導電性フィルム
【課題】 透明導電性塗膜層に導電性高分子を用いていながら、ＩＴＯを積層した導電性フィルムと同等の優れた透明性、導電性、接触抵抗を有する導電性フィルムを提供すること。
【解決手段】 基材フィルムの少なくとも片面に、下記一般式
（式中、Ｒ１およびＲ２は相互に独立して水素または炭素数１〜４のアルキル基を表すか、あるいは一緒になって任意に置換されてもよい炭素数１〜１２のアルキレン基を表す）で表される繰り返し単位からなるポリカチオン状のポリチオフェンとポリアニオンとからなる導電性高分子を含有する透明導電性塗膜を設け、全光線透過率が７０％以上、表面抵抗率が１０〜１×１０４Ω／□でかつ接触抵抗値との比が６以下である導電性フィルムを得る。
【解決手段】 基材フィルムの少なくとも片面に、下記一般式
（式中、Ｒ１およびＲ２は相互に独立して水素または炭素数１〜４のアルキル基を表すか、あるいは一緒になって任意に置換されてもよい炭素数１〜１２のアルキレン基を表す）で表される繰り返し単位からなるポリカチオン状のポリチオフェンとポリアニオンとからなる導電性高分子を含有する透明導電性塗膜を設け、全光線透過率が７０％以上、表面抵抗率が１０〜１×１０４Ω／□でかつ接触抵抗値との比が６以下である導電性フィルムを得る。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、透明性および導電性に優れた導電性フィルムに関するものである。さらに詳しくは、表面抵抗率と接触抵抗との比が改善された、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、透明タッチパネル、有機エレクトロルミネッセンス素子、無機エレクトロルミネッセンスランプ等の透明電極として好適な透明導電性フィルムに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、液晶ディスプレイ、透明タッチパネル等の透明電極や電磁波シールド材として透明導電性フィルムが好適に用いられている。かかる透明導電性フィルムとしては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等の透明フィルム表面の少なくとも片面に、酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）、酸化錫（ＳｎＯ２）、Ｉｎ２Ｏ３とＳｎＯ２の混合焼結体（ＩＴＯ）等を、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等のドライプロセスによって設けたものがよく知られている。
【０００３】
しかし、通常透明導電性フィルムは、ウェブ状での連続加工や打ち抜き加工があり、また、表面加工中も曲げられた状態で用いられたり、また保管されたりするため、上記ドライプロセスにより得られる透明導電性フィルムは、該加工工程や保管している間にクラックが発生して、表面抵抗が増大したりすることがあった。
【０００４】
一方、透明基材フィルムの上に導電性高分子を塗布すること（ウエットプロセス）によって形成される透明導電塗膜層は、膜自体に柔軟性があり、クラックなどの問題は生じがたい。また、導電性高分子を塗布することによって透明導電性フィルムを得る方法は、ドライプロセスとは異なって製造コストが比較的安く、またコーティングスピードも一般的に速いので生産性に優れるという利点もある。このような導電性高分子の塗布によって得られる透明導電性フィルムは、これまで一般的に用いられてきたポリチオフェン、ポリアニリン、ポリピロール等は、開発の初期段階では高い導電性が得られないため、帯電防止用途などに使用が限定されていたり、導電塗膜層自体の色相が問題となったりしていた。しかし、最近では製法の改良などによりこれらの問題も改善されてきている。例えば、３，４−ジアルコキシチオフェンをポリアニオン存在下で酸化重合することによって得られるポリ（３，４−ジアルコキシチオフェン）とポリアニオンとからなる導電性高分子（特許文献１）は、近年の製法の改良（特許文献２および特許文献３）などにより、高い光線透過率を保ったまま非常に低い表面抵抗を発現している。
【０００５】
しかしながら、かかる導電性高分子を透明導電塗膜層とした透明導電性フィルムは、塗膜の表層近辺に導電性に寄与しないポリアニオン成分が多く存在するため、例えばタッチパネル用の基材として使用した場合、接触抵抗が高いために誤操作の原因となる等の問題がある。また、有機エレクトロルミネッセンス素子、無機エレクトロルミネッセンスランプ等の透明電極として使用した場合でも、所定の導電性が得られないなどの問題がある。
【０００６】
【特許文献１】特開平１−３１３５２１号公報
【特許文献２】特開２００２−１９３９７２号公報
【特許文献３】特開２００３−２８６３３６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、上記背景技術を鑑みなされたもので、その目的とするところは、導電性高分子を用いていながら、透明性および導電性に優れ、しかも、ＩＴＯを積層したものと同等以上に優れた導電性フィルムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは、上記課題を達成するために種々鋭意検討した結果、ポリカチオン状のポリチオフェンとポリアニオンとからなる導電性高分子を用いると共に、表面抵抗率と接触抵抗値との比を特定すれば、例えばタッチパネル用の基材として使用した場合の誤操作を抑制でき、また有機エレクトロルミネッセンス素子、無機エレクトロルミネッセンスランプ等の透明電極として使用した場合でも、所望の電導性を発現させ得ることを見出し、本発明に到達した。
【０００９】
かくして本発明によれば、「基材フィルムの少なくとも片面に、下記一般式
【化１】
（式中、Ｒ１およびＲ２は相互に独立して水素または炭素数１〜４のアルキル基を表すか、あるいは一緒になって任意に置換されてもよい炭素数１〜１２のアルキレン基を表す）
で表される繰り返し単位からなるポリカチオン状のポリチオフェンとポリアニオンとからなる導電性高分子を構成成分とする透明導電性塗膜が設けられた導電性フィルムであって、その全光線透過率が７０％以上、表面抵抗率が１０〜１×１０４Ω／□でかつ接触抵抗値との比が６以下であることを特徴とする導電性フィルム。」が提供される。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の導電性フィルムは、特定のポリチオフェン系導電性重合体を含有する透明導電性塗膜を形成したもので、表面抵抗率と接触抵抗値との比が６以下であるので、ＩＴＯと同等以上に優れた透明性、導電性を有している。したがって、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）タッチパネル、有機エレクトロルミネッセンス素子、無機エレクトロルミネッセンスランプ等の透明電極として好適に使用することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
