反射防止フィルム製造方法、反射防止フィルム、偏光板、および表示装置
【課題】ワンコートで多層の積層体を形成できる反射防止フィルム製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の反射防止フィルム製造方法は、低屈折率粒子および高屈折率粒子を分散させた透明基材を溶解または膨潤する成分を含む塗液を透明基材に塗工することより、１回の塗工で、透明基材／透明基材が溶解または膨潤した混合層／高屈折率粒子が局在した高屈折率層および低屈折率粒子が局在した低屈折率層／がこの順で積層した積層体を形成することが出来る。このため、１回の塗工で透明基材／ハードコート層（混合層）／反射防止層（高屈折率層および低屈折率層）、が積層された積層体を形成でき、効率よく反射防止フィルムを製造することが出来る。
【解決手段】本発明の反射防止フィルム製造方法は、低屈折率粒子および高屈折率粒子を分散させた透明基材を溶解または膨潤する成分を含む塗液を透明基材に塗工することより、１回の塗工で、透明基材／透明基材が溶解または膨潤した混合層／高屈折率粒子が局在した高屈折率層および低屈折率粒子が局在した低屈折率層／がこの順で積層した積層体を形成することが出来る。このため、１回の塗工で透明基材／ハードコート層（混合層）／反射防止層（高屈折率層および低屈折率層）、が積層された積層体を形成でき、効率よく反射防止フィルムを製造することが出来る。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、反射防止フィルム、該反射防止フィルムを用いた偏光板、該反射防止フィルムを用いた表示装置、該反射防止フィルムの製造に適した反射防止フィルム製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、画像表示装置は、外光が表示画面上に映りこむことによって画像を認識しづらくなるという問題がある。また、最近では、屋内だけでなく屋外にも持ち出される機会が増加し、表示画面上への外光の映り込みや高度な耐久性がより重要な課題になっている。そこで、屈折率の異なる層を反射防止層として積層した積層体を反射防止フィルムとし、該反射防止フィルムを表示装置表面に設けることが提案されている。
【０００３】
また、反射防止フィルムでは、表面硬度、耐擦傷性を付与するために、硬度に優れたハードコード層を積層体内部に配置することが行われている。
【０００４】
また、反射防止フィルムに偏光層を設け、表示装置などに用いる偏光板として用いることが提案されている。
【０００５】
例えば、液晶表示パネル（ＬＣＤパネル）に用いる偏光板として、反射防止フィルムに偏光層を設けた構成の偏光板が知られている（特許文献１参照）。
【０００６】
上述のような反射防止フィルムの製造方法として、湿式成膜法を用いることが提案されている。湿式成膜法は、各層ごとに塗液を調整し、各層ごとに塗液を塗工することにより積層体を形成する方法である。
【０００７】
例えば、反射防止層／ハードコート層／透明基材が、観察面からみてこの順で積層された反射防止フィルムを、湿式成膜法を用いて製造することが知られている（特許文献２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２０００−３２１４２８号公報
【特許文献２】特開２００５−１９９７０７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
反射防止フィルムにあっては、多層構成とすることにより反射防止性能といった光学特性やその他の特性をを良好とすることができる。しかしながら、湿式成膜法を用いてハードコート層を有する反射防止フィルムを製造する場合、ハードコート層、反射防止層、など、各層ごとに材料を分散した塗液を調整し、塗液を塗工する必要があった。このため、製造工程数が増加し、製造効率が低下する問題があった。
【００１０】
そこで、本発明は、上述の問題を解決するためになされたものであり、１回の塗工（ワンコート）で多層の積層体を形成できる反射防止フィルム製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の一実施形態は、少なくとも、低屈折率粒子と、高屈折率粒子と、バインダーマトリックスと、を溶媒に分散させ、透明基材を溶解または膨潤させる成分を含む塗液を調整する塗液調整工程と、前記塗液を透明基材上に塗布する塗布工程と、前記透明基材上に塗布された前記塗液を乾燥させ、透明基材上に塗膜を形成する乾燥工程と、を備え、前記透明基材上に、前記透明基材の成分と前記バインダーマトリックスとが混合した混合層を形成し、前記混合層より上層に、前記低屈折率粒子が局在した低屈折率層および前記高屈折率粒子が局在した高屈折率層を形成し、前記高屈折率粒子の比重は前記低屈折率粒子の比重より大きいことを特徴とする反射防止フィルム製造方法である。
【００１２】
また、前記塗液は、電離放射線硬化型材料を含む塗液であり、更に、前記塗膜に電離放射線を照射し、塗膜を硬化する電離放射線照射工程と、備えていてもよい。
【００１３】
また、前記塗液における透明基材を溶解または膨潤させる成分の占める割合は、５ｗｔ％以上７０ｗｔ％以下の範囲にあることが好ましい。
【００１４】
本発明の一実施形態は、透明基材と、前記透明基材上に積層されたハードコート層と、前記ハードコート層上に積層された反射防止層と、を備え、前記ハードコート層は、前記透明基材の成分とバインダーマトリックスとが混合した混合層であり、前記反射防止層は、少なくとも、低屈折率粒子が局在した低屈折率層および高屈折率粒子が局在した高屈折率層、を有することを特徴とする反射防止フィルムである。
【００１５】
また、前記混合層と、前記高屈折率層および前記低屈折率層と、は光学的に分離していることが好ましい。なお、本明細書において、「光学的に分離している」とは、反射防止フィルムの表面から５°の入射角で可視光（３８０ｎｍ以上８００ｎｍ以下）での分光反射率を求め、この分光反射率について光学シミュレーションを行った際に、高屈折率層および低屈折率層に起因する分光スペクトルを観測することができる状態をいう。
【００１６】
また、前記低屈折率層の屈折率が１．２９以上１．４３以下の範囲内であり、且つ、前記低屈折率層の光学膜厚が１００ｎｍ以上２００ｎｍ以下の範囲内であり、前記高屈折率層の屈折率が１．５３以上１．６５以下の範囲内であり、且つ、前記高屈折率層の光学膜厚が２００ｎｍ以上４００ｎｍ以下の範囲内にあることが好ましい。
【００１７】
また、観察面側の視感平均反射率は、０．３％以上２．０％以下の範囲内にあり、観察面側のＬ＊ａ＊ｂ＊色度系における反射色相は、０．００≦ａ＊≦３．００、且つ、−３．００≦ｂ＊≦３．００を満たすことが好ましい。
【００１８】
本発明の一実施形態は、上述の反射防止フィルムに偏光層を設けたことを特徴とする偏光板である。
【００１９】
本発明の一実施形態は、上述の反射防止フィルムを備えた表示装置である。
【発明の効果】
【００２０】
本発明の反射防止フィルム製造方法は、低屈折率粒子および高屈折率粒子を分散させた透明基材を溶解または膨潤する成分を含む塗液を透明基材に塗工することより、ワンコートで、透明基材／透明基材が溶解または膨潤した混合層／高屈折率粒子が局在した高屈折率層および低屈折率粒子が局在した低屈折率層／がこの順で積層した積層体を形成することが出来る。このため、１回の塗工で透明基材／ハードコート層（混合層）／反射防止層（高屈折率層および低屈折率層）、が積層された積層体を形成でき、効率よく反射防止フィルムを製造することが出来る。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本発明の反射防止フィルムの一例を示す概略図である。
【図２】本発明の偏光板の一例を示す概略図である。
【図３】本発明の表示装置の一例を示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
本発明の反射防止フィルム製造方法は、低屈折率粒子および高屈折率粒子を分散させた透明基材を溶解または膨潤する成分を含む塗液を透明基材に塗工することより１回の塗工で、透明基材／透明基材が溶解または膨潤した混合層／高屈折率粒子が局在した高屈折率層および低屈折率粒子が局在した低屈折率層／がこの順で積層した積層体を形成することが出来る。このため、ワンコートで透明基材／ハードコート層（混合層）／反射防止層（高屈折率層および低屈折率層）、が積層された積層体を形成でき、効率よく反射防止フィルムを製造することが出来る。
【００２３】
本発明の反射防止フィルム製造方法では、「透明基材を溶解または膨潤させる成分を含む塗液」を透明基材上に塗布する。このとき、「透明基材を溶解または膨潤させる成分」が透明基材へと浸透すると同時にバインダーマトリックスの成分も透明基材側へと浸透する。これにより、透明基材の成分とバインダーマトリックスとが混合した混合層が形成される。また、塗液内に分散した低屈折率粒子および高屈折率粒子は、溶解・溶融したバインダーマトリックスと比較してかさ高いため、透明基材側には浸透しにくい。よって、低屈折率粒子および高屈折率粒子は表面側へと偏析し混合層と低屈折率層および高屈折率層は層分離する。
【００２４】
また、本発明の反射防止フィルム製造方法では、「透明基材を溶解または膨潤させる成分を含む塗液」を透明基材上に塗布するにあたり、透明基材側から塗布した塗液側へ透明基材の成分が移動する。このため、塗布された塗液内では透明基材側から表面側の方向へ物質移動による流れが発生する。このとき、塗液内に分散した低屈折率粒子および高屈折率粒子は、物質移動による流れに沿って拡散移動する。また、「高屈折率粒子の比重は低屈折率粒子の比重より大きいこと」から、低屈折率粒子の方が高屈折率粒子よりも物質移動による流れに沿った移動量は大きくなる。よって、透明基材側に高屈折率粒子が局在した高屈折率層が形成され、表面側に低屈折率粒子が局在した低屈折率層が形成される。
【００２５】
上述したように、本発明の反射防止フィルム製造方法では、混合層を形成することにより、（１）ハードコート層（混合層）／反射防止層（高屈折率層および低屈折率層）を好適に層分離出来る、（２）反射防止層である、高屈折率層と低屈折率層との層分離を促進することが出来る、という効果を奏する。よって、ワンコートで効率よく反射防止フィルムとして利用できる積層体を形成することが出来る。
【００２６】
なお、上述の説明のように層形成が行われるため、透明基材／混合層／高屈折率層／低屈折率層の各層ごとの物理的境界は明瞭ではないが、本明細書では、便宜上、それぞれの成分が多く偏在している部位をそれぞれ「層」として呼称するものとする。
【００２７】
以下、本発明の反射防止フィルム製造方法について説明を行う。
【００２８】
＜塗液調整工程＞
まず、低屈折率粒子と、高屈折率粒子と、バインダーマトリックスと、を溶媒に分散させ、透明基材を溶解または膨潤させる成分を含む塗液を調整する。ここで、「透明基材を溶解または膨潤させる成分」は、バインダーマトリックスとして選択した材料および溶媒として選択した材料によって調整してよい。例えば、（１）透明基材を溶解または膨潤させるバインダーマトリックスと透明基材を溶解または膨潤させる溶媒の組み合わせ、（２）透明基材を溶解または膨潤させるバインダーマトリックスと透明基材を溶解または膨潤させない溶媒の組み合わせ、（３）透明基材を溶解または膨潤させないバインダーマトリックスと透明基材を溶解または膨潤させる溶媒の組み合わせ、のいずれであってもよい。
【００２９】
塗液を調整するにあたり、塗液における透明基材を溶解または膨潤させる成分の占める割合は、５ｗｔ％以上７０ｗｔ％以下程度の範囲にあることが好ましい。５ｗｔ％以上７０ｗｔ％以下程度の範囲にあることにより、混合層を形成すると同時に光学的に分離された反射防止層（高屈折率層および低屈折率層）を好適に形成出来る。５ｗｔ％より小さい場合、混合層を充分に形成できないことから、光学的に分離された反射防止層（高屈折率層および低屈折率層）を形成できず好ましくない。また、７０ｗｔ％より大きい場合、（１）混合層の厚みが増大して反射防止フィルムの硬度が低下する、（２）低屈折率粒子が過度に凝集して必要以上のヘイズが発生する、などの観点から不適である。
【００３０】
低屈折粒子および高屈折粒子は、比重および屈折率が異なる粒子を２種以上選び、比重が小さく屈折率の低い一方を低屈折粒子、比重が大きく屈折率の高い他方を高屈折粒子としてよい。また、低屈折粒子および高屈折粒子は、それぞれ単独の粒子であってもよいし、材料や粒径の異なる複数種類を組み合わせて用いてもよい。
【００３１】
低屈折粒子としては、例えば、シリカ粒子、ポリマー粒子、金属フッ化物粒子などを用いてもよい。特に、多孔質シリカ粒子、中空シリカ粒子、中空ポリマー粒子、など空隙を有する粒子は、屈折率が低く、比重が小さく、本発明の反射防止フィルム製造方法に用いる低屈折率粒子として好ましい。また、金属フッ化物粒子としては、ＭｇＦ２（屈折率：１．３８、比重３．１５）などが挙げられる。
【００３２】
高屈折粒子としては、例えば、酸化チタン（ＴｉＯ２、屈折率：２．７１、比重：４．２〜４．３）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２、屈折率：２．１０、比重：５．５）、酸化セリウム（ＣｅＯ２、屈折率：２．２０、比重：７．１）、酸化錫（ＳｎＯ２、屈折率：２．００、比重：７．０）、アンチモン錫酸化物（ＡＴＯ、屈折率：１．７５〜１．８５、比重：６．６）、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ、屈折率：１．９５〜２．００、比重：７．１）、酸化アンチモン（Ｓｂ２Ｏ５、屈折率：２．０４、比重：３．８）、アルミニウム亜鉛酸化物（ＡＺＯ、比重：５．０〜５．５）、ガリウム亜鉛酸化物（比重：５．０〜５．５）、などの粒子を用いてもよい。
【００３３】
また、低屈折率粒子および高屈折率粒子の粒径は、１ｎｍ以上１００ｎｍ以下程度の範囲にあることが好ましく、４０ｎｍ以上８０ｎｍ以下程度の範囲にあることがより好ましい。粒径が１００ｎｍを超える場合、レイリー散乱によって光が著しく反射され、反射防止層が白化して反射防止フィルムの透明性が低下する傾向にある。一方、粒径が１ｎｍ未満の場合、粒子の凝集による反射防止層における粒子の不均一性等の問題が生じる。
【００３４】
また、低屈折率粒子の比重（Ｌ１、Ｌ２、…、Ｌｎ）と高屈折率粒子の比重（Ｈ１、Ｈ２、…、Ｈｎ）の差（Ｈｎ−Ｌｎ）が２．０以上であることが好ましい。低屈折率粒子の比重と高屈折率粒子の比重の差が２．０以上とすることにより、比重差により低屈折率層と高屈折率層との分離がより好適に促進される。
【００３５】
バインダーマトリックスは、透明性や光の屈折率等の光学特性、耐衝撃性、耐熱性、耐久性などの諸物性を考慮して、適宜公知の材料より選択してよい。また、バインダーマトリックスは、複数の樹脂材料が混合された樹脂組成物であってもよい。複数の樹脂材料が混合された樹脂組成物を用いることにより、「透明基材を溶解または膨潤させるバインダーマトリックス」と「透明基材を溶解または膨潤させないバインダーマトリックス」との比率を調整することで塗液内の「透明基材を溶解または膨潤させる成分」の量の多寡を調整することが出来、混合層を好適に形成可能な塗液を調整することが出来る。また、後述する＜電離放射線照射工程＞を行う場合、バインダーマトリックスは電離放射線硬化型材料および光重合開始剤を含む樹脂組成物としてもよい。
