塗布装置
【目的】 スピンナーを備えた塗布装置のカップを回転させた場合にカップ内に乱流が生じないようにする。
【構成】 スピンナー装置の中空回転軸１２上端にインナーカップ２０の底板２１を固着し、この底板２１の上面周縁に環状の壁体２２を立設し、底板２１にはガラス基板と略相似形の台部２５を設け、この台部２５の中央には開口２６を形成し、また台部２５の上面外周にはガラス基板Ｗの下面周縁に当接する突条２７を形成し、この突条２７上面にシール２８を設けている。
【構成】 スピンナー装置の中空回転軸１２上端にインナーカップ２０の底板２１を固着し、この底板２１の上面周縁に環状の壁体２２を立設し、底板２１にはガラス基板と略相似形の台部２５を設け、この台部２５の中央には開口２６を形成し、また台部２５の上面外周にはガラス基板Ｗの下面周縁に当接する突条２７を形成し、この突条２７上面にシール２８を設けている。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）の製造工程等に用いる塗布装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】ブラウン管（ＣＲＴ）に代わる表示装置として、表面に画素を構成する電極や素子を形成した２枚のガラス基板の間に液晶を注入した構造の液晶ディスプレイが注目されている。そして上記の画素としては薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）や金属／絶縁体／金属接合（ＭＩＭ）などの素子で駆動せしめるアクティブマトリクス方式が高画質の画面が得られるため主流になりつつある。
【０００３】上記の薄膜トランジスタ等をガラス基板上に形成する技術はシリコンウェハ等に集積回路を形成する半導体製造技術をそのまま応用している。レジスト液の塗布も一連の工程のうちの一つであり、この工程ではインナーカップ内の真空チャックにセットしたガラス基板上にレジスト液を滴下し、次いでスピンナーによって真空チャックとインナーカップを一体的に回転せしめ遠心力によってガラス基板表面にレジスト液を均一に塗布するようにしている。
【０００４】ところで、真空チャックにガラス基板をセットしたり真空チャックから塗布後のガラス基板を取り外すには、ガラス基板の上面に触れないようにしなければならないので、ガラス基板の下面周縁をマニピュレータ等で支持して行なうようにしている。このためには、真空チャックにガラス基板が載置された状態で、ガラス基板とインナーカップ底面との間にマニピュレータ等が入り込める隙間が必要となる。従って、従来にあっては真空チャックの寸法はガラス基板より小さくし、真空チャックからガラス基板の周縁が食み出すようにしている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】レジスト液を塗布する工程においては、ガラス基板はインナーカップと一体的に回転するが、ガラス基板とカップ底面との間に隙間が形成されているため、この部分で乱流が発生し、膜厚が不均一になったり、ガラス基板表面に塗布液が回り込んだりする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決すべく本発明は、ガラス基板などの板状被処理物をスピンナーによって回転せしめられるカップ内にセットし、この板状被処理物の表面に塗布液を滴下し、次いでカップ上面を蓋体で閉塞してカップを回転させることで滴下した塗布液を板状被処理物の表面に均一に拡散せしめるようにした塗布装置において、前記カップ内底部に板状被処理物と略相似形の台部を設け、この台部の中央に真空チャックが臨む開口を形成し、台部の上面外周に板状被処理物の下面外周に当接する突条を形成した。
【０００７】
