印刷方法、発光層形成方法、有機発光デバイス形成方法および有機発光デバイス
【課題】基材上にインキを均一な厚みで印刷することができる印刷方法を提供する。
【解決手段】印刷機１０は、フレーム５と、フレーム５上に固定され、その上面に複数のセル２を有する平板状のアニロックス版１と、アニロックス版１の上面にインキ３０を供給するインキ供給部７と、フレーム５上に固定され、平板状の基材５２を載置する基材定盤６と、フレーム５上を走行可能となるようフレーム５に設けられた版胴２４と、を備えている。版胴２４は、アニロックス版１の上面に当接してインキ３０を受けるとともに基材５２上に当該インキ３０を転移させる弾性材料からなるフレキソ版２３を有している。ここで、インキ３０のせん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）は５１〜２００ｃＰの範囲内となっている。また、版胴２４は、フレーム５に対する版胴２４の回転速度が２０ｒｐｍ以上となるよう制御部９により制御される。
【解決手段】印刷機１０は、フレーム５と、フレーム５上に固定され、その上面に複数のセル２を有する平板状のアニロックス版１と、アニロックス版１の上面にインキ３０を供給するインキ供給部７と、フレーム５上に固定され、平板状の基材５２を載置する基材定盤６と、フレーム５上を走行可能となるようフレーム５に設けられた版胴２４と、を備えている。版胴２４は、アニロックス版１の上面に当接してインキ３０を受けるとともに基材５２上に当該インキ３０を転移させる弾性材料からなるフレキソ版２３を有している。ここで、インキ３０のせん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）は５１〜２００ｃＰの範囲内となっている。また、版胴２４は、フレーム５に対する版胴２４の回転速度が２０ｒｐｍ以上となるよう制御部９により制御される。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、枚様式の印刷機を用いてフレキソ印刷を行う印刷方法に関する。また本発明は、当該印刷方法を用いて有機発光デバイスの発光素子層における発光層を形成する方法に関する。また本発明は、前記印刷方法を用いて発光層を形成する工程を含む有機発光デバイスの形成方法、および有機発光デバイスに関する。
【背景技術】
【０００２】
０．０１〜１μｍ程度の薄い層を高精度で枚様式に印刷する方法として、弾性材料からなる凸版（フレキソ版）を有する版胴を用いたフレキソ印刷が知られている。フレキソ印刷においては、ゴムまたは樹脂などの弾性材料からなる柔軟なフレキソ版が用いられるとともに、グラビア印刷およびグラビアオフセット印刷などと比べて低い印圧で印刷が行われる。このためフレキソ印刷は、圧力に対する耐性が低い層の上に、新たな微細な層を精度良く印刷する用途に適している。
【０００３】
例えば引用文献１において、基材を載置する基材定盤と、基材定盤上に配置され、フレキソ版を有する回転式の版胴と、版胴に臨むように配置されたアニロックスロールとを備えた有機ＥＬパネル製造用印刷機が提案されている。引用文献１においては、上記の有機ＥＬパネル製造用印刷機によって、圧力に対する耐性が低い画素電極の上に有機発光層用インキが印刷され、これによって有機発光層が形成される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００９−５９４９６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上述のように、フレキソ版は、ゴムまたは樹脂などの柔軟な弾性材料から形成されている。このため、インキが基材上に転移されるようフレキソ版を基材に押し付ける際、フレキソ版が内方に向って弾性的に変形させられる。このとき、内方に向って弾性的に変形させられているフレキソ版には、外方（基材の方）に向う弾性的な反発力が生じている。この場合、当該弾性的な反発力に起因してフレキソ版が基材に対してバウンドすることが考えられる。このようなバウンドが生じると、バウンドの際の振動に起因して、基材上に印刷されるインキの厚みにばらつきが生じてしまう。
【０００６】
本発明は、このような点を考慮してなされたものであり、基材上にインキを均一な厚みで印刷することができる印刷方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、枚様式の印刷機を用いてフレキソ印刷を行う方法において、フレーム上に固定された基材定盤上に基材を載置する工程と、前記フレーム上に固定され、その上面に複数のセルを有する平板状のアニロックス版にインキを供給する工程と、前記アニロックス版上で版胴を走行させることにより、版胴のフレキソ版がアニロックス版のセルからインキを受ける工程と、前記基材定盤上の基材上で前記版胴を走行させることにより、版胴のフレキソ版から基材上にインキを転移させる工程と、を備え、前記インキのせん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）が５１〜２００ｃＰの範囲内であり、前記版胴のフレキソ版が弾性材料からなり、前記基材上で前記版胴を走行させる際、前記版胴の回転速度が２０ｒｐｍ以上であることを特徴とする印刷方法である。
【０００８】
本発明の印刷方法において、好ましくは、前記インキは、溶媒と、溶媒中に溶解された固形分からなり、前記溶媒は、その表面張力が３７ｄｙｎｅ／ｃｍ以下であり、かつその沸点が１６５〜２６５℃の範囲内である。
【０００９】
本発明の印刷方法において、好ましくは、前記インキにおける固形分の含有量が１．５〜４．０重量％の範囲内である。
【００１０】
本発明の印刷方法において、前記アニロックス版は、アニロックス版の上面に格子状に配置され、インキ供給部からのインキが充填される複数のセルを有していてもよい。この場合、好ましくは、アニロックス版におけるセルの線数が１００〜３００線／ｉｎｃｈの範囲内であり、かつアニロックス版の成膜部位に占める総セル面積が５５〜９５％の範囲内であり、各セルの深さが１５〜１００μｍの範囲内である。
【００１１】
本発明の印刷方法において、前記アニロックス版は、アニロックス版の上面にストライプ状に配置され、インキ供給部からのインキが充填される複数のセルを有していてもよい。この場合、好ましくは、アニロックス版におけるセルの線数が１００〜３００線／ｉｎｃｈの範囲内であり、かつアニロックス版の成膜部位に占める総セル面積が５５〜９５％の範囲内であり、各セルの深さが１５〜１００μｍの範囲内であり、各セルにおける印刷方向の最大幅ｂと印刷方向に直交する方向での最大幅ａの比ｂ／ａが０．６以上である。
【００１２】
本発明の印刷方法において、前記版胴のフレキソ版が、水現像可能な樹脂材料からなっていてもよい。
【００１３】
本発明の印刷方法において、前記版胴のフレキソ版が、レーザ彫刻可能な樹脂材料からなっていてもよい。
【００１４】
本発明の印刷方法において、前記版胴は、金属ロールと、金属ロールの外周上に粘着材により固定されたフレキソ版とからなっていてもよい。
【００１５】
本発明の印刷方法において、前記版胴は、金属ロールと、金属ロールを取り囲む円筒状のプラスチックスリーブと、プラスチックスリーブの外周上に設けられたフレキソ版とからなっていてもよい。この場合、前記プラスチックスリーブは、前記金属ロール内に配置されたエアークランプ機構によって金属ロール上に固定されていてもよい。または、前記プラスチックスリーブは、前記金属ロール内に配置された吸着機構によって金属ロール上に固定されていてもよい。
【００１６】
本発明は、対向する電極と、当該電極間に配設され少なくとも発光層を有する発光素子層と、を備えた有機発光デバイスの当該発光層を上記記載の印刷方法を用いて形成する方法において、少なくとも有機発光材料を含有するインキを前記アニロックス版のセルに充填させる工程と、当該セルから前記版胴のフレキソ版に前記インキを受けさせる工程と、前記版胴上の前記インキを基材上に転移させる工程と、を備え、前記インキのせん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）が５１〜２００ｃＰの範囲内であり、前記基材上で前記版胴を走行させる際、前記版胴の回転速度が２０ｒｐｍ以上であることを特徴とする発光層形成方法である。
【００１７】
本発明は、対向する電極と、当該電極間に配設され少なくとも発光層を有する発光素子層と、を含む有機発光デバイスを形成する方法において、基材を準備する工程と、前記基材上に、所望のパターンを有する第１電極層を形成する工程と、前記基材上に、前記第１電極層の所望の部位を上方に露出させる複数の開口部を有する絶縁層を形成する工程と、前記開口部内および前記絶縁層上に、正孔注入層を形成する工程と、前記開口部内の前記正孔注入層上に、発光層を形成する工程と、前記発光層のうち所望の開口部内に位置する発光層に接続されるよう、第２電極層を形成する工程と、を備え、前記正孔注入層は、グラビア印刷法またはグラビアオフセット印刷法により、前記複数の開口部を全て覆うよう形成され、前記発光層は、上記記載の発光層形成方法により形成されることを特徴とする有機発光デバイスの形成方法である。
【００１８】
本発明の有機発光デバイス形成方法は、前記正孔注入層と前記発光層との間に正孔輸送層を形成する工程をさらに備えていてもよい。この場合、前記正孔輸送層は、グラビア印刷法またはグラビアオフセット印刷法により、前記複数の開口部を全て覆うよう形成される。
【００１９】
本発明は、基材と、当該基材上に所望のパターンで形成された第１電極層と、前記基材上に形成され、前記第１電極層の所望の部位を上方に露出させる複数の開口部を有する絶縁層と、各開口部内の第１電極層を被覆するよう各開口部内に形成され、少なくとも発光層と正孔注入層とを有する発光素子層と、前記発光素子層のうち所望の開口部内に位置する発光素子層に接続されるよう形成された第２電極層と、を備え、前記発光素子層の発光層は、上記記載の発光層形成方法により形成されることを特徴とする有機発光デバイスである。
【００２０】
本発明の有機発光デバイスにおいて、前記基材が透明基材からなり、前記第１電極層が透明電極層からなっていてもよい。
【００２１】
本発明の有機発光デバイスにおいて、好ましくは、前記発光素子層を構成する前記発光層の厚みが７０ｎｍ以上である。
【００２２】
本発明の有機発光デバイスにおいて、前記発光素子層は、前記絶縁部の開口部内に形成された正孔注入層、発光層および電子注入層を有していてもよい。この場合、正孔注入層、発光層および電子注入層は、正孔注入層／発光層／電子注入層の順に積層されている。
【００２３】
本発明の有機発光デバイスにおいて、前記発光素子層は、前記絶縁部の開口部内に形成された正孔注入層、正孔輸送層、発光層および電子注入層を有していてもよい。この場合、正孔注入層、正孔輸送層、発光層および電子注入層は、正孔注入層／正孔輸送層／発光層／電子注入層の順に積層されている。
【００２４】
本発明の有機発光デバイスは、パッシブマトリックス型の有機発光デバイスであってもよい。
【００２５】
本発明の有機発光デバイスは、アクティブマトリックス型の有機発光デバイスであってもよい。
【００２６】
本発明の有機発光デバイスは、最大開口幅が１０ｍｍ以上の前記開口部を前記絶縁層に備えた有機発光ポスターであってもよい。
【００２７】
本発明の有機発光デバイスは、カラーフィルタ層を備えていてもよい。また本発明の有機発光デバイスは、当該カラーフィルタ層と前記第１電極層との間に色変換蛍光体層を備えていてもよい。
【００２８】
本発明の有機発光デバイスにおいて、前記発光素子層は、白色を含む所望の色の発光であるか、あるいは所望の複数の色の発光が所定のパターンで組み合わされたものであってもよい。
【００２９】
本発明の有機発光デバイスにおいて、前記発光素子層は、青色発光であり、前記色変換蛍光体層は青色光を緑色蛍光に変換して発光する緑色変換層と、青色光を赤色蛍光に変換して発光する赤色変換層とを備えていてもよい。
【００３０】
本発明の有機発光デバイスは、前記正孔注入層用の塗膜を形成した後１分以内に前記発光層用の塗膜を形成し、これら２層を１００〜２００℃の範囲で同時に一括乾燥して形成した正孔注入層と発光層とを備えていてもよい。
【発明の効果】
【００３１】
本発明によれば、枚様式の印刷機を用いてフレキソ印刷を行う印刷方法は、フレーム上に固定された基材定盤上に基材を載置する工程と、フレーム上に固定され、その上面に複数のセルを有する平板状のアニロックス版にインキを供給する工程と、アニロックス版上で版胴を走行させることにより、版胴のフレキソ版がアニロックス版のセルからインキを受ける工程と、基材定盤上の基材上で版胴を走行させることにより、版胴のフレキソ版から基材上にインキを転移させる工程と、を備えている。また、インキのせん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）が５１〜２００ｃＰの範囲内となっており、また、版胴のフレキソ版が弾性材料からなっている。このような印刷方法において、基材上で版胴を走行させる際、版胴の１分間あたりの回転速度が２０ｒｐｍ以上となっている。このように版胴の回転速度を２０ｒｐｍ以上とすることにより、フレキソ版の一部に、外方に向う弾性的な反発力が生じている場合であっても、当該フレキソ版の一部が基材に対してバウンドするよりも前に、当該フレキソ版の一部を基材から遠ざけることができる。このことにより、フレキソ版のバウンドに起因して基材上に印刷されるインキの厚みがばらつくのを防ぐことができる。
【００３２】
本発明によれば、上述の印刷方法を用いて有機発光デバイスの発光層を形成する方法は、少なくとも有機発光材料を含有する発光層用のインキをアニロックス版のセルに充填させる工程と、当該セルから版胴のフレキソ版に発光層用のインキを受けさせる工程と、版胴上の発光層用のインキを基材上に転移させる工程と、を備えている。また、発光層用のインキのせん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）が５１〜２００ｃＰの範囲内となっている。また、基材上で版胴を走行させる際、版胴の１分間あたりの回転速度が２０ｒｐｍ以上となっている。このように版胴の回転速度を２０ｒｐｍ以上とすることにより、フレキソ版の一部に、外方に向う弾性的な反発力が生じている場合であっても、当該フレキソ版の一部が基材に対してバウンドするよりも前に、当該フレキソ版の一部を基材から遠ざけることができる。このことにより、フレキソ版のバウンドに起因して基材上に印刷される発光層用のインキの厚みがばらつくのを防ぐことができる。
【００３３】
本発明によれば、有機発光デバイスを形成する方法は、基材を準備する工程と、基材上に、所望のパターンを有する第１電極層を形成する工程と、基材上に、第１電極層の所望の部位を上方に露出させる複数の開口部を有する絶縁層を形成する工程と、開口部内および絶縁層上に、正孔注入層を形成する工程と、開口部内の正孔注入層上に、発光層を形成する工程と、発光層のうち所望の開口部内に位置する発光層に接続されるよう、第２電極層を形成する工程と、を備えている。このうち正孔注入層は、グラビア印刷法またはグラビアオフセット印刷法により、複数の開口部を全て覆うよう形成され、一方、発光層は、上述の発光層形成方法により形成される。このため、厚みの均一な発光層を有する有機発光デバイス基材を提供することができる。
【００３４】
本発明によれば、有機発光デバイスは、基材と、当該基材上に所望のパターンで形成された第１電極層と、基材上に形成され、第１電極層の所望の部位を上方に露出させる複数の開口部を有する絶縁層と、各開口部内の第１電極層を被覆するよう各開口部内に形成され、少なくとも発光層と正孔注入層とを有する発光素子層と、発光素子層のうち所望の開口部内に位置する発光素子層に接続されるよう形成された第２電極層と、を備えている。このうち、発光層は、上述の発光層形成方法により形成される。このため、厚みの均一な発光層を有する有機発光デバイス基材を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３５】
【図１】図１は、本発明の実施の形態における印刷機を示す側面図。
【図２】図２は、本発明の実施の形態におけるアニロックス版を示す平面図。
【図３】図３（ａ）（ｂ）（ｃ）は、本発明の実施の形態において、アニロックス版のセルの印刷方向における幅ｂと、これに直交する方向における幅ａの比ｂ／ａを示す平面図。
【図４】図４（ａ）は、本発明の実施の形態における版胴を示す側面図、図４（ｂ）は、図４（ａ）の版胴を矢印IVｂ方向から見た場合を示す図。
【図５】図５は、本発明の実施の形態における有機発光デバイスを示す部分断面斜視図。
【図６】図６は、本発明の実施の形態における有機発光デバイスの形成方法を示す図。
【図７】図７（ａ）は、第１の比較例における印刷機を示す側面図、図７（ｂ）は、第２の比較例における印刷機を示す側面図。
【図８】図８は、第１または第２の比較例において、版胴によりインキが基材に印刷される様子を示す図。
【図９】図９は、本発明におけるアニロックス版の他の実施形態を示す図。
【図１０】図１０は、本発明におけるアニロックス版の他の実施形態を示す図。
【図１１】図１１は、本発明におけるアニロックス版の他の実施形態を示す図。
【図１２】図１２は、本発明における版胴の他の実施形態を示す図。
【図１３】図１３は、本発明における有機発光デバイスの他の実施形態を示す平面図。
【図１４】図１４は、図１３に示す有機発光デバイスにおいて、発光層と絶縁層の開口部との関係を示す図。
【図１５】図１５は、本発明における有機発光デバイスの他の実施形態を示す斜視図。
【図１６】図１６は、図１５に示される有機発光デバイスのＡ−Ａ線での断面図。
【図１７】図１７は、本発明における有機発光デバイスの他の実施形態を示す部分断面図。
【図１８】図１８は、本発明における有機発光デバイスの他の実施形態を示す部分断面図。
【図１９】図１９（ａ）は、本発明の実施例において、印刷物の線幅の測定場所を示す図、図１９（ｂ）は、本発明の実施例において、印刷物の膜厚変動率の算出方法を説明するための図。
【発明を実施するための形態】
【００３６】
以下、図１乃至図５を参照して、本発明の実施の形態について説明する。はじめに図１を参照して、印刷機１０全体について説明する。
【００３７】
〔印刷機〕
図１に示すように、印刷機１０は、フレーム５と、フレーム５上に固定され、その上面に複数のセル２を有する平板状のアニロックス版１と、フレーム５上に固定され、平板状の基材５２を載置する基材定盤６と、フレーム５上を矢印Ｐで示す印刷方向に沿って走行可能となるようフレーム５に設けられた版胴２４と、を備えている。また図１に示すように、版胴２４の走行方向側（図１の右側）には、アニロックス版１の上面にインキ３０を供給するインキ供給部７と、インキ供給部７から供給されたインキ３０をアニロックス版１のセル２内に充填させるドクターシステム８とが設けられている。ドクターシステム８は、アニロックス版１上のインキ３０を図１における右方向に向かって掻く第１ドクター８ａと、インキ３０を図１における左方向に向かって掻く第２ドクター８ｂとを有している。
なお本実施の形態において、印刷機１０は、一枚の基材５２ごとに印刷を実施する、いわゆる枚葉式の印刷機１０となっている。
【００３８】
図１に示すように、版胴２４は、矢印Ｒで示す方向に回転する金属ロール２５と、金属ロール２５の外周上に粘着材により固定されたフレキソ版２３とからなっている。このフレキソ版２３は、後述するように弾性材料からなっており、このフレキソ版２３の凸部２３ａ（図１参照）がアニロックス版１の上面に当接するとき、セル２内のインキ３０がフレキソ版２３によって受けられる。フレキソ版２３によって受けられたインキ３０は、その後、基材定盤６上に載置されている基材５２上に転移される。このようにして、本実施の形態の印刷機１０において、フレキソ版２３を用いたフレキソ印刷が実施される。
【００３９】
なお本実施の形態の印刷機１０においては、後述するように、せん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）が５１〜２００ｃＰの範囲内となっているインキ３０が用いられる。このように、本実施の形態における印刷機１０においては、一般的なインキよりも低粘度のインキ３０が用いられる。低粘度のインキ３０をフレキソ印刷法により基材５２上に均一な厚みで転移させるためには、後述するように、版胴２４の回転速度を大きくすることが重要となる。
【００４０】
一般に、フレキソ印刷を行う印刷機においては、版胴が回転するだけでなく、アニロックス版（またはアニロックスロール）および基材定盤（またはバックアップロール）も移動または回転するよう構成されている。この場合、版胴は、アニロックス版（またはアニロックスロール）および基材定盤（またはバックアップロール）の移動または回転と同期するよう回転駆動される。このため、版胴の回転駆動を大きくすると、若しくは、版胴の回転駆動を急激に変化させると、アニロックス版（またはアニロックスロール）および基材定盤（またはバックアップロール）との同期が外れてしまうことが考えられる。従って、版胴が回転するとともに、アニロックス版（またはアニロックスロール）および基材定盤（またはバックアップロール）も移動または回転する印刷機において、版胴の回転速度を大きくすること、または、版胴の回転駆動を急激に変化させることは困難である。
【００４１】
一方、本実施の形態による印刷機１０においては、上述のように、平板状のアニロックス版１と、基材５２を載置する平板状の基材定盤６とがともにフレーム５上に固定されている。また版胴２４は、フレーム５上を走行可能となるようフレーム５に設けられている。このように印刷機１０においては、静止している平板状のアニロックス版１および平板状の基材定盤６に対して版胴２４を走行させることにより、フレキソ印刷が実施される。このため、版胴２４の位置ずれや振動ブレを生じさせることなく、版胴２４の回転速度を大きくすること、または、版胴２４の回転速度を急激に変化させることができる。
本実施の形態による印刷機１０において、基材定盤６上の基材５２上で版胴２４を走行させる際、版胴２４は、回転速度が２０ｒｐｍ以上（１分間あたり２０回転以上）となるよう制御部９により制御されている。これによって、後述するように、基材５２上に転移されたインキ３０により形成される層の厚さのばらつきを抑制することができる。
【００４２】
なお、本実施の形態による印刷機１０において、図１に示すように、アニロックス版１の絵柄部（セル２のうち版胴２４のフレキソ部２３にインキ３０をわたす部分）の印刷方向Ｐにおける中心点と、基材５２の絵柄部（基材５２のうち印刷機１０によりインキ３０が印刷される部分）の印刷方向Ｐにおける中心点との間の距離がＤ１となっている。印刷機１０において、この距離Ｄ１は、版胴２４の周長Ｄ２のｎ倍（ｎは１以上の整数）となるよう設定されている。また、アニロックス版１の絵柄部の印刷方向における長さは、版胴２４の周長Ｄ２の０．９倍（０．９×Ｄ２）よりも短くなるよう設定されている。このため、版胴２４をアニロックス版１上から基材５２上へ向かって走行させる際、印刷方向Ｐに沿って少なくとも０．１×Ｄ２以上の長さにおいて、版胴２４が空転することになる。
【００４３】
〔アニロックス版〕
次に図２および図３を参照して、アニロックス版１について詳細に説明する。図２は、本発明のアニロックス版１の一実施形態を説明するための平面図である。図２に示すように、アニロックス版１は、アニロックス版１の上面に配置され、インキ供給部７からのインキ３０が充填される複数のセル２を有している。また各セル２は、ストライプ状の形状を有しており、各セル２の間には非セル部３が存在する。これらセル２および非セル部３は、成膜部位全体の面積（セル２および非セル部３全体の面積）に占めるセル２全体の面積の比率が５５〜９５％、好ましくは７０〜９５％となるよう構成されている。成膜部位全体の面積に占めるセル２全体の面積の比率を上述のように設定することにより、フレキソ版２３に対して十分な量のインキ３０を受けさせることができ、これによって、基材５２に転移されるインキ３０の高さを所望の高さにすることができる。このことにより、インキ３０によって基材５２上に形成される層の高さを所望の高さにすることができる。
セル２の幅（セル部長Ｌ）は、例えば１０〜５００μｍの範囲内となっており、好ましくは３０〜３００μｍの範囲内となっている。また、非セル部３の幅（非セル部長Ｓ）は、例えば２〜５００μｍの範囲内となっており、好ましくは５〜２００μｍの範囲内となっている。
【００４４】
また、図３（ａ）（ｂ）（ｃ）に示すように、各セル２における印刷方向（図の矢印Ｐが示す方向）の幅ｂと印刷方向に直交する方向での幅ａの比ｂ／ａは、０．６以上、好ましくは１以上となっている。比ｂ／ａの上限には特に制限はない。なお、実施例において後述するように、比ｂ／ａが０．６未満であると、インキ３０によって基材５２上に形成される層の厚さを７０ｎｍ以上とすることが困難となる。
【００４５】
また、各セル２の深さ（版深）は、好ましくは１５〜１００μｍの範囲内、さらに好ましくは１５〜８０μｍの範囲内となっている。また各セル２の線数は、１００〜３００線／ｉｎｃｈの範囲内、さらに好ましくは１２０〜２００線／ｉｎｃｈの範囲内となっている。なお、実施例において後述するように、セル２の深さが１５μｍ未満であると、インキ３０によって基材５２上に形成される層を厚く形成するのが困難となる。一方、セル２の深さを１００μｍ以上とすると、基材５２上に形成される層の厚みのばらつきが大きくなる。
【００４６】
〔版胴〕
次に図４（ａ）（ｂ）を参照して、版胴２４について詳細に説明する。図４（ａ）に示すように、版胴２４は、軸心となる金属ロール２５と、金属ロール２５の外周上に粘着材により固定されたフレキソ版２３とからなっている。このフレキソ版２３は、上述のように弾性材料から形成されており、また図４（ａ）（ｂ）に示すように、それぞれが回転方向Ｒに沿って延びるとともに、ストライプ状に配置された複数の凸部２３ａと、各凸部２３ａ間に形成された凹部２３ｂとを有している。各凸部２３ａの高さｃは、例えば１〜１０００μｍの範囲内となっている。また版胴２４の直径は、例えば１１０ｍｍとなっている。
【００４７】
弾性材料からなるフレキソ版２３の作製方法が特に限られることはなく、例えば、水現像可能な樹脂材料を露光し、水現像し、硬膜処理などを施し、ベーキングすることにより作製することができる。水現像可能な樹脂材料としては、例えば、ポリビニルアルコールを用いることができる。
【００４８】
また、金属ロール２５外周上に粘着材により樹脂材料を設け、この樹脂材料をレーザ光で彫刻することによりフレキソ版２３を作製してもよい。レーザ光による彫刻が可能な樹脂材料としては、例えば、無機多孔質体微粒子を含有する感光性樹脂を用いることができる。感光性樹脂の例としては、例えばエラストマー樹脂を挙げることができる。
【００４９】
〔インキ〕
次に、本実施の形態における印刷機１０で用いられるインキ３０について詳細に説明する。インキ３０は、溶媒と、溶媒中に溶解された固形分からなっている。インキ３０としては、せん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）が５１〜２００ｃＰの範囲内となっているインキ３０が用いられる。このように、本実施の形態における印刷機１０で用いられるインキ３０は、一般的なインキよりも粘度が小さくなっており、このため、一般的なインキを用いる場合に比べて、インキにより形成される層の高さにばらつきが生じやすい。この課題に対応するため、本実施の形態においては、後述するように、版胴２４の回転速度を調整することにより、基材５２上に形成される層の高さがばらつくのを抑制している。
なお、インキ３０のせん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）が５ｃＰ未満であると、インキダレが生じたり、所望の厚みの層の形成が困難となる。一方、２００ｃＰを超えると、アニロックス版１のセル目による凹凸が大きくなり、均一な厚みの層の形成が困難となる。尚、上記の粘度測定は、Ｐｈｙｓｉｃａ社製の粘弾性測定装置ＭＣＲ３０１型により、測定温度２３℃で定常流測定モードにより行うものとする。また、インキ３０において、せん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）Ｖ１と、せん断速度１０００／秒における粘度（インキ温度２３℃）Ｖ２との比（Ｖ１／Ｖ２）が０．９〜１．５程度となっていることが好ましい。比（Ｖ１／Ｖ２）を上記の範囲内とすることにより、インキ３０がニュートン流動を示すようになる。
【００５０】
また、印刷機１０で用いられるインキ３０において、使用している溶媒の表面張力が３７ｄｙｎｅ／ｃｍ以下、好ましくは３０〜３５ｄｙｎｅ／ｃｍの範囲内であり、かつ、沸点が１６５〜２６５℃、好ましくは１８０〜２１０℃の範囲内であることが好ましい。
なお、インキ３０に使用している溶媒の表面張力が３７ｄｙｎｅ／ｃｍを超えると、アニロックス版１から版胴２４へのインキ３０の受理性が低下することが考えられ、好ましくない。さらに、インキ３０の溶媒の沸点が１６５℃未満であると、版胴２４から基材５２に転移されたインキ３０が直ちに乾燥し、これによって、インキ３０により形成される層にスジが発生しやすくなることが考えられる。また、インキ３０の溶媒の沸点が２６５℃を超えると、インキ３０の乾燥が困難となり、乾燥ゾーンでの乾燥による基材５２等への影響が生じること、溶剤の残留を生じることなどが考えられ、好ましくない。尚、溶媒の表面張力の測定は、協和界面科学（株）製の表面張力計ＣＢＶＰ−Ｚ型により、液温２０℃で行うものとする。
【００５１】
（インキの固形分）
インキ３０に用いる溶媒および固形分は、印刷機１０によって基材５２上に形成する層に応じて適宜選択される。例えば、後述するように印刷機１０によって有機発光デバイス５１の発光素子層５６の発光層５８を形成する場合、発光層５８用のインキ３０の固形分として、下記のような色素系、金属錯体系、高分子系のものを挙げることができる。
（１）色素系発光材料
シクロペンタジエン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体、トリフェニルアミン誘導体、オキサジアゾール誘導体、ピラゾロキノリン誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、ジスチリルアリーレン誘導体、シロール誘導体、チオフェン環化合物、ピリジン環化合物、ペリノン誘導体、ペリレン誘導体、オリゴチオフェン誘導体、トリフマニルアミン誘導体、オキサジアゾールダイマー、ピラゾリンダイマー等が挙げられる。
