基板処理装置および基板処理方法
【課題】 基板の表裏両面を均一に処理することが可能な基板処理装置および基板処理方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 処理槽１１にエッチング液を貯留するエッチング液供給工程と、ガラス基板１００を搬送ローラ２１により搬送してエッチング液が貯留された処理槽１１内に進入させる基板搬入工程と、ガラス基板１００の下面からエッチング液を吐出することによりガラス基板１００を搬送ローラ２１より上方で、かつ、処理槽１１に貯留されたエッチング液の液面より下方の位置まで浮上させるエッチング液吐出工程と、エッチング液の吐出を停止してガラス基板１００を搬送ローラ２１と当接する位置まで下降させる基板下降工程と、処理槽２１に貯留されたエッチング液を排出するエッチング液排出工程と、ガラス基板１００を搬送ローラ２１により搬送して処理槽１１より退出させる基板搬出工程とを備える。
【解決手段】 処理槽１１にエッチング液を貯留するエッチング液供給工程と、ガラス基板１００を搬送ローラ２１により搬送してエッチング液が貯留された処理槽１１内に進入させる基板搬入工程と、ガラス基板１００の下面からエッチング液を吐出することによりガラス基板１００を搬送ローラ２１より上方で、かつ、処理槽１１に貯留されたエッチング液の液面より下方の位置まで浮上させるエッチング液吐出工程と、エッチング液の吐出を停止してガラス基板１００を搬送ローラ２１と当接する位置まで下降させる基板下降工程と、処理槽２１に貯留されたエッチング液を排出するエッチング液排出工程と、ガラス基板１００を搬送ローラ２１により搬送して処理槽１１より退出させる基板搬出工程とを備える。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、ＬＣＤ（液晶表示装置）やＰＤＰ（プラズマディスプレイ）等のＦＰＤ（フラットパネルディスプレイ）用ガラス基板、有機ＥＬ用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、太陽電池パネル用基板、光ディスク用基板、あるいは、プリント基板等の角形の基板を、処理液により処理する基板処理装置および基板処理方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、基板をエッチング液で処理する基板処理装置においては、基板の下面を搬送ローラにより支持して水平方向に搬送しながら、基板の表面に対してエッチング液を供給して、基板をエッチング処理する構成となっている。
【０００３】
なお、特許文献１には、オーバーフローにより上昇流を生じている洗浄液中に、ウエハを傾斜状態で浸漬するとともに、ウエハの横方向からメガソニック振動を洗浄液に付与する基板洗浄装置が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平７−２１１６８４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上述した搬送ローラにより基板の下面を支持して搬送する従来の基板処理装置においては、基板に供給されたエッチング液が基板の裏面側に回り込み、搬送ローラの表面と基板の裏面との間に浸入する場合がある。このような場合においては、搬送ローラの回転による基板の移動に伴って搬送ローラの表面と基板の裏面との間に浸入したエッチング液も移動し、このエッチング液は基板の裏面側に筋状に残存することになる。
【０００６】
この基板の処理工程が、例えば、ガラス基板の表面に生成したシリコン酸化膜をフッ酸でエッチング処理するエッチング処理工程の場合においては、このように筋状に残存した処理液により基板の裏面側がエッチングされるという問題がある。このような現象が発生した場合においては、ガラス基板の裏面側にエッチングムラが生じ、基板の表裏両面を均一にエッチング処理することができない。このような問題は、搬送ローラにより基板を処理室内で一定時間だけ往復移動させて処理を行う場合において、特に、問題となる。
【０００７】
なお、上述した特許文献１に記載の基板洗浄装置は、洗浄槽と基板とのクロスコンタミネーションを防止するためのものではあるが、大型の基板を搬送して処理する場合に対応可能なものではない。
【０００８】
この発明は上記課題を解決するためになされたものであり、基板の表裏両面を均一に処理することが可能な基板処理装置および基板処理方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
請求項１に記載の発明は、角形の基板を処理液中に浸漬して処理する基板処理装置において、前記基板を処理する処理槽と、前記処理槽内に配設され、前記基板を水平方向に搬送する搬送ローラと、処理液を貯留した貯留タンクから前記処理槽内に処理液を供給する供給手段と、処理液を前記処理槽から前記貯留タンクに排出する排出手段とを備え、前記処理槽における処理液の液位を、前記搬送ローラにより搬送される基板の上面よりも上方の位置と、前記搬送ローラにより搬送される基板の下面より下方の位置との間で変更する液位調整機構と、前記基板が処理槽内に貯留された処理液中に配置された状態で、前記搬送ローラの下方から処理液を吐出することにより、前記基板を前記搬送ローラより上方の位置まで浮上させる処理液吐出手段とを備えたことを特徴とする。
【００１０】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の基板処理装置において、前記基板が前記処理槽内に貯留された処理液の液面まで浮上することを防止する浮上防止部材を備える。
【００１１】
請求項３に記載の発明は、請求項２に記載の発明において、前記浮上防止部材は、前記処理液吐出手段により前記基板が前記搬送ローラより上方の位置に浮上したときに、当該基板における前記搬送ローラによる基板の搬送方向を向く一対の端縁と当接可能な位置に配設され、前記基板の主面に対して傾斜する傾斜面を備える。
【００１２】
請求項４に記載の発明は、請求項３に記載の発明において、前記浮上防止部材は、外径が上方に向かうにつれて大きくなり、軸芯が鉛直方向を向く方向に配設された円錐台形状を有し、前記処理液吐出手段により前記搬送ローラより上方の位置に浮上した基板の端縁に当接可能な位置に配設される。
【００１３】
請求項５に記載の発明は、請求項１に記載の発明において、前記搬送ローラは、当該搬送ローラによる基板の搬送方向を向く一対の端縁にのみ当接する一対の当接部を備える。
【００１４】
請求項６に記載の発明は、請求項５に記載の発明において、前記当接部は、前記搬送ローラによる前記基板の搬送方向と直交し、かつ、水平方向を向く軸を中心に互いに同軸上に配設された、前記基板の中央部側が直径が小さく、前記基板の端縁部側が直径が大きい複数のコロ状部材から構成される。
【００１５】
請求項７に記載の発明は、請求項５に記載の発明において、前記当接部は、前記搬送ローラによる前記基板の搬送方向と直交し、かつ、水平方向を向く軸を中心に配設された、前記基板の中央部側が直径が小さく、前記基板の端縁部側が直径が大きい円錐台形状を有する。
【００１６】
請求項８に記載の発明は、請求項１に記載の発明において、前記基板における前記搬送ローラによる基板の搬送方向を向く一対の端縁間の距離と同一の距離だけ互いに離隔するとともに、鉛直方向を向く軸を中心に回転可能な複数のガイドローラを備える。
【００１７】
請求項９に記載の発明は、請求項８に記載の発明において、前記ガイドローラは、前記基板の搬送速度と同期して回転する。
【００１８】
請求項１０に記載の発明は、請求項９に記載の発明において、前記ガイドローラは、前記搬送ローラの上端より上方で、かつ、前記処理槽内に貯留される処理液の液面より下方の位置に、フランジ部を備える。
【００１９】
請求項１１に記載の発明は、請求項１に記載の発明において、前記基板における前記搬送ローラによる基板の搬送方向を向く一対の端縁間の距離よりも大きな距離だけ互いに離隔する位置に配設され、前記一対の端縁に当接可能なガイド部材を備えるとともに、前記搬送ローラによる基板の搬送方向と交差する方向に前記処理液を噴出することにより、前記処理液吐出手段により前記基板が前記搬送ローラより上方の位置に浮上したときに、当該基板を、一方の端縁が前記ガイド部材と当接する方向に移動させる処理液噴出部を備える。
【００２０】
請求項１２に記載の発明は、請求項１から請求項１１のいずれかに記載の発明において、前記処理液は、基板をエッチング処理するためのエッチング液である。
【００２１】
請求項１３に記載の発明は、角形の基板を処理液中に浸漬して処理する基板処理方法において、処理槽に処理液を供給して処理槽内に処理液を貯留する処理液供給工程と、基板を搬送ローラにより搬送して、前記処理液が貯留された処理槽内に進入させる基板搬入工程と、前記基板の下面から処理液を吐出することにより、前記基板を前記搬送ローラより上方で、かつ、前記処理槽に貯留された処理液の液面より下方の位置まで浮上させる処理液吐出工程と、処理液の吐出を停止して、前記基板を前記搬送ローラと当接する位置まで下降させる基板下降工程と、前記基板を前記搬送ローラにより搬送して、処理槽より退出させる基板搬出工程とを備えたことを特徴とする。
【００２２】
請求項１４に記載の発明は、請求項１３に記載の発明において、前記基板下降工程と前記基板搬出工程の間に、前記処理槽に貯留された処理液を排出する処理液排出工程を備える。
【発明の効果】
【００２３】
請求項１および請求項１３に記載の発明によれば、基板の裏面側に生ずる処理ムラを防止して、基板の表裏両面を均一に処理することが可能となる。
【００２４】
請求項２に記載の発明によれば、基板が処理液の液面まで浮上することを防止することができ、基板の表裏両面を均一に処理することが可能となる。
【００２５】