【００３６】
また、バインダーマトリックスは熱可塑性樹脂を含むことができる。熱可塑性樹脂を含むことにより、反射防止フィルム自体の反りの発生を抑制できる。熱可塑性樹脂としては、例えば、アセチルセルロース、ニトロセルロース、アセチルブチルセルロース、エチルセルロース、メチルセルロース等のセルロース誘導体、酢酸ビニル及びその共重合体、塩化ビニル及びその共重合体、塩化ビニリデン及びその共重合体等のビニル系樹脂、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール等のアセタール樹脂、アクリル樹脂及びその共重合体、メタクリル樹脂及びその共重合体等のアクリル系樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリアミド樹脂、線状ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、などが挙げられる。
【００３７】
バインダーマトリックスとして用いる電離放射線硬化型材料としては、（メタ）アクリレート化合物、ウレタン（メタ）アクリレート化合物、アクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、などが挙げられる。なお、本明細書において、「（メタ）アクリレート」とは「アクリレート」と「メタクリレート」の両方を示すものとする。例えば、「ウレタン（メタ）アクリレート」は「ウレタンアクリレート」および「ウレタンメタアクリレート」の両方を示す。
【００３８】
透明基材にトリアセチルセルロースフィルムを用いる場合、「透明基材を溶解または膨潤させるバインダーマトリックス」としては、例えば、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、などが挙げられる。また、上記樹脂を１種単独であるいは２種以上を組み合わせてバインダーマトリックスとして用いてもよい。
【００３９】
透明基材にトリアセチルセルロースフィルムを用いる場合、「透明基材を溶解または膨潤させないバインダーマトリックス」としては、例えば、
＜１＞単官能（メタ）アクリレート化合物：
ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルフォリン、Ｎ−ビニルピロリドン、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、セチル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、３−メトキシブチル（メタ）アクリレート、エチルカルビトール（メタ）アクリレート、リン酸（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性リン酸（メタ）アクリレート、フェノキシ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性フェノキシ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性フェノキシ（メタ）アクリレート、ノニルフェノール（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシプロピレングリコール（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２−ヒドロキシプロピルフタレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルハイドロゲンフタレート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフタレート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロハイドロゲンフタレート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルテトラヒドロハイドロゲンフタレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、ヘキサフルオロプロピル（メタ）アクリレート、オクタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、オクタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２−アダマンタンおよびアダマンタンジオールから誘導される１価のモノ（メタ）アクリレートを有するアダマンチルアクリレートなどのアダマンタン誘導体モノ（メタ）アクリレート、など、
＜２＞二官能（メタ）アクリレート化合物：
ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレートなどのジ（メタ）アクリレート、など
＜３＞三官能以上の多官能（メタ）アクリレート化合物：
トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス２−ヒドロキシエチルイソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート等のトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート等の３官能の（メタ）アクリレート化合物や、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンヘキサ（メタ）アクリレート、等の３官能以上の多官能（メタ）アクリレート化合物、および、これら（メタ）アクリレートの一部をアルキル基やε−カプロラクトンで置換した多官能（メタ）アクリレート化合物誘導体、などが挙げられる。
【００４０】
光重合開始剤は、電離放射線が照射された際にラジカルを発生するものであれば良い。例えば、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、の光重合開始剤を用いることができる。また、光重合開始剤の添加量は、電離放射線硬化型材料１００重量部に対して０．１重量部以上１０重量部以下程度の範囲内であることが好ましく、さらには１重量部以上７重量部以下程度であることが好ましい。
【００４１】
溶媒は、透明基材に選択した材料に応じて、バインダーマトリックスに用いた材料を分散・溶解可能な適宜公知の材料を用いてよい。また、溶媒は、複数の材料が混合された混合溶媒であってもよい。混合溶媒を用いることにより、「透明基材を溶解または膨潤させる溶媒」と「透明基材を溶解または膨潤させない溶媒」との比率を調整することで塗液内の「透明基材を溶解または膨潤させる成分」の量の多寡を調整することが出来、混合層を好適に形成可能な塗液を調整することが出来る。
【００４２】
混合溶媒を用いる場合、全溶媒のうち「透明基材を溶解または膨潤させる溶媒」の占める比率は、３０ｗｔ％以上９０ｗｔ％以下程度の範囲内にあることが好ましく、４０ｗｔ％以上８０ｗｔ％以下程度の範囲内、５０ｗｔ％以上７０ｗｔ％以下程度の範囲内、がより好ましい。３０ｗｔ％より少ない場合、充分に透明基材を溶解または膨潤できず、好適に混合層を形成することが出来ない。また、９０ｗｔ％より大きい場合、混合層の厚みが増大して反射防止フィルムの硬度が低下する、偏在層の低屈折率粒子が凝集して必要以上のヘイズが発生する、など不適である。
【００４３】
透明基材にトリアセチルセルロースフィルムを用いる場合、「透明基材を溶解または膨潤させる溶媒」としては、例えば、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、ジオキサン、ジオキソラン、トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトール等のエーテル類、またアセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキサノン等の一部のケトン類、また蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ｎ−ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン醸エチル、酢酸ｎ−ペンチル、およびγ−プチロラクトン等のエステル類、さらには、メチルセロソルブ、セロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ類、その他としてＮ−メチル−２−ピロリドン（Ｎ−メチルピロリドン）、炭酸ジメチル、などが挙げられる。また、上記溶媒は１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００４４】
透明基材にトリアセチルセルロースフィルムを用いる場合、「透明基材を溶解または膨潤させない溶媒」としては、例えば、エタノール、イソプロピルアルコールなどのアルコール類、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、シクロヘキシルベンゼンなどの芳香族炭化水素類、ｎ−ヘキサンなどの炭化水素類、メチルイソブチルケトン、メチルブチルケトン、ジアセトンアルコールなどの一部のケトン類などが挙げられる。また、上記溶媒は１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００４５】
また、塗液に添加剤を添加しても良い。例えば、添加剤として、表面調整剤、屈折率調整剤、密着性向上剤、硬化剤、などを用いてもよい。
【００４６】
＜塗布工程＞
次に、前記塗液を透明基材上に塗布する。
【００４７】
透明基材用いる材料は、透明性や光の屈折率等の光学特性、耐衝撃性、耐熱性、耐久性などの諸物性を考慮して、適宜公知の材料より選択してよい。例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セロファン等のセルロース系、６−ナイロン、６，６−ナイロン等のポリアミド系、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、エチレンビニルアルコール等の有機高分子からなるものが用いられる。特に、ポリエチレンテレフタレート、トリアセチルセルロース、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、などの有機高分子フィルムを用いてもよい。また、透明基材に用いる材料は、添加剤を添加された材料であってもよい。添加剤としては、例えば、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、可塑剤、滑剤、着色剤、酸化防止剤、難燃剤、などが挙げられる。また、透明基材用いる材料は、特に、トリアセチルセルロースフィルムからなることが好ましい。トリアセチルセルロースフィルムは、複屈折率が小さく、透明性が良好なフィルムである。このため、特に、液晶ディスプレイ表面に設ける反射防止フィルムとして、好適に用いることができる。また、透明基材用いる材料は１種または２種以上の材料を混合した混合物、重合体であってもよい。
【００４８】
また、透明基材の厚みは２５μｍ以上２００μｍ以下程度の範囲内にあることが好ましく、４０μｍ以上８０μｍ以下程度の範囲内にあることがより好ましい。ただし、本発明の反射防止フィルム製造方法に用いる透明基材の厚みは上記範囲に限定されるものではない。また、透明基材は、複数の層を積層させた多層の基材であってもよい。
【００４９】
塗布方法は、ロールコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、マイクログラビアコーター、ナイフコーター、バーコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、ディップコーター、などを用いた塗布方法を用いることができる。
【００５０】
＜乾燥工程＞
次に、前記透明基材上に塗布された前記塗液を乾燥させ、塗液内の溶媒を除去し、透明基材上に塗膜を形成する。乾燥は、適宜公知の乾燥手段を用いて行ってよい。例えば、乾燥手段として、加熱、送風、熱風、などを用いることができる。
【００５１】
また、乾燥工程は、複数段階の乾燥を行うことが好ましい。本発明の反射防止フィルム製造方法では、塗液によって透明基材を溶解または膨潤することにより混合層を形成するため、塗液を塗工後ただちに急激な乾燥を行うと混合層の形成が阻害される。このため、複数段階の乾燥を行い、段階毎に乾燥条件を変更することで、混合層を形成しつつ、好適に乾燥を行うことが出来る。
【００５２】
例えば、一次乾燥した後、二次乾燥を行っても良い。このとき、一次乾燥は、乾燥温度２０℃以上３０℃以下程度の範囲内で行い、二次乾燥として乾燥温度５０℃以上１５０℃以下程度の範囲内行うことが好ましい。
【００５３】
また、乾燥工程では、透明基材上の塗膜中に含まれる溶媒が１０ｗｔ％以下となるまでの時間が２秒以上６０秒以下程度の範囲内であることが好ましい。「塗膜中に含まれる溶媒が１０ｗｔ％以下となる」という乾燥の初期において、乾燥時間を上記範囲にすることにより、混合層の形成および反射防止層（低屈折率層および高屈折率層）の偏析を好適に行うことが出来る。乾燥時間が２秒より少ない場合、塗液の急激な乾燥により、反射防止層の偏析が阻害される。また、乾燥時間が６０秒より大きい場合、生産にかかるタクトタイムが増加し、コスト増の要因となる。特に、本発明の反射防止フィルム製造方法をロール・ツー・ロール方式により実施する場合、乾燥時間が長いと、（１）透明基材の搬送速度を低下させる、（２）塗膜を乾燥するための乾燥ユニットを長くする、などが必要となる。このため、乾燥時間が６０秒より大きくなると、連続的に製造することが困難となり現実的ではない。なお、塗布された塗液中に含まれる溶媒の量は、重量を測定することにより求めることができる。また、赤外線モニタによっても測定することができる。
【００５４】
また、乾燥工程では、溶媒濃度が０．２ｖｏｌ％以上１０ｖｏｌ％以下の溶媒雰囲気下でおこなうことが好ましい。ここで、「溶媒濃度」は、塗液に含まれる溶媒のうちから選ばれた少なくとも１種類以上の溶媒の濃度をいう。溶媒濃度が０．２ｖｏｌ％より小さい溶媒雰囲気下の場合、乾燥が急激となり、反射防止層の偏析が阻害される。また、溶媒濃度が１０ｖｏｌ％より大きい溶媒雰囲気下の場合、乾燥時間が増加し、生産にかかるタクトタイムが増加することになり、コスト増の要因となる。
【００５５】
＜電離放射線照射工程＞
また、塗液が電離放射線硬化型材料および光重合開始剤を含む塗液の場合、更に、前記塗膜に電離放射線を照射し、塗膜を硬化してもよい。電離放射線を照射し、硬化することにより、反射防止フィルム表面に高い表面硬度を付与することができ、耐擦傷性に優れた反射防止フィルムとすることができる。
【００５６】