【００５２】
（２）金属錯体系発光材料
アルミキノリノール錯体、ベンゾキノリノールベリリウム錯体、ベンゾオキサゾール亜鉛錯体、ベンゾチアゾール亜鉛錯体、アゾメチル亜鉛錯体、ポリフィリン亜鉛錯体、ユーロピウム錯体等、中心金属にＡｌ、Ｚｎ、Ｂｅ等、または、Ｔｂ、Ｅｕ、Ｄｙ等の希土類金属を有し、配位子にオキサジアゾール、チアジアゾール、フェニルピリジン、フェニルベンゾイミダゾール、キノリン構造等を有する金属錯体が挙げられる。
【００５３】
（３）高分子系発光材料
ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、ポリシラン誘導体、ポリアセチレン誘導体、ポリビニルカルバゾール誘導体、ポリフルオレン誘導体等が挙げられる。
発光層用インキ３０における上述の固形分の含有量は、好ましくは、１．５〜４．０重量％の範囲で設定される。
【００５４】
（インキの溶媒）
また、印刷機１０によって有機発光デバイス５１の発光素子層５６の発光層５８を形成する場合、インキ３０の溶媒として、表面張力が上記の範囲（３７ｄｙｎｅ／ｃｍ以下）を満足し、かつ、沸点が上記の範囲（１６５〜２６５℃）を満足するもの、例えば、クメン、アニソール、ｎ−プロピルベンゼン、メシチレン、１，２，４−トリメチルベンゼン、リモネン、ｐ−シメン、ｏ−ジクロロベンゼン、ブチルベンゼン、ジエチルベンゼン、２，３−ジヒドロベンゾフラン、安息香酸メチル、１，２，３，４−テトラメチルベンゼン、アミルベンゼン、テトラリン、安息香酸エチル、フェニルヘキサン、シクロヘキシルベンゼン、安息香酸ブチル等を単独で使用することができる。また、混合溶媒を使用する場合には、混合比に応じた割合で計算した表面張力と沸点が上記の範囲を満足するものを使用する。例えば、表面張力がＡｄｙｎｅ／ｃｍ、沸点がＢ℃の溶媒１と、表面張力がＣｄｙｎｅ／ｃｍ、沸点がＤ℃の溶媒２とを３：７の重量比で混合した混合溶媒の場合、混合比に応じた割合で計算した表面張力［（Ａ×３／１０）＋（Ｃ×７／１０）］が上記の範囲（３７ｄｙｎｅ／ｃｍ以下）を満足し、かつ、混合比に応じた割合で計算した沸点［（Ｂ×３／１０）＋（Ｄ×７／１０）］が上記の範囲（１６５〜２６５℃）を満足することが必要となる。したがって、混合溶媒を構成する個々の溶媒は、表面張力と沸点が上記の範囲から外れるものであってもよい。
【００５５】
〔有機発光デバイス〕
次に図５を参照して、本実施の形態における印刷機１０により形成される発光層５８を含む有機発光デバイス５１について説明する。図５は、本発明の有機発光デバイスの一実施形態を示す部分断面斜視図である。図５において、有機発光デバイス５１は、透明基材５２と、この透明基材５２上に矢印ａ方向に延設さられた帯状パターンの複数の透明電極層（第１電極層）５３と、ストライプ形状の開口部５５を有する絶縁層５４と、開口部５５内の透明電極層５３を被覆するように配設された発光素子層５６と、この発光素子層５６上に透明電極層５３と直交するように矢印ｂ方向に延設された帯状パターンの複数の電極層６０（第２電極層）とを備えている。
上記の絶縁層５４の開口部５５は、矢印ａ方向に沿ったストライプ形状の開口部であり、各透明電極層５３の所望の部位を上方に露出させるよう、各透明電極層５３上に位置している。
【００５６】
発光素子層５６は、各開口部５５内の透明電極層５３を被覆するように配設された正孔注入層５７と正孔輸送層５７ａと発光層５８と電子注入層５９とからなる。図５に示す例では、正孔注入層５７および正孔輸送層５７ａは、絶縁層５４および絶縁層５４の開口部５５を全て覆うようベタで形成されている。また発光層５８は、帯状パターンの赤色発光層５８Ｒ、緑色発光層５８Ｇ、青色発光層５８Ｂが、この順で矢印ｂ方向に繰り返し配列されている。尚、発光層５８および電子注入層５９が、開口部５５の周縁の絶縁層５４に乗り上げるように形成されたものであってもよい。開口部５５の周縁の絶縁層５４に乗り上げるように発光素子層５６を形成した場合、発光素子層５６を挟持する位置に存在する透明電極層５３と電極層６０とが短絡するのをより確実に防ぐことができ、これによって信頼性を更に高くすることができる。
【００５７】
このような有機発光デバイス５１は、帯状パターンの透明電極層５３と電極層６０とが交差する部位が発光領域となるパッシブマトリックス型である。また発光層５８（赤色発光層５８Ｒ、緑色発光層５８Ｇ、青色発光層５８Ｂ）は、本発明の印刷機１０により形成されたものである。このため、発光層５８の厚みを７０ｎｍ以上とすることができ、これによって、発光素子層５６の発光時の輝度及び効率が高く、高品質な表示が可能となる。なお、赤色発光層５８Ｒ、緑色発光層５８Ｇ、青色発光層５８Ｂは、本実施の形態における印刷機１０によって赤色発光層用インキ３０Ｒ（図示せず）、緑色発光層用インキ３０Ｇ（図示せず）、青色発光層用インキ３０Ｂ（図示せず）を順に基材５２上に転移させることにより形成される。
【００５８】
次に、有機発光デバイス５１の各構成部材について詳細に説明する。
【００５９】
（透明基材）
はじめに透明基材５２について詳述する。透明基材５２は、ボトムエミッション方式の場合、観察者側の表面に設けられ、発光層５８からの光を観察者が容易に視認することができる程度の透明性を有する材料からなる。尚、発光層５８からの光を取り出す方向を反対方向とする場合（トップエミッション方式の場合）には、透明基板５２に替えて不透明な基板を使用してもよい。
透明基板５２（これに替わる不透明な基板も含む）としては、ガラス材料、樹脂材料、または、これらの複合材料からなるもの、例えば、ガラス板に保護プラスチックフィルムもしくは保護プラスチック層を設けたもの等が用いられる。
【００６０】
透明基板５２を構成する樹脂材料、保護プラスチック材料としては、例えば、フッ素系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリフッ化ビニル、ポリスチレン、ＡＢＳ樹脂、ポリアミド、ポリアセタール、ポリエステル、ポリカーボネート、変性ポリフェニレンエーテル、ポリスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリイミド、ポリフェニレンスルフィド、液晶性ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリオキシメチレン、ポリエーテルサルホン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリアクリレート、アクリロニトリル−スチレン樹脂、フェノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン、シリコーン樹脂、非晶質ポリオレフィン等が挙げられる。この他の樹脂材料であっても、有機発光デバイス用として使用できる高分子材料であれば、使用可能である。
透明基板５２の厚さは、通常、５０μｍ〜１．１ｍｍ程度である。
【００６１】
このような透明基板５２においては、その用途にもよるが、水蒸気や酸素等のガスバリアー性の良好なものであれば更に好ましい。また、透明基板５２に、水蒸気や酸素等のガスバリアー層を形成してもよい。このようなガスバリアー層としては、例えば、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化チタン等の無機酸化物をスパッタリング法や真空蒸着法等の物理蒸着法により形成したものを用いることができる。
【００６２】
（透明電極層）
次に、透明電極層５３について詳述する。透明電極層５３は、図５に示す例では陽極であり、発光層５８に正電荷（正孔）を注入するために、正孔注入層５７に隣接して配設されている。尚、透明電極層５３は陰極であってもよく、この場合、発光素子層５６を構成する正孔注入層５７と電子注入層５９とが入れ替わって配設される。
【００６３】
透明電極層５３は、通常の有機発光デバイスに使用されるものであれば特に限定されず、金属、合金、これらの混合物等を使用することができ、例えば、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、酸化インジウム、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）、酸化亜鉛、酸化第二錫、または金等の薄膜電極材料を挙げることができる。中でも、正孔が注入し易いように、仕事関数の大きい（４ｅＶ以上）透明、または半透明材料であるＩＴＯ、ＩＺＯ、酸化インジウム、金が好ましい。
透明電極層５３は、シート抵抗が数百Ω／□以下が好ましく、材質にもよるが、透明電極層５３の厚みは、例えば、０．００５〜１μｍ程度とすることができる。
この透明電極層５３は、周辺の端子部から中央の画素領域まで所望のパターン形状で配設されている。このようなパターン形状の透明電極層５３は、スパッタリング法や真空蒸着法等においてメタルマスクを用いることにより形成され、または、全面に透明電極層用の材料を成膜した後、感光性レジストをマスクとしてエッチングすることにより形成される。
【００６４】
絶縁層５４は、各透明電極層５３上に位置するストライプ形状の開口部５５を有している。この絶縁層５４は、例えば、はじめに透明電極層５３を覆うように全面に感光性樹脂材料を塗布し、次にパターン露光、現像を行うことにより形成される。または、熱硬化性樹脂材料を用いて絶縁層５４を形成してもよい。
絶縁層５４が形成された部分は非発光部となっている。絶縁層５４の厚みは、絶縁層５４を構成する樹脂固有の絶縁抵抗に応じて適宜設定できるが、例えば、０．０５〜５．０μｍ程度とすることができる。また、上述の樹脂材料にカーボンブラックや、チタン窒化物、チタン酸化物、チタン酸窒化物等のチタン系黒色顔料の１種、あるいは２種以上の遮光性微粒子を混合することにより、ブラックマトリックスを形成して絶縁層５４としてもよい。
尚、このような絶縁層５４の形状は、上述の形状に限定されるものではない。
【００６５】
（発光素子層）
次に発光素子層５６について詳述する。発光素子層５６は、図５に示す例では、透明電極層５３側から正孔注入層５７、正孔輸送層５７ａ、発光層５８、および電子注入層５９が積層された構造となっている。しかしながら、このような構造に限られることはなく、正孔注入層５７と発光層５８と電子注入層５９とからなる構造、正孔注入層５７と発光層５８とからなる構造、発光層５８と電子注入層５９からなる構造、さらに、発光層５８と電子注入層５９との間に電子輸送層を介在させた構造等としてもよい。
また、発光波長を調整し、または発光効率を向上させる等の目的で、上記の各層に適当な材料をドーピングすることもできる。
以下、発光素子層５６の各層について詳細に説明する。
【００６６】
発光層
発光素子層５６の発光層５８は、図５に示す例では、赤色発光層５８Ｒ、緑色発光層５８Ｇ、青色発光層５８Ｂからなっている。しかしながら、このような構造に限られることはなく、有機発光デバイスの使用目的等に応じて、所望の発光色（例えば、黄色、水色、オレンジ色）である発光層を単独で設けてもよく、または、赤色発光、緑色発光、青色発光以外の他の複数の発光色の所望の組み合わせなどを設けてもよい。
発光層５８に用いる有機発光材料としては、上述のインキ３０の固形分の説明で挙げた材料を用いることができる。
【００６７】
正孔注入層
発光素子層５６の正孔注入層５７は、上述のように、絶縁層５４および絶縁層５４の開口部５５を全て覆うようベタで形成されている。ここで、正孔注入層５７は、後述するように、例えばグラビア印刷法またはグラビアオフセット印刷法により形成されている。このようなグラビア印刷法またはグラビアオフセット印刷法において用いられる正孔注入層５７用インキとして、例えば以下のインキが挙げられる。
【００６８】
正孔注入層５７用インキの固形分（正孔注入材料）としては、例えば、フェニルアミン系、スターバースト型アミン系、フタロシアニン系、酸化バナジウム、酸化モリブデン、酸化ルテニウム、酸化アルミニウム等の酸化物、アモルファスカーボン、ポリアニリン、ポリチオフェン誘導体、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、ポリシラン系、アニリン系共重合体、チオフェンオリゴマー等の誘電性高分子オリゴマー等、を挙げることができる。
【００６９】
さらに、正孔注入材料として、ポリフィリン化合物、芳香族第三級アミン化合物、スチリルアミン化合物を挙げることもできる。上記のポリフィリン化合物としては、ポリフィン、１，１０，１５，２０−テトラフェニル−２１Ｈ、２３Ｈ−ポリフィン銅（II）、アルミニウムフタロシアニンクロリド、銅オクタメチルフタロシアニン等を挙げることができる。また、芳香族第三級アミン化合物およびスチリルアミン化合物としては、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラフェニル−４，４′−ジアミノフェニル、Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ビス（３−メチルフェニル）−［１，１′−ビフェニル］−４，４′−ジアミン、４−（ジ−ｐ−トリルアミノ）−４′−［４（ジ−ｐ−トリルアミノ）スチリル］スチルベン、３−メトキシ−４′−Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノスチルベンゼン、４，４′−ビス［Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニルアミノ］ビフェニル、４，４′，４″−トリス［Ｎ−（３−メチルフェニル）−Ｎ−フェニルアミノ］トリフェニルアミン等を挙げることができる。
正孔注入層５７用インキにおける上述のような正孔注入材料の含有量は、例えば、０．３〜１０．０重量％の範囲で設定することができる。
【００７０】
また、正孔注入層５７用インキの混合溶媒に用いるアルコール系溶媒としては、沸点が６０〜２５０℃を満足するものであり、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、tert−ブタノール、ｎ−プロパノール、sec−ブタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、２−（メトキシメトキシ）エタノール、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノアセテート、プロピレングリコール、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ヘキシレングリコール、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコール、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、１，３−ブチレングリコール、１−ブトキシエトキシ−２−プロパノール、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコール、１，５−ペンタジオール、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコール、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノアセテート等を例示することができ、これらを単独で使用することができる。また、２種以上のアルコール系溶媒を使用する場合には、混合比に応じた割合で計算した沸点が上記の範囲を満足するものを使用する。例えば、沸点がＡ℃の溶媒１と、沸点がＢ℃の溶媒２とを３：７の重量比で混合した混合溶媒の場合、混合比に応じた割合で計算した沸点［（Ａ×３／１０）＋（Ｂ×７／１０）］が上記の範囲（２５０℃以下、例えば、６０〜２５０℃）を満足することが必要となる。したがって、混合溶媒を構成する個々のアルコール系溶媒は、沸点が上記の範囲から外れるものであってもよい
【００７１】
正孔輸送層
発光素子層５６の正孔輸送層５７ａは、正孔注入層５７の場合と同様に、絶縁層５４および絶縁層５４の開口部５５を全て覆うようベタで形成されている。また輸送層５７ａは、正孔注入層５７の場合と同様に、例えばグラビア印刷法またはグラビアオフセット印刷法により形成されている。このようなグラビア印刷法またはグラビアオフセット印刷法において用いられる正孔輸送層５７ａ用インキの固形分（正孔輸送材料）としては、例えば、オキサジアゾール系、オキサゾール系、トリアゾール系、チアゾール系、トリフェニルメタン系、スチリル系、ピラゾリン系、ヒドラゾン系、芳香族アミン系、カルバゾール系、ポリビニルカルバゾール系、スチルベン系、エナミン系、アジン系、トリフェニルアミン系、ブタジエン系、多環芳香族化合物系、スチルベン二量体等の材料が挙げられる。
また、π共役系高分子として、ポリアセチレン、ポリジアセチレン、ポリ（Ｐ−フェニレン）、ポリ（Ｐ−フェニレンスルフィド）、ポリ（Ｐ−フェニレンオキシド）、ポリ（１，６−ヘプタジエン）、ポリ（Ｐ−フェニレンビニレン）、ポリ（２，５−チエニレン）、ポリ（２，５−ピロール）、ポリ（ｍ−フェニレンスルフィド）、ポリ（４，４′−ビフェニレン）等が挙げられる。
また、電荷移動高分子錯体として、ポリスチレン・ＡｇＣ１０４、ポリビニルナフタレン・ＴＣＮＥ、ポリビニルナフタレン・Ｐ−ＣＡ、ポリビニルナフタレン・ＤＤＱ、ポリビニルメシチレン・ＴＣＮＥ、ポリナフタアセチレン・ＴＣＮＥ、ポリビニルアントラセン・Ｂｒ２、ポリビニルアントラセン・Ｉ２、ポリビニルアントラセン・ＴＮＢ、ポリジメチルアミノスチレン・ＣＡ、ポリビニルイミダゾール・ＣＱ、ポリ−Ｐ−フェニレン・Ｉ２、ポリ−１−ビニルピリジン・Ｉ２、ポリ−４−ビニルピリジン・Ｉ２、ポリ−Ｐ−１−フェニレン・Ｉ２、ポリビニルピリジウム・ＴＣＮＱ等が挙げられ、さらに、電荷移動低分子錯体として、ＴＣＮＱ−ＴＴＦ等が、高分子金属錯体としては、ポリ銅フタロシアニン等が挙げられる。
正孔輸送材料としては、イオン化ポテンシャルの小さい材料が好ましく、特に、ブタジエン系、エナミン系、ヒドラゾン系、トリフェニルアミン系が好ましい。
【００７２】
電子注入層
発光素子層５６の電子注入層５９を形成する材料としては、例えば、カルシウム、バリウム、アルミリチウム、フッ化リチウム、ストロンチウム、酸化マグネシウム、フッ化マグネシウム、フッ化ストロンチウム、フッ化カルシウム、フッ化バリウム、酸化アルミニウム、酸化ストロンチウム、酸化カルシウム、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレンスルホン酸ナトリウム、ニトロ置換フルオレン誘導体、アントラキノジメタン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、ナフタレンペリレン等の複素環テトラカルボン酸無水物、カルボジイミド、フレオレニリデンメタン誘導体、アントラキノジメタンおよびアントロン誘導体、オキサジアゾール誘導体、上記のオキサジアゾール環の酸素原子をイオウ原子に置換したチアゾール誘導体、電子吸引基として知られているキノキサリン環を有したキノキサリン誘導体、トリス（８−キノリノール）アルミニウム等の８−キノリノール誘導体の金属錯体、フタロシアニン、金属フタロシアニン、ジスチリルピラジン誘導体等を挙げることができる。このような材料から形成される電子注入層５９は、例えば、画像表示領域に相当する開口部を備えたマスク（周辺部の透明電極層５３からなる電極端子への成膜を防止するためのマスク）を介して真空蒸着法等により成膜して形成される。また、スクリーン印刷法等の印刷方法により電子注入層５９を形成することもできる。
【００７３】
上述の発光素子層５６の各層において、その厚みが特に制限されることはなく、例えば、１０〜１０００ｎｍ程度とすることができる。また、発光素子層５６の各層にドーピングされる材料の例として、例えば、ペリレン誘導体、クマリン誘導体、ルブレン誘導体、キナクリドン誘導体、スクアリウム誘導体、ポリフィリン誘導体、スチリル系色素、テトラセン誘導体、ピラゾリン誘導体、デカシクレン、フェノキサゾン等の材料を挙げることができる。
また、上述の正孔注入層５７と発光層５８の形成を、正孔注入層用の塗膜を形成した後１分以内に発光層用の塗膜を形成し、これら２層を１００〜２００℃の範囲で同時に一括乾燥して形成することにより行ってもよい。
【００７４】
（電極層）
次に電極層６０について詳述する。電極層６０は、図５に示す例では陰極であり、発光層５８に負電荷（電子）を注入するために、電子注入層５９に隣接して配設されている。尚、電極層６０は陽極であってもよく、この場合、発光素子層５６を構成する正孔注入層５７と電子注入層５９とが入れ替わって配設される。
このような電極層６０の材料としては、通常の有機発光デバイスに使用されるものであれば特に限定されず、上述の透明電極層５３と同様に、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、酸化インジウム、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）、酸化亜鉛、酸化第二錫、または金等の薄膜電極材料、さらに、マグネシウム合金（例えば、ＭｇＡｇ等）、アルミニウムまたはその合金（ＡｌＬｉ、ＡｌＣａ、ＡｌＭｇ等）、銀等を挙げることができる。中でも、電子が注入し易いように仕事関数の小さい（４ｅＶ以下）マグネシウム合金、アルミニウム、銀等が好ましい。このような電極層６０はシート抵抗が数百Ω／□以下が好ましく、このため、電極層６０の厚みは、例えば、０．００５〜０．５μｍ程度とすることができる。
上記の電極層６０は、上述の電極材料を用いてマスクを介したスパッタリング法や真空蒸着法等の方法によりパターン形状に成膜して形成することができる。
【００７５】
次に、このような構成からなる本実施の形態の作用について説明する。ここでは、発光層５８を含む有機発光デバイス５１の形成方法について、図１および図６を参照して説明する。
【００７６】
はじめに、図１に示すように、フレーム５上に固定された基材定盤６上に透明基材５２を載置する。次に、図６（ａ）に示すように、透明基材５２上に、所望のパターンを有する透明電極層５３を形成する。透明電極層５３を形成する方法が特に限られることはなく、メタルマスクを用いたスパッタリング法や真空蒸着法等によって所望のパターンを有する透明電極層５３を形成する方法、または、透明電極層用の材料を透明基材５２上の全面にわたって成膜した後、感光性レジストをマスクとしてエッチングすることによって所望のパターンを有する透明電極層５３を形成する方法などが適宜選択される。
【００７７】
次に、図６（ｂ）に示すように、透明基材５２上に、透明電極層５３の所望の部位を上方に露出させる複数の開口部５５を有する絶縁層５４を形成する。この場合、はじめに、透明電極層５３を覆うように全面に感光性樹脂材料を塗布し、その後、塗布された感光性樹脂材料に対してパターン露光、現像を行う。このようにして、複数の開口部５５を有する絶縁層５４が形成される。
【００７８】
その後、図６（ｃ）に示すように、開口部５５内および絶縁層５４上に、正孔注入層５７および正孔輸送層５７ａを形成する。ここで、正孔注入層５７および正孔輸送層５７ａは、グラビア印刷法またはグラビアオフセット印刷法によりベタ層として形成される。一般に、グラビア印刷法またはグラビアオフセット印刷法における印圧はフレキソ印刷法における印圧よりも大きい。このため、ベタ層からなる正孔注入層５７および正孔輸送層５７ａをフレキソ印刷法で形成する場合に比べて、正孔注入層５７および正孔輸送層５７ａの厚みのばらつきを小さくすることができる。
グラビア印刷法またはグラビアオフセット印刷法としては、例えば特開２００７−１８９４８に記載のグラビア版を用いたグラビア印刷法またはグラビアオフセット印刷法を選択することができる。
【００７９】
次に、図６（ｄ）に示すように、開口部５５内の正孔輸送層５７ａ上に発光層５８を形成する。発光層５８は、上述の印刷機１０を用いて形成される。
【００８０】
以下、印刷機１０を用いて発光層５８を形成する方法について詳述する。はじめに、発光層５８の材料となる有機発光材料を含有するインキ３０を、ドクターシステム８を用いてアニロックス版１のセル２に充填させる。次に、アニロックス版１上で版胴２４を走行させ、これによって、アニロックス版１のセル２から版胴２４のフレキソ版２３へインキ３０を受けさせる。この際の版胴２４の回転速度は、例えば２０ｒｐｍとなっている。その後、版胴２４を基材定盤６に向って走行させる。
【００８１】
版胴２４をアニロックス版１上から基材５２上へ向かって走行させる際、上述のように、印刷方向Ｐに沿って少なくとも０．１×Ｄ２以上の長さ（Ｄ２：版胴２４の周長）において、版胴２４が空転する。版胴２４が空転している間に、制御部９は、版胴２４の回転速度を２０ｒｐｍ以上に増加させる。
【００８２】
次に、基材定盤６上の透明基材５２上で版胴２４を回転速度２０ｒｐｍ以上で走行させる。これによって、透明基材５２上の正孔輸送層５７ａがフレキソ版２３の凸部２３ａにより所定の印圧で押圧され、この際、凸部２３ａ上のインキ３０が開口部５５内の正孔輸送層５７ａ上に転移される。その後、転移されたインキ３０を適宜乾燥させることにより、開口部５５内の正孔輸送層５７ａ上に発光層５８が形成される。
【００８３】
その後、図６（ｅ）に示すように、開口部５５内の発光層５８上に電子注入層５９を形成する。電子注入層５９を形成する方法が特に限られることはなく、例えば、画像表示領域に相当する開口部を備えたマスク（周辺部の透明電極層５３からなる電極端子への成膜を防止するためのマスク）を介して真空蒸着法等により成膜して形成される。このようにして、正孔注入層５７と正孔輸送層５７ａと発光層５８と電子注入層５９とを有する発光素子層５６が形成される。
【００８４】
最後に、発光素子層５６のうち所望の開口部５５内に位置する発光素子層５６に接続されるよう、電極層６０を所定のパターン形状で形成する。このようにして、図５に示す有機発光デバイス５１が形成される。
【００８５】
この間、本実施の形態によれば、印刷機１０を用いて発光層５８を形成するとき、インキ３０のせん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）は５１〜２００ｃＰの範囲内となっており、また上述のように、版胴２４は、回転速度が２０ｒｐｍ以上となるよう制御部９により制御されている。このため、フレキソ版２３の凸部２３ａ上のインキ３０を透明基材５２上の正孔輸送層５７ａ上に転移させる際、弾性的に圧縮されている凸部２３ａに、外方（透明基材５２の方）に向う弾性的な反発力が生じている場合であっても、当該凸部２３ａが透明基材５２に対してバウンドするよりも前に、当該凸部２３ａのインキ３０を透明基材５２上に転移させることができる。このことにより、フレキソ版２３の凸部２３ａのバウンドに起因して透明基材５２上に転移されるインキ３０の厚みがばらつくのを防ぐことができる。
このようにして、グラビア印刷法やグラビアオフセット印刷法に比べて印圧の低いフレキソ印刷法を用いて、均一な厚さを有する発光層５８を精度良く形成することができる。
【００８６】
〔比較例〕
次に、図７（ａ）（ｂ）および図８を参照して、本願発明の効果を比較例と比較して説明する。図７（ａ）は、第１の比較例における印刷機１００を示す図であり、図７（ｂ）は、第２の比較例における印刷機１０５を示す図である。図８は、第１の比較例の印刷機１００または第２の比較例の印刷機１０５において、版胴１０３上のインキ３０が透明基材５２上に転移される様子を示す図である。
【００８７】
図７（ａ）（ｂ）および図８に示す第１または第２の比較例において、図１乃至図６に示す本実施の形態の印刷機１０と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。
【００８８】
はじめに図７（ａ）を参照して、第１の比較例における印刷機１００について説明する。図７（ａ）に示すように、印刷機１００において、インキ供給部７からのインキ３０は、アニックスロール１０２を介して版胴１０３に供給される。この場合、アニックスロール１０２および版胴１０３は、図７（ａ）に示すように、所定の位置においてＲ’およびＲ方向に回転するよう設けられている。ここで、図１乃至図６に示す本実施の形態の版胴２４とは異なり、比較例における版胴１０３は基材定盤１０４上を走行可能となっていない。この場合、版胴１０３のインキ３０を基材５２に転移させるためには、基材定盤１０４を図７（ａ）に示す方向Ｐ’に動かす必要がある。アニックスロール１０２の回転、基材定盤１０４の移動および版胴１０３の回転は、アニックスロール１０２の回転および基材定盤１０４の移動と版胴１０３の回転とが同期するよう制御部１０１により制御される。
【００８９】
図７（ａ）に示す比較例の印刷機１００において、上述のように、版胴１０３の回転速度は、アニックスロール１０２の回転および基材定盤１０４の移動と同期するよう制御部１０１により制御される。従って、アニックスロール１０２の回転および基材定盤１０４の移動との同期を考慮する分だけ、第１の比較例の印刷機１００における版胴１０３の回転速度の制御が、本発明の印刷方法で用いる印刷機１０における版胴２４の回転速度の制御よりも複雑になっている。このため、第１の比較例の印刷機１００においては、本発明の印刷方法で用いる印刷機１０の場合に比べて、同期外れや位置ずれを生じさせることなく版胴１０３の回転速度を大きくすること、若しくは版胴１０３の回転速度を急激に変化させることが困難である。この結果、第１の比較例の印刷機１００においては、版胴１０３の回転速度が２０ｒｐｍよりも常に小さくなるよう制御部１０１により制御される。
【００９０】
次に図７（ｂ）を参照して、第２の比較例における印刷機１０５について説明する。図７（ｂ）に示す印刷機１０５は、平板状のアニロックス版１０６からのインキ３０が版胴１０３によって受けられる点が異なるのみであり、その他の構成は図７（ａ）に示す第１の比較例における印刷機１００と略同一である。
【００９１】
図７（ｂ）に示す第２の比較例の印刷機１０５においても、図７（ａ）に示す第１の比較例の印刷機１００の場合と同様に、版胴１０３は、アニロックス版１０６上または基材定盤１０４上を走行可能となっていない。このため、アニロックス版１０６のインキ３０を基材５２に転移させるためには、アニロックス版１０６および基材定盤１０４を図７（ｂ）に示す方向Ｐ’に動かす必要がある。アニックス版１０６の移動、基材定盤１０４の移動および版胴１０３の回転は、アニックス版１０６の移動および基材定盤１０４の移動と版胴１０３の回転とが同期するよう制御部１０１により制御される。
