説明

導電性ボールの搭載装置

【課題】基板の凹部に対応させて、配列マスクに突出する凸部を設けることで、基板の電極に対して配列マスクの貫通孔による位置決めを可能とし、かつ、不必要な導電性ボールの供給を防ぎ、ボール搭載精度の良い導電性ボールの搭載装置を提供する。
【解決手段】導電性ボールの搭載装置に次の手段を採用する。第1に、電極22に合わせて貫通孔31が設けられた配列マスク3と、配列マスク上に導電性ボールを供給するボール搭載手段とを備え、配列マスクの貫通孔を介して導電性ボールを基板2上の電極に搭載する導電性ボールの搭載装置である。第2に、基板は凹部21が形成されており、凹部の底部に電極が設けられ、かつ、電極上部から基板の上面(凹部以外の表面)までの深さが搭載される導電性ボールの直径よりも大きな凹部を有する。第3に、配列マスクは、基板と対向する面に基板の凹部に対応して突出する凸部32を有する。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、底部に電極が設けられ、かつ該電極上部までの深さが搭載される導電性ボールの直径よりも大きな凹部を有する基板の電極に導電性ボールを搭載する導電性ボールの搭載装置に関するものである。
【背景技術】
【0002】
従来の導電性ボールの搭載装置としては、特許文献1に示されるように、平板状基板の表面に設けられた電極に、平板状の配列マスクを使用して導電性ボールを搭載するものがある。しかし、近年、電子部品の小型化や薄型化に対応させたり、出っ張りを無くすことを目的として、実装される電子部品を収容するための凹部を設けた基板(Embedded基板)の需要が高まってきている。
【0003】
図4に示されるように、このEmbedded基板20に形成された凹部21の底部23に設けられた電極22に対し、この凹部21内に完全に収容されてしまう大きさの導電性ボール10、換言すれば、ボール径(D)が凹部21以外の表面24から電極22の上部までの深さ(L)よりも、小さい導電性ボール10を平板状マスク30で搭載すると、導電性ボール10が、平板状マスク30の貫通孔31を通過する際に、平板状マスク30と電極22上部との間で転動してしまい、凹部21に必要個数以上の導電性ボール10が供給されてしまうという問題があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【特許文献1】特開2008−153336号公開特許公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
本発明は、電極が形成されている基板の凹部に対応させて、配列マスクに突出する凸部を設けることで、電極に対して配列マスクの貫通孔による位置決めを可能とし、かつ、不必要な導電性ボールの供給を防ぎ、ボール搭載精度の良い導電性ボールの搭載装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0006】
上記課題を解決するため第1の発明は、導電性ボールの搭載装置に次の手段を採用する。第1に、基板上に所定パターンで配置された電極に合わせて貫通孔が設けられた配列マスクと、該配列マスク上に導電性ボールを供給するボール搭載手段とを備え、該配列マスクの貫通孔を介して導電性ボールを基板上の電極に搭載する導電性ボールの搭載装置である。
第2に、上記基板は凹部が形成されており、凹部の底部に電極が設けられ、かつ、該電極上部から基板の上面(凹部以外の表面)までの深さが搭載される導電性ボールの直径よりも大きな凹部を有する。
第3に、前記配列マスクは、前記基板と対向する面に前記基板の凹部に対応して突出する凸部を有する。
【0007】
第2の発明は、第1の発明に、次の手段を付加した導電性ボールの搭載装置である。
第1に、上記配列マスクの凸部の突出量は、上記基板の凹部の陥没量よりも大きくなるように設けられる。
第2に、上記配列マスクと基板とを相対的に接近及び離隔させる移動手段を設ける。