電離放射線としては、紫外線、電子線、などを用いてよい。紫外線硬化の場合、高圧水銀灯、低圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、カーボンアーク、キセノンアーク、などの光源が利用できる。また、電子線硬化の場合、コックロフトワルト型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型、などの各種電子線加速器から放出される電子線が利用できる。用いる電子線は、５０ＫｅＶ以上１０００ＫｅＶ以下程度のエネルギーを有するのが好ましく、１００ＫｅＶ以上３００ＫｅＶ以下程度のエネルギーを有する電子線がより好ましい。
【００５７】
また、本発明の反射防止フィルム製造方法は、（１）枚葉状の透明基材に塗布する枚葉方式、（２）ロール状の透明基材に塗布し、製造された反射防止フィルムを巻き取る、ロール・ツー・ロール方式、のいずれの方式で実施しても良い。特に、ロール・ツー・ロール方式は反射防止フィルムを連続的に形成でき、本発明の反射防止フィルム製造方法の実施方式として好ましい。例えば、ロール・ツー・ロール方式を用いて本発明の反射防止フィルム製造方法の実施する場合、透明基材を、巻き出し部／塗布ユニット／乾燥ユニット／電離放射線照射ユニット／巻き取り部、この順で通過させ、連続走行することにより連続的に反射防止フィルムを製造してもよい。
【００５８】
以上より、透明基材／透明基材が溶解または膨潤した混合層／高屈折率粒子が局在した高屈折率層および低屈折率粒子が局在した低屈折率層／がこの順で積層した反射防止フィルムを製造することが出来る。
【００５９】
以下、本発明の反射防止フィルムについて説明を行う。
本発明の反射防止フィルムは、透明基材と、前記透明基材上に積層されたハードコート層と、前記ハードコート層上に積層された反射防止層と、を備え、
前記ハードコート層は、前記透明基材の成分とバインダーマトリックスとが混合した混合層であり、前記反射防止層は、少なくとも、低屈折率粒子が局在した低屈折率層および高屈折率粒子が局在した高屈折率層、を有する。
【００６０】
本発明の反射防止フィルムでは、混合層は透明基材の成分とバインダーマトリックスの成分とが混合しており、透明基材と混合層との物理的境界は明瞭ではない。このため、各層ごとに塗工して製造された従来の反射防止フィルムと比較して、（１）層界面による光干渉によって発生する干渉縞、（２）層界面における物理的剥離、を抑制することが出来る。
【００６１】
また、本発明の反射防止フィルムでは、前記混合層と、前記高屈折率層および前記低屈折率層と、は光学的に分離していることが好ましい。本発明の反射防止フィルム製造方法によれば、混合層を形成することにより、混合層と反射防止層（高屈折率層および低屈折率層）との層分離を促進することが出来る。このため、光学測定を行ったとき混合層と反射防止層とが光学的に分離する程に層分離させることが出来る。
なお、本明細書において、「光学的に分離している」とは、反射防止フィルムの表面から５°の入射角で可視光（３８０ｎｍ以上８００ｎｍ以下）での分光反射率を求め、この分光反射率について光学シミュレーションを行った際に、反射防止層に起因する分光スペクトルを観測することができる状態をいう。
【００６２】
また、本発明の反射防止フィルムは、「前記低屈折率層の屈折率が１．２９以上１．４３以下の範囲内であり、且つ、前記低屈折率層の光学膜厚が１００ｎｍ以上２００ｎｍ以下の範囲内であり、前記高屈折率層の屈折率が１．５３以上１．６５以下の範囲内であり、且つ、前記高屈折率層の光学膜厚が２００ｎｍ以上４００ｎｍ以下の範囲内であること」が好ましい。低屈折率層の光学膜厚を１００ｎｍ以上２００ｎｍ以下程度の範囲内とすることにより、低屈折率層の光学膜厚を可視光波長の１／４波長程度とすることが出来る。また、高屈折率層の光学膜厚を２００ｎｍ以上４００ｎｍ以下の範囲内とすることにより、高屈折率層の光学膜厚は可視光波長の１／２波長程度とすることが出来る。よって、上記範囲内に低屈折率層および高屈折率層を形成することにより、広い波長域に渡って高い反射防止性能を有する反射防止層とすることができる。
【００６３】
また、本発明の反射防止フィルムは、「低屈折率層の光学膜厚が１１０ｎｍ以上１４０ｎｍ以下の範囲、且つ、高屈折率層の光学膜厚が２２０ｎｍ以上２８０ｎｍ以下の範囲であること」がより好ましい。低屈折率層および高屈折率層の光学膜厚を上記範囲内に収めたとき、反射防止フィルムの観察面側から求められる分光反射率曲線を５００ｎｍ近傍で極小値をとる分光反射率曲線とすることができる。分光反射率曲線を５００ｎｍ近傍で極小値をとる分光反射率曲線とすることで、可視光の波長領域での分光反射率曲線の急峻な上昇を抑制できるため、反射色相が小さく、且つ、色ムラの発生の少ない反射防止フィルムとすることができる。
【００６４】
また、混合層、高屈折率層および低屈折率層の３層の合計膜厚は、２．５μｍ以上１５μｍ以下程度の範囲内にあることが好ましい。２．５μｍより小さい場合、十分なハードコート性を備えず、反射防止フィルムの硬度が不十分となってしまい好ましくない。また、１５μｍより大きい場合、（１）用いる塗液の量増加によるコスト増、（２）可撓性の低下、（３）塗膜の硬化収縮による反射防止フィルムのカールの発生、などの観点から好ましくない。ただし、本発明の反射防止フィルムにおける混合層、高屈折率層および低屈折率層の３層の合計膜厚は上記範囲に限定されるものではない。
【００６５】
また、本発明の反射防止フィルムは、観察面側の視感平均反射率は、０．３％以上２．０％以下程度の範囲内にあることが好ましく、０．３％以上１．５％以下程度の範囲内であることがより好ましい。観察面側の反射防止フィルム表面での視感平均反射率が２．０％より大きい場合、十分な反射防止性能を備える反射防止フィルムとすることができない。また、観察面側の反射防止フィルム表面での視感平均反射率が０．３％より小さい場合、光学干渉により反射防止フィルムとして機能することが困難である。
【００６６】
また、本発明の反射防止フィルムは、「観察面側のＬ＊ａ＊ｂ＊色度系における反射色相は、０．００≦ａ＊≦３．００、且つ、−３．００≦ｂ＊≦３．００を満たすこと」が好ましい。反射色相は、ａ＊、ｂ＊が０に近いほど無色に近い。しかしながら、−３．００≦ａ＊＜０．００は比視感度の高い緑色の領域であり、観察者にとって色味が認識されやすい傾向にある。したがって、本発明の反射防止フィルムにあっては、０．００≦ａ＊≦３．００且つ−３．００≦ｂ＊≦３．００とすることが好ましく、ａ＊、ｂ＊を上記範囲内とすることにより観察者に色味の視認されにくい反射防止フィルムとすることができる。
【００６７】
図１に、本発明の反射防止フィルム１の一例を示す。
図１は、透明基材２０の上層に積層され、ハードコート層として機能する混合層１２、混合層１２の上層に積層された反射防止層１１を備える本発明の反射防止フィルム１の断面模式図である。図１において、反射防止層１１は、高屈折率粒子が局在した高屈折率層１１ｂ、高屈折率層１１ｂの上層に積層され、低屈折率粒子が局在した低屈折率層１１ａの２層よりなる。
【００６８】
以下、本発明の偏光板について説明を行う。
本発明の偏光板は、上述に記載の反射防止フィルムに偏光層を設けたことを特徴とする偏光板である。
【００６９】
偏光層は、透過したとき偏光させる物性を示す材料を適宜公知の材料から選択して形成してよい。例えば、ＰＶＡ偏光フィルム、などを用いてもよい。ＰＶＡ偏光フィルムは、主として延伸配向したポリビニルアルコールフィルム及びその誘導体にヨウ素を配向させて吸着させることにより偏光性能を示すフィルムである。
【００７０】
図２に、本発明の偏光板の一例を示す。
図２は、本発明の反射防止フィルム１の透明基材側と偏光板透明基材１とで偏光層２２を矜持した構成の本発明の偏光板２の模式断面図である。偏光板透明基材１は、本発明の反射防止フィルム１にて用いることが出来る透明基材と同様の材料のものを適宜選択してよい。例えば、偏光板透明基材１として、トリアセチルセルロースからなるフィルムを用いてもよい。
【００７１】
以下、本発明の表示装置について説明を行う。
本発明の表示装置は、上述に記載の反射防止フィルムを備えた表示装置である。
本発明の表示装置は、観察面側に本発明の反射防止フィルムを貼り付けた表示装置や、上述した本発明の偏光板を内部に組み込んだ表示装置、などが挙げられる。
【００７２】
また、本発明の表示装置は、本発明の反射防止フィルムおよび偏光板の他に、他の機能性部材を備えても良い。他の機能性部材としては、例えば、バックライトから発せられる光を有効に使うための、拡散フィルム、プリズムシート、輝度向上フィルム、液晶セルや偏光板の位相差を補償するための位相差フィルム、などが挙げられる。
【００７３】
図３に、本発明の偏光板を内部に組み込んだ透過型液晶ディスプレイを本発明の表示装置の一例として示す。
図３は、観察面側から見て、偏光板２／液晶セル３／第二偏光板４／バックライトユニット５、がこの順で配置された表示装置の模式断面図である。偏光板２は、本発明の反射防止フィルム１の透明基材側と偏光板透明基材２１とで偏光層２２を矜持した構成である。また、第二偏光板は、第二偏光板偏光層４２を第二偏光板透明基材上層４０と第二偏光板透明基材下層４１とで矜持した構成である。また、バックライトユニット５は観察面方向に向け光を投射する。バックライトユニット５から投射した光は、第二偏光板４／液晶セル３／偏光板２を順に透過し、観察面に図柄を表示する。
【実施例】
【００７４】
＜実施例１＞
まず、透明基材を溶解または膨潤させる成分を含む塗液を調整した。以下に組成を示す。
【００７５】
（塗液：実施例１）
低屈折率粒子：中空シリカ微粒子分散液（平均粒子径４０ｎｍ／固形分２０ｗｔ％／イソプロピルアルコール分散）２．０重量部。
高屈折率粒子：アンチモンドープ酸化スズ粒子分散液（ＡＴＯ／平均粒子径８ｎｍ／固形分２０ｗｔ％／イソプロピルアルコール分散）６．５重量部。
バインダーマトリックス（電離放射線硬化型材料）：トリメチロールプロパンアクリレート３６．７重量部、テトラヒドロフルフリルアクリレート９．２重量部。
光重合開始剤：イルガキュア１８４（チバ・ジャパン社製）２．４重量部。
溶媒：イソプロピルアルコールとメチルイソブチルケトンを重量比で４：６で混合した混合溶媒４３．２重量部。
固形分：５０ｗｔ％。
塗液における透明基材を溶解または膨潤させる成分の占める割合：９．２ｗｔ％。
【００７６】
次に、塗液を透明基材上に塗布した。
このとき、透明基材は、トリアセチルセルロースフィルム（屈折率１．４９、厚さ８０μｍ）とした。また、ワイヤーバーコーターを用いて塗布した。
【００７７】
次に、塗布された塗液を乾燥させ、透明基材上に塗膜を形成した。
このとき、一次乾燥し、二次乾燥し、２段階の乾燥を行った。一次乾燥および二次乾燥の乾燥条件を以下に示す。
【００７８】
（乾燥条件：実施例１）
一次乾燥：３０秒２５℃で室温乾燥。
二次乾燥：オーブンで１００℃１分乾燥。
【００７９】
次に、塗膜に電離放射線を照射し、塗膜を硬化した。
このとき、電離放射線として紫外線を照射した。また、紫外線の照射は、コンベア式紫外線硬化装置を用いて露光量４００ｍＪ／ｃｍ２とした。
【００８０】
以上より、透明基材／混合層／高屈折率層／低屈折率層がこの順で積層された本発明の反射防止フィルムを得た。また、混合層／高屈折率層／低屈折率層の３層を合計した厚みは、５μｍであった。
【００８１】
＜実施例２＞
実施例１と同様に、反射防止フィルムを製造した。
ただし、塗液を以下の組成とした。また、塗液の変更に合わせて乾燥条件を変更した。
【００８２】
（塗液：実施例２）
低屈折率粒子：フッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）微粒子分散液（一次粒子径２０ｎｍ／固形分２０ｗｔ％／イソプロピルアルコール分散）３．０重量部。
高屈折粒子：アンチモンドープ酸化スズ粒子分散液（ＡＴＯ／平均粒子径８ｎｍ／固形分２０ｗｔ％／イソプロピルアルコール分散）６．５重量部。
バインダーマトリックス（電離放射線硬化型材料）：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）９．１重量部、リメチルプロパンアクリレート３６．６重量部。
光重合開始剤：イルガキュア１８４（チバ・ジャパン社製）２．４重量部。
溶媒：アセトンとイソプロピルアルコールとメチルイソブチルケトンを重量比で７：１：２の割合で混合した混合溶媒４２．２重量部。
固形分：５０ｗｔ％。
塗液における透明基材を溶解または膨潤させる成分の占める割合：２９．５ｗｔ％。
【００８３】
（乾燥条件：実施例２）
一次乾燥：溶剤濃度が２〜５ｖｏｌ％の溶剤雰囲気下にて３０秒２５℃で室温乾燥。
二次乾燥：オーブンで１００℃１分乾燥。
一次乾燥において、透明基材上の塗膜中に含まれる溶媒が１０ｗｔ％以下となるまでの時間は５秒であった。
【００８４】
＜実施例３＞
実施例１と同様に、反射防止フィルムを製造した。
ただし、塗液を以下の組成とした。また、塗液の変更に合わせて乾燥条件を変更した。
【００８５】
（塗液：実施例３）
低屈折率粒子：中空シリカ微粒子分散液（平均粒子径４０ｎｍ／固形分２０ｗｔ％／イソプロピルアルコール分散）２．０重量部。
高屈折粒子：酸化ジルコニウム粒子分散液（ＺｒＯ２／平均粒子径１１ｎｍ／固形分２０ｗｔ％／イソプロピルアルコール分散）５．５重量部。
バインダーマトリックス（電離放射線硬化型材料）：トリメチロールプロパンアクリレート２２．８重量部、テトラヒドロフルフリルアクリレート２２．８重量部。
光重合開始剤：イルガキュア１８４（チバ・ジャパン社製）２．４重量部。
添加剤：変性シリコーンオイルＴＳＦ４４（ＧＥ東芝シリコーン製）０．５重量部。
溶媒：イソプロピルアルコールとメチルイソブチルケトンを重量比で４：６の割合で混合した混合溶媒４４．０重量部。
固形分：５０ｗｔ％。
塗液における透明基材を溶解または膨潤させる成分の占める割合：２２．８ｗｔ％。
【００８６】
（乾燥条件：実施例３）
一次乾燥：３０秒２５℃で室温乾燥。
二次乾燥：オーブンで１００℃１分乾燥。
【００８７】
＜実施例４＞
実施例１と同様に、反射防止フィルムを製造した。
ただし、塗液を以下の組成とした。また、塗液の変更に合わせて乾燥条件を変更した。
【００８８】
（塗液：実施例４）
低屈折率粒子：中空シリカ微粒子分散液（平均粒子径４０ｎｍ／固形分２０ｗｔ％／イソプロピルアルコール分散）２．０重量部。
高屈折粒子：アンチモンドープ酸化スズ粒子分散液（ＡＴＯ／平均粒子径８ｎｍ／固形分２０ｗｔ％／イソプロピルアルコール分散）６．５重量部。
バインダーマトリックス（電離放射線硬化型材料）：トリメチロールプロパンアクリレート１３．８重量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）１３．８重量部。
光重合開始剤：イルガキュア１８４（チバ・ジャパン社製）１．４重量部。
溶媒：酢酸エチルとイソプロピルアルコールを重量比で９：１の割合で混合した混合溶媒６５．９重量部。
固形分：３０ｗｔ％。
塗液における透明基材を溶解または膨潤させる成分の占める割合：５９．３ｗｔ％。
【００８９】
（乾燥条件：実施例４）
一次乾燥：溶剤濃度が２〜５ｖｏｌ％の溶剤雰囲気下にて３０秒２５℃で室温乾燥。
二次乾燥：オーブンで１００℃１分乾燥。
一次乾燥において、透明基材上の塗膜中に含まれる溶媒が１０ｗｔ％以下となるまでの時間は１２秒であった。
