基板搬送装置及び基板乾燥装置
【課題】基板汚染の原因となるパーティクルを発生させることなく、基板を安定して搬送できるようにする。
【解決手段】基板Ｗを支持するローラ部１８１と、回転軸１８２と、回転軸１８２の一方端側に設けられた第１磁気部材１１とを有する複数の搬送ローラ１８と、各搬送ローラ１８の回転軸１８２の他方端側を回転自在に支持する第１支持部１０１と、第１磁気部材１１に対向する位置に第１磁気部材１１と同一極性の第２磁気部材１３が設けられ、基板搬送方向に直交する方向における基板の中央寄りに配置された各搬送ローラ１８の回転軸１８２の前記一方端側を、第１磁気部材１１と第２磁気部材１３との間の反発力により軸支する第２支持部１０２と、駆動モータとを備え、搬送ローラ１８は第１支持部１０１及び第２支持部１０２に支持され、隣り合う搬送ローラ１８と一定間隔を空けて配置される。
【解決手段】基板Ｗを支持するローラ部１８１と、回転軸１８２と、回転軸１８２の一方端側に設けられた第１磁気部材１１とを有する複数の搬送ローラ１８と、各搬送ローラ１８の回転軸１８２の他方端側を回転自在に支持する第１支持部１０１と、第１磁気部材１１に対向する位置に第１磁気部材１１と同一極性の第２磁気部材１３が設けられ、基板搬送方向に直交する方向における基板の中央寄りに配置された各搬送ローラ１８の回転軸１８２の前記一方端側を、第１磁気部材１１と第２磁気部材１３との間の反発力により軸支する第２支持部１０２と、駆動モータとを備え、搬送ローラ１８は第１支持部１０１及び第２支持部１０２に支持され、隣り合う搬送ローラ１８と一定間隔を空けて配置される。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、並設された複数の搬送ローラにより基板を搬送する基板搬送装置及び当該基板搬送装置を備えた基板乾燥装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、並設された複数の搬送ローラにより基板を搬送する基板搬送装置として、下記特許文献１に示されるように、基板搬送方向に直交する方向に延びる回転軸を有する複数の片持ち式の搬送ローラが、同方向における基板両端部位置に、隣り合う搬送ローラと一定間隔を空けて配置されたものが知られている。この基板搬送装置によれば、基板両端部の下面側に接する上記片持ち式の搬送ローラが回転することで、基板が当該複数の搬送ローラ上を次々と移動して基板が搬送される。
【特許文献１】実開平６−５９７９４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかし、上記特許文献１に示される基板搬送装置は、上記片持ち式の搬送ローラの回転軸の一方端はベアリングにより支持されているが、他方端側は支持されていない。そのため、当該片持ち式の搬送ローラにより基板を支持すると、支持されていない回転軸の端部には基板の重さによる下向きの負荷がかかる。その結果、ベアリングで支持されている側の端部には上向きの負荷がかかることになり、搬送ローラの回転動作に支障をきたしたり、ベアリングの故障の原因になるという問題を生じる。
【０００４】
また、上記問題を解決するために、回転軸の両端部をいずれもベアリングで回転自在に支持する構成の採用が考えられるが、この場合、搬送される基板の裏面となる位置にも、回転軸支持用のベアリングが配置されることになるため、当該ベアリングから発生するパーティクルが基板に付着して基板を汚染する可能性がある。
【０００５】
本発明は、上記の問題を解決するためになされたもので、基板汚染の原因となるパーティクルを発生させることなく、基板を安定して搬送できるようにすることを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の請求項１に記載の発明は、搬送の対象となる基板を支持するローラ部と、前記ローラ部の中心を貫通して前記ローラ部に固定された回転軸と、前記回転軸の一方端側に設けられた第１磁気部材とを有する複数の搬送ローラと、
前記各搬送ローラの回転軸の他方端側を回転自在に支持する第１支持手段と、
前記第１磁気部材との対向面が同一極性とされ、前記第１磁気部材に対して少なくとも下方側から対向する第２磁気部材が設けられ、基板搬送方向に直交する方向における基板の中央寄りに配置された前記各搬送ローラの回転軸の前記一方端側を、前記第１磁気部材と第２磁気部材との間の反発力により回転自在に支持する第２支持手段と、
前記複数の搬送ローラの回転軸の他方端側に回転駆動力を供給する回転駆動手段とを備え、
前記搬送ローラは、前記基板搬送方向に直交する方向における基板両端部位置に配設され、隣り合う搬送ローラとは基板搬送方向に一定間隔を空けて配置されている基板搬送装置である。
【０００７】
この構成の場合、搬送ローラが基板を搬送するときに、基板の重さによる下向きの負荷が、基板の中央寄りの搬送ローラ回転軸端部に加わっても、この回転軸端部は第２支持手段に支持されているので、第１支持手段に支持された側の回転軸端部には上向きの負荷が加わらない。そのため、第１支持手段に支持された搬送ローラの回転動作に、上向きの負荷による支障が生じることがなく、第１支持手段で回転軸を支持する部分、例えばベアリング等が故障するという問題が生じない。
【０００８】
また、上記第２支持手段による各搬送ローラの上記基板中央寄りの回転軸端部の支持は、第１磁気部材と第２磁気部材との間に発生する反発力を利用して非接触で行われるため、回転軸と第２支持手段の間で摩擦が生じることがなく、回転軸端部をベアリング等で支持する場合のようにパーティクルが発生することがない。
【０００９】
また、請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の基板搬送装置であって、前記第２支持手段の前記第２磁気部材は、前記第１磁気部材の全周を覆うように設けられているものである。
【００１０】
この構成によれば、搬送ローラの回転軸端部に設けられている第１磁気部材の全周を、第２支持手段の第２磁気部材が覆うので、搬送ローラの回転軸端部は、第２支持手段によって、上下左右全ての方向において磁気による反発力で支持され、第２支持手段により安定した状態で支持される。
【００１１】
また、請求項３に記載の発明は、請求項２に記載の基板搬送装置であって、前記第２磁気部材は、前記第１磁気部材に上方側から対向する上部部材と、当該上部部材とは別個の部材とされ、前記第１磁気部材に下方側から対向する下部部材とを有し、これら上部部材及び下部部材は、一方の部材が他方の部材に取り付けられて前記第１磁気部材の全周を覆う状態となり、一方の部材の他方の部材に対する取付位置を可変させることで当該両部材の間隔が変更されるものである。
【００１２】
この構成によれば、第２磁気部材をなす上部部材及び下部部材によって、第１磁気部材の全周を覆う状態となり、一方の部材の他方の部材に対する取付位置を可変させることで当該両部材の間隔が変更されるので、搬送ローラの回転軸の径や、第１及び第２磁気部材のそれぞれの磁気力、或いは基板搬送時に搬送ローラにかかる負荷等に応じて、第２磁気部材と第１磁気部材との間に発生する反発力を上記各種条件に応じて調整することができる。