第3に、上記凸部下面と凹部底面とを密着させた状態で、上記ボール搭載手段によるボール搭載を行う。
【0008】
第3の発明は、第1または第2の発明におけるボール搭載手段に、次の手段を付加した導電性ボールの搭載装置である。
第1に、上記ボール搭載手段は、真空源と接続されるケーシングの下面に設けられるボール吸着体により導電性ボールを吸着するボール保持手段と、上記配列マスク上で前記ボール保持手段を移動させる移動手段とを備える。
第2に、該移動手段により前記ボール保持手段を上記配列マスク上方の所定位置に移動させる。
第3に、前記ボール保持手段により吸着される導電性ボールを、前記ケーシングと真空源との接続を解除して上記配列マスク上に供給する。
【発明の効果】
【0009】
本発明に係る導電性ボールの搭載装置は、凹部に電極が設けられた基板に対しても、該基板の凹部に対応して突出する凸部を有する配列マスクの貫通孔による導電性ボールの位置決めを行えるので、ボール搭載精度を向上させることができた。
【0010】
第2の発明の効果ではあるが、配列マスクの凸部の突出量を基板の凹部の陥没量よりも大きくなるように設け、配列マスクの凸部下面と基板の凹部底面とを密着させた状態で、ボール搭載手段によるボール搭載を行うことにより、基板の凹部底面での配列マスクによる導電性ボールの位置決めを、より確実にすることができる上、配列マスクと電極上部との間で導電性ボールが転動することがなく、不必要な導電性ボールの供給を防ぐことができ、ボール搭載精度の更なる向上が図られた導電性ボールの搭載装置となった。
【0011】
第3の発明の効果ではあるが、一つのボール搭載手段により、導電性ボールの供給及び回収を行うことのできる導電性ボールの搭載装置となった。
【図面の簡単な説明】
【0012】
【図1】本発明に係る導電性ボールの搭載装置の一実施例を示す平面概略図
【図2】同正面概略図
【図3】導電性ボールの搭載装置におけるボール搭載状態を示す説明図
【図4】凹部に電極を有する基板に対し、平板状マスクで搭載する例を示す説明図
【発明を実施するための形態】
【0013】
以下、図面に従って、実施例と共に本発明の実施の形態について説明する。図1は、本発明に係る導電性ボールの搭載装置の一実施例を示す平面概略図であり、図2は、同正面概略図であり、図3は、導電性ボールの搭載装置におけるボール搭載状態を示す説明図である。実施例における搭載装置は、導電性ボールを半田ボール1とし、半田ボール1が搭載される被搭載物を、電子回路基板や、セラミック基板などの基板2とする半田ボール搭載装置である。
【0014】
基板2は、電子部品の小型化や薄型化に対応させたり、出っ張りを無くするため、実装される電子部品を収容するための凹部21が形成されたEmbedded基板20(以下単に基板2と表記する)が用いられる。基板2の凹部21には、所定パターンの配列で電極22が設けられている。該電極22に対し、導電性ボールたる半田ボール1が搭載される。
【0015】
半田ボール搭載装置は、図1及び図2に示されるように、一般的に搬入用の基板受渡部5、ボール搭載部6、搬出用の基板受渡部7を有している。本発明に係る導電性ボールの搭載装置は、ボール搭載部6に関するものである。
【0016】
搬入用の基板受渡部5は搬入ステージ51と、搬入ピック&プレーサ52を有する。搬入ステージ51及び搬入ピック&プレーサ52はX駆動機構を有する。搬入ステージ51で搬入されてきた基板2は、搬入ピック&プレーサ52に保持され、X方向(図2中右方)へと運ばれ、搭載ステージ61上に載置される。
【0017】
搬出用の基板受渡部7は、搬出ステージ71と、搬出ピック&プレーサ72を有する。搬出ステージ71及び搬出ピック&プレーサ72はX駆動機構を有する。搬出ピック&プレーサ72は搭載ステージ61上から基板2を保持し、搬出ステージ71上へ基板2を移し、搬出ステージ71により図2中右方へと基板2を搬出する。
【0018】
