説明

導電性反射膜用組成物および導電性反射膜の製造方法

【課題】 有機EL素子の輝度を高くするため、反射性が良好であり、かつ基材や発光層からの導電性反射膜の剥離による発光強度の低下を抑制し、耐久性が向上した有機EL素子を製造することが可能な高密着性の導電性反射膜を、湿式塗工法により得るための導電性反射膜用組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】 金属ナノ粒子と、カーボンナノファイバーとを含有することを特徴とする、導電性反射膜用組成物であって、この導電性反射膜用組成物は、さらに、添加物を含むと好ましい。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、導電性反射膜用組成物および導電性反射膜の製造方法に関する。特に、有機エレクトロルミネッセンス素子(以下、有機EL素子という)の基材上に形成され、有機EL素子の光を効率的に取り出すことのできる導電性反射膜に適した組成物、およびこの組成物を用いる導電性反射膜の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【0002】
近年、有機ELは発光効率や耐久性の向上などに伴い、様々な分野に利用され始めており、特に、照明器具やディスプレイの用途へ応用展開が急速に進んでいる。
【0003】
図1に、有機EL素子の断面構造の一例を示す。図1のように、有機EL素子1は、基材20上に、有機物からなる発光層30を、一対の導電性反射膜10(陰極)と透明電極層40(陽極)の間にサンドイッチした多層構造で構成される。このように、有機EL素子は、光を取り出す方の電極層には透明電極層が用いられ、光を取り出す方ではない電極層には反射の機能も兼ね備えた電極層としての導電性反射膜が設けられ、発光層からの光を効率的に反射させて発光強度を増加させる構造が用いられている。
【0004】
導電性反射膜は、一般に、スパッタなどの真空成膜法により成膜されているが、真空成膜法は大型の真空成膜装置を維持・運転するため多大なコストを必要としているので、ランニングコストの大幅な改善が期待されている。
【0005】
この湿式塗工法として、平均粒子径が1〜20nmである金属粒子が分散された分散液を塗布して、有機EL素子の陰極を形成する方法が開示されている(特許文献1)。
【0006】
しかしながら、上記分散液を塗布する方法で導電性反射膜を形成すると、導電性反射膜が基材や発光層から剥離し、有機EL素子の発光強度が低下するという耐久性の問題がある。詳細に説明すると、導電性反射膜は、金属粒子を含む導電性反射膜用組成物を塗布した後、焼成して形成され、この焼成を低温で行うために、金属粒子として金属ナノ粒子を用いる。ここで、上記方法では、保存時における金属ナノ粒子間の焼結を避けるため、金属ナノ粒子を200℃近傍で蒸発または分解する一級アミンまたはその誘導体で被覆している。しかし、この一級アミン等を添加すると、焼結時に金属ナノ粒子が粒成長しすぎることで多孔質になるため、導電性反射膜の密着性が低下し、導電性反射膜が基材や発光層から剥離することにより、有機EL素子の耐久性が低下したり、導電性反射膜の反射性が下がり、有機EL素子の輝度も低下するという問題がある。また、金属ナノ粒子の粒成長を抑制するために、一級アミン等を過剰に添加すると、金属ナノ粒子の分散安定性が低下するかもしくは得られた膜の反射性や導電性が悪くなる、という問題がある。なお、有機EL素子は、LED等の発光体と比較して、単位体積当たりに流れる電流が多いため、有機EL素子の導電性反射膜には、他の発光体での導電性反射膜より高導電性であること、すわなち、導電性反射膜に厚さが求められるため、他の層との熱膨張係数の差から剥離し易くなる、という特徴がある。
【0007】
