小物用表面処理装置
【課題】処理槽を公転させると共に自転させた状態で処理を行う小物用表面処理装置において、公転及び自転回転数を個別に変更可能として製品の品質を向上できる表面処理装置を提供する。
【解決手段】公転軸３、該公転軸３に固着された公転テーブル２２、公転軸芯Ｏ１を中心とする同一円周上に配置されて公転テーブル２２にそれぞれ自転軸３２を介して自転可能な複数の処理槽２１とを備える。各処理槽２１はアノード５６と陰極部とを有すると共に処理液及びワークを収納し、前記処理槽２１を公転軸３回りに公転させると同時に自転軸３２回りに自転させる。上記装置において、公転軸３を回転駆動する公転用駆動モータ１１と、自転軸３２回りに各処理槽２１を回転駆動する自転用駆動モータ２４を備える。
【解決手段】公転軸３、該公転軸３に固着された公転テーブル２２、公転軸芯Ｏ１を中心とする同一円周上に配置されて公転テーブル２２にそれぞれ自転軸３２を介して自転可能な複数の処理槽２１とを備える。各処理槽２１はアノード５６と陰極部とを有すると共に処理液及びワークを収納し、前記処理槽２１を公転軸３回りに公転させると同時に自転軸３２回りに自転させる。上記装置において、公転軸３を回転駆動する公転用駆動モータ１１と、自転軸３２回りに各処理槽２１を回転駆動する自転用駆動モータ２４を備える。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、０．５〜５０００μｍの粉体、チップコンデンサー、ダイオード、コネクタ、リードスイッチ、釘、ボルト、ナット、ワッシャ等の、小物（小型部品）を、表面処理するのに適している小物用表面処理装置に関する。
【０００２】
小物用表面処理としては、（１）電気めっき処理、（２）無電解めっき処理；例えば、浸漬めっき処理、化学めっき処理、（３）複合めっき処理、化学複合めっき処理、（４）電着塗装処理；例えば、アニオン電着塗装処理、カチオン電着塗装処理、（５）前処理；例えば、脱脂処理、電解脱脂処理、バレル研磨処理、アルカリ浸漬洗浄処理、酸洗い処理、酸電解処理、化学研磨処理、電解研磨処理、中和処理、（６）後処理；例えば、水切り変色防止処理、水溶性樹脂処理、クロメート処理、がある。
【背景技術】
【０００３】
図２９は、特許文献１に記載された小物用の電解めっき装置であり、公転軸２００と一体に回転する公転テーブル２０１上に、一対の処理槽（電解槽）２０２がそれぞれ自転軸２０３を介して自転可能に支持されている。各処理槽２０２は陰極用外筒２１０と陽極用内筒（アノード）２１１とから構成され、各処理槽２０２内には、多数の小物ワークが収納されると共に、供給パイプ２１２等から電解液が供給される。上記一対の処理槽２０２を公転させながら自転させ、陰極用外筒２１０と陽極用内筒２１１との間を通電することにより、ワーク表面にめっきを施す。めっき作業中、処理槽２０２内のワークは、公転軸２００回りに処理槽２０２を公転させることにより、ワークを陰極用外筒２１０の遠心力作用方向（矢印ＲＣＦ）側の内周面に集積し、かつ、自転軸２０３回りに自転させることにより、ワークを撹拌する。これにより、各ワークの表面に均一なめっき層を形成するのである。
【０００４】
上記従来例の電解めっき装置の駆動機構として、一つの駆動モータ２２０を備えており、この駆動モータ２００を駆動源として、ベルト伝達機構２２１及び一次ギヤ機構２２２を介して公転軸２００を回転させ、かつ、公転軸２００から二次ギヤ機構２２３を介して各処理槽２０２を自転させるようになっている。
【０００５】
表面処理作業中、処理槽を自転させつつ公転させる構造の表面処理装置として、上記特許文献１の他に、下記特許文献２及び３に記載された装置があるが、いずれの装置も、処理槽は、同一の駆動源により公転軸回りに公転させられると共に、ギヤ機構あるいは遊星歯車機構等を介して自転軸回りに自転させられるようになっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】実開昭４７―２８９０９号公報、
【特許文献２】特開昭５６−１１９７９９号公報、
【特許文献３】特表２００６−５０９１０８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
図２９の従来の電解めっき装置において、公転によりワークを処理槽（電解槽）２０２の陰極用外筒２１０の内周面に押し付ける場合に、公転回転数が低いと、遠心力が不足し、図３０に示すように、ワークＷが陰極用外筒２１０の内周面に均一に分散せず、下方に偏り、不均一な厚みになる。この状態でめっき処理を行うと、下端部（矢印Ｂ１部分）はワークＷが多いために、電流が総てのワークＷに行き渡らず、めっきが付きにくくなる。一方、上端部（矢印Ｂ２近傍）はワークＷが少ないために、ワークＷに電流が集中し、めっきが付き過ぎ、ワークＷが凝集してしまう。したがって、ワークＷを陰極用外筒２１０の内周面の所定範囲内に均一な厚みで分散させるためには、所定値以上の高速で公転させる必要があると共に、ワークＷの大きさ及び比重に応じて、公転回転数を設定する必要がある。
【０００８】
一方、処理槽２０２を自転させる目的は、前述のようにワークを撹拌させることにより、ワーク毎に均一厚さにめっきを施すと共に、ワーク同士がブドウの房のように癒着するのを防ぐためであり、ゆっくりと撹拌させる必要があると共に、ワークの強度（壊れやすさ）や比重に応じて、撹拌の強弱を変更する必要がある。この撹拌の強弱の変更は自転の回転速度を変更することにより、調節される。
【０００９】
ところが、図２９や他の従来技術のように、処理槽の公転と自転とを同一の駆動源により行い、公転軸からギヤ機構または遊星歯車機構を介して自転軸を駆動する構成では、大がかりなギヤ機構等が必要になると共に、公転回転数と自転回転数とを、個々に所望の値に変更することが困難にある。
【００１０】
（発明の目的）
本発明の目的は、処理槽を公転させると共に自転させた状態でめっき等の表面処理を行う小物用表面処理装置において、装置全体及び動力伝達系をコンパクトにかつ簡素化すると共に、公転回転数及び自転回転数を、ワークの種類に応じて、それぞれ個別に簡単に変更できるようにすることにより、表面処理の品質が向上する表面処理装置を提供することである。また、ワークのローディングとアンローディング作業の容易化、特に、微細なワークのローディングとアンローディング作業の容易化、ワーク処理中におけるワークの漏れや処理液の漏れを防止することも目的としている。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記課題を解決するため、本発明は、公転軸と、該公転軸に固着されて該公転軸と一体に回転する公転テーブルと、公転軸芯を中心とする同一円周上に配置されて前記公転テーブルにそれぞれ自転軸を介して自転可能に支持された複数の処理槽と、を備え、該各処理槽はアノードと陰極部とを有すると共に処理液及び小物ワークを収納し、前記複数の処理槽を公転軸回りに公転させると同時に自転軸回りに自転させることにより、処理槽内の小物ワークを表面処理する小物用表面処理装置において、上記公転軸を回転駆動する公転用駆動モータと、上記公転用駆動モータとは別に、処理槽毎に、自転軸回りに各処理槽を回転駆動する自転用駆動モータを備えている。
【００１２】
上記構成により、装置全体及び動力伝達系を簡素に、かつコンパクトにできると共に、ワークの種類に応じて、品質の良い表面処理ができるように、公転回転数及び自転回転数を、それぞれ自由に、かつ、簡単に設定することができる。
【００１３】
本発明は、上記小物用表面処理装置において、好ましくは、次のような構成を採用することもできる。
【００１４】
（１）処理槽の外部に配置された給液ポンプ等の処理液供給部から各処理槽内に至る処理液経路として、前記公転軸内に設けられた処理液通路と、該処理液通路の出口に接続されて各処理槽に至る複数の給液管とを備え、前記処理液通路の入口は、回転継手を介して前記処理液供給部に接続され、前記各給液管の出口は、各処理槽の自転軸芯上に配置されたアノード支持部材に接続されている。
【００１５】
上記構成によると、公転軸から処理槽への処理液の供給を、略完全に密閉された供給経路を介して行うことができ、高速回転しても処理液が漏れず、処理液を無駄なく、効率的に供給できる。特に、ワークとして、μｍレベルの微粒子を処理する場合、ワークの比重が処理液の比重と大差無い場合があり、その場合でも、公転を高速にして遠心力を増すことにより、処理液の漏れが生じることなく、ワークを処理液の筒状本体の内周面に均等に接触させることができる。
【００１６】
（２）前記各自転軸は、前記公転テーブルに回転可能に支持されると共に自転テーブルを備えており、各自転テーブルに前記各処理槽が着脱自在に取り付けられている。
【００１７】
上記構成によると、自転テーブルから処理槽を取り外した状態でワークの供給及び取出しが行え、ワークのローディング及びアンローディング作業の能率が向上する。特に、微細なワークを出し入れする作業では、ワークの投入漏れを防ぐことができると共に、アンローディングの際にも、処理液で処理槽内に付着しているワークを、容易に取り出すことができる。
【００１８】
（３）前記処理槽は、自転軸方向の両端が開口した筒状本体と、該筒状本体の各開口端をそれぞれ閉塞すると共に処理液が通過可能な細孔を有する多孔体製フィルターと、各多孔体製フィルターを筒状本体の端面との間で挟持する蓋体とを備えている。
【００１９】
上記構成によると、高速で公転しても、小さなワークが処理槽から漏れる心配がなく、ワークの損失を無くすことができ、また、細孔の径がミクロン単位の多孔体を採用することにより、簡単にミクロンレベルのワークに対応させることができる。
【００２０】
（４）前記各蓋体と、処理槽を支持する自転テーブルに、処理液を排出するための孔が形成されている。
【００２１】
上記構成によると、フィルター等からの排液面積を増加するので、目が細かくて排液量が少ないフィルターを使用しても、十分に排液することができる。
【００２２】
（５）筒状本体の内周面の自転軸方向の端部は、自転軸方向の外方側に向いて自転軸側に傾斜している。
【００２３】
上記構成によると、筒状本体の内周面の自転軸方向の端縁と、フィルター等との間に細かなワークが詰まるのを防ぐことができる。
【００２４】
（６）前記処理槽は、自転軸方向の両端が開口した筒状本体と、該筒状本体の各開口端をそれぞれ閉塞する蓋体とを備え、各蓋体の内周面には、処理槽内の処理液を自転軸芯と略直角方向に排出する排出通路が設けられている。
【００２５】
上記構成によると、入り組んだ細孔を有する多孔体製のフィルターを備える場合に比べ、細かいワークが詰まるのを防ぐことができ、また、たとえ詰まった場合でも、分解洗浄することにより、簡単に排出通路内のワークの詰まりを除去することができる。
【００２６】
（７）前記筒状本体は円筒状に形成され、該筒状本体の内周面は凹凸形状となっている。
【００２７】
上記構成によると、処理槽の自転によりワークを撹拌する場合に、凹凸面によりワークの撹拌が促進される。
【００２８】
（８）前記筒状本体は多角形状に形成されている。
【００２９】
上記構成によると、処理槽の自転によりワークを撹拌する場合に、隣り合う面で形成されるＶ字面により、ワークの撹拌が促進される。
【００３０】
（９）前記筒状本体は導電性部材で形成され、全周が陰極部として通電可能となっている。
【００３１】
上記構成によると、筒状本体自体を陰極部として利用することにより、別途陰極部を設ける必要がなくなる。
【００３２】
（１０）前記筒状本体は非導電性部材で形成され、筒状本体の内周面に、多数の導電性材料の給電部材を突設してある。
【００３３】
上記構成によると、処理槽の自転によりワークを撹拌する場合に、給電部材により構成される凸状部分により、ワークの撹拌が促進される。
【００３４】
（１１）前記各給電部材を筒状本体の外周面に露出させ、筒状本体の公転半径方向の外方側に、給電部材の外方露出面に接触可能な給電帯を配置し、処理槽の自転により、筒状本体の公転半径方向の外方側の給電部材のみが順次給電帯に接触して通電するように構成されている。また、この場合、処理槽の自転軸芯側に配置されたアノードは、筒状本体の公転半径方向の外方側部分に向く部分のみを通電可能とすることができる。
【００３５】
上記構成によると、公転に基づく遠心力により、ワークが接触する遠心力作用方向側の部分のみ通電し、ワークが接触しない部分に通電しないので、めっき液の無駄がなくなる。仮に、ワークが接触しない部分にも通電していると、その部分にめっき析出が成長し、それが剥離してワークに混じり、ワークが不良品になる虞があるが、上記構成により、そのような不具合を防ぐことができる。
【００３６】
（１２）処理槽の周囲には、自転軸芯回りに間隔をおいて、処理槽の外周面に当接する複数のガイド輪が配置されている。
