多面体構造ポリシロキサン変性体、該変性体を含有する組成物、該組成物を硬化させてなる硬化物
【課題】 高い耐熱性、耐光性を有し、ガスバリア性および耐冷熱衝撃性に優れ、かつ、光半導体素子を封止する際のハンドリング性が良好なポリシロキサン系組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）アルケニル基を有する多面体構造ポリシロキサン系化合物（ａ）、ヒドロシリル基を有する化合物（ｂ）、１分子中にアルケニル基を１個有する有機ケイ素化合物（ｃ）とをヒドロシリル化反応することで得られる多面体構造ポリシロキサン変性体、
（Ｂ）アルケニル基を２個以上含有する化合物
【解決手段】（Ａ）アルケニル基を有する多面体構造ポリシロキサン系化合物（ａ）、ヒドロシリル基を有する化合物（ｂ）、１分子中にアルケニル基を１個有する有機ケイ素化合物（ｃ）とをヒドロシリル化反応することで得られる多面体構造ポリシロキサン変性体、
（Ｂ）アルケニル基を２個以上含有する化合物
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、高い耐熱性、耐光性を有し、ガスバリア性および耐冷熱衝撃性に優れ、かつ、光半導体素子を封止する際のハンドリング性が良好なポリシロキサン系組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
ポリシロキサン系組成物は、耐熱性、耐寒性、耐候性、耐光性、化学的安定性、電気特性、難燃性、耐水性、透明性、着色性、非粘着性、非腐食性に優れており、様々な産業で利用されている。中でも、多面体構造を有するポリシロキサンで構成された組成物は、その特異的な化学構造から、さらに優れた耐熱性、耐光性、化学的安定性、低誘電性等を示すことが知られている。
【０００３】
多面体構造を有するポリシロキサンを用いた応用例として、光半導体素子封止剤用途への展開を意図したものがあり、例えば特許文献１において、２つ以上のオキセタニル基を有する多面体構造を有するポリシロキサン樹脂と１つ以上のエポキシ基を含有する脂肪族炭化水素とカチオン重合開始剤とを含有する多面体構造を有するポリシロキサン系組成物が開示されており、この材料は高屈折で光の取り出し効率が高い。しかしながら、オキセタニル基やエポキシ基を有しているため、耐熱性、耐光性が低い問題があった。
【０００４】
また、ポリシロキサン系組成物は優れた特性を持つ一方で、一般にガスバリア性が低いといった問題点を有している。そのため、光半導体素子封止剤用途で用いた場合、リフレクターが硫化物によって黒色化する問題があり、この問題に対して、例えば特許文献２では、予め金属部材をガスバリア性の高いアクリル系樹脂でコーティング処理を行っている。しかしながら、アクリル系樹脂でコーティング処理を行った後に、別途シリコーン樹脂で封止する等、手間がかかり、生産性に問題があった。
【０００５】
また、光半導体素子封止剤用途においては、白色光を得るために、青色の発光素子に対して黄色の蛍光体を含有させた封止剤を用いる、あるいは、より演色性を高めるために、青色の発光素子に対して緑色の蛍光体と赤色の蛍光体とを含有させた封止剤を用いる等の手段を用いるが、封止剤の粘度が低い場合には、封止剤のハンドリング時に蛍光体の沈降が起こり、発光色のバラツキが発生するといった問題があった。例えば、特許文献３において、多面体構造を有するポリシロキサン変性体を用いた組成物が開示されており、この材料は、成型加工性、透明性、耐熱・耐光性、接着性に優れている。しかしながら、組成物の粘度についてはさらなる改良の余地も残されていた。
【０００６】
以上のように、高い耐熱性、耐光性を有し、耐冷熱衝撃性およびガスバリア性に優れ、かつ、光半導体素子を封止する際のハンドリング性が良好な材料の開発が望まれていた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００８−１６３２６０
【特許文献２】特開２００９−２０６１２４
【特許文献３】ＷＯ０８／０１０５４５
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
高い耐熱性、耐光性を有し、ガスバリア性および耐冷熱衝撃性に優れ、かつ、光半導体素子を封止する際のハンドリング性が良好なポリシロキサン系組成物を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者らは、上記課題を解決すべく、鋭意研究を重ねた結果、
（Ａ）アルケニル基を有する多面体構造ポリシロキサン系化合物（ａ）、ヒドロシリル基を有する化合物（ｂ）、１分子中にアルケニル基を１個有する有機ケイ素化合物（ｃ）とをヒドロシリル化反応することで得られる多面体構造ポリシロキサン変性体、
（Ｂ）アルケニル基を２個以上含有する化合物からなるオルガノポリシロキサン系組成物により、上記課題を解決できることを見出し、本発明に至った。
【００１０】
すなわち、本発明は以下の構成を有するものである。
【００１１】
１）．（Ａ）アルケニル基を有する多面体構造ポリシロキサン系化合物（ａ）、ヒドロシリル基を有する化合物（ｂ）、１分子中にアルケニル基を１個有する有機ケイ素化合物（ｃ）とをヒドロシリル化反応することで得られる多面体構造ポリシロキサン変性体、
（Ｂ）アルケニル基を２個以上含有する化合物、
からなるオルガノポリシロキサン系組成物であって、
前記（Ｂ）成分が、一般式（１）で表される化合物、一般式（２）で表される化合物、一般式（３）で表される化合物、一般式（４）で表される化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種であることを特徴とするオルガノポリシロキサン系組成物。
【００１２】
一般式（１）
ＲIaＲII （１）
（ＲIはアルケニル基、ＲIIは２価以上の脂環式炭化水素基、または２価以上の芳香族炭化水素基、ａ≧２）
一般式（２）
ＲIaＲIIIbＳｉ （２）
（ＲIはアルケニル基、ＲIIIはアルケニル基以外の１価の脂肪族炭化水素基、または１価の脂環式炭化水素基、または１価の芳香族炭化水素基であり、同一であっても異なっていてもよい、ａ≧２、ｂ＝０〜２の整数、ａ＋ｂ＝４）
一般式（３）
（ＲIaＲIIIbＳｉ）n（ＲIcＲIIIdＳｉ）mＲIV （３）
（ＲIはアルケニル基、ＲIIIはアルケニル基以外の１価の脂肪族炭化水素基、または１価の脂環式炭化水素基、または１価の芳香族炭化水素基であり、同一であっても異なっていてもよい、ＲIVは２価以上の炭化水素基、ａ≧１、ｃ≧１、ｂ＝０〜２の整数、ｄ＝０〜２の整数、ａ＋ｂ＝ｃ＋ｄ＝３、ｎ＋ｍ≧２）
一般式（４）
（ＲIaＲIIIbＳｉＯ）n（ＲIcＲIIIdＳｉＯ）mＲIV （４）
（ＲIはアルケニル基、ＲIIIはアルケニル基以外の１価の脂肪族炭化水素基、または１価の脂環式炭化水素基、または１価の芳香族炭化水素基であり、同一であっても異なっていてもよい、ＲIVは２価以上の炭化水素基、ａ≧１、ｃ≧１、ｂ＝０〜２の整数、ｄ＝０〜２の整数、ａ＋ｂ＝ｃ＋ｄ＝３、ｎ＋ｍ≧２）
【００１３】
２）．前記（Ｂ）成分が、平均分子量２０００以下の化合物であることを特徴とする１）に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【００１４】
３）．前記（Ｂ）成分のＲIVが、下記構造で表される２価の炭化水素基であることを特徴とする１）または２）に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【００１５】
【化１】
【００１６】
【化２】
【００１７】
【化３】
【００１８】
【化４】
【００１９】
【化５】
【００２０】
４）．多面体構造ポリシロキサン変性体（Ａ）が、温度２０℃において、液状であることを特徴とする、１）に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【００２１】
５）．１分子中にアルケニル基を１個有する有機ケイ素化合物（ｃ）が、アリール基を１個以上有する有機ケイ素化合物であることを特徴とする１）〜４）のいずれか１項に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【００２２】
６）．ヒドロシリル基を有する化合物（ｂ）が、ヒドロシリル基を有する環状シロキサン、および／または直鎖状シロキサンであることを特徴とする、１）〜５）のいずれか１項に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【００２３】
７）．アルケニル基を有する多面体構造ポリシロキサン系化合物（ａ）が、式
[ＡＲ12ＳｉＯ−ＳｉＯ3/2]a[Ｒ23ＳｉＯ−ＳｉＯ3/2]b
（ａ＋ｂは６〜２４の整数、ａは１以上の整数、ｂは０または１以上の整数；Ａは、アルケニル基；Ｒ1は、アルキル基またはアリール基；Ｒ2は、水素原子、アルキル基、アリール基、または、他の多面体骨格ポリシロキサンと連結している基）
で表されるシロキサン単位から構成されるアルケニル基を有する多面体構造ポリシロキサン系化合物であることを特徴とする、１）〜６）のいずれか１項に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【００２４】
８）．多面体構造ポリシロキサン変性体（Ａ）が、式
[ＸＲ32ＳｉＯ−ＳｉＯ3/2]a[Ｒ43ＳｉＯ−ＳｉＯ3/2]b
［ａ＋ｂは６〜２４の整数、ａは１以上の整数、ｂは０または１以上の整数；Ｒ3は、アルキル基またはアリール基；Ｒ4は、アルケニル基、水素原子、アルキル基、アリール基、または、他の多面体骨格ポリシロキサンと連結している基、Ｘは、下記一般式（１）あるいは一般式（２）のいずれかの構造を有し、Ｘが複数ある場合は一般式（１）、あるいは一般式（２）の構造が異なっていても良く、また、一般式（１）、あるいは一般式（２）の構造が混在していても良い。Ｘは、一般式（１）および／または一般式（２）を少なくとも１つ有する。
【００２５】
【化６】
【００２６】
【化７】
【００２７】
｛ｌは２以上の整数；ｍは０以上の整数；ｎは２以上の整数；Ｒは、アルキル基またはアリール基；ＹおよびＺは水素原子、アルケニル基、アルキル基、アリール基、もしくは、アルキレン鎖を介して多面体構造ポリシロキサンと結合している部位であり、同一であっても異なっていてもよい。；ただし、ＹあるいはＺの少なくとも１つは水素原子であり、少なくとも１つは下記一般式（３）の構造を有する。
【００２８】
【化８】
【００２９】
（ｌは０以上の整数；Ｒ5は有機ケイ素化合物を含有する基）｝］
で表されるシロキサン単位から構成される多面体構造ポリシロキサン変性体であることを特徴とするオルガノポリシロキサン系組成物。
【００３０】
９）．Ｒ5がアリール基を１個以上含有することを特徴とする８）に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【００３１】
１０）．温度２３℃において、１Ｐａ・ｓ以上の粘度を有することを特徴とする、１）〜９）のいずれか１項に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【００３２】
１１）．ヒドロシリル化触媒を含有することを特徴とする、１）〜１０）のいずれか１項に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【００３３】
１２）．硬化遅延剤を含有することを特徴とする、１）〜１１）のいずれか１項に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【００３４】
１３）．１）〜１２）のいずれか１項に記載のオルガノポリシロキサン系組成物を硬化させてなる硬化物。
【発明の効果】
【００３５】
高い耐熱性、耐光性を有し、ガスバリア性および耐冷熱衝撃性に優れ、かつ、光半導体素子を封止する際のハンドリング性が良好なポリシロキサン系組成物を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００３６】
以下、本発明について詳細に説明する。
＜アルケニル基を有する多面体構造ポリシロキサン系化合物（ａ）＞
本発明におけるアルケニル基を有する多面体構造ポリシロキサン系化合物（ａ）は、分子中にアルケニル基を有する、多面体骨格を有するポリシロキサンであれば、特に限定はない。具体的に、例えば、以下の式
［Ｒ6ＳｉＯ3/2］x［Ｒ7ＳｉＯ3/2］y
（ｘ＋ｙは６〜２４の整数；ｘは１以上の整数、ｙは０または１以上の整数；Ｒ6はアルケニル基、または、アルケニル基を有する基；Ｒ7は、任意の有機基、または、他の多面体骨格ポリシロキサンと連結している基）
で表されるシロキサン単位から構成されるアルケニル基含有多面体構造ポリシロキサン系化合物を好適に用いることができ、さらには、式
[ＡＲ12ＳｉＯ−ＳｉＯ3/2]a[Ｒ23ＳｉＯ−ＳｉＯ3/2]b
（ａ＋ｂは６〜２４の整数、ａは１以上の整数、ｂは０または１以上の整数；Ａは、アルケニル基；Ｒ1は、アルキル基またはアリール基；Ｒ2は、水素原子、アルキル基、アリール基、または、他の多面体骨格ポリシロキサンと連結している基）
で表されるシロキサン単位から構成されるアルケニル基含有多面体構造ポリシロキサン系化合物が好ましいものとして例示される。
【００３７】
アルケニル基としては、ビニル基、アリル基、ブテニル基、ヘキセニル基等が例示されるが、耐熱性・耐光性の観点から、ビニル基が好ましい。
【００３８】
Ｒ1は、アルキル基またはアリール基である。アルキル基としては、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基等が例示され、また、アリール基としては、フェニル基、トリル基等のアリール基が例示される。本発明におけるＲ1としては、耐熱性・耐光性の観点から、メチル基が好ましい。
【００３９】
Ｒ2は、水素原子、アルキル基、アリール基、または、他の多面体骨格ポリシロキサンと連結している基である。アルキル基としては、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基等が例示され、また、アリール基としては、フェニル基、トリル基等のアリール基が例示される。本発明におけるＲ2としては、耐熱性・耐光性の観点から、メチル基が好ましい。
【００４０】
ａは１以上の整数であれば、特に制限はないが、化合物の取り扱い性や得られる硬化物の物性から、２以上が好ましく、３以上がさらに好ましい。また、ｂは、０または１以上の整数であれば、特に制限はない。
【００４１】
ａとｂの和（＝ａ＋ｂ）は、６〜２４の整数であるが、化合物の安定性、得られる硬化物の安定性の観点から、６〜１２、さらには、６〜１０であることが好ましい。
【００４２】
（ａ）成分の合成方法としては、特に限定されず、公知の方法を用いて合成することができる。合成方法としては、例えば、Ｒ8ＳｉＸa3（式中Ｒ8は、上述のＲ6、Ｒ7を表し、Ｘaは、ハロゲン原子、アルコキシ基等の加水分解性官能基を表す）のシラン化合物の加水分解縮合反応によって、得られる。または、Ｒ8ＳｉＸa3の加水分解縮合反応によって分子内に３個のシラノール基を有するトリシラノール化合物を合成したのち、さらに、同一もしくは異なる３官能性シラン化合物を反応させることにより閉環し、多面体構造ポリシロキサンを合成する方法も知られている。
【００４３】
その他にも、例えば、テトラエトキシシラン等のテトラアルコキシシランを４級アンモニウムヒドロキシド等の塩基存在下で加水分解縮合させる方法が挙げられる。本合成方法においては、テトラアルコキシシランの加水分解縮合反応により、多面体構造を有するケイ酸塩が得られ、さらに得られたケイ酸塩をアルケニル基含有シリルクロライド等のシリル化剤と反応させることにより、多面体構造を形成するＳｉ原子とアルケニル基とが、シロキサン結合を介して結合した多面体構造ポリシロキサンを得ることが可能となる。本発明においては、テトラアルコキシランの替わりに、シリカや稲籾殻等のシリカを含有する物質からも、同様の多面体構造ポリシロキサンを得ることが可能である。
【００４４】
＜ヒドロシリル基を有する化合物（ｂ）＞
本発明で用いるヒドロシリル基を有する化合物（ｂ）は、分子中に１個以上のヒドロシリル基を有していれば特に制限はないが、得られる多面体構造ポリシロキサン変性体の透明性、耐熱性、耐光性の観点から、ヒドロシリル基を有するシロキサン化合物であることが好ましく、さらには、ヒドロシリル基を有する環状シロキサンあるいは直鎖状ポリシロキサンであることが好ましい。特にガスバリア性の観点からは、環状シロキサンであることが好ましい。
【００４５】
ヒドロシリル基を有する直鎖状ポリシロキサンとしては、ジメチルシロキサン単位とメチルハイドロジェンシロキサン単位及び末端トリメチルシロキシ単位との共重合体、ジフェニルシロキサン単位とメチルハイドロジェンシロキサン単位及び末端トリメチルシロキシ単位との共重合体、メチルフェニルシロキサン単位とメチルハイドロジェンシロキサン単位及び末端トリメチルシロキシ単位との共重合体、ジメチルハイドロジェンシリル基で末端が封鎖されたポリジメチルシロキサン、ジメチルハイドロジェンシリル基で末端が封鎖されたポリジフェニルシロキサン、ジメチルハイドロジェンシリル基で末端が封鎖されたポリメチルフェニルシロキサンなどが例示される。
【００４６】
特に、ヒドロシリル基を有する直鎖状ポリシロキサンとしては、変性させる際の反応性や得られる硬化物の耐熱性、耐光性等の観点から、ジメチルハイドロジェンシリル基で分子末端が封鎖されたポリシロキサン、さらにはジメチルハイドロジェンシリル基で分子末端が封鎖されたポリジメチルシロキサンを好適に用いることができ、具体的に例えば、テトラメチルジシロキサン、ヘキサメチルトリシロキサンなどが、好ましい例として例示される。
【００４７】
ヒドロシリル基を有する環状シロキサンとしては、１，３，５，７−テトラハイドロジェン−１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサン、１−プロピル−３，５，７−トリハイドロジェン−１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサン、１，５−ジハイドロジェン−３，７−ジヘキシル−１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサン、１，３，５−トリハイドロジェン−１，３，５−トリメチルシクロトリシロキサン、１，３，５，７，９−ペンタハイドロジェン−１，３，５，７，９−ペンタメチルシクロペンタシロキサン、１，３，５，７，９，１１−ヘキサハイドロジェン−１，３，５，７，９，１１−ヘキサメチルシクロヘキサシロキサンなどが例示される。本発明における環状シロキサンとしては、工業的入手性および反応性、あるいは、得られる硬化物の耐熱性、耐光性、強度等の観点から、具体的に例えば、１，３，５，７−テトラハイドロジェン−１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサンを好適に用いることができる。
【００４８】
これら、ヒドロシリル基を有する化合物（ｂ）は単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
【００４９】
ヒドロシリル基を有する化合物（ｂ）の添加量は、アルケニル基を有する多面体構造ポリシロキサン系化合物（ａ）のアルケニル基１個あたり、（ｂ）成分のＳｉ原子に直結した水素原子の数が１個より多いことが好ましく、さらに好ましくは２．５〜２０個になるように用いることであるが、化合物に依存する。添加量が少ないと、架橋反応によりゲル化が生じてハンドリング性の劣る多面体構造ポリシロキサン変性体となり、多すぎると、多面体構造ポリシロキサン変性体を用いて得られる硬化物の物性に悪影響を及ぼす場合がある。さらには、過剰量の（ｂ）成分を存在させるため、例えば減圧・加熱条件下にて、未反応の（ｂ）成分を取り除くことが好ましい。
【００５０】
＜１分子中にアルケニル基を１個有する有機ケイ素化合物（ｃ）＞
本発明における１分子中にアルケニル基を１個有する有機ケイ素化合物（ｃ）はヒドロシリル基を有する化合物（ｂ）のヒドロシリル基と反応する。（ｃ）成分を用いることで、得られる硬化物の弾性率を低下させることができ、耐冷熱衝撃性を向上させることができる。
【００５１】
アルケニル基としては、ビニル基、アリル基、ブテニル基、ヘキセニル基等が例示されるが、耐熱性・耐光性の観点から、ビニル基が好ましい。
本発明における（ｃ）成分は、１分子中にアルケニル基を１個有する有機ケイ素化合物であれば特に限定はされないが、１分子中に少なくともアリール基を１個以上含有していることが、ガスバリア性や屈折率の観点から好ましく、さらには、該アリール基が直接ケイ素原子に結合していることが、耐熱性、耐光性の観点から、さらに好ましい。
【００５２】
本発明における（ｃ）成分は、耐熱性、耐光性の観点から、シラン、またはポリシロキサンであることが好ましい。このような（ｃ）成分が、１分子中にアルケニル基を１個有するシランである場合、具体的に例えば、トリメチルビニルシラン、ジメチルフェニルビニルシラン、メチルジフェニルビニルシラン、トリフェニルビニルシラン、トリエチルビニルシラン、ジエチルフェニルビニルシラン、エチルジフェニルビニルシラン、アリルトリメチルシラン、アリルジメチルフェニルシラン、アリルメチルジフェニルシラン、アリルトリフェニルシラン、アリルトリエチルシラン、アリルジエチルフェニルシラン、アリルエチルジフェニルシラン等が例示される。中でも、耐熱性、耐光性の観点から、トリメチルビニルシラン、ジメチルフェニルビニルシラン、メチルジフェニルビニルシラン、トリフェニルビニルシランが好ましい例として挙げられ、さらに、ガスバリア性や屈折率の観点から、ジメチルフェニルビニルシラン、メチルジフェニルビニルシラン、トリフェニルビニルシランが好ましい例として挙げられる。
【００５３】
また（ｃ）成分がポリシロキサンである場合、アルケニル基を１個有する直鎖構造のポリシロキサン、分子末端にアルケニル基を１個有するポリシロキサン、アルケニル基を１個有する環状シロキサン等が例示される。
【００５４】
（ｃ）成分が、アルケニル基を１個有する直鎖構造のポリシロキサンである場合、具体的に例えば、ジメチルビニルシリル基とトリメチルシリル基で末端がそれぞれ１個ずつ封鎖されたポリジメチルシロキサン、ジメチルビニルシリル基とトリメチルシリル基で末端がそれぞれ１個ずつ封鎖されたポリメチルフェニルシロキサン、ジメチルビニルシリル基とトリメチルシリル基で末端がそれぞれ１個ずつ封鎖されたポリジフェニルシロキサン、ジメチルビニルシリル基とトリメチルシリル基で末端がそれぞれ１個ずつ封鎖されたジメチルシロキサン単位とメチルフェニルシロキサン単位との共重合体、ジメチルビニルシリル基とトリメチルシリル基で末端がそれぞれ１個ずつ封鎖されたジメチルシロキサン単位とジフェニルシロキサン単位との共重合体、ジメチルビニルシリル基とトリメチルシリル基で末端がそれぞれ１個ずつ封鎖されたメチルフェニルシロキサン単位とジフェニルシロキサン単位との共重合体等が例示される。
【００５５】
分子末端にアルケニル基を１個有するポリシロキサンである場合、具体的に例えば、先に例示したジメチルビニルシリル基とトリメチルシリル基で末端が１個ずつ封鎖されたポリシロキサン、ＳｉＯ2単位、ＳｉＯ3/2単位、ＳｉＯ単位、ＳｉＯ1/2単位からなる群において選ばれる少なくとも１つのシロキサン単位および１つのジメチルビニルシロキサン単位からなるポリシロキサンなどが例示される。
【００５６】
（ｃ）成分が、アルケニル基を１個有する環状シロキサンである場合、具体的に例えば、１−ビニル−１，３，３，５，５，７，７−ヘプタメチルシクロテトラシロキサン、１−ビニル−３−フェニル−１，３，５，５，７，７−ヘキサメチルシクロテトラシロキサン、１−ビニル−３，５−ジフェニル−１，３，５，７，７−ペンタメチルシクロテトラシロキサン、１−ビニル−３，５，７−トリフェニル−１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサン等が例示される。
【００５７】
これら（ｃ）成分である、１分子中にアルケニル基を１個有する有機ケイ素化合物は、単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
【００５８】
＜多面体構造ポリシロキサン変性体＞
本発明の多面体構造ポリシロキサン変性体は、後述のヒドロシリル化触媒の存在下、アルケニル基を有する多面体構造ポリシロキサン系化合物（ａ）と１分子中にアルケニル基を１個有する有機ケイ素化合物（ｃ）を、ヒドロシリル基を有する化合物（ｂ）とヒドロシリル化反応させることにより得られる。
【００５９】
本発明の多面体構造ポリシロキサン変性体を得る方法としては、特に限定されず種々設定できるが、予め（ａ）成分と（ｂ）成分を反応させた後、（ｃ）成分を反応させても良いし、予め（ｃ）成分と（ｂ）成分を反応させた後、（ａ）成分を反応させても良いし、（ａ）成分と（ｃ）成分を共存させて（ｂ）成分と反応させても良い。各反応の終了後に、例えば減圧・加熱条件下にて、揮発性の未反応成分を留去し、目的物あるいは次のステップへの中間体として用いても良い。（ｃ）成分と（ｂ）成分のみが反応した、（ａ）成分を含まない化合物の生成を抑制するためには、（ａ）成分と（ｂ）成分を反応させ、未反応の（ｂ）成分を留去した後、（ｃ）成分を反応させる方法が好ましい。
【００６０】
こうして得られた多面体構造ポリシロキサン変性体には、反応に用いた（ａ）成分のアルケニル基が一部残存していてもよい。
【００６１】
（ｂ）成分の添加量は、（ａ）成分が有するアルケニル基１個に対し、ヒドロシリル基の数が１個以上になるようにい用いればよく、さらに２．５〜２０個になるように用いることが好ましい。添加量が少ないと、架橋反応によりゲル化が進行するため、多面体構造ポリシロキサン変性体のハンドリング性が劣る場合があり、添加量が多いと、硬化物の物性に悪影響を及ぼす場合がある。
【００６２】
（ｃ）成分の添加量は、（ｂ）成分が有するヒドロシリル基１個に対し、アルケニル基の数が０．０１〜０．３６個になるように用いることが好ましい。添加量が少ないと、得られる硬化物の耐冷熱衝撃性が低下する場合があり、添加量が多いと、得られる硬化物に硬化不良が生じる場合がある。
【００６３】
多面体構造ポリシロキサン変性体の合成時に用いるヒドロシリル化触媒の添加量としては特に制限はないが、反応に用いる（ａ）成分及び（ｃ）成分のアルケニル基１モルに対して１０-1〜１０-10モルの範囲で用いるのがよい。好ましくは１０-4〜１０-8モルの範囲で用いるのがよい。ヒドロシリル化触媒が多いと、ヒドロシリル化触媒の種類によっては、短波長の光に吸収を示すため、着色原因になったり、得られる硬化物の耐光性が低下する恐れがあり、また、硬化物が発泡する恐れもある。また、ヒドロシリル化触媒が少ないと、反応が進まず、目的物が得られない恐れがある。
【００６４】
ヒドロシリル化反応の反応温度としては、３０〜４００℃、さらに好ましくは、４０〜２５０℃であることが好ましく、より好ましくは、４５〜１４０℃である。温度が低すぎると反応が十分に進行せず、温度が高すぎると、ゲル化が生じ、ハンドリング性が悪化する恐れがある。
