工業用防腐・防汚組成物
【課題】幅広い工業用途に利用可能で、かつそれらの各用途において良好な抗菌活性を有する工業用防腐・防汚組成物を得ることを目的とする。
【解決手段】オキソリニック酸を除くキノロン系化合物またはその塩を含有する工業用防腐・防汚組成物である。さらにイソチアゾリン系化合物、ベンゾイソチアゾリン系化合物、ベンゾイミダゾール系化合物、ハロアセチレン系化合物、テトラヒドロチオフェンジオキシド系化合物およびこれらの塩よりなる群から選択される１種または２種以上の抗菌性化合物を併用することにより、抗菌スペクトルが広がり、かつ抗菌活性が相乗的に向上し、幅広い工業用途に利用することのできる工業用防腐・防汚組成物となる。
【解決手段】オキソリニック酸を除くキノロン系化合物またはその塩を含有する工業用防腐・防汚組成物である。さらにイソチアゾリン系化合物、ベンゾイソチアゾリン系化合物、ベンゾイミダゾール系化合物、ハロアセチレン系化合物、テトラヒドロチオフェンジオキシド系化合物およびこれらの塩よりなる群から選択される１種または２種以上の抗菌性化合物を併用することにより、抗菌スペクトルが広がり、かつ抗菌活性が相乗的に向上し、幅広い工業用途に利用することのできる工業用防腐・防汚組成物となる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、オキソリニック酸を除くキノロン系化合物またはその塩を含有する、工業用防腐・防汚組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
キノロン系化合物は、古くから抗菌薬として用いられてきた。キノロン系抗菌薬としては、ナリジクス酸、ピペミド酸等のオールドキノロン系抗菌薬、ノルフロキサシン等のニューキノロン系抗菌薬が知られている。オールドキノロン系抗菌薬は、主としてグラム陰性桿菌に抗菌活性を示し、ニューキノロン系抗菌薬では、抗菌スペクトルの拡大および抗菌活性の向上が図られている。
【０００３】
上記キノロン系化合物のうち、工業用の防菌用途に応用されているものとしては、オキソリニック酸が知られている（特許文献１〜３）。しかし、抗菌薬として汎用される他のキノロン系化合物について、工業用の防腐・防汚への応用は知られていない。また、オキソリニック酸の抗菌活性の向上を図るため、酸化亜鉛と併用した抗菌剤組成物が開示され（特許文献４）、本出願人も、他の所定の抗菌性化合物と併用した工業用抗菌組成物について出願している（特願２００９−１８８１０）。一方、他のキノロン系化合物については、ラクトフェリン類の加水分解物または該加水分解物由来の抗菌性ペプチドと併用した抗菌剤が開示されている（特許文献５）。しかしながら、特に工業用途に応用可能な防腐・防汚組成物において、キノロン系抗菌薬の抗菌スペクトルの拡大および抗菌活性の向上を達成したという報告はない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平９−１７６９６６号公報
【特許文献２】特開平９−２０８４０８号公報
【特許文献３】特開平９−２４９８２７号公報
【特許文献４】特開２００２−２８４６０１号公報
【特許文献５】特開平１１−９２３７５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
そこで本発明においては、オキソリニック酸以外のキノロン系化合物についても、工業用の防腐・防汚への応用を可能とし、さらに該化合物を含有する工業用防腐・防汚組成物において、その抗菌スペクトルの拡大および抗菌活性の向上を図ることを目的とした。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記の課題を解決するべく鋭意検討した結果、本発明者らは、オキソリニック酸以外のキノロン系化合物について、枯草菌等、病原性を示さず、環境中に常在する細菌類に対しても抗菌活性を有することを見いだした。さらに、特定の抗菌性化合物と併用することにより、抗菌スペクトルが広がり、かつ抗菌活性の相乗的な向上が得られることを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００７】
すなわち本発明は、次の［１］〜［１０］に関する。
［１］式（１）で示されるキノロン系化合物であって、オキソリニック酸を除く化合物、またはその塩を含有する、工業用防腐・防汚組成物。
【０００８】
【化１】
【０００９】
［式中、Ａ１環は置換されていてもよく、１個または２個の炭素原子が窒素原子に置換された複素環であってもよい６員の芳香族環を示し、Ｒ１およびＲ２は同一または異なって、水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を示す。また、Ｒ１はＡ１環の置換基とともに環を形成していてもよい。］
【００１０】
［２］さらに、式（２）で示されるイソチアゾリン系化合物、式（３）で示されるベンゾイソチアゾリン系化合物、式（４）で示されるベンゾイミダゾール系化合物、式（５）で示されるハロアセチレン系化合物、式（６）で示されるテトラヒドロチオフェンジオキシド系化合物、およびこれらの塩よりなる群から選択される１種または２種以上を含有する、上記［１］に記載の工業用防腐・防汚組成物。
【００１１】
【化２】
【００１２】
［式中、Ｒ３は水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を示し、Ｒ４およびＲ５は同一または異なって、それぞれ水素原子、ハロゲン原子または置換されていてもよい炭化水素基を示す。］
【００１３】
【化３】
【００１４】
［式中、Ａ２環は置換されていてもよいベンゼン環を示し、Ｙは水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を示す。］
【００１５】
【化４】
【００１６】
［式中、Ａ３環は置換されていてもよいベンゼン環を示し、Ｚは−ＮＨＣＯＯＲ６（式中、Ｒ６は水素原子またはアルキル基を示す。）で示される基または置換されていてもよい５員または６員の含窒素複素環基を示す。］
【００１７】
【化５】
【００１８】
［式中、Ｘ１はハロゲン原子を示し、Ｒ７およびＲ８は同一または異なって、それぞれ水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を示し、ｍは０または１の整数を示す。］
【００１９】
【化６】
【００２０】
［式中、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３およびＹ４は同一または異なって、それぞれ水素原子、ハロゲン原子または置換されていてもよい炭化水素基を示す。］
【００２１】
［３］キノロン系化合物であって、オキソリニック酸を除く化合物が、式（７）および式（８）で示される化合物よりなる群から選択される１種または２種以上である、上記［１］または［２］に記載の工業用防腐・防汚組成物。
【００２２】
【化７】
【００２３】
［式中、Ｒ１およびＲ２は同一または異なって、水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を示し、Ｒ９は水素原子、ハロゲン原子またはアミノ基、Ｒ１０は水素原子またはハロゲン原子、Ｒ１１は置換されていてもよい炭化水素基または置換されていてもよい環状アミノ基を示す。］
【００２４】
【化８】
【００２５】
［式中、Ｒ１およびＲ２は同一または異なって、水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を示し、Ｒ９は水素原子、ハロゲン原子またはアミノ基、Ｒ１０は水素原子またはハロゲン原子、Ｒ１１は置換されていてもよい炭化水素基または置換されていてもよい環状アミノ基、Ｒ１２は水素原子、ハロゲン原子、置換されていてもよいアルコキシ基または置換されていてもよい炭化水素基を示す。また、Ｒ１はＲ１２とともに環を形成していてもよい。］
【００２６】
［４］キノロン系化合物であって、オキソリニック酸を除く化合物が、エノキサシン、トスフロキサシン、ノルフロキサシン、サラフロキサシン、ジフロキサシン、フレロキサシン、ロメフロキサシン、エンロフロキサシン、シプロフロキサシン、ガチフロキサシン、スパルフロキサシン、ダノフロキサシン、モキシフロキサシン、ガレノキサシン、シタフロキサシン、オルビフロキサシン、ナディフロキサシン、オフロキサシン、レボフロキサシン、パズフロキサシンおよびマルボフロキサシンよりなる群から選択される１種または２種以上である、上記［１］または［２］に記載の工業用防腐・防汚組成物。
［５］イソチアゾリン系化合物が、２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オン、２−ｎ−オクチル−４−イソチアゾリン−３−オン、４−クロロ−２−ｎ−オクチル−４−イソチアゾリン−３−オン、５−クロロ−２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オン、５−クロロ−２−ｎ−オクチル−４−イソチアゾリン−３−オンおよび４，５−ジクロロ−２−ｎ−オクチル−４−イソチアゾリン−３−オンよりなる群から選択される１種または２種以上である、上記［２］に記載の工業用防腐・防汚組成物。
［６］イソチアゾリン系化合物が、２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オン、５−クロロ−２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オンおよび２−ｎ−オクチル−４−イソチアゾリン−３−オンよりなる群から選択される１種または２種以上である、上記［２］に記載の工業用防腐・防汚組成物。
［７］ベンゾイソチアゾリン系化合物が、１，２−ベンゾイソチアゾリン−３−オンおよびＮ−ｎ−ブチル−１，２−ベンゾイソチアゾリン−３−オンよりなる群から選択される１種または２種である、上記［２］に記載の工業用防腐・防汚組成物。
［８］ベンゾイミダゾール系化合物が、メチル ２−ベンゾイミダゾールカルバメート、エチル ２−ベンゾイミダゾールカルバメートおよび２−（４−チアゾリル）ベンゾイミダゾールよりなる群から選択される１種または２種以上である、上記［２］に記載の工業用防腐・防汚組成物。
［９］ハロアセチレン系化合物が、３−ヨード−２−プロピニル Ｎ−ブチルカルバメートである、上記［２］に記載の工業用防腐・防汚組成物。
［１０］テトラヒドロチオフェンジオキシド系化合物が、３，３，４，４−テトラクロロテトラヒドロチオフェン−１，１−ジオキシドである、上記［２］に記載の工業用防腐・防汚組成物。
【発明の効果】
【００２７】
本発明によれば、オキソリニック酸以外のキノロン系化合物またはその塩を含有してなり、環境中に存在する種々の細菌に対して抗菌活性を有する工業用防腐・防汚組成物を得ることができる。また、特定の抗菌性化合物を併用することにより、抗菌スペクトルが拡大し、かつ抗菌活性が相乗的に向上するので、さらに様々な態様での使用が可能となり、幅広い工業用途に利用できる優れた工業用防腐・防汚組成物を得ることができる。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
本発明においては、オキソリニック酸以外のキノロン系化合物として、次の式（１）で示されるキノロン系化合物であって、オキソリニック酸を除く化合物が用いられる。
【００２９】
【化９】
【００３０】
［式中、Ａ１環は置換されていてもよく、１個または２個の炭素原子が窒素原子に置換された複素環であってもよい６員の芳香族環を示し、Ｒ１およびＲ２は同一または異なって、水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を示す。また、Ｒ１はＡ１環の置換基とともに環を形成していてもよい。］
【００３１】
上記式（１）中、Ａ１環で示される「置換されていてもよく、１個または２個の炭素原子が窒素原子に置換された複素環であってもよい６員の芳香族環」のうち、前記複素環である６員の芳香族環としては、ピリジン、ピリミジン、ピリダジン、ピラジン等が挙げられ、前記複素環ではない６員の芳香族環としては、ベンゼンが挙げられる。これらの中でも、ベンゼン、ピリジン、ピリミジンが好ましく、ベンゼンまたはピリジンが特に好ましい。
【００３２】
Ａ１環で示される「置換されていてもよく、１個または２個の炭素原子が窒素原子に置換された複素環であってもよい６員の芳香族環」の置換基としては、水酸基、ハロゲン原子、置換されていてもよいアルコキシ基、置換されていてもよい炭化水素基、置換されていてもよいアミノ基等が挙げられる。
【００３３】
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられるが、フッ素原子または塩素原子が好ましい。
【００３４】
「置換されていてもよいアルコキシ基」のアルコキシ基としては、炭素数１〜６のアルコキシ基が挙げられ、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ−ブトキシ、イソブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ等の炭素数１〜４のアルコキシ基が好ましい。「置換されていてもよいアルコキシ基」の置換基としては、フッ素、塩素、臭素等のハロゲン原子；炭素数１〜４のアルコキシ基；フェニル、ナフチル等、炭素数１〜１４のアリール基などが挙げられる。
【００３５】
「置換されていてもよい炭化水素基」の炭化水素基としては、炭素数１〜２０の炭化水素基が好ましく、炭素数１〜１４の炭化水素基がより好ましく、たとえば、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、アリール基およびアラルキル基等が挙げられる。
【００３６】
アルキル基としては、たとえば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、イソペンチル、１−メチルブチル、１−エチルプロピル、１，１−ジメチルプロピル、ｎ−ヘキシル、イソヘキシル、１−エチル−１−メチルプロピル、２−エチルブチル、ｎ−ヘプチル、イソヘプチル、２，２−ジメチルペンチル、ｎ−オクチル、イソオクチル、１−メチルヘプチル、１−エチルヘキシル、１−プロピルペンチル、１，１−ジメチルヘキシル、１−エチル−１−メチルペンチル、１，１−ジエチルブチル、２−エチルヘキシル、ノニル、デシル等の炭素数１〜１０のアルキル基、好ましくは炭素数１〜８のアルキル基が挙げられる。
【００３７】
アルケニル基としては、たとえば、エテニル(ビニル)、１−プロペニル、２−プロペニル（アリル）、イソプロペニル、１−ブテニル、２−ブテニル、３−ブテニル、２−メチル−１−プロペニル、１−ペンテニル、２−ペンテニル、３−ペンテニル、４−ペンテニル、１−へキセニル、２−へキセニル、３−へキセニル、４−へキセニル、５−へキセニル等の炭素数２〜６のアルケニル基が挙げられる。
【００３８】
アルキニル基としては、たとえば、エチニル、１−プロピニル、２−プロピニル、１−ブチニル、２−ブチニル、３−ブチニル、１−ペンチニル、２−ペンチニル、３−ペンチニル、４−ペンチニル、１−へキシニル、２−へキシニル、３−へキシニル、４−へキシニル、５−へキシニル等の炭素数２〜６のアルキニル基が挙げられる。
【００３９】
シクロアルキル基としては、たとえば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル等の炭素数３〜８のシクロアルキル基が挙げられる。
【００４０】
アリール基としては、たとえば、フェニル、ナフチル、アントラセニル、フェナントレニル等の炭素数６〜１４のアリール基が挙げられる。
【００４１】
アラルキル基としては、たとえば、ベンジル、フェニルエチル、ナフチルメチル等の炭素数７〜１４のアラルキル基が挙げられる。
【００４２】
上記の「置換されていてもよい炭化水素基」の置換基としては、水酸基；塩素、フッ素、臭素およびヨウ素のハロゲン原子；シアノ基；アミノ基；カルボキシル基；アセチル、プロパノイル、ブタノイル、ヘキサノイル等の炭素数１〜６のアシル基；メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ等の炭素数１〜４のアルコキシ基；フェノキシ、ナフチルオキシ等の炭素数６〜２０、好ましくは炭素数６〜１０のアリールオキシ基；ベンジルオキシ、フェニルエチルオキシ等の炭素数７〜１４のアラルキルオキシ基；メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、ブチルチオ等の炭素数１〜４のアルキルチオ基；フェニルチオ等の炭素数６〜２０のアリールチオ基等が挙げられる。上記炭化水素基は前記置換基を２個以上有していてもよく、当該置換基は同一または異なっていてもよい。
【００４３】
「置換されていてもよいアミノ基」のアミノ基には、ピロリジニル、ピペリジル、ピペラジニル、アザビシクロ［２．２．１］ヘプタニル、アザビシクロ［２．２．２］オクタニル、ジアザビシクロ［２．２．１］ヘプタニル、ジアザビシクロ［２．２．２］オクタニル、オクタヒドロピロロピリジニル、イソインドリニル、アザスピロ［２．４］ヘプタニル等の環状アミノ基も含まれる。「置換されていてもよいアミノ基」の置換基としては、水酸基、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、アミノ基等が挙げられる。
【００４４】
Ａ１環は、２〜４個の置換基により置換されていることが好ましい。また、前記置換基としては、ハロゲン原子；アミノ基により置換された炭素数３〜６のシクロアルキル基；ピロリジニル、ピペリジル、ピペラジニル、ジアザビシクロ［２．２．１］ヘプタニル、オクタヒドロピロロピリジニル、イソインドリニル、アザスピロ［２．４］ヘプタニル等の環状アミノ基；水酸基、アミノ基または炭素数１〜６のアルキル基により置換された前記環状アミノ基；炭素数１〜４のアルコキシ基；ハロゲン原子により置換された前記アルコキシ基などが好ましい。
【００４５】
上記式（１）中、Ｒ１またはＲ２で示される「置換されていてもよい炭化水素基」としては、上記したＡ１環の「置換されていてもよい炭化水素基」と同様の基が挙げられる。また、Ｒ１で示される基は、Ａ１環の８位の置換基とともに、環を形成するものであってもよい。かかる環としては、ヒドロピリジン環、ヒドロオキサジン環、ヒドロオキサジアジン環等が例示される。
【００４６】
本発明において、オキソリニック酸以外のキノロン系化合物としては、式（７）および式（８）で示される化合物が好ましく用いられる。
【００４７】
【化１０】
【００４８】
［式中、Ｒ１およびＲ２は同一または異なって、水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を示し、Ｒ９は水素原子、ハロゲン原子またはアミノ基、Ｒ１０は水素原子またはハロゲン原子、Ｒ１１は置換されていてもよい炭化水素基または置換されていてもよい環状アミノ基を示す。］
【００４９】
【化１１】
【００５０】
［式中、Ｒ１およびＲ２は同一または異なって、水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を示し、Ｒ９は水素原子、ハロゲン原子またはアミノ基、Ｒ１０は水素原子またはハロゲン原子、Ｒ１１は置換されていてもよい炭化水素基または置換されていてもよい環状アミノ基、Ｒ１２は水素原子、ハロゲン原子、置換されていてもよいアルコキシ基または置換されていてもよい炭化水素基を示す。また、Ｒ１はＲ１２とともに環を形成していてもよい。］
【００５１】
上記式（７）で示される化合物は、ナフチリジン骨格を有する化合物である。
【００５２】
上記式（７）および式（８）中、Ｒ１またはＲ２で示される基については、上記と同義である。Ｒ９またはＲ１０で示されるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等が挙げられる。また、Ｒ１１で示される「置換されていてもよい炭化水素基」および「置換されていてもよい環状アミノ基」についても、上記と同様である。なお、上記式（７）および式（８）中、Ｒ１で示される基としては、エチル等の炭素数１〜４のアルキル基；２−フルオロエチル等のハロゲン化された炭素数１〜４のアルキル基；シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル等の炭素数３〜６のシクロアルキル基；フルオロシクロプロピル等のハロゲン化された炭素数３〜６のシクロアルキル基；フルオロフェニル、ジフルオロフェニル等のハロゲン化されたアリール基が好ましい。Ｒ２で示される基としては水素原子が好ましく、Ｒ９で示される基としては、水素原子、フッ素原子、アミノ基が好ましく、Ｒ１０で示される基としては、水素原子またはフッ素原子が好ましい。Ｒ１１で示される基としては、アミノシクロプロピル基；水酸基、アミノ基またはメチル、エチル等の炭素数１〜４のアルキル基により置換されたピロジニル、ピペリジル、ピペラジニル、ジアザビシクロ［２．２．１］ヘプチル、オクタヒドロピロロピリジニル、イソインドリニル、アザスピロ［２．４］ヘプタニルが好ましい。
【００５３】
さらに、上記式（８）中、Ｒ１２で示される「置換されていてもよいアルコキシ基」および「置換されていてもよい炭化水素基」についても、上記と同様である。上記式（８）中、Ｒ１２で示される基としては、水素原子；フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子；メチル等の炭素数１〜４のアルキル基；メトキシ等の炭素数１〜４のアルコキシ基；ジフルオロメトキシ等のハロゲン原子により置換された前記アルコキシ基が好ましい。また、上記式（８）において、Ｒ１で示される基はＲ１２で示される基とともに環を形成していてもよく、かかる環としては、ヒドロピリジン環、ヒドロオキサジン環、ヒドロオキサジアジン環等が挙げられる。それゆえ、上記式（８）において、Ｒ１で示される基とＲ１２で示される基とが環を形成してなるベンゾキノリジン骨格、ピリドベンゾオキサジン骨格またはピリドベンゾオキサジアジン骨格を有するものも、好ましい化合物として例示される。
【００５４】
本発明においては、オキソリニック酸以外のキノロン系化合物として、上記式（７）および式（８）で示される化合物よりなる群から、１種または２種以上を選択して用いることができる。
【００５５】
本発明においてより好ましく用いられるオキソリニック酸以外のキノロン系化合物としては、ナフチリジン骨格を有するエノキサシン、トスフロキサシン、キノリン骨格を有するノルフロキサシン、サラフロキサシン、ジフロキサシン、フレロキサシン、ロメフロキサシン、エンロフロキサシン、シプロフロキサシン、ガチフロキサシン、スパルフロキサシン、ダノフロキサシン、モキシフロキサシン、ガレノキサシン、シタフロキサシン、オルビフロキサシン、ベンゾキノリジン骨格を有するナディフロキサシン、ピリドベンゾオキサジン骨格を有するオフロキサシン、レボフロキサシン、パズフロキサシン、ピリドベンゾオキサジアジン骨格を有するマルボフロキサシン等が挙げられ、これらより１種または２種以上を選択して用いることができる。
【００５６】
本発明においては、オキソリニック酸以外のキノロン系化合物は、製剤学的に可能な塩の形態で用いることもできる。当該塩としては、塩酸、臭化水素酸、硝酸、硫酸、リン酸等の無機酸との塩；ギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、フタル酸、フマル酸、シュウ酸、酒石酸、マレイン酸、クエン酸、コハク酸、リンゴ酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸等の有機酸との塩；ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属との塩；マグネシウム、カルシウム等のアルカリ土類金属との塩；アンモニウム塩；トリメチルアミン、トリエチルアミン、ピリジン、ピコリン、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、エチレンジアミン、１，６−ヘキサメチレンジアミン、ｔｅｒｔ−ブチルアミン、シクロヘキシルアミン、ベンジルアミン、ジシクロヘキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジベンジルエチレンジアミン等の有機アミンとの塩などが挙げられる。