一方、カーボンナノチューブは、化学的に安定で、その先端から効率よく電子を放出し易いため、カーボンナノチューブを含む層を、陰極と発光層の間に配置して、陰極にはAl、Au、Ag等を用い、低仕事関数と化学的安定性を実現する方法が検討されている(特許文献2)。
【0008】
しかしながら、化学的に安定なカーボンナノチューブを含む層を、金属電極層からなる陰極と発光層の間に配置する方法でも、陰極を作製するために、真空蒸着、スパッタ等の真空成膜法を使用している。加えて、化学的に安定なカーボンナノチューブを含む層は、電気泳動法で形成されており、量産性に優れているとはいえない。また、カーボンナノチューブを含む層を、陰極と発光層の間に配置すると、金属電極層からなる陰極の反射性が低下し、有機EL素子の輝度が低下してしまう。
【0009】
陰極にカーボンナノファイバーを含む有機EL素子も検討されているが(特許文献3)、この陰極には、導電性を補うためのAlの金属電極層が真空成膜法(真空蒸着法)で形成されている。また、カーボンナノチューブを、発光層上に直接CVD法で形成しており、量産性に優れているとはいえない。また、この有機EL素子においても、カーボンナノチューブにより金属電極層の反射性が低下し、有機EL素子の輝度が低下してしまう。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0010】
【特許文献1】特開2010−198935号公報
【特許文献2】特開2002−124387号公報
【特許文献3】特開2002−305087号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0011】
本発明は、上記問題を解決することを課題とする。すなわち、有機EL素子の輝度を高くするため、反射性が良好であり、かつ基材や発光層からの導電性反射膜の剥離による発光強度の低下を抑制し、耐久性が向上した有機EL素子を製造することが可能な高密着性の導電性反射膜を、湿式塗工法により得るための導電性反射膜用組成物を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0012】
本発明は、以下に示す構成によって上記課題を解決した導電性反射膜用組成物、および導電性反射膜の製造方法に関する。
(1)金属ナノ粒子と、カーボンナノファイバーとを含有することを特徴とする、導電性反射膜用組成物。
(2)さらに、添加物を含む、上記(1)記載の導電性反射膜用組成物。
(3)基材上に、上記(1)または(2)記載の導電性反射膜用組成物を、湿式塗工法により塗布した後、焼成することを特徴とする、導電性反射膜の製造方法。
(4)金属ナノ粒子焼結体と、カーボンナノファイバーとを含有することを特徴とする、導電性反射膜。
【発明の効果】
【0013】
本発明(1)によれば、導電性反射膜用組成物に含有されるカーボンナノファイバーは、導電性反射膜用組成物中の金属ナノ粒子焼結時の金属ナノ粒子の粒成長を抑制するため、導電性反射膜の反射性を向上させる。したがって、有機EL素子の輝度を高くすることができる。また、導電性反射膜にカーボンナノファイバーが存在することにより、導電性反射膜の密着性を向上させる。すなわち、基材や発光層からの導電性反射膜の剥離による発光強度の低下を抑制し、有機EL素子の耐久性を向上させることができる。本発明(2)によれば、添加物の存在により、さらに反射性と密着性が向上した導電性反射膜を得ることができる。
【0014】
本発明(3)によれば、反射性が良好で、密着性の高い導電性反射膜を、湿式塗工法を用いて簡便に製造することができる。また、本発明(4)の導電性反射膜は、反射性が良好で、密着性が高いので、有機EL素子の高輝度にし、高耐久性にすることができる。
【図面の簡単な説明】
【0015】
【図1】有機EL素子の断面構造の一例である。
【発明を実施するための形態】
【0016】
以下、本発明を実施形態に基づいて具体的に説明する。なお、%は特に示さない限り、また数値固有の場合を除いて質量%である。