請求項３および請求項４に記載の発明によれば、基板の搬送方向を向く一対の端縁間の幅寸法にかかわらず、基板が処理液の液面まで浮上することを防止することができる。
【００２６】
請求項５に記載の発明によれば、基板の端縁以外の部分と搬送ローラとの接触を防止することにより、基板の裏面側に生ずる処理ムラを防止して、基板の表裏両面を均一に処理することが可能となる。
【００２７】
請求項６および請求項７に記載の発明によれば、基板の搬送方向を向く一対の端縁間の幅寸法が異なった場合においても、基板の端縁のみを支持して基板を搬送することが可能となる。
【００２８】
請求項８に記載の発明によれば、基板が浮上した場合においても基板の位置を一定に維持することが可能となる。
【００２９】
請求項９に記載の発明によれば、基板の端縁に損傷を与えることなく基板をガイドすることが可能となる。
【００３０】
請求項１０に記載の発明によれば、基板が処理液の液面まで浮上することを防止することができ、基板の表裏両面を均一に処理することが可能となる。
【００３１】
請求項１１に記載の発明によれば、基板が浮上した場合に、基板の搬送方向を向く一対の端縁間の幅寸法にかかわらず、基板の位置を一定に維持することが可能となる。
【００３２】
請求項１２に記載の発明によれば、基板の表裏両面を均一にエッチング処理することが可能となる。
【００３３】
請求項１４に記載の発明によれば、基板搬出工程における処理液の持ち出し量を低減することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００３４】
【図１】この発明に係る基板処理装置の側面概要図である。
【図２】この発明に係る基板処理装置の要部を示す正面概要図である。
【図３】浮上防止部材６１と搬送ローラ２１との配置関係を示す平面図である。
【図４】この発明に係る基板処理装置の主要な制御系を示すブロック図である
【図５】この発明に係る基板処理装置によるガラス基板１００のエッチング処理工程を示す説明図である。
【図６】この発明に係る基板処理装置によるガラス基板１００のエッチング処理工程を示すフローチャートである。
【図７】エッチング処理中の基板処理装置の要部を示す正面概要図である。
【図８】エッチング処理中の基板処理装置の要部を示す正面概要図である。
【図９】この発明の第２実施形態に係る基板処理装置の要部を示す正面概要図である。
【図１０】エッチング処理中の基板処理装置の要部を示す正面概要図である。
【図１１】エッチング処理中の基板処理装置の要部を示す正面概要図である。
【図１２】この発明の第３実施形態に係る基板処理装置の要部を示す正面概要図である。
【図１３】この発明の第４実施形態に係る基板処理装置の要部を示す正面概要図である。
【図１４】この発明の第４実施形態に係る基板処理装置の要部を示す正面概要図である。
【図１５】この発明の第４実施形態に係る基板処理装置の要部を示す正面概要図である。
【発明を実施するための形態】
【００３５】
以下、この発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。図１は、この発明に係る基板処理装置の側面概要図であり、図２は、その要部を示す正面概要図である。また、図３は、浮上防止部材６１と搬送ローラ２１との配置関係を示す平面図である。なお、図１においては、浮上防止部材６１等の図示を省略している。
【００３６】
この基板処理装置は、エッチング液によりガラス基板１００をエッチング処理するためのものであり、ガラス基板１００をその下面から支持して搬送する多数の搬送ローラ２１を備える。また、この基板処理装置は、ガラス基板１００を処理するための処理槽１１と、処理液の回収槽１２と、処理液を貯留する貯留槽１３とを備える。また、この基板処理装置は、搬送ローラ２１の下方からガラス基板１００に向けてエッチング液を吐出するエッチング液吐出手段としての多数のスプレーノズル２２を備える。
【００３７】
処理槽１１には、ガラス基板１００の搬入口４３と搬出口４４とが形成されるとともに、搬入口４３を開閉するシャッター１４と、搬出口４４を開閉するシャッター１５とが配設されている。また、この処理槽１１の下面には、エッチング液の供給管１６と、エッチング液の排出管１７が付設されている。供給管１６は、管路３１およびそこに配設されたポンプ２４を介して貯留槽１３と連結されている。また、排出管１７は、管路３３およびそこに配設された開閉弁２６を介して貯留槽１３と連結されている。さらに、各スプレーノズル２２は、管路３２およびそこに配設された流量可変ポンプ２５を介して貯留槽１３と連結されている。
【００３８】
この流量可変ポンプ２５は、例えば、インバータを含む流量調整回路を備え、各スプレーノズル２２から吐出するエッチング液の流量を調整することにより、ガラス基板１００を搬送ローラ２１より上方の位置まで浮上させるためのものである。なお、流量可変ポンプ２５を使用するかわりに通常のポンプを使用し、この通常のポンプと各スプレーノズル２２との間に流量調整弁を配設することにより、各スプレーノズル２２から吐出するエッチング液の流量を調整するようにしてもよい。
【００３９】
回収槽１２は、処理槽１１等から流下したエッチング液を回収するためのものである。この回収槽１２の下面には、エッチング液の回収管１８が付設されている。回収管１８は、管路３４およびそこに配設された開閉弁２７を介して貯留槽１３と連結されている。また、処理槽１１の搬出口４４と対向し、かつ、回収槽１２の上方となる位置には、ガラス基板１００に付着するエッチング液を除去するための一対のエアナイフ２３が配設されている。
【００４０】
図２に示すように、搬送ローラ２１は、ガラス基板１００の搬送方向を向く一対の端縁にのみ当接する一対の当接部５０と、これらの当接部５０を連結する連結軸５４とを備える。また、各当接部５０は、ガラス基板１００の搬送方向と直交し、かつ、水平方向を向く軸を中心に互いに同軸上に配設された３個の円盤形状をなすコロ状部材５１、５２、５３から構成されている。これらのコロ状部材５１、５２、５３は、その直径がガラス基板１００の中央部側に配置されるものほど小さく端縁部側に配置されるものほど大きくなっている。なお、図２においては、理解の便宜上コロ状部材５１、５２、５３の外径を実際より大きく図示している。
【００４１】
図２および図３に示すように、処理槽１１内に貯留されたエッチング液の液面中における複数の搬送ローラ２１の間の位置には、ガラス基板１００を搬送ローラ２１より上方に浮上させて処理するときに、このガラス基板１００が処理槽１１内に貯留されたエッチング液の液面まで浮上することを防止する浮上防止部材６１が配設されている。この浮上防止部材６１は、外径が上方に向かうにつれて大きくなり、軸芯が鉛直方向を向く方向に配設された円錐台形状を有する。この浮上防止部材６１は、鉛直方向を向く支軸６２に対して回転可能に支持されている。この浮上防止部材６１は、後述するように、各スプレーノズル２２から吐出されるエッチング液の作用によって搬送ローラ２１より上方に移動したガラス基板１００の両方の端縁に当接可能な位置に、一定ピッチで複数個配置されている。この円錐台形状を有する浮上防止部材６１における錐体面(側面)は、ガラス基板１００の主面に対して傾斜する傾斜面となっている。
【００４２】
図４は、この発明に係る基板処理装置の主要な制御系を示すブロック図である。
【００４３】
この基板処理装置は、装置の制御に必要な動作プログラムが格納されたＲＯＭ８１と、制御時にデータ等が一時的にストアされるＲＡＭ８２と、論理演算を実行するＣＰＵ８３とから構成され、装置全体を制御する制御部８０を備える。この制御部８０は、インターフェース８４を介して、図１に示す流量可変ポンプ２５、ポンプ２４、開閉弁２６、２７と接続されている。また、この制御部８０は、インターフェース８４を介して、搬送ローラ２１を回転駆動するためのモータ２８とも接続されている。
【００４４】
なお、ポンプ２４と、開閉弁２６と、制御部８０とは、処理槽１１におけるエッチング液の液位を、搬送ローラ２１により搬送されるガラス基板１００の上面よりも上方の位置と、搬送ローラ２１により搬送されるガラス基板１００の下面より下方の位置との間で変更するこの発明に係る液位調整機構として機能する。また、流量可変ポンプ２５と、制御部８０とは、ガラス基板１００が処理槽１１内に貯留された処理液中に配置された状態で、搬送ローラ２１の下方からエッチング液を吐出することにより、ガラス基板１００を搬送ローラ２１より上方の位置まで浮上させるこの発明に係る処理液吐出手段として機能する。
【００４５】
次に、上述した基板処理装置によるガラス基板１００の処理工程について説明する。図５は、この発明に係る基板処理装置によるガラス基板１００のエッチング処理工程を示す説明図である。また、図６は、この発明に係る基板処理装置によるガラス基板１００のエッチング処理工程を示すフローチャートである。さらに、図７および図８は、エッチング処理中の基板処理装置の要部を示す正面概要図である。なお、図７は、搬送方向を向く一対の端縁間の距離（幅寸法）が小さいガラス基板１００を処理する場合を示し、図８は、搬送方向を向く一対の端縁間の距離（幅寸法）が大きいガラス基板１００を処理する場合を示している。
【００４６】
この基板処理装置によりガラス基板１００をエッチング処理するときには、最初に、貯留槽１３から処理槽１１にエッチング液を供給して、処理槽１１内にエッチング液を貯留する（ステップＳ１）。このときには、開閉弁２６を閉止するとともに、ポンプ２４の作用により、貯留槽１３内のエッチング液を管路３１を介して処理槽１１に送液することにより、エッチング液の液位が搬送ローラ２１の上面より上方となるようにする。このエッチング液供給工程においては、搬入口４３はシャッター１４により閉じられており、搬出口４４はシャッター１５により閉じられている。
【００４７】