【００５７】
本発明に用いるオキソリニック酸以外のキノロン系化合物またはその塩は市販品を用いてもよく、あるいは公知技術に従って製造したものを用いてもよいが、市販品を用いるのが便利である。
【００５８】
本発明の工業用防腐・防汚組成物では、上記のオキソリニック酸以外のキノロン系化合物またはその塩に加えて、イソチアゾリン系化合物、ベンゾイソチアゾリン系化合物、ハロアセチレン系化合物、ベンゾイミダゾール系化合物、テトラヒドロチオフェンジオキシド系化合物、およびこれらの塩よりなる群から選択される１種または２種以上の抗菌性化合物を併用してもよい。該抗菌性化合物を併用することにより、抗菌スペクトルが拡大し、かつ抗菌活性が相乗的に向上する。
【００５９】
イソチアゾリン系化合物は、次の式（２）で示される。
【００６０】
【化１２】
【００６１】
［式中、Ｒ３は水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を示し、Ｒ４およびＲ５は同一または異なって、それぞれ水素原子、ハロゲン原子または置換されていてもよい炭化水素基を示す。］
【００６２】
式（２）中、Ｒ３で示される「置換されていてもよい炭化水素基」としては、Ａ１環の置換基について、上記した「置換されていてもよい炭化水素基」と同様のものが挙げられる。なお、前記置換基は同一または異なっていてもよく、１〜５個、好ましくは１〜３個が置換していてもよい。
【００６３】
Ｒ３で示される「置換されていてもよい炭化水素基」としては、無置換の炭化水素基が好ましく、その中でもアルキル基またはシクロアルキル基が好ましい。当該アルキル基としては、炭素数１〜８のアルキル基が好ましく、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル等の炭素数１〜４のアルキル基およびｎ−オクチル、イソオクチル、１−メチルヘプチル、１−エチルヘキシル、１−プロピルペンチル、１，１−ジメチルヘキシル、１−エチル−１−メチルペンチル、１，１−ジエチルブチル、２−エチルヘキシル等の炭素数８のアルキル基がより好ましく、メチル、エチル、ｎ−ブチル、ｎ−オクチルがさらに好ましい。シクロアルキル基としては、炭素数３〜８のシクロアルキル基が好ましく、シクロヘキシルがより好ましい。
【００６４】
本発明において、上記式（２）中、Ｒ３で示される基としては、炭素数１〜８のアルキル基または炭素数３〜８のシクロアルキル基が好ましく、炭素数１〜８のアルキル基がより好ましく、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル等の炭素数１〜４のアルキル基、およびｎ−オクチル、イソオクチル、１−メチルヘプチル、１−エチルヘキシル、１−プロピルペンチル、１，１−ジメチルヘキシル、１−エチル−１−メチルペンチル、１，１−ジエチルブチル、２−エチルヘキシル等の炭素数８のアルキル基がさらに好ましく、メチル、エチル、ｎ−ブチル、ｎ−オクチルが特に好ましい。
【００６５】
式（２）中、Ｒ４またはＲ５で示されるハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素およびヨウ素の各原子が挙げられ、これらの中でも塩素原子が好ましい。
【００６６】
また、Ｒ４またはＲ５で示される「置換されていてもよい炭化水素基」は、Ａ１環の置換基について上記した「置換されていてもよい炭化水素基」と同様であるが、無置換の炭化水素基が好ましく、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル等の炭素数１〜４のアルキル基が特に好ましい。
【００６７】
本発明において、上記式（２）中、Ｒ４およびＲ５で示される基としては、同一または異なって、それぞれ水素原子またはハロゲン原子が好ましく、水素原子または塩素原子がより好ましい。
【００６８】
本発明において用い得るイソチアゾリン系化合物の具体例としては、２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オン、２−エチル−４−イソチアゾリン−３−オン、２−ｎ−オクチル−４−イソチアゾリン−３−オン、５−クロロ−２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オン、５−クロロ−２−エチル−４−イソチアゾリン−３−オン、５−クロロ−２−ｎ−オクチル−４−イソチアゾリン−３−オン、４−クロロ−２−ｎ−オクチル−４−イソチアゾリン−３−オン、４，５−ジクロロ−２−ｎ−オクチル−４−イソチアゾリン−３−オン、４，５−ジクロロ−２−シクロヘキシル−４−イソチアゾリン−３−オン等が挙げられる。これらのうち、２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オン、２−ｎ−オクチル−４−イソチアゾリン−３−オン、４−クロロ−２−ｎ−オクチル−４−イソチアゾリン−３−オン、５−クロロ−２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オン、５−クロロ−２−ｎ−オクチル−４−イソチアゾリン−３−オンおよび４，５−ジクロロ−２−ｎ−オクチル−４−イソチアゾリン−３−オンが好ましく、２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オン、５−クロロ−２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オンおよび２−ｎ−オクチル−４−イソチアゾリン−３−オンが特に好ましい。
【００６９】
本発明において、イソチアゾリン系化合物としては、上記の化合物よりなる群から１種または２種以上を選択して用いることができる。
【００７０】
ベンゾイソチアゾリン系化合物は、次の式（３）で示される。
【００７１】
【化１３】
【００７２】
［式中、Ａ２環は置換されていてもよいベンゼン環を示し、Ｙは水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を示す。］
【００７３】
式（３）中、Ａ２環で示される「置換されていてもよいベンゼン環」の置換基としては、水酸基；塩素、フッ素、臭素およびヨウ素のハロゲン原子；シアノ基；アミノ基；カルボキシル基；ブタノイル、オクタノイル、デカノイル等の炭素数１〜１０のアシル基；メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ等の炭素数１〜４のアルコキシ基；フェノキシ、ナフチルオキシ等の炭素数６〜２０、好ましくは炭素数６〜１０のアリールオキシ基；ベンジルオキシ、フェニルエチルオキシ等の炭素数７〜１４のアラルキルオキシ基；メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、ブチルチオ等の炭素数１〜４のアルキルチオ基；フェニルチオ等の炭素数６〜２０のアリールチオ基等を挙げることができるが、ハロゲン原子およびメチル、エチル、プロピル、ブチル等の炭素数１〜４のアルキル基が好ましい。これらの置換基は同一または異なっていてもよく、ベンゼン環に１〜４個、好ましくは１個または２個置換されていてもよい。なお、Ａ２環で示される「置換されていてもよいベンゼン環」としては、無置換のベンゼン環が好ましい。
【００７４】
式（３）中、Ｙで示される「置換されていてもよい炭化水素基」としては、上記したＡ１環の置換基の一つとして示した「置換されていてもよい炭化水素基」と同様のものが挙げられるが、無置換の炭化水素基が好ましく、炭素数１〜８のアルキル基がより好ましく、炭素数１〜４のアルキル基（特にｎ−ブチル）が特に好ましい。
【００７５】
本発明において、式（３）中、Ｙで示される基としては、水素原子または炭素数１〜８のアルキル基が好ましく、水素原子または炭素数１〜４のアルキル基（特にｎ−ブチル）が特に好ましい。
【００７６】
ベンゾイソチアゾリン系化合物の好適な具体例としては、１，２−ベンゾイソチアゾリン−３−オン、Ｎ−ｎ−ブチル−１，２−ベンゾイソチアゾリン−３−オン等が挙げられる。
【００７７】
本発明において、ベンゾイソチアゾリン系化合物としては、上記の化合物よりなる群から１種または２種以上を選択して用いることができる。
【００７８】
ベンゾイミダゾール系化合物は、次の式（４）で示される。
【００７９】
【化１４】
【００８０】
［式中、Ａ３環は置換されていてもよいベンゼン環を示し、Ｚは−ＮＨＣＯＯＲ６（式中、Ｒ６は水素原子またはアルキル基を示す。）で示される基または置換されていてもよい５員または６員の含窒素複素環基を示す。］
【００８１】
上記式（４）中、Ａ３環で示される「置換されていてもよいベンゼン環」に含まれ得る置換基としては、上記したＡ２環の置換基と同様のものを挙げることができるが、ハロゲン原子、およびメチル、エチル、プロピル、ブチル等炭素数１〜４のアルキル基が好ましいものとして挙げられる。これらの置換基は同一または異なって、Ａ３環で示されるベンゼン環に１〜４個、好ましくは１個または２個含まれ得る。なお、Ａ３環で示される置換されていてもよいベンゼン環としては、置換されていないベンゼン環が好ましい。
【００８２】
上記式（４）中、Ｚが示す−ＮＨＣＯＯＲ６で示される基において、Ｒ６で示されるアルキル基としては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｎ−へキシル、ｎ−ヘプチルおよびｎ−オクチル等の炭素数１〜８のアルキル基が挙げられ、それらのうち、メチル、エチル、ｎ−プロピル等の炭素数１〜３のアルキル基が特に好ましい。
【００８３】
また式（４）中、Ｚで示される置換されていてもよい５員または６員の含窒素複素環基としては、１〜４個の窒素原子を環構成原子として含有するか、あるいは１〜２個の窒素原子に加えて酸素原子および硫黄原子から選ばれた１個のヘテロ原子を環構成原子として含有する５員または６員環の単環式複素環基や、この５員または６員の含窒素複素環にベンゼン環または５員環が縮合した縮合複素環基が挙げられる。５員または６員の含窒素単環式複素環基としては、２−ピリジル、３−ピリジル、４−ピリジル等のピリジル基；２−チアゾリル、４−チアゾリル、５−チアゾリル等のチアゾリル基；３−イソチアゾリル、４−イソチアゾリル、５−イソチアゾリル等のイソチアゾリル基；１−イミダゾリル、２−イミダゾリル、４−イミダゾリル、５−イミダゾリル等のイミダゾリル基；１−ピロリル、２−ピロリル、３−ピロリル等のピロリル基；２−ピロリニル、３−ピロリニル等のピロリニル基；フラザニル基；１−ピロリジニル、２−ピロリジニル、３−ピロリジニル等のピロリジニル基；２−イミダゾリジニル、４−イミダゾリジニル、５−イミダゾリジニル等のイミダゾリジニル基；１−ピラゾリジニル等のピラゾリジニル基；５−ピラゾリル等のピラゾリル基；２−オキサゾリル、４−オキサゾリル、５−オキサゾリル等のオキサゾリル基；３−イソオキサゾリル、４−イソオキサゾリル、５−イソオキサゾリル等のイソオキサゾリル基；１Ｈ−テトラゾリル、２Ｈ−テトラゾリル等のテトラゾリル基；２−ピリミジニル、４−ピリミジニル、５−ピリミジニル等のピリミジニル基；３−ピリダジニル、４−ピリダジニル等のピリダジニル基；２−ピラジニル、３−ピラジニル等のピラジニル基；１，２−チアジン−３−イル、１，２−チアジン−４−イル、１，３−チアジン−２−イル、１，３−チアジン−４−イル、１，４−チアジン−２−イル、１，４−チアジン−３−イル等のチアジニル基；１−ピペラジニル、２−ピペラジニル、３−ピペラジニル等のピペラジニル基；１，２，３−チアジアジン−４−イル、１，２，３−チアジアジン−５−イル、１，２，３−チアジアジン−６−イル、１，２，４−チアジアジン−３−イル、１，３，４−チアジアジン−２−イル等のチアジアジニル基；１，３，４−オキサジアゾール−２−イル、１，２，４−オキサジアゾール−３−イル、１，２，４−オキサジアゾール−５−イル、１，２，３−オキサジアゾール−４−イル、１，２，３−オキサジアゾール−５−イル等のオキサジアゾリル基；１，２，３−チアジアゾール−４−イル、１，２，３−チアジアゾール−５−イル等のチアジアゾリル基；１，２，３−トリアゾール−４−イル、１，２，４−トリアゾール−３−イル等のトリアゾリル基；２−チオモルホリニル、３−チオモルホリニル、４−チオモルホリニル、５−チオモルホリニル、６−チオモルホリニル等のチオモルホリニル基；２−モルホリニル、３−モルホリニル、４−モルホリニル、５−モルホリニル、６−モルホリニル等のモルホリニル基；２−オキソイミダジニル等のオキソイミダジニル基；１，２，４−トリアジン−３，５−ジオン−１−イル、１，２，４−トリアジン−３，５−ジオン−２−イル、１，２，４−トリアジン−３，５−ジオン−４−イル等のジオキソトリアジニル基；１−ピペリジル、２−ピペリジル、３−ピペリジル、４−ピペリジル等のピペリジル基等が挙げられる。上記縮合複素環基としては、２−キノリル、３−キノリル、４−キノリル等のキノリル基；３−イソキノリル、４−イソキノリル等のイソキノリル基；２−インドリル、３−インドリル等のインドリル基；１Ｈ−イソインドール−３−イル等のイソインドリル基；８−キノリジニル等のキノリジニル基；１Ｈ−プリン−６−イル、３Ｈ−プリン−６−イル等のプリニル基；３−シンノリニル、５−シンノリニル等のシンノリニル基；３−インダゾリル等のインダゾリル基；２−プテリジニル等のプテリジニル基；４−フタラジニル等のフタラジニル基；２−キナゾリニル、４−キナゾリニル等のキナゾリニル基；２−キノキサリニル、３−キノキサリニル等のキノキサリニル基；２−インドリジニル等のインドリジニル基；２Ｈ−１，３−ベンゾオキサジン−２−イル等のベンゾオキサジニル基；２−フェノチアジニル、３−フェノチアジニル等のフェノチアジニル基；２−フェナジニル、３−フェナジニル等のフェナジニル基；２−フェノキサジニル、３−フェノキサジニル、４−フェノキサジニル等のフェノキサジニル基等が挙げられる。上記複素環基のうち、５員含窒素複素環基が好ましく、特にチアゾリル基が好ましい。
【００８４】
上記複素環の置換基としては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル等の炭素数１〜４のアルキル基；メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ−ブトキシ、イソブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ等の炭素数１〜４のアルコキシ基；フッ素、塩素、臭素等のハロゲン原子；水酸基；アミノ基；ニトロ基；メルカプト基などが挙げられる。
【００８５】
Ｚで示される置換されていてもよい５または６員の含窒素複素環基としては、無置換の５または６員の含窒素複素環基が好ましく、無置換の５員の含窒素複素環基がより好ましく、チアゾリル基が特に好ましい。
【００８６】
本発明において、式（４）中、Ｚで示される基としては、−ＮＨＣＯＯＲ６（式中、Ｒ６は炭素数１〜８のアルキル基である。）で示される基または無置換の５員または６員の含窒素複素環基が好ましく、−ＮＨＣＯＯＲ６（式中、Ｒ６は炭素数１〜３のアルキル基である）で示される基または無置換の５員の含窒素複素環基がより好ましく、−ＮＨＣＯＯＲ６（式中、Ｒ６は炭素数１〜３のアルキル基である）で示される基またはチアゾリル基が特に好ましい。
【００８７】
ベンゾイミダゾール系化合物の好適な具体例としては、メチル ２−ベンゾイミダゾールカルバメート、エチル ２−ベンゾイミダゾールカルバメート、２−（４−チアゾリル）ベンゾイミダゾール等が挙げられる。
【００８８】
本発明において、ベンゾイミダゾール系化合物としては、上記の化合物よりなる群から１種または２種以上を選択して用いることができる。
【００８９】
ハロアセチレン系化合物は、次の式（５）で示される。
【００９０】
【化１５】
【００９１】
［式中、Ｘ１はハロゲン原子を示し、Ｒ７およびＲ８は同一または異なって、それぞれ水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を示し、ｍは０または１の整数を示す。］
【００９２】
式（５）中、Ｘ１で示されるハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素およびヨウ素の各原子が挙げられ、特にヨウ素原子が好ましい。
【００９３】
式（５）中、Ｒ７またはＲ８で示される「置換されていてもよい炭化水素基」としては、Ａ１環の置換基の一つとして上記した「置換されていてもよい炭化水素基」と同様のものが挙げられる。中でも無置換の炭化水素基が好ましく、炭素数１〜１０のアルキル基または炭素数３〜８のシクロアルキル基がより好ましく、炭素数１〜１０のアルキル基がさらに好ましく、炭素数１〜４のアルキル基がさらにより好ましく、ｎ−ブチルが特に好ましい。
【００９４】
また、Ｒ７およびＲ８の一方が置換されていてもよい炭化水素基であり、他方が水素原子であることが好ましく、Ｒ７およびＲ８の一方が炭素数１〜１０のアルキル基であり、他方が水素原子であることがより好ましく、Ｒ７およびＲ８の一方が炭素数１〜４のアルキル基（特にｎ−ブチル）であり、他方が水素原子であることが特に好ましい。
【００９５】
式（５）中、ｍは０または１の整数を示し、ｍが０のとき、ハロアセチレン系化合物は酸アミド誘導体となり、ｍが１のときは、ハロアセチレン系化合物はカルバメート誘導体となる。これらのうち、ｍが１であるハロアセチレン系化合物のカルバメート誘導体が好ましい。
【００９６】
ハロアセチレン系化合物の具体例としては、ｍが０である場合のハロアセチレン系化合物の酸アミド誘導体として、３−クロロプロピオール酸アミド、Ｎ−メチル−３−クロロプロピオール酸アミド、Ｎ−エチル−３−クロロプロピオール酸アミド、Ｎ−プロピル−３−クロロプロピオール酸アミド、Ｎ−ブチル−３−クロロプロピオール酸アミド、Ｎ−ヘキシル−３−クロロプロピオール酸アミド、Ｎ−オクチル−３−クロロプロピオール酸アミド、Ｎ−シクロヘキシル−３−クロロプロピオール酸アミド等の（Ｎ−置換−）３−クロロプロピオール酸アミド；３−ブロモプロピオール酸アミド、Ｎ−メチル−３−ブロモプロピオール酸アミド、Ｎ−エチル−３−ブロモプロピオール酸アミド、Ｎ−プロピル−３−ブロモプロピオール酸アミド、Ｎ−ブチル−３−ブロモプロピオール酸アミド、Ｎ−ヘキシル−３−ブロモプロピオール酸アミド、Ｎ−オクチル−３−ブロモプロピオール酸アミド、Ｎ−シクロヘキシル−３−ブロモプロピオール酸アミド等の（Ｎ−置換−）３−ブロモプロピオール酸アミド；３−ヨードプロピオール酸アミド、Ｎ−メチル−３−ヨードプロピオール酸アミド、Ｎ−エチル−３−ヨードプロピオール酸アミド、Ｎ−プロピル−３−ヨードプロピオール酸アミド、Ｎ−ブチル−３−ヨードプロピオール酸アミド、Ｎ−ヘキシル−３−ヨードプロピオール酸アミド、Ｎ−オクチル−３−ヨードプロピオール酸アミド、Ｎ−シクロヘキシル−３−ヨードプロピオール酸アミド等の（Ｎ−置換−）３−ヨードプロピオール酸アミドなどが挙げられる。これらのうち、（Ｎ−置換−）３−ヨードプロピオール酸アミドが好ましく、Ｎ−ブチル−３−ヨードプロピオール酸アミドがより好ましい。
【００９７】
また、ｍが１である場合のハロアセチレン系化合物のカルバメート誘導体として、３−ヨード−２−プロピニル Ｎ−メチルカルバメート、３−ヨード−２−プロピニル Ｎ−エチルカルバメート、３−ヨード−２−プロピニル Ｎ−プロピルカルバメート、３−ヨード−２−プロピニル Ｎ−ブチルカルバメート、３−ヨード−２−プロピニル Ｎ−ヘキシルカルバメート、３−ヨード−２−プロピニル Ｎ−オクチルカルバメート、３−ヨード−２−プロピニル Ｎ−シクロヘキシルカルバメート等の３−ヨード−２−プロピニル Ｎ−アルキルカルバメートなどが挙げられ、中でも３−ヨード−２−プロピニル Ｎ−ブチルカルバメートが好ましい。
【００９８】
本発明において、ハロアセチレン系化合物としては、上記の化合物よりなる群から１種または２種以上を選択して用いることができる。
【００９９】
テトラヒドロチオフェンジオキシド系化合物は、次の式（６）で示される。
【０１００】
【化１６】
【０１０１】
［式中、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３およびＹ４は同一または異なって、それぞれ水素原子、ハロゲン原子または置換されていてもよい炭化水素基を示す。］
【０１０２】
式（６）中、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３またはＹ４で表されるハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素およびヨウ素の各原子が挙げられ、特に塩素原子が好ましい。また、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３またはＹ４で表される「置換されていてもよい炭化水素基」としては、Ａ１環の置換基の一つとして上記した「置換されていてもよい炭化水素基」と同様のものが挙げられ、中でもメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル等の炭素数１〜４のアルキル基が好ましい。
【０１０３】
Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３およびＹ４としては、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３およびＹ４のすべてがハロゲン原子であるか、Ｙ１、Ｙ２およびＹ３がハロゲン原子でかつＹ４が水素原子であるか、Ｙ１およびＹ４がハロゲン原子でかつＹ２およびＹ３が水素原子であることが好ましく、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３およびＹ４のすべてがハロゲン原子であることがより好ましく、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３およびＹ４のすべてが塩素であることが特に好ましい。
【０１０４】
テトラヒドロチオフェンジオキシド系化合物の具体例としては、３，３，４，４−テトラクロロテトラヒドロチオフェン−１，１−ジオキシド、３，３，４，４−テトラブロモテトラヒドロチオフェン−１，１−ジオキシド、３，４−ジクロロテトラヒドロチオフェン−１，１−ジオキシド、３，３，４−トリクロロテトラヒドロチオフェン−１，１−ジオキシド、３，３，４−トリブロモテトラヒドロチオフェン−１，１−ジオキシド等が挙げられ、これらのうち、３，３，４，４−テトラクロロテトラヒドロチオフェン−１，１−ジオキシドが特に好ましい。
【０１０５】
本発明において、テトラヒドロチオフェンジオキシド系化合物としては、上記の化合物よりなる群から１種または２種以上を選択して用いることができる。
【０１０６】
上記のイソチアゾリン系化合物、ベンゾイソチアゾリン系化合物、ベンゾイミダゾール系化合物、ハロアセチレン系化合物およびテトラヒドロチオフェンジオキシド系化合物は、塩基性化合物の場合は酸との塩として用いてもよく、また、酸性化合物の場合は塩基との塩として用いてもよい。
【０１０７】
酸との塩としては、塩酸、臭化水素酸、硝酸、硫酸、リン酸等の無機酸との塩；ギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、フタル酸、フマル酸、シュウ酸、酒石酸、マレイン酸、クエン酸、コハク酸、リンゴ酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸等の有機酸との塩が挙げられる。
【０１０８】
塩基との塩としては、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属との塩；マグネシウム、カルシウム等のアルカリ土類金属との塩；アンモニウム塩；トリメチルアミン、トリエチルアミン、ピリジン、ピコリン、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、エチレンジアミン、１，６−ヘキサメチレンジアミン、ｔｅｒｔ−ブチルアミン、シクロヘキシルアミン、ベンジルアミン、ジシクロヘキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジベンジルエチレンジアミン等の有機アミンとの塩などが挙げられる。
【０１０９】
