可湿性ポリエステルファイバー及び織物
【課題】可湿性ポリエステルファイバー及びフィラメント
【解決手段】
本発明は、ポリエステルファイバーまたはフィラメントに、それらから製造された織布又は不織布に、そして得られる製品に可湿性を付与する方法を目的とする。本方法は、ポリエステルと、フェニルアルキル−オキシ−アルキル金属スルホネート、アルキル−オキシ−アルキル金属スルホネート、ポリエチレンオキシ−アルキル−金属スルホネート、アルキル−ポリエチレン−オキシ−アルキルスルホネート及びアルキル−１，２−ジスルホネート金属スルホネートからなる群から選択される一種以上の添加剤を含む混合物を、複数本のファイバー又はフィラメント状に溶融押出しすること、並びに該ファイバー又はフィラメントを冷却することを含む。
【解決手段】
本発明は、ポリエステルファイバーまたはフィラメントに、それらから製造された織布又は不織布に、そして得られる製品に可湿性を付与する方法を目的とする。本方法は、ポリエステルと、フェニルアルキル−オキシ−アルキル金属スルホネート、アルキル−オキシ−アルキル金属スルホネート、ポリエチレンオキシ−アルキル−金属スルホネート、アルキル−ポリエチレン−オキシ−アルキルスルホネート及びアルキル−１，２−ジスルホネート金属スルホネートからなる群から選択される一種以上の添加剤を含む混合物を、複数本のファイバー又はフィラメント状に溶融押出しすること、並びに該ファイバー又はフィラメントを冷却することを含む。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、耐久性のある可湿性を有するポリエステル編物、織物又は不織布を提供する方法、並びに、これらから製造される製品に関する。
【背景技術】
【０００２】
米国特許第４，３５７，３９０号明細書は、帯電防止特性を有する中空ポリエステルを教示する。
【０００３】
米国特許第４，３５１，７３８号明細書は、高速延伸摩擦仮撚テクスチャリングのためのポリエステルフィラメント状の糸を教示する。
【０００４】
米国特許第４，６６６，７６４号明細書は、撥水性を有する帯電防止ポリエステル織物を開示する。
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【０００５】
ポリエステルを特定のフェニルアルキル−オキシ−アルキル金属スルホネート、アルキル−オキシ−アルキル金属スルホネート又はポリエチレンオキシ−アルキル金属スルホネートと共に溶融混合し、該混合物をファイバー状に押し出すことで、ポリエステルファイバー又はフィラメントに耐久性のある可湿性と卓越した湿度管理特性を付与することが驚くべきことに見出された。
【０００６】
ポリエステルと、
ａ）式
【化１】
で表されるフェニルアルキル−オキシ−アルキル金属スルホネート、
ｂ）式
【化２】
で表されるアルキル−オキシ−アルキル金属スルホネート、
ｃ）式
【化３】
で表されるポリエチレンオキシ−アルキル−金属スルホネート、
ｄ）式
【化４】
で表されるアルキル−ポリエチレンオキシ−アルキル金属スルホネート、及び
ｅ）式
【化５】
で表されるアルキル−１，２−ジスルホネート金属スルホネート
（式中、
ｍは０、１又は２を表し、
ｎは１乃至６の整数を表し、
ｐは１乃至１６の整数を表し、
Ｒは１乃至２４個の炭素原子を有するアルキル基を表し、そして
ＭはＮａ、Ｋ又はＬｉを表す。）
からなる群から選択される一種以上の化合物との溶融ブレンドを含む、可湿性ポリエステルファイバー又はフィラメントを開示する。
【発明を実施するための形態】
【０００７】
好ましくは、ポリエステルファイバー又はフィラメントは、一種以上の成分ａ）のフェニルアルキル−オキシ−金属スルホネートを含む。
【０００８】
興味あるものは、一種以上の成分ｂ）のアルキル−オキシ−アルキル金属スルホネートを含むポリエステルファイバー又はフィラメントである。
【０００９】
また興味あるものは、一種以上の成分ｃ）のポリエチレンオキシ−アルキル金属スルホネートを含むポリエステルファイバー又はフィラメントである。
【００１０】
特に興味あるものは、一種以上の成分ｄ）のアルキル−ポリエチレンオキシ−アルキル金属スルホネートを含むポリエステルファイバー又はフィラメントである。
【００１１】
好ましくは、ポリエステルファイバー又はフィラメントは、一種以上のｅ）成分のアルキル−１，２−ジスルホネート金属スルホネートを含む。
【００１２】
また、ポリエステルと成分ａ）、ｂ）、ｃ）、ｄ）及びｅ）からなる群から選択される一種以上の化合物とを含む混合物を複数本のファイバー又はフィラメントに溶融押出しすること、並びに、該ファイバー又はフィラメントを冷却することを含む、ポリエステルファイバー又はフィラメントに可湿性を付与する方法を開示する。
【００１３】
本方法は、編物、織物又は不織布に、それぞれ、編まれ、織られ又は接着されたファイバー又はフィラメントを実現する。
【００１４】
したがって、本発明は、ファイバー又はフィラメントから製造される可湿性の編物、織物又は不織布に関する。
【００１５】
本溶融押出方法はファイバー又はフィラメントを形成する。編み糸（ヤーン）や短繊維（ステープルファイバー）向け連続フィラメント紡績法や、スパンボンド製造やメルトブ
ロー製造などの不織加工工程といった既知の技術に従って、ファイバー又はフィラメントは、小さなオリフィス（開口部）を経る溶融ポリマーの押出によって形成される。
一般に、このようにして形成されたファイバー又はフィラメントは、直径の縮小と物理的特性の改善をもたらす分子配向を引き起こしそして結晶化度に影響を与えるために、引き出されるか又は引き伸ばされる。スパンボンドやメルトブローなどの不織プロセスにおいて、ファイバー又はフィラメントは、移動平面コンベアなどの小孔の表面上に直接沈着し、様々な接着手段のいずれかによって、少なくとも部分的に固められる。プロセスを組み合わせて、或いは、異なるプロセスによる布地を組み合わせて、特定の望ましい性質を有する複合織物を製造することは当業者に既知である。この例としては、スパンボンドとメルトブローを組み合わせて、積層布地を製造する。さらに、これらプロセスの一方又は両方は、短繊維（ステープルファイバー）のカーディング（梳綿）プロセスとのどんな配列でも組み合わせられ得、又は、不織短繊維のカーディングプロセスに由来する布地を接着し得る。前述の積層布地において、レイヤーは一般に少なくとも部分的に固められている。
【００１６】
本発明はまた、成分の一つが本発明のポリエステルであるような、溶融押出２成分ファイバーに適用できる。
【００１７】
ポリエステルの不織布は、カード（梳毛）された繊維構造を有するか、ファイバー又はフィラメントがランダム配列に分布しているマットを含み得る。布地は、該布地から製造される物品（製品）の最終用途に応じて、ハイドロエンタングルメント又はスパンレース技術などの幾多の既知の工程のいずれかによって、或いは、フィラメントのエアレイ工程又はメルトブロー工程、バット延伸工程、ステッチボンド工程などによって、形成されそして接着され得る。
【００１８】
熱可塑性ポリエステル繊維は、典型的には、約２８５℃ないし約３００℃の範囲の温度で押出される。
【００１９】
本発明によれば、成分ａ）、ｂ）、ｃ）、ｄ）及びｅ）の一種以上の化合物は、ポリエチレンテレフタレートなどの溶融状態の熱可塑性ポリエステルに配合され、ポリエステルと共にファイバー及びフィラメントの形態で押し出され、その後、引き続いて又は同時の工程段階で、急冷され、減衰され、布地に形成される。
【００２０】
用語“可湿性”は、親水性が備わっていることを意味する。添加剤ａ）、ｂ）、ｃ）、ｄ）及びｅ）は、親水性添加剤である。
【００２１】
成分ａ）、ｂ）、ｃ）、ｄ）及びｅ）の化合物は、溶融押出されるポリマーペレットと共に配合され得る。加工を改善するために、該化合物は、タルクなどのフィラーや他の従来の安定剤も含み得るポリエステル中に、予め処方されるか或いは配合される。
【００２２】
成分ａ）、ｂ）、ｃ）、ｄ）及びｅ）の化合物の混合は、ロールミリング、バンベリーミキサー中の混合、又はシリンダー押出機中の混合などの一般に使用される技術によって、溶融ポリマー中にそれらを混合することによってなされる。ポリマー塊中の薬剤の均等分布を実質上獲得できるように、熱履歴（高温に保持された時間）は、ａ）、ｂ）、ｃ）、ｄ）及びｅ）化合物と非加熱ポリマー粒子との混合によって短縮され得、それによって、溶融温度にて強力な混合に必要とされる時間は減少される。
【００２３】
好都合なことに、成分ａ）、ｂ）、ｃ）、ｄ）及びｅ）の化合物は、場合によっては所望され得るその他の添加剤と共に、実質的に同時に又は連続して添加され得る。化合物ａ）、ｂ）、ｃ）、ｄ）及びｅ）はまた、他の添加剤と予めブレンドされ得、そして該ブレ
ンドをポリマーに添加する。一部の場合には、化合物ａ）、ｂ）、ｃ）、ｄ）及びｅ）は他の添加剤が、ポリエステル中により容易に又は均一に、分散或いは溶解するようになるのを手助けする、さらなる利益を有し得ると考えられる。より容易なバッチ間の品質管理のために、追加量のポリマーにポーションとして続いてブレンドされるものである、ポリマー／添加剤ブレンドの濃縮マスターバッチを適用して、最終的に所望の処方を得ることが好ましい。マスターバッチ、或いは純添加剤は、新たに調製されたポリマーがまだ溶融状態にあり、そして重合容器又はトレインに放置された後に、該ポリマー中に投入され得、そしてそのすぐ後に、溶融ポリマーが冷えて固体になるか、更なるプロセスを経る前に混合される。
【００２４】
したがって、成分ａ）、ｂ）、ｃ）、ｄ）及びｅ）の一種以上の化合物並びにポリマーを含むマスターバッチを製造すること、並びに、前記マスターバッチ及びポリエステルを含む混合物を、複数本のファイバー又はフィラメントに溶融押出しすること、そしてファイバー又はフィラメントを冷却することを含む本方法をも開示する。
【００２５】
本マスターバッチ、又は濃縮物は、成分ａ）、ｂ）、ｃ）、ｄ）、及びｅ）の化合物を、例えばポリマーに配合される質量で、１％乃至７５％、２％乃至５０％、又は５％乃至４０％の濃度で含む。
【００２６】
マスターバッチポリマーは、ポリエステルであり得、或いは、他の別の熱可塑性ポリマーであり得る。
【００２７】
成分ａ）、ｂ）、ｃ）、ｄ）及びｅ）の添加剤化合物は、本発明の方法において、ポリエステルの総質量に基づいて、総量で０．０５％乃至５．０質量％で存在する。例えば、アルキル金属スルホネートは、ポリエステルの総質量に基づいて、０．１％乃至３．７％、０．２５％乃至３．２％、０．５％乃至２．７％、０．４％乃至２．７％、０．３％乃至２．７％、０．１％乃至１．０％存在する。例えば、該アルキル金属スルホネートは、ポリエステルの総質量に基づいて、約０．２％、０．３％、０．５％、０．７５％、１．０％、２．０％、２．５％、３．５％又は約４．５％のレベルで存在する。
【００２８】
本発明による、ポリエステルファイバー又はフィラメントへの成分ａ）、ｂ）、ｃ）、ｄ）及びｅ）の一種以上の添加剤化合物の配合は、これら材料の改善された可湿性が認められ得るという結果をもたらす。この改良は、それらから形成されるファイバー又はフィラメント及び布地が、経年劣化又は操作の間その可湿性を失うことがないというような耐久性でもある。改善された可湿性は、度重なる損傷や、長期間にわたってでさえも耐久性を示す。
【００２９】
本発明は、例えばポリエステル布地などの不織布向けである。標準的な繊維加工における機織り（ウィービング）又は編み（ニッティング）のための、より糸又はヤーン向けでもある。
【００３０】
本発明の成分ａ）、ｂ）、ｃ）、ｄ）及びｅ）の化合物は、例えば基本重量（坪量）、ファイバー直径、ファイバーの結合度合い及び種類などの不織布の特性、及び、複合材料の構造の相乗効果及び作用に影響を与えるその他の因子に関係なく、効果がある。
【００３１】
本発明は、単一成分ファイバーに限定されない。ポリエステル２成分ファイバー、特に並列型又は芯鞘型ファイバーは、単一成分ファイバーと同様に、同じ実益を示すことが期待される。単一ポリエステル成分に、溶融添加剤のみが含まれることが特に効果があり得る。
【００３２】
本発明の方法は、例えば米国特許第４，３５７，３９０号明細書、米国特許第４，６６６，７６４号明細書及び米国特許第４，３５１，７３８号明細書に開示されるような、中空ポリエステルファイバーにも適用され得る。本発明は、円形又は中空の断面に限定されず、三角形、トリ−ローバル（ｔｒｉ−ｌｏｂａｌ）などの他の断面にも効果的である。
【００３３】
本発明の布地は、約０．５乃至約１０メガラドのγ線照射によって滅菌され得る。γ線による滅菌は、医療用衣料などに適用される。
【００３４】
本発明の方法によって製造されたポリエステル織及び不織ファイバー及び布地はまた優れた印刷適正を示す。
【００３５】
この発明による本ファイバー及び布地は、優れた柔軟性を有する。
【００３６】
ポリエステルは、８乃至１４の炭素原子を有する芳香族ジカルボン酸、４乃至１２の炭素原子数を有する脂肪族ジカルボン酸、８乃至１２の炭素原子数を有する脂環式ジカルボン酸、及びそれらの混合物からなる群から選択されるジカルボン酸繰り返し単位を有する。
【００３７】
二酸の例としては、テレフタル酸、イソフタル酸、ｏ−フタル酸、ナフタレンジカルボン酸、シクロヘキサンジカルボン酸、シクロヘキサンジ酢酸、ジフェニル−４，４’−ジカルボン酸、コハク酸、マレイン酸、グルタル酸、アジピン酸、セバシン酸、及びそれらの混合物である。
【００３８】
例えば二酸はテレフタル酸、イソフタル酸及び２，６−ナフタレンジカルボン酸である。
【００３９】
ポリエステルのジオール又はグリコール部分は、一般式ＨＯ−Ｇ−ＯＨに由来し、Ｇは２乃至１８の炭素原子を有する脂肪族、脂環式又は芳香族部分である。
【００４０】
例えば、そのようなジオール又はグリコールは、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロパン−１，３−ジオール、プロパン−１，２−ジオール、ブタン−１，４−ジオール、ペンタン−１，５−ジオール、ヘキサン−１，６−ジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、３−メチルペンタン−２，４−ジオール、２−メチルペンタン−１，４−ジオール、２，２−ジエチルプロパン−１，３−ジオール、１，４−ジ−（ヒドロキシエトキシ）ベンゼン、２，２−ビス（４−ヒドロキシシクロヘキシル）−プロパン、２，４−ジヒドロキシ−１，１，３，３−テトラメチルシクロブタン、２，２−ビス−（３−ヒドロキシエトキシフェニル）プロパン，２，２−ビス−（４−ヒドロキシプロポキシフェニル）エタン及びそれらの混合物である。
【００４１】
ジオールは、例えばエチレングリコール又は１，４−シクロヘキサンジメタノールである。
【００４２】
ポリエステルは、例えば、ポリ（エチレンテレフタレート）ＰＥＴ又はポリ（エチレン
２，６−ナフタレン−２，６−ジカルボキシレート）ＰＥＮ又はポリ（乳酸）ＰＬＡである。
【００４３】
ポリエステルは、ポリエステルのブレンド、又は上述の成分を含むコポリエステルでもあり得ることも考えられる。
【００４４】
ポリエステル以外のポリマー基材は、本アルキル金属スルホネートで優れた可湿性が付
与されることが更に考えられる。例えば、ポリオレフィン又はポリアミドである。例えば、ポリプロピレン、ポリエチレン又はそれらのコポリマー又は混合物である。例えば、ポリアミド６，６である。例えばこれら基材から製造された織布又は不織布も考えられる。
【００４５】
最大２４の炭素原子を有するアルキル基は、分枝状又は非分枝状の基であって、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、２−エチルブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、１−メチルペンチル基、１，３−ジメチルブチル基、ｎ−ヘキシル基、１−メチルヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、イソヘプチル基、１，１，３，３−テトラメチルブチル基、１−メチルヘプチル基、３−メチルヘプチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、１，１，３−トリメチルヘキシル基、１，１，３，３−テトラメチルペンチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、１−メチルウンデシル基、ドデシル基、１，１，３，３，５，５−ヘキサメチルヘキシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、イコシル基又はドコシル基である。
【００４６】
アルキル金属スルホネートにおいて、Ｎａ、Ｋ又はＬｉに加えて別の対イオンも適当であることも考えられる。例えば、アンモニウム又はモノ−、ジ−、トリ−またはテトラ−アルキルアンモニウムイオンである。例えば、アルカリ金属カチオン、アルカリ土類金属カチオン、又はアルミニウムカチオン、例えばマグネシウム、カルシウム、又はアルミニウムイオンである。
【００４７】
本発明の方法によって製造される組成物は、所望により、０．０１乃至１０質量％の、好ましくは０．０２５乃至５質量％の、そして特に０．１乃至３質量％の、例えば下記に示す物質又はそれらの混合物などの、様々な慣用の安定剤共添加剤もまた含み得る。
【００４８】
１．抗酸化剤
１．１．アルキル化モノフェノール、
たとえば、２，６−ジ−第三ブチル−４−メチルフェノール、２−第三ブチル−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４−エチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４−イソブチルフェノール、２，６−ジシクロペンチル−４−メチルフェノール、２−（α−メチルシクロヘキシル）−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジオクタデシル−４−メチルフェノール、２，４，６−トリシクロヘキシルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４−メトキシメチルフェノール、直線状若しくは側鎖で分岐したノニルフェノール、たとえば、２，６−ジ−ノニル−４−メチルフェノール、２，４−ジメチル−６−（１−メチルウンデシ−１−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−（１−メチルヘプタデシ−１−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−（１−メチルトリデシ−１−イル）フェノール及びそれらの混合物。
【００４９】
１．２．アルキルチオメチルフェノール、
たとえば、２，４−ジオクチルチオメチル−６−第三ブチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−メチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−エチルフェノール、２，６−ジ−ドデシルチオメチル−４−ノニルフェノール。
【００５０】
１．３．ヒドロキノン及びアルキル化ヒドロキノン、
たとえば、２，６−ジ−第三ブチル−４−メトキシフェノール、２，５−ジ−第三ブチルヒドロキノン、２，５−ジ−第三アミルヒドロキノン、２，６−ジフェニル−４−オクタデシルオキシフェノール、２，６−ジ−第三ブチルヒドロキノン、２，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニソール、
３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルステアレート、ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）アジペート。
【００５１】
１．４．トコフェロール、
たとえば、α−トコフェロール、β−トコフェロール、γ−トコフェロール、δ−トコフェロール、及びそれらの混合物（ビタミンＥ）。
【００５２】
１．５．ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル、
たとえば、２，２’−チオビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノール）、２，２’−チオビス（４−オクチルフェノール）、４，４’−チオビス（６−第三ブチル−３−メチルフェノール）、４，４’−チオビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、４，４’−チオビス（３，６−ジ−第二アミルフェノール）、４，４’−ビス（２，６−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）ジスルフィド。
【００５３】
１．６．アルキリデンビスフェノール、
たとえば、２，２’−メチレンビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（６−第三ブチル−４−エチルフェノール）、２，２’−メチレンビス［４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキシル）−フェノール］、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２’−メチレンビス（６−ノニル−４−メチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−第三ブチルフェノール）、２，２’−エチリデンビス（４，６−ジ−第三ブチルフェノール）、２，２’−エチリデンビス（６−第三ブチル−４−イソブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス［６−（α−メチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、２，２’−メチレンビス［６−（α，α−ジメチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、４，４’−メチレンビス（２，６−ジ−第三ブチルフェノール）、４，４’−メチレンビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、２，６−ビス（３−第三ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェノール、１，１，３−トリス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、エチレングリコールビス［３，３−ビス（３−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）ブチレート］、ビス（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ジシクロペンタジエン、ビス［２−（３’−第三ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−６−第三ブチル−４−メチルフェニル］テレフタレート、１，１−ビス（３，５−ジメチル−２−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−４−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、１，１，５，５−テトラ（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ペンタン。