ボール搭載部6は、図2に示されるように、配列マスク3と、配列マスク3上に半田ボール1を供給するボール搭載手段となるボールカップ4と、基板2が載置される搭載ステージ61とを有する。
【0019】
ボールカップ4は、図3上部に示されるように、ケーシング46の下面(ボールカップ4の内側)にボール吸着体42が設けられている。ボールカップ4はケーシング46により真空源と接続され、真空吸引により半田ボール1をボール吸着体42に吸着する。ボールカップ4には、配列マスク3上でボールカップ4をXYZ方向へ移動させる移動手段が備えられている。図1中符号47がボールカップX駆動機構、48がボールカップY駆動機構、49がボールカップZ駆動機構である。尚、ボール搭載手段は、ボールカップ方式に限られず、マスク振り込み方式のボール搭載手段であれば、その他公知のボール搭載手段を用いるようにしても良い。
【0020】
ボールカップ4は、内部が空間で、下端面が開口部41とされ、内部空間(ケーシング46の下面)に半田ボール1を吸着するボール吸着体42が設けられ、ボール吸着体42により上部空間43と下部空間44とに仕切られている。ボール吸着体42は、半田ボール1が通過せず、気体が通過可能なステンレスメッシュ等の金網で製作されている。
【0021】
ボールカップ4は、実施例では図1に示されるように複数個並列に設けられた矩形のものであるが、その数や形状及び大きさは被搭載物である基板2の形状や搭載効率を考慮して決められる。例えば、下端の開口部41を円形にしたりしても良い。図1では4個のボールカップ4が示されているが、実施例では、ボールカップ4は8個並べられている。
【0022】
ボールカップ4の上部空間43は、真空切り換え手段としての電磁開閉弁と気体の圧力や流量を調節可能なレギュレータを介して吸引通路45により真空源に接続されており、配列マスク3との間で図3中矢印で示すような気体流通路を形成している。
【0023】
尚、真空源によるボールカップ4内の吸引状態のON及びOFFを切り換える真空切り換え手段としての電磁開閉弁を開くことで、ボールカップ4内の吸引状態をONにして半田ボール1をボール吸着体42に吸着させ、電磁開閉弁を閉じることでボールカップ4内の吸引状態をOFFにしてボール吸着体42に吸着していた半田ボール1を落下させることにより、半田ボール1を配列マスク3を通じて、基板2の電極22上に搭載する。
【0024】
尚、ボールカップ4及びボール吸着体42は導電性材料から構成され、アースにより接地されている。これにより静電気を帯びた半田ボール1が吸引状態OFFのときにボールカップ4の内面やボール吸着体42に付着することを防止している。更に、ボールカップ4の外側には微小な振動をボールカップ4に付与するバイブレータが取り付けられており、少なくともボールカップ4内の吸引状態がOFFのときに振動し、ボールカップ4に取り付けられているボール吸着体42に振動を伝え、半田ボール1の落下を促進するようになっている。
【0025】
尚、ボールカップ4の下端と配列マスク3の上面とはボール吸着動作時に所定の気体流がえられるような間隙であれば半田ボール1の径より大きくても良い。
【0026】
配列マスク3は、図3に示されるように、基板2と対向する面(配列マスク3の下面)に基板2の凹部21に対応して突出する凸部32が形成されている。配列マスク3の凸部32の突出量Eは、基板2の凹部21の陥没量Cよりも大きく(E>C)設定されている。これにより、配列マスク3の凸部32の下面を基板2の凹部21底面に密着させることができ、その結果、配列マスク3と半田ボール1との係合を確実にさせ、半田ボール1の搭載精度を向上させることができる。
【0027】
配列マスク3の凸部32の幅は、図3に示されるように、基板2の凹部21の幅よりやや小さくなるように、間隙イを設けて設定される。これは、半田ボール1の搭載後、搭載ステージ61を駆動して、基板2と配列マスク3をXY方向に相対微動させることで、半田ボール1が電極22に着座するようにするセンタリング動作の際の移動代を取るためである。即ち、ボール搭載後のセンタリングを行うための遊びが設けられている。