【００１３】
また、請求項４に記載の発明は、請求項１乃至請求項３のいずれかに記載の基板搬送装置と、
前記搬送ローラによって搬送される基板に対して気体を噴射する気体噴射手段とを備える基板乾燥装置である。
【００１４】
気体噴射手段によって基板表面に気体を噴射した処理を行う場合、基板周囲に気流が発生するため、パーティクル発生を軽減及び防止して基板処理面に悪影響を及ぼさないようにすることが重要になるが、上記構成によれば、基板搬送時に第２支持手段に下方向の負荷が加わっても、第１及び第２磁気部材の間に発生する反発力により、搬送ローラは第２支持手段に非接触で支持されるために摩擦が生じず、パーティクルが発生しない。
【００１５】
また、請求項５に記載の発明は、請求項４に記載の基板乾燥装置であって、前記気体噴射手段には、基板の搬送方向に交差する方向に延びるスリット状の噴射口を有するエアナイフノズルが設けられている。
【００１６】
エアナイフノズルから基板表面に気体を噴射するときには、基板周囲に気流が発生するため、パーティクル発生を軽減及び防止して基板処理面に悪影響を及ぼさないようにすることが重要になるが、上記構成によれば、基板搬送時に第２支持手段に下方向の負荷が加わっても、第１及び第２磁気部材の間に発生する反発力により、搬送ローラは第２支持手段に非接触で支持されるために摩擦が生じず、パーティクルが発生しない。
【発明の効果】
【００１７】
請求項１に記載の発明によれば、第１支持手段に支持された搬送ローラの回転動作に、上向きの負荷による支障が生じることがなく、第１支持手段で回転軸を支持する例えばベアリングが故障するという問題が生じないので、基板を汚染するパーティクルを発生させることなく、基板を安定して搬送することができる。
【００１８】
請求項２に記載の発明によれば、搬送ローラの回転軸端部は、第２支持手段によって、上下左右全ての方向において磁気による反発力で支持されるため、より安定した状態で第２支持手段に支持される。
【００１９】
請求項３に記載の発明によれば、搬送ローラの回転軸の径や、第１及び第２磁気部材のそれぞれの磁気力、或いは基板搬送時に搬送ローラにかかる負荷等に応じて、第２磁気部材と第１磁気部材との間に発生する反発力を上記各種条件に応じて調整することができる。
【００２０】
請求項４及び請求項５に記載の発明によれば、基板表面に気体を噴射して処理を行う場合に問題となるパーティクル発生を軽減及び防止し、基板処理面に悪影響を及ぼさないようにすることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下、本発明の一実施形態に係る基板搬送装置及び基板乾燥装置について図面を参照して説明する。図１は本発明の一実施形態に係る基板搬送装置を備えた基板乾燥装置を示す図である。本発明に係る基板搬送装置１は、基板を乾燥させる基板乾燥装置１０に適用される。基板乾燥装置１０は、基板Ｗの搬入口１２及び搬出口１４を有する閉鎖型の処理チャンバ１００を備えている。処理チャンバ１００における基板Ｗの搬入口１２側には、天井面及び底面にそれぞれ排気口１６ａ、１６ｂが設けられている。処理チャンバ１００の底面に設けられた排気口１６ｂは、処理チャンバ１００の一隅部分に配置されている。各排気口１６ａ、１６ｂには、図示していないが、それぞれ排気管が連通して接続されており、各排気管は排気ポンプにそれぞれ流路接続されている。
【００２２】
処理チャンバ１００の内部には、基板Ｗを支持して水平方向へ搬送する複数の搬送ローラ１８と、図１では図略の回転軸支持部とで構成されたローラコンベアからなる基板搬送装置１が配設されている。
【００２３】
搬送ローラ１８は、基板搬送方向に直交する方向における処理チャンバ１００の両側部に支持され軸着されている。各搬送ローラ１８は、隣り合う搬送ローラ１８と一定間隔を空けて配置されている。搬送ローラ１８は、基板Ｗの裏面に接触して基板Ｗを支持するローラ部１８１と、ローラ部１８１の中心を貫通してローラ部１８１が固定される回転軸１８２とを有する。搬送ローラ１８の回転軸１８２の一方端、すなわち、基板搬送方向に直交する方向における基板Ｗの中央寄りの回転軸端部は、第２支持部１０２（第２支持手段）に回転自在に支持されている。この第２支持部１０２は、昇降部１０２２により昇降可能に構成されており、搬送ローラ１８の回転軸１８２の軸支部の上下位置を調整できるようになっている。さらに、搬送ローラ１８の回転軸１８２は、その他方端が処理チャンバ１００の側壁１００ａ及び当該側壁１００ａに設けられた軸受部からなる第１支持部（第１支持手段）１０１により回転自在に支持されている（軸受部及び第１支持部は図２参照）。搬送ローラ１８及びその支持機構の詳細については後述する。
【００２４】
また、処理チャンバ１００の内部には、基板搬送装置１によって搬送される基板Ｗの搬送路を挟んでその上下両側に一対のエアナイフ２０ａ、２０ｂが配設されている。なお、基板Ｗの搬送方向に間隔をあけて二対あるいはそれ以上のエアナイフを設置するようにしてもよい。この実施形態では、平面視で基板搬送方向に対して交差する斜め方向にエアナイフ２０ａ、２０ｂが配置されている（後述の図５参照）。なお、図示の便宜上、図１にはエアナイフ２０ａ、２０ｂを基板搬送方向と直交するように描いている。
【００２５】
エアナイフ２０ａ、２０ｂには、基板Ｗと対向するように、基板Ｗの幅方向全体にわたって空気、不活性ガス等の気体を噴射するスリット状の噴射口がそれぞれ形設されている。従って、エアナイフ２０ａ、２０ｂのスリット状の噴射口は、基板搬送方向と交差する方向に延びている。エアナイフ２０ａ、２０ｂは、その噴射口から基板搬送方向における上流側に向けて気体を噴射するように鉛直面に対し傾斜した姿勢に保持されている。
【００２６】
また、基板搬送路の下方側空間には、エアナイフ２０ｂの配設位置より基板搬送方向における下流側に複数の補助ローラ３２が配設されている。補助ローラ３２は、処理チャンバ１００の底壁面上に垂設された図略の支柱桿の上端部に支持されている。さらに、処理チャンバ１００の内部には、基板搬送路の上方側の空間を、エアナイフ２０ａの配設位置を境に、基板搬送方向における上流側と下流側とに仕切るように内部仕切壁３４が配設されている。
【００２７】
上記構成を備えた基板乾燥装置１０においては、前段の洗浄装置による洗浄処理を終えた基板Ｗが処理チャンバ１００内に搬入口１２から搬入され、ローラコンベアによって基板Ｗが処理チャンバ１００内を搬送される過程で、エアナイフ２０ａ、２０ｂの噴射口から基板Ｗの上下両面に向かって気体が噴射される。エアナイフ２０ａ、２０ｂの噴射口から噴出した気体は、基板Ｗの上下両面に当たって基板搬送方向における上流側へ跳ね返る。この際に、基板Ｗに付着した純水等の洗浄液が気体によって吹き飛ばされ、基板Ｗの上下両面から洗浄液が除去される。そして、洗浄液が除去された基板Ｗは、搬出口１４を通って処理チャンバ１００内から搬出され、基板搬送方向下流側の装置へ搬送される。
【００２８】
