塗布装置、塗布方法、およびパターン修正装置
【課題】微小な領域に塗布することができ、１回の塗布量が多く、耐久性が高い塗布装置を提供する。
【解決手段】この塗布装置１は、その内部にインク３が注入され、その下端に開口部２ａが形成されたノズル状の容器２と、容器２内に挿入された針状の塗布部材４とを備える。待機時は、塗布部材４の先端部４ａをインク３に浸漬させ、塗布時は、塗布部材４の先端部４ａを開口部４を介して容器２の下に突出させ、塗布部材４の先端に付着したインク３を基板７の表面に塗布する。塗布部材４は、１本の細線５を折り返して形成した２本の細線５を含む。細線５の頂点部が塗布部材４の先端部４ａとなる。したがって、２本の細線４の微小隙間Ｇのインク３を基板７の表面に塗布できる。
【解決手段】この塗布装置１は、その内部にインク３が注入され、その下端に開口部２ａが形成されたノズル状の容器２と、容器２内に挿入された針状の塗布部材４とを備える。待機時は、塗布部材４の先端部４ａをインク３に浸漬させ、塗布時は、塗布部材４の先端部４ａを開口部４を介して容器２の下に突出させ、塗布部材４の先端に付着したインク３を基板７の表面に塗布する。塗布部材４は、１本の細線５を折り返して形成した２本の細線５を含む。細線５の頂点部が塗布部材４の先端部４ａとなる。したがって、２本の細線４の微小隙間Ｇのインク３を基板７の表面に塗布できる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は塗布装置、塗布方法、およびパターン修正装置に関し、特に、基板の表面に液体を塗布する塗布装置および塗布方法と、基板上に形成された微細パターンの欠陥部を修正するパターン修正装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、プラズマディスプレイ、液晶ディスプレイ、ＥＬディスプレイなどのフラットパネルディスプレイの大型化、高精細化に伴い、ガラス基板上に形成された電極（配線）や液晶カラーフィルタなどに欠陥が存在する確率が高くなっており、歩留まりの向上を図るため欠陥を修正する方法が提案されている。
【０００３】
たとえば、液晶ディスプレイのガラス基板の表面には電極（配線）が形成されている。この電極が断線している場合、塗布針先端に付着させた導電性の修正ペースト（修正液）を断線部に塗布し、電極の長さ方向に塗布位置をずらしながら複数回塗布して電極を修正する（たとえば、特許文献１参照）。
【０００４】
また、塗布針の先端部をテーパ状に形成し、そのテーパ面に溝あるいは平坦面を形成することで、溝あるいは平坦面に溜まったインクを基板側に流して塗布量を増やす方法がある（たとえば、特許文献２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平８−２９２４４２号公報
【特許文献２】特開２００７−９４３４１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、塗布針を用いて欠陥部を修正する方法では、塗布針先端の平坦面に付着した修正液を欠陥部に転写するので、修正液の塗布径は塗布針先端の平坦面の直径で決まる。したがって、１０μｍ前後の塗布径を実現するのは難しく、これを用いた細線描画形成も同様に難しかった。金属の細線（たとえばタングステン線）を塗布針として利用する方法もあるが、細線先端をテーパ状にして先端をより細くするには電解研磨等の化学的な処理が必要となり、製作が難しいと言う課題がある。
【０００７】
また、塗布針先端の平坦面を微小にすると、塗布針を含む可動部が軽量であっても面圧は高くなる。たとえば、塗布針を含む可動部の重量が１０ｇ程度と軽量であっても、塗布針先端の平坦面の直径が１０μｍであれば、その面圧は約１２７ｋｇ／ｍｍ２となる。そのため、欠陥部の近傍に微小な突起が存在する場合は、突起が押し潰されたり、局部的に面圧が高くなることも想定される。また、塗布針先端の磨耗、変形等も考えられる。
【０００８】
また、塗布針先端の平坦面を小さくすると、１回の塗布動作で塗布されるインク量は非常に少なくなる。特許文献２にあるように、塗布針先端のテーパ面上に溝あるいは平坦面を形成することは塗布量を増やすには効果的であるが、塗布針先端の平坦面が小さくなるにつれて、それらの加工も難しくなる。
【０００９】
それゆえに、この発明の主たる目的は、微小な領域に塗布することができ、１回の塗布量が多く、耐久性が高い塗布装置、塗布方法、およびパターン修正装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
この発明に係る塗布装置は、基板の表面に液体を塗布する塗布装置であって、その内部に液体が注入され、その下端に開口部が形成された容器と、容器内に挿入された針状の塗布部材と、待機時は、塗布部材の先端部を液体に浸漬させ、塗布時は、塗布部材の先端部を開口部を介して容器の下に突出させ、塗布部材の先端部に付着した液体を基板の表面に塗布する駆動手段とを備えたものである。塗布部材の先端部は複数の細線を含み、各細線の側面は他の細線の側面に接触または近接している。
【００１１】
好ましくは、容器の下に突出された塗布部材の先端部の複数の細線の隙間には毛細管現象によって液体が保持されており、複数の細線の隙間に保持された液体の一部が基板の表面に塗布される。
【００１２】
また好ましくは、複数の細線の外接円の直径は開口部の直径よりも小さく設定され、開口部によって塗布部材を案内して、塗布部材の先端部の位置ずれを防止する。
【００１３】
また好ましくは、複数の細線は、１本の細線を折り返して形成された第１および第２の細線を含み、第１および第２の細線の頂点部が塗布部材の先端部とされている。
【００１４】
また好ましくは、第１の細線は第２の細線よりも長く、第２の細線の長さは、塗布部材の先端部が容器の開口部から突出したときに第２の細線の上端が容器内に残るように設定され、第１および第２の細線のうちの第１の細線の基端部のみが駆動手段に保持されている。
【００１５】
また好ましくは、複数の細線の先端部は捻られている。
また好ましくは、塗布部材の先端が基板の表面に接触した後も塗布部材を下降させると、容器内で撓むように塗布部材が形成されている。
【００１６】
また好ましくは、容器は、下端から上方に向かって徐々に太くなるノズル状に形成されている。
【００１７】
また、この発明に係る塗布方法は、基板の表面に液体を塗布する塗布方法であって、その内部に液体が注入され、その下端に開口部が形成された容器と、容器内に挿入された針状の塗布部材とを設けるものである。塗布部材の先端部は複数の細線を含み、各細線の側面は他の細線の側面に接触または近接している。待機時は、塗布部材の先端部を液体に浸漬させ、塗布時は、塗布部材の先端部を開口部を介して容器の下に突出させ、塗布部材の先端部に付着した液体を基板の表面に塗布する。
【００１８】
好ましくは、塗布部材が基板に接触する位置を少しずつ移動させながら塗布部材を複数回上下動させて、基板の表面に所望の形状のパターンを描画する。
【００１９】
また好ましくは、塗布部材の先端が基板に接触した状態で基板と塗布部材とを相対移動させて、基板の表面に所望の形状のパターンを描画する。
【００２０】
また、この発明に係るパターン修正装置は、基板上に形成された微細パターンの欠陥部を修正するパターン修正装置であって、その内部に修正液が注入され、その下端に開口部が形成された容器と、容器内に挿入された針状の塗布部材と、塗布部材の先端部を欠陥部の上方に位置決めする位置決め手段と、待機時は、塗布部材の先端部を修正液に浸漬させ、塗布時は、塗布部材の先端部を開口部を介して容器の下に突出させ、塗布部材の先端部に付着した修正液を欠陥部に塗布する駆動手段とを備えたものである。塗布部材の先端部は複数の細線を含み、各細線の側面は他の細線の側面に接触または近接している。
【００２１】
好ましくは、複数の細線は、１本の細線を折り返して形成された第１および第２の細線を含み、第１および第２の細線の頂点部が塗布部材の先端部とされている。
【００２２】
また好ましくは、第１の細線は第２の細線よりも長く、第２の細線の長さは、塗布部材の先端部が容器の開口部から突出したときに第２の細線の上端が容器内に残るように設定され、第１および第２の細線のうちの第１の細線の基端部のみが駆動手段に保持されている。
【発明の効果】
【００２３】
この発明に係る塗布装置および塗布方法では、その内部に液体が注入され、その下端に開口部が形成された容器と、容器内に挿入された針状の塗布部材とを設け、待機時は、塗布部材の先端部を液体に浸漬させ、塗布時は、塗布部材の先端部を開口部を介して容器の下に突出させ、塗布部材の先端部に付着した液体を基板の表面に塗布する。塗布部材の先端部は複数の細線を含み、各細線の側面は他の細線の側面に接触または近接している。したがって、塗布部材を複数の細線で構成するので、微小な領域に塗布することができ、１回の塗布量を多くし、耐久性を高めることができる。
【００２４】