イソチアゾリン系化合物、ベンゾイソチアゾリン系化合物、ベンゾイミダゾール系化合物、ハロアセチレン系化合物、テトラヒドロチオフェンジオキシド系化合物およびこれらの塩は市販品を用いてもよく、あるいは公知技術に従って製造したものを用いてもよいが、市販品を用いるのが便利である。
【０１１０】
本発明の工業用防腐・防汚組成物において、オキソリニック酸を除くキノロン系化合物またはその塩の含有量は、環境中に存在する一般的な細菌類に対して十分な抗菌活性を得るためには、０．１重量％〜４０重量％が好ましく、１重量％〜４０重量％がより好ましい。
【０１１１】
上記の抗菌性化合物を併用する場合、本発明の工業用防腐・防汚組成物に、より広範な抗菌スペクトルと十分な抗菌活性を付与するためには、オキソリニック酸を除くキノロン系化合物またはその塩と上記イソチアゾリン系化合物等の抗菌性化合物（２種以上の化合物を用いる場合は各化合物の合計量）の含有量比は、９：１〜１：９（重量比）とすることが好ましく、８：２〜２：８（重量比）とすることがより好ましい。また、剤形、適用対象や使用環境等にもよるが、オキソリニック酸を除くキノロン系化合物またはその塩の含有量としては、０．１重量％〜４０重量％が好ましく、１重量％〜４０重量％がより好ましい。上記イソチアゾリン系化合物等の抗菌性化合物の含有量（２種以上を用いる場合は各化合物の合計量）としては、０．１重量％〜４０重量％が好ましく、１重量％〜４０重量％がより好ましい。
【０１１２】
本発明の工業用防腐・防汚組成物は、溶剤に溶解させ、または界面活性剤もしくは溶解助剤等を用いて懸濁もしくは分散させて、液剤または懸濁剤もしくは分散剤として、あるいは界面活性剤により乳化して乳剤として提供することができる。その他、界面活性剤や固体担体を加えて、水和剤、フロアブル剤、粉剤等としても提供することができる。
【０１１３】
本発明において用い得る溶剤としては、水；メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール等の低級アルコール類；エチレングリコール、ジエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、エチレングリコールモノメチルエーテル（メチルカルビトール）、エチレングリコールモノエチルエーテル（エチルカルビトール）、エチレングリコールモノブチルエーテル（ブチルカルビトール）、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル等の多価アルコール類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、プロピレンカーボネート等のケトン類；ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチルエーテル等のエーテル類；酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート、γ−ブチロラクトン、アジピン酸ジメチル、グルタル酸ジメチル、コハク酸ジメチル等のエステル類；ベンゼン、トルエン、キシレン、メチルナフタレン、ジメチルナフタレン、イソプロピルナフタレン、ジイソプロピルナフタレン、エチルビフェニル、ジエチルビフェニル、ソルベントナフサ等の芳香族系溶剤；四塩化炭素、クロロホルム、塩化メチレン等のハロゲン化炭化水素系溶剤；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、Ｎ−メチルピロリドン等の極性有機溶剤などが挙げられる。これらの溶剤は１種を単独で用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。また、これら溶剤の中では、水、低級アルコール類および多価アルコール類が好ましく用いられる。
【０１１４】
本発明において用い得る界面活性剤としては、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチエンノニルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレングリコール等の非イオン性界面活性剤；アルキル硫酸エステル塩、アルキル（アリール）スルホン酸塩、ジアルキルスルホコハク酸塩、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテルリン酸エステル塩、リグニンスルホン酸塩、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物等の陰イオン性界面活性剤などが挙げられる。これらは１種を単独で用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。
【０１１５】
本発明において用い得る溶解助剤としては、カプリン酸、アジピン酸等のカルボン酸類；アジピン酸ジイソプロピル、セバシン酸ジイソプロピル、ミリスチン酸イソプロピル、パルミチン酸イソプロピル等のエステル類；オクチルドデカノール、オレイルアルコール等の高級アルコール類；モノエタノールアミン、ジエタノールアミン等のアミン類などを挙げることができ、これらは１種を単独で用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。
【０１１６】
本発明において用い得る固体担体としては、カオリンクレー、アッタパルジャイトクレー、ベントナイト、モンモリロナイト、酸性白土、パイロフィライト、タルク、珪藻土、方解石等の鉱物質；トウモロコシ穂軸粉、クルミ殻粉等の天然有機物；尿素等の合成有機物；炭酸カルシウム、硫酸アンモニウム等の塩類；合成含水酸化珪素等の合成無機物の微粉末あるいは粒状物などを挙げることができる。
【０１１７】
本発明の工業用防腐・防汚組成物の調製は、５℃〜４０℃にて行うことが好ましい。溶剤等への混合は、０．５時間〜５時間程度の処理により行うことが好ましい。界面活性剤、溶解助剤および固体担体は、組成物全量に対して、それぞれ０．１重量％〜１０重量％、０．１重量％〜１０重量％、および３０重量％〜９５重量％程度配合することができる。
【０１１８】
本発明に係る工業用防腐・防汚組成物には、組成物の抗菌活性、安定性、安全性等に影響を与えない範囲で、他の防菌防黴剤や防藻剤等の他、ｐＨ調整剤、酸化防止剤、光安定化剤、消泡剤等の、一般的に製剤化に際して用いられる添加剤を添加することができる。
【０１１９】
本発明の工業用防腐・防汚組成物は、細菌類に対して良好な抗菌活性を有する。前記細菌類としては、大腸菌、緑膿菌、セラチア菌、レジオネラ菌等のグラム陰性桿菌；セレウス菌、クロストリジウム属等のグラム陽性桿菌；ブランハメラ菌等のグラム陰性球菌；黄色ブドウ球菌等のグラム陽性球菌などの病原性細菌の他、枯草菌等、病原性を示さないが、環境中に常在する細菌が挙げられる。
【０１２０】
本発明の工業用防腐・防汚組成物において、上記の抗菌性化合物を併用した場合、オキソリニック酸を除くキノロン系化合物またはその塩を単独で使用する場合よりも抗菌スペクトルが広がり、細菌類のみならず、カビ類や酵母類に対しても幅広く良好な抗菌活性を有する。前記カビ類としては、ムコール(Mucor)属（ケカビ）、リゾプス（Rhizopus）属（クモノスカビ）等の接合菌類；アスペルギルス（Aspergillus）属（コウジカビ）、ペニシリウム（Penicillium）属（アオカビ）、クラドスポリウム（Cladosporium）属（クロカビ）、オーレオバシディウム（Aureobasidium）属、アルテルナリア（Alternaria）属（ススカビ）、アクレモニウム（Acremonium）属、フザリウム（Fusarium）属、グリオクラディウム（Gliocladium）属、トリコデルマ（Trichoderma）属等の不完全菌類；ケトミウム（Chaetomium）属、ユーロチウム（Eurotium）属、ニューロスポラ (Neurospora)属（アカパンカビ）等の子嚢菌類などが、酵母類としては、シゾサッカロミセス（Schizosaccharomyces）属、プロトミセス（Protomyces）属、タフリナ（Taphrina）属等の原生子嚢菌類；エンドミセス（Endomyces）属等の真正子嚢菌類；サッカロミセス（Saccharomyces）属等の半子嚢菌類；カンジダ（Candida）属等の子嚢菌酵母の不完全型；フィロバシディエラ（Filobasidiella）属等の異型担子菌類；ロドトルラ（Rhodotorula）属、トリコスポロン（Trichosporon）属、スポロボロミセス（Sporobolomyces）属等の担子菌酵母の不完全型；ロドスポリディウム（Rhodosporidium）属、スポリディオボルス（Sporidiobolus）属、キサントフィロミセス（Xanthophyllomyces）属等の担子菌酵母などが挙げられる。
【０１２１】
また、本発明の防腐・防汚組成物は、藍藻類（Cyanophyceae）、緑藻類（Chlorophyceae）、緑虫類（Euglenophyceae）、車軸藻類（Charophyceae）、黄金色藻類（Chrysophyceae）、黄緑藻類（Xanthophyceae）、珪藻類（Bacillariophyceae）等の微細藻類に対しても、幅広く良好な抑制作用を示し得るため、防藻効果も期待される。
【０１２２】
従って、本発明の工業用防腐・防汚組成物は、製紙パルプ工場、冷却水循環工程等の種々の産業用水や、塗工紙、紙用塗工液、塗料、接着剤、合成ゴムラテックス、印刷インキ、プラスチック製品、セメント混和剤、シーリング剤等の各種工業製品の有害微生物の防除の用途において有効に用いることができる。より具体的には、製紙パルプ工場や冷却水循環工程のスライムコントロール剤、紙製品、樹脂製品の防菌防黴剤、塗料、合成ゴムラテックス、樹脂、インキ、シリコーンシーリング剤等の防菌防黴剤などとして有用である。
【０１２３】
本発明の工業用防腐・防汚組成物は、適用対象、防除の対象となる微生物の種類（細菌類、カビ類、酵母類、藻類等）や防除期間に応じて、添加量を適宜選択すればよいが、たとえば、スライムコントロール剤として用いる場合には、製品１ｋｇあたりに対し抗菌性成分の量として０．１ｍｇ〜５００ｍｇ、好ましくは、０．５ｍｇ〜１００ｍｇ、防腐剤として用いる場合には、製品１ｋｇあたりに対し抗菌性成分の量として１ｍｇ〜５，０００ｍｇ、好ましくは、１０ｍｇ〜１，０００ｍｇ、防黴・酵母剤または防藻剤として用いる場合には、製品１ｋｇあたりに対し抗菌性成分の量として１０ｍｇ〜５０，０００ｍｇ、好ましくは、１００ｍｇ〜１０，０００ｍｇとなるように添加すればよい。
【実施例】
【０１２４】
以下に本発明について実施例により詳細に説明する。
【０１２５】
［実施例１］
ノルフロキサシン（１−エチル−４−オキソ−６−フルオロ−７−ピペラジノ−１，４−ジヒドロキノリン−３−カルボン酸；和光純薬工業株式会社製）を、１０重量％となるようにメチルカルビトールに添加して、室温にて３０分間撹拌混合して調製し、白色の懸濁剤である工業用防腐・防汚組成物を得た。
【０１２６】
実施例１および後述する実施例２〜２２、比較例１〜７について、以下に示す方法により、抗菌活性の評価を行った。すなわち、試験菌として、細菌類では枯草菌（Bacillus subtilis IFO3513）、黄色ブドウ球菌（Staphylococcus aureus IFO12732）、大腸菌（Escherichia coli IFO3972）、緑膿菌（Pseudomonas aeruginosa IFO3080）、セラチア菌（Serratia marcescens IFO3735）を、カビ類ではクロコウジカビ（Aspergillus niger IFO6341）、アオカビ（Penicillium citrinum IFO6352）、クラドスポリウム クラドスポリオイデス（Cladosporium cladosporioides IFO6348）、アウレオバシディウム プルランス（Aureobasidium pullulans IFO6353）、アルテルナリア属（Alternaria sp.）、ムコール スピネッセンス（Mucor spinescens IFO6071）、グリオクラディウム ビレンス（Gliocladium virens IFO6355）を、酵母類ではロドトルラ ルブラ（Rhodotorula rubra IFO0907）、サッカロミセス セレビジアエ（Saccharomyces cerevisiae IFO0209）を用い、細菌類の場合は、実施例および比較例の各工業用防腐・防汚組成物をそれぞれ添加したグルコースブイヨン寒天培地（ｐＨ６．０）に、ミクロプランタ（佐久間製作所製）を用いて接種用細菌懸濁液を接種し、３３℃で１８時間培養した。カビ類および酵母類の場合は、前記と同様に、実施例および比較例の工業用防腐・防汚組成物をそれぞれ添加したグルコースブイヨン寒天培地（ｐＨ６．０）に、カビ胞子懸濁液または接種用酵母懸濁液を接種し、３３℃で１８時間培養し、さらに、２８℃で２日間培養した。培養後、各菌の生育を観察し、最小発育阻止濃度（ＭＩＣ）（μｇ／ｍＬ）を求めた。実施例１に係る工業用防腐・防汚組成物についての結果を表１に示す。
【０１２７】
【表１】
【０１２８】
表１より明らかなように、実施例１の工業用防腐・防汚組成物は、枯草菌、大腸菌および緑膿菌に対して６２．５μｇ／ｍＬ以下のＭＩＣを示し、良好な抗菌活性を有することが示された。特に、環境中に常在する非病原性細菌である枯草菌に対し、優れた抗菌活性を示した。
【０１２９】
［実施例２〜２２］
本発明の実施例２〜２２の工業用防腐・防汚組成物の組成を表２に、比較例１〜７の工業用防腐・防汚組成物の組成を表３に示す。なお、以下の実施例および比較例の組成物の調製に際しては、ノルフロキサシンは、上記と同じ和光純薬工業株式会社製を用いた。
【０１３０】
イソチアゾリン系化合物としては、「ＺＯＮＥＮ−ＭＴ」（２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オン５０重量％含有、株式会社ケミクレア製）、「ケーソンＬＸ１４００」（２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オンおよび５−クロロ−２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オンの混合物１４重量％含有、ロームアンドハース社製）、「ケーソン８９３Ｔ」（２−ｎ−オクチル−４−イソチアゾリン−３−オン９９．５重量％含有、ロームアンドハース社製）を用いた。
【０１３１】
ベンゾイソチアゾリン系化合物としては、「ＢＩＴ」（１，２−ベンゾイソチアゾリン−３−オン８０重量％含有、ダウケミカル社製）を用いた。
【０１３２】
ベンゾイミダゾール系化合物としては、「コートサイド」（メチル ２−ベンゾイミダゾールカルバメート塩酸塩１０重量％含有、日本エンバイロケミカルズ株式会社製）を用いた。
【０１３３】
ハロアセチレン系化合物としては、「ＩＰＢＣ」（３−ヨード−２−プロピニル Ｎ−ブチルカルバメート９９．４重量％含有、フォーカス社製）を用いた。
【０１３４】
テトラヒドロチオフェンジオキシド系化合物としては、スラカーブ（３，３，４，４−テトラクロロテトラヒドロチオフェン−１，１−ジオキシド）の２０重量％ジエチレングリコールモノメチルエーテル溶液（日本エンバイロケミカルズ株式会社製）を用いた。
【０１３５】
【表２】
【０１３６】
【表３】
【０１３７】
実施例および比較例の工業用防腐・防汚組成物は、表２および表３に示す組成に従い、各抗菌性化合物をメチルカルビトールに添加して、室温にて３０分間撹拌混合して調製し、白色の懸濁剤または溶液剤として得た。
【０１３８】
ノルフロキサシンと上記所定の抗菌性化合物を併用する場合（実施例２〜２２）の抗菌活性の評価は、ノルフロキサシン、イソチアゾリン系化合物、ベンゾイソチアゾリン系化合物、ベンゾイミダゾール系化合物、ハロアセチレン系化合物およびテトラヒドロチオフェンジオキシド系化合物をそれぞれ単独で用いた場合（実施例１および比較例１〜７）のＭＩＣ値から、前記各実施例の防腐・防汚組成物について次式によりＭＩＣの理論値を算出し、実際に測定したＭＩＣ値をそれらと比較することにより行った。ＭＩＣの実測値がその理論値よりも小さくなる場合、すなわち「実測値／理論値」が１より小さくなる場合には、上記の各成分を単独で用いた場合の代数和より抗菌活性が増強されているといえるため、相乗効果が認められると評価した。
【０１３９】
ＭＩＣの理論値＝ＣＡ×ｘ／１００＋ＣＢ×ｙ／１００
ＣＡ；ノルフロキサシンを単独で用いた場合（実施例１）のＭＩＣ値
ＣＢ；イソチアゾリン系化合物、ベンゾイソチアゾリン系化合物、ベンゾイミダゾール系化合物、ハロアセチレン系化合物およびテトラヒドロチオフェンジオキシド系化合物をそれぞれ単独で用いた場合（比較例１〜７）のＭＩＣ値
ｘ；抗菌性成分中においてノルフロキサシンの占める割合（重量％）
ｙ；抗菌性成分中において、イソチアゾリン系化合物、ベンゾイソチアゾリン系化合物、ベンゾイミダゾール系化合物、ハロアセチレン系化合物またはテトラヒドロチオフェンジオキシド系化合物の占める割合（重量％）
【０１４０】
抗菌活性の評価結果を表４〜表１０に示した。各表中の「１００／０」、「７５／２５」、「５０／５０」、「２５／７５」および「０／１００」は、ノルフロキサシンと、イソチアゾリン系化合物、ベンゾイソチアゾリン系化合物、ベンゾイミダゾール系化合物、ハロアセチレン系化合物またはテトラヒドロチオフェンジオキシド系化合物との配合重量比を示す。また、以下の各表には、ノルフロキサシンおよび前記の各抗菌性化合物について、前記重量比で用いた場合に、少なくとも一以上の重量比において１０００μｇ／ｍＬ未満のＭＩＣ値の得られた試験菌のみを示した。
【０１４１】
【表４】
【０１４２】
上記表４は、ノルフロキサシンと、イソチアゾリン系化合物として、２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オンを１００：０、７５：２５、５０：５０、２５：７５の重量比で含有する工業用防腐・防汚組成物（実施例１〜４）についての評価結果を示す。実施例２〜４の工業用防腐・防汚組成物は、実施例１の組成物と同様に細菌類に対して有効な抗菌活性を示した。そして、枯草菌に対しては、全組成物についてＭＩＣの実測値／理論値が１より小さく、ノルフロキサシンおよび２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オンをそれぞれ単独で使用した場合（実施例１および比較例１）と比べ、抗菌活性の相乗的な向上が認められた。また、黄色ブドウ球菌に対しては実施例３の組成物、大腸菌に対しては実施例２の組成物、セラチア菌に対しては実施例４の組成物において抗菌活性の相乗的な向上が見られた。なお、緑膿菌に対しては、いずれの組成物においても、抗菌活性の相乗的な向上は見られなかった。
【０１４３】
【表５】
【０１４４】
上記表５は、ノルフロキサシンと、イソチアゾリン系化合物として、２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オンおよび５−クロロ−２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オンの混合物を１００：０、７５：２５、５０：５０、２５：７５の重量比で含有する工業用防腐・防汚組成物（実施例１、５〜７）についての評価結果を示す。実施例５〜７の組成物について、実施例１の組成物がさほど良好な抗菌活性を示さなかったセラチア菌、カビ類および酵母類に対し、抗菌活性が認められた。また、実施例５の組成物について大腸菌および緑膿菌、実施例６の組成物について枯草菌および緑膿菌、実施例７の組成物について緑膿菌に対する場合を除き、ＭＩＣの実測値／理論値が１より小さく、ノルフロキサシンおよび２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オン・５−クロロ−２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オン混合物をそれぞれ単独で使用した場合（実施例１および比較例２）と比べ、試験した各細菌、カビおよび酵母に対して、抗菌活性の相乗的な向上が認められた。
【０１４５】
【表６】
【０１４６】
上記表６は、ノルフロキサシンと、イソチアゾリン系化合物として、２−ｎ−オクチル−４−イソチアゾリン−３−オンを１００：０、７５：２５、５０：５０、２５：７５の重量比で含有する工業用防腐・防汚組成物（実施例１、８〜１０）についての評価結果を示す。実施例８〜１０の組成物は、セラチア菌には有効な抗菌活性を示さなかったが、実施例１の組成物が無効であったカビ類および酵母類に対して、有効な抗菌活性を示した。また、実施例９および１０の組成物について枯草菌、実施例８〜１０の全組成物について黄色ブドウ球菌に対する場合を除き、ＭＩＣの実測値／理論値が１より小さく、ノルフロキサシンおよび２−ｎ−オクチル−４−イソチアゾリン−３−オンをそれぞれ単独で使用した場合（実施例１および比較例３）と比べ、抗菌活性の相乗的な向上が認められた。
【０１４７】
【表７】
【０１４８】
上記表７は、ノルフロキサシンと、ベンゾイソチアゾリン系化合物として、１，２−ベンゾイソチアゾリン−３−オンを１００：０、７５：２５、５０：５０、２５：７５の重量比で含有する工業用防腐・防汚組成物（実施例１、１１〜１３）についての評価結果を示す。実施例１１〜１３の組成物は、ムコール スピネッセンスおよびグリオクラディウム ビレンスを除くカビ類ならびに酵母類に対しても、抗菌活性を示した。ただし、大腸菌および緑膿菌に対しては、抗菌活性の相乗的な向上は見られなかった。しかし、その他の試験菌に対しては、実施例１１の組成物について黄色ブドウ球菌、クロコウジカビ、アオカビ、アルテルナリア属、ロドトルラ ルブラ、サッカロミセス セレビジアエ、実施例１２の組成物についてロドトルラ ルブラ、実施例１３の組成物について黄色ブドウ球菌およびクロコウジカビに対する場合を除き、ＭＩＣの実測値／理論値が１より小さく、ノルフロキサシンおよび１，２−ベンゾイソチアゾリン−３−オンをそれぞれ単独で使用した場合（実施例１および比較例４）と比べ、抗菌活性の相乗的な向上が認められた。
【０１４９】
【表８】
【０１５０】
上記表８は、ノルフロキサシンと、ベンゾイミダゾール系化合物として、メチル ２−ベンゾイミダゾールカルバメート塩酸塩を１００：０、７５：２５、５０：５０、２５：７５の重量比で含有する工業用防腐・防汚組成物（実施例１、１４〜１６）についての評価結果を示す。実施例１４〜１６の組成物は、黄色ブドウ球菌、セラチア菌以外の細菌類、アルテルナリア属、ムコール スピネッセンス以外のカビ類、およびロドトルラ ルブラに対して抗菌活性を示した。また、抗菌活性を示した試験菌に対しては、ＭＩＣの実測値／理論値が１より小さく、ノルフロキサシンおよびメチル ２−ベンゾイミダゾールカルバメート塩酸塩をそれぞれ単独で使用した場合（実施例１および比較例５）と比べ、抗菌活性の相乗的な向上が認められた。
【０１５１】
【表９】
【０１５２】
上記表９は、ノルフロキサシンと、ハロアセチレン系化合物として、３−ヨード−２−プロピニル Ｎ−ブチルカルバメートを１００：０、７５：２５、５０：５０、２５：７５の重量比で含有する工業用防腐・防汚組成物（実施例１、１７〜１９）についての評価結果を示す。実施例１７〜１９の組成物は、黄色ブドウ球菌およびセラチア菌以外の細菌類、カビ類ならびに酵母類に対して抗菌活性を示した。また、抗菌活性を示した試験菌に対しては、ＭＩＣの実測値／理論値が１より小さく、ノルフロキサシンおよび３−ヨード−２−プロピニル Ｎ−ブチルカルバメートをそれぞれ単独で使用した場合（実施例１および比較例６）と比べ、抗菌活性の相乗的な向上が認められた。
【０１５３】
【表１０】
【０１５４】
上記表１０は、ノルフロキサシンと、テトラヒドロチオフェンジオキシド系化合物として、スラカーブ（３，３，４，４−テトラクロロテトラヒドロチオフェン−１，１−ジオキシド）を１００：０、７５：２５、５０：５０、２５：７５の重量比で含有する工業用防腐・防汚組成物（実施例１、２０〜２２）についての評価結果を示す。実施例２０〜２２の組成物は、試験した全菌類に対し抗菌活性を示した。また、実施例２０の組成物について枯草菌、大腸菌および緑膿菌、実施例２１、２２の組成物について大腸菌および緑膿菌に対する場合を除き、ＭＩＣの実測値／理論値が１よりも小さく、ノルフロキサシンおよびスラカーブをそれぞれ単独で使用した場合（実施例１および比較例７）と比べ、抗菌活性の相乗的な向上が認められた。
【０１５５】