【0017】
〔導電性反射膜用組成物〕
本発明の導電性反射膜用組成物は、金属ナノ粒子と、カーボンナノファイバーとを含有することを特徴とする。
【0018】
金属ナノ粒子は、導電性反射膜用組成物から製造される導電性反射膜に、導電性と反射性を付与する。従来、導電性反射膜が使用される陰極には有機発光層への電子注入を容易にするため、Mg、Ca、Sn、Pb、Li、Mn、Alといった仕事関数の低い金属やそれらの合金が用いられている。本発明において、金属ナノ粒子としては、銀、金、白金、銅、パラジウム、ルテニウム、マグネシウム、ニッケル、スズ、インジウム、ガリウムおよび銅からなる群より選ばれる1種、または2種以上の混合組成又は合金組成が挙げられ、銀が、導電性反射膜の反射性、導電性の観点から好ましく、さらに仕事関数の低いマグネシウム、スズを併用することが好ましい。ここで、金属ナノ粒子の金属:100質量部に対して、銀を75質量部以上含有させると、導電性反射膜の反射性、導電性の観点から好ましい。また、金属ナノ粒子の平均粒径は、10〜50nmであると好ましく、金属ナノ粒子が粒径10〜50nmの範囲内の金属ナノ粒子を数平均で70%以上含有すると、より好ましい。ここで、平均粒径と、粒径10〜50nmの範囲内の金属ナノ粒子を数平均含有量は、堀場製作所製LB−550による動的光散乱法を用いて測定する。金属ナノ粒子の形状は、球状、板状であると、分散性、反射性の観点から好ましい。
【0019】
カーボンナノファイバーは、電子放出能力が高く、導電性反射膜用組成物の焼結時の金属ナノ粒子の粒成長を抑制する。したがって、カーボンナノファイバーを含有する導電性反射膜用組成物は、電子放出能力が高く、かつ反射性に優れ、密着性の高い導電性反射膜を容易に製造することができる。また、カーボンナノファイバーは、化学的に安定である。カーボンナノファイバーは、直径が1〜1000nmで、アスペクト比が5以上のものをいい、直径が1〜100nmで、アスペクト比が10〜1000であると好ましい。また、カーボンナノファイバーは、X線回折測定によるグラファイトの[002]面の面間隔が、0.35nm以下であると好ましい。上記直径とアスペクト比のカーボンナノファイバーは、溶媒中で均一に分散し易く、陰極形成後に相互に十分な接触点を形成することができる。X線回折測定によるグラファイト層の[002]面の面間隔が上記範囲内であるカーボンナノファイバーは結晶性が高いため電気抵抗が小さく、高導電性の陰極を得ることができる。さらに、カーボンナノファイバーの圧密体の体積抵抗値が1.0Ω・cm以下であると、良好な導電性を発揮することができる。
【0020】
ここで、直径は、透過型電子顕微鏡写真(倍率10万倍)を観察して求めた平均直径である(n=50)。アスペクト比は、透過型電子顕微鏡写真(倍率10万倍)を観察して、(長さ/直径)を計算して求める(n=50)。X線回折測定は、CuKα線により行う。カーボンナノファイバーの圧密体の体積抵抗値は、試料粉末を円筒ドーナツ状のPP製絶縁ジグに入れ、開口部の両端を円筒の真鍮電極によって100kgf/cmで加圧し、真鍮電極間の抵抗値をデジタルマルチメーターによって測定し、この測定値から算出する。
【0021】
カーボンナノファイバーは、気相成長法で作製され、触媒が、Fe、Ni、Co、Mn、Cu、Mg、AlおよびCaの酸化物からなる群より選ばれる1種または2種以上の系であると、好ましい直径、アスペクト比、グラファイト層の[002]面の面間隔のカーボンナノファイバーを得られ易いので、好ましい。
【0022】
