基板処理装置及び処理液付与方法
【課題】移動するノズルから吐出される処理液の流量の変動を抑えられる技術を提供する。
【解決手段】基板処理装置２０は、基板２００を略水平に保持する基板保持部３０と、基板２００に対して略平行な主走査方向に沿って延びる主走査機構ガイド部４２と、主走査機構ガイド部４２により主走査方向に沿って移動可能に支持されたスライダ４４と、を有する主走査機構４０と、スライダ４４により主走査方向に沿って移動可能に支持され、基板２００に塗布液を吐出する吐出部５０と、吐出部５０に接続されるとともに吐出部５０に塗布液を導く可撓性の塗布液配管８０ｂと、塗布液配管８０ｂの途中の部分を支持するとともに、主走査の繰返しによるスライダ４４の周期的な動きに追随してその向きが周期的に変化する可動配管支持部１００と、を備える。
【解決手段】基板処理装置２０は、基板２００を略水平に保持する基板保持部３０と、基板２００に対して略平行な主走査方向に沿って延びる主走査機構ガイド部４２と、主走査機構ガイド部４２により主走査方向に沿って移動可能に支持されたスライダ４４と、を有する主走査機構４０と、スライダ４４により主走査方向に沿って移動可能に支持され、基板２００に塗布液を吐出する吐出部５０と、吐出部５０に接続されるとともに吐出部５０に塗布液を導く可撓性の塗布液配管８０ｂと、塗布液配管８０ｂの途中の部分を支持するとともに、主走査の繰返しによるスライダ４４の周期的な動きに追随してその向きが周期的に変化する可動配管支持部１００と、を備える。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体ウエハ、液晶表示装置用ガラス基板、ＰＤＰ（Plasma Display Panel）用ガラス基板、有機ＥＬ表示パネル用ガラス基板、太陽電池用基板、磁気或は光ディスク用のガラス或はセラミック基板等の各種被処理基板に塗布される処理液の流量の一定性を保持する技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
吐出ノズルが、表面に隔壁の配列が形成された基板の表面を走査しつつ、有機ＥＬのような画素形成材料を塗布液として塗布する技術が知られている。この場合、可撓性を有する配管が、走査移動する吐出ノズルに接続されており、配管を流れた塗布液が吐出ノズルから吐出される。
【０００３】
このような技術として、例えば、特許文献１には、主走査方向に沿って延びるガイド部と、ガイド部との間にエア層を介在させた状態で、ガイド部により主走査方向に沿って移動可能に支持されたスライダと、スライダに支持され、塗布液を吐出するノズルと、スライダ及びノズルに接続された配管の途中部分を支持する配管支持部材と、を備える塗布装置が開示されている。
【０００４】
また、特許文献２には、ガイド部に係合しつつ主走査方向に移動可能に支持されたスライダと、スライダに支持されたノズルと、を有し、スライダ及びノズルに流体を導く複数の配管がノズル及びスライダに対してガイド部の軸を挟んで両側に分けて固定された構成の塗布装置が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１１−０７２９７４号公報
【特許文献２】特開２０１１−０７２９７５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、特許文献１又は特許文献２に開示されているこれらの配管は可撓性を有するため、スライダの移動又は振動によって配管の一部にねじれなどの変形が生じやすい。変形後の配管の形状によっては、スライダの走査移動時に塗布液が本来の流れ方向とは逆方向に配管内を流れてしまうため、吐出ノズルから吐出される塗布液の流量が変動する場合があった。
【０００７】
本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、移動するノズルから吐出される処理液の流量の変動を抑えられる技術を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
第１の発明は、基板処理装置であって、基板を略水平に保持する基板保持部と、前記基板に対して略平行な主走査方向に沿って延びるガイド部と、前記ガイド部により前記主走査方向に沿って移動可能に支持された移動部と、を有する主走査機構と、前記移動部により前記主走査方向に沿って移動可能に支持され、前記基板に処理液を吐出する吐出部と、前記吐出部に接続されるとともに前記吐出部に処理液を導く可撓性の配管と、前記配管の途中の部分を支持するとともに、主走査の繰返しによる前記移動部の周期的な動きに追随してその向きが周期的に変化する可動配管支持部と、を備える。
【０００９】
第２の発明は、第１の発明に係る基板処理装置であって、前記配管のうち、前記可動配管支持部による支持箇所と、前記吐出部への接続箇所との間の区間が鉛直面内でアーチ形状に形成されている。
【００１０】
第３の発明は、第２の発明に係る基板処理装置であって、前記配管の前記区間は、上に凸のアーチ形状となっている。
【００１１】
第４の発明は、第１の発明に係る基板処理装置であって、前記ガイド部に沿って延びる補助ガイド部と、前記補助ガイド部により前記主走査方向に沿って移動可能に支持された補助移動部と、を有する補助走査機構をさらに備え、前記配管のうち、前記可動配管支持部による支持箇所と、前記吐出部への接続箇所との間の所定部分が前記補助移動部に支持されている。
【００１２】
第５の発明は、第４の発明に係る基板処理装置であって、前記可動配管支持部が前記補助移動部に連結されていることを特徴とする。
【００１３】
第６の発明は、第４の発明又は第５の発明に係る基板処理装置であって、前記配管のうち、前記可動配管支持部による支持箇所と、前記補助移動部への接続箇所との間の区間が鉛直面内でアーチ形状に形成されている。
【００１４】
第７の発明は、第４の発明ないし第６の発明のいずれか一つに係る基板処理装置であって、前記主走査機構は前記補助走査機構よりも下方に配置されていることを特徴とする。
【００１５】
第８の発明は、第１の発明ないし第７の発明のいずれか一つに係る基板処理装置であって、前記可動配管支持部の向きを調節する駆動部をさらに備える。
【００１６】
第９の発明は、処理液付与方法であって、基板を略水平に保持する工程と、吐出部から処理液を吐出させながら、前記吐出部を支持する移動部を主走査方向に沿って基板上を周期的に走査移動させる工程と、前記吐出部に前記処理液を導く可撓性の配管の途中の部分を支持する可動配管支持部の向きを、走査移動する前記移動部に追随して周期的に変化させる工程と、を備える。
【発明の効果】
【００１７】
第１の発明から第９の発明において、可動配管支持部は、配管の途中の部分を支持するとともに、移動部の周期的な動きに追随してその向きが周期的に変化する。このため、移動部が移動しても、それに追随して可動配管支持部の向きが変化するため、可動配管支持部に支持された配管の部分にねじれが生じることを抑えられる。この結果、吐出部から吐出される処理液の流量が変動することを抑えられる。
【００１８】
特に、第２の発明において、可動配管支持部による支持箇所と吐出部への接続箇所との間の区間が鉛直面内でアーチ形状に形成されている。従って配管は長くなるため、配管の暴れや揺れは配管全体で平滑化され、その影響を小さくすることができる。これによって、吐出部から吐出される処理液の流量の変動を抑えられる。
【００１９】
特に、第３の発明において、配管の区間が上に凸のアーチ形状となっている。このため、主走査機構に接続された吐出部から延び出た配管の端末が上方に立ち上がるため、移動部が移動しても、処理液が配管内を逆流する方向に力が生じにくい。これによって、吐出部から吐出される処理液の流量の変動を抑えられる。
【００２０】
特に、第４の発明において、可動配管支持部による支持箇所と吐出部への接続箇所との間の所定部分が補助移動部に支持されている。従って、配管の揺れや暴れが生じても吐出部に伝わりにくいため、吐出部から吐出される塗布液の流量の変動を抑えられる。
【００２１】
特に、第５の発明において、可動配管支持部が補助移動部に連結されている。従って、補助移動部の駆動によって、可動配管支持部の向きを確実に変化させることができる。
【００２２】
特に、第６の発明において、可動配管支持部による支持箇所と補助移動部への接続箇所との間の区間が鉛直面内でアーチ形状に形成されている。従って、配管は長くなるため、配管の揺れや暴れはアーチ形状の配管全体で平滑化され、その影響を小さくすることができる。
【００２３】
特に、第７の発明において、主走査機構は補助走査機構よりも下方に配置されている。従って、吐出部に接続された配管の端末は上方に立ち上がった状態に維持されやすくなる。従って、移動部が移動しても処理液が逆流する方向に力が生じにくく、処理液の流量の変動を抑えられる。
【００２４】
特に、第８の発明において、可動配管支持部の向きを調節する駆動部によって、可動配管支持部は確実に移動部に追随してその向きを調節される。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】実施形態に係る基板処理装置を示す概略平面図である。
【図２】同上の基板処理装置を示す概略正面図である。
【図３】図２におけるＩ−Ｉ線概略断面図である。
【図４】実施形態に係る基板処理装置の主たる構成要素の配置関係を示す概略斜視図である。
【図５】処理の流れを示すフローチャートである。
【図６】変形例における基板処理装置の主たる構成要素の配置関係を示す概略斜視図である。
【図７】変形例における基板処理装置の主たる構成要素の配置関係を示す概略斜視図である。
【図８】変形例における基板処理装置の主たる構成要素の配置関係を示す概略斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
以下、添付の図面を参照しながら、本発明の実施形態について説明する。以下の実施形態は、本発明を具体化した一例であり、本発明の技術的範囲を限定する事例ではない。
【００２７】
図１は、本実施形態に係る基板処理装置２０を示す概略平面図である。図２は、基板処理装置２０を示す概略正面図である。図３は、図２に示す基板処理装置２０のＩ−Ｉ線概略断面図である。また、図４は、基板処理装置２０の主要部の配置関係を概略的に記載した概略斜視図である。
【００２８】
なお、以下の説明においては、方向及び向きを示す際に、適宜図中に示すＸＹＺ直交座標を用いる。ここで、Ｘ軸及びＹ軸方向は水平方向、Ｚ軸方向は鉛直方向（＋Ｚ側が上側、−Ｚ側が下側）を示す。また、便宜上、Ｙ軸方向を基板の搬送方向（＋Ｙ側が下流側、−Ｙ側が上流側）とし、Ｘ軸方向を移動部の主走査方向（＋Ｘ側、−Ｘ側）とする。
【００２９】
基板処理装置２０は、基板２００に対して処理液として塗布液を塗布する装置である。基板２００としては、方形状の基板、例えば、平面表示装置用のガラス基板等が想定される。また、塗布液としては、基板２００に形成すべきパターン等の形成材料、例えば、有機ＥＬ表示装置の製造を想定した場合には、有機ＥＬ材料及びその溶媒等を含む液等が想定される。