【００３７】
上記構成によると、処理槽は、がたつくことなく自転軸芯回りを回転すると共に、高速の公転に対しても、公転テーブル等から外れることなく公転する。
【発明の効果】
【００３８】
要するに本発明によると、動力伝達系を簡素にかつコンパクトにできると共に、ワークの種類に応じて、品質の良い表面処理ができるように、公転回転数及び自転回転数を、それぞれ自由に、かつ、簡単に設定することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】本発明の第１の実施の形態であって、小物用電解めっき装置の全体斜視図である。
【図２】上半部のシュラウドを外して示す図１の小物用電解めっき装置の全体斜視図である。
【図３】図１の小物用電解めっき装置の縦断面図である。
【図４】図１の要部の斜視図である。
【図５】処理槽の分解斜視図である。
【図６】処理槽の縦断面図である。
【図７】図６のVII部分の拡大図である。
【図８】処理槽の拡大斜視図である。
【図９】ローディング工程における初期状態を示す処理槽の断面図である。
【図１０】ローディング工程における処理槽組立完了時の処理槽の断面図である。
【図１１】処理槽取付前の自転テーブル及び給液管等の断面図である。
【図１２】処理槽取付後の自転テーブル、給液管及び処理槽の断面図である。
【図１３】めっき作業中におけるワークの良好な状態を示す処理槽の断面図である。
【図１４】めっき作業中におけるワークの良くない状態を示す処理槽の断面図である。
【図１５】本発明の第２の実施の形態であり、電解めっき装置の要部の斜視図である。
【図１６】図１５の処理槽の水平断面図である。
【図１７】本発明の第３の実施の形態であり、処理槽の筒状本体の斜視図である。
【図１８】図１７の給電ロッドの斜視図である。
【図１９】本発明の第４の実施の形態であり、処理槽の水平断面図である。
【図２０】本発明の第５の実施の形態であり、処理槽の筒状本体の斜視図である。
【図２１】本発明の第６の実施の形態であり、処理槽の分解斜視図である。
【図２２】本発明の第７の実施の形態であり、処理槽の分解斜視図である。
【図２３】本発明の第８の実施の形態であり、処理槽の分解斜視図である。
【図２４】本発明の第９の実施の形態であり、処理槽及び自転テーブルの分解斜視図である。
【図２５】本発明の第１０の実施の形態であり、処理槽及び自転テーブルの分解斜視図である。
【図２６】本発明の第１１の実施の形態であり、電解めっき装置の要部の断面図である。
【図２７】図２６の装置のサポートプレートの平面図である。
【図２８】筒状本体の変形例を示す斜視図である。
【図２９】従来例の正面図である。
【図３０】従来例の作業中の処理槽の縦断面略図である。
【発明を実施するための形態】
【００４０】
［第１の実施の形態］
図１乃至図１４は、本発明の第１の実施の形態に係る小物用電解めっき装置であり、これらの図面に基づいて第１の実施の形態を説明する。
【００４１】
図１は、小物用電解めっき装置全体の斜視図であり、縦長直方体状の架台フレーム１を備え、該架台フレーム１の上下上方の中間部に、略水平な基盤兼ドリップパン２が設けられている。
【００４２】
前記ドリップパン２の下側近傍及び架台フレーム１の上端部には、軸受装置５、６がそれぞれ支持フレーム８，９を介して固定されており、上下の軸受装置５，６により略垂直な公転軸３が回転自在に支持されている。
【００４３】
架台フレーム１の下半部には公転用駆動モータ１１及び処理液供給部としての給液ポンプ（略図）１３等が配置されており、公転用駆動モータ１１は、ベルト伝動機構１４により公転軸３に動力伝達可能に連結されている。
【００４４】
前記ドリップパン２の上面には円環状の囲い壁１７が設けられると共に、上壁１８ａを有する円筒状のシュラウド１８が設けられており、このシュラウド１８内に表面処理装置の主要部材が収納されている。
【００４５】
図２はシュラウド１８を外して示す装置全体の斜視図であり、前記囲い壁１７を有するドリップパン２は、使用後の処理液を集めて排出する機能を有しており、処理液を排出するための排出孔２０が形成されると共に、中央部にも円環状の内側囲い壁２９が設けられている。
【００４６】
架台フレーム１の上半部の前記シュラウド１８内には、一対の処理槽２１と、公転テーブル２２と、サポートプレート２３と、各処理槽２１を個々に駆動するための一対の自転用駆動モータ２４と、各処理槽２１内へ処理液を供給するための一対の給液管２５等を備えている。
【００４７】
図３は電解めっき装置全体の縦断面図であり、公転テーブル２２はキー２６により公転軸３に固着され、公転軸３と一体回転するようになっており、サポートプレート２３は、公転テーブル３から一定距離上方に配置される共に、キー２７により公転軸３に固着され、公転軸３と一体回転するようになっている。
【００４８】
ドリップパン２の中央部には、公転軸３が通過する中央孔２８が形成されており、この中央孔２８を取り囲むように、前記内側囲い壁２９が設けられている。内側囲い壁２９の上方には円錐形の防滴カバー３０が配置されており、この防滴カバー３０は公転軸３に固着され、中央孔２８へ処理液が流入するのを防いでいる。
【００４９】
公転テーブル２２には、公転軸芯Ｏ１を中心とする同一円周上に、公転軸３と平行な一対の自転軸３２が軸受３３を介して回転自在に支持されている。各自転軸３２の上端には自転テーブル３４が自転軸３２と一体に形成され、各自転テーブル３４の上には、各処理槽２１がそれぞれ着脱自在に固定されている。
【００５０】
各自転用駆動モータ２４は各自転軸３２に概ね対応する位置に配置され、公転テーブル２２の下面に固着されており、各自転用駆動モータ２４の出力軸が継手を介して各自転軸３２に連結されている。
【００５１】
公転軸３は中空筒状に形成されており、公転軸３内には、公転軸芯Ｏ１に沿って上下方向に延びる処理液通路（通路管）４０が設けられると共に、自転用駆動モータ２４用の電線並びに電解用の陽極用電線が配置されている。
【００５２】
公転軸３の下部、たとえばドリップパン２と下側軸受装置６との間の公転軸３部分の外周には、通電用のスリップリング４１が設けられている。このスリップリング４１は、回転部材と固定部材との間を通電可能とする周知の構造であり、公転軸３に固着されて公転軸３と一体的に回転する内側リング部材と、架台フレーム１に固定された外側リング部材とからなり、外側リング部材に設けられた複数の接続端子に、自転用駆動モータ２４用の直流電源３５の陰極及び陽極と、電解用直流電源３６の陰極及び陽極が接続されている。自転用駆動モータ２４用の直流電源３５の陽極及び陽極並びに電解用直流電源３６の陽極は、スリップリング４１の内外リング部材を介して公転軸３内の各電線に接続され、電解用直流電源３６の陰極は、導電性を有する公転軸３自体に電気的に接続されている。
【００５３】
公転軸３の下端部には回転継手管４２を介して液管４３が接続されており、該液管４３は前記給液ポンプ１３に接続され、該給液ポンプ１３の吸込口は液管４４を介して処理液回収槽１２に接続されている。すなわち、給液ポンプ１３により、処理液回収槽１２内の処理液を吸い込み、液管４３及び回転継手管４２を介して公転軸４２内の処理液通路４０に処理液を供給するようになっている。また、ドリップパン２の排出孔２０は排液管４５を介して処理液回収槽１２に至っている。
【００５４】
図４は電解めっき装置の要部の斜視図であり、公転軸３内の処理液通路４０は、サポートプレート２３よりも高い位置まで上方に延び、その上端部に一対の処理液出口を有し、各処理液出口に前記給液管２５がそれぞれ接続されている。
【００５５】
図５は処理槽２１の分解斜視図、図６は処理槽２１の縦断面図である。図５において、処理槽２１は、導電性を有する金属、たとえばステンレス鋼で形成された円筒形の筒状本体５１と、多孔体で形成された扁平円柱状（円盤状）の上側フィルター５２及び下側フィルター５３と、導電性を有する金属で形成された円板形の上側蓋体５４及び下側蓋体５５と、有底筒状のアノード５６等とから構成されている。筒状本体５１の上下端には、複数のボルト挿通孔６０（引き出し線は一個のみ記載）を有するフランジ５１ａが筒状本体５１と一体に形成され、また、上下のフィルター５２，５３及び上下の蓋体５４，５５にも、前記フランジ５１ａのボルト挿通孔６０に対応する位置にそれぞれボルト挿通孔６１、６２（引き出し線は一個のみ記載）が形成されている。前記自転テーブル３４及び下側蓋体５５には、前記ボルト挿通孔６２よりも径方向外方位置に、下側蓋体５５を自転テーブル３４に固着するための複数のボルト挿通孔６３，６４がそれぞれ形成されている。また、自転テーブル３４には、前記処理槽２１の組立に利用されるボルト頭部を収納するための孔６５が形成されている。
【００５６】
図６において、有底筒状のアノード５６は不溶性であり、このアノード５６の上壁５６ａには、上下方向に貫通すると共に導電性を有する液管６７が固着されている。この液管６７の下側部分はアノード５６の下端に略対応する位置まで下方に延びて、下向きに開口しており、液管６７の上端部はアノード５６の上壁５６ａから上方に突出し、該上方突出部分には、アノード支持部材として、導電性を有する接続管６８が接続されている。該接続管６８は、上側フィルター５２及び上側蓋体５４の中央に形成された孔を通過して上方に突出している。
【００５７】
上側蓋体５４の下面及び下側蓋体５５の上面には、上下の各フィルター５２，５３を同一中心に位置決めするために、各フィルター５２，５３の外径と同一内径の位置決め用環状段部５４ａ，５５ａが形成されており、さらに、自転テーブル３４の上面には、下側蓋体５５を同一中心に位置決めするために、下側蓋体５５の外径と同一外径の位置決め用環状段部３４ａが形成されている。
【００５８】
筒状本体５１の上端フランジ５１ａの上面に上側フィルター５２が載せられ、該上側フィルター５２の上面に上側蓋体５４が載せられると共に該上側蓋体５４の環状段部５４ａ内に上側フィルター５２が嵌め込まれ、前記各ボルト挿通孔６１，６２に下方から挿通したボルト７０及びナット７１により、上側フィルター５２及び上側蓋体５４は上端フランジ５１ａに共締めされている。
【００５９】
筒状本体５１の下端フランジ５１ａの下面に下側フィルター５３が重ねられ、下側フィルター５３の下面に下側蓋体５５が重ねられると共に該下側蓋体５５の環状段部５５ａ内に下側フィルター５３が嵌め込まれ、前記各ボルト挿通孔６１、６２に上方から挿通したボルト７０及びナット７１により、下側フィルター５３及び下側蓋体５５は下端フランジ５１ａに共締めされている。なお、上下の各フィルター５２，５３のボルト挿通孔６１内には、上下方向のスペーサとして、カラーが嵌着されている。
【００６０】
上記のようにボルト７０及びナット７１によって組み立てられた処理槽２１は、下側蓋体５５が自転テーブル３４の上面に載置されると共に環状段部３４ａに嵌合され、これにより、処理槽２１は自転軸３２と同一中心線Ｏ２上に位置決めされ、下側蓋体５５及び自転テーブル３４の各ボルト挿通孔６３，６４（図５参照）に挿通したボルト７３及びナット７４により、処理槽２１は自転テーブル３４上に着脱自在に取り付けられている。
【００６１】
図８は、組立後の処理槽２１を自転テーブル３４に固定した状態の斜視図であり、前述のように、筒状本体５１と、上下のフィルター５２，５３と、上下の蓋体５４，５５を、上下の複数本のボルト７０で締結することにより処理槽２１を構成しており、この処理槽２１が、自転テーブル３４上に、複数のボルト７３等により取り付けられているのである。
【００６２】
図７は図６の矢印VII部分の拡大図であり、筒状本体５１の内周面の下端には、下方に向かって縮径するテーパー面５１ｂが形成されている。
【００６３】
図１１は処理槽取付前の自転テーブル３４及び給液管２５等の状態を示し、図１２は、処理槽２１を自転テーブル３４に取り付けると共に、処理槽２１と給液管２５とを接続した状態を示している。図１１において、サポートプレート２３には、自転軸芯Ｏ２と同一軸芯上に貫通孔７８が形成されており、該貫通孔７８内には、導電性を有する処理液用の継手管７９が自転軸芯Ｏ２と同一軸芯状に配置されている。前記継手管７９は取付片７９ａを一体的に有しており、該取付片７９ａがボルト８０及びナット８１によりサポートプレート２３の下面に固着されている。前記給液パイプ２５はＬ字状に形成されており、各給液パイプ２５は、公転軸３から前記各継手管７９の上方位置に向かって略水平に延びると共に、継手管７９の上方位置で下方に折れ曲がっている。継手管７９の内周面の上下端部にはテーパーめねじ部７９ｂ、７９ｃが形成され、上端部のテーパーめねじ部７９ｂには前記給液パイプ２５の下端テーパーおねじ部が螺着されている。
【００６４】
図１２において、継手管７９の下端のテーパーめねじ部７９ｃには、アノード５６の接続管６８の上端部のテーパーおねじ部６８ａが螺着される。
