基板搬送装置
【課題】検査等の処理の精度を維持しつつ、効率的な処理を行うことができる基板搬送装置を提供すること。
【解決手段】基板Ｗの撮像処理を施す光学ユニット１００と、基板Ｗを載置して、基板Ｗを搬送するステージ１１とを有するＦＰＤ検査装置１であって、ステージ１１の搬送方向Ｄに沿った外縁側に設けられ、搬送方向Ｄと平行に延びる搬送軸１３１に沿って基板Ｗを保持して搬送する第１搬送部１３２と、基板Ｗが光学ユニット１００にかかる領域で搬送方向Ｄと平行に延びる搬送軸１４１に沿って基板Ｗを保持して搬送し、第１搬送部１３２と比して高い移動分解能を有する第２搬送部１４２と、第１搬送部１３２および第２搬送部１４２における基板Ｗの搬送を制御する搬送制御部３５と、を備えた。
【解決手段】基板Ｗの撮像処理を施す光学ユニット１００と、基板Ｗを載置して、基板Ｗを搬送するステージ１１とを有するＦＰＤ検査装置１であって、ステージ１１の搬送方向Ｄに沿った外縁側に設けられ、搬送方向Ｄと平行に延びる搬送軸１３１に沿って基板Ｗを保持して搬送する第１搬送部１３２と、基板Ｗが光学ユニット１００にかかる領域で搬送方向Ｄと平行に延びる搬送軸１４１に沿って基板Ｗを保持して搬送し、第１搬送部１３２と比して高い移動分解能を有する第２搬送部１４２と、第１搬送部１３２および第２搬送部１４２における基板Ｗの搬送を制御する搬送制御部３５と、を備えた。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば、フラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）用のガラス基板や各種半導体基板やプリント基板などを搬送して検査する基板搬送装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、ガラス基板や各種半導体基板やプリント基板（以下、基板という）などの製造において、基板を搬送して検査等の処理を行う基板搬送装置がある。基板搬送装置は、撮像等によって基板の検査処理を行う検査処理部と、外部から検査処理部へ基板を搬送または検査処理部から外部へ基板を搬送する搬送ステージとを有する。
【０００３】
検査処理部は、例えば、基板の表面や裏面に照明光を当て、カメラでその反射光や透過光を取り込んで検査対象領域の全体画像を取得する検査であるマクロ検査や、顕微鏡等を用いて基板上の所定箇所の配線パターン等の拡大画像をカメラで取得する検査であるミクロ検査を行う。マクロ検査は、例えば、ラインセンサカメラによって取得された基板の全体画像を用いて、基板上の欠陥、塗布膜のムラや、基板上の傷等の確認を行う。また、ミクロ検査の一種として、例えば、基板上に形成されたフォトレジスト等の膜厚や各種配線パターンの膜厚、液晶層からの透過光の着色を行うカラーフィルタ上に形成された各種部材の膜厚の測定が挙げられる。膜厚の測定は、一般的に、光源から基板に入力した光から発光スペクトルを取得して得られた屈折率等の薄膜情報を用いて行われる。
【０００４】
搬送ステージは、基板を搬送する搬送面に複数の空気穴を有し、この空気穴から空気を吹き出すことによって基板を浮上させる浮上プレートと、基板を吸着保持する吸着パッドを有し、搬送方向に移動可能な搬送部とを備える。搬送部は、浮上プレートによって浮上した基板を、吸着パッドが吸着保持した状態で移動することで基板の搬送を行う。搬送部では、検査処理部の領域において、検査精度を維持するため、所定の等速性および移動分解能により高い精度の基板搬送が行われている。なお、基板の支持には、浮上プレートに代えて、搬送方向に沿って回転可能なフリーローラによって基板を支持する支持部材を用いる。
【０００５】
ところで、上述した搬送ステージとして、読取対象物を載置する載置台と、載置台を移動自在に支持するスライド部材と、スライド部材を移動させる駆動モータと、駆動モータを制御して載置台を少なくとも２つの異なる速度で移動させることが可能な制御ＣＰＵと、を備えた読取装置が開示されている（例えば、特許文献１を参照）。
【０００６】
また、液体を介して基板を露光するための露光光を射出する射出面を有する光学部材と、光学部材との間で液体を保持可能でかつ所定領域を移動可能な基板ステージと、光学部材との間で液体を保持する第１状態および保持しない第２状態とで移動速度が異なるように基板ステージの移動を制御する制御部と、を備えた露光装置が開示されている（例えば、特許文献２を参照）。
【０００７】
上述した特許文献１，２に示す読取装置および露光装置では、載置台および基板ステージに載置される対象物に応じて、移動速度を変えて搬送することができる。これにより、読取処理や露光処理を効率的に行うことが可能となる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００６−４７５２８号公報
【特許文献２】特開２００９−１８２１１０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
ところで、特許文献１が開示する読取装置にかかる搬送ステージを上述した基板搬送装置に適用した場合、基板搬送装置は、搬送による振動等の影響を考慮して、搬送経路全体として高精度の搬送を行う検査処理部に対応した一定の速度で基板を搬送する構成となる。しかしながら、搬送経路には、検査処理部に対応した速度よりも速い速度で基板を搬送可能な部分が含まれており、この搬送部分も一定の速度で基板を搬送すると、搬送における処理効率を低下させてしまうおそれがあった。また、特許文献２が開示する露光装置においても上述した基板搬送装置と同様に、搬送における処理効率を低下させてしまうおそれがあった。
【００１０】
本発明は、上記に鑑みてなされたものであり、検査等の処理の精度を維持しつつ、効率的な処理を行うことができる基板搬送装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明にかかる基板搬送装置は、搬送対象の基板に所定の処理を施す処理手段と、前記基板を載置して、該基板を搬送する搬送ステージとを有する基板搬送装置であって、前記搬送ステージの前記基板を搬送する搬送方向に沿った外縁側に設けられ、前記搬送方向と平行に延びる搬送軸に沿って前記基板を保持して搬送する第１搬送部と、前記処理手段が前記基板に対して処理を施す処理領域で前記搬送方向と平行に延びる搬送軸に沿って前記基板を保持して搬送し、前記第１搬送部と比して高い移動分解能を有する第２搬送部と、前記第１搬送部および前記第２搬送部における前記基板の搬送を制御する搬送制御部と、を備えたことを特徴とする。
【００１２】
また、本発明にかかる基板搬送装置は、上記の発明において、前記第２搬送部は、前記第１搬送部と比して高い等速性能を有することを特徴とする。
【００１３】
また、本発明にかかる基板搬送装置は、上記の発明において、前記搬送制御部は、前記第１搬送部に前記第２搬送部と比して大きい速度で前記基板を搬送させることを特徴とする。
【００１４】
また、本発明にかかる基板搬送装置は、上記の発明において、前記第２搬送部は、前記搬送ステージの外縁側であって、前記第１搬送部が設けられる外縁側と対向する外縁側に設けられることを特徴とする。
【００１５】
また、本発明にかかる基板搬送装置は、上記の発明において、前記第２搬送部は、前記搬送ステージの前記搬送方向に垂直な方向の中央部に設けられることを特徴とする。
【００１６】
また、本発明にかかる基板搬送装置は、上記の発明において、前記搬送ステージの外縁側であって、前記第１搬送部が設けられる外縁側と対向する外縁側に設けられ、前記搬送方向と平行に延びる搬送軸に沿って前記基板を保持して搬送する第３搬送部をさらに備え、前記第２搬送部は、前記第３搬送部と比して高い移動分解能を有することを特徴とする。
【００１７】
また、本発明にかかる基板搬送装置は、上記の発明において、前記第１搬送部は、外部から前記基板を受け入れる受入側搬送部と、前記受入側搬送部に対して前記搬送方向の下流側に設けられ、外部へ前記基板を払い出す払出側搬送部と有することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、搬送空間において基板を搬送する第１搬送部と、検査空間において基板を搬送し、第１搬送部と比して高い移動分解能を有する第２搬送部と、を別個独立に設け、それぞれの搬送形態に対応して駆動制御するようにしたので、検査等の処理の精度を維持しつつ、効率的な処理を行うことができるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】図１は、本発明の実施の形態１にかかるフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）検査装置の構成を模式的に示す上面図である。
【図２】図２は、本発明の実施の形態にかかるＦＰＤ検査装置の構成を模式的に示す側面図である。
【図３】図３は、本発明の実施の形態１にかかるＦＰＤ検査装置が行う搬送処理を示すフローチャートである。
【図４】図４は、本発明の実施の形態１にかかるＦＰＤ検査装置の搬送処理を説明するための図である。
【図５】図５は、本発明の実施の形態１にかかるＦＰＤ検査装置の搬送処理を説明するための図である。
【図６】図６は、本発明の実施の形態１にかかるＦＰＤ検査装置の搬送処理を説明するための図である。
【図７】図７は、本発明の実施の形態１にかかるＦＰＤ検査装置の搬送処理を説明するための図である。
【図８】図８は、本発明の実施の形態１の変形例１にかかるＦＰＤ検査装置の構成を模式的に示す上面図である。
【図９】図９は、本発明の実施の形態１の変形例２にかかるＦＰＤ検査装置の構成を模式的に示す上面図である。
【図１０】図１０は、本発明の実施の形態２にかかるＦＰＤ検査装置の構成を模式的に示す上面図である。
【図１１】図１１は、本発明の実施の形態２にかかるＦＰＤ検査装置が行う搬送処理を示すフローチャートである。
【図１２】図１２は、本発明の実施の形態２にかかるＦＰＤ検査装置の搬送処理を説明するための図である。
【図１３】図１３は、本発明の実施の形態２にかかるＦＰＤ検査装置の搬送処理を説明するための図である。
【図１４】図１４は、本発明の実施の形態２にかかるＦＰＤ検査装置の搬送処理を説明するための図である。
【図１５】図１５は、本発明の実施の形態３にかかるＦＰＤ検査装置の構成を模式的に示す上面図である。
【図１６】図１６は、本発明の実施の形態３にかかるＦＰＤ検査装置が行う搬送処理を示すフローチャートである。
【図１７】図１７は、本発明の実施の形態３にかかるＦＰＤ検査装置の搬送処理を説明するための図である。
【図１８】図１８は、本発明の実施の形態３にかかるＦＰＤ検査装置の搬送処理を説明するための図である。
【図１９】図１９は、本発明の実施の形態３にかかるＦＰＤ検査装置の搬送処理を説明するための図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下、本発明を実施するための形態を図面と共に詳細に説明する。なお、以下の実施の形態により本発明が限定されるものではない。また、以下の説明において参照する各図は、本発明の内容を理解し得る程度に形状、大きさ、および位置関係を概略的に示してあるに過ぎない。すなわち、本発明は各図で例示された形状、大きさ、および位置関係のみに限定されるものではない。
【００２１】
まず、本発明の実施の形態にかかる基板搬送装置について、図面を参照して詳細に説明する。なお、以下の説明では、基板搬送装置として基板の検査を行うフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）検査装置を例に挙げて説明する。ＦＰＤ検査装置は、製造装置等に直結するインライン型であってもよいし、カセット等の基板ストッカーと直接搬入出するオフライン型であってもよい。
【００２２】
（実施の形態１）
図１は、本実施の形態１にかかるＦＰＤ検査装置の概略構成を示す上面図である。図２は、本実施の形態１にかかるＦＰＤ検査装置の構成を模式的に示す側面図である。図１に示すように、ＦＰＤ検査装置１は、搬送された矩形をなす基板Ｗの画像取得を行う基板処理部２と、基板処理部２全体の制御を行う制御機構３と、を備える。また、基板処理部２は、基板Ｗの画像を取得する処理手段としての光学ユニット１００を保持するガントリステージ１０と、基板Ｗを載置して搬送するステージ１１と、を備える。
【００２３】
ガントリステージ１０およびステージ１１は、たとえば図１，２に示すような架台１２に固定される。架台１２は、たとえばブロック状の大理石やスチール材を組み合わせたフレームなど、耐震性の高い部材によって構成される。加えて、架台１２と設置面（たとえば床）との間には、たとえばスプリングや油圧ダンパなどで構成された振動吸収機構１２ａが設けられる。これにより、ガントリステージ１０およびステージ１１の振動がさらに防止される。
【００２４】
光学ユニット１００は、ステージ１１が形成する搬送経路上に設定された、ステージ１１の幅方向に平行な検査ラインＬ１を通過する基板Ｗを、顕微鏡１０１を介して撮像する図示しない撮像部を有する。この光学ユニット１００によって取得された画像（高倍率画像）を解析することで、基板Ｗに欠陥が存在するか否かを検出することができる。また、図示しない照明部が基板Ｗに対して傾斜した光を基板Ｗに照射して、顕微鏡１０１がこの反射光を取得し、取得した反射光から得られる画像データをもとに、検査部３３が基板Ｗ上に形成された膜の膜厚測定を行う。また、光学ユニット１００は、検査ラインＬ１に沿って移動することが可能である。なお、上述した構成は、光学ユニット１００と基板Ｗとを相対的に移動させる構成であれば他の構成であってもよい。例えば、基板Ｗをステージ１１の上に固定し、光学ユニット１００を基板Ｗの平面上を走査するように構成してもよい。なお、本説明では、光学ユニット１００（ガントリステージ１０）が設けられる領域を検査空間ＰＲ１という。また、検査空間ＰＲ１以外の領域を搬送空間ＴＲ１，ＴＲ２という。
