層間絶縁材料形成用支持体
【課題】 配線の微細化および高密度化に対応するためのビルドアップ法で製造する多層プリント配線板に用いられる、フィルム状の層間絶縁材料を形成するための支持体として好適なポリエステルフィルムを提供する。
【解決手段】 一方のフィルム表面の中心線平均粗さＲａが２０〜６０ｎｍの範囲であり、かつ最大高さＲｔが５００ｎｍ以下であり、フィルムの厚さが２０〜１００μｍの範囲であるポリエステルフィルムからなることを特徴とする層間絶縁用支持体。
【解決手段】 一方のフィルム表面の中心線平均粗さＲａが２０〜６０ｎｍの範囲であり、かつ最大高さＲｔが５００ｎｍ以下であり、フィルムの厚さが２０〜１００μｍの範囲であるポリエステルフィルムからなることを特徴とする層間絶縁用支持体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、回路形成された導体層と絶縁層とを交互に積み上げたビルドアップ方式の多層プリント配線板に用いられるフィルム状の絶縁層を形成するための支持体として用いられるポリエステルフィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、電子機器の高機能化、高密度化に対応した実装回路を提供する多層プリント配線板の分野では、絶縁層を複数積み上げるビルドアッププリント配線板が注目を浴びている。
【０００３】
ビルドアッププリント配線板でのビルドアップ方式は、一層ずつ絶縁層を形成、導体パターンを作り、層間接続して導体層の多層化を実現する新しいプロセスである。革新的なビルドアップ方式の中核技術は、層間接続用のビア(微小径の穴)形成を用いて、多層配線板を立体的に接続する穴の微細化が進歩し、同一面積での層間接続穴の数を、大幅に増やすことができるようになった。これにより、ファインライン化や導体・絶縁層厚みの薄膜化技術も進み、さらに、ビアを層ごとに異なる位置に開けることができるため、層間接続穴を合理的に配置でき、パターン設計上大きな利点をもたらした。
【０００４】
多層プリント配線板に用いられる絶縁層は、ガラスクロスに、エポキシ系ポリイミド系等の樹脂を含浸させたもの、あるいはセラミック系等の材料が用いられ、配線層の信号の伝藩速度やプリント配線板の特性インピーダンス等の電気特性を左右する重要なパラメーターであるため、そのような材料を選定することが必要であり、具体的には、できるだけ誘電率の低い材料が選定されており、各種提案もなされている。また、絶縁層の形成は、フィルム支持体の上に塗布する方法が、均一な厚さのものが得られるため、小型化や高性能化の要求に対して好ましく、塗布できる材料が用いられている。
【０００５】
絶縁層の形態は、小型化や高性能化に対応するための層間絶縁材として、フィルム状の支持体に絶縁層となる熱硬化性樹脂を塗布し、支持体のフィルムと硬化させた絶縁層とをロール状にする方法が提案されている。しかしながら、フィルム状の絶縁層を形成するための支持体であるフィルムに関しては、絶縁層の表面性や、絶縁層の形成時における生産性などに大きな影響を与えるにも関わらず、具体的な提案が少ない状況である。
【０００６】
例えば、フィルム上に局所的な突起が認められる場合、層間絶縁層のポリエステルフィルムの表面粗度が層間絶縁層の表面に転写し、層間絶縁層の局所欠点となることや、層間絶縁層の表面粗度が大きくなり、回路の高密度化に弊害が生じ、適切な加工が困難な状況である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００５−１５４７２７号公報
【特許文献２】特開２００５−３９２４７号公報
【特許文献３】特開２００８−２５１９７１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、上記実情に鑑みなされたものであり、その解決課題は、配線の微細化および高密度化に対応するためのビルドアップ法で製造する多層プリント配線板に用いられる、フィルム状の層間絶縁材料を形成するための支持体として好適なポリエステルフィルムを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者は、上記課題に鑑み鋭意検討した結果、特定の構成を有するフィルムによれば、上記課題を容易に解決できることを見いだし、本発明を完成するに至った。
【００１０】
すなわち、本発明の要旨は、一方のフィルム表面の中心線平均粗さＲａが２０〜６０ｎｍの範囲であり、かつ最大高さＲｔが５００ｎｍ以下であり、フィルムの厚さが２０〜１００μｍの範囲であるポリエステルフィルムからなることを特徴とする層間絶縁用支持体に存する。
【発明の効果】
【００１１】
本発明のポリエステルフィルムによれば、層間絶縁用支持体フィルムとして、好適に利用することができ、その工業的価値は高い。
【００１２】
以下、本発明を詳細に説明する。
【００１３】
本発明のフィルム状の層間絶縁材料を形成するための支持体は。二軸配向ポリエステルフィルムよりなり、該ポリエステルフィルムは、溶融押出機を２台または３台以上用いて、いわゆる共押出法により２層または３層以上の積層フィルムとすることができる。
【００１４】
本発明のフィルムは、表裏で異なる表面性を有することが好ましく、少なくとも２層以上の層を有することにより、それぞれの表面となる層に用いるポリステルへ、目的とする表面粗度を得るため、それぞれに異なる粒子を配合した原料を用いることが好ましい。
【００１５】
本発明において、ポリエステルとは、芳香族ジカルボン酸と脂肪族グリコールとを重縮合させて得られる。芳香族ジカルボン酸としては、テレフタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸などが挙げられ、脂肪族グリコールとしては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、１，４−シクロヘキサンジメタノール等が挙げられる。代表的なポリエステルとしては、ポリエチレンテレフタレ−ト（ＰＥＴ）、ポリエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレ−ト（ＰＥＮ）等が例示される。
【００１６】
また、本発明で用いるポリエステルは、ホモポリエステルであっても共重合ポリエステルであってもよい。共重合ポリエステルの場合は、３０モル％以下の第三成分を含有した共重合体である。共重合ポリエステルのジカルボン酸成分としては、イソフタル酸、フタル酸、テレフタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、アジピン酸、セバシン酸、および、オキシカルボン酸（例えば、Ｐ−オキシ安息香酸など）の一種または、二種以上が挙げられ、グリコール成分として、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノーネオペンチルグリコール等の一種または二種以上が挙げられる。
【００１７】
