塗布装置及び塗布方法
【課題】基板が汚れるのを抑えること。
【解決手段】基板を保持する基板保持部と、前記基板保持部に保持された前記基板の第一面に噴霧状の液状体を吐出するノズルと、前記基板保持部に保持された前記基板の外周に前記第一面とは反対の第二面又は前記基板の端部へ向けて気体を噴出する気体噴出部と、前記基板保持部に保持された前記基板に対して前記ノズルから前記液状体が吐出されている状態で、前記気体噴出部に前記気体を噴出させる制御部とを備える。
【解決手段】基板を保持する基板保持部と、前記基板保持部に保持された前記基板の第一面に噴霧状の液状体を吐出するノズルと、前記基板保持部に保持された前記基板の外周に前記第一面とは反対の第二面又は前記基板の端部へ向けて気体を噴出する気体噴出部と、前記基板保持部に保持された前記基板に対して前記ノズルから前記液状体が吐出されている状態で、前記気体噴出部に前記気体を噴出させる制御部とを備える。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、塗布装置及び塗布方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
基板に液状体を塗布する塗布技術として、例えばカップなどを備えた基板収容装置内に基板を収容し、当該基板収容装置に収容された状態でノズルから基板上に液状体を吐出する構成が知られている（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開平０３−０２６３７０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上記構成においては、塗布動作を行う際に塗布液がミスト状に飛散する場合がある。ミスト状に飛散した塗布液が基板に付着すると、基板が汚れてしまうという問題がある。
【０００５】
以上のような事情に鑑み、本発明は、基板が汚れるのを抑えることができる塗布装置及び塗布方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の第一の態様に係る塗布装置は、基板を保持する基板保持部と、前記基板保持部に保持された前記基板の第一面に噴霧状の液状体を吐出するノズルと、前記基板保持部に保持された前記基板の外周に前記第一面とは反対の第二面又は前記基板の端部へ向けて気体を噴出する気体噴出部と、前記基板保持部に保持された前記基板に対して前記ノズルから前記液状体が吐出されている状態で、前記気体噴出部に前記気体を噴出させる制御部とを備える。
【０００７】
本発明によれば、基板保持部に保持された基板の第一面に噴霧状の液状体が吐出されている状態で、基板保持部に保持された基板の外周に第一面とは反対の第二面又は基板の端部へ向けて気体を噴出することができるので、基板の第二面側に噴霧状の液状体が回りこむのを防ぐことができる。これにより、基板が汚れるのを抑えることができる。
【０００８】
上記の塗布装置は、平坦に形成された液受面を有し、前記基板保持部に保持された状態の前記基板の前記第一面と前記液受面とが面一になるように前記基板の周囲に設けられたプレートを更に備える。
本発明によれば、平坦に形成された液受面を有し基板保持部に保持された状態の基板の第一面と液受面とが面一になるように基板の周囲に設けられたプレートを更に備えるので、基板の周縁部における液状体の塗布状態を向上させることができる。
【０００９】
上記の塗布装置において、前記プレートは、前記基板保持部に保持された前記基板の前記外周との間に隙間を空けて配置されており、前記気体噴出部は、前記第二面側に配置され前記隙間に向けられた気体噴出口を有する。
本発明によれば、基板保持部に保持された基板の外周との間に隙間を空けてプレートが配置されており、気体噴出部には第二面側に配置され隙間に向けられた気体噴出口が設けられるので、当該隙間から第一面側へ気体を噴出させることができる。気体の流れる勢いを強めることができるため、噴霧状の液状体が第二面側に回りこむのをより確実に防ぐことができる。
【００１０】
上記の塗布装置において、前記プレートは、前記基板を囲うように環状に形成されている。
本発明によれば、プレートが基板を囲うように環状に形成されているので、基板の周縁部の一周に亘って満遍なく液状体の塗布状態を向上させることができる。
【００１１】
上記の塗布装置は、前記プレートを重力方向に移動させる移動部を更に備える。
本発明によれば、プレートを重力方向に移動させることができるので、基板の保持状態に応じて適切な位置にプレートを配置させることができる。
【００１２】
上記の塗布装置は、前記基板保持部に保持された前記基板よりも重力方向の下側に設けられ、前記プレートに洗浄液を供給する洗浄液ノズルを更に備える。
本発明によれば、基板保持部に保持された基板よりも重力方向の下側に設けられ、プレートに洗浄液を供給する洗浄液ノズルを更に備えるので、基板に洗浄液が付着しないようにプレートを洗浄することができる。
【００１３】
上記の塗布装置は、前記基板の外周を通過した前記気体の流れを調整する気流調整部材を更に備える。
本発明によれば、基板の外周を通過した気体の流れを調整する気流調整部材を更に備えるので、噴霧状の液状体が拡散するのを防ぐことができる。
【００１４】
上記の塗布装置は、平坦に形成された液受面を有し、前記基板保持部に保持された状態の前記基板の前記第一面と前記液受面とが面一になるように前記基板の周囲に設けられたプレートを更に備え、前記気流調整部材は、前記基板保持部に保持された状態の前記基板及び前記プレートを囲うように環状に形成されている。
本発明によれば、気流調整部材が基板保持部に保持された状態の基板及びプレートを囲うように環状に形成されているので、基板からプレートに回り込むように気流を調整することができる。
【００１５】
上記の塗布装置は、平坦に形成された液受面を有し、前記基板保持部に保持された状態の前記基板の前記第一面と前記液受面とが面一になるように前記基板の周囲に設けられたプレートを更に備え、前記気流調整部材は、前記プレートと一体的に設けられている。
本発明によれば、気流調整部材がプレートと一体的に設けられているため、気流調整部材をプレートと一体的に移動させることができる。これにより、基板の保持状態に応じて適切な位置に気流調整部材を配置させることができる。
【００１６】
上記の塗布装置は、前記基板の前記外周を通過した前記気体を排出する排気口を更に備え、前記気流調整部材は、前記基板の前記外周を通過した前記気体が前記排気口へ向けて流れるように傾けられている。
本発明によれば、気流調整部材が、基板の外周を通過した気体が排出口へ向けて流れるように傾けられているため、噴霧状の液状体を気流と共に排出口へ移動させることができる。
【００１７】
本発明に係る塗布方法は、基板保持部に保持された基板の第一面に噴霧状の液状体を吐出する吐出ステップと、前記吐出ステップが行われている状態で、前記基板保持部に保持された前記基板の外周に前記第一面とは反対の第二面又は前記基板の端部へ向けて前記気体を噴出する気体噴出ステップとを含む。
【００１８】
本発明によれば、基板保持部に保持された基板の第一面に噴霧状の液状体が吐出されている状態で、基板保持部に保持された基板の外周に第一面とは反対の第二面又は基板の端部へ向けて気体を噴出するので、基板の第二面側に噴霧状の液状体が回りこむのを防ぐことができる。これにより、基板が汚れるのを抑えることができる。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によれば、基板が汚れるのを抑えることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明の実施の形態に係る塗布装置の構成を示す断面図。
【図２】本実施形態に係る塗布装置の構成を示す平面図。
【図３】本実施形態に係る塗布装置の一部の構成を示す図。
【図４】本実施形態に係る塗布装置の動作を示す図。
【図５】本実施形態に係る塗布装置の動作を示す図。
【図６】本実施形態に係る塗布装置の他の動作例を示す図。
【図７】本実施形態に係る塗布装置の他の動作例を示す図。