エアナイフ２０ａ、２０ｂの噴射口から噴出し基板Ｗから除去された洗浄液のミストを含んだ気体は、排気口１６ａ、１６ｂに向かって流動する。洗浄液のミストを含んだ気体は、処理チャンバ１００の内壁面に対し斜め方向に当たって排気口１６ａ，１６ｂの方へ流動し、排気口１６ａ，１６ｂを通って処理チャンバ１００内から排出される。このように、エアナイフ２０ｂの噴射口から噴射され基板Ｗの下面で跳ね返った気体は、排気口１６ｂに導かれて排気され、その気体と一緒に洗浄波のミストも処理チャンバ１００内から排出される。このため、基板Ｗの下面から除去された洗浄液のミストが、エアナイフ２０ｂの配設位置より基板搬送方向における下流側まで飛散して基板Ｗの下面に再付着することが防止される。
【００２９】
一方、上側のエアナイフ２０ａの噴射口から基板Ｗの上面に対し噴射され基板Ｗの上面に当たってはね返った気体は、場合によっては乱流状態となりながら排気口１６ａに向かって流動するが、基板Ｗの上面から除去された洗浄液のミストの一部は、重力の作用で処理チャンバ１００内を降下し、下側のエアナイフ２０ｂの噴射口から噴射された気体と一緒になって、排気口１６ｂを通って処理チャンバ１００内から排出される。また、基板Ｗの上面から吹き飛ばされて除去された洗浄液のミストは、内部仕切壁３４により、エアナイフ２０ａよりも基板搬送方向における下流側の室内に流れ込むことが阻止される。このため、エアナイフ２０ａの配設位置を通過した基板Ｗの上面側に洗浄液のミストが再付着することが防止される。
【００３０】
図２は、基板搬送装置１における搬送ローラ１８及びその支持機構部分を示す斜視図である。図３は第２支持部１０２の第２磁気部材１３による搬送ローラ１８の回転軸１８２の軸支を処理チャンバ１００の内側から見た状態を示す斜視図、図４は第２支持部１０２の第２磁気部材１３による搬送ローラ１８の回転軸１８２の軸支を処理チャンバ１００の外側から見た状態を示す斜視図である。
【００３１】
搬送ローラ１８の回転軸１８２の一方端を軸支する第１支持部１０１は、処理チャンバ１００の側壁１００ａ及び軸受部１００ｂで構成されている。軸受部１００ｂは、回転軸１８２のスラスト方向における移動を規制する。第１支持部１０１よりも更に外側に位置する回転軸１８２の先端部には、図２では図略の駆動モータからの駆動力を伝達すベルトが巻き付けられるプーリが設けられている。かかる駆動機構の詳細は後述する。
【００３２】
回転軸１８２の他方端（基板搬送方向に直交する方向における基板Ｗの中央寄りとなる側の回転軸端部）の周面上には、例えば7000ガウスの磁力を有する第１磁気部材１１が設けられている。また、当該第１磁気部材１１が設けられている回転軸１８２端部側を軸支する第２支持部１０２には、第１磁気部材１１との対向面が同一極性とされ、第１磁気部材１１の全周を覆う第２磁気部材１３が設けられている。第２磁気部材１３は、例えば、9600ガウスの磁力を有する。第２支持部１０２は、第１磁気部材１１と第２磁気部材１３との間に生じる反発力により、回転軸１８２を非接触状態で軸支する。
【００３３】
第２磁気部材１３は、上部部材１３１及び下部部材１３２からなる。上部部材１３１は、第１磁気部材１１に上方側から対向する。下部部材１３２は、上部部材１３１とは別個の部材からなり、第２支持部１０２に設けられた凹部１０２１に取り付けられている。下部部材１３２は、回転軸１８２の第１磁気部材１１に下方側から対向する。
【００３４】
上部部材１３１は、逆Ｕ字型状に形成され、逆Ｕ字型状の内側の縁部には、磁気部１３１０が設けられている。上部部材１３１は、その両下端部１３１１が第２支持部１０２の下部部材１３２近傍に取り付けられ、磁気部１３１０と下部部材１３２とで、搬送ローラ１８の回転軸１８２が貫通可能な孔を形成し、回転軸１８２の第１磁気部材１１が当該孔部分に位置することで、回転軸１８２の第１磁気部材１１の全周が磁気部１３１０と下部部材１３２とで覆われるようになっている。上部部材１３１の両下端部１３１１には、長孔１３１１ａが設けられている。また、第２支持部１０２の下部部材１３２近傍位置には、図略のネジ孔が設けられている。上部部材１３１を第２支持部１０２に取り付ける場合は、上部部材１３１の長孔１３１１ａを、第２支持部１０２のネジ孔部分にあてがい、図略のネジを長孔１３１１ａ及びネジ孔に貫通させて、ネジ止めにより上部部材１３１を第２支持部１０２に固定する。この上部部材１３１の固定時には、上部部材１３１の長孔１３１１ａ内におけるネジ位置を変更することで、第２支持部１０２及び下部部材１３２に対する上部部材１３１の取り付け位置を変えることができ、これにより上部部材１３１及び下部部材１３２の間隔が変更される。
【００３５】
搬送ローラ１８の回転軸１８２に設けられた第１磁気部材１１は、第２支持部１０２に設けられた第２磁気部材１３をなす上部部材１３１及び下部部材１３２によって全周が覆われる位置に配置される。このように回転軸１８２の第１磁気部材１１の全周が第２磁気部材１３に覆われることで、当該回転軸１８２端部は、上下左右全ての方向において磁気による反発力を受け、第２支持部１０２に対して非接触状態で安定して支持される。これにより、基板Ｗ搬送時に回転軸１８２が回転しても、回転軸１８２と第２支持部１０２との間に摩擦が生じないので、パーティクルが発生しない。
【００３６】
また、第２支持部１０２では、上部部材１３１の取付位置を変更することによって、上部部材１３１及び下部部材１３２の間隔を拡げる又は狭めることが可能であるため、搬送する基板Ｗの重量に応じて回転軸１８２に対して下向きにかかる負荷が相違する場合に、各負荷に応じて回転軸１８２を非接触状態で軸支可能な磁力が得られるように、上部部材１３１及び下部部材１３２の間隔を調整できる。また、上部部材１３１及び下部部材１３２が発する磁力には個体差があることが予想されるが、この場合、各個体差に応じて、回転軸１８２の軸支に必要な磁力が得られるように、第２支持部１０２に設けられている各第２磁気部材１３の上部部材１３１及び下部部材１３２の間隔を、それぞれ調整できる。
【００３７】
また、搬送ローラ１８のローラ部１８１の高さは、上部部材１３１を第２支持部１０２に対して最も高い位置に取り付けた場合における上部部材１３１の高さ、及び第１支持部１０１に回転軸１８２を軸支させた場合における第１支持部１０１又は回転軸１８２の高い方の高さよりも高く設定されている。これにより、基板Ｗがローラ部１８１に載置された状態となっても、基板Ｗがローラ部１８１以外には接触しない。
【００３８】
搬送ローラ１８の駆動機構を説明する。図５は基板乾燥装置１０の概略構成を示す平面図、図６は図５のＡ方向から見た基板乾燥装置１０の概略側面図、図７は図５のＢ方向から見た基板乾燥装置１０の概略側面図である。なお、図５では便宜上、上部部材１３１及びエンドレスベルトの図示を省略している。
【００３９】
処理チャンバ１００の一方の側壁１００ａの外壁部には、搬送ローラ１８に回転駆動力を供給する駆動源となる駆動モータ５０が設けられている。この駆動モータ５０は、側壁１００ａの外壁部に設けられている回転駆動軸５１に連結されて、回転駆動軸５１に回転駆動力を伝達するようになっている。各搬送ローラ１８はその回転軸１８２が、第１支持部１０１よりも更に外側まで延び、側壁１００ａから外側に突出している。第１支持部１０１よりも外側に位置する回転軸１８２の先端部には、駆動モータ５０からの駆動力を伝達するためのエンドレスベルト６０が張架されるプーリ１８５が設けられている。