［実施例２３］
オフロキサシン標準品（ｒａｃ−９−フルオロ−２，３−ジヒドロ−３α＊−メチル−１０−（４−メチル−１−ピペラジニル）−７−オキソ−７Ｈ−ピリド［１，２，３−ｄｅ］−１，４−ベンゾオキサジン−６−カルボン酸；和光純薬工業株式会社製）を、１０重量％となるようにメチルカルビトールに添加して、室温にて３０分間撹拌混合して調製し、白色の懸濁剤である工業用防腐・防汚組成物を得た。
【０１５６】
［実施例２４〜４４］
上記表２において、ノルフロキサシンをオフロキサシンに代替して同様に調製し、実施例２４〜４４の工業用防腐・防汚組成物とした。なお、オフロキサシンとしては、上記と同じ和光純薬工業株式会社製の標準品を用いた。
【０１５７】
実施例２３〜４４の工業用防腐・防汚組成物について、上記と同様に抗菌活性の評価を行った。また、上記比較例１〜７の工業用防腐・防汚組成物についても、同時に抗菌活性を評価した。実施例２４〜４４の工業用防腐・防汚組成物については、上記と同様に、オフロキサシンと他の抗菌性化合物を併用することにより、抗菌活性の相乗的な向上がみられるかどうかについても評価した。
【０１５８】
実施例２３についてのＭＩＣ測定結果を表１１に示した。
【０１５９】
【表１１】
【０１６０】
表１１より明らかなように、オフロキサシンを含有する実施例２３の工業用防腐・防汚組成物は、枯草菌、黄色ブドウ球菌、大腸菌および緑膿菌に対して６２．５μｇ／ｍＬ以下、セラチア菌に対して、１２５μｇ／ｍＬのＭＩＣを示し、細菌類に対して良好な抗菌活性を有することが示された。特に、環境中に常在する非病原性細菌である枯草菌に対し、優れた抗菌活性を示した。
【０１６１】
オフロキサシンと、他の抗菌性化合物とを併用する実施例２４〜４４について、抗菌活性の評価結果を表１２〜１８に示した。各表中の「１００／０」、「７５／２５」、「５０／５０」、「２５／７５」および「０／１００」は、オフロキサシンと、イソチアゾリン系化合物、ベンゾイソチアゾリン系化合物、ベンゾイミダゾール系化合物、ハロアセチレン系化合物またはテトラヒドロチオフェンジオキシド系化合物との配合重量比を示す。また、以下の各表には、オフロキサシンおよび前記の各抗菌性化合物について、前記重量比で用いた場合に、少なくとも一以上の重量比において１０００μｇ／ｍＬ未満のＭＩＣ値の得られた試験菌のみを示した。
【０１６２】
【表１２】
【０１６３】
上記表１２は、オフロキサシンと、イソチアゾリン系化合物である２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オンを１００：０、７５：２５、５０：５０、２５：７５の重量比で含有する工業用防腐・防汚組成物（実施例２３〜２６）についての評価結果を示す。実施例２４〜２６の工業用防腐・防汚組成物は、実施例２３の組成物と同様に細菌類に対して良好な抗菌活性を示した。そして、セラチア菌に対する場合を除いて、全組成物についてＭＩＣの実測値／理論値が１より小さく、オフロキサシンおよび２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オンをそれぞれ単独で使用した場合（実施例２３および比較例１）と比べ、抗菌活性の相乗的な向上が認められた。
【０１６４】
【表１３】
【０１６５】
上記表１３は、オフロキサシンと、イソチアゾリン系化合物の２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オン、および５−クロロ−２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オンの混合物を１００：０、７５：２５、５０：５０、２５：７５の重量比で含有する工業用防腐・防汚組成物（実施例２３、２７〜２９）についての評価結果を示す。実施例２７〜２９の組成物について、実施例２３の組成物が有効な抗菌活性を示さなかったカビ類および酵母類に対し、良好な抗菌活性が認められた。また、実施例２７〜２９の組成物について黄色ブドウ球菌および大腸菌、実施例２７および２８の組成物について緑膿菌に対する場合を除き、ＭＩＣの実測値／理論値が１より小さく、オフロキサシンおよび２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オン・５−クロロ−２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オン混合物をそれぞれ単独で使用した場合（実施例２３および比較例２）と比べ、試験した各細菌、カビおよび酵母に対して、抗菌活性の相乗的な向上が認められた。
【０１６６】
【表１４】
【０１６７】
上記表１４は、オフロキサシンと、イソチアゾリン系化合物である２−ｎ−オクチル−４−イソチアゾリン−３−オンを１００：０、７５：２５、５０：５０、２５：７５の重量比で含有する工業用防腐・防汚組成物（実施例２３、３０〜３２）についての評価結果を示す。実施例３１、３２の組成物がセラチア菌に対し有効な抗菌活性を示さなかったことを除き、試験した細菌類、カビ類および酵母類に対して、有効な抗菌活性が認められた。また、有効な抗菌活性が認められた場合には、ＭＩＣの実測値／理論値が１より小さく、オフロキサシンおよび２−ｎ−オクチル−４−イソチアゾリン−３−オンをそれぞれ単独で使用した場合（実施例２３および比較例３）と比べ、抗菌活性の相乗的な向上が認められた。
【０１６８】
【表１５】
【０１６９】
上記表１５は、オフロキサシンと、ベンゾイソチアゾリン系化合物である１，２−ベンゾイソチアゾリン−３−オンを１００：０、７５：２５、５０：５０、２５：７５の重量比で含有する工業用防腐・防汚組成物（実施例２３、３３〜３５）についての評価結果を示す。クロコウジカビ、アオカビ、オーレオバシディウム プルランス、アルテルナリア属、ムコール スピネッセンスおよびロドトルラ ルブラに対して実施例３３の組成物、グリオクラディウム ビレンスに対して実施例３３〜３５の組成物が有効な抗菌活性を示さなかった他は、有効な抗菌活性が認められた。また、有効な抗菌活性の見られた場合のうち、実施例３３〜３５の組成物について黄色ブドウ球菌および緑膿菌、実施例３５についてムコール スピネセンスに対する場合を除き、ＭＩＣの実測値／理論値が１より小さく、オフロキサシンおよび１，２−ベンゾイソチアゾリン−３−オンをそれぞれ単独で使用した場合（実施例２３および比較例４）と比べ、抗菌活性の相乗的な向上が認められた。
【０１７０】
【表１６】
【０１７１】
上記表１６は、オフロキサシンと、ベンゾイミダゾール系化合物であるメチル ２−ベンゾイミダゾールカルバメート塩酸塩を１００：０、７５：２５、５０：５０、２５：７５の重量比で含有する工業用防腐・防汚組成物（実施例２３、３６〜３８）についての評価結果を示す。実施例３６〜３８の組成物について、アルテルナリア属、ムコール スピネッセンスおよびサッカロミセス セレビジアエ、実施例３８の組成物についてセラチア菌に対して有効な抗菌活性が見られなかった他は、試験した細菌類、カビ類および酵母に対して抗菌活性が認められた。また、抗菌活性を示した試験菌に対しては、ＭＩＣの実測値／理論値が１より小さく、オフロキサシンおよびメチル ２−ベンゾイミダゾールカルバメート塩酸塩をそれぞれ単独で使用した場合（実施例２３および比較例５）と比べ、抗菌活性の相乗的な向上が認められた。
【０１７２】
【表１７】
【０１７３】
上記表１７は、オフロキサシンと、ハロアセチレン系化合物である３−ヨード−２−プロピニル Ｎ−ブチルカルバメートを１００：０、７５：２５、５０：５０、２５：７５の重量比で含有する工業用防腐・防汚組成物（実施例２３、３９〜４１）についての評価結果を示す。実施例４１の組成物がセラチア菌に対して有効な抗菌活性を示さなかった他は、試験した細菌類、カビ類および酵母類に対して抗菌活性を示した。また、抗菌活性を示した試験菌に対しては、ＭＩＣの実測値／理論値が１より小さく、オフロキサシンおよび３−ヨード−２−プロピニル Ｎ−ブチルカルバメートをそれぞれ単独で使用した場合（実施例２３および比較例６）と比べ、抗菌活性の相乗的な向上が認められた。
【０１７４】
【表１８】
【０１７５】
上記表１８は、オフロキサシンと、テトラヒドロチオフェンジオキシド系化合物であるスラカーブ（３，３，４，４−テトラクロロテトラヒドロチオフェン−１，１−ジオキシド）を、１００：０、７５：２５、５０：５０、２５：７５の重量比で含有する工業用防腐・防汚組成物（実施例２３、４２〜４４）についての評価結果を示す。実施例４２〜４４の組成物は、試験した全菌類に対し抗菌活性を示した。また、大腸菌、緑膿菌およびセラチア菌に対する場合を除き、ＭＩＣの実測値／理論値が１よりも小さく、オフロキサシンおよびスラカーブをそれぞれ単独で使用した場合（実施例２３および比較例７）と比べ、抗菌活性の相乗的な向上が認められた。
【０１７６】
［実施例４５］
ジフロキサシン標準品（１−（４−フルオロフェニル）−４−オキソ−６−フルオロ−７−（４−メチルピペラジノ）−１，４−ジヒドロキノリン−３−カルボン酸；和光純薬工業株式会社製）を、１０重量％となるようにメチルカルビトールに添加して、室温にて３０分間撹拌混合して調製し、白色の懸濁剤である工業用防腐・防汚組成物を得た。
【０１７７】
［実施例４６〜６６］
上記表２において、ノルフロキサシンをジフロキサシンに代替して同様に調製し、実施例４６〜６６の工業用防腐・防汚組成物とした。なお、ジフロキサシンとしては、上記と同じ和光純薬工業株式会社製の標準品を用いた。
【０１７８】
実施例４５〜６６の工業用防腐・防汚組成物について、上記と同様に抗菌活性の評価を行った。また、上記比較例１〜７の工業用防腐・防汚組成物についても、同時に抗菌活性を評価した。実施例４６〜６６の工業用防腐・防汚組成物については、上記と同様に、ジフロキサシンと他の抗菌性化合物を併用することにより、抗菌活性の相乗的な向上がみられるかどうかについても評価した。
【０１７９】
実施例４５についてのＭＩＣ測定結果を表１９に示した。
【０１８０】
【表１９】
【０１８１】
表１９より明らかなように、ジフロキサシンを含有する実施例４５の工業用防腐・防汚組成物は、枯草菌、黄色ブドウ球菌、大腸菌および緑膿菌に対して６２．５μｇ／ｍＬ以下、セラチア菌に対して、２５０μｇ／ｍＬのＭＩＣを示し、細菌類に対して良好な抗菌活性を有することが示された。特に、環境中に常在する非病原性細菌である枯草菌に対し、優れた抗菌活性を示した。
【０１８２】
ジフロキサシンと、他の抗菌性化合物とを併用する実施例４６〜６６について、抗菌活性の評価結果を表２０〜２６に示した。各表中の「１００／０」、「７５／２５」、「５０／５０」、「２５／７５」および「０／１００」は、ジフロキサシンと、イソチアゾリン系化合物、ベンゾイソチアゾリン系化合物、ベンゾイミダゾール系化合物、ハロアセチレン系化合物またはテトラヒドロチオフェンジオキシド系化合物との配合重量比を示す。また、以下の各表には、ジフロキサシンおよび前記の各抗菌性化合物について、前記重量比で用いた場合に、少なくとも一以上の重量比において１０００μｇ／ｍＬ未満のＭＩＣ値の得られた試験菌のみを示した。
【０１８３】
【表２０】
【０１８４】
上記表２０は、ジフロキサシンと、イソチアゾリン系化合物である２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オンを１００：０、７５：２５、５０：５０、２５：７５の重量比で含有する工業用防腐・防汚組成物（実施例４５〜４８）についての評価結果を示す。実施例４６〜４８の工業用防腐・防汚組成物は、実施例４５の組成物と同様に細菌類に対して良好な抗菌活性を示した。そして、セラチア菌に対する場合を除いてＭＩＣの実測値／理論値が１より小さく、ジフロキサシンおよび２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オンをそれぞれ単独で使用した場合（実施例４５および比較例１）と比べ、抗菌活性の相乗的な向上が認められた。
【０１８５】
【表２１】
【０１８６】
上記表２１は、ジフロキサシンと、イソチアゾリン系化合物の２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オン、および５−クロロ−２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オンの混合物を１００：０、７５：２５、５０：５０、２５：７５の重量比で含有する工業用防腐・防汚組成物（実施例４５、４９〜５１）についての評価結果を示す。実施例４９〜５１の組成物について、実施例４５の組成物が有効な抗菌活性を示さなかったカビ類および酵母類に対し、良好な抗菌活性が認められた。また、実施例５０および５１の組成物について黄色ブドウ球菌、実施例５１の組成物について大腸菌に対する場合を除き、ＭＩＣの実測値／理論値が１より小さく、ジフロキサシンおよび２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オン・５−クロロ−２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オン混合物をそれぞれ単独で使用した場合（実施例４５および比較例２）と比べ、試験した各細菌、カビおよび酵母に対して、抗菌活性の相乗的な向上が認められた。
【０１８７】
【表２２】
【０１８８】
上記表２２は、ジフロキサシンと、イソチアゾリン系化合物である２−ｎ−オクチル−４−イソチアゾリン−３−オンを１００：０、７５：２５、５０：５０、２５：７５の重量比で含有する工業用防腐・防汚組成物（実施例４５、５２〜５４）についての評価結果を示す。実施例５３の組成物がセラチア菌、実施例５４の組成物が大腸菌およびセラチア菌に対し有効な抗菌活性を示さなかったが、その他は、試験した細菌類、カビ類および酵母類に対して、有効な抗菌活性が認められた。また、有効な抗菌活性が認められた場合には、ＭＩＣの実測値／理論値が１より小さく、ジフロキサシンおよび２−ｎ−オクチル−４−イソチアゾリン−３−オンをそれぞれ単独で使用した場合（実施例４５および比較例３）と比べ、抗菌活性の相乗的な向上が認められた。
【０１８９】
【表２３】
【０１９０】
上記表２３は、ジフロキサシンと、ベンゾイソチアゾリン系化合物である１，２−ベンゾイソチアゾリン−３−オンを１００：０、７５：２５、５０：５０、２５：７５の重量比で含有する工業用防腐・防汚組成物（実施例４５、５５〜５７）についての評価結果を示す。クロコウジカビ、アルテルナリア属、ムコール スピネッセンス、グリオクラディウム ビレンスおよびロドトルラ ルブラに対して実施例５５の組成物、グリオクラディウム ビレンスに対して実施例５６の組成物が有効な抗菌活性を示さなかった他は、有効な抗菌活性が認められた。また、有効な抗菌活性の見られた場合のうち、実施例５５の組成物について大腸菌およびセラチア菌、実施例５５〜５７の組成物について緑膿菌に対する場合を除き、ＭＩＣの実測値／理論値が１より小さく、ジフロキサシンおよび１，２−ベンゾイソチアゾリン−３−オンをそれぞれ単独で使用した場合（実施例４５および比較例４）と比べ、抗菌活性の相乗的な向上が認められた。
【０１９１】
【表２４】
【０１９２】
上記表２４は、ジフロキサシンと、ベンゾイミダゾール系化合物であるメチル ２−ベンゾイミダゾールカルバメート塩酸塩を１００：０、７５：２５、５０：５０、２５：７５の重量比で含有する工業用防腐・防汚組成物（実施例４５、５８〜６０）についての評価結果を示す。実施例５８〜６０の組成物について、アルテルナリア属、ムコール スピネッセンスおよびサッカロミセス セレビジアエ、実施例６０の組成物についてセラチア菌に対して有効な抗菌活性が見られなかった。しかし、試験した他の細菌類、カビ類および酵母に対しては抗菌活性が認められ、ＭＩＣの実測値／理論値が１より小さく、ジフロキサシンおよびメチル ２−ベンゾイミダゾールカルバメート塩酸塩をそれぞれ単独で使用した場合（実施例４５および比較例５）と比べ、抗菌活性の相乗的な向上が認められた。
【０１９３】
【表２５】
【０１９４】
上記表２５は、ジフロキサシンと、ハロアセチレン系化合物である３−ヨード−２−プロピニル Ｎ−ブチルカルバメートを１００：０、７５：２５、５０：５０、２５：７５の重量比で含有する工業用防腐・防汚組成物（実施例４５、６１〜６３）についての評価結果を示す。実施例６３の組成物が大腸菌、緑膿菌およびセラチア菌に対して有効な抗菌活性を示さなかった他は、試験した細菌類、カビ類および酵母類に対して抗菌活性を示した。また、抗菌活性を示した試験菌に対しては、実施例６１の組成物についてセラチア菌に対する場合を除き、ＭＩＣの実測値／理論値が１より小さく、ジフロキサシンおよび３−ヨード−２−プロピニル Ｎ−ブチルカルバメートをそれぞれ単独で使用した場合（実施例４５および比較例６）と比べ、抗菌活性の相乗的な向上が認められた。
【０１９５】
【表２６】
【０１９６】
上記表２６は、ジフロキサシンと、テトラヒドロチオフェンジオキシド系化合物であるスラカーブ（３，３，４，４−テトラクロロテトラヒドロチオフェン−１，１−ジオキシド）を、１００：０、７５：２５、５０：５０、２５：７５の重量比で含有する工業用防腐・防汚組成物（実施例４５、６４〜６６）についての評価結果を示す。実施例６４〜６６の組成物は、試験した全菌類に対し抗菌活性を示した。また、実施例６５の組成物について大腸菌および緑膿菌、実施例６４および６６の組成物についてセラチア菌に対する場合を除き、ＭＩＣの実測値／理論値が１よりも小さく、ジフロキサシンおよびスラカーブをそれぞれ単独で使用した場合（実施例４５および比較例７）と比べ、抗菌活性の相乗的な向上が認められた。
【０１９７】
上述したように、本発明の実施例の防腐・防汚組成物においては、キノロン系化合物であるノルフロキサシン、オフロキサシンおよびジフロキサシンが、枯草菌等の環境中に常在する非病原性細菌に対しても、抗菌活性を有することが認められた。また所定の抗菌性化合物を併用することにより、抗菌活性が相乗的に上昇し、細菌類並びにカビおよび酵母の真菌類に対し、幅広く抗菌活性の相乗的な向上が認められた。
【産業上の利用可能性】
【０１９８】
本発明によれば、産業用水や各種工業用品の有害微生物の防除等、幅広い工業用途に利用可能で、かつそれらの各用途において抗菌活性が相乗的に向上した工業用防腐・防汚組成物を提供することができる。
【０１９９】
本出願は、わが国で出願された特願２０１０−９９２２８を基礎とするものであり、その内容は本明細書に全て包含されるものである。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、オキソリニック酸を除くキノロン系化合物またはその塩を含有する、工業用防腐・防汚組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
キノロン系化合物は、古くから抗菌薬として用いられてきた。キノロン系抗菌薬としては、ナリジクス酸、ピペミド酸等のオールドキノロン系抗菌薬、ノルフロキサシン等のニューキノロン系抗菌薬が知られている。オールドキノロン系抗菌薬は、主としてグラム陰性桿菌に抗菌活性を示し、ニューキノロン系抗菌薬では、抗菌スペクトルの拡大および抗菌活性の向上が図られている。
【０００３】
上記キノロン系化合物のうち、工業用の防菌用途に応用されているものとしては、オキソリニック酸が知られている（特許文献１〜３）。しかし、抗菌薬として汎用される他のキノロン系化合物について、工業用の防腐・防汚への応用は知られていない。また、オキソリニック酸の抗菌活性の向上を図るため、酸化亜鉛と併用した抗菌剤組成物が開示され（特許文献４）、本出願人も、他の所定の抗菌性化合物と併用した工業用抗菌組成物について出願している（特願２００９−１８８１０）。一方、他のキノロン系化合物については、ラクトフェリン類の加水分解物または該加水分解物由来の抗菌性ペプチドと併用した抗菌剤が開示されている（特許文献５）。しかしながら、特に工業用途に応用可能な防腐・防汚組成物において、キノロン系抗菌薬の抗菌スペクトルの拡大および抗菌活性の向上を達成したという報告はない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平９−１７６９６６号公報
【特許文献２】特開平９−２０８４０８号公報
【特許文献３】特開平９−２４９８２７号公報
【特許文献４】特開２００２−２８４６０１号公報
【特許文献５】特開平１１−９２３７５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
そこで本発明においては、オキソリニック酸以外のキノロン系化合物についても、工業用の防腐・防汚への応用を可能とし、さらに該化合物を含有する工業用防腐・防汚組成物において、その抗菌スペクトルの拡大および抗菌活性の向上を図ることを目的とした。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記の課題を解決するべく鋭意検討した結果、本発明者らは、オキソリニック酸以外のキノロン系化合物について、枯草菌等、病原性を示さず、環境中に常在する細菌類に対しても抗菌活性を有することを見いだした。さらに、特定の抗菌性化合物と併用することにより、抗菌スペクトルが広がり、かつ抗菌活性の相乗的な向上が得られることを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００７】
すなわち本発明は、次の［１］〜［１０］に関する。
［１］式（１）で示されるキノロン系化合物であって、オキソリニック酸を除く化合物、またはその塩を含有する、工業用防腐・防汚組成物。
【０００８】
【化１】
【０００９】
［式中、Ａ１環は置換されていてもよく、１個または２個の炭素原子が窒素原子に置換された複素環であってもよい６員の芳香族環を示し、Ｒ１およびＲ２は同一または異なって、水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を示す。また、Ｒ１はＡ１環の置換基とともに環を形成していてもよい。］
【００１０】
［２］さらに、式（２）で示されるイソチアゾリン系化合物、式（３）で示されるベンゾイソチアゾリン系化合物、式（４）で示されるベンゾイミダゾール系化合物、式（５）で示されるハロアセチレン系化合物、式（６）で示されるテトラヒドロチオフェンジオキシド系化合物、およびこれらの塩よりなる群から選択される１種または２種以上を含有する、上記［１］に記載の工業用防腐・防汚組成物。
【００１１】
【化２】
【００１２】
［式中、Ｒ３は水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を示し、Ｒ４およびＲ５は同一または異なって、それぞれ水素原子、ハロゲン原子または置換されていてもよい炭化水素基を示す。］
【００１３】
【化３】
【００１４】
［式中、Ａ２環は置換されていてもよいベンゼン環を示し、Ｙは水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を示す。］
【００１５】
【化４】
【００１６】
［式中、Ａ３環は置換されていてもよいベンゼン環を示し、Ｚは−ＮＨＣＯＯＲ６（式中、Ｒ６は水素原子またはアルキル基を示す。）で示される基または置換されていてもよい５員または６員の含窒素複素環基を示す。］
【００１７】
【化５】
【００１８】
［式中、Ｘ１はハロゲン原子を示し、Ｒ７およびＲ８は同一または異なって、それぞれ水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を示し、ｍは０または１の整数を示す。］
【００１９】
【化６】
【００２０】
［式中、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３およびＹ４は同一または異なって、それぞれ水素原子、ハロゲン原子または置換されていてもよい炭化水素基を示す。］
【００２１】
［３］キノロン系化合物であって、オキソリニック酸を除く化合物が、式（７）および式（８）で示される化合物よりなる群から選択される１種または２種以上である、上記［１］または［２］に記載の工業用防腐・防汚組成物。
【００２２】
【化７】
【００２３】
［式中、Ｒ１およびＲ２は同一または異なって、水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を示し、Ｒ９は水素原子、ハロゲン原子またはアミノ基、Ｒ１０は水素原子またはハロゲン原子、Ｒ１１は置換されていてもよい炭化水素基または置換されていてもよい環状アミノ基を示す。］
