基板処理装置及び処理液の流路切り替え方法
【課題】基板の処理に使用された処理液のうち、回収すべき処理液と排出すべき処理液とが混ざり合うことを確実に抑えられる技術を提供する。
【解決手段】基板処理装置１は、基板Ｗの現像処理に使用される現像液を吐出するノズル３０と、ノズル３０から吐出された現像液が流下する基板処理槽１０と、基板処理槽１０の内部に廃液口４３１が設けられた配管４３と、配管４３と並列的に設けられ、現像液の回収と再利用とのために基板処理槽１０の内部において回収口４２１が設けられた配管４２と、基板処理槽１０の所定部位に設けられ、揺動軸４４２を中心に揺動することによって、基板処理槽１０内に流下した現像液の流出先を配管４２と配管４３との間で選択的に切り替える揺動部材４４５を有する現像液流路切替部４４と、を備える。
【解決手段】基板処理装置１は、基板Ｗの現像処理に使用される現像液を吐出するノズル３０と、ノズル３０から吐出された現像液が流下する基板処理槽１０と、基板処理槽１０の内部に廃液口４３１が設けられた配管４３と、配管４３と並列的に設けられ、現像液の回収と再利用とのために基板処理槽１０の内部において回収口４２１が設けられた配管４２と、基板処理槽１０の所定部位に設けられ、揺動軸４４２を中心に揺動することによって、基板処理槽１０内に流下した現像液の流出先を配管４２と配管４３との間で選択的に切り替える揺動部材４４５を有する現像液流路切替部４４と、を備える。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体ウエハ、液晶表示装置用ガラス基板、ＰＤＰ（Plasma Display Panel）用ガラス基板、有機ＥＬ表示パネル用ガラス基板、太陽電池用基板、磁気或は光ディスク用のガラス或はセラミック基板等の各種被処理基板に対して、処理を行う技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
現像液を基板に液盛りすることで行われる現像処理に使用された現像液は回収及び再使用される場合がある。しかしながら、現像液の種類によっては基板又は基板に塗布されたレジストと現像液とが反応することで非溶解物が生成されてしまい、現像処理に使用された現像液を再使用することによって、現像不良が引き起こされるおそれがある。
【０００３】
特許文献１には、このような問題の解決を意図した基板処理装置が開示されている。この基板処理装置では、基板を経由せずにノズルから直に流下する現像液は回収及び再使用され、基板上に吐出されて現像処理に使用され、処理槽の内底部に流下した処理液は再使用されることなく排出される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００３−２８９０３７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１に記載の基板処理装置は、処理液を回収する回収ラインにつながる回収槽がノズルの直下に設けられた構造を有している。このため、搬送方向における基板の後端などから現像液が流下した場合には、現像処理に使用された現像液が回収槽に混入する恐れがあった。
【０００６】
また、特許文献１には、切替弁を切り替えることによって、回収ラインにつながる流路と現像液を排出する排出ラインにつながる流路とを切り替える構成についても開示されている。この場合、切替弁が切り替えられてから直ちに、回収される現像液と廃棄される現像液との流路が切り替わることは困難であり、応答性が低い。このため、処理に使用された現像液と処理に使用されなかった現像液とのうち、一方の現像液が槽内に残存している状態で他方の現像液が槽内に流れ始めてしまい、現像液が混ざり合う恐れがあった。
【０００７】
このような問題は、現像処理に限らず、洗浄又はエッチングなどの処理においても生じる恐れがある。
【０００８】
本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、基板の処理に使用された処理液のうち、回収すべき処理液と排出すべき処理液とが混ざり合うことを確実に抑えられる技術を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
第１の発明は、基板処理装置であって、基板の処理に使用される処理液を吐出するノズルと、前記ノズルから吐出された前記処理液が流下する処理槽と、前記処理槽内に開口した廃液流路と、前記廃液流路と並列的に設けられ、前記処理液の回収と再利用とのために前記処理槽内において開口した回収流路と、前記処理槽の前記所定部位に設けられ、揺動軸を中心に揺動することによって、前記処理槽内に流下した前記処理液の流出先を前記廃液流路と前記回収流路との間で選択的に切替える揺動部材を有する処理液流路切替部と、を備えている。
【００１０】
第２の発明は、第１の発明に係る基板処理装置であって、前記処理槽内に設置され、前記ノズルから吐出された前記処理液を前記処理液流路切替部に導引するスロープ、をさらに備えている。
【００１１】
第３の発明は、第２の発明に係る基板処理装置であって、上方から流下してくる前記処理液を前記揺動部材上に受ける位置を距離起点としたとき、前記揺動部材においては、前記廃液流路側への前記処理液の第１流出端までの第１距離が、前記回収流路側への前記処理液の第２流出端までの第２距離よりも短い。
【００１２】
第４の発明は、第１の発明ないし第３の発明のいずれか一つに係る基板処理装置であって、前記ノズルは水平方向に延びる長尺のノズルであり、前記揺動部材が、前記ノズルの長手方向に沿って延びる長尺の板状面を持つ。
【００１３】
第５の発明は、第１の発明ないし第４の発明のいずれか一つに係る基板処理装置であって、前記回収流路として、前記処理液の種類に応じて複数の単位回収流路が並列的に設置されており、前記複数の単位回収流路は前記処理槽内で並列的に開口しているとともに、前記基板処理装置が、前記処理槽内に落下して回収されるべき前記処理液の流出先を、前記複数の単位回収流路の間で選択的に切り替える回収流路切替部、をさらに備えている。
【００１４】
第６の発明は、第５の発明に係る基板処理装置であって、前記揺動部材を第１の揺動部材と呼び、前記揺動部材の揺動軸を第１の揺動軸と呼ぶとき、前記回収流路切替部が、前記第１の揺動軸と平行に設けられた第２の揺動軸のまわりに揺動可能な少なくとも一つの第２の揺動部材、を備え、前記第２の揺動部材の傾斜状態に応じて、前記処理槽内に落下して回収されるべき前記処理液の流出先を前記複数の単位回収流路の間で切り替える。
【００１５】
第７の発明は、第１の発明ないし第６の発明のいずれか一つに係る基板処理装置であって、前記ノズルの下方における前記基板の有無を判定するための基板検出を行う検出部と、前記検出手段による検出結果に応答して、前記揺動部材の傾斜状態を切り替える信号を生成し、前記揺動部材を揺動させる駆動部へ前記信号を出力する制御部と、をさらに備えている。
【００１６】
第８の発明は、処理液の流路切り替え方法であって、基板の処理に使用される処理液をノズルから吐出する吐出工程と、前記ノズルから吐出して前記処理槽の内部に流下した前記処理液を、所定の揺動軸を中心に揺動可能な揺動部材上に受ける工程と、前記揺動部材の傾斜状態に応じて、前記揺動部材上に受けた前記処理液の流出先を、廃液流路側と、前記処理液の回収と再利用とのための回収流路側との間で選択的に切り替える処理液流路切替工程と、を備えている。
【発明の効果】
【００１７】
第１の発明ないし第７の発明において、基板処理装置は、揺動軸を中心に揺動することによって、処理液の流出先を廃液流路と回収流路との間で選択的に切り替える処理液流路切替部を備える。このため、処理槽の内部に処理液の液だまりが形成されることなく、処理液は速やかに各流路を通って流出する。従って、処理槽の内部で基板の処理に使用されて排出される処理液と基板の処理に未使用の回収される処理液とが混ざり合うことを抑えられる。
【００１８】
特に、第２の発明において、基板処理装置は、ノズルから吐出された処理液を処理液流路切替部に導引するスロープをさらに備える。そのため、処理槽は比較的簡易な構造を採用可能であり、ノズルから吐出された処理液を確実に処理液流路切替部に導くことができる。また、スロープが存在することによって、処理液流路切替部を比較的小さいサイズに形成できるため、処理液流路切替部は比較的容易に揺動することができる。
【００１９】
特に、第３の発明において、上方から流下してくる処理液を揺動部材上に受ける位置を距離起点としたとき、揺動部材においては、廃液流路側への処理液の第１流出端までの第１距離が、回収流路側への処理液の第２流出端までの第２距離よりも短い。このため、処理液流路切替部上に残存している基板の処理に使用された処理液が回収流路に流れ込むことをより確実に抑制できる。
【００２０】
特に、第４の発明において、ノズルは水平方向に延びる長尺のノズルであり、揺動部材が、ノズルの長手方向に沿って延びる長尺の板状面を持つため、現像液を確実に受け止められるとともに、速やかに流出させることができる。
【００２１】
特に、第５の発明において、回収流路切替部が処理液の種類に応じて処理液が流れるべき単位回収流路に処理液の流出先を切り替えるため、複数種類の処理液を使用する場合であっても、処理液が混ざり合うことを抑えることができる。
【００２２】
特に、第７の発明において、ノズルの下方における基板Ｗの有無を判定するための基板検出が行われ、検出結果に応答して揺動部材の傾斜状態が切り替えられる。このため、基板上で現像処理に使用された現像液と、現像処理に未使用の現像液との流出先を比較的正確なタイミングで各流路の間で選択的に切り替えることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】本発明の第１の実施形態に係る基板処理装置の平面図である。
【図２】本発明の第１の実施形態に係る基板処理装置における現像処理の一部の工程を示す概略側面図である。
【図３】本発明の第１の実施形態に係る基板処理装置における現像処理の一部の工程を示す概略側面図である。
【図４】制御部のハードウェア構成を示すブロック図である。
【図５】印刷処理の流れを示すフローチャートである。
【図６】本発明の第２の実施形態に係る基板処理装置における現像処理の一部の工程を示す概略側面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
以下、添付の図面を参照しながら、本発明の実施形態について説明する。以下の実施形態は、本発明を具体化した一例であり、本発明の技術的範囲を限定する事例ではない。
【００２５】
＜１． 第１の実施形態＞
＜１−１． 基板処理装置１の概要＞
図１は、本発明の第１の実施形態に係る基板処理装置１の平面図である。また、図２は本発明の第１の実施形態に係る基板処理装置１の処理の様子の一部分を示す側面図である。また、図３は、本発明の第１の実施形態に係る基板処理装置１の処理の様子の一部分を示す側面図である。また、図４は、制御部９０のハードウェア構成を示すブロック図である。
【００２６】
なお、以下の説明においては、方向及び向きを示す際に、適宜図中に示すＸＹＺ直交座標を用いる。ここで、Ｘ軸及びＹ軸方向は水平方向、Ｚ軸方向は鉛直方向（＋Ｚ側が上側、−Ｚ側が下側）を示す。また、便宜上、Ｙ軸方向を基板の搬送方向（＋Ｙ側が下流側、−Ｙ側が上流側）とし、Ｘ軸方向を奥行き方向（＋Ｘ側、−Ｘ側）とする。
【００２７】
基板処理装置１は、基板Ｗの表面に印刷すべきパターン（たとえば電子回路パターンや、画素配列パターン）を形成する過程で、基板Ｗの表面に形成されたレジスト膜を現像処理するために使用される。処理対象となる基板Ｗは、代表的に液晶表示装置に画面パネルを製造するための角形のガラス基板であるが、半導体基板、フィルム液晶用フレキシブル基板、フォトマスク用基板、太陽電池用基板、カラーフィルタ用基板などの他の基板であってもよい。
【００２８】
また、現像液には、例えば有機平坦化膜形成用のレジスト膜又はカラーフィルタ製造用のレジスト膜を現像処理するための現像液が使用される。このような現像液は基板Ｗ又は基板Ｗに形成されたこれらのレジストと反応して、使用済みの現像液を再使用する際に障害となる非溶解物を生成する特徴を有する。
【００２９】
