基板処理装置
【課題】不具合が発生した場合でも、装置全体を停止することなく基板処理を継続できる可能性の高い基板処理装置を提供する。
【解決手段】
基板処理装置１は、基板Ｗを搬送するための第１、第２の基板搬送機構１４１ａ、１４１ｂと、当該基板搬送機構１４１ａ、１４１ｂの左右両側に各々設けられ、同一の処理が行われる処理ユニットの列Ｕ１〜Ｕ４と、を備えた第１、第２の処理ブロック１４ａ、１４ｂを備えている。処理ユニットの列Ｕ１、Ｕ３及び、他方側の処理ユニットの列Ｕ２、Ｕ４は各々共通化された処理流体の供給系３ａ、３ｂと接続されている。そしていずれかの基板搬送機構１４１ａ、１４１ｂ、処理流体の供給系３ａ、３ｂに不具合が発生すると、健全な基板搬送機構１４１ｂ、１４１ａ、処理流体の供給系３ｂ、３ａが受け持つ処理ユニットの列Ｕ１〜Ｕ４にて基板Ｗを処理する。
【解決手段】
基板処理装置１は、基板Ｗを搬送するための第１、第２の基板搬送機構１４１ａ、１４１ｂと、当該基板搬送機構１４１ａ、１４１ｂの左右両側に各々設けられ、同一の処理が行われる処理ユニットの列Ｕ１〜Ｕ４と、を備えた第１、第２の処理ブロック１４ａ、１４ｂを備えている。処理ユニットの列Ｕ１、Ｕ３及び、他方側の処理ユニットの列Ｕ２、Ｕ４は各々共通化された処理流体の供給系３ａ、３ｂと接続されている。そしていずれかの基板搬送機構１４１ａ、１４１ｂ、処理流体の供給系３ａ、３ｂに不具合が発生すると、健全な基板搬送機構１４１ｂ、１４１ａ、処理流体の供給系３ｂ、３ａが受け持つ処理ユニットの列Ｕ１〜Ｕ４にて基板Ｗを処理する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば半導体ウエハなどの基板を搬送する基板搬送機構を用いて、前記基板に対して液処理や表面処理などの流体処理を実行する複数個の処理ユニットに対して基板を搬送し、処理を行う技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイスなどの製造工程には、半導体ウエハ（以下、ウエハという）などの基板の表面に薬液や純水などの処理液を供給して基板に付着したパーティクルや汚染物質の除去を行う液処理がある。
【０００３】
こうした液処理を行う液処理装置の一つに、スピンチャック上に基板を一枚ずつ載置し、基板を回転させながら当該基板の表面に処理液を供給して液処理を実行する液処理装置がある。この種の液処理装置には例えば同種の液処理を実行可能な複数の液処理ユニットに対して共通の基板搬送機構を用いて基板を搬送することにより、複数の液処理ユニットにて並行して液処理を実行しながら連続的に基板を入れ替え、単位時間当たりの基板の処理枚数（スループット）を向上させたものがある（特許文献１）。
【０００４】
本件発明者は、このような構造を備えた液処理装置の更なるスループット向上を検討しており、その手法として、共通の基板搬送機構を用いて複数の液処理ユニットに基板を搬送する処理ブロックを１台の液処理装置内に複数ブロック設けることにより、並行して処理可能な基板の枚数を増やすことを検討している。
【０００５】
ところがこのように１台の液処理装置で処理可能な基板の枚数を増やしていくと、例えば各液処理ユニットや基板搬送機構、液処理ユニットへの処理液の供給系などにおいて不具合があったときに、液処理装置を停止することにより発生するロスが大きくなる。特に、上述のように液処理装置内に複数の処理ブロックを設けた場合には、不具合の発生箇所以外のブロックは稼動を継続することが可能であるにも係らず装置全体を停止すると機会ロスが発生してしまい、液処理装置の効率的な稼動の妨げになる。
【０００６】
ここで特許文献２には、半導体ウエハへの塗布液の塗布処理、熱処理及び露光後の現像処理といった一連の処理を行う塗布、現像装置について、当該の一連の処理を実行する処理ラインを複数ライン設け、１つの処理ラインに含まれる機器が故障した場合であっても残る処理ラインの稼動を継続することが可能な塗布、現像装置が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００８−３４４９０号公報：００２０段落、図１
【特許文献２】特開２００４−８７６７５号公報：００４０段落、０１０８段落、図１〜図３
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
前記特許文献２に記載の塗布、現像装置では、各処理ラインに含まれる機器が故障した場合には、その故障箇所に係らず当該故障した機器を含む処理ライン全体を停止する必要がある。これに対して既述のように、１つの基板搬送機構を用いて複数の液処理ユニットに基板を搬送する液処理ブロックを構成し、この液処理ブロックを複数個設ける場合には、ある液処理ブロックを稼動させるために必要な機器に不具合が発生した場合であっても当該液処理ブロックに含まれる他の液処理ユニットにて液処理を継続することが可能な場合もあるので、特許文献２に記載の技術を適用しても液処理装置を効率的に稼動できるとはいえない場合がある。
【０００９】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであり、不具合が発生した場合でも、装置全体を停止することなく基板処理を継続できる可能性の高い基板処理装置を提供する。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明に係る基板処理装置は、基板を収納した基板収納容器が載置される容器載置部と、この容器載置部に載置された基板収納容器に対して基板の受け渡しを行う受け渡し機構と、を含む基板搬入ブロックと、
この基板搬入ブロックに隣接して設けられ、当該基板搬入ブロックから受け取った基板を処理するための処理ブロックであって、基板を直線搬送路に沿って搬送するための第１の基板搬送機構と、この基板搬送機構の左右両側に各々設けられ、前記第１の基板搬送機構により基板の受け渡しが行われると共に基板に対して各々処理流体により同一の処理を行う複数の処理ユニットからなる処理ユニットの列と、を含む第１の処理ブロックと、
この第１の処理ブロックに隣接して設けられ、前記基板搬入ブロックから受け取った基板を処理するための処理ブロックであって、基板を直線搬送路に沿って搬送するための第２の基板搬送機構と、この基板搬送機構の左右両側に各々設けられ、前記第２の基板搬送機構により基板の受け渡しが行われると共に基板に対して各々前記処理ユニットと同一の処理を行う複数の処理ユニットからなる処理ユニットの列と、を含む第２の処理ブロックと、
前記第１の処理ブロックにおける左右の処理ユニットの列の一方と、前記第２の処理ブロックにおける左右の処理ユニットの列の一方と、に対して共通化された一方の処理流体の供給系と、
前記第１の処理ブロックにおける左右の処理ユニット列の他方と、前記第２の処理ブロックにおける左右の処理ユニットの列の他方と、に対して共通化された他方の処理流体の供給系と、
前記第１の処理ブロック及び第２の処理ブロックの一方の処理ブロックの基板搬送機構に不具合が発生したときには、他方の処理ブロックを使用して基板を処理し、一方の処理流体の供給系及び他方の処理流体の供給系のいずれかに不具合が発生したときには、不具合が発生していない処理流体の供給系が受け持つ処理ユニットの列を使用して基板を処理するように制御する制御部と、を備えたことを特徴とする。
【００１１】
前記基板処理装置は以下の特徴を備えていてもよい。
（ａ）前記制御部は、処理ユニットのいずれかに不具合が発生したときには、当該処理ユニットが含まれる処理ユニットの列の使用を停止し、他の処理ユニットの列を使用して基板を処理するように制御することを特徴とする。
（ｂ）前記第１の処理ブロックと第２の処理ブロックとは、互に積層されていること。
（ｃ）前記第２の処理ブロックは第１の処理ブロックに対して基板搬入ブロックとは反対側に設けられていること。
（ｄ）前記第１の処理ブロックと第２の処理ブロックとの間で基板の受け渡しを行うための基板載置部と、
前記基板搬入ブロックの受け渡し機構から受け取った基板を第１の処理ブロックまたは前記基板載置部に搬送するために前記第１の基板搬送機構とは別個に設けられた第１のブロック間搬送機構と、
前記基板載置部に載置された基板を第２の処理ブロックに搬送するために前記第２の基板搬送機構とは別個に設けられた第２のブロック間搬送機構と、を備えたこと。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、各基板搬送機構で基板の受け渡しが行われる処理ユニットの列の組み合わせと、共通化された処理流体の各供給系に接続される処理ユニットの列の組み合わせとが互いに異なっている。このため、例えば基板搬送機構の一方側で不具合が発生しても他方側の基板搬送機構を用いて基板の処理が継続可能であり、この状態のときに、さらに処理流体の供給系の一方側で不具合が発生したとしても、不具合の発生していない基板搬送機構及び処理流体の供給系の供給系を使用して基板の処理を継続可能な処理ユニットの列が残される。この結果、不具合の発生に対して装置全体を停止することなく、基板処理を継続する可能性を高めることが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明の実施の形態に係る液処理装置の横断平面図である。
【図２】前記液処理装置の縦断側面図である。
【図３】前記液処理装置の内部構成を示す斜視図である。
【図４】前記液処理装置に搭載されている液処理ユニットの構成を示す説明図である。
【図５】前記液処理ユニットへの処理液の供給系統を示す説明図である。
【図６】前記液処理装置の電気的構成を示す説明図である。
【図７】前記液処理装置において、不具合発生箇所に応じて停止する液処理ユニットの列を定めたグループ分けテーブルである。
【図８】前記液処理装置の不具合発生時における動作の流れを示すフロー図である。
【図９】前記液処理装置の動作を示す第１の説明図である。
【図１０】前記液処理装置の動作を示す第２の説明図である。
【図１１】第２の実施の形態に係る液処理装置の例を示す横断平面図である。
【図１２】前記第２の実施の形態に係る液処理装置の縦断側面図である。
【図１３】前記第２の実施の形態に係る液処理装置の内部構成を示す斜視図である。
【図１４】前記第２の実施の形態に係る液処理装置の動作を示す第１の説明図である。
【図１５】前記第２の実施の形態に係る液処理装置の動作を示す第２の説明図である。
【図１６】前記第２の実施の形態に係る液処理装置の動作を示す第３の説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
本発明の基板処理装置に係る実施の形態として、基板であるウエハＷに処理液である薬液を供給して基板に付着したパーティクルや汚染物質を除去する液処理を行う液処理装置１の構成について図１〜図７を参照しながら説明する。図１は液処理装置１の全体構成を示す横断平面図、図２は縦断側面図であり、これらの図に向かって左側を前方とすると、液処理装置１は複数枚のウエハＷを収納した基板収納容器であるＦＯＵＰ（Front-Opening Unified Pod）７が載置される載置ブロック１１と、このＦＯＵＰ７からウエハＷを取り出して液処理装置１内に搬入する搬送ブロック１２と、搬送ブロック１２にて取り出されたウエハＷを後段の液処理ブロック１４ａ、１４ｂに受け渡すための受け渡しブロック１３と、受け渡しブロック１３から受け渡されたウエハＷを液処理ユニット２に搬入して液処理を実行する液処理ブロック１４ａ、１４ｂと、を前方からこの順番に接続した構造となっている。ここで本実施の形態に係る液処理装置１は、スループット向上の観点から、上下に積層された（隣接して設けられた）２つの液処理ブロック１４ａ、１４ｂを備えている。本例では例えば上段側の液処理ブロック１４ａが第１の処理ブロックに相当し、下段側の液処理ブロック１４ｂが第２の処理ブロックに相当している。
【００１５】
載置ブロック１１は、例えば４個のＦＯＵＰ７を載置可能な載置台として構成され、載置台上に載置された各ＦＯＵＰ７を固定して搬送ブロック１２に接続する容器載置部としての役割を果たす。搬送ブロック１２は、各ＦＯＵＰ７との接続面に設けられた開閉扉を開閉する不図示の開閉機構と、ＦＯＵＰ７と受け渡しブロック１３との間でのウエハＷの受け渡しを行う受け渡し機構である搬入出アーム１２１とを共通の筐体内に設けた構造となっている。
【００１６】
搬入出アーム１２１は例えば前後方向に進退自在、左右方向に移動自在及び、回動、昇降自在に構成された搬送アーム及びその駆動部から構成されており、搬送ブロック１２と受け渡しブロック１３とを区画する区画壁に設けられた第１の開口部１２３を介して、受け渡しブロック１３との間でウエハＷの受け渡しを行う役割を果たす。