また、この発明に係るパターン修正装置では、その内部に修正液が注入され、その下端に開口部が形成された容器と、容器内に挿入された針状の塗布部材と、塗布部材の先端部を欠陥部の上方に位置決めする位置決め手段と、待機時は、塗布部材の先端部を修正液に浸漬させ、塗布時は、塗布部材の先端部を開口部を介して容器の下に突出させ、塗布部材の先端部に付着した修正液を欠陥部に塗布する駆動手段とを備え、塗布部材の先端部は複数の細線を含み、各細線の側面は他の細線の側面に接触または近接している。したがって、塗布部材を複数の細線で構成するので、微小な領域に塗布することができ、１回の塗布量を多くし、耐久性を高めることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】この発明の実施の形態１による塗布装置の構成および動作を示す断面図である。
【図２】図１に示した塗布部材の構成を示す断面図である。
【図３】図１に示した塗布装置の構成および動作をより詳細に示す図である。
【図４】図３に示した塗布装置によって形成された微細パターンを示す図である。
【図５】実施の形態１の変更例を示す断面図である。
【図６】実施の形態１の他の変更例を示す断面図である。
【図７】実施の形態１のさらに他の変更例を示す断面図である。
【図８】実施の形態１のさらに他の変更例を示す断面図である。
【図９】この発明の実施の形態２によるパターン修正装置の修正対象となる基板を示す図である。
【図１０】図９に示したオープン欠陥部を修正した状態を示す図である。
【図１１】パターン修正装置の修正対象となる液晶カラーフィルタ基板を示す図である。
【図１２】パターン修正装置の修正対象となる他の液晶カラーフィルタ基板を示す図である。
【図１３】図１２に示した白欠陥部を修正する方法を示す図である。
【図１４】図１２に示した白欠陥部を修正した状態を示す図である。
【図１５】パターン修正装置の全体構成を示す図である。
【図１６】実施の形態２の変更例を示す図である。
【図１７】実施の形態２の他の変更例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
［実施の形態１］
この発明の実施の形態１による塗布装置１は、図１（Ａ）に示すように、ガラス管を引き延ばしてその先端を細く形成したノズル状の容器２を備える。容器２内には、インク（修正液）３が注入される。配線の修正を目的にする場合には、インク３として、たとえば導電性ナノインクが使用される。また、カラーフィルタの色抜け欠陥部を補修する場合には、インク３として、修正に適した着色インクが使用される。
【００２７】
容器２の内部には、針状の塗布部材４の先端部４ａが挿入される。塗布部材４は、塗布針として機能する。塗布部材４は、１本の金属製の細線５を折り返して形成された２本の細線を含む。細線５としては、非常に細いタングステン線、たとえば線径が数μｍから数十μｍ程度のものを用いる。２本の細線５の頂点部（細線５の折り返し部）が塗布部材４の先端部４ａとなる。
【００２８】
図２に示すように、２本の細線５の側面は互いに接触または近接しており、２本の細線５の間に微小隙間Ｇが形成される。２本の細線５からなる塗布部材４の長軸幅Ｗ（外接円の直径）は細線５の直径の約２倍となり、容器２の開口部２ａの直径ｄよりも小さくなるように設定される（Ｗ＜ｄ）。長軸幅Ｗと開口部２ａの直径ｄとの差を小さくすれば、開口部２ａが塗布部材４を案内する構造となり、塗布部材４の位置ずれを防止して、塗布精度を安定させることが可能となる。２本の細線５の側面を固着しなくても、開口部２ａを塗布部材４が通過することにより細線５同士が近接するため、微小隙間Ｇが形成される。微小隙間Ｇには、毛細管現象によってインク３が保持される。
【００２９】
図１（Ａ）に戻って、塗布部材４の基端部は固定部材６に固定される。固定部材６は、図示しない駆動源により上下方向に進退可能とされる。塗布装置１は、図示しないＺステージにより上下方向に移動可能に支持される。
【００３０】
待機時は図１（Ａ）に示すように、塗布部材４の先端部４ａはインク３内に浸漬した状態とされる。塗布時は、塗布部材４の先端部４ａが基板７の表面のうちの所望の位置の上方に位置決めされた後、図１（Ｂ）に示すように固定部材６が下降され、塗布部材４の先端部４ａが開口部２ａを介して容器２の下に突出する。このとき、先端部４ａにはインク３が付着している。
【００３１】
この状態で図１（Ｃ）に示すように、Ｚステージ（図示せず）により塗布装置１を下降させて塗布部材４の先端部４ａを基板７の表面に接触させ、インク３を基板７に塗布する。このとき、塗布部材４の先端部４ａに付着したインク３以外にも、２本の細線５の微小隙間Ｇに保持されたインク３が基板７に流れるため、細線５が１本の場合に比べてインク３の塗布量を多くすることが可能となる。インク３の塗布量は、塗布部材４の先端部４ａと基板７とが接触している時間を長くするほど多くなる傾向がある。その後、図１（Ｄ）に示すように、塗布装置１を上昇させるとともに塗布部材４を上昇させると、基板７の表面にはインク層３ａが形成される。
【００３２】
この塗布装置１であれば、従来のように塗布針の先端部をテーパ状に加工したり、塗布針の先端を平坦面に加工する工程が不要であるので、塗布部材４の製造工程が簡素化される。
【００３３】
また、塗布部材４を非常に細い金属の細線５で形成したので、塗布部材４を基板７側に押し込み過ぎた場合でも、細線５が容器２の内部で撓む。このため、塗布部材４の先端と基板７の表面との間の過大な力が加えられて塗布部材４や基板７が破壊されるのを防止することができる。
【００３４】
図３（Ａ）〜（Ｄ）は、塗布装置１の構成および動作をより詳細に示す断面図である。図３（Ａ）〜（Ｄ）において、ベース板９には垂直方向に可動する直動案内軸受１０のレール部１０ａが固定され、スライド部１０ｂにはＺステージ１１を介して固定部材６が固定される。容器２は、ベース板９に固定された支持部材１２に固定される。
【００３５】
ベース板９には、固定部材６を上下動させる駆動部１３が固定され、その出力軸１３ａは上下方向に伸縮する。出力軸１３ａの先端部には水平方向に伸びるピン１４が設けられており、ピン１４の先端はＺステージ１１の下端面１１ａを支持している。駆動部１３は、たとえばエアシリンダのような直動アクチュエータである。ベース板９はＺステージ１５に固定されていて、Ｚステージ１５によりベース板９は上下方向に移動可能とされる。基板７はＸＹステージ１６に搭載され、塗布装置１と基板７とを水平方向に相対移動させる。
【００３６】
待機時は図３（Ａ）に示すように、Ｚステージ１１は上方に配置されており、塗布部材４の先端部４ａは容器２内のインク３中に浸漬されている。また、ＸＹステージ１６により、塗布部材４の先端部４ａは基板７の表面の所望の位置の上方に配置される。塗布指令を受けると図３（Ｂ）に示すように、駆動部１３の出力軸１３ａを下降させて塗布部材４の先端部４ａを容器２の開口部２ａから下方に突出させる。このとき、出力軸１３ａから水平方向に突出するピン１４はＺステージ１１の下端面１１ａに当接していて、出力軸１３ａが下降するのに合わせて、Ｚステージ１１を含む可動部の自重により下降する。
【００３７】
その後、図３（Ｃ）に示すようにＺステージ１５を下降させて塗布部材４の先端部４ａを基板７の表面に接触させる。設定された接触時間を経過したあとで、図３（Ｄ）に示すように固定部材６を上昇させて塗布部材４の先端部４ａをインク３内に戻し、塗布動作が終了する。基板７の表面にはインク層３ａが形成される。
【００３８】
図４は、塗布装置１を用いて基板７上に形成された直線状の微細パターン３Ａを示す図である。微細パターン３Ａは、一列に配列された複数のインク層３ａを含む。隣接する２つのインク層３ａの一部は、互いに重ね合わされている。ＸＹステージ１６を移動させて基板７上の塗布位置を少しずつ変えながら塗布動作を繰り返し行なうことにより、直線状の微細パターン３Ａを描画する。
【００３９】
次に、実施の形態１の種々の変更例について説明する。図５の変更例では、塗布部材４の先端部４ａが基板７の表面に接触した状態で、基板７と塗布装置１とを始点Ｐ１から終点Ｐ２まで水平方向に相対移動させて任意形状の微細パターン３Ａを得る。塗布部材４の先端部４ａが基板７の表面を引き摺りながら移動（スライド）する際には、２本の細線５間の微小隙間Ｇに毛細管力で保持されたインク３が基板７側に供給され、連続した微細パターン３Ａが得られる。
【００４０】
図６の変更例では、塗布部材４は、１本の細線５のうちの一方端側の所定長さの部分を折り返したものである。塗布部材４の下端部は、１本の金属製の細線５を折り返して形成された２本の細線を含む。２本の細線５の頂点部（細線５の折り返し部）が塗布部材４の先端部４ａとなる。細線５のうちの下から上に折り返した部分の長さは、先端部４ａが容器２の開口部２ａから突出した際に、折り返した部分の上端５ｂが容器２内に残る程度に設定される。したがって、折り返した部分の上端５ｂは容器２から突出しないので、塗布部４の先端部４ａが容器２に戻る際に、上端５ｂが開口部２ａに引っかかることを防止することができる。塗布部材４の上端部は、１本の細線５のみで形成される。１本の細線５の上端部は、固定部材６に固定される。