【００６５】
このようにして得られた多面体構造ポリシロキサン変性体は、各種化合物、特にはシロキサン系化合物との相溶性を確保でき、さらに、分子内にヒドロシリル基が導入されていることから、各種アルケニル基を有する化合物と反応させることが可能となる。具体的には、後述の１分子中にアルケニル基を２個以上有するポリシロキサンと反応させることにより、硬化物を得ることができる。
【００６６】
また、本発明における多面体構造ポリシロキサン変性体は、温度２０℃において液状とすることも可能である。多面体構造ポリシロキサン変性体を液状とすることで、ハンドリング性に優れることから好ましい。
【００６７】
本発明における多面体構造ポリシロキサン変性体は、式
[ＸＲ32ＳｉＯ−ＳｉＯ3/2]a[Ｒ43ＳｉＯ−ＳｉＯ3/2]b
［ａ＋ｂは６〜２４の整数、ａは１以上の整数、ｂは０または１以上の整数；Ｒ3は、アルキル基またはアリール基；Ｒ4は、アルケニル基、水素原子、アルキル基、アリール基、または、他の多面体骨格ポリシロキサンと連結している基、Ｘは、下記一般式（１）あるいは一般式（２）、あるいは一般式（３）のいずれかの構造を有し、Ｘが複数ある場合は一般式（１）、あるいは一般式（２）、あるいは一般式（３）の構造が異なっていても良く、また、一般式（１）、あるいは一般式（２）、あるいは一般式（３）の構造が混在していても良い。Ｘは、一般式（１）および／または一般式（２）を少なくとも１つ有する。
【００６８】
【化９】
【００６９】
【化１０】
【００７０】
｛ｌは２以上の整数；ｍは０以上の整数；ｎは２以上の整数；Ｒは、アルキル基またはアリール基；ＹおよびＺは水素原子、アルケニル基、アルキル基、アリール基、もしくは、アルキレン鎖を介して多面体構造ポリシロキサンと結合している部位であり、同一であっても異なっていてもよい。；ただし、ＹあるいはＺの少なくとも１つは水素原子であり、少なくとも１つは下記一般式（３）の構造を有する。
【００７１】
【化１１】
【００７２】
（ｌは０以上の整数；Ｒ5は有機ケイ素化合物を含有する基）｝］
で表されるシロキサン単位から構成される多面体構造ポリシロキサン系化合物である。
【００７３】
Ｒ5は有機ケイ素化合物を含有する基であれば特に限定はされないが、１分子中に少なくともアリール基を１個以上含有していることが、ガスバリア性や屈折率の観点から好ましく、さらには、該アリール基が直接ケイ素原子に結合していることが、耐熱性、耐光性の観点から、さらに好ましい。
【００７４】
＜（Ｂ）アルケニル基を２個以上含有する化合物＞
本発明における（Ｂ）成分であるアルケニル基を２個以上含有する化合物は、前記（Ａ）成分とヒドロシリル化反応により硬化する。本発明における（Ｂ）成分は（Ａ）成分との相溶性が良く、（Ａ）成分および（Ｂ）成分を用いたオルガノポリシロキサン系組成物は、成型加工性に優れている。また、（Ａ）成分および（Ｂ）成分を用いたオルガノポリシロキサン系組成物を硬化させることで、皺による硬化ムラがなく、透明で、耐熱・耐光性がよく、高いガスバリア性を持つ硬化物が得られる。
【００７５】
本発明における（Ｂ）成分は、１分子中にアルケニル基を２個以上含有していればよく、さらに好ましくは２〜１０個である。１分子中のアルケニル基の数が多いと、より架橋構造をとり、ガスバリア性が向上するが、多すぎると耐熱・耐光性が低下する恐れもある。
【００７６】
本発明における（Ｂ）成分は、下記一般式（１）、一般式（２）、一般式（３）、一般式（４）で示される化合物であればよい。
【００７７】
一般式（１）
ＲIaＲII （１）
（ＲIはアルケニル基、ＲIIは２価以上の脂環式炭化水素基、または２価以上の芳香族炭化水素基、ａ≧２）
一般式（２）
ＲIaＲIIIbＳｉ （２）
（ＲIはアルケニル基、ＲIIIはアルケニル基以外の１価の脂肪族炭化水素基、または１価の脂環式炭化水素基、または１価の芳香族炭化水素基であり、同一であっても異なっていてもよい、ａ≧２、ｂ＝０〜２の整数、ａ＋ｂ＝４）
一般式（３）
（ＲIaＲIIIbＳｉ）n（ＲIcＲIIIdＳｉ）mＲIV （３）
（ＲIはアルケニル基、ＲIIIはアルケニル基以外の１価の脂肪族炭化水素基、または１価の脂環式炭化水素基、または１価の芳香族炭化水素基であり、同一であっても異なっていてもよい、ＲIVは２価以上の炭化水素基、ａ≧１、ｃ≧１、ｂ＝０〜２の整数、ｄ＝０〜２の整数、ａ＋ｂ＝ｃ＋ｄ＝３、ｎ＋ｍ≧２）
一般式（４）
（ＲIaＲIIIbＳｉＯ）n（ＲIcＲIIIdＳｉＯ）mＲIV （４）
（ＲIはアルケニル基、ＲIIIはアルケニル基以外の１価の脂肪族炭化水素基、または１価の脂環式炭化水素基、または１価の芳香族炭化水素基であり、同一であっても異なっていてもよい、ＲIVは２価以上の炭化水素基、ａ≧１、ｃ≧１、ｂ＝０〜２の整数、ｄ＝０〜２の整数、ａ＋ｂ＝ｃ＋ｄ＝３、ｎ＋ｍ≧２）
これらは、単独で用いても良く、２種類以上併用して用いてもよい。
【００７８】
このような（Ｂ）成分が、一般式（１）
ＲIaＲII （１）
（ＲIはアルケニル基、ＲIIは２価以上の脂環式炭化水素基、または２価以上の芳香族炭化水素基、ａ≧２）で表される化合物の場合、具体的に例えば、１，２−ジビニルベンゼン、１，４−ジビニルベンゼン、１，３，５−トリビニルベンゼン、１，２，４，５−テトラビニルベンゼン、１，２−ジアリルベンゼン、１，４−ジアリルベンゼン、１，３，５−トリアリルベンゼン、１，２，４，５−テトラアリルベンゼン、１，５−ジビニルナフタレン、１，６−ジビニルナフタレン、１，７−ジビニルナフタレン、１，８−ジビニルナフタレン、２，６−ジビニルナフタレン、２，７−ジビニルナフタレン、１，５−ジアリルナフタレン、１，６−ジアリルナフタレン、１，７−ジアリルナフタレン、１，８−ジアリルナフタレン、２，６−ジアリルナフタレン、２，７−ジアリルナフタレン、１，６−ジビニルアントラセン、１，７−ジビニルアントラセン、１，８−ジビニルアントラセン、１，９−ジビニルアントラセン、２，７−ジビニルアントラセン、２，８−ジビニルアントラセン、１，６−ジアリルアントラセン、１，７−ジアリルアントラセン、１，８−ジアリルアントラセン、１，９−ジアリルアントラセン、２，７−ジアリルアントラセン、２，８−ジアリルアントラセン、１，２−ジビニルシクロヘキサン、１，３−ジビニルシクロヘキサン、１，４−ジビニルシクロヘキサン、１，２−ジアリルシクロヘキサン、１，３−ジアリルシクロヘキサン、１，４−ジアリルシクロヘキサン、１，２，４−トリビニルシクロヘキサン、１，３，５−トリビニルシクロヘキサン、１，２，４−トリアリルシクロヘキサン、１，３，５−トリアリルシクロヘキサン、１，２，４，５−テトラビニルシクロヘキサン、１，２，４，５−テトラアリルシクロヘキサン等が挙げられる。
【００７９】
中でも、（Ａ）成分との相溶性、硬化物の透明性、ガスバリア性、耐熱性、耐光性の観点から、１，２−ジビニルベンゼン、１，４−ジビニルベンゼン、１，３，５−トリビニルベンゼン、１，２，４，５−テトラビニルベンゼンが好ましい例として挙げられる。
【００８０】
また、（Ｂ）成分が、一般式（２）
ＲIaＲIIIbＳｉ （２）
（ＲIはアルケニル基、ＲIIIはアルケニル基以外の１価の脂肪族炭化水素基、または１価の脂環式炭化水素基、または１価の芳香族炭化水素基であり、同一であっても異なっていてもよい、ａ≧２、ｂ＝０〜２の整数、ａ＋ｂ＝４）で表される化合物の場合、具体的に例えば、ジビニルジメチルシラン、ジビニルシクロヘキシルメチルシラン、ジビニルフェニルメチルシラン、ジビニルジシクロヘキシルシラン、ジビニルジフェニルシラン、ジアリルジメチルシラン、ジアリルシクロヘキシルメチルシラン、ジアリルフェニルメチルシラン、ジアリルジシクロヘキシルシラン、ジアリルジフェニルシラン、トリビニルメチルシラン、トリビニルシクロヘキシルシラン、トリビニルフェニルシラン、トリアリルメチルシラン、トリアリルシクロヘキシルシラン、トリアリルフェニルシラン、テトラビニルシラン、テトラアリルシラン等が挙げられる。
【００８１】
中でも、（Ａ）成分との相溶性、硬化物の透明性、ガスバリア性、耐熱性、耐光性の観点から、ジビニルジメチルシラン、ジビニルシクロヘキシルメチルシラン、ジビニルフェニルメチルシラン、ジビニルジシクロヘキシルシラン、ジビニルジフェニルシランが好ましい例として挙げられる。
【００８２】
また、（Ｂ）成分が、一般式（３）
（ＲIaＲIIIbＳｉ）n（ＲIcＲIIIdＳｉ）mＲIV （３）
（ＲIはアルケニル基、ＲIIIはアルケニル基以外の１価の脂肪族炭化水素基、または１価の脂環式炭化水素基、または１価の芳香族炭化水素基であり、同一であっても異なっていてもよい、ＲIVは２価以上の炭化水素基、ａ≧１、ｃ≧１、ｂ＝０〜２の整数、ｄ＝０〜２の整数、ａ＋ｂ＝ｃ＋ｄ＝３、ｎ＋ｍ≧２）で表される化合物の場合、
ＲIVが２価以上の脂肪族炭化水素基では、具体的に例えば、ビス（ビニルジメチルシリル）メタン、トリス（ビニルジメチルシリル）メタン、テトラキス（ビニルジメチルシリル）メタン、ビス（ビニルフェニルメチルシリル）メタン、トリス（ビニルフェニルメチルシリル）メタン、テトラキス（ビニルフェニルメチルシリル）メタン、ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）メタン、トリス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）メタン、テトラキス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）メタン、ビス（ビニルジフェニルシリル）メタン、トリス（ビニルジフェニルシリル）メタン、テトラキス（ビニルジフェニルシリル）メタン、（ビニルジメチルシリル）（ジビニルメチルシリル）メタン、（ビニルフェニルメチルシリル）（ジビニルメチルシリル）メタン、（ビニルジメチルシリル）（ジビニルフェニルシリル）メタン、ビス（ジビニルメチルシリル）メタン、トリス（ジビニルメチルシリル）メタン、テトラキス（ジビニルメチルシリル）メタン、ビス（ジビニルフェニルシリル）メタン、トリス（ジビニルフェニルシリル）メタン、テトラキス（ジビニルフェニルシリル）メタン、ビス（トリビニルシリル）メタン、トリス（トリビニルシリル）メタン、テトラキス（トリビニルシリル）メタン、１，２−ビス（ビニルジメチルシリル）エタン、１，２−ビス（ビニルジフェニルシリル）エタン、１，２−ビス（ジビニルメチルシリル）エタン、１，２−ビス（ジビニルフェニルシリル）エタン、１，２−ビス（トリビニルシリル）エタン、１，３−ビス（ビニルジメチルシリル）プロパン、１，３−ビス（ビニルジフェニルシリル）プロパン、１，３−ビス（ジビニルメチルシリル）プロパン、１，３−ビス（ジビニルフェニルシリル）プロパン、１，３−ビス（トリビニルシリル）プロパン、１，４−ビス（ビニルジメチルシリル）ブタン、１，４−ビス（ビニルジフェニルシリル）ブタン、１，４−ビス（ジビニルメチルシリル）ブタン、１，４−ビス（ジビニルフェニルシリル）ブタン、１，４−ビス（トリビニルシリル）ブタン、１，５−ビス（ビニルジメチルシリル）ペンタン、１，５−ビス（ビニルジフェニルシリル）ペンタン、１，５−ビス（ジビニルメチルシリル）ペンタン、１，５−ビス（ジビニルフェニルシリル）ペンタン、１，５−ビス（トリビニルシリル）ペンタン等が挙げられる。
【００８３】
また、ＲIVが２価以上の脂環式炭化水素基である場合、具体的に例えば、１，４−ビス（ビニルジメチルシリル）シクロヘキサン、１，４−ビス（ビニルフェニルメチルシリル）シクロヘキサン、１，４−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）シクロヘキサン、１，４−ビス（ビニルジフェニルシリル）シクロヘキサン、１，４−ビス（ジビニルメチルシリル）シクロヘキサン、１，４−ビス（ジビニルフェニルシリル）シクロヘキサン、１，４−ビス（トリビニルシリル）シクロヘキサン、１，３−ビス（ビニルジメチルシリル）シクロヘキサン、１，３−ビス（ビニルフェニルメチルシリル）シクロヘキサン、１，３−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）シクロヘキサン、１，３−ビス（ビニルジフェニルシリル）シクロヘキサン、１，３−ビス（ジビニルメチルシリル）シクロヘキサン、１，３−ビス（ジビニルフェニルシリル）シクロヘキサン、１，３−ビス（トリビニルシリル）シクロヘキサン、１，３，５−トリス（ビニルジメチルシリル）シクロヘキサン、１，３，５−トリス（ビニルフェニルメチルシリル）シクロヘキサン、１，３，５−トリス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）シクロヘキサン、１，３，５−トリス（ビニルジフェニルシリル）シクロヘキサン、１，３，５−トリス（ジビニルメチルシリル）シクロヘキサン、１，３，５−トリス（ジビニルフェニルシリル）シクロヘキサン、１，３，５−トリス（トリビニルシリル）シクロヘキサン、１，２，４−トリス（ビニルジメチルシリル）シクロヘキサン、１，２，４−トリス（ビニルフェニルメチルシリル）シクロヘキサン、１，２，４−トリス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）シクロヘキサン、１，２，４−トリス（ビニルジフェニルシリル）シクロヘキサン、１，２，４−トリス（ジビニルメチルシリル）シクロヘキサン、１，２，４−トリス（ジビニルフェニルシリル）シクロヘキサン、１，２，４−トリス（トリビニルシリル）シクロヘキサン、１，２，４，５−テトラキス（ビニルジメチルシリル）シクロヘキサン、１，２，４，５−テトラキス（ビニルフェニルメチルシリル）シクロヘキサン、１，２，４，５−テトラキス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）シクロヘキサン、１，２，４，５−テトラキス（ビニルジフェニルシリル）シクロヘキサン、１，２，４，５−テトラキス（ジビニルメチルシリル）シクロヘキサン、１，２，４，５−テトラキス（ジビニルフェニルシリル）シクロヘキサン、１，２，４，５−テトラキス（トリビニルシリル）シクロヘキサン等が挙げられる。
【００８４】
また、ＲIVが２価以上の芳香族炭化水素基である場合、具体的に例えば、１，４−ビス（ビニルジメチルシリル）ベンゼン、１，４−ビス（ビニルフェニルメチルシリル）ベンゼン、１，４−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）ベンゼン、１，４−ビス（ビニルジフェニルシリル）ベンゼン、１，４−ビス（ジビニルメチルシリル）ベンゼン、１，４−ビス（ジビニルフェニルシリル）ベンゼン、１，４−ビス（トリビニルシリル）ベンゼン、１，３−ビス（ビニルジメチルシリル）ベンゼン、１，３−ビス（ビニルフェニルメチルシリル）ベンゼン、１，３−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）ベンゼン、１，３−ビス（ビニルジフェニルシリル）ベンゼン、１，３−ビス（ジビニルメチルシリル）ベンゼン、１，３−ビス（ジビニルフェニルシリル）ベンゼン、１，３−ビス（トリビニルシリル）ベンゼン、１，３，５−トリス（ビニルジメチルシリル）ベンゼン、１，３，５−トリス（ビニルフェニルメチルシリル）ベンゼン、１，３，５−トリス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）ベンゼン、１，３，５−トリス（ビニルジフェニルシリル）ベンゼン、１，３，５−トリス（ジビニルメチルシリル）ベンゼン、１，３，５−トリス（ジビニルフェニルシリル）ベンゼン、１，３，５−トリス（トリビニルシリル）ベンゼン、１，２，４−トリス（ビニルジメチルシリル）ベンゼン、１，２，４−トリス（ビニルフェニルメチルシリル）ベンゼン、１，２，４−トリス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）ベンゼン、１，２，４−トリス（ビニルジフェニルシリル）ベンゼン、１，２，４−トリス（ジビニルメチルシリル）ベンゼン、１，２，４−トリス（ジビニルフェニルシリル）ベンゼン、１，２，４−トリス（トリビニルシリル）ベンゼン、１，２，４，５−テトラキス（ビニルジメチルシリル）ベンゼン、１，２，４，５−テトラキス（ビニルフェニルメチルシリル）ベンゼン、１，２，４，５−テトラキス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）ベンゼン、１，２，４，５−テトラキス（ビニルジフェニルシリル）ベンゼン、１，２，４，５−テトラキス（ジビニルメチルシリル）ベンゼン、１，２，４，５−テトラキス（ジビニルフェニルシリル）ベンゼン、１，２，４，５−テトラキス（トリビニルシリル）ベンゼン、２，６−ビス（ビニルジメチルシリル）ナフタレン、２，６−ビス（ビニルフェニルメチルシリル）ナフタレン、２，６−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）ナフタレン、２，６−ビス（ビニルジフェニルシリル）ナフタレン、２，６−ビス（ジビニルメチルシリル）ナフタレン、２，６−ビス（ジビニルフェニルシリル）ナフタレン、２，６−ビス（トリビニルシリル）ナフタレン、２，７−ビス（ビニルジメチルシリル）ナフタレン、２，７−ビス（ビニルフェニルメチルシリル）ナフタレン、２，７−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）ナフタレン、２，７−ビス（ビニルジフェニルシリル）ナフタレン、２，７−ビス（ジビニルメチルシリル）ナフタレン、２，７−ビス（ジビニルフェニルシリル）ナフタレン、２，７−ビス（トリビニルシリル）ナフタレン、２，７−ビス（ビニルジメチルシリル）アントラセン、２，７−ビス（ビニルフェニルメチルシリル）アントラセン、２，７−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）アントラセン、２，７−ビス（ビニルジフェニルシリル）アントラセン、２，７−ビス（ジビニルメチルシリル）アントラセン、２，７−ビス（ジビニルフェニルシリル）アントラセン、２，７−ビス（トリビニルシリル）アントラセン、２，８−ビス（ビニルジメチルシリル）アントラセン、２，８−ビス（ビニルフェニルメチルシリル）アントラセン、２，８−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）アントラセン、２，８−ビス（ビニルジフェニルシリル）アントラセン、２，８−ビス（ジビニルメチルシリル）アントラセン、２，８−ビス（ジビニルフェニルシリル）アントラセン、２，８−ビス（トリビニルシリル）アントラセン等が挙げられる。
【００８５】
ＲIVは２価以上の炭化水素基であれば特に問題ないが、ＲIVが、下記構造で表される２価の炭化水素基であることが耐熱、耐光性の観点から、より好ましい例として挙げられる。
【００８６】
【化１２】
【００８７】
【化１３】
【００８８】
【化１４】
【００８９】
【化１５】
【００９０】
【化１６】
【００９１】
このような（Ｂ）成分として、一般式（３）の好ましい例としては、具体的に例えば、１，４−ビス（ビニルジメチルシリル）シクロヘキサン、１，４−ビス（ビニルフェニルメチルシリル）シクロヘキサン、１，４−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）シクロヘキサン、１，４−ビス（ビニルジフェニルシリル）シクロヘキサン、１，４−ビス（ジビニルメチルシリル）シクロヘキサン、１，４−ビス（ジビニルフェニルシリル）シクロヘキサン、１，４−ビス（トリビニルシリル）シクロヘキサン、１，３−ビス（ビニルジメチルシリル）シクロヘキサン、１，３−ビス（ビニルフェニルメチルシリル）シクロヘキサン、１，３−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）シクロヘキサン、１，３−ビス（ビニルジフェニルシリル）シクロヘキサン、１，３−ビス（ジビニルメチルシリル）シクロヘキサン、１，３−ビス（ジビニルフェニルシリル）シクロヘキサン、１，３−ビス（トリビニルシリル）シクロヘキサン、１，４−ビス（ビニルジメチルシリル）ベンゼン、１，４−ビス（ビニルフェニルメチルシリル）ベンゼン、１，４−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）ベンゼン、１，４−ビス（ビニルジフェニルシリル）ベンゼン、１，４−ビス（ジビニルメチルシリル）ベンゼン、１，４−ビス（ジビニルフェニルシリル）ベンゼン、１，４−ビス（トリビニルシリル）ベンゼン、１，３−ビス（ビニルジメチルシリル）ベンゼン、１，３−ビス（ビニルフェニルメチルシリル）ベンゼン、１，３−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）ベンゼン、１，３−ビス（ビニルジフェニルシリル）ベンゼン、１，３−ビス（ジビニルメチルシリル）ベンゼン、１，３−ビス（ジビニルフェニルシリル）ベンゼン、１，３−ビス（トリビニルシリル）ベンゼン、２，６−ビス（ビニルジメチルシリル）ナフタレン、２，６−ビス（ビニルフェニルメチルシリル）ナフタレン、２，６−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）ナフタレン、２，６−ビス（ビニルジフェニルシリル）ナフタレン、２，６−ビス（ジビニルメチルシリル）ナフタレン、２，６−ビス（ジビニルフェニルシリル）ナフタレン、２，６−ビス（トリビニルシリル）ナフタレン、２，７−ビス（ビニルジメチルシリル）ナフタレン、２，７−ビス（ビニルフェニルメチルシリル）ナフタレン、２，７−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）ナフタレン、２，７−ビス（ビニルジフェニルシリル）ナフタレン、２，７−ビス（ジビニルメチルシリル）ナフタレン、２，７−ビス（ジビニルフェニルシリル）ナフタレン、２，７−ビス（トリビニルシリル）ナフタレン、４，４’−ビス（ビニルジメチルシリル）ビフェニル、４，４’−ビス（ビニルフェニルメチルシリル）ビフェニル、４，４’−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）ビフェニル、４，４’−ビス（ビニルジフェニルシリル）ビフェニル、４，４’−ビス（ジビニルメチルシリル）ビフェニル、４，４’−ビス（ジビニルフェニルシリル）ビフェニル、４，４’−ビス（トリビニルシリル）ビフェニル、３，４’−ビス（ビニルジメチルシリル）ビフェニル、３，４’−ビス（ビニルフェニルメチルシリル）ビフェニル、３，４’−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）ビフェニル、３，４’−ビス（ビニルジフェニルシリル）ビフェニル、３，４’−ビス（ジビニルメチルシリル）ビフェニル、３，４’−ビス（ジビニルフェニルシリル）ビフェニル、３，４’−ビス（トリビニルシリル）ビフェニル、２，２−ビス（４−ビニルジメチルシリルフェニレン）プロパン、２，２−ビス（４−ビニルフェニルメチルシリルフェニレン）プロパン、２，２−ビス（４−ビニルシクロヘキシルメチルシリルフェニレン）プロパン、２，２−ビス（４−ビニルジフェニルシリルフェニレン）プロパン、２，２−ビス（４−ジビニルメチルシリルフェニレン）プロパン、２，２−ビス（４−ジビニルフェニルシリルフェニレン）プロパン、２，２−ビス（４−トリビニルシリルフェニレン）プロパン等が挙げられる。
【００９２】
中でも、（Ａ）成分との相溶性、硬化物の透明性、ガスバリア性、耐熱性、耐光性の観点から、１，４−ビス（ビニルジメチルシリル）シクロヘキサン、１，３−ビス（ビニルジメチルシリル）シクロヘキサン、１，４−ビス（ビニルジメチルシリル）ベンゼン、１，３−ビス（ビニルジメチルシリル）ベンゼン、２，６−ビス（ビニルジメチルシリル）ナフタレン、４，４’−ビス（ビニルジメチルシリル）ビフェニル、２，２−ビス（４−ビニルジメチルシリルフェニレン）プロパンが、さらに好ましい例として挙げられる。
【００９３】
また、（Ｂ）成分が、一般式（４）
（ＲIaＲIIIbＳｉＯ）n（ＲIcＲIIIdＳｉＯ）mＲIV （４）
（ＲIはアルケニル基、ＲIIIはアルケニル基以外の１価の脂肪族炭化水素基、または１価の脂環式炭化水素基、または１価の芳香族炭化水素基であり、同一であっても異なっていてもよい、ＲIVは２価以上の炭化水素基、ａ≧１、ｃ≧１、ｂ＝０〜２の整数、ｄ＝０〜２の整数、ａ＋ｂ＝ｃ＋ｄ＝３、ｎ＋ｍ≧２）で表される化合物の場合、
ＲIVが２価以上の脂肪族炭化水素基では、具体的に例えば、ビス（ビニルジメチルシロキシ）メタン、トリス（ビニルジメチルシロキシ）メタン、テトラキス（ビニルジメチルシロキシ）メタン、ビス（ビニルフェニルメチルシロキシ）メタン、トリス（ビニルフェニルメチルシロキシ）メタン、テトラキス（ビニルフェニルメチルシロキシ）メタン、ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）メタン、トリス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）メタン、テトラキス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）メタン、ビス（ビニルジフェニルシロキシ）メタン、トリス（ビニルジフェニルシロキシ）メタン、テトラキス（ビニルジフェニルシロキシ）メタン、（ビニルジメチルシロキシ）（ジビニルメチルシロキシ）メタン、（ビニルフェニルメチルシロキシ）（ジビニルメチルシロキシ）メタン、（ビニルジメチルシロキシ）（ジビニルフェニルシロキシ）メタン、ビス（ジビニルメチルシロキシ）メタン、トリス（ジビニルメチルシロキシ）メタン、テトラキス（ジビニルメチルシロキシ）メタン、ビス（ジビニルフェニルシロキシ）メタン、トリス（ジビニルフェニルシロキシ）メタン、テトラキス（ジビニルフェニルシロキシ）メタン、ビス（トリビニルシロキシ）メタン、トリス（トリビニルシロキシ）メタン、テトラキス（トリビニルシロキシ）メタン、１，２−ビス（ビニルジメチルシロキシ）エタン、１，２−ビス（ビニルジフェニルシロキシ）エタン、１，２−ビス（ジビニルメチルシロキシ）エタン、１，２−ビス（ジビニルフェニルシロキシ）エタン、１，２−ビス（トリビニルシロキシ）エタン、１，３−ビス（ビニルジメチルシロキシ）プロパン、１，３−ビス（ビニルジフェニルシロキシ）プロパン、１，３−ビス（ジビニルメチルシロキシ）プロパン、１，３−ビス（ジビニルフェニルシロキシ）プロパン、１，３−ビス（トリビニルシロキシ）プロパン、１，４−ビス（ビニルジメチルシロキシ）ブタン、１，４−ビス（ビニルジフェニルシロキシ）ブタン、１，４−ビス（ジビニルメチルシロキシ）ブタン、１，４−ビス（ジビニルフェニルシロキシ）ブタン、１，４−ビス（トリビニルシロキシ）ブタン、１，５−ビス（ビニルジメチルシロキシ）ペンタン、１，５−ビス（ビニルジフェニルシロキシ）ペンタン、１，５−ビス（ジビニルメチルシロキシ）ペンタン、１，５−ビス（ジビニルフェニルシロキシ）ペンタン、１，５−ビス（トリビニルシロキシ）ペンタン等が挙げられる。