なお、一酸化炭素を主な原料ガスとした気相成長法によって製造されたカーボンナノファイバーを用いると、本発明の効果をより発揮することができる。この一酸化炭素を主な原料ガスとした気相成長法によって製造されたカーボンナノファイバーは、表面が親水性であるため分散性に優れている。具体的には、アセチレンガス等を原料としたものと比較すると、カーボンナノファイバー表面にOH基、COOH基が多く存在していることから、非常に分散性が良く、金属ナノ粒子と混合しても安定した組成物が得られる。また、これらの官能基の存在により、導電性反射膜の密着性が向上する。ここで、一酸化炭素を主な原料ガスとした気相成長法によって製造されたカーボンナノファイバーに、硝酸と塩酸の混酸で表面酸化処理をして、カーボンナノファイバーと酸素との合計:100質量部に対して、酸素を5〜25質量部含有させると、分散性と密着性がさらに向上する。ここで、酸素の含有量の分析は、LECO製酸素分析装置(型番:TCEN−600)で行い、残部は炭素とする。
【0023】
また、一酸化炭素を主な原料ガスとした気相成長法によって製造されたカーボンナノファイバーは、トルエン着色透過量を95%以上にすることができ、有機EL素子の耐久性を向上させることができる。ここで、トルエン着色透過量の測定は、JISK6218−4「ゴム用カーボンブラック−付随的特性−第4部:トルエン着色透過度の求め方」に準拠して行う。
【0024】
導電性反射膜用組成物は、分散媒を含み、分散媒は、全ての分散媒100質量%に対して、1質量%以上の水と、2質量%以上の水と相溶する溶剤、例えば、アルコール類とを含有することが好適である。例えば、分散媒が水およびアルコール類のみからなる場合、水を2質量%含有するときはアルコール類を98質量%含有し、アルコール類を2質量%含有するときは水を98質量%含有する。水の含有量が1質量%未満、またはアルコール類の含有量が2質量%未満では、導電性反射膜用組成物を湿式塗工法により塗工して得られた膜を低温で焼結し難くなり、また、焼成後の導電性反射膜の導電性と反射率が低下してしまうからである。アルコール類としては、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、グリセロール、エリトリトール等が挙げられ、これらを混合して用いてもよい。
【0025】
さらに、分散媒は、金属ナノ粒子表面を化学修飾する水酸基(−OH)又はカルボニル基(−C=O)のいずれか一方又は双方を含有する保護剤を含むと、導電性反射膜用組成物の分散安定性に優れ、塗膜の低温焼結にも効果的な作用があるため、好適である。保護剤としては、クエン酸ナトリウム、リンゴ酸ナトリウム等が挙げられる。
【0026】
金属ナノ粒子は、分散媒を除く導電性反射膜用組成物:100質量部に対して、75質量部以上であると、反射性、導電性の観点から好ましく、99.9質量部以下であると、導電性反射膜の密着性の観点から好ましい。また、金属ナノ粒子は、導電性反射膜用組成物:100質量部に対して、0.02〜30質量部であると好ましい。
【0027】
カーボンナノファイバーは、分散媒を除く導電性反射膜用組成物:100質量部に対して、4〜19質量部であると、導電性反射膜の電子放出能力、射性、密着性の観点から好ましい。また、カーボンナノファイバーは、導電性反射膜用組成物:100質量部に対して、0.02〜10質量部であると好ましい。
【0028】
分散媒は、導電性反射膜用組成物:100質量部に対して、50〜99質量部であると、塗工性の観点から好ましい。
【0029】
導電性反射膜用組成物は、さらに、添加物を含有すると好ましい。添加物は、導電性反射膜用組成物の焼結時の金属ナノ粒子の粒成長を抑制する。また、添加物は、焼結後にも導電性反射膜に存在し、金属ナノ粒子間に添加物が存在することにより、導電性反射膜の反射性が向上し、有機EL素子の輝度が高くなり、導電性反射膜の耐熱性、耐光性や耐食性も向上させる。さらに、添加剤により、導電性反射膜の密着性が向上する。したがって、有機EL素子の耐久性が高くなる。
【0030】
添加物としては、有機高分子、金属酸化物、金属水酸化物、有機金属化合物、およびシリコーンオイルが挙げられ、有機高分子が好ましく、有機高分子と、金属水酸化物または有機金属化合物と、を併用すると、より好ましい。