【００４１】
図７の変更例では、塗布部材４は、複数（図では２本）の細線５を１つに束ねたものである。複数の細線５の側面が接してできる微小隙間Ｇに毛細管力でインク３を保持すようにしたものであり、先端部４ａは複数の細線５の端面となり、端面位置は揃えられる。このとき、基板７と接する細線５の１本ごとの端面の平坦性はあまり問われない。先端部４ａは複数の細線５からなるが、それらの先端（基板７に接する側）を固着する必要はなく、開口部２ａを通過することにより細線５同士が近接して微小隙間Ｇは形成される。
【００４２】
図８の変更例では、２本の細線５の先端部４ａ側が捻られる。この変更例では、先端部４ａの２本の細線５がばらけるのを防止することができる。
【００４３】
［実施の形態２］
図９は、この発明の実施の形態２によるパターン修正装置の修正対象となる基板１７の構成を示す図である。図９において、基板１７は、ガラス基板のような絶縁基板１８を含む。絶縁基板１８の表面には、複数の導電性パターン（配線）１９が所定の間隔で平行に形成されている。複数の導電性パターン１９のうちの１本の導電性パターン１９には、オープン欠陥部１９ａが存在するものとする。
【００４４】
オープン欠陥部１９ａの一方側（図では上側）および他方側（図では下側）には、それぞれ正常な導電性パターン１９ｂ，１９ｃが存在する。パターン修正装置は、実施の形態１で示した塗布装置１を含む。塗布装置１の塗布部材４の先端部４ａを一方側の導電性パターン１９ｂの端部からオープン欠陥部１９ａを介して他方側の導電性パターン１９ｃの端部まで移動させながらインク（修正液）３を塗布すると、図１０に示すように、オープン欠陥部１９ａを覆うように帯状の修正インク層３Ｂが形成される。
【００４５】
修正インク層３Ｂは、一列に配列された複数のインク層３ａを含む。隣接する２つのインク層３ａの一部は、互いに重ね合わされている。修正インク層３Ｂを焼成すると、修正インク層３Ｂは導電性を示し、オープン欠陥部１９ａの一方側の導電性パターン１９ｂと他方側の導電性パターン１９ｃとが電気的に接続される。このようにして、オープン欠陥部１９ａが修正される。
【００４６】
なお、導電性パターン１９の膜厚が１μｍ以下で、オープン欠陥部１９ａを含む修正範囲に突起物が無い場合、図５で示したように、塗布部材４の先端部４ａを基板１７の表面に接触させた状態で、基板１７上で引き摺って修正インク層３Ｂを描画することも可能である。
【００４７】
図１１は、このパターン修正装置の修正対象となる液晶カラーフィルタ基板２０の構成を示す図である。図１１において、液晶カラーフィルタ基板２０は、ガラス基板２１を含む。ガラス基板２１の表面には、格子状のブラックマトリックス２２が形成され、ブラックマトリックス２２で囲まれた複数の領域にＲ画素２３、Ｇ画素２４、およびＢ画素２５が一定の周期で形成されている。Ｒ画素２３、Ｇ画素２４、およびＢ画素２５は、それぞれ赤色、緑色、および青色の着色層で構成されている。
【００４８】
図１１では、Ｂ画素２５の一部に矩形の白欠陥部（色抜け欠陥部）２５ａが存在する状態が示されている。この矩形の白欠陥部２５ａは、そのＢ画素２５に発生した任意形状の白欠陥あるいは異物欠陥を含む矩形の領域にレーザ光を照射して形成したものである。パターン修正装置は、塗布装置１を使用し、白欠陥部２５ａが存在する画素の色（この場合、青色）に応じた色のインク（修正液）３を白欠陥部２５ａに充填して、白欠陥部２５ａを修正する。
【００４９】
白欠陥部２５ａが２０μｍ以下の微小サイズになると、従来の方法では、その先端の平坦面径が１０μｍ程度の塗布針を使用する必要がある。しかし、そのような塗布針を使用すると、１回に塗布されるインク３の液量が少なくなって、修正された画素の色合いが薄くなる。そのため、塗布を複数回繰り返す必要がある。
【００５０】
それに対して、本願の塗布装置１を用いてインク３を塗布すれば、複数の細線５間の微小隙間Ｇに保持されたインク３の一部が塗布されるため、１回の塗布工程で白欠陥部２５ａに塗布されるインク３の液量を増やすことが可能となる。
【００５１】
図１１では、画素内の一部に白欠陥部２５ａが存在する場合の修正例を示したが、最近では１画素内の色むらをなくすため、１画素内に小さな欠陥がある場合でも１画素全体を白欠陥部２５ａにしてから修正する場合がある。
【００５２】
図１２では、１つのＢ画素２５全体が白欠陥部２５ａにされている状態が示されている。このような場合でも、塗布部材４の先端部４ａにインク３を付着させ、先端部４ａを白欠陥部２５ａに接触させて白欠陥部２５ａにインク３を塗布するが、１回の塗布で白欠陥部２５ａ全体にインク３を充填できない場合には、白欠陥部２５ａ内で塗布位置を変えて複数回塗布を行なう。あるいは、図５で示した塗布方法と同様に、白欠陥部２５ａ内の始点Ｐ１から終点Ｐ２の区間で、塗布部材４の先端部４ａと基板２１とを引き摺りながら塗布してもよい。
【００５３】
図１３は、図１２のＸＩＩＩ−ＸＩＩＩ線断面図である。図１３では、塗布部材４の先端部４ａを引き摺りながらインク３を塗布している状態が示されている。塗布部材４の先端部４ａが白欠陥部２５ａに接触した状態で、塗布装置１を図１３中の右方向にスライドさせて、白欠陥部２５ａ内をインク３で満たす。図１４は、塗布が完了した状態を示している。白欠陥部２５ａ全体にインク３が充填されて修正インク層３Ｃが形成される。なお、白欠陥部２５ａの幅が広い場合には、引き摺る場所を変えて複数回に分けてインク３を塗布する。
【００５４】
図１５は、パターン修正装置５０の全体構成を示す斜視図である。図１５において、このパターン修正装置５０では、定盤５１の中央部にチャック５２が設けられ、チャック５２には修正対象の基板１７（または２０）が固定される。
【００５５】
また、定盤５１には、ガントリ型のＸＹステージ５３が搭載されている。ＸＹステージ５３は、Ｘ軸ステージ５３ａと門型のＹ軸ステージ５３ｂとを含む。Ｙ軸ステージ５３ｂは、チャック５２を跨ぐように設けられ、図中のＹ軸方向に移動する。Ｘ軸ステージ５３ａは、Ｙ軸ステージ５３ｂに搭載され、図中のＸ方向に移動する。
【００５６】
Ｘ軸ステージ５３ａには、上下方向に移動可能なＺ軸ステージ５４が搭載される。Ｚ軸ステージ５４には、観察光学系５５、対物レンズ５６、レーザ５７、塗布装置１、および焼成装置５８が搭載されている。Ｘ軸ステージ５３ａ、Ｙ軸ステージ５３ｂ、およびＺ軸ステージ５４を制御することにより、観察光学系５５、レーザ５７、塗布装置１、焼成装置５８の各々を基板１７（または２０）表面の所望の位置の上方に移動させることが可能となっている。
【００５７】
観察光学系５５は、対物レンズ５６を介して、基板１７（または２０）上の欠陥部１９ａ（または２５ａ）などを観察するために用いられる。レーザ５７は、観察光学系５５および対物レンズ５６を介して基板１７（または２０）上の欠陥にレーザ光を照射し、レーザアブレーションによってその欠陥形状を整形したり、欠陥およびその周囲に余分に付着したインク３を除去するために用いられる。
【００５８】
また、この例では、塗布装置１は上下方向に進退可能なＺ軸ステージ５９を介してＺ軸ステージ５４に固定されている。塗布装置１は、Ｚ軸ステージ５４に直接固定してあってもよいし、Ｚ軸ステージ５４以外のものに固定してもよい。また、焼成装置５８は、基板１７（または２０）に塗布されたインク３を焼成するために使用される。
【００５９】
次に、このパターン修正装置の動作について説明する。まずステージ５３ａ，５３ｂ，５４を制御して、観察光学系５５および対物レンズ５６の光軸を欠陥部１９ａ（または２５ａ）に位置決めし、欠陥部１９ａ（または２５ａ）を観察する。欠陥部１９ａ（または２５ａ）の形状の整形が必要である場合は、レーザ５７から欠陥部１９ａ（または２５ａ）にレーザ光を照射して欠陥部１９ａ（または２５ａ）を修正し易い形状に整形する。
【００６０】
次に、ステージ５３ａ，５３ｂ，５４を制御して、塗布装置１の先端部４ａ先端を欠陥部１９ａ（または２５ａ）の上方に位置決めし、実施の形態１などで説明したように、インク３を欠陥部１９ａ（または２５ａ）に塗布し、欠陥部１９ａ（または２５ａ）に修正インク層３Ｂ（または３Ｃ）を形成する。次いで、ステージ５３ａ，５３ｂ，５４を制御して、焼成装置５８を修正インク層３Ｂ（または３Ｃ）の上方に位置決めし、修正インク層３Ｂ（または３Ｃ）を焼成して修正を終了する。
【００６１】
図１６は、パターン修正装置の変更例を示す図である。この変更例では、Ｚ軸ステージ５９がＸＹＺステージ６０で置換される。ＸＹＺステージ６０は、Ｘ軸ステージ６１、Ｚ軸ステージ６２およびＹ軸ステージ６３を含む。Ｘ軸ステージ６１は、塗布装置１をＸ軸方向に移動させる。Ｚ軸ステージ６２は、Ｘ軸ステージ６１をＺ軸方向に移動させる。Ｙ軸ステージ６３は、Ｚ軸ステージ６２をＹ軸方向に移動させる。
【００６２】
