原盤及びその製造方法、ワーキングモールド及びその製造方法、電子ビーム露光装置、並びに電子ビーム露光方法
【課題】検出器の分解能に起因するエラーの発生を抑制する。
【解決手段】データ部とサーボ部とが基板上に形成され、磁気記録媒体又はそれを製造するために用いられるモールドをインプリントにより製造する際に用いられる原盤において、データパターンは以下の条件（１）及び（２）を満たすようにデータ部内に配置されている。（１）各々のトラックのサーボ部からデータ部に向かう方向において、データパターンの検出を開始するタイミング合わせの基準となるサーボパターンから、サーボ部に最も近いデータパターンまでの距離が、検出器における分解能の自然数倍である。（２）各々のトラック内において、データ部内のデータパターンから、該データパターンと隣接して形成された別のデータパターンまでの距離が、検出器における分解能の自然数倍である。
【解決手段】データ部とサーボ部とが基板上に形成され、磁気記録媒体又はそれを製造するために用いられるモールドをインプリントにより製造する際に用いられる原盤において、データパターンは以下の条件（１）及び（２）を満たすようにデータ部内に配置されている。（１）各々のトラックのサーボ部からデータ部に向かう方向において、データパターンの検出を開始するタイミング合わせの基準となるサーボパターンから、サーボ部に最も近いデータパターンまでの距離が、検出器における分解能の自然数倍である。（２）各々のトラック内において、データ部内のデータパターンから、該データパターンと隣接して形成された別のデータパターンまでの距離が、検出器における分解能の自然数倍である。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、原盤及びその製造方法、ワーキングモールド及びその製造方法、電子ビーム露光装置、並びに電子ビーム露光方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ハードディスク駆動装置などの磁気記録再生装置（以降、磁気記録装置と言う）に用いられる媒体の一つとして、パターンドメディア方式の磁気記録媒体が知られている。
【０００３】
近年、この磁気記録媒体におけるパターンを形成する手法として、「インプリント法」が用いられている。インプリント法は、スタンパと呼ばれる元型のモールドに凹凸のパターンを形成しておき、この凹凸パターンの凹凸を反転させた反転パターンを、スタンパからの転写によって磁気記録媒体や別のワーキングモールドに形成する手法である。その場合、元型となるモールドには、フォトリソグラフィ法を利用して凹凸のパターンを形成するのが一般的である。
【０００４】
フォトリソグラフィ法では、モールドの基（素材）になる基板に対して、「レジスト膜の形成」、「レジスト膜の露光」及び「レジスト膜の現像」を順に行うことによってレジストパターンを形成する。このうち、レジスト膜の露光には、電子ビーム描画装置が用いられている。電子ビーム描画装置は、基板上に形成されたレジスト膜に電子ビームを照射することにより、レジスト膜を露光する装置である。
【０００５】
上述のようにレジスト膜への電子ビーム照射によって所定パターン形状の露光（即ちパターン描画）を終えたら、このパターン描画によって露光されたレジスト膜を現像することにより、基板上にレジストパターンを形成する。更に、このレジストパターンをマスクに用いて基板をエッチングすることにより、上記のパターンが形成されたモールドを得る。
【０００６】
このように形成されたモールド（所謂「原盤」、「マスターモールド」とも言う）により磁気記録媒体を作製することもできるし、この原盤からワーキングモールドを作製し、このワーキングモールドにより磁気記録媒体を作製することもできる。
なお、ここでいう「ワーキングモールド」とは、インプリント法により原盤の凹凸を転写して凹凸を反転させる工程を一回又は複数回行って凹凸を形成した複製物である。また、本明細書におけるワーキングモールドは、上記複製物の中でも特に、最終製品である磁気記録媒体にパターンを転写するモールドのことを主として指すものとする。もちろんこのワーキングモールドは、最終製品である磁気記録媒体にパターンを転写するモールドを作製するためのモールドについても含む。
【０００７】
なお、インプリント用モールド構造体を用いて磁気記録媒体を製造する技術として、特許文献１に記載の技術が知られている。具体的には、通常、データアドレスマークは磁気ヘッドにより書かれるところ、データアドレスマークに対応する凹凸パターンを、インプリント用モールド構造体の溝部に形成しておくという技術である。この構成により、インプリントにより形成された磁気記録媒体において、熱揺らぎや欠陥に起因する、読み出し不良・書き込み時の位置ズレ不良を回避することができる。
【０００８】
また、ビット状のパターンを有する磁気記録媒体をインプリント用のスタンパから製造することも知られている（例えば、特許文献２参照）。この特許文献２には、データ領域
の磁性ドットが配置される中心線を軸に、周方向に異なる個数の磁性ドットで微小位置検出部を構成し、磁化反転を抑制することにより、安定したサーボパターンを維持する技術が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開２００９−２４５５３４号公報
【特許文献２】特開２０１０−４００９９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
近年、このパターンドメディアが有するパターンサイズは、ますます微細化されてきている。この微細化はナノサイズにて行われており、磁気記録媒体の検査装置や、読み出し・書き込みを行う磁気記録装置の分解能のレベルへと、微細化が近づいてきている。
【００１１】
この分解能の一例を挙げると、マスタークロックが５００ＭＨｚの装置を用いた場合、検査装置や磁気記録装置にて用いられる電子ビームと基板の相対線速度が１ｍ／ｓのときの分解能は２ｎｍになる。これに対して、最近のパターンサイズはライン・アンド・スペースパターンで２５ｎｍ（ライン：スペース＝１：１）というレベルの微細なパターンが実現されつつある。
なお、本明細書における「分解能」とは、検査装置や磁気記録装置にて用いられるエネルギービーム（光ビーム、電子ビーム等を含む）と基板の相対線速度を１ｍ／ｓとしたときの、検査装置や磁気記録装置のマスタークロックの逆数のことである。
【００１２】
このように、分解能とパターンサイズのオーダーが近接することにより、不具合が発生することが、本発明者らの手により発見されている。
この不具合について、図１を用い、ビット状のパターン（以降、単にビットとも言う）を形成した場合について具体的に説明する。
【００１３】
図１（ａ）に示すように、例えばビット状の凸部（磁性部）が磁気記録媒体上に、設計通りに形成されていたとする。設計通りにパターンが形成されていれば、通常だとエラーは起こらないはずである。
【００１４】
しかしながら、磁気記録装置においては、分解能に応じた部分しか読み書きを行うことができない。つまり、図１（ｂ）に示すように、分解能である２ｎｍ間隔で配置された破線部分においてでしか、読み書きを行うことができない。
【００１５】
一方、上述のように仮に設計通りにパターンが形成されていても、図１（ｂ）に示す破線部分に、ビットの中心点（×）が存在するというわけではない。
図１（ｂ）に示す破線部分にビットの中心点が存在しないと以下の不具合が発生する。
【００１６】
つまり、この磁気記録媒体の読み書きの際、磁気記録装置の分解能の限界に起因して、ビットの位置をずらして認識してしまうおそれが発生する。具体的には、ビットＡの中心点が読み書き可能な部分（即ち図１（ｂ）の破線部分）に存在していたとしても、それに隣接するビットＢの中心点が、図１（ｂ）に示す破線部分に存在しない場合が出てくる。この場合、本来読み書きを行いたかった部分ａではなく、分解能に応じて離間した隣の破線部分ｂで読み書きを行ってしまうという現象が起こる。
【００１７】
仮にマスタークロックが５００ＭＨｚで相対線速度が１ｍ／ｓ（即ち分解能が２ｎｍ）の場合、磁気記録装置において読み書きの認識を開始するパターン（後述する同期信号検
出部２１２ｂ）の位置をｘ＝０ｎｍとすると、磁気記録装置はｘ＝２ｎｍ、４ｎｍ、６ｎｍ・・・の地点しか、読み書きの認識を行うことができない。
具体例で説明すると、例えばｘ＝４ｎｍの地点のビットＡは問題なく読み書きできる。しかしながら、ビットＢの中心がｘ＝１１ｎｍの地点に存在する場合、そもそも読み書きを行わない、又は、ｘ＝１０ｎｍか１２ｎｍの地点で読み書きを行うことになってしまう。読み書きを行わなければそもそもエラーとなってしまうし、仮に、図１（ｃ）のように読み書きをｘ＝１０ｎｍの地点で行えたとしても、本来読み書きを行うべき１１ｎｍの地点から、１ｎｍ分、ズレが生じることになってしまう。
【００１８】
このように、アナログ的にパターンを形成したにもかかわらず、読み書きや検査段階でのデジタル的認識を行うことにより、データが丸められ量子化誤差が生じる。その結果、位置ズレが発生してしまう。以降、この位置ズレのことを「データ転び」又は単に「転び」とも言う。
【００１９】
なお、ビット状パターンを用いた磁気記録媒体の場合、読み書き等の位置ズレにおいては、ビット径の１０％程度が許容範囲であると考えられている。現在、電子ビームによる露光においては、ビット径が１２．５ｎｍ程度となっている。その結果、１．２５ｎｍ程度のズレしか許容できない。それにもかかわらず、先ほど例示した図１（ｂ）に示すように、隣接するビットＢとビットＣとで互いに離れる方向にデータが転んでしまうと、少なくとも合計２ｎｍ以上のズレが発生してしまい、読み書きの際のエラーの発生確率が著しく高くなってしまう。
【００２０】
この不具合は、単に磁性記録媒体の読み書きエラーを発生させるのみならず、原盤又はワーキングモールドを製造するモールド製造工程から出荷工程に至るまでにおいて深刻な事態を招く恐れがある。例えば、設計通りのパターンを有する原盤又はワーキングモールドが作製できたとしても、まず、パターン検査装置の分解能の関係で、上述のようなエラーが生じるおそれがある。その上、上述のように磁気記録媒体を作製するに至る最終段階でエラーが生じるおそれもある。そもそも、設計通りに微細パターンを形成したにも関わらず、その後の磁気記録媒体の段階でエラーが発生するため、製品としての磁気記録媒体の歩留まりが低下するどころか、このエラーの原因究明のために多くの時間や労力を費やさなければならず、場合によっては基となるモールドを含めて全ての工程を再検討し、作製し直さなければならないおそれすらある。
【００２１】
本発明の主たる目的は、検出器の分解能に起因するエラーの発生を抑制する原盤及びその製造方法、ワーキングモールド及びその製造方法、電子ビーム露光装置、並びに電子ビーム露光方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００２２】
上述の通り、本発明者らは、分解能とパターンサイズのオーダーが近接することにより、「データの転び」が磁気記録媒体の製造工程全体において重大な影響を及ぼすという知見を得た。この知見を基に、本発明者らはまず、検査装置や磁気記録装置のマスタークロックを高くする（即ち分解能を向上させる（例：分解能２ｎｍ→１ｎｍ））という手段について検討した。
【００２３】
しかし、検査装置や磁気記録装置のマスタークロックは有限である上、マスタークロックを高くした検査装置や磁気記録装置は著しく高額となる。それに加え、磁気記録媒体が搭載されるハードディスク回路では低コストの回路設計が求められているという事情もある。この事情に反して高額な装置を用いると、磁気記録媒体そのものに価格を上乗せすることになる。そのため、上述の手段はコスト面で難がある。
なお、相対線速度を遅くするという手段も考えられるが、そのように設定すると、そも
そも原盤作製に多大な時間を要することになる。そうなると、作業効率が低下するおそれがある。
【００２４】
そこで本発明者らは、後々に製造される磁気記録媒体に対して用いられる検査装置や磁気記録装置の分解能を、原盤の作製段階から予め考慮に入れておく、という知見を得た。
具体的には、データパターンの検出を開始するタイミング合わせの基準となるサーボパターンからデータパターンまでの距離、更には隣り合うデータパターン間の距離を、検査装置や磁気記録装置の分解能の自然数倍とし、データ転びの発生を抑制すべく、図１（ｂ）（ｃ）に示すような破線部分に必ずデータパターンが配置されるよう原盤を最初から作製しておく、という手段を想到した。この手段によって、原盤作製後に用いる装置の分解能に起因するエラーの発生を抑制することが、原盤作製の段階において保証できることを、本発明者らは見出した。
【００２５】
この知見に基づいて成された本発明の態様は、以下の通りである。
本発明の第１の態様は、
データ部とサーボ部とが基板上に形成され、磁気記録媒体又はそれを製造するために用いられるワーキングモールドをインプリントにより製造する際に用いられる原盤において、
前記データ部は、磁気記録媒体において情報の記録を行うためのデータ領域の基となるデータパターンが形成された部分であり、
前記サーボ部は、磁気記録媒体においてデータ領域のトラック位置及び／又はパターン位置を特定するためのサーボ領域の基となるサーボパターンが形成された部分であり、
前記データパターンは以下の条件（１）及び（２）を満たすように前記データ部内に配置されていることを特徴とする原盤である。
（１）各々のトラックのサーボ部からデータ部に向かう方向において、データパターンの検出を開始するタイミング合わせの基準となるサーボパターンから、前記サーボ部に最も近いデータパターンまでの距離が、検出器における分解能の自然数倍である。
及び、
（２）各々のトラック内において、前記データ部内のデータパターンから、該データパターンと隣接して形成された別のデータパターンまでの距離が、検出器における分解能の自然数倍である。
但し、前記データパターンは、データパターンそのものに加え、データパターンの基礎となるパターンも含む。そして、前記検出器は、前記磁気記録媒体製造中ないし製造後に用いられる検出器であって、前記磁気記録媒体のサーボ領域におけるサーボ信号及びデータ領域における情報を検出する検出器である。
本発明の第２の態様は、第１の態様に記載の態様であって、
前記データパターンはビットにより形成されたことを特徴とする。
本発明の第３の態様は、第２の態様に記載の態様であって、
複数のトラックが同心円状に形成されるとともに、各々のトラックにおいて少なくとも前記データ部のデータパターンの形態が１ビットごとに径方向及び周方向に分離されていることを特徴とする。
本発明の第４の態様は、第３の態様に記載の態様であって、
各々のトラック内において、データパターンの検出を開始するタイミング合わせの基準となるサーボパターンから、前記サーボ部に最も近いビットの略中心までの距離が、前記検出器における分解能の自然数倍であり、
各々のトラック内において、周方向で隣り合うビットの中心間距離が、前記検出器における分解能の自然数倍であることを特徴とする。
本発明の第５の態様は、
データ部とサーボ部とが基板上に形成され、磁気記録媒体又はそれを製造するために用いられるワーキングモールドをインプリントにより製造する際に用いられる原盤において
、
前記データ部は、磁気記録媒体において情報の記録を行うためのデータ領域の基となるデータパターンが形成された部分であり、
前記サーボ部は、磁気記録媒体においてデータ領域のトラック位置及び／又はパターン位置を特定するためのサーボ領域の基となるサーボパターンが形成された部分であり、
複数のトラックが同心円状に形成されるとともに、各々のトラックにおいて少なくとも前記データ部のデータパターンの形態が平面視円形状の１ビットごとに径方向及び周方向に分離されており、以下の条件（１）及び（２）を満たすように前記データ部内に前記ビットが配置されていることを特徴とする原盤である。
（１）各々のトラックのサーボ部からデータ部に向かう方向において、データパターンの検出を開始するタイミング合わせの基準となるサーボパターンから、前記サーボ部に最も近い前記ビットの略中心までの距離が、検出器における分解能の自然数倍である。
及び、
（２）各々のトラック内において、周方向で隣り合うビットの中心間距離が、検出器における分解能の自然数倍である。
但し、前記データパターンは、データパターンそのものに加え、データパターンの基礎となるパターンを含む。そして、前記検出器は、前記磁気記録媒体製造中ないし製造後に用いられる検出器であって、前記磁気記録媒体のサーボ領域におけるサーボ信号及びデータ領域における情報を検出する検出器である。
本発明の第６の態様は、第１ないし第５のいずれかの態様に記載の原盤からインプリントにより製造されたことを特徴とするワーキングモールドである。
本発明の第７の態様は、
磁気記録媒体又はそれを製造するために用いられるワーキングモールドをインプリントにより製造する際に用いられる原盤であって、データ部とサーボ部とを基板上に有する原盤の製造方法において、
前記データ部は、磁気記録媒体において情報の記録を行うためのデータ領域の基となるデータパターンが形成された部分であり、
前記サーボ部は、磁気記録媒体においてデータ領域のトラック位置及び／又はパターン位置を特定するためのサーボ領域の基となるサーボパターンが形成された部分であり、
以下の条件（１）及び（２）を満たすように電子ビームの露光を行うことを特徴とする原盤の製造方法である。
（１）各々のトラックのサーボ部からデータ部に向かう方向において、データパターンの検出を開始するタイミング合わせの基準となるサーボパターンから、前記サーボ部に最も近いデータパターンまでの距離が、検出器における分解能の自然数倍とする。
及び、
（２）各々のトラック内において、前記データ部内のデータパターンから、該データパターンと隣接して形成された別のデータパターンまでの距離を、検出器における分解能の自然数倍とする。
但し、前記データパターンは、データパターンそのものに加え、データパターンの基礎となるパターンを含む。そして、前記検出器は、前記磁気記録媒体製造中ないし製造後に用いられる検出器であって、前記磁気記録媒体のサーボ領域におけるサーボ信号及びデータ領域における情報を検出する検出器である。
本発明の第８の態様は、第７の態様に記載の製造方法により製造された原盤からインプリントによりワーキングモールドを製造することを特徴とするワーキングモールドの製造方法である。
本発明の第９の態様は、
磁気記録媒体又はそれを製造するために用いられるワーキングモールドをインプリントにより製造する際に用いられる原盤を製造するための電子ビーム露光装置において、
前記磁気記録媒体上にて、データ領域のトラック位置及び／又はパターン位置を検出するためのサーボ領域のサーボ信号と、情報の記録を行うためのデータ領域の情報と、を検
出するために別途用いられる検出器の分解能を入力する分解能入力手段と、
一主面上に感光膜が形成された基板を保持しつつ、前記基板の主面上における電子ビームの照射位置を当該基板に対して相対的に移動させる移動手段と、
電子ビームを照射して、前記サーボ領域の基となるサーボパターンに対応した形状の露光を前記基板上のサーボ部に行い、且つ、前記データ領域の基となるデータパターンに対応した形状の露光を前記基板上のデータ部に行う露光手段と、
を備え、
以下の条件（１）及び（２）を満たすように電子ビームの露光を行うことを特徴とする電子ビーム露光装置である。
（１）各々のトラックのサーボ部からデータ部に向かう方向において、データパターンの検出を開始するタイミング合わせの基準となるサーボパターンから、サーボ部に最も近いデータパターンまでの距離が、前記分解能入力手段に入力された分解能の自然数倍となるように、前記移動手段により前記基板を移動させながら前記露光手段による露光を行う。及び、
（２）各々のトラック内において、データ部内のデータパターンから、該データパターンと隣接して形成された別のデータパターンまでの距離が、前記分解能入力手段に入力された分解能の自然数倍となるように、前記移動手段により前記基板を移動させながら前記露光手段による露光を行う。