【図８】本実施形態に係る塗布装置の他の構成及び他の動作例を示す図。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下、図面を参照して、本発明の実施の形態を説明する。
図１は、本実施形態に係る塗布装置ＣＴＲの構成を示す図である。
図１に示すように、塗布装置ＣＴＲは、基板収容装置ＡＣＭ、塗布ノズルＣＮＺ及び制御部ＣＯＮＴを有している。塗布装置ＣＴＲは、基板収容装置ＡＣＭに収容される基板Ｓに対して、塗布ノズルＣＮＺを用いて液状体を塗布する装置である。塗布装置ＣＴＲは、水平面に平行な床面に載置されて用いられる。塗布ノズルＣＮＺとしては、例えば噴霧状の液状体を吐出するスプレーノズルが用いられている。
【００２２】
以下、本実施形態に係る塗布装置ＣＴＲの構成を説明する際に、ＸＹＺ直交座標系を用いることとする。ここでは、水平面上の一方向をＸ方向とし、当該水平面に平行であってＸ方向に直交する方向をＹ方向とし、鉛直方向をＺ方向とする。また、Ｘ軸周り、Ｙ軸周り、Ｚ軸周りの各方向については、θＸ方向、θＹ方向、θＺ方向と表記する場合がある。
【００２３】
基板収容装置ＡＣＭは、基板保持部１０、カップ部２０、回収液供給部３０、回収液貯留部４０、吸引部５０、昇降部６０及び制御部ＣＯＮＴを有している。図２は、塗布装置ＣＴＲを＋Ｚ側から見たときの構成を示す図である。なお、図２においては、図を判別しやすくするため、昇降部６０の構成を一点差線で示している。
【００２４】
図１及び図２に示すように、基板保持部１０は、基板Ｓのうち液状体を塗布する第一面Ｓａが＋Ｚ側に向くように、当該基板Ｓの第二面（第一面Ｓａの反対側の面）Ｓｂを保持する。基板保持部１０は、吸着部１１、温調部１２及び気体噴出部１３を有している。吸着部１１は、カップ部２０の内部のうちＺ方向視中央部に配置されている。吸着部１１は、吸引機構によって基板Ｓの第二面Ｓｂを吸引する構成となっている。
【００２５】
吸着部１１のうち＋Ｚ側の面１１ａは、基板Ｓの第二面Ｓｂを保持する保持面である。保持面１１ａは、ＸＹ平面に平行となるように平坦に形成されている。吸着部１１は、基台１０ａ上に配置されている。
【００２６】
温調部１２は、吸着部１１に吸着される基板Ｓの温度を調整する。温調部１２は、不図示の加熱機構や冷却機構を有している。当該加熱機構及び冷却機構の動作は、制御部ＣＯＮＴによって制御可能である。温調部１２は、不図示の固定部材を介して吸着部１１の−Ｚ側の面に取り付けられている。
【００２７】
気体噴出部１３は、吸着部１１に吸着された状態の基板Ｓの周囲に向けて気体（例えば窒素ガスなど）を噴射する。気体噴出部１３は、吸着部１１の側面に形成された噴射口１３ａを有する。当該噴射口１３ａは、吸着部１１の径方向の外側へ向けて開口されている。当該噴射口１３ａは、気体流路１３ｂを介して不図示の気体供給源に接続されている。このように、気体噴出部１３は、基板Ｓの第二面Ｓｂ側から第一面Ｓａ側へ気体が流れるように、基板Ｓの外周へ向けて気体を噴出する構成となっている。
【００２８】
気体流路１３ｂは、吸着部１１の径方向の外側へ向けて水平方向に対して＋Ｚ側に傾いている。このため、気体噴出部１３は、基板Ｓの周囲に径方向の外側かつ＋Ｚ側へ向けた気流を形成する。この気流により、基板Ｓの裏面側に噴霧状の液状体や雰囲気中の異物などが回り込むことを防ぐことができる。
【００２９】
カップ部２０は、基板保持部１０によって保持される基板Ｓを囲うように配置されている。カップ部２０は、底部２１及び壁部２２を有する。カップ部２０は、Ｚ方向視で円形に形成されている。底部２１には、−Ｚ側へ向けて傾斜部２１ａが形成されている。傾斜部２１ａは、図２に示すように、基台１０ａの外周面に沿って円環状に形成されている。
【００３０】
図１及び図２に示すように、壁部２２は、基板保持部１０の周囲を囲うように円筒状に形成されている。図１に示すように、壁部２２の＋Ｚ側端部には、折り返し部２２ａが形成されている。折り返し部２２ａは、カップ部２０のＺ方向視で中央部側へ向けて形成されている。
【００３１】
回収液供給部３０は、第一ノズル３１、第二ノズル３２、洗浄液ノズル３３及び供給源３４を有する。回収液供給部３０は、基板Ｓとカップ部２０との間の異物を回収する回収液を供給する。回収液としては、例えば純水、塗布ノズルから供給される液状体の溶媒などが挙げられる。
【００３２】
第一ノズル３１は、基台１０ａに取り付けられている。第一ノズル３１は、基台１０ａに対して外側に向けられている。具体的には、第一ノズル３１は、カップ部２０の底部２１に向けられている。第一ノズル３１は、昇降部６０に設けられるプレート６１の液受面６１ａ（後述）を洗浄する。第一ノズル３１は、底部２１へ向けて回収液を吐出する。第一ノズル３１は、基台１０ａの周方向にほぼ等しいピッチで配置されている。このため、液受面６１ａの一周に亘って満遍なく回収液が供給されることになる。なお、第一ノズル３１からエアを噴射させる構成としても構わない。
【００３３】
第二ノズル３２は、基台１０ａの外周面に形成されている。第二ノズル３２は、カップ部２０の底部２１に向けられている。第二ノズル３２は、底部２１に対して回収液を吐出する。第二ノズル３２は、基台１０ａの外周面の周方向に向けられている。具体的には、図２に示すように、反時計回りの方向に向けられている。このため、第二ノズル３２から吐出される回収液により、底部２１では回収液の流れが反時計回りに形成されることになる。第二ノズル３２は、底部２１の周方向に等しいピッチで配置されている。このため、回収液の流れが底部２１の一周に亘ってほぼ等しい速度となって形成される。
【００３４】
洗浄液ノズル３３は、底部２１の傾斜部２１ａに配置されている。洗浄液ノズル３３は、カップ部２０の壁部２２に向けられている。洗浄液ノズル３３は、壁部２２へ向けて洗浄液を吐出する。当該洗浄液としては、純水、塗布ノズルから供給される液状体の溶媒に加えて、例えばオゾン水などを用いることができる。
【００３５】
洗浄液ノズル３３は、ＸＹ平面に対して傾斜する方向に角度を調整可能に設けられている。このため、折り返し部２２ａから壁部２２の−Ｚ側までの範囲で洗浄液ノズル３３の向きを調整することができる。また、洗浄液ノズル３３の角度を調整することにより、昇降部６０に設けられる気流調整部材６２（後述）に洗浄液を供給し、当該気流調整部材６２を洗浄することも可能である。洗浄液ノズル３３は、底部２１の周方向にほぼ等しいピッチで配置されている。このため、壁部２２には周方向の一周に亘って満遍なく洗浄液が供給されることになる。
【００３６】
供給源３４は、例えばカップ部２０の外部に配置されている。供給源３４は、第一ノズル３１及び第二ノズル３２に回収液を供給する。このように第一ノズル３１と第二ノズル３２とで回収液の供給源を共通化させることで、別々に供給源を設ける場合に比べてスペースを節約することができる。また、メンテナンスの手間が軽減されることにもなる。加えて、供給源３４は、洗浄液ノズル３３に洗浄液を供給する。回収液及び洗浄液として同一種類の液体が用いられる場合には、洗浄液ノズル３３についても供給源を共通化させることができる。
【００３７】
更に、供給源３４は、エア噴出口３５にクリーンドライエアを供給する。このエア噴出口３５は、基台１０ａのうち第一ノズル３１の＋Ｚ側に複数設けられている。複数のエア噴出口３５は、基台１０ａの周方向に等しいピッチで配置されている。各エア噴出口３５は、昇降部６０に設けられるプレート６１の液受面６１ａ（後述）を乾燥させる。各エア噴出口３５は、底部２１へ向けられている。なお、エア噴出口３５から上記回収液を噴出させる構成としても構わない。
【００３８】
回収液貯留部４０は、液受部４１及び排出部４２を有する。液受部４１は、カップ部２０の底部２１と、壁部２２の−Ｚ側の部分とを含む部分に形成されている。液受部４１は、第一ノズル３１から吐出された回収液や、第二ノズル３２から吐出された回収液などを受ける部分である。液受部４１が回収液を受けた状態を維持することにより、回収液貯留部４０に回収液が貯留される。液受部４１のうち外周部分の＋Ｚ側端部４１ａは、第二ノズル３２よりも−Ｚ側に配置されている。