基板処理装置１は、基板処理槽１０と、基板処理槽１０内に設置され、基板Ｗに現像液を吐出するノズル３０と、上流ユニットから基板処理槽１０、そして下流ユニットへと水平姿勢の基板Ｗを搬送するコンベア２０と、回収口４２１が基板処理槽１０の底部に開口している配管４２と、配管４２と並列的に設けられ、廃液口４３１が基板処理槽１０の底部に開口している配管４３と、基板処理槽１０の内部の所定部位に設置され、基板処理槽１０内に流下した現像液の流出先を配管４２と配管４３との間で選択的に切り替える揺動部材４４５を有する現像液流路切替部４４と、基板処理槽１０の内部に設置され、ノズル３０から吐出された後の現像液を現像液流路切替部４４に導引する固定スロープ部４５と、を備える。なお、本実施形態における廃液流路は廃液口４３１を入口側の開口とする配管４３を流れる処理液の流路を称し、回収流路は回収口４２１を入口側の開口とする配管４２を流れる処理液の流路を称する。
【００３０】
ノズル３０は、基板処理槽１０の入口側開口１１付近に設置されており、奥行き方向（Ｘ軸方向）に沿って複数配置される形態（図１ではノズル３０が２基設置されている。）が一般的である。このようなノズル３０は、後述する現像液の回収タンク４２２と配管３２によって流路接続されており、ノズル３０の吐出口から現像液が吐出される。なお、ノズルは、例えば奥行き方向に沿って水平方向に延びる長尺のノズルであってもよい。この場合、ノズルが有する吐出口は長手方向に沿ってスリット状に形成されている。
【００３１】
基板Ｗの現像処理が連続して行われる間、現像液はノズル３０から吐出された状態が維持され続ける。表面に露光済みのレジスト膜が形成された基板Ｗはこのようなノズル３０の吐出口の直下位置を通過する際に、ノズル３０から吐出されることで形成された現像液の液柱を通り抜ける。これによって、現像液が基板Ｗ上に液盛りされる。現像反応は、液盛りされた基板Ｗが搬送されている間に進行し、次工程において水洗処理が施されることによって停止する。
【００３２】
このようなノズル３０は、基板Ｗの搬送経路として構成されたコンベア２０を跨ぐようにして設置された架橋構造体６０が備えるノズル支持部６１に設置されている。この架橋構造体６０は昇降可能であるため、ノズル３０の吐出口と基板Ｗとの間隔は調節可能である。
【００３３】
基板処理槽１０は、現像液が基板Ｗに塗布される工程が実施される槽である。基板処理槽１０の下方の部分は、鉛直部１０１と、鉛直部１０１の下端から基板Ｗの搬送方向の下流側に向けて斜め下方に延び出た斜方部１０２と、斜方部１０２の下端から下方に形成された凹部１０３と、この凹部１０３に隣り合うようにして基板Ｗの搬送方向下流側に形成された現像液廃液槽４６とで構成されている。
【００３４】
配管４２の入口側の開口である回収口４２１及び配管４３の入口側の開口である廃液口４３１は凹部１０３に並列的に形成されている。廃液口４３１は基板Ｗの搬送方向上流側に形成され、回収口４２１は基板Ｗの搬送方向下流側に形成されている。本実施形態では、これらの回収口４２１及び廃液口４３１の大きさは、後述する現像液流路切替部４４によって一方の開口に現像液の流路を切り替えることが可能な範囲で比較的大きく形成されている。また、本実施形態では、回収口４２１の開口断面積が廃液口４３１の開口断面積よりも大きく形成されている。なお、廃液口４３１が基板Ｗの搬送方向下流側に形成され、回収口４２１が基板Ｗの搬送方向上流側に形成される形態であっても構わない。
【００３５】
配管４３は基板処理槽１０の外側に設けられた廃液タンク４３２に流路接続されており、配管４３を流れる現像液は廃液タンク４３２に貯留される。
【００３６】
配管４２は回収タンク４２２に流路接続されており、配管４２を流れる現像液は回収タンク４２２に貯留される。この回収タンク４２２は配管３２によってノズル３０と流路接続されている。
【００３７】
配管３２には、回収タンク４２２側から順に、フィルタ４２３とポンプ４２４とが介挿されている。回収タンク４２２に貯留された現像液は、ポンプ４２４の駆動によって配管３２内を流れ、フィルタ４２３によって不純物をこし取られた後で、ノズル３０から再び吐出される。このように、配管４２、回収タンク４２２、配管３２、ポンプ４２４、フィルタ４２３、ノズル３０が現像液の循環系を構成しており、回収された現像液は再び基板Ｗの現像処理に使用される。なお、回収タンク４２２には現像液の新液が供給される図示しない新液供給機構も設けられており、回収タンク４２２内の現像液が不足する場合には新液供給機構が現像液の新液を供給する。
【００３８】
基板処理槽１０の内側における斜方部１０２に、本実施形態における導引部として固定スロープ部４５が設置されている。導引部は、基板処理槽１０の下方に流下した現像液を現像液流路切替部４４の後述する揺動部材４４５上に導く部材である。固定スロープ部４５は板状の部材であり、凹部１０３に向かって斜め下方に、その下端が揺動部材４４５の上方に位置するように設置されている。
【００３９】
固定スロープ部４５の奥行き方向（Ｘ軸方向）における幅は、基板Ｗの奥行き方向（Ｘ軸方向）における幅よりも大きい。従って、固定スロープ部４５の上方に位置する基板Ｗから流下した現像液は、確実に固定スロープ部４５に受け止められる。また、固定スロープ部４５の奥行き方向（Ｘ軸方向）における両側端には、図示しない突部が搬送方向（Ｙ軸方向）に沿って形成されている。このため、固定スロープ部４５の表面に流下した現像液は、固定スロープ部４５の側端から流れ落ちることなく固定スロープ部４５の下端に流れ、現像液流路切替部４４の揺動部材４４５の表面に流れ落ちる。
【００４０】
現像液流路切替部４４は、揺動部材４４５と、揺動部材４４５を駆動させるエアシリンダ４４３とを備える。揺動部材４４５は、板状に形成された板部４４１と、軸心方向が奥行き方向（Ｘ軸方向）に沿うとともに板部４４１の中心に設けられた揺動軸４４２と、を備える。揺動部材４４５は揺動軸４４２を中心にしてシーソーのように揺動可能であるため、板部４４１の傾きは自在に調節可能である。
【００４１】
揺動部材４４５は、揺動軸４４２がＹ軸方向における回収口４２１と廃液口４３１との間の部分の上方に位置するように設置されている。このため、板部４４１の端部４４１２は回収口４２１の直上に位置し、板部４４１の端部４４１３は廃液口４３１の直上に位置している。
【００４２】
この揺動部材４４５の板部４４１は、奥行き方向に沿って延びる長尺の板状面を有している。この板状面の幅は、奥行き方向におけるノズル３０の両端よりも大きく、また、基板Ｗの奥行き方向（Ｘ軸方向）における幅よりも大きい。ノズルが、長尺のスリット状の吐出口を有するノズルである場合には、板部はノズルの長手方向に沿って板状面が延び出た構造を有する。従って、揺動部材４４５の上方に位置する基板Ｗから流下した現像液又は固定スロープ部４５から流下した現像液は、確実に揺動部材４４５によって受け止められる。また、板部４４１のＸ軸方向における両側端には、図示しない突部が搬送方向に沿って形成されているため、現像液流路切替部４４上に流下した現像液は、板部４４１の両側端から流れ落ちることなく、揺動する板部４４１の傾きに応じて、回収口４２１と廃液口４３１とのいずれか一方から配管４２又は配管４３に流れ込む。
【００４３】
なお、揺動部材４４５は、シーソーのような構造に限られず、例えば板部の一方の端部に揺動軸が設けられた構造が採用されても構わない。また、板部の一方の端部に揺動軸が設けられた構造の現像液振分部が採用された場合、揺動軸の下方で板部が揺動する形態、又は揺動軸の上方で板部が揺動する形態など、いずれの形態であっても構わない。
【００４４】
本実施形態における現像液流路切替部４４では、揺動部材４４５が揺動軸４４２を中心に揺動することによって、板部４４１の端部４４１２が端部４４１３よりも下方に位置する傾斜状態と板部４４１の端部４４１３が端部４４１２よりも下方に位置する傾斜状態とのいずれか一方の傾斜状態に切り替えられる。
【００４５】
ノズル３０から吐出されて現像処理に使用されなかった現像液は、図３に示されるように、板部４４１の端部４４１２が端部４４１３よりも下方に位置した傾斜状態の揺動部材４４５上を流れる。揺動部材４４５上に流下した現像液は、板部４４１の傾きに沿って流れるため、廃液口４３１側に向かって流れることなく、回収口４２１側に向かって流れる。回収口４２１は比較的大きく形成されているため、現像液は速やかに回収口４２１から配管４２に流れ込む。このように、現像処理に未使用の現像液は配管４２を流れて回収タンク４２２に貯留され、基板Ｗの現像処理に再び使用される。
【００４６】
一方、ノズル３０から吐出されて現像処理に使用された現像液は、図２に示されるように、板部４４１の端部４４１３が端部４４１２よりも下方に位置した傾斜状態の揺動部材４４５上を流れる。揺動部材４４５上に流下した現像液は、板部４４１の傾きに沿って流れるため、回収口４２１側に向かって流れることなく、廃液口４３１側に向かって流れる。廃液口４３１は比較的大きく形成されているため、現像液は速やかに廃液口４３１から配管４３に流れ込む。このように、現像処理に使用された現像液は配管４３から基板処理槽１０の外部に排出され、再使用されることなく廃液として処理される。
【００４７】
一般的に回収される現像液の量は廃液として処理される現像液の量よりも多くなる。本実施形態では、回収口４２１の開口断面積が廃液口４３１の開口断面積よりも大きく形成されているため、回収される現像液は、基板処理槽１０の内部に溜まることなく回収口４２１から配管４２に流れ込む。
【００４８】
本実施形態では、揺動部材４４５における揺動軸４４２と端部４４１３との間の部分が固定スロープ部４５の下端の直下に位置する。従って、上方の固定スロープ部４５から流下してくる現像液を揺動部材４４５上に受ける位置を距離起点としたとき、揺動部材４４５上において、距離起点から廃液口４３１側への現像液の流出端、即ち端部４４１３までの第１距離が、距離起点から回収口４２１側への現像液の流出端、即ち端部４４１２までの第２距離よりも短くなる。
【００４９】
このように、揺動部材４４５の揺動軸４４２が揺動することによって、板部４４１の傾きが切り替えられる。これによって、現像液が流れる流路は配管４２を含む回収流路と配管４３を含む廃液流路とのいずれか一方に切り替えられる。このような揺動軸４４２の駆動は、揺動軸４４２の一方の端部に設けられたエアシリンダ４４３の駆動によって実現される。エアシリンダ４４３は後述する制御部９０と電気的に接続されており、制御部９０からの信号に応じてエアシリンダ４４３は駆動する。
【００５０】
コンベア２０は、回転する複数の搬送ローラ２０１の外周面の最上部が基板Ｗの下面に当接することで、基板Ｗを支持しつつ、搬送ローラ２０１の回転によって基板Ｗに推進力を与え、下流方向（（＋Ｙ）方向）に移動させる接触式の搬送装置である。
【００５１】
基板処理槽１０よりも上流側におけるコンベア２０の搬送ローラ２０１と搬送ローラ２０１との間に、第１切替センサ５０１が設置されている。また、基板処理槽１０の内部におけるノズル３０よりも下流側であって、コンベア２０の搬送ローラ２０１と搬送ローラ２０１との間に、第２切替センサ５０２が設置されている。これらの第１切替センサ５０１及び第２切替センサ５０２には、例えば光学式のセンサなどが採用される。
【００５２】
この第１切替センサ５０１及び第２切替センサ５０２は、ノズル３０の下方における基板Ｗの有無を判定するために基板Ｗを検出し、後述する制御部９０に信号を送信する。この検出結果に応答して、制御部９０はエアシリンダ４４３の駆動を制御し、揺動部材４４５の板部４４１の角度、即ち傾斜状態を切り替える。
【００５３】
より詳細には、第１切替センサ５０１がコンベア２０によって搬送されてきた基板Ｗの先端を検出すると、制御部９０に信号を送信する。この信号を受けた制御部９０は所定時間経過後にエアシリンダ４４３に信号を送信し、現像液が配管４３を流れるように、現像液流路切替部４４の板部４４１の傾きを切り替える。つまり、板部４４１の端部４４１３が端部４４１２よりも下方に位置するように、エアシリンダ４４３は駆動される。
【００５４】
このときの所定時間とは、第１切替センサ５０１が基板Ｗの先端を検出してから、おおよそ基板Ｗがノズル３０の下方に到達するまでの時間をいう。なお、所定時間が、第１切替センサ５０１が基板Ｗの先端を検出してから、基板Ｗの現像処理に使用された現像液が配管４２に流れ込む直前までの時間に設定されていれば、配管４２に流れ込む回収可能な現像液の量が多くなるため理想的である。
