基板洗浄装置
【課題】洗浄槽の上部からの洗浄液が漏れ出るのを抑制あるいは防止した、基板洗浄装置を提供する。
【解決手段】略垂直姿勢の基板Ｗを上方から洗浄槽１内に収容し、基板Ｗの表面および裏面にそれぞれ対向しかつ略水平方向に延在して配置された管状部材２ａ１〜２ａ３，２ａ４〜２ａ６から、基板Ｗの両面にそれぞれ洗浄液を噴射して洗浄する基板洗浄装置Ｓである。基板Ｗの両面にそれぞれ対向する洗浄槽１の側壁１１ａと、側壁１１ａ側に配置された管状部材２ａ１〜２ａ３，２ａ４〜２ａ６との間に形成される通気路Ｆ１に、邪魔板Ｃ１〜Ｃ３，Ｃ４〜Ｃ６を配設した。
【解決手段】略垂直姿勢の基板Ｗを上方から洗浄槽１内に収容し、基板Ｗの表面および裏面にそれぞれ対向しかつ略水平方向に延在して配置された管状部材２ａ１〜２ａ３，２ａ４〜２ａ６から、基板Ｗの両面にそれぞれ洗浄液を噴射して洗浄する基板洗浄装置Ｓである。基板Ｗの両面にそれぞれ対向する洗浄槽１の側壁１１ａと、側壁１１ａ側に配置された管状部材２ａ１〜２ａ３，２ａ４〜２ａ６との間に形成される通気路Ｆ１に、邪魔板Ｃ１〜Ｃ３，Ｃ４〜Ｃ６を配設した。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板洗浄装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
周知のように、プリント基板は、エッチング処理等の化学処理によってパターン配線を形成し、このパターン配線によって複数の電子部品を相互接続することによって所望の電子回路を基板上に構成するものである。このようなプリント基板は、複数の製造工程を経て製造されるが、製造工程の１つに、穴あけ加工及びめっき処理からなるスルーホール形成工程を経た基板の表面を、専用の基板洗浄装置によって洗浄する洗浄工程がある。下記特許文献１には、このようなプリント基板の製造工程に用いられる基板洗浄装置の一例が開示されている。
【０００３】
前記の基板洗浄装置では、プリント基板がハンガー式の基板搬送装置によって垂直状態かつ上端部が支持される状態で基板が搬送される構成となっており、基板洗浄装置の洗浄槽は、上方から搬入された基板を略垂直姿勢で収容する有底の容器で構成されている。
洗浄槽内に設けられた洗浄液噴射部は、基板の両面側となる位置にそれぞれ３本ずつ配置された、合計６本の洗浄アームによって構成されている。これら洗浄アームは、該洗浄アームの軸線に沿って一定間隔で設けられた洗浄ノズルから、洗浄液を基板に向けて噴射するように構成されている。
【０００４】
このような基板洗浄装置は、洗浄槽の上方から搬入された基板の両面に、洗浄槽内の上段、中段、下段に配置した各洗浄アームの洗浄ノズルから洗浄液を噴射する。そして、基板を洗浄槽内の下方で一旦停止させた後、上昇する過程において、再び基板の両面に洗浄液を噴射するようにしている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】国際公開第０９／０９６４８３号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、前記従来の基板洗浄装置では、洗浄槽内に設けられた洗浄液噴射部が洗浄槽内の上段、中段、下段に配置されており、これら各洗浄アームの洗浄ノズルから基板の両面に向けて洗浄液を霧状に噴射するため、噴射された霧状の洗浄液は一部が基板の両面から跳ね返る。
【０００７】
基板の両面から跳ね返った霧状の洗浄液は、周囲の空気を巻き込んで洗浄槽の底面に向けて流下する。その際、各洗浄アームの洗浄ノズルは若干下方を向いているので、基板の両面から跳ね返った霧状の洗浄液は巻き込んだ周囲の空気によって洗浄槽底面に向く流れを形成し、洗浄槽底部側の内圧を高める。したがって、霧状洗浄液は、基板と洗浄槽の内壁（側壁）との間隙を通って気圧の低い洗浄槽の上部外方に吹き抜けていく。
これにより、洗浄槽の上部外方に吹き抜けた霧状洗浄液は、洗浄槽の上部周囲や搬送装置のハンガー等に付着し、それらの表面を汚してしまう。さらに、このような汚れがハンガーや基板に滴下することで、洗浄品質を低下させてしまう。
【０００８】
本発明は前記事情に鑑みてなされたもので、洗浄槽の上部から洗浄液が漏れ出るのを抑制あるいは防止した、基板洗浄装置を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者は前記目的を達成すべく鋭意研究を重ねたところ、霧状洗浄液が洗浄槽の上部開口を通過して外方に吹き抜け、洗浄槽の上部周囲などに付着する現象は、特に対象基板として複数の基板を治具等で保持して一体に洗浄処理した際、すなわち基板が見掛け上大型化した際に、多く起こることを見いだした。そして、このような現象をさらに詳しく分析した結果、霧状洗浄液の上部外方への吹き抜けは、従来のサイズの基板では主に基板の側端と洗浄槽の内壁との間隙を霧状洗浄液が通ることで生じると考えられていたが、前記したような見掛け上大型化した基板では、主に、基板の両面と洗浄槽の側壁との間隙を霧状洗浄液が通ることで生じることが分かった。
そこで、本発明者は前記知見に基づいてさらに研究を重ねた結果、本発明を完成した。
【００１０】
すなわち、本発明の基板洗浄装置は、略垂直姿勢の基板を上方から洗浄槽内に収容し、前記基板の表面および裏面にそれぞれ対向しかつ略水平方向に延在して配置された管状部材から、前記基板の両面にそれぞれ洗浄液を噴射して洗浄する基板洗浄装置であって、前記基板の両面にそれぞれ対向する前記洗浄槽の側壁と、該側壁側に配置された前記管状部材との間に形成される通気路に、邪魔板を配設したことを特徴とする。
【００１１】
また、前記基板洗浄装置において、前記管状部材は上下方向に複数段配設され、前記邪魔板は、前記管状部材の各段に対応して複数配設されていることが好ましい。
【００１２】