本発明の導電性フィルムは、基材フィルムの少なくとも片面に、下記一般式
【化２】
で表される繰り返し単位からなるポリカチオン状のポリチオフェン（以下、“ポリ（３，４−ジ置換チオフェン）”と称することがある）と、ポリアニオンとからなる導電性高分子を構成成分として含有する透明導電性塗膜が形成されている。ここで、上記式中Ｒ１およびＲ２は、相互に独立して水素または炭素数が１〜４のアルキル基を表すか、あるいは一緒になって任意に置換されてもよい炭素数が１〜１２のアルキレン基を表す。Ｒ１およびＲ２が一緒になって形成される、置換基を有してもよい炭素数が１〜１２のアルキレン基の代表例としては、１，２−アルキレン基（例えば、１，２−シクロヘキシレン、２，３−ブチレンなど）があげられる。この１，２−アルキレン基は、α−オレフィン類（例えば、エテン、プロペン、ヘキセン、オクテン、デセン、ドデセンおよびスチレン）を臭素化して得られる１，２−ジブロモアルカン類から誘導される。Ｒ１およびＲ２が一緒になって形成される炭素数が１〜１２のアルキレン基の好適な置換基は、メチレン、１，２−エチレンおよび１，３−プロピレン基であり、１，２−エチレン基が特に好適である。
【００１２】
一方導電性高分子を構成するポリアニオンとしては、高分子状カルボン酸類（例えば、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリマレイン酸など）、高分子状スルホン酸類（例えば、ポリスチレンスルホン酸、ポリビニルスルホン酸など）などがあげられる。これらの高分子状カルボン酸およびスルホン酸類はまた、ビニルカルボン酸およびビニルスルホン酸類と他の重合可能なモノマー類、例えばアクリレート類およびスチレンなどとの共重合体であってもよい。これらのポリアニオンのなかで、ポリスチレンスルホン酸およびその全べてもしくは一部が金属塩であるものが特に好適である。なお、かかるポリアニオンの数平均分子量は、１，０００〜２，０００，０００の範囲が適当であり、特に２，０００〜５００，０００の範囲が好ましい。
【００１３】
なお、上記の導電性高分子を含有する透明導電性塗膜には、導電性能を向上させるという観点からジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ポリエチレングリコールなどが含まれていてもよい。また、分子内にアミド結合を有する室温では液体の水溶性化合物が含まれていてもよい。
【００１４】
これらの化合物は、前記導電性高分子１００重量部に対して、１０〜１０００重量部の範囲、好ましくは３０〜６００重量部の範囲含有されていることが好ましい。この含有量が１０重量部未満の場合には、導電性能の向上効果が低下し、逆に１０００重量部を超える場合には、塗膜のヘイズ値が増大して透明性が低下する、塗膜自体の強度が低下して簡単に剥離が生じ、フィルムをロール状に巻き取る際に塗膜が接触した裏面に簡単に転写してしまうなどの不具合が生じやすくなる。なお、ここでいう「導電性高分子１００重量部に対して」とは、「導電性高分子の固形分１００重量部に対して」という意味である。
【００１５】
次に、本発明にかかる透明導電性塗膜には、得られる塗膜の強度を向上させる目的で、アルコキシシラン化合物を添加してもよい。これらのシラン化合物は、加水分解され、その後の縮合反応された反応生成物の形態で塗膜中に存在する。これらのシラン化合物としては、例えばテトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトライソブトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシランなどのアルコキシ基以外の反応性官能基を有するトリアルコキシシランがあげられ、特にエポキシ基を有する３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシランなどが好ましい。
【００１６】
このようなアルコキシシラン化合物の添加量は、導電性高分子１００重量部に対して、２０〜５００重量部の範囲が好ましい。該添加量が２０重量部より少ない場合には塗膜強度の改善効果が小さくなり、一方５００重量部を超える場合には表面抵抗率が増大する傾向にある。
【００１７】
このようなシラン化合物の加水分解／縮合を効率よく進行させるためには触媒を併用することが好ましい。触媒としては酸性触媒または塩基性触媒のいずれをも用いることができる。酸性触媒としては、酢酸、塩酸、硝酸等の無機酸、酢酸、クエン酸、プロピオン酸、しゅう酸、ｐ−トルエンスルホン酸等の有機酸が好適である。一方塩基性触媒としてはアンモニア、トリエチルアミン、トリプロピルアミン等の有機アミン化合物、ナトリウムメトキシド、カリウムメトキシド、カリウムエトキシド、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属化合物などが好適である。
【００１８】
本発明では上記透明導電塗膜層を形成するためのコーティング組成物としては、前記導電性高分子を主成分として水に分散させた分散液を用いるが、必要に応じてポリエステル、ポリアクリル、ポリウレタン、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルブチラールなどの適当な有機高分子材料をバインダーとして添加することができる。
【００１９】
さらに必要に応じて、バインダーを溶解させる目的、もしくは基材フィルムへの濡れ性を改善する目的、固形分濃度を調整する目的などで、水と相溶性のある適当な溶媒を添加することができる。例えば、アルコール類（メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノールなど）、アミド類（ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、アセトアミド、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルプロピオンアミド）などが好ましく用いられる。
【００２０】
さらに、上記コーティング組成物には、基材フィルムに対する濡れ性を向上させる目的で、少量の界面活性剤を加えてもよい。好ましい界面活性剤としては、非イオン性界面活性剤（例えば、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ソルビタン脂肪酸エステルなど）、およびフッ素系界面活性剤（例えばフルオロアルキルカルボン酸塩、パーフルオロアルキルベンゼンスルホン酸塩、パーフルオロアルキル４級アンモニウム塩、パーフルオロアルキルポリオキシエチレンエタノールなど）があげられる。
【００２１】