【００６５】
サポートプレート２３は、絶縁部材４７を介して公転軸３の外周面に固定されており、これにより、導電性を有する公転軸３の外周面と導電性を有するサポートプレート２３との間を、電気的に遮断している。
サポートプレート２３の外方部には、自転軸芯Ｏ２を中心とする同一円周上に、複数のガイド輪支持軸４９が固着されており、該ガイド輪支持軸４９は自転軸芯Ｏ２と平行に下方に延び、各ガイド輪支持軸４９の下端部にそれぞれガイド輪４８が回転自在に支持されている。各ガイド輪４８は、自転テーブル３４上の処理槽２１の上側蓋体５４の外周縁に転動可能に当接しており、自転中の処理槽２１が自転軸芯Ｏ２から振れないようにガイドする。
【００６６】
上記ガイド輪４８は、処理槽２１の周方向に間隔を置いて複数（たとえば３個）配置されているが、主として処理槽２１の公転による遠心力（矢印ＲＣＦＣ）を受け止めるように、図４のように、処理槽２１の上側蓋体５４の全周のうち、公転による遠心力作用方向（ＲＣＦ）側に配置されている。
【００６７】
［電気供給系統の経路］
電解用の陰極の通電経路を簡単にまとめてみると、図３において、電解用直流電源３６の陰極部→スリップリング４１→公転軸３の外周壁→公転テーブル２２→軸受３３→自転テーブル３４→下側蓋体５５→ボルト７０→筒状本体５１となっている。
【００６８】
電解用の陽極の通電経路を簡単にまとめてみると、図３において、電解用直流電源３６の陽極部→スリップリング４１→公転軸３内の電線→公転軸３外の電線→サポートプレート２３→継手管７９→接続管６８→アノード５６となっている。
【００６９】
また、自転用駆動モータ２４への通電経路は、図３において、自転用直流電源３５の陰極部及び陽極部→スリップリング４１→公転軸３内の自転用の電線→公転軸３外の自転用の電線→自転用駆動モータ２４の陰極部及び陽極部となっている。
【００７０】
［処理液供給系統の経路］
処理液（めっき液）の供給経路を簡単にまとめてみると、図３及び図６において、給液ポンプ１３→液管４３→回転継手管４２→公転軸３内の処理液通路４０→給液管２５→継手管７９→接続管６８→アノード５６内の液管６７→筒状本体５１内となっている。また排液経路は、処理槽２１の筒状本体５１内→上下のフィルター５２，５３の細孔→シュラウド１８→外側囲い壁１７→ドリップパン２→排出孔２０→処理液回収槽１２となっている。
【００７１】
［めっき作業及び作用効果］
作業準備段階において、公転用駆動モータ１１による処理槽２１の公転回転数と、各自転用駆動モータ２４による処理槽２１の自転回転数は、それぞれ独立に設定可能であり、めっき処理されるワークの大きさ、重量及び比重等に応じて設定される。たとえば、公転回転数Ｎ１は８０ｒｐｍ〜１０００ｒｐｍの範囲内で設定され、自転回転数は公転回転数よりも大幅に少なく、１〜３０ｒｐｍの範囲内で設定される。公転回転数Ｎ１は、作業中、図１３に示すように、公転に基づく遠心力により、遠心力作用方向（ＲＣＦ）側の筒状本体５１の内周面に、処理槽２１内のワークＷが略均一の厚みで押し付けられる値に設定されることが必要である。一方、自転回転数Ｎ２は、自転により処理槽２１内のワークＷが撹拌される程度の値であれば十分である。したがって、公転回転数Ｎ１は、自転回転数Ｎ２の数十倍から数百倍程度の回転速度となる。ちなみに、ある大きさ、重量及び比重のワークＷに対し、公転回転数Ｎ１が小さすぎる場合には、図１４のように、筒状本体５１の内周面に押し付けられるワークＷの厚みは不均一になる。具体的には、下方に行くに従い厚みが増加することになり、均一な品質の良い表面処理が困難になる。
【００７２】
めっき作業の手順を説明する。
（１）ワークＷのローディング作業は、図２及び図３において、処理槽２１を自転テーブル３４から取り外し、かつ、図９に示すように、筒状本体５１から上蓋体５４及び上側フィルター５２と取り外した状態で行う。すなわち、処理槽２１の上端を解放し、所定量のワークＷを上方から筒状本体５１内に投入する。
【００７３】
このように、処理槽２１を自転テーブル３４から外し、かつ上端を解放した状態でワークＷを投入するので、小さなワークＷあっても、外部に漏らすことなく、完全、かつ簡単に処理槽２１に投入できる。
【００７４】
（２）次に図１０において、アノード５６を筒状本体５１内に挿入し、上側フィルター５２及び上蓋体５４を、筒状本体５１の上端フランジ５１ａに順次載置すると共に、アノード５６の接続管６８を上側フィルター５２及び上蓋体５４の中央孔から上方に突出させる。そして、複数のボルト７０及びナット７１により、上側フィルター５２と上側蓋体５４を上端フランジ５ａに締結する。これにより、ワークＷは処理槽２１内に密封される。
【００７５】
（３）ワークＷが密封された処理槽２１を、図１１のように空いている自転テーブル３４上に載置する。
【００７６】
（４）図１２において、処理槽２１を公転テーブル３に載置した後、複数のボルト７３及びナット７４により、処理槽２１の下側蓋体５５を自転テーブル３４に締結すると共に、アノード５６を持ち上げ、接続管６８の上端おねじ部６８ａを継手管７９の下端めねじ部７９ｃに接続する。これにより、処理液経路が処理槽２１に接続されると同時に、電解用の陽極の経路がサポートプレート２３及び継手管７９を介してアノード５６に電気的に接続される。さらに、電解用の陰極の経路も、公転軸３，公転テーブル２２，軸受３３，自転軸３２，自転テーブル３４，下側蓋体５５，ボルト７０を介して筒状本体５１に電気的に接続される。
【００７７】
（５）上記状態で、公転用駆動モータ１１及び各自転用駆動モータ２４を、それぞれ所定の回転数で回転させることにより、両処理槽２１を公転軸芯Ｏ１回りに高速回転させると共に自転軸芯Ｏ２回りに自転させ、同時に、給液ポンプ１３により、公転軸３内の処理液通路４０、各給液管２５，各継手管７９、各接続管６８及び各液管６７を通して処理槽２１内にめっき液を供給する。そして、アノード５６と陰極の筒状本体５１との間で通電することより、各ワークＷの表面にめっきを施す。このような公転と自転によるめっき作業は、数時間から数十時間継続して行う。めっき作業中のワークの状態は、前記図１３で説明したように、公転による遠心力により、遠心力作用方向（ＲＣＦ）側の筒状本体５１の内周面に、略均一の厚みで押し付けられると同時に、自転により、撹拌される。これにより、全ワークＷの表面には、均一の厚みでめっき層が形成される。
【００７８】
（６）上記めっき作業中、処理槽２１には、前述のように給液ポンプ１３からのめっき液が継続的に供給されているが、使用後のめっき液は、上下のフィルター５２，５３内の細孔を通り、各フィルター５２，５３の周方向の外周面から外方へ放出される。
【００７９】
（７）フィルター５２，５３の径方向の外周面から放出されためっき液は、たとえばシュラウド１８の内周面に衝突して落下あるいは流下し、外側囲い壁１７を経てドリップパン２に溜まり、排出孔２０から処理液回収槽１２へと回収される。処理液回収槽１２では、浄化及び再生されためっき液が、再度給液ポンプ１３から処理槽２１へ供給される。
【００８０】
上記のように、めっき作業中、めっき液は、密閉された経路内を給液ポンプ１３から処理槽２１まで圧送され、かつ、密閉された経路内をシュラウド１８からドリップパン２を経て処理液回収槽１２に回収されるので、高速回転によるめっき作業中であっても、殆ど漏れることなくめっき液を供給し、排出することができる。
【００８１】
（８）めっき作業が終了すると、処理槽２１の公転及び自転を停止すると同時に、めっき液の供給も停止し、前記ローディング作業時とは逆の手順で、処理槽２１を自転テーブル３４から取り外し、さらに、上側蓋体５４及び上側フィルター５２を取り外し、めっき処理後のワークＷを取り出す。
【００８２】
この場合も、ローディング時と同様、簡単、かつ、確実に処理槽２１内のめっき処理後の全ワーク９を取り出すことができる。
【００８３】
（９）また、該実施の形態では、図７のように筒状本体５１の内周面の下端にテーパー面５１ｂを形成しているので、微細なワークが遠心力により加圧されても、筒状本体５１と下側フィルター５３との間にワークＷが侵入するのを防ぐことができ、ワークの歩留まりを向上させることができる。
【００８４】
（１０）また該実施の形態では、図４のように、処理槽２１の外周を案内するガイド輪４８を設けているので、処理槽２１が高速で公転しても、処理槽２１が自転軸芯Ｏ２から外れることなく、円滑に回転する。
【００８５】
［第２の実施の形態］
図１５及び図１６は、本発明の第２の実施の形態であり、前記第１の実施の形態と異なるところは、処理槽２１の筒状本体５１及び電解用陰極部の構造であり、その他の構造は第１の実施の形態と同じであり、同じ部品には同じ符号を附してある。
【００８６】
処理槽２１の水平断面図を図１６において、筒状本体５１は、樹脂等の非導電性材料でできており、筒状本体５１には、導電性を有する金属でできた多数の給電部材（給電子）１１０が取り付けられている。各給電部材１１０は、筒状本体５１の外周面から外方に突出する半球状の外側部分１１０ａと、筒状本体５１に形成された取付孔に圧入されて筒状本体５１の内周面に露出する軸部分１１０ｂとから構成されており、全給電部材１１０のうち、所望の数の給電部材１１０の軸部分１１０ｂは、筒状本体５１の内周面から内方に突出している。
【００８７】
処理槽２１の公転による遠心力作用方向（ＲＣＦ）側には、円弧状の給電帯１１１が配置されており、この給電帯１１１に接触する給電部材１１０だけに給電されるように構成されている。
【００８８】
給電帯１１１は一対の支持ロッド１１２を有しており、各支持ロッド１１２は遠心力作用方向（ＲＣＦ）及びその逆方向に移動自在にシリンダ１１３内に支持されると共に、付勢ばね１１４により処理槽１２側に付勢されている。これにより、矢印Ｒ方向に自転する処理槽２１の給電部材１１０のうち、遠心力作用方向（ＲＣＦ）側を通る給電部材１１０が順次給電帯１１１に接触し、給電されるようになっている。
【００８９】
前記支持ロッド１１２及び付勢ばね１１４を収納するシリンダ１１３は支持ブラケット１１８に固定され、該支持ブラケット１１８は、図１５に示すように、サポートプレート２３に支持され、サポートプレート２３から給電されるようになっている。
【００９０】
該実施の形態のように、自転する筒状本体５１の全周のうち、公転により遠心力作用方向（ＲＣＦ）側を通過する給電部材１１０だけに給電する構造とすることにより、めっき液を効率良く有効に利用できると共に、前記第１の実施の形態と比べ、不必要な箇所でのめっき析出を防止し、析出されためっきが剥離することによる品質の低下を防ぐことができる。また、エネルギーコストの節約にもなる。
【００９１】
また、本実施の形態では、一部の給電部材１１０の軸部１１０ｂを筒状本体５１の内周面から内方に突出させているので、処理槽２１の自転による撹拌作用において、上記内方突出状の軸部１１０ｂが撹拌突起としての役目を果たし、ワークＷの撹拌機能が向上する。
【００９２】
［第３の実施の形態］
図１７及び図１８は、本発明の第３の実施の形態であり、前記第２の実施の形態の変形例となっている。筒状本体５１は、樹脂等の非導電性材料でできており、筒状本体５１の内周面に、導電性を有する金属でできた上下に細長い多数の給電ロッド（給電部材）１２０が取り付けられている。給電ロッド１２０は筒状本体５１の円周方向に所定間隔を置いて多数配置されており、図１８に示すように、上下方向の中間部に外部露出部１２０ａが形成され、この外部露出部１２０ａが図１７のように、筒状本体５１に形成された取付孔に嵌着され、筒状本体５１の外周面から外方に突出している。
【００９３】
遠心力作用方向（ＲＣＦ）に配置される円弧状に給電帯１２１及びその支持構造は前記第２の実施の形態と同様である。
【００９４】
該実施の形態によると、第２の実施の形態と同様、自転する筒状本体５１の全周のうち、公転により遠心力作用方向（ＲＣＦ）側を通過する給電ロッド１２０だけに給電する構造となっているので、めっき液を効率良く有効に利用できると共に、不必要な箇所でのめっき析出を防止し、析出されためっきが隔離することによる品質の低下を防ぐことができる。また、エネルギーコストの節約にもなる。
【００９５】
さらに、筒状本体５１内に配置された多数の給電ロッド１１０により、筒状本体５１の内周面を実質的に凹凸形状としているので、処理槽２１の自転による撹拌作用が格段と向上する。
【００９６】
［第４の実施の形態］
図１９は、本発明の第４の実施の形態であり、筒状アノード５６の全周のうち、遠心力作用方向（ＲＣＦ）側の範囲５６ｄだけ通電可能とし、残りの範囲５６ｃを非電導体によりマスキングしており、これにより、遠心力作用方向（ＲＣＦ）側に集積されるワークＷに対し、効率良くめっきを施せるように構成している。その他の構造は例えば前記第１の実施の形態と同様である。
【００９７】
