基板塗布装置、及びプログラム
【課題】防湿剤を広範囲に効率的に塗布することと、塗布禁止領域への防湿剤の侵入を防止することとを両立できる基板塗布装置を提供する。
【解決手段】防湿剤を加圧状態で収容する第１の容器１７と接続され、その防湿剤を基板上に吐出する第１の吐出手段と、防湿剤の吐出幅が第１の吐出手段よりも狭く、防湿剤を加圧状態で収容する第２の容器１８と接続され、その防湿剤を基板上に吐出する第２の吐出手段と、を有する吐出部１９と、吐出部１９と基板とを相対的に３次元方向に移動させ、基板に垂直な軸において、吐出部１９と基板とを相対的に回転させる移動部２０と、吐出部１９及び移動部２０を制御することにより、基板上の防湿剤を塗布する領域である塗布領域に防湿剤を吐出させる制御部２１と、を備える。
【解決手段】防湿剤を加圧状態で収容する第１の容器１７と接続され、その防湿剤を基板上に吐出する第１の吐出手段と、防湿剤の吐出幅が第１の吐出手段よりも狭く、防湿剤を加圧状態で収容する第２の容器１８と接続され、その防湿剤を基板上に吐出する第２の吐出手段と、を有する吐出部１９と、吐出部１９と基板とを相対的に３次元方向に移動させ、基板に垂直な軸において、吐出部１９と基板とを相対的に回転させる移動部２０と、吐出部１９及び移動部２０を制御することにより、基板上の防湿剤を塗布する領域である塗布領域に防湿剤を吐出させる制御部２１と、を備える。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、吐出幅の異なる２個の吐出手段を用いて基板に防湿剤を塗布する基板塗布装置等に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、プリント基板等の基板に防湿剤を塗布する装置が開発されている（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００９−１０６９３４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
広い領域に防湿剤を塗布する際には、基板への吐出直後の防湿剤が少し流れるようにすることによって、広範囲に短時間で塗布することができる。しかし、塗布領域の細かい制御はできないため、塗布してはならない領域の近くを塗布することはできない。
【０００５】
一方、吐出直後の防湿剤が流れないように防湿剤を塗布することによって、所望の領域への正確な防湿剤の塗布が可能となる。しかし、この方法は、広範囲に短時間で防湿剤を塗布することには適していない。
【０００６】
本発明は、上記事情に応じてなされたものであり、広範囲に短時間で防湿剤を塗布することができる共に、防湿剤を塗布してはならない領域には、防湿剤が流れていかないようにすることができる基板塗布装置等を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するため、本発明による基板塗布装置は、基板に防湿剤を塗布する基板塗布装置であって、防湿剤を加圧状態で収容する第１の容器と接続され、第１の容器に収容されている防湿剤を基板上に吐出する第１の吐出手段と、防湿剤の吐出幅が第１の吐出手段よりも狭く、防湿剤を加圧状態で収容する第２の容器と接続され、第２の容器に収容されている防湿剤を基板上に吐出する第２の吐出手段と、を有する吐出部と、吐出部と基板とを相対的に３次元方向に移動させ、基板に垂直な軸において、吐出部と基板とを相対的に回転させる移動部と、吐出部及び移動部を制御することにより、基板上の防湿剤を塗布する領域である塗布領域に防湿剤を吐出させる制御部と、を備えたものである。
【０００８】
このような構成により、第１の吐出手段によって広範囲に防湿剤を塗布することができると共に、第２の吐出手段によって細かい防湿剤の塗布の制御が可能となる。また、第１の吐出手段が吐出した防湿剤が、第２の吐出手段が吐出した防湿剤の位置でブロックされるようにすることができ、その結果、防湿剤が無制限に広がることを防止できる。
【０００９】
また、本発明による基板塗布装置では、制御部は、防湿剤の塗布禁止領域に隣接する塗布領域において、第２の吐出手段が塗布禁止領域側を塗布するように制御してもよい。
このような構成により、塗布禁止領域に吐出後の防湿剤が流れていくことを防止することができうる。
【００１０】
また、本発明による基板塗布装置では、（１）第２の容器に収容されている防湿剤は第１の容器に収容されている防湿剤よりも粘度が高い、（２）第２の容器の圧力は第１の容器の圧力よりも低い、（３）第２の容器に収容されている防湿剤は第１の容器に収容されている防湿剤よりも速乾性である、のいずれか１以上の要件を満たしていてもよい。
【００１１】
このような構成により、第２の吐出手段が吐出した防湿剤の方が、第１の吐出手段が吐出した防湿剤よりも広がらないようにすることができ、第１の吐出手段が吐出した防湿剤が、第２の吐出手段が吐出した防湿剤の位置でブロックされるようにすることができる。
【００１２】
また、本発明による基板塗布装置では、前記基板を撮影した画像である撮影画像が記憶される撮影画像記憶部と、前記撮影画像記憶部が記憶している撮影画像を表示する撮影画像表示部と、前記撮影画像表示部が表示した撮影画像上において、防湿剤の塗布禁止領域を示す情報である領域情報を受け付ける領域情報受付部と、前記第２の吐出手段が前記塗布禁止領域側を塗布するように、前記領域情報受付部が受け付けた領域情報を、前記吐出部の軌跡と、防湿剤の吐出の有無とを示す情報である軌跡情報に変換する変換部と、をさらに備え、前記制御部は、前記軌跡情報の示す軌跡及び吐出の有無に応じて防湿剤が塗布されるように制御してもよい。
このような構成により、撮影画像を見ながら防湿剤の塗布禁止領域を指定することができるため、その領域の指定が容易になる。また、そのようにして指定した塗布禁止領域側は、第２の吐出手段によって防湿剤が塗布されることになるため、塗布禁止領域に防湿剤が広がることを防止することができる。
【００１３】
また、本発明による基板塗布方法は、基板に防湿剤を塗布する基板塗布方法であって、防湿剤を加圧状態で収容する第１の容器と接続され、第１の容器に収容されている防湿剤を基板上に吐出する第１の吐出手段と、防湿剤の吐出幅が第１の吐出手段よりも狭く、防湿剤を加圧状態で収容する第２の容器と接続され、第２の容器に収容されている防湿剤を基板上に吐出する第２の吐出手段とを有する吐出部と基板とを相対的に３次元方向に移動させ、基板に垂直な軸において、吐出部と基板とを相対的に回転させる移動ステップと、移動ステップにより、基板上の防湿剤を塗布する領域である塗布領域を吐出部が移動している際に、吐出部に防湿剤を吐出させる吐出ステップと、を備えたものである。
【発明の効果】
【００１４】
本発明による基板塗布装置等によれば、広範囲に効率よく防湿剤を塗布することができる共に、防湿剤を塗布してはならない領域には、防湿剤が流れていかないようにすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明の実施の形態１による基板塗布装置の構成を示すブロック図
【図２】本実施の形態による吐出部について説明するための模式図
【図３】本実施の形態による吐出部による防湿剤の吐出について説明するための図
【図４】同実施の形態による基板塗布装置の動作を示すフローチャート
【図５】同実施の形態による基板塗布装置の動作を示すフローチャート
【図６】同実施の形態による基板塗布装置の動作を示すフローチャート
【図７】同実施の形態における撮影画像の一例を示す図
【図８】同実施の形態における表示の一例を示す図
【図９】同実施の形態における塗布禁止領域の周囲における軌跡の設定について説明するための図
【図１０】同実施の形態における軌跡情報の一例を示す図
【図１１】上記実施の形態におけるコンピュータシステムの構成の一例を示す図
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、本発明による基板塗布装置について、実施の形態を用いて説明する。なお、以下の実施の形態において、同じ符号を付した構成要素及びステップは同一または相当するものであり、再度の説明を省略することがある。
【００１７】
（実施の形態１）
本発明の実施の形態１による基板塗布装置について、図面を参照しながら説明する。本実施の形態による基板塗布装置は、２個の吐出手段を用いて、基板に防湿剤をコーティングするものである。
【００１８】
図１は、本実施の形態による基板塗布装置１の構成を示すブロック図である。本実施の形態による基板塗布装置１は、撮影画像受付部１１と、撮影画像記憶部１２と、撮影画像表示部１３と、領域情報受付部１４と、変換部１５と、軌跡情報記憶部１６と、第１の容器１７と、第２の容器１８と、吐出部１９と、移動部２０と、制御部２１とを備える。
【００１９】
撮影画像受付部１１は、基板を撮影した画像である撮影画像を受け付け、後述する撮影画像記憶部１２に蓄積する。ここで、基板は、通常、プリント基板であるが、防湿剤の塗布対象となるその他の基板（例えば、半導体基板等）であってもよい。プリント基板は、回路素子等の電子部品が固定され、配線されるための基板であり、回路基板と呼ばれることもある。この撮影画像のデータ形式は問わない。撮影画像は、例えば、ＪＰＥＧのデータであってもよく、ＲＡＷやＴＩＦＦのデータであってもよい。また、撮影画像受付部１１は、撮影画像（イメージデータ）と共に、その撮影画像上における寸法と、実際の基板の寸法とを対応付ける縮尺情報をも受け付けてもよく、そうでなくてもよい。縮尺情報とは、撮影画像での寸法（例えば、ピクセル数で記述されてもよく、ミリメートルによって記述されてもよい）と、実際の基板上での寸法（例えば、ミリメートルによって記述される）とを対応付けることができる情報（両長さを換算可能な情報）であれば、その内容を問わない。例えば、縮尺情報は、寸法の比率を示す情報であってもよく、撮影画像の縦の寸法や横の寸法に応じた基板の実寸を示す情報であってもよい。
【００２０】
撮影画像受付部１１は、例えば、撮影デバイス（例えば、デジタルカメラなど）から入力された撮影画像を受け付けてもよく、有線もしくは無線の通信回線を介して送信された撮影画像を受信してもよく、所定の記録媒体（例えば、光ディスクや磁気ディスク、半導体メモリなど）から読み出された撮影画像を受け付けてもよい。なお、撮影画像受付部１１は、受け付けを行うためのデバイス（例えば、モデムやネットワークカードなど）を含んでもよく、あるいは含まなくてもよい。また、撮影画像受付部１１は、ハードウェアによって実現されてもよく、あるいは所定のデバイスを駆動するドライバ等のソフトウェアによって実現されてもよい。
【００２１】
撮影画像記憶部１２では、基板を撮影した画像である撮影画像が記憶される。この撮影画像は、撮影画像受付部１１が蓄積したものである。撮影画像記憶部１２での記憶は、ＲＡＭ等における一時的な記憶でもよく、あるいは、長期的な記憶でもよい。撮影画像記憶部１２は、所定の記録媒体（例えば、半導体メモリや磁気ディスク、光ディスクなど）によって実現されうる。
【００２２】
撮影画像表示部１３は、撮影画像記憶部１２が記憶している撮影画像を表示する。なお、撮影画像表示部１３は、それらの表示を行う表示デバイス（例えば、ＣＲＴや液晶ディスプレイなど）を含んでもよく、あるいは含まなくてもよい。また、撮影画像表示部１３は、撮影画像を、表示デバイスを有する装置に送信するものであってもよい。また、撮影画像表示部１３は、ハードウェアによって実現されてもよく、あるいは表示デバイスや通信デバイスを駆動するドライバ等のソフトウェアによって実現されてもよい。本実施の形態では、撮影画像表示部１３は、外部のディスプレイに撮影画像を表示するものとする。
【００２３】
領域情報受付部１４は、撮影画像表示部１３が表示した撮影画像上において、領域情報を受け付ける。領域情報は、防湿剤を塗布してはならない領域、すなわち、防湿剤の塗布禁止領域を示す情報である。領域情報の示す領域は、通常、矩形の領域であるが、そうでなくてもよい。その矩形の領域は、例えば、その矩形の対角点を指定することによって特定されてもよい。例えば、基板上において、他の装置等と接続する必要のある素子（例えば、コネクタや入力端子、出力端子）等の領域が塗布禁止領域となる。また、基板において、塗布禁止領域以外の全ての領域は、防湿剤を塗布する領域である塗布領域となる。また、撮影画像における領域（すなわち、撮影画像の座標系で記述される領域）を示す情報をも、基板における領域（すなわち、基板の座標系で記述される領域）を示す情報をも領域情報と呼ぶことにする。後述するように、両者は変換可能であるため、実質的には同じ情報だからである。なお、本実施の形態では、領域情報受付部１４は、撮影画像における領域を示す領域情報を受け付け、その領域情報を、基板における領域を示す領域情報に変換するものとする。また、この撮影画像における領域を示す領域情報を、基板における領域を示す領域情報に変換する処理は、別途、後述する変換部１５による変換の処理の前に行われてもよい。また、領域情報受付部１４は、撮影画像の任意の点に対応する基板上の点を特定することができる情報を受け付けてもよい。その情報は、例えば、前述の縮尺情報と、点対応情報とを含んでいてもよい。また、その情報には、撮影画像と、基板との向きを合わせるための情報（例えば、撮影画像を時計回りに９０度回転させると、基板と同じ向きになるなどの情報）が含まれていてもよく、含まれていなくてもよい。ここで、点対応情報は、撮影画像上の少なくとも１点と、その点に対応する基板上の点とを対応付ける情報である。この点対応情報によって、撮影画像と基板との少なくとも１点の対応がとられることになるため、その点と、縮尺情報とを用いることによって、撮影画像上の任意の点に対応する基板上の点を特定することができるようになる。なお、撮影画像受付部１１が縮尺情報をすでに受け付けている場合には、領域情報受付部１４は、その縮尺情報を受け付けなくてもよい。また、撮影画像の任意の点に対応する基板上の点を特定することができる情報は、領域情報に含まれると考えてもよく、そうでなくてもよい。
【００２４】
領域情報受付部１４は、例えば、入力デバイス（例えば、キーボードやマウス、タッチパネルなど）から入力された領域情報を受け付けてもよい。この場合には、例えば、領域情報受付部１４は、マウス等で受け付けた表示画面上のスクリーン座標上の領域を、撮影画像上の領域に変換することによって、撮影画像上の領域に関する情報を受け付けることができる。また、本実施の形態では、前述のように、領域情報受付部１４は、撮影画像の任意の点に対応する基板上の点を特定することができる情報を用いることによって、撮影画像における領域を示す領域情報を、基板における領域を示す領域情報に変換するものとする。なお、これらの方法はすでに公知であり、その詳細な説明を省略する。また、撮影画像表示部１３が撮影画像を送信するものである場合には、領域情報受付部１４は、有線もしくは無線の通信回線を介して送信された領域情報を受信してもよく、所定の記録媒体（例えば、光ディスクや磁気ディスク、半導体メモリなど）から読み出された情報を受け付けてもよい。なお、領域情報受付部１４は、受け付けを行うためのデバイス（例えば、モデムやネットワークカードなど）を含んでもよく、あるいは含まなくてもよい。また、領域情報受付部１４は、ハードウェアによって実現されてもよく、あるいは所定のデバイスを駆動するドライバ等のソフトウェアによって実現されてもよい。
【００２５】
変換部１５は、領域情報受付部１４が受け付けた領域情報を、後述する第２の吐出手段３２が塗布禁止領域側を塗布するように、軌跡情報に変換する。軌跡情報とは、後述する吐出部１９の軌跡と、防湿剤の吐出の有無とを示す情報である。なお、その変換の際に、撮影画像の任意の点に対応する基板上の点を特定することができる前述の情報を用いて、変換を行ってもよい。軌跡情報は、基板に対応した座標系での吐出部１９の位置を示す情報である。
【００２６】