この状態で、図１および図５（ａ）に示すように、搬送ローラ２１によりガラス基板１００を搬送して、このガラス基板１００を処理槽１１に搬入する（ステップＳ２）。このときにはガラス基板１００は、搬送ローラ２１における当接部５０により支持されて搬送される。この当接部５０は、ガラス基板１００の搬送方向を向く一対の端縁にのみ当接する状態で、ガラス基板１００の搬送速度に応じて回転する。
【００４８】
すなわち、搬送方向を向く一対の端縁間の距離（幅寸法）が小さいガラス基板１００を処理する場合においては、図７において仮想線で示すように、ガラス基板１００は、搬送方向を向く一対の端縁を、コロ状部材５３により支持され、コロ状部材５２により案内される状態で搬送される。また、搬送方向を向く一対の端縁間の距離（幅寸法）が大きいガラス基板１００を処理する場合においては、図８において仮想線で示すように、ガラス基板１００は、搬送方向を向く一対の端縁を、コロ状部材５２により支持され、コロ状部材５１により案内される状態で搬送される。
【００４９】
この基板搬入工程においては、搬入口４３のシャッター１４を開放する。このため、処理槽１１内のエッチング液は搬入口４３から回収槽１２に流下し、管路３４を介して貯留槽１３に回収される。この場合においても、ポンプ２４によるエッチング液の供給量を一定以上に維持することにより、処理槽１１におけるエッチング液の液位を一定に維持することができる。
【００５０】
ガラス基板１００が完全に処理槽１１内に収納されれば、搬入口４３をシャッター１４により閉じる。そして、流量可変ポンプ２５の作用によりスプレーノズル２２からエッチング液を吐出することにより、図５（ｂ）に示すように、ガラス基板１００を搬送ローラ２１より上方で、かつ、処理槽１１に貯留されたエッチング液の液面より下方の位置まで浮上させる（ステップＳ３）。この状態を一定時間維持することにより、ガラス基板１００に対するエッチング処理を実行する。この場合には、ガラス基板１００の裏面が搬送ローラ２１から離間していることから、ガラス基板１００の裏面側に生ずるムラを防止して、ガラス基板１００を均一に処理することが可能となる。
【００５１】
このエッチング処理時には、流量可変ポンプ２５の作用によりスプレーノズル２２から吐出するエッチング液の流量を制御することにより、ガラス基板１００を搬送ローラ２１より上方の位置まで浮上させる。このエッチング処理時に、ガラス基板１００が搬送ローラ２１の上方に大きく浮上した場合には、図７および図８において実線で示すように、このガラス基板１００の両端縁は、円錐台形状を有する浮上防止部材６１における錐体面(側面)と当接する。このため、ガラス基板１００が処理槽１１内に貯留されたエッチング液の液面まで浮上することを有効に防止することが可能となる。
【００５２】
この場合において、浮上防止部材６１が、外径が上方に向かうにつれて大きくなり、軸芯が鉛直方向を向く方向に配設された円錐台形状を有することから、図７および図８に示すように、ガラス基板１００における搬送方向を向く一対の端縁間の距離（幅寸法）にかかわらず、このガラス基板１００の浮上を有効に防止することが可能となる。
【００５３】
ガラス基板１００が十分にエッチング処理されれば、スプレーノズル２２からのエッチング液の吐出を停止して、図５（ｃ）に示すように、ガラス基板１００を搬送ローラ２１と当接する位置まで下降させる（ステップＳ４）。この下降工程により、ガラス基板１００は、搬送ローラ２１により支持されることになる。
【００５４】
次に、処理槽１１に貯留されたエッチング液を排出する（ステップＳ５）。このエッチング液排出工程においては、ポンプ２４を停止するとともに、開閉弁２６を開放することにより、処理槽１１内のエッチング液を、管路３３を介して貯留槽１３に回収する。このエッチング液排出工程においては、搬入口４３のシャッター１４を開放するとともに、搬出口４４のシャッター１５を開放して、処理槽１１内のエッチング液をこれらの搬入口４３および搬出口４４からも排出する。搬入口４３および搬出口４４から排出されたエッチング液は、回収槽１２により受け取られ、管路３４および開閉弁２７を介して、貯留槽１３に回収される。
【００５５】
処理槽１１内のエッチング液の排出が完了すれば、図５（ｄ）に示すように、ガラス基板１００を搬送ローラ２１により搬送して、処理槽１１より退出させる（ステップＳ６）。このときにも、搬送方向を向く一対の端縁間の距離（幅寸法）が小さいガラス基板１００を処理する場合においては、図７において仮想線で示すように、ガラス基板１００は、搬送方向を向く一対の端縁を、コロ状部材５３により支持され、コロ状部材５２により案内される状態で搬送される。また、搬送方向を向く一対の端縁間の距離（幅寸法）が大きいガラス基板１００を処理する場合においては、図８において仮想線で示すように、ガラス基板１００は、搬送方向を向く一対の端縁を、コロ状部材５２により支持され、コロ状部材５１により案内される状態で搬送される。
【００５６】
そして、処理槽１１における搬出口４４を通過したガラス基板１００の両面には、エアナイフ２３から圧縮空気が噴出される。これにより、ガラス基板１００の両面に付着したエッチング液が除去され、回収槽１２に滴下する。この基板搬出工程においては、処理槽１１中に処理液が貯留されていないこと、また、ガラス基板１００に付着したエッチング液が一対のエアナイフ２３により除去されることから、後段の処理工程へのエッチング液の持ち出し量を低減することが可能となる。
【００５７】
次に、この発明の他の実施形態について説明する。図９は、この発明の第２実施形態に係る基板処理装置の要部を示す正面概要図である。また、図１０および図１１は、エッチング処理中の基板処理装置の要部を示す正面概要図である。なお、図１０は、搬送方向を向く一対の端縁間の距離（幅寸法）が小さいガラス基板１００を処理する場合を示し、図１１は、搬送方向を向く一対の端縁間の距離（幅寸法）が小さいガラス基板１００を処理する場合を示している。
【００５８】
この第２実施形態に係る搬送ローラ２１は、一対の当接部５５と連結軸５４とから構成される。すなわち、上述した第１実施形態においては、搬送ローラ２１における当接部５０として、図２、図７および図８に示すように、互いに同軸上に配設された３個の円盤形状をなすコロ状部材５１、５２、５３から構成されるものを採用している。これに対して、この第２実施形態においては、図９から図１１に示すように、当接部５５として、ガラス基板１００の搬送方向と直交し、かつ、水平方向を向く連結軸５４の両端に配設された、ガラス基板１００の中央部側が直径が小さく、ガラス基板１００の端縁部側が直径が大きい円錐台形状を有するものを採用している。なお、図９から図１１においても、理解の便宜上当接部５５の外径を実際より大きく図示している。
【００５９】
この第２実施形態に係る搬送ローラ２１を使用した場合においては、図１０および図１１において仮想線で示すように、ガラス基板１００における搬送方向を向く一対の端縁間の距離（幅寸法）の変動にかかわらず、ガラス基板１００を所定の位置に維持（ガラス基板１００における搬送方向を向く一対の端縁間の中心位置を一定に維持）して搬送することが可能となる。
【００６０】
次に、この発明のさらに他の実施形態について説明する。図１２は、この発明の第３実施形態に係る基板処理装置の要部を示す正面概要図である。
【００６１】
図１２に示すように、搬送ローラ２１により搬送されるガラス基板１００の搬送方向に直交する方向における両端部には、鉛直方向を向く軸を中心に回転可能なガイドローラ６３が配設されている。このガイドローラ６３は、ガラス基板１００の端縁に添って、対をなす状態で複数個列設されている。また、このガイドローラ６３は、図示しないモータの駆動により、搬送ローラ２１により搬送されるガラス基板１００の搬送速度と同期して回転する。このガイドローラ６３は、上述したエッチング液吐出工程において、ガラス基板１００が搬送ローラ２１の上方の位置まで浮上したときに、このガラス基板１００の搬送方向と直交する方向の両端部をガイドするガイド部材として機能する。
【００６２】
このガイドローラ６３間の距離は、ガラス基板１００における搬送方向を向く一対の端縁間の距離（幅寸法）と一致している。すなわち、この実施形態においては、ガラス基板１００における搬送方向を向く一対の端縁間の距離（幅寸法）が同一である定型サイズのガラス基板１００を処理することが前提となる。
【００６３】
このガイドローラ６３における搬送ローラ２１の上端より上方で、かつ、処理槽１１内に貯留されるエッチング液の液面より下方の位置には、フランジ部６４が配設されている。このフランジ部６４は、ガラス基板１００が処理槽１１内に貯留されたエッチング液の液面まで浮上することを防止するための浮上防止部材として機能する。
【００６４】
次に、この発明のさらに他の実施形態について説明する。図１３から図１５は、この発明の第４実施形態に係る基板処理装置の要部を示す正面概要図である。
【００６５】
この第４実施形態に係る基板処理装置においては、搬送ローラ２１は、複数のコロ状部材５７と、これらのコロ状部材５７を連結する連結軸５４とから構成される。また、この第４実施形態に係る基板処理装置は、ガラス基板１００における搬送ローラ２１によるガラス基板１００の搬送方向を向く一対の端縁間の距離（幅寸法）よりも大きな距離だけ互いに離隔する位置に配設され、ガラス基板１００の端縁に当接可能なガイドローラ６５を備える。このガイドローラ６５は、鉛直方向を向く軸６６を中心に回転可能に配設されている。そして、これらのガイドローラ６５の間には、第１、第２実施形態と同様の、浮上防止部材６１が配設されている。
【００６６】
また、この第４実施形態に係る基板処理装置は、搬送ローラ２１によるガラス基板１００の搬送方向と交差する方向にエッチング液を噴出することにより、ガラス基板１００が搬送ローラ２１より上方の位置に浮上したときに、このガラス基板１００を、その一方の端縁がガイドローラ６５に当接する方向に移動させる複数のスプレーノズル７１を備える。また、処理槽１１におけるスプレーノズル７１と対向する位置には、そこに形成された開口部を開閉するシャッター７２が配設されている。