【００１７】
受け渡しブロック１３は、前後を搬送ブロック１２及び液処理ブロック１４ａ、１４ｂに挟まれた位置に設けられた筐体内の空間であり、例えば搬送ブロック１２側の第１の開口部１２３に接続された第１の受け渡し棚１３３と、この第１の受け渡し棚１３３の上方位置及び下方位置に各々設けられ、当該第１の受け渡し棚１３３と各液処理ブロック１４ａ、１４ｂ側の区画壁に設けられた第２の開口部１３２ａ、１３２ｂとの間で、液処理前後のウエハＷの受け渡しを行うための第２の受け渡し棚１３１ａ、１３１ｂと、を設けた構造となっている。各第２の受け渡し棚１３１ａ、１３１ｂは例えば８枚のウエハＷを載置可能であり、受け渡しブロック１３の空間内の上方側と下方側の位置に設けられている。各受け渡し棚１３１ａ、１３１ｂは搬送ブロック１２側から搬入されるウエハＷ及び、液処理ブロック１４ａ、１４ｂ側から搬出されるウエハＷを一時的に載置する役割を果たす。
【００１８】
また図１に示すように、受け渡し部１３内には、上下方向に昇降自在、前後方向に進退自在に構成された昇降搬送機構１３４が設けられている。この昇降搬送機構１３４は、第１の受け渡し棚１３３と第２の受け渡し棚１３１ａ、１３１ｂとの間でウエハＷの搬送を行う役割を果たす。
以上に説明した載置ブロック１１、搬送ブロック１２、受け渡しブロック１３は、本実施の形態の基板搬入ブロックを構成している。
【００１９】
受け渡しブロック１３の後段には、当該受け渡しブロック１３に隣接して２つの液処理ブロック１４ａ、１４ｂが上下に積層して配置されている。これらの液処理ブロック１４ａ、１４ｂは、互いにほぼ同様の構成を備えており、ウエハＷに対する液処理が実行される複数個、例えば１２個の液処理ユニット２を筐体内に配置した構造となっている。各液処理ブロック１４ａ、１４ｂには、前後方向に伸びるウエハＷの直線搬送路である搬送路１４２ａ、１４２ｂが設けられており、この搬送路１４２ａ、１４２ｂを挟んで左右に各々６台の液処理ユニット２が互いに対向するように列設されている。
【００２０】
図１、図３に示すように各搬送路１４２ａ、１４２ｂ内には、搬送路１４２ａ、１４２ｂに沿って移動可能、搬送路１４２ａ、１４２ｂの左右に設けられた各液処理ユニット２に向けて進退可能、そして鉛直軸回りに回転可能、昇降可能に構成され、各々本実施の形態の第１、第２の基板搬送機構に相当するプロセスアーム１４１ａ、１４１ｂが設けられており、受け渡しブロック１３側の、各々の液処理ブロック１４ａ、１４ｂに対応する第２の受け渡し棚１３１ａ、１３１ｂと各液処理ユニット２との間でウエハＷを搬送することができる。ここで図１〜図３には各液処理ブロック１４ａ、１４ｂに１台のプロセスアーム１４１ａ、１４１ｂを設けた例を示したが、液処理ユニット２の台数などに応じて２台以上のプロセスアーム１４１ａ、１４１ｂを設けてもよい。
【００２１】
以上に説明した内容をまとめると、本例の液処理装置１には図１〜図３に示すように、上段側の液処理ブロック１４ａに１２台、下段側の液処理ブロック１４ｂに１２台の計２４台の液処理ユニット２が配置されている。そして、上段側の液処理ブロック１４ａにおいては前方側から見て搬送路１４２ａの右側に列設された６台の液処理ユニット２の列（Ｕ１）、左側に列設された６台の液処理ユニット２の列（Ｕ２）の各列に含まれる液処理ユニット２に対して共通のプロセスアーム１４１ａを用いてウエハＷの搬入出が行われる。また下段側の液処理ブロック１４ｂでは前方側から見て搬送路１４２ｂの右側に列設された６台の液処理ユニット２の列（Ｕ３）、左側に列設された６台の液処理ユニット２の列（Ｕ４）の各列に含まれる液処理ユニット２に対して共通のプロセスアーム１４１ｂを用いてウエハＷの搬入出が行われる。
【００２２】
次に図４、図５を参照しながら各液処理ブロック１４ａ、１４ｂに設けられた液処理ユニット２の構成及び各液処理ユニット２への薬液の供給、回収系統について説明する。液処理ユニット２は、ウエハＷに対する液処理、リンス洗浄、振切乾燥の各処理が実行される密閉された処理空間を形成するアウターチャンバー２１と、このアウターチャンバー２１内に設けられ、ウエハＷをほぼ水平に保持した状態で回転させるウエハ保持機構２３と、ウエハ保持機構２３に保持されたウエハＷの上面側に薬液を供給するノズルアーム２４と、ウエハ保持機構２３を取り囲むようにアウターチャンバー２１内に設けられ、回転するウエハＷから周囲に飛散した薬液を受けるためのインナーカップ２２とを備えている。
【００２３】
アウターチャンバー２１は、図１〜図３に示すように互いに隣り合う他の液処理ユニット２とは区画された筐体内に設けられており、不図示のウエハ搬入口を介してプロセスアーム１４１ａ、１４１ｂによりウエハＷが搬入出される。アウターチャンバー２１の底面に設けられた２６は、アウターチャンバー２１の底面に溜まったＤＩＷなどの排水を排出するための排水ライン、２７はアウターチャンバー２１内の雰囲気を排気するための排気ラインである。またウエハ保持機構２３の内部には薬液供給路２３１が形成されており、回転するウエハＷの下面に当該薬液供給路２３１を介して薬液を供給することができる。
【００２４】
ノズルアーム２４は、先端部に薬液供給用のノズルを備えており、不図示の駆動機構によってウエハ保持機構２３に保持されたウエハＷ中央側の上方位置と、例えばアウターチャンバー２１の外部に設けられた待機位置との間で前記ノズルを移動させることができる。インナーカップ２２は、ウエハ保持機構２３に保持されたウエハＷを取り囲む処理位置と、この処理位置の下方へ退避した退避位置との間を昇降し、回転するウエハＷ表面に供給された各種の薬液を受け止めて、インナーカップ２２の底面に設けられた排液ライン２５を介してこれらの薬液を液処理ユニット２外へと排出する役割を果たす。
【００２５】
次に各液処理ユニット２への薬液の供給機構について説明すると、ノズルアーム２４に設けられたノズルは上面側供給ライン４７に接続されており、この上面側供給ライン４７はＩＰＡ供給ライン４１１と薬液供給中間ライン４４とに分岐している。ＩＰＡ供給ライン４１１はＩＰＡ供給部３１に接続されており、このＩＰＡ供給部３１は高い揮発性を利用してウエハＷを乾燥させるためのＩＰＡをウエハＷの上面側に供給する役割を果たす。ＩＰＡ供給ライン４１１にはマスフローコントローラ４２が介設されており、所定量のＩＰＡをノズルアーム２４ａに供給することができる。
【００２６】
上面側供給ライン４７から分岐したもう一方側の薬液供給中間ライン４４は、切替弁４３を介して３系統の薬液供給ライン４１２、４１３、４１４に接続されている。これらのうち、ＤＩＷ供給ライン４１２の上流には、薬液処理後のウエハＷに残存するＤＨＦ液やＳＣ１液を除去するリンス液であるＤＩＷ（DeIonized Water）を供給するためのＤＩＷ供給部３２が設けられている。ＳＣ１供給ライン４１３の上流側にはウエハＷ表面のパーティクルや有機性の汚染物質を除去する薬液であるＳＣ１液（アンモニアと過酸化水素水の混合液）を供給するＳＣ１供給部３３が設けられている。そして残るＤＨＦ供給ライン４１４の上流側にはウエハＷ表面の自然酸化膜を除去する酸性薬液である希フッ酸水溶液（以下、ＤＨＦ（Diluted HydroFluoric acid）液という）を供給するＤＨＦ供給部３４が設けられている。
【００２７】
またこれらのＤＩＷ供給部３２、ＳＣ１供給部３３、ＤＨＦ供給部３４が接続された薬液供給中間ライン４４は、ウエハＷの下面に薬液を供給する薬液供給路２３１とも下面側供給ライン４８を介して接続されている。図４中、４５、４６は、各々ノズルアーム２４側、ウエハ保持機構２３側への薬液供給量を調整するマスフローコントローラである。
【００２８】
以上に説明したＩＰＡ供給部３１、ＤＩＷ供給部３２、ＳＣ１供給部３３、ＤＨＦ供給部３４は、例えば共通の薬液供給ユニット３ａ、３ｂ内にまとめて配置されており、例えば図５にはこれらの各供給部３１、３２、３３、３４をまとめて総括的に記載してある。ここで本実施の形態に係る液処理装置１においては、図３、図５に示すように例えば前方側から見て搬送路１４２ａ、１４２ｂの右側に上下に重ねて配置されている液処理ユニット２の列（Ｕ１、Ｕ３）が共通の薬液供給ユニット３ａに接続されており、搬送路１４２ａ、１４２ｂの左側に上下に重ねて配置されている液処理ユニット２の列（Ｕ２、Ｕ４）が共通の薬液供給ユニット３ｂに接続されている。これら薬液供給ユニット３ａ、３ｂは本実施の形態における処理流体の供給系に相当し、当該供給系が液処理ユニット２の列Ｕ１、Ｕ３及びＵ２、Ｕ４にて共通化されていることになる。
【００２９】
上述のように、搬送路１４２ａ、１４２ｂを挟んで液処理ユニットの列Ｕ１、Ｕ３と他の列Ｕ２、Ｕ４とに別々に薬液供給ユニット３ａ、３ｂを接続することにより、例えばプロセスアーム１４１ａ、１４１ｂやその電源系統などと干渉せずに各供給ライン４１１〜４１４などを配設することが可能となり、配管設計が容易となったり、配管距離を短くすることができるといった利点がある。また図５では図示の便宜上、液処理ユニットの列Ｕ１、Ｕ３に薬液供給ユニット３ａが接続されている様子を代表的に示してあるが、液処理ユニットの列Ｕ２、Ｕ４に対する薬液供給ユニット３ｂの接続状態についてもほぼ同様である。
【００３０】
図５に総括的に記載したように、各薬液の供給部３１、３２、３３、３４は各種の薬液を貯留する循環タンク３０１に接続された薬液供給ライン４０１に、供給ポンプ３０２と、フィルター３０３と、ヒーター３０４と、を介設し、この下流側にて当該薬液供給ライン４０１が液処理ブロック１４ａ、１４ｂの各液処理ユニット２と接続される分岐ライン４０２に分岐した構成となっている。これら薬液供給ライン４０１及び分岐ライン４０２は図４に示す各供給ライン４１２〜４１３に相当しており、例えば各液処理ユニット２の下部に設けられた切替弁４３にて各供給ライン４１２〜４１３の分岐ライン４０２が合流している。
【００３１】
一方、各液処理ユニット２のインナーカップ２２底部に設けられた排液ライン２５は、例えば不図示の切替弁を介して各供給部３１、３３、３４の循環タンク３０１へと薬液を回収する薬液回収ライン４０３に接続されており、使用済みの薬液を回収することができるようになっている。またアウターチャンバー２１の排水ライン２６については、薬液回収ライン４０３を介してＤＩＷ供給部３２の循環タンク３０１に排水を回収する代わりに、例えば工場の排水処理設備に接続されており、排水の回収を行わない点が図５に示した各薬液供給部３１、３３、３４の薬液回収ライン４０３と異なる。
【００３２】
このような構成を備えた薬液供給ユニット３ａ、３ｂは例えば液処理装置１が配置された工場の床面下などに配置することができる。図３には液処理ユニットの列Ｕ１、Ｕ３及びＵ２、Ｕ４に接続された薬液供給ユニット３ａ、３ｂの配置状態を模式的に示してあり、各薬液の供給部３１、３２、３３、３４に接続された薬液供給ライン４０１は１本の配管として簡略化して記載してある。また薬液回収ライン４０３の記載は省略してある。
【００３３】
図１に示すように液処理装置１には制御部６が接続されている。制御部６は例えばＣＰＵと記憶部とを備えたコンピュータからなり、記憶部には当該液処理装置１の作用、各液処理ブロック１４ａ、１４ｂの液処理ユニット２にウエハＷを搬入して液処理を行った後、液処理後のウエハＷをＦＯＵＰ７に格納するまでの動作に係わる制御についてのステップ（命令）群が組まれたプログラムが記録されている。このプログラムは、例えばハードディスク、コンパクトディスク、マグネットオプティカルディスク、メモリーカード等の記憶媒体に格納され、そこからコンピュータにインストールされる。
【００３４】
以上に説明した構成を備えた液処理装置１は、例えばプロセスアーム１４１ａ、１４１ｂや薬液供給ユニット３ａ、３ｂなどにおいて不具合があった場合に、当該不具合の影響を受ける液処理ユニット２についてのみ稼動を停止し、他の液処理ユニット２については稼動を継続することができるようになっている。以下、その詳細な構成について説明する。
【００３５】
図６は液処理装置１の電気的構成を示すブロック図を示しており、各液処理ユニット２や薬液供給ユニット３ａ、３ｂ、プロセスアーム１４１ａ、１４１ｂ、搬入出アーム１２１は、既述の制御部６（例えばＣＰＵ６１と記憶部６２とから構成されている）に接続されていて、これらの機器２、３ａ、３ｂ、１４１ａ、１４１ｂ、１２１にて不具合が発生したことを検知することができる。
【００３６】
また液処理装置１内の液処理ユニット２は、各液処理ユニットの列Ｕ１〜Ｕ４毎に異なる電源部５に接続されており、各電源部５は制御部６からの指示に基づいて液処理ユニットの列Ｕ１〜Ｕ４単位で各液処理ユニット２への電力の給断を行うことができるようになっている。
