説明

工業用殺菌組成物

【課題】 有機溶媒の使用量を低減しつつ、有効成分であるビス四級アンモニウム塩化合物を高濃度の液剤として調製することができる、微生物防除剤を提供することにある。
【解決手段】 炭素数が2および3の少なくともいずれかのアルコール(C2−3アルコール)と、水とを、それらの合計量に対して、C2−3アルコールが、40〜90重量%、好ましくは、60〜80重量%となるように混合して、C2−3アルコール/水の混合溶媒を調製する。次いで、得られたC2−3アルコール/水の混合溶媒に、N,N’−ヘキサメチレンビス(4−カルバモイル−1−デシルピリジニウムブロマイドなどのビス四級アンモニウム塩化合物を、微生物防除剤全量に対して、10重量%以上、さらには、30重量%以上の濃度となるように配合して、微生物防除剤を得る。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、微生物防除剤、詳しくは、細菌、かび、酵母、藻の防除剤として用いられる微生物防除剤に関する。
【背景技術】
【0002】
従来より、各種の工業製品には、細菌、かび、酵母、藻などの有害な微生物が繁殖しやすく、生産性や品質の低下、悪臭の発生などの原因となっている。そのため、このような有害微生物の繁殖を防除するために、抗菌、防かび、防腐、防藻効果を発現する種々の微生物防除剤が広く使用されている。
このような微生物防除剤の有効成分として、近年、ビス四級アンモニウム塩化合物が、広い抗菌スペクトルを有し、優れた防除効果を発現することが、報告されている(例えば、特許文献1参照。)。
【特許文献1】特開2004−143061号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0003】
しかし、上記したビス四級アンモニウム塩化合物、とりわけ、ビス四級アンモニウムの無機塩の化合物は、水やアルコールに対する溶解度が非常に低いという性質がある。
例えば、N,N’−ヘキサメチレンビス(4−カルバモイル−1−デシルピリジニウムブロマイド)は、水に対する溶解度が2.1g/L(25℃)、エタノールに対する溶解度が13.9g/L(25℃)である。
【0004】
そのため、このようなビス四級アンモニウム塩化合物は、通常、粉剤として調製されているが、粉剤として調製するには、溶解操作を要するため煩雑であり、そのような溶解操作が不要で簡便な液剤として調製することが、切望されている。
また一方で、環境負荷低減の観点からは、有機溶媒の使用量を低減することが要求されている。
【0005】
そこで、本発明の目的は、有機溶媒の使用量を低減しつつ、有効成分であるビス四級アンモニウム塩化合物を高濃度の液剤として調製することができる、微生物防除剤を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0006】
上記目的を達成するために、本発明者らは、有機溶媒の使用量を低減しつつ、ビス四級アンモニウム塩化合物を高濃度の液剤として調製するために鋭意検討したところ、ビス四級アンモニウム塩化合物に、特定の割合で、炭素数が2および3の少なくともいずれかのアルコールおよび水を配合することにより、ビス四級アンモニウム塩化合物を高濃度で溶解し得る知見を見出し、さらに研究を進めた結果、本発明を完成するに至った。
【0007】
すなわち、本発明は、
(1) 下記一般式(1)で示されるビス四級アンモニウム塩、炭素数が2および3の少なくともいずれかのアルコール、および、水を含有する微生物防除剤であって、炭素数が2および3の少なくともいずれかのアルコールが、炭素数が2および3の少なくともいずれかのアルコールおよび水の合計量に対して、40〜90重量%含有され、ビス四級アンモニウム塩が、微生物防除剤全量に対して、10重量%以上含有されていることを特徴とする、微生物防除剤、
【0008】
【化2】

【0009】
(2) 炭素数が2および3の少なくともいずれかのアルコールが、炭素数が2および3の少なくともいずれかのアルコールおよび水の合計量に対して、50〜80重量%含有され、ビス四級アンモニウム塩が、微生物防除剤全量に対して、30重量%以上含有されていることを特徴とする、前記(1)に記載の微生物防除剤、
(3) ビス四級アンモニウム塩が、N,N’−ヘキサメチレンビス(4−カルバモイル−1−デシルピリジニウムハライド)であることを特徴とする、前記(1)または前記(2)に記載の微生物防除剤、
(4) 炭素数が2および3の少なくともいずれかのアルコールが、エタノール、1−プロパノールおよび2−プロパノールからなる群から選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする、前記(1)〜前記(3)のいずれかに記載の微生物防除剤
を提供するものである。
【発明の効果】
【0010】