【００４０】
更に側壁１００ａの外壁部には、側壁１００ａから突出した各回転軸１８２先端の間に第１補助回転軸５２が設けられている。さらに、回転軸１８２先端の下方には第２補助回転軸５３と、第３補助回転軸５４とが設けられている。
【００４１】
上記駆動モータ５０が設けられている側壁１００ａとは反対側の側壁１００ａにも、図７に示すように、駆動モータ５０配設側の側壁１００ａと同様に、各回転軸１８２の先端部にプーリ１８５と、第１補助回転軸５２と、第２補助回転軸５３と、第３補助回転軸５４とが設けられている。なお、当該反対側の側壁１００ａには、回転駆動軸５１は設けられておらず、対応する位置には、エンドレスベルト６０の走行に応じて従動回転する第３補助回転軸５４が設けられている。
【００４２】
さらに、一方の側壁１００ａから他方の側壁１００ａに、駆動力伝達シャフト７０が架け渡されている。この駆動力伝達シャフト７０は、駆動モータ５０が設けられている側壁１００ａ側から、反対側の側壁１００ａ側に駆動モータ５０からの回転駆動力を伝達するものである。駆動力伝達シャフト７０は、その両端部がそれぞれ側壁１００ａに回転自在に軸支されている。駆動力伝達シャフト７０は、いずれの側壁１００ａからも突出されており、側壁１００ａよりも外側となる両先端部にプーリ７１が設けられている。なお、駆動力伝達シャフト７０には、基板Ｗの裏面に接触して基板Ｗを搬送するためのローラ部７２が、長さ方向における適所に設けられている。
【００４３】
上記エンドレスベルト６０は、回転軸１８２の先端部のプーリ１８５と、回転駆動軸５１と、第１補助回転軸５２と、第２補助回転軸５３と、第３補助回転軸５４と、さらに、駆動力伝達シャフト７０のプーリ７１とに、緊張を持たせた状態で架け渡されている。駆動モータ５０からの回転駆動力で回転駆動軸５１が回転すると、駆動モータ５０が設けられている側壁１００ａにおいて、エンドレスベルト６０が走行し、回転軸１８２の先端部のプーリ１８５、第１補助回転軸５２、第２補助回転軸５３、第３補助回転軸５４、及び駆動力伝達シャフト７０のプーリ７１が回転する。これにより、駆動モータ５０が設けられている側壁１００ａに設けられている各搬送ローラ１８が回転する。
【００４４】
上記のように駆動力伝達シャフト７０が回転すると、この駆動力伝達シャフト７０の回転により、反対側の側壁１００ａ側において、駆動力伝達シャフト７０のプーリ７１に張架されているエンドレスベルト６０が走行し、回転軸１８２の先端部のプーリ１８５、第１補助回転軸５２、第２補助回転軸５３、及び第３補助回転軸５４が回転する。すなわち、駆動モータ５０の回転駆動力が、駆動力伝達シャフト７０によって反対側の側壁１００ａまで伝達され、当該反対側の側壁１００ａに設けられている各搬送ローラ１８が回転する。
【００４５】
なお、本発明は上記実施の形態の構成に限られず種々の変形が可能である。例えば、上記実施形態では、搬送ローラ１８の回転軸１８２の第１磁気部材１１の全周が、第２支持部１０２の第２磁気部材１３をなす上部部材１３１及び下部部材１３２によって覆われる構成としているが、本発明は当該構成に限定されるものはない。例えば、第２磁気部材１３として下部部材１３２のみが設けられ、この下部部材１３２の磁力によって搬送ローラ１８の回転軸１８２が第２支持部１０２に軸支されるものとしてもよい。この場合には、下部部材１３２及び第１磁気部材１１の磁力は、搬送ローラ１８及び搬送される基板Ｗの重量を、下部部材１３２及び第１磁気部材１１の間に発生する反発力で支持できる大きさに設定される。
【００４６】
また、上記実施形態では、処理チャンバ１００の内部には、基板搬送装置１によって搬送される基板Ｗの搬送路を挟んでその上下両側に一対のエアナイフ２０ａ、２０ｂが配設される構成を採っているが、基板Ｗの搬送路を挟んでその上側のみにエアナイフ２０ａが配設される構成であっても構わない。
【図面の簡単な説明】
【００４７】
【図１】本発明の一実施形態に係る基板搬送装置を備えた基板乾燥装置を示す図である。
【図２】基板搬送装置における搬送ローラ及びその支持機構部分を示す斜視図である。
【図３】第２支持部の第２磁気部材による搬送ローラの回転軸の軸支を処理チャンバの内側から見た状態を示す斜視図である。
【図４】第２支持部の第２磁気部材による搬送ローラの回転軸の軸支を処理チャンバの外側から見た状態を示す斜視図である。
【図５】基板乾燥装置の概略構成を示す平面図である。
【図６】図５のＡ方向から見た基板乾燥装置の概略側面図である。
【図７】図５のＢ方向から見た基板乾燥装置の概略側面図である。
【符号の説明】
【００４８】
１ 基板搬送装置
１０ 基板乾燥装置
１１ 第１磁気部材
１２ 搬入口
１３ 第２磁気部材
１３１ 上部部材
１３２ 下部部材
１８ 搬送ローラ
１８１ ローラ部
１８２ 回転軸
１８５ プーリ
２０ａ エアナイフ
２０ｂ エアナイフ
５０ 駆動モータ
５１ 回転駆動軸
５２ 第１補助回転軸
５３ 第２補助回転軸
５４ 第３補助回転軸
６０ エンドレスベルト
７０ 駆動力伝達シャフト
１００ 処理チャンバ
１００ａ 側壁
１００ｂ 軸受部
１０１ 第１支持部
１０２ 第２支持部
Ｗ 基板
【技術分野】
【０００１】
本発明は、並設された複数の搬送ローラにより基板を搬送する基板搬送装置及び当該基板搬送装置を備えた基板乾燥装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、並設された複数の搬送ローラにより基板を搬送する基板搬送装置として、下記特許文献１に示されるように、基板搬送方向に直交する方向に延びる回転軸を有する複数の片持ち式の搬送ローラが、同方向における基板両端部位置に、隣り合う搬送ローラと一定間隔を空けて配置されたものが知られている。この基板搬送装置によれば、基板両端部の下面側に接する上記片持ち式の搬送ローラが回転することで、基板が当該複数の搬送ローラ上を次々と移動して基板が搬送される。
【特許文献１】実開平６−５９７９４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかし、上記特許文献１に示される基板搬送装置は、上記片持ち式の搬送ローラの回転軸の一方端はベアリングにより支持されているが、他方端側は支持されていない。そのため、当該片持ち式の搬送ローラにより基板を支持すると、支持されていない回転軸の端部には基板の重さによる下向きの負荷がかかる。その結果、ベアリングで支持されている側の端部には上向きの負荷がかかることになり、搬送ローラの回転動作に支障をきたしたり、ベアリングの故障の原因になるという問題を生じる。
【０００４】
また、上記問題を解決するために、回転軸の両端部をいずれもベアリングで回転自在に支持する構成の採用が考えられるが、この場合、搬送される基板の裏面となる位置にも、回転軸支持用のベアリングが配置されることになるため、当該ベアリングから発生するパーティクルが基板に付着して基板を汚染する可能性がある。