【００３７】
制御部６の例えば記憶部６２には停止・稼動制御プログラム６２１が記憶されており、例えば記憶部６２に記憶されたグループ分けテーブル６２２を参照して、不具合の発生した機器２、３ａ、３ｂ、１４１ａ、１４１ｂ、１２１に応じて電力の供給を遮断する液処理ユニットの列Ｕ１〜Ｕ４を変更すると共に、停止対象とならなかった液処理ユニットの列Ｕ１〜Ｕ４内の液処理ユニット２を利用してウエハＷの液処理を継続するように構成されている。
【００３８】
図７は本例に係るグループ分けテーブル６２２の一例を示しており、当該テーブル６２２の各列には不具合の発生した機器を示し、各行には当該不具合発生機器に応じて停止する液処理ユニットの列Ｕ１〜Ｕ４を示してある。図中「○」は液処理ユニット２の稼動継続を示し、「×」は停止することを表している。
【００３９】
図７のグループ分けテーブル６２２によれば、各液処理ユニットの列Ｕ１〜Ｕ４に含まれる液処理ユニット２にて不具合が発生したときには、当該液処理ユニット２を含む各液処理ユニットの列Ｕ１〜Ｕ４のみを停止し、他の列Ｕ１〜Ｕ４においては液処理ユニット２の稼動を継続する。停止した液処理ユニットの列Ｕ１〜Ｕ４以外の液処理ユニットの列Ｕ１〜Ｕ４の稼動を継続する点については、以下、他の機器の場合も同様である。
【００４０】
プロセスアーム１４１ａ、１４１ｂに不具合があったときには、上段のプロセスアーム１４１ａ（図７には「ＰＡ１」と記載してある）の場合は液処理ユニットの列Ｕ１、Ｕ２の稼動を停止し、下段のプロセスアーム１４１ｂ（同じく「ＰＡ２」と記載してある）の場合は液処理ユニットの列Ｕ３、Ｕ４の稼動を停止する。薬液供給ユニット３ａ、３ｂ不具合発生時は、前方から見て右手の薬液供給ユニット３ａ（図７には「ＣＵ１」と記載してある）の場合に液処理ユニットの列Ｕ１、Ｕ３を停止、左手の薬液供給ユニット３ｂ（同じく「ＣＵ２」と記載してある）では液処理ユニットの列Ｕ２、Ｕ４を停止する。
【００４１】
また搬入出アーム１２１にて不具合が発生した場合には、後段のいずれの液処理ブロック１４ａ、１４ｂからもウエハＷの搬入出を行うことができないので、全ての液処理ユニットの列Ｕ１〜Ｕ４が停止されることになる。
【００４２】
以上に説明した構成を備えた液処理装置１の作用について以下に説明する。液処理装置１にて処理を開始すると、搬入出アーム１２１は載置ブロック１１に載置されたＦＯＵＰ７からウエハＷを取り出し、第１の受け渡し棚１３３内にウエハＷを載置する。昇降搬送機構１３４は、当該第１の受け渡し棚１３３からウエハＷを取り出して、各液処理ブロック１４ａ、１４ｂに対応する第２の受け渡し棚１３１ａ、１３１ｂにウエハＷを順次載置する。
【００４３】
各液処理ブロック１４ａ、１４ｂではプロセスアーム１４１ａ、１４１ｂが第２の受け渡し棚１３１ａ、１３１ｂからウエハＷを受け取り、液処理ユニット２の一つに進入して、当該ウエハＷをウエハ保持機構２３に受け渡す。ウエハＷが保持されたらノズルアーム２４をウエハＷ中央側の上方位置まで移動させ、インナーカップ２２を処理位置まで上昇させて、ウエハ保持機構２３によりウエハＷを回転させながらウエハ保持機構２３側のノズル及びウエハ保持機構２３側の薬液供給路２３１よりウエハＷの上下面両側にＳＣ１液を供給する。これによりウエハＷに薬液の液膜が形成されてアルカリ性薬液洗浄が行われる。
【００４４】
アルカリ性薬液洗浄が終了すると、インナーカップ２２が退避位置に移動し、またインナーカップ２２及びウエハ保持機構２３の薬液供給路２３１へＤＩＷを供給することによりウエハＷ表面のＳＣ１液を除去するリンス洗浄が実行される。
【００４５】
リンス洗浄を終えたら振切乾燥実行し、しかる後、再びインナーカップ２２を処理位置まで上昇させ、ウエハＷを回転させながら、ノズルアーム２４及びウエハ保持機構２３の薬液供給路２３１より、ウエハＷの上下面にＤＨＦ液を供給する。これによりこれらの面にＤＨＦ液の液膜が形成され、酸性薬液洗浄が行われる。そして所定時間の経過後、インナーカップ２２を退避位置に下降させ、薬液の供給系統を純水に切り替えて再びリンス洗浄を行う。
【００４６】
リンス洗浄の後、インナーカップ２２を処理位置まで上昇させ、液処理ユニット２の上面にＩＰＡを供給しながらウエハＷを回転させ、ＩＰＡの揮発性を利用したＩＰＡ乾燥を実行する。これによりウエハＷ表面に残存するリンス後の純水が完全に除去される。しかる後、インナーカップ２２を退避位置まで退避させ、不図示の搬入出口を開き、液処理ユニット２内にプロセスアーム１４１ａ、１４１ｂを進入させて処理後のウエハＷを搬出する。
【００４７】
液処理を終えたウエハＷは搬入時とは逆の経路で第２の受け渡し棚１３１ａ、１３１ｂ、昇降搬送機構１３４、第１の受け渡し棚１３３、搬入出アーム１２１へと受け渡され、載置ブロック１１のＦＯＵＰ７内に格納される。これらの動作を連続的に行うことにより液処理装置１は上下２段に設けられた液処理ブロック１４ａ、１４ｂ内の合計２４台の液処理ユニット２を並行して稼動させ、例えば液処理ブロック１４ａを１組（例えば液処理ユニット２が１２台）備える従来の液処理装置と比較して単位時間により多くのウエハＷを洗浄、乾燥することができる。
【００４８】
以上に説明した動作に基づき、ウエハＷの液処理を実行する液処理装置１の予め定められた機器において不具合が発生したときの動作を図８のフロー図及び図９〜図１０を参照しながら説明する。
【００４９】
まず液処理装置１は、稼動を開始した後（スタート）、例えば図６のブロック図に示した各機器２、３ａ、３ｂ、１４１ａ、１４１ｂ、１２１にて不具合が発生したか否かを監視し、不具合の発生がない場合には（ステップＳ１０１；ＮＯ）そのまま稼動を継続する。
【００５０】
不具合が発生すると（ステップＳ１０１；ＹＥＳ）、その不具合が液処理ユニット２におけるものであるか否かを確認し、例えばウエハ保持機構２３の回転駆動機構の停止やウエハＷの受け渡し機構の不調など、液処理ユニット２における不具合である場合には（ステップＳ１０２；ＹＥＳ）、当該不具合のあった液処理ユニット２を含む液処理ユニットの列Ｕ１〜Ｕ４のみを停止し（ステップＳ１０５）不具合に対する対応動作を終える（エンド）。
【００５１】
図９（ａ）は例えば液処理ユニットの列Ｕ１に含まれる液処理ユニット２にて不具合があった場合における各液処理ユニットの列Ｕ１〜Ｕ４の稼動状態を示しており、グレーで塗りつぶした液処理ユニットの列Ｕ１は停止していることを示している。このとき、残る３つの液処理ユニットの列Ｕ２〜Ｕ４では稼動を継続している一方、停止している液処理ユニットの列Ｕ１では例えば当該液処理ユニットの列Ｕ１の外装体を成す液処理ブロック１４ａ、１４ｂの筐体面に設けられたアクセス扉を開いて不具合のあった液処理ユニット２のメンテナンスを行うことができる。不具合のあった液処理ユニット２を含む液処理ユニットの列Ｕ１〜Ｕ４全体を停止することにより、メンテナンススタッフがアクセス扉の開放時に薬液の供給雰囲気に晒されることを避けることができる。
【００５２】
図８のフロー図の説明に戻ると、液処理ユニット２の不具合でない場合には（ステップＳ１０２；ＮＯ）、次にその不具合がプロセスアーム１４１ａ、１４１ｂで発生したものであるかを確認する。例えば駆動機構の不具合など、プロセスアーム１４１ａ、１４１ｂで発生したものである場合には（ステップＳ１０３；ＹＥＳ）、グループ分けテーブル６２２に基づき当該プロセスアーム１４１ａ、１４１ｂと共に、これに対応する液処理ユニットの列Ｕ１、Ｕ２（または液処理ユニットの列Ｕ３、Ｕ４）を停止し（ステップＳ１０６）、不具合の対応動作を終える（エンド）。図９（ｂ）は上段側のプロセスアーム１４１ａで不具合が発生したときの各液処理ユニットの列Ｕ１〜Ｕ４の稼動状態を示している。
【００５３】
不具合がプロセスアーム１４１ａ、１４１ｂでなければ（ステップＳ１０３；ＮＯ）、次にその不具合が薬液供給ユニット３ａ、３ｂで発生したものであるかを確認する。例えば循環タンク３０１のレベル低や供給ポンプ３０２の停止、フィルター３０３の圧力損失上昇など、薬液供給ユニット３ａ、３ｂにおける不具合の場合には（ステップＳ１０４；ＹＥＳ）、グループ分けテーブル６２２に基づき当該薬液供給ユニット３ａ、３ｂと共に、これに対応する液処理ユニットの列Ｕ１、Ｕ３（または液処理ユニットの列Ｕ２、Ｕ４）を停止し（ステップＳ１０８）不具合の対応動作を終える（エンド）。図１０（ａ）は手前から見て右側の薬液供給ユニット３ａで不具合が発生したときの各液処理ユニットの列Ｕ１〜Ｕ４の稼動状態を示している。ここで本実施の形態に係る液処理ユニット２の構成では、図５に示した切替弁４３やマスフローコントローラ４５、４６などの不具合は液処理ユニット２担体の不具合（ステップＳ１０５）に含まれる。
【００５４】
不具合が液処理ユニット２、受け渡し棚１３１ａ、１３１ｂ、薬液供給ユニット３ａ、３ｂのいずれでもない場合には（ステップＳ１０４；ＮＯ）、搬入出アーム１２１の例えば駆動機構などの不具合であるので全液処理ユニットの列Ｕ１〜Ｕ４を停止（即ち液処理装置１全体を停止）して（ステップＳ１０７）不具合の対応動作を終える（エンド）。図１０（ｂ）は搬入出アーム１２１にて不具合が発生した場合の各液処理ユニットの列Ｕ１〜Ｕ４の稼動状態を示している。
【００５５】
このように、不具合の発生した機器２、３ａ、３ｂ、１４１ａ、１４１ｂ、１２１に応じて当該不具合の影響を受ける液処理ユニット２についてのみ稼動を停止したら、例えばメンテナンススタッフが当該機器の不具合を解消し、稼動を開始可能な状態となったら、例えば制御部６に復帰信号を入力して、停止している液処理ユニットの列Ｕ１〜Ｕ４の稼動を再開する（スタート）。そして例えばプロセスアーム１４１ａ、１４１ｂの一方が停止している期間中に、さらに薬液供給ユニット３ａ、３ｂの一方が停止した場合であっても、残るプロセスアーム１４１ｂ、１４１ａ、薬液供給ユニット３ｂ、３ａにて稼動を継続可能な液処理ユニットの列Ｕ１〜Ｕ２が１列残されており、この液処理ユニットの列Ｕ１〜Ｕ２内の液処理ユニット２にて液処理を継続することができる。
【００５６】
本実施の形態に係る液処理装置１によれば以下の効果がある。各基板搬送機構で基板の受け渡しが行われる処理ユニットの列の組み合わせと、共通化された処理流体の各供給系に接続される処理ユニットの列の組み合わせとが互いに異なっている。このため、例えばプロセスアーム１４１ａ、１４１ｂの一方側で不具合が発生しても他方側のプロセスアーム１４１ｂ、１４１ａを用いてウエハＷの液処理が継続可能であり、この状態のときに、さらに薬液供給ユニット３ａ、３ｂの一方側で不具合が発生したとしても、不具合の発生していないプロセスアーム１４１ｂ、１４１ａ及び薬液供給ユニット３ｂ、３ａを使用してウエハＷの液処理を継続可能な処理ユニットの列Ｕ１〜Ｕ４が残される。この結果、不具合の発生に対して液処理装置１全体を停止することなく、ウエハＷ処理を継続する可能性を高めることが可能になる。
【００５７】
図１１〜図１３は第２の実施の形態に係る液処理装置１ａの構成を示している。第２の実施の形態に係る液処理装置１ａは受け渡しブロック１３の後段に配置された２つの液処理ブロック１４ａ、１４ｂが前後方向に配置されている点が、液処理ブロック１４ａ、１４ｂを上下に積層した既述の液処理装置１と異なっている。言い替えると、液処理ブロック１４ｂ（第２の処理ブロック）は液処理ブロック１４ａ（第１の処理ブロック）に対して受け渡しブロック１３（基板搬入ブロック）とは反対側に設けられていることになる。図１１〜図１３に示した液処理装置１ａにおいて、図１〜図３に示した液処理装置１と同様の構成要素には、これらの図と同じ符号を付してある。
【００５８】
各液処理ブロック１４ａ、１４ｂには、中央の搬送路１４２ａ、１４２ｂを挟んで前方から見て左右に液処理ユニットの列Ｕ１〜Ｕ４が設けられており、各液処理ユニットの列Ｕ１〜Ｕ４内には、前後方向に２列、上下方向に３段の６台の液処理ユニット２が配置されている。従って本例の液処理装置１ａには、前段側の液処理ブロック１４ａに１２台、後段側の液処理ブロック１４ｂに１２台の計２４台の液処理ユニット２が配置されていることになる。
【００５９】
そして、前段側の液処理ブロック１４ａにおいては前方側から見て搬送路１４２ａの右側に積み上げられた前後２列、上下３段に液処理ユニット２の列（Ｕ１）に含まれる液処理ユニット２、左側に同様に積み上げられた６台の液処理ユニット２の列（Ｕ２）に含まれる液処理ユニット２に対して共通のプロセスアーム１４１ａを用いてウエハＷの搬入出が行われる。また後段側の液処理ブロック１４ｂでは前方側から見て搬送路１４２ｂの右側に積み上げられた６台液処理ユニット２の列（Ｕ３）に含まれる液処理ユニット２、左側に積み上げられた６台の液処理ユニット２の列（Ｕ４）に含まれる液処理ユニット２に対して共通のプロセスアーム１４１ｂを用いてウエハＷの搬入出が行われる。