本発明の微生物防除剤によれば、有機溶媒の使用量を低減しつつ、有効成分であるビス四級アンモニウム塩が高濃度で含有される液剤として調製されており、多岐の分野にわたって、幅広い濃度範囲で用いることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【0011】
本発明の微生物防除剤は、有効成分として、ビス四級アンモニウム塩化合物を含有している。
本発明に用いられるビス四級アンモニウム塩化合物は、例えば、下記一般式(1)で示される。
【0012】
【化3】

【0013】
(式中、R1およびR2は、同一または相異なって、置換基を有していてもよい炭化水素基を、R3およびR4は、同一または相異なって、置換基を有していてもよい炭化水素基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、ヒドロキシル基、アミノ基または水素原子を、R5は、置換基を有していてもよい炭化水素基または炭素−炭素間単結合を、Y1は、−NRnCO−、−CONRn−、−NRnCS−(前記Rnは、置換基を有していてもよい炭化水素基または水素原子を示す。)、−COO−、−COS−、−O−、−S−または炭素−炭素間単結合を、Y2は、−CONRn−、−NRnCO−、−CSNRn−(前記Rnは、置換基を有していてもよい炭化水素基または水素原子を示す。)、−OOC−、−SOC−、−O−、−S−または炭素−炭素間単結合を、Zは無機アニオンを、aは1または2の整数を示す。)
一般式(1)の式中、R1およびR2で示される置換基を有していてもよい炭化水素基の炭化水素基としては、例えば、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、アリール基およびアラルキル基などが挙げられる。
【0014】
アルキル基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、iso−プロピル、n−ブチル、iso−ブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、ペンチル、iso−ペンチル、sec−ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、n−オクチル、イソオクチル、2−エチルヘキシル、ノニル、デシル、イソデシル、ドデシル、テトラデシル、ヘキサデシル、オクタデシルなどの炭素数1〜18のアルキル基が挙げられる。
【0015】
アルケニル基としては、例えば、ビニル、アリル、メタリル、イソプロペニル、1−プロペニル、2−プロペニル、2−メチル−1−プロペニル、ブテニル、ペンテニル、ヘキセニル、ヘプチニル、オクテニル、ノネニル、デセニル、ウンデセニル、ドデセニル、テトラデセニル、ヘキサデセニル、オクタデセニルなどの炭素数2〜18のアルケニル基が挙げられる。
【0016】
アルキニル基としては、例えば、エチニル、1−プロピニル、2−プロピニル、ブチニル、ペンチニル、オクテニルなどの炭素数2〜8のアルキニル基が挙げられる。
シクロアルキル基としては、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチルなどの炭素数3〜8のシクロアルキル基が挙げられる。
【0017】
アリール基としては、例えば、フェニル、トリル、キシリル、ビフェニル、ナフチル、アントリル、フェナントリル、アズレニルなどの炭素数6〜14のアリール基が挙げられる。
アラルキル基としては、例えば、ベンジル、1−フェニルエチル、2−フェニルエチル、1−フェニルプロピル、2−フェニルプロピル、3−フェニルプロピル、ジフェニルメチル、o、mまたはp−メチルベンジル、o、mまたはp−エチルベンジル、o、mまたはp−イソプロピルベンジル、o、mまたはp−tert−ブチルベンジル、2,3−、2,4−、2,5−、2,6−、3,4−または3,5−ジメチルベンジル、2,3,4−、3,4,5−または2,4,6−トリメチルベンジル、5−イソプロピル−2−メチルベンジル、2−イソプロピル−5−メチルベンジル、2−メチル−5−tert−ブチルベンジル、2,4−、2,5−または3,5−ジイソプロピルベンジル、3,5−ジ−tert−ブチルベンジル、1−(2−メチルフェニル)エチル、1−(3−メチルフェニル)エチル、1−(4−メチルフェニル)エチル、1−(2−イソプロピルフェニル)エチル、1−(3−イソプロピルフェニル)エチル、1−(4−イソプロピルフェニル)エチル、1−(2−tert−ブチルフェニル)エチル、1−(4−tert−ブチルフェニル)エチル、1−(2−イソプロピル−4−メチルフェニル)エチル、1−(4−イソプロピル−2−メチルフェニル)エチル、1−(2,4−ジメチルフェニル)エチル、1−(2,5−ジメチルフェニル)エチル、1−(3,5−ジメチルフェニル)エチル、1−(3,5−ジ−tert−ブチルフェニル)エチルなどの炭素数7〜16のアラルキル基が挙げられる。
【0018】