本発明のフィルムは、ポリエステルのフィルム上で形成された層間絶縁層の表面性と、絶縁層を形成した積層フィルムのロール巻き取る取り性とを両立させるため、特定の表面粗さを必要とする。そのためには、平均粒子径が０．１〜１０μｍ、好ましくは０．２〜１０μｍの粒子を含有させることが好ましい。平均粒子径が０．１μｍ未満では、フィルムの表面粗度が低くなり、フィルムの滑り性が悪く、層間絶縁層を形成した後にロール状態で製品を得ることができないおそれがある。また、平均粒子径が１０μｍを超える場合は、層間絶縁層の表面粗度が大きくなり、回路の高密度化に弊害が生じることがある。
【００１８】
上記粒子のフィルム中の含有量は、通常０．１〜１０．０重量％、好ましくは、１．０〜５．０重量％とする。粒子の含有量が０．１重量％未満では、フィルムの滑り性が悪くなる傾向がある。また、含有量が１０．０重量％を超えると、フィルムの表面粗度が大きくなり過ぎて平面性が損なわれることがある。
【００１９】
本発明で用いる粒子の例としては、酸化珪素、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、炭酸バリウム、硫酸カルシウム、リン酸カルシウム、リン酸リチウム、リン酸マグネシウム、フッ化リチウム、酸化アルミニウム、酸化チタン、カオリン、タルク、カーボンブラック、窒化ケイ素、窒化ホウ素、アルミナ、イオン交換樹脂、および特公昭５９−５２１６号公報に記載されているような架橋高分子微粉体を挙げることができ、本発明の要旨を損なわれない限り、これらに限定されるものではない。
【００２０】
一方、使用する粒子の形状に関しても特に限定されるわけではなく、球状、塊状、棒状、扁平状等のいずれを用いてもよい。また、その硬度、比重、色等についても特に制限はない。これら一連の粒子は、必要に応じて２種類以上を併用してもよい。
【００２１】
ポリエステル層中に粒子を添加する方法としては、特に限定されるものではなく、従来公知の方法を採用しうる。例えば、各層を構成するポリエステルを製造する任意の段階において添加することができるが、好ましくはエステル化の段階、もしくはエステル交換反応終了後、重縮合反応を進めてもよい。
【００２２】
また、ベント付き混練押出機を用い、エチレングリコールまたは水などに分散させた粒子のスラリーとポリエステル原料とをブレンドする方法、または、混練押出機を用い、乾燥させた粒子とポリエステル原料とをブレンドする方法などによって行われる。
【００２３】
なお、本発明におけるポリエステルフィルム中には上述の粒子以外に必要に応じて従来公知の酸化防止剤、帯電防止剤、熱安定剤、潤滑剤、染料、顔料等を添加することができる。
【００２４】
本発明のフィルムの一方の表面の中心線平均粗さＲａは２０ｎｍ〜６０ｎｍで、かつ最大高さＲｔが５００ｎｍ以下である。当該フィルム表面は、層間絶縁層を形成する面の反対側の面となる。中心線平均粗さＲａが２０ｎｍ未満、では、フィルムの滑り性やフィルム間でのエアーヌケが悪く、層間絶縁層を形成した後にロール状態で製品を得ることができない。また、中心線平均粗さＲａが６０ｎｍ、Ｒｔが５００ｎｍを超える場合は、ロール状に巻かれた時に、層間絶縁層のポリエステルフィルムの表面粗度が層間絶縁層の表面に転写し、層間絶縁層の欠点となり好ましくない。
【００２５】
本発明のポリエステルフィルム自体は、接着シートとしてコア基材に層間絶縁層が接着された後は、剥離されその役割を終えるが、ポリエステルフィルムが剥がされた後のコア基材に接着された層間絶縁層の表面に影響を与える。
【００２６】
熱硬化性樹脂を塗布し、層間絶縁層が形成される面となるフィルム表面の中心線平均粗さＲａは１０ｎｍ以下、さらには５ｎｍ以下、最大高さＲｔは１００ｎｍ以下、さらには５０ｎｍ以下とすることが好ましい。中心性平均粗さＲａが１０ｎｍを超えたり、最大高さＲｔが１００ｎｍを超えたりする場合は、層間絶縁層の表面粗度が大きくなり、回路の高密度化に弊害が生じることがある。
【００２７】
本発明のポリエステルフィルムの厚みは、２０〜１００μｍ、好ましくは２５〜５０μｍの範囲である。フィルム厚みが２０μｍ未満では、絶縁材を塗布した際にシワが入り好ましくない。フィルム厚みが、１００μｍを超える場合は、使用ポリエステル量が増加するため、コスト的に好ましくない。
【００２８】
本発明で層間絶縁層に用いる硬化性樹脂は、支持体上で層を形成することができ、十分な絶縁性を有するものであれば、特に限定なく使用でき、例えば、エポキシ樹脂系、アクリル系、ポリイミド樹脂系、ポリイミドアミド樹脂系、ポリシアネート樹脂系、ポリエステル樹脂系、熱硬化型ポリフェニレンエーテル樹脂系などが挙げられる。また、これらを２種以上組み合わせて使用したり、多層構造としたりすることも可能である。
【００２９】
層間絶縁層を支持体に形成する方法は、上記した熱硬化性樹脂などを溶媒に溶解した該樹脂組成物ワニスを塗布した後、加熱することにより溶剤を乾燥させると同時に樹脂を硬化させる公知の方法で作成することができる。
【００３０】
本発明は、層間絶縁層となる硬化樹脂層をポリエステルフィルムからなる支持体上に積層フィルムとして設け、当該積層フィルムをロール状とする。ロール状とする際は、そのままの状態でも、硬化樹脂の表面を保護するための保護フィルムを貼り合わせた状態でも、ロール状態で保管できれば、どちらでも構わない。但し、保護フィルムで保護することにより、樹脂組成物層表面へのゴミ等の付着やキズを防止することができるので、保護フィルムの無い状態でロールとした場合も、最終的には保護フィルムを貼りあわせる工程を追加した方が好ましい。
【００３１】
保護フィルムは、層間絶縁層の表面を保護する機能を有していればよく、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエステルなどのプラスチックフィルムが用いられる。
【００３２】
ポリエステルフィルムで形成する層間絶縁層の厚さは、導体層の厚さ以上とする。回路基板の導体層の厚さはが、通常５〜７０μｍの範囲であるので、樹脂組成物層の厚さは１０〜１００μｍの厚みが好ましい。
【００３３】
本発明で得られた層間絶縁層を有するフィルムは、導電層をパターン加工して回路を形成する時に接着フィルムとして、層間絶縁層の保護フィルムが剥がされ、コア基板に積層される。コア基材／層間絶縁層／ポリエステルフィルム支持体の構成、またはコア基材の両面を層間絶縁層で挟む、ポリエステルフィルム支持体／層間絶縁／コア基材／層間絶縁層／ポリエステルフィルム支持体の構成で加熱処理などを行い、コア基材と層間絶縁層を接着させ、ポリエステルフィルムからなる支持体が剥がされる。
【００３４】
層間絶縁層をコア基材に接着する方法としては、真空ラミネート法により減圧下で回路基板にラミネートする方法が好適に用いられる。ラミネートの方法はバッチ式であってもロールでの連続式であってもよい。またラミネートを行う前に接着フィルムおよび回路基板を必要により加熱（プレヒート）しておいてもよい。真空ラミネートは市販の真空ラミネーターを使用して行うことができる。
【００３５】
ラミネートの条件は、圧着温度（ラミネート温度）を好ましくは７０〜１４０℃、圧着圧力を好ましくは１〜１１ｋｇｆ／ｃｍ２（９．８×１０４〜１０７．９×１０４Ｎ／ｍ２）とし、空気圧が２０ｍｍＨｇ（２６．７ｈＰａ）以下の減圧下でラミネートするのが好ましい。