【0031】
添加物として使用する有機高分子としては、ポリビニルピロリドン(PVP)、ポリビニルピロリドンの共重合体、および水溶性セルロースからなる群より選ばれる少なくとも1種であると、導電性反射膜の反射性および導電性の観点から好ましい。ポリビニルピロリドンの共重合体としては、PVP−メタクリレート共重合体、PVP−スチレン共重合体、PVP−酢酸ビニル共重合体等が挙げられる。また水溶性セルロースとしては、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、メチルセルロース、ヒドロキシエチルメチルセルロース等のセルロースエーテルが挙げられる。PVPが、導電性反射膜の反射性、導電性および密着性の点から、より好ましい。
【0032】
添加物として使用する金属酸化物としては、錫、インジウム、亜鉛、およびアンチモンからなる群より選ばれる少なくとも1種を含む酸化物または複合酸化物が挙げられ、スズドープ酸化インジウムや酸化亜鉛が好ましい。
【0033】
添加物として使用する金属水酸化物としては、マグネシウム、リチウム、アルミニウム、鉄、コバルト、ニッケル等の水酸化物が挙げられ、水酸化マグネシウム、水酸化リチウムが好ましい。
【0034】
添加物として使用する有機金属化合物としては、シリコン、チタン、ジルコニウム、亜鉛、錫等の金属石鹸、金属錯体、金属アルコキシドまたは金属アルコキシドの加水分解物が挙げられる。例えば、金属石鹸としては、酢酸亜鉛、シュウ酸亜鉛、酢酸錫、ギ酸コバルト等が挙げられ、金属錯体としては、アセチルアセトン亜鉛錯体等が挙げられ、金属アルコキシドとしては、チタニウムイソプロポキシド、メチルシリケート等が挙げられる。導電性反射膜の密着性の観点から、酢酸亜鉛、酢酸錫、ギ酸コバルト、チタニウムイソプロポキシドが好ましい。
【0035】
添加物として使用するシリコーンオイルとしては、ストレートシリコーンオイルや変性シリコーンオイルが挙げられ、変性シリコーンオイルが好ましい。
【0036】
添加物の含有割合は、分散媒を除く導電性反射膜用組成物:100質量部に対して、0.1〜25質量部であると好ましい。0.1質量部以上であれば、基材と接着力が良好であり、25質量部以下であると成膜時の膜ムラが生じにくい。
【0037】
導電性反射膜用組成物は、本発明の本発明の目的を損なわない範囲で、さらに必要に応じ、低抵抗化剤、水溶性セルロース誘導体、酸化防止剤、レベリング剤、揺変剤、フィラー、応力緩和剤、その他の添加剤等を配合することができる。
【0038】
〔導電性反射膜の製造方法〕
本発明の導電性反射膜の製造方法は、基材上に、上記導電性反射膜用組成物を、湿式塗工法により塗布した後、焼成することを特徴とする。
【0039】
予め、導電性反射膜用組成物の製造を行う。導電性反射膜用組成物は、所望の成分を、常法により、ペイントシェーカー、ボールミル、サンドミル、セントリミル、三本ロール等によって混合し、透光性バインダー、場合により透明導電性粒子等を分散させ、作製することができる。無論、通常の攪拌操作によって作製することもできる。なお、金属ナノ粒子とカーボンナノファイバーを除く成分を混合した後、別途予め分散させた金属ナノ粒子を含む分散媒、および別途予め分散させたカーボンナノファイバーを含む分散媒と混合すると、均質な導電性反射膜用組成物を得やすい観点から好ましい。また、カーボンナノファイバーは、分散媒と混合する前に、硝酸、硫酸、塩酸、フッ酸等で表面酸化処理をすると、カーボンナノファイバーの分散性と密着性が向上するので、好ましい。
【0040】