［第５の実施の形態］
図２０は、本発明の第５の実施の形態であり、前記第１の実施の形態のような処理槽２１において、筒状本体５１の形状、特に内周面形状を、正多角形状に形成してある。図では、筒状本体５１を正八角形状としているが、正五角形、正六角形等、各種多角形状を採用することができる。
【００９８】
上記のように、処理槽２１の筒状本体５１の形状を、正多角形状としていると、隣り合う側面間のＶ形状により、処理槽２１の自転によるワーク撹拌性能を向上させることができる。
【００９９】
［第６の実施の形態］
図２１は、本発明の第６の実施の形態であり、前記第１の実施の形態のような処理槽２１において、上下の蓋体５４，５５の形状を改良したものである。すなわち、上下の蓋体５４，５５及び自転テーブル３４に、処理液排出用の孔１３０、１３１を形成してある。
【０１００】
該実施の形態によると、使用後のめっき液等の処理液は、フィルター５２，５３の径方向の外周面から放出されると共に、上側フィルター５２の上方及び下側フィルター５３の下方からも放出され、めっき液の排出面積が増加する。これにより、たとえば細孔の径が小さくて、排液量が制限されるフィルター５２，５３であっても、十分な量の排液が可能となる。
【０１０１】
［第７の実施の形態］
図２２は、本発明の第７の実施の形態であり、処理槽２１からの排液構造として、前記第１の実施の形態のようなフィルターを備える代わりに、上側蓋体５４の下面と、図示しないが下側蓋体５５の上面に、排出通路として複数本の放射状の排出溝１４０を形成してある。
【０１０２】
該実施の形態によると、入り組んだ細孔を通して排液するフィルターを備える場合に比べ、目詰まりが生じ難く、しかも、仮に目詰まりが生じても、簡単に分解洗浄することができる。
【０１０３】
［第８の実施の形態］
図２３は、本発明の第８の実施の形態であり、処理槽２１からの排液構造として、前記第１の実施の形態のようなフィルターを備える代わりに、上側蓋体５４の下面と筒状本体５１の上端フランジ５１ａの間、並びに図示しないが下側蓋体５５の上面と下端フランジ５１ａとの間に、周方向に間隔を置いて複数の薄板１５０を挟持することにより、薄板１５０間で排液通路を形成してある。各薄板１５０はたとえばワッシャのように円環状に形成され、上側蓋体５４等の取付ボルト７０が挿通される。
【０１０４】
該実施の形態によると、前記第７の実施の形態と同様、入り組んだ細孔を通して排液するフィルターを備える場合に比べ、目詰まりが生じ難く、しかも、仮に目詰まりが生じても、簡単に分解洗浄することができる。さらに、ワークＷの大きさに応じて、薄板１５０の厚みあるいは重ね枚数を変更することにより、排液通路の大きさを簡単に変更することができる。
【０１０５】
なお、処理液の排出機構として、図５及び図２１等で示したような上下フィルター５２，５４を備える構造と、図２２で示したような排出溝１４０を形成する構造と、本実施の形態の図２３で示したような薄板１５０を挟持する構造とを、適宜組み合わせ、併用する構造とすることも可能である。
【０１０６】
［第９の実施の形態］
図２４は、本発明の第９の実施の形態であり、前記第１の実施の形態のような処理槽２１において、自転テーブル３４に対し、処理槽２１を着脱自在に取り付ける構造が異なっている。いわゆるバヨネット方式で、処理槽２１を自転テーブル３４に取り付ける構造となっている。
【０１０７】
すなわち、自転テーブル３４の上面には円筒状の周壁１６０が形成され、該周壁１６０の内周面に、周方向に等間隔を置いて複数の円弧状突起１６１が形成されている。該円弧状突起１６１は、周壁１６０に沿って周方向に一定長さ延びると共に、周方向一端部に、下方に折れ曲がるストッパ部１６１ａが形成されている。一方、処理槽２１の下側蓋体５５には、前記各突起１６１の周方向間に上方から挿入可能で、断面Ｌ字状に形成され、かつ、各突起１６１に下方から係合可能なＬ字状の係合突起１６２が形成されている。
【０１０８】
処理槽２１を自転テーブル３４に固定する場合には、処理槽２１の各係合突起１６２を自転テーブル３４の突起１６１間に上方から挿入し、処理槽２１をＡ方向に回動して、係合突起１６２の外向き水平部分を自転テーブル３４の突起１６１の下面に係合させ、かつ、ストッパ部１６１ａに当接させる。
【０１０９】
処理槽２１を自転テーブル３４から取り外す際には、上記取付作業と逆の操作を行う。
【０１１０】
［第１０の実施の形態］
図２５は、本発明の第１０の実施の形態であり、前記第１の実施の形態のような処理槽２１において、自転テーブル３４に対し、処理槽２１を着脱自在に取り付ける構造が異なっている。いわゆるねじ式に処理槽２１の下端部を自転テーブル３４に取り付ける構造となっている。
【０１１１】
すなわち、自転テーブル３４の上面には、自転軸芯Ｏ２を軸芯とするおねじ部１７０が形成され、下側蓋体５５の下面には、前記おねじ部１７０に螺合可能なめねじ孔（図では隠れている）が形成されている。
【０１１２】
処理槽２１を自転テーブル３４に取り付ける際には、処理槽２１自体を自転軸芯Ｏ２回りに回動することにより、処理槽２１を自転テーブル３４に螺着する。
【０１１３】
処理槽２１を自転テーブル３４から取り外す際には、上記取り付け作業と逆の操作を行う。
【０１１４】
［第１１の実施の形態］
図２６及び図２７は、本発明の第１１の実施の形態であり、前記第１の実施の形態のような処理槽２１において、処理槽２１の自転をガイドする機構として、ガイド輪を備える代わりに、上側蓋体５４の中央部の上面に、自転軸芯Ｏ２と同軸芯の円筒状のガイド突起１８０を形成し、該ガイド突起１８０に、公転軸３に固着されたガイドアーム１８１の嵌合孔１８１ａを嵌合している。ガイド突起１８０の上端部には抜止めナット１８２が螺合しており、この抜け止めナット１８２により、ガイドアーム１８１が抜けないようにしている。
【０１１５】
処理槽２１を自転テーブル３４に着脱する際には、抜止めナット１８２を外して、ガイドアーム１８１を上側蓋体５４のガイド突起１８０から取り外す。
【０１１６】
［その他の実施の形態］
（１）図２８は筒状本体５１の変形例を示しており、前記各実施の形態では、筒状本体５１の筒芯は自転軸芯Ｏ２と一致するように形成されているが、該変形例では、筒状本体５１の筒芯Ｃ１が、自転軸芯Ｏ２に対して一定角度θで傾斜している。図２８の筒状本体５１を採用すると、処理作業中、ワークが公転の遠心力により押し付けられている筒状本体５１の内周面部分の角度が、自転に伴って−θ°から＋θ°の間で変化することになるので、筒状本体５１内のワークは、自転に伴って上方に位置する部分と下方に位置する部分が相互に流動し、撹拌がさらに促進され、均一なめっきを施すことができる。
【０１１７】
（２）前記各実施の形態では、アノードとして、不溶性部材を使用しているが、溶性部材を使用することも可能である。
【０１１８】
（３）前記各実施の形態では、一つの電解めっき装置に一対の処理槽を備えているが、３個以上の処理槽を備えることもできる。
【０１１９】
（４）前記各実施の形態では、公転軸及び自転軸は、垂直に配置されているが、公転軸及び自転軸を水平に配置し、あるいは垂直から傾斜している状態い装置に、本発明を適用することは可能である。
【０１２０】
（５）本発明は、電解めっき装置に限定されるものではなく、前述のように、（ａ）無電解めっき処理；例えば、浸漬めっき処理、化学めっき処理、（ｂ）複合めっき処理、化学複合めっき処理、（ｃ）電着塗装処理；例えば、アニオン電着塗装処理、カチオン電着塗装処理、（ｄ）前処理；例えば、脱脂処理、電解脱脂処理、バレル研磨処理、アルカリ浸漬洗浄処理、酸洗い処理、酸電解処理、化学研磨処理、電解研磨処理、中和処理、（ｅ）後処理；例えば、水切り変色防止処理、水溶性樹脂処理、クロメート処理、を目的とする小物用表面処理装置に適用可能である。
【符号の説明】
【０１２１】
３ 公転軸
１１ 公転用駆動モータ
１２ 処理液回収槽
１３ 給液ポンプ（処理液供給部）
１４ ベルト伝導機構
２０ 排出孔
２１ 処理槽
２２ 公転テーブル
２３ サポートプレート
２４ 自転用駆動モータ
２５ 給液管
３２ 自転軸
３４ 自転テーブル
３５ 自転用駆動モータ用直流電源
３６ 電解用直流電源
４０ 処理液通路
４１ スリップリング
４８ ガイド輪
５１ 筒状本体
５２ 上側フィルター
５３ 下側フィルター
５４ 上側蓋体
５５ 下側蓋体
５６ 筒状アノード
７０ ボルト
７１ ナット
７３ ボルト
７４ ナット
１３０、１３１ 液排出用の孔
１４０ 排出溝（排出通路の一例）
【技術分野】
【０００１】
本発明は、０．５〜５０００μｍの粉体、チップコンデンサー、ダイオード、コネクタ、リードスイッチ、釘、ボルト、ナット、ワッシャ等の、小物（小型部品）を、表面処理するのに適している小物用表面処理装置に関する。
【０００２】
小物用表面処理としては、（１）電気めっき処理、（２）無電解めっき処理；例えば、浸漬めっき処理、化学めっき処理、（３）複合めっき処理、化学複合めっき処理、（４）電着塗装処理；例えば、アニオン電着塗装処理、カチオン電着塗装処理、（５）前処理；例えば、脱脂処理、電解脱脂処理、バレル研磨処理、アルカリ浸漬洗浄処理、酸洗い処理、酸電解処理、化学研磨処理、電解研磨処理、中和処理、（６）後処理；例えば、水切り変色防止処理、水溶性樹脂処理、クロメート処理、がある。
【背景技術】
【０００３】
図２９は、特許文献１に記載された小物用の電解めっき装置であり、公転軸２００と一体に回転する公転テーブル２０１上に、一対の処理槽（電解槽）２０２がそれぞれ自転軸２０３を介して自転可能に支持されている。各処理槽２０２は陰極用外筒２１０と陽極用内筒（アノード）２１１とから構成され、各処理槽２０２内には、多数の小物ワークが収納されると共に、供給パイプ２１２等から電解液が供給される。上記一対の処理槽２０２を公転させながら自転させ、陰極用外筒２１０と陽極用内筒２１１との間を通電することにより、ワーク表面にめっきを施す。めっき作業中、処理槽２０２内のワークは、公転軸２００回りに処理槽２０２を公転させることにより、ワークを陰極用外筒２１０の遠心力作用方向（矢印ＲＣＦ）側の内周面に集積し、かつ、自転軸２０３回りに自転させることにより、ワークを撹拌する。これにより、各ワークの表面に均一なめっき層を形成するのである。
【０００４】
上記従来例の電解めっき装置の駆動機構として、一つの駆動モータ２２０を備えており、この駆動モータ２００を駆動源として、ベルト伝達機構２２１及び一次ギヤ機構２２２を介して公転軸２００を回転させ、かつ、公転軸２００から二次ギヤ機構２２３を介して各処理槽２０２を自転させるようになっている。
【０００５】
表面処理作業中、処理槽を自転させつつ公転させる構造の表面処理装置として、上記特許文献１の他に、下記特許文献２及び３に記載された装置があるが、いずれの装置も、処理槽は、同一の駆動源により公転軸回りに公転させられると共に、ギヤ機構あるいは遊星歯車機構等を介して自転軸回りに自転させられるようになっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】実開昭４７―２８９０９号公報、
【特許文献２】特開昭５６−１１９７９９号公報、
【特許文献３】特表２００６−５０９１０８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
図２９の従来の電解めっき装置において、公転によりワークを処理槽（電解槽）２０２の陰極用外筒２１０の内周面に押し付ける場合に、公転回転数が低いと、遠心力が不足し、図３０に示すように、ワークＷが陰極用外筒２１０の内周面に均一に分散せず、下方に偏り、不均一な厚みになる。この状態でめっき処理を行うと、下端部（矢印Ｂ１部分）はワークＷが多いために、電流が総てのワークＷに行き渡らず、めっきが付きにくくなる。一方、上端部（矢印Ｂ２近傍）はワークＷが少ないために、ワークＷに電流が集中し、めっきが付き過ぎ、ワークＷが凝集してしまう。したがって、ワークＷを陰極用外筒２１０の内周面の所定範囲内に均一な厚みで分散させるためには、所定値以上の高速で公転させる必要があると共に、ワークＷの大きさ及び比重に応じて、公転回転数を設定する必要がある。
【０００８】
一方、処理槽２０２を自転させる目的は、前述のようにワークを撹拌させることにより、ワーク毎に均一厚さにめっきを施すと共に、ワーク同士がブドウの房のように癒着するのを防ぐためであり、ゆっくりと撹拌させる必要があると共に、ワークの強度（壊れやすさ）や比重に応じて、撹拌の強弱を変更する必要がある。この撹拌の強弱の変更は自転の回転速度を変更することにより、調節される。
【０００９】
ところが、図２９や他の従来技術のように、処理槽の公転と自転とを同一の駆動源により行い、公転軸からギヤ機構または遊星歯車機構を介して自転軸を駆動する構成では、大がかりなギヤ機構等が必要になると共に、公転回転数と自転回転数とを、個々に所望の値に変更することが困難にある。