【００９４】
また、ＲIVが２価以上の脂環式炭化水素基である場合、具体的に例えば、１，４−ビス（ビニルジメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，４−ビス（ビニルフェニルメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，４−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，４−ビス（ビニルジフェニルシロキシ）シクロヘキサン、１，４−ビス（ジビニルメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，４−ビス（ジビニルフェニルシロキシ）シクロヘキサン、１，４−ビス（トリビニルシロキシ）シクロヘキサン、１，３−ビス（ビニルジメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，３−ビス（ビニルフェニルメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，３−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，３−ビス（ビニルジフェニルシロキシ）シクロヘキサン、１，３−ビス（ジビニルメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，３−ビス（ジビニルフェニルシロキシ）シクロヘキサン、１，３−ビス（トリビニルシロキシ）シクロヘキサン、１，３，５−トリス（ビニルジメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，３，５−トリス（ビニルフェニルメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，３，５−トリス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，３，５−トリス（ビニルジフェニルシロキシ）シクロヘキサン、１，３，５−トリス（ジビニルメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，３，５−トリス（ジビニルフェニルシロキシ）シクロヘキサン、１，３，５−トリス（トリビニルシロキシ）シクロヘキサン、１，２，４−トリス（ビニルジメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，２，４−トリス（ビニルフェニルメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，２，４−トリス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，２，４−トリス（ビニルジフェニルシロキシ）シクロヘキサン、１，２，４−トリス（ジビニルメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，２，４−トリス（ジビニルフェニルシロキシ）シクロヘキサン、１，２，４−トリス（トリビニルシロキシ）シクロヘキサン、１，２，４，５−テトラキス（ビニルジメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，２，４，５−テトラキス（ビニルフェニルメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，２，４，５−テトラキス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，２，４，５−テトラキス（ビニルジフェニルシロキシ）シクロヘキサン、１，２，４，５−テトラキス（ジビニルメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，２，４，５−テトラキス（ジビニルフェニルシロキシ）シクロヘキサン、１，２，４，５−テトラキス（トリビニルシロキシ）シクロヘキサン等が挙げられる。
【００９５】
また、ＲIVが２価以上の芳香族炭化水素基である場合、具体的に例えば、１，４−ビス（ビニルジメチルシロキシ）ベンゼン、１，４−ビス（ビニルフェニルメチルシロキシ）ベンゼン、１，４−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）ベンゼン、１，４−ビス（ビニルジフェニルシロキシ）ベンゼン、１，４−ビス（ジビニルメチルシロキシ）ベンゼン、１，４−ビス（ジビニルフェニルシロキシ）ベンゼン、１，４−ビス（トリビニルシロキシ）ベンゼン、１，３−ビス（ビニルジメチルシロキシ）ベンゼン、１，３−ビス（ビニルフェニルメチルシロキシ）ベンゼン、１，３−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）ベンゼン、１，３−ビス（ビニルジフェニルシロキシ）ベンゼン、１，３−ビス（ジビニルメチルシロキシ）ベンゼン、１，３−ビス（ジビニルフェニルシロキシ）ベンゼン、１，３−ビス（トリビニルシロキシ）ベンゼン、１，３，５−トリス（ビニルジメチルシリル）ベンゼン、１，３，５−トリス（ビニルフェニルメチルシロキシ）ベンゼン、１，３，５−トリス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）ベンゼン、１，３，５−トリス（ビニルジフェニルシロキシ）ベンゼン、１，３，５−トリス（ジビニルメチルシロキシ）ベンゼン、１，３，５−トリス（ジビニルフェニルシロキシ）ベンゼン、１，３，５−トリス（トリビニルシロキシ）ベンゼン、１，２，４−トリス（ビニルジメチルシロキシ）ベンゼン、１，２，４−トリス（ビニルフェニルメチルシロキシ）ベンゼン、１，２，４−トリス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）ベンゼン、１，２，４−トリス（ビニルジフェニルシロキシ）ベンゼン、１，２，４−トリス（ジビニルメチルシロキシ）ベンゼン、１，２，４−トリス（ジビニルフェニルシロキシ）ベンゼン、１，２，４−トリス（トリビニルシロキシ）ベンゼン、１，２，４，５−テトラキス（ビニルジメチルシロキシ）ベンゼン、１，２，４，５−テトラキス（ビニルフェニルメチルシロキシ）ベンゼン、１，２，４，５−テトラキス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）ベンゼン、１，２，４，５−テトラキス（ビニルジフェニルシロキシ）ベンゼン、１，２，４，５−テトラキス（ジビニルメチルシロキシ）ベンゼン、１，２，４，５−テトラキス（ジビニルフェニルシロキシ）ベンゼン、１，２，４，５−テトラキス（トリビニルシロキシ）ベンゼン、２，６−ビス（ビニルジメチルシロキシ）ナフタレン、２，６−ビス（ビニルフェニルメチルシロキシ）ナフタレン、２，６−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）ナフタレン、２，６−ビス（ビニルジフェニルシロキシ）ナフタレン、２，６−ビス（ジビニルメチルシロキシ）ナフタレン、２，６−ビス（ジビニルフェニルシロキシ）ナフタレン、２，６−ビス（トリビニルシロキシ）ナフタレン、２，７−ビス（ビニルジメチルシロキシ）ナフタレン、２，７−ビス（ビニルフェニルメチルシロキシ）ナフタレン、２，７−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）ナフタレン、２，７−ビス（ビニルジフェニルシロキシ）ナフタレン、２，７−ビス（ジビニルメチルシロキシ）ナフタレン、２，７−ビス（ジビニルフェニルシロキシ）ナフタレン、２，７−ビス（トリビニルシロキシ）ナフタレン、２，７−ビス（ビニルジメチルシロキシ）アントラセン、２，７−ビス（ビニルフェニルメチルシロキシ）アントラセン、２，７−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）アントラセン、２，７−ビス（ビニルジフェニルシロキシ）アントラセン、２，７−ビス（ジビニルメチルシロキシ）アントラセン、２，７−ビス（ジビニルフェニルシロキシ）アントラセン、２，７−ビス（トリビニルシロキシ）アントラセン、２，８−ビス（ビニルジメチルシロキシ）アントラセン、２，８−ビス（ビニルフェニルメチルシロキシ）アントラセン、２，８−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）アントラセン、２，８−ビス（ビニルジフェニルシロキシ）アントラセン、２，８−ビス（ジビニルメチルシロキシ）アントラセン、２，８−ビス（ジビニルフェニルシロキシ）アントラセン、２，８−ビス（トリビニルシロキシ）アントラセン等が挙げられる。
【００９６】
ＲIVが２価以上の炭化水素基であれば特に問題ないが、ＲＩVが、下記構造で表される２価の炭化水素基であることが耐熱、耐光性の観点から、より好ましい例として挙げられる。
【００９７】
【化１７】
【００９８】
【化１８】
【００９９】
【化１９】
【０１００】
【化２０】
【０１０１】
【化２１】
【０１０２】
このような（Ｂ）成分として、一般式（４）の好ましい例としては、具体的に例えば、１，４−ビス（ビニルジメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，４−ビス（ビニルフェニルメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，４−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，４−ビス（ビニルジフェニルシロキシ）シクロヘキサン、１，４−ビス（ジビニルメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，４−ビス（ジビニルフェニルシロキシ）シクロヘキサン、１，４−ビス（トリビニルシロキシ）シクロヘキサン、１，３−ビス（ビニルジメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，３−ビス（ビニルフェニルメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，３−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，３−ビス（ビニルジフェニルシロキシ）シクロヘキサン、１，３−ビス（ジビニルメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，３−ビス（ジビニルフェニルシロキシ）シクロヘキサン、１，３−ビス（トリビニルシロキシ）シクロヘキサン、１，４−ビス（ビニルジメチルシロキシ）ベンゼン、１，４−ビス（ビニルフェニルメチルシロキシ）ベンゼン、１，４−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）ベンゼン、１，４−ビス（ビニルジフェニルシロキシ）ベンゼン、１，４−ビス（ジビニルメチルシロキシ）ベンゼン、１，４−ビス（ジビニルフェニルシロキシ）ベンゼン、１，４−ビス（トリビニルシロキシ）ベンゼン、１，３−ビス（ビニルジメチルシロキシ）ベンゼン、１，３−ビス（ビニルフェニルメチルシロキシ）ベンゼン、１，３−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）ベンゼン、１，３−ビス（ビニルジフェニルシロキシ）ベンゼン、１，３−ビス（ジビニルメチルシロキシ）ベンゼン、１，３−ビス（ジビニルフェニルシロキシ）ベンゼン、１，３−ビス（トリビニルシロキシ）ベンゼン、２，６−ビス（ビニルジメチルシロキシ）ナフタレン、２，６−ビス（ビニルフェニルメチルシロキシ）ナフタレン、２，６−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）ナフタレン、２，６−ビス（ビニルジフェニルシロキシ）ナフタレン、２，６−ビス（ジビニルメチルシロキシ）ナフタレン、２，６−ビス（ジビニルフェニルシロキシ）ナフタレン、２，６−ビス（トリビニルシロキシ）ナフタレン、２，７−ビス（ビニルジメチルシロキシ）ナフタレン、２，７−ビス（ビニルフェニルメチルシロキシ）ナフタレン、２，７−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）ナフタレン、２，７−ビス（ビニルジフェニルシロキシ）ナフタレン、２，７−ビス（ジビニルメチルシロキシ）ナフタレン、２，７−ビス（ジビニルフェニルシロキシ）ナフタレン、２，７−ビス（トリビニルシロキシ）ナフタレン、４，４’−ビス（ビニルジメチルシロキシ）ビフェニル、４，４’−ビス（ビニルフェニルメチルシロキシ）ビフェニル、４，４’−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）ビフェニル、４，４’−ビス（ビニルジフェニルシロキシ）ビフェニル、４，４’−ビス（ジビニルメチルシロキシ）ビフェニル、４，４’−ビス（ジビニルフェニルシロキシ）ビフェニル、４，４’−ビス（トリビニルシロキシ）ビフェニル、３，４’−ビス（ビニルジメチルシロキシ）ビフェニル、３，４’−ビス（ビニルフェニルメチルシロキシ）ビフェニル、３，４’−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）ビフェニル、３，４’−ビス（ビニルジフェニルシロキシ）ビフェニル、３，４’−ビス（ジビニルメチルシロキシ）ビフェニル、３，４’−ビス（ジビニルフェニルシロキシ）ビフェニル、３，４’−ビス（トリビニルシロキシ）ビフェニル、２，２−ビス（４−ビニルジメチルシロキシフェニレン）プロパン、２，２−ビス（４−ビニルフェニルメチルシロキシフェニレン）プロパン、２，２−ビス（４−ビニルシクロヘキシルメチルシロキシフェニレン）プロパン、２，２−ビス（４−ビニルジフェニルシロキシフェニレン）プロパン、２，２−ビス（４−ジビニルメチルシリルフェニレン）プロパン、２，２−ビス（４−ジビニルフェニルシロキシフェニレン）プロパン、２，２−ビス（４−トリビニルシロキシフェニレン）プロパン等が挙げられる。
【０１０３】
中でも、（Ａ）成分との相溶性、硬化物の透明性、ガスバリア性、耐熱性、耐光性の観点から、１，４−ビス（ビニルジメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，３−ビス（ビニルジメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，４−ビス（ビニルジメチルシロキシ）ベンゼン、１，３−ビス（ビニルジメチルシロキシ）ベンゼン、２，６−ビス（ビニルジメチルシロキシ）ナフタレン、４，４’−ビス（ビニルジメチルシロキシ）ビフェニル、２，２−ビス（４−ビニルジメチルシロキシフェニレン）プロパンが、さらに好ましい例として挙げられる。
【０１０４】
これらは、単独で用いても良く、２種類以上併用して用いてもよい。
本発明における（Ｂ）成分は、平均分子量が２０００以下であることが（Ａ）成分との相溶性の観点から好ましく、１５００以下であることがより好ましく、さらには１００〜１０００が好ましい例として挙げられる。重量平均分子量が小さいと、（Ｂ）成分がポリシロキサン組成物の系内から揮発しやすくなり、望まれた物性が得られないことがある。また、重量平均分子量が多いと、得られた硬化物の水蒸気透過率が高くなるなど、ガスバリア性が低くなることがある。
【０１０５】
本発明における（Ｂ）成分の添加量は種々設定できるが、アルケニル基１個あたり、多面体構造ポリシロキサン系化合物に含まれるＳｉ原子に直結した水素原子が０．３〜５個、好ましくは、０．５〜３個となる割合で添加されることが望ましい。アルケニル基の割合が少なすぎると、発泡等による外観不良が生じやすくなり、また、多すぎると硬化物の物性に悪影響を及ぼす場合がある。
【０１０６】
＜ヒドロシリル化触媒＞
本発明では、多面体構造ポリシロキサン変性体の合成、および、該変性体を含有する組成物を硬化させる際に、ヒドロシリル化触媒を用いる。
【０１０７】
本発明で用いるヒドロシリル化触媒としては、通常ヒドロシリル化触媒として公知のものを用いることができ、特に制限はない。
【０１０８】
具体的には例示すれば、白金−オレフィン錯体、塩化白金酸、白金の単体、担体（アルミナ、シリカ、カーボンブラック等）に固体白金を担持させたもの、白金−ビニルシロキサン錯体、例えば、Ｐｔn（ＶｉＭｅ2ＳｉＯＳｉＭｅ2Ｖｉ）n、Ｐｔ〔（ＭｅＶｉＳｉＯ）4〕m；白金−ホスフィン錯体、例えば、Ｐｔ（ＰＰｈ3）4、Ｐｔ（ＰＢｕ3）4；白金−ホスファイト錯体、例えば、Ｐｔ〔Ｐ（ＯＰｈ）3〕4、Ｐｔ〔Ｐ（ＯＢｕ）3〕4（式中、Ｍｅはメチル基、Ｂｕはブチル基、Ｖｉはビニル基、Ｐｈはフェニル基を表し、ｎ、ｍは整数を表す）、Ｐｔ（ａｃａｃ）2、また、Ａｓｈｂｙらの米国特許第３１５９６０１及び３１５９６６２号明細書中に記載された白金−炭化水素複合体、並びにＬａｍｏｒｅａｕｘらの米国特許第３２２０９７２号明細書中に記載された白金アルコラ−ト触媒も挙げられる。
【０１０９】
また、白金化合物以外の触媒の例としては、ＲｈＣｌ（ＰＰｈ3）3、ＲｈＣｌ3、Ｒｈ／Ａl2Ｏ3、ＲｕＣｌ3、ＩｒＣｌ3、ＦｅＣｌ3、ＡｌＣｌ3、ＰｄＣｌ2・２Ｈ2Ｏ、ＮｉＣｌ2、ＴｉＣｌ4、等が挙げられる。これらの触媒は単独で使用してもよく、２種以上併用しても構わない。触媒活性の点から塩化白金酸、白金−オレフィン錯体、白金−ビニルシロキサン錯体、Ｐｔ（ａｃａｃ）2等が好ましい。
【０１１０】
＜硬化遅延剤＞
硬化遅延剤は、本発明の多面体構造ポリシロキサン系組成物の保存安定性を改良あるいは、硬化過程でのヒドロシリル化反応の反応性を調整するための成分である。本発明においては、硬化遅延剤としては、ヒドロシリル化触媒による付加型硬化性組成物で用いられている公知のものが使用でき、具体的には脂肪族不飽和結合を含有する化合物、有機リン化合物、有機イオウ化合物、窒素含有化合物、スズ系化合物、有機過酸化物等が挙げられる。これらを単独使用、または２種以上併用してもよい。
【０１１１】
前記の脂肪族不飽和結合を含有する化合物としては、具体的には３−ヒドロキシ−３−メチル−１−ブチン、３−ヒドロキシ−３−フェニル−１−ブチン、３，５−ジメチル−１−ヘキシン−３−オール、１−エチニル−１−シクロヘキサノール等のプロパギルアルコール類、エン−イン化合物類、無水マレイン酸、マレイン酸ジメチル等のマレイン酸エステル類等が例示できる。
【０１１２】
有機リン化合物としては、具体的にはトリオルガノフォスフィン類、ジオルガノフォスフィン類、オルガノフォスフォン類、トリオルガノフォスファイト類等が例示できる。
【０１１３】
有機イオウ化合物としては、具体的にはオルガノメルカプタン類、ジオルガノスルフィド類、硫化水素、ベンゾチアゾール、チアゾール、ベンゾチアゾールジサルファイド等が例示できる。
【０１１４】
窒素含有化合物としては、具体的にはＮ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ−ジブチルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ−ジブチル−１，３−プロパンジアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−１，３−プロパンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラエチルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ−ジブチル−１，４−ブタンジアミン、２，２’−ビピリジン等が例示できる。
【０１１５】
スズ系化合物としては、具体的にはハロゲン化第一スズ２水和物、カルボン酸第一スズ等が例示できる。
【０１１６】
有機過酸化物としては、具体的にはジ−ｔ−ブチルペルオキシド、ジクミルペルオキシド、ベンゾイルペルオキシド、過安息香酸ｔ−ブチル等が例示されうる。これらのうち、マレイン酸ジメチル、３，５−ジメチル−１−ヘキシン−３−オール、１−エチニル−１−シクロヘキサノールが、特に好ましい硬化遅延剤として例示できる。
【０１１７】
硬化遅延剤の添加量は、特に限定するものではないが、ヒドロシリル化触媒１モルに対して１０-1〜１０3モルの範囲で用いるのが好ましく、１〜１００モルの範囲で用いるのがより好ましい。また、これらの硬化遅延剤は単独で使用してもよく、２種類以上組み合わせて使用してもよい。
【０１１８】
＜多面体構造ポリシロキサン系組成物＞
本発明の多面体構造ポリシロキサン系組成物は、多面体構造ポリシロキサン変性体に、必要に応じて、１分子中にアルケニル基を２個以上有するポリシロキサン、ヒドロシリル化触媒、硬化遅延剤を加えることにより得ることができる。本発明の多面体構造ポリシロキサン系組成物は、液状樹脂組成物として取り扱うことが可能である。液状樹脂組成物とすることにより、型、パッケージ、基板等に、注入あるいは塗布して硬化させることで、用途に応じた成型体を容易に得ることができる。
【０１１９】
硬化させる際に温度を加える場合は、好ましくは、３０〜４００℃、さらに好ましくは５０〜２５０℃である。硬化温度が高くなり過ぎると、得られる硬化物に外観不良が生じる傾向があり、低すぎると硬化が不十分となる。また、２段階以上の温度条件を組み合わせて硬化させてもよい。具体的には例えば、７０℃、１２０℃、１５０℃の様に段階的に硬化温度を引き上げていくことで、良好な硬化物を得ることができ好ましい。
【０１２０】
硬化時間は硬化温度、用いるヒドロシリル化触媒の量及び反応性基の量、その他、本願組成物のその他の配合物の組み合わせにより適宜選択することができるが、あえて例示すれば、１分〜１２時間、好ましくは１０分〜８時間行うことにより、良好な硬化物を得ることができる。
【０１２１】
本発明の多面体構造ポリシロキサン系組成物は、必要に応じて接着性付与剤を添加することができる。
【０１２２】
接着性付与剤は本発明における多面体構造ポリシロキサン系組成物と基材との接着性を向上する目的で用いるものであり、その様な効果があるものであれば特に制限はないが、シランカップリング剤が好ましい例として例示できる。
【０１２３】
シランカップリング剤としては、分子中に有機基と反応性のある官能基と加水分解性のケイ素基を各々少なくとも１個有する化合物であれば特に限定されない。有機基と反応性のある基としては、取扱い性の点からエポキシ基、メタクリル基、アクリル基、イソシアネート基、イソシアヌレート基、ビニル基、カルバメート基から選ばれる少なくとも１個の官能基が好ましく、硬化性及び接着性の点から、エポキシ基、メタクリル基、アクリル基が特に好ましい。加水分解性のケイ素基としては取扱い性の点からアルコキシシリル基が好ましく、反応性の点からメトキシシリル基、エトキシシリル基が特に好ましい。
【０１２４】
好ましいシランカップリング剤としては、具体的には３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、２−（３，４-エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、２−（３，４-エポキシシクロヘキシル）エチルメチルジメトキシシラン、２−（３，４-エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン、２−（３，４-エポキシシクロヘキシル）エチルメチルジエトキシシラン等のエポキシ官能基を有するアルコキシシラン類：３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、メタクリロキシメチルトリメトキシシラン、メタクリロキシメチルトリエトキシシラン、アクリロキシメチルトリメトキシシラン、アクリロキシメチルトリエトキシシラン等のメタクリル基あるいはアクリル基を有するアルコキシシラン類が挙げられる。これらは、単独で用いてもよく、２種類以上併用してもよい。
【０１２５】
シランカップリング剤の添加量としては、多面体構造ポリシロキサン変性体と１分子中にアルケニル基を２個以上有するポリシロキサンの混合物１００重量部に対して、０．０５〜３０重量部であることが好ましく、さらに好ましくは、０．１〜１０重量部である。添加量が少ないと接着性改良効果が表れず、添加量が多いと硬化物の物性に悪影響を及ぼす場合がある。
【０１２６】
本発明においては、接着性付与剤の効果を高めるために、公知の接着性促進剤を用いることができる。接着性促進剤としては、エポキシ含有化合物、エポキシ樹脂、ボロン酸エステル化合物、有機アルミニウム化合物、有機チタン化合物が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【０１２７】
本発明の多面体構造ポリシロキサン系組成物は、必要に応じて無機フィラーを添加することができる。
【０１２８】
本発明の多面体構造ポリシロキサン系組成物の組成分として無機フィラーを用いることにより、得られる成形体の強度、硬度、弾性率、熱膨張率、熱伝導率、放熱性、電気的特性、光の反射率、難燃性、耐火性、およびガスバリア性等の諸物性を改善することができる。
【０１２９】
無機フィラーは、無機物もしくは無機物を含む化合物であれば特に限定されないが、具体的に例えば、石英、ヒュームドシリカ、沈降性シリカ、無水ケイ酸、溶融シリカ、結晶性シリカ、超微粉無定型シリカ等のシリカ系無機フィラー、アルミナ、ジルコン、酸化鉄、酸化亜鉛、酸化チタン、窒化ケイ素、窒化ホウ素、窒化アルミ、炭化ケイ素、ガラス繊維、ガラスフレーク、アルミナ繊維、炭素繊維、マイカ、黒鉛、カーボンブラック、フェライト、グラファイト、ケイソウ土、白土、クレー、タルク、水酸化アルミニウム、炭酸カルシウム、炭酸マンガン、炭酸マグネシウム、硫酸バリウム、チタン酸カリウム、ケイ酸カルシウム、無機バルーン、銀粉等を挙げることができる。これらは、単独で用いてもよく、２種類以上併用してもよい。
【０１３０】
無機フィラーは、適宜表面処理をほどこしてもよい。表面処理としては、アルキル化処理、トリメチルシリル化処理、シリコーン処理、シランカップリング剤による処理等が挙げられるが、特に限定されるものではない。
【０１３１】
無機フィラーの形状としては、破砕状、片状、球状、棒状等、各種用いることができる。無機フィラーの平均粒径や粒径分布は、特に限定されるものではないが、ガスバリア性の観点から、平均粒径が０．００５〜５０μｍであることが好ましく、さらには０．０１〜２０μｍであることがより好ましい。同様に、ＢＥＴ比表面積についても、特に限定されるものでないが、ガスバリア性の観点から、７０ｍ2／ｇ以上であることが好ましく、１００ｍ2／ｇ以上であることがより好ましく、さらに２００ｍ2／ｇ以上であることが特に好ましい。
【０１３２】