【００５５】
第２切替センサ５０２がコンベア２０によって搬送されてきた基板Ｗの後端を検出すると制御部９０に信号を送信する。この信号を受けた制御部９０は、直ちにエアシリンダ４４３に信号を送信し、現像液が配管４２を流れるように、現像液流路切替部４４の板部４４１の傾きを切り替える。つまり、板部４４１の端部４４１２が端部４４１３よりも下方に位置するように、エアシリンダ４４３は駆動される。
【００５６】
基板処理槽１０は、凹部１０３よりも基板Ｗの搬送方向下流側に現像液廃液槽４６を備える。この現像液廃液槽４６の底部に廃液口４６１２が形成されている。配管４６１の一端はこの廃液口４６１２に接続されており、配管４６１の他端は廃液タンク４９に流路接続されている。このため、配管４６１を流れる現像液は廃液タンク４９に貯留される。
【００５７】
現像液廃液槽４６は、凹部１０３よりも下流側を搬送される基板Ｗの表面から流下した現像液を集液する槽である。現像液廃液槽４６の搬送方向上流側における側面の上端部分４６１１は、凹部１０３、具体的には回収口４２１の上方に向けて斜め方向に延び出た構造を有する。このため、第２切替センサ５０２を通過した後で、基板Ｗの表面から基板処理槽１０の底部に向けて流下した現像液は、この上端部分４６１１によって回収口４２１の内部に流れ落ちることを遮られる。上端部分４６１１上に流れ落ちた現像液は、上端部分４６１１を伝って、現像液廃液槽４６内に流れ落ちる。現像液廃液槽４６の底部に集められた現像液は、廃液口４６１２から配管４６１に流れ込み、廃液タンク４９に貯留される。
【００５８】
図４には、制御部９０のハードウェア構成が示されている。制御部９０のハードウェアとしての構成は、一般的なコンピュータと同様である。即ち、制御部９０は、各種演算処理を行うＣＰＵ９１、基本プログラムを記憶する読み出し専用のメモリであるＲОＭ９２、各種情報を記憶する読み書き自在のメモリであるＲＡＭ９３及び制御用ソフトウェア、又はデータなどを記憶しておく磁気ディスク９４、キーボード及びマウスなどの入力部９５をバスライン９９に接続して構成されている。さらに、バスライン９９には、エアシリンダ４４３、コンベア２０のモータ８５、ポンプ４２４、第１切替センサ５０１、第２切替センサ５０２などが電気的に接続されている。
【００５９】
＜１−２. 処理の流れ＞
図５には、基板Ｗの処理状況に応じたフローチャートが示されている。このフローチャートに沿って、基板処理装置１における基本的な基板処理の流れについて説明する。
【００６０】
はじめに、現像液流路切替部４４の揺動部材４４５がエアシリンダ４４３の駆動によって揺動し、現像液流路切替部４４の板部４４１が有する回収口４２１側の端部４４１２が端部４４１３よりも下方に位置する傾斜状態に設定される。つまり現像液の流出先が配管４２になるように流路が設定される（ステップＳ１）。
【００６１】
そして、ノズル３０から現像液の吐出が開始される（ステップＳ２）。ノズル３０から吐出された現像液は、固定スロープ部４５から現像液流路切替部４４に流下し、現像液流路切替部４４に沿って、回収口４２１から配管４２に流れ込む。つまり、ノズル３０から吐出された現像液のうち、基板Ｗの現像処理に未使用の現像液が配管４２に流れ込む。このようにして配管４２に流れ込んだ現像液は回収タンク４２２に貯留される。連続して搬送されてくる基板Ｗの現像処理が行われる間、回収タンク４２２に貯留された現像液が循環使用されることによって、ノズル３０から現像液が吐出された状態は維持される。
【００６２】
上流ユニットにて所定の処理が行われた基板Ｗは、コンベア２０の回転によって、（＋Ｙ）方向に推進力を与えられ、下流方向に搬送される。
【００６３】
このとき、第１切替センサ５０１が上流ユニットから搬送されてくる基板Ｗの先端を検出し（ステップＳ３）、制御部９０に信号を送信する。
【００６４】
第１切替センサ５０１上を通過した基板Ｗは入口側開口１１から基板処理槽１０の内部に搬送される。そして、基板Ｗがノズル３０から吐出されている現像液の液柱を通り抜けることによって、現像液が基板Ｗの表面に液盛りされる。
【００６５】
第１切替センサ５０１が基板Ｗを検出してから所定時間が経過した段階（ステップＳ４）で、制御部９０はエアシリンダ４４３を駆動させ、板部４４１の傾きを切り替える。これによって、廃液口４３１側の板部４４１の端部４４１３が端部４４１２よりも下方に位置する状態になるため、揺動部材４４５上に流下した現像液は板部４４１に沿って、廃液口４３１から配管４３に流れ込む。つまり現像液流路切替部４４の揺動部材４４５が揺動することによって、板部４４１の傾きが切り替えられ、現像液の流出先が配管４３になるように流路が設定される（ステップＳ５）。
【００６６】
液盛りされた現像液がレジストと反応することで現像処理が行われる。液盛りされた現像液の一部はノズル３０から吐出され続ける現像液に押し流され、基板Ｗの表面から下方に流れ落ちる。このような現像液は、固定スロープ部４５から揺動部材４４５上に流れ落ち、揺動部材４４５の傾斜に沿って、廃液口４３１から配管４３に流れ込む。このように、基板Ｗの表面に液盛りされ、現像処理に使用された現像液の流路は現像液流路切替部４４によって配管４３に切り替えられる。
【００６７】
搬送される基板Ｗの後端がノズル３０から吐出されることで形成された現像液の液柱を通り抜けると、ノズル３０から吐出された現像液は基板処理槽１０の底部に直に流れ落ちる。つまり、基板Ｗの現像処理に未使用の現像液が固定スロープ部４５及び揺動部材４４５上を流れる。これによって、固定スロープ部４５及び揺動部材４４５の表面に残存している、現像処理に使用された現像液が廃液口４３１に向けて押し流される。このようにして、固定スロープ部４５及び現像液流路切替部４４の表面は、現像処理に使用されていない回収可能な現像液に置換される。
【００６８】
搬送される基板Ｗの後端が第２切替センサ５０２によって検出される（ステップＳ６）。第２切替センサ５０２は制御部９０に信号を送信し、制御部９０は、エアシリンダ４４３を駆動させて、揺動部材４４５を揺動させる。つまり、板部４４１の傾きが切り替えられる。これによって、板部４４１は、回収口４２１側の板部４４１の端部４４１２が端部４４１３よりも下方に位置する傾斜状態になる。これによって、それまで廃液口４３１から配管４３に流れ込んでいた現像液は、その流路を切り替えられ、回収口４２１から配管４２に流れ込む。つまり現像液流路切替部４４の揺動部材４４５が揺動することによって、板部４４１の傾きが切り替えられ、現像液の流出先が配管４２になるように流路が設定される（ステップＳ７）。
【００６９】
配管４２に流れ込んだ現像液は回収タンク４２２に貯留される。つまり、基板Ｗの現像処理に使用されることなく、基板処理槽１０の底部に流下した現像液は再使用されるために回収される。
【００７０】
現像液が回収口４２１から配管４２に流入している状態で、搬送される基板Ｗの表面から現像液が流下した場合、当該現像液は現像液廃液槽４６の上端部分４６１１に遮られるため、回収口４２１から配管４２に流入することを抑えられる。上端部分４６１１に流下した現像液は、現像液廃液槽４６に集められ、現像液廃液槽４６の廃液口４６１２から配管４６１を流れて廃液タンク４９に貯留される。
【００７１】
基板Ｗが凹部１０３の上方を通過した後で、基板Ｗの表面から現像液が流下した場合には、基板Ｗから流下した現像液は、現像液廃液槽４６に受け止められ、廃液口４６１２から配管４６１を流れて廃液タンク４９に貯留される。
【００７２】
次処理予定の基板Ｗが存在するか否かが制御部９０によって判断される（ステップＳ８）。次処理予定の基板Ｗが存在する場合には、次処理予定の基板Ｗが第１切替センサ５０１に検出されてから所定時間が経過するまでの間、現像液は一連の現像液の循環系を流れ続ける。
【００７３】
以上のように、本実施形態に係る基板処理装置１は、揺動軸４４２を中心に揺動することによって、現像液の流出先を配管４２と配管４３との間で選択的に切り替える現像液流路切替部４４を備える。この現像液流路切替部４４の駆動によって、現像処理に使用された現像液は分離され、廃液として処理される。一方、現像処理に未使用の現像液は回収されて再使用される。このため、現像不良を引き起こすおそれがある現像液を現像処理に使用する場合であっても、現像処理に使用された現像液の全量を廃液として処理する必要がなく、現像液を効率よく使用することができる。また、現像処理が行われる間、ノズル３０から現像液を吐出させ続けることができるため、ノズル３０からの現像液の吐出状態を一定に保つことができる。
【００７４】
また、揺動部材４４５を有する現像液流路切替部４４が、現像液の流出先を配管４２と配管４３との間で選択的に切り替えるため、現像液は速やかに基板処理槽１０から各開口を通って基板処理槽１０の外部に流出する。つまり、基板処理槽１０の内部に現像液の液だまりが形成されることを抑えられる。従って、基板処理槽１０の内部で基板Ｗの処理に使用された現像液と基板Ｗの処理に未使用の現像液とが混ざり合うことを抑えられる。これによって、現像処理に使用され、溶解したレジスト成分を含む現像液が回収タンク４２２に流れ込むことを抑えられるため、現像不良が生じることを抑えられる。
【００７５】
また、基板処理装置１は導引部として固定スロープ部４５をさらに備える。このため、基板処理槽１０は現像液を現像液流路切替部４４の揺動部材４４５に流下させるための特別な構造を備える必要がなく、比較的簡易な構造を採用可能である。また、ノズル３０から吐出された現像液を確実に現像液流路切替部４４に導くことができる。さらに、現像液流路切替部４４の揺動部材４４５を比較的小さいサイズに形成できるため、揺動部材４４５は比較的容易に動作させることができる。
【００７６】
また、上方の固定スロープ部４５から流下してくる現像液を揺動部材４４５が受ける位置を距離起点としたとき、揺動部材４４５においては、廃液口４３１側への現像液の流出端である端部４４１３から距離起点までの第１距離が、回収口４２１側への現像液の流出端である端部４４１２から距離起点までの第２距離よりも短くなる。従って、配管４３を流れてから廃液として処理される現像液が揺動部材４４５上で残存する量は、配管４２を流れてから回収される現像液が揺動部材４４５上で残存する量よりも少なくなる。従って、揺動部材４４５上に残存する、廃液として処理される現像液が配管４２に流れ込むことを極力抑えることができる。
【００７７】
また、ノズルが水平方向に延びる長尺のノズルである場合、現像液は奥行き方向に沿って幅を有する液柱として吐出される。揺動部材４４５がノズルの長手方向に沿って延びる長尺の板状面を持つことによって、このような現像液を確実に受け止められるとともに、速やかに基板処理槽１０外に現像液を流出させることができる。
【００７８】
また、第１切替センサ５０１及び第２切替センサ５０２がノズルの下方における基板Ｗの有無を判定するための基板検出を行い、検出結果に応答して制御部９０が揺動部材４４５を切り替えることができる。このため、現像処理に使用された現像液と、現像処理に未使用の現像液との流出先を比較的正確なタイミングで各流路の間で選択的に切り替えることができる。
【００７９】
＜２． 第２の実施形態＞
図６には、本実施形態に係る基板処理装置１ｂが示されている。図６に示されるように、基板処理装置１ｂの基板処理槽１０ｂには、基板Ｗの搬送方向に沿って上流側から順に廃液口４３１、回収口４２１ａ、回収口４２１ｂが形成されている。この回収口４２１ａ，４２１ｂそれぞれに配管４２ａ，４２ｂが流路接続されている。なお、廃液口４３１、回収口４２１ａ、回収口４２１ｂはこのような配置である必要はなく、並列的にこれらの開口が設置されていればよい。このような基板処理装置１ｂは、２種類の現像液が使用される場合であって、少なくとも一方の現像液がレジストと反応して非溶解物を生成する場合に採用される。なお、本実施形態では、これらの回収口４２１ａに流路接続された配管４２ａ，回収口４２１ｂに流路接続された配管４２ｂが単位回収流路に相当する。これらの単位回収流路は使用される処理液の種類に応じて設置される。
【００８０】