【０００５】
本発明は、上記の問題を解決するためになされたもので、基板汚染の原因となるパーティクルを発生させることなく、基板を安定して搬送できるようにすることを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の請求項１に記載の発明は、搬送の対象となる基板を支持するローラ部と、前記ローラ部の中心を貫通して前記ローラ部に固定された回転軸と、前記回転軸の一方端側に設けられた第１磁気部材とを有する複数の搬送ローラと、
前記各搬送ローラの回転軸の他方端側を回転自在に支持する第１支持手段と、
前記第１磁気部材との対向面が同一極性とされ、前記第１磁気部材に対して少なくとも下方側から対向する第２磁気部材が設けられ、基板搬送方向に直交する方向における基板の中央寄りに配置された前記各搬送ローラの回転軸の前記一方端側を、前記第１磁気部材と第２磁気部材との間の反発力により回転自在に支持する第２支持手段と、
前記複数の搬送ローラの回転軸の他方端側に回転駆動力を供給する回転駆動手段とを備え、
前記搬送ローラは、前記基板搬送方向に直交する方向における基板両端部位置に配設され、隣り合う搬送ローラとは基板搬送方向に一定間隔を空けて配置されている基板搬送装置である。
【０００７】
この構成の場合、搬送ローラが基板を搬送するときに、基板の重さによる下向きの負荷が、基板の中央寄りの搬送ローラ回転軸端部に加わっても、この回転軸端部は第２支持手段に支持されているので、第１支持手段に支持された側の回転軸端部には上向きの負荷が加わらない。そのため、第１支持手段に支持された搬送ローラの回転動作に、上向きの負荷による支障が生じることがなく、第１支持手段で回転軸を支持する部分、例えばベアリング等が故障するという問題が生じない。
【０００８】
また、上記第２支持手段による各搬送ローラの上記基板中央寄りの回転軸端部の支持は、第１磁気部材と第２磁気部材との間に発生する反発力を利用して非接触で行われるため、回転軸と第２支持手段の間で摩擦が生じることがなく、回転軸端部をベアリング等で支持する場合のようにパーティクルが発生することがない。
【０００９】
また、請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の基板搬送装置であって、前記第２支持手段の前記第２磁気部材は、前記第１磁気部材の全周を覆うように設けられているものである。
【００１０】
この構成によれば、搬送ローラの回転軸端部に設けられている第１磁気部材の全周を、第２支持手段の第２磁気部材が覆うので、搬送ローラの回転軸端部は、第２支持手段によって、上下左右全ての方向において磁気による反発力で支持され、第２支持手段により安定した状態で支持される。
【００１１】
また、請求項３に記載の発明は、請求項２に記載の基板搬送装置であって、前記第２磁気部材は、前記第１磁気部材に上方側から対向する上部部材と、当該上部部材とは別個の部材とされ、前記第１磁気部材に下方側から対向する下部部材とを有し、これら上部部材及び下部部材は、一方の部材が他方の部材に取り付けられて前記第１磁気部材の全周を覆う状態となり、一方の部材の他方の部材に対する取付位置を可変させることで当該両部材の間隔が変更されるものである。
【００１２】
この構成によれば、第２磁気部材をなす上部部材及び下部部材によって、第１磁気部材の全周を覆う状態となり、一方の部材の他方の部材に対する取付位置を可変させることで当該両部材の間隔が変更されるので、搬送ローラの回転軸の径や、第１及び第２磁気部材のそれぞれの磁気力、或いは基板搬送時に搬送ローラにかかる負荷等に応じて、第２磁気部材と第１磁気部材との間に発生する反発力を上記各種条件に応じて調整することができる。
【００１３】
また、請求項４に記載の発明は、請求項１乃至請求項３のいずれかに記載の基板搬送装置と、
前記搬送ローラによって搬送される基板に対して気体を噴射する気体噴射手段とを備える基板乾燥装置である。
【００１４】
気体噴射手段によって基板表面に気体を噴射した処理を行う場合、基板周囲に気流が発生するため、パーティクル発生を軽減及び防止して基板処理面に悪影響を及ぼさないようにすることが重要になるが、上記構成によれば、基板搬送時に第２支持手段に下方向の負荷が加わっても、第１及び第２磁気部材の間に発生する反発力により、搬送ローラは第２支持手段に非接触で支持されるために摩擦が生じず、パーティクルが発生しない。
【００１５】
また、請求項５に記載の発明は、請求項４に記載の基板乾燥装置であって、前記気体噴射手段には、基板の搬送方向に交差する方向に延びるスリット状の噴射口を有するエアナイフノズルが設けられている。
【００１６】
エアナイフノズルから基板表面に気体を噴射するときには、基板周囲に気流が発生するため、パーティクル発生を軽減及び防止して基板処理面に悪影響を及ぼさないようにすることが重要になるが、上記構成によれば、基板搬送時に第２支持手段に下方向の負荷が加わっても、第１及び第２磁気部材の間に発生する反発力により、搬送ローラは第２支持手段に非接触で支持されるために摩擦が生じず、パーティクルが発生しない。
【発明の効果】
【００１７】
請求項１に記載の発明によれば、第１支持手段に支持された搬送ローラの回転動作に、上向きの負荷による支障が生じることがなく、第１支持手段で回転軸を支持する例えばベアリングが故障するという問題が生じないので、基板を汚染するパーティクルを発生させることなく、基板を安定して搬送することができる。
【００１８】
請求項２に記載の発明によれば、搬送ローラの回転軸端部は、第２支持手段によって、上下左右全ての方向において磁気による反発力で支持されるため、より安定した状態で第２支持手段に支持される。
【００１９】
請求項３に記載の発明によれば、搬送ローラの回転軸の径や、第１及び第２磁気部材のそれぞれの磁気力、或いは基板搬送時に搬送ローラにかかる負荷等に応じて、第２磁気部材と第１磁気部材との間に発生する反発力を上記各種条件に応じて調整することができる。
【００２０】
請求項４及び請求項５に記載の発明によれば、基板表面に気体を噴射して処理を行う場合に問題となるパーティクル発生を軽減及び防止し、基板処理面に悪影響を及ぼさないようにすることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下、本発明の一実施形態に係る基板搬送装置及び基板乾燥装置について図面を参照して説明する。図１は本発明の一実施形態に係る基板搬送装置を備えた基板乾燥装置を示す図である。本発明に係る基板搬送装置１は、基板を乾燥させる基板乾燥装置１０に適用される。基板乾燥装置１０は、基板Ｗの搬入口１２及び搬出口１４を有する閉鎖型の処理チャンバ１００を備えている。処理チャンバ１００における基板Ｗの搬入口１２側には、天井面及び底面にそれぞれ排気口１６ａ、１６ｂが設けられている。処理チャンバ１００の底面に設けられた排気口１６ｂは、処理チャンバ１００の一隅部分に配置されている。各排気口１６ａ、１６ｂには、図示していないが、それぞれ排気管が連通して接続されており、各排気管は排気ポンプにそれぞれ流路接続されている。