また、前記基板洗浄装置において、前記邪魔板は、前記洗浄槽の側壁に、先端側が下方に向くように傾斜して設けられていることが好ましい。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の基板洗浄装置によれば、洗浄槽の側壁と、該側壁側に配置された管状部材との間に形成される通気路に邪魔板を配設したので、基板への洗浄液の噴射によって空気を巻き込んで流下した霧状洗浄液が、洗浄槽底部側の内圧が高まることで通気路を上昇し、上部外方に吹き抜けようとしても、前記邪魔板によってこの流れを遮断することができる。したがって、洗浄槽の上部開口からの洗浄液の漏れを抑制あるいは防止することができ、これにより、洗浄槽の上部周囲や搬送装置のハンガー等に霧状洗浄液が付着するのを防止し、汚れや洗浄品質への影響を解消することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明の一実施形態に係る基板洗浄装置の一部断面を示す全体斜視図である。
【図２】図１に示した基板洗浄装置の要部拡大斜視図である
【図３】図１の要部拡大図である基板洗浄装置の上部側断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、図面を参照して本発明を詳しく説明する。
図１は、本発明の基板洗浄装置の一実施形態を示す図であり、図１中符号Ｓは基板洗浄装置である。この基板洗浄装置Ｓは、主な構成として、洗浄槽１、洗浄液噴射部２Ａ，２Ａと、図示しない洗浄液回収部、洗浄タンク、仕上洗浄タンク、供給ポンプ、オーバーフロー配管等を備えたもので、プリント基板（以下、基板という）の製造工程において、前工程から搬入された基板Ｗに洗浄処理を施す装置である。
【００１６】
ここで、基板Ｗとしては、複数の基板を治具（図示せず）等で保持して一体化し、見掛け上大型化したものが用いられるが、図１及び以降の図では、見やすくするために便宜上、基板Ｗを一枚の矩形状基板として記載している。
また、洗浄槽１は、複数の槽から構成される場合もあるが、本実施形態では上部を開口した単一の有底洗浄槽として、説明する。
【００１７】
洗浄槽１は、上方から搬入された基板Ｗを略垂直姿勢で収容する容器であって、矩形状の底板１０と、底板１０の各辺から立ち上がった側板（側壁）１１ａ、１１ａ、１１ｂ、１１ｂとからなる有底四角筒状のものである。底板１０の長辺から立ち上がった側板１１ａ、１１ａは、収容する基板Ｗの横幅より広い幅に形成されている。また、底板１０の短辺から立ち上がった側板１１ｂ、１１ｂは、収容する基板Ｗの厚さより充分に広い幅に形成されている。これによって前記１１ａ、１１ａと基板Ｗとの間には、前記洗浄液噴射部２Ａ，２Ａが配置可能になっている。すなわち、前記洗浄液噴射部２Ａ，２Ａ間に、基板Ｗが出し入れ可能になっている。なお、洗浄槽１としては、一般的な箱形容器と異なり、上下方向における中間部の幅が、上から下に向かって一定の傾斜で徐々に狭くなるように形成してもよい。
【００１８】
洗浄液噴射部２Ａ，２Ａは、図示しない支持部材によって洗浄槽１内に配置され、かつ、図示しない配管や供給ポンプ等を介して洗浄液貯留部（図示せず）に接続したもので、洗浄槽１内に収容される基板Ｗに対してその表裏両面にそれぞれ、洗浄液貯留部から供給された洗浄液Ｐを霧状に噴射するものである。洗浄液噴射部２Ａ，２Ａのうちの一方は、洗浄槽１の対向する一対の側板１１ａ、１１ａのうちの一方の側板１１ａ側に配置され、洗浄液噴射部２Ａ，２Ａのうちの他方は、側板１１ａ、１１ａのうちの他方の側板１１ａ側に配置されている。これにより、これら洗浄液噴射部２Ａ，２Ａ間には、側板１１ａの面方向に沿って所定の間隙が形成され、この間隙内に基板Ｗが出し入れ可能に収容されるようになっている。
【００１９】
一方の洗浄液噴射部２Ａは、一方の側板１１ａ側において、その上下方向（鉛直方向）に３本の洗浄アーム２ａ１〜２ａ３を配置して構成されており、他方の洗浄液噴射部２Ａも、他方の側板１１ａ側において、その上下方向（鉛直方向）に３本の洗浄アーム２ａ４〜２ａ６を配置して構成されている。すなわち、各洗浄液噴射部２Ａは、洗浄アーム２ａ1〜２ａ３（２ａ４〜２ａ６）が、対応する側板１１ａ側において、上段、中段、下段の３段（複数段）に配置されている。
【００２０】
各洗浄アーム２ａ1〜〜２ａ６は、内部に洗浄液Ｐが通過する孔が形成された管状部材であり、図１の要部拡大図である図２に示すように、複数の洗浄ノズルＮを各洗浄アーム２ａ1〜〜２ａ６の軸線に沿って一定間隔で設けている。このような構成によって各洗浄アーム２ａ1〜２ａ６は、洗浄液貯留部から供給され、内部を流れる洗浄液Ｐを、各洗浄ノズルＮから基板Ｗに向けて霧状に噴射する（噴霧する）ようになっている。
【００２１】
ここで、洗浄液Ｐを噴射する各洗浄ノズルＮは、基板Ｗに向けて噴射する際の噴射角度が水平方向より下方となるように、その向きが設定されている。すなわち、洗浄ノズルＮから所定の拡がりをもって噴射される洗浄液Ｐが、基板Ｗに対してその下方に向く角度で噴き付けられるようになっている。これにより、基板Ｗに噴き付けられた洗浄液Ｐは、基板Ｗから跳ね返って下降するようになっており、跳ね返った後直接上昇して、洗浄槽１の上部外方に飛散することがないようになっている。
【００２２】
前記６本の洗浄アーム２ａ1〜２ａ３，２ａ４〜２ａ６のうち、一方の洗浄液噴射部２Ａを構成する洗浄アーム２ａ1〜２ａ３は、洗浄槽１の正面側に配置され、各洗浄ノズルＮから基板Ｗの一方の面（表面）に洗浄液Ｐを噴射するようになっている。また、他方の洗浄液噴射部２Ａを構成する洗浄アーム２ａ４〜２ａ６は、洗浄槽１の背面側に配置され、各洗浄ノズルＮから基板の他方の面（裏面）に洗浄液Ｐを噴射するようになっている。
【００２３】
基板Ｗの両側、すなわち基板Ｗの表裏面（両面）にそれぞれ対向する側板（側壁）１１ａ、１１ａのそれぞれの側には、該側板１１ａと３本（３段）配置された洗浄アーム２ａ１〜２ａ３（２ａ４〜２ａ６）との間に、所定の間隙が形成されている。そして、この間隙が、洗浄槽１の底部側から上昇する気流の通り道、すなわち本発明における通気路となる第１通気路Ｆ１となっている。
【００２４】
これら第１通気路Ｆ１、Ｆ１には、基板洗浄装置Ｓの上部側断面図である図３に示すように、該第１通気路Ｆ１、Ｆ１をそれぞれ遮断するようにして、３枚ずつの邪魔板Ｃ１〜Ｃ３、Ｃ４〜Ｃ６が、上下方向に所定間隔で３段に配置されている。これら邪魔板Ｃ１〜Ｃ３、Ｃ４〜Ｃ６は、鋼板等からなる細長い矩形板状のもので、３枚ずつ連結板１２に保持されたことより、一体に構成されている。そして、連結板１２が洗浄槽１の側板１１ａの上端部に引っ掛けられて取り付けられたことにより、邪魔板Ｃ１〜Ｃ３、Ｃ４〜Ｃ６はそれぞれが所定位置に配置されている。
【００２５】