配管４２ａ，４２ｂは回収タンク４２２ａ，４２２ｂにそれぞれ流路接続されている。この回収タンク４２２ａ，４２２ｂと流路接続された配管８０ａ，８０ｂがバルブ１００で配管３２に連結されており、配管３２はノズル３０に流路接続されている。バルブ１００が切り替わることによって、回収タンク４２２ａ又は回収タンク４２２ｂに貯留された各現像液がノズル３０から吐出され、現像液は再使用される。
【００８１】
本実施形態では、現像液流路切替部４４が回収口４２１ａ，４２１ｂ側に流路を設定した現像液の流路を、配管４２ａと配管４２ｂとの間で切り替える回収流路切替部５４を基板処理装置１ｂが備える。
【００８２】
回収流路切替部５４は、揺動部材５４５と、揺動部材５４５を駆動させるエアシリンダ５４３とを備える。揺動部材５４５は、板状に形成された板部５４１と、軸心方向が奥行き方向（Ｘ軸方向）に沿うとともに板部５４１の中心に設けられた揺動軸５４２と、を備えており、揺動軸５４２を中心にしてシーソーのように揺動可能である。この揺動軸５４２の長手方向は、揺動軸４４２の長手方向と平行に配設されており、この回収流路切替部５４は、揺動軸５４２がＹ軸方向における回収口４２１ａと回収口４２１ｂとの間の部分の上方に位置するように設置されている。つまり、板部５４１の端部５４１２は回収口４２１ａの直上に位置し、板部５４１の端部５４１３は回収口４２１ｂの直上に位置している。なお、本実施形態では、基板Ｗの搬送方向上流側から順に揺動部材４４５、揺動部材５４５が配設されているが、このような形態に限られず、回収流路の配設位置に応じて、揺動部材５４５が揺動部材４４５よりも上流側に配設されていてもよい。
【００８３】
板部５４１の奥行き方向（Ｘ軸方向）における幅は、板部４４１の奥行き方向（Ｘ軸方向）における幅よりも大きい。また、板部５４１のＸ軸方向における両端には、図示しない突部が搬送方向に沿って形成されているため、回収流路切替部５４上に流下した現像液は、板部５４１の側端から流れ落ちることなく、揺動する板部５４１の傾きに応じて、回収口４２１ａと回収口４２１ｂとのいずれか一方に流れる。
【００８４】
揺動部材５４５は、板部５４１の傾斜状態に応じて、回収される現像液の流出先を各回収流路の間で切り替える。この板部５４１の上方に現像液流路切替部４４の板部４４１の端部４４１２が位置している。従って板部４４１の端部４４１２から流下した現像液は、回収流路切替部５４に受け止められる。
【００８５】
このように、回収流路切替部５４の揺動軸５４２が揺動することによって、板部５４１の傾きが切り替えられ、回収される現像液が流れる流路は、配管４２ａと配管４２ｂとのいずれか一方に設定される。このような板部４４１の傾きの切り替えは、揺動軸５４２の一方の端部に設けられたエアシリンダ５４３の駆動によって実現される。エアシリンダ５４３は後述する制御部９０と電気的に接続されており、制御部９０からの信号に応じてエアシリンダ５４３は駆動する。
【００８６】
処理の流れについて説明する。本実施形態では、始めに、レジストと反応して非溶解物を生成する第１現像液で現像処理が行われた後で、さらにレジストと反応して非溶解物を生成する第１現像液とは異なる第２現像液で現像処理が行われる場合を想定して説明する。なお、第１現像液は回収口４２１ａから配管４２ａを通り、第２現像液は回収口４２１ｂから配管４２ｂを通って回収されるものとする。
【００８７】
はじめに、基板処理装置１ｂにおいて、現像液流路切替部４４の板部４４１は端部４４１２が端部４４１３よりも下方に位置し、回収流路切替部５４の板部５４１の端部５４１２が端部５４１３よりも下方に位置した状態に設定される。
【００８８】
続いて、ノズル３０から第１現像液の吐出が開始される。ノズル３０から吐出された第１現像液は、固定スロープ部４５から現像液流路切替部４４に流下し、現像液流路切替部４４から回収流路切替部５４を経て、回収口４２１ａから配管４２ａに流れ込む。
【００８９】
基板Ｗの搬送が開始され、第１切替センサ５０１が基板Ｗの先端を検出すると、制御部９０に信号を送信する。そして、基板Ｗは、入口側開口１１から基板処理槽１０の内部に搬送され、ノズル３０から吐出されている第１現像液の液柱を通り抜ける。これによって、第１現像液が基板Ｗの表面に液盛りされる。液盛りされた第１現像液の一部は、ノズル３０から吐出され続ける現像液に押し出されて、基板Ｗの表面から下方に流れ落ちる。流れ落ちた第１現像液は、固定スロープ部４５の表面から現像液流路切替部４４上に流下する。
【００９０】
制御部９０が第１切替センサ５０１から信号を受信し、所定時間が経過した後で、板部４４１の傾きは切り替えられ、廃液口４３１側の板部４４１の端部４４１３が端部４４１２よりも下方に位置する状態になる。このため、現像液流路切替部４４上に流下した第１現像液は現像液流路切替部４４に沿って流れ、廃液口４３１から配管４３に流れ込む。このようにして、現像処理に使用された第１現像液は、現像液流路切替部４４によって、流路を配管４３に切り替えられ、配管４３を通って排出される。
【００９１】
搬送される基板Ｗの後端が第２切替センサ５０２によって検出されると、制御部９０は、エアシリンダ４４３に信号を送信し、駆動させる。これによって、板部４４１の傾きは切り替えられ、回収口４２１ａ，４２１ｂ側における板部４４１の端部４４１２が端部４４１３よりも下方に位置する状態になる。一方、回収流路切替部５４は、初期状態と同様に回収口４２１ａ側の端部５４１２が端部５４１３よりも下方に位置した状態である。このため、廃液口４３１から配管４３に流れ込んでいた第１現像液は、回収口４２１ａから配管４２ａに流入しはじめる。このようにして、基板Ｗの現像処理に使用されることなく、基板処理槽１０の底部に流下した第１現像液は配管４２ａを流れて回収及び再使用される。
【００９２】
使用する現像液が第２現像液に切り替えられる際には、再び現像液流路切替部４４の板部４４１の傾きが切り替えられ、第１現像液は廃液口４３１から配管４３に流れ込み始める。そして、バルブ１００が切り替えられ、配管３２を流れる現像液が第１現像液から第２現像液に切り替えられる。配管３２内における第１現像液と第２現像液との混合状態が解消されて第２現像液に置換されるまで、混合状態の現像液は廃液口４３１から吐出され続ける。
【００９３】
所定時間経過後、ノズル３０から吐出される現像液が第２現像液に切り替わった段階で、現像液流路切替部４４の板部４４１は、第２現像液が回収口４２１ｂに流れるようにその傾きを切り替えられる。つまり、回収口４２１ａ，４２１ｂ側における板部４４１の端部４４１２が端部４４１３よりも下方に位置するようにエアシリンダ４４３が駆動する。また、回収流路切替部５４についても、回収口４２１ｂ側における板部５４１の端部５４１３が端部５４１２よりも下方に位置するように、制御部９０による信号を受けたエアシリンダ５４３は駆動する。これによって、ノズル３０から吐出される第２現像液は、第２現像液が流れるべき配管４２ｂに流れ込み、回収タンク４２２ｂで貯留される。
【００９４】
そして、現像液流路切替部４４が動作することによって、基板Ｗの現像処理に使用された第２現像液の流路と現像処理に未使用の第２現像液の流路とを切り替えながら現像処理が行われる。
【００９５】
このように、現像液が複数種類使用される場合には、所定の現像液が、廃液流路となる配管と当該現像液の回収流路とを流れるように、現像液流路切替部４４及び回収流路切替部５４はその駆動を制御される。
【００９６】
以上のように、本実施形態に係る基板処理装置１ｂでは、複数種類の現像液が使用される場合であっても、回収流路切替部５４が揺動軸を中心に揺動することによって、現像液の種類に応じて現像液が流れるべき回収流路に現像液を流すことができる。従って、回収される現像液同士が混合されることを抑えることができる。また、現像液の切り替えを比較的容易に行うことができる。
【００９７】
＜変形例＞
以下において、変形例について説明する。上記第１の実施形態及び第２の実施形態では、現像処理が実施される基板処理装置１，１ｂに本発明が使用されていたがこのような形態には限られない。洗浄、エッチングなどの処理が行われる基板処理装置に本発明を適用することも可能である。
【００９８】
また、上記第１の実施形態及び第２の実施形態では、揺動部材４４５，５４５を駆動させるためエアシリンダ４４３，５４３を使用しているがこれに限られるものではなく、他の構成を採用してもよい。例えば、モータ等が用いられて揺動部材を駆動させてもよい。
【００９９】
また、上記第１の実施形態及び第２の実施形態では、第１切替センサ５０１及び第２切替センサ５０２が基板Ｗの位置を検出した信号に基づき、現像液流路切替部４４や回収流路切替部５４を動作させていたが、これに限られるものではない。検出信号に基づき制御部９０は各種機構の動作を制御することができる。また、第１切替センサ５０１及び第２切替センサ５０２が設けられる位置や個数は適宜変更してもよい。
【符号の説明】
【０１００】
１，１ｂ 基板処理装置
１０，１０ｂ 基板処理槽
３０ ノズル
４２，４２ａ，４２ｂ 配管
４３ 配管
４４ 現像液流路切替部
４５ 固定スロープ部
５４ 回収流路切替部
９０ 制御部
４２１，４２１ａ，４２１ｂ 回収口
４３１ 廃液口
４４２ 揺動軸
４４５ 揺動部材
５４２ 揺動軸
５４５ 揺動部材
Ｗ 基板
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体ウエハ、液晶表示装置用ガラス基板、ＰＤＰ（Plasma Display Panel）用ガラス基板、有機ＥＬ表示パネル用ガラス基板、太陽電池用基板、磁気或は光ディスク用のガラス或はセラミック基板等の各種被処理基板に対して、処理を行う技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
現像液を基板に液盛りすることで行われる現像処理に使用された現像液は回収及び再使用される場合がある。しかしながら、現像液の種類によっては基板又は基板に塗布されたレジストと現像液とが反応することで非溶解物が生成されてしまい、現像処理に使用された現像液を再使用することによって、現像不良が引き起こされるおそれがある。
【０００３】
特許文献１には、このような問題の解決を意図した基板処理装置が開示されている。この基板処理装置では、基板を経由せずにノズルから直に流下する現像液は回収及び再使用され、基板上に吐出されて現像処理に使用され、処理槽の内底部に流下した処理液は再使用されることなく排出される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００３−２８９０３７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１に記載の基板処理装置は、処理液を回収する回収ラインにつながる回収槽がノズルの直下に設けられた構造を有している。このため、搬送方向における基板の後端などから現像液が流下した場合には、現像処理に使用された現像液が回収槽に混入する恐れがあった。
【０００６】
また、特許文献１には、切替弁を切り替えることによって、回収ラインにつながる流路と現像液を排出する排出ラインにつながる流路とを切り替える構成についても開示されている。この場合、切替弁が切り替えられてから直ちに、回収される現像液と廃棄される現像液との流路が切り替わることは困難であり、応答性が低い。このため、処理に使用された現像液と処理に使用されなかった現像液とのうち、一方の現像液が槽内に残存している状態で他方の現像液が槽内に流れ始めてしまい、現像液が混ざり合う恐れがあった。
【０００７】
このような問題は、現像処理に限らず、洗浄又はエッチングなどの処理においても生じる恐れがある。
【０００８】
本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、基板の処理に使用された処理液のうち、回収すべき処理液と排出すべき処理液とが混ざり合うことを確実に抑えられる技術を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
第１の発明は、基板処理装置であって、基板の処理に使用される処理液を吐出するノズルと、前記ノズルから吐出された前記処理液が流下する処理槽と、前記処理槽内に開口した廃液流路と、前記廃液流路と並列的に設けられ、前記処理液の回収と再利用とのために前記処理槽内において開口した回収流路と、前記処理槽の前記所定部位に設けられ、揺動軸を中心に揺動することによって、前記処理槽内に流下した前記処理液の流出先を前記廃液流路と前記回収流路との間で選択的に切替える揺動部材を有する処理液流路切替部と、を備えている。