まず、基材上に、導電性反射膜用組成物を、湿式塗工法により塗布する。基材は、当業者に公知のものでよく、特に限定されない。例えば、基材としてはガラス基板や樹脂フィルムのようなフレキシブル基板が挙げられる。次に、ここでの塗布は、導電性反射膜の反射性、導電性の観点から、焼成後の導電性反射膜の厚さが、好ましくは0.1〜3.0μmとなるようにする。この製造方法では、1回の湿式塗工法による塗布成膜で、好ましい厚さの導電性反射膜を形成し得るが、塗布成膜を複数回行ってもよい。続いて、この導電性反射塗膜を、好ましくは、120〜350℃の温度で、5〜60分間、乾燥する。このようにして塗膜を形成する。
【0041】
湿式塗工法は、スプレーコーティング法、ディスペンサーコーティング法、スピンコーティング法、ナイフコーティング法、スリットコーティング法、インクジェットコーティング法、スクリーン印刷法、オフセット印刷法、またはダイコーティング法のいずれかであることが好ましいが、これに限られるものではなく、あらゆる方法を利用できる。
【0042】
次に、導電性反射塗膜を有する基材を、大気中または窒素やアルゴンなどの不活性ガス雰囲気中で、好ましくは、130〜250℃の温度で、5〜60分間保持して焼成する。
【0043】
塗膜を有する基材の焼成温度を130〜250℃の範囲が好ましいのは、130℃未満では、導電性反射膜において、硬化不足の不具合が生じるからである。また、250℃を越えると、低温プロセスという生産上のメリットを生かせない、すなわち、製造コストが増大し、生産性が低下してしまう。さらに、樹脂フィルムのようなフレキシブル基板を用いる場合は、200℃未満の焼成温度が好ましい。すなわち、湿式塗工後の焼成温度が低ければ、有機EL素子の基材として、ガラス基板以外にも樹脂フィルムのようなフレキシブル基板も用いることが可能となるため、応用範囲が広がる。
【0044】
塗膜を有する基材の焼成時間を5〜60分間の範囲が好ましいのは、焼成時間が5分未満では、導電性反射膜において、焼成が十分でない不具合が生じるからである。焼成時間が60分を越えると、必要以上に製造コストが増大して生産性が低下してしまう不具合を生じるためである。
【0045】
上記の製造方法により製造される導電性反射膜は、金属ナノ粒子焼結体と、カーボンナノファイバーとを含有する。
【0046】
以上により、有機EL素子の輝度を高くするため、反射性が良好であり、かつ基材や発光層からの導電性反射膜の剥離による発光強度の低下を抑制し、耐久性が向上した有機EL素子を製造することが可能な高密着性の導電性反射膜を、湿式塗工法により簡便に低コストで製造することができる。
【実施例】
【0047】
以下に、実施例により、本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【0048】
《金属ナノ粒子分散液の作製》
硝酸銀を脱イオン水に溶解して、金属塩水溶液を調製した。また、クエン酸ナトリウムを脱イオン水に溶解して、濃度が26質量%のクエン酸ナトリウム水溶液を調製した。このクエン酸ナトリウム水溶液に、35℃に保持された窒素ガス気流中で、粒状の硫酸第1鉄を直接加えて溶解させ、クエン酸イオンと第1鉄イオンを3:2のモル比で含有する還元剤水溶液を調製した。
【0049】
次に、上記窒素ガス気流を35℃に保持しながら、還元剤水溶液中に、マグネチックスターラーの攪拌子を入れ、攪拌子の回転速度:100rpmで攪拌しながら、この還元剤水溶液に、上記金属塩水溶液を滴下して、混合した。ここで、還元剤水溶液への金属塩水溶液の添加量は、還元剤水溶液の量の1/10以下になるように、各溶液の濃度を調整して、室温の金属塩水溶液を滴下しても反応温度が40℃に保持されるようにした。また、還元剤水溶液と金属塩水溶液との混合比は、金属塩水溶液中の金属イオンの総原子価数に対する、還元剤水溶液のクエン酸イオンと第1鉄イオンとのモル比が、いずれも3倍モルとなるようにした。還元剤水溶液への金属塩水溶液の滴下が終了した後、さらに、混合液の攪拌を15分間続けることにより、混合液内部に銀ナノ粒子を生じさせ、銀ナノ粒子が分散した銀ナノ粒子分散液を得た。銀ナノ粒子分散液のpHは5.5であり、分散液中の銀ナノ粒子の化学量論的生成量は5g/リットルであった。