【００９０】
＜比較例１＞
実施例１と同様に、反射防止フィルムを製造した。
ただし、塗液を以下の組成とし、「塗液における透明基材を溶解または膨潤させる成分」を含まない塗液とした。また、塗液の変更に合わせて乾燥条件を変更した。
【００９１】
低屈折率微粒子：中空シリカ微粒子分散液（平均粒子径４０ｎｍ／固形分２０ｗｔ％／イソプロピルアルコール分散）２．０重量部。
高屈折率粒子：アンチモンドープ酸化スズ粒子分散液（ＡＴＯ／平均粒子径８ｎｍ／固形分２０ｗｔ％／イソプロピルアルコール分散）６．５重量部。
バインダーマトリックス（電離放射線硬化型材料）：トリメチロールプロパンアクリレート３６．７重量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）９．１重量部。
光重合開始剤：イルガキュア１８４（チバ・ジャパン社製）２．４重量部。
溶媒：イソプロピルアルコールとメチルイソブチルケトンを重量比で４：６の割合で混合した混合溶媒４３．２重量部。
固形分：５０ｗｔ％
塗液における透明基材を溶解または膨潤させる成分の占める割合：０ｗｔ％。
【００９２】
（乾燥条件：比較例１）
一次乾燥：溶剤濃度が２〜５ｖｏｌ％の溶剤雰囲気下にて３０秒２５℃で室温乾燥。
二次乾燥：オーブンで１００℃１分乾燥。
一次乾燥において、透明基材上の塗膜中に含まれる溶媒が１０ｗｔ％以下となるまでの時間は１５秒であった。
【００９３】
＜比較例２＞
実施例１と同様に、反射防止フィルムを製造した。
ただし、塗液を以下の組成とし、「塗液における透明基材を溶解または膨潤させる成分」を極微量とし、混合層を形成しないものとした。また、塗液の変更に合わせて乾燥条件を変更した。
【００９４】
（塗液：比較例２）
低屈折率粒子：フッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）微粒子分散液（一次粒子径２０ｎｍ／固形分２０ｗｔ％／イソプロピルアルコール分散）３．０重量部。
高屈折率粒子：アンチモンドープ酸化スズ粒子分散液（ＡＴＯ／平均粒子径８ｎｍ／固形分２０ｗｔ％／イソプロピルアルコール分散）６．５重量部。
バインダーマトリックス（電離放射線硬化型材料）：トリメチルプロパンアクリレート３６．６重量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）４．９重量部。
光重合開始剤：イルガキュア１８４（チバ・ジャパン社製）２．０重量部。
溶媒：アセトンとイソプロピルアルコールとメチルイソブチルケトンを重量比で１：５：４の割合で混合した混合溶媒４２．４重量部。
固形分：５０ｗｔ％
塗液における透明基材を溶解または膨潤させる成分の占める割合：４．２ｗｔ％
【００９５】
（乾燥条件：比較例２）
一次乾燥：溶剤濃度が０．１ｖｏｌ％以下の開放空間にて３０秒２５℃で室温乾燥。
二次乾燥：オーブンで１００℃１分乾燥。
一次乾燥において、透明基材上の塗膜中に含まれる溶媒が１０ｗｔ％以下となるまでの時間は８秒であった。
【００９６】
＜比較例３＞
透明基材／ハードコート層／高屈折率層／低屈折率層がこの順で積層された反射防止フィルムを各層ごとに積層し、反射防止フィルムを得た。
【００９７】
まず、透明基材にハードコート層形成用塗液を塗工し、乾燥し、紫外線照射し、透明基材上にハードコート層を形成した。このとき、透明基材はトリアセチルセルロースフィルムを用いた。また、塗工にはワイヤーバーコーターを用いた。また、乾燥条件は、オーブンで８０℃１分乾燥とした。また、紫外線照射は、コンベア式紫外線硬化装置を用いて露光量４００ｍＪ／ｃｍ２とした。また、形成されたハードコート層の厚みは５μｍであった。以下、ハードコート層形成用塗液の組成を以下に示す。
【００９８】
（ハードコート層形成用塗液：比較例３）
電離放射線硬化型材料：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）１０重量部、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＰＥＴＡ）３０重量部、ウレタンアクリレート（共栄社化学株式会社製ＵＡ−３０６Ｔ）１０重量部。
光重合開始剤：イルガキュア１８４（チバジャパン株式会社製）２．５重量部。
溶媒：メチルエチルケトン２５重量部、酢酸ブチル２５重量部。
【００９９】
次に、表面処理されたハードコート層上に高屈折率層形成用塗液を塗工し、乾燥し、ハードコート層上に高屈折率層を形成した。このとき、ハードコート層の表面処理はアルカリ処理とした。また、塗工にはワイヤーバーコーターを用いた。また、乾燥条件は、オーブンで１２０℃１分間加熱乾燥とした。また、形成された高屈折率層の光学膜厚（ｎｄ）は可視光波長の１／４とした。以下、高屈折率層形成用塗液の調整法を示す。
【０１００】
（高屈折率層形成用塗液：比較例３）
テトラエトキシシランにイソプロピルアルコールおよび０．１Ｎ塩酸を加え、加水分解し、テトラエトキシシラン重合体を含む溶液を得た。テトラエトキシシラン重合体を含む溶液に一次粒子径が８ｎｍのアンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）微粒子を混合し、イソプロピルアルコールを加え、高屈折率層形成用塗液１００重量部中にテトラエトキシシランの重合体２．５重量部、アンチモンドープ酸化スズ微粒子２．５重量部を含む高屈折率層形成用塗液を調整した。
【０１０１】
次に、高屈折率層上に低屈折率層形成用塗液を塗工し、乾燥し、低屈折率層を形成した。このとき、塗工にはワイヤーバーコーターを用いた。また、乾燥条件は、オーブンで１２０℃１分間加熱乾燥とした。以下、低屈折率層形成用塗液の調整法を示す。
【０１０２】
（低屈折率層形成用塗液：比較例３）
テトラエトキシシランと１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロオクチルトリメトキシシランとをｍｏｌ比で９５：５となるように混合し、イソプロピルアルコールおよび０．１Ｎ塩酸を加え加水分解し、有機ケイ素化合物の重合体を含む溶液を得た。有機ケイ素化合物の重合体を含む溶液に内部に空隙を有する低屈折率シリカ微粒子分散液（一次粒子径３０ｎｍ／固形分２０重量％）を混合し、イソプロピルアルコールを加え、低屈折率層形成用塗液１００重量部中に有機ケイ素化合物２．０重量部、低屈折率シリカ微粒子２．０重量部を含む低屈折率層形成用塗液を得た。
【０１０３】
以上より、透明基材／ハードコート層／高屈折率層／低屈折率層がこの順で積層された反射防止フィルムを得た。
【０１０４】
＜測定・評価＞
得られた実施例１〜４および比較例１〜３の反射防止フィルムについて、（１）混合層の有無、（２）分光反射率の測定、（３）視感平均反射率・反射色相の測定、（４）色むら・干渉縞の測定、をそれぞれ行った。表１に結果をまとめて示す。
【０１０５】
（混合層の有無）
反射防止フィルムについて、ミクロトームによる断面出しをし、断面について電子顕微鏡を用いて観察した。このとき、透明基材との境界が不明瞭であると混合層が形成されたものとした。
【０１０６】
（分光反射率の測定）
反射防止フィルムについて、観察面と反対側の面を黒色艶消しスプレーにより黒色に塗布し、自動分光光度計（日立製作所製、Ｕ−４０００）を用いて観察面側の分光反射率を測定した。このとき、測定条件は、Ｃ光源、２度視野、入射角５°とした。また、得られた分光反射率曲線から光学シミュレーション法により、低屈折率層および高屈折率層の有無、低屈折率層および高屈折率層の光学膜厚、低屈折率層および高屈折率層の屈折率、ハードコート層（混合層）の屈折率を求めた。反射防止フィルムにおいて、各層（ハードコート層、高屈折率層、低屈折率層）の厚みは塗液の組成と単位面積あたりの塗布量および断面観測図からの計測などから予測することができる（以下、予測された厚みを想定膜厚という）。また、光学膜厚（ｎｄ）は対象となる層の屈折率（ｎ）と層厚（ｄ）をかけることにより得られる値である。よって、光学シミュレーションにより求められた光学膜厚が想定膜厚よりも厚い場合、低屈折粒子が局在した低屈折率層および高屈折粒子が局在した高屈折率層が形成されたと判断することが出来る。
【０１０７】
（視感平均反射率・反射色相の測定）
反射防止フィルムについて、観察面と反対側の面を黒色艶消しスプレーにより黒色に塗布し、自動分光光度計（日立製作所製、Ｕ−４０００）を用いて観察面側の分光反射率を測定した。このとき、測定条件は、Ｃ光源、２度視野、入射角５°とした。また、得られた分光反射率から平均視感反射率（Ｙ％）、反射色相（ａ＊、ｂ＊）を算出した。また、比視感度は明所視標準比視感度を用いた。
【０１０８】
（色ムラ・干渉縞の測定）
反射防止フィルムについて、観察面側に蛍光灯を映りこませ、反射光を目視観察することにより、色ムラ・干渉縞の有無を確認した。なお、本明細書において、色ムラとは反射防止層として機能する高屈折率層および低屈折率層の膜厚ムラに起因して面内の色バラツキが大きくなり、外観不良となる反射色ムラのことをいう。
【０１０９】
【表１】
【０１１０】
表１より、混合層を形成するほど充分に「透明基材を溶解または膨潤させる成分を含む塗液」を用いた実施例１〜３では、透明基材／混合層／高屈折率層／低屈折率層がこの順で積層された反射防止フィルムをワンコートで製造できることが確認された。
また、実施例１〜３の反射防止フィルムは、「前記低屈折率層の屈折率が１．２９以上１．４３以下の範囲内であり、且つ、前記低屈折率層の光学膜厚が１００ｎｍ以上２００ｎｍ以下の範囲内であり、前記高屈折率層の屈折率が１．５３以上１．６５以下の範囲内であり、且つ、前記高屈折率層の光学膜厚が２００ｎｍ以上４００ｎｍ以下の範囲内であること」および「観察面側の視感平均反射率は、０．３％以上２．０％以下の範囲内にあり、観察面側のＬ＊ａ＊ｂ＊色度系における反射色相は、０．００≦ａ＊≦３．００、且つ、−３．００≦ｂ＊≦３．００を満たすこと」が確認された。このため、反射防止フィルムとして好適に用いることが出来ることが確認された。
【０１１１】
混合層を形成するほど充分に「透明基材を溶解または膨潤させる成分を含む塗液」を用いなかった比較例１〜２では、高屈折率粒子および低屈折率粒子の偏析が不十分であり、高屈折率層および低屈折率層が光学測定できるほどに層分離されなかった。よって、実施例１〜３と比較した場合、混合層を形成することにより、高屈折率層および低屈折率層の層分離が促進される傾向があることが確認された。また、混合層が形成されなかった比較例１〜２では、反射防止層として機能する高屈折率層および低屈折率層が充分に形成されなかったことから、干渉縞が確認された。よって、実施例１〜３と比較した場合、反射防止フィルムとして用いるには不適であることが確認された。
【０１１２】
湿式成膜法を用いて各層ごとに製造した比較例３では、ハードコート層と高屈折率層と低屈折率層との膜厚のばらつきに起因する色ムラの発生が確認された。よって、実施例１〜３と比較した場合、混合層の形成によって高屈折率粒子および低屈折率粒子を偏析することにより、膜厚のばらつきの少ない高屈折率層および低屈折率層が形成されることが確認された。
【産業上の利用可能性】
【０１１３】
本発明は、外光が反射することを防止することを目的として設けられる反射防止フィルムとして利用が期待される。また、反射防止フィルムに偏光層を設けることにより偏光板としての利用が期待される。例えば、（１）液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、透過型液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、ＣＲＴディスプレイ、有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、表面電界ディスプレイ（ＳＥＤ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）、などの表示装置、（２）ガラス、プラスチックフィルム、などのウィンドウ表面、（３）光学レンズ、眼鏡などの光学部材の表面、などに用いられる反射防止フィルムおよび偏光板、として利用が期待される。
【符号の説明】
【０１１４】
１……反射防止フィルム
１１……反射防止層
１１ａ……低屈折率層
１１ｂ……高屈折率層
１２……ハードコート層
２０……透明基材
２……偏光板
２１……偏光板透明基材
２２……偏光層
３……液晶セル
４……第二偏光板
４０……第二偏光板透明基材上層
４１……第二偏光板透明基材下層
４２……第二偏光板偏光層
５……バックライトユニット
【技術分野】
【０００１】
本発明は、反射防止フィルム、該反射防止フィルムを用いた偏光板、該反射防止フィルムを用いた表示装置、該反射防止フィルムの製造に適した反射防止フィルム製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、画像表示装置は、外光が表示画面上に映りこむことによって画像を認識しづらくなるという問題がある。また、最近では、屋内だけでなく屋外にも持ち出される機会が増加し、表示画面上への外光の映り込みや高度な耐久性がより重要な課題になっている。そこで、屈折率の異なる層を反射防止層として積層した積層体を反射防止フィルムとし、該反射防止フィルムを表示装置表面に設けることが提案されている。
【０００３】
また、反射防止フィルムでは、表面硬度、耐擦傷性を付与するために、硬度に優れたハードコード層を積層体内部に配置することが行われている。
【０００４】
また、反射防止フィルムに偏光層を設け、表示装置などに用いる偏光板として用いることが提案されている。
【０００５】
例えば、液晶表示パネル（ＬＣＤパネル）に用いる偏光板として、反射防止フィルムに偏光層を設けた構成の偏光板が知られている（特許文献１参照）。
【０００６】
上述のような反射防止フィルムの製造方法として、湿式成膜法を用いることが提案されている。湿式成膜法は、各層ごとに塗液を調整し、各層ごとに塗液を塗工することにより積層体を形成する方法である。
【０００７】
例えば、反射防止層／ハードコート層／透明基材が、観察面からみてこの順で積層された反射防止フィルムを、湿式成膜法を用いて製造することが知られている（特許文献２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２０００−３２１４２８号公報
【特許文献２】特開２００５−１９９７０７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
反射防止フィルムにあっては、多層構成とすることにより反射防止性能といった光学特性やその他の特性をを良好とすることができる。しかしながら、湿式成膜法を用いてハードコート層を有する反射防止フィルムを製造する場合、ハードコート層、反射防止層、など、各層ごとに材料を分散した塗液を調整し、塗液を塗工する必要があった。このため、製造工程数が増加し、製造効率が低下する問題があった。
【００１０】
