基板処理ユニット、基板搬送方法、基板洗浄処理ユニット及び基板めっき装置
ロボットアーム等の基板搬入機構を基板の搬入後速やかに基板の把持から解放し、基板を保持する時間を短縮し、スループットを向上させることができる基板処理ユニット、基板搬送方法、基板洗浄処理ユニットおよび基板めっき装置を提供する。基板１１を所定の保持位置に保持する基板保持機構１０と該基板保持機構で保持された基板に所定の処理を施す処理機構３２を備えた基板処理ユニットにおいて、基板を保持位置近傍に案内するガイドピン１５を具備する基板ガイド機構２０を設け、基板保持機構は基板の保持位置外周上に複数のローラー１４を備え、複数のローラーは保持位置近傍にある基板をその外周を挟持して保持するようになっており、ローラーは大径部と大径部の上部に小径部が一体に形成された構造であり、大径部の上部に基板搬送の際に基板を仮置きできる肩部を備え、肩部には外周に向かって下がる勾配の傾斜面が形成される。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体ウエハ等の基板を所定の保持位置に保持する基板保持機構を備え、該基板保持機構で保持された基板に基板処理機構で所定の処理を施す基板処理ユニット、及び該基板処理ユニットに基板を搬入搬出する基板搬送方法に関するものである。また、本発明は半導体ウエハ等の基板を所定の保持位置に保持する基板保持機構を備える基板洗浄処理ユニットおよび該基板洗浄処理ユニットを備える基板めっき装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
図１は従来のこの種の基板処理ユニットの基板の搬入、保持、搬出する部分構成及びその動作を示す図である。図示するように、基板処理ユニットは基板１１を所定の位置に保持する基板保持機構１０を備えている。該基板保持機構１０は複数個（図では４個）のローラー１２を備えている。各ローラー１２は図２に示すように小径部１２ａと大径部１２ｂからなり、大径部１２ｂの上に小径部１２ａが一体的に形成された構成である。小径部１２ａと大径部１２ｂの境界部に溝１２ｃが形成され、大径部１２ｂの上端は水平な肩部１２ｄとなっている。また、各ローラー１２は回転機構（図示せず）により回転できるようになっている。
【０００３】
図１Ａに示すように、ロボットアーム等の基板搬入機構１３でローラー１２の上方に搬入された基板１１は、基板搬入機構１３の下降により、図１Ｂに示すように、基板１１の位置がローラー１２の溝１２ｃに一致する位置まで下降する。この状態で図１Ｃに示すようローラー１２を矢印Ａに示すように基板１１に向かって移動させることにより、基板１１の外周をローラー１２の溝１２ｃに係合させ、該基板１１をローラー１２で基板保持位置に挟持する。続いて図１Ｄに示すように、基板搬入機構１３をさらに下降させ、基板１１から離間した状態とする。その後、基板搬入機構１３を基板保持機構１０から退避させる。これにより、図１Ｅに示すような状態となり、４個のローラー１２で基板１１を挟持して、所定の位置に保持する。
【０００４】
上記のように基板１１を複数個のローラー１２で挟持した状態で、基板１１に所定の処理を終了した後、例えば洗浄処理が終了した後、基板搬入機構１３を図１Ｄに示すように基板保持機構１０で保持された基板１１の下方に挿入させ、図１Ｃに示すように基板搬入機構１３を基板１１を受け取る位置まで上昇させ、ローラー１２を矢印Ａとは反対側に移動させ、基板１１を図１Ｂに示すように基板搬入機構１３に渡し、更に基板搬入機構１３を図１Ａに示すように上昇させ、退避させ基板１１を搬出する。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
半導体ウエハ等の基板を所定位置に保持した状態で、洗浄処理等の各種処理を行う基板処理装置において、基板の搬送時間を短縮することは、スループットを向上させる上で重要な項目である。また、搬送時間を短縮するためには、搬送の際の工程を減らすことなど搬送効率を上げる必要がある。しかしながら、基板は他からの衝撃や干渉なく慎重に搬送される必要があり、搬送工程を減らすためには基板保持の方法や基板搬送の方法をより効率良く行う必要がある。
【０００６】
図１に示す従来の基板の搬入、保持、搬出では、図１Ａに示すように、ロボットアーム等の基板搬入機構１３により、基板１１を基板処理ユニット内の基板保持機構１０の上部に搬入した後、図１Ｂに示すように、基板搬入機構１３を下降させて基板１１の位置をローラー１２の溝１２ｃに係合させ、その後図１Ｃに示すようローラー１２で基板１１を挟持し、更に図１Ｄに示すように基板搬入機構１３をさらに下降させ、基板搬入機構１３を基板保持機構１０から退避させている。そのため基板搬入機構１３で基板１１を保持している時間が長くなり、基板１１の搬送時間を短縮し、スループットを向上させる上で問題となっていた。
【０００７】
本発明は上述の点に鑑みてなされたもので、上記問題点を除去し、ロボットアーム等の基板搬入機構を基板の搬入後速やかに基板の把持から解放し、基板を保持する時間を短縮し、スループットを向上させることができる基板処理ユニット、基板搬送方法、基板洗浄処理ユニット及び基板めっき装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するため本発明に係る基板処理ユニットは、例えば図３および図１３に示すように、基板１１を所定の保持位置に保持し、基板１１の保持位置外周上に複数のローラー１４を備える基板保持機構１０であって、複数のローラー１４は保持位置近傍にある基板１１をその外周を挟持して保持するようになっている、基板保持機構１０と；基板保持機構１０で保持された基板１１に所定の処理を施す処理機構３２と；基板１１を保持位置近傍に案内するガイドピン１５を具備する基板ガイド機構２０とを備え；ローラー１４は、大径部１４ｂと大径部１４ｂの上部に小径部１４ａが一体に形成された構造であり、大径部１４ｂの上部に基板１１搬送の際に基板１１を仮置きできる肩部１４ｄを備え、肩部１４ｄには外周に向かって下がる勾配の傾斜面が形成されている。
【０００９】
また、前記課題を解決するため本発明に係る基板処理ユニットは、例えば図１０および図１３に示すように、基板１１を所定の保持位置に保持し、基板１１の保持位置外周上に複数のローラー１４を備える基板保持機構１０であって、複数のローラー１４は保持位置近傍にある基板１１をその外周を挟持して保持するようになっている、基板保持機構１０と；基板保持機構１０で保持された基板１１に所定の処理を施す処理機構３２と；基板１１を保持位置近傍に案内するガイドピン１５を具備し、基板１１の搬送の際に基板１１を仮置きできる仮置き器具２５を有する基板ガイド機構２０とを備え；ローラー１４は、大径部１４ｂと大径部１４ｂの上部に小径部１４ａが一体に形成された構造であり、大径部１４ｂの上部に外周に向かって下がる勾配の傾斜面が形成されている肩部１４ｄを備える。
【００１０】
また、本発明に係る基板処理ユニットは、上述の基板処理ユニットにおいて、例えば図４に示すように、基板１１は円板状であり、基板ガイド機構２０のガイドピン１５は保持位置に保持された基板１１の外周に配置され、基板１１の保持・解放の際に基板１１が動いても基板１１を保持位置近傍に案内する機能を備えてもよい。
【００１１】
また、本発明に係る基板処理ユニットは、上述の基板処理ユニットにおいて、例えば図４に示すように、基板ガイド機構２０のガイドピン１５は、上部がテーパ状に形成され、基板１１の搬送に際して基板１１の位置ずれを吸収できる機能を備えてもよい。
【００１２】
また、本発明に係る基板処理ユニットは、上述の基板処理ユニットにおいて、例えば図４に示すように、基板ガイド機構２０のガイドピン１５は、保持位置にある基板１１の処理の際、基板１１と干渉しないよう基板１１の外周から離れた位置に配置されてもよい。
【００１３】
また、本発明に係る基板処理ユニットは、上述の基板処理ユニットにおいて、ローラー１４は回転機構により回転できるようになっており、ローラー１４の回転により基板１１が回転するように構成されてもよい。
【００１４】
また、本発明に係る基板搬送方法は、例えば図５および図９に示すように、基板搬入機構１０により搬入された基板１１を所定の保持位置に保持し、所定の処理の終了後、基板１１を搬出する基板搬送方法において、搬入された基板１１を、基板搬入機構１０の下降によりガイドピン１５で保持位置近傍に案内する工程と；基板１１を仮置部１４ｄに載置し、基板搬入機構１０から離間させる工程と；基板搬入機構１０から離間させた基板１１を保持位置に複数個のローラー１４で基板１１の外周を挟持して保持する工程と；保持された基板１１に所定の処理を行う工程と；所定の処理を行った基板１１の保持を解放することにより、基板１１を仮置部１４ｄに載置する工程と；仮置部１４ｄに載置された基板１１を搬出する工程とを備え；ローラー１４は大径部１４ｂの上に小径部１４ａが一体に形成され、且つ大径部１４ｂの上部は肩部１４ｄが形成された構成であり、肩部１４ｄには外周に向かって下がる勾配の傾斜面が形成され、肩部１４ｄに載置された基板１１は複数のローラー１４の基板１１側の移動により挟持保持され、その反対の移動により離間し肩部１４ｄに載置される。
【００１５】
また、本発明に係る基板洗浄処理ユニットは、例えば図５および図１３に示すように、基板１１を所定の保持位置に保持する複数のローラー１４であって、大径部１４ｂと大径部１４ｂの上部に小径部１４ａが一体に形成された構造であり、大径部１４ｂの上部に基板１１を搬送する際に基板１１を仮置きできる肩部１４ｄを備え、肩部１４ｄには外周に向かって下がる勾配の傾斜面が形成され、保持位置近傍にある基板１１をその外周を挟持して保持する複数のローラー１４と；基板１１を保持位置近傍に案内するガイドピン１５と；ローラー１４に保持された基板１１に洗浄液を供給する洗浄ノズル３２と；ローラー１４に保持された基板１１の表面に当接するブラシ３１を備える。
【００１６】
また、本発明に係る基板めっき装置は、例えば図１８および図１９に示すように、基板にめっき前処理およびめっき処理を行うめっき前処理及びめっきユニット４８と；めっき前処理及びめっきユニット４８で、めっき前処理及びめっき処理を行われた基板を洗浄する、上述の基板洗浄処理ユニット４６と；めっき前処理及びめっき処理を行われた基板を、めっき前処理及びめっきユニット４８から基板洗浄処理ユニット４６に搬送し、また、基板洗浄処理ユニット４６から基板を搬出する基板搬送ロボット４２とを備える。
【発明の効果】
【００１７】
本発明に係る基板処理ユニットによれば、基板を保持位置近傍に案内するガイドピンを具備する基板ガイド機構を備えたことにより、ロボットアーム等の基板搬入機構で搬入した基板を基板保持機構に渡すまで把持する必要がなく、基板搬入後速やかに基板搬入機構を基板把持から解放でき、該基板搬入機構を次の工程に使用することができる。また、処理終了後の基板も基板保持機構の保持から解放されガイドピンにより保持位置近傍にあるから、基板搬入機構が基板保持機構に関係なく、基板を速やかに搬出できる。また、基板保持機構は、基板の保持位置外周上に複数のローラーを備え、該複数のローラーは保持位置近傍にある基板の外周を挟持して保持できるようになっているので、基板の挟持・解放はローラーを基板に向けて接近、基板から離すだけで容易に実行することができる。また、ローラーは、基板搬送の際に該基板を仮置きできる肩部を備えた構造であるので、該ローラーの肩部を基板の仮置台として使用することにより、基板の搬入・搬出が基板保持機構と基板搬入・搬出機構の連係動作を必要とすることなく、且つ容易、確実に実行できる。さらに、ローラーの肩部には外周に向かって下がる勾配の傾斜面が形成されているので、該肩部に仮置きされた基板をローラーで挟持する際、またローラーで挟持されている基板を該肩部に移す際、ローラーの基板への接近、基板からの離間のみで、スムーズに実行できる。
【００１８】
また、本発明に係る基板処理ユニットによれば、基板を保持位置近傍に案内するガイドピンを具備する基板ガイド機構を備えたことにより、ロボットアーム等の基板搬入機構で搬入した基板を基板保持機構に渡すまで把持する必要がなく、基板搬入後速やかに基板搬入機構を基板把持から解放でき、該基板搬入機構を次の工程に使用することができる。また、処理終了後の基板も基板保持機構の保持から解放されガイドピンの保持位置近傍にあるから、基板搬入機構が基板保持機構に関係なく、基板を速やかに搬出できる。また、基板保持機構は、基板の保持位置外周上に複数のローラーを備え、該複数のローラーは保持位置近傍にある基板の外周を挟持して保持できるようになっているので、基板の挟持・解放はローラーを基板に向けて接近、基板から離すだけで容易に実行することができる。また、基板ガイド機構に仮置き器具が備えられているので、基板の仮置台として使用することにより、基板の搬入・搬出が基板保持機構と基板搬入・搬出機構の連係動作を必要とすることなく、且つ容易、確実に実行できる。さらに、ローラーの肩部には外周に向かって下がる勾配の傾斜面が形成されているので、該仮置き器具に仮置きされた基板をローラーで挟持する際、またローラーで挟持されている基板を該仮置き器具に移す際、ローラーの基板への接近、基板からの離間のみで、スムーズに実行できる。