【００３６】
本発明における回路基板とは、主として、ガラスエポキシ、金属基板、ポリエステル基板、ポリイミド基板、ＢＴレジン基板、熱硬化型ポリフェニレンエーテル基板等の基板の片面または両面にパターン加工された導体層（回路）が形成されたものをいう。また導体層と絶縁層が交互に層形成され、片面または両面がパターン加工された導体層（回路）となっている多層プリント配線板も本発明にいう回路基板に含まれる。なお導体回路層表面は黒化処理等によりあらかじめ粗化処理が施されていた方が絶縁層の回路基板への密着性の観点から好ましい。
【００３７】
このように接着フィルムを回路基板にラミネートした後、支持フィルムを剥離する場合は剥離し、熱硬化することにより回路基板に絶縁層を形成することができる。加熱硬化の条件は１５０℃〜２２０℃で２０分〜１８０分の範囲で選択され、より好ましくは１６０℃〜２００℃で３０〜１２０分である。絶縁層を形成した後、硬化前に支持フィルムを剥離しなかった場合は、ここで剥離する。
【００３８】
次に回路基板上に形成された絶縁層に穴開けを行いビアホール、スルーホールを形成する。穴あけは例えば、ドリル、レーザー、プラズマ等の公知の方法により、また必要によりこれらの方法を組み合わせて行うことができるが、炭酸ガスレーザー、ＹＡＧレーザー等のレーザーによる穴あけがもっとも一般的な方法である。
【００３９】
次に本発明におけるポリエステルフィルムの製造例について具体的に説明するが、以下の製造例に何ら限定されるものではない。
【００４０】
まず、先に述べたポリエステル原料を使用し、ダイから押し出された溶融シートを冷却ロールで冷却固化して未延伸シートを得る方法が好ましい。この場合、シートの平面性を向上させるためシートと回転冷却ドラムとの密着性を高める必要があり、静電印加密着法および／または液体塗布密着法が好ましく採用される。次に得られた未延伸シートは二軸方向に延伸される。その場合、まず、前記の未延伸シートを一方向にロールまたはテンター方式の延伸機により延伸する。延伸温度は、通常７０〜１２０℃、好ましくは８０〜１１０℃であり、延伸倍率は通常２．５〜７倍、好ましくは３．０〜６倍である。次いで、一段目の延伸方向と直交する延伸温度は通常７０〜１７０℃であり、延伸倍率は通常３．０〜７倍、好ましくは３．５〜６倍である。そして、引き続き１８０〜２７０℃の温度で緊張下または３０％以内の弛緩下で熱処理を行い、二軸配向フィルムを得る。上記の延伸においては、一方向の延伸を２段階以上で行う方法を採用することもできる。その場合、最終的に二方向の延伸倍率がそれぞれ上記範囲となるように行うのが好ましい。
【００４１】
また、本発明におけるポリエステルフィルム製造に関しては同時二軸延伸法を採用することもできる。同時二軸延伸法は前記の未延伸シートを通常７０〜１２０℃、好ましくは８０〜１１０℃で温度コントロールされた状態で機械方向および幅方向に同時に延伸し配向させる方法で、延伸倍率としては、面積倍率で４〜５０倍、好ましくは７〜３５倍、さらに好ましくは１０〜２５倍である。そして、引き続き、１７０〜２５０℃の温度で緊張下または３０％以内の弛緩下で熱処理を行い、延伸配向フィルムを得る。上述の延伸方式を採用する同時二軸延伸装置に関しては、スクリュー方式、パンタグラフ方式、リニアー駆動方式等、従来公知の延伸方式を採用することができる。
【００４２】
さらに上述のポリエステルフィルムの延伸工程中にフィルム表面を処理する、いわゆる塗布延伸法（インラインコーティング）を施すことができる。塗布延伸法によりポリエステルフィルム上に塗布層が設けられる場合には、延伸と同時に塗布が可能になると共に塗布層の厚みを延伸倍率に応じて薄くすることができ、ポリエステルフィルムとして好適なフィルムを製造できる。
【００４３】
本発明において、塗布層を設ける方法はリバースグラビアコート、ダイレクトグラビアコート、ロールコート、ダイコート、バーコート、カーテンコート等、従来公知の塗工方式を用いることができる。塗工方式に関しては「コーティング方式」槇書店 原崎勇次著 １９７９年発行に記載例がある。
【００４４】
本発明において、ポリエステルフィルム上に塗布層を形成する際の硬化条件に関しては特に限定されるわけではなく、例えば、塗布延伸法（インラインコーティング）により塗布層を設ける場合、通常、１７０〜２８０℃で３〜４０秒間、好ましくは２００〜２８０℃で３〜４０秒間を目安として熱処理を行うのが良い。
【００４５】
また、塗布延伸法（インラインコーティング）あるいはオフラインコーティングに係わらず、必要に応じて熱処理と紫外線照射等の活性エネルギー線照射とを併用してもよい。
【００４６】
また、ポリエステルフィルムにはあらかじめ、コロナ処理、プラズマ処理等の表面処理を施してもよい。
【００４７】
本発明において、ポリエステルに粒子を配合する方法としては、特に限定されるものではなく、公知の方法を採用し得る。例えば、ポリエステルを製造する任意の段階において添加することができるが、好ましくはエステル化の段階、もしくはエステル交換反応終了後重縮合反応開始前の段階でエチレングリコール等に分散させたスラリーとして添加し、重縮合反応を進めてもよい。また、ベント付き混練押出機を用い、エチレングリコールまたは水などに分散させた粒子のスラリーとポリエステル原料とをブレンドする方法、または、混練押出機を用い、乾燥させた粒子とポリエステル原料とをブレンドする方法などによって行われる。
【実施例】
【００４８】
以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説明するが、本発明はその要旨を越えない限り以下の実施例に限定されるものではない。
また、本発明で用いた測定法は次のとおりである。
【００４９】
（１）フィルム厚さ
マイクロメーターにより求めた。
【００５０】
（２）ポリエステルの固有粘度の測定
ポリエステルに非相溶な他のポリマー成分および顔料を除去したポリエステル１ｇを精秤し、フェノール／テトラクロロエタン＝５０／５０（重量比）の混合溶媒１００ｍｌを加えて溶解させ、３０℃で測定した。
【００５１】
（３）平均粒径（ｄ５０：μｍ）の測定
遠心沈降式粒度分布測定装置（株式会社島津製作所社製ＳＡ−ＣＰ３型）を使用して測定した等価球形分布における積算（重量基準）５０％の値を平均粒径とした。
【００５２】
（４）表面粗さ（Ｒａ）および最大高さ（Ｒｔ）
（株）小坂研究所社製表面粗さ測定機（ＳＥ−３Ｆ）を用いて次のようにして求めた。すなわち、フィルム断面曲線からその中心線の方向に基準長さＬ（２．５ｍｍ）の部分を抜き取り、この抜き取り部分の中心線をｘ軸、縦倍率の方向をｙ軸として粗さ曲線 ｙ＝ｆ（ｘ）で表わしたとき、次の式で与えられた値を〔ｎｍ〕で表わす。
最大高さ（Ｒｔ）は、上記で得られたフィルム断面曲線の抜き取り部分を挟んだ時、この２直線の間隔を断面曲線の縦倍率の方向に測定した値を最大高さ（Ｒｔ）とし、[ｎｍ]で表した。中心線平均粗さは、試料フィルム表面から１０本の断面曲線を求め、これらの断面曲線から求めた抜き取り部分の中心線平均粗さの平均値で表わした。なお、触針の先端半径は２μｍ、荷重は３０ｍｇとし、カットオフ値は０．０８ｍｍとした。
