反射防止フィルム、反射防止性偏光板、及び透過型液晶ディスプレイ
【課題】十分な光学特性と機械特性、防汚性を備えた反射防止フィルムを提供すること、及びそれを用いた反射防止フィルムを提供する。
【解決手段】透明基材１１の一方の面にハードコート層１２と低屈折率層１３を積層した反射防止フィルムである。ハードコート層が、（メタ）アクリロイルオキシ基を有する多官能性モノマーを主成分とする重合体から形成される。低屈折率層が、フッ素ポリマーと、フッ素ポリマー１００重量部に対して低屈折率ナノ微粒子８０〜１００重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してアクリルモノマー３０〜５０重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してフッ素系添加剤０．５〜１．５重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してシリコーン系添加剤０．５〜１．５重量部と、を含有してなる低屈折率コーティング剤から形成される。
【解決手段】透明基材１１の一方の面にハードコート層１２と低屈折率層１３を積層した反射防止フィルムである。ハードコート層が、（メタ）アクリロイルオキシ基を有する多官能性モノマーを主成分とする重合体から形成される。低屈折率層が、フッ素ポリマーと、フッ素ポリマー１００重量部に対して低屈折率ナノ微粒子８０〜１００重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してアクリルモノマー３０〜５０重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してフッ素系添加剤０．５〜１．５重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してシリコーン系添加剤０．５〜１．５重量部と、を含有してなる低屈折率コーティング剤から形成される。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、反射防止性能及び帯電防止性能を備える反射防止フィルムに関する。さらには、ＬＣＤ、ＰＤＰ、ＣＲＴ、プロジェクションディスプレイ、ＥＬディスプレイ等のディスプレイの表示画面に適用される反射防止フィルムに関する。また、その反射防止フィルムを適用した反射防止性偏光板、及び透過型液晶ディスプレイに関する。
【背景技術】
【０００２】
一般にディスプレイは、室内外での使用を問わず、外光などが入射する環境下で使用される。この外光等の入射光は、ディスプレイ表面等において正反射され、それによる反射像が表示画像と混合することにより、画面表示品質を低下させてしまう。そのため、ディスプレイ表面等に反射防止機能を付与することは必須であり、反射防止機能の高性能化、反射防止機能以外の機能の複合化が求められている。
一般に反射防止機能は、透明基材上に金属酸化物等の透明材料からなる高屈折率層と低屈折率層の繰り返し構造による多層構造の反射防止層を形成することで得ている。これらの多層構造からなる反射防止層は、化学蒸着（ＣＶＤ）法や、物理蒸着（ＰＶＤ）法といった乾式成膜法により形成することができる。
【０００３】
乾式成膜法を用いて反射防止層を形成する場合にあっては、低屈折率層、高屈折率層の膜厚を精密に制御できるという利点がある一方、成膜を真空中でおこなうため、生産性が低く、大量生産に適していないという問題を抱えている。一方、反射防止層の形成方法として、大面積化、連続生産が可能である塗液を用いた湿式成膜法による反射防止層の生産が注目されている。
湿式成膜法により反射防止層、特に低屈折率層を設けるにあっては、形成される低屈折率層を低屈折率とするために塗液に低屈折率ナノ微粒子が添加される（特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開2003-292831号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ここで特許文献１に記載の方法では、低屈折ナノ微粒子含有量を増量することで非常に低い屈折率を実現することはできるが、多くの場合、強度不足等により反射防止層が十分な機械特性を得られるに至っていない。
本発明は、十分な光学特性と機械特性、防汚性を備えた反射防止フィルム、及びそれを用いた反射防止性偏光板、及び透過型液晶ディスプレイを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するために、請求項１に記載した発明は、透明基材の一方の面に対し、ハードコート層と低屈折率層とを積層した反射防止フィルムにおいて、
前記ハードコート層は、（メタ）アクリロイルオキシ基を有する多官能性モノマーを主成分とする重合体から形成され、
前記低屈折率層は、低屈折率ナノ微粒子と、フッ素ポリマーと、アクリルモノマーと、フッ素系添加剤と、シリコーン系添加剤とを含有している低屈折率コーティング剤から形成されていることを特徴とする。
ここで、（メタ）アクリロイルオキシ基とは、アクリロイルオキシ基及びメタアクリロイルオキシ基の少なくとも一方を言う。
【０００７】
次に、請求項２に記載した発明は、前記低屈折率層は、フッ素ポリマーと、フッ素ポリマー１００重量部に対し８０重量部より大きく且つ１００重量部未満の低屈折率ナノ微粒子と、フッ素ポリマー１００重量部に対し３０重量より大きく且つ５０重量部未満のアクリルモノマーと、フッ素ポリマー１００重量部に対し０．５重量部より大きく且つ１．５重量部未満のフッ素系添加剤と、フッ素ポリマー１００重量部に対し０．５重量部より大きく且つ１．５重量部未満のシリコーン系添加剤とを含有してなる低屈折率コーティング剤から形成されていることを特徴とする。
【０００８】
次に、請求項３に記載した発明は、前記フッ素ポリマーの平均分子量が１５０００００以下であることを特徴とするものである。
次に、請求項４に記載した発明は、前記アクリルモノマーの平均分子量が１５００以下であることを特徴とするものである。
次に、請求項５に記載した発明は、前記低屈折率コーティング剤の屈折率は、１．３０以上１．４０以下の範囲であり、
低屈折率層の屈折率は、１．３０以上１．４５以下の範囲であることを特徴とする。
【０００９】
次に、請求項６に記載した発明は、平均視感反射率が０．３％以上０．７％以下であり、全光線透過率が９５．０％以上９８．０％以下であり、且つ、ヘイズが０．０１％以上０．２０％以下の範囲内となっている反射防止フィルムであることを特徴とする。
次に、請求項７に記載した発明は、前記低屈折率層は、主溶媒の沸点の−６０℃以上＋２０℃以下の範囲内の乾燥温度で乾燥し、更に積算光量が２００ｍＪ／ｃｍ２以上４００ｍＪ／ｃｍ２以下の範囲内で紫外線照射することで製造されたものであることを特徴とする。
【００１０】
次に、請求項８に記載した発明は、請求項１〜請求項７のいずれか１項に記載の反射防止フィルムと、当該反射防止フィルムにおける低屈折率層を形成していない低屈折率層非形成面側に積層された第１の偏光板とを備えたことを特徴とする反射防止性偏光板を提供するものである。
次に、請求項９に記載の発明は、観察者側から、請求項８に記載の反射防止性偏光板、液晶セル、第２の偏光板、バックライトユニットがこの順に配置され、前記反射防止性偏光板の低屈折率層非形成面側に液晶セルを保持していることを特徴とする透過型液晶ディスプレイを提供するものである。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、十分な光学特性と機械特性、防汚性を維持した反射防止フィルム、及びそれを使用した反射防止性偏光板、及び透過型液晶ディスプレイを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明に基づく実施形態に係る反射防止フィルムの模式断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
次に、本発明の実施形態について図面を参照しつつ説明する。
（低屈折率コーティング剤）
まず本実施形態で使用する低屈折率層に用いられる低屈折率コーティング剤について説明する。
本実施形態の低屈折率コーティング剤は、低屈折率ナノ微粒子と、フッ素ポリマーと、アクリルモノマーと、フッ素系添加剤と、シリコーン系添加剤と、を含有する。
【００１４】
本実施形態の低屈折率コーティング剤に含まれる低屈折率ナノ微粒子としては、ＬｉＦ、ＭｇＦ、３ＮａＦ・ＡｌＦまたはＡｌＦ（いずれも、屈折率１．４）、または、Ｎａ３ＡｌＦ６（氷晶石、屈折率１．３３）、シリカ等の低屈折材料からなる低屈折率粒子を用いることができる。また、粒子内部に空隙を有する粒子を好適に用いることができる。粒子内部に空隙を有する粒子は、空隙の部分を空気の屈折率（≒１）とすることができるため、非常に低い屈折率を備える低屈折率粒子とすることができる。具体的には、粒子内部に空隙を有する粒子として、多孔質シリカ粒子、内部に空隙を有する低屈折率シリカ粒子を用いることができる。
【００１５】
なお、平均粒径にあっては、１ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることが好ましい。粒径が１００ｎｍを超える場合、レイリー散乱によって光が著しく反射され、低屈折率層が白化して反射防止フィルムの透明性が低下する傾向にある。一方、粒径が１ｎｍ未満の場合、粒子の凝集による低屈折率層における粒子の凝集等の問題が生じる。
平均粒径とは、溶液中の粒子を動的光散乱方法で測定し、粒径分布を累積分布で表したときの５０％粒径（ｄ５０ メジアン径）を意味する。
【００１６】
また、内部に空隙を有するシリカ粒子の空隙としては、２０ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることが好ましい。空隙が５０ｎｍを超える場合、十分な耐擦傷性が得ることができずディスプレイ表面に設ける反射防止フィルムに適さなくなってしまうためである。一方、空隙が２０ｎｍ未満の場合、屈折率が１．４５以上となってしまい平均視感反射率が０．７％以上となるためである。
【００１７】
なお、内部に空隙を有するシリカ粒子の一例としては、球状の形状を保持したまま、硝子の屈折率１．４５に比べて低い屈折率１．３０であり、半径２０ｎｍ以上２５ｎｍ以下、密度（ρ１）の球状の構造が中心部分にあり、周囲を厚み１０ｎｍ以上１５ｎｍ以下の異なる密度（ρ２）の層が覆っており、（ρ１／ρ２）の値が０．５、０．１、０．０を示し、シリカ粒子の中心部分は外部のシリカの１／１０程度の密度となるような構造モデルである。
【００１８】
また、本実施形態の低屈折率コーティング剤に用いられるフッ素ポリマーとしては、ポリテトラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン−パーフルオロ（アルキルビニルエーテル）共重合体、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体、エチレン−テトラフルオロエチレン共重合体、ポリフッ化ビニリデン、ポリクロロトリフルオロエチレンなどが挙げられる。
【００１９】
また本実施形態の低屈折率コーティング剤に用いられるアクリルモノマーとしては、２−アクリロイルオキシエチル２−ヒドロキシプロピルフタレ−ト、２−メタクリロイルオキシエチル２−ヒドロキシプロピルフタレ−ト、２−ヒドロキシエチルアクリレ−ト、２−ヒドロキシエチルメタクリレ−ト、ジエチレングリコ−ルモノエチルエ−テルアクリレ−ト、ジエチレングリコ−ルモノエチルエ−テルメタクリレ−ト、イソボルニルアクリレ−ト、イソボルニルメタクリレ−ト、３−メトキシブチルアクリレ−ト、３−メトキシブチルメタクリレ−ト、エチレングリコ−ルジアクリレ−ト、エチレングリコ−ルジメタクリレ−ト、ジエチレングリコ−ルジアクリレ−ト、ジエチレングリコ−ルジメタクリレ−ト、テトラエチレングリコ−ルジアクリレ−ト、テトラエチレングリコ−ルジメタクリレ−ト、ビスフェノキシエタノ−ルフルオレンジアクリレ−ト、ビスフェノキシエタノ−ルフルオレンジメタクリレ−ト、１，６−ヘキサンジオ−ルジアクリレ−ト、１，６−ヘキサンジオ−ルジメタクリレ−ト、１，９−ノナンジオ−ルジアクリレ−ト、１，９−ノナンジオ−ルジメタクリレ−ト、トリメチロ−ルプロパントリアクリレ−ト、トリメチロ−ルプロパントリメタクリレ−ト、ペンタエリスリト−ルトリアクリレ−ト、ペンタエリスリト−ルトリメタクリレ−ト、ペンタエリスリト−ルテトラアクリレ−ト、ペンタエリスリト−ルテトラメタクリレ−ト、ジペンタエリスリト−ルペンタアクリレ−ト、ジペンタエリスリト−ルペンタメタクリレ−ト、ジペンタエリスリト−ルヘキサアクリレ−ト、ジペンタエリスリト−ルヘキサメタクリレ−ト、トリ（２−アクリロイルオキシエチル）ホスフェ−ト、トリ（２−メタクリロイルオキシエチル）ホスフェ−ト等を挙げられる。