【００３９】
排出部４２は、カップ部２０の底部２１に形成された開口部である。排出部４２は、液受部４１に貯留された回収液をカップ部２０の外側に排出する。排出部４２は、傾斜部２１ａの底面に形成されている。このため、液受部４１に受けられた回収液が傾斜部２１ａを伝わって排出されやすくなる。排出部４２には、不図示の排出経路が接続されている。排出部４２には、不図示の開閉弁が設けられている。当該開閉弁を閉塞させることにより、回収液貯留部４０に回収液が貯留される。また、開閉弁を開放させることにより、排出部４２から回収液が排出される。
また、壁部２２の外周側には、排気部２４が設けられている。排気部２４は、カップ部２０によって囲まれた空間Ｋの気体を排出すると共に、壁部２２の表面に付着した塗布液を流し出す役割をする。なお、排気部２４が設けられない構成であっても構わない。排気部２４には、トラップ部２４ａ及び２４ｂが設けられている。当該トラップ部２４ａ及び２４ｂにより、排気部２４に排出された成分のうち気体成分の少なくとも一部が開口部２４ｃへ送出され、液体成分が開口部２４ｄへ送られる。トラップ部２４ａ及び２４ｂでは、気体成分の一部を液化させる機能をも有している。この場合、液化された成分については、開口部２４ｄへ送られる。なお、排気部２４の開口部２４ｃは、吸引部５０に接続されている。また、排気部２４の開口部２４ｄは、廃液回収部（不図示）又は供給源３４へ送られる。
【００４０】
吸引部５０は、排気部２４を介して、カップ部２０によって囲まれた空間Ｋを吸引する。吸引部５０は、排気部２４の開口部２４ｃに接続されている。また、吸引部５０は、当該開口部２４ｃ及びトラップ部２４ａ、２４ｂを介して空間Ｋに接続されている。図３は、吸引部５０の構成を示す図である。
図５に示すように、吸引部５０は、配管部５０ａ〜５０ｆ、気液分離部５１及びオゾン洗浄部５２を有する。
【００４１】
配管部５０ａは、カップ部２０の壁部２２に接続されている。配管部５０ａは、壁部２２に対して外側から接続されている。配管部５０ａを介して、カップ部２０の内部に存在していた吸引対象物がカップ部２０の外側に吸引される。配管部５０ａは、気液分離部５１に接続されている。
【００４２】
気液分離部５１は、トラップ部５１ａを有している。気液分離部５１は、吸引されたカップ部２０内の吸引対象物のうち液体成分をトラップ部５１ａにより配管部５０ｂへ送り出すと共に、気体成分を配管部５０ｃへ送り出す。なお、トラップ部５１ａが気体成分の一部を液化する機能をも有しており、液化された成分を配管部５０ｂへ送り出す場合もある。配管部５０ｃにはファンが設けられ、工場排気などにより、配管部５０ｃへ送り出された気体成分を外部へ排気する。
【００４３】
配管部５０ｂは、オゾン洗浄部５２に接続されている。オゾン洗浄部５２は、オゾン発生装置５２ａ及び洗浄槽５２ｂを有している。オゾン発生装置５２ａで発生したオゾンガスは、洗浄槽５２ｂに設けられる不図示の散気管により液体成分に接触する。このオゾンガスにより、液体成分が溶剤とレジストとに分解される。なお、上記のオゾン洗浄部５２は必ずしも設けられていなくても構わない。
【００４４】
洗浄槽５２ｂは、洗浄後の液体成分を配管部５０ｅへ送り出す。配管部５０ｅは、上記の供給源３４に接続されている。配管部５０ｅへ送り出された液体成分は、当該配管部５０ｅを介して上記の供給源３４へと送られる。また、洗浄に用いたオゾンガスについては、配管部５０ｆを介して排気させる。なお、配管部５０ｂには配管部５０ｄが分岐して接続されている。配管部５０ｄは、廃液回収部（不図示）に接続されている。配管部５０ｂへ送り出された液体成分の一部は、当該配管部５０ｄを介して排出される。
【００４５】
図１に戻って、昇降部６０は、プレート６１、気流調整部材６２、連結部材６３、昇降ガイド６４及び駆動部６５を有する。
図１及び図２に示すように、プレート６１は、基板Ｓの周囲を囲うように円環状に形成されている。プレート６１は、平坦に形成された液受面６１ａを有している。図１に示す状態では、プレート６１は、基板保持部１０に保持された状態の基板Ｓの第一面Ｓａと液受面６１ａとが面一になる第一位置ＰＳ１に配置されている。
【００４６】
プレート６１は、基板保持部１０に保持された基板Ｓの外周との間に隙間７０を空けて配置されている。なお、気体噴出部１３の噴出口１３ａは、基板Ｓの第二面Ｓｂ側から当該隙間７０に向けられている。したがって、噴出口１３ａから噴出された気体は、基板Ｓとプレート６１との隙間７０を通過して基板Ｓの第一面Ｓａ側へ噴き出される。
【００４７】
気流調整部材６２は、基板Ｓの外周を通過した気体の流れを調整する。気流調整部材６２は、基板Ｓの周囲を囲うように円環状に形成されている。気流調整部材６２は、プレート６１を囲うように当該プレート６１の外側に配置されている。気流調整部材６２は、連結部材６３によってプレート６１と一体的に連結されている。気流調整部材６２は、基板Ｓの外周を通過した気体が吸引部５０へ向けて流れるように湾曲されている。
【００４８】
昇降ガイド６４は、Ｚ方向に平行に設けられている。プレート６１は、駆動部６５の駆動動作により、昇降ガイド６４に沿ってＺ方向（重力方向）に移動可能に設けられている。プレート６１がＺ方向に移動することにより、当該プレート６１と一体的に連結された気流調整部についてもＺ方向に移動可能である。
【００４９】
プレート６１は、例えばＺ方向の第二位置ＰＳ２及び第三位置ＰＳ３に移動可能である。第二位置Ｐ２は、第一ノズル３１から噴射される回収液の軌道上に設けられる。したがって、プレート６１が第二位置ＰＳ２に配置された場合、第一ノズル３１から回収液を噴射することで、プレート６１の洗浄を行うことが可能である。第二位置ＰＳ２は、基板Ｓの−Ｚ側に設定されているため、プレート６１の洗浄を行う場合において洗浄液が基板Ｓに付着しにくくなっている。また、第三位置ＰＳ３は、プレート６１の待機位置である。
【００５０】
上記のように構成された塗布装置ＣＴＲの動作を説明する。
まず、基板Ｓを不図示の搬送機構によって基板収容装置ＡＣＭに収容する。収容された基板Ｓは、吸着部１１上に載置される。その後、制御部ＣＯＮＴは、吸着部１１上に基板Ｓを吸着させる。
【００５１】
基板Ｓを吸着させた後、制御部ＣＯＮＴは、温調部１２によって基板Ｓの温度を調節させる。また、制御部ＣＯＮＴは、吸引部５０の動作を開始させる。加えて、制御部ＣＯＮＴは、昇降部６０を第一位置ＰＳ１に配置させる。この動作により、プレート６１の液受面６１ａが基板Ｓの第一面Ｓａと面一状態となる。
【００５２】
この状態で、制御部ＣＯＮＴは、図４に示すように、第一ノズル３１から回収液Ｑを吐出させる。回収液Ｑは、Ｚ方向視において、基板Ｓとカップ部２０の壁部２２との間に設けられる回収液貯留部４０に満たされていく。この状態で、制御部ＣＯＮＴは、基板Ｓの第一面Ｓａ上に液状体の塗布膜Ｒを形成する。
【００５３】
具体的には、制御部ＣＯＮＴは、基板Ｓの＋Ｚ側から第一面Ｓａへ向けて、塗布ノズルＣＮＺから噴霧状の液状体Ｍを吐出させ、基板Ｓの第一面Ｓａ上に塗布膜Ｒを形成する（吐出ステップ）。吐出ステップを行う場合、噴霧状の液状体Ｍが飛散し、基板Ｓの第二面Ｓｂ側に回りこむ場合がある。このような噴霧状の液状体Ｍが基板Ｓに付着すると、基板Ｓが汚れた状態となってしまう。
【００５４】
そこで、制御部ＣＯＮＴは、上記の吐出ステップを行いつつ、気体噴出部１３から気体ＡＲを噴射させる（気体噴出ステップ）。気体噴出ステップでは、基板Ｓの第二面Ｓｂ側に配置された噴出口１３ａから噴出された気体ＡＲが基板Ｓの第二面Ｓｂへ向けて噴出される。この動作により、基板Ｓの第二面Ｓｂが気流で覆われるため、噴霧状の液状体Ｍや雰囲気中の異物が基板Ｓの第二面Ｓｂに回りこむのを防ぐことができる。なお、気体ＡＲの噴出角度によっては、気体ＡＲが基板Ｓの周囲とプレート６１との隙間７０を通過して基板Ｓの第一面Ｓａ側へ噴き出される場合がある。
【００５５】
このような場合には、噴霧状の液状体Ｍや雰囲気中の異物は、当該気体ＡＲによって隙間７０から離れる方向に流される。このため、噴霧状の液状体Ｍ及び雰囲気中の異物が隙間７０に入り込むのを防ぐことができるので、基板Ｓの第二面Ｓｂ側に当該噴霧状の液状体Ｍ及び雰囲気中の異物が回りこむのを防ぐことができる。