この場合、観察光学系５５を用いて欠陥部１９ａ（または２５ａ）を観察しながら、ＸＹＺステージ６０を操作して、対物レンズ５６と基板１７（または２０）との間に塗布装置１を挿入し、欠陥部１９ａ（または２５ａ）にインク３を塗布することも可能であり、塗布時には大型のＸＹステージ５３の相対移動が省略される。
【００６３】
なお、塗布装置１を対物レンズ５６の直下に入れずに、観察光学系５５で観察した欠陥部１９ａ（または２５ａ）を相対移動させて塗布装置１の下方に位置決めしてから、ＸＹＺステージ６０を制御してインク３を塗布する方式であってもよい。
【００６４】
図１７は、他の変更例を示す図である。この変更例では、対物レンズ５６の倍率の切り換えを行なう対物レンズ切換器（ＸＹステージ）６４に塗布装置１が固定される。対物レンズ切換器６４は、たとえば図１１のＺ軸ステージ５４に搭載される。対物レンズ切換器６４は、水平方向（ＸＹ方向）に移動可能な可動板６５を含む。可動板６５の下面には、互いに倍率の異なる複数の対物レンズ５６が搭載されている。可動板６５には、各対物レンズ５６に対応して貫通孔６５ａが開口されている。各対物レンズ５６の光軸は、孔６５ａの中心を垂直に貫通している。対物レンズ切換器６４を制御して、所望の倍率の対物レンズ５６の光軸を観察光学系５５の光軸に一致させることにより、所望の倍率で欠陥部１９ａ（または２５ａ）を観察することができる。
【００６５】
塗布装置１は、可動板６５の下面に複数の対物レンズ５６とともに搭載される。したがって、対物レンズ切換器６４を制御することにより、塗布装置１を欠陥部１９ａ（または２５ａ）の上方に移動させることができる。塗布装置１を用いたインク３の塗布方法は、上述の方法と同じであるので、その説明は繰り返さない。この変更例では、図１６の変更例にあったＸＹＺステージ６０を省略できるので、装置構成が簡素化される。また、対物レンズ５６で欠陥部１９ａ（または２５ａ）を観察している位置から近い位置に塗布装置１が配置されるため、塗布装置１の移動時間が短縮され、修正タクトタイムが短縮される。
【００６６】
この場合、塗布部材４の先端部４ａが基板１７（または２０）の表面に接触するようにＺ軸ステージ５４を下降させてもよいが、塗布装置１の固定部６６の代わりに小型のＺステージ（図示せず）を搭載してもよい。
【００６７】
さらに、対物レンズ切換器６４と基板１７（または２０）との距離を測定する距離センサ（高さセンサ）６７を対物レンズ切換器６４に搭載してあってもよい。通常、観察光学系５５で観察している画像が焦点（フォーカス）位置にあるＺ軸ステージ５４の位置を基準として、この状態（フォーカス状態）から塗布部材４は一定量下降する。
【００６８】
塗布部材４の先端部４ａと基板１７（または２０）とが接触するＺ方向の位置関係を距離センサ６７で事前に把握すれば、先端部４ａが基板１７（または２０）に接触する手前で停止（寸止め）させたり、先端部４ａが基板１７（または２０）に接触してからのＺ方向の押し込み量を正確に把握することが可能となる。
【００６９】
なお、この実施の形態１，２では、この発明が基板１７上に形成された導電性パターン１９のオープン欠陥部１９ａの修正、および液晶カラーフィルタ基板２０の白抜け欠陥部２５ａの修正に適用された場合について説明したが、これに限るものではなく、この発明は他のフラットパネルディスプレイの製造工程において発生する電極（配線）のオープン欠陥部の修正、プラズマディスプレイのリブ（隔壁）欠損の修正、マスクの欠陥部の修正などにも適用可能であることは言うまでもない。
【００７０】
今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
【符号の説明】
【００７１】
１ 塗布装置、２ 容器、２ａ 開口部、３ インク、３ａ インク層、３Ａ 微細パターン、３Ｂ，３Ｃ 修正インク層、４ 塗布部材、４ａ 先端部、５ 細線、６ 固定部材、９ ベース板、１０ 直動案内軸受、１０ａ レール部、１０ｂ スライド部、１１，１５ Ｚステージ、１１ａ 下端面、１２ 支持部材、１３ 駆動部、１３ａ 出力軸、１４ ピン、１６，５３ ＸＹステージ、７，１７ 基板、１８ 絶縁基板、１９，１９ｂ，１９ｃ 導電性パターン、１９ａ オープン欠陥部、２０ 液晶カラーフィルタ基板、２１ ガラス基板、２２ ブラックマトリックス、２３ Ｒ画素、２４ Ｇ画素、２５ Ｂ画素、２５ａ 白欠陥部、５０ パターン修正装置、５１ 定盤、５２ チャック、５３ａ，６１ Ｘ軸ステージ、５３ｂ，６３ Ｙ軸ステージ、５４，５９，６２ Ｚ軸ステージ、５５ 観察光学系、５６ 対物レンズ、５７ レーザ、５８ 焼成装置、６０ ＸＹＺステージ、６４ 対物レンズ切換器、６５ 可動板、６５ａ 貫通孔、６６ 固定部、６７ 距離センサ、Ｇ 微小隙間、Ｐ１ 始点、Ｐ２ 終点。
【技術分野】
【０００１】
この発明は塗布装置、塗布方法、およびパターン修正装置に関し、特に、基板の表面に液体を塗布する塗布装置および塗布方法と、基板上に形成された微細パターンの欠陥部を修正するパターン修正装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、プラズマディスプレイ、液晶ディスプレイ、ＥＬディスプレイなどのフラットパネルディスプレイの大型化、高精細化に伴い、ガラス基板上に形成された電極（配線）や液晶カラーフィルタなどに欠陥が存在する確率が高くなっており、歩留まりの向上を図るため欠陥を修正する方法が提案されている。
【０００３】
たとえば、液晶ディスプレイのガラス基板の表面には電極（配線）が形成されている。この電極が断線している場合、塗布針先端に付着させた導電性の修正ペースト（修正液）を断線部に塗布し、電極の長さ方向に塗布位置をずらしながら複数回塗布して電極を修正する（たとえば、特許文献１参照）。
【０００４】
また、塗布針の先端部をテーパ状に形成し、そのテーパ面に溝あるいは平坦面を形成することで、溝あるいは平坦面に溜まったインクを基板側に流して塗布量を増やす方法がある（たとえば、特許文献２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平８−２９２４４２号公報
【特許文献２】特開２００７−９４３４１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、塗布針を用いて欠陥部を修正する方法では、塗布針先端の平坦面に付着した修正液を欠陥部に転写するので、修正液の塗布径は塗布針先端の平坦面の直径で決まる。したがって、１０μｍ前後の塗布径を実現するのは難しく、これを用いた細線描画形成も同様に難しかった。金属の細線（たとえばタングステン線）を塗布針として利用する方法もあるが、細線先端をテーパ状にして先端をより細くするには電解研磨等の化学的な処理が必要となり、製作が難しいと言う課題がある。
【０００７】
また、塗布針先端の平坦面を微小にすると、塗布針を含む可動部が軽量であっても面圧は高くなる。たとえば、塗布針を含む可動部の重量が１０ｇ程度と軽量であっても、塗布針先端の平坦面の直径が１０μｍであれば、その面圧は約１２７ｋｇ／ｍｍ２となる。そのため、欠陥部の近傍に微小な突起が存在する場合は、突起が押し潰されたり、局部的に面圧が高くなることも想定される。また、塗布針先端の磨耗、変形等も考えられる。
【０００８】
また、塗布針先端の平坦面を小さくすると、１回の塗布動作で塗布されるインク量は非常に少なくなる。特許文献２にあるように、塗布針先端のテーパ面上に溝あるいは平坦面を形成することは塗布量を増やすには効果的であるが、塗布針先端の平坦面が小さくなるにつれて、それらの加工も難しくなる。
【０００９】
それゆえに、この発明の主たる目的は、微小な領域に塗布することができ、１回の塗布量が多く、耐久性が高い塗布装置、塗布方法、およびパターン修正装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
この発明に係る塗布装置は、基板の表面に液体を塗布する塗布装置であって、その内部に液体が注入され、その下端に開口部が形成された容器と、容器内に挿入された針状の塗布部材と、待機時は、塗布部材の先端部を液体に浸漬させ、塗布時は、塗布部材の先端部を開口部を介して容器の下に突出させ、塗布部材の先端部に付着した液体を基板の表面に塗布する駆動手段とを備えたものである。塗布部材の先端部は複数の細線を含み、各細線の側面は他の細線の側面に接触または近接している。
【００１１】
好ましくは、容器の下に突出された塗布部材の先端部の複数の細線の隙間には毛細管現象によって液体が保持されており、複数の細線の隙間に保持された液体の一部が基板の表面に塗布される。
【００１２】
また好ましくは、複数の細線の外接円の直径は開口部の直径よりも小さく設定され、開口部によって塗布部材を案内して、塗布部材の先端部の位置ずれを防止する。
【００１３】
また好ましくは、複数の細線は、１本の細線を折り返して形成された第１および第２の細線を含み、第１および第２の細線の頂点部が塗布部材の先端部とされている。
【００１４】