【００２５】
照明部は、光学ユニット１００内から基板Ｗに向けて照明光を照明する落射照明光、または基板Ｗの光学ユニット１００側と反対方向から基板Ｗに向けて照明光を照射する透過照明光を照射する。照明部は、光学ユニット１００の外部、例えば、ステージ１１の検査ラインＬ１に沿って照明光を照射可能に設けられる。この照明部は、光学ユニット１００の移動に伴って移動するものであってもよいし、検査ラインＬ１に沿って延びる照明部材によって構成されるものであってもよい。
【００２６】
また、光学ユニット１００は、たとえば基板Ｗの欠陥部分に対して行うレーザ照射修復や塗布修正等の修復ユニット、観察・画像保存する撮像ユニット、配線等の寸法測定、膜厚測定、色測定などを行う測定ユニットなどの処理を所定の位置で施す他の処理ユニットに適宜置き替えることができる。すなわち、処理ユニットには、光学ユニット、修復ユニット、撮像ユニット、露光ユニット、測定ユニット等が含まれる。また、本実施の形態にかかるＦＰＤ検査装置１は、基板Ｗを載置するステージ上で、上述した処理ユニットが基板に対して各処理を行う構成も含んでもよい。
【００２７】
ステージ１１は、例えば基板Ｗの搬送方向Ｄに沿って延びる板状をなす。ステージ１１には、図示しないエア供給部からのエアの供給によって鉛直上方に向けてエアを吹き出す複数の吹出穴が設けられる。この吹出穴から吹き出されるエアによって、ステージ１１上に載置された基板Ｗはステージ１１の上面から浮上して支持される。なお、光学ユニット１００の光源がステージ１１の下方にある場合、ステージは、光源からの光を透過できる透明部材からなることが好ましい。
【００２８】
ここで、ステージ１１に搬送された基板Ｗは、所定の位置に載置されるように位置決めされる。基板Ｗの位置決め方法としては、ステージ１１上に搬入された基板Ｗを支持してステージ１１に載置するリフトピン、およびステージ１１に載置された基板Ｗを整列させる整列機構等を用いる方法が挙げられる。
【００２９】
なお、ステージ１１は、上面で基板Ｗを保持し、搬送方向Ｄに沿って回転可能な支持手段としてのフリーローラによって支持されるものであってもよい。
【００３０】
また、ステージ１１の搬送方向Ｄに平行な方向の外縁側には、搬送方向Ｄに駆動し、基板Ｗを吸着保持して搬送する第１基板搬送機構１３および第２基板搬送機構１４がそれぞれ設けられる。
【００３１】
第１基板搬送機構１３は、ステージ１１の搬送方向Ｄに沿った外縁側に設けられ、搬送方向Ｄに平行な搬送軸１３１上を移動する第１搬送部１３２を有する。第１搬送部１３２は、搬送方向Ｄに沿って複数設けられ、図示しないポンプによる吸気によって基板Ｗを吸着保持する吸着パッド１３３を保持する。各吸着パッド１３３は、第１搬送部１３２の移動方向に垂直な方向に昇降可能（図１の紙面に垂直な方向に移動可能）である。また、搬送軸１３１は、ステージ１１の搬送方向と平行に延び、検査空間ＰＲ１および搬送空間ＴＲ１，ＴＲ２を含む領域に配設されている。第１基板搬送機構１３は、搬送軸１３１としてベルトが用いられることによって実現される。なお、第１基板搬送機構１３は、ベルトのほか、ラックアンドピニオン、移動分解能の低いリニアモータとリニアモータガイドによる構成を用いても実現可能である。
【００３２】
第２基板搬送機構１４は、ステージ１１の外縁側であって、ステージ１１が設けられる外縁側と対向する外縁側に設けられ、搬送方向Ｄに平行な搬送軸１４１上を移動する第２搬送部１４２を有する。第２搬送部１４２は、搬送方向Ｄに沿って複数設けられ、図示しないポンプによる吸気によって基板Ｗを吸着保持する吸着パッド１４３を保持する。各吸着パッド１４３は、第２搬送部１４２の移動方向に垂直な方向に昇降可能（図１の紙面に垂直な方向に移動可能）である。また、搬送軸１４１は、ステージ１１の搬送方向と平行に延び、検査空間ＰＲ１を含む領域に配設されている。第２基板搬送機構１４は、第１基板搬送機構１３と比して高い移動分解能を有する。例えば、搬送軸１４１としてリニアモータガイドを用いるとともに、第２搬送部１４２として第１搬送部１３２よりも高い移動分解能を有するリニアモータを用いることによって実現される。なお、第２基板搬送機構１４は、第１基板搬送機構１３と比して高い移動分解能を有する搬送機構であればよく、リニアモータおよびリニアモータガイドのほか、ボールねじを用いた構成など、直進移動可能なアクチュエータであれば公知の如何なる構成によっても実現可能である。
【００３３】
第２搬送部１４２は、第１搬送部１３２と比して高い移動分解能および等速性能を有する。このため、第２搬送部１４２は、光学ユニット１００の処理速度に対応した速度の搬送に適している。一方、第１搬送部１３２は、第２搬送部１４２より速く搬送するのに適している。ここで、移動分解能は、１パルス当たりの移動量で定義される。すなわち、移動分解能は、１パルス当たりの移動量を詳細に設定できるほど高い。等速性能は、速度の揺らぎが小さいほど高い。
【００３４】
また、ＦＰＤ検査装置１が、少なくとも基板処理部２を囲み、光学ユニット１００の上方に設けられるクリーンな空気（以下、クリーンエアという）を送り込むＦＦＵを有する外装を備えていれば、クリーンルームを形成することができるので好ましい。このクリーンルームは、基板の搬入口および搬出口ならびに下部のダクト以外、密閉された内部空間である。
【００３５】
ＦＦＵは、例えば、パーティクルなどのダストが除去されたクリーンエアを送出する。この結果、特に光学ユニット１００の移動領域を、ダストの少ないクリーンな状態とする。また、光学ユニット１００近傍に集中して送出されたクリーンな空気は、クリーンルーム内でダウンフローを形成したのち、排気口から排気される。
【００３６】
制御機構３は、制御部３０、入力部３１、出力部３２、検査部３３および記憶部３４を備える。制御機構３は、ＲＯＭ、ＲＡＭ、通信機能等を備えたコンピュータで実現される。
【００３７】
制御部３０は、ＦＰＤ検査装置１全体の制御を行う。また、制御部３０は、第１基板搬送機構１３および第２基板搬送機構１４を制御して基板の搬送を制御する搬送制御部３５を有する。搬送制御部３５は、搬送機構（第１，２基板搬送機構）から適宜座標を取得して、搬送機構による基板搬送の制御を行う。
【００３８】
入力部３１は、キーボード、マウス、タッチパネル、ボタン等を用いて構成され、検体の分析に必要な諸情報や分析動作の指示情報等を外部から入力する。出力部３２は、ディスプレイ等を用いて構成される。
【００３９】
検査部３３は、光学ユニット１００によって取得された画像またはそのスペクトルをもとに基板Ｗの測定および／または検査を行う。
【００４０】
記憶部３４は、情報を磁気的に記憶するハードディスクと、ＦＰＤ検査装置１が処理を実行する際にその処理にかかわる、本実施の形態にかかる検査プログラムを含む各種プログラムをハードディスクからロードして電気的に記憶するメモリとを用いて構成される。
【００４１】
上述したＦＰＤ検査装置１では、外部からステージ１１に搬入された基板Ｗに対して、制御部３０の制御のもと、基板Ｗの載置位置の調整を行なった後、第１基板搬送機構１３によって外部から受け入れた基板Ｗを吸着保持して搬送方向Ｄに搬送し、第２基板搬送機構１４によって搬送方向Ｄに搬送される基板Ｗに対して光学ユニット１００が基板Ｗの欠陥検査等を行う。
【００４２】
図３は、本実施の形態にかかるＦＰＤ検査装置１が行う搬送処理を示すフローチャートである。まず、搬送制御部３５は、第１搬送部１３２を基板受入位置に移動させる（ステップＳ１０２）。ここで、基板受入位置は、外部からの基板Ｗを受け入れるための位置であって、例えば、搬送軸１３１における搬送空間ＴＲ１の検査空間ＰＲ１側と異なる側の端部側に設けられる。
【００４３】
第１搬送部１３２を基板受入位置に移動させると、搬送制御部３５は、第１搬送部１３２の吸着パッド１３３を駆動して基板Ｗの受け入れを行う（ステップＳ１０４）。第１搬送部１３２は、吸着パッド１３３によって基板Ｗを吸着保持する（ステップＳ１０６）。
【００４４】
吸着パッド１３３によって基板Ｗが保持されると、図４に示すように、搬送制御部３５は、第１搬送部１３２を駆動して基板Ｗを第１基板受渡位置に移動させる（ステップＳ１０８）。ここで、第１基板受渡位置は、第２搬送部１４２が、搬送空間ＴＲ１において基板Ｗを搬送した第１搬送部１３２から基板Ｗの受渡しを行うための位置であって、例えば、搬送軸１３１における検査空間ＰＲ１の搬送空間ＴＲ１側の端部側に設けられる。このとき、第１搬送部１３２は、搬送方向Ｄに対する後方側の端部が検査空間ＰＲ１と搬送空間ＴＲ１との境界に位置する。
【００４５】
第１搬送部１３２が第１基板受渡位置に移動すると、搬送制御部３５は、第１搬送部１３２（吸着パッド１３３）が保持する基板Ｗを第２搬送部１４２（吸着パッド１４３）に受け渡す処理を行う（ステップＳ１１０）。ここで、基板Ｗの受渡し処理では、第２搬送部１４２が吸着パッド１４３によって基板Ｗを吸着保持した後、第１搬送部１３２の吸着パッド１３３の吸着保持を解除することによって第１搬送部１３２から第２搬送部１４２に基板Ｗが受け渡される。
【００４６】
第２搬送部１４２によって基板Ｗが保持されると、搬送制御部３５は、図５に示すように、第２搬送部１４２を駆動して基板Ｗを移動させる。この移動に伴って制御部３０は、光学ユニット１００を駆動して、基板Ｗの画像取得を行う。制御部３０は、光学ユニット１００によって取得した画像を検査部３３に出力し、検査部３３に測定および／または検査を行わせる（ステップＳ１１２）。
【００４７】
このとき、第１搬送部１３２は、搬送制御部３５の制御のもと、搬送軸１３１上を移動して、第２基板受渡位置に配置される。ここで、第２基板受渡位置は、第１搬送部１３２が検査空間ＰＲ１において基板Ｗを搬送した第２搬送部１４２から基板Ｗの受渡しを行うための位置であって、例えば、搬送軸１３１における検査空間ＰＲ１の搬送空間ＴＲ２側の端部側に設けられる。このとき、第１搬送部１３２は、搬送方向Ｄに対する前方側の端部が検査空間ＰＲ１と搬送空間ＴＲ２との境界に位置する。なお、第１搬送部１３２が基板Ｗの下部を通過する際、搬送制御部３５が、吸着パッド１３３の吸着面が基板Ｗと接触しないよう吸着パッド１３３を下降させることが好ましい。
【００４８】
第２搬送部１４２の移動に伴う基板検査処理が終了すると、第２搬送部１４２は、第２基板受渡位置に位置する。ここで、図６に示すように、待機している第１搬送部１３２に再び基板を受け渡す基板受渡し処理を行う（ステップＳ１１４）。この基板受渡し処理では、第１搬送部１３２が吸着パッド１３３によって基板Ｗを吸着保持した後、第２搬送部１４２の吸着パッド１４３の吸着保持を解除することによって第２搬送部１４２から第１搬送部１３２に基板Ｗが受け渡される。
【００４９】
ステップＳ１１４において、第１搬送部１３２が検査空間ＰＲ１を通過した基板を保持すると、搬送制御部３５は、図７に示すように、第１搬送部１３２を基板払出位置に移動させる（ステップＳ１１６）。ここで、基板払出位置は、光学ユニット１００による撮像処理の終了した基板Ｗを外部への払い出すための位置であって、例えば、搬送軸１３１における搬送空間ＴＲ２の検査空間ＰＲ１側と異なる側の端部に設けられる。
【００５０】
基板Ｗを保持した第１搬送部１３２が基板払出位置に到達すると、外部の搬送機構によって、基板Ｗが外部に搬送される（ステップＳ１１８）。基板Ｗの払出し後、次の検査対象基板がある場合（ステップＳ１２０：Ｙｅｓ）、制御部３０は、ステップＳ１０２に移行して、次の基板に対して上述した処理を繰り返す。また、次の検査対象基板がない場合（ステップＳ１２０：Ｎｏ）、制御部３０は、基板の搬送処理を終了する。
【００５１】
上述した本実施の形態１によれば、搬送空間において基板を搬送する第１搬送部と、検査空間において基板を搬送し、第１搬送部と比して高い移動分解能を有する第２搬送部と、を別個独立に設け、それぞれの搬送形態に対応して駆動制御するようにしたので、検査精度を維持しつつ、効率的な処理を行うことを可能とする。
【００５２】
また、本実施の形態１では、高価なリニアモータおよびリニアモータガイドは、検査空間にかかる領域のみで使用し、搬送空間においては、安価なベルト等の構成で基板を搬送するようにしたので、安価に製造し、かかるＦＰＤ検査装置の製造コストを抑制することができる。
【００５３】
なお、上述した実施の形態１において、順次送られる基板のうち、画像を取得する必要のない基板がある場合は、第１搬送部１３２が搬送空間ＴＲ１から搬送空間ＴＲ２まで基板Ｗを搬送する。この場合においても、比較的高速で移動する第１搬送部１３２が基板受入位置から基板払出位置まで基板Ｗを搬送するため、効率的に基板の搬送処理を行うことができる。
【００５４】
図８は、本実施の形態１の変形例１にかかるＦＰＤ検査装置１ａの構成を模式的に示す上面図である。変形例１にかかる基板処理部２ａは、基板Ｗの高倍率画像を取得する高倍画像取得部としての光学ユニット１００を保持するガントリステージ１０のほか、照明部材１５およびラインセンサカメラ１６を有し、基板Ｗの全体画像を取得する全体画像取得部１７を備える。また、制御機構３ａは、上述した入力部３１、出力部３２および記憶部３４のほか、全体画像取得部１７を含むＦＰＤ検査装置１ａの制御を行う制御部３０ａと、基板Ｗの搬送処理の制御を行なう搬送制御部３５ａと、光学ユニット１００および全体画像取得部１７から取得した画像の測定および／または検査を行う検査部３３ａと、を備える。