そこで、本発明は、上述の問題を解決するためになされたものであり、１回の塗工（ワンコート）で多層の積層体を形成できる反射防止フィルム製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の一実施形態は、少なくとも、低屈折率粒子と、高屈折率粒子と、バインダーマトリックスと、を溶媒に分散させ、透明基材を溶解または膨潤させる成分を含む塗液を調整する塗液調整工程と、前記塗液を透明基材上に塗布する塗布工程と、前記透明基材上に塗布された前記塗液を乾燥させ、透明基材上に塗膜を形成する乾燥工程と、を備え、前記透明基材上に、前記透明基材の成分と前記バインダーマトリックスとが混合した混合層を形成し、前記混合層より上層に、前記低屈折率粒子が局在した低屈折率層および前記高屈折率粒子が局在した高屈折率層を形成し、前記高屈折率粒子の比重は前記低屈折率粒子の比重より大きいことを特徴とする反射防止フィルム製造方法である。
【００１２】
また、前記塗液は、電離放射線硬化型材料を含む塗液であり、更に、前記塗膜に電離放射線を照射し、塗膜を硬化する電離放射線照射工程と、備えていてもよい。
【００１３】
また、前記塗液における透明基材を溶解または膨潤させる成分の占める割合は、５ｗｔ％以上７０ｗｔ％以下の範囲にあることが好ましい。
【００１４】
本発明の一実施形態は、透明基材と、前記透明基材上に積層されたハードコート層と、前記ハードコート層上に積層された反射防止層と、を備え、前記ハードコート層は、前記透明基材の成分とバインダーマトリックスとが混合した混合層であり、前記反射防止層は、少なくとも、低屈折率粒子が局在した低屈折率層および高屈折率粒子が局在した高屈折率層、を有することを特徴とする反射防止フィルムである。
【００１５】
また、前記混合層と、前記高屈折率層および前記低屈折率層と、は光学的に分離していることが好ましい。なお、本明細書において、「光学的に分離している」とは、反射防止フィルムの表面から５°の入射角で可視光（３８０ｎｍ以上８００ｎｍ以下）での分光反射率を求め、この分光反射率について光学シミュレーションを行った際に、高屈折率層および低屈折率層に起因する分光スペクトルを観測することができる状態をいう。
【００１６】
また、前記低屈折率層の屈折率が１．２９以上１．４３以下の範囲内であり、且つ、前記低屈折率層の光学膜厚が１００ｎｍ以上２００ｎｍ以下の範囲内であり、前記高屈折率層の屈折率が１．５３以上１．６５以下の範囲内であり、且つ、前記高屈折率層の光学膜厚が２００ｎｍ以上４００ｎｍ以下の範囲内にあることが好ましい。
【００１７】
また、観察面側の視感平均反射率は、０．３％以上２．０％以下の範囲内にあり、観察面側のＬ＊ａ＊ｂ＊色度系における反射色相は、０．００≦ａ＊≦３．００、且つ、−３．００≦ｂ＊≦３．００を満たすことが好ましい。
【００１８】
本発明の一実施形態は、上述の反射防止フィルムに偏光層を設けたことを特徴とする偏光板である。
【００１９】
本発明の一実施形態は、上述の反射防止フィルムを備えた表示装置である。
【発明の効果】
【００２０】
本発明の反射防止フィルム製造方法は、低屈折率粒子および高屈折率粒子を分散させた透明基材を溶解または膨潤する成分を含む塗液を透明基材に塗工することより、ワンコートで、透明基材／透明基材が溶解または膨潤した混合層／高屈折率粒子が局在した高屈折率層および低屈折率粒子が局在した低屈折率層／がこの順で積層した積層体を形成することが出来る。このため、１回の塗工で透明基材／ハードコート層（混合層）／反射防止層（高屈折率層および低屈折率層）、が積層された積層体を形成でき、効率よく反射防止フィルムを製造することが出来る。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本発明の反射防止フィルムの一例を示す概略図である。
【図２】本発明の偏光板の一例を示す概略図である。
【図３】本発明の表示装置の一例を示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
本発明の反射防止フィルム製造方法は、低屈折率粒子および高屈折率粒子を分散させた透明基材を溶解または膨潤する成分を含む塗液を透明基材に塗工することより１回の塗工で、透明基材／透明基材が溶解または膨潤した混合層／高屈折率粒子が局在した高屈折率層および低屈折率粒子が局在した低屈折率層／がこの順で積層した積層体を形成することが出来る。このため、ワンコートで透明基材／ハードコート層（混合層）／反射防止層（高屈折率層および低屈折率層）、が積層された積層体を形成でき、効率よく反射防止フィルムを製造することが出来る。
【００２３】
本発明の反射防止フィルム製造方法では、「透明基材を溶解または膨潤させる成分を含む塗液」を透明基材上に塗布する。このとき、「透明基材を溶解または膨潤させる成分」が透明基材へと浸透すると同時にバインダーマトリックスの成分も透明基材側へと浸透する。これにより、透明基材の成分とバインダーマトリックスとが混合した混合層が形成される。また、塗液内に分散した低屈折率粒子および高屈折率粒子は、溶解・溶融したバインダーマトリックスと比較してかさ高いため、透明基材側には浸透しにくい。よって、低屈折率粒子および高屈折率粒子は表面側へと偏析し混合層と低屈折率層および高屈折率層は層分離する。
【００２４】
また、本発明の反射防止フィルム製造方法では、「透明基材を溶解または膨潤させる成分を含む塗液」を透明基材上に塗布するにあたり、透明基材側から塗布した塗液側へ透明基材の成分が移動する。このため、塗布された塗液内では透明基材側から表面側の方向へ物質移動による流れが発生する。このとき、塗液内に分散した低屈折率粒子および高屈折率粒子は、物質移動による流れに沿って拡散移動する。また、「高屈折率粒子の比重は低屈折率粒子の比重より大きいこと」から、低屈折率粒子の方が高屈折率粒子よりも物質移動による流れに沿った移動量は大きくなる。よって、透明基材側に高屈折率粒子が局在した高屈折率層が形成され、表面側に低屈折率粒子が局在した低屈折率層が形成される。
【００２５】
上述したように、本発明の反射防止フィルム製造方法では、混合層を形成することにより、（１）ハードコート層（混合層）／反射防止層（高屈折率層および低屈折率層）を好適に層分離出来る、（２）反射防止層である、高屈折率層と低屈折率層との層分離を促進することが出来る、という効果を奏する。よって、ワンコートで効率よく反射防止フィルムとして利用できる積層体を形成することが出来る。
【００２６】
なお、上述の説明のように層形成が行われるため、透明基材／混合層／高屈折率層／低屈折率層の各層ごとの物理的境界は明瞭ではないが、本明細書では、便宜上、それぞれの成分が多く偏在している部位をそれぞれ「層」として呼称するものとする。
【００２７】
以下、本発明の反射防止フィルム製造方法について説明を行う。
【００２８】
＜塗液調整工程＞
まず、低屈折率粒子と、高屈折率粒子と、バインダーマトリックスと、を溶媒に分散させ、透明基材を溶解または膨潤させる成分を含む塗液を調整する。ここで、「透明基材を溶解または膨潤させる成分」は、バインダーマトリックスとして選択した材料および溶媒として選択した材料によって調整してよい。例えば、（１）透明基材を溶解または膨潤させるバインダーマトリックスと透明基材を溶解または膨潤させる溶媒の組み合わせ、（２）透明基材を溶解または膨潤させるバインダーマトリックスと透明基材を溶解または膨潤させない溶媒の組み合わせ、（３）透明基材を溶解または膨潤させないバインダーマトリックスと透明基材を溶解または膨潤させる溶媒の組み合わせ、のいずれであってもよい。
【００２９】
塗液を調整するにあたり、塗液における透明基材を溶解または膨潤させる成分の占める割合は、５ｗｔ％以上７０ｗｔ％以下程度の範囲にあることが好ましい。５ｗｔ％以上７０ｗｔ％以下程度の範囲にあることにより、混合層を形成すると同時に光学的に分離された反射防止層（高屈折率層および低屈折率層）を好適に形成出来る。５ｗｔ％より小さい場合、混合層を充分に形成できないことから、光学的に分離された反射防止層（高屈折率層および低屈折率層）を形成できず好ましくない。また、７０ｗｔ％より大きい場合、（１）混合層の厚みが増大して反射防止フィルムの硬度が低下する、（２）低屈折率粒子が過度に凝集して必要以上のヘイズが発生する、などの観点から不適である。
【００３０】
低屈折粒子および高屈折粒子は、比重および屈折率が異なる粒子を２種以上選び、比重が小さく屈折率の低い一方を低屈折粒子、比重が大きく屈折率の高い他方を高屈折粒子としてよい。また、低屈折粒子および高屈折粒子は、それぞれ単独の粒子であってもよいし、材料や粒径の異なる複数種類を組み合わせて用いてもよい。
【００３１】
低屈折粒子としては、例えば、シリカ粒子、ポリマー粒子、金属フッ化物粒子などを用いてもよい。特に、多孔質シリカ粒子、中空シリカ粒子、中空ポリマー粒子、など空隙を有する粒子は、屈折率が低く、比重が小さく、本発明の反射防止フィルム製造方法に用いる低屈折率粒子として好ましい。また、金属フッ化物粒子としては、ＭｇＦ２（屈折率：１．３８、比重３．１５）などが挙げられる。
【００３２】
高屈折粒子としては、例えば、酸化チタン（ＴｉＯ２、屈折率：２．７１、比重：４．２〜４．３）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２、屈折率：２．１０、比重：５．５）、酸化セリウム（ＣｅＯ２、屈折率：２．２０、比重：７．１）、酸化錫（ＳｎＯ２、屈折率：２．００、比重：７．０）、アンチモン錫酸化物（ＡＴＯ、屈折率：１．７５〜１．８５、比重：６．６）、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ、屈折率：１．９５〜２．００、比重：７．１）、酸化アンチモン（Ｓｂ２Ｏ５、屈折率：２．０４、比重：３．８）、アルミニウム亜鉛酸化物（ＡＺＯ、比重：５．０〜５．５）、ガリウム亜鉛酸化物（比重：５．０〜５．５）、などの粒子を用いてもよい。
【００３３】
また、低屈折率粒子および高屈折率粒子の粒径は、１ｎｍ以上１００ｎｍ以下程度の範囲にあることが好ましく、４０ｎｍ以上８０ｎｍ以下程度の範囲にあることがより好ましい。粒径が１００ｎｍを超える場合、レイリー散乱によって光が著しく反射され、反射防止層が白化して反射防止フィルムの透明性が低下する傾向にある。一方、粒径が１ｎｍ未満の場合、粒子の凝集による反射防止層における粒子の不均一性等の問題が生じる。
【００３４】
また、低屈折率粒子の比重（Ｌ１、Ｌ２、…、Ｌｎ）と高屈折率粒子の比重（Ｈ１、Ｈ２、…、Ｈｎ）の差（Ｈｎ−Ｌｎ）が２．０以上であることが好ましい。低屈折率粒子の比重と高屈折率粒子の比重の差が２．０以上とすることにより、比重差により低屈折率層と高屈折率層との分離がより好適に促進される。
【００３５】
バインダーマトリックスは、透明性や光の屈折率等の光学特性、耐衝撃性、耐熱性、耐久性などの諸物性を考慮して、適宜公知の材料より選択してよい。また、バインダーマトリックスは、複数の樹脂材料が混合された樹脂組成物であってもよい。複数の樹脂材料が混合された樹脂組成物を用いることにより、「透明基材を溶解または膨潤させるバインダーマトリックス」と「透明基材を溶解または膨潤させないバインダーマトリックス」との比率を調整することで塗液内の「透明基材を溶解または膨潤させる成分」の量の多寡を調整することが出来、混合層を好適に形成可能な塗液を調整することが出来る。また、後述する＜電離放射線照射工程＞を行う場合、バインダーマトリックスは電離放射線硬化型材料および光重合開始剤を含む樹脂組成物としてもよい。
【００３６】
また、バインダーマトリックスは熱可塑性樹脂を含むことができる。熱可塑性樹脂を含むことにより、反射防止フィルム自体の反りの発生を抑制できる。熱可塑性樹脂としては、例えば、アセチルセルロース、ニトロセルロース、アセチルブチルセルロース、エチルセルロース、メチルセルロース等のセルロース誘導体、酢酸ビニル及びその共重合体、塩化ビニル及びその共重合体、塩化ビニリデン及びその共重合体等のビニル系樹脂、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール等のアセタール樹脂、アクリル樹脂及びその共重合体、メタクリル樹脂及びその共重合体等のアクリル系樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリアミド樹脂、線状ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、などが挙げられる。
【００３７】
バインダーマトリックスとして用いる電離放射線硬化型材料としては、（メタ）アクリレート化合物、ウレタン（メタ）アクリレート化合物、アクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、などが挙げられる。なお、本明細書において、「（メタ）アクリレート」とは「アクリレート」と「メタクリレート」の両方を示すものとする。例えば、「ウレタン（メタ）アクリレート」は「ウレタンアクリレート」および「ウレタンメタアクリレート」の両方を示す。
【００３８】
透明基材にトリアセチルセルロースフィルムを用いる場合、「透明基材を溶解または膨潤させるバインダーマトリックス」としては、例えば、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、などが挙げられる。また、上記樹脂を１種単独であるいは２種以上を組み合わせてバインダーマトリックスとして用いてもよい。
【００３９】
透明基材にトリアセチルセルロースフィルムを用いる場合、「透明基材を溶解または膨潤させないバインダーマトリックス」としては、例えば、
＜１＞単官能（メタ）アクリレート化合物：
ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルフォリン、Ｎ−ビニルピロリドン、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、セチル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、３−メトキシブチル（メタ）アクリレート、エチルカルビトール（メタ）アクリレート、リン酸（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性リン酸（メタ）アクリレート、フェノキシ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性フェノキシ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性フェノキシ（メタ）アクリレート、ノニルフェノール（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシプロピレングリコール（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２−ヒドロキシプロピルフタレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルハイドロゲンフタレート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフタレート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロハイドロゲンフタレート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルテトラヒドロハイドロゲンフタレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、ヘキサフルオロプロピル（メタ）アクリレート、オクタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、オクタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２−アダマンタンおよびアダマンタンジオールから誘導される１価のモノ（メタ）アクリレートを有するアダマンチルアクリレートなどのアダマンタン誘導体モノ（メタ）アクリレート、など、