但し、前記データパターンは、データパターンそのものに加え、データパターンの基礎となるパターンも含む。
本発明の第１０の態様は、第９の態様に記載の態様であって、
前記データパターンはビットであることを特徴とする。
本発明の第１１の態様は、第１０の態様に記載の態様であって、
一主面上に感光膜が形成された基板を保持しつつ当該基板を回転させる回転手段と、
前記回転手段の駆動を制御する回転制御手段と、
を更に備え、
複数のトラックが同心円状に形成されるとともに、各々のトラックにおいて少なくとも前記データ部のデータパターンの形態が１ビットごとに径方向及び周方向に分離されていることを特徴とする。
本発明の第１２の態様は、第１０又は１１の態様に記載の態様であって、
前記露光手段から照射される電子ビームを偏向する電子ビーム偏向手段を更に備え、
前記電子ビーム偏向手段により、
各々のトラック内において、データパターンの検出を開始するタイミング合わせの基準となるサーボパターンから、前記データ部内において前記サーボ部に最も近いビットの略中心までの距離が、検出器における分解能の自然数倍となる部分に電子ビームを照射し、且つ、
各々のトラック内において、該ビットの略中心から、該ビットと隣接して形成された別のビットの略中心までの距離が、検出器における分解能の自然数倍となる部分に電子ビームを照射することを特徴とする。
本発明の第１３の態様は、第９ないし１２のいずれかの態様に記載の態様であって、
前記露光手段による電子ビームの照射は、前記移動手段によって線速一定に行うことを特徴とする。
本発明の第１４の態様は、
磁気記録媒体又はそれを製造するために用いられるワーキングモールドをインプリントにより製造する際に用いられる原盤を製造するための電子ビーム露光装置において、
一主面上に感光膜が形成された基板を保持しつつ当該基板を回転させる回転手段と、
前記回転手段で保持した基板の主面上で電子ビームの照射位置を当該基板の半径方向と平行な方向に移動させる移動手段と、
前記回転手段の駆動を制御する回転制御手段と、
前記磁気記録媒体上にて、情報の記録を行うためのデータ領域の情報と、データ領域の
トラック位置及び／又はパターン位置を検出するためのサーボ領域のサーボ信号とを検出するために別途用いられる検出器の分解能を入力する分解能入力手段と、
電子ビームを照射して、前記サーボ領域の基となるサーボパターンに対応した形状の露光を前記基板上のサーボ部に行い、且つ、前記データ領域の基となるデータパターンに対応したビット形状の露光を前記基板上のデータ部に行う露光手段と、
を備え、
前記回転制御手段によって、前記電子ビームの照射位置における前記基板の線速が一定となる条件で前記基板の回転速度を変化させながら、以下の条件（１）及び（２）を満たすように電子ビームの露光を行うことを特徴とする電子ビーム露光装置である。
（１）各々のトラックのサーボ部からデータ部に向かう方向において、データパターンの検出を開始するタイミング合わせの基準となるサーボパターンからサーボ部に最も近いビットの略中心までの距離が、前記分解能入力手段に入力された分解能の自然数倍となる部分に対し、前記電子ビーム偏向手段により電子ビームが照射されるように、前記回転手段及び前記移動手段により前記基板を移動させながら前記露光手段による露光を行う。
及び、
（２）データ部内において周方向で隣り合うビットの中心間距離が、前記分解能入力手段に入力された分解能の自然数倍となる部分に対し、前記電子ビーム偏向手段により電子ビームが照射されるように、前記回転手段及び前記移動手段により前記基板を移動させながら前記露光手段による露光を行う。
但し、前記データパターンは、データパターンそのものに加え、データパターンの基礎となるパターンも含む。
本発明の第１５の態様は、
磁気記録媒体又はそれを製造するために用いられるワーキングモールドをインプリントにより製造する際に用いられる原盤を製造するための電子ビーム露光方法において、
前記磁気記録媒体上にて、情報の記録を行うためのデータ領域の情報と、データ領域のトラック位置及び／又はパターン位置を検出するためのサーボ領域のサーボ信号と、を検出するために別途用いられる検出器の分解能を入力する分解能入力工程と、
一主面上に感光膜が形成された基板を保持しつつ、前記基板の主面上における電子ビームの照射位置を当該基板に対して相対的に移動させる移動工程と、
電子ビームを照射して、前記サーボ領域の基となるサーボパターンに対応した形状の露光を前記基板上のサーボ部に行い、且つ、前記データ領域の基となるデータパターンに対応した形状の露光を前記基板上のデータ部に行う露光工程と、
を備え、
以下の条件（１）及び（２）を満たすように電子ビームの露光を行うことを特徴とする電子ビーム露光方法である。
（１）各々のトラックのサーボ部からデータ部に向かう方向において、データパターンの検出を開始するタイミング合わせの基準となるサーボパターンから、サーボ部に最も近いデータパターンまでの距離が、前記分解能入力工程にて電子ビーム露光装置に入力された分解能の自然数倍となるように、前記移動工程により前記基板を移動させながら前記露光工程によって露光を行う。
及び、
（２）各々のトラック内において、データ部内のデータパターンから、該データパターンと隣接して形成された別のデータパターンまでの距離が、前記分解能入力工程にて入力された分解能の自然数倍となるように、前記移動工程により前記基板を移動させながら前記露光工程によって露光を行う。
但し、前記データパターンは、データパターンそのものに加え、データパターンの基礎となるパターンも含む。
【発明の効果】
【００２６】
本発明によれば、検出器の分解能に起因するエラーの発生を抑制できる。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】本実施形態におけるデータ転びの様子を示す概略図である。（ａ）は、設計通りに基板上に形成されたビット状のパターンを示す図であり、バツ印（×）はビット中心である。（ｂ）は、検出器の分解能ごとの区切り（破線）を入れた場合のビット状のパターンを示す図であり、白丸（○）は、設計上、検出器によりビットが本来検出されるべき部分である。（ｃ）は、検出器の分解能ごとの区切り（破線）を入れた上で、検出器によりビットが実際に検出されることになってしまう位置（黒丸（●））を示す図である。
【図２】露光の対象となる基板の構造の一例を示す図である。
【図３】本実施形態における基板を示す図であり、その基板におけるデータ部及びサーボ部、そしてデータパターンを示す図である。
【図４】同心円状のトラックが複数形成されている場合のビットの周期のズレ（ΔＢＰ）を説明するための概略図である。破線は、検出器の分解能ごとの区切りである。白丸（○）は、検出器によりビットが検出される部分である。
【図５】本発明の実施の形態に係る電子ビーム露光装置の構成例を示す概略図である。
【図６】電子ビーム露光時の様子を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照しつつ詳細に説明する。
本実施形態においては、次の順序で説明を行う。
１．原盤（基板）の構造
ａ）原盤上のサーボ部
ｂ）原盤上のデータ部［本実施形態に係る条件１及び２］
２．電子ビーム露光装置の基本構成（機構系の構成、制御系の構成）
３．電子ビーム露光装置の基本動作
４．電子ビーム露光装置の制御方法（電子ビーム露光方法を含む）
５．実施の形態による効果
６．変形例
【００２９】
＜１．原盤（基板）の構造＞
図２は、露光の対象となる基板４の構造の一例を示すもので、図中（Ａ）は平面図、（Ｂ）は側断面図を示している。
【００３０】
本実施形態において、基板４は、複数のトラックを有する磁気記録媒体を製造するため、又は複数のトラックを有する磁気記録媒体の製造に用いられるワーキングモールドをインプリントにより製造する際に用いられる原盤となる基板である。その材質について言えば、本実施形態においては、石英ガラス基板を用いて構成されるものである。また、基板４の平面形状は円形（即ち円盤状）になっている。基板４の一方の主面（上面）には、感光膜の一例としてのレジスト膜１８を形成してある。本実施形態においては、レジスト膜１８は、ポジ型レジストを使用する。
【００３１】
ポジ型レジストを用いた場合、電子ビームの照射によって露光された部分が、その後の現像処理によって除去されることになる。ポジ型レジストは、ネガ型レジストに比べて、電子ビームに対する感度が高く、得られる解像度も高いため、これを用いてレジスト膜１８を形成（成膜）した方が好ましい。本実施の形態においては、ポジ型レジストを用いてレジスト膜１８を形成してあるものとする。
【００３２】
基板４は、レジスト膜１８が形成されている領域（成膜領域）のほぼ全部を露光の対象にしても良いし、当該領域の一部を露光の対象にしても良い。ここでは一例として、基板
４の物理的な中心Ｃｐを基準にして、そこから基板４の半径方向に長さＬｒ１までの円形領域Ｅ０を除いて、当該円形領域Ｅ０よりも外側の領域をレジスト膜１８の有効領域（露光対象領域）１９に設定している。
【００３３】
ここで記述するレジスト膜１８の有効領域１９とは、電子ビーム露光後に行われる現象処理によってレジストのパターンが形成される領域をいう。このため、レジスト膜１８の有効領域は、たとえば、電子ビーム露光とその後の現像処理によって得られたパターンに基づくディスク原盤を用いて、ディスク状の記録媒体を製造する場合に、当該記録媒体のディスク面に転写される領域に対応する領域（製品の品質維持に必要な領域）となる。
【００３４】
そして、この有効領域１９には、図３に示すように、データ部２１と、前記データ部２１に隣接するサーボ部２２とが形成される。このサーボ部２２とデータ部２１とは同心円状の各トラック内において、交互に配置されている。
なお、前記データ部２１は、磁気記録媒体において情報の記録を行うためのデータ領域の基となるデータパターン２１’が形成された部分である。
また、前記サーボ部２２は、磁気記録媒体においてトラック位置及び／又はパターン位置を特定するためのサーボ領域の基となるサーボパターン２２’が形成された部分である。
そして、本実施形態においては、データパターン２１’もサーボパターン２２’も凹凸によりパターンが形成されている場合について述べる。
【００３５】
なお、以降、パターンが存在する部分に関して原盤又はワーキングモールド上に設けられたものは「部」という単語を使用し、例えば「データ部」「サーボ部」、という。
一方、この原盤又はワーキングモールドにより将来的に形成される磁気記録媒体におけるパターンが存在する部分については「領域」という単語を使用し、例えば「データ領域」「サーボ領域」、と言うことにする。
上記内容を端的に言えば、本実施形態の原盤に設けられたデータ部２１及びサーボ部２２の凹凸パターンが、インプリントにより磁気記録媒体に転写され、磁気記録媒体におけるデータ領域及びサーボ領域となる。
【００３６】
以下、原盤におけるデータ部２１及びサーボ部２２について、サーボ部２２→データ部２１という順に説明する。その際、基板を円形とする関係上、図３に記載されているような、複数のトラックが同心円状に形成される場合について説明する。
【００３７】
ａ）原盤上のサーボ部
同心円状の各トラック内での円周方向において、前記サーボ部２２においては、プリアンブル部２２１、アドレス部２２２、及びバースト部２２３が、この配置順で構成されている。
【００３８】
（プリアンブル部）
前記プリアンブル部２２１は、磁気記録媒体において、再生信号のクロックを同期させるための情報が記録されることになる部分である。そしてこのプリアンブル部２２１は、同期信号生成部２２１ａと、同期信号検出部２２１ｂを更に具備している。
【００３９】
同期信号生成部２２１ａは、サーボ情報を呼び出す前に、信号アンプの増幅率を調整して振幅を一定にする働き、及びＡ／Ｄ変換（Analog to Digital Converter）クロック信
号のサンプリングタイミングを生成する働きを有する。同期信号生成部２２１ａは、媒体の内周から外周までの全てあるいは一部の範囲で、径方向に連続して形成されている。そして、周方向に一定の間隔で形成されている。
【００４０】
次に、同期信号検出部２２１ｂは、サーボ情報の開始を示す特徴的なパターンである。同期信号検出部２２１ｂは、原盤の内周から外周までの全てあるいは一部の範囲で、径方向に連続して形成されている。そして、周方向に同期信号生成部２２１ａに比べて長いビット長の部分を有している。この部分が、最終的に磁気記録媒体において、単一の磁性部又は数ビット長の既定符号を生成する複数の磁性部となる。
【００４１】
以上の同期信号生成部２２１ａ及び同期信号検出部２２１ｂは、本実施形態の原盤において、一つの特徴となる部分である。同期信号生成部２２１ａが、最終的に磁気記録媒体において磁性部となり、同期信号となる「クロック」（即ち、形成されるパターンが有する所定の周期）を生成することになる。更には、同期信号検出部２２１ｂが、各々のトラックのサーボ部２２からデータ部２１に向かう方向において、データパターン２１’の検出を開始するタイミング合わせの基準となるサーボパターン２２’となる。
【００４２】
本実施形態においては、磁気記録媒体を作製した後に使用するはずの検出器の分解能を考慮に入れ、予め、確実に分解能に応じて検出できる原盤上の位置に、ビットを形成しておく。更に詳しく言えば、「クロック」に応じてパターンが配置される位置が、検出器によって確実に検出されるようにする。そのために、上記の同期信号検出部２２１ｂから、円周方向にて隣接するデータ部２１におけるビットの略中心までの距離を、分解能の自然数倍とする。こうすることにより、「データ転び」を抑制することができる。
詳細は、後のｂ）原盤上のデータ部、の項で詳述する。
【００４３】
なお、ここで挙げた「検出器」は、前記磁気記録媒体製造中ないし製造後に用いられる検出器であって、前記磁気記録媒体のサーボ領域におけるサーボ信号及びデータ領域における情報を検出する検出器である。この検出器としては、検査装置や磁気記録再生装置などが挙げられる。
【００４４】
また、後で詳述するが、本実施形態における「ビットの略中心」とは、「検出器によって本来認識されるべき地点でビットが認識される程度、ビット中心に近いビット内の部分」のことである。
【００４５】
（アドレス部）
アドレス部２２２は、サーボフレーム毎のトラック番号及びセクタ番号を示すＩＤパターンである。磁気記録装置において、磁気ヘッドの位置するトラック位置を示す。
【００４６】
アドレス部２２２は、セクタ番号を示す周方向位置では、媒体の内周から外周までの全てあるいは一部の範囲で、径方向に連続して形成されている。
なお、原盤のアドレス部２２２を転写された磁気記録媒体において、トラック番号の上位桁を示す周方向位置では、媒体の内周から外周までの全てあるいは一部の範囲で、アドレス部２２２に対応するパターンが径方向に連続している。一方、トラック番号の下位桁を示す周方向位置では、媒体の径方向に断続的となる磁性体が形成されている。
【００４７】
（バースト部）
バースト部２２３は、シリンダアドレスのオントラック状態からのオフトラック量を検出するための磁気記録媒体におけるオフトラック検出用領域に対応する基板上部分である。
【００４８】
バースト部２２３が磁気記録媒体に転写されると、この領域によって、磁気記録装置において、磁気ヘッドの位置のトラック中心からのずれ情報が検出される。磁気記録媒体においてバースト部２２３に対応する領域が、周方向に、特定の形状及び配列からなる磁性パターンを有し、それぞれの磁性パターンは、媒体の径方向に、トラック毎に、等間隔に
配置されている。
【００４９】
なお、同心円状の各トラック内での円周方向におけるこれらの配置順はこの順番に限られない。ただ、上述の通り、磁気記録媒体におけるプリアンブル部２２１にて同期信号を生成・制御し、アドレス部２２２にて磁気記録装置における磁気ヘッドの位置するトラック位置を認識し、バースト部２２３にて磁気ヘッドのトラック中心からのズレ情報を記録するという役割を担っていることから、この順番が好ましい。
【００５０】
ｂ）原盤上のデータ部
本実施形態においては、前記サーボ部２２に隣接するようにデータ部２１が形成されている。更に詳しく言うと、円周方向において、バースト部２２３の後に、データ部２１が形成されている。このデータ部２１は、最終的に磁気記録媒体においてユーザデータを書き込み可能な領域となり、磁気記録再生装置の磁気ヘッドによってそれが可能となる。
【００５１】
また、前記パターンとしては、ディスクリートパターン及びビットパターンのいずれかであっても良い。本実施形態においては平面視円形からなるビットパターンの場合について述べる。
【００５２】
ビットパターンならば、ビットの略中心位置を基準に設定することができるという利点がある。
つまり、検出器において正確に認識可能な地点にビットの略中心があれば、その地点にて最もビットを認識しやすくなる。その結果、ビット径の大きさに拘らず、データパターン２１’の検出を開始するタイミング合わせの基準となる同期信号検出部２２１ｂから、直近のデータパターン２１’のビットの略中心までの距離を分解能の自然数倍にすることによって、データ転びを抑制することができる。
【００５３】
各々のトラックにおいて少なくとも前記データ部２１のデータパターン２１’の形態は、１ビットごとに径方向及び周方向に分離されている。最終的な磁気記録媒体においては、データ領域は、磁気ヘッドによってユーザデータの書き込み可能な磁性帯を有する複数のトラックが設けられ、隣接するトラック間にはユーザデータの書き込み不能な非磁性帯が設けられている。即ち、磁気記録媒体は、磁性帯が非磁性帯によって物理的に分離されたディスクリートトラック型の記録媒体となっている。
【００５４】
［本実施形態における条件］
そして、本実施形態の原盤における大きな特徴は、データパターン２１’が以下の条件を満たすように前記データ部２１内に配置されていることである。
【００５５】
［条件１］
まず、各々のトラックのサーボ部２２からデータ部２１に向かう方向において、データパターン２１’の検出を開始するタイミング合わせの基準となる同期信号検出部２２１ｂから、前記同期信号検出部２２１ｂに最も近いデータパターン２１’までの距離を、検出器における分解能の自然数倍とする。
【００５６】
先にも述べたように、磁気記録媒体の読み書きの際、磁気記録装置の分解能の限界に起因して、ビットの位置をずらして認識してしまうおそれが発生する。具体的には、ビットＡの中心点が読み書き可能な部分に存在していたとしても、それに隣接するビットＢの中心点が、図１に示す破線部分に存在しない場合が出てくる。
この場合、本来読み書きを行いたかった部分ではなく、分解能に応じて離間した隣の破線部分で読み書きを行ってしまうという現象が起こる。
つまり、アナログ的にパターンを形成したにもかかわらず、読み書きや検査段階でのデ
ジタル的認識を行うことにより位置ズレが発生してしまい、所謂「データ転び」が発生するおそれがある。
【００５７】
ところが、本実施形態のように、磁気記録媒体作製前の原盤段階において既に検出器の分解能を考慮に入れてビットを配置することにより、データ転びの発生を抑制することができる。例示するならば、０ｎｍ、３ｎｍ、６ｎｍ、９ｎｍ・・・の地点しかパターンを認識できない分解能３ｎｍの検出器を用いることを予め考慮に入れ、１ｎｍや２ｎｍの地点にはビット略中心を配置せず、３ｎｍ、６ｎｍ、９ｎｍの地点にビット略中心を配置している。そしてそれを、原盤の作製段階において行うことに本実施形態の特徴がある。
【００５８】
そして、上述の条件においては、データパターン２１’の検出を開始するタイミング合わせの基準となる同期信号検出部２２１ｂをスタート地点として、同期信号検出部２２１ｂに最も近いビット略中心までの距離を、検出器における分解能の自然数倍としている。こうすることにより、上述の例示が如く、データ転びが起きないようなビット配置とすることができる。
それに加え、下記条件を満たすことにより、データ部２１全体において、データ転びの発生を抑制することができる。