【００２０】
本実施形態の低屈折率コーティング剤に用いられるフッ素系添加剤としては、ＣｄＦ２ｄ＋１（ｄは１〜２１の整数）で表されるパーフルオロアルキル基、−（ＣＦ２ＣＦ２）ｇ−（ｇは１〜５０の整数）で表されるパーフルオロアルキレン基、またはＦ−（−ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ−）ｅ−ＣＦ（ＣＦ３）（ここで、ｅは１〜５０の整数）で表されるパーフルオロアルキルエーテル基、ならびに、ＣＦ２＝ＣＦＣＦ２ＣＦ２−、（ＣＦ３）２Ｃ＝Ｃ（Ｃ２Ｆ５）−、および（（ＣＦ３）２ＣＦ）２Ｃ＝Ｃ（ＣＦ３）−等で例示されるパーフルオロアルケニル基を有することが好ましい。
【００２１】
本実施形態の低屈折率コーティング剤に用いられるシリコーン系添加剤としては、ポリジメチルシロキサン、ポリメチルフェニルシロキサン、ポリメチルビニルシロキサンなどのポリアルキル、ポリアルケニル等を挙げることができる。
本実施形態の低屈折率コーティング剤におけるそれぞれの材料の割合は、フッ素ポリマーと、フッ素ポリマー１００重量部に対し８０重量部より大きく且つ１００重量部未満の低屈折率ナノ微粒子と、フッ素ポリマー１００重量部に対し３０重量より大きく且つ５０重量部未満のアクリルモノマーと、フッ素ポリマー１００重量部に対し０．５重量部より大きく且つ１．５重量部未満のフッ素系添加剤と、フッ素ポリマー１００重量部に対し０．５重量部より大きく且つ１．５重量部未満のシリコーン系添加剤となっている。
【００２２】
ここで、フッ素ポリマー添加量１００重量部に対して、低屈折率ナノ微粒子の添加量を８０重量部より大きく１００重量部未満とする理由は、次の通りである。８０重量部以下であると平均視感反射率は０．７％以上となり、また１００重量部以上であると機械特性（耐擦傷性能）が低下し、５００ｇ/cm2荷重で傷が生じてしまうためである。
また、フッ素ポリマー添加量１００重量部に対して、アクリルモノマーの添加量を３０重量部より大きく且つ５０重量部未満とする理由は、次の通りである。３０重量部以下であると機械特性（耐擦傷性能）が低下し、５００ｇ/cm2荷重で傷が生じてしまうためであり、５０重量部以上であると平均視感反射率が０．７％以上になるためである。
【００２３】
また、フッ素ポリマー１００重量部に対して、フッ素系添加剤の添加量を０．５重量部より大きく且つ１．５重量部未満とする理由は、次の通りである。０．５重量部以下であると十分な防汚性が得られなくなるためであり、１．５重量部以上であるとブリードアウトするためである。ブリードアウトとは、添加物がフィルム表面に凝集することである。
また、フッ素ポリマー１００重量部に対して、シリコーン系添加剤の添加量を０．５重量部より大きく且つ１．５重量部未満とする理由は次の通りである。０．５重量部以下であると十分な防汚性が得られなくなるためであり、１．５重量部以上であるとブリードアウトするためである。
【００２４】
また、本実施形態の低屈折率コーティング剤におけるフッ素ポリマーの平均分子量は１５０００００以下とすることが好ましい。これは、平均分子量が１５０００００を超える添加は溶解性が悪くなるため塗料化が困難であるためである。なお、フッ素ポリマーの平均分子量は塗料化できる範囲内で高ければ高いほど好ましく、５０００００以上であることが好ましい。
また、本発明の低屈折率コーティング剤におけるアクリルモノマーの平均分子量は１５００以下とすることが好ましい。これは、平均分子量が１５００を超える添加は溶解性が悪くなるため塗料化が困難であるためである。なお、アクリルモノマーの分子量は１００以上であることが好ましい。
【００２５】
なお、低屈折率コーティング剤には、必要に応じて、溶媒や各種添加剤を加えることができる。溶媒としては、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、シクロヘキシルベンゼンなどの芳香族炭化水素類、ｎ−ヘキサンなどの炭化水素類、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、ジオキサン、ジオキソラン、トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトール等のエーテル類、また、メチルイソブチルケトン、メチルブチルケトン、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキサノン等のケトン類、また蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ｎ−ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酢酸ｎ−ペンチル、およびγ−プチロラクトン等のエステル類、さらには、メチルセロソルブ、セロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ類、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類、水等の中から塗工適正等を考慮して適宜選択される。また、低屈折率コーティング剤には添加剤として、表面調整剤、レベリング剤、屈折率調整剤、密着性向上剤、光増感剤等を加えることもできる。
【００２６】
なお、低屈折率コーティング剤を用いた低屈折率層形成用塗液を塗布した後、紫外線を照射することにより低屈折率層を形成する場合には、低屈折率層形成用塗液に、低屈折率コーティング剤と共に光重合開始剤を加えることができる。光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類等が挙げられる。
【００２７】
（反射防止フィルム）
図１は、本発明に基づく本実施形態の反射防止フィルムの模式断面図である。
本実施形態の反射防止フィルム１は、図１に示すように、透明基材１１の一方の面に対しハードコート層１２と低屈折率層１３を順に備える。
【００２８】
（透明基材）
次に前記透明基材１１について説明する。
透明基材１１としては、種々の有機高分子からなるフィルムまたはシートを用いることができる。例えば、ディスプレイ等の光学部材に通常使用される基材が挙げられ、透明性や光の屈折率等の光学特性、さらには耐衝撃性、耐熱性、耐久性などの諸物性を考慮して、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セロファン等のセルロース系、６−ナイロン、６，６−ナイロン等のポリアミド系、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、エチレンビニルアルコール等の有機高分子からなるものが用いられる。特に、ポリエチレンテレフタレート、トリアセチルセルロース、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレートが好ましい。さらに、これらの有機高分子に公知の添加剤、例えば帯電防止剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、可塑剤、滑剤、着色剤、酸化防止剤、難燃剤等を添加することにより機能を付加させたものも使用できる。また、透明基材は上記の有機高分子から選ばれる１種または２種以上の混合物、または重合体からなるものでもよく、複数の層を積層させたものであってもよい。
【００２９】
中でも、トリアセチルセルロースフィルムは、複屈折が少なく、透明性が良好であることから、本実施形態の反射防止フィルムを液晶ディスプレイに用いるにあっては好適に使用することができる。トリアセチルセルロースフィルムの屈折率は約１．５０であって、他の透明基材と比較して屈折率が低い。例えば、透明基材として広範に用いられるポリエチレンテレフタレートフィルムは、１．６０程度である。
また、本実施形態の反射防止フィルムは、透明基材と低屈折率層との間にハードコート層を備える。ハードコート層を備えることにより、耐擦傷性に優れた反射防止フィルムとすることができる。
【００３０】
（ハードコート層）
次に、前記ハードコート層１２について説明をする。
ハードコート層１２は、（メタ）アクリロイルオキシ基を有する官能性モノマーを主成分とする重合体からなることが好ましい。
（メタ）アクリロイルオキシ基を有する官能性モノマーとしては、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、へキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ペンタエリスリトールトリアクリレート、トルエンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ペンタエリスリトールトリアクリレート、イソホロンジイソシアネートウレタンプレポリマー等を挙げることができる。
【００３１】
なお、ハードコート層１２は、他の機能性材料を含んでいてもかまわない。例えば、ハードコート層に導電性材料を含有させることにより、反射防止フィルムに帯電防止性能を付与することができる。
本実施形態の反射防止フィルム１では、透明基材１１上に対し、（メタ）アクリロイルオキシ基を有する官能性モノマーを含む塗液を塗布し、必要に応じて乾燥をおこない、電離放射線を照射することによりハードコート層１２が形成される。
【００３２】
透明基材１１上に、（メタ）アクリロイルオキシ基を有する官能性モノマーを主成分とする重合体からなるハードコート層１２が形成される。更に、前記ハードコート層１２上に、低屈折率コーティング剤を用いた低屈折率層形成用塗液を塗布した後、乾燥し、電離放射線を照射することにより低屈折率層１３を形成することにより反射防止フィルムが作製することができる。
【００３３】
（低屈折率層）
次に、実施形態の反射防止フィルムにおける低屈折率層１３について説明する。
反射防止フィルムにあっては、低屈折率層単層で構成される単層構造の反射防止層や、低屈折率層と高屈折率層の繰り返し構造からなる積層構造の反射防止層を形成することが知られている。本実施形態の反射防止フィルム１にあっては、反射防止層が、バインダマトリックス中に低屈折率粒子を含む低屈折率層単層構造であることが好ましい。
【００３４】
前記反射防止層を形成する方法としては、反射防止層形成用塗液を防眩層表面に塗布し反射防止層を形成する湿式成膜法による方法と、真空蒸着法やスパッタリング法やＣＶＤ法といった真空中で反射防止層を形成する真空成膜法による方法に分けられる。
低屈折率層と高屈折率層の繰り返し構造からなる積層構造の反射防止層を形成する場合、形成する高屈折率層、低屈折率層の膜厚を精密に制御する必要があり、真空成膜法により形成する必要がある。本実施形態の反射防止フィルムにあっては、低屈折率粒子とバインダマトリックスを含む低屈折率塗液を用い、湿式成膜法により反射防止フィルムを形成することにより、反射防止フィルムを製造することができる。
【００３５】
このとき、低屈折率層単層は、その膜厚（ｄ）に低屈折率層の屈折率（ｎ）をかけることによって得られる光学膜厚（ｎｄ）が可視光の波長の１／４と等しくなるように設形成される。
低屈折率コーティング剤を用いた低屈折率層形成用塗液を、ハードコート層が形成された透明基材上に塗布するための塗工方法としては、ロールコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、ナイフコーター、バーコーター、ダイコーターを用いた塗工方法を使用できる。
【００３６】
低屈折率層形成用塗液がハードコート層上に塗布された後、ハードコート層上の塗膜中の溶媒を除去するために乾燥工程が設けられる。本実施形態の反射防止フィルムの製造方法としては、乾燥工程における塗膜の乾燥温度が、主溶媒の沸点−６０℃以上主溶媒の沸点＋２０℃以下の範囲内であることが好ましい。
なお、本実施形態において主溶媒の沸点とは低屈折率層形成用塗液に含まれる溶媒が１種類のときはその溶媒の沸点である。低屈折率層形成用塗液に含まれる溶媒が２種類以上のときは、主溶媒の沸点は重量割合がもっとも大きい溶媒の沸点である。また、低屈折率層形成用塗液に含まれる溶媒が２種類以上であって、重量割合がもっとも大きい溶媒が２種類以上あるときは、重量割合がもっとも大きい溶媒のうち沸点の高いほうの溶媒を主溶媒の沸点とする。
【００３７】
乾燥温度が低屈折率層の形成用塗液に用いられる主溶媒の沸点−６０℃を下回る場合には、溶媒の乾燥が不十分であり低屈折率層に含まれるシリコーン材料成分がフィルム上に残ってしまい、低屈折率層の防汚性と耐擦傷性が低下してしまう。一方、乾燥温度が低屈折率層の形成用塗液に用いられる主溶媒の沸点＋２０℃を上回る場合には、製造コストが高くなり、また熱によって反射防止フィルムに熱シワと呼ばれるシワが発生してしまう場合がある。
【００３８】