Ｒａ＝（１／Ｌ）∫０Ｌ｜ｆ（ｘ）｜ｄｘ
【００５３】
（ポリエステルの製造）
製造例１（ポリエチレンテレフタレートＡ）
ジメチルテレフタレート１００部、エチレングリコール６０部および酢酸マグネシウム・４水塩０．０９部を反応器にとり、加熱昇温すると共にメタノールを留去し、エステル交換反応を行い、反応開始から４時間を要して２３０℃に昇温し、実質的にエステル交換反応を終了した。次いで、エチレングリコールスラリーエチルアシッドフォスフェート０．０４部、三酸化アンチモン０．０３部を添加した後、１００分で温度を２８０℃、圧力を１５ｍｍＨｇに達せしめ、以後も徐々に圧力を減じ、最終的に０．３ｍｍＨｇとした。４時間後、系内を常圧に戻し、固有粘度０．６１のポリエチレンテレフタレートＡ１を得た。
【００５４】
製造例２（ポリエチレンテレフタレートＢ）
ジメチルテレフタレート１００部、エチレングリコール６０部および酢酸マグネシウム・４水塩０．０９部を反応器にとり、加熱昇温すると共にメタノールを留去し、エステル交換反応を行い、反応開始から４時間を要して２３０℃に昇温し、実質的にエステル交換反応を終了した。次いで、エチレングリコールスラリーエチルアシッドフォスフェート０．０４部、三酸化アンチモン０．０３部、平均粒径３．４μｍのシリカ粒子を０．０１部添加した後、１００分で温度を２８０℃、圧力を１５ｍｍＨｇに達せしめ、以後も徐々に圧力を減じ、最終的に０．３ｍｍＨｇとした。４時間後、系内を常圧に戻し、固有粘度０．６１のポリエチレンテレフタレートＢを得た。
【００５５】
製造例３（ポリエチレンテレフタレートＣ）
製造例１において平均粒径３．４μｍのシリカ粒子を０．０１部添加する代わりに平均粒径０．７０μｍの合成炭酸カルシウム粒子を０．０１部添加する以外は製造例１と同様にしてポリエチレンテレフタレートＣを得た。
【００５６】
製造例４（ポリエチレンテレフタレートＤ）
製造例１において平均粒径３．４μｍのシリカ粒子を０．０１部添加する代わりに平均粒径０．３１μｍのアルミナ粒子を０．０１部添加する以外は製造例１と同様にしてポリエチレンテレフタレートＤを得た。
【００５７】
製造例５（ポリエチレンテレフタレートＥ）
製造例１において平均粒径３．４μｍのシリカ粒子を０．０１部添加する代わりに平均粒径０．８μｍのイオン交換粒子を０．０１部添加する以外は製造例１と同様にしてポリエチレンテレフタレートＥを得た。
【００５８】
（ポリエステルフィルムの製造）
上記ポリエステルＡ〜Ｅを下記表１および２に示す配合比でＡ層およびＢ層の混合原料とし、２台の二軸押出機に各々を供給し、各々２８５℃で溶融した後、全厚みに対して、Ａ層／Ｂ層＝５０％／５０％の厚み比となるように、２種２層の構成で２０℃に冷却したキャスティングドラム上に共押出し、冷却固化させて無配向シートを得た。次いで、１００℃にて縦方向に３．５倍延伸した後、テンター内で予熱工程を経て１２０℃で４倍の横延伸を施した後、２３０℃で１０秒間の熱処理を行い、その後１８０℃で幅方向に１０％の弛緩を加え、表１および２に示す厚さのポリエステルフィルムを得た。
【００５９】
【表１】
【００６０】
【表２】
【００６１】
（ポリエステルフィルムへの樹脂組成ワニス塗布：層間絶縁層の形成）
下記の方法で作製した樹脂組成ワニスを、実施例１〜６、比較例１〜５で得られたポリエステルフィルムのＢ層表面上に、乾燥後の樹脂厚さが７０μｍとなる用にダイコーターで塗布し、８０〜１２０℃（平均１００℃）で乾燥し、ポリエステルフィルムを支持体とした層間絶縁層を作製した。
【００６２】
上記の方法で得られたポリエステルフィルムの表面・加工特性を表３に示す。
《エポキシ樹脂組成物》
液状ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（ジャパンエポキシレジン（株）製「エピコート８２８ＥＬ」）２０部、臭素化ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（東都化成（株）製ＹＤＢ−５００）２０部、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂（エポキシ当量２１５、軟化点７８℃、大日本インキ化学（株）製エピクロンＮ−６７３）２０部、末端エポキシ化ポリブタジエンゴム（ナガセ化成工業（株）製デナレックスＲ−４５ＥＰＴ）１５部とをＭＥＫに攪拌しながら加熱溶解させ、そこへ臭素化フェノキシ樹脂ワニス（不揮発分４０重量％、臭素含有量２５重量％、溶剤組成、キシレン：メトキシプロパノール：メチルエチルケトン＝５：２：８、東都化成（株）製ＹＰＢ−４０−ＰＸＭ４０）５０部、エポキシ硬化剤として２、４−ジアミノ−６−（２−メチル−１−イミダゾリエチル）−１、３、５−トリアジン・イソシアヌル酸付加物４部、さらに微粉砕シリカ２部、三酸化アンチモン４部、炭酸カルシウム５部を添加し樹脂組成ワニスを作製した。
【００６３】
上記判定基準中、△以上のものが実使用上問題なく使用できるレベルである。
《ロール外観》
樹脂組成ワニスをポリエステルフィルム上に塗布し、層間絶縁層を有するフィルムの製造において、該フィルムの製品ロールの外観を目視観察し評価し、その結果を表３に示す。特に、ロール両端面のズレを観察した。
【００６４】
（ロール外観良好） ◎＞○＞△＞× （ロール外観不良）
上記判定基準中、△以上のものが実使用上問題なく使用できるレベルである。
《表面特性》
得られた層間絶縁層のポリエステルフィルムに相当する表面を観察し、電気特性に影響を与える突起の有無や、突起の均一性の表面特性を下記の通り評価し、その結果を表３に示す。
【００６５】
◎：突起の均一性を有し、電気特性に悪影響を与える大きな突起は見られない
○：突起の均一性が僅かに劣り、大きな突起も若干見られる
△：実用上問題なく使用できるレベルの均一性と突起の大きさが見られる
×：突起の均一性に劣り、電気特性に悪影響を与える突起が見られる
上記判定基準中、△以上のものが実使用上問題なく使用できるレベルである。
【００６６】
《コストの優位性》
得られる特性と、歩留まり等の製造に関わるコスト評価を下記の通り評価し、その結果を下記表３に示す。
○：コスト的に優位性が見られる
△：コスト的に若干劣る
×：コスト的に劣る
上記判定基準中、△以上のものが実使用上問題なく使用できるレベルである。
【００６７】
【表３】
【産業上の利用可能性】
【００６８】
本発明のフィルムは、例えば、層間絶縁用支持体として、好適に利用することができる。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、回路形成された導体層と絶縁層とを交互に積み上げたビルドアップ方式の多層プリント配線板に用いられるフィルム状の絶縁層を形成するための支持体として用いられるポリエステルフィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、電子機器の高機能化、高密度化に対応した実装回路を提供する多層プリント配線板の分野では、絶縁層を複数積み上げるビルドアッププリント配線板が注目を浴びている。
【０００３】