領域情報を軌跡情報に変換する方法について、簡単に説明する。まず、塗布禁止領域の周囲の領域に対応する軌跡情報を生成する場合について説明する。矩形の塗布禁止領域の４つの辺のそれぞれに隣接する４つの帯状の領域を設定する。各帯状の領域の長さ方向の一辺は、塗布禁止領域のいずれかの辺と一致するものとする（なお、一致する代わりに、塗布禁止領域のいずれかの辺と平行であって、その辺よりも少しだけ外側に位置してもよい）。また、各帯状の領域の幅は一定であり、その幅は、後述する吐出部１９の吐出幅に対応しているものとする。また、その各帯状の領域において、変換部１５は、各帯状の領域の一方の端点を始点として、他方の端点を終点として、帯状の領域の塗布禁止領域の辺の側が後述する第２の吐出手段３２の側となり、帯状の領域の塗布禁止領域と反対の辺の側が後述する第１の吐出手段３１の側となり、帯状の領域の長さ方向（塗布禁止領域の辺の長さ方向）が吐出部１９の走査方向となるように、始点から終点まで防湿剤を吐出しながら移動する軌跡情報を生成する。また、変換部１５は、ある帯状の領域の終点から、次の帯状の領域の始点まで、防湿剤を吐出しないで移動するための軌跡情報を生成する。このようにして、ある塗布禁止領域の周囲の領域に対応する軌跡情報を生成することができる。この処理を、全ての塗布禁止領域について行うことによって、全ての塗布禁止領域の周囲に関する軌跡情報を生成できる。なお、塗布禁止領域の４つの辺のいずれかの部分が、他の塗布禁止領域にかかっている場合には、その部分については、軌跡情報を生成しなくてもよい。また、塗布禁止領域の４つの辺のいずれかの部分が、基板の周囲と一致する場合には、その部分についても、軌跡情報を生成しなくてもよい。
【００２７】
次に、塗布禁止領域の周囲以外の領域に対応する軌跡情報を生成する場合について説明する。塗布禁止領域の周囲以外の領域に対応する軌跡情報の生成は、塗布禁止領域の周囲に関する軌跡情報を生成した後に行う。すなわち、変換部１５は、基板上の領域であって、塗布禁止領域以外の領域であって、塗布禁止領域の周囲の帯状の領域以外の領域に対して軌跡情報を生成する。具体的には、変換部１５は、基板上の領域であって、塗布禁止領域でなく、塗布禁止領域の周囲の帯状の領域でない領域を１以上の帯状の領域に分割する。その帯状の領域の幅は一定であり、その幅は、後述する第１の吐出手段３１の吐出幅に対応しているものとする。塗布禁止領域の周囲以外は、第１の吐出手段３１のみで防湿剤の塗布を行うからである。変換部１５は、各帯状の領域の一方の端点を始点として、他方の端点を終点として、帯状の領域の長さ方向が吐出部１９の走査方向となるように、始点から終点まで防湿剤を吐出しながら移動する軌跡情報を生成する。また、変換部１５は、ある帯状の領域の終点から、次の帯状の領域の始点まで、防湿剤を吐出しないで移動するための軌跡情報を生成する。
【００２８】
また、変換部１５は、塗布禁止領域の周囲の領域における最後の終点から、塗布禁止領域でなく、塗布禁止領域の周囲の領域でもない領域における最初の始点まで、防湿剤を吐出しないで移動するための軌跡情報を生成してもよい。また、変換部１５は、塗布領域に対応する軌跡情報を設定した場合に、その塗布領域を示す情報を一時的に記憶し、新たな軌跡情報を設定する場合には、その一時的に記憶している塗布領域と重ならないように、塗布領域に対応する軌跡情報を設定するようにしてもよい。このようにすることで、同じ領域に防湿剤を重ねて塗布することを回避できる。また、変換部１５は、軌跡情報によって示される吐出部１９の軌跡が最短距離となるように、領域情報を軌跡情報に変換してもよい。また、変換部１５は、生成した軌跡情報を後述する軌跡情報記憶部に蓄積する。
【００２９】
軌跡情報記憶部１６では、軌跡情報が記憶される。この軌跡情報は、変換部１５によって領域情報から変換されたものである。軌跡情報記憶部１６での記憶は、ＲＡＭ等における一時的な記憶でもよく、あるいは、長期的な記憶でもよい。軌跡情報記憶部１６は、所定の記録媒体（例えば、半導体メモリや磁気ディスク、光ディスクなど）によって実現されうる。
【００３０】
第１の容器１７は、防湿剤を加圧状態で収容する。この第１の容器１７の内気圧は、調整可能であることが好適である。
第２の容器１８は、防湿剤を加圧状態で収容する。この第２の容器１８の内気圧は、第１の容器１７の内気圧と独立して調整可能であることが好適である。
なお、第１の容器１７及び第２の容器１８については、防湿剤等の粘性流体を塗布する装置においてすでに公知であり、その詳細な説明を省略する。
【００３１】
吐出部１９は、図２で示されるように、第１の吐出手段３１と、第２の吐出手段３２とを有する。第１の吐出手段３１は、第１の容器１７と第１の流体通路３３で接続され、その第１の容器１７に収容されている防湿剤を基板上に吐出するものである。また、第２の吐出手段３２は、第２の容器１８と第２の流体通路３４で接続され、その第２の容器１８に収容されている防湿剤を基板上に吐出するものである。なお、第２の吐出手段３２は、防湿剤の吐出幅が第１の吐出手段３１よりも狭いものである。すなわち、第１の吐出手段３１の方が、第２の吐出手段３２よりも広い範囲に防湿剤を吐出するものである。また、第１の吐出手段３１は、点状に防湿剤を吐出した際に、吐出された防湿剤が略楕円形状になる楕円ノズルである。また、第２の吐出手段３２は、点状に防湿剤を吐出した際に、吐出された防湿剤が略楕円形状または略円盤形状になるノズルである。なお、防湿剤の吐出幅とは、通常、防湿剤の吐出のための走査方向に直交する方向の幅のことである。第１の吐出手段３１の場合には、例えば、楕円形状の長手方向の長さが幅になる。吐出幅の広いノズルや、吐出幅の狭いノズルはすでに公知であり、それらの説明を省略する。第１の吐出手段３１は、幅広く防湿剤を吐出することができるように、図２で示されるように、扇形状に防湿剤を塗布するものであってもよい。また、第１の吐出手段３１や第２の吐出手段３２による防湿剤の吐出は、間欠的なものであってもよい。防湿剤を塗布する幅に応じて、その間欠周波数を変化させてもよい。すなわち、広い幅で塗布する場合には、間欠周波数を高くして吐出量を多くし、狭い幅で塗布する場合には、間欠周波数を低くして吐出量を少なくしてもよい。防湿剤の吐出が間欠制御されることについても、すでに公知であり、その説明を省略する。また、図２で示されるように、第１の吐出手段３１は基板の法線方向から防湿剤を吐出し、第２の吐出手段３２は基板の法線方向から少し傾いた方向から防湿剤を吐出してもよい。また、吐出部１９が回転する場合に、その回転中心の軸は、第１の吐出手段３１のノズルと同軸であってもよく、そうでなくてもよい。本実施の形態では、後者の場合について説明する。吐出部１９が回転することによって、第１の吐出手段３１及び第２の吐出手段３２が一括して回転することになる。
【００３２】
なお、第１及び第２の容器１７，１８で収容されている防湿剤や、第１及び第２の容器１７，１８の内気圧については、次の３個の条件のうち、少なくとも１以上の条件を満たすことが好適である。これらの条件のいずれかが満たされることによって、第２の吐出手段３２から吐出された防湿剤の方が、第１の吐出手段３１から吐出された防湿剤よりも広がらないものとなるからである。
【００３３】
（条件１）第２の容器１８に収容されている防湿剤は、第１の容器１７に収容されている防湿剤よりも粘度が高い。
（条件２）第２の容器１８の圧力は、第１の容器１７の圧力よりも低い。
（条件３）第２の容器１８に収容されている防湿剤は、第１の容器１７に収容されている防湿剤よりも速乾性である。
【００３４】
第１の吐出手段３１は、防湿剤を吐出する単一のノズルを有するものであってもよく、前述の特許文献１のように、複数のノズルを有するものであってもよい。また、第２の吐出手段３２も、防湿剤を吐出する単一のノズルを有するものであってもよく、前述の特許文献１のように、複数のノズルを有するものであってもよい。
【００３５】
移動部２０は、吐出部１９と基板とを相対的に３次元方向に移動させる。また、移動部２０は、基板に垂直な軸において、吐出部１９と基板とを相対的に回転させる。相対的に移動させるとは、吐出部１９を移動させてもよく、基板を移動させてもよく、その両方を移動させてもよい、という意味である。また、相対的に回転させるとは、吐出部１９を回転させてもよく、基板を回転させてもよく、その両方を回転させてもよい、という意味である。本実施の形態では、移動部２０が吐出部１９を移動させ、回転させる場合について説明する。その際の回転中心は、図３（ａ）で示されるように、吐出部１９の吐出幅における中点であるとする。吐出部１９の吐出幅とは、図３（ａ）の第１の吐出領域の左側の端点から、第２の吐出領域の右側の端点までの幅である。吐出部１９の吐出幅は、第１の吐出手段３１の吐出幅と、第２の吐出手段３２の吐出幅と、第１及び第２の吐出領域の隙間の幅とを足したものである。また、３次元方向の移動とは、位置関係の移動であり、基板に平行な平面内での移動（「ｘｙ方向の移動」と呼ぶこともある）と、基板の法線方向に基板に接近し、離間する方向への移動（「ｚ方向の移動」と呼ぶこともある）とを含むものである。また、第１の吐出手段３１と、第２の吐出手段３２とは、移動部２０によって、一体として移動され、回転されるものとする。
【００３６】
制御部２１は、吐出部１９及び移動部２０を制御することにより、基板上の防湿剤を塗布する領域である塗布領域に防湿剤を吐出させる。具体的には、制御部２１は、軌跡情報記憶部１６で記憶されている軌跡情報の示す軌跡に応じて吐出部１９が移動、回転するように移動部２０を制御するものとする。また、制御部２１は、軌跡情報の示す吐出の有無に応じて防湿剤が塗布されるように吐出部１９を制御するものとする。その吐出部１９の制御の際に、制御部２１は、第１の吐出手段３１と、第２の吐出手段３２とを独立して制御してもよく、両者を一緒に制御してもよい。制御部２１は、例えば、第１の吐出手段３１のみに防湿剤を吐出させてもよく、第２の吐出手段３２のみに防湿剤を吐出させてもよく、その両方に防湿剤を吐出させてもよい。軌跡情報を用いた制御は、防湿剤等の粘性流体を塗布する装置においてすでに公知であり、その詳細な説明を省略する。このような制御の結果、制御部２１は、防湿剤の塗布禁止領域に隣接する塗布領域において、第２の吐出手段３２が塗布禁止領域側を塗布するように制御することになる。
【００３７】
なお、撮影画像記憶部１２と、軌跡情報記憶部１６とは、同一の記録媒体によって実現されてもよく、あるいは、別々の記録媒体によって実現されてもよい。前者の場合には、撮影画像を記憶している領域が撮影画像記憶部１２となり、軌跡情報を記憶している領域が軌跡情報記憶部１６となる。
【００３８】
ここで、第１の吐出手段３１及び第２の吐出手段３２から吐出された防湿剤の吐出領域の拡大について図３を用いて説明する。図３（ａ）は、第１の吐出手段３１及び第２の吐出手段３２から一瞬の間だけ吐出された点状の防湿剤の吐出領域を示す図である。第１及び第２の吐出領域は、それぞれ第１及び第２の吐出手段３１，３２によって吐出された防湿剤の領域である。図３（ｂ）は、走査後の吐出領域を示す図である。第１及び第２の吐出手段３１，３２が防湿剤を吐出しながら図中の矢印方向に走査すると、防湿剤の吐出領域が図中の破線で示される領域となる。図３（ｃ）は、防湿剤が塗布されてから所定の時間が経過した後の防湿剤の塗布領域を示すものである。走査後の第１及び第２の吐出領域は、時間の経過と共に拡大する。ただし、前述の条件１〜３の少なくともいずれかが満たされることによって、図３（ｃ）で示されるように、第２の吐出領域の方が、第１の吐出領域よりも拡大しないことになる。また、第１の吐出領域が拡大する際に、第２の吐出領域側への拡大は、第２の吐出領域によって阻止され、反対側ほどには拡大しないことになる。その結果、図３（ｃ）において、第２の吐出領域の右側に塗布禁止領域が存在したとしても、その塗布禁止領域には防湿剤がかからないようにすることができると共に、その反対側については、広範囲を効率よく塗布することができるようになる。なお、第１の吐出手段３１は、広範囲に防湿剤を塗布するものであり、第２の吐出手段３２は、その第１の吐出手段３１が吐出した防湿剤が流れることをブロックするために防湿剤を吐出するものである。したがって、第１の吐出手段３１が吐出する防湿剤は、図３（ｃ）で示されるように、吐出後に時間の経過に応じて広がっていく（流れていく）ものであることが好適である。それに対して、第２の吐出手段３２が吐出する防湿剤は、図３（ｃ）で示されるように、吐出後に広がらない（流れていかない）ものであることが好適である。
【００３９】
次に、本実施の形態による基板塗布装置１の動作について、図４のフローチャートを用いて説明する。
（ステップＳ１０１）撮影画像受付部１１は、撮影画像を受け付けたかどうか判断する。そして、撮影画像を受け付けた場合には、ステップＳ１０２に進み、そうでない場合には、ステップＳ１０３に進む。
【００４０】
（ステップＳ１０２）撮影画像受付部１１は、受け付けた撮影画像を撮影画像記憶部１２に蓄積する。そして、ステップＳ１０１に戻る。
【００４１】
（ステップＳ１０３）撮影画像表示部１３は、撮影画像を表示するかどうか判断する。そして、撮影画像を表示する場合には、ステップＳ１０４に進み、そうでない場合には、ステップＳ１１０に進む。撮影画像表示部１３は、例えば、撮影画像を表示する旨の指示を受け付けた場合に、撮影画像を表示すると判断してもよい。
【００４２】
（ステップＳ１０４）撮影画像表示部１３は、撮影画像記憶部１２から撮影画像を読み出し、その撮影画像を表示する。
【００４３】
（ステップＳ１０５）領域情報受付部１４は、領域情報を受け付けたかどうか判断する。そして、受け付けた場合には、ステップＳ１０６に進み、そうでない場合には、ステップＳ１０７に進む。なお、領域情報受付部１４は、前述のように、撮影画像における領域を示す領域情報を、基板における領域を示す領域情報に変換する処理を行ってもよい。
【００４４】
（ステップＳ１０６）領域情報受付部１４は、受け付けた領域情報を図示しない記録媒体で一時的に記憶する。そして、ステップＳ１０５に戻る。
【００４５】
（ステップＳ１０７）領域情報受付部１４は、領域情報の受け付けを終了するかどうか判断する。そして、領域情報の受け付けを終了する場合には、ステップＳ１０８に進み、そうでない場合には、ステップＳ１０５に戻る。領域情報受付部１４は、例えば、領域情報の入力を終了する旨の情報を受け付けた場合に、領域情報の受け付けを終了すると判断してもよく、軌跡情報への変換を行う旨の指示を受け付けた場合に、領域情報の受け付けを終了すると判断してもよい。
【００４６】
（ステップＳ１０８）変換部１５は、一時的に記憶されている領域情報を軌跡情報に変換する。なお、この処理の詳細については、図５のフローチャートを用いて後述する。
【００４７】
（ステップＳ１０９）変換部１５は、変換後の軌跡情報を軌跡情報記憶部１６に蓄積する。そして、ステップＳ１０１に戻る。
【００４８】
（ステップＳ１１０）制御部２１は、防湿剤の塗布を行うかどうか判断する。そして、防湿剤の塗布を行う場合には、ステップＳ１１１に進み、そうでない場合には、ステップＳ１０１に戻る。制御部２１は、例えば、軌跡情報の蓄積が終了した際に、防湿剤の塗布を行うと判断してもよく、あるいは、防湿剤の塗布を行う旨の指示を受け付けた場合に、防湿剤の塗布を行うと判断してもよい。
【００４９】
（ステップＳ１１１）制御部２１は、軌跡情報記憶部１６で記憶されている軌跡情報を用い、吐出部１９や移動部２０を制御することによって、基板に防湿剤を塗布する。この処理の詳細については、図６のフローチャートを用いて後述する。
【００５０】
なお、図４のフローチャートにおいて、領域情報を軌跡情報に変換した後に、その変換後の軌跡情報を蓄積する場合について説明したが、領域情報を軌跡情報に変換する途中において、順次、軌跡情報を軌跡情報記憶部１６に蓄積していってもよい。また、図４のフローチャートにおいて、電源オフや処理終了の割り込みにより処理は終了する。