R1およびR2で示される置換基を有していてもよい炭化水素基の置換基としては、例えば、ヒドロキシル基、ハロゲン原子(例えば、塩素、フッ素、臭素およびヨウ素など)、シアノ基、アミノ基、カルボキシル基、アルコキシ基(例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、sec−ブトキシ、tert−ブトキシ、ペンチルオキシ、イソペンチルオキシ、ネオペンチルオキシ、ヘキシルオキシなどの炭素数1〜6のアルコキシ基など)、アリールオキシ基(例えば、フェノキシ基など)、アルコキシカルボニル基(例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボニル、sec−ブトキシカルボニル、tert−ブトキシカルボニル、ペンチルオキシカルボニル、イソペンチルオキシカルボニル、ネオペンチルオキシカルボニル、ヘキシルオキシカルボニルなどの炭素数1〜6のアルコキシカルボニル基など)、アルキルチオ基(例えば、メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、ブチルチオなどの炭素数1〜4のアルキルチオ基など)およびアリールチオ基(例えば、フェニルチオ基など)などが挙げられる。これらの置換基は同一または相異なって1〜5個、好ましくは1〜3個置換していてもよい。
【0019】
上記したR1およびR2で示される置換基を有していてもよい炭化水素基としては、置換基を有していない炭化水素基、または、ヒドロキシル基を有する炭化水素基が好ましく、その中でも、アルキル基またはヒドロキシアルキル基が好ましい。
アルキル基としては、好ましくは、炭素数が1〜18のアルキル基、より好ましくは、炭素数が7以上である、ヘプチル、n−オクチル、イソオクチル、2−エチルヘキシル、ノニル、デシル、イソデシル、ドデシル、テトラデシル、ヘキサデシル、オクタデシルなどの炭素数7〜18のアルキル基が挙げられる。
【0020】
ヒドロキシアルキル基としては、好ましくは、炭素数が1〜18のヒドロキシアルキル基、より好ましくは、炭素数が3〜12である、ヒドロキシトリメチレン、ヒドロキシテトラメチレン、ヒドロキシペンタメチレン、ヒドロキシヘキサメチレン、ヒドロキシヘプタメチレン、ヒドロキシオクタメチレン、ヒドロキシノナメチレン、ヒドロキシデカメチレン、ヒドロキシドデカメチレンなどの炭素数3〜12のヒドロキシアルキル基が挙げられる。
【0021】
R1およびR2は、同一または相異なって、ともに炭素数1〜18のアルキル基であるか、一方が炭素数1〜18のアルキル基で、他方が炭素数3〜12のヒドロキシアルキル基であることが好ましい。
一般式(1)の式中、R3およびR4で示される置換基を有していてもよい炭化水素基としては、R1およびR2で示される置換基を有していてもよい炭化水素基と同様のものが挙げられ、好ましくは、アルキル基、より好ましくは、例えば、メチル、エチル、プロピル、iso−プロピル、ブチル、iso−ブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、ペンチル、iso−ペンチル、sec−ペンチル、ヘキシルなどの炭素数1〜6のアルキル基が挙げられる。
【0022】
また、R3およびR4で示される置換基を有していてもよいアルコキシ基のアルコキシ基としては、例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、sec−ブトキシ、tert−ブトキシ、ペンチルオキシ、イソペンチルオキシ、ネオペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、オクチルオキシなどの炭素数1〜8のアルコキシ基が挙げられる。
【0023】
また、R3およびR4で示される置換基を有していてもよいアルコキシ基の置換基としては、R1およびR2で示される置換基を有していてもよい炭化水素基の置換基と同様のものが挙げられる。
上記したR3およびR4で示される置換基を有していてもよいアルコキシ基としては、置換基を有していないアルコキシ基が好ましく、その中でも、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシなどの炭素数1〜3のアルコキシ基が挙げられる。
【0024】
R3およびR4は、同一または相異なって、それぞれ炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜3のアルコキシ基、ヒドロキシル基、アミノ基または水素原子であることが好ましく、その中でも、ともに水素原子であることが好ましい。
一般式(1)の式中、R5で示される置換基を有していてもよい炭化水素基の炭化水素基としては、好ましくは、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、シクロアルキレン基、アリレン基などの2価の炭化水素基が挙げられる。