【００１９】
ガイドピンが保持位置に保持された基板の外周に配置され、基板の保持・解放の際に該基板が動いても該基板を保持位置近傍に案内する機能を備えることにより、基板搬入・搬出機構による基板の搬入・搬出が容易で且つ正確に迅速に行うことができる。
【００２０】
ガイドピンの上部がテーパ状に形成され、基板の搬送に際して該基板の位置ずれを吸収できる機能を備えることにより、搬入された基板の位置がずれていても、ガイドピンのテーパ上でこの位置ずれが修正され基板を保持位置近傍に案内するから、基板は所定の保持位置近傍に収まり、その後の基板保持機構による基板の挟持・保持が、迅速且つ正確に行うことが可能となる。
【００２１】
基板ガイド機構のガイドピンが、保持位置にある基板の処理の際、該基板と干渉しないよう該基板の外周から離れた位置に配置されることにより、基板の処理に際してガイドピンが障害となることがなく、処理をスムーズに実行できる。
【００２２】
ローラーが回転機構により回転でき、該ローラーの回転により基板が回転するように構成されているので、例えば基板を洗浄処理する場合、基板を回転しながら基板の全面を均等に処理することが容易に実行できる。
【００２３】
本発明に係る基板搬送方法によれば、基板搬入機構により搬入された基板は、基板搬入機構の下降により基板ガイド機構のガイドピンで保持位置近傍に案内されると共に、基板保持機構の基板仮置部に載置されて該基板搬入機構から離間し、その後基板保持機構で基板を保持位置に保持し所定の処理の終了後、該基板保持機構が基板の保持を解放することにより、基板は仮置部に載置され、仮置部に載置された基板を基板搬出機構で搬出するので、基板の搬出搬入に基板搬入・搬出機構と基板保持機構の連係動作が必要なく、一方の動作で実行できるから、基板の搬入・搬出が容易で且つ迅速に実行できる。また、基板保持機構は、基板の保持位置外周上に複数のローラーを備え、該複数のローラーは保持位置近傍にある基板の外周を挟持して保持できるようになっているので、基板の挟持・解放はローラーを基板に向けて接近、基板から離すだけで容易に実行することができる。また、ローラーは、基板搬送の際に該基板を仮置きできる肩部を備えた構造であるので、該ローラーの肩部を基板の仮置台として使用することにより、基板の搬入・搬出が基板保持機構と基板搬入・搬出機構の連係動作を必要とすることなく、且つ容易、確実に実行できる。さらに、ローラーの肩部には外周に向かって下がる勾配の傾斜面が形成されているので、該肩部に仮置きされた基板をローラーで挟持する際、またローラーで挟持されている基板を該肩部に移す際、ローラーの基板への接近、基板からの離間のみで、スムーズに実行できる。
【００２４】
本発明に係る基板洗浄処理ユニットによれば、基板を所定の保持位置に保持する複数のローラーであって、大径部と大径部の上部に小径部が一体に形成された構造であり、大径部の上部に基板を搬送する際に基板を仮置きできる肩部を備え、肩部には外周に向かって下がる勾配の傾斜面が形成され、保持位置近傍にある基板をその外周を挟持して保持する複数のローラーと、基板を保持位置近傍に案内するガイドピンとを備えるので、基板搬入後速やかに基板搬入機構を基板把持から解放でき、該基板搬入機構を次の工程に使用することができる。また、処理終了後の基板も基板保持機構の保持から解放されガイドピンにより保持位置近傍にあるから、基板搬入機構が基板保持機構に関係なく、基板を速やかに搬出できる。また、基板保持機構は、基板の保持位置外周上に複数のローラーを備え、該複数のローラーは保持位置近傍にある基板の外周を挟持して保持できるようになっているので、基板の挟持・解放はローラーを基板に向けて接近、基板から離すだけで容易に実行することができる。また、ローラーは、基板搬送の際に該基板を仮置きできる肩部を備えた構造であるので、該ローラーの肩部を基板の仮置台として使用することにより、基板の搬入・搬出が基板保持機構と基板搬入・搬出機構の連係動作を必要とすることなく、且つ容易、確実に実行できる。さらに、ローラーの肩部には外周に向かって下がる勾配の傾斜面が形成されているので、該肩部に仮置きされた基板をローラーで挟持する際、またローラーで挟持されている基板を該肩部に移す際、ローラーの基板への接近、基板からの離間のみで、スムーズに実行できる。
【００２５】
本発明に係る基板めっき装置では、上記の基板洗浄処理ユニットを備えるので、基板洗浄装置への基板の搬入および搬出が速やかに実行でき、処理効率の高い基板めっき装置となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
この出願は、日本国で２００５年８月２９日に出願された特願２００５−２４８３０８号に基づいており、その内容は本出願の内容として、その一部を形成する。
本発明は以下の詳細な説明によりさらに完全に理解できるであろう。本発明のさらなる応用範囲は、以下の詳細な説明により明らかとなろう。しかしながら、詳細な説明及び特定の実例は、本発明の望ましい実施の形態であり、説明の目的のためにのみ記載されているものである。この詳細な説明から、種々の変更、改変が、本発明の精神と範囲内で、当業者にとって明らかであるからである。
出願人は、記載された実施の形態のいずれをも公衆に献上する意図はなく、改変、代替案のうち、特許請求の範囲内に文言上含まれないかもしれないものも、均等論下での発明の一部とする。
【００２７】
以下、本発明の実施形態例を図面に基づいて説明する。図３乃至図５は本発明に係る基板処理ユニットの基板保持機構及び基板搬入機構の構成を示す図であり、図３Ａは平面図、図３Ｂは側面図、図４は基板ガイド機構の構成を示す図、図５は基板保持機構のローラーの構成を示す図である。なお、図３乃至図５において、図１と同一符号を付した部分は同一又は相当部分を示す。
【００２８】
基板処理ユニットは、図示するように、基板１１を所定の位置に保持する基板保持機構１０を備えている。該基板保持機構１０は、複数個（図では４個）のローラー１４を備えている。各ローラー１４は図５に示すように小径部１４ａと大径部１４ｂからなり、大径部１４ｂの上に小径部１４ａが一体的に形成された構成である。大径部１４ｂの上部は外周側に下がり勾配の斜面が形成された肩部１４ｄとなっており、該肩部１４ｄと小径部１４ａの境界部に基板１１の外周部が係合する溝１４ｃが形成されている。また、各ローラー１４は回転機構（図示せず）により回転できるようになっている。
【００２９】
基板保持機構１０で所定の保持位置に保持される基板１１の外周近傍には基板ガイド機構２０、２０が配置されている。該基板ガイド機構２０は図４に示すように、ガイドピン１５が立設されたスライド板１６を具備し、該スライド板１６はガイド機構取付フレーム１９に設けた溝１９ａ内を矢印Ｂ方向にスライドできるようになっている。スライド板１６は長穴１７が形成され、ネジ１８を緩めてスライド板１６を矢印Ｂ方向に移動させ、即ちスライド板１６を基板１１の外周で該基板１１に当接又は離間する方向に移動させ、ネジ１８を締めることにより、ガイドピン１５を所定の保持位置に保持された基板１１の外周近傍（基板１１の外周から所定距離離れた位置）に位置決めできるようになっている。
【００３０】
ガイドピン１５は円柱状でその上部がテーパ状に形成された構成となっており、基板１１の搬送に際して、基板１１が位置ずれしても、該テーパ面を基板１１の外周が滑りながら下降することにより、この位置ずれを吸収できるようになっている。図３Ａ、図３Ｂに示すように、ロボットアーム等の基板搬入機構１３でローラー１４の上方に搬入された基板１１は、基板搬入機構１３の下降により、４個のローラー１４の肩部１４ｄに載置され支持される。この搬入に際して基板１１が位置ずれしていても、４本のガイドピン１５で囲まれた円周内に入っていれば、基板１１の外周はガイドピン１５のテーパ面に摺接して下降する際にその位置ずれが補正（吸収）され、４個のローラー１４の肩部１４ｄに載置される。ここでは、４個のローラー１４の肩部１４ｄは基板１１を仮置きする仮置台としての機能を有する。
【００３１】
図６は基板ガイド機構２０及びその取り付け構造を示す図で、図６Ａは平面図、図６Ｂは正面図、図６Ｃは側面図である。基板ガイド機構２０のガイド機構取付フレーム１９は基板処理ユニットのフレーム２３にブラケット２１、２２を介して取付けられている。ガイドピン１５の位置はネジ１８を締め、スライド板１６をガイド機構取付フレーム１９に対して移動させることにより、調整できる。ガイドピン１５のテーパ部は５０°で傾斜させている。なお、このガイドピン１５のテーパ部の傾斜角度は図７に示すように８０°、図８に示すように２０°というように、基板１１を案内する条件により変えてもよい。図７に示すように、テーパ部の傾斜角度を８０°以上とした場合は、基板１１を落とし込む位置の自由度を大きくできるが、基板１１が斜めに落ち込むことがある。また、図８に示すように、テーパ部の傾斜角度を２０°以下とした場合は、基板１１を落とし込む自由度が小さくなるため、基板１１を落とし込む際の位置決め精度を高くする必要がある。ガイドピン１５は、ここで塩化ビニール製としているが、ガイドピン１５は少なくともその基板１１に接する部分は塩化ビニール等の樹脂材とすることがよい。
【００３２】
次に基板保持機構１０及び基板搬入機構１３の動作を図９を用いて説明する。先ず、図９Ａに示すように、基板１１を把持したロボットアーム等の基板搬入機構１３をローラー１４を備えた基板保持機構１０の上方に進入させる。この状態から基板搬入機構１３を下降させることにより、基板１１は基板ガイド機構２０、２０の４本のガイドピン１５ （図３参照）に案内されながら下降し、図９Ｂに示すように４個のローラー１４の肩部１４ｄに支持され、基板搬入機構１３から離間する。このとき基板１１に位置ずれがある場合、ガイドピン１５のテーパ面に基板１１の外周が摺接しながら下降することにより、その位置が修正されて４個のローラー１４の肩部１４ｄに載置されることになる。また、基板１１が基板搬入機構１３の把持から解放されるときに、チャック等の動きに連れて基板１１が動いてしまうと、基板１１がローラー１４の支持から外れて落下する可能性がある。しかし、ガイドピン１５により動きを拘束されているので、そのような落下は防止される。
【００３３】
この状態で基板１１は基板搬入機構１３から離間しているから、基板搬入機構１３を退避することにより図９Ｃに示すように、基板１１は基板保持機構１０の４個のローラー肩部１４ｄに支持された状態となる。この状態で図９Ｄに示すように、４個のローラー１４を矢印Ａに示すように基板１１に向かって移動させることにより、基板１１の外周は各ローラー１４の肩部１４ｄの傾斜面に摺接しながら移動し、ローラー１４の溝１４ｃに係合し、該基板１１はその外周を４個のローラー１４で挟持される。この時、ガイド機構２０のスライド板１６とガイドピン１５は各々基板１１の下面と外周から所定距離離れている。なお、ローラー１４の肩部１４ｄには外周に向かって下がる勾配の傾斜面が形成されているので、基板１１を肩部１４ｄに仮置きしつつ、基盤１１をローラーで挟持することもできる、すなわち、基板搬入機構１３を下降させながら、ローラー１４を移動してもよい。すると、基板１１が肩部１４ｄの傾斜面に接した時点で、基板１１はローラー１４の肩部１４ｄに仮置きされた状態となり、更なるローラー１４の連続的な移動により、ローラー１４で挟持されることになる。したがって、基板１１の基板搬入機構１３の把持から、ローラ１４の肩部１４ｄでの仮置き、そしてローラー１４による挟持までが、連続的にスムーズに実行できる。このように連続的にスムーズに実行できるので、従来のように基板搬入機構による基板の所定の高さへの下降と停止、ローラーの移動による基板の挟持、その後の基板搬入機構の更なる下降と退避の工程に比べ、所要時間を短縮でき、スループットを向上に寄与することができる。さらに、肩部１４ｄが傾斜面となっているために、基板１１とローラー１４との接触面積が小さくなり、基板１１を汚染する可能性が低減される。
【００３４】