【００５４】
１．７．ベンジル化合物、
たとえば、３，５，３’，５’−テトラ−第三ブチル−４，４’−ジヒドロキシジベンジルエーテル、オクタデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジルメルカプトアセテート、トリデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジルメルカプトアセテート、トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）アミン、１，３，５−トリ−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメチルベンゼン、ジ（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）スルフィド、
３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル−メルカプト酢酸イソオクチルエステル、ビス−（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）ジチオテレフタレート、１，３，５−トリス−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス−（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６
−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル−リン酸ジオクタデシルエステル及び３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル−リン酸モノエチルエステル、カルシウム塩。
【００５５】
１．８．ヒドロキシベンジル化マロネート、
たとえば、ジオクタデシル−２，２−ビス−（３，５−ジ−第三ブチル−２−ヒドロキシベンジル）マロネート、ジ−オクタデシル−２−（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）マロネート、ジ−ドデシルメルカプトエチル−２，２−ビス−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート、ビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル］−２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート。
【００５６】
１．９．芳香族ヒドロキシベンジル化合物、
たとえば、１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメチルベンゼン、１，４−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，３，５，６−テトラメチルベンゼン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）フェノール。
【００５７】
１．１０．トリアジン化合物、
たとえば、２，４−ビス（オクチルメルカプト）−６−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，２，３−トリアジン、１，３，５−トリス−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、２，４，６−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルエチル）−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）−ヘキサヒドロ−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート。
【００５８】
１．１１．ベンジルホスホネート
たとえば、ジメチル−２，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジエチル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル−５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルベンジルホスホネート、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸のモノエチルエステルのカルシウム塩。
【００５９】
１．１２．アシルアミノフェノール、
たとえば、４−ヒドロキシラウリン酸アニリド、４−ヒドロキシステアリン酸アニリド、２，４−ビス−オクチルメルカプト−６−（３，５−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−ｓ−トリアジン及びオクチル−Ｎ−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−カルバメート。
【００６０】
１．１３．β−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸と一価又は多価アルコールとのエステル、
たとえば、メタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、ｉ−オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチ
レングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタンとのエステル。
【００６１】
１．１４．β−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロピオン酸と一価又は多価アルコールとのエステル、
たとえば、メタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、ｉ−オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタンとのエステル。
【００６２】
１．１５．β−（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸と一価又は多価アルコールとのエステル、
たとえば、メタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタンとのエステル。
【００６３】
１．１６．３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル酢酸と一価又は多価アルコールとのエステル、
たとえば、メタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタンとのエステル。
【００６４】
１．１７．β−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のアミド
たとえば、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジアミド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）トリメチレンジアミド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス［２−（３−［３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル］プロピオニルオキシ）エチル］オキサミド（ユニロイヤルによって供給されるナウガードＸＬ−１（登録商標 Ｎａｕｇａｒｄ））。
【００６５】
１．１８．アスコルビン酸（ビタミンＣ）
【００６６】
１．１９．アミン系抗酸化剤
たとえば、Ｎ，Ｎ’−ジ−イソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ−第二ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１，４−ジメチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１−エチル−３−メチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１−メチルヘプチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（２−ナフチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−イソプロピル−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１，３−ジメチルブチル）−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１−メチルヘプチル）−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、４−（ｐ−トルエンスルファモイル）−ジフェニルアミン、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ−第二ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、ジフェニルアミン、Ｎ−アリルジフェニルアミン、４−イソプロポキシジフェニルアミン、Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、Ｎ−（４−第三オクチルフェニル）−１−ナフチルアミン、Ｎ−フェニル−２−ナフチルアミン、オクチル化ジフェニルアミン、たとえばｐ，ｐ’−ジ−第三オクチルジフェニルアミン、４−ｎ−ブチルアミノフェノール、４−ブチリルアミノフェノール、４−ノナノイルアミノフェノール、４−ドデカノイルアミノフェノール、４−オクタデカノイルアミノフェノール、ビス（４−メトキシフェニル）−アミン、２，６−ジ−第三ブチル−４−ジメチルアミノメチルフェノール、２，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−４，４’−ジアミノジフェニルメタン、１，２−ビス［（２−メチルフェニル）アミノ］エタン、１，２−ビス−（フェニルアミノ）プロパン、（ｏ−トリル）ビグアニド、ビス［４−（１’，３’−ジメチルブチル）フェニル］アミン、第三オクチル化 Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、モノ−及びジアルキル化第三ブチル／第三オクチルジフェニルアミンの混合物、モノ−及びジアルキル化ノニルジフェニルアミンの混合物、モノ−及びジアルキル化ドデシルジフェニルアミンの混合物、モノ−及びジアルキル化イソプロピル／イソヘキシルジフェニルアミンの混合物、モノ−及びジアルキル化第三ブチルジフェニルアミンの混合物、２，３−ジヒドロ−３，３−ジメチル−４Ｈ−１，４−ベンゾチアジン、フェノチアジン、
モノ−及びジアルキル化第三ブチル／第三オクチルフェノチアジンの混合物、モノ−及びジアルキル化第三オクチルフェノチアジンの混合物、Ｎ−アリルフェノチアジン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラフェニル−１，４−ジアミノブト−２−エン、Ｎ，Ｎ−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−ピペリド−４−イル−ヘキサメチレンジアミン。
【００６７】
２．ＵＶ吸収剤及び光安定剤
１．１．２−（２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、
たとえば、既知の市販のヒドロキシフェニル−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、並びに、米国特許第３，００４，８９６号明細書；米国特許第３，０５５，８９６号明細書；米国特許第３，０７２，５８５号明細書；米国特許第３，０７４，９１０号明細書；米国特許第３，１８９，６１５号明細書；米国特許第３，２１８，３３２号明細書；米国特許第３，２３０，１９４号明細書；米国特許第４，１２７，５８６号明細書；米国特許第４，２２６，７６３号明細書；米国特許第４，２７５，００４号明細書；米国特許第４，２７８，５８９号明細書；米国特許第４，３１５，８４８号明細書；米国特許第４，３４７，１８０号明細書；米国特許第４，３８３，８６３号明細書；米国特許第４，６７５，３５２号明細書；米国特許第４，６８１，９０５号明細書；米国特許第４，８５３，４７１号明細書；米国特許第５，２６８，４５０号明細書；米国特許第５，２７８，３１４号明細書；米国特許第５，２８０，１２４号明細書；米国特許第５，３１９，０９１号明細書；米国特許第５，４１０，０７１号明細書；米国特許第５，４３６，３４９号明細書；米国特許第５，５１６，９１４号明細書；米国特許第５，５５４，７６０号明細書；米国特許第５，
５６３，２４２号明細書；米国特許第５，５７４，１６６号明細書；米国特許第５，６０７，９８７号明細書；及び米国特許第５，９７７，２１９号明細書；に開示されるようなベンゾトリアゾール、たとえば、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−第三ブチル−２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−５−第三ブチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−５−第三オクチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−クロロ−２−（３，５−ジ−第三ブチル−２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−クロロ−２−（３−第三ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−第二ブチル−５−第三ブチル−２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−第三アミル−２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３，５−ビス−α−クミル−２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−第三ブチル−２−ヒドロキシ−５−（２−（ω−ヒドロキシ−オクタ−（エチレンオキシ）カルボニル−エチル）−フェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−ドデシル−２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−第三ブチル−２−ヒドロキシ−５−（２−オクチルオキシカルボニル）エチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、ドデシル化２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−第三ブチル−２−ヒドロキシ−５−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−第三ブチル−５−（２−（２−エチルヘキシルオキシ）−カルボニルエチル）−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−第三ブチル−２−ヒドロキシ−５−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−第三ブチル−２−ヒドロキシ−５−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−第三ブチル−５−（２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル）−２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−第三ブチル−２−ヒドロキシ−５−（２−イソオクチルオキシカルボニルエチル）フェニル−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２，２’−メチレン−ビス（４−第三オクチル−（６−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール）、２−（２−ヒドロキシ−３−α−クミル−５−第三オクチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３−第三オクチル−５−α−クミルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−フルオロ−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−α−クミルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−クロロ−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−α−クミルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−クロロ−２−（２−ヒドロキシ−３−α−クミル−５−第三オクチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−第三ブチル−２−ヒドロキシ−５−（２−イソオクチルオキシカルボニルエチル）フェニル−５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−トリフルオロメチル−２−（２−ヒドロキシ−３−α−クミル−５−第三オクチルフェニル−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−トリフルオロメチル−２−（２−ヒドロキシ−５−第三オクチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−トリフルオロメチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三オクチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、メチル３−（５−トリフルオロメチル−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−５−第三ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナメート、５−ブチルスルホニル−２−（２−ヒドロキシ−３−α−クミル−５−第三オクチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−トリフルオロメチル−２−（２−ヒドロキシ−３−α−クミル−５−第三ブチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−トリフルオロメチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−トリフルオロメチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−α−クミルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−ブチルスルホニル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール及び５−フェニルスルホニル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルフェニル）−２
Ｈ−ベンゾトリアゾール。
【００６８】
２．２．２−ヒドロキシベンゾフェノン、
たとえば、４−ヒドロキシ、４−メトキシ、４−オクチルオキシ、４−デシルオキシ、４−ドデシルオキシ、４−ベンジルオキシ、４，２’，４’−トリヒドロキシ、及び２’−ヒドロキシ−４，４’−ジメトキシ誘導体。
【００６９】
２．３．置換及び非置換の安息香酸のエステル、
たとえば、４−第三ブチル−フェニルサリチレート、フェニルサリチレート、オクチルフェニルサリチレート、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス（４−第三ブチルベンゾイル）レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、２，４−ジ−第三ブチルフェニル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、オクタデシル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、２−メチル−４，６−ジ−第三ブチルフェニル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート。
【００７０】
２．４．アクリレート及びマロネート、
たとえば、α−シアノ−β，β−ジフェニルアクリル酸エチルエステル又はイソオクチルエステル、α−カルボメトキシケイヒ酸メチルエステル、α−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシケイヒ酸メチルエステル又はブチルエステル、α−カルボメトキシ−ｐ−メトキシケイヒ酸メチルエステル、Ｎ−（β−カルボメトキシ−β−シアノビニル）−２−メチルインドリン、サンデュボア（Ｓａｎｄｕｖｏｒ（登録商標））ＰＲ２５、ジメチルｐ−メトキシベンジリデンマロネート（ＣＡＳ登録番号 ７４４３−２５−６）、サンデュボア（Ｓａｎｄｕｖｏｒ（登録商標））ＰＲ３１、ジ−（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン−４−イル）ｐ−メトキシベンジリデンマロネート（ＣＡＳ登録番号 １４７７８３−６９−５）。
【００７１】
２．５．ニッケル化合物