【作用】台部の開口に臨む真空チャックを上昇せしめ、この位置で真空チャック上面に板状被処理物を載置吸着し、次いで真空チャックを下降せしめて板状被処理物の下面外周部を台部の上面外周に形成した突条に当接させ、ガラス基板とカップ底面との間の隙間をなくして、塗布工程を行なう。
【０００８】
【実施例】以下に本発明の実施例を添付図面に基づいて説明する。ここで、図１は本発明に係る塗布装置を組み込んだ被膜形成ラインの平面図、図２は同塗布装置の蓋体を上げた状態の断面図、図３は図２のＡ−Ａ方向矢視図、図４は同塗布装置の蓋体を閉じた状態の断面図、図５R>５は図４の要部拡大図である。
【０００９】被膜形成ラインは図１の左側を上流部とし、この上流部に矩形状をなす板状被処理物としてのガラス基板Ｗの投入部１を設け、この投入部１の下流側に本発明に係る塗布装置２を配置し、この塗布装置２の下流側に順次、減圧乾燥装置３、ガラス基板Ｗの裏面洗浄装置４及びホットプレート５ａ・・・とクーリングプレート５ｂを備えた加熱部５を配置し、投入部１から加熱部５に至るまでは搬送装置６によってガラス基板Ｗの前後端の下面を支持した状態で搬送し、加熱部５においては垂直面内でクランク動をなす搬送装置７によりガラス基板Ｗの下面を支持した状態で各ホットプレート５ａ上を順次移し換え、最終的にクーリングプレート５ｂで温度を調整しつつガラス基板Ｗを搬送するようにしている。
【００１０】塗布装置２はベース１０、インナーカップ２０、アウターカップ３０及び蓋部４０から構成されている。
【００１１】ベース１０には軸受け１１が取り付けられ、この軸受け１１を貫通してスピンナー装置の中空回転軸１２を支承し、この回転軸１２上端にインナーカップ２０の底板２１を固着し、この底板２１の上面周縁に環状の壁体２２を立設し、この壁体２２と底板２１とでカップ形状をなすようにしている。
【００１２】そして、ガラス基板Ｗは矩形状であり、この矩形状ガラス基板Ｗの外周端とインナーカップ内周面との距離が均一でないと乱流を生じやすいので、環状の壁体２２の内側の一部に直線状の壁体２３を設け、矩形状ガラス基板Ｗの外周端と壁体との距離がどの部分でも一定となるようにしている。尚、壁体２３の上面にはシール２４を設けている。
【００１３】また、底板２１にはガラス基板と略相似形の台部２５を設け、この台部２５の中央には開口２６を形成し、また台部２５の上面外周にはガラス基板Ｗの下面周縁に当接する突条２７を形成し、この突条２７上面にシール２８を設けている。
【００１４】一方、前記中空回転軸１２内には真空チャック１３を挿通し、この真空チャック１３の吸着部１４を前記台部２５の中央開口２６に臨ませている。この真空チャック１３は昇降可能とされ、上昇した位置でガラス基板Ｗの受け取り及び受渡しを行ない、図に示す下降した位置において前記突条２７上面と面一か或いは若干突条２７上面より低くなる。
【００１５】アウターカップ３０はベース１０に固着された本体３１と、この本体３１に取り付けられた壁体３２からなり、本体３１に環状のドレイン回収通路３３を形成し、この回収通路３３にドレインパイプ２９を臨ませている。また壁体３２と前記インナーカップ２０の壁体２２との間には隙間を形成するとともに、壁体３２の上面にはシール３４を設けている。
【００１６】またインナーカップ２０及びアウターカップ３０の上方には図１に示すようにアーム５０、５１を配置している。これらアーム５０、５１は直線動、回転動、上下動或いはこれらを合成した動きが可能で互いに干渉しないようになっている。そして、アーム５０にはレジスト液等の塗布液を滴下するノズルを取り付け、前記蓋部４０を支持するアーム５１の先端には下方に伸びる軸５２を取り付け、この軸５２にはノズル孔を穿設し、このノズル孔からチッ素ガスや洗浄液が噴出するようにしている。