【００３０】
この基板処理装置２０は、基板２００を保持する基板保持部３０と、主走査機構４０と、塗布液を吐出する吐出部５０と、補助走査機構６０と、可撓性の樹脂チューブなどで構成される塗布液配管８０ｂを支持する可動配管支持部１００と、を主に備えている。
【００３１】
基板保持部３０は、基板２００を略水平姿勢で保持可能に構成されている。ここでは、基板保持部３０は、その主面を所定高さ位置で上向き略水平姿勢に配設したステージ３２を有している。そして、基板２００の主面をステージ３２の上向き主面に当接させるように基板２００をステージ３２上に載置することで、基板２００が一定位置及び姿勢で保持可能に構成されている。基板保持部は、その他、基板の周囲を把持することで当該基板を保持する構成であってもよい。
【００３２】
また、基板保持部３０の下方には、吐出部５０に対して基板２００をＹ方向（副走査方向）に沿って相対移動させる基板移動機構３４が設けられている。ここでは、基板移動機構３４は、上方にステージ３２を支持する台部３６と、一対のスライド受部３７とを有している。スライド受部３７は、台部３６の下端部に設けられ、Ｙ方向に沿って延びる一対の副走査方向ガイド部３９上をスライド移動可能に構成されている。そして、リニアモータ等の基板移動駆動部（図示省略）からの駆動力を受けることで、基板移動機構３４が、上記ステージ３２及び基板２００と共に、Ｙ方向に沿って移動する構成とされている。なお、基板２００をＹ方向に沿って移動させる代りに、主走査機構４０及び吐出部５０を、基板２００に対してＹ方向に沿って移動させる構成であってもよい。なお、上記ステージ３２は、基板移動機構３４に対して鉛直軸周りに回転駆動可能に構成されていてもよい。
【００３３】
主走査機構４０は、主走査機構ガイド部４２と、主走査機構ガイド部４２に沿って移動するスライダ４４とを有している。主走査機構ガイド部４２は、基板２００の上方位置で、基板２００に対して略平行な主走査方向（Ｘ方向）に沿って延びる長尺状部材に形成されている。スライダ４４は、主走査機構ガイド部４２を挿通配置可能な内部空間を有する部材であり、当該主走査機構ガイド部４２によってＸ方向に沿って移動可能に支持されている。なお、本実施形態では、スライダ４４が移動部に相当する。移動部は、スライダに限られず、主走査機構ガイド部４２に沿って移動可能な部材であればよい。
【００３４】
より具体的には、主走査機構ガイド部４２は、略角棒状部材に形成されている。スライダ４４の外形状は、図４に示されるように、略直方体状に形成されている。また、スライダ４４の内部には、主走査機構ガイド部４２の外周面を、間隔を有して取り囲むことが可能な内部空間４４Ｓが形成されている。後述するエア供給源８６からエア配管８０ａを介して供給されるエアの一部は、スライダ４４の内周面に向けて吐出される。これによって、スライダ４４は、主走査機構ガイド部４２の外周面との間にエア層を介在させた状態で、Ｘ方向に沿って移動可能に支持された状態となる。この結果、スライダ４４は、高速高加速移動可能かつ、耐久性に優れた態様で支持されることになる。
【００３５】
なお、ここでは、図３に示されるように、主走査機構ガイド部４２の上面に、上方に開口しかつＸ方向に沿って延びる凹溝４３が形成され、スライダ４４の上部幅方向（Ｙ方向）中間部に、上記凹溝４３に対応する幅のスリット４５ａが形成されている。そして、このスリット４５ａ部分に、ベルト取付ブラケット４５が取付けられ、上記凹溝４３内で、スライダ４４を駆動するための駆動ベルト７４がベルト取付ブラケット４５に取付けられている。
【００３６】
もっとも、これらの構成は必須ではない。例えば、主走査機構ガイド部は、単純な角棒状或は丸棒状で、スライダ内には当該単純な角棒状或は丸棒状よりも一回り大きな内部空間が形成された構成であってもよい。また、主走査機構ガイド部は、複数の棒状部材を有していてもよい。なお、スライダは、主走査機構ガイド部に対してエア層を介在させた状態で移動自在に支持されている必要はない。例えば、スライダは、長尺状の主走査機構ガイド部に対して、他の低摩擦部材、転動体等を介して接触した状態で、移動自在に支持される構成であってもよい。
【００３７】
また、ここでは、主走査機構ガイド部４２の上方に、カウンタ用ガイド部４６及びカウンタ用スライダ４８が設けられている。
【００３８】
カウンタ用ガイド部４６は、Ｘ方向に沿って延びる長尺棒状部材に形成されている。カウンタ用スライダ４８は、カウンタ用ガイド部４６を挿通配置可能な内部空間を有する部材であり、当該カウンタ用ガイド部４６によってＸ方向に沿って移動可能に支持されている。
【００３９】
ここでは、カウンタ用ガイド部４６は、略丸棒状に形成され、上記主走査機構ガイド部４２の上方に略平行状態で２本設けられている。また、カウンタ用スライダ４８の内部には、各カウンタ用ガイド部４６の外周面を、間隔を有して取り囲むことが可能な丸穴状の内部空間４８Ｓが形成されている。後述するエア供給源８６からエア配管８０ａを介して供給されるエアの一部は、カウンタ用スライダ４８の内周面に向けて吐出される。これによって、カウンタ用スライダ４８は、カウンタ用ガイド部４６の外周面との間にエア層を介在させた状態で、Ｘ方向に沿って移動可能に支持された状態となる。
【００４０】
なお、ここで、カウンタ用スライダがカウンタ用ガイド部に対して移動可能に支持される構成は、上記主走査機構４０に関して述べたのと同様、種々構成を採用し得る。つまり、カウンタ用スライダは、上記のようにカウンタ用ガイド部に対してエア層を介在させた状態で移動自在に支持されている必要はない。例えば、カウンタ用スライダは、長尺状のカウンタ用ガイド部に対して、他の低摩擦部材、転動体等を介して接触した状態で、移動自在に支持される構成であってもよい。
【００４１】
吐出部５０は、上記スライダ４４によってＸ方向に沿って移動可能に支持されると共に、基板２００に対して塗布液を吐出可能に構成されている。ここでは、吐出部５０は、ノズル支持部５２と少なくとも一つのノズル５４とを有している。本実施形態では図示の都合上、ノズル５４は３つ設けられているものとする。
【００４２】
ノズル支持部５２は、スライダ４４の一側面に取付けられる基端部５２ａと、基端部５２ａの下端部より外方に向けて延出するノズル取付板部５２ｂとを有している。そして、複数のノズル５４が、Ｘ方向及びＹ方向に位置をずらしつつ、ノズル取付板部５２ｂに取付固定されている。各ノズル５４は、それぞれ塗布液を吐出可能な吐出口を有しており、当該吐出口をノズル取付板部５２ｂの下向きにした姿勢で、ノズル取付板部５２ｂに固定されている。そして、上記スライダ４４をＸ方向に移動させつつ、各ノズル５４から塗布液を吐出することで、当該塗布液がステージ３２上に載置された基板２００に塗布されるようになっている。
【００４３】
なお、上記スライダ４４のうち吐出部５０に対して反対側の側部に、ノズルカウンタ４４Ｃが設けられている。
【００４４】
補助走査機構６０は、補助走査機構ガイド部６２と、補助走査機構ガイド部６２に沿って移動する補助スライダ６５とを備える。補助走査機構６０の補助スライダ６５は、スライダ４４に追随してＸ方向に沿って移動可能に構成されている。ここでは、この補助走査機構６０は主走査機構４０よりも上方で、主走査機構４０よりも基板２００の搬送方向下流側に設けられている。なお、補助スライダ６５が本実施形態における補助移動部に相当する。補助移動部は、補助走査機構ガイド部に沿って移動可能な部材である。
【００４５】
補助走査機構ガイド部６２は、基板２００の上方位置で、Ｘ方向に沿って延びる長尺状部材に形成されている。つまり、主走査機構ガイド部４２の延在方向に沿うようにして補助走査機構ガイド部６２は形成されている。また、補助スライダ６５は、補助走査機構ガイド部６２を挿通配置可能な内部空間を有する部材であり、当該補助走査機構ガイド部６２によってＸ方向に沿って移動可能に支持されている。この補助走査機構６０は主走査機構４０と同期駆動するが、それについては後に詳述する。
【００４６】
より具体的には、補助走査機構ガイド部６２は、略角棒状の部材に形成されている。補助スライダ６５の外形状は略直方体状に形成され、補助スライダ６５内には、補助走査機構ガイド部６２の外周面を、間隔を有して取り囲むことが可能な内部空間６４Ｓが形成されている。後述するエア供給源８６からエア配管８０ａを介して供給されるエアの一部は、補助スライダ６５の内周面に向けて吐出される。これによって、補助スライダ６５は、補助走査機構ガイド部６２の外周面との間にエア層を介在させた状態で、Ｘ方向に沿って移動可能に支持された状態となる。
【００４７】
なお、ここで、補助スライダ６５が補助走査機構ガイド部６２に対して移動可能に支持される構成は、上記主走査機構４０に関して述べたのと同様、種々構成を採用し得る。もっとも、この補助スライダは、上記のように配管支持用ガイド部に対してエア層を介在させた状態で移動自在に支持されている必要はない。例えば、補助スライダは、長尺状の補助走査機構ガイド部に対して、他の低摩擦部材、転動体等を介して接触した状態で、移動自在に支持される構成であってもよい。
【００４８】
可動配管支持部１００は、ステージ３２の上方に設置されており、Ｘ方向に沿って移動するスライダ４４及び補助スライダ６５の位置に応じてその方向を変化させることが可能な可動部材である。この可動配管支持部１００は、一端の部分６１ａが、基板２００が搬送される経路に跨るようにして設けられた台部６９に固定されているとともに、他端の部分６１ｂが自由端として回転自在な揺動軸６１と、揺動軸６１に接続された板状のプレート部６３と、プレート部６３から略水平方向に延び出るとともに補助スライダ６５に接続されたアーム部材６７と、を備える。
【００４９】
プレート部６３は、その主面に後述する塗布液配管８０ｂの部分を支持する支持機構６３０を有する。この支持機構６３０は、例えばプレート部６３に対して塗布液配管８０ｂを結束するベルト状の結束部材、又はクリップ状の挟込部材など、塗布液配管８０ｂの口径に影響を与えない限り、種々の形態が採用可能である。
【００５０】
このプレート部６３の一端が、軸心方向が鉛直方向に沿うようにして配置されている揺動軸６１の可動部分６１ｂの外周面に接続されている。即ち、プレート部６３は揺動軸６１の動作に応じて揺動可能に配設されており、Ｘ方向及びＹ方向で規定される面内で自在にその方向を変化させることができる。
【００５１】
アーム部材６７は、揺動軸６１との接続部分６３ａとは反対側のプレート部６３の端部６３ｂと補助スライダ６５とを連結する剛性を有する部材である。従って、補助スライダ６５が補助走査機構ガイド部６２に沿って往復移動すると、アーム部材６７を介してプレート部６３及び揺動軸６１は従動し、プレート部６３は揺動軸６１を中心にしてその周りを揺動する。つまり、補助走査機構６０がプレート部６３の駆動源として機能する。
【００５２】
より具体的には、補助走査機構６０の補助スライダ６５の移動に応じて、アーム部材６７は補助スライダ６５から引張力又は押込力を受ける。これらの力のうちＸ方向に沿って作用する力の成分によって、プレート部６３の向きは補助スライダ６５に追随して周期的に変化する。