【００５６】
なお、隙間７０から噴き出された気体ＡＲは、気流調整部材６２を介して吸引部５０へと移動する。このため、気体ＡＲによって流された噴霧状の液状体Ｍや雰囲気中の異物は、吸引部５０から回収されることになる。
【００５７】
このように、本実施形態によれば、基板保持部１０に保持された基板Ｓの第一面Ｓａに噴霧状の液状体Ｍが吐出されている状態で、基板保持部１０に保持された基板Ｓの外周に第一面Ｓａとは反対の第二面Ｓｂへ向けて気体ＡＲを噴出することができるので、基板Ｓの第二面Ｓｂ側に噴霧状の液状体Ｍや雰囲気中の異物などが回りこむのを防ぐことができる。これにより、基板Ｓが汚れるのを抑えることができる。
【００５８】
本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更を加えることができる。
例えば、制御部ＣＯＮＴは、第一ノズル３１から回収液を吐出させる際に、図５に示すように、第二ノズル３２から回収液Ｑを吐出させるようにしても構わない。この場合、第二ノズル３２が回収液貯留部４０の周方向に向けて回収液Ｑを吐出するので、回収液貯留部４０の周方向（反時計回りの方向）に回収液Ｑの流れを形成することができる。これにより、回収された異物が沈殿して溜まるのを防ぐことができる。
【００５９】
なお、第一ノズル３１からの回収液の吐出動作と、第二ノズル３２からの回収液の吐出動作とを、同時に行うようにしても構わないし、異なるタイミングで行わせるようにしても構わない。
【００６０】
また、上記実施形態においては、回収液Ｑによってカップ部２０における液状体Ｑを回収する構成を例に挙げて説明したが、これに限られることは無い。
図６は、塗布装置ＣＴＲの他の動作例を示す図である。図６に示すように、制御部ＣＯＮＴが、昇降部６０に設けられたプレート６１を第二位置ＰＳ２に配置させ、第一ノズル３１から回収液Ｑを吐出させるようにしても構わない。この場合、回収液Ｑは、プレート６１の液受面６１ａに供給され、液受面６１ａが回収液Ｑによって洗浄される。
【００６１】
また、制御部ＣＯＮＴは、液受面６１ａの洗浄後、エア噴出口３５からエアを噴射させても構わない。この場合、エアは液受面６１ａ上を流れ、液受面６１ａ上に残留する回収液Ｑを除去する。また、エアの流れにより、回収液Ｑの一部を蒸発させる。このように、液受面６１ａ上を乾燥させることができる。
【００６２】
図７は、塗布装置ＣＴＲの他の動作例を示す図である。プレート６１を洗浄する場合、図７に示すように、制御部ＣＯＮＴは、回収液貯留部４０に回収液Ｑを貯留させた状態で、プレート６１を第三位置ＰＳ３へ移動させる。この動作により、プレート６１が回収液Ｑに漬けられた状態となり、液受面６１ａが回収液Ｑによって洗浄される。
【００６３】
プレート６１を漬ける際、当該プレート６１が漬かった体積に応じて回収液Ｑの液面が＋Ｚ側に移動し、回収液貯留部４０の外壁の＋Ｚ側の端部４１ａを超えて吸引部５０へ溢れだすことになる。本実施形態において、液受部４１のうち外周部分の＋Ｚ側端部４１ａは、第二ノズル３２よりも−Ｚ側に配置されているため、回収液Ｑが第二ノズル３２を満たしてしまうのを回避することができる。
【００６４】
また、上記実施形態の塗布装置ＣＴＲにおいて、洗浄ノズル３３を用いた動作を説明する。図８は、洗浄ノズル３３の動作を示す図である。
図８に示すように、制御部ＣＯＮＴは、洗浄ノズル３３を用いて、カップ部２０の壁部２２や折り返し部２２ａに向けて洗浄液ＱＲを噴射させる。この動作により、壁部２２及び折り返し部２２ａが洗浄液ＱＲによって洗浄される。
【００６５】
図８では、上記実施形態の構成に加えて、壁部２２に開口部２２ｂが設けられている。開口部２２ｂには、洗浄液供給部２３が接続されている。制御部ＣＯＮＴは、洗浄液供給部２３から洗浄液ＱＲを供給することにより、開口部２２ｂから壁部２２へ洗浄液ＱＲが垂れてくる。この動作により、壁部２２が洗浄される。
【００６６】
また、当該洗浄液が広い範囲に流れるように、例えば壁部２２に洗浄液が濡れ広がりやすくなる材料などをコーティングする構成であっても構わない。また、洗浄液が壁部２２の内周方向に流れるように、壁部２２に凹凸などが形成された構成であっても構わない。また、壁部２２の近傍に刷毛などを配置させ、当該刷毛を用いて洗浄液を塗布する構成としても構わない。また、壁部２２に紙や布などを配置させ、洗浄液を当該紙や布に浸み込ませることで、洗浄液を広い範囲に濡れ広がらせる構成としても構わない。
【符号の説明】
【００６７】
ＣＴＲ…塗布装置 ＡＣＭ…基板収容装置 ＣＮＺ…塗布ノズル Ｓ…基板 ＣＯＮＴ…制御部 Ｋ…空間 Ｑ…回収液 Ｒ…塗布膜 １０…基板保持部 １０ａ…基台 １１…吸着部 １１ａ…保持面 １２…温調部 １３…気体噴射部 １３ａ…噴射口 １３ｂ…気体流路 ２０…カップ部 ２１…底部 ２１ａ…傾斜部 ２２…壁部 ３０…回収液供給部 ３１…第一ノズル ３２…第二ノズル ３３…洗浄液ノズル ３４…供給源 ３５…エア噴出口 ４０…回収液貯留部 ４１…液受部 ４２…排出部 ５０…吸引部 ５０ａ〜５０ｆ…配管部 ５１…気液離部
【技術分野】
【０００１】
本発明は、塗布装置及び塗布方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
基板に液状体を塗布する塗布技術として、例えばカップなどを備えた基板収容装置内に基板を収容し、当該基板収容装置に収容された状態でノズルから基板上に液状体を吐出する構成が知られている（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開平０３−０２６３７０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上記構成においては、塗布動作を行う際に塗布液がミスト状に飛散する場合がある。ミスト状に飛散した塗布液が基板に付着すると、基板が汚れてしまうという問題がある。
【０００５】
以上のような事情に鑑み、本発明は、基板が汚れるのを抑えることができる塗布装置及び塗布方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の第一の態様に係る塗布装置は、基板を保持する基板保持部と、前記基板保持部に保持された前記基板の第一面に噴霧状の液状体を吐出するノズルと、前記基板保持部に保持された前記基板の外周に前記第一面とは反対の第二面又は前記基板の端部へ向けて気体を噴出する気体噴出部と、前記基板保持部に保持された前記基板に対して前記ノズルから前記液状体が吐出されている状態で、前記気体噴出部に前記気体を噴出させる制御部とを備える。
【０００７】
本発明によれば、基板保持部に保持された基板の第一面に噴霧状の液状体が吐出されている状態で、基板保持部に保持された基板の外周に第一面とは反対の第二面又は基板の端部へ向けて気体を噴出することができるので、基板の第二面側に噴霧状の液状体が回りこむのを防ぐことができる。これにより、基板が汚れるのを抑えることができる。
【０００８】
上記の塗布装置は、平坦に形成された液受面を有し、前記基板保持部に保持された状態の前記基板の前記第一面と前記液受面とが面一になるように前記基板の周囲に設けられたプレートを更に備える。
本発明によれば、平坦に形成された液受面を有し基板保持部に保持された状態の基板の第一面と液受面とが面一になるように基板の周囲に設けられたプレートを更に備えるので、基板の周縁部における液状体の塗布状態を向上させることができる。
【０００９】
上記の塗布装置において、前記プレートは、前記基板保持部に保持された前記基板の前記外周との間に隙間を空けて配置されており、前記気体噴出部は、前記第二面側に配置され前記隙間に向けられた気体噴出口を有する。
本発明によれば、基板保持部に保持された基板の外周との間に隙間を空けてプレートが配置されており、気体噴出部には第二面側に配置され隙間に向けられた気体噴出口が設けられるので、当該隙間から第一面側へ気体を噴出させることができる。気体の流れる勢いを強めることができるため、噴霧状の液状体が第二面側に回りこむのをより確実に防ぐことができる。