上記のように２本のガイドピンを具備する２個の基板ガイド機構２０、２０を基板保持機構１０で保持される基板１１の保持位置の両側に配置することにより、基板１１を把持した基板搬入機構１３が基板保持機構１０の基板保持位置上方に進入し、下降するだけで、基板１１は４個のローラー１４の肩部１４ｄに支持され離間するので、その後基板搬入機構１３は解放され、直ちに退避し、次の工程に移動できる。なお、本実施の形態では、基板ガイド機構２０は、２本のガイドピン１５を１枚のスライド板１６に備え、スライド板１６を移動可能に構成したものとして説明したが、基板ガイド機構２０の構成はこれに限られない。例えば、複数本のガイドピン１５が基板保持機構１０のあるいは処理槽３０のフレーム２３に直接設置されてもよく、この場合には、基板ガイド機構２０はガイドピン１５と同一のものとなる。すなわち、基板ガイド機構２０は、ガイドピン１５を備え、基板１１の基板保持機構１０への搬入の際に基板１１を所定の位置にガイドする機構であればよい。なお、本実施例のようにスライド板１６を備え、スライド板１６を移動可能とすると、基板１１をガイドする位置を容易に調整でき、また、基板１１の大きさの変化にも対応できるので、好ましい。
【００３５】
基板保持位置で基板保持機構１０の４個のローラー１４に外周を挟持された状態で所定の処理が施され、処理が終了した基板１１は、図９Ｄに示すように４個のローラー１４で挟持されている。基板１１は、ローラー１４を離間する方向（矢印Ａとは反対方向）に移動させると、図９Ｃに示すように、４個のローラー１４の肩部１４ｄに支持された状態となる。この状態でロボットハンド等の基板搬出機構を基板保持機構１０の下方に進入させ、上昇させることにより、４個のローラー１４の肩部１４ｄに支持された基板１１は基板搬出機構に把持され、該基板搬出機構を退避することにより、搬出される。ここで、ローラー１４の肩部１４ｄには外周に向かって下がる勾配の傾斜面が形成されているので、基板１１を肩部１４ｄに仮置きしつつ、基盤１１を基板搬出機構で把持することもできる、すなわち、ローラー１４を移動させながら、基板搬出機構を上昇させてもよい。すると、ローラー１４の移動により基板１１が肩部１４ｄの傾斜面に仮置きされ、その間に基板搬出機構は基板１１を把持し、基板保持機構１０から搬出する。ローラー１４の移動と、基板搬出機構の上昇および退避とが同時に、かつ、連続的に行われる。したがって、基板１１のローラー１４による挟持から、ローラ１４の肩部１４ｄでの仮置き、そして基板搬出機構での搬出までが、連続的にスムーズに実行できる。このように連続的にスムーズに実行できるので、従来のようにローラーの移動による基板の挟持から仮置きへの変化、基板搬出機構の上昇と停止、ローラーの更なる移動による基板搬出機構による基板の把持、そして基板搬出機構の更なる上昇と退避の工程に比べ、所要時間を短縮でき、スループットを向上に寄与することができる。なお、基板搬出機構は、典型的には、基板搬入機構１３と同一の機構であるが、異なる周知の機構を用いてもよい。
【００３６】
なお、上記例では基板保持機構１０の４個のローラー１４の肩部１４ｄを基板１１を載置する仮置台としているが、仮置台はこれに限定されるものではない。例えば図１０〜１２に示すように、スライド板１６のガイドピン１５の内側に、肩部１４ｄと同じ高さの、あるいは肩部１４ｄより僅かに高くローラー１４の溝より僅かに低い高さの、あるいはローラー１４の溝と同じ高さの、複数個の仮置き器具としての突起又はピン２５（以降、「仮置きピン２５」と称する。）を設けてもよい。そして、仮置きピン２５に基板搬入機構１３で搬入した基板１１や基板保持機構１０から解放された基板１１を載置するように構成してもよい。このようにローラー１４とは別に仮置きピン２５を備えることにより、ローラー１４で基板１１を挟持する際には仮置きピン２５と基板１１とは接触せず、基板を擦る等により基板１１を損傷することがない。
ここで、図１０は、本発明に係る、仮置きピン２５を備える基板保持機構及び基板搬入機構の構成を示す図であり、図１０Ａは平面図、図１０Ｂは側面図である。図１１は、仮置きピン２５を備える基板ガイド機構２０及びその取り付け構造を示す図で、図１１Ａは平面図、図１１Ｂは正面図、図１１Ｃは側面図である。図１２は、仮置きピン２５を備える基板処理ユニットの基板ガイド機構２０の構造例を示す図である。
【００３７】
図１３乃至図１７は本発明に係る基板洗浄処理ユニットの構成例を示す図で、図１３は平面構成を示す平面図、図１４は外観構成を示す正面図、図１５は内部の側面構成を示す側面図、図１６は裏面構成を示す裏面図、図１７は全体構成を示す斜視図である。基板洗浄処理ユニットは処理槽３０を備え、その内部に図３に示す４個のローラー１４を備えた基板保持機構１０が配置される。基板１１が該４個のローラー１４にその外周部が挟持され、ローラー１４が回転することにより回転するようになっている。基板保持機構１０で所定位置に保持された基板１１の外周部近傍にガイドピン１５が位置するように基板ガイド機構２０、２０が配置されている。
【００３８】
基板ガイド機構２０、２０のガイド機構取付フレーム１９は図６に示すように、ブラケット２１、２２を介して処理槽３０のフレーム２３に取付けられている。基板保持機構１０の４個のローラー１４に挟持されて保持された基板１１の上下面にはロール状ブラシ３１が当接する。上下方向に配置された洗浄ノズル３２（下方の洗浄ノズル３２の図示は省略）から洗浄液が基板１１の上下面に供給され、回転するロール状ブラシ３１とローラー１４の回転により回転する基板１１の相対運動により、基板１１の上下面は洗浄される。
【００３９】
処理槽３０の正面には基板１１を搬出入する搬出入口３３が設けられる。該搬出入口３３には開閉シャッター（図示は省略）が設けられ、シャッター開閉用シリンダ３４で搬出入口３３を開閉するようになっている。処理槽３０の下方には、左右２個ずつ計４個のローラー１４を回転させたり、該ローラー１４を図９Ｄの矢印Ａに示すように基板１１を挟持する方向やその反対方向に移動させるための２個のローラー駆動機構３５が設けられている。また、基板１１は開口された搬出入口３３から矢印Ａに方向に搬出入できるようになっている。
【００４０】
各ローラー駆動機構３５は夫々基板１１の挟持・解放のためのチャック開閉用シリンダ３６、ローラー回転用モーター３７を備えている。左右のチャック開閉用シリンダ３６を作動させることにより、各ローラー１４が図９Ｄの矢印Ａに示す方向又反対方向に移動し、基板１１を挟持・解放するようになっている。また、左右のローラー回転用モーター３７を起動することにより、ベルト３８及びスピンドル３９を介して左右２個ずつ計４個のローラー１４が同一方向に回転し、基板１１を回転するようになっている。
【００４１】
上記構成の基板洗浄処理ユニットにおいて、搬出入口３３からロボットアーム等の基板搬入機構１３（図３参照）により搬入された基板１１は、図９Ａ乃至図９Ｄに示す手順で、４個のローラー１４に挟持され、洗浄される。洗浄処理の終了した後の基板１１は、図９Ａ乃至図９Ｄに示す手順と略逆の手順で処理槽３０から搬出される。
【００４２】
図１８は図１３乃至図１７に示す構成の基板洗浄処理ユニットを備えた基板処理装置（めっき装置）の平面構成例を示す図である。本基板処理装置は、例えばスミフボックス等の内部に多数の半導体ウエハ等の基板を収納した搬送ボックス４０を着脱自在にした矩形状の装置フレーム４１を備えている。この装置フレーム４１の内部中央部には、第１基板搬送ロボット４２、仮置台４３、及び第２基板搬送ロボット４４が、直列に配置されている。
【００４３】
そして両側に位置して、一対の基板洗浄・乾燥ユニット４５、基板洗浄ユニット４６、めっき前処理ユニット４７、めっき前処理及びめっきユニット４８が配置されている。更に、搬送ボックス４０と反対側に、めっき前処理ユニット４７にめっき前処理液を供給するめっき前処理液供給部４９と、めっき前処理及びめっきユニット４８にめっき液を供給するめっき液供給部５０が配置されている。基板洗浄ユニット４６には図１３乃至図１７に示す構成の基板洗浄処理ユニットを用いている。
【００４４】
図１８に示す構成の基板処理装置は、クリーンルーム内に設置され、装置フレーム４１からクリーンルーム内に空気が流出しないように構成されている。また、装置フレーム４１の内部には、新鮮な空気の下向きの流れ（ダウンフロー）が形成されている。
【００４５】
図１９乃至図２１は、第１基板搬送ロボット４２の構成を示す図である。なお、第２基板搬送ロボット４４も第１基板搬送ロボット４２と同様な構成をしている。第１基板搬送ロボット４２は、いわゆる固定式ロボットであり、上下方向に伸縮自在な胴５１と、該胴部５１の上端に取付けた回転駆動部５２、該回転駆動部５２に取付けた水平方向に伸縮自在なロボットアーム５３を有している。このロボットアーム５３の先端に基板１１を把持するハンド５４（図３の基板搬入機構１３）が連結されている。
【００４６】
胴部５１は、図２１に示すように、共に中空の内胴５１ａと外胴５１ｂを有する、いわゆる入れ子式によって伸縮自在に構成されている。胴部５１の底部に、中空の内胴５１ａ及び外胴５１ｂの内部に連通する排気ダクト（排気部）５５が接続され、第１基板搬送ロボット４２の内部の空気を、排気ダクト５５を通して外部に排気して回収するようになっている。
【００４７】
これによって、例えば第１基板搬送ロボット４２の胴部５１の伸縮による上下動に伴って該第１基板搬送ロボット４２の内部から排気される空気が、特に内胴５１ａと外胴５１ｂとの間を通過して第１基板搬送ロボット４２の外部に漏れるのを防止する。したがって、第１基板搬送ロボット４２の近傍における気流を一定に保って、基板１１がパーティクルによって汚染されることを防止することができる。
【００４８】
図２２及び図２３は、仮置台４３を示す図である。この仮置台４３は、第１基板搬送ロボット４２と第２基板搬送ロボット４４側の一方から基板１１の出し入れを行うようになっている。なお、任意の方向から出し入れできるようにしてもよいことは勿論である。このように、第１基板搬送ロボット４２と第２基板搬送ロボット４４の間に、基板１１を仮置する仮置台４３を配置することで、装置フレーム４１内における基板１１の搬送を効率的に行うとともに、第１基板搬送ロボット４２と第２基板搬送ロボット４４として、固定式ロボットを使用できる。したがって、装置全体のコスト低減を図ることができる。
【００４９】
仮置台４３には、上段のドライ用基板保持部５６と、下段のウエット用基板保持部５７が、仕切り板５８で仕切られて上下に設けられている。ドライ用基板保持部５６は、基板１１の周縁部に沿った位置に仕切り板５８に立設した複数の支持ピン５９を備え、この支持ピン５９の上部に設けたテーパ部を介して基板１１を位置決めしつつ保持する。ウエット用基板保持部５７もほぼ同様に、基板１１の周縁部に沿った位置にベース板６０を立設した複数の支持ピン６１を備え、この支持ピン６１の上部に設けたテーパ部を介して基板１１を位置決めしつつ保持する。
【００５０】
仕切り板５８の下面には、該基板１１の乾燥を防止する乾燥防止機構としての純水スプレーノズル６２が取付けられている。純水スプレーノズル６２は、ウエット用基板保持部５７の支持ピン６１で保持した基板１１の表面（上面）に向けて純水を噴霧することにより、基板１１の乾燥を防止する。更に、仕切り板５８とベース板６０との間には、純水スプレーノズル６２から基板１１に向けて噴射された純水が外部に漏れるのを防止するシャッター６３が開閉自在に設けられている。
【００５１】
第１基板搬送ロボット４２で搬送された基板１１は、上段のドライ用基板保持部５６の支持ピン５９で位置決めされて保持される。一連の処理後に第２基板搬送ロボット４４で保持され、搬送された基板１１は、下段のウエット用基板保持部５７の支持ピン６１で位置決めされる。そして、基板１１が保持されたか否かは、図示しないセンサで検知される。
【００５２】
上記構成の基板処理装置において、第１搬送ロボット４２は、搬送ボックス４０から１枚の基板１１を取り出して仮置台４３のドライ用基板保持部５６に搬送する。基板１１は、該ドライ用基板保持部５６で保持される。該ドライ用基板保持部５６で保持された基板１１を第２基板搬送ロボット４４でめっき前処理ユニット４７に搬送する。該めっき前処理ユニット４７で基板１１にめっき前処理を行う。めっき前処理の終了した基板１１を第２基板搬送ロボット４４でめっき前処理及びめっきユニット４８に搬送し、ここでめっき前処理及びめっき処理を行う。めっき処理の終了した基板１１を第２基板搬送ロボット４４で図１３乃至図１７に示す構成を有する基板洗浄ユニット４６に搬送する。
【００５３】
基板洗浄ユニット４６では、基板１１の上下面をロール状ブラシ３１で洗浄し、基板１１の表面に付着したパーティクルや不要物を除去する。該パーティクルや不要物が除去された基板１１を第２基板搬送ロボット４４で仮置台４３のウエット用基板保持部５７に搬送し、該ウエット用基板保持部５７で保持する。この保持中に、純水スプレーノズル６２から純水を基板１１に向けて噴霧することで、基板の乾燥を防止する。