すなわち、これら邪魔板Ｃ１〜Ｃ３、Ｃ４〜Ｃ６は、本実施形態では同じ側板１１ａ側に配置された洗浄アーム２ａ１〜２ａ３（２ａ４〜２ａ６）に対し、それぞれ少しずつ上方に位置するようにして配置されている。なお、これら邪魔板Ｃ１〜Ｃ３、Ｃ４〜Ｃ６は、連結板１２を介して側板１１ａに取り付けられたことで、実質的には側板１１ａ、１１ｂに設けられたものとなっている。ただし、これら邪魔板Ｃ１〜Ｃ３、Ｃ４〜Ｃ６については、連結板１２を介して側板１１ａに取り付けることなく、側板１１ａにネジ止め等によって直接取り付けてもよい。
【００２６】
また、各邪魔板Ｃ１〜Ｃ６は、洗浄アーム２ａ１〜２ａ６と平行に、すなわち水平方向に配置されている。ただし、本実施形態では、各邪魔板Ｃ１〜Ｃ６はその先端側（基板Ｗ側）が下方に向くように傾斜して配置されている。水平方向に対する傾斜角θとしては、特に限定されないものの、５°〜３０°程度とするのが好ましい。このように先端側が下方に向くように邪魔板Ｃ１〜Ｃ６を傾斜させておくことにより、後述するように洗浄アーム２ａ１〜２ａ６から基板Ｗに対して洗浄液Ｐを噴射した際、洗浄槽１の底部側（下方）から上昇する霧状洗浄液Ｐを含む上昇気流を邪魔板Ｃ１〜Ｃ６で遮断し、霧状洗浄液Ｐを邪魔板Ｃ１〜Ｃ６の下面にトラップすることができるとともに、トラップした洗浄液Ｐが別に上昇してきた気流に同伴され、再度第１通気路Ｆ１を流れてしまう（上昇してしまう）ことを防止することができる。
【００２７】
また、図１に示すように洗浄アーム２ａ１〜２ａ３（２ａ４〜２ａ６）の両端部側、すなわち洗浄アーム２ａ１〜２ａ３（２ａ４〜２ａ６）の各端部とこれに対向する側板１１ｂとの間は、洗浄槽１の底部側から上昇する気流の通り道となる、第２通気路Ｆ２となっている。これら第２通気路Ｆ２に関しては、特に見掛け上大型の基板Ｗを洗浄処理する場合、前記第１通気路Ｆ１に比べて霧状洗浄液Ｐの上昇量が格段に少ないものの、多少は霧状洗浄液Ｐが洗浄槽１の上部外方に吹き抜ける可能性がある。
【００２８】
したがって、本実施形態では、これら第２通気路Ｆ２にも、該第２通気路Ｆ２、Ｆ２をそれぞれ遮断するようにして、３枚（３段）ずつの邪魔板Ｄ１〜Ｄ３、Ｄ４〜Ｄ６を配置している。これら邪魔板Ｄ１〜Ｄ３、Ｄ４〜Ｄ６は、横断面Ｌ字状のＬ型アングルからなるもので、一方の板部が側板１１ｂに取り付けられたことにより、他方の板部が側板１１ｂより突出し、邪魔板として機能するようになっている。
【００２９】
また、これら邪魔板Ｄ１〜Ｄ３、Ｄ４〜Ｄ６は、邪魔板として機能する他方の板部が、基板Ｗの両面と略直交するように水平に保持されて配置されている。さらに、他方の板部は、側板１１ｂの幅より少し狭い幅に形成され、かつ、基板Ｗに干渉しない程度に洗浄槽１内に突出して配置されている。
【００３０】
次に、このように構成された基板洗浄装置Ｓの動作について説明する。
本実施形態の基板洗浄装置Ｓによる洗浄の対象となる基板Ｗとしては、専用の基板搬送装置によって所定の工程順に搬送され、順次処理されることによって製造されたものである。基板Ｗの製造装置の１つとしてこれに含まれる製造設備では、例えばハンガー式の基板搬送装置によって垂直状態かつ上端が支持される状態で、基板Ｗが搬送される。
【００３１】
搬送装置によりハンガーに吊下されて垂直姿勢で搬送されてきた基板Ｗは、洗浄槽１の上部で一次停止したのち、下降して洗浄槽１内の洗浄液噴射部２Ａ，２Ａ間に収容される。なお、ここで洗浄槽１内に収容される基板Ｗは、前述したように複数の基板を治具（図示せず）等で保持して一体化し、見掛け上大型化したものとする。
【００３２】
洗浄槽１内に収容される基板Ｗは、洗浄槽１内をその上方から下方に移動する過程において洗浄される。すなわち、洗浄槽１の上部にて基板Ｗの停止が確認されると、洗浄槽１内部の上段、中段、下段に配置された各洗浄アーム２ａ1〜２ａ３，２ａ４〜２ａ６の複数の洗浄ノズルＮから、洗浄液Ｐが霧状に一斉に噴出される。
【００３３】
この状態で基板Ｗが洗浄槽１の上部側から底部側に下降すると、この移動過程において基板Ｗの両面には霧状の洗浄液Ｐが噴き付けられる。そして、下降位置で一端停止した後、再び上昇するが、この移動過程においても、基板Ｗの両面に霧状の洗浄液Ｐが噴き付けられる。
【００３４】
その際、基板Ｗの表裏両面に噴き付けられた後、各面から跳ね返った霧状の洗浄液Ｐは、周囲の空気を霧状の洗浄液Ｐ内に巻き込んだ状態で、洗浄槽１の下方（底部側）に流下する。このようにして空気を含む洗浄液Ｐが流下すると、洗浄槽１の底部側ではその内部圧力が徐々に高まる。また、空気を含む洗浄液Ｐは、その一部が洗浄槽１の底面に衝突することで、その流れの向きを反転させる。
【００３５】
これにより、洗浄槽１の内部に上昇気流が発生するので、この上昇気流に同伴された霧状の洗浄液Ｐは、洗浄噴射部２Ａ，２Ａと各側板１１ａ、１１ｂとの間、すなわち第１通気路Ｆ１、第２通気路Ｆ２を上昇する。なお、基板Ｗが配置されている洗浄液噴射部２Ａ，２Ａ間には、各洗浄アーム２ａ1〜２ａ６から洗浄液Ｐが霧状に噴出しているため、この洗浄液Ｐに遮られることにより、前記上昇気流に同伴された霧状の洗浄液Ｐは、洗浄噴射部２Ａ，２Ａ間を通り抜けることはない。
【００３６】
図３中矢印で示すように第１通気路Ｆ１を上昇する洗浄液Ｐは、まず、最下段に配置された一対の邪魔板Ｃ３，Ｃ６に衝突して上昇移動が遮られる。したがって、この上昇気流は、洗浄槽１の内部側、すなわち基板Ｗ側に向く流れにその方向が変えられる。そして、この基板Ｗ側に向けられた流れは、洗浄アーム２ａ1〜２ａ６から基板Ｗに対して霧状に噴出された洗浄液Ｐの流れに乗って、洗浄槽１の底部側に流れる。なお、前記上昇気流に同伴された洗浄液Ｐは、大部分がそのまま流れに同伴されるが、一部は邪魔板Ｃ３，Ｃ６にトラップされ、液状となって邪魔板Ｃ３，Ｃ６の下面に付着する。
【００３７】
さらに、これら一対の邪魔板Ｃ３，Ｃ６を通過した上昇気流は、中段に配置された一対の邪魔板Ｃ２，Ｃ５に衝突して上昇移動が遮られる。そして、この上昇気流は、邪魔板Ｃ２，Ｃ５に衝突した場合と同様にその方向が変えられ、洗浄槽１の底部側に流れる。同様に、これら一対の邪魔板Ｃ２，Ｃ５を通過した上昇気流は、上段に配置された一対の邪魔板Ｃ１，Ｃ４に衝突して上昇移動が遮られ、その流れの方向を変えて洗浄槽１の底部側に流れる。
【００３８】