【００６７】
このスプレーノズル７１には、図１に示す貯留槽１３からエッチング液が供給される。また、シャッター７２を開放した場合には、処理槽１１内のエッチング液は、図１に示す回収槽１２に流下した後、貯留槽１３に送液される。なお、スプレーノズル７１からシャッター７２方向に向かうエッチング液の流れの方向は、図１に示す搬入口４３から搬出口４４に向かうガラス基板１００の搬送方向と直交する方向となっている。
【００６８】
この第４実施形態に係る基板処理装置においてエッチング処理を実行する場合においては、第１実施形態の場合と同様、図５（ａ）に示すように、ガラス基板１００は、搬送ローラ２１により搬送されて処理槽１１に搬入される。詳しくは、図１３に示すように、ガラス基板１００は、搬送ローラ２１におけるコロ状部材５７により支持されて搬送される。搬送中はガラス基板１００の一端縁がガイドローラ６５と当接しており、したがって、ガラス基板１００は、このガイドローラ６５により案内される状態で搬送される。
【００６９】
ガラス基板１００が完全に処理槽１１内に収納されれば、第１実施形態の場合と同様、搬入口４３をシャッター１４により閉じる。そして、流量可変ポンプ２５の作用によりスプレーノズル２２からエッチング液を吐出することにより、図５（ｂ）に示すように、ガラス基板１００を搬送ローラ２１より上方で、かつ、処理槽１１に貯留されたエッチング液の液面より下方の位置まで浮上させる。この場合には、図１４に示すように、ガラス基板１００は互いに対をなすガイドローラ６５の間の位置で浮遊する。この状態を一定時間維持することにより、ガラス基板１００に対するエッチング処理を実行する。
【００７０】
ガラス基板１００が十分にエッチング処理されれば、スプレーノズル２２からのエッチング液の吐出を停止して、図５（ｃ）に示すように、ガラス基板１００を搬送ローラ２１と当接する位置まで下降させる。この場合には、図１５に示すように、シャッター７２を開放するとともに、スプレーノズル７１からエッチング液を噴出する。これにより、ガラス基板１００がシャッター７２の方向に移動し、ガラス基板１００が搬送ローラ２１に支持されるときには、図１５において実線で示すように、ガラス基板１００の一端縁がガイドローラ６５と当接する。
【００７１】
この状態において、第１実施形態と同様、ポンプ２４を停止するとともに、開閉弁２６を開放することにより、処理槽１１内のエッチング液を、管路３３を介して貯留槽１３に回収する。このときにも、スプレーノズル７１からのエッチング液の噴出は継続してもよい。しかる後、ガラス基板１００を搬送ローラ２１により支持して搬送する。この場合にも、図１３に示す場合と同様、ガラス基板１００の一端縁がガイドローラ６５と当接しており、ガラス基板１００は、このガイドローラ６５により案内される状態で搬送される。
【００７２】
以上のように、この第４実施形態に係る基板処理装置においては、ガラス基板１００における搬送方向を向く一対の端縁間の距離（幅寸法）の変動にかかわらず、ガラス基板１００を所定の位置に維持（ガラス基板１００における一方の端縁の位置を一定に維持）して搬送することが可能となる。
【００７３】
なお、上述した第１、第２、第４実施形態においては、ガラス基板１００が処理槽１１内に貯留されたエッチング液の液面まで浮上することを防止するために、外径が上方に向かうにつれて大きくなり、軸芯が鉛直方向を向く方向に配設された円錐台形状を有する複数の浮上防止部材６１を使用している。しかしながら、ガラス基板１００が搬送ローラ２１より上方の位置に浮上したときに、ガラス基板１００における搬送方向を向く一対の端縁と当接可能な位置に配設され、ガラス基板１００の主面に対して傾斜する傾斜面を備えるものであれば、その他の形状の浮上防止部材を使用することができる。このような浮上防止部材として、ガラス基板１００の主面に対して傾斜する傾斜面を備え、ガラス基板１００の搬送方向を向く長尺の部材を使用してもよい。
【００７４】
また、上述した実施形態においては、ガラス基板１００に対してエッチング処理を行う基板処理装置および基板処理方法にこの発明を適用しているが、エッチング以外の洗浄、現像、剥離等の各種の処理を行う基板処理装置および基板処理方法にこの発明を適用することも可能であり、さらに、他の種類の基板、例えばプリント基板に対して、これら各種の処理を行う基板処理装置および基板処理方法にこの発明を適用することも可能である。
【符号の説明】
【００７５】
１１ 処理槽
１２ 回収槽
１３ 貯留槽
１４ シャッター
１５ シャッター
１６ 供給管
１７ 排出管
１８ 回収管
２１ 搬送ローラ
２２ スプレーノズル
２３ エアナイフ
２４ ポンプ
２５ 流量可変ポンプ
２６ 開閉弁
２７ 開閉弁
２８ モータ
３１ 管路
３２ 管路
３３ 管路
４３ 搬入口
４４ 搬出口
５０ 当接部
５１ コロ状部材
５２ コロ状部材
５３ コロ状部材
５４ 連結軸
５５ 当接部
５７ コロ状部材
６１ 浮上防止部材
６３ ガイドローラ
６４ フランジ部
６５ ガイドローラ
７１ スプレーノズル
７２ シャッター
８０ 制御部
１００ ガラス基板
【技術分野】
【０００１】
この発明は、ＬＣＤ（液晶表示装置）やＰＤＰ（プラズマディスプレイ）等のＦＰＤ（フラットパネルディスプレイ）用ガラス基板、有機ＥＬ用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、太陽電池パネル用基板、光ディスク用基板、あるいは、プリント基板等の角形の基板を、処理液により処理する基板処理装置および基板処理方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、基板をエッチング液で処理する基板処理装置においては、基板の下面を搬送ローラにより支持して水平方向に搬送しながら、基板の表面に対してエッチング液を供給して、基板をエッチング処理する構成となっている。
【０００３】
なお、特許文献１には、オーバーフローにより上昇流を生じている洗浄液中に、ウエハを傾斜状態で浸漬するとともに、ウエハの横方向からメガソニック振動を洗浄液に付与する基板洗浄装置が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平７−２１１６８４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上述した搬送ローラにより基板の下面を支持して搬送する従来の基板処理装置においては、基板に供給されたエッチング液が基板の裏面側に回り込み、搬送ローラの表面と基板の裏面との間に浸入する場合がある。このような場合においては、搬送ローラの回転による基板の移動に伴って搬送ローラの表面と基板の裏面との間に浸入したエッチング液も移動し、このエッチング液は基板の裏面側に筋状に残存することになる。
【０００６】
この基板の処理工程が、例えば、ガラス基板の表面に生成したシリコン酸化膜をフッ酸でエッチング処理するエッチング処理工程の場合においては、このように筋状に残存した処理液により基板の裏面側がエッチングされるという問題がある。このような現象が発生した場合においては、ガラス基板の裏面側にエッチングムラが生じ、基板の表裏両面を均一にエッチング処理することができない。このような問題は、搬送ローラにより基板を処理室内で一定時間だけ往復移動させて処理を行う場合において、特に、問題となる。
【０００７】
なお、上述した特許文献１に記載の基板洗浄装置は、洗浄槽と基板とのクロスコンタミネーションを防止するためのものではあるが、大型の基板を搬送して処理する場合に対応可能なものではない。
【０００８】
この発明は上記課題を解決するためになされたものであり、基板の表裏両面を均一に処理することが可能な基板処理装置および基板処理方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
請求項１に記載の発明は、角形の基板を処理液中に浸漬して処理する基板処理装置において、前記基板を処理する処理槽と、前記処理槽内に配設され、前記基板を水平方向に搬送する搬送ローラと、処理液を貯留した貯留タンクから前記処理槽内に処理液を供給する供給手段と、処理液を前記処理槽から前記貯留タンクに排出する排出手段とを備え、前記処理槽における処理液の液位を、前記搬送ローラにより搬送される基板の上面よりも上方の位置と、前記搬送ローラにより搬送される基板の下面より下方の位置との間で変更する液位調整機構と、前記基板が処理槽内に貯留された処理液中に配置された状態で、前記搬送ローラの下方から処理液を吐出することにより、前記基板を前記搬送ローラより上方の位置まで浮上させる処理液吐出手段とを備えたことを特徴とする。
【００１０】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の基板処理装置において、前記基板が前記処理槽内に貯留された処理液の液面まで浮上することを防止する浮上防止部材を備える。
【００１１】
請求項３に記載の発明は、請求項２に記載の発明において、前記浮上防止部材は、前記処理液吐出手段により前記基板が前記搬送ローラより上方の位置に浮上したときに、当該基板における前記搬送ローラによる基板の搬送方向を向く一対の端縁と当接可能な位置に配設され、前記基板の主面に対して傾斜する傾斜面を備える。
【００１２】
請求項４に記載の発明は、請求項３に記載の発明において、前記浮上防止部材は、外径が上方に向かうにつれて大きくなり、軸芯が鉛直方向を向く方向に配設された円錐台形状を有し、前記処理液吐出手段により前記搬送ローラより上方の位置に浮上した基板の端縁に当接可能な位置に配設される。
【００１３】