【００５３】
なお、板状のプレート部６３の代わりに他の形状の部材が使用されてもよい。例えば棒状の部材など、塗布液配管８０ｂを支持可能であればその形状については種々の形態が採用可能である。また、プレート部６３とアーム部材６７とが剛性を有する一体物として構成されていても構わない。
【００５４】
また、補助スライダ６５の位置に応じて、より具体的には補助スライダ６５が補助走査機構ガイド部６２の中間部に位置するときと、補助走査機構ガイド部６２の両端部に位置するときとで、補助スライダ６５と可動配管支持部１００との距離は変動する。従って、アーム部材６７としては、たとえば互いに異なる径を持つ筒状部材６７ａ、６７ｂのペアを伸縮自在に組み合わせたテレスコピック構造を採用することができるし、パンタグラフ構造なども利用可能である。また、これらの代替として、アーム部材６７と補助スライダ６５との接続部分、又はアーム部材６７とプレート部６３との接続部分などには、補助スライダ６５と可動配管支持部１００との間の距離を調節可能な構造が採用されてもよい。これによって、直進移動する補助スライダ６５の位置に応じてアーム部材６７の長さが調節される。
【００５５】
配管８０は、エア配管８０ａと、塗布液配管８０ｂとを含んでいる。各配管８０ａ、８０ｂは、エア又は塗布液の送り方向上流側でエア供給源８６或は塗布液供給源８８に接続されるとともに、本基板処理装置２０の上方で吊すように支持されている。以下の説明において、両配管を区別する場合には、エア配管８０ａ或は塗布液配管８０ｂといい、総称する場合には配管８０という場合がある。なお、図３においては、エア配管８０ａの記載は省略されている。
【００５６】
エア配管８０ａは、エア供給源８６からのエアを導く、可撓性を有する樹脂などの管によって構成されており、ここでは、２つのエア配管８０ａを有している。２つのエア配管８０ａの一端部はそれぞれエア供給源８６に接続されている。一方のエア配管８０ａの他端部はスライダ４４にエア供給可能に接続され、他方のエア配管８０ａの他端部は補助スライダ６５にエア供給可能に接続されている。一方のエア配管８０ａの他端部は、スライダ４４に直接的に固定されていてもよいし、吐出部５０の固定箇所を経由してスライダ４４に接続されていてもよい。
【００５７】
塗布液配管８０ｂは、塗布液供給源８８からの塗布液を導く、可撓性を有する樹脂などの管によって構成されており、ノズル５４と同数設けられている。各塗布液配管８０ｂの一端部はそれぞれ塗布液供給源８８に接続されており、他端部はそれぞれノズル５４に塗布液を供給可能に接続されている。塗布液配管８０ｂの他端部は、吐出部５０に直接的に固定されていてもよいし、スライダ４４或はノズル支持部５２への固定箇所を経由してノズル５４に接続されていてもよい。
【００５８】
このような塗布液配管８０ｂは複数本が束ねられた状態で塗布液配管保護部材８５に収容されている。この塗布液配管保護部材８５は樹脂などの可撓性を有する材料で構成されており、複数の塗布液配管８０ｂは一括に保持される。ここでは、図３に示されるように、塗布液配管保護部材８５がノズル支持部５２の固定箇所を経由して、各塗布液配管８０ｂがノズル５４各々に接続されている。この塗布液配管保護部材８５がノズル支持部５２において固定される機構についても、上述のプレート部６３における支持機構６３０と同様の種々の形態が採用可能である。
【００５９】
吐出部５０での固定箇所又はスライダ４４或はノズル支持部５２での固定箇所よりも塗布液の流れ方向の上流側の塗布液配管８０ｂの一部分が、補助スライダ６５の補助スライダ保持部６２１に支持されている。この補助スライダ保持部６２１が有する塗布液配管８０ｂを支持する機構についても、上述のプレート部６３における支持機構６３０と同様の種々の形態が採用可能である。
【００６０】
ここでは、補助走査機構６０は、主走査機構４０よりも上方に位置している。従って、塗布液配管８０ｂについては、吐出部５０での固定箇所又はスライダ４４或はノズル支持部５２での固定箇所から上方に立ち上がった状態が維持されやすくなる。
【００６１】
そして、この補助スライダ６５での固定箇所よりも塗布液の流れ方向上流側の塗布液配管８０ｂの一部分が、上述のようにプレート部６３で固定されている。このように、本実施形態では、塗布液配管８０ｂの途中の部分が補助スライダ６５とプレート部６３との２箇所で支持されている。
【００６２】
ここでは、補助スライダ６５で支持された部分とプレート部６３で支持された部分との間に位置する塗布液配管８０ｂの部分は、塗布液配管保護部材８５に保持されつつ、図３に示されるように上方に凸のアーチ形状に形成されている。従って、当該部分における塗布液配管８０ｂの長さは、補助スライダ６５とプレート部６３との間の長さよりも長くなる。なお、塗布液配管８０ｂは、下方に凸のアーチ形状に形成されていてもよい。つまり、塗布液配管８０ｂのうち、可動配管支持部１００による支持箇所と、吐出部５０への接続箇所との間の区間が鉛直面内でアーチ形状に形成されていることが望ましい。
【００６３】
この基板処理装置２０は、Ｘ方向に沿って、スライダ４４と補助スライダ６５とを周期的に同期駆動する走査駆動機構７０を備えている。ここで、スライダ４４と補助スライダ６５とを同期駆動するとは、スライダ４４と補助スライダ６５とを、略同速度及び略同移動範囲で移動駆動することをいう。ここでは、走査駆動機構７０は、スライダ４４を駆動するスライダ駆動機構７２と、補助スライダ６５を駆動する補助スライダ駆動機構７６とを有している。
【００６４】
スライダ駆動機構７２は、主走査機構ガイド部４２の両端部に設けられた一対のプーリ体７３、７３と、一対のプーリ体７３、７３に巻掛けられた駆動ベルト７４と、一方のプーリ体７３を正逆両方向に回転駆動可能なモータ７５とを有している。一対のプーリ体７３、７３間を走行する２経路の駆動ベルト７４のうち一方側（下側）には、上記スライダ４４のベルト取付ブラケット４５が連結固定されている。また、一対のプーリ体７３、７３間を走行する２経路の駆動ベルト７４のうち他方側（上側）には、上記カウンタ用スライダ４８が連結固定されている。なお、カウンタ用スライダ４８は、スライダ４４の往復移動範囲の中央位置（通常は、一対のプーリ体７３、７３の中央位置）を挟んでスライダ４４と略対称位置に配設されるように、駆動ベルト７４に連結固定されている。そして、回転方向及び回転速度、回転量等を制御しつつモータ７５を回転駆動することで、スライダ４４及び吐出部５０がＸ方向に沿って往復移動駆動される。また、この際、カウンタ用スライダ４８は、スライダ４４に対して、一対のプーリ体７３、７３の中央位置を挟んで対称位置を保ちつつ、Ｘ方向に沿って往復移動するようになっている。
【００６５】
補助スライダ駆動機構７６は、補助走査機構ガイド部６２の両端部に設けられた一対のプーリ体７７、７７と、一対のプーリ体７７、７７に巻掛けられた駆動ベルト７８と、一方のプーリ体７７を正逆両方向に回転駆動可能なモータ７９とを有している。一対のプーリ体７７、７７間を走行する２経路の駆動ベルト７８のうち一方側（下側）には、上記補助スライダ６５が連結固定されている。そして、上記スライダ４４と補助スライダ６５とを同期駆動するように、つまり回転方向及び回転速度、回転量等を制御しつつモータ７９を回転駆動することで、補助スライダ６５がＸ方向に沿って往復移動駆動される。もっとも、スライダ４４と補助スライダ６５との間を通る配管８０に対して大きな引張力が作用するのを抑制し得る範囲内では、補助スライダ６５とスライダ４４とがＸ方向に沿って多少ずれてもよい。
【００６６】
なお、ここでは、スライダ４４と補助スライダ６５とを別々のモータ７５、７９によって駆動する例で説明したが、共通するモータからの回転駆動力を歯車或はプーリ及びベルト等を用いた伝達機構によって２つに分けて伝達することによって駆動するようにしてもよい。また、スライダ４４と補助スライダ６５とを共通する駆動ベルトに連結することによって同期駆動するようにしてもよい。また、スライダ４４或は補助スライダ６５を駆動する機構、特に、補助スライダ６５を駆動する機構は、上記例に限られず、その他、リニアモータ等の各種リニアアクチュエータを用いてもよい。
【００６７】
ハードウェアとしての構成は、一般的なコンピュータと同様である。即ち、制御部９０は、各種演算処理を行うＣＰＵ、基本プログラムを記憶する読み出し専用のメモリであるＲОＭ、各種情報を記憶する読み書き自在のメモリであるＲＡＭ及び制御用ソフトウェア、又はデータなどを記憶しておく磁気ディスク、キーボード及びマウスなどの入力部をバスラインに接続して構成されている。このような制御部９０に予め格納されたソフトウェアプログラムに従って基板処理装置２０の動作制御が行われる。バスラインには、塗布液供給源８８、エア供給源８６、モータ７５，７９が接続されている。制御部９０は、エア供給源８６からエアを供給すると共に、塗布液供給源８８からの塗布液供給を開始して各ノズル５４から塗布液を吐出させた状態で、スライダ４４と補助スライダ６５とを同期駆動するように、各モータ７５、７９を駆動制御する処理を行うように構成されている。
【００６８】
このように構成された基板処理装置２０では、スライダ４４及び補助スライダ６５がＸ方向に沿って周期的に往復移動すると、アーム部材６７を介して補助スライダ６５に連結されたプレート部６３が揺動軸６１の周りを周期的に往復揺動する。つまり、補助スライダ６５に同期駆動するスライダ４４に追随してプレート部６３の向きが周期的に変化する。このときのアーム部材６７の水平揺動が、図１中において、矢印ＳＷおよびアーム部材６７の他の状態６７ｍとして例示されている。
【００６９】
以下において、このような基板処理装置２０を用いた処理の流れについて図５に示されるフローチャートを用いて説明する。
【００７０】
はじめに、前工程にて処理が施された基板２００が基板保持部３０のステージ３２上に保持された状態で、基板処理装置２０に所定の速度で搬送されてくる（ステップＳ１）。制御部９０は、基板２００が搬送されてきたことを例えばセンサなどで検出すると、塗布液供給源８８にも信号を送信し、塗布液の供給を開始させる（ステップＳ２）。
【００７１】
さらに、制御部９０は、主走査機構４０の駆動機構であるモータ７５、補助走査機構６０の駆動機構であるモータ７９に信号を送信する。この信号を受けて、主走査機構４０のスライダ４４及び補助走査機構６０の補助スライダ６５は、Ｘ方向に沿って同期しつつ走査移動を行う（ステップＳ３）。この走査移動が繰り返して周期的に行われることによって、基板２００の表面に塗布液の領域が形成される。
【００７２】
この補助走査機構６０の補助スライダ６５が走査移動することによって、補助スライダ６５に連結されたアーム部材６７を介して可動配管支持部１００のプレート部６３は揺動する。つまり、可動配管支持部１００のプレート部６３の向きが補助スライダ６５、そして補助スライダ６５に同期駆動するスライダ４４に追随して変化する（ステップＳ４）。
【００７３】