また好ましくは、第１の細線は第２の細線よりも長く、第２の細線の長さは、塗布部材の先端部が容器の開口部から突出したときに第２の細線の上端が容器内に残るように設定され、第１および第２の細線のうちの第１の細線の基端部のみが駆動手段に保持されている。
【００１５】
また好ましくは、複数の細線の先端部は捻られている。
また好ましくは、塗布部材の先端が基板の表面に接触した後も塗布部材を下降させると、容器内で撓むように塗布部材が形成されている。
【００１６】
また好ましくは、容器は、下端から上方に向かって徐々に太くなるノズル状に形成されている。
【００１７】
また、この発明に係る塗布方法は、基板の表面に液体を塗布する塗布方法であって、その内部に液体が注入され、その下端に開口部が形成された容器と、容器内に挿入された針状の塗布部材とを設けるものである。塗布部材の先端部は複数の細線を含み、各細線の側面は他の細線の側面に接触または近接している。待機時は、塗布部材の先端部を液体に浸漬させ、塗布時は、塗布部材の先端部を開口部を介して容器の下に突出させ、塗布部材の先端部に付着した液体を基板の表面に塗布する。
【００１８】
好ましくは、塗布部材が基板に接触する位置を少しずつ移動させながら塗布部材を複数回上下動させて、基板の表面に所望の形状のパターンを描画する。
【００１９】
また好ましくは、塗布部材の先端が基板に接触した状態で基板と塗布部材とを相対移動させて、基板の表面に所望の形状のパターンを描画する。
【００２０】
また、この発明に係るパターン修正装置は、基板上に形成された微細パターンの欠陥部を修正するパターン修正装置であって、その内部に修正液が注入され、その下端に開口部が形成された容器と、容器内に挿入された針状の塗布部材と、塗布部材の先端部を欠陥部の上方に位置決めする位置決め手段と、待機時は、塗布部材の先端部を修正液に浸漬させ、塗布時は、塗布部材の先端部を開口部を介して容器の下に突出させ、塗布部材の先端部に付着した修正液を欠陥部に塗布する駆動手段とを備えたものである。塗布部材の先端部は複数の細線を含み、各細線の側面は他の細線の側面に接触または近接している。
【００２１】
好ましくは、複数の細線は、１本の細線を折り返して形成された第１および第２の細線を含み、第１および第２の細線の頂点部が塗布部材の先端部とされている。
【００２２】
また好ましくは、第１の細線は第２の細線よりも長く、第２の細線の長さは、塗布部材の先端部が容器の開口部から突出したときに第２の細線の上端が容器内に残るように設定され、第１および第２の細線のうちの第１の細線の基端部のみが駆動手段に保持されている。
【発明の効果】
【００２３】
この発明に係る塗布装置および塗布方法では、その内部に液体が注入され、その下端に開口部が形成された容器と、容器内に挿入された針状の塗布部材とを設け、待機時は、塗布部材の先端部を液体に浸漬させ、塗布時は、塗布部材の先端部を開口部を介して容器の下に突出させ、塗布部材の先端部に付着した液体を基板の表面に塗布する。塗布部材の先端部は複数の細線を含み、各細線の側面は他の細線の側面に接触または近接している。したがって、塗布部材を複数の細線で構成するので、微小な領域に塗布することができ、１回の塗布量を多くし、耐久性を高めることができる。
【００２４】
また、この発明に係るパターン修正装置では、その内部に修正液が注入され、その下端に開口部が形成された容器と、容器内に挿入された針状の塗布部材と、塗布部材の先端部を欠陥部の上方に位置決めする位置決め手段と、待機時は、塗布部材の先端部を修正液に浸漬させ、塗布時は、塗布部材の先端部を開口部を介して容器の下に突出させ、塗布部材の先端部に付着した修正液を欠陥部に塗布する駆動手段とを備え、塗布部材の先端部は複数の細線を含み、各細線の側面は他の細線の側面に接触または近接している。したがって、塗布部材を複数の細線で構成するので、微小な領域に塗布することができ、１回の塗布量を多くし、耐久性を高めることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】この発明の実施の形態１による塗布装置の構成および動作を示す断面図である。
【図２】図１に示した塗布部材の構成を示す断面図である。
【図３】図１に示した塗布装置の構成および動作をより詳細に示す図である。
【図４】図３に示した塗布装置によって形成された微細パターンを示す図である。
【図５】実施の形態１の変更例を示す断面図である。
【図６】実施の形態１の他の変更例を示す断面図である。
【図７】実施の形態１のさらに他の変更例を示す断面図である。
【図８】実施の形態１のさらに他の変更例を示す断面図である。
【図９】この発明の実施の形態２によるパターン修正装置の修正対象となる基板を示す図である。
【図１０】図９に示したオープン欠陥部を修正した状態を示す図である。
【図１１】パターン修正装置の修正対象となる液晶カラーフィルタ基板を示す図である。
【図１２】パターン修正装置の修正対象となる他の液晶カラーフィルタ基板を示す図である。
【図１３】図１２に示した白欠陥部を修正する方法を示す図である。
【図１４】図１２に示した白欠陥部を修正した状態を示す図である。
【図１５】パターン修正装置の全体構成を示す図である。
【図１６】実施の形態２の変更例を示す図である。
【図１７】実施の形態２の他の変更例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
［実施の形態１］
この発明の実施の形態１による塗布装置１は、図１（Ａ）に示すように、ガラス管を引き延ばしてその先端を細く形成したノズル状の容器２を備える。容器２内には、インク（修正液）３が注入される。配線の修正を目的にする場合には、インク３として、たとえば導電性ナノインクが使用される。また、カラーフィルタの色抜け欠陥部を補修する場合には、インク３として、修正に適した着色インクが使用される。
【００２７】
容器２の内部には、針状の塗布部材４の先端部４ａが挿入される。塗布部材４は、塗布針として機能する。塗布部材４は、１本の金属製の細線５を折り返して形成された２本の細線を含む。細線５としては、非常に細いタングステン線、たとえば線径が数μｍから数十μｍ程度のものを用いる。２本の細線５の頂点部（細線５の折り返し部）が塗布部材４の先端部４ａとなる。
【００２８】
図２に示すように、２本の細線５の側面は互いに接触または近接しており、２本の細線５の間に微小隙間Ｇが形成される。２本の細線５からなる塗布部材４の長軸幅Ｗ（外接円の直径）は細線５の直径の約２倍となり、容器２の開口部２ａの直径ｄよりも小さくなるように設定される（Ｗ＜ｄ）。長軸幅Ｗと開口部２ａの直径ｄとの差を小さくすれば、開口部２ａが塗布部材４を案内する構造となり、塗布部材４の位置ずれを防止して、塗布精度を安定させることが可能となる。２本の細線５の側面を固着しなくても、開口部２ａを塗布部材４が通過することにより細線５同士が近接するため、微小隙間Ｇが形成される。微小隙間Ｇには、毛細管現象によってインク３が保持される。
【００２９】
図１（Ａ）に戻って、塗布部材４の基端部は固定部材６に固定される。固定部材６は、図示しない駆動源により上下方向に進退可能とされる。塗布装置１は、図示しないＺステージにより上下方向に移動可能に支持される。
【００３０】
待機時は図１（Ａ）に示すように、塗布部材４の先端部４ａはインク３内に浸漬した状態とされる。塗布時は、塗布部材４の先端部４ａが基板７の表面のうちの所望の位置の上方に位置決めされた後、図１（Ｂ）に示すように固定部材６が下降され、塗布部材４の先端部４ａが開口部２ａを介して容器２の下に突出する。このとき、先端部４ａにはインク３が付着している。
【００３１】
この状態で図１（Ｃ）に示すように、Ｚステージ（図示せず）により塗布装置１を下降させて塗布部材４の先端部４ａを基板７の表面に接触させ、インク３を基板７に塗布する。このとき、塗布部材４の先端部４ａに付着したインク３以外にも、２本の細線５の微小隙間Ｇに保持されたインク３が基板７に流れるため、細線５が１本の場合に比べてインク３の塗布量を多くすることが可能となる。インク３の塗布量は、塗布部材４の先端部４ａと基板７とが接触している時間を長くするほど多くなる傾向がある。その後、図１（Ｄ）に示すように、塗布装置１を上昇させるとともに塗布部材４を上昇させると、基板７の表面にはインク層３ａが形成される。
【００３２】
この塗布装置１であれば、従来のように塗布針の先端部をテーパ状に加工したり、塗布針の先端を平坦面に加工する工程が不要であるので、塗布部材４の製造工程が簡素化される。
【００３３】
また、塗布部材４を非常に細い金属の細線５で形成したので、塗布部材４を基板７側に押し込み過ぎた場合でも、細線５が容器２の内部で撓む。このため、塗布部材４の先端と基板７の表面との間の過大な力が加えられて塗布部材４や基板７が破壊されるのを防止することができる。
【００３４】
