【課題】 非露光部の耐汚れ性を維持できる親水性を保ちながら、露光部の感度および耐刷性を高いレベルで維持できる平版印刷版原版および平版印刷版の作製方法を提供すること。
【解決手段】 支持体上に、下塗り層と、画像記録層とをこの順に有する平版印刷版原版であって、前記下塗り層が、（Ａ）エチレン性不飽和結合と支持体表面に相互作用する官能基とを有する、質量平均分子量１００〜１００００の範囲の化合物と、（Ｂ）エチレン性不飽和結合、支持体表面に相互作用する官能基および親水性官能基を有する、質量平均分子量１００００〜５０００００の範囲の高分子化合物を含有することを特徴とする平版印刷版原版およびこれを用いた平版印刷版の作製方法。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は平版印刷版原版および平版印刷版の作製方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に平版印刷版は、親油性の画像部と親水性の非画像部からなる表面を有する。平版印刷は、この版表面に湿し水と油性インキとを交互に与え、水と油が互いに反発する性質を利用して、親水性の非画像部を湿し水受容部（インキ非受容部）とし、親油性の画像部のみにインキを受容させた後、紙等の被印刷体にインキを転写して印刷する方法である。
この平版印刷版を作製するため、従来、親水性の支持体上に親油性の感光層（画像記録層）を設けてなる平版印刷版原版（ＰＳ版）が広く用いられている。通常は、平版印刷版原版を、リスフィルム等の原画を通した露光を行った後、画像部となる感光層を残存させ、それ以外の不要な感光層をアルカリ性現像液または有機溶剤によって溶解して除去することで親水性の支持体の表面を露出させて非画像部を形成する方法により製版を行って、平版印刷版を得ている。
【０００３】
従来の平版印刷版原版の製版工程においては、露光の後、不要な感光層を現像液等によって溶解除去する工程が必要であるが、このような付加的に行われる湿式処理を簡易化することが課題の一つとして挙げられている。簡易化の一つとして、中性に近い水溶液または単なる水で現像できることが望まれている。
【０００４】
一方、近年、画像情報を、コンピュータを用いて電子的に処理し、蓄積し、出力する、デジタル化技術が広く普及してきており、このようなデジタル化技術に対応した新しい画像出力方式が種々実用されるようになってきている。これに伴い、レーザー光のような高収斂性の輻射線にデジタル化された画像情報を担持させて、その光で平版印刷版原版を走査露光し、リスフィルムを介することなく、直接平版印刷版を製造するコンピュータ・トゥ・プレート技術が注目されてきている。従って、このような技術に適応した平版印刷版原版を得ることが重要な技術課題の一つとなっている。
【０００５】
上述のような背景から、現在、製版作業の簡易化とデジタル化の両面への適合が、従来にも増して、強く望まれるようになってきている。
【０００６】
これに対して、例えば、特許文献１には、親水性支持体上に、疎水性化前駆体、親水性樹脂、光熱変換剤を含有する画像形成層を有する平版印刷版原版の画像形成層中に、さらにエチレンオキシド鎖を有する化合物を含有することによって、機上現像のほかに、露光後、水または適当な水溶液を現像液とする液体現像処理を施して印刷に用いることが可能であると記載されている。
【０００７】
また、特許文献２には、（ｉ）親水性支持体、および（ii）ラジカル重合性エチレン状不飽和モノマー、ラジカル重合開始剤および赤外吸収染料を含有し、赤外レーザー露光により硬化し、しかも６０質量％以上の水を含有し、ｐＨ２．０〜１０．０の水性現像液で現像可能な親油性感熱層からなる平版印刷版原版を用意し、赤外レーザーで画像様に露光し、水性現像液で該感熱層の未硬化領域を除くことからなる平版印刷版原版の処理方法が記載されている。
【０００８】
一方、光重合性平版印刷版の分野においては、密着性の向上のために支持体と画像記録層との間に、重合反応性基と支持体吸着性基とを有する化合物を含有する中間層を設けることが知られている（例えば特許文献３〜５を参照）。しかしながら、従来知られている
技術では、いずれも密着性を高めると露光部の画像記録層（画像部）の耐刷性は高められるが、非露光部（非画像部）の耐汚れ性が劣化するという問題があり、露光部の耐刷性と非露光部の耐汚れ性を両立することはできなかった。
【特許文献１】特開２００２−３６５７８９号公報
【特許文献２】米国特許出願公開２００４／００１３９６８号明細書
【特許文献３】特開平７−１５９９８３号公報
【特許文献４】特開平９−２６９５９３号公報
【特許文献５】特開２０００−２３５２５４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
したがって本発明の目的は、感光性の平版印刷版原版の画像記録層において、非露光部の耐汚れ性を維持できる親水性を保ちながら、露光部の感度および耐刷性を高いレベルで維持できる平版印刷版原版および平版印刷版の作製方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は、以下のとおりである。
１．支持体上に、下塗り層と、画像記録層とをこの順に有する平版印刷版原版であって、前記下塗り層が、（Ａ）エチレン性不飽和結合と支持体表面に相互作用する官能基とを有する、質量平均分子量１００〜１００００の範囲の化合物と、（Ｂ）エチレン性不飽和結合、支持体表面に相互作用する官能基および親水性官能基を有する、質量平均分子量１００００〜５０００００の範囲の高分子化合物を含有することを特徴とする平版印刷版原版。
２．前記画像記録層が、重合開始剤と増感色素と重合性化合物とを含む重合性感光層であることを特徴とする前記１に記載の平版印刷版原版。
３．前記増感色素が波長３５０ｎｍ〜４５０ｎｍの範囲に吸収極大を持つことを特徴とする前記２に記載の平版印刷版原版。
４．前記化合物（Ａ）が下記式（Ｉ）または（ＩＩ）で表されることを特徴とする前記１〜３のいずれかに記載の平版印刷版原版。
【００１１】
【化１】

【００１２】
［式中、Ｒ_１、Ｒ_２およびＲ_３は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子または炭素原子数が１から６のアルキル基であり；Ｘは酸素原子、硫黄原子、またはイミノであり
；Ｌはｎ＋１価の連結基であり；ｎは１、２または３であり、Ｙ_１およびＹ_２は支持体に吸着する官能基である。］
５．化合物（Ｂ）が（ａ１）エチレン性不飽和結合を少なくとも一つ含有する繰り返し単位と、（ａ２）支持体表面と相互作用する官能基を少なくとも一つ含有する繰り返し単位と、（ａ３）親水性基を少なくとも一つ含有する繰り返し単位とを有する、質量平均分子量１００００〜５０００００の範囲の化合物であることを特徴とする前記１〜４のいずれかに記載の平版印刷版原版。
６．前記化合物（Ａ）と（Ｂ）の混合比が質量比として、（Ａ）／（Ｂ）＝０．１〜１０の範囲であることを特徴とする前記１〜５のいずれかに記載の平版印刷版原版。
７．前記化合物（Ａ）と化合物（Ｂ）の塗布量の和が１から１００ｍｇ／ｍ²の範囲であることを特徴とする前記１〜６に記載の平版印刷版原版。
８．前記下塗り層が重合開始剤を含有することを特徴とする前記１〜７のいずれかに記載の平版印刷版原版。
９．前記１〜８のいずれかに記載の平版印刷版原版に対して、画像様にレーザー露光した後、ｐＨ２〜１０の現像液を用いて非露光部の画像記録層を除去して現像処理する工程を含む平版印刷版の作製方法。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の平版印刷版原版は、下塗り層が、（Ａ）エチレン性不飽和結合と支持体表面に相互作用する官能基とを有する、質量平均分子量１００〜１００００の範囲の化合物と、（Ｂ）エチレン性不飽和結合、支持体表面に相互作用する官能基および親水性官能基を有する、質量平均分子量１００００〜５０００００の範囲の高分子化合物を含有している。前記低分子量の化合物（Ａ）は、支持体表面に相互作用する官能基を有するとともに、塗布量当たりの架橋性基量（エチレン性不飽和結合量）がより多いので、支持体および画像記録層の密着性を提供し、高耐刷性を付与することができる。また前記高分子量の化合物（Ｂ）は、支持体表面に相互作用する官能基および架橋性基を有することから、支持体および画像記録層の密着性を提供するとともに高分子に起因する親水性基の高割合によって、高い親水性を提供し、非露光部の耐汚れ性を付与することができる。これら両化合物の相乗的な効果により、露光部の耐刷性と非露光部の耐汚れ性を両立することができる。本発明では、現像液としてｐＨが３〜１０の非アルカリ性現像液を使用した場合にとくにその効果が高い。また、前記化合物（Ａ）および（Ｂ）の使用割合を最適化することで、上記効果をさらに高めることができる。さらにまた、下塗り層に重合開始剤を添加する形態によれば、下塗り層と画像記録層との界面付近での重合反応の頻度を高くして、化合物（Ａ）によって増強された架橋性基を有効に機能させることができる。
したがって本発明によれば、感光性の平版印刷版原版の画像記録層において、非露光部の耐汚れ性を維持できる親水性を保ちながら、露光部の感度および耐刷性を高いレベルで維持できる平版印刷版原版および平版印刷版の作製方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
〔平版印刷版原版〕
最初に本発明に用いる平版印刷版原版について説明する。
【００１５】
＜画像記録層＞
本発明の画像記録層（以下、感光層ともいう）の構成成分について詳細に説明する。
【００１６】
（Ａ）増感色素
本発明の感光層には、露光光源の波長に対応した増感色素を含有することができる。
まず、３５０〜４５０ｎｍの波長域に極大吸収を有する増感色素について説明する。この様な増感色素としては、例えば、下記一般式（Ｖ）に示されるメロシアニン色素類、下記一般式（ＶＩ）で示されるベンゾピラン類、クマリン類、下記一般式（ＶＩＩ）で表さ
れる芳香族ケトン類、下記一般式（ＶＩＩＩ）で表されるアントラセン類、等を挙げることができる。
【００１７】
【化２】