【００５９】
［条件２］
各々のトラック内において、前記データ部２１内のビット略中心から、該ビットと隣接して形成された別のビット略中心までの距離を、検出器における分解能の自然数倍とする。
【００６０】
まず、条件１を満たすことによって、同期信号検出部２２１ｂに最も近いビットは、データ転びのおそれが抑制されている。その上で条件２に従って、このデータ転びが抑制されたビット略中心から、該ビットと隣接して形成された別のビット略中心までの距離を、検出器における分解能の自然数倍とする。
こうすることにより、データ部２１内における全てのビットについても、データ転びが起きないようなビット配置とすることができる。そして上述のように、データ部２１全体にて同様な配置とすれば、データ部２１全体においてデータ転びを抑制することができる。
【００６１】
なお、上記「自然数倍」の臨界値についても述べる。
下限値についてであるが、ビットの径に応じて、互いに隣接するビットが一定の距離を確保できる程度の倍数ならば良い。例えば、ビット径が１０ｎｍ、分解能が２ｎｍである場合、データパターン２１’の形態を１ビットごとに径方向及び周方向に分離するためにも、ビット略中心間距離は、分解能の５倍以上の自然数倍とした方が良い。
上限値についてであるが、１つのトラックにおけるデータ部２１の幅（同心円状トラックの場合はデータ部２１の周長）に応じて、所定の情報を記録できる程度の数のビットを形成できる程度の倍数ならば良い。
【００６２】
（その他の部分）
上記以外の部分としては、データパターン２１’とサーボパターン２２’との間に、半径方向につながった略放射状の凸パターンからなる緩衝パターン等を設けることも考えられるが、本実施形態の効果を損なわない限り特に制限はなく、目的に応じて上記以外の部分を適宜選択することができる。
【００６３】
（トラック変化によるパターン周期の変化）
上述の通り、同心円状トラックにおいて、１つのトラック内においては、上記の２つの条件を満たすことにより、最終的に磁気記録媒体でデータ転びを抑制することができる。
ところが、同心円状に複数のトラックを形成する場合、外周又は内周側のトラックは円周長が変化する。そして、ビット状のパターンを作製する場合、ビット略中心の位置のクロックを、各トラックにおいて一定にするのが非常に好ましい。
【００６４】
具体的には、図４に示すように、トラック間の距離（ＴＰ）から、トラックの径が拡大されたことに伴うビット周期のずれ（ΔＢＰ）を求める。
但し、ΔＢＰ＝ＢＰ０＊ＴＰ／ｒ
ｒ：トラックＴ０の半径
ＢＰ０：トラックＴ０のビット周期
である。
【００６５】
そして、或るトラック（Ｔ０）と、該トラックから外周方向に向かって次のトラック（Ｔ１）との間のΔＢＰが分解能の自然数倍となるよう、ビット略中心の位置を決定する。
こうすることにより、最終的な磁気記録媒体において、例えトラック位置が変わろうとも、確実に検出器が正しい位置にて読み書き等を行うことができる。そしてひいては、データ転びを同心円状のトラック全てにおいて抑制することができる。
【００６６】
以上が、本実施形態に係る原盤の構成についての説明である。
以下、この原盤を作製するのに用いられる電子ビーム露光装置について説明する。
【００６７】
＜２．電子ビーム露光装置の基本構成＞
図５は、本発明の実施の形態に係る電子ビーム露光装置の構成例を示す概略図である。図示した電子ビーム露光装置１は、大きくは、電子ビームを発生する電子ビーム発生部２と、この電子ビーム発生部２で発生させた電子ビームを制御する電子ビーム制御系３と、露光の対象となる基板４を支持するステージ機構５と、このステージ機構５の駆動を制御するステージ制御系６とを備えている。
【００６８】
なお、本実施形態においては、電子ビーム発生部２と電子ビーム制御系３とを合わせて「露光手段」としている。この露光手段によって、電子ビームを照射して、前記サーボ領域の基となるサーボパターン２２’に対応した形状の露光を前記基板上のサーボ部２２に行い、且つ、前記データ領域の基となるデータパターン２１’に対応した形状の露光を前記基板上のデータ部２１に行うことになる。
【００６９】
また、ステージ機構５とステージ制御系６と合わせて「移動手段」としている。この移動手段によって、一主面上に感光膜が形成された基板を保持しつつ、基板４の主面上における電子ビームの照射位置を当該基板４に対して相対的に移動させることになる。
【００７０】
なお、本実施形態においてはｒ−θ系の回転ステージを用いるため、ステージ機構５は「移動手段」（ＸＹＺ軸に移動可能）と「回転手段」（ｒ−θ軸に移動可能）とを兼ねている。また、ステージ制御系６は、電子ビームの照射位置を被照射体となる基板４に対して相対的に移動させる機能を有する。これに加え、ステージ制御系６は、この「回転手段」の駆動を制御する「回転制御手段」である。
【００７１】
更に、本実施形態に係る電子ビーム露光装置は、上記の構成に対して所望の動作をさせるべく、所望の数値や動作パターンのようなデータを入力するインターフェイス２０を加えた構成となっている。このインターフェイス２０は、構成の一つとして、後述する「分解能入力手段」を備えている。
以下、このインターフェイス２０に入力されたデータに応じて動作させる各部の構成についてまずは説明する。
【００７２】
（電子ビーム発生部）
電子ビーム発生部２は、電子ビームの発生源となる電子銃７を用いて構成してある。電子銃７は、ステージ機構５に支持された基板４と対向する状態に配置してある。電子銃７は、電子ビームを下向きに発生するものとなっている。
なお、電子ビームを基板４に照射する際の照射形状は、本実施形態においては平面視円形としている。つまり、線状のパターンを形成する際には、ステージ機構５により基板４を回転させながら基板４上のレジストに電子ビームを照射し続け、線状の露光を行う。そして、円形ビット形状に露光する場合は、瞬間的に電子ビームを照射する。
【００７３】
（電子ビーム制御系）
電子ビーム制御系３は、たとえば、図示のように集束レンズ８と、ブランキング電極９と、アパーチャ１０と、対物レンズ１１と、偏向器１２とを有している。
【００７４】
集束レンズ８は、電子銃７から出射された電子ビームのビーム径の広がりを抑制するものである。集束レンズ８は、電子銃７から基板４に至る電子ビームの軌道上において、電子銃７とブランキング電極９との間に配置してある。
【００７５】
ブランキング電極９は、電子ビームの下流側への進行を制御するものである。ブランキング電極９は、ブランキングするとき（即ちブランキング電極９をＯＮにするとき）は電子ビームをアパーチャ１０で遮るように電子ビームの進行を制御する。一方、ブランキングしないとき（即ちブランキング電極９をＯＦＦにするとき）は電子ビームをアパーチャ１０の開口部１３に通すように電子ビームの進行を制御する。ブランキング電極９は、電子銃７から基板４に至る電子ビームの軌道上において、集束レンズ８とアパーチャ１０との間に配置してある。
【００７６】
アパーチャ１０は、電子ビーム露光処理に際して、不要な電子ビーム成分を遮断する機能を果たすものである。アパーチャ１０は、不要な電子ビーム成分を遮断し、かつ必要な電子ビーム成分を通過させるための開口部１３を一体に有している。アパーチャ１０は、電子銃７から基板４に至る電子ビームの軌道上において、ブランキング電極９と対物レンズ１１（偏向器１２）との間に配置してある。
【００７７】
対物レンズ１１は、アパーチャ１０の開口部１３を通過した電子ビームのビーム径を絞るものである。対物レンズ１１は、電子銃７から基板４に至る電子ビームの軌道上において、アパーチャ１０とステージ機構５との間に配置してある。
【００７８】
偏向器１２は、アパーチャ１０の開口部１３を通過した電子ビームの向き（進行方向）を変えるものである。偏向器１２は、電子銃７から基板４に至る電子ビームの軌道上において、前述した対物レンズ１１とともに、アパーチャ１０とステージ機構５との間に配置してある。
なお、本実施形態においては、電子ビーム制御系の内、少なくともブランキング電極９を含む部分であって、電子ビームを偏向させることに関係する部分が「電子ビーム偏向手段」となる。
【００７９】
（ステージ機構）
ステージ機構５は、回転ステージ１４と、直動ステージ１５とを用いて構成してある。回転ステージ１４及び直動ステージ１５は、前述したｒ−θ系のステージを構成している。
【００８０】
回転ステージ１４は、基板４を水平に保持するとともに、保持した基板４を回転させるものである。回転ステージ１４は、たとえば、図示しないスピンドルモータ等の駆動源を
用いて回転する仕組みになっている。回転ステージ１４は、基板４を保持しつつ当該基板４を回転させる回転手段の一例として設けてある。
なお、本実施形態においては、この回転ステージ１４が「回転手段」となる。
【００８１】
直動ステージ１５は、水平面に平行な一軸方向（以下、「水平方向」と記す）に直線的に移動するものである。直動ステージ１５は、回転ステージ１４及びこれに保持した基板４と一体になって水平方向に移動する。直動ステージ１５は、回転ステージ１４で保持した基板４を、この基板４の半径方向と平行な方向に移動させる移動手段の一例として設けてある。
【００８２】
（ステージ制御系）
ステージ制御系６は、回転ステージ１４を制御する回転ステージ制御部１６と、直動ステージ１５を制御する直動ステージ制御部１７とを有している。
【００８３】
回転ステージ制御部１６は、回転ステージ１４の駆動を制御するものである。更に詳述すると、回転ステージ制御部１６は、たとえば、回転ステージ１４の回転・停止といった基本的な動作に加えて、回転ステージ１４の回転速度及び回転方向の制御を行う。ここで記述する回転ステージ１４の回転速度は、単位時間当たりの回転数（単位；ｒｐｍ）で表されるものである。回転ステージ１４は、回転ステージ１４の回転方向の現在位置（回転位相）を、たとえば、電子ビーム露光装置１が備える図示しない回転位置検知センサを用いて認識する。
なお、本実施形態においては、この回転ステージ制御部１６が「回転制御手段」となる。
【００８４】
直動ステージ制御部１７は、直動ステージ１５の駆動を制御するものである。更に詳述すると、直動ステージ制御部１７は、たとえば、直動ステージ１５の移動・停止といった基本的な動作に加えて、直動ステージ１５の移動速度及び移動方向の制御を行う。回転ステージ制御部１６は、直動ステージ１５の移動方向の現在位置を、たとえば、電子ビーム露光装置１が備える図示しない移動位置検知センサを用いて認識する。
【００８５】
＜３．電子ビーム露光装置の基本動作＞
次に、本発明の実施の形態に係る電子ビーム露光装置１の基本動作について説明する。
【００８６】
まず、回転ステージ１４の上に基板４を載せて固定する。このとき、回転ステージ１４の回転中心と基板４の物理的な中心Ｃｐとが一致するように、基板４を位置決めする。また、レジスト膜１８が上を向くように（レジスト膜１８が電子銃７と対向するように）基板４を水平に配置する。
【００８７】
次に、必要に応じて、予め設定されたイニシャライズ処理（たとえば、回転ステージ１４の回転方向の基準位置を検知するための処理や、直動ステージ１５の移動方向の基準位置を検知するための処理など）を行う。各々の基準位置は、たとえば、前述した回転位置検出センサ及び移動位置検知センサを用いて検知されるものである。
【００８８】
次に、回転ステージ１４に保持した基板４を予め決められた初期位置に配置し、そこで回転ステージ１４の駆動により基板４を回転させる。そして、基板４の回転速度が予め決められた速度で安定したら、予め決められたタイミングで電子ビーム露光を開始する。そのときの様子を図６に示す。
【００８９】
電子ビーム露光においては、電子銃７から出射した電子ビームを集束レンズ８で集束させるとともに、集束された電子ビームの進行をブランキング電極９で制御して、アパーチ
ャ１０の開口部１３に電子ビームを通す。更に、アパーチャ１０を通過した電子ビームのビーム径を対物レンズ１１で絞るとともに、その電子ビームの向きを偏向器１２で制御する。
【００９０】
これにより、基板４上に形成してあるレジスト膜１８は、回転ステージ１４の回転駆動によって同心円状に露光される。また、直動ステージ１５の駆動によって基板４を水平方向に移動（微動）し、この移動にあわせて同心円状の露光を基板４の１回転ごとに繰り返すことにより、レジスト膜１８の有効領域１９全体が露光される。ただし、基板４が１回転する間に行われる同心円状の露光では、所望するピットパターンにあわせて電子ビームの照射のオンオフを切り替えるように制御する。この切り替えはブランキング電極９を用いて行う。
【００９１】
なお、本実施形態においては、サーボ部２２の一部においては線状のパターンが形成されるように電子ビームを基板４に露光する。そして、サーボ部２２の他の部分及びデータ部２１においては円形状のビットからなるパターンが形成されるように電子ビームを基板４に露光する。
【００９２】
＜４．電子ビーム露光装置の制御方法（電子ビーム露光方法を含む）＞
次に、本発明の実施の形態に係る電子ビーム露光方法を含めて、電子ビーム露光装置１の制御方法を説明する。
【００９３】
電子ビーム露光は、上述のインターフェイス２０に入力されたデータに基づき、前述したとおり回転ステージ１４の駆動により基板４を回転させながら行う。このとき、回転ステージ制御部１６は、たとえば露光ビームの線速が一定になるように回転ステージ１４の駆動を制御する。線速一定とすることにより、パターンの認識開始部分からの距離の制御を行いやすい。その結果、より確実にデータ転びが抑制された原盤を作製することができる。
【００９４】
ここで、本実施形態において、インターフェイス２０は「分解能入力手段」でもある。最終的に製造される磁気記録媒体上にて、トラック位置を検出するためのサーボ領域のサーボ信号と、情報の記録を行うためのデータ領域の情報と、を検出するために別途用いられる検出器の分解能を、この分解能入力手段へと入力する。
【００９５】
そして、分解能入力手段であるインターフェイス２０に入力された分解能における数値は、電子ビームを発生する電子ビーム発生部２と、この電子ビーム発生部２で発生させた電子ビームを制御する電子ビーム制御系３と、露光の対象となる基板４を支持するステージ機構５と、このステージ機構５の駆動を制御するステージ制御系６とに伝達される。言い換えるなら、分解能における数値は、露光手段、移動手段、回転手段、回転制御手段へと伝達される。
【００９６】
分解能における数値が各構成に伝達された上で、この数値を考慮に入れつつ、上述の条件１に対応する露光を行う。
即ち、各々のトラックのサーボ部２２からデータ部２１に向かう方向において、データパターン２１’の検出を開始するタイミング合わせの基準となるサーボパターン２２’から、サーボ部２２に最も近いデータパターン２１’までの距離が、前記分解能入力手段に入力された分解能の自然数倍となるように、前記移動手段により前記基板４を移動させながら前記露光手段による露光を行う。
【００９７】
そして、条件１と同様に、上述の条件２に対応する露光を行う。
即ち、データ部２１内のデータパターン２１’から、該データパターン２１’と隣接し
て形成された別のデータパターン２１’までの距離が、前記分解能入力手段に入力された分解能の自然数倍となるように、前記移動手段により前記基板４を移動させながら前記露光手段による露光を行う。
【００９８】
具体的には、各々のトラック内において、データパターン２１’の検出を開始するタイミング合わせの基準となるサーボパターン２２’から、前記データ部２１内において前記サーボ部２２に最も近いビットの略中心までの距離が、検出器における分解能の自然数倍となる部分に電子ビームを照射し、且つ、各々のトラック内において、該ビットの略中心から、該ビットと隣接して形成された別のビットの略中心までの距離が、検出器における分解能の自然数倍となる部分に電子ビームを照射する。
【００９９】
この際、本実施形態ではポジ型レジストを用いていることから、電子ビーム偏向手段（ブランキング電極９）を利用して、以下のような露光を行っても良い。即ち、分解能における数値は、電子ビーム制御系を介して電子ビーム偏向手段にも伝達する。そして、上述の２つの条件を満たす場所におけるレジストに対し電子ビームが露光されるよう、ブランキング電極をＯＦＦにする。それ以外の場所においてはブランキング電極９をＯＮとし、レジストに電子ビームが露光されないようにしても良い。
【０１００】
なお、上述のようにレジストに対して電子ビームを露光した後は、公知の手段を用いて凹凸からなるデータ部２１及びサーボ部２２を有する原盤を製造することができる。かいつまんで言うと、レジストへの露光後、現像を行い、所定のパターン形状となったレジストパターンを得る。このレジストパターンをマスクにして、レジストの下部の導電層又は直接基板４をエッチングする。導電層を設けている場合は、最終的にこの導電層にも所定のパターンを形成し、最後に基板４へとパターン転写する。そして、レジストパターン（それに加え導電層）を除去し、データパターン２１’を有するデータ部２１、及びサーボパターン２２’を有するサーボ部２２を備えた原盤を得る。
【０１０１】
＜５．実施の形態による効果＞
本実施形態では、データパターン２１’の検出を開始するタイミング合わせの基準となるサーボパターン２２’からデータパターン２１’までの距離、更には隣り合うデータパターン２１’間の距離を、検査装置や磁気記録装置の分解能の自然数倍とする。そして、このデータパターン２１’の配置においては、原盤の作製段階から既に、その後に使用する分解能を考慮に入れて原盤上のパターンを作製している。
【０１０２】
これにより、検査装置や磁気記録装置による位置検出の際、装置の分解能に起因するエラーの発生を抑制できる。更には、磁気記録媒体に対して用いられる検査装置や磁気記録装置のマスタークロックを高くせずとも、データ転びの発生を抑制することができる。また、相対線速度を遅くすることなく、データ転びの発生を抑制することができる。
その結果、製品としての磁気記録媒体の歩留まりを向上させることができ、分解能に起因するエラーのために無駄な時間や労力を費やす必要もなくなる。
【０１０３】
＜６．変形例＞
なお、本発明の技術的範囲は、上述した実施の形態に限定されるものではなく、発明の構成要件やその組み合わせによって得られる特定の効果を導き出せる範囲において、種々の変更や改良を加えた形態も含む。
【０１０４】
まず、基板４の形状であるが、円形基板以外であっても良く、例えば矩形基板や多角形基板、更には半円形状の基板であっても良い。
また、トラックにおいても同心円状ではなく、直線のトラックであっても良いし、同心円以外の曲線のトラックであっても良い。
【０１０５】
また、本実施形態においては、複数のトラックを有する磁気記録媒体について述べた。その一方、本発明の思想は、当然、１つのトラックの場合にも適用可能である。なお、本実施形態における「各々のトラック」とは、１つのトラックの場合も含む。
【０１０６】
次に、データパターンについてであるが、本実施形態においては、原盤又はワーキングモールドの凹凸パターン一つ一つが、そのままデータ領域におけるデータパターンに対応する場合について述べた。その一方で、本実施形態の変形例として、凹凸パターン一つ一つはデータパターンにならずとも、複数の凹凸パターンによって初めてデータパターンとなる場合（即ちデータパターンの基礎となるパターン）も挙げられる。
具体的には、ビット状のパターンを形成する場合、４個のビットを１組としてデータパターンとするように、原盤又はワーキングモールドを形成しても良い。つまりこの場合、１個のビットが素パターンとなり、４個のビットによってデータパターンが形成されても良い。
【０１０７】
また、本実施形態においては円形のビットにより形成されたパターンについて述べたが、矩形のビットによりパターンが形成されても良い。
【０１０８】
更に、本実施形態においてはビットにより形成されたパターンについて述べたが、データ部２１及びサーボ部２２におけるパターンは、ビット以外の形状（例えばライン・アンド・スペース即ち線状）のパターンであっても良い。
【０１０９】