【００２４】
【化８】
【００２５】
［式中、Ｒ１およびＲ２は同一または異なって、水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を示し、Ｒ９は水素原子、ハロゲン原子またはアミノ基、Ｒ１０は水素原子またはハロゲン原子、Ｒ１１は置換されていてもよい炭化水素基または置換されていてもよい環状アミノ基、Ｒ１２は水素原子、ハロゲン原子、置換されていてもよいアルコキシ基または置換されていてもよい炭化水素基を示す。また、Ｒ１はＲ１２とともに環を形成していてもよい。］
【００２６】
［４］キノロン系化合物であって、オキソリニック酸を除く化合物が、エノキサシン、トスフロキサシン、ノルフロキサシン、サラフロキサシン、ジフロキサシン、フレロキサシン、ロメフロキサシン、エンロフロキサシン、シプロフロキサシン、ガチフロキサシン、スパルフロキサシン、ダノフロキサシン、モキシフロキサシン、ガレノキサシン、シタフロキサシン、オルビフロキサシン、ナディフロキサシン、オフロキサシン、レボフロキサシン、パズフロキサシンおよびマルボフロキサシンよりなる群から選択される１種または２種以上である、上記［１］または［２］に記載の工業用防腐・防汚組成物。
［５］イソチアゾリン系化合物が、２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オン、２−ｎ−オクチル−４−イソチアゾリン−３−オン、４−クロロ−２−ｎ−オクチル−４−イソチアゾリン−３−オン、５−クロロ−２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オン、５−クロロ−２−ｎ−オクチル−４−イソチアゾリン−３−オンおよび４，５−ジクロロ−２−ｎ−オクチル−４−イソチアゾリン−３−オンよりなる群から選択される１種または２種以上である、上記［２］に記載の工業用防腐・防汚組成物。
［６］イソチアゾリン系化合物が、２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オン、５−クロロ−２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オンおよび２−ｎ−オクチル−４−イソチアゾリン−３−オンよりなる群から選択される１種または２種以上である、上記［２］に記載の工業用防腐・防汚組成物。
［７］ベンゾイソチアゾリン系化合物が、１，２−ベンゾイソチアゾリン−３−オンおよびＮ−ｎ−ブチル−１，２−ベンゾイソチアゾリン−３−オンよりなる群から選択される１種または２種である、上記［２］に記載の工業用防腐・防汚組成物。
［８］ベンゾイミダゾール系化合物が、メチル ２−ベンゾイミダゾールカルバメート、エチル ２−ベンゾイミダゾールカルバメートおよび２−（４−チアゾリル）ベンゾイミダゾールよりなる群から選択される１種または２種以上である、上記［２］に記載の工業用防腐・防汚組成物。
［９］ハロアセチレン系化合物が、３−ヨード−２−プロピニル Ｎ−ブチルカルバメートである、上記［２］に記載の工業用防腐・防汚組成物。
［１０］テトラヒドロチオフェンジオキシド系化合物が、３，３，４，４−テトラクロロテトラヒドロチオフェン−１，１−ジオキシドである、上記［２］に記載の工業用防腐・防汚組成物。
【発明の効果】
【００２７】
本発明によれば、オキソリニック酸以外のキノロン系化合物またはその塩を含有してなり、環境中に存在する種々の細菌に対して抗菌活性を有する工業用防腐・防汚組成物を得ることができる。また、特定の抗菌性化合物を併用することにより、抗菌スペクトルが拡大し、かつ抗菌活性が相乗的に向上するので、さらに様々な態様での使用が可能となり、幅広い工業用途に利用できる優れた工業用防腐・防汚組成物を得ることができる。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
本発明においては、オキソリニック酸以外のキノロン系化合物として、次の式（１）で示されるキノロン系化合物であって、オキソリニック酸を除く化合物が用いられる。
【００２９】
【化９】
【００３０】
［式中、Ａ１環は置換されていてもよく、１個または２個の炭素原子が窒素原子に置換された複素環であってもよい６員の芳香族環を示し、Ｒ１およびＲ２は同一または異なって、水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を示す。また、Ｒ１はＡ１環の置換基とともに環を形成していてもよい。］
【００３１】
上記式（１）中、Ａ１環で示される「置換されていてもよく、１個または２個の炭素原子が窒素原子に置換された複素環であってもよい６員の芳香族環」のうち、前記複素環である６員の芳香族環としては、ピリジン、ピリミジン、ピリダジン、ピラジン等が挙げられ、前記複素環ではない６員の芳香族環としては、ベンゼンが挙げられる。これらの中でも、ベンゼン、ピリジン、ピリミジンが好ましく、ベンゼンまたはピリジンが特に好ましい。
【００３２】
Ａ１環で示される「置換されていてもよく、１個または２個の炭素原子が窒素原子に置換された複素環であってもよい６員の芳香族環」の置換基としては、水酸基、ハロゲン原子、置換されていてもよいアルコキシ基、置換されていてもよい炭化水素基、置換されていてもよいアミノ基等が挙げられる。
【００３３】
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられるが、フッ素原子または塩素原子が好ましい。
【００３４】
「置換されていてもよいアルコキシ基」のアルコキシ基としては、炭素数１〜６のアルコキシ基が挙げられ、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ−ブトキシ、イソブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ等の炭素数１〜４のアルコキシ基が好ましい。「置換されていてもよいアルコキシ基」の置換基としては、フッ素、塩素、臭素等のハロゲン原子；炭素数１〜４のアルコキシ基；フェニル、ナフチル等、炭素数１〜１４のアリール基などが挙げられる。
【００３５】
「置換されていてもよい炭化水素基」の炭化水素基としては、炭素数１〜２０の炭化水素基が好ましく、炭素数１〜１４の炭化水素基がより好ましく、たとえば、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、アリール基およびアラルキル基等が挙げられる。
【００３６】
アルキル基としては、たとえば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、イソペンチル、１−メチルブチル、１−エチルプロピル、１，１−ジメチルプロピル、ｎ−ヘキシル、イソヘキシル、１−エチル−１−メチルプロピル、２−エチルブチル、ｎ−ヘプチル、イソヘプチル、２，２−ジメチルペンチル、ｎ−オクチル、イソオクチル、１−メチルヘプチル、１−エチルヘキシル、１−プロピルペンチル、１，１−ジメチルヘキシル、１−エチル−１−メチルペンチル、１，１−ジエチルブチル、２−エチルヘキシル、ノニル、デシル等の炭素数１〜１０のアルキル基、好ましくは炭素数１〜８のアルキル基が挙げられる。
【００３７】
アルケニル基としては、たとえば、エテニル(ビニル)、１−プロペニル、２−プロペニル（アリル）、イソプロペニル、１−ブテニル、２−ブテニル、３−ブテニル、２−メチル−１−プロペニル、１−ペンテニル、２−ペンテニル、３−ペンテニル、４−ペンテニル、１−へキセニル、２−へキセニル、３−へキセニル、４−へキセニル、５−へキセニル等の炭素数２〜６のアルケニル基が挙げられる。
【００３８】
アルキニル基としては、たとえば、エチニル、１−プロピニル、２−プロピニル、１−ブチニル、２−ブチニル、３−ブチニル、１−ペンチニル、２−ペンチニル、３−ペンチニル、４−ペンチニル、１−へキシニル、２−へキシニル、３−へキシニル、４−へキシニル、５−へキシニル等の炭素数２〜６のアルキニル基が挙げられる。
【００３９】
シクロアルキル基としては、たとえば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル等の炭素数３〜８のシクロアルキル基が挙げられる。
【００４０】
アリール基としては、たとえば、フェニル、ナフチル、アントラセニル、フェナントレニル等の炭素数６〜１４のアリール基が挙げられる。
【００４１】
アラルキル基としては、たとえば、ベンジル、フェニルエチル、ナフチルメチル等の炭素数７〜１４のアラルキル基が挙げられる。
【００４２】
上記の「置換されていてもよい炭化水素基」の置換基としては、水酸基；塩素、フッ素、臭素およびヨウ素のハロゲン原子；シアノ基；アミノ基；カルボキシル基；アセチル、プロパノイル、ブタノイル、ヘキサノイル等の炭素数１〜６のアシル基；メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ等の炭素数１〜４のアルコキシ基；フェノキシ、ナフチルオキシ等の炭素数６〜２０、好ましくは炭素数６〜１０のアリールオキシ基；ベンジルオキシ、フェニルエチルオキシ等の炭素数７〜１４のアラルキルオキシ基；メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、ブチルチオ等の炭素数１〜４のアルキルチオ基；フェニルチオ等の炭素数６〜２０のアリールチオ基等が挙げられる。上記炭化水素基は前記置換基を２個以上有していてもよく、当該置換基は同一または異なっていてもよい。
【００４３】
「置換されていてもよいアミノ基」のアミノ基には、ピロリジニル、ピペリジル、ピペラジニル、アザビシクロ［２．２．１］ヘプタニル、アザビシクロ［２．２．２］オクタニル、ジアザビシクロ［２．２．１］ヘプタニル、ジアザビシクロ［２．２．２］オクタニル、オクタヒドロピロロピリジニル、イソインドリニル、アザスピロ［２．４］ヘプタニル等の環状アミノ基も含まれる。「置換されていてもよいアミノ基」の置換基としては、水酸基、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、アミノ基等が挙げられる。
【００４４】
Ａ１環は、２〜４個の置換基により置換されていることが好ましい。また、前記置換基としては、ハロゲン原子；アミノ基により置換された炭素数３〜６のシクロアルキル基；ピロリジニル、ピペリジル、ピペラジニル、ジアザビシクロ［２．２．１］ヘプタニル、オクタヒドロピロロピリジニル、イソインドリニル、アザスピロ［２．４］ヘプタニル等の環状アミノ基；水酸基、アミノ基または炭素数１〜６のアルキル基により置換された前記環状アミノ基；炭素数１〜４のアルコキシ基；ハロゲン原子により置換された前記アルコキシ基などが好ましい。
【００４５】
上記式（１）中、Ｒ１またはＲ２で示される「置換されていてもよい炭化水素基」としては、上記したＡ１環の「置換されていてもよい炭化水素基」と同様の基が挙げられる。また、Ｒ１で示される基は、Ａ１環の８位の置換基とともに、環を形成するものであってもよい。かかる環としては、ヒドロピリジン環、ヒドロオキサジン環、ヒドロオキサジアジン環等が例示される。
【００４６】
本発明において、オキソリニック酸以外のキノロン系化合物としては、式（７）および式（８）で示される化合物が好ましく用いられる。
【００４７】
【化１０】
【００４８】
［式中、Ｒ１およびＲ２は同一または異なって、水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を示し、Ｒ９は水素原子、ハロゲン原子またはアミノ基、Ｒ１０は水素原子またはハロゲン原子、Ｒ１１は置換されていてもよい炭化水素基または置換されていてもよい環状アミノ基を示す。］
【００４９】
【化１１】
【００５０】
［式中、Ｒ１およびＲ２は同一または異なって、水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を示し、Ｒ９は水素原子、ハロゲン原子またはアミノ基、Ｒ１０は水素原子またはハロゲン原子、Ｒ１１は置換されていてもよい炭化水素基または置換されていてもよい環状アミノ基、Ｒ１２は水素原子、ハロゲン原子、置換されていてもよいアルコキシ基または置換されていてもよい炭化水素基を示す。また、Ｒ１はＲ１２とともに環を形成していてもよい。］
【００５１】
上記式（７）で示される化合物は、ナフチリジン骨格を有する化合物である。
【００５２】
上記式（７）および式（８）中、Ｒ１またはＲ２で示される基については、上記と同義である。Ｒ９またはＲ１０で示されるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等が挙げられる。また、Ｒ１１で示される「置換されていてもよい炭化水素基」および「置換されていてもよい環状アミノ基」についても、上記と同様である。なお、上記式（７）および式（８）中、Ｒ１で示される基としては、エチル等の炭素数１〜４のアルキル基；２−フルオロエチル等のハロゲン化された炭素数１〜４のアルキル基；シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル等の炭素数３〜６のシクロアルキル基；フルオロシクロプロピル等のハロゲン化された炭素数３〜６のシクロアルキル基；フルオロフェニル、ジフルオロフェニル等のハロゲン化されたアリール基が好ましい。Ｒ２で示される基としては水素原子が好ましく、Ｒ９で示される基としては、水素原子、フッ素原子、アミノ基が好ましく、Ｒ１０で示される基としては、水素原子またはフッ素原子が好ましい。Ｒ１１で示される基としては、アミノシクロプロピル基；水酸基、アミノ基またはメチル、エチル等の炭素数１〜４のアルキル基により置換されたピロジニル、ピペリジル、ピペラジニル、ジアザビシクロ［２．２．１］ヘプチル、オクタヒドロピロロピリジニル、イソインドリニル、アザスピロ［２．４］ヘプタニルが好ましい。
【００５３】
さらに、上記式（８）中、Ｒ１２で示される「置換されていてもよいアルコキシ基」および「置換されていてもよい炭化水素基」についても、上記と同様である。上記式（８）中、Ｒ１２で示される基としては、水素原子；フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子；メチル等の炭素数１〜４のアルキル基；メトキシ等の炭素数１〜４のアルコキシ基；ジフルオロメトキシ等のハロゲン原子により置換された前記アルコキシ基が好ましい。また、上記式（８）において、Ｒ１で示される基はＲ１２で示される基とともに環を形成していてもよく、かかる環としては、ヒドロピリジン環、ヒドロオキサジン環、ヒドロオキサジアジン環等が挙げられる。それゆえ、上記式（８）において、Ｒ１で示される基とＲ１２で示される基とが環を形成してなるベンゾキノリジン骨格、ピリドベンゾオキサジン骨格またはピリドベンゾオキサジアジン骨格を有するものも、好ましい化合物として例示される。
【００５４】
本発明においては、オキソリニック酸以外のキノロン系化合物として、上記式（７）および式（８）で示される化合物よりなる群から、１種または２種以上を選択して用いることができる。
【００５５】
本発明においてより好ましく用いられるオキソリニック酸以外のキノロン系化合物としては、ナフチリジン骨格を有するエノキサシン、トスフロキサシン、キノリン骨格を有するノルフロキサシン、サラフロキサシン、ジフロキサシン、フレロキサシン、ロメフロキサシン、エンロフロキサシン、シプロフロキサシン、ガチフロキサシン、スパルフロキサシン、ダノフロキサシン、モキシフロキサシン、ガレノキサシン、シタフロキサシン、オルビフロキサシン、ベンゾキノリジン骨格を有するナディフロキサシン、ピリドベンゾオキサジン骨格を有するオフロキサシン、レボフロキサシン、パズフロキサシン、ピリドベンゾオキサジアジン骨格を有するマルボフロキサシン等が挙げられ、これらより１種または２種以上を選択して用いることができる。
【００５６】
本発明においては、オキソリニック酸以外のキノロン系化合物は、製剤学的に可能な塩の形態で用いることもできる。当該塩としては、塩酸、臭化水素酸、硝酸、硫酸、リン酸等の無機酸との塩；ギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、フタル酸、フマル酸、シュウ酸、酒石酸、マレイン酸、クエン酸、コハク酸、リンゴ酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸等の有機酸との塩；ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属との塩；マグネシウム、カルシウム等のアルカリ土類金属との塩；アンモニウム塩；トリメチルアミン、トリエチルアミン、ピリジン、ピコリン、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、エチレンジアミン、１，６−ヘキサメチレンジアミン、ｔｅｒｔ−ブチルアミン、シクロヘキシルアミン、ベンジルアミン、ジシクロヘキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジベンジルエチレンジアミン等の有機アミンとの塩などが挙げられる。
【００５７】
本発明に用いるオキソリニック酸以外のキノロン系化合物またはその塩は市販品を用いてもよく、あるいは公知技術に従って製造したものを用いてもよいが、市販品を用いるのが便利である。
【００５８】
本発明の工業用防腐・防汚組成物では、上記のオキソリニック酸以外のキノロン系化合物またはその塩に加えて、イソチアゾリン系化合物、ベンゾイソチアゾリン系化合物、ハロアセチレン系化合物、ベンゾイミダゾール系化合物、テトラヒドロチオフェンジオキシド系化合物、およびこれらの塩よりなる群から選択される１種または２種以上の抗菌性化合物を併用してもよい。該抗菌性化合物を併用することにより、抗菌スペクトルが拡大し、かつ抗菌活性が相乗的に向上する。
【００５９】
イソチアゾリン系化合物は、次の式（２）で示される。
【００６０】
【化１２】
【００６１】
［式中、Ｒ３は水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を示し、Ｒ４およびＲ５は同一または異なって、それぞれ水素原子、ハロゲン原子または置換されていてもよい炭化水素基を示す。］
【００６２】
式（２）中、Ｒ３で示される「置換されていてもよい炭化水素基」としては、Ａ１環の置換基について、上記した「置換されていてもよい炭化水素基」と同様のものが挙げられる。なお、前記置換基は同一または異なっていてもよく、１〜５個、好ましくは１〜３個が置換していてもよい。
【００６３】
Ｒ３で示される「置換されていてもよい炭化水素基」としては、無置換の炭化水素基が好ましく、その中でもアルキル基またはシクロアルキル基が好ましい。当該アルキル基としては、炭素数１〜８のアルキル基が好ましく、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル等の炭素数１〜４のアルキル基およびｎ−オクチル、イソオクチル、１−メチルヘプチル、１−エチルヘキシル、１−プロピルペンチル、１，１−ジメチルヘキシル、１−エチル−１−メチルペンチル、１，１−ジエチルブチル、２−エチルヘキシル等の炭素数８のアルキル基がより好ましく、メチル、エチル、ｎ−ブチル、ｎ−オクチルがさらに好ましい。シクロアルキル基としては、炭素数３〜８のシクロアルキル基が好ましく、シクロヘキシルがより好ましい。
【００６４】
本発明において、上記式（２）中、Ｒ３で示される基としては、炭素数１〜８のアルキル基または炭素数３〜８のシクロアルキル基が好ましく、炭素数１〜８のアルキル基がより好ましく、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル等の炭素数１〜４のアルキル基、およびｎ−オクチル、イソオクチル、１−メチルヘプチル、１−エチルヘキシル、１−プロピルペンチル、１，１−ジメチルヘキシル、１−エチル−１−メチルペンチル、１，１−ジエチルブチル、２−エチルヘキシル等の炭素数８のアルキル基がさらに好ましく、メチル、エチル、ｎ−ブチル、ｎ−オクチルが特に好ましい。
【００６５】
式（２）中、Ｒ４またはＲ５で示されるハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素およびヨウ素の各原子が挙げられ、これらの中でも塩素原子が好ましい。
【００６６】
また、Ｒ４またはＲ５で示される「置換されていてもよい炭化水素基」は、Ａ１環の置換基について上記した「置換されていてもよい炭化水素基」と同様であるが、無置換の炭化水素基が好ましく、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル等の炭素数１〜４のアルキル基が特に好ましい。
【００６７】
本発明において、上記式（２）中、Ｒ４およびＲ５で示される基としては、同一または異なって、それぞれ水素原子またはハロゲン原子が好ましく、水素原子または塩素原子がより好ましい。
【００６８】
本発明において用い得るイソチアゾリン系化合物の具体例としては、２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オン、２−エチル−４−イソチアゾリン−３−オン、２−ｎ−オクチル−４−イソチアゾリン−３−オン、５−クロロ−２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オン、５−クロロ−２−エチル−４−イソチアゾリン−３−オン、５−クロロ−２−ｎ−オクチル−４−イソチアゾリン−３−オン、４−クロロ−２−ｎ−オクチル−４−イソチアゾリン−３−オン、４，５−ジクロロ−２−ｎ−オクチル−４−イソチアゾリン−３−オン、４，５−ジクロロ−２−シクロヘキシル−４−イソチアゾリン−３−オン等が挙げられる。これらのうち、２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オン、２−ｎ−オクチル−４−イソチアゾリン−３−オン、４−クロロ−２−ｎ−オクチル−４−イソチアゾリン−３−オン、５−クロロ−２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オン、５−クロロ−２−ｎ−オクチル−４−イソチアゾリン−３−オンおよび４，５−ジクロロ−２−ｎ−オクチル−４−イソチアゾリン−３−オンが好ましく、２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オン、５−クロロ−２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オンおよび２−ｎ−オクチル−４−イソチアゾリン−３−オンが特に好ましい。
【００６９】
本発明において、イソチアゾリン系化合物としては、上記の化合物よりなる群から１種または２種以上を選択して用いることができる。
【００７０】
ベンゾイソチアゾリン系化合物は、次の式（３）で示される。
【００７１】
【化１３】
【００７２】
［式中、Ａ２環は置換されていてもよいベンゼン環を示し、Ｙは水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を示す。］
【００７３】
式（３）中、Ａ２環で示される「置換されていてもよいベンゼン環」の置換基としては、水酸基；塩素、フッ素、臭素およびヨウ素のハロゲン原子；シアノ基；アミノ基；カルボキシル基；ブタノイル、オクタノイル、デカノイル等の炭素数１〜１０のアシル基；メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ等の炭素数１〜４のアルコキシ基；フェノキシ、ナフチルオキシ等の炭素数６〜２０、好ましくは炭素数６〜１０のアリールオキシ基；ベンジルオキシ、フェニルエチルオキシ等の炭素数７〜１４のアラルキルオキシ基；メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、ブチルチオ等の炭素数１〜４のアルキルチオ基；フェニルチオ等の炭素数６〜２０のアリールチオ基等を挙げることができるが、ハロゲン原子およびメチル、エチル、プロピル、ブチル等の炭素数１〜４のアルキル基が好ましい。これらの置換基は同一または異なっていてもよく、ベンゼン環に１〜４個、好ましくは１個または２個置換されていてもよい。なお、Ａ２環で示される「置換されていてもよいベンゼン環」としては、無置換のベンゼン環が好ましい。
【００７４】