図３（Ａ）〜（Ｄ）は、塗布装置１の構成および動作をより詳細に示す断面図である。図３（Ａ）〜（Ｄ）において、ベース板９には垂直方向に可動する直動案内軸受１０のレール部１０ａが固定され、スライド部１０ｂにはＺステージ１１を介して固定部材６が固定される。容器２は、ベース板９に固定された支持部材１２に固定される。
【００３５】
ベース板９には、固定部材６を上下動させる駆動部１３が固定され、その出力軸１３ａは上下方向に伸縮する。出力軸１３ａの先端部には水平方向に伸びるピン１４が設けられており、ピン１４の先端はＺステージ１１の下端面１１ａを支持している。駆動部１３は、たとえばエアシリンダのような直動アクチュエータである。ベース板９はＺステージ１５に固定されていて、Ｚステージ１５によりベース板９は上下方向に移動可能とされる。基板７はＸＹステージ１６に搭載され、塗布装置１と基板７とを水平方向に相対移動させる。
【００３６】
待機時は図３（Ａ）に示すように、Ｚステージ１１は上方に配置されており、塗布部材４の先端部４ａは容器２内のインク３中に浸漬されている。また、ＸＹステージ１６により、塗布部材４の先端部４ａは基板７の表面の所望の位置の上方に配置される。塗布指令を受けると図３（Ｂ）に示すように、駆動部１３の出力軸１３ａを下降させて塗布部材４の先端部４ａを容器２の開口部２ａから下方に突出させる。このとき、出力軸１３ａから水平方向に突出するピン１４はＺステージ１１の下端面１１ａに当接していて、出力軸１３ａが下降するのに合わせて、Ｚステージ１１を含む可動部の自重により下降する。
【００３７】
その後、図３（Ｃ）に示すようにＺステージ１５を下降させて塗布部材４の先端部４ａを基板７の表面に接触させる。設定された接触時間を経過したあとで、図３（Ｄ）に示すように固定部材６を上昇させて塗布部材４の先端部４ａをインク３内に戻し、塗布動作が終了する。基板７の表面にはインク層３ａが形成される。
【００３８】
図４は、塗布装置１を用いて基板７上に形成された直線状の微細パターン３Ａを示す図である。微細パターン３Ａは、一列に配列された複数のインク層３ａを含む。隣接する２つのインク層３ａの一部は、互いに重ね合わされている。ＸＹステージ１６を移動させて基板７上の塗布位置を少しずつ変えながら塗布動作を繰り返し行なうことにより、直線状の微細パターン３Ａを描画する。
【００３９】
次に、実施の形態１の種々の変更例について説明する。図５の変更例では、塗布部材４の先端部４ａが基板７の表面に接触した状態で、基板７と塗布装置１とを始点Ｐ１から終点Ｐ２まで水平方向に相対移動させて任意形状の微細パターン３Ａを得る。塗布部材４の先端部４ａが基板７の表面を引き摺りながら移動（スライド）する際には、２本の細線５間の微小隙間Ｇに毛細管力で保持されたインク３が基板７側に供給され、連続した微細パターン３Ａが得られる。
【００４０】
図６の変更例では、塗布部材４は、１本の細線５のうちの一方端側の所定長さの部分を折り返したものである。塗布部材４の下端部は、１本の金属製の細線５を折り返して形成された２本の細線を含む。２本の細線５の頂点部（細線５の折り返し部）が塗布部材４の先端部４ａとなる。細線５のうちの下から上に折り返した部分の長さは、先端部４ａが容器２の開口部２ａから突出した際に、折り返した部分の上端５ｂが容器２内に残る程度に設定される。したがって、折り返した部分の上端５ｂは容器２から突出しないので、塗布部４の先端部４ａが容器２に戻る際に、上端５ｂが開口部２ａに引っかかることを防止することができる。塗布部材４の上端部は、１本の細線５のみで形成される。１本の細線５の上端部は、固定部材６に固定される。
【００４１】
図７の変更例では、塗布部材４は、複数（図では２本）の細線５を１つに束ねたものである。複数の細線５の側面が接してできる微小隙間Ｇに毛細管力でインク３を保持すようにしたものであり、先端部４ａは複数の細線５の端面となり、端面位置は揃えられる。このとき、基板７と接する細線５の１本ごとの端面の平坦性はあまり問われない。先端部４ａは複数の細線５からなるが、それらの先端（基板７に接する側）を固着する必要はなく、開口部２ａを通過することにより細線５同士が近接して微小隙間Ｇは形成される。
【００４２】
図８の変更例では、２本の細線５の先端部４ａ側が捻られる。この変更例では、先端部４ａの２本の細線５がばらけるのを防止することができる。
【００４３】
［実施の形態２］
図９は、この発明の実施の形態２によるパターン修正装置の修正対象となる基板１７の構成を示す図である。図９において、基板１７は、ガラス基板のような絶縁基板１８を含む。絶縁基板１８の表面には、複数の導電性パターン（配線）１９が所定の間隔で平行に形成されている。複数の導電性パターン１９のうちの１本の導電性パターン１９には、オープン欠陥部１９ａが存在するものとする。
【００４４】
オープン欠陥部１９ａの一方側（図では上側）および他方側（図では下側）には、それぞれ正常な導電性パターン１９ｂ，１９ｃが存在する。パターン修正装置は、実施の形態１で示した塗布装置１を含む。塗布装置１の塗布部材４の先端部４ａを一方側の導電性パターン１９ｂの端部からオープン欠陥部１９ａを介して他方側の導電性パターン１９ｃの端部まで移動させながらインク（修正液）３を塗布すると、図１０に示すように、オープン欠陥部１９ａを覆うように帯状の修正インク層３Ｂが形成される。
【００４５】
修正インク層３Ｂは、一列に配列された複数のインク層３ａを含む。隣接する２つのインク層３ａの一部は、互いに重ね合わされている。修正インク層３Ｂを焼成すると、修正インク層３Ｂは導電性を示し、オープン欠陥部１９ａの一方側の導電性パターン１９ｂと他方側の導電性パターン１９ｃとが電気的に接続される。このようにして、オープン欠陥部１９ａが修正される。
【００４６】
なお、導電性パターン１９の膜厚が１μｍ以下で、オープン欠陥部１９ａを含む修正範囲に突起物が無い場合、図５で示したように、塗布部材４の先端部４ａを基板１７の表面に接触させた状態で、基板１７上で引き摺って修正インク層３Ｂを描画することも可能である。
【００４７】
図１１は、このパターン修正装置の修正対象となる液晶カラーフィルタ基板２０の構成を示す図である。図１１において、液晶カラーフィルタ基板２０は、ガラス基板２１を含む。ガラス基板２１の表面には、格子状のブラックマトリックス２２が形成され、ブラックマトリックス２２で囲まれた複数の領域にＲ画素２３、Ｇ画素２４、およびＢ画素２５が一定の周期で形成されている。Ｒ画素２３、Ｇ画素２４、およびＢ画素２５は、それぞれ赤色、緑色、および青色の着色層で構成されている。
【００４８】
図１１では、Ｂ画素２５の一部に矩形の白欠陥部（色抜け欠陥部）２５ａが存在する状態が示されている。この矩形の白欠陥部２５ａは、そのＢ画素２５に発生した任意形状の白欠陥あるいは異物欠陥を含む矩形の領域にレーザ光を照射して形成したものである。パターン修正装置は、塗布装置１を使用し、白欠陥部２５ａが存在する画素の色（この場合、青色）に応じた色のインク（修正液）３を白欠陥部２５ａに充填して、白欠陥部２５ａを修正する。
【００４９】
白欠陥部２５ａが２０μｍ以下の微小サイズになると、従来の方法では、その先端の平坦面径が１０μｍ程度の塗布針を使用する必要がある。しかし、そのような塗布針を使用すると、１回に塗布されるインク３の液量が少なくなって、修正された画素の色合いが薄くなる。そのため、塗布を複数回繰り返す必要がある。
【００５０】
それに対して、本願の塗布装置１を用いてインク３を塗布すれば、複数の細線５間の微小隙間Ｇに保持されたインク３の一部が塗布されるため、１回の塗布工程で白欠陥部２５ａに塗布されるインク３の液量を増やすことが可能となる。
【００５１】
図１１では、画素内の一部に白欠陥部２５ａが存在する場合の修正例を示したが、最近では１画素内の色むらをなくすため、１画素内に小さな欠陥がある場合でも１画素全体を白欠陥部２５ａにしてから修正する場合がある。
【００５２】
図１２では、１つのＢ画素２５全体が白欠陥部２５ａにされている状態が示されている。このような場合でも、塗布部材４の先端部４ａにインク３を付着させ、先端部４ａを白欠陥部２５ａに接触させて白欠陥部２５ａにインク３を塗布するが、１回の塗布で白欠陥部２５ａ全体にインク３を充填できない場合には、白欠陥部２５ａ内で塗布位置を変えて複数回塗布を行なう。あるいは、図５で示した塗布方法と同様に、白欠陥部２５ａ内の始点Ｐ１から終点Ｐ２の区間で、塗布部材４の先端部４ａと基板２１とを引き摺りながら塗布してもよい。
【００５３】
図１３は、図１２のＸＩＩＩ−ＸＩＩＩ線断面図である。図１３では、塗布部材４の先端部４ａを引き摺りながらインク３を塗布している状態が示されている。塗布部材４の先端部４ａが白欠陥部２５ａに接触した状態で、塗布装置１を図１３中の右方向にスライドさせて、白欠陥部２５ａ内をインク３で満たす。図１４は、塗布が完了した状態を示している。白欠陥部２５ａ全体にインク３が充填されて修正インク層３Ｃが形成される。なお、白欠陥部２５ａの幅が広い場合には、引き摺る場所を変えて複数回に分けてインク３を塗布する。
【００５４】