【００５５】
全体画像取得部１７は、搬送方向Ｄと直交する方向であるステージ１１の幅方向に延び、基板Ｗを照明する線状光源を有する照明部材１５と、照明部材１５からの照明光の反射光を取り込んで、基板Ｗの全体画像を取得するラインセンサカメラ１６とを有する。ラインセンサカメラ１６は、基板Ｗが反射した照明部材１５からの反射光を取り込める位置に配設される。
【００５６】
なお、ラインセンサカメラ１６は、照明部材１５が照射する照射光に対して、正反射光を取得するものであってよいし、散乱光を取得するものであってもよい。取得する光に応じてラインセンサカメラの位置、角度は適宜変更可能である。
【００５７】
上述した変形例１にかかるＦＰＤ検査装置１ａでは、外部からステージ１１に搬入された基板Ｗに対して、制御部３０ａの制御のもと、基板Ｗの載置位置の調整を行なった後、吸着パッド１３３によって基板Ｗを吸着保持して搬送方向Ｄに搬送して、全体画像取得部１７で全体画像を取得し、光学ユニット１００によって基板Ｗの欠陥検査等を行う。このとき、第１搬送部１３２は、搬送制御部３５ａの制御のもと、基板Ｗを、全体画像取得部１７を通過させた後に、再度ステージ１１の搬入位置まで戻って第２搬送部１４に基板を受渡し、第２搬送部１４が基板Ｗを搬送方向Ｄに移動させて光学ユニット１００による欠陥検査を行う。なお、全体画像取得部１７から光学ユニット１００までの距離が、基板Ｗに対して十分長い場合は、全体画像取得部１７による全体画像の取得後、基板Ｗを戻さずに光学ユニット１００による欠陥検査を行うことができる。
【００５８】
また、全体画像取得部１７の画像取得において、第１搬送部１３２の移動速度および移動分解能であっても画像が取得できる場合、第１搬送部１３２は、第２搬送部１４２へ基板Ｗの受渡しを行わずに、基板Ｗを搬送してもよい。このとき、第１搬送部１３２により一定の速度で基板Ｗを搬送空間ＴＲ１から搬送空間ＴＲ２にかけて移動させるとともに、全体画像取得部１７による画像取得が行われる。
【００５９】
図９は、本実施の形態１の変形例２にかかるＦＰＤ検査装置１ｂの構成を模式的に示す上面図である。変形例２にかかる基板処理部２ｂは、上述した第１基板搬送機構１３のほか、ステージ１１の幅方向（搬送方向Ｄに垂直な方向）の中央部に設けられ、検査空間ＰＲ１において基板Ｗの搬送を行う第２基板搬送機構１８を備える。また、制御機構３ｂは、上述した入力部３１、出力部３２、検査部３３および記憶部３４のほか、第２搬送機構１８を含むＦＰＤ検査装置１ｂの制御を行う制御部３０ｂと、基板Ｗの搬送処理の制御を行なう搬送制御部３５ｂと、を備える。
【００６０】
第２基板搬送機構１８は、搬送方向Ｄに平行な搬送軸１８１上を移動する第２搬送部１８２を有する。第２搬送部１８２は、搬送方向Ｄに沿って複数設けられ、図示しないポンプによる吸気によって基板Ｗを吸着保持する吸着パッド１８３を保持する。各吸着パッド１８３は、第２搬送部１８２の移動方向に垂直な方向に昇降可能（図９の紙面に垂直な方向に移動可能）である。また、搬送軸１８１は、ステージ１１の搬送方向と平行に延び、検査空間ＰＲ１を含む領域に配設されている。第２基板搬送機構１８は、搬送軸１８１としてリニアモータガイドを用いるとともに、第２搬送部１８２としてリニアモータを用いることによって実現される。なお、第２基板搬送機構１８は、リニアモータおよびリニアモータガイドのほか、ボールねじを用いた構成によっても実現可能である。なお、第２搬送部１８２は、上述した第２搬送部１４２と同一の移動分解能および等速性能で基板を搬送する。
【００６１】
変形例２にかかるＦＰＤ検査装置１ｂによれば、第２基板搬送機構１８がステージ１１の幅方向の中央に設けられることによって、ステージ１１に搬入された基板Ｗの重心位置を含む領域を保持することが可能となり、安定した基板搬送を行うことができる。また、上述した実施の形態１と異なり、ステージ１１の搬送方向Ｄと平行な側の端部に第２搬送機構が配設されないため、ステージの幅方向（搬送方向Ｄに垂直な方向）で省スペース化することができる。
【００６２】
（実施の形態２）
図１０は、本実施の形態２にかかるＦＰＤ検査装置の概略構成を示す上面図である。図１０に示すように、ＦＰＤ検査装置１ｃは、搬送された矩形をなす基板Ｗの画像取得を行う基板処理部２ｃと、基板処理部２ｃ全体の制御を行う制御機構３ｃと、を備える。本実施の形態２にかかる基板処理部２ｃは、上述した第１基板搬送機構１３および第２基板搬送機構１８のほか、ステージ１１の外縁側であって、ステージ１１が設けられる外縁側と対向する外縁側に設けられ、搬送方向Ｄに沿って基板Ｗを搬送する第３基板搬送機構１９を備える。また、制御機構３ｃは、上述した入力部３１、出力部３２、検査部３３および記憶部３４のほか、第３基板搬送機構１９を含む基板処理部２ｃの制御を行う制御部３０ｃと、基板Ｗの搬送処理の制御を行なう搬送制御部３５ｃと、を備える。
【００６３】
第３基板搬送機構１９は、搬送方向Ｄに平行な搬送軸１９１上を移動する第３搬送部１９２を有する。第３搬送部１９２は、搬送方向Ｄに沿って複数設けられ、図示しないポンプによる吸気によって基板Ｗを吸着保持する吸着パッド１９３を保持する。各吸着パッド１９３は、第３搬送部１９２の移動方向に垂直な方向に昇降可能（図１０の紙面に垂直な方向に移動可能）である。また、搬送軸１９１は、ステージ１１の搬送方向と平行に延び、検査空間ＰＲ１および搬送空間ＴＲ１，ＴＲ２を含む領域に配設されている。第３基板搬送機構１９は、搬送軸１９１としてベルトが用いられることによって実現される。なお、第３基板搬送機構１９は、ベルトのほか、ラックアンドピニオンを用いても実現可能である。
【００６４】
ここで、第３搬送部１９２は、第１搬送部１３２と同様に、第２搬送部１８２と比して高い速度で基板Ｗの搬送を行う。このとき、第３搬送部１９２は、第１搬送部１３２と同じ速度で基板Ｗを搬送することが好ましい。
【００６５】
図１１は、本実施の形態にかかるＦＰＤ検査装置１ｃが行う搬送処理を示すフローチャートである。まず、搬送制御部３５ｃは、第１搬送部１３２を基板受入れ位置に移動させる（ステップＳ２０２）。第１搬送部１３２を基板受入位置に移動させると、搬送制御部３５ｃは、第１搬送部１３２の吸着パッド１３３を駆動して基板Ｗ１の受け入れを行う（ステップＳ２０４）。第１搬送部１３２は、吸着パッド１３３によって基板Ｗ１を吸着保持する（ステップＳ２０６）。
【００６６】
第１搬送部１３２によって基板Ｗ１が保持されると、搬送制御部３５ｃは、光学ユニット１００による撮像処理等が行われている状態（検査中の状態）であるか否かを判断する（ステップＳ２０８）。ここで、搬送制御部３５ｃは、検査中であると判断した場合（ステップＳ２０８：Ｙｅｓ）、再度検査中であるか否かの判断を行い、検査中の状態が解除されるまで判断処理を繰り返す。
【００６７】
また、搬送制御部３５ｃは、検査中でないと判断した場合（ステップＳ２０８：Ｎｏ）、第１搬送部１３２を駆動して基板Ｗ１を第１基板受渡位置に移動させる（ステップＳ２１０）。第１搬送部１３２が第１基板受渡位置に移動すると、搬送制御部３５ｃは、図１２に示すように、第１搬送部１３２が保持する基板Ｗ１を第２搬送部１８２に受け渡す処理を行う（ステップＳ２１２）。ここで、基板Ｗ１の受渡し処理では、第２搬送部１８２が吸着パッド１８３によって基板Ｗ１を吸着保持した後、第１搬送部１３２の吸着パッド１３３の吸着保持を解除することによって第１搬送部１３２から第２搬送部１８２に基板Ｗ１が受け渡される。
【００６８】
第２搬送部１８２によって基板Ｗ１が保持されると、搬送制御部３５ｃは、第２搬送部１８２を駆動して基板Ｗ１を移動させる。この移動に伴って制御部３０ｃは、光学ユニット１００を駆動して、基板Ｗ１の画像取得を行う。制御部３０ｃは、光学ユニット１００によって取得した画像を検査部３３に出力し、検査部３３に測定および／または検査を行わせる（ステップＳ２１４）。
【００６９】
このとき、第１搬送部１３２は、搬送制御部３５ｃの制御のもと、搬送軸１３１上を移動して、第２基板受渡位置に配置される。第２搬送部１８２の移動に伴う基板検査処理が終了すると、第２搬送部１８２は、第２基板受渡位置に移動する。ここで、第２搬送部１８２は、図１３に示すように、待機している第１搬送部１３２に再び基板を受け渡す基板受渡し処理を行う（ステップＳ２１６）。この基板受渡し処理では、第１搬送部１３２が吸着パッド１３３によって基板Ｗ１を吸着保持した後、第２搬送部１８２の吸着パッド１８３の吸着保持を解除することによって第２搬送部１８２から第１搬送部１３２に基板Ｗ１が受け渡される。
【００７０】
ステップＳ２１６において、第１搬送部１３２が検査空間ＰＲ１を通過した基板を保持すると、搬送制御部３５ｃは、図１４に示すように、第１搬送部１３２を基板払出位置に移動させる（ステップＳ２１８）。基板Ｗ１を保持した第１搬送部１３２が基板払出位置に到達すると、外部の搬送機構によって、基板Ｗ１が外部に搬送される（ステップＳ２２０）。
【００７１】
基板Ｗ１の払出し後、次に第１基板搬送機構１３が搬送処理を行う検査対象基板がある場合（ステップＳ２２２：Ｙｅｓ）、制御部３０ｃは、ステップＳ２０２に移行して、次の基板に対して上述した処理を繰り返す。また、次に第１基板搬送機構１３が搬送処理を行う検査対象基板がない場合（ステップＳ２２２：Ｎｏ）、制御部３０ｃは、基板の搬送処理を終了する。
【００７２】
一方、ステップＳ２１６において、基板Ｗ１の基板検査処理中、搬送制御部３５ｃは、第３搬送部１９２を基板受入れ位置に移動させる（ステップＳ２２４）。ここで、基板受入位置は、外部からの基板Ｗ２を受け入れるための位置であって、例えば、搬送軸１９１における搬送空間ＴＲ１の検査空間ＰＲ１側と異なる側の端部側（ステージを介して対向する位置）に設けられる。
【００７３】
第３搬送部１９２を受入位置に移動させると、搬送制御部３５ｃは、図１４に示すように、第３搬送部１９２の吸着パッド１９３を駆動して基板Ｗ２の受け入れを行う（ステップＳ２２６）。第３搬送部１９２は、吸着パッド１９３によって基板Ｗ２を吸着保持する（ステップＳ２２８）。
【００７４】
第３搬送部１９２によって基板Ｗ２が保持されると、搬送制御部３５ｃは、光学ユニット１００による撮像処理等が行われている状態（検査中の状態）であるか否かを判断する（ステップＳ２３０）。ここで、搬送制御部３５ｃは、検査中であると判断した場合（ステップＳ２３０：Ｙｅｓ）、再度検査中であるか否かの判断を行い、検査中の状態が解除されるまで判断処理を繰り返す。
【００７５】
また、搬送制御部３５ｃは、検査中でないと判断した場合（ステップＳ２３０：Ｎｏ）、第３搬送部１９２を駆動して基板Ｗ２を第３基板受渡位置に移動させる（ステップＳ２３２）。ここで、第３基板受渡位置は、第２搬送部１８２が搬送空間ＴＲ１において基板Ｗ２を搬送した第３搬送部１９２から基板Ｗ２の受渡しを行うための位置であって、例えば、搬送軸１９１における検査空間ＰＲ１の搬送空間ＴＲ１側の端部側に設けられる。このとき、第３搬送部１９２は、搬送方向Ｄに対する後方側の端部が検査空間ＰＲ１と搬送空間ＴＲ１との境界に位置する。
【００７６】
第３搬送部１９２が第３基板受渡位置に移動すると、搬送制御部３５ｃは、第３搬送部１９２が保持する基板Ｗ２を第２搬送部１８２に受け渡す処理を行う（ステップＳ２３４）。ここで、基板Ｗ２の受渡し処理では、第２搬送部１８２が吸着パッド１８３によって基板Ｗ２を吸着保持した後、第３搬送部１９２の吸着パッド１９３の吸着保持を解除することによって第３搬送部１９２から第２搬送部１８２に基板Ｗ２が受け渡される。
【００７７】
第２搬送部１８２によって基板Ｗ２が保持されると、搬送制御部３５ｃは、第２搬送部１８２を駆動して基板Ｗ２を移動させる。この移動に伴って制御部３０ｃは、光学ユニット１００を駆動して、基板Ｗ２の画像取得を行う。制御部３０ｃは、光学ユニット１００によって取得した画像を検査部３３に出力し、検査部３３に測定および／または検査を行わせる（ステップＳ２３６）。
【００７８】
このとき、第３搬送部１９２は、搬送制御部３５ｃの制御のもと、搬送軸１９１上を移動して、第４基板受渡位置に配置される。ここで、第４基板受渡位置は、第３搬送部１９２が検査空間ＰＲ１において基板Ｗ２を搬送した第２搬送部１８２から基板Ｗ２の受渡しを行うための位置であって、例えば、搬送軸１９１における検査空間ＰＲ１の搬送空間ＴＲ２側の端部側に設けられる。このとき、第３搬送部１９２は、搬送方向Ｄに対する前方側の端部が検査空間ＰＲ１と搬送空間ＴＲ２との境界に位置する。
【００７９】
第２搬送部１８２の移動に伴う基板検査処理が終了すると、第２搬送部１８２は、第２基板受渡位置に移動する。ここで、第２搬送部１８２は、待機している第３搬送部１９２に再び基板Ｗ２を受け渡す基板受渡し処理を行う（ステップＳ２３８）。この基板受渡し処理では、第３搬送部１９２が吸着パッド１９３によって基板Ｗ２を吸着保持した後、第２搬送部１８２の吸着パッド１８３の吸着保持を解除することによって第２搬送部１８２から第３搬送部１９２に基板Ｗ２が受け渡される。
【００８０】
ステップＳ２３８において、第３搬送部１９２が検査空間ＰＲ１を通過した基板Ｗ２を保持すると、搬送制御部３５ｃは、第３搬送部１９２を基板払出位置に移動させる（ステップＳ２４０）。ここで、基板払出位置は、光学ユニット１００による撮像処理の終了した基板Ｗ２を外部への払い出すための位置であって、例えば、搬送軸１９１における搬送空間ＴＲ２の検査空間ＰＲ１側と異なる側の端部に設けられる。