請求項５に記載の発明は、請求項１に記載の発明において、前記搬送ローラは、当該搬送ローラによる基板の搬送方向を向く一対の端縁にのみ当接する一対の当接部を備える。
【００１４】
請求項６に記載の発明は、請求項５に記載の発明において、前記当接部は、前記搬送ローラによる前記基板の搬送方向と直交し、かつ、水平方向を向く軸を中心に互いに同軸上に配設された、前記基板の中央部側が直径が小さく、前記基板の端縁部側が直径が大きい複数のコロ状部材から構成される。
【００１５】
請求項７に記載の発明は、請求項５に記載の発明において、前記当接部は、前記搬送ローラによる前記基板の搬送方向と直交し、かつ、水平方向を向く軸を中心に配設された、前記基板の中央部側が直径が小さく、前記基板の端縁部側が直径が大きい円錐台形状を有する。
【００１６】
請求項８に記載の発明は、請求項１に記載の発明において、前記基板における前記搬送ローラによる基板の搬送方向を向く一対の端縁間の距離と同一の距離だけ互いに離隔するとともに、鉛直方向を向く軸を中心に回転可能な複数のガイドローラを備える。
【００１７】
請求項９に記載の発明は、請求項８に記載の発明において、前記ガイドローラは、前記基板の搬送速度と同期して回転する。
【００１８】
請求項１０に記載の発明は、請求項９に記載の発明において、前記ガイドローラは、前記搬送ローラの上端より上方で、かつ、前記処理槽内に貯留される処理液の液面より下方の位置に、フランジ部を備える。
【００１９】
請求項１１に記載の発明は、請求項１に記載の発明において、前記基板における前記搬送ローラによる基板の搬送方向を向く一対の端縁間の距離よりも大きな距離だけ互いに離隔する位置に配設され、前記一対の端縁に当接可能なガイド部材を備えるとともに、前記搬送ローラによる基板の搬送方向と交差する方向に前記処理液を噴出することにより、前記処理液吐出手段により前記基板が前記搬送ローラより上方の位置に浮上したときに、当該基板を、一方の端縁が前記ガイド部材と当接する方向に移動させる処理液噴出部を備える。
【００２０】
請求項１２に記載の発明は、請求項１から請求項１１のいずれかに記載の発明において、前記処理液は、基板をエッチング処理するためのエッチング液である。
【００２１】
請求項１３に記載の発明は、角形の基板を処理液中に浸漬して処理する基板処理方法において、処理槽に処理液を供給して処理槽内に処理液を貯留する処理液供給工程と、基板を搬送ローラにより搬送して、前記処理液が貯留された処理槽内に進入させる基板搬入工程と、前記基板の下面から処理液を吐出することにより、前記基板を前記搬送ローラより上方で、かつ、前記処理槽に貯留された処理液の液面より下方の位置まで浮上させる処理液吐出工程と、処理液の吐出を停止して、前記基板を前記搬送ローラと当接する位置まで下降させる基板下降工程と、前記基板を前記搬送ローラにより搬送して、処理槽より退出させる基板搬出工程とを備えたことを特徴とする。
【００２２】
請求項１４に記載の発明は、請求項１３に記載の発明において、前記基板下降工程と前記基板搬出工程の間に、前記処理槽に貯留された処理液を排出する処理液排出工程を備える。
【発明の効果】
【００２３】
請求項１および請求項１３に記載の発明によれば、基板の裏面側に生ずる処理ムラを防止して、基板の表裏両面を均一に処理することが可能となる。
【００２４】
請求項２に記載の発明によれば、基板が処理液の液面まで浮上することを防止することができ、基板の表裏両面を均一に処理することが可能となる。
【００２５】
請求項３および請求項４に記載の発明によれば、基板の搬送方向を向く一対の端縁間の幅寸法にかかわらず、基板が処理液の液面まで浮上することを防止することができる。
【００２６】
請求項５に記載の発明によれば、基板の端縁以外の部分と搬送ローラとの接触を防止することにより、基板の裏面側に生ずる処理ムラを防止して、基板の表裏両面を均一に処理することが可能となる。
【００２７】
請求項６および請求項７に記載の発明によれば、基板の搬送方向を向く一対の端縁間の幅寸法が異なった場合においても、基板の端縁のみを支持して基板を搬送することが可能となる。
【００２８】
請求項８に記載の発明によれば、基板が浮上した場合においても基板の位置を一定に維持することが可能となる。
【００２９】
請求項９に記載の発明によれば、基板の端縁に損傷を与えることなく基板をガイドすることが可能となる。
【００３０】
請求項１０に記載の発明によれば、基板が処理液の液面まで浮上することを防止することができ、基板の表裏両面を均一に処理することが可能となる。
【００３１】
請求項１１に記載の発明によれば、基板が浮上した場合に、基板の搬送方向を向く一対の端縁間の幅寸法にかかわらず、基板の位置を一定に維持することが可能となる。
【００３２】
請求項１２に記載の発明によれば、基板の表裏両面を均一にエッチング処理することが可能となる。
【００３３】
請求項１４に記載の発明によれば、基板搬出工程における処理液の持ち出し量を低減することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００３４】
【図１】この発明に係る基板処理装置の側面概要図である。
【図２】この発明に係る基板処理装置の要部を示す正面概要図である。
【図３】浮上防止部材６１と搬送ローラ２１との配置関係を示す平面図である。
【図４】この発明に係る基板処理装置の主要な制御系を示すブロック図である
【図５】この発明に係る基板処理装置によるガラス基板１００のエッチング処理工程を示す説明図である。
【図６】この発明に係る基板処理装置によるガラス基板１００のエッチング処理工程を示すフローチャートである。
【図７】エッチング処理中の基板処理装置の要部を示す正面概要図である。
【図８】エッチング処理中の基板処理装置の要部を示す正面概要図である。
【図９】この発明の第２実施形態に係る基板処理装置の要部を示す正面概要図である。
【図１０】エッチング処理中の基板処理装置の要部を示す正面概要図である。
【図１１】エッチング処理中の基板処理装置の要部を示す正面概要図である。
【図１２】この発明の第３実施形態に係る基板処理装置の要部を示す正面概要図である。
【図１３】この発明の第４実施形態に係る基板処理装置の要部を示す正面概要図である。
【図１４】この発明の第４実施形態に係る基板処理装置の要部を示す正面概要図である。
【図１５】この発明の第４実施形態に係る基板処理装置の要部を示す正面概要図である。
【発明を実施するための形態】
【００３５】
以下、この発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。図１は、この発明に係る基板処理装置の側面概要図であり、図２は、その要部を示す正面概要図である。また、図３は、浮上防止部材６１と搬送ローラ２１との配置関係を示す平面図である。なお、図１においては、浮上防止部材６１等の図示を省略している。
【００３６】
この基板処理装置は、エッチング液によりガラス基板１００をエッチング処理するためのものであり、ガラス基板１００をその下面から支持して搬送する多数の搬送ローラ２１を備える。また、この基板処理装置は、ガラス基板１００を処理するための処理槽１１と、処理液の回収槽１２と、処理液を貯留する貯留槽１３とを備える。また、この基板処理装置は、搬送ローラ２１の下方からガラス基板１００に向けてエッチング液を吐出するエッチング液吐出手段としての多数のスプレーノズル２２を備える。
【００３７】
処理槽１１には、ガラス基板１００の搬入口４３と搬出口４４とが形成されるとともに、搬入口４３を開閉するシャッター１４と、搬出口４４を開閉するシャッター１５とが配設されている。また、この処理槽１１の下面には、エッチング液の供給管１６と、エッチング液の排出管１７が付設されている。供給管１６は、管路３１およびそこに配設されたポンプ２４を介して貯留槽１３と連結されている。また、排出管１７は、管路３３およびそこに配設された開閉弁２６を介して貯留槽１３と連結されている。さらに、各スプレーノズル２２は、管路３２およびそこに配設された流量可変ポンプ２５を介して貯留槽１３と連結されている。
【００３８】
この流量可変ポンプ２５は、例えば、インバータを含む流量調整回路を備え、各スプレーノズル２２から吐出するエッチング液の流量を調整することにより、ガラス基板１００を搬送ローラ２１より上方の位置まで浮上させるためのものである。なお、流量可変ポンプ２５を使用するかわりに通常のポンプを使用し、この通常のポンプと各スプレーノズル２２との間に流量調整弁を配設することにより、各スプレーノズル２２から吐出するエッチング液の流量を調整するようにしてもよい。
【００３９】
回収槽１２は、処理槽１１等から流下したエッチング液を回収するためのものである。この回収槽１２の下面には、エッチング液の回収管１８が付設されている。回収管１８は、管路３４およびそこに配設された開閉弁２７を介して貯留槽１３と連結されている。また、処理槽１１の搬出口４４と対向し、かつ、回収槽１２の上方となる位置には、ガラス基板１００に付着するエッチング液を除去するための一対のエアナイフ２３が配設されている。
【００４０】
図２に示すように、搬送ローラ２１は、ガラス基板１００の搬送方向を向く一対の端縁にのみ当接する一対の当接部５０と、これらの当接部５０を連結する連結軸５４とを備える。また、各当接部５０は、ガラス基板１００の搬送方向と直交し、かつ、水平方向を向く軸を中心に互いに同軸上に配設された３個の円盤形状をなすコロ状部材５１、５２、５３から構成されている。これらのコロ状部材５１、５２、５３は、その直径がガラス基板１００の中央部側に配置されるものほど小さく端縁部側に配置されるものほど大きくなっている。なお、図２においては、理解の便宜上コロ状部材５１、５２、５３の外径を実際より大きく図示している。
【００４１】