【００１０】
第２の発明は、第１の発明に係る基板処理装置であって、前記処理槽内に設置され、前記ノズルから吐出された前記処理液を前記処理液流路切替部に導引するスロープ、をさらに備えている。
【００１１】
第３の発明は、第２の発明に係る基板処理装置であって、上方から流下してくる前記処理液を前記揺動部材上に受ける位置を距離起点としたとき、前記揺動部材においては、前記廃液流路側への前記処理液の第１流出端までの第１距離が、前記回収流路側への前記処理液の第２流出端までの第２距離よりも短い。
【００１２】
第４の発明は、第１の発明ないし第３の発明のいずれか一つに係る基板処理装置であって、前記ノズルは水平方向に延びる長尺のノズルであり、前記揺動部材が、前記ノズルの長手方向に沿って延びる長尺の板状面を持つ。
【００１３】
第５の発明は、第１の発明ないし第４の発明のいずれか一つに係る基板処理装置であって、前記回収流路として、前記処理液の種類に応じて複数の単位回収流路が並列的に設置されており、前記複数の単位回収流路は前記処理槽内で並列的に開口しているとともに、前記基板処理装置が、前記処理槽内に落下して回収されるべき前記処理液の流出先を、前記複数の単位回収流路の間で選択的に切り替える回収流路切替部、をさらに備えている。
【００１４】
第６の発明は、第５の発明に係る基板処理装置であって、前記揺動部材を第１の揺動部材と呼び、前記揺動部材の揺動軸を第１の揺動軸と呼ぶとき、前記回収流路切替部が、前記第１の揺動軸と平行に設けられた第２の揺動軸のまわりに揺動可能な少なくとも一つの第２の揺動部材、を備え、前記第２の揺動部材の傾斜状態に応じて、前記処理槽内に落下して回収されるべき前記処理液の流出先を前記複数の単位回収流路の間で切り替える。
【００１５】
第７の発明は、第１の発明ないし第６の発明のいずれか一つに係る基板処理装置であって、前記ノズルの下方における前記基板の有無を判定するための基板検出を行う検出部と、前記検出手段による検出結果に応答して、前記揺動部材の傾斜状態を切り替える信号を生成し、前記揺動部材を揺動させる駆動部へ前記信号を出力する制御部と、をさらに備えている。
【００１６】
第８の発明は、処理液の流路切り替え方法であって、基板の処理に使用される処理液をノズルから吐出する吐出工程と、前記ノズルから吐出して前記処理槽の内部に流下した前記処理液を、所定の揺動軸を中心に揺動可能な揺動部材上に受ける工程と、前記揺動部材の傾斜状態に応じて、前記揺動部材上に受けた前記処理液の流出先を、廃液流路側と、前記処理液の回収と再利用とのための回収流路側との間で選択的に切り替える処理液流路切替工程と、を備えている。
【発明の効果】
【００１７】
第１の発明ないし第７の発明において、基板処理装置は、揺動軸を中心に揺動することによって、処理液の流出先を廃液流路と回収流路との間で選択的に切り替える処理液流路切替部を備える。このため、処理槽の内部に処理液の液だまりが形成されることなく、処理液は速やかに各流路を通って流出する。従って、処理槽の内部で基板の処理に使用されて排出される処理液と基板の処理に未使用の回収される処理液とが混ざり合うことを抑えられる。
【００１８】
特に、第２の発明において、基板処理装置は、ノズルから吐出された処理液を処理液流路切替部に導引するスロープをさらに備える。そのため、処理槽は比較的簡易な構造を採用可能であり、ノズルから吐出された処理液を確実に処理液流路切替部に導くことができる。また、スロープが存在することによって、処理液流路切替部を比較的小さいサイズに形成できるため、処理液流路切替部は比較的容易に揺動することができる。
【００１９】
特に、第３の発明において、上方から流下してくる処理液を揺動部材上に受ける位置を距離起点としたとき、揺動部材においては、廃液流路側への処理液の第１流出端までの第１距離が、回収流路側への処理液の第２流出端までの第２距離よりも短い。このため、処理液流路切替部上に残存している基板の処理に使用された処理液が回収流路に流れ込むことをより確実に抑制できる。
【００２０】
特に、第４の発明において、ノズルは水平方向に延びる長尺のノズルであり、揺動部材が、ノズルの長手方向に沿って延びる長尺の板状面を持つため、現像液を確実に受け止められるとともに、速やかに流出させることができる。
【００２１】
特に、第５の発明において、回収流路切替部が処理液の種類に応じて処理液が流れるべき単位回収流路に処理液の流出先を切り替えるため、複数種類の処理液を使用する場合であっても、処理液が混ざり合うことを抑えることができる。
【００２２】
特に、第７の発明において、ノズルの下方における基板Ｗの有無を判定するための基板検出が行われ、検出結果に応答して揺動部材の傾斜状態が切り替えられる。このため、基板上で現像処理に使用された現像液と、現像処理に未使用の現像液との流出先を比較的正確なタイミングで各流路の間で選択的に切り替えることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】本発明の第１の実施形態に係る基板処理装置の平面図である。
【図２】本発明の第１の実施形態に係る基板処理装置における現像処理の一部の工程を示す概略側面図である。
【図３】本発明の第１の実施形態に係る基板処理装置における現像処理の一部の工程を示す概略側面図である。
【図４】制御部のハードウェア構成を示すブロック図である。
【図５】印刷処理の流れを示すフローチャートである。
【図６】本発明の第２の実施形態に係る基板処理装置における現像処理の一部の工程を示す概略側面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
以下、添付の図面を参照しながら、本発明の実施形態について説明する。以下の実施形態は、本発明を具体化した一例であり、本発明の技術的範囲を限定する事例ではない。
【００２５】
＜１． 第１の実施形態＞
＜１−１． 基板処理装置１の概要＞
図１は、本発明の第１の実施形態に係る基板処理装置１の平面図である。また、図２は本発明の第１の実施形態に係る基板処理装置１の処理の様子の一部分を示す側面図である。また、図３は、本発明の第１の実施形態に係る基板処理装置１の処理の様子の一部分を示す側面図である。また、図４は、制御部９０のハードウェア構成を示すブロック図である。
【００２６】
なお、以下の説明においては、方向及び向きを示す際に、適宜図中に示すＸＹＺ直交座標を用いる。ここで、Ｘ軸及びＹ軸方向は水平方向、Ｚ軸方向は鉛直方向（＋Ｚ側が上側、−Ｚ側が下側）を示す。また、便宜上、Ｙ軸方向を基板の搬送方向（＋Ｙ側が下流側、−Ｙ側が上流側）とし、Ｘ軸方向を奥行き方向（＋Ｘ側、−Ｘ側）とする。
【００２７】
基板処理装置１は、基板Ｗの表面に印刷すべきパターン（たとえば電子回路パターンや、画素配列パターン）を形成する過程で、基板Ｗの表面に形成されたレジスト膜を現像処理するために使用される。処理対象となる基板Ｗは、代表的に液晶表示装置に画面パネルを製造するための角形のガラス基板であるが、半導体基板、フィルム液晶用フレキシブル基板、フォトマスク用基板、太陽電池用基板、カラーフィルタ用基板などの他の基板であってもよい。
【００２８】
また、現像液には、例えば有機平坦化膜形成用のレジスト膜又はカラーフィルタ製造用のレジスト膜を現像処理するための現像液が使用される。このような現像液は基板Ｗ又は基板Ｗに形成されたこれらのレジストと反応して、使用済みの現像液を再使用する際に障害となる非溶解物を生成する特徴を有する。
【００２９】
基板処理装置１は、基板処理槽１０と、基板処理槽１０内に設置され、基板Ｗに現像液を吐出するノズル３０と、上流ユニットから基板処理槽１０、そして下流ユニットへと水平姿勢の基板Ｗを搬送するコンベア２０と、回収口４２１が基板処理槽１０の底部に開口している配管４２と、配管４２と並列的に設けられ、廃液口４３１が基板処理槽１０の底部に開口している配管４３と、基板処理槽１０の内部の所定部位に設置され、基板処理槽１０内に流下した現像液の流出先を配管４２と配管４３との間で選択的に切り替える揺動部材４４５を有する現像液流路切替部４４と、基板処理槽１０の内部に設置され、ノズル３０から吐出された後の現像液を現像液流路切替部４４に導引する固定スロープ部４５と、を備える。なお、本実施形態における廃液流路は廃液口４３１を入口側の開口とする配管４３を流れる処理液の流路を称し、回収流路は回収口４２１を入口側の開口とする配管４２を流れる処理液の流路を称する。
【００３０】
ノズル３０は、基板処理槽１０の入口側開口１１付近に設置されており、奥行き方向（Ｘ軸方向）に沿って複数配置される形態（図１ではノズル３０が２基設置されている。）が一般的である。このようなノズル３０は、後述する現像液の回収タンク４２２と配管３２によって流路接続されており、ノズル３０の吐出口から現像液が吐出される。なお、ノズルは、例えば奥行き方向に沿って水平方向に延びる長尺のノズルであってもよい。この場合、ノズルが有する吐出口は長手方向に沿ってスリット状に形成されている。
【００３１】
基板Ｗの現像処理が連続して行われる間、現像液はノズル３０から吐出された状態が維持され続ける。表面に露光済みのレジスト膜が形成された基板Ｗはこのようなノズル３０の吐出口の直下位置を通過する際に、ノズル３０から吐出されることで形成された現像液の液柱を通り抜ける。これによって、現像液が基板Ｗ上に液盛りされる。現像反応は、液盛りされた基板Ｗが搬送されている間に進行し、次工程において水洗処理が施されることによって停止する。
【００３２】
このようなノズル３０は、基板Ｗの搬送経路として構成されたコンベア２０を跨ぐようにして設置された架橋構造体６０が備えるノズル支持部６１に設置されている。この架橋構造体６０は昇降可能であるため、ノズル３０の吐出口と基板Ｗとの間隔は調節可能である。
【００３３】
基板処理槽１０は、現像液が基板Ｗに塗布される工程が実施される槽である。基板処理槽１０の下方の部分は、鉛直部１０１と、鉛直部１０１の下端から基板Ｗの搬送方向の下流側に向けて斜め下方に延び出た斜方部１０２と、斜方部１０２の下端から下方に形成された凹部１０３と、この凹部１０３に隣り合うようにして基板Ｗの搬送方向下流側に形成された現像液廃液槽４６とで構成されている。
【００３４】
配管４２の入口側の開口である回収口４２１及び配管４３の入口側の開口である廃液口４３１は凹部１０３に並列的に形成されている。廃液口４３１は基板Ｗの搬送方向上流側に形成され、回収口４２１は基板Ｗの搬送方向下流側に形成されている。本実施形態では、これらの回収口４２１及び廃液口４３１の大きさは、後述する現像液流路切替部４４によって一方の開口に現像液の流路を切り替えることが可能な範囲で比較的大きく形成されている。また、本実施形態では、回収口４２１の開口断面積が廃液口４３１の開口断面積よりも大きく形成されている。なお、廃液口４３１が基板Ｗの搬送方向下流側に形成され、回収口４２１が基板Ｗの搬送方向上流側に形成される形態であっても構わない。
【００３５】
配管４３は基板処理槽１０の外側に設けられた廃液タンク４３２に流路接続されており、配管４３を流れる現像液は廃液タンク４３２に貯留される。
【００３６】
配管４２は回収タンク４２２に流路接続されており、配管４２を流れる現像液は回収タンク４２２に貯留される。この回収タンク４２２は配管３２によってノズル３０と流路接続されている。
【００３７】
配管３２には、回収タンク４２２側から順に、フィルタ４２３とポンプ４２４とが介挿されている。回収タンク４２２に貯留された現像液は、ポンプ４２４の駆動によって配管３２内を流れ、フィルタ４２３によって不純物をこし取られた後で、ノズル３０から再び吐出される。このように、配管４２、回収タンク４２２、配管３２、ポンプ４２４、フィルタ４２３、ノズル３０が現像液の循環系を構成しており、回収された現像液は再び基板Ｗの現像処理に使用される。なお、回収タンク４２２には現像液の新液が供給される図示しない新液供給機構も設けられており、回収タンク４２２内の現像液が不足する場合には新液供給機構が現像液の新液を供給する。
【００３８】