【００１０】
（発明の目的）
本発明の目的は、処理槽を公転させると共に自転させた状態でめっき等の表面処理を行う小物用表面処理装置において、装置全体及び動力伝達系をコンパクトにかつ簡素化すると共に、公転回転数及び自転回転数を、ワークの種類に応じて、それぞれ個別に簡単に変更できるようにすることにより、表面処理の品質が向上する表面処理装置を提供することである。また、ワークのローディングとアンローディング作業の容易化、特に、微細なワークのローディングとアンローディング作業の容易化、ワーク処理中におけるワークの漏れや処理液の漏れを防止することも目的としている。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記課題を解決するため、本発明は、公転軸と、該公転軸に固着されて該公転軸と一体に回転する公転テーブルと、公転軸芯を中心とする同一円周上に配置されて前記公転テーブルにそれぞれ自転軸を介して自転可能に支持された複数の処理槽と、を備え、該各処理槽はアノードと陰極部とを有すると共に処理液及び小物ワークを収納し、前記複数の処理槽を公転軸回りに公転させると同時に自転軸回りに自転させることにより、処理槽内の小物ワークを表面処理する小物用表面処理装置において、上記公転軸を回転駆動する公転用駆動モータと、上記公転用駆動モータとは別に、処理槽毎に、自転軸回りに各処理槽を回転駆動する自転用駆動モータを備えている。
【００１２】
上記構成により、装置全体及び動力伝達系を簡素に、かつコンパクトにできると共に、ワークの種類に応じて、品質の良い表面処理ができるように、公転回転数及び自転回転数を、それぞれ自由に、かつ、簡単に設定することができる。
【００１３】
本発明は、上記小物用表面処理装置において、好ましくは、次のような構成を採用することもできる。
【００１４】
（１）処理槽の外部に配置された給液ポンプ等の処理液供給部から各処理槽内に至る処理液経路として、前記公転軸内に設けられた処理液通路と、該処理液通路の出口に接続されて各処理槽に至る複数の給液管とを備え、前記処理液通路の入口は、回転継手を介して前記処理液供給部に接続され、前記各給液管の出口は、各処理槽の自転軸芯上に配置されたアノード支持部材に接続されている。
【００１５】
上記構成によると、公転軸から処理槽への処理液の供給を、略完全に密閉された供給経路を介して行うことができ、高速回転しても処理液が漏れず、処理液を無駄なく、効率的に供給できる。特に、ワークとして、μｍレベルの微粒子を処理する場合、ワークの比重が処理液の比重と大差無い場合があり、その場合でも、公転を高速にして遠心力を増すことにより、処理液の漏れが生じることなく、ワークを処理液の筒状本体の内周面に均等に接触させることができる。
【００１６】
（２）前記各自転軸は、前記公転テーブルに回転可能に支持されると共に自転テーブルを備えており、各自転テーブルに前記各処理槽が着脱自在に取り付けられている。
【００１７】
上記構成によると、自転テーブルから処理槽を取り外した状態でワークの供給及び取出しが行え、ワークのローディング及びアンローディング作業の能率が向上する。特に、微細なワークを出し入れする作業では、ワークの投入漏れを防ぐことができると共に、アンローディングの際にも、処理液で処理槽内に付着しているワークを、容易に取り出すことができる。
【００１８】
（３）前記処理槽は、自転軸方向の両端が開口した筒状本体と、該筒状本体の各開口端をそれぞれ閉塞すると共に処理液が通過可能な細孔を有する多孔体製フィルターと、各多孔体製フィルターを筒状本体の端面との間で挟持する蓋体とを備えている。
【００１９】
上記構成によると、高速で公転しても、小さなワークが処理槽から漏れる心配がなく、ワークの損失を無くすことができ、また、細孔の径がミクロン単位の多孔体を採用することにより、簡単にミクロンレベルのワークに対応させることができる。
【００２０】
（４）前記各蓋体と、処理槽を支持する自転テーブルに、処理液を排出するための孔が形成されている。
【００２１】
上記構成によると、フィルター等からの排液面積を増加するので、目が細かくて排液量が少ないフィルターを使用しても、十分に排液することができる。
【００２２】
（５）筒状本体の内周面の自転軸方向の端部は、自転軸方向の外方側に向いて自転軸側に傾斜している。
【００２３】
上記構成によると、筒状本体の内周面の自転軸方向の端縁と、フィルター等との間に細かなワークが詰まるのを防ぐことができる。
【００２４】
（６）前記処理槽は、自転軸方向の両端が開口した筒状本体と、該筒状本体の各開口端をそれぞれ閉塞する蓋体とを備え、各蓋体の内周面には、処理槽内の処理液を自転軸芯と略直角方向に排出する排出通路が設けられている。
【００２５】
上記構成によると、入り組んだ細孔を有する多孔体製のフィルターを備える場合に比べ、細かいワークが詰まるのを防ぐことができ、また、たとえ詰まった場合でも、分解洗浄することにより、簡単に排出通路内のワークの詰まりを除去することができる。
【００２６】
（７）前記筒状本体は円筒状に形成され、該筒状本体の内周面は凹凸形状となっている。
【００２７】
上記構成によると、処理槽の自転によりワークを撹拌する場合に、凹凸面によりワークの撹拌が促進される。
【００２８】
（８）前記筒状本体は多角形状に形成されている。
【００２９】
上記構成によると、処理槽の自転によりワークを撹拌する場合に、隣り合う面で形成されるＶ字面により、ワークの撹拌が促進される。
【００３０】
（９）前記筒状本体は導電性部材で形成され、全周が陰極部として通電可能となっている。
【００３１】
上記構成によると、筒状本体自体を陰極部として利用することにより、別途陰極部を設ける必要がなくなる。
【００３２】
（１０）前記筒状本体は非導電性部材で形成され、筒状本体の内周面に、多数の導電性材料の給電部材を突設してある。
【００３３】
上記構成によると、処理槽の自転によりワークを撹拌する場合に、給電部材により構成される凸状部分により、ワークの撹拌が促進される。
【００３４】
（１１）前記各給電部材を筒状本体の外周面に露出させ、筒状本体の公転半径方向の外方側に、給電部材の外方露出面に接触可能な給電帯を配置し、処理槽の自転により、筒状本体の公転半径方向の外方側の給電部材のみが順次給電帯に接触して通電するように構成されている。また、この場合、処理槽の自転軸芯側に配置されたアノードは、筒状本体の公転半径方向の外方側部分に向く部分のみを通電可能とすることができる。
【００３５】
上記構成によると、公転に基づく遠心力により、ワークが接触する遠心力作用方向側の部分のみ通電し、ワークが接触しない部分に通電しないので、めっき液の無駄がなくなる。仮に、ワークが接触しない部分にも通電していると、その部分にめっき析出が成長し、それが剥離してワークに混じり、ワークが不良品になる虞があるが、上記構成により、そのような不具合を防ぐことができる。
【００３６】
（１２）処理槽の周囲には、自転軸芯回りに間隔をおいて、処理槽の外周面に当接する複数のガイド輪が配置されている。
【００３７】
上記構成によると、処理槽は、がたつくことなく自転軸芯回りを回転すると共に、高速の公転に対しても、公転テーブル等から外れることなく公転する。
【発明の効果】
【００３８】
要するに本発明によると、動力伝達系を簡素にかつコンパクトにできると共に、ワークの種類に応じて、品質の良い表面処理ができるように、公転回転数及び自転回転数を、それぞれ自由に、かつ、簡単に設定することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】本発明の第１の実施の形態であって、小物用電解めっき装置の全体斜視図である。
【図２】上半部のシュラウドを外して示す図１の小物用電解めっき装置の全体斜視図である。
【図３】図１の小物用電解めっき装置の縦断面図である。
【図４】図１の要部の斜視図である。
【図５】処理槽の分解斜視図である。
【図６】処理槽の縦断面図である。
【図７】図６のVII部分の拡大図である。
【図８】処理槽の拡大斜視図である。
【図９】ローディング工程における初期状態を示す処理槽の断面図である。
【図１０】ローディング工程における処理槽組立完了時の処理槽の断面図である。
【図１１】処理槽取付前の自転テーブル及び給液管等の断面図である。
【図１２】処理槽取付後の自転テーブル、給液管及び処理槽の断面図である。
【図１３】めっき作業中におけるワークの良好な状態を示す処理槽の断面図である。
【図１４】めっき作業中におけるワークの良くない状態を示す処理槽の断面図である。
【図１５】本発明の第２の実施の形態であり、電解めっき装置の要部の斜視図である。
【図１６】図１５の処理槽の水平断面図である。
【図１７】本発明の第３の実施の形態であり、処理槽の筒状本体の斜視図である。
【図１８】図１７の給電ロッドの斜視図である。
【図１９】本発明の第４の実施の形態であり、処理槽の水平断面図である。
【図２０】本発明の第５の実施の形態であり、処理槽の筒状本体の斜視図である。
【図２１】本発明の第６の実施の形態であり、処理槽の分解斜視図である。
【図２２】本発明の第７の実施の形態であり、処理槽の分解斜視図である。
【図２３】本発明の第８の実施の形態であり、処理槽の分解斜視図である。
【図２４】本発明の第９の実施の形態であり、処理槽及び自転テーブルの分解斜視図である。
【図２５】本発明の第１０の実施の形態であり、処理槽及び自転テーブルの分解斜視図である。
【図２６】本発明の第１１の実施の形態であり、電解めっき装置の要部の断面図である。
【図２７】図２６の装置のサポートプレートの平面図である。
【図２８】筒状本体の変形例を示す斜視図である。
【図２９】従来例の正面図である。
【図３０】従来例の作業中の処理槽の縦断面略図である。
【発明を実施するための形態】
【００４０】
［第１の実施の形態］
図１乃至図１４は、本発明の第１の実施の形態に係る小物用電解めっき装置であり、これらの図面に基づいて第１の実施の形態を説明する。
【００４１】
図１は、小物用電解めっき装置全体の斜視図であり、縦長直方体状の架台フレーム１を備え、該架台フレーム１の上下上方の中間部に、略水平な基盤兼ドリップパン２が設けられている。
【００４２】
前記ドリップパン２の下側近傍及び架台フレーム１の上端部には、軸受装置５、６がそれぞれ支持フレーム８，９を介して固定されており、上下の軸受装置５，６により略垂直な公転軸３が回転自在に支持されている。
【００４３】
架台フレーム１の下半部には公転用駆動モータ１１及び処理液供給部としての給液ポンプ（略図）１３等が配置されており、公転用駆動モータ１１は、ベルト伝動機構１４により公転軸３に動力伝達可能に連結されている。
【００４４】
前記ドリップパン２の上面には円環状の囲い壁１７が設けられると共に、上壁１８ａを有する円筒状のシュラウド１８が設けられており、このシュラウド１８内に表面処理装置の主要部材が収納されている。
【００４５】
図２はシュラウド１８を外して示す装置全体の斜視図であり、前記囲い壁１７を有するドリップパン２は、使用後の処理液を集めて排出する機能を有しており、処理液を排出するための排出孔２０が形成されると共に、中央部にも円環状の内側囲い壁２９が設けられている。
【００４６】
架台フレーム１の上半部の前記シュラウド１８内には、一対の処理槽２１と、公転テーブル２２と、サポートプレート２３と、各処理槽２１を個々に駆動するための一対の自転用駆動モータ２４と、各処理槽２１内へ処理液を供給するための一対の給液管２５等を備えている。
【００４７】
図３は電解めっき装置全体の縦断面図であり、公転テーブル２２はキー２６により公転軸３に固着され、公転軸３と一体回転するようになっており、サポートプレート２３は、公転テーブル３から一定距離上方に配置される共に、キー２７により公転軸３に固着され、公転軸３と一体回転するようになっている。
【００４８】
ドリップパン２の中央部には、公転軸３が通過する中央孔２８が形成されており、この中央孔２８を取り囲むように、前記内側囲い壁２９が設けられている。内側囲い壁２９の上方には円錐形の防滴カバー３０が配置されており、この防滴カバー３０は公転軸３に固着され、中央孔２８へ処理液が流入するのを防いでいる。
【００４９】
公転テーブル２２には、公転軸芯Ｏ１を中心とする同一円周上に、公転軸３と平行な一対の自転軸３２が軸受３３を介して回転自在に支持されている。各自転軸３２の上端には自転テーブル３４が自転軸３２と一体に形成され、各自転テーブル３４の上には、各処理槽２１がそれぞれ着脱自在に固定されている。
【００５０】
各自転用駆動モータ２４は各自転軸３２に概ね対応する位置に配置され、公転テーブル２２の下面に固着されており、各自転用駆動モータ２４の出力軸が継手を介して各自転軸３２に連結されている。
【００５１】