このようにして、上昇気流は３段の邪魔板Ｃ１〜Ｃ３、Ｃ４〜Ｃ６で順次遮られ、その上昇力が弱められることにより、上段の邪魔板Ｃ１、Ｃ４を通過する上昇気流はその勢いが充分に減じられ、上昇速度が小さくなる。したがって、このように上昇速度が充分に小さくなったことにより、この上昇気流に同伴される霧状洗浄液Ｐの量も充分に少なくなり、結果として洗浄槽１の上部開口から外方に漏れ出る洗浄液Ｐの量は激減し、ほとんどゼロに近くなる。
【００３９】
また、第２通気路Ｆ２を上昇する洗浄液Ｐは、まず、最下段に配置された一対の邪魔板Ｄ３，Ｄ６に衝突して上昇移動が遮られる。したがって、この上昇気流も、第１通気路Ｆ１を上昇する上昇気流と同様にその流れの向きが変えられ、一部が洗浄槽１の底部側に向かって流れるようになる。
【００４０】
そして、邪魔板Ｄ３，Ｄ６を通過した上昇気流は、中段に配置された一対の邪魔板Ｄ２，Ｄ５に衝突して上昇移動が遮られ、一部が洗浄槽１の底部側に向かって流れるようになり、さらにこれら一対の邪魔板Ｄ２，Ｄ５を通過した上昇気流も、上段に配置された一対の邪魔板Ｄ１，Ｄ４に衝突して上昇移動が遮られ、一部が洗浄槽１の底部側に向かって流れるようになる。
【００４１】
このようにして、上昇気流は３段の邪魔板Ｄ１〜Ｄ３、Ｄ４〜Ｄ６で順次遮られ、その上昇力が弱められることにより、第１通気路Ｆ１を上昇した上昇気流と同様に、上段の邪魔板Ｄ１、Ｄ４を通過する上昇気流はその勢いが充分に減じられ、上昇速度が小さくなる。したがって、このように上昇速度が充分に小さくなったことにより、この上昇気流に同伴される霧状洗浄液Ｐの量も充分に少なくなり、結果として洗浄槽１の上部開口から外方に漏れ出る洗浄液Ｐの量は激減し、ほとんどゼロに近くなる。
【００４２】
このように、本実施形態の基板洗浄槽Ｓにあっては、第１通気路Ｆ１に邪魔板Ｃ１〜Ｃ３，Ｃ４〜Ｃ６を、また第２通気路Ｆ２に邪魔板Ｄ１〜Ｄ３，Ｄ４〜Ｄ６をそれぞれ３枚ずつ所定間隔で上下に重ねて配置したので、所謂ラビリンス効果を得ることができる。したがって、最上段の両邪魔板Ｃ１，Ｃ２（Ｄ１，Ｄ４）を通過した上昇気流は、その上昇力が弱められていることで霧状の洗浄液Ｐがほとんど含まれなくなる（同伴されなくなる）。これにより、洗浄液Ｐが洗浄槽１から漏れ出ることによって洗浄槽１の上部周囲や搬送装置のハンガー等に洗浄液Ｐが付着するのを防止し、汚れや洗浄品質への影響を解消することができる。
【００４３】
また、邪魔板Ｃ１〜Ｃ３，Ｃ４〜Ｃ６を、その先端側が下方に向くように傾斜して側板１１ａに設けているので、洗浄槽１の底部側（下方）から上昇する霧状洗浄液Ｐを含む上昇気流を邪魔板Ｃ１〜Ｃ６で遮断し、霧状洗浄液Ｐを邪魔板Ｃ１〜Ｃ６の下面にトラップすることができるとともに、トラップした洗浄液Ｐが別に上昇してきた気流に同伴され、再度第１通気路Ｆ１を流れてしまう（上昇してしまう）ことを防止することができる。すなわち、邪魔板Ｃ１〜Ｃ３，Ｃ４〜Ｃ６が傾斜して設けられているので、これら邪魔板Ｃ１〜Ｃ３，Ｃ４〜Ｃ６に上昇気流が衝突すると、邪魔板Ｃ１〜Ｃ６の下面にトラップされた洗浄液Ｐは上昇気流に押されることで邪魔板Ｃ１〜Ｃ６の下面に沿ってその上方、つまり側壁１１ａ側に向かうようになる。したがって、トラップされた洗浄液Ｐは邪魔板Ｃ１〜Ｃ６の先端側を通過する上昇気流には同伴されることなく、側壁１１ａに付着するようになる。よって、邪魔板Ｃ１〜Ｃ３，Ｃ４〜Ｃ６を、その先端側が下方に向くように傾斜して側板１１ａに設けたことにより、洗浄液Ｐが洗浄槽１から漏れ出ることをより良好に抑制あるいは防止することができる。
【００４４】
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、例えば以下のような変形例が考えられる。
（１）前記実施形態では、各洗浄アーム２ａ１〜２ａ３，２ａ４〜２ａ６と側壁１１ａ、１１ａとの間隙にそれぞれ３枚ずつの邪魔板Ｃ１〜Ｃ３，Ｃ４〜Ｃ６を配置した例について説明したが、本発明はこれに限定されない。すなわち、一枚ずつの邪魔板Ｃ３，Ｃ６を、最下段の洗浄アーム２ａ３，２ａ６の両端側における第１通気路Ｆ１に配設してもよい。これによっても、霧状洗浄液Ｐを含む上昇気流は、洗浄槽１の内部に向く流れに変換されるので、その上昇力が弱まる。
【００４５】
（２）前記実施形態では、邪魔板Ｃ１〜Ｃ３，Ｃ４〜Ｃ６の先端側を下方に向けて傾斜させて配置した例について説明したが、これら邪魔板Ｄ１〜Ｄ３，Ｄ４〜Ｄ６を水平に配置してもよい。これによっても、霧状洗浄液Ｐを含む上昇気流を邪魔板によって遮断することにより、上昇気流の上昇力を十分に弱めることができる。
【００４６】
（３）前記実施形態では、第２通気路Ｆ２に邪魔板Ｄ１〜Ｄ３，Ｄ４〜Ｄ６を配置した例について説明したが、本発明はこれに限定されることなく、これら邪魔板Ｄ１〜Ｄ３，Ｄ４〜Ｄ６の第２通気路Ｆ２への配置を省略してもよい。
（４）さらに、邪魔板Ｃ１〜Ｃ３，Ｃ４〜Ｃ６については、その外形や間隔を、洗浄の対象となる基板Ｗのサイズに応じて交換または変更可能とすることもできる。これにより、例えばサイズが小さい基板を洗浄するときに、拡張された通気路に対応した形状の邪魔板を使用することで、上方に向く流れをより確実に遮断することができる。
【符号の説明】
【００４７】
１…洗浄槽、２Ａ，２Ａ…洗浄液噴射部、２ａ１〜２ａ３，２ａ４〜２ａ６…洗浄アーム（管状部材）、１１ａ…側板（側壁）、１１ｂ…側板（側壁）、Ｆ１…第１通気路（通気路）、Ｃ１〜Ｃ３，Ｃ４〜Ｃ６…邪魔板、Ｎ…洗浄ノズル、Ｐ…洗浄液、Ｓ…基板洗浄装置、Ｗ…基板（プリント基板）
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板洗浄装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
周知のように、プリント基板は、エッチング処理等の化学処理によってパターン配線を形成し、このパターン配線によって複数の電子部品を相互接続することによって所望の電子回路を基板上に構成するものである。このようなプリント基板は、複数の製造工程を経て製造されるが、製造工程の１つに、穴あけ加工及びめっき処理からなるスルーホール形成工程を経た基板の表面を、専用の基板洗浄装置によって洗浄する洗浄工程がある。下記特許文献１には、このようなプリント基板の製造工程に用いられる基板洗浄装置の一例が開示されている。
【０００３】