【００２２】
処理チャンバ１００の内部には、基板Ｗを支持して水平方向へ搬送する複数の搬送ローラ１８と、図１では図略の回転軸支持部とで構成されたローラコンベアからなる基板搬送装置１が配設されている。
【００２３】
搬送ローラ１８は、基板搬送方向に直交する方向における処理チャンバ１００の両側部に支持され軸着されている。各搬送ローラ１８は、隣り合う搬送ローラ１８と一定間隔を空けて配置されている。搬送ローラ１８は、基板Ｗの裏面に接触して基板Ｗを支持するローラ部１８１と、ローラ部１８１の中心を貫通してローラ部１８１が固定される回転軸１８２とを有する。搬送ローラ１８の回転軸１８２の一方端、すなわち、基板搬送方向に直交する方向における基板Ｗの中央寄りの回転軸端部は、第２支持部１０２（第２支持手段）に回転自在に支持されている。この第２支持部１０２は、昇降部１０２２により昇降可能に構成されており、搬送ローラ１８の回転軸１８２の軸支部の上下位置を調整できるようになっている。さらに、搬送ローラ１８の回転軸１８２は、その他方端が処理チャンバ１００の側壁１００ａ及び当該側壁１００ａに設けられた軸受部からなる第１支持部（第１支持手段）１０１により回転自在に支持されている（軸受部及び第１支持部は図２参照）。搬送ローラ１８及びその支持機構の詳細については後述する。
【００２４】
また、処理チャンバ１００の内部には、基板搬送装置１によって搬送される基板Ｗの搬送路を挟んでその上下両側に一対のエアナイフ２０ａ、２０ｂが配設されている。なお、基板Ｗの搬送方向に間隔をあけて二対あるいはそれ以上のエアナイフを設置するようにしてもよい。この実施形態では、平面視で基板搬送方向に対して交差する斜め方向にエアナイフ２０ａ、２０ｂが配置されている（後述の図５参照）。なお、図示の便宜上、図１にはエアナイフ２０ａ、２０ｂを基板搬送方向と直交するように描いている。
【００２５】
エアナイフ２０ａ、２０ｂには、基板Ｗと対向するように、基板Ｗの幅方向全体にわたって空気、不活性ガス等の気体を噴射するスリット状の噴射口がそれぞれ形設されている。従って、エアナイフ２０ａ、２０ｂのスリット状の噴射口は、基板搬送方向と交差する方向に延びている。エアナイフ２０ａ、２０ｂは、その噴射口から基板搬送方向における上流側に向けて気体を噴射するように鉛直面に対し傾斜した姿勢に保持されている。
【００２６】
また、基板搬送路の下方側空間には、エアナイフ２０ｂの配設位置より基板搬送方向における下流側に複数の補助ローラ３２が配設されている。補助ローラ３２は、処理チャンバ１００の底壁面上に垂設された図略の支柱桿の上端部に支持されている。さらに、処理チャンバ１００の内部には、基板搬送路の上方側の空間を、エアナイフ２０ａの配設位置を境に、基板搬送方向における上流側と下流側とに仕切るように内部仕切壁３４が配設されている。
【００２７】
上記構成を備えた基板乾燥装置１０においては、前段の洗浄装置による洗浄処理を終えた基板Ｗが処理チャンバ１００内に搬入口１２から搬入され、ローラコンベアによって基板Ｗが処理チャンバ１００内を搬送される過程で、エアナイフ２０ａ、２０ｂの噴射口から基板Ｗの上下両面に向かって気体が噴射される。エアナイフ２０ａ、２０ｂの噴射口から噴出した気体は、基板Ｗの上下両面に当たって基板搬送方向における上流側へ跳ね返る。この際に、基板Ｗに付着した純水等の洗浄液が気体によって吹き飛ばされ、基板Ｗの上下両面から洗浄液が除去される。そして、洗浄液が除去された基板Ｗは、搬出口１４を通って処理チャンバ１００内から搬出され、基板搬送方向下流側の装置へ搬送される。
【００２８】
エアナイフ２０ａ、２０ｂの噴射口から噴出し基板Ｗから除去された洗浄液のミストを含んだ気体は、排気口１６ａ、１６ｂに向かって流動する。洗浄液のミストを含んだ気体は、処理チャンバ１００の内壁面に対し斜め方向に当たって排気口１６ａ，１６ｂの方へ流動し、排気口１６ａ，１６ｂを通って処理チャンバ１００内から排出される。このように、エアナイフ２０ｂの噴射口から噴射され基板Ｗの下面で跳ね返った気体は、排気口１６ｂに導かれて排気され、その気体と一緒に洗浄波のミストも処理チャンバ１００内から排出される。このため、基板Ｗの下面から除去された洗浄液のミストが、エアナイフ２０ｂの配設位置より基板搬送方向における下流側まで飛散して基板Ｗの下面に再付着することが防止される。
【００２９】
一方、上側のエアナイフ２０ａの噴射口から基板Ｗの上面に対し噴射され基板Ｗの上面に当たってはね返った気体は、場合によっては乱流状態となりながら排気口１６ａに向かって流動するが、基板Ｗの上面から除去された洗浄液のミストの一部は、重力の作用で処理チャンバ１００内を降下し、下側のエアナイフ２０ｂの噴射口から噴射された気体と一緒になって、排気口１６ｂを通って処理チャンバ１００内から排出される。また、基板Ｗの上面から吹き飛ばされて除去された洗浄液のミストは、内部仕切壁３４により、エアナイフ２０ａよりも基板搬送方向における下流側の室内に流れ込むことが阻止される。このため、エアナイフ２０ａの配設位置を通過した基板Ｗの上面側に洗浄液のミストが再付着することが防止される。
【００３０】
図２は、基板搬送装置１における搬送ローラ１８及びその支持機構部分を示す斜視図である。図３は第２支持部１０２の第２磁気部材１３による搬送ローラ１８の回転軸１８２の軸支を処理チャンバ１００の内側から見た状態を示す斜視図、図４は第２支持部１０２の第２磁気部材１３による搬送ローラ１８の回転軸１８２の軸支を処理チャンバ１００の外側から見た状態を示す斜視図である。
【００３１】
搬送ローラ１８の回転軸１８２の一方端を軸支する第１支持部１０１は、処理チャンバ１００の側壁１００ａ及び軸受部１００ｂで構成されている。軸受部１００ｂは、回転軸１８２のスラスト方向における移動を規制する。第１支持部１０１よりも更に外側に位置する回転軸１８２の先端部には、図２では図略の駆動モータからの駆動力を伝達すベルトが巻き付けられるプーリが設けられている。かかる駆動機構の詳細は後述する。
【００３２】
回転軸１８２の他方端（基板搬送方向に直交する方向における基板Ｗの中央寄りとなる側の回転軸端部）の周面上には、例えば7000ガウスの磁力を有する第１磁気部材１１が設けられている。また、当該第１磁気部材１１が設けられている回転軸１８２端部側を軸支する第２支持部１０２には、第１磁気部材１１との対向面が同一極性とされ、第１磁気部材１１の全周を覆う第２磁気部材１３が設けられている。第２磁気部材１３は、例えば、9600ガウスの磁力を有する。第２支持部１０２は、第１磁気部材１１と第２磁気部材１３との間に生じる反発力により、回転軸１８２を非接触状態で軸支する。
【００３３】
第２磁気部材１３は、上部部材１３１及び下部部材１３２からなる。上部部材１３１は、第１磁気部材１１に上方側から対向する。下部部材１３２は、上部部材１３１とは別個の部材からなり、第２支持部１０２に設けられた凹部１０２１に取り付けられている。下部部材１３２は、回転軸１８２の第１磁気部材１１に下方側から対向する。
【００３４】