【0025】
アルキレン基としては、例えば、メチレン、エチレン、プロピレン、iso−プロピレン、ブチレン、iso−ブチレン、sec−ブチレン、ペンチレン、iso−ペンチレン、sec−ペンチレン、ヘキシレン、ヘプチレン、オクチレン、2−エチルヘキシレン、ノニレン、デシレン、イソデシレン、ドデシレン、テトラデシレン、ヘキサデシレン、オクタデシレンなどの炭素数1〜18のアルキレン基が挙げられる。
【0026】
アルケニレン基としては、例えば、ビニレン、プロペニレン、ブテニレン、ブタジエニレン、オクテニレン、デセニレン、ウンデセニレン、ドデセニレン、テトラデセニレン、ヘキサデセニレン、オクタデセニレンなどの炭素数2〜18のアルケニレン基が挙げられる。
アルキニレン基としては、例えば、エチニレン、プロピニレン、ブチニレン、ペンチニレン、オクテニレンなどの炭素数2〜8のアルキニレン基が挙げられる。
【0027】
シクロアルキレン基としては、例えば、シクロプロピレン、シクロブチレン、シクロペンチレン、シクロヘキシレン、シクロヘプチレン、シクロオクチレンなどの炭素数3〜8のシクロアルキレン基が挙げられる。
アリレン基としては、例えば、フェニレン、トリレン、キシリレン、ナフチレンなどの炭素数6〜10のアリレン基が挙げられ、好ましくは、フェニレンおよびキシリレンが挙げられる。
【0028】
また、R5で示される置換基を有していてもよい炭化水素基の置換基としては、R1およびR2で示される置換基を有していてもよい炭化水素基の置換基と同様のものが挙げられ、好ましくは、例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、sec−ブトキシ、tert−ブトキシ、ペンチルオキシ、イソペンチルオキシ、ネオペンチルオキシ、ヘキシルオキシなどの炭素数1〜6のアルコキシ基、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボニル、sec−ブトキシカルボニル、tert−ブトキシカルボニル、ペンチルオキシカルボニル、イソペンチルオキシカルボニル、ネオペンチルオキシカルボニル、ヘキシルオキシカルボニルなどの炭素数1〜6のアルコキシカルボニル基などが挙げられる。
【0029】
R5で示される置換基を有していてもよい炭化水素基として、好ましくは、炭素数2〜18のアルキレン基、フェニレン基、キシリレン基または炭素−炭素間単結合が挙げられる。
また、一般式(1)の式中、Y1で示される−NRnCO−、−CONRn−、−NRnCS−、および、Y2で示される−CONRn−、−NRnCO−、−CSNRn−のRnとしては、置換基を有していてもよい炭化水素基または水素原子が挙げられ、置換基を有していてもよい炭化水素基としては、R1およびR2で示される置換基を有していてもよい炭化水素基と同様のものが挙げられる。好ましくは、アルキル基または水素原子が挙げられ、アルキル基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、iso−プロピル、ブチル、iso−ブチル、sec−ブチル、ペンチル、iso−ペンチル、sec−ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、n−オクチル、イソオクチル、2−エチルヘキシルなどの炭素数1〜8のアルキル基が挙げられる。
【0030】
一般式(1)の式中、Y1として、好ましくは、−NHCO−、−CONH−、−COO−、−O−、−S−または炭素−炭素間単結合が挙げられ、また、Y2として、−CONH−、−NHCO−、−OOC−、−O−、−S−または炭素−炭素間単結合が挙げられる。
一般式(1)の式中、Zで示される無機アニオンとしては、例えば、ハロゲンイオン(例えば、F-、Cl-、Br-、I-など)、ヨウ素酸イオン(IO-)、臭素酸イオン(BrO-)、塩素酸イオン(ClO-)、過ヨウ素酸イオン(IO-)、過塩素酸イオン(ClO-)、硫酸イオン(SO-)、硝酸イオン(NO-)、リン酸イオン(PO-)、亜硫酸イオン(SO-)、亜硝酸イオン(NO-)などが挙げられる。
【0031】
これら無機アニオンは、単独または2種以上併用してもよい。好ましくは、ハロゲンイオンが挙げられる。
また、aは、1または2の整数を示し、具体的には、ビス四級アンモニウム塩化合物および無機アニオンの種類に応じて、適宜決定される。aは、1が特に好ましい。