たとえば、ｎ−ブチルアミン、トリエタノールアミン、若しくはＮ−シクロヘキシルジエタノールアミンといった付加配位子を伴うか若しくは伴わない、１：１又は１：２の錯体といった、２，２’−チオ−ビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール］のニッケル錯体、ニッケルジブチルジチオカルバメート、モノアルキルエステルのニッケル塩、たとえば、４−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジルホスホン酸のメチル若しくはエチルエステル、ケトキシム、たとえば、２−ヒドロキシ−４−メチルフェニルウンデシルケトキシムのニッケル錯体、付加的な配位子を伴うか若しくは伴わない１−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシピラゾールのニッケル錯体。
【００７２】
２．６．立体障害性アミン
たとえば、４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、１−アリル−４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、１−ベンジル−４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）スクシネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ｎ−ブチル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルマロネート、１−（２−ヒドロキシエチル）−２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジンとコハク酸の縮合物、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−第三オクチルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンの線状若しくは環状縮合物、トリス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ニトリロトリア
セテート、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタン−テトラカルボキシレート、１，１’−（１，２−エタンジイル）−ビス（３，３，５，５−テトラメチルピペラジノン）、４−ベンゾイル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル−２−ｎ−ブチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジル）マロネート、３−ｎ−オクチル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）セバケート、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）スクシネート、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−モルホリノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンの線状若しくは環状縮合物、２−クロロ−４，６−ビス（４−ｎ−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンの縮合物、２−クロロー４，６−ジ−（４−ｎ−ブチルアミノ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス−（３−アミノプロピルアミノ）エタンとの縮合物、８−アセチル−３−ドデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、３−ドデシル−１−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、３−ドデシル−１−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、４−ヘキサデシルオキシ−及び４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンの混合物、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−シクロヘキシルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンの縮合生成物、１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンと２，４，６−トリクロロ−１，３，５−トリアジン及び４−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンの縮合生成物（ＣＡＳ登録番号［１３６５０４−９６−６］）；Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシルスクシンイミド、Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシルスクシンイミド、２−ウンデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソ−スピロ［４，５］デカン、７，７，９，９−テトラメチル−２−シクロウンデシル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ［４，５］デカンとエピクロロヒドリンの反応生成物、１，１−ビス−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルオキシカルボニル）−２−（４−メトキシフェニル）エテン、Ｎ，Ｎ’−ビス−ホルミル−Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミン、４−メトキシ−メチレン−マロン酸と１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ヒドロキシピペリジンとのジエステル、ポリ［メチルプロピル−３−オキシ−４−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）］シロキサン、マレイン酸無水物−α−オレフィン−コポリマーと２，２，６，６−テトラメチル−４−アミノピペリジン若しくは１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−アミノピペリジンとの反応生成物。
【００７３】
立体障害性アミンは、米国特許第５，９８０，７８３号明細書に記載された化合物の一種でもあり得、すなわち、前記米国特許第５，９８０，７８３号明細書の６４−７２欄に記載されている成分Ｉ−ａ）、Ｉ−ｂ）、Ｉ−ｃ）、Ｉ−ｄ）、Ｉ−ｅ）、Ｉ−ｆ）、Ｉ−ｇ）、Ｉ−ｈ）、Ｉ−ｉ）、Ｉ−Ｊ）、Ｉ−ｋ）、Ｉ−ｌ）で表される化合物であり、特に光安定剤１−ａ−１、１−ａ−２、１−ｂ−１、１−ｃ−１、１−ｃ−２、１−ｄ−１、１−ｄ−２、１−ｄ−３、１−ｅ−１、１−ｆ−１、１−ｇ−１、１−ｇ−２又は１−ｋ−１である。
【００７４】
立体障害性アミンは、米国特許第６，０４６，３０４号明細書及び米国特許第６，２９７，２９９号明細書に記載された化合物の一種でもあり得、例えば、請求項１０又は請求
項３８、或いは実施例１−１２又はＤ−１乃至Ｄ−５に記載されるような化合物である。
【００７５】
２．７．ヒドロキシ置換アルコキシ基によってＮ−原子上で置換された立体障害性アミンたとえば以下の化合物、１−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロポキシ）−４−オクタデカノイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、１−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロポキシ）−４−ヘキサデカノイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、１−オキシル−４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンと第三アミルアルコール由来の炭素ラジカルとの反応生成物、１−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロポキシ）−４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、１−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロポキシ）−４−オキソ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、ビス（１−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロポキシ）−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）−セバケート、ビス（１−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロポキシ）−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）−アジペート、ビス（１−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロポキシ）−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）−スクシネート、ビス（１−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロポキシ）−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）−グルタレート及び２，４−ビス｛Ｎ−［１−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロポキシ）−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル］−Ｎ−ブチルアミノ｝−６−（２−ヒドロキシエチルアミノ）−ｓ−トリアジン。
【００７６】
２．８．オキサミド、
たとえば、４，４’−ジオクチルオキシオキサニリド、２，２’−ジエトキシオキサニリド、２，２’−ジオクチルオキシ−５，５’−ジ−第三ブトキサニリド、２，２’−ジドデシルオキシ−５，５’−ジ−第三ブトキサニリド、２−エトキシ−２’−エチルオキサニリド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−ジメチルアミノプロピル）オキサミド、２−エトキシ−５−第三ブチル−２’−エトキサニリド及びその２−エトキシ−２’−エチル−５，４’−ジ−第三ブトキサニリドとの混合物、ｏ−及びｐ−メトキシ−二置換オキサニリドの混合物、並びに、ｏ−及びｐ−エトキシ−二置換オキサニリドの混合物。
【００７７】
２．９．トリス−アリール−ｏ−ヒドロキシフェニル−ｓ−トリアジン、
たとえば、既知の市販のトリス−アリール−ｏ−ヒドロキシフェニル−ｓ−トリアジン、並びに、国際公開第９６／２８４３１号パンフレット、欧州特許第４３４６０８号明細書、欧州特許第９４１９８９号明細書、英国特許第２，３１７，８９３号明細書、米国特許第３，８４３，３７１号明細書；米国特許第４，６１９，９５６号明細書；米国特許第４，７４０，５４２号明細書；米国特許第５，０９６，４８９号明細書；米国特許第５，１０６，８９１号明細書；米国特許第５，２９８，０６７号明細書；米国特許第５，３００，４１４号明細書；米国特許第５，３５４，７９４号明細書；米国特許第５，４６１，１５１号明細書；米国特許第５，４７６，９３７号明細書；米国特許第５，４８９，５０３号明細書；米国特許第５，５４３，５１８号明細書；米国特許第５，５５６，９７３号明細書；米国特許第５，５９７，８５４号明細書；米国特許第５，６８１，９５５号明細書；米国特許第５，７２６，３０９号明細書；米国特許第５，９４２，６２６号明細書；米国特許第５，９５９，００８号明細書；米国特許第５，９９８，１１６号明細書；及び米国特許第６，０１３，７０４号明細書；に開示されるような及びトリアジン、たとえば、４，６−ビス−（２，４−ジメチルフェニル）−２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−ｓ−トリアジン、サイアソーブ（Ｃｙａｓｏｒｂ（登録商標）１１６４）、サイテック社、４，６−ビス−（２，４−ジメチルフェニル）−２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−６−（４−クロロフェニル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−６−（４−クロロフェニル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシエト
キシ）フェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−６−（４−ブロモフェニル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス［２−ヒドロキシ−４−（２−アセトキシエトキシ）フェニル］−６−（４−クロロフェニル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（２，４−ジヒドロキシフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（４−ビフェニリル）−６−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシカルボニルエチリデンオキシフェニル）−ｓ−トリアジン、２−フェニル−４−［２−ヒドロキシ−４−（３−第二ブトキシ−２−ヒドロキシプロピルオキシ）フェニル］−６−［２−ヒドロキシ−４−（３−第二アミルオキシ−２−ヒドロキシプロピルオキシ）フェニル］−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−６−［２−ヒドロキシ−４−（３−ベンジルオキシ−２−ヒドロキシプロピルオキシ）フェニル］−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−ｎ−ブチルオキシフェニル）−６−（２，４−ジ−ｎ−ブチルオキシフェニル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−６−［２−ヒドロキシ−４−（３−ノニルオキシ*−２−ヒドロキシプロピルオ
キシ）−５−α−クミルフェニル］−ｓ−トリアジン（*はオクチルオキシ基、ノニルオ
キシ基、及びデシルオキシ基の混合物を意味する。）、メチレンビス−｛２，４−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−６−［２−ヒドロキシ−４−（３−ブチルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル］−ｓ−トリアジン｝、５：４：１の比率で３：５’、５：５’及び３：３’位において架橋されたメチレン架橋二量体混合物、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−イソオクチルオキシカルボニルイソプロピリデンオキシフェニル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−６−（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシ−５−α−クミルフェニル）−ｓ−トリアジン、２−（２，４，６−トリメチルフェニル）−４，６−ビス［２−ヒドロキシ−４−（３−ブチルオキシ−２−ヒドロキシプロピルオキシ）フェニル］−ｓ−トリアジン、２，４，６−トリス［２−ヒドロキシ−４−（３−第二ブチルオキシ−２−ヒドロキシプロピルオキシ）フェニル］−ｓ−トリアジン、４，６−ビス−（２，４−ジメチルフェニル）−２−（２−ヒドロキシ−４−（３−ドデシルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−フェニル）−ｓ−トリアジンと４，６−ビス−（２，４−ジメチルフェニル）−２−（２−ヒドロキシ−４−（３−トリデシルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−フェニル）−ｓ−トリアジンの混合物、チヌビン（Ｔｉｎｕｖｉｎ（登録商標））４００、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社、４，６−ビス−（２，４−ジメチルフェニル）−２−（２−ヒドロキシ−４−（３−（２−エチルヘキシルオキシ）−２−ヒドロキシプロポキシ）−フェニル）−ｓ−トリアジン、及び４，６−ジフェニル−２−（４−ヘキシルオキシ−２−ヒドロキシフェニル）−ｓ−トリアジン。
【００７８】
３．金属奪活剤
たとえば、Ｎ，Ｎ’−ジフェニルオキサミド、Ｎ−サリチラル−Ｎ’−サリチロイルヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）ヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン、３−サリチロイルアミノ−１，２，４−トリアゾール、ビス（ベンジリデン）オキサリルジヒドラジド、オキサニリド、イソフタロイルジヒドラジド、セバコイルビスフェニルヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ジアセチルアジポイルジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）オキサリルジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）チオプロピオニルジヒドラジド。
【００７９】
４．ホスフィット及びホスホナイト、
たとえば、トリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキルホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリス（ノニルフェニル）ホスフィット、トリラウリルホスフィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリルペンタエリトリトールジホスフィット、トリス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィット、ジイソデシルペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）ペンタエリトリトー
ルジホスフィット、ビス（２，６−ジ−第三ブチル−４−メチルフェニル）−ペンタエリトリトールジホスフィット、ジイソデシルオキシペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４，６−トリス（第三ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、トリステアリルソルビトールトリホスフィット、テトラキス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、６−イソオクチルオキシ−２，４，８，１０−テトラ−第三ブチル−ジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスホシン（ｄｉｏｘａｐｈｏｓｐｈｅｐｉｎ）、６−フルオロ−２，４，８，１０−テトラ−第三ブチル−１２−メチル−ジベンゾ［ｄ，ｇ］［１，３，２］ジオキサホスホシン、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニル）メチルホスフィット、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニル）エチルホスフィット、２，２’，２”−ニトリロ［トリエチルトリス（３，３’，５，５’−テトラ−第三ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’―ジイル）ホスフィット］、２−エチルヘキシル（３，３’，５，５’−テトラ−第三ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）ホスフィット。
【００８０】
特に好まれるのは以下のホスフィットである：
トリス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィット（イルガフォス（Ｉｒｇａｆｏｓ、登録商標）１６８、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社）、トリス（ノニルフェニル）ホスフィット、
【化６】
【００８１】
５．ヒドロキシルアミン、
たとえば、Ｎ，Ｎ−ジベンジルヒドロキルシアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクチルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジラウリルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジテトラデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジヘキサデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘキサデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘプタデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ−メチル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシアミン及び水素化牛脂アミン由来のＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミン。
【００８２】
６．ニトロン、
たとえば、Ｎ−ベンジル−α−フェニルニトロン、Ｎ−エチル−α−メチルニトロン、Ｎ−オクチル−α−ヘプチルニトロン、Ｎ−ラウリル−α−ウンデシルニトロン、Ｎ−テトラデシル−α−トリデシルニトロン、Ｎ−ヘキサデシル−α−ペンタデシルニトロン、Ｎ−オクタデシル−α−ヘプタデシルニトロン、Ｎ−ヘキサデシル−α−ヘプタデシルニトロン、Ｎ−オクタデシル−α−ペンタデシルニトロン、Ｎ−ヘプタデシル−α−ヘプタデシルニトロン、Ｎ−オクタデシル−α−ヘキサデシルニトロン、Ｎ−メチル−α−ヘプタデシルニトロン、水素化牛脂アミン由来のＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミン由来のニトロン。