無機フィラーの添加量は特に限定されないが、多面体構造ポリシロキサン変性体と１分子中にアルケニル基を２個以上有するポリシロキサンの混合物１００重量部に対して、１〜１０００重量部、よりこの好ましくは、３〜５００重量部、さらに好ましくは、５〜３００重量部である。無機フィラーの添加量が多いと、流動性が悪くなる場合があり、無機フィラーの添加量が少ないと、所望の物性が得られない場合がある。
【０１３３】
無機フィラーの混合の順序としては、特に限定されないが、貯蔵安定性が良好になりやすいという点においては、１分子中にアルケニル基を２個以上有するポリシロキサンに混ぜた後、多面体構造ポリシロキサン変性体を混合する方法が望ましい。また、反応成分である多面体構造ポリシロキサン変性体、１分子中にアルケニル基を２個以上有するポリシロキサンがよく混合され安定した成形物が得られやすいという点においては、多面体構造ポリシロキサン変性体、１分子中にアルケニル基を２個以上有するポリシロキサンを混合したものに、無機フィラーを混合することが好ましい。
【０１３４】
これら無機フィラーを混合する手段としては、特に限定されるものではないが、具体的に例えば、２本ロールあるいは３本ロール、遊星式撹拌脱泡装置、ホモジナイザー、ディゾルバー、プラネタリーミキサー等の撹拌機、プラストミル等の溶融混練機等が挙げられる。無機フィラーの混合は、常温で行ってもよいし加熱して行ってもよく、また、常圧下で行ってもよいし減圧状態で行ってもよい。混合する際の温度が高いと、成型する前に組成物が硬化する場合がある。
【０１３５】
また、本発明の多面体構造ポリシロキサン系組成物には、必要に応じて蛍光体、着色剤、耐熱性向上剤などの各種添加剤や反応制御剤、離型剤あるいは充填剤用分散剤などを任意で添加することができる。この充填剤用分散剤としては、例えば、ジフェニルシランジオール、各種アルコキシシラン、カーボンファンクショナルシラン、シラノール基含有低分子量シロキサンなどが挙げられる。なお、これら任意成分は、本発明の効果を損なわないように最小限の添加量に止めることが好ましい。
【０１３６】
本発明の多面体構造ポリシロキサン系組成物には、上記した成分をロール、バンバリーミキサー、ニーダーなどの混練機を用いたり、遊星式攪拌脱泡機を用いて均一に混合し、必要に応じ加熱処理を施したりしてもよい。
【０１３７】
本発明の多面体構造ポリシロキサン系組成物は、成形体として使用することができる。成形方法としては、押出成形、圧縮成形、ブロー成形、カレンダー成形、真空成形、発泡成形、射出成形、液状射出成形、注型成形などの任意の方法を使用することができる。
【０１３８】
本発明において得られる成型体の用途としては、具体的に例えば、液晶ディスプレイ分野における基板材料、導光板、プリズムシート、偏向板、位相差板、視野角補正フィルム、接着剤、カラーフィルター、偏光子保護フィルム、パッシベーション膜などの液晶用フィルムなどの液晶表示装置周辺材料が例示される。また、ＰＤＰ（プラズマディスプレイ）の封止剤、反射防止フィルム、光学補正フィルム、ハウジング材、前面ガラスの保護フィルム、前面ガラス代替材料、接着剤、カラーフィルター、パッシベーション膜、またＬＥＤ表示装置に使用されるＬＥＤ素子のモールド材、前面ガラスの保護フィルム、前面ガラス代替材料、接着剤、カラーフィルター、パッシベーション膜、またプラズマアドレス液晶ディスプレイにおける基板材料、導光板、プリズムシート、偏向板、位相差板、視野角補正フィルム、接着剤、カラーフィルター、偏光子保護フィルム、パッシベーション膜、また有機ＥＬディスプレイにおける前面ガラスの保護フィルム、前面ガラス代替材料、カラーフィルター、接着剤、パッシベーション膜、またフィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）における各種フィルム基板、前面ガラスの保護フィルム、前面ガラス代替材料、接着剤、カラーフィルター、パッシベーション膜が例示される。
【０１３９】
光記録分野では、ＶＤ（ビデオディスク）、ＣＤ／ＣＤ−ＲＯＭ、ＣＤ−Ｒ／ＲＷ、ＤＶＤ−Ｒ／ＤＶＤ−ＲＡＭ、ＭＯ／ＭＤ、ＰＤ（相変化ディスク）、光カード用のディスク基板材料、ピックアップレンズ、保護フィルム、封止剤、接着剤が例示される。さらに具体的には、次世代ＤＶＤ等の光ピックアップ用の部材、例えば、ピックアップレンズ、コリメータレンズ、対物レンズ、センサレンズ、保護フィルム、素子封止剤、センサー封止剤、グレーティング、接着剤、プリズム、波長板、補正板、スプリッタ、ホログラム、ミラー等が例示される。
【０１４０】
光学機器分野では、スチールカメラのレンズ用材料、ファインダプリズム、ターゲットプリズム、ファインダーカバー、受光センサー部が例示される。また、ビデオカメラの撮影レンズ、ファインダーが例示される。またプロジェクションテレビの投射レンズ、保護フィルム、封止剤、接着剤などが例示される。光センシング機器のレンズ用材料、封止剤、接着剤、フィルムなどが例示される。
【０１４１】
光部品分野では、光通信システムでの光スイッチ周辺のファイバー材料、レンズ、導波路、素子の封止剤、接着剤などが例示される。光コネクタ周辺の光ファイバー材料、フェルール、封止剤、接着剤などが例示される。光受動部品、光回路部品ではレンズ、導波路、ＬＥＤ素子の封止剤、接着剤などが例示される。光電子集積回路（ＯＥＩＣ）周辺の基板材料、ファイバー材料、素子の封止剤、接着剤などが例示される。
【０１４２】
光ファイバー分野では、装飾ディスプレイ用照明・ライトガイドなど、工業用途のセンサー類、表示・標識類など、また通信インフラ用および家庭内のデジタル機器接続用の光ファイバーが例示される。
【０１４３】
半導体集積回路周辺材料では、層間絶縁膜、パッシベーション膜、ＬＳＩ、超ＬＳＩ材料用のマイクロリソグラフィー用のレジスト材料が例示される。
【０１４４】
自動車・輸送機分野では、自動車用のランプリフレクタ、ベアリングリテーナー、ギア部分、耐蝕コート、スイッチ部分、ヘッドランプ、エンジン内部品、電装部品、各種内外装品、駆動エンジン、ブレーキオイルタンク、自動車用防錆鋼板、インテリアパネル、内装材、保護・結束用ワイヤーネス、燃料ホース、自動車ランプ、ガラス代替品が例示される。また、鉄道車輌用の複層ガラスが例示される。また、航空機の構造材の靭性付与剤、エンジン周辺部材、保護・結束用ワイヤーネス、耐蝕コートが例示される。
【０１４５】
建築分野では、内装・加工用材料、電気カバー、シート、ガラス中間膜、ガラス代替品、太陽電池周辺材料が例示される。農業用では、ハウス被覆用フィルムが例示される。
【０１４６】
次世代の光・電子機能有機材料としては、次世代ＤＶＤ、有機ＥＬ素子周辺材料、有機フォトリフラクティブ素子、光−光変換デバイスである光増幅素子、光演算素子、有機太陽電池周辺の基板材料、ファイバー材料、素子の封止剤、接着剤などが例示される。
【実施例】
【０１４７】
次に本発明の組成物を実施例に基づいてさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。
【０１４８】
（粘度）
東京計器製 Ｅ型粘度計を用いた。測定温度２３．０℃、ＥＨＤ型４８φ１倍コーンで測定した。
【０１４９】
（ＳｉＨ価）
バリアン・テクノロジーズ・ジャパン・リミテッド製 ３００ＭＨｚ ＮＭＲを用いた。多面体構造ポリシロキサン変性体のＳｉＨ価は、多面体構造ポリシロキサン変性体とジブロモエタンの混合物を作り、そのＮＭＲ測定を行うことで、下記計算式（１）
ＳｉＨ価（ｍｏｌ／ｋｇ）＝［多面体構造ポリシロキサン変性体のＳｉＨ基に帰属されるピークの積分値］／［ジブロモエタンのメチル基に帰属されるピークの積分値］×４×［混合物中のジブロモエタン重量］／［ジブロモエタンの分子量］／［混合物中の多面体構造ポリシロキサン変性体重量］ （１）
を用いて計算した。
【０１５０】
（耐熱試験、耐光試験用サンプル作成）
多面体構造ポリシロキサン系組成物を型に充填し、対流式オーブンで８０℃×２時間、１００℃×１時間、１５０℃×５時間熱硬化させて、厚さ２ｍｍのサンプルを作成した。
【０１５１】
（耐熱試験）
上記の通り作成したサンプルを、１５０℃に温度設定した対流式オーブン内（空気中）で該サンプルを２００時間養生し、目視にて観察した。着色などによる色目の変化が見られなかったものを○、見られたものを×と評価した。
【０１５２】
（耐光試験）
スガ試験機（株）社製、メタリングウェザーメーター（形式Ｍ６Ｔ）を用いた。上記の通り作成したサンプルを、ブラックパネル温度１２０℃、放射照度０.５３ｋＷ／ｍ2で、積算放射照度３０ＭＪ／ｍ2まで照射し、目視にて観察した。着色などによる色目の変化が見られなかったものを○、見られたものを×と評価した。
【０１５３】
（耐冷熱衝撃試験用サンプル物作成）
株式会社エノモト製ＬＥＤパッケージ（品名：ＴＯＰ ＬＥＤ １−ＩＮ−１）に、０．４ｍｍ×０．４ｍｍ×０．２ｍｍの単結晶シリコンチップ２個を、株式会社ヘンケルジャパン製エポキシ系接着剤（品名：ＬＯＣＴＩＴＥ３４８）で貼り付け、１５０℃に温度設定した対流式オーブンで３０分加熱して固定した。ここに多面体構造ポリシロキサン系組成物を注入し、対流式オーブンで８０℃×２時間、１００℃×１時間、１５０℃×５時間熱硬化させてサンプルを作成した。
【０１５４】
（耐冷熱衝撃試験）
上記の通り作成したサンプルを、熱衝撃試験機（エスペック製 ＴＳＡ−７１Ｈ−Ｗ）を用いて、高温保持１００℃、３０分間、低温保持−４０℃、３０分間のサイクルを１００サイクル行った後、サンプルを観察した。試験後、目視で変化が無ければ○、クラックが入ったり、パッケージとの間に剥離が起きたりした場合は×とした。
【０１５５】
（透湿性試験用サンプル作成）
（本発明では、得られた硬化物のガスバリア性の指標として、硬化物の透湿度を用いた。すなわち、透湿度が低いことはガスバリア性が高いことと同義となる。）多面体構造ポリシロキサン系組成物を型に充填し、対流式オーブンで８０℃×２時間、１００℃×１時間、１５０℃×５時間熱硬化させて、５ｃｍ角、厚さ２ｍｍのサンプルを作成した。このサンプルを室温２５℃、湿度５５％ＲＨの環境で２４時間養生した。
【０１５６】
(透湿性試験)
５ｃｍ角の板ガラス（０．５ｍｍ厚）の上部に５ｃｍ角のポリイソブチレンゴムシート（３ｍｍ厚、ロの字型になるように内部の３ｃｍ角を切り取ったもの）を固定した治具を作製し、和光純薬工業製塩化カルシウム（水分測定用）１ｇをロの字型内に充填する。さらに上部に、上記の５ｃｍ角、厚さ２ｍｍのサンプルを固定し、これを試験体とする。試験体を恒温恒湿機（エスペック製 ＰＲ‐２ＫＰ）内で温度４０℃、湿度９０％ＲＨで２４時間養生し、下記計算式（２）
透湿度（ｇ／ｍ2／ｄａｙ）＝[（透湿性試験後の試験体総重量（ｇ））−（透湿性試験前の試験体総重量（ｇ））]×１００００／９ （２）
に従って透湿度（水蒸気透過率）を算出した。
【０１５７】
（硫化水素試験)
株式会社エノモト製ＬＥＤパッケージ（品名：ＴＯＰ ＬＥＤ １−ＩＮ−１）に多面体構造ポリシロキサン系組成物を注入し、対流式オーブンで８０℃×２時間、１００℃×１時間、１５０℃×５時間熱硬化させてサンプルを作成した。このサンプルを、フロー式ガス腐食試験機（ファクトケイ製ＫＧ１３０Ｓ）内に入れ、４０℃、８０％ＲＨ、硫化水素３ｐｐｍの条件下で、９６時間、硫化水素暴露試験を行った。試験後、パッケージのリフレクターが変色していなければ○、わずかに変色が見られた場合は△、変色している場合は×とした。
【０１５８】
（蛍光体沈降試験）
多面体構造ポリシロキサン系組成物５ｇに蛍光体（インテマティックス製Ｙ３９５７）０．０５ｇを添加し、よく掻き混ぜた後、静置した。１時間後に観察し、蛍光体が分散したままである場合は○、沈降が観られた場合は×とした。
【０１５９】
（製造例１）
４８％コリン水溶液（トリメチル−２ヒドロキシエチルアンモニウムハイドロオキサイド水溶液）１２６２ｇにテトラエトキシシラン１０８３ｇを加え、室温で２時間激しく攪拌した。反応系内が発熱し、均一溶液になった段階で、攪拌を緩め、さらに１２時間反応させた。次に、反応系内に生成した固形物に、メタノール１０００ｍＬを加え、均一溶液とした。
【０１６０】
ジメチルビニルクロロシラン５３７ｇ、トリメチルシリクロリド６４５ｇおよびヘキサン１９４２ｍＬの溶液を激しく攪拌しながら、メタノール溶液をゆっくりと滴下した。滴下終了後、１時間反応させた後、有機層を抽出、濃縮することにより、固形物を得た。次に、生成した固形物をメタノール中で激しく攪拌することにより洗浄し、ろ別することにより、Ｓｉ原子１６個と、ビニル基３個を有するアルケニル基含有多面体構造ポリシロキサン系化合物であるトリス（ビニルジメチルシロキシ）ペンタキス（トリメチルシロキシ）オクタシルセスキオキサン（Ｆｗ＝１１６６．２）を白色固体として５９２ｇ得た。
【０１６１】
（製造例２）
製造例１で得られたアルケニル基含有多面体構造ポリシロキサン系化合物３０ｇをトルエン６０ｇで溶解させ、さらに白金ビニルシロキサン錯体のキシレン溶液（白金として３ｗｔ％含有する白金ビニルシロキサン錯体、ユミコアプレシャスメタルズジャパン製、Ｐｔ−ＶＴＳＣ−３Ｘ）４．２μＬを溶解させた。このようにして得られた溶液を、１、３、５、７−テトラハイドロジェン−１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサン４５．０ｇ（使用したアルケニル基含有多面体構造ポリシロキサン系化合物のアルケニル基１個に対し、ヒドロシリル基１０個となる量）とトルエン２２．５ｇの混合溶液に滴下し、１０５℃で２時間加温した。この溶液を1Ｈ−ＮＭＲ測定すると、アルケニル基を有する多面体構造ポリシロキサン系化合物由来のアルケニル基が消失している事を確認した。反応終了後、トルエンと未反応成分を留去した後、再度トルエン４５ｇを加えて生成物を溶解させた。この溶液に、さらに別途準備したビニルジフェニルメチルシラン１６．５ｇ（使用した１，３，５，７−テトラハイドロジェン−１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサンのヒドロシリル基１個に対し、アルケニル基０．９６個となる量）をトルエン１６．５ｇの溶液を滴下させ、１０５℃で２時間加温した。この溶液を1Ｈ−ＮＭＲ測定すると、ビニルジフェニルメチルシラン由来のビニル基が消失している事を確認した。溶解、室温まで冷却した後に、トルエンを留去することにより、液状の多面体構造ポリシロキサン変性体６０．３ｇ（ＳｉＨ価１．５６ｍｏｌ／ｋｇ）を得た。
【０１６２】
（製造例３）
製造例１で得られたアルケニル基含有多面体構造ポリシロキサン系化合物３０ｇ、およびビニル時フェニルメチルシラン２０ｇ（使用した１，３，５，７−テトラハイドロジェン−１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサンのヒドロシリル基１個に対し、アルケニル基０．２９個となる量）をトルエン１００ｇに溶解させ、白金ビニルシロキサン錯体のキシレン溶液（白金として３ｗｔ％含有する白金ビニルシロキサン錯体、ユミコアプレシャスメタルズジャパン製、Ｐｔ−ＶＴＳＣ−３Ｘ）６．２μＬを加えた。このようにして得られた溶液を、１，３，５，７−テトラハイドロジェン−１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサン１８．５ｇ（使用したトリス（ビニルジメチルシロキシ）ペンタキス（トリメチルシロキシ）オクタシルセスキオキサンのアルケニル基１個に対し、ヒドロシリル基４．０個となる量）、トルエン１８．５ｇの溶液にゆっくりと滴下し、１０５℃で２時間反応させた。反応終了後、エチニルシクロヘキサノール１２．０μｌ、マレイン酸ジメチル２．７６μｌを加え、トルエンと未反応成分を留去することにより、液状の多面体構造ポリシロキサン変性体６８．０ｇ（ＳｉＨ価１．６５ｍｏｌ／ｋｇ）を得た。
【０１６３】
（実施例１）
製造例２で得た多面体構造ポリシロキサン変性体５．００ｇに、１，２−ジビニルベンゼン（重量平均分子量１３０）０．４０ｇを加え、さらに、エチニルシクロヘキサノールを０．２１μｌ、マレイン酸ジメチルを０．１μｌ添加し撹拌した後、遊星式攪拌脱泡機にて攪拌・脱泡を行い、オルガノポリシロキサン系組成物を得た。このようにして得られたオルガノポリシロキサン系組成物を用いて、前述の各試験法に従い評価した。その結果を表１に記載した。
【０１６４】
（実施例２）
製造例２で得た多面体構造ポリシロキサン変性体５．００ｇに、ジビニルジメチルシラン（重量平均分子量１１２）０．３５ｇを加え、さらに、エチニルシクロヘキサノールを０．２１μｌ、マレイン酸ジメチルを０．１μｌ添加し撹拌した後、遊星式攪拌脱泡機にて攪拌・脱泡を行い、オルガノポリシロキサン系組成物を得た。このようにして得られたオルガノポリシロキサン系組成物を用いて、前述の各試験法に従い評価した。その結果を表１に記載した。
【０１６５】
（実施例３）
製造例２で得た多面体構造ポリシロキサン変性体５．００ｇに、１，４−ビス（ビニルジメチルシリル）ベンゼン（重量平均分子量２４８）０．６４ｇを加え、良く混合することによりオルガノポリシロキサン系組成物を得た。このようにして得られたオルガノポリシロキサン系組成物を用いて、前述の各試験法に従い評価した。その結果を表１に記載した。
【０１６６】
（実施例４）
製造例３で得た多面体構造ポリシロキサン変性体５．００ｇに、１，４−ビス（ビニルジメチルシリル）ベンゼン（重量平均分子量２４８）０．６８ｇを加え、良く混合することによりオルガノポリシロキサン系組成物を得た。このようにして得られたオルガノポリシロキサン系組成物を用いて、前述の各試験法に従い評価した。その結果を表１に記載した。
【０１６７】
（実施例５）
製造例２で得た多面体構造ポリシロキサン変性体５．００ｇに、２，２−ビス（４−ビニルジメチルシロキシフェニレン）プロパン（重量平均分子量３９８）１．０３ｇ、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン０．１５ｇ加え、撹拌した。さらに、エチニルシクロヘキサノールを０．１５μｌ、マレイン酸ジメチルを０．０７μｌ添加し撹拌した後、遊星式攪拌脱泡機にて攪拌・脱泡を行い、オルガノポリシロキサン系組成物を得た。このようにして得られたオルガノポリシロキサン系組成物を用いて、前述の各試験法に従い評価した。その結果を表１に記載した。
【０１６８】
（実施例６）
製造例２で得た多面体構造ポリシロキサン変性体５．００ｇに、１，４−ビス（ビニルジメチルシロキシ）ベンゼン（重量平均分子量２８０）０．７３ｇ、を加え、良く混合することによりオルガノポリシロキサン系組成物を得た。このようにして得られたオルガノポリシロキサン系組成物を用いて、前述の各試験法に従い評価した。その結果を表１に記載した。
【０１６９】
（比較例１）
製造例１で得られたアルケニル基含有多面体構造ポリシロキサン系化合物であるトリス（ビニルジメチルシロキシ）ペンタキス（トリメチルシロキシ）オクタシルセスキオキサン５．００ｇをトルエン１０．０ｇに溶解させ、白金ビニルシロキサン錯体のキシレン溶液（白金として３ｗｔ％含有する白金ビニルシロキサン錯体、ユミコアプレシャスメタルズジャパン製、Ｐｔ−ＶＴＳＣ−３Ｘ）０．４７μＬを加えた。このようにして得られた溶液を、１，３，５，７−テトラハイドロジェン−１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサン３．０９ｇ、トルエン３．０９ｇ（使用したトリス（ビニルジメチルシロキシ）ペンタキス（トリメチルシロキシ）オクタシルセスキオキサンのアルケニル基１個に対し、ヒドロシリル基４．０個となる量）の溶液にゆっくりと滴下し、１０５℃で２時間反応させた。反応終了後、エチニルシクロヘキサノール１．９９μｌ、マレイン酸ジメチル０．４６μｌを加え、トルエンと未反応成分を留去することにより、液状の変性体７．８ｇ（ＳｉＨ価３．７８ｍｏｌ／ｋｇ）を得た。
【０１７０】
得られた変性体に、１，４−ビス（ビニルジメチルシリル）ベンゼン（重量平均分子量２４８）０．６８ｇを加え、良く混合することによりポリシロキサン系組成物を得た。このようにして得られた組成物を用いて、上述の各種評価を行い、その結果を表１に記載した。
【０１７１】
（比較例２）
製造例２で得られた液状の変性体１２．１ｇ（ＳｉＨ価１．２０ｍｏｌ／ｋｇ）に、ビニル基を両末端に含有する直鎖状ポリジメチルシロキサン（クラリアント製、商品名ＭＶＤ８Ｖ、重量平均分子量７８０、Ｖｉ価数２．５６ｍｏｌ／ｋｇ）８．３３ｇを加え、良く混合することによりポリシロキサン系組成物を得た。このようにして得られた組成物を用いて、前述の各試験法に従い評価した。その結果を表１に記載した。
【０１７２】
【表１】
【０１７３】
表１に示すように、本発明の多面体構造シロキサン系組成物は、高い耐熱性、耐光性を有し、耐冷熱衝撃性およびガスバリア性に優れ、かつ、光半導体素子を封止する際のハンドリング性が良好な粘度を有している。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、高い耐熱性、耐光性を有し、ガスバリア性および耐冷熱衝撃性に優れ、かつ、光半導体素子を封止する際のハンドリング性が良好なポリシロキサン系組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
ポリシロキサン系組成物は、耐熱性、耐寒性、耐候性、耐光性、化学的安定性、電気特性、難燃性、耐水性、透明性、着色性、非粘着性、非腐食性に優れており、様々な産業で利用されている。中でも、多面体構造を有するポリシロキサンで構成された組成物は、その特異的な化学構造から、さらに優れた耐熱性、耐光性、化学的安定性、低誘電性等を示すことが知られている。
【０００３】
多面体構造を有するポリシロキサンを用いた応用例として、光半導体素子封止剤用途への展開を意図したものがあり、例えば特許文献１において、２つ以上のオキセタニル基を有する多面体構造を有するポリシロキサン樹脂と１つ以上のエポキシ基を含有する脂肪族炭化水素とカチオン重合開始剤とを含有する多面体構造を有するポリシロキサン系組成物が開示されており、この材料は高屈折で光の取り出し効率が高い。しかしながら、オキセタニル基やエポキシ基を有しているため、耐熱性、耐光性が低い問題があった。
【０００４】
また、ポリシロキサン系組成物は優れた特性を持つ一方で、一般にガスバリア性が低いといった問題点を有している。そのため、光半導体素子封止剤用途で用いた場合、リフレクターが硫化物によって黒色化する問題があり、この問題に対して、例えば特許文献２では、予め金属部材をガスバリア性の高いアクリル系樹脂でコーティング処理を行っている。しかしながら、アクリル系樹脂でコーティング処理を行った後に、別途シリコーン樹脂で封止する等、手間がかかり、生産性に問題があった。
【０００５】
また、光半導体素子封止剤用途においては、白色光を得るために、青色の発光素子に対して黄色の蛍光体を含有させた封止剤を用いる、あるいは、より演色性を高めるために、青色の発光素子に対して緑色の蛍光体と赤色の蛍光体とを含有させた封止剤を用いる等の手段を用いるが、封止剤の粘度が低い場合には、封止剤のハンドリング時に蛍光体の沈降が起こり、発光色のバラツキが発生するといった問題があった。例えば、特許文献３において、多面体構造を有するポリシロキサン変性体を用いた組成物が開示されており、この材料は、成型加工性、透明性、耐熱・耐光性、接着性に優れている。しかしながら、組成物の粘度についてはさらなる改良の余地も残されていた。
【０００６】
以上のように、高い耐熱性、耐光性を有し、耐冷熱衝撃性およびガスバリア性に優れ、かつ、光半導体素子を封止する際のハンドリング性が良好な材料の開発が望まれていた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００８−１６３２６０
【特許文献２】特開２００９−２０６１２４
【特許文献３】ＷＯ０８／０１０５４５
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
高い耐熱性、耐光性を有し、ガスバリア性および耐冷熱衝撃性に優れ、かつ、光半導体素子を封止する際のハンドリング性が良好なポリシロキサン系組成物を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者らは、上記課題を解決すべく、鋭意研究を重ねた結果、
（Ａ）アルケニル基を有する多面体構造ポリシロキサン系化合物（ａ）、ヒドロシリル基を有する化合物（ｂ）、１分子中にアルケニル基を１個有する有機ケイ素化合物（ｃ）とをヒドロシリル化反応することで得られる多面体構造ポリシロキサン変性体、
（Ｂ）アルケニル基を２個以上含有する化合物からなるオルガノポリシロキサン系組成物により、上記課題を解決できることを見出し、本発明に至った。
【００１０】
すなわち、本発明は以下の構成を有するものである。
【００１１】
１）．（Ａ）アルケニル基を有する多面体構造ポリシロキサン系化合物（ａ）、ヒドロシリル基を有する化合物（ｂ）、１分子中にアルケニル基を１個有する有機ケイ素化合物（ｃ）とをヒドロシリル化反応することで得られる多面体構造ポリシロキサン変性体、
（Ｂ）アルケニル基を２個以上含有する化合物、
からなるオルガノポリシロキサン系組成物であって、
前記（Ｂ）成分が、一般式（１）で表される化合物、一般式（２）で表される化合物、一般式（３）で表される化合物、一般式（４）で表される化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種であることを特徴とするオルガノポリシロキサン系組成物。
【００１２】
一般式（１）
ＲIaＲII （１）
（ＲIはアルケニル基、ＲIIは２価以上の脂環式炭化水素基、または２価以上の芳香族炭化水素基、ａ≧２）
一般式（２）
ＲIaＲIIIbＳｉ （２）
（ＲIはアルケニル基、ＲIIIはアルケニル基以外の１価の脂肪族炭化水素基、または１価の脂環式炭化水素基、または１価の芳香族炭化水素基であり、同一であっても異なっていてもよい、ａ≧２、ｂ＝０〜２の整数、ａ＋ｂ＝４）
一般式（３）
（ＲIaＲIIIbＳｉ）n（ＲIcＲIIIdＳｉ）mＲIV （３）
（ＲIはアルケニル基、ＲIIIはアルケニル基以外の１価の脂肪族炭化水素基、または１価の脂環式炭化水素基、または１価の芳香族炭化水素基であり、同一であっても異なっていてもよい、ＲIVは２価以上の炭化水素基、ａ≧１、ｃ≧１、ｂ＝０〜２の整数、ｄ＝０〜２の整数、ａ＋ｂ＝ｃ＋ｄ＝３、ｎ＋ｍ≧２）
一般式（４）
（ＲIaＲIIIbＳｉＯ）n（ＲIcＲIIIdＳｉＯ）mＲIV （４）
（ＲIはアルケニル基、ＲIIIはアルケニル基以外の１価の脂肪族炭化水素基、または１価の脂環式炭化水素基、または１価の芳香族炭化水素基であり、同一であっても異なっていてもよい、ＲIVは２価以上の炭化水素基、ａ≧１、ｃ≧１、ｂ＝０〜２の整数、ｄ＝０〜２の整数、ａ＋ｂ＝ｃ＋ｄ＝３、ｎ＋ｍ≧２）
【００１３】
２）．前記（Ｂ）成分が、平均分子量２０００以下の化合物であることを特徴とする１）に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【００１４】
３）．前記（Ｂ）成分のＲIVが、下記構造で表される２価の炭化水素基であることを特徴とする１）または２）に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【００１５】