【0050】
得られた銀ナノ粒子分散液を、室温で放置することにより、分散液中の銀ナノ粒子を沈降させ、沈降した銀ナノ粒子の凝集物をデカンテーションにより分離した。分離した銀ナノ粒子凝集物に、脱イオン水を加えて分散体とし、限外濾過により脱塩処理した後、さらにメタノールで置換洗浄して、金属(銀)の含有量を50質量%にした。その後、遠心分離機を用い、この遠心分離機の遠心力を調整して、粒径が100nmを越える比較的大きな銀粒子を分離することにより、粒径10〜50nmの範囲内の銀ナノ粒子を数平均で71%含有するように調整し、銀ナノ粒子分散液を得た。得られた銀ナノ粒子の平均粒径は、35nmであった。ここで、銀ナノ粒子の平均粒径と、粒径10〜50nmの範囲内の金属ナノ粒子の数平均含有量は、堀場製作所製LB−550による動的光散乱法を用いて測定した。得られた銀ナノ粒子は、クエン酸ナトリウムの保護剤が化学修飾されていた。
【0051】
得られた銀ナノ粒子:15質量部を、エタノール及びメタノールを含む混合溶液:85質量部に添加混合することにより分散させ、Agナノ粒子分散液を作製した。
【0052】
《カーボンナノファイバー(以下、CNFという)分散液の作製》
Co、Mg酸化物を触媒にし、一酸化炭素を主な原料ガスとして気相成長法によって合成されたカーボンナノファイバー(平均直径:20nm)を、硝酸(濃度60%)と硫酸(濃度95%以上)の混合液に、CNF:硝酸:硫酸=1重量部:5重量部:15重量部の割合で混合し、加熱して表面酸化処理を行った。得られた溶液を濾過し、数回水洗を行って残留する酸を洗い流した。その後、乾燥して粉末化し、その粉末をエタノールに溶解させて、5質量%CNF分散液を調製した。なお、LECO製酸素分析装置(型番:TCEN−600)で分析した結果、CNFは、CNFと酸素との合計:100質量部に対して、酸素を12質量部含有していた。ここで、使用したカーボンナノファイバーのアスペクト比は、10〜1000であり、X線回折測定によるグラファイトの[002]面の面間隔は、0.339〜0.344nmであり、圧密体の体積抵抗率は、0.05〜0.08Ω・cmであった。また、一酸化炭素を原料とする場合のトルエン着色透過率は、98〜99%であった。なお、実施例11で使用したCを原料とするCNFのトルエン着色透過率は、93%であった。CNFの平均直径は、透過型電子顕微鏡写真(倍率10万倍)を観察して求めた(n=50)。アスペクト比は、透過型電子顕微鏡写真(倍率10万倍)を観察して、(長さ/直径)を計算して求めた(n=50)。X線回折測定は、CuKα線により行った。CNFの圧密体の体積抵抗値は、試料粉末を円筒ドーナツ状のPP製絶縁ジグに入れ、開口部の両端を円筒の真鍮電極によって100kgf/cmで加圧し、真鍮電極間の抵抗値をデジタルマルチメーターによって測定し、この測定値から算出した。トルエン着色透過量の測定は、JISK6218−4「ゴム用カーボンブラック−付随的特性−第4部:トルエン着色透過度の求め方」に準拠して行った。
【0053】
《導電性反射膜用組成物の作製》
〔実施例1〕
金属ナノ粒子:100質量部、CNF:5質量部の割合となるように、Agナノ粒子分散液と、CNF分散液と、エタノールおよびメタノールを含む混合溶液とを用いて、Ag濃度が10質量%になるように、実施例1の導電性反射膜用組成物を作製した。
【0054】
〔実施例2〕
金属ナノ粒子:96質量部、CNF:5質量部の割合となるように、さらに、ポリビニルピロリドン(PVP、分子量:360,000)を、金属ナノ粒子:96質量部、PVP:4質量部の割合となるように、Agナノ粒子分散液と、CNF分散液と、PVPと、エタノールおよびメタノールを含む混合溶液とを用いて、Ag濃度が9.6質量%になるように導電性反射膜用組成物を作製した。
【0055】
〔実施例3〜11〕
表1に記載した組成になるようにしたこと以外は、実施例2と同様にして導電性反射膜用組成物を作製した。