【００８３】
７．アミンオキシド
例えば、米国特許第５，８４４，０２９号明細書及び米国特許第５，８８０，１９１号明細書に開示されるようなアミンオキシド誘導体、ジデシルメチルアミンオキシド、トリデシルアミンオキシド、トリドデシルアミンオキシド及びトリヘキサデシルアミンオキシド。
【００８４】
８．ベンゾフラノン及びインドリノン、
たとえば、米国特許第４，３２５，８６３号明細書；米国特許第４，３３８，２４４号明細書；米国特許第５，１７５，３１２号明細書；米国特許第５，２１６，０５２号明細書；米国特許第５，２５２，６４３号明細書；独国特許出願公開第４３１６６１１号明細書；独国特許出願公開第４３１６６２２号明細書；独国特許出願公開第４３１６８７６号明細書；欧州特許出願公開第０５８９８３９号明細書又は欧州特許出願公開第０５９１１０２号明細書に開示されるもの、又は、３−［４−（２−アセトキシエトキシ）−フェニル］−５，７−ジ−第三ブチル−ベンゾフラノ−２−オン、５，７−ジ−第三ブチル−３−［４−（２−ステアロイルオキシエトキシ）フェニル］ベンゾフラノ−２−オン、３，３’−ビス［５，７−ジ−第三ブチル−３−（４−［２−ヒドロキシエトキシ］フェニル）ベンゾフラノ−２−オン］、５，７−ジ−第三ブチル−３−（４−エトキシフェニル）ベンゾフラノ−２−オン、３−（４−アセトキシ−３，５−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−第三ブチルベンゾフラノ−２−オン、３−（３，５−ジメチル−４−ピバロイルオキシフェニル）−５，７−ジ−第三ブチルベンゾフラノ−２−オン、３−（３，４−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−第三ブチルベンゾフラノ−２−オン、３−（２−アセチル−５−イソオクチルフェニル）−５−イソオクチルベンゾフラノ−２−オン、及び３−（２，３−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−第三ブチルベンゾフラノ−２−オン。
【００８５】
９．チオ相乗剤、
たとえば、ジラウリルチオジプロピオネート又はジステアリルチオジプロピオネート。
【００８６】
１０．過酸化物捕捉剤、
たとえば、β−チオジプロピオン酸のエステル、たとえばラウリル、ステアリル、ミリスチル、若しくはトリデシルエステル、メルカプトベンズイミダゾール若しくは２−メルカプトベンズイミダゾールの亜鉛塩、亜鉛ジブチルジチオカルバメート、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリトリトールテトラキス（β−ドデシルメルカプト）プロピオネート。
【００８７】
１１．ポリアミド安定剤、
たとえば、ヨウ化物及び／又はリン化合物と組合せた銅塩、及び、二価マンガン塩。
【００８８】
１２．塩基性共安定剤、
たとえば、メラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリアリルシアヌレー
ト、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、たとえばカルシウムステアレート、亜鉛ステアレート、マグネシウムベヘネート、マグネシウムステアレート、ナトリウムリシノレエート、及びカリウムパルミテートなどの高級脂肪酸のアルカリ金属塩及びアルカリ土類金属塩、アンチモンピロカテコレート、又は亜鉛ピロカテコレート。
【００８９】
１３．核剤、
たとえば、タルクなどの無機物質、二酸化チタン又は酸化マグネシウムなどの金属酸化物、好ましくはアルカリ土類金属のリン酸塩、炭酸塩、又は硫酸塩；モノあるいはポリカルボン酸などの有機化合物及びそれらの塩、たとえば、４−第三ブチル安息香酸、アジピン酸、ジフェニル酢酸、コハク酸ナトリウム又は安息香酸ナトリウム；イオン化コポリマー（アイオノマー）などの高分子化合物。
【００９０】
１４．充填剤及び強化剤、
たとえば、炭酸カルシウム、シリケート、ガラスファイバー、ガラス球、アスベスト、タルク、カオリン、マイカ、硫酸バリウム、金属酸化物及び金属水酸化物、カーボンブラック、グラファイト、木粉及び他の天然物の粉末又は繊維、合成繊維。
【００９１】
１５．分散剤
たとえば、ポリエチレンオキシドワックス又はミネラルオイル。
【００９２】
１６．その他の添加剤、
たとえば、可塑剤、滑剤、乳化剤、顔料、染料、蛍光増白剤、レオロジー添加剤、触媒、流量調整剤、スリップ剤、架橋剤、架橋促進剤、ハロゲン捕捉剤、煙抑制剤、防炎剤、帯電防止剤、置換又は非置換のビスベンジリデンソルビトールなどの清澄剤、２，２’−ｐ−フェニレン−ビス（３，１−ベンズオキサジン−４−オン）などのベンゾオキサジオンＵＶ吸収剤、サイアソーブ（Ｃｙａｓｏｒｂ（登録商標））３６３８（ＣＡＳ登録番号 １８６００−５９−４）及び発泡剤。
【００９３】
本発明のファイバー又はフィラメントから製造された可湿性布地は、例えば、皮膚が接触する衛生製品の内側の裏布地として、特に、使い捨ておむつ、トレーニングパンツ（おむつ）、婦人衛生製品又は失禁ケア製品として、特に有用である。布地はまた、ウェット及びドライワイプ、創傷被覆材、手術用ケープ、内側フィルタ（ｆｉｌｔｅｒ ｍｅｄｉａｌ）、電池セパレーターなどの製品において有用である。
【００９４】
おむつの構造は、例えば米国特許第５，１４９，５７６号明細書；米国特許第５，９６１，５０４号明細書；米国特許第６，０３１，１４７号明細書並びに米国特許第６，１１０，８４９号明細書に記載される。
【００９５】
さらに多くの場合、溶融押出ポリオレフィンフィルムに湿潤性を授けることが望ましい。孔開き形態である前記フィルムは、衛生製品のカバーシートとして広く使用される。
【００９６】
衛生製品のカバーストックの場合、ウェットバック特性の改善は、２層以上の布地を一緒に貼り合わせて使用することによってなされる。例えば、メルトブロー層が本添加剤を欠いている２つのスパンボンド層又はＳＭＳ布地が挙げられる。
【００９７】
布地に加えて、ポリエステルフィルム、プラーク、シート及び成形品もまた、本発明によって優れた可湿性がもたらされる。
【００９８】
したがって、使い捨ておむつ、トレーニングパンツ、婦人衛生製品、失禁ケア製品、ウ
ェット又はドライワイプ、創傷被覆材、手術用ケープ、内側フィルタ（ｆｉｌｔｅｒ ｍｅｄｉａｌ）及び電池セパレーターからなる群から選択される、可湿性布地から製造される製品も開示する。
【００９９】
したがって、本発明の対象はまた、可湿性ポリエステルフィルム、プラーク、シート又は成形品であって、該フィルム、プラーク、シート又は成形品は、ポリエステルと成分ａ）、ｂ）、ｃ）、ｄ）及びｅ）で表される一種以上の化合物を含む溶融ブレンドを含むものである。
【０１００】
さらに、他のスルホネート金属塩を含み得るように金属Ｍのリストは拡大され得ることが考えられる。例えば、金属ＭはＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｓ、Ｂｅ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｓｒ、Ｂａ、Ａｌ、Ｓｂ、Ｃｄ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ及びＺｎからなる群から選択され得る。それぞれの場合、成分ａ）、ｂ）、ｃ）、ｄ）及びｅ）で表される化合物は電気的に中性である。
【０１０１】
例えば、ｅ）で表される下記の錯体が含まれる：
【化７】
【０１０２】
以下の実施例は更に本発明を説明する。他に指示がない限り、量は質量％で示される。
【実施例】
【０１０３】
例１：ナトリウム ４−ベンジルオキシ−ブタン−１−スルホネートの製造
【化８】
２リットルの丸底フラスコに、２６．６３ｇの水素化ナトリウム（６０％）及び６００ｍＬの乾燥ジメチルホルムアミドを加え、そして撹拌した。６０．００ｇのベンジルアルコールを、室温でＮ2雰囲気下にて、反応混合物に撹拌しながら１時間かけて加えた。反
応混合物をさらに０．５時間撹拌した。その後、９０．５５ｇの１，４−ブタンスルトンを反応混合物にゆっくりと２時間かけて加えた。反応混合物を、それから一晩撹拌した。
反応終了後に、反応物を２．５リットルの２−プロパノール中に勢いよく撹拌しながら注ぎ入れた。生成物をろ過し、５００ｍLの２−プロパノールと５００ｍLのヘキサンで洗浄した。生成物をその後メタノールを用いた再結晶にて精製し、真空下で乾燥させた。収率は４５％であった。
【０１０４】
例２：ナトリウム ４−フェネチルオキシ−ブタン−１−スルホネートの製造
【化９】
１リットルの三口丸底フラスコに、４００ｍｌの乾燥ジメチルホルムアミドを供給し、そして１３．１０ｇの水素化ナトリウム（６０％）を加えた。この混合物を室温で窒素雰囲気下にて０．５時間撹拌した。４０ｇの２−フェニルエタノールの６０ｍｌ乾燥ジメチルホルムアミド溶液を反応混合物に撹拌下で２時間の間、室温にて、滴下して加えた。その後、４４．５８ｇの１，４−ブタンスルトンの６０ｍｌ乾燥ジメチルホルムアミド溶液を反応混合物に、撹拌しながら３時間の間滴下して加えた。反応混合物を室温で一晩撹拌し続けた。反応終了後に溶媒を真空下で蒸発させ、そして残渣を１．５リットルの２−プロパノールで処理し、１５分間撹拌し、ろ過した。ウェットケーキを再度２−プロパノールで処理し、未反応の出発物質を除去した。ウェットケーキを真空下で乾燥し、オフホワイトの固体を得、ＮＭＲで特徴付けた。９．６５％のアリル不純物の存在を示した。
【０１０５】
アリル不純物を除去するため、化合物３６．７０ｇを１５０ｍｌの蒸留水に溶解し、溶液を撹拌しながら５０℃に加熱し続けた。この溶液に、１．３６ｇの亜硫酸水素ナトリウム、並びに、１０ｍｇの過硫酸カリウムを加え、５０℃にて一晩撹拌を続けた。溶媒を真空下で除去し、固体を真空で乾燥してＩＲ及びＮＭＲで特徴付けた。ＮＭＲスペクトルは、亜硫酸水素ナトリウムの処理後に、アリル不純物が３．０６％に減少したことを示した。収率は４２．９％であった。
【０１０６】
例３：ナトリウム ４−（３−フェニル−プロポキシ）−ブタン−１−スルホネートの製造
【化１０】
１リットルの三口丸底フラスコに、３００ｍｌの乾燥ジメチルホルムアミドと１０．１４ｇの水素化ナトリウム（６０％）を配置し、室温でＮ2雰囲気下にて、０．５時間撹拌
した。４０．００ｇの３−フェニルプロパノールを、室温で０．５時間の間、撹拌下で、反応混合物に滴下して加えた。反応混合物をさらに０．５時間撹拌し続けた。その後、４４．５８ｇの１，４−ブタンスルトンを、０．７５時間の間、撹拌下で、反応混合物に滴下して加えた。反応混合物を室温で３時間撹拌し続けた。反応終了後に、溶媒を真空下で蒸発させ、残渣を３．５リットルの２−プロパノールで処理し、２０分撹拌し、ろ過した。
ウェットケーキを再度２−プロパノールで処理し、未反応の出発物質を除去した。ウェットケーキを真空下で乾燥させ、オフホワイトの固体を得、ＮＭＲで特徴付けた。ＮＭＲは１５％のアリル不純物の存在を示した。
【０１０７】
アリル不純物を除去するために、化合物３０．２０ｇを１５０ｍｌの蒸留水に溶解し、溶液を撹拌しながら５０℃に加熱し続けた。この溶液に、１．７６ｇの亜硫酸水素ナトリウム及び５０ｍｇの過硫酸カリウムを加え、一晩撹拌を続けた。溶媒を真空下で除去し、
固体を真空で乾燥してＩＲ及びＮＭＲで特徴付けた。ＮＭＲスペクトルは、亜硫酸水素ナトリウムの処理後に、アリル不純物が３．１０％に減少したことを示した。収率は６４．６％であった。
【０１０８】
例４：４−（４−フェニル−ブトキシ）−ブタン−１−スルホネート ナトリウムの製造
【化１１】
１リットルの三口丸底フラスコに、５００ｍｌの乾燥ジメチルホルムアミド及び１４．５３ｇの水素化ナトリウム（６０％）を配置し、Ｎ2雰囲気下で０．５時間撹拌した。５
４．６０ｇの４−フェニル−１−ブタノールの１００ｍｌ乾燥ジメチルホルムアミド溶液を、室温で、２時間の間、撹拌下で反応混合物に滴下して加えた。その後、４９．４９ｇの１，４−ブタンスルトンの１００ｍｌ乾燥ジメチルホルムアミド溶液を、３時間の間、撹拌しながら反応混合物に滴下して加えた。反応混合物を一晩撹拌し続けた。その後、溶媒を真空下で蒸発させ、残渣を２．０リットルの２−プロパノールで処理し、１５分撹拌し、ろ過した。ウェットケーキを再度２−プロパノールで処理し、未反応の出発物質を除去した。ウェットケーキを真空下で乾燥させ、オフホワイトの固体を得、ＮＭＲで特徴付けた。ＮＭＲは１８．７０％のアリル不純物と、多少の１，４−ジスルホネート化ブタン不純物の存在を示した。
【０１０９】
アリル不純物を除去するために、化合物８９．３０ｇを２５０ｍｌの蒸留水に溶解し、溶液を撹拌しながら５０℃に加熱し続けた。この溶液に、７．７２ｇの亜硫酸水素ナトリウム及び５０ｍｇの過硫酸カリウムを加え、一晩撹拌を続けた。溶媒を真空下で除去し、固体を真空で乾燥してＩＲ及びＮＭＲで特徴付けた。ＮＭＲスペクトルは、アリル不純物が２．００％に減少したことを示した。もう一つの不純物も生成物中に存在していることが見出された。９１．００ｇの上記化合物を過剰量のメタノールに溶解することにより、１，４−ジスルホネート化ブタンであるこの不純物を除去し、その後、上記溶液が濁るまで１，２−ジクロエタンをゆっくりと加えた。溶液をろ過し、ろ物を真空下で濃縮し、所望の生成物を回収した。固体を真空下で乾燥し、ＮＭＲで特徴付けた。収率は７９．６％であった。
【０１１０】
例５：ブトキシスルホネートナトリウム末端基を有するポリエチレングリコールメチルエーテル（Ｍｎ＝５５０）の製造
【化１２】
１リットルの三口丸底フラスコに、４００ｍｌの乾燥ジメチルホルムアミドと、３．６４ｇの水素化ナトリウム（６０％）を配置し、室温でＮ2雰囲気下にて、０．５時間撹拌
した。５０．００ｇのポリエチレングリコールメチルエーテル（Ｍｎ＝５５０）の１００ｍｌの乾燥ジメチルホルムアミド溶液を、室温で、２時間かけて撹拌下で上記溶液に滴下して加えた。その後、１２．３８ｇの１，４−ブタンスルトンの５０ｍｌ乾燥ジメチルホルムアミド溶液を、反応混合物に３時間の間、撹拌しながら滴下して加えた。反応混合物を室温で一晩撹拌し続けた。その後溶媒を真空下で蒸発させ、残渣を２．０リットルの酢酸エチルに溶解した。その後、溶液から生成物が沈殿して得られるまでヘキサンをゆっくりと加えた。その後、生成物をろ過し、真空下で乾燥し、淡黄色の半固体を得、ＮＭＲで特徴付けた。ＮＭＲは１０．００％のアリル不純物の存在を示した。
【０１１１】
アリル不純物を除去するために、化合物３７．４０ｇを１５０ｍｌの蒸留水に溶解し、
溶液を撹拌しながら５０℃で加熱を続けた。この溶液に、０．５５ｇの亜硫酸水素ナトリウム及び１０ｍｇの過硫酸カリウムを加え、一晩撹拌を続けた。溶媒を真空下で除去し、固体を真空で乾燥してＩＲ及びＮＭＲで特徴付けた。ＮＭＲスペクトルは、亜硫酸水素ナトリウムの処理後に、アリル不純物が３．５０％に減少したことを示した。収率は５８．１％であった。
【０１１２】
例６：１−オクタノールと１，４−ブタンスルホンからのスルホネートの製造
【化１３】
１リットルの三口丸底フラスコに、３００ｍｌの乾燥ジメチルホルムアミドと７．６８ｇの水素化ナトリウム（６０％）を配置し、室温でＮ2雰囲気下で、０．５時間撹拌した
。２５．００ｇの１−オクタノールの５０ｍｌ乾燥ジメチルホルムアミド溶液を、室温で２時間の間、撹拌下で上記溶液に滴下して加えた。それから、２３．５３ｇの１，４−ブタンスルトンの５０ｍｌ乾燥ジメチルホルムアミド溶液を、３時間撹拌しながら反応混合物に滴下して加えた。反応混合物を室温で一晩撹拌し続けた。その後溶媒を真空下で蒸発させ、残渣を１．５リットルの２−プロパノールで処理した。生成物をろ過し、真空下で乾燥し、白色の固体を得、ＮＭＲで特徴付けた。ＮＭＲは１３．３６％のアリル不純物の存在を示した。アリル不純物を除去するために、化合物４３．３ｇを１５０ｍｌの蒸留水に溶解し、溶液を撹拌しながら５０℃で加熱を続けた。この溶液に、２．１９ｇの亜硫酸水素ナトリウム及び２０ｍｇの過硫酸カリウムを加え、一晩撹拌を続けた。溶媒を真空下で除去し、固体を真空で乾燥してＩＲ及びＮＭＲで特徴付けた。ＮＭＲスペクトルは、亜硫酸水素ナトリウムの処理後に、アリル不純物が２．４８％に減少したことを示した。収率は７５．２％であった。
【０１１３】
例７：オクタデカン−１，２−ジスルホン酸ジナトリウム塩の製造
【化１４】
１リットルの一口丸底フラスコに、２５ｇのオクタデカ−１−エン、２５．８ｇの亜硫酸水素ナトリウム及び０．２５ｇの２，６−ジ−第三ブチル−４−メチルフェノールを入れた。この混合物に、２５０ｍｌの２−プロパノール及び２５０ｍｌの蒸留水を加え、反応混合物を撹拌しながら５０℃に加熱した。その後、１．５ｍｌの第三ブチル過安息香酸をこの反応溶液に加え、２４時間５０℃で撹拌を続けた。溶媒を真空下で除去し、化合物を真空下６０℃で１２時間乾燥した。生成物（二ナトリウム；オクタデカン−１，２−ジスルホネート）を最終的にカラムクロマトグラフィーで精製した。収率は２５．２６％であった。
【０１１４】
例８：エトキシル化アルコールのスルホアルキル化の製造
【化１５】
５リットルの三口丸底フラスコに、５００ｍｌの乾燥ジメチルホルムアミド及び４２．３ｇの水素化ナトリウム（６０％）を設置し、室温でＮ2雰囲気下で０．５時間撹拌した
。
３５０．００ｇのエトキシル化アルコール（インベンティン（Ｉｍｂｅｎｔｉｎ） ＡＧ／２００／０２５）の２０００ｍｌ乾燥ジメチルホルムアミド溶液を、５０℃で１時間かけて撹拌下で上記溶液に滴下して加え、この溶液をさらに３時間５０℃で撹拌し続けた。その後、１２１．７２ｇの１，４−ブタンスルトンの５００ｍｌ乾燥ジメチルホルムアミド溶液を３時間の間、撹拌しながら、反応混合物に滴下して加えた。反応混合物を５０℃で一晩撹拌し続けた。その後溶媒を真空下で蒸発させ、残渣を４リットルの２−プロパノールで処理し、ろ過した。残渣を２リットルの２−プロパノールでさらに洗浄した。生成物を真空下で乾燥して、白色固体を得、ＮＭＲで特徴付けた。収率は６５．８６％であった。
【０１１５】
例９：湿潤性測定
添加剤化合物を、２軸押出機で配合する前に、市販のファイバーグレード（約０．６５極限粘度数（ｉｖ））のＰＥＴ樹脂と共に、総バッチサイズ１０００ｇで、ドライブレンドした。
またあるいは、濃縮物を調製し、適切な比率でＰＥＴ樹脂とブレンドし、目的の濃度を得た。濃度は、ＰＥＴの質量に対する添加剤の質量％である。ブレンドされた樹脂を結晶化し、乾燥し、そして研究スケールのメルトブローラインにて６’’ダイを用いてＡｒパージ下で処理して不織布を製造した。溶融物と雰囲気の温度を約３０５℃に設定した。エアーフローをＰＥＴが添加剤なしで流れる場合、フライを形成しないように調整した。目的とする不織布の基礎重量を８０ｇｓｍとした。
【０１１６】
下記表は、親水性添加剤が合成例１−６のうちの一つである結果を含む。測定は、０．９％ＮａＣｌ／水溶液が試験布を通過するのにかかる時間である（ｌｉｑｕｉｄ ｓｔｒｉｋｅ ｔｈｒｏｕｇｈ ｔｉｍｅ（液体浸透時間）、ＥＤＡＮＡ １５０．５−０２）。５０秒を超える時間は有望でないとみなされ、１０乃至５０秒は適度に機能しているとみなされ、１０秒未満は高く機能しているとみなされる。
【０１１７】
【表１】
【先行技術文献】
【特許文献】
【０１１８】
【特許文献１】米国特許第４，３５７，３９０号明細書
【特許文献２】米国特許第４，３５１，７３８号明細書
【特許文献３】米国特許第４，６６６，７６４号明細書
【技術分野】
【０００１】
本発明は、耐久性のある可湿性を有するポリエステル編物、織物又は不織布を提供する方法、並びに、これらから製造される製品に関する。
【背景技術】
【０００２】
米国特許第４，３５７，３９０号明細書は、帯電防止特性を有する中空ポリエステルを教示する。
【０００３】
米国特許第４，３５１，７３８号明細書は、高速延伸摩擦仮撚テクスチャリングのためのポリエステルフィラメント状の糸を教示する。
【０００４】
米国特許第４，６６６，７６４号明細書は、撥水性を有する帯電防止ポリエステル織物を開示する。
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【０００５】
ポリエステルを特定のフェニルアルキル−オキシ−アルキル金属スルホネート、アルキル−オキシ−アルキル金属スルホネート又はポリエチレンオキシ−アルキル金属スルホネートと共に溶融混合し、該混合物をファイバー状に押し出すことで、ポリエステルファイバー又はフィラメントに耐久性のある可湿性と卓越した湿度管理特性を付与することが驚くべきことに見出された。
【０００６】
ポリエステルと、
ａ）式
【化１】
で表されるフェニルアルキル−オキシ−アルキル金属スルホネート、
ｂ）式
【化２】
で表されるアルキル−オキシ−アルキル金属スルホネート、
ｃ）式
【化３】
で表されるポリエチレンオキシ−アルキル−金属スルホネート、
ｄ）式
【化４】
で表されるアルキル−ポリエチレンオキシ−アルキル金属スルホネート、及び
ｅ）式
【化５】
で表されるアルキル−１，２−ジスルホネート金属スルホネート
（式中、
ｍは０、１又は２を表し、
ｎは１乃至６の整数を表し、
ｐは１乃至１６の整数を表し、
Ｒは１乃至２４個の炭素原子を有するアルキル基を表し、そして
ＭはＮａ、Ｋ又はＬｉを表す。）
からなる群から選択される一種以上の化合物との溶融ブレンドを含む、可湿性ポリエステルファイバー又はフィラメントを開示する。
【発明を実施するための形態】
【０００７】
好ましくは、ポリエステルファイバー又はフィラメントは、一種以上の成分ａ）のフェニルアルキル−オキシ−金属スルホネートを含む。
【０００８】
興味あるものは、一種以上の成分ｂ）のアルキル−オキシ−アルキル金属スルホネートを含むポリエステルファイバー又はフィラメントである。
【０００９】
また興味あるものは、一種以上の成分ｃ）のポリエチレンオキシ−アルキル金属スルホネートを含むポリエステルファイバー又はフィラメントである。
【００１０】
特に興味あるものは、一種以上の成分ｄ）のアルキル−ポリエチレンオキシ−アルキル金属スルホネートを含むポリエステルファイバー又はフィラメントである。
【００１１】
好ましくは、ポリエステルファイバー又はフィラメントは、一種以上のｅ）成分のアルキル−１，２−ジスルホネート金属スルホネートを含む。
【００１２】
また、ポリエステルと成分ａ）、ｂ）、ｃ）、ｄ）及びｅ）からなる群から選択される一種以上の化合物とを含む混合物を複数本のファイバー又はフィラメントに溶融押出しすること、並びに、該ファイバー又はフィラメントを冷却することを含む、ポリエステルファイバー又はフィラメントに可湿性を付与する方法を開示する。
【００１３】
本方法は、編物、織物又は不織布に、それぞれ、編まれ、織られ又は接着されたファイバー又はフィラメントを実現する。
【００１４】