【００１７】また、前記軸５２にはベアリング及び磁気シールを介してボス部５３を回転自在に嵌合し、このボス部５３にインナーカップ２０の上面開口を閉塞するための円板状をなすアルミニウム製の蓋体４１を取り付けている。また、この蓋体４１の上方のアーム５１の先端下面にはアウターカップ３０の上面開口を閉塞するための蓋体４２を固着している。
【００１８】蓋体４１の下面にはインナーカップ２０内の乱流を防止する整流板４３を取り付けている。この整流板４３はガラス基板Ｗより若干大きな寸法で且つ相似形をしている。また蓋体４２は中央に形成した孔を介してアーム５１の先端下面に取り付けた筒体５６の外周に嵌合し、また蓋体４２に固着したテフロン製の軸受け４４に筒体５６に植設したガイドポスト５７を係合せしめることで蓋体４２を上下摺動自在に保持している。
【００１９】ところで、蓋体４１を閉じてインナーカップ２０、ガラス基板Ｗ及び整流板４３を回転せしめ、ガラス基板Ｗ上に滴下した塗布液を遠心力で拡散する場合には、ガラス基板Ｗと整流板４３とが完全に同一位相で重なるか、或いは回転速度を見込んで所定角ずらせてガラス基板Ｗ上に整流板４３を臨ませる必要がある。
【００２０】このため、蓋体４１の外周には前記壁体２２上面に設けたピン２２ａに係合する切欠４１ａを形成し、また蓋体４１からは上方に向けてピン４５を突出し、このピン４５が係合する受け部材４６を蓋体４２に取り付けている。即ち、蓋体４２は前記したガイドポスト５７により回転が阻止されガラス基板Ｗに対する相対位置が確定しているので、蓋体４１を上昇させた図２の状態では受け部材４６に蓋体４１のピン４５が係合することで蓋体４１及び整流板４３のガラス基板Ｗに対する相対位置も定まる。
【００２１】この後、アーム５１を下降させると、蓋体４２の外周端がアウターカップ３０上端に載置される。そしてこの状態でピン２２ａの直上に切欠４１ａが位置している。したがって、この状態で蓋体４１を下降せしめれば図４に示すように蓋体４１の切欠４１ａがピン２２ａに係合し、ガラス基板Ｗと整流板４３との位相合わせがなされる。
【００２２】以上において、ガラス基板Ｗ表面にレジスト液を均一に塗布するには、インナーカップ２０及びアウターカップ３０の上面を開放して真空チャック１３上に固着されているガラス基板Ｗの表面にアーム５０に取り付けられているノズルからレジスト液を滴下し、次いでアーム５０を後退せしめて図２に示すようにインナーカップ２０及びアウターカップ３０上にアーム５１を回動させて蓋体４１、４２を臨ませる。
【００２３】そして図４に示すように、アーム５１を下降することで蓋体４１によりインナーカップ２０の上面を閉塞し、蓋体４２によりアウターカップ３０の上面開口を閉塞したならば、スピンナーによって真空チャック１３とインナーカップ２０を一体的に回転せしめ、遠心力によりレジスト液をガラス基板Ｗの表面に均一に拡散塗布する。
【００２４】そして、以上の処理においてインナーカップ２０内は減圧状態になっているので、このまま蓋をあけてガラス基板Ｗを取り出すと、インナーカップ内の空気が乱れてレジスト液がスポット的にガラス基板Ｗ表面に付着するおそれがある。そこでレジスト液が均一に塗布されたガラス基板Ｗを取り出すには、先ず蓋体４１と整流板４３の間の空間に窒素ガス等を導入し減圧状態を解除して行う。このときノズル孔からのガスは整流板４３があるため、ガラス基板Ｗ表面のレジスト液に直接吹き付けられることがない。
【００２５】このようにして、所定枚数のガラス基板Ｗにレジスト液を均一に塗布した後には余分な塗布液の一部がインナーカップ２０内周面等に付着している。これを放置しておくと乾燥固化して雰囲気中に飛散し、ガラス基板Ｗ表面に付着するため、洗浄を行う。
【００２６】洗浄はガラス基板Ｗを除いた状態でインナーカップ２０とアウターカップ３０を蓋体４１，４２で閉じて行う。即ち、洗浄液供給源につながるノズル孔を介して蓋体４１と整流板４３の間の空間に洗浄液を供給する。すると図５に示すように、洗浄液は遠心力によって整流板４３の表面を流れ、その一部はインナーカップ２０の内周面に到達し、この内周面に付着した塗布液を洗い流し、ドレインパイプ２９を介して回収通路３３内に排出される。