【００１８】
（式中、ＡはＳ原子もしくは、ＮＲ₆を表し、Ｒ₆は一価の非金属原子団を表し、Ｙは隣接するＡおよび、隣接炭素原子と共同して色素の塩基性核を形成する非金属原子団を表し、Ｘ₁、Ｘ₂はそれぞれ独立に、一価の非金属原子団を表し、Ｘ₁、Ｘ₂は互いに結合して色素の酸性核を形成してもよい。）
【００１９】
【化３】

【００２０】
（式中、＝Ｚは、カルボニル基、チオカルボニル基、イミノ基または上記部分構造式（１’）で表されるアルキリデン基を表し、Ｘ₁、Ｘ₂は一般式（Ｖ）と同義であり、Ｒ₇〜Ｒ₁₂はそれぞれ独立に一価の非金属原子団を表す。）
【００２１】
【化４】

【００２２】
（式中Ａｒ₃は、置換基を有していてもよい芳香族基またはヘテロ芳香族基を表し、Ｒ₁₃は一価の非金属原子団を表す。より好ましいＲ₁₃は、芳香族基またはヘテロ芳香族基であって、Ａｒ₃とＲ₁₃が互いに結合して環を形成してもよい。）
【００２３】
【化５】

【００２４】
（式中、Ｘ₃、Ｘ₄、Ｒ₁₄〜Ｒ₂₁はそれぞれ独立に、１価の非金属原子団を表し、より好ましいＸ₃、Ｘ₄はハメットの置換基定数が負の電子供与性基である。）
【００２５】
一般式（Ｖ）から（ＶＩＩＩ）における、Ｘ₁からＸ₄、Ｒ₆からＲ₂₁で表される一価の非金属原子団の好ましい例としては、水素原子、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、１−メチルブチル基、イソヘキシル基、２−エチルヘキシル基、２−メチルヘキシル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、２−ノルボルニル基、クロロメチル基、ブロモメチル基、２−クロロエチル基、トリフルオロメチル基、メトキシメチル基、メトキシエトキシエチル基、アリルオキシメチル基、フェノキシメチル基、メチルチオメチル基、トリルチオメチル基、エチルアミノエチル基、ジエチルアミノプロピル基、モルホリノプロピル基、アセチルオキシメチル基、ベンゾイルオキシメチル基、Ｎ−シクロヘキシルカルバモイルオキシエチル基、Ｎ−フェニルカルバモイルオキシエチル基、アセチルアミノエチル基、Ｎ−メチルベンゾイルアミノプロピル基、２−オキソエチル基、２−オキソプロピル基、カルボキシプロピル基、メトキシカルボニルエチル基、アリルオキシカルボニルブチル基、クロロフェノキシカルボニルメチル基、カルバモイルメチル基、Ｎ−メチルカルバモイルエチル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルカルバモイルメチル基、Ｎ−（メトキシフェニル）カルバモイルエチル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（スルホフェニル）カルバモイルメチル基、スルホブチル基、スルホナトブチル基、スルファモイルブチル基、Ｎ−エチルスルファモイルメチル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイルプロピル基、Ｎ−トリルスルファモイルプロピル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（ホスフォノフェニル）スルファモイルオクチル基、ホスフォノブチル基、ホスフォナトヘキシル基、ジエチルホスフォノブチル基、ジフェニルホスフォノプロピル基、メチルホスフォノブチル基、メチルホスフォナトブチル基、トリルホスフォノヘキシル基、トリルホスフォナトヘキシル基、ホスフォノオキシプロピル基、ホスフォナトオキシブチル基、ベンジル基、フェネチル基、α−メチルベンジル基、１−メチル−１−フェニルエチル基、ｐ−メチルベンジル基、シンナミル基、アリル基、１−プロペニルメチル基、２−ブテニル基、２−メチルアリル基、２−メチルプロペニルメチル基、２−プロピニル基、２−ブチニル基、３−ブチニル基等）、アリール基（例えば、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、クロロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、フェノキシフェニル基、アセトキシフェニル基、ベンゾイロキシフェニル基、メチルチオフェニル基、フェニルチオフェニル基、メチルアミノフェニル基、ジメチルアミノフェニル基、アセチルアミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシフェニルカルボニル基、フェノキシカルボニルフェニル基、Ｎ−フェニルカルバモイルフェニル基、フェニル基、シアノフェニル基、スルホフェニル基、スルホナトフェニル基、ホスフォノフェニル基、ホスフォナトフェニル基等）、ヘテロアリール基（例えば、チオフェン、チアスレン、フラン、ピラン、イソベンゾフラン、クロメン、キサンテン、フェノキサジン、ピロール、ピラゾール、イソチアゾール、イソオキサゾール、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、インドリジン、イソインドリジン、インドイール、インダゾール、プリン、キノリジン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キナゾリン、シノリン、プテリジン、カルバゾール、カルボリン、フェナンスリン、アクリジン、ペリミジン、フェナンスロリン、フタラジン、フェナルザジン、フェノキサジン、フラザン、フェノキサジン等）、アルケニル基（例えばビニル基、１−プロペニル基、１−ブテニル基、シンナミル基、２−クロロ−１−エテニル基、等）、アルキニル基（例えば、エチニル基、１−プロピニル基、１−ブチニル基、トリメチルシリルエチニル基等）、ハロゲン原子（−Ｆ、−Ｂｒ、−Ｃｌ、−Ｉ）、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ基、アリールジチオ基、アミノ基、Ｎ−アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、Ｎ−アリールアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、Ｎ−アルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ−アリールカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイルオキシ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイルオキシ基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、アシルチオ基、アシルアミノ基、Ｎ−アルキルアシルアミノ基、Ｎ−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、Ｎ′−アルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアルキルウレイド基、Ｎ′−アリールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリールウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリールウレイド基、Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′−アリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′−アリール−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリール−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリール−Ｎ−アリールウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アリーロキシカルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ−アリールカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホ基（−ＳＯ₃Ｈ）およびその共役塩基基（以下、スルホナト基と称す）、アルコキシスルホニル基、アリーロキシスルホニル基、スルフィナモイル基、Ｎ−アルキルスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルフィナモイル基、Ｎ−アリールスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールスルフィナモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールスルフィナモイル基、スルファモイル基、Ｎ−アルキルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基、Ｎ−アリールスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールスルファモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールスルファモイル基、ホスフォノ基（−ＰＯ₃Ｈ₂）およびその共役塩基基（以下、ホスフォナト基と称す）、ジアルキルホスフォノ基（−ＰＯ₃（ａｌｋｙｌ）₂）、ジアリールホスフォノ基（−ＰＯ₃（ａｒｙｌ）₂）、アルキルアリールホスフォノ基（−ＰＯ₃（ａｌｋｙｌ）（ａｒｙｌ））、モノアルキルホスフォノ基（−ＰＯ₃Ｈ（ａｌｋｙｌ））およびその共役塩基基（以後、アルキルホスフォナト基と称す）、モノアリールホスフォノ基（−ＰＯ₃Ｈ（ａｒｙｌ））およびその共役塩基基（以後、アリールホスフォナト基と称す）、ホスフォノオキシ基（−ＯＰＯ₃Ｈ₂）およびその共役塩基基（以後、ホスフォナトオキシ基と称す）、ジアルキルホスフォノオキシ基（−ＯＰＯ₃（ａｌｋｙｌ）₂）、ジアリールホスフォノオキシ基（−ＯＰＯ₃（ａｒｙｌ）₂）、アルキルアリールホスフォノオキシ基（−ＯＰＯ₃（ａｌｋｙｌ）（ａｒｙｌ））、モノアルキルホスフォノオキシ基（−ＯＰＯ₃Ｈ（ａｌｋｙｌ））およびその共役塩基基（以後、アルキルホスフォナトオキシ基と称す）、モノアリールホスフォノオキシ基（−ＯＰＯ₃Ｈ（ａｒｙｌ））およびその共役塩基基（以後、アリールフォスホナトオキシ基と称す）、シアノ基、ニトロ基、等が挙げられ、以上の置換基のうち、水素原子、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アシル基が特に好ましい。
【００２６】
一般式（Ｖ）に於けるＹが隣接するＡおよび、隣接炭素原子と共同して形成する色素の塩基性核としては、５、６、７員の含窒素、あるいは含硫黄複素環が挙げられ、好ましくは５、６員の複素環がよい。
【００２７】
含窒素複素環の例としては例えば、Ｌ．Ｇ．Ｂｒｏｏｋｅｒ ｅｔ ａｌ．， Ｊ． Ａｍ． Ｃｈｅｍ． Ｓｏｃ．， ７３， ５３２６−５３５８（１９５１）．および参考文献に記載されるメロシアニン色素類における塩基性核を構成するものとして知られるものをいずれも好適に用いることができる。具体例としては、チアゾール類（例えば、チアゾール、４−メチルチアゾール、４ーフェニルチアゾール、５−メチルチアゾール、５−フェニルチアゾール、４，５−ジメチルチアゾール、４，５−ジフェニルチアゾール、４，５−ジ（ｐ−メトキシフェニルチアゾール）、４−（２−チエニル）チアゾール、等）、ベンゾチアゾール類（例えば、ベンゾチアゾール、４−クロロベンゾチアゾール、５−クロロベンゾチアゾール、６−クロロベンゾチアゾール、７−クロロベンゾチアゾール、４−メチルベンゾチアゾール、５−メチルベンゾチアゾール、６−メチルベンゾチアゾール、５−ブロモベンゾチアゾール、４−フェニルベンゾチアゾール、５−フェニルベンゾチアゾール、４−メトキシベンゾチアゾール、５−メトキシベンゾチアゾール、６−メトキシベンゾチアゾール、５−ヨードベンゾチアゾール、６−ヨードベンゾチアゾール、４−エトキシベンゾチアゾール、５−エトキシベンゾチアゾール、テトラヒドロベンゾチアゾール、５，６−ジメトキシベンゾチアゾール、５，６−ジオキシメチレンベンゾチアゾール、５−ヒドロキシベンゾチアゾール、６−ヒドロキシベンゾチアゾール、６ージメチルアミノベンゾチアゾール、５−エトキシカルボニルベンゾチアゾール等）、ナフトチアゾール類（例えば、ナフト［１，２］チアゾール、ナフト［２，１］チアゾール、５−メトキシナフト［２，１］チアゾール、５−エトキシナフト［２，１］チアゾール、８−メトキシナフト［１，２］チアゾール、７−メトキシナフト［１，２］チアゾール等）、チアナフテノ−７’，６’，４，５−チアゾール類（例えば、４’−メトキシチアナフテノ−７’，６’，４，５−チアゾール等）、オキサゾール類（例えば、４−メチルオキサゾール、５−メチルオキサゾール、４−フェニルオキサゾール、４，５−ジフェニルオキサゾール、４−エチルオキサゾール、４，５−ジメチルオキサゾール、５−フェニルオキサゾール等）、ベンゾオキサゾール類（ベンゾオキサゾール、５−クロロベンゾオキサゾール、５−メチルベンゾオキサゾール、５−フェニルベンゾオキサゾール、６−メチルベンゾオキサゾール、５，６−ジメチルベンゾオキサゾール、４，６−ジメチルベンゾオキサゾール、６−メトキシベンゾオキサゾール、５−メトキシベンゾオキサゾール、４−エトキシベンゾオキサゾール、５−クロロベンゾオキサゾール、６−メトキシベンゾオキサゾール、５−ヒドロキシベンゾオキサゾール、６−ヒドロキシベンゾオキサゾール等）、ナフトオキサゾール類（例えば、ナフト［１，２］オキサゾール、ナフト［２，１］オキサゾール等）、セレナゾール類（例えば、４−メチルセレナゾール、４−フェニルセレナゾール等）、ベンゾセレナゾール類（例えば、ベンゾセレナゾール、５−クロロベンゾセレナゾール、５−メトキシベンゾセレナゾール、５−ヒドロキシベンゾセレナゾール、テトラヒドロベンゾセレナゾール等）、ナフトセレナゾール類（例えば、ナフト［１，２］セレナゾール、ナフト［２，１］セレナゾール等）、チアゾリン類（例えば、チアゾリン、４−メチルチアゾリン等）、２−キノリン類（例えば、キノリン、３−メチルキノリン、５−メチルキノリン、７−メチルキノリン、８−メチルキノリン、６−クロロキノリン、８−クロロキノリン、６−メトキシキノリン、６−エトキシキノリン、６−ヒドロキシキノリン、８−ヒドロキシキノリン等）、４−キノリン類（例えば、キノリン、６−メトキシキノリン、７−メチルキノリン、８−メチルキノリン等）、１−イソキノリン類（例えば、イソキノリン、３，４−ジヒドロイソキノリン、等）、３−イソキノリン類（例えば、イソキノリン等）、ベンズイミダゾール類（例えば、１，３−ジエチルベンズイミダゾール、１−エチル−３−フェニルベンズイミダゾール等）、３，３−ジアルキルインドレニン類（例えば、３，３−ジメチルインドレニン、３，３，５，−トリメチルインドレニン、３，３，７，−トリメチルインドレニン等）、２−ピリジン類（例えば、ピリジン、５−メチルピリジン等）、４−ピリジン（例えば、ピリジン等）等を挙げることができる。
【００２８】
また、含硫黄複素環の例としては、例えば、特開平３−２９６７５９号公報記載の色素類におけるジチオール部分構造をあげることができる。
具体例としては、ベンゾジチオール類（例えば、ベンゾジチオール、５−ｔ−ブチルベンゾジチオール、５−メチルベンゾジチオール等）、ナフトジチオール類（例えば、ナフト［１，２］ジチオール、ナフト［２，１］ジチオール等）、ジチオール類（例えば、４，５−ジメチルジチオール類、４−フェニルジチオール類、４−メトキシカルボニルジチオール類、４，５−ジメトキシカルボニルベンゾジチオール類、４，５−ジトリフルオロメチルジチオール、４，５−ジシアノジチオール、４−メトキシカルボニルメチルジチオール、４−カルボキシメチルジチオール等を挙げることができる。
【００２９】
以上、述べた複素環に関する説明に用いた記述は、便宜上、慣例上、複素環母骨格の名称を用いたが、増感色素の塩基性骨格部分構造をなす場合は例えばベンゾチアゾール骨格の場合は３−置換−２（３Ｈ）−ベンゾチアゾリリデン基のように、不飽和度を一つ下げたアルキリデン型の置換基形で導入される。
【００３０】
３６０ｎｍから４５０ｎｍの波長域に吸収極大を持つ増感色素のうち、高感度の観点からより好ましい色素は下記一般式（ＩＸ）で表される色素である。
【００３１】
【化６】