このようにノズル５４から塗布液が吐出された状態で、主走査機構４０によるＸ軸方向の主走査と基板２００のＹ軸方向への移動とが繰り返し行われることによって、基板２００の表面全体に塗布液が吐出される。
【００７４】
制御部９０が基板２００の全面に塗布液が塗布されたか否かを判断し（ステップＳ５）、塗布液が塗布された基板２００は基板保持部３０によって下流工程へと搬送される。
【００７５】
以上のように、基板処理装置２０は、塗布液配管８０ｂの途中の部分を支持するとともに、主走査の繰り返しによるスライダ４４の周期的な動きに追随してその向きが周期的に変化する可動配管支持部１００を備える。つまり、可動配管支持部１００の向きは一定方向に維持されるのではなく、スライダ４４の動きに追随して周期的に変化する。このため、可動配管支持部１００に支持された塗布液配管８０ｂの部分にねじれが生じることを抑えられる。また、可動配管支持部１００に支持されている塗布液配管８０ｂの部分に外部から力が加わりにくくなるため、初期状態における塗布液配管８０ｂの姿勢が維持されやすくなる。つまり、塗布液配管８０ｂの暴れが生じにくい。これらの結果、吐出部５０から吐出される塗布液の流量が変動することを抑えられる。
【００７６】
特に、製品に使用される基板の大型化に伴い、基板処理装置が大型化した場合には、ノズルの本数が増加して塗布液配管の本数が増加するため、塗布液配管の暴れはより増大すると考えられる。従って、本発明を従来よりも大型の基板処理装置に適用することはより有効である。
【００７７】
また、基板処理装置２０は補助走査機構６０をさらに備え、塗布液配管８０ｂの部分は補助走査機構６０の補助スライダ６５に支持されている。従って、塗布液配管８０ｂの揺れや暴れが直接吐出部５０に伝わりにくくなる。また、塗布液配管８０ｂを支持する箇所が増えるため、より塗布液配管８０ｂの姿勢は安定する。これらによって、吐出部５０から吐出される塗布液の流量の変動を抑えられる。
【００７８】
また、可動配管支持部１００はアーム部材６７を介して補助スライダ６５に連結されている。可動配管支持部１００はアーム部材６７の駆動によって、確実にその向きを変化させることができる。
【００７９】
また、塗布液配管８０ｂは可動配管支持部１００による支持箇所と補助スライダ６５との接続箇所との間で上に凸のアーチ形状に形成されている。従って、当該箇所における塗布液配管８０ｂは長くなるため、補助走査機構６０の揺れはアーチ形状の塗布液配管８０ｂ全体で平滑化され、その影響を小さくすることができる。また、補助スライダ６５の接続箇所から延び出た塗布液配管８０ｂの部分８０１が上方に立ち上がるため、補助走査機構６０のスライダ４４が往復移動しても、塗布液が塗布液配管８０ｂ内を逆流する方向に力が生じにくい。これらによって、吐出部５０から吐出される塗布液の流量の変動を抑えられる。
【００８０】
塗布液配管８０ｂの揺れの平滑化効果については、可動配管支持部１００による支持箇所と補助スライダ６５との接続箇所との間の塗布液配管８０ｂの区間が、下に凸のアーチ形状に形成されていても達成される。したがって、このような平滑化効果に着目した場合には、一般に、塗布液配管８０ｂ（可撓性の処理液配管）における上記区間が、鉛直面内でアーチ形状に設けられることが好ましいことになる。ここで言うアーチ形状とは、必要最小長さ（すなわち、最小の主走査の振幅を考慮して可動配管支持部１００による支持部分と補助スライダ６５との接続部分との間に必要とされる最小距離）よりも塗布液配管８０ｂが長く、冗長度を持つことをいう。
【００８１】
また、主走査機構４０は補助走査機構６０よりも下方に配置されている。従って、主走査機構４０が有する吐出部５０に接続された塗布液配管８０ｂの端末８０２は上方に立ち上がった状態に維持されやすくなる。従って、主走査機構４０が有するスライダ４４が往復移動しても塗布液が逆流する方向に力が生じにくく、塗布液の流量の変動を抑えられる。
【００８２】
＜変形例＞
以下、各種変形例について説明する。
【００８３】
まず、上記実施形態では、塗布液配管８０ｂのうち、可動配管支持部１００による支持箇所と、吐出部５０への接続箇所との間の区間が上に凸のアーチ形状に形成されていたが、このような形態には限られない。図６には、可動配管支持部１００による支持箇所と、吐出部５０への接続箇所との間の区間がアーム部材６７に沿って配設された形態が示されている。図６に示すように、当該区間における塗布液配管８０ｂが、アーム部材６７の延出方向に沿って、アーム部材６７に接するようにして配設されていても構わない。また、この他にも、塗布液配管８０ｂがアーム部材６７の周囲に巻き付けられた構成であっても構わない。これらの場合、上述の区間における塗布液配管８０ｂはアーム部材６７によって確実に支持されるため、当該区間における塗布液配管８０ｂの揺れや暴れは確実に抑えられる。これによって、吐出部５０から吐出される塗布液の流量が変動することを抑えられる。
【００８４】
また、上記実施形態において、補助走査機構６０は駆動機構を備えていたが、必ずしもこのような形態に限られない。補助走査機構６０の補助スライダ６５は、主走査機構４０のスライダ４４が駆動機構によって駆動することによって動作し、往復移動する機構であってもよい。つまり、主走査機構４０が補助走査機構６０と可動配管支持部１００とを従動させる形態であってもよい。
【００８５】
また、可動配管支持部１００は、補助走査機構６０又は主走査機構４０に従動する形態に限られない。可動配管支持部１００が例えばモータなどの駆動機構を有していてもよい。可動配管支持部１００自体がその向きを調節する駆動機構を備える場合、可動配管支持部１００の向きは確実にスライダ４４及び補助スライダ６５に追随して周期的に変化させることが可能である。
【００８６】
また、可動配管支持部が駆動機構を有する場合、可動配管支持部は回転モータと回転モータに接続されたリンク機構を有するアーム部材とで構成される形態であっても構わない。この場合、リンク機構を有するアーム部材は回転モータから回転駆動力を与えられ、リンク機構を有するアーム部材に接続された補助スライダ、及びスライダを直線運動させる。
【００８７】
また、図７には、アーム部材６７がプレート部６３と補助スライダ６５との間に設けられていない状態の基板処理装置の主要部の配置関係が示されている。図７に示される可動配管支持部１００ｂは補助スライダ６５を備えていない。このような形態であっても構わない。この場合、可動配管支持部１００ｂのプレート部６３の向きを変化させるための駆動機構、例えばモータ６８が設置されていることが望ましい。モータ６８は制御部９０によって制御され、制御部９０は、プレート部６３の向きが、往復移動するスライダ４４及び補助スライダ６５に追随して周期的に変化するように、モータ６８を駆動させて揺動軸６１の可動部分６１ｂを揺動させる。
【００８８】
このように、可動配管支持部１００自体がその方向を調節する駆動機構を備える場合、可動配管支持部１００の向きは確実にスライダ４４及び補助スライダ６５に追随して周期的に変化させることが可能である。
【００８９】
なお、可動配管支持部１００ｂは必ずしも駆動機構を備えていなくてもよい。補助スライダ６５の移動に応じて、塗布液配管８０ｂが可動配管支持部１００ｂを引っ張ることによって可動配管支持部１００ｂの向きを変化させる形態であってもよい。
【００９０】
また、基板処理装置２０は補助走査機構６０を必ずしも備えていなくても構わない。つまり、主走査機構４０、可動配管支持部１００ｃを主たる構成とする基板処理装置であってもよい。
【００９１】
図８には、この場合における主要部の配置関係が概略的に記載されている。主走査機構４０のスライダ４４の往復移動に追随して、プレート部６３の向きは周期的に変化する。ここでは、可動配管支持部１００ｃは、駆動機構としてモータ６８を備えている。なお、上述のように塗布液配管８０ｂは、可動配管支持部１００ｃと、吐出部５０との間の区間でアーチ形状に形成されていることが望ましい。より望ましくは、この区間が上に凸のアーチ形状とされる。その理由は、図１〜図４で示す実施形態について述べた理由と同様である。また、可動配管支持部１００ｃがアーム部材を備える形態であってもよい。つまり、可動配管支持部１００ｃがスライダ４４に連結されていても構わない。
【００９２】
この発明は、一般に、塗布液のみならず、略水平姿勢の基板に処理液を与する基板処理装置および処理液付与方法に適用可能である。
【符号の説明】
【００９３】
２０ 基板処理装置
３０ 基板保持部
４０ 主走査機構
４２ 主走査機構ガイド部
４４ スライダ
５０ 吐出部
５４ ノズル
６０ 補助走査機構
６１ 揺動軸
６２ 補助走査機構ガイド部
６３ プレート部
６５ 補助スライダ
６７ アーム部材
８０ｂ 塗布液配管
８６ エア供給源
８８ 塗布液供給源
９０ 制御部
１００ 可動配管支持部
２００ 基板
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体ウエハ、液晶表示装置用ガラス基板、ＰＤＰ（Plasma Display Panel）用ガラス基板、有機ＥＬ表示パネル用ガラス基板、太陽電池用基板、磁気或は光ディスク用のガラス或はセラミック基板等の各種被処理基板に塗布される処理液の流量の一定性を保持する技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
吐出ノズルが、表面に隔壁の配列が形成された基板の表面を走査しつつ、有機ＥＬのような画素形成材料を塗布液として塗布する技術が知られている。この場合、可撓性を有する配管が、走査移動する吐出ノズルに接続されており、配管を流れた塗布液が吐出ノズルから吐出される。
【０００３】
このような技術として、例えば、特許文献１には、主走査方向に沿って延びるガイド部と、ガイド部との間にエア層を介在させた状態で、ガイド部により主走査方向に沿って移動可能に支持されたスライダと、スライダに支持され、塗布液を吐出するノズルと、スライダ及びノズルに接続された配管の途中部分を支持する配管支持部材と、を備える塗布装置が開示されている。
【０００４】
また、特許文献２には、ガイド部に係合しつつ主走査方向に移動可能に支持されたスライダと、スライダに支持されたノズルと、を有し、スライダ及びノズルに流体を導く複数の配管がノズル及びスライダに対してガイド部の軸を挟んで両側に分けて固定された構成の塗布装置が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１１−０７２９７４号公報
【特許文献２】特開２０１１−０７２９７５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、特許文献１又は特許文献２に開示されているこれらの配管は可撓性を有するため、スライダの移動又は振動によって配管の一部にねじれなどの変形が生じやすい。変形後の配管の形状によっては、スライダの走査移動時に塗布液が本来の流れ方向とは逆方向に配管内を流れてしまうため、吐出ノズルから吐出される塗布液の流量が変動する場合があった。
【０００７】