【００２７】尚、図示例にあっては突条２７を設けることでガラス基板Ｗの下面と台部２５上面とが全面接触しないようにしたが、シール２８の形状或いは径によってはシール２８が突条を兼ねることができる。
【００２８】
【発明の効果】以上に説明したように本発明によれば、塗布装置のインナーカップの内底部に板状被処理物と略相似形の台部を設け、この台部の上面外周に板状被処理物の下面外周に当接する突条を形成したので、板状被処理物とカップ底面との間に形成されていた隙間がなくなり、この部分で乱流が発生せず、乱流に起因する膜厚の不均一を防止することができる。また突条を設けているのは周縁部のみであるので、板状被処理物の下面全面がカップ底面に接触することがなく、板状被処理物の傷付き等のおそれもない。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る塗布装置を組み込んだ被膜形成ラインの平面図
【図２】同塗布装置の蓋体を上げた状態の断面図
【図３】図２のＡ−Ａ方向矢視図
【図４】同塗布装置の蓋体を閉じた状態の断面図
【図５】図４の要部拡大図
【符号の説明】
２…塗布装置、１３…真空チャック、２０…インナーカップ、２７…突条、３０…アウターカップ、４１，４２…蓋体、４３…整流板、Ｗ…板状被処理物。
【０００１】
【産業上の利用分野】液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）の製造工程等に用いる塗布装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】ブラウン管（ＣＲＴ）に代わる表示装置として、表面に画素を構成する電極や素子を形成した２枚のガラス基板の間に液晶を注入した構造の液晶ディスプレイが注目されている。そして上記の画素としては薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）や金属／絶縁体／金属接合（ＭＩＭ）などの素子で駆動せしめるアクティブマトリクス方式が高画質の画面が得られるため主流になりつつある。
【０００３】上記の薄膜トランジスタ等をガラス基板上に形成する技術はシリコンウェハ等に集積回路を形成する半導体製造技術をそのまま応用している。レジスト液の塗布も一連の工程のうちの一つであり、この工程ではインナーカップ内の真空チャックにセットしたガラス基板上にレジスト液を滴下し、次いでスピンナーによって真空チャックとインナーカップを一体的に回転せしめ遠心力によってガラス基板表面にレジスト液を均一に塗布するようにしている。
【０００４】ところで、真空チャックにガラス基板をセットしたり真空チャックから塗布後のガラス基板を取り外すには、ガラス基板の上面に触れないようにしなければならないので、ガラス基板の下面周縁をマニピュレータ等で支持して行なうようにしている。このためには、真空チャックにガラス基板が載置された状態で、ガラス基板とインナーカップ底面との間にマニピュレータ等が入り込める隙間が必要となる。従って、従来にあっては真空チャックの寸法はガラス基板より小さくし、真空チャックからガラス基板の周縁が食み出すようにしている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】レジスト液を塗布する工程においては、ガラス基板はインナーカップと一体的に回転するが、ガラス基板とカップ底面との間に隙間が形成されているため、この部分で乱流が発生し、膜厚が不均一になったり、ガラス基板表面に塗布液が回り込んだりする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決すべく本発明は、ガラス基板などの板状被処理物をスピンナーによって回転せしめられるカップ内にセットし、この板状被処理物の表面に塗布液を滴下し、次いでカップ上面を蓋体で閉塞してカップを回転させることで滴下した塗布液を板状被処理物の表面に均一に拡散せしめるようにした塗布装置において、前記カップ内底部に板状被処理物と略相似形の台部を設け、この台部の中央に真空チャックが臨む開口を形成し、台部の上面外周に板状被処理物の下面外周に当接する突条を形成した。