式（３）中、Ｙで示される「置換されていてもよい炭化水素基」としては、上記したＡ１環の置換基の一つとして示した「置換されていてもよい炭化水素基」と同様のものが挙げられるが、無置換の炭化水素基が好ましく、炭素数１〜８のアルキル基がより好ましく、炭素数１〜４のアルキル基（特にｎ−ブチル）が特に好ましい。
【００７５】
本発明において、式（３）中、Ｙで示される基としては、水素原子または炭素数１〜８のアルキル基が好ましく、水素原子または炭素数１〜４のアルキル基（特にｎ−ブチル）が特に好ましい。
【００７６】
ベンゾイソチアゾリン系化合物の好適な具体例としては、１，２−ベンゾイソチアゾリン−３−オン、Ｎ−ｎ−ブチル−１，２−ベンゾイソチアゾリン−３−オン等が挙げられる。
【００７７】
本発明において、ベンゾイソチアゾリン系化合物としては、上記の化合物よりなる群から１種または２種以上を選択して用いることができる。
【００７８】
ベンゾイミダゾール系化合物は、次の式（４）で示される。
【００７９】
【化１４】
【００８０】
［式中、Ａ３環は置換されていてもよいベンゼン環を示し、Ｚは−ＮＨＣＯＯＲ６（式中、Ｒ６は水素原子またはアルキル基を示す。）で示される基または置換されていてもよい５員または６員の含窒素複素環基を示す。］
【００８１】
上記式（４）中、Ａ３環で示される「置換されていてもよいベンゼン環」に含まれ得る置換基としては、上記したＡ２環の置換基と同様のものを挙げることができるが、ハロゲン原子、およびメチル、エチル、プロピル、ブチル等炭素数１〜４のアルキル基が好ましいものとして挙げられる。これらの置換基は同一または異なって、Ａ３環で示されるベンゼン環に１〜４個、好ましくは１個または２個含まれ得る。なお、Ａ３環で示される置換されていてもよいベンゼン環としては、置換されていないベンゼン環が好ましい。
【００８２】
上記式（４）中、Ｚが示す−ＮＨＣＯＯＲ６で示される基において、Ｒ６で示されるアルキル基としては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｎ−へキシル、ｎ−ヘプチルおよびｎ−オクチル等の炭素数１〜８のアルキル基が挙げられ、それらのうち、メチル、エチル、ｎ−プロピル等の炭素数１〜３のアルキル基が特に好ましい。
【００８３】
また式（４）中、Ｚで示される置換されていてもよい５員または６員の含窒素複素環基としては、１〜４個の窒素原子を環構成原子として含有するか、あるいは１〜２個の窒素原子に加えて酸素原子および硫黄原子から選ばれた１個のヘテロ原子を環構成原子として含有する５員または６員環の単環式複素環基や、この５員または６員の含窒素複素環にベンゼン環または５員環が縮合した縮合複素環基が挙げられる。５員または６員の含窒素単環式複素環基としては、２−ピリジル、３−ピリジル、４−ピリジル等のピリジル基；２−チアゾリル、４−チアゾリル、５−チアゾリル等のチアゾリル基；３−イソチアゾリル、４−イソチアゾリル、５−イソチアゾリル等のイソチアゾリル基；１−イミダゾリル、２−イミダゾリル、４−イミダゾリル、５−イミダゾリル等のイミダゾリル基；１−ピロリル、２−ピロリル、３−ピロリル等のピロリル基；２−ピロリニル、３−ピロリニル等のピロリニル基；フラザニル基；１−ピロリジニル、２−ピロリジニル、３−ピロリジニル等のピロリジニル基；２−イミダゾリジニル、４−イミダゾリジニル、５−イミダゾリジニル等のイミダゾリジニル基；１−ピラゾリジニル等のピラゾリジニル基；５−ピラゾリル等のピラゾリル基；２−オキサゾリル、４−オキサゾリル、５−オキサゾリル等のオキサゾリル基；３−イソオキサゾリル、４−イソオキサゾリル、５−イソオキサゾリル等のイソオキサゾリル基；１Ｈ−テトラゾリル、２Ｈ−テトラゾリル等のテトラゾリル基；２−ピリミジニル、４−ピリミジニル、５−ピリミジニル等のピリミジニル基；３−ピリダジニル、４−ピリダジニル等のピリダジニル基；２−ピラジニル、３−ピラジニル等のピラジニル基；１，２−チアジン−３−イル、１，２−チアジン−４−イル、１，３−チアジン−２−イル、１，３−チアジン−４−イル、１，４−チアジン−２−イル、１，４−チアジン−３−イル等のチアジニル基；１−ピペラジニル、２−ピペラジニル、３−ピペラジニル等のピペラジニル基；１，２，３−チアジアジン−４−イル、１，２，３−チアジアジン−５−イル、１，２，３−チアジアジン−６−イル、１，２，４−チアジアジン−３−イル、１，３，４−チアジアジン−２−イル等のチアジアジニル基；１，３，４−オキサジアゾール−２−イル、１，２，４−オキサジアゾール−３−イル、１，２，４−オキサジアゾール−５−イル、１，２，３−オキサジアゾール−４−イル、１，２，３−オキサジアゾール−５−イル等のオキサジアゾリル基；１，２，３−チアジアゾール−４−イル、１，２，３−チアジアゾール−５−イル等のチアジアゾリル基；１，２，３−トリアゾール−４−イル、１，２，４−トリアゾール−３−イル等のトリアゾリル基；２−チオモルホリニル、３−チオモルホリニル、４−チオモルホリニル、５−チオモルホリニル、６−チオモルホリニル等のチオモルホリニル基；２−モルホリニル、３−モルホリニル、４−モルホリニル、５−モルホリニル、６−モルホリニル等のモルホリニル基；２−オキソイミダジニル等のオキソイミダジニル基；１，２，４−トリアジン−３，５−ジオン−１−イル、１，２，４−トリアジン−３，５−ジオン−２−イル、１，２，４−トリアジン−３，５−ジオン−４−イル等のジオキソトリアジニル基；１−ピペリジル、２−ピペリジル、３−ピペリジル、４−ピペリジル等のピペリジル基等が挙げられる。上記縮合複素環基としては、２−キノリル、３−キノリル、４−キノリル等のキノリル基；３−イソキノリル、４−イソキノリル等のイソキノリル基；２−インドリル、３−インドリル等のインドリル基；１Ｈ−イソインドール−３−イル等のイソインドリル基；８−キノリジニル等のキノリジニル基；１Ｈ−プリン−６−イル、３Ｈ−プリン−６−イル等のプリニル基；３−シンノリニル、５−シンノリニル等のシンノリニル基；３−インダゾリル等のインダゾリル基；２−プテリジニル等のプテリジニル基；４−フタラジニル等のフタラジニル基；２−キナゾリニル、４−キナゾリニル等のキナゾリニル基；２−キノキサリニル、３−キノキサリニル等のキノキサリニル基；２−インドリジニル等のインドリジニル基；２Ｈ−１，３−ベンゾオキサジン−２−イル等のベンゾオキサジニル基；２−フェノチアジニル、３−フェノチアジニル等のフェノチアジニル基；２−フェナジニル、３−フェナジニル等のフェナジニル基；２−フェノキサジニル、３−フェノキサジニル、４−フェノキサジニル等のフェノキサジニル基等が挙げられる。上記複素環基のうち、５員含窒素複素環基が好ましく、特にチアゾリル基が好ましい。
【００８４】
上記複素環の置換基としては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル等の炭素数１〜４のアルキル基；メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ−ブトキシ、イソブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ等の炭素数１〜４のアルコキシ基；フッ素、塩素、臭素等のハロゲン原子；水酸基；アミノ基；ニトロ基；メルカプト基などが挙げられる。
【００８５】
Ｚで示される置換されていてもよい５または６員の含窒素複素環基としては、無置換の５または６員の含窒素複素環基が好ましく、無置換の５員の含窒素複素環基がより好ましく、チアゾリル基が特に好ましい。
【００８６】
本発明において、式（４）中、Ｚで示される基としては、−ＮＨＣＯＯＲ６（式中、Ｒ６は炭素数１〜８のアルキル基である。）で示される基または無置換の５員または６員の含窒素複素環基が好ましく、−ＮＨＣＯＯＲ６（式中、Ｒ６は炭素数１〜３のアルキル基である）で示される基または無置換の５員の含窒素複素環基がより好ましく、−ＮＨＣＯＯＲ６（式中、Ｒ６は炭素数１〜３のアルキル基である）で示される基またはチアゾリル基が特に好ましい。
【００８７】
ベンゾイミダゾール系化合物の好適な具体例としては、メチル ２−ベンゾイミダゾールカルバメート、エチル ２−ベンゾイミダゾールカルバメート、２−（４−チアゾリル）ベンゾイミダゾール等が挙げられる。
【００８８】
本発明において、ベンゾイミダゾール系化合物としては、上記の化合物よりなる群から１種または２種以上を選択して用いることができる。
【００８９】
ハロアセチレン系化合物は、次の式（５）で示される。
【００９０】
【化１５】
【００９１】
［式中、Ｘ１はハロゲン原子を示し、Ｒ７およびＲ８は同一または異なって、それぞれ水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を示し、ｍは０または１の整数を示す。］
【００９２】
式（５）中、Ｘ１で示されるハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素およびヨウ素の各原子が挙げられ、特にヨウ素原子が好ましい。
【００９３】
式（５）中、Ｒ７またはＲ８で示される「置換されていてもよい炭化水素基」としては、Ａ１環の置換基の一つとして上記した「置換されていてもよい炭化水素基」と同様のものが挙げられる。中でも無置換の炭化水素基が好ましく、炭素数１〜１０のアルキル基または炭素数３〜８のシクロアルキル基がより好ましく、炭素数１〜１０のアルキル基がさらに好ましく、炭素数１〜４のアルキル基がさらにより好ましく、ｎ−ブチルが特に好ましい。
【００９４】
また、Ｒ７およびＲ８の一方が置換されていてもよい炭化水素基であり、他方が水素原子であることが好ましく、Ｒ７およびＲ８の一方が炭素数１〜１０のアルキル基であり、他方が水素原子であることがより好ましく、Ｒ７およびＲ８の一方が炭素数１〜４のアルキル基（特にｎ−ブチル）であり、他方が水素原子であることが特に好ましい。
【００９５】
式（５）中、ｍは０または１の整数を示し、ｍが０のとき、ハロアセチレン系化合物は酸アミド誘導体となり、ｍが１のときは、ハロアセチレン系化合物はカルバメート誘導体となる。これらのうち、ｍが１であるハロアセチレン系化合物のカルバメート誘導体が好ましい。
【００９６】
ハロアセチレン系化合物の具体例としては、ｍが０である場合のハロアセチレン系化合物の酸アミド誘導体として、３−クロロプロピオール酸アミド、Ｎ−メチル−３−クロロプロピオール酸アミド、Ｎ−エチル−３−クロロプロピオール酸アミド、Ｎ−プロピル−３−クロロプロピオール酸アミド、Ｎ−ブチル−３−クロロプロピオール酸アミド、Ｎ−ヘキシル−３−クロロプロピオール酸アミド、Ｎ−オクチル−３−クロロプロピオール酸アミド、Ｎ−シクロヘキシル−３−クロロプロピオール酸アミド等の（Ｎ−置換−）３−クロロプロピオール酸アミド；３−ブロモプロピオール酸アミド、Ｎ−メチル−３−ブロモプロピオール酸アミド、Ｎ−エチル−３−ブロモプロピオール酸アミド、Ｎ−プロピル−３−ブロモプロピオール酸アミド、Ｎ−ブチル−３−ブロモプロピオール酸アミド、Ｎ−ヘキシル−３−ブロモプロピオール酸アミド、Ｎ−オクチル−３−ブロモプロピオール酸アミド、Ｎ−シクロヘキシル−３−ブロモプロピオール酸アミド等の（Ｎ−置換−）３−ブロモプロピオール酸アミド；３−ヨードプロピオール酸アミド、Ｎ−メチル−３−ヨードプロピオール酸アミド、Ｎ−エチル−３−ヨードプロピオール酸アミド、Ｎ−プロピル−３−ヨードプロピオール酸アミド、Ｎ−ブチル−３−ヨードプロピオール酸アミド、Ｎ−ヘキシル−３−ヨードプロピオール酸アミド、Ｎ−オクチル−３−ヨードプロピオール酸アミド、Ｎ−シクロヘキシル−３−ヨードプロピオール酸アミド等の（Ｎ−置換−）３−ヨードプロピオール酸アミドなどが挙げられる。これらのうち、（Ｎ−置換−）３−ヨードプロピオール酸アミドが好ましく、Ｎ−ブチル−３−ヨードプロピオール酸アミドがより好ましい。
【００９７】
また、ｍが１である場合のハロアセチレン系化合物のカルバメート誘導体として、３−ヨード−２−プロピニル Ｎ−メチルカルバメート、３−ヨード−２−プロピニル Ｎ−エチルカルバメート、３−ヨード−２−プロピニル Ｎ−プロピルカルバメート、３−ヨード−２−プロピニル Ｎ−ブチルカルバメート、３−ヨード−２−プロピニル Ｎ−ヘキシルカルバメート、３−ヨード−２−プロピニル Ｎ−オクチルカルバメート、３−ヨード−２−プロピニル Ｎ−シクロヘキシルカルバメート等の３−ヨード−２−プロピニル Ｎ−アルキルカルバメートなどが挙げられ、中でも３−ヨード−２−プロピニル Ｎ−ブチルカルバメートが好ましい。
【００９８】
本発明において、ハロアセチレン系化合物としては、上記の化合物よりなる群から１種または２種以上を選択して用いることができる。
【００９９】
テトラヒドロチオフェンジオキシド系化合物は、次の式（６）で示される。
【０１００】
【化１６】
【０１０１】
［式中、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３およびＹ４は同一または異なって、それぞれ水素原子、ハロゲン原子または置換されていてもよい炭化水素基を示す。］
【０１０２】
式（６）中、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３またはＹ４で表されるハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素およびヨウ素の各原子が挙げられ、特に塩素原子が好ましい。また、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３またはＹ４で表される「置換されていてもよい炭化水素基」としては、Ａ１環の置換基の一つとして上記した「置換されていてもよい炭化水素基」と同様のものが挙げられ、中でもメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル等の炭素数１〜４のアルキル基が好ましい。
【０１０３】
Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３およびＹ４としては、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３およびＹ４のすべてがハロゲン原子であるか、Ｙ１、Ｙ２およびＹ３がハロゲン原子でかつＹ４が水素原子であるか、Ｙ１およびＹ４がハロゲン原子でかつＹ２およびＹ３が水素原子であることが好ましく、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３およびＹ４のすべてがハロゲン原子であることがより好ましく、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３およびＹ４のすべてが塩素であることが特に好ましい。
【０１０４】
テトラヒドロチオフェンジオキシド系化合物の具体例としては、３，３，４，４−テトラクロロテトラヒドロチオフェン−１，１−ジオキシド、３，３，４，４−テトラブロモテトラヒドロチオフェン−１，１−ジオキシド、３，４−ジクロロテトラヒドロチオフェン−１，１−ジオキシド、３，３，４−トリクロロテトラヒドロチオフェン−１，１−ジオキシド、３，３，４−トリブロモテトラヒドロチオフェン−１，１−ジオキシド等が挙げられ、これらのうち、３，３，４，４−テトラクロロテトラヒドロチオフェン−１，１−ジオキシドが特に好ましい。
【０１０５】
本発明において、テトラヒドロチオフェンジオキシド系化合物としては、上記の化合物よりなる群から１種または２種以上を選択して用いることができる。
【０１０６】
上記のイソチアゾリン系化合物、ベンゾイソチアゾリン系化合物、ベンゾイミダゾール系化合物、ハロアセチレン系化合物およびテトラヒドロチオフェンジオキシド系化合物は、塩基性化合物の場合は酸との塩として用いてもよく、また、酸性化合物の場合は塩基との塩として用いてもよい。
【０１０７】
酸との塩としては、塩酸、臭化水素酸、硝酸、硫酸、リン酸等の無機酸との塩；ギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、フタル酸、フマル酸、シュウ酸、酒石酸、マレイン酸、クエン酸、コハク酸、リンゴ酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸等の有機酸との塩が挙げられる。
【０１０８】
塩基との塩としては、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属との塩；マグネシウム、カルシウム等のアルカリ土類金属との塩；アンモニウム塩；トリメチルアミン、トリエチルアミン、ピリジン、ピコリン、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、エチレンジアミン、１，６−ヘキサメチレンジアミン、ｔｅｒｔ−ブチルアミン、シクロヘキシルアミン、ベンジルアミン、ジシクロヘキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジベンジルエチレンジアミン等の有機アミンとの塩などが挙げられる。
【０１０９】
イソチアゾリン系化合物、ベンゾイソチアゾリン系化合物、ベンゾイミダゾール系化合物、ハロアセチレン系化合物、テトラヒドロチオフェンジオキシド系化合物およびこれらの塩は市販品を用いてもよく、あるいは公知技術に従って製造したものを用いてもよいが、市販品を用いるのが便利である。
【０１１０】
本発明の工業用防腐・防汚組成物において、オキソリニック酸を除くキノロン系化合物またはその塩の含有量は、環境中に存在する一般的な細菌類に対して十分な抗菌活性を得るためには、０．１重量％〜４０重量％が好ましく、１重量％〜４０重量％がより好ましい。
【０１１１】
上記の抗菌性化合物を併用する場合、本発明の工業用防腐・防汚組成物に、より広範な抗菌スペクトルと十分な抗菌活性を付与するためには、オキソリニック酸を除くキノロン系化合物またはその塩と上記イソチアゾリン系化合物等の抗菌性化合物（２種以上の化合物を用いる場合は各化合物の合計量）の含有量比は、９：１〜１：９（重量比）とすることが好ましく、８：２〜２：８（重量比）とすることがより好ましい。また、剤形、適用対象や使用環境等にもよるが、オキソリニック酸を除くキノロン系化合物またはその塩の含有量としては、０．１重量％〜４０重量％が好ましく、１重量％〜４０重量％がより好ましい。上記イソチアゾリン系化合物等の抗菌性化合物の含有量（２種以上を用いる場合は各化合物の合計量）としては、０．１重量％〜４０重量％が好ましく、１重量％〜４０重量％がより好ましい。
【０１１２】
本発明の工業用防腐・防汚組成物は、溶剤に溶解させ、または界面活性剤もしくは溶解助剤等を用いて懸濁もしくは分散させて、液剤または懸濁剤もしくは分散剤として、あるいは界面活性剤により乳化して乳剤として提供することができる。その他、界面活性剤や固体担体を加えて、水和剤、フロアブル剤、粉剤等としても提供することができる。
【０１１３】
本発明において用い得る溶剤としては、水；メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール等の低級アルコール類；エチレングリコール、ジエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、エチレングリコールモノメチルエーテル（メチルカルビトール）、エチレングリコールモノエチルエーテル（エチルカルビトール）、エチレングリコールモノブチルエーテル（ブチルカルビトール）、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル等の多価アルコール類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、プロピレンカーボネート等のケトン類；ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチルエーテル等のエーテル類；酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート、γ−ブチロラクトン、アジピン酸ジメチル、グルタル酸ジメチル、コハク酸ジメチル等のエステル類；ベンゼン、トルエン、キシレン、メチルナフタレン、ジメチルナフタレン、イソプロピルナフタレン、ジイソプロピルナフタレン、エチルビフェニル、ジエチルビフェニル、ソルベントナフサ等の芳香族系溶剤；四塩化炭素、クロロホルム、塩化メチレン等のハロゲン化炭化水素系溶剤；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、Ｎ−メチルピロリドン等の極性有機溶剤などが挙げられる。これらの溶剤は１種を単独で用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。また、これら溶剤の中では、水、低級アルコール類および多価アルコール類が好ましく用いられる。
【０１１４】
本発明において用い得る界面活性剤としては、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチエンノニルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレングリコール等の非イオン性界面活性剤；アルキル硫酸エステル塩、アルキル（アリール）スルホン酸塩、ジアルキルスルホコハク酸塩、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテルリン酸エステル塩、リグニンスルホン酸塩、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物等の陰イオン性界面活性剤などが挙げられる。これらは１種を単独で用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。
【０１１５】
本発明において用い得る溶解助剤としては、カプリン酸、アジピン酸等のカルボン酸類；アジピン酸ジイソプロピル、セバシン酸ジイソプロピル、ミリスチン酸イソプロピル、パルミチン酸イソプロピル等のエステル類；オクチルドデカノール、オレイルアルコール等の高級アルコール類；モノエタノールアミン、ジエタノールアミン等のアミン類などを挙げることができ、これらは１種を単独で用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。
【０１１６】
本発明において用い得る固体担体としては、カオリンクレー、アッタパルジャイトクレー、ベントナイト、モンモリロナイト、酸性白土、パイロフィライト、タルク、珪藻土、方解石等の鉱物質；トウモロコシ穂軸粉、クルミ殻粉等の天然有機物；尿素等の合成有機物；炭酸カルシウム、硫酸アンモニウム等の塩類；合成含水酸化珪素等の合成無機物の微粉末あるいは粒状物などを挙げることができる。
【０１１７】
本発明の工業用防腐・防汚組成物の調製は、５℃〜４０℃にて行うことが好ましい。溶剤等への混合は、０．５時間〜５時間程度の処理により行うことが好ましい。界面活性剤、溶解助剤および固体担体は、組成物全量に対して、それぞれ０．１重量％〜１０重量％、０．１重量％〜１０重量％、および３０重量％〜９５重量％程度配合することができる。
【０１１８】
本発明に係る工業用防腐・防汚組成物には、組成物の抗菌活性、安定性、安全性等に影響を与えない範囲で、他の防菌防黴剤や防藻剤等の他、ｐＨ調整剤、酸化防止剤、光安定化剤、消泡剤等の、一般的に製剤化に際して用いられる添加剤を添加することができる。
【０１１９】
本発明の工業用防腐・防汚組成物は、細菌類に対して良好な抗菌活性を有する。前記細菌類としては、大腸菌、緑膿菌、セラチア菌、レジオネラ菌等のグラム陰性桿菌；セレウス菌、クロストリジウム属等のグラム陽性桿菌；ブランハメラ菌等のグラム陰性球菌；黄色ブドウ球菌等のグラム陽性球菌などの病原性細菌の他、枯草菌等、病原性を示さないが、環境中に常在する細菌が挙げられる。
【０１２０】
