低い山形形状になっている。
図５を参照して、蒸気調理に用いられるスチームや、食品から発生する蒸気は、加熱室２０の側壁に付着して冷却されると結露する。結露した水滴は、加熱室２０の底面へ向かってに流れ落ちようとする。水滴には油脂等が含まれていることが多いので、それが加熱室２０の底面に流れることをそのままにしておくと、加熱室２０の内部が不潔になる。しかしながら、前述したように、図１６に示すように、加熱室２０の側壁２８が受皿６２の上に位置しているので、側壁２８を伝って流下する水滴は受皿６２に受け止められ、加熱室２０の底面には流れない。受皿６２は取り出して洗うことができるから、加熱室２０の内部を清潔に保つことができる。
【００４６】
特に、側壁２８の下の角に鋭角部２８Ａを形成しておけば、側壁２８を伝って流下する水滴を確実に受皿６２に落下させることができる。
図４を参照して、結露が生じるのは加熱室２０の内部に限らない。ファンケーシング３５（図６参照）の内部にも生じる。加熱室２０においてファンケーシング３５を固定した右側壁には、ファンケーシング３５の内部空間の最下部に連通する貫通孔３８が形成されているから、ファンケーシング３５に生じた水滴は貫通孔３８を通って加熱室２０の内部に流れ出し、受皿６２に受けられる。そのため、ファンケーシング３５の中に水が溜まることがない。従って、ファンケーシング３５の中に溜まった水がファンケーシング３５と加熱室２０の右側壁との合わせ目から漏れ出して筐体１０内の電装部品を濡らしたり、ファンケーシング３５を腐食させたりすることがない。
【００４７】
開閉扉２１の内面にも結露が生じたり、油が付着したりする。パッキン６０（図１０参照）が開閉扉２１側に設けられていると、開閉扉２１を開閉した時にパッキン６０の襞部分に水や油が垂れ落ち、不潔になる。本実施形態では、開閉扉２１側でなく筐体１０側にパッキン６０を取り付けたので、上記のような不都合を避けることができる。
また、筐体１０を構成する板金部材のうち、加熱室２０の開口２０Ａ周囲を構成する部材と、加熱室２０の内部を構成する部材とは、ビス締めやスポット溶接等の手法で接合されるが、それらの接合痕をパッキン６０で隠すことができる（図９参照）。そのため、念入りな塗装を施したり、飾り部品を取り付けたりするというコスト高な手段で接合痕を隠す必要がなくなる。
【００４８】
そして、蒸気調理が終了すれば、そのことが音声または表示部１４（図１参照）の表示で報知される。これを受けてユーザは、開閉扉２１を開け、調理済みの食品を取り出す。給水タンク（図示せず）の中の水が減っていれば補給し、次回の蒸気調理に備える。
このような蒸気調理では、過熱蒸気によって肉や魚から余分な油脂や塩分を取り除くことができるが、さらには、パン（米粉パン等）をふっくらと加熱することもできる。
【００４９】
一方、設定した調理内容が「熱風調理（オーブン調理）」であった場合は、加熱室２０内にスチームは供給されない。上ヒータ３０および下ヒータ３１に通電した状態で、コンベクションファン３２を運転して、調理が進められる。
コンベクションファン３２を運転すると、吸気口３６から加熱室２０内の空気が吸い込まれる。上ヒータ３０とコンベクションファン３２とは軸線方向が一致し、また、上ヒータ３０は吸気口３６と上下に並ぶ位置に配置されている。これにより、上ヒータ３０で加熱された空気は真っ直ぐ吸気口３６に吸い込まれる。その空気が空気吹出口３７から吹き出されて加熱室２０全体に回るから、上ヒータ３０の直下とそれ以外の箇所との温度差が小さくなり、加熱室２０内における加熱ムラを低減することができる。
【００５０】
吸気口３６を通って遠心ファン３３に吸い込まれた空気は、遠心ファン３３から放射方向に吐出される。その空気（加熱空気）は、図６において太線矢印で示すように、空気吹出口３７から吹き出されて加熱室２０の内部を隅々まで行き渡ってから吸気口３６に戻る。つまり、遠心ファン３３（コンベクションファン３２）は、加熱室２０内で空気を循環させる。