基板処理槽１０の内側における斜方部１０２に、本実施形態における導引部として固定スロープ部４５が設置されている。導引部は、基板処理槽１０の下方に流下した現像液を現像液流路切替部４４の後述する揺動部材４４５上に導く部材である。固定スロープ部４５は板状の部材であり、凹部１０３に向かって斜め下方に、その下端が揺動部材４４５の上方に位置するように設置されている。
【００３９】
固定スロープ部４５の奥行き方向（Ｘ軸方向）における幅は、基板Ｗの奥行き方向（Ｘ軸方向）における幅よりも大きい。従って、固定スロープ部４５の上方に位置する基板Ｗから流下した現像液は、確実に固定スロープ部４５に受け止められる。また、固定スロープ部４５の奥行き方向（Ｘ軸方向）における両側端には、図示しない突部が搬送方向（Ｙ軸方向）に沿って形成されている。このため、固定スロープ部４５の表面に流下した現像液は、固定スロープ部４５の側端から流れ落ちることなく固定スロープ部４５の下端に流れ、現像液流路切替部４４の揺動部材４４５の表面に流れ落ちる。
【００４０】
現像液流路切替部４４は、揺動部材４４５と、揺動部材４４５を駆動させるエアシリンダ４４３とを備える。揺動部材４４５は、板状に形成された板部４４１と、軸心方向が奥行き方向（Ｘ軸方向）に沿うとともに板部４４１の中心に設けられた揺動軸４４２と、を備える。揺動部材４４５は揺動軸４４２を中心にしてシーソーのように揺動可能であるため、板部４４１の傾きは自在に調節可能である。
【００４１】
揺動部材４４５は、揺動軸４４２がＹ軸方向における回収口４２１と廃液口４３１との間の部分の上方に位置するように設置されている。このため、板部４４１の端部４４１２は回収口４２１の直上に位置し、板部４４１の端部４４１３は廃液口４３１の直上に位置している。
【００４２】
この揺動部材４４５の板部４４１は、奥行き方向に沿って延びる長尺の板状面を有している。この板状面の幅は、奥行き方向におけるノズル３０の両端よりも大きく、また、基板Ｗの奥行き方向（Ｘ軸方向）における幅よりも大きい。ノズルが、長尺のスリット状の吐出口を有するノズルである場合には、板部はノズルの長手方向に沿って板状面が延び出た構造を有する。従って、揺動部材４４５の上方に位置する基板Ｗから流下した現像液又は固定スロープ部４５から流下した現像液は、確実に揺動部材４４５によって受け止められる。また、板部４４１のＸ軸方向における両側端には、図示しない突部が搬送方向に沿って形成されているため、現像液流路切替部４４上に流下した現像液は、板部４４１の両側端から流れ落ちることなく、揺動する板部４４１の傾きに応じて、回収口４２１と廃液口４３１とのいずれか一方から配管４２又は配管４３に流れ込む。
【００４３】
なお、揺動部材４４５は、シーソーのような構造に限られず、例えば板部の一方の端部に揺動軸が設けられた構造が採用されても構わない。また、板部の一方の端部に揺動軸が設けられた構造の現像液振分部が採用された場合、揺動軸の下方で板部が揺動する形態、又は揺動軸の上方で板部が揺動する形態など、いずれの形態であっても構わない。
【００４４】
本実施形態における現像液流路切替部４４では、揺動部材４４５が揺動軸４４２を中心に揺動することによって、板部４４１の端部４４１２が端部４４１３よりも下方に位置する傾斜状態と板部４４１の端部４４１３が端部４４１２よりも下方に位置する傾斜状態とのいずれか一方の傾斜状態に切り替えられる。
【００４５】
ノズル３０から吐出されて現像処理に使用されなかった現像液は、図３に示されるように、板部４４１の端部４４１２が端部４４１３よりも下方に位置した傾斜状態の揺動部材４４５上を流れる。揺動部材４４５上に流下した現像液は、板部４４１の傾きに沿って流れるため、廃液口４３１側に向かって流れることなく、回収口４２１側に向かって流れる。回収口４２１は比較的大きく形成されているため、現像液は速やかに回収口４２１から配管４２に流れ込む。このように、現像処理に未使用の現像液は配管４２を流れて回収タンク４２２に貯留され、基板Ｗの現像処理に再び使用される。
【００４６】
一方、ノズル３０から吐出されて現像処理に使用された現像液は、図２に示されるように、板部４４１の端部４４１３が端部４４１２よりも下方に位置した傾斜状態の揺動部材４４５上を流れる。揺動部材４４５上に流下した現像液は、板部４４１の傾きに沿って流れるため、回収口４２１側に向かって流れることなく、廃液口４３１側に向かって流れる。廃液口４３１は比較的大きく形成されているため、現像液は速やかに廃液口４３１から配管４３に流れ込む。このように、現像処理に使用された現像液は配管４３から基板処理槽１０の外部に排出され、再使用されることなく廃液として処理される。
【００４７】
一般的に回収される現像液の量は廃液として処理される現像液の量よりも多くなる。本実施形態では、回収口４２１の開口断面積が廃液口４３１の開口断面積よりも大きく形成されているため、回収される現像液は、基板処理槽１０の内部に溜まることなく回収口４２１から配管４２に流れ込む。
【００４８】
本実施形態では、揺動部材４４５における揺動軸４４２と端部４４１３との間の部分が固定スロープ部４５の下端の直下に位置する。従って、上方の固定スロープ部４５から流下してくる現像液を揺動部材４４５上に受ける位置を距離起点としたとき、揺動部材４４５上において、距離起点から廃液口４３１側への現像液の流出端、即ち端部４４１３までの第１距離が、距離起点から回収口４２１側への現像液の流出端、即ち端部４４１２までの第２距離よりも短くなる。
【００４９】
このように、揺動部材４４５の揺動軸４４２が揺動することによって、板部４４１の傾きが切り替えられる。これによって、現像液が流れる流路は配管４２を含む回収流路と配管４３を含む廃液流路とのいずれか一方に切り替えられる。このような揺動軸４４２の駆動は、揺動軸４４２の一方の端部に設けられたエアシリンダ４４３の駆動によって実現される。エアシリンダ４４３は後述する制御部９０と電気的に接続されており、制御部９０からの信号に応じてエアシリンダ４４３は駆動する。
【００５０】
コンベア２０は、回転する複数の搬送ローラ２０１の外周面の最上部が基板Ｗの下面に当接することで、基板Ｗを支持しつつ、搬送ローラ２０１の回転によって基板Ｗに推進力を与え、下流方向（（＋Ｙ）方向）に移動させる接触式の搬送装置である。
【００５１】
基板処理槽１０よりも上流側におけるコンベア２０の搬送ローラ２０１と搬送ローラ２０１との間に、第１切替センサ５０１が設置されている。また、基板処理槽１０の内部におけるノズル３０よりも下流側であって、コンベア２０の搬送ローラ２０１と搬送ローラ２０１との間に、第２切替センサ５０２が設置されている。これらの第１切替センサ５０１及び第２切替センサ５０２には、例えば光学式のセンサなどが採用される。
【００５２】
この第１切替センサ５０１及び第２切替センサ５０２は、ノズル３０の下方における基板Ｗの有無を判定するために基板Ｗを検出し、後述する制御部９０に信号を送信する。この検出結果に応答して、制御部９０はエアシリンダ４４３の駆動を制御し、揺動部材４４５の板部４４１の角度、即ち傾斜状態を切り替える。
【００５３】
より詳細には、第１切替センサ５０１がコンベア２０によって搬送されてきた基板Ｗの先端を検出すると、制御部９０に信号を送信する。この信号を受けた制御部９０は所定時間経過後にエアシリンダ４４３に信号を送信し、現像液が配管４３を流れるように、現像液流路切替部４４の板部４４１の傾きを切り替える。つまり、板部４４１の端部４４１３が端部４４１２よりも下方に位置するように、エアシリンダ４４３は駆動される。
【００５４】
このときの所定時間とは、第１切替センサ５０１が基板Ｗの先端を検出してから、おおよそ基板Ｗがノズル３０の下方に到達するまでの時間をいう。なお、所定時間が、第１切替センサ５０１が基板Ｗの先端を検出してから、基板Ｗの現像処理に使用された現像液が配管４２に流れ込む直前までの時間に設定されていれば、配管４２に流れ込む回収可能な現像液の量が多くなるため理想的である。
【００５５】
第２切替センサ５０２がコンベア２０によって搬送されてきた基板Ｗの後端を検出すると制御部９０に信号を送信する。この信号を受けた制御部９０は、直ちにエアシリンダ４４３に信号を送信し、現像液が配管４２を流れるように、現像液流路切替部４４の板部４４１の傾きを切り替える。つまり、板部４４１の端部４４１２が端部４４１３よりも下方に位置するように、エアシリンダ４４３は駆動される。
【００５６】
基板処理槽１０は、凹部１０３よりも基板Ｗの搬送方向下流側に現像液廃液槽４６を備える。この現像液廃液槽４６の底部に廃液口４６１２が形成されている。配管４６１の一端はこの廃液口４６１２に接続されており、配管４６１の他端は廃液タンク４９に流路接続されている。このため、配管４６１を流れる現像液は廃液タンク４９に貯留される。
【００５７】
現像液廃液槽４６は、凹部１０３よりも下流側を搬送される基板Ｗの表面から流下した現像液を集液する槽である。現像液廃液槽４６の搬送方向上流側における側面の上端部分４６１１は、凹部１０３、具体的には回収口４２１の上方に向けて斜め方向に延び出た構造を有する。このため、第２切替センサ５０２を通過した後で、基板Ｗの表面から基板処理槽１０の底部に向けて流下した現像液は、この上端部分４６１１によって回収口４２１の内部に流れ落ちることを遮られる。上端部分４６１１上に流れ落ちた現像液は、上端部分４６１１を伝って、現像液廃液槽４６内に流れ落ちる。現像液廃液槽４６の底部に集められた現像液は、廃液口４６１２から配管４６１に流れ込み、廃液タンク４９に貯留される。
【００５８】
図４には、制御部９０のハードウェア構成が示されている。制御部９０のハードウェアとしての構成は、一般的なコンピュータと同様である。即ち、制御部９０は、各種演算処理を行うＣＰＵ９１、基本プログラムを記憶する読み出し専用のメモリであるＲОＭ９２、各種情報を記憶する読み書き自在のメモリであるＲＡＭ９３及び制御用ソフトウェア、又はデータなどを記憶しておく磁気ディスク９４、キーボード及びマウスなどの入力部９５をバスライン９９に接続して構成されている。さらに、バスライン９９には、エアシリンダ４４３、コンベア２０のモータ８５、ポンプ４２４、第１切替センサ５０１、第２切替センサ５０２などが電気的に接続されている。
【００５９】
＜１−２. 処理の流れ＞
図５には、基板Ｗの処理状況に応じたフローチャートが示されている。このフローチャートに沿って、基板処理装置１における基本的な基板処理の流れについて説明する。
【００６０】
はじめに、現像液流路切替部４４の揺動部材４４５がエアシリンダ４４３の駆動によって揺動し、現像液流路切替部４４の板部４４１が有する回収口４２１側の端部４４１２が端部４４１３よりも下方に位置する傾斜状態に設定される。つまり現像液の流出先が配管４２になるように流路が設定される（ステップＳ１）。
【００６１】
そして、ノズル３０から現像液の吐出が開始される（ステップＳ２）。ノズル３０から吐出された現像液は、固定スロープ部４５から現像液流路切替部４４に流下し、現像液流路切替部４４に沿って、回収口４２１から配管４２に流れ込む。つまり、ノズル３０から吐出された現像液のうち、基板Ｗの現像処理に未使用の現像液が配管４２に流れ込む。このようにして配管４２に流れ込んだ現像液は回収タンク４２２に貯留される。連続して搬送されてくる基板Ｗの現像処理が行われる間、回収タンク４２２に貯留された現像液が循環使用されることによって、ノズル３０から現像液が吐出された状態は維持される。
【００６２】
上流ユニットにて所定の処理が行われた基板Ｗは、コンベア２０の回転によって、（＋Ｙ）方向に推進力を与えられ、下流方向に搬送される。
【００６３】
このとき、第１切替センサ５０１が上流ユニットから搬送されてくる基板Ｗの先端を検出し（ステップＳ３）、制御部９０に信号を送信する。
【００６４】
第１切替センサ５０１上を通過した基板Ｗは入口側開口１１から基板処理槽１０の内部に搬送される。そして、基板Ｗがノズル３０から吐出されている現像液の液柱を通り抜けることによって、現像液が基板Ｗの表面に液盛りされる。
【００６５】
第１切替センサ５０１が基板Ｗを検出してから所定時間が経過した段階（ステップＳ４）で、制御部９０はエアシリンダ４４３を駆動させ、板部４４１の傾きを切り替える。これによって、廃液口４３１側の板部４４１の端部４４１３が端部４４１２よりも下方に位置する状態になるため、揺動部材４４５上に流下した現像液は板部４４１に沿って、廃液口４３１から配管４３に流れ込む。つまり現像液流路切替部４４の揺動部材４４５が揺動することによって、板部４４１の傾きが切り替えられ、現像液の流出先が配管４３になるように流路が設定される（ステップＳ５）。