図１５は、パターン修正装置５０の全体構成を示す斜視図である。図１５において、このパターン修正装置５０では、定盤５１の中央部にチャック５２が設けられ、チャック５２には修正対象の基板１７（または２０）が固定される。
【００５５】
また、定盤５１には、ガントリ型のＸＹステージ５３が搭載されている。ＸＹステージ５３は、Ｘ軸ステージ５３ａと門型のＹ軸ステージ５３ｂとを含む。Ｙ軸ステージ５３ｂは、チャック５２を跨ぐように設けられ、図中のＹ軸方向に移動する。Ｘ軸ステージ５３ａは、Ｙ軸ステージ５３ｂに搭載され、図中のＸ方向に移動する。
【００５６】
Ｘ軸ステージ５３ａには、上下方向に移動可能なＺ軸ステージ５４が搭載される。Ｚ軸ステージ５４には、観察光学系５５、対物レンズ５６、レーザ５７、塗布装置１、および焼成装置５８が搭載されている。Ｘ軸ステージ５３ａ、Ｙ軸ステージ５３ｂ、およびＺ軸ステージ５４を制御することにより、観察光学系５５、レーザ５７、塗布装置１、焼成装置５８の各々を基板１７（または２０）表面の所望の位置の上方に移動させることが可能となっている。
【００５７】
観察光学系５５は、対物レンズ５６を介して、基板１７（または２０）上の欠陥部１９ａ（または２５ａ）などを観察するために用いられる。レーザ５７は、観察光学系５５および対物レンズ５６を介して基板１７（または２０）上の欠陥にレーザ光を照射し、レーザアブレーションによってその欠陥形状を整形したり、欠陥およびその周囲に余分に付着したインク３を除去するために用いられる。
【００５８】
また、この例では、塗布装置１は上下方向に進退可能なＺ軸ステージ５９を介してＺ軸ステージ５４に固定されている。塗布装置１は、Ｚ軸ステージ５４に直接固定してあってもよいし、Ｚ軸ステージ５４以外のものに固定してもよい。また、焼成装置５８は、基板１７（または２０）に塗布されたインク３を焼成するために使用される。
【００５９】
次に、このパターン修正装置の動作について説明する。まずステージ５３ａ，５３ｂ，５４を制御して、観察光学系５５および対物レンズ５６の光軸を欠陥部１９ａ（または２５ａ）に位置決めし、欠陥部１９ａ（または２５ａ）を観察する。欠陥部１９ａ（または２５ａ）の形状の整形が必要である場合は、レーザ５７から欠陥部１９ａ（または２５ａ）にレーザ光を照射して欠陥部１９ａ（または２５ａ）を修正し易い形状に整形する。
【００６０】
次に、ステージ５３ａ，５３ｂ，５４を制御して、塗布装置１の先端部４ａ先端を欠陥部１９ａ（または２５ａ）の上方に位置決めし、実施の形態１などで説明したように、インク３を欠陥部１９ａ（または２５ａ）に塗布し、欠陥部１９ａ（または２５ａ）に修正インク層３Ｂ（または３Ｃ）を形成する。次いで、ステージ５３ａ，５３ｂ，５４を制御して、焼成装置５８を修正インク層３Ｂ（または３Ｃ）の上方に位置決めし、修正インク層３Ｂ（または３Ｃ）を焼成して修正を終了する。
【００６１】
図１６は、パターン修正装置の変更例を示す図である。この変更例では、Ｚ軸ステージ５９がＸＹＺステージ６０で置換される。ＸＹＺステージ６０は、Ｘ軸ステージ６１、Ｚ軸ステージ６２およびＹ軸ステージ６３を含む。Ｘ軸ステージ６１は、塗布装置１をＸ軸方向に移動させる。Ｚ軸ステージ６２は、Ｘ軸ステージ６１をＺ軸方向に移動させる。Ｙ軸ステージ６３は、Ｚ軸ステージ６２をＹ軸方向に移動させる。
【００６２】
この場合、観察光学系５５を用いて欠陥部１９ａ（または２５ａ）を観察しながら、ＸＹＺステージ６０を操作して、対物レンズ５６と基板１７（または２０）との間に塗布装置１を挿入し、欠陥部１９ａ（または２５ａ）にインク３を塗布することも可能であり、塗布時には大型のＸＹステージ５３の相対移動が省略される。
【００６３】
なお、塗布装置１を対物レンズ５６の直下に入れずに、観察光学系５５で観察した欠陥部１９ａ（または２５ａ）を相対移動させて塗布装置１の下方に位置決めしてから、ＸＹＺステージ６０を制御してインク３を塗布する方式であってもよい。
【００６４】
図１７は、他の変更例を示す図である。この変更例では、対物レンズ５６の倍率の切り換えを行なう対物レンズ切換器（ＸＹステージ）６４に塗布装置１が固定される。対物レンズ切換器６４は、たとえば図１１のＺ軸ステージ５４に搭載される。対物レンズ切換器６４は、水平方向（ＸＹ方向）に移動可能な可動板６５を含む。可動板６５の下面には、互いに倍率の異なる複数の対物レンズ５６が搭載されている。可動板６５には、各対物レンズ５６に対応して貫通孔６５ａが開口されている。各対物レンズ５６の光軸は、孔６５ａの中心を垂直に貫通している。対物レンズ切換器６４を制御して、所望の倍率の対物レンズ５６の光軸を観察光学系５５の光軸に一致させることにより、所望の倍率で欠陥部１９ａ（または２５ａ）を観察することができる。
【００６５】
塗布装置１は、可動板６５の下面に複数の対物レンズ５６とともに搭載される。したがって、対物レンズ切換器６４を制御することにより、塗布装置１を欠陥部１９ａ（または２５ａ）の上方に移動させることができる。塗布装置１を用いたインク３の塗布方法は、上述の方法と同じであるので、その説明は繰り返さない。この変更例では、図１６の変更例にあったＸＹＺステージ６０を省略できるので、装置構成が簡素化される。また、対物レンズ５６で欠陥部１９ａ（または２５ａ）を観察している位置から近い位置に塗布装置１が配置されるため、塗布装置１の移動時間が短縮され、修正タクトタイムが短縮される。
【００６６】
この場合、塗布部材４の先端部４ａが基板１７（または２０）の表面に接触するようにＺ軸ステージ５４を下降させてもよいが、塗布装置１の固定部６６の代わりに小型のＺステージ（図示せず）を搭載してもよい。
【００６７】
さらに、対物レンズ切換器６４と基板１７（または２０）との距離を測定する距離センサ（高さセンサ）６７を対物レンズ切換器６４に搭載してあってもよい。通常、観察光学系５５で観察している画像が焦点（フォーカス）位置にあるＺ軸ステージ５４の位置を基準として、この状態（フォーカス状態）から塗布部材４は一定量下降する。
【００６８】
塗布部材４の先端部４ａと基板１７（または２０）とが接触するＺ方向の位置関係を距離センサ６７で事前に把握すれば、先端部４ａが基板１７（または２０）に接触する手前で停止（寸止め）させたり、先端部４ａが基板１７（または２０）に接触してからのＺ方向の押し込み量を正確に把握することが可能となる。
【００６９】
なお、この実施の形態１，２では、この発明が基板１７上に形成された導電性パターン１９のオープン欠陥部１９ａの修正、および液晶カラーフィルタ基板２０の白抜け欠陥部２５ａの修正に適用された場合について説明したが、これに限るものではなく、この発明は他のフラットパネルディスプレイの製造工程において発生する電極（配線）のオープン欠陥部の修正、プラズマディスプレイのリブ（隔壁）欠損の修正、マスクの欠陥部の修正などにも適用可能であることは言うまでもない。
【００７０】
今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
【符号の説明】
【００７１】
１ 塗布装置、２ 容器、２ａ 開口部、３ インク、３ａ インク層、３Ａ 微細パターン、３Ｂ，３Ｃ 修正インク層、４ 塗布部材、４ａ 先端部、５ 細線、６ 固定部材、９ ベース板、１０ 直動案内軸受、１０ａ レール部、１０ｂ スライド部、１１，１５ Ｚステージ、１１ａ 下端面、１２ 支持部材、１３ 駆動部、１３ａ 出力軸、１４ ピン、１６，５３ ＸＹステージ、７，１７ 基板、１８ 絶縁基板、１９，１９ｂ，１９ｃ 導電性パターン、１９ａ オープン欠陥部、２０ 液晶カラーフィルタ基板、２１ ガラス基板、２２ ブラックマトリックス、２３ Ｒ画素、２４ Ｇ画素、２５ Ｂ画素、２５ａ 白欠陥部、５０ パターン修正装置、５１ 定盤、５２ チャック、５３ａ，６１ Ｘ軸ステージ、５３ｂ，６３ Ｙ軸ステージ、５４，５９，６２ Ｚ軸ステージ、５５ 観察光学系、５６ 対物レンズ、５７ レーザ、５８ 焼成装置、６０ ＸＹＺステージ、６４ 対物レンズ切換器、６５ 可動板、６５ａ 貫通孔、６６ 固定部、６７ 距離センサ、Ｇ 微小隙間、Ｐ１ 始点、Ｐ２ 終点。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の表面に液体を塗布する塗布装置であって、
その内部に前記液体が注入され、その下端に開口部が形成された容器と、
前記容器内に挿入された針状の塗布部材と、
待機時は、前記塗布部材の先端部を前記液体に浸漬させ、塗布時は、前記塗布部材の先端部を前記開口部を介して前記容器の下に突出させ、前記塗布部材の先端部に付着した前記液体を前記基板の表面に塗布する駆動手段とを備え、
前記塗布部材の先端部は複数の細線を含み、各細線の側面は他の細線の側面に接触または近接している、塗布装置。
【請求項２】
前記容器の下に突出された前記塗布部材の先端部の前記複数の細線の隙間には毛細管現象によって前記液体が保持されており、
前記複数の細線の隙間に保持された前記液体の一部が前記基板の表面に塗布される、請求項１に記載の塗布装置。
【請求項３】
前記複数の細線の外接円の直径は前記開口部の直径よりも小さく設定され、