低屈折率コーティング剤を用いた低屈折率層形成用塗液を、ハードコート層１２が形成された透明基材１１上に塗布することにより得られる塗膜に対し、電離放射線を照射することにより、低屈折率層１３が形成される。電離放射線としては、紫外線、電子線を用いることができる。紫外線硬化の場合は、高圧水銀灯、低圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、カーボンアーク、キセノンアーク等の光源が利用できる。また、電子線硬化の場合はコックロフトワルト型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される電子線が利用できる。
【００３９】
本実施形態に係る反射防止フィルムの製造方法は、紫外線照射工程において、照射される紫外線の積算光量を２００ｍＪ／ｃｍ２以上４００ｍＪ／ｃｍ２以下の範囲内とすることが好ましい。照射される紫外線の積算光量が２００ｍＪ／ｃｍ２未満の場合は、硬化が不十分であり、低屈折率層の耐擦傷性が低下してしまう。一方、照射される紫外線の積算光量が４００ｍＪ／ｃｍ２を超える場合であっては、製造コストが高くなってしまう。
【００４０】
本実施形態の反射防止フィルムは、低屈折率層１３の表面での平均視感反射率が０．３％以上から０．７％以下であることが好ましい。低屈折率層１３の表面の平均視感反射率は低いほど、優れた反射防止機能を備える。
低屈折率層１３の表面での平均視感反射率が０．７％を超える場合にあっては、十分な反射防止機能を備える反射防止フィルムとすることができなくなってしまう。一方、低屈折率層１３の表面での平均視感反射率を０．３％未満の反射防止フィルムを低屈折率層単層で実現することは困難である。
【００４１】
本実施形態の反射防止フィルム１の分光反射率は、反射防止フィルムの低屈折率層１３と反対側の面を黒色塗料で艶消し処理した後におこなわれ、低屈折率層１３の表面に対しての垂直方向から入射角度は５度に設定され、光源としてＣ光源を用い、２度視野の条件下で求められる。平均視感反射率は、可視光の各波長の反射率を比視感度により校正し、平均した反射率の値である。このとき、比視感度は明所視標準比視感度が用いられる。
【００４２】
本実施形態の反射防止フィルムのヘイズを０．２％以下とすることにより、明所コントラストの高い反射防止フィルムとすることができる。ヘイズが０．２％を超える場合には、散乱による透過損失によって暗所での黒表示させた際の光モレを見かけ上抑制することが可能となるが、明所での黒表示の際に散乱によって黒表示が白ボケしてコントラストが低下してしまう。
【００４３】
反射防止フィルムの全光線透過率を９５．０％以上９８．０％以下とすることにより、コントラストを良好なものとすることができる。反射防止フィルムの全光線透過率が９５．０％に満たない場合にあっては、白表示した際の白輝度が低下し、コントラストが低下してしまう。一方、裏面反射等を考慮すると全光線透過率９８．０％を超える反射防止フィルムを作製することは実質的に困難であり、本発明の反射防止フィルムにあっては全光線透過率９８．０％以下であることを特徴とする。
【００４４】
なお、本実施形態の反射防止フィルムは、必要に応じて、帯電防止性能、電磁波シールド性能、赤外線吸収性能、紫外線吸収性能、色補正性能等を有する機能層が設けられていてもよい。これらの機能層としては、帯電防止層、電磁波遮蔽層、赤外線吸収層、紫外線吸収層、色補正層等が挙げられる。また、本発明にあっては、各種層間の接着性向上のために、各層間にプライマー層や接着層等を設けても良い。
【００４５】
（ディスプレイ及び偏光板）
本実施形態の反射防止フィルム１は、ディスプレイ表面に好適に用いることができる。ディスプレイとしてはＬＣＤ、ＰＤＰ、ＣＲＴ、プロジェクションディスプレイ、ＥＬディスプレイ等を挙げることができる。また、ディスプレイ内部に用いることもできる。以下に本実施形態の反射防止フィルム１を液晶ディスプレイの部材としての偏光板に用いる場合について説明する。
本実施形態の偏光板は、透明基材１１におけるハードコート層形成面と反対側の面に、偏光層と透明基材を順に備える。本実施形態の偏光板は、偏光層が２枚の透明基材で狭持された構造をとる。
【００４６】
また、透過型液晶ディスプレイにおいては、バックライトユニット、偏光板、液晶セル、偏光板、反射防止フィルム１をこの順に備えている。このとき、反射防止フィルム１の反射防止層形成面側が観察側すなわちディスプレイ表面となる。
前記バックライトユニットは、光源と光拡散板を備える。液晶セルは、一方の透明基材に電極が設けられ、もう一方の透明基材に電極及びカラーフィルターを備えており、両電極間に液晶が封入された構造となっている。液晶セルを挟むように設けられる偏光板にあっては、透明基材間に偏光層を挟持した構造となっている。
【００４７】
また、本実施形態の透過型液晶ディスプレイにあっては、他の機能性部材を備えても良い。他の機能性部材としては、例えば、バックライトから発せられる光を有効に使うための、拡散フィルム、プリズムシート、輝度向上フィルムや、液晶セルや偏光板の位相差を補償するための位相差フィルムが挙げられるが、本発明の透過型液晶ディスプレイはこれらに限定されるものではない。なお、これらは公知のものを使用できる。
【実施例】
【００４８】
以下に、本発明に基づく実施形態を採用した実施例により、さらに具体的に説明する。ただし、本発明はこれら実施例により限定されるものではない。
以下の（調整例１）〜（調整例１３）の低屈折率コーティング剤を調整した後、それぞれの低屈折率層形成用塗液１〜１３を作製し、（実施例１）〜（実施例１２）、(比較例１)の反射防止フィルムを作製した。
【００４９】
＜調整例１＞
（低屈折率コーティング剤１）
フッ素ポリマー（分子量１００００００）と、フッ素ポリマー１００重量部に対して低屈折率ナノ微粒子８０重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してアクリルモノマー（分子量１０００）４０重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してフッ素系添加剤１重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してシリコーン系添加剤１重量部になるよう組み合わせて調液し、ＭＩＢＫ：ｔ−ＢｕＯＨ：シクロヘキサノン＝２０：５５：２５を加え、３．５ｗｔ％の低屈折率層形成用塗液１を作製した。なお、ＭＩＢＫ（メチルイソブチルケトン）の沸点は１１５℃であり、ｔ−ＢｕＯＨ（ｔ−ブタノール）の沸点は１４２℃であり、シクロヘキサノンの沸点は１５６℃である。
【００５０】
＜調整例２＞
（低屈折率コーティング剤２）
フッ素ポリマー（分子量１００００００）と、フッ素ポリマー１００重量部に対して低屈折率ナノ微粒子９０重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してアクリルモノマー（分子量１０００）４０重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してフッ素系添加剤１重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してシリコーン系添加剤１重量部になるよう組み合わせて調液し、ＭＩＢＫ：ｔ−ＢｕＯＨ：シクロヘキサノン＝２０：５５：２５を加え、３．５ｗｔ％の低屈折率層形成用塗液２を作製した。
【００５１】
＜調整例３＞
（低屈折率コーティング剤３）
フッ素ポリマー（分子量１００００００）と、フッ素ポリマー１００重量部に対して低屈折率ナノ微粒子１００重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してアクリルモノマー（分子量１０００）４０重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してフッ素系添加剤１重量部と、（フッ素ポリマー１００重量部に対してシリコーン系添加剤１重量部になるよう組み合わせて調液し、ＭＩＢＫ：ｔ−ＢｕＯＨ：シクロヘキサノン＝２０：５５：２５を加え、３．５ｗｔ％の低屈折率層形成用塗液３を作製した。
【００５２】
＜調整例４＞
（低屈折率コーティング剤４）
フッ素ポリマー（分子量１００００００）と、フッ素ポリマー１００重量部に対して低屈折率ナノ微粒子９０重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してアクリルモノマー（分子量１０００）３０重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してフッ素系添加剤１重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してシリコーン系添加剤１重量部になるよう組み合わせて調液し、ＭＩＢＫ：ｔ−ＢｕＯＨ：シクロヘキサノン＝２０：５５：２５を加え、３．５ｗｔ％の低屈折率層形成用塗液４を作製した。
【００５３】
＜調整例５＞
（低屈折率コーティング剤５）
フッ素ポリマー（分子量１００００００）と、フッ素ポリマー１００重量部に対して低屈折率ナノ微粒子９０重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してアクリルモノマー（分子量１０００）５０重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してフッ素系添加剤１重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してシリコーン系添加剤１重量部になるよう組み合わせて調液し、ＭＩＢＫ：ｔ−ＢｕＯＨ：シクロヘキサノン＝２０：５５：２５を加え、３．５ｗｔ％の低屈折率層形成用塗液５を作製した。
【００５４】
＜調整例６＞
（低屈折率コーティング剤６）
フッ素ポリマー（分子量１００００００）と、フッ素ポリマー１００重量部に対して低屈折率ナノ微粒子９０重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してアクリルモノマー（分子量１０００）４０重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してフッ素系添加剤０．５重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してシリコーン系添加剤１重量部になるよう組み合わせて調液し、ＭＩＢＫ：ｔ−ＢｕＯＨ：シクロヘキサノン＝２０：５５：２５を加え、３．５ｗｔ％の低屈折率層形成用塗液６を作製した。
【００５５】
＜調整例７＞
（低屈折率コーティング剤７）
フッ素ポリマー（分子量１００００００）と、フッ素ポリマー１００重量部に対して低屈折率ナノ微粒子９０重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してアクリルモノマー（分子量１０００）４０重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してフッ素系添加剤１．５重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してシリコーン系添加剤１重量部になるよう組み合わせて調液し、ＭＩＢＫ：ｔ−ＢｕＯＨ：シクロヘキサノン＝２０：５５：２５を加え、３．５ｗｔ％の低屈折率層形成用塗液７を作製した。
【００５６】
＜調整例８＞
（低屈折率コーティング剤８）
フッ素ポリマー（分子量１００００００）と、フッ素ポリマー１００重量部に対して低屈折率ナノ微粒子９０重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してアクリルモノマー（分子量１０００）４０重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してフッ素系添加剤１重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してシリコーン系添加剤０．５重量部になるよう組み合わせて調液し、ＭＩＢＫ：ｔ−ＢｕＯＨ：シクロヘキサノン＝２０：５５：２５を加え、３．５ｗｔ％の低屈折率層形成用塗液８を作製した。
【００５７】
＜調整例９＞
（低屈折率コーティング剤９）
フッ素ポリマー（分子量１００００００）と、フッ素ポリマー１００重量部に対して低屈折率ナノ微粒子９０重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してアクリルモノマー（分子量１０００）４０重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してフッ素系添加剤１重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してシリコーン系添加剤１．５重量部になるよう組み合わせて調液し、ＭＩＢＫ：ｔ−ＢｕＯＨ：シクロヘキサノン＝２０：５５：２５を加え、３．５ｗｔ％の低屈折率層形成用塗液９を作製した。