したがって、本発明は、ファイバー又はフィラメントから製造される可湿性の編物、織物又は不織布に関する。
【００１５】
本溶融押出方法はファイバー又はフィラメントを形成する。編み糸（ヤーン）や短繊維（ステープルファイバー）向け連続フィラメント紡績法や、スパンボンド製造やメルトブ
ロー製造などの不織加工工程といった既知の技術に従って、ファイバー又はフィラメントは、小さなオリフィス（開口部）を経る溶融ポリマーの押出によって形成される。
一般に、このようにして形成されたファイバー又はフィラメントは、直径の縮小と物理的特性の改善をもたらす分子配向を引き起こしそして結晶化度に影響を与えるために、引き出されるか又は引き伸ばされる。スパンボンドやメルトブローなどの不織プロセスにおいて、ファイバー又はフィラメントは、移動平面コンベアなどの小孔の表面上に直接沈着し、様々な接着手段のいずれかによって、少なくとも部分的に固められる。プロセスを組み合わせて、或いは、異なるプロセスによる布地を組み合わせて、特定の望ましい性質を有する複合織物を製造することは当業者に既知である。この例としては、スパンボンドとメルトブローを組み合わせて、積層布地を製造する。さらに、これらプロセスの一方又は両方は、短繊維（ステープルファイバー）のカーディング（梳綿）プロセスとのどんな配列でも組み合わせられ得、又は、不織短繊維のカーディングプロセスに由来する布地を接着し得る。前述の積層布地において、レイヤーは一般に少なくとも部分的に固められている。
【００１６】
本発明はまた、成分の一つが本発明のポリエステルであるような、溶融押出２成分ファイバーに適用できる。
【００１７】
ポリエステルの不織布は、カード（梳毛）された繊維構造を有するか、ファイバー又はフィラメントがランダム配列に分布しているマットを含み得る。布地は、該布地から製造される物品（製品）の最終用途に応じて、ハイドロエンタングルメント又はスパンレース技術などの幾多の既知の工程のいずれかによって、或いは、フィラメントのエアレイ工程又はメルトブロー工程、バット延伸工程、ステッチボンド工程などによって、形成されそして接着され得る。
【００１８】
熱可塑性ポリエステル繊維は、典型的には、約２８５℃ないし約３００℃の範囲の温度で押出される。
【００１９】
本発明によれば、成分ａ）、ｂ）、ｃ）、ｄ）及びｅ）の一種以上の化合物は、ポリエチレンテレフタレートなどの溶融状態の熱可塑性ポリエステルに配合され、ポリエステルと共にファイバー及びフィラメントの形態で押し出され、その後、引き続いて又は同時の工程段階で、急冷され、減衰され、布地に形成される。
【００２０】
用語“可湿性”は、親水性が備わっていることを意味する。添加剤ａ）、ｂ）、ｃ）、ｄ）及びｅ）は、親水性添加剤である。
【００２１】
成分ａ）、ｂ）、ｃ）、ｄ）及びｅ）の化合物は、溶融押出されるポリマーペレットと共に配合され得る。加工を改善するために、該化合物は、タルクなどのフィラーや他の従来の安定剤も含み得るポリエステル中に、予め処方されるか或いは配合される。
【００２２】
成分ａ）、ｂ）、ｃ）、ｄ）及びｅ）の化合物の混合は、ロールミリング、バンベリーミキサー中の混合、又はシリンダー押出機中の混合などの一般に使用される技術によって、溶融ポリマー中にそれらを混合することによってなされる。ポリマー塊中の薬剤の均等分布を実質上獲得できるように、熱履歴（高温に保持された時間）は、ａ）、ｂ）、ｃ）、ｄ）及びｅ）化合物と非加熱ポリマー粒子との混合によって短縮され得、それによって、溶融温度にて強力な混合に必要とされる時間は減少される。
【００２３】
好都合なことに、成分ａ）、ｂ）、ｃ）、ｄ）及びｅ）の化合物は、場合によっては所望され得るその他の添加剤と共に、実質的に同時に又は連続して添加され得る。化合物ａ）、ｂ）、ｃ）、ｄ）及びｅ）はまた、他の添加剤と予めブレンドされ得、そして該ブレ
ンドをポリマーに添加する。一部の場合には、化合物ａ）、ｂ）、ｃ）、ｄ）及びｅ）は他の添加剤が、ポリエステル中により容易に又は均一に、分散或いは溶解するようになるのを手助けする、さらなる利益を有し得ると考えられる。より容易なバッチ間の品質管理のために、追加量のポリマーにポーションとして続いてブレンドされるものである、ポリマー／添加剤ブレンドの濃縮マスターバッチを適用して、最終的に所望の処方を得ることが好ましい。マスターバッチ、或いは純添加剤は、新たに調製されたポリマーがまだ溶融状態にあり、そして重合容器又はトレインに放置された後に、該ポリマー中に投入され得、そしてそのすぐ後に、溶融ポリマーが冷えて固体になるか、更なるプロセスを経る前に混合される。
【００２４】
したがって、成分ａ）、ｂ）、ｃ）、ｄ）及びｅ）の一種以上の化合物並びにポリマーを含むマスターバッチを製造すること、並びに、前記マスターバッチ及びポリエステルを含む混合物を、複数本のファイバー又はフィラメントに溶融押出しすること、そしてファイバー又はフィラメントを冷却することを含む本方法をも開示する。
【００２５】
本マスターバッチ、又は濃縮物は、成分ａ）、ｂ）、ｃ）、ｄ）、及びｅ）の化合物を、例えばポリマーに配合される質量で、１％乃至７５％、２％乃至５０％、又は５％乃至４０％の濃度で含む。
【００２６】
マスターバッチポリマーは、ポリエステルであり得、或いは、他の別の熱可塑性ポリマーであり得る。
【００２７】
成分ａ）、ｂ）、ｃ）、ｄ）及びｅ）の添加剤化合物は、本発明の方法において、ポリエステルの総質量に基づいて、総量で０．０５％乃至５．０質量％で存在する。例えば、アルキル金属スルホネートは、ポリエステルの総質量に基づいて、０．１％乃至３．７％、０．２５％乃至３．２％、０．５％乃至２．７％、０．４％乃至２．７％、０．３％乃至２．７％、０．１％乃至１．０％存在する。例えば、該アルキル金属スルホネートは、ポリエステルの総質量に基づいて、約０．２％、０．３％、０．５％、０．７５％、１．０％、２．０％、２．５％、３．５％又は約４．５％のレベルで存在する。
【００２８】
本発明による、ポリエステルファイバー又はフィラメントへの成分ａ）、ｂ）、ｃ）、ｄ）及びｅ）の一種以上の添加剤化合物の配合は、これら材料の改善された可湿性が認められ得るという結果をもたらす。この改良は、それらから形成されるファイバー又はフィラメント及び布地が、経年劣化又は操作の間その可湿性を失うことがないというような耐久性でもある。改善された可湿性は、度重なる損傷や、長期間にわたってでさえも耐久性を示す。
【００２９】
本発明は、例えばポリエステル布地などの不織布向けである。標準的な繊維加工における機織り（ウィービング）又は編み（ニッティング）のための、より糸又はヤーン向けでもある。
【００３０】
本発明の成分ａ）、ｂ）、ｃ）、ｄ）及びｅ）の化合物は、例えば基本重量（坪量）、ファイバー直径、ファイバーの結合度合い及び種類などの不織布の特性、及び、複合材料の構造の相乗効果及び作用に影響を与えるその他の因子に関係なく、効果がある。
【００３１】
本発明は、単一成分ファイバーに限定されない。ポリエステル２成分ファイバー、特に並列型又は芯鞘型ファイバーは、単一成分ファイバーと同様に、同じ実益を示すことが期待される。単一ポリエステル成分に、溶融添加剤のみが含まれることが特に効果があり得る。
【００３２】
本発明の方法は、例えば米国特許第４，３５７，３９０号明細書、米国特許第４，６６６，７６４号明細書及び米国特許第４，３５１，７３８号明細書に開示されるような、中空ポリエステルファイバーにも適用され得る。本発明は、円形又は中空の断面に限定されず、三角形、トリ−ローバル（ｔｒｉ−ｌｏｂａｌ）などの他の断面にも効果的である。
【００３３】
本発明の布地は、約０．５乃至約１０メガラドのγ線照射によって滅菌され得る。γ線による滅菌は、医療用衣料などに適用される。
【００３４】
本発明の方法によって製造されたポリエステル織及び不織ファイバー及び布地はまた優れた印刷適正を示す。
【００３５】
この発明による本ファイバー及び布地は、優れた柔軟性を有する。
【００３６】
ポリエステルは、８乃至１４の炭素原子を有する芳香族ジカルボン酸、４乃至１２の炭素原子数を有する脂肪族ジカルボン酸、８乃至１２の炭素原子数を有する脂環式ジカルボン酸、及びそれらの混合物からなる群から選択されるジカルボン酸繰り返し単位を有する。
【００３７】
二酸の例としては、テレフタル酸、イソフタル酸、ｏ−フタル酸、ナフタレンジカルボン酸、シクロヘキサンジカルボン酸、シクロヘキサンジ酢酸、ジフェニル−４，４’−ジカルボン酸、コハク酸、マレイン酸、グルタル酸、アジピン酸、セバシン酸、及びそれらの混合物である。
【００３８】
例えば二酸はテレフタル酸、イソフタル酸及び２，６−ナフタレンジカルボン酸である。
【００３９】
ポリエステルのジオール又はグリコール部分は、一般式ＨＯ−Ｇ−ＯＨに由来し、Ｇは２乃至１８の炭素原子を有する脂肪族、脂環式又は芳香族部分である。
【００４０】
例えば、そのようなジオール又はグリコールは、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロパン−１，３−ジオール、プロパン−１，２−ジオール、ブタン−１，４−ジオール、ペンタン−１，５−ジオール、ヘキサン−１，６−ジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、３−メチルペンタン−２，４−ジオール、２−メチルペンタン−１，４−ジオール、２，２−ジエチルプロパン−１，３−ジオール、１，４−ジ−（ヒドロキシエトキシ）ベンゼン、２，２−ビス（４−ヒドロキシシクロヘキシル）−プロパン、２，４−ジヒドロキシ−１，１，３，３−テトラメチルシクロブタン、２，２−ビス−（３−ヒドロキシエトキシフェニル）プロパン，２，２−ビス−（４−ヒドロキシプロポキシフェニル）エタン及びそれらの混合物である。
【００４１】
ジオールは、例えばエチレングリコール又は１，４−シクロヘキサンジメタノールである。
【００４２】
ポリエステルは、例えば、ポリ（エチレンテレフタレート）ＰＥＴ又はポリ（エチレン
２，６−ナフタレン−２，６−ジカルボキシレート）ＰＥＮ又はポリ（乳酸）ＰＬＡである。
【００４３】
ポリエステルは、ポリエステルのブレンド、又は上述の成分を含むコポリエステルでもあり得ることも考えられる。
【００４４】
ポリエステル以外のポリマー基材は、本アルキル金属スルホネートで優れた可湿性が付
与されることが更に考えられる。例えば、ポリオレフィン又はポリアミドである。例えば、ポリプロピレン、ポリエチレン又はそれらのコポリマー又は混合物である。例えば、ポリアミド６，６である。例えばこれら基材から製造された織布又は不織布も考えられる。
【００４５】
最大２４の炭素原子を有するアルキル基は、分枝状又は非分枝状の基であって、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、２−エチルブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、１−メチルペンチル基、１，３−ジメチルブチル基、ｎ−ヘキシル基、１−メチルヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、イソヘプチル基、１，１，３，３−テトラメチルブチル基、１−メチルヘプチル基、３−メチルヘプチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、１，１，３−トリメチルヘキシル基、１，１，３，３−テトラメチルペンチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、１−メチルウンデシル基、ドデシル基、１，１，３，３，５，５−ヘキサメチルヘキシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、イコシル基又はドコシル基である。
【００４６】
アルキル金属スルホネートにおいて、Ｎａ、Ｋ又はＬｉに加えて別の対イオンも適当であることも考えられる。例えば、アンモニウム又はモノ−、ジ−、トリ−またはテトラ−アルキルアンモニウムイオンである。例えば、アルカリ金属カチオン、アルカリ土類金属カチオン、又はアルミニウムカチオン、例えばマグネシウム、カルシウム、又はアルミニウムイオンである。
【００４７】
本発明の方法によって製造される組成物は、所望により、０．０１乃至１０質量％の、好ましくは０．０２５乃至５質量％の、そして特に０．１乃至３質量％の、例えば下記に示す物質又はそれらの混合物などの、様々な慣用の安定剤共添加剤もまた含み得る。
【００４８】
１．抗酸化剤
１．１．アルキル化モノフェノール、
たとえば、２，６−ジ−第三ブチル−４−メチルフェノール、２−第三ブチル−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４−エチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４−イソブチルフェノール、２，６−ジシクロペンチル−４−メチルフェノール、２−（α−メチルシクロヘキシル）−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジオクタデシル−４−メチルフェノール、２，４，６−トリシクロヘキシルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４−メトキシメチルフェノール、直線状若しくは側鎖で分岐したノニルフェノール、たとえば、２，６−ジ−ノニル−４−メチルフェノール、２，４−ジメチル−６−（１−メチルウンデシ−１−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−（１−メチルヘプタデシ−１−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−（１−メチルトリデシ−１−イル）フェノール及びそれらの混合物。
【００４９】
１．２．アルキルチオメチルフェノール、
たとえば、２，４−ジオクチルチオメチル−６−第三ブチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−メチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−エチルフェノール、２，６−ジ−ドデシルチオメチル−４−ノニルフェノール。
【００５０】
１．３．ヒドロキノン及びアルキル化ヒドロキノン、
たとえば、２，６−ジ−第三ブチル−４−メトキシフェノール、２，５−ジ−第三ブチルヒドロキノン、２，５−ジ−第三アミルヒドロキノン、２，６−ジフェニル−４−オクタデシルオキシフェノール、２，６−ジ−第三ブチルヒドロキノン、２，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニソール、
３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルステアレート、ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）アジペート。
【００５１】
１．４．トコフェロール、
たとえば、α−トコフェロール、β−トコフェロール、γ−トコフェロール、δ−トコフェロール、及びそれらの混合物（ビタミンＥ）。
【００５２】
１．５．ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル、
たとえば、２，２’−チオビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノール）、２，２’−チオビス（４−オクチルフェノール）、４，４’−チオビス（６−第三ブチル−３−メチルフェノール）、４，４’−チオビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、４，４’−チオビス（３，６−ジ−第二アミルフェノール）、４，４’−ビス（２，６−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）ジスルフィド。
【００５３】
１．６．アルキリデンビスフェノール、
たとえば、２，２’−メチレンビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（６−第三ブチル−４−エチルフェノール）、２，２’−メチレンビス［４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキシル）−フェノール］、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２’−メチレンビス（６−ノニル−４−メチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−第三ブチルフェノール）、２，２’−エチリデンビス（４，６−ジ−第三ブチルフェノール）、２，２’−エチリデンビス（６−第三ブチル−４−イソブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス［６−（α−メチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、２，２’−メチレンビス［６−（α，α−ジメチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、４，４’−メチレンビス（２，６−ジ−第三ブチルフェノール）、４，４’−メチレンビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、２，６−ビス（３−第三ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェノール、１，１，３−トリス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、エチレングリコールビス［３，３−ビス（３−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）ブチレート］、ビス（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ジシクロペンタジエン、ビス［２−（３’−第三ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−６−第三ブチル−４−メチルフェニル］テレフタレート、１，１−ビス（３，５−ジメチル−２−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−４−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、１，１，５，５−テトラ（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ペンタン。
【００５４】
１．７．ベンジル化合物、
たとえば、３，５，３’，５’−テトラ−第三ブチル−４，４’−ジヒドロキシジベンジルエーテル、オクタデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジルメルカプトアセテート、トリデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジルメルカプトアセテート、トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）アミン、１，３，５−トリ−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメチルベンゼン、ジ（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）スルフィド、
３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル−メルカプト酢酸イソオクチルエステル、ビス−（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）ジチオテレフタレート、１，３，５−トリス−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス−（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６
−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル−リン酸ジオクタデシルエステル及び３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル−リン酸モノエチルエステル、カルシウム塩。
【００５５】
１．８．ヒドロキシベンジル化マロネート、
たとえば、ジオクタデシル−２，２−ビス−（３，５−ジ−第三ブチル−２−ヒドロキシベンジル）マロネート、ジ−オクタデシル−２−（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）マロネート、ジ−ドデシルメルカプトエチル−２，２−ビス−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート、ビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル］−２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート。
【００５６】
１．９．芳香族ヒドロキシベンジル化合物、
たとえば、１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメチルベンゼン、１，４−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，３，５，６−テトラメチルベンゼン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）フェノール。
【００５７】
１．１０．トリアジン化合物、
たとえば、２，４−ビス（オクチルメルカプト）−６−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，２，３−トリアジン、１，３，５−トリス−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、２，４，６−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルエチル）−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）−ヘキサヒドロ−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート。
【００５８】
１．１１．ベンジルホスホネート