【００５１】
図５は、図４のフローチャートにおける軌跡情報への変換の処理（ステップＳ１０８）の詳細を示すフローチャートである。
（ステップＳ２０１）変換部１５は、カウンタｉを１に設定する。
【００５２】
（ステップＳ２０２）変換部１５は、領域情報によって示されるｉ番目の塗布禁止領域が存在するかどうか判断する。そして、存在する場合には、ステップＳ２０３に進み、そうでない場合には、ステップＳ２０５に進む。
【００５３】
（ステップＳ２０３）変換部１５は、そのｉ番目の塗布禁止領域の周囲の領域について、塗布禁止領域側が第２の吐出手段３２によって塗布されるように軌跡を設定する。この軌跡では、防湿剤の吐出が行われるように設定されるものとする。なお、（ｉ−１）番目の塗布禁止領域が存在する場合には、その（ｉ−１）番目の塗布禁止領域の周囲の領域における軌跡の終点から、ｉ番目の塗布禁止領域の周囲の領域における軌跡の始点までの軌跡も同時に設定する。この軌跡では、防湿剤の吐出が行われないように設定されるものとする。また、吐出部１９の始点位置から、１番目の塗布禁止領域の周囲の領域における軌跡の始点までの軌跡を設定してもよい。この軌跡でも、防湿剤の吐出が行われないように設定されるものとする。そのようにして設定した軌跡は、図示しない記録媒体において一時的に記憶されてもよい。
【００５４】
（ステップＳ２０４）変換部１５は、カウンタｉを１だけインクリメントする。そして、ステップＳ２０２に戻る。
【００５５】
（ステップＳ２０５）変換部１５は、塗布禁止領域と、塗布禁止領域の周囲とでない領域が第１の吐出手段３１によって塗布されるように軌跡を設定する。また、最後の塗布禁止領域の周囲の領域における軌跡の終点から、塗布禁止領域の周囲以外の領域における軌跡の始点までの軌跡を設定してもよい。この軌跡でも、防湿剤の吐出が行われないように設定されるものとする。そのようにして設定した軌跡は、図示しない記録媒体において一時的に記憶されてもよい。そして、図４のフローチャートに戻る。なお、図４のフローチャートに戻る際には、その時点における軌跡の終点から、あらかじめ決められている吐出部１９の終点位置までの軌跡を設定してもよい。その軌跡では、防湿剤の吐出が行われないように設定されるものとする。
【００５６】
図６は、図４のフローチャートにおける防湿剤を塗布する処理（ステップＳ１１１）の詳細を示すフローチャートである。
（ステップＳ３０１）制御部２１は、移動部２０を制御することにより、吐出部１９を初期位置に移動させる。その移動の際には、防湿剤の吐出は行われないものとする。
【００５７】
（ステップＳ３０２）制御部２１は、軌跡情報によって示される次の移動において、吐出部１９を回転させる必要があるかどうか判断する。そして、回転させる必要がある場合には、ステップＳ３０３に進み、回転させる必要がない場合には、ステップＳ３０４に進む。
【００５８】
（ステップＳ３０３）制御部２１は、移動部２０を制御することにより、必要な角度だけ吐出部１９を回転させる。
【００５９】
（ステップＳ３０４）制御部２１は、軌跡情報によって示される次の移動において、防湿剤を吐出する必要があるかどうか判断する。そして、防湿剤を吐出する必要がある場合には、ステップＳ３０５に進み、そうでない場合には、ステップＳ３０６に進む。
【００６０】
（ステップＳ３０５）制御部２１は、移動部２０と吐出部１９を制御し、移動先まで吐出部１９を移動させながら、防湿剤を吐出させる。
【００６１】
（ステップＳ３０６）制御部２１は、移動部２０を制御し、移動先まで吐出部１９を移動させる。この場合には、防湿剤の吐出は行われないように制御される。
【００６２】
（ステップＳ３０７）制御部２１は、軌跡情報によって次の移動が示されているかどうか判断する。そして、次の移動が示されている場合には、ステップＳ３０２に戻り、そうでない場合には、軌跡情報で示されるすべての移動が終了したため、図４のフローチャートに戻る。
【００６３】
次に、本実施の形態による基板塗布装置１の動作について、具体例を用いて説明する。この具体例において、基板塗布装置１の第１の容器１７、第２の容器１８、吐出部１９、移動部２０以外の各構成は、パーソナルコンピュータ（ＰＣ）によって実現されるものとする。
【００６４】
まず、基板塗布装置１のユーザは、防湿剤を塗布するプリント基板の写真をデジタルスチルカメラで撮影する。そして、その撮影画像をＰＣに取り込むと、撮影画像受付部１１が、その撮影画像を受け付け、撮影画像記憶部１２に蓄積する（ステップＳ１０１，Ｓ１０２）。図７は、そのようにして蓄積された撮影画像を示すものである。
【００６５】
その後、ユーザが領域情報を入力する旨の指示を基板塗布装置１に入力したとする。すると、撮影画像表示部１３は、撮影画像を表示するタイミングであると判断し、撮影画像をディスプレイに表示する（ステップＳ１０３，Ｓ１０４）。その表示の後に、ユーザは、基板の縦及び横の実寸を入力する。その基板の大きさの情報は領域情報受付部１４で受け付けられ、図示しない記録媒体で一時的に記憶される（ステップＳ１０５，Ｓ１０６）。また、ユーザは、表示された撮影画像において、基板に対応する領域を矩形で囲むことによって、トリミングを行う。そして、そのトリミング後の撮影画像を用いて、領域情報の設定が行われることになる。なお、この具体例では、基板の所定の頂点（図７で示される基板の左下の頂点であるとする）と、ディスプレイに表示される撮影画像の左下の頂点とが対応する点であるとする。また、その基板上の所定の頂点が、基板上の座標系における原点であるとする。なお、その原点に対して、図７の右向きがｘ軸であり、上向きがｙ軸であるとする。したがって、その頂点の対応と、トリミング後の撮影画像の縦及び横のピクセル数と、基板の実寸の情報とを用いることにより、ディスプレイ上の撮影画像の任意の点に対応する基板上の座標値を知ることができることになる。
【００６６】
その後、ユーザはマウスを操作することによって、図８で示されるように、撮影画像上において塗布禁止領域（図８の白い矩形の領域）を設定したとする。すると、その塗布禁止領域に対応する領域情報が領域情報受付部１４で受け付けられ、図示しない記録媒体に蓄積される（ステップＳ１０５，Ｓ１０６）。厳密には、その塗布禁止領域に対応するスクリーン座標（ディスプレイに表示されている表示画面上の座標）が取得され、そのスクリーン座標を撮影画像上の座標（この座標をクライアント座標と呼ぶこともある）に変換し、その後、その座標を基板上の座標に変換することによって、領域情報受付部１４は、入力された領域に対応する基板上の座標値を知ることができる。領域情報は、例えば、塗布禁止領域ごとに、その塗布禁止領域を識別する領域ＩＤと、その塗布禁止領域の領域を示す対角点情報であってもよい。対角点情報は、基板上における領域を示す座標値であり、一方の座標値が領域の左下の座標値であり、他方の座標値が領域の右上の座標値である。対角点情報は、例えば、「（ｘ１，ｙ１）（ｘ２，ｙ２）」である。
【００６７】
その後、図８の表示において、ユーザが「ＯＫ」ボタンをクリックすると、領域情報受付部１４は、領域情報の受け付けを終了すると判断し、図示しない記録媒体で記憶されている領域情報を変換部１５に渡す（ステップＳ１０７）。すると、変換部１５は、領域情報を軌跡情報に変換する処理を開始する（ステップＳ１０８）。
【００６８】
具体的には、変換部１５は、領域情報で示される１番目の塗布禁止領域の対角点情報を読み出し、その１番目の塗布禁止領域の周囲に軌跡を設定する（ステップＳ２０１〜Ｓ２０３）。
【００６９】
ここで、ある塗布禁止領域の周囲の領域における軌跡の設定方法について図９を用いて説明する。その塗布禁止領域の対角点情報は、（ｘ１，ｙ１）（ｘ２，ｙ２）であるとする。また、その塗布禁止領域の周囲に設けられる帯状の塗布領域の幅（すなわち、吐出部１９の吐出幅）は、「２ａ」であるとする。また、軌跡は、図３（ａ）で示される回転中心の軌跡であるとする。
【００７０】
まず、変換部１５は、図９の第１の塗布領域に関する軌跡の設定を行うものとする。その軌跡は、（ｘ１，ｙ１−ａ）を始点として、（ｘ２，ｙ１−ａ）を終点とするものである。その軌跡では、防湿剤の吐出を行うように設定する。なお、その第１の塗布領域では、上側を第２の吐出手段３２によって塗布するため、吐出部１９の角度θを１８０°に設定する。なお、この具体例では、角度の単位は度（ｄｅｇ）であるとする。また、吐出部１９の角度θは、図９において、第１の吐出手段３１が上側であり、第２の吐出手段３２が下側となる場合がθ＝０°であり、その状態から時計回りに角度が設定されているものとする。したがって、角度θの範囲は、０≦θ＜３６０°となる。
【００７１】
次に、変換部１５は、図９の第２の塗布領域に関する軌跡の設定を行うものとする。変換部１５は、まず、第１の塗布領域の終点から第２の塗布領域の始点までの軌跡を設定する。その軌跡では、防湿剤の吐出を行わないように設定する。また、その軌跡での吐出部１９の角度は問わない。次に、変換部１５は、第２の塗布領域の軌跡を設定する。その軌跡は、（ｘ２＋ａ，ｙ１）を始点として、（ｘ２＋ａ，ｙ２）を終点とするものである。その軌跡では、防湿剤の吐出を行うように設定する。また、その第２の塗布領域では、左側を第２の吐出手段３２によって塗布するため、吐出部１９の角度θを９０°に設定する。
【００７２】
次に、変換部１５は、図９の第３の塗布領域に関し、第２の塗布領域の終点から第３の塗布領域の始点までの防湿剤を吐出しない軌跡と、第３の塗布領域の始点（ｘ２，ｙ２＋ａ）から終点（ｘ１，ｙ２＋ａ）までの防湿剤を吐出する軌跡であって、角度が０°である軌跡とを設定する。最後に、変換部１５は、図９の第４の塗布領域に関し、第３の塗布領域の終点から第４の塗布領域の始点までの防湿剤を吐出しない軌跡と、第４の塗布領域の始点（ｘ１−ａ，ｙ２）から終点（ｘ１−ａ，ｙ１）までの防湿剤を吐出する軌跡であって、角度が２７０°である軌跡とを設定する。
【００７３】
このようにして、変換部１５は、図示しない記録媒体で記憶されている領域情報で示される塗布禁止領域の周囲の領域に対応する軌跡を設定する（ステップＳ２０２〜Ｓ２０４）。なお、その塗布禁止領域の周囲の領域に対応する軌跡の設定において、ある塗布禁止領域の周囲の塗布領域が、他の塗布禁止領域と重なる場合や、すでに軌跡の設定を行った他の塗布禁止領域の周囲の塗布領域と重なる場合には、その領域について塗布領域の設定を行わず、軌跡の設定を行わなくてもよい。また、ある塗布禁止領域の周囲の領域における軌跡の終点から、次の塗布禁止領域の周囲の領域における軌跡の始点までの軌跡も設定する。
【００７４】
その後、変換部１５は、基板上の塗布禁止領域でもなく、その周囲の塗布領域でもない領域について、軌跡の設定を行う（ステップＳ２０５）。この領域は、第１の吐出手段３１のみによって塗布されるものである。第１の吐出手段３１による吐出幅が「ｂ」であるとすると、変換部１５は、基板上の塗布禁止領域でもなく、その周囲の塗布領域でもない領域を、幅がｂである帯状の領域に分割し、その帯状の領域のそれぞれについて、一端から他端までの軌跡を設定する。この軌跡では、防湿剤を吐出するものとする。また、その軌跡での角度は、その帯状の領域の角度に応じて決定される。例えば、その帯状の領域の長さ方向の角度がφである場合には、吐出部１９の角度θはφ＋９０°、あるいは、φ＋２７０°となる。また、変換部１５は、ある帯状の領域における終点から、次の帯状の領域の始点までの軌跡も設定する。その軌跡では、防湿剤を吐出しないものとする。なお、幅がｂである帯状の領域を設定する対象となる領域の幅が、幅「ｂ」の整数倍であればよいが、そうでない場合もある。その場合には、幅「ｂ」に満たない幅の領域を、例えば、塗布の幅が可変であるのであれば、その領域の幅に合わせた塗布の幅で防湿剤を塗布してもよく、塗布の幅が可変でない場合には、それまでに塗布した領域と重なるようにして塗布してもよく、第２の吐出手段３２のみを用いて塗布してもよく、吐出部１９の角度を調整することによって、その幅になるように調整して塗布してもよい。そのようにして生成された軌跡情報は、軌跡情報記憶部１６に蓄積される（ステップＳ１０９）。
【００７５】
そのようにして蓄積された軌跡情報は、図１０で示されるようになる。図１０において、各レコードを識別するＩＤと、吐出部１９の位置を示す基板上の座標（ｘ，ｙ）と、吐出部１９の角度θと、防湿剤の吐出の有無を示す吐出フラグとが対応付けられている。吐出フラグが「０」の場合には防湿剤の吐出を行わず、吐出フラグが「１」の場合には防湿剤の吐出を行うものとする。図１０の軌跡情報のＩＤ「０」のレコードによって、吐出部１９は、角度θ＝０°で、防湿剤の吐出なしに、基板上の（ａ１，ｂ１）に移動することが示される。また、ＩＤ「１」のレコードによって、位置（ａ１，ｂ１）から、位置（ｘ１，ｙ１−ａ）まで、角度θ＝０°で、防湿剤の吐出なしに移動することが示される。また、ＩＤ「２」のレコードによって、位置（ｘ１，ｙ１−ａ）から、位置（ｘ２，ｙ１−ａ）まで、角度θ＝１８０°で、防湿剤を吐出しながら移動することが示される。
【００７６】
軌跡情報の設定が完了すると、制御部２１は、防湿剤の塗布を開始すると判断し（ステップＳ１１０）、防湿剤を基板に塗布するための制御を行う（ステップＳ１１１）。具体的には、制御部２１は、まず、移動部２０を制御することによって、吐出部１９をあらかじめ設定されている初期位置に移動させる（ステップＳ３０１）。
【００７７】
次に、制御部２１は、図１０の軌跡情報のＩＤ「０」のレコードを読み出す。そして、それに応じて、吐出部１９及び移動部２０を制御する。すなわち、読み出したレコードの示す角度が「０度」であるため、制御部２１は、吐出部１９の角度が０度でない場合には、回転が必要であると判断して、移動部２０を制御することによって吐出部１９の角度を０度に回転させ、吐出部１９の角度が０度である場合には、回転が不要であると判断して、回転に関する処理を行わない（ステップＳ３０２，Ｓ３０３）。また、読み出したレコードの吐出フラグが「０」であるため、制御部２１は、防湿剤の吐出が必要ないと判断する（ステップＳ３０４）。そして、読み出したレコードの座標（ｘ、ｙ）が（ａ１，ｂ１）であるため、制御部２１は移動部２０と吐出部１９とを制御して、吐出部１９をその位置に、防湿剤の吐出なしに移動させる（ステップＳ３０６）。その移動の際の吐出部１９の角度は０度である。このように、吐出部１９は、第２の吐出手段３２が防湿剤を吐出したとすれば、その端点が（ａ１，ｂ１）となる位置に移動されたことになる。
【００７８】
次に、制御部２１は、図１０の軌跡情報の次のレコード、すなわち、ＩＤ「１」のレコードを読み出す（ステップＳ３０７）。そして、それに応じて、吐出部１９及び移動部２０を制御する。すなわち、読み出したレコードの示す角度が「０度」であり、前のレコードの角度と同じであるため、制御部２１は、回転が不要であると判断する（ステップＳ３０２）。また、読み出したレコードの吐出フラグが「０」であるため、制御部２１は、防湿剤の吐出が必要ないと判断する（ステップＳ３０４）。そして、読み出したレコードの座標が（ｘ１，ｙ１−ａ）であるため、制御部２１は移動部２０と吐出部１９とを制御して、吐出部１９をその位置に、防湿剤の吐出なしに移動させる（ステップＳ３０６）。
【００７９】
次に、制御部２１は、図１０の軌跡情報の次のレコード、すなわち、ＩＤ「２」のレコードを読み出す（ステップＳ３０７）。そして、それに応じて、吐出部１９及び移動部２０を制御する。すなわち、読み出したレコードの示す角度が「１８０度」であり、前のレコードの角度と異なるため、制御部２１は、回転が必要であると判断して、移動部２０を制御することによって吐出部１９の角度を１８０度に回転させる（ステップＳ３０２，Ｓ３０３）。また、読み出したレコードの吐出フラグが「１」であるため、制御部２１は、防湿剤の吐出が必要であると判断する（ステップＳ３０４）。そして、読み出したレコードの座標が（ｘ２，ｙ１−ａ）であるため、制御部２１は移動部２０と吐出部１９とを制御して、吐出部１９をその位置に、防湿剤を吐出させながら移動させる（ステップＳ３０５）。その結果、図９の第１の塗布領域に対応する領域に防湿剤を塗布することができる。また、その塗布された領域のうち、塗布禁止領域の側は第２の吐出手段３２によって塗布されるため、塗布領域の塗布禁止領域側の外縁に、流れにくい防湿剤を塗布して縁取りをすることができ、隣接する塗布禁止領域に防湿剤が流れていくことを防止することができる。