【0028】
配列マスク3の凸部32の下面には、フラックス逃げ用の掘り込み33が設けられている。該掘り込み33は、電極22に搭載された半田ボール1によって、押し出されたフラックスが、配列マスク3の下面に付着することを防止するためである。
【0029】
ボール搭載部6に存在する搭載ステージ61は、基板2が搭載され、本発明における基板2と配列マスク3とを相対的に接近及び離隔させる移動手段となる。搭載ステージ61はXYZθ駆動機構を有する。
【0030】
以下、実施例の動作について説明する。先ず、基板2が、ボール搭載部(搭載ステージ61)に移送される前工程として、搬入ステージ51上流に設けられるフラックス塗布手段により、基板2上のボール搭載箇所には予めフラックスが塗布されている。
【0031】
基板2が搬入ステージ51で所定位置まで搬送されてくると、搬入ピック&プレーサ52が基板2を吸着保持してX駆動し、搬入ステージ51から搭載ステージ61上に基板2を移動させると共に、基板2が所定の位置に載置されるように搭載ステージ61のXYZθ駆動機構を動作させて位置合わせをする。基板2が搭載ステージ61に移送されると、搭載ステージ61に基板2が載置され、該基板2上に配列マスク3が配置される。
【0032】
配列マスク3の貫通孔31の位置と基板2の電極22との位置が合うように位置決めしつつ、搭載ステージ61をZ駆動して配列マスク3と基板2とを接近させ、密着させる。尚、実施例では配列マスク3のフラックス逃げ用の掘り込み33によりフラックスが配列マスク3に付着しないようにされているので、配列マスク3と基板2は接している。
【0033】
次に真空切り換え手段としての電磁開閉弁を開いてボールカップ4内の吸引状態をONにしてから、移動手段によりXYZ駆動させ、ボールカップ4を最初の搭載位置、即ち、配列マスク3の凸部32の上方に移動させる。ボールカップ4内の吸引状態をONにすることによりボールカップ4と配列マスク3との間には図3内の矢印で示される気体流通路が形成される。この吸引力によりボールカップ4下方に存在する半田ボール1は、浮上しボール吸着体42に吸着する。この状態が、ボールカップ4の移動可能状態である。吸引状態がOFFの状態では、ボールカップ4を移動させない。
【0034】
ボールカップ4が、最初の搭載位置に移動した後、電磁開閉弁を閉じてボールカップ4内の吸引状態をOFFにすると共にバイブレータを振動させる。吸引が停止すると、ボールカップ4は大気開放されるため、ボール吸着体42に付着していた半田ボール1が落下し、配列マスク3の貫通孔31に入り込み、基板2に搭載される。貫通孔31への半田ボール1の落とし込み、即ち、基板2への搭載を確実なものにするため複数回吸引状態ON(吸引)とOFF(停止)を繰り返すと共に、バイブレータは電磁開閉弁の開閉に合わせて振動の停止と発生を繰り返す。
【0035】
半田ボール1の搭載動作後、搭載ステージ61を駆動して、基板2と配列マスク3をXY方向に相対微動させることで、半田ボール1が確実に電極22に着座するようにする。このセンタリング動作は、半田ボール1と配列マスク3とが、密着したままの状態、あるいは、半田ボール1と配列マスク3との係合が外れない程度に隔離した状態(搭載ステージ61を微少量下降させた状態)で行う。
【0036】
搭載完了後、真空切り換え手段により、ボールカップ4内の吸引状態をONにし、再度吸引を行う。基板2に搭載された半田ボール1はフラックスと接触して粘着力が生じることにより上昇せず、フラックスに接触していない半田ボール1は全て吸い上げられ、浮上し、ボール吸着体42に吸着することになる。従って、一つのボール搭載手段により、半田ボール1の供給及び回収を行うことができる。この状態でボールカップ4は、次の搭載位置である配列マスク3の凸部上方に移動する。尚、次の搭載位置への移動は、ボールカップ4の吸引状態をONにするのと同時に開始しても良い。