公転軸３は中空筒状に形成されており、公転軸３内には、公転軸芯Ｏ１に沿って上下方向に延びる処理液通路（通路管）４０が設けられると共に、自転用駆動モータ２４用の電線並びに電解用の陽極用電線が配置されている。
【００５２】
公転軸３の下部、たとえばドリップパン２と下側軸受装置６との間の公転軸３部分の外周には、通電用のスリップリング４１が設けられている。このスリップリング４１は、回転部材と固定部材との間を通電可能とする周知の構造であり、公転軸３に固着されて公転軸３と一体的に回転する内側リング部材と、架台フレーム１に固定された外側リング部材とからなり、外側リング部材に設けられた複数の接続端子に、自転用駆動モータ２４用の直流電源３５の陰極及び陽極と、電解用直流電源３６の陰極及び陽極が接続されている。自転用駆動モータ２４用の直流電源３５の陽極及び陽極並びに電解用直流電源３６の陽極は、スリップリング４１の内外リング部材を介して公転軸３内の各電線に接続され、電解用直流電源３６の陰極は、導電性を有する公転軸３自体に電気的に接続されている。
【００５３】
公転軸３の下端部には回転継手管４２を介して液管４３が接続されており、該液管４３は前記給液ポンプ１３に接続され、該給液ポンプ１３の吸込口は液管４４を介して処理液回収槽１２に接続されている。すなわち、給液ポンプ１３により、処理液回収槽１２内の処理液を吸い込み、液管４３及び回転継手管４２を介して公転軸４２内の処理液通路４０に処理液を供給するようになっている。また、ドリップパン２の排出孔２０は排液管４５を介して処理液回収槽１２に至っている。
【００５４】
図４は電解めっき装置の要部の斜視図であり、公転軸３内の処理液通路４０は、サポートプレート２３よりも高い位置まで上方に延び、その上端部に一対の処理液出口を有し、各処理液出口に前記給液管２５がそれぞれ接続されている。
【００５５】
図５は処理槽２１の分解斜視図、図６は処理槽２１の縦断面図である。図５において、処理槽２１は、導電性を有する金属、たとえばステンレス鋼で形成された円筒形の筒状本体５１と、多孔体で形成された扁平円柱状（円盤状）の上側フィルター５２及び下側フィルター５３と、導電性を有する金属で形成された円板形の上側蓋体５４及び下側蓋体５５と、有底筒状のアノード５６等とから構成されている。筒状本体５１の上下端には、複数のボルト挿通孔６０（引き出し線は一個のみ記載）を有するフランジ５１ａが筒状本体５１と一体に形成され、また、上下のフィルター５２，５３及び上下の蓋体５４，５５にも、前記フランジ５１ａのボルト挿通孔６０に対応する位置にそれぞれボルト挿通孔６１、６２（引き出し線は一個のみ記載）が形成されている。前記自転テーブル３４及び下側蓋体５５には、前記ボルト挿通孔６２よりも径方向外方位置に、下側蓋体５５を自転テーブル３４に固着するための複数のボルト挿通孔６３，６４がそれぞれ形成されている。また、自転テーブル３４には、前記処理槽２１の組立に利用されるボルト頭部を収納するための孔６５が形成されている。
【００５６】
図６において、有底筒状のアノード５６は不溶性であり、このアノード５６の上壁５６ａには、上下方向に貫通すると共に導電性を有する液管６７が固着されている。この液管６７の下側部分はアノード５６の下端に略対応する位置まで下方に延びて、下向きに開口しており、液管６７の上端部はアノード５６の上壁５６ａから上方に突出し、該上方突出部分には、アノード支持部材として、導電性を有する接続管６８が接続されている。該接続管６８は、上側フィルター５２及び上側蓋体５４の中央に形成された孔を通過して上方に突出している。
【００５７】
上側蓋体５４の下面及び下側蓋体５５の上面には、上下の各フィルター５２，５３を同一中心に位置決めするために、各フィルター５２，５３の外径と同一内径の位置決め用環状段部５４ａ，５５ａが形成されており、さらに、自転テーブル３４の上面には、下側蓋体５５を同一中心に位置決めするために、下側蓋体５５の外径と同一外径の位置決め用環状段部３４ａが形成されている。
【００５８】
筒状本体５１の上端フランジ５１ａの上面に上側フィルター５２が載せられ、該上側フィルター５２の上面に上側蓋体５４が載せられると共に該上側蓋体５４の環状段部５４ａ内に上側フィルター５２が嵌め込まれ、前記各ボルト挿通孔６１，６２に下方から挿通したボルト７０及びナット７１により、上側フィルター５２及び上側蓋体５４は上端フランジ５１ａに共締めされている。
【００５９】
筒状本体５１の下端フランジ５１ａの下面に下側フィルター５３が重ねられ、下側フィルター５３の下面に下側蓋体５５が重ねられると共に該下側蓋体５５の環状段部５５ａ内に下側フィルター５３が嵌め込まれ、前記各ボルト挿通孔６１、６２に上方から挿通したボルト７０及びナット７１により、下側フィルター５３及び下側蓋体５５は下端フランジ５１ａに共締めされている。なお、上下の各フィルター５２，５３のボルト挿通孔６１内には、上下方向のスペーサとして、カラーが嵌着されている。
【００６０】
上記のようにボルト７０及びナット７１によって組み立てられた処理槽２１は、下側蓋体５５が自転テーブル３４の上面に載置されると共に環状段部３４ａに嵌合され、これにより、処理槽２１は自転軸３２と同一中心線Ｏ２上に位置決めされ、下側蓋体５５及び自転テーブル３４の各ボルト挿通孔６３，６４（図５参照）に挿通したボルト７３及びナット７４により、処理槽２１は自転テーブル３４上に着脱自在に取り付けられている。
【００６１】
図８は、組立後の処理槽２１を自転テーブル３４に固定した状態の斜視図であり、前述のように、筒状本体５１と、上下のフィルター５２，５３と、上下の蓋体５４，５５を、上下の複数本のボルト７０で締結することにより処理槽２１を構成しており、この処理槽２１が、自転テーブル３４上に、複数のボルト７３等により取り付けられているのである。
【００６２】
図７は図６の矢印VII部分の拡大図であり、筒状本体５１の内周面の下端には、下方に向かって縮径するテーパー面５１ｂが形成されている。
【００６３】
図１１は処理槽取付前の自転テーブル３４及び給液管２５等の状態を示し、図１２は、処理槽２１を自転テーブル３４に取り付けると共に、処理槽２１と給液管２５とを接続した状態を示している。図１１において、サポートプレート２３には、自転軸芯Ｏ２と同一軸芯上に貫通孔７８が形成されており、該貫通孔７８内には、導電性を有する処理液用の継手管７９が自転軸芯Ｏ２と同一軸芯状に配置されている。前記継手管７９は取付片７９ａを一体的に有しており、該取付片７９ａがボルト８０及びナット８１によりサポートプレート２３の下面に固着されている。前記給液パイプ２５はＬ字状に形成されており、各給液パイプ２５は、公転軸３から前記各継手管７９の上方位置に向かって略水平に延びると共に、継手管７９の上方位置で下方に折れ曲がっている。継手管７９の内周面の上下端部にはテーパーめねじ部７９ｂ、７９ｃが形成され、上端部のテーパーめねじ部７９ｂには前記給液パイプ２５の下端テーパーおねじ部が螺着されている。
【００６４】
図１２において、継手管７９の下端のテーパーめねじ部７９ｃには、アノード５６の接続管６８の上端部のテーパーおねじ部６８ａが螺着される。
【００６５】
サポートプレート２３は、絶縁部材４７を介して公転軸３の外周面に固定されており、これにより、導電性を有する公転軸３の外周面と導電性を有するサポートプレート２３との間を、電気的に遮断している。
サポートプレート２３の外方部には、自転軸芯Ｏ２を中心とする同一円周上に、複数のガイド輪支持軸４９が固着されており、該ガイド輪支持軸４９は自転軸芯Ｏ２と平行に下方に延び、各ガイド輪支持軸４９の下端部にそれぞれガイド輪４８が回転自在に支持されている。各ガイド輪４８は、自転テーブル３４上の処理槽２１の上側蓋体５４の外周縁に転動可能に当接しており、自転中の処理槽２１が自転軸芯Ｏ２から振れないようにガイドする。
【００６６】
上記ガイド輪４８は、処理槽２１の周方向に間隔を置いて複数（たとえば３個）配置されているが、主として処理槽２１の公転による遠心力（矢印ＲＣＦＣ）を受け止めるように、図４のように、処理槽２１の上側蓋体５４の全周のうち、公転による遠心力作用方向（ＲＣＦ）側に配置されている。
【００６７】
［電気供給系統の経路］
電解用の陰極の通電経路を簡単にまとめてみると、図３において、電解用直流電源３６の陰極部→スリップリング４１→公転軸３の外周壁→公転テーブル２２→軸受３３→自転テーブル３４→下側蓋体５５→ボルト７０→筒状本体５１となっている。
【００６８】
電解用の陽極の通電経路を簡単にまとめてみると、図３において、電解用直流電源３６の陽極部→スリップリング４１→公転軸３内の電線→公転軸３外の電線→サポートプレート２３→継手管７９→接続管６８→アノード５６となっている。
【００６９】
また、自転用駆動モータ２４への通電経路は、図３において、自転用直流電源３５の陰極部及び陽極部→スリップリング４１→公転軸３内の自転用の電線→公転軸３外の自転用の電線→自転用駆動モータ２４の陰極部及び陽極部となっている。
【００７０】
［処理液供給系統の経路］
処理液（めっき液）の供給経路を簡単にまとめてみると、図３及び図６において、給液ポンプ１３→液管４３→回転継手管４２→公転軸３内の処理液通路４０→給液管２５→継手管７９→接続管６８→アノード５６内の液管６７→筒状本体５１内となっている。また排液経路は、処理槽２１の筒状本体５１内→上下のフィルター５２，５３の細孔→シュラウド１８→外側囲い壁１７→ドリップパン２→排出孔２０→処理液回収槽１２となっている。
【００７１】
［めっき作業及び作用効果］
作業準備段階において、公転用駆動モータ１１による処理槽２１の公転回転数と、各自転用駆動モータ２４による処理槽２１の自転回転数は、それぞれ独立に設定可能であり、めっき処理されるワークの大きさ、重量及び比重等に応じて設定される。たとえば、公転回転数Ｎ１は８０ｒｐｍ〜１０００ｒｐｍの範囲内で設定され、自転回転数は公転回転数よりも大幅に少なく、１〜３０ｒｐｍの範囲内で設定される。公転回転数Ｎ１は、作業中、図１３に示すように、公転に基づく遠心力により、遠心力作用方向（ＲＣＦ）側の筒状本体５１の内周面に、処理槽２１内のワークＷが略均一の厚みで押し付けられる値に設定されることが必要である。一方、自転回転数Ｎ２は、自転により処理槽２１内のワークＷが撹拌される程度の値であれば十分である。したがって、公転回転数Ｎ１は、自転回転数Ｎ２の数十倍から数百倍程度の回転速度となる。ちなみに、ある大きさ、重量及び比重のワークＷに対し、公転回転数Ｎ１が小さすぎる場合には、図１４のように、筒状本体５１の内周面に押し付けられるワークＷの厚みは不均一になる。具体的には、下方に行くに従い厚みが増加することになり、均一な品質の良い表面処理が困難になる。
【００７２】
めっき作業の手順を説明する。
（１）ワークＷのローディング作業は、図２及び図３において、処理槽２１を自転テーブル３４から取り外し、かつ、図９に示すように、筒状本体５１から上蓋体５４及び上側フィルター５２と取り外した状態で行う。すなわち、処理槽２１の上端を解放し、所定量のワークＷを上方から筒状本体５１内に投入する。
【００７３】
このように、処理槽２１を自転テーブル３４から外し、かつ上端を解放した状態でワークＷを投入するので、小さなワークＷあっても、外部に漏らすことなく、完全、かつ簡単に処理槽２１に投入できる。
【００７４】
（２）次に図１０において、アノード５６を筒状本体５１内に挿入し、上側フィルター５２及び上蓋体５４を、筒状本体５１の上端フランジ５１ａに順次載置すると共に、アノード５６の接続管６８を上側フィルター５２及び上蓋体５４の中央孔から上方に突出させる。そして、複数のボルト７０及びナット７１により、上側フィルター５２と上側蓋体５４を上端フランジ５ａに締結する。これにより、ワークＷは処理槽２１内に密封される。
【００７５】
（３）ワークＷが密封された処理槽２１を、図１１のように空いている自転テーブル３４上に載置する。
【００７６】
（４）図１２において、処理槽２１を公転テーブル３に載置した後、複数のボルト７３及びナット７４により、処理槽２１の下側蓋体５５を自転テーブル３４に締結すると共に、アノード５６を持ち上げ、接続管６８の上端おねじ部６８ａを継手管７９の下端めねじ部７９ｃに接続する。これにより、処理液経路が処理槽２１に接続されると同時に、電解用の陽極の経路がサポートプレート２３及び継手管７９を介してアノード５６に電気的に接続される。さらに、電解用の陰極の経路も、公転軸３，公転テーブル２２，軸受３３，自転軸３２，自転テーブル３４，下側蓋体５５，ボルト７０を介して筒状本体５１に電気的に接続される。
【００７７】