【００８０】
このようにして、軌跡情報の各レコードに応じた吐出部１９の移動や回転、防湿剤の吐出が行われることになり、順次、設定された塗布領域に防湿剤が塗布されていくことになる（ステップＳ３０２〜Ｓ３０７）。
【００８１】
なお、この具体例では、軌跡情報にｘｙ方向の位置に関する情報のみが含まれており、基板の法線方向、すなわちｚ方向の位置に関する情報が含まれていなかったが、その情報をも含むようにしてもよい。ｚ方向の位置は、例えば、基本的に基板から一定の高さ（例えば、５ｍｍや１０ｍｍなど）に設定しておき、基板上の背の高い回路素子等に応じて、適宜、手動で変更するようにしてもよい。なお、軌跡情報にｚ方向の移動に関する情報が含まれていない場合には、ｚ方向の位置は、あらかじめ決められた位置であってもよい。
【００８２】
また、この具体例では、塗布禁止領域の周囲の領域以外において防湿剤の吐出を行う際には、第１の吐出手段３１のみを用いる場合についてのみ説明したが、そうでなくてもよい。塗布禁止領域の周囲の領域以外でも、第１の吐出手段３１と第２の吐出手段３２との両方を用いて防湿剤の吐出を行ってもよく、第２の吐出手段３２のみを用いて防湿剤の吐出を行ってもよい。また、第１の吐出手段３１と第２の吐出手段３２とを切り替えて防湿剤の吐出を行う場合には、軌跡情報の各レコードに、どちらの吐出手段を用いて防湿剤を吐出するのかを示す情報が含まれていてもよい。また、防湿剤の吐出幅が可変である場合にも、軌跡情報の各レコードに、その吐出幅を示す情報が含まれていてもよい。
【００８３】
また、この具体例では、吐出部１９を吐出幅に直交する方向に走査する場合について説明したが、細かい箇所を塗布する場合には、吐出幅の方向に走査させながら防湿剤を吐出してもよい。そのようにすることで、細かい箇所の塗布を行うことができると共に、防湿剤の厚塗りを行うこともできる。
【００８４】
また、この具体例で説明した領域情報を軌跡情報に変換する方法は単なる一例であり、これ以外の方法を用いてもよいことは言うまでもない。例えば、防湿剤の塗布対象となる各領域をあらかじめ複数の帯状の領域に分割し、その分割後の複数の帯状の領域の端点をつなぐことによって、最短の経路で防湿剤を塗布することができるように軌跡情報を生成してもよい。その場合でも、塗布禁止領域側は第２の吐出手段３２によって塗布されるように軌跡情報を生成するものとする。
【００８５】
また、この具体例では、吐出部１９の吐出幅における中点を回転中心とし、また軌跡情報において、その中点の軌跡を示す場合について説明したが、回転中心は他の点であってもよい。また、軌跡情報において軌跡を示す位置も、他の点であってもよい。また、回転中心と、軌跡情報において軌跡を示す位置も異なっていてもよい。
【００８６】
以上のように、本実施の形態による基板塗布装置１によれば、２個の吐出手段、すなわち、第１の吐出手段３１と、第２の吐出手段３２とを用いて防湿剤を塗布するため、防湿剤を広範囲に効率的に塗布することと、塗布禁止領域への防湿剤の侵入を防止することとを両立することができる。また、基板の撮影画像を用いて塗布禁止領域を設定することができるため、撮影画像なしにそれらの設定を行う場合よりも作業性よくそれらの設定を行うことができる。
【００８７】
なお、本実施の形態では、撮影画像受付部１１が撮影画像を受け付けて撮影画像記憶部１２に蓄積する場合について説明したが、そうでなくてもよい。例えば、撮影画像記憶部１２自体が、着脱可能な記録媒体である場合には、撮影画像を記憶している着脱可能な記録媒体が基板塗布装置１に装着されることによって、撮影画像を記憶している撮影画像記憶部１２が実現されてもよい。その場合には、基板塗布装置１は、撮影画像受付部１１を備えていなくてもよい。
【００８８】
また、本実施の形態では、領域情報を受け付け、その領域情報を軌跡情報に変換し、その軌跡情報を用いて防湿剤の塗布を行う場合について説明したが、そうでなくてもよい。すなわち、基板塗布装置１は、軌跡情報やＣＡＤデータ等に応じて、防湿剤の塗布を行うものであってもよく、オペレータによる操作に応じて防湿剤の塗布を行うものであってもよい。ただし、その軌跡情報やＣＡＤデータ等においても、第２の吐出手段３２が防湿剤を塗布する側を指定することができるようになっているものとする。その指定は、例えば、前述の具体例のように、吐出部１９の角度を指定することによって間接的になされるものであってもよい。そのように、軌跡情報の生成等の処理を行わない場合には、基板塗布装置１は、撮影画像受付部１１、撮影画像記憶部１２、撮影画像表示部１３、領域情報受付部１４、変換部１５を備えていなくてもよい。また、軌跡情報を用いない場合には、基板塗布装置１は、軌跡情報記憶部１６を備えていなくてもよい。
【００８９】
また、本実施の形態では、基板塗布装置１が第１の容器１７及び第２の容器１８を備えている場合について説明したが、そうでなくてもよい。基板塗布装置１は、第１の容器１７、第２の容器１８を備えておらず、装置外に存在する第１の容器１７、第２の容器１８から供給される防湿剤を吐出部１９が吐出するものであってもよい。
【００９０】
また、本実施の形態では、吐出部１９が第１の吐出手段３１と第２の吐出手段３２とを備える場合について説明したが、吐出部１９は、３個以上の吐出手段を備えていてもよい。その場合であっても、そのうちの２個の吐出手段は、本実施の形態における第１の吐出手段３１と、第２の吐出手段３２と同様のものであるとする。
【００９１】
また、本実施の形態において、基板の外側を塗布禁止領域に設定し、基板の外周についても、外側が第２の吐出手段３２で塗布されるようにしてもよい。基板の外周において第２の吐出手段３２を外側にして防湿剤を塗布する目的は、基板の外側に防湿剤が流れないようにすることであるため、例えば、基板の最外周において第２の吐出手段３２のみを用いて防湿剤を塗布するようにしてもよい。
【００９２】
また、本実施の形態では、基板上の塗布禁止領域以外の領域を塗布領域としたが、そうでなくてもよい。基板上に塗布禁止領域と、塗布領域との両方をユーザが設定できるようにしてもよい。その場合には、塗布禁止領域に隣接する塗布領域においては、第２の吐出手段３２が塗布禁止領域側を塗布するように軌跡情報を設定することになる。
【００９３】
また、狭い塗布領域の塗布を行う場合や、２以上の辺が塗布禁止領域に隣接する塗布領域の塗布を行う場合には、第２の吐出手段３２のみを用いてもよい。また、塗布禁止領域のない場合や、基板の全面を塗布する場合などには、塗布幅の広い第１の吐出手段３１のみを用いてもよい。
【００９４】
また、説明の便宜上、例えば、「上」「下」「左」「右」等の方向を示す用語を用いたが、それらは視線の向きなどに応じて異なりうるものであり、絶対的な方向を示すために用いたものではない。
【００９５】
また、上記実施の形態では、基板塗布装置１がスタンドアロンである場合について説明したが、基板塗布装置１は、スタンドアロンの装置であってもよく、サーバ・クライアントシステムにおけるサーバ装置であってもよい。後者の場合には、表示部や受付部は、通信回線を介して入力を受け付けたり、画像を表示したりしてもよい。
【００９６】
また、上記実施の形態において、各処理または各機能は、単一の装置または単一のシステムによって集中処理されることによって実現されてもよく、あるいは、複数の装置または複数のシステムによって分散処理されることによって実現されてもよい。
【００９７】
また、上記実施の形態において、各構成要素は専用のハードウェアにより構成されてもよく、あるいは、ソフトウェアにより実現可能な構成要素については、プログラムを実行することによって実現されてもよい。例えば、ハードディスクや半導体メモリ等の記録媒体に記録されたソフトウェア・プログラムをＣＰＵ等のプログラム実行部が読み出して実行することによって、各構成要素が実現され得る。なお、上記実施の形態における基板塗布装置を実現するソフトウェアは、以下のようなプログラムである。つまり、このプログラムは、コンピュータを、基板に防湿剤を塗布する基板塗布装置１として機能させるためのプログラムであって、防湿剤を加圧状態で収容する第１の容器と接続され、第１の容器に収容されている防湿剤を基板上に吐出する第１の吐出手段と、防湿剤の吐出幅が第１の吐出手段よりも狭く、防湿剤を加圧状態で収容する第２の容器と接続され、第２の容器に収容されている防湿剤を基板上に吐出する第２の吐出手段と、を有する吐出部と、吐出部と基板とを相対的に３次元方向に移動させ、基板に垂直な軸において、吐出部と基板とを相対的に回転させる移動部とを制御することにより、基板上の防湿剤を塗布する領域である塗布領域に防湿剤を吐出させる制御部として機能させるためのプログラムである。
【００９８】
なお、上記プログラムにおいて、上記プログラムが実現する機能には、ハードウェアでしか実現できない機能は含まれない。例えば、制御部などにおけるモデムやインターフェースカードなどのハードウェアでしか実現できない機能は、上記プログラムが実現する機能には少なくとも含まれない。
【００９９】
また、このプログラムは、サーバなどからダウンロードされることによって実行されてもよく、所定の記録媒体（例えば、ＣＤ−ＲＯＭなどの光ディスクや磁気ディスク、半導体メモリなど）に記録されたプログラムが読み出されることによって実行されてもよい。また、このプログラムは、プログラムプロダクトを構成するプログラムとして用いられてもよい。
【０１００】
また、このプログラムを実行するコンピュータは、単数であってもよく、複数であってもよい。すなわち、集中処理を行ってもよく、あるいは分散処理を行ってもよい。
【０１０１】
図１１は、上記プログラムを実行して、上記実施の形態による基板塗布装置１を実現するコンピュータシステム９００の内部構成を示す図である。図１１において、コンピュータシステム９００は、コンピュータ９０１と、キーボード９０２と、マウス９０３と、モニタ９０４とを備える。コンピュータ９０１は、ＣＤ−ＲＯＭドライブ９０５と、ＦＤ（Ｆｌｏｐｐｙ（登録商標） Ｄｉｓｋ）ドライブ９０６と、ＭＰＵ（Ｍｉｃｒｏ Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ Ｕｎｉｔ）９１１と、ブートアッププログラム等のプログラムを記憶するためのＲＯＭ９１２と、ＭＰＵ９１１に接続され、アプリケーションプログラムの命令を一時的に記憶すると共に、一時記憶空間を提供するＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ Ａｃｃｅｓｓ Ｍｅｍｏｒｙ）９１３と、アプリケーションプログラム、システムプログラム、及びデータを記憶するハードディスク９１４と、ＭＰＵ９１１、ＲＯＭ９１２等を相互に接続するバス９１５とを備える。なお、コンピュータ９０１は、ＬＡＮへの接続を提供する図示しないネットワークカードを含んでいてもよい。
【０１０２】
コンピュータシステム９００に、上記実施の形態による基板塗布装置１の機能を実行させるプログラムは、ＣＤ−ＲＯＭ９２１、またはＦＤ９２２に記憶されて、ＣＤ−ＲＯＭドライブ９０５、またはＦＤドライブ９０６に挿入され、ハードディスク９１４に転送されてもよい。これに代えて、そのプログラムは、図示しないネットワークを介してコンピュータ９０１に送信され、ハードディスク９１４に記憶されてもよい。プログラムは実行の際にＲＡＭ９１３にロードされる。なお、プログラムは、ＣＤ−ＲＯＭ９２１やＦＤ９２２、またはネットワークから直接、ロードされてもよい。
【０１０３】
プログラムは、コンピュータ９０１に、上記実施の形態による基板塗布装置１の機能を実行させるオペレーティングシステム（ＯＳ）、またはサードパーティプログラム等を必ずしも含んでいなくてもよい。プログラムは、制御された態様で適切な機能（モジュール）を呼び出し、所望の結果が得られるようにする命令の部分のみを含んでいてもよい。コンピュータシステム９００がどのように動作するのかについては周知であり、詳細な説明は省略する。
【０１０４】
また、本発明は、以上の実施の形態に限定されることなく、種々の変更が可能であり、それらも本発明の範囲内に包含されるものであることは言うまでもない。
【産業上の利用可能性】
【０１０５】
以上より、本発明による基板塗布装置等によれば、防湿剤を広範囲に効率的に塗布することと、塗布禁止領域への防湿剤の侵入を防止することとを両立でき、基板に防湿剤を塗布する装置等として有用である。
【符号の説明】
【０１０６】
１ 基板塗布装置
１１ 撮影画像受付部
１２ 撮影画像記憶部
１３ 撮影画像表示部
１４ 領域情報受付部
１５ 変換部
１６ 軌跡情報記憶部
１７ 第１の容器
１８ 第２の容器
１９ 吐出部
２０ 移動部
２１ 制御部
３１ 第１の吐出手段
３２ 第２の吐出手段
【技術分野】
【０００１】
本発明は、吐出幅の異なる２個の吐出手段を用いて基板に防湿剤を塗布する基板塗布装置等に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、プリント基板等の基板に防湿剤を塗布する装置が開発されている（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００９−１０６９３４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
広い領域に防湿剤を塗布する際には、基板への吐出直後の防湿剤が少し流れるようにすることによって、広範囲に短時間で塗布することができる。しかし、塗布領域の細かい制御はできないため、塗布してはならない領域の近くを塗布することはできない。
【０００５】
一方、吐出直後の防湿剤が流れないように防湿剤を塗布することによって、所望の領域への正確な防湿剤の塗布が可能となる。しかし、この方法は、広範囲に短時間で防湿剤を塗布することには適していない。
【０００６】
本発明は、上記事情に応じてなされたものであり、広範囲に短時間で防湿剤を塗布することができる共に、防湿剤を塗布してはならない領域には、防湿剤が流れていかないようにすることができる基板塗布装置等を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するため、本発明による基板塗布装置は、基板に防湿剤を塗布する基板塗布装置であって、防湿剤を加圧状態で収容する第１の容器と接続され、第１の容器に収容されている防湿剤を基板上に吐出する第１の吐出手段と、防湿剤の吐出幅が第１の吐出手段よりも狭く、防湿剤を加圧状態で収容する第２の容器と接続され、第２の容器に収容されている防湿剤を基板上に吐出する第２の吐出手段と、を有する吐出部と、吐出部と基板とを相対的に３次元方向に移動させ、基板に垂直な軸において、吐出部と基板とを相対的に回転させる移動部と、吐出部及び移動部を制御することにより、基板上の防湿剤を塗布する領域である塗布領域に防湿剤を吐出させる制御部と、を備えたものである。
【０００８】
このような構成により、第１の吐出手段によって広範囲に防湿剤を塗布することができると共に、第２の吐出手段によって細かい防湿剤の塗布の制御が可能となる。また、第１の吐出手段が吐出した防湿剤が、第２の吐出手段が吐出した防湿剤の位置でブロックされるようにすることができ、その結果、防湿剤が無制限に広がることを防止できる。
【０００９】
また、本発明による基板塗布装置では、制御部は、防湿剤の塗布禁止領域に隣接する塗布領域において、第２の吐出手段が塗布禁止領域側を塗布するように制御してもよい。