【００６０】
一方、薬液供給ユニット３ａ、３ｂについては、図１３に示すように前段の液処理ブロック１４ａの前方側から見て搬送路１４２ａ（プロセスアーム１４１ａ）の右手に設けられた液処理ユニットの列Ｕ１と、後段の液処理ブロック１４ｂの搬送路１４２ｂ（プロセスアーム１４１ｂ）の右手に設けられた液処理ユニットの列Ｕ３とが共通の薬液供給ユニット３ａに接続されている。一方、前段の液処理ブロック１４ａの同じく左手に設けられた液処理ユニットの列Ｕ２と、後段の液処理ブロック１４ｂの左手に設けられた液処理ユニットの列Ｕ４とが共通の薬液供給ユニット３ｂに接続されている。
【００６１】
液処理装置１ａにおいては、受け渡しブロック１３は１個の受け渡し棚１３１を備え、搬送ブロック１２と液処理ブロック１４ａ、１４ｂとの間を搬送されるウエハＷはいずれもこの受け渡し棚１３１に載置される。また前段の液処理ブロック１４ａと後段の液処理ブロック１４ｂとの間には、受け渡しブロック１５が設けられており、この受け渡しブロック１５内に設けられた基板載置部である受け渡し棚１５１を介してこれら前後段間でのウエハＷの受け渡しが行われる。なお、図１３〜図１６の各図では受け渡しブロック１５の記載は省略してある
【００６２】
さらに前段の液処理ブロック１４ａの例えば手前から見て右手の液処理ユニットの列Ｕ１の１段目の液処理ユニット２と２段目の液処理ユニット２との間には、これらの段間に設けられた空間内でウエハＷを搬送すると共に、受け渡し棚１３１と前段の液処理ブロック１４ａに設けられたプロセスアーム１４１ａ及び、受け渡し棚１５１との間でウエハＷの受け渡しを行う第１のブロック間搬送機構であるシャトルアーム１４３ａが設けられている。
【００６３】
一方、後段の液処理ブロック１４ｂの例えば手前から見て右手の液処理ユニットの列Ｕ３の１段目の液処理ユニット２と２段目の液処理ユニット２との間には、これらの段間に設けられた空間内でウエハＷを搬送すると共に、受け渡し棚１５１と後段の液処理ブロック１４ｂに設けられたプロセスアーム１４１ｂとの間でウエハＷの受け渡しを行う第２のブロック間搬送機構であるシャトルアーム１４３ｂが設けられている。
【００６４】
これらの構成を備えることにより、前段の液処理ブロック１４ａ内の液処理ユニット２にて液処理を行うために受け渡し棚１３１に載置されたウエハＷは、シャトルアーム１４３ａ→プロセスアーム１４１ａと受け渡されて各液処理ユニット２内に搬入されることになる。一方、後段の液処理ブロック１４ｂ内の液処理ユニット２にて液処理を行うために受け渡し棚１３１に載置されたウエハＷは、シャトルアーム１４３ａ→受け渡し棚１５１→シャトルアーム１４３ｂ→プロセスアーム１４１ｂと受け渡されて各液処理ユニット２内に搬入されるようになっている。
【００６５】
かかる構成を備えた液処理装置１ａの各機器２、３ａ、３ｂ、１４１ａ、１４１ｂ、１４３ａ、１４３ｂ、１２１にて発生した不具合に応じた稼動状態について説明する。図１４（ａ）は例えば液処理ユニットの列Ｕ１の最上段に設けられた液処理ユニット２で不具合が発生したときの稼動状態を示している。既述のようにメンテナンス用のアクセス扉が液処理ブロック１４ａ、１４ｂの段毎に設けられている場合には、液処理ユニットの列Ｕ１全体を停止する必要はなく、本例では不具合の発生した液処理ユニット２を含む液処理ユニットの列Ｕ１内のアクセス扉が共通する段の液処理ユニット２のみを停止している。
【００６６】
プロセスアーム１４１ａ、１４１ｂの不具合発生時には、当該プロセスアーム１４１ａ、１４１ｂと共にその左右に設けられた液処理ユニットの列Ｕ１、Ｕ２（またはＵ３、Ｕ４）の稼動を停止する。図１４（ｂ）は前段側のプロセスアーム１４１ａにおける不具合発生時の稼動状態を示している。
【００６７】
薬液供給ユニット３ａ、３ｂの不具合発生時には、当該薬液供給ユニット３ａ、３ｂに接続された液処理ユニットの列Ｕ１、Ｕ３（またはＵ２、Ｕ４）の稼動を薬液供給ユニット３ａ、３ｂと共に停止する。図１５（ａ）は手前から見て右手の薬液供給ユニット３ａで不具合が発生した時の稼動状態を示している。
【００６８】
次に前段の液処理ブロック１４ａに設けられたシャトルアーム１４３ａにて不具合が発生した場合には、当該液処理ブロック１４ａのプロセスアーム１４１ａ及び後段の受け渡し棚１５１との間でウエハＷの受け渡しをすることができなくなってしまう。このため図１５（ｂ）に示すように全液処理ユニットの列Ｕ１〜Ｕ４を停止することになる。本例では図示を省略したが、搬入出アーム１２１の停止の場合も同様である。
【００６９】
一方、後段の液処理ブロック１４ｂに設けられたシャトルアーム１４３ｂにて不具合が発生した場合には、当該シャトルアーム１４３ｂと受け渡し棚１５１との間でウエハＷの受け渡しをすることができなくなるのみで前段側のシャトルアーム１４３ａは液処理ブロック１４ａのプロセスアーム１４１ａにウエハＷを受け渡すことができる。従って液処理ブロック１４ｂの液処理ユニットの列Ｕ３、Ｕ４のみが停止状態となる（図１６）。
【００７０】
ここで、第１の実施の形態に係る液処理装置１のように、上下方向に積層される液処理ブロック１４ａ、１４ｂの段数や、第２の実施の形態に係る液処理装置１ａのように前後方向に並べて設けられる液処理ブロック１４ａ、１４ｂの数はこれらの例に示したものに限らず、例えば３段以上であってもよいし、３列以上であってもよく、例えば３列×３段といったように上下方向の積層と前後方向の列設を組み合わせてもよい。
【００７１】
また第１の実施の形態に係る液処理装置１に示したように横方向にウエハＷを搬送するプロセスアーム１４１ａ、１４１ｂを備えた液処理ブロック１４ａ、１４ｂを例えば受け渡しブロック１５を介して前後方向に接続してもよいし、第２の実施の形態に示した液処理装置１ａのように垂直方向にウエハＷを搬送するプロセスアーム１４１ａ、１４１ｂを備えた液処理ブロック１４ａ、１４ｂを上下に積層する構成にしてもよい。さらには、工場内のレイアウト上許容される場合には、例えば液処理ブロック１４ａ、１４ｂを手前から見て左右方向に並べて受け渡しブロック１３に接続し、互いに隣接する液処理ユニットの列Ｕ１〜Ｕ２同士の薬液供給ユニット３ａ、３ｂを共通化してもよい。
【００７２】
また、上述の各実施の形態では、監視対象の各機器２、３ａ、３ｂ、１４１ａ、１４１ｂ、１４３ａ、１４３ｂ、１２１において、不具合が発生したことを検知した場合に、グループ分けテーブル６２２の設定に基づいて選択した液処理ユニットの列Ｕ１〜Ｕ４を直ちに停止する例を示したが、停止時期はこれに限られるものではない。例えば液処理ユニット２の単体の不具合やプロセスアーム１４１ａ、１４１ｂ、搬入出アーム１２１の不具合の場合には、停止対象の液処理ユニットの列Ｕ１〜Ｕ４内にも処理を継続可能な液処理ユニット２が含まれている。このような場合に、現在実行中のウエハＷの処理を終えて、ウエハＷを取り出し可能な状態としてから選択された液処理ユニットの列Ｕ１〜Ｕ４を停止する構成としてもよい。
【００７３】
また例えばプロセスアーム１４１ａ、１４１ｂからもバッファ棚１３３へのアクセスが可能な構成としておき、例えば搬入出アーム１２１の不具合発生時には全液処理ユニットの列Ｕ１〜Ｕ４内でのウエハＷの処理を終えて各液処理ユニット２からウエハＷを取り出し、バッファ棚１３３にウエハＷを格納してから液処理ユニットの列Ｕ１〜Ｕ４を停止してもよい。
【００７４】
このほか、薬液供給ユニット３ａ、３ｂは、搬送路１４２ａ、１４２ｂを挟んで同じ方向に位置する液処理ユニットの列Ｕ１とＵ３、Ｕ２とＵ４にて共通化する場合に限らず、例えば搬送路１４２ａ、１４２ｂを挟んで交差するように液処理ユニットの列Ｕ１とＵ４、Ｕ３とＵ２にて共通化してもよい。
【００７５】
さらに上述の各実施の形態では、制御部６にて各機器２、３ａ、３ｂ、１４１ａ、１４１ｂ、１４３ａ、１４３ｂ、１２１の不具合発生を積極的に検知し、グループ分けテーブル６２２に基づいて選択した液処理ユニットの列Ｕ１〜Ｕ４の電源部５からの電力供給を遮断する場合について説明したが、各液処理ユニットの列Ｕ１〜Ｕ４はこのように積極的に電力供給を遮断することにより停止する場合に限定されない。例えばプロセスアーム１４１ａ、１４１ｂや搬入出アーム１２１の不具合の場合には、各液処理ユニット２はレシピに基づいてウエハＷの処理を実行し、プロセスアーム１４１ａ、１４１ｂや搬入出アーム１２１が停止したことに起因してそれ以上シーケンスを進行させることができなくなった時点で、図７のグループ分けテーブル６２２に示した液処理ユニットの列Ｕ１〜Ｕ４が結果的に停止することになるようにしてもよい。薬液供給ユニット３ａ、３ｂの不具合の場合には、薬液供給ができなくなるので、電力供給を遮断しなくても不具合発生の時点でその薬液供給ユニット３ａ、３ｂに接続された液処理ユニットの列Ｕ１〜Ｕ４が停止することになる。
【００７６】
また流体を使う処理は上述の液処理に限られるものではなく、例えばウエハＷにＨＭＤＳ（ヘキサメチルジシラザン）などの蒸気を供給してウエハＷの表面を疎水化する処理装置にも適用することができる。
【符号の説明】
【００７７】
Ｕ１〜Ｕ４ 液処理ユニットの列
Ｗ ウエハ
１、１ａ 液処理装置
１１ 載置ブロック
１２ 搬入出ブロック
１２１ 搬入出アーム
１３ 受け渡しブロック
１４ａ、１４ｂ
液処理ブロック
１４１ａ、１４１ｂ
プロセスアーム
１４３ａ、１４３ｂ
シャトルアーム
３ａ、３ｂ 薬液供給ユニット
５ 電源部
６ 制御部
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば半導体ウエハなどの基板を搬送する基板搬送機構を用いて、前記基板に対して液処理や表面処理などの流体処理を実行する複数個の処理ユニットに対して基板を搬送し、処理を行う技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイスなどの製造工程には、半導体ウエハ（以下、ウエハという）などの基板の表面に薬液や純水などの処理液を供給して基板に付着したパーティクルや汚染物質の除去を行う液処理がある。
【０００３】
こうした液処理を行う液処理装置の一つに、スピンチャック上に基板を一枚ずつ載置し、基板を回転させながら当該基板の表面に処理液を供給して液処理を実行する液処理装置がある。この種の液処理装置には例えば同種の液処理を実行可能な複数の液処理ユニットに対して共通の基板搬送機構を用いて基板を搬送することにより、複数の液処理ユニットにて並行して液処理を実行しながら連続的に基板を入れ替え、単位時間当たりの基板の処理枚数（スループット）を向上させたものがある（特許文献１）。
【０００４】
本件発明者は、このような構造を備えた液処理装置の更なるスループット向上を検討しており、その手法として、共通の基板搬送機構を用いて複数の液処理ユニットに基板を搬送する処理ブロックを１台の液処理装置内に複数ブロック設けることにより、並行して処理可能な基板の枚数を増やすことを検討している。
【０００５】
ところがこのように１台の液処理装置で処理可能な基板の枚数を増やしていくと、例えば各液処理ユニットや基板搬送機構、液処理ユニットへの処理液の供給系などにおいて不具合があったときに、液処理装置を停止することにより発生するロスが大きくなる。特に、上述のように液処理装置内に複数の処理ブロックを設けた場合には、不具合の発生箇所以外のブロックは稼動を継続することが可能であるにも係らず装置全体を停止すると機会ロスが発生してしまい、液処理装置の効率的な稼動の妨げになる。
【０００６】
ここで特許文献２には、半導体ウエハへの塗布液の塗布処理、熱処理及び露光後の現像処理といった一連の処理を行う塗布、現像装置について、当該の一連の処理を実行する処理ラインを複数ライン設け、１つの処理ラインに含まれる機器が故障した場合であっても残る処理ラインの稼動を継続することが可能な塗布、現像装置が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００８−３４４９０号公報：００２０段落、図１
【特許文献２】特開２００４−８７６７５号公報：００４０段落、０１０８段落、図１〜図３
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