【００５８】
＜調整例１０＞
（低屈折率コーティング剤１０）
フッ素ポリマー（分子量２００００００）と、フッ素ポリマー１００重量部に対して低屈折率ナノ微粒子９０重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してアクリルモノマー（分子量１０００）４０重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してフッ素系添加剤１重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してシリコーン系添加剤１．５重量部になるよう組み合わせて調液し、ＭＩＢＫ：ｔ−ＢｕＯＨ：シクロヘキサノン＝２０：５５：２５を加え、３．５ｗｔ％の低屈折率層形成用塗液１０を作製した。
【００５９】
＜調整例１１＞
（低屈折率コーティング剤１１）
フッ素ポリマー（分子量１００００００）と、フッ素ポリマー１００重量部に対して低屈折率ナノ微粒子９０重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してアクリルモノマー（分子量２０００）４０重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してフッ素系添加剤１重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してシリコーン系添加剤１．５重量部になるよう組み合わせて調液し、ＭＩＢＫ：ｔ−ＢｕＯＨ：シクロヘキサノン＝２０：５５：２５を加え、３．５ｗｔ％の低屈折率層形成用塗液１１を作製した。
【００６０】
＜調整例１２＞
（低屈折率コーティング剤１２）
フッ素ポリマー（分子量２００００００）と、フッ素ポリマー１００重量部に対して低屈折率ナノ微粒子９０重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してアクリルモノマー（分子量２０００）４０重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してフッ素系添加剤１重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してシリコーン系添加剤１．５重量部になるよう組み合わせて調液し、ＭＩＢＫ：ｔ−ＢｕＯＨ：シクロヘキサノン＝２０：５５：２５を加え、３．５ｗｔ％の低屈折率層形成用塗液１２を作製した。
【００６１】
＜比較例１＞
（低屈折率コーティング剤１３）
フッ素ポリマー１００重量部に対して低屈折率ナノ微粒子９０重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してアクリルモノマー（分子量１０００）４０重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してフッ素系添加剤１重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してシリコーン系添加剤１重量部になるよう組み合わせて調液し、ＭＩＢＫ：ｔ−ＢｕＯＨ：シクロヘキサノン＝２０：５５：２５を加え、３．５ｗｔ％の低屈折率層形成用塗液１３を作製した。
【００６２】
（低屈折率層の形成）
（メタ）アクリロイルオキシ基を有する多官能性モノマーを硬化させたハードコート層を備えるトリアセチルセルロースフィルム（富士フィルム製：膜厚８０μｍ）上に、前記（低屈折率コーティング剤１）〜（低屈折率コーティング剤１３）で作製した低屈折率層形成用塗液をそれぞれ塗布し、８０℃・４０秒オーブンで乾燥し、膜厚が１００ｎｍとなるように塗布した。乾燥後、窒素パージ下で紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３８０ｍＪ／ｍ２で紫外線照射をおこなって硬化させて低屈折率層を形成し、下記表１及び表２中に示す（実施例１）〜（実施例１２）、及び(比較例１)の反射防止フィルムを作製した。
【００６３】
前記の（実施例１）〜（実施例１２）、(比較例１)で得られた反射防止フィルムについて、以下の方法で評価をおこなった。
（１）光学特性
「分光反射率・平均視感反射率」
得られた反射防止フィルムの低屈折率層表面について、自動分光光度計（日立製作所社製、Ｕ−４０００）を用い、入射角５°における分光反射率を測定した。また、得られた分光反射率曲線から平均視感反射率を求めた。なお、測定の際には透明基材であるトリアセチルセルロースフィルムのうち低屈折率層の形成されていない面につや消し黒色塗料を塗布し、反射防止の処置をおこなった。
「ヘイズ値および全光線透過率」
得られた反射防止フィルムについて、写像性測定器［日本電色工業社製、ＮＤＨ−２０００］を使用してヘイズ値、及び全光線透過率を測定した。
【００６４】
（２）防汚性
「接触角測定」
接触角計〔ＣＡ−Ｘ型：協和界面科学社製〕を用いて、０．９μｌの液滴を針先に作り、これを基材（固体）の表面に接触させて液滴を作った。接触角とは、固体と液体が接する点における液体表面に対する接線と固体表面がなす角で、液体を含む方の角度で定義した。液体には、蒸留水を使用した。
【００６５】
「油性ペン（マッキー、マジック）の拭取り性」
基材表面に付着した油性ペンをティッシュペーパー〔エリエール社製〕で拭き取り、その取れ易さを目視評価した。判定基準を以下に示す。
○：油性ペンを容易に拭き取ることが出来る。
△：油性ペンを拭き取れる。
×：油性ペンを拭き取ることが出来ない
【００６６】
（３）機械特性
「耐擦傷性試験」
基材表面をスチールウール〔ボンスター＃００００：日本スチールウール社製〕により２００ｇ／ｃｍ２、３００ｇ／ｃｍ２、４００ｇ／ｃｍ２、５００ｇ／ｃｍ２でそれぞれ１０回擦り、傷の有無を目視評価した（スチールウール試験）。
判定基準を以下に示す。
○：傷なし
×：傷あり
【００６７】
（４）ブリードアウト
塗工表面をティッシュペーパー〔エリエール社製〕で拭取り、拭取ることができるかを目視評価した。
判定基準を以下に示す。
○：ブリードなし（拭取れない）
×：ブリードあり（拭取れる）
結果を表１及び表２に示す。
【００６８】
【表１】
【００６９】
【表２】
【００７０】
表１から分かるように、（実施例２）で反射率が低く、機械特性、防汚性の優れた低屈折率層を得ることができた。
フッ素ポリマー１００重量部に対して、低屈折率ナノ微粒子の添加量が８０重量部であると平均視感反射率は０．７％以上となってしまう。また低屈折率ナノ微粒子添加量が１００重量部であると耐擦傷性試験において４００ｇ／ｃｍ２荷重で傷が生じてしまう。低屈折率ナノ微粒子添加量に関して反射率と機械特性はトレードオフの関係にある。このことから十分な光学特性と機械特性を備えた反射防止フィルムを作成するためには、フッ素ポリマー１００重量部に対して低屈折率ナノ微粒子添加量が８０重量部より大きく且つ１００重量部未満である必要であることがわかる。
【００７１】
また、フッ素ポリマー１００重量部に対して、アクリルモノマーの添加量が３０重量部であると耐擦傷性試験において４００ｇ／ｃｍ２荷重で傷が生じてしまう。また低屈折率ナノ微粒子添加量が５０重量部であると平均視感反射率は０．７％以上となってしまう。アクリルモノマーの添加量に関して反射率と機械特性はトレードオフの関係にある。このことから十分な光学特性と機械特性を備えた反射防止フィルムを作成するためには、フッ素ポリマー１００重量部に対してアクリルモノマーの添加量が３０重量部より大きく且つ５０重量部未満である必要であることがわかる。
【００７２】
また、フッ素ポリマー１００重量部に対して、フッ素系添加剤の添加量が０．５重量部であると十分な防汚性が発現しない。またフッ素系添加剤が１．５重量部であるとブリードが生じてしまう。シリコーン系添加剤添加量に関して防汚性とブリードはトレードオフの関係にある。このことから十分な防汚性を備えたブリードが発生しない反射防止フィルムを作成するためには、フッ素ポリマー１００重量部に対してフッ素系添加剤の添加量が０．５重量部より大きく且つ１．５重量部未満である必要であることがわかる。
【００７３】
同様にフッ素ポリマー１００重量部に対して、シリコーン系添加剤の添加量が０．５重量部であると十分な防汚性が発現しない。またシリコーン系添加剤が１．５重量部であるとブリードが生じてしまう。シリコーン系材料添加量に関して防汚性とブリードはトレードオフの関係にある。このことから十分な防汚性を備えたブリードが発生しない反射防止フィルムを作成するためには、フッ素ポリマー１００重量部に対してシリコーン系添加剤の添加量が０．５重量部より大きく且つ１．５重量部未満である必要であることがわかる。
また表２から分かるように、フッ素ポリマーの平均分子量が１００００００を超える添加は溶解性が悪くなるため塗料化は困難である。また、アクリルモノマーの平均分子量が１０００を超える添加も溶剤溶解性が悪くなるため塗料化は困難である。
【００７４】
以上のように、本発明の反射防止フィルムは、低屈折率層に、フッ素ポリマーと、フッ素ポリマー１００重量部に対し８０重量部より大きく且つ１００重量部未満の低屈折率ナノ微粒子と、フッ素ポリマー１００重量部に対し３０重量より大きく且つ５０重量部未満のアクリルモノマーと、フッ素ポリマー１００重量部に対し０．５重量部より大きく且つ１．５重量部未満のフッ素系添加剤と、フッ素ポリマー１００重量部に対し０．５重量部より大きく且つ１．５重量部未満のシリコーン系添加剤とを添加し、主溶媒の沸点の−６０℃以上前記主溶媒の沸点の＋２０℃以下の範囲内の乾燥温度で乾燥し、積算光量が２００ｍＪ／ｃｍ２以上４００ｍＪ／ｃｍ２以下の範囲内で紫外線を照射することにより形成する結果、平均視感反射率０．７％以下という低屈折率光学特性と優れた防汚性、優れた機械強度とを兼備した反射防止フィルムを形成できるものである。すなわち、本発明の反射防止フィルムはディスプレイなどの最外層に配置されることに優れたものである。
【符号の説明】
【００７５】
１ 反射防止フィルム
１１ 透明基材
１２ ハードコート層
１３ 低屈折率層
【技術分野】
【０００１】
本発明は、反射防止性能及び帯電防止性能を備える反射防止フィルムに関する。さらには、ＬＣＤ、ＰＤＰ、ＣＲＴ、プロジェクションディスプレイ、ＥＬディスプレイ等のディスプレイの表示画面に適用される反射防止フィルムに関する。また、その反射防止フィルムを適用した反射防止性偏光板、及び透過型液晶ディスプレイに関する。
【背景技術】
【０００２】
一般にディスプレイは、室内外での使用を問わず、外光などが入射する環境下で使用される。この外光等の入射光は、ディスプレイ表面等において正反射され、それによる反射像が表示画像と混合することにより、画面表示品質を低下させてしまう。そのため、ディスプレイ表面等に反射防止機能を付与することは必須であり、反射防止機能の高性能化、反射防止機能以外の機能の複合化が求められている。
一般に反射防止機能は、透明基材上に金属酸化物等の透明材料からなる高屈折率層と低屈折率層の繰り返し構造による多層構造の反射防止層を形成することで得ている。これらの多層構造からなる反射防止層は、化学蒸着（ＣＶＤ）法や、物理蒸着（ＰＶＤ）法といった乾式成膜法により形成することができる。
【０００３】
乾式成膜法を用いて反射防止層を形成する場合にあっては、低屈折率層、高屈折率層の膜厚を精密に制御できるという利点がある一方、成膜を真空中でおこなうため、生産性が低く、大量生産に適していないという問題を抱えている。一方、反射防止層の形成方法として、大面積化、連続生産が可能である塗液を用いた湿式成膜法による反射防止層の生産が注目されている。
湿式成膜法により反射防止層、特に低屈折率層を設けるにあっては、形成される低屈折率層を低屈折率とするために塗液に低屈折率ナノ微粒子が添加される（特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開2003-292831号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ここで特許文献１に記載の方法では、低屈折ナノ微粒子含有量を増量することで非常に低い屈折率を実現することはできるが、多くの場合、強度不足等により反射防止層が十分な機械特性を得られるに至っていない。
本発明は、十分な光学特性と機械特性、防汚性を備えた反射防止フィルム、及びそれを用いた反射防止性偏光板、及び透過型液晶ディスプレイを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するために、請求項１に記載した発明は、透明基材の一方の面に対し、ハードコート層と低屈折率層とを積層した反射防止フィルムにおいて、
前記ハードコート層は、（メタ）アクリロイルオキシ基を有する多官能性モノマーを主成分とする重合体から形成され、