このような構成により、塗布禁止領域に吐出後の防湿剤が流れていくことを防止することができうる。
【００１０】
また、本発明による基板塗布装置では、（１）第２の容器に収容されている防湿剤は第１の容器に収容されている防湿剤よりも粘度が高い、（２）第２の容器の圧力は第１の容器の圧力よりも低い、（３）第２の容器に収容されている防湿剤は第１の容器に収容されている防湿剤よりも速乾性である、のいずれか１以上の要件を満たしていてもよい。
【００１１】
このような構成により、第２の吐出手段が吐出した防湿剤の方が、第１の吐出手段が吐出した防湿剤よりも広がらないようにすることができ、第１の吐出手段が吐出した防湿剤が、第２の吐出手段が吐出した防湿剤の位置でブロックされるようにすることができる。
【００１２】
また、本発明による基板塗布装置では、前記基板を撮影した画像である撮影画像が記憶される撮影画像記憶部と、前記撮影画像記憶部が記憶している撮影画像を表示する撮影画像表示部と、前記撮影画像表示部が表示した撮影画像上において、防湿剤の塗布禁止領域を示す情報である領域情報を受け付ける領域情報受付部と、前記第２の吐出手段が前記塗布禁止領域側を塗布するように、前記領域情報受付部が受け付けた領域情報を、前記吐出部の軌跡と、防湿剤の吐出の有無とを示す情報である軌跡情報に変換する変換部と、をさらに備え、前記制御部は、前記軌跡情報の示す軌跡及び吐出の有無に応じて防湿剤が塗布されるように制御してもよい。
このような構成により、撮影画像を見ながら防湿剤の塗布禁止領域を指定することができるため、その領域の指定が容易になる。また、そのようにして指定した塗布禁止領域側は、第２の吐出手段によって防湿剤が塗布されることになるため、塗布禁止領域に防湿剤が広がることを防止することができる。
【００１３】
また、本発明による基板塗布方法は、基板に防湿剤を塗布する基板塗布方法であって、防湿剤を加圧状態で収容する第１の容器と接続され、第１の容器に収容されている防湿剤を基板上に吐出する第１の吐出手段と、防湿剤の吐出幅が第１の吐出手段よりも狭く、防湿剤を加圧状態で収容する第２の容器と接続され、第２の容器に収容されている防湿剤を基板上に吐出する第２の吐出手段とを有する吐出部と基板とを相対的に３次元方向に移動させ、基板に垂直な軸において、吐出部と基板とを相対的に回転させる移動ステップと、移動ステップにより、基板上の防湿剤を塗布する領域である塗布領域を吐出部が移動している際に、吐出部に防湿剤を吐出させる吐出ステップと、を備えたものである。
【発明の効果】
【００１４】
本発明による基板塗布装置等によれば、広範囲に効率よく防湿剤を塗布することができる共に、防湿剤を塗布してはならない領域には、防湿剤が流れていかないようにすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明の実施の形態１による基板塗布装置の構成を示すブロック図
【図２】本実施の形態による吐出部について説明するための模式図
【図３】本実施の形態による吐出部による防湿剤の吐出について説明するための図
【図４】同実施の形態による基板塗布装置の動作を示すフローチャート
【図５】同実施の形態による基板塗布装置の動作を示すフローチャート
【図６】同実施の形態による基板塗布装置の動作を示すフローチャート
【図７】同実施の形態における撮影画像の一例を示す図
【図８】同実施の形態における表示の一例を示す図
【図９】同実施の形態における塗布禁止領域の周囲における軌跡の設定について説明するための図
【図１０】同実施の形態における軌跡情報の一例を示す図
【図１１】上記実施の形態におけるコンピュータシステムの構成の一例を示す図
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、本発明による基板塗布装置について、実施の形態を用いて説明する。なお、以下の実施の形態において、同じ符号を付した構成要素及びステップは同一または相当するものであり、再度の説明を省略することがある。
【００１７】
（実施の形態１）
本発明の実施の形態１による基板塗布装置について、図面を参照しながら説明する。本実施の形態による基板塗布装置は、２個の吐出手段を用いて、基板に防湿剤をコーティングするものである。
【００１８】
図１は、本実施の形態による基板塗布装置１の構成を示すブロック図である。本実施の形態による基板塗布装置１は、撮影画像受付部１１と、撮影画像記憶部１２と、撮影画像表示部１３と、領域情報受付部１４と、変換部１５と、軌跡情報記憶部１６と、第１の容器１７と、第２の容器１８と、吐出部１９と、移動部２０と、制御部２１とを備える。
【００１９】
撮影画像受付部１１は、基板を撮影した画像である撮影画像を受け付け、後述する撮影画像記憶部１２に蓄積する。ここで、基板は、通常、プリント基板であるが、防湿剤の塗布対象となるその他の基板（例えば、半導体基板等）であってもよい。プリント基板は、回路素子等の電子部品が固定され、配線されるための基板であり、回路基板と呼ばれることもある。この撮影画像のデータ形式は問わない。撮影画像は、例えば、ＪＰＥＧのデータであってもよく、ＲＡＷやＴＩＦＦのデータであってもよい。また、撮影画像受付部１１は、撮影画像（イメージデータ）と共に、その撮影画像上における寸法と、実際の基板の寸法とを対応付ける縮尺情報をも受け付けてもよく、そうでなくてもよい。縮尺情報とは、撮影画像での寸法（例えば、ピクセル数で記述されてもよく、ミリメートルによって記述されてもよい）と、実際の基板上での寸法（例えば、ミリメートルによって記述される）とを対応付けることができる情報（両長さを換算可能な情報）であれば、その内容を問わない。例えば、縮尺情報は、寸法の比率を示す情報であってもよく、撮影画像の縦の寸法や横の寸法に応じた基板の実寸を示す情報であってもよい。
【００２０】
撮影画像受付部１１は、例えば、撮影デバイス（例えば、デジタルカメラなど）から入力された撮影画像を受け付けてもよく、有線もしくは無線の通信回線を介して送信された撮影画像を受信してもよく、所定の記録媒体（例えば、光ディスクや磁気ディスク、半導体メモリなど）から読み出された撮影画像を受け付けてもよい。なお、撮影画像受付部１１は、受け付けを行うためのデバイス（例えば、モデムやネットワークカードなど）を含んでもよく、あるいは含まなくてもよい。また、撮影画像受付部１１は、ハードウェアによって実現されてもよく、あるいは所定のデバイスを駆動するドライバ等のソフトウェアによって実現されてもよい。
【００２１】
撮影画像記憶部１２では、基板を撮影した画像である撮影画像が記憶される。この撮影画像は、撮影画像受付部１１が蓄積したものである。撮影画像記憶部１２での記憶は、ＲＡＭ等における一時的な記憶でもよく、あるいは、長期的な記憶でもよい。撮影画像記憶部１２は、所定の記録媒体（例えば、半導体メモリや磁気ディスク、光ディスクなど）によって実現されうる。
【００２２】
撮影画像表示部１３は、撮影画像記憶部１２が記憶している撮影画像を表示する。なお、撮影画像表示部１３は、それらの表示を行う表示デバイス（例えば、ＣＲＴや液晶ディスプレイなど）を含んでもよく、あるいは含まなくてもよい。また、撮影画像表示部１３は、撮影画像を、表示デバイスを有する装置に送信するものであってもよい。また、撮影画像表示部１３は、ハードウェアによって実現されてもよく、あるいは表示デバイスや通信デバイスを駆動するドライバ等のソフトウェアによって実現されてもよい。本実施の形態では、撮影画像表示部１３は、外部のディスプレイに撮影画像を表示するものとする。
【００２３】
領域情報受付部１４は、撮影画像表示部１３が表示した撮影画像上において、領域情報を受け付ける。領域情報は、防湿剤を塗布してはならない領域、すなわち、防湿剤の塗布禁止領域を示す情報である。領域情報の示す領域は、通常、矩形の領域であるが、そうでなくてもよい。その矩形の領域は、例えば、その矩形の対角点を指定することによって特定されてもよい。例えば、基板上において、他の装置等と接続する必要のある素子（例えば、コネクタや入力端子、出力端子）等の領域が塗布禁止領域となる。また、基板において、塗布禁止領域以外の全ての領域は、防湿剤を塗布する領域である塗布領域となる。また、撮影画像における領域（すなわち、撮影画像の座標系で記述される領域）を示す情報をも、基板における領域（すなわち、基板の座標系で記述される領域）を示す情報をも領域情報と呼ぶことにする。後述するように、両者は変換可能であるため、実質的には同じ情報だからである。なお、本実施の形態では、領域情報受付部１４は、撮影画像における領域を示す領域情報を受け付け、その領域情報を、基板における領域を示す領域情報に変換するものとする。また、この撮影画像における領域を示す領域情報を、基板における領域を示す領域情報に変換する処理は、別途、後述する変換部１５による変換の処理の前に行われてもよい。また、領域情報受付部１４は、撮影画像の任意の点に対応する基板上の点を特定することができる情報を受け付けてもよい。その情報は、例えば、前述の縮尺情報と、点対応情報とを含んでいてもよい。また、その情報には、撮影画像と、基板との向きを合わせるための情報（例えば、撮影画像を時計回りに９０度回転させると、基板と同じ向きになるなどの情報）が含まれていてもよく、含まれていなくてもよい。ここで、点対応情報は、撮影画像上の少なくとも１点と、その点に対応する基板上の点とを対応付ける情報である。この点対応情報によって、撮影画像と基板との少なくとも１点の対応がとられることになるため、その点と、縮尺情報とを用いることによって、撮影画像上の任意の点に対応する基板上の点を特定することができるようになる。なお、撮影画像受付部１１が縮尺情報をすでに受け付けている場合には、領域情報受付部１４は、その縮尺情報を受け付けなくてもよい。また、撮影画像の任意の点に対応する基板上の点を特定することができる情報は、領域情報に含まれると考えてもよく、そうでなくてもよい。
【００２４】
領域情報受付部１４は、例えば、入力デバイス（例えば、キーボードやマウス、タッチパネルなど）から入力された領域情報を受け付けてもよい。この場合には、例えば、領域情報受付部１４は、マウス等で受け付けた表示画面上のスクリーン座標上の領域を、撮影画像上の領域に変換することによって、撮影画像上の領域に関する情報を受け付けることができる。また、本実施の形態では、前述のように、領域情報受付部１４は、撮影画像の任意の点に対応する基板上の点を特定することができる情報を用いることによって、撮影画像における領域を示す領域情報を、基板における領域を示す領域情報に変換するものとする。なお、これらの方法はすでに公知であり、その詳細な説明を省略する。また、撮影画像表示部１３が撮影画像を送信するものである場合には、領域情報受付部１４は、有線もしくは無線の通信回線を介して送信された領域情報を受信してもよく、所定の記録媒体（例えば、光ディスクや磁気ディスク、半導体メモリなど）から読み出された情報を受け付けてもよい。なお、領域情報受付部１４は、受け付けを行うためのデバイス（例えば、モデムやネットワークカードなど）を含んでもよく、あるいは含まなくてもよい。また、領域情報受付部１４は、ハードウェアによって実現されてもよく、あるいは所定のデバイスを駆動するドライバ等のソフトウェアによって実現されてもよい。
【００２５】
変換部１５は、領域情報受付部１４が受け付けた領域情報を、後述する第２の吐出手段３２が塗布禁止領域側を塗布するように、軌跡情報に変換する。軌跡情報とは、後述する吐出部１９の軌跡と、防湿剤の吐出の有無とを示す情報である。なお、その変換の際に、撮影画像の任意の点に対応する基板上の点を特定することができる前述の情報を用いて、変換を行ってもよい。軌跡情報は、基板に対応した座標系での吐出部１９の位置を示す情報である。
【００２６】
領域情報を軌跡情報に変換する方法について、簡単に説明する。まず、塗布禁止領域の周囲の領域に対応する軌跡情報を生成する場合について説明する。矩形の塗布禁止領域の４つの辺のそれぞれに隣接する４つの帯状の領域を設定する。各帯状の領域の長さ方向の一辺は、塗布禁止領域のいずれかの辺と一致するものとする（なお、一致する代わりに、塗布禁止領域のいずれかの辺と平行であって、その辺よりも少しだけ外側に位置してもよい）。また、各帯状の領域の幅は一定であり、その幅は、後述する吐出部１９の吐出幅に対応しているものとする。また、その各帯状の領域において、変換部１５は、各帯状の領域の一方の端点を始点として、他方の端点を終点として、帯状の領域の塗布禁止領域の辺の側が後述する第２の吐出手段３２の側となり、帯状の領域の塗布禁止領域と反対の辺の側が後述する第１の吐出手段３１の側となり、帯状の領域の長さ方向（塗布禁止領域の辺の長さ方向）が吐出部１９の走査方向となるように、始点から終点まで防湿剤を吐出しながら移動する軌跡情報を生成する。また、変換部１５は、ある帯状の領域の終点から、次の帯状の領域の始点まで、防湿剤を吐出しないで移動するための軌跡情報を生成する。このようにして、ある塗布禁止領域の周囲の領域に対応する軌跡情報を生成することができる。この処理を、全ての塗布禁止領域について行うことによって、全ての塗布禁止領域の周囲に関する軌跡情報を生成できる。なお、塗布禁止領域の４つの辺のいずれかの部分が、他の塗布禁止領域にかかっている場合には、その部分については、軌跡情報を生成しなくてもよい。また、塗布禁止領域の４つの辺のいずれかの部分が、基板の周囲と一致する場合には、その部分についても、軌跡情報を生成しなくてもよい。
【００２７】
次に、塗布禁止領域の周囲以外の領域に対応する軌跡情報を生成する場合について説明する。塗布禁止領域の周囲以外の領域に対応する軌跡情報の生成は、塗布禁止領域の周囲に関する軌跡情報を生成した後に行う。すなわち、変換部１５は、基板上の領域であって、塗布禁止領域以外の領域であって、塗布禁止領域の周囲の帯状の領域以外の領域に対して軌跡情報を生成する。具体的には、変換部１５は、基板上の領域であって、塗布禁止領域でなく、塗布禁止領域の周囲の帯状の領域でない領域を１以上の帯状の領域に分割する。その帯状の領域の幅は一定であり、その幅は、後述する第１の吐出手段３１の吐出幅に対応しているものとする。塗布禁止領域の周囲以外は、第１の吐出手段３１のみで防湿剤の塗布を行うからである。変換部１５は、各帯状の領域の一方の端点を始点として、他方の端点を終点として、帯状の領域の長さ方向が吐出部１９の走査方向となるように、始点から終点まで防湿剤を吐出しながら移動する軌跡情報を生成する。また、変換部１５は、ある帯状の領域の終点から、次の帯状の領域の始点まで、防湿剤を吐出しないで移動するための軌跡情報を生成する。
【００２８】
また、変換部１５は、塗布禁止領域の周囲の領域における最後の終点から、塗布禁止領域でなく、塗布禁止領域の周囲の領域でもない領域における最初の始点まで、防湿剤を吐出しないで移動するための軌跡情報を生成してもよい。また、変換部１５は、塗布領域に対応する軌跡情報を設定した場合に、その塗布領域を示す情報を一時的に記憶し、新たな軌跡情報を設定する場合には、その一時的に記憶している塗布領域と重ならないように、塗布領域に対応する軌跡情報を設定するようにしてもよい。このようにすることで、同じ領域に防湿剤を重ねて塗布することを回避できる。また、変換部１５は、軌跡情報によって示される吐出部１９の軌跡が最短距離となるように、領域情報を軌跡情報に変換してもよい。また、変換部１５は、生成した軌跡情報を後述する軌跡情報記憶部に蓄積する。
【００２９】
軌跡情報記憶部１６では、軌跡情報が記憶される。この軌跡情報は、変換部１５によって領域情報から変換されたものである。軌跡情報記憶部１６での記憶は、ＲＡＭ等における一時的な記憶でもよく、あるいは、長期的な記憶でもよい。軌跡情報記憶部１６は、所定の記録媒体（例えば、半導体メモリや磁気ディスク、光ディスクなど）によって実現されうる。
【００３０】
第１の容器１７は、防湿剤を加圧状態で収容する。この第１の容器１７の内気圧は、調整可能であることが好適である。