【化１】
【００１６】
【化２】
【００１７】
【化３】
【００１８】
【化４】
【００１９】
【化５】
【００２０】
４）．多面体構造ポリシロキサン変性体（Ａ）が、温度２０℃において、液状であることを特徴とする、１）に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【００２１】
５）．１分子中にアルケニル基を１個有する有機ケイ素化合物（ｃ）が、アリール基を１個以上有する有機ケイ素化合物であることを特徴とする１）〜４）のいずれか１項に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【００２２】
６）．ヒドロシリル基を有する化合物（ｂ）が、ヒドロシリル基を有する環状シロキサン、および／または直鎖状シロキサンであることを特徴とする、１）〜５）のいずれか１項に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【００２３】
７）．アルケニル基を有する多面体構造ポリシロキサン系化合物（ａ）が、式
[ＡＲ12ＳｉＯ−ＳｉＯ3/2]a[Ｒ23ＳｉＯ−ＳｉＯ3/2]b
（ａ＋ｂは６〜２４の整数、ａは１以上の整数、ｂは０または１以上の整数；Ａは、アルケニル基；Ｒ1は、アルキル基またはアリール基；Ｒ2は、水素原子、アルキル基、アリール基、または、他の多面体骨格ポリシロキサンと連結している基）
で表されるシロキサン単位から構成されるアルケニル基を有する多面体構造ポリシロキサン系化合物であることを特徴とする、１）〜６）のいずれか１項に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【００２４】
８）．多面体構造ポリシロキサン変性体（Ａ）が、式
[ＸＲ32ＳｉＯ−ＳｉＯ3/2]a[Ｒ43ＳｉＯ−ＳｉＯ3/2]b
［ａ＋ｂは６〜２４の整数、ａは１以上の整数、ｂは０または１以上の整数；Ｒ3は、アルキル基またはアリール基；Ｒ4は、アルケニル基、水素原子、アルキル基、アリール基、または、他の多面体骨格ポリシロキサンと連結している基、Ｘは、下記一般式（１）あるいは一般式（２）のいずれかの構造を有し、Ｘが複数ある場合は一般式（１）、あるいは一般式（２）の構造が異なっていても良く、また、一般式（１）、あるいは一般式（２）の構造が混在していても良い。Ｘは、一般式（１）および／または一般式（２）を少なくとも１つ有する。
【００２５】
【化６】
【００２６】
【化７】
【００２７】
｛ｌは２以上の整数；ｍは０以上の整数；ｎは２以上の整数；Ｒは、アルキル基またはアリール基；ＹおよびＺは水素原子、アルケニル基、アルキル基、アリール基、もしくは、アルキレン鎖を介して多面体構造ポリシロキサンと結合している部位であり、同一であっても異なっていてもよい。；ただし、ＹあるいはＺの少なくとも１つは水素原子であり、少なくとも１つは下記一般式（３）の構造を有する。
【００２８】
【化８】
【００２９】
（ｌは０以上の整数；Ｒ5は有機ケイ素化合物を含有する基）｝］
で表されるシロキサン単位から構成される多面体構造ポリシロキサン変性体であることを特徴とするオルガノポリシロキサン系組成物。
【００３０】
９）．Ｒ5がアリール基を１個以上含有することを特徴とする８）に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【００３１】
１０）．温度２３℃において、１Ｐａ・ｓ以上の粘度を有することを特徴とする、１）〜９）のいずれか１項に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【００３２】
１１）．ヒドロシリル化触媒を含有することを特徴とする、１）〜１０）のいずれか１項に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【００３３】
１２）．硬化遅延剤を含有することを特徴とする、１）〜１１）のいずれか１項に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【００３４】
１３）．１）〜１２）のいずれか１項に記載のオルガノポリシロキサン系組成物を硬化させてなる硬化物。
【発明の効果】
【００３５】
高い耐熱性、耐光性を有し、ガスバリア性および耐冷熱衝撃性に優れ、かつ、光半導体素子を封止する際のハンドリング性が良好なポリシロキサン系組成物を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００３６】
以下、本発明について詳細に説明する。
＜アルケニル基を有する多面体構造ポリシロキサン系化合物（ａ）＞
本発明におけるアルケニル基を有する多面体構造ポリシロキサン系化合物（ａ）は、分子中にアルケニル基を有する、多面体骨格を有するポリシロキサンであれば、特に限定はない。具体的に、例えば、以下の式
［Ｒ6ＳｉＯ3/2］x［Ｒ7ＳｉＯ3/2］y
（ｘ＋ｙは６〜２４の整数；ｘは１以上の整数、ｙは０または１以上の整数；Ｒ6はアルケニル基、または、アルケニル基を有する基；Ｒ7は、任意の有機基、または、他の多面体骨格ポリシロキサンと連結している基）
で表されるシロキサン単位から構成されるアルケニル基含有多面体構造ポリシロキサン系化合物を好適に用いることができ、さらには、式
[ＡＲ12ＳｉＯ−ＳｉＯ3/2]a[Ｒ23ＳｉＯ−ＳｉＯ3/2]b
（ａ＋ｂは６〜２４の整数、ａは１以上の整数、ｂは０または１以上の整数；Ａは、アルケニル基；Ｒ1は、アルキル基またはアリール基；Ｒ2は、水素原子、アルキル基、アリール基、または、他の多面体骨格ポリシロキサンと連結している基）
で表されるシロキサン単位から構成されるアルケニル基含有多面体構造ポリシロキサン系化合物が好ましいものとして例示される。
【００３７】
アルケニル基としては、ビニル基、アリル基、ブテニル基、ヘキセニル基等が例示されるが、耐熱性・耐光性の観点から、ビニル基が好ましい。
【００３８】
Ｒ1は、アルキル基またはアリール基である。アルキル基としては、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基等が例示され、また、アリール基としては、フェニル基、トリル基等のアリール基が例示される。本発明におけるＲ1としては、耐熱性・耐光性の観点から、メチル基が好ましい。
【００３９】
Ｒ2は、水素原子、アルキル基、アリール基、または、他の多面体骨格ポリシロキサンと連結している基である。アルキル基としては、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基等が例示され、また、アリール基としては、フェニル基、トリル基等のアリール基が例示される。本発明におけるＲ2としては、耐熱性・耐光性の観点から、メチル基が好ましい。
【００４０】
ａは１以上の整数であれば、特に制限はないが、化合物の取り扱い性や得られる硬化物の物性から、２以上が好ましく、３以上がさらに好ましい。また、ｂは、０または１以上の整数であれば、特に制限はない。
【００４１】
ａとｂの和（＝ａ＋ｂ）は、６〜２４の整数であるが、化合物の安定性、得られる硬化物の安定性の観点から、６〜１２、さらには、６〜１０であることが好ましい。
【００４２】
（ａ）成分の合成方法としては、特に限定されず、公知の方法を用いて合成することができる。合成方法としては、例えば、Ｒ8ＳｉＸa3（式中Ｒ8は、上述のＲ6、Ｒ7を表し、Ｘaは、ハロゲン原子、アルコキシ基等の加水分解性官能基を表す）のシラン化合物の加水分解縮合反応によって、得られる。または、Ｒ8ＳｉＸa3の加水分解縮合反応によって分子内に３個のシラノール基を有するトリシラノール化合物を合成したのち、さらに、同一もしくは異なる３官能性シラン化合物を反応させることにより閉環し、多面体構造ポリシロキサンを合成する方法も知られている。
【００４３】
その他にも、例えば、テトラエトキシシラン等のテトラアルコキシシランを４級アンモニウムヒドロキシド等の塩基存在下で加水分解縮合させる方法が挙げられる。本合成方法においては、テトラアルコキシシランの加水分解縮合反応により、多面体構造を有するケイ酸塩が得られ、さらに得られたケイ酸塩をアルケニル基含有シリルクロライド等のシリル化剤と反応させることにより、多面体構造を形成するＳｉ原子とアルケニル基とが、シロキサン結合を介して結合した多面体構造ポリシロキサンを得ることが可能となる。本発明においては、テトラアルコキシランの替わりに、シリカや稲籾殻等のシリカを含有する物質からも、同様の多面体構造ポリシロキサンを得ることが可能である。
【００４４】
＜ヒドロシリル基を有する化合物（ｂ）＞
本発明で用いるヒドロシリル基を有する化合物（ｂ）は、分子中に１個以上のヒドロシリル基を有していれば特に制限はないが、得られる多面体構造ポリシロキサン変性体の透明性、耐熱性、耐光性の観点から、ヒドロシリル基を有するシロキサン化合物であることが好ましく、さらには、ヒドロシリル基を有する環状シロキサンあるいは直鎖状ポリシロキサンであることが好ましい。特にガスバリア性の観点からは、環状シロキサンであることが好ましい。
【００４５】
ヒドロシリル基を有する直鎖状ポリシロキサンとしては、ジメチルシロキサン単位とメチルハイドロジェンシロキサン単位及び末端トリメチルシロキシ単位との共重合体、ジフェニルシロキサン単位とメチルハイドロジェンシロキサン単位及び末端トリメチルシロキシ単位との共重合体、メチルフェニルシロキサン単位とメチルハイドロジェンシロキサン単位及び末端トリメチルシロキシ単位との共重合体、ジメチルハイドロジェンシリル基で末端が封鎖されたポリジメチルシロキサン、ジメチルハイドロジェンシリル基で末端が封鎖されたポリジフェニルシロキサン、ジメチルハイドロジェンシリル基で末端が封鎖されたポリメチルフェニルシロキサンなどが例示される。
【００４６】
特に、ヒドロシリル基を有する直鎖状ポリシロキサンとしては、変性させる際の反応性や得られる硬化物の耐熱性、耐光性等の観点から、ジメチルハイドロジェンシリル基で分子末端が封鎖されたポリシロキサン、さらにはジメチルハイドロジェンシリル基で分子末端が封鎖されたポリジメチルシロキサンを好適に用いることができ、具体的に例えば、テトラメチルジシロキサン、ヘキサメチルトリシロキサンなどが、好ましい例として例示される。
【００４７】
ヒドロシリル基を有する環状シロキサンとしては、１，３，５，７−テトラハイドロジェン−１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサン、１−プロピル−３，５，７−トリハイドロジェン−１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサン、１，５−ジハイドロジェン−３，７−ジヘキシル−１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサン、１，３，５−トリハイドロジェン−１，３，５−トリメチルシクロトリシロキサン、１，３，５，７，９−ペンタハイドロジェン−１，３，５，７，９−ペンタメチルシクロペンタシロキサン、１，３，５，７，９，１１−ヘキサハイドロジェン−１，３，５，７，９，１１−ヘキサメチルシクロヘキサシロキサンなどが例示される。本発明における環状シロキサンとしては、工業的入手性および反応性、あるいは、得られる硬化物の耐熱性、耐光性、強度等の観点から、具体的に例えば、１，３，５，７−テトラハイドロジェン−１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサンを好適に用いることができる。
【００４８】
これら、ヒドロシリル基を有する化合物（ｂ）は単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
【００４９】
ヒドロシリル基を有する化合物（ｂ）の添加量は、アルケニル基を有する多面体構造ポリシロキサン系化合物（ａ）のアルケニル基１個あたり、（ｂ）成分のＳｉ原子に直結した水素原子の数が１個より多いことが好ましく、さらに好ましくは２．５〜２０個になるように用いることであるが、化合物に依存する。添加量が少ないと、架橋反応によりゲル化が生じてハンドリング性の劣る多面体構造ポリシロキサン変性体となり、多すぎると、多面体構造ポリシロキサン変性体を用いて得られる硬化物の物性に悪影響を及ぼす場合がある。さらには、過剰量の（ｂ）成分を存在させるため、例えば減圧・加熱条件下にて、未反応の（ｂ）成分を取り除くことが好ましい。
【００５０】
＜１分子中にアルケニル基を１個有する有機ケイ素化合物（ｃ）＞
本発明における１分子中にアルケニル基を１個有する有機ケイ素化合物（ｃ）はヒドロシリル基を有する化合物（ｂ）のヒドロシリル基と反応する。（ｃ）成分を用いることで、得られる硬化物の弾性率を低下させることができ、耐冷熱衝撃性を向上させることができる。
【００５１】
アルケニル基としては、ビニル基、アリル基、ブテニル基、ヘキセニル基等が例示されるが、耐熱性・耐光性の観点から、ビニル基が好ましい。
本発明における（ｃ）成分は、１分子中にアルケニル基を１個有する有機ケイ素化合物であれば特に限定はされないが、１分子中に少なくともアリール基を１個以上含有していることが、ガスバリア性や屈折率の観点から好ましく、さらには、該アリール基が直接ケイ素原子に結合していることが、耐熱性、耐光性の観点から、さらに好ましい。
【００５２】
本発明における（ｃ）成分は、耐熱性、耐光性の観点から、シラン、またはポリシロキサンであることが好ましい。このような（ｃ）成分が、１分子中にアルケニル基を１個有するシランである場合、具体的に例えば、トリメチルビニルシラン、ジメチルフェニルビニルシラン、メチルジフェニルビニルシラン、トリフェニルビニルシラン、トリエチルビニルシラン、ジエチルフェニルビニルシラン、エチルジフェニルビニルシラン、アリルトリメチルシラン、アリルジメチルフェニルシラン、アリルメチルジフェニルシラン、アリルトリフェニルシラン、アリルトリエチルシラン、アリルジエチルフェニルシラン、アリルエチルジフェニルシラン等が例示される。中でも、耐熱性、耐光性の観点から、トリメチルビニルシラン、ジメチルフェニルビニルシラン、メチルジフェニルビニルシラン、トリフェニルビニルシランが好ましい例として挙げられ、さらに、ガスバリア性や屈折率の観点から、ジメチルフェニルビニルシラン、メチルジフェニルビニルシラン、トリフェニルビニルシランが好ましい例として挙げられる。
【００５３】
また（ｃ）成分がポリシロキサンである場合、アルケニル基を１個有する直鎖構造のポリシロキサン、分子末端にアルケニル基を１個有するポリシロキサン、アルケニル基を１個有する環状シロキサン等が例示される。
【００５４】
（ｃ）成分が、アルケニル基を１個有する直鎖構造のポリシロキサンである場合、具体的に例えば、ジメチルビニルシリル基とトリメチルシリル基で末端がそれぞれ１個ずつ封鎖されたポリジメチルシロキサン、ジメチルビニルシリル基とトリメチルシリル基で末端がそれぞれ１個ずつ封鎖されたポリメチルフェニルシロキサン、ジメチルビニルシリル基とトリメチルシリル基で末端がそれぞれ１個ずつ封鎖されたポリジフェニルシロキサン、ジメチルビニルシリル基とトリメチルシリル基で末端がそれぞれ１個ずつ封鎖されたジメチルシロキサン単位とメチルフェニルシロキサン単位との共重合体、ジメチルビニルシリル基とトリメチルシリル基で末端がそれぞれ１個ずつ封鎖されたジメチルシロキサン単位とジフェニルシロキサン単位との共重合体、ジメチルビニルシリル基とトリメチルシリル基で末端がそれぞれ１個ずつ封鎖されたメチルフェニルシロキサン単位とジフェニルシロキサン単位との共重合体等が例示される。
【００５５】
分子末端にアルケニル基を１個有するポリシロキサンである場合、具体的に例えば、先に例示したジメチルビニルシリル基とトリメチルシリル基で末端が１個ずつ封鎖されたポリシロキサン、ＳｉＯ2単位、ＳｉＯ3/2単位、ＳｉＯ単位、ＳｉＯ1/2単位からなる群において選ばれる少なくとも１つのシロキサン単位および１つのジメチルビニルシロキサン単位からなるポリシロキサンなどが例示される。
【００５６】
（ｃ）成分が、アルケニル基を１個有する環状シロキサンである場合、具体的に例えば、１−ビニル−１，３，３，５，５，７，７−ヘプタメチルシクロテトラシロキサン、１−ビニル−３−フェニル−１，３，５，５，７，７−ヘキサメチルシクロテトラシロキサン、１−ビニル−３，５−ジフェニル−１，３，５，７，７−ペンタメチルシクロテトラシロキサン、１−ビニル−３，５，７−トリフェニル−１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサン等が例示される。
【００５７】
これら（ｃ）成分である、１分子中にアルケニル基を１個有する有機ケイ素化合物は、単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
【００５８】
＜多面体構造ポリシロキサン変性体＞
本発明の多面体構造ポリシロキサン変性体は、後述のヒドロシリル化触媒の存在下、アルケニル基を有する多面体構造ポリシロキサン系化合物（ａ）と１分子中にアルケニル基を１個有する有機ケイ素化合物（ｃ）を、ヒドロシリル基を有する化合物（ｂ）とヒドロシリル化反応させることにより得られる。
【００５９】
本発明の多面体構造ポリシロキサン変性体を得る方法としては、特に限定されず種々設定できるが、予め（ａ）成分と（ｂ）成分を反応させた後、（ｃ）成分を反応させても良いし、予め（ｃ）成分と（ｂ）成分を反応させた後、（ａ）成分を反応させても良いし、（ａ）成分と（ｃ）成分を共存させて（ｂ）成分と反応させても良い。各反応の終了後に、例えば減圧・加熱条件下にて、揮発性の未反応成分を留去し、目的物あるいは次のステップへの中間体として用いても良い。（ｃ）成分と（ｂ）成分のみが反応した、（ａ）成分を含まない化合物の生成を抑制するためには、（ａ）成分と（ｂ）成分を反応させ、未反応の（ｂ）成分を留去した後、（ｃ）成分を反応させる方法が好ましい。
【００６０】
こうして得られた多面体構造ポリシロキサン変性体には、反応に用いた（ａ）成分のアルケニル基が一部残存していてもよい。
【００６１】
（ｂ）成分の添加量は、（ａ）成分が有するアルケニル基１個に対し、ヒドロシリル基の数が１個以上になるようにい用いればよく、さらに２．５〜２０個になるように用いることが好ましい。添加量が少ないと、架橋反応によりゲル化が進行するため、多面体構造ポリシロキサン変性体のハンドリング性が劣る場合があり、添加量が多いと、硬化物の物性に悪影響を及ぼす場合がある。
【００６２】
（ｃ）成分の添加量は、（ｂ）成分が有するヒドロシリル基１個に対し、アルケニル基の数が０．０１〜０．３６個になるように用いることが好ましい。添加量が少ないと、得られる硬化物の耐冷熱衝撃性が低下する場合があり、添加量が多いと、得られる硬化物に硬化不良が生じる場合がある。
【００６３】
多面体構造ポリシロキサン変性体の合成時に用いるヒドロシリル化触媒の添加量としては特に制限はないが、反応に用いる（ａ）成分及び（ｃ）成分のアルケニル基１モルに対して１０-1〜１０-10モルの範囲で用いるのがよい。好ましくは１０-4〜１０-8モルの範囲で用いるのがよい。ヒドロシリル化触媒が多いと、ヒドロシリル化触媒の種類によっては、短波長の光に吸収を示すため、着色原因になったり、得られる硬化物の耐光性が低下する恐れがあり、また、硬化物が発泡する恐れもある。また、ヒドロシリル化触媒が少ないと、反応が進まず、目的物が得られない恐れがある。
【００６４】
ヒドロシリル化反応の反応温度としては、３０〜４００℃、さらに好ましくは、４０〜２５０℃であることが好ましく、より好ましくは、４５〜１４０℃である。温度が低すぎると反応が十分に進行せず、温度が高すぎると、ゲル化が生じ、ハンドリング性が悪化する恐れがある。
【００６５】
このようにして得られた多面体構造ポリシロキサン変性体は、各種化合物、特にはシロキサン系化合物との相溶性を確保でき、さらに、分子内にヒドロシリル基が導入されていることから、各種アルケニル基を有する化合物と反応させることが可能となる。具体的には、後述の１分子中にアルケニル基を２個以上有するポリシロキサンと反応させることにより、硬化物を得ることができる。
【００６６】
また、本発明における多面体構造ポリシロキサン変性体は、温度２０℃において液状とすることも可能である。多面体構造ポリシロキサン変性体を液状とすることで、ハンドリング性に優れることから好ましい。
【００６７】
本発明における多面体構造ポリシロキサン変性体は、式
[ＸＲ32ＳｉＯ−ＳｉＯ3/2]a[Ｒ43ＳｉＯ−ＳｉＯ3/2]b
［ａ＋ｂは６〜２４の整数、ａは１以上の整数、ｂは０または１以上の整数；Ｒ3は、アルキル基またはアリール基；Ｒ4は、アルケニル基、水素原子、アルキル基、アリール基、または、他の多面体骨格ポリシロキサンと連結している基、Ｘは、下記一般式（１）あるいは一般式（２）、あるいは一般式（３）のいずれかの構造を有し、Ｘが複数ある場合は一般式（１）、あるいは一般式（２）、あるいは一般式（３）の構造が異なっていても良く、また、一般式（１）、あるいは一般式（２）、あるいは一般式（３）の構造が混在していても良い。Ｘは、一般式（１）および／または一般式（２）を少なくとも１つ有する。
【００６８】
【化９】
【００６９】
【化１０】
【００７０】
｛ｌは２以上の整数；ｍは０以上の整数；ｎは２以上の整数；Ｒは、アルキル基またはアリール基；ＹおよびＺは水素原子、アルケニル基、アルキル基、アリール基、もしくは、アルキレン鎖を介して多面体構造ポリシロキサンと結合している部位であり、同一であっても異なっていてもよい。；ただし、ＹあるいはＺの少なくとも１つは水素原子であり、少なくとも１つは下記一般式（３）の構造を有する。
【００７１】
【化１１】
【００７２】
（ｌは０以上の整数；Ｒ5は有機ケイ素化合物を含有する基）｝］
で表されるシロキサン単位から構成される多面体構造ポリシロキサン系化合物である。
【００７３】
Ｒ5は有機ケイ素化合物を含有する基であれば特に限定はされないが、１分子中に少なくともアリール基を１個以上含有していることが、ガスバリア性や屈折率の観点から好ましく、さらには、該アリール基が直接ケイ素原子に結合していることが、耐熱性、耐光性の観点から、さらに好ましい。
【００７４】
＜（Ｂ）アルケニル基を２個以上含有する化合物＞
本発明における（Ｂ）成分であるアルケニル基を２個以上含有する化合物は、前記（Ａ）成分とヒドロシリル化反応により硬化する。本発明における（Ｂ）成分は（Ａ）成分との相溶性が良く、（Ａ）成分および（Ｂ）成分を用いたオルガノポリシロキサン系組成物は、成型加工性に優れている。また、（Ａ）成分および（Ｂ）成分を用いたオルガノポリシロキサン系組成物を硬化させることで、皺による硬化ムラがなく、透明で、耐熱・耐光性がよく、高いガスバリア性を持つ硬化物が得られる。
【００７５】
本発明における（Ｂ）成分は、１分子中にアルケニル基を２個以上含有していればよく、さらに好ましくは２〜１０個である。１分子中のアルケニル基の数が多いと、より架橋構造をとり、ガスバリア性が向上するが、多すぎると耐熱・耐光性が低下する恐れもある。
【００７６】
本発明における（Ｂ）成分は、下記一般式（１）、一般式（２）、一般式（３）、一般式（４）で示される化合物であればよい。
【００７７】
一般式（１）
ＲIaＲII （１）
（ＲIはアルケニル基、ＲIIは２価以上の脂環式炭化水素基、または２価以上の芳香族炭化水素基、ａ≧２）
一般式（２）
ＲIaＲIIIbＳｉ （２）
（ＲIはアルケニル基、ＲIIIはアルケニル基以外の１価の脂肪族炭化水素基、または１価の脂環式炭化水素基、または１価の芳香族炭化水素基であり、同一であっても異なっていてもよい、ａ≧２、ｂ＝０〜２の整数、ａ＋ｂ＝４）
一般式（３）
（ＲIaＲIIIbＳｉ）n（ＲIcＲIIIdＳｉ）mＲIV （３）
（ＲIはアルケニル基、ＲIIIはアルケニル基以外の１価の脂肪族炭化水素基、または１価の脂環式炭化水素基、または１価の芳香族炭化水素基であり、同一であっても異なっていてもよい、ＲIVは２価以上の炭化水素基、ａ≧１、ｃ≧１、ｂ＝０〜２の整数、ｄ＝０〜２の整数、ａ＋ｂ＝ｃ＋ｄ＝３、ｎ＋ｍ≧２）
一般式（４）
（ＲIaＲIIIbＳｉＯ）n（ＲIcＲIIIdＳｉＯ）mＲIV （４）
（ＲIはアルケニル基、ＲIIIはアルケニル基以外の１価の脂肪族炭化水素基、または１価の脂環式炭化水素基、または１価の芳香族炭化水素基であり、同一であっても異なっていてもよい、ＲIVは２価以上の炭化水素基、ａ≧１、ｃ≧１、ｂ＝０〜２の整数、ｄ＝０〜２の整数、ａ＋ｂ＝ｃ＋ｄ＝３、ｎ＋ｍ≧２）
これらは、単独で用いても良く、２種類以上併用して用いてもよい。
【００７８】
このような（Ｂ）成分が、一般式（１）
ＲIaＲII （１）
（ＲIはアルケニル基、ＲIIは２価以上の脂環式炭化水素基、または２価以上の芳香族炭化水素基、ａ≧２）で表される化合物の場合、具体的に例えば、１，２−ジビニルベンゼン、１，４−ジビニルベンゼン、１，３，５−トリビニルベンゼン、１，２，４，５−テトラビニルベンゼン、１，２−ジアリルベンゼン、１，４−ジアリルベンゼン、１，３，５−トリアリルベンゼン、１，２，４，５−テトラアリルベンゼン、１，５−ジビニルナフタレン、１，６−ジビニルナフタレン、１，７−ジビニルナフタレン、１，８−ジビニルナフタレン、２，６−ジビニルナフタレン、２，７−ジビニルナフタレン、１，５−ジアリルナフタレン、１，６−ジアリルナフタレン、１，７−ジアリルナフタレン、１，８−ジアリルナフタレン、２，６−ジアリルナフタレン、２，７−ジアリルナフタレン、１，６−ジビニルアントラセン、１，７−ジビニルアントラセン、１，８−ジビニルアントラセン、１，９−ジビニルアントラセン、２，７−ジビニルアントラセン、２，８−ジビニルアントラセン、１，６−ジアリルアントラセン、１，７−ジアリルアントラセン、１，８−ジアリルアントラセン、１，９−ジアリルアントラセン、２，７−ジアリルアントラセン、２，８−ジアリルアントラセン、１，２−ジビニルシクロヘキサン、１，３−ジビニルシクロヘキサン、１，４−ジビニルシクロヘキサン、１，２−ジアリルシクロヘキサン、１，３−ジアリルシクロヘキサン、１，４−ジアリルシクロヘキサン、１，２，４−トリビニルシクロヘキサン、１，３，５−トリビニルシクロヘキサン、１，２，４−トリアリルシクロヘキサン、１，３，５−トリアリルシクロヘキサン、１，２，４，５−テトラビニルシクロヘキサン、１，２，４，５−テトラアリルシクロヘキサン等が挙げられる。
【００７９】
中でも、（Ａ）成分との相溶性、硬化物の透明性、ガスバリア性、耐熱性、耐光性の観点から、１，２−ジビニルベンゼン、１，４−ジビニルベンゼン、１，３，５−トリビニルベンゼン、１，２，４，５−テトラビニルベンゼンが好ましい例として挙げられる。
【００８０】
また、（Ｂ）成分が、一般式（２）
ＲIaＲIIIbＳｉ （２）