前記の基板洗浄装置では、プリント基板がハンガー式の基板搬送装置によって垂直状態かつ上端部が支持される状態で基板が搬送される構成となっており、基板洗浄装置の洗浄槽は、上方から搬入された基板を略垂直姿勢で収容する有底の容器で構成されている。
洗浄槽内に設けられた洗浄液噴射部は、基板の両面側となる位置にそれぞれ３本ずつ配置された、合計６本の洗浄アームによって構成されている。これら洗浄アームは、該洗浄アームの軸線に沿って一定間隔で設けられた洗浄ノズルから、洗浄液を基板に向けて噴射するように構成されている。
【０００４】
このような基板洗浄装置は、洗浄槽の上方から搬入された基板の両面に、洗浄槽内の上段、中段、下段に配置した各洗浄アームの洗浄ノズルから洗浄液を噴射する。そして、基板を洗浄槽内の下方で一旦停止させた後、上昇する過程において、再び基板の両面に洗浄液を噴射するようにしている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】国際公開第０９／０９６４８３号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、前記従来の基板洗浄装置では、洗浄槽内に設けられた洗浄液噴射部が洗浄槽内の上段、中段、下段に配置されており、これら各洗浄アームの洗浄ノズルから基板の両面に向けて洗浄液を霧状に噴射するため、噴射された霧状の洗浄液は一部が基板の両面から跳ね返る。
【０００７】
基板の両面から跳ね返った霧状の洗浄液は、周囲の空気を巻き込んで洗浄槽の底面に向けて流下する。その際、各洗浄アームの洗浄ノズルは若干下方を向いているので、基板の両面から跳ね返った霧状の洗浄液は巻き込んだ周囲の空気によって洗浄槽底面に向く流れを形成し、洗浄槽底部側の内圧を高める。したがって、霧状洗浄液は、基板と洗浄槽の内壁（側壁）との間隙を通って気圧の低い洗浄槽の上部外方に吹き抜けていく。
これにより、洗浄槽の上部外方に吹き抜けた霧状洗浄液は、洗浄槽の上部周囲や搬送装置のハンガー等に付着し、それらの表面を汚してしまう。さらに、このような汚れがハンガーや基板に滴下することで、洗浄品質を低下させてしまう。
【０００８】
本発明は前記事情に鑑みてなされたもので、洗浄槽の上部から洗浄液が漏れ出るのを抑制あるいは防止した、基板洗浄装置を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者は前記目的を達成すべく鋭意研究を重ねたところ、霧状洗浄液が洗浄槽の上部開口を通過して外方に吹き抜け、洗浄槽の上部周囲などに付着する現象は、特に対象基板として複数の基板を治具等で保持して一体に洗浄処理した際、すなわち基板が見掛け上大型化した際に、多く起こることを見いだした。そして、このような現象をさらに詳しく分析した結果、霧状洗浄液の上部外方への吹き抜けは、従来のサイズの基板では主に基板の側端と洗浄槽の内壁との間隙を霧状洗浄液が通ることで生じると考えられていたが、前記したような見掛け上大型化した基板では、主に、基板の両面と洗浄槽の側壁との間隙を霧状洗浄液が通ることで生じることが分かった。
そこで、本発明者は前記知見に基づいてさらに研究を重ねた結果、本発明を完成した。
【００１０】
すなわち、本発明の基板洗浄装置は、略垂直姿勢の基板を上方から洗浄槽内に収容し、前記基板の表面および裏面にそれぞれ対向しかつ略水平方向に延在して配置された管状部材から、前記基板の両面にそれぞれ洗浄液を噴射して洗浄する基板洗浄装置であって、前記基板の両面にそれぞれ対向する前記洗浄槽の側壁と、該側壁側に配置された前記管状部材との間に形成される通気路に、邪魔板を配設したことを特徴とする。
【００１１】
また、前記基板洗浄装置において、前記管状部材は上下方向に複数段配設され、前記邪魔板は、前記管状部材の各段に対応して複数配設されていることが好ましい。
【００１２】
また、前記基板洗浄装置において、前記邪魔板は、前記洗浄槽の側壁に、先端側が下方に向くように傾斜して設けられていることが好ましい。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の基板洗浄装置によれば、洗浄槽の側壁と、該側壁側に配置された管状部材との間に形成される通気路に邪魔板を配設したので、基板への洗浄液の噴射によって空気を巻き込んで流下した霧状洗浄液が、洗浄槽底部側の内圧が高まることで通気路を上昇し、上部外方に吹き抜けようとしても、前記邪魔板によってこの流れを遮断することができる。したがって、洗浄槽の上部開口からの洗浄液の漏れを抑制あるいは防止することができ、これにより、洗浄槽の上部周囲や搬送装置のハンガー等に霧状洗浄液が付着するのを防止し、汚れや洗浄品質への影響を解消することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明の一実施形態に係る基板洗浄装置の一部断面を示す全体斜視図である。
【図２】図１に示した基板洗浄装置の要部拡大斜視図である
【図３】図１の要部拡大図である基板洗浄装置の上部側断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、図面を参照して本発明を詳しく説明する。
図１は、本発明の基板洗浄装置の一実施形態を示す図であり、図１中符号Ｓは基板洗浄装置である。この基板洗浄装置Ｓは、主な構成として、洗浄槽１、洗浄液噴射部２Ａ，２Ａと、図示しない洗浄液回収部、洗浄タンク、仕上洗浄タンク、供給ポンプ、オーバーフロー配管等を備えたもので、プリント基板（以下、基板という）の製造工程において、前工程から搬入された基板Ｗに洗浄処理を施す装置である。
【００１６】
ここで、基板Ｗとしては、複数の基板を治具（図示せず）等で保持して一体化し、見掛け上大型化したものが用いられるが、図１及び以降の図では、見やすくするために便宜上、基板Ｗを一枚の矩形状基板として記載している。
また、洗浄槽１は、複数の槽から構成される場合もあるが、本実施形態では上部を開口した単一の有底洗浄槽として、説明する。
【００１７】