【００１０】
上記の塗布装置において、前記プレートは、前記基板を囲うように環状に形成されている。
本発明によれば、プレートが基板を囲うように環状に形成されているので、基板の周縁部の一周に亘って満遍なく液状体の塗布状態を向上させることができる。
【００１１】
上記の塗布装置は、前記プレートを重力方向に移動させる移動部を更に備える。
本発明によれば、プレートを重力方向に移動させることができるので、基板の保持状態に応じて適切な位置にプレートを配置させることができる。
【００１２】
上記の塗布装置は、前記基板保持部に保持された前記基板よりも重力方向の下側に設けられ、前記プレートに洗浄液を供給する洗浄液ノズルを更に備える。
本発明によれば、基板保持部に保持された基板よりも重力方向の下側に設けられ、プレートに洗浄液を供給する洗浄液ノズルを更に備えるので、基板に洗浄液が付着しないようにプレートを洗浄することができる。
【００１３】
上記の塗布装置は、前記基板の外周を通過した前記気体の流れを調整する気流調整部材を更に備える。
本発明によれば、基板の外周を通過した気体の流れを調整する気流調整部材を更に備えるので、噴霧状の液状体が拡散するのを防ぐことができる。
【００１４】
上記の塗布装置は、平坦に形成された液受面を有し、前記基板保持部に保持された状態の前記基板の前記第一面と前記液受面とが面一になるように前記基板の周囲に設けられたプレートを更に備え、前記気流調整部材は、前記基板保持部に保持された状態の前記基板及び前記プレートを囲うように環状に形成されている。
本発明によれば、気流調整部材が基板保持部に保持された状態の基板及びプレートを囲うように環状に形成されているので、基板からプレートに回り込むように気流を調整することができる。
【００１５】
上記の塗布装置は、平坦に形成された液受面を有し、前記基板保持部に保持された状態の前記基板の前記第一面と前記液受面とが面一になるように前記基板の周囲に設けられたプレートを更に備え、前記気流調整部材は、前記プレートと一体的に設けられている。
本発明によれば、気流調整部材がプレートと一体的に設けられているため、気流調整部材をプレートと一体的に移動させることができる。これにより、基板の保持状態に応じて適切な位置に気流調整部材を配置させることができる。
【００１６】
上記の塗布装置は、前記基板の前記外周を通過した前記気体を排出する排気口を更に備え、前記気流調整部材は、前記基板の前記外周を通過した前記気体が前記排気口へ向けて流れるように傾けられている。
本発明によれば、気流調整部材が、基板の外周を通過した気体が排出口へ向けて流れるように傾けられているため、噴霧状の液状体を気流と共に排出口へ移動させることができる。
【００１７】
本発明に係る塗布方法は、基板保持部に保持された基板の第一面に噴霧状の液状体を吐出する吐出ステップと、前記吐出ステップが行われている状態で、前記基板保持部に保持された前記基板の外周に前記第一面とは反対の第二面又は前記基板の端部へ向けて前記気体を噴出する気体噴出ステップとを含む。
【００１８】
本発明によれば、基板保持部に保持された基板の第一面に噴霧状の液状体が吐出されている状態で、基板保持部に保持された基板の外周に第一面とは反対の第二面又は基板の端部へ向けて気体を噴出するので、基板の第二面側に噴霧状の液状体が回りこむのを防ぐことができる。これにより、基板が汚れるのを抑えることができる。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によれば、基板が汚れるのを抑えることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明の実施の形態に係る塗布装置の構成を示す断面図。
【図２】本実施形態に係る塗布装置の構成を示す平面図。
【図３】本実施形態に係る塗布装置の一部の構成を示す図。
【図４】本実施形態に係る塗布装置の動作を示す図。
【図５】本実施形態に係る塗布装置の動作を示す図。
【図６】本実施形態に係る塗布装置の他の動作例を示す図。
【図７】本実施形態に係る塗布装置の他の動作例を示す図。
【図８】本実施形態に係る塗布装置の他の構成及び他の動作例を示す図。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下、図面を参照して、本発明の実施の形態を説明する。
図１は、本実施形態に係る塗布装置ＣＴＲの構成を示す図である。
図１に示すように、塗布装置ＣＴＲは、基板収容装置ＡＣＭ、塗布ノズルＣＮＺ及び制御部ＣＯＮＴを有している。塗布装置ＣＴＲは、基板収容装置ＡＣＭに収容される基板Ｓに対して、塗布ノズルＣＮＺを用いて液状体を塗布する装置である。塗布装置ＣＴＲは、水平面に平行な床面に載置されて用いられる。塗布ノズルＣＮＺとしては、例えば噴霧状の液状体を吐出するスプレーノズルが用いられている。
【００２２】
以下、本実施形態に係る塗布装置ＣＴＲの構成を説明する際に、ＸＹＺ直交座標系を用いることとする。ここでは、水平面上の一方向をＸ方向とし、当該水平面に平行であってＸ方向に直交する方向をＹ方向とし、鉛直方向をＺ方向とする。また、Ｘ軸周り、Ｙ軸周り、Ｚ軸周りの各方向については、θＸ方向、θＹ方向、θＺ方向と表記する場合がある。
【００２３】
基板収容装置ＡＣＭは、基板保持部１０、カップ部２０、回収液供給部３０、回収液貯留部４０、吸引部５０、昇降部６０及び制御部ＣＯＮＴを有している。図２は、塗布装置ＣＴＲを＋Ｚ側から見たときの構成を示す図である。なお、図２においては、図を判別しやすくするため、昇降部６０の構成を一点差線で示している。
【００２４】
図１及び図２に示すように、基板保持部１０は、基板Ｓのうち液状体を塗布する第一面Ｓａが＋Ｚ側に向くように、当該基板Ｓの第二面（第一面Ｓａの反対側の面）Ｓｂを保持する。基板保持部１０は、吸着部１１、温調部１２及び気体噴出部１３を有している。吸着部１１は、カップ部２０の内部のうちＺ方向視中央部に配置されている。吸着部１１は、吸引機構によって基板Ｓの第二面Ｓｂを吸引する構成となっている。
【００２５】
吸着部１１のうち＋Ｚ側の面１１ａは、基板Ｓの第二面Ｓｂを保持する保持面である。保持面１１ａは、ＸＹ平面に平行となるように平坦に形成されている。吸着部１１は、基台１０ａ上に配置されている。
【００２６】
温調部１２は、吸着部１１に吸着される基板Ｓの温度を調整する。温調部１２は、不図示の加熱機構や冷却機構を有している。当該加熱機構及び冷却機構の動作は、制御部ＣＯＮＴによって制御可能である。温調部１２は、不図示の固定部材を介して吸着部１１の−Ｚ側の面に取り付けられている。
【００２７】
気体噴出部１３は、吸着部１１に吸着された状態の基板Ｓの周囲に向けて気体（例えば窒素ガスなど）を噴射する。気体噴出部１３は、吸着部１１の側面に形成された噴射口１３ａを有する。当該噴射口１３ａは、吸着部１１の径方向の外側へ向けて開口されている。当該噴射口１３ａは、気体流路１３ｂを介して不図示の気体供給源に接続されている。このように、気体噴出部１３は、基板Ｓの第二面Ｓｂ側から第一面Ｓａ側へ気体が流れるように、基板Ｓの外周へ向けて気体を噴出する構成となっている。
【００２８】
気体流路１３ｂは、吸着部１１の径方向の外側へ向けて水平方向に対して＋Ｚ側に傾いている。このため、気体噴出部１３は、基板Ｓの周囲に径方向の外側かつ＋Ｚ側へ向けた気流を形成する。この気流により、基板Ｓの裏面側に噴霧状の液状体や雰囲気中の異物などが回り込むことを防ぐことができる。
【００２９】
カップ部２０は、基板保持部１０によって保持される基板Ｓを囲うように配置されている。カップ部２０は、底部２１及び壁部２２を有する。カップ部２０は、Ｚ方向視で円形に形成されている。底部２１には、−Ｚ側へ向けて傾斜部２１ａが形成されている。傾斜部２１ａは、図２に示すように、基台１０ａの外周面に沿って円環状に形成されている。
【００３０】
図１及び図２に示すように、壁部２２は、基板保持部１０の周囲を囲うように円筒状に形成されている。図１に示すように、壁部２２の＋Ｚ側端部には、折り返し部２２ａが形成されている。折り返し部２２ａは、カップ部２０のＺ方向視で中央部側へ向けて形成されている。