本発明における基材フィルムは特に制限する必要はないが、ポリエステル、ポリスチレン、ポリイミド、ポリアミド、ポリスルホン、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ならびにこれらのブレンドおよび共重合体、ならびにフェノール樹脂、エポキシ樹脂、ＡＢＳ樹脂などからなるフィルムが好ましい。
【００２２】
なかでも、二軸配向したポリエステルフィルムが、寸法安定性、機械的性質、耐熱性、電気的性質などに優れているので好ましく、特にポリエチレンテレフタレートまたはポリエチレン―２，６―ナフタレートが、高ヤング率である等の機械的特性に優れ、耐熱寸法安定性がよい等の熱的特性等に優れているのでより好ましい。なお、基材フィルムの厚みも特に制限されないが、５００μｍ以下が好ましい。５００μｍより厚い場合は剛性が強すぎて、得られたフィルムをディスプレイなどに貼付ける際の取扱い性が低下しやすい。
【００２３】
次に本発明の導電性フイルムは、その全光線（可視光線）透過率が７０％以上、好ましくは８０％以上であると同時に透明導電性塗膜側の表面抵抗率が１０〜１×１０４Ω／□、好ましくは１０〜５×１０３Ω／□であることが必要である。全光線透過率が７０％未満の場合には、透明性が不充分となり、例えばタッチパネルを作成しても暗くて表示画面が見えにくくなるので好ましくない。また、表面抵抗率が１×１０４Ω／□を超える場合には、表面抵抗率が高すぎるため好ましくなく、逆に１０Ω／□未満の場合には、導電性高分子の使用量が著しく増加するため製造コストが上がり経済的でない。
【００２４】
さらに、表面抵抗率と接触抵抗値との比（接触抵抗値／表面抵抗率）が６．０以下、好ましくは５．０以下である必要がある。この比が６．０を超える場合には電導性が不充分となり、例えばタッチパネル用の基材として使用した場合には誤操作の原因となる等の問題が発生し、また、有機エレクトロルミネッセンス素子、無機エレクトロルミネッセンスランプ等の透明電極として使用した場合には所定の電導性が得られないなどの問題が発生するので好ましくない。
【００２５】
以上に説明した本発明の導電性フィルムを製造する方法は特に限定する必要はないが、上記透明導電性塗膜層を形成するためのコーティング組成物を塗布、乾燥する際にポリアニオン成分が表層に移行しやすいので、例えば２回以上に分けて塗布する、塗膜形成後にコロナ放電処理やプラズマ放電処理などでポリアニオン成分を除去する、あるいは、該コーティング組成物を塗布する前にポリアニオン成分との親和性が高い成分を予め基材フィルムに塗布しておく等の方法が好ましい例としてあげられる。なかでもコーティング組成物を２回以上重ねて塗布する方法は、ポリアニオン成分の極在化した層の厚さが、塗布された透明導電塗膜層厚さの２〜１０％程度と比例していること、および、先に塗布された透明導電塗膜層の上部にポリアニオン成分層が存在するため、ポリアニオン成分との親和性が高い成分が予め塗布されていることとなるので表層のアニオン成分層を薄くでき好ましい。
【００２６】
また、プラズマ放電処理によるポリアニオン成分層の除去は、近年プラズマ処理技術の発展により、再現性、細かな制御が可能となり、二回重ね塗りと同様に好適な方法のひとつである。
【００２７】
透明導電性塗膜層の塗布方法は、それ自体公知の方法を採用できる。例えばリップダイレクト法、コンマコーター法、スリットリバース法、ダイコーター法、グラビアロールコーター法、ブレードコーター法、スプレーコーター法、エアーナイフコート法、ディップコート法、バーコーター法などが好ましくあげられる。加熱乾燥条件としては８０〜１６０℃で１０〜３００秒間、特に１００〜１５０℃で２０〜１２０秒間が好ましい。
【００２８】
基材フィルムがポリエステルフィルムの場合には、製膜工程中、特に未延伸フィルムをタテ延伸した後に塗液を塗布し、次いで乾燥・ヨコ延伸した後に熱処理する、インラインコーティング法を採用するのが好ましい。
【００２９】
かかるインラインコーティング法によれば、オフライン加工に比べ、例えば、基材フィルムとの接着性が向上する、熱処理時にクリップでフィルムの両端を把持しているために得られるフィルムにシワが入らず平面性が保持できるといった効果が発揮される。なお、インラインコーティング法での熱処理は、２００℃以上で行うことが好ましい。また、塗液を塗布する際には、必要に応じて、さらに密着性・塗工性を向上させるための予備処理として、基材フィルム表面にコロナ放電処理、プラズマ放電処理などの物理的表面処理を施しても構わない。
【００３０】
なお、全透明導電塗膜層の厚みは６０ｎｍ以上、特に８０ｎｍ以上とし、３００ｎｍ以下、特に２００ｎｍ以下とすることが好ましい。該塗膜の厚さが薄すぎると十分な導電性が得られないことがあり、逆に厚すぎると、透明性が不足したり、ブロッキングを起こしたりすることがある。
【００３１】
本発明の導電性フィルムは、上述のとおり基材フィルムの少なくとも片面にポリチオフェン系の透明導電性塗膜層が積層されていることが必要であるが、透明導電性塗膜層が形成される側と反対の面には必要に応じてアンカーコート層、ハードコート層などの塗膜を設けることもできる。
【実施例】
【００３２】
以下、実施例をあげて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。なお、実施例中における各評価は下記の方法にしたがった。
【００３３】
（１）透明導電性塗膜層の厚み
導電性フィルムから、ミクロトーム ＵＬＴＲＡＣＵＴ−Ｓを用いてフィルム表面に対し垂直に超薄膜切片を切り出し、この超薄膜切片を透過型電子顕微鏡ＬＥＭ−２０００で加速電圧１００ｋＶで観察・撮影して層厚さを測定した。
【００３４】
（２）全光線透過率およびヘイズ
ＪＩＳ Ｋ７１５０にしたがい、スガ試験機（株）製のヘイズメーターＨＣＭ−２Ｂにて測定した。
【００３５】
（３）表面固有抵抗率
三菱化学社製Ｌｏｒｅｓｔｅｒ ＭＣＰ−Ｔ６００を用いて、ＪＩＳ Ｋ７１９４に準拠して測定した。測定は任意の箇所を５回測定し、それらの平均値とした。
【００３６】
（４）接触抵抗値
７５０ｕｍのポリエチレンテレフタレートのシートを長辺１３０ｍｍ、短辺７０ｍｍに切り出し、これを長辺の端より３０ｍｍ、短辺の端より４０ｍｍの点を中心とした一辺３０ｍｍの正方形部分を二箇所カットし取り除き、４辺に幅５ｍｍの紙両面テープ（ニチバン製：ナイスタック ＮＷ−５）を貼りつけたスペーサーを作成した。
導電性フイルムを、長辺１３０ｍｍ、短辺７０ｍｍに切り出し、短辺側の片側のみ端より３ｍｍを残して、導電テープ（新東化学製：ＳＴＲｔａｐｅ 幅８ｍｍ）を貼りつけたサンプルを二枚測定用サンプルとして作成した。
上記で作成した測定用サンプルを、導電テープを貼った側を右側として、その上に両面テープの離型紙を剥がしたスペーサーを重ね、さらにもう一枚の測定用サンプルを、導電テープを貼った側を左側として重ねて接触抵抗測定用セルを作成した。
