【課題】高い導電性を有する導電性パターン、透光性導電性膜を提供することであり、また高いＥＭＩシールド性と高い透明性とを同時に有する、モアレのない透過性電磁波シールド膜を提供することであって、細線状パターンの形成が容易であり、しかも安価で大量に製造できる光透過性電磁波シールド膜の製造方法、また、上記透光性電磁波シールド膜を含んでなるプラズマディスプレイパネル用透光性電磁波シールド膜およびプラズマディスプレイパネル、さらに透明導電性シート、およびエレクトロルミネッセンス素子を提供することにある。
【解決手段】銀塩含有層を有する感光材料を露光し現像し、更に物理現像および／またはメッキ処理を行う工程を含むことを特徴とする導電性パターン材料。

【特許請求の範囲】
【請求項１】
銀を含むことを特徴とする導電性パターン材料。
【請求項２】
さらに銅を含むことを特徴とする請求項１記載の導電性パターン材料。
【請求項３】
さらにゼラチンを含むことを特徴とする請求項２記載の導電性パターン材料。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載の導電性パターン材料からなることを特徴とする透光性導電性膜。
【請求項５】
表面抵抗が１０Ω／ｓｑ以下であることを特徴とする、請求項４記載の透光性導電性膜。
【請求項６】
表面抵抗が１Ω／ｓｑ以下であることを特徴とする、請求項４または５記載の透光性導電性膜。
【請求項７】
表面抵抗が０．５Ω／ｓｑ以下であることを特徴とする、請求項４〜６のいずれかに記載の透光性導電性膜。
【請求項８】
表面抵抗が０．１Ω／ｓｑ以下であることを特徴とする、請求項４〜７のいずれかに記載の透光性導電性膜。
【請求項９】
導電性金属の抵抗率が２．５μΩｃｍ以下であることを特徴とする、請求項４〜８のいずれかに記載の透光性導電性膜。
【請求項１０】
ヘイズが１０％以下であることを特徴とする、請求項４〜９のいずれかに記載の透光性導電性膜。
【請求項１１】
光透過性部の透過率が９５％以上であることを特徴とする、請求項４〜１０のいずれかに記載の透光性導電性膜。
【請求項１２】
上記導電性パターンが格子状のメッシュであることを特徴とする、請求項４〜１１のいずれかに記載の透光性導電性膜。
【請求項１３】
開口率が８０％以上であることを特徴とする、請求項４〜１２のいずれかに記載の透光性導電性膜。
【請求項１４】
金属部の線幅１μｍ以上２０μｍ以下の格子状のメッシュであることを特徴とする、請求項４〜１３のいずれかに記載の透光性導電性膜。
【請求項１５】
金属部の厚み１μｍ以上２０μｍ以下の格子状のメッシュであることを特徴とする、請求項４〜１４のいずれかに記載の透光性導電性膜。
【請求項１６】
格子のピッチが４０μｍ以上９００μｍ以下であることを特徴とする、請求項４〜１５のいずれかに記載の透光性導電性膜。
【請求項１７】
メッシュを構成する線の交点における交点太り率が２．０以下であることを特徴とす
る、請求項４〜１６のいずれかに記載の透光性導電性膜。
【請求項１８】
粘着剤層または接着剤層を有することを特徴とする、請求項４〜１７のいずれかに記載の透光性導電性膜。
【請求項１９】
剥離可能な保護フィルムを有することを特徴とする、請求項４〜１８のいずれかに記載の透光性導電性膜。
【請求項２０】
前記導電性金属部の該メッシュパターンが３ｍ以上連続していることを特徴とする、請求項４〜１９のいずれかに記載の透光性導電性膜。
【請求項２１】
請求項４〜２０のいずれかに記載の透光性導電性膜からなることを特徴とする透光性電磁波シールド膜。
【請求項２２】
周波数３０ＭＨｚ〜３００ＭＨｚの電磁波に対するシールド能が３０ｄＢ以上であることを特徴とする、請求項２１記載の透光性電磁波シールド膜。
【請求項２３】
請求項２１または２２記載の電磁波シールド膜を有することを特徴とする、ディスプレイ用フィルター。
【請求項２４】
請求項２１または２２記載の電磁波シールド膜を有することを特徴とする、プラズマディスプレイパネル用フィルター。
【請求項２５】
赤外線遮蔽性、ハードコート性、反射防止性、妨眩性、静電気防止性、防汚性、紫外線カット性、ガスバリア性、表示パネル破損防止性、からいずれか１つ以上選ばれる機能を有している機能性透明層を有する、請求項２１または２２に記載の透光性電磁波シールド膜を有する、ディスプレイ用フィルターまたはプラズマディスプレイパネル用フィルター。
【請求項２６】