前記低屈折率層は、低屈折率ナノ微粒子と、フッ素ポリマーと、アクリルモノマーと、フッ素系添加剤と、シリコーン系添加剤とを含有している低屈折率コーティング剤から形成されていることを特徴とする。
ここで、（メタ）アクリロイルオキシ基とは、アクリロイルオキシ基及びメタアクリロイルオキシ基の少なくとも一方を言う。
【０００７】
次に、請求項２に記載した発明は、前記低屈折率層は、フッ素ポリマーと、フッ素ポリマー１００重量部に対し８０重量部より大きく且つ１００重量部未満の低屈折率ナノ微粒子と、フッ素ポリマー１００重量部に対し３０重量より大きく且つ５０重量部未満のアクリルモノマーと、フッ素ポリマー１００重量部に対し０．５重量部より大きく且つ１．５重量部未満のフッ素系添加剤と、フッ素ポリマー１００重量部に対し０．５重量部より大きく且つ１．５重量部未満のシリコーン系添加剤とを含有してなる低屈折率コーティング剤から形成されていることを特徴とする。
【０００８】
次に、請求項３に記載した発明は、前記フッ素ポリマーの平均分子量が１５０００００以下であることを特徴とするものである。
次に、請求項４に記載した発明は、前記アクリルモノマーの平均分子量が１５００以下であることを特徴とするものである。
次に、請求項５に記載した発明は、前記低屈折率コーティング剤の屈折率は、１．３０以上１．４０以下の範囲であり、
低屈折率層の屈折率は、１．３０以上１．４５以下の範囲であることを特徴とする。
【０００９】
次に、請求項６に記載した発明は、平均視感反射率が０．３％以上０．７％以下であり、全光線透過率が９５．０％以上９８．０％以下であり、且つ、ヘイズが０．０１％以上０．２０％以下の範囲内となっている反射防止フィルムであることを特徴とする。
次に、請求項７に記載した発明は、前記低屈折率層は、主溶媒の沸点の−６０℃以上＋２０℃以下の範囲内の乾燥温度で乾燥し、更に積算光量が２００ｍＪ／ｃｍ２以上４００ｍＪ／ｃｍ２以下の範囲内で紫外線照射することで製造されたものであることを特徴とする。
【００１０】
次に、請求項８に記載した発明は、請求項１〜請求項７のいずれか１項に記載の反射防止フィルムと、当該反射防止フィルムにおける低屈折率層を形成していない低屈折率層非形成面側に積層された第１の偏光板とを備えたことを特徴とする反射防止性偏光板を提供するものである。
次に、請求項９に記載の発明は、観察者側から、請求項８に記載の反射防止性偏光板、液晶セル、第２の偏光板、バックライトユニットがこの順に配置され、前記反射防止性偏光板の低屈折率層非形成面側に液晶セルを保持していることを特徴とする透過型液晶ディスプレイを提供するものである。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、十分な光学特性と機械特性、防汚性を維持した反射防止フィルム、及びそれを使用した反射防止性偏光板、及び透過型液晶ディスプレイを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明に基づく実施形態に係る反射防止フィルムの模式断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
次に、本発明の実施形態について図面を参照しつつ説明する。
（低屈折率コーティング剤）
まず本実施形態で使用する低屈折率層に用いられる低屈折率コーティング剤について説明する。
本実施形態の低屈折率コーティング剤は、低屈折率ナノ微粒子と、フッ素ポリマーと、アクリルモノマーと、フッ素系添加剤と、シリコーン系添加剤と、を含有する。
【００１４】
本実施形態の低屈折率コーティング剤に含まれる低屈折率ナノ微粒子としては、ＬｉＦ、ＭｇＦ、３ＮａＦ・ＡｌＦまたはＡｌＦ（いずれも、屈折率１．４）、または、Ｎａ３ＡｌＦ６（氷晶石、屈折率１．３３）、シリカ等の低屈折材料からなる低屈折率粒子を用いることができる。また、粒子内部に空隙を有する粒子を好適に用いることができる。粒子内部に空隙を有する粒子は、空隙の部分を空気の屈折率（≒１）とすることができるため、非常に低い屈折率を備える低屈折率粒子とすることができる。具体的には、粒子内部に空隙を有する粒子として、多孔質シリカ粒子、内部に空隙を有する低屈折率シリカ粒子を用いることができる。
【００１５】
なお、平均粒径にあっては、１ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることが好ましい。粒径が１００ｎｍを超える場合、レイリー散乱によって光が著しく反射され、低屈折率層が白化して反射防止フィルムの透明性が低下する傾向にある。一方、粒径が１ｎｍ未満の場合、粒子の凝集による低屈折率層における粒子の凝集等の問題が生じる。
平均粒径とは、溶液中の粒子を動的光散乱方法で測定し、粒径分布を累積分布で表したときの５０％粒径（ｄ５０ メジアン径）を意味する。
【００１６】
また、内部に空隙を有するシリカ粒子の空隙としては、２０ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることが好ましい。空隙が５０ｎｍを超える場合、十分な耐擦傷性が得ることができずディスプレイ表面に設ける反射防止フィルムに適さなくなってしまうためである。一方、空隙が２０ｎｍ未満の場合、屈折率が１．４５以上となってしまい平均視感反射率が０．７％以上となるためである。
【００１７】
なお、内部に空隙を有するシリカ粒子の一例としては、球状の形状を保持したまま、硝子の屈折率１．４５に比べて低い屈折率１．３０であり、半径２０ｎｍ以上２５ｎｍ以下、密度（ρ１）の球状の構造が中心部分にあり、周囲を厚み１０ｎｍ以上１５ｎｍ以下の異なる密度（ρ２）の層が覆っており、（ρ１／ρ２）の値が０．５、０．１、０．０を示し、シリカ粒子の中心部分は外部のシリカの１／１０程度の密度となるような構造モデルである。
【００１８】
また、本実施形態の低屈折率コーティング剤に用いられるフッ素ポリマーとしては、ポリテトラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン−パーフルオロ（アルキルビニルエーテル）共重合体、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体、エチレン−テトラフルオロエチレン共重合体、ポリフッ化ビニリデン、ポリクロロトリフルオロエチレンなどが挙げられる。
【００１９】
また本実施形態の低屈折率コーティング剤に用いられるアクリルモノマーとしては、２−アクリロイルオキシエチル２−ヒドロキシプロピルフタレ−ト、２−メタクリロイルオキシエチル２−ヒドロキシプロピルフタレ−ト、２−ヒドロキシエチルアクリレ−ト、２−ヒドロキシエチルメタクリレ−ト、ジエチレングリコ−ルモノエチルエ−テルアクリレ−ト、ジエチレングリコ−ルモノエチルエ−テルメタクリレ−ト、イソボルニルアクリレ−ト、イソボルニルメタクリレ−ト、３−メトキシブチルアクリレ−ト、３−メトキシブチルメタクリレ−ト、エチレングリコ−ルジアクリレ−ト、エチレングリコ−ルジメタクリレ−ト、ジエチレングリコ−ルジアクリレ−ト、ジエチレングリコ−ルジメタクリレ−ト、テトラエチレングリコ−ルジアクリレ−ト、テトラエチレングリコ−ルジメタクリレ−ト、ビスフェノキシエタノ−ルフルオレンジアクリレ−ト、ビスフェノキシエタノ−ルフルオレンジメタクリレ−ト、１，６−ヘキサンジオ−ルジアクリレ−ト、１，６−ヘキサンジオ−ルジメタクリレ−ト、１，９−ノナンジオ−ルジアクリレ−ト、１，９−ノナンジオ−ルジメタクリレ−ト、トリメチロ−ルプロパントリアクリレ−ト、トリメチロ−ルプロパントリメタクリレ−ト、ペンタエリスリト−ルトリアクリレ−ト、ペンタエリスリト−ルトリメタクリレ−ト、ペンタエリスリト−ルテトラアクリレ−ト、ペンタエリスリト−ルテトラメタクリレ−ト、ジペンタエリスリト−ルペンタアクリレ−ト、ジペンタエリスリト−ルペンタメタクリレ−ト、ジペンタエリスリト−ルヘキサアクリレ−ト、ジペンタエリスリト−ルヘキサメタクリレ−ト、トリ（２−アクリロイルオキシエチル）ホスフェ−ト、トリ（２−メタクリロイルオキシエチル）ホスフェ−ト等を挙げられる。
【００２０】
本実施形態の低屈折率コーティング剤に用いられるフッ素系添加剤としては、ＣｄＦ２ｄ＋１（ｄは１〜２１の整数）で表されるパーフルオロアルキル基、−（ＣＦ２ＣＦ２）ｇ−（ｇは１〜５０の整数）で表されるパーフルオロアルキレン基、またはＦ−（−ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ−）ｅ−ＣＦ（ＣＦ３）（ここで、ｅは１〜５０の整数）で表されるパーフルオロアルキルエーテル基、ならびに、ＣＦ２＝ＣＦＣＦ２ＣＦ２−、（ＣＦ３）２Ｃ＝Ｃ（Ｃ２Ｆ５）−、および（（ＣＦ３）２ＣＦ）２Ｃ＝Ｃ（ＣＦ３）−等で例示されるパーフルオロアルケニル基を有することが好ましい。
【００２１】
本実施形態の低屈折率コーティング剤に用いられるシリコーン系添加剤としては、ポリジメチルシロキサン、ポリメチルフェニルシロキサン、ポリメチルビニルシロキサンなどのポリアルキル、ポリアルケニル等を挙げることができる。
本実施形態の低屈折率コーティング剤におけるそれぞれの材料の割合は、フッ素ポリマーと、フッ素ポリマー１００重量部に対し８０重量部より大きく且つ１００重量部未満の低屈折率ナノ微粒子と、フッ素ポリマー１００重量部に対し３０重量より大きく且つ５０重量部未満のアクリルモノマーと、フッ素ポリマー１００重量部に対し０．５重量部より大きく且つ１．５重量部未満のフッ素系添加剤と、フッ素ポリマー１００重量部に対し０．５重量部より大きく且つ１．５重量部未満のシリコーン系添加剤となっている。
【００２２】
ここで、フッ素ポリマー添加量１００重量部に対して、低屈折率ナノ微粒子の添加量を８０重量部より大きく１００重量部未満とする理由は、次の通りである。８０重量部以下であると平均視感反射率は０．７％以上となり、また１００重量部以上であると機械特性（耐擦傷性能）が低下し、５００ｇ/cm2荷重で傷が生じてしまうためである。
また、フッ素ポリマー添加量１００重量部に対して、アクリルモノマーの添加量を３０重量部より大きく且つ５０重量部未満とする理由は、次の通りである。３０重量部以下であると機械特性（耐擦傷性能）が低下し、５００ｇ/cm2荷重で傷が生じてしまうためであり、５０重量部以上であると平均視感反射率が０．７％以上になるためである。
【００２３】
また、フッ素ポリマー１００重量部に対して、フッ素系添加剤の添加量を０．５重量部より大きく且つ１．５重量部未満とする理由は、次の通りである。０．５重量部以下であると十分な防汚性が得られなくなるためであり、１．５重量部以上であるとブリードアウトするためである。ブリードアウトとは、添加物がフィルム表面に凝集することである。
また、フッ素ポリマー１００重量部に対して、シリコーン系添加剤の添加量を０．５重量部より大きく且つ１．５重量部未満とする理由は次の通りである。０．５重量部以下であると十分な防汚性が得られなくなるためであり、１．５重量部以上であるとブリードアウトするためである。
【００２４】
また、本実施形態の低屈折率コーティング剤におけるフッ素ポリマーの平均分子量は１５０００００以下とすることが好ましい。これは、平均分子量が１５０００００を超える添加は溶解性が悪くなるため塗料化が困難であるためである。なお、フッ素ポリマーの平均分子量は塗料化できる範囲内で高ければ高いほど好ましく、５０００００以上であることが好ましい。
また、本発明の低屈折率コーティング剤におけるアクリルモノマーの平均分子量は１５００以下とすることが好ましい。これは、平均分子量が１５００を超える添加は溶解性が悪くなるため塗料化が困難であるためである。なお、アクリルモノマーの分子量は１００以上であることが好ましい。
【００２５】
なお、低屈折率コーティング剤には、必要に応じて、溶媒や各種添加剤を加えることができる。溶媒としては、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、シクロヘキシルベンゼンなどの芳香族炭化水素類、ｎ−ヘキサンなどの炭化水素類、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、ジオキサン、ジオキソラン、トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトール等のエーテル類、また、メチルイソブチルケトン、メチルブチルケトン、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキサノン等のケトン類、また蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ｎ−ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酢酸ｎ−ペンチル、およびγ−プチロラクトン等のエステル類、さらには、メチルセロソルブ、セロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ類、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類、水等の中から塗工適正等を考慮して適宜選択される。また、低屈折率コーティング剤には添加剤として、表面調整剤、レベリング剤、屈折率調整剤、密着性向上剤、光増感剤等を加えることもできる。