（ＲIはアルケニル基、ＲIIIはアルケニル基以外の１価の脂肪族炭化水素基、または１価の脂環式炭化水素基、または１価の芳香族炭化水素基であり、同一であっても異なっていてもよい、ａ≧２、ｂ＝０〜２の整数、ａ＋ｂ＝４）で表される化合物の場合、具体的に例えば、ジビニルジメチルシラン、ジビニルシクロヘキシルメチルシラン、ジビニルフェニルメチルシラン、ジビニルジシクロヘキシルシラン、ジビニルジフェニルシラン、ジアリルジメチルシラン、ジアリルシクロヘキシルメチルシラン、ジアリルフェニルメチルシラン、ジアリルジシクロヘキシルシラン、ジアリルジフェニルシラン、トリビニルメチルシラン、トリビニルシクロヘキシルシラン、トリビニルフェニルシラン、トリアリルメチルシラン、トリアリルシクロヘキシルシラン、トリアリルフェニルシラン、テトラビニルシラン、テトラアリルシラン等が挙げられる。
【００８１】
中でも、（Ａ）成分との相溶性、硬化物の透明性、ガスバリア性、耐熱性、耐光性の観点から、ジビニルジメチルシラン、ジビニルシクロヘキシルメチルシラン、ジビニルフェニルメチルシラン、ジビニルジシクロヘキシルシラン、ジビニルジフェニルシランが好ましい例として挙げられる。
【００８２】
また、（Ｂ）成分が、一般式（３）
（ＲIaＲIIIbＳｉ）n（ＲIcＲIIIdＳｉ）mＲIV （３）
（ＲIはアルケニル基、ＲIIIはアルケニル基以外の１価の脂肪族炭化水素基、または１価の脂環式炭化水素基、または１価の芳香族炭化水素基であり、同一であっても異なっていてもよい、ＲIVは２価以上の炭化水素基、ａ≧１、ｃ≧１、ｂ＝０〜２の整数、ｄ＝０〜２の整数、ａ＋ｂ＝ｃ＋ｄ＝３、ｎ＋ｍ≧２）で表される化合物の場合、
ＲIVが２価以上の脂肪族炭化水素基では、具体的に例えば、ビス（ビニルジメチルシリル）メタン、トリス（ビニルジメチルシリル）メタン、テトラキス（ビニルジメチルシリル）メタン、ビス（ビニルフェニルメチルシリル）メタン、トリス（ビニルフェニルメチルシリル）メタン、テトラキス（ビニルフェニルメチルシリル）メタン、ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）メタン、トリス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）メタン、テトラキス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）メタン、ビス（ビニルジフェニルシリル）メタン、トリス（ビニルジフェニルシリル）メタン、テトラキス（ビニルジフェニルシリル）メタン、（ビニルジメチルシリル）（ジビニルメチルシリル）メタン、（ビニルフェニルメチルシリル）（ジビニルメチルシリル）メタン、（ビニルジメチルシリル）（ジビニルフェニルシリル）メタン、ビス（ジビニルメチルシリル）メタン、トリス（ジビニルメチルシリル）メタン、テトラキス（ジビニルメチルシリル）メタン、ビス（ジビニルフェニルシリル）メタン、トリス（ジビニルフェニルシリル）メタン、テトラキス（ジビニルフェニルシリル）メタン、ビス（トリビニルシリル）メタン、トリス（トリビニルシリル）メタン、テトラキス（トリビニルシリル）メタン、１，２−ビス（ビニルジメチルシリル）エタン、１，２−ビス（ビニルジフェニルシリル）エタン、１，２−ビス（ジビニルメチルシリル）エタン、１，２−ビス（ジビニルフェニルシリル）エタン、１，２−ビス（トリビニルシリル）エタン、１，３−ビス（ビニルジメチルシリル）プロパン、１，３−ビス（ビニルジフェニルシリル）プロパン、１，３−ビス（ジビニルメチルシリル）プロパン、１，３−ビス（ジビニルフェニルシリル）プロパン、１，３−ビス（トリビニルシリル）プロパン、１，４−ビス（ビニルジメチルシリル）ブタン、１，４−ビス（ビニルジフェニルシリル）ブタン、１，４−ビス（ジビニルメチルシリル）ブタン、１，４−ビス（ジビニルフェニルシリル）ブタン、１，４−ビス（トリビニルシリル）ブタン、１，５−ビス（ビニルジメチルシリル）ペンタン、１，５−ビス（ビニルジフェニルシリル）ペンタン、１，５−ビス（ジビニルメチルシリル）ペンタン、１，５−ビス（ジビニルフェニルシリル）ペンタン、１，５−ビス（トリビニルシリル）ペンタン等が挙げられる。
【００８３】
また、ＲIVが２価以上の脂環式炭化水素基である場合、具体的に例えば、１，４−ビス（ビニルジメチルシリル）シクロヘキサン、１，４−ビス（ビニルフェニルメチルシリル）シクロヘキサン、１，４−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）シクロヘキサン、１，４−ビス（ビニルジフェニルシリル）シクロヘキサン、１，４−ビス（ジビニルメチルシリル）シクロヘキサン、１，４−ビス（ジビニルフェニルシリル）シクロヘキサン、１，４−ビス（トリビニルシリル）シクロヘキサン、１，３−ビス（ビニルジメチルシリル）シクロヘキサン、１，３−ビス（ビニルフェニルメチルシリル）シクロヘキサン、１，３−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）シクロヘキサン、１，３−ビス（ビニルジフェニルシリル）シクロヘキサン、１，３−ビス（ジビニルメチルシリル）シクロヘキサン、１，３−ビス（ジビニルフェニルシリル）シクロヘキサン、１，３−ビス（トリビニルシリル）シクロヘキサン、１，３，５−トリス（ビニルジメチルシリル）シクロヘキサン、１，３，５−トリス（ビニルフェニルメチルシリル）シクロヘキサン、１，３，５−トリス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）シクロヘキサン、１，３，５−トリス（ビニルジフェニルシリル）シクロヘキサン、１，３，５−トリス（ジビニルメチルシリル）シクロヘキサン、１，３，５−トリス（ジビニルフェニルシリル）シクロヘキサン、１，３，５−トリス（トリビニルシリル）シクロヘキサン、１，２，４−トリス（ビニルジメチルシリル）シクロヘキサン、１，２，４−トリス（ビニルフェニルメチルシリル）シクロヘキサン、１，２，４−トリス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）シクロヘキサン、１，２，４−トリス（ビニルジフェニルシリル）シクロヘキサン、１，２，４−トリス（ジビニルメチルシリル）シクロヘキサン、１，２，４−トリス（ジビニルフェニルシリル）シクロヘキサン、１，２，４−トリス（トリビニルシリル）シクロヘキサン、１，２，４，５−テトラキス（ビニルジメチルシリル）シクロヘキサン、１，２，４，５−テトラキス（ビニルフェニルメチルシリル）シクロヘキサン、１，２，４，５−テトラキス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）シクロヘキサン、１，２，４，５−テトラキス（ビニルジフェニルシリル）シクロヘキサン、１，２，４，５−テトラキス（ジビニルメチルシリル）シクロヘキサン、１，２，４，５−テトラキス（ジビニルフェニルシリル）シクロヘキサン、１，２，４，５−テトラキス（トリビニルシリル）シクロヘキサン等が挙げられる。
【００８４】
また、ＲIVが２価以上の芳香族炭化水素基である場合、具体的に例えば、１，４−ビス（ビニルジメチルシリル）ベンゼン、１，４−ビス（ビニルフェニルメチルシリル）ベンゼン、１，４−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）ベンゼン、１，４−ビス（ビニルジフェニルシリル）ベンゼン、１，４−ビス（ジビニルメチルシリル）ベンゼン、１，４−ビス（ジビニルフェニルシリル）ベンゼン、１，４−ビス（トリビニルシリル）ベンゼン、１，３−ビス（ビニルジメチルシリル）ベンゼン、１，３−ビス（ビニルフェニルメチルシリル）ベンゼン、１，３−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）ベンゼン、１，３−ビス（ビニルジフェニルシリル）ベンゼン、１，３−ビス（ジビニルメチルシリル）ベンゼン、１，３−ビス（ジビニルフェニルシリル）ベンゼン、１，３−ビス（トリビニルシリル）ベンゼン、１，３，５−トリス（ビニルジメチルシリル）ベンゼン、１，３，５−トリス（ビニルフェニルメチルシリル）ベンゼン、１，３，５−トリス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）ベンゼン、１，３，５−トリス（ビニルジフェニルシリル）ベンゼン、１，３，５−トリス（ジビニルメチルシリル）ベンゼン、１，３，５−トリス（ジビニルフェニルシリル）ベンゼン、１，３，５−トリス（トリビニルシリル）ベンゼン、１，２，４−トリス（ビニルジメチルシリル）ベンゼン、１，２，４−トリス（ビニルフェニルメチルシリル）ベンゼン、１，２，４−トリス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）ベンゼン、１，２，４−トリス（ビニルジフェニルシリル）ベンゼン、１，２，４−トリス（ジビニルメチルシリル）ベンゼン、１，２，４−トリス（ジビニルフェニルシリル）ベンゼン、１，２，４−トリス（トリビニルシリル）ベンゼン、１，２，４，５−テトラキス（ビニルジメチルシリル）ベンゼン、１，２，４，５−テトラキス（ビニルフェニルメチルシリル）ベンゼン、１，２，４，５−テトラキス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）ベンゼン、１，２，４，５−テトラキス（ビニルジフェニルシリル）ベンゼン、１，２，４，５−テトラキス（ジビニルメチルシリル）ベンゼン、１，２，４，５−テトラキス（ジビニルフェニルシリル）ベンゼン、１，２，４，５−テトラキス（トリビニルシリル）ベンゼン、２，６−ビス（ビニルジメチルシリル）ナフタレン、２，６−ビス（ビニルフェニルメチルシリル）ナフタレン、２，６−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）ナフタレン、２，６−ビス（ビニルジフェニルシリル）ナフタレン、２，６−ビス（ジビニルメチルシリル）ナフタレン、２，６−ビス（ジビニルフェニルシリル）ナフタレン、２，６−ビス（トリビニルシリル）ナフタレン、２，７−ビス（ビニルジメチルシリル）ナフタレン、２，７−ビス（ビニルフェニルメチルシリル）ナフタレン、２，７−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）ナフタレン、２，７−ビス（ビニルジフェニルシリル）ナフタレン、２，７−ビス（ジビニルメチルシリル）ナフタレン、２，７−ビス（ジビニルフェニルシリル）ナフタレン、２，７−ビス（トリビニルシリル）ナフタレン、２，７−ビス（ビニルジメチルシリル）アントラセン、２，７−ビス（ビニルフェニルメチルシリル）アントラセン、２，７−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）アントラセン、２，７−ビス（ビニルジフェニルシリル）アントラセン、２，７−ビス（ジビニルメチルシリル）アントラセン、２，７−ビス（ジビニルフェニルシリル）アントラセン、２，７−ビス（トリビニルシリル）アントラセン、２，８−ビス（ビニルジメチルシリル）アントラセン、２，８−ビス（ビニルフェニルメチルシリル）アントラセン、２，８−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）アントラセン、２，８−ビス（ビニルジフェニルシリル）アントラセン、２，８−ビス（ジビニルメチルシリル）アントラセン、２，８−ビス（ジビニルフェニルシリル）アントラセン、２，８−ビス（トリビニルシリル）アントラセン等が挙げられる。
【００８５】
ＲIVは２価以上の炭化水素基であれば特に問題ないが、ＲIVが、下記構造で表される２価の炭化水素基であることが耐熱、耐光性の観点から、より好ましい例として挙げられる。
【００８６】
【化１２】
【００８７】
【化１３】
【００８８】
【化１４】
【００８９】
【化１５】
【００９０】
【化１６】
【００９１】
このような（Ｂ）成分として、一般式（３）の好ましい例としては、具体的に例えば、１，４−ビス（ビニルジメチルシリル）シクロヘキサン、１，４−ビス（ビニルフェニルメチルシリル）シクロヘキサン、１，４−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）シクロヘキサン、１，４−ビス（ビニルジフェニルシリル）シクロヘキサン、１，４−ビス（ジビニルメチルシリル）シクロヘキサン、１，４−ビス（ジビニルフェニルシリル）シクロヘキサン、１，４−ビス（トリビニルシリル）シクロヘキサン、１，３−ビス（ビニルジメチルシリル）シクロヘキサン、１，３−ビス（ビニルフェニルメチルシリル）シクロヘキサン、１，３−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）シクロヘキサン、１，３−ビス（ビニルジフェニルシリル）シクロヘキサン、１，３−ビス（ジビニルメチルシリル）シクロヘキサン、１，３−ビス（ジビニルフェニルシリル）シクロヘキサン、１，３−ビス（トリビニルシリル）シクロヘキサン、１，４−ビス（ビニルジメチルシリル）ベンゼン、１，４−ビス（ビニルフェニルメチルシリル）ベンゼン、１，４−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）ベンゼン、１，４−ビス（ビニルジフェニルシリル）ベンゼン、１，４−ビス（ジビニルメチルシリル）ベンゼン、１，４−ビス（ジビニルフェニルシリル）ベンゼン、１，４−ビス（トリビニルシリル）ベンゼン、１，３−ビス（ビニルジメチルシリル）ベンゼン、１，３−ビス（ビニルフェニルメチルシリル）ベンゼン、１，３−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）ベンゼン、１，３−ビス（ビニルジフェニルシリル）ベンゼン、１，３−ビス（ジビニルメチルシリル）ベンゼン、１，３−ビス（ジビニルフェニルシリル）ベンゼン、１，３−ビス（トリビニルシリル）ベンゼン、２，６−ビス（ビニルジメチルシリル）ナフタレン、２，６−ビス（ビニルフェニルメチルシリル）ナフタレン、２，６−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）ナフタレン、２，６−ビス（ビニルジフェニルシリル）ナフタレン、２，６−ビス（ジビニルメチルシリル）ナフタレン、２，６−ビス（ジビニルフェニルシリル）ナフタレン、２，６−ビス（トリビニルシリル）ナフタレン、２，７−ビス（ビニルジメチルシリル）ナフタレン、２，７−ビス（ビニルフェニルメチルシリル）ナフタレン、２，７−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）ナフタレン、２，７−ビス（ビニルジフェニルシリル）ナフタレン、２，７−ビス（ジビニルメチルシリル）ナフタレン、２，７−ビス（ジビニルフェニルシリル）ナフタレン、２，７−ビス（トリビニルシリル）ナフタレン、４，４’−ビス（ビニルジメチルシリル）ビフェニル、４，４’−ビス（ビニルフェニルメチルシリル）ビフェニル、４，４’−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）ビフェニル、４，４’−ビス（ビニルジフェニルシリル）ビフェニル、４，４’−ビス（ジビニルメチルシリル）ビフェニル、４，４’−ビス（ジビニルフェニルシリル）ビフェニル、４，４’−ビス（トリビニルシリル）ビフェニル、３，４’−ビス（ビニルジメチルシリル）ビフェニル、３，４’−ビス（ビニルフェニルメチルシリル）ビフェニル、３，４’−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）ビフェニル、３，４’−ビス（ビニルジフェニルシリル）ビフェニル、３，４’−ビス（ジビニルメチルシリル）ビフェニル、３，４’−ビス（ジビニルフェニルシリル）ビフェニル、３，４’−ビス（トリビニルシリル）ビフェニル、２，２−ビス（４−ビニルジメチルシリルフェニレン）プロパン、２，２−ビス（４−ビニルフェニルメチルシリルフェニレン）プロパン、２，２−ビス（４−ビニルシクロヘキシルメチルシリルフェニレン）プロパン、２，２−ビス（４−ビニルジフェニルシリルフェニレン）プロパン、２，２−ビス（４−ジビニルメチルシリルフェニレン）プロパン、２，２−ビス（４−ジビニルフェニルシリルフェニレン）プロパン、２，２−ビス（４−トリビニルシリルフェニレン）プロパン等が挙げられる。
【００９２】
中でも、（Ａ）成分との相溶性、硬化物の透明性、ガスバリア性、耐熱性、耐光性の観点から、１，４−ビス（ビニルジメチルシリル）シクロヘキサン、１，３−ビス（ビニルジメチルシリル）シクロヘキサン、１，４−ビス（ビニルジメチルシリル）ベンゼン、１，３−ビス（ビニルジメチルシリル）ベンゼン、２，６−ビス（ビニルジメチルシリル）ナフタレン、４，４’−ビス（ビニルジメチルシリル）ビフェニル、２，２−ビス（４−ビニルジメチルシリルフェニレン）プロパンが、さらに好ましい例として挙げられる。
【００９３】
また、（Ｂ）成分が、一般式（４）
（ＲIaＲIIIbＳｉＯ）n（ＲIcＲIIIdＳｉＯ）mＲIV （４）
（ＲIはアルケニル基、ＲIIIはアルケニル基以外の１価の脂肪族炭化水素基、または１価の脂環式炭化水素基、または１価の芳香族炭化水素基であり、同一であっても異なっていてもよい、ＲIVは２価以上の炭化水素基、ａ≧１、ｃ≧１、ｂ＝０〜２の整数、ｄ＝０〜２の整数、ａ＋ｂ＝ｃ＋ｄ＝３、ｎ＋ｍ≧２）で表される化合物の場合、
ＲIVが２価以上の脂肪族炭化水素基では、具体的に例えば、ビス（ビニルジメチルシロキシ）メタン、トリス（ビニルジメチルシロキシ）メタン、テトラキス（ビニルジメチルシロキシ）メタン、ビス（ビニルフェニルメチルシロキシ）メタン、トリス（ビニルフェニルメチルシロキシ）メタン、テトラキス（ビニルフェニルメチルシロキシ）メタン、ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）メタン、トリス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）メタン、テトラキス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）メタン、ビス（ビニルジフェニルシロキシ）メタン、トリス（ビニルジフェニルシロキシ）メタン、テトラキス（ビニルジフェニルシロキシ）メタン、（ビニルジメチルシロキシ）（ジビニルメチルシロキシ）メタン、（ビニルフェニルメチルシロキシ）（ジビニルメチルシロキシ）メタン、（ビニルジメチルシロキシ）（ジビニルフェニルシロキシ）メタン、ビス（ジビニルメチルシロキシ）メタン、トリス（ジビニルメチルシロキシ）メタン、テトラキス（ジビニルメチルシロキシ）メタン、ビス（ジビニルフェニルシロキシ）メタン、トリス（ジビニルフェニルシロキシ）メタン、テトラキス（ジビニルフェニルシロキシ）メタン、ビス（トリビニルシロキシ）メタン、トリス（トリビニルシロキシ）メタン、テトラキス（トリビニルシロキシ）メタン、１，２−ビス（ビニルジメチルシロキシ）エタン、１，２−ビス（ビニルジフェニルシロキシ）エタン、１，２−ビス（ジビニルメチルシロキシ）エタン、１，２−ビス（ジビニルフェニルシロキシ）エタン、１，２−ビス（トリビニルシロキシ）エタン、１，３−ビス（ビニルジメチルシロキシ）プロパン、１，３−ビス（ビニルジフェニルシロキシ）プロパン、１，３−ビス（ジビニルメチルシロキシ）プロパン、１，３−ビス（ジビニルフェニルシロキシ）プロパン、１，３−ビス（トリビニルシロキシ）プロパン、１，４−ビス（ビニルジメチルシロキシ）ブタン、１，４−ビス（ビニルジフェニルシロキシ）ブタン、１，４−ビス（ジビニルメチルシロキシ）ブタン、１，４−ビス（ジビニルフェニルシロキシ）ブタン、１，４−ビス（トリビニルシロキシ）ブタン、１，５−ビス（ビニルジメチルシロキシ）ペンタン、１，５−ビス（ビニルジフェニルシロキシ）ペンタン、１，５−ビス（ジビニルメチルシロキシ）ペンタン、１，５−ビス（ジビニルフェニルシロキシ）ペンタン、１，５−ビス（トリビニルシロキシ）ペンタン等が挙げられる。
【００９４】
また、ＲIVが２価以上の脂環式炭化水素基である場合、具体的に例えば、１，４−ビス（ビニルジメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，４−ビス（ビニルフェニルメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，４−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，４−ビス（ビニルジフェニルシロキシ）シクロヘキサン、１，４−ビス（ジビニルメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，４−ビス（ジビニルフェニルシロキシ）シクロヘキサン、１，４−ビス（トリビニルシロキシ）シクロヘキサン、１，３−ビス（ビニルジメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，３−ビス（ビニルフェニルメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，３−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，３−ビス（ビニルジフェニルシロキシ）シクロヘキサン、１，３−ビス（ジビニルメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，３−ビス（ジビニルフェニルシロキシ）シクロヘキサン、１，３−ビス（トリビニルシロキシ）シクロヘキサン、１，３，５−トリス（ビニルジメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，３，５−トリス（ビニルフェニルメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，３，５−トリス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，３，５−トリス（ビニルジフェニルシロキシ）シクロヘキサン、１，３，５−トリス（ジビニルメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，３，５−トリス（ジビニルフェニルシロキシ）シクロヘキサン、１，３，５−トリス（トリビニルシロキシ）シクロヘキサン、１，２，４−トリス（ビニルジメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，２，４−トリス（ビニルフェニルメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，２，４−トリス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，２，４−トリス（ビニルジフェニルシロキシ）シクロヘキサン、１，２，４−トリス（ジビニルメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，２，４−トリス（ジビニルフェニルシロキシ）シクロヘキサン、１，２，４−トリス（トリビニルシロキシ）シクロヘキサン、１，２，４，５−テトラキス（ビニルジメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，２，４，５−テトラキス（ビニルフェニルメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，２，４，５−テトラキス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，２，４，５−テトラキス（ビニルジフェニルシロキシ）シクロヘキサン、１，２，４，５−テトラキス（ジビニルメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，２，４，５−テトラキス（ジビニルフェニルシロキシ）シクロヘキサン、１，２，４，５−テトラキス（トリビニルシロキシ）シクロヘキサン等が挙げられる。
【００９５】
また、ＲIVが２価以上の芳香族炭化水素基である場合、具体的に例えば、１，４−ビス（ビニルジメチルシロキシ）ベンゼン、１，４−ビス（ビニルフェニルメチルシロキシ）ベンゼン、１，４−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）ベンゼン、１，４−ビス（ビニルジフェニルシロキシ）ベンゼン、１，４−ビス（ジビニルメチルシロキシ）ベンゼン、１，４−ビス（ジビニルフェニルシロキシ）ベンゼン、１，４−ビス（トリビニルシロキシ）ベンゼン、１，３−ビス（ビニルジメチルシロキシ）ベンゼン、１，３−ビス（ビニルフェニルメチルシロキシ）ベンゼン、１，３−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）ベンゼン、１，３−ビス（ビニルジフェニルシロキシ）ベンゼン、１，３−ビス（ジビニルメチルシロキシ）ベンゼン、１，３−ビス（ジビニルフェニルシロキシ）ベンゼン、１，３−ビス（トリビニルシロキシ）ベンゼン、１，３，５−トリス（ビニルジメチルシリル）ベンゼン、１，３，５−トリス（ビニルフェニルメチルシロキシ）ベンゼン、１，３，５−トリス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）ベンゼン、１，３，５−トリス（ビニルジフェニルシロキシ）ベンゼン、１，３，５−トリス（ジビニルメチルシロキシ）ベンゼン、１，３，５−トリス（ジビニルフェニルシロキシ）ベンゼン、１，３，５−トリス（トリビニルシロキシ）ベンゼン、１，２，４−トリス（ビニルジメチルシロキシ）ベンゼン、１，２，４−トリス（ビニルフェニルメチルシロキシ）ベンゼン、１，２，４−トリス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）ベンゼン、１，２，４−トリス（ビニルジフェニルシロキシ）ベンゼン、１，２，４−トリス（ジビニルメチルシロキシ）ベンゼン、１，２，４−トリス（ジビニルフェニルシロキシ）ベンゼン、１，２，４−トリス（トリビニルシロキシ）ベンゼン、１，２，４，５−テトラキス（ビニルジメチルシロキシ）ベンゼン、１，２，４，５−テトラキス（ビニルフェニルメチルシロキシ）ベンゼン、１，２，４，５−テトラキス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）ベンゼン、１，２，４，５−テトラキス（ビニルジフェニルシロキシ）ベンゼン、１，２，４，５−テトラキス（ジビニルメチルシロキシ）ベンゼン、１，２，４，５−テトラキス（ジビニルフェニルシロキシ）ベンゼン、１，２，４，５−テトラキス（トリビニルシロキシ）ベンゼン、２，６−ビス（ビニルジメチルシロキシ）ナフタレン、２，６−ビス（ビニルフェニルメチルシロキシ）ナフタレン、２，６−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）ナフタレン、２，６−ビス（ビニルジフェニルシロキシ）ナフタレン、２，６−ビス（ジビニルメチルシロキシ）ナフタレン、２，６−ビス（ジビニルフェニルシロキシ）ナフタレン、２，６−ビス（トリビニルシロキシ）ナフタレン、２，７−ビス（ビニルジメチルシロキシ）ナフタレン、２，７−ビス（ビニルフェニルメチルシロキシ）ナフタレン、２，７−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）ナフタレン、２，７−ビス（ビニルジフェニルシロキシ）ナフタレン、２，７−ビス（ジビニルメチルシロキシ）ナフタレン、２，７−ビス（ジビニルフェニルシロキシ）ナフタレン、２，７−ビス（トリビニルシロキシ）ナフタレン、２，７−ビス（ビニルジメチルシロキシ）アントラセン、２，７−ビス（ビニルフェニルメチルシロキシ）アントラセン、２，７−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）アントラセン、２，７−ビス（ビニルジフェニルシロキシ）アントラセン、２，７−ビス（ジビニルメチルシロキシ）アントラセン、２，７−ビス（ジビニルフェニルシロキシ）アントラセン、２，７−ビス（トリビニルシロキシ）アントラセン、２，８−ビス（ビニルジメチルシロキシ）アントラセン、２，８−ビス（ビニルフェニルメチルシロキシ）アントラセン、２，８−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）アントラセン、２，８−ビス（ビニルジフェニルシロキシ）アントラセン、２，８−ビス（ジビニルメチルシロキシ）アントラセン、２，８−ビス（ジビニルフェニルシロキシ）アントラセン、２，８−ビス（トリビニルシロキシ）アントラセン等が挙げられる。