前記特許文献２に記載の塗布、現像装置では、各処理ラインに含まれる機器が故障した場合には、その故障箇所に係らず当該故障した機器を含む処理ライン全体を停止する必要がある。これに対して既述のように、１つの基板搬送機構を用いて複数の液処理ユニットに基板を搬送する液処理ブロックを構成し、この液処理ブロックを複数個設ける場合には、ある液処理ブロックを稼動させるために必要な機器に不具合が発生した場合であっても当該液処理ブロックに含まれる他の液処理ユニットにて液処理を継続することが可能な場合もあるので、特許文献２に記載の技術を適用しても液処理装置を効率的に稼動できるとはいえない場合がある。
【０００９】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであり、不具合が発生した場合でも、装置全体を停止することなく基板処理を継続できる可能性の高い基板処理装置を提供する。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明に係る基板処理装置は、基板を収納した基板収納容器が載置される容器載置部と、この容器載置部に載置された基板収納容器に対して基板の受け渡しを行う受け渡し機構と、を含む基板搬入ブロックと、
この基板搬入ブロックに隣接して設けられ、当該基板搬入ブロックから受け取った基板を処理するための処理ブロックであって、基板を直線搬送路に沿って搬送するための第１の基板搬送機構と、この基板搬送機構の左右両側に各々設けられ、前記第１の基板搬送機構により基板の受け渡しが行われると共に基板に対して各々処理流体により同一の処理を行う複数の処理ユニットからなる処理ユニットの列と、を含む第１の処理ブロックと、
この第１の処理ブロックに隣接して設けられ、前記基板搬入ブロックから受け取った基板を処理するための処理ブロックであって、基板を直線搬送路に沿って搬送するための第２の基板搬送機構と、この基板搬送機構の左右両側に各々設けられ、前記第２の基板搬送機構により基板の受け渡しが行われると共に基板に対して各々前記処理ユニットと同一の処理を行う複数の処理ユニットからなる処理ユニットの列と、を含む第２の処理ブロックと、
前記第１の処理ブロックにおける左右の処理ユニットの列の一方と、前記第２の処理ブロックにおける左右の処理ユニットの列の一方と、に対して共通化された一方の処理流体の供給系と、
前記第１の処理ブロックにおける左右の処理ユニット列の他方と、前記第２の処理ブロックにおける左右の処理ユニットの列の他方と、に対して共通化された他方の処理流体の供給系と、
前記第１の処理ブロック及び第２の処理ブロックの一方の処理ブロックの基板搬送機構に不具合が発生したときには、他方の処理ブロックを使用して基板を処理し、一方の処理流体の供給系及び他方の処理流体の供給系のいずれかに不具合が発生したときには、不具合が発生していない処理流体の供給系が受け持つ処理ユニットの列を使用して基板を処理するように制御する制御部と、を備えたことを特徴とする。
【００１１】
前記基板処理装置は以下の特徴を備えていてもよい。
（ａ）前記制御部は、処理ユニットのいずれかに不具合が発生したときには、当該処理ユニットが含まれる処理ユニットの列の使用を停止し、他の処理ユニットの列を使用して基板を処理するように制御することを特徴とする。
（ｂ）前記第１の処理ブロックと第２の処理ブロックとは、互に積層されていること。
（ｃ）前記第２の処理ブロックは第１の処理ブロックに対して基板搬入ブロックとは反対側に設けられていること。
（ｄ）前記第１の処理ブロックと第２の処理ブロックとの間で基板の受け渡しを行うための基板載置部と、
前記基板搬入ブロックの受け渡し機構から受け取った基板を第１の処理ブロックまたは前記基板載置部に搬送するために前記第１の基板搬送機構とは別個に設けられた第１のブロック間搬送機構と、
前記基板載置部に載置された基板を第２の処理ブロックに搬送するために前記第２の基板搬送機構とは別個に設けられた第２のブロック間搬送機構と、を備えたこと。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、各基板搬送機構で基板の受け渡しが行われる処理ユニットの列の組み合わせと、共通化された処理流体の各供給系に接続される処理ユニットの列の組み合わせとが互いに異なっている。このため、例えば基板搬送機構の一方側で不具合が発生しても他方側の基板搬送機構を用いて基板の処理が継続可能であり、この状態のときに、さらに処理流体の供給系の一方側で不具合が発生したとしても、不具合の発生していない基板搬送機構及び処理流体の供給系の供給系を使用して基板の処理を継続可能な処理ユニットの列が残される。この結果、不具合の発生に対して装置全体を停止することなく、基板処理を継続する可能性を高めることが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明の実施の形態に係る液処理装置の横断平面図である。
【図２】前記液処理装置の縦断側面図である。
【図３】前記液処理装置の内部構成を示す斜視図である。
【図４】前記液処理装置に搭載されている液処理ユニットの構成を示す説明図である。
【図５】前記液処理ユニットへの処理液の供給系統を示す説明図である。
【図６】前記液処理装置の電気的構成を示す説明図である。
【図７】前記液処理装置において、不具合発生箇所に応じて停止する液処理ユニットの列を定めたグループ分けテーブルである。
【図８】前記液処理装置の不具合発生時における動作の流れを示すフロー図である。
【図９】前記液処理装置の動作を示す第１の説明図である。
【図１０】前記液処理装置の動作を示す第２の説明図である。
【図１１】第２の実施の形態に係る液処理装置の例を示す横断平面図である。
【図１２】前記第２の実施の形態に係る液処理装置の縦断側面図である。
【図１３】前記第２の実施の形態に係る液処理装置の内部構成を示す斜視図である。
【図１４】前記第２の実施の形態に係る液処理装置の動作を示す第１の説明図である。
【図１５】前記第２の実施の形態に係る液処理装置の動作を示す第２の説明図である。
【図１６】前記第２の実施の形態に係る液処理装置の動作を示す第３の説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
本発明の基板処理装置に係る実施の形態として、基板であるウエハＷに処理液である薬液を供給して基板に付着したパーティクルや汚染物質を除去する液処理を行う液処理装置１の構成について図１〜図７を参照しながら説明する。図１は液処理装置１の全体構成を示す横断平面図、図２は縦断側面図であり、これらの図に向かって左側を前方とすると、液処理装置１は複数枚のウエハＷを収納した基板収納容器であるＦＯＵＰ（Front-Opening Unified Pod）７が載置される載置ブロック１１と、このＦＯＵＰ７からウエハＷを取り出して液処理装置１内に搬入する搬送ブロック１２と、搬送ブロック１２にて取り出されたウエハＷを後段の液処理ブロック１４ａ、１４ｂに受け渡すための受け渡しブロック１３と、受け渡しブロック１３から受け渡されたウエハＷを液処理ユニット２に搬入して液処理を実行する液処理ブロック１４ａ、１４ｂと、を前方からこの順番に接続した構造となっている。ここで本実施の形態に係る液処理装置１は、スループット向上の観点から、上下に積層された（隣接して設けられた）２つの液処理ブロック１４ａ、１４ｂを備えている。本例では例えば上段側の液処理ブロック１４ａが第１の処理ブロックに相当し、下段側の液処理ブロック１４ｂが第２の処理ブロックに相当している。
【００１５】
載置ブロック１１は、例えば４個のＦＯＵＰ７を載置可能な載置台として構成され、載置台上に載置された各ＦＯＵＰ７を固定して搬送ブロック１２に接続する容器載置部としての役割を果たす。搬送ブロック１２は、各ＦＯＵＰ７との接続面に設けられた開閉扉を開閉する不図示の開閉機構と、ＦＯＵＰ７と受け渡しブロック１３との間でのウエハＷの受け渡しを行う受け渡し機構である搬入出アーム１２１とを共通の筐体内に設けた構造となっている。
【００１６】
搬入出アーム１２１は例えば前後方向に進退自在、左右方向に移動自在及び、回動、昇降自在に構成された搬送アーム及びその駆動部から構成されており、搬送ブロック１２と受け渡しブロック１３とを区画する区画壁に設けられた第１の開口部１２３を介して、受け渡しブロック１３との間でウエハＷの受け渡しを行う役割を果たす。
【００１７】
受け渡しブロック１３は、前後を搬送ブロック１２及び液処理ブロック１４ａ、１４ｂに挟まれた位置に設けられた筐体内の空間であり、例えば搬送ブロック１２側の第１の開口部１２３に接続された第１の受け渡し棚１３３と、この第１の受け渡し棚１３３の上方位置及び下方位置に各々設けられ、当該第１の受け渡し棚１３３と各液処理ブロック１４ａ、１４ｂ側の区画壁に設けられた第２の開口部１３２ａ、１３２ｂとの間で、液処理前後のウエハＷの受け渡しを行うための第２の受け渡し棚１３１ａ、１３１ｂと、を設けた構造となっている。各第２の受け渡し棚１３１ａ、１３１ｂは例えば８枚のウエハＷを載置可能であり、受け渡しブロック１３の空間内の上方側と下方側の位置に設けられている。各受け渡し棚１３１ａ、１３１ｂは搬送ブロック１２側から搬入されるウエハＷ及び、液処理ブロック１４ａ、１４ｂ側から搬出されるウエハＷを一時的に載置する役割を果たす。
【００１８】
また図１に示すように、受け渡し部１３内には、上下方向に昇降自在、前後方向に進退自在に構成された昇降搬送機構１３４が設けられている。この昇降搬送機構１３４は、第１の受け渡し棚１３３と第２の受け渡し棚１３１ａ、１３１ｂとの間でウエハＷの搬送を行う役割を果たす。
以上に説明した載置ブロック１１、搬送ブロック１２、受け渡しブロック１３は、本実施の形態の基板搬入ブロックを構成している。
【００１９】
受け渡しブロック１３の後段には、当該受け渡しブロック１３に隣接して２つの液処理ブロック１４ａ、１４ｂが上下に積層して配置されている。これらの液処理ブロック１４ａ、１４ｂは、互いにほぼ同様の構成を備えており、ウエハＷに対する液処理が実行される複数個、例えば１２個の液処理ユニット２を筐体内に配置した構造となっている。各液処理ブロック１４ａ、１４ｂには、前後方向に伸びるウエハＷの直線搬送路である搬送路１４２ａ、１４２ｂが設けられており、この搬送路１４２ａ、１４２ｂを挟んで左右に各々６台の液処理ユニット２が互いに対向するように列設されている。
【００２０】
図１、図３に示すように各搬送路１４２ａ、１４２ｂ内には、搬送路１４２ａ、１４２ｂに沿って移動可能、搬送路１４２ａ、１４２ｂの左右に設けられた各液処理ユニット２に向けて進退可能、そして鉛直軸回りに回転可能、昇降可能に構成され、各々本実施の形態の第１、第２の基板搬送機構に相当するプロセスアーム１４１ａ、１４１ｂが設けられており、受け渡しブロック１３側の、各々の液処理ブロック１４ａ、１４ｂに対応する第２の受け渡し棚１３１ａ、１３１ｂと各液処理ユニット２との間でウエハＷを搬送することができる。ここで図１〜図３には各液処理ブロック１４ａ、１４ｂに１台のプロセスアーム１４１ａ、１４１ｂを設けた例を示したが、液処理ユニット２の台数などに応じて２台以上のプロセスアーム１４１ａ、１４１ｂを設けてもよい。
【００２１】
以上に説明した内容をまとめると、本例の液処理装置１には図１〜図３に示すように、上段側の液処理ブロック１４ａに１２台、下段側の液処理ブロック１４ｂに１２台の計２４台の液処理ユニット２が配置されている。そして、上段側の液処理ブロック１４ａにおいては前方側から見て搬送路１４２ａの右側に列設された６台の液処理ユニット２の列（Ｕ１）、左側に列設された６台の液処理ユニット２の列（Ｕ２）の各列に含まれる液処理ユニット２に対して共通のプロセスアーム１４１ａを用いてウエハＷの搬入出が行われる。また下段側の液処理ブロック１４ｂでは前方側から見て搬送路１４２ｂの右側に列設された６台の液処理ユニット２の列（Ｕ３）、左側に列設された６台の液処理ユニット２の列（Ｕ４）の各列に含まれる液処理ユニット２に対して共通のプロセスアーム１４１ｂを用いてウエハＷの搬入出が行われる。
【００２２】
次に図４、図５を参照しながら各液処理ブロック１４ａ、１４ｂに設けられた液処理ユニット２の構成及び各液処理ユニット２への薬液の供給、回収系統について説明する。液処理ユニット２は、ウエハＷに対する液処理、リンス洗浄、振切乾燥の各処理が実行される密閉された処理空間を形成するアウターチャンバー２１と、このアウターチャンバー２１内に設けられ、ウエハＷをほぼ水平に保持した状態で回転させるウエハ保持機構２３と、ウエハ保持機構２３に保持されたウエハＷの上面側に薬液を供給するノズルアーム２４と、ウエハ保持機構２３を取り囲むようにアウターチャンバー２１内に設けられ、回転するウエハＷから周囲に飛散した薬液を受けるためのインナーカップ２２とを備えている。
【００２３】