更に、ビット形状のパターンと線状パターンとを混合させたデータ部２１やサーボ部２２を形成しても良い。特にサーボ部２２においては、サーボ部２２全体を線状のパターンにより形成しても良いし、サーボ部２２の一部のみ（例えばプリアンブル部２２１のみやその他の部分のみ）をビット状のパターンとしても良い。もちろん、プリアンブル部２２１内でも、ビット形状のパターンと線状パターンとを混合させても良い。
【０１１０】
なお、データ部２１のパターンを線状とする場合のパターン配置であるが、データ転びが発生しないような配置、即ち独立して存在する線状パターンの隣り合う端同士の距離が分解能の自然数倍となる配置とするのが好ましい。
【０１１１】
ただ、エッチングによるパターン形成の際に、オーバーエッチング等により線状パターンが予想よりも大きくなってしまう、又は位置が変動してしまう可能性がある。
一方、その場合であっても、データ転びが発生しない程度に配置が変化していても、本発明の思想を適用しうる。
【０１１２】
例えば図１において、分解能が２ｎｍ、且つｘ＝０ｎｍの地点で検出器がパターン検出を開始するという状況で、ｘ＝２ｎｍ〜６ｎｍの位置まで線状パターンを作製するはずがｘ＝１．９ｎｍ〜４．１ｎｍの位置までの線状パターンを形成する場合について考える。この場合、分解能の自然数倍であるｘ＝２ｎｍ及び４ｎｍの地点にはパターンが存在し、ｘ＝０ｎｍ及び６ｎｍの地点にはパターンが存在しないことから、データの転びは抑制される。その結果、この場合であっても、本発明の思想を適用しうる。
【０１１３】
上記の内容は、本実施形態で述べたビットの略中心についても同様である。即ち、ビット径が４ｎｍ、分解能が２ｎｍ、且つｘ＝０ｎｍの地点から検出器がパターン検出を開始するという状況で、本来ｘ＝６ｎｍの地点にビットの中心を配置しなければならないところ、ビットの中心が５．５ｎｍ＜ｘ＜６．５ｎｍの範囲内の地点に配置されたとしても、データ転びの恐れはある程度抑制できる。そのため、本実施形態における「ビットの略中心」とは、「検出器によって本来認識されるべき地点でビットが認識される程度、ビット
中心に近いビット内の部分」のことである。
【０１１４】
次に、本実施形態だと、同心円状の各トラック内での円周方向において、サーボ部２２においては、プリアンブル部２２１、アドレス部２２２、及びバースト部２２３が、この配置順で構成されている。その一方で、検出器において正常に検出できるのならば、サーボ部２２はこの順番の配置でなくとも良い。
【０１１５】
また、これらの部分のうち、少なくともプリアンブル部２２１の同期信号生成部２２１ａ及び同期信号検出部２２１ｂさえあれば良い。本実施形態においては、この同期信号生成部２２１ａのおかげで、分解能の自然数倍の間隔を空けてパターンを形成できるためである。また、同期信号検出部２２１ｂのおかげで、データパターン２１’の検出を開始するタイミング合わせを行うことができるためである。
【０１１６】
更に、本実施形態においては同期信号生成部２２１ａと同期信号検出部２２１ｂとをひとまとまりにしてプリアンブル部２２１を設けているが、両者を分離してプリアンブル部２２１を形成しても良い。つまり、各トラック内での円周方向において、同期信号生成部２２１ａ→アドレス部２２２→バースト部２２３→同期信号検出部２２１ｂ→データパターン２１’という順番としても良い。
【０１１７】
また、本実施形態で記載したように、同期信号検出部２２１ｂとデータ部２１との間にアドレス部２２２やバースト部２２３を設けても勿論良いし、データパターン２１’の検出を開始するタイミング合わせを行う部分をバースト部２２３が兼ねても良い。
【０１１８】
結局のところ、データパターン２１’の検出を開始するタイミング合わせを行う部分から、データ部２１におけるパターンまでの距離が、その後に用いられる検出器の分解能の自然数倍であれば、データ部２１及びサーボ部２２はどのような配置関係であっても構わない。
【０１１９】
更に言うと、各々のトラックのサーボ部からデータ部に向かう方向において前記サーボ部に最も近いデータパターンそのものを、データパターンの検出を開始するタイミング合わせのパターンとしても良い。つまり、データパターンそのものをタイミング合わせのパターンと設定できるのならば、上記の条件（１）を適用せずとも良い。
【０１２０】
次に、本実施形態においてはポジ型レジストを用いた場合について述べたが、ネガ型レジストを用いても良い。ネガ型レジストを用いた場合は、電子ビームの照射によって露光された部分が、現像後も除去されずに残ることになる。つまり、原盤となる基板上には、ビット状のレジスト層が形成されることとなり、ひいては基板には円柱状のビットが形成されることになる。
【０１２１】
また、最終的に作製される磁気記録媒体の構成（磁性体及び非磁性体）に合わせて、この円柱状のビットが形成された原盤から直接、磁気記録媒体を作製しても良い。また、パターンを一度反転させるためにこの原盤からワーキングモールドを作製し、このワーキングモールドから磁気記録媒体を作製しても良い。
【０１２２】
次に、本実施形態においては、分解能入力手段であるインターフェイス２０に入力された分解能における数値を、露光手段、移動手段、回転手段、回転制御手段へと伝達した。その一方で、上述の２つの条件を満たして基板４上に露光が行えるのならば、これらの内の一部にのみ、分解能における数値を伝達しても良い。例えば、露光手段（特に電子ビーム偏向手段）にのみ分解能における値を伝達し、移動手段、回転手段及び回転制御手段においては一定動作を行わせる、という露光装置も考えられる。この場合、電子ビーム偏向手段のみに分解能を伝達すれば良いので、装置の簡略化を図ることができ、ひいては製造コストの減少をもたらすことができる。
【０１２３】
また、電子ビームの露光の順番であるが、基板４の半径方向において、電子ビーム露光は、基板４の内周側から外周側に向けて行っても良いし、逆に、基板４の外周側から内周
側に向けて行っても良い。つまり、本発明を実施するにあたって、レジスト膜１８の有効領域１９に対する電子ビーム露光の順序は任意に変更可能である。
【０１２４】
また、上記実施の形態においては、移動手段の一例として、回転ステージ１４を搭載した直動ステージ１５を挙げたが、これに限らず、例えば、直線状に凹凸パターンを配する場合等、ｒ−θステージの代わりに、Ｘ−Ｙステージを用いても良い。
【０１２５】
更に、この移動手段は、電子ビーム発生部２及び電子ビーム制御系３を移動させるものであっても良い。すなわち、基板４の一主面上で電子ビームの照射位置を基板４の半径方向と平行な方向に移動させる移動手段としては、基板４側を移動させるものでも良いし、電子ビーム側を移動させるものでも良いし、それら両方を移動させるものでも良い。また、電子ビームの移動は、電子ビームを偏向して行うものでも良い。
【０１２６】
また、上記実施の形態で採用した電子ビーム露光装置及び電子ビーム露光方法は、それぞれ、ＤＴＲ技術に用いられる基板（ディスク原盤、スタンパ原盤など）の製造装置及び製造方法として適用することが可能であり、更に当該製造装置及び製造方法を本発明の一つの態様として抽出することも可能である。
【符号の説明】
【０１２７】
１ 電子ビーム露光装置
２ 電子ビーム発生部
３ 電子ビーム制御系
４ 基板
５ ステージ機構
６ ステージ制御系
７ 電子銃
８ 集束レンズ
９ ブランキング電極
１０ アパーチャ
１１ 対物レンズ
１２ 偏向器
１３ 開口部
１４ 回転ステージ
１５ 直動ステージ
１６ 回転ステージ制御部
１７ 直動ステージ制御部
１８ レジスト膜
１９ レジスト膜の有効領域
２０ インターフェイス
２１ データ部
２１’ データパターン
２２ サーボ部
２２’ サーボパターン
２２１ プリアンブル部
２２１ａ 同期信号生成部
２２１ｂ 同期信号検出部
２２２ アドレス部
２２３ バースト部
【技術分野】
【０００１】
本発明は、原盤及びその製造方法、ワーキングモールド及びその製造方法、電子ビーム露光装置、並びに電子ビーム露光方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ハードディスク駆動装置などの磁気記録再生装置（以降、磁気記録装置と言う）に用いられる媒体の一つとして、パターンドメディア方式の磁気記録媒体が知られている。
【０００３】
近年、この磁気記録媒体におけるパターンを形成する手法として、「インプリント法」が用いられている。インプリント法は、スタンパと呼ばれる元型のモールドに凹凸のパターンを形成しておき、この凹凸パターンの凹凸を反転させた反転パターンを、スタンパからの転写によって磁気記録媒体や別のワーキングモールドに形成する手法である。その場合、元型となるモールドには、フォトリソグラフィ法を利用して凹凸のパターンを形成するのが一般的である。
【０００４】
フォトリソグラフィ法では、モールドの基（素材）になる基板に対して、「レジスト膜の形成」、「レジスト膜の露光」及び「レジスト膜の現像」を順に行うことによってレジストパターンを形成する。このうち、レジスト膜の露光には、電子ビーム描画装置が用いられている。電子ビーム描画装置は、基板上に形成されたレジスト膜に電子ビームを照射することにより、レジスト膜を露光する装置である。
【０００５】
上述のようにレジスト膜への電子ビーム照射によって所定パターン形状の露光（即ちパターン描画）を終えたら、このパターン描画によって露光されたレジスト膜を現像することにより、基板上にレジストパターンを形成する。更に、このレジストパターンをマスクに用いて基板をエッチングすることにより、上記のパターンが形成されたモールドを得る。
【０００６】
このように形成されたモールド（所謂「原盤」、「マスターモールド」とも言う）により磁気記録媒体を作製することもできるし、この原盤からワーキングモールドを作製し、このワーキングモールドにより磁気記録媒体を作製することもできる。
なお、ここでいう「ワーキングモールド」とは、インプリント法により原盤の凹凸を転写して凹凸を反転させる工程を一回又は複数回行って凹凸を形成した複製物である。また、本明細書におけるワーキングモールドは、上記複製物の中でも特に、最終製品である磁気記録媒体にパターンを転写するモールドのことを主として指すものとする。もちろんこのワーキングモールドは、最終製品である磁気記録媒体にパターンを転写するモールドを作製するためのモールドについても含む。
【０００７】
なお、インプリント用モールド構造体を用いて磁気記録媒体を製造する技術として、特許文献１に記載の技術が知られている。具体的には、通常、データアドレスマークは磁気ヘッドにより書かれるところ、データアドレスマークに対応する凹凸パターンを、インプリント用モールド構造体の溝部に形成しておくという技術である。この構成により、インプリントにより形成された磁気記録媒体において、熱揺らぎや欠陥に起因する、読み出し不良・書き込み時の位置ズレ不良を回避することができる。
【０００８】
また、ビット状のパターンを有する磁気記録媒体をインプリント用のスタンパから製造することも知られている（例えば、特許文献２参照）。この特許文献２には、データ領域
の磁性ドットが配置される中心線を軸に、周方向に異なる個数の磁性ドットで微小位置検出部を構成し、磁化反転を抑制することにより、安定したサーボパターンを維持する技術が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開２００９−２４５５３４号公報
【特許文献２】特開２０１０−４００９９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
近年、このパターンドメディアが有するパターンサイズは、ますます微細化されてきている。この微細化はナノサイズにて行われており、磁気記録媒体の検査装置や、読み出し・書き込みを行う磁気記録装置の分解能のレベルへと、微細化が近づいてきている。
【００１１】
この分解能の一例を挙げると、マスタークロックが５００ＭＨｚの装置を用いた場合、検査装置や磁気記録装置にて用いられる電子ビームと基板の相対線速度が１ｍ／ｓのときの分解能は２ｎｍになる。これに対して、最近のパターンサイズはライン・アンド・スペースパターンで２５ｎｍ（ライン：スペース＝１：１）というレベルの微細なパターンが実現されつつある。
なお、本明細書における「分解能」とは、検査装置や磁気記録装置にて用いられるエネルギービーム（光ビーム、電子ビーム等を含む）と基板の相対線速度を１ｍ／ｓとしたときの、検査装置や磁気記録装置のマスタークロックの逆数のことである。
【００１２】
このように、分解能とパターンサイズのオーダーが近接することにより、不具合が発生することが、本発明者らの手により発見されている。
この不具合について、図１を用い、ビット状のパターン（以降、単にビットとも言う）を形成した場合について具体的に説明する。
【００１３】
図１（ａ）に示すように、例えばビット状の凸部（磁性部）が磁気記録媒体上に、設計通りに形成されていたとする。設計通りにパターンが形成されていれば、通常だとエラーは起こらないはずである。
【００１４】
しかしながら、磁気記録装置においては、分解能に応じた部分しか読み書きを行うことができない。つまり、図１（ｂ）に示すように、分解能である２ｎｍ間隔で配置された破線部分においてでしか、読み書きを行うことができない。
【００１５】
一方、上述のように仮に設計通りにパターンが形成されていても、図１（ｂ）に示す破線部分に、ビットの中心点（×）が存在するというわけではない。
図１（ｂ）に示す破線部分にビットの中心点が存在しないと以下の不具合が発生する。
【００１６】
つまり、この磁気記録媒体の読み書きの際、磁気記録装置の分解能の限界に起因して、ビットの位置をずらして認識してしまうおそれが発生する。具体的には、ビットＡの中心点が読み書き可能な部分（即ち図１（ｂ）の破線部分）に存在していたとしても、それに隣接するビットＢの中心点が、図１（ｂ）に示す破線部分に存在しない場合が出てくる。この場合、本来読み書きを行いたかった部分ａではなく、分解能に応じて離間した隣の破線部分ｂで読み書きを行ってしまうという現象が起こる。
【００１７】
仮にマスタークロックが５００ＭＨｚで相対線速度が１ｍ／ｓ（即ち分解能が２ｎｍ）の場合、磁気記録装置において読み書きの認識を開始するパターン（後述する同期信号検
出部２１２ｂ）の位置をｘ＝０ｎｍとすると、磁気記録装置はｘ＝２ｎｍ、４ｎｍ、６ｎｍ・・・の地点しか、読み書きの認識を行うことができない。
具体例で説明すると、例えばｘ＝４ｎｍの地点のビットＡは問題なく読み書きできる。しかしながら、ビットＢの中心がｘ＝１１ｎｍの地点に存在する場合、そもそも読み書きを行わない、又は、ｘ＝１０ｎｍか１２ｎｍの地点で読み書きを行うことになってしまう。読み書きを行わなければそもそもエラーとなってしまうし、仮に、図１（ｃ）のように読み書きをｘ＝１０ｎｍの地点で行えたとしても、本来読み書きを行うべき１１ｎｍの地点から、１ｎｍ分、ズレが生じることになってしまう。
【００１８】
このように、アナログ的にパターンを形成したにもかかわらず、読み書きや検査段階でのデジタル的認識を行うことにより、データが丸められ量子化誤差が生じる。その結果、位置ズレが発生してしまう。以降、この位置ズレのことを「データ転び」又は単に「転び」とも言う。
【００１９】
なお、ビット状パターンを用いた磁気記録媒体の場合、読み書き等の位置ズレにおいては、ビット径の１０％程度が許容範囲であると考えられている。現在、電子ビームによる露光においては、ビット径が１２．５ｎｍ程度となっている。その結果、１．２５ｎｍ程度のズレしか許容できない。それにもかかわらず、先ほど例示した図１（ｂ）に示すように、隣接するビットＢとビットＣとで互いに離れる方向にデータが転んでしまうと、少なくとも合計２ｎｍ以上のズレが発生してしまい、読み書きの際のエラーの発生確率が著しく高くなってしまう。
【００２０】
この不具合は、単に磁性記録媒体の読み書きエラーを発生させるのみならず、原盤又はワーキングモールドを製造するモールド製造工程から出荷工程に至るまでにおいて深刻な事態を招く恐れがある。例えば、設計通りのパターンを有する原盤又はワーキングモールドが作製できたとしても、まず、パターン検査装置の分解能の関係で、上述のようなエラーが生じるおそれがある。その上、上述のように磁気記録媒体を作製するに至る最終段階でエラーが生じるおそれもある。そもそも、設計通りに微細パターンを形成したにも関わらず、その後の磁気記録媒体の段階でエラーが発生するため、製品としての磁気記録媒体の歩留まりが低下するどころか、このエラーの原因究明のために多くの時間や労力を費やさなければならず、場合によっては基となるモールドを含めて全ての工程を再検討し、作製し直さなければならないおそれすらある。
【００２１】
本発明の主たる目的は、検出器の分解能に起因するエラーの発生を抑制する原盤及びその製造方法、ワーキングモールド及びその製造方法、電子ビーム露光装置、並びに電子ビーム露光方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００２２】
上述の通り、本発明者らは、分解能とパターンサイズのオーダーが近接することにより、「データの転び」が磁気記録媒体の製造工程全体において重大な影響を及ぼすという知見を得た。この知見を基に、本発明者らはまず、検査装置や磁気記録装置のマスタークロックを高くする（即ち分解能を向上させる（例：分解能２ｎｍ→１ｎｍ））という手段について検討した。
【００２３】
しかし、検査装置や磁気記録装置のマスタークロックは有限である上、マスタークロックを高くした検査装置や磁気記録装置は著しく高額となる。それに加え、磁気記録媒体が搭載されるハードディスク回路では低コストの回路設計が求められているという事情もある。この事情に反して高額な装置を用いると、磁気記録媒体そのものに価格を上乗せすることになる。そのため、上述の手段はコスト面で難がある。
なお、相対線速度を遅くするという手段も考えられるが、そのように設定すると、そも
そも原盤作製に多大な時間を要することになる。そうなると、作業効率が低下するおそれがある。
【００２４】
そこで本発明者らは、後々に製造される磁気記録媒体に対して用いられる検査装置や磁気記録装置の分解能を、原盤の作製段階から予め考慮に入れておく、という知見を得た。
具体的には、データパターンの検出を開始するタイミング合わせの基準となるサーボパターンからデータパターンまでの距離、更には隣り合うデータパターン間の距離を、検査装置や磁気記録装置の分解能の自然数倍とし、データ転びの発生を抑制すべく、図１（ｂ）（ｃ）に示すような破線部分に必ずデータパターンが配置されるよう原盤を最初から作製しておく、という手段を想到した。この手段によって、原盤作製後に用いる装置の分解能に起因するエラーの発生を抑制することが、原盤作製の段階において保証できることを、本発明者らは見出した。
【００２５】
この知見に基づいて成された本発明の態様は、以下の通りである。
本発明の第１の態様は、
データ部とサーボ部とが基板上に形成され、磁気記録媒体又はそれを製造するために用いられるワーキングモールドをインプリントにより製造する際に用いられる原盤において、
前記データ部は、磁気記録媒体において情報の記録を行うためのデータ領域の基となるデータパターンが形成された部分であり、
前記サーボ部は、磁気記録媒体においてデータ領域のトラック位置及び／又はパターン位置を特定するためのサーボ領域の基となるサーボパターンが形成された部分であり、
前記データパターンは以下の条件（１）及び（２）を満たすように前記データ部内に配置されていることを特徴とする原盤である。
（１）各々のトラックのサーボ部からデータ部に向かう方向において、データパターンの検出を開始するタイミング合わせの基準となるサーボパターンから、前記サーボ部に最も近いデータパターンまでの距離が、検出器における分解能の自然数倍である。
及び、
（２）各々のトラック内において、前記データ部内のデータパターンから、該データパターンと隣接して形成された別のデータパターンまでの距離が、検出器における分解能の自然数倍である。