【００３２】
（一般式（ＩＸ）中、Ａは置換基を有してもよい芳香族環またはヘテロ環を表し、Ｘは酸素原子、硫黄原子またはＮ−（Ｒ₃）をあらわす。Ｒ₁、Ｒ₂およびＲ₃は、それぞれ独立に、水素原子または一価の非金属原子団を表し、ＡとＲ₁およびＲ₂とＲ₃はそれぞれ互いに、脂肪族性または芳香族性の環を形成するため結合してもよい。）
【００３３】
一般式（ＩＸ）について更に詳しく説明する。Ｒ₁、Ｒ₂およびＲ₃は、それぞれ独立に、水素原子または、一価の非金属原子団であり、好ましくは、置換もしくは非置換のアルキル基、置換もしくは非置換のアルケニル基、置換もしくは非置換のアリール基、置換もしくは非置換の芳香族複素環残基、置換もしくは非置換のアルコキシ基、置換もしくは非置換のアルキルチオ基、ヒドロキシル基、ハロゲン原子を表す。
【００３４】
Ｒ₁、Ｒ₂およびＲ₃の好ましい例について具体的に述べる。好ましいアルキル基の例と
しては、炭素原子数が１から２０までの直鎖状、分岐状、および環状のアルキル基を挙げることができ、その具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、１−メチルブチル基、イソヘキシル基、２−エチルヘキシル基、２−メチルヘキシル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、２−ノルボルニル基を挙げることができる。これらの中では、炭素原子数１から１２までの直鎖状、炭素原子数３から１２までの分岐状、ならびに炭素原子数５から１０までの環状のアルキル基がより好ましい。
【００３５】
置換アルキル基の置換基としては、水素を除く一価の非金属原子団が用いられ、好ましい例としては、ハロゲン原子（−Ｆ、−Ｂｒ、−Ｃｌ、−Ｉ）、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ基、アリールジチオ基、アミノ基、Ｎ−アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、Ｎ−アリールアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、Ｎ−アルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ−アリールカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイルオキシ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイルオキシ基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、アシルチオ基、アシルアミノ基、Ｎ−アルキルアシルアミノ基、Ｎ−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、Ｎ′−アルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアルキルウレイド基、Ｎ′−アリールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリールウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリールウレイド基、Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′−アリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′−アリール−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリール−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリール−Ｎ−アリールウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アリーロキシカルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ−アリールカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホ基（−ＳＯ₃Ｈ）およびその共役塩基基（以下、スルホナト基と称す）、アルコキシスルホニル基、アリーロキシスルホニル基、スルフィナモイル基、Ｎ−アルキルスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルフィナモイル基、Ｎ−アリールスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールスルフィナモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールスルフィナモイル基、スルファモイル基、Ｎ−アルキルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基、Ｎ−アリールスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールスルファモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールスルファモイル基、ホスフォノ基（−ＰＯ₃Ｈ₂）およびその共役塩基基（以下、ホスフォナト基と称す）、ジアルキルホスフォノ基（−ＰＯ₃（ａｌｋｙｌ）₂）、ジアリールホスフォノ基（−ＰＯ₃（ａｒｙｌ）₂）、アルキルアリールホスフォノ基（−ＰＯ₃（ａｌｋｙｌ）（ａｒｙｌ））、モノアルキルホスフォノ基（−ＰＯ₃Ｈ（ａｌｋｙｌ））およびその共役塩基基（以後、アルキルホスフォナト基と称す）、モノアリールホスフォノ基（−ＰＯ₃Ｈ（ａｒｙｌ））およびその共役塩基基（以後、アリールホスフォナト基と称す）、ホスフォノオキシ基（−ＯＰＯ₃Ｈ₂）およびその共役塩基基（以後、ホスフォナトオキシ基と称す）、ジアルキルホスフォノオキシ基（−ＯＰＯ₃（ａｌｋｙｌ）₂）、ジアリールホスフォノオキシ基（−ＯＰＯ₃（ａｒｙｌ）₂）、アルキルアリールホスフォノオキシ基（−ＯＰＯ₃（ａｌｋｙｌ）（ａｒｙｌ））、モノアルキルホスフォノオキシ基（−ＯＰＯ₃Ｈ（ａｌｋｙｌ））およびその共役塩基基（以後、アルキルホスフォナトオキシ基と称す）、モノアリールホスフォノオキシ基（−ＯＰＯ₃Ｈ（ａｒｙｌ））およびその共役塩基基（以後、アリールフォスホナトオキシ基と称す）、シアノ基、ニトロ基、アリール基、ヘテロアリール基、アルケニル基、アルキニル基が挙げられる。
【００３６】
これらの置換基における、アルキル基の具体例としては、前述のアルキル基が挙げられ、アリール基の具体例としては、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、クロロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、フェノキシフェニル基、アセトキシフェニル基、ベンゾイロキシフェニル基、メチルチオフェニル基、フェニルチオフェニル基、メチルアミノフェニル基、ジメチルアミノフェニル基、アセチルアミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシフェニルカルボニル基、フェノキシカルボニルフェニル基、Ｎ−フェニルカルバモイルフェニル基、フェニル基、シアノフェニル基、スルホフェニル基、スルホナトフェニル基、ホスフォノフェニル基、ホスフォナトフェニル基等を挙げることができる。
【００３７】
Ｒ₁、Ｒ₂およびＲ₃として好ましいヘテロアリール基としては、窒素、酸素、硫黄原子の少なくとも一つを含有する単環、もしくは多環芳香族環が用いられ、特に好ましいヘテロアリール基の例としては、例えば、チオフェン、チアスレン、フラン、ピラン、イソベンゾフラン、クロメン、キサンテン、フェノキサジン、ピロール、ピラゾール、イソチアゾール、イソオキサゾール、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、インドリジン、イソインドリジン、インドイール、インダゾール、プリン、キノリジン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キナゾリン、シノリン、プテリジン、カルバゾール、カルボリン、フェナンスリン、アクリジン、ペリミジン、フェナンスロリン、フタラジン、フェナルザジン、フェノキサジン、フラザン、フェノキサジンや等があげられ、これらは、さらにベンゾ縮環してもよく、また置換基を有していてもよい。
【００３８】
また、Ｒ₁、Ｒ₂およびＲ₃として好ましいアルケニル基の例としては、ビニル基、１−プロペニル基、１−ブテニル基、シンナミル基、２−クロロ−１−エテニル基、等が挙げられ、アルキニル基の例としては、エチニル基、１−プロピニル基、１−ブチニル基、トリメチルシリルエチニル基等が挙げられる。アシル基（Ｇ₁ＣＯ−）におけるＧ₁としては、水素、ならびに上記のアルキル基、アリール基を挙げることができる。これら置換基の内、更により好ましいものとしてはハロゲン原子（−Ｆ、−Ｂｒ、−Ｃｌ、−Ｉ）、アルコキシ基、アリーロキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、Ｎ−アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、アシルオキシ基、Ｎ−アルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ−アリールカルバモイルオキシ基、アシルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ−アリールカルバモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイル基、スルホ基、スルホナト基、スルファモイル基、Ｎ−アルキルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基、Ｎ−アリールスルファモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールスルファモイル基、ホスフォノ基、ホスフォナト基、ジアルキルホスフォノ基、ジアリールホスフォノ基、モノアルキルホスフォノ基、アルキルホスフォナト基、モノアリールホスフォノ基、アリールホスフォナト基、ホスフォノオキシ基、ホスフォナトオキシ基、アリール基、アルケニル基が挙げられる。
【００３９】
一方、置換アルキル基におけるアルキレン基としては前述の炭素数１から２０までのア
ルキル基上の水素原子のいずれか１つを除し、２価の有機残基としたものを挙げることができ、好ましくは炭素原子数１から１２までの直鎖状、炭素原子数３から１２までの分岐状ならびに炭素原子数５から１０までの環状のアルキレン基を挙げることができる。
【００４０】
該置換基とアルキレン基を組み合わせることにより得られるＲ₁、Ｒ₂およびＲ₃として好ましい置換アルキル基の、具体例としては、クロロメチル基、ブロモメチル基、２−クロロエチル基、トリフルオロメチル基、メトキシメチル基、メトキシエトキシエチル基、アリルオキシメチル基、フェノキシメチル基、メチルチオメチル基、トリルチオメチル基、エチルアミノエチル基、ジエチルアミノプロピル基、モルホリノプロピル基、アセチルオキシメチル基、ベンゾイルオキシメチル基、Ｎ−シクロヘキシルカルバモイルオキシエチル基、Ｎ−フェニルカルバモイルオキシエチル基、アセチルアミノエチル基、Ｎ−メチルベンゾイルアミノプロピル基、２−オキソエチル基、２−オキソプロピル基、カルボキシプロピル基、メトキシカルボニルエチル基、アリルオキシカルボニルブチル基、クロロフェノキシカルボニルメチル基、カルバモイルメチル基、Ｎ−メチルカルバモイルエチル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルカルバモイルメチル基、Ｎ−（メトキシフェニル）カルバモイルエチル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（スルホフェニル）カルバモイルメチル基、スルホブチル基、スルホナトブチル基、スルファモイルブチル基、Ｎ−エチルスルファモイルメチル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイルプロピル基、Ｎ−トリルスルファモイルプロピル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（ホスフォノフェニル）スルファモイルオクチル基、ホスフォノブチル基、ホスフォナトヘキシル基、ジエチルホスフォノブチル基、ジフェニルホスフォノプロピル基、メチルホスフォノブチル基、メチルホスフォナトブチル基、トリルホスフォノヘキシル基、トリルホスフォナトヘキシル基、ホスフォノオキシプロピル基、ホスフォナトオキシブチル基、ベンジル基、フェネチル基、α−メチルベンジル基、１−メチル−１−フェニルエチル基、ｐ−メチルベンジル基、シンナミル基、アリル基、１−プロペニルメチル基、２−ブテニル基、２−メチルアリル基、２−メチルプロペニルメチル基、２−プロピニル基、２−ブチニル基、３−ブチニル基、等を挙げることができる。
【００４１】
Ｒ₁、Ｒ₂およびＲ₃として好ましいアリール基の具体例としては、１個から３個のベンゼン環が縮合環を形成したもの、ベンゼン環と５員不飽和環が縮合環を形成したものを挙げることができ、具体例としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、インデニル基、アセナフテニル基、フルオレニル基、を挙げることができ、これらのなかでは、フェニル基、ナフチル基がより好ましい。
【００４２】
Ｒ₁、Ｒ₂およびＲ₃として好ましい置換アリール基の具体例としては、前述のアリール基の環形成炭素原子上に置換基として、水素を除く一価の非金属原子団を有するものが用いられる。好ましい置換基の例としては前述のアルキル基、置換アルキル基、ならびに、先に置換アルキル基における置換基として示したものを挙げることができる。この様な、置換アリール基の好ましい具体例としては、ビフェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、フルオロフェニル基、クロロメチルフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル基、メトキシエトキシフェニル基、アリルオキシフェニル基、フェノキシフェニル基、メチルチオフェニル基、トリルチオフェニル基、エチルアミノフェニル基、ジエチルアミノフェニル基、モルホリノフェニル基、アセチルオキシフェニル基、ベンゾイルオキシフェニル基、Ｎ−シクロヘキシルカルバモイルオキシフェニル基、Ｎ−フェニルカルバモイルオキシフェニル基、アセチルアミノフェニル基、Ｎ−メチルベンゾイルアミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、アリルオキシカルボニルフェニル基、クロロフェノキシカルボニルフェニル基、カルバモイルフェニル基、Ｎ−メチルカルバモイルフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルカルバモイルフェニル基、Ｎ−（メトキシフェニル）カルバモイルフェニル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（スルホフェニル）カルバモイルフェニル基、スルホフェニル基、スルホナトフェニル基、スルファモイルフェニル基、Ｎ−エチルスルファモイルフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイルフェニル基、Ｎ−トリルスルファモイルフェニル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（ホスフォノフェニル）スルファモイルフェニル基、ホスフォノフェニル基、ホスフォナトフェニル基、ジエチルホスフォノフェニル基、ジフェニルホスフォノフェニル基、メチルホスフォノフェニル基、メチルホスフォナトフェニル基、トリルホスフォノフェニル基、トリルホスフォナトフェニル基、アリル基、１−プロペニルメチル基、２−ブテニル基、２−メチルアリルフェニル基、２−メチルプロペニルフェニル基、２−プロピニルフェニル基、２−ブチニルフェニル基、３−ブチニルフェニル基、等を挙げることができる。
【００４３】
次に、一般式（ＩＸ）におけるＡについて説明する。Ａは置換基を有してもよい芳香族環またはヘテロ環を表し、置換基を有してもよい芳香族環またはヘテロ環の具体例としては、一般式（ＩＸ）中のＲ₁、Ｒ₂およびＲ₃で記載したものと同様のものが挙げられる。
【００４４】
本発明の一般式（ＩＸ）で表される増感色素は、上に示したような酸性核や、活性メチレン基を有する酸性核と、置換、もしくは非置換の、芳香族環またはヘテロ環との縮合反応によって得られるが、これらは特公昭５９−２８３２９号公報を参照して合成することができる。
【００４５】
以下に一般式（ＩＸ）で表される化合物の好ましい具体例（Ｄ１）から（Ｄ７５）を示す。また、酸性核と塩基性核を結ぶ２重結合による異性体については、どちらかの異性体に限定されるものではない。
【００４６】
【化７】