ビルドアッププリント配線板でのビルドアップ方式は、一層ずつ絶縁層を形成、導体パターンを作り、層間接続して導体層の多層化を実現する新しいプロセスである。革新的なビルドアップ方式の中核技術は、層間接続用のビア(微小径の穴)形成を用いて、多層配線板を立体的に接続する穴の微細化が進歩し、同一面積での層間接続穴の数を、大幅に増やすことができるようになった。これにより、ファインライン化や導体・絶縁層厚みの薄膜化技術も進み、さらに、ビアを層ごとに異なる位置に開けることができるため、層間接続穴を合理的に配置でき、パターン設計上大きな利点をもたらした。
【０００４】
多層プリント配線板に用いられる絶縁層は、ガラスクロスに、エポキシ系ポリイミド系等の樹脂を含浸させたもの、あるいはセラミック系等の材料が用いられ、配線層の信号の伝藩速度やプリント配線板の特性インピーダンス等の電気特性を左右する重要なパラメーターであるため、そのような材料を選定することが必要であり、具体的には、できるだけ誘電率の低い材料が選定されており、各種提案もなされている。また、絶縁層の形成は、フィルム支持体の上に塗布する方法が、均一な厚さのものが得られるため、小型化や高性能化の要求に対して好ましく、塗布できる材料が用いられている。
【０００５】
絶縁層の形態は、小型化や高性能化に対応するための層間絶縁材として、フィルム状の支持体に絶縁層となる熱硬化性樹脂を塗布し、支持体のフィルムと硬化させた絶縁層とをロール状にする方法が提案されている。しかしながら、フィルム状の絶縁層を形成するための支持体であるフィルムに関しては、絶縁層の表面性や、絶縁層の形成時における生産性などに大きな影響を与えるにも関わらず、具体的な提案が少ない状況である。
【０００６】
例えば、フィルム上に局所的な突起が認められる場合、層間絶縁層のポリエステルフィルムの表面粗度が層間絶縁層の表面に転写し、層間絶縁層の局所欠点となることや、層間絶縁層の表面粗度が大きくなり、回路の高密度化に弊害が生じ、適切な加工が困難な状況である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００５−１５４７２７号公報
【特許文献２】特開２００５−３９２４７号公報
【特許文献３】特開２００８−２５１９７１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、上記実情に鑑みなされたものであり、その解決課題は、配線の微細化および高密度化に対応するためのビルドアップ法で製造する多層プリント配線板に用いられる、フィルム状の層間絶縁材料を形成するための支持体として好適なポリエステルフィルムを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者は、上記課題に鑑み鋭意検討した結果、特定の構成を有するフィルムによれば、上記課題を容易に解決できることを見いだし、本発明を完成するに至った。
【００１０】
すなわち、本発明の要旨は、一方のフィルム表面の中心線平均粗さＲａが２０〜６０ｎｍの範囲であり、かつ最大高さＲｔが５００ｎｍ以下であり、フィルムの厚さが２０〜１００μｍの範囲であるポリエステルフィルムからなることを特徴とする層間絶縁用支持体に存する。
【発明の効果】
【００１１】
本発明のポリエステルフィルムによれば、層間絶縁用支持体フィルムとして、好適に利用することができ、その工業的価値は高い。
【００１２】
以下、本発明を詳細に説明する。
【００１３】
本発明のフィルム状の層間絶縁材料を形成するための支持体は。二軸配向ポリエステルフィルムよりなり、該ポリエステルフィルムは、溶融押出機を２台または３台以上用いて、いわゆる共押出法により２層または３層以上の積層フィルムとすることができる。
【００１４】
本発明のフィルムは、表裏で異なる表面性を有することが好ましく、少なくとも２層以上の層を有することにより、それぞれの表面となる層に用いるポリステルへ、目的とする表面粗度を得るため、それぞれに異なる粒子を配合した原料を用いることが好ましい。
【００１５】
本発明において、ポリエステルとは、芳香族ジカルボン酸と脂肪族グリコールとを重縮合させて得られる。芳香族ジカルボン酸としては、テレフタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸などが挙げられ、脂肪族グリコールとしては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、１，４−シクロヘキサンジメタノール等が挙げられる。代表的なポリエステルとしては、ポリエチレンテレフタレ−ト（ＰＥＴ）、ポリエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレ−ト（ＰＥＮ）等が例示される。
【００１６】
また、本発明で用いるポリエステルは、ホモポリエステルであっても共重合ポリエステルであってもよい。共重合ポリエステルの場合は、３０モル％以下の第三成分を含有した共重合体である。共重合ポリエステルのジカルボン酸成分としては、イソフタル酸、フタル酸、テレフタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、アジピン酸、セバシン酸、および、オキシカルボン酸（例えば、Ｐ−オキシ安息香酸など）の一種または、二種以上が挙げられ、グリコール成分として、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノーネオペンチルグリコール等の一種または二種以上が挙げられる。
【００１７】
本発明のフィルムは、ポリエステルのフィルム上で形成された層間絶縁層の表面性と、絶縁層を形成した積層フィルムのロール巻き取る取り性とを両立させるため、特定の表面粗さを必要とする。そのためには、平均粒子径が０．１〜１０μｍ、好ましくは０．２〜１０μｍの粒子を含有させることが好ましい。平均粒子径が０．１μｍ未満では、フィルムの表面粗度が低くなり、フィルムの滑り性が悪く、層間絶縁層を形成した後にロール状態で製品を得ることができないおそれがある。また、平均粒子径が１０μｍを超える場合は、層間絶縁層の表面粗度が大きくなり、回路の高密度化に弊害が生じることがある。
【００１８】
上記粒子のフィルム中の含有量は、通常０．１〜１０．０重量％、好ましくは、１．０〜５．０重量％とする。粒子の含有量が０．１重量％未満では、フィルムの滑り性が悪くなる傾向がある。また、含有量が１０．０重量％を超えると、フィルムの表面粗度が大きくなり過ぎて平面性が損なわれることがある。
【００１９】
本発明で用いる粒子の例としては、酸化珪素、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、炭酸バリウム、硫酸カルシウム、リン酸カルシウム、リン酸リチウム、リン酸マグネシウム、フッ化リチウム、酸化アルミニウム、酸化チタン、カオリン、タルク、カーボンブラック、窒化ケイ素、窒化ホウ素、アルミナ、イオン交換樹脂、および特公昭５９−５２１６号公報に記載されているような架橋高分子微粉体を挙げることができ、本発明の要旨を損なわれない限り、これらに限定されるものではない。
【００２０】