たとえば、ジメチル−２，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジエチル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル−５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルベンジルホスホネート、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸のモノエチルエステルのカルシウム塩。
【００５９】
１．１２．アシルアミノフェノール、
たとえば、４−ヒドロキシラウリン酸アニリド、４−ヒドロキシステアリン酸アニリド、２，４−ビス−オクチルメルカプト−６−（３，５−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−ｓ−トリアジン及びオクチル−Ｎ−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−カルバメート。
【００６０】
１．１３．β−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸と一価又は多価アルコールとのエステル、
たとえば、メタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、ｉ−オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチ
レングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタンとのエステル。
【００６１】
１．１４．β−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロピオン酸と一価又は多価アルコールとのエステル、
たとえば、メタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、ｉ−オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタンとのエステル。
【００６２】
１．１５．β−（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸と一価又は多価アルコールとのエステル、
たとえば、メタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタンとのエステル。
【００６３】
１．１６．３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル酢酸と一価又は多価アルコールとのエステル、
たとえば、メタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタンとのエステル。
【００６４】
１．１７．β−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のアミド
たとえば、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジアミド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）トリメチレンジアミド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス［２−（３−［３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル］プロピオニルオキシ）エチル］オキサミド（ユニロイヤルによって供給されるナウガードＸＬ−１（登録商標 Ｎａｕｇａｒｄ））。
【００６５】
１．１８．アスコルビン酸（ビタミンＣ）
【００６６】
１．１９．アミン系抗酸化剤
たとえば、Ｎ，Ｎ’−ジ−イソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ−第二ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１，４−ジメチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１−エチル−３−メチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１−メチルヘプチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（２−ナフチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−イソプロピル−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１，３−ジメチルブチル）−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１−メチルヘプチル）−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、４−（ｐ−トルエンスルファモイル）−ジフェニルアミン、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ−第二ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、ジフェニルアミン、Ｎ−アリルジフェニルアミン、４−イソプロポキシジフェニルアミン、Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、Ｎ−（４−第三オクチルフェニル）−１−ナフチルアミン、Ｎ−フェニル−２−ナフチルアミン、オクチル化ジフェニルアミン、たとえばｐ，ｐ’−ジ−第三オクチルジフェニルアミン、４−ｎ−ブチルアミノフェノール、４−ブチリルアミノフェノール、４−ノナノイルアミノフェノール、４−ドデカノイルアミノフェノール、４−オクタデカノイルアミノフェノール、ビス（４−メトキシフェニル）−アミン、２，６−ジ−第三ブチル−４−ジメチルアミノメチルフェノール、２，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−４，４’−ジアミノジフェニルメタン、１，２−ビス［（２−メチルフェニル）アミノ］エタン、１，２−ビス−（フェニルアミノ）プロパン、（ｏ−トリル）ビグアニド、ビス［４−（１’，３’−ジメチルブチル）フェニル］アミン、第三オクチル化 Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、モノ−及びジアルキル化第三ブチル／第三オクチルジフェニルアミンの混合物、モノ−及びジアルキル化ノニルジフェニルアミンの混合物、モノ−及びジアルキル化ドデシルジフェニルアミンの混合物、モノ−及びジアルキル化イソプロピル／イソヘキシルジフェニルアミンの混合物、モノ−及びジアルキル化第三ブチルジフェニルアミンの混合物、２，３−ジヒドロ−３，３−ジメチル−４Ｈ−１，４−ベンゾチアジン、フェノチアジン、
モノ−及びジアルキル化第三ブチル／第三オクチルフェノチアジンの混合物、モノ−及びジアルキル化第三オクチルフェノチアジンの混合物、Ｎ−アリルフェノチアジン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラフェニル−１，４−ジアミノブト−２−エン、Ｎ，Ｎ−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−ピペリド−４−イル−ヘキサメチレンジアミン。
【００６７】
２．ＵＶ吸収剤及び光安定剤
１．１．２−（２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、
たとえば、既知の市販のヒドロキシフェニル−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、並びに、米国特許第３，００４，８９６号明細書；米国特許第３，０５５，８９６号明細書；米国特許第３，０７２，５８５号明細書；米国特許第３，０７４，９１０号明細書；米国特許第３，１８９，６１５号明細書；米国特許第３，２１８，３３２号明細書；米国特許第３，２３０，１９４号明細書；米国特許第４，１２７，５８６号明細書；米国特許第４，２２６，７６３号明細書；米国特許第４，２７５，００４号明細書；米国特許第４，２７８，５８９号明細書；米国特許第４，３１５，８４８号明細書；米国特許第４，３４７，１８０号明細書；米国特許第４，３８３，８６３号明細書；米国特許第４，６７５，３５２号明細書；米国特許第４，６８１，９０５号明細書；米国特許第４，８５３，４７１号明細書；米国特許第５，２６８，４５０号明細書；米国特許第５，２７８，３１４号明細書；米国特許第５，２８０，１２４号明細書；米国特許第５，３１９，０９１号明細書；米国特許第５，４１０，０７１号明細書；米国特許第５，４３６，３４９号明細書；米国特許第５，５１６，９１４号明細書；米国特許第５，５５４，７６０号明細書；米国特許第５，
５６３，２４２号明細書；米国特許第５，５７４，１６６号明細書；米国特許第５，６０７，９８７号明細書；及び米国特許第５，９７７，２１９号明細書；に開示されるようなベンゾトリアゾール、たとえば、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−第三ブチル−２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−５−第三ブチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−５−第三オクチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−クロロ−２−（３，５−ジ−第三ブチル−２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−クロロ−２−（３−第三ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−第二ブチル−５−第三ブチル−２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−第三アミル−２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３，５−ビス−α−クミル−２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−第三ブチル−２−ヒドロキシ−５−（２−（ω−ヒドロキシ−オクタ−（エチレンオキシ）カルボニル−エチル）−フェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−ドデシル−２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−第三ブチル−２−ヒドロキシ−５−（２−オクチルオキシカルボニル）エチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、ドデシル化２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−第三ブチル−２−ヒドロキシ−５−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−第三ブチル−５−（２−（２−エチルヘキシルオキシ）−カルボニルエチル）−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−第三ブチル−２−ヒドロキシ−５−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−第三ブチル−２−ヒドロキシ−５−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−第三ブチル−５−（２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル）−２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−第三ブチル−２−ヒドロキシ−５−（２−イソオクチルオキシカルボニルエチル）フェニル−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２，２’−メチレン−ビス（４−第三オクチル−（６−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール）、２−（２−ヒドロキシ−３−α−クミル−５−第三オクチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３−第三オクチル−５−α−クミルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−フルオロ−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−α−クミルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−クロロ−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−α−クミルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−クロロ−２−（２−ヒドロキシ−３−α−クミル−５−第三オクチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−第三ブチル−２−ヒドロキシ−５−（２−イソオクチルオキシカルボニルエチル）フェニル−５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−トリフルオロメチル−２−（２−ヒドロキシ−３−α−クミル−５−第三オクチルフェニル−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−トリフルオロメチル−２−（２−ヒドロキシ−５−第三オクチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−トリフルオロメチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三オクチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、メチル３−（５−トリフルオロメチル−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−５−第三ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナメート、５−ブチルスルホニル−２−（２−ヒドロキシ−３−α−クミル−５−第三オクチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−トリフルオロメチル−２−（２−ヒドロキシ−３−α−クミル−５−第三ブチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−トリフルオロメチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−トリフルオロメチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−α−クミルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−ブチルスルホニル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール及び５−フェニルスルホニル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルフェニル）−２
Ｈ−ベンゾトリアゾール。
【００６８】
２．２．２−ヒドロキシベンゾフェノン、
たとえば、４−ヒドロキシ、４−メトキシ、４−オクチルオキシ、４−デシルオキシ、４−ドデシルオキシ、４−ベンジルオキシ、４，２’，４’−トリヒドロキシ、及び２’−ヒドロキシ−４，４’−ジメトキシ誘導体。
【００６９】
２．３．置換及び非置換の安息香酸のエステル、
たとえば、４−第三ブチル−フェニルサリチレート、フェニルサリチレート、オクチルフェニルサリチレート、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス（４−第三ブチルベンゾイル）レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、２，４−ジ−第三ブチルフェニル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、オクタデシル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、２−メチル−４，６−ジ−第三ブチルフェニル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート。
【００７０】
２．４．アクリレート及びマロネート、
たとえば、α−シアノ−β，β−ジフェニルアクリル酸エチルエステル又はイソオクチルエステル、α−カルボメトキシケイヒ酸メチルエステル、α−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシケイヒ酸メチルエステル又はブチルエステル、α−カルボメトキシ−ｐ−メトキシケイヒ酸メチルエステル、Ｎ−（β−カルボメトキシ−β−シアノビニル）−２−メチルインドリン、サンデュボア（Ｓａｎｄｕｖｏｒ（登録商標））ＰＲ２５、ジメチルｐ−メトキシベンジリデンマロネート（ＣＡＳ登録番号 ７４４３−２５−６）、サンデュボア（Ｓａｎｄｕｖｏｒ（登録商標））ＰＲ３１、ジ−（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン−４−イル）ｐ−メトキシベンジリデンマロネート（ＣＡＳ登録番号 １４７７８３−６９−５）。
【００７１】
２．５．ニッケル化合物
たとえば、ｎ−ブチルアミン、トリエタノールアミン、若しくはＮ−シクロヘキシルジエタノールアミンといった付加配位子を伴うか若しくは伴わない、１：１又は１：２の錯体といった、２，２’−チオ−ビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール］のニッケル錯体、ニッケルジブチルジチオカルバメート、モノアルキルエステルのニッケル塩、たとえば、４−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジルホスホン酸のメチル若しくはエチルエステル、ケトキシム、たとえば、２−ヒドロキシ−４−メチルフェニルウンデシルケトキシムのニッケル錯体、付加的な配位子を伴うか若しくは伴わない１−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシピラゾールのニッケル錯体。
【００７２】
２．６．立体障害性アミン
たとえば、４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、１−アリル−４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、１−ベンジル−４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）スクシネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ｎ−ブチル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルマロネート、１−（２−ヒドロキシエチル）−２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジンとコハク酸の縮合物、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−第三オクチルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンの線状若しくは環状縮合物、トリス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ニトリロトリア
セテート、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタン−テトラカルボキシレート、１，１’−（１，２−エタンジイル）−ビス（３，３，５，５−テトラメチルピペラジノン）、４−ベンゾイル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル−２−ｎ−ブチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジル）マロネート、３−ｎ−オクチル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）セバケート、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）スクシネート、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−モルホリノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンの線状若しくは環状縮合物、２−クロロ−４，６−ビス（４−ｎ−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンの縮合物、２−クロロー４，６−ジ−（４−ｎ−ブチルアミノ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス−（３−アミノプロピルアミノ）エタンとの縮合物、８−アセチル−３−ドデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、３−ドデシル−１−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、３−ドデシル−１−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、４−ヘキサデシルオキシ−及び４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンの混合物、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−シクロヘキシルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンの縮合生成物、１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンと２，４，６−トリクロロ−１，３，５−トリアジン及び４−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンの縮合生成物（ＣＡＳ登録番号［１３６５０４−９６−６］）；Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシルスクシンイミド、Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシルスクシンイミド、２−ウンデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソ−スピロ［４，５］デカン、７，７，９，９−テトラメチル−２−シクロウンデシル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ［４，５］デカンとエピクロロヒドリンの反応生成物、１，１−ビス−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルオキシカルボニル）−２−（４−メトキシフェニル）エテン、Ｎ，Ｎ’−ビス−ホルミル−Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミン、４−メトキシ−メチレン−マロン酸と１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ヒドロキシピペリジンとのジエステル、ポリ［メチルプロピル−３−オキシ−４−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）］シロキサン、マレイン酸無水物−α−オレフィン−コポリマーと２，２，６，６−テトラメチル−４−アミノピペリジン若しくは１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−アミノピペリジンとの反応生成物。