但し、前記データパターンは、データパターンそのものに加え、データパターンの基礎となるパターンも含む。そして、前記検出器は、前記磁気記録媒体製造中ないし製造後に用いられる検出器であって、前記磁気記録媒体のサーボ領域におけるサーボ信号及びデータ領域における情報を検出する検出器である。
本発明の第２の態様は、第１の態様に記載の態様であって、
前記データパターンはビットにより形成されたことを特徴とする。
本発明の第３の態様は、第２の態様に記載の態様であって、
複数のトラックが同心円状に形成されるとともに、各々のトラックにおいて少なくとも前記データ部のデータパターンの形態が１ビットごとに径方向及び周方向に分離されていることを特徴とする。
本発明の第４の態様は、第３の態様に記載の態様であって、
各々のトラック内において、データパターンの検出を開始するタイミング合わせの基準となるサーボパターンから、前記サーボ部に最も近いビットの略中心までの距離が、前記検出器における分解能の自然数倍であり、
各々のトラック内において、周方向で隣り合うビットの中心間距離が、前記検出器における分解能の自然数倍であることを特徴とする。
本発明の第５の態様は、
データ部とサーボ部とが基板上に形成され、磁気記録媒体又はそれを製造するために用いられるワーキングモールドをインプリントにより製造する際に用いられる原盤において
、
前記データ部は、磁気記録媒体において情報の記録を行うためのデータ領域の基となるデータパターンが形成された部分であり、
前記サーボ部は、磁気記録媒体においてデータ領域のトラック位置及び／又はパターン位置を特定するためのサーボ領域の基となるサーボパターンが形成された部分であり、
複数のトラックが同心円状に形成されるとともに、各々のトラックにおいて少なくとも前記データ部のデータパターンの形態が平面視円形状の１ビットごとに径方向及び周方向に分離されており、以下の条件（１）及び（２）を満たすように前記データ部内に前記ビットが配置されていることを特徴とする原盤である。
（１）各々のトラックのサーボ部からデータ部に向かう方向において、データパターンの検出を開始するタイミング合わせの基準となるサーボパターンから、前記サーボ部に最も近い前記ビットの略中心までの距離が、検出器における分解能の自然数倍である。
及び、
（２）各々のトラック内において、周方向で隣り合うビットの中心間距離が、検出器における分解能の自然数倍である。
但し、前記データパターンは、データパターンそのものに加え、データパターンの基礎となるパターンを含む。そして、前記検出器は、前記磁気記録媒体製造中ないし製造後に用いられる検出器であって、前記磁気記録媒体のサーボ領域におけるサーボ信号及びデータ領域における情報を検出する検出器である。
本発明の第６の態様は、第１ないし第５のいずれかの態様に記載の原盤からインプリントにより製造されたことを特徴とするワーキングモールドである。
本発明の第７の態様は、
磁気記録媒体又はそれを製造するために用いられるワーキングモールドをインプリントにより製造する際に用いられる原盤であって、データ部とサーボ部とを基板上に有する原盤の製造方法において、
前記データ部は、磁気記録媒体において情報の記録を行うためのデータ領域の基となるデータパターンが形成された部分であり、
前記サーボ部は、磁気記録媒体においてデータ領域のトラック位置及び／又はパターン位置を特定するためのサーボ領域の基となるサーボパターンが形成された部分であり、
以下の条件（１）及び（２）を満たすように電子ビームの露光を行うことを特徴とする原盤の製造方法である。
（１）各々のトラックのサーボ部からデータ部に向かう方向において、データパターンの検出を開始するタイミング合わせの基準となるサーボパターンから、前記サーボ部に最も近いデータパターンまでの距離が、検出器における分解能の自然数倍とする。
及び、
（２）各々のトラック内において、前記データ部内のデータパターンから、該データパターンと隣接して形成された別のデータパターンまでの距離を、検出器における分解能の自然数倍とする。
但し、前記データパターンは、データパターンそのものに加え、データパターンの基礎となるパターンを含む。そして、前記検出器は、前記磁気記録媒体製造中ないし製造後に用いられる検出器であって、前記磁気記録媒体のサーボ領域におけるサーボ信号及びデータ領域における情報を検出する検出器である。
本発明の第８の態様は、第７の態様に記載の製造方法により製造された原盤からインプリントによりワーキングモールドを製造することを特徴とするワーキングモールドの製造方法である。
本発明の第９の態様は、
磁気記録媒体又はそれを製造するために用いられるワーキングモールドをインプリントにより製造する際に用いられる原盤を製造するための電子ビーム露光装置において、
前記磁気記録媒体上にて、データ領域のトラック位置及び／又はパターン位置を検出するためのサーボ領域のサーボ信号と、情報の記録を行うためのデータ領域の情報と、を検
出するために別途用いられる検出器の分解能を入力する分解能入力手段と、
一主面上に感光膜が形成された基板を保持しつつ、前記基板の主面上における電子ビームの照射位置を当該基板に対して相対的に移動させる移動手段と、
電子ビームを照射して、前記サーボ領域の基となるサーボパターンに対応した形状の露光を前記基板上のサーボ部に行い、且つ、前記データ領域の基となるデータパターンに対応した形状の露光を前記基板上のデータ部に行う露光手段と、
を備え、
以下の条件（１）及び（２）を満たすように電子ビームの露光を行うことを特徴とする電子ビーム露光装置である。
（１）各々のトラックのサーボ部からデータ部に向かう方向において、データパターンの検出を開始するタイミング合わせの基準となるサーボパターンから、サーボ部に最も近いデータパターンまでの距離が、前記分解能入力手段に入力された分解能の自然数倍となるように、前記移動手段により前記基板を移動させながら前記露光手段による露光を行う。及び、
（２）各々のトラック内において、データ部内のデータパターンから、該データパターンと隣接して形成された別のデータパターンまでの距離が、前記分解能入力手段に入力された分解能の自然数倍となるように、前記移動手段により前記基板を移動させながら前記露光手段による露光を行う。
但し、前記データパターンは、データパターンそのものに加え、データパターンの基礎となるパターンも含む。
本発明の第１０の態様は、第９の態様に記載の態様であって、
前記データパターンはビットであることを特徴とする。
本発明の第１１の態様は、第１０の態様に記載の態様であって、
一主面上に感光膜が形成された基板を保持しつつ当該基板を回転させる回転手段と、
前記回転手段の駆動を制御する回転制御手段と、
を更に備え、
複数のトラックが同心円状に形成されるとともに、各々のトラックにおいて少なくとも前記データ部のデータパターンの形態が１ビットごとに径方向及び周方向に分離されていることを特徴とする。
本発明の第１２の態様は、第１０又は１１の態様に記載の態様であって、
前記露光手段から照射される電子ビームを偏向する電子ビーム偏向手段を更に備え、
前記電子ビーム偏向手段により、
各々のトラック内において、データパターンの検出を開始するタイミング合わせの基準となるサーボパターンから、前記データ部内において前記サーボ部に最も近いビットの略中心までの距離が、検出器における分解能の自然数倍となる部分に電子ビームを照射し、且つ、
各々のトラック内において、該ビットの略中心から、該ビットと隣接して形成された別のビットの略中心までの距離が、検出器における分解能の自然数倍となる部分に電子ビームを照射することを特徴とする。
本発明の第１３の態様は、第９ないし１２のいずれかの態様に記載の態様であって、
前記露光手段による電子ビームの照射は、前記移動手段によって線速一定に行うことを特徴とする。
本発明の第１４の態様は、
磁気記録媒体又はそれを製造するために用いられるワーキングモールドをインプリントにより製造する際に用いられる原盤を製造するための電子ビーム露光装置において、
一主面上に感光膜が形成された基板を保持しつつ当該基板を回転させる回転手段と、
前記回転手段で保持した基板の主面上で電子ビームの照射位置を当該基板の半径方向と平行な方向に移動させる移動手段と、
前記回転手段の駆動を制御する回転制御手段と、
前記磁気記録媒体上にて、情報の記録を行うためのデータ領域の情報と、データ領域の
トラック位置及び／又はパターン位置を検出するためのサーボ領域のサーボ信号とを検出するために別途用いられる検出器の分解能を入力する分解能入力手段と、
電子ビームを照射して、前記サーボ領域の基となるサーボパターンに対応した形状の露光を前記基板上のサーボ部に行い、且つ、前記データ領域の基となるデータパターンに対応したビット形状の露光を前記基板上のデータ部に行う露光手段と、
を備え、
前記回転制御手段によって、前記電子ビームの照射位置における前記基板の線速が一定となる条件で前記基板の回転速度を変化させながら、以下の条件（１）及び（２）を満たすように電子ビームの露光を行うことを特徴とする電子ビーム露光装置である。
（１）各々のトラックのサーボ部からデータ部に向かう方向において、データパターンの検出を開始するタイミング合わせの基準となるサーボパターンからサーボ部に最も近いビットの略中心までの距離が、前記分解能入力手段に入力された分解能の自然数倍となる部分に対し、前記電子ビーム偏向手段により電子ビームが照射されるように、前記回転手段及び前記移動手段により前記基板を移動させながら前記露光手段による露光を行う。
及び、
（２）データ部内において周方向で隣り合うビットの中心間距離が、前記分解能入力手段に入力された分解能の自然数倍となる部分に対し、前記電子ビーム偏向手段により電子ビームが照射されるように、前記回転手段及び前記移動手段により前記基板を移動させながら前記露光手段による露光を行う。
但し、前記データパターンは、データパターンそのものに加え、データパターンの基礎となるパターンも含む。
本発明の第１５の態様は、
磁気記録媒体又はそれを製造するために用いられるワーキングモールドをインプリントにより製造する際に用いられる原盤を製造するための電子ビーム露光方法において、
前記磁気記録媒体上にて、情報の記録を行うためのデータ領域の情報と、データ領域のトラック位置及び／又はパターン位置を検出するためのサーボ領域のサーボ信号と、を検出するために別途用いられる検出器の分解能を入力する分解能入力工程と、
一主面上に感光膜が形成された基板を保持しつつ、前記基板の主面上における電子ビームの照射位置を当該基板に対して相対的に移動させる移動工程と、
電子ビームを照射して、前記サーボ領域の基となるサーボパターンに対応した形状の露光を前記基板上のサーボ部に行い、且つ、前記データ領域の基となるデータパターンに対応した形状の露光を前記基板上のデータ部に行う露光工程と、
を備え、
以下の条件（１）及び（２）を満たすように電子ビームの露光を行うことを特徴とする電子ビーム露光方法である。
（１）各々のトラックのサーボ部からデータ部に向かう方向において、データパターンの検出を開始するタイミング合わせの基準となるサーボパターンから、サーボ部に最も近いデータパターンまでの距離が、前記分解能入力工程にて電子ビーム露光装置に入力された分解能の自然数倍となるように、前記移動工程により前記基板を移動させながら前記露光工程によって露光を行う。
及び、
（２）各々のトラック内において、データ部内のデータパターンから、該データパターンと隣接して形成された別のデータパターンまでの距離が、前記分解能入力工程にて入力された分解能の自然数倍となるように、前記移動工程により前記基板を移動させながら前記露光工程によって露光を行う。
但し、前記データパターンは、データパターンそのものに加え、データパターンの基礎となるパターンも含む。
【発明の効果】
【００２６】
本発明によれば、検出器の分解能に起因するエラーの発生を抑制できる。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】本実施形態におけるデータ転びの様子を示す概略図である。（ａ）は、設計通りに基板上に形成されたビット状のパターンを示す図であり、バツ印（×）はビット中心である。（ｂ）は、検出器の分解能ごとの区切り（破線）を入れた場合のビット状のパターンを示す図であり、白丸（○）は、設計上、検出器によりビットが本来検出されるべき部分である。（ｃ）は、検出器の分解能ごとの区切り（破線）を入れた上で、検出器によりビットが実際に検出されることになってしまう位置（黒丸（●））を示す図である。
【図２】露光の対象となる基板の構造の一例を示す図である。
【図３】本実施形態における基板を示す図であり、その基板におけるデータ部及びサーボ部、そしてデータパターンを示す図である。
【図４】同心円状のトラックが複数形成されている場合のビットの周期のズレ（ΔＢＰ）を説明するための概略図である。破線は、検出器の分解能ごとの区切りである。白丸（○）は、検出器によりビットが検出される部分である。
【図５】本発明の実施の形態に係る電子ビーム露光装置の構成例を示す概略図である。
【図６】電子ビーム露光時の様子を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照しつつ詳細に説明する。
本実施形態においては、次の順序で説明を行う。
１．原盤（基板）の構造
ａ）原盤上のサーボ部
ｂ）原盤上のデータ部［本実施形態に係る条件１及び２］
２．電子ビーム露光装置の基本構成（機構系の構成、制御系の構成）
３．電子ビーム露光装置の基本動作
４．電子ビーム露光装置の制御方法（電子ビーム露光方法を含む）
５．実施の形態による効果
６．変形例
【００２９】
＜１．原盤（基板）の構造＞
図２は、露光の対象となる基板４の構造の一例を示すもので、図中（Ａ）は平面図、（Ｂ）は側断面図を示している。
【００３０】
本実施形態において、基板４は、複数のトラックを有する磁気記録媒体を製造するため、又は複数のトラックを有する磁気記録媒体の製造に用いられるワーキングモールドをインプリントにより製造する際に用いられる原盤となる基板である。その材質について言えば、本実施形態においては、石英ガラス基板を用いて構成されるものである。また、基板４の平面形状は円形（即ち円盤状）になっている。基板４の一方の主面（上面）には、感光膜の一例としてのレジスト膜１８を形成してある。本実施形態においては、レジスト膜１８は、ポジ型レジストを使用する。
【００３１】
ポジ型レジストを用いた場合、電子ビームの照射によって露光された部分が、その後の現像処理によって除去されることになる。ポジ型レジストは、ネガ型レジストに比べて、電子ビームに対する感度が高く、得られる解像度も高いため、これを用いてレジスト膜１８を形成（成膜）した方が好ましい。本実施の形態においては、ポジ型レジストを用いてレジスト膜１８を形成してあるものとする。
【００３２】
基板４は、レジスト膜１８が形成されている領域（成膜領域）のほぼ全部を露光の対象にしても良いし、当該領域の一部を露光の対象にしても良い。ここでは一例として、基板
４の物理的な中心Ｃｐを基準にして、そこから基板４の半径方向に長さＬｒ１までの円形領域Ｅ０を除いて、当該円形領域Ｅ０よりも外側の領域をレジスト膜１８の有効領域（露光対象領域）１９に設定している。
【００３３】
ここで記述するレジスト膜１８の有効領域１９とは、電子ビーム露光後に行われる現象処理によってレジストのパターンが形成される領域をいう。このため、レジスト膜１８の有効領域は、たとえば、電子ビーム露光とその後の現像処理によって得られたパターンに基づくディスク原盤を用いて、ディスク状の記録媒体を製造する場合に、当該記録媒体のディスク面に転写される領域に対応する領域（製品の品質維持に必要な領域）となる。
【００３４】
そして、この有効領域１９には、図３に示すように、データ部２１と、前記データ部２１に隣接するサーボ部２２とが形成される。このサーボ部２２とデータ部２１とは同心円状の各トラック内において、交互に配置されている。
なお、前記データ部２１は、磁気記録媒体において情報の記録を行うためのデータ領域の基となるデータパターン２１’が形成された部分である。
また、前記サーボ部２２は、磁気記録媒体においてトラック位置及び／又はパターン位置を特定するためのサーボ領域の基となるサーボパターン２２’が形成された部分である。
そして、本実施形態においては、データパターン２１’もサーボパターン２２’も凹凸によりパターンが形成されている場合について述べる。
【００３５】
なお、以降、パターンが存在する部分に関して原盤又はワーキングモールド上に設けられたものは「部」という単語を使用し、例えば「データ部」「サーボ部」、という。
一方、この原盤又はワーキングモールドにより将来的に形成される磁気記録媒体におけるパターンが存在する部分については「領域」という単語を使用し、例えば「データ領域」「サーボ領域」、と言うことにする。
上記内容を端的に言えば、本実施形態の原盤に設けられたデータ部２１及びサーボ部２２の凹凸パターンが、インプリントにより磁気記録媒体に転写され、磁気記録媒体におけるデータ領域及びサーボ領域となる。
【００３６】
以下、原盤におけるデータ部２１及びサーボ部２２について、サーボ部２２→データ部２１という順に説明する。その際、基板を円形とする関係上、図３に記載されているような、複数のトラックが同心円状に形成される場合について説明する。
【００３７】
ａ）原盤上のサーボ部
同心円状の各トラック内での円周方向において、前記サーボ部２２においては、プリアンブル部２２１、アドレス部２２２、及びバースト部２２３が、この配置順で構成されている。
【００３８】
（プリアンブル部）
前記プリアンブル部２２１は、磁気記録媒体において、再生信号のクロックを同期させるための情報が記録されることになる部分である。そしてこのプリアンブル部２２１は、同期信号生成部２２１ａと、同期信号検出部２２１ｂを更に具備している。
【００３９】
同期信号生成部２２１ａは、サーボ情報を呼び出す前に、信号アンプの増幅率を調整して振幅を一定にする働き、及びＡ／Ｄ変換（Analog to Digital Converter）クロック信
号のサンプリングタイミングを生成する働きを有する。同期信号生成部２２１ａは、媒体の内周から外周までの全てあるいは一部の範囲で、径方向に連続して形成されている。そして、周方向に一定の間隔で形成されている。
【００４０】
次に、同期信号検出部２２１ｂは、サーボ情報の開始を示す特徴的なパターンである。同期信号検出部２２１ｂは、原盤の内周から外周までの全てあるいは一部の範囲で、径方向に連続して形成されている。そして、周方向に同期信号生成部２２１ａに比べて長いビット長の部分を有している。この部分が、最終的に磁気記録媒体において、単一の磁性部又は数ビット長の既定符号を生成する複数の磁性部となる。
【００４１】
以上の同期信号生成部２２１ａ及び同期信号検出部２２１ｂは、本実施形態の原盤において、一つの特徴となる部分である。同期信号生成部２２１ａが、最終的に磁気記録媒体において磁性部となり、同期信号となる「クロック」（即ち、形成されるパターンが有する所定の周期）を生成することになる。更には、同期信号検出部２２１ｂが、各々のトラックのサーボ部２２からデータ部２１に向かう方向において、データパターン２１’の検出を開始するタイミング合わせの基準となるサーボパターン２２’となる。
【００４２】
本実施形態においては、磁気記録媒体を作製した後に使用するはずの検出器の分解能を考慮に入れ、予め、確実に分解能に応じて検出できる原盤上の位置に、ビットを形成しておく。更に詳しく言えば、「クロック」に応じてパターンが配置される位置が、検出器によって確実に検出されるようにする。そのために、上記の同期信号検出部２２１ｂから、円周方向にて隣接するデータ部２１におけるビットの略中心までの距離を、分解能の自然数倍とする。こうすることにより、「データ転び」を抑制することができる。
詳細は、後のｂ）原盤上のデータ部、の項で詳述する。
【００４３】
なお、ここで挙げた「検出器」は、前記磁気記録媒体製造中ないし製造後に用いられる検出器であって、前記磁気記録媒体のサーボ領域におけるサーボ信号及びデータ領域における情報を検出する検出器である。この検出器としては、検査装置や磁気記録再生装置などが挙げられる。