【００２６】
なお、低屈折率コーティング剤を用いた低屈折率層形成用塗液を塗布した後、紫外線を照射することにより低屈折率層を形成する場合には、低屈折率層形成用塗液に、低屈折率コーティング剤と共に光重合開始剤を加えることができる。光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類等が挙げられる。
【００２７】
（反射防止フィルム）
図１は、本発明に基づく本実施形態の反射防止フィルムの模式断面図である。
本実施形態の反射防止フィルム１は、図１に示すように、透明基材１１の一方の面に対しハードコート層１２と低屈折率層１３を順に備える。
【００２８】
（透明基材）
次に前記透明基材１１について説明する。
透明基材１１としては、種々の有機高分子からなるフィルムまたはシートを用いることができる。例えば、ディスプレイ等の光学部材に通常使用される基材が挙げられ、透明性や光の屈折率等の光学特性、さらには耐衝撃性、耐熱性、耐久性などの諸物性を考慮して、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セロファン等のセルロース系、６−ナイロン、６，６−ナイロン等のポリアミド系、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、エチレンビニルアルコール等の有機高分子からなるものが用いられる。特に、ポリエチレンテレフタレート、トリアセチルセルロース、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレートが好ましい。さらに、これらの有機高分子に公知の添加剤、例えば帯電防止剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、可塑剤、滑剤、着色剤、酸化防止剤、難燃剤等を添加することにより機能を付加させたものも使用できる。また、透明基材は上記の有機高分子から選ばれる１種または２種以上の混合物、または重合体からなるものでもよく、複数の層を積層させたものであってもよい。
【００２９】
中でも、トリアセチルセルロースフィルムは、複屈折が少なく、透明性が良好であることから、本実施形態の反射防止フィルムを液晶ディスプレイに用いるにあっては好適に使用することができる。トリアセチルセルロースフィルムの屈折率は約１．５０であって、他の透明基材と比較して屈折率が低い。例えば、透明基材として広範に用いられるポリエチレンテレフタレートフィルムは、１．６０程度である。
また、本実施形態の反射防止フィルムは、透明基材と低屈折率層との間にハードコート層を備える。ハードコート層を備えることにより、耐擦傷性に優れた反射防止フィルムとすることができる。
【００３０】
（ハードコート層）
次に、前記ハードコート層１２について説明をする。
ハードコート層１２は、（メタ）アクリロイルオキシ基を有する官能性モノマーを主成分とする重合体からなることが好ましい。
（メタ）アクリロイルオキシ基を有する官能性モノマーとしては、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、へキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ペンタエリスリトールトリアクリレート、トルエンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ペンタエリスリトールトリアクリレート、イソホロンジイソシアネートウレタンプレポリマー等を挙げることができる。
【００３１】
なお、ハードコート層１２は、他の機能性材料を含んでいてもかまわない。例えば、ハードコート層に導電性材料を含有させることにより、反射防止フィルムに帯電防止性能を付与することができる。
本実施形態の反射防止フィルム１では、透明基材１１上に対し、（メタ）アクリロイルオキシ基を有する官能性モノマーを含む塗液を塗布し、必要に応じて乾燥をおこない、電離放射線を照射することによりハードコート層１２が形成される。
【００３２】
透明基材１１上に、（メタ）アクリロイルオキシ基を有する官能性モノマーを主成分とする重合体からなるハードコート層１２が形成される。更に、前記ハードコート層１２上に、低屈折率コーティング剤を用いた低屈折率層形成用塗液を塗布した後、乾燥し、電離放射線を照射することにより低屈折率層１３を形成することにより反射防止フィルムが作製することができる。
【００３３】
（低屈折率層）
次に、実施形態の反射防止フィルムにおける低屈折率層１３について説明する。
反射防止フィルムにあっては、低屈折率層単層で構成される単層構造の反射防止層や、低屈折率層と高屈折率層の繰り返し構造からなる積層構造の反射防止層を形成することが知られている。本実施形態の反射防止フィルム１にあっては、反射防止層が、バインダマトリックス中に低屈折率粒子を含む低屈折率層単層構造であることが好ましい。
【００３４】
前記反射防止層を形成する方法としては、反射防止層形成用塗液を防眩層表面に塗布し反射防止層を形成する湿式成膜法による方法と、真空蒸着法やスパッタリング法やＣＶＤ法といった真空中で反射防止層を形成する真空成膜法による方法に分けられる。
低屈折率層と高屈折率層の繰り返し構造からなる積層構造の反射防止層を形成する場合、形成する高屈折率層、低屈折率層の膜厚を精密に制御する必要があり、真空成膜法により形成する必要がある。本実施形態の反射防止フィルムにあっては、低屈折率粒子とバインダマトリックスを含む低屈折率塗液を用い、湿式成膜法により反射防止フィルムを形成することにより、反射防止フィルムを製造することができる。
【００３５】
このとき、低屈折率層単層は、その膜厚（ｄ）に低屈折率層の屈折率（ｎ）をかけることによって得られる光学膜厚（ｎｄ）が可視光の波長の１／４と等しくなるように設形成される。
低屈折率コーティング剤を用いた低屈折率層形成用塗液を、ハードコート層が形成された透明基材上に塗布するための塗工方法としては、ロールコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、ナイフコーター、バーコーター、ダイコーターを用いた塗工方法を使用できる。
【００３６】
低屈折率層形成用塗液がハードコート層上に塗布された後、ハードコート層上の塗膜中の溶媒を除去するために乾燥工程が設けられる。本実施形態の反射防止フィルムの製造方法としては、乾燥工程における塗膜の乾燥温度が、主溶媒の沸点−６０℃以上主溶媒の沸点＋２０℃以下の範囲内であることが好ましい。
なお、本実施形態において主溶媒の沸点とは低屈折率層形成用塗液に含まれる溶媒が１種類のときはその溶媒の沸点である。低屈折率層形成用塗液に含まれる溶媒が２種類以上のときは、主溶媒の沸点は重量割合がもっとも大きい溶媒の沸点である。また、低屈折率層形成用塗液に含まれる溶媒が２種類以上であって、重量割合がもっとも大きい溶媒が２種類以上あるときは、重量割合がもっとも大きい溶媒のうち沸点の高いほうの溶媒を主溶媒の沸点とする。
【００３７】
乾燥温度が低屈折率層の形成用塗液に用いられる主溶媒の沸点−６０℃を下回る場合には、溶媒の乾燥が不十分であり低屈折率層に含まれるシリコーン材料成分がフィルム上に残ってしまい、低屈折率層の防汚性と耐擦傷性が低下してしまう。一方、乾燥温度が低屈折率層の形成用塗液に用いられる主溶媒の沸点＋２０℃を上回る場合には、製造コストが高くなり、また熱によって反射防止フィルムに熱シワと呼ばれるシワが発生してしまう場合がある。
【００３８】
低屈折率コーティング剤を用いた低屈折率層形成用塗液を、ハードコート層１２が形成された透明基材１１上に塗布することにより得られる塗膜に対し、電離放射線を照射することにより、低屈折率層１３が形成される。電離放射線としては、紫外線、電子線を用いることができる。紫外線硬化の場合は、高圧水銀灯、低圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、カーボンアーク、キセノンアーク等の光源が利用できる。また、電子線硬化の場合はコックロフトワルト型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される電子線が利用できる。
【００３９】
本実施形態に係る反射防止フィルムの製造方法は、紫外線照射工程において、照射される紫外線の積算光量を２００ｍＪ／ｃｍ２以上４００ｍＪ／ｃｍ２以下の範囲内とすることが好ましい。照射される紫外線の積算光量が２００ｍＪ／ｃｍ２未満の場合は、硬化が不十分であり、低屈折率層の耐擦傷性が低下してしまう。一方、照射される紫外線の積算光量が４００ｍＪ／ｃｍ２を超える場合であっては、製造コストが高くなってしまう。
【００４０】
本実施形態の反射防止フィルムは、低屈折率層１３の表面での平均視感反射率が０．３％以上から０．７％以下であることが好ましい。低屈折率層１３の表面の平均視感反射率は低いほど、優れた反射防止機能を備える。
低屈折率層１３の表面での平均視感反射率が０．７％を超える場合にあっては、十分な反射防止機能を備える反射防止フィルムとすることができなくなってしまう。一方、低屈折率層１３の表面での平均視感反射率を０．３％未満の反射防止フィルムを低屈折率層単層で実現することは困難である。
【００４１】
本実施形態の反射防止フィルム１の分光反射率は、反射防止フィルムの低屈折率層１３と反対側の面を黒色塗料で艶消し処理した後におこなわれ、低屈折率層１３の表面に対しての垂直方向から入射角度は５度に設定され、光源としてＣ光源を用い、２度視野の条件下で求められる。平均視感反射率は、可視光の各波長の反射率を比視感度により校正し、平均した反射率の値である。このとき、比視感度は明所視標準比視感度が用いられる。
【００４２】
本実施形態の反射防止フィルムのヘイズを０．２％以下とすることにより、明所コントラストの高い反射防止フィルムとすることができる。ヘイズが０．２％を超える場合には、散乱による透過損失によって暗所での黒表示させた際の光モレを見かけ上抑制することが可能となるが、明所での黒表示の際に散乱によって黒表示が白ボケしてコントラストが低下してしまう。
【００４３】
反射防止フィルムの全光線透過率を９５．０％以上９８．０％以下とすることにより、コントラストを良好なものとすることができる。反射防止フィルムの全光線透過率が９５．０％に満たない場合にあっては、白表示した際の白輝度が低下し、コントラストが低下してしまう。一方、裏面反射等を考慮すると全光線透過率９８．０％を超える反射防止フィルムを作製することは実質的に困難であり、本発明の反射防止フィルムにあっては全光線透過率９８．０％以下であることを特徴とする。
【００４４】
なお、本実施形態の反射防止フィルムは、必要に応じて、帯電防止性能、電磁波シールド性能、赤外線吸収性能、紫外線吸収性能、色補正性能等を有する機能層が設けられていてもよい。これらの機能層としては、帯電防止層、電磁波遮蔽層、赤外線吸収層、紫外線吸収層、色補正層等が挙げられる。また、本発明にあっては、各種層間の接着性向上のために、各層間にプライマー層や接着層等を設けても良い。
【００４５】
（ディスプレイ及び偏光板）
本実施形態の反射防止フィルム１は、ディスプレイ表面に好適に用いることができる。ディスプレイとしてはＬＣＤ、ＰＤＰ、ＣＲＴ、プロジェクションディスプレイ、ＥＬディスプレイ等を挙げることができる。また、ディスプレイ内部に用いることもできる。以下に本実施形態の反射防止フィルム１を液晶ディスプレイの部材としての偏光板に用いる場合について説明する。
本実施形態の偏光板は、透明基材１１におけるハードコート層形成面と反対側の面に、偏光層と透明基材を順に備える。本実施形態の偏光板は、偏光層が２枚の透明基材で狭持された構造をとる。
【００４６】
また、透過型液晶ディスプレイにおいては、バックライトユニット、偏光板、液晶セル、偏光板、反射防止フィルム１をこの順に備えている。このとき、反射防止フィルム１の反射防止層形成面側が観察側すなわちディスプレイ表面となる。
前記バックライトユニットは、光源と光拡散板を備える。液晶セルは、一方の透明基材に電極が設けられ、もう一方の透明基材に電極及びカラーフィルターを備えており、両電極間に液晶が封入された構造となっている。液晶セルを挟むように設けられる偏光板にあっては、透明基材間に偏光層を挟持した構造となっている。
【００４７】