本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、移動するノズルから吐出される処理液の流量の変動を抑えられる技術を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
第１の発明は、基板処理装置であって、基板を略水平に保持する基板保持部と、前記基板に対して略平行な主走査方向に沿って延びるガイド部と、前記ガイド部により前記主走査方向に沿って移動可能に支持された移動部と、を有する主走査機構と、前記移動部により前記主走査方向に沿って移動可能に支持され、前記基板に処理液を吐出する吐出部と、前記吐出部に接続されるとともに前記吐出部に処理液を導く可撓性の配管と、前記配管の途中の部分を支持するとともに、主走査の繰返しによる前記移動部の周期的な動きに追随してその向きが周期的に変化する可動配管支持部と、を備える。
【０００９】
第２の発明は、第１の発明に係る基板処理装置であって、前記配管のうち、前記可動配管支持部による支持箇所と、前記吐出部への接続箇所との間の区間が鉛直面内でアーチ形状に形成されている。
【００１０】
第３の発明は、第２の発明に係る基板処理装置であって、前記配管の前記区間は、上に凸のアーチ形状となっている。
【００１１】
第４の発明は、第１の発明に係る基板処理装置であって、前記ガイド部に沿って延びる補助ガイド部と、前記補助ガイド部により前記主走査方向に沿って移動可能に支持された補助移動部と、を有する補助走査機構をさらに備え、前記配管のうち、前記可動配管支持部による支持箇所と、前記吐出部への接続箇所との間の所定部分が前記補助移動部に支持されている。
【００１２】
第５の発明は、第４の発明に係る基板処理装置であって、前記可動配管支持部が前記補助移動部に連結されていることを特徴とする。
【００１３】
第６の発明は、第４の発明又は第５の発明に係る基板処理装置であって、前記配管のうち、前記可動配管支持部による支持箇所と、前記補助移動部への接続箇所との間の区間が鉛直面内でアーチ形状に形成されている。
【００１４】
第７の発明は、第４の発明ないし第６の発明のいずれか一つに係る基板処理装置であって、前記主走査機構は前記補助走査機構よりも下方に配置されていることを特徴とする。
【００１５】
第８の発明は、第１の発明ないし第７の発明のいずれか一つに係る基板処理装置であって、前記可動配管支持部の向きを調節する駆動部をさらに備える。
【００１６】
第９の発明は、処理液付与方法であって、基板を略水平に保持する工程と、吐出部から処理液を吐出させながら、前記吐出部を支持する移動部を主走査方向に沿って基板上を周期的に走査移動させる工程と、前記吐出部に前記処理液を導く可撓性の配管の途中の部分を支持する可動配管支持部の向きを、走査移動する前記移動部に追随して周期的に変化させる工程と、を備える。
【発明の効果】
【００１７】
第１の発明から第９の発明において、可動配管支持部は、配管の途中の部分を支持するとともに、移動部の周期的な動きに追随してその向きが周期的に変化する。このため、移動部が移動しても、それに追随して可動配管支持部の向きが変化するため、可動配管支持部に支持された配管の部分にねじれが生じることを抑えられる。この結果、吐出部から吐出される処理液の流量が変動することを抑えられる。
【００１８】
特に、第２の発明において、可動配管支持部による支持箇所と吐出部への接続箇所との間の区間が鉛直面内でアーチ形状に形成されている。従って配管は長くなるため、配管の暴れや揺れは配管全体で平滑化され、その影響を小さくすることができる。これによって、吐出部から吐出される処理液の流量の変動を抑えられる。
【００１９】
特に、第３の発明において、配管の区間が上に凸のアーチ形状となっている。このため、主走査機構に接続された吐出部から延び出た配管の端末が上方に立ち上がるため、移動部が移動しても、処理液が配管内を逆流する方向に力が生じにくい。これによって、吐出部から吐出される処理液の流量の変動を抑えられる。
【００２０】
特に、第４の発明において、可動配管支持部による支持箇所と吐出部への接続箇所との間の所定部分が補助移動部に支持されている。従って、配管の揺れや暴れが生じても吐出部に伝わりにくいため、吐出部から吐出される塗布液の流量の変動を抑えられる。
【００２１】
特に、第５の発明において、可動配管支持部が補助移動部に連結されている。従って、補助移動部の駆動によって、可動配管支持部の向きを確実に変化させることができる。
【００２２】
特に、第６の発明において、可動配管支持部による支持箇所と補助移動部への接続箇所との間の区間が鉛直面内でアーチ形状に形成されている。従って、配管は長くなるため、配管の揺れや暴れはアーチ形状の配管全体で平滑化され、その影響を小さくすることができる。
【００２３】
特に、第７の発明において、主走査機構は補助走査機構よりも下方に配置されている。従って、吐出部に接続された配管の端末は上方に立ち上がった状態に維持されやすくなる。従って、移動部が移動しても処理液が逆流する方向に力が生じにくく、処理液の流量の変動を抑えられる。
【００２４】
特に、第８の発明において、可動配管支持部の向きを調節する駆動部によって、可動配管支持部は確実に移動部に追随してその向きを調節される。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】実施形態に係る基板処理装置を示す概略平面図である。
【図２】同上の基板処理装置を示す概略正面図である。
【図３】図２におけるＩ−Ｉ線概略断面図である。
【図４】実施形態に係る基板処理装置の主たる構成要素の配置関係を示す概略斜視図である。
【図５】処理の流れを示すフローチャートである。
【図６】変形例における基板処理装置の主たる構成要素の配置関係を示す概略斜視図である。
【図７】変形例における基板処理装置の主たる構成要素の配置関係を示す概略斜視図である。
【図８】変形例における基板処理装置の主たる構成要素の配置関係を示す概略斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
以下、添付の図面を参照しながら、本発明の実施形態について説明する。以下の実施形態は、本発明を具体化した一例であり、本発明の技術的範囲を限定する事例ではない。
【００２７】
図１は、本実施形態に係る基板処理装置２０を示す概略平面図である。図２は、基板処理装置２０を示す概略正面図である。図３は、図２に示す基板処理装置２０のＩ−Ｉ線概略断面図である。また、図４は、基板処理装置２０の主要部の配置関係を概略的に記載した概略斜視図である。
【００２８】
なお、以下の説明においては、方向及び向きを示す際に、適宜図中に示すＸＹＺ直交座標を用いる。ここで、Ｘ軸及びＹ軸方向は水平方向、Ｚ軸方向は鉛直方向（＋Ｚ側が上側、−Ｚ側が下側）を示す。また、便宜上、Ｙ軸方向を基板の搬送方向（＋Ｙ側が下流側、−Ｙ側が上流側）とし、Ｘ軸方向を移動部の主走査方向（＋Ｘ側、−Ｘ側）とする。
【００２９】
基板処理装置２０は、基板２００に対して処理液として塗布液を塗布する装置である。基板２００としては、方形状の基板、例えば、平面表示装置用のガラス基板等が想定される。また、塗布液としては、基板２００に形成すべきパターン等の形成材料、例えば、有機ＥＬ表示装置の製造を想定した場合には、有機ＥＬ材料及びその溶媒等を含む液等が想定される。
【００３０】
この基板処理装置２０は、基板２００を保持する基板保持部３０と、主走査機構４０と、塗布液を吐出する吐出部５０と、補助走査機構６０と、可撓性の樹脂チューブなどで構成される塗布液配管８０ｂを支持する可動配管支持部１００と、を主に備えている。
【００３１】
基板保持部３０は、基板２００を略水平姿勢で保持可能に構成されている。ここでは、基板保持部３０は、その主面を所定高さ位置で上向き略水平姿勢に配設したステージ３２を有している。そして、基板２００の主面をステージ３２の上向き主面に当接させるように基板２００をステージ３２上に載置することで、基板２００が一定位置及び姿勢で保持可能に構成されている。基板保持部は、その他、基板の周囲を把持することで当該基板を保持する構成であってもよい。
【００３２】
また、基板保持部３０の下方には、吐出部５０に対して基板２００をＹ方向（副走査方向）に沿って相対移動させる基板移動機構３４が設けられている。ここでは、基板移動機構３４は、上方にステージ３２を支持する台部３６と、一対のスライド受部３７とを有している。スライド受部３７は、台部３６の下端部に設けられ、Ｙ方向に沿って延びる一対の副走査方向ガイド部３９上をスライド移動可能に構成されている。そして、リニアモータ等の基板移動駆動部（図示省略）からの駆動力を受けることで、基板移動機構３４が、上記ステージ３２及び基板２００と共に、Ｙ方向に沿って移動する構成とされている。なお、基板２００をＹ方向に沿って移動させる代りに、主走査機構４０及び吐出部５０を、基板２００に対してＹ方向に沿って移動させる構成であってもよい。なお、上記ステージ３２は、基板移動機構３４に対して鉛直軸周りに回転駆動可能に構成されていてもよい。
【００３３】
主走査機構４０は、主走査機構ガイド部４２と、主走査機構ガイド部４２に沿って移動するスライダ４４とを有している。主走査機構ガイド部４２は、基板２００の上方位置で、基板２００に対して略平行な主走査方向（Ｘ方向）に沿って延びる長尺状部材に形成されている。スライダ４４は、主走査機構ガイド部４２を挿通配置可能な内部空間を有する部材であり、当該主走査機構ガイド部４２によってＸ方向に沿って移動可能に支持されている。なお、本実施形態では、スライダ４４が移動部に相当する。移動部は、スライダに限られず、主走査機構ガイド部４２に沿って移動可能な部材であればよい。
【００３４】
より具体的には、主走査機構ガイド部４２は、略角棒状部材に形成されている。スライダ４４の外形状は、図４に示されるように、略直方体状に形成されている。また、スライダ４４の内部には、主走査機構ガイド部４２の外周面を、間隔を有して取り囲むことが可能な内部空間４４Ｓが形成されている。後述するエア供給源８６からエア配管８０ａを介して供給されるエアの一部は、スライダ４４の内周面に向けて吐出される。これによって、スライダ４４は、主走査機構ガイド部４２の外周面との間にエア層を介在させた状態で、Ｘ方向に沿って移動可能に支持された状態となる。この結果、スライダ４４は、高速高加速移動可能かつ、耐久性に優れた態様で支持されることになる。
【００３５】
なお、ここでは、図３に示されるように、主走査機構ガイド部４２の上面に、上方に開口しかつＸ方向に沿って延びる凹溝４３が形成され、スライダ４４の上部幅方向（Ｙ方向）中間部に、上記凹溝４３に対応する幅のスリット４５ａが形成されている。そして、このスリット４５ａ部分に、ベルト取付ブラケット４５が取付けられ、上記凹溝４３内で、スライダ４４を駆動するための駆動ベルト７４がベルト取付ブラケット４５に取付けられている。
【００３６】