図２および図３に示すように、処理槽１１内に貯留されたエッチング液の液面中における複数の搬送ローラ２１の間の位置には、ガラス基板１００を搬送ローラ２１より上方に浮上させて処理するときに、このガラス基板１００が処理槽１１内に貯留されたエッチング液の液面まで浮上することを防止する浮上防止部材６１が配設されている。この浮上防止部材６１は、外径が上方に向かうにつれて大きくなり、軸芯が鉛直方向を向く方向に配設された円錐台形状を有する。この浮上防止部材６１は、鉛直方向を向く支軸６２に対して回転可能に支持されている。この浮上防止部材６１は、後述するように、各スプレーノズル２２から吐出されるエッチング液の作用によって搬送ローラ２１より上方に移動したガラス基板１００の両方の端縁に当接可能な位置に、一定ピッチで複数個配置されている。この円錐台形状を有する浮上防止部材６１における錐体面(側面)は、ガラス基板１００の主面に対して傾斜する傾斜面となっている。
【００４２】
図４は、この発明に係る基板処理装置の主要な制御系を示すブロック図である。
【００４３】
この基板処理装置は、装置の制御に必要な動作プログラムが格納されたＲＯＭ８１と、制御時にデータ等が一時的にストアされるＲＡＭ８２と、論理演算を実行するＣＰＵ８３とから構成され、装置全体を制御する制御部８０を備える。この制御部８０は、インターフェース８４を介して、図１に示す流量可変ポンプ２５、ポンプ２４、開閉弁２６、２７と接続されている。また、この制御部８０は、インターフェース８４を介して、搬送ローラ２１を回転駆動するためのモータ２８とも接続されている。
【００４４】
なお、ポンプ２４と、開閉弁２６と、制御部８０とは、処理槽１１におけるエッチング液の液位を、搬送ローラ２１により搬送されるガラス基板１００の上面よりも上方の位置と、搬送ローラ２１により搬送されるガラス基板１００の下面より下方の位置との間で変更するこの発明に係る液位調整機構として機能する。また、流量可変ポンプ２５と、制御部８０とは、ガラス基板１００が処理槽１１内に貯留された処理液中に配置された状態で、搬送ローラ２１の下方からエッチング液を吐出することにより、ガラス基板１００を搬送ローラ２１より上方の位置まで浮上させるこの発明に係る処理液吐出手段として機能する。
【００４５】
次に、上述した基板処理装置によるガラス基板１００の処理工程について説明する。図５は、この発明に係る基板処理装置によるガラス基板１００のエッチング処理工程を示す説明図である。また、図６は、この発明に係る基板処理装置によるガラス基板１００のエッチング処理工程を示すフローチャートである。さらに、図７および図８は、エッチング処理中の基板処理装置の要部を示す正面概要図である。なお、図７は、搬送方向を向く一対の端縁間の距離（幅寸法）が小さいガラス基板１００を処理する場合を示し、図８は、搬送方向を向く一対の端縁間の距離（幅寸法）が大きいガラス基板１００を処理する場合を示している。
【００４６】
この基板処理装置によりガラス基板１００をエッチング処理するときには、最初に、貯留槽１３から処理槽１１にエッチング液を供給して、処理槽１１内にエッチング液を貯留する（ステップＳ１）。このときには、開閉弁２６を閉止するとともに、ポンプ２４の作用により、貯留槽１３内のエッチング液を管路３１を介して処理槽１１に送液することにより、エッチング液の液位が搬送ローラ２１の上面より上方となるようにする。このエッチング液供給工程においては、搬入口４３はシャッター１４により閉じられており、搬出口４４はシャッター１５により閉じられている。
【００４７】
この状態で、図１および図５（ａ）に示すように、搬送ローラ２１によりガラス基板１００を搬送して、このガラス基板１００を処理槽１１に搬入する（ステップＳ２）。このときにはガラス基板１００は、搬送ローラ２１における当接部５０により支持されて搬送される。この当接部５０は、ガラス基板１００の搬送方向を向く一対の端縁にのみ当接する状態で、ガラス基板１００の搬送速度に応じて回転する。
【００４８】
すなわち、搬送方向を向く一対の端縁間の距離（幅寸法）が小さいガラス基板１００を処理する場合においては、図７において仮想線で示すように、ガラス基板１００は、搬送方向を向く一対の端縁を、コロ状部材５３により支持され、コロ状部材５２により案内される状態で搬送される。また、搬送方向を向く一対の端縁間の距離（幅寸法）が大きいガラス基板１００を処理する場合においては、図８において仮想線で示すように、ガラス基板１００は、搬送方向を向く一対の端縁を、コロ状部材５２により支持され、コロ状部材５１により案内される状態で搬送される。
【００４９】
この基板搬入工程においては、搬入口４３のシャッター１４を開放する。このため、処理槽１１内のエッチング液は搬入口４３から回収槽１２に流下し、管路３４を介して貯留槽１３に回収される。この場合においても、ポンプ２４によるエッチング液の供給量を一定以上に維持することにより、処理槽１１におけるエッチング液の液位を一定に維持することができる。
【００５０】
ガラス基板１００が完全に処理槽１１内に収納されれば、搬入口４３をシャッター１４により閉じる。そして、流量可変ポンプ２５の作用によりスプレーノズル２２からエッチング液を吐出することにより、図５（ｂ）に示すように、ガラス基板１００を搬送ローラ２１より上方で、かつ、処理槽１１に貯留されたエッチング液の液面より下方の位置まで浮上させる（ステップＳ３）。この状態を一定時間維持することにより、ガラス基板１００に対するエッチング処理を実行する。この場合には、ガラス基板１００の裏面が搬送ローラ２１から離間していることから、ガラス基板１００の裏面側に生ずるムラを防止して、ガラス基板１００を均一に処理することが可能となる。
【００５１】
このエッチング処理時には、流量可変ポンプ２５の作用によりスプレーノズル２２から吐出するエッチング液の流量を制御することにより、ガラス基板１００を搬送ローラ２１より上方の位置まで浮上させる。このエッチング処理時に、ガラス基板１００が搬送ローラ２１の上方に大きく浮上した場合には、図７および図８において実線で示すように、このガラス基板１００の両端縁は、円錐台形状を有する浮上防止部材６１における錐体面(側面)と当接する。このため、ガラス基板１００が処理槽１１内に貯留されたエッチング液の液面まで浮上することを有効に防止することが可能となる。
【００５２】
この場合において、浮上防止部材６１が、外径が上方に向かうにつれて大きくなり、軸芯が鉛直方向を向く方向に配設された円錐台形状を有することから、図７および図８に示すように、ガラス基板１００における搬送方向を向く一対の端縁間の距離（幅寸法）にかかわらず、このガラス基板１００の浮上を有効に防止することが可能となる。
【００５３】
ガラス基板１００が十分にエッチング処理されれば、スプレーノズル２２からのエッチング液の吐出を停止して、図５（ｃ）に示すように、ガラス基板１００を搬送ローラ２１と当接する位置まで下降させる（ステップＳ４）。この下降工程により、ガラス基板１００は、搬送ローラ２１により支持されることになる。
【００５４】
次に、処理槽１１に貯留されたエッチング液を排出する（ステップＳ５）。このエッチング液排出工程においては、ポンプ２４を停止するとともに、開閉弁２６を開放することにより、処理槽１１内のエッチング液を、管路３３を介して貯留槽１３に回収する。このエッチング液排出工程においては、搬入口４３のシャッター１４を開放するとともに、搬出口４４のシャッター１５を開放して、処理槽１１内のエッチング液をこれらの搬入口４３および搬出口４４からも排出する。搬入口４３および搬出口４４から排出されたエッチング液は、回収槽１２により受け取られ、管路３４および開閉弁２７を介して、貯留槽１３に回収される。
【００５５】
処理槽１１内のエッチング液の排出が完了すれば、図５（ｄ）に示すように、ガラス基板１００を搬送ローラ２１により搬送して、処理槽１１より退出させる（ステップＳ６）。このときにも、搬送方向を向く一対の端縁間の距離（幅寸法）が小さいガラス基板１００を処理する場合においては、図７において仮想線で示すように、ガラス基板１００は、搬送方向を向く一対の端縁を、コロ状部材５３により支持され、コロ状部材５２により案内される状態で搬送される。また、搬送方向を向く一対の端縁間の距離（幅寸法）が大きいガラス基板１００を処理する場合においては、図８において仮想線で示すように、ガラス基板１００は、搬送方向を向く一対の端縁を、コロ状部材５２により支持され、コロ状部材５１により案内される状態で搬送される。
【００５６】
そして、処理槽１１における搬出口４４を通過したガラス基板１００の両面には、エアナイフ２３から圧縮空気が噴出される。これにより、ガラス基板１００の両面に付着したエッチング液が除去され、回収槽１２に滴下する。この基板搬出工程においては、処理槽１１中に処理液が貯留されていないこと、また、ガラス基板１００に付着したエッチング液が一対のエアナイフ２３により除去されることから、後段の処理工程へのエッチング液の持ち出し量を低減することが可能となる。
【００５７】
次に、この発明の他の実施形態について説明する。図９は、この発明の第２実施形態に係る基板処理装置の要部を示す正面概要図である。また、図１０および図１１は、エッチング処理中の基板処理装置の要部を示す正面概要図である。なお、図１０は、搬送方向を向く一対の端縁間の距離（幅寸法）が小さいガラス基板１００を処理する場合を示し、図１１は、搬送方向を向く一対の端縁間の距離（幅寸法）が小さいガラス基板１００を処理する場合を示している。
【００５８】
この第２実施形態に係る搬送ローラ２１は、一対の当接部５５と連結軸５４とから構成される。すなわち、上述した第１実施形態においては、搬送ローラ２１における当接部５０として、図２、図７および図８に示すように、互いに同軸上に配設された３個の円盤形状をなすコロ状部材５１、５２、５３から構成されるものを採用している。これに対して、この第２実施形態においては、図９から図１１に示すように、当接部５５として、ガラス基板１００の搬送方向と直交し、かつ、水平方向を向く連結軸５４の両端に配設された、ガラス基板１００の中央部側が直径が小さく、ガラス基板１００の端縁部側が直径が大きい円錐台形状を有するものを採用している。なお、図９から図１１においても、理解の便宜上当接部５５の外径を実際より大きく図示している。