このようなビス四級アンモニウム塩化合物は、以下に示す具体的な化合物に準じて公知の方法により製造することができ、その具体例としては、例えば、N,N’−ヘキサメチレン−ビス(4−カルバモイル−1−オクチルピリジニウム塩)、N,N’−ヘキサメチレンビス(4−カルバモイル−1−デシルピリジニウム塩)、N,N’−ヘキサメチレン−ビス(4−カルバモイル−1−ドデシルピリジニウム塩)、N,N’−ヘキサメチレン−ビス(4−カルバモイル−1−テトラデシルピリジニウム塩)、N,N’−ヘキサメチレン−ビス(4−カルバモイル−1−ヘキサデシルピリジニウム塩)などのN,N’−アルキレン−ビス(4−カルバモイル−1−アルキルピリジニウム塩)、例えば、N,N’−ヘキサメチレン−ビス(3−カルバモイル−1−オクチルピリジニウム塩、N,N’−ヘキサメチレン−ビス(3−カルバモイル−1−デシルピリジニウム塩)、N,N’−ヘキサメチレン−ビス(3−カルバモイル−1−ドデシルピリジニウム塩)、N,N’−ヘキサメチレン−ビス(3−カルバモイル−1−テトラデシルピリジニウム塩)、N,N’−ヘキサメチレン−ビス(3−カルバモイル−1−ヘキサデシルピリジニウム塩)、N,N’−ヘキサメチレン−ビス(3−カルバモイル−1−オクタデシルピリジニウム塩)などのN,N’−アルキレン−ビス(3−カルバモイル−1−アルキルピリジニウム塩)、例えば、4,4’−(テトラメチレンジカルボニルジアミノ)ビス(1−オクチルピリジニウム塩)、4,4’−(テトラメチレンジカルボニルジアミノ)ビス(1−デシルピリジニウム塩)、4,4’−(テトラメチレンジカルボニルジアミノ)ビス(1−ドデシルピリジニウム塩)、4,4’−(テトラメチレンジカルボニルジアミノ)ビス(1−テトラデシルピリジニウム塩)、4,4’−(テトラメチレンジカルボニルジアミノ)ビス(1−ヘキサデシルピリジニウム塩)などの4,4’−(アルキレンジカルボニルジアミノ)ビス(1−アルキルピリジニウム塩)、例えば、4,4’−(ヘキサメチレンジチオ)ビス(1−オクチルピリジニウム塩)などの4,4’−(アルキレンジチオ)ビス(1−アルキルピリジニウム塩)、例えば、4,4’−(p−キシリルジチオ)ビス(1−ブチルピリジニウム塩)、4,4’−(p−キシリルジチオ)ビス(1−ヘキシルピリジニウム塩)、4,4’−(p−キシリルジチオ)ビス(1−オクチルピリジニウム塩)、4,4’−(p−キシリルジチオ)ビス(1−デシルピリジニウム塩)、4,4’−(p−キシリルジチオ)ビス(1−ドデシルピリジニウム塩)、4,4’−(p−キシリルジチオ)ビス(1−テトラデシルピリジニウム塩)、4,4’−(p−キシリルジチオ)ビス(1−ヘキサデシルピリジニウム塩)、4,4’−(p−キシリルジチオ)ビス(1−オクタデシルピリジニウム塩)などの4,4’−(p−キシリルジチオ)ビス((1−アルキル)ピリジニウム塩)、例えば、3,3’−(m−キシリルジチオ)ビス(1−テトラデシルピリジニウム塩)などの3,3’−(m−キシリルジチオ)ビス(1−アルキルピリジニウム塩)、例えば、N,N’−(p−フェニレン)ビス(4−カルバモイル−1−ヘキシルピリジニウム塩)、N,N’−(p−フェニレン)ビス(4−カルバモイル−1−オクチルピリジニウム塩)、N,N’−(p−フェニレン)ビス(4−カルバモイル−1−デシルピリジニウム塩)、N,N’−(p−フェニレン)ビス(4−カルバモイル−1−ドデシルピリジニウム塩)、N,N’−(p−フェニレン)ビス(4−カルバモイル−1−テトラデシルピリジニウム塩)、N,N’−(p−フェニレン)ビス(4−カルバモイル−1−ヘキサデシルピリジニウム塩)、N,N’−(p−フェニレン)ビス(4−カルバモイル−1−オクタデシルピリジニウム塩)などのN,N’−(p−フェニレン)ビス(4−カルバモイル−1−アルキルピリジニウム塩)、例えば、N,N’−(m−フェニレン)ビス(3−カルバモイル−1−ドデシルピリジニウム塩)などのN,N’−(m−フェニレン)ビス(3−カルバモイル−1−アルキルピリジニウム塩)、例えば、4,4’−(p−フタルアミド)ビス(1−ブチルピリジニウム塩)、4,4’−(p−フタルアミド)ビス(1−ペンチルピリジニウム塩)、4,4’−(p−フタルアミド)ビス(1−ヘキシルピリジニウム塩)、4,4’−(p−フタルアミド)ビス(1−ヘプチルピリジニウム塩)、4,4’−(p−フタルアミド)ビス(1−オクチルピリジニウム塩)、4,4’−(p−フタルアミド)ビス(1−デシルピリジニウム塩)、4,4’−(p−フタルアミド)ビス(1−ドデシルピリジニウム塩)、4,4’−(p−フタルアミド)ビス(1−テトラデシルピリジニウム塩)、4,4’−(p−フタルアミド)ビス(1−ヘキサデシルピリジニウム塩)、4,4’−(p−フタルアミド)ビス(1−オクタデシルピリジニウム塩)などの4,4’−(p−フタルアミド)ビス(1−アルキルピリジニウム塩)、例えば、3,3’−(m−フタルアミド)ビス(1−オクタデシルピリジニウム塩)などの3,3’−(m−フタルアミド)ビス(1−アルキルピリジニウム塩)、1,4−テトラメチレンビス(4−カルバモイル−1−ヘキサデシルピリジニウム塩)、1,6−ヘキサメチレンビス(3−カルバモイル−1−ドデシルピリジニウム塩)、1,6−オクタメチレンビス(3−カルバモイル−1−テトラデシルピリジニウム塩)、3,3’−(1,3−トリメチレンジカルボニルジアミノ)ビス(1−ドデシルピリジニウム塩)などの(アルキレンジカルボニルジアミノ)ビス(1−アルキルピリジニウム塩)、例えば、4,4’−(1,8−オクタメチレンジオキシ)ビス(1−ドデシルピリジニウム塩)、3,3’−(1,6−ヘキサメチレンジオキシ)ビス(1−ヘキサドデシルピリジニウム塩)などの(アルキレンジオキシ)ビス(1−アルキルピリジニウム塩)、例えば、4,4’−(1,6−ヘキサメチレンジオキシジカルボニル)ビス(1−オクチルピリジニウム塩)、3,3’−(1,6−テトラメチレンジオキシジカルボニル)ビス(1−ドデシルピリジニウム塩)などの(アルキレンジオキシジカルボニル)ビス(1−アルキルピリジニウム塩)、例えば、4,4’−(1,4−テトラメチレンジカルボニルジオキシ)ビス(1−オクチルピリジニウム塩)などの(アルキレンジカルボニルジオキシ)ビス(1−アルキルピリジニウム塩)、例えば、4,4’−(1,8−オクタメチレンジカルボニルジチオキシ)ビス(1−オクタデシルピリジニウム塩)などの(アルキレンジカルボニルジチオキシ)ビス(1−アルキルピリジニウム塩)、例えば、3,3’−(p−フタロイルジオキシ)ビス(1−デシルピリジニウム塩)、3,3’−(m−フタロイルジチオキシ)ビス(1−デシルピリジニウム塩)などの(フタロイルジチオキシ)ビス(1−アルキルピリジニウム塩)、例えば、1−オクチル−1’−(3−ヒドロキシトリメチレン)−4,4’−ジピリジニウム塩、1−オクチル−1’−(6−ヒドロキシヘキサメチレン)−4,4’−ジピリジニウム塩、1−オクチル−1’−(8−ヒドロキシオクタメチレン)−4,4’−ジピリジニウム塩、1−オクチル−1’−(10−ヒドロキシデカメチレン)−4,4’−ジピリジニウム塩、1−オクチル−1’−(12−ヒドロキシドデカメチレン)−4,4’−ジピリジニウム塩、1−デシル−1’−(3−ヒドロキシトリメチレン)−4,4’−ジピリジニウム塩、1−デシル−1’−(6−ヒドロキシヘキサメチレン)−4,4’−ジピリジニウム塩、1−デシル−1’−(8−ヒドロキシオクタメチレン)−4,4’−ジピリジニウム塩、1−デシル−1’−(10−ヒドロキシデカメチレン)−4,4’−ジピリジニウム塩、1−デシル−1’−(12−ヒドロキシドデカメチレン)−4,4’−ジピリジニウム塩、1−ドデシル−1’−(3−ヒドロキシトリメチレン)−4,4’−ジピリジニウム塩、1−ドデシル−1’−(6−ヒドロキシヘキサメチレン)−4,4’−ジピリジニウム塩、1−ドデシル−1’−(8−ヒドロキシオクタメチレン)−4,4’−ジピリジニウム塩、1−ドデシル−1’−(10−ヒドロキシデカメチレン)−4,4’−ジピリジニウム塩、1−ドデシル−1’−(12−ヒドロキシドデカメチレン)−4,4’−ジピリジニウム塩 などの1−アルキル−1’−(12−ヒドロキシアルキレン)−4,4’−ジピリジニウム塩などが挙げられる。
【0032】
なお、上記したビス四級アンモニウム塩化合物のピリジニウム塩としては、上記したZで示される無機アニオンとの塩であれば特に制限されないが、例えば、ブロマイド(ピリジニウムブロマイド)、アイオダイド(ピリジニウムアイオダイド)などのハライド(ピリジニウムハライド)などが挙げられる。
これらのうち、好ましくは、N,N’−ヘキサメチレンビス(4−カルバモイル−1−デシルピリジニウムブロマイド)(ダイマー38、イヌイ社製)などのN,N’−ヘキサメチレンビス(4−カルバモイル−1−デシルピリジニウムハライド)や、4,4’−(テトラメチレンジカルボニルジアミノ)ビス(1−デシルピリジニウムブロマイド)(ダイマー136、イヌイ社製)などの4,4’−(テトラメチレンジカルボニルジアミノ)ビス(1−デシルピリジニウムハライド)が挙げられる。さらに好ましくは、N,N’−ヘキサメチレンビス(4−カルバモイル−1−デシルピリジニウムブロマイド)(ダイマー38、イヌイ社製)が挙げられる。これらビス四級アンモニウム塩化合物は、単独または2種以上併用してもよい。
【0033】
そして、本発明の微生物防除剤は、上記したビス四級アンモニウム塩化合物と、炭素数が2および3の少なくともいずれかのアルコール(以下、C2−3アルコールという。)と、水とを配合して、調製することができる。
C2−3アルコールとしては、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノールが挙げられる。これらC2−3アルコールは、単独または2種以上併用してもよい。ビス四級アンモニウム塩化合物を高濃度で溶解する観点からは、好ましくは、1−プロパノールおよび/または2−プロパノールが用いられる。また、安全性の観点からは、好ましくは、エタノールおよび/または2−プロパノールが用いられる。また、経済性の観点からは、好ましくは、2−プロパノールが用いられる。
【0034】
C2−3アルコールの、C2−3アルコールおよび水の合計量に対する配合割合は、40〜90重量%、好ましくは、50〜80重量%、さらに好ましくは、60〜80重量%である。C2−3アルコールの配合割合が、この範囲であれば、ビス四級アンモニウム塩を、次に述べるように高濃度で溶解することができる。