【００５４】
第１基板搬送ロボット４２は、仮置台４３のウエット用基板保持部５７から基板１１を取り出し、基板洗浄・乾燥ユニット４５に搬送する。ここで、基板１１の表面の化学洗浄及び純水洗浄を行って、スピン乾燥させる。このスピン乾燥後の基板１１を第１基板搬送ロボット４２で搬送ボックス４０内に戻す。これにより基板１１の処理は終了する。
【００５５】
以上、本発明の実施形態を説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲、及び明細書と図面に記載された技術的思想の範囲内において種々の変形が可能である。
【００５６】
本発明の説明に関連して（特に以下の請求項に関連して）用いられる名詞及び同様な指示語の使用は、本明細書中で特に指摘したり、明らかに文脈と矛盾したりしない限り、単数および複数の両方に及ぶものと解釈される。語句「備える」、「有する」、「含む」および「包含する」は、特に断りのない限り、オープンエンドターム（すなわち「〜を含むが限定しない」という意味）として解釈される。本明細書中の数値範囲の具陳は、本明細書中で特に指摘しない限り、単にその範囲内に該当する各値を個々に言及するための略記法としての役割を果たすことだけを意図しており、各値は、本明細書中で個々に列挙されたかのように、明細書に組み込まれる。本明細書中で説明されるすべての方法は、本明細書中で特に指摘したり、明らかに文脈と矛盾したりしない限り、あらゆる適切な順番で行うことができる。本明細書中で使用するあらゆる例または例示的な言い回し（例えば「など」）は、特に主張しない限り、単に本発明をよりよく説明することだけを意図し、本発明の範囲に対する制限を設けるものではない。明細書中のいかなる言い回しも、本発明の実施に不可欠である、請求項に記載されていない要素を示すものとは解釈されないものとする。
【００５７】
本明細書中では、本発明を実施するため本発明者が知っている最良の形態を含め、本発明の好ましい実施の形態について説明している。当業者にとっては、上記説明を読んだ上で、これらの好ましい実施の形態の変形が明らかとなろう。本発明者は、熟練者が適宜このような変形を適用することを期待しており、本明細書中で具体的に説明される以外の方法で本発明が実施されることを予定している。従って本発明は、準拠法で許されているように、本明細書に添付された請求項に記載の内容の修正および均等物をすべて含む。さらに、本明細書中で特に指摘したり、明らかに文脈と矛盾したりしない限り、すべての変形における上記要素のいずれの組合せも本発明に包含される。
【図面の簡単な説明】
【００５８】
【図１Ａ】従来の基板処理ユニットの基板の搬入、保持、搬出する部分の構成及びその動作を示す図である。
【図１Ｂ】従来の基板処理ユニットの基板の搬入、保持、搬出する部分の構成及びその動作を示す図である。
【図１Ｃ】従来の基板処理ユニットの基板の搬入、保持、搬出する部分の構成及びその動作を示す図である。
【図１Ｄ】従来の基板処理ユニットの基板の搬入、保持、搬出する部分の構成及びその動作を示す図である。
【図１Ｅ】従来の基板処理ユニットの基板の搬入、保持、搬出する部分の構成及びその動作を示す図である。
【図２】従来の基板処理ユニットの基板保持機構のローラーの構成例を示す図である。
【図３Ａ】本発明に係る基板処理ユニットの基板保持機構及び基板搬入機構の構成を示す図である（平面図）。
【図３Ｂ】本発明に係る基板処理ユニットの基板保持機構及び基板搬入機構の構成を示す図である（側面図）。
【図４】本発明に係る基板処理ユニットの基板ガイド機構の構成を示す図である。
【図５】本発明に係る基板処理ユニットの基板保持機構のローラーの構成を示す図である。
【図６Ａ】本発明に係る基板処理ユニットの基板ガイド機構及び取付け構造を示す図である（平面図）。
【図６Ｂ】本発明に係る基板処理ユニットの基板ガイド機構及び取付け構造を示す図である（正面図）。
【図６Ｃ】本発明に係る基板処理ユニットの基板ガイド機構及び取付け構造を示す図である（側面図）。
【図７】本発明に係る基板処理ユニットの基板ガイド機構の構造を示す図である。
【図８】本発明に係る基板処理ユニットの基板ガイド機構の構造を示す図である。
【図９Ａ】本発明に係る基板処理ユニットの基板の搬入、保持、搬出する部分の構成及びその動作を示す図である。
【図９Ｂ】本発明に係る基板処理ユニットの基板の搬入、保持、搬出する部分の構成及びその動作を示す図である。
【図９Ｃ】本発明に係る基板処理ユニットの基板の搬入、保持、搬出する部分の構成及びその動作を示す図である。
【図９Ｄ】本発明に係る基板処理ユニットの基板の搬入、保持、搬出する部分の構成及びその動作を示す図である。
【図１０Ａ】本発明に係る仮置きピンを備える基板保持機構及び基板搬入機構の構成を示す図である。（平面図）
【図１０Ｂ】本発明に係る仮置きピンを備える基板保持機構及び基板搬入機構の構成を示す図である。（側面図）
【図１１Ａ】本発明に係る仮置きピンを備える基板ガイド機構及び取付け構造を示す図である。（平面図）
【図１１Ｂ】本発明に係る仮置きピンを備える基板ガイド機構及び取付け構造を示す図である。（正面図）
【図１１Ｃ】本発明に係る仮置きピンを備える基板ガイド機構及び取付け構造を示す図である。（側面図）
【図１２】本発明に係る仮置きピンを備える基板処理ユニットの基板ガイド機構の構造を示す図である。
【図１３】本発明に係る基板処理ユニットの平面構成を示す平面図である。
【図１４】本発明に係る基板処理ユニットの外観構成示す正面図である。
【図１５】本発明に係る基板処理ユニットの側面構成を示す側面図である。
【図１６】本発明に係る基板処理ユニットの裏面構成を示す裏面図である。
【図１７】本発明に係る基板処理ユニットの全体構成を示す斜視図である。
【図１８】本発明に係る基板処理ユニットを備えた基板処理装置の平面構成を示す平面図である。
【図１９】搬送ロボットの構成例を示す斜視図である。
【図２０】搬送ロボットの構成例を示す側面図である。
【図２１Ａ】搬送ロボットの胴構成例及びその動作を示す側面図である。
【図２１Ｂ】搬送ロボットの胴構成例及びその動作を示す側面図である。
【図２２】仮置台の平面構成を示す平面図である。
【図２３】仮置台の側面構成を示す側面図である。
【符号の説明】
【００５９】
１０ 基板保持機構
１１ 基板
１２ ローラー
１３ 基板搬入機構
１４ ローラー
１５ ガイドピン
１６ スライド板
１７ 長穴
１８ ネジ
１９ ガイド機構取付フレーム
２０ 基板ガイド機構
２１ ブラケット
２２ ブラケット
２３ フレーム
２５ 仮置きピン
３０ 処理槽
３１ ロール状ブラシ
３２ 洗浄ノズル
３３ 搬出入口
３４ シャッター開閉用シリンダ
３５ ローラー駆動機構
３６ チャック開閉用シリンダ
３７ ローラー回転用モーター
３８ ベルト
３９ スピンドル
４０ 搬送ボックス
４１ 装置フレーム
４２ 第１基板搬送ロボット
４３ 仮置台
４４ 第２基板搬送ロボット
４５ 基板洗浄・乾燥ユニット
４６ 基板洗浄ユニット
４７ めっき前処理ユニット
４８ めっき前処理及びめっきユニット
４９ めっき前処理液供給部
５０ めっき液供給部
５１ 胴部
５２ 回転駆動部
５３ ロボットアーム
５４ ハンド
５５ 排気ダクト
５６ ドライ用基板保持部
５７ ウエット用基板保持部
５８ 仕切り板
５９ 支持ピン
６０ ベース板
６１ 支持ピン
６２ 純水スプレーノズル
６３ シャッター
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体ウエハ等の基板を所定の保持位置に保持する基板保持機構を備え、該基板保持機構で保持された基板に基板処理機構で所定の処理を施す基板処理ユニット、及び該基板処理ユニットに基板を搬入搬出する基板搬送方法に関するものである。また、本発明は半導体ウエハ等の基板を所定の保持位置に保持する基板保持機構を備える基板洗浄処理ユニットおよび該基板洗浄処理ユニットを備える基板めっき装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
図１は従来のこの種の基板処理ユニットの基板の搬入、保持、搬出する部分構成及びその動作を示す図である。図示するように、基板処理ユニットは基板１１を所定の位置に保持する基板保持機構１０を備えている。該基板保持機構１０は複数個（図では４個）のローラー１２を備えている。各ローラー１２は図２に示すように小径部１２ａと大径部１２ｂからなり、大径部１２ｂの上に小径部１２ａが一体的に形成された構成である。小径部１２ａと大径部１２ｂの境界部に溝１２ｃが形成され、大径部１２ｂの上端は水平な肩部１２ｄとなっている。また、各ローラー１２は回転機構（図示せず）により回転できるようになっている。
【０００３】
図１Ａに示すように、ロボットアーム等の基板搬入機構１３でローラー１２の上方に搬入された基板１１は、基板搬入機構１３の下降により、図１Ｂに示すように、基板１１の位置がローラー１２の溝１２ｃに一致する位置まで下降する。この状態で図１Ｃに示すようローラー１２を矢印Ａに示すように基板１１に向かって移動させることにより、基板１１の外周をローラー１２の溝１２ｃに係合させ、該基板１１をローラー１２で基板保持位置に挟持する。続いて図１Ｄに示すように、基板搬入機構１３をさらに下降させ、基板１１から離間した状態とする。その後、基板搬入機構１３を基板保持機構１０から退避させる。これにより、図１Ｅに示すような状態となり、４個のローラー１２で基板１１を挟持して、所定の位置に保持する。
【０００４】
上記のように基板１１を複数個のローラー１２で挟持した状態で、基板１１に所定の処理を終了した後、例えば洗浄処理が終了した後、基板搬入機構１３を図１Ｄに示すように基板保持機構１０で保持された基板１１の下方に挿入させ、図１Ｃに示すように基板搬入機構１３を基板１１を受け取る位置まで上昇させ、ローラー１２を矢印Ａとは反対側に移動させ、基板１１を図１Ｂに示すように基板搬入機構１３に渡し、更に基板搬入機構１３を図１Ａに示すように上昇させ、退避させ基板１１を搬出する。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
半導体ウエハ等の基板を所定位置に保持した状態で、洗浄処理等の各種処理を行う基板処理装置において、基板の搬送時間を短縮することは、スループットを向上させる上で重要な項目である。また、搬送時間を短縮するためには、搬送の際の工程を減らすことなど搬送効率を上げる必要がある。しかしながら、基板は他からの衝撃や干渉なく慎重に搬送される必要があり、搬送工程を減らすためには基板保持の方法や基板搬送の方法をより効率良く行う必要がある。
【０００６】
図１に示す従来の基板の搬入、保持、搬出では、図１Ａに示すように、ロボットアーム等の基板搬入機構１３により、基板１１を基板処理ユニット内の基板保持機構１０の上部に搬入した後、図１Ｂに示すように、基板搬入機構１３を下降させて基板１１の位置をローラー１２の溝１２ｃに係合させ、その後図１Ｃに示すようローラー１２で基板１１を挟持し、更に図１Ｄに示すように基板搬入機構１３をさらに下降させ、基板搬入機構１３を基板保持機構１０から退避させている。そのため基板搬入機構１３で基板１１を保持している時間が長くなり、基板１１の搬送時間を短縮し、スループットを向上させる上で問題となっていた。
【０００７】
本発明は上述の点に鑑みてなされたもので、上記問題点を除去し、ロボットアーム等の基板搬入機構を基板の搬入後速やかに基板の把持から解放し、基板を保持する時間を短縮し、スループットを向上させることができる基板処理ユニット、基板搬送方法、基板洗浄処理ユニット及び基板めっき装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するため本発明に係る基板処理ユニットは、例えば図３および図１３に示すように、基板１１を所定の保持位置に保持し、基板１１の保持位置外周上に複数のローラー１４を備える基板保持機構１０であって、複数のローラー１４は保持位置近傍にある基板１１をその外周を挟持して保持するようになっている、基板保持機構１０と；基板保持機構１０で保持された基板１１に所定の処理を施す処理機構３２と；基板１１を保持位置近傍に案内するガイドピン１５を具備する基板ガイド機構２０とを備え；ローラー１４は、大径部１４ｂと大径部１４ｂの上部に小径部１４ａが一体に形成された構造であり、大径部１４ｂの上部に基板１１搬送の際に基板１１を仮置きできる肩部１４ｄを備え、肩部１４ｄには外周に向かって下がる勾配の傾斜面が形成されている。
【０００９】