【００８１】
基板Ｗ２を保持した第３搬送部１９２が基板払出位置に到達すると、外部の搬送機構によって、基板Ｗ２が外部に搬送される（ステップＳ２４２）。基板Ｗ２の払出し後、次に第３基板搬送機構１９が搬送処理を行う検査対象基板がある場合（ステップＳ２４４：Ｙｅｓ）、制御部３０ｃは、ステップＳ２２４に移行して、次の基板に対して上述した処理を繰り返す。また、次に第３基板搬送機構１９が搬送処理を行う検査対象基板がない場合（ステップＳ２４４：Ｎｏ）、制御部３０ｃは、基板の搬送処理を終了する。
【００８２】
上述した本実施の形態２によれば、上述した実施の形態１と同様、搬送空間において基板を搬送する第１，３搬送部と、検査空間において基板を搬送し、第１，３搬送部と比して高い移動分解能を有する第２搬送部と、を別個独立に設け、それぞれの搬送形態に対応して駆動制御するようにしたので、検査精度を維持しつつ、効率的な処理を行うことを可能とする。
【００８３】
また、上述した実施の形態２では、ステージ上に１または複数の基板が順次載置され、この基板を２つの搬送機構（第１，３基板搬送機構）で連続的に搬送して検査を行うため、処理の効率を一段と向上させることが可能となる。
【００８４】
なお、検査空間ＰＲ１の搬送方向Ｄの長さが、検査対象の基板に対して十分な長さ、具体的には、基板２枚以上の長さである場合、第２搬送部を搬送方向に対して垂直な方向に２つ設け、より搬送ピッチを狭めて搬送処理を行ってもよい。２つの第２搬送部は、順次搬送される基板に対して交互に搬送する。これにより、ステージ１１上に３以上の基板を載置して処理することができ、一段と効率的に処理して、処理時間を短縮することが可能となる。
【００８５】
（実施の形態３）
図１５は、本実施の形態３にかかるＦＰＤ検査装置の概略構成を示す上面図である。図１５に示すように、ＦＰＤ検査装置１ｄは、搬送された矩形をなす基板Ｗの画像取得を行う基板処理部２ｄと、基板処理部２ｄ全体の制御を行う制御機構３ｄと、を備える。本実施の形態３にかかる基板処理部２ｄは、上述した第２基板搬送機構１８のほか、ステージ１１において搬送方向Ｄに平行な一つの辺に隣接してそれぞれ設けられ、搬送方向Ｄに沿って基板を搬送する受入側基板搬送機構２０および払出側基板搬送機構２１を備える。また、制御機構３ｄは、上述した入力部３１、出力部３２、検査部３３および記憶部３４のほか、受入側基板搬送機構２０および払出側基板搬送機構２１を含む基板処理部２ｄの制御を行う制御部３０ｄと、基板の搬送処理の制御を行なう搬送制御部３５ｄと、を備える。
【００８６】
受入側基板搬送機構２０は、ステージ１１の搬送方向Ｄに沿った外縁側に設けられ、搬送方向Ｄに平行な搬送軸２０１上を移動する受入側搬送部２０２（第１搬送部）を有する。受入側搬送部２０２は、搬送方向Ｄに沿って複数設けられ、図示しないポンプによる吸気によって基板Ｗを吸着保持する吸着パッド２０３を保持する。各吸着パッド２０３は、受入側搬送部２０２の移動方向に垂直な方向に昇降可能（図１５の紙面に垂直な方向に移動可能）である。また、搬送軸２０１は、ステージ１１の搬送方向と平行に延び、搬送空間ＴＲ１と検査空間ＰＲ１の一部とを含む領域に配設されている。受入側基板搬送機構２０は、搬送軸２０１としてベルトが用いられることによって実現される。なお、受入側基板搬送機構２０は、ベルトのほか、ラックアンドピニオンを用いても実現可能である。
【００８７】
払出側基板搬送機構２１は、受入側基板搬送機構２０に対して搬送方向Ｄの下流側に設けられ、搬送方向Ｄに平行な搬送軸２１１上を移動する払出側搬送部２１２（第１搬送部）を有する。払出側搬送部２１２は、搬送方向Ｄに沿って複数設けられ、図示しないポンプによる吸気によって基板Ｗを吸着保持する吸着パッド２１３を保持する。各吸着パッド２１３は、払出側搬送部２１２の移動方向に垂直な方向に昇降可能（図１５の紙面に垂直な方向に移動可能）である。また、搬送軸２１１は、ステージ１１の搬送方向と平行に延び、搬送空間ＴＲ２と検査空間ＰＲ１の一部とを含む領域に配設されている。払出側基板搬送機構２１は、搬送軸２１１としてベルトが用いられることによって実現される。なお、払出側基板搬送機構２１は、ベルトのほか、ラックアンドピニオンを用いても実現可能である。
【００８８】
ここで、搬送軸２０１，２１１は、一直線状に配設される。また、受入側搬送部２０２および払出側搬送部２１２は、上述した第１搬送部１３２と同様に、第２搬送部１８２と比して速い速度で基板Ｗの搬送を行う。このとき、受入側搬送部２０２および払出側搬送部２１２は、同じ速度で基板を搬送することが好ましい。
【００８９】
図１６は、本実施の形態にかかるＦＰＤ検査装置１ｄが行う搬送処理を示すフローチャートである。まず、搬送制御部３５ｄは、受入側搬送部２０２を基板受入位置に移動させるとともに、払出側搬送部２１２を払出側基板受渡位置に移動させる（ステップＳ３０２）。ここで、基板受入位置は、外部からの基板Ｗを受け入れるための位置であって、例えば、搬送軸２０１における検査空間ＰＲ１の搬送空間ＴＲ２側の端部に設けられる。また、払出側基板受渡位置は、払出側搬送部２１２が検査空間ＰＲ１において基板Ｗを搬送した第２搬送部１８２から基板Ｗの受渡しを行うための位置であって、例えば、搬送軸２１１における検査空間ＰＲ１の搬送空間ＴＲ２側の端部側に設けられる。このとき、払出側搬送部２１２は、搬送方向Ｄに対する前方側の端部が検査空間ＰＲ１と搬送空間ＴＲ２との境界に位置する。
【００９０】
受入側搬送部２０２を基板受入位置に移動させると、搬送制御部３５ｄは、受入側搬送部２０２を駆動して基板Ｗ１の受け入れを行う（ステップＳ３０４）。受入側搬送部２０２は、吸着パッド２０３によって基板Ｗ１を吸着保持する（ステップＳ３０６）。
【００９１】
受入側搬送部２０２によって基板Ｗ１が保持されると、搬送制御部３５ｄは、光学ユニット１００による撮像処理等が行われている状態（検査中の状態）であるか否かを判断する（ステップＳ３０８）。ここで、搬送制御部３５ｄは、検査中であると判断した場合（ステップＳ３０８：Ｙｅｓ）、再度検査中であるか否かの判断を行い、検査中の状態が解除されるまで判断処理を繰り返す。
【００９２】
また、搬送制御部３５ｄは、検査中でないと判断した場合（ステップＳ３０８：Ｎｏ）、受入側搬送部２０２を駆動して基板Ｗ１を受入側基板受渡位置に移動させる（ステップＳ３１０）。また、受入側基板受渡位置は、第２搬送部１８２が検査空間ＰＲ１において基板Ｗ１を搬送した受入側搬送部２０２から基板Ｗ１の受渡しを行うための位置であって、例えば、搬送軸２０１における検査空間ＰＲ１の搬送空間ＴＲ１側の端部に設けられる。このとき、受入側搬送部２０２は、搬送方向Ｄに対する後方側の端部が検査空間ＰＲ１と搬送空間ＴＲ１との境界に位置する。
【００９３】
受入側搬送部２０２が受入側基板受渡位置に移動すると、搬送制御部３５ｄは、図１７に示すように、受入側搬送部２０２が保持する基板Ｗ１を第２搬送部１８２に受け渡す処理を行う（ステップＳ３１２）。ここで、基板Ｗ１の受渡し処理では、第２搬送部１８２が吸着パッド１８３によって基板Ｗ１を吸着保持した後、受入側搬送部２０２の吸着パッド２０３の吸着保持を解除することによって受入側搬送部２０２から第２搬送部１８２に基板Ｗ１が受け渡される。
【００９４】
第２搬送部１８２によって基板Ｗ１が保持されると、搬送制御部３ｄは、受入側搬送部２０２を基板受入位置へ移動させると同時に、第２搬送部１８２を駆動して基板Ｗ１を移動させる（ステップＳ３１４）。この移動に伴って制御部３０ｄは、光学ユニット１００を駆動して、基板Ｗ１の画像取得を行う。制御部３０ｄは、光学ユニット１００によって取得した画像を検査部３３に出力し、検査部３３に測定および／または検査を行わせる（ステップＳ３１６）。
【００９５】
第２搬送部１８２の移動に伴う基板検査処理が終了すると、第２搬送部１８２は、ステージ１１上において搬送方向Ｄに垂直な方向が払出側基板受渡位置に対応する位置に移動している。ここで、第２搬送部１８２は、図１８に示すように、待機している払出側搬送部２１２に基板Ｗ１を受け渡す基板受渡し処理を行う（ステップＳ３１８）。この基板受渡し処理では、払出側搬送部２１２が吸着パッド２１３によって基板Ｗ１を吸着保持した後、第２搬送部１８２の吸着パッド１８３の吸着保持を解除することによって第２搬送部１８２から払出側搬送部２１２に基板Ｗ１が受け渡される。
【００９６】
ステップＳ３１８において、払出側搬送部２１２が検査空間ＰＲ１を通過した基板Ｗ１を保持すると、搬送制御部３５ｄは、図１９に示すように、払出側搬送部２１２を基板払出位置に移動させる（ステップＳ３２０）。ここで、基板払出位置は、光学ユニット１００による撮像処理の終了した基板Ｗ１を外部への払い出すための位置であって、例えば、搬送軸２１１における搬送空間ＴＲ２の検査空間ＰＲ１側と異なる側の端部に設けられる。
【００９７】
基板Ｗ１を保持した払出側搬送部２１２が基板払出位置に到達すると、外部の搬送機構によって、基板Ｗ１が外部に搬送される（ステップＳ３２２）。
【００９８】
基板Ｗ１の払出し後、次に搬送処理を行う検査対象基板がある場合（ステップＳ３２４：Ｙｅｓ）、搬送制御部３５ｄは、払出側搬送部２１２を払出側基板受渡位置に移動させ（ステップＳ３２６）、ステップＳ３０４に移行して、次の基板に対して上述した処理を繰り返す。また、次に搬送処理を行う検査対象基板がない場合（ステップＳ３２４：Ｎｏ）、搬送制御部３５ｄは、基板の搬送処理を終了する。
【００９９】
上述した本実施の形態３によれば、上述した実施の形態１と同様、搬送空間において基板を搬送する第１基板搬送機構と、検査空間において基板を搬送し、第１基板搬送機構と比して高い移動分解能を有する第２基板搬送機構と、を別個独立に設け、それぞれの搬送形態に対応して駆動制御するようにしたので、検査精度を維持しつつ、効率的な処理を行うことを可能とする。
【０１００】
また、上述した実施の形態３では、ステージ上に１または複数の基板が順次載置され、この基板を２つの搬送機構（受入側、払出側基板搬送機構）で連続的に搬送して検査を行うため、処理の効率を一段と向上させることが可能となる。
【０１０１】
なお、本実施の形態３において、検査空間ＰＲ１における基板の搬送を、ステージ１１の幅方向の中央に設けられる第２基板搬送機構１８であるものとして説明したが、上述した実施の形態１のような、ステージ１１の搬送方向Ｄに沿った外縁側に設けられる第２基板搬送機構１４を適用することも可能である。
【０１０２】
以上のように、本発明にかかる基板搬送装置は、検査精度を維持しつつ、効率的な処理を行うことに有用である。
【符号の説明】
【０１０３】
１，１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄ ＦＰＤ検査装置
２，２ａ，２ｂ，２ｃ，２ｄ 基板処理部
３，３ａ，３ｂ，３ｃ，３ｄ 制御機構
１０ ガントリステージ
１１ ステージ
１２ 架台
１２ａ 振動吸収機構
１３ 第１基板搬送機構
１４，１８ 第２基板搬送機構
１５ 照明部材
１６ ラインセンサカメラ
１７ 全体画像取得部
１９ 第３基板搬送機構
２０ 受入側基板搬送機構
２１ 払出側基板搬送機構
３１ 入力部
３２ 出力部
３３，３３ａ 検査部
３４ 記憶部
１００ 光学ユニット
１０１ 顕微鏡
１３１，１４１，１８１，１９１，２０１，２１１ 搬送軸
１３２ 第１搬送部
１４２，１８２ 第２搬送部
１３３，１４３，１８３，１９３，２０３，２１３ 吸着パッド
１９２ 第３搬送部
２０２ 受入側搬送部
２１２ 払出側搬送部
Ｌ１ 検査ライン
ＰＲ１ 検査空間
ＴＲ１，ＴＲ２ 搬送空間
Ｗ，Ｗ１，Ｗ２ 基板
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば、フラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）用のガラス基板や各種半導体基板やプリント基板などを搬送して検査する基板搬送装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、ガラス基板や各種半導体基板やプリント基板（以下、基板という）などの製造において、基板を搬送して検査等の処理を行う基板搬送装置がある。基板搬送装置は、撮像等によって基板の検査処理を行う検査処理部と、外部から検査処理部へ基板を搬送または検査処理部から外部へ基板を搬送する搬送ステージとを有する。
【０００３】
検査処理部は、例えば、基板の表面や裏面に照明光を当て、カメラでその反射光や透過光を取り込んで検査対象領域の全体画像を取得する検査であるマクロ検査や、顕微鏡等を用いて基板上の所定箇所の配線パターン等の拡大画像をカメラで取得する検査であるミクロ検査を行う。マクロ検査は、例えば、ラインセンサカメラによって取得された基板の全体画像を用いて、基板上の欠陥、塗布膜のムラや、基板上の傷等の確認を行う。また、ミクロ検査の一種として、例えば、基板上に形成されたフォトレジスト等の膜厚や各種配線パターンの膜厚、液晶層からの透過光の着色を行うカラーフィルタ上に形成された各種部材の膜厚の測定が挙げられる。膜厚の測定は、一般的に、光源から基板に入力した光から発光スペクトルを取得して得られた屈折率等の薄膜情報を用いて行われる。
【０００４】