【００９２】
図７（ｂ）に示す比較例の印刷機１０５において、上述のように、版胴１０３の回転速度は、アニックス版１０６の移動および基材定盤１０４の移動と同期するよう制御部１０１により制御される。従って、アニックス版１０６の移動および基材定盤１０４の移動との同期を考慮する分だけ、第２の比較例の印刷機１０５における版胴１０３の回転速度の制御が、本発明の印刷方法で用いる印刷機１０における版胴２４の回転速度の制御よりも複雑になっている。このため、第２の比較例の印刷機１０５においても、本発明の印刷方法で用いる印刷機１０の場合に比べて、同期外れや位置ずれを生じさせることなく版胴１０３の回転速度を大きくすること、若しくは版胴１０３の回転速度を急激に変化させることが困難である。この結果、第２の比較例の印刷機１０５においても、版胴１０３の回転速度が２０ｒｐｍよりも常に小さくなるよう制御部１０１により制御される。
【００９３】
図８は、第１の比較例の印刷機１００または第２の比較例の印刷機１０５において、版胴１０３上のインキ３０が基材５２上に転移される様子を示す図である。図８に示すように、版胴１０３のフレキソ版２３の凸部２３ａのうち基材５２に当接している凸部２３ａは、インキ３０を転移させる際の印圧によって弾性的に圧縮されている。このとき、当該凸部２３ａには、外方（基材５２の方）に向う弾性的な反発力が生じている。
上述のように、第１または第２の比較例において、版胴１０３は、回転速度が２０ｒｐｍよりも小さくなるよう制御部１０１により制御されている。このため、当該凸部２３ａが基材５２から遠ざかるよりも前に、当該凸部２３ａに生じている弾性的な反発力に起因して当該凸部２３ａが基材５２に対してバウンドすることが考えられる。このようなバウンドが生じると、バウンドの際の振動によって、フレキソ版２３から基材５２に転移されるインキ３０の厚みにばらつきが生じる。これによって、基材５２に転移されたインキ３０から形成される層の厚みにばらつきが生じてしまうことが考えられる。
【００９４】
これに対して本願発明の印刷方法によれば、印刷方法で用いる印刷機１０は、フレーム５と、フレーム５上に固定され、その上面に複数のセル２を有する平板状のアニロックス版１と、アニロックス版１の上面にインキ３０を供給するインキ供給部７と、フレーム５上に固定され、平板状の透明基材５２を載置する基材定盤６と、フレーム５上を走行可能となるようフレーム５に設けられ、アニロックス版１の上面に当接してインキ３０を受けるとともに透明基材５２上にインキ３０を転移させる弾性材料からなるフレキソ版２３を有する版胴２４と、を備えている。このように本願発明によれば、平板状のアニロックス版１および基材定盤６が、フレーム５上に固定されている。そして、フレーム５上に固定されているアニロックス版１および基材定盤６に対して版胴２４が走行させられる。このため、本願発明によれば、版胴２４を走行させる際、アニロックス版１および基材定盤６の移動との同期を考慮する必要がない。従って本願発明によれば、基材定盤６上の透明基材５２上で版胴２４を走行させる際、位置ずれを生じさせることなく、版胴２４の回転速度を２０ｒｐｍ以上とすることが可能となっている。このため、印刷の際、フレキソ版２３の凸部２３ａに、外方に向う弾性的な反発力が生じている場合であっても、フレキソ版２３の当該凸部２３ａが透明基材５２に対してバウンドするよりも前に、フレキソ版２３の当該凸部２３ａから透明基材５２上へのインキ３０の転移を完了させることができる。このことにより、フレキソ版２３のバウンドに起因して透明基材５２上に転移されるインキ３０の厚みがばらつくのを防ぐことができる。
【００９５】
〔アニロックス版の変形例〕
なお、本実施の形態において、アニロックス版が、アニロックス版の上面に配置され、インキ供給部７からのインキ３０が充填される複数のセル２を有し、各セル２が、ストライプ状の形状を有するアニロックス版１からなる例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、アニロックス版は、アニロックス版の上面に格子状に配置され、インキ供給部７からのインキ３０が充填される複数のセル１２を有するアニロックス版１１からなっていてもよい。
【００９６】
図９は、本発明のアニロックス版の他の実施形態であるアニロックス版１１を説明するための図である。図９に示されるアニロックス版１１は、セル１２が複数に区画された形状（図９に示す例では、各セル１２は正方形）であり、各セル１２の間には非セル部１３が存在する。また、図１０は、アニロックス版１１の他の形態を説明するための図である。図１０に示されるアニロックス版１１は、セル１２が複数に区画された形状であり、各セル１２は菱形であり、各セル１２の間には非セル部１３が存在する。さらに、図１１は、アニロックス版１１の他の形態を説明するための図である。図１１に示されるアニロックス版１１は、セル１２が複数に区画された形状であり、各セル１２は楕円形であり、各セル１２の間には非セル部１３が存在する。
【００９７】
図９〜図１１に示されるアニロックス版１１は、各セル１２（斜線を付した部位）における印刷方向（図の矢印Ｐが示す方向）の最大幅ｂと印刷方向に直交する方向での最大幅ａの比ｂ／ａが０．６以上、好ましくは１以上であり上限には特に制限はない。また、成膜部位に占める総セル面積が５５〜９５％、好ましくは７０〜９５％の範囲内であり、非セル部１３の幅（非セル部長Ｓ１，Ｓ２）が２〜５００μｍ、好ましくは１０〜２００μｍの範囲内であり、セル１２の深さ（版深）が１５〜１００μｍ、好ましくは１５〜８０μｍの範囲内である。
【００９８】
上記の比ｂ／ａが０．６未満であると、厚膜形成が困難となり、発光層５８の形成において７０ｎｍ以上の厚みの発光層５８の形成が困難となり好ましくない。また、成膜部位に占める総セル面積が５５％未満であると、厚膜形成が困難となり、９５％を超えると、膜厚のバラツキが大きくなり好ましくない。また、非セル部１３の幅（非セル部長Ｓ１，Ｓ２）が２μｍ未満であると、アニロックス版１１のセル１２の形成が困難であり、５００μｍを超えると、膜厚のバラツキが大きくなり、かつ厚膜形成が困難となり好ましくない。また、セル１２の深さ（版深）が２０μｍ未満であると、厚膜形成が困難となり、２００μｍを超えるような版深としても、形成する塗膜の厚みは増加しない。
尚、上述のアニロックス版１１のセル１２の形状は例示であり、上述の形態に限定されるものではない。
【００９９】
〔版胴の変形例〕
また、本実施の形態において、版胴２４が、軸心となる金属ロール２５と、金属ロール２５の外周上に粘着材により固定されたフレキソ版２３とからなっている例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、図１２に示すように、版胴が、金属ロール２５と、金属ロール２５を取り囲む円筒状のプラスチックスリーブ２６と、プラスチックスリーブ２６の外周上に設けられたフレキソ版２３とからなっていてもよい。この場合、プラスチックスリーブ２６を金属ロール２５上に固定する方法が特に限られることはない。例えば、プラスチックスリーブ２６が、金属ロール２５内に配置されたエアークランプ機構（図示せず）によって金属ロール２５上に固定されていてもよく、または、プラスチックスリーブ２６が、金属ロール２５内に配置された吸着機構（図示せず）によって金属ロール上に固定されていてもよい。
【０１００】
〔発光素子層の変形例〕
また本実施の形態において、発光素子層５６の正孔注入層５７および正孔輸送層５７ａが、絶縁層５４および絶縁層５４の開口部５５を全て覆うようベタで形成されている例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、正孔注入層５７および正孔輸送層５７ａが、開口部５５内に収納されるよう形成されていてもよい。
【０１０１】
〔有機発光デバイスの変形例〕
また、本実施の形態において、有機発光デバイスが、帯状パターンの透明電極層５３と電極層６０とが交差する部位が発光領域となるパッシブマトリックス型の有機発光デバイス５１である例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、有機発光デバイスがアクティブマトリックス型であってもよい。
【０１０２】
図１３および図１４は、アクティブマトリックス型の本発明の有機発光デバイスの一例を説明するための図である。図１３は電極配線パターンを示す図であり、透明基材（図示せず）上に形成された電極配線パターン７３は、信号線７３Ａ、走査線７３Ｂ、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）７３Ｃ、透明電極（画素電極）層７３Ｄからなる。また、これらの電極配線パターン７３を被覆するように絶縁層７４（図１３で斜線を付した部位）が形成されており、この絶縁層７４は、各透明電極層７３Ｄ上に位置する開口部７５を備えている。また、絶縁層７４には、各開口部７５内の透明電極層７３Ｄを被覆するように発光素子層（図示せず）が形成され、この発光素子層上に電極（共通電極）層（図示せず）が配設される。
【０１０３】
上記の発光素子層は、絶縁層７４と各開口部７５内の透明電極層７３Ｄとを被覆するように配設された正孔注入層と、開口部７５内の透明電極層７３Ｄ（正孔注入層）を被覆するように各開口部７５に配設された複数の発光層と、これらを被覆するように配設された電子注入層と、から構成することができる。図１４は、絶縁層７４の開口部７５と発光層との関係を示す図である。図１４では、発光層は、開口部７５よりも大きい所望のパターン形状の赤色発光層７８Ｒ、緑色発光層７８Ｇ、青色発光層７８Ｂからなっている。
【０１０４】
このようなアクティブマトリックス型の本発明の有機発光デバイスも、発光層（赤色発光層７８Ｒ、緑色発光層７８Ｇ、青色発光層７８Ｂ）は、本発明の発光層形成方法により形成されたものであり、このため、発光層（赤色発光層７８Ｒ、緑色発光層７８Ｇ、青色発光層７８Ｂ）の厚みが７０ｎｍ以上となっている。このことにより、発光素子層の発光時の輝度、効率の高い、高品質の表示が可能である。また、開口部７５の周縁の絶縁層７４に乗り上げるように発光素子層を形成した場合、発光素子層を挟持する位置に存在する透明電極層７３Ｄと電極層（図示せず）との短絡を生じることがなく、信頼性が更に高いものとなる。
尚、上記の発光素子層は、上述の実施形態と同様に、正孔注入層と発光層とからなる構造、発光層と電子注入層とからなる構造、さらに、正孔注入層と発光層との間に正孔輸送層を介在させた構造、発光層と電子注入層との間に電子輸送層を介在させた構造等とすることができる。
【０１０５】
図１５は、本発明の有機発光デバイスの他の実施形態を示す部分斜視図であり、図１６は図１５に示される有機発光デバイスのＡ−Ａ線における断面図である。図１５および図１６において、有機発光デバイス８１は、透明基材８２と、この透明基材８２上に長方形状に形成された透明電極層８３と、ひし形開口部８５ａと長方形状開口部８５ｂとを有する絶縁層８４と、各開口部８５ａ、８５ｂ内の透明電極層８３を被覆するように配設された発光素子層８６と、この発光素子層８６を被覆するように形成された電極層９０とを備えている。
上記の発光素子層８６は、積層配設された正孔注入層８７、発光層８８、電子注入層８９からなっている。尚、発光素子層８６が各開口部８５ａ、８５ｂの周縁の絶縁層８４に乗り上げるように形成されたものであってもよい。
【０１０６】
このような有機発光デバイス８１は、各開口部８５ａ、８５ｂが存在する部位が表示領域となるエリアカラー表示であり、例えば、各開口部８５ａ、８５ｂの最大開口幅を１０ｍｍ以上に設定して有機発光ポスターとしての使用が可能である。有機発光デバイス８１を構成する発光層８８は、本発明の発光層形成方法により形成されたものであり、このため、発光層８８の厚みが７０ｎｍ以上となっている。このことにより、発光素子層８６の発光時の輝度、効率の高い、高品質の表示が可能である。また、開口部８５ａ、８５ｂの周縁の絶縁層８４に乗り上げるように発光素子層８６を形成した場合、発光素子層８６を挟持する位置に存在する透明電極層８３と電極層９０との短絡を生じることがなく、信頼性が更に高いものとなる。
【０１０７】
尚、各開口部８５ａ、８５ｂに位置する各発光層の発光色が異なるものであってもよく、さらに、各開口部８５ａ、８５ｂ上に配設される電極層９０を電気的に独立したものとして、各発光層に発光できるようにしてもよい。
また、上記の発光素子層８６は、上述の実施形態と同様に、正孔注入層と発光層とからなる構造、発光層と電子注入層からなる構造、さらに、正孔注入層と発光層との間に正孔輸送層を介在させた構造、発光層と電子注入層との間に電子輸送層を介在させた構造等とすることができる。
【０１０８】
図１７は、本発明の有機発光デバイスの他の実施形態を示す部分断面図である。図１７に示される有機発光デバイス９１は、透明基材９２と、この透明基材９２上に設けられた帯状パターンの赤色着色層９３Ｒ、緑色着色層９３Ｇ、青色着色層９３Ｂからなるカラーフィルタ層９３と、このようなカラーフィルタ層９３を覆うように配設された透明平滑化層９５と、この透明平滑化層９５上に、上述の実施形態の有機発光デバイス５１と同様に形成された帯状パターンの複数の透明電極層５３と、各透明電極層５３上にストライプ形状の開口部５５が位置するように配設された絶縁層５４と、各開口部５５内の透明電極層５３を被覆するように配設された発光素子層５６と、この発光素子層５６上に透明電極層５３と直交するように延設された帯状パターンの複数の電極層６０とを備えている。
【０１０９】
上記の帯状パターンの複数の透明電極層５３は、帯状パターンの赤色着色層９３Ｒ、緑色着色層９３Ｇ、青色着色層９３Ｂ上に位置するものである。また、発光素子層５６は、各開口部５５内の透明電極層５３を被覆するように配設された正孔注入層５７と、開口部５５内の透明電極層５３（正孔注入層５７）を被覆するように各開口部５５に配設された複数の発光層５８と、これらを被覆するように配設された電子注入層５９と、からなる。図示例では、発光層５８は、帯状パターンの白色発光層である。尚、発光素子層５６を開口部５５の周縁の絶縁層５４に乗り上げるように形成したものであってもよい。
【０１１０】
このような有機発光デバイス９１は、カラーフィルタ層９３と透明平滑化層９５とを備え、発光層５８が白色発光層である点を除いて、上述の有機発光デバイス５１と同様である。したがって、同様の部材には、同じ部材番号を付し、ここでの説明は省略する。尚、上記の発光素子層５６は、上述の実施形態と同様に、正孔注入層と発光層とからなる構造、発光層と電子注入層とからなる構造、さらに、正孔注入層と発光層との間に正孔輸送層を介在させた構造、発光層と電子注入層との間に電子輸送層を介在させた構造等とすることができる。
【０１１１】
上記のカラーフィルタ層９３は、発光素子層５６からの光を色補正したり、色純度を高めるものである。カラーフィルタ層９３を構成する赤色着色層９３Ｒ、緑色着色層９３Ｇ、青色着色層９３Ｂは、発光素子層５６の発光特性に応じて適宜材料を選択することができ、例えば、顔料、顔料分散剤、バインダー樹脂、反応性化合物および溶媒を含有する顔料分散組成物で形成することができる。このようなカラーフィルタ層９３の厚みは、各着色層の材料、発光素子層５６の発光特性等に応じて適宜設定することができ、例えば、１〜３μｍ程度の範囲で設定することができる。
【０１１２】
また、透明平滑化層９５は、カラーフィルタ層９３以下の構成により段差（表面凹凸）が存在する場合に、この段差を解消して平坦化を図り、発光素子層５６の厚みムラ発生を防止する平坦化作用をなす。このような透明平滑化層９５は、透明（可視光透過率５０％以上）樹脂により形成することができる。具体的には、アクリレート系、メタクリレート系の反応性ビニル基を有する光硬化型樹脂、熱硬化型樹脂を使用することができる。また、透明樹脂として、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリレート、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ポリ塩化ビニル樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、マレイン酸樹脂、ポリアミド樹脂等を使用することができる。
このような透明平滑化層９５の厚みは、使用する材料を考慮し、平坦化作用が発現できる範囲で設定することができ、例えば、１〜５μｍ程度の範囲で適宜設定することができる。
【０１１３】
また、図１８は、本発明の有機発光デバイスの他の実施形態を示す部分断面図である。図１８に示される有機発光デバイス１０１は、透明基材１０２と、この透明基材１０２上に設けられた帯状パターンの赤色着色層１０３Ｒ、緑色着色層１０３Ｒ、青色着色層１０３Ｂからなるカラーフィルタ層１０３と、このようなカラーフィルタ層１０３の赤色着色層１０３Ｒ、緑色着色層１０３Ｒ、青色着色層１０３Ｂを覆うように帯状パターンの赤色変換蛍光体層１０４Ｒ（青色光を赤色蛍光に変換する層）、緑色変換蛍光体層１０４Ｇ（青色光を緑色蛍光に変換する層）、青色変換ダミー層１０４Ｂ（青色光をそのまま透過する層）からなる色変換蛍光体層１０４が設けられ、さらに、これらを覆うように配設された透明平滑化層１０５と、この透明平滑化層１０５上に、上述の実施形態の有機発光デバイス５１と同様に形成された帯状パターンの複数の透明電極層５３と、各透明電極層５３上にストライプ形状の開口部５５が位置するように配設された絶縁層５４と、各開口部５５内の透明電極層５３を被覆するように配設された発光素子層５６と、この発光素子層５６上に透明電極層５３と直交するように延設された帯状パターンの複数の電極層６０とを備えている。
【０１１４】
上記の帯状パターンの複数の透明電極層５３は、帯状パターンの赤色変換蛍光体層１０４Ｒ、緑色変換蛍光体層１０４Ｇ、青色変換ダミー層１０４Ｂ上に位置するものである。また、発光素子層５６は、各開口部５５内の透明電極層５３を被覆するように配設された正孔注入層５７、発光層５８、電子注入層５９とからなる。図示例では、発光層５８は、帯状パターンの青色発光層である。尚、発光素子層５６は、開口部５５の周縁の絶縁層５４に乗り上げるようなものであってもよい。
【０１１５】
このような有機発光デバイス１０１は、カラーフィルタ層１０３と色変換蛍光体層１０４と透明平滑化層１０５とを備え、発光層５８が青色発光層である点を除いて、上述の有機発光デバイス５１と同様である。したがって、同様の部材には、同じ部材番号を付し、ここでの説明は省略する。また、カラーフィルタ層１０３、透明平滑化層１０５は、上述のカラーフィルタ層９３、透明平滑化層９５と同様であり、ここでの説明は省略する。尚、上記の発光素子層５６は、上述の実施形態と同様に、正孔注入層と発光層とからなる構造、発光層と電子注入層とからなる構造、さらに、正孔注入層と発光層との間に正孔輸送層を介在させた構造、発光層と電子注入層との間に電子輸送層を介在させた構造等とすることができる。
【０１１６】
上記の赤色変換蛍光体層１０４Ｒおよび緑色変換蛍光体層１０４Ｇは、蛍光色素単体からなる層、あるいは、樹脂中に蛍光色素を含有した層である。青色発光を赤色蛍光に変換する赤色変換蛍光体層１０４Ｒに使用する蛍光色素としては、４−ジシアノメチレン−２−メチル−６−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）−４Ｈ−ピラン等のシアニン系色素、１−エチル−２−［４−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）−１，３−ブタジエニル］−ピリジウム−パークロレート等のピリジン色素、ローダミンＢ、ローダミン６Ｇ等のローダミン系色素、オキサジン系色素等が挙げられる。また、青色発光を緑色蛍光に変換する緑色変換蛍光体層１０４Ｇに使用する蛍光色素としては、２，３，５，６−１Ｈ，４Ｈ−テトラヒドロ−８−トリフルオロメチルキノリジノ（９，９ａ，１−ｇｈ）クマリン、３−（２′−ベンゾチアゾリル）−７−ジエチルアミノクマリン、３−（２′−ベンズイミダゾリル）−７−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノクマリン等のクマリン色素、ベーシックイエロー５１等のクマリン色素系染料、ソルベントイエロー１１、ソルベントイエロー１１６等のナフタルイミド色素等が挙げられる。さらに、直接染料、酸性染料、塩基性染料、分散染料等の各種染料も蛍光性があれば使用することができる。上述のような蛍光色素は単独、あるいは、２種以上の組み合わせで使用することができる。赤色変換蛍光体層１０４Ｒおよび緑色変換蛍光体層１０４Ｇが樹脂中に蛍光色素を含有したものである場合、蛍光色素の含有量は、使用する蛍光色素、色変換蛍光体層の厚み等を考慮して適宜設定することができるが、例えば、使用する樹脂１００重量部に対し０．１〜１重量部程度とすることができる。
【０１１７】
また、青色変換ダミー層１０４Ｂは、発光素子層５６で発光された青色光をそのまま透過してカラーフィルタ層１０３に送るものであり、赤色変換蛍光体層１０４Ｒ、緑色変換蛍光体層１０４Ｇとほぼ同じ厚みの透明樹脂層とすることができる。
赤色変換蛍光体層１０４Ｒおよび緑色変換蛍光体層１０４Ｇが樹脂中に蛍光色素を含有したものである場合、樹脂としては、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリレート、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ポリ塩化ビニル樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、マレイン酸樹脂、ポリアミド樹脂等の透明（可視光透過率５０％以上）樹脂を使用することができる。また、色変換蛍光体層１０４のパターン形成をフォトリソグラフィー法により行う場合、例えば、アクリル酸系、メタクリル酸系、ポリケイ皮酸ビニル系、環ゴム系等の反応性ビニル基を有する光硬化型レジスト樹脂を使用することができる。さらに、これらの樹脂は、上述の青色変換ダミー層１０４Ｂに使用することができる。
【０１１８】
色変換蛍光体層１０４を構成する赤色変換蛍光体層１０４Ｒと緑色変換蛍光体層１０４Ｇは、蛍光色素単体で形成する場合、例えば、所望のパターンマスクを介して真空蒸着法、スパッタリング法により帯状に形成することができる。また、樹脂中に蛍光色素を含有した層として形成する場合、例えば、蛍光色素と樹脂とを分散、または可溶化させた塗布液をスピンコート、ロールコート、キャストコート等の方法で塗布して成膜し、これをフォトリソグラフィー法でパターニングする方法、上記の塗布液をスクリーン印刷法等でパターン印刷する方法等により赤色変換蛍光体層１０４Ｒや緑色変換蛍光体層１０４Ｇを形成することができる。また、青色変換ダミー層１０４Ｂは、所望の感光性樹脂塗料をスピンコート、ロールコート、キャストコート等の方法で塗布して成膜し、これをフォトリソグラフィー法でパターニングする方法、所望の樹脂塗布液をスクリーン印刷法等でパターン印刷する方法等により形成することができる。
【０１１９】
このような色変換蛍光体層１０４の厚みは、赤色変換蛍光体層１０４Ｒおよび緑色変換蛍光体層１０４Ｇが発光素子層５６で発光された青色光を十分に吸収し蛍光を発生する機能が発現できるものとする必要があり、使用する蛍光色素、蛍光色素濃度等を考慮して適宜設定することができ、例えば、１０〜２０μｍ程度とすることができ、赤色変換蛍光体層１０４Ｒと緑色変換蛍光体層１０４Ｇとの厚みが異なる場合があってもよい。
青色発光である有機発光材料としては、例えば、ベンゾチアゾール系、ベンゾイミダゾール系、ベンゾオキサゾール系等の蛍光増白剤、金属キレート化オキシノイド化合物、スチリルベンゼン系化合物、ジスチリルピラジン誘導体、芳香族ジメチリディン系化合物等を挙げることができる。
【０１２０】
具体的には、２−２′−（ｐ−フェニレンジビニレン）−ビスヘンゾチアゾール等のベンゾチアゾール系； ２−［２−［４−（２−ベンゾイミダゾリル）フェニル］ビニル］ベンゾイミダゾール、２−［２−（４−カルボキシフェニル）ビニル］ベンゾイミダゾール等のベンゾイミダゾール系； ２，５−ビス（５，７−ジ−ｔ−ペンチル−２−ベンゾオキサゾリル）−１，３，４−チアジアゾール、４，４′−ビス（５，７−ｔ−ペンチル−２−ベンゾオキサゾリル）スチルベン、２−［２−（４−クロロフェニル）ビニル］ナフト［１，２−ｄ］オキサゾール等のベンゾオキサゾール系等の蛍光増白剤を挙げることができる。
また、上記の金属キレート化オキシノイド化合物としては、トリス（８−キノリノール）アルミニウム、ビス（８−キノリノール）マグネシウム、ビス（ベンゾ［ｆ］−８−キノリノール）亜鉛等の８−ヒドロキシキノリン系金属錯体やジリチウムエピントリジオン等を挙げることができる。
【０１２１】
また、上記のスチリルベンゼン系化合物としては、１，４−ビス（２−メチルスチリル）ベンゼン、１，４−ビス（３−メチルスチリル）ベンゼン、１，４−ビス（４−メチルスチリル）ベンゼン、ジスチリルベンゼン、１，４−ビス（２−エチルスチリル）ベンゼン、１，４−ビス（３−エチルスチリル）ベンゼン、１，４−ビス（２−メチルスチリル）−２−メチルベンゼン、１，４−ビス（２−メチルスチリル）−２−エチルベンゼン等を挙げることができる。
また、上記のジスチリルピラジン誘導体としては、２，５−ビス（４−メチルスチリル）ピラジン、２，５−ビス（４−エチルスチリル）ピラジン、２，５−ビス［２−（１−ナフチル）ビニル］ピラジン、２，５−ビス（４−メトキシスチリル）ピラジン、２，５−ビス［２−（４−ビフェニル）ビニル］ピラジン、２，５−ビス［２−（１−ピレニル）ビニル］ピラジン等を挙げることができる。
【０１２２】
また、上記の芳香族ジメチリディン系化合物としては、１，４−フェニレンジメチリディン、４，４−フェニレンジメチリディン、２，５−キシレンジメチリディン、２，６−ナフチレンジメチリディン、１，４−ビフェニレンジメチリディン、１，４−ｐ−テレフェニレンジメチリディン、９，１０−アントラセンジイルジルメチリディン、４，４′−ビス（２，２−ジ−ｔ−ブチルフェニルビニル）ビフェニル、４，４′−ビス（２，２−ジフェニルビニル）ビフェニル等、およびその誘導体を挙げることができる。
【０１２３】
さらに、発光層の材料として、一般式（Ｒｓ−Ｑ）２−ＡＬ−Ｏ−Ｌで表される化合物も挙げることができる（上記式中、ＡＬはベンゼン環を含む炭素原子６〜２４個の炭化水素であり、Ｏ−Ｌはフェニラート配位子であり、Ｑは置換８−キノリノラート配位子であり、Ｒｓはアルミニウム原子に置換８−キノリノラート配位子が２個以上結合するのを立体的に妨害するように選ばれた８−キノリノラート置換基を表す）。具体的には、ビス（２−メチル−８−キノリノラート）（パラーフェニルフェノラート）アルミニウム（III）、ビス（２−メチル−８−キノリノラート）（１−ナフトラート）アルミニウム（III）等が挙げられる。
尚、上述の実施形態は例示であり、本発明はこれらに限定されるものではない。例えば、カラーフィルタ層９３，１０３の非形成部位にブラックマトリックスを備えるものであってもよい。
【実施例】
【０１２４】
次に、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施例の記載に限定されるものではない。
【０１２５】
［実施例１］
印刷機１０の版胴２４の回転速度を１０〜１００ｒｐｍの範囲内で変更して、基材５２上にインキ３０を印刷した。
インキ３０としては、せん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）が８０ｃｐであり、沸点が１８６℃であるインキを用いた。インキ３０の固形分の重量％を２．５重量％、インキ３０の溶媒の表面張力を３２ｄｙｎｅ／ｃｍとした。
アニロックス版１としては、セル２の線数が１４０線／ｉｎｃｈ、セル２の深さが４０μｍ、成膜部位全体の面積に占めるセル２全体の面積の比率が７５％であるアニロックス版を用いた。
版胴２４のフレキソ版２３としては、水現像可能な樹脂材料からなるフレキソ版を用いた。フレキソ版２３の解像度は２５０ｐｐｉ（ｐｉｘｅｌｓ ｐｅｒ ｉｎｃｈ）とした。
【０１２６】
（評価項目）
上述のアニロックス版１および版胴２４を備えた印刷機１０を用いて、基材５２上にインキ３０を転移させ、これによって基材５２上に印刷物３０ａを形成した。この際、図１９（ａ）に示すように、印刷方向Ｐにおける印刷物３０ａの長さｔ２が４００μｍとなるよう、版胴２４のフレキソ版２３の凸部２３ａを設定した。なお、印刷物３０ａの線幅ｔ１に対応するフレキソ版２３の凸部２３ａは１００μｍとした。形成された印刷物３０ａについて、以下の２つの項目の評価を行った。
（１）線幅変動率
はじめに、基材５２上に形成される印刷物３０ａの線幅を測定した。図１９（ａ）に示すように、印刷物３０ａの長さ方向（印刷方向Ｐ）における中点（測定場所２）と、中点から前後に長さｔ３だけずれた点（測定場所１および測定場所３）とにおいて、それぞれ線幅の測定を実施した。このとき、長さｔ３を１３０μｍとした。次に、測定された線幅の平均値（平均線幅）、最大値（線幅ｍａｘ）、最小値（線幅ｍｉｎ）を算出した。その後、当該平均値、最大値および最小値に基づき、線幅変動率（％）を算出した。なお線幅変動率（％）は、具体的には以下の式により導かれる。
線幅変動率（％）＝｛（線幅ｍａｘ−線幅ｍｉｎ）／平均線幅｝×１００
（２）膜厚変動率
はじめに、基材５２上に形成される印刷物３０ａの厚み（膜厚）を複数の点で測定し、次に、測定された膜厚の平均値（平均膜厚）、最大値（膜厚ｍａｘ）、最小値（膜厚ｍｉｎ）を算出した。その後、当該平均値、最大値および最小値に基づき、膜厚変動率（％）を算出した。なお膜厚変動率（％）は、具体的には以下の式により導かれる。
膜厚変動率（％）＝｛（膜厚ｍａｘ−膜厚ｍｉｎ）／平均膜厚｝×１００
【０１２７】
基材定盤６上における版胴２４の回転速度を１０〜１００ｒｐｍの範囲内で変更して、印刷物３０ａの線幅変動率を評価した結果を表１に示す。なお表１において、線幅変動率が５％以内となっている場合を「ＯＫ」、線幅変動率が５％よりも大きくなっている場合を「ＮＧ」と判定している。
【表１】