また、前記課題を解決するため本発明に係る基板処理ユニットは、例えば図１０および図１３に示すように、基板１１を所定の保持位置に保持し、基板１１の保持位置外周上に複数のローラー１４を備える基板保持機構１０であって、複数のローラー１４は保持位置近傍にある基板１１をその外周を挟持して保持するようになっている、基板保持機構１０と；基板保持機構１０で保持された基板１１に所定の処理を施す処理機構３２と；基板１１を保持位置近傍に案内するガイドピン１５を具備し、基板１１の搬送の際に基板１１を仮置きできる仮置き器具２５を有する基板ガイド機構２０とを備え；ローラー１４は、大径部１４ｂと大径部１４ｂの上部に小径部１４ａが一体に形成された構造であり、大径部１４ｂの上部に外周に向かって下がる勾配の傾斜面が形成されている肩部１４ｄを備える。
【００１０】
また、本発明に係る基板処理ユニットは、上述の基板処理ユニットにおいて、例えば図４に示すように、基板１１は円板状であり、基板ガイド機構２０のガイドピン１５は保持位置に保持された基板１１の外周に配置され、基板１１の保持・解放の際に基板１１が動いても基板１１を保持位置近傍に案内する機能を備えてもよい。
【００１１】
また、本発明に係る基板処理ユニットは、上述の基板処理ユニットにおいて、例えば図４に示すように、基板ガイド機構２０のガイドピン１５は、上部がテーパ状に形成され、基板１１の搬送に際して基板１１の位置ずれを吸収できる機能を備えてもよい。
【００１２】
また、本発明に係る基板処理ユニットは、上述の基板処理ユニットにおいて、例えば図４に示すように、基板ガイド機構２０のガイドピン１５は、保持位置にある基板１１の処理の際、基板１１と干渉しないよう基板１１の外周から離れた位置に配置されてもよい。
【００１３】
また、本発明に係る基板処理ユニットは、上述の基板処理ユニットにおいて、ローラー１４は回転機構により回転できるようになっており、ローラー１４の回転により基板１１が回転するように構成されてもよい。
【００１４】
また、本発明に係る基板搬送方法は、例えば図５および図９に示すように、基板搬入機構１０により搬入された基板１１を所定の保持位置に保持し、所定の処理の終了後、基板１１を搬出する基板搬送方法において、搬入された基板１１を、基板搬入機構１０の下降によりガイドピン１５で保持位置近傍に案内する工程と；基板１１を仮置部１４ｄに載置し、基板搬入機構１０から離間させる工程と；基板搬入機構１０から離間させた基板１１を保持位置に複数個のローラー１４で基板１１の外周を挟持して保持する工程と；保持された基板１１に所定の処理を行う工程と；所定の処理を行った基板１１の保持を解放することにより、基板１１を仮置部１４ｄに載置する工程と；仮置部１４ｄに載置された基板１１を搬出する工程とを備え；ローラー１４は大径部１４ｂの上に小径部１４ａが一体に形成され、且つ大径部１４ｂの上部は肩部１４ｄが形成された構成であり、肩部１４ｄには外周に向かって下がる勾配の傾斜面が形成され、肩部１４ｄに載置された基板１１は複数のローラー１４の基板１１側の移動により挟持保持され、その反対の移動により離間し肩部１４ｄに載置される。
【００１５】
また、本発明に係る基板洗浄処理ユニットは、例えば図５および図１３に示すように、基板１１を所定の保持位置に保持する複数のローラー１４であって、大径部１４ｂと大径部１４ｂの上部に小径部１４ａが一体に形成された構造であり、大径部１４ｂの上部に基板１１を搬送する際に基板１１を仮置きできる肩部１４ｄを備え、肩部１４ｄには外周に向かって下がる勾配の傾斜面が形成され、保持位置近傍にある基板１１をその外周を挟持して保持する複数のローラー１４と；基板１１を保持位置近傍に案内するガイドピン１５と；ローラー１４に保持された基板１１に洗浄液を供給する洗浄ノズル３２と；ローラー１４に保持された基板１１の表面に当接するブラシ３１を備える。
【００１６】
また、本発明に係る基板めっき装置は、例えば図１８および図１９に示すように、基板にめっき前処理およびめっき処理を行うめっき前処理及びめっきユニット４８と；めっき前処理及びめっきユニット４８で、めっき前処理及びめっき処理を行われた基板を洗浄する、上述の基板洗浄処理ユニット４６と；めっき前処理及びめっき処理を行われた基板を、めっき前処理及びめっきユニット４８から基板洗浄処理ユニット４６に搬送し、また、基板洗浄処理ユニット４６から基板を搬出する基板搬送ロボット４２とを備える。
【発明の効果】
【００１７】
本発明に係る基板処理ユニットによれば、基板を保持位置近傍に案内するガイドピンを具備する基板ガイド機構を備えたことにより、ロボットアーム等の基板搬入機構で搬入した基板を基板保持機構に渡すまで把持する必要がなく、基板搬入後速やかに基板搬入機構を基板把持から解放でき、該基板搬入機構を次の工程に使用することができる。また、処理終了後の基板も基板保持機構の保持から解放されガイドピンにより保持位置近傍にあるから、基板搬入機構が基板保持機構に関係なく、基板を速やかに搬出できる。また、基板保持機構は、基板の保持位置外周上に複数のローラーを備え、該複数のローラーは保持位置近傍にある基板の外周を挟持して保持できるようになっているので、基板の挟持・解放はローラーを基板に向けて接近、基板から離すだけで容易に実行することができる。また、ローラーは、基板搬送の際に該基板を仮置きできる肩部を備えた構造であるので、該ローラーの肩部を基板の仮置台として使用することにより、基板の搬入・搬出が基板保持機構と基板搬入・搬出機構の連係動作を必要とすることなく、且つ容易、確実に実行できる。さらに、ローラーの肩部には外周に向かって下がる勾配の傾斜面が形成されているので、該肩部に仮置きされた基板をローラーで挟持する際、またローラーで挟持されている基板を該肩部に移す際、ローラーの基板への接近、基板からの離間のみで、スムーズに実行できる。
【００１８】
また、本発明に係る基板処理ユニットによれば、基板を保持位置近傍に案内するガイドピンを具備する基板ガイド機構を備えたことにより、ロボットアーム等の基板搬入機構で搬入した基板を基板保持機構に渡すまで把持する必要がなく、基板搬入後速やかに基板搬入機構を基板把持から解放でき、該基板搬入機構を次の工程に使用することができる。また、処理終了後の基板も基板保持機構の保持から解放されガイドピンの保持位置近傍にあるから、基板搬入機構が基板保持機構に関係なく、基板を速やかに搬出できる。また、基板保持機構は、基板の保持位置外周上に複数のローラーを備え、該複数のローラーは保持位置近傍にある基板の外周を挟持して保持できるようになっているので、基板の挟持・解放はローラーを基板に向けて接近、基板から離すだけで容易に実行することができる。また、基板ガイド機構に仮置き器具が備えられているので、基板の仮置台として使用することにより、基板の搬入・搬出が基板保持機構と基板搬入・搬出機構の連係動作を必要とすることなく、且つ容易、確実に実行できる。さらに、ローラーの肩部には外周に向かって下がる勾配の傾斜面が形成されているので、該仮置き器具に仮置きされた基板をローラーで挟持する際、またローラーで挟持されている基板を該仮置き器具に移す際、ローラーの基板への接近、基板からの離間のみで、スムーズに実行できる。
【００１９】
ガイドピンが保持位置に保持された基板の外周に配置され、基板の保持・解放の際に該基板が動いても該基板を保持位置近傍に案内する機能を備えることにより、基板搬入・搬出機構による基板の搬入・搬出が容易で且つ正確に迅速に行うことができる。
【００２０】
ガイドピンの上部がテーパ状に形成され、基板の搬送に際して該基板の位置ずれを吸収できる機能を備えることにより、搬入された基板の位置がずれていても、ガイドピンのテーパ上でこの位置ずれが修正され基板を保持位置近傍に案内するから、基板は所定の保持位置近傍に収まり、その後の基板保持機構による基板の挟持・保持が、迅速且つ正確に行うことが可能となる。
【００２１】
基板ガイド機構のガイドピンが、保持位置にある基板の処理の際、該基板と干渉しないよう該基板の外周から離れた位置に配置されることにより、基板の処理に際してガイドピンが障害となることがなく、処理をスムーズに実行できる。
【００２２】
ローラーが回転機構により回転でき、該ローラーの回転により基板が回転するように構成されているので、例えば基板を洗浄処理する場合、基板を回転しながら基板の全面を均等に処理することが容易に実行できる。
【００２３】
本発明に係る基板搬送方法によれば、基板搬入機構により搬入された基板は、基板搬入機構の下降により基板ガイド機構のガイドピンで保持位置近傍に案内されると共に、基板保持機構の基板仮置部に載置されて該基板搬入機構から離間し、その後基板保持機構で基板を保持位置に保持し所定の処理の終了後、該基板保持機構が基板の保持を解放することにより、基板は仮置部に載置され、仮置部に載置された基板を基板搬出機構で搬出するので、基板の搬出搬入に基板搬入・搬出機構と基板保持機構の連係動作が必要なく、一方の動作で実行できるから、基板の搬入・搬出が容易で且つ迅速に実行できる。また、基板保持機構は、基板の保持位置外周上に複数のローラーを備え、該複数のローラーは保持位置近傍にある基板の外周を挟持して保持できるようになっているので、基板の挟持・解放はローラーを基板に向けて接近、基板から離すだけで容易に実行することができる。また、ローラーは、基板搬送の際に該基板を仮置きできる肩部を備えた構造であるので、該ローラーの肩部を基板の仮置台として使用することにより、基板の搬入・搬出が基板保持機構と基板搬入・搬出機構の連係動作を必要とすることなく、且つ容易、確実に実行できる。さらに、ローラーの肩部には外周に向かって下がる勾配の傾斜面が形成されているので、該肩部に仮置きされた基板をローラーで挟持する際、またローラーで挟持されている基板を該肩部に移す際、ローラーの基板への接近、基板からの離間のみで、スムーズに実行できる。
【００２４】
本発明に係る基板洗浄処理ユニットによれば、基板を所定の保持位置に保持する複数のローラーであって、大径部と大径部の上部に小径部が一体に形成された構造であり、大径部の上部に基板を搬送する際に基板を仮置きできる肩部を備え、肩部には外周に向かって下がる勾配の傾斜面が形成され、保持位置近傍にある基板をその外周を挟持して保持する複数のローラーと、基板を保持位置近傍に案内するガイドピンとを備えるので、基板搬入後速やかに基板搬入機構を基板把持から解放でき、該基板搬入機構を次の工程に使用することができる。また、処理終了後の基板も基板保持機構の保持から解放されガイドピンにより保持位置近傍にあるから、基板搬入機構が基板保持機構に関係なく、基板を速やかに搬出できる。また、基板保持機構は、基板の保持位置外周上に複数のローラーを備え、該複数のローラーは保持位置近傍にある基板の外周を挟持して保持できるようになっているので、基板の挟持・解放はローラーを基板に向けて接近、基板から離すだけで容易に実行することができる。また、ローラーは、基板搬送の際に該基板を仮置きできる肩部を備えた構造であるので、該ローラーの肩部を基板の仮置台として使用することにより、基板の搬入・搬出が基板保持機構と基板搬入・搬出機構の連係動作を必要とすることなく、且つ容易、確実に実行できる。さらに、ローラーの肩部には外周に向かって下がる勾配の傾斜面が形成されているので、該肩部に仮置きされた基板をローラーで挟持する際、またローラーで挟持されている基板を該肩部に移す際、ローラーの基板への接近、基板からの離間のみで、スムーズに実行できる。
【００２５】
本発明に係る基板めっき装置では、上記の基板洗浄処理ユニットを備えるので、基板洗浄装置への基板の搬入および搬出が速やかに実行でき、処理効率の高い基板めっき装置となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
この出願は、日本国で２００５年８月２９日に出願された特願２００５−２４８３０８号に基づいており、その内容は本出願の内容として、その一部を形成する。
本発明は以下の詳細な説明によりさらに完全に理解できるであろう。本発明のさらなる応用範囲は、以下の詳細な説明により明らかとなろう。しかしながら、詳細な説明及び特定の実例は、本発明の望ましい実施の形態であり、説明の目的のためにのみ記載されているものである。この詳細な説明から、種々の変更、改変が、本発明の精神と範囲内で、当業者にとって明らかであるからである。
出願人は、記載された実施の形態のいずれをも公衆に献上する意図はなく、改変、代替案のうち、特許請求の範囲内に文言上含まれないかもしれないものも、均等論下での発明の一部とする。
【００２７】
以下、本発明の実施形態例を図面に基づいて説明する。図３乃至図５は本発明に係る基板処理ユニットの基板保持機構及び基板搬入機構の構成を示す図であり、図３Ａは平面図、図３Ｂは側面図、図４は基板ガイド機構の構成を示す図、図５は基板保持機構のローラーの構成を示す図である。なお、図３乃至図５において、図１と同一符号を付した部分は同一又は相当部分を示す。