【０００７】
【作用】台部の開口に臨む真空チャックを上昇せしめ、この位置で真空チャック上面に板状被処理物を載置吸着し、次いで真空チャックを下降せしめて板状被処理物の下面外周部を台部の上面外周に形成した突条に当接させ、ガラス基板とカップ底面との間の隙間をなくして、塗布工程を行なう。
【０００８】
【実施例】以下に本発明の実施例を添付図面に基づいて説明する。ここで、図１は本発明に係る塗布装置を組み込んだ被膜形成ラインの平面図、図２は同塗布装置の蓋体を上げた状態の断面図、図３は図２のＡ−Ａ方向矢視図、図４は同塗布装置の蓋体を閉じた状態の断面図、図５R>５は図４の要部拡大図である。
【０００９】被膜形成ラインは図１の左側を上流部とし、この上流部に矩形状をなす板状被処理物としてのガラス基板Ｗの投入部１を設け、この投入部１の下流側に本発明に係る塗布装置２を配置し、この塗布装置２の下流側に順次、減圧乾燥装置３、ガラス基板Ｗの裏面洗浄装置４及びホットプレート５ａ・・・とクーリングプレート５ｂを備えた加熱部５を配置し、投入部１から加熱部５に至るまでは搬送装置６によってガラス基板Ｗの前後端の下面を支持した状態で搬送し、加熱部５においては垂直面内でクランク動をなす搬送装置７によりガラス基板Ｗの下面を支持した状態で各ホットプレート５ａ上を順次移し換え、最終的にクーリングプレート５ｂで温度を調整しつつガラス基板Ｗを搬送するようにしている。
【００１０】塗布装置２はベース１０、インナーカップ２０、アウターカップ３０及び蓋部４０から構成されている。
【００１１】ベース１０には軸受け１１が取り付けられ、この軸受け１１を貫通してスピンナー装置の中空回転軸１２を支承し、この回転軸１２上端にインナーカップ２０の底板２１を固着し、この底板２１の上面周縁に環状の壁体２２を立設し、この壁体２２と底板２１とでカップ形状をなすようにしている。
【００１２】そして、ガラス基板Ｗは矩形状であり、この矩形状ガラス基板Ｗの外周端とインナーカップ内周面との距離が均一でないと乱流を生じやすいので、環状の壁体２２の内側の一部に直線状の壁体２３を設け、矩形状ガラス基板Ｗの外周端と壁体との距離がどの部分でも一定となるようにしている。尚、壁体２３の上面にはシール２４を設けている。
【００１３】また、底板２１にはガラス基板と略相似形の台部２５を設け、この台部２５の中央には開口２６を形成し、また台部２５の上面外周にはガラス基板Ｗの下面周縁に当接する突条２７を形成し、この突条２７上面にシール２８を設けている。
【００１４】一方、前記中空回転軸１２内には真空チャック１３を挿通し、この真空チャック１３の吸着部１４を前記台部２５の中央開口２６に臨ませている。この真空チャック１３は昇降可能とされ、上昇した位置でガラス基板Ｗの受け取り及び受渡しを行ない、図に示す下降した位置において前記突条２７上面と面一か或いは若干突条２７上面より低くなる。
【００１５】アウターカップ３０はベース１０に固着された本体３１と、この本体３１に取り付けられた壁体３２からなり、本体３１に環状のドレイン回収通路３３を形成し、この回収通路３３にドレインパイプ２９を臨ませている。また壁体３２と前記インナーカップ２０の壁体２２との間には隙間を形成するとともに、壁体３２の上面にはシール３４を設けている。