太平理化工業製のｒｕｂｂｉｎｇ ｔｅｓｔｅｒを使用して、スペーサーの一辺３０ｍｍの窓の中心部に先端部分が直径８ｍｍの丸棒にて荷重１．３８ｋｇをかけて導電性フイルム同士を接触させ、両端の導電テープ電極間に定電圧電源により５Ｖを印加し、この時の電圧を測定してセルの抵抗値を算出し接触抵抗値とした。
【００３７】
（５）タッチパネルへの適性テスト
導電性フィルムのタッチパネルへの適性の目安として、モデル的なタッチパネルを作製し、ペン入力によるリニアリティー試験を行った。本テストにおいては、導電性フィルムを１００ｍｍ×１００ｍｍに切り出し、透明導電性塗膜層形成面の両端に幅５ｍｍの電極を銀ペーストを塗布して作成した。この電極間に定電圧電源により５Ｖを印加し、サンプル中心部５０ｍｍ×５０ｍｍの範囲を縦横１ｍｍ間隔で（ｘ１，ｙ１）〜（ｘ５０，ｙ５０）の２５００点について電圧Ｖｉ，ｊ（ｉ，ｊ＝１〜５０）を測定した。各電圧測定点での理論電圧Ｕi,j＝Ｖ１，１＋（Ｖ５０，５０−Ｖ１，１）／５０×（ｊ−１）からのズレをΔｉ，ｊ＝（Ｖｉ，ｊ−Ｕｉ，ｊ）／Ｕｉ，ｊで定義し、このΔｉ，ｊの絶対値の最大値をリニアリティと定義した。
テストは、導電性フィルムで構成されたパネル板側から、ポリアセタール樹脂からなるペン先半径０．８ｍｍのタッチペンにて荷重２５０ｇｆをかけて行った。
○：リニアリティーが、３％未満である。
×：リニアリティーが、３％以上である。
【００３８】
［実施例１］
ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）とポリスチレンスルホン酸を主成分とし、シランカップリング剤、ジエチレングリコールとを含んでなる導電性塗料（日本アグファ・ゲバルト（株）社製、商品名：Ｏｒｇａｃｏｎ Ｓ−３００）を、マイヤーバーを用いて基材フィルム（ＰＥＴフィルム、帝人デュポンフィルム株式会社製、商品名Ｏ３ＰＦ８Ｗ−１００）上に塗布し、１４０℃で１分間の乾燥を行って膜厚が１５０ｎｍの透明導電塗膜層を形成した。次いで、この透明導電塗膜層の上に、上記と同じ導電性塗料（日本アグファ・ゲバルト（株）社製、商品名：Ｏｒｇａｃｏｎ Ｓ−３００）を、マイヤーバーを用いて再度塗布し、１４０℃で１分間の乾燥を行って全膜厚が２００ｎｍの透明導電塗膜層を得た。得られた導電性フィルムの評価結果を表１に示す。
【００３９】
［実施例２］
導電性塗料（日本アグファ・ゲバルト（株）社製、商品名：Ｏｒｇａｃｏｎ Ｓ−３００）を、マイヤーバーを用いて基材フィルム（ＰＥＴフィルム、帝人デュポンフィルム株式会社製、商品名Ｏ３ＰＦ８Ｗ−１００）上に塗布し、１４０℃で１分間の乾燥を行って膜厚が２００ｎｍの透明導電塗膜層を形成した。得られた導電性フイルムを、春日電機製卓上コロナ放電処理機ＣＧ−１０２型にて、アルミナ電極を使用し、印加電流４Ａ、フイルムと電極の距離１ｍｍ、フィルムの処理速度０．１ｍ／ｓにて４回処理を行なった。得られた導電性フィルムの評価結果を表１に示す。
【００４０】
［実施例３］
コロナ放電処理をプラズマ放電処理に変更する以外は、実施例２と同様の操作を行った。この時のプラズマ放電処理は、常圧プラズマ表面処理装置（積水化学工業製ＡＰ−Ｔ０３−Ｌ）を用いて、窒素気流下（流量６０Ｌ／分）、フィルムの処理速度０．２ｍ／分にて、透明導電性塗膜層表面を３回処理した。得られた導電性フィルムの評価結果を表１に示す。
【００４１】
［比較例１］
導電性塗料（日本アグファ・ゲバルト（株）社製、商品名：Ｏｒｇａｃｏｎ Ｓ−３００）を、マイヤーバーを用いて基材フィルム（ＰＥＴフィルム、帝人デュポンフィルム株式会社製、商品名Ｏ３ＰＦ８Ｗ−１００）上に塗布し、１４０℃で１分間の乾燥を行って膜厚が２００ｎｍの透明導電性塗膜層を形成した。得られた導電性フィルムの評価結果を表１に示す。
【００４２】
［実施例４］
ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）０．５重量％とポリスチレンスルホン酸（分子量Ｍｎ＝１５０，０００）０.８重量％を含んでなる水分散体（ＢａｙｔｒｏｎＰ：バイエルＡＧ製）１００重量部にジエチレングリコール３重量部、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシランを０．６５重量部、界面活性剤として、プラスコートＲＹ−２（互応化学工業製）を１重量部加えた導電コーティング組成物をＯｒｇａｃｏｎ Ｓ−３００に変えて用いる以外は、実施例１と同様の操作を行った。得られた導電性フィルムの評価結果を表１に示す。
【００４３】
［比較例２］
導電性ポリマー（３，４−エチレンジオキシチオフェン）０．５重量％とポリスチレンスルホン酸（分子量Ｍｎ＝１５０，０００）０.８重量％を含んで成るポリマーの水分散体（ＢａｙｔｒｏｎＰ：バイエルＡＧ製）１００重量部にジエチレングリコール３重量部、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシランを０．６５重量部、界面活性剤として、プラスコートＲＹ−２（互応化学工業製）を１重量部加えた導電コーティング組成物をＯｒｇａｃｏｎ Ｓ−３００に変えて用いる以外は、比較例１と同様の操作を行った。得られた導電性フィルムの評価結果を表１に示す。
【００４４】
［参考例］
トービ製の表面抵抗率が４５０Ω／□である、ＩＴＯフイルム（ＯＴＥＣ ２５０Ｂ−１００Ｎ）の特性を表１に示す。
【００４５】
【表１】
【００４６】
表１からわかるように、本発明の導電性フィルムは透明性および導電性に優れ、接触抵抗値もＩＴＯ系導電性フィルムと同等の性能を有することがわかる。
【産業上の利用可能性】
【００４７】
以上に説明した本発明の導電性フィルムは、導電性高分子を用いていながら、ＩＴＯを積層したものと同等に優れた透明性、導電性および接触抵抗を有しているので、例えば液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）透明タッチパネル、有機エレクトロルミネッセンス素子、無機エレクトロルミネッセンスランプ等の透明電極として好適に使用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４８】
【図１】本発明の実施例に用いられたスペイサー正面図。
【図２】本発明の実施例に用いられた測定サンプル正面図。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、透明性および導電性に優れた導電性フィルムに関するものである。さらに詳しくは、表面抵抗率と接触抵抗との比が改善された、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、透明タッチパネル、有機エレクトロルミネッセンス素子、無機エレクトロルミネッセンスランプ等の透明電極として好適な透明導電性フィルムに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、液晶ディスプレイ、透明タッチパネル等の透明電極や電磁波シールド材として透明導電性フィルムが好適に用いられている。かかる透明導電性フィルムとしては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等の透明フィルム表面の少なくとも片面に、酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）、酸化錫（ＳｎＯ２）、Ｉｎ２Ｏ３とＳｎＯ２の混合焼結体（ＩＴＯ）等を、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等のドライプロセスによって設けたものがよく知られている。