第２の容器１８は、防湿剤を加圧状態で収容する。この第２の容器１８の内気圧は、第１の容器１７の内気圧と独立して調整可能であることが好適である。
なお、第１の容器１７及び第２の容器１８については、防湿剤等の粘性流体を塗布する装置においてすでに公知であり、その詳細な説明を省略する。
【００３１】
吐出部１９は、図２で示されるように、第１の吐出手段３１と、第２の吐出手段３２とを有する。第１の吐出手段３１は、第１の容器１７と第１の流体通路３３で接続され、その第１の容器１７に収容されている防湿剤を基板上に吐出するものである。また、第２の吐出手段３２は、第２の容器１８と第２の流体通路３４で接続され、その第２の容器１８に収容されている防湿剤を基板上に吐出するものである。なお、第２の吐出手段３２は、防湿剤の吐出幅が第１の吐出手段３１よりも狭いものである。すなわち、第１の吐出手段３１の方が、第２の吐出手段３２よりも広い範囲に防湿剤を吐出するものである。また、第１の吐出手段３１は、点状に防湿剤を吐出した際に、吐出された防湿剤が略楕円形状になる楕円ノズルである。また、第２の吐出手段３２は、点状に防湿剤を吐出した際に、吐出された防湿剤が略楕円形状または略円盤形状になるノズルである。なお、防湿剤の吐出幅とは、通常、防湿剤の吐出のための走査方向に直交する方向の幅のことである。第１の吐出手段３１の場合には、例えば、楕円形状の長手方向の長さが幅になる。吐出幅の広いノズルや、吐出幅の狭いノズルはすでに公知であり、それらの説明を省略する。第１の吐出手段３１は、幅広く防湿剤を吐出することができるように、図２で示されるように、扇形状に防湿剤を塗布するものであってもよい。また、第１の吐出手段３１や第２の吐出手段３２による防湿剤の吐出は、間欠的なものであってもよい。防湿剤を塗布する幅に応じて、その間欠周波数を変化させてもよい。すなわち、広い幅で塗布する場合には、間欠周波数を高くして吐出量を多くし、狭い幅で塗布する場合には、間欠周波数を低くして吐出量を少なくしてもよい。防湿剤の吐出が間欠制御されることについても、すでに公知であり、その説明を省略する。また、図２で示されるように、第１の吐出手段３１は基板の法線方向から防湿剤を吐出し、第２の吐出手段３２は基板の法線方向から少し傾いた方向から防湿剤を吐出してもよい。また、吐出部１９が回転する場合に、その回転中心の軸は、第１の吐出手段３１のノズルと同軸であってもよく、そうでなくてもよい。本実施の形態では、後者の場合について説明する。吐出部１９が回転することによって、第１の吐出手段３１及び第２の吐出手段３２が一括して回転することになる。
【００３２】
なお、第１及び第２の容器１７，１８で収容されている防湿剤や、第１及び第２の容器１７，１８の内気圧については、次の３個の条件のうち、少なくとも１以上の条件を満たすことが好適である。これらの条件のいずれかが満たされることによって、第２の吐出手段３２から吐出された防湿剤の方が、第１の吐出手段３１から吐出された防湿剤よりも広がらないものとなるからである。
【００３３】
（条件１）第２の容器１８に収容されている防湿剤は、第１の容器１７に収容されている防湿剤よりも粘度が高い。
（条件２）第２の容器１８の圧力は、第１の容器１７の圧力よりも低い。
（条件３）第２の容器１８に収容されている防湿剤は、第１の容器１７に収容されている防湿剤よりも速乾性である。
【００３４】
第１の吐出手段３１は、防湿剤を吐出する単一のノズルを有するものであってもよく、前述の特許文献１のように、複数のノズルを有するものであってもよい。また、第２の吐出手段３２も、防湿剤を吐出する単一のノズルを有するものであってもよく、前述の特許文献１のように、複数のノズルを有するものであってもよい。
【００３５】
移動部２０は、吐出部１９と基板とを相対的に３次元方向に移動させる。また、移動部２０は、基板に垂直な軸において、吐出部１９と基板とを相対的に回転させる。相対的に移動させるとは、吐出部１９を移動させてもよく、基板を移動させてもよく、その両方を移動させてもよい、という意味である。また、相対的に回転させるとは、吐出部１９を回転させてもよく、基板を回転させてもよく、その両方を回転させてもよい、という意味である。本実施の形態では、移動部２０が吐出部１９を移動させ、回転させる場合について説明する。その際の回転中心は、図３（ａ）で示されるように、吐出部１９の吐出幅における中点であるとする。吐出部１９の吐出幅とは、図３（ａ）の第１の吐出領域の左側の端点から、第２の吐出領域の右側の端点までの幅である。吐出部１９の吐出幅は、第１の吐出手段３１の吐出幅と、第２の吐出手段３２の吐出幅と、第１及び第２の吐出領域の隙間の幅とを足したものである。また、３次元方向の移動とは、位置関係の移動であり、基板に平行な平面内での移動（「ｘｙ方向の移動」と呼ぶこともある）と、基板の法線方向に基板に接近し、離間する方向への移動（「ｚ方向の移動」と呼ぶこともある）とを含むものである。また、第１の吐出手段３１と、第２の吐出手段３２とは、移動部２０によって、一体として移動され、回転されるものとする。
【００３６】
制御部２１は、吐出部１９及び移動部２０を制御することにより、基板上の防湿剤を塗布する領域である塗布領域に防湿剤を吐出させる。具体的には、制御部２１は、軌跡情報記憶部１６で記憶されている軌跡情報の示す軌跡に応じて吐出部１９が移動、回転するように移動部２０を制御するものとする。また、制御部２１は、軌跡情報の示す吐出の有無に応じて防湿剤が塗布されるように吐出部１９を制御するものとする。その吐出部１９の制御の際に、制御部２１は、第１の吐出手段３１と、第２の吐出手段３２とを独立して制御してもよく、両者を一緒に制御してもよい。制御部２１は、例えば、第１の吐出手段３１のみに防湿剤を吐出させてもよく、第２の吐出手段３２のみに防湿剤を吐出させてもよく、その両方に防湿剤を吐出させてもよい。軌跡情報を用いた制御は、防湿剤等の粘性流体を塗布する装置においてすでに公知であり、その詳細な説明を省略する。このような制御の結果、制御部２１は、防湿剤の塗布禁止領域に隣接する塗布領域において、第２の吐出手段３２が塗布禁止領域側を塗布するように制御することになる。
【００３７】
なお、撮影画像記憶部１２と、軌跡情報記憶部１６とは、同一の記録媒体によって実現されてもよく、あるいは、別々の記録媒体によって実現されてもよい。前者の場合には、撮影画像を記憶している領域が撮影画像記憶部１２となり、軌跡情報を記憶している領域が軌跡情報記憶部１６となる。
【００３８】
ここで、第１の吐出手段３１及び第２の吐出手段３２から吐出された防湿剤の吐出領域の拡大について図３を用いて説明する。図３（ａ）は、第１の吐出手段３１及び第２の吐出手段３２から一瞬の間だけ吐出された点状の防湿剤の吐出領域を示す図である。第１及び第２の吐出領域は、それぞれ第１及び第２の吐出手段３１，３２によって吐出された防湿剤の領域である。図３（ｂ）は、走査後の吐出領域を示す図である。第１及び第２の吐出手段３１，３２が防湿剤を吐出しながら図中の矢印方向に走査すると、防湿剤の吐出領域が図中の破線で示される領域となる。図３（ｃ）は、防湿剤が塗布されてから所定の時間が経過した後の防湿剤の塗布領域を示すものである。走査後の第１及び第２の吐出領域は、時間の経過と共に拡大する。ただし、前述の条件１〜３の少なくともいずれかが満たされることによって、図３（ｃ）で示されるように、第２の吐出領域の方が、第１の吐出領域よりも拡大しないことになる。また、第１の吐出領域が拡大する際に、第２の吐出領域側への拡大は、第２の吐出領域によって阻止され、反対側ほどには拡大しないことになる。その結果、図３（ｃ）において、第２の吐出領域の右側に塗布禁止領域が存在したとしても、その塗布禁止領域には防湿剤がかからないようにすることができると共に、その反対側については、広範囲を効率よく塗布することができるようになる。なお、第１の吐出手段３１は、広範囲に防湿剤を塗布するものであり、第２の吐出手段３２は、その第１の吐出手段３１が吐出した防湿剤が流れることをブロックするために防湿剤を吐出するものである。したがって、第１の吐出手段３１が吐出する防湿剤は、図３（ｃ）で示されるように、吐出後に時間の経過に応じて広がっていく（流れていく）ものであることが好適である。それに対して、第２の吐出手段３２が吐出する防湿剤は、図３（ｃ）で示されるように、吐出後に広がらない（流れていかない）ものであることが好適である。
【００３９】
次に、本実施の形態による基板塗布装置１の動作について、図４のフローチャートを用いて説明する。
（ステップＳ１０１）撮影画像受付部１１は、撮影画像を受け付けたかどうか判断する。そして、撮影画像を受け付けた場合には、ステップＳ１０２に進み、そうでない場合には、ステップＳ１０３に進む。
【００４０】
（ステップＳ１０２）撮影画像受付部１１は、受け付けた撮影画像を撮影画像記憶部１２に蓄積する。そして、ステップＳ１０１に戻る。
【００４１】
（ステップＳ１０３）撮影画像表示部１３は、撮影画像を表示するかどうか判断する。そして、撮影画像を表示する場合には、ステップＳ１０４に進み、そうでない場合には、ステップＳ１１０に進む。撮影画像表示部１３は、例えば、撮影画像を表示する旨の指示を受け付けた場合に、撮影画像を表示すると判断してもよい。
【００４２】
（ステップＳ１０４）撮影画像表示部１３は、撮影画像記憶部１２から撮影画像を読み出し、その撮影画像を表示する。
【００４３】
（ステップＳ１０５）領域情報受付部１４は、領域情報を受け付けたかどうか判断する。そして、受け付けた場合には、ステップＳ１０６に進み、そうでない場合には、ステップＳ１０７に進む。なお、領域情報受付部１４は、前述のように、撮影画像における領域を示す領域情報を、基板における領域を示す領域情報に変換する処理を行ってもよい。
【００４４】
（ステップＳ１０６）領域情報受付部１４は、受け付けた領域情報を図示しない記録媒体で一時的に記憶する。そして、ステップＳ１０５に戻る。
【００４５】
（ステップＳ１０７）領域情報受付部１４は、領域情報の受け付けを終了するかどうか判断する。そして、領域情報の受け付けを終了する場合には、ステップＳ１０８に進み、そうでない場合には、ステップＳ１０５に戻る。領域情報受付部１４は、例えば、領域情報の入力を終了する旨の情報を受け付けた場合に、領域情報の受け付けを終了すると判断してもよく、軌跡情報への変換を行う旨の指示を受け付けた場合に、領域情報の受け付けを終了すると判断してもよい。
【００４６】
（ステップＳ１０８）変換部１５は、一時的に記憶されている領域情報を軌跡情報に変換する。なお、この処理の詳細については、図５のフローチャートを用いて後述する。
【００４７】
（ステップＳ１０９）変換部１５は、変換後の軌跡情報を軌跡情報記憶部１６に蓄積する。そして、ステップＳ１０１に戻る。
【００４８】
（ステップＳ１１０）制御部２１は、防湿剤の塗布を行うかどうか判断する。そして、防湿剤の塗布を行う場合には、ステップＳ１１１に進み、そうでない場合には、ステップＳ１０１に戻る。制御部２１は、例えば、軌跡情報の蓄積が終了した際に、防湿剤の塗布を行うと判断してもよく、あるいは、防湿剤の塗布を行う旨の指示を受け付けた場合に、防湿剤の塗布を行うと判断してもよい。
【００４９】
（ステップＳ１１１）制御部２１は、軌跡情報記憶部１６で記憶されている軌跡情報を用い、吐出部１９や移動部２０を制御することによって、基板に防湿剤を塗布する。この処理の詳細については、図６のフローチャートを用いて後述する。
【００５０】
なお、図４のフローチャートにおいて、領域情報を軌跡情報に変換した後に、その変換後の軌跡情報を蓄積する場合について説明したが、領域情報を軌跡情報に変換する途中において、順次、軌跡情報を軌跡情報記憶部１６に蓄積していってもよい。また、図４のフローチャートにおいて、電源オフや処理終了の割り込みにより処理は終了する。
【００５１】
図５は、図４のフローチャートにおける軌跡情報への変換の処理（ステップＳ１０８）の詳細を示すフローチャートである。
（ステップＳ２０１）変換部１５は、カウンタｉを１に設定する。
【００５２】
（ステップＳ２０２）変換部１５は、領域情報によって示されるｉ番目の塗布禁止領域が存在するかどうか判断する。そして、存在する場合には、ステップＳ２０３に進み、そうでない場合には、ステップＳ２０５に進む。
【００５３】
（ステップＳ２０３）変換部１５は、そのｉ番目の塗布禁止領域の周囲の領域について、塗布禁止領域側が第２の吐出手段３２によって塗布されるように軌跡を設定する。この軌跡では、防湿剤の吐出が行われるように設定されるものとする。なお、（ｉ−１）番目の塗布禁止領域が存在する場合には、その（ｉ−１）番目の塗布禁止領域の周囲の領域における軌跡の終点から、ｉ番目の塗布禁止領域の周囲の領域における軌跡の始点までの軌跡も同時に設定する。この軌跡では、防湿剤の吐出が行われないように設定されるものとする。また、吐出部１９の始点位置から、１番目の塗布禁止領域の周囲の領域における軌跡の始点までの軌跡を設定してもよい。この軌跡でも、防湿剤の吐出が行われないように設定されるものとする。そのようにして設定した軌跡は、図示しない記録媒体において一時的に記憶されてもよい。
【００５４】
（ステップＳ２０４）変換部１５は、カウンタｉを１だけインクリメントする。そして、ステップＳ２０２に戻る。
【００５５】
（ステップＳ２０５）変換部１５は、塗布禁止領域と、塗布禁止領域の周囲とでない領域が第１の吐出手段３１によって塗布されるように軌跡を設定する。また、最後の塗布禁止領域の周囲の領域における軌跡の終点から、塗布禁止領域の周囲以外の領域における軌跡の始点までの軌跡を設定してもよい。この軌跡でも、防湿剤の吐出が行われないように設定されるものとする。そのようにして設定した軌跡は、図示しない記録媒体において一時的に記憶されてもよい。そして、図４のフローチャートに戻る。なお、図４のフローチャートに戻る際には、その時点における軌跡の終点から、あらかじめ決められている吐出部１９の終点位置までの軌跡を設定してもよい。その軌跡では、防湿剤の吐出が行われないように設定されるものとする。
【００５６】
図６は、図４のフローチャートにおける防湿剤を塗布する処理（ステップＳ１１１）の詳細を示すフローチャートである。
（ステップＳ３０１）制御部２１は、移動部２０を制御することにより、吐出部１９を初期位置に移動させる。その移動の際には、防湿剤の吐出は行われないものとする。
【００５７】
（ステップＳ３０２）制御部２１は、軌跡情報によって示される次の移動において、吐出部１９を回転させる必要があるかどうか判断する。そして、回転させる必要がある場合には、ステップＳ３０３に進み、回転させる必要がない場合には、ステップＳ３０４に進む。
【００５８】
（ステップＳ３０３）制御部２１は、移動部２０を制御することにより、必要な角度だけ吐出部１９を回転させる。
【００５９】
（ステップＳ３０４）制御部２１は、軌跡情報によって示される次の移動において、防湿剤を吐出する必要があるかどうか判断する。そして、防湿剤を吐出する必要がある場合には、ステップＳ３０５に進み、そうでない場合には、ステップＳ３０６に進む。
【００６０】
（ステップＳ３０５）制御部２１は、移動部２０と吐出部１９を制御し、移動先まで吐出部１９を移動させながら、防湿剤を吐出させる。
【００６１】
（ステップＳ３０６）制御部２１は、移動部２０を制御し、移動先まで吐出部１９を移動させる。この場合には、防湿剤の吐出は行われないように制御される。
【００６２】
（ステップＳ３０７）制御部２１は、軌跡情報によって次の移動が示されているかどうか判断する。そして、次の移動が示されている場合には、ステップＳ３０２に戻り、そうでない場合には、軌跡情報で示されるすべての移動が終了したため、図４のフローチャートに戻る。
【００６３】
次に、本実施の形態による基板塗布装置１の動作について、具体例を用いて説明する。この具体例において、基板塗布装置１の第１の容器１７、第２の容器１８、吐出部１９、移動部２０以外の各構成は、パーソナルコンピュータ（ＰＣ）によって実現されるものとする。