【００４４】
また、後で詳述するが、本実施形態における「ビットの略中心」とは、「検出器によって本来認識されるべき地点でビットが認識される程度、ビット中心に近いビット内の部分」のことである。
【００４５】
（アドレス部）
アドレス部２２２は、サーボフレーム毎のトラック番号及びセクタ番号を示すＩＤパターンである。磁気記録装置において、磁気ヘッドの位置するトラック位置を示す。
【００４６】
アドレス部２２２は、セクタ番号を示す周方向位置では、媒体の内周から外周までの全てあるいは一部の範囲で、径方向に連続して形成されている。
なお、原盤のアドレス部２２２を転写された磁気記録媒体において、トラック番号の上位桁を示す周方向位置では、媒体の内周から外周までの全てあるいは一部の範囲で、アドレス部２２２に対応するパターンが径方向に連続している。一方、トラック番号の下位桁を示す周方向位置では、媒体の径方向に断続的となる磁性体が形成されている。
【００４７】
（バースト部）
バースト部２２３は、シリンダアドレスのオントラック状態からのオフトラック量を検出するための磁気記録媒体におけるオフトラック検出用領域に対応する基板上部分である。
【００４８】
バースト部２２３が磁気記録媒体に転写されると、この領域によって、磁気記録装置において、磁気ヘッドの位置のトラック中心からのずれ情報が検出される。磁気記録媒体においてバースト部２２３に対応する領域が、周方向に、特定の形状及び配列からなる磁性パターンを有し、それぞれの磁性パターンは、媒体の径方向に、トラック毎に、等間隔に
配置されている。
【００４９】
なお、同心円状の各トラック内での円周方向におけるこれらの配置順はこの順番に限られない。ただ、上述の通り、磁気記録媒体におけるプリアンブル部２２１にて同期信号を生成・制御し、アドレス部２２２にて磁気記録装置における磁気ヘッドの位置するトラック位置を認識し、バースト部２２３にて磁気ヘッドのトラック中心からのズレ情報を記録するという役割を担っていることから、この順番が好ましい。
【００５０】
ｂ）原盤上のデータ部
本実施形態においては、前記サーボ部２２に隣接するようにデータ部２１が形成されている。更に詳しく言うと、円周方向において、バースト部２２３の後に、データ部２１が形成されている。このデータ部２１は、最終的に磁気記録媒体においてユーザデータを書き込み可能な領域となり、磁気記録再生装置の磁気ヘッドによってそれが可能となる。
【００５１】
また、前記パターンとしては、ディスクリートパターン及びビットパターンのいずれかであっても良い。本実施形態においては平面視円形からなるビットパターンの場合について述べる。
【００５２】
ビットパターンならば、ビットの略中心位置を基準に設定することができるという利点がある。
つまり、検出器において正確に認識可能な地点にビットの略中心があれば、その地点にて最もビットを認識しやすくなる。その結果、ビット径の大きさに拘らず、データパターン２１’の検出を開始するタイミング合わせの基準となる同期信号検出部２２１ｂから、直近のデータパターン２１’のビットの略中心までの距離を分解能の自然数倍にすることによって、データ転びを抑制することができる。
【００５３】
各々のトラックにおいて少なくとも前記データ部２１のデータパターン２１’の形態は、１ビットごとに径方向及び周方向に分離されている。最終的な磁気記録媒体においては、データ領域は、磁気ヘッドによってユーザデータの書き込み可能な磁性帯を有する複数のトラックが設けられ、隣接するトラック間にはユーザデータの書き込み不能な非磁性帯が設けられている。即ち、磁気記録媒体は、磁性帯が非磁性帯によって物理的に分離されたディスクリートトラック型の記録媒体となっている。
【００５４】
［本実施形態における条件］
そして、本実施形態の原盤における大きな特徴は、データパターン２１’が以下の条件を満たすように前記データ部２１内に配置されていることである。
【００５５】
［条件１］
まず、各々のトラックのサーボ部２２からデータ部２１に向かう方向において、データパターン２１’の検出を開始するタイミング合わせの基準となる同期信号検出部２２１ｂから、前記同期信号検出部２２１ｂに最も近いデータパターン２１’までの距離を、検出器における分解能の自然数倍とする。
【００５６】
先にも述べたように、磁気記録媒体の読み書きの際、磁気記録装置の分解能の限界に起因して、ビットの位置をずらして認識してしまうおそれが発生する。具体的には、ビットＡの中心点が読み書き可能な部分に存在していたとしても、それに隣接するビットＢの中心点が、図１に示す破線部分に存在しない場合が出てくる。
この場合、本来読み書きを行いたかった部分ではなく、分解能に応じて離間した隣の破線部分で読み書きを行ってしまうという現象が起こる。
つまり、アナログ的にパターンを形成したにもかかわらず、読み書きや検査段階でのデ
ジタル的認識を行うことにより位置ズレが発生してしまい、所謂「データ転び」が発生するおそれがある。
【００５７】
ところが、本実施形態のように、磁気記録媒体作製前の原盤段階において既に検出器の分解能を考慮に入れてビットを配置することにより、データ転びの発生を抑制することができる。例示するならば、０ｎｍ、３ｎｍ、６ｎｍ、９ｎｍ・・・の地点しかパターンを認識できない分解能３ｎｍの検出器を用いることを予め考慮に入れ、１ｎｍや２ｎｍの地点にはビット略中心を配置せず、３ｎｍ、６ｎｍ、９ｎｍの地点にビット略中心を配置している。そしてそれを、原盤の作製段階において行うことに本実施形態の特徴がある。
【００５８】
そして、上述の条件においては、データパターン２１’の検出を開始するタイミング合わせの基準となる同期信号検出部２２１ｂをスタート地点として、同期信号検出部２２１ｂに最も近いビット略中心までの距離を、検出器における分解能の自然数倍としている。こうすることにより、上述の例示が如く、データ転びが起きないようなビット配置とすることができる。
それに加え、下記条件を満たすことにより、データ部２１全体において、データ転びの発生を抑制することができる。
【００５９】
［条件２］
各々のトラック内において、前記データ部２１内のビット略中心から、該ビットと隣接して形成された別のビット略中心までの距離を、検出器における分解能の自然数倍とする。
【００６０】
まず、条件１を満たすことによって、同期信号検出部２２１ｂに最も近いビットは、データ転びのおそれが抑制されている。その上で条件２に従って、このデータ転びが抑制されたビット略中心から、該ビットと隣接して形成された別のビット略中心までの距離を、検出器における分解能の自然数倍とする。
こうすることにより、データ部２１内における全てのビットについても、データ転びが起きないようなビット配置とすることができる。そして上述のように、データ部２１全体にて同様な配置とすれば、データ部２１全体においてデータ転びを抑制することができる。
【００６１】
なお、上記「自然数倍」の臨界値についても述べる。
下限値についてであるが、ビットの径に応じて、互いに隣接するビットが一定の距離を確保できる程度の倍数ならば良い。例えば、ビット径が１０ｎｍ、分解能が２ｎｍである場合、データパターン２１’の形態を１ビットごとに径方向及び周方向に分離するためにも、ビット略中心間距離は、分解能の５倍以上の自然数倍とした方が良い。
上限値についてであるが、１つのトラックにおけるデータ部２１の幅（同心円状トラックの場合はデータ部２１の周長）に応じて、所定の情報を記録できる程度の数のビットを形成できる程度の倍数ならば良い。
【００６２】
（その他の部分）
上記以外の部分としては、データパターン２１’とサーボパターン２２’との間に、半径方向につながった略放射状の凸パターンからなる緩衝パターン等を設けることも考えられるが、本実施形態の効果を損なわない限り特に制限はなく、目的に応じて上記以外の部分を適宜選択することができる。
【００６３】
（トラック変化によるパターン周期の変化）
上述の通り、同心円状トラックにおいて、１つのトラック内においては、上記の２つの条件を満たすことにより、最終的に磁気記録媒体でデータ転びを抑制することができる。
ところが、同心円状に複数のトラックを形成する場合、外周又は内周側のトラックは円周長が変化する。そして、ビット状のパターンを作製する場合、ビット略中心の位置のクロックを、各トラックにおいて一定にするのが非常に好ましい。
【００６４】
具体的には、図４に示すように、トラック間の距離（ＴＰ）から、トラックの径が拡大されたことに伴うビット周期のずれ（ΔＢＰ）を求める。
但し、ΔＢＰ＝ＢＰ０＊ＴＰ／ｒ
ｒ：トラックＴ０の半径
ＢＰ０：トラックＴ０のビット周期
である。
【００６５】
そして、或るトラック（Ｔ０）と、該トラックから外周方向に向かって次のトラック（Ｔ１）との間のΔＢＰが分解能の自然数倍となるよう、ビット略中心の位置を決定する。
こうすることにより、最終的な磁気記録媒体において、例えトラック位置が変わろうとも、確実に検出器が正しい位置にて読み書き等を行うことができる。そしてひいては、データ転びを同心円状のトラック全てにおいて抑制することができる。
【００６６】
以上が、本実施形態に係る原盤の構成についての説明である。
以下、この原盤を作製するのに用いられる電子ビーム露光装置について説明する。
【００６７】
＜２．電子ビーム露光装置の基本構成＞
図５は、本発明の実施の形態に係る電子ビーム露光装置の構成例を示す概略図である。図示した電子ビーム露光装置１は、大きくは、電子ビームを発生する電子ビーム発生部２と、この電子ビーム発生部２で発生させた電子ビームを制御する電子ビーム制御系３と、露光の対象となる基板４を支持するステージ機構５と、このステージ機構５の駆動を制御するステージ制御系６とを備えている。
【００６８】
なお、本実施形態においては、電子ビーム発生部２と電子ビーム制御系３とを合わせて「露光手段」としている。この露光手段によって、電子ビームを照射して、前記サーボ領域の基となるサーボパターン２２’に対応した形状の露光を前記基板上のサーボ部２２に行い、且つ、前記データ領域の基となるデータパターン２１’に対応した形状の露光を前記基板上のデータ部２１に行うことになる。
【００６９】
また、ステージ機構５とステージ制御系６と合わせて「移動手段」としている。この移動手段によって、一主面上に感光膜が形成された基板を保持しつつ、基板４の主面上における電子ビームの照射位置を当該基板４に対して相対的に移動させることになる。
【００７０】
なお、本実施形態においてはｒ−θ系の回転ステージを用いるため、ステージ機構５は「移動手段」（ＸＹＺ軸に移動可能）と「回転手段」（ｒ−θ軸に移動可能）とを兼ねている。また、ステージ制御系６は、電子ビームの照射位置を被照射体となる基板４に対して相対的に移動させる機能を有する。これに加え、ステージ制御系６は、この「回転手段」の駆動を制御する「回転制御手段」である。
【００７１】
更に、本実施形態に係る電子ビーム露光装置は、上記の構成に対して所望の動作をさせるべく、所望の数値や動作パターンのようなデータを入力するインターフェイス２０を加えた構成となっている。このインターフェイス２０は、構成の一つとして、後述する「分解能入力手段」を備えている。
以下、このインターフェイス２０に入力されたデータに応じて動作させる各部の構成についてまずは説明する。
【００７２】
（電子ビーム発生部）
電子ビーム発生部２は、電子ビームの発生源となる電子銃７を用いて構成してある。電子銃７は、ステージ機構５に支持された基板４と対向する状態に配置してある。電子銃７は、電子ビームを下向きに発生するものとなっている。
なお、電子ビームを基板４に照射する際の照射形状は、本実施形態においては平面視円形としている。つまり、線状のパターンを形成する際には、ステージ機構５により基板４を回転させながら基板４上のレジストに電子ビームを照射し続け、線状の露光を行う。そして、円形ビット形状に露光する場合は、瞬間的に電子ビームを照射する。
【００７３】
（電子ビーム制御系）
電子ビーム制御系３は、たとえば、図示のように集束レンズ８と、ブランキング電極９と、アパーチャ１０と、対物レンズ１１と、偏向器１２とを有している。
【００７４】
集束レンズ８は、電子銃７から出射された電子ビームのビーム径の広がりを抑制するものである。集束レンズ８は、電子銃７から基板４に至る電子ビームの軌道上において、電子銃７とブランキング電極９との間に配置してある。
【００７５】
ブランキング電極９は、電子ビームの下流側への進行を制御するものである。ブランキング電極９は、ブランキングするとき（即ちブランキング電極９をＯＮにするとき）は電子ビームをアパーチャ１０で遮るように電子ビームの進行を制御する。一方、ブランキングしないとき（即ちブランキング電極９をＯＦＦにするとき）は電子ビームをアパーチャ１０の開口部１３に通すように電子ビームの進行を制御する。ブランキング電極９は、電子銃７から基板４に至る電子ビームの軌道上において、集束レンズ８とアパーチャ１０との間に配置してある。
【００７６】
アパーチャ１０は、電子ビーム露光処理に際して、不要な電子ビーム成分を遮断する機能を果たすものである。アパーチャ１０は、不要な電子ビーム成分を遮断し、かつ必要な電子ビーム成分を通過させるための開口部１３を一体に有している。アパーチャ１０は、電子銃７から基板４に至る電子ビームの軌道上において、ブランキング電極９と対物レンズ１１（偏向器１２）との間に配置してある。
【００７７】
対物レンズ１１は、アパーチャ１０の開口部１３を通過した電子ビームのビーム径を絞るものである。対物レンズ１１は、電子銃７から基板４に至る電子ビームの軌道上において、アパーチャ１０とステージ機構５との間に配置してある。
【００７８】
偏向器１２は、アパーチャ１０の開口部１３を通過した電子ビームの向き（進行方向）を変えるものである。偏向器１２は、電子銃７から基板４に至る電子ビームの軌道上において、前述した対物レンズ１１とともに、アパーチャ１０とステージ機構５との間に配置してある。
なお、本実施形態においては、電子ビーム制御系の内、少なくともブランキング電極９を含む部分であって、電子ビームを偏向させることに関係する部分が「電子ビーム偏向手段」となる。
【００７９】
（ステージ機構）
ステージ機構５は、回転ステージ１４と、直動ステージ１５とを用いて構成してある。回転ステージ１４及び直動ステージ１５は、前述したｒ−θ系のステージを構成している。
【００８０】
回転ステージ１４は、基板４を水平に保持するとともに、保持した基板４を回転させるものである。回転ステージ１４は、たとえば、図示しないスピンドルモータ等の駆動源を
用いて回転する仕組みになっている。回転ステージ１４は、基板４を保持しつつ当該基板４を回転させる回転手段の一例として設けてある。
なお、本実施形態においては、この回転ステージ１４が「回転手段」となる。
【００８１】
直動ステージ１５は、水平面に平行な一軸方向（以下、「水平方向」と記す）に直線的に移動するものである。直動ステージ１５は、回転ステージ１４及びこれに保持した基板４と一体になって水平方向に移動する。直動ステージ１５は、回転ステージ１４で保持した基板４を、この基板４の半径方向と平行な方向に移動させる移動手段の一例として設けてある。
【００８２】
（ステージ制御系）
ステージ制御系６は、回転ステージ１４を制御する回転ステージ制御部１６と、直動ステージ１５を制御する直動ステージ制御部１７とを有している。
【００８３】
回転ステージ制御部１６は、回転ステージ１４の駆動を制御するものである。更に詳述すると、回転ステージ制御部１６は、たとえば、回転ステージ１４の回転・停止といった基本的な動作に加えて、回転ステージ１４の回転速度及び回転方向の制御を行う。ここで記述する回転ステージ１４の回転速度は、単位時間当たりの回転数（単位；ｒｐｍ）で表されるものである。回転ステージ１４は、回転ステージ１４の回転方向の現在位置（回転位相）を、たとえば、電子ビーム露光装置１が備える図示しない回転位置検知センサを用いて認識する。
なお、本実施形態においては、この回転ステージ制御部１６が「回転制御手段」となる。
【００８４】
直動ステージ制御部１７は、直動ステージ１５の駆動を制御するものである。更に詳述すると、直動ステージ制御部１７は、たとえば、直動ステージ１５の移動・停止といった基本的な動作に加えて、直動ステージ１５の移動速度及び移動方向の制御を行う。回転ステージ制御部１６は、直動ステージ１５の移動方向の現在位置を、たとえば、電子ビーム露光装置１が備える図示しない移動位置検知センサを用いて認識する。
【００８５】
＜３．電子ビーム露光装置の基本動作＞
次に、本発明の実施の形態に係る電子ビーム露光装置１の基本動作について説明する。
【００８６】
まず、回転ステージ１４の上に基板４を載せて固定する。このとき、回転ステージ１４の回転中心と基板４の物理的な中心Ｃｐとが一致するように、基板４を位置決めする。また、レジスト膜１８が上を向くように（レジスト膜１８が電子銃７と対向するように）基板４を水平に配置する。
【００８７】
次に、必要に応じて、予め設定されたイニシャライズ処理（たとえば、回転ステージ１４の回転方向の基準位置を検知するための処理や、直動ステージ１５の移動方向の基準位置を検知するための処理など）を行う。各々の基準位置は、たとえば、前述した回転位置検出センサ及び移動位置検知センサを用いて検知されるものである。
【００８８】
次に、回転ステージ１４に保持した基板４を予め決められた初期位置に配置し、そこで回転ステージ１４の駆動により基板４を回転させる。そして、基板４の回転速度が予め決められた速度で安定したら、予め決められたタイミングで電子ビーム露光を開始する。そのときの様子を図６に示す。
【００８９】
電子ビーム露光においては、電子銃７から出射した電子ビームを集束レンズ８で集束させるとともに、集束された電子ビームの進行をブランキング電極９で制御して、アパーチ
ャ１０の開口部１３に電子ビームを通す。更に、アパーチャ１０を通過した電子ビームのビーム径を対物レンズ１１で絞るとともに、その電子ビームの向きを偏向器１２で制御する。
【００９０】
これにより、基板４上に形成してあるレジスト膜１８は、回転ステージ１４の回転駆動によって同心円状に露光される。また、直動ステージ１５の駆動によって基板４を水平方向に移動（微動）し、この移動にあわせて同心円状の露光を基板４の１回転ごとに繰り返すことにより、レジスト膜１８の有効領域１９全体が露光される。ただし、基板４が１回転する間に行われる同心円状の露光では、所望するピットパターンにあわせて電子ビームの照射のオンオフを切り替えるように制御する。この切り替えはブランキング電極９を用いて行う。
【００９１】
なお、本実施形態においては、サーボ部２２の一部においては線状のパターンが形成されるように電子ビームを基板４に露光する。そして、サーボ部２２の他の部分及びデータ部２１においては円形状のビットからなるパターンが形成されるように電子ビームを基板４に露光する。
【００９２】
＜４．電子ビーム露光装置の制御方法（電子ビーム露光方法を含む）＞
次に、本発明の実施の形態に係る電子ビーム露光方法を含めて、電子ビーム露光装置１の制御方法を説明する。
【００９３】
電子ビーム露光は、上述のインターフェイス２０に入力されたデータに基づき、前述したとおり回転ステージ１４の駆動により基板４を回転させながら行う。このとき、回転ステージ制御部１６は、たとえば露光ビームの線速が一定になるように回転ステージ１４の駆動を制御する。線速一定とすることにより、パターンの認識開始部分からの距離の制御を行いやすい。その結果、より確実にデータ転びが抑制された原盤を作製することができる。
【００９４】
ここで、本実施形態において、インターフェイス２０は「分解能入力手段」でもある。最終的に製造される磁気記録媒体上にて、トラック位置を検出するためのサーボ領域のサーボ信号と、情報の記録を行うためのデータ領域の情報と、を検出するために別途用いられる検出器の分解能を、この分解能入力手段へと入力する。
【００９５】