【００１６】またインナーカップ２０及びアウターカップ３０の上方には図１に示すようにアーム５０、５１を配置している。これらアーム５０、５１は直線動、回転動、上下動或いはこれらを合成した動きが可能で互いに干渉しないようになっている。そして、アーム５０にはレジスト液等の塗布液を滴下するノズルを取り付け、前記蓋部４０を支持するアーム５１の先端には下方に伸びる軸５２を取り付け、この軸５２にはノズル孔を穿設し、このノズル孔からチッ素ガスや洗浄液が噴出するようにしている。
【００１７】また、前記軸５２にはベアリング及び磁気シールを介してボス部５３を回転自在に嵌合し、このボス部５３にインナーカップ２０の上面開口を閉塞するための円板状をなすアルミニウム製の蓋体４１を取り付けている。また、この蓋体４１の上方のアーム５１の先端下面にはアウターカップ３０の上面開口を閉塞するための蓋体４２を固着している。
【００１８】蓋体４１の下面にはインナーカップ２０内の乱流を防止する整流板４３を取り付けている。この整流板４３はガラス基板Ｗより若干大きな寸法で且つ相似形をしている。また蓋体４２は中央に形成した孔を介してアーム５１の先端下面に取り付けた筒体５６の外周に嵌合し、また蓋体４２に固着したテフロン製の軸受け４４に筒体５６に植設したガイドポスト５７を係合せしめることで蓋体４２を上下摺動自在に保持している。
【００１９】ところで、蓋体４１を閉じてインナーカップ２０、ガラス基板Ｗ及び整流板４３を回転せしめ、ガラス基板Ｗ上に滴下した塗布液を遠心力で拡散する場合には、ガラス基板Ｗと整流板４３とが完全に同一位相で重なるか、或いは回転速度を見込んで所定角ずらせてガラス基板Ｗ上に整流板４３を臨ませる必要がある。
【００２０】このため、蓋体４１の外周には前記壁体２２上面に設けたピン２２ａに係合する切欠４１ａを形成し、また蓋体４１からは上方に向けてピン４５を突出し、このピン４５が係合する受け部材４６を蓋体４２に取り付けている。即ち、蓋体４２は前記したガイドポスト５７により回転が阻止されガラス基板Ｗに対する相対位置が確定しているので、蓋体４１を上昇させた図２の状態では受け部材４６に蓋体４１のピン４５が係合することで蓋体４１及び整流板４３のガラス基板Ｗに対する相対位置も定まる。
【００２１】この後、アーム５１を下降させると、蓋体４２の外周端がアウターカップ３０上端に載置される。そしてこの状態でピン２２ａの直上に切欠４１ａが位置している。したがって、この状態で蓋体４１を下降せしめれば図４に示すように蓋体４１の切欠４１ａがピン２２ａに係合し、ガラス基板Ｗと整流板４３との位相合わせがなされる。
【００２２】以上において、ガラス基板Ｗ表面にレジスト液を均一に塗布するには、インナーカップ２０及びアウターカップ３０の上面を開放して真空チャック１３上に固着されているガラス基板Ｗの表面にアーム５０に取り付けられているノズルからレジスト液を滴下し、次いでアーム５０を後退せしめて図２に示すようにインナーカップ２０及びアウターカップ３０上にアーム５１を回動させて蓋体４１、４２を臨ませる。
【００２３】そして図４に示すように、アーム５１を下降することで蓋体４１によりインナーカップ２０の上面を閉塞し、蓋体４２によりアウターカップ３０の上面開口を閉塞したならば、スピンナーによって真空チャック１３とインナーカップ２０を一体的に回転せしめ、遠心力によりレジスト液をガラス基板Ｗの表面に均一に拡散塗布する。
【００２４】そして、以上の処理においてインナーカップ２０内は減圧状態になっているので、このまま蓋をあけてガラス基板Ｗを取り出すと、インナーカップ内の空気が乱れてレジスト液がスポット的にガラス基板Ｗ表面に付着するおそれがある。そこでレジスト液が均一に塗布されたガラス基板Ｗを取り出すには、先ず蓋体４１と整流板４３の間の空間に窒素ガス等を導入し減圧状態を解除して行う。このときノズル孔からのガスは整流板４３があるため、ガラス基板Ｗ表面のレジスト液に直接吹き付けられることがない。