【００２８】
基板処理ユニットは、図示するように、基板１１を所定の位置に保持する基板保持機構１０を備えている。該基板保持機構１０は、複数個（図では４個）のローラー１４を備えている。各ローラー１４は図５に示すように小径部１４ａと大径部１４ｂからなり、大径部１４ｂの上に小径部１４ａが一体的に形成された構成である。大径部１４ｂの上部は外周側に下がり勾配の斜面が形成された肩部１４ｄとなっており、該肩部１４ｄと小径部１４ａの境界部に基板１１の外周部が係合する溝１４ｃが形成されている。また、各ローラー１４は回転機構（図示せず）により回転できるようになっている。
【００２９】
基板保持機構１０で所定の保持位置に保持される基板１１の外周近傍には基板ガイド機構２０、２０が配置されている。該基板ガイド機構２０は図４に示すように、ガイドピン１５が立設されたスライド板１６を具備し、該スライド板１６はガイド機構取付フレーム１９に設けた溝１９ａ内を矢印Ｂ方向にスライドできるようになっている。スライド板１６は長穴１７が形成され、ネジ１８を緩めてスライド板１６を矢印Ｂ方向に移動させ、即ちスライド板１６を基板１１の外周で該基板１１に当接又は離間する方向に移動させ、ネジ１８を締めることにより、ガイドピン１５を所定の保持位置に保持された基板１１の外周近傍（基板１１の外周から所定距離離れた位置）に位置決めできるようになっている。
【００３０】
ガイドピン１５は円柱状でその上部がテーパ状に形成された構成となっており、基板１１の搬送に際して、基板１１が位置ずれしても、該テーパ面を基板１１の外周が滑りながら下降することにより、この位置ずれを吸収できるようになっている。図３Ａ、図３Ｂに示すように、ロボットアーム等の基板搬入機構１３でローラー１４の上方に搬入された基板１１は、基板搬入機構１３の下降により、４個のローラー１４の肩部１４ｄに載置され支持される。この搬入に際して基板１１が位置ずれしていても、４本のガイドピン１５で囲まれた円周内に入っていれば、基板１１の外周はガイドピン１５のテーパ面に摺接して下降する際にその位置ずれが補正（吸収）され、４個のローラー１４の肩部１４ｄに載置される。ここでは、４個のローラー１４の肩部１４ｄは基板１１を仮置きする仮置台としての機能を有する。
【００３１】
図６は基板ガイド機構２０及びその取り付け構造を示す図で、図６Ａは平面図、図６Ｂは正面図、図６Ｃは側面図である。基板ガイド機構２０のガイド機構取付フレーム１９は基板処理ユニットのフレーム２３にブラケット２１、２２を介して取付けられている。ガイドピン１５の位置はネジ１８を締め、スライド板１６をガイド機構取付フレーム１９に対して移動させることにより、調整できる。ガイドピン１５のテーパ部は５０°で傾斜させている。なお、このガイドピン１５のテーパ部の傾斜角度は図７に示すように８０°、図８に示すように２０°というように、基板１１を案内する条件により変えてもよい。図７に示すように、テーパ部の傾斜角度を８０°以上とした場合は、基板１１を落とし込む位置の自由度を大きくできるが、基板１１が斜めに落ち込むことがある。また、図８に示すように、テーパ部の傾斜角度を２０°以下とした場合は、基板１１を落とし込む自由度が小さくなるため、基板１１を落とし込む際の位置決め精度を高くする必要がある。ガイドピン１５は、ここで塩化ビニール製としているが、ガイドピン１５は少なくともその基板１１に接する部分は塩化ビニール等の樹脂材とすることがよい。
【００３２】
次に基板保持機構１０及び基板搬入機構１３の動作を図９を用いて説明する。先ず、図９Ａに示すように、基板１１を把持したロボットアーム等の基板搬入機構１３をローラー１４を備えた基板保持機構１０の上方に進入させる。この状態から基板搬入機構１３を下降させることにより、基板１１は基板ガイド機構２０、２０の４本のガイドピン１５ （図３参照）に案内されながら下降し、図９Ｂに示すように４個のローラー１４の肩部１４ｄに支持され、基板搬入機構１３から離間する。このとき基板１１に位置ずれがある場合、ガイドピン１５のテーパ面に基板１１の外周が摺接しながら下降することにより、その位置が修正されて４個のローラー１４の肩部１４ｄに載置されることになる。また、基板１１が基板搬入機構１３の把持から解放されるときに、チャック等の動きに連れて基板１１が動いてしまうと、基板１１がローラー１４の支持から外れて落下する可能性がある。しかし、ガイドピン１５により動きを拘束されているので、そのような落下は防止される。
【００３３】
この状態で基板１１は基板搬入機構１３から離間しているから、基板搬入機構１３を退避することにより図９Ｃに示すように、基板１１は基板保持機構１０の４個のローラー肩部１４ｄに支持された状態となる。この状態で図９Ｄに示すように、４個のローラー１４を矢印Ａに示すように基板１１に向かって移動させることにより、基板１１の外周は各ローラー１４の肩部１４ｄの傾斜面に摺接しながら移動し、ローラー１４の溝１４ｃに係合し、該基板１１はその外周を４個のローラー１４で挟持される。この時、ガイド機構２０のスライド板１６とガイドピン１５は各々基板１１の下面と外周から所定距離離れている。なお、ローラー１４の肩部１４ｄには外周に向かって下がる勾配の傾斜面が形成されているので、基板１１を肩部１４ｄに仮置きしつつ、基盤１１をローラーで挟持することもできる、すなわち、基板搬入機構１３を下降させながら、ローラー１４を移動してもよい。すると、基板１１が肩部１４ｄの傾斜面に接した時点で、基板１１はローラー１４の肩部１４ｄに仮置きされた状態となり、更なるローラー１４の連続的な移動により、ローラー１４で挟持されることになる。したがって、基板１１の基板搬入機構１３の把持から、ローラ１４の肩部１４ｄでの仮置き、そしてローラー１４による挟持までが、連続的にスムーズに実行できる。このように連続的にスムーズに実行できるので、従来のように基板搬入機構による基板の所定の高さへの下降と停止、ローラーの移動による基板の挟持、その後の基板搬入機構の更なる下降と退避の工程に比べ、所要時間を短縮でき、スループットを向上に寄与することができる。さらに、肩部１４ｄが傾斜面となっているために、基板１１とローラー１４との接触面積が小さくなり、基板１１を汚染する可能性が低減される。
【００３４】
上記のように２本のガイドピンを具備する２個の基板ガイド機構２０、２０を基板保持機構１０で保持される基板１１の保持位置の両側に配置することにより、基板１１を把持した基板搬入機構１３が基板保持機構１０の基板保持位置上方に進入し、下降するだけで、基板１１は４個のローラー１４の肩部１４ｄに支持され離間するので、その後基板搬入機構１３は解放され、直ちに退避し、次の工程に移動できる。なお、本実施の形態では、基板ガイド機構２０は、２本のガイドピン１５を１枚のスライド板１６に備え、スライド板１６を移動可能に構成したものとして説明したが、基板ガイド機構２０の構成はこれに限られない。例えば、複数本のガイドピン１５が基板保持機構１０のあるいは処理槽３０のフレーム２３に直接設置されてもよく、この場合には、基板ガイド機構２０はガイドピン１５と同一のものとなる。すなわち、基板ガイド機構２０は、ガイドピン１５を備え、基板１１の基板保持機構１０への搬入の際に基板１１を所定の位置にガイドする機構であればよい。なお、本実施例のようにスライド板１６を備え、スライド板１６を移動可能とすると、基板１１をガイドする位置を容易に調整でき、また、基板１１の大きさの変化にも対応できるので、好ましい。
【００３５】
基板保持位置で基板保持機構１０の４個のローラー１４に外周を挟持された状態で所定の処理が施され、処理が終了した基板１１は、図９Ｄに示すように４個のローラー１４で挟持されている。基板１１は、ローラー１４を離間する方向（矢印Ａとは反対方向）に移動させると、図９Ｃに示すように、４個のローラー１４の肩部１４ｄに支持された状態となる。この状態でロボットハンド等の基板搬出機構を基板保持機構１０の下方に進入させ、上昇させることにより、４個のローラー１４の肩部１４ｄに支持された基板１１は基板搬出機構に把持され、該基板搬出機構を退避することにより、搬出される。ここで、ローラー１４の肩部１４ｄには外周に向かって下がる勾配の傾斜面が形成されているので、基板１１を肩部１４ｄに仮置きしつつ、基盤１１を基板搬出機構で把持することもできる、すなわち、ローラー１４を移動させながら、基板搬出機構を上昇させてもよい。すると、ローラー１４の移動により基板１１が肩部１４ｄの傾斜面に仮置きされ、その間に基板搬出機構は基板１１を把持し、基板保持機構１０から搬出する。ローラー１４の移動と、基板搬出機構の上昇および退避とが同時に、かつ、連続的に行われる。したがって、基板１１のローラー１４による挟持から、ローラ１４の肩部１４ｄでの仮置き、そして基板搬出機構での搬出までが、連続的にスムーズに実行できる。このように連続的にスムーズに実行できるので、従来のようにローラーの移動による基板の挟持から仮置きへの変化、基板搬出機構の上昇と停止、ローラーの更なる移動による基板搬出機構による基板の把持、そして基板搬出機構の更なる上昇と退避の工程に比べ、所要時間を短縮でき、スループットを向上に寄与することができる。なお、基板搬出機構は、典型的には、基板搬入機構１３と同一の機構であるが、異なる周知の機構を用いてもよい。
【００３６】
なお、上記例では基板保持機構１０の４個のローラー１４の肩部１４ｄを基板１１を載置する仮置台としているが、仮置台はこれに限定されるものではない。例えば図１０〜１２に示すように、スライド板１６のガイドピン１５の内側に、肩部１４ｄと同じ高さの、あるいは肩部１４ｄより僅かに高くローラー１４の溝より僅かに低い高さの、あるいはローラー１４の溝と同じ高さの、複数個の仮置き器具としての突起又はピン２５（以降、「仮置きピン２５」と称する。）を設けてもよい。そして、仮置きピン２５に基板搬入機構１３で搬入した基板１１や基板保持機構１０から解放された基板１１を載置するように構成してもよい。このようにローラー１４とは別に仮置きピン２５を備えることにより、ローラー１４で基板１１を挟持する際には仮置きピン２５と基板１１とは接触せず、基板を擦る等により基板１１を損傷することがない。
ここで、図１０は、本発明に係る、仮置きピン２５を備える基板保持機構及び基板搬入機構の構成を示す図であり、図１０Ａは平面図、図１０Ｂは側面図である。図１１は、仮置きピン２５を備える基板ガイド機構２０及びその取り付け構造を示す図で、図１１Ａは平面図、図１１Ｂは正面図、図１１Ｃは側面図である。図１２は、仮置きピン２５を備える基板処理ユニットの基板ガイド機構２０の構造例を示す図である。
【００３７】
図１３乃至図１７は本発明に係る基板洗浄処理ユニットの構成例を示す図で、図１３は平面構成を示す平面図、図１４は外観構成を示す正面図、図１５は内部の側面構成を示す側面図、図１６は裏面構成を示す裏面図、図１７は全体構成を示す斜視図である。基板洗浄処理ユニットは処理槽３０を備え、その内部に図３に示す４個のローラー１４を備えた基板保持機構１０が配置される。基板１１が該４個のローラー１４にその外周部が挟持され、ローラー１４が回転することにより回転するようになっている。基板保持機構１０で所定位置に保持された基板１１の外周部近傍にガイドピン１５が位置するように基板ガイド機構２０、２０が配置されている。
【００３８】
基板ガイド機構２０、２０のガイド機構取付フレーム１９は図６に示すように、ブラケット２１、２２を介して処理槽３０のフレーム２３に取付けられている。基板保持機構１０の４個のローラー１４に挟持されて保持された基板１１の上下面にはロール状ブラシ３１が当接する。上下方向に配置された洗浄ノズル３２（下方の洗浄ノズル３２の図示は省略）から洗浄液が基板１１の上下面に供給され、回転するロール状ブラシ３１とローラー１４の回転により回転する基板１１の相対運動により、基板１１の上下面は洗浄される。
【００３９】
処理槽３０の正面には基板１１を搬出入する搬出入口３３が設けられる。該搬出入口３３には開閉シャッター（図示は省略）が設けられ、シャッター開閉用シリンダ３４で搬出入口３３を開閉するようになっている。処理槽３０の下方には、左右２個ずつ計４個のローラー１４を回転させたり、該ローラー１４を図９Ｄの矢印Ａに示すように基板１１を挟持する方向やその反対方向に移動させるための２個のローラー駆動機構３５が設けられている。また、基板１１は開口された搬出入口３３から矢印Ａに方向に搬出入できるようになっている。
【００４０】