そして、分解能入力手段であるインターフェイス２０に入力された分解能における数値は、電子ビームを発生する電子ビーム発生部２と、この電子ビーム発生部２で発生させた電子ビームを制御する電子ビーム制御系３と、露光の対象となる基板４を支持するステージ機構５と、このステージ機構５の駆動を制御するステージ制御系６とに伝達される。言い換えるなら、分解能における数値は、露光手段、移動手段、回転手段、回転制御手段へと伝達される。
【００９６】
分解能における数値が各構成に伝達された上で、この数値を考慮に入れつつ、上述の条件１に対応する露光を行う。
即ち、各々のトラックのサーボ部２２からデータ部２１に向かう方向において、データパターン２１’の検出を開始するタイミング合わせの基準となるサーボパターン２２’から、サーボ部２２に最も近いデータパターン２１’までの距離が、前記分解能入力手段に入力された分解能の自然数倍となるように、前記移動手段により前記基板４を移動させながら前記露光手段による露光を行う。
【００９７】
そして、条件１と同様に、上述の条件２に対応する露光を行う。
即ち、データ部２１内のデータパターン２１’から、該データパターン２１’と隣接し
て形成された別のデータパターン２１’までの距離が、前記分解能入力手段に入力された分解能の自然数倍となるように、前記移動手段により前記基板４を移動させながら前記露光手段による露光を行う。
【００９８】
具体的には、各々のトラック内において、データパターン２１’の検出を開始するタイミング合わせの基準となるサーボパターン２２’から、前記データ部２１内において前記サーボ部２２に最も近いビットの略中心までの距離が、検出器における分解能の自然数倍となる部分に電子ビームを照射し、且つ、各々のトラック内において、該ビットの略中心から、該ビットと隣接して形成された別のビットの略中心までの距離が、検出器における分解能の自然数倍となる部分に電子ビームを照射する。
【００９９】
この際、本実施形態ではポジ型レジストを用いていることから、電子ビーム偏向手段（ブランキング電極９）を利用して、以下のような露光を行っても良い。即ち、分解能における数値は、電子ビーム制御系を介して電子ビーム偏向手段にも伝達する。そして、上述の２つの条件を満たす場所におけるレジストに対し電子ビームが露光されるよう、ブランキング電極をＯＦＦにする。それ以外の場所においてはブランキング電極９をＯＮとし、レジストに電子ビームが露光されないようにしても良い。
【０１００】
なお、上述のようにレジストに対して電子ビームを露光した後は、公知の手段を用いて凹凸からなるデータ部２１及びサーボ部２２を有する原盤を製造することができる。かいつまんで言うと、レジストへの露光後、現像を行い、所定のパターン形状となったレジストパターンを得る。このレジストパターンをマスクにして、レジストの下部の導電層又は直接基板４をエッチングする。導電層を設けている場合は、最終的にこの導電層にも所定のパターンを形成し、最後に基板４へとパターン転写する。そして、レジストパターン（それに加え導電層）を除去し、データパターン２１’を有するデータ部２１、及びサーボパターン２２’を有するサーボ部２２を備えた原盤を得る。
【０１０１】
＜５．実施の形態による効果＞
本実施形態では、データパターン２１’の検出を開始するタイミング合わせの基準となるサーボパターン２２’からデータパターン２１’までの距離、更には隣り合うデータパターン２１’間の距離を、検査装置や磁気記録装置の分解能の自然数倍とする。そして、このデータパターン２１’の配置においては、原盤の作製段階から既に、その後に使用する分解能を考慮に入れて原盤上のパターンを作製している。
【０１０２】
これにより、検査装置や磁気記録装置による位置検出の際、装置の分解能に起因するエラーの発生を抑制できる。更には、磁気記録媒体に対して用いられる検査装置や磁気記録装置のマスタークロックを高くせずとも、データ転びの発生を抑制することができる。また、相対線速度を遅くすることなく、データ転びの発生を抑制することができる。
その結果、製品としての磁気記録媒体の歩留まりを向上させることができ、分解能に起因するエラーのために無駄な時間や労力を費やす必要もなくなる。
【０１０３】
＜６．変形例＞
なお、本発明の技術的範囲は、上述した実施の形態に限定されるものではなく、発明の構成要件やその組み合わせによって得られる特定の効果を導き出せる範囲において、種々の変更や改良を加えた形態も含む。
【０１０４】
まず、基板４の形状であるが、円形基板以外であっても良く、例えば矩形基板や多角形基板、更には半円形状の基板であっても良い。
また、トラックにおいても同心円状ではなく、直線のトラックであっても良いし、同心円以外の曲線のトラックであっても良い。
【０１０５】
また、本実施形態においては、複数のトラックを有する磁気記録媒体について述べた。その一方、本発明の思想は、当然、１つのトラックの場合にも適用可能である。なお、本実施形態における「各々のトラック」とは、１つのトラックの場合も含む。
【０１０６】
次に、データパターンについてであるが、本実施形態においては、原盤又はワーキングモールドの凹凸パターン一つ一つが、そのままデータ領域におけるデータパターンに対応する場合について述べた。その一方で、本実施形態の変形例として、凹凸パターン一つ一つはデータパターンにならずとも、複数の凹凸パターンによって初めてデータパターンとなる場合（即ちデータパターンの基礎となるパターン）も挙げられる。
具体的には、ビット状のパターンを形成する場合、４個のビットを１組としてデータパターンとするように、原盤又はワーキングモールドを形成しても良い。つまりこの場合、１個のビットが素パターンとなり、４個のビットによってデータパターンが形成されても良い。
【０１０７】
また、本実施形態においては円形のビットにより形成されたパターンについて述べたが、矩形のビットによりパターンが形成されても良い。
【０１０８】
更に、本実施形態においてはビットにより形成されたパターンについて述べたが、データ部２１及びサーボ部２２におけるパターンは、ビット以外の形状（例えばライン・アンド・スペース即ち線状）のパターンであっても良い。
【０１０９】
更に、ビット形状のパターンと線状パターンとを混合させたデータ部２１やサーボ部２２を形成しても良い。特にサーボ部２２においては、サーボ部２２全体を線状のパターンにより形成しても良いし、サーボ部２２の一部のみ（例えばプリアンブル部２２１のみやその他の部分のみ）をビット状のパターンとしても良い。もちろん、プリアンブル部２２１内でも、ビット形状のパターンと線状パターンとを混合させても良い。
【０１１０】
なお、データ部２１のパターンを線状とする場合のパターン配置であるが、データ転びが発生しないような配置、即ち独立して存在する線状パターンの隣り合う端同士の距離が分解能の自然数倍となる配置とするのが好ましい。
【０１１１】
ただ、エッチングによるパターン形成の際に、オーバーエッチング等により線状パターンが予想よりも大きくなってしまう、又は位置が変動してしまう可能性がある。
一方、その場合であっても、データ転びが発生しない程度に配置が変化していても、本発明の思想を適用しうる。
【０１１２】
例えば図１において、分解能が２ｎｍ、且つｘ＝０ｎｍの地点で検出器がパターン検出を開始するという状況で、ｘ＝２ｎｍ〜６ｎｍの位置まで線状パターンを作製するはずがｘ＝１．９ｎｍ〜４．１ｎｍの位置までの線状パターンを形成する場合について考える。この場合、分解能の自然数倍であるｘ＝２ｎｍ及び４ｎｍの地点にはパターンが存在し、ｘ＝０ｎｍ及び６ｎｍの地点にはパターンが存在しないことから、データの転びは抑制される。その結果、この場合であっても、本発明の思想を適用しうる。
【０１１３】
上記の内容は、本実施形態で述べたビットの略中心についても同様である。即ち、ビット径が４ｎｍ、分解能が２ｎｍ、且つｘ＝０ｎｍの地点から検出器がパターン検出を開始するという状況で、本来ｘ＝６ｎｍの地点にビットの中心を配置しなければならないところ、ビットの中心が５．５ｎｍ＜ｘ＜６．５ｎｍの範囲内の地点に配置されたとしても、データ転びの恐れはある程度抑制できる。そのため、本実施形態における「ビットの略中心」とは、「検出器によって本来認識されるべき地点でビットが認識される程度、ビット
中心に近いビット内の部分」のことである。
【０１１４】
次に、本実施形態だと、同心円状の各トラック内での円周方向において、サーボ部２２においては、プリアンブル部２２１、アドレス部２２２、及びバースト部２２３が、この配置順で構成されている。その一方で、検出器において正常に検出できるのならば、サーボ部２２はこの順番の配置でなくとも良い。
【０１１５】
また、これらの部分のうち、少なくともプリアンブル部２２１の同期信号生成部２２１ａ及び同期信号検出部２２１ｂさえあれば良い。本実施形態においては、この同期信号生成部２２１ａのおかげで、分解能の自然数倍の間隔を空けてパターンを形成できるためである。また、同期信号検出部２２１ｂのおかげで、データパターン２１’の検出を開始するタイミング合わせを行うことができるためである。
【０１１６】
更に、本実施形態においては同期信号生成部２２１ａと同期信号検出部２２１ｂとをひとまとまりにしてプリアンブル部２２１を設けているが、両者を分離してプリアンブル部２２１を形成しても良い。つまり、各トラック内での円周方向において、同期信号生成部２２１ａ→アドレス部２２２→バースト部２２３→同期信号検出部２２１ｂ→データパターン２１’という順番としても良い。
【０１１７】
また、本実施形態で記載したように、同期信号検出部２２１ｂとデータ部２１との間にアドレス部２２２やバースト部２２３を設けても勿論良いし、データパターン２１’の検出を開始するタイミング合わせを行う部分をバースト部２２３が兼ねても良い。
【０１１８】
結局のところ、データパターン２１’の検出を開始するタイミング合わせを行う部分から、データ部２１におけるパターンまでの距離が、その後に用いられる検出器の分解能の自然数倍であれば、データ部２１及びサーボ部２２はどのような配置関係であっても構わない。
【０１１９】
更に言うと、各々のトラックのサーボ部からデータ部に向かう方向において前記サーボ部に最も近いデータパターンそのものを、データパターンの検出を開始するタイミング合わせのパターンとしても良い。つまり、データパターンそのものをタイミング合わせのパターンと設定できるのならば、上記の条件（１）を適用せずとも良い。
【０１２０】
次に、本実施形態においてはポジ型レジストを用いた場合について述べたが、ネガ型レジストを用いても良い。ネガ型レジストを用いた場合は、電子ビームの照射によって露光された部分が、現像後も除去されずに残ることになる。つまり、原盤となる基板上には、ビット状のレジスト層が形成されることとなり、ひいては基板には円柱状のビットが形成されることになる。
【０１２１】
また、最終的に作製される磁気記録媒体の構成（磁性体及び非磁性体）に合わせて、この円柱状のビットが形成された原盤から直接、磁気記録媒体を作製しても良い。また、パターンを一度反転させるためにこの原盤からワーキングモールドを作製し、このワーキングモールドから磁気記録媒体を作製しても良い。
【０１２２】
次に、本実施形態においては、分解能入力手段であるインターフェイス２０に入力された分解能における数値を、露光手段、移動手段、回転手段、回転制御手段へと伝達した。その一方で、上述の２つの条件を満たして基板４上に露光が行えるのならば、これらの内の一部にのみ、分解能における数値を伝達しても良い。例えば、露光手段（特に電子ビーム偏向手段）にのみ分解能における値を伝達し、移動手段、回転手段及び回転制御手段においては一定動作を行わせる、という露光装置も考えられる。この場合、電子ビーム偏向手段のみに分解能を伝達すれば良いので、装置の簡略化を図ることができ、ひいては製造コストの減少をもたらすことができる。
【０１２３】
また、電子ビームの露光の順番であるが、基板４の半径方向において、電子ビーム露光は、基板４の内周側から外周側に向けて行っても良いし、逆に、基板４の外周側から内周
側に向けて行っても良い。つまり、本発明を実施するにあたって、レジスト膜１８の有効領域１９に対する電子ビーム露光の順序は任意に変更可能である。
【０１２４】
また、上記実施の形態においては、移動手段の一例として、回転ステージ１４を搭載した直動ステージ１５を挙げたが、これに限らず、例えば、直線状に凹凸パターンを配する場合等、ｒ−θステージの代わりに、Ｘ−Ｙステージを用いても良い。
【０１２５】
更に、この移動手段は、電子ビーム発生部２及び電子ビーム制御系３を移動させるものであっても良い。すなわち、基板４の一主面上で電子ビームの照射位置を基板４の半径方向と平行な方向に移動させる移動手段としては、基板４側を移動させるものでも良いし、電子ビーム側を移動させるものでも良いし、それら両方を移動させるものでも良い。また、電子ビームの移動は、電子ビームを偏向して行うものでも良い。
【０１２６】
また、上記実施の形態で採用した電子ビーム露光装置及び電子ビーム露光方法は、それぞれ、ＤＴＲ技術に用いられる基板（ディスク原盤、スタンパ原盤など）の製造装置及び製造方法として適用することが可能であり、更に当該製造装置及び製造方法を本発明の一つの態様として抽出することも可能である。
【符号の説明】
【０１２７】
１ 電子ビーム露光装置
２ 電子ビーム発生部
３ 電子ビーム制御系
４ 基板
５ ステージ機構
６ ステージ制御系
７ 電子銃
８ 集束レンズ
９ ブランキング電極
１０ アパーチャ
１１ 対物レンズ
１２ 偏向器
１３ 開口部
１４ 回転ステージ
１５ 直動ステージ
１６ 回転ステージ制御部
１７ 直動ステージ制御部
１８ レジスト膜
１９ レジスト膜の有効領域
２０ インターフェイス
２１ データ部
２１’ データパターン
２２ サーボ部
２２’ サーボパターン
２２１ プリアンブル部
２２１ａ 同期信号生成部
２２１ｂ 同期信号検出部
２２２ アドレス部
２２３ バースト部
【特許請求の範囲】
【請求項１】
データ部とサーボ部とが基板上に形成され、磁気記録媒体又はそれを製造するために用いられるワーキングモールドをインプリントにより製造する際に用いられる原盤において、
前記データ部は、磁気記録媒体において情報の記録を行うためのデータ領域の基となるデータパターンが形成された部分であり、
前記サーボ部は、磁気記録媒体においてデータ領域のトラック位置及び／又はパターン位置を特定するためのサーボ領域の基となるサーボパターンが形成された部分であり、
前記データパターンは以下の条件（１）及び（２）を満たすように前記データ部内に配置されていることを特徴とする原盤。
（１）各々のトラックのサーボ部からデータ部に向かう方向において、データパターンの検出を開始するタイミング合わせの基準となるサーボパターンから、前記サーボ部に最も近いデータパターンまでの距離が、検出器における分解能の自然数倍である。
及び、
（２）各々のトラック内において、前記データ部内のデータパターンから、該データパターンと隣接して形成された別のデータパターンまでの距離が、検出器における分解能の自然数倍である。
但し、前記データパターンは、データパターンそのものに加え、データパターンの基礎となるパターンも含む。そして、前記検出器は、前記磁気記録媒体製造中ないし製造後に用いられる検出器であって、前記磁気記録媒体のサーボ領域におけるサーボ信号及びデータ領域における情報を検出する検出器である。
【請求項２】
前記データパターンはビットにより形成されたことを特徴とする請求項１に記載の原盤。
【請求項３】
複数のトラックが同心円状に形成されるとともに、各々のトラックにおいて少なくとも前記データ部のデータパターンの形態が１ビットごとに径方向及び周方向に分離されていることを特徴とする請求項２に記載の原盤。
【請求項４】
各々のトラック内において、データパターンの検出を開始するタイミング合わせの基準となるサーボパターンから、前記サーボ部に最も近いビットの略中心までの距離が、前記検出器における分解能の自然数倍であり、
各々のトラック内において、周方向で隣り合うビットの中心間距離が、前記検出器における分解能の自然数倍であることを特徴とする請求項３に記載の原盤。
【請求項５】
データ部とサーボ部とが基板上に形成され、磁気記録媒体又はそれを製造するために用いられるワーキングモールドをインプリントにより製造する際に用いられる原盤において、
前記データ部は、磁気記録媒体において情報の記録を行うためのデータ領域の基となるデータパターンが形成された部分であり、
前記サーボ部は、磁気記録媒体においてデータ領域のトラック位置及び／又はパターン位置を特定するためのサーボ領域の基となるサーボパターンが形成された部分であり、
複数のトラックが同心円状に形成されるとともに、各々のトラックにおいて少なくとも前記データ部のデータパターンの形態が平面視円形状の１ビットごとに径方向及び周方向に分離されており、以下の条件（１）及び（２）を満たすように前記データ部内に前記ビットが配置されていることを特徴とする原盤。
（１）各々のトラックのサーボ部からデータ部に向かう方向において、データパターンの検出を開始するタイミング合わせの基準となるサーボパターンから、前記サーボ部に最も近い前記ビットの略中心までの距離が、検出器における分解能の自然数倍である。
及び、
（２）各々のトラック内において、周方向で隣り合うビットの中心間距離が、検出器における分解能の自然数倍である。
但し、前記データパターンは、データパターンそのものに加え、データパターンの基礎となるパターンを含む。そして、前記検出器は、前記磁気記録媒体製造中ないし製造後に用いられる検出器であって、前記磁気記録媒体のサーボ領域におけるサーボ信号及びデータ領域における情報を検出する検出器である。
【請求項６】
請求項１ないし５のいずれかに記載の原盤からインプリントにより製造されたことを特徴とするワーキングモールド。
【請求項７】
磁気記録媒体又はそれを製造するために用いられるワーキングモールドをインプリントにより製造する際に用いられる原盤であって、データ部とサーボ部とを基板上に有する原盤の製造方法において、
前記データ部は、磁気記録媒体において情報の記録を行うためのデータ領域の基となるデータパターンが形成された部分であり、
前記サーボ部は、磁気記録媒体においてデータ領域のトラック位置及び／又はパターン位置を特定するためのサーボ領域の基となるサーボパターンが形成された部分であり、
以下の条件（１）及び（２）を満たすように電子ビームの露光を行うことを特徴とする原盤の製造方法。
（１）各々のトラックのサーボ部からデータ部に向かう方向において、データパターンの検出を開始するタイミング合わせの基準となるサーボパターンから、前記サーボ部に最も近いデータパターンまでの距離が、検出器における分解能の自然数倍とする。
及び、
（２）各々のトラック内において、前記データ部内のデータパターンから、該データパターンと隣接して形成された別のデータパターンまでの距離を、検出器における分解能の自然数倍とする。
但し、前記データパターンは、データパターンそのものに加え、データパターンの基礎となるパターンを含む。そして、前記検出器は、前記磁気記録媒体製造中ないし製造後に用いられる検出器であって、前記磁気記録媒体のサーボ領域におけるサーボ信号及びデータ領域における情報を検出する検出器である。
【請求項８】
請求項７に記載の製造方法により製造された原盤からインプリントによりワーキングモールドを製造することを特徴とするワーキングモールドの製造方法。
【請求項９】
磁気記録媒体又はそれを製造するために用いられるワーキングモールドをインプリントにより製造する際に用いられる原盤を製造するための電子ビーム露光装置において、
前記磁気記録媒体上にて、データ領域のトラック位置及び／又はパターン位置を検出するためのサーボ領域のサーボ信号と、情報の記録を行うためのデータ領域の情報と、を検出するために別途用いられる検出器の分解能を入力する分解能入力手段と、
一主面上に感光膜が形成された基板を保持しつつ、前記基板の主面上における電子ビームの照射位置を当該基板に対して相対的に移動させる移動手段と、
電子ビームを照射して、前記サーボ領域の基となるサーボパターンに対応した形状の露光を前記基板上のサーボ部に行い、且つ、前記データ領域の基となるデータパターンに対応した形状の露光を前記基板上のデータ部に行う露光手段と、