【００２５】このようにして、所定枚数のガラス基板Ｗにレジスト液を均一に塗布した後には余分な塗布液の一部がインナーカップ２０内周面等に付着している。これを放置しておくと乾燥固化して雰囲気中に飛散し、ガラス基板Ｗ表面に付着するため、洗浄を行う。
【００２６】洗浄はガラス基板Ｗを除いた状態でインナーカップ２０とアウターカップ３０を蓋体４１，４２で閉じて行う。即ち、洗浄液供給源につながるノズル孔を介して蓋体４１と整流板４３の間の空間に洗浄液を供給する。すると図５に示すように、洗浄液は遠心力によって整流板４３の表面を流れ、その一部はインナーカップ２０の内周面に到達し、この内周面に付着した塗布液を洗い流し、ドレインパイプ２９を介して回収通路３３内に排出される。
【００２７】尚、図示例にあっては突条２７を設けることでガラス基板Ｗの下面と台部２５上面とが全面接触しないようにしたが、シール２８の形状或いは径によってはシール２８が突条を兼ねることができる。
【００２８】
【発明の効果】以上に説明したように本発明によれば、塗布装置のインナーカップの内底部に板状被処理物と略相似形の台部を設け、この台部の上面外周に板状被処理物の下面外周に当接する突条を形成したので、板状被処理物とカップ底面との間に形成されていた隙間がなくなり、この部分で乱流が発生せず、乱流に起因する膜厚の不均一を防止することができる。また突条を設けているのは周縁部のみであるので、板状被処理物の下面全面がカップ底面に接触することがなく、板状被処理物の傷付き等のおそれもない。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る塗布装置を組み込んだ被膜形成ラインの平面図
【図２】同塗布装置の蓋体を上げた状態の断面図
【図３】図２のＡ−Ａ方向矢視図
【図４】同塗布装置の蓋体を閉じた状態の断面図
【図５】図４の要部拡大図
【符号の説明】
２…塗布装置、１３…真空チャック、２０…インナーカップ、２７…突条、３０…アウターカップ、４１，４２…蓋体、４３…整流板、Ｗ…板状被処理物。
【特許請求の範囲】
【請求項１】 板状被処理物をスピンナーによって回転せしめられるカップ内にセットし、この板状被処理物の表面に塗布液を滴下し、次いでカップ上面を蓋体で閉塞してカップを回転させることで滴下した塗布液を板状被処理物の表面に均一に拡散せしめるようにした塗布装置において、前記カップ内底部には板状被処理物と略相似形の台部が設けられ、この台部の中央には真空チャックが臨む開口が形成され、台部の上面外周には板状被処理物の下面外周に当接する突条が形成されていることを特徴とする塗布装置。
【請求項１】 板状被処理物をスピンナーによって回転せしめられるカップ内にセットし、この板状被処理物の表面に塗布液を滴下し、次いでカップ上面を蓋体で閉塞してカップを回転させることで滴下した塗布液を板状被処理物の表面に均一に拡散せしめるようにした塗布装置において、前記カップ内底部には板状被処理物と略相似形の台部が設けられ、この台部の中央には真空チャックが臨む開口が形成され、台部の上面外周には板状被処理物の下面外周に当接する突条が形成されていることを特徴とする塗布装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【公開番号】特開平５−１６９００３
【公開日】平成５年（１９９３）７月９日
【国際特許分類】
【出願番号】特願平３−３５５９３５
【出願日】平成３年（１９９１）１２月２０日
【出願人】（０００２２０２３９）東京応化工業株式会社 (1,407)
【公開日】平成５年（１９９３）７月９日
【国際特許分類】
【出願日】平成３年（１９９１）１２月２０日
【出願人】（０００２２０２３９）東京応化工業株式会社 (1,407)
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