【００５９】
この第２実施形態に係る搬送ローラ２１を使用した場合においては、図１０および図１１において仮想線で示すように、ガラス基板１００における搬送方向を向く一対の端縁間の距離（幅寸法）の変動にかかわらず、ガラス基板１００を所定の位置に維持（ガラス基板１００における搬送方向を向く一対の端縁間の中心位置を一定に維持）して搬送することが可能となる。
【００６０】
次に、この発明のさらに他の実施形態について説明する。図１２は、この発明の第３実施形態に係る基板処理装置の要部を示す正面概要図である。
【００６１】
図１２に示すように、搬送ローラ２１により搬送されるガラス基板１００の搬送方向に直交する方向における両端部には、鉛直方向を向く軸を中心に回転可能なガイドローラ６３が配設されている。このガイドローラ６３は、ガラス基板１００の端縁に添って、対をなす状態で複数個列設されている。また、このガイドローラ６３は、図示しないモータの駆動により、搬送ローラ２１により搬送されるガラス基板１００の搬送速度と同期して回転する。このガイドローラ６３は、上述したエッチング液吐出工程において、ガラス基板１００が搬送ローラ２１の上方の位置まで浮上したときに、このガラス基板１００の搬送方向と直交する方向の両端部をガイドするガイド部材として機能する。
【００６２】
このガイドローラ６３間の距離は、ガラス基板１００における搬送方向を向く一対の端縁間の距離（幅寸法）と一致している。すなわち、この実施形態においては、ガラス基板１００における搬送方向を向く一対の端縁間の距離（幅寸法）が同一である定型サイズのガラス基板１００を処理することが前提となる。
【００６３】
このガイドローラ６３における搬送ローラ２１の上端より上方で、かつ、処理槽１１内に貯留されるエッチング液の液面より下方の位置には、フランジ部６４が配設されている。このフランジ部６４は、ガラス基板１００が処理槽１１内に貯留されたエッチング液の液面まで浮上することを防止するための浮上防止部材として機能する。
【００６４】
次に、この発明のさらに他の実施形態について説明する。図１３から図１５は、この発明の第４実施形態に係る基板処理装置の要部を示す正面概要図である。
【００６５】
この第４実施形態に係る基板処理装置においては、搬送ローラ２１は、複数のコロ状部材５７と、これらのコロ状部材５７を連結する連結軸５４とから構成される。また、この第４実施形態に係る基板処理装置は、ガラス基板１００における搬送ローラ２１によるガラス基板１００の搬送方向を向く一対の端縁間の距離（幅寸法）よりも大きな距離だけ互いに離隔する位置に配設され、ガラス基板１００の端縁に当接可能なガイドローラ６５を備える。このガイドローラ６５は、鉛直方向を向く軸６６を中心に回転可能に配設されている。そして、これらのガイドローラ６５の間には、第１、第２実施形態と同様の、浮上防止部材６１が配設されている。
【００６６】
また、この第４実施形態に係る基板処理装置は、搬送ローラ２１によるガラス基板１００の搬送方向と交差する方向にエッチング液を噴出することにより、ガラス基板１００が搬送ローラ２１より上方の位置に浮上したときに、このガラス基板１００を、その一方の端縁がガイドローラ６５に当接する方向に移動させる複数のスプレーノズル７１を備える。また、処理槽１１におけるスプレーノズル７１と対向する位置には、そこに形成された開口部を開閉するシャッター７２が配設されている。
【００６７】
このスプレーノズル７１には、図１に示す貯留槽１３からエッチング液が供給される。また、シャッター７２を開放した場合には、処理槽１１内のエッチング液は、図１に示す回収槽１２に流下した後、貯留槽１３に送液される。なお、スプレーノズル７１からシャッター７２方向に向かうエッチング液の流れの方向は、図１に示す搬入口４３から搬出口４４に向かうガラス基板１００の搬送方向と直交する方向となっている。
【００６８】
この第４実施形態に係る基板処理装置においてエッチング処理を実行する場合においては、第１実施形態の場合と同様、図５（ａ）に示すように、ガラス基板１００は、搬送ローラ２１により搬送されて処理槽１１に搬入される。詳しくは、図１３に示すように、ガラス基板１００は、搬送ローラ２１におけるコロ状部材５７により支持されて搬送される。搬送中はガラス基板１００の一端縁がガイドローラ６５と当接しており、したがって、ガラス基板１００は、このガイドローラ６５により案内される状態で搬送される。
【００６９】
ガラス基板１００が完全に処理槽１１内に収納されれば、第１実施形態の場合と同様、搬入口４３をシャッター１４により閉じる。そして、流量可変ポンプ２５の作用によりスプレーノズル２２からエッチング液を吐出することにより、図５（ｂ）に示すように、ガラス基板１００を搬送ローラ２１より上方で、かつ、処理槽１１に貯留されたエッチング液の液面より下方の位置まで浮上させる。この場合には、図１４に示すように、ガラス基板１００は互いに対をなすガイドローラ６５の間の位置で浮遊する。この状態を一定時間維持することにより、ガラス基板１００に対するエッチング処理を実行する。
【００７０】
ガラス基板１００が十分にエッチング処理されれば、スプレーノズル２２からのエッチング液の吐出を停止して、図５（ｃ）に示すように、ガラス基板１００を搬送ローラ２１と当接する位置まで下降させる。この場合には、図１５に示すように、シャッター７２を開放するとともに、スプレーノズル７１からエッチング液を噴出する。これにより、ガラス基板１００がシャッター７２の方向に移動し、ガラス基板１００が搬送ローラ２１に支持されるときには、図１５において実線で示すように、ガラス基板１００の一端縁がガイドローラ６５と当接する。
【００７１】
この状態において、第１実施形態と同様、ポンプ２４を停止するとともに、開閉弁２６を開放することにより、処理槽１１内のエッチング液を、管路３３を介して貯留槽１３に回収する。このときにも、スプレーノズル７１からのエッチング液の噴出は継続してもよい。しかる後、ガラス基板１００を搬送ローラ２１により支持して搬送する。この場合にも、図１３に示す場合と同様、ガラス基板１００の一端縁がガイドローラ６５と当接しており、ガラス基板１００は、このガイドローラ６５により案内される状態で搬送される。
【００７２】
以上のように、この第４実施形態に係る基板処理装置においては、ガラス基板１００における搬送方向を向く一対の端縁間の距離（幅寸法）の変動にかかわらず、ガラス基板１００を所定の位置に維持（ガラス基板１００における一方の端縁の位置を一定に維持）して搬送することが可能となる。
【００７３】
なお、上述した第１、第２、第４実施形態においては、ガラス基板１００が処理槽１１内に貯留されたエッチング液の液面まで浮上することを防止するために、外径が上方に向かうにつれて大きくなり、軸芯が鉛直方向を向く方向に配設された円錐台形状を有する複数の浮上防止部材６１を使用している。しかしながら、ガラス基板１００が搬送ローラ２１より上方の位置に浮上したときに、ガラス基板１００における搬送方向を向く一対の端縁と当接可能な位置に配設され、ガラス基板１００の主面に対して傾斜する傾斜面を備えるものであれば、その他の形状の浮上防止部材を使用することができる。このような浮上防止部材として、ガラス基板１００の主面に対して傾斜する傾斜面を備え、ガラス基板１００の搬送方向を向く長尺の部材を使用してもよい。
【００７４】
また、上述した実施形態においては、ガラス基板１００に対してエッチング処理を行う基板処理装置および基板処理方法にこの発明を適用しているが、エッチング以外の洗浄、現像、剥離等の各種の処理を行う基板処理装置および基板処理方法にこの発明を適用することも可能であり、さらに、他の種類の基板、例えばプリント基板に対して、これら各種の処理を行う基板処理装置および基板処理方法にこの発明を適用することも可能である。
【符号の説明】
【００７５】
１１ 処理槽
１２ 回収槽
１３ 貯留槽
１４ シャッター
１５ シャッター
１６ 供給管
１７ 排出管
１８ 回収管
２１ 搬送ローラ
２２ スプレーノズル
２３ エアナイフ
２４ ポンプ
２５ 流量可変ポンプ
２６ 開閉弁
２７ 開閉弁
２８ モータ
３１ 管路
３２ 管路
３３ 管路
４３ 搬入口
４４ 搬出口
５０ 当接部
５１ コロ状部材
５２ コロ状部材
５３ コロ状部材
５４ 連結軸
５５ 当接部
５７ コロ状部材
６１ 浮上防止部材
６３ ガイドローラ
６４ フランジ部
６５ ガイドローラ
７１ スプレーノズル
７２ シャッター
８０ 制御部
１００ ガラス基板
【特許請求の範囲】
【請求項１】
角形の基板を処理液中に浸漬して処理する基板処理装置において、
前記基板を処理する処理槽と、
前記処理槽内に配設され、前記基板を水平方向に搬送する搬送ローラと、
処理液を貯留した貯留タンクから前記処理槽内に処理液を供給する供給手段と、処理液を前記処理槽から前記貯留タンクに排出する排出手段とを備え、前記処理槽における処理液の液位を、前記搬送ローラにより搬送される基板の上面よりも上方の位置と、前記搬送ローラにより搬送される基板の下面より下方の位置との間で変更する液位調整機構と、
前記基板が処理槽内に貯留された処理液中に配置された状態で、前記搬送ローラの下方から処理液を吐出することにより、前記基板を前記搬送ローラより上方の位置まで浮上させる処理液吐出手段と、
を備えたことを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
請求項１に記載の基板処理装置において、
前記基板が前記処理槽内に貯留された処理液の液面まで浮上することを防止する浮上防止部材を備える基板処理装置。