【００３１】
回収液供給部３０は、第一ノズル３１、第二ノズル３２、洗浄液ノズル３３及び供給源３４を有する。回収液供給部３０は、基板Ｓとカップ部２０との間の異物を回収する回収液を供給する。回収液としては、例えば純水、塗布ノズルから供給される液状体の溶媒などが挙げられる。
【００３２】
第一ノズル３１は、基台１０ａに取り付けられている。第一ノズル３１は、基台１０ａに対して外側に向けられている。具体的には、第一ノズル３１は、カップ部２０の底部２１に向けられている。第一ノズル３１は、昇降部６０に設けられるプレート６１の液受面６１ａ（後述）を洗浄する。第一ノズル３１は、底部２１へ向けて回収液を吐出する。第一ノズル３１は、基台１０ａの周方向にほぼ等しいピッチで配置されている。このため、液受面６１ａの一周に亘って満遍なく回収液が供給されることになる。なお、第一ノズル３１からエアを噴射させる構成としても構わない。
【００３３】
第二ノズル３２は、基台１０ａの外周面に形成されている。第二ノズル３２は、カップ部２０の底部２１に向けられている。第二ノズル３２は、底部２１に対して回収液を吐出する。第二ノズル３２は、基台１０ａの外周面の周方向に向けられている。具体的には、図２に示すように、反時計回りの方向に向けられている。このため、第二ノズル３２から吐出される回収液により、底部２１では回収液の流れが反時計回りに形成されることになる。第二ノズル３２は、底部２１の周方向に等しいピッチで配置されている。このため、回収液の流れが底部２１の一周に亘ってほぼ等しい速度となって形成される。
【００３４】
洗浄液ノズル３３は、底部２１の傾斜部２１ａに配置されている。洗浄液ノズル３３は、カップ部２０の壁部２２に向けられている。洗浄液ノズル３３は、壁部２２へ向けて洗浄液を吐出する。当該洗浄液としては、純水、塗布ノズルから供給される液状体の溶媒に加えて、例えばオゾン水などを用いることができる。
【００３５】
洗浄液ノズル３３は、ＸＹ平面に対して傾斜する方向に角度を調整可能に設けられている。このため、折り返し部２２ａから壁部２２の−Ｚ側までの範囲で洗浄液ノズル３３の向きを調整することができる。また、洗浄液ノズル３３の角度を調整することにより、昇降部６０に設けられる気流調整部材６２（後述）に洗浄液を供給し、当該気流調整部材６２を洗浄することも可能である。洗浄液ノズル３３は、底部２１の周方向にほぼ等しいピッチで配置されている。このため、壁部２２には周方向の一周に亘って満遍なく洗浄液が供給されることになる。
【００３６】
供給源３４は、例えばカップ部２０の外部に配置されている。供給源３４は、第一ノズル３１及び第二ノズル３２に回収液を供給する。このように第一ノズル３１と第二ノズル３２とで回収液の供給源を共通化させることで、別々に供給源を設ける場合に比べてスペースを節約することができる。また、メンテナンスの手間が軽減されることにもなる。加えて、供給源３４は、洗浄液ノズル３３に洗浄液を供給する。回収液及び洗浄液として同一種類の液体が用いられる場合には、洗浄液ノズル３３についても供給源を共通化させることができる。
【００３７】
更に、供給源３４は、エア噴出口３５にクリーンドライエアを供給する。このエア噴出口３５は、基台１０ａのうち第一ノズル３１の＋Ｚ側に複数設けられている。複数のエア噴出口３５は、基台１０ａの周方向に等しいピッチで配置されている。各エア噴出口３５は、昇降部６０に設けられるプレート６１の液受面６１ａ（後述）を乾燥させる。各エア噴出口３５は、底部２１へ向けられている。なお、エア噴出口３５から上記回収液を噴出させる構成としても構わない。
【００３８】
回収液貯留部４０は、液受部４１及び排出部４２を有する。液受部４１は、カップ部２０の底部２１と、壁部２２の−Ｚ側の部分とを含む部分に形成されている。液受部４１は、第一ノズル３１から吐出された回収液や、第二ノズル３２から吐出された回収液などを受ける部分である。液受部４１が回収液を受けた状態を維持することにより、回収液貯留部４０に回収液が貯留される。液受部４１のうち外周部分の＋Ｚ側端部４１ａは、第二ノズル３２よりも−Ｚ側に配置されている。
【００３９】
排出部４２は、カップ部２０の底部２１に形成された開口部である。排出部４２は、液受部４１に貯留された回収液をカップ部２０の外側に排出する。排出部４２は、傾斜部２１ａの底面に形成されている。このため、液受部４１に受けられた回収液が傾斜部２１ａを伝わって排出されやすくなる。排出部４２には、不図示の排出経路が接続されている。排出部４２には、不図示の開閉弁が設けられている。当該開閉弁を閉塞させることにより、回収液貯留部４０に回収液が貯留される。また、開閉弁を開放させることにより、排出部４２から回収液が排出される。
また、壁部２２の外周側には、排気部２４が設けられている。排気部２４は、カップ部２０によって囲まれた空間Ｋの気体を排出すると共に、壁部２２の表面に付着した塗布液を流し出す役割をする。なお、排気部２４が設けられない構成であっても構わない。排気部２４には、トラップ部２４ａ及び２４ｂが設けられている。当該トラップ部２４ａ及び２４ｂにより、排気部２４に排出された成分のうち気体成分の少なくとも一部が開口部２４ｃへ送出され、液体成分が開口部２４ｄへ送られる。トラップ部２４ａ及び２４ｂでは、気体成分の一部を液化させる機能をも有している。この場合、液化された成分については、開口部２４ｄへ送られる。なお、排気部２４の開口部２４ｃは、吸引部５０に接続されている。また、排気部２４の開口部２４ｄは、廃液回収部（不図示）又は供給源３４へ送られる。
【００４０】
吸引部５０は、排気部２４を介して、カップ部２０によって囲まれた空間Ｋを吸引する。吸引部５０は、排気部２４の開口部２４ｃに接続されている。また、吸引部５０は、当該開口部２４ｃ及びトラップ部２４ａ、２４ｂを介して空間Ｋに接続されている。図３は、吸引部５０の構成を示す図である。
図５に示すように、吸引部５０は、配管部５０ａ〜５０ｆ、気液分離部５１及びオゾン洗浄部５２を有する。
【００４１】
配管部５０ａは、カップ部２０の壁部２２に接続されている。配管部５０ａは、壁部２２に対して外側から接続されている。配管部５０ａを介して、カップ部２０の内部に存在していた吸引対象物がカップ部２０の外側に吸引される。配管部５０ａは、気液分離部５１に接続されている。
【００４２】
気液分離部５１は、トラップ部５１ａを有している。気液分離部５１は、吸引されたカップ部２０内の吸引対象物のうち液体成分をトラップ部５１ａにより配管部５０ｂへ送り出すと共に、気体成分を配管部５０ｃへ送り出す。なお、トラップ部５１ａが気体成分の一部を液化する機能をも有しており、液化された成分を配管部５０ｂへ送り出す場合もある。配管部５０ｃにはファンが設けられ、工場排気などにより、配管部５０ｃへ送り出された気体成分を外部へ排気する。
【００４３】
配管部５０ｂは、オゾン洗浄部５２に接続されている。オゾン洗浄部５２は、オゾン発生装置５２ａ及び洗浄槽５２ｂを有している。オゾン発生装置５２ａで発生したオゾンガスは、洗浄槽５２ｂに設けられる不図示の散気管により液体成分に接触する。このオゾンガスにより、液体成分が溶剤とレジストとに分解される。なお、上記のオゾン洗浄部５２は必ずしも設けられていなくても構わない。
【００４４】
洗浄槽５２ｂは、洗浄後の液体成分を配管部５０ｅへ送り出す。配管部５０ｅは、上記の供給源３４に接続されている。配管部５０ｅへ送り出された液体成分は、当該配管部５０ｅを介して上記の供給源３４へと送られる。また、洗浄に用いたオゾンガスについては、配管部５０ｆを介して排気させる。なお、配管部５０ｂには配管部５０ｄが分岐して接続されている。配管部５０ｄは、廃液回収部（不図示）に接続されている。配管部５０ｂへ送り出された液体成分の一部は、当該配管部５０ｄを介して排出される。
【００４５】
図１に戻って、昇降部６０は、プレート６１、気流調整部材６２、連結部材６３、昇降ガイド６４及び駆動部６５を有する。
図１及び図２に示すように、プレート６１は、基板Ｓの周囲を囲うように円環状に形成されている。プレート６１は、平坦に形成された液受面６１ａを有している。図１に示す状態では、プレート６１は、基板保持部１０に保持された状態の基板Ｓの第一面Ｓａと液受面６１ａとが面一になる第一位置ＰＳ１に配置されている。