【００４７】
【化８】

【００４８】
【化９】

【００４９】
【化１０】

【００５０】
【化１１】

【００５１】
【化１２】

【００５２】
【化１３】

【００５３】
これらの増感色素のどの構造を用いるか、単独で使用するか２種以上併用するか、添加量はどうか、といった使用法の詳細は、最終的な感材の性能設計にあわせて適宜設定できる。
例えば、増感色素を２種以上併用することで、感光層への相溶性を高めることができる
。増感色素の選択は、感光性の他、使用する光源の発光波長でのモル吸光係数が重要な因子である。モル吸光係数の大きな色素を使用する事により、色素の添加量は比較的少なくできるので、経済的であり、かつ平版印刷版原版に用いた場合、その感光層の膜物性の点からも有利である。該感光層の感光性、解像度や、露光膜の物性は光源波長での吸光度に大きな影響を受けるので、これらを考慮して増感色素の添加量を適宜選択する。
【００５４】
但し、例えば５μｍ以上の厚い膜を硬化せしめる目的に対しては、低い吸光度の方がかえって硬化度をあげられる場合もある。比較的薄い膜厚で使用する平版印刷版としての使用に際しては、増感色素の添加量は、本発明の感光層の吸光度が０．１から１．５の範囲、好ましくは０．２５から１の範囲となるように設定するのが好ましい。通常、感光層の全固形分１００質量部に対し、好ましくは０．０５〜３０質量部、更に好ましくは０．１〜２０質量部、最も好ましくは０．２〜１０質量部の範囲である。
【００５５】
（Ｂ）重合開始剤
本発明に使用される重合開始剤としては、トリハロメチル化合物、カルボニル化合物、有機過酸化物、アゾ系化合物、アジド化合物、メタロセン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、有機ホウ素化合物、ジスルホン化合物、オキシムエステル化合物、オニウム塩化合物が挙げられる。なかでも、ヘキサアリールビイミダゾール系化合物、オニウム塩、トリハロメチル化合物およびメタロセン化合物からなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましく、特にヘキサアリールビイミダゾール系化合物が好ましい。上記の重合開始剤は、２種以上を適宜併用することもできる。
【００５６】
ヘキサアリールビイミダゾール重合開始剤としては、特公昭４５−３７３７７号、特公昭４４−８６５１６号の各公報記載のロフィンダイマー類、例えば２，２′−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラフェニルビイミダゾール、２，２′−ビス（ｏ−ブロモフェニル）−４，４′，５，５′−テトラフェニルビイミダゾール、２，２′−ビス（ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラフェニルビイミダゾール、２，２′−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラ（ｍ−メトキシフェニル）ビイミダゾール、２，２′−ビス（ｏ，ｏ′−ジクロロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラフェニルビイミダゾール、２，２′−ビス（ｏ−ニトロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラフェニルビイミダゾール、２，２′−ビス（ｏ−メチルフェニル）−４，４′，５，５′−テトラフェニルビイミダゾール、２，２′−ビス（ｏ−トリフルオロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラフェニルビイミダゾール等が挙げられる。
【００５７】
トリハロメチル化合物としてはトリハロメチル-ｓ-トリアジンが好ましく、２，４，６−トリス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−メトキシ−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−アミノ−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（Ｐ−メトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン等の特開昭５８−２９８０３号記載のトリハロゲン置換メチル基を有するｓ−トリアジン誘導体等が挙げられる。
【００５８】
オニウム塩としては、下記一般式（III）で表されるオニウム塩が挙げられる。
【００５９】
【化１４】

【００６０】
一般式（III）中、Ｒ¹¹、Ｒ¹²およびＲ¹³は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい炭素原子数２０個以下の炭化水素基を示す。好ましい置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素原子数１２個以下のアルキル基、炭素原子数１２個以下のアルコキシ基、または炭素原子数１２個以下のアリールオキシ基が挙げられる。
Ｚ^-はハロゲンイオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、カルボキシレートイオン、およびスルホン酸イオンからなる群より選択される対イオンを表し、好ましくは、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、カルボキシレートイオン、およびアリールスルホン酸イオンである。
【００６１】
チタノセン化合物としては、例えば、特開昭５９−１５２３９６号、特開昭６１−１５１１９７号各公報に記載されている公知の化合物を適宜に選択して用いることができる。
具体的には、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ジ−クロライド、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−フェニル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，５，６−テトラフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４，６−トリフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，６−ジフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４−ジフルオロフェニ−１−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニ−１−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，５，６−テトラフルオロフェニ−１−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４−ジフルオロフェニ−１−イル、ビス（シクロペンタジエニル）−ビス［２，６−ジフルオロ−３−（ピリ−１−イル）フェニル］チタニウム等を挙げることができる。
【００６２】
上記カルボニル化合物としては、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、２−メチルベンゾフェノン、３−メチルベンゾフェノン、４−メチルベンゾフェノン、２−クロロベンゾフェノン、４−ブロモベンゾフェノン、２−カルボキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン誘導体、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、α−ヒドトキシ−２−メチルフェニルプロパノン、１−ヒドロキシ−１−メチルエチル−（ｐ−イソプロピルフェニル）ケトン、１−ヒドロキシ−１−（ｐ−ドデシルフェニル）ケトン、２−メチルー（４'−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノ−１−プロパノン、１，１，１−トリクロロメチル−（ｐ−ブチルフェニル）ケトン等のアセトフェノン誘導体、チオキサントン、２−エチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジイソプロピルチオキサントン等のチオキサントン誘導体、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル、ｐ−ジエチルアミノ安息香酸エチル等の安息香酸エステル誘導体等を挙げることができる。
【００６３】
上記オキシムエステル化合物としては、J.C.S. Perkin II (1979 )1653-1660)、J.C.S.Perkin II (1979)156-162、Journal of Photopolymer Science and Technology(1995)202-232、特開２０００−６６３８５号公報記載の化合物、特開２０００−８００６８号公報記載の化合物が挙げられる。
【００６４】
本発明における重合開始剤は単独もしくは２種以上の併用によって好適に用いられる。
本発明における感光層中の重合開始剤の使用量は感光層全固形分の質量に対し、好ましくは０．０１〜２０質量％、より好ましくは０．１〜１５質量％である。さらに好ましくは１．０質量％〜１０質量％である。
【００６５】
（Ｃ）重合性化合物
本発明における感光層に用いる重合性化合物は、少なくとも一個のエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物であり、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも１個、好ましくは２個以上有する化合物から選ばれる。このような化合物群は当該産業分野において広く知られるものであり、本発明においてはこれらを特に限定無く用いることができる。これらは、例えばモノマー、プレポリマー、すなわち２量体、３量体およびオリゴマー、またはそれらの混合物ならびにそれらの共重合体などの化学的形態をもつ。モノマーおよびその共重合体の例としては、不飽和カルボン酸（例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など）や、そのエステル類、アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキシル基やアミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と単官能もしくは多官能イソシアネート類或いはエポキシ類との付加反応物、および単官能もしくは、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアネート基や、エポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と単官能もしくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との付加反応物、更にハロゲン基や、トシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と単官能もしくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との置換反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニルエーテル等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。
【００６６】
脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、１，３−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、１，４−シクロヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、イソシアヌール酸エチレンオキシド（ＥＯ）変性トリアクリレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー等がある。
【００６７】
メタクリル酸エステルとしては、テトラメチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチ
レングリコールジメタクリレート、１，３−ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトールテトラメタクリレート、ビス〔ｐ−（３−メタクリルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル〕ジメチルメタン、ビス−〔ｐ−（メタクリルオキシエトキシ）フェニル〕ジメチルメタン等がある。
【００６８】
イタコン酸エステルとしては、エチレングリコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタコネート、１，３−ブタンジオールジイタコネート、１，４−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジイタコネート、ソルビトールテトライタコネート等がある。クロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビトールテトラジクロトネート等がある。イソクロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロトネート等がある。マレイン酸エステルとしては、エチレングリコールジマレート、トリエチレングリコールジマレート、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテトラマレート等がある。
【００６９】
その他のエステルの例として、例えば、特公昭５１−４７３３４号、特開昭５７−１９６２３１号の各公報に記載の脂肪族アルコール系エステル類や、特開昭５９−５２４０号、特開昭５９−５２４１号、特開平２−２２６１４９号の各公報に記載の芳香族系骨格を有するもの、特開平１−１６５６１３号公報記載のアミノ基を含有するもの等も好適に用いられる。更に、前述のエステルモノマーは混合物としても使用することができる。
【００７０】
また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリルアミド、１，６−ヘキサメチレンビス−アクリルアミド、１，６−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド等がある。その他の好ましいアミド系モノマーの例としては、特公昭５４−２１７２６号公報記載のシクロへキシレン構造を有すものを挙げることができる。
【００７１】
また、イソシアネートと水酸基の付加反応を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭４８−４１７０８号公報に記載されている１分子に２個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下記一般式（Ａ）で示される水酸基を含有するビニルモノマーを付加させた１分子中に２個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。
【００７２】
ＣＨ₂＝Ｃ（Ｒ₄）ＣＯＯＣＨ₂ＣＨ（Ｒ₅）ＯＨ （Ａ）
（ただし、Ｒ₄およびＲ₅は、ＨまたはＣＨ₃を示す。）
【００７３】
また、特開昭５１−３７１９３号公報、特公平２−３２２９３号公報、特公平２−１６７６５号公報に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭５８−４９８６０号公報、特公昭５６−１７６５４号公報、特公昭６２−３９４１７号公報、特公昭６２−３９４１８号公報記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適である。更に、特開昭６３−２７７６５３号公報、特開昭６３−２６０９０９号公報、特開平１−１０５２３８号公報に記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有する付加重合性化合物類を用いることによっては、非常に感光スピードに優れた光重合性組成物を得ることができる。
【００７４】
その他の例としては、特開昭４８−６４１８３号、特公昭４９−４３１９１号、特公昭５２−３０４９０号、各公報に記載されているようなポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタクリレートを挙げることができる。また、特公昭４６−４３９４６号、特公平１−４０３３７号、特公平１−４０３３６号各公報に記載の特定の不飽和化合物や、特開平２−２５４９３号公報記載のビニルホスホン酸系化合物等も挙げることができる。また、ある場合には、特開昭６１−２２０４８号公報記載のペルフルオロアルキル基を含有する構造が好適に使用される。更に日本接着協会誌ｖｏｌ．２０、Ｎｏ．７、３００〜３０８ページ（１９８４年）に光硬化性モノマーおよびオリゴマーとして紹介されているものも使用することができる。
【００７５】
これらの重合性化合物について、その構造、単独使用か併用か、添加量等の使用方法の詳細は、最終的な平版印刷版原版の性能設計にあわせて任意に設定できる。例えば、次のような観点から選択される。
感度の点では１分子あたりの不飽和基含量が多い構造が好ましく、多くの場合、２官能以上が好ましい。また、画像部すなわち硬化膜の強度を高くするためには、３官能以上のものがよく、更に、異なる官能数・異なる重合性基（例えばアクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、スチレン系化合物、ビニルエーテル系化合物）のものを併用することで、感度と強度の両方を調節する方法も有効である。
また、感光層中の他の成分（例えばバインダーポリマー、重合開始剤、着色剤等）との相溶性、分散性に対しても、重合性化合物の選択・使用法は重要な要因であり、例えば、低純度化合物の使用や、２種以上の併用により相溶性を向上させうることがある。また、支持体や後述の保護層等との密着性を向上せしめる目的で特定の構造を選択することもあり得る。
【００７６】
上記の重合性化合物は、感光層の全固形分に対して、好ましくは５〜８０質量％、更に好ましくは２５〜７５質量％の範囲で使用される。また、これらは単独で用いても２種以上併用してもよい。そのほか、重合性化合物の使用法は、酸素に対する重合阻害の大小、解像度、かぶり性、屈折率変化、表面粘着性等の観点から適切な構造、配合、添加量を任意に選択でき、更に場合によっては下塗り、上塗りといった層構成・塗布方法も実施しうる。
【００７７】
（Ｄ）バインダーポリマー
本発明で使用されるバインダーポリマーは、感光層の皮膜形成剤として機能するポリマーである。
このようなバインダーポリマーの例としては、アクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、メタクリル樹脂、スチレン系樹脂、ポリエステル樹脂から選ばれる高分子が好ましい。なかでも、アクリル樹脂、ポリウレタン樹脂が好ましい。
【００７８】
さらに、バインダーポリマーは、画像部の皮膜強度を向上するために、架橋性をもたせることができる。
バインダーポリマーに架橋性を持たせるためには、エチレン性不飽和結合等の架橋性官能基を高分子の主鎖中または側鎖中に導入すればよい。架橋性官能基は、共重合により導入してもよいし、高分子反応によって導入してもよい。
【００７９】
ここで架橋性基とは、平版印刷版原版を露光した際に感光層中で起こるラジカル重合反応の過程で高分子バインダーを架橋させる基のことである。このような機能の基であれば特に限定されないが、例えば、付加重合反応し得る官能基としてエチレン性不飽和結合基
、アミノ基、エポキシ基等が挙げられる。また光照射によりラジカルになり得る官能基であってもよく、そのような架橋性基としては、例えば、チオール基、ハロゲン基、オニウム塩構造等が挙げられる。なかでも、エチレン性不飽和結合基が好ましく、下記一般式（１Ｃ）〜（３Ｃ）で表される官能基が特に好ましい。
【００８０】
【化１５】