一方、使用する粒子の形状に関しても特に限定されるわけではなく、球状、塊状、棒状、扁平状等のいずれを用いてもよい。また、その硬度、比重、色等についても特に制限はない。これら一連の粒子は、必要に応じて２種類以上を併用してもよい。
【００２１】
ポリエステル層中に粒子を添加する方法としては、特に限定されるものではなく、従来公知の方法を採用しうる。例えば、各層を構成するポリエステルを製造する任意の段階において添加することができるが、好ましくはエステル化の段階、もしくはエステル交換反応終了後、重縮合反応を進めてもよい。
【００２２】
また、ベント付き混練押出機を用い、エチレングリコールまたは水などに分散させた粒子のスラリーとポリエステル原料とをブレンドする方法、または、混練押出機を用い、乾燥させた粒子とポリエステル原料とをブレンドする方法などによって行われる。
【００２３】
なお、本発明におけるポリエステルフィルム中には上述の粒子以外に必要に応じて従来公知の酸化防止剤、帯電防止剤、熱安定剤、潤滑剤、染料、顔料等を添加することができる。
【００２４】
本発明のフィルムの一方の表面の中心線平均粗さＲａは２０ｎｍ〜６０ｎｍで、かつ最大高さＲｔが５００ｎｍ以下である。当該フィルム表面は、層間絶縁層を形成する面の反対側の面となる。中心線平均粗さＲａが２０ｎｍ未満、では、フィルムの滑り性やフィルム間でのエアーヌケが悪く、層間絶縁層を形成した後にロール状態で製品を得ることができない。また、中心線平均粗さＲａが６０ｎｍ、Ｒｔが５００ｎｍを超える場合は、ロール状に巻かれた時に、層間絶縁層のポリエステルフィルムの表面粗度が層間絶縁層の表面に転写し、層間絶縁層の欠点となり好ましくない。
【００２５】
本発明のポリエステルフィルム自体は、接着シートとしてコア基材に層間絶縁層が接着された後は、剥離されその役割を終えるが、ポリエステルフィルムが剥がされた後のコア基材に接着された層間絶縁層の表面に影響を与える。
【００２６】
熱硬化性樹脂を塗布し、層間絶縁層が形成される面となるフィルム表面の中心線平均粗さＲａは１０ｎｍ以下、さらには５ｎｍ以下、最大高さＲｔは１００ｎｍ以下、さらには５０ｎｍ以下とすることが好ましい。中心性平均粗さＲａが１０ｎｍを超えたり、最大高さＲｔが１００ｎｍを超えたりする場合は、層間絶縁層の表面粗度が大きくなり、回路の高密度化に弊害が生じることがある。
【００２７】
本発明のポリエステルフィルムの厚みは、２０〜１００μｍ、好ましくは２５〜５０μｍの範囲である。フィルム厚みが２０μｍ未満では、絶縁材を塗布した際にシワが入り好ましくない。フィルム厚みが、１００μｍを超える場合は、使用ポリエステル量が増加するため、コスト的に好ましくない。
【００２８】
本発明で層間絶縁層に用いる硬化性樹脂は、支持体上で層を形成することができ、十分な絶縁性を有するものであれば、特に限定なく使用でき、例えば、エポキシ樹脂系、アクリル系、ポリイミド樹脂系、ポリイミドアミド樹脂系、ポリシアネート樹脂系、ポリエステル樹脂系、熱硬化型ポリフェニレンエーテル樹脂系などが挙げられる。また、これらを２種以上組み合わせて使用したり、多層構造としたりすることも可能である。
【００２９】
層間絶縁層を支持体に形成する方法は、上記した熱硬化性樹脂などを溶媒に溶解した該樹脂組成物ワニスを塗布した後、加熱することにより溶剤を乾燥させると同時に樹脂を硬化させる公知の方法で作成することができる。
【００３０】
本発明は、層間絶縁層となる硬化樹脂層をポリエステルフィルムからなる支持体上に積層フィルムとして設け、当該積層フィルムをロール状とする。ロール状とする際は、そのままの状態でも、硬化樹脂の表面を保護するための保護フィルムを貼り合わせた状態でも、ロール状態で保管できれば、どちらでも構わない。但し、保護フィルムで保護することにより、樹脂組成物層表面へのゴミ等の付着やキズを防止することができるので、保護フィルムの無い状態でロールとした場合も、最終的には保護フィルムを貼りあわせる工程を追加した方が好ましい。
【００３１】
保護フィルムは、層間絶縁層の表面を保護する機能を有していればよく、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエステルなどのプラスチックフィルムが用いられる。
【００３２】
ポリエステルフィルムで形成する層間絶縁層の厚さは、導体層の厚さ以上とする。回路基板の導体層の厚さはが、通常５〜７０μｍの範囲であるので、樹脂組成物層の厚さは１０〜１００μｍの厚みが好ましい。
【００３３】
本発明で得られた層間絶縁層を有するフィルムは、導電層をパターン加工して回路を形成する時に接着フィルムとして、層間絶縁層の保護フィルムが剥がされ、コア基板に積層される。コア基材／層間絶縁層／ポリエステルフィルム支持体の構成、またはコア基材の両面を層間絶縁層で挟む、ポリエステルフィルム支持体／層間絶縁／コア基材／層間絶縁層／ポリエステルフィルム支持体の構成で加熱処理などを行い、コア基材と層間絶縁層を接着させ、ポリエステルフィルムからなる支持体が剥がされる。
【００３４】
層間絶縁層をコア基材に接着する方法としては、真空ラミネート法により減圧下で回路基板にラミネートする方法が好適に用いられる。ラミネートの方法はバッチ式であってもロールでの連続式であってもよい。またラミネートを行う前に接着フィルムおよび回路基板を必要により加熱（プレヒート）しておいてもよい。真空ラミネートは市販の真空ラミネーターを使用して行うことができる。
【００３５】
ラミネートの条件は、圧着温度（ラミネート温度）を好ましくは７０〜１４０℃、圧着圧力を好ましくは１〜１１ｋｇｆ／ｃｍ２（９．８×１０４〜１０７．９×１０４Ｎ／ｍ２）とし、空気圧が２０ｍｍＨｇ（２６．７ｈＰａ）以下の減圧下でラミネートするのが好ましい。
【００３６】
本発明における回路基板とは、主として、ガラスエポキシ、金属基板、ポリエステル基板、ポリイミド基板、ＢＴレジン基板、熱硬化型ポリフェニレンエーテル基板等の基板の片面または両面にパターン加工された導体層（回路）が形成されたものをいう。また導体層と絶縁層が交互に層形成され、片面または両面がパターン加工された導体層（回路）となっている多層プリント配線板も本発明にいう回路基板に含まれる。なお導体回路層表面は黒化処理等によりあらかじめ粗化処理が施されていた方が絶縁層の回路基板への密着性の観点から好ましい。
【００３７】
このように接着フィルムを回路基板にラミネートした後、支持フィルムを剥離する場合は剥離し、熱硬化することにより回路基板に絶縁層を形成することができる。加熱硬化の条件は１５０℃〜２２０℃で２０分〜１８０分の範囲で選択され、より好ましくは１６０℃〜２００℃で３０〜１２０分である。絶縁層を形成した後、硬化前に支持フィルムを剥離しなかった場合は、ここで剥離する。
【００３８】
次に回路基板上に形成された絶縁層に穴開けを行いビアホール、スルーホールを形成する。穴あけは例えば、ドリル、レーザー、プラズマ等の公知の方法により、また必要によりこれらの方法を組み合わせて行うことができるが、炭酸ガスレーザー、ＹＡＧレーザー等のレーザーによる穴あけがもっとも一般的な方法である。
【００３９】
次に本発明におけるポリエステルフィルムの製造例について具体的に説明するが、以下の製造例に何ら限定されるものではない。