【００４６】
プレート６１は、基板保持部１０に保持された基板Ｓの外周との間に隙間７０を空けて配置されている。なお、気体噴出部１３の噴出口１３ａは、基板Ｓの第二面Ｓｂ側から当該隙間７０に向けられている。したがって、噴出口１３ａから噴出された気体は、基板Ｓとプレート６１との隙間７０を通過して基板Ｓの第一面Ｓａ側へ噴き出される。
【００４７】
気流調整部材６２は、基板Ｓの外周を通過した気体の流れを調整する。気流調整部材６２は、基板Ｓの周囲を囲うように円環状に形成されている。気流調整部材６２は、プレート６１を囲うように当該プレート６１の外側に配置されている。気流調整部材６２は、連結部材６３によってプレート６１と一体的に連結されている。気流調整部材６２は、基板Ｓの外周を通過した気体が吸引部５０へ向けて流れるように湾曲されている。
【００４８】
昇降ガイド６４は、Ｚ方向に平行に設けられている。プレート６１は、駆動部６５の駆動動作により、昇降ガイド６４に沿ってＺ方向（重力方向）に移動可能に設けられている。プレート６１がＺ方向に移動することにより、当該プレート６１と一体的に連結された気流調整部についてもＺ方向に移動可能である。
【００４９】
プレート６１は、例えばＺ方向の第二位置ＰＳ２及び第三位置ＰＳ３に移動可能である。第二位置Ｐ２は、第一ノズル３１から噴射される回収液の軌道上に設けられる。したがって、プレート６１が第二位置ＰＳ２に配置された場合、第一ノズル３１から回収液を噴射することで、プレート６１の洗浄を行うことが可能である。第二位置ＰＳ２は、基板Ｓの−Ｚ側に設定されているため、プレート６１の洗浄を行う場合において洗浄液が基板Ｓに付着しにくくなっている。また、第三位置ＰＳ３は、プレート６１の待機位置である。
【００５０】
上記のように構成された塗布装置ＣＴＲの動作を説明する。
まず、基板Ｓを不図示の搬送機構によって基板収容装置ＡＣＭに収容する。収容された基板Ｓは、吸着部１１上に載置される。その後、制御部ＣＯＮＴは、吸着部１１上に基板Ｓを吸着させる。
【００５１】
基板Ｓを吸着させた後、制御部ＣＯＮＴは、温調部１２によって基板Ｓの温度を調節させる。また、制御部ＣＯＮＴは、吸引部５０の動作を開始させる。加えて、制御部ＣＯＮＴは、昇降部６０を第一位置ＰＳ１に配置させる。この動作により、プレート６１の液受面６１ａが基板Ｓの第一面Ｓａと面一状態となる。
【００５２】
この状態で、制御部ＣＯＮＴは、図４に示すように、第一ノズル３１から回収液Ｑを吐出させる。回収液Ｑは、Ｚ方向視において、基板Ｓとカップ部２０の壁部２２との間に設けられる回収液貯留部４０に満たされていく。この状態で、制御部ＣＯＮＴは、基板Ｓの第一面Ｓａ上に液状体の塗布膜Ｒを形成する。
【００５３】
具体的には、制御部ＣＯＮＴは、基板Ｓの＋Ｚ側から第一面Ｓａへ向けて、塗布ノズルＣＮＺから噴霧状の液状体Ｍを吐出させ、基板Ｓの第一面Ｓａ上に塗布膜Ｒを形成する（吐出ステップ）。吐出ステップを行う場合、噴霧状の液状体Ｍが飛散し、基板Ｓの第二面Ｓｂ側に回りこむ場合がある。このような噴霧状の液状体Ｍが基板Ｓに付着すると、基板Ｓが汚れた状態となってしまう。
【００５４】
そこで、制御部ＣＯＮＴは、上記の吐出ステップを行いつつ、気体噴出部１３から気体ＡＲを噴射させる（気体噴出ステップ）。気体噴出ステップでは、基板Ｓの第二面Ｓｂ側に配置された噴出口１３ａから噴出された気体ＡＲが基板Ｓの第二面Ｓｂへ向けて噴出される。この動作により、基板Ｓの第二面Ｓｂが気流で覆われるため、噴霧状の液状体Ｍや雰囲気中の異物が基板Ｓの第二面Ｓｂに回りこむのを防ぐことができる。なお、気体ＡＲの噴出角度によっては、気体ＡＲが基板Ｓの周囲とプレート６１との隙間７０を通過して基板Ｓの第一面Ｓａ側へ噴き出される場合がある。
【００５５】
このような場合には、噴霧状の液状体Ｍや雰囲気中の異物は、当該気体ＡＲによって隙間７０から離れる方向に流される。このため、噴霧状の液状体Ｍ及び雰囲気中の異物が隙間７０に入り込むのを防ぐことができるので、基板Ｓの第二面Ｓｂ側に当該噴霧状の液状体Ｍ及び雰囲気中の異物が回りこむのを防ぐことができる。
【００５６】
なお、隙間７０から噴き出された気体ＡＲは、気流調整部材６２を介して吸引部５０へと移動する。このため、気体ＡＲによって流された噴霧状の液状体Ｍや雰囲気中の異物は、吸引部５０から回収されることになる。
【００５７】
このように、本実施形態によれば、基板保持部１０に保持された基板Ｓの第一面Ｓａに噴霧状の液状体Ｍが吐出されている状態で、基板保持部１０に保持された基板Ｓの外周に第一面Ｓａとは反対の第二面Ｓｂへ向けて気体ＡＲを噴出することができるので、基板Ｓの第二面Ｓｂ側に噴霧状の液状体Ｍや雰囲気中の異物などが回りこむのを防ぐことができる。これにより、基板Ｓが汚れるのを抑えることができる。
【００５８】
本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更を加えることができる。
例えば、制御部ＣＯＮＴは、第一ノズル３１から回収液を吐出させる際に、図５に示すように、第二ノズル３２から回収液Ｑを吐出させるようにしても構わない。この場合、第二ノズル３２が回収液貯留部４０の周方向に向けて回収液Ｑを吐出するので、回収液貯留部４０の周方向（反時計回りの方向）に回収液Ｑの流れを形成することができる。これにより、回収された異物が沈殿して溜まるのを防ぐことができる。
【００５９】
なお、第一ノズル３１からの回収液の吐出動作と、第二ノズル３２からの回収液の吐出動作とを、同時に行うようにしても構わないし、異なるタイミングで行わせるようにしても構わない。
【００６０】
また、上記実施形態においては、回収液Ｑによってカップ部２０における液状体Ｑを回収する構成を例に挙げて説明したが、これに限られることは無い。
図６は、塗布装置ＣＴＲの他の動作例を示す図である。図６に示すように、制御部ＣＯＮＴが、昇降部６０に設けられたプレート６１を第二位置ＰＳ２に配置させ、第一ノズル３１から回収液Ｑを吐出させるようにしても構わない。この場合、回収液Ｑは、プレート６１の液受面６１ａに供給され、液受面６１ａが回収液Ｑによって洗浄される。
【００６１】
また、制御部ＣＯＮＴは、液受面６１ａの洗浄後、エア噴出口３５からエアを噴射させても構わない。この場合、エアは液受面６１ａ上を流れ、液受面６１ａ上に残留する回収液Ｑを除去する。また、エアの流れにより、回収液Ｑの一部を蒸発させる。このように、液受面６１ａ上を乾燥させることができる。
【００６２】
図７は、塗布装置ＣＴＲの他の動作例を示す図である。プレート６１を洗浄する場合、図７に示すように、制御部ＣＯＮＴは、回収液貯留部４０に回収液Ｑを貯留させた状態で、プレート６１を第三位置ＰＳ３へ移動させる。この動作により、プレート６１が回収液Ｑに漬けられた状態となり、液受面６１ａが回収液Ｑによって洗浄される。
【００６３】
プレート６１を漬ける際、当該プレート６１が漬かった体積に応じて回収液Ｑの液面が＋Ｚ側に移動し、回収液貯留部４０の外壁の＋Ｚ側の端部４１ａを超えて吸引部５０へ溢れだすことになる。本実施形態において、液受部４１のうち外周部分の＋Ｚ側端部４１ａは、第二ノズル３２よりも−Ｚ側に配置されているため、回収液Ｑが第二ノズル３２を満たしてしまうのを回避することができる。
【００６４】
また、上記実施形態の塗布装置ＣＴＲにおいて、洗浄ノズル３３を用いた動作を説明する。図８は、洗浄ノズル３３の動作を示す図である。
図８に示すように、制御部ＣＯＮＴは、洗浄ノズル３３を用いて、カップ部２０の壁部２２や折り返し部２２ａに向けて洗浄液ＱＲを噴射させる。この動作により、壁部２２及び折り返し部２２ａが洗浄液ＱＲによって洗浄される。
【００６５】
図８では、上記実施形態の構成に加えて、壁部２２に開口部２２ｂが設けられている。開口部２２ｂには、洗浄液供給部２３が接続されている。制御部ＣＯＮＴは、洗浄液供給部２３から洗浄液ＱＲを供給することにより、開口部２２ｂから壁部２２へ洗浄液ＱＲが垂れてくる。この動作により、壁部２２が洗浄される。