【００６６】
液盛りされた現像液がレジストと反応することで現像処理が行われる。液盛りされた現像液の一部はノズル３０から吐出され続ける現像液に押し流され、基板Ｗの表面から下方に流れ落ちる。このような現像液は、固定スロープ部４５から揺動部材４４５上に流れ落ち、揺動部材４４５の傾斜に沿って、廃液口４３１から配管４３に流れ込む。このように、基板Ｗの表面に液盛りされ、現像処理に使用された現像液の流路は現像液流路切替部４４によって配管４３に切り替えられる。
【００６７】
搬送される基板Ｗの後端がノズル３０から吐出されることで形成された現像液の液柱を通り抜けると、ノズル３０から吐出された現像液は基板処理槽１０の底部に直に流れ落ちる。つまり、基板Ｗの現像処理に未使用の現像液が固定スロープ部４５及び揺動部材４４５上を流れる。これによって、固定スロープ部４５及び揺動部材４４５の表面に残存している、現像処理に使用された現像液が廃液口４３１に向けて押し流される。このようにして、固定スロープ部４５及び現像液流路切替部４４の表面は、現像処理に使用されていない回収可能な現像液に置換される。
【００６８】
搬送される基板Ｗの後端が第２切替センサ５０２によって検出される（ステップＳ６）。第２切替センサ５０２は制御部９０に信号を送信し、制御部９０は、エアシリンダ４４３を駆動させて、揺動部材４４５を揺動させる。つまり、板部４４１の傾きが切り替えられる。これによって、板部４４１は、回収口４２１側の板部４４１の端部４４１２が端部４４１３よりも下方に位置する傾斜状態になる。これによって、それまで廃液口４３１から配管４３に流れ込んでいた現像液は、その流路を切り替えられ、回収口４２１から配管４２に流れ込む。つまり現像液流路切替部４４の揺動部材４４５が揺動することによって、板部４４１の傾きが切り替えられ、現像液の流出先が配管４２になるように流路が設定される（ステップＳ７）。
【００６９】
配管４２に流れ込んだ現像液は回収タンク４２２に貯留される。つまり、基板Ｗの現像処理に使用されることなく、基板処理槽１０の底部に流下した現像液は再使用されるために回収される。
【００７０】
現像液が回収口４２１から配管４２に流入している状態で、搬送される基板Ｗの表面から現像液が流下した場合、当該現像液は現像液廃液槽４６の上端部分４６１１に遮られるため、回収口４２１から配管４２に流入することを抑えられる。上端部分４６１１に流下した現像液は、現像液廃液槽４６に集められ、現像液廃液槽４６の廃液口４６１２から配管４６１を流れて廃液タンク４９に貯留される。
【００７１】
基板Ｗが凹部１０３の上方を通過した後で、基板Ｗの表面から現像液が流下した場合には、基板Ｗから流下した現像液は、現像液廃液槽４６に受け止められ、廃液口４６１２から配管４６１を流れて廃液タンク４９に貯留される。
【００７２】
次処理予定の基板Ｗが存在するか否かが制御部９０によって判断される（ステップＳ８）。次処理予定の基板Ｗが存在する場合には、次処理予定の基板Ｗが第１切替センサ５０１に検出されてから所定時間が経過するまでの間、現像液は一連の現像液の循環系を流れ続ける。
【００７３】
以上のように、本実施形態に係る基板処理装置１は、揺動軸４４２を中心に揺動することによって、現像液の流出先を配管４２と配管４３との間で選択的に切り替える現像液流路切替部４４を備える。この現像液流路切替部４４の駆動によって、現像処理に使用された現像液は分離され、廃液として処理される。一方、現像処理に未使用の現像液は回収されて再使用される。このため、現像不良を引き起こすおそれがある現像液を現像処理に使用する場合であっても、現像処理に使用された現像液の全量を廃液として処理する必要がなく、現像液を効率よく使用することができる。また、現像処理が行われる間、ノズル３０から現像液を吐出させ続けることができるため、ノズル３０からの現像液の吐出状態を一定に保つことができる。
【００７４】
また、揺動部材４４５を有する現像液流路切替部４４が、現像液の流出先を配管４２と配管４３との間で選択的に切り替えるため、現像液は速やかに基板処理槽１０から各開口を通って基板処理槽１０の外部に流出する。つまり、基板処理槽１０の内部に現像液の液だまりが形成されることを抑えられる。従って、基板処理槽１０の内部で基板Ｗの処理に使用された現像液と基板Ｗの処理に未使用の現像液とが混ざり合うことを抑えられる。これによって、現像処理に使用され、溶解したレジスト成分を含む現像液が回収タンク４２２に流れ込むことを抑えられるため、現像不良が生じることを抑えられる。
【００７５】
また、基板処理装置１は導引部として固定スロープ部４５をさらに備える。このため、基板処理槽１０は現像液を現像液流路切替部４４の揺動部材４４５に流下させるための特別な構造を備える必要がなく、比較的簡易な構造を採用可能である。また、ノズル３０から吐出された現像液を確実に現像液流路切替部４４に導くことができる。さらに、現像液流路切替部４４の揺動部材４４５を比較的小さいサイズに形成できるため、揺動部材４４５は比較的容易に動作させることができる。
【００７６】
また、上方の固定スロープ部４５から流下してくる現像液を揺動部材４４５が受ける位置を距離起点としたとき、揺動部材４４５においては、廃液口４３１側への現像液の流出端である端部４４１３から距離起点までの第１距離が、回収口４２１側への現像液の流出端である端部４４１２から距離起点までの第２距離よりも短くなる。従って、配管４３を流れてから廃液として処理される現像液が揺動部材４４５上で残存する量は、配管４２を流れてから回収される現像液が揺動部材４４５上で残存する量よりも少なくなる。従って、揺動部材４４５上に残存する、廃液として処理される現像液が配管４２に流れ込むことを極力抑えることができる。
【００７７】
また、ノズルが水平方向に延びる長尺のノズルである場合、現像液は奥行き方向に沿って幅を有する液柱として吐出される。揺動部材４４５がノズルの長手方向に沿って延びる長尺の板状面を持つことによって、このような現像液を確実に受け止められるとともに、速やかに基板処理槽１０外に現像液を流出させることができる。
【００７８】
また、第１切替センサ５０１及び第２切替センサ５０２がノズルの下方における基板Ｗの有無を判定するための基板検出を行い、検出結果に応答して制御部９０が揺動部材４４５を切り替えることができる。このため、現像処理に使用された現像液と、現像処理に未使用の現像液との流出先を比較的正確なタイミングで各流路の間で選択的に切り替えることができる。
【００７９】
＜２． 第２の実施形態＞
図６には、本実施形態に係る基板処理装置１ｂが示されている。図６に示されるように、基板処理装置１ｂの基板処理槽１０ｂには、基板Ｗの搬送方向に沿って上流側から順に廃液口４３１、回収口４２１ａ、回収口４２１ｂが形成されている。この回収口４２１ａ，４２１ｂそれぞれに配管４２ａ，４２ｂが流路接続されている。なお、廃液口４３１、回収口４２１ａ、回収口４２１ｂはこのような配置である必要はなく、並列的にこれらの開口が設置されていればよい。このような基板処理装置１ｂは、２種類の現像液が使用される場合であって、少なくとも一方の現像液がレジストと反応して非溶解物を生成する場合に採用される。なお、本実施形態では、これらの回収口４２１ａに流路接続された配管４２ａ，回収口４２１ｂに流路接続された配管４２ｂが単位回収流路に相当する。これらの単位回収流路は使用される処理液の種類に応じて設置される。
【００８０】
配管４２ａ，４２ｂは回収タンク４２２ａ，４２２ｂにそれぞれ流路接続されている。この回収タンク４２２ａ，４２２ｂと流路接続された配管８０ａ，８０ｂがバルブ１００で配管３２に連結されており、配管３２はノズル３０に流路接続されている。バルブ１００が切り替わることによって、回収タンク４２２ａ又は回収タンク４２２ｂに貯留された各現像液がノズル３０から吐出され、現像液は再使用される。
【００８１】
本実施形態では、現像液流路切替部４４が回収口４２１ａ，４２１ｂ側に流路を設定した現像液の流路を、配管４２ａと配管４２ｂとの間で切り替える回収流路切替部５４を基板処理装置１ｂが備える。
【００８２】
回収流路切替部５４は、揺動部材５４５と、揺動部材５４５を駆動させるエアシリンダ５４３とを備える。揺動部材５４５は、板状に形成された板部５４１と、軸心方向が奥行き方向（Ｘ軸方向）に沿うとともに板部５４１の中心に設けられた揺動軸５４２と、を備えており、揺動軸５４２を中心にしてシーソーのように揺動可能である。この揺動軸５４２の長手方向は、揺動軸４４２の長手方向と平行に配設されており、この回収流路切替部５４は、揺動軸５４２がＹ軸方向における回収口４２１ａと回収口４２１ｂとの間の部分の上方に位置するように設置されている。つまり、板部５４１の端部５４１２は回収口４２１ａの直上に位置し、板部５４１の端部５４１３は回収口４２１ｂの直上に位置している。なお、本実施形態では、基板Ｗの搬送方向上流側から順に揺動部材４４５、揺動部材５４５が配設されているが、このような形態に限られず、回収流路の配設位置に応じて、揺動部材５４５が揺動部材４４５よりも上流側に配設されていてもよい。
【００８３】
板部５４１の奥行き方向（Ｘ軸方向）における幅は、板部４４１の奥行き方向（Ｘ軸方向）における幅よりも大きい。また、板部５４１のＸ軸方向における両端には、図示しない突部が搬送方向に沿って形成されているため、回収流路切替部５４上に流下した現像液は、板部５４１の側端から流れ落ちることなく、揺動する板部５４１の傾きに応じて、回収口４２１ａと回収口４２１ｂとのいずれか一方に流れる。
【００８４】
揺動部材５４５は、板部５４１の傾斜状態に応じて、回収される現像液の流出先を各回収流路の間で切り替える。この板部５４１の上方に現像液流路切替部４４の板部４４１の端部４４１２が位置している。従って板部４４１の端部４４１２から流下した現像液は、回収流路切替部５４に受け止められる。
【００８５】
このように、回収流路切替部５４の揺動軸５４２が揺動することによって、板部５４１の傾きが切り替えられ、回収される現像液が流れる流路は、配管４２ａと配管４２ｂとのいずれか一方に設定される。このような板部４４１の傾きの切り替えは、揺動軸５４２の一方の端部に設けられたエアシリンダ５４３の駆動によって実現される。エアシリンダ５４３は後述する制御部９０と電気的に接続されており、制御部９０からの信号に応じてエアシリンダ５４３は駆動する。
【００８６】
処理の流れについて説明する。本実施形態では、始めに、レジストと反応して非溶解物を生成する第１現像液で現像処理が行われた後で、さらにレジストと反応して非溶解物を生成する第１現像液とは異なる第２現像液で現像処理が行われる場合を想定して説明する。なお、第１現像液は回収口４２１ａから配管４２ａを通り、第２現像液は回収口４２１ｂから配管４２ｂを通って回収されるものとする。
【００８７】
はじめに、基板処理装置１ｂにおいて、現像液流路切替部４４の板部４４１は端部４４１２が端部４４１３よりも下方に位置し、回収流路切替部５４の板部５４１の端部５４１２が端部５４１３よりも下方に位置した状態に設定される。
【００８８】
続いて、ノズル３０から第１現像液の吐出が開始される。ノズル３０から吐出された第１現像液は、固定スロープ部４５から現像液流路切替部４４に流下し、現像液流路切替部４４から回収流路切替部５４を経て、回収口４２１ａから配管４２ａに流れ込む。
【００８９】
基板Ｗの搬送が開始され、第１切替センサ５０１が基板Ｗの先端を検出すると、制御部９０に信号を送信する。そして、基板Ｗは、入口側開口１１から基板処理槽１０の内部に搬送され、ノズル３０から吐出されている第１現像液の液柱を通り抜ける。これによって、第１現像液が基板Ｗの表面に液盛りされる。液盛りされた第１現像液の一部は、ノズル３０から吐出され続ける現像液に押し出されて、基板Ｗの表面から下方に流れ落ちる。流れ落ちた第１現像液は、固定スロープ部４５の表面から現像液流路切替部４４上に流下する。
【００９０】
制御部９０が第１切替センサ５０１から信号を受信し、所定時間が経過した後で、板部４４１の傾きは切り替えられ、廃液口４３１側の板部４４１の端部４４１３が端部４４１２よりも下方に位置する状態になる。このため、現像液流路切替部４４上に流下した第１現像液は現像液流路切替部４４に沿って流れ、廃液口４３１から配管４３に流れ込む。このようにして、現像処理に使用された第１現像液は、現像液流路切替部４４によって、流路を配管４３に切り替えられ、配管４３を通って排出される。