各ローラー駆動機構３５は夫々基板１１の挟持・解放のためのチャック開閉用シリンダ３６、ローラー回転用モーター３７を備えている。左右のチャック開閉用シリンダ３６を作動させることにより、各ローラー１４が図９Ｄの矢印Ａに示す方向又反対方向に移動し、基板１１を挟持・解放するようになっている。また、左右のローラー回転用モーター３７を起動することにより、ベルト３８及びスピンドル３９を介して左右２個ずつ計４個のローラー１４が同一方向に回転し、基板１１を回転するようになっている。
【００４１】
上記構成の基板洗浄処理ユニットにおいて、搬出入口３３からロボットアーム等の基板搬入機構１３（図３参照）により搬入された基板１１は、図９Ａ乃至図９Ｄに示す手順で、４個のローラー１４に挟持され、洗浄される。洗浄処理の終了した後の基板１１は、図９Ａ乃至図９Ｄに示す手順と略逆の手順で処理槽３０から搬出される。
【００４２】
図１８は図１３乃至図１７に示す構成の基板洗浄処理ユニットを備えた基板処理装置（めっき装置）の平面構成例を示す図である。本基板処理装置は、例えばスミフボックス等の内部に多数の半導体ウエハ等の基板を収納した搬送ボックス４０を着脱自在にした矩形状の装置フレーム４１を備えている。この装置フレーム４１の内部中央部には、第１基板搬送ロボット４２、仮置台４３、及び第２基板搬送ロボット４４が、直列に配置されている。
【００４３】
そして両側に位置して、一対の基板洗浄・乾燥ユニット４５、基板洗浄ユニット４６、めっき前処理ユニット４７、めっき前処理及びめっきユニット４８が配置されている。更に、搬送ボックス４０と反対側に、めっき前処理ユニット４７にめっき前処理液を供給するめっき前処理液供給部４９と、めっき前処理及びめっきユニット４８にめっき液を供給するめっき液供給部５０が配置されている。基板洗浄ユニット４６には図１３乃至図１７に示す構成の基板洗浄処理ユニットを用いている。
【００４４】
図１８に示す構成の基板処理装置は、クリーンルーム内に設置され、装置フレーム４１からクリーンルーム内に空気が流出しないように構成されている。また、装置フレーム４１の内部には、新鮮な空気の下向きの流れ（ダウンフロー）が形成されている。
【００４５】
図１９乃至図２１は、第１基板搬送ロボット４２の構成を示す図である。なお、第２基板搬送ロボット４４も第１基板搬送ロボット４２と同様な構成をしている。第１基板搬送ロボット４２は、いわゆる固定式ロボットであり、上下方向に伸縮自在な胴５１と、該胴部５１の上端に取付けた回転駆動部５２、該回転駆動部５２に取付けた水平方向に伸縮自在なロボットアーム５３を有している。このロボットアーム５３の先端に基板１１を把持するハンド５４（図３の基板搬入機構１３）が連結されている。
【００４６】
胴部５１は、図２１に示すように、共に中空の内胴５１ａと外胴５１ｂを有する、いわゆる入れ子式によって伸縮自在に構成されている。胴部５１の底部に、中空の内胴５１ａ及び外胴５１ｂの内部に連通する排気ダクト（排気部）５５が接続され、第１基板搬送ロボット４２の内部の空気を、排気ダクト５５を通して外部に排気して回収するようになっている。
【００４７】
これによって、例えば第１基板搬送ロボット４２の胴部５１の伸縮による上下動に伴って該第１基板搬送ロボット４２の内部から排気される空気が、特に内胴５１ａと外胴５１ｂとの間を通過して第１基板搬送ロボット４２の外部に漏れるのを防止する。したがって、第１基板搬送ロボット４２の近傍における気流を一定に保って、基板１１がパーティクルによって汚染されることを防止することができる。
【００４８】
図２２及び図２３は、仮置台４３を示す図である。この仮置台４３は、第１基板搬送ロボット４２と第２基板搬送ロボット４４側の一方から基板１１の出し入れを行うようになっている。なお、任意の方向から出し入れできるようにしてもよいことは勿論である。このように、第１基板搬送ロボット４２と第２基板搬送ロボット４４の間に、基板１１を仮置する仮置台４３を配置することで、装置フレーム４１内における基板１１の搬送を効率的に行うとともに、第１基板搬送ロボット４２と第２基板搬送ロボット４４として、固定式ロボットを使用できる。したがって、装置全体のコスト低減を図ることができる。
【００４９】
仮置台４３には、上段のドライ用基板保持部５６と、下段のウエット用基板保持部５７が、仕切り板５８で仕切られて上下に設けられている。ドライ用基板保持部５６は、基板１１の周縁部に沿った位置に仕切り板５８に立設した複数の支持ピン５９を備え、この支持ピン５９の上部に設けたテーパ部を介して基板１１を位置決めしつつ保持する。ウエット用基板保持部５７もほぼ同様に、基板１１の周縁部に沿った位置にベース板６０を立設した複数の支持ピン６１を備え、この支持ピン６１の上部に設けたテーパ部を介して基板１１を位置決めしつつ保持する。
【００５０】
仕切り板５８の下面には、該基板１１の乾燥を防止する乾燥防止機構としての純水スプレーノズル６２が取付けられている。純水スプレーノズル６２は、ウエット用基板保持部５７の支持ピン６１で保持した基板１１の表面（上面）に向けて純水を噴霧することにより、基板１１の乾燥を防止する。更に、仕切り板５８とベース板６０との間には、純水スプレーノズル６２から基板１１に向けて噴射された純水が外部に漏れるのを防止するシャッター６３が開閉自在に設けられている。
【００５１】
第１基板搬送ロボット４２で搬送された基板１１は、上段のドライ用基板保持部５６の支持ピン５９で位置決めされて保持される。一連の処理後に第２基板搬送ロボット４４で保持され、搬送された基板１１は、下段のウエット用基板保持部５７の支持ピン６１で位置決めされる。そして、基板１１が保持されたか否かは、図示しないセンサで検知される。
【００５２】
上記構成の基板処理装置において、第１搬送ロボット４２は、搬送ボックス４０から１枚の基板１１を取り出して仮置台４３のドライ用基板保持部５６に搬送する。基板１１は、該ドライ用基板保持部５６で保持される。該ドライ用基板保持部５６で保持された基板１１を第２基板搬送ロボット４４でめっき前処理ユニット４７に搬送する。該めっき前処理ユニット４７で基板１１にめっき前処理を行う。めっき前処理の終了した基板１１を第２基板搬送ロボット４４でめっき前処理及びめっきユニット４８に搬送し、ここでめっき前処理及びめっき処理を行う。めっき処理の終了した基板１１を第２基板搬送ロボット４４で図１３乃至図１７に示す構成を有する基板洗浄ユニット４６に搬送する。
【００５３】
基板洗浄ユニット４６では、基板１１の上下面をロール状ブラシ３１で洗浄し、基板１１の表面に付着したパーティクルや不要物を除去する。該パーティクルや不要物が除去された基板１１を第２基板搬送ロボット４４で仮置台４３のウエット用基板保持部５７に搬送し、該ウエット用基板保持部５７で保持する。この保持中に、純水スプレーノズル６２から純水を基板１１に向けて噴霧することで、基板の乾燥を防止する。
【００５４】
第１基板搬送ロボット４２は、仮置台４３のウエット用基板保持部５７から基板１１を取り出し、基板洗浄・乾燥ユニット４５に搬送する。ここで、基板１１の表面の化学洗浄及び純水洗浄を行って、スピン乾燥させる。このスピン乾燥後の基板１１を第１基板搬送ロボット４２で搬送ボックス４０内に戻す。これにより基板１１の処理は終了する。
【００５５】
以上、本発明の実施形態を説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲、及び明細書と図面に記載された技術的思想の範囲内において種々の変形が可能である。
【００５６】
本発明の説明に関連して（特に以下の請求項に関連して）用いられる名詞及び同様な指示語の使用は、本明細書中で特に指摘したり、明らかに文脈と矛盾したりしない限り、単数および複数の両方に及ぶものと解釈される。語句「備える」、「有する」、「含む」および「包含する」は、特に断りのない限り、オープンエンドターム（すなわち「〜を含むが限定しない」という意味）として解釈される。本明細書中の数値範囲の具陳は、本明細書中で特に指摘しない限り、単にその範囲内に該当する各値を個々に言及するための略記法としての役割を果たすことだけを意図しており、各値は、本明細書中で個々に列挙されたかのように、明細書に組み込まれる。本明細書中で説明されるすべての方法は、本明細書中で特に指摘したり、明らかに文脈と矛盾したりしない限り、あらゆる適切な順番で行うことができる。本明細書中で使用するあらゆる例または例示的な言い回し（例えば「など」）は、特に主張しない限り、単に本発明をよりよく説明することだけを意図し、本発明の範囲に対する制限を設けるものではない。明細書中のいかなる言い回しも、本発明の実施に不可欠である、請求項に記載されていない要素を示すものとは解釈されないものとする。
【００５７】
本明細書中では、本発明を実施するため本発明者が知っている最良の形態を含め、本発明の好ましい実施の形態について説明している。当業者にとっては、上記説明を読んだ上で、これらの好ましい実施の形態の変形が明らかとなろう。本発明者は、熟練者が適宜このような変形を適用することを期待しており、本明細書中で具体的に説明される以外の方法で本発明が実施されることを予定している。従って本発明は、準拠法で許されているように、本明細書に添付された請求項に記載の内容の修正および均等物をすべて含む。さらに、本明細書中で特に指摘したり、明らかに文脈と矛盾したりしない限り、すべての変形における上記要素のいずれの組合せも本発明に包含される。
【図面の簡単な説明】
【００５８】
【図１Ａ】従来の基板処理ユニットの基板の搬入、保持、搬出する部分の構成及びその動作を示す図である。
【図１Ｂ】従来の基板処理ユニットの基板の搬入、保持、搬出する部分の構成及びその動作を示す図である。
【図１Ｃ】従来の基板処理ユニットの基板の搬入、保持、搬出する部分の構成及びその動作を示す図である。
【図１Ｄ】従来の基板処理ユニットの基板の搬入、保持、搬出する部分の構成及びその動作を示す図である。
【図１Ｅ】従来の基板処理ユニットの基板の搬入、保持、搬出する部分の構成及びその動作を示す図である。
【図２】従来の基板処理ユニットの基板保持機構のローラーの構成例を示す図である。
【図３Ａ】本発明に係る基板処理ユニットの基板保持機構及び基板搬入機構の構成を示す図である（平面図）。
【図３Ｂ】本発明に係る基板処理ユニットの基板保持機構及び基板搬入機構の構成を示す図である（側面図）。
【図４】本発明に係る基板処理ユニットの基板ガイド機構の構成を示す図である。
【図５】本発明に係る基板処理ユニットの基板保持機構のローラーの構成を示す図である。
【図６Ａ】本発明に係る基板処理ユニットの基板ガイド機構及び取付け構造を示す図である（平面図）。
【図６Ｂ】本発明に係る基板処理ユニットの基板ガイド機構及び取付け構造を示す図である（正面図）。
【図６Ｃ】本発明に係る基板処理ユニットの基板ガイド機構及び取付け構造を示す図である（側面図）。
【図７】本発明に係る基板処理ユニットの基板ガイド機構の構造を示す図である。
【図８】本発明に係る基板処理ユニットの基板ガイド機構の構造を示す図である。
【図９Ａ】本発明に係る基板処理ユニットの基板の搬入、保持、搬出する部分の構成及びその動作を示す図である。
【図９Ｂ】本発明に係る基板処理ユニットの基板の搬入、保持、搬出する部分の構成及びその動作を示す図である。
【図９Ｃ】本発明に係る基板処理ユニットの基板の搬入、保持、搬出する部分の構成及びその動作を示す図である。
【図９Ｄ】本発明に係る基板処理ユニットの基板の搬入、保持、搬出する部分の構成及びその動作を示す図である。
【図１０Ａ】本発明に係る仮置きピンを備える基板保持機構及び基板搬入機構の構成を示す図である。（平面図）
【図１０Ｂ】本発明に係る仮置きピンを備える基板保持機構及び基板搬入機構の構成を示す図である。（側面図）
【図１１Ａ】本発明に係る仮置きピンを備える基板ガイド機構及び取付け構造を示す図である。（平面図）
【図１１Ｂ】本発明に係る仮置きピンを備える基板ガイド機構及び取付け構造を示す図である。（正面図）
【図１１Ｃ】本発明に係る仮置きピンを備える基板ガイド機構及び取付け構造を示す図である。（側面図）
【図１２】本発明に係る仮置きピンを備える基板処理ユニットの基板ガイド機構の構造を示す図である。
【図１３】本発明に係る基板処理ユニットの平面構成を示す平面図である。
【図１４】本発明に係る基板処理ユニットの外観構成示す正面図である。
【図１５】本発明に係る基板処理ユニットの側面構成を示す側面図である。
【図１６】本発明に係る基板処理ユニットの裏面構成を示す裏面図である。
【図１７】本発明に係る基板処理ユニットの全体構成を示す斜視図である。
【図１８】本発明に係る基板処理ユニットを備えた基板処理装置の平面構成を示す平面図である。
【図１９】搬送ロボットの構成例を示す斜視図である。
【図２０】搬送ロボットの構成例を示す側面図である。
【図２１Ａ】搬送ロボットの胴構成例及びその動作を示す側面図である。
【図２１Ｂ】搬送ロボットの胴構成例及びその動作を示す側面図である。