【００５１】
ここで、吸気口３６より前方にある空気吹出口３７（図４参照）から吹き出される空気は、開閉扉２１の覗き窓２３の方に向かい、覗き窓２３を掃くように流れるので、覗き窓２３の結露や曇りを一掃することができる。
図４を参照して、前述したように、吸気口３６を前後から挟む２つの空気吹出口３７では、下端の小孔が遠心ファン３３の回転中心とほぼ並ぶ高さに位置している。すなわち、空気吹出口３７を構成する小孔は、遠心ファン３３の回転中心よりも上側に多く配分されている。これにより、コンベクションファン３２が吐出する空気は、主として加熱室２０の上方に向かって多く吹き出されることになる。熱気は加熱室２０の上部に溜まりやすいが、加熱室２０の上方に向かって吹き出された空気によって加熱室２０の上部の熱気を吹き飛ばし、加熱室２０の下部へ送ることができるので、加熱室２０内の熱気配分を上下方向で均等化することができる。熱風調理の場合のみならず、蒸気調理の際にもコンベクションファン３２を運転することにより、同様の効果が得られる。
【００５２】
熱風調理が終了すれば、そのことが音声または表示部１４（図１参照）の表示で報知される。これを受けてユーザは、開閉扉２１を開け、調理済みの食品を取り出す。
ここで、加熱室２０の背面側壁の左上の隅には、加熱室２０および筐体１９の両方の背面側壁を貫通する排気口１８が形成されており、熱風調理および蒸気調理のそれぞれにおいて、余分な熱風やスチームは、排気口１８から機外に排出される（図２参照）。
【００５３】
図１８を参照して、加熱調理器１には、マイクロコンピュータ等で構成された制御部７０（スチーム供給制御手段）が備えられている。制御部７０は、加熱調理器１の動作を制御する。制御部７０は、計時を行う計時部７０Ａと、必要な情報を記憶するメモリ部７０Ｂとを含んでいる。
制御部７０には、前述したスチーム供給ユニット４０、上ヒータ３０、下ヒータ３１、コンベクションモータ３４、表示部１４、キー入力部１１およびスチームサーミスタ７１と、オーブンサーミスタ７２とが電気的に接続されている。
【００５４】
制御部７０は、スチーム供給ユニット４０のスチームヒータ４３および前述したポンプ（図示せず）を駆動させてスチーム供給ユニット４０をＯＮにして（運転して）、スチームを発生させ、スチーム供給ユニット４０により、スチームを加熱室２０内に供給する。
制御部７０は、上ヒータ３０および下ヒータ３１（ヒータ２９）をＯＮにして、加熱室２０内を加熱する。
【００５５】
制御部７０は、コンベクションモータ３４をＯＮにして遠心ファン３３を回転させる。つまり、制御部７０は、コンベクションモータ３４をＯＮにすることでコンベクションファン３２を運転させ、これにより、加熱室２０内で空気を循環させる。
ここで、制御部７０は、スチーム供給ユニット４０がスチームを加熱室２０内に供給するのに連動させ、コンベクションファン３２を運転させる。具体的には、スチーム供給ユニット４０がスチームを供給している蒸気調理中において、たとえば４０秒間に４秒程度コンベクションファン３２を運転させる。つまり、コンベクションファン３２が常に運転されるわけではないので、スチームが排気口１８（図２参照）を介して加熱室２０から機外へ不必要に排出されることはない。そのため、加熱室２０内の食品をスチームによって効率的に加熱調理することができる。
【００５６】
また、スチーム供給ユニット４０がスチームを供給するのに連動してコンベクションファン３２が運転されるので、スチームがスチーム供給ユニット４０に留まることはなく、スチーム供給ユニット４０自体がスチームによって過熱されることを防止できる。これにより、スチーム供給ユニット４０と加熱室２０内との温度差が大きくなることを防止できる。
【００５７】