【００６６】
また、当該洗浄液が広い範囲に流れるように、例えば壁部２２に洗浄液が濡れ広がりやすくなる材料などをコーティングする構成であっても構わない。また、洗浄液が壁部２２の内周方向に流れるように、壁部２２に凹凸などが形成された構成であっても構わない。また、壁部２２の近傍に刷毛などを配置させ、当該刷毛を用いて洗浄液を塗布する構成としても構わない。また、壁部２２に紙や布などを配置させ、洗浄液を当該紙や布に浸み込ませることで、洗浄液を広い範囲に濡れ広がらせる構成としても構わない。
【符号の説明】
【００６７】
ＣＴＲ…塗布装置 ＡＣＭ…基板収容装置 ＣＮＺ…塗布ノズル Ｓ…基板 ＣＯＮＴ…制御部 Ｋ…空間 Ｑ…回収液 Ｒ…塗布膜 １０…基板保持部 １０ａ…基台 １１…吸着部 １１ａ…保持面 １２…温調部 １３…気体噴射部 １３ａ…噴射口 １３ｂ…気体流路 ２０…カップ部 ２１…底部 ２１ａ…傾斜部 ２２…壁部 ３０…回収液供給部 ３１…第一ノズル ３２…第二ノズル ３３…洗浄液ノズル ３４…供給源 ３５…エア噴出口 ４０…回収液貯留部 ４１…液受部 ４２…排出部 ５０…吸引部 ５０ａ〜５０ｆ…配管部 ５１…気液離部
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を保持する基板保持部と、
前記基板保持部に保持された前記基板の第一面に噴霧状の液状体を吐出するノズルと、
前記基板保持部に保持された前記基板の外周に前記第一面とは反対の第二面又は前記基板の端部へ向けて気体を噴出する気体噴出部と、
前記基板保持部に保持された前記基板に対して前記ノズルから前記液状体が吐出されている状態で、前記気体噴出部に前記気体を噴出させる制御部と
を備える塗布装置。
【請求項２】
平坦に形成された液受面を有し、前記基板保持部に保持された状態の前記基板の前記第一面と前記液受面とが面一になるように前記基板の周囲に設けられたプレート
を更に備える請求項１に記載の塗布装置。
【請求項３】
前記プレートは、前記基板保持部に保持された前記基板の前記外周との間に隙間を空けて配置されており、
前記気体噴出部は、前記第二面側に配置され前記隙間に向けられた気体噴出口を有する
請求項２に記載の塗布装置。
【請求項４】
前記プレートは、前記基板を囲うように環状に形成されている
請求項２又は請求項３に記載の塗布装置。
【請求項５】
前記プレートを重力方向に移動させる移動部
を更に備える請求項２から請求項４のうちいずれか一項に記載の塗布装置。
【請求項６】
前記基板保持部に保持された前記基板よりも重力方向の下側に設けられ、前記プレートに洗浄液を供給する洗浄液ノズル
を更に備える請求項２から請求項５のうちいずれか一項に記載の塗布装置。
【請求項７】
前記基板の外周を通過した前記気体の流れを調整する気流調整部材
を更に備える請求項１から請求項６のうちいずれか一項に記載の塗布装置。
【請求項８】
平坦に形成された液受面を有し、前記基板保持部に保持された状態の前記基板の前記第一面と前記液受面とが面一になるように前記基板の周囲に設けられたプレート
を更に備え、
前記気流調整部材は、前記基板保持部に保持された状態の前記基板及び前記プレートを囲うように環状に形成されている
請求項７に記載の塗布装置。
【請求項９】
平坦に形成された液受面を有し、前記基板保持部に保持された状態の前記基板の前記第一面と前記液受面とが面一になるように前記基板の周囲に設けられたプレート
を更に備え、
前記気流調整部材は、前記プレートと一体的に設けられている
請求項７又は請求項８に記載の塗布装置。
【請求項１０】
前記基板の前記外周を通過した前記気体を排出する排気口
を更に備え、
前記気流調整部材は、前記基板の前記外周を通過した前記気体が前記排気口へ向けて流れるように傾けられている
請求項７から請求項９のうちいずれか一項に記載の塗布装置。
【請求項１１】
基板保持部に保持された基板の第一面に噴霧状の液状体を吐出する吐出ステップと、
前記吐出ステップが行われている状態で、前記基板保持部に保持された前記基板の外周に前記第一面とは反対の第二面又は前記基板の端部へ向けて前記気体を噴出する気体噴出ステップと
を含む塗布方法。
【請求項１】
基板を保持する基板保持部と、
前記基板保持部に保持された前記基板の第一面に噴霧状の液状体を吐出するノズルと、
前記基板保持部に保持された前記基板の外周に前記第一面とは反対の第二面又は前記基板の端部へ向けて気体を噴出する気体噴出部と、
前記基板保持部に保持された前記基板に対して前記ノズルから前記液状体が吐出されている状態で、前記気体噴出部に前記気体を噴出させる制御部と
を備える塗布装置。
【請求項２】
平坦に形成された液受面を有し、前記基板保持部に保持された状態の前記基板の前記第一面と前記液受面とが面一になるように前記基板の周囲に設けられたプレート
を更に備える請求項１に記載の塗布装置。
【請求項３】
前記プレートは、前記基板保持部に保持された前記基板の前記外周との間に隙間を空けて配置されており、
前記気体噴出部は、前記第二面側に配置され前記隙間に向けられた気体噴出口を有する
請求項２に記載の塗布装置。
【請求項４】
前記プレートは、前記基板を囲うように環状に形成されている
請求項２又は請求項３に記載の塗布装置。
【請求項５】
前記プレートを重力方向に移動させる移動部
を更に備える請求項２から請求項４のうちいずれか一項に記載の塗布装置。
【請求項６】
前記基板保持部に保持された前記基板よりも重力方向の下側に設けられ、前記プレートに洗浄液を供給する洗浄液ノズル
を更に備える請求項２から請求項５のうちいずれか一項に記載の塗布装置。
【請求項７】
前記基板の外周を通過した前記気体の流れを調整する気流調整部材
を更に備える請求項１から請求項６のうちいずれか一項に記載の塗布装置。
【請求項８】
平坦に形成された液受面を有し、前記基板保持部に保持された状態の前記基板の前記第一面と前記液受面とが面一になるように前記基板の周囲に設けられたプレート
を更に備え、
前記気流調整部材は、前記基板保持部に保持された状態の前記基板及び前記プレートを囲うように環状に形成されている
請求項７に記載の塗布装置。
【請求項９】
平坦に形成された液受面を有し、前記基板保持部に保持された状態の前記基板の前記第一面と前記液受面とが面一になるように前記基板の周囲に設けられたプレート
を更に備え、
前記気流調整部材は、前記プレートと一体的に設けられている
請求項７又は請求項８に記載の塗布装置。
【請求項１０】
前記基板の前記外周を通過した前記気体を排出する排気口
を更に備え、
前記気流調整部材は、前記基板の前記外周を通過した前記気体が前記排気口へ向けて流れるように傾けられている
請求項７から請求項９のうちいずれか一項に記載の塗布装置。
【請求項１１】
基板保持部に保持された基板の第一面に噴霧状の液状体を吐出する吐出ステップと、
前記吐出ステップが行われている状態で、前記基板保持部に保持された前記基板の外周に前記第一面とは反対の第二面又は前記基板の端部へ向けて前記気体を噴出する気体噴出ステップと
を含む塗布方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【公開番号】特開２０１３−４６５９（Ｐ２０１３−４６５９Ａ）
【公開日】平成２５年１月７日（２０１３．１．７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−１３３１２６（Ｐ２０１１−１３３１２６）
【出願日】平成２３年６月１５日（２０１１．６．１５）
【出願人】（０００２２０２３９）東京応化工業株式会社 (1,407)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２５年１月７日（２０１３．１．７）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年６月１５日（２０１１．６．１５）
【出願人】（０００２２０２３９）東京応化工業株式会社 (1,407)
【Ｆターム（参考）】
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