表１に示されているように、版胴２４の回転速度が２０ｒｐｍ以上となるよう制御部９により版胴２４を制御することにより、基材５２上に形成される印刷物３０ａの線幅変動率を５％以内とすることができた。とりわけ、版胴２４の回転速度が４０ｒｐｍ以上となるよう制御部９により版胴２４を制御することにより、基材５２上に形成される印刷物３０ａの線幅変動率を４％以内とすることができており、さらに好ましいといえる。一方、版胴２４の回転速度が２０ｒｐｍよりも小さいときは、表１に示すように、印刷方向Ｐの前方に進むにつれて印刷物３０ａの線幅が小さくなっていくのが見られた。このため、版胴２４の回転速度が２０ｒｐｍよりも小さいときは、印刷物３０ａの線幅変動率が５％よりも大きくなっていた。
【０１２８】
次に、印刷機１０の版胴２４の回転速度を１０〜１００ｒｐｍの範囲内で変更して、印刷物３０ａの膜厚変動率を評価した結果を表２に示す。なお表２において、膜厚変動率が５％以内となっている場合を「ＯＫ」、膜厚変動率が５％よりも大きくなっている場合を「ＮＧ」と判定している。
【表２】
表２に示されているように、版胴２４の回転速度が２０ｒｐｍ以上となるよう制御部９により版胴２４を制御することにより、基材５２上に形成される印刷物３０ａの膜厚変動率を５％以内とすることができた。とりわけ、版胴２４の回転速度が４０ｒｐｍ以上となるよう制御部９により版胴２４を制御することにより、基材５２上に形成される印刷物３０ａの膜厚変動率を４％以内とすることができており、さらに好ましいといえる。一方、版胴２４の回転速度が４０ｒｐｍよりも小さくなっているときは、印刷物３０ａの膜厚変動率が５％よりも大きくなっていた。
【０１２９】
［実施例２］
版胴２４のフレキソ版２３の解像度を４０〜２５０ｐｐｉの範囲内で変更して、基材５２上にインキ３０を印刷した。このとき、アニロックス版１上における版胴２４の回転速度を２０ｒｐｍとし、基材定盤６上における版胴２４の回転速度を１００ｒｐｍとした。その他の条件は実施例１の場合と同一であるので、詳細な説明は省略する。
【０１３０】
インキ３０からなる印刷物３０ａの膜厚を複数の点で測定し、膜厚変動率を算出した。算出された膜厚変動率を表３に示す。なお表３において、膜厚変動率が５％以内となっている場合を「ＯＫ」、膜厚変動率が５％よりも大きくなっている場合を「ＮＧ」と判定している。
【表３】
表３に示されているように、フレキソ版２３の解像度が１００ｐｐｉ以上となっている場合に、基材５２上に形成される印刷物３０ａの膜厚変動率が５％以内となっていた。とりわけ、フレキソ版２３の解像度が１２０ｐｐｉ以上となっている場合に、基材５２上に形成される印刷物３０ａの膜厚変動率が４％以内となっており、更に好ましいといえる。一方、フレキソ版２３の解像度が１００ｐｐｉよりも低い場合、基材５２上に形成される印刷物３０ａの膜厚変動率が５％よりも大きくなっていた。フレキソ版２３の解像度が低いほど、すなわち基材５２上に形成される印刷物３０ａ一個あたりの面積が大きいほど、印刷物３０ａの膜厚の最大値と最小値の差が大きくなるといえる。
【０１３１】
［実施例３］
様々な特性のインキを用いて、印刷機１０により基材５２上にインキを印刷した。本実施例においては、インキの様々な特性のうち、特にインキの粘度に着目した。また、アニロックス版１上における版胴２４の回転速度を２０ｒｐｍとし、基材定盤６上における版胴２４の回転速度を１００ｒｐｍとした。その他の条件は実施例１の場合と同一であるので、詳細な説明は省略する。
【０１３２】
はじめに、せん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）が８．９７〜３２０ｃＰの範囲内となっている様々なインキを準備し、次に、これらのインキを印刷機１０により基材５２上に印刷した。その後、インキからなる印刷物３０ａの膜厚を複数の点で測定し、膜厚変動率を算出した。各インキの特性、および算出された膜厚変動率を表４に示す。なお表４において、膜厚変動率が５％以内となっている場合を「ＯＫ」、膜厚変動率が５％よりも大きくなっている場合を「ＮＧ」と判定している。
【表４】
表4に示されているように、インキの粘度が５２〜１９２ｃＰの範囲内となっている場合に、基材５２上に形成される印刷物３０ａの膜厚変動率が５％以内となっていた。一方、インキの粘度が４６．６ｃＰ以下の場合、基材５２上に形成される印刷物３０ａの膜厚変動率が５％より大きくなっていた。これは、インキの粘度が小さいことによって、若しくはインキの沸点が高いことによって、基材５２上に印刷されるインキにムラが生じたためと考えられる。また、インキの粘度が２４５ｃＰ以上の場合も、基材５２上に形成される印刷物３０ａの膜厚変動率が５％より大きくなっていた。これは、インキの粘度が大きいことによるレベリング不良に起因していると考えられる。
【０１３３】
［実施例４］
様々な特性のインキを用いて、印刷機１０により基材５２上にインキを印刷した。本実施例においては、インキの様々な特性のうち、特にインキの溶媒の表面張力に着目した。また、アニロックス版１上における版胴２４の回転速度を２０ｒｐｍとし、基材定盤６上における版胴２４の回転速度を１００ｒｐｍとした。その他の条件は実施例１の場合と同一であるので、詳細な説明は省略する。
【０１３４】
はじめに、溶媒の表面張力が３０．8〜３９ｄｙｎｅ／ｃｍの範囲内となっている様々なインキを準備し、次に、これらのインキを印刷機１０により基材５２上に印刷した。その後、インキからなる印刷物３０ａの膜厚を複数の点で測定し、膜厚変動率を算出した。各インキの特性、および算出された膜厚変動率を表５に示す。なお表５において、膜厚変動率が５％以内となっている場合を「ＯＫ」、膜厚変動率が５％よりも大きくなっている場合を「ＮＧ」と判定している。
【表５】
表５に示されているように、インキの溶媒の表面張力が３０．８〜３６．８ｄｙｎｅ／ｃｍの範囲内となっている場合に、基材５２上に形成される印刷物３０ａの膜厚変動率が５％以内となっていた。とりわけ、インキの溶媒の表面張力が３０．８〜３５．５ｄｙｎｅ／ｃｍの範囲内となっている場合に、基材５２上に形成される印刷物３０ａの膜厚変動率が４％以内となっており、更に好ましいといえる。
一方、インキの溶媒の表面張力が３９ｄｙｎｅ／ｃｍとなっている場合、基材５２上に形成される印刷物３０ａの膜厚変動率が５％よりも大きくなっていた。これは、インキの溶媒の表面張力が大きく、かつインキの沸点が高いことによるレベリング不良に起因していると考えられる。
【０１３５】
［実施例５］
様々な特性のインキを用いて、印刷機１０により基材５２上にインキを印刷した。本実施例においては、インキの様々な特性のうち、特にインキの溶媒の沸点に着目した。また、アニロックス版１上における版胴２４の回転速度を２０ｒｐｍとし、基材定盤６上における版胴２４の回転速度を１００ｒｐｍとした。その他の条件は実施例１の場合と同一であるので、詳細な説明は省略する。
【０１３６】
はじめに、溶媒の沸点が１６４〜２６８℃の範囲内となっている様々なインキを準備し、次に、これらのインキを印刷機１０により基材５２上に印刷した。その後、インキからなる印刷物３０ａの膜厚を複数の点で測定し、膜厚変動率を算出した。各インキの特性、および算出された膜厚変動率を表６に示す。なお表６において、膜厚変動率が５％以内となっている場合を「ＯＫ」、膜厚変動率が５％よりも大きくなっている場合を「ＮＧ」と判定している。
【表６】
表６に示されているように、インキの溶媒の沸点が１８５〜２４５℃の範囲内となっている場合に、基材５２上に形成される印刷物３０ａの膜厚変動率が５％以内となっていた。とりわけ、インキの溶媒の沸点が１８５〜２４０℃の範囲内となっている場合に、基材５２上に形成される印刷物３０ａの膜厚変動率が４％以内となっており、更に好ましいといえる。
一方、インキの溶媒の沸点が１６４℃となっている場合、基材５２上に形成される印刷物３０ａの膜厚変動率が５％よりも大きくなっていた。これは、インキの溶媒の沸点が低く、かつインキの粘度が小さいことによって、基材５２上に印刷されるインキにムラが生じたためと考えられる。また、インキの溶媒の沸点が２６８℃となっている場合も、基材５２上に形成される印刷物３０ａの膜厚変動率が５％よりも大きくなっていた。これは、インキの溶媒の沸点が高く、かつ表面張力が小さいことによるレベリング不良に起因していると考えられる。
【０１３７】
［実施例６］
様々な特性のインキを用いて、印刷機１０により基材５２上にインキを印刷した。本実施例においては、インキの様々な特性のうち、特にインキに含有される固形分の重量％に着目した。インキとしては、赤色発光層用インキを用いた。また本実施例において、各インキの溶媒の表面張力は３１．８ｄｙｎｅ／ｃｍ、各インキの溶媒の沸点は１８５℃となっていた。また、アニロックス版１上における版胴２４の回転速度を２０ｒｐｍとし、基材定盤６上における版胴２４の回転速度を１００ｒｐｍとした。その他の条件は実施例１の場合と同一であるので、詳細な説明は省略する。
【０１３８】
はじめに、固形分の重量％が１〜４．５重量％の範囲内となっている様々なインキを準備し、次に、これらのインキを印刷機１０により基材５２上に印刷した。その後、インキからなる印刷物３０ａの膜厚を測定した。各インキの特性、および測定された膜厚を表７に示す。なお表７において、膜厚が７０ｎｍ〜１２０ｎｍの範囲内となっている場合を「ＯＫ」、膜厚が７０ｎｍ〜１２０ｎｍの範囲外となっている場合を「ＮＧ」と判定している。
【表７】
表７に示されているように、インキに含有される固形分の重量％が１．５〜４重量％の範囲内となっている場合に、基材５２上に形成される印刷物３０ａの膜厚が７０ｎｍ〜１２０ｎｍの範囲内となっていた。一方、固形分の重量％が４．５または５重量％の場合は、印刷物３０ａの膜厚が１２０ｎｍよりも大きくなっていた。これは、固形分の溶け残りが生じていること、または、用いた溶剤によってはインキ粘度が大きくなりすぎていたことなどに起因していると考えられる。また、インキに含有される固形分の重量％が１重量％となっている場合は、基材５２上に形成される印刷物３０ａの膜厚が７０ｎｍよりも小さくなっていた。以上の結果から、インキに含有される固形分の重量％が１．５〜４重量％の範囲内となっていることが好ましいといえる。
【０１３９】
［実施例７］
印刷機１０で用いるアニロックス版として、格子状に配置されたセルを有するアニロックス版１１を用いて、基材５２上にインキ３０を印刷した。このとき、インキ３０としては、溶媒の沸点が１８５℃、溶媒の表面張力が３１．８ｄｙｎｅ／ｃｍ、固形分の含有量が２．５重量％であって、粘度が７８ｃＰとなっているインキを用いた。また、アニロックス版１上における版胴２４の回転速度を２０ｒｐｍとし、基材定盤６上における版胴２４の回転速度を１００ｒｐｍとした。その他の条件は実施例１の場合と同一であるので、詳細な説明は省略する。
【０１４０】
（セルの線数を変更しての評価）
はじめに、アニロックス版１１のセル１２の線数を９５〜３４０線／ｉｎｃｈの範囲内で変更して、基材５２上にインキ３０を印刷した。これによって形成された印刷物３０ａの膜厚を複数の点で測定した。また、複数の点における膜厚の測定結果に基づき、膜厚変動率を算出した。測定された膜厚の平均値（平均膜厚）、および膜厚変動率を表８に示す。なお表８において、平均膜厚が７０ｎｍ〜１２０ｎｍの範囲内となっており、かつ膜厚変動率が５％以内となっている場合を「ＯＫ」とし、平均膜厚が７０ｎｍ〜１２０ｎｍの範囲外となっているか、または膜厚変動率が５％よりも大きくなっている場合を「ＮＧ」と判定している。また表８において、「面積率」とは、アニロックス版１１の成膜部位全体の面積（セル１２および非セル部１３全体の面積）に占めるセル１２全体の面積の比率のことである。
【表８】
表８に示されているように、アニロックス版１１のセル１２の線数が１００〜３００線／ｉｎｃｈの範囲内となっている場合に、基材５２上に形成される印刷物３０ａの平均膜厚が７０ｎｍ〜１２０ｎｍの範囲内となっており、かつ膜厚変動率が５％以内となっていた。とりわけ、アニロックス版１１のセル１２の線数が１２０〜２００線／ｉｎｃｈの範囲内となっている場合に、基材５２上に形成される印刷物３０ａの平均膜厚が８０ｎｍ以上となっており、かつ膜厚変動率が４％以内となっており、更に好ましいといえる。
一方、アニロックス版１１のセル１２の線数が９５線／ｉｎｃｈの場合は、基材５２上に形成される印刷物３０ａの膜厚変動率が５％よりも大きくなっていた。これは、セル１２一個あたりの面積が大きいことにより、基材５２上に印刷されるインキ３０のムラが大きくなったためと考えられる。また、アニロックス版１１のセル１２の線数が３００線／ｉｎｃｈよりも大きい場合は、基材５２上に形成される印刷物３０ａの膜厚が７０ｎｍよりも小さくなっていた。
【０１４１】
（セルの面積率を変更しての評価）
次に、アニロックス版１１のセル１２の面積率（アニロックス版１１の成膜部位全体の面積に占めるセル１２全体の面積の比率）を５０〜９５％の範囲内で変更して、基材５２上にインキ３０を印刷した。これによって形成された印刷物３０ａの膜厚を複数の点で測定した。また、複数の点における膜厚の測定結果に基づき、膜厚変動率を算出した。測定された膜厚の平均値（平均膜厚）、および膜厚変動率を表９に示す。なお表９において、平均膜厚が７０ｎｍ〜１２０ｎｍの範囲内となっており、かつ膜厚変動率が５％以内となっている場合を「ＯＫ」とし、平均膜厚が７０ｎｍ〜１２０ｎｍの範囲外となっているか、または膜厚変動率が５％よりも大きくなっている場合を「ＮＧ」と判定している。
【表９】
表９に示されているように、アニロックス版１１のセル１２の面積率が５５〜９５％の範囲内となっている場合に、基材５２上に形成される印刷物３０ａの平均膜厚が７０ｎｍ〜１２０ｎｍの範囲内となっており、かつ膜厚変動率が５％以内となっていた。とりわけ、アニロックス版１１のセル１２の面積率が７０〜９５％の範囲内となっている場合に、基材５２上に形成される印刷物３０ａの平均膜厚が８０ｎｍよりも大きくなっており、更に好ましいといえる。
一方、アニロックス版１１のセル１２の面積率が５０％の場合は、基材５２上に形成される印刷物３０ａの平均膜厚が７０ｎｍよりも小さくなっていた。
【０１４２】
（セルの版深さを変更しての評価）
次に、アニロックス版１１のセル１２の深さ（版深さ）を１２〜１１０μｍの範囲内で変更して、基材５２上にインキ３０を印刷した。これによって形成された印刷物３０ａの膜厚を複数の点で測定した。また、複数の点における膜厚の測定結果に基づき、膜厚変動率を算出した。測定された膜厚の平均値（平均膜厚）、および膜厚変動率を表１０に示す。なお表１０において、平均膜厚が７０ｎｍ〜１２０ｎｍの範囲内となっており、かつ膜厚変動率が５％以内となっている場合を「ＯＫ」とし、平均膜厚が７０ｎｍ〜１２０ｎｍの範囲外となっているか、または膜厚変動率が５％よりも大きくなっている場合を「ＮＧ」と判定している。
【表１０】
表１０に示されているように、アニロックス版１１のセル１２の版深さが１６〜１００μｍの範囲内となっている場合に、基材５２上に形成される印刷物３０ａの平均膜厚が７０ｎｍ〜１２０ｎｍの範囲内となっており、かつ膜厚変動率が５％以内となっていた。とりわけ、アニロックス版１１のセル１２の版深さが１６〜８０μｍの範囲内となっている場合に、基材５２上に形成される印刷物３０ａの膜厚変動率が４％以内となっており、更に好ましいといえる。
一方、アニロックス版１１のセル１２の版深さが１２〜１４μｍの範囲内となっている場合は、基材５２上に形成される印刷物３０ａの平均膜厚が７０ｎｍよりも小さくなっていた。また、アニロックス版１１のセル１２の版深さが１１０μｍなっている場合は、基材５２上に形成される印刷物３０ａの膜厚変動率が５％よりも大きくなっていた。
【０１４３】
［実施例８］
印刷機１０で用いるアニロックス版として、ストライプ状に配置されたセルを有するアニロックス版１を用いて、基材５２上にインキ３０を印刷した。具体的には、アニロックス版１の各セル２における印刷方向Ｐの幅ｂと印刷方向Ｐに直交する方向での幅ａの比ｂ／ａを０．５〜１０００の範囲内で変更して、基材５２上にインキ３０を印刷した。なお、各セル２の延びる方向は、印刷方向Ｐと平行な方向とした（図３（ａ）参照）。また、各セル２の線数は１５０線／ｉｎｃｈ、面積率は８５％、版深さは４０μｍとした。その他の条件は実施例７の場合と略同一であるので、詳細な説明は省略する。
【０１４４】
各セル２の比ｂ／ａを０．５〜１０００の範囲内で変更して、基材５２上にインキ３０を印刷した。これによって形成された印刷物３０ａの膜厚を複数の点で測定した。また、複数の点における膜厚の測定結果に基づき、膜厚変動率を算出した。算出された膜厚変動率を表１１に示す。なお表１１において、膜厚変動率が５％以内となっている場合を「ＯＫ」とし、膜厚変動率が５％よりも大きくなっている場合を「ＮＧ」と判定している。
【表１１】
表１１に示されているように、アニロックス版１のセル２のｂ／ａが０．６５〜１０００の範囲内となっている場合に、基材５２上に形成される印刷物３０ａの膜厚変動率が５％以内となっていた。とりわけ、アニロックス版１のセル２のｂ／ａが１〜１０００の範囲内となっている場合に、基材５２上に形成される印刷物３０ａの膜厚変動率が３％以内となっており、更に好ましいといえる。
一方、アニロックス版１のセル２のｂ／ａが０．５５以下となっている場合は、基材５２上に形成される印刷物３０ａの膜厚変動率が５％よりも大きくなっていた。
【０１４５】
［実施例９］
本発明による有機発光デバイスについて、１０００ｃｄ／ｍ２の時の発光効率と、定電流駆動時に発光輝度が半減するまでの時間を素子寿命として評価した。はじめに、本発明による有機発光デバイスを形成した工程について説明する。
【０１４６】
（透明電極層の形成）
まず、透明基材５２（厚み０．７ｍｍ）に対して、イオンプレーティング法により膜厚２００ｎｍの酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）電極膜を形成し、このＩＴＯ電極膜上に感光性レジストを塗布し、マスク露光、現像、ＩＴＯ電極膜のエッチングを行って、幅２．２ｍｍのストライプ形状の透明電極層５３を４ｍｍピッチで１０本形成した。
（絶縁層の形成）
次に、上記の透明基材（厚み０．７ｍｍ）に、洗浄処理と紫外線プラズマ洗浄を施し、その後、ネガ型感光性樹脂をスピンコート法で塗布し、フォトリソグラフィープロセスでパターニングして、各透明電極層５３上に２ｍｍ×２ｍｍの発光エリア（開口部５５）が４ｍｍピッチで存在するような絶縁層５４（厚み１μｍ）を形成した。
（正孔注入層の形成）
グラビアオフセット印刷法を用いて、開口部５５内および絶縁層５４上に、正孔注入層５７をベタ層として形成した。正孔注入層５７の厚みは７５ｎｍとした。
【０１４７】
（発光層の形成）
本発明の印刷方法を用いて、正孔注入層５７上に発光層５８（赤色発光層５８Ｒ）を形成した。
印刷方法で用いる印刷機１０のインキ３０としては、せん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）が８０ｃｐであり、沸点が１８６℃であるインキを用いた。また、インキ３０の固形分の重量％を２．５重量％、インキ３０の溶媒の表面張力を３２ｄｙｎｅ／ｃｍとした。
印刷機１０のアニロックス版１としては、セル２の線数が１４０線／ｉｎｃｈ、セル２の深さが４０μｍ、成膜部位全体の面積に占めるセル２全体の面積の比率が７５％であり、セル２の配置が格子状に区画化されたセル配置となっているアニロックス版を用いた。
印刷機１０の版胴２４のフレキソ版２３としては、レーザ彫刻可能な樹脂材料からなるフレキソ版を用いた。フレキソ版２３の解像度は２５０ｐｐｉとした。また、基材定盤６上における版胴２４の回転速度が１００ｒｐｍとなるよう制御部９により版胴２４を制御した。
このような印刷機１０を用いて、正孔注入層５７上に厚さ９０ｎｍの発光層５８（赤色発光層５８Ｒ）を形成した。
【０１４８】
（電子注入層の形成）
発光層５８を形成した面側に、２．２ｍｍ幅のストライプ状の開口部を４ｍｍピッチで備えたメタルマスクを、この開口部が上記のストライプ形状の透明電極層５３と直交し、かつ、上記の絶縁層５４の発光エリア（開口部５５）上に位置するように配置した。次に、このマスクを介して真空蒸着法によりカルシウムを蒸着（蒸着速度＝０．１ｎｍ／秒）して成膜して電子注入層５９（厚み１０ｎｍ）を４ｍｍピッチで１０本形成した。
（電極層の形成）
次に、電子注入層５９の形成に用いたメタルマスクをそのまま使用して、真空蒸着法によりアルミニウムを蒸着（蒸着速度＝０．４ｎｍ／秒）して成膜した。これにより、電子注入層５９上に、アルミニウムからなる幅２．２ｍｍのストライプ形状の電極層６０（厚み３００ｎｍ）を形成した。
最後に、電極層を形成した面側に、紫外線硬化型接着剤を介して封止板を貼り合わせることにより、本発明の有機発光デバイスを得た。
【０１４９】
この有機発光デバイスについて、１０００ｃｄ／ｍ２の時の発光効率と、定電流駆動時に発光輝度が半減するまでの時間を素子寿命として評価したところ、発光効率が０．８３ｃｄ／Ａ、素子寿命が１１０００時間であった。尚、素子寿命は、初期の輝度が１００ｃｄ／ｍｍ２となるように電流値を設定し、その電流で連続駆動させ、５０ｃｄに半減するまでの時間で評価した。
【０１５０】
［比較例］
発光層を形成するための印刷方法としてスピンコート法を使用した他は、実施例９と同様にして、有機発光デバイスを得た。この有機発光デバイスでは、正孔注入層の平均厚みが４０ｎｍ、赤色発光層の平均厚みが６０ｎｍであった。
この有機発光デバイスについて、１０００ｃｄ／ｍ２の時の発光効率と、定電流駆動時に発光輝度が半減するまでの時間を素子寿命として評価したところ、発光効率が０．８ｃｄ／Ａ、素子寿命が６０００時間であり、発光効率、寿命が実施例９の有機発光デバイスに比べて劣るものであった。
【符号の説明】
【０１５１】
１，１′，１１，１１′…アニロックス版
２，２′，１２，１２′…セル
３，１３…非セル部
５…フレーム
６…基材定盤
７…インキ供給部
８…ドクターシステム
８ａ…第１ドクター
８ｂ…第２ドクター
９…制御部
１０…印刷機
２３…フレキソ版
２３ａ…凸部
２３ｂ…凹部
２４…版胴
２５…金属ロール
２６…プラスチックスリーブ
３０…インキ
３０ａ…印刷物
５１，８１，９１，１０１…有機発光デバイス
５２，８２，９２，１０２…透明基材
５３…透明電極層
５４，７４…絶縁層
５５，７５…開口部
５６…発光素子層
５７…正孔注入層
５７ａ…正孔輸送層
５８，５８Ｒ，５８Ｇ，５８Ｂ，７８Ｒ，７８Ｇ，７８Ｇ…発光層
５９…電子注入層
６０…電極層
７３…電極配線パターン
１００…印刷機
１０１…制御部
１０２…アニロックスロール
１０３…版胴
１０４…基材定盤
１０５…印刷機
１０６…アニロックス版
【技術分野】
【０００１】
本発明は、枚様式の印刷機を用いてフレキソ印刷を行う印刷方法に関する。また本発明は、当該印刷方法を用いて有機発光デバイスの発光素子層における発光層を形成する方法に関する。また本発明は、前記印刷方法を用いて発光層を形成する工程を含む有機発光デバイスの形成方法、および有機発光デバイスに関する。
【背景技術】
【０００２】
０．０１〜１μｍ程度の薄い層を高精度で枚様式に印刷する方法として、弾性材料からなる凸版（フレキソ版）を有する版胴を用いたフレキソ印刷が知られている。フレキソ印刷においては、ゴムまたは樹脂などの弾性材料からなる柔軟なフレキソ版が用いられるとともに、グラビア印刷およびグラビアオフセット印刷などと比べて低い印圧で印刷が行われる。このためフレキソ印刷は、圧力に対する耐性が低い層の上に、新たな微細な層を精度良く印刷する用途に適している。
【０００３】
例えば引用文献１において、基材を載置する基材定盤と、基材定盤上に配置され、フレキソ版を有する回転式の版胴と、版胴に臨むように配置されたアニロックスロールとを備えた有機ＥＬパネル製造用印刷機が提案されている。引用文献１においては、上記の有機ＥＬパネル製造用印刷機によって、圧力に対する耐性が低い画素電極の上に有機発光層用インキが印刷され、これによって有機発光層が形成される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００９−５９４９６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上述のように、フレキソ版は、ゴムまたは樹脂などの柔軟な弾性材料から形成されている。このため、インキが基材上に転移されるようフレキソ版を基材に押し付ける際、フレキソ版が内方に向って弾性的に変形させられる。このとき、内方に向って弾性的に変形させられているフレキソ版には、外方（基材の方）に向う弾性的な反発力が生じている。この場合、当該弾性的な反発力に起因してフレキソ版が基材に対してバウンドすることが考えられる。このようなバウンドが生じると、バウンドの際の振動に起因して、基材上に印刷されるインキの厚みにばらつきが生じてしまう。
【０００６】
本発明は、このような点を考慮してなされたものであり、基材上にインキを均一な厚みで印刷することができる印刷方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、枚様式の印刷機を用いてフレキソ印刷を行う方法において、フレーム上に固定された基材定盤上に基材を載置する工程と、前記フレーム上に固定され、その上面に複数のセルを有する平板状のアニロックス版にインキを供給する工程と、前記アニロックス版上で版胴を走行させることにより、版胴のフレキソ版がアニロックス版のセルからインキを受ける工程と、前記基材定盤上の基材上で前記版胴を走行させることにより、版胴のフレキソ版から基材上にインキを転移させる工程と、を備え、前記インキのせん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）が５１〜２００ｃＰの範囲内であり、前記版胴のフレキソ版が弾性材料からなり、前記基材上で前記版胴を走行させる際、前記版胴の回転速度が２０ｒｐｍ以上であることを特徴とする印刷方法である。
【０００８】
本発明の印刷方法において、好ましくは、前記インキは、溶媒と、溶媒中に溶解された固形分からなり、前記溶媒は、その表面張力が３７ｄｙｎｅ／ｃｍ以下であり、かつその沸点が１６５〜２６５℃の範囲内である。
【０００９】
本発明の印刷方法において、好ましくは、前記インキにおける固形分の含有量が１．５〜４．０重量％の範囲内である。
【００１０】
本発明の印刷方法において、前記アニロックス版は、アニロックス版の上面に格子状に配置され、インキ供給部からのインキが充填される複数のセルを有していてもよい。この場合、好ましくは、アニロックス版におけるセルの線数が１００〜３００線／ｉｎｃｈの範囲内であり、かつアニロックス版の成膜部位に占める総セル面積が５５〜９５％の範囲内であり、各セルの深さが１５〜１００μｍの範囲内である。
【００１１】
本発明の印刷方法において、前記アニロックス版は、アニロックス版の上面にストライプ状に配置され、インキ供給部からのインキが充填される複数のセルを有していてもよい。この場合、好ましくは、アニロックス版におけるセルの線数が１００〜３００線／ｉｎｃｈの範囲内であり、かつアニロックス版の成膜部位に占める総セル面積が５５〜９５％の範囲内であり、各セルの深さが１５〜１００μｍの範囲内であり、各セルにおける印刷方向の最大幅ｂと印刷方向に直交する方向での最大幅ａの比ｂ／ａが０．６以上である。
【００１２】
本発明の印刷方法において、前記版胴のフレキソ版が、水現像可能な樹脂材料からなっていてもよい。
【００１３】
本発明の印刷方法において、前記版胴のフレキソ版が、レーザ彫刻可能な樹脂材料からなっていてもよい。
【００１４】
本発明の印刷方法において、前記版胴は、金属ロールと、金属ロールの外周上に粘着材により固定されたフレキソ版とからなっていてもよい。
【００１５】
本発明の印刷方法において、前記版胴は、金属ロールと、金属ロールを取り囲む円筒状のプラスチックスリーブと、プラスチックスリーブの外周上に設けられたフレキソ版とからなっていてもよい。この場合、前記プラスチックスリーブは、前記金属ロール内に配置されたエアークランプ機構によって金属ロール上に固定されていてもよい。または、前記プラスチックスリーブは、前記金属ロール内に配置された吸着機構によって金属ロール上に固定されていてもよい。
【００１６】
本発明は、対向する電極と、当該電極間に配設され少なくとも発光層を有する発光素子層と、を備えた有機発光デバイスの当該発光層を上記記載の印刷方法を用いて形成する方法において、少なくとも有機発光材料を含有するインキを前記アニロックス版のセルに充填させる工程と、当該セルから前記版胴のフレキソ版に前記インキを受けさせる工程と、前記版胴上の前記インキを基材上に転移させる工程と、を備え、前記インキのせん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）が５１〜２００ｃＰの範囲内であり、前記基材上で前記版胴を走行させる際、前記版胴の回転速度が２０ｒｐｍ以上であることを特徴とする発光層形成方法である。
【００１７】
本発明は、対向する電極と、当該電極間に配設され少なくとも発光層を有する発光素子層と、を含む有機発光デバイスを形成する方法において、基材を準備する工程と、前記基材上に、所望のパターンを有する第１電極層を形成する工程と、前記基材上に、前記第１電極層の所望の部位を上方に露出させる複数の開口部を有する絶縁層を形成する工程と、前記開口部内および前記絶縁層上に、正孔注入層を形成する工程と、前記開口部内の前記正孔注入層上に、発光層を形成する工程と、前記発光層のうち所望の開口部内に位置する発光層に接続されるよう、第２電極層を形成する工程と、を備え、前記正孔注入層は、グラビア印刷法またはグラビアオフセット印刷法により、前記複数の開口部を全て覆うよう形成され、前記発光層は、上記記載の発光層形成方法により形成されることを特徴とする有機発光デバイスの形成方法である。
【００１８】
本発明の有機発光デバイス形成方法は、前記正孔注入層と前記発光層との間に正孔輸送層を形成する工程をさらに備えていてもよい。この場合、前記正孔輸送層は、グラビア印刷法またはグラビアオフセット印刷法により、前記複数の開口部を全て覆うよう形成される。
【００１９】
本発明は、基材と、当該基材上に所望のパターンで形成された第１電極層と、前記基材上に形成され、前記第１電極層の所望の部位を上方に露出させる複数の開口部を有する絶縁層と、各開口部内の第１電極層を被覆するよう各開口部内に形成され、少なくとも発光層と正孔注入層とを有する発光素子層と、前記発光素子層のうち所望の開口部内に位置する発光素子層に接続されるよう形成された第２電極層と、を備え、前記発光素子層の発光層は、上記記載の発光層形成方法により形成されることを特徴とする有機発光デバイスである。