オーブンサーミスタ７２は、ファンケーシング３５内に配置されている（図６参照）。ファンケーシング３５内と加熱室２０内とは、加熱室２０の右側壁の小孔（吸気口３６、空気吹出口３７および貫通孔３８）を介して連通しているので、オーブンサーミスタ７２は、当該小孔を介して、調理中に加熱室２０内の温度（雰囲気温度）を検出する。厳密には、オーブンサーミスタ７２は、ファンケーシング３５内の温度を検出していて、加熱室２０内とファンケーシング３５内とでは温度差があり、この温度差は、実験によって予め把握されて、メモリ部７０Ｂに記憶されている。そして、オーブンサーミスタ７２の検出結果（ファンケーシング３５内の温度）に前記温度差を加えた値が、加熱室２０内の実際の温度となる。つまり、オーブンサーミスタ７２は、ファンケーシング３５内の温度を検出することで、加熱室２０内の温度を間接的に検出する。
【００５８】
制御部７０は、オーブンサーミスタ７２の検出結果から、加熱室２０内の温度（庫内温度）を把握する。そして、制御部７０は、オーブンサーミスタ７２の検出温度（つまり、庫内温度）に基づいて、上ヒータ３０および下ヒータ３１やスチーム供給ユニット４０をＯＮ／ＯＦＦすることで、加熱調理のために加熱室２０内の温度を制御する。
次に、図１９を参照して、蒸気調理に関して制御部７０が行う制御動作の一例を説明する。
【００５９】
図１９を参照して、制御部７０は、ユーザによってキー入力部１１（図１参照）が操作されたのに応じて、上ヒータ３０および下ヒータ３１をＯＮにし、加熱室２０の予熱を開始する。ここで、予熱開始に先立って、ユーザによるキー入力部１１（操作スイッチ１２やダイヤル１３）の操作によって、庫内温度の設定温度Ａや調理時間が設定される。設定温度Ａは、食品を加熱する温度の目標値（目標温度）であり、１００℃より高く、ここでは、２００℃とされる。設定温度Ａは、最大２５０℃まで設定できる。調理時間は、調理開始（予熱開始）から調理終了までの時間であり、計時部７０Ａ（図１８参照）によって計時される。なお、庫内温度が設定温度Ａに到達するまでに調理時間が経過すると、制御部７０は、加熱調理器１の運転を停止する。
【００６０】
そして、制御部７０は、予熱を開始したのに応じて、オーブンサーミスタ７２（図１８参照）による庫内温度の検知を開始する（ステップＳ１）。
予熱により、庫内温度は次第に上昇していく。この際、制御部７０は、オーブンサーミスタ７２が所定のスチーム投入温度を検知したか否かを監視している（ステップＳ２）。つまり、制御部７０は、庫内温度がスチーム投入温度に達したか否かを監視している。スチーム投入温度は、１００℃以下の温度であり、この実施形態では、７０℃である。
【００６１】
オーブンサーミスタ７２がスチーム投入温度を検知すると（ステップＳ２でＹＥＳ）、制御部７０は、スチーム供給ユニット４０（図１８参照）を運転させて加熱室２０内に所定量のスチームを投入する（ステップＳ３）。つまり、制御部７０は、上ヒータ３０および下ヒータ３１（ヒータ２９）による加熱室２０内の加熱が開始されてから、庫内温度が１００℃以下の所定温度（スチーム投入温度）において、スチーム供給ユニット４０により、加熱室２０内に所定量のスチームを供給する。庫内温度が１００℃以下のスチーム投入温度である予熱期間には、加熱室２０内の食品の加熱はあまり進んでおらず、食品とスチームとの温度差が比較的大きい。特に、加熱室２０内においてスチームは、上ヒータ３０および下ヒータ３１のいずれかを通ることで、前述した過熱蒸気になることから、食品とスチーム（過熱蒸気）との温度差は一層大きくなる。そのため、加熱室２０内に所定量のスチームを供給することにより、食品とスチームとの温度差が大きくなるほど、大熱量を有するスチームが食品内に浸透することによって、加熱室２０内の食品に対する加熱効果を高めることができる。この結果、食品の加熱調理に係る効率の向上を図ることができる。特に、過熱蒸気は食品内に吸い込まれやすいので、過熱蒸気は食品内に吸い込まれる代わりに、食品内部の油脂や塩分が食品の表面から滲み出て食品から取り除かれる。