【００７３】
立体障害性アミンは、米国特許第５，９８０，７８３号明細書に記載された化合物の一種でもあり得、すなわち、前記米国特許第５，９８０，７８３号明細書の６４−７２欄に記載されている成分Ｉ−ａ）、Ｉ−ｂ）、Ｉ−ｃ）、Ｉ−ｄ）、Ｉ−ｅ）、Ｉ−ｆ）、Ｉ−ｇ）、Ｉ−ｈ）、Ｉ−ｉ）、Ｉ−Ｊ）、Ｉ−ｋ）、Ｉ−ｌ）で表される化合物であり、特に光安定剤１−ａ−１、１−ａ−２、１−ｂ−１、１−ｃ−１、１−ｃ−２、１−ｄ−１、１−ｄ−２、１−ｄ−３、１−ｅ−１、１−ｆ−１、１−ｇ−１、１−ｇ−２又は１−ｋ−１である。
【００７４】
立体障害性アミンは、米国特許第６，０４６，３０４号明細書及び米国特許第６，２９７，２９９号明細書に記載された化合物の一種でもあり得、例えば、請求項１０又は請求
項３８、或いは実施例１−１２又はＤ−１乃至Ｄ−５に記載されるような化合物である。
【００７５】
２．７．ヒドロキシ置換アルコキシ基によってＮ−原子上で置換された立体障害性アミンたとえば以下の化合物、１−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロポキシ）−４−オクタデカノイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、１−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロポキシ）−４−ヘキサデカノイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、１−オキシル−４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンと第三アミルアルコール由来の炭素ラジカルとの反応生成物、１−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロポキシ）−４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、１−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロポキシ）−４−オキソ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、ビス（１−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロポキシ）−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）−セバケート、ビス（１−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロポキシ）−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）−アジペート、ビス（１−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロポキシ）−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）−スクシネート、ビス（１−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロポキシ）−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）−グルタレート及び２，４−ビス｛Ｎ−［１−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロポキシ）−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル］−Ｎ−ブチルアミノ｝−６−（２−ヒドロキシエチルアミノ）−ｓ−トリアジン。
【００７６】
２．８．オキサミド、
たとえば、４，４’−ジオクチルオキシオキサニリド、２，２’−ジエトキシオキサニリド、２，２’−ジオクチルオキシ−５，５’−ジ−第三ブトキサニリド、２，２’−ジドデシルオキシ−５，５’−ジ−第三ブトキサニリド、２−エトキシ−２’−エチルオキサニリド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−ジメチルアミノプロピル）オキサミド、２−エトキシ−５−第三ブチル−２’−エトキサニリド及びその２−エトキシ−２’−エチル−５，４’−ジ−第三ブトキサニリドとの混合物、ｏ−及びｐ−メトキシ−二置換オキサニリドの混合物、並びに、ｏ−及びｐ−エトキシ−二置換オキサニリドの混合物。
【００７７】
２．９．トリス−アリール−ｏ−ヒドロキシフェニル−ｓ−トリアジン、
たとえば、既知の市販のトリス−アリール−ｏ−ヒドロキシフェニル−ｓ−トリアジン、並びに、国際公開第９６／２８４３１号パンフレット、欧州特許第４３４６０８号明細書、欧州特許第９４１９８９号明細書、英国特許第２，３１７，８９３号明細書、米国特許第３，８４３，３７１号明細書；米国特許第４，６１９，９５６号明細書；米国特許第４，７４０，５４２号明細書；米国特許第５，０９６，４８９号明細書；米国特許第５，１０６，８９１号明細書；米国特許第５，２９８，０６７号明細書；米国特許第５，３００，４１４号明細書；米国特許第５，３５４，７９４号明細書；米国特許第５，４６１，１５１号明細書；米国特許第５，４７６，９３７号明細書；米国特許第５，４８９，５０３号明細書；米国特許第５，５４３，５１８号明細書；米国特許第５，５５６，９７３号明細書；米国特許第５，５９７，８５４号明細書；米国特許第５，６８１，９５５号明細書；米国特許第５，７２６，３０９号明細書；米国特許第５，９４２，６２６号明細書；米国特許第５，９５９，００８号明細書；米国特許第５，９９８，１１６号明細書；及び米国特許第６，０１３，７０４号明細書；に開示されるような及びトリアジン、たとえば、４，６−ビス−（２，４−ジメチルフェニル）−２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−ｓ−トリアジン、サイアソーブ（Ｃｙａｓｏｒｂ（登録商標）１１６４）、サイテック社、４，６−ビス−（２，４−ジメチルフェニル）−２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−６−（４−クロロフェニル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−６−（４−クロロフェニル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシエト
キシ）フェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−６−（４−ブロモフェニル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス［２−ヒドロキシ−４−（２−アセトキシエトキシ）フェニル］−６−（４−クロロフェニル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（２，４−ジヒドロキシフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（４−ビフェニリル）−６−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシカルボニルエチリデンオキシフェニル）−ｓ−トリアジン、２−フェニル−４−［２−ヒドロキシ−４−（３−第二ブトキシ−２−ヒドロキシプロピルオキシ）フェニル］−６−［２−ヒドロキシ−４−（３−第二アミルオキシ−２−ヒドロキシプロピルオキシ）フェニル］−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−６−［２−ヒドロキシ−４−（３−ベンジルオキシ−２−ヒドロキシプロピルオキシ）フェニル］−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−ｎ−ブチルオキシフェニル）−６−（２，４−ジ−ｎ−ブチルオキシフェニル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−６−［２−ヒドロキシ−４−（３−ノニルオキシ*−２−ヒドロキシプロピルオ
キシ）−５−α−クミルフェニル］−ｓ−トリアジン（*はオクチルオキシ基、ノニルオ
キシ基、及びデシルオキシ基の混合物を意味する。）、メチレンビス−｛２，４−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−６−［２−ヒドロキシ−４−（３−ブチルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル］−ｓ−トリアジン｝、５：４：１の比率で３：５’、５：５’及び３：３’位において架橋されたメチレン架橋二量体混合物、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−イソオクチルオキシカルボニルイソプロピリデンオキシフェニル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−６−（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシ−５−α−クミルフェニル）−ｓ−トリアジン、２−（２，４，６−トリメチルフェニル）−４，６−ビス［２−ヒドロキシ−４−（３−ブチルオキシ−２−ヒドロキシプロピルオキシ）フェニル］−ｓ−トリアジン、２，４，６−トリス［２−ヒドロキシ−４−（３−第二ブチルオキシ−２−ヒドロキシプロピルオキシ）フェニル］−ｓ−トリアジン、４，６−ビス−（２，４−ジメチルフェニル）−２−（２−ヒドロキシ−４−（３−ドデシルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−フェニル）−ｓ−トリアジンと４，６−ビス−（２，４−ジメチルフェニル）−２−（２−ヒドロキシ−４−（３−トリデシルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−フェニル）−ｓ−トリアジンの混合物、チヌビン（Ｔｉｎｕｖｉｎ（登録商標））４００、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社、４，６−ビス−（２，４−ジメチルフェニル）−２−（２−ヒドロキシ−４−（３−（２−エチルヘキシルオキシ）−２−ヒドロキシプロポキシ）−フェニル）−ｓ−トリアジン、及び４，６−ジフェニル−２−（４−ヘキシルオキシ−２−ヒドロキシフェニル）−ｓ−トリアジン。
【００７８】
３．金属奪活剤
たとえば、Ｎ，Ｎ’−ジフェニルオキサミド、Ｎ−サリチラル−Ｎ’−サリチロイルヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）ヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン、３−サリチロイルアミノ−１，２，４−トリアゾール、ビス（ベンジリデン）オキサリルジヒドラジド、オキサニリド、イソフタロイルジヒドラジド、セバコイルビスフェニルヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ジアセチルアジポイルジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）オキサリルジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）チオプロピオニルジヒドラジド。
【００７９】
４．ホスフィット及びホスホナイト、
たとえば、トリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキルホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリス（ノニルフェニル）ホスフィット、トリラウリルホスフィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリルペンタエリトリトールジホスフィット、トリス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィット、ジイソデシルペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）ペンタエリトリトー
ルジホスフィット、ビス（２，６−ジ−第三ブチル−４−メチルフェニル）−ペンタエリトリトールジホスフィット、ジイソデシルオキシペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４，６−トリス（第三ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、トリステアリルソルビトールトリホスフィット、テトラキス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、６−イソオクチルオキシ−２，４，８，１０−テトラ−第三ブチル−ジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスホシン（ｄｉｏｘａｐｈｏｓｐｈｅｐｉｎ）、６−フルオロ−２，４，８，１０−テトラ−第三ブチル−１２−メチル−ジベンゾ［ｄ，ｇ］［１，３，２］ジオキサホスホシン、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニル）メチルホスフィット、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニル）エチルホスフィット、２，２’，２”−ニトリロ［トリエチルトリス（３，３’，５，５’−テトラ−第三ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’―ジイル）ホスフィット］、２−エチルヘキシル（３，３’，５，５’−テトラ−第三ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）ホスフィット。
【００８０】
特に好まれるのは以下のホスフィットである：
トリス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィット（イルガフォス（Ｉｒｇａｆｏｓ、登録商標）１６８、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社）、トリス（ノニルフェニル）ホスフィット、
【化６】
【００８１】
５．ヒドロキシルアミン、
たとえば、Ｎ，Ｎ−ジベンジルヒドロキルシアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクチルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジラウリルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジテトラデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジヘキサデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘキサデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘプタデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ−メチル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシアミン及び水素化牛脂アミン由来のＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミン。
【００８２】
６．ニトロン、
たとえば、Ｎ−ベンジル−α−フェニルニトロン、Ｎ−エチル−α−メチルニトロン、Ｎ−オクチル−α−ヘプチルニトロン、Ｎ−ラウリル−α−ウンデシルニトロン、Ｎ−テトラデシル−α−トリデシルニトロン、Ｎ−ヘキサデシル−α−ペンタデシルニトロン、Ｎ−オクタデシル−α−ヘプタデシルニトロン、Ｎ−ヘキサデシル−α−ヘプタデシルニトロン、Ｎ−オクタデシル−α−ペンタデシルニトロン、Ｎ−ヘプタデシル−α−ヘプタデシルニトロン、Ｎ−オクタデシル−α−ヘキサデシルニトロン、Ｎ−メチル−α−ヘプタデシルニトロン、水素化牛脂アミン由来のＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミン由来のニトロン。
【００８３】
７．アミンオキシド
例えば、米国特許第５，８４４，０２９号明細書及び米国特許第５，８８０，１９１号明細書に開示されるようなアミンオキシド誘導体、ジデシルメチルアミンオキシド、トリデシルアミンオキシド、トリドデシルアミンオキシド及びトリヘキサデシルアミンオキシド。
【００８４】
８．ベンゾフラノン及びインドリノン、
たとえば、米国特許第４，３２５，８６３号明細書；米国特許第４，３３８，２４４号明細書；米国特許第５，１７５，３１２号明細書；米国特許第５，２１６，０５２号明細書；米国特許第５，２５２，６４３号明細書；独国特許出願公開第４３１６６１１号明細書；独国特許出願公開第４３１６６２２号明細書；独国特許出願公開第４３１６８７６号明細書；欧州特許出願公開第０５８９８３９号明細書又は欧州特許出願公開第０５９１１０２号明細書に開示されるもの、又は、３−［４−（２−アセトキシエトキシ）−フェニル］−５，７−ジ−第三ブチル−ベンゾフラノ−２−オン、５，７−ジ−第三ブチル−３−［４−（２−ステアロイルオキシエトキシ）フェニル］ベンゾフラノ−２−オン、３，３’−ビス［５，７−ジ−第三ブチル−３−（４−［２−ヒドロキシエトキシ］フェニル）ベンゾフラノ−２−オン］、５，７−ジ−第三ブチル−３−（４−エトキシフェニル）ベンゾフラノ−２−オン、３−（４−アセトキシ−３，５−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−第三ブチルベンゾフラノ−２−オン、３−（３，５−ジメチル−４−ピバロイルオキシフェニル）−５，７−ジ−第三ブチルベンゾフラノ−２−オン、３−（３，４−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−第三ブチルベンゾフラノ−２−オン、３−（２−アセチル−５−イソオクチルフェニル）−５−イソオクチルベンゾフラノ−２−オン、及び３−（２，３−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−第三ブチルベンゾフラノ−２−オン。
【００８５】
９．チオ相乗剤、
たとえば、ジラウリルチオジプロピオネート又はジステアリルチオジプロピオネート。
【００８６】
１０．過酸化物捕捉剤、
たとえば、β−チオジプロピオン酸のエステル、たとえばラウリル、ステアリル、ミリスチル、若しくはトリデシルエステル、メルカプトベンズイミダゾール若しくは２−メルカプトベンズイミダゾールの亜鉛塩、亜鉛ジブチルジチオカルバメート、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリトリトールテトラキス（β−ドデシルメルカプト）プロピオネート。
【００８７】
１１．ポリアミド安定剤、
たとえば、ヨウ化物及び／又はリン化合物と組合せた銅塩、及び、二価マンガン塩。
【００８８】
１２．塩基性共安定剤、
たとえば、メラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリアリルシアヌレー
ト、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、たとえばカルシウムステアレート、亜鉛ステアレート、マグネシウムベヘネート、マグネシウムステアレート、ナトリウムリシノレエート、及びカリウムパルミテートなどの高級脂肪酸のアルカリ金属塩及びアルカリ土類金属塩、アンチモンピロカテコレート、又は亜鉛ピロカテコレート。
【００８９】
１３．核剤、
たとえば、タルクなどの無機物質、二酸化チタン又は酸化マグネシウムなどの金属酸化物、好ましくはアルカリ土類金属のリン酸塩、炭酸塩、又は硫酸塩；モノあるいはポリカルボン酸などの有機化合物及びそれらの塩、たとえば、４−第三ブチル安息香酸、アジピン酸、ジフェニル酢酸、コハク酸ナトリウム又は安息香酸ナトリウム；イオン化コポリマー（アイオノマー）などの高分子化合物。
【００９０】
１４．充填剤及び強化剤、
たとえば、炭酸カルシウム、シリケート、ガラスファイバー、ガラス球、アスベスト、タルク、カオリン、マイカ、硫酸バリウム、金属酸化物及び金属水酸化物、カーボンブラック、グラファイト、木粉及び他の天然物の粉末又は繊維、合成繊維。
【００９１】
１５．分散剤
たとえば、ポリエチレンオキシドワックス又はミネラルオイル。
【００９２】
１６．その他の添加剤、
たとえば、可塑剤、滑剤、乳化剤、顔料、染料、蛍光増白剤、レオロジー添加剤、触媒、流量調整剤、スリップ剤、架橋剤、架橋促進剤、ハロゲン捕捉剤、煙抑制剤、防炎剤、帯電防止剤、置換又は非置換のビスベンジリデンソルビトールなどの清澄剤、２，２’−ｐ−フェニレン−ビス（３，１−ベンズオキサジン−４−オン）などのベンゾオキサジオンＵＶ吸収剤、サイアソーブ（Ｃｙａｓｏｒｂ（登録商標））３６３８（ＣＡＳ登録番号 １８６００−５９−４）及び発泡剤。