を備え、
以下の条件（１）及び（２）を満たすように電子ビームの露光を行うことを特徴とする電子ビーム露光装置。
（１）各々のトラックのサーボ部からデータ部に向かう方向において、データパターンの検出を開始するタイミング合わせの基準となるサーボパターンから、サーボ部に最も近い
データパターンまでの距離が、前記分解能入力手段に入力された分解能の自然数倍となるように、前記移動手段により前記基板を移動させながら前記露光手段による露光を行う。及び、
（２）各々のトラック内において、データ部内のデータパターンから、該データパターンと隣接して形成された別のデータパターンまでの距離が、前記分解能入力手段に入力された分解能の自然数倍となるように、前記移動手段により前記基板を移動させながら前記露光手段による露光を行う。
但し、前記データパターンは、データパターンそのものに加え、データパターンの基礎となるパターンも含む。
【請求項１０】
前記データパターンはビットであることを特徴とする請求項９に記載の電子ビーム露光装置。
【請求項１１】
一主面上に感光膜が形成された基板を保持しつつ当該基板を回転させる回転手段と、
前記回転手段の駆動を制御する回転制御手段と、
を更に備え、
複数のトラックが同心円状に形成されるとともに、各々のトラックにおいて少なくとも前記データ部のデータパターンの形態が１ビットごとに径方向及び周方向に分離されていることを特徴とする請求項１０に記載の電子ビーム露光装置。
【請求項１２】
前記露光手段から照射される電子ビームを偏向する電子ビーム偏向手段を更に備え、
前記電子ビーム偏向手段により、
各々のトラック内において、データパターンの検出を開始するタイミング合わせの基準となるサーボパターンから、前記データ部内において前記サーボ部に最も近いビットの略中心までの距離が、検出器における分解能の自然数倍となる部分に電子ビームを照射し、且つ、
各々のトラック内において、該ビットの略中心から、該ビットと隣接して形成された別のビットの略中心までの距離が、検出器における分解能の自然数倍となる部分に電子ビームを照射することを特徴とする請求項１０又は１１に記載の電子ビーム露光装置。
【請求項１３】
前記露光手段による電子ビームの照射は、前記移動手段によって線速一定に行うことを特徴とする請求項９ないし１２のいずれかに記載の電子ビーム露光装置。
【請求項１４】
磁気記録媒体又はそれを製造するために用いられるワーキングモールドをインプリントにより製造する際に用いられる原盤を製造するための電子ビーム露光装置において、
一主面上に感光膜が形成された基板を保持しつつ当該基板を回転させる回転手段と、
前記回転手段で保持した基板の主面上で電子ビームの照射位置を当該基板の半径方向と平行な方向に移動させる移動手段と、
前記回転手段の駆動を制御する回転制御手段と、
前記磁気記録媒体上にて、情報の記録を行うためのデータ領域の情報と、データ領域のトラック位置及び／又はパターン位置を検出するためのサーボ領域のサーボ信号とを検出するために別途用いられる検出器の分解能を入力する分解能入力手段と、
電子ビームを照射して、前記サーボ領域の基となるサーボパターンに対応した形状の露光を前記基板上のサーボ部に行い、且つ、前記データ領域の基となるデータパターンに対応したビット形状の露光を前記基板上のデータ部に行う露光手段と、
を備え、
前記回転制御手段によって、前記電子ビームの照射位置における前記基板の線速が一定となる条件で前記基板の回転速度を変化させながら、以下の条件（１）及び（２）を満たすように電子ビームの露光を行うことを特徴とする電子ビーム露光装置。
（１）各々のトラックのサーボ部からデータ部に向かう方向において、データパターンの
検出を開始するタイミング合わせの基準となるサーボパターンからサーボ部に最も近いビットの略中心までの距離が、前記分解能入力手段に入力された分解能の自然数倍となる部分に対し、前記電子ビーム偏向手段により電子ビームが照射されるように、前記回転手段及び前記移動手段により前記基板を移動させながら前記露光手段による露光を行う。
及び、
（２）データ部内において周方向で隣り合うビットの中心間距離が、前記分解能入力手段に入力された分解能の自然数倍となる部分に対し、前記電子ビーム偏向手段により電子ビームが照射されるように、前記回転手段及び前記移動手段により前記基板を移動させながら前記露光手段による露光を行う。
但し、前記データパターンは、データパターンそのものに加え、データパターンの基礎となるパターンも含む。
【請求項１５】
磁気記録媒体又はそれを製造するために用いられるワーキングモールドをインプリントにより製造する際に用いられる原盤を製造するための電子ビーム露光方法において、
前記磁気記録媒体上にて、情報の記録を行うためのデータ領域の情報と、データ領域のトラック位置及び／又はパターン位置を検出するためのサーボ領域のサーボ信号と、を検出するために別途用いられる検出器の分解能を入力する分解能入力工程と、
一主面上に感光膜が形成された基板を保持しつつ、前記基板の主面上における電子ビームの照射位置を当該基板に対して相対的に移動させる移動工程と、
電子ビームを照射して、前記サーボ領域の基となるサーボパターンに対応した形状の露光を前記基板上のサーボ部に行い、且つ、前記データ領域の基となるデータパターンに対応した形状の露光を前記基板上のデータ部に行う露光工程と、
を備え、
以下の条件（１）及び（２）を満たすように電子ビームの露光を行うことを特徴とする電子ビーム露光方法。
（１）各々のトラックのサーボ部からデータ部に向かう方向において、データパターンの検出を開始するタイミング合わせの基準となるサーボパターンから、サーボ部に最も近いデータパターンまでの距離が、前記分解能入力工程にて電子ビーム露光装置に入力された分解能の自然数倍となるように、前記移動工程により前記基板を移動させながら前記露光工程によって露光を行う。
及び、
（２）各々のトラック内において、データ部内のデータパターンから、該データパターンと隣接して形成された別のデータパターンまでの距離が、前記分解能入力工程にて入力された分解能の自然数倍となるように、前記移動工程により前記基板を移動させながら前記露光工程によって露光を行う。
但し、前記データパターンは、データパターンそのものに加え、データパターンの基礎となるパターンも含む。
【請求項１】
データ部とサーボ部とが基板上に形成され、磁気記録媒体又はそれを製造するために用いられるワーキングモールドをインプリントにより製造する際に用いられる原盤において、
前記データ部は、磁気記録媒体において情報の記録を行うためのデータ領域の基となるデータパターンが形成された部分であり、
前記サーボ部は、磁気記録媒体においてデータ領域のトラック位置及び／又はパターン位置を特定するためのサーボ領域の基となるサーボパターンが形成された部分であり、
前記データパターンは以下の条件（１）及び（２）を満たすように前記データ部内に配置されていることを特徴とする原盤。
（１）各々のトラックのサーボ部からデータ部に向かう方向において、データパターンの検出を開始するタイミング合わせの基準となるサーボパターンから、前記サーボ部に最も近いデータパターンまでの距離が、検出器における分解能の自然数倍である。
及び、
（２）各々のトラック内において、前記データ部内のデータパターンから、該データパターンと隣接して形成された別のデータパターンまでの距離が、検出器における分解能の自然数倍である。
但し、前記データパターンは、データパターンそのものに加え、データパターンの基礎となるパターンも含む。そして、前記検出器は、前記磁気記録媒体製造中ないし製造後に用いられる検出器であって、前記磁気記録媒体のサーボ領域におけるサーボ信号及びデータ領域における情報を検出する検出器である。
【請求項２】
前記データパターンはビットにより形成されたことを特徴とする請求項１に記載の原盤。
【請求項３】
複数のトラックが同心円状に形成されるとともに、各々のトラックにおいて少なくとも前記データ部のデータパターンの形態が１ビットごとに径方向及び周方向に分離されていることを特徴とする請求項２に記載の原盤。
【請求項４】
各々のトラック内において、データパターンの検出を開始するタイミング合わせの基準となるサーボパターンから、前記サーボ部に最も近いビットの略中心までの距離が、前記検出器における分解能の自然数倍であり、
各々のトラック内において、周方向で隣り合うビットの中心間距離が、前記検出器における分解能の自然数倍であることを特徴とする請求項３に記載の原盤。
【請求項５】
データ部とサーボ部とが基板上に形成され、磁気記録媒体又はそれを製造するために用いられるワーキングモールドをインプリントにより製造する際に用いられる原盤において、
前記データ部は、磁気記録媒体において情報の記録を行うためのデータ領域の基となるデータパターンが形成された部分であり、
前記サーボ部は、磁気記録媒体においてデータ領域のトラック位置及び／又はパターン位置を特定するためのサーボ領域の基となるサーボパターンが形成された部分であり、
複数のトラックが同心円状に形成されるとともに、各々のトラックにおいて少なくとも前記データ部のデータパターンの形態が平面視円形状の１ビットごとに径方向及び周方向に分離されており、以下の条件（１）及び（２）を満たすように前記データ部内に前記ビットが配置されていることを特徴とする原盤。
（１）各々のトラックのサーボ部からデータ部に向かう方向において、データパターンの検出を開始するタイミング合わせの基準となるサーボパターンから、前記サーボ部に最も近い前記ビットの略中心までの距離が、検出器における分解能の自然数倍である。
及び、
（２）各々のトラック内において、周方向で隣り合うビットの中心間距離が、検出器における分解能の自然数倍である。
但し、前記データパターンは、データパターンそのものに加え、データパターンの基礎となるパターンを含む。そして、前記検出器は、前記磁気記録媒体製造中ないし製造後に用いられる検出器であって、前記磁気記録媒体のサーボ領域におけるサーボ信号及びデータ領域における情報を検出する検出器である。
【請求項６】
請求項１ないし５のいずれかに記載の原盤からインプリントにより製造されたことを特徴とするワーキングモールド。
【請求項７】
磁気記録媒体又はそれを製造するために用いられるワーキングモールドをインプリントにより製造する際に用いられる原盤であって、データ部とサーボ部とを基板上に有する原盤の製造方法において、
前記データ部は、磁気記録媒体において情報の記録を行うためのデータ領域の基となるデータパターンが形成された部分であり、
前記サーボ部は、磁気記録媒体においてデータ領域のトラック位置及び／又はパターン位置を特定するためのサーボ領域の基となるサーボパターンが形成された部分であり、
以下の条件（１）及び（２）を満たすように電子ビームの露光を行うことを特徴とする原盤の製造方法。
（１）各々のトラックのサーボ部からデータ部に向かう方向において、データパターンの検出を開始するタイミング合わせの基準となるサーボパターンから、前記サーボ部に最も近いデータパターンまでの距離が、検出器における分解能の自然数倍とする。
及び、
（２）各々のトラック内において、前記データ部内のデータパターンから、該データパターンと隣接して形成された別のデータパターンまでの距離を、検出器における分解能の自然数倍とする。
但し、前記データパターンは、データパターンそのものに加え、データパターンの基礎となるパターンを含む。そして、前記検出器は、前記磁気記録媒体製造中ないし製造後に用いられる検出器であって、前記磁気記録媒体のサーボ領域におけるサーボ信号及びデータ領域における情報を検出する検出器である。
【請求項８】
請求項７に記載の製造方法により製造された原盤からインプリントによりワーキングモールドを製造することを特徴とするワーキングモールドの製造方法。
【請求項９】
磁気記録媒体又はそれを製造するために用いられるワーキングモールドをインプリントにより製造する際に用いられる原盤を製造するための電子ビーム露光装置において、
前記磁気記録媒体上にて、データ領域のトラック位置及び／又はパターン位置を検出するためのサーボ領域のサーボ信号と、情報の記録を行うためのデータ領域の情報と、を検出するために別途用いられる検出器の分解能を入力する分解能入力手段と、
一主面上に感光膜が形成された基板を保持しつつ、前記基板の主面上における電子ビームの照射位置を当該基板に対して相対的に移動させる移動手段と、
電子ビームを照射して、前記サーボ領域の基となるサーボパターンに対応した形状の露光を前記基板上のサーボ部に行い、且つ、前記データ領域の基となるデータパターンに対応した形状の露光を前記基板上のデータ部に行う露光手段と、
を備え、
以下の条件（１）及び（２）を満たすように電子ビームの露光を行うことを特徴とする電子ビーム露光装置。
（１）各々のトラックのサーボ部からデータ部に向かう方向において、データパターンの検出を開始するタイミング合わせの基準となるサーボパターンから、サーボ部に最も近い
データパターンまでの距離が、前記分解能入力手段に入力された分解能の自然数倍となるように、前記移動手段により前記基板を移動させながら前記露光手段による露光を行う。及び、
（２）各々のトラック内において、データ部内のデータパターンから、該データパターンと隣接して形成された別のデータパターンまでの距離が、前記分解能入力手段に入力された分解能の自然数倍となるように、前記移動手段により前記基板を移動させながら前記露光手段による露光を行う。
但し、前記データパターンは、データパターンそのものに加え、データパターンの基礎となるパターンも含む。
【請求項１０】
前記データパターンはビットであることを特徴とする請求項９に記載の電子ビーム露光装置。
【請求項１１】
一主面上に感光膜が形成された基板を保持しつつ当該基板を回転させる回転手段と、
前記回転手段の駆動を制御する回転制御手段と、
を更に備え、
複数のトラックが同心円状に形成されるとともに、各々のトラックにおいて少なくとも前記データ部のデータパターンの形態が１ビットごとに径方向及び周方向に分離されていることを特徴とする請求項１０に記載の電子ビーム露光装置。
【請求項１２】
前記露光手段から照射される電子ビームを偏向する電子ビーム偏向手段を更に備え、
前記電子ビーム偏向手段により、
各々のトラック内において、データパターンの検出を開始するタイミング合わせの基準となるサーボパターンから、前記データ部内において前記サーボ部に最も近いビットの略中心までの距離が、検出器における分解能の自然数倍となる部分に電子ビームを照射し、且つ、
各々のトラック内において、該ビットの略中心から、該ビットと隣接して形成された別のビットの略中心までの距離が、検出器における分解能の自然数倍となる部分に電子ビームを照射することを特徴とする請求項１０又は１１に記載の電子ビーム露光装置。
【請求項１３】
前記露光手段による電子ビームの照射は、前記移動手段によって線速一定に行うことを特徴とする請求項９ないし１２のいずれかに記載の電子ビーム露光装置。
【請求項１４】
磁気記録媒体又はそれを製造するために用いられるワーキングモールドをインプリントにより製造する際に用いられる原盤を製造するための電子ビーム露光装置において、
一主面上に感光膜が形成された基板を保持しつつ当該基板を回転させる回転手段と、
前記回転手段で保持した基板の主面上で電子ビームの照射位置を当該基板の半径方向と平行な方向に移動させる移動手段と、
前記回転手段の駆動を制御する回転制御手段と、
前記磁気記録媒体上にて、情報の記録を行うためのデータ領域の情報と、データ領域のトラック位置及び／又はパターン位置を検出するためのサーボ領域のサーボ信号とを検出するために別途用いられる検出器の分解能を入力する分解能入力手段と、
電子ビームを照射して、前記サーボ領域の基となるサーボパターンに対応した形状の露光を前記基板上のサーボ部に行い、且つ、前記データ領域の基となるデータパターンに対応したビット形状の露光を前記基板上のデータ部に行う露光手段と、
を備え、
前記回転制御手段によって、前記電子ビームの照射位置における前記基板の線速が一定となる条件で前記基板の回転速度を変化させながら、以下の条件（１）及び（２）を満たすように電子ビームの露光を行うことを特徴とする電子ビーム露光装置。
（１）各々のトラックのサーボ部からデータ部に向かう方向において、データパターンの
検出を開始するタイミング合わせの基準となるサーボパターンからサーボ部に最も近いビットの略中心までの距離が、前記分解能入力手段に入力された分解能の自然数倍となる部分に対し、前記電子ビーム偏向手段により電子ビームが照射されるように、前記回転手段及び前記移動手段により前記基板を移動させながら前記露光手段による露光を行う。
及び、
（２）データ部内において周方向で隣り合うビットの中心間距離が、前記分解能入力手段に入力された分解能の自然数倍となる部分に対し、前記電子ビーム偏向手段により電子ビームが照射されるように、前記回転手段及び前記移動手段により前記基板を移動させながら前記露光手段による露光を行う。
但し、前記データパターンは、データパターンそのものに加え、データパターンの基礎となるパターンも含む。
【請求項１５】
磁気記録媒体又はそれを製造するために用いられるワーキングモールドをインプリントにより製造する際に用いられる原盤を製造するための電子ビーム露光方法において、
前記磁気記録媒体上にて、情報の記録を行うためのデータ領域の情報と、データ領域のトラック位置及び／又はパターン位置を検出するためのサーボ領域のサーボ信号と、を検出するために別途用いられる検出器の分解能を入力する分解能入力工程と、
一主面上に感光膜が形成された基板を保持しつつ、前記基板の主面上における電子ビームの照射位置を当該基板に対して相対的に移動させる移動工程と、
電子ビームを照射して、前記サーボ領域の基となるサーボパターンに対応した形状の露光を前記基板上のサーボ部に行い、且つ、前記データ領域の基となるデータパターンに対応した形状の露光を前記基板上のデータ部に行う露光工程と、
を備え、
以下の条件（１）及び（２）を満たすように電子ビームの露光を行うことを特徴とする電子ビーム露光方法。
（１）各々のトラックのサーボ部からデータ部に向かう方向において、データパターンの検出を開始するタイミング合わせの基準となるサーボパターンから、サーボ部に最も近いデータパターンまでの距離が、前記分解能入力工程にて電子ビーム露光装置に入力された分解能の自然数倍となるように、前記移動工程により前記基板を移動させながら前記露光工程によって露光を行う。
及び、
（２）各々のトラック内において、データ部内のデータパターンから、該データパターンと隣接して形成された別のデータパターンまでの距離が、前記分解能入力工程にて入力された分解能の自然数倍となるように、前記移動工程により前記基板を移動させながら前記露光工程によって露光を行う。
但し、前記データパターンは、データパターンそのものに加え、データパターンの基礎となるパターンも含む。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【公開番号】特開２０１２−９４２２４（Ｐ２０１２−９４２２４Ａ）
【公開日】平成２４年５月１７日（２０１２．５．１７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−２４２７９９（Ｐ２０１０−２４２７９９）
【出願日】平成２２年１０月２８日（２０１０．１０．２８）
【出願人】（０００１１３２６３）ＨＯＹＡ株式会社 (3,820)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年５月１７日（２０１２．５．１７）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年１０月２８日（２０１０．１０．２８）
【出願人】（０００１１３２６３）ＨＯＹＡ株式会社 (3,820)
【Ｆターム（参考）】
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