＜２＞二官能（メタ）アクリレート化合物：
ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレートなどのジ（メタ）アクリレート、など
＜３＞三官能以上の多官能（メタ）アクリレート化合物：
トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス２−ヒドロキシエチルイソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート等のトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート等の３官能の（メタ）アクリレート化合物や、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンヘキサ（メタ）アクリレート、等の３官能以上の多官能（メタ）アクリレート化合物、および、これら（メタ）アクリレートの一部をアルキル基やε−カプロラクトンで置換した多官能（メタ）アクリレート化合物誘導体、などが挙げられる。
【００４０】
光重合開始剤は、電離放射線が照射された際にラジカルを発生するものであれば良い。例えば、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、の光重合開始剤を用いることができる。また、光重合開始剤の添加量は、電離放射線硬化型材料１００重量部に対して０．１重量部以上１０重量部以下程度の範囲内であることが好ましく、さらには１重量部以上７重量部以下程度であることが好ましい。
【００４１】
溶媒は、透明基材に選択した材料に応じて、バインダーマトリックスに用いた材料を分散・溶解可能な適宜公知の材料を用いてよい。また、溶媒は、複数の材料が混合された混合溶媒であってもよい。混合溶媒を用いることにより、「透明基材を溶解または膨潤させる溶媒」と「透明基材を溶解または膨潤させない溶媒」との比率を調整することで塗液内の「透明基材を溶解または膨潤させる成分」の量の多寡を調整することが出来、混合層を好適に形成可能な塗液を調整することが出来る。
【００４２】
混合溶媒を用いる場合、全溶媒のうち「透明基材を溶解または膨潤させる溶媒」の占める比率は、３０ｗｔ％以上９０ｗｔ％以下程度の範囲内にあることが好ましく、４０ｗｔ％以上８０ｗｔ％以下程度の範囲内、５０ｗｔ％以上７０ｗｔ％以下程度の範囲内、がより好ましい。３０ｗｔ％より少ない場合、充分に透明基材を溶解または膨潤できず、好適に混合層を形成することが出来ない。また、９０ｗｔ％より大きい場合、混合層の厚みが増大して反射防止フィルムの硬度が低下する、偏在層の低屈折率粒子が凝集して必要以上のヘイズが発生する、など不適である。
【００４３】
透明基材にトリアセチルセルロースフィルムを用いる場合、「透明基材を溶解または膨潤させる溶媒」としては、例えば、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、ジオキサン、ジオキソラン、トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトール等のエーテル類、またアセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキサノン等の一部のケトン類、また蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ｎ−ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン醸エチル、酢酸ｎ−ペンチル、およびγ−プチロラクトン等のエステル類、さらには、メチルセロソルブ、セロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ類、その他としてＮ−メチル−２−ピロリドン（Ｎ−メチルピロリドン）、炭酸ジメチル、などが挙げられる。また、上記溶媒は１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００４４】
透明基材にトリアセチルセルロースフィルムを用いる場合、「透明基材を溶解または膨潤させない溶媒」としては、例えば、エタノール、イソプロピルアルコールなどのアルコール類、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、シクロヘキシルベンゼンなどの芳香族炭化水素類、ｎ−ヘキサンなどの炭化水素類、メチルイソブチルケトン、メチルブチルケトン、ジアセトンアルコールなどの一部のケトン類などが挙げられる。また、上記溶媒は１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００４５】
また、塗液に添加剤を添加しても良い。例えば、添加剤として、表面調整剤、屈折率調整剤、密着性向上剤、硬化剤、などを用いてもよい。
【００４６】
＜塗布工程＞
次に、前記塗液を透明基材上に塗布する。
【００４７】
透明基材用いる材料は、透明性や光の屈折率等の光学特性、耐衝撃性、耐熱性、耐久性などの諸物性を考慮して、適宜公知の材料より選択してよい。例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セロファン等のセルロース系、６−ナイロン、６，６−ナイロン等のポリアミド系、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、エチレンビニルアルコール等の有機高分子からなるものが用いられる。特に、ポリエチレンテレフタレート、トリアセチルセルロース、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、などの有機高分子フィルムを用いてもよい。また、透明基材に用いる材料は、添加剤を添加された材料であってもよい。添加剤としては、例えば、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、可塑剤、滑剤、着色剤、酸化防止剤、難燃剤、などが挙げられる。また、透明基材用いる材料は、特に、トリアセチルセルロースフィルムからなることが好ましい。トリアセチルセルロースフィルムは、複屈折率が小さく、透明性が良好なフィルムである。このため、特に、液晶ディスプレイ表面に設ける反射防止フィルムとして、好適に用いることができる。また、透明基材用いる材料は１種または２種以上の材料を混合した混合物、重合体であってもよい。
【００４８】
また、透明基材の厚みは２５μｍ以上２００μｍ以下程度の範囲内にあることが好ましく、４０μｍ以上８０μｍ以下程度の範囲内にあることがより好ましい。ただし、本発明の反射防止フィルム製造方法に用いる透明基材の厚みは上記範囲に限定されるものではない。また、透明基材は、複数の層を積層させた多層の基材であってもよい。
【００４９】
塗布方法は、ロールコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、マイクログラビアコーター、ナイフコーター、バーコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、ディップコーター、などを用いた塗布方法を用いることができる。
【００５０】
＜乾燥工程＞
次に、前記透明基材上に塗布された前記塗液を乾燥させ、塗液内の溶媒を除去し、透明基材上に塗膜を形成する。乾燥は、適宜公知の乾燥手段を用いて行ってよい。例えば、乾燥手段として、加熱、送風、熱風、などを用いることができる。
【００５１】
また、乾燥工程は、複数段階の乾燥を行うことが好ましい。本発明の反射防止フィルム製造方法では、塗液によって透明基材を溶解または膨潤することにより混合層を形成するため、塗液を塗工後ただちに急激な乾燥を行うと混合層の形成が阻害される。このため、複数段階の乾燥を行い、段階毎に乾燥条件を変更することで、混合層を形成しつつ、好適に乾燥を行うことが出来る。
【００５２】
例えば、一次乾燥した後、二次乾燥を行っても良い。このとき、一次乾燥は、乾燥温度２０℃以上３０℃以下程度の範囲内で行い、二次乾燥として乾燥温度５０℃以上１５０℃以下程度の範囲内行うことが好ましい。
【００５３】
また、乾燥工程では、透明基材上の塗膜中に含まれる溶媒が１０ｗｔ％以下となるまでの時間が２秒以上６０秒以下程度の範囲内であることが好ましい。「塗膜中に含まれる溶媒が１０ｗｔ％以下となる」という乾燥の初期において、乾燥時間を上記範囲にすることにより、混合層の形成および反射防止層（低屈折率層および高屈折率層）の偏析を好適に行うことが出来る。乾燥時間が２秒より少ない場合、塗液の急激な乾燥により、反射防止層の偏析が阻害される。また、乾燥時間が６０秒より大きい場合、生産にかかるタクトタイムが増加し、コスト増の要因となる。特に、本発明の反射防止フィルム製造方法をロール・ツー・ロール方式により実施する場合、乾燥時間が長いと、（１）透明基材の搬送速度を低下させる、（２）塗膜を乾燥するための乾燥ユニットを長くする、などが必要となる。このため、乾燥時間が６０秒より大きくなると、連続的に製造することが困難となり現実的ではない。なお、塗布された塗液中に含まれる溶媒の量は、重量を測定することにより求めることができる。また、赤外線モニタによっても測定することができる。
【００５４】
また、乾燥工程では、溶媒濃度が０．２ｖｏｌ％以上１０ｖｏｌ％以下の溶媒雰囲気下でおこなうことが好ましい。ここで、「溶媒濃度」は、塗液に含まれる溶媒のうちから選ばれた少なくとも１種類以上の溶媒の濃度をいう。溶媒濃度が０．２ｖｏｌ％より小さい溶媒雰囲気下の場合、乾燥が急激となり、反射防止層の偏析が阻害される。また、溶媒濃度が１０ｖｏｌ％より大きい溶媒雰囲気下の場合、乾燥時間が増加し、生産にかかるタクトタイムが増加することになり、コスト増の要因となる。
【００５５】
＜電離放射線照射工程＞
また、塗液が電離放射線硬化型材料および光重合開始剤を含む塗液の場合、更に、前記塗膜に電離放射線を照射し、塗膜を硬化してもよい。電離放射線を照射し、硬化することにより、反射防止フィルム表面に高い表面硬度を付与することができ、耐擦傷性に優れた反射防止フィルムとすることができる。
【００５６】
電離放射線としては、紫外線、電子線、などを用いてよい。紫外線硬化の場合、高圧水銀灯、低圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、カーボンアーク、キセノンアーク、などの光源が利用できる。また、電子線硬化の場合、コックロフトワルト型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型、などの各種電子線加速器から放出される電子線が利用できる。用いる電子線は、５０ＫｅＶ以上１０００ＫｅＶ以下程度のエネルギーを有するのが好ましく、１００ＫｅＶ以上３００ＫｅＶ以下程度のエネルギーを有する電子線がより好ましい。
【００５７】
また、本発明の反射防止フィルム製造方法は、（１）枚葉状の透明基材に塗布する枚葉方式、（２）ロール状の透明基材に塗布し、製造された反射防止フィルムを巻き取る、ロール・ツー・ロール方式、のいずれの方式で実施しても良い。特に、ロール・ツー・ロール方式は反射防止フィルムを連続的に形成でき、本発明の反射防止フィルム製造方法の実施方式として好ましい。例えば、ロール・ツー・ロール方式を用いて本発明の反射防止フィルム製造方法の実施する場合、透明基材を、巻き出し部／塗布ユニット／乾燥ユニット／電離放射線照射ユニット／巻き取り部、この順で通過させ、連続走行することにより連続的に反射防止フィルムを製造してもよい。
【００５８】
以上より、透明基材／透明基材が溶解または膨潤した混合層／高屈折率粒子が局在した高屈折率層および低屈折率粒子が局在した低屈折率層／がこの順で積層した反射防止フィルムを製造することが出来る。
【００５９】
以下、本発明の反射防止フィルムについて説明を行う。
本発明の反射防止フィルムは、透明基材と、前記透明基材上に積層されたハードコート層と、前記ハードコート層上に積層された反射防止層と、を備え、
前記ハードコート層は、前記透明基材の成分とバインダーマトリックスとが混合した混合層であり、前記反射防止層は、少なくとも、低屈折率粒子が局在した低屈折率層および高屈折率粒子が局在した高屈折率層、を有する。
【００６０】
本発明の反射防止フィルムでは、混合層は透明基材の成分とバインダーマトリックスの成分とが混合しており、透明基材と混合層との物理的境界は明瞭ではない。このため、各層ごとに塗工して製造された従来の反射防止フィルムと比較して、（１）層界面による光干渉によって発生する干渉縞、（２）層界面における物理的剥離、を抑制することが出来る。
【００６１】
また、本発明の反射防止フィルムでは、前記混合層と、前記高屈折率層および前記低屈折率層と、は光学的に分離していることが好ましい。本発明の反射防止フィルム製造方法によれば、混合層を形成することにより、混合層と反射防止層（高屈折率層および低屈折率層）との層分離を促進することが出来る。このため、光学測定を行ったとき混合層と反射防止層とが光学的に分離する程に層分離させることが出来る。
なお、本明細書において、「光学的に分離している」とは、反射防止フィルムの表面から５°の入射角で可視光（３８０ｎｍ以上８００ｎｍ以下）での分光反射率を求め、この分光反射率について光学シミュレーションを行った際に、反射防止層に起因する分光スペクトルを観測することができる状態をいう。
【００６２】
また、本発明の反射防止フィルムは、「前記低屈折率層の屈折率が１．２９以上１．４３以下の範囲内であり、且つ、前記低屈折率層の光学膜厚が１００ｎｍ以上２００ｎｍ以下の範囲内であり、前記高屈折率層の屈折率が１．５３以上１．６５以下の範囲内であり、且つ、前記高屈折率層の光学膜厚が２００ｎｍ以上４００ｎｍ以下の範囲内であること」が好ましい。低屈折率層の光学膜厚を１００ｎｍ以上２００ｎｍ以下程度の範囲内とすることにより、低屈折率層の光学膜厚を可視光波長の１／４波長程度とすることが出来る。また、高屈折率層の光学膜厚を２００ｎｍ以上４００ｎｍ以下の範囲内とすることにより、高屈折率層の光学膜厚は可視光波長の１／２波長程度とすることが出来る。よって、上記範囲内に低屈折率層および高屈折率層を形成することにより、広い波長域に渡って高い反射防止性能を有する反射防止層とすることができる。
【００６３】