上部部材１３１は、逆Ｕ字型状に形成され、逆Ｕ字型状の内側の縁部には、磁気部１３１０が設けられている。上部部材１３１は、その両下端部１３１１が第２支持部１０２の下部部材１３２近傍に取り付けられ、磁気部１３１０と下部部材１３２とで、搬送ローラ１８の回転軸１８２が貫通可能な孔を形成し、回転軸１８２の第１磁気部材１１が当該孔部分に位置することで、回転軸１８２の第１磁気部材１１の全周が磁気部１３１０と下部部材１３２とで覆われるようになっている。上部部材１３１の両下端部１３１１には、長孔１３１１ａが設けられている。また、第２支持部１０２の下部部材１３２近傍位置には、図略のネジ孔が設けられている。上部部材１３１を第２支持部１０２に取り付ける場合は、上部部材１３１の長孔１３１１ａを、第２支持部１０２のネジ孔部分にあてがい、図略のネジを長孔１３１１ａ及びネジ孔に貫通させて、ネジ止めにより上部部材１３１を第２支持部１０２に固定する。この上部部材１３１の固定時には、上部部材１３１の長孔１３１１ａ内におけるネジ位置を変更することで、第２支持部１０２及び下部部材１３２に対する上部部材１３１の取り付け位置を変えることができ、これにより上部部材１３１及び下部部材１３２の間隔が変更される。
【００３５】
搬送ローラ１８の回転軸１８２に設けられた第１磁気部材１１は、第２支持部１０２に設けられた第２磁気部材１３をなす上部部材１３１及び下部部材１３２によって全周が覆われる位置に配置される。このように回転軸１８２の第１磁気部材１１の全周が第２磁気部材１３に覆われることで、当該回転軸１８２端部は、上下左右全ての方向において磁気による反発力を受け、第２支持部１０２に対して非接触状態で安定して支持される。これにより、基板Ｗ搬送時に回転軸１８２が回転しても、回転軸１８２と第２支持部１０２との間に摩擦が生じないので、パーティクルが発生しない。
【００３６】
また、第２支持部１０２では、上部部材１３１の取付位置を変更することによって、上部部材１３１及び下部部材１３２の間隔を拡げる又は狭めることが可能であるため、搬送する基板Ｗの重量に応じて回転軸１８２に対して下向きにかかる負荷が相違する場合に、各負荷に応じて回転軸１８２を非接触状態で軸支可能な磁力が得られるように、上部部材１３１及び下部部材１３２の間隔を調整できる。また、上部部材１３１及び下部部材１３２が発する磁力には個体差があることが予想されるが、この場合、各個体差に応じて、回転軸１８２の軸支に必要な磁力が得られるように、第２支持部１０２に設けられている各第２磁気部材１３の上部部材１３１及び下部部材１３２の間隔を、それぞれ調整できる。
【００３７】
また、搬送ローラ１８のローラ部１８１の高さは、上部部材１３１を第２支持部１０２に対して最も高い位置に取り付けた場合における上部部材１３１の高さ、及び第１支持部１０１に回転軸１８２を軸支させた場合における第１支持部１０１又は回転軸１８２の高い方の高さよりも高く設定されている。これにより、基板Ｗがローラ部１８１に載置された状態となっても、基板Ｗがローラ部１８１以外には接触しない。
【００３８】
搬送ローラ１８の駆動機構を説明する。図５は基板乾燥装置１０の概略構成を示す平面図、図６は図５のＡ方向から見た基板乾燥装置１０の概略側面図、図７は図５のＢ方向から見た基板乾燥装置１０の概略側面図である。なお、図５では便宜上、上部部材１３１及びエンドレスベルトの図示を省略している。
【００３９】
処理チャンバ１００の一方の側壁１００ａの外壁部には、搬送ローラ１８に回転駆動力を供給する駆動源となる駆動モータ５０が設けられている。この駆動モータ５０は、側壁１００ａの外壁部に設けられている回転駆動軸５１に連結されて、回転駆動軸５１に回転駆動力を伝達するようになっている。各搬送ローラ１８はその回転軸１８２が、第１支持部１０１よりも更に外側まで延び、側壁１００ａから外側に突出している。第１支持部１０１よりも外側に位置する回転軸１８２の先端部には、駆動モータ５０からの駆動力を伝達するためのエンドレスベルト６０が張架されるプーリ１８５が設けられている。
【００４０】
更に側壁１００ａの外壁部には、側壁１００ａから突出した各回転軸１８２先端の間に第１補助回転軸５２が設けられている。さらに、回転軸１８２先端の下方には第２補助回転軸５３と、第３補助回転軸５４とが設けられている。
【００４１】
上記駆動モータ５０が設けられている側壁１００ａとは反対側の側壁１００ａにも、図７に示すように、駆動モータ５０配設側の側壁１００ａと同様に、各回転軸１８２の先端部にプーリ１８５と、第１補助回転軸５２と、第２補助回転軸５３と、第３補助回転軸５４とが設けられている。なお、当該反対側の側壁１００ａには、回転駆動軸５１は設けられておらず、対応する位置には、エンドレスベルト６０の走行に応じて従動回転する第３補助回転軸５４が設けられている。
【００４２】
さらに、一方の側壁１００ａから他方の側壁１００ａに、駆動力伝達シャフト７０が架け渡されている。この駆動力伝達シャフト７０は、駆動モータ５０が設けられている側壁１００ａ側から、反対側の側壁１００ａ側に駆動モータ５０からの回転駆動力を伝達するものである。駆動力伝達シャフト７０は、その両端部がそれぞれ側壁１００ａに回転自在に軸支されている。駆動力伝達シャフト７０は、いずれの側壁１００ａからも突出されており、側壁１００ａよりも外側となる両先端部にプーリ７１が設けられている。なお、駆動力伝達シャフト７０には、基板Ｗの裏面に接触して基板Ｗを搬送するためのローラ部７２が、長さ方向における適所に設けられている。
【００４３】
上記エンドレスベルト６０は、回転軸１８２の先端部のプーリ１８５と、回転駆動軸５１と、第１補助回転軸５２と、第２補助回転軸５３と、第３補助回転軸５４と、さらに、駆動力伝達シャフト７０のプーリ７１とに、緊張を持たせた状態で架け渡されている。駆動モータ５０からの回転駆動力で回転駆動軸５１が回転すると、駆動モータ５０が設けられている側壁１００ａにおいて、エンドレスベルト６０が走行し、回転軸１８２の先端部のプーリ１８５、第１補助回転軸５２、第２補助回転軸５３、第３補助回転軸５４、及び駆動力伝達シャフト７０のプーリ７１が回転する。これにより、駆動モータ５０が設けられている側壁１００ａに設けられている各搬送ローラ１８が回転する。
【００４４】
上記のように駆動力伝達シャフト７０が回転すると、この駆動力伝達シャフト７０の回転により、反対側の側壁１００ａ側において、駆動力伝達シャフト７０のプーリ７１に張架されているエンドレスベルト６０が走行し、回転軸１８２の先端部のプーリ１８５、第１補助回転軸５２、第２補助回転軸５３、及び第３補助回転軸５４が回転する。すなわち、駆動モータ５０の回転駆動力が、駆動力伝達シャフト７０によって反対側の側壁１００ａまで伝達され、当該反対側の側壁１００ａに設けられている各搬送ローラ１８が回転する。
【００４５】