【０００３】
しかし、通常透明導電性フィルムは、ウェブ状での連続加工や打ち抜き加工があり、また、表面加工中も曲げられた状態で用いられたり、また保管されたりするため、上記ドライプロセスにより得られる透明導電性フィルムは、該加工工程や保管している間にクラックが発生して、表面抵抗が増大したりすることがあった。
【０００４】
一方、透明基材フィルムの上に導電性高分子を塗布すること（ウエットプロセス）によって形成される透明導電塗膜層は、膜自体に柔軟性があり、クラックなどの問題は生じがたい。また、導電性高分子を塗布することによって透明導電性フィルムを得る方法は、ドライプロセスとは異なって製造コストが比較的安く、またコーティングスピードも一般的に速いので生産性に優れるという利点もある。このような導電性高分子の塗布によって得られる透明導電性フィルムは、これまで一般的に用いられてきたポリチオフェン、ポリアニリン、ポリピロール等は、開発の初期段階では高い導電性が得られないため、帯電防止用途などに使用が限定されていたり、導電塗膜層自体の色相が問題となったりしていた。しかし、最近では製法の改良などによりこれらの問題も改善されてきている。例えば、３，４−ジアルコキシチオフェンをポリアニオン存在下で酸化重合することによって得られるポリ（３，４−ジアルコキシチオフェン）とポリアニオンとからなる導電性高分子（特許文献１）は、近年の製法の改良（特許文献２および特許文献３）などにより、高い光線透過率を保ったまま非常に低い表面抵抗を発現している。
【０００５】
しかしながら、かかる導電性高分子を透明導電塗膜層とした透明導電性フィルムは、塗膜の表層近辺に導電性に寄与しないポリアニオン成分が多く存在するため、例えばタッチパネル用の基材として使用した場合、接触抵抗が高いために誤操作の原因となる等の問題がある。また、有機エレクトロルミネッセンス素子、無機エレクトロルミネッセンスランプ等の透明電極として使用した場合でも、所定の導電性が得られないなどの問題がある。
【０００６】
【特許文献１】特開平１−３１３５２１号公報
【特許文献２】特開２００２−１９３９７２号公報
【特許文献３】特開２００３−２８６３３６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、上記背景技術を鑑みなされたもので、その目的とするところは、導電性高分子を用いていながら、透明性および導電性に優れ、しかも、ＩＴＯを積層したものと同等以上に優れた導電性フィルムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは、上記課題を達成するために種々鋭意検討した結果、ポリカチオン状のポリチオフェンとポリアニオンとからなる導電性高分子を用いると共に、表面抵抗率と接触抵抗値との比を特定すれば、例えばタッチパネル用の基材として使用した場合の誤操作を抑制でき、また有機エレクトロルミネッセンス素子、無機エレクトロルミネッセンスランプ等の透明電極として使用した場合でも、所望の電導性を発現させ得ることを見出し、本発明に到達した。
【０００９】
かくして本発明によれば、「基材フィルムの少なくとも片面に、下記一般式
【化１】
（式中、Ｒ１およびＲ２は相互に独立して水素または炭素数１〜４のアルキル基を表すか、あるいは一緒になって任意に置換されてもよい炭素数１〜１２のアルキレン基を表す）
で表される繰り返し単位からなるポリカチオン状のポリチオフェンとポリアニオンとからなる導電性高分子を構成成分とする透明導電性塗膜が設けられた導電性フィルムであって、その全光線透過率が７０％以上、表面抵抗率が１０〜１×１０４Ω／□でかつ接触抵抗値との比が６以下であることを特徴とする導電性フィルム。」が提供される。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の導電性フィルムは、特定のポリチオフェン系導電性重合体を含有する透明導電性塗膜を形成したもので、表面抵抗率と接触抵抗値との比が６以下であるので、ＩＴＯと同等以上に優れた透明性、導電性を有している。したがって、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）タッチパネル、有機エレクトロルミネッセンス素子、無機エレクトロルミネッセンスランプ等の透明電極として好適に使用することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
本発明の導電性フィルムは、基材フィルムの少なくとも片面に、下記一般式
【化２】
で表される繰り返し単位からなるポリカチオン状のポリチオフェン（以下、“ポリ（３，４−ジ置換チオフェン）”と称することがある）と、ポリアニオンとからなる導電性高分子を構成成分として含有する透明導電性塗膜が形成されている。ここで、上記式中Ｒ１およびＲ２は、相互に独立して水素または炭素数が１〜４のアルキル基を表すか、あるいは一緒になって任意に置換されてもよい炭素数が１〜１２のアルキレン基を表す。Ｒ１およびＲ２が一緒になって形成される、置換基を有してもよい炭素数が１〜１２のアルキレン基の代表例としては、１，２−アルキレン基（例えば、１，２−シクロヘキシレン、２，３−ブチレンなど）があげられる。この１，２−アルキレン基は、α−オレフィン類（例えば、エテン、プロペン、ヘキセン、オクテン、デセン、ドデセンおよびスチレン）を臭素化して得られる１，２−ジブロモアルカン類から誘導される。Ｒ１およびＲ２が一緒になって形成される炭素数が１〜１２のアルキレン基の好適な置換基は、メチレン、１，２−エチレンおよび１，３−プロピレン基であり、１，２−エチレン基が特に好適である。
【００１２】
一方導電性高分子を構成するポリアニオンとしては、高分子状カルボン酸類（例えば、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリマレイン酸など）、高分子状スルホン酸類（例えば、ポリスチレンスルホン酸、ポリビニルスルホン酸など）などがあげられる。これらの高分子状カルボン酸およびスルホン酸類はまた、ビニルカルボン酸およびビニルスルホン酸類と他の重合可能なモノマー類、例えばアクリレート類およびスチレンなどとの共重合体であってもよい。これらのポリアニオンのなかで、ポリスチレンスルホン酸およびその全べてもしくは一部が金属塩であるものが特に好適である。なお、かかるポリアニオンの数平均分子量は、１，０００〜２，０００，０００の範囲が適当であり、特に２，０００〜５００，０００の範囲が好ましい。