【００９６】
ＲIVが２価以上の炭化水素基であれば特に問題ないが、ＲＩVが、下記構造で表される２価の炭化水素基であることが耐熱、耐光性の観点から、より好ましい例として挙げられる。
【００９７】
【化１７】
【００９８】
【化１８】
【００９９】
【化１９】
【０１００】
【化２０】
【０１０１】
【化２１】
【０１０２】
このような（Ｂ）成分として、一般式（４）の好ましい例としては、具体的に例えば、１，４−ビス（ビニルジメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，４−ビス（ビニルフェニルメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，４−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，４−ビス（ビニルジフェニルシロキシ）シクロヘキサン、１，４−ビス（ジビニルメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，４−ビス（ジビニルフェニルシロキシ）シクロヘキサン、１，４−ビス（トリビニルシロキシ）シクロヘキサン、１，３−ビス（ビニルジメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，３−ビス（ビニルフェニルメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，３−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，３−ビス（ビニルジフェニルシロキシ）シクロヘキサン、１，３−ビス（ジビニルメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，３−ビス（ジビニルフェニルシロキシ）シクロヘキサン、１，３−ビス（トリビニルシロキシ）シクロヘキサン、１，４−ビス（ビニルジメチルシロキシ）ベンゼン、１，４−ビス（ビニルフェニルメチルシロキシ）ベンゼン、１，４−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）ベンゼン、１，４−ビス（ビニルジフェニルシロキシ）ベンゼン、１，４−ビス（ジビニルメチルシロキシ）ベンゼン、１，４−ビス（ジビニルフェニルシロキシ）ベンゼン、１，４−ビス（トリビニルシロキシ）ベンゼン、１，３−ビス（ビニルジメチルシロキシ）ベンゼン、１，３−ビス（ビニルフェニルメチルシロキシ）ベンゼン、１，３−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）ベンゼン、１，３−ビス（ビニルジフェニルシロキシ）ベンゼン、１，３−ビス（ジビニルメチルシロキシ）ベンゼン、１，３−ビス（ジビニルフェニルシロキシ）ベンゼン、１，３−ビス（トリビニルシロキシ）ベンゼン、２，６−ビス（ビニルジメチルシロキシ）ナフタレン、２，６−ビス（ビニルフェニルメチルシロキシ）ナフタレン、２，６−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）ナフタレン、２，６−ビス（ビニルジフェニルシロキシ）ナフタレン、２，６−ビス（ジビニルメチルシロキシ）ナフタレン、２，６−ビス（ジビニルフェニルシロキシ）ナフタレン、２，６−ビス（トリビニルシロキシ）ナフタレン、２，７−ビス（ビニルジメチルシロキシ）ナフタレン、２，７−ビス（ビニルフェニルメチルシロキシ）ナフタレン、２，７−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）ナフタレン、２，７−ビス（ビニルジフェニルシロキシ）ナフタレン、２，７−ビス（ジビニルメチルシロキシ）ナフタレン、２，７−ビス（ジビニルフェニルシロキシ）ナフタレン、２，７−ビス（トリビニルシロキシ）ナフタレン、４，４’−ビス（ビニルジメチルシロキシ）ビフェニル、４，４’−ビス（ビニルフェニルメチルシロキシ）ビフェニル、４，４’−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）ビフェニル、４，４’−ビス（ビニルジフェニルシロキシ）ビフェニル、４，４’−ビス（ジビニルメチルシロキシ）ビフェニル、４，４’−ビス（ジビニルフェニルシロキシ）ビフェニル、４，４’−ビス（トリビニルシロキシ）ビフェニル、３，４’−ビス（ビニルジメチルシロキシ）ビフェニル、３，４’−ビス（ビニルフェニルメチルシロキシ）ビフェニル、３，４’−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）ビフェニル、３，４’−ビス（ビニルジフェニルシロキシ）ビフェニル、３，４’−ビス（ジビニルメチルシロキシ）ビフェニル、３，４’−ビス（ジビニルフェニルシロキシ）ビフェニル、３，４’−ビス（トリビニルシロキシ）ビフェニル、２，２−ビス（４−ビニルジメチルシロキシフェニレン）プロパン、２，２−ビス（４−ビニルフェニルメチルシロキシフェニレン）プロパン、２，２−ビス（４−ビニルシクロヘキシルメチルシロキシフェニレン）プロパン、２，２−ビス（４−ビニルジフェニルシロキシフェニレン）プロパン、２，２−ビス（４−ジビニルメチルシリルフェニレン）プロパン、２，２−ビス（４−ジビニルフェニルシロキシフェニレン）プロパン、２，２−ビス（４−トリビニルシロキシフェニレン）プロパン等が挙げられる。
【０１０３】
中でも、（Ａ）成分との相溶性、硬化物の透明性、ガスバリア性、耐熱性、耐光性の観点から、１，４−ビス（ビニルジメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，３−ビス（ビニルジメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，４−ビス（ビニルジメチルシロキシ）ベンゼン、１，３−ビス（ビニルジメチルシロキシ）ベンゼン、２，６−ビス（ビニルジメチルシロキシ）ナフタレン、４，４’−ビス（ビニルジメチルシロキシ）ビフェニル、２，２−ビス（４−ビニルジメチルシロキシフェニレン）プロパンが、さらに好ましい例として挙げられる。
【０１０４】
これらは、単独で用いても良く、２種類以上併用して用いてもよい。
本発明における（Ｂ）成分は、平均分子量が２０００以下であることが（Ａ）成分との相溶性の観点から好ましく、１５００以下であることがより好ましく、さらには１００〜１０００が好ましい例として挙げられる。重量平均分子量が小さいと、（Ｂ）成分がポリシロキサン組成物の系内から揮発しやすくなり、望まれた物性が得られないことがある。また、重量平均分子量が多いと、得られた硬化物の水蒸気透過率が高くなるなど、ガスバリア性が低くなることがある。
【０１０５】
本発明における（Ｂ）成分の添加量は種々設定できるが、アルケニル基１個あたり、多面体構造ポリシロキサン系化合物に含まれるＳｉ原子に直結した水素原子が０．３〜５個、好ましくは、０．５〜３個となる割合で添加されることが望ましい。アルケニル基の割合が少なすぎると、発泡等による外観不良が生じやすくなり、また、多すぎると硬化物の物性に悪影響を及ぼす場合がある。
【０１０６】
＜ヒドロシリル化触媒＞
本発明では、多面体構造ポリシロキサン変性体の合成、および、該変性体を含有する組成物を硬化させる際に、ヒドロシリル化触媒を用いる。
【０１０７】
本発明で用いるヒドロシリル化触媒としては、通常ヒドロシリル化触媒として公知のものを用いることができ、特に制限はない。
【０１０８】
具体的には例示すれば、白金−オレフィン錯体、塩化白金酸、白金の単体、担体（アルミナ、シリカ、カーボンブラック等）に固体白金を担持させたもの、白金−ビニルシロキサン錯体、例えば、Ｐｔn（ＶｉＭｅ2ＳｉＯＳｉＭｅ2Ｖｉ）n、Ｐｔ〔（ＭｅＶｉＳｉＯ）4〕m；白金−ホスフィン錯体、例えば、Ｐｔ（ＰＰｈ3）4、Ｐｔ（ＰＢｕ3）4；白金−ホスファイト錯体、例えば、Ｐｔ〔Ｐ（ＯＰｈ）3〕4、Ｐｔ〔Ｐ（ＯＢｕ）3〕4（式中、Ｍｅはメチル基、Ｂｕはブチル基、Ｖｉはビニル基、Ｐｈはフェニル基を表し、ｎ、ｍは整数を表す）、Ｐｔ（ａｃａｃ）2、また、Ａｓｈｂｙらの米国特許第３１５９６０１及び３１５９６６２号明細書中に記載された白金−炭化水素複合体、並びにＬａｍｏｒｅａｕｘらの米国特許第３２２０９７２号明細書中に記載された白金アルコラ−ト触媒も挙げられる。
【０１０９】
また、白金化合物以外の触媒の例としては、ＲｈＣｌ（ＰＰｈ3）3、ＲｈＣｌ3、Ｒｈ／Ａl2Ｏ3、ＲｕＣｌ3、ＩｒＣｌ3、ＦｅＣｌ3、ＡｌＣｌ3、ＰｄＣｌ2・２Ｈ2Ｏ、ＮｉＣｌ2、ＴｉＣｌ4、等が挙げられる。これらの触媒は単独で使用してもよく、２種以上併用しても構わない。触媒活性の点から塩化白金酸、白金−オレフィン錯体、白金−ビニルシロキサン錯体、Ｐｔ（ａｃａｃ）2等が好ましい。
【０１１０】
＜硬化遅延剤＞
硬化遅延剤は、本発明の多面体構造ポリシロキサン系組成物の保存安定性を改良あるいは、硬化過程でのヒドロシリル化反応の反応性を調整するための成分である。本発明においては、硬化遅延剤としては、ヒドロシリル化触媒による付加型硬化性組成物で用いられている公知のものが使用でき、具体的には脂肪族不飽和結合を含有する化合物、有機リン化合物、有機イオウ化合物、窒素含有化合物、スズ系化合物、有機過酸化物等が挙げられる。これらを単独使用、または２種以上併用してもよい。
【０１１１】
前記の脂肪族不飽和結合を含有する化合物としては、具体的には３−ヒドロキシ−３−メチル−１−ブチン、３−ヒドロキシ−３−フェニル−１−ブチン、３，５−ジメチル−１−ヘキシン−３−オール、１−エチニル−１−シクロヘキサノール等のプロパギルアルコール類、エン−イン化合物類、無水マレイン酸、マレイン酸ジメチル等のマレイン酸エステル類等が例示できる。
【０１１２】
有機リン化合物としては、具体的にはトリオルガノフォスフィン類、ジオルガノフォスフィン類、オルガノフォスフォン類、トリオルガノフォスファイト類等が例示できる。
【０１１３】
有機イオウ化合物としては、具体的にはオルガノメルカプタン類、ジオルガノスルフィド類、硫化水素、ベンゾチアゾール、チアゾール、ベンゾチアゾールジサルファイド等が例示できる。
【０１１４】
窒素含有化合物としては、具体的にはＮ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ−ジブチルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ−ジブチル−１，３−プロパンジアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−１，３−プロパンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラエチルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ−ジブチル−１，４−ブタンジアミン、２，２’−ビピリジン等が例示できる。
【０１１５】
スズ系化合物としては、具体的にはハロゲン化第一スズ２水和物、カルボン酸第一スズ等が例示できる。
【０１１６】
有機過酸化物としては、具体的にはジ−ｔ−ブチルペルオキシド、ジクミルペルオキシド、ベンゾイルペルオキシド、過安息香酸ｔ−ブチル等が例示されうる。これらのうち、マレイン酸ジメチル、３，５−ジメチル−１−ヘキシン−３−オール、１−エチニル−１−シクロヘキサノールが、特に好ましい硬化遅延剤として例示できる。
【０１１７】
硬化遅延剤の添加量は、特に限定するものではないが、ヒドロシリル化触媒１モルに対して１０-1〜１０3モルの範囲で用いるのが好ましく、１〜１００モルの範囲で用いるのがより好ましい。また、これらの硬化遅延剤は単独で使用してもよく、２種類以上組み合わせて使用してもよい。
【０１１８】
＜多面体構造ポリシロキサン系組成物＞
本発明の多面体構造ポリシロキサン系組成物は、多面体構造ポリシロキサン変性体に、必要に応じて、１分子中にアルケニル基を２個以上有するポリシロキサン、ヒドロシリル化触媒、硬化遅延剤を加えることにより得ることができる。本発明の多面体構造ポリシロキサン系組成物は、液状樹脂組成物として取り扱うことが可能である。液状樹脂組成物とすることにより、型、パッケージ、基板等に、注入あるいは塗布して硬化させることで、用途に応じた成型体を容易に得ることができる。
【０１１９】
硬化させる際に温度を加える場合は、好ましくは、３０〜４００℃、さらに好ましくは５０〜２５０℃である。硬化温度が高くなり過ぎると、得られる硬化物に外観不良が生じる傾向があり、低すぎると硬化が不十分となる。また、２段階以上の温度条件を組み合わせて硬化させてもよい。具体的には例えば、７０℃、１２０℃、１５０℃の様に段階的に硬化温度を引き上げていくことで、良好な硬化物を得ることができ好ましい。
【０１２０】
硬化時間は硬化温度、用いるヒドロシリル化触媒の量及び反応性基の量、その他、本願組成物のその他の配合物の組み合わせにより適宜選択することができるが、あえて例示すれば、１分〜１２時間、好ましくは１０分〜８時間行うことにより、良好な硬化物を得ることができる。
【０１２１】
本発明の多面体構造ポリシロキサン系組成物は、必要に応じて接着性付与剤を添加することができる。
【０１２２】
接着性付与剤は本発明における多面体構造ポリシロキサン系組成物と基材との接着性を向上する目的で用いるものであり、その様な効果があるものであれば特に制限はないが、シランカップリング剤が好ましい例として例示できる。
【０１２３】
シランカップリング剤としては、分子中に有機基と反応性のある官能基と加水分解性のケイ素基を各々少なくとも１個有する化合物であれば特に限定されない。有機基と反応性のある基としては、取扱い性の点からエポキシ基、メタクリル基、アクリル基、イソシアネート基、イソシアヌレート基、ビニル基、カルバメート基から選ばれる少なくとも１個の官能基が好ましく、硬化性及び接着性の点から、エポキシ基、メタクリル基、アクリル基が特に好ましい。加水分解性のケイ素基としては取扱い性の点からアルコキシシリル基が好ましく、反応性の点からメトキシシリル基、エトキシシリル基が特に好ましい。
【０１２４】
好ましいシランカップリング剤としては、具体的には３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、２−（３，４-エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、２−（３，４-エポキシシクロヘキシル）エチルメチルジメトキシシラン、２−（３，４-エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン、２−（３，４-エポキシシクロヘキシル）エチルメチルジエトキシシラン等のエポキシ官能基を有するアルコキシシラン類：３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、メタクリロキシメチルトリメトキシシラン、メタクリロキシメチルトリエトキシシラン、アクリロキシメチルトリメトキシシラン、アクリロキシメチルトリエトキシシラン等のメタクリル基あるいはアクリル基を有するアルコキシシラン類が挙げられる。これらは、単独で用いてもよく、２種類以上併用してもよい。
【０１２５】
シランカップリング剤の添加量としては、多面体構造ポリシロキサン変性体と１分子中にアルケニル基を２個以上有するポリシロキサンの混合物１００重量部に対して、０．０５〜３０重量部であることが好ましく、さらに好ましくは、０．１〜１０重量部である。添加量が少ないと接着性改良効果が表れず、添加量が多いと硬化物の物性に悪影響を及ぼす場合がある。
【０１２６】
本発明においては、接着性付与剤の効果を高めるために、公知の接着性促進剤を用いることができる。接着性促進剤としては、エポキシ含有化合物、エポキシ樹脂、ボロン酸エステル化合物、有機アルミニウム化合物、有機チタン化合物が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【０１２７】
本発明の多面体構造ポリシロキサン系組成物は、必要に応じて無機フィラーを添加することができる。
【０１２８】
本発明の多面体構造ポリシロキサン系組成物の組成分として無機フィラーを用いることにより、得られる成形体の強度、硬度、弾性率、熱膨張率、熱伝導率、放熱性、電気的特性、光の反射率、難燃性、耐火性、およびガスバリア性等の諸物性を改善することができる。
【０１２９】
無機フィラーは、無機物もしくは無機物を含む化合物であれば特に限定されないが、具体的に例えば、石英、ヒュームドシリカ、沈降性シリカ、無水ケイ酸、溶融シリカ、結晶性シリカ、超微粉無定型シリカ等のシリカ系無機フィラー、アルミナ、ジルコン、酸化鉄、酸化亜鉛、酸化チタン、窒化ケイ素、窒化ホウ素、窒化アルミ、炭化ケイ素、ガラス繊維、ガラスフレーク、アルミナ繊維、炭素繊維、マイカ、黒鉛、カーボンブラック、フェライト、グラファイト、ケイソウ土、白土、クレー、タルク、水酸化アルミニウム、炭酸カルシウム、炭酸マンガン、炭酸マグネシウム、硫酸バリウム、チタン酸カリウム、ケイ酸カルシウム、無機バルーン、銀粉等を挙げることができる。これらは、単独で用いてもよく、２種類以上併用してもよい。
【０１３０】
無機フィラーは、適宜表面処理をほどこしてもよい。表面処理としては、アルキル化処理、トリメチルシリル化処理、シリコーン処理、シランカップリング剤による処理等が挙げられるが、特に限定されるものではない。
【０１３１】
無機フィラーの形状としては、破砕状、片状、球状、棒状等、各種用いることができる。無機フィラーの平均粒径や粒径分布は、特に限定されるものではないが、ガスバリア性の観点から、平均粒径が０．００５〜５０μｍであることが好ましく、さらには０．０１〜２０μｍであることがより好ましい。同様に、ＢＥＴ比表面積についても、特に限定されるものでないが、ガスバリア性の観点から、７０ｍ2／ｇ以上であることが好ましく、１００ｍ2／ｇ以上であることがより好ましく、さらに２００ｍ2／ｇ以上であることが特に好ましい。
【０１３２】
無機フィラーの添加量は特に限定されないが、多面体構造ポリシロキサン変性体と１分子中にアルケニル基を２個以上有するポリシロキサンの混合物１００重量部に対して、１〜１０００重量部、よりこの好ましくは、３〜５００重量部、さらに好ましくは、５〜３００重量部である。無機フィラーの添加量が多いと、流動性が悪くなる場合があり、無機フィラーの添加量が少ないと、所望の物性が得られない場合がある。
【０１３３】
無機フィラーの混合の順序としては、特に限定されないが、貯蔵安定性が良好になりやすいという点においては、１分子中にアルケニル基を２個以上有するポリシロキサンに混ぜた後、多面体構造ポリシロキサン変性体を混合する方法が望ましい。また、反応成分である多面体構造ポリシロキサン変性体、１分子中にアルケニル基を２個以上有するポリシロキサンがよく混合され安定した成形物が得られやすいという点においては、多面体構造ポリシロキサン変性体、１分子中にアルケニル基を２個以上有するポリシロキサンを混合したものに、無機フィラーを混合することが好ましい。
【０１３４】
これら無機フィラーを混合する手段としては、特に限定されるものではないが、具体的に例えば、２本ロールあるいは３本ロール、遊星式撹拌脱泡装置、ホモジナイザー、ディゾルバー、プラネタリーミキサー等の撹拌機、プラストミル等の溶融混練機等が挙げられる。無機フィラーの混合は、常温で行ってもよいし加熱して行ってもよく、また、常圧下で行ってもよいし減圧状態で行ってもよい。混合する際の温度が高いと、成型する前に組成物が硬化する場合がある。
【０１３５】
また、本発明の多面体構造ポリシロキサン系組成物には、必要に応じて蛍光体、着色剤、耐熱性向上剤などの各種添加剤や反応制御剤、離型剤あるいは充填剤用分散剤などを任意で添加することができる。この充填剤用分散剤としては、例えば、ジフェニルシランジオール、各種アルコキシシラン、カーボンファンクショナルシラン、シラノール基含有低分子量シロキサンなどが挙げられる。なお、これら任意成分は、本発明の効果を損なわないように最小限の添加量に止めることが好ましい。
【０１３６】
本発明の多面体構造ポリシロキサン系組成物には、上記した成分をロール、バンバリーミキサー、ニーダーなどの混練機を用いたり、遊星式攪拌脱泡機を用いて均一に混合し、必要に応じ加熱処理を施したりしてもよい。
【０１３７】
本発明の多面体構造ポリシロキサン系組成物は、成形体として使用することができる。成形方法としては、押出成形、圧縮成形、ブロー成形、カレンダー成形、真空成形、発泡成形、射出成形、液状射出成形、注型成形などの任意の方法を使用することができる。
【０１３８】
本発明において得られる成型体の用途としては、具体的に例えば、液晶ディスプレイ分野における基板材料、導光板、プリズムシート、偏向板、位相差板、視野角補正フィルム、接着剤、カラーフィルター、偏光子保護フィルム、パッシベーション膜などの液晶用フィルムなどの液晶表示装置周辺材料が例示される。また、ＰＤＰ（プラズマディスプレイ）の封止剤、反射防止フィルム、光学補正フィルム、ハウジング材、前面ガラスの保護フィルム、前面ガラス代替材料、接着剤、カラーフィルター、パッシベーション膜、またＬＥＤ表示装置に使用されるＬＥＤ素子のモールド材、前面ガラスの保護フィルム、前面ガラス代替材料、接着剤、カラーフィルター、パッシベーション膜、またプラズマアドレス液晶ディスプレイにおける基板材料、導光板、プリズムシート、偏向板、位相差板、視野角補正フィルム、接着剤、カラーフィルター、偏光子保護フィルム、パッシベーション膜、また有機ＥＬディスプレイにおける前面ガラスの保護フィルム、前面ガラス代替材料、カラーフィルター、接着剤、パッシベーション膜、またフィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）における各種フィルム基板、前面ガラスの保護フィルム、前面ガラス代替材料、接着剤、カラーフィルター、パッシベーション膜が例示される。
【０１３９】
光記録分野では、ＶＤ（ビデオディスク）、ＣＤ／ＣＤ−ＲＯＭ、ＣＤ−Ｒ／ＲＷ、ＤＶＤ−Ｒ／ＤＶＤ−ＲＡＭ、ＭＯ／ＭＤ、ＰＤ（相変化ディスク）、光カード用のディスク基板材料、ピックアップレンズ、保護フィルム、封止剤、接着剤が例示される。さらに具体的には、次世代ＤＶＤ等の光ピックアップ用の部材、例えば、ピックアップレンズ、コリメータレンズ、対物レンズ、センサレンズ、保護フィルム、素子封止剤、センサー封止剤、グレーティング、接着剤、プリズム、波長板、補正板、スプリッタ、ホログラム、ミラー等が例示される。
【０１４０】
光学機器分野では、スチールカメラのレンズ用材料、ファインダプリズム、ターゲットプリズム、ファインダーカバー、受光センサー部が例示される。また、ビデオカメラの撮影レンズ、ファインダーが例示される。またプロジェクションテレビの投射レンズ、保護フィルム、封止剤、接着剤などが例示される。光センシング機器のレンズ用材料、封止剤、接着剤、フィルムなどが例示される。
【０１４１】
光部品分野では、光通信システムでの光スイッチ周辺のファイバー材料、レンズ、導波路、素子の封止剤、接着剤などが例示される。光コネクタ周辺の光ファイバー材料、フェルール、封止剤、接着剤などが例示される。光受動部品、光回路部品ではレンズ、導波路、ＬＥＤ素子の封止剤、接着剤などが例示される。光電子集積回路（ＯＥＩＣ）周辺の基板材料、ファイバー材料、素子の封止剤、接着剤などが例示される。
【０１４２】
光ファイバー分野では、装飾ディスプレイ用照明・ライトガイドなど、工業用途のセンサー類、表示・標識類など、また通信インフラ用および家庭内のデジタル機器接続用の光ファイバーが例示される。
【０１４３】
半導体集積回路周辺材料では、層間絶縁膜、パッシベーション膜、ＬＳＩ、超ＬＳＩ材料用のマイクロリソグラフィー用のレジスト材料が例示される。
【０１４４】
自動車・輸送機分野では、自動車用のランプリフレクタ、ベアリングリテーナー、ギア部分、耐蝕コート、スイッチ部分、ヘッドランプ、エンジン内部品、電装部品、各種内外装品、駆動エンジン、ブレーキオイルタンク、自動車用防錆鋼板、インテリアパネル、内装材、保護・結束用ワイヤーネス、燃料ホース、自動車ランプ、ガラス代替品が例示される。また、鉄道車輌用の複層ガラスが例示される。また、航空機の構造材の靭性付与剤、エンジン周辺部材、保護・結束用ワイヤーネス、耐蝕コートが例示される。
【０１４５】
建築分野では、内装・加工用材料、電気カバー、シート、ガラス中間膜、ガラス代替品、太陽電池周辺材料が例示される。農業用では、ハウス被覆用フィルムが例示される。
【０１４６】
次世代の光・電子機能有機材料としては、次世代ＤＶＤ、有機ＥＬ素子周辺材料、有機フォトリフラクティブ素子、光−光変換デバイスである光増幅素子、光演算素子、有機太陽電池周辺の基板材料、ファイバー材料、素子の封止剤、接着剤などが例示される。
【実施例】
【０１４７】
次に本発明の組成物を実施例に基づいてさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。
【０１４８】
（粘度）
東京計器製 Ｅ型粘度計を用いた。測定温度２３．０℃、ＥＨＤ型４８φ１倍コーンで測定した。
【０１４９】
（ＳｉＨ価）
バリアン・テクノロジーズ・ジャパン・リミテッド製 ３００ＭＨｚ ＮＭＲを用いた。多面体構造ポリシロキサン変性体のＳｉＨ価は、多面体構造ポリシロキサン変性体とジブロモエタンの混合物を作り、そのＮＭＲ測定を行うことで、下記計算式（１）
ＳｉＨ価（ｍｏｌ／ｋｇ）＝［多面体構造ポリシロキサン変性体のＳｉＨ基に帰属されるピークの積分値］／［ジブロモエタンのメチル基に帰属されるピークの積分値］×４×［混合物中のジブロモエタン重量］／［ジブロモエタンの分子量］／［混合物中の多面体構造ポリシロキサン変性体重量］ （１）