【００２０】
本発明の有機発光デバイスにおいて、前記基材が透明基材からなり、前記第１電極層が透明電極層からなっていてもよい。
【００２１】
本発明の有機発光デバイスにおいて、好ましくは、前記発光素子層を構成する前記発光層の厚みが７０ｎｍ以上である。
【００２２】
本発明の有機発光デバイスにおいて、前記発光素子層は、前記絶縁部の開口部内に形成された正孔注入層、発光層および電子注入層を有していてもよい。この場合、正孔注入層、発光層および電子注入層は、正孔注入層／発光層／電子注入層の順に積層されている。
【００２３】
本発明の有機発光デバイスにおいて、前記発光素子層は、前記絶縁部の開口部内に形成された正孔注入層、正孔輸送層、発光層および電子注入層を有していてもよい。この場合、正孔注入層、正孔輸送層、発光層および電子注入層は、正孔注入層／正孔輸送層／発光層／電子注入層の順に積層されている。
【００２４】
本発明の有機発光デバイスは、パッシブマトリックス型の有機発光デバイスであってもよい。
【００２５】
本発明の有機発光デバイスは、アクティブマトリックス型の有機発光デバイスであってもよい。
【００２６】
本発明の有機発光デバイスは、最大開口幅が１０ｍｍ以上の前記開口部を前記絶縁層に備えた有機発光ポスターであってもよい。
【００２７】
本発明の有機発光デバイスは、カラーフィルタ層を備えていてもよい。また本発明の有機発光デバイスは、当該カラーフィルタ層と前記第１電極層との間に色変換蛍光体層を備えていてもよい。
【００２８】
本発明の有機発光デバイスにおいて、前記発光素子層は、白色を含む所望の色の発光であるか、あるいは所望の複数の色の発光が所定のパターンで組み合わされたものであってもよい。
【００２９】
本発明の有機発光デバイスにおいて、前記発光素子層は、青色発光であり、前記色変換蛍光体層は青色光を緑色蛍光に変換して発光する緑色変換層と、青色光を赤色蛍光に変換して発光する赤色変換層とを備えていてもよい。
【００３０】
本発明の有機発光デバイスは、前記正孔注入層用の塗膜を形成した後１分以内に前記発光層用の塗膜を形成し、これら２層を１００〜２００℃の範囲で同時に一括乾燥して形成した正孔注入層と発光層とを備えていてもよい。
【発明の効果】
【００３１】
本発明によれば、枚様式の印刷機を用いてフレキソ印刷を行う印刷方法は、フレーム上に固定された基材定盤上に基材を載置する工程と、フレーム上に固定され、その上面に複数のセルを有する平板状のアニロックス版にインキを供給する工程と、アニロックス版上で版胴を走行させることにより、版胴のフレキソ版がアニロックス版のセルからインキを受ける工程と、基材定盤上の基材上で版胴を走行させることにより、版胴のフレキソ版から基材上にインキを転移させる工程と、を備えている。また、インキのせん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）が５１〜２００ｃＰの範囲内となっており、また、版胴のフレキソ版が弾性材料からなっている。このような印刷方法において、基材上で版胴を走行させる際、版胴の１分間あたりの回転速度が２０ｒｐｍ以上となっている。このように版胴の回転速度を２０ｒｐｍ以上とすることにより、フレキソ版の一部に、外方に向う弾性的な反発力が生じている場合であっても、当該フレキソ版の一部が基材に対してバウンドするよりも前に、当該フレキソ版の一部を基材から遠ざけることができる。このことにより、フレキソ版のバウンドに起因して基材上に印刷されるインキの厚みがばらつくのを防ぐことができる。
【００３２】
本発明によれば、上述の印刷方法を用いて有機発光デバイスの発光層を形成する方法は、少なくとも有機発光材料を含有する発光層用のインキをアニロックス版のセルに充填させる工程と、当該セルから版胴のフレキソ版に発光層用のインキを受けさせる工程と、版胴上の発光層用のインキを基材上に転移させる工程と、を備えている。また、発光層用のインキのせん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）が５１〜２００ｃＰの範囲内となっている。また、基材上で版胴を走行させる際、版胴の１分間あたりの回転速度が２０ｒｐｍ以上となっている。このように版胴の回転速度を２０ｒｐｍ以上とすることにより、フレキソ版の一部に、外方に向う弾性的な反発力が生じている場合であっても、当該フレキソ版の一部が基材に対してバウンドするよりも前に、当該フレキソ版の一部を基材から遠ざけることができる。このことにより、フレキソ版のバウンドに起因して基材上に印刷される発光層用のインキの厚みがばらつくのを防ぐことができる。
【００３３】
本発明によれば、有機発光デバイスを形成する方法は、基材を準備する工程と、基材上に、所望のパターンを有する第１電極層を形成する工程と、基材上に、第１電極層の所望の部位を上方に露出させる複数の開口部を有する絶縁層を形成する工程と、開口部内および絶縁層上に、正孔注入層を形成する工程と、開口部内の正孔注入層上に、発光層を形成する工程と、発光層のうち所望の開口部内に位置する発光層に接続されるよう、第２電極層を形成する工程と、を備えている。このうち正孔注入層は、グラビア印刷法またはグラビアオフセット印刷法により、複数の開口部を全て覆うよう形成され、一方、発光層は、上述の発光層形成方法により形成される。このため、厚みの均一な発光層を有する有機発光デバイス基材を提供することができる。
【００３４】
本発明によれば、有機発光デバイスは、基材と、当該基材上に所望のパターンで形成された第１電極層と、基材上に形成され、第１電極層の所望の部位を上方に露出させる複数の開口部を有する絶縁層と、各開口部内の第１電極層を被覆するよう各開口部内に形成され、少なくとも発光層と正孔注入層とを有する発光素子層と、発光素子層のうち所望の開口部内に位置する発光素子層に接続されるよう形成された第２電極層と、を備えている。このうち、発光層は、上述の発光層形成方法により形成される。このため、厚みの均一な発光層を有する有機発光デバイス基材を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３５】
【図１】図１は、本発明の実施の形態における印刷機を示す側面図。
【図２】図２は、本発明の実施の形態におけるアニロックス版を示す平面図。
【図３】図３（ａ）（ｂ）（ｃ）は、本発明の実施の形態において、アニロックス版のセルの印刷方向における幅ｂと、これに直交する方向における幅ａの比ｂ／ａを示す平面図。
【図４】図４（ａ）は、本発明の実施の形態における版胴を示す側面図、図４（ｂ）は、図４（ａ）の版胴を矢印IVｂ方向から見た場合を示す図。
【図５】図５は、本発明の実施の形態における有機発光デバイスを示す部分断面斜視図。
【図６】図６は、本発明の実施の形態における有機発光デバイスの形成方法を示す図。
【図７】図７（ａ）は、第１の比較例における印刷機を示す側面図、図７（ｂ）は、第２の比較例における印刷機を示す側面図。
【図８】図８は、第１または第２の比較例において、版胴によりインキが基材に印刷される様子を示す図。
【図９】図９は、本発明におけるアニロックス版の他の実施形態を示す図。
【図１０】図１０は、本発明におけるアニロックス版の他の実施形態を示す図。
【図１１】図１１は、本発明におけるアニロックス版の他の実施形態を示す図。
【図１２】図１２は、本発明における版胴の他の実施形態を示す図。
【図１３】図１３は、本発明における有機発光デバイスの他の実施形態を示す平面図。
【図１４】図１４は、図１３に示す有機発光デバイスにおいて、発光層と絶縁層の開口部との関係を示す図。
【図１５】図１５は、本発明における有機発光デバイスの他の実施形態を示す斜視図。
【図１６】図１６は、図１５に示される有機発光デバイスのＡ−Ａ線での断面図。
【図１７】図１７は、本発明における有機発光デバイスの他の実施形態を示す部分断面図。
【図１８】図１８は、本発明における有機発光デバイスの他の実施形態を示す部分断面図。
【図１９】図１９（ａ）は、本発明の実施例において、印刷物の線幅の測定場所を示す図、図１９（ｂ）は、本発明の実施例において、印刷物の膜厚変動率の算出方法を説明するための図。
【発明を実施するための形態】
【００３６】
以下、図１乃至図５を参照して、本発明の実施の形態について説明する。はじめに図１を参照して、印刷機１０全体について説明する。
【００３７】
〔印刷機〕
図１に示すように、印刷機１０は、フレーム５と、フレーム５上に固定され、その上面に複数のセル２を有する平板状のアニロックス版１と、フレーム５上に固定され、平板状の基材５２を載置する基材定盤６と、フレーム５上を矢印Ｐで示す印刷方向に沿って走行可能となるようフレーム５に設けられた版胴２４と、を備えている。また図１に示すように、版胴２４の走行方向側（図１の右側）には、アニロックス版１の上面にインキ３０を供給するインキ供給部７と、インキ供給部７から供給されたインキ３０をアニロックス版１のセル２内に充填させるドクターシステム８とが設けられている。ドクターシステム８は、アニロックス版１上のインキ３０を図１における右方向に向かって掻く第１ドクター８ａと、インキ３０を図１における左方向に向かって掻く第２ドクター８ｂとを有している。
なお本実施の形態において、印刷機１０は、一枚の基材５２ごとに印刷を実施する、いわゆる枚葉式の印刷機１０となっている。
【００３８】
図１に示すように、版胴２４は、矢印Ｒで示す方向に回転する金属ロール２５と、金属ロール２５の外周上に粘着材により固定されたフレキソ版２３とからなっている。このフレキソ版２３は、後述するように弾性材料からなっており、このフレキソ版２３の凸部２３ａ（図１参照）がアニロックス版１の上面に当接するとき、セル２内のインキ３０がフレキソ版２３によって受けられる。フレキソ版２３によって受けられたインキ３０は、その後、基材定盤６上に載置されている基材５２上に転移される。このようにして、本実施の形態の印刷機１０において、フレキソ版２３を用いたフレキソ印刷が実施される。
【００３９】
なお本実施の形態の印刷機１０においては、後述するように、せん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）が５１〜２００ｃＰの範囲内となっているインキ３０が用いられる。このように、本実施の形態における印刷機１０においては、一般的なインキよりも低粘度のインキ３０が用いられる。低粘度のインキ３０をフレキソ印刷法により基材５２上に均一な厚みで転移させるためには、後述するように、版胴２４の回転速度を大きくすることが重要となる。
【００４０】
一般に、フレキソ印刷を行う印刷機においては、版胴が回転するだけでなく、アニロックス版（またはアニロックスロール）および基材定盤（またはバックアップロール）も移動または回転するよう構成されている。この場合、版胴は、アニロックス版（またはアニロックスロール）および基材定盤（またはバックアップロール）の移動または回転と同期するよう回転駆動される。このため、版胴の回転駆動を大きくすると、若しくは、版胴の回転駆動を急激に変化させると、アニロックス版（またはアニロックスロール）および基材定盤（またはバックアップロール）との同期が外れてしまうことが考えられる。従って、版胴が回転するとともに、アニロックス版（またはアニロックスロール）および基材定盤（またはバックアップロール）も移動または回転する印刷機において、版胴の回転速度を大きくすること、または、版胴の回転駆動を急激に変化させることは困難である。
【００４１】
一方、本実施の形態による印刷機１０においては、上述のように、平板状のアニロックス版１と、基材５２を載置する平板状の基材定盤６とがともにフレーム５上に固定されている。また版胴２４は、フレーム５上を走行可能となるようフレーム５に設けられている。このように印刷機１０においては、静止している平板状のアニロックス版１および平板状の基材定盤６に対して版胴２４を走行させることにより、フレキソ印刷が実施される。このため、版胴２４の位置ずれや振動ブレを生じさせることなく、版胴２４の回転速度を大きくすること、または、版胴２４の回転速度を急激に変化させることができる。
本実施の形態による印刷機１０において、基材定盤６上の基材５２上で版胴２４を走行させる際、版胴２４は、回転速度が２０ｒｐｍ以上（１分間あたり２０回転以上）となるよう制御部９により制御されている。これによって、後述するように、基材５２上に転移されたインキ３０により形成される層の厚さのばらつきを抑制することができる。
【００４２】
なお、本実施の形態による印刷機１０において、図１に示すように、アニロックス版１の絵柄部（セル２のうち版胴２４のフレキソ部２３にインキ３０をわたす部分）の印刷方向Ｐにおける中心点と、基材５２の絵柄部（基材５２のうち印刷機１０によりインキ３０が印刷される部分）の印刷方向Ｐにおける中心点との間の距離がＤ１となっている。印刷機１０において、この距離Ｄ１は、版胴２４の周長Ｄ２のｎ倍（ｎは１以上の整数）となるよう設定されている。また、アニロックス版１の絵柄部の印刷方向における長さは、版胴２４の周長Ｄ２の０．９倍（０．９×Ｄ２）よりも短くなるよう設定されている。このため、版胴２４をアニロックス版１上から基材５２上へ向かって走行させる際、印刷方向Ｐに沿って少なくとも０．１×Ｄ２以上の長さにおいて、版胴２４が空転することになる。
【００４３】
〔アニロックス版〕
次に図２および図３を参照して、アニロックス版１について詳細に説明する。図２は、本発明のアニロックス版１の一実施形態を説明するための平面図である。図２に示すように、アニロックス版１は、アニロックス版１の上面に配置され、インキ供給部７からのインキ３０が充填される複数のセル２を有している。また各セル２は、ストライプ状の形状を有しており、各セル２の間には非セル部３が存在する。これらセル２および非セル部３は、成膜部位全体の面積（セル２および非セル部３全体の面積）に占めるセル２全体の面積の比率が５５〜９５％、好ましくは７０〜９５％となるよう構成されている。成膜部位全体の面積に占めるセル２全体の面積の比率を上述のように設定することにより、フレキソ版２３に対して十分な量のインキ３０を受けさせることができ、これによって、基材５２に転移されるインキ３０の高さを所望の高さにすることができる。このことにより、インキ３０によって基材５２上に形成される層の高さを所望の高さにすることができる。
セル２の幅（セル部長Ｌ）は、例えば１０〜５００μｍの範囲内となっており、好ましくは３０〜３００μｍの範囲内となっている。また、非セル部３の幅（非セル部長Ｓ）は、例えば２〜５００μｍの範囲内となっており、好ましくは５〜２００μｍの範囲内となっている。
【００４４】
また、図３（ａ）（ｂ）（ｃ）に示すように、各セル２における印刷方向（図の矢印Ｐが示す方向）の幅ｂと印刷方向に直交する方向での幅ａの比ｂ／ａは、０．６以上、好ましくは１以上となっている。比ｂ／ａの上限には特に制限はない。なお、実施例において後述するように、比ｂ／ａが０．６未満であると、インキ３０によって基材５２上に形成される層の厚さを７０ｎｍ以上とすることが困難となる。
【００４５】
また、各セル２の深さ（版深）は、好ましくは１５〜１００μｍの範囲内、さらに好ましくは１５〜８０μｍの範囲内となっている。また各セル２の線数は、１００〜３００線／ｉｎｃｈの範囲内、さらに好ましくは１２０〜２００線／ｉｎｃｈの範囲内となっている。なお、実施例において後述するように、セル２の深さが１５μｍ未満であると、インキ３０によって基材５２上に形成される層を厚く形成するのが困難となる。一方、セル２の深さを１００μｍ以上とすると、基材５２上に形成される層の厚みのばらつきが大きくなる。
【００４６】
〔版胴〕
次に図４（ａ）（ｂ）を参照して、版胴２４について詳細に説明する。図４（ａ）に示すように、版胴２４は、軸心となる金属ロール２５と、金属ロール２５の外周上に粘着材により固定されたフレキソ版２３とからなっている。このフレキソ版２３は、上述のように弾性材料から形成されており、また図４（ａ）（ｂ）に示すように、それぞれが回転方向Ｒに沿って延びるとともに、ストライプ状に配置された複数の凸部２３ａと、各凸部２３ａ間に形成された凹部２３ｂとを有している。各凸部２３ａの高さｃは、例えば１〜１０００μｍの範囲内となっている。また版胴２４の直径は、例えば１１０ｍｍとなっている。
【００４７】
弾性材料からなるフレキソ版２３の作製方法が特に限られることはなく、例えば、水現像可能な樹脂材料を露光し、水現像し、硬膜処理などを施し、ベーキングすることにより作製することができる。水現像可能な樹脂材料としては、例えば、ポリビニルアルコールを用いることができる。
【００４８】
また、金属ロール２５外周上に粘着材により樹脂材料を設け、この樹脂材料をレーザ光で彫刻することによりフレキソ版２３を作製してもよい。レーザ光による彫刻が可能な樹脂材料としては、例えば、無機多孔質体微粒子を含有する感光性樹脂を用いることができる。感光性樹脂の例としては、例えばエラストマー樹脂を挙げることができる。
【００４９】
〔インキ〕
次に、本実施の形態における印刷機１０で用いられるインキ３０について詳細に説明する。インキ３０は、溶媒と、溶媒中に溶解された固形分からなっている。インキ３０としては、せん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）が５１〜２００ｃＰの範囲内となっているインキ３０が用いられる。このように、本実施の形態における印刷機１０で用いられるインキ３０は、一般的なインキよりも粘度が小さくなっており、このため、一般的なインキを用いる場合に比べて、インキにより形成される層の高さにばらつきが生じやすい。この課題に対応するため、本実施の形態においては、後述するように、版胴２４の回転速度を調整することにより、基材５２上に形成される層の高さがばらつくのを抑制している。
なお、インキ３０のせん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）が５ｃＰ未満であると、インキダレが生じたり、所望の厚みの層の形成が困難となる。一方、２００ｃＰを超えると、アニロックス版１のセル目による凹凸が大きくなり、均一な厚みの層の形成が困難となる。尚、上記の粘度測定は、Ｐｈｙｓｉｃａ社製の粘弾性測定装置ＭＣＲ３０１型により、測定温度２３℃で定常流測定モードにより行うものとする。また、インキ３０において、せん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）Ｖ１と、せん断速度１０００／秒における粘度（インキ温度２３℃）Ｖ２との比（Ｖ１／Ｖ２）が０．９〜１．５程度となっていることが好ましい。比（Ｖ１／Ｖ２）を上記の範囲内とすることにより、インキ３０がニュートン流動を示すようになる。
【００５０】
また、印刷機１０で用いられるインキ３０において、使用している溶媒の表面張力が３７ｄｙｎｅ／ｃｍ以下、好ましくは３０〜３５ｄｙｎｅ／ｃｍの範囲内であり、かつ、沸点が１６５〜２６５℃、好ましくは１８０〜２１０℃の範囲内であることが好ましい。
なお、インキ３０に使用している溶媒の表面張力が３７ｄｙｎｅ／ｃｍを超えると、アニロックス版１から版胴２４へのインキ３０の受理性が低下することが考えられ、好ましくない。さらに、インキ３０の溶媒の沸点が１６５℃未満であると、版胴２４から基材５２に転移されたインキ３０が直ちに乾燥し、これによって、インキ３０により形成される層にスジが発生しやすくなることが考えられる。また、インキ３０の溶媒の沸点が２６５℃を超えると、インキ３０の乾燥が困難となり、乾燥ゾーンでの乾燥による基材５２等への影響が生じること、溶剤の残留を生じることなどが考えられ、好ましくない。尚、溶媒の表面張力の測定は、協和界面科学（株）製の表面張力計ＣＢＶＰ−Ｚ型により、液温２０℃で行うものとする。
【００５１】
（インキの固形分）
インキ３０に用いる溶媒および固形分は、印刷機１０によって基材５２上に形成する層に応じて適宜選択される。例えば、後述するように印刷機１０によって有機発光デバイス５１の発光素子層５６の発光層５８を形成する場合、発光層５８用のインキ３０の固形分として、下記のような色素系、金属錯体系、高分子系のものを挙げることができる。
（１）色素系発光材料
シクロペンタジエン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体、トリフェニルアミン誘導体、オキサジアゾール誘導体、ピラゾロキノリン誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、ジスチリルアリーレン誘導体、シロール誘導体、チオフェン環化合物、ピリジン環化合物、ペリノン誘導体、ペリレン誘導体、オリゴチオフェン誘導体、トリフマニルアミン誘導体、オキサジアゾールダイマー、ピラゾリンダイマー等が挙げられる。
【００５２】
（２）金属錯体系発光材料
アルミキノリノール錯体、ベンゾキノリノールベリリウム錯体、ベンゾオキサゾール亜鉛錯体、ベンゾチアゾール亜鉛錯体、アゾメチル亜鉛錯体、ポリフィリン亜鉛錯体、ユーロピウム錯体等、中心金属にＡｌ、Ｚｎ、Ｂｅ等、または、Ｔｂ、Ｅｕ、Ｄｙ等の希土類金属を有し、配位子にオキサジアゾール、チアジアゾール、フェニルピリジン、フェニルベンゾイミダゾール、キノリン構造等を有する金属錯体が挙げられる。
【００５３】
（３）高分子系発光材料
ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、ポリシラン誘導体、ポリアセチレン誘導体、ポリビニルカルバゾール誘導体、ポリフルオレン誘導体等が挙げられる。
発光層用インキ３０における上述の固形分の含有量は、好ましくは、１．５〜４．０重量％の範囲で設定される。
【００５４】
（インキの溶媒）
また、印刷機１０によって有機発光デバイス５１の発光素子層５６の発光層５８を形成する場合、インキ３０の溶媒として、表面張力が上記の範囲（３７ｄｙｎｅ／ｃｍ以下）を満足し、かつ、沸点が上記の範囲（１６５〜２６５℃）を満足するもの、例えば、クメン、アニソール、ｎ−プロピルベンゼン、メシチレン、１，２，４−トリメチルベンゼン、リモネン、ｐ−シメン、ｏ−ジクロロベンゼン、ブチルベンゼン、ジエチルベンゼン、２，３−ジヒドロベンゾフラン、安息香酸メチル、１，２，３，４−テトラメチルベンゼン、アミルベンゼン、テトラリン、安息香酸エチル、フェニルヘキサン、シクロヘキシルベンゼン、安息香酸ブチル等を単独で使用することができる。また、混合溶媒を使用する場合には、混合比に応じた割合で計算した表面張力と沸点が上記の範囲を満足するものを使用する。例えば、表面張力がＡｄｙｎｅ／ｃｍ、沸点がＢ℃の溶媒１と、表面張力がＣｄｙｎｅ／ｃｍ、沸点がＤ℃の溶媒２とを３：７の重量比で混合した混合溶媒の場合、混合比に応じた割合で計算した表面張力［（Ａ×３／１０）＋（Ｃ×７／１０）］が上記の範囲（３７ｄｙｎｅ／ｃｍ以下）を満足し、かつ、混合比に応じた割合で計算した沸点［（Ｂ×３／１０）＋（Ｄ×７／１０）］が上記の範囲（１６５〜２６５℃）を満足することが必要となる。したがって、混合溶媒を構成する個々の溶媒は、表面張力と沸点が上記の範囲から外れるものであってもよい。
【００５５】
〔有機発光デバイス〕
次に図５を参照して、本実施の形態における印刷機１０により形成される発光層５８を含む有機発光デバイス５１について説明する。図５は、本発明の有機発光デバイスの一実施形態を示す部分断面斜視図である。図５において、有機発光デバイス５１は、透明基材５２と、この透明基材５２上に矢印ａ方向に延設さられた帯状パターンの複数の透明電極層（第１電極層）５３と、ストライプ形状の開口部５５を有する絶縁層５４と、開口部５５内の透明電極層５３を被覆するように配設された発光素子層５６と、この発光素子層５６上に透明電極層５３と直交するように矢印ｂ方向に延設された帯状パターンの複数の電極層６０（第２電極層）とを備えている。
上記の絶縁層５４の開口部５５は、矢印ａ方向に沿ったストライプ形状の開口部であり、各透明電極層５３の所望の部位を上方に露出させるよう、各透明電極層５３上に位置している。
【００５６】
発光素子層５６は、各開口部５５内の透明電極層５３を被覆するように配設された正孔注入層５７と正孔輸送層５７ａと発光層５８と電子注入層５９とからなる。図５に示す例では、正孔注入層５７および正孔輸送層５７ａは、絶縁層５４および絶縁層５４の開口部５５を全て覆うようベタで形成されている。また発光層５８は、帯状パターンの赤色発光層５８Ｒ、緑色発光層５８Ｇ、青色発光層５８Ｂが、この順で矢印ｂ方向に繰り返し配列されている。尚、発光層５８および電子注入層５９が、開口部５５の周縁の絶縁層５４に乗り上げるように形成されたものであってもよい。開口部５５の周縁の絶縁層５４に乗り上げるように発光素子層５６を形成した場合、発光素子層５６を挟持する位置に存在する透明電極層５３と電極層６０とが短絡するのをより確実に防ぐことができ、これによって信頼性を更に高くすることができる。
【００５７】
このような有機発光デバイス５１は、帯状パターンの透明電極層５３と電極層６０とが交差する部位が発光領域となるパッシブマトリックス型である。また発光層５８（赤色発光層５８Ｒ、緑色発光層５８Ｇ、青色発光層５８Ｂ）は、本発明の印刷機１０により形成されたものである。このため、発光層５８の厚みを７０ｎｍ以上とすることができ、これによって、発光素子層５６の発光時の輝度及び効率が高く、高品質な表示が可能となる。なお、赤色発光層５８Ｒ、緑色発光層５８Ｇ、青色発光層５８Ｂは、本実施の形態における印刷機１０によって赤色発光層用インキ３０Ｒ（図示せず）、緑色発光層用インキ３０Ｇ（図示せず）、青色発光層用インキ３０Ｂ（図示せず）を順に基材５２上に転移させることにより形成される。
【００５８】
次に、有機発光デバイス５１の各構成部材について詳細に説明する。
【００５９】
（透明基材）
はじめに透明基材５２について詳述する。透明基材５２は、ボトムエミッション方式の場合、観察者側の表面に設けられ、発光層５８からの光を観察者が容易に視認することができる程度の透明性を有する材料からなる。尚、発光層５８からの光を取り出す方向を反対方向とする場合（トップエミッション方式の場合）には、透明基板５２に替えて不透明な基板を使用してもよい。
透明基板５２（これに替わる不透明な基板も含む）としては、ガラス材料、樹脂材料、または、これらの複合材料からなるもの、例えば、ガラス板に保護プラスチックフィルムもしくは保護プラスチック層を設けたもの等が用いられる。
【００６０】
透明基板５２を構成する樹脂材料、保護プラスチック材料としては、例えば、フッ素系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリフッ化ビニル、ポリスチレン、ＡＢＳ樹脂、ポリアミド、ポリアセタール、ポリエステル、ポリカーボネート、変性ポリフェニレンエーテル、ポリスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリイミド、ポリフェニレンスルフィド、液晶性ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリオキシメチレン、ポリエーテルサルホン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリアクリレート、アクリロニトリル−スチレン樹脂、フェノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン、シリコーン樹脂、非晶質ポリオレフィン等が挙げられる。この他の樹脂材料であっても、有機発光デバイス用として使用できる高分子材料であれば、使用可能である。
透明基板５２の厚さは、通常、５０μｍ〜１．１ｍｍ程度である。
【００６１】
このような透明基板５２においては、その用途にもよるが、水蒸気や酸素等のガスバリアー性の良好なものであれば更に好ましい。また、透明基板５２に、水蒸気や酸素等のガスバリアー層を形成してもよい。このようなガスバリアー層としては、例えば、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化チタン等の無機酸化物をスパッタリング法や真空蒸着法等の物理蒸着法により形成したものを用いることができる。
【００６２】
（透明電極層）
次に、透明電極層５３について詳述する。透明電極層５３は、図５に示す例では陽極であり、発光層５８に正電荷（正孔）を注入するために、正孔注入層５７に隣接して配設されている。尚、透明電極層５３は陰極であってもよく、この場合、発光素子層５６を構成する正孔注入層５７と電子注入層５９とが入れ替わって配設される。
【００６３】
透明電極層５３は、通常の有機発光デバイスに使用されるものであれば特に限定されず、金属、合金、これらの混合物等を使用することができ、例えば、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、酸化インジウム、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）、酸化亜鉛、酸化第二錫、または金等の薄膜電極材料を挙げることができる。中でも、正孔が注入し易いように、仕事関数の大きい（４ｅＶ以上）透明、または半透明材料であるＩＴＯ、ＩＺＯ、酸化インジウム、金が好ましい。
透明電極層５３は、シート抵抗が数百Ω／□以下が好ましく、材質にもよるが、透明電極層５３の厚みは、例えば、０．００５〜１μｍ程度とすることができる。
この透明電極層５３は、周辺の端子部から中央の画素領域まで所望のパターン形状で配設されている。このようなパターン形状の透明電極層５３は、スパッタリング法や真空蒸着法等においてメタルマスクを用いることにより形成され、または、全面に透明電極層用の材料を成膜した後、感光性レジストをマスクとしてエッチングすることにより形成される。
【００６４】
絶縁層５４は、各透明電極層５３上に位置するストライプ形状の開口部５５を有している。この絶縁層５４は、例えば、はじめに透明電極層５３を覆うように全面に感光性樹脂材料を塗布し、次にパターン露光、現像を行うことにより形成される。または、熱硬化性樹脂材料を用いて絶縁層５４を形成してもよい。
絶縁層５４が形成された部分は非発光部となっている。絶縁層５４の厚みは、絶縁層５４を構成する樹脂固有の絶縁抵抗に応じて適宜設定できるが、例えば、０．０５〜５．０μｍ程度とすることができる。また、上述の樹脂材料にカーボンブラックや、チタン窒化物、チタン酸化物、チタン酸窒化物等のチタン系黒色顔料の１種、あるいは２種以上の遮光性微粒子を混合することにより、ブラックマトリックスを形成して絶縁層５４としてもよい。