本発明の工業用防腐・防汚組成物において、上記の抗菌性化合物を併用した場合、オキソリニック酸を除くキノロン系化合物またはその塩を単独で使用する場合よりも抗菌スペクトルが広がり、細菌類のみならず、カビ類や酵母類に対しても幅広く良好な抗菌活性を有する。前記カビ類としては、ムコール(Mucor)属（ケカビ）、リゾプス（Rhizopus）属（クモノスカビ）等の接合菌類；アスペルギルス（Aspergillus）属（コウジカビ）、ペニシリウム（Penicillium）属（アオカビ）、クラドスポリウム（Cladosporium）属（クロカビ）、オーレオバシディウム（Aureobasidium）属、アルテルナリア（Alternaria）属（ススカビ）、アクレモニウム（Acremonium）属、フザリウム（Fusarium）属、グリオクラディウム（Gliocladium）属、トリコデルマ（Trichoderma）属等の不完全菌類；ケトミウム（Chaetomium）属、ユーロチウム（Eurotium）属、ニューロスポラ (Neurospora)属（アカパンカビ）等の子嚢菌類などが、酵母類としては、シゾサッカロミセス（Schizosaccharomyces）属、プロトミセス（Protomyces）属、タフリナ（Taphrina）属等の原生子嚢菌類；エンドミセス（Endomyces）属等の真正子嚢菌類；サッカロミセス（Saccharomyces）属等の半子嚢菌類；カンジダ（Candida）属等の子嚢菌酵母の不完全型；フィロバシディエラ（Filobasidiella）属等の異型担子菌類；ロドトルラ（Rhodotorula）属、トリコスポロン（Trichosporon）属、スポロボロミセス（Sporobolomyces）属等の担子菌酵母の不完全型；ロドスポリディウム（Rhodosporidium）属、スポリディオボルス（Sporidiobolus）属、キサントフィロミセス（Xanthophyllomyces）属等の担子菌酵母などが挙げられる。
【０１２１】
また、本発明の防腐・防汚組成物は、藍藻類（Cyanophyceae）、緑藻類（Chlorophyceae）、緑虫類（Euglenophyceae）、車軸藻類（Charophyceae）、黄金色藻類（Chrysophyceae）、黄緑藻類（Xanthophyceae）、珪藻類（Bacillariophyceae）等の微細藻類に対しても、幅広く良好な抑制作用を示し得るため、防藻効果も期待される。
【０１２２】
従って、本発明の工業用防腐・防汚組成物は、製紙パルプ工場、冷却水循環工程等の種々の産業用水や、塗工紙、紙用塗工液、塗料、接着剤、合成ゴムラテックス、印刷インキ、プラスチック製品、セメント混和剤、シーリング剤等の各種工業製品の有害微生物の防除の用途において有効に用いることができる。より具体的には、製紙パルプ工場や冷却水循環工程のスライムコントロール剤、紙製品、樹脂製品の防菌防黴剤、塗料、合成ゴムラテックス、樹脂、インキ、シリコーンシーリング剤等の防菌防黴剤などとして有用である。
【０１２３】
本発明の工業用防腐・防汚組成物は、適用対象、防除の対象となる微生物の種類（細菌類、カビ類、酵母類、藻類等）や防除期間に応じて、添加量を適宜選択すればよいが、たとえば、スライムコントロール剤として用いる場合には、製品１ｋｇあたりに対し抗菌性成分の量として０．１ｍｇ〜５００ｍｇ、好ましくは、０．５ｍｇ〜１００ｍｇ、防腐剤として用いる場合には、製品１ｋｇあたりに対し抗菌性成分の量として１ｍｇ〜５，０００ｍｇ、好ましくは、１０ｍｇ〜１，０００ｍｇ、防黴・酵母剤または防藻剤として用いる場合には、製品１ｋｇあたりに対し抗菌性成分の量として１０ｍｇ〜５０，０００ｍｇ、好ましくは、１００ｍｇ〜１０，０００ｍｇとなるように添加すればよい。
【実施例】
【０１２４】
以下に本発明について実施例により詳細に説明する。
【０１２５】
［実施例１］
ノルフロキサシン（１−エチル−４−オキソ−６−フルオロ−７−ピペラジノ−１，４−ジヒドロキノリン−３−カルボン酸；和光純薬工業株式会社製）を、１０重量％となるようにメチルカルビトールに添加して、室温にて３０分間撹拌混合して調製し、白色の懸濁剤である工業用防腐・防汚組成物を得た。
【０１２６】
実施例１および後述する実施例２〜２２、比較例１〜７について、以下に示す方法により、抗菌活性の評価を行った。すなわち、試験菌として、細菌類では枯草菌（Bacillus subtilis IFO3513）、黄色ブドウ球菌（Staphylococcus aureus IFO12732）、大腸菌（Escherichia coli IFO3972）、緑膿菌（Pseudomonas aeruginosa IFO3080）、セラチア菌（Serratia marcescens IFO3735）を、カビ類ではクロコウジカビ（Aspergillus niger IFO6341）、アオカビ（Penicillium citrinum IFO6352）、クラドスポリウム クラドスポリオイデス（Cladosporium cladosporioides IFO6348）、アウレオバシディウム プルランス（Aureobasidium pullulans IFO6353）、アルテルナリア属（Alternaria sp.）、ムコール スピネッセンス（Mucor spinescens IFO6071）、グリオクラディウム ビレンス（Gliocladium virens IFO6355）を、酵母類ではロドトルラ ルブラ（Rhodotorula rubra IFO0907）、サッカロミセス セレビジアエ（Saccharomyces cerevisiae IFO0209）を用い、細菌類の場合は、実施例および比較例の各工業用防腐・防汚組成物をそれぞれ添加したグルコースブイヨン寒天培地（ｐＨ６．０）に、ミクロプランタ（佐久間製作所製）を用いて接種用細菌懸濁液を接種し、３３℃で１８時間培養した。カビ類および酵母類の場合は、前記と同様に、実施例および比較例の工業用防腐・防汚組成物をそれぞれ添加したグルコースブイヨン寒天培地（ｐＨ６．０）に、カビ胞子懸濁液または接種用酵母懸濁液を接種し、３３℃で１８時間培養し、さらに、２８℃で２日間培養した。培養後、各菌の生育を観察し、最小発育阻止濃度（ＭＩＣ）（μｇ／ｍＬ）を求めた。実施例１に係る工業用防腐・防汚組成物についての結果を表１に示す。
【０１２７】
【表１】
【０１２８】
表１より明らかなように、実施例１の工業用防腐・防汚組成物は、枯草菌、大腸菌および緑膿菌に対して６２．５μｇ／ｍＬ以下のＭＩＣを示し、良好な抗菌活性を有することが示された。特に、環境中に常在する非病原性細菌である枯草菌に対し、優れた抗菌活性を示した。
【０１２９】
［実施例２〜２２］
本発明の実施例２〜２２の工業用防腐・防汚組成物の組成を表２に、比較例１〜７の工業用防腐・防汚組成物の組成を表３に示す。なお、以下の実施例および比較例の組成物の調製に際しては、ノルフロキサシンは、上記と同じ和光純薬工業株式会社製を用いた。
【０１３０】
イソチアゾリン系化合物としては、「ＺＯＮＥＮ−ＭＴ」（２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オン５０重量％含有、株式会社ケミクレア製）、「ケーソンＬＸ１４００」（２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オンおよび５−クロロ−２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オンの混合物１４重量％含有、ロームアンドハース社製）、「ケーソン８９３Ｔ」（２−ｎ−オクチル−４−イソチアゾリン−３−オン９９．５重量％含有、ロームアンドハース社製）を用いた。
【０１３１】
ベンゾイソチアゾリン系化合物としては、「ＢＩＴ」（１，２−ベンゾイソチアゾリン−３−オン８０重量％含有、ダウケミカル社製）を用いた。
【０１３２】
ベンゾイミダゾール系化合物としては、「コートサイド」（メチル ２−ベンゾイミダゾールカルバメート塩酸塩１０重量％含有、日本エンバイロケミカルズ株式会社製）を用いた。
【０１３３】
ハロアセチレン系化合物としては、「ＩＰＢＣ」（３−ヨード−２−プロピニル Ｎ−ブチルカルバメート９９．４重量％含有、フォーカス社製）を用いた。
【０１３４】
テトラヒドロチオフェンジオキシド系化合物としては、スラカーブ（３，３，４，４−テトラクロロテトラヒドロチオフェン−１，１−ジオキシド）の２０重量％ジエチレングリコールモノメチルエーテル溶液（日本エンバイロケミカルズ株式会社製）を用いた。
【０１３５】
【表２】
【０１３６】
【表３】
【０１３７】
実施例および比較例の工業用防腐・防汚組成物は、表２および表３に示す組成に従い、各抗菌性化合物をメチルカルビトールに添加して、室温にて３０分間撹拌混合して調製し、白色の懸濁剤または溶液剤として得た。
【０１３８】
ノルフロキサシンと上記所定の抗菌性化合物を併用する場合（実施例２〜２２）の抗菌活性の評価は、ノルフロキサシン、イソチアゾリン系化合物、ベンゾイソチアゾリン系化合物、ベンゾイミダゾール系化合物、ハロアセチレン系化合物およびテトラヒドロチオフェンジオキシド系化合物をそれぞれ単独で用いた場合（実施例１および比較例１〜７）のＭＩＣ値から、前記各実施例の防腐・防汚組成物について次式によりＭＩＣの理論値を算出し、実際に測定したＭＩＣ値をそれらと比較することにより行った。ＭＩＣの実測値がその理論値よりも小さくなる場合、すなわち「実測値／理論値」が１より小さくなる場合には、上記の各成分を単独で用いた場合の代数和より抗菌活性が増強されているといえるため、相乗効果が認められると評価した。
【０１３９】
ＭＩＣの理論値＝ＣＡ×ｘ／１００＋ＣＢ×ｙ／１００
ＣＡ；ノルフロキサシンを単独で用いた場合（実施例１）のＭＩＣ値
ＣＢ；イソチアゾリン系化合物、ベンゾイソチアゾリン系化合物、ベンゾイミダゾール系化合物、ハロアセチレン系化合物およびテトラヒドロチオフェンジオキシド系化合物をそれぞれ単独で用いた場合（比較例１〜７）のＭＩＣ値
ｘ；抗菌性成分中においてノルフロキサシンの占める割合（重量％）
ｙ；抗菌性成分中において、イソチアゾリン系化合物、ベンゾイソチアゾリン系化合物、ベンゾイミダゾール系化合物、ハロアセチレン系化合物またはテトラヒドロチオフェンジオキシド系化合物の占める割合（重量％）
【０１４０】
抗菌活性の評価結果を表４〜表１０に示した。各表中の「１００／０」、「７５／２５」、「５０／５０」、「２５／７５」および「０／１００」は、ノルフロキサシンと、イソチアゾリン系化合物、ベンゾイソチアゾリン系化合物、ベンゾイミダゾール系化合物、ハロアセチレン系化合物またはテトラヒドロチオフェンジオキシド系化合物との配合重量比を示す。また、以下の各表には、ノルフロキサシンおよび前記の各抗菌性化合物について、前記重量比で用いた場合に、少なくとも一以上の重量比において１０００μｇ／ｍＬ未満のＭＩＣ値の得られた試験菌のみを示した。
【０１４１】
【表４】
【０１４２】
上記表４は、ノルフロキサシンと、イソチアゾリン系化合物として、２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オンを１００：０、７５：２５、５０：５０、２５：７５の重量比で含有する工業用防腐・防汚組成物（実施例１〜４）についての評価結果を示す。実施例２〜４の工業用防腐・防汚組成物は、実施例１の組成物と同様に細菌類に対して有効な抗菌活性を示した。そして、枯草菌に対しては、全組成物についてＭＩＣの実測値／理論値が１より小さく、ノルフロキサシンおよび２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オンをそれぞれ単独で使用した場合（実施例１および比較例１）と比べ、抗菌活性の相乗的な向上が認められた。また、黄色ブドウ球菌に対しては実施例３の組成物、大腸菌に対しては実施例２の組成物、セラチア菌に対しては実施例４の組成物において抗菌活性の相乗的な向上が見られた。なお、緑膿菌に対しては、いずれの組成物においても、抗菌活性の相乗的な向上は見られなかった。
【０１４３】
【表５】
【０１４４】
上記表５は、ノルフロキサシンと、イソチアゾリン系化合物として、２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オンおよび５−クロロ−２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オンの混合物を１００：０、７５：２５、５０：５０、２５：７５の重量比で含有する工業用防腐・防汚組成物（実施例１、５〜７）についての評価結果を示す。実施例５〜７の組成物について、実施例１の組成物がさほど良好な抗菌活性を示さなかったセラチア菌、カビ類および酵母類に対し、抗菌活性が認められた。また、実施例５の組成物について大腸菌および緑膿菌、実施例６の組成物について枯草菌および緑膿菌、実施例７の組成物について緑膿菌に対する場合を除き、ＭＩＣの実測値／理論値が１より小さく、ノルフロキサシンおよび２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オン・５−クロロ−２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オン混合物をそれぞれ単独で使用した場合（実施例１および比較例２）と比べ、試験した各細菌、カビおよび酵母に対して、抗菌活性の相乗的な向上が認められた。
【０１４５】
【表６】
【０１４６】
上記表６は、ノルフロキサシンと、イソチアゾリン系化合物として、２−ｎ−オクチル−４−イソチアゾリン−３−オンを１００：０、７５：２５、５０：５０、２５：７５の重量比で含有する工業用防腐・防汚組成物（実施例１、８〜１０）についての評価結果を示す。実施例８〜１０の組成物は、セラチア菌には有効な抗菌活性を示さなかったが、実施例１の組成物が無効であったカビ類および酵母類に対して、有効な抗菌活性を示した。また、実施例９および１０の組成物について枯草菌、実施例８〜１０の全組成物について黄色ブドウ球菌に対する場合を除き、ＭＩＣの実測値／理論値が１より小さく、ノルフロキサシンおよび２−ｎ−オクチル−４−イソチアゾリン−３−オンをそれぞれ単独で使用した場合（実施例１および比較例３）と比べ、抗菌活性の相乗的な向上が認められた。
【０１４７】
【表７】
【０１４８】
上記表７は、ノルフロキサシンと、ベンゾイソチアゾリン系化合物として、１，２−ベンゾイソチアゾリン−３−オンを１００：０、７５：２５、５０：５０、２５：７５の重量比で含有する工業用防腐・防汚組成物（実施例１、１１〜１３）についての評価結果を示す。実施例１１〜１３の組成物は、ムコール スピネッセンスおよびグリオクラディウム ビレンスを除くカビ類ならびに酵母類に対しても、抗菌活性を示した。ただし、大腸菌および緑膿菌に対しては、抗菌活性の相乗的な向上は見られなかった。しかし、その他の試験菌に対しては、実施例１１の組成物について黄色ブドウ球菌、クロコウジカビ、アオカビ、アルテルナリア属、ロドトルラ ルブラ、サッカロミセス セレビジアエ、実施例１２の組成物についてロドトルラ ルブラ、実施例１３の組成物について黄色ブドウ球菌およびクロコウジカビに対する場合を除き、ＭＩＣの実測値／理論値が１より小さく、ノルフロキサシンおよび１，２−ベンゾイソチアゾリン−３−オンをそれぞれ単独で使用した場合（実施例１および比較例４）と比べ、抗菌活性の相乗的な向上が認められた。
【０１４９】
【表８】
【０１５０】
上記表８は、ノルフロキサシンと、ベンゾイミダゾール系化合物として、メチル ２−ベンゾイミダゾールカルバメート塩酸塩を１００：０、７５：２５、５０：５０、２５：７５の重量比で含有する工業用防腐・防汚組成物（実施例１、１４〜１６）についての評価結果を示す。実施例１４〜１６の組成物は、黄色ブドウ球菌、セラチア菌以外の細菌類、アルテルナリア属、ムコール スピネッセンス以外のカビ類、およびロドトルラ ルブラに対して抗菌活性を示した。また、抗菌活性を示した試験菌に対しては、ＭＩＣの実測値／理論値が１より小さく、ノルフロキサシンおよびメチル ２−ベンゾイミダゾールカルバメート塩酸塩をそれぞれ単独で使用した場合（実施例１および比較例５）と比べ、抗菌活性の相乗的な向上が認められた。
【０１５１】
【表９】
【０１５２】
上記表９は、ノルフロキサシンと、ハロアセチレン系化合物として、３−ヨード−２−プロピニル Ｎ−ブチルカルバメートを１００：０、７５：２５、５０：５０、２５：７５の重量比で含有する工業用防腐・防汚組成物（実施例１、１７〜１９）についての評価結果を示す。実施例１７〜１９の組成物は、黄色ブドウ球菌およびセラチア菌以外の細菌類、カビ類ならびに酵母類に対して抗菌活性を示した。また、抗菌活性を示した試験菌に対しては、ＭＩＣの実測値／理論値が１より小さく、ノルフロキサシンおよび３−ヨード−２−プロピニル Ｎ−ブチルカルバメートをそれぞれ単独で使用した場合（実施例１および比較例６）と比べ、抗菌活性の相乗的な向上が認められた。
【０１５３】
【表１０】
【０１５４】
上記表１０は、ノルフロキサシンと、テトラヒドロチオフェンジオキシド系化合物として、スラカーブ（３，３，４，４−テトラクロロテトラヒドロチオフェン−１，１−ジオキシド）を１００：０、７５：２５、５０：５０、２５：７５の重量比で含有する工業用防腐・防汚組成物（実施例１、２０〜２２）についての評価結果を示す。実施例２０〜２２の組成物は、試験した全菌類に対し抗菌活性を示した。また、実施例２０の組成物について枯草菌、大腸菌および緑膿菌、実施例２１、２２の組成物について大腸菌および緑膿菌に対する場合を除き、ＭＩＣの実測値／理論値が１よりも小さく、ノルフロキサシンおよびスラカーブをそれぞれ単独で使用した場合（実施例１および比較例７）と比べ、抗菌活性の相乗的な向上が認められた。
【０１５５】
［実施例２３］
オフロキサシン標準品（ｒａｃ−９−フルオロ−２，３−ジヒドロ−３α＊−メチル−１０−（４−メチル−１−ピペラジニル）−７−オキソ−７Ｈ−ピリド［１，２，３−ｄｅ］−１，４−ベンゾオキサジン−６−カルボン酸；和光純薬工業株式会社製）を、１０重量％となるようにメチルカルビトールに添加して、室温にて３０分間撹拌混合して調製し、白色の懸濁剤である工業用防腐・防汚組成物を得た。
【０１５６】
［実施例２４〜４４］
上記表２において、ノルフロキサシンをオフロキサシンに代替して同様に調製し、実施例２４〜４４の工業用防腐・防汚組成物とした。なお、オフロキサシンとしては、上記と同じ和光純薬工業株式会社製の標準品を用いた。
【０１５７】
実施例２３〜４４の工業用防腐・防汚組成物について、上記と同様に抗菌活性の評価を行った。また、上記比較例１〜７の工業用防腐・防汚組成物についても、同時に抗菌活性を評価した。実施例２４〜４４の工業用防腐・防汚組成物については、上記と同様に、オフロキサシンと他の抗菌性化合物を併用することにより、抗菌活性の相乗的な向上がみられるかどうかについても評価した。
【０１５８】
実施例２３についてのＭＩＣ測定結果を表１１に示した。
【０１５９】
【表１１】
【０１６０】
表１１より明らかなように、オフロキサシンを含有する実施例２３の工業用防腐・防汚組成物は、枯草菌、黄色ブドウ球菌、大腸菌および緑膿菌に対して６２．５μｇ／ｍＬ以下、セラチア菌に対して、１２５μｇ／ｍＬのＭＩＣを示し、細菌類に対して良好な抗菌活性を有することが示された。特に、環境中に常在する非病原性細菌である枯草菌に対し、優れた抗菌活性を示した。
【０１６１】
オフロキサシンと、他の抗菌性化合物とを併用する実施例２４〜４４について、抗菌活性の評価結果を表１２〜１８に示した。各表中の「１００／０」、「７５／２５」、「５０／５０」、「２５／７５」および「０／１００」は、オフロキサシンと、イソチアゾリン系化合物、ベンゾイソチアゾリン系化合物、ベンゾイミダゾール系化合物、ハロアセチレン系化合物またはテトラヒドロチオフェンジオキシド系化合物との配合重量比を示す。また、以下の各表には、オフロキサシンおよび前記の各抗菌性化合物について、前記重量比で用いた場合に、少なくとも一以上の重量比において１０００μｇ／ｍＬ未満のＭＩＣ値の得られた試験菌のみを示した。
【０１６２】
【表１２】
【０１６３】
上記表１２は、オフロキサシンと、イソチアゾリン系化合物である２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オンを１００：０、７５：２５、５０：５０、２５：７５の重量比で含有する工業用防腐・防汚組成物（実施例２３〜２６）についての評価結果を示す。実施例２４〜２６の工業用防腐・防汚組成物は、実施例２３の組成物と同様に細菌類に対して良好な抗菌活性を示した。そして、セラチア菌に対する場合を除いて、全組成物についてＭＩＣの実測値／理論値が１より小さく、オフロキサシンおよび２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オンをそれぞれ単独で使用した場合（実施例２３および比較例１）と比べ、抗菌活性の相乗的な向上が認められた。
【０１６４】
【表１３】
【０１６５】
上記表１３は、オフロキサシンと、イソチアゾリン系化合物の２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オン、および５−クロロ−２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オンの混合物を１００：０、７５：２５、５０：５０、２５：７５の重量比で含有する工業用防腐・防汚組成物（実施例２３、２７〜２９）についての評価結果を示す。実施例２７〜２９の組成物について、実施例２３の組成物が有効な抗菌活性を示さなかったカビ類および酵母類に対し、良好な抗菌活性が認められた。また、実施例２７〜２９の組成物について黄色ブドウ球菌および大腸菌、実施例２７および２８の組成物について緑膿菌に対する場合を除き、ＭＩＣの実測値／理論値が１より小さく、オフロキサシンおよび２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オン・５−クロロ−２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オン混合物をそれぞれ単独で使用した場合（実施例２３および比較例２）と比べ、試験した各細菌、カビおよび酵母に対して、抗菌活性の相乗的な向上が認められた。
【０１６６】
【表１４】
【０１６７】
上記表１４は、オフロキサシンと、イソチアゾリン系化合物である２−ｎ−オクチル−４−イソチアゾリン−３−オンを１００：０、７５：２５、５０：５０、２５：７５の重量比で含有する工業用防腐・防汚組成物（実施例２３、３０〜３２）についての評価結果を示す。実施例３１、３２の組成物がセラチア菌に対し有効な抗菌活性を示さなかったことを除き、試験した細菌類、カビ類および酵母類に対して、有効な抗菌活性が認められた。また、有効な抗菌活性が認められた場合には、ＭＩＣの実測値／理論値が１より小さく、オフロキサシンおよび２−ｎ−オクチル−４−イソチアゾリン−３−オンをそれぞれ単独で使用した場合（実施例２３および比較例３）と比べ、抗菌活性の相乗的な向上が認められた。
【０１６８】
【表１５】
【０１６９】
上記表１５は、オフロキサシンと、ベンゾイソチアゾリン系化合物である１，２−ベンゾイソチアゾリン−３−オンを１００：０、７５：２５、５０：５０、２５：７５の重量比で含有する工業用防腐・防汚組成物（実施例２３、３３〜３５）についての評価結果を示す。クロコウジカビ、アオカビ、オーレオバシディウム プルランス、アルテルナリア属、ムコール スピネッセンスおよびロドトルラ ルブラに対して実施例３３の組成物、グリオクラディウム ビレンスに対して実施例３３〜３５の組成物が有効な抗菌活性を示さなかった他は、有効な抗菌活性が認められた。また、有効な抗菌活性の見られた場合のうち、実施例３３〜３５の組成物について黄色ブドウ球菌および緑膿菌、実施例３５についてムコール スピネセンスに対する場合を除き、ＭＩＣの実測値／理論値が１より小さく、オフロキサシンおよび１，２−ベンゾイソチアゾリン−３−オンをそれぞれ単独で使用した場合（実施例２３および比較例４）と比べ、抗菌活性の相乗的な向上が認められた。
【０１７０】
【表１６】
【０１７１】
上記表１６は、オフロキサシンと、ベンゾイミダゾール系化合物であるメチル ２−ベンゾイミダゾールカルバメート塩酸塩を１００：０、７５：２５、５０：５０、２５：７５の重量比で含有する工業用防腐・防汚組成物（実施例２３、３６〜３８）についての評価結果を示す。実施例３６〜３８の組成物について、アルテルナリア属、ムコール スピネッセンスおよびサッカロミセス セレビジアエ、実施例３８の組成物についてセラチア菌に対して有効な抗菌活性が見られなかった他は、試験した細菌類、カビ類および酵母に対して抗菌活性が認められた。また、抗菌活性を示した試験菌に対しては、ＭＩＣの実測値／理論値が１より小さく、オフロキサシンおよびメチル ２−ベンゾイミダゾールカルバメート塩酸塩をそれぞれ単独で使用した場合（実施例２３および比較例５）と比べ、抗菌活性の相乗的な向上が認められた。
【０１７２】