また、ビス四級アンモニウム塩の、微生物防除剤全量に対する配合割合は、10重量%以上、好ましくは、30重量%以上、さらに好ましくは、40重量%以上であって、通常、60重量%以下、好ましくは、55重量%以下、さらに好ましくは、50重量%以下である。
【0035】
ビス四級アンモニウム塩を、このように高濃度で溶解させることにより、高濃度の液剤を調製することができ、多岐の分野にわたって、幅広い濃度範囲で用いることができる。
より具体的には、本発明の微生物防除剤は、例えば、まず、C2−3アルコールと水とを、上記した配合割合となるように混合し、C2−3アルコール/水の混合溶媒を調製した後、次いで、このC2−3アルコール/水の混合溶媒に、上記した配合割合となるように、ビス四級アンモニウム塩を加え、攪拌混合することにより、調製することができる。
【0036】
なお、本発明の微生物防除剤は、上記したように、液剤として調製されるが、その後、懸濁剤、ペースト剤、粉剤、粒剤、マイクロカプセルなどの種々の剤型に製剤化することもできる。また、包接化合物として調製してもよく、さらに、層状ケイ酸塩などのモンモリロナイト(スメクタイト類など)などに担持させ、あるいは、クレー、シリカ、ホワイトカーボン、タルクなどに吸着させることにより、製剤化することもできる。
【0037】
また、本発明の微生物防除剤は、本発明の優れた効果を阻害しない範囲において、公知の添加剤、例えば、他の有効成分、界面活性剤、酸化防止剤、光安定剤などを添加してもよい。
そして、このようにして得られる本発明の微生物防除剤は、優れた、抗菌、防かび、防腐、防藻作用などを発現し、細菌、かび、酵母、藻などに対する防除剤として用いることができる。しかも、有効成分であるビス四級アンモニウム塩が高濃度で含有される液剤として調製されており、多岐の分野にわたって、所望の濃度に希釈することにより、幅広い濃度範囲で用いることができる。しかも、ビス四級アンモニウム塩を、C2−3アルコール/水の混合溶媒に加えて調製するため、有機溶媒の使用量を低減することができ、環境負荷を低減することができる。
【0038】
本発明の微生物防除剤は、例えば、製紙パルプ工場、冷却水循環工程などの種々の産業用水や、切削油などの金属加工用油剤、カゼイン、澱粉糊、にかわ、塗工紙、紙用塗工液、表面サイズ剤、塗料、接着剤、合成ゴムラテックス、インキ、ポリビニルアルコールフィルム、塩化ビニルフィルム、樹脂製品、セメント混和剤、シーリング剤、目地剤などの各種工業製品などの有害微生物の防除の用途において、有効に用いることができる。
【0039】
より具体的には、例えば、製紙パルプ工場などのスライムコントロール剤、金属加工用油剤の防腐剤、塗料の防腐防かび剤、樹脂エマルションの防腐防かび剤、セメント混和剤の防腐剤、インキの防腐防かび剤、湿し水の防腐防かび剤、セメント減水剤の防腐防かび剤、植物の延命剤などの工業用の有害微生物防除剤として好適に用いられる。
なお、本発明の微生物防除剤は、その適用対象に応じて添加量を適宜決定すればよいが、例えば、1〜1000mg(全有効成分)/kg(製品)、好ましくは、5〜500mg(全有効成分)/kg(製品)の濃度に希釈して用いることができる。
【0040】
また、本発明の微生物防除剤は、pHが、3〜13、好ましくは、4〜12の適用対象に用いることができ、さらには、例えば、SO2−、SO2−、HSO、HSO、S2−、好ましくは、SO2−、HSO、S2−などの還元剤の存在下においても、その効力を有効に発現することができる。なお、この場合の還元剤の濃度は、例えば、製品中1〜10000ppmであることが好ましい。
【実施例】
【0041】
メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、エチレングリコール、プロピレングリコールの各種溶媒と、水とを、それぞれ混合して、溶媒濃度(溶媒/(溶媒+水))が、0(水100重量%)、30重量%(水70重量%)、60重量%(水40重量%)、80重量%(水20重量%)、100重量%(水0重量%)となる種々の濃度の混合溶媒を調製した。
【0042】
なお、メタノール、エチレングリコール、プロピレングリコールについては、溶媒濃度が、0(水100重量%)、60重量%(水40重量%)、100重量%(水0重量%)のもの、のみを調製した。
次いで、各混合溶媒に対する、ダイマー38(N,N’−ヘキサメチレンビス(4−カルバモイル−1−デシルピリジニウムブロマイド:99重量%、イヌイ社製)の飽和濃度(重量%)を、下記の方法に従って測定した。その結果を、表1および図1に示す。
【0043】
飽和濃度の測定方法
各混合溶媒に、ダイマー38を、過飽和となるようにそれぞれ加え、振盪しながら一晩放置した。そして、各混合溶媒を、デカンテーションした後、ろ過し、ろ液を、高速液体クロマトグラフにて定量分析し、飽和濃度を求めた。