【００６２】
その後、制御部７０は、オーブンサーミスタ７２が第１温度Ｂを検知したか否かを監視する（ステップＳ４）。第１温度Ｂは、設定温度Ａより低いものの、１００℃より高く、ここでは、たとえば１４５℃程度とされる。ここでは、制御部７０は、庫内温度がスチーム投入温度から第１温度Ｂまで上昇したか否かを監視している。
オーブンサーミスタ７２が第１温度Ｂを検知すると（ステップＳ４でＹＥＳ）、制御部７０は、スチーム供給ユニット４０を運転させて加熱室２０内に所定量のスチームを投入する（ステップＳ５）。
【００６３】
その後、制御部７０は、オーブンサーミスタ７２が第２温度Ｃを検知したか否かを監視する（ステップＳ６）。第２温度Ｃは、設定温度Ａより低いものの、第１温度Ｂより高く、ここでは、たとえば１７０℃程度とされる。ここでは、制御部７０は、庫内温度が第１温度Ｂから第２温度Ｃまで上昇したか否かを監視している。
オーブンサーミスタ７２が第２温度Ｃを検知すると（ステップＳ６でＹＥＳ）、制御部７０は、スチーム供給ユニット４０を運転して加熱室２０内に所定量のスチームを投入する（ステップＳ７）。
【００６４】
ステップＳ５およびＳ７において、制御部７０は、庫内温度が１００℃を超えて所定の目標温度（設定温度Ａ）に到達するまでの間に、少なくとも１回は、スチーム供給ユニット４０により、加熱室２０内にスチームを供給している。これにより、庫内温度が目標温度に到達するまでの間に加熱室２０内の食品が乾燥してしまうことを防止できる。つまり、庫内温度が目標温度に到達するまでの間において、加熱室２０内の食品を最適な状態で加熱調理することができる。なお、庫内温度が１００℃を超えて目標温度（設定温度Ａ）に到達するまでの間において、スチーム供給ユニット４０により加熱室２０内にスチームを供給する回数は、２回以上の任意の回数であってよい。
【００６５】
その後、制御部７０は、オーブンサーミスタ７２が設定温度Ａを検知したか否かを監視する（ステップＳ８）。つまり、制御部７０は、庫内温度が第２温度Ｃから設定温度Ａまで上昇したか否かを監視する。
オーブンサーミスタ７２が設定温度Ａを検知すると（ステップＳ８でＹＥＳ）、制御部７０は、上ヒータ３０および下ヒータ３１のＯＮ／ＯＦＦとスチームヒータ４３の運転とを制御することによって、庫内温度を設定温度Ａに維持する（ステップＳ９）。
【００６６】
そして、予め定められた調理時間が経過すると、制御部７０は、加熱調理器１の運転を停止して、調理を終了する。
このように、ステップＳ３、Ｓ５およびＳ７において、庫内温度が目標温度に到達するまでの比較的早い段階（食品の温度が低い段階）から、スチームを加熱室２０内の食品に供給している。そのため、庫内温度が目標温度に到達してから初めてスチームを加熱室２０内の食品に供給する場合に比べて、食品の乾燥を抑えた効果的な加熱調理が可能となる。
【００６７】
次に、図２０Ａおよび図２０Ｂを参照して、図１９における制御動作を具体的に説明する。
図２０Ａは、蒸気調理に関して、調理開始から調理終了までの調理時間を、第１ステージ、第２ステージ…というふうに複数のステージに区切り、次のステージへの移行条件を表にして示している。また、図２０Ａでは、各ステージにおいてスチーム供給ユニット４０が運転されるか否かを示している。ここで、加熱調理中において、スチーム供給ユニット４０が運転されている場合には、電力供給の都合等により、上ヒータ３０および下ヒータ３１の一方がＯＦＦになっている。スチーム供給ユニット４０が停止されている場合には、上ヒータ３０および下ヒータ３１の両方がＯＮになっている。
【００６８】