前記開口部によって前記塗布部材を案内して、前記塗布部材の先端部の位置ずれを防止する、請求項１または請求項２に記載の塗布装置。
【請求項４】
前記複数の細線は、１本の細線を折り返して形成された第１および第２の細線を含み、
前記第１および第２の細線の頂点部が前記塗布部材の先端部とされている、請求項１から請求項３までのいずれかに記載の塗布装置。
【請求項５】
前記第１の細線は前記第２の細線よりも長く、
前記第２の細線の長さは、前記塗布部材の先端部が容器の開口部から突出したときに前記第２の細線の上端が前記容器内に残るように設定され、
前記第１および第２の細線のうちの前記第１の細線の基端部のみが前記駆動手段に保持されている、請求項４に記載の塗布装置。
【請求項６】
前記複数の細線の先端部は捻られている、請求項１から請求項５までのいずれかに記載の塗布装置。
【請求項７】
前記塗布部材の先端が前記基板の表面に接触した後も前記塗布部材を下降させると、前記容器内で撓むように前記塗布部材が形成されている、請求項１から請求項６までのいずれかに記載の塗布装置。
【請求項８】
前記容器は、下端から上方に向かって徐々に太くなるノズル状に形成されている、請求項１から請求項７までのいずれかに記載の塗布装置。
【請求項９】
基板の表面に液体を塗布する塗布方法であって、
その内部に前記液体が注入され、その下端に開口部が形成された容器と、
前記容器内に挿入された針状の塗布部材とを設け、
前記塗布部材の先端部は複数の細線を含み、各細線の側面は他の細線の側面に接触または近接しており、
待機時は、前記塗布部材の先端部を前記液体に浸漬させ、塗布時は、前記塗布部材の先端部を前記開口部を介して前記容器の下に突出させ、前記塗布部材の先端部に付着した前記液体を前記基板の表面に塗布する、塗布方法。
【請求項１０】
前記塗布部材が前記基板に接触する位置を少しずつ移動させながら前記塗布部材を複数回上下動させて、前記基板の表面に所望の形状のパターンを描画する、請求項９に記載の塗布方法。
【請求項１１】
前記塗布部材の先端が前記基板に接触した状態で前記基板と前記塗布部材とを相対移動させて、前記基板の表面に所望の形状のパターンを描画する、請求項９に記載の塗布方法。
【請求項１２】
基板上に形成された微細パターンの欠陥部を修正するパターン修正装置であって、
その内部に修正液が注入され、その下端に開口部が形成された容器と、
前記容器内に挿入された針状の塗布部材と、
前記塗布部材の先端部を前記欠陥部の上方に位置決めする位置決め手段と、
待機時は、前記塗布部材の先端部を前記修正液に浸漬させ、塗布時は、前記塗布部材の先端部を前記開口部を介して前記容器の下に突出させ、前記塗布部材の先端部に付着した前記修正液を前記欠陥部に塗布する駆動手段とを備え、
前記塗布部材の先端部は複数の細線を含み、各細線の側面は他の細線の側面に接触または近接している、パターン修正装置。
【請求項１３】
前記複数の細線は、１本の細線を折り返して形成された第１および第２の細線を含み、
前記第１および第２の細線の頂点部が前記塗布部材の先端部とされている、請求項１２に記載のパターン修正装置。
【請求項１４】
前記第１の細線は前記第２の細線よりも長く、
前記第２の細線の長さは、前記塗布部材の先端部が容器の開口部から突出したときに前記第２の細線の上端が前記容器内に残るように設定され、
前記第１および第２の細線のうちの前記第１の細線の基端部のみが前記駆動手段に保持されている、請求項１３に記載のパターン修正装置。
【請求項１】
基板の表面に液体を塗布する塗布装置であって、
その内部に前記液体が注入され、その下端に開口部が形成された容器と、
前記容器内に挿入された針状の塗布部材と、
待機時は、前記塗布部材の先端部を前記液体に浸漬させ、塗布時は、前記塗布部材の先端部を前記開口部を介して前記容器の下に突出させ、前記塗布部材の先端部に付着した前記液体を前記基板の表面に塗布する駆動手段とを備え、
前記塗布部材の先端部は複数の細線を含み、各細線の側面は他の細線の側面に接触または近接している、塗布装置。
【請求項２】
前記容器の下に突出された前記塗布部材の先端部の前記複数の細線の隙間には毛細管現象によって前記液体が保持されており、
前記複数の細線の隙間に保持された前記液体の一部が前記基板の表面に塗布される、請求項１に記載の塗布装置。
【請求項３】
前記複数の細線の外接円の直径は前記開口部の直径よりも小さく設定され、
前記開口部によって前記塗布部材を案内して、前記塗布部材の先端部の位置ずれを防止する、請求項１または請求項２に記載の塗布装置。
【請求項４】
前記複数の細線は、１本の細線を折り返して形成された第１および第２の細線を含み、
前記第１および第２の細線の頂点部が前記塗布部材の先端部とされている、請求項１から請求項３までのいずれかに記載の塗布装置。
【請求項５】
前記第１の細線は前記第２の細線よりも長く、
前記第２の細線の長さは、前記塗布部材の先端部が容器の開口部から突出したときに前記第２の細線の上端が前記容器内に残るように設定され、
前記第１および第２の細線のうちの前記第１の細線の基端部のみが前記駆動手段に保持されている、請求項４に記載の塗布装置。
【請求項６】
前記複数の細線の先端部は捻られている、請求項１から請求項５までのいずれかに記載の塗布装置。
【請求項７】
前記塗布部材の先端が前記基板の表面に接触した後も前記塗布部材を下降させると、前記容器内で撓むように前記塗布部材が形成されている、請求項１から請求項６までのいずれかに記載の塗布装置。
【請求項８】
前記容器は、下端から上方に向かって徐々に太くなるノズル状に形成されている、請求項１から請求項７までのいずれかに記載の塗布装置。
【請求項９】
基板の表面に液体を塗布する塗布方法であって、
その内部に前記液体が注入され、その下端に開口部が形成された容器と、
前記容器内に挿入された針状の塗布部材とを設け、
前記塗布部材の先端部は複数の細線を含み、各細線の側面は他の細線の側面に接触または近接しており、
待機時は、前記塗布部材の先端部を前記液体に浸漬させ、塗布時は、前記塗布部材の先端部を前記開口部を介して前記容器の下に突出させ、前記塗布部材の先端部に付着した前記液体を前記基板の表面に塗布する、塗布方法。
【請求項１０】
前記塗布部材が前記基板に接触する位置を少しずつ移動させながら前記塗布部材を複数回上下動させて、前記基板の表面に所望の形状のパターンを描画する、請求項９に記載の塗布方法。
【請求項１１】
前記塗布部材の先端が前記基板に接触した状態で前記基板と前記塗布部材とを相対移動させて、前記基板の表面に所望の形状のパターンを描画する、請求項９に記載の塗布方法。
【請求項１２】
基板上に形成された微細パターンの欠陥部を修正するパターン修正装置であって、
その内部に修正液が注入され、その下端に開口部が形成された容器と、
前記容器内に挿入された針状の塗布部材と、
前記塗布部材の先端部を前記欠陥部の上方に位置決めする位置決め手段と、
待機時は、前記塗布部材の先端部を前記修正液に浸漬させ、塗布時は、前記塗布部材の先端部を前記開口部を介して前記容器の下に突出させ、前記塗布部材の先端部に付着した前記修正液を前記欠陥部に塗布する駆動手段とを備え、
前記塗布部材の先端部は複数の細線を含み、各細線の側面は他の細線の側面に接触または近接している、パターン修正装置。
【請求項１３】
前記複数の細線は、１本の細線を折り返して形成された第１および第２の細線を含み、
前記第１および第２の細線の頂点部が前記塗布部材の先端部とされている、請求項１２に記載のパターン修正装置。
【請求項１４】
前記第１の細線は前記第２の細線よりも長く、
前記第２の細線の長さは、前記塗布部材の先端部が容器の開口部から突出したときに前記第２の細線の上端が前記容器内に残るように設定され、
前記第１および第２の細線のうちの前記第１の細線の基端部のみが前記駆動手段に保持されている、請求項１３に記載のパターン修正装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【公開番号】特開２０１２−１２４３８１（Ｐ２０１２−１２４３８１Ａ）
【公開日】平成２４年６月２８日（２０１２．６．２８）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−２７４９３２（Ｐ２０１０−２７４９３２）
【出願日】平成２２年１２月９日（２０１０．１２．９）
【出願人】（０００１０２６９２）ＮＴＮ株式会社 (9,006)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年６月２８日（２０１２．６．２８）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年１２月９日（２０１０．１２．９）
【出願人】（０００１０２６９２）ＮＴＮ株式会社 (9,006)
【Ｆターム（参考）】
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