【表１７】
【０１７３】
上記表１７は、オフロキサシンと、ハロアセチレン系化合物である３−ヨード−２−プロピニル Ｎ−ブチルカルバメートを１００：０、７５：２５、５０：５０、２５：７５の重量比で含有する工業用防腐・防汚組成物（実施例２３、３９〜４１）についての評価結果を示す。実施例４１の組成物がセラチア菌に対して有効な抗菌活性を示さなかった他は、試験した細菌類、カビ類および酵母類に対して抗菌活性を示した。また、抗菌活性を示した試験菌に対しては、ＭＩＣの実測値／理論値が１より小さく、オフロキサシンおよび３−ヨード−２−プロピニル Ｎ−ブチルカルバメートをそれぞれ単独で使用した場合（実施例２３および比較例６）と比べ、抗菌活性の相乗的な向上が認められた。
【０１７４】
【表１８】
【０１７５】
上記表１８は、オフロキサシンと、テトラヒドロチオフェンジオキシド系化合物であるスラカーブ（３，３，４，４−テトラクロロテトラヒドロチオフェン−１，１−ジオキシド）を、１００：０、７５：２５、５０：５０、２５：７５の重量比で含有する工業用防腐・防汚組成物（実施例２３、４２〜４４）についての評価結果を示す。実施例４２〜４４の組成物は、試験した全菌類に対し抗菌活性を示した。また、大腸菌、緑膿菌およびセラチア菌に対する場合を除き、ＭＩＣの実測値／理論値が１よりも小さく、オフロキサシンおよびスラカーブをそれぞれ単独で使用した場合（実施例２３および比較例７）と比べ、抗菌活性の相乗的な向上が認められた。
【０１７６】
［実施例４５］
ジフロキサシン標準品（１−（４−フルオロフェニル）−４−オキソ−６−フルオロ−７−（４−メチルピペラジノ）−１，４−ジヒドロキノリン−３−カルボン酸；和光純薬工業株式会社製）を、１０重量％となるようにメチルカルビトールに添加して、室温にて３０分間撹拌混合して調製し、白色の懸濁剤である工業用防腐・防汚組成物を得た。
【０１７７】
［実施例４６〜６６］
上記表２において、ノルフロキサシンをジフロキサシンに代替して同様に調製し、実施例４６〜６６の工業用防腐・防汚組成物とした。なお、ジフロキサシンとしては、上記と同じ和光純薬工業株式会社製の標準品を用いた。
【０１７８】
実施例４５〜６６の工業用防腐・防汚組成物について、上記と同様に抗菌活性の評価を行った。また、上記比較例１〜７の工業用防腐・防汚組成物についても、同時に抗菌活性を評価した。実施例４６〜６６の工業用防腐・防汚組成物については、上記と同様に、ジフロキサシンと他の抗菌性化合物を併用することにより、抗菌活性の相乗的な向上がみられるかどうかについても評価した。
【０１７９】
実施例４５についてのＭＩＣ測定結果を表１９に示した。
【０１８０】
【表１９】
【０１８１】
表１９より明らかなように、ジフロキサシンを含有する実施例４５の工業用防腐・防汚組成物は、枯草菌、黄色ブドウ球菌、大腸菌および緑膿菌に対して６２．５μｇ／ｍＬ以下、セラチア菌に対して、２５０μｇ／ｍＬのＭＩＣを示し、細菌類に対して良好な抗菌活性を有することが示された。特に、環境中に常在する非病原性細菌である枯草菌に対し、優れた抗菌活性を示した。
【０１８２】
ジフロキサシンと、他の抗菌性化合物とを併用する実施例４６〜６６について、抗菌活性の評価結果を表２０〜２６に示した。各表中の「１００／０」、「７５／２５」、「５０／５０」、「２５／７５」および「０／１００」は、ジフロキサシンと、イソチアゾリン系化合物、ベンゾイソチアゾリン系化合物、ベンゾイミダゾール系化合物、ハロアセチレン系化合物またはテトラヒドロチオフェンジオキシド系化合物との配合重量比を示す。また、以下の各表には、ジフロキサシンおよび前記の各抗菌性化合物について、前記重量比で用いた場合に、少なくとも一以上の重量比において１０００μｇ／ｍＬ未満のＭＩＣ値の得られた試験菌のみを示した。
【０１８３】
【表２０】
【０１８４】
上記表２０は、ジフロキサシンと、イソチアゾリン系化合物である２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オンを１００：０、７５：２５、５０：５０、２５：７５の重量比で含有する工業用防腐・防汚組成物（実施例４５〜４８）についての評価結果を示す。実施例４６〜４８の工業用防腐・防汚組成物は、実施例４５の組成物と同様に細菌類に対して良好な抗菌活性を示した。そして、セラチア菌に対する場合を除いてＭＩＣの実測値／理論値が１より小さく、ジフロキサシンおよび２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オンをそれぞれ単独で使用した場合（実施例４５および比較例１）と比べ、抗菌活性の相乗的な向上が認められた。
【０１８５】
【表２１】
【０１８６】
上記表２１は、ジフロキサシンと、イソチアゾリン系化合物の２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オン、および５−クロロ−２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オンの混合物を１００：０、７５：２５、５０：５０、２５：７５の重量比で含有する工業用防腐・防汚組成物（実施例４５、４９〜５１）についての評価結果を示す。実施例４９〜５１の組成物について、実施例４５の組成物が有効な抗菌活性を示さなかったカビ類および酵母類に対し、良好な抗菌活性が認められた。また、実施例５０および５１の組成物について黄色ブドウ球菌、実施例５１の組成物について大腸菌に対する場合を除き、ＭＩＣの実測値／理論値が１より小さく、ジフロキサシンおよび２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オン・５−クロロ−２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オン混合物をそれぞれ単独で使用した場合（実施例４５および比較例２）と比べ、試験した各細菌、カビおよび酵母に対して、抗菌活性の相乗的な向上が認められた。
【０１８７】
【表２２】
【０１８８】
上記表２２は、ジフロキサシンと、イソチアゾリン系化合物である２−ｎ−オクチル−４−イソチアゾリン−３−オンを１００：０、７５：２５、５０：５０、２５：７５の重量比で含有する工業用防腐・防汚組成物（実施例４５、５２〜５４）についての評価結果を示す。実施例５３の組成物がセラチア菌、実施例５４の組成物が大腸菌およびセラチア菌に対し有効な抗菌活性を示さなかったが、その他は、試験した細菌類、カビ類および酵母類に対して、有効な抗菌活性が認められた。また、有効な抗菌活性が認められた場合には、ＭＩＣの実測値／理論値が１より小さく、ジフロキサシンおよび２−ｎ−オクチル−４−イソチアゾリン−３−オンをそれぞれ単独で使用した場合（実施例４５および比較例３）と比べ、抗菌活性の相乗的な向上が認められた。
【０１８９】
【表２３】
【０１９０】
上記表２３は、ジフロキサシンと、ベンゾイソチアゾリン系化合物である１，２−ベンゾイソチアゾリン−３−オンを１００：０、７５：２５、５０：５０、２５：７５の重量比で含有する工業用防腐・防汚組成物（実施例４５、５５〜５７）についての評価結果を示す。クロコウジカビ、アルテルナリア属、ムコール スピネッセンス、グリオクラディウム ビレンスおよびロドトルラ ルブラに対して実施例５５の組成物、グリオクラディウム ビレンスに対して実施例５６の組成物が有効な抗菌活性を示さなかった他は、有効な抗菌活性が認められた。また、有効な抗菌活性の見られた場合のうち、実施例５５の組成物について大腸菌およびセラチア菌、実施例５５〜５７の組成物について緑膿菌に対する場合を除き、ＭＩＣの実測値／理論値が１より小さく、ジフロキサシンおよび１，２−ベンゾイソチアゾリン−３−オンをそれぞれ単独で使用した場合（実施例４５および比較例４）と比べ、抗菌活性の相乗的な向上が認められた。
【０１９１】
【表２４】
【０１９２】
上記表２４は、ジフロキサシンと、ベンゾイミダゾール系化合物であるメチル ２−ベンゾイミダゾールカルバメート塩酸塩を１００：０、７５：２５、５０：５０、２５：７５の重量比で含有する工業用防腐・防汚組成物（実施例４５、５８〜６０）についての評価結果を示す。実施例５８〜６０の組成物について、アルテルナリア属、ムコール スピネッセンスおよびサッカロミセス セレビジアエ、実施例６０の組成物についてセラチア菌に対して有効な抗菌活性が見られなかった。しかし、試験した他の細菌類、カビ類および酵母に対しては抗菌活性が認められ、ＭＩＣの実測値／理論値が１より小さく、ジフロキサシンおよびメチル ２−ベンゾイミダゾールカルバメート塩酸塩をそれぞれ単独で使用した場合（実施例４５および比較例５）と比べ、抗菌活性の相乗的な向上が認められた。
【０１９３】
【表２５】
【０１９４】
上記表２５は、ジフロキサシンと、ハロアセチレン系化合物である３−ヨード−２−プロピニル Ｎ−ブチルカルバメートを１００：０、７５：２５、５０：５０、２５：７５の重量比で含有する工業用防腐・防汚組成物（実施例４５、６１〜６３）についての評価結果を示す。実施例６３の組成物が大腸菌、緑膿菌およびセラチア菌に対して有効な抗菌活性を示さなかった他は、試験した細菌類、カビ類および酵母類に対して抗菌活性を示した。また、抗菌活性を示した試験菌に対しては、実施例６１の組成物についてセラチア菌に対する場合を除き、ＭＩＣの実測値／理論値が１より小さく、ジフロキサシンおよび３−ヨード−２−プロピニル Ｎ−ブチルカルバメートをそれぞれ単独で使用した場合（実施例４５および比較例６）と比べ、抗菌活性の相乗的な向上が認められた。
【０１９５】
【表２６】
【０１９６】
上記表２６は、ジフロキサシンと、テトラヒドロチオフェンジオキシド系化合物であるスラカーブ（３，３，４，４−テトラクロロテトラヒドロチオフェン−１，１−ジオキシド）を、１００：０、７５：２５、５０：５０、２５：７５の重量比で含有する工業用防腐・防汚組成物（実施例４５、６４〜６６）についての評価結果を示す。実施例６４〜６６の組成物は、試験した全菌類に対し抗菌活性を示した。また、実施例６５の組成物について大腸菌および緑膿菌、実施例６４および６６の組成物についてセラチア菌に対する場合を除き、ＭＩＣの実測値／理論値が１よりも小さく、ジフロキサシンおよびスラカーブをそれぞれ単独で使用した場合（実施例４５および比較例７）と比べ、抗菌活性の相乗的な向上が認められた。
【０１９７】
上述したように、本発明の実施例の防腐・防汚組成物においては、キノロン系化合物であるノルフロキサシン、オフロキサシンおよびジフロキサシンが、枯草菌等の環境中に常在する非病原性細菌に対しても、抗菌活性を有することが認められた。また所定の抗菌性化合物を併用することにより、抗菌活性が相乗的に上昇し、細菌類並びにカビおよび酵母の真菌類に対し、幅広く抗菌活性の相乗的な向上が認められた。
【産業上の利用可能性】
【０１９８】
本発明によれば、産業用水や各種工業用品の有害微生物の防除等、幅広い工業用途に利用可能で、かつそれらの各用途において抗菌活性が相乗的に向上した工業用防腐・防汚組成物を提供することができる。
【０１９９】
本出願は、わが国で出願された特願２０１０−９９２２８を基礎とするものであり、その内容は本明細書に全て包含されるものである。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（１）で示されるキノロン系化合物であって、オキソリニック酸を除く化合物、またはその塩を含有する、工業用防腐・防汚組成物。
【化１】
［式中、Ａ１環は置換されていてもよく、１個または２個の炭素原子が窒素原子に置換された複素環であってもよい６員の芳香族環を示し、Ｒ１およびＲ２は同一または異なって、水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を示す。また、Ｒ１はＡ１環の置換基とともに環を形成していてもよい。］
【請求項２】
さらに、式（２）で示されるイソチアゾリン系化合物、式（３）で示されるベンゾイソチアゾリン系化合物、式（４）で示されるベンゾイミダゾール系化合物、式（５）で示されるハロアセチレン系化合物、式（６）で示されるテトラヒドロチオフェンジオキシド系化合物、およびこれらの塩よりなる群から選択される１種または２種以上を含有する、請求項１に記載の工業用防腐・防汚組成物。
【化２】
［式中、Ｒ３は水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を示し、Ｒ４およびＲ５は同一または異なって、それぞれ水素原子、ハロゲン原子または置換されていてもよい炭化水素基を示す。］
【化３】
［式中、Ａ２環は置換されていてもよいベンゼン環を示し、Ｙは水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を示す。］
【化４】
［式中、Ａ３環は置換されていてもよいベンゼン環を示し、Ｚは−ＮＨＣＯＯＲ６（式中、Ｒ６は水素原子またはアルキル基を示す。）で示される基または置換されていてもよい５員または６員の含窒素複素環基を示す。］
【化５】
［式中、Ｘ１はハロゲン原子を示し、Ｒ７およびＲ８は同一または異なって、それぞれ水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を示し、ｍは０または１の整数を示す。］
【化６】
［式中、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３およびＹ４は同一または異なって、それぞれ水素原子、ハロゲン原子または置換されていてもよい炭化水素基を示す。］
【請求項３】
キノロン系化合物であって、オキソリニック酸を除く化合物が、式（７）および式（８）で示される化合物よりなる群から選択される１種または２種以上である、請求項１または２に記載の工業用防腐・防汚組成物。
【化７】
［式中、Ｒ１およびＲ２は同一または異なって、水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を示し、Ｒ９は水素原子、ハロゲン原子またはアミノ基、Ｒ１０は水素原子またはハロゲン原子、Ｒ１１は置換されていてもよい炭化水素基または置換されていてもよい環状アミノ基を示す。］
【化８】
［式中、Ｒ１およびＲ２は同一または異なって、水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を示し、Ｒ９は水素原子、ハロゲン原子またはアミノ基、Ｒ１０は水素原子またはハロゲン原子、Ｒ１１は置換されていてもよい炭化水素基または置換されていてもよい環状アミノ基、Ｒ１２は水素原子、ハロゲン原子、置換されていてもよいアルコキシ基または置換されていてもよい炭化水素基を示す。また、Ｒ１はＲ１２とともに環を形成していてもよい。］
【請求項４】
キノロン系化合物であって、オキソリニック酸を除く化合物が、エノキサシン、トスフロキサシン、ノルフロキサシン、サラフロキサシン、ジフロキサシン、フレロキサシン、ロメフロキサシン、エンロフロキサシン、シプロフロキサシン、ガチフロキサシン、スパルフロキサシン、ダノフロキサシン、モキシフロキサシン、ガレノキサシン、シタフロキサシン、オルビフロキサシン、ナディフロキサシン、オフロキサシン、レボフロキサシン、パズフロキサシンおよびマルボフロキサシンよりなる群から選択される１種または２種以上である、請求項１または２に記載の工業用防腐・防汚組成物。
【請求項５】
イソチアゾリン系化合物が、２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オン、２−ｎ−オクチル−４−イソチアゾリン−３−オン、４−クロロ−２−ｎ−オクチル−４−イソチアゾリン−３−オン、５−クロロ−２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オン、５−クロロ−２−ｎ−オクチル−４−イソチアゾリン−３−オンおよび４，５−ジクロロ−２−ｎ−オクチル−４−イソチアゾリン−３−オンよりなる群から選択される１種または２種以上である、請求項２に記載の工業用防腐・防汚組成物。
【請求項６】
イソチアゾリン系化合物が、２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オン、５−クロロ−２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オンおよび２−ｎ−オクチル−４−イソチアゾリン−３−オンよりなる群から選択される１種または２種以上である、請求項２に記載の工業用防腐・防汚組成物。
【請求項７】
ベンゾイソチアゾリン系化合物が、１，２−ベンゾイソチアゾリン−３−オンおよびＮ−ｎ−ブチル−１，２−ベンゾイソチアゾリン−３−オンよりなる群から選択される１種または２種である、請求項２に記載の工業用防腐・防汚組成物。
【請求項８】
ベンゾイミダゾール系化合物が、メチル ２−ベンゾイミダゾールカルバメート、エチル ２−ベンゾイミダゾールカルバメートおよび２−（４−チアゾリル）ベンゾイミダゾールよりなる群から選択される１種または２種以上である、請求項２に記載の工業用防腐・防汚組成物。
【請求項９】
ハロアセチレン系化合物が、３−ヨード−２−プロピニル Ｎ−ブチルカルバメートである、請求項２に記載の工業用防腐・防汚組成物。
【請求項１０】
テトラヒドロチオフェンジオキシド系化合物が、３，３，４，４−テトラクロロテトラヒドロチオフェン−１，１−ジオキシドである、請求項２に記載の工業用防腐・防汚組成物。
【請求項１】
式（１）で示されるキノロン系化合物であって、オキソリニック酸を除く化合物、またはその塩を含有する、工業用防腐・防汚組成物。
【化１】
［式中、Ａ１環は置換されていてもよく、１個または２個の炭素原子が窒素原子に置換された複素環であってもよい６員の芳香族環を示し、Ｒ１およびＲ２は同一または異なって、水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を示す。また、Ｒ１はＡ１環の置換基とともに環を形成していてもよい。］
【請求項２】
さらに、式（２）で示されるイソチアゾリン系化合物、式（３）で示されるベンゾイソチアゾリン系化合物、式（４）で示されるベンゾイミダゾール系化合物、式（５）で示されるハロアセチレン系化合物、式（６）で示されるテトラヒドロチオフェンジオキシド系化合物、およびこれらの塩よりなる群から選択される１種または２種以上を含有する、請求項１に記載の工業用防腐・防汚組成物。
【化２】
［式中、Ｒ３は水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を示し、Ｒ４およびＲ５は同一または異なって、それぞれ水素原子、ハロゲン原子または置換されていてもよい炭化水素基を示す。］
【化３】
［式中、Ａ２環は置換されていてもよいベンゼン環を示し、Ｙは水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を示す。］
【化４】
［式中、Ａ３環は置換されていてもよいベンゼン環を示し、Ｚは−ＮＨＣＯＯＲ６（式中、Ｒ６は水素原子またはアルキル基を示す。）で示される基または置換されていてもよい５員または６員の含窒素複素環基を示す。］
【化５】
［式中、Ｘ１はハロゲン原子を示し、Ｒ７およびＲ８は同一または異なって、それぞれ水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を示し、ｍは０または１の整数を示す。］
【化６】
［式中、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３およびＹ４は同一または異なって、それぞれ水素原子、ハロゲン原子または置換されていてもよい炭化水素基を示す。］
【請求項３】
キノロン系化合物であって、オキソリニック酸を除く化合物が、式（７）および式（８）で示される化合物よりなる群から選択される１種または２種以上である、請求項１または２に記載の工業用防腐・防汚組成物。
【化７】
［式中、Ｒ１およびＲ２は同一または異なって、水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を示し、Ｒ９は水素原子、ハロゲン原子またはアミノ基、Ｒ１０は水素原子またはハロゲン原子、Ｒ１１は置換されていてもよい炭化水素基または置換されていてもよい環状アミノ基を示す。］
【化８】
［式中、Ｒ１およびＲ２は同一または異なって、水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を示し、Ｒ９は水素原子、ハロゲン原子またはアミノ基、Ｒ１０は水素原子またはハロゲン原子、Ｒ１１は置換されていてもよい炭化水素基または置換されていてもよい環状アミノ基、Ｒ１２は水素原子、ハロゲン原子、置換されていてもよいアルコキシ基または置換されていてもよい炭化水素基を示す。また、Ｒ１はＲ１２とともに環を形成していてもよい。］
【請求項４】
キノロン系化合物であって、オキソリニック酸を除く化合物が、エノキサシン、トスフロキサシン、ノルフロキサシン、サラフロキサシン、ジフロキサシン、フレロキサシン、ロメフロキサシン、エンロフロキサシン、シプロフロキサシン、ガチフロキサシン、スパルフロキサシン、ダノフロキサシン、モキシフロキサシン、ガレノキサシン、シタフロキサシン、オルビフロキサシン、ナディフロキサシン、オフロキサシン、レボフロキサシン、パズフロキサシンおよびマルボフロキサシンよりなる群から選択される１種または２種以上である、請求項１または２に記載の工業用防腐・防汚組成物。
【請求項５】
イソチアゾリン系化合物が、２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オン、２−ｎ−オクチル−４−イソチアゾリン−３−オン、４−クロロ−２−ｎ−オクチル−４−イソチアゾリン−３−オン、５−クロロ−２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オン、５−クロロ−２−ｎ−オクチル−４−イソチアゾリン−３−オンおよび４，５−ジクロロ−２−ｎ−オクチル−４−イソチアゾリン−３−オンよりなる群から選択される１種または２種以上である、請求項２に記載の工業用防腐・防汚組成物。
【請求項６】
イソチアゾリン系化合物が、２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オン、５−クロロ−２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オンおよび２−ｎ−オクチル−４−イソチアゾリン−３−オンよりなる群から選択される１種または２種以上である、請求項２に記載の工業用防腐・防汚組成物。
【請求項７】
ベンゾイソチアゾリン系化合物が、１，２−ベンゾイソチアゾリン−３−オンおよびＮ−ｎ−ブチル−１，２−ベンゾイソチアゾリン−３−オンよりなる群から選択される１種または２種である、請求項２に記載の工業用防腐・防汚組成物。
【請求項８】
ベンゾイミダゾール系化合物が、メチル ２−ベンゾイミダゾールカルバメート、エチル ２−ベンゾイミダゾールカルバメートおよび２−（４−チアゾリル）ベンゾイミダゾールよりなる群から選択される１種または２種以上である、請求項２に記載の工業用防腐・防汚組成物。
【請求項９】
ハロアセチレン系化合物が、３−ヨード−２−プロピニル Ｎ−ブチルカルバメートである、請求項２に記載の工業用防腐・防汚組成物。
【請求項１０】
テトラヒドロチオフェンジオキシド系化合物が、３，３，４，４−テトラクロロテトラヒドロチオフェン−１，１−ジオキシドである、請求項２に記載の工業用防腐・防汚組成物。
【公開番号】特開２０１１−２４１２０４（Ｐ２０１１−２４１２０４Ａ）
【公開日】平成２３年１２月１日（２０１１．１２．１）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−８６８４７（Ｐ２０１１−８６８４７）
【出願日】平成２３年４月８日（２０１１．４．８）
【出願人】（５０３１４００５６）日本エンバイロケミカルズ株式会社 (95)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年１２月１日（２０１１．１２．１）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年４月８日（２０１１．４．８）
【出願人】（５０３１４００５６）日本エンバイロケミカルズ株式会社 (95)
【Ｆターム（参考）】
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