また、本実施形態の透過型液晶ディスプレイにあっては、他の機能性部材を備えても良い。他の機能性部材としては、例えば、バックライトから発せられる光を有効に使うための、拡散フィルム、プリズムシート、輝度向上フィルムや、液晶セルや偏光板の位相差を補償するための位相差フィルムが挙げられるが、本発明の透過型液晶ディスプレイはこれらに限定されるものではない。なお、これらは公知のものを使用できる。
【実施例】
【００４８】
以下に、本発明に基づく実施形態を採用した実施例により、さらに具体的に説明する。ただし、本発明はこれら実施例により限定されるものではない。
以下の（調整例１）〜（調整例１３）の低屈折率コーティング剤を調整した後、それぞれの低屈折率層形成用塗液１〜１３を作製し、（実施例１）〜（実施例１２）、(比較例１)の反射防止フィルムを作製した。
【００４９】
＜調整例１＞
（低屈折率コーティング剤１）
フッ素ポリマー（分子量１００００００）と、フッ素ポリマー１００重量部に対して低屈折率ナノ微粒子８０重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してアクリルモノマー（分子量１０００）４０重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してフッ素系添加剤１重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してシリコーン系添加剤１重量部になるよう組み合わせて調液し、ＭＩＢＫ：ｔ−ＢｕＯＨ：シクロヘキサノン＝２０：５５：２５を加え、３．５ｗｔ％の低屈折率層形成用塗液１を作製した。なお、ＭＩＢＫ（メチルイソブチルケトン）の沸点は１１５℃であり、ｔ−ＢｕＯＨ（ｔ−ブタノール）の沸点は１４２℃であり、シクロヘキサノンの沸点は１５６℃である。
【００５０】
＜調整例２＞
（低屈折率コーティング剤２）
フッ素ポリマー（分子量１００００００）と、フッ素ポリマー１００重量部に対して低屈折率ナノ微粒子９０重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してアクリルモノマー（分子量１０００）４０重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してフッ素系添加剤１重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してシリコーン系添加剤１重量部になるよう組み合わせて調液し、ＭＩＢＫ：ｔ−ＢｕＯＨ：シクロヘキサノン＝２０：５５：２５を加え、３．５ｗｔ％の低屈折率層形成用塗液２を作製した。
【００５１】
＜調整例３＞
（低屈折率コーティング剤３）
フッ素ポリマー（分子量１００００００）と、フッ素ポリマー１００重量部に対して低屈折率ナノ微粒子１００重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してアクリルモノマー（分子量１０００）４０重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してフッ素系添加剤１重量部と、（フッ素ポリマー１００重量部に対してシリコーン系添加剤１重量部になるよう組み合わせて調液し、ＭＩＢＫ：ｔ−ＢｕＯＨ：シクロヘキサノン＝２０：５５：２５を加え、３．５ｗｔ％の低屈折率層形成用塗液３を作製した。
【００５２】
＜調整例４＞
（低屈折率コーティング剤４）
フッ素ポリマー（分子量１００００００）と、フッ素ポリマー１００重量部に対して低屈折率ナノ微粒子９０重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してアクリルモノマー（分子量１０００）３０重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してフッ素系添加剤１重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してシリコーン系添加剤１重量部になるよう組み合わせて調液し、ＭＩＢＫ：ｔ−ＢｕＯＨ：シクロヘキサノン＝２０：５５：２５を加え、３．５ｗｔ％の低屈折率層形成用塗液４を作製した。
【００５３】
＜調整例５＞
（低屈折率コーティング剤５）
フッ素ポリマー（分子量１００００００）と、フッ素ポリマー１００重量部に対して低屈折率ナノ微粒子９０重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してアクリルモノマー（分子量１０００）５０重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してフッ素系添加剤１重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してシリコーン系添加剤１重量部になるよう組み合わせて調液し、ＭＩＢＫ：ｔ−ＢｕＯＨ：シクロヘキサノン＝２０：５５：２５を加え、３．５ｗｔ％の低屈折率層形成用塗液５を作製した。
【００５４】
＜調整例６＞
（低屈折率コーティング剤６）
フッ素ポリマー（分子量１００００００）と、フッ素ポリマー１００重量部に対して低屈折率ナノ微粒子９０重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してアクリルモノマー（分子量１０００）４０重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してフッ素系添加剤０．５重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してシリコーン系添加剤１重量部になるよう組み合わせて調液し、ＭＩＢＫ：ｔ−ＢｕＯＨ：シクロヘキサノン＝２０：５５：２５を加え、３．５ｗｔ％の低屈折率層形成用塗液６を作製した。
【００５５】
＜調整例７＞
（低屈折率コーティング剤７）
フッ素ポリマー（分子量１００００００）と、フッ素ポリマー１００重量部に対して低屈折率ナノ微粒子９０重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してアクリルモノマー（分子量１０００）４０重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してフッ素系添加剤１．５重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してシリコーン系添加剤１重量部になるよう組み合わせて調液し、ＭＩＢＫ：ｔ−ＢｕＯＨ：シクロヘキサノン＝２０：５５：２５を加え、３．５ｗｔ％の低屈折率層形成用塗液７を作製した。
【００５６】
＜調整例８＞
（低屈折率コーティング剤８）
フッ素ポリマー（分子量１００００００）と、フッ素ポリマー１００重量部に対して低屈折率ナノ微粒子９０重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してアクリルモノマー（分子量１０００）４０重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してフッ素系添加剤１重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してシリコーン系添加剤０．５重量部になるよう組み合わせて調液し、ＭＩＢＫ：ｔ−ＢｕＯＨ：シクロヘキサノン＝２０：５５：２５を加え、３．５ｗｔ％の低屈折率層形成用塗液８を作製した。
【００５７】
＜調整例９＞
（低屈折率コーティング剤９）
フッ素ポリマー（分子量１００００００）と、フッ素ポリマー１００重量部に対して低屈折率ナノ微粒子９０重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してアクリルモノマー（分子量１０００）４０重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してフッ素系添加剤１重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してシリコーン系添加剤１．５重量部になるよう組み合わせて調液し、ＭＩＢＫ：ｔ−ＢｕＯＨ：シクロヘキサノン＝２０：５５：２５を加え、３．５ｗｔ％の低屈折率層形成用塗液９を作製した。
【００５８】
＜調整例１０＞
（低屈折率コーティング剤１０）
フッ素ポリマー（分子量２００００００）と、フッ素ポリマー１００重量部に対して低屈折率ナノ微粒子９０重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してアクリルモノマー（分子量１０００）４０重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してフッ素系添加剤１重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してシリコーン系添加剤１．５重量部になるよう組み合わせて調液し、ＭＩＢＫ：ｔ−ＢｕＯＨ：シクロヘキサノン＝２０：５５：２５を加え、３．５ｗｔ％の低屈折率層形成用塗液１０を作製した。
【００５９】
＜調整例１１＞
（低屈折率コーティング剤１１）
フッ素ポリマー（分子量１００００００）と、フッ素ポリマー１００重量部に対して低屈折率ナノ微粒子９０重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してアクリルモノマー（分子量２０００）４０重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してフッ素系添加剤１重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してシリコーン系添加剤１．５重量部になるよう組み合わせて調液し、ＭＩＢＫ：ｔ−ＢｕＯＨ：シクロヘキサノン＝２０：５５：２５を加え、３．５ｗｔ％の低屈折率層形成用塗液１１を作製した。
【００６０】
＜調整例１２＞
（低屈折率コーティング剤１２）
フッ素ポリマー（分子量２００００００）と、フッ素ポリマー１００重量部に対して低屈折率ナノ微粒子９０重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してアクリルモノマー（分子量２０００）４０重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してフッ素系添加剤１重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してシリコーン系添加剤１．５重量部になるよう組み合わせて調液し、ＭＩＢＫ：ｔ−ＢｕＯＨ：シクロヘキサノン＝２０：５５：２５を加え、３．５ｗｔ％の低屈折率層形成用塗液１２を作製した。
【００６１】
＜比較例１＞
（低屈折率コーティング剤１３）
フッ素ポリマー１００重量部に対して低屈折率ナノ微粒子９０重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してアクリルモノマー（分子量１０００）４０重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してフッ素系添加剤１重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してシリコーン系添加剤１重量部になるよう組み合わせて調液し、ＭＩＢＫ：ｔ−ＢｕＯＨ：シクロヘキサノン＝２０：５５：２５を加え、３．５ｗｔ％の低屈折率層形成用塗液１３を作製した。
【００６２】
（低屈折率層の形成）
（メタ）アクリロイルオキシ基を有する多官能性モノマーを硬化させたハードコート層を備えるトリアセチルセルロースフィルム（富士フィルム製：膜厚８０μｍ）上に、前記（低屈折率コーティング剤１）〜（低屈折率コーティング剤１３）で作製した低屈折率層形成用塗液をそれぞれ塗布し、８０℃・４０秒オーブンで乾燥し、膜厚が１００ｎｍとなるように塗布した。乾燥後、窒素パージ下で紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３８０ｍＪ／ｍ２で紫外線照射をおこなって硬化させて低屈折率層を形成し、下記表１及び表２中に示す（実施例１）〜（実施例１２）、及び(比較例１)の反射防止フィルムを作製した。
【００６３】
前記の（実施例１）〜（実施例１２）、(比較例１)で得られた反射防止フィルムについて、以下の方法で評価をおこなった。
（１）光学特性
「分光反射率・平均視感反射率」
得られた反射防止フィルムの低屈折率層表面について、自動分光光度計（日立製作所社製、Ｕ−４０００）を用い、入射角５°における分光反射率を測定した。また、得られた分光反射率曲線から平均視感反射率を求めた。なお、測定の際には透明基材であるトリアセチルセルロースフィルムのうち低屈折率層の形成されていない面につや消し黒色塗料を塗布し、反射防止の処置をおこなった。
「ヘイズ値および全光線透過率」