もっとも、これらの構成は必須ではない。例えば、主走査機構ガイド部は、単純な角棒状或は丸棒状で、スライダ内には当該単純な角棒状或は丸棒状よりも一回り大きな内部空間が形成された構成であってもよい。また、主走査機構ガイド部は、複数の棒状部材を有していてもよい。なお、スライダは、主走査機構ガイド部に対してエア層を介在させた状態で移動自在に支持されている必要はない。例えば、スライダは、長尺状の主走査機構ガイド部に対して、他の低摩擦部材、転動体等を介して接触した状態で、移動自在に支持される構成であってもよい。
【００３７】
また、ここでは、主走査機構ガイド部４２の上方に、カウンタ用ガイド部４６及びカウンタ用スライダ４８が設けられている。
【００３８】
カウンタ用ガイド部４６は、Ｘ方向に沿って延びる長尺棒状部材に形成されている。カウンタ用スライダ４８は、カウンタ用ガイド部４６を挿通配置可能な内部空間を有する部材であり、当該カウンタ用ガイド部４６によってＸ方向に沿って移動可能に支持されている。
【００３９】
ここでは、カウンタ用ガイド部４６は、略丸棒状に形成され、上記主走査機構ガイド部４２の上方に略平行状態で２本設けられている。また、カウンタ用スライダ４８の内部には、各カウンタ用ガイド部４６の外周面を、間隔を有して取り囲むことが可能な丸穴状の内部空間４８Ｓが形成されている。後述するエア供給源８６からエア配管８０ａを介して供給されるエアの一部は、カウンタ用スライダ４８の内周面に向けて吐出される。これによって、カウンタ用スライダ４８は、カウンタ用ガイド部４６の外周面との間にエア層を介在させた状態で、Ｘ方向に沿って移動可能に支持された状態となる。
【００４０】
なお、ここで、カウンタ用スライダがカウンタ用ガイド部に対して移動可能に支持される構成は、上記主走査機構４０に関して述べたのと同様、種々構成を採用し得る。つまり、カウンタ用スライダは、上記のようにカウンタ用ガイド部に対してエア層を介在させた状態で移動自在に支持されている必要はない。例えば、カウンタ用スライダは、長尺状のカウンタ用ガイド部に対して、他の低摩擦部材、転動体等を介して接触した状態で、移動自在に支持される構成であってもよい。
【００４１】
吐出部５０は、上記スライダ４４によってＸ方向に沿って移動可能に支持されると共に、基板２００に対して塗布液を吐出可能に構成されている。ここでは、吐出部５０は、ノズル支持部５２と少なくとも一つのノズル５４とを有している。本実施形態では図示の都合上、ノズル５４は３つ設けられているものとする。
【００４２】
ノズル支持部５２は、スライダ４４の一側面に取付けられる基端部５２ａと、基端部５２ａの下端部より外方に向けて延出するノズル取付板部５２ｂとを有している。そして、複数のノズル５４が、Ｘ方向及びＹ方向に位置をずらしつつ、ノズル取付板部５２ｂに取付固定されている。各ノズル５４は、それぞれ塗布液を吐出可能な吐出口を有しており、当該吐出口をノズル取付板部５２ｂの下向きにした姿勢で、ノズル取付板部５２ｂに固定されている。そして、上記スライダ４４をＸ方向に移動させつつ、各ノズル５４から塗布液を吐出することで、当該塗布液がステージ３２上に載置された基板２００に塗布されるようになっている。
【００４３】
なお、上記スライダ４４のうち吐出部５０に対して反対側の側部に、ノズルカウンタ４４Ｃが設けられている。
【００４４】
補助走査機構６０は、補助走査機構ガイド部６２と、補助走査機構ガイド部６２に沿って移動する補助スライダ６５とを備える。補助走査機構６０の補助スライダ６５は、スライダ４４に追随してＸ方向に沿って移動可能に構成されている。ここでは、この補助走査機構６０は主走査機構４０よりも上方で、主走査機構４０よりも基板２００の搬送方向下流側に設けられている。なお、補助スライダ６５が本実施形態における補助移動部に相当する。補助移動部は、補助走査機構ガイド部に沿って移動可能な部材である。
【００４５】
補助走査機構ガイド部６２は、基板２００の上方位置で、Ｘ方向に沿って延びる長尺状部材に形成されている。つまり、主走査機構ガイド部４２の延在方向に沿うようにして補助走査機構ガイド部６２は形成されている。また、補助スライダ６５は、補助走査機構ガイド部６２を挿通配置可能な内部空間を有する部材であり、当該補助走査機構ガイド部６２によってＸ方向に沿って移動可能に支持されている。この補助走査機構６０は主走査機構４０と同期駆動するが、それについては後に詳述する。
【００４６】
より具体的には、補助走査機構ガイド部６２は、略角棒状の部材に形成されている。補助スライダ６５の外形状は略直方体状に形成され、補助スライダ６５内には、補助走査機構ガイド部６２の外周面を、間隔を有して取り囲むことが可能な内部空間６４Ｓが形成されている。後述するエア供給源８６からエア配管８０ａを介して供給されるエアの一部は、補助スライダ６５の内周面に向けて吐出される。これによって、補助スライダ６５は、補助走査機構ガイド部６２の外周面との間にエア層を介在させた状態で、Ｘ方向に沿って移動可能に支持された状態となる。
【００４７】
なお、ここで、補助スライダ６５が補助走査機構ガイド部６２に対して移動可能に支持される構成は、上記主走査機構４０に関して述べたのと同様、種々構成を採用し得る。もっとも、この補助スライダは、上記のように配管支持用ガイド部に対してエア層を介在させた状態で移動自在に支持されている必要はない。例えば、補助スライダは、長尺状の補助走査機構ガイド部に対して、他の低摩擦部材、転動体等を介して接触した状態で、移動自在に支持される構成であってもよい。
【００４８】
可動配管支持部１００は、ステージ３２の上方に設置されており、Ｘ方向に沿って移動するスライダ４４及び補助スライダ６５の位置に応じてその方向を変化させることが可能な可動部材である。この可動配管支持部１００は、一端の部分６１ａが、基板２００が搬送される経路に跨るようにして設けられた台部６９に固定されているとともに、他端の部分６１ｂが自由端として回転自在な揺動軸６１と、揺動軸６１に接続された板状のプレート部６３と、プレート部６３から略水平方向に延び出るとともに補助スライダ６５に接続されたアーム部材６７と、を備える。
【００４９】
プレート部６３は、その主面に後述する塗布液配管８０ｂの部分を支持する支持機構６３０を有する。この支持機構６３０は、例えばプレート部６３に対して塗布液配管８０ｂを結束するベルト状の結束部材、又はクリップ状の挟込部材など、塗布液配管８０ｂの口径に影響を与えない限り、種々の形態が採用可能である。
【００５０】
このプレート部６３の一端が、軸心方向が鉛直方向に沿うようにして配置されている揺動軸６１の可動部分６１ｂの外周面に接続されている。即ち、プレート部６３は揺動軸６１の動作に応じて揺動可能に配設されており、Ｘ方向及びＹ方向で規定される面内で自在にその方向を変化させることができる。
【００５１】
アーム部材６７は、揺動軸６１との接続部分６３ａとは反対側のプレート部６３の端部６３ｂと補助スライダ６５とを連結する剛性を有する部材である。従って、補助スライダ６５が補助走査機構ガイド部６２に沿って往復移動すると、アーム部材６７を介してプレート部６３及び揺動軸６１は従動し、プレート部６３は揺動軸６１を中心にしてその周りを揺動する。つまり、補助走査機構６０がプレート部６３の駆動源として機能する。
【００５２】
より具体的には、補助走査機構６０の補助スライダ６５の移動に応じて、アーム部材６７は補助スライダ６５から引張力又は押込力を受ける。これらの力のうちＸ方向に沿って作用する力の成分によって、プレート部６３の向きは補助スライダ６５に追随して周期的に変化する。
【００５３】
なお、板状のプレート部６３の代わりに他の形状の部材が使用されてもよい。例えば棒状の部材など、塗布液配管８０ｂを支持可能であればその形状については種々の形態が採用可能である。また、プレート部６３とアーム部材６７とが剛性を有する一体物として構成されていても構わない。
【００５４】
また、補助スライダ６５の位置に応じて、より具体的には補助スライダ６５が補助走査機構ガイド部６２の中間部に位置するときと、補助走査機構ガイド部６２の両端部に位置するときとで、補助スライダ６５と可動配管支持部１００との距離は変動する。従って、アーム部材６７としては、たとえば互いに異なる径を持つ筒状部材６７ａ、６７ｂのペアを伸縮自在に組み合わせたテレスコピック構造を採用することができるし、パンタグラフ構造なども利用可能である。また、これらの代替として、アーム部材６７と補助スライダ６５との接続部分、又はアーム部材６７とプレート部６３との接続部分などには、補助スライダ６５と可動配管支持部１００との間の距離を調節可能な構造が採用されてもよい。これによって、直進移動する補助スライダ６５の位置に応じてアーム部材６７の長さが調節される。
【００５５】
配管８０は、エア配管８０ａと、塗布液配管８０ｂとを含んでいる。各配管８０ａ、８０ｂは、エア又は塗布液の送り方向上流側でエア供給源８６或は塗布液供給源８８に接続されるとともに、本基板処理装置２０の上方で吊すように支持されている。以下の説明において、両配管を区別する場合には、エア配管８０ａ或は塗布液配管８０ｂといい、総称する場合には配管８０という場合がある。なお、図３においては、エア配管８０ａの記載は省略されている。
【００５６】
エア配管８０ａは、エア供給源８６からのエアを導く、可撓性を有する樹脂などの管によって構成されており、ここでは、２つのエア配管８０ａを有している。２つのエア配管８０ａの一端部はそれぞれエア供給源８６に接続されている。一方のエア配管８０ａの他端部はスライダ４４にエア供給可能に接続され、他方のエア配管８０ａの他端部は補助スライダ６５にエア供給可能に接続されている。一方のエア配管８０ａの他端部は、スライダ４４に直接的に固定されていてもよいし、吐出部５０の固定箇所を経由してスライダ４４に接続されていてもよい。
【００５７】
塗布液配管８０ｂは、塗布液供給源８８からの塗布液を導く、可撓性を有する樹脂などの管によって構成されており、ノズル５４と同数設けられている。各塗布液配管８０ｂの一端部はそれぞれ塗布液供給源８８に接続されており、他端部はそれぞれノズル５４に塗布液を供給可能に接続されている。塗布液配管８０ｂの他端部は、吐出部５０に直接的に固定されていてもよいし、スライダ４４或はノズル支持部５２への固定箇所を経由してノズル５４に接続されていてもよい。
【００５８】
このような塗布液配管８０ｂは複数本が束ねられた状態で塗布液配管保護部材８５に収容されている。この塗布液配管保護部材８５は樹脂などの可撓性を有する材料で構成されており、複数の塗布液配管８０ｂは一括に保持される。ここでは、図３に示されるように、塗布液配管保護部材８５がノズル支持部５２の固定箇所を経由して、各塗布液配管８０ｂがノズル５４各々に接続されている。この塗布液配管保護部材８５がノズル支持部５２において固定される機構についても、上述のプレート部６３における支持機構６３０と同様の種々の形態が採用可能である。
【００５９】
吐出部５０での固定箇所又はスライダ４４或はノズル支持部５２での固定箇所よりも塗布液の流れ方向の上流側の塗布液配管８０ｂの一部分が、補助スライダ６５の補助スライダ保持部６２１に支持されている。この補助スライダ保持部６２１が有する塗布液配管８０ｂを支持する機構についても、上述のプレート部６３における支持機構６３０と同様の種々の形態が採用可能である。
【００６０】