赤外線遮蔽性を有することを特徴とする、請求項２１または２２記載の電磁波シールド膜を有するディスプレイ用フィルターまたはプラズマディスプレイパネル用フィルター。
【請求項２７】
請求項２１〜２３のいずれかに記載の電磁波シールド膜またはディスプレイ用フィルターを有することを特徴とする、プラズマディスプレイパネル。
【請求項２８】
前記請求項１〜３のいずれかに記載の導電性パターン材料からなることを特徴とする電極。
【請求項２９】
前記請求項１〜３のいずれかに記載の導電性パターン材料からなることを特徴とする配線。
【請求項３０】
前記請求項１〜３のいずれかに記載の導電性パターン材料からなることを特徴とするプリント配線板。
【請求項３１】
銀塩含有層を有する感光材料を露光し現像処理する工程を含む、請求項１〜２２のいずれかに記載の導電性パターン材料、透光性導電性膜、または透光性電磁波シールド膜の製造方法。
【請求項３２】
銀塩含有層を有する感光材料を露光し現像処理し、更に物理現像および／またはメッキ処理を行うことを特徴とする、請求項３１に記載の導電性パターン材料、透光性導電性膜、または透光性電磁波シールド膜の製造方法。
【請求項３３】
銀塩がハロゲン化銀であることを特徴とする、請求項３１または３２に記載の、導電性パターン材料、透光性導電性膜、または透光性電磁波シールド膜の製造方法。
【請求項３４】
透明導電膜と、前記導電性パターン材料とを含む導電性面を有することを特徴とする透光性導電性シート。
【請求項３５】
導電性面の平滑性（凹凸）が、５μｍ以下であることを特徴とする請求項３４に記載の透光性導電性シート。
【請求項３６】
光の透過率が、波長５５０ｎｍの光に対して９０％以上であることを特徴とする請求項３４または３５に記載の透光性導電性シート。
【請求項３７】
透明導電膜の表面抵抗率が、１００Ω／□以上であり、透明導電性シートの表面抵抗率が、０．１Ω／□以上１０Ω／□以下であることを特徴とする請求項３４ないし３６のいずれか一項に記載の透光性導電性シート。
【請求項３８】
請求項３４ないし３７のいずれか一項に記載の透光性導電性シートを有し、平均粒子径が、０．１μｍ以上１５μｍ以下である蛍光体粒子を含有することを特徴とするエレクトロルミネッセンス素子。
【請求項３９】
透光性導電性フィルムを有するエレクトロルミネッセンス素子において、該透光性導電性フィルムが透明な金属酸化物および／または有機物の導電性膜と網目状金属細線を有することを特徴とするエレクトロルミネッセンス素子。
【請求項４０】
透光性導電性フィルムを有するエレクトロルミネッセンス素子において、該透光性導電性フィルムが透明な金属酸化物および／または有機物の導電性膜とストライプ状金属細線を有することを特徴とするエレクトロルミネッセンス素子。
【請求項４１】
前記透光性導電性フィルムの表面抵抗率が、０．１Ω／□〜１００Ω／□であることを特徴とする請求項３９又は４０に記載のエレクトロルミネッセンス素子。
【請求項４２】
蛍光染料、酸化防止剤および紫外線吸収剤をそれぞれ少なくとも一種含有することを特徴とする請求項３９〜４１のいずれか一項に記載のエレクトロルミネッセンス素子。
【請求項４３】
蛍光体粒子を含有し、その平均球相当径が、０．１μｍ〜１５μｍであることを特徴とする請求項３９〜４２のいずれか一項に記載のエレクトロルミネッセンス素子。
【請求項４４】
０．２５ｍ²以上の発光面積を有することを特徴とする請求項３９〜４３のいずれか一項に記載のエレクトロルミネッセンス素子。
【請求項４５】
請求項３９〜４４のいずれか一項に記載のエレクトロルミネッセンス素子を５００Ｈｚ以上５ＫＨｚ以下の交流電界で駆動することを特徴とする平面光源システム。

【図１】

【図２−１】

【図２−２】

【図２−３】

【図２−４】

【図３−１】

【図３−２】

【図３−３】

【図３−４】

【図４−１】

【図４−２】

【図４−３】

【図４−４】

【図５】

【図６】

【公開番号】特開２００６−３５２０７３（Ｐ２００６−３５２０７３Ａ）
【公開日】平成１８年１２月２８日（２００６．１２．２８）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００６−３０２３７（Ｐ２００６−３０２３７）
【出願日】平成１８年２月７日（２００６．２．７）
【出願人】（０００００５２０１）富士フイルムホールディングス株式会社 (7,609)
【Ｆターム（参考）】