（５）上記状態で、公転用駆動モータ１１及び各自転用駆動モータ２４を、それぞれ所定の回転数で回転させることにより、両処理槽２１を公転軸芯Ｏ１回りに高速回転させると共に自転軸芯Ｏ２回りに自転させ、同時に、給液ポンプ１３により、公転軸３内の処理液通路４０、各給液管２５，各継手管７９、各接続管６８及び各液管６７を通して処理槽２１内にめっき液を供給する。そして、アノード５６と陰極の筒状本体５１との間で通電することより、各ワークＷの表面にめっきを施す。このような公転と自転によるめっき作業は、数時間から数十時間継続して行う。めっき作業中のワークの状態は、前記図１３で説明したように、公転による遠心力により、遠心力作用方向（ＲＣＦ）側の筒状本体５１の内周面に、略均一の厚みで押し付けられると同時に、自転により、撹拌される。これにより、全ワークＷの表面には、均一の厚みでめっき層が形成される。
【００７８】
（６）上記めっき作業中、処理槽２１には、前述のように給液ポンプ１３からのめっき液が継続的に供給されているが、使用後のめっき液は、上下のフィルター５２，５３内の細孔を通り、各フィルター５２，５３の周方向の外周面から外方へ放出される。
【００７９】
（７）フィルター５２，５３の径方向の外周面から放出されためっき液は、たとえばシュラウド１８の内周面に衝突して落下あるいは流下し、外側囲い壁１７を経てドリップパン２に溜まり、排出孔２０から処理液回収槽１２へと回収される。処理液回収槽１２では、浄化及び再生されためっき液が、再度給液ポンプ１３から処理槽２１へ供給される。
【００８０】
上記のように、めっき作業中、めっき液は、密閉された経路内を給液ポンプ１３から処理槽２１まで圧送され、かつ、密閉された経路内をシュラウド１８からドリップパン２を経て処理液回収槽１２に回収されるので、高速回転によるめっき作業中であっても、殆ど漏れることなくめっき液を供給し、排出することができる。
【００８１】
（８）めっき作業が終了すると、処理槽２１の公転及び自転を停止すると同時に、めっき液の供給も停止し、前記ローディング作業時とは逆の手順で、処理槽２１を自転テーブル３４から取り外し、さらに、上側蓋体５４及び上側フィルター５２を取り外し、めっき処理後のワークＷを取り出す。
【００８２】
この場合も、ローディング時と同様、簡単、かつ、確実に処理槽２１内のめっき処理後の全ワーク９を取り出すことができる。
【００８３】
（９）また、該実施の形態では、図７のように筒状本体５１の内周面の下端にテーパー面５１ｂを形成しているので、微細なワークが遠心力により加圧されても、筒状本体５１と下側フィルター５３との間にワークＷが侵入するのを防ぐことができ、ワークの歩留まりを向上させることができる。
【００８４】
（１０）また該実施の形態では、図４のように、処理槽２１の外周を案内するガイド輪４８を設けているので、処理槽２１が高速で公転しても、処理槽２１が自転軸芯Ｏ２から外れることなく、円滑に回転する。
【００８５】
［第２の実施の形態］
図１５及び図１６は、本発明の第２の実施の形態であり、前記第１の実施の形態と異なるところは、処理槽２１の筒状本体５１及び電解用陰極部の構造であり、その他の構造は第１の実施の形態と同じであり、同じ部品には同じ符号を附してある。
【００８６】
処理槽２１の水平断面図を図１６において、筒状本体５１は、樹脂等の非導電性材料でできており、筒状本体５１には、導電性を有する金属でできた多数の給電部材（給電子）１１０が取り付けられている。各給電部材１１０は、筒状本体５１の外周面から外方に突出する半球状の外側部分１１０ａと、筒状本体５１に形成された取付孔に圧入されて筒状本体５１の内周面に露出する軸部分１１０ｂとから構成されており、全給電部材１１０のうち、所望の数の給電部材１１０の軸部分１１０ｂは、筒状本体５１の内周面から内方に突出している。
【００８７】
処理槽２１の公転による遠心力作用方向（ＲＣＦ）側には、円弧状の給電帯１１１が配置されており、この給電帯１１１に接触する給電部材１１０だけに給電されるように構成されている。
【００８８】
給電帯１１１は一対の支持ロッド１１２を有しており、各支持ロッド１１２は遠心力作用方向（ＲＣＦ）及びその逆方向に移動自在にシリンダ１１３内に支持されると共に、付勢ばね１１４により処理槽１２側に付勢されている。これにより、矢印Ｒ方向に自転する処理槽２１の給電部材１１０のうち、遠心力作用方向（ＲＣＦ）側を通る給電部材１１０が順次給電帯１１１に接触し、給電されるようになっている。
【００８９】
前記支持ロッド１１２及び付勢ばね１１４を収納するシリンダ１１３は支持ブラケット１１８に固定され、該支持ブラケット１１８は、図１５に示すように、サポートプレート２３に支持され、サポートプレート２３から給電されるようになっている。
【００９０】
該実施の形態のように、自転する筒状本体５１の全周のうち、公転により遠心力作用方向（ＲＣＦ）側を通過する給電部材１１０だけに給電する構造とすることにより、めっき液を効率良く有効に利用できると共に、前記第１の実施の形態と比べ、不必要な箇所でのめっき析出を防止し、析出されためっきが剥離することによる品質の低下を防ぐことができる。また、エネルギーコストの節約にもなる。
【００９１】
また、本実施の形態では、一部の給電部材１１０の軸部１１０ｂを筒状本体５１の内周面から内方に突出させているので、処理槽２１の自転による撹拌作用において、上記内方突出状の軸部１１０ｂが撹拌突起としての役目を果たし、ワークＷの撹拌機能が向上する。
【００９２】
［第３の実施の形態］
図１７及び図１８は、本発明の第３の実施の形態であり、前記第２の実施の形態の変形例となっている。筒状本体５１は、樹脂等の非導電性材料でできており、筒状本体５１の内周面に、導電性を有する金属でできた上下に細長い多数の給電ロッド（給電部材）１２０が取り付けられている。給電ロッド１２０は筒状本体５１の円周方向に所定間隔を置いて多数配置されており、図１８に示すように、上下方向の中間部に外部露出部１２０ａが形成され、この外部露出部１２０ａが図１７のように、筒状本体５１に形成された取付孔に嵌着され、筒状本体５１の外周面から外方に突出している。
【００９３】
遠心力作用方向（ＲＣＦ）に配置される円弧状に給電帯１２１及びその支持構造は前記第２の実施の形態と同様である。
【００９４】
該実施の形態によると、第２の実施の形態と同様、自転する筒状本体５１の全周のうち、公転により遠心力作用方向（ＲＣＦ）側を通過する給電ロッド１２０だけに給電する構造となっているので、めっき液を効率良く有効に利用できると共に、不必要な箇所でのめっき析出を防止し、析出されためっきが隔離することによる品質の低下を防ぐことができる。また、エネルギーコストの節約にもなる。
【００９５】
さらに、筒状本体５１内に配置された多数の給電ロッド１１０により、筒状本体５１の内周面を実質的に凹凸形状としているので、処理槽２１の自転による撹拌作用が格段と向上する。
【００９６】
［第４の実施の形態］
図１９は、本発明の第４の実施の形態であり、筒状アノード５６の全周のうち、遠心力作用方向（ＲＣＦ）側の範囲５６ｄだけ通電可能とし、残りの範囲５６ｃを非電導体によりマスキングしており、これにより、遠心力作用方向（ＲＣＦ）側に集積されるワークＷに対し、効率良くめっきを施せるように構成している。その他の構造は例えば前記第１の実施の形態と同様である。
【００９７】
［第５の実施の形態］
図２０は、本発明の第５の実施の形態であり、前記第１の実施の形態のような処理槽２１において、筒状本体５１の形状、特に内周面形状を、正多角形状に形成してある。図では、筒状本体５１を正八角形状としているが、正五角形、正六角形等、各種多角形状を採用することができる。
【００９８】
上記のように、処理槽２１の筒状本体５１の形状を、正多角形状としていると、隣り合う側面間のＶ形状により、処理槽２１の自転によるワーク撹拌性能を向上させることができる。
【００９９】
［第６の実施の形態］
図２１は、本発明の第６の実施の形態であり、前記第１の実施の形態のような処理槽２１において、上下の蓋体５４，５５の形状を改良したものである。すなわち、上下の蓋体５４，５５及び自転テーブル３４に、処理液排出用の孔１３０、１３１を形成してある。
【０１００】
該実施の形態によると、使用後のめっき液等の処理液は、フィルター５２，５３の径方向の外周面から放出されると共に、上側フィルター５２の上方及び下側フィルター５３の下方からも放出され、めっき液の排出面積が増加する。これにより、たとえば細孔の径が小さくて、排液量が制限されるフィルター５２，５３であっても、十分な量の排液が可能となる。
【０１０１】
［第７の実施の形態］
図２２は、本発明の第７の実施の形態であり、処理槽２１からの排液構造として、前記第１の実施の形態のようなフィルターを備える代わりに、上側蓋体５４の下面と、図示しないが下側蓋体５５の上面に、排出通路として複数本の放射状の排出溝１４０を形成してある。
【０１０２】
該実施の形態によると、入り組んだ細孔を通して排液するフィルターを備える場合に比べ、目詰まりが生じ難く、しかも、仮に目詰まりが生じても、簡単に分解洗浄することができる。
【０１０３】
［第８の実施の形態］
図２３は、本発明の第８の実施の形態であり、処理槽２１からの排液構造として、前記第１の実施の形態のようなフィルターを備える代わりに、上側蓋体５４の下面と筒状本体５１の上端フランジ５１ａの間、並びに図示しないが下側蓋体５５の上面と下端フランジ５１ａとの間に、周方向に間隔を置いて複数の薄板１５０を挟持することにより、薄板１５０間で排液通路を形成してある。各薄板１５０はたとえばワッシャのように円環状に形成され、上側蓋体５４等の取付ボルト７０が挿通される。
【０１０４】
該実施の形態によると、前記第７の実施の形態と同様、入り組んだ細孔を通して排液するフィルターを備える場合に比べ、目詰まりが生じ難く、しかも、仮に目詰まりが生じても、簡単に分解洗浄することができる。さらに、ワークＷの大きさに応じて、薄板１５０の厚みあるいは重ね枚数を変更することにより、排液通路の大きさを簡単に変更することができる。
【０１０５】
なお、処理液の排出機構として、図５及び図２１等で示したような上下フィルター５２，５４を備える構造と、図２２で示したような排出溝１４０を形成する構造と、本実施の形態の図２３で示したような薄板１５０を挟持する構造とを、適宜組み合わせ、併用する構造とすることも可能である。
【０１０６】
［第９の実施の形態］
図２４は、本発明の第９の実施の形態であり、前記第１の実施の形態のような処理槽２１において、自転テーブル３４に対し、処理槽２１を着脱自在に取り付ける構造が異なっている。いわゆるバヨネット方式で、処理槽２１を自転テーブル３４に取り付ける構造となっている。
【０１０７】
すなわち、自転テーブル３４の上面には円筒状の周壁１６０が形成され、該周壁１６０の内周面に、周方向に等間隔を置いて複数の円弧状突起１６１が形成されている。該円弧状突起１６１は、周壁１６０に沿って周方向に一定長さ延びると共に、周方向一端部に、下方に折れ曲がるストッパ部１６１ａが形成されている。一方、処理槽２１の下側蓋体５５には、前記各突起１６１の周方向間に上方から挿入可能で、断面Ｌ字状に形成され、かつ、各突起１６１に下方から係合可能なＬ字状の係合突起１６２が形成されている。
【０１０８】
処理槽２１を自転テーブル３４に固定する場合には、処理槽２１の各係合突起１６２を自転テーブル３４の突起１６１間に上方から挿入し、処理槽２１をＡ方向に回動して、係合突起１６２の外向き水平部分を自転テーブル３４の突起１６１の下面に係合させ、かつ、ストッパ部１６１ａに当接させる。
【０１０９】
処理槽２１を自転テーブル３４から取り外す際には、上記取付作業と逆の操作を行う。
【０１１０】
［第１０の実施の形態］
図２５は、本発明の第１０の実施の形態であり、前記第１の実施の形態のような処理槽２１において、自転テーブル３４に対し、処理槽２１を着脱自在に取り付ける構造が異なっている。いわゆるねじ式に処理槽２１の下端部を自転テーブル３４に取り付ける構造となっている。
【０１１１】
すなわち、自転テーブル３４の上面には、自転軸芯Ｏ２を軸芯とするおねじ部１７０が形成され、下側蓋体５５の下面には、前記おねじ部１７０に螺合可能なめねじ孔（図では隠れている）が形成されている。
【０１１２】
処理槽２１を自転テーブル３４に取り付ける際には、処理槽２１自体を自転軸芯Ｏ２回りに回動することにより、処理槽２１を自転テーブル３４に螺着する。
【０１１３】
処理槽２１を自転テーブル３４から取り外す際には、上記取り付け作業と逆の操作を行う。
【０１１４】
［第１１の実施の形態］
図２６及び図２７は、本発明の第１１の実施の形態であり、前記第１の実施の形態のような処理槽２１において、処理槽２１の自転をガイドする機構として、ガイド輪を備える代わりに、上側蓋体５４の中央部の上面に、自転軸芯Ｏ２と同軸芯の円筒状のガイド突起１８０を形成し、該ガイド突起１８０に、公転軸３に固着されたガイドアーム１８１の嵌合孔１８１ａを嵌合している。ガイド突起１８０の上端部には抜止めナット１８２が螺合しており、この抜け止めナット１８２により、ガイドアーム１８１が抜けないようにしている。