【図２２】仮置台の平面構成を示す平面図である。
【図２３】仮置台の側面構成を示す側面図である。
【符号の説明】
【００５９】
１０ 基板保持機構
１１ 基板
１２ ローラー
１３ 基板搬入機構
１４ ローラー
１５ ガイドピン
１６ スライド板
１７ 長穴
１８ ネジ
１９ ガイド機構取付フレーム
２０ 基板ガイド機構
２１ ブラケット
２２ ブラケット
２３ フレーム
２５ 仮置きピン
３０ 処理槽
３１ ロール状ブラシ
３２ 洗浄ノズル
３３ 搬出入口
３４ シャッター開閉用シリンダ
３５ ローラー駆動機構
３６ チャック開閉用シリンダ
３７ ローラー回転用モーター
３８ ベルト
３９ スピンドル
４０ 搬送ボックス
４１ 装置フレーム
４２ 第１基板搬送ロボット
４３ 仮置台
４４ 第２基板搬送ロボット
４５ 基板洗浄・乾燥ユニット
４６ 基板洗浄ユニット
４７ めっき前処理ユニット
４８ めっき前処理及びめっきユニット
４９ めっき前処理液供給部
５０ めっき液供給部
５１ 胴部
５２ 回転駆動部
５３ ロボットアーム
５４ ハンド
５５ 排気ダクト
５６ ドライ用基板保持部
５７ ウエット用基板保持部
５８ 仕切り板
５９ 支持ピン
６０ ベース板
６１ 支持ピン
６２ 純水スプレーノズル
６３ シャッター
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を所定の保持位置に保持し、該基板の保持位置外周上に複数のローラーを備える基板保持機構であって、該複数のローラーは前記保持位置近傍にある前記基板をその外周を挟持して保持するようになっている、基板保持機構と；
該基板保持機構で保持された基板に所定の処理を施す処理機構と；
前記基板を前記保持位置近傍に案内するガイドピンを具備する基板ガイド機構とを備え；
前記ローラーは、大径部と該大径部の上部に小径部が一体に形成された構造であり、該大径部の上部に前記基板搬送の際に該基板を仮置きできる肩部を備え、該肩部には外周に向かって下がる勾配の傾斜面が形成されている；
基板処理ユニット。
【請求項２】
基板を所定の保持位置に保持し、該基板の保持位置外周上に複数のローラーを備える基板保持機構であって、該複数のローラーは前記保持位置近傍にある前記基板をその外周を挟持して保持するようになっている、基板保持機構と；
該基板保持機構で保持された基板に所定の処理を施す処理機構と；
前記基板を前記保持位置近傍に案内するガイドピンを具備し、前記基板の搬送の際に該基板を仮置きできる仮置き器具を有する基板ガイド機構とを備え；
前記ローラーは、大径部と該大径部の上部に小径部が一体に形成された構造であり、該大径部の上部に外周に向かって下がる勾配の傾斜面が形成されている肩部を備える；
基板処理ユニット。
【請求項３】
前記基板は円板状であり、前記基板ガイド機構のガイドピンは前記保持位置に保持された前記基板の外周に配置され、前記基板の保持・解放の際に該基板が動いても該基板を前記保持位置近傍に案内する機能を備えた；
請求項１又は請求項２に記載の基板処理ユニット。
【請求項４】
前記基板ガイド機構のガイドピンは、上部がテーパ状に形成され、前記基板の搬送に際して該基板の位置ずれを吸収できる機能を備えている；
請求項１ないし請求項３のいずれか１項に記載の基板処理ユニット。
【請求項５】
前記基板ガイド機構のガイドピンは、前記保持位置にある前記基板の処理の際、該基板と干渉しないよう該基板の外周から離れた位置に配置されている；
請求項１ないし請求項４のいずれか１項に記載の基板処理ユニット。
【請求項６】
前記ローラーは回転機構により回転できるようになっており、該ローラーの回転により前記基板が回転するように構成されている；
請求項１ないし請求項５のいずれか１項に記載の基板処理ユニット。
【請求項７】
基板搬入機構により搬入された基板を所定の保持位置に保持し、所定の処理の終了後、該基板を搬出する基板搬送方法において、
搬入された前記基板を、前記基板搬入機構の下降によりガイドピンで前記保持位置近傍に案内する工程と；
前記基板を仮置部に載置し、前記基板搬入機構から離間させる工程と；
前記基板搬入機構から離間させた基板を前記保持位置に複数個のローラーで前記基板の外周を挟持して保持する工程と；
前記保持された基板に所定の処理を行う工程と；
前記所定の処理を行った基板の保持を解放することにより、該基板を前記仮置部に載置する工程と；
前記仮置部に載置された基板を搬出する工程とを備え；
前記ローラーは大径部の上に小径部が一体に形成され、且つ該大径部の上部は肩部が形成された構成であり、該肩部には外周に向かって下がる勾配の傾斜面が形成され、該肩部に載置された前記基板は複数のローラーの該基板側の移動により挟持保持され、その反対の移動により離間し前記肩部に載置される；
基板搬送方法。
【請求項８】
基板を所定の保持位置に保持する複数のローラーであって、大径部と該大径部の上部に小径部が一体に形成された構造であり、該大径部の上部に前記基板を搬送する際に該基板を仮置きできる肩部を備え、該肩部には外周に向かって下がる勾配の傾斜面が形成され、前記保持位置近傍にある前記基板をその外周を挟持して保持する複数のローラーと；
前記基板を前記保持位置近傍に案内するガイドピンと；
前記ローラーに保持された前記基板に洗浄液を供給する洗浄ノズルと；
前記ローラーに保持された前記基板の表面に当接するブラシを備える；
基板洗浄処理ユニット。
【請求項９】
基板にめっき前処理およびめっき処理を行うめっき前処理及びめっきユニットと；
前記めっき前処理及びめっきユニットで、めっき前処理及びめっき処理を行われた基板を洗浄する、請求項８に記載の基板洗浄処理ユニットと；
前記めっき前処理及びめっき処理を行われた基板を、前記めっき前処理及びめっきユニットから前記基板洗浄処理ユニットに搬送し、また、前記基板洗浄処理ユニットから前記基板を搬出する基板搬送ロボットとを備える；
基板めっき装置。
【請求項１】
基板を所定の保持位置に保持し、該基板の保持位置外周上に複数のローラーを備える基板保持機構であって、該複数のローラーは前記保持位置近傍にある前記基板をその外周を挟持して保持するようになっている、基板保持機構と；
該基板保持機構で保持された基板に所定の処理を施す処理機構と；
前記基板を前記保持位置近傍に案内するガイドピンを具備する基板ガイド機構とを備え；
前記ローラーは、大径部と該大径部の上部に小径部が一体に形成された構造であり、該大径部の上部に前記基板搬送の際に該基板を仮置きできる肩部を備え、該肩部には外周に向かって下がる勾配の傾斜面が形成されている；
基板処理ユニット。
【請求項２】
基板を所定の保持位置に保持し、該基板の保持位置外周上に複数のローラーを備える基板保持機構であって、該複数のローラーは前記保持位置近傍にある前記基板をその外周を挟持して保持するようになっている、基板保持機構と；
該基板保持機構で保持された基板に所定の処理を施す処理機構と；
前記基板を前記保持位置近傍に案内するガイドピンを具備し、前記基板の搬送の際に該基板を仮置きできる仮置き器具を有する基板ガイド機構とを備え；
前記ローラーは、大径部と該大径部の上部に小径部が一体に形成された構造であり、該大径部の上部に外周に向かって下がる勾配の傾斜面が形成されている肩部を備える；
基板処理ユニット。
【請求項３】
前記基板は円板状であり、前記基板ガイド機構のガイドピンは前記保持位置に保持された前記基板の外周に配置され、前記基板の保持・解放の際に該基板が動いても該基板を前記保持位置近傍に案内する機能を備えた；
請求項１又は請求項２に記載の基板処理ユニット。
【請求項４】
前記基板ガイド機構のガイドピンは、上部がテーパ状に形成され、前記基板の搬送に際して該基板の位置ずれを吸収できる機能を備えている；
請求項１ないし請求項３のいずれか１項に記載の基板処理ユニット。
【請求項５】
前記基板ガイド機構のガイドピンは、前記保持位置にある前記基板の処理の際、該基板と干渉しないよう該基板の外周から離れた位置に配置されている；
請求項１ないし請求項４のいずれか１項に記載の基板処理ユニット。
【請求項６】
前記ローラーは回転機構により回転できるようになっており、該ローラーの回転により前記基板が回転するように構成されている；
請求項１ないし請求項５のいずれか１項に記載の基板処理ユニット。
【請求項７】
基板搬入機構により搬入された基板を所定の保持位置に保持し、所定の処理の終了後、該基板を搬出する基板搬送方法において、
搬入された前記基板を、前記基板搬入機構の下降によりガイドピンで前記保持位置近傍に案内する工程と；
前記基板を仮置部に載置し、前記基板搬入機構から離間させる工程と；
前記基板搬入機構から離間させた基板を前記保持位置に複数個のローラーで前記基板の外周を挟持して保持する工程と；
前記保持された基板に所定の処理を行う工程と；
前記所定の処理を行った基板の保持を解放することにより、該基板を前記仮置部に載置する工程と；
前記仮置部に載置された基板を搬出する工程とを備え；
前記ローラーは大径部の上に小径部が一体に形成され、且つ該大径部の上部は肩部が形成された構成であり、該肩部には外周に向かって下がる勾配の傾斜面が形成され、該肩部に載置された前記基板は複数のローラーの該基板側の移動により挟持保持され、その反対の移動により離間し前記肩部に載置される；
基板搬送方法。
【請求項８】
基板を所定の保持位置に保持する複数のローラーであって、大径部と該大径部の上部に小径部が一体に形成された構造であり、該大径部の上部に前記基板を搬送する際に該基板を仮置きできる肩部を備え、該肩部には外周に向かって下がる勾配の傾斜面が形成され、前記保持位置近傍にある前記基板をその外周を挟持して保持する複数のローラーと；
前記基板を前記保持位置近傍に案内するガイドピンと；
前記ローラーに保持された前記基板に洗浄液を供給する洗浄ノズルと；
前記ローラーに保持された前記基板の表面に当接するブラシを備える；
基板洗浄処理ユニット。
【請求項９】
基板にめっき前処理およびめっき処理を行うめっき前処理及びめっきユニットと；
前記めっき前処理及びめっきユニットで、めっき前処理及びめっき処理を行われた基板を洗浄する、請求項８に記載の基板洗浄処理ユニットと；
前記めっき前処理及びめっき処理を行われた基板を、前記めっき前処理及びめっきユニットから前記基板洗浄処理ユニットに搬送し、また、前記基板洗浄処理ユニットから前記基板を搬出する基板搬送ロボットとを備える；
基板めっき装置。
【図１Ａ】
【図１Ｂ】
【図１Ｃ】
【図１Ｄ】
【図１Ｅ】
【図２】
【図３Ａ】
【図３Ｂ】
【図４】
【図５】
【図６Ａ】
【図６Ｂ】
【図６Ｃ】
【図７】
【図８】
【図９Ａ】
【図９Ｂ】
【図９Ｃ】
【図９Ｄ】
【図１０Ａ】
【図１０Ｂ】
【図１１Ａ】
【図１１Ｂ】
【図１１Ｃ】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２１Ａ】
【図２１Ｂ】
【図２２】
【図２３】
【図１Ｂ】
【図１Ｃ】
【図１Ｄ】
【図１Ｅ】
【図２】
【図３Ａ】
【図３Ｂ】
【図４】
【図５】
【図６Ａ】
【図６Ｂ】
【図６Ｃ】
【図７】
【図８】
【図９Ａ】
【図９Ｂ】
【図９Ｃ】
【図９Ｄ】
【図１０Ａ】
【図１０Ｂ】
【図１１Ａ】
【図１１Ｂ】
【図１１Ｃ】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２１Ａ】
【図２１Ｂ】
【図２２】
【図２３】
【公表番号】特表２００９−５０６５１６（Ｐ２００９−５０６５１６Ａ）
【公表日】平成２１年２月１２日（２００９．２．１２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−５０１５０３（Ｐ２００８−５０１５０３）
【出願日】平成１８年８月２５日（２００６．８．２５）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＪＰ２００６／３１７２８４
【国際公開番号】ＷＯ２００７／０２６８５２
【国際公開日】平成１９年３月８日（２００７．３．８）
【出願人】（００００００２３９）株式会社荏原製作所 (1,477)
【Ｆターム（参考）】
【公表日】平成２１年２月１２日（２００９．２．１２）
【国際特許分類】
【出願日】平成１８年８月２５日（２００６．８．２５）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＪＰ２００６／３１７２８４
【国際公開番号】ＷＯ２００７／０２６８５２
【国際公開日】平成１９年３月８日（２００７．３．８）
【出願人】（００００００２３９）株式会社荏原製作所 (1,477)
【Ｆターム（参考）】
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