洗浄槽１は、上方から搬入された基板Ｗを略垂直姿勢で収容する容器であって、矩形状の底板１０と、底板１０の各辺から立ち上がった側板（側壁）１１ａ、１１ａ、１１ｂ、１１ｂとからなる有底四角筒状のものである。底板１０の長辺から立ち上がった側板１１ａ、１１ａは、収容する基板Ｗの横幅より広い幅に形成されている。また、底板１０の短辺から立ち上がった側板１１ｂ、１１ｂは、収容する基板Ｗの厚さより充分に広い幅に形成されている。これによって前記１１ａ、１１ａと基板Ｗとの間には、前記洗浄液噴射部２Ａ，２Ａが配置可能になっている。すなわち、前記洗浄液噴射部２Ａ，２Ａ間に、基板Ｗが出し入れ可能になっている。なお、洗浄槽１としては、一般的な箱形容器と異なり、上下方向における中間部の幅が、上から下に向かって一定の傾斜で徐々に狭くなるように形成してもよい。
【００１８】
洗浄液噴射部２Ａ，２Ａは、図示しない支持部材によって洗浄槽１内に配置され、かつ、図示しない配管や供給ポンプ等を介して洗浄液貯留部（図示せず）に接続したもので、洗浄槽１内に収容される基板Ｗに対してその表裏両面にそれぞれ、洗浄液貯留部から供給された洗浄液Ｐを霧状に噴射するものである。洗浄液噴射部２Ａ，２Ａのうちの一方は、洗浄槽１の対向する一対の側板１１ａ、１１ａのうちの一方の側板１１ａ側に配置され、洗浄液噴射部２Ａ，２Ａのうちの他方は、側板１１ａ、１１ａのうちの他方の側板１１ａ側に配置されている。これにより、これら洗浄液噴射部２Ａ，２Ａ間には、側板１１ａの面方向に沿って所定の間隙が形成され、この間隙内に基板Ｗが出し入れ可能に収容されるようになっている。
【００１９】
一方の洗浄液噴射部２Ａは、一方の側板１１ａ側において、その上下方向（鉛直方向）に３本の洗浄アーム２ａ１〜２ａ３を配置して構成されており、他方の洗浄液噴射部２Ａも、他方の側板１１ａ側において、その上下方向（鉛直方向）に３本の洗浄アーム２ａ４〜２ａ６を配置して構成されている。すなわち、各洗浄液噴射部２Ａは、洗浄アーム２ａ1〜２ａ３（２ａ４〜２ａ６）が、対応する側板１１ａ側において、上段、中段、下段の３段（複数段）に配置されている。
【００２０】
各洗浄アーム２ａ1〜〜２ａ６は、内部に洗浄液Ｐが通過する孔が形成された管状部材であり、図１の要部拡大図である図２に示すように、複数の洗浄ノズルＮを各洗浄アーム２ａ1〜〜２ａ６の軸線に沿って一定間隔で設けている。このような構成によって各洗浄アーム２ａ1〜２ａ６は、洗浄液貯留部から供給され、内部を流れる洗浄液Ｐを、各洗浄ノズルＮから基板Ｗに向けて霧状に噴射する（噴霧する）ようになっている。
【００２１】
ここで、洗浄液Ｐを噴射する各洗浄ノズルＮは、基板Ｗに向けて噴射する際の噴射角度が水平方向より下方となるように、その向きが設定されている。すなわち、洗浄ノズルＮから所定の拡がりをもって噴射される洗浄液Ｐが、基板Ｗに対してその下方に向く角度で噴き付けられるようになっている。これにより、基板Ｗに噴き付けられた洗浄液Ｐは、基板Ｗから跳ね返って下降するようになっており、跳ね返った後直接上昇して、洗浄槽１の上部外方に飛散することがないようになっている。
【００２２】
前記６本の洗浄アーム２ａ1〜２ａ３，２ａ４〜２ａ６のうち、一方の洗浄液噴射部２Ａを構成する洗浄アーム２ａ1〜２ａ３は、洗浄槽１の正面側に配置され、各洗浄ノズルＮから基板Ｗの一方の面（表面）に洗浄液Ｐを噴射するようになっている。また、他方の洗浄液噴射部２Ａを構成する洗浄アーム２ａ４〜２ａ６は、洗浄槽１の背面側に配置され、各洗浄ノズルＮから基板の他方の面（裏面）に洗浄液Ｐを噴射するようになっている。
【００２３】
基板Ｗの両側、すなわち基板Ｗの表裏面（両面）にそれぞれ対向する側板（側壁）１１ａ、１１ａのそれぞれの側には、該側板１１ａと３本（３段）配置された洗浄アーム２ａ１〜２ａ３（２ａ４〜２ａ６）との間に、所定の間隙が形成されている。そして、この間隙が、洗浄槽１の底部側から上昇する気流の通り道、すなわち本発明における通気路となる第１通気路Ｆ１となっている。
【００２４】
これら第１通気路Ｆ１、Ｆ１には、基板洗浄装置Ｓの上部側断面図である図３に示すように、該第１通気路Ｆ１、Ｆ１をそれぞれ遮断するようにして、３枚ずつの邪魔板Ｃ１〜Ｃ３、Ｃ４〜Ｃ６が、上下方向に所定間隔で３段に配置されている。これら邪魔板Ｃ１〜Ｃ３、Ｃ４〜Ｃ６は、鋼板等からなる細長い矩形板状のもので、３枚ずつ連結板１２に保持されたことより、一体に構成されている。そして、連結板１２が洗浄槽１の側板１１ａの上端部に引っ掛けられて取り付けられたことにより、邪魔板Ｃ１〜Ｃ３、Ｃ４〜Ｃ６はそれぞれが所定位置に配置されている。
【００２５】
すなわち、これら邪魔板Ｃ１〜Ｃ３、Ｃ４〜Ｃ６は、本実施形態では同じ側板１１ａ側に配置された洗浄アーム２ａ１〜２ａ３（２ａ４〜２ａ６）に対し、それぞれ少しずつ上方に位置するようにして配置されている。なお、これら邪魔板Ｃ１〜Ｃ３、Ｃ４〜Ｃ６は、連結板１２を介して側板１１ａに取り付けられたことで、実質的には側板１１ａ、１１ｂに設けられたものとなっている。ただし、これら邪魔板Ｃ１〜Ｃ３、Ｃ４〜Ｃ６については、連結板１２を介して側板１１ａに取り付けることなく、側板１１ａにネジ止め等によって直接取り付けてもよい。
【００２６】
また、各邪魔板Ｃ１〜Ｃ６は、洗浄アーム２ａ１〜２ａ６と平行に、すなわち水平方向に配置されている。ただし、本実施形態では、各邪魔板Ｃ１〜Ｃ６はその先端側（基板Ｗ側）が下方に向くように傾斜して配置されている。水平方向に対する傾斜角θとしては、特に限定されないものの、５°〜３０°程度とするのが好ましい。このように先端側が下方に向くように邪魔板Ｃ１〜Ｃ６を傾斜させておくことにより、後述するように洗浄アーム２ａ１〜２ａ６から基板Ｗに対して洗浄液Ｐを噴射した際、洗浄槽１の底部側（下方）から上昇する霧状洗浄液Ｐを含む上昇気流を邪魔板Ｃ１〜Ｃ６で遮断し、霧状洗浄液Ｐを邪魔板Ｃ１〜Ｃ６の下面にトラップすることができるとともに、トラップした洗浄液Ｐが別に上昇してきた気流に同伴され、再度第１通気路Ｆ１を流れてしまう（上昇してしまう）ことを防止することができる。
【００２７】
また、図１に示すように洗浄アーム２ａ１〜２ａ３（２ａ４〜２ａ６）の両端部側、すなわち洗浄アーム２ａ１〜２ａ３（２ａ４〜２ａ６）の各端部とこれに対向する側板１１ｂとの間は、洗浄槽１の底部側から上昇する気流の通り道となる、第２通気路Ｆ２となっている。これら第２通気路Ｆ２に関しては、特に見掛け上大型の基板Ｗを洗浄処理する場合、前記第１通気路Ｆ１に比べて霧状洗浄液Ｐの上昇量が格段に少ないものの、多少は霧状洗浄液Ｐが洗浄槽１の上部外方に吹き抜ける可能性がある。
【００２８】