【００４０】
まず、先に述べたポリエステル原料を使用し、ダイから押し出された溶融シートを冷却ロールで冷却固化して未延伸シートを得る方法が好ましい。この場合、シートの平面性を向上させるためシートと回転冷却ドラムとの密着性を高める必要があり、静電印加密着法および／または液体塗布密着法が好ましく採用される。次に得られた未延伸シートは二軸方向に延伸される。その場合、まず、前記の未延伸シートを一方向にロールまたはテンター方式の延伸機により延伸する。延伸温度は、通常７０〜１２０℃、好ましくは８０〜１１０℃であり、延伸倍率は通常２．５〜７倍、好ましくは３．０〜６倍である。次いで、一段目の延伸方向と直交する延伸温度は通常７０〜１７０℃であり、延伸倍率は通常３．０〜７倍、好ましくは３．５〜６倍である。そして、引き続き１８０〜２７０℃の温度で緊張下または３０％以内の弛緩下で熱処理を行い、二軸配向フィルムを得る。上記の延伸においては、一方向の延伸を２段階以上で行う方法を採用することもできる。その場合、最終的に二方向の延伸倍率がそれぞれ上記範囲となるように行うのが好ましい。
【００４１】
また、本発明におけるポリエステルフィルム製造に関しては同時二軸延伸法を採用することもできる。同時二軸延伸法は前記の未延伸シートを通常７０〜１２０℃、好ましくは８０〜１１０℃で温度コントロールされた状態で機械方向および幅方向に同時に延伸し配向させる方法で、延伸倍率としては、面積倍率で４〜５０倍、好ましくは７〜３５倍、さらに好ましくは１０〜２５倍である。そして、引き続き、１７０〜２５０℃の温度で緊張下または３０％以内の弛緩下で熱処理を行い、延伸配向フィルムを得る。上述の延伸方式を採用する同時二軸延伸装置に関しては、スクリュー方式、パンタグラフ方式、リニアー駆動方式等、従来公知の延伸方式を採用することができる。
【００４２】
さらに上述のポリエステルフィルムの延伸工程中にフィルム表面を処理する、いわゆる塗布延伸法（インラインコーティング）を施すことができる。塗布延伸法によりポリエステルフィルム上に塗布層が設けられる場合には、延伸と同時に塗布が可能になると共に塗布層の厚みを延伸倍率に応じて薄くすることができ、ポリエステルフィルムとして好適なフィルムを製造できる。
【００４３】
本発明において、塗布層を設ける方法はリバースグラビアコート、ダイレクトグラビアコート、ロールコート、ダイコート、バーコート、カーテンコート等、従来公知の塗工方式を用いることができる。塗工方式に関しては「コーティング方式」槇書店 原崎勇次著 １９７９年発行に記載例がある。
【００４４】
本発明において、ポリエステルフィルム上に塗布層を形成する際の硬化条件に関しては特に限定されるわけではなく、例えば、塗布延伸法（インラインコーティング）により塗布層を設ける場合、通常、１７０〜２８０℃で３〜４０秒間、好ましくは２００〜２８０℃で３〜４０秒間を目安として熱処理を行うのが良い。
【００４５】
また、塗布延伸法（インラインコーティング）あるいはオフラインコーティングに係わらず、必要に応じて熱処理と紫外線照射等の活性エネルギー線照射とを併用してもよい。
【００４６】
また、ポリエステルフィルムにはあらかじめ、コロナ処理、プラズマ処理等の表面処理を施してもよい。
【００４７】
本発明において、ポリエステルに粒子を配合する方法としては、特に限定されるものではなく、公知の方法を採用し得る。例えば、ポリエステルを製造する任意の段階において添加することができるが、好ましくはエステル化の段階、もしくはエステル交換反応終了後重縮合反応開始前の段階でエチレングリコール等に分散させたスラリーとして添加し、重縮合反応を進めてもよい。また、ベント付き混練押出機を用い、エチレングリコールまたは水などに分散させた粒子のスラリーとポリエステル原料とをブレンドする方法、または、混練押出機を用い、乾燥させた粒子とポリエステル原料とをブレンドする方法などによって行われる。
【実施例】
【００４８】
以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説明するが、本発明はその要旨を越えない限り以下の実施例に限定されるものではない。
また、本発明で用いた測定法は次のとおりである。
【００４９】
（１）フィルム厚さ
マイクロメーターにより求めた。
【００５０】
（２）ポリエステルの固有粘度の測定
ポリエステルに非相溶な他のポリマー成分および顔料を除去したポリエステル１ｇを精秤し、フェノール／テトラクロロエタン＝５０／５０（重量比）の混合溶媒１００ｍｌを加えて溶解させ、３０℃で測定した。
【００５１】
（３）平均粒径（ｄ５０：μｍ）の測定
遠心沈降式粒度分布測定装置（株式会社島津製作所社製ＳＡ−ＣＰ３型）を使用して測定した等価球形分布における積算（重量基準）５０％の値を平均粒径とした。
【００５２】
（４）表面粗さ（Ｒａ）および最大高さ（Ｒｔ）
（株）小坂研究所社製表面粗さ測定機（ＳＥ−３Ｆ）を用いて次のようにして求めた。すなわち、フィルム断面曲線からその中心線の方向に基準長さＬ（２．５ｍｍ）の部分を抜き取り、この抜き取り部分の中心線をｘ軸、縦倍率の方向をｙ軸として粗さ曲線 ｙ＝ｆ（ｘ）で表わしたとき、次の式で与えられた値を〔ｎｍ〕で表わす。
最大高さ（Ｒｔ）は、上記で得られたフィルム断面曲線の抜き取り部分を挟んだ時、この２直線の間隔を断面曲線の縦倍率の方向に測定した値を最大高さ（Ｒｔ）とし、[ｎｍ]で表した。中心線平均粗さは、試料フィルム表面から１０本の断面曲線を求め、これらの断面曲線から求めた抜き取り部分の中心線平均粗さの平均値で表わした。なお、触針の先端半径は２μｍ、荷重は３０ｍｇとし、カットオフ値は０．０８ｍｍとした。
Ｒａ＝（１／Ｌ）∫０Ｌ｜ｆ（ｘ）｜ｄｘ
【００５３】
（ポリエステルの製造）
製造例１（ポリエチレンテレフタレートＡ）
ジメチルテレフタレート１００部、エチレングリコール６０部および酢酸マグネシウム・４水塩０．０９部を反応器にとり、加熱昇温すると共にメタノールを留去し、エステル交換反応を行い、反応開始から４時間を要して２３０℃に昇温し、実質的にエステル交換反応を終了した。次いで、エチレングリコールスラリーエチルアシッドフォスフェート０．０４部、三酸化アンチモン０．０３部を添加した後、１００分で温度を２８０℃、圧力を１５ｍｍＨｇに達せしめ、以後も徐々に圧力を減じ、最終的に０．３ｍｍＨｇとした。４時間後、系内を常圧に戻し、固有粘度０．６１のポリエチレンテレフタレートＡ１を得た。
【００５４】
製造例２（ポリエチレンテレフタレートＢ）
ジメチルテレフタレート１００部、エチレングリコール６０部および酢酸マグネシウム・４水塩０．０９部を反応器にとり、加熱昇温すると共にメタノールを留去し、エステル交換反応を行い、反応開始から４時間を要して２３０℃に昇温し、実質的にエステル交換反応を終了した。次いで、エチレングリコールスラリーエチルアシッドフォスフェート０．０４部、三酸化アンチモン０．０３部、平均粒径３．４μｍのシリカ粒子を０．０１部添加した後、１００分で温度を２８０℃、圧力を１５ｍｍＨｇに達せしめ、以後も徐々に圧力を減じ、最終的に０．３ｍｍＨｇとした。４時間後、系内を常圧に戻し、固有粘度０．６１のポリエチレンテレフタレートＢを得た。