【０１１５】
処理槽２１を自転テーブル３４に着脱する際には、抜止めナット１８２を外して、ガイドアーム１８１を上側蓋体５４のガイド突起１８０から取り外す。
【０１１６】
［その他の実施の形態］
（１）図２８は筒状本体５１の変形例を示しており、前記各実施の形態では、筒状本体５１の筒芯は自転軸芯Ｏ２と一致するように形成されているが、該変形例では、筒状本体５１の筒芯Ｃ１が、自転軸芯Ｏ２に対して一定角度θで傾斜している。図２８の筒状本体５１を採用すると、処理作業中、ワークが公転の遠心力により押し付けられている筒状本体５１の内周面部分の角度が、自転に伴って−θ°から＋θ°の間で変化することになるので、筒状本体５１内のワークは、自転に伴って上方に位置する部分と下方に位置する部分が相互に流動し、撹拌がさらに促進され、均一なめっきを施すことができる。
【０１１７】
（２）前記各実施の形態では、アノードとして、不溶性部材を使用しているが、溶性部材を使用することも可能である。
【０１１８】
（３）前記各実施の形態では、一つの電解めっき装置に一対の処理槽を備えているが、３個以上の処理槽を備えることもできる。
【０１１９】
（４）前記各実施の形態では、公転軸及び自転軸は、垂直に配置されているが、公転軸及び自転軸を水平に配置し、あるいは垂直から傾斜している状態い装置に、本発明を適用することは可能である。
【０１２０】
（５）本発明は、電解めっき装置に限定されるものではなく、前述のように、（ａ）無電解めっき処理；例えば、浸漬めっき処理、化学めっき処理、（ｂ）複合めっき処理、化学複合めっき処理、（ｃ）電着塗装処理；例えば、アニオン電着塗装処理、カチオン電着塗装処理、（ｄ）前処理；例えば、脱脂処理、電解脱脂処理、バレル研磨処理、アルカリ浸漬洗浄処理、酸洗い処理、酸電解処理、化学研磨処理、電解研磨処理、中和処理、（ｅ）後処理；例えば、水切り変色防止処理、水溶性樹脂処理、クロメート処理、を目的とする小物用表面処理装置に適用可能である。
【符号の説明】
【０１２１】
３ 公転軸
１１ 公転用駆動モータ
１２ 処理液回収槽
１３ 給液ポンプ（処理液供給部）
１４ ベルト伝導機構
２０ 排出孔
２１ 処理槽
２２ 公転テーブル
２３ サポートプレート
２４ 自転用駆動モータ
２５ 給液管
３２ 自転軸
３４ 自転テーブル
３５ 自転用駆動モータ用直流電源
３６ 電解用直流電源
４０ 処理液通路
４１ スリップリング
４８ ガイド輪
５１ 筒状本体
５２ 上側フィルター
５３ 下側フィルター
５４ 上側蓋体
５５ 下側蓋体
５６ 筒状アノード
７０ ボルト
７１ ナット
７３ ボルト
７４ ナット
１３０、１３１ 液排出用の孔
１４０ 排出溝（排出通路の一例）
【特許請求の範囲】
【請求項１】
公転軸と、該公転軸に固着されて該公転軸と一体に回転する公転テーブルと、公転軸芯を中心とする同一円周上に配置されて前記公転テーブルにそれぞれ自転軸を介して自転可能に支持された複数の処理槽と、を備え、該各処理槽はアノードと陰極部とを有すると共に処理液及び小物ワークを収納し、前記複数の処理槽を公転軸回りに公転させると同時に自転軸回りに自転させることにより、処理槽内の小物ワークを表面処理する小物用表面処理装置において、
上記公転軸を回転駆動する公転用駆動モータと、
上記公転用駆動モータとは別に、処理槽毎に、自転軸回りに各処理槽を回転駆動する自転用駆動モータを備えていることを特徴とする、小物用表面処理装置。
【請求項２】
請求項１記載の小物用表面処理装置において、
処理槽の外部に配置された処理液供給部から各処理槽内に至る処理液経路として、前記公転軸内に設けられた処理液通路と、該処理液通路の出口に接続されて各処理槽に至る複数の給液管とを備え、
前記処理液通路の入口は、回転継手を介して前記処理液供給部に接続され、
前記各給液管の出口は、各処理槽の自転軸芯上に配置されたアノード支持部材に接続されている、小物用表面処理装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の小物用表面処理装置において、
前記各自転軸は、前記公転テーブルに回転可能に支持されると共に自転テーブルを備えており、各自転テーブルに前記各処理槽が着脱自在に取り付けられている、小物表面処理装置。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一つに記載の小物用表面処理装置において、
前記処理槽は、自転軸方向の両端が開口した筒状本体と、該筒状本体の各開口端をそれぞれ閉塞すると共に処理液が通過可能な細孔を有する多孔体製フィルターと、各多孔体製フィルターを筒状本体の端面との間で挟持する蓋体とを備えている、小物用表面処理装置。
【請求項５】
請求項４に記載の小物用表面処理装置において、
前記各蓋体と、処理槽を支持する自転テーブルに、処理液を排出するための排出孔が形成されている、小物用表面処理装置。
【請求項６】
請求項４又は５に記載の小物用表面処理装置において、
筒状本体の内周面の自転軸方向の端部は、自転軸方向の外方側に向いて自転軸側に傾斜している、小物用表面処理装置。
【請求項７】
請求項１乃至３のいずれか一つに記載の小物用表面処理装置において、
前記処理槽は、自転軸方向の両端が開口した筒状本体と、該筒状本体の各開口端をそれぞれ閉塞する蓋体とを備え、
各蓋体の内周面には、処理槽内の処理液を自転軸芯と略直角方向に排出する排出通路が設けられている、小物用表面処理装置。
【請求項８】
請求項４乃至７のいずれか一つに記載の小物用表面処理装置において、
前記筒状本体は円筒状に形成され、該筒状本体の内周面は凹凸形状となっている、小物用表面処理装置。
【請求項９】
請求項４乃至７のいずれか一つに記載の小物用表面処理装置において、
前記筒状本体は多角形状に形成されている、小物用表面処理装置。
【請求項１０】
請求項４乃至９のいずれか一つに記載の小物用表面処理装置において、
前記筒状本体は導電性部材で形成され、全周が陰極部として通電可能となっている、小物用表面処理装置。
【請求項１１】
請求項４乃至９のいずれか一つに記載の小物用表面処理装置において、
前記筒状本体は非導電性部材で形成され、
筒状本体の内周面に、多数の導電性材料の給電部材を突設してある、小物用表面処理装置。
【請求項１２】
請求項１１に記載の小物用表面処理装置において、
前記各給電部材を筒状本体の外周面に露出させ、
筒状本体の公転半径方向の外方側に、給電部材の外方露出面に接触可能な給電帯を配置し、
処理槽の自転により、筒状本体の公転半径方向の外方側の給電部材のみが順次給電帯に接触して通電するように構成されている、小物用表面処理装置。
【請求項１３】
請求項１２に記載の小物用表面処理装置において、
処理槽の自転軸芯側に配置されたアノードは、筒状本体の公転半径方向の外方側部分に向く部分が通電可能となっている、小物用表面処理装置。
【請求項１４】
請求項１乃至１３のいずれか一つに記載の小物用表面処理装置において、
処理槽の周囲には、自転軸芯回りに間隔をおいて、処理槽の外周面に当接する複数のガイド輪が配置されている、小物用表面処理装置。
【請求項１】
公転軸と、該公転軸に固着されて該公転軸と一体に回転する公転テーブルと、公転軸芯を中心とする同一円周上に配置されて前記公転テーブルにそれぞれ自転軸を介して自転可能に支持された複数の処理槽と、を備え、該各処理槽はアノードと陰極部とを有すると共に処理液及び小物ワークを収納し、前記複数の処理槽を公転軸回りに公転させると同時に自転軸回りに自転させることにより、処理槽内の小物ワークを表面処理する小物用表面処理装置において、
上記公転軸を回転駆動する公転用駆動モータと、
上記公転用駆動モータとは別に、処理槽毎に、自転軸回りに各処理槽を回転駆動する自転用駆動モータを備えていることを特徴とする、小物用表面処理装置。
【請求項２】
請求項１記載の小物用表面処理装置において、
処理槽の外部に配置された処理液供給部から各処理槽内に至る処理液経路として、前記公転軸内に設けられた処理液通路と、該処理液通路の出口に接続されて各処理槽に至る複数の給液管とを備え、
前記処理液通路の入口は、回転継手を介して前記処理液供給部に接続され、
前記各給液管の出口は、各処理槽の自転軸芯上に配置されたアノード支持部材に接続されている、小物用表面処理装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の小物用表面処理装置において、
前記各自転軸は、前記公転テーブルに回転可能に支持されると共に自転テーブルを備えており、各自転テーブルに前記各処理槽が着脱自在に取り付けられている、小物表面処理装置。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一つに記載の小物用表面処理装置において、
前記処理槽は、自転軸方向の両端が開口した筒状本体と、該筒状本体の各開口端をそれぞれ閉塞すると共に処理液が通過可能な細孔を有する多孔体製フィルターと、各多孔体製フィルターを筒状本体の端面との間で挟持する蓋体とを備えている、小物用表面処理装置。
【請求項５】
請求項４に記載の小物用表面処理装置において、
前記各蓋体と、処理槽を支持する自転テーブルに、処理液を排出するための排出孔が形成されている、小物用表面処理装置。
【請求項６】
請求項４又は５に記載の小物用表面処理装置において、
筒状本体の内周面の自転軸方向の端部は、自転軸方向の外方側に向いて自転軸側に傾斜している、小物用表面処理装置。
【請求項７】
請求項１乃至３のいずれか一つに記載の小物用表面処理装置において、
前記処理槽は、自転軸方向の両端が開口した筒状本体と、該筒状本体の各開口端をそれぞれ閉塞する蓋体とを備え、
各蓋体の内周面には、処理槽内の処理液を自転軸芯と略直角方向に排出する排出通路が設けられている、小物用表面処理装置。
【請求項８】
請求項４乃至７のいずれか一つに記載の小物用表面処理装置において、
前記筒状本体は円筒状に形成され、該筒状本体の内周面は凹凸形状となっている、小物用表面処理装置。
【請求項９】
請求項４乃至７のいずれか一つに記載の小物用表面処理装置において、
前記筒状本体は多角形状に形成されている、小物用表面処理装置。
【請求項１０】
請求項４乃至９のいずれか一つに記載の小物用表面処理装置において、
前記筒状本体は導電性部材で形成され、全周が陰極部として通電可能となっている、小物用表面処理装置。
【請求項１１】
請求項４乃至９のいずれか一つに記載の小物用表面処理装置において、
前記筒状本体は非導電性部材で形成され、
筒状本体の内周面に、多数の導電性材料の給電部材を突設してある、小物用表面処理装置。
【請求項１２】
請求項１１に記載の小物用表面処理装置において、
前記各給電部材を筒状本体の外周面に露出させ、
筒状本体の公転半径方向の外方側に、給電部材の外方露出面に接触可能な給電帯を配置し、
処理槽の自転により、筒状本体の公転半径方向の外方側の給電部材のみが順次給電帯に接触して通電するように構成されている、小物用表面処理装置。
【請求項１３】
請求項１２に記載の小物用表面処理装置において、
処理槽の自転軸芯側に配置されたアノードは、筒状本体の公転半径方向の外方側部分に向く部分が通電可能となっている、小物用表面処理装置。
【請求項１４】
請求項１乃至１３のいずれか一つに記載の小物用表面処理装置において、
処理槽の周囲には、自転軸芯回りに間隔をおいて、処理槽の外周面に当接する複数のガイド輪が配置されている、小物用表面処理装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２１】
【図２２】
【図２３】
【図２４】
【図２５】
【図２６】
【図２７】
【図２８】
【図２９】
【図３０】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２１】
【図２２】
【図２３】
【図２４】
【図２５】
【図２６】
【図２７】
【図２８】
【図２９】
【図３０】
【公開番号】特開２０１１−５８０２４（Ｐ２０１１−５８０２４Ａ）
【公開日】平成２３年３月２４日（２０１１．３．２４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−２０５９９６（Ｐ２００９−２０５９９６）
【出願日】平成２１年９月７日（２００９．９．７）
【出願人】（０００１８９３２７）上村工業株式会社 (101)
【公開日】平成２３年３月２４日（２０１１．３．２４）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年９月７日（２００９．９．７）
【出願人】（０００１８９３２７）上村工業株式会社 (101)
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