【００１３】
なお、上記の導電性高分子を含有する透明導電性塗膜には、導電性能を向上させるという観点からジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ポリエチレングリコールなどが含まれていてもよい。また、分子内にアミド結合を有する室温では液体の水溶性化合物が含まれていてもよい。
【００１４】
これらの化合物は、前記導電性高分子１００重量部に対して、１０〜１０００重量部の範囲、好ましくは３０〜６００重量部の範囲含有されていることが好ましい。この含有量が１０重量部未満の場合には、導電性能の向上効果が低下し、逆に１０００重量部を超える場合には、塗膜のヘイズ値が増大して透明性が低下する、塗膜自体の強度が低下して簡単に剥離が生じ、フィルムをロール状に巻き取る際に塗膜が接触した裏面に簡単に転写してしまうなどの不具合が生じやすくなる。なお、ここでいう「導電性高分子１００重量部に対して」とは、「導電性高分子の固形分１００重量部に対して」という意味である。
【００１５】
次に、本発明にかかる透明導電性塗膜には、得られる塗膜の強度を向上させる目的で、アルコキシシラン化合物を添加してもよい。これらのシラン化合物は、加水分解され、その後の縮合反応された反応生成物の形態で塗膜中に存在する。これらのシラン化合物としては、例えばテトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトライソブトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシランなどのアルコキシ基以外の反応性官能基を有するトリアルコキシシランがあげられ、特にエポキシ基を有する３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシランなどが好ましい。
【００１６】
このようなアルコキシシラン化合物の添加量は、導電性高分子１００重量部に対して、２０〜５００重量部の範囲が好ましい。該添加量が２０重量部より少ない場合には塗膜強度の改善効果が小さくなり、一方５００重量部を超える場合には表面抵抗率が増大する傾向にある。
【００１７】
このようなシラン化合物の加水分解／縮合を効率よく進行させるためには触媒を併用することが好ましい。触媒としては酸性触媒または塩基性触媒のいずれをも用いることができる。酸性触媒としては、酢酸、塩酸、硝酸等の無機酸、酢酸、クエン酸、プロピオン酸、しゅう酸、ｐ−トルエンスルホン酸等の有機酸が好適である。一方塩基性触媒としてはアンモニア、トリエチルアミン、トリプロピルアミン等の有機アミン化合物、ナトリウムメトキシド、カリウムメトキシド、カリウムエトキシド、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属化合物などが好適である。
【００１８】
本発明では上記透明導電塗膜層を形成するためのコーティング組成物としては、前記導電性高分子を主成分として水に分散させた分散液を用いるが、必要に応じてポリエステル、ポリアクリル、ポリウレタン、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルブチラールなどの適当な有機高分子材料をバインダーとして添加することができる。
【００１９】
さらに必要に応じて、バインダーを溶解させる目的、もしくは基材フィルムへの濡れ性を改善する目的、固形分濃度を調整する目的などで、水と相溶性のある適当な溶媒を添加することができる。例えば、アルコール類（メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノールなど）、アミド類（ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、アセトアミド、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルプロピオンアミド）などが好ましく用いられる。
【００２０】
さらに、上記コーティング組成物には、基材フィルムに対する濡れ性を向上させる目的で、少量の界面活性剤を加えてもよい。好ましい界面活性剤としては、非イオン性界面活性剤（例えば、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ソルビタン脂肪酸エステルなど）、およびフッ素系界面活性剤（例えばフルオロアルキルカルボン酸塩、パーフルオロアルキルベンゼンスルホン酸塩、パーフルオロアルキル４級アンモニウム塩、パーフルオロアルキルポリオキシエチレンエタノールなど）があげられる。
【００２１】
本発明における基材フィルムは特に制限する必要はないが、ポリエステル、ポリスチレン、ポリイミド、ポリアミド、ポリスルホン、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ならびにこれらのブレンドおよび共重合体、ならびにフェノール樹脂、エポキシ樹脂、ＡＢＳ樹脂などからなるフィルムが好ましい。
【００２２】
なかでも、二軸配向したポリエステルフィルムが、寸法安定性、機械的性質、耐熱性、電気的性質などに優れているので好ましく、特にポリエチレンテレフタレートまたはポリエチレン―２，６―ナフタレートが、高ヤング率である等の機械的特性に優れ、耐熱寸法安定性がよい等の熱的特性等に優れているのでより好ましい。なお、基材フィルムの厚みも特に制限されないが、５００μｍ以下が好ましい。５００μｍより厚い場合は剛性が強すぎて、得られたフィルムをディスプレイなどに貼付ける際の取扱い性が低下しやすい。
【００２３】
次に本発明の導電性フイルムは、その全光線（可視光線）透過率が７０％以上、好ましくは８０％以上であると同時に透明導電性塗膜側の表面抵抗率が１０〜１×１０４Ω／□、好ましくは１０〜５×１０３Ω／□であることが必要である。全光線透過率が７０％未満の場合には、透明性が不充分となり、例えばタッチパネルを作成しても暗くて表示画面が見えにくくなるので好ましくない。また、表面抵抗率が１×１０４Ω／□を超える場合には、表面抵抗率が高すぎるため好ましくなく、逆に１０Ω／□未満の場合には、導電性高分子の使用量が著しく増加するため製造コストが上がり経済的でない。
【００２４】
さらに、表面抵抗率と接触抵抗値との比（接触抵抗値／表面抵抗率）が６．０以下、好ましくは５．０以下である必要がある。この比が６．０を超える場合には電導性が不充分となり、例えばタッチパネル用の基材として使用した場合には誤操作の原因となる等の問題が発生し、また、有機エレクトロルミネッセンス素子、無機エレクトロルミネッセンスランプ等の透明電極として使用した場合には所定の電導性が得られないなどの問題が発生するので好ましくない。
【００２５】