搬送ステージは、基板を搬送する搬送面に複数の空気穴を有し、この空気穴から空気を吹き出すことによって基板を浮上させる浮上プレートと、基板を吸着保持する吸着パッドを有し、搬送方向に移動可能な搬送部とを備える。搬送部は、浮上プレートによって浮上した基板を、吸着パッドが吸着保持した状態で移動することで基板の搬送を行う。搬送部では、検査処理部の領域において、検査精度を維持するため、所定の等速性および移動分解能により高い精度の基板搬送が行われている。なお、基板の支持には、浮上プレートに代えて、搬送方向に沿って回転可能なフリーローラによって基板を支持する支持部材を用いる。
【０００５】
ところで、上述した搬送ステージとして、読取対象物を載置する載置台と、載置台を移動自在に支持するスライド部材と、スライド部材を移動させる駆動モータと、駆動モータを制御して載置台を少なくとも２つの異なる速度で移動させることが可能な制御ＣＰＵと、を備えた読取装置が開示されている（例えば、特許文献１を参照）。
【０００６】
また、液体を介して基板を露光するための露光光を射出する射出面を有する光学部材と、光学部材との間で液体を保持可能でかつ所定領域を移動可能な基板ステージと、光学部材との間で液体を保持する第１状態および保持しない第２状態とで移動速度が異なるように基板ステージの移動を制御する制御部と、を備えた露光装置が開示されている（例えば、特許文献２を参照）。
【０００７】
上述した特許文献１，２に示す読取装置および露光装置では、載置台および基板ステージに載置される対象物に応じて、移動速度を変えて搬送することができる。これにより、読取処理や露光処理を効率的に行うことが可能となる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００６−４７５２８号公報
【特許文献２】特開２００９−１８２１１０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
ところで、特許文献１が開示する読取装置にかかる搬送ステージを上述した基板搬送装置に適用した場合、基板搬送装置は、搬送による振動等の影響を考慮して、搬送経路全体として高精度の搬送を行う検査処理部に対応した一定の速度で基板を搬送する構成となる。しかしながら、搬送経路には、検査処理部に対応した速度よりも速い速度で基板を搬送可能な部分が含まれており、この搬送部分も一定の速度で基板を搬送すると、搬送における処理効率を低下させてしまうおそれがあった。また、特許文献２が開示する露光装置においても上述した基板搬送装置と同様に、搬送における処理効率を低下させてしまうおそれがあった。
【００１０】
本発明は、上記に鑑みてなされたものであり、検査等の処理の精度を維持しつつ、効率的な処理を行うことができる基板搬送装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明にかかる基板搬送装置は、搬送対象の基板に所定の処理を施す処理手段と、前記基板を載置して、該基板を搬送する搬送ステージとを有する基板搬送装置であって、前記搬送ステージの前記基板を搬送する搬送方向に沿った外縁側に設けられ、前記搬送方向と平行に延びる搬送軸に沿って前記基板を保持して搬送する第１搬送部と、前記処理手段が前記基板に対して処理を施す処理領域で前記搬送方向と平行に延びる搬送軸に沿って前記基板を保持して搬送し、前記第１搬送部と比して高い移動分解能を有する第２搬送部と、前記第１搬送部および前記第２搬送部における前記基板の搬送を制御する搬送制御部と、を備えたことを特徴とする。
【００１２】
また、本発明にかかる基板搬送装置は、上記の発明において、前記第２搬送部は、前記第１搬送部と比して高い等速性能を有することを特徴とする。
【００１３】
また、本発明にかかる基板搬送装置は、上記の発明において、前記搬送制御部は、前記第１搬送部に前記第２搬送部と比して大きい速度で前記基板を搬送させることを特徴とする。
【００１４】
また、本発明にかかる基板搬送装置は、上記の発明において、前記第２搬送部は、前記搬送ステージの外縁側であって、前記第１搬送部が設けられる外縁側と対向する外縁側に設けられることを特徴とする。
【００１５】
また、本発明にかかる基板搬送装置は、上記の発明において、前記第２搬送部は、前記搬送ステージの前記搬送方向に垂直な方向の中央部に設けられることを特徴とする。
【００１６】
また、本発明にかかる基板搬送装置は、上記の発明において、前記搬送ステージの外縁側であって、前記第１搬送部が設けられる外縁側と対向する外縁側に設けられ、前記搬送方向と平行に延びる搬送軸に沿って前記基板を保持して搬送する第３搬送部をさらに備え、前記第２搬送部は、前記第３搬送部と比して高い移動分解能を有することを特徴とする。
【００１７】
また、本発明にかかる基板搬送装置は、上記の発明において、前記第１搬送部は、外部から前記基板を受け入れる受入側搬送部と、前記受入側搬送部に対して前記搬送方向の下流側に設けられ、外部へ前記基板を払い出す払出側搬送部と有することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、搬送空間において基板を搬送する第１搬送部と、検査空間において基板を搬送し、第１搬送部と比して高い移動分解能を有する第２搬送部と、を別個独立に設け、それぞれの搬送形態に対応して駆動制御するようにしたので、検査等の処理の精度を維持しつつ、効率的な処理を行うことができるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】図１は、本発明の実施の形態１にかかるフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）検査装置の構成を模式的に示す上面図である。
【図２】図２は、本発明の実施の形態にかかるＦＰＤ検査装置の構成を模式的に示す側面図である。
【図３】図３は、本発明の実施の形態１にかかるＦＰＤ検査装置が行う搬送処理を示すフローチャートである。
【図４】図４は、本発明の実施の形態１にかかるＦＰＤ検査装置の搬送処理を説明するための図である。
【図５】図５は、本発明の実施の形態１にかかるＦＰＤ検査装置の搬送処理を説明するための図である。
【図６】図６は、本発明の実施の形態１にかかるＦＰＤ検査装置の搬送処理を説明するための図である。
【図７】図７は、本発明の実施の形態１にかかるＦＰＤ検査装置の搬送処理を説明するための図である。
【図８】図８は、本発明の実施の形態１の変形例１にかかるＦＰＤ検査装置の構成を模式的に示す上面図である。
【図９】図９は、本発明の実施の形態１の変形例２にかかるＦＰＤ検査装置の構成を模式的に示す上面図である。
【図１０】図１０は、本発明の実施の形態２にかかるＦＰＤ検査装置の構成を模式的に示す上面図である。
【図１１】図１１は、本発明の実施の形態２にかかるＦＰＤ検査装置が行う搬送処理を示すフローチャートである。
【図１２】図１２は、本発明の実施の形態２にかかるＦＰＤ検査装置の搬送処理を説明するための図である。
【図１３】図１３は、本発明の実施の形態２にかかるＦＰＤ検査装置の搬送処理を説明するための図である。
【図１４】図１４は、本発明の実施の形態２にかかるＦＰＤ検査装置の搬送処理を説明するための図である。
【図１５】図１５は、本発明の実施の形態３にかかるＦＰＤ検査装置の構成を模式的に示す上面図である。
【図１６】図１６は、本発明の実施の形態３にかかるＦＰＤ検査装置が行う搬送処理を示すフローチャートである。
【図１７】図１７は、本発明の実施の形態３にかかるＦＰＤ検査装置の搬送処理を説明するための図である。
【図１８】図１８は、本発明の実施の形態３にかかるＦＰＤ検査装置の搬送処理を説明するための図である。
【図１９】図１９は、本発明の実施の形態３にかかるＦＰＤ検査装置の搬送処理を説明するための図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下、本発明を実施するための形態を図面と共に詳細に説明する。なお、以下の実施の形態により本発明が限定されるものではない。また、以下の説明において参照する各図は、本発明の内容を理解し得る程度に形状、大きさ、および位置関係を概略的に示してあるに過ぎない。すなわち、本発明は各図で例示された形状、大きさ、および位置関係のみに限定されるものではない。
【００２１】
まず、本発明の実施の形態にかかる基板搬送装置について、図面を参照して詳細に説明する。なお、以下の説明では、基板搬送装置として基板の検査を行うフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）検査装置を例に挙げて説明する。ＦＰＤ検査装置は、製造装置等に直結するインライン型であってもよいし、カセット等の基板ストッカーと直接搬入出するオフライン型であってもよい。
【００２２】
（実施の形態１）
図１は、本実施の形態１にかかるＦＰＤ検査装置の概略構成を示す上面図である。図２は、本実施の形態１にかかるＦＰＤ検査装置の構成を模式的に示す側面図である。図１に示すように、ＦＰＤ検査装置１は、搬送された矩形をなす基板Ｗの画像取得を行う基板処理部２と、基板処理部２全体の制御を行う制御機構３と、を備える。また、基板処理部２は、基板Ｗの画像を取得する処理手段としての光学ユニット１００を保持するガントリステージ１０と、基板Ｗを載置して搬送するステージ１１と、を備える。
【００２３】
ガントリステージ１０およびステージ１１は、たとえば図１，２に示すような架台１２に固定される。架台１２は、たとえばブロック状の大理石やスチール材を組み合わせたフレームなど、耐震性の高い部材によって構成される。加えて、架台１２と設置面（たとえば床）との間には、たとえばスプリングや油圧ダンパなどで構成された振動吸収機構１２ａが設けられる。これにより、ガントリステージ１０およびステージ１１の振動がさらに防止される。
【００２４】
光学ユニット１００は、ステージ１１が形成する搬送経路上に設定された、ステージ１１の幅方向に平行な検査ラインＬ１を通過する基板Ｗを、顕微鏡１０１を介して撮像する図示しない撮像部を有する。この光学ユニット１００によって取得された画像（高倍率画像）を解析することで、基板Ｗに欠陥が存在するか否かを検出することができる。また、図示しない照明部が基板Ｗに対して傾斜した光を基板Ｗに照射して、顕微鏡１０１がこの反射光を取得し、取得した反射光から得られる画像データをもとに、検査部３３が基板Ｗ上に形成された膜の膜厚測定を行う。また、光学ユニット１００は、検査ラインＬ１に沿って移動することが可能である。なお、上述した構成は、光学ユニット１００と基板Ｗとを相対的に移動させる構成であれば他の構成であってもよい。例えば、基板Ｗをステージ１１の上に固定し、光学ユニット１００を基板Ｗの平面上を走査するように構成してもよい。なお、本説明では、光学ユニット１００（ガントリステージ１０）が設けられる領域を検査空間ＰＲ１という。また、検査空間ＰＲ１以外の領域を搬送空間ＴＲ１，ＴＲ２という。
【００２５】
照明部は、光学ユニット１００内から基板Ｗに向けて照明光を照明する落射照明光、または基板Ｗの光学ユニット１００側と反対方向から基板Ｗに向けて照明光を照射する透過照明光を照射する。照明部は、光学ユニット１００の外部、例えば、ステージ１１の検査ラインＬ１に沿って照明光を照射可能に設けられる。この照明部は、光学ユニット１００の移動に伴って移動するものであってもよいし、検査ラインＬ１に沿って延びる照明部材によって構成されるものであってもよい。
【００２６】
また、光学ユニット１００は、たとえば基板Ｗの欠陥部分に対して行うレーザ照射修復や塗布修正等の修復ユニット、観察・画像保存する撮像ユニット、配線等の寸法測定、膜厚測定、色測定などを行う測定ユニットなどの処理を所定の位置で施す他の処理ユニットに適宜置き替えることができる。すなわち、処理ユニットには、光学ユニット、修復ユニット、撮像ユニット、露光ユニット、測定ユニット等が含まれる。また、本実施の形態にかかるＦＰＤ検査装置１は、基板Ｗを載置するステージ上で、上述した処理ユニットが基板に対して各処理を行う構成も含んでもよい。
【００２７】
ステージ１１は、例えば基板Ｗの搬送方向Ｄに沿って延びる板状をなす。ステージ１１には、図示しないエア供給部からのエアの供給によって鉛直上方に向けてエアを吹き出す複数の吹出穴が設けられる。この吹出穴から吹き出されるエアによって、ステージ１１上に載置された基板Ｗはステージ１１の上面から浮上して支持される。なお、光学ユニット１００の光源がステージ１１の下方にある場合、ステージは、光源からの光を透過できる透明部材からなることが好ましい。
【００２８】
ここで、ステージ１１に搬送された基板Ｗは、所定の位置に載置されるように位置決めされる。基板Ｗの位置決め方法としては、ステージ１１上に搬入された基板Ｗを支持してステージ１１に載置するリフトピン、およびステージ１１に載置された基板Ｗを整列させる整列機構等を用いる方法が挙げられる。
【００２９】
なお、ステージ１１は、上面で基板Ｗを保持し、搬送方向Ｄに沿って回転可能な支持手段としてのフリーローラによって支持されるものであってもよい。
【００３０】
また、ステージ１１の搬送方向Ｄに平行な方向の外縁側には、搬送方向Ｄに駆動し、基板Ｗを吸着保持して搬送する第１基板搬送機構１３および第２基板搬送機構１４がそれぞれ設けられる。
【００３１】
第１基板搬送機構１３は、ステージ１１の搬送方向Ｄに沿った外縁側に設けられ、搬送方向Ｄに平行な搬送軸１３１上を移動する第１搬送部１３２を有する。第１搬送部１３２は、搬送方向Ｄに沿って複数設けられ、図示しないポンプによる吸気によって基板Ｗを吸着保持する吸着パッド１３３を保持する。各吸着パッド１３３は、第１搬送部１３２の移動方向に垂直な方向に昇降可能（図１の紙面に垂直な方向に移動可能）である。また、搬送軸１３１は、ステージ１１の搬送方向と平行に延び、検査空間ＰＲ１および搬送空間ＴＲ１，ＴＲ２を含む領域に配設されている。第１基板搬送機構１３は、搬送軸１３１としてベルトが用いられることによって実現される。なお、第１基板搬送機構１３は、ベルトのほか、ラックアンドピニオン、移動分解能の低いリニアモータとリニアモータガイドによる構成を用いても実現可能である。