【００６４】
まず、基板塗布装置１のユーザは、防湿剤を塗布するプリント基板の写真をデジタルスチルカメラで撮影する。そして、その撮影画像をＰＣに取り込むと、撮影画像受付部１１が、その撮影画像を受け付け、撮影画像記憶部１２に蓄積する（ステップＳ１０１，Ｓ１０２）。図７は、そのようにして蓄積された撮影画像を示すものである。
【００６５】
その後、ユーザが領域情報を入力する旨の指示を基板塗布装置１に入力したとする。すると、撮影画像表示部１３は、撮影画像を表示するタイミングであると判断し、撮影画像をディスプレイに表示する（ステップＳ１０３，Ｓ１０４）。その表示の後に、ユーザは、基板の縦及び横の実寸を入力する。その基板の大きさの情報は領域情報受付部１４で受け付けられ、図示しない記録媒体で一時的に記憶される（ステップＳ１０５，Ｓ１０６）。また、ユーザは、表示された撮影画像において、基板に対応する領域を矩形で囲むことによって、トリミングを行う。そして、そのトリミング後の撮影画像を用いて、領域情報の設定が行われることになる。なお、この具体例では、基板の所定の頂点（図７で示される基板の左下の頂点であるとする）と、ディスプレイに表示される撮影画像の左下の頂点とが対応する点であるとする。また、その基板上の所定の頂点が、基板上の座標系における原点であるとする。なお、その原点に対して、図７の右向きがｘ軸であり、上向きがｙ軸であるとする。したがって、その頂点の対応と、トリミング後の撮影画像の縦及び横のピクセル数と、基板の実寸の情報とを用いることにより、ディスプレイ上の撮影画像の任意の点に対応する基板上の座標値を知ることができることになる。
【００６６】
その後、ユーザはマウスを操作することによって、図８で示されるように、撮影画像上において塗布禁止領域（図８の白い矩形の領域）を設定したとする。すると、その塗布禁止領域に対応する領域情報が領域情報受付部１４で受け付けられ、図示しない記録媒体に蓄積される（ステップＳ１０５，Ｓ１０６）。厳密には、その塗布禁止領域に対応するスクリーン座標（ディスプレイに表示されている表示画面上の座標）が取得され、そのスクリーン座標を撮影画像上の座標（この座標をクライアント座標と呼ぶこともある）に変換し、その後、その座標を基板上の座標に変換することによって、領域情報受付部１４は、入力された領域に対応する基板上の座標値を知ることができる。領域情報は、例えば、塗布禁止領域ごとに、その塗布禁止領域を識別する領域ＩＤと、その塗布禁止領域の領域を示す対角点情報であってもよい。対角点情報は、基板上における領域を示す座標値であり、一方の座標値が領域の左下の座標値であり、他方の座標値が領域の右上の座標値である。対角点情報は、例えば、「（ｘ１，ｙ１）（ｘ２，ｙ２）」である。
【００６７】
その後、図８の表示において、ユーザが「ＯＫ」ボタンをクリックすると、領域情報受付部１４は、領域情報の受け付けを終了すると判断し、図示しない記録媒体で記憶されている領域情報を変換部１５に渡す（ステップＳ１０７）。すると、変換部１５は、領域情報を軌跡情報に変換する処理を開始する（ステップＳ１０８）。
【００６８】
具体的には、変換部１５は、領域情報で示される１番目の塗布禁止領域の対角点情報を読み出し、その１番目の塗布禁止領域の周囲に軌跡を設定する（ステップＳ２０１〜Ｓ２０３）。
【００６９】
ここで、ある塗布禁止領域の周囲の領域における軌跡の設定方法について図９を用いて説明する。その塗布禁止領域の対角点情報は、（ｘ１，ｙ１）（ｘ２，ｙ２）であるとする。また、その塗布禁止領域の周囲に設けられる帯状の塗布領域の幅（すなわち、吐出部１９の吐出幅）は、「２ａ」であるとする。また、軌跡は、図３（ａ）で示される回転中心の軌跡であるとする。
【００７０】
まず、変換部１５は、図９の第１の塗布領域に関する軌跡の設定を行うものとする。その軌跡は、（ｘ１，ｙ１−ａ）を始点として、（ｘ２，ｙ１−ａ）を終点とするものである。その軌跡では、防湿剤の吐出を行うように設定する。なお、その第１の塗布領域では、上側を第２の吐出手段３２によって塗布するため、吐出部１９の角度θを１８０°に設定する。なお、この具体例では、角度の単位は度（ｄｅｇ）であるとする。また、吐出部１９の角度θは、図９において、第１の吐出手段３１が上側であり、第２の吐出手段３２が下側となる場合がθ＝０°であり、その状態から時計回りに角度が設定されているものとする。したがって、角度θの範囲は、０≦θ＜３６０°となる。
【００７１】
次に、変換部１５は、図９の第２の塗布領域に関する軌跡の設定を行うものとする。変換部１５は、まず、第１の塗布領域の終点から第２の塗布領域の始点までの軌跡を設定する。その軌跡では、防湿剤の吐出を行わないように設定する。また、その軌跡での吐出部１９の角度は問わない。次に、変換部１５は、第２の塗布領域の軌跡を設定する。その軌跡は、（ｘ２＋ａ，ｙ１）を始点として、（ｘ２＋ａ，ｙ２）を終点とするものである。その軌跡では、防湿剤の吐出を行うように設定する。また、その第２の塗布領域では、左側を第２の吐出手段３２によって塗布するため、吐出部１９の角度θを９０°に設定する。
【００７２】
次に、変換部１５は、図９の第３の塗布領域に関し、第２の塗布領域の終点から第３の塗布領域の始点までの防湿剤を吐出しない軌跡と、第３の塗布領域の始点（ｘ２，ｙ２＋ａ）から終点（ｘ１，ｙ２＋ａ）までの防湿剤を吐出する軌跡であって、角度が０°である軌跡とを設定する。最後に、変換部１５は、図９の第４の塗布領域に関し、第３の塗布領域の終点から第４の塗布領域の始点までの防湿剤を吐出しない軌跡と、第４の塗布領域の始点（ｘ１−ａ，ｙ２）から終点（ｘ１−ａ，ｙ１）までの防湿剤を吐出する軌跡であって、角度が２７０°である軌跡とを設定する。
【００７３】
このようにして、変換部１５は、図示しない記録媒体で記憶されている領域情報で示される塗布禁止領域の周囲の領域に対応する軌跡を設定する（ステップＳ２０２〜Ｓ２０４）。なお、その塗布禁止領域の周囲の領域に対応する軌跡の設定において、ある塗布禁止領域の周囲の塗布領域が、他の塗布禁止領域と重なる場合や、すでに軌跡の設定を行った他の塗布禁止領域の周囲の塗布領域と重なる場合には、その領域について塗布領域の設定を行わず、軌跡の設定を行わなくてもよい。また、ある塗布禁止領域の周囲の領域における軌跡の終点から、次の塗布禁止領域の周囲の領域における軌跡の始点までの軌跡も設定する。
【００７４】
その後、変換部１５は、基板上の塗布禁止領域でもなく、その周囲の塗布領域でもない領域について、軌跡の設定を行う（ステップＳ２０５）。この領域は、第１の吐出手段３１のみによって塗布されるものである。第１の吐出手段３１による吐出幅が「ｂ」であるとすると、変換部１５は、基板上の塗布禁止領域でもなく、その周囲の塗布領域でもない領域を、幅がｂである帯状の領域に分割し、その帯状の領域のそれぞれについて、一端から他端までの軌跡を設定する。この軌跡では、防湿剤を吐出するものとする。また、その軌跡での角度は、その帯状の領域の角度に応じて決定される。例えば、その帯状の領域の長さ方向の角度がφである場合には、吐出部１９の角度θはφ＋９０°、あるいは、φ＋２７０°となる。また、変換部１５は、ある帯状の領域における終点から、次の帯状の領域の始点までの軌跡も設定する。その軌跡では、防湿剤を吐出しないものとする。なお、幅がｂである帯状の領域を設定する対象となる領域の幅が、幅「ｂ」の整数倍であればよいが、そうでない場合もある。その場合には、幅「ｂ」に満たない幅の領域を、例えば、塗布の幅が可変であるのであれば、その領域の幅に合わせた塗布の幅で防湿剤を塗布してもよく、塗布の幅が可変でない場合には、それまでに塗布した領域と重なるようにして塗布してもよく、第２の吐出手段３２のみを用いて塗布してもよく、吐出部１９の角度を調整することによって、その幅になるように調整して塗布してもよい。そのようにして生成された軌跡情報は、軌跡情報記憶部１６に蓄積される（ステップＳ１０９）。
【００７５】
そのようにして蓄積された軌跡情報は、図１０で示されるようになる。図１０において、各レコードを識別するＩＤと、吐出部１９の位置を示す基板上の座標（ｘ，ｙ）と、吐出部１９の角度θと、防湿剤の吐出の有無を示す吐出フラグとが対応付けられている。吐出フラグが「０」の場合には防湿剤の吐出を行わず、吐出フラグが「１」の場合には防湿剤の吐出を行うものとする。図１０の軌跡情報のＩＤ「０」のレコードによって、吐出部１９は、角度θ＝０°で、防湿剤の吐出なしに、基板上の（ａ１，ｂ１）に移動することが示される。また、ＩＤ「１」のレコードによって、位置（ａ１，ｂ１）から、位置（ｘ１，ｙ１−ａ）まで、角度θ＝０°で、防湿剤の吐出なしに移動することが示される。また、ＩＤ「２」のレコードによって、位置（ｘ１，ｙ１−ａ）から、位置（ｘ２，ｙ１−ａ）まで、角度θ＝１８０°で、防湿剤を吐出しながら移動することが示される。
【００７６】
軌跡情報の設定が完了すると、制御部２１は、防湿剤の塗布を開始すると判断し（ステップＳ１１０）、防湿剤を基板に塗布するための制御を行う（ステップＳ１１１）。具体的には、制御部２１は、まず、移動部２０を制御することによって、吐出部１９をあらかじめ設定されている初期位置に移動させる（ステップＳ３０１）。
【００７７】
次に、制御部２１は、図１０の軌跡情報のＩＤ「０」のレコードを読み出す。そして、それに応じて、吐出部１９及び移動部２０を制御する。すなわち、読み出したレコードの示す角度が「０度」であるため、制御部２１は、吐出部１９の角度が０度でない場合には、回転が必要であると判断して、移動部２０を制御することによって吐出部１９の角度を０度に回転させ、吐出部１９の角度が０度である場合には、回転が不要であると判断して、回転に関する処理を行わない（ステップＳ３０２，Ｓ３０３）。また、読み出したレコードの吐出フラグが「０」であるため、制御部２１は、防湿剤の吐出が必要ないと判断する（ステップＳ３０４）。そして、読み出したレコードの座標（ｘ、ｙ）が（ａ１，ｂ１）であるため、制御部２１は移動部２０と吐出部１９とを制御して、吐出部１９をその位置に、防湿剤の吐出なしに移動させる（ステップＳ３０６）。その移動の際の吐出部１９の角度は０度である。このように、吐出部１９は、第２の吐出手段３２が防湿剤を吐出したとすれば、その端点が（ａ１，ｂ１）となる位置に移動されたことになる。
【００７８】
次に、制御部２１は、図１０の軌跡情報の次のレコード、すなわち、ＩＤ「１」のレコードを読み出す（ステップＳ３０７）。そして、それに応じて、吐出部１９及び移動部２０を制御する。すなわち、読み出したレコードの示す角度が「０度」であり、前のレコードの角度と同じであるため、制御部２１は、回転が不要であると判断する（ステップＳ３０２）。また、読み出したレコードの吐出フラグが「０」であるため、制御部２１は、防湿剤の吐出が必要ないと判断する（ステップＳ３０４）。そして、読み出したレコードの座標が（ｘ１，ｙ１−ａ）であるため、制御部２１は移動部２０と吐出部１９とを制御して、吐出部１９をその位置に、防湿剤の吐出なしに移動させる（ステップＳ３０６）。
【００７９】
次に、制御部２１は、図１０の軌跡情報の次のレコード、すなわち、ＩＤ「２」のレコードを読み出す（ステップＳ３０７）。そして、それに応じて、吐出部１９及び移動部２０を制御する。すなわち、読み出したレコードの示す角度が「１８０度」であり、前のレコードの角度と異なるため、制御部２１は、回転が必要であると判断して、移動部２０を制御することによって吐出部１９の角度を１８０度に回転させる（ステップＳ３０２，Ｓ３０３）。また、読み出したレコードの吐出フラグが「１」であるため、制御部２１は、防湿剤の吐出が必要であると判断する（ステップＳ３０４）。そして、読み出したレコードの座標が（ｘ２，ｙ１−ａ）であるため、制御部２１は移動部２０と吐出部１９とを制御して、吐出部１９をその位置に、防湿剤を吐出させながら移動させる（ステップＳ３０５）。その結果、図９の第１の塗布領域に対応する領域に防湿剤を塗布することができる。また、その塗布された領域のうち、塗布禁止領域の側は第２の吐出手段３２によって塗布されるため、塗布領域の塗布禁止領域側の外縁に、流れにくい防湿剤を塗布して縁取りをすることができ、隣接する塗布禁止領域に防湿剤が流れていくことを防止することができる。
【００８０】
このようにして、軌跡情報の各レコードに応じた吐出部１９の移動や回転、防湿剤の吐出が行われることになり、順次、設定された塗布領域に防湿剤が塗布されていくことになる（ステップＳ３０２〜Ｓ３０７）。
【００８１】
なお、この具体例では、軌跡情報にｘｙ方向の位置に関する情報のみが含まれており、基板の法線方向、すなわちｚ方向の位置に関する情報が含まれていなかったが、その情報をも含むようにしてもよい。ｚ方向の位置は、例えば、基本的に基板から一定の高さ（例えば、５ｍｍや１０ｍｍなど）に設定しておき、基板上の背の高い回路素子等に応じて、適宜、手動で変更するようにしてもよい。なお、軌跡情報にｚ方向の移動に関する情報が含まれていない場合には、ｚ方向の位置は、あらかじめ決められた位置であってもよい。
【００８２】
また、この具体例では、塗布禁止領域の周囲の領域以外において防湿剤の吐出を行う際には、第１の吐出手段３１のみを用いる場合についてのみ説明したが、そうでなくてもよい。塗布禁止領域の周囲の領域以外でも、第１の吐出手段３１と第２の吐出手段３２との両方を用いて防湿剤の吐出を行ってもよく、第２の吐出手段３２のみを用いて防湿剤の吐出を行ってもよい。また、第１の吐出手段３１と第２の吐出手段３２とを切り替えて防湿剤の吐出を行う場合には、軌跡情報の各レコードに、どちらの吐出手段を用いて防湿剤を吐出するのかを示す情報が含まれていてもよい。また、防湿剤の吐出幅が可変である場合にも、軌跡情報の各レコードに、その吐出幅を示す情報が含まれていてもよい。
【００８３】
また、この具体例では、吐出部１９を吐出幅に直交する方向に走査する場合について説明したが、細かい箇所を塗布する場合には、吐出幅の方向に走査させながら防湿剤を吐出してもよい。そのようにすることで、細かい箇所の塗布を行うことができると共に、防湿剤の厚塗りを行うこともできる。
【００８４】
また、この具体例で説明した領域情報を軌跡情報に変換する方法は単なる一例であり、これ以外の方法を用いてもよいことは言うまでもない。例えば、防湿剤の塗布対象となる各領域をあらかじめ複数の帯状の領域に分割し、その分割後の複数の帯状の領域の端点をつなぐことによって、最短の経路で防湿剤を塗布することができるように軌跡情報を生成してもよい。その場合でも、塗布禁止領域側は第２の吐出手段３２によって塗布されるように軌跡情報を生成するものとする。
【００８５】
また、この具体例では、吐出部１９の吐出幅における中点を回転中心とし、また軌跡情報において、その中点の軌跡を示す場合について説明したが、回転中心は他の点であってもよい。また、軌跡情報において軌跡を示す位置も、他の点であってもよい。また、回転中心と、軌跡情報において軌跡を示す位置も異なっていてもよい。
【００８６】
以上のように、本実施の形態による基板塗布装置１によれば、２個の吐出手段、すなわち、第１の吐出手段３１と、第２の吐出手段３２とを用いて防湿剤を塗布するため、防湿剤を広範囲に効率的に塗布することと、塗布禁止領域への防湿剤の侵入を防止することとを両立することができる。また、基板の撮影画像を用いて塗布禁止領域を設定することができるため、撮影画像なしにそれらの設定を行う場合よりも作業性よくそれらの設定を行うことができる。
【００８７】
なお、本実施の形態では、撮影画像受付部１１が撮影画像を受け付けて撮影画像記憶部１２に蓄積する場合について説明したが、そうでなくてもよい。例えば、撮影画像記憶部１２自体が、着脱可能な記録媒体である場合には、撮影画像を記憶している着脱可能な記録媒体が基板塗布装置１に装着されることによって、撮影画像を記憶している撮影画像記憶部１２が実現されてもよい。その場合には、基板塗布装置１は、撮影画像受付部１１を備えていなくてもよい。