以上に説明した本発明の導電性フィルムを製造する方法は特に限定する必要はないが、上記透明導電性塗膜層を形成するためのコーティング組成物を塗布、乾燥する際にポリアニオン成分が表層に移行しやすいので、例えば２回以上に分けて塗布する、塗膜形成後にコロナ放電処理やプラズマ放電処理などでポリアニオン成分を除去する、あるいは、該コーティング組成物を塗布する前にポリアニオン成分との親和性が高い成分を予め基材フィルムに塗布しておく等の方法が好ましい例としてあげられる。なかでもコーティング組成物を２回以上重ねて塗布する方法は、ポリアニオン成分の極在化した層の厚さが、塗布された透明導電塗膜層厚さの２〜１０％程度と比例していること、および、先に塗布された透明導電塗膜層の上部にポリアニオン成分層が存在するため、ポリアニオン成分との親和性が高い成分が予め塗布されていることとなるので表層のアニオン成分層を薄くでき好ましい。
【００２６】
また、プラズマ放電処理によるポリアニオン成分層の除去は、近年プラズマ処理技術の発展により、再現性、細かな制御が可能となり、二回重ね塗りと同様に好適な方法のひとつである。
【００２７】
透明導電性塗膜層の塗布方法は、それ自体公知の方法を採用できる。例えばリップダイレクト法、コンマコーター法、スリットリバース法、ダイコーター法、グラビアロールコーター法、ブレードコーター法、スプレーコーター法、エアーナイフコート法、ディップコート法、バーコーター法などが好ましくあげられる。加熱乾燥条件としては８０〜１６０℃で１０〜３００秒間、特に１００〜１５０℃で２０〜１２０秒間が好ましい。
【００２８】
基材フィルムがポリエステルフィルムの場合には、製膜工程中、特に未延伸フィルムをタテ延伸した後に塗液を塗布し、次いで乾燥・ヨコ延伸した後に熱処理する、インラインコーティング法を採用するのが好ましい。
【００２９】
かかるインラインコーティング法によれば、オフライン加工に比べ、例えば、基材フィルムとの接着性が向上する、熱処理時にクリップでフィルムの両端を把持しているために得られるフィルムにシワが入らず平面性が保持できるといった効果が発揮される。なお、インラインコーティング法での熱処理は、２００℃以上で行うことが好ましい。また、塗液を塗布する際には、必要に応じて、さらに密着性・塗工性を向上させるための予備処理として、基材フィルム表面にコロナ放電処理、プラズマ放電処理などの物理的表面処理を施しても構わない。
【００３０】
なお、全透明導電塗膜層の厚みは６０ｎｍ以上、特に８０ｎｍ以上とし、３００ｎｍ以下、特に２００ｎｍ以下とすることが好ましい。該塗膜の厚さが薄すぎると十分な導電性が得られないことがあり、逆に厚すぎると、透明性が不足したり、ブロッキングを起こしたりすることがある。
【００３１】
本発明の導電性フィルムは、上述のとおり基材フィルムの少なくとも片面にポリチオフェン系の透明導電性塗膜層が積層されていることが必要であるが、透明導電性塗膜層が形成される側と反対の面には必要に応じてアンカーコート層、ハードコート層などの塗膜を設けることもできる。
【実施例】
【００３２】
以下、実施例をあげて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。なお、実施例中における各評価は下記の方法にしたがった。
【００３３】
（１）透明導電性塗膜層の厚み
導電性フィルムから、ミクロトーム ＵＬＴＲＡＣＵＴ−Ｓを用いてフィルム表面に対し垂直に超薄膜切片を切り出し、この超薄膜切片を透過型電子顕微鏡ＬＥＭ−２０００で加速電圧１００ｋＶで観察・撮影して層厚さを測定した。
【００３４】
（２）全光線透過率およびヘイズ
ＪＩＳ Ｋ７１５０にしたがい、スガ試験機（株）製のヘイズメーターＨＣＭ−２Ｂにて測定した。
【００３５】
（３）表面固有抵抗率
三菱化学社製Ｌｏｒｅｓｔｅｒ ＭＣＰ−Ｔ６００を用いて、ＪＩＳ Ｋ７１９４に準拠して測定した。測定は任意の箇所を５回測定し、それらの平均値とした。
【００３６】
（４）接触抵抗値
７５０ｕｍのポリエチレンテレフタレートのシートを長辺１３０ｍｍ、短辺７０ｍｍに切り出し、これを長辺の端より３０ｍｍ、短辺の端より４０ｍｍの点を中心とした一辺３０ｍｍの正方形部分を二箇所カットし取り除き、４辺に幅５ｍｍの紙両面テープ（ニチバン製：ナイスタック ＮＷ−５）を貼りつけたスペーサーを作成した。
導電性フイルムを、長辺１３０ｍｍ、短辺７０ｍｍに切り出し、短辺側の片側のみ端より３ｍｍを残して、導電テープ（新東化学製：ＳＴＲｔａｐｅ 幅８ｍｍ）を貼りつけたサンプルを二枚測定用サンプルとして作成した。
上記で作成した測定用サンプルを、導電テープを貼った側を右側として、その上に両面テープの離型紙を剥がしたスペーサーを重ね、さらにもう一枚の測定用サンプルを、導電テープを貼った側を左側として重ねて接触抵抗測定用セルを作成した。
太平理化工業製のｒｕｂｂｉｎｇ ｔｅｓｔｅｒを使用して、スペーサーの一辺３０ｍｍの窓の中心部に先端部分が直径８ｍｍの丸棒にて荷重１．３８ｋｇをかけて導電性フイルム同士を接触させ、両端の導電テープ電極間に定電圧電源により５Ｖを印加し、この時の電圧を測定してセルの抵抗値を算出し接触抵抗値とした。
【００３７】
（５）タッチパネルへの適性テスト
導電性フィルムのタッチパネルへの適性の目安として、モデル的なタッチパネルを作製し、ペン入力によるリニアリティー試験を行った。本テストにおいては、導電性フィルムを１００ｍｍ×１００ｍｍに切り出し、透明導電性塗膜層形成面の両端に幅５ｍｍの電極を銀ペーストを塗布して作成した。この電極間に定電圧電源により５Ｖを印加し、サンプル中心部５０ｍｍ×５０ｍｍの範囲を縦横１ｍｍ間隔で（ｘ１，ｙ１）〜（ｘ５０，ｙ５０）の２５００点について電圧Ｖｉ，ｊ（ｉ，ｊ＝１〜５０）を測定した。各電圧測定点での理論電圧Ｕi,j＝Ｖ１，１＋（Ｖ５０，５０−Ｖ１，１）／５０×（ｊ−１）からのズレをΔｉ，ｊ＝（Ｖｉ，ｊ−Ｕｉ，ｊ）／Ｕｉ，ｊで定義し、このΔｉ，ｊの絶対値の最大値をリニアリティと定義した。
テストは、導電性フィルムで構成されたパネル板側から、ポリアセタール樹脂からなるペン先半径０．８ｍｍのタッチペンにて荷重２５０ｇｆをかけて行った。
○：リニアリティーが、３％未満である。
×：リニアリティーが、３％以上である。
【００３８】
［実施例１］
ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）とポリスチレンスルホン酸を主成分とし、シランカップリング剤、ジエチレングリコールとを含んでなる導電性塗料（日本アグファ・ゲバルト（株）社製、商品名：Ｏｒｇａｃｏｎ Ｓ−３００）を、マイヤーバーを用いて基材フィルム（ＰＥＴフィルム、帝人デュポンフィルム株式会社製、商品名Ｏ３ＰＦ８Ｗ−１００）上に塗布し、１４０℃で１分間の乾燥を行って膜厚が１５０ｎｍの透明導電塗膜層を形成した。次いで、この透明導電塗膜層の上に、上記と同じ導電性塗料（日本アグファ・ゲバルト（株）社製、商品名：Ｏｒｇａｃｏｎ Ｓ−３００）を、マイヤーバーを用いて再度塗布し、１４０℃で１分間の乾燥を行って全膜厚が２００ｎｍの透明導電塗膜層を得た。得られた導電性フィルムの評価結果を表１に示す。