【００３２】
第２基板搬送機構１４は、ステージ１１の外縁側であって、ステージ１１が設けられる外縁側と対向する外縁側に設けられ、搬送方向Ｄに平行な搬送軸１４１上を移動する第２搬送部１４２を有する。第２搬送部１４２は、搬送方向Ｄに沿って複数設けられ、図示しないポンプによる吸気によって基板Ｗを吸着保持する吸着パッド１４３を保持する。各吸着パッド１４３は、第２搬送部１４２の移動方向に垂直な方向に昇降可能（図１の紙面に垂直な方向に移動可能）である。また、搬送軸１４１は、ステージ１１の搬送方向と平行に延び、検査空間ＰＲ１を含む領域に配設されている。第２基板搬送機構１４は、第１基板搬送機構１３と比して高い移動分解能を有する。例えば、搬送軸１４１としてリニアモータガイドを用いるとともに、第２搬送部１４２として第１搬送部１３２よりも高い移動分解能を有するリニアモータを用いることによって実現される。なお、第２基板搬送機構１４は、第１基板搬送機構１３と比して高い移動分解能を有する搬送機構であればよく、リニアモータおよびリニアモータガイドのほか、ボールねじを用いた構成など、直進移動可能なアクチュエータであれば公知の如何なる構成によっても実現可能である。
【００３３】
第２搬送部１４２は、第１搬送部１３２と比して高い移動分解能および等速性能を有する。このため、第２搬送部１４２は、光学ユニット１００の処理速度に対応した速度の搬送に適している。一方、第１搬送部１３２は、第２搬送部１４２より速く搬送するのに適している。ここで、移動分解能は、１パルス当たりの移動量で定義される。すなわち、移動分解能は、１パルス当たりの移動量を詳細に設定できるほど高い。等速性能は、速度の揺らぎが小さいほど高い。
【００３４】
また、ＦＰＤ検査装置１が、少なくとも基板処理部２を囲み、光学ユニット１００の上方に設けられるクリーンな空気（以下、クリーンエアという）を送り込むＦＦＵを有する外装を備えていれば、クリーンルームを形成することができるので好ましい。このクリーンルームは、基板の搬入口および搬出口ならびに下部のダクト以外、密閉された内部空間である。
【００３５】
ＦＦＵは、例えば、パーティクルなどのダストが除去されたクリーンエアを送出する。この結果、特に光学ユニット１００の移動領域を、ダストの少ないクリーンな状態とする。また、光学ユニット１００近傍に集中して送出されたクリーンな空気は、クリーンルーム内でダウンフローを形成したのち、排気口から排気される。
【００３６】
制御機構３は、制御部３０、入力部３１、出力部３２、検査部３３および記憶部３４を備える。制御機構３は、ＲＯＭ、ＲＡＭ、通信機能等を備えたコンピュータで実現される。
【００３７】
制御部３０は、ＦＰＤ検査装置１全体の制御を行う。また、制御部３０は、第１基板搬送機構１３および第２基板搬送機構１４を制御して基板の搬送を制御する搬送制御部３５を有する。搬送制御部３５は、搬送機構（第１，２基板搬送機構）から適宜座標を取得して、搬送機構による基板搬送の制御を行う。
【００３８】
入力部３１は、キーボード、マウス、タッチパネル、ボタン等を用いて構成され、検体の分析に必要な諸情報や分析動作の指示情報等を外部から入力する。出力部３２は、ディスプレイ等を用いて構成される。
【００３９】
検査部３３は、光学ユニット１００によって取得された画像またはそのスペクトルをもとに基板Ｗの測定および／または検査を行う。
【００４０】
記憶部３４は、情報を磁気的に記憶するハードディスクと、ＦＰＤ検査装置１が処理を実行する際にその処理にかかわる、本実施の形態にかかる検査プログラムを含む各種プログラムをハードディスクからロードして電気的に記憶するメモリとを用いて構成される。
【００４１】
上述したＦＰＤ検査装置１では、外部からステージ１１に搬入された基板Ｗに対して、制御部３０の制御のもと、基板Ｗの載置位置の調整を行なった後、第１基板搬送機構１３によって外部から受け入れた基板Ｗを吸着保持して搬送方向Ｄに搬送し、第２基板搬送機構１４によって搬送方向Ｄに搬送される基板Ｗに対して光学ユニット１００が基板Ｗの欠陥検査等を行う。
【００４２】
図３は、本実施の形態にかかるＦＰＤ検査装置１が行う搬送処理を示すフローチャートである。まず、搬送制御部３５は、第１搬送部１３２を基板受入位置に移動させる（ステップＳ１０２）。ここで、基板受入位置は、外部からの基板Ｗを受け入れるための位置であって、例えば、搬送軸１３１における搬送空間ＴＲ１の検査空間ＰＲ１側と異なる側の端部側に設けられる。
【００４３】
第１搬送部１３２を基板受入位置に移動させると、搬送制御部３５は、第１搬送部１３２の吸着パッド１３３を駆動して基板Ｗの受け入れを行う（ステップＳ１０４）。第１搬送部１３２は、吸着パッド１３３によって基板Ｗを吸着保持する（ステップＳ１０６）。
【００４４】
吸着パッド１３３によって基板Ｗが保持されると、図４に示すように、搬送制御部３５は、第１搬送部１３２を駆動して基板Ｗを第１基板受渡位置に移動させる（ステップＳ１０８）。ここで、第１基板受渡位置は、第２搬送部１４２が、搬送空間ＴＲ１において基板Ｗを搬送した第１搬送部１３２から基板Ｗの受渡しを行うための位置であって、例えば、搬送軸１３１における検査空間ＰＲ１の搬送空間ＴＲ１側の端部側に設けられる。このとき、第１搬送部１３２は、搬送方向Ｄに対する後方側の端部が検査空間ＰＲ１と搬送空間ＴＲ１との境界に位置する。
【００４５】
第１搬送部１３２が第１基板受渡位置に移動すると、搬送制御部３５は、第１搬送部１３２（吸着パッド１３３）が保持する基板Ｗを第２搬送部１４２（吸着パッド１４３）に受け渡す処理を行う（ステップＳ１１０）。ここで、基板Ｗの受渡し処理では、第２搬送部１４２が吸着パッド１４３によって基板Ｗを吸着保持した後、第１搬送部１３２の吸着パッド１３３の吸着保持を解除することによって第１搬送部１３２から第２搬送部１４２に基板Ｗが受け渡される。
【００４６】
第２搬送部１４２によって基板Ｗが保持されると、搬送制御部３５は、図５に示すように、第２搬送部１４２を駆動して基板Ｗを移動させる。この移動に伴って制御部３０は、光学ユニット１００を駆動して、基板Ｗの画像取得を行う。制御部３０は、光学ユニット１００によって取得した画像を検査部３３に出力し、検査部３３に測定および／または検査を行わせる（ステップＳ１１２）。
【００４７】
このとき、第１搬送部１３２は、搬送制御部３５の制御のもと、搬送軸１３１上を移動して、第２基板受渡位置に配置される。ここで、第２基板受渡位置は、第１搬送部１３２が検査空間ＰＲ１において基板Ｗを搬送した第２搬送部１４２から基板Ｗの受渡しを行うための位置であって、例えば、搬送軸１３１における検査空間ＰＲ１の搬送空間ＴＲ２側の端部側に設けられる。このとき、第１搬送部１３２は、搬送方向Ｄに対する前方側の端部が検査空間ＰＲ１と搬送空間ＴＲ２との境界に位置する。なお、第１搬送部１３２が基板Ｗの下部を通過する際、搬送制御部３５が、吸着パッド１３３の吸着面が基板Ｗと接触しないよう吸着パッド１３３を下降させることが好ましい。
【００４８】
第２搬送部１４２の移動に伴う基板検査処理が終了すると、第２搬送部１４２は、第２基板受渡位置に位置する。ここで、図６に示すように、待機している第１搬送部１３２に再び基板を受け渡す基板受渡し処理を行う（ステップＳ１１４）。この基板受渡し処理では、第１搬送部１３２が吸着パッド１３３によって基板Ｗを吸着保持した後、第２搬送部１４２の吸着パッド１４３の吸着保持を解除することによって第２搬送部１４２から第１搬送部１３２に基板Ｗが受け渡される。
【００４９】
ステップＳ１１４において、第１搬送部１３２が検査空間ＰＲ１を通過した基板を保持すると、搬送制御部３５は、図７に示すように、第１搬送部１３２を基板払出位置に移動させる（ステップＳ１１６）。ここで、基板払出位置は、光学ユニット１００による撮像処理の終了した基板Ｗを外部への払い出すための位置であって、例えば、搬送軸１３１における搬送空間ＴＲ２の検査空間ＰＲ１側と異なる側の端部に設けられる。
【００５０】
基板Ｗを保持した第１搬送部１３２が基板払出位置に到達すると、外部の搬送機構によって、基板Ｗが外部に搬送される（ステップＳ１１８）。基板Ｗの払出し後、次の検査対象基板がある場合（ステップＳ１２０：Ｙｅｓ）、制御部３０は、ステップＳ１０２に移行して、次の基板に対して上述した処理を繰り返す。また、次の検査対象基板がない場合（ステップＳ１２０：Ｎｏ）、制御部３０は、基板の搬送処理を終了する。
【００５１】
上述した本実施の形態１によれば、搬送空間において基板を搬送する第１搬送部と、検査空間において基板を搬送し、第１搬送部と比して高い移動分解能を有する第２搬送部と、を別個独立に設け、それぞれの搬送形態に対応して駆動制御するようにしたので、検査精度を維持しつつ、効率的な処理を行うことを可能とする。
【００５２】
また、本実施の形態１では、高価なリニアモータおよびリニアモータガイドは、検査空間にかかる領域のみで使用し、搬送空間においては、安価なベルト等の構成で基板を搬送するようにしたので、安価に製造し、かかるＦＰＤ検査装置の製造コストを抑制することができる。
【００５３】
なお、上述した実施の形態１において、順次送られる基板のうち、画像を取得する必要のない基板がある場合は、第１搬送部１３２が搬送空間ＴＲ１から搬送空間ＴＲ２まで基板Ｗを搬送する。この場合においても、比較的高速で移動する第１搬送部１３２が基板受入位置から基板払出位置まで基板Ｗを搬送するため、効率的に基板の搬送処理を行うことができる。
【００５４】
図８は、本実施の形態１の変形例１にかかるＦＰＤ検査装置１ａの構成を模式的に示す上面図である。変形例１にかかる基板処理部２ａは、基板Ｗの高倍率画像を取得する高倍画像取得部としての光学ユニット１００を保持するガントリステージ１０のほか、照明部材１５およびラインセンサカメラ１６を有し、基板Ｗの全体画像を取得する全体画像取得部１７を備える。また、制御機構３ａは、上述した入力部３１、出力部３２および記憶部３４のほか、全体画像取得部１７を含むＦＰＤ検査装置１ａの制御を行う制御部３０ａと、基板Ｗの搬送処理の制御を行なう搬送制御部３５ａと、光学ユニット１００および全体画像取得部１７から取得した画像の測定および／または検査を行う検査部３３ａと、を備える。
【００５５】
全体画像取得部１７は、搬送方向Ｄと直交する方向であるステージ１１の幅方向に延び、基板Ｗを照明する線状光源を有する照明部材１５と、照明部材１５からの照明光の反射光を取り込んで、基板Ｗの全体画像を取得するラインセンサカメラ１６とを有する。ラインセンサカメラ１６は、基板Ｗが反射した照明部材１５からの反射光を取り込める位置に配設される。
【００５６】
なお、ラインセンサカメラ１６は、照明部材１５が照射する照射光に対して、正反射光を取得するものであってよいし、散乱光を取得するものであってもよい。取得する光に応じてラインセンサカメラの位置、角度は適宜変更可能である。
【００５７】
上述した変形例１にかかるＦＰＤ検査装置１ａでは、外部からステージ１１に搬入された基板Ｗに対して、制御部３０ａの制御のもと、基板Ｗの載置位置の調整を行なった後、吸着パッド１３３によって基板Ｗを吸着保持して搬送方向Ｄに搬送して、全体画像取得部１７で全体画像を取得し、光学ユニット１００によって基板Ｗの欠陥検査等を行う。このとき、第１搬送部１３２は、搬送制御部３５ａの制御のもと、基板Ｗを、全体画像取得部１７を通過させた後に、再度ステージ１１の搬入位置まで戻って第２搬送部１４に基板を受渡し、第２搬送部１４が基板Ｗを搬送方向Ｄに移動させて光学ユニット１００による欠陥検査を行う。なお、全体画像取得部１７から光学ユニット１００までの距離が、基板Ｗに対して十分長い場合は、全体画像取得部１７による全体画像の取得後、基板Ｗを戻さずに光学ユニット１００による欠陥検査を行うことができる。
【００５８】
また、全体画像取得部１７の画像取得において、第１搬送部１３２の移動速度および移動分解能であっても画像が取得できる場合、第１搬送部１３２は、第２搬送部１４２へ基板Ｗの受渡しを行わずに、基板Ｗを搬送してもよい。このとき、第１搬送部１３２により一定の速度で基板Ｗを搬送空間ＴＲ１から搬送空間ＴＲ２にかけて移動させるとともに、全体画像取得部１７による画像取得が行われる。
【００５９】
図９は、本実施の形態１の変形例２にかかるＦＰＤ検査装置１ｂの構成を模式的に示す上面図である。変形例２にかかる基板処理部２ｂは、上述した第１基板搬送機構１３のほか、ステージ１１の幅方向（搬送方向Ｄに垂直な方向）の中央部に設けられ、検査空間ＰＲ１において基板Ｗの搬送を行う第２基板搬送機構１８を備える。また、制御機構３ｂは、上述した入力部３１、出力部３２、検査部３３および記憶部３４のほか、第２搬送機構１８を含むＦＰＤ検査装置１ｂの制御を行う制御部３０ｂと、基板Ｗの搬送処理の制御を行なう搬送制御部３５ｂと、を備える。
【００６０】