また、本発明の反射防止フィルムは、「低屈折率層の光学膜厚が１１０ｎｍ以上１４０ｎｍ以下の範囲、且つ、高屈折率層の光学膜厚が２２０ｎｍ以上２８０ｎｍ以下の範囲であること」がより好ましい。低屈折率層および高屈折率層の光学膜厚を上記範囲内に収めたとき、反射防止フィルムの観察面側から求められる分光反射率曲線を５００ｎｍ近傍で極小値をとる分光反射率曲線とすることができる。分光反射率曲線を５００ｎｍ近傍で極小値をとる分光反射率曲線とすることで、可視光の波長領域での分光反射率曲線の急峻な上昇を抑制できるため、反射色相が小さく、且つ、色ムラの発生の少ない反射防止フィルムとすることができる。
【００６４】
また、混合層、高屈折率層および低屈折率層の３層の合計膜厚は、２．５μｍ以上１５μｍ以下程度の範囲内にあることが好ましい。２．５μｍより小さい場合、十分なハードコート性を備えず、反射防止フィルムの硬度が不十分となってしまい好ましくない。また、１５μｍより大きい場合、（１）用いる塗液の量増加によるコスト増、（２）可撓性の低下、（３）塗膜の硬化収縮による反射防止フィルムのカールの発生、などの観点から好ましくない。ただし、本発明の反射防止フィルムにおける混合層、高屈折率層および低屈折率層の３層の合計膜厚は上記範囲に限定されるものではない。
【００６５】
また、本発明の反射防止フィルムは、観察面側の視感平均反射率は、０．３％以上２．０％以下程度の範囲内にあることが好ましく、０．３％以上１．５％以下程度の範囲内であることがより好ましい。観察面側の反射防止フィルム表面での視感平均反射率が２．０％より大きい場合、十分な反射防止性能を備える反射防止フィルムとすることができない。また、観察面側の反射防止フィルム表面での視感平均反射率が０．３％より小さい場合、光学干渉により反射防止フィルムとして機能することが困難である。
【００６６】
また、本発明の反射防止フィルムは、「観察面側のＬ＊ａ＊ｂ＊色度系における反射色相は、０．００≦ａ＊≦３．００、且つ、−３．００≦ｂ＊≦３．００を満たすこと」が好ましい。反射色相は、ａ＊、ｂ＊が０に近いほど無色に近い。しかしながら、−３．００≦ａ＊＜０．００は比視感度の高い緑色の領域であり、観察者にとって色味が認識されやすい傾向にある。したがって、本発明の反射防止フィルムにあっては、０．００≦ａ＊≦３．００且つ−３．００≦ｂ＊≦３．００とすることが好ましく、ａ＊、ｂ＊を上記範囲内とすることにより観察者に色味の視認されにくい反射防止フィルムとすることができる。
【００６７】
図１に、本発明の反射防止フィルム１の一例を示す。
図１は、透明基材２０の上層に積層され、ハードコート層として機能する混合層１２、混合層１２の上層に積層された反射防止層１１を備える本発明の反射防止フィルム１の断面模式図である。図１において、反射防止層１１は、高屈折率粒子が局在した高屈折率層１１ｂ、高屈折率層１１ｂの上層に積層され、低屈折率粒子が局在した低屈折率層１１ａの２層よりなる。
【００６８】
以下、本発明の偏光板について説明を行う。
本発明の偏光板は、上述に記載の反射防止フィルムに偏光層を設けたことを特徴とする偏光板である。
【００６９】
偏光層は、透過したとき偏光させる物性を示す材料を適宜公知の材料から選択して形成してよい。例えば、ＰＶＡ偏光フィルム、などを用いてもよい。ＰＶＡ偏光フィルムは、主として延伸配向したポリビニルアルコールフィルム及びその誘導体にヨウ素を配向させて吸着させることにより偏光性能を示すフィルムである。
【００７０】
図２に、本発明の偏光板の一例を示す。
図２は、本発明の反射防止フィルム１の透明基材側と偏光板透明基材１とで偏光層２２を矜持した構成の本発明の偏光板２の模式断面図である。偏光板透明基材１は、本発明の反射防止フィルム１にて用いることが出来る透明基材と同様の材料のものを適宜選択してよい。例えば、偏光板透明基材１として、トリアセチルセルロースからなるフィルムを用いてもよい。
【００７１】
以下、本発明の表示装置について説明を行う。
本発明の表示装置は、上述に記載の反射防止フィルムを備えた表示装置である。
本発明の表示装置は、観察面側に本発明の反射防止フィルムを貼り付けた表示装置や、上述した本発明の偏光板を内部に組み込んだ表示装置、などが挙げられる。
【００７２】
また、本発明の表示装置は、本発明の反射防止フィルムおよび偏光板の他に、他の機能性部材を備えても良い。他の機能性部材としては、例えば、バックライトから発せられる光を有効に使うための、拡散フィルム、プリズムシート、輝度向上フィルム、液晶セルや偏光板の位相差を補償するための位相差フィルム、などが挙げられる。
【００７３】
図３に、本発明の偏光板を内部に組み込んだ透過型液晶ディスプレイを本発明の表示装置の一例として示す。
図３は、観察面側から見て、偏光板２／液晶セル３／第二偏光板４／バックライトユニット５、がこの順で配置された表示装置の模式断面図である。偏光板２は、本発明の反射防止フィルム１の透明基材側と偏光板透明基材２１とで偏光層２２を矜持した構成である。また、第二偏光板は、第二偏光板偏光層４２を第二偏光板透明基材上層４０と第二偏光板透明基材下層４１とで矜持した構成である。また、バックライトユニット５は観察面方向に向け光を投射する。バックライトユニット５から投射した光は、第二偏光板４／液晶セル３／偏光板２を順に透過し、観察面に図柄を表示する。
【実施例】
【００７４】
＜実施例１＞
まず、透明基材を溶解または膨潤させる成分を含む塗液を調整した。以下に組成を示す。
【００７５】
（塗液：実施例１）
低屈折率粒子：中空シリカ微粒子分散液（平均粒子径４０ｎｍ／固形分２０ｗｔ％／イソプロピルアルコール分散）２．０重量部。
高屈折率粒子：アンチモンドープ酸化スズ粒子分散液（ＡＴＯ／平均粒子径８ｎｍ／固形分２０ｗｔ％／イソプロピルアルコール分散）６．５重量部。
バインダーマトリックス（電離放射線硬化型材料）：トリメチロールプロパンアクリレート３６．７重量部、テトラヒドロフルフリルアクリレート９．２重量部。
光重合開始剤：イルガキュア１８４（チバ・ジャパン社製）２．４重量部。
溶媒：イソプロピルアルコールとメチルイソブチルケトンを重量比で４：６で混合した混合溶媒４３．２重量部。
固形分：５０ｗｔ％。
塗液における透明基材を溶解または膨潤させる成分の占める割合：９．２ｗｔ％。
【００７６】
次に、塗液を透明基材上に塗布した。
このとき、透明基材は、トリアセチルセルロースフィルム（屈折率１．４９、厚さ８０μｍ）とした。また、ワイヤーバーコーターを用いて塗布した。
【００７７】
次に、塗布された塗液を乾燥させ、透明基材上に塗膜を形成した。
このとき、一次乾燥し、二次乾燥し、２段階の乾燥を行った。一次乾燥および二次乾燥の乾燥条件を以下に示す。
【００７８】
（乾燥条件：実施例１）
一次乾燥：３０秒２５℃で室温乾燥。
二次乾燥：オーブンで１００℃１分乾燥。
【００７９】
次に、塗膜に電離放射線を照射し、塗膜を硬化した。
このとき、電離放射線として紫外線を照射した。また、紫外線の照射は、コンベア式紫外線硬化装置を用いて露光量４００ｍＪ／ｃｍ２とした。
【００８０】
以上より、透明基材／混合層／高屈折率層／低屈折率層がこの順で積層された本発明の反射防止フィルムを得た。また、混合層／高屈折率層／低屈折率層の３層を合計した厚みは、５μｍであった。
【００８１】
＜実施例２＞
実施例１と同様に、反射防止フィルムを製造した。
ただし、塗液を以下の組成とした。また、塗液の変更に合わせて乾燥条件を変更した。
【００８２】
（塗液：実施例２）
低屈折率粒子：フッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）微粒子分散液（一次粒子径２０ｎｍ／固形分２０ｗｔ％／イソプロピルアルコール分散）３．０重量部。
高屈折粒子：アンチモンドープ酸化スズ粒子分散液（ＡＴＯ／平均粒子径８ｎｍ／固形分２０ｗｔ％／イソプロピルアルコール分散）６．５重量部。
バインダーマトリックス（電離放射線硬化型材料）：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）９．１重量部、リメチルプロパンアクリレート３６．６重量部。
光重合開始剤：イルガキュア１８４（チバ・ジャパン社製）２．４重量部。
溶媒：アセトンとイソプロピルアルコールとメチルイソブチルケトンを重量比で７：１：２の割合で混合した混合溶媒４２．２重量部。
固形分：５０ｗｔ％。
塗液における透明基材を溶解または膨潤させる成分の占める割合：２９．５ｗｔ％。
【００８３】
（乾燥条件：実施例２）
一次乾燥：溶剤濃度が２〜５ｖｏｌ％の溶剤雰囲気下にて３０秒２５℃で室温乾燥。
二次乾燥：オーブンで１００℃１分乾燥。
一次乾燥において、透明基材上の塗膜中に含まれる溶媒が１０ｗｔ％以下となるまでの時間は５秒であった。
【００８４】
＜実施例３＞
実施例１と同様に、反射防止フィルムを製造した。
ただし、塗液を以下の組成とした。また、塗液の変更に合わせて乾燥条件を変更した。
【００８５】
（塗液：実施例３）
低屈折率粒子：中空シリカ微粒子分散液（平均粒子径４０ｎｍ／固形分２０ｗｔ％／イソプロピルアルコール分散）２．０重量部。
高屈折粒子：酸化ジルコニウム粒子分散液（ＺｒＯ２／平均粒子径１１ｎｍ／固形分２０ｗｔ％／イソプロピルアルコール分散）５．５重量部。
バインダーマトリックス（電離放射線硬化型材料）：トリメチロールプロパンアクリレート２２．８重量部、テトラヒドロフルフリルアクリレート２２．８重量部。
光重合開始剤：イルガキュア１８４（チバ・ジャパン社製）２．４重量部。
添加剤：変性シリコーンオイルＴＳＦ４４（ＧＥ東芝シリコーン製）０．５重量部。
溶媒：イソプロピルアルコールとメチルイソブチルケトンを重量比で４：６の割合で混合した混合溶媒４４．０重量部。
固形分：５０ｗｔ％。
塗液における透明基材を溶解または膨潤させる成分の占める割合：２２．８ｗｔ％。
【００８６】
（乾燥条件：実施例３）
一次乾燥：３０秒２５℃で室温乾燥。
二次乾燥：オーブンで１００℃１分乾燥。
【００８７】
＜実施例４＞
実施例１と同様に、反射防止フィルムを製造した。
ただし、塗液を以下の組成とした。また、塗液の変更に合わせて乾燥条件を変更した。
【００８８】
（塗液：実施例４）
低屈折率粒子：中空シリカ微粒子分散液（平均粒子径４０ｎｍ／固形分２０ｗｔ％／イソプロピルアルコール分散）２．０重量部。
高屈折粒子：アンチモンドープ酸化スズ粒子分散液（ＡＴＯ／平均粒子径８ｎｍ／固形分２０ｗｔ％／イソプロピルアルコール分散）６．５重量部。
バインダーマトリックス（電離放射線硬化型材料）：トリメチロールプロパンアクリレート１３．８重量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）１３．８重量部。
光重合開始剤：イルガキュア１８４（チバ・ジャパン社製）１．４重量部。
溶媒：酢酸エチルとイソプロピルアルコールを重量比で９：１の割合で混合した混合溶媒６５．９重量部。
固形分：３０ｗｔ％。
塗液における透明基材を溶解または膨潤させる成分の占める割合：５９．３ｗｔ％。
【００８９】
（乾燥条件：実施例４）
一次乾燥：溶剤濃度が２〜５ｖｏｌ％の溶剤雰囲気下にて３０秒２５℃で室温乾燥。
二次乾燥：オーブンで１００℃１分乾燥。
一次乾燥において、透明基材上の塗膜中に含まれる溶媒が１０ｗｔ％以下となるまでの時間は１２秒であった。
【００９０】
＜比較例１＞
実施例１と同様に、反射防止フィルムを製造した。
ただし、塗液を以下の組成とし、「塗液における透明基材を溶解または膨潤させる成分」を含まない塗液とした。また、塗液の変更に合わせて乾燥条件を変更した。
【００９１】
低屈折率微粒子：中空シリカ微粒子分散液（平均粒子径４０ｎｍ／固形分２０ｗｔ％／イソプロピルアルコール分散）２．０重量部。
高屈折率粒子：アンチモンドープ酸化スズ粒子分散液（ＡＴＯ／平均粒子径８ｎｍ／固形分２０ｗｔ％／イソプロピルアルコール分散）６．５重量部。
バインダーマトリックス（電離放射線硬化型材料）：トリメチロールプロパンアクリレート３６．７重量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）９．１重量部。
光重合開始剤：イルガキュア１８４（チバ・ジャパン社製）２．４重量部。
溶媒：イソプロピルアルコールとメチルイソブチルケトンを重量比で４：６の割合で混合した混合溶媒４３．２重量部。
固形分：５０ｗｔ％
塗液における透明基材を溶解または膨潤させる成分の占める割合：０ｗｔ％。
【００９２】
（乾燥条件：比較例１）
一次乾燥：溶剤濃度が２〜５ｖｏｌ％の溶剤雰囲気下にて３０秒２５℃で室温乾燥。
二次乾燥：オーブンで１００℃１分乾燥。
一次乾燥において、透明基材上の塗膜中に含まれる溶媒が１０ｗｔ％以下となるまでの時間は１５秒であった。
【００９３】
＜比較例２＞
実施例１と同様に、反射防止フィルムを製造した。
ただし、塗液を以下の組成とし、「塗液における透明基材を溶解または膨潤させる成分」を極微量とし、混合層を形成しないものとした。また、塗液の変更に合わせて乾燥条件を変更した。
【００９４】
（塗液：比較例２）
低屈折率粒子：フッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）微粒子分散液（一次粒子径２０ｎｍ／固形分２０ｗｔ％／イソプロピルアルコール分散）３．０重量部。
高屈折率粒子：アンチモンドープ酸化スズ粒子分散液（ＡＴＯ／平均粒子径８ｎｍ／固形分２０ｗｔ％／イソプロピルアルコール分散）６．５重量部。
バインダーマトリックス（電離放射線硬化型材料）：トリメチルプロパンアクリレート３６．６重量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）４．９重量部。
光重合開始剤：イルガキュア１８４（チバ・ジャパン社製）２．０重量部。
溶媒：アセトンとイソプロピルアルコールとメチルイソブチルケトンを重量比で１：５：４の割合で混合した混合溶媒４２．４重量部。
固形分：５０ｗｔ％
塗液における透明基材を溶解または膨潤させる成分の占める割合：４．２ｗｔ％
【００９５】
（乾燥条件：比較例２）
一次乾燥：溶剤濃度が０．１ｖｏｌ％以下の開放空間にて３０秒２５℃で室温乾燥。
二次乾燥：オーブンで１００℃１分乾燥。
一次乾燥において、透明基材上の塗膜中に含まれる溶媒が１０ｗｔ％以下となるまでの時間は８秒であった。
【００９６】
＜比較例３＞
透明基材／ハードコート層／高屈折率層／低屈折率層がこの順で積層された反射防止フィルムを各層ごとに積層し、反射防止フィルムを得た。
【００９７】
まず、透明基材にハードコート層形成用塗液を塗工し、乾燥し、紫外線照射し、透明基材上にハードコート層を形成した。このとき、透明基材はトリアセチルセルロースフィルムを用いた。また、塗工にはワイヤーバーコーターを用いた。また、乾燥条件は、オーブンで８０℃１分乾燥とした。また、紫外線照射は、コンベア式紫外線硬化装置を用いて露光量４００ｍＪ／ｃｍ２とした。また、形成されたハードコート層の厚みは５μｍであった。以下、ハードコート層形成用塗液の組成を以下に示す。
【００９８】
（ハードコート層形成用塗液：比較例３）
電離放射線硬化型材料：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）１０重量部、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＰＥＴＡ）３０重量部、ウレタンアクリレート（共栄社化学株式会社製ＵＡ−３０６Ｔ）１０重量部。