得られた反射防止フィルムについて、写像性測定器［日本電色工業社製、ＮＤＨ−２０００］を使用してヘイズ値、及び全光線透過率を測定した。
【００６４】
（２）防汚性
「接触角測定」
接触角計〔ＣＡ−Ｘ型：協和界面科学社製〕を用いて、０．９μｌの液滴を針先に作り、これを基材（固体）の表面に接触させて液滴を作った。接触角とは、固体と液体が接する点における液体表面に対する接線と固体表面がなす角で、液体を含む方の角度で定義した。液体には、蒸留水を使用した。
【００６５】
「油性ペン（マッキー、マジック）の拭取り性」
基材表面に付着した油性ペンをティッシュペーパー〔エリエール社製〕で拭き取り、その取れ易さを目視評価した。判定基準を以下に示す。
○：油性ペンを容易に拭き取ることが出来る。
△：油性ペンを拭き取れる。
×：油性ペンを拭き取ることが出来ない
【００６６】
（３）機械特性
「耐擦傷性試験」
基材表面をスチールウール〔ボンスター＃００００：日本スチールウール社製〕により２００ｇ／ｃｍ２、３００ｇ／ｃｍ２、４００ｇ／ｃｍ２、５００ｇ／ｃｍ２でそれぞれ１０回擦り、傷の有無を目視評価した（スチールウール試験）。
判定基準を以下に示す。
○：傷なし
×：傷あり
【００６７】
（４）ブリードアウト
塗工表面をティッシュペーパー〔エリエール社製〕で拭取り、拭取ることができるかを目視評価した。
判定基準を以下に示す。
○：ブリードなし（拭取れない）
×：ブリードあり（拭取れる）
結果を表１及び表２に示す。
【００６８】
【表１】
【００６９】
【表２】
【００７０】
表１から分かるように、（実施例２）で反射率が低く、機械特性、防汚性の優れた低屈折率層を得ることができた。
フッ素ポリマー１００重量部に対して、低屈折率ナノ微粒子の添加量が８０重量部であると平均視感反射率は０．７％以上となってしまう。また低屈折率ナノ微粒子添加量が１００重量部であると耐擦傷性試験において４００ｇ／ｃｍ２荷重で傷が生じてしまう。低屈折率ナノ微粒子添加量に関して反射率と機械特性はトレードオフの関係にある。このことから十分な光学特性と機械特性を備えた反射防止フィルムを作成するためには、フッ素ポリマー１００重量部に対して低屈折率ナノ微粒子添加量が８０重量部より大きく且つ１００重量部未満である必要であることがわかる。
【００７１】
また、フッ素ポリマー１００重量部に対して、アクリルモノマーの添加量が３０重量部であると耐擦傷性試験において４００ｇ／ｃｍ２荷重で傷が生じてしまう。また低屈折率ナノ微粒子添加量が５０重量部であると平均視感反射率は０．７％以上となってしまう。アクリルモノマーの添加量に関して反射率と機械特性はトレードオフの関係にある。このことから十分な光学特性と機械特性を備えた反射防止フィルムを作成するためには、フッ素ポリマー１００重量部に対してアクリルモノマーの添加量が３０重量部より大きく且つ５０重量部未満である必要であることがわかる。
【００７２】
また、フッ素ポリマー１００重量部に対して、フッ素系添加剤の添加量が０．５重量部であると十分な防汚性が発現しない。またフッ素系添加剤が１．５重量部であるとブリードが生じてしまう。シリコーン系添加剤添加量に関して防汚性とブリードはトレードオフの関係にある。このことから十分な防汚性を備えたブリードが発生しない反射防止フィルムを作成するためには、フッ素ポリマー１００重量部に対してフッ素系添加剤の添加量が０．５重量部より大きく且つ１．５重量部未満である必要であることがわかる。
【００７３】
同様にフッ素ポリマー１００重量部に対して、シリコーン系添加剤の添加量が０．５重量部であると十分な防汚性が発現しない。またシリコーン系添加剤が１．５重量部であるとブリードが生じてしまう。シリコーン系材料添加量に関して防汚性とブリードはトレードオフの関係にある。このことから十分な防汚性を備えたブリードが発生しない反射防止フィルムを作成するためには、フッ素ポリマー１００重量部に対してシリコーン系添加剤の添加量が０．５重量部より大きく且つ１．５重量部未満である必要であることがわかる。
また表２から分かるように、フッ素ポリマーの平均分子量が１００００００を超える添加は溶解性が悪くなるため塗料化は困難である。また、アクリルモノマーの平均分子量が１０００を超える添加も溶剤溶解性が悪くなるため塗料化は困難である。
【００７４】
以上のように、本発明の反射防止フィルムは、低屈折率層に、フッ素ポリマーと、フッ素ポリマー１００重量部に対し８０重量部より大きく且つ１００重量部未満の低屈折率ナノ微粒子と、フッ素ポリマー１００重量部に対し３０重量より大きく且つ５０重量部未満のアクリルモノマーと、フッ素ポリマー１００重量部に対し０．５重量部より大きく且つ１．５重量部未満のフッ素系添加剤と、フッ素ポリマー１００重量部に対し０．５重量部より大きく且つ１．５重量部未満のシリコーン系添加剤とを添加し、主溶媒の沸点の−６０℃以上前記主溶媒の沸点の＋２０℃以下の範囲内の乾燥温度で乾燥し、積算光量が２００ｍＪ／ｃｍ２以上４００ｍＪ／ｃｍ２以下の範囲内で紫外線を照射することにより形成する結果、平均視感反射率０．７％以下という低屈折率光学特性と優れた防汚性、優れた機械強度とを兼備した反射防止フィルムを形成できるものである。すなわち、本発明の反射防止フィルムはディスプレイなどの最外層に配置されることに優れたものである。
【符号の説明】
【００７５】
１ 反射防止フィルム
１１ 透明基材
１２ ハードコート層
１３ 低屈折率層
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材の一方の面に対し、ハードコート層と低屈折率層とを積層した反射防止フィルムにおいて、
前記ハードコート層は、（メタ）アクリロイルオキシ基を有する多官能性モノマーを主成分とする重合体から形成され、
前記低屈折率層は、低屈折率ナノ微粒子と、フッ素ポリマーと、アクリルモノマーと、フッ素系添加剤と、シリコーン系添加剤とを含有している低屈折率コーティング剤から形成されていることを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項２】
前記低屈折率層は、フッ素ポリマーと、フッ素ポリマー１００重量部に対し８０重量部より大きく且つ１００重量部未満の低屈折率ナノ微粒子と、フッ素ポリマー１００重量部に対し３０重量より大きく且つ５０重量部未満のアクリルモノマーと、フッ素ポリマー１００重量部に対し０．５重量部より大きく且つ１．５重量部未満のフッ素系添加剤と、フッ素ポリマー１００重量部に対し０．５重量部より大きく且つ１．５重量部未満のシリコーン系添加剤とを含有してなる低屈折率コーティング剤から形成されていることを特徴とする請求項１に記載の反射防止フィルム。
【請求項３】
前記フッ素ポリマーの平均分子量が１５０００００以下であることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の反射防止フィルム。
【請求項４】
前記アクリルモノマーの平均分子量が１５００以下であることを特徴とする請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
【請求項５】
前記低屈折率コーティング剤の屈折率は、１．３０以上１．４０以下の範囲であり、
低屈折率層の屈折率は、１．３０以上１．４５以下の範囲であることを特徴とする請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
【請求項６】
平均視感反射率が０．３％以上０．７％以下であり、全光線透過率が９５．０％以上９８．０％以下であり、且つ、ヘイズが０．０１％以上０．２０％以下の範囲内となっている反射防止フィルムであることを特徴とする請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
【請求項７】
前記低屈折率層は、主溶媒の沸点の−６０℃以上＋２０℃以下の範囲内の乾燥温度で乾燥し、更に積算光量が２００ｍＪ／ｃｍ２以上４００ｍＪ／ｃｍ２以下の範囲内で紫外線照射することで製造されたものであることを特徴とする請求項１〜請求項６のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
【請求項８】
請求項１〜請求項７のいずれか１項に記載の反射防止フィルムと、当該反射防止フィルムにおける低屈折率層を形成していない低屈折率層非形成面側に積層された第１の偏光板とを備えたことを特徴とする反射防止性偏光板。
【請求項９】
観察者側から、請求項８に記載の反射防止性偏光板、液晶セル、第２の偏光板、バックライトユニットがこの順に配置され、前記反射防止性偏光板の低屈折率層非形成面側に液晶セルを保持していることを特徴とする透過型液晶ディスプレイ。
【請求項１】
透明基材の一方の面に対し、ハードコート層と低屈折率層とを積層した反射防止フィルムにおいて、
前記ハードコート層は、（メタ）アクリロイルオキシ基を有する多官能性モノマーを主成分とする重合体から形成され、
前記低屈折率層は、低屈折率ナノ微粒子と、フッ素ポリマーと、アクリルモノマーと、フッ素系添加剤と、シリコーン系添加剤とを含有している低屈折率コーティング剤から形成されていることを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項２】
前記低屈折率層は、フッ素ポリマーと、フッ素ポリマー１００重量部に対し８０重量部より大きく且つ１００重量部未満の低屈折率ナノ微粒子と、フッ素ポリマー１００重量部に対し３０重量より大きく且つ５０重量部未満のアクリルモノマーと、フッ素ポリマー１００重量部に対し０．５重量部より大きく且つ１．５重量部未満のフッ素系添加剤と、フッ素ポリマー１００重量部に対し０．５重量部より大きく且つ１．５重量部未満のシリコーン系添加剤とを含有してなる低屈折率コーティング剤から形成されていることを特徴とする請求項１に記載の反射防止フィルム。
【請求項３】
前記フッ素ポリマーの平均分子量が１５０００００以下であることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の反射防止フィルム。
【請求項４】
前記アクリルモノマーの平均分子量が１５００以下であることを特徴とする請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
【請求項５】
前記低屈折率コーティング剤の屈折率は、１．３０以上１．４０以下の範囲であり、
低屈折率層の屈折率は、１．３０以上１．４５以下の範囲であることを特徴とする請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
【請求項６】
平均視感反射率が０．３％以上０．７％以下であり、全光線透過率が９５．０％以上９８．０％以下であり、且つ、ヘイズが０．０１％以上０．２０％以下の範囲内となっている反射防止フィルムであることを特徴とする請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
【請求項７】
前記低屈折率層は、主溶媒の沸点の−６０℃以上＋２０℃以下の範囲内の乾燥温度で乾燥し、更に積算光量が２００ｍＪ／ｃｍ２以上４００ｍＪ／ｃｍ２以下の範囲内で紫外線照射することで製造されたものであることを特徴とする請求項１〜請求項６のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
【請求項８】
請求項１〜請求項７のいずれか１項に記載の反射防止フィルムと、当該反射防止フィルムにおける低屈折率層を形成していない低屈折率層非形成面側に積層された第１の偏光板とを備えたことを特徴とする反射防止性偏光板。
【請求項９】
観察者側から、請求項８に記載の反射防止性偏光板、液晶セル、第２の偏光板、バックライトユニットがこの順に配置され、前記反射防止性偏光板の低屈折率層非形成面側に液晶セルを保持していることを特徴とする透過型液晶ディスプレイ。
【図１】
【公開番号】特開２０１２−６３６８７（Ｐ２０１２−６３６８７Ａ）
【公開日】平成２４年３月２９日（２０１２．３．２９）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−２０９３８２（Ｐ２０１０−２０９３８２）
【出願日】平成２２年９月１７日（２０１０．９．１７）
【出願人】（０００００３１９３）凸版印刷株式会社 (10,630)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年３月２９日（２０１２．３．２９）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年９月１７日（２０１０．９．１７）
【出願人】（０００００３１９３）凸版印刷株式会社 (10,630)
【Ｆターム（参考）】
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