【００９３】
本発明のファイバー又はフィラメントから製造された可湿性布地は、例えば、皮膚が接触する衛生製品の内側の裏布地として、特に、使い捨ておむつ、トレーニングパンツ（おむつ）、婦人衛生製品又は失禁ケア製品として、特に有用である。布地はまた、ウェット及びドライワイプ、創傷被覆材、手術用ケープ、内側フィルタ（ｆｉｌｔｅｒ ｍｅｄｉａｌ）、電池セパレーターなどの製品において有用である。
【００９４】
おむつの構造は、例えば米国特許第５，１４９，５７６号明細書；米国特許第５，９６１，５０４号明細書；米国特許第６，０３１，１４７号明細書並びに米国特許第６，１１０，８４９号明細書に記載される。
【００９５】
さらに多くの場合、溶融押出ポリオレフィンフィルムに湿潤性を授けることが望ましい。孔開き形態である前記フィルムは、衛生製品のカバーシートとして広く使用される。
【００９６】
衛生製品のカバーストックの場合、ウェットバック特性の改善は、２層以上の布地を一緒に貼り合わせて使用することによってなされる。例えば、メルトブロー層が本添加剤を欠いている２つのスパンボンド層又はＳＭＳ布地が挙げられる。
【００９７】
布地に加えて、ポリエステルフィルム、プラーク、シート及び成形品もまた、本発明によって優れた可湿性がもたらされる。
【００９８】
したがって、使い捨ておむつ、トレーニングパンツ、婦人衛生製品、失禁ケア製品、ウ
ェット又はドライワイプ、創傷被覆材、手術用ケープ、内側フィルタ（ｆｉｌｔｅｒ ｍｅｄｉａｌ）及び電池セパレーターからなる群から選択される、可湿性布地から製造される製品も開示する。
【００９９】
したがって、本発明の対象はまた、可湿性ポリエステルフィルム、プラーク、シート又は成形品であって、該フィルム、プラーク、シート又は成形品は、ポリエステルと成分ａ）、ｂ）、ｃ）、ｄ）及びｅ）で表される一種以上の化合物を含む溶融ブレンドを含むものである。
【０１００】
さらに、他のスルホネート金属塩を含み得るように金属Ｍのリストは拡大され得ることが考えられる。例えば、金属ＭはＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｓ、Ｂｅ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｓｒ、Ｂａ、Ａｌ、Ｓｂ、Ｃｄ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ及びＺｎからなる群から選択され得る。それぞれの場合、成分ａ）、ｂ）、ｃ）、ｄ）及びｅ）で表される化合物は電気的に中性である。
【０１０１】
例えば、ｅ）で表される下記の錯体が含まれる：
【化７】
【０１０２】
以下の実施例は更に本発明を説明する。他に指示がない限り、量は質量％で示される。
【実施例】
【０１０３】
例１：ナトリウム ４−ベンジルオキシ−ブタン−１−スルホネートの製造
【化８】
２リットルの丸底フラスコに、２６．６３ｇの水素化ナトリウム（６０％）及び６００ｍＬの乾燥ジメチルホルムアミドを加え、そして撹拌した。６０．００ｇのベンジルアルコールを、室温でＮ2雰囲気下にて、反応混合物に撹拌しながら１時間かけて加えた。反
応混合物をさらに０．５時間撹拌した。その後、９０．５５ｇの１，４−ブタンスルトンを反応混合物にゆっくりと２時間かけて加えた。反応混合物を、それから一晩撹拌した。
反応終了後に、反応物を２．５リットルの２−プロパノール中に勢いよく撹拌しながら注ぎ入れた。生成物をろ過し、５００ｍLの２−プロパノールと５００ｍLのヘキサンで洗浄した。生成物をその後メタノールを用いた再結晶にて精製し、真空下で乾燥させた。収率は４５％であった。
【０１０４】
例２：ナトリウム ４−フェネチルオキシ−ブタン−１−スルホネートの製造
【化９】
１リットルの三口丸底フラスコに、４００ｍｌの乾燥ジメチルホルムアミドを供給し、そして１３．１０ｇの水素化ナトリウム（６０％）を加えた。この混合物を室温で窒素雰囲気下にて０．５時間撹拌した。４０ｇの２−フェニルエタノールの６０ｍｌ乾燥ジメチルホルムアミド溶液を反応混合物に撹拌下で２時間の間、室温にて、滴下して加えた。その後、４４．５８ｇの１，４−ブタンスルトンの６０ｍｌ乾燥ジメチルホルムアミド溶液を反応混合物に、撹拌しながら３時間の間滴下して加えた。反応混合物を室温で一晩撹拌し続けた。反応終了後に溶媒を真空下で蒸発させ、そして残渣を１．５リットルの２−プロパノールで処理し、１５分間撹拌し、ろ過した。ウェットケーキを再度２−プロパノールで処理し、未反応の出発物質を除去した。ウェットケーキを真空下で乾燥し、オフホワイトの固体を得、ＮＭＲで特徴付けた。９．６５％のアリル不純物の存在を示した。
【０１０５】
アリル不純物を除去するため、化合物３６．７０ｇを１５０ｍｌの蒸留水に溶解し、溶液を撹拌しながら５０℃に加熱し続けた。この溶液に、１．３６ｇの亜硫酸水素ナトリウム、並びに、１０ｍｇの過硫酸カリウムを加え、５０℃にて一晩撹拌を続けた。溶媒を真空下で除去し、固体を真空で乾燥してＩＲ及びＮＭＲで特徴付けた。ＮＭＲスペクトルは、亜硫酸水素ナトリウムの処理後に、アリル不純物が３．０６％に減少したことを示した。収率は４２．９％であった。
【０１０６】
例３：ナトリウム ４−（３−フェニル−プロポキシ）−ブタン−１−スルホネートの製造
【化１０】
１リットルの三口丸底フラスコに、３００ｍｌの乾燥ジメチルホルムアミドと１０．１４ｇの水素化ナトリウム（６０％）を配置し、室温でＮ2雰囲気下にて、０．５時間撹拌
した。４０．００ｇの３−フェニルプロパノールを、室温で０．５時間の間、撹拌下で、反応混合物に滴下して加えた。反応混合物をさらに０．５時間撹拌し続けた。その後、４４．５８ｇの１，４−ブタンスルトンを、０．７５時間の間、撹拌下で、反応混合物に滴下して加えた。反応混合物を室温で３時間撹拌し続けた。反応終了後に、溶媒を真空下で蒸発させ、残渣を３．５リットルの２−プロパノールで処理し、２０分撹拌し、ろ過した。
ウェットケーキを再度２−プロパノールで処理し、未反応の出発物質を除去した。ウェットケーキを真空下で乾燥させ、オフホワイトの固体を得、ＮＭＲで特徴付けた。ＮＭＲは１５％のアリル不純物の存在を示した。
【０１０７】
アリル不純物を除去するために、化合物３０．２０ｇを１５０ｍｌの蒸留水に溶解し、溶液を撹拌しながら５０℃に加熱し続けた。この溶液に、１．７６ｇの亜硫酸水素ナトリウム及び５０ｍｇの過硫酸カリウムを加え、一晩撹拌を続けた。溶媒を真空下で除去し、
固体を真空で乾燥してＩＲ及びＮＭＲで特徴付けた。ＮＭＲスペクトルは、亜硫酸水素ナトリウムの処理後に、アリル不純物が３．１０％に減少したことを示した。収率は６４．６％であった。
【０１０８】
例４：４−（４−フェニル−ブトキシ）−ブタン−１−スルホネート ナトリウムの製造
【化１１】
１リットルの三口丸底フラスコに、５００ｍｌの乾燥ジメチルホルムアミド及び１４．５３ｇの水素化ナトリウム（６０％）を配置し、Ｎ2雰囲気下で０．５時間撹拌した。５
４．６０ｇの４−フェニル−１−ブタノールの１００ｍｌ乾燥ジメチルホルムアミド溶液を、室温で、２時間の間、撹拌下で反応混合物に滴下して加えた。その後、４９．４９ｇの１，４−ブタンスルトンの１００ｍｌ乾燥ジメチルホルムアミド溶液を、３時間の間、撹拌しながら反応混合物に滴下して加えた。反応混合物を一晩撹拌し続けた。その後、溶媒を真空下で蒸発させ、残渣を２．０リットルの２−プロパノールで処理し、１５分撹拌し、ろ過した。ウェットケーキを再度２−プロパノールで処理し、未反応の出発物質を除去した。ウェットケーキを真空下で乾燥させ、オフホワイトの固体を得、ＮＭＲで特徴付けた。ＮＭＲは１８．７０％のアリル不純物と、多少の１，４−ジスルホネート化ブタン不純物の存在を示した。
【０１０９】
アリル不純物を除去するために、化合物８９．３０ｇを２５０ｍｌの蒸留水に溶解し、溶液を撹拌しながら５０℃に加熱し続けた。この溶液に、７．７２ｇの亜硫酸水素ナトリウム及び５０ｍｇの過硫酸カリウムを加え、一晩撹拌を続けた。溶媒を真空下で除去し、固体を真空で乾燥してＩＲ及びＮＭＲで特徴付けた。ＮＭＲスペクトルは、アリル不純物が２．００％に減少したことを示した。もう一つの不純物も生成物中に存在していることが見出された。９１．００ｇの上記化合物を過剰量のメタノールに溶解することにより、１，４−ジスルホネート化ブタンであるこの不純物を除去し、その後、上記溶液が濁るまで１，２−ジクロエタンをゆっくりと加えた。溶液をろ過し、ろ物を真空下で濃縮し、所望の生成物を回収した。固体を真空下で乾燥し、ＮＭＲで特徴付けた。収率は７９．６％であった。
【０１１０】
例５：ブトキシスルホネートナトリウム末端基を有するポリエチレングリコールメチルエーテル（Ｍｎ＝５５０）の製造
【化１２】
１リットルの三口丸底フラスコに、４００ｍｌの乾燥ジメチルホルムアミドと、３．６４ｇの水素化ナトリウム（６０％）を配置し、室温でＮ2雰囲気下にて、０．５時間撹拌
した。５０．００ｇのポリエチレングリコールメチルエーテル（Ｍｎ＝５５０）の１００ｍｌの乾燥ジメチルホルムアミド溶液を、室温で、２時間かけて撹拌下で上記溶液に滴下して加えた。その後、１２．３８ｇの１，４−ブタンスルトンの５０ｍｌ乾燥ジメチルホルムアミド溶液を、反応混合物に３時間の間、撹拌しながら滴下して加えた。反応混合物を室温で一晩撹拌し続けた。その後溶媒を真空下で蒸発させ、残渣を２．０リットルの酢酸エチルに溶解した。その後、溶液から生成物が沈殿して得られるまでヘキサンをゆっくりと加えた。その後、生成物をろ過し、真空下で乾燥し、淡黄色の半固体を得、ＮＭＲで特徴付けた。ＮＭＲは１０．００％のアリル不純物の存在を示した。
【０１１１】
アリル不純物を除去するために、化合物３７．４０ｇを１５０ｍｌの蒸留水に溶解し、
溶液を撹拌しながら５０℃で加熱を続けた。この溶液に、０．５５ｇの亜硫酸水素ナトリウム及び１０ｍｇの過硫酸カリウムを加え、一晩撹拌を続けた。溶媒を真空下で除去し、固体を真空で乾燥してＩＲ及びＮＭＲで特徴付けた。ＮＭＲスペクトルは、亜硫酸水素ナトリウムの処理後に、アリル不純物が３．５０％に減少したことを示した。収率は５８．１％であった。
【０１１２】
例６：１−オクタノールと１，４−ブタンスルホンからのスルホネートの製造
【化１３】
１リットルの三口丸底フラスコに、３００ｍｌの乾燥ジメチルホルムアミドと７．６８ｇの水素化ナトリウム（６０％）を配置し、室温でＮ2雰囲気下で、０．５時間撹拌した
。２５．００ｇの１−オクタノールの５０ｍｌ乾燥ジメチルホルムアミド溶液を、室温で２時間の間、撹拌下で上記溶液に滴下して加えた。それから、２３．５３ｇの１，４−ブタンスルトンの５０ｍｌ乾燥ジメチルホルムアミド溶液を、３時間撹拌しながら反応混合物に滴下して加えた。反応混合物を室温で一晩撹拌し続けた。その後溶媒を真空下で蒸発させ、残渣を１．５リットルの２−プロパノールで処理した。生成物をろ過し、真空下で乾燥し、白色の固体を得、ＮＭＲで特徴付けた。ＮＭＲは１３．３６％のアリル不純物の存在を示した。アリル不純物を除去するために、化合物４３．３ｇを１５０ｍｌの蒸留水に溶解し、溶液を撹拌しながら５０℃で加熱を続けた。この溶液に、２．１９ｇの亜硫酸水素ナトリウム及び２０ｍｇの過硫酸カリウムを加え、一晩撹拌を続けた。溶媒を真空下で除去し、固体を真空で乾燥してＩＲ及びＮＭＲで特徴付けた。ＮＭＲスペクトルは、亜硫酸水素ナトリウムの処理後に、アリル不純物が２．４８％に減少したことを示した。収率は７５．２％であった。
【０１１３】
例７：オクタデカン−１，２−ジスルホン酸ジナトリウム塩の製造
【化１４】
１リットルの一口丸底フラスコに、２５ｇのオクタデカ−１−エン、２５．８ｇの亜硫酸水素ナトリウム及び０．２５ｇの２，６−ジ−第三ブチル−４−メチルフェノールを入れた。この混合物に、２５０ｍｌの２−プロパノール及び２５０ｍｌの蒸留水を加え、反応混合物を撹拌しながら５０℃に加熱した。その後、１．５ｍｌの第三ブチル過安息香酸をこの反応溶液に加え、２４時間５０℃で撹拌を続けた。溶媒を真空下で除去し、化合物を真空下６０℃で１２時間乾燥した。生成物（二ナトリウム；オクタデカン−１，２−ジスルホネート）を最終的にカラムクロマトグラフィーで精製した。収率は２５．２６％であった。
【０１１４】
例８：エトキシル化アルコールのスルホアルキル化の製造
【化１５】
５リットルの三口丸底フラスコに、５００ｍｌの乾燥ジメチルホルムアミド及び４２．３ｇの水素化ナトリウム（６０％）を設置し、室温でＮ2雰囲気下で０．５時間撹拌した
。
３５０．００ｇのエトキシル化アルコール（インベンティン（Ｉｍｂｅｎｔｉｎ） ＡＧ／２００／０２５）の２０００ｍｌ乾燥ジメチルホルムアミド溶液を、５０℃で１時間かけて撹拌下で上記溶液に滴下して加え、この溶液をさらに３時間５０℃で撹拌し続けた。その後、１２１．７２ｇの１，４−ブタンスルトンの５００ｍｌ乾燥ジメチルホルムアミド溶液を３時間の間、撹拌しながら、反応混合物に滴下して加えた。反応混合物を５０℃で一晩撹拌し続けた。その後溶媒を真空下で蒸発させ、残渣を４リットルの２−プロパノールで処理し、ろ過した。残渣を２リットルの２−プロパノールでさらに洗浄した。生成物を真空下で乾燥して、白色固体を得、ＮＭＲで特徴付けた。収率は６５．８６％であった。
【０１１５】
例９：湿潤性測定
添加剤化合物を、２軸押出機で配合する前に、市販のファイバーグレード（約０．６５極限粘度数（ｉｖ））のＰＥＴ樹脂と共に、総バッチサイズ１０００ｇで、ドライブレンドした。
またあるいは、濃縮物を調製し、適切な比率でＰＥＴ樹脂とブレンドし、目的の濃度を得た。濃度は、ＰＥＴの質量に対する添加剤の質量％である。ブレンドされた樹脂を結晶化し、乾燥し、そして研究スケールのメルトブローラインにて６’’ダイを用いてＡｒパージ下で処理して不織布を製造した。溶融物と雰囲気の温度を約３０５℃に設定した。エアーフローをＰＥＴが添加剤なしで流れる場合、フライを形成しないように調整した。目的とする不織布の基礎重量を８０ｇｓｍとした。
【０１１６】
下記表は、親水性添加剤が合成例１−６のうちの一つである結果を含む。測定は、０．９％ＮａＣｌ／水溶液が試験布を通過するのにかかる時間である（ｌｉｑｕｉｄ ｓｔｒｉｋｅ ｔｈｒｏｕｇｈ ｔｉｍｅ（液体浸透時間）、ＥＤＡＮＡ １５０．５−０２）。５０秒を超える時間は有望でないとみなされ、１０乃至５０秒は適度に機能しているとみなされ、１０秒未満は高く機能しているとみなされる。
【０１１７】
【表１】
【先行技術文献】
【特許文献】
【０１１８】
【特許文献１】米国特許第４，３５７，３９０号明細書
【特許文献２】米国特許第４，３５１，７３８号明細書
【特許文献３】米国特許第４，６６６，７６４号明細書
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリエステルと、
ａ）式
【化１】
で表されるフェニルアルキル−オキシ−アルキル金属スルホネート、
ｂ）式
【化２】
で表されるアルキル−オキシ−アルキル金属スルホネート、
ｃ）式
【化３】
で表されるポリエチレンオキシ−アルキル金属スルホネート、
ｄ）式
【化４】
で表されるアルキル−ポリエチレンオキシ−アルキル金属スルホネート、及び
ｅ）式
【化５】
で表されるアルキル−１，２−ジスルホネート金属スルホネート
（式中、
ｍは０、１又は２を表し、
ｎは１乃至６の整数を表し、
ｐは１乃至１６の整数を表し、
Ｒは１乃至２４個の炭素原子を有するアルキル基を表し、そして
ＭはＮａ、Ｋ又はＬｉを表す。）
からなる群から選択される一種以上の化合物との溶融ブレンドを含むポリエステルファイバー又はフィラメント。
【請求項２】
一種以上の成分ａ）のフェニルアルキル−オキシ−アルキル金属スルホネートを含む、請求項１記載のポリエステルファイバー又はフィラメント。
【請求項３】
一種以上の成分ｂ）のアルキル−オキシ−アルキル金属スルホネートを含む、請求項１記載のポリエステルファイバー又はフィラメント。
【請求項４】
一種以上の成分ｃ）のポリエチレンオキシ−アルキル金属スルホネートを含む、請求項１記載のポリエステルファイバー又はフィラメント。
【請求項５】
一種以上の成分ｄ）のアルキル−ポリエチレンオキシ−アルキル金属スルホネートを含む、請求項１記載のポリエステルファイバー又はフィラメント。
【請求項６】
一種以上の成分ｅ）のアルキル−１，２−ジスルホネート金属スルホネートを含む、請求項１記載のポリエステルファイバー又はフィラメント。
【請求項７】
前記ポリエステルが、ポリ（エチレンテレフタレート）、ポリ（エチレン−２，６−ナフタレン−２，６−ジカルボキシレート）又はポリ（乳酸）である、請求項１記載のファイバー又はフィラメント。
【請求項８】
前記ポリエステルが、ポリ（エチレンテレフタレート）である、請求項１記載のファイバー又はフィラメント。
【請求項９】
化合物ａ）、ｂ）、ｃ）、ｄ）及びｅ）がポリエステルの質量に基づいて、０．０５質量％乃至５．０質量％存在している、請求項１記載のファイバー又はフィラメント。
【請求項１０】
請求項１記載のファイバー又はフィラメントで製造された、可湿性編物、織物又は不織布。
【請求項１１】
使い捨ておむつ、トレーニングパンツ、婦人衛生製品、失禁ケア製品、ウェット又はドライワイプ、創傷被覆材、手術用ケープ、内側フィルタ（ｆｉｌｔｅｒ ｍｅｄｉａｌ）及び電池セパレーターからなる群から選択される、請求項１０記載の可湿性布地で製造された製品。
【請求項１２】
ポリエステルと請求項１記載のａ）、ｂ）、ｃ）、ｄ）及びｅ）からなる群から選択される一種以上の化合物を含む混合物を、複数本のファイバー又はフィラメント状に溶融押出しすること、並びに、該ファイバー又はフィラメントを冷却することを含む、ポリエステルファイバー又はフィラメントに可湿性を付与する方法。
【請求項１３】
ａ）、ｂ）、ｃ）、ｄ）及びｅ）の一種以上の化合物と最初のポリマーを含むマスターバッチを製造すること、前記マスターバッチとポリエステルを含む混合物を複数本のファイバー又はフィラメント状に溶融押出しすること、並びに、該ファイバー又はフィラメントを冷却することを含む、請求項１２記載の方法。
【請求項１】
ポリエステルと、
ａ）式
【化１】
で表されるフェニルアルキル−オキシ−アルキル金属スルホネート、
ｂ）式
【化２】
で表されるアルキル−オキシ−アルキル金属スルホネート、
ｃ）式
【化３】
で表されるポリエチレンオキシ−アルキル金属スルホネート、
ｄ）式
【化４】
で表されるアルキル−ポリエチレンオキシ−アルキル金属スルホネート、及び
ｅ）式
【化５】
で表されるアルキル−１，２−ジスルホネート金属スルホネート
（式中、
ｍは０、１又は２を表し、
ｎは１乃至６の整数を表し、
ｐは１乃至１６の整数を表し、
Ｒは１乃至２４個の炭素原子を有するアルキル基を表し、そして
ＭはＮａ、Ｋ又はＬｉを表す。）
からなる群から選択される一種以上の化合物との溶融ブレンドを含むポリエステルファイバー又はフィラメント。
【請求項２】
一種以上の成分ａ）のフェニルアルキル−オキシ−アルキル金属スルホネートを含む、請求項１記載のポリエステルファイバー又はフィラメント。
【請求項３】
一種以上の成分ｂ）のアルキル−オキシ−アルキル金属スルホネートを含む、請求項１記載のポリエステルファイバー又はフィラメント。
【請求項４】
一種以上の成分ｃ）のポリエチレンオキシ−アルキル金属スルホネートを含む、請求項１記載のポリエステルファイバー又はフィラメント。
【請求項５】
一種以上の成分ｄ）のアルキル−ポリエチレンオキシ−アルキル金属スルホネートを含む、請求項１記載のポリエステルファイバー又はフィラメント。
【請求項６】
一種以上の成分ｅ）のアルキル−１，２−ジスルホネート金属スルホネートを含む、請求項１記載のポリエステルファイバー又はフィラメント。
【請求項７】
前記ポリエステルが、ポリ（エチレンテレフタレート）、ポリ（エチレン−２，６−ナフタレン−２，６−ジカルボキシレート）又はポリ（乳酸）である、請求項１記載のファイバー又はフィラメント。
【請求項８】
前記ポリエステルが、ポリ（エチレンテレフタレート）である、請求項１記載のファイバー又はフィラメント。
【請求項９】
化合物ａ）、ｂ）、ｃ）、ｄ）及びｅ）がポリエステルの質量に基づいて、０．０５質量％乃至５．０質量％存在している、請求項１記載のファイバー又はフィラメント。
【請求項１０】
請求項１記載のファイバー又はフィラメントで製造された、可湿性編物、織物又は不織布。
【請求項１１】
使い捨ておむつ、トレーニングパンツ、婦人衛生製品、失禁ケア製品、ウェット又はドライワイプ、創傷被覆材、手術用ケープ、内側フィルタ（ｆｉｌｔｅｒ ｍｅｄｉａｌ）及び電池セパレーターからなる群から選択される、請求項１０記載の可湿性布地で製造された製品。
【請求項１２】
ポリエステルと請求項１記載のａ）、ｂ）、ｃ）、ｄ）及びｅ）からなる群から選択される一種以上の化合物を含む混合物を、複数本のファイバー又はフィラメント状に溶融押出しすること、並びに、該ファイバー又はフィラメントを冷却することを含む、ポリエステルファイバー又はフィラメントに可湿性を付与する方法。
【請求項１３】
ａ）、ｂ）、ｃ）、ｄ）及びｅ）の一種以上の化合物と最初のポリマーを含むマスターバッチを製造すること、前記マスターバッチとポリエステルを含む混合物を複数本のファイバー又はフィラメント状に溶融押出しすること、並びに、該ファイバー又はフィラメントを冷却することを含む、請求項１２記載の方法。
【公表番号】特表２０１０−５１６９１４（Ｐ２０１０−５１６９１４Ａ）
【公表日】平成２２年５月２０日（２０１０．５．２０）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−５４６７１４（Ｐ２００９−５４６７１４）
【出願日】平成２０年１月１６日（２００８．１．１６）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＥＰ２００８／０５０４２４
【国際公開番号】ＷＯ２００８／０９００６０
【国際公開日】平成２０年７月３１日（２００８．７．３１）
【出願人】（３９６０２３９４８）チバ ホールディング インコーポレーテッド (530)
【氏名又は名称原語表記】Ｃｉｂａ Ｈｏｌｄｉｎｇ Ｉｎｃ．
【Ｆターム（参考）】
【公表日】平成２２年５月２０日（２０１０．５．２０）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年１月１６日（２００８．１．１６）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＥＰ２００８／０５０４２４
【国際公開番号】ＷＯ２００８／０９００６０
【国際公開日】平成２０年７月３１日（２００８．７．３１）
【出願人】（３９６０２３９４８）チバ ホールディング インコーポレーテッド (530)
【氏名又は名称原語表記】Ｃｉｂａ Ｈｏｌｄｉｎｇ Ｉｎｃ．
【Ｆターム（参考）】
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