尚、このような絶縁層５４の形状は、上述の形状に限定されるものではない。
【００６５】
（発光素子層）
次に発光素子層５６について詳述する。発光素子層５６は、図５に示す例では、透明電極層５３側から正孔注入層５７、正孔輸送層５７ａ、発光層５８、および電子注入層５９が積層された構造となっている。しかしながら、このような構造に限られることはなく、正孔注入層５７と発光層５８と電子注入層５９とからなる構造、正孔注入層５７と発光層５８とからなる構造、発光層５８と電子注入層５９からなる構造、さらに、発光層５８と電子注入層５９との間に電子輸送層を介在させた構造等としてもよい。
また、発光波長を調整し、または発光効率を向上させる等の目的で、上記の各層に適当な材料をドーピングすることもできる。
以下、発光素子層５６の各層について詳細に説明する。
【００６６】
発光層
発光素子層５６の発光層５８は、図５に示す例では、赤色発光層５８Ｒ、緑色発光層５８Ｇ、青色発光層５８Ｂからなっている。しかしながら、このような構造に限られることはなく、有機発光デバイスの使用目的等に応じて、所望の発光色（例えば、黄色、水色、オレンジ色）である発光層を単独で設けてもよく、または、赤色発光、緑色発光、青色発光以外の他の複数の発光色の所望の組み合わせなどを設けてもよい。
発光層５８に用いる有機発光材料としては、上述のインキ３０の固形分の説明で挙げた材料を用いることができる。
【００６７】
正孔注入層
発光素子層５６の正孔注入層５７は、上述のように、絶縁層５４および絶縁層５４の開口部５５を全て覆うようベタで形成されている。ここで、正孔注入層５７は、後述するように、例えばグラビア印刷法またはグラビアオフセット印刷法により形成されている。このようなグラビア印刷法またはグラビアオフセット印刷法において用いられる正孔注入層５７用インキとして、例えば以下のインキが挙げられる。
【００６８】
正孔注入層５７用インキの固形分（正孔注入材料）としては、例えば、フェニルアミン系、スターバースト型アミン系、フタロシアニン系、酸化バナジウム、酸化モリブデン、酸化ルテニウム、酸化アルミニウム等の酸化物、アモルファスカーボン、ポリアニリン、ポリチオフェン誘導体、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、ポリシラン系、アニリン系共重合体、チオフェンオリゴマー等の誘電性高分子オリゴマー等、を挙げることができる。
【００６９】
さらに、正孔注入材料として、ポリフィリン化合物、芳香族第三級アミン化合物、スチリルアミン化合物を挙げることもできる。上記のポリフィリン化合物としては、ポリフィン、１，１０，１５，２０−テトラフェニル−２１Ｈ、２３Ｈ−ポリフィン銅（II）、アルミニウムフタロシアニンクロリド、銅オクタメチルフタロシアニン等を挙げることができる。また、芳香族第三級アミン化合物およびスチリルアミン化合物としては、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラフェニル−４，４′−ジアミノフェニル、Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ビス（３−メチルフェニル）−［１，１′−ビフェニル］−４，４′−ジアミン、４−（ジ−ｐ−トリルアミノ）−４′−［４（ジ−ｐ−トリルアミノ）スチリル］スチルベン、３−メトキシ−４′−Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノスチルベンゼン、４，４′−ビス［Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニルアミノ］ビフェニル、４，４′，４″−トリス［Ｎ−（３−メチルフェニル）−Ｎ−フェニルアミノ］トリフェニルアミン等を挙げることができる。
正孔注入層５７用インキにおける上述のような正孔注入材料の含有量は、例えば、０．３〜１０．０重量％の範囲で設定することができる。
【００７０】
また、正孔注入層５７用インキの混合溶媒に用いるアルコール系溶媒としては、沸点が６０〜２５０℃を満足するものであり、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、tert−ブタノール、ｎ−プロパノール、sec−ブタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、２−（メトキシメトキシ）エタノール、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノアセテート、プロピレングリコール、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ヘキシレングリコール、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコール、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、１，３−ブチレングリコール、１−ブトキシエトキシ−２−プロパノール、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコール、１，５−ペンタジオール、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコール、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノアセテート等を例示することができ、これらを単独で使用することができる。また、２種以上のアルコール系溶媒を使用する場合には、混合比に応じた割合で計算した沸点が上記の範囲を満足するものを使用する。例えば、沸点がＡ℃の溶媒１と、沸点がＢ℃の溶媒２とを３：７の重量比で混合した混合溶媒の場合、混合比に応じた割合で計算した沸点［（Ａ×３／１０）＋（Ｂ×７／１０）］が上記の範囲（２５０℃以下、例えば、６０〜２５０℃）を満足することが必要となる。したがって、混合溶媒を構成する個々のアルコール系溶媒は、沸点が上記の範囲から外れるものであってもよい
【００７１】
正孔輸送層
発光素子層５６の正孔輸送層５７ａは、正孔注入層５７の場合と同様に、絶縁層５４および絶縁層５４の開口部５５を全て覆うようベタで形成されている。また輸送層５７ａは、正孔注入層５７の場合と同様に、例えばグラビア印刷法またはグラビアオフセット印刷法により形成されている。このようなグラビア印刷法またはグラビアオフセット印刷法において用いられる正孔輸送層５７ａ用インキの固形分（正孔輸送材料）としては、例えば、オキサジアゾール系、オキサゾール系、トリアゾール系、チアゾール系、トリフェニルメタン系、スチリル系、ピラゾリン系、ヒドラゾン系、芳香族アミン系、カルバゾール系、ポリビニルカルバゾール系、スチルベン系、エナミン系、アジン系、トリフェニルアミン系、ブタジエン系、多環芳香族化合物系、スチルベン二量体等の材料が挙げられる。
また、π共役系高分子として、ポリアセチレン、ポリジアセチレン、ポリ（Ｐ−フェニレン）、ポリ（Ｐ−フェニレンスルフィド）、ポリ（Ｐ−フェニレンオキシド）、ポリ（１，６−ヘプタジエン）、ポリ（Ｐ−フェニレンビニレン）、ポリ（２，５−チエニレン）、ポリ（２，５−ピロール）、ポリ（ｍ−フェニレンスルフィド）、ポリ（４，４′−ビフェニレン）等が挙げられる。
また、電荷移動高分子錯体として、ポリスチレン・ＡｇＣ１０４、ポリビニルナフタレン・ＴＣＮＥ、ポリビニルナフタレン・Ｐ−ＣＡ、ポリビニルナフタレン・ＤＤＱ、ポリビニルメシチレン・ＴＣＮＥ、ポリナフタアセチレン・ＴＣＮＥ、ポリビニルアントラセン・Ｂｒ２、ポリビニルアントラセン・Ｉ２、ポリビニルアントラセン・ＴＮＢ、ポリジメチルアミノスチレン・ＣＡ、ポリビニルイミダゾール・ＣＱ、ポリ−Ｐ−フェニレン・Ｉ２、ポリ−１−ビニルピリジン・Ｉ２、ポリ−４−ビニルピリジン・Ｉ２、ポリ−Ｐ−１−フェニレン・Ｉ２、ポリビニルピリジウム・ＴＣＮＱ等が挙げられ、さらに、電荷移動低分子錯体として、ＴＣＮＱ−ＴＴＦ等が、高分子金属錯体としては、ポリ銅フタロシアニン等が挙げられる。
正孔輸送材料としては、イオン化ポテンシャルの小さい材料が好ましく、特に、ブタジエン系、エナミン系、ヒドラゾン系、トリフェニルアミン系が好ましい。
【００７２】
電子注入層
発光素子層５６の電子注入層５９を形成する材料としては、例えば、カルシウム、バリウム、アルミリチウム、フッ化リチウム、ストロンチウム、酸化マグネシウム、フッ化マグネシウム、フッ化ストロンチウム、フッ化カルシウム、フッ化バリウム、酸化アルミニウム、酸化ストロンチウム、酸化カルシウム、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレンスルホン酸ナトリウム、ニトロ置換フルオレン誘導体、アントラキノジメタン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、ナフタレンペリレン等の複素環テトラカルボン酸無水物、カルボジイミド、フレオレニリデンメタン誘導体、アントラキノジメタンおよびアントロン誘導体、オキサジアゾール誘導体、上記のオキサジアゾール環の酸素原子をイオウ原子に置換したチアゾール誘導体、電子吸引基として知られているキノキサリン環を有したキノキサリン誘導体、トリス（８−キノリノール）アルミニウム等の８−キノリノール誘導体の金属錯体、フタロシアニン、金属フタロシアニン、ジスチリルピラジン誘導体等を挙げることができる。このような材料から形成される電子注入層５９は、例えば、画像表示領域に相当する開口部を備えたマスク（周辺部の透明電極層５３からなる電極端子への成膜を防止するためのマスク）を介して真空蒸着法等により成膜して形成される。また、スクリーン印刷法等の印刷方法により電子注入層５９を形成することもできる。
【００７３】
上述の発光素子層５６の各層において、その厚みが特に制限されることはなく、例えば、１０〜１０００ｎｍ程度とすることができる。また、発光素子層５６の各層にドーピングされる材料の例として、例えば、ペリレン誘導体、クマリン誘導体、ルブレン誘導体、キナクリドン誘導体、スクアリウム誘導体、ポリフィリン誘導体、スチリル系色素、テトラセン誘導体、ピラゾリン誘導体、デカシクレン、フェノキサゾン等の材料を挙げることができる。
また、上述の正孔注入層５７と発光層５８の形成を、正孔注入層用の塗膜を形成した後１分以内に発光層用の塗膜を形成し、これら２層を１００〜２００℃の範囲で同時に一括乾燥して形成することにより行ってもよい。
【００７４】
（電極層）
次に電極層６０について詳述する。電極層６０は、図５に示す例では陰極であり、発光層５８に負電荷（電子）を注入するために、電子注入層５９に隣接して配設されている。尚、電極層６０は陽極であってもよく、この場合、発光素子層５６を構成する正孔注入層５７と電子注入層５９とが入れ替わって配設される。
このような電極層６０の材料としては、通常の有機発光デバイスに使用されるものであれば特に限定されず、上述の透明電極層５３と同様に、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、酸化インジウム、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）、酸化亜鉛、酸化第二錫、または金等の薄膜電極材料、さらに、マグネシウム合金（例えば、ＭｇＡｇ等）、アルミニウムまたはその合金（ＡｌＬｉ、ＡｌＣａ、ＡｌＭｇ等）、銀等を挙げることができる。中でも、電子が注入し易いように仕事関数の小さい（４ｅＶ以下）マグネシウム合金、アルミニウム、銀等が好ましい。このような電極層６０はシート抵抗が数百Ω／□以下が好ましく、このため、電極層６０の厚みは、例えば、０．００５〜０．５μｍ程度とすることができる。
上記の電極層６０は、上述の電極材料を用いてマスクを介したスパッタリング法や真空蒸着法等の方法によりパターン形状に成膜して形成することができる。
【００７５】
次に、このような構成からなる本実施の形態の作用について説明する。ここでは、発光層５８を含む有機発光デバイス５１の形成方法について、図１および図６を参照して説明する。
【００７６】
はじめに、図１に示すように、フレーム５上に固定された基材定盤６上に透明基材５２を載置する。次に、図６（ａ）に示すように、透明基材５２上に、所望のパターンを有する透明電極層５３を形成する。透明電極層５３を形成する方法が特に限られることはなく、メタルマスクを用いたスパッタリング法や真空蒸着法等によって所望のパターンを有する透明電極層５３を形成する方法、または、透明電極層用の材料を透明基材５２上の全面にわたって成膜した後、感光性レジストをマスクとしてエッチングすることによって所望のパターンを有する透明電極層５３を形成する方法などが適宜選択される。
【００７７】
次に、図６（ｂ）に示すように、透明基材５２上に、透明電極層５３の所望の部位を上方に露出させる複数の開口部５５を有する絶縁層５４を形成する。この場合、はじめに、透明電極層５３を覆うように全面に感光性樹脂材料を塗布し、その後、塗布された感光性樹脂材料に対してパターン露光、現像を行う。このようにして、複数の開口部５５を有する絶縁層５４が形成される。
【００７８】
その後、図６（ｃ）に示すように、開口部５５内および絶縁層５４上に、正孔注入層５７および正孔輸送層５７ａを形成する。ここで、正孔注入層５７および正孔輸送層５７ａは、グラビア印刷法またはグラビアオフセット印刷法によりベタ層として形成される。一般に、グラビア印刷法またはグラビアオフセット印刷法における印圧はフレキソ印刷法における印圧よりも大きい。このため、ベタ層からなる正孔注入層５７および正孔輸送層５７ａをフレキソ印刷法で形成する場合に比べて、正孔注入層５７および正孔輸送層５７ａの厚みのばらつきを小さくすることができる。
グラビア印刷法またはグラビアオフセット印刷法としては、例えば特開２００７−１８９４８に記載のグラビア版を用いたグラビア印刷法またはグラビアオフセット印刷法を選択することができる。
【００７９】
次に、図６（ｄ）に示すように、開口部５５内の正孔輸送層５７ａ上に発光層５８を形成する。発光層５８は、上述の印刷機１０を用いて形成される。
【００８０】
以下、印刷機１０を用いて発光層５８を形成する方法について詳述する。はじめに、発光層５８の材料となる有機発光材料を含有するインキ３０を、ドクターシステム８を用いてアニロックス版１のセル２に充填させる。次に、アニロックス版１上で版胴２４を走行させ、これによって、アニロックス版１のセル２から版胴２４のフレキソ版２３へインキ３０を受けさせる。この際の版胴２４の回転速度は、例えば２０ｒｐｍとなっている。その後、版胴２４を基材定盤６に向って走行させる。
【００８１】
版胴２４をアニロックス版１上から基材５２上へ向かって走行させる際、上述のように、印刷方向Ｐに沿って少なくとも０．１×Ｄ２以上の長さ（Ｄ２：版胴２４の周長）において、版胴２４が空転する。版胴２４が空転している間に、制御部９は、版胴２４の回転速度を２０ｒｐｍ以上に増加させる。
【００８２】
次に、基材定盤６上の透明基材５２上で版胴２４を回転速度２０ｒｐｍ以上で走行させる。これによって、透明基材５２上の正孔輸送層５７ａがフレキソ版２３の凸部２３ａにより所定の印圧で押圧され、この際、凸部２３ａ上のインキ３０が開口部５５内の正孔輸送層５７ａ上に転移される。その後、転移されたインキ３０を適宜乾燥させることにより、開口部５５内の正孔輸送層５７ａ上に発光層５８が形成される。
【００８３】
その後、図６（ｅ）に示すように、開口部５５内の発光層５８上に電子注入層５９を形成する。電子注入層５９を形成する方法が特に限られることはなく、例えば、画像表示領域に相当する開口部を備えたマスク（周辺部の透明電極層５３からなる電極端子への成膜を防止するためのマスク）を介して真空蒸着法等により成膜して形成される。このようにして、正孔注入層５７と正孔輸送層５７ａと発光層５８と電子注入層５９とを有する発光素子層５６が形成される。
【００８４】
最後に、発光素子層５６のうち所望の開口部５５内に位置する発光素子層５６に接続されるよう、電極層６０を所定のパターン形状で形成する。このようにして、図５に示す有機発光デバイス５１が形成される。
【００８５】
この間、本実施の形態によれば、印刷機１０を用いて発光層５８を形成するとき、インキ３０のせん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）は５１〜２００ｃＰの範囲内となっており、また上述のように、版胴２４は、回転速度が２０ｒｐｍ以上となるよう制御部９により制御されている。このため、フレキソ版２３の凸部２３ａ上のインキ３０を透明基材５２上の正孔輸送層５７ａ上に転移させる際、弾性的に圧縮されている凸部２３ａに、外方（透明基材５２の方）に向う弾性的な反発力が生じている場合であっても、当該凸部２３ａが透明基材５２に対してバウンドするよりも前に、当該凸部２３ａのインキ３０を透明基材５２上に転移させることができる。このことにより、フレキソ版２３の凸部２３ａのバウンドに起因して透明基材５２上に転移されるインキ３０の厚みがばらつくのを防ぐことができる。
このようにして、グラビア印刷法やグラビアオフセット印刷法に比べて印圧の低いフレキソ印刷法を用いて、均一な厚さを有する発光層５８を精度良く形成することができる。
【００８６】
〔比較例〕
次に、図７（ａ）（ｂ）および図８を参照して、本願発明の効果を比較例と比較して説明する。図７（ａ）は、第１の比較例における印刷機１００を示す図であり、図７（ｂ）は、第２の比較例における印刷機１０５を示す図である。図８は、第１の比較例の印刷機１００または第２の比較例の印刷機１０５において、版胴１０３上のインキ３０が透明基材５２上に転移される様子を示す図である。
【００８７】
図７（ａ）（ｂ）および図８に示す第１または第２の比較例において、図１乃至図６に示す本実施の形態の印刷機１０と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。
【００８８】
はじめに図７（ａ）を参照して、第１の比較例における印刷機１００について説明する。図７（ａ）に示すように、印刷機１００において、インキ供給部７からのインキ３０は、アニックスロール１０２を介して版胴１０３に供給される。この場合、アニックスロール１０２および版胴１０３は、図７（ａ）に示すように、所定の位置においてＲ’およびＲ方向に回転するよう設けられている。ここで、図１乃至図６に示す本実施の形態の版胴２４とは異なり、比較例における版胴１０３は基材定盤１０４上を走行可能となっていない。この場合、版胴１０３のインキ３０を基材５２に転移させるためには、基材定盤１０４を図７（ａ）に示す方向Ｐ’に動かす必要がある。アニックスロール１０２の回転、基材定盤１０４の移動および版胴１０３の回転は、アニックスロール１０２の回転および基材定盤１０４の移動と版胴１０３の回転とが同期するよう制御部１０１により制御される。
【００８９】
図７（ａ）に示す比較例の印刷機１００において、上述のように、版胴１０３の回転速度は、アニックスロール１０２の回転および基材定盤１０４の移動と同期するよう制御部１０１により制御される。従って、アニックスロール１０２の回転および基材定盤１０４の移動との同期を考慮する分だけ、第１の比較例の印刷機１００における版胴１０３の回転速度の制御が、本発明の印刷方法で用いる印刷機１０における版胴２４の回転速度の制御よりも複雑になっている。このため、第１の比較例の印刷機１００においては、本発明の印刷方法で用いる印刷機１０の場合に比べて、同期外れや位置ずれを生じさせることなく版胴１０３の回転速度を大きくすること、若しくは版胴１０３の回転速度を急激に変化させることが困難である。この結果、第１の比較例の印刷機１００においては、版胴１０３の回転速度が２０ｒｐｍよりも常に小さくなるよう制御部１０１により制御される。
【００９０】
次に図７（ｂ）を参照して、第２の比較例における印刷機１０５について説明する。図７（ｂ）に示す印刷機１０５は、平板状のアニロックス版１０６からのインキ３０が版胴１０３によって受けられる点が異なるのみであり、その他の構成は図７（ａ）に示す第１の比較例における印刷機１００と略同一である。
【００９１】
図７（ｂ）に示す第２の比較例の印刷機１０５においても、図７（ａ）に示す第１の比較例の印刷機１００の場合と同様に、版胴１０３は、アニロックス版１０６上または基材定盤１０４上を走行可能となっていない。このため、アニロックス版１０６のインキ３０を基材５２に転移させるためには、アニロックス版１０６および基材定盤１０４を図７（ｂ）に示す方向Ｐ’に動かす必要がある。アニックス版１０６の移動、基材定盤１０４の移動および版胴１０３の回転は、アニックス版１０６の移動および基材定盤１０４の移動と版胴１０３の回転とが同期するよう制御部１０１により制御される。
【００９２】
図７（ｂ）に示す比較例の印刷機１０５において、上述のように、版胴１０３の回転速度は、アニックス版１０６の移動および基材定盤１０４の移動と同期するよう制御部１０１により制御される。従って、アニックス版１０６の移動および基材定盤１０４の移動との同期を考慮する分だけ、第２の比較例の印刷機１０５における版胴１０３の回転速度の制御が、本発明の印刷方法で用いる印刷機１０における版胴２４の回転速度の制御よりも複雑になっている。このため、第２の比較例の印刷機１０５においても、本発明の印刷方法で用いる印刷機１０の場合に比べて、同期外れや位置ずれを生じさせることなく版胴１０３の回転速度を大きくすること、若しくは版胴１０３の回転速度を急激に変化させることが困難である。この結果、第２の比較例の印刷機１０５においても、版胴１０３の回転速度が２０ｒｐｍよりも常に小さくなるよう制御部１０１により制御される。
【００９３】
図８は、第１の比較例の印刷機１００または第２の比較例の印刷機１０５において、版胴１０３上のインキ３０が基材５２上に転移される様子を示す図である。図８に示すように、版胴１０３のフレキソ版２３の凸部２３ａのうち基材５２に当接している凸部２３ａは、インキ３０を転移させる際の印圧によって弾性的に圧縮されている。このとき、当該凸部２３ａには、外方（基材５２の方）に向う弾性的な反発力が生じている。
上述のように、第１または第２の比較例において、版胴１０３は、回転速度が２０ｒｐｍよりも小さくなるよう制御部１０１により制御されている。このため、当該凸部２３ａが基材５２から遠ざかるよりも前に、当該凸部２３ａに生じている弾性的な反発力に起因して当該凸部２３ａが基材５２に対してバウンドすることが考えられる。このようなバウンドが生じると、バウンドの際の振動によって、フレキソ版２３から基材５２に転移されるインキ３０の厚みにばらつきが生じる。これによって、基材５２に転移されたインキ３０から形成される層の厚みにばらつきが生じてしまうことが考えられる。
【００９４】
これに対して本願発明の印刷方法によれば、印刷方法で用いる印刷機１０は、フレーム５と、フレーム５上に固定され、その上面に複数のセル２を有する平板状のアニロックス版１と、アニロックス版１の上面にインキ３０を供給するインキ供給部７と、フレーム５上に固定され、平板状の透明基材５２を載置する基材定盤６と、フレーム５上を走行可能となるようフレーム５に設けられ、アニロックス版１の上面に当接してインキ３０を受けるとともに透明基材５２上にインキ３０を転移させる弾性材料からなるフレキソ版２３を有する版胴２４と、を備えている。このように本願発明によれば、平板状のアニロックス版１および基材定盤６が、フレーム５上に固定されている。そして、フレーム５上に固定されているアニロックス版１および基材定盤６に対して版胴２４が走行させられる。このため、本願発明によれば、版胴２４を走行させる際、アニロックス版１および基材定盤６の移動との同期を考慮する必要がない。従って本願発明によれば、基材定盤６上の透明基材５２上で版胴２４を走行させる際、位置ずれを生じさせることなく、版胴２４の回転速度を２０ｒｐｍ以上とすることが可能となっている。このため、印刷の際、フレキソ版２３の凸部２３ａに、外方に向う弾性的な反発力が生じている場合であっても、フレキソ版２３の当該凸部２３ａが透明基材５２に対してバウンドするよりも前に、フレキソ版２３の当該凸部２３ａから透明基材５２上へのインキ３０の転移を完了させることができる。このことにより、フレキソ版２３のバウンドに起因して透明基材５２上に転移されるインキ３０の厚みがばらつくのを防ぐことができる。
【００９５】
〔アニロックス版の変形例〕
なお、本実施の形態において、アニロックス版が、アニロックス版の上面に配置され、インキ供給部７からのインキ３０が充填される複数のセル２を有し、各セル２が、ストライプ状の形状を有するアニロックス版１からなる例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、アニロックス版は、アニロックス版の上面に格子状に配置され、インキ供給部７からのインキ３０が充填される複数のセル１２を有するアニロックス版１１からなっていてもよい。
【００９６】
図９は、本発明のアニロックス版の他の実施形態であるアニロックス版１１を説明するための図である。図９に示されるアニロックス版１１は、セル１２が複数に区画された形状（図９に示す例では、各セル１２は正方形）であり、各セル１２の間には非セル部１３が存在する。また、図１０は、アニロックス版１１の他の形態を説明するための図である。図１０に示されるアニロックス版１１は、セル１２が複数に区画された形状であり、各セル１２は菱形であり、各セル１２の間には非セル部１３が存在する。さらに、図１１は、アニロックス版１１の他の形態を説明するための図である。図１１に示されるアニロックス版１１は、セル１２が複数に区画された形状であり、各セル１２は楕円形であり、各セル１２の間には非セル部１３が存在する。
【００９７】
図９〜図１１に示されるアニロックス版１１は、各セル１２（斜線を付した部位）における印刷方向（図の矢印Ｐが示す方向）の最大幅ｂと印刷方向に直交する方向での最大幅ａの比ｂ／ａが０．６以上、好ましくは１以上であり上限には特に制限はない。また、成膜部位に占める総セル面積が５５〜９５％、好ましくは７０〜９５％の範囲内であり、非セル部１３の幅（非セル部長Ｓ１，Ｓ２）が２〜５００μｍ、好ましくは１０〜２００μｍの範囲内であり、セル１２の深さ（版深）が１５〜１００μｍ、好ましくは１５〜８０μｍの範囲内である。
【００９８】
上記の比ｂ／ａが０．６未満であると、厚膜形成が困難となり、発光層５８の形成において７０ｎｍ以上の厚みの発光層５８の形成が困難となり好ましくない。また、成膜部位に占める総セル面積が５５％未満であると、厚膜形成が困難となり、９５％を超えると、膜厚のバラツキが大きくなり好ましくない。また、非セル部１３の幅（非セル部長Ｓ１，Ｓ２）が２μｍ未満であると、アニロックス版１１のセル１２の形成が困難であり、５００μｍを超えると、膜厚のバラツキが大きくなり、かつ厚膜形成が困難となり好ましくない。また、セル１２の深さ（版深）が２０μｍ未満であると、厚膜形成が困難となり、２００μｍを超えるような版深としても、形成する塗膜の厚みは増加しない。
尚、上述のアニロックス版１１のセル１２の形状は例示であり、上述の形態に限定されるものではない。
【００９９】
〔版胴の変形例〕
また、本実施の形態において、版胴２４が、軸心となる金属ロール２５と、金属ロール２５の外周上に粘着材により固定されたフレキソ版２３とからなっている例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、図１２に示すように、版胴が、金属ロール２５と、金属ロール２５を取り囲む円筒状のプラスチックスリーブ２６と、プラスチックスリーブ２６の外周上に設けられたフレキソ版２３とからなっていてもよい。この場合、プラスチックスリーブ２６を金属ロール２５上に固定する方法が特に限られることはない。例えば、プラスチックスリーブ２６が、金属ロール２５内に配置されたエアークランプ機構（図示せず）によって金属ロール２５上に固定されていてもよく、または、プラスチックスリーブ２６が、金属ロール２５内に配置された吸着機構（図示せず）によって金属ロール上に固定されていてもよい。
【０１００】
〔発光素子層の変形例〕
また本実施の形態において、発光素子層５６の正孔注入層５７および正孔輸送層５７ａが、絶縁層５４および絶縁層５４の開口部５５を全て覆うようベタで形成されている例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、正孔注入層５７および正孔輸送層５７ａが、開口部５５内に収納されるよう形成されていてもよい。
【０１０１】
〔有機発光デバイスの変形例〕
また、本実施の形態において、有機発光デバイスが、帯状パターンの透明電極層５３と電極層６０とが交差する部位が発光領域となるパッシブマトリックス型の有機発光デバイス５１である例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、有機発光デバイスがアクティブマトリックス型であってもよい。
【０１０２】
図１３および図１４は、アクティブマトリックス型の本発明の有機発光デバイスの一例を説明するための図である。図１３は電極配線パターンを示す図であり、透明基材（図示せず）上に形成された電極配線パターン７３は、信号線７３Ａ、走査線７３Ｂ、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）７３Ｃ、透明電極（画素電極）層７３Ｄからなる。また、これらの電極配線パターン７３を被覆するように絶縁層７４（図１３で斜線を付した部位）が形成されており、この絶縁層７４は、各透明電極層７３Ｄ上に位置する開口部７５を備えている。また、絶縁層７４には、各開口部７５内の透明電極層７３Ｄを被覆するように発光素子層（図示せず）が形成され、この発光素子層上に電極（共通電極）層（図示せず）が配設される。
【０１０３】
上記の発光素子層は、絶縁層７４と各開口部７５内の透明電極層７３Ｄとを被覆するように配設された正孔注入層と、開口部７５内の透明電極層７３Ｄ（正孔注入層）を被覆するように各開口部７５に配設された複数の発光層と、これらを被覆するように配設された電子注入層と、から構成することができる。図１４は、絶縁層７４の開口部７５と発光層との関係を示す図である。図１４では、発光層は、開口部７５よりも大きい所望のパターン形状の赤色発光層７８Ｒ、緑色発光層７８Ｇ、青色発光層７８Ｂからなっている。
【０１０４】