【請求項３】
請求項２に記載の基板処理装置において、
前記浮上防止部材は、前記処理液吐出手段により前記基板が前記搬送ローラより上方の位置に浮上したときに、当該基板における前記搬送ローラによる基板の搬送方向を向く一対の端縁と当接可能な位置に配設され、前記基板の主面に対して傾斜する傾斜面を備える基板処理装置。
【請求項４】
請求項３に記載の基板処理装置において、
前記浮上防止部材は、外径が上方に向かうにつれて大きくなり、軸芯が鉛直方向を向く方向に配設された円錐台形状を有し、前記処理液吐出手段により前記搬送ローラより上方の位置に浮上した基板の端縁に当接可能な位置に配設される基板処理装置。
【請求項５】
請求項１に記載の基板処理装置において、
前記搬送ローラは、当該搬送ローラによる基板の搬送方向を向く一対の端縁にのみ当接する一対の当接部を備える基板処理装置。
【請求項６】
請求項５に記載の基板処理装置において、
前記当接部は、前記搬送ローラによる前記基板の搬送方向と直交し、かつ、水平方向を向く軸を中心に互いに同軸上に配設された、前記基板の中央部側が直径が小さく、前記基板の端縁部側が直径が大きい複数のコロ状部材から構成される基板処理装置。
【請求項７】
請求項５に記載の基板処理装置において、
前記当接部は、前記搬送ローラによる前記基板の搬送方向と直交し、かつ、水平方向を向く軸を中心に配設された、前記基板の中央部側が直径が小さく、前記基板の端縁部側が直径が大きい円錐台形状を有する基板処理装置。
【請求項８】
請求項１に記載の基板処理装置において、
前記基板における前記搬送ローラによる基板の搬送方向を向く一対の端縁間の距離と同一の距離だけ互いに離隔するとともに、鉛直方向を向く軸を中心に回転可能な複数のガイドローラを備える基板処理装置。
【請求項９】
請求項８に記載の基板処理装置において、
前記ガイドローラは、前記基板の搬送速度と同期して回転する基板処理装置。
【請求項１０】
請求項９に記載の基板処理装置において、
前記ガイドローラは、前記搬送ローラの上端より上方で、かつ、前記処理槽内に貯留される処理液の液面より下方の位置に、フランジ部を備える基板処理装置。
【請求項１１】
請求項１に記載の基板処理装置において、
前記基板における前記搬送ローラによる基板の搬送方向を向く一対の端縁間の距離よりも大きな距離だけ互いに離隔する位置に配設され、前記一対の端縁に当接可能なガイド部材を備えるとともに、
前記搬送ローラによる基板の搬送方向と交差する方向に前記処理液を噴出することにより、前記処理液吐出手段により前記基板が前記搬送ローラより上方の位置に浮上したときに、当該基板を、一方の端縁が前記ガイド部材と当接する方向に移動させる処理液噴出部を備える基板処理装置。
【請求項１２】
請求項１から請求項１１のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記処理液は、基板をエッチング処理するためのエッチング液である基板処理装置。
【請求項１３】
角形の基板を処理液中に浸漬して処理する基板処理方法において、
処理槽に処理液を供給して処理槽内に処理液を貯留する処理液供給工程と、
基板を搬送ローラにより搬送して、前記処理液が貯留された処理槽内に進入させる基板搬入工程と、
前記基板の下面から処理液を吐出することにより、前記基板を前記搬送ローラより上方で、かつ、前記処理槽に貯留された処理液の液面より下方の位置まで浮上させる処理液吐出工程と、
処理液の吐出を停止して、前記基板を前記搬送ローラと当接する位置まで下降させる基板下降工程と、
前記基板を前記搬送ローラにより搬送して、処理槽より退出させる基板搬出工程と、
を備えたことを特徴とする基板処理方法。
【請求項１４】
請求項１３に記載の基板処理方法において、
前記基板下降工程と前記基板搬出工程の間に、
前記処理槽に貯留された処理液を排出する処理液排出工程を備える基板処理方法。
【請求項１】
角形の基板を処理液中に浸漬して処理する基板処理装置において、
前記基板を処理する処理槽と、
前記処理槽内に配設され、前記基板を水平方向に搬送する搬送ローラと、
処理液を貯留した貯留タンクから前記処理槽内に処理液を供給する供給手段と、処理液を前記処理槽から前記貯留タンクに排出する排出手段とを備え、前記処理槽における処理液の液位を、前記搬送ローラにより搬送される基板の上面よりも上方の位置と、前記搬送ローラにより搬送される基板の下面より下方の位置との間で変更する液位調整機構と、
前記基板が処理槽内に貯留された処理液中に配置された状態で、前記搬送ローラの下方から処理液を吐出することにより、前記基板を前記搬送ローラより上方の位置まで浮上させる処理液吐出手段と、
を備えたことを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
請求項１に記載の基板処理装置において、
前記基板が前記処理槽内に貯留された処理液の液面まで浮上することを防止する浮上防止部材を備える基板処理装置。
【請求項３】
請求項２に記載の基板処理装置において、
前記浮上防止部材は、前記処理液吐出手段により前記基板が前記搬送ローラより上方の位置に浮上したときに、当該基板における前記搬送ローラによる基板の搬送方向を向く一対の端縁と当接可能な位置に配設され、前記基板の主面に対して傾斜する傾斜面を備える基板処理装置。
【請求項４】
請求項３に記載の基板処理装置において、
前記浮上防止部材は、外径が上方に向かうにつれて大きくなり、軸芯が鉛直方向を向く方向に配設された円錐台形状を有し、前記処理液吐出手段により前記搬送ローラより上方の位置に浮上した基板の端縁に当接可能な位置に配設される基板処理装置。
【請求項５】
請求項１に記載の基板処理装置において、
前記搬送ローラは、当該搬送ローラによる基板の搬送方向を向く一対の端縁にのみ当接する一対の当接部を備える基板処理装置。
【請求項６】
請求項５に記載の基板処理装置において、
前記当接部は、前記搬送ローラによる前記基板の搬送方向と直交し、かつ、水平方向を向く軸を中心に互いに同軸上に配設された、前記基板の中央部側が直径が小さく、前記基板の端縁部側が直径が大きい複数のコロ状部材から構成される基板処理装置。
【請求項７】
請求項５に記載の基板処理装置において、
前記当接部は、前記搬送ローラによる前記基板の搬送方向と直交し、かつ、水平方向を向く軸を中心に配設された、前記基板の中央部側が直径が小さく、前記基板の端縁部側が直径が大きい円錐台形状を有する基板処理装置。
【請求項８】
請求項１に記載の基板処理装置において、
前記基板における前記搬送ローラによる基板の搬送方向を向く一対の端縁間の距離と同一の距離だけ互いに離隔するとともに、鉛直方向を向く軸を中心に回転可能な複数のガイドローラを備える基板処理装置。
【請求項９】
請求項８に記載の基板処理装置において、
前記ガイドローラは、前記基板の搬送速度と同期して回転する基板処理装置。
【請求項１０】
請求項９に記載の基板処理装置において、
前記ガイドローラは、前記搬送ローラの上端より上方で、かつ、前記処理槽内に貯留される処理液の液面より下方の位置に、フランジ部を備える基板処理装置。
【請求項１１】
請求項１に記載の基板処理装置において、
前記基板における前記搬送ローラによる基板の搬送方向を向く一対の端縁間の距離よりも大きな距離だけ互いに離隔する位置に配設され、前記一対の端縁に当接可能なガイド部材を備えるとともに、
前記搬送ローラによる基板の搬送方向と交差する方向に前記処理液を噴出することにより、前記処理液吐出手段により前記基板が前記搬送ローラより上方の位置に浮上したときに、当該基板を、一方の端縁が前記ガイド部材と当接する方向に移動させる処理液噴出部を備える基板処理装置。
【請求項１２】
請求項１から請求項１１のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記処理液は、基板をエッチング処理するためのエッチング液である基板処理装置。
【請求項１３】
角形の基板を処理液中に浸漬して処理する基板処理方法において、
処理槽に処理液を供給して処理槽内に処理液を貯留する処理液供給工程と、
基板を搬送ローラにより搬送して、前記処理液が貯留された処理槽内に進入させる基板搬入工程と、
前記基板の下面から処理液を吐出することにより、前記基板を前記搬送ローラより上方で、かつ、前記処理槽に貯留された処理液の液面より下方の位置まで浮上させる処理液吐出工程と、
処理液の吐出を停止して、前記基板を前記搬送ローラと当接する位置まで下降させる基板下降工程と、
前記基板を前記搬送ローラにより搬送して、処理槽より退出させる基板搬出工程と、
を備えたことを特徴とする基板処理方法。
【請求項１４】
請求項１３に記載の基板処理方法において、
前記基板下降工程と前記基板搬出工程の間に、
前記処理槽に貯留された処理液を排出する処理液排出工程を備える基板処理方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【公開番号】特開２０１２−２３８８３３（Ｐ２０１２−２３８８３３Ａ）
【公開日】平成２４年１２月６日（２０１２．１２．６）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１２−２６８３６（Ｐ２０１２−２６８３６）
【出願日】平成２４年２月１０日（２０１２．２．１０）
【出願人】（０００２０７５５１）大日本スクリーン製造株式会社 (2,640)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年１２月６日（２０１２．１２．６）
【国際特許分類】
【出願日】平成２４年２月１０日（２０１２．２．１０）
【出願人】（０００２０７５５１）大日本スクリーン製造株式会社 (2,640)
【Ｆターム（参考）】
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