【００５５】
製造例３（ポリエチレンテレフタレートＣ）
製造例１において平均粒径３．４μｍのシリカ粒子を０．０１部添加する代わりに平均粒径０．７０μｍの合成炭酸カルシウム粒子を０．０１部添加する以外は製造例１と同様にしてポリエチレンテレフタレートＣを得た。
【００５６】
製造例４（ポリエチレンテレフタレートＤ）
製造例１において平均粒径３．４μｍのシリカ粒子を０．０１部添加する代わりに平均粒径０．３１μｍのアルミナ粒子を０．０１部添加する以外は製造例１と同様にしてポリエチレンテレフタレートＤを得た。
【００５７】
製造例５（ポリエチレンテレフタレートＥ）
製造例１において平均粒径３．４μｍのシリカ粒子を０．０１部添加する代わりに平均粒径０．８μｍのイオン交換粒子を０．０１部添加する以外は製造例１と同様にしてポリエチレンテレフタレートＥを得た。
【００５８】
（ポリエステルフィルムの製造）
上記ポリエステルＡ〜Ｅを下記表１および２に示す配合比でＡ層およびＢ層の混合原料とし、２台の二軸押出機に各々を供給し、各々２８５℃で溶融した後、全厚みに対して、Ａ層／Ｂ層＝５０％／５０％の厚み比となるように、２種２層の構成で２０℃に冷却したキャスティングドラム上に共押出し、冷却固化させて無配向シートを得た。次いで、１００℃にて縦方向に３．５倍延伸した後、テンター内で予熱工程を経て１２０℃で４倍の横延伸を施した後、２３０℃で１０秒間の熱処理を行い、その後１８０℃で幅方向に１０％の弛緩を加え、表１および２に示す厚さのポリエステルフィルムを得た。
【００５９】
【表１】
【００６０】
【表２】
【００６１】
（ポリエステルフィルムへの樹脂組成ワニス塗布：層間絶縁層の形成）
下記の方法で作製した樹脂組成ワニスを、実施例１〜６、比較例１〜５で得られたポリエステルフィルムのＢ層表面上に、乾燥後の樹脂厚さが７０μｍとなる用にダイコーターで塗布し、８０〜１２０℃（平均１００℃）で乾燥し、ポリエステルフィルムを支持体とした層間絶縁層を作製した。
【００６２】
上記の方法で得られたポリエステルフィルムの表面・加工特性を表３に示す。
《エポキシ樹脂組成物》
液状ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（ジャパンエポキシレジン（株）製「エピコート８２８ＥＬ」）２０部、臭素化ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（東都化成（株）製ＹＤＢ−５００）２０部、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂（エポキシ当量２１５、軟化点７８℃、大日本インキ化学（株）製エピクロンＮ−６７３）２０部、末端エポキシ化ポリブタジエンゴム（ナガセ化成工業（株）製デナレックスＲ−４５ＥＰＴ）１５部とをＭＥＫに攪拌しながら加熱溶解させ、そこへ臭素化フェノキシ樹脂ワニス（不揮発分４０重量％、臭素含有量２５重量％、溶剤組成、キシレン：メトキシプロパノール：メチルエチルケトン＝５：２：８、東都化成（株）製ＹＰＢ−４０−ＰＸＭ４０）５０部、エポキシ硬化剤として２、４−ジアミノ−６−（２−メチル−１−イミダゾリエチル）−１、３、５−トリアジン・イソシアヌル酸付加物４部、さらに微粉砕シリカ２部、三酸化アンチモン４部、炭酸カルシウム５部を添加し樹脂組成ワニスを作製した。
【００６３】
上記判定基準中、△以上のものが実使用上問題なく使用できるレベルである。
《ロール外観》
樹脂組成ワニスをポリエステルフィルム上に塗布し、層間絶縁層を有するフィルムの製造において、該フィルムの製品ロールの外観を目視観察し評価し、その結果を表３に示す。特に、ロール両端面のズレを観察した。
【００６４】
（ロール外観良好） ◎＞○＞△＞× （ロール外観不良）
上記判定基準中、△以上のものが実使用上問題なく使用できるレベルである。
《表面特性》
得られた層間絶縁層のポリエステルフィルムに相当する表面を観察し、電気特性に影響を与える突起の有無や、突起の均一性の表面特性を下記の通り評価し、その結果を表３に示す。
【００６５】
◎：突起の均一性を有し、電気特性に悪影響を与える大きな突起は見られない
○：突起の均一性が僅かに劣り、大きな突起も若干見られる
△：実用上問題なく使用できるレベルの均一性と突起の大きさが見られる
×：突起の均一性に劣り、電気特性に悪影響を与える突起が見られる
上記判定基準中、△以上のものが実使用上問題なく使用できるレベルである。
【００６６】
《コストの優位性》
得られる特性と、歩留まり等の製造に関わるコスト評価を下記の通り評価し、その結果を下記表３に示す。
○：コスト的に優位性が見られる
△：コスト的に若干劣る
×：コスト的に劣る
上記判定基準中、△以上のものが実使用上問題なく使用できるレベルである。
【００６７】
【表３】
【産業上の利用可能性】
【００６８】
本発明のフィルムは、例えば、層間絶縁用支持体として、好適に利用することができる。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一方のフィルム表面の中心線平均粗さＲａが２０〜６０ｎｍの範囲であり、かつ最大高さＲｔが５００ｎｍ以下であり、フィルムの厚さが２０〜１００μｍの範囲であるポリエステルフィルムからなることを特徴とする層間絶縁用支持体。
【請求項２】
少なくとも２層のポリエステル層からなる共押出積層ポリエステルフィルムであり、もう一方のフィルム表面の中心平均粗さＲａが１０ｎｍ以下であり、かつ最大高さＲｔが１００ｎｍ以下である請求項１に記載の層間絶縁用支持体ポリエステルフィルム。
【請求項１】
一方のフィルム表面の中心線平均粗さＲａが２０〜６０ｎｍの範囲であり、かつ最大高さＲｔが５００ｎｍ以下であり、フィルムの厚さが２０〜１００μｍの範囲であるポリエステルフィルムからなることを特徴とする層間絶縁用支持体。
【請求項２】
少なくとも２層のポリエステル層からなる共押出積層ポリエステルフィルムであり、もう一方のフィルム表面の中心平均粗さＲａが１０ｎｍ以下であり、かつ最大高さＲｔが１００ｎｍ以下である請求項１に記載の層間絶縁用支持体ポリエステルフィルム。
【公開番号】特開２０１１−１１１５７５（Ｐ２０１１−１１１５７５Ａ）
【公開日】平成２３年６月９日（２０１１．６．９）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−２７１１３２（Ｐ２００９−２７１１３２）
【出願日】平成２１年１１月３０日（２００９．１１．３０）
【出願人】（０００００６１７２）三菱樹脂株式会社 (1,977)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年６月９日（２０１１．６．９）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年１１月３０日（２００９．１１．３０）
【出願人】（０００００６１７２）三菱樹脂株式会社 (1,977)
【Ｆターム（参考）】
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