このようなアクティブマトリックス型の本発明の有機発光デバイスも、発光層（赤色発光層７８Ｒ、緑色発光層７８Ｇ、青色発光層７８Ｂ）は、本発明の発光層形成方法により形成されたものであり、このため、発光層（赤色発光層７８Ｒ、緑色発光層７８Ｇ、青色発光層７８Ｂ）の厚みが７０ｎｍ以上となっている。このことにより、発光素子層の発光時の輝度、効率の高い、高品質の表示が可能である。また、開口部７５の周縁の絶縁層７４に乗り上げるように発光素子層を形成した場合、発光素子層を挟持する位置に存在する透明電極層７３Ｄと電極層（図示せず）との短絡を生じることがなく、信頼性が更に高いものとなる。
尚、上記の発光素子層は、上述の実施形態と同様に、正孔注入層と発光層とからなる構造、発光層と電子注入層とからなる構造、さらに、正孔注入層と発光層との間に正孔輸送層を介在させた構造、発光層と電子注入層との間に電子輸送層を介在させた構造等とすることができる。
【０１０５】
図１５は、本発明の有機発光デバイスの他の実施形態を示す部分斜視図であり、図１６は図１５に示される有機発光デバイスのＡ−Ａ線における断面図である。図１５および図１６において、有機発光デバイス８１は、透明基材８２と、この透明基材８２上に長方形状に形成された透明電極層８３と、ひし形開口部８５ａと長方形状開口部８５ｂとを有する絶縁層８４と、各開口部８５ａ、８５ｂ内の透明電極層８３を被覆するように配設された発光素子層８６と、この発光素子層８６を被覆するように形成された電極層９０とを備えている。
上記の発光素子層８６は、積層配設された正孔注入層８７、発光層８８、電子注入層８９からなっている。尚、発光素子層８６が各開口部８５ａ、８５ｂの周縁の絶縁層８４に乗り上げるように形成されたものであってもよい。
【０１０６】
このような有機発光デバイス８１は、各開口部８５ａ、８５ｂが存在する部位が表示領域となるエリアカラー表示であり、例えば、各開口部８５ａ、８５ｂの最大開口幅を１０ｍｍ以上に設定して有機発光ポスターとしての使用が可能である。有機発光デバイス８１を構成する発光層８８は、本発明の発光層形成方法により形成されたものであり、このため、発光層８８の厚みが７０ｎｍ以上となっている。このことにより、発光素子層８６の発光時の輝度、効率の高い、高品質の表示が可能である。また、開口部８５ａ、８５ｂの周縁の絶縁層８４に乗り上げるように発光素子層８６を形成した場合、発光素子層８６を挟持する位置に存在する透明電極層８３と電極層９０との短絡を生じることがなく、信頼性が更に高いものとなる。
【０１０７】
尚、各開口部８５ａ、８５ｂに位置する各発光層の発光色が異なるものであってもよく、さらに、各開口部８５ａ、８５ｂ上に配設される電極層９０を電気的に独立したものとして、各発光層に発光できるようにしてもよい。
また、上記の発光素子層８６は、上述の実施形態と同様に、正孔注入層と発光層とからなる構造、発光層と電子注入層からなる構造、さらに、正孔注入層と発光層との間に正孔輸送層を介在させた構造、発光層と電子注入層との間に電子輸送層を介在させた構造等とすることができる。
【０１０８】
図１７は、本発明の有機発光デバイスの他の実施形態を示す部分断面図である。図１７に示される有機発光デバイス９１は、透明基材９２と、この透明基材９２上に設けられた帯状パターンの赤色着色層９３Ｒ、緑色着色層９３Ｇ、青色着色層９３Ｂからなるカラーフィルタ層９３と、このようなカラーフィルタ層９３を覆うように配設された透明平滑化層９５と、この透明平滑化層９５上に、上述の実施形態の有機発光デバイス５１と同様に形成された帯状パターンの複数の透明電極層５３と、各透明電極層５３上にストライプ形状の開口部５５が位置するように配設された絶縁層５４と、各開口部５５内の透明電極層５３を被覆するように配設された発光素子層５６と、この発光素子層５６上に透明電極層５３と直交するように延設された帯状パターンの複数の電極層６０とを備えている。
【０１０９】
上記の帯状パターンの複数の透明電極層５３は、帯状パターンの赤色着色層９３Ｒ、緑色着色層９３Ｇ、青色着色層９３Ｂ上に位置するものである。また、発光素子層５６は、各開口部５５内の透明電極層５３を被覆するように配設された正孔注入層５７と、開口部５５内の透明電極層５３（正孔注入層５７）を被覆するように各開口部５５に配設された複数の発光層５８と、これらを被覆するように配設された電子注入層５９と、からなる。図示例では、発光層５８は、帯状パターンの白色発光層である。尚、発光素子層５６を開口部５５の周縁の絶縁層５４に乗り上げるように形成したものであってもよい。
【０１１０】
このような有機発光デバイス９１は、カラーフィルタ層９３と透明平滑化層９５とを備え、発光層５８が白色発光層である点を除いて、上述の有機発光デバイス５１と同様である。したがって、同様の部材には、同じ部材番号を付し、ここでの説明は省略する。尚、上記の発光素子層５６は、上述の実施形態と同様に、正孔注入層と発光層とからなる構造、発光層と電子注入層とからなる構造、さらに、正孔注入層と発光層との間に正孔輸送層を介在させた構造、発光層と電子注入層との間に電子輸送層を介在させた構造等とすることができる。
【０１１１】
上記のカラーフィルタ層９３は、発光素子層５６からの光を色補正したり、色純度を高めるものである。カラーフィルタ層９３を構成する赤色着色層９３Ｒ、緑色着色層９３Ｇ、青色着色層９３Ｂは、発光素子層５６の発光特性に応じて適宜材料を選択することができ、例えば、顔料、顔料分散剤、バインダー樹脂、反応性化合物および溶媒を含有する顔料分散組成物で形成することができる。このようなカラーフィルタ層９３の厚みは、各着色層の材料、発光素子層５６の発光特性等に応じて適宜設定することができ、例えば、１〜３μｍ程度の範囲で設定することができる。
【０１１２】
また、透明平滑化層９５は、カラーフィルタ層９３以下の構成により段差（表面凹凸）が存在する場合に、この段差を解消して平坦化を図り、発光素子層５６の厚みムラ発生を防止する平坦化作用をなす。このような透明平滑化層９５は、透明（可視光透過率５０％以上）樹脂により形成することができる。具体的には、アクリレート系、メタクリレート系の反応性ビニル基を有する光硬化型樹脂、熱硬化型樹脂を使用することができる。また、透明樹脂として、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリレート、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ポリ塩化ビニル樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、マレイン酸樹脂、ポリアミド樹脂等を使用することができる。
このような透明平滑化層９５の厚みは、使用する材料を考慮し、平坦化作用が発現できる範囲で設定することができ、例えば、１〜５μｍ程度の範囲で適宜設定することができる。
【０１１３】
また、図１８は、本発明の有機発光デバイスの他の実施形態を示す部分断面図である。図１８に示される有機発光デバイス１０１は、透明基材１０２と、この透明基材１０２上に設けられた帯状パターンの赤色着色層１０３Ｒ、緑色着色層１０３Ｒ、青色着色層１０３Ｂからなるカラーフィルタ層１０３と、このようなカラーフィルタ層１０３の赤色着色層１０３Ｒ、緑色着色層１０３Ｒ、青色着色層１０３Ｂを覆うように帯状パターンの赤色変換蛍光体層１０４Ｒ（青色光を赤色蛍光に変換する層）、緑色変換蛍光体層１０４Ｇ（青色光を緑色蛍光に変換する層）、青色変換ダミー層１０４Ｂ（青色光をそのまま透過する層）からなる色変換蛍光体層１０４が設けられ、さらに、これらを覆うように配設された透明平滑化層１０５と、この透明平滑化層１０５上に、上述の実施形態の有機発光デバイス５１と同様に形成された帯状パターンの複数の透明電極層５３と、各透明電極層５３上にストライプ形状の開口部５５が位置するように配設された絶縁層５４と、各開口部５５内の透明電極層５３を被覆するように配設された発光素子層５６と、この発光素子層５６上に透明電極層５３と直交するように延設された帯状パターンの複数の電極層６０とを備えている。
【０１１４】
上記の帯状パターンの複数の透明電極層５３は、帯状パターンの赤色変換蛍光体層１０４Ｒ、緑色変換蛍光体層１０４Ｇ、青色変換ダミー層１０４Ｂ上に位置するものである。また、発光素子層５６は、各開口部５５内の透明電極層５３を被覆するように配設された正孔注入層５７、発光層５８、電子注入層５９とからなる。図示例では、発光層５８は、帯状パターンの青色発光層である。尚、発光素子層５６は、開口部５５の周縁の絶縁層５４に乗り上げるようなものであってもよい。
【０１１５】
このような有機発光デバイス１０１は、カラーフィルタ層１０３と色変換蛍光体層１０４と透明平滑化層１０５とを備え、発光層５８が青色発光層である点を除いて、上述の有機発光デバイス５１と同様である。したがって、同様の部材には、同じ部材番号を付し、ここでの説明は省略する。また、カラーフィルタ層１０３、透明平滑化層１０５は、上述のカラーフィルタ層９３、透明平滑化層９５と同様であり、ここでの説明は省略する。尚、上記の発光素子層５６は、上述の実施形態と同様に、正孔注入層と発光層とからなる構造、発光層と電子注入層とからなる構造、さらに、正孔注入層と発光層との間に正孔輸送層を介在させた構造、発光層と電子注入層との間に電子輸送層を介在させた構造等とすることができる。
【０１１６】
上記の赤色変換蛍光体層１０４Ｒおよび緑色変換蛍光体層１０４Ｇは、蛍光色素単体からなる層、あるいは、樹脂中に蛍光色素を含有した層である。青色発光を赤色蛍光に変換する赤色変換蛍光体層１０４Ｒに使用する蛍光色素としては、４−ジシアノメチレン−２−メチル−６−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）−４Ｈ−ピラン等のシアニン系色素、１−エチル−２−［４−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）−１，３−ブタジエニル］−ピリジウム−パークロレート等のピリジン色素、ローダミンＢ、ローダミン６Ｇ等のローダミン系色素、オキサジン系色素等が挙げられる。また、青色発光を緑色蛍光に変換する緑色変換蛍光体層１０４Ｇに使用する蛍光色素としては、２，３，５，６−１Ｈ，４Ｈ−テトラヒドロ−８−トリフルオロメチルキノリジノ（９，９ａ，１−ｇｈ）クマリン、３−（２′−ベンゾチアゾリル）−７−ジエチルアミノクマリン、３−（２′−ベンズイミダゾリル）−７−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノクマリン等のクマリン色素、ベーシックイエロー５１等のクマリン色素系染料、ソルベントイエロー１１、ソルベントイエロー１１６等のナフタルイミド色素等が挙げられる。さらに、直接染料、酸性染料、塩基性染料、分散染料等の各種染料も蛍光性があれば使用することができる。上述のような蛍光色素は単独、あるいは、２種以上の組み合わせで使用することができる。赤色変換蛍光体層１０４Ｒおよび緑色変換蛍光体層１０４Ｇが樹脂中に蛍光色素を含有したものである場合、蛍光色素の含有量は、使用する蛍光色素、色変換蛍光体層の厚み等を考慮して適宜設定することができるが、例えば、使用する樹脂１００重量部に対し０．１〜１重量部程度とすることができる。
【０１１７】
また、青色変換ダミー層１０４Ｂは、発光素子層５６で発光された青色光をそのまま透過してカラーフィルタ層１０３に送るものであり、赤色変換蛍光体層１０４Ｒ、緑色変換蛍光体層１０４Ｇとほぼ同じ厚みの透明樹脂層とすることができる。
赤色変換蛍光体層１０４Ｒおよび緑色変換蛍光体層１０４Ｇが樹脂中に蛍光色素を含有したものである場合、樹脂としては、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリレート、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ポリ塩化ビニル樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、マレイン酸樹脂、ポリアミド樹脂等の透明（可視光透過率５０％以上）樹脂を使用することができる。また、色変換蛍光体層１０４のパターン形成をフォトリソグラフィー法により行う場合、例えば、アクリル酸系、メタクリル酸系、ポリケイ皮酸ビニル系、環ゴム系等の反応性ビニル基を有する光硬化型レジスト樹脂を使用することができる。さらに、これらの樹脂は、上述の青色変換ダミー層１０４Ｂに使用することができる。
【０１１８】
色変換蛍光体層１０４を構成する赤色変換蛍光体層１０４Ｒと緑色変換蛍光体層１０４Ｇは、蛍光色素単体で形成する場合、例えば、所望のパターンマスクを介して真空蒸着法、スパッタリング法により帯状に形成することができる。また、樹脂中に蛍光色素を含有した層として形成する場合、例えば、蛍光色素と樹脂とを分散、または可溶化させた塗布液をスピンコート、ロールコート、キャストコート等の方法で塗布して成膜し、これをフォトリソグラフィー法でパターニングする方法、上記の塗布液をスクリーン印刷法等でパターン印刷する方法等により赤色変換蛍光体層１０４Ｒや緑色変換蛍光体層１０４Ｇを形成することができる。また、青色変換ダミー層１０４Ｂは、所望の感光性樹脂塗料をスピンコート、ロールコート、キャストコート等の方法で塗布して成膜し、これをフォトリソグラフィー法でパターニングする方法、所望の樹脂塗布液をスクリーン印刷法等でパターン印刷する方法等により形成することができる。
【０１１９】
このような色変換蛍光体層１０４の厚みは、赤色変換蛍光体層１０４Ｒおよび緑色変換蛍光体層１０４Ｇが発光素子層５６で発光された青色光を十分に吸収し蛍光を発生する機能が発現できるものとする必要があり、使用する蛍光色素、蛍光色素濃度等を考慮して適宜設定することができ、例えば、１０〜２０μｍ程度とすることができ、赤色変換蛍光体層１０４Ｒと緑色変換蛍光体層１０４Ｇとの厚みが異なる場合があってもよい。
青色発光である有機発光材料としては、例えば、ベンゾチアゾール系、ベンゾイミダゾール系、ベンゾオキサゾール系等の蛍光増白剤、金属キレート化オキシノイド化合物、スチリルベンゼン系化合物、ジスチリルピラジン誘導体、芳香族ジメチリディン系化合物等を挙げることができる。
【０１２０】
具体的には、２−２′−（ｐ−フェニレンジビニレン）−ビスヘンゾチアゾール等のベンゾチアゾール系； ２−［２−［４−（２−ベンゾイミダゾリル）フェニル］ビニル］ベンゾイミダゾール、２−［２−（４−カルボキシフェニル）ビニル］ベンゾイミダゾール等のベンゾイミダゾール系； ２，５−ビス（５，７−ジ−ｔ−ペンチル−２−ベンゾオキサゾリル）−１，３，４−チアジアゾール、４，４′−ビス（５，７−ｔ−ペンチル−２−ベンゾオキサゾリル）スチルベン、２−［２−（４−クロロフェニル）ビニル］ナフト［１，２−ｄ］オキサゾール等のベンゾオキサゾール系等の蛍光増白剤を挙げることができる。
また、上記の金属キレート化オキシノイド化合物としては、トリス（８−キノリノール）アルミニウム、ビス（８−キノリノール）マグネシウム、ビス（ベンゾ［ｆ］−８−キノリノール）亜鉛等の８−ヒドロキシキノリン系金属錯体やジリチウムエピントリジオン等を挙げることができる。
【０１２１】
また、上記のスチリルベンゼン系化合物としては、１，４−ビス（２−メチルスチリル）ベンゼン、１，４−ビス（３−メチルスチリル）ベンゼン、１，４−ビス（４−メチルスチリル）ベンゼン、ジスチリルベンゼン、１，４−ビス（２−エチルスチリル）ベンゼン、１，４−ビス（３−エチルスチリル）ベンゼン、１，４−ビス（２−メチルスチリル）−２−メチルベンゼン、１，４−ビス（２−メチルスチリル）−２−エチルベンゼン等を挙げることができる。
また、上記のジスチリルピラジン誘導体としては、２，５−ビス（４−メチルスチリル）ピラジン、２，５−ビス（４−エチルスチリル）ピラジン、２，５−ビス［２−（１−ナフチル）ビニル］ピラジン、２，５−ビス（４−メトキシスチリル）ピラジン、２，５−ビス［２−（４−ビフェニル）ビニル］ピラジン、２，５−ビス［２−（１−ピレニル）ビニル］ピラジン等を挙げることができる。
【０１２２】
また、上記の芳香族ジメチリディン系化合物としては、１，４−フェニレンジメチリディン、４，４−フェニレンジメチリディン、２，５−キシレンジメチリディン、２，６−ナフチレンジメチリディン、１，４−ビフェニレンジメチリディン、１，４−ｐ−テレフェニレンジメチリディン、９，１０−アントラセンジイルジルメチリディン、４，４′−ビス（２，２−ジ−ｔ−ブチルフェニルビニル）ビフェニル、４，４′−ビス（２，２−ジフェニルビニル）ビフェニル等、およびその誘導体を挙げることができる。
【０１２３】
さらに、発光層の材料として、一般式（Ｒｓ−Ｑ）２−ＡＬ−Ｏ−Ｌで表される化合物も挙げることができる（上記式中、ＡＬはベンゼン環を含む炭素原子６〜２４個の炭化水素であり、Ｏ−Ｌはフェニラート配位子であり、Ｑは置換８−キノリノラート配位子であり、Ｒｓはアルミニウム原子に置換８−キノリノラート配位子が２個以上結合するのを立体的に妨害するように選ばれた８−キノリノラート置換基を表す）。具体的には、ビス（２−メチル−８−キノリノラート）（パラーフェニルフェノラート）アルミニウム（III）、ビス（２−メチル−８−キノリノラート）（１−ナフトラート）アルミニウム（III）等が挙げられる。
尚、上述の実施形態は例示であり、本発明はこれらに限定されるものではない。例えば、カラーフィルタ層９３，１０３の非形成部位にブラックマトリックスを備えるものであってもよい。
【実施例】
【０１２４】
次に、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施例の記載に限定されるものではない。
【０１２５】
［実施例１］
印刷機１０の版胴２４の回転速度を１０〜１００ｒｐｍの範囲内で変更して、基材５２上にインキ３０を印刷した。
インキ３０としては、せん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）が８０ｃｐであり、沸点が１８６℃であるインキを用いた。インキ３０の固形分の重量％を２．５重量％、インキ３０の溶媒の表面張力を３２ｄｙｎｅ／ｃｍとした。
アニロックス版１としては、セル２の線数が１４０線／ｉｎｃｈ、セル２の深さが４０μｍ、成膜部位全体の面積に占めるセル２全体の面積の比率が７５％であるアニロックス版を用いた。
版胴２４のフレキソ版２３としては、水現像可能な樹脂材料からなるフレキソ版を用いた。フレキソ版２３の解像度は２５０ｐｐｉ（ｐｉｘｅｌｓ ｐｅｒ ｉｎｃｈ）とした。
【０１２６】
（評価項目）
上述のアニロックス版１および版胴２４を備えた印刷機１０を用いて、基材５２上にインキ３０を転移させ、これによって基材５２上に印刷物３０ａを形成した。この際、図１９（ａ）に示すように、印刷方向Ｐにおける印刷物３０ａの長さｔ２が４００μｍとなるよう、版胴２４のフレキソ版２３の凸部２３ａを設定した。なお、印刷物３０ａの線幅ｔ１に対応するフレキソ版２３の凸部２３ａは１００μｍとした。形成された印刷物３０ａについて、以下の２つの項目の評価を行った。
（１）線幅変動率
はじめに、基材５２上に形成される印刷物３０ａの線幅を測定した。図１９（ａ）に示すように、印刷物３０ａの長さ方向（印刷方向Ｐ）における中点（測定場所２）と、中点から前後に長さｔ３だけずれた点（測定場所１および測定場所３）とにおいて、それぞれ線幅の測定を実施した。このとき、長さｔ３を１３０μｍとした。次に、測定された線幅の平均値（平均線幅）、最大値（線幅ｍａｘ）、最小値（線幅ｍｉｎ）を算出した。その後、当該平均値、最大値および最小値に基づき、線幅変動率（％）を算出した。なお線幅変動率（％）は、具体的には以下の式により導かれる。
線幅変動率（％）＝｛（線幅ｍａｘ−線幅ｍｉｎ）／平均線幅｝×１００
（２）膜厚変動率
はじめに、基材５２上に形成される印刷物３０ａの厚み（膜厚）を複数の点で測定し、次に、測定された膜厚の平均値（平均膜厚）、最大値（膜厚ｍａｘ）、最小値（膜厚ｍｉｎ）を算出した。その後、当該平均値、最大値および最小値に基づき、膜厚変動率（％）を算出した。なお膜厚変動率（％）は、具体的には以下の式により導かれる。
膜厚変動率（％）＝｛（膜厚ｍａｘ−膜厚ｍｉｎ）／平均膜厚｝×１００
【０１２７】
基材定盤６上における版胴２４の回転速度を１０〜１００ｒｐｍの範囲内で変更して、印刷物３０ａの線幅変動率を評価した結果を表１に示す。なお表１において、線幅変動率が５％以内となっている場合を「ＯＫ」、線幅変動率が５％よりも大きくなっている場合を「ＮＧ」と判定している。
【表１】
表１に示されているように、版胴２４の回転速度が２０ｒｐｍ以上となるよう制御部９により版胴２４を制御することにより、基材５２上に形成される印刷物３０ａの線幅変動率を５％以内とすることができた。とりわけ、版胴２４の回転速度が４０ｒｐｍ以上となるよう制御部９により版胴２４を制御することにより、基材５２上に形成される印刷物３０ａの線幅変動率を４％以内とすることができており、さらに好ましいといえる。一方、版胴２４の回転速度が２０ｒｐｍよりも小さいときは、表１に示すように、印刷方向Ｐの前方に進むにつれて印刷物３０ａの線幅が小さくなっていくのが見られた。このため、版胴２４の回転速度が２０ｒｐｍよりも小さいときは、印刷物３０ａの線幅変動率が５％よりも大きくなっていた。
【０１２８】
次に、印刷機１０の版胴２４の回転速度を１０〜１００ｒｐｍの範囲内で変更して、印刷物３０ａの膜厚変動率を評価した結果を表２に示す。なお表２において、膜厚変動率が５％以内となっている場合を「ＯＫ」、膜厚変動率が５％よりも大きくなっている場合を「ＮＧ」と判定している。
【表２】
表２に示されているように、版胴２４の回転速度が２０ｒｐｍ以上となるよう制御部９により版胴２４を制御することにより、基材５２上に形成される印刷物３０ａの膜厚変動率を５％以内とすることができた。とりわけ、版胴２４の回転速度が４０ｒｐｍ以上となるよう制御部９により版胴２４を制御することにより、基材５２上に形成される印刷物３０ａの膜厚変動率を４％以内とすることができており、さらに好ましいといえる。一方、版胴２４の回転速度が４０ｒｐｍよりも小さくなっているときは、印刷物３０ａの膜厚変動率が５％よりも大きくなっていた。
【０１２９】
［実施例２］
版胴２４のフレキソ版２３の解像度を４０〜２５０ｐｐｉの範囲内で変更して、基材５２上にインキ３０を印刷した。このとき、アニロックス版１上における版胴２４の回転速度を２０ｒｐｍとし、基材定盤６上における版胴２４の回転速度を１００ｒｐｍとした。その他の条件は実施例１の場合と同一であるので、詳細な説明は省略する。
【０１３０】
インキ３０からなる印刷物３０ａの膜厚を複数の点で測定し、膜厚変動率を算出した。算出された膜厚変動率を表３に示す。なお表３において、膜厚変動率が５％以内となっている場合を「ＯＫ」、膜厚変動率が５％よりも大きくなっている場合を「ＮＧ」と判定している。
【表３】
表３に示されているように、フレキソ版２３の解像度が１００ｐｐｉ以上となっている場合に、基材５２上に形成される印刷物３０ａの膜厚変動率が５％以内となっていた。とりわけ、フレキソ版２３の解像度が１２０ｐｐｉ以上となっている場合に、基材５２上に形成される印刷物３０ａの膜厚変動率が４％以内となっており、更に好ましいといえる。一方、フレキソ版２３の解像度が１００ｐｐｉよりも低い場合、基材５２上に形成される印刷物３０ａの膜厚変動率が５％よりも大きくなっていた。フレキソ版２３の解像度が低いほど、すなわち基材５２上に形成される印刷物３０ａ一個あたりの面積が大きいほど、印刷物３０ａの膜厚の最大値と最小値の差が大きくなるといえる。
【０１３１】
［実施例３］
様々な特性のインキを用いて、印刷機１０により基材５２上にインキを印刷した。本実施例においては、インキの様々な特性のうち、特にインキの粘度に着目した。また、アニロックス版１上における版胴２４の回転速度を２０ｒｐｍとし、基材定盤６上における版胴２４の回転速度を１００ｒｐｍとした。その他の条件は実施例１の場合と同一であるので、詳細な説明は省略する。
【０１３２】
はじめに、せん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）が８．９７〜３２０ｃＰの範囲内となっている様々なインキを準備し、次に、これらのインキを印刷機１０により基材５２上に印刷した。その後、インキからなる印刷物３０ａの膜厚を複数の点で測定し、膜厚変動率を算出した。各インキの特性、および算出された膜厚変動率を表４に示す。なお表４において、膜厚変動率が５％以内となっている場合を「ＯＫ」、膜厚変動率が５％よりも大きくなっている場合を「ＮＧ」と判定している。
【表４】
表4に示されているように、インキの粘度が５２〜１９２ｃＰの範囲内となっている場合に、基材５２上に形成される印刷物３０ａの膜厚変動率が５％以内となっていた。一方、インキの粘度が４６．６ｃＰ以下の場合、基材５２上に形成される印刷物３０ａの膜厚変動率が５％より大きくなっていた。これは、インキの粘度が小さいことによって、若しくはインキの沸点が高いことによって、基材５２上に印刷されるインキにムラが生じたためと考えられる。また、インキの粘度が２４５ｃＰ以上の場合も、基材５２上に形成される印刷物３０ａの膜厚変動率が５％より大きくなっていた。これは、インキの粘度が大きいことによるレベリング不良に起因していると考えられる。
【０１３３】
［実施例４］
様々な特性のインキを用いて、印刷機１０により基材５２上にインキを印刷した。本実施例においては、インキの様々な特性のうち、特にインキの溶媒の表面張力に着目した。また、アニロックス版１上における版胴２４の回転速度を２０ｒｐｍとし、基材定盤６上における版胴２４の回転速度を１００ｒｐｍとした。その他の条件は実施例１の場合と同一であるので、詳細な説明は省略する。
【０１３４】
はじめに、溶媒の表面張力が３０．8〜３９ｄｙｎｅ／ｃｍの範囲内となっている様々なインキを準備し、次に、これらのインキを印刷機１０により基材５２上に印刷した。その後、インキからなる印刷物３０ａの膜厚を複数の点で測定し、膜厚変動率を算出した。各インキの特性、および算出された膜厚変動率を表５に示す。なお表５において、膜厚変動率が５％以内となっている場合を「ＯＫ」、膜厚変動率が５％よりも大きくなっている場合を「ＮＧ」と判定している。
【表５】
表５に示されているように、インキの溶媒の表面張力が３０．８〜３６．８ｄｙｎｅ／ｃｍの範囲内となっている場合に、基材５２上に形成される印刷物３０ａの膜厚変動率が５％以内となっていた。とりわけ、インキの溶媒の表面張力が３０．８〜３５．５ｄｙｎｅ／ｃｍの範囲内となっている場合に、基材５２上に形成される印刷物３０ａの膜厚変動率が４％以内となっており、更に好ましいといえる。
一方、インキの溶媒の表面張力が３９ｄｙｎｅ／ｃｍとなっている場合、基材５２上に形成される印刷物３０ａの膜厚変動率が５％よりも大きくなっていた。これは、インキの溶媒の表面張力が大きく、かつインキの沸点が高いことによるレベリング不良に起因していると考えられる。
【０１３５】
［実施例５］
様々な特性のインキを用いて、印刷機１０により基材５２上にインキを印刷した。本実施例においては、インキの様々な特性のうち、特にインキの溶媒の沸点に着目した。また、アニロックス版１上における版胴２４の回転速度を２０ｒｐｍとし、基材定盤６上における版胴２４の回転速度を１００ｒｐｍとした。その他の条件は実施例１の場合と同一であるので、詳細な説明は省略する。
【０１３６】
はじめに、溶媒の沸点が１６４〜２６８℃の範囲内となっている様々なインキを準備し、次に、これらのインキを印刷機１０により基材５２上に印刷した。その後、インキからなる印刷物３０ａの膜厚を複数の点で測定し、膜厚変動率を算出した。各インキの特性、および算出された膜厚変動率を表６に示す。なお表６において、膜厚変動率が５％以内となっている場合を「ＯＫ」、膜厚変動率が５％よりも大きくなっている場合を「ＮＧ」と判定している。
【表６】
表６に示されているように、インキの溶媒の沸点が１８５〜２４５℃の範囲内となっている場合に、基材５２上に形成される印刷物３０ａの膜厚変動率が５％以内となっていた。とりわけ、インキの溶媒の沸点が１８５〜２４０℃の範囲内となっている場合に、基材５２上に形成される印刷物３０ａの膜厚変動率が４％以内となっており、更に好ましいといえる。
一方、インキの溶媒の沸点が１６４℃となっている場合、基材５２上に形成される印刷物３０ａの膜厚変動率が５％よりも大きくなっていた。これは、インキの溶媒の沸点が低く、かつインキの粘度が小さいことによって、基材５２上に印刷されるインキにムラが生じたためと考えられる。また、インキの溶媒の沸点が２６８℃となっている場合も、基材５２上に形成される印刷物３０ａの膜厚変動率が５％よりも大きくなっていた。これは、インキの溶媒の沸点が高く、かつ表面張力が小さいことによるレベリング不良に起因していると考えられる。
【０１３７】
［実施例６］
様々な特性のインキを用いて、印刷機１０により基材５２上にインキを印刷した。本実施例においては、インキの様々な特性のうち、特にインキに含有される固形分の重量％に着目した。インキとしては、赤色発光層用インキを用いた。また本実施例において、各インキの溶媒の表面張力は３１．８ｄｙｎｅ／ｃｍ、各インキの溶媒の沸点は１８５℃となっていた。また、アニロックス版１上における版胴２４の回転速度を２０ｒｐｍとし、基材定盤６上における版胴２４の回転速度を１００ｒｐｍとした。その他の条件は実施例１の場合と同一であるので、詳細な説明は省略する。
【０１３８】
はじめに、固形分の重量％が１〜４．５重量％の範囲内となっている様々なインキを準備し、次に、これらのインキを印刷機１０により基材５２上に印刷した。その後、インキからなる印刷物３０ａの膜厚を測定した。各インキの特性、および測定された膜厚を表７に示す。なお表７において、膜厚が７０ｎｍ〜１２０ｎｍの範囲内となっている場合を「ＯＫ」、膜厚が７０ｎｍ〜１２０ｎｍの範囲外となっている場合を「ＮＧ」と判定している。
【表７】
表７に示されているように、インキに含有される固形分の重量％が１．５〜４重量％の範囲内となっている場合に、基材５２上に形成される印刷物３０ａの膜厚が７０ｎｍ〜１２０ｎｍの範囲内となっていた。一方、固形分の重量％が４．５または５重量％の場合は、印刷物３０ａの膜厚が１２０ｎｍよりも大きくなっていた。これは、固形分の溶け残りが生じていること、または、用いた溶剤によってはインキ粘度が大きくなりすぎていたことなどに起因していると考えられる。また、インキに含有される固形分の重量％が１重量％となっている場合は、基材５２上に形成される印刷物３０ａの膜厚が７０ｎｍよりも小さくなっていた。以上の結果から、インキに含有される固形分の重量％が１．５〜４重量％の範囲内となっていることが好ましいといえる。