図２０Ｂは、縦軸を加熱室２０内の温度（庫内温度）とし、横軸を時間とするグラフであって、調理開始から調理終了前までの間を示している。なお、説明の便宜上、縦軸および横軸のそれぞれのスケール（目盛間隔）を領域に応じて意図的に変えている。
加熱調理が開始されると、第１ステージとして、スチーム供給ユニット４０が停止された状態で上ヒータ３０および下ヒータ３１がＯＮになり、この状態が、庫内温度が７０℃以上まで上昇するまで、最長で１８０秒間継続される。第１ステージは、前述した制御動作におけるスタートからステップＳ２のＹＥＳの直前までの期間に相当する（図１９参照）。
【００６９】
庫内温度が７０℃まで上昇すると（前述したステップＳ２のＹＥＳ）、第１ステージから第２ステージに移行し、スチーム供給ユニット４０が、最短でも６０秒間の所定時間だけ運転される。これにより、加熱室２０内に所定量のスチームが投入される。第２ステージは、前述したステップＳ３に相当する（図１９参照）。第２ステージでは、上ヒータ３０および下ヒータ３１の一方がＯＦＦになっているので庫内温度はあまり上昇しないが（図２０Ｂ参照）、加熱室２０内の食品の温度は、庫内温度に比べて急激に上昇する。
【００７０】
加熱室２０内に所定量のスチームが投入されると、スチーム供給ユニット４０が停止され、第２ステージから第３ステージに移行して、上ヒータ３０および下ヒータ３１の両方がＯＮになる。第３ステージは、庫内温度が前述した第１温度Ｂ以上まで上昇するまで継続される。ここでは、第１温度Ｂは、設定温度Ａより５５℃低い温度（Ａ−５５℃）である。第３ステージは、前述したステップＳ３の直後からステップＳ４のＹＥＳの直前までの期間に相当する（図１９参照）。
【００７１】
庫内温度が第１温度Ｂ（Ａ−５５℃）まで上昇すると（前述したステップＳ４のＹＥＳ）、第３ステージから第４ステージに移行し、庫内温度が設定温度Ａより４５℃低い温度（Ａ−４５）℃以上まで上昇するまで、スチーム供給ユニット４０が９０秒間運転される。これにより、加熱室２０内に所定量のスチームが投入される。第４ステージは、前述したステップＳ５に相当する（図１９参照）。
【００７２】
庫内温度がＡ−４５℃まで上昇すると、スチーム供給ユニット４０が停止され、第４ステージから第５ステージに移行して、上ヒータ３０および下ヒータ３１の両方がＯＮになる。第５ステージは、庫内温度が前述した第２温度Ｃ以上まで上昇するまで継続される。ここでは、第２温度Ｃは、設定温度Ａより３０℃低い温度（Ａ−３０℃）である。第５ステージは、前述したステップＳ５の直後からステップＳ６のＹＥＳの直前までの期間に相当する（図１９参照）。
【００７３】
庫内温度が第２温度Ｃ（Ａ−３０℃）まで上昇すると（前述したステップＳ６のＹＥＳ）、第５ステージから第６ステージに移行し、庫内温度が設定温度Ａより１５℃低い温度（Ａ−１５℃）以上まで上昇するまで、スチーム供給ユニット４０が最長で３０秒間運転される。これにより、加熱室２０内に所定量のスチームが投入される。第６ステージは、前述したステップＳ７に相当する（図１９参照）。
【００７４】
庫内温度がＡ−１５℃まで上昇すると、スチーム供給ユニット４０が停止され、第６ステージから第７ステージに移行して、上ヒータ３０および下ヒータ３１の両方がＯＮになる。第７ステージは、庫内温度が設定温度Ａより１℃高い温度（Ａ＋１℃）以上まで上昇するまで最長で１５０秒間継続される。
詳しくは、第７ステージにおいて庫内温度が設定温度Ａに到達すると（前述したステップＳ８でＹＥＳ）、第７ステージを含む以降のステージでは、庫内温度を設定温度Ａに維持するような処理（前述したステップＳ９）が行われるとともに、この処理とは別に、スチームを加熱室２０内に投入する処理が行われる。加熱室２０内に投入されたスチームが、過熱蒸気となって、加熱室２０内の食品に対して、減塩等を伴う加熱をおこなう。
【００７５】