アウターチャンバー２１は、図１〜図３に示すように互いに隣り合う他の液処理ユニット２とは区画された筐体内に設けられており、不図示のウエハ搬入口を介してプロセスアーム１４１ａ、１４１ｂによりウエハＷが搬入出される。アウターチャンバー２１の底面に設けられた２６は、アウターチャンバー２１の底面に溜まったＤＩＷなどの排水を排出するための排水ライン、２７はアウターチャンバー２１内の雰囲気を排気するための排気ラインである。またウエハ保持機構２３の内部には薬液供給路２３１が形成されており、回転するウエハＷの下面に当該薬液供給路２３１を介して薬液を供給することができる。
【００２４】
ノズルアーム２４は、先端部に薬液供給用のノズルを備えており、不図示の駆動機構によってウエハ保持機構２３に保持されたウエハＷ中央側の上方位置と、例えばアウターチャンバー２１の外部に設けられた待機位置との間で前記ノズルを移動させることができる。インナーカップ２２は、ウエハ保持機構２３に保持されたウエハＷを取り囲む処理位置と、この処理位置の下方へ退避した退避位置との間を昇降し、回転するウエハＷ表面に供給された各種の薬液を受け止めて、インナーカップ２２の底面に設けられた排液ライン２５を介してこれらの薬液を液処理ユニット２外へと排出する役割を果たす。
【００２５】
次に各液処理ユニット２への薬液の供給機構について説明すると、ノズルアーム２４に設けられたノズルは上面側供給ライン４７に接続されており、この上面側供給ライン４７はＩＰＡ供給ライン４１１と薬液供給中間ライン４４とに分岐している。ＩＰＡ供給ライン４１１はＩＰＡ供給部３１に接続されており、このＩＰＡ供給部３１は高い揮発性を利用してウエハＷを乾燥させるためのＩＰＡをウエハＷの上面側に供給する役割を果たす。ＩＰＡ供給ライン４１１にはマスフローコントローラ４２が介設されており、所定量のＩＰＡをノズルアーム２４ａに供給することができる。
【００２６】
上面側供給ライン４７から分岐したもう一方側の薬液供給中間ライン４４は、切替弁４３を介して３系統の薬液供給ライン４１２、４１３、４１４に接続されている。これらのうち、ＤＩＷ供給ライン４１２の上流には、薬液処理後のウエハＷに残存するＤＨＦ液やＳＣ１液を除去するリンス液であるＤＩＷ（DeIonized Water）を供給するためのＤＩＷ供給部３２が設けられている。ＳＣ１供給ライン４１３の上流側にはウエハＷ表面のパーティクルや有機性の汚染物質を除去する薬液であるＳＣ１液（アンモニアと過酸化水素水の混合液）を供給するＳＣ１供給部３３が設けられている。そして残るＤＨＦ供給ライン４１４の上流側にはウエハＷ表面の自然酸化膜を除去する酸性薬液である希フッ酸水溶液（以下、ＤＨＦ（Diluted HydroFluoric acid）液という）を供給するＤＨＦ供給部３４が設けられている。
【００２７】
またこれらのＤＩＷ供給部３２、ＳＣ１供給部３３、ＤＨＦ供給部３４が接続された薬液供給中間ライン４４は、ウエハＷの下面に薬液を供給する薬液供給路２３１とも下面側供給ライン４８を介して接続されている。図４中、４５、４６は、各々ノズルアーム２４側、ウエハ保持機構２３側への薬液供給量を調整するマスフローコントローラである。
【００２８】
以上に説明したＩＰＡ供給部３１、ＤＩＷ供給部３２、ＳＣ１供給部３３、ＤＨＦ供給部３４は、例えば共通の薬液供給ユニット３ａ、３ｂ内にまとめて配置されており、例えば図５にはこれらの各供給部３１、３２、３３、３４をまとめて総括的に記載してある。ここで本実施の形態に係る液処理装置１においては、図３、図５に示すように例えば前方側から見て搬送路１４２ａ、１４２ｂの右側に上下に重ねて配置されている液処理ユニット２の列（Ｕ１、Ｕ３）が共通の薬液供給ユニット３ａに接続されており、搬送路１４２ａ、１４２ｂの左側に上下に重ねて配置されている液処理ユニット２の列（Ｕ２、Ｕ４）が共通の薬液供給ユニット３ｂに接続されている。これら薬液供給ユニット３ａ、３ｂは本実施の形態における処理流体の供給系に相当し、当該供給系が液処理ユニット２の列Ｕ１、Ｕ３及びＵ２、Ｕ４にて共通化されていることになる。
【００２９】
上述のように、搬送路１４２ａ、１４２ｂを挟んで液処理ユニットの列Ｕ１、Ｕ３と他の列Ｕ２、Ｕ４とに別々に薬液供給ユニット３ａ、３ｂを接続することにより、例えばプロセスアーム１４１ａ、１４１ｂやその電源系統などと干渉せずに各供給ライン４１１〜４１４などを配設することが可能となり、配管設計が容易となったり、配管距離を短くすることができるといった利点がある。また図５では図示の便宜上、液処理ユニットの列Ｕ１、Ｕ３に薬液供給ユニット３ａが接続されている様子を代表的に示してあるが、液処理ユニットの列Ｕ２、Ｕ４に対する薬液供給ユニット３ｂの接続状態についてもほぼ同様である。
【００３０】
図５に総括的に記載したように、各薬液の供給部３１、３２、３３、３４は各種の薬液を貯留する循環タンク３０１に接続された薬液供給ライン４０１に、供給ポンプ３０２と、フィルター３０３と、ヒーター３０４と、を介設し、この下流側にて当該薬液供給ライン４０１が液処理ブロック１４ａ、１４ｂの各液処理ユニット２と接続される分岐ライン４０２に分岐した構成となっている。これら薬液供給ライン４０１及び分岐ライン４０２は図４に示す各供給ライン４１２〜４１３に相当しており、例えば各液処理ユニット２の下部に設けられた切替弁４３にて各供給ライン４１２〜４１３の分岐ライン４０２が合流している。
【００３１】
一方、各液処理ユニット２のインナーカップ２２底部に設けられた排液ライン２５は、例えば不図示の切替弁を介して各供給部３１、３３、３４の循環タンク３０１へと薬液を回収する薬液回収ライン４０３に接続されており、使用済みの薬液を回収することができるようになっている。またアウターチャンバー２１の排水ライン２６については、薬液回収ライン４０３を介してＤＩＷ供給部３２の循環タンク３０１に排水を回収する代わりに、例えば工場の排水処理設備に接続されており、排水の回収を行わない点が図５に示した各薬液供給部３１、３３、３４の薬液回収ライン４０３と異なる。
【００３２】
このような構成を備えた薬液供給ユニット３ａ、３ｂは例えば液処理装置１が配置された工場の床面下などに配置することができる。図３には液処理ユニットの列Ｕ１、Ｕ３及びＵ２、Ｕ４に接続された薬液供給ユニット３ａ、３ｂの配置状態を模式的に示してあり、各薬液の供給部３１、３２、３３、３４に接続された薬液供給ライン４０１は１本の配管として簡略化して記載してある。また薬液回収ライン４０３の記載は省略してある。
【００３３】
図１に示すように液処理装置１には制御部６が接続されている。制御部６は例えばＣＰＵと記憶部とを備えたコンピュータからなり、記憶部には当該液処理装置１の作用、各液処理ブロック１４ａ、１４ｂの液処理ユニット２にウエハＷを搬入して液処理を行った後、液処理後のウエハＷをＦＯＵＰ７に格納するまでの動作に係わる制御についてのステップ（命令）群が組まれたプログラムが記録されている。このプログラムは、例えばハードディスク、コンパクトディスク、マグネットオプティカルディスク、メモリーカード等の記憶媒体に格納され、そこからコンピュータにインストールされる。
【００３４】
以上に説明した構成を備えた液処理装置１は、例えばプロセスアーム１４１ａ、１４１ｂや薬液供給ユニット３ａ、３ｂなどにおいて不具合があった場合に、当該不具合の影響を受ける液処理ユニット２についてのみ稼動を停止し、他の液処理ユニット２については稼動を継続することができるようになっている。以下、その詳細な構成について説明する。
【００３５】
図６は液処理装置１の電気的構成を示すブロック図を示しており、各液処理ユニット２や薬液供給ユニット３ａ、３ｂ、プロセスアーム１４１ａ、１４１ｂ、搬入出アーム１２１は、既述の制御部６（例えばＣＰＵ６１と記憶部６２とから構成されている）に接続されていて、これらの機器２、３ａ、３ｂ、１４１ａ、１４１ｂ、１２１にて不具合が発生したことを検知することができる。
【００３６】
また液処理装置１内の液処理ユニット２は、各液処理ユニットの列Ｕ１〜Ｕ４毎に異なる電源部５に接続されており、各電源部５は制御部６からの指示に基づいて液処理ユニットの列Ｕ１〜Ｕ４単位で各液処理ユニット２への電力の給断を行うことができるようになっている。
【００３７】
制御部６の例えば記憶部６２には停止・稼動制御プログラム６２１が記憶されており、例えば記憶部６２に記憶されたグループ分けテーブル６２２を参照して、不具合の発生した機器２、３ａ、３ｂ、１４１ａ、１４１ｂ、１２１に応じて電力の供給を遮断する液処理ユニットの列Ｕ１〜Ｕ４を変更すると共に、停止対象とならなかった液処理ユニットの列Ｕ１〜Ｕ４内の液処理ユニット２を利用してウエハＷの液処理を継続するように構成されている。
【００３８】
図７は本例に係るグループ分けテーブル６２２の一例を示しており、当該テーブル６２２の各列には不具合の発生した機器を示し、各行には当該不具合発生機器に応じて停止する液処理ユニットの列Ｕ１〜Ｕ４を示してある。図中「○」は液処理ユニット２の稼動継続を示し、「×」は停止することを表している。
【００３９】
図７のグループ分けテーブル６２２によれば、各液処理ユニットの列Ｕ１〜Ｕ４に含まれる液処理ユニット２にて不具合が発生したときには、当該液処理ユニット２を含む各液処理ユニットの列Ｕ１〜Ｕ４のみを停止し、他の列Ｕ１〜Ｕ４においては液処理ユニット２の稼動を継続する。停止した液処理ユニットの列Ｕ１〜Ｕ４以外の液処理ユニットの列Ｕ１〜Ｕ４の稼動を継続する点については、以下、他の機器の場合も同様である。
【００４０】
プロセスアーム１４１ａ、１４１ｂに不具合があったときには、上段のプロセスアーム１４１ａ（図７には「ＰＡ１」と記載してある）の場合は液処理ユニットの列Ｕ１、Ｕ２の稼動を停止し、下段のプロセスアーム１４１ｂ（同じく「ＰＡ２」と記載してある）の場合は液処理ユニットの列Ｕ３、Ｕ４の稼動を停止する。薬液供給ユニット３ａ、３ｂ不具合発生時は、前方から見て右手の薬液供給ユニット３ａ（図７には「ＣＵ１」と記載してある）の場合に液処理ユニットの列Ｕ１、Ｕ３を停止、左手の薬液供給ユニット３ｂ（同じく「ＣＵ２」と記載してある）では液処理ユニットの列Ｕ２、Ｕ４を停止する。
【００４１】
また搬入出アーム１２１にて不具合が発生した場合には、後段のいずれの液処理ブロック１４ａ、１４ｂからもウエハＷの搬入出を行うことができないので、全ての液処理ユニットの列Ｕ１〜Ｕ４が停止されることになる。
【００４２】
以上に説明した構成を備えた液処理装置１の作用について以下に説明する。液処理装置１にて処理を開始すると、搬入出アーム１２１は載置ブロック１１に載置されたＦＯＵＰ７からウエハＷを取り出し、第１の受け渡し棚１３３内にウエハＷを載置する。昇降搬送機構１３４は、当該第１の受け渡し棚１３３からウエハＷを取り出して、各液処理ブロック１４ａ、１４ｂに対応する第２の受け渡し棚１３１ａ、１３１ｂにウエハＷを順次載置する。
【００４３】
各液処理ブロック１４ａ、１４ｂではプロセスアーム１４１ａ、１４１ｂが第２の受け渡し棚１３１ａ、１３１ｂからウエハＷを受け取り、液処理ユニット２の一つに進入して、当該ウエハＷをウエハ保持機構２３に受け渡す。ウエハＷが保持されたらノズルアーム２４をウエハＷ中央側の上方位置まで移動させ、インナーカップ２２を処理位置まで上昇させて、ウエハ保持機構２３によりウエハＷを回転させながらウエハ保持機構２３側のノズル及びウエハ保持機構２３側の薬液供給路２３１よりウエハＷの上下面両側にＳＣ１液を供給する。これによりウエハＷに薬液の液膜が形成されてアルカリ性薬液洗浄が行われる。
【００４４】
アルカリ性薬液洗浄が終了すると、インナーカップ２２が退避位置に移動し、またインナーカップ２２及びウエハ保持機構２３の薬液供給路２３１へＤＩＷを供給することによりウエハＷ表面のＳＣ１液を除去するリンス洗浄が実行される。
【００４５】
リンス洗浄を終えたら振切乾燥実行し、しかる後、再びインナーカップ２２を処理位置まで上昇させ、ウエハＷを回転させながら、ノズルアーム２４及びウエハ保持機構２３の薬液供給路２３１より、ウエハＷの上下面にＤＨＦ液を供給する。これによりこれらの面にＤＨＦ液の液膜が形成され、酸性薬液洗浄が行われる。そして所定時間の経過後、インナーカップ２２を退避位置に下降させ、薬液の供給系統を純水に切り替えて再びリンス洗浄を行う。
【００４６】
リンス洗浄の後、インナーカップ２２を処理位置まで上昇させ、液処理ユニット２の上面にＩＰＡを供給しながらウエハＷを回転させ、ＩＰＡの揮発性を利用したＩＰＡ乾燥を実行する。これによりウエハＷ表面に残存するリンス後の純水が完全に除去される。しかる後、インナーカップ２２を退避位置まで退避させ、不図示の搬入出口を開き、液処理ユニット２内にプロセスアーム１４１ａ、１４１ｂを進入させて処理後のウエハＷを搬出する。