【０１３９】
［実施例７］
印刷機１０で用いるアニロックス版として、格子状に配置されたセルを有するアニロックス版１１を用いて、基材５２上にインキ３０を印刷した。このとき、インキ３０としては、溶媒の沸点が１８５℃、溶媒の表面張力が３１．８ｄｙｎｅ／ｃｍ、固形分の含有量が２．５重量％であって、粘度が７８ｃＰとなっているインキを用いた。また、アニロックス版１上における版胴２４の回転速度を２０ｒｐｍとし、基材定盤６上における版胴２４の回転速度を１００ｒｐｍとした。その他の条件は実施例１の場合と同一であるので、詳細な説明は省略する。
【０１４０】
（セルの線数を変更しての評価）
はじめに、アニロックス版１１のセル１２の線数を９５〜３４０線／ｉｎｃｈの範囲内で変更して、基材５２上にインキ３０を印刷した。これによって形成された印刷物３０ａの膜厚を複数の点で測定した。また、複数の点における膜厚の測定結果に基づき、膜厚変動率を算出した。測定された膜厚の平均値（平均膜厚）、および膜厚変動率を表８に示す。なお表８において、平均膜厚が７０ｎｍ〜１２０ｎｍの範囲内となっており、かつ膜厚変動率が５％以内となっている場合を「ＯＫ」とし、平均膜厚が７０ｎｍ〜１２０ｎｍの範囲外となっているか、または膜厚変動率が５％よりも大きくなっている場合を「ＮＧ」と判定している。また表８において、「面積率」とは、アニロックス版１１の成膜部位全体の面積（セル１２および非セル部１３全体の面積）に占めるセル１２全体の面積の比率のことである。
【表８】
表８に示されているように、アニロックス版１１のセル１２の線数が１００〜３００線／ｉｎｃｈの範囲内となっている場合に、基材５２上に形成される印刷物３０ａの平均膜厚が７０ｎｍ〜１２０ｎｍの範囲内となっており、かつ膜厚変動率が５％以内となっていた。とりわけ、アニロックス版１１のセル１２の線数が１２０〜２００線／ｉｎｃｈの範囲内となっている場合に、基材５２上に形成される印刷物３０ａの平均膜厚が８０ｎｍ以上となっており、かつ膜厚変動率が４％以内となっており、更に好ましいといえる。
一方、アニロックス版１１のセル１２の線数が９５線／ｉｎｃｈの場合は、基材５２上に形成される印刷物３０ａの膜厚変動率が５％よりも大きくなっていた。これは、セル１２一個あたりの面積が大きいことにより、基材５２上に印刷されるインキ３０のムラが大きくなったためと考えられる。また、アニロックス版１１のセル１２の線数が３００線／ｉｎｃｈよりも大きい場合は、基材５２上に形成される印刷物３０ａの膜厚が７０ｎｍよりも小さくなっていた。
【０１４１】
（セルの面積率を変更しての評価）
次に、アニロックス版１１のセル１２の面積率（アニロックス版１１の成膜部位全体の面積に占めるセル１２全体の面積の比率）を５０〜９５％の範囲内で変更して、基材５２上にインキ３０を印刷した。これによって形成された印刷物３０ａの膜厚を複数の点で測定した。また、複数の点における膜厚の測定結果に基づき、膜厚変動率を算出した。測定された膜厚の平均値（平均膜厚）、および膜厚変動率を表９に示す。なお表９において、平均膜厚が７０ｎｍ〜１２０ｎｍの範囲内となっており、かつ膜厚変動率が５％以内となっている場合を「ＯＫ」とし、平均膜厚が７０ｎｍ〜１２０ｎｍの範囲外となっているか、または膜厚変動率が５％よりも大きくなっている場合を「ＮＧ」と判定している。
【表９】
表９に示されているように、アニロックス版１１のセル１２の面積率が５５〜９５％の範囲内となっている場合に、基材５２上に形成される印刷物３０ａの平均膜厚が７０ｎｍ〜１２０ｎｍの範囲内となっており、かつ膜厚変動率が５％以内となっていた。とりわけ、アニロックス版１１のセル１２の面積率が７０〜９５％の範囲内となっている場合に、基材５２上に形成される印刷物３０ａの平均膜厚が８０ｎｍよりも大きくなっており、更に好ましいといえる。
一方、アニロックス版１１のセル１２の面積率が５０％の場合は、基材５２上に形成される印刷物３０ａの平均膜厚が７０ｎｍよりも小さくなっていた。
【０１４２】
（セルの版深さを変更しての評価）
次に、アニロックス版１１のセル１２の深さ（版深さ）を１２〜１１０μｍの範囲内で変更して、基材５２上にインキ３０を印刷した。これによって形成された印刷物３０ａの膜厚を複数の点で測定した。また、複数の点における膜厚の測定結果に基づき、膜厚変動率を算出した。測定された膜厚の平均値（平均膜厚）、および膜厚変動率を表１０に示す。なお表１０において、平均膜厚が７０ｎｍ〜１２０ｎｍの範囲内となっており、かつ膜厚変動率が５％以内となっている場合を「ＯＫ」とし、平均膜厚が７０ｎｍ〜１２０ｎｍの範囲外となっているか、または膜厚変動率が５％よりも大きくなっている場合を「ＮＧ」と判定している。
【表１０】
表１０に示されているように、アニロックス版１１のセル１２の版深さが１６〜１００μｍの範囲内となっている場合に、基材５２上に形成される印刷物３０ａの平均膜厚が７０ｎｍ〜１２０ｎｍの範囲内となっており、かつ膜厚変動率が５％以内となっていた。とりわけ、アニロックス版１１のセル１２の版深さが１６〜８０μｍの範囲内となっている場合に、基材５２上に形成される印刷物３０ａの膜厚変動率が４％以内となっており、更に好ましいといえる。
一方、アニロックス版１１のセル１２の版深さが１２〜１４μｍの範囲内となっている場合は、基材５２上に形成される印刷物３０ａの平均膜厚が７０ｎｍよりも小さくなっていた。また、アニロックス版１１のセル１２の版深さが１１０μｍなっている場合は、基材５２上に形成される印刷物３０ａの膜厚変動率が５％よりも大きくなっていた。
【０１４３】
［実施例８］
印刷機１０で用いるアニロックス版として、ストライプ状に配置されたセルを有するアニロックス版１を用いて、基材５２上にインキ３０を印刷した。具体的には、アニロックス版１の各セル２における印刷方向Ｐの幅ｂと印刷方向Ｐに直交する方向での幅ａの比ｂ／ａを０．５〜１０００の範囲内で変更して、基材５２上にインキ３０を印刷した。なお、各セル２の延びる方向は、印刷方向Ｐと平行な方向とした（図３（ａ）参照）。また、各セル２の線数は１５０線／ｉｎｃｈ、面積率は８５％、版深さは４０μｍとした。その他の条件は実施例７の場合と略同一であるので、詳細な説明は省略する。
【０１４４】
各セル２の比ｂ／ａを０．５〜１０００の範囲内で変更して、基材５２上にインキ３０を印刷した。これによって形成された印刷物３０ａの膜厚を複数の点で測定した。また、複数の点における膜厚の測定結果に基づき、膜厚変動率を算出した。算出された膜厚変動率を表１１に示す。なお表１１において、膜厚変動率が５％以内となっている場合を「ＯＫ」とし、膜厚変動率が５％よりも大きくなっている場合を「ＮＧ」と判定している。
【表１１】
表１１に示されているように、アニロックス版１のセル２のｂ／ａが０．６５〜１０００の範囲内となっている場合に、基材５２上に形成される印刷物３０ａの膜厚変動率が５％以内となっていた。とりわけ、アニロックス版１のセル２のｂ／ａが１〜１０００の範囲内となっている場合に、基材５２上に形成される印刷物３０ａの膜厚変動率が３％以内となっており、更に好ましいといえる。
一方、アニロックス版１のセル２のｂ／ａが０．５５以下となっている場合は、基材５２上に形成される印刷物３０ａの膜厚変動率が５％よりも大きくなっていた。
【０１４５】
［実施例９］
本発明による有機発光デバイスについて、１０００ｃｄ／ｍ２の時の発光効率と、定電流駆動時に発光輝度が半減するまでの時間を素子寿命として評価した。はじめに、本発明による有機発光デバイスを形成した工程について説明する。
【０１４６】
（透明電極層の形成）
まず、透明基材５２（厚み０．７ｍｍ）に対して、イオンプレーティング法により膜厚２００ｎｍの酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）電極膜を形成し、このＩＴＯ電極膜上に感光性レジストを塗布し、マスク露光、現像、ＩＴＯ電極膜のエッチングを行って、幅２．２ｍｍのストライプ形状の透明電極層５３を４ｍｍピッチで１０本形成した。
（絶縁層の形成）
次に、上記の透明基材（厚み０．７ｍｍ）に、洗浄処理と紫外線プラズマ洗浄を施し、その後、ネガ型感光性樹脂をスピンコート法で塗布し、フォトリソグラフィープロセスでパターニングして、各透明電極層５３上に２ｍｍ×２ｍｍの発光エリア（開口部５５）が４ｍｍピッチで存在するような絶縁層５４（厚み１μｍ）を形成した。
（正孔注入層の形成）
グラビアオフセット印刷法を用いて、開口部５５内および絶縁層５４上に、正孔注入層５７をベタ層として形成した。正孔注入層５７の厚みは７５ｎｍとした。
【０１４７】
（発光層の形成）
本発明の印刷方法を用いて、正孔注入層５７上に発光層５８（赤色発光層５８Ｒ）を形成した。
印刷方法で用いる印刷機１０のインキ３０としては、せん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）が８０ｃｐであり、沸点が１８６℃であるインキを用いた。また、インキ３０の固形分の重量％を２．５重量％、インキ３０の溶媒の表面張力を３２ｄｙｎｅ／ｃｍとした。
印刷機１０のアニロックス版１としては、セル２の線数が１４０線／ｉｎｃｈ、セル２の深さが４０μｍ、成膜部位全体の面積に占めるセル２全体の面積の比率が７５％であり、セル２の配置が格子状に区画化されたセル配置となっているアニロックス版を用いた。
印刷機１０の版胴２４のフレキソ版２３としては、レーザ彫刻可能な樹脂材料からなるフレキソ版を用いた。フレキソ版２３の解像度は２５０ｐｐｉとした。また、基材定盤６上における版胴２４の回転速度が１００ｒｐｍとなるよう制御部９により版胴２４を制御した。
このような印刷機１０を用いて、正孔注入層５７上に厚さ９０ｎｍの発光層５８（赤色発光層５８Ｒ）を形成した。
【０１４８】
（電子注入層の形成）
発光層５８を形成した面側に、２．２ｍｍ幅のストライプ状の開口部を４ｍｍピッチで備えたメタルマスクを、この開口部が上記のストライプ形状の透明電極層５３と直交し、かつ、上記の絶縁層５４の発光エリア（開口部５５）上に位置するように配置した。次に、このマスクを介して真空蒸着法によりカルシウムを蒸着（蒸着速度＝０．１ｎｍ／秒）して成膜して電子注入層５９（厚み１０ｎｍ）を４ｍｍピッチで１０本形成した。
（電極層の形成）
次に、電子注入層５９の形成に用いたメタルマスクをそのまま使用して、真空蒸着法によりアルミニウムを蒸着（蒸着速度＝０．４ｎｍ／秒）して成膜した。これにより、電子注入層５９上に、アルミニウムからなる幅２．２ｍｍのストライプ形状の電極層６０（厚み３００ｎｍ）を形成した。
最後に、電極層を形成した面側に、紫外線硬化型接着剤を介して封止板を貼り合わせることにより、本発明の有機発光デバイスを得た。
【０１４９】
この有機発光デバイスについて、１０００ｃｄ／ｍ２の時の発光効率と、定電流駆動時に発光輝度が半減するまでの時間を素子寿命として評価したところ、発光効率が０．８３ｃｄ／Ａ、素子寿命が１１０００時間であった。尚、素子寿命は、初期の輝度が１００ｃｄ／ｍｍ２となるように電流値を設定し、その電流で連続駆動させ、５０ｃｄに半減するまでの時間で評価した。
【０１５０】
［比較例］
発光層を形成するための印刷方法としてスピンコート法を使用した他は、実施例９と同様にして、有機発光デバイスを得た。この有機発光デバイスでは、正孔注入層の平均厚みが４０ｎｍ、赤色発光層の平均厚みが６０ｎｍであった。
この有機発光デバイスについて、１０００ｃｄ／ｍ２の時の発光効率と、定電流駆動時に発光輝度が半減するまでの時間を素子寿命として評価したところ、発光効率が０．８ｃｄ／Ａ、素子寿命が６０００時間であり、発光効率、寿命が実施例９の有機発光デバイスに比べて劣るものであった。
【符号の説明】
【０１５１】
１，１′，１１，１１′…アニロックス版
２，２′，１２，１２′…セル
３，１３…非セル部
５…フレーム
６…基材定盤
７…インキ供給部
８…ドクターシステム
８ａ…第１ドクター
８ｂ…第２ドクター
９…制御部
１０…印刷機
２３…フレキソ版
２３ａ…凸部
２３ｂ…凹部
２４…版胴
２５…金属ロール
２６…プラスチックスリーブ
３０…インキ
３０ａ…印刷物
５１，８１，９１，１０１…有機発光デバイス
５２，８２，９２，１０２…透明基材
５３…透明電極層
５４，７４…絶縁層
５５，７５…開口部
５６…発光素子層
５７…正孔注入層
５７ａ…正孔輸送層
５８，５８Ｒ，５８Ｇ，５８Ｂ，７８Ｒ，７８Ｇ，７８Ｇ…発光層
５９…電子注入層
６０…電極層
７３…電極配線パターン
１００…印刷機
１０１…制御部
１０２…アニロックスロール
１０３…版胴
１０４…基材定盤
１０５…印刷機
１０６…アニロックス版
【特許請求の範囲】
【請求項１】
枚様式の印刷機を用いてフレキソ印刷を行う方法において、
フレーム上に固定された基材定盤上に基材を載置する工程と、
前記フレーム上に固定され、その上面に複数のセルを有する平板状のアニロックス版にインキを供給する工程と、
前記アニロックス版上で版胴を走行させることにより、版胴のフレキソ版がアニロックス版のセルからインキを受ける工程と、
前記基材定盤上の基材上で前記版胴を走行させることにより、版胴のフレキソ版から基材上にインキを転移させる工程と、を備え、
前記インキのせん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）が５１〜２００ｃＰの範囲内であり、
前記版胴のフレキソ版が弾性材料からなり、
前記基材上で前記版胴を走行させる際、前記版胴の回転速度が２０ｒｐｍ以上であることを特徴とする印刷方法。
【請求項２】
前記インキは、溶媒と、溶媒中に溶解された固形分からなり、
前記溶媒は、その表面張力が３７ｄｙｎｅ／ｃｍ以下であり、かつその沸点が１６５〜２６５℃の範囲内であることを特徴とする請求項１に記載の印刷方法。
【請求項３】
前記インキにおける固形分の含有量が１．５〜４．０重量％の範囲内であることを特徴とする請求項２に記載の印刷方法。
【請求項４】
前記アニロックス版は、アニロックス版の上面に格子状に配置され、インキ供給部からのインキが充填される複数のセルを有し、
アニロックス版におけるセルの線数が１００〜３００線／ｉｎｃｈの範囲内であり、かつアニロックス版の成膜部位に占める総セル面積が５５〜９５％の範囲内であり、
各セルの深さが１５〜１００μｍの範囲内であることを特徴とする請求項１に記載の印刷方法。
【請求項５】
前記アニロックス版は、アニロックス版の上面にストライプ状に配置され、インキ供給部からのインキが充填される複数のセルを有し、
アニロックス版におけるセルの線数が１００〜３００線／ｉｎｃｈの範囲内であり、かつアニロックス版の成膜部位に占める総セル面積が５５〜９５％の範囲内であり、
各セルの深さが１５〜１００μｍの範囲内であり、
各セルにおける印刷方向の最大幅ｂと印刷方向に直交する方向での最大幅ａの比ｂ／ａが０．６以上であることを特徴とする請求項１に記載の印刷方法。
【請求項６】
前記版胴のフレキソ版が、水現像可能な樹脂材料からなることを特徴とする請求項１に記載の印刷方法。
【請求項７】
前記版胴のフレキソ版が、レーザ彫刻可能な樹脂材料からなることを特徴とする請求項１に記載の印刷方法。
【請求項８】
前記版胴は、金属ロールと、金属ロールの外周上に粘着材により固定されたフレキソ版とからなることを特徴とする請求項１に記載の印刷方法。
【請求項９】
前記版胴は、金属ロールと、金属ロールを取り囲む円筒状のプラスチックスリーブと、プラスチックスリーブの外周上に設けられたフレキソ版とからなり、
前記プラスチックスリーブは、前記金属ロール内に配置されたエアークランプ機構によって金属ロール上に固定されていることを特徴とする請求項１に記載の印刷方法。
【請求項１０】
前記版胴は、金属ロールと、金属ロールを取り囲む円筒状のプラスチックスリーブと、プラスチックスリーブの外周上に設けられたフレキソ版とからなり、
前記プラスチックスリーブは、前記金属ロール内に配置された吸着機構によって金属ロール上に固定されていることを特徴とする請求項１に記載の印刷方法。
【請求項１１】
対向する電極と、当該電極間に配設され少なくとも発光層を有する発光素子層と、を備えた有機発光デバイスの当該発光層を請求項１乃至１０のいずれかに記載の印刷方法を用いて形成する方法において、
少なくとも有機発光材料を含有するインキを前記アニロックス版のセルに充填させる工程と、
当該セルから前記版胴のフレキソ版に前記インキを受けさせる工程と、
前記版胴上の前記インキを基材上に転移させる工程と、を備え、
前記インキのせん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）が５１〜２００ｃＰの範囲内であり、
前記基材上で前記版胴を走行させる際、前記版胴の回転速度が２０ｒｐｍ以上であることを特徴とする発光層の形成方法。
【請求項１２】
対向する電極と、当該電極間に配設され少なくとも発光層を有する発光素子層と、を含む有機発光デバイスを形成する方法において、
基材を準備する工程と、
前記基材上に、所望のパターンを有する第１電極層を形成する工程と、
前記基材上に、前記第１電極層の所望の部位を上方に露出させる複数の開口部を有する絶縁層を形成する工程と、
前記開口部内および前記絶縁層上に、正孔注入層を形成する工程と、
前記開口部内の前記正孔注入層上に、発光層を形成する工程と、
前記発光層のうち所望の開口部内に位置する発光層に接続されるよう、第２電極層を形成する工程と、を備え、
前記正孔注入層は、グラビア印刷法またはグラビアオフセット印刷法により、前記複数の開口部を全て覆うよう形成され、
前記発光層は、請求項１１に記載の方法により形成されることを特徴とする有機発光デバイスの形成方法。
【請求項１３】
前記正孔注入層と前記発光層との間に正孔輸送層を形成する工程をさらに備え、
前記正孔輸送層は、グラビア印刷法またはグラビアオフセット印刷法により、前記複数の開口部を全て覆うよう形成されることを特徴とする請求項１２に記載の有機発光デバイスの形成方法。
【請求項１４】
基材と、
当該基材上に所望のパターンで形成された第１電極層と、
前記基材上に形成され、前記第１電極層の所望の部位を上方に露出させる複数の開口部を有する絶縁層と、
各開口部内の第１電極層を被覆するよう各開口部内に形成され、少なくとも発光層と正孔注入層とを有する発光素子層と、
前記発光素子層のうち所望の開口部内に位置する発光素子層に接続されるよう形成された第２電極層と、を備え、
前記発光素子層の発光層は、請求項１１に記載の方法により形成されることを特徴とする有機発光デバイス。
【請求項１５】
前記基材が透明基材からなり、
前記第１電極層が透明電極層からなることを特徴とする請求項１４に記載の有機発光デバイス。
【請求項１６】
前記発光素子層を構成する前記発光層の厚みが７０ｎｍ以上であることを特徴とする請求項１４または請求項１５に記載の有機発光デバイス。
【請求項１７】
前記発光素子層は、前記絶縁部の開口部内に形成された正孔注入層、発光層および電子注入層を有し、
正孔注入層、発光層および電子注入層は、正孔注入層／発光層／電子注入層の順に積層されていることを特徴とする請求項１４乃至１６のいずれかに記載の有機発光デバイス。
【請求項１８】
前記発光素子層は、前記絶縁部の開口部内に形成された正孔注入層、正孔輸送層、発光層および電子注入層を有し、
正孔注入層、正孔輸送層、発光層および電子注入層は、正孔注入層／正孔輸送層／発光層／電子注入層の順に積層されていることを特徴とする請求項１４乃至１６のいずれかに記載の有機発光デバイス。
【請求項１９】
パッシブマトリックス型であることを特徴とする請求項１４乃至請求項１８のいずれかに記載の有機発光デバイス。
【請求項２０】
アクティブマトリックス型であることを特徴とする請求項１４乃至請求項１８のいずれかに記載の有機発光デバイス。
【請求項２１】
最大開口幅が１０ｍｍ以上の前記開口部を前記絶縁層に備えた有機発光ポスターであることを特徴とする請求項１４乃至請求項１９のいずれかに記載の有機発光デバイス。
【請求項２２】
カラーフィルタ層を備えることを特徴とする請求項１４乃至請求項２１のいずれかに記載の有機発光デバイス。
【請求項２３】
前記カラーフィルタ層と前記第１電極層との間に色変換蛍光体層を備えることを特徴とする請求項２２に記載の有機発光デバイス。
【請求項２４】
前記発光素子層は、白色を含む所望の色の発光であるか、あるいは所望の複数の色の発光が所定のパターンで組み合わされたものであることを特徴とする請求項１４乃至請求項２３のいずれかに記載の有機発光デバイス。
【請求項２５】
前記発光素子層は、青色発光であり、前記色変換蛍光体層は青色光を緑色蛍光に変換して発光する緑色変換層と、青色光を赤色蛍光に変換して発光する赤色変換層とを備えていることを特徴とする請求項２３に記載の有機発光デバイス。
【請求項２６】
前記正孔注入層用の塗膜を形成した後１分以内に前記発光層用の塗膜を形成し、これら２層を１００〜２００℃の範囲で同時に一括乾燥して形成した正孔注入層と発光層とを備えることを特徴とする請求項１４乃至請求項２５のいずれかに記載の有機発光デバイス。
【請求項１】
枚様式の印刷機を用いてフレキソ印刷を行う方法において、
フレーム上に固定された基材定盤上に基材を載置する工程と、
前記フレーム上に固定され、その上面に複数のセルを有する平板状のアニロックス版にインキを供給する工程と、
前記アニロックス版上で版胴を走行させることにより、版胴のフレキソ版がアニロックス版のセルからインキを受ける工程と、
前記基材定盤上の基材上で前記版胴を走行させることにより、版胴のフレキソ版から基材上にインキを転移させる工程と、を備え、
前記インキのせん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）が５１〜２００ｃＰの範囲内であり、
前記版胴のフレキソ版が弾性材料からなり、
前記基材上で前記版胴を走行させる際、前記版胴の回転速度が２０ｒｐｍ以上であることを特徴とする印刷方法。
【請求項２】
前記インキは、溶媒と、溶媒中に溶解された固形分からなり、
前記溶媒は、その表面張力が３７ｄｙｎｅ／ｃｍ以下であり、かつその沸点が１６５〜２６５℃の範囲内であることを特徴とする請求項１に記載の印刷方法。
【請求項３】
前記インキにおける固形分の含有量が１．５〜４．０重量％の範囲内であることを特徴とする請求項２に記載の印刷方法。
【請求項４】
前記アニロックス版は、アニロックス版の上面に格子状に配置され、インキ供給部からのインキが充填される複数のセルを有し、
アニロックス版におけるセルの線数が１００〜３００線／ｉｎｃｈの範囲内であり、かつアニロックス版の成膜部位に占める総セル面積が５５〜９５％の範囲内であり、
各セルの深さが１５〜１００μｍの範囲内であることを特徴とする請求項１に記載の印刷方法。
【請求項５】
前記アニロックス版は、アニロックス版の上面にストライプ状に配置され、インキ供給部からのインキが充填される複数のセルを有し、
アニロックス版におけるセルの線数が１００〜３００線／ｉｎｃｈの範囲内であり、かつアニロックス版の成膜部位に占める総セル面積が５５〜９５％の範囲内であり、
各セルの深さが１５〜１００μｍの範囲内であり、
各セルにおける印刷方向の最大幅ｂと印刷方向に直交する方向での最大幅ａの比ｂ／ａが０．６以上であることを特徴とする請求項１に記載の印刷方法。
【請求項６】
前記版胴のフレキソ版が、水現像可能な樹脂材料からなることを特徴とする請求項１に記載の印刷方法。
【請求項７】
前記版胴のフレキソ版が、レーザ彫刻可能な樹脂材料からなることを特徴とする請求項１に記載の印刷方法。
【請求項８】
前記版胴は、金属ロールと、金属ロールの外周上に粘着材により固定されたフレキソ版とからなることを特徴とする請求項１に記載の印刷方法。
【請求項９】
前記版胴は、金属ロールと、金属ロールを取り囲む円筒状のプラスチックスリーブと、プラスチックスリーブの外周上に設けられたフレキソ版とからなり、
前記プラスチックスリーブは、前記金属ロール内に配置されたエアークランプ機構によって金属ロール上に固定されていることを特徴とする請求項１に記載の印刷方法。
【請求項１０】
前記版胴は、金属ロールと、金属ロールを取り囲む円筒状のプラスチックスリーブと、プラスチックスリーブの外周上に設けられたフレキソ版とからなり、
前記プラスチックスリーブは、前記金属ロール内に配置された吸着機構によって金属ロール上に固定されていることを特徴とする請求項１に記載の印刷方法。
【請求項１１】
対向する電極と、当該電極間に配設され少なくとも発光層を有する発光素子層と、を備えた有機発光デバイスの当該発光層を請求項１乃至１０のいずれかに記載の印刷方法を用いて形成する方法において、
少なくとも有機発光材料を含有するインキを前記アニロックス版のセルに充填させる工程と、
当該セルから前記版胴のフレキソ版に前記インキを受けさせる工程と、
前記版胴上の前記インキを基材上に転移させる工程と、を備え、
前記インキのせん断速度１００／秒における粘度（インキ温度２３℃）が５１〜２００ｃＰの範囲内であり、
前記基材上で前記版胴を走行させる際、前記版胴の回転速度が２０ｒｐｍ以上であることを特徴とする発光層の形成方法。
【請求項１２】
対向する電極と、当該電極間に配設され少なくとも発光層を有する発光素子層と、を含む有機発光デバイスを形成する方法において、
基材を準備する工程と、
前記基材上に、所望のパターンを有する第１電極層を形成する工程と、
前記基材上に、前記第１電極層の所望の部位を上方に露出させる複数の開口部を有する絶縁層を形成する工程と、
前記開口部内および前記絶縁層上に、正孔注入層を形成する工程と、
前記開口部内の前記正孔注入層上に、発光層を形成する工程と、
前記発光層のうち所望の開口部内に位置する発光層に接続されるよう、第２電極層を形成する工程と、を備え、
前記正孔注入層は、グラビア印刷法またはグラビアオフセット印刷法により、前記複数の開口部を全て覆うよう形成され、
前記発光層は、請求項１１に記載の方法により形成されることを特徴とする有機発光デバイスの形成方法。
【請求項１３】
前記正孔注入層と前記発光層との間に正孔輸送層を形成する工程をさらに備え、
前記正孔輸送層は、グラビア印刷法またはグラビアオフセット印刷法により、前記複数の開口部を全て覆うよう形成されることを特徴とする請求項１２に記載の有機発光デバイスの形成方法。
【請求項１４】
基材と、
当該基材上に所望のパターンで形成された第１電極層と、
前記基材上に形成され、前記第１電極層の所望の部位を上方に露出させる複数の開口部を有する絶縁層と、
各開口部内の第１電極層を被覆するよう各開口部内に形成され、少なくとも発光層と正孔注入層とを有する発光素子層と、
前記発光素子層のうち所望の開口部内に位置する発光素子層に接続されるよう形成された第２電極層と、を備え、
前記発光素子層の発光層は、請求項１１に記載の方法により形成されることを特徴とする有機発光デバイス。
【請求項１５】
前記基材が透明基材からなり、
前記第１電極層が透明電極層からなることを特徴とする請求項１４に記載の有機発光デバイス。
【請求項１６】
前記発光素子層を構成する前記発光層の厚みが７０ｎｍ以上であることを特徴とする請求項１４または請求項１５に記載の有機発光デバイス。
【請求項１７】
前記発光素子層は、前記絶縁部の開口部内に形成された正孔注入層、発光層および電子注入層を有し、
正孔注入層、発光層および電子注入層は、正孔注入層／発光層／電子注入層の順に積層されていることを特徴とする請求項１４乃至１６のいずれかに記載の有機発光デバイス。
【請求項１８】
前記発光素子層は、前記絶縁部の開口部内に形成された正孔注入層、正孔輸送層、発光層および電子注入層を有し、
正孔注入層、正孔輸送層、発光層および電子注入層は、正孔注入層／正孔輸送層／発光層／電子注入層の順に積層されていることを特徴とする請求項１４乃至１６のいずれかに記載の有機発光デバイス。
【請求項１９】
パッシブマトリックス型であることを特徴とする請求項１４乃至請求項１８のいずれかに記載の有機発光デバイス。
【請求項２０】
アクティブマトリックス型であることを特徴とする請求項１４乃至請求項１８のいずれかに記載の有機発光デバイス。
【請求項２１】
最大開口幅が１０ｍｍ以上の前記開口部を前記絶縁層に備えた有機発光ポスターであることを特徴とする請求項１４乃至請求項１９のいずれかに記載の有機発光デバイス。
【請求項２２】
カラーフィルタ層を備えることを特徴とする請求項１４乃至請求項２１のいずれかに記載の有機発光デバイス。
【請求項２３】
前記カラーフィルタ層と前記第１電極層との間に色変換蛍光体層を備えることを特徴とする請求項２２に記載の有機発光デバイス。
【請求項２４】
前記発光素子層は、白色を含む所望の色の発光であるか、あるいは所望の複数の色の発光が所定のパターンで組み合わされたものであることを特徴とする請求項１４乃至請求項２３のいずれかに記載の有機発光デバイス。
【請求項２５】
前記発光素子層は、青色発光であり、前記色変換蛍光体層は青色光を緑色蛍光に変換して発光する緑色変換層と、青色光を赤色蛍光に変換して発光する赤色変換層とを備えていることを特徴とする請求項２３に記載の有機発光デバイス。
【請求項２６】
前記正孔注入層用の塗膜を形成した後１分以内に前記発光層用の塗膜を形成し、これら２層を１００〜２００℃の範囲で同時に一括乾燥して形成した正孔注入層と発光層とを備えることを特徴とする請求項１４乃至請求項２５のいずれかに記載の有機発光デバイス。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【公開番号】特開２０１１−１４８２３１（Ｐ２０１１−１４８２３１Ａ）
【公開日】平成２３年８月４日（２０１１．８．４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−１２３５８（Ｐ２０１０−１２３５８）
【出願日】平成２２年１月２２日（２０１０．１．２２）
【出願人】（０００００２８９７）大日本印刷株式会社 (14,506)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年８月４日（２０１１．８．４）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年１月２２日（２０１０．１．２２）
【出願人】（０００００２８９７）大日本印刷株式会社 (14,506)
【Ｆターム（参考）】
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