【００９１】
搬送される基板Ｗの後端が第２切替センサ５０２によって検出されると、制御部９０は、エアシリンダ４４３に信号を送信し、駆動させる。これによって、板部４４１の傾きは切り替えられ、回収口４２１ａ，４２１ｂ側における板部４４１の端部４４１２が端部４４１３よりも下方に位置する状態になる。一方、回収流路切替部５４は、初期状態と同様に回収口４２１ａ側の端部５４１２が端部５４１３よりも下方に位置した状態である。このため、廃液口４３１から配管４３に流れ込んでいた第１現像液は、回収口４２１ａから配管４２ａに流入しはじめる。このようにして、基板Ｗの現像処理に使用されることなく、基板処理槽１０の底部に流下した第１現像液は配管４２ａを流れて回収及び再使用される。
【００９２】
使用する現像液が第２現像液に切り替えられる際には、再び現像液流路切替部４４の板部４４１の傾きが切り替えられ、第１現像液は廃液口４３１から配管４３に流れ込み始める。そして、バルブ１００が切り替えられ、配管３２を流れる現像液が第１現像液から第２現像液に切り替えられる。配管３２内における第１現像液と第２現像液との混合状態が解消されて第２現像液に置換されるまで、混合状態の現像液は廃液口４３１から吐出され続ける。
【００９３】
所定時間経過後、ノズル３０から吐出される現像液が第２現像液に切り替わった段階で、現像液流路切替部４４の板部４４１は、第２現像液が回収口４２１ｂに流れるようにその傾きを切り替えられる。つまり、回収口４２１ａ，４２１ｂ側における板部４４１の端部４４１２が端部４４１３よりも下方に位置するようにエアシリンダ４４３が駆動する。また、回収流路切替部５４についても、回収口４２１ｂ側における板部５４１の端部５４１３が端部５４１２よりも下方に位置するように、制御部９０による信号を受けたエアシリンダ５４３は駆動する。これによって、ノズル３０から吐出される第２現像液は、第２現像液が流れるべき配管４２ｂに流れ込み、回収タンク４２２ｂで貯留される。
【００９４】
そして、現像液流路切替部４４が動作することによって、基板Ｗの現像処理に使用された第２現像液の流路と現像処理に未使用の第２現像液の流路とを切り替えながら現像処理が行われる。
【００９５】
このように、現像液が複数種類使用される場合には、所定の現像液が、廃液流路となる配管と当該現像液の回収流路とを流れるように、現像液流路切替部４４及び回収流路切替部５４はその駆動を制御される。
【００９６】
以上のように、本実施形態に係る基板処理装置１ｂでは、複数種類の現像液が使用される場合であっても、回収流路切替部５４が揺動軸を中心に揺動することによって、現像液の種類に応じて現像液が流れるべき回収流路に現像液を流すことができる。従って、回収される現像液同士が混合されることを抑えることができる。また、現像液の切り替えを比較的容易に行うことができる。
【００９７】
＜変形例＞
以下において、変形例について説明する。上記第１の実施形態及び第２の実施形態では、現像処理が実施される基板処理装置１，１ｂに本発明が使用されていたがこのような形態には限られない。洗浄、エッチングなどの処理が行われる基板処理装置に本発明を適用することも可能である。
【００９８】
また、上記第１の実施形態及び第２の実施形態では、揺動部材４４５，５４５を駆動させるためエアシリンダ４４３，５４３を使用しているがこれに限られるものではなく、他の構成を採用してもよい。例えば、モータ等が用いられて揺動部材を駆動させてもよい。
【００９９】
また、上記第１の実施形態及び第２の実施形態では、第１切替センサ５０１及び第２切替センサ５０２が基板Ｗの位置を検出した信号に基づき、現像液流路切替部４４や回収流路切替部５４を動作させていたが、これに限られるものではない。検出信号に基づき制御部９０は各種機構の動作を制御することができる。また、第１切替センサ５０１及び第２切替センサ５０２が設けられる位置や個数は適宜変更してもよい。
【符号の説明】
【０１００】
１，１ｂ 基板処理装置
１０，１０ｂ 基板処理槽
３０ ノズル
４２，４２ａ，４２ｂ 配管
４３ 配管
４４ 現像液流路切替部
４５ 固定スロープ部
５４ 回収流路切替部
９０ 制御部
４２１，４２１ａ，４２１ｂ 回収口
４３１ 廃液口
４４２ 揺動軸
４４５ 揺動部材
５４２ 揺動軸
５４５ 揺動部材
Ｗ 基板
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の処理に使用される処理液を吐出するノズルと、
前記ノズルから吐出された前記処理液が流下する処理槽と、
前記処理槽内に開口した廃液流路と、
前記廃液流路と並列的に設けられ、前記処理液の回収と再利用とのために前記処理槽内において開口した回収流路と、
前記処理槽の前記所定部位に設けられ、揺動軸を中心に揺動することによって、前記処理槽内に流下した前記処理液の流出先を前記廃液流路と前記回収流路との間で選択的に切替える揺動部材を有する処理液流路切替部と、
を備える基板処理装置。
【請求項２】
請求項１に記載の基板処理装置であって、
前記処理槽内に設置され、前記ノズルから吐出された前記処理液を前記処理液流路切替部に導引するスロープ、
をさらに備える基板処理装置。
【請求項３】
請求項２に記載の基板処理装置であって、
上方から流下してくる前記処理液を前記揺動部材上に受ける位置を距離起点としたとき、前記揺動部材においては、前記廃液流路側への前記処理液の第１流出端までの第１距離が、前記回収流路側への前記処理液の第２流出端までの第２距離よりも短いことを特徴とする、基板処理装置。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれか一つに記載の基板処理装置であって、
前記ノズルは水平方向に延びる長尺のノズルであり、
前記揺動部材が、前記ノズルの長手方向に沿って延びる長尺の板状面を持つ、基板処理装置。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれか一つに記載の基板処理装置であって、
前記回収流路として、前記処理液の種類に応じて複数の単位回収流路が並列的に設置されており、
前記複数の単位回収流路は前記処理槽内で並列的に開口しているとともに、
前記基板処理装置が、
前記処理槽内に落下して回収されるべき前記処理液の流出先を、前記複数の単位回収流路の間で選択的に切り替える回収流路切替部、
をさらに備える、基板処理装置。
【請求項６】
請求項５に記載の基板処理装置であって、
前記揺動部材を第１の揺動部材と呼び、前記揺動部材の揺動軸を第１の揺動軸と呼ぶとき、
前記回収流路切替部が、
前記第１の揺動軸と平行に設けられた第２の揺動軸のまわりに揺動可能な少なくとも一つの第２の揺動部材、
を備え、
前記第２の揺動部材の傾斜状態に応じて、前記処理槽内に落下して回収されるべき前記処理液の流出先を前記複数の単位回収流路の間で切り替える、基板処理装置。
【請求項７】
請求項１ないし６のいずれか一つに記載の基板処理装置であって、
前記ノズルの下方における前記基板の有無を判定するための基板検出を行う検出部と、
前記検出手段による検出結果に応答して、前記揺動部材の傾斜状態を切り替える信号を生成し、前記揺動部材を揺動させる駆動部へ前記信号を出力する制御部と、
をさらに備える、基板処理装置。
【請求項８】
基板の処理に使用される処理液をノズルから吐出する吐出工程と、
前記ノズルから吐出して前記処理槽の内部に流下した前記処理液を、所定の揺動軸を中心に揺動可能な揺動部材上に受ける工程と、
前記揺動部材の傾斜状態に応じて、前記揺動部材上に受けた前記処理液の流出先を、廃液流路側と、前記処理液の回収と再利用とのための回収流路側との間で選択的に切り替える処理液流路切替工程と、
を備える、処理液の流路切り替え方法。
【請求項１】
基板の処理に使用される処理液を吐出するノズルと、
前記ノズルから吐出された前記処理液が流下する処理槽と、
前記処理槽内に開口した廃液流路と、
前記廃液流路と並列的に設けられ、前記処理液の回収と再利用とのために前記処理槽内において開口した回収流路と、
前記処理槽の前記所定部位に設けられ、揺動軸を中心に揺動することによって、前記処理槽内に流下した前記処理液の流出先を前記廃液流路と前記回収流路との間で選択的に切替える揺動部材を有する処理液流路切替部と、
を備える基板処理装置。
【請求項２】
請求項１に記載の基板処理装置であって、
前記処理槽内に設置され、前記ノズルから吐出された前記処理液を前記処理液流路切替部に導引するスロープ、
をさらに備える基板処理装置。
【請求項３】
請求項２に記載の基板処理装置であって、
上方から流下してくる前記処理液を前記揺動部材上に受ける位置を距離起点としたとき、前記揺動部材においては、前記廃液流路側への前記処理液の第１流出端までの第１距離が、前記回収流路側への前記処理液の第２流出端までの第２距離よりも短いことを特徴とする、基板処理装置。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれか一つに記載の基板処理装置であって、
前記ノズルは水平方向に延びる長尺のノズルであり、
前記揺動部材が、前記ノズルの長手方向に沿って延びる長尺の板状面を持つ、基板処理装置。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれか一つに記載の基板処理装置であって、
前記回収流路として、前記処理液の種類に応じて複数の単位回収流路が並列的に設置されており、
前記複数の単位回収流路は前記処理槽内で並列的に開口しているとともに、
前記基板処理装置が、
前記処理槽内に落下して回収されるべき前記処理液の流出先を、前記複数の単位回収流路の間で選択的に切り替える回収流路切替部、
をさらに備える、基板処理装置。
【請求項６】
請求項５に記載の基板処理装置であって、
前記揺動部材を第１の揺動部材と呼び、前記揺動部材の揺動軸を第１の揺動軸と呼ぶとき、
前記回収流路切替部が、
前記第１の揺動軸と平行に設けられた第２の揺動軸のまわりに揺動可能な少なくとも一つの第２の揺動部材、
を備え、
前記第２の揺動部材の傾斜状態に応じて、前記処理槽内に落下して回収されるべき前記処理液の流出先を前記複数の単位回収流路の間で切り替える、基板処理装置。
【請求項７】
請求項１ないし６のいずれか一つに記載の基板処理装置であって、
前記ノズルの下方における前記基板の有無を判定するための基板検出を行う検出部と、
前記検出手段による検出結果に応答して、前記揺動部材の傾斜状態を切り替える信号を生成し、前記揺動部材を揺動させる駆動部へ前記信号を出力する制御部と、
をさらに備える、基板処理装置。
【請求項８】
基板の処理に使用される処理液をノズルから吐出する吐出工程と、
前記ノズルから吐出して前記処理槽の内部に流下した前記処理液を、所定の揺動軸を中心に揺動可能な揺動部材上に受ける工程と、
前記揺動部材の傾斜状態に応じて、前記揺動部材上に受けた前記処理液の流出先を、廃液流路側と、前記処理液の回収と再利用とのための回収流路側との間で選択的に切り替える処理液流路切替工程と、
を備える、処理液の流路切り替え方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【公開番号】特開２０１３−５１３３７（Ｐ２０１３−５１３３７Ａ）
【公開日】平成２５年３月１４日（２０１３．３．１４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−１８９１７３（Ｐ２０１１−１８９１７３）
【出願日】平成２３年８月３１日（２０１１．８．３１）
【出願人】（０００２０７５５１）大日本スクリーン製造株式会社 (2,640)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２５年３月１４日（２０１３．３．１４）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年８月３１日（２０１１．８．３１）
【出願人】（０００２０７５５１）大日本スクリーン製造株式会社 (2,640)
【Ｆターム（参考）】
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