【0044】
【表1】

【0045】
図1から明らかなように、炭素数が2または3のアルコールである、エタノール、1−プロパノールおよび2−プロパノールについては、それらを水と混合することで、ダイマー38をアルコール単独または水単独でそれぞれ溶解するよりも、より高濃度で溶解できた。そして、溶媒濃度が40〜90重量%の範囲においては、ダイマー38の飽和濃度が、11重量%以上となり、また、溶媒濃度が60〜80重量%の範囲においては、ダイマー38の飽和濃度が、30重量%以上となった。
【0046】
一方、炭素数が1のアルコールであるメタノールについては、メタノールと水とを混合することで、ダイマー38の飽和濃度をいくぶん高めることができたものの、炭素数が2または3のアルコールほど、ダイマー38を高濃度で溶解できなかった。
また、グリコールである、エチレングリコールやプロピレングリコールについては、それらを水と混合することによる相乗効果が確認されず、グリコール単独で溶解するほうが、ダイマー38を高濃度で溶解できた。しかし、グリコール単独で溶解すると、有機溶媒の使用量が多くなった。
【0047】
製剤例1
エタノールと水を混合して、溶媒濃度(溶媒/(溶媒+水))60重量%(水40重量%)の混合溶媒を調製した。次いで、調製された混合溶媒に、ダイマー38を、得られる液剤全量中40重量%となるように配合して、液剤を調製した。
製剤例2
エタノールと水を混合して、溶媒濃度(溶媒/(溶媒+水))80重量%(水40重量%)の混合溶媒を調製した。次いで、調製された混合溶媒に、ダイマー38を、得られる液剤全量中30重量%となるように配合して、液剤を調製した。
【0048】
製剤例3
1−プロパノールと水を混合して、溶媒濃度(溶媒/(溶媒+水))60重量%(水40重量%)の混合溶媒を調製した。次いで、調製された混合溶媒に、ダイマー38を、得られる液剤全量中50重量%となるように配合して、液剤を調製した。
製剤例4
1−プロパノールと水を混合して、溶媒濃度(溶媒/(溶媒+水))80重量%(水40重量%)の混合溶媒を調製した。次いで、調製された混合溶媒に、ダイマー38を、得られる液剤全量中50重量%となるように配合して、液剤を調製した。
【0049】
製剤例5
2−プロパノールと水を混合して、溶媒濃度(溶媒/(溶媒+水))60重量%(水40重量%)の混合溶媒を調製した。次いで、調製された混合溶媒に、ダイマー38を、得られる液剤全量中45重量%となるように配合して、液剤を調製した。
製剤例6
2−プロパノールと水を混合して、溶媒濃度(溶媒/(溶媒+水))80重量%(水40重量%)の混合溶媒を調製した。次いで、調製された混合溶媒に、ダイマー38を、得られる液剤全量中45重量%となるように配合して、液剤を調製した。
【図面の簡単な説明】
【0050】
【図1】各種混合溶媒の溶媒濃度に対するダイマー38の飽和濃度を示すグラフである。

【特許請求の範囲】
【請求項1】
下記一般式(1)で示されるビス四級アンモニウム塩、炭素数が2および3の少なくともいずれかのアルコール、および、水を含有する微生物防除剤であって、
炭素数が2および3の少なくともいずれかのアルコールが、炭素数が2および3の少なくともいずれかのアルコールおよび水の合計量に対して、40〜90重量%含有され、
ビス四級アンモニウム塩が、微生物防除剤全量に対して、10重量%以上含有されていることを特徴とする、微生物防除剤。
【化1】

【請求項2】
炭素数が2および3の少なくともいずれかのアルコールが、炭素数が2および3の少なくともいずれかのアルコールおよび水の合計量に対して、50〜80重量%含有され、
ビス四級アンモニウム塩が、微生物防除剤全量に対して、30重量%以上含有されていることを特徴とする、請求項1に記載の微生物防除剤。
【請求項3】
ビス四級アンモニウム塩が、N,N’−ヘキサメチレンビス(4−カルバモイル−1−デシルピリジニウムハライド)であることを特徴とする、請求項1または2に記載の微生物防除剤。
【請求項4】
炭素数が2および3の少なくともいずれかのアルコールが、エタノール、1−プロパノールおよび2−プロパノールからなる群から選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする、請求項1〜3のいずれかに記載の微生物防除剤。

【図1】
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【公開番号】特開2007−39388(P2007−39388A)
【公開日】平成19年2月15日(2007.2.15)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2005−226262(P2005−226262)
【出願日】平成17年8月4日(2005.8.4)
【出願人】(503140056)日本エンバイロケミカルズ株式会社 (95)
【Fターム(参考)】