光重合開始剤：イルガキュア１８４（チバジャパン株式会社製）２．５重量部。
溶媒：メチルエチルケトン２５重量部、酢酸ブチル２５重量部。
【００９９】
次に、表面処理されたハードコート層上に高屈折率層形成用塗液を塗工し、乾燥し、ハードコート層上に高屈折率層を形成した。このとき、ハードコート層の表面処理はアルカリ処理とした。また、塗工にはワイヤーバーコーターを用いた。また、乾燥条件は、オーブンで１２０℃１分間加熱乾燥とした。また、形成された高屈折率層の光学膜厚（ｎｄ）は可視光波長の１／４とした。以下、高屈折率層形成用塗液の調整法を示す。
【０１００】
（高屈折率層形成用塗液：比較例３）
テトラエトキシシランにイソプロピルアルコールおよび０．１Ｎ塩酸を加え、加水分解し、テトラエトキシシラン重合体を含む溶液を得た。テトラエトキシシラン重合体を含む溶液に一次粒子径が８ｎｍのアンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）微粒子を混合し、イソプロピルアルコールを加え、高屈折率層形成用塗液１００重量部中にテトラエトキシシランの重合体２．５重量部、アンチモンドープ酸化スズ微粒子２．５重量部を含む高屈折率層形成用塗液を調整した。
【０１０１】
次に、高屈折率層上に低屈折率層形成用塗液を塗工し、乾燥し、低屈折率層を形成した。このとき、塗工にはワイヤーバーコーターを用いた。また、乾燥条件は、オーブンで１２０℃１分間加熱乾燥とした。以下、低屈折率層形成用塗液の調整法を示す。
【０１０２】
（低屈折率層形成用塗液：比較例３）
テトラエトキシシランと１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロオクチルトリメトキシシランとをｍｏｌ比で９５：５となるように混合し、イソプロピルアルコールおよび０．１Ｎ塩酸を加え加水分解し、有機ケイ素化合物の重合体を含む溶液を得た。有機ケイ素化合物の重合体を含む溶液に内部に空隙を有する低屈折率シリカ微粒子分散液（一次粒子径３０ｎｍ／固形分２０重量％）を混合し、イソプロピルアルコールを加え、低屈折率層形成用塗液１００重量部中に有機ケイ素化合物２．０重量部、低屈折率シリカ微粒子２．０重量部を含む低屈折率層形成用塗液を得た。
【０１０３】
以上より、透明基材／ハードコート層／高屈折率層／低屈折率層がこの順で積層された反射防止フィルムを得た。
【０１０４】
＜測定・評価＞
得られた実施例１〜４および比較例１〜３の反射防止フィルムについて、（１）混合層の有無、（２）分光反射率の測定、（３）視感平均反射率・反射色相の測定、（４）色むら・干渉縞の測定、をそれぞれ行った。表１に結果をまとめて示す。
【０１０５】
（混合層の有無）
反射防止フィルムについて、ミクロトームによる断面出しをし、断面について電子顕微鏡を用いて観察した。このとき、透明基材との境界が不明瞭であると混合層が形成されたものとした。
【０１０６】
（分光反射率の測定）
反射防止フィルムについて、観察面と反対側の面を黒色艶消しスプレーにより黒色に塗布し、自動分光光度計（日立製作所製、Ｕ−４０００）を用いて観察面側の分光反射率を測定した。このとき、測定条件は、Ｃ光源、２度視野、入射角５°とした。また、得られた分光反射率曲線から光学シミュレーション法により、低屈折率層および高屈折率層の有無、低屈折率層および高屈折率層の光学膜厚、低屈折率層および高屈折率層の屈折率、ハードコート層（混合層）の屈折率を求めた。反射防止フィルムにおいて、各層（ハードコート層、高屈折率層、低屈折率層）の厚みは塗液の組成と単位面積あたりの塗布量および断面観測図からの計測などから予測することができる（以下、予測された厚みを想定膜厚という）。また、光学膜厚（ｎｄ）は対象となる層の屈折率（ｎ）と層厚（ｄ）をかけることにより得られる値である。よって、光学シミュレーションにより求められた光学膜厚が想定膜厚よりも厚い場合、低屈折粒子が局在した低屈折率層および高屈折粒子が局在した高屈折率層が形成されたと判断することが出来る。
【０１０７】
（視感平均反射率・反射色相の測定）
反射防止フィルムについて、観察面と反対側の面を黒色艶消しスプレーにより黒色に塗布し、自動分光光度計（日立製作所製、Ｕ−４０００）を用いて観察面側の分光反射率を測定した。このとき、測定条件は、Ｃ光源、２度視野、入射角５°とした。また、得られた分光反射率から平均視感反射率（Ｙ％）、反射色相（ａ＊、ｂ＊）を算出した。また、比視感度は明所視標準比視感度を用いた。
【０１０８】
（色ムラ・干渉縞の測定）
反射防止フィルムについて、観察面側に蛍光灯を映りこませ、反射光を目視観察することにより、色ムラ・干渉縞の有無を確認した。なお、本明細書において、色ムラとは反射防止層として機能する高屈折率層および低屈折率層の膜厚ムラに起因して面内の色バラツキが大きくなり、外観不良となる反射色ムラのことをいう。
【０１０９】
【表１】
【０１１０】
表１より、混合層を形成するほど充分に「透明基材を溶解または膨潤させる成分を含む塗液」を用いた実施例１〜３では、透明基材／混合層／高屈折率層／低屈折率層がこの順で積層された反射防止フィルムをワンコートで製造できることが確認された。
また、実施例１〜３の反射防止フィルムは、「前記低屈折率層の屈折率が１．２９以上１．４３以下の範囲内であり、且つ、前記低屈折率層の光学膜厚が１００ｎｍ以上２００ｎｍ以下の範囲内であり、前記高屈折率層の屈折率が１．５３以上１．６５以下の範囲内であり、且つ、前記高屈折率層の光学膜厚が２００ｎｍ以上４００ｎｍ以下の範囲内であること」および「観察面側の視感平均反射率は、０．３％以上２．０％以下の範囲内にあり、観察面側のＬ＊ａ＊ｂ＊色度系における反射色相は、０．００≦ａ＊≦３．００、且つ、−３．００≦ｂ＊≦３．００を満たすこと」が確認された。このため、反射防止フィルムとして好適に用いることが出来ることが確認された。
【０１１１】
混合層を形成するほど充分に「透明基材を溶解または膨潤させる成分を含む塗液」を用いなかった比較例１〜２では、高屈折率粒子および低屈折率粒子の偏析が不十分であり、高屈折率層および低屈折率層が光学測定できるほどに層分離されなかった。よって、実施例１〜３と比較した場合、混合層を形成することにより、高屈折率層および低屈折率層の層分離が促進される傾向があることが確認された。また、混合層が形成されなかった比較例１〜２では、反射防止層として機能する高屈折率層および低屈折率層が充分に形成されなかったことから、干渉縞が確認された。よって、実施例１〜３と比較した場合、反射防止フィルムとして用いるには不適であることが確認された。
【０１１２】
湿式成膜法を用いて各層ごとに製造した比較例３では、ハードコート層と高屈折率層と低屈折率層との膜厚のばらつきに起因する色ムラの発生が確認された。よって、実施例１〜３と比較した場合、混合層の形成によって高屈折率粒子および低屈折率粒子を偏析することにより、膜厚のばらつきの少ない高屈折率層および低屈折率層が形成されることが確認された。
【産業上の利用可能性】
【０１１３】
本発明は、外光が反射することを防止することを目的として設けられる反射防止フィルムとして利用が期待される。また、反射防止フィルムに偏光層を設けることにより偏光板としての利用が期待される。例えば、（１）液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、透過型液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、ＣＲＴディスプレイ、有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、表面電界ディスプレイ（ＳＥＤ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）、などの表示装置、（２）ガラス、プラスチックフィルム、などのウィンドウ表面、（３）光学レンズ、眼鏡などの光学部材の表面、などに用いられる反射防止フィルムおよび偏光板、として利用が期待される。
【符号の説明】
【０１１４】
１……反射防止フィルム
１１……反射防止層
１１ａ……低屈折率層
１１ｂ……高屈折率層
１２……ハードコート層
２０……透明基材
２……偏光板
２１……偏光板透明基材
２２……偏光層
３……液晶セル
４……第二偏光板
４０……第二偏光板透明基材上層
４１……第二偏光板透明基材下層
４２……第二偏光板偏光層
５……バックライトユニット
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも、低屈折率粒子と、高屈折率粒子と、バインダーマトリックスと、を溶媒に分散させ、透明基材を溶解または膨潤させる成分を含む塗液を調整する塗液調整工程と、
前記塗液を透明基材上に塗布する塗布工程と、
前記透明基材上に塗布された前記塗液を乾燥させ、透明基材上に塗膜を形成する乾燥工程と、を備え、
前記透明基材上に、前記透明基材の成分と前記バインダーマトリックスとが混合した混合層を形成し、
前記混合層より上層に、前記低屈折率粒子が局在した低屈折率層および前記高屈折率粒子が局在した高屈折率層を形成し、
前記高屈折率粒子の比重は前記低屈折率粒子の比重より大きいこと
を特徴とする反射防止フィルム製造方法。
【請求項２】
前記塗液は、電離放射線硬化型材料を含む塗液であり、
更に、前記塗膜に電離放射線を照射し、塗膜を硬化する電離放射線照射工程と、備えること
を特徴とする請求項１に記載の反射防止フィルム製造方法。
【請求項３】
前記塗液における透明基材を溶解または膨潤させる成分の占める割合は、５ｗｔ％以上７０ｗｔ％以下の範囲内にあること
を特徴とする請求項１または２のいずれかに記載の反射防止フィルム製造方法。
【請求項４】
透明基材と、
前記透明基材上に積層されたハードコート層と、
前記ハードコート層上に積層された反射防止層と、を備え、
前記ハードコート層は、前記透明基材の成分とバインダーマトリックスとが混合した混合層であり、
前記反射防止層は、少なくとも、低屈折率粒子が局在した低屈折率層および高屈折率粒子が局在した高屈折率層、を有すること
を特徴とする反射防止フィルム。
【請求項５】
前記混合層と、前記高屈折率層および前記低屈折率層と、は光学的に分離していること
を特徴とする請求項４に記載の反射防止フィルム。
【請求項６】
前記低屈折率層の屈折率が１．２９以上１．４３以下の範囲内であり、且つ、
前記低屈折率層の光学膜厚が１００ｎｍ以上２００ｎｍ以下の範囲内であり、
前記高屈折率層の屈折率が１．５３以上１．６５以下の範囲内であり、且つ、
前記高屈折率層の光学膜厚が２００ｎｍ以上４００ｎｍ以下の範囲内であること
を特徴とする請求項４から５のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【請求項７】
観察面側の視感平均反射率は、０．３％以上２．０％以下の範囲内にあり、
観察面側のＬ＊ａ＊ｂ＊色度系における反射色相は、０．００≦ａ＊≦３．００、且つ、−３．００≦ｂ＊≦３．００を満たすこと
を特徴とする請求項４から６のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【請求項８】
請求項４から７のいずれかに記載の反射防止フィルムに偏光層を設けたこと
を特徴とする偏光板。
【請求項９】
請求項４から７のいずれかに記載の反射防止フィルムを備えた表示装置。
【請求項１】
少なくとも、低屈折率粒子と、高屈折率粒子と、バインダーマトリックスと、を溶媒に分散させ、透明基材を溶解または膨潤させる成分を含む塗液を調整する塗液調整工程と、
前記塗液を透明基材上に塗布する塗布工程と、
前記透明基材上に塗布された前記塗液を乾燥させ、透明基材上に塗膜を形成する乾燥工程と、を備え、
前記透明基材上に、前記透明基材の成分と前記バインダーマトリックスとが混合した混合層を形成し、
前記混合層より上層に、前記低屈折率粒子が局在した低屈折率層および前記高屈折率粒子が局在した高屈折率層を形成し、
前記高屈折率粒子の比重は前記低屈折率粒子の比重より大きいこと
を特徴とする反射防止フィルム製造方法。
【請求項２】
前記塗液は、電離放射線硬化型材料を含む塗液であり、
更に、前記塗膜に電離放射線を照射し、塗膜を硬化する電離放射線照射工程と、備えること
を特徴とする請求項１に記載の反射防止フィルム製造方法。
【請求項３】
前記塗液における透明基材を溶解または膨潤させる成分の占める割合は、５ｗｔ％以上７０ｗｔ％以下の範囲内にあること
を特徴とする請求項１または２のいずれかに記載の反射防止フィルム製造方法。
【請求項４】
透明基材と、
前記透明基材上に積層されたハードコート層と、
前記ハードコート層上に積層された反射防止層と、を備え、
前記ハードコート層は、前記透明基材の成分とバインダーマトリックスとが混合した混合層であり、
前記反射防止層は、少なくとも、低屈折率粒子が局在した低屈折率層および高屈折率粒子が局在した高屈折率層、を有すること
を特徴とする反射防止フィルム。
【請求項５】
前記混合層と、前記高屈折率層および前記低屈折率層と、は光学的に分離していること
を特徴とする請求項４に記載の反射防止フィルム。
【請求項６】
前記低屈折率層の屈折率が１．２９以上１．４３以下の範囲内であり、且つ、
前記低屈折率層の光学膜厚が１００ｎｍ以上２００ｎｍ以下の範囲内であり、
前記高屈折率層の屈折率が１．５３以上１．６５以下の範囲内であり、且つ、
前記高屈折率層の光学膜厚が２００ｎｍ以上４００ｎｍ以下の範囲内であること
を特徴とする請求項４から５のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【請求項７】
観察面側の視感平均反射率は、０．３％以上２．０％以下の範囲内にあり、
観察面側のＬ＊ａ＊ｂ＊色度系における反射色相は、０．００≦ａ＊≦３．００、且つ、−３．００≦ｂ＊≦３．００を満たすこと
を特徴とする請求項４から６のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【請求項８】
請求項４から７のいずれかに記載の反射防止フィルムに偏光層を設けたこと
を特徴とする偏光板。
【請求項９】
請求項４から７のいずれかに記載の反射防止フィルムを備えた表示装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図２】
【図３】
【公開番号】特開２０１３−９７３５６（Ｐ２０１３−９７３５６Ａ）
【公開日】平成２５年５月２０日（２０１３．５．２０）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−２４３２５１（Ｐ２０１１−２４３２５１）
【出願日】平成２３年１１月７日（２０１１．１１．７）
【出願人】（０００００３１９３）凸版印刷株式会社 (10,630)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２５年５月２０日（２０１３．５．２０）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年１１月７日（２０１１．１１．７）
【出願人】（０００００３１９３）凸版印刷株式会社 (10,630)
【Ｆターム（参考）】
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