【0056】
〔比較例1〕
CNFを含有しないこと以外は、実施例1と同様にして、導電性反射膜用組成物を作製した。
【0057】
《導電性反射膜の製造および評価》
ガラス基板に、実施例1〜11と比較例1の導電性反射膜用組成物を、スピンコートで1000rpm×60秒の条件で成膜を行い、その後、200℃で30分間焼成を行い、膜厚が約100nmの導電性反射膜を形成した。ここで、膜厚の測定は、日立ハイテクノロジーズ製走査型電子顕微鏡(SEM、装置名:S−4300、SU−8000)による断面観察により測定した。
【0058】
得られた導電性反射膜の、反射性、密着性の評価を行った。反射性の評価として、反射率を、紫外可視分光光度計と積分球の組み合わせにより、波長450nmにおける導電性反射膜の拡散反射率を測定した。密着性評価については、テープテスト(JIS K−5600)に準ずる方法で、反射率測定後の導電性反射膜について、膜に対してテープを密着させ、剥がした際に、成膜した膜がはがれたり、めくれあがったりする状態の程度により、◎・○・×の3段階で評価した。テープ側に導電性反射膜が張り付かず、接着テープのみがはがれた場合を◎とし、接着テープが剥がれるか又はめくれ上がった部分と、導電性反射膜が残った状態とが混在した場合を○とし、導電性反射膜全面が剥がれた場合を×とした。表1に、結果を示す。
【0059】
〔比較例2〕
銀ナノ粒子分散液を用いて導電性金属反射膜(厚さ:100nm)を形成し、さらにその上にCNF分散液を重ねて塗布し、乾燥してCNF層(厚さ:50nm)を形成したこと以外は、実施例1と同様にして、導電性反射膜を作製し、導電性反射膜の、反射性、密着性の評価を行った。表1に、結果を示す。

【0060】
【表1】

【0061】
表1から明らかなように、実施例1〜11の全てにおいて、反射率が高く、密着性の良い導電性反射膜が得られた。したがって、輝度が高く、耐久性の良好な有機EL素子を製造することが可能である。特に、Agの含有量が多く、添加物に金属アルコキシドを使用した実施例3は、反射率および密着性共に、特に優れていた。これに対して、CNFを含まない比較例1では、反射率が低く、密着性が悪かった。また、金属ナノ粒子のみで導電性反射膜を形成し、その後CNF層を形成した比較例2では、反射率と密着性がともに悪かった。
【0062】
本発明の導電性反射膜用組成物は、反射性が高く、密着性の良い導電性反射膜を、湿式塗工法により簡便で低コストに製造することができる。この導電性反射膜は、輝度が高く、耐久性の良好な有機EL素子の製造に、非常に適している。
【符号の説明】
【0063】
1 有機EL素子
10 導電性反射膜
20 基材
30 発光層
40 透明電極層
50 封止材

【特許請求の範囲】
【請求項1】
金属ナノ粒子と、カーボンナノファイバーとを含有することを特徴とする、導電性反射膜用組成物。
【請求項2】
さらに、添加物を含む、請求項1記載の導電性反射膜用組成物。
【請求項3】
基材上に、請求項1または2記載の導電性反射膜用組成物を、湿式塗工法により塗布した後、焼成することを特徴とする、導電性反射膜の製造方法。
【請求項4】
金属ナノ粒子焼結体と、カーボンナノファイバーとを含有することを特徴とする、導電性反射膜。

【図1】
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【公開番号】特開2013−77415(P2013−77415A)
【公開日】平成25年4月25日(2013.4.25)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2011−215965(P2011−215965)
【出願日】平成23年9月30日(2011.9.30)
【出願人】(000006264)三菱マテリアル株式会社 (4,417)
【Fターム(参考)】