第２基板搬送機構１８は、搬送方向Ｄに平行な搬送軸１８１上を移動する第２搬送部１８２を有する。第２搬送部１８２は、搬送方向Ｄに沿って複数設けられ、図示しないポンプによる吸気によって基板Ｗを吸着保持する吸着パッド１８３を保持する。各吸着パッド１８３は、第２搬送部１８２の移動方向に垂直な方向に昇降可能（図９の紙面に垂直な方向に移動可能）である。また、搬送軸１８１は、ステージ１１の搬送方向と平行に延び、検査空間ＰＲ１を含む領域に配設されている。第２基板搬送機構１８は、搬送軸１８１としてリニアモータガイドを用いるとともに、第２搬送部１８２としてリニアモータを用いることによって実現される。なお、第２基板搬送機構１８は、リニアモータおよびリニアモータガイドのほか、ボールねじを用いた構成によっても実現可能である。なお、第２搬送部１８２は、上述した第２搬送部１４２と同一の移動分解能および等速性能で基板を搬送する。
【００６１】
変形例２にかかるＦＰＤ検査装置１ｂによれば、第２基板搬送機構１８がステージ１１の幅方向の中央に設けられることによって、ステージ１１に搬入された基板Ｗの重心位置を含む領域を保持することが可能となり、安定した基板搬送を行うことができる。また、上述した実施の形態１と異なり、ステージ１１の搬送方向Ｄと平行な側の端部に第２搬送機構が配設されないため、ステージの幅方向（搬送方向Ｄに垂直な方向）で省スペース化することができる。
【００６２】
（実施の形態２）
図１０は、本実施の形態２にかかるＦＰＤ検査装置の概略構成を示す上面図である。図１０に示すように、ＦＰＤ検査装置１ｃは、搬送された矩形をなす基板Ｗの画像取得を行う基板処理部２ｃと、基板処理部２ｃ全体の制御を行う制御機構３ｃと、を備える。本実施の形態２にかかる基板処理部２ｃは、上述した第１基板搬送機構１３および第２基板搬送機構１８のほか、ステージ１１の外縁側であって、ステージ１１が設けられる外縁側と対向する外縁側に設けられ、搬送方向Ｄに沿って基板Ｗを搬送する第３基板搬送機構１９を備える。また、制御機構３ｃは、上述した入力部３１、出力部３２、検査部３３および記憶部３４のほか、第３基板搬送機構１９を含む基板処理部２ｃの制御を行う制御部３０ｃと、基板Ｗの搬送処理の制御を行なう搬送制御部３５ｃと、を備える。
【００６３】
第３基板搬送機構１９は、搬送方向Ｄに平行な搬送軸１９１上を移動する第３搬送部１９２を有する。第３搬送部１９２は、搬送方向Ｄに沿って複数設けられ、図示しないポンプによる吸気によって基板Ｗを吸着保持する吸着パッド１９３を保持する。各吸着パッド１９３は、第３搬送部１９２の移動方向に垂直な方向に昇降可能（図１０の紙面に垂直な方向に移動可能）である。また、搬送軸１９１は、ステージ１１の搬送方向と平行に延び、検査空間ＰＲ１および搬送空間ＴＲ１，ＴＲ２を含む領域に配設されている。第３基板搬送機構１９は、搬送軸１９１としてベルトが用いられることによって実現される。なお、第３基板搬送機構１９は、ベルトのほか、ラックアンドピニオンを用いても実現可能である。
【００６４】
ここで、第３搬送部１９２は、第１搬送部１３２と同様に、第２搬送部１８２と比して高い速度で基板Ｗの搬送を行う。このとき、第３搬送部１９２は、第１搬送部１３２と同じ速度で基板Ｗを搬送することが好ましい。
【００６５】
図１１は、本実施の形態にかかるＦＰＤ検査装置１ｃが行う搬送処理を示すフローチャートである。まず、搬送制御部３５ｃは、第１搬送部１３２を基板受入れ位置に移動させる（ステップＳ２０２）。第１搬送部１３２を基板受入位置に移動させると、搬送制御部３５ｃは、第１搬送部１３２の吸着パッド１３３を駆動して基板Ｗ１の受け入れを行う（ステップＳ２０４）。第１搬送部１３２は、吸着パッド１３３によって基板Ｗ１を吸着保持する（ステップＳ２０６）。
【００６６】
第１搬送部１３２によって基板Ｗ１が保持されると、搬送制御部３５ｃは、光学ユニット１００による撮像処理等が行われている状態（検査中の状態）であるか否かを判断する（ステップＳ２０８）。ここで、搬送制御部３５ｃは、検査中であると判断した場合（ステップＳ２０８：Ｙｅｓ）、再度検査中であるか否かの判断を行い、検査中の状態が解除されるまで判断処理を繰り返す。
【００６７】
また、搬送制御部３５ｃは、検査中でないと判断した場合（ステップＳ２０８：Ｎｏ）、第１搬送部１３２を駆動して基板Ｗ１を第１基板受渡位置に移動させる（ステップＳ２１０）。第１搬送部１３２が第１基板受渡位置に移動すると、搬送制御部３５ｃは、図１２に示すように、第１搬送部１３２が保持する基板Ｗ１を第２搬送部１８２に受け渡す処理を行う（ステップＳ２１２）。ここで、基板Ｗ１の受渡し処理では、第２搬送部１８２が吸着パッド１８３によって基板Ｗ１を吸着保持した後、第１搬送部１３２の吸着パッド１３３の吸着保持を解除することによって第１搬送部１３２から第２搬送部１８２に基板Ｗ１が受け渡される。
【００６８】
第２搬送部１８２によって基板Ｗ１が保持されると、搬送制御部３５ｃは、第２搬送部１８２を駆動して基板Ｗ１を移動させる。この移動に伴って制御部３０ｃは、光学ユニット１００を駆動して、基板Ｗ１の画像取得を行う。制御部３０ｃは、光学ユニット１００によって取得した画像を検査部３３に出力し、検査部３３に測定および／または検査を行わせる（ステップＳ２１４）。
【００６９】
このとき、第１搬送部１３２は、搬送制御部３５ｃの制御のもと、搬送軸１３１上を移動して、第２基板受渡位置に配置される。第２搬送部１８２の移動に伴う基板検査処理が終了すると、第２搬送部１８２は、第２基板受渡位置に移動する。ここで、第２搬送部１８２は、図１３に示すように、待機している第１搬送部１３２に再び基板を受け渡す基板受渡し処理を行う（ステップＳ２１６）。この基板受渡し処理では、第１搬送部１３２が吸着パッド１３３によって基板Ｗ１を吸着保持した後、第２搬送部１８２の吸着パッド１８３の吸着保持を解除することによって第２搬送部１８２から第１搬送部１３２に基板Ｗ１が受け渡される。
【００７０】
ステップＳ２１６において、第１搬送部１３２が検査空間ＰＲ１を通過した基板を保持すると、搬送制御部３５ｃは、図１４に示すように、第１搬送部１３２を基板払出位置に移動させる（ステップＳ２１８）。基板Ｗ１を保持した第１搬送部１３２が基板払出位置に到達すると、外部の搬送機構によって、基板Ｗ１が外部に搬送される（ステップＳ２２０）。
【００７１】
基板Ｗ１の払出し後、次に第１基板搬送機構１３が搬送処理を行う検査対象基板がある場合（ステップＳ２２２：Ｙｅｓ）、制御部３０ｃは、ステップＳ２０２に移行して、次の基板に対して上述した処理を繰り返す。また、次に第１基板搬送機構１３が搬送処理を行う検査対象基板がない場合（ステップＳ２２２：Ｎｏ）、制御部３０ｃは、基板の搬送処理を終了する。
【００７２】
一方、ステップＳ２１６において、基板Ｗ１の基板検査処理中、搬送制御部３５ｃは、第３搬送部１９２を基板受入れ位置に移動させる（ステップＳ２２４）。ここで、基板受入位置は、外部からの基板Ｗ２を受け入れるための位置であって、例えば、搬送軸１９１における搬送空間ＴＲ１の検査空間ＰＲ１側と異なる側の端部側（ステージを介して対向する位置）に設けられる。
【００７３】
第３搬送部１９２を受入位置に移動させると、搬送制御部３５ｃは、図１４に示すように、第３搬送部１９２の吸着パッド１９３を駆動して基板Ｗ２の受け入れを行う（ステップＳ２２６）。第３搬送部１９２は、吸着パッド１９３によって基板Ｗ２を吸着保持する（ステップＳ２２８）。
【００７４】
第３搬送部１９２によって基板Ｗ２が保持されると、搬送制御部３５ｃは、光学ユニット１００による撮像処理等が行われている状態（検査中の状態）であるか否かを判断する（ステップＳ２３０）。ここで、搬送制御部３５ｃは、検査中であると判断した場合（ステップＳ２３０：Ｙｅｓ）、再度検査中であるか否かの判断を行い、検査中の状態が解除されるまで判断処理を繰り返す。
【００７５】
また、搬送制御部３５ｃは、検査中でないと判断した場合（ステップＳ２３０：Ｎｏ）、第３搬送部１９２を駆動して基板Ｗ２を第３基板受渡位置に移動させる（ステップＳ２３２）。ここで、第３基板受渡位置は、第２搬送部１８２が搬送空間ＴＲ１において基板Ｗ２を搬送した第３搬送部１９２から基板Ｗ２の受渡しを行うための位置であって、例えば、搬送軸１９１における検査空間ＰＲ１の搬送空間ＴＲ１側の端部側に設けられる。このとき、第３搬送部１９２は、搬送方向Ｄに対する後方側の端部が検査空間ＰＲ１と搬送空間ＴＲ１との境界に位置する。
【００７６】
第３搬送部１９２が第３基板受渡位置に移動すると、搬送制御部３５ｃは、第３搬送部１９２が保持する基板Ｗ２を第２搬送部１８２に受け渡す処理を行う（ステップＳ２３４）。ここで、基板Ｗ２の受渡し処理では、第２搬送部１８２が吸着パッド１８３によって基板Ｗ２を吸着保持した後、第３搬送部１９２の吸着パッド１９３の吸着保持を解除することによって第３搬送部１９２から第２搬送部１８２に基板Ｗ２が受け渡される。
【００７７】
第２搬送部１８２によって基板Ｗ２が保持されると、搬送制御部３５ｃは、第２搬送部１８２を駆動して基板Ｗ２を移動させる。この移動に伴って制御部３０ｃは、光学ユニット１００を駆動して、基板Ｗ２の画像取得を行う。制御部３０ｃは、光学ユニット１００によって取得した画像を検査部３３に出力し、検査部３３に測定および／または検査を行わせる（ステップＳ２３６）。
【００７８】
このとき、第３搬送部１９２は、搬送制御部３５ｃの制御のもと、搬送軸１９１上を移動して、第４基板受渡位置に配置される。ここで、第４基板受渡位置は、第３搬送部１９２が検査空間ＰＲ１において基板Ｗ２を搬送した第２搬送部１８２から基板Ｗ２の受渡しを行うための位置であって、例えば、搬送軸１９１における検査空間ＰＲ１の搬送空間ＴＲ２側の端部側に設けられる。このとき、第３搬送部１９２は、搬送方向Ｄに対する前方側の端部が検査空間ＰＲ１と搬送空間ＴＲ２との境界に位置する。
【００７９】
第２搬送部１８２の移動に伴う基板検査処理が終了すると、第２搬送部１８２は、第２基板受渡位置に移動する。ここで、第２搬送部１８２は、待機している第３搬送部１９２に再び基板Ｗ２を受け渡す基板受渡し処理を行う（ステップＳ２３８）。この基板受渡し処理では、第３搬送部１９２が吸着パッド１９３によって基板Ｗ２を吸着保持した後、第２搬送部１８２の吸着パッド１８３の吸着保持を解除することによって第２搬送部１８２から第３搬送部１９２に基板Ｗ２が受け渡される。
【００８０】
ステップＳ２３８において、第３搬送部１９２が検査空間ＰＲ１を通過した基板Ｗ２を保持すると、搬送制御部３５ｃは、第３搬送部１９２を基板払出位置に移動させる（ステップＳ２４０）。ここで、基板払出位置は、光学ユニット１００による撮像処理の終了した基板Ｗ２を外部への払い出すための位置であって、例えば、搬送軸１９１における搬送空間ＴＲ２の検査空間ＰＲ１側と異なる側の端部に設けられる。
【００８１】
基板Ｗ２を保持した第３搬送部１９２が基板払出位置に到達すると、外部の搬送機構によって、基板Ｗ２が外部に搬送される（ステップＳ２４２）。基板Ｗ２の払出し後、次に第３基板搬送機構１９が搬送処理を行う検査対象基板がある場合（ステップＳ２４４：Ｙｅｓ）、制御部３０ｃは、ステップＳ２２４に移行して、次の基板に対して上述した処理を繰り返す。また、次に第３基板搬送機構１９が搬送処理を行う検査対象基板がない場合（ステップＳ２４４：Ｎｏ）、制御部３０ｃは、基板の搬送処理を終了する。
【００８２】
上述した本実施の形態２によれば、上述した実施の形態１と同様、搬送空間において基板を搬送する第１，３搬送部と、検査空間において基板を搬送し、第１，３搬送部と比して高い移動分解能を有する第２搬送部と、を別個独立に設け、それぞれの搬送形態に対応して駆動制御するようにしたので、検査精度を維持しつつ、効率的な処理を行うことを可能とする。
【００８３】
また、上述した実施の形態２では、ステージ上に１または複数の基板が順次載置され、この基板を２つの搬送機構（第１，３基板搬送機構）で連続的に搬送して検査を行うため、処理の効率を一段と向上させることが可能となる。
【００８４】
なお、検査空間ＰＲ１の搬送方向Ｄの長さが、検査対象の基板に対して十分な長さ、具体的には、基板２枚以上の長さである場合、第２搬送部を搬送方向に対して垂直な方向に２つ設け、より搬送ピッチを狭めて搬送処理を行ってもよい。２つの第２搬送部は、順次搬送される基板に対して交互に搬送する。これにより、ステージ１１上に３以上の基板を載置して処理することができ、一段と効率的に処理して、処理時間を短縮することが可能となる。
【００８５】
（実施の形態３）
図１５は、本実施の形態３にかかるＦＰＤ検査装置の概略構成を示す上面図である。図１５に示すように、ＦＰＤ検査装置１ｄは、搬送された矩形をなす基板Ｗの画像取得を行う基板処理部２ｄと、基板処理部２ｄ全体の制御を行う制御機構３ｄと、を備える。本実施の形態３にかかる基板処理部２ｄは、上述した第２基板搬送機構１８のほか、ステージ１１において搬送方向Ｄに平行な一つの辺に隣接してそれぞれ設けられ、搬送方向Ｄに沿って基板を搬送する受入側基板搬送機構２０および払出側基板搬送機構２１を備える。また、制御機構３ｄは、上述した入力部３１、出力部３２、検査部３３および記憶部３４のほか、受入側基板搬送機構２０および払出側基板搬送機構２１を含む基板処理部２ｄの制御を行う制御部３０ｄと、基板の搬送処理の制御を行なう搬送制御部３５ｄと、を備える。
【００８６】
受入側基板搬送機構２０は、ステージ１１の搬送方向Ｄに沿った外縁側に設けられ、搬送方向Ｄに平行な搬送軸２０１上を移動する受入側搬送部２０２（第１搬送部）を有する。受入側搬送部２０２は、搬送方向Ｄに沿って複数設けられ、図示しないポンプによる吸気によって基板Ｗを吸着保持する吸着パッド２０３を保持する。各吸着パッド２０３は、受入側搬送部２０２の移動方向に垂直な方向に昇降可能（図１５の紙面に垂直な方向に移動可能）である。また、搬送軸２０１は、ステージ１１の搬送方向と平行に延び、搬送空間ＴＲ１と検査空間ＰＲ１の一部とを含む領域に配設されている。受入側基板搬送機構２０は、搬送軸２０１としてベルトが用いられることによって実現される。なお、受入側基板搬送機構２０は、ベルトのほか、ラックアンドピニオンを用いても実現可能である。