【００８８】
また、本実施の形態では、領域情報を受け付け、その領域情報を軌跡情報に変換し、その軌跡情報を用いて防湿剤の塗布を行う場合について説明したが、そうでなくてもよい。すなわち、基板塗布装置１は、軌跡情報やＣＡＤデータ等に応じて、防湿剤の塗布を行うものであってもよく、オペレータによる操作に応じて防湿剤の塗布を行うものであってもよい。ただし、その軌跡情報やＣＡＤデータ等においても、第２の吐出手段３２が防湿剤を塗布する側を指定することができるようになっているものとする。その指定は、例えば、前述の具体例のように、吐出部１９の角度を指定することによって間接的になされるものであってもよい。そのように、軌跡情報の生成等の処理を行わない場合には、基板塗布装置１は、撮影画像受付部１１、撮影画像記憶部１２、撮影画像表示部１３、領域情報受付部１４、変換部１５を備えていなくてもよい。また、軌跡情報を用いない場合には、基板塗布装置１は、軌跡情報記憶部１６を備えていなくてもよい。
【００８９】
また、本実施の形態では、基板塗布装置１が第１の容器１７及び第２の容器１８を備えている場合について説明したが、そうでなくてもよい。基板塗布装置１は、第１の容器１７、第２の容器１８を備えておらず、装置外に存在する第１の容器１７、第２の容器１８から供給される防湿剤を吐出部１９が吐出するものであってもよい。
【００９０】
また、本実施の形態では、吐出部１９が第１の吐出手段３１と第２の吐出手段３２とを備える場合について説明したが、吐出部１９は、３個以上の吐出手段を備えていてもよい。その場合であっても、そのうちの２個の吐出手段は、本実施の形態における第１の吐出手段３１と、第２の吐出手段３２と同様のものであるとする。
【００９１】
また、本実施の形態において、基板の外側を塗布禁止領域に設定し、基板の外周についても、外側が第２の吐出手段３２で塗布されるようにしてもよい。基板の外周において第２の吐出手段３２を外側にして防湿剤を塗布する目的は、基板の外側に防湿剤が流れないようにすることであるため、例えば、基板の最外周において第２の吐出手段３２のみを用いて防湿剤を塗布するようにしてもよい。
【００９２】
また、本実施の形態では、基板上の塗布禁止領域以外の領域を塗布領域としたが、そうでなくてもよい。基板上に塗布禁止領域と、塗布領域との両方をユーザが設定できるようにしてもよい。その場合には、塗布禁止領域に隣接する塗布領域においては、第２の吐出手段３２が塗布禁止領域側を塗布するように軌跡情報を設定することになる。
【００９３】
また、狭い塗布領域の塗布を行う場合や、２以上の辺が塗布禁止領域に隣接する塗布領域の塗布を行う場合には、第２の吐出手段３２のみを用いてもよい。また、塗布禁止領域のない場合や、基板の全面を塗布する場合などには、塗布幅の広い第１の吐出手段３１のみを用いてもよい。
【００９４】
また、説明の便宜上、例えば、「上」「下」「左」「右」等の方向を示す用語を用いたが、それらは視線の向きなどに応じて異なりうるものであり、絶対的な方向を示すために用いたものではない。
【００９５】
また、上記実施の形態では、基板塗布装置１がスタンドアロンである場合について説明したが、基板塗布装置１は、スタンドアロンの装置であってもよく、サーバ・クライアントシステムにおけるサーバ装置であってもよい。後者の場合には、表示部や受付部は、通信回線を介して入力を受け付けたり、画像を表示したりしてもよい。
【００９６】
また、上記実施の形態において、各処理または各機能は、単一の装置または単一のシステムによって集中処理されることによって実現されてもよく、あるいは、複数の装置または複数のシステムによって分散処理されることによって実現されてもよい。
【００９７】
また、上記実施の形態において、各構成要素は専用のハードウェアにより構成されてもよく、あるいは、ソフトウェアにより実現可能な構成要素については、プログラムを実行することによって実現されてもよい。例えば、ハードディスクや半導体メモリ等の記録媒体に記録されたソフトウェア・プログラムをＣＰＵ等のプログラム実行部が読み出して実行することによって、各構成要素が実現され得る。なお、上記実施の形態における基板塗布装置を実現するソフトウェアは、以下のようなプログラムである。つまり、このプログラムは、コンピュータを、基板に防湿剤を塗布する基板塗布装置１として機能させるためのプログラムであって、防湿剤を加圧状態で収容する第１の容器と接続され、第１の容器に収容されている防湿剤を基板上に吐出する第１の吐出手段と、防湿剤の吐出幅が第１の吐出手段よりも狭く、防湿剤を加圧状態で収容する第２の容器と接続され、第２の容器に収容されている防湿剤を基板上に吐出する第２の吐出手段と、を有する吐出部と、吐出部と基板とを相対的に３次元方向に移動させ、基板に垂直な軸において、吐出部と基板とを相対的に回転させる移動部とを制御することにより、基板上の防湿剤を塗布する領域である塗布領域に防湿剤を吐出させる制御部として機能させるためのプログラムである。
【００９８】
なお、上記プログラムにおいて、上記プログラムが実現する機能には、ハードウェアでしか実現できない機能は含まれない。例えば、制御部などにおけるモデムやインターフェースカードなどのハードウェアでしか実現できない機能は、上記プログラムが実現する機能には少なくとも含まれない。
【００９９】
また、このプログラムは、サーバなどからダウンロードされることによって実行されてもよく、所定の記録媒体（例えば、ＣＤ−ＲＯＭなどの光ディスクや磁気ディスク、半導体メモリなど）に記録されたプログラムが読み出されることによって実行されてもよい。また、このプログラムは、プログラムプロダクトを構成するプログラムとして用いられてもよい。
【０１００】
また、このプログラムを実行するコンピュータは、単数であってもよく、複数であってもよい。すなわち、集中処理を行ってもよく、あるいは分散処理を行ってもよい。
【０１０１】
図１１は、上記プログラムを実行して、上記実施の形態による基板塗布装置１を実現するコンピュータシステム９００の内部構成を示す図である。図１１において、コンピュータシステム９００は、コンピュータ９０１と、キーボード９０２と、マウス９０３と、モニタ９０４とを備える。コンピュータ９０１は、ＣＤ−ＲＯＭドライブ９０５と、ＦＤ（Ｆｌｏｐｐｙ（登録商標） Ｄｉｓｋ）ドライブ９０６と、ＭＰＵ（Ｍｉｃｒｏ Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ Ｕｎｉｔ）９１１と、ブートアッププログラム等のプログラムを記憶するためのＲＯＭ９１２と、ＭＰＵ９１１に接続され、アプリケーションプログラムの命令を一時的に記憶すると共に、一時記憶空間を提供するＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ Ａｃｃｅｓｓ Ｍｅｍｏｒｙ）９１３と、アプリケーションプログラム、システムプログラム、及びデータを記憶するハードディスク９１４と、ＭＰＵ９１１、ＲＯＭ９１２等を相互に接続するバス９１５とを備える。なお、コンピュータ９０１は、ＬＡＮへの接続を提供する図示しないネットワークカードを含んでいてもよい。
【０１０２】
コンピュータシステム９００に、上記実施の形態による基板塗布装置１の機能を実行させるプログラムは、ＣＤ−ＲＯＭ９２１、またはＦＤ９２２に記憶されて、ＣＤ−ＲＯＭドライブ９０５、またはＦＤドライブ９０６に挿入され、ハードディスク９１４に転送されてもよい。これに代えて、そのプログラムは、図示しないネットワークを介してコンピュータ９０１に送信され、ハードディスク９１４に記憶されてもよい。プログラムは実行の際にＲＡＭ９１３にロードされる。なお、プログラムは、ＣＤ−ＲＯＭ９２１やＦＤ９２２、またはネットワークから直接、ロードされてもよい。
【０１０３】
プログラムは、コンピュータ９０１に、上記実施の形態による基板塗布装置１の機能を実行させるオペレーティングシステム（ＯＳ）、またはサードパーティプログラム等を必ずしも含んでいなくてもよい。プログラムは、制御された態様で適切な機能（モジュール）を呼び出し、所望の結果が得られるようにする命令の部分のみを含んでいてもよい。コンピュータシステム９００がどのように動作するのかについては周知であり、詳細な説明は省略する。
【０１０４】
また、本発明は、以上の実施の形態に限定されることなく、種々の変更が可能であり、それらも本発明の範囲内に包含されるものであることは言うまでもない。
【産業上の利用可能性】
【０１０５】
以上より、本発明による基板塗布装置等によれば、防湿剤を広範囲に効率的に塗布することと、塗布禁止領域への防湿剤の侵入を防止することとを両立でき、基板に防湿剤を塗布する装置等として有用である。
【符号の説明】
【０１０６】
１ 基板塗布装置
１１ 撮影画像受付部
１２ 撮影画像記憶部
１３ 撮影画像表示部
１４ 領域情報受付部
１５ 変換部
１６ 軌跡情報記憶部
１７ 第１の容器
１８ 第２の容器
１９ 吐出部
２０ 移動部
２１ 制御部
３１ 第１の吐出手段
３２ 第２の吐出手段
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板に防湿剤を塗布する基板塗布装置であって、
防湿剤を加圧状態で収容する第１の容器と接続され、当該第１の容器に収容されている防湿剤を基板上に吐出する第１の吐出手段と、防湿剤の吐出幅が前記第１の吐出手段よりも狭く、防湿剤を加圧状態で収容する第２の容器と接続され、当該第２の容器に収容されている防湿剤を基板上に吐出する第２の吐出手段と、を有する吐出部と、
前記吐出部と前記基板とを相対的に３次元方向に移動させ、前記基板に垂直な軸において、前記吐出部と前記基板とを相対的に回転させる移動部と、
前記吐出部及び前記移動部を制御することにより、前記基板上の防湿剤を塗布する領域である塗布領域に防湿剤を吐出させる制御部と、を備えた基板塗布装置。
【請求項２】
前記制御部は、防湿剤の塗布禁止領域に隣接する塗布領域において、前記第２の吐出手段が当該塗布禁止領域側を塗布するように制御する、請求項１記載の基板塗布装置。
【請求項３】
（１）前記第２の容器に収容されている防湿剤は前記第１の容器に収容されている防湿剤よりも粘度が高い、（２）前記第２の容器の圧力は前記第１の容器の圧力よりも低い、（３）前記第２の容器に収容されている防湿剤は第１の容器に収容されている防湿剤よりも速乾性である、のいずれか１以上の要件を満たしている、請求項１または請求項２記載の基板塗布装置。
【請求項４】
前記基板を撮影した画像である撮影画像が記憶される撮影画像記憶部と、
前記撮影画像記憶部が記憶している撮影画像を表示する撮影画像表示部と、
前記撮影画像表示部が表示した撮影画像上において、防湿剤の塗布禁止領域を示す情報である領域情報を受け付ける領域情報受付部と、
前記第２の吐出手段が前記塗布禁止領域側を塗布するように、前記領域情報受付部が受け付けた領域情報を、前記吐出部の軌跡と、防湿剤の吐出の有無とを示す情報である軌跡情報に変換する変換部と、をさらに備え、
前記制御部は、前記軌跡情報の示す軌跡及び吐出の有無に応じて防湿剤が塗布されるように制御する、請求項１から請求項３のいずれか記載の基板塗布装置。
【請求項５】
コンピュータを、
基板に防湿剤を塗布する基板塗布装置として機能させるためのプログラムであって、
防湿剤を加圧状態で収容する第１の容器と接続され、当該第１の容器に収容されている防湿剤を基板上に吐出する第１の吐出手段と、防湿剤の吐出幅が前記第１の吐出手段よりも狭く、防湿剤を加圧状態で収容する第２の容器と接続され、当該第２の容器に収容されている防湿剤を基板上に吐出する第２の吐出手段と、を有する吐出部と、前記吐出部と前記基板とを相対的に３次元方向に移動させ、前記基板に垂直な軸において、前記吐出部と前記基板とを相対的に回転させる移動部とを制御することにより、前記基板上の防湿剤を塗布する領域である塗布領域に防湿剤を吐出させる制御部として機能させるためのプログラム。
【請求項１】
基板に防湿剤を塗布する基板塗布装置であって、
防湿剤を加圧状態で収容する第１の容器と接続され、当該第１の容器に収容されている防湿剤を基板上に吐出する第１の吐出手段と、防湿剤の吐出幅が前記第１の吐出手段よりも狭く、防湿剤を加圧状態で収容する第２の容器と接続され、当該第２の容器に収容されている防湿剤を基板上に吐出する第２の吐出手段と、を有する吐出部と、
前記吐出部と前記基板とを相対的に３次元方向に移動させ、前記基板に垂直な軸において、前記吐出部と前記基板とを相対的に回転させる移動部と、
前記吐出部及び前記移動部を制御することにより、前記基板上の防湿剤を塗布する領域である塗布領域に防湿剤を吐出させる制御部と、を備えた基板塗布装置。
【請求項２】
前記制御部は、防湿剤の塗布禁止領域に隣接する塗布領域において、前記第２の吐出手段が当該塗布禁止領域側を塗布するように制御する、請求項１記載の基板塗布装置。
【請求項３】
（１）前記第２の容器に収容されている防湿剤は前記第１の容器に収容されている防湿剤よりも粘度が高い、（２）前記第２の容器の圧力は前記第１の容器の圧力よりも低い、（３）前記第２の容器に収容されている防湿剤は第１の容器に収容されている防湿剤よりも速乾性である、のいずれか１以上の要件を満たしている、請求項１または請求項２記載の基板塗布装置。
【請求項４】
前記基板を撮影した画像である撮影画像が記憶される撮影画像記憶部と、
前記撮影画像記憶部が記憶している撮影画像を表示する撮影画像表示部と、
前記撮影画像表示部が表示した撮影画像上において、防湿剤の塗布禁止領域を示す情報である領域情報を受け付ける領域情報受付部と、
前記第２の吐出手段が前記塗布禁止領域側を塗布するように、前記領域情報受付部が受け付けた領域情報を、前記吐出部の軌跡と、防湿剤の吐出の有無とを示す情報である軌跡情報に変換する変換部と、をさらに備え、
前記制御部は、前記軌跡情報の示す軌跡及び吐出の有無に応じて防湿剤が塗布されるように制御する、請求項１から請求項３のいずれか記載の基板塗布装置。
【請求項５】
コンピュータを、
基板に防湿剤を塗布する基板塗布装置として機能させるためのプログラムであって、
防湿剤を加圧状態で収容する第１の容器と接続され、当該第１の容器に収容されている防湿剤を基板上に吐出する第１の吐出手段と、防湿剤の吐出幅が前記第１の吐出手段よりも狭く、防湿剤を加圧状態で収容する第２の容器と接続され、当該第２の容器に収容されている防湿剤を基板上に吐出する第２の吐出手段と、を有する吐出部と、前記吐出部と前記基板とを相対的に３次元方向に移動させ、前記基板に垂直な軸において、前記吐出部と前記基板とを相対的に回転させる移動部とを制御することにより、前記基板上の防湿剤を塗布する領域である塗布領域に防湿剤を吐出させる制御部として機能させるためのプログラム。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図７】
【図８】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図７】
【図８】
【公開番号】特開２０１１−５０８３５（Ｐ２０１１−５０８３５Ａ）
【公開日】平成２３年３月１７日（２０１１．３．１７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−２０１２３７（Ｐ２００９−２０１２３７）
【出願日】平成２１年９月１日（２００９．９．１）
【出願人】（３９００００５９４）株式会社レクザム (64)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年３月１７日（２０１１．３．１７）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年９月１日（２００９．９．１）
【出願人】（３９００００５９４）株式会社レクザム (64)
【Ｆターム（参考）】
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