したがって、本実施形態では、これら第２通気路Ｆ２にも、該第２通気路Ｆ２、Ｆ２をそれぞれ遮断するようにして、３枚（３段）ずつの邪魔板Ｄ１〜Ｄ３、Ｄ４〜Ｄ６を配置している。これら邪魔板Ｄ１〜Ｄ３、Ｄ４〜Ｄ６は、横断面Ｌ字状のＬ型アングルからなるもので、一方の板部が側板１１ｂに取り付けられたことにより、他方の板部が側板１１ｂより突出し、邪魔板として機能するようになっている。
【００２９】
また、これら邪魔板Ｄ１〜Ｄ３、Ｄ４〜Ｄ６は、邪魔板として機能する他方の板部が、基板Ｗの両面と略直交するように水平に保持されて配置されている。さらに、他方の板部は、側板１１ｂの幅より少し狭い幅に形成され、かつ、基板Ｗに干渉しない程度に洗浄槽１内に突出して配置されている。
【００３０】
次に、このように構成された基板洗浄装置Ｓの動作について説明する。
本実施形態の基板洗浄装置Ｓによる洗浄の対象となる基板Ｗとしては、専用の基板搬送装置によって所定の工程順に搬送され、順次処理されることによって製造されたものである。基板Ｗの製造装置の１つとしてこれに含まれる製造設備では、例えばハンガー式の基板搬送装置によって垂直状態かつ上端が支持される状態で、基板Ｗが搬送される。
【００３１】
搬送装置によりハンガーに吊下されて垂直姿勢で搬送されてきた基板Ｗは、洗浄槽１の上部で一次停止したのち、下降して洗浄槽１内の洗浄液噴射部２Ａ，２Ａ間に収容される。なお、ここで洗浄槽１内に収容される基板Ｗは、前述したように複数の基板を治具（図示せず）等で保持して一体化し、見掛け上大型化したものとする。
【００３２】
洗浄槽１内に収容される基板Ｗは、洗浄槽１内をその上方から下方に移動する過程において洗浄される。すなわち、洗浄槽１の上部にて基板Ｗの停止が確認されると、洗浄槽１内部の上段、中段、下段に配置された各洗浄アーム２ａ1〜２ａ３，２ａ４〜２ａ６の複数の洗浄ノズルＮから、洗浄液Ｐが霧状に一斉に噴出される。
【００３３】
この状態で基板Ｗが洗浄槽１の上部側から底部側に下降すると、この移動過程において基板Ｗの両面には霧状の洗浄液Ｐが噴き付けられる。そして、下降位置で一端停止した後、再び上昇するが、この移動過程においても、基板Ｗの両面に霧状の洗浄液Ｐが噴き付けられる。
【００３４】
その際、基板Ｗの表裏両面に噴き付けられた後、各面から跳ね返った霧状の洗浄液Ｐは、周囲の空気を霧状の洗浄液Ｐ内に巻き込んだ状態で、洗浄槽１の下方（底部側）に流下する。このようにして空気を含む洗浄液Ｐが流下すると、洗浄槽１の底部側ではその内部圧力が徐々に高まる。また、空気を含む洗浄液Ｐは、その一部が洗浄槽１の底面に衝突することで、その流れの向きを反転させる。
【００３５】
これにより、洗浄槽１の内部に上昇気流が発生するので、この上昇気流に同伴された霧状の洗浄液Ｐは、洗浄噴射部２Ａ，２Ａと各側板１１ａ、１１ｂとの間、すなわち第１通気路Ｆ１、第２通気路Ｆ２を上昇する。なお、基板Ｗが配置されている洗浄液噴射部２Ａ，２Ａ間には、各洗浄アーム２ａ1〜２ａ６から洗浄液Ｐが霧状に噴出しているため、この洗浄液Ｐに遮られることにより、前記上昇気流に同伴された霧状の洗浄液Ｐは、洗浄噴射部２Ａ，２Ａ間を通り抜けることはない。
【００３６】
図３中矢印で示すように第１通気路Ｆ１を上昇する洗浄液Ｐは、まず、最下段に配置された一対の邪魔板Ｃ３，Ｃ６に衝突して上昇移動が遮られる。したがって、この上昇気流は、洗浄槽１の内部側、すなわち基板Ｗ側に向く流れにその方向が変えられる。そして、この基板Ｗ側に向けられた流れは、洗浄アーム２ａ1〜２ａ６から基板Ｗに対して霧状に噴出された洗浄液Ｐの流れに乗って、洗浄槽１の底部側に流れる。なお、前記上昇気流に同伴された洗浄液Ｐは、大部分がそのまま流れに同伴されるが、一部は邪魔板Ｃ３，Ｃ６にトラップされ、液状となって邪魔板Ｃ３，Ｃ６の下面に付着する。
【００３７】
さらに、これら一対の邪魔板Ｃ３，Ｃ６を通過した上昇気流は、中段に配置された一対の邪魔板Ｃ２，Ｃ５に衝突して上昇移動が遮られる。そして、この上昇気流は、邪魔板Ｃ２，Ｃ５に衝突した場合と同様にその方向が変えられ、洗浄槽１の底部側に流れる。同様に、これら一対の邪魔板Ｃ２，Ｃ５を通過した上昇気流は、上段に配置された一対の邪魔板Ｃ１，Ｃ４に衝突して上昇移動が遮られ、その流れの方向を変えて洗浄槽１の底部側に流れる。
【００３８】
このようにして、上昇気流は３段の邪魔板Ｃ１〜Ｃ３、Ｃ４〜Ｃ６で順次遮られ、その上昇力が弱められることにより、上段の邪魔板Ｃ１、Ｃ４を通過する上昇気流はその勢いが充分に減じられ、上昇速度が小さくなる。したがって、このように上昇速度が充分に小さくなったことにより、この上昇気流に同伴される霧状洗浄液Ｐの量も充分に少なくなり、結果として洗浄槽１の上部開口から外方に漏れ出る洗浄液Ｐの量は激減し、ほとんどゼロに近くなる。
【００３９】
また、第２通気路Ｆ２を上昇する洗浄液Ｐは、まず、最下段に配置された一対の邪魔板Ｄ３，Ｄ６に衝突して上昇移動が遮られる。したがって、この上昇気流も、第１通気路Ｆ１を上昇する上昇気流と同様にその流れの向きが変えられ、一部が洗浄槽１の底部側に向かって流れるようになる。
【００４０】
そして、邪魔板Ｄ３，Ｄ６を通過した上昇気流は、中段に配置された一対の邪魔板Ｄ２，Ｄ５に衝突して上昇移動が遮られ、一部が洗浄槽１の底部側に向かって流れるようになり、さらにこれら一対の邪魔板Ｄ２，Ｄ５を通過した上昇気流も、上段に配置された一対の邪魔板Ｄ１，Ｄ４に衝突して上昇移動が遮られ、一部が洗浄槽１の底部側に向かって流れるようになる。
【００４１】
このようにして、上昇気流は３段の邪魔板Ｄ１〜Ｄ３、Ｄ４〜Ｄ６で順次遮られ、その上昇力が弱められることにより、第１通気路Ｆ１を上昇した上昇気流と同様に、上段の邪魔板Ｄ１、Ｄ４を通過する上昇気流はその勢いが充分に減じられ、上昇速度が小さくなる。したがって、このように上昇速度が充分に小さくなったことにより、この上昇気流に同伴される霧状洗浄液Ｐの量も充分に少なくなり、結果として洗浄槽１の上部開口から外方に漏れ出る洗浄液Ｐの量は激減し、ほとんどゼロに近くなる。
【００４２】
このように、本実施形態の基板洗浄槽Ｓにあっては、第１通気路Ｆ１に邪魔板Ｃ１〜Ｃ３，Ｃ４〜Ｃ６を、また第２通気路Ｆ２に邪魔板Ｄ１〜Ｄ３，Ｄ４〜Ｄ６をそれぞれ３枚ずつ所定間隔で上下に重ねて配置したので、所謂ラビリンス効果を得ることができる。したがって、最上段の両邪魔板Ｃ１，Ｃ２（Ｄ１，Ｄ４）を通過した上昇気流は、その上昇力が弱められていることで霧状の洗浄液Ｐがほとんど含まれなくなる（同伴されなくなる）。これにより、洗浄液Ｐが洗浄槽１から漏れ出ることによって洗浄槽１の上部周囲や搬送装置のハンガー等に洗浄液Ｐが付着するのを防止し、汚れや洗浄品質への影響を解消することができる。