ここでは、補助走査機構６０は、主走査機構４０よりも上方に位置している。従って、塗布液配管８０ｂについては、吐出部５０での固定箇所又はスライダ４４或はノズル支持部５２での固定箇所から上方に立ち上がった状態が維持されやすくなる。
【００６１】
そして、この補助スライダ６５での固定箇所よりも塗布液の流れ方向上流側の塗布液配管８０ｂの一部分が、上述のようにプレート部６３で固定されている。このように、本実施形態では、塗布液配管８０ｂの途中の部分が補助スライダ６５とプレート部６３との２箇所で支持されている。
【００６２】
ここでは、補助スライダ６５で支持された部分とプレート部６３で支持された部分との間に位置する塗布液配管８０ｂの部分は、塗布液配管保護部材８５に保持されつつ、図３に示されるように上方に凸のアーチ形状に形成されている。従って、当該部分における塗布液配管８０ｂの長さは、補助スライダ６５とプレート部６３との間の長さよりも長くなる。なお、塗布液配管８０ｂは、下方に凸のアーチ形状に形成されていてもよい。つまり、塗布液配管８０ｂのうち、可動配管支持部１００による支持箇所と、吐出部５０への接続箇所との間の区間が鉛直面内でアーチ形状に形成されていることが望ましい。
【００６３】
この基板処理装置２０は、Ｘ方向に沿って、スライダ４４と補助スライダ６５とを周期的に同期駆動する走査駆動機構７０を備えている。ここで、スライダ４４と補助スライダ６５とを同期駆動するとは、スライダ４４と補助スライダ６５とを、略同速度及び略同移動範囲で移動駆動することをいう。ここでは、走査駆動機構７０は、スライダ４４を駆動するスライダ駆動機構７２と、補助スライダ６５を駆動する補助スライダ駆動機構７６とを有している。
【００６４】
スライダ駆動機構７２は、主走査機構ガイド部４２の両端部に設けられた一対のプーリ体７３、７３と、一対のプーリ体７３、７３に巻掛けられた駆動ベルト７４と、一方のプーリ体７３を正逆両方向に回転駆動可能なモータ７５とを有している。一対のプーリ体７３、７３間を走行する２経路の駆動ベルト７４のうち一方側（下側）には、上記スライダ４４のベルト取付ブラケット４５が連結固定されている。また、一対のプーリ体７３、７３間を走行する２経路の駆動ベルト７４のうち他方側（上側）には、上記カウンタ用スライダ４８が連結固定されている。なお、カウンタ用スライダ４８は、スライダ４４の往復移動範囲の中央位置（通常は、一対のプーリ体７３、７３の中央位置）を挟んでスライダ４４と略対称位置に配設されるように、駆動ベルト７４に連結固定されている。そして、回転方向及び回転速度、回転量等を制御しつつモータ７５を回転駆動することで、スライダ４４及び吐出部５０がＸ方向に沿って往復移動駆動される。また、この際、カウンタ用スライダ４８は、スライダ４４に対して、一対のプーリ体７３、７３の中央位置を挟んで対称位置を保ちつつ、Ｘ方向に沿って往復移動するようになっている。
【００６５】
補助スライダ駆動機構７６は、補助走査機構ガイド部６２の両端部に設けられた一対のプーリ体７７、７７と、一対のプーリ体７７、７７に巻掛けられた駆動ベルト７８と、一方のプーリ体７７を正逆両方向に回転駆動可能なモータ７９とを有している。一対のプーリ体７７、７７間を走行する２経路の駆動ベルト７８のうち一方側（下側）には、上記補助スライダ６５が連結固定されている。そして、上記スライダ４４と補助スライダ６５とを同期駆動するように、つまり回転方向及び回転速度、回転量等を制御しつつモータ７９を回転駆動することで、補助スライダ６５がＸ方向に沿って往復移動駆動される。もっとも、スライダ４４と補助スライダ６５との間を通る配管８０に対して大きな引張力が作用するのを抑制し得る範囲内では、補助スライダ６５とスライダ４４とがＸ方向に沿って多少ずれてもよい。
【００６６】
なお、ここでは、スライダ４４と補助スライダ６５とを別々のモータ７５、７９によって駆動する例で説明したが、共通するモータからの回転駆動力を歯車或はプーリ及びベルト等を用いた伝達機構によって２つに分けて伝達することによって駆動するようにしてもよい。また、スライダ４４と補助スライダ６５とを共通する駆動ベルトに連結することによって同期駆動するようにしてもよい。また、スライダ４４或は補助スライダ６５を駆動する機構、特に、補助スライダ６５を駆動する機構は、上記例に限られず、その他、リニアモータ等の各種リニアアクチュエータを用いてもよい。
【００６７】
ハードウェアとしての構成は、一般的なコンピュータと同様である。即ち、制御部９０は、各種演算処理を行うＣＰＵ、基本プログラムを記憶する読み出し専用のメモリであるＲОＭ、各種情報を記憶する読み書き自在のメモリであるＲＡＭ及び制御用ソフトウェア、又はデータなどを記憶しておく磁気ディスク、キーボード及びマウスなどの入力部をバスラインに接続して構成されている。このような制御部９０に予め格納されたソフトウェアプログラムに従って基板処理装置２０の動作制御が行われる。バスラインには、塗布液供給源８８、エア供給源８６、モータ７５，７９が接続されている。制御部９０は、エア供給源８６からエアを供給すると共に、塗布液供給源８８からの塗布液供給を開始して各ノズル５４から塗布液を吐出させた状態で、スライダ４４と補助スライダ６５とを同期駆動するように、各モータ７５、７９を駆動制御する処理を行うように構成されている。
【００６８】
このように構成された基板処理装置２０では、スライダ４４及び補助スライダ６５がＸ方向に沿って周期的に往復移動すると、アーム部材６７を介して補助スライダ６５に連結されたプレート部６３が揺動軸６１の周りを周期的に往復揺動する。つまり、補助スライダ６５に同期駆動するスライダ４４に追随してプレート部６３の向きが周期的に変化する。このときのアーム部材６７の水平揺動が、図１中において、矢印ＳＷおよびアーム部材６７の他の状態６７ｍとして例示されている。
【００６９】
以下において、このような基板処理装置２０を用いた処理の流れについて図５に示されるフローチャートを用いて説明する。
【００７０】
はじめに、前工程にて処理が施された基板２００が基板保持部３０のステージ３２上に保持された状態で、基板処理装置２０に所定の速度で搬送されてくる（ステップＳ１）。制御部９０は、基板２００が搬送されてきたことを例えばセンサなどで検出すると、塗布液供給源８８にも信号を送信し、塗布液の供給を開始させる（ステップＳ２）。
【００７１】
さらに、制御部９０は、主走査機構４０の駆動機構であるモータ７５、補助走査機構６０の駆動機構であるモータ７９に信号を送信する。この信号を受けて、主走査機構４０のスライダ４４及び補助走査機構６０の補助スライダ６５は、Ｘ方向に沿って同期しつつ走査移動を行う（ステップＳ３）。この走査移動が繰り返して周期的に行われることによって、基板２００の表面に塗布液の領域が形成される。
【００７２】
この補助走査機構６０の補助スライダ６５が走査移動することによって、補助スライダ６５に連結されたアーム部材６７を介して可動配管支持部１００のプレート部６３は揺動する。つまり、可動配管支持部１００のプレート部６３の向きが補助スライダ６５、そして補助スライダ６５に同期駆動するスライダ４４に追随して変化する（ステップＳ４）。
【００７３】
このようにノズル５４から塗布液が吐出された状態で、主走査機構４０によるＸ軸方向の主走査と基板２００のＹ軸方向への移動とが繰り返し行われることによって、基板２００の表面全体に塗布液が吐出される。
【００７４】
制御部９０が基板２００の全面に塗布液が塗布されたか否かを判断し（ステップＳ５）、塗布液が塗布された基板２００は基板保持部３０によって下流工程へと搬送される。
【００７５】
以上のように、基板処理装置２０は、塗布液配管８０ｂの途中の部分を支持するとともに、主走査の繰り返しによるスライダ４４の周期的な動きに追随してその向きが周期的に変化する可動配管支持部１００を備える。つまり、可動配管支持部１００の向きは一定方向に維持されるのではなく、スライダ４４の動きに追随して周期的に変化する。このため、可動配管支持部１００に支持された塗布液配管８０ｂの部分にねじれが生じることを抑えられる。また、可動配管支持部１００に支持されている塗布液配管８０ｂの部分に外部から力が加わりにくくなるため、初期状態における塗布液配管８０ｂの姿勢が維持されやすくなる。つまり、塗布液配管８０ｂの暴れが生じにくい。これらの結果、吐出部５０から吐出される塗布液の流量が変動することを抑えられる。
【００７６】
特に、製品に使用される基板の大型化に伴い、基板処理装置が大型化した場合には、ノズルの本数が増加して塗布液配管の本数が増加するため、塗布液配管の暴れはより増大すると考えられる。従って、本発明を従来よりも大型の基板処理装置に適用することはより有効である。
【００７７】
また、基板処理装置２０は補助走査機構６０をさらに備え、塗布液配管８０ｂの部分は補助走査機構６０の補助スライダ６５に支持されている。従って、塗布液配管８０ｂの揺れや暴れが直接吐出部５０に伝わりにくくなる。また、塗布液配管８０ｂを支持する箇所が増えるため、より塗布液配管８０ｂの姿勢は安定する。これらによって、吐出部５０から吐出される塗布液の流量の変動を抑えられる。
【００７８】
また、可動配管支持部１００はアーム部材６７を介して補助スライダ６５に連結されている。可動配管支持部１００はアーム部材６７の駆動によって、確実にその向きを変化させることができる。
【００７９】
また、塗布液配管８０ｂは可動配管支持部１００による支持箇所と補助スライダ６５との接続箇所との間で上に凸のアーチ形状に形成されている。従って、当該箇所における塗布液配管８０ｂは長くなるため、補助走査機構６０の揺れはアーチ形状の塗布液配管８０ｂ全体で平滑化され、その影響を小さくすることができる。また、補助スライダ６５の接続箇所から延び出た塗布液配管８０ｂの部分８０１が上方に立ち上がるため、補助走査機構６０のスライダ４４が往復移動しても、塗布液が塗布液配管８０ｂ内を逆流する方向に力が生じにくい。これらによって、吐出部５０から吐出される塗布液の流量の変動を抑えられる。
【００８０】
塗布液配管８０ｂの揺れの平滑化効果については、可動配管支持部１００による支持箇所と補助スライダ６５との接続箇所との間の塗布液配管８０ｂの区間が、下に凸のアーチ形状に形成されていても達成される。したがって、このような平滑化効果に着目した場合には、一般に、塗布液配管８０ｂ（可撓性の処理液配管）における上記区間が、鉛直面内でアーチ形状に設けられることが好ましいことになる。ここで言うアーチ形状とは、必要最小長さ（すなわち、最小の主走査の振幅を考慮して可動配管支持部１００による支持部分と補助スライダ６５との接続部分との間に必要とされる最小距離）よりも塗布液配管８０ｂが長く、冗長度を持つことをいう。
【００８１】
また、主走査機構４０は補助走査機構６０よりも下方に配置されている。従って、主走査機構４０が有する吐出部５０に接続された塗布液配管８０ｂの端末８０２は上方に立ち上がった状態に維持されやすくなる。従って、主走査機構４０が有するスライダ４４が往復移動しても塗布液が逆流する方向に力が生じにくく、塗布液の流量の変動を抑えられる。
【００８２】
＜変形例＞
以下、各種変形例について説明する。