を用いて計算した。
【０１５０】
（耐熱試験、耐光試験用サンプル作成）
多面体構造ポリシロキサン系組成物を型に充填し、対流式オーブンで８０℃×２時間、１００℃×１時間、１５０℃×５時間熱硬化させて、厚さ２ｍｍのサンプルを作成した。
【０１５１】
（耐熱試験）
上記の通り作成したサンプルを、１５０℃に温度設定した対流式オーブン内（空気中）で該サンプルを２００時間養生し、目視にて観察した。着色などによる色目の変化が見られなかったものを○、見られたものを×と評価した。
【０１５２】
（耐光試験）
スガ試験機（株）社製、メタリングウェザーメーター（形式Ｍ６Ｔ）を用いた。上記の通り作成したサンプルを、ブラックパネル温度１２０℃、放射照度０.５３ｋＷ／ｍ2で、積算放射照度３０ＭＪ／ｍ2まで照射し、目視にて観察した。着色などによる色目の変化が見られなかったものを○、見られたものを×と評価した。
【０１５３】
（耐冷熱衝撃試験用サンプル物作成）
株式会社エノモト製ＬＥＤパッケージ（品名：ＴＯＰ ＬＥＤ １−ＩＮ−１）に、０．４ｍｍ×０．４ｍｍ×０．２ｍｍの単結晶シリコンチップ２個を、株式会社ヘンケルジャパン製エポキシ系接着剤（品名：ＬＯＣＴＩＴＥ３４８）で貼り付け、１５０℃に温度設定した対流式オーブンで３０分加熱して固定した。ここに多面体構造ポリシロキサン系組成物を注入し、対流式オーブンで８０℃×２時間、１００℃×１時間、１５０℃×５時間熱硬化させてサンプルを作成した。
【０１５４】
（耐冷熱衝撃試験）
上記の通り作成したサンプルを、熱衝撃試験機（エスペック製 ＴＳＡ−７１Ｈ−Ｗ）を用いて、高温保持１００℃、３０分間、低温保持−４０℃、３０分間のサイクルを１００サイクル行った後、サンプルを観察した。試験後、目視で変化が無ければ○、クラックが入ったり、パッケージとの間に剥離が起きたりした場合は×とした。
【０１５５】
（透湿性試験用サンプル作成）
（本発明では、得られた硬化物のガスバリア性の指標として、硬化物の透湿度を用いた。すなわち、透湿度が低いことはガスバリア性が高いことと同義となる。）多面体構造ポリシロキサン系組成物を型に充填し、対流式オーブンで８０℃×２時間、１００℃×１時間、１５０℃×５時間熱硬化させて、５ｃｍ角、厚さ２ｍｍのサンプルを作成した。このサンプルを室温２５℃、湿度５５％ＲＨの環境で２４時間養生した。
【０１５６】
(透湿性試験)
５ｃｍ角の板ガラス（０．５ｍｍ厚）の上部に５ｃｍ角のポリイソブチレンゴムシート（３ｍｍ厚、ロの字型になるように内部の３ｃｍ角を切り取ったもの）を固定した治具を作製し、和光純薬工業製塩化カルシウム（水分測定用）１ｇをロの字型内に充填する。さらに上部に、上記の５ｃｍ角、厚さ２ｍｍのサンプルを固定し、これを試験体とする。試験体を恒温恒湿機（エスペック製 ＰＲ‐２ＫＰ）内で温度４０℃、湿度９０％ＲＨで２４時間養生し、下記計算式（２）
透湿度（ｇ／ｍ2／ｄａｙ）＝[（透湿性試験後の試験体総重量（ｇ））−（透湿性試験前の試験体総重量（ｇ））]×１００００／９ （２）
に従って透湿度（水蒸気透過率）を算出した。
【０１５７】
（硫化水素試験)
株式会社エノモト製ＬＥＤパッケージ（品名：ＴＯＰ ＬＥＤ １−ＩＮ−１）に多面体構造ポリシロキサン系組成物を注入し、対流式オーブンで８０℃×２時間、１００℃×１時間、１５０℃×５時間熱硬化させてサンプルを作成した。このサンプルを、フロー式ガス腐食試験機（ファクトケイ製ＫＧ１３０Ｓ）内に入れ、４０℃、８０％ＲＨ、硫化水素３ｐｐｍの条件下で、９６時間、硫化水素暴露試験を行った。試験後、パッケージのリフレクターが変色していなければ○、わずかに変色が見られた場合は△、変色している場合は×とした。
【０１５８】
（蛍光体沈降試験）
多面体構造ポリシロキサン系組成物５ｇに蛍光体（インテマティックス製Ｙ３９５７）０．０５ｇを添加し、よく掻き混ぜた後、静置した。１時間後に観察し、蛍光体が分散したままである場合は○、沈降が観られた場合は×とした。
【０１５９】
（製造例１）
４８％コリン水溶液（トリメチル−２ヒドロキシエチルアンモニウムハイドロオキサイド水溶液）１２６２ｇにテトラエトキシシラン１０８３ｇを加え、室温で２時間激しく攪拌した。反応系内が発熱し、均一溶液になった段階で、攪拌を緩め、さらに１２時間反応させた。次に、反応系内に生成した固形物に、メタノール１０００ｍＬを加え、均一溶液とした。
【０１６０】
ジメチルビニルクロロシラン５３７ｇ、トリメチルシリクロリド６４５ｇおよびヘキサン１９４２ｍＬの溶液を激しく攪拌しながら、メタノール溶液をゆっくりと滴下した。滴下終了後、１時間反応させた後、有機層を抽出、濃縮することにより、固形物を得た。次に、生成した固形物をメタノール中で激しく攪拌することにより洗浄し、ろ別することにより、Ｓｉ原子１６個と、ビニル基３個を有するアルケニル基含有多面体構造ポリシロキサン系化合物であるトリス（ビニルジメチルシロキシ）ペンタキス（トリメチルシロキシ）オクタシルセスキオキサン（Ｆｗ＝１１６６．２）を白色固体として５９２ｇ得た。
【０１６１】
（製造例２）
製造例１で得られたアルケニル基含有多面体構造ポリシロキサン系化合物３０ｇをトルエン６０ｇで溶解させ、さらに白金ビニルシロキサン錯体のキシレン溶液（白金として３ｗｔ％含有する白金ビニルシロキサン錯体、ユミコアプレシャスメタルズジャパン製、Ｐｔ−ＶＴＳＣ−３Ｘ）４．２μＬを溶解させた。このようにして得られた溶液を、１、３、５、７−テトラハイドロジェン−１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサン４５．０ｇ（使用したアルケニル基含有多面体構造ポリシロキサン系化合物のアルケニル基１個に対し、ヒドロシリル基１０個となる量）とトルエン２２．５ｇの混合溶液に滴下し、１０５℃で２時間加温した。この溶液を1Ｈ−ＮＭＲ測定すると、アルケニル基を有する多面体構造ポリシロキサン系化合物由来のアルケニル基が消失している事を確認した。反応終了後、トルエンと未反応成分を留去した後、再度トルエン４５ｇを加えて生成物を溶解させた。この溶液に、さらに別途準備したビニルジフェニルメチルシラン１６．５ｇ（使用した１，３，５，７−テトラハイドロジェン−１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサンのヒドロシリル基１個に対し、アルケニル基０．９６個となる量）をトルエン１６．５ｇの溶液を滴下させ、１０５℃で２時間加温した。この溶液を1Ｈ−ＮＭＲ測定すると、ビニルジフェニルメチルシラン由来のビニル基が消失している事を確認した。溶解、室温まで冷却した後に、トルエンを留去することにより、液状の多面体構造ポリシロキサン変性体６０．３ｇ（ＳｉＨ価１．５６ｍｏｌ／ｋｇ）を得た。
【０１６２】
（製造例３）
製造例１で得られたアルケニル基含有多面体構造ポリシロキサン系化合物３０ｇ、およびビニル時フェニルメチルシラン２０ｇ（使用した１，３，５，７−テトラハイドロジェン−１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサンのヒドロシリル基１個に対し、アルケニル基０．２９個となる量）をトルエン１００ｇに溶解させ、白金ビニルシロキサン錯体のキシレン溶液（白金として３ｗｔ％含有する白金ビニルシロキサン錯体、ユミコアプレシャスメタルズジャパン製、Ｐｔ−ＶＴＳＣ−３Ｘ）６．２μＬを加えた。このようにして得られた溶液を、１，３，５，７−テトラハイドロジェン−１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサン１８．５ｇ（使用したトリス（ビニルジメチルシロキシ）ペンタキス（トリメチルシロキシ）オクタシルセスキオキサンのアルケニル基１個に対し、ヒドロシリル基４．０個となる量）、トルエン１８．５ｇの溶液にゆっくりと滴下し、１０５℃で２時間反応させた。反応終了後、エチニルシクロヘキサノール１２．０μｌ、マレイン酸ジメチル２．７６μｌを加え、トルエンと未反応成分を留去することにより、液状の多面体構造ポリシロキサン変性体６８．０ｇ（ＳｉＨ価１．６５ｍｏｌ／ｋｇ）を得た。
【０１６３】
（実施例１）
製造例２で得た多面体構造ポリシロキサン変性体５．００ｇに、１，２−ジビニルベンゼン（重量平均分子量１３０）０．４０ｇを加え、さらに、エチニルシクロヘキサノールを０．２１μｌ、マレイン酸ジメチルを０．１μｌ添加し撹拌した後、遊星式攪拌脱泡機にて攪拌・脱泡を行い、オルガノポリシロキサン系組成物を得た。このようにして得られたオルガノポリシロキサン系組成物を用いて、前述の各試験法に従い評価した。その結果を表１に記載した。
【０１６４】
（実施例２）
製造例２で得た多面体構造ポリシロキサン変性体５．００ｇに、ジビニルジメチルシラン（重量平均分子量１１２）０．３５ｇを加え、さらに、エチニルシクロヘキサノールを０．２１μｌ、マレイン酸ジメチルを０．１μｌ添加し撹拌した後、遊星式攪拌脱泡機にて攪拌・脱泡を行い、オルガノポリシロキサン系組成物を得た。このようにして得られたオルガノポリシロキサン系組成物を用いて、前述の各試験法に従い評価した。その結果を表１に記載した。
【０１６５】
（実施例３）
製造例２で得た多面体構造ポリシロキサン変性体５．００ｇに、１，４−ビス（ビニルジメチルシリル）ベンゼン（重量平均分子量２４８）０．６４ｇを加え、良く混合することによりオルガノポリシロキサン系組成物を得た。このようにして得られたオルガノポリシロキサン系組成物を用いて、前述の各試験法に従い評価した。その結果を表１に記載した。
【０１６６】
（実施例４）
製造例３で得た多面体構造ポリシロキサン変性体５．００ｇに、１，４−ビス（ビニルジメチルシリル）ベンゼン（重量平均分子量２４８）０．６８ｇを加え、良く混合することによりオルガノポリシロキサン系組成物を得た。このようにして得られたオルガノポリシロキサン系組成物を用いて、前述の各試験法に従い評価した。その結果を表１に記載した。
【０１６７】
（実施例５）
製造例２で得た多面体構造ポリシロキサン変性体５．００ｇに、２，２−ビス（４−ビニルジメチルシロキシフェニレン）プロパン（重量平均分子量３９８）１．０３ｇ、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン０．１５ｇ加え、撹拌した。さらに、エチニルシクロヘキサノールを０．１５μｌ、マレイン酸ジメチルを０．０７μｌ添加し撹拌した後、遊星式攪拌脱泡機にて攪拌・脱泡を行い、オルガノポリシロキサン系組成物を得た。このようにして得られたオルガノポリシロキサン系組成物を用いて、前述の各試験法に従い評価した。その結果を表１に記載した。
【０１６８】
（実施例６）
製造例２で得た多面体構造ポリシロキサン変性体５．００ｇに、１，４−ビス（ビニルジメチルシロキシ）ベンゼン（重量平均分子量２８０）０．７３ｇ、を加え、良く混合することによりオルガノポリシロキサン系組成物を得た。このようにして得られたオルガノポリシロキサン系組成物を用いて、前述の各試験法に従い評価した。その結果を表１に記載した。
【０１６９】
（比較例１）
製造例１で得られたアルケニル基含有多面体構造ポリシロキサン系化合物であるトリス（ビニルジメチルシロキシ）ペンタキス（トリメチルシロキシ）オクタシルセスキオキサン５．００ｇをトルエン１０．０ｇに溶解させ、白金ビニルシロキサン錯体のキシレン溶液（白金として３ｗｔ％含有する白金ビニルシロキサン錯体、ユミコアプレシャスメタルズジャパン製、Ｐｔ−ＶＴＳＣ−３Ｘ）０．４７μＬを加えた。このようにして得られた溶液を、１，３，５，７−テトラハイドロジェン−１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサン３．０９ｇ、トルエン３．０９ｇ（使用したトリス（ビニルジメチルシロキシ）ペンタキス（トリメチルシロキシ）オクタシルセスキオキサンのアルケニル基１個に対し、ヒドロシリル基４．０個となる量）の溶液にゆっくりと滴下し、１０５℃で２時間反応させた。反応終了後、エチニルシクロヘキサノール１．９９μｌ、マレイン酸ジメチル０．４６μｌを加え、トルエンと未反応成分を留去することにより、液状の変性体７．８ｇ（ＳｉＨ価３．７８ｍｏｌ／ｋｇ）を得た。
【０１７０】
得られた変性体に、１，４−ビス（ビニルジメチルシリル）ベンゼン（重量平均分子量２４８）０．６８ｇを加え、良く混合することによりポリシロキサン系組成物を得た。このようにして得られた組成物を用いて、上述の各種評価を行い、その結果を表１に記載した。
【０１７１】
（比較例２）
製造例２で得られた液状の変性体１２．１ｇ（ＳｉＨ価１．２０ｍｏｌ／ｋｇ）に、ビニル基を両末端に含有する直鎖状ポリジメチルシロキサン（クラリアント製、商品名ＭＶＤ８Ｖ、重量平均分子量７８０、Ｖｉ価数２．５６ｍｏｌ／ｋｇ）８．３３ｇを加え、良く混合することによりポリシロキサン系組成物を得た。このようにして得られた組成物を用いて、前述の各試験法に従い評価した。その結果を表１に記載した。
【０１７２】
【表１】
【０１７３】
表１に示すように、本発明の多面体構造シロキサン系組成物は、高い耐熱性、耐光性を有し、耐冷熱衝撃性およびガスバリア性に優れ、かつ、光半導体素子を封止する際のハンドリング性が良好な粘度を有している。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）アルケニル基を有する多面体構造ポリシロキサン系化合物（ａ）、ヒドロシリル基を有する化合物（ｂ）、１分子中にアルケニル基を１個有する有機ケイ素化合物（ｃ）とをヒドロシリル化反応することで得られる多面体構造ポリシロキサン変性体、
（Ｂ）アルケニル基を２個以上含有する化合物、
からなるオルガノポリシロキサン系組成物であって、
前記（Ｂ）成分が、一般式（１）で表される化合物、一般式（２）で表される化合物、一般式（３）で表される化合物、一般式（４）で表される化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種であることを特徴とするオルガノポリシロキサン系組成物。
一般式（１）
ＲIaＲII （１）
（ＲIはアルケニル基、ＲIIは２価以上の脂環式炭化水素基、または２価以上の芳香族炭化水素基、ａ≧２）
一般式（２）
ＲIaＲIIIbＳｉ （２）
（ＲIはアルケニル基、ＲIIIはアルケニル基以外の１価の脂肪族炭化水素基、または１価の脂環式炭化水素基、または１価の芳香族炭化水素基であり、同一であっても異なっていてもよい、ａ≧２、ｂ＝０〜２の整数、ａ＋ｂ＝４）
一般式（３）
（ＲIaＲIIIbＳｉ）n（ＲIcＲIIIdＳｉ）mＲIV （３）
（ＲIはアルケニル基、ＲIIIはアルケニル基以外の１価の脂肪族炭化水素基、または１価の脂環式炭化水素基、または１価の芳香族炭化水素基であり、同一であっても異なっていてもよい、ＲIVは２価以上の炭化水素基、ａ≧１、ｃ≧１、ｂ＝０〜２の整数、ｄ＝０〜２の整数、ａ＋ｂ＝ｃ＋ｄ＝３、ｎ＋ｍ≧２）
一般式（４）
（ＲIaＲIIIbＳｉＯ）n（ＲIcＲIIIdＳｉＯ）mＲIV （４）
（ＲIはアルケニル基、ＲIIIはアルケニル基以外の１価の脂肪族炭化水素基、または１価の脂環式炭化水素基、または１価の芳香族炭化水素基であり、同一であっても異なっていてもよい、ＲIVは２価以上の炭化水素基、ａ≧１、ｃ≧１、ｂ＝０〜２の整数、ｄ＝０〜２の整数、ａ＋ｂ＝ｃ＋ｄ＝３、ｎ＋ｍ≧２）
【請求項２】
前記（Ｂ）成分が、平均分子量２０００以下の化合物であることを特徴とする請求項１に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【請求項３】
前記（Ｂ）成分のＲIVが、下記構造で表される２価の炭化水素基であることを特徴とする請求項１または２に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【化１】
【化２】
【化３】
【化４】
【化５】
【請求項４】
多面体構造ポリシロキサン変性体（Ａ）が、温度２０℃において、液状であることを特徴とする、請求項１に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【請求項５】
１分子中にアルケニル基を１個有する有機ケイ素化合物（ｃ）が、アリール基を１個以上有する有機ケイ素化合物であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【請求項６】
ヒドロシリル基を有する化合物（ｂ）が、ヒドロシリル基を有する環状シロキサン、および／または直鎖状シロキサンであることを特徴とする、請求項１〜５のいずれか１項に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【請求項７】
アルケニル基を有する多面体構造ポリシロキサン系化合物（ａ）が、式
[ＡＲ12ＳｉＯ−ＳｉＯ3/2]a[Ｒ23ＳｉＯ−ＳｉＯ3/2]b
（ａ＋ｂは６〜２４の整数、ａは１以上の整数、ｂは０または１以上の整数；Ａは、アルケニル基；Ｒ1は、アルキル基またはアリール基；Ｒ2は、水素原子、アルキル基、アリール基、または、他の多面体骨格ポリシロキサンと連結している基）
で表されるシロキサン単位から構成されるアルケニル基を有する多面体構造ポリシロキサン系化合物であることを特徴とする、請求項１〜６のいずれか１項に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【請求項８】
多面体構造ポリシロキサン変性体（Ａ）が、式
[ＸＲ32ＳｉＯ−ＳｉＯ3/2]a[Ｒ43ＳｉＯ−ＳｉＯ3/2]b
［ａ＋ｂは６〜２４の整数、ａは１以上の整数、ｂは０または１以上の整数；Ｒ3は、アルキル基またはアリール基；Ｒ4は、アルケニル基、水素原子、アルキル基、アリール基、または、他の多面体骨格ポリシロキサンと連結している基、Ｘは、下記一般式（１）あるいは一般式（２）のいずれかの構造を有し、Ｘが複数ある場合は一般式（１）、あるいは一般式（２）の構造が異なっていても良く、また、一般式（１）、あるいは一般式（２）の構造が混在していても良い。Ｘは、一般式（１）および／または一般式（２）を少なくとも１つ有する。
【化６】
【化７】
｛ｌは２以上の整数；ｍは０以上の整数；ｎは２以上の整数；Ｒは、アルキル基またはアリール基；ＹおよびＺは水素原子、アルケニル基、アルキル基、アリール基、もしくは、アルキレン鎖を介して多面体構造ポリシロキサンと結合している部位であり、同一であっても異なっていてもよい。；ただし、ＹあるいはＺの少なくとも１つは水素原子であり、少なくとも１つは下記一般式（３）の構造を有する。
【化８】
（ｌは０以上の整数；Ｒ5は有機ケイ素化合物を含有する基）｝］
で表されるシロキサン単位から構成される多面体構造ポリシロキサン変性体であることを特徴とするオルガノポリシロキサン系組成物。
【請求項９】
Ｒ5がアリール基を１個以上含有することを特徴とする請求項８に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【請求項１０】
温度２３℃において、１Ｐａ・ｓ以上の粘度を有することを特徴とする、請求項１〜９のいずれか１項に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【請求項１１】
ヒドロシリル化触媒を含有することを特徴とする、請求項１〜１０のいずれか１項に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【請求項１２】
硬化遅延剤を含有することを特徴とする、請求項１〜１１のいずれか１項に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【請求項１３】
請求項１〜１２のいずれか１項に記載のオルガノポリシロキサン系組成物を硬化させてなる硬化物。
【請求項１】
（Ａ）アルケニル基を有する多面体構造ポリシロキサン系化合物（ａ）、ヒドロシリル基を有する化合物（ｂ）、１分子中にアルケニル基を１個有する有機ケイ素化合物（ｃ）とをヒドロシリル化反応することで得られる多面体構造ポリシロキサン変性体、
（Ｂ）アルケニル基を２個以上含有する化合物、
からなるオルガノポリシロキサン系組成物であって、
前記（Ｂ）成分が、一般式（１）で表される化合物、一般式（２）で表される化合物、一般式（３）で表される化合物、一般式（４）で表される化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種であることを特徴とするオルガノポリシロキサン系組成物。
一般式（１）
ＲIaＲII （１）
（ＲIはアルケニル基、ＲIIは２価以上の脂環式炭化水素基、または２価以上の芳香族炭化水素基、ａ≧２）
一般式（２）
ＲIaＲIIIbＳｉ （２）
（ＲIはアルケニル基、ＲIIIはアルケニル基以外の１価の脂肪族炭化水素基、または１価の脂環式炭化水素基、または１価の芳香族炭化水素基であり、同一であっても異なっていてもよい、ａ≧２、ｂ＝０〜２の整数、ａ＋ｂ＝４）
一般式（３）
（ＲIaＲIIIbＳｉ）n（ＲIcＲIIIdＳｉ）mＲIV （３）
（ＲIはアルケニル基、ＲIIIはアルケニル基以外の１価の脂肪族炭化水素基、または１価の脂環式炭化水素基、または１価の芳香族炭化水素基であり、同一であっても異なっていてもよい、ＲIVは２価以上の炭化水素基、ａ≧１、ｃ≧１、ｂ＝０〜２の整数、ｄ＝０〜２の整数、ａ＋ｂ＝ｃ＋ｄ＝３、ｎ＋ｍ≧２）
一般式（４）
（ＲIaＲIIIbＳｉＯ）n（ＲIcＲIIIdＳｉＯ）mＲIV （４）
（ＲIはアルケニル基、ＲIIIはアルケニル基以外の１価の脂肪族炭化水素基、または１価の脂環式炭化水素基、または１価の芳香族炭化水素基であり、同一であっても異なっていてもよい、ＲIVは２価以上の炭化水素基、ａ≧１、ｃ≧１、ｂ＝０〜２の整数、ｄ＝０〜２の整数、ａ＋ｂ＝ｃ＋ｄ＝３、ｎ＋ｍ≧２）
【請求項２】
前記（Ｂ）成分が、平均分子量２０００以下の化合物であることを特徴とする請求項１に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【請求項３】
前記（Ｂ）成分のＲIVが、下記構造で表される２価の炭化水素基であることを特徴とする請求項１または２に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【化１】
【化２】
【化３】
【化４】
【化５】
【請求項４】
多面体構造ポリシロキサン変性体（Ａ）が、温度２０℃において、液状であることを特徴とする、請求項１に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【請求項５】
１分子中にアルケニル基を１個有する有機ケイ素化合物（ｃ）が、アリール基を１個以上有する有機ケイ素化合物であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【請求項６】
ヒドロシリル基を有する化合物（ｂ）が、ヒドロシリル基を有する環状シロキサン、および／または直鎖状シロキサンであることを特徴とする、請求項１〜５のいずれか１項に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【請求項７】
アルケニル基を有する多面体構造ポリシロキサン系化合物（ａ）が、式
[ＡＲ12ＳｉＯ−ＳｉＯ3/2]a[Ｒ23ＳｉＯ−ＳｉＯ3/2]b
（ａ＋ｂは６〜２４の整数、ａは１以上の整数、ｂは０または１以上の整数；Ａは、アルケニル基；Ｒ1は、アルキル基またはアリール基；Ｒ2は、水素原子、アルキル基、アリール基、または、他の多面体骨格ポリシロキサンと連結している基）
で表されるシロキサン単位から構成されるアルケニル基を有する多面体構造ポリシロキサン系化合物であることを特徴とする、請求項１〜６のいずれか１項に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【請求項８】
多面体構造ポリシロキサン変性体（Ａ）が、式
[ＸＲ32ＳｉＯ−ＳｉＯ3/2]a[Ｒ43ＳｉＯ−ＳｉＯ3/2]b
［ａ＋ｂは６〜２４の整数、ａは１以上の整数、ｂは０または１以上の整数；Ｒ3は、アルキル基またはアリール基；Ｒ4は、アルケニル基、水素原子、アルキル基、アリール基、または、他の多面体骨格ポリシロキサンと連結している基、Ｘは、下記一般式（１）あるいは一般式（２）のいずれかの構造を有し、Ｘが複数ある場合は一般式（１）、あるいは一般式（２）の構造が異なっていても良く、また、一般式（１）、あるいは一般式（２）の構造が混在していても良い。Ｘは、一般式（１）および／または一般式（２）を少なくとも１つ有する。
【化６】
【化７】
｛ｌは２以上の整数；ｍは０以上の整数；ｎは２以上の整数；Ｒは、アルキル基またはアリール基；ＹおよびＺは水素原子、アルケニル基、アルキル基、アリール基、もしくは、アルキレン鎖を介して多面体構造ポリシロキサンと結合している部位であり、同一であっても異なっていてもよい。；ただし、ＹあるいはＺの少なくとも１つは水素原子であり、少なくとも１つは下記一般式（３）の構造を有する。
【化８】
（ｌは０以上の整数；Ｒ5は有機ケイ素化合物を含有する基）｝］
で表されるシロキサン単位から構成される多面体構造ポリシロキサン変性体であることを特徴とするオルガノポリシロキサン系組成物。
【請求項９】
Ｒ5がアリール基を１個以上含有することを特徴とする請求項８に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【請求項１０】
温度２３℃において、１Ｐａ・ｓ以上の粘度を有することを特徴とする、請求項１〜９のいずれか１項に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【請求項１１】
ヒドロシリル化触媒を含有することを特徴とする、請求項１〜１０のいずれか１項に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【請求項１２】
硬化遅延剤を含有することを特徴とする、請求項１〜１１のいずれか１項に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【請求項１３】
請求項１〜１２のいずれか１項に記載のオルガノポリシロキサン系組成物を硬化させてなる硬化物。
【公開番号】特開２０１３−５７０３２（Ｐ２０１３−５７０３２Ａ）
【公開日】平成２５年３月２８日（２０１３．３．２８）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−１９７２１１（Ｐ２０１１−１９７２１１）
【出願日】平成２３年９月９日（２０１１．９．９）
【出願人】（００００００９４１）株式会社カネカ (3,932)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２５年３月２８日（２０１３．３．２８）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年９月９日（２０１１．９．９）
【出願人】（００００００９４１）株式会社カネカ (3,932)
【Ｆターム（参考）】
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