【００８７】
払出側基板搬送機構２１は、受入側基板搬送機構２０に対して搬送方向Ｄの下流側に設けられ、搬送方向Ｄに平行な搬送軸２１１上を移動する払出側搬送部２１２（第１搬送部）を有する。払出側搬送部２１２は、搬送方向Ｄに沿って複数設けられ、図示しないポンプによる吸気によって基板Ｗを吸着保持する吸着パッド２１３を保持する。各吸着パッド２１３は、払出側搬送部２１２の移動方向に垂直な方向に昇降可能（図１５の紙面に垂直な方向に移動可能）である。また、搬送軸２１１は、ステージ１１の搬送方向と平行に延び、搬送空間ＴＲ２と検査空間ＰＲ１の一部とを含む領域に配設されている。払出側基板搬送機構２１は、搬送軸２１１としてベルトが用いられることによって実現される。なお、払出側基板搬送機構２１は、ベルトのほか、ラックアンドピニオンを用いても実現可能である。
【００８８】
ここで、搬送軸２０１，２１１は、一直線状に配設される。また、受入側搬送部２０２および払出側搬送部２１２は、上述した第１搬送部１３２と同様に、第２搬送部１８２と比して速い速度で基板Ｗの搬送を行う。このとき、受入側搬送部２０２および払出側搬送部２１２は、同じ速度で基板を搬送することが好ましい。
【００８９】
図１６は、本実施の形態にかかるＦＰＤ検査装置１ｄが行う搬送処理を示すフローチャートである。まず、搬送制御部３５ｄは、受入側搬送部２０２を基板受入位置に移動させるとともに、払出側搬送部２１２を払出側基板受渡位置に移動させる（ステップＳ３０２）。ここで、基板受入位置は、外部からの基板Ｗを受け入れるための位置であって、例えば、搬送軸２０１における検査空間ＰＲ１の搬送空間ＴＲ２側の端部に設けられる。また、払出側基板受渡位置は、払出側搬送部２１２が検査空間ＰＲ１において基板Ｗを搬送した第２搬送部１８２から基板Ｗの受渡しを行うための位置であって、例えば、搬送軸２１１における検査空間ＰＲ１の搬送空間ＴＲ２側の端部側に設けられる。このとき、払出側搬送部２１２は、搬送方向Ｄに対する前方側の端部が検査空間ＰＲ１と搬送空間ＴＲ２との境界に位置する。
【００９０】
受入側搬送部２０２を基板受入位置に移動させると、搬送制御部３５ｄは、受入側搬送部２０２を駆動して基板Ｗ１の受け入れを行う（ステップＳ３０４）。受入側搬送部２０２は、吸着パッド２０３によって基板Ｗ１を吸着保持する（ステップＳ３０６）。
【００９１】
受入側搬送部２０２によって基板Ｗ１が保持されると、搬送制御部３５ｄは、光学ユニット１００による撮像処理等が行われている状態（検査中の状態）であるか否かを判断する（ステップＳ３０８）。ここで、搬送制御部３５ｄは、検査中であると判断した場合（ステップＳ３０８：Ｙｅｓ）、再度検査中であるか否かの判断を行い、検査中の状態が解除されるまで判断処理を繰り返す。
【００９２】
また、搬送制御部３５ｄは、検査中でないと判断した場合（ステップＳ３０８：Ｎｏ）、受入側搬送部２０２を駆動して基板Ｗ１を受入側基板受渡位置に移動させる（ステップＳ３１０）。また、受入側基板受渡位置は、第２搬送部１８２が検査空間ＰＲ１において基板Ｗ１を搬送した受入側搬送部２０２から基板Ｗ１の受渡しを行うための位置であって、例えば、搬送軸２０１における検査空間ＰＲ１の搬送空間ＴＲ１側の端部に設けられる。このとき、受入側搬送部２０２は、搬送方向Ｄに対する後方側の端部が検査空間ＰＲ１と搬送空間ＴＲ１との境界に位置する。
【００９３】
受入側搬送部２０２が受入側基板受渡位置に移動すると、搬送制御部３５ｄは、図１７に示すように、受入側搬送部２０２が保持する基板Ｗ１を第２搬送部１８２に受け渡す処理を行う（ステップＳ３１２）。ここで、基板Ｗ１の受渡し処理では、第２搬送部１８２が吸着パッド１８３によって基板Ｗ１を吸着保持した後、受入側搬送部２０２の吸着パッド２０３の吸着保持を解除することによって受入側搬送部２０２から第２搬送部１８２に基板Ｗ１が受け渡される。
【００９４】
第２搬送部１８２によって基板Ｗ１が保持されると、搬送制御部３ｄは、受入側搬送部２０２を基板受入位置へ移動させると同時に、第２搬送部１８２を駆動して基板Ｗ１を移動させる（ステップＳ３１４）。この移動に伴って制御部３０ｄは、光学ユニット１００を駆動して、基板Ｗ１の画像取得を行う。制御部３０ｄは、光学ユニット１００によって取得した画像を検査部３３に出力し、検査部３３に測定および／または検査を行わせる（ステップＳ３１６）。
【００９５】
第２搬送部１８２の移動に伴う基板検査処理が終了すると、第２搬送部１８２は、ステージ１１上において搬送方向Ｄに垂直な方向が払出側基板受渡位置に対応する位置に移動している。ここで、第２搬送部１８２は、図１８に示すように、待機している払出側搬送部２１２に基板Ｗ１を受け渡す基板受渡し処理を行う（ステップＳ３１８）。この基板受渡し処理では、払出側搬送部２１２が吸着パッド２１３によって基板Ｗ１を吸着保持した後、第２搬送部１８２の吸着パッド１８３の吸着保持を解除することによって第２搬送部１８２から払出側搬送部２１２に基板Ｗ１が受け渡される。
【００９６】
ステップＳ３１８において、払出側搬送部２１２が検査空間ＰＲ１を通過した基板Ｗ１を保持すると、搬送制御部３５ｄは、図１９に示すように、払出側搬送部２１２を基板払出位置に移動させる（ステップＳ３２０）。ここで、基板払出位置は、光学ユニット１００による撮像処理の終了した基板Ｗ１を外部への払い出すための位置であって、例えば、搬送軸２１１における搬送空間ＴＲ２の検査空間ＰＲ１側と異なる側の端部に設けられる。
【００９７】
基板Ｗ１を保持した払出側搬送部２１２が基板払出位置に到達すると、外部の搬送機構によって、基板Ｗ１が外部に搬送される（ステップＳ３２２）。
【００９８】
基板Ｗ１の払出し後、次に搬送処理を行う検査対象基板がある場合（ステップＳ３２４：Ｙｅｓ）、搬送制御部３５ｄは、払出側搬送部２１２を払出側基板受渡位置に移動させ（ステップＳ３２６）、ステップＳ３０４に移行して、次の基板に対して上述した処理を繰り返す。また、次に搬送処理を行う検査対象基板がない場合（ステップＳ３２４：Ｎｏ）、搬送制御部３５ｄは、基板の搬送処理を終了する。
【００９９】
上述した本実施の形態３によれば、上述した実施の形態１と同様、搬送空間において基板を搬送する第１基板搬送機構と、検査空間において基板を搬送し、第１基板搬送機構と比して高い移動分解能を有する第２基板搬送機構と、を別個独立に設け、それぞれの搬送形態に対応して駆動制御するようにしたので、検査精度を維持しつつ、効率的な処理を行うことを可能とする。
【０１００】
また、上述した実施の形態３では、ステージ上に１または複数の基板が順次載置され、この基板を２つの搬送機構（受入側、払出側基板搬送機構）で連続的に搬送して検査を行うため、処理の効率を一段と向上させることが可能となる。
【０１０１】
なお、本実施の形態３において、検査空間ＰＲ１における基板の搬送を、ステージ１１の幅方向の中央に設けられる第２基板搬送機構１８であるものとして説明したが、上述した実施の形態１のような、ステージ１１の搬送方向Ｄに沿った外縁側に設けられる第２基板搬送機構１４を適用することも可能である。
【０１０２】
以上のように、本発明にかかる基板搬送装置は、検査精度を維持しつつ、効率的な処理を行うことに有用である。
【符号の説明】
【０１０３】
１，１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄ ＦＰＤ検査装置
２，２ａ，２ｂ，２ｃ，２ｄ 基板処理部
３，３ａ，３ｂ，３ｃ，３ｄ 制御機構
１０ ガントリステージ
１１ ステージ
１２ 架台
１２ａ 振動吸収機構
１３ 第１基板搬送機構
１４，１８ 第２基板搬送機構
１５ 照明部材
１６ ラインセンサカメラ
１７ 全体画像取得部
１９ 第３基板搬送機構
２０ 受入側基板搬送機構
２１ 払出側基板搬送機構
３１ 入力部
３２ 出力部
３３，３３ａ 検査部
３４ 記憶部
１００ 光学ユニット
１０１ 顕微鏡
１３１，１４１，１８１，１９１，２０１，２１１ 搬送軸
１３２ 第１搬送部
１４２，１８２ 第２搬送部
１３３，１４３，１８３，１９３，２０３，２１３ 吸着パッド
１９２ 第３搬送部
２０２ 受入側搬送部
２１２ 払出側搬送部
Ｌ１ 検査ライン
ＰＲ１ 検査空間
ＴＲ１，ＴＲ２ 搬送空間
Ｗ，Ｗ１，Ｗ２ 基板
【特許請求の範囲】
【請求項１】
搬送対象の基板に所定の処理を施す処理手段と、前記基板を載置して、該基板を搬送する搬送ステージとを有する基板搬送装置であって、
前記搬送ステージの前記基板を搬送する搬送方向に沿った外縁側に設けられ、前記搬送方向と平行に延びる搬送軸に沿って前記基板を保持して搬送する第１搬送部と、
前記処理手段が前記基板に対して処理を施す処理領域で前記搬送方向と平行に延びる搬送軸に沿って前記基板を保持して搬送し、前記第１搬送部と比して高い移動分解能を有する第２搬送部と、
前記第１搬送部および前記第２搬送部における前記基板の搬送を制御する搬送制御部と、
を備えたことを特徴とする基板搬送装置。
【請求項２】
前記第２搬送部は、前記第１搬送部と比して高い等速性能を有することを特徴とする請求項１に記載の基板搬送装置。
【請求項３】
前記搬送制御部は、前記第１搬送部に前記第２搬送部と比して大きい速度で前記基板を搬送させることを特徴とする請求項１または２に記載の基板搬送装置。
【請求項４】
前記第２搬送部は、前記搬送ステージの外縁側であって、前記第１搬送部が設けられる外縁側と対向する外縁側に設けられることを特徴とする請求項１に記載の基板搬送装置。
【請求項５】
前記第２搬送部は、前記搬送ステージの前記搬送方向に垂直な方向の中央部に設けられることを特徴とする請求項１に記載の基板搬送装置。
【請求項６】
前記搬送ステージの外縁側であって、前記第１搬送部が設けられる外縁側と対向する外縁側に設けられ、前記搬送方向と平行に延びる搬送軸に沿って前記基板を保持して搬送する第３搬送部をさらに備え、
前記第２搬送部は、前記第３搬送部と比して高い移動分解能を有することを特徴とする請求項５に記載の基板搬送装置。
【請求項７】
前記第１搬送部は、
外部から前記基板を受け入れる受入側搬送部と、
前記受入側搬送部に対して前記搬送方向の下流側に設けられ、外部へ前記基板を払い出す払出側搬送部と、
を有することを特徴とする請求項１〜５のいずれか一つに記載の基板搬送装置。
【請求項１】
搬送対象の基板に所定の処理を施す処理手段と、前記基板を載置して、該基板を搬送する搬送ステージとを有する基板搬送装置であって、
前記搬送ステージの前記基板を搬送する搬送方向に沿った外縁側に設けられ、前記搬送方向と平行に延びる搬送軸に沿って前記基板を保持して搬送する第１搬送部と、
前記処理手段が前記基板に対して処理を施す処理領域で前記搬送方向と平行に延びる搬送軸に沿って前記基板を保持して搬送し、前記第１搬送部と比して高い移動分解能を有する第２搬送部と、
前記第１搬送部および前記第２搬送部における前記基板の搬送を制御する搬送制御部と、
を備えたことを特徴とする基板搬送装置。
【請求項２】
前記第２搬送部は、前記第１搬送部と比して高い等速性能を有することを特徴とする請求項１に記載の基板搬送装置。
【請求項３】
前記搬送制御部は、前記第１搬送部に前記第２搬送部と比して大きい速度で前記基板を搬送させることを特徴とする請求項１または２に記載の基板搬送装置。
【請求項４】
前記第２搬送部は、前記搬送ステージの外縁側であって、前記第１搬送部が設けられる外縁側と対向する外縁側に設けられることを特徴とする請求項１に記載の基板搬送装置。
【請求項５】
前記第２搬送部は、前記搬送ステージの前記搬送方向に垂直な方向の中央部に設けられることを特徴とする請求項１に記載の基板搬送装置。
【請求項６】
前記搬送ステージの外縁側であって、前記第１搬送部が設けられる外縁側と対向する外縁側に設けられ、前記搬送方向と平行に延びる搬送軸に沿って前記基板を保持して搬送する第３搬送部をさらに備え、
前記第２搬送部は、前記第３搬送部と比して高い移動分解能を有することを特徴とする請求項５に記載の基板搬送装置。
【請求項７】
前記第１搬送部は、
外部から前記基板を受け入れる受入側搬送部と、
前記受入側搬送部に対して前記搬送方向の下流側に設けられ、外部へ前記基板を払い出す払出側搬送部と、
を有することを特徴とする請求項１〜５のいずれか一つに記載の基板搬送装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【公開番号】特開２０１３−９８４８２（Ｐ２０１３−９８４８２Ａ）
【公開日】平成２５年５月２０日（２０１３．５．２０）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−２４２４４３（Ｐ２０１１−２４２４４３）
【出願日】平成２３年１１月４日（２０１１．１１．４）
【出願人】（００００００３７６）オリンパス株式会社 (11,466)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２５年５月２０日（２０１３．５．２０）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年１１月４日（２０１１．１１．４）
【出願人】（００００００３７６）オリンパス株式会社 (11,466)
【Ｆターム（参考）】
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