【００４７】
液処理を終えたウエハＷは搬入時とは逆の経路で第２の受け渡し棚１３１ａ、１３１ｂ、昇降搬送機構１３４、第１の受け渡し棚１３３、搬入出アーム１２１へと受け渡され、載置ブロック１１のＦＯＵＰ７内に格納される。これらの動作を連続的に行うことにより液処理装置１は上下２段に設けられた液処理ブロック１４ａ、１４ｂ内の合計２４台の液処理ユニット２を並行して稼動させ、例えば液処理ブロック１４ａを１組（例えば液処理ユニット２が１２台）備える従来の液処理装置と比較して単位時間により多くのウエハＷを洗浄、乾燥することができる。
【００４８】
以上に説明した動作に基づき、ウエハＷの液処理を実行する液処理装置１の予め定められた機器において不具合が発生したときの動作を図８のフロー図及び図９〜図１０を参照しながら説明する。
【００４９】
まず液処理装置１は、稼動を開始した後（スタート）、例えば図６のブロック図に示した各機器２、３ａ、３ｂ、１４１ａ、１４１ｂ、１２１にて不具合が発生したか否かを監視し、不具合の発生がない場合には（ステップＳ１０１；ＮＯ）そのまま稼動を継続する。
【００５０】
不具合が発生すると（ステップＳ１０１；ＹＥＳ）、その不具合が液処理ユニット２におけるものであるか否かを確認し、例えばウエハ保持機構２３の回転駆動機構の停止やウエハＷの受け渡し機構の不調など、液処理ユニット２における不具合である場合には（ステップＳ１０２；ＹＥＳ）、当該不具合のあった液処理ユニット２を含む液処理ユニットの列Ｕ１〜Ｕ４のみを停止し（ステップＳ１０５）不具合に対する対応動作を終える（エンド）。
【００５１】
図９（ａ）は例えば液処理ユニットの列Ｕ１に含まれる液処理ユニット２にて不具合があった場合における各液処理ユニットの列Ｕ１〜Ｕ４の稼動状態を示しており、グレーで塗りつぶした液処理ユニットの列Ｕ１は停止していることを示している。このとき、残る３つの液処理ユニットの列Ｕ２〜Ｕ４では稼動を継続している一方、停止している液処理ユニットの列Ｕ１では例えば当該液処理ユニットの列Ｕ１の外装体を成す液処理ブロック１４ａ、１４ｂの筐体面に設けられたアクセス扉を開いて不具合のあった液処理ユニット２のメンテナンスを行うことができる。不具合のあった液処理ユニット２を含む液処理ユニットの列Ｕ１〜Ｕ４全体を停止することにより、メンテナンススタッフがアクセス扉の開放時に薬液の供給雰囲気に晒されることを避けることができる。
【００５２】
図８のフロー図の説明に戻ると、液処理ユニット２の不具合でない場合には（ステップＳ１０２；ＮＯ）、次にその不具合がプロセスアーム１４１ａ、１４１ｂで発生したものであるかを確認する。例えば駆動機構の不具合など、プロセスアーム１４１ａ、１４１ｂで発生したものである場合には（ステップＳ１０３；ＹＥＳ）、グループ分けテーブル６２２に基づき当該プロセスアーム１４１ａ、１４１ｂと共に、これに対応する液処理ユニットの列Ｕ１、Ｕ２（または液処理ユニットの列Ｕ３、Ｕ４）を停止し（ステップＳ１０６）、不具合の対応動作を終える（エンド）。図９（ｂ）は上段側のプロセスアーム１４１ａで不具合が発生したときの各液処理ユニットの列Ｕ１〜Ｕ４の稼動状態を示している。
【００５３】
不具合がプロセスアーム１４１ａ、１４１ｂでなければ（ステップＳ１０３；ＮＯ）、次にその不具合が薬液供給ユニット３ａ、３ｂで発生したものであるかを確認する。例えば循環タンク３０１のレベル低や供給ポンプ３０２の停止、フィルター３０３の圧力損失上昇など、薬液供給ユニット３ａ、３ｂにおける不具合の場合には（ステップＳ１０４；ＹＥＳ）、グループ分けテーブル６２２に基づき当該薬液供給ユニット３ａ、３ｂと共に、これに対応する液処理ユニットの列Ｕ１、Ｕ３（または液処理ユニットの列Ｕ２、Ｕ４）を停止し（ステップＳ１０８）不具合の対応動作を終える（エンド）。図１０（ａ）は手前から見て右側の薬液供給ユニット３ａで不具合が発生したときの各液処理ユニットの列Ｕ１〜Ｕ４の稼動状態を示している。ここで本実施の形態に係る液処理ユニット２の構成では、図５に示した切替弁４３やマスフローコントローラ４５、４６などの不具合は液処理ユニット２担体の不具合（ステップＳ１０５）に含まれる。
【００５４】
不具合が液処理ユニット２、受け渡し棚１３１ａ、１３１ｂ、薬液供給ユニット３ａ、３ｂのいずれでもない場合には（ステップＳ１０４；ＮＯ）、搬入出アーム１２１の例えば駆動機構などの不具合であるので全液処理ユニットの列Ｕ１〜Ｕ４を停止（即ち液処理装置１全体を停止）して（ステップＳ１０７）不具合の対応動作を終える（エンド）。図１０（ｂ）は搬入出アーム１２１にて不具合が発生した場合の各液処理ユニットの列Ｕ１〜Ｕ４の稼動状態を示している。
【００５５】
このように、不具合の発生した機器２、３ａ、３ｂ、１４１ａ、１４１ｂ、１２１に応じて当該不具合の影響を受ける液処理ユニット２についてのみ稼動を停止したら、例えばメンテナンススタッフが当該機器の不具合を解消し、稼動を開始可能な状態となったら、例えば制御部６に復帰信号を入力して、停止している液処理ユニットの列Ｕ１〜Ｕ４の稼動を再開する（スタート）。そして例えばプロセスアーム１４１ａ、１４１ｂの一方が停止している期間中に、さらに薬液供給ユニット３ａ、３ｂの一方が停止した場合であっても、残るプロセスアーム１４１ｂ、１４１ａ、薬液供給ユニット３ｂ、３ａにて稼動を継続可能な液処理ユニットの列Ｕ１〜Ｕ２が１列残されており、この液処理ユニットの列Ｕ１〜Ｕ２内の液処理ユニット２にて液処理を継続することができる。
【００５６】
本実施の形態に係る液処理装置１によれば以下の効果がある。各基板搬送機構で基板の受け渡しが行われる処理ユニットの列の組み合わせと、共通化された処理流体の各供給系に接続される処理ユニットの列の組み合わせとが互いに異なっている。このため、例えばプロセスアーム１４１ａ、１４１ｂの一方側で不具合が発生しても他方側のプロセスアーム１４１ｂ、１４１ａを用いてウエハＷの液処理が継続可能であり、この状態のときに、さらに薬液供給ユニット３ａ、３ｂの一方側で不具合が発生したとしても、不具合の発生していないプロセスアーム１４１ｂ、１４１ａ及び薬液供給ユニット３ｂ、３ａを使用してウエハＷの液処理を継続可能な処理ユニットの列Ｕ１〜Ｕ４が残される。この結果、不具合の発生に対して液処理装置１全体を停止することなく、ウエハＷ処理を継続する可能性を高めることが可能になる。
【００５７】
図１１〜図１３は第２の実施の形態に係る液処理装置１ａの構成を示している。第２の実施の形態に係る液処理装置１ａは受け渡しブロック１３の後段に配置された２つの液処理ブロック１４ａ、１４ｂが前後方向に配置されている点が、液処理ブロック１４ａ、１４ｂを上下に積層した既述の液処理装置１と異なっている。言い替えると、液処理ブロック１４ｂ（第２の処理ブロック）は液処理ブロック１４ａ（第１の処理ブロック）に対して受け渡しブロック１３（基板搬入ブロック）とは反対側に設けられていることになる。図１１〜図１３に示した液処理装置１ａにおいて、図１〜図３に示した液処理装置１と同様の構成要素には、これらの図と同じ符号を付してある。
【００５８】
各液処理ブロック１４ａ、１４ｂには、中央の搬送路１４２ａ、１４２ｂを挟んで前方から見て左右に液処理ユニットの列Ｕ１〜Ｕ４が設けられており、各液処理ユニットの列Ｕ１〜Ｕ４内には、前後方向に２列、上下方向に３段の６台の液処理ユニット２が配置されている。従って本例の液処理装置１ａには、前段側の液処理ブロック１４ａに１２台、後段側の液処理ブロック１４ｂに１２台の計２４台の液処理ユニット２が配置されていることになる。
【００５９】
そして、前段側の液処理ブロック１４ａにおいては前方側から見て搬送路１４２ａの右側に積み上げられた前後２列、上下３段に液処理ユニット２の列（Ｕ１）に含まれる液処理ユニット２、左側に同様に積み上げられた６台の液処理ユニット２の列（Ｕ２）に含まれる液処理ユニット２に対して共通のプロセスアーム１４１ａを用いてウエハＷの搬入出が行われる。また後段側の液処理ブロック１４ｂでは前方側から見て搬送路１４２ｂの右側に積み上げられた６台液処理ユニット２の列（Ｕ３）に含まれる液処理ユニット２、左側に積み上げられた６台の液処理ユニット２の列（Ｕ４）に含まれる液処理ユニット２に対して共通のプロセスアーム１４１ｂを用いてウエハＷの搬入出が行われる。
【００６０】
一方、薬液供給ユニット３ａ、３ｂについては、図１３に示すように前段の液処理ブロック１４ａの前方側から見て搬送路１４２ａ（プロセスアーム１４１ａ）の右手に設けられた液処理ユニットの列Ｕ１と、後段の液処理ブロック１４ｂの搬送路１４２ｂ（プロセスアーム１４１ｂ）の右手に設けられた液処理ユニットの列Ｕ３とが共通の薬液供給ユニット３ａに接続されている。一方、前段の液処理ブロック１４ａの同じく左手に設けられた液処理ユニットの列Ｕ２と、後段の液処理ブロック１４ｂの左手に設けられた液処理ユニットの列Ｕ４とが共通の薬液供給ユニット３ｂに接続されている。
【００６１】
液処理装置１ａにおいては、受け渡しブロック１３は１個の受け渡し棚１３１を備え、搬送ブロック１２と液処理ブロック１４ａ、１４ｂとの間を搬送されるウエハＷはいずれもこの受け渡し棚１３１に載置される。また前段の液処理ブロック１４ａと後段の液処理ブロック１４ｂとの間には、受け渡しブロック１５が設けられており、この受け渡しブロック１５内に設けられた基板載置部である受け渡し棚１５１を介してこれら前後段間でのウエハＷの受け渡しが行われる。なお、図１３〜図１６の各図では受け渡しブロック１５の記載は省略してある
【００６２】
さらに前段の液処理ブロック１４ａの例えば手前から見て右手の液処理ユニットの列Ｕ１の１段目の液処理ユニット２と２段目の液処理ユニット２との間には、これらの段間に設けられた空間内でウエハＷを搬送すると共に、受け渡し棚１３１と前段の液処理ブロック１４ａに設けられたプロセスアーム１４１ａ及び、受け渡し棚１５１との間でウエハＷの受け渡しを行う第１のブロック間搬送機構であるシャトルアーム１４３ａが設けられている。
【００６３】
一方、後段の液処理ブロック１４ｂの例えば手前から見て右手の液処理ユニットの列Ｕ３の１段目の液処理ユニット２と２段目の液処理ユニット２との間には、これらの段間に設けられた空間内でウエハＷを搬送すると共に、受け渡し棚１５１と後段の液処理ブロック１４ｂに設けられたプロセスアーム１４１ｂとの間でウエハＷの受け渡しを行う第２のブロック間搬送機構であるシャトルアーム１４３ｂが設けられている。
【００６４】
これらの構成を備えることにより、前段の液処理ブロック１４ａ内の液処理ユニット２にて液処理を行うために受け渡し棚１３１に載置されたウエハＷは、シャトルアーム１４３ａ→プロセスアーム１４１ａと受け渡されて各液処理ユニット２内に搬入されることになる。一方、後段の液処理ブロック１４ｂ内の液処理ユニット２にて液処理を行うために受け渡し棚１３１に載置されたウエハＷは、シャトルアーム１４３ａ→受け渡し棚１５１→シャトルアーム１４３ｂ→プロセスアーム１４１ｂと受け渡されて各液処理ユニット２内に搬入されるようになっている。
【００６５】
かかる構成を備えた液処理装置１ａの各機器２、３ａ、３ｂ、１４１ａ、１４１ｂ、１４３ａ、１４３ｂ、１２１にて発生した不具合に応じた稼動状態について説明する。図１４（ａ）は例えば液処理ユニットの列Ｕ１の最上段に設けられた液処理ユニット２で不具合が発生したときの稼動状態を示している。既述のようにメンテナンス用のアクセス扉が液処理ブロック１４ａ、１４ｂの段毎に設けられている場合には、液処理ユニットの列Ｕ１全体を停止する必要はなく、本例では不具合の発生した液処理ユニット２を含む液処理ユニットの列Ｕ１内のアクセス扉が共通する段の液処理ユニット２のみを停止している。
【００６６】
プロセスアーム１４１ａ、１４１ｂの不具合発生時には、当該プロセスアーム１４１ａ、１４１ｂと共にその左右に設けられた液処理ユニットの列Ｕ１、Ｕ２（またはＵ３、Ｕ４）の稼動を停止する。図１４（ｂ）は前段側のプロセスアーム１４１ａにおける不具合発生時の稼動状態を示している。
【００６７】
薬液供給ユニット３ａ、３ｂの不具合発生時には、当該薬液供給ユニット３ａ、３ｂに接続された液処理ユニットの列Ｕ１、Ｕ３（またはＵ２、Ｕ４）の稼動を薬液供給ユニット３ａ、３ｂと共に停止する。図１５（ａ）は手前から見て右手の薬液供給ユニット３ａで不具合が発生した時の稼動状態を示している。
【００６８】