【００８３】
まず、上記実施形態では、塗布液配管８０ｂのうち、可動配管支持部１００による支持箇所と、吐出部５０への接続箇所との間の区間が上に凸のアーチ形状に形成されていたが、このような形態には限られない。図６には、可動配管支持部１００による支持箇所と、吐出部５０への接続箇所との間の区間がアーム部材６７に沿って配設された形態が示されている。図６に示すように、当該区間における塗布液配管８０ｂが、アーム部材６７の延出方向に沿って、アーム部材６７に接するようにして配設されていても構わない。また、この他にも、塗布液配管８０ｂがアーム部材６７の周囲に巻き付けられた構成であっても構わない。これらの場合、上述の区間における塗布液配管８０ｂはアーム部材６７によって確実に支持されるため、当該区間における塗布液配管８０ｂの揺れや暴れは確実に抑えられる。これによって、吐出部５０から吐出される塗布液の流量が変動することを抑えられる。
【００８４】
また、上記実施形態において、補助走査機構６０は駆動機構を備えていたが、必ずしもこのような形態に限られない。補助走査機構６０の補助スライダ６５は、主走査機構４０のスライダ４４が駆動機構によって駆動することによって動作し、往復移動する機構であってもよい。つまり、主走査機構４０が補助走査機構６０と可動配管支持部１００とを従動させる形態であってもよい。
【００８５】
また、可動配管支持部１００は、補助走査機構６０又は主走査機構４０に従動する形態に限られない。可動配管支持部１００が例えばモータなどの駆動機構を有していてもよい。可動配管支持部１００自体がその向きを調節する駆動機構を備える場合、可動配管支持部１００の向きは確実にスライダ４４及び補助スライダ６５に追随して周期的に変化させることが可能である。
【００８６】
また、可動配管支持部が駆動機構を有する場合、可動配管支持部は回転モータと回転モータに接続されたリンク機構を有するアーム部材とで構成される形態であっても構わない。この場合、リンク機構を有するアーム部材は回転モータから回転駆動力を与えられ、リンク機構を有するアーム部材に接続された補助スライダ、及びスライダを直線運動させる。
【００８７】
また、図７には、アーム部材６７がプレート部６３と補助スライダ６５との間に設けられていない状態の基板処理装置の主要部の配置関係が示されている。図７に示される可動配管支持部１００ｂは補助スライダ６５を備えていない。このような形態であっても構わない。この場合、可動配管支持部１００ｂのプレート部６３の向きを変化させるための駆動機構、例えばモータ６８が設置されていることが望ましい。モータ６８は制御部９０によって制御され、制御部９０は、プレート部６３の向きが、往復移動するスライダ４４及び補助スライダ６５に追随して周期的に変化するように、モータ６８を駆動させて揺動軸６１の可動部分６１ｂを揺動させる。
【００８８】
このように、可動配管支持部１００自体がその方向を調節する駆動機構を備える場合、可動配管支持部１００の向きは確実にスライダ４４及び補助スライダ６５に追随して周期的に変化させることが可能である。
【００８９】
なお、可動配管支持部１００ｂは必ずしも駆動機構を備えていなくてもよい。補助スライダ６５の移動に応じて、塗布液配管８０ｂが可動配管支持部１００ｂを引っ張ることによって可動配管支持部１００ｂの向きを変化させる形態であってもよい。
【００９０】
また、基板処理装置２０は補助走査機構６０を必ずしも備えていなくても構わない。つまり、主走査機構４０、可動配管支持部１００ｃを主たる構成とする基板処理装置であってもよい。
【００９１】
図８には、この場合における主要部の配置関係が概略的に記載されている。主走査機構４０のスライダ４４の往復移動に追随して、プレート部６３の向きは周期的に変化する。ここでは、可動配管支持部１００ｃは、駆動機構としてモータ６８を備えている。なお、上述のように塗布液配管８０ｂは、可動配管支持部１００ｃと、吐出部５０との間の区間でアーチ形状に形成されていることが望ましい。より望ましくは、この区間が上に凸のアーチ形状とされる。その理由は、図１〜図４で示す実施形態について述べた理由と同様である。また、可動配管支持部１００ｃがアーム部材を備える形態であってもよい。つまり、可動配管支持部１００ｃがスライダ４４に連結されていても構わない。
【００９２】
この発明は、一般に、塗布液のみならず、略水平姿勢の基板に処理液を与する基板処理装置および処理液付与方法に適用可能である。
【符号の説明】
【００９３】
２０ 基板処理装置
３０ 基板保持部
４０ 主走査機構
４２ 主走査機構ガイド部
４４ スライダ
５０ 吐出部
５４ ノズル
６０ 補助走査機構
６１ 揺動軸
６２ 補助走査機構ガイド部
６３ プレート部
６５ 補助スライダ
６７ アーム部材
８０ｂ 塗布液配管
８６ エア供給源
８８ 塗布液供給源
９０ 制御部
１００ 可動配管支持部
２００ 基板
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を略水平に保持する基板保持部と、
前記基板に対して略平行な主走査方向に沿って延びるガイド部と、前記ガイド部により前記主走査方向に沿って移動可能に支持された移動部と、を有する主走査機構と、
前記移動部により前記主走査方向に沿って移動可能に支持され、前記基板に処理液を吐出する吐出部と、
前記吐出部に接続されるとともに前記吐出部に処理液を導く可撓性の配管と、
前記配管の途中の部分を支持するとともに、主走査の繰返しによる前記移動部の周期的な動きに追随してその向きが周期的に変化する可動配管支持部と、
を備える基板処理装置。
【請求項２】
請求項１に記載の基板処理装置であって、
前記配管のうち、前記可動配管支持部による支持箇所と、前記吐出部への接続箇所との間の区間が鉛直面内でアーチ形状に形成されている、基板処理装置。
【請求項３】
請求項２に記載の基板処理装置であって、
前記配管の前記区間は、上に凸のアーチ形状となっている、基板処理装置。
【請求項４】
請求項１に記載の基板処理装置であって、
前記ガイド部に沿って延びる補助ガイド部と、前記補助ガイド部により前記主走査方向に沿って移動可能に支持された補助移動部と、を有する補助走査機構をさらに備え、
前記配管のうち、前記可動配管支持部による支持箇所と、前記吐出部への接続箇所との間の所定部分が前記補助移動部に支持されている、基板処理装置。
【請求項５】
請求項４に記載の基板処理装置であって、
前記可動配管支持部が前記補助移動部に連結されていることを特徴とする、基板処理装置。
【請求項６】
請求項４又は５に記載の基板処理装置であって、
前記配管のうち、前記可動配管支持部による支持箇所と、前記補助移動部への接続箇所との間の区間が鉛直面内でアーチ形状に形成されている、基板処理装置。
【請求項７】
請求項４ないし６のいずれか一つに記載の基板処理装置であって、
前記主走査機構は前記補助走査機構よりも下方に配置されていることを特徴とする基板処理装置。
【請求項８】
請求項１ないし７のいずれか一つに記載の基板処理装置であって、
前記可動配管支持部の向きを調節する駆動部をさらに備える、基板処理装置。
【請求項９】
基板を略水平に保持する工程と、
吐出部から処理液を吐出させながら、前記吐出部を支持する移動部を主走査方向に沿って基板上を周期的に走査移動させる工程と、
前記吐出部に前記処理液を導く可撓性の配管の途中の部分を支持する可動配管支持部の向きを、走査移動する前記移動部に追随して周期的に変化させる工程と、
を備える処理液付与方法。
【請求項１】
基板を略水平に保持する基板保持部と、
前記基板に対して略平行な主走査方向に沿って延びるガイド部と、前記ガイド部により前記主走査方向に沿って移動可能に支持された移動部と、を有する主走査機構と、
前記移動部により前記主走査方向に沿って移動可能に支持され、前記基板に処理液を吐出する吐出部と、
前記吐出部に接続されるとともに前記吐出部に処理液を導く可撓性の配管と、
前記配管の途中の部分を支持するとともに、主走査の繰返しによる前記移動部の周期的な動きに追随してその向きが周期的に変化する可動配管支持部と、
を備える基板処理装置。
【請求項２】
請求項１に記載の基板処理装置であって、
前記配管のうち、前記可動配管支持部による支持箇所と、前記吐出部への接続箇所との間の区間が鉛直面内でアーチ形状に形成されている、基板処理装置。
【請求項３】
請求項２に記載の基板処理装置であって、
前記配管の前記区間は、上に凸のアーチ形状となっている、基板処理装置。
【請求項４】
請求項１に記載の基板処理装置であって、
前記ガイド部に沿って延びる補助ガイド部と、前記補助ガイド部により前記主走査方向に沿って移動可能に支持された補助移動部と、を有する補助走査機構をさらに備え、
前記配管のうち、前記可動配管支持部による支持箇所と、前記吐出部への接続箇所との間の所定部分が前記補助移動部に支持されている、基板処理装置。
【請求項５】
請求項４に記載の基板処理装置であって、
前記可動配管支持部が前記補助移動部に連結されていることを特徴とする、基板処理装置。
【請求項６】
請求項４又は５に記載の基板処理装置であって、
前記配管のうち、前記可動配管支持部による支持箇所と、前記補助移動部への接続箇所との間の区間が鉛直面内でアーチ形状に形成されている、基板処理装置。
【請求項７】
請求項４ないし６のいずれか一つに記載の基板処理装置であって、
前記主走査機構は前記補助走査機構よりも下方に配置されていることを特徴とする基板処理装置。
【請求項８】
請求項１ないし７のいずれか一つに記載の基板処理装置であって、
前記可動配管支持部の向きを調節する駆動部をさらに備える、基板処理装置。
【請求項９】
基板を略水平に保持する工程と、
吐出部から処理液を吐出させながら、前記吐出部を支持する移動部を主走査方向に沿って基板上を周期的に走査移動させる工程と、
前記吐出部に前記処理液を導く可撓性の配管の途中の部分を支持する可動配管支持部の向きを、走査移動する前記移動部に追随して周期的に変化させる工程と、
を備える処理液付与方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【公開番号】特開２０１３−５９７０６（Ｐ２０１３−５９７０６Ａ）
【公開日】平成２５年４月４日（２０１３．４．４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−１９７９９８（Ｐ２０１１−１９７９９８）
【出願日】平成２３年９月１２日（２０１１．９．１２）
【出願人】（０００２０７５５１）大日本スクリーン製造株式会社 (2,640)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２５年４月４日（２０１３．４．４）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年９月１２日（２０１１．９．１２）
【出願人】（０００２０７５５１）大日本スクリーン製造株式会社 (2,640)
【Ｆターム（参考）】
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