【００８１】
上記一般式（１Ｃ）において、Ｒ^l〜Ｒ³はそれぞれ独立に、水素原子または１価の有機基を表すが、Ｒ¹としては、好ましくは、水素原子または置換基を有してもよいアルキル基などが挙げられ、なかでも、水素原子、メチル基がラジカル反応性が高いことから好ましい。また、Ｒ²、Ｒ³は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルアミノ基、置換基を有してもよいアリールアミノ基、置換基を有してもよいアルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基などが挙げられ、なかでも、水素原子、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基がラジカル反応性が高いことから好ましい。
【００８２】
Ｘは、酸素原子、硫黄原子、またはＮ（Ｒ¹²）−を表し、Ｒ¹²は、水素原子、または１価の有機基を表す。ここで、Ｒ¹²は、置換基を有してもよいアルキル基などが挙げられ、なかでも、水素原子、メチル基、エチル基、イソプロピル基がラジカル反応性が高いことから好ましい。
【００８３】
ここで、導入し得る置換基としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アルコキシ基、アリーロキシ基、ハロゲン原子、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、アミド基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基などが挙げられる。
【００８４】
【化１６】

【００８５】
上記一般式（２Ｃ）において、Ｒ⁴〜Ｒ⁸は、それぞれ独立に水素原子または１価の有機基を表すが、Ｒ⁴〜Ｒ⁸は、好ましくは、水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、ジアルキルアミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルアミノ基、置換基を有してもよいアリールアミノ基、置換基を有してもよいアルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基などが挙げられ、なかでも、
水素原子、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基が好ましい。
【００８６】
導入し得る置換基としては、一般式（１Ｃ）と同様のものが例示される。また、Ｙは、酸素原子、硫黄原子、またはＮ（Ｒ¹²）−を表す。Ｒ¹²は、一般式（１Ｃ）のＲ¹²の場合と同義であり、好ましい例も同様である。
【００８７】
【化１７】

【００８８】
上記一般式（３Ｃ）において、Ｒ⁹としては、好ましくは、水素原子または置換基を有してもよいアルキル基などが挙げられ、なかでも、水素原子、メチル基がラジカル反応性が高いことから好ましい。Ｒ¹⁰、Ｒ¹¹は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、ジアルキルアミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルアミノ基、置換基を有してもよいアリールアミノ基、置換基を有してもよいアルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基などが挙げられ、なかでも、水素原子、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基がラジカル反応性が高いことから好ましい。
【００８９】
ここで、導入し得る置換基としては、一般式（１Ｃ）と同様のものが例示される。また、Ｚは、酸素原子、硫黄原子、−Ｎ（Ｒ¹³）−、または置換基を有してもよいフェニレン基を表す。Ｒ¹³としては、置換基を有してもよいアルキル基などが挙げられ、なかでも、メチル基、エチル基、イソプロピル基がラジカル反応性が高いことから好ましい。
上記の中でも、側鎖に架橋性基を有する（メタ）アクリル酸系共重合体およびポリウレタンがより好ましい。
【００９０】
架橋性を有するバインダーポリマーは、例えば、その架橋性官能基にフリーラジカル（重合開始ラジカルまたは重合性化合物の重合過程の生長ラジカル）が付加し、ポリマー間で直接にまたは重合性化合物の重合連鎖を介して付加重合して、ポリマー分子間に架橋が形成されて硬化する。または、ポリマー中の原子（例えば、官能性架橋基に隣接する炭素原子上の水素原子）がフリーラジカルにより引き抜かれてポリマーラジカルが生成し、それが互いに結合することによって、ポリマー分子間に架橋が形成されて硬化する。
【００９１】
バインダーポリマー中の架橋性基の含有量（ヨウ素滴定によるラジカル重合可能な不飽和二重結合の含有量）は、バインダーポリマー１ｇ当たり、好ましくは０．１〜１０．０ｍｍｏｌ、より好ましくは１．０〜７．０ｍｍｏｌ、最も好ましくは２．０〜５．５ｍｍｏｌである。
【００９２】
また、平版印刷版原版の製版工程において感光層の非画像部が良好に除去されるよう、用いられるバインダーポリマーは現像処理の態様に対応して適宜選択される。
ｐＨ１０を超えるようなアルカリ現像液を用いて行われる態様においては、バインダーポリマーはアルカリ現像液に溶解する必要があるため、アルカリ水に可溶性または膨潤性
である有機高分子重合体が好ましく使用される。
このようなバインダーポリマーとしては、少なくとも下記一般式（１）から（３）で示される構造単位を有するポリマーが好ましい。
【００９３】
【化１８】



【００９４】
式中、Ｒ_１、Ｒ_２、Ｒ_３は、各々独立に、水素原子、またはＣ1からＣ６のアルキル基を示し、Ｘは−ＣＯＯＨ、−ＣＯ−Ｗ１−Ｌ１−ＣＯＯＨ、または−ＳＯ_３Ｈから選ばれる官能基を示し、Ｗ１は酸素原子、硫黄原子、または−ＮＨ−基を示しＬ１は２価の有機基を示し、Ｙは−ＣＯ−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ＝ＣＨ_２基、−ＣＯ−Ｗ２−Ｌ２−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ_４＝ＣＨ_２基を示し、Ｗ２は酸素原子、硫黄原子、または−ＮＨ−基を示しＬ２は２価の有機基を示し、Ｒ_４は水素原子、またはＣ1からＣ６のアルキル基を示し、Ｗ３は酸素原子、硫黄原子、−ＮＨ−基示し、Ｒ_５はＣ１からＣ１８のアルキル基、Ｃ５からＣ２０の脂環構造を有するアルキル基または、Ｃ６からＣ２０の芳香環を有する基を示す。
以下に、式（１）から（３）で示される構造単位について具体例を記述するが、本発明は、これらに限定されるものではない。
式（１）の具体例としては以下に示す構造単位が挙げられる。
【００９５】
【化１９】

【００９６】
式（２）の具体例としては以下に示す構造単位が挙げられる。
【００９７】
【化２０】

【００９８】
式（３）の構造単位を形成するモノマーの具体例としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ノルマルブチル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ｎ−ヘキシル（メタ）アクリレート、アダマンチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、フェネチル（メタ）アクリレート、などのアルキルもしくはアリール（メタ）アクリレート類、下記式で示される（メタ）アクリレートが挙げられる。（下記式中、Ｒとして好ましい置換基は、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｔ−ブチル基、シクロヘキシル基、フェネチル基、ベンジル基、ｎ−ヘキシル基が挙げられる。）
【００９９】
【化２１】