具体的には、第７ステージにおいて庫内温度がＡ＋１℃まで上昇すると、第７ステージから第８ステージに移行する。第８ステージでは、スチーム供給ユニット４０が最短で４０秒間運転され、加熱室２０内に所定量のスチームが投入される。この間、前述したように、上ヒータ３０および下ヒータ３１の一方がＯＦＦになっているので、庫内温度が低下する。
【００７６】
そこで、加熱室２０内に所定量のスチームが投入された後に、スチーム供給ユニット４０が停止され、第８ステージから第９ステージに移行する。第９ステージでは、上ヒータ３０および下ヒータ３１の両方がＯＮになるので、庫内温度が上昇する。第９ステージは、庫内温度がＡ＋１℃以上まで上昇するまで、最短で３秒間、最長で２分間継続される。
庫内温度がＡ＋１℃まで上昇すると、第９ステージから第１０ステージに移行する。第１０ステージでは、たとえば、上ヒータ３０および下ヒータ３１の一方または両方がＯＦＦされることで、庫内温度が下がる。第１０ステージは、庫内温度が設定温度Ａより１℃低い温度（Ａ−１℃）を下回るまで、最短で３５秒間、最長で１８０秒間継続され、その間、スチーム供給ユニット４０は、最短で０秒間、最長で３５秒間運転される。
【００７７】
そして、予め設定された調理時間について、まだ残り時間がある場合、第９ステージおよび第１０ステージが、第８ステージから第９ステージに移行したときから最長で３５分間のリピート期間内、交互に繰り返される。
リピート期間経過後も調理時間に残りがある場合において、第１０ステージで庫内温度がＡ−１℃を下回ると、第１０ステージから第１１ステージに移行する。第１１ステージでは、スチーム供給ユニット４０が停止される一方で、上ヒータ３０および下ヒータ３１の両方がＯＮになっており、この状態が、庫内温度がＡ＋１℃以上まで上昇するまで、最短で３秒間、最長で５分間継続される。
【００７８】
庫内温度がＡ＋１℃まで上昇すると、第１１ステージから第１２ステージに移行する。第１２ステージでは、たとえば、上ヒータ３０および下ヒータ３１の一方または両方がＯＦＦされることで、庫内温度が下げられる。第１２ステージは、庫内温度がＡ−１℃を下回るまで、最短で２５秒間、最長で１８０秒間継続され、その間、スチーム供給ユニット４０は、最短で０秒間、最長で５秒間運転される。
【００７９】
そして、第１１ステージおよび第１２ステージが、第１０ステージから第１１ステージに移行したときから運転終了までの間、交互に繰り返される。
以上の結果、第８ステージから第１２ステージでは、庫内温度が、設定温度Ａに対して±２℃の微小範囲内で変動するように維持されている。つまり、庫内温度が、設定温度Ａに維持されている。
【００８０】
なお、運転終了後（調理時間経過後）、ユーザが開閉扉２１を開いて加熱室２０内の食品を見て、食品の焼き加減が甘いと判断すると、食品の加熱調理を延長することができる。その場合、ユーザが、開閉扉２１を閉じてキー入力部１１（図１参照）を所定手順で操作して、加熱調理の延長を選択する。これに応じて、制御部７０は、第１１ステージおよび第１２ステージの処理を、ユーザによって設定された延長時間（最長２０分間）だけ繰り返して、食品を設定温度Ａで再び加熱調理する。
【００８１】
また、熱風調理中において、ユーザがキー入力部１１を所定手順で操作することによって、蒸気調理に切り替えることができる。その場合、制御部７０は、第４ステージから処理を開始する。なお、この場合、庫内温度が既に、各ステージにおける次のステージへの移行条件温度を上回っていれば、途中のステージの処理は省略される。
また、庫内温度が、設定温度Ａより２０℃高い値まで上昇すると、過熱防止のため、制御部７０は、上ヒータ３０および下ヒータ３１を強制的にＯＦＦにし、スチーム供給ユニット４０を強制的に停止する。
【００８２】
この発明は、以上に説明した実施形態に限定されるものではなく、請求項記載の範囲内において種々の変更が可能である。