【0037】
最後の搭載位置での搭載動作が完了した後、搭載ステージ61をZ駆動により下降させ、搬出ピック&プレーサ72のX駆動により基板2を搭載ステージ61から搬出ステージ71へと移載する。その後、基板2は搬出ステージ71により搬出される。
【符号の説明】
【0038】
1・・・・・・・・半田ボール
2・・・・・・・・基板
3・・・・・・・・配列マスク
4・・・・・・・・ボールカップ
5・・・・・・・・搬入用の基板受渡部
6・・・・・・・・ボール搭載部
7・・・・・・・・搬出用の基板受渡部
10・・・・・・・導電性ボール
20・・・・・・・Embedded基板
21・・・・・・・凹部
22・・・・・・・電極
23・・・・・・・底部
24・・・・・・・表面
30・・・・・・・平板状マスク
31・・・・・・・貫通孔
32・・・・・・・凸部
33・・・・・・・掘り込み
41・・・・・・・開口部
42・・・・・・・ボール吸着体
43・・・・・・・上部空間
44・・・・・・・下部空間
45・・・・・・・吸引通路
46・・・・・・・ケーシング
47・・・・・・・ボールカップX駆動機構
48・・・・・・・ボールカップY駆動機構
49・・・・・・・ボールカップZ駆動機構
51・・・・・・・搬入ステージ
52・・・・・・・搬入ピック&プレーサ
61・・・・・・・搭載ステージ
71・・・・・・・搬出ステージ
72・・・・・・・搬出ピック&プレーサ
C・・・・・・・・陥没量
E・・・・・・・・突出量
イ・・・・・・・・間隙



【特許請求の範囲】
【請求項1】
底部に電極が設けられ、かつ該電極上部までの深さが搭載される導電性ボールの直径よりも大きな凹部を有する基板上に所定のパターンで配置された電極に合わせて貫通孔が設けられた配列マスクと、
該配列マスク上に導電性ボールを供給するボール搭載手段とを備え、
該配列マスクの貫通孔を介して導電性ボールを基板上の電極に搭載する導電性ボールの搭載装置において、
前記配列マスクは、前記基板と対向する面に前記基板の凹部に対応して突出する凸部を有することを特徴とする導電性ボールの搭載装置。
【請求項2】
上記配列マスクの凸部の突出量は、上記基板の凹部の陥没量よりも大きくなるように設けられており、
上記配列マスクと基板とを相対的に接近及び離隔させる移動手段を設け、
上記凸部下面と凹部底面とを密着させた状態で、上記ボール搭載手段によるボール搭載を行うことを特徴とする請求項1記載の導電性ボールの搭載装置。
【請求項3】
上記ボール搭載手段は、真空源と接続されるケーシングの下面に設けられるボール吸着体により導電性ボールを吸着するボール保持手段と、上記配列マスク上で前記ボール保持手段を移動させる移動手段とを備え、
該移動手段により前記ボール保持手段を上記配列マスク上方の所定位置に移動させ、
前記ボール保持手段により吸着される導電性ボールを、前記ケーシングと真空源との接続を解除して上記配列マスク上に供給することを特徴とする請求項1または2記載の導電性ボールの搭載装置。

【図1】
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【図2】
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【図3】
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【図4】
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【公開番号】特開2012−74558(P2012−74558A)
【公開日】平成24年4月12日(2012.4.12)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2010−218563(P2010−218563)
【出願日】平成22年9月29日(2010.9.29)
【出願人】(000253019)澁谷工業株式会社 (503)
【Fターム(参考)】