【００４３】
また、邪魔板Ｃ１〜Ｃ３，Ｃ４〜Ｃ６を、その先端側が下方に向くように傾斜して側板１１ａに設けているので、洗浄槽１の底部側（下方）から上昇する霧状洗浄液Ｐを含む上昇気流を邪魔板Ｃ１〜Ｃ６で遮断し、霧状洗浄液Ｐを邪魔板Ｃ１〜Ｃ６の下面にトラップすることができるとともに、トラップした洗浄液Ｐが別に上昇してきた気流に同伴され、再度第１通気路Ｆ１を流れてしまう（上昇してしまう）ことを防止することができる。すなわち、邪魔板Ｃ１〜Ｃ３，Ｃ４〜Ｃ６が傾斜して設けられているので、これら邪魔板Ｃ１〜Ｃ３，Ｃ４〜Ｃ６に上昇気流が衝突すると、邪魔板Ｃ１〜Ｃ６の下面にトラップされた洗浄液Ｐは上昇気流に押されることで邪魔板Ｃ１〜Ｃ６の下面に沿ってその上方、つまり側壁１１ａ側に向かうようになる。したがって、トラップされた洗浄液Ｐは邪魔板Ｃ１〜Ｃ６の先端側を通過する上昇気流には同伴されることなく、側壁１１ａに付着するようになる。よって、邪魔板Ｃ１〜Ｃ３，Ｃ４〜Ｃ６を、その先端側が下方に向くように傾斜して側板１１ａに設けたことにより、洗浄液Ｐが洗浄槽１から漏れ出ることをより良好に抑制あるいは防止することができる。
【００４４】
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、例えば以下のような変形例が考えられる。
（１）前記実施形態では、各洗浄アーム２ａ１〜２ａ３，２ａ４〜２ａ６と側壁１１ａ、１１ａとの間隙にそれぞれ３枚ずつの邪魔板Ｃ１〜Ｃ３，Ｃ４〜Ｃ６を配置した例について説明したが、本発明はこれに限定されない。すなわち、一枚ずつの邪魔板Ｃ３，Ｃ６を、最下段の洗浄アーム２ａ３，２ａ６の両端側における第１通気路Ｆ１に配設してもよい。これによっても、霧状洗浄液Ｐを含む上昇気流は、洗浄槽１の内部に向く流れに変換されるので、その上昇力が弱まる。
【００４５】
（２）前記実施形態では、邪魔板Ｃ１〜Ｃ３，Ｃ４〜Ｃ６の先端側を下方に向けて傾斜させて配置した例について説明したが、これら邪魔板Ｄ１〜Ｄ３，Ｄ４〜Ｄ６を水平に配置してもよい。これによっても、霧状洗浄液Ｐを含む上昇気流を邪魔板によって遮断することにより、上昇気流の上昇力を十分に弱めることができる。
【００４６】
（３）前記実施形態では、第２通気路Ｆ２に邪魔板Ｄ１〜Ｄ３，Ｄ４〜Ｄ６を配置した例について説明したが、本発明はこれに限定されることなく、これら邪魔板Ｄ１〜Ｄ３，Ｄ４〜Ｄ６の第２通気路Ｆ２への配置を省略してもよい。
（４）さらに、邪魔板Ｃ１〜Ｃ３，Ｃ４〜Ｃ６については、その外形や間隔を、洗浄の対象となる基板Ｗのサイズに応じて交換または変更可能とすることもできる。これにより、例えばサイズが小さい基板を洗浄するときに、拡張された通気路に対応した形状の邪魔板を使用することで、上方に向く流れをより確実に遮断することができる。
【符号の説明】
【００４７】
１…洗浄槽、２Ａ，２Ａ…洗浄液噴射部、２ａ１〜２ａ３，２ａ４〜２ａ６…洗浄アーム（管状部材）、１１ａ…側板（側壁）、１１ｂ…側板（側壁）、Ｆ１…第１通気路（通気路）、Ｃ１〜Ｃ３，Ｃ４〜Ｃ６…邪魔板、Ｎ…洗浄ノズル、Ｐ…洗浄液、Ｓ…基板洗浄装置、Ｗ…基板（プリント基板）
【特許請求の範囲】
【請求項１】
略垂直姿勢の基板を上方から洗浄槽内に収容し、前記基板の表面および裏面にそれぞれ対向しかつ略水平方向に延在して配置された管状部材から、前記基板の両面にそれぞれ洗浄液を噴射して洗浄する基板洗浄装置であって、
前記基板の両面にそれぞれ対向する前記洗浄槽の側壁と、該側壁側に配置された前記管状部材との間に形成される通気路に、邪魔板を配設したことを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項２】
前記管状部材は上下方向に複数段配設され、
前記邪魔板は、前記管状部材の各段に対応して複数配設されていることを特徴とする請求項１記載の基板洗浄装置。
【請求項３】
前記邪魔板は、前記洗浄槽の側壁に、先端側が下方に向くように傾斜して設けられていることを特徴とする請求項１または２記載の基板洗浄装置。
【請求項１】
略垂直姿勢の基板を上方から洗浄槽内に収容し、前記基板の表面および裏面にそれぞれ対向しかつ略水平方向に延在して配置された管状部材から、前記基板の両面にそれぞれ洗浄液を噴射して洗浄する基板洗浄装置であって、
前記基板の両面にそれぞれ対向する前記洗浄槽の側壁と、該側壁側に配置された前記管状部材との間に形成される通気路に、邪魔板を配設したことを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項２】
前記管状部材は上下方向に複数段配設され、
前記邪魔板は、前記管状部材の各段に対応して複数配設されていることを特徴とする請求項１記載の基板洗浄装置。
【請求項３】
前記邪魔板は、前記洗浄槽の側壁に、先端側が下方に向くように傾斜して設けられていることを特徴とする請求項１または２記載の基板洗浄装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図２】
【図３】
【公開番号】特開２０１３−５５１１０（Ｐ２０１３−５５１１０Ａ）
【公開日】平成２５年３月２１日（２０１３．３．２１）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−１９０５３２（Ｐ２０１１−１９０５３２）
【出願日】平成２３年９月１日（２０１１．９．１）
【出願人】（０００２３２３５７）横河電子機器株式会社 (109)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２５年３月２１日（２０１３．３．２１）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年９月１日（２０１１．９．１）
【出願人】（０００２３２３５７）横河電子機器株式会社 (109)
【Ｆターム（参考）】
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