【００３９】
［実施例２］
導電性塗料（日本アグファ・ゲバルト（株）社製、商品名：Ｏｒｇａｃｏｎ Ｓ−３００）を、マイヤーバーを用いて基材フィルム（ＰＥＴフィルム、帝人デュポンフィルム株式会社製、商品名Ｏ３ＰＦ８Ｗ−１００）上に塗布し、１４０℃で１分間の乾燥を行って膜厚が２００ｎｍの透明導電塗膜層を形成した。得られた導電性フイルムを、春日電機製卓上コロナ放電処理機ＣＧ−１０２型にて、アルミナ電極を使用し、印加電流４Ａ、フイルムと電極の距離１ｍｍ、フィルムの処理速度０．１ｍ／ｓにて４回処理を行なった。得られた導電性フィルムの評価結果を表１に示す。
【００４０】
［実施例３］
コロナ放電処理をプラズマ放電処理に変更する以外は、実施例２と同様の操作を行った。この時のプラズマ放電処理は、常圧プラズマ表面処理装置（積水化学工業製ＡＰ−Ｔ０３−Ｌ）を用いて、窒素気流下（流量６０Ｌ／分）、フィルムの処理速度０．２ｍ／分にて、透明導電性塗膜層表面を３回処理した。得られた導電性フィルムの評価結果を表１に示す。
【００４１】
［比較例１］
導電性塗料（日本アグファ・ゲバルト（株）社製、商品名：Ｏｒｇａｃｏｎ Ｓ−３００）を、マイヤーバーを用いて基材フィルム（ＰＥＴフィルム、帝人デュポンフィルム株式会社製、商品名Ｏ３ＰＦ８Ｗ−１００）上に塗布し、１４０℃で１分間の乾燥を行って膜厚が２００ｎｍの透明導電性塗膜層を形成した。得られた導電性フィルムの評価結果を表１に示す。
【００４２】
［実施例４］
ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）０．５重量％とポリスチレンスルホン酸（分子量Ｍｎ＝１５０，０００）０.８重量％を含んでなる水分散体（ＢａｙｔｒｏｎＰ：バイエルＡＧ製）１００重量部にジエチレングリコール３重量部、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシランを０．６５重量部、界面活性剤として、プラスコートＲＹ−２（互応化学工業製）を１重量部加えた導電コーティング組成物をＯｒｇａｃｏｎ Ｓ−３００に変えて用いる以外は、実施例１と同様の操作を行った。得られた導電性フィルムの評価結果を表１に示す。
【００４３】
［比較例２］
導電性ポリマー（３，４−エチレンジオキシチオフェン）０．５重量％とポリスチレンスルホン酸（分子量Ｍｎ＝１５０，０００）０.８重量％を含んで成るポリマーの水分散体（ＢａｙｔｒｏｎＰ：バイエルＡＧ製）１００重量部にジエチレングリコール３重量部、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシランを０．６５重量部、界面活性剤として、プラスコートＲＹ−２（互応化学工業製）を１重量部加えた導電コーティング組成物をＯｒｇａｃｏｎ Ｓ−３００に変えて用いる以外は、比較例１と同様の操作を行った。得られた導電性フィルムの評価結果を表１に示す。
【００４４】
［参考例］
トービ製の表面抵抗率が４５０Ω／□である、ＩＴＯフイルム（ＯＴＥＣ ２５０Ｂ−１００Ｎ）の特性を表１に示す。
【００４５】
【表１】
【００４６】
表１からわかるように、本発明の導電性フィルムは透明性および導電性に優れ、接触抵抗値もＩＴＯ系導電性フィルムと同等の性能を有することがわかる。
【産業上の利用可能性】
【００４７】
以上に説明した本発明の導電性フィルムは、導電性高分子を用いていながら、ＩＴＯを積層したものと同等に優れた透明性、導電性および接触抵抗を有しているので、例えば液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）透明タッチパネル、有機エレクトロルミネッセンス素子、無機エレクトロルミネッセンスランプ等の透明電極として好適に使用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４８】
【図１】本発明の実施例に用いられたスペイサー正面図。
【図２】本発明の実施例に用いられた測定サンプル正面図。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材フィルムの少なくとも片面に、下記一般式
【化１】
（式中、Ｒ１およびＲ２は相互に独立して水素または炭素数１〜４のアルキル基を表すか、あるいは一緒になって任意に置換されてもよい炭素数１〜１２のアルキレン基を表す）
で表される繰り返し単位からなるポリカチオン状のポリチオフェンとポリアニオンとからなる導電性高分子を構成成分とする透明導電性塗膜が設けられた導電性フィルムであって、その全光線透過率が７０％以上、表面抵抗率が１０〜１×１０４Ω／□でかつ接触抵抗値との比が６以下であることを特徴とする導電性フィルム。
【請求項２】
全光線透過率が８０％以上で、表面抵抗率が１０〜５×１０３Ω／□である請求項１に記載の導電性フィルム。
【請求項３】
基材フィルムが、ポリエステルフィルムである請求項１または２に記載の導電性フィルム。
【請求項１】
基材フィルムの少なくとも片面に、下記一般式
【化１】
（式中、Ｒ１およびＲ２は相互に独立して水素または炭素数１〜４のアルキル基を表すか、あるいは一緒になって任意に置換されてもよい炭素数１〜１２のアルキレン基を表す）
で表される繰り返し単位からなるポリカチオン状のポリチオフェンとポリアニオンとからなる導電性高分子を構成成分とする透明導電性塗膜が設けられた導電性フィルムであって、その全光線透過率が７０％以上、表面抵抗率が１０〜１×１０４Ω／□でかつ接触抵抗値との比が６以下であることを特徴とする導電性フィルム。
【請求項２】
全光線透過率が８０％以上で、表面抵抗率が１０〜５×１０３Ω／□である請求項１に記載の導電性フィルム。
【請求項３】
基材フィルムが、ポリエステルフィルムである請求項１または２に記載の導電性フィルム。
【図１】
【図２】
【図２】
【公開番号】特開２００６−２９４４１１（Ｐ２００６−２９４４１１Ａ）
【公開日】平成１８年１０月２６日（２００６．１０．２６）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００５−１１３５３６（Ｐ２００５−１１３５３６）
【出願日】平成１７年４月１１日（２００５．４．１１）
【出願人】（３０１０２０２２６）帝人デュポンフィルム株式会社 (517)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１８年１０月２６日（２００６．１０．２６）
【国際特許分類】
【出願日】平成１７年４月１１日（２００５．４．１１）
【出願人】（３０１０２０２２６）帝人デュポンフィルム株式会社 (517)
【Ｆターム（参考）】
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