【符号の説明】
【００８３】
１ 加熱調理器
２０ 加熱室
２９ ヒータ
３２ コンベクションファン
４０ スチーム供給ユニット
７０ 制御部
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被調理食品を収容するための加熱室と、
前記加熱室内を加熱するためのヒータと、
前記加熱室内にスチームを供給するためのスチーム供給ユニットとを備え、
前記ヒータによる前記加熱室内の加熱が開始されてから、前記加熱室内の温度が１００℃以下の所定温度において、前記スチーム供給ユニットにより、前記加熱室内に所定量のスチームを供給するスチーム供給制御手段を含むことを特徴とする、加熱調理器。
【請求項２】
前記所定温度は、７０℃を含むことを特徴とする、請求項１記載の加熱調理器。
【請求項３】
前記スチーム供給制御手段は、前記加熱室内の温度が１００℃を超えて所定の目標温度に到達するまでの間に、少なくとも１回は、前記スチーム供給ユニットにより、前記加熱室内にスチームを供給することを特徴とする、請求項１または２記載の加熱調理器。
【請求項４】
前記加熱室内で空気を循環させるためのファンと、
前記スチーム供給ユニットがスチームを供給するのに連動させ、前記ファンを運転させる手段とを含むことを特徴とする、請求項１〜３のいずれかに記載の加熱調理器。
【請求項１】
被調理食品を収容するための加熱室と、
前記加熱室内を加熱するためのヒータと、
前記加熱室内にスチームを供給するためのスチーム供給ユニットとを備え、
前記ヒータによる前記加熱室内の加熱が開始されてから、前記加熱室内の温度が１００℃以下の所定温度において、前記スチーム供給ユニットにより、前記加熱室内に所定量のスチームを供給するスチーム供給制御手段を含むことを特徴とする、加熱調理器。
【請求項２】
前記所定温度は、７０℃を含むことを特徴とする、請求項１記載の加熱調理器。
【請求項３】
前記スチーム供給制御手段は、前記加熱室内の温度が１００℃を超えて所定の目標温度に到達するまでの間に、少なくとも１回は、前記スチーム供給ユニットにより、前記加熱室内にスチームを供給することを特徴とする、請求項１または２記載の加熱調理器。
【請求項４】
前記加熱室内で空気を循環させるためのファンと、
前記スチーム供給ユニットがスチームを供給するのに連動させ、前記ファンを運転させる手段とを含むことを特徴とする、請求項１〜３のいずれかに記載の加熱調理器。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０Ａ】
【図２０Ｂ】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０Ａ】
【図２０Ｂ】
【公開番号】特開２０１２−８２９９７（Ｐ２０１２−８２９９７Ａ）
【公開日】平成２４年４月２６日（２０１２．４．２６）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−２２７８４０（Ｐ２０１０−２２７８４０）
【出願日】平成２２年１０月７日（２０１０．１０．７）
【出願人】（０００００１８８９）三洋電機株式会社 (18,308)
【出願人】（０００２１４８９２）三洋電機コンシューマエレクトロニクス株式会社 (1,582)
【公開日】平成２４年４月２６日（２０１２．４．２６）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年１０月７日（２０１０．１０．７）
【出願人】（０００００１８８９）三洋電機株式会社 (18,308)
【出願人】（０００２１４８９２）三洋電機コンシューマエレクトロニクス株式会社 (1,582)
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