なお、本発明は上記実施の形態の構成に限られず種々の変形が可能である。例えば、上記実施形態では、搬送ローラ１８の回転軸１８２の第１磁気部材１１の全周が、第２支持部１０２の第２磁気部材１３をなす上部部材１３１及び下部部材１３２によって覆われる構成としているが、本発明は当該構成に限定されるものはない。例えば、第２磁気部材１３として下部部材１３２のみが設けられ、この下部部材１３２の磁力によって搬送ローラ１８の回転軸１８２が第２支持部１０２に軸支されるものとしてもよい。この場合には、下部部材１３２及び第１磁気部材１１の磁力は、搬送ローラ１８及び搬送される基板Ｗの重量を、下部部材１３２及び第１磁気部材１１の間に発生する反発力で支持できる大きさに設定される。
【００４６】
また、上記実施形態では、処理チャンバ１００の内部には、基板搬送装置１によって搬送される基板Ｗの搬送路を挟んでその上下両側に一対のエアナイフ２０ａ、２０ｂが配設される構成を採っているが、基板Ｗの搬送路を挟んでその上側のみにエアナイフ２０ａが配設される構成であっても構わない。
【図面の簡単な説明】
【００４７】
【図１】本発明の一実施形態に係る基板搬送装置を備えた基板乾燥装置を示す図である。
【図２】基板搬送装置における搬送ローラ及びその支持機構部分を示す斜視図である。
【図３】第２支持部の第２磁気部材による搬送ローラの回転軸の軸支を処理チャンバの内側から見た状態を示す斜視図である。
【図４】第２支持部の第２磁気部材による搬送ローラの回転軸の軸支を処理チャンバの外側から見た状態を示す斜視図である。
【図５】基板乾燥装置の概略構成を示す平面図である。
【図６】図５のＡ方向から見た基板乾燥装置の概略側面図である。
【図７】図５のＢ方向から見た基板乾燥装置の概略側面図である。
【符号の説明】
【００４８】
１ 基板搬送装置
１０ 基板乾燥装置
１１ 第１磁気部材
１２ 搬入口
１３ 第２磁気部材
１３１ 上部部材
１３２ 下部部材
１８ 搬送ローラ
１８１ ローラ部
１８２ 回転軸
１８５ プーリ
２０ａ エアナイフ
２０ｂ エアナイフ
５０ 駆動モータ
５１ 回転駆動軸
５２ 第１補助回転軸
５３ 第２補助回転軸
５４ 第３補助回転軸
６０ エンドレスベルト
７０ 駆動力伝達シャフト
１００ 処理チャンバ
１００ａ 側壁
１００ｂ 軸受部
１０１ 第１支持部
１０２ 第２支持部
Ｗ 基板
【特許請求の範囲】
【請求項１】
搬送の対象となる基板を支持するローラ部と、前記ローラ部の中心を貫通して前記ローラ部に固定された回転軸と、前記回転軸の一方端側に設けられた第１磁気部材とを有する複数の搬送ローラと、
前記各搬送ローラの回転軸の他方端側を回転自在に支持する第１支持手段と、
前記第１磁気部材との対向面が同一極性とされ、前記第１磁気部材に対して少なくとも下方側から対向する第２磁気部材が設けられ、基板搬送方向に直交する方向における基板の中央寄りに配置された前記各搬送ローラの回転軸の前記一方端側を、前記第１磁気部材と第２磁気部材との間の反発力により回転自在に支持する第２支持手段と、
前記複数の搬送ローラの回転軸の他方端側に回転駆動力を供給する回転駆動手段とを備え、
前記搬送ローラは、前記基板搬送方向に直交する方向における基板両端部位置に配設され、隣り合う搬送ローラとは基板搬送方向に一定間隔を空けて配置されている基板搬送装置。
【請求項２】
前記第２支持手段の前記第２磁気部材は、前記第１磁気部材の全周を覆うように設けられている請求項１に記載の基板搬送装置。
【請求項３】
前記第２磁気部材は、前記第１磁気部材に上方側から対向する上部部材と、当該上部部材とは別個の部材とされ、前記第１磁気部材に下方側から対向する下部部材とを有し、これら上部部材及び下部部材は、一方の部材が他方の部材に取り付けられて前記第１磁気部材の全周を覆う状態となり、一方の部材の他方の部材に対する取付位置を可変させることで当該両部材の間隔が変更される請求項２に記載の基板搬送装置。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれかに記載の基板搬送装置と、
前記搬送ローラによって搬送される基板に対して気体を噴射する気体噴射手段とを備える基板乾燥装置。
【請求項５】
前記気体噴射手段には、基板の搬送方向に交差する方向に延びるスリット状の噴射口を有するエアナイフノズルが設けられている請求項４に記載の基板乾燥装置。
【請求項１】
搬送の対象となる基板を支持するローラ部と、前記ローラ部の中心を貫通して前記ローラ部に固定された回転軸と、前記回転軸の一方端側に設けられた第１磁気部材とを有する複数の搬送ローラと、
前記各搬送ローラの回転軸の他方端側を回転自在に支持する第１支持手段と、
前記第１磁気部材との対向面が同一極性とされ、前記第１磁気部材に対して少なくとも下方側から対向する第２磁気部材が設けられ、基板搬送方向に直交する方向における基板の中央寄りに配置された前記各搬送ローラの回転軸の前記一方端側を、前記第１磁気部材と第２磁気部材との間の反発力により回転自在に支持する第２支持手段と、
前記複数の搬送ローラの回転軸の他方端側に回転駆動力を供給する回転駆動手段とを備え、
前記搬送ローラは、前記基板搬送方向に直交する方向における基板両端部位置に配設され、隣り合う搬送ローラとは基板搬送方向に一定間隔を空けて配置されている基板搬送装置。
【請求項２】
前記第２支持手段の前記第２磁気部材は、前記第１磁気部材の全周を覆うように設けられている請求項１に記載の基板搬送装置。
【請求項３】
前記第２磁気部材は、前記第１磁気部材に上方側から対向する上部部材と、当該上部部材とは別個の部材とされ、前記第１磁気部材に下方側から対向する下部部材とを有し、これら上部部材及び下部部材は、一方の部材が他方の部材に取り付けられて前記第１磁気部材の全周を覆う状態となり、一方の部材の他方の部材に対する取付位置を可変させることで当該両部材の間隔が変更される請求項２に記載の基板搬送装置。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれかに記載の基板搬送装置と、
前記搬送ローラによって搬送される基板に対して気体を噴射する気体噴射手段とを備える基板乾燥装置。
【請求項５】
前記気体噴射手段には、基板の搬送方向に交差する方向に延びるスリット状の噴射口を有するエアナイフノズルが設けられている請求項４に記載の基板乾燥装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【公開番号】特開２００７−１５３５４２（Ｐ２００７−１５３５４２Ａ）
【公開日】平成１９年６月２１日（２００７．６．２１）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００５−３５１８９１（Ｐ２００５−３５１８９１）
【出願日】平成１７年１２月６日（２００５．１２．６）
【出願人】（０００２０７５５１）大日本スクリーン製造株式会社 (2,640)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１９年６月２１日（２００７．６．２１）
【国際特許分類】
【出願日】平成１７年１２月６日（２００５．１２．６）
【出願人】（０００２０７５５１）大日本スクリーン製造株式会社 (2,640)
【Ｆターム（参考）】
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