次に前段の液処理ブロック１４ａに設けられたシャトルアーム１４３ａにて不具合が発生した場合には、当該液処理ブロック１４ａのプロセスアーム１４１ａ及び後段の受け渡し棚１５１との間でウエハＷの受け渡しをすることができなくなってしまう。このため図１５（ｂ）に示すように全液処理ユニットの列Ｕ１〜Ｕ４を停止することになる。本例では図示を省略したが、搬入出アーム１２１の停止の場合も同様である。
【００６９】
一方、後段の液処理ブロック１４ｂに設けられたシャトルアーム１４３ｂにて不具合が発生した場合には、当該シャトルアーム１４３ｂと受け渡し棚１５１との間でウエハＷの受け渡しをすることができなくなるのみで前段側のシャトルアーム１４３ａは液処理ブロック１４ａのプロセスアーム１４１ａにウエハＷを受け渡すことができる。従って液処理ブロック１４ｂの液処理ユニットの列Ｕ３、Ｕ４のみが停止状態となる（図１６）。
【００７０】
ここで、第１の実施の形態に係る液処理装置１のように、上下方向に積層される液処理ブロック１４ａ、１４ｂの段数や、第２の実施の形態に係る液処理装置１ａのように前後方向に並べて設けられる液処理ブロック１４ａ、１４ｂの数はこれらの例に示したものに限らず、例えば３段以上であってもよいし、３列以上であってもよく、例えば３列×３段といったように上下方向の積層と前後方向の列設を組み合わせてもよい。
【００７１】
また第１の実施の形態に係る液処理装置１に示したように横方向にウエハＷを搬送するプロセスアーム１４１ａ、１４１ｂを備えた液処理ブロック１４ａ、１４ｂを例えば受け渡しブロック１５を介して前後方向に接続してもよいし、第２の実施の形態に示した液処理装置１ａのように垂直方向にウエハＷを搬送するプロセスアーム１４１ａ、１４１ｂを備えた液処理ブロック１４ａ、１４ｂを上下に積層する構成にしてもよい。さらには、工場内のレイアウト上許容される場合には、例えば液処理ブロック１４ａ、１４ｂを手前から見て左右方向に並べて受け渡しブロック１３に接続し、互いに隣接する液処理ユニットの列Ｕ１〜Ｕ２同士の薬液供給ユニット３ａ、３ｂを共通化してもよい。
【００７２】
また、上述の各実施の形態では、監視対象の各機器２、３ａ、３ｂ、１４１ａ、１４１ｂ、１４３ａ、１４３ｂ、１２１において、不具合が発生したことを検知した場合に、グループ分けテーブル６２２の設定に基づいて選択した液処理ユニットの列Ｕ１〜Ｕ４を直ちに停止する例を示したが、停止時期はこれに限られるものではない。例えば液処理ユニット２の単体の不具合やプロセスアーム１４１ａ、１４１ｂ、搬入出アーム１２１の不具合の場合には、停止対象の液処理ユニットの列Ｕ１〜Ｕ４内にも処理を継続可能な液処理ユニット２が含まれている。このような場合に、現在実行中のウエハＷの処理を終えて、ウエハＷを取り出し可能な状態としてから選択された液処理ユニットの列Ｕ１〜Ｕ４を停止する構成としてもよい。
【００７３】
また例えばプロセスアーム１４１ａ、１４１ｂからもバッファ棚１３３へのアクセスが可能な構成としておき、例えば搬入出アーム１２１の不具合発生時には全液処理ユニットの列Ｕ１〜Ｕ４内でのウエハＷの処理を終えて各液処理ユニット２からウエハＷを取り出し、バッファ棚１３３にウエハＷを格納してから液処理ユニットの列Ｕ１〜Ｕ４を停止してもよい。
【００７４】
このほか、薬液供給ユニット３ａ、３ｂは、搬送路１４２ａ、１４２ｂを挟んで同じ方向に位置する液処理ユニットの列Ｕ１とＵ３、Ｕ２とＵ４にて共通化する場合に限らず、例えば搬送路１４２ａ、１４２ｂを挟んで交差するように液処理ユニットの列Ｕ１とＵ４、Ｕ３とＵ２にて共通化してもよい。
【００７５】
さらに上述の各実施の形態では、制御部６にて各機器２、３ａ、３ｂ、１４１ａ、１４１ｂ、１４３ａ、１４３ｂ、１２１の不具合発生を積極的に検知し、グループ分けテーブル６２２に基づいて選択した液処理ユニットの列Ｕ１〜Ｕ４の電源部５からの電力供給を遮断する場合について説明したが、各液処理ユニットの列Ｕ１〜Ｕ４はこのように積極的に電力供給を遮断することにより停止する場合に限定されない。例えばプロセスアーム１４１ａ、１４１ｂや搬入出アーム１２１の不具合の場合には、各液処理ユニット２はレシピに基づいてウエハＷの処理を実行し、プロセスアーム１４１ａ、１４１ｂや搬入出アーム１２１が停止したことに起因してそれ以上シーケンスを進行させることができなくなった時点で、図７のグループ分けテーブル６２２に示した液処理ユニットの列Ｕ１〜Ｕ４が結果的に停止することになるようにしてもよい。薬液供給ユニット３ａ、３ｂの不具合の場合には、薬液供給ができなくなるので、電力供給を遮断しなくても不具合発生の時点でその薬液供給ユニット３ａ、３ｂに接続された液処理ユニットの列Ｕ１〜Ｕ４が停止することになる。
【００７６】
また流体を使う処理は上述の液処理に限られるものではなく、例えばウエハＷにＨＭＤＳ（ヘキサメチルジシラザン）などの蒸気を供給してウエハＷの表面を疎水化する処理装置にも適用することができる。
【符号の説明】
【００７７】
Ｕ１〜Ｕ４ 液処理ユニットの列
Ｗ ウエハ
１、１ａ 液処理装置
１１ 載置ブロック
１２ 搬入出ブロック
１２１ 搬入出アーム
１３ 受け渡しブロック
１４ａ、１４ｂ
液処理ブロック
１４１ａ、１４１ｂ
プロセスアーム
１４３ａ、１４３ｂ
シャトルアーム
３ａ、３ｂ 薬液供給ユニット
５ 電源部
６ 制御部
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を収納した基板収納容器が載置される容器載置部と、この容器載置部に載置された基板収納容器に対して基板の受け渡しを行う受け渡し機構と、を含む基板搬入ブロックと、
この基板搬入ブロックに隣接して設けられ、当該基板搬入ブロックから受け取った基板を処理するための処理ブロックであって、基板を直線搬送路に沿って搬送するための第１の基板搬送機構と、この基板搬送機構の左右両側に各々設けられ、前記第１の基板搬送機構により基板の受け渡しが行われると共に基板に対して各々処理流体により同一の処理を行う複数の処理ユニットからなる処理ユニットの列と、を含む第１の処理ブロックと、
この第１の処理ブロックに隣接して設けられ、前記基板搬入ブロックから受け取った基板を処理するための処理ブロックであって、基板を直線搬送路に沿って搬送するための第２の基板搬送機構と、この基板搬送機構の左右両側に各々設けられ、前記第２の基板搬送機構により基板の受け渡しが行われると共に基板に対して各々前記処理ユニットと同一の処理を行う複数の処理ユニットからなる処理ユニットの列と、を含む第２の処理ブロックと、
前記第１の処理ブロックにおける左右の処理ユニットの列の一方と、前記第２の処理ブロックにおける左右の処理ユニットの列の一方と、に対して共通化された一方の処理流体の供給系と、
前記第１の処理ブロックにおける左右の処理ユニット列の他方と、前記第２の処理ブロックにおける左右の処理ユニットの列の他方と、に対して共通化された他方の処理流体の供給系と、
前記第１の処理ブロック及び第２の処理ブロックの一方の処理ブロックの基板搬送機構に不具合が発生したときには、他方の処理ブロックを使用して基板を処理し、一方の処理流体の供給系及び他方の処理流体の供給系のいずれかに不具合が発生したときには、不具合が発生していない処理流体の供給系が受け持つ処理ユニットの列を使用して基板を処理するように制御する制御部と、を備えたことを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
前記制御部は、処理ユニットのいずれかに不具合が発生したときには、当該処理ユニットが含まれる処理ユニットの列の使用を停止し、他の処理ユニットの列を使用して基板を処理するように制御することを特徴とする請求項１記載の基板処理装置。
【請求項３】
前記第１の処理ブロックと第２の処理ブロックとは、互に積層されていることを特徴とする請求項１または２記載の基板処理装置。
【請求項４】
前記第２の処理ブロックは第１の処理ブロックに対して基板搬入ブロックとは反対側に設けられていることを特徴とする請求項１または２記載の基板処理装置。
【請求項５】
前記第１の処理ブロックと第２の処理ブロックとの間で基板の受け渡しを行うための基板載置部と、
前記基板搬入ブロックの受け渡し機構から受け取った基板を第１の処理ブロックまたは前記基板載置部に搬送するために前記第１の基板搬送機構とは別個に設けられた第１のブロック間搬送機構と、
前記基板載置部に載置された基板を第２の処理ブロックに搬送するために前記第２の基板搬送機構とは別個に設けられた第２のブロック間搬送機構と、を備えたことを特徴とする請求項４記載の基板処理装置。
【請求項１】
基板を収納した基板収納容器が載置される容器載置部と、この容器載置部に載置された基板収納容器に対して基板の受け渡しを行う受け渡し機構と、を含む基板搬入ブロックと、
この基板搬入ブロックに隣接して設けられ、当該基板搬入ブロックから受け取った基板を処理するための処理ブロックであって、基板を直線搬送路に沿って搬送するための第１の基板搬送機構と、この基板搬送機構の左右両側に各々設けられ、前記第１の基板搬送機構により基板の受け渡しが行われると共に基板に対して各々処理流体により同一の処理を行う複数の処理ユニットからなる処理ユニットの列と、を含む第１の処理ブロックと、
この第１の処理ブロックに隣接して設けられ、前記基板搬入ブロックから受け取った基板を処理するための処理ブロックであって、基板を直線搬送路に沿って搬送するための第２の基板搬送機構と、この基板搬送機構の左右両側に各々設けられ、前記第２の基板搬送機構により基板の受け渡しが行われると共に基板に対して各々前記処理ユニットと同一の処理を行う複数の処理ユニットからなる処理ユニットの列と、を含む第２の処理ブロックと、
前記第１の処理ブロックにおける左右の処理ユニットの列の一方と、前記第２の処理ブロックにおける左右の処理ユニットの列の一方と、に対して共通化された一方の処理流体の供給系と、
前記第１の処理ブロックにおける左右の処理ユニット列の他方と、前記第２の処理ブロックにおける左右の処理ユニットの列の他方と、に対して共通化された他方の処理流体の供給系と、
前記第１の処理ブロック及び第２の処理ブロックの一方の処理ブロックの基板搬送機構に不具合が発生したときには、他方の処理ブロックを使用して基板を処理し、一方の処理流体の供給系及び他方の処理流体の供給系のいずれかに不具合が発生したときには、不具合が発生していない処理流体の供給系が受け持つ処理ユニットの列を使用して基板を処理するように制御する制御部と、を備えたことを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
前記制御部は、処理ユニットのいずれかに不具合が発生したときには、当該処理ユニットが含まれる処理ユニットの列の使用を停止し、他の処理ユニットの列を使用して基板を処理するように制御することを特徴とする請求項１記載の基板処理装置。
【請求項３】
前記第１の処理ブロックと第２の処理ブロックとは、互に積層されていることを特徴とする請求項１または２記載の基板処理装置。
【請求項４】
前記第２の処理ブロックは第１の処理ブロックに対して基板搬入ブロックとは反対側に設けられていることを特徴とする請求項１または２記載の基板処理装置。
【請求項５】
前記第１の処理ブロックと第２の処理ブロックとの間で基板の受け渡しを行うための基板載置部と、
前記基板搬入ブロックの受け渡し機構から受け取った基板を第１の処理ブロックまたは前記基板載置部に搬送するために前記第１の基板搬送機構とは別個に設けられた第１のブロック間搬送機構と、
前記基板載置部に載置された基板を第２の処理ブロックに搬送するために前記第２の基板搬送機構とは別個に設けられた第２のブロック間搬送機構と、を備えたことを特徴とする請求項４記載の基板処理装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【公開番号】特開２０１１−８２２７９（Ｐ２０１１−８２２７９Ａ）
【公開日】平成２３年４月２１日（２０１１．４．２１）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−２３２０５６（Ｐ２００９−２３２０５６）
【出願日】平成２１年１０月６日（２００９．１０．６）
【出願人】（０００２１９９６７）東京エレクトロン株式会社 (5,184)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年４月２１日（２０１１．４．２１）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年１０月６日（２００９．１０．６）
【出願人】（０００２１９９６７）東京エレクトロン株式会社 (5,184)
【Ｆターム（参考）】
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