【０１００】
感光層の現像性を維持するためには、使用されるバインダーポリマーは適当な分子量、酸価を有することが好ましく、重量平均分子量で５０００〜３０万、酸価０．３〜４ｍｅｑ／ｇの高分子重合体が特に好ましく用いられる。
また（３）構造単位に含まれる上述のエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物の使用割合は、バインダーポリマー全体を１とした場合に、質量比で０．１〜３．０の範囲とするのが好ましく、より好ましくは０．１〜２．０であり、最も好ましくは０．１〜１．０である。
【０１０１】
上記の分子量、酸価、二重結合量を満足する組み合わせであれば、（１）、（２）、（３）の混合割合は、どのような組み合わせになっても良い。これらを満足する範囲であれば、上記（１）から（３）以外の構造単位をさらに追加してもよい。
バインダーポリマーは、感光層中に任意な量で含有させることができるが、感光層を形成するための感光性組成物の全成分中９０質量％を超える場合には形成される画像強度等の点で好ましい結果を与えない場合があるので、好ましくは１０〜９０質量％、より好ましくは３０〜８０質量％である。
【０１０２】
次に、ｐＨが２〜１０の水性現像液（非アルカリ現像液）で現像可能な感光層の形成に好適なバインダーポリマー（以下、水性現像液用バインダーポリマーという）について説明する。
水性現像液用バインダーポリマーとしては、非水溶性ポリマーが好ましく用いられる。さらに、本発明に使用可能な水性現像液用バインダーポリマーは、カルボキシル基、スルホン基、リン酸基などの酸基を実質的に含有しないものが好ましく、水性現像液用バインダーポリマーの酸価（ポリマー１ｇあたりの酸含率を化学当量数で表したもの）は、０．３ｍｅｑ／ｇ以下であることが好ましく、さらに好ましくは、０．１ｍｅｑ／ｇ以下である。
すなわち、本発明に使用可能な水性現像液用バインダーポリマーは、水およびｐＨ１０以上の水溶液に対し不溶であることが好ましく、水性現像液用バインダーポリマーの水およびｐＨ１０以上の水溶液に対する溶解度（飽和溶解時のポリマー濃度）が、０．５質量％以下であることが好ましく、さらに好ましくは、０．１質量％以下である。このような水性現像液用バインダーポリマーを用いることによって、感光層の膜強度、耐水性および着肉性が向上して、耐刷性の向上が得られる。なお、上記溶解度の測定温度は、製版現像時の温度であり、ここでは２５℃である。
【０１０３】
水性現像液用バインダーポリマーとしては、本発明の平版印刷版の性能を損なわない限り、好ましくは、上記範囲であれば、従来公知のものを制限なく使用でき、皮膜性を有する線状有機ポリマーが好ましい。
このような水性現像液用バインダーポリマーの例としては、アクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、メタクリル樹脂、スチレン系樹脂、ポリエステル樹脂から選ばれる高分子が好ましい。なかでも、アクリル樹脂が好ましく、（メタ）アクリル酸エステル共重合体が好ましい。より具体的には、（メタ）アクリル酸アルキルまたはアラルキルエステルと（メタ）アクリル酸エステルのエステル残基（−ＣＯＯＲ）のＲに−ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ−単位または−ＣＨ₂ＣＨ₂ＮＨ−単位を含む（メタ）アクリル酸エステルとの共重合体が特に好ましい。上記（メタ）アクリル酸アルキルエステルの好ましいアルキル基は、炭素数１〜５のアルキル基であり、メチル基がより好ましい。好ましい（メタ）アクリル酸アラルキルエステルとしては、（メタ）アクリル酸ベンジルが挙げられる。
【０１０４】
水性現像液用バインダーポリマーについても、画像部の皮膜強度を向上するために、架橋性をもたせることができる。
水性現像液用バインダーポリマーに架橋性を持たせるためには、エチレン性不飽和結合等の架橋性官能基を高分子の主鎖中または側鎖中に導入すればよい。架橋性官能基は、共重合により導入してもよいし、高分子反応によって導入してもよい。
架橋性官能基としては、前述の架橋性基が挙げられ、一般式（１Ｃ）〜（３Ｃ）で表される官能基が特に好ましい。
【０１０５】
また、水溶液に対する現像性向上という観点から水性現像液用バインダーポリマーは親水的であることが好ましく、さらに耐刷性向上という観点からバインダーポリマーは感光層中に含まれる重合性化合物と相溶性が良いことが重要であり、すなわち親油的であることが好ましい。このような見地から本発明では、現像性と耐刷性を向上させるため水性現像液用バインダーポリマー中に親水性基と親油性基とを共重合させることも有効である。親水性基としては、例えば、ヒドロキシ基、カルボキシレート基、ヒドロキシエチル基、エチレンオキシ基、ヒドロキシプロピル基、ポリオキシエチル基、ポリオキシプロピル基、アミノ基、アミノエチル基、アミノプロピル基、アンモニウム基、アミド基、カルボキシメチル基等の親水性基を有するものが好適に挙げられる。
【０１０６】
水性現像液用バインダーポリマーは、質量平均分子量が５０００以上であるのが好ましく、１万〜３０万であるのがより好ましく、また、数平均分子量が１０００以上であるのが好ましく、２０００〜２５万であるのがより好ましい。多分散度（質量平均分子量／数平均分子量）は、１．１〜１０であるのが好ましい。
水性現像液用バインダーポリマーは、ランダムポリマー、ブロックポリマー、グラフトポリマー等のいずれでもよいが、ランダムポリマーであるのが好ましい。
【０１０７】
水性現像液用バインダーポリマーは単独で用いても２種以上を混合して用いてもよい。
水性現像液用バインダーポリマーの含有量は、感光層の全固形分に対して、５〜９０質量％であり、１０〜７０質量％であるのが好ましく、１０〜６０質量％であるのがより好ましい。この範囲内で、良好な画像部の強度と画像形成性が得られる。
【０１０８】
（Ｅ）連鎖移動剤
本発明の感光層には、連鎖移動剤を含有させることが好ましい。連鎖移動剤は感度および保存安定性向上に寄与する。連鎖移動剤として作用する化合物としては、例えば、分子内にＳＨ、ＰＨ、ＳｉＨ、ＧｅＨを有する化合物群が用いられる。これらは、低活性のラジカル種に水素供与して、ラジカルを生成するか、もしくは、酸化された後、脱プロトン
することによりラジカルを生成しうる。
【０１０９】
本発明の感光層には、特に、チオール化合物（例えば、２−メルカプトベンズイミダゾール類等）を連鎖移動剤として好ましく用いることができる。
なかでも、下記一般式（Ｔ）で表されるチオール化合物が特に好適に使用される。連鎖移動剤としてこのチオール化合物を用いることによって、臭気の問題、および感光層から蒸発や他の層への拡散による感度減少を回避し、保存安定性に優れ、さらには高感度で高耐刷の平版印刷版原版が得られる。
【０１１０】
【化２２】

【０１１１】
一般式（Ｔ）中、Ｒは置換基を有してもよいアルキル基、または置換基を有してもよいアリール基を表し、ＡはＮ＝Ｃ−Ｎ部分と共に炭素原子を有する５員環または６員環のヘテロ環を形成する原子団を表し、Ａはさらに置換基を有してもよい。
【０１１２】
さらに好ましくは下記一般式（Ｔ−１）または一般式（Ｔ−２）で表されるものが使用される。
【０１１３】
【化２３】

【０１１４】
一般式（Ｔ−１）および式（Ｔ−２）中、Ｒは置換基を有してもよいアルキル基、または置換基を有してもよいアリール基を表し、Ｘはハロゲン原子、アルコキシル基、置換基を有してもよいアルキル基、または置換基を有してもよいアリール基を表す。
【０１１５】
以下に、一般式（Ｔ）で表される化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１１６】
【化２４】

【０１１７】
【化２５】

【０１１８】
【化２６】

【０１１９】
【化２７】

【０１２０】
【化２８】

【０１２１】
これら連鎖移動剤（チオール化合物）の使用量は感光層の全固形分の質量に対し、好ましくは０．０１〜２０質量％、より好ましくは０．１〜１５質量％である。さらに好ましくは１．０〜１０質量％である。
【０１２２】
（Ｆ）共増感剤
本発明においては、共増感剤を用いることができる。共増感剤とは、感光層に添加したときに、感光層の感度をさらに向上させることができる添加剤である。その作用機構は、明確ではないが、多くは次のような化学プロセスに基づくものと考えられる。すなわち、先述の光重合開始系の光吸収により開始される光反応、と、それに引き続く付加重合反応の過程で生じる様々な中間活性種（ラジカル、過酸化物、酸化剤、還元剤等）と、共増感剤が反応し、新たな活性ラジカルを生成するものと推定される。共増感剤は、大きくは、（ａ）還元されて活性ラジカルを生成しうるもの、（ｂ）酸化されて活性ラジカルを生成しうるもの、（ｃ）活性の低いラジカルと反応し、より活性の高いラジカルに変換するか、もしくは連鎖移動剤として作用するもの、に分類できるが、個々の化合物がこれらのどれに属するかに関しては、通説がない場合も多い。
【０１２３】
（ａ）還元されて活性ラジカルを生成する化合物
炭素−ハロゲン結合を有する化合物：還元的に炭素−ハロゲン結合が解裂し、活性ラジカルを発生すると考えられる。具体的には、例えば、トリハロメチル−ｓ−トリアジン類や、トリハロメチルオキサジアゾール類等が好適に使用できる。
窒素−窒素結合を有する化合物：還元的に窒素−窒素結合が解裂し、活性ラジカルを発生すると考えられる。具体的にはヘキサアリールビイミダゾール類等が好適に使用される。
酸素−酸素結合を有する化合物：還元的に酸素−酸素結合が解裂し、活性ラジカルを発生すると考えられる。具体的には、例えば、有機過酸化物類等が好適に使用される。
オニウム化合物：還元的に炭素−ヘテロ結合や、酸素−窒素結合が解裂し、活性ラジカルを発生すると考えられる。具体的には例えば、ジアリールヨードニウム塩類、トリアリールスルホニウム塩類、Ｎ−アルコキシピリジニウム（アジニウム）塩類等が好適に使用される。
【０１２４】
（ｂ）酸化されて活性ラジカルを生成する化合物
アルキルアート錯体：酸化的に炭素−ヘテロ結合が解裂し、活性ラジカルを生成すると考えられる。具体的には例えば、トリアリールアルキルボレート類が好適に使用される。
アルキルアミン化合物：酸化により窒素に隣接した炭素上のＣ−Ｘ結合が解裂し、活性ラジカルを生成するものと考えられる。Ｘとしては、水素原子、カルボキシル基、トリメチルシリル基、ベンジル基等が好適である。具体的には、例えば、エタノールアミン類、Ｎ−フェニルグリシン類、Ｎ−トリメチルシリルメチルアニリン類等が挙げられる。
含硫黄、含錫化合物：上述のアミン類の窒素原子を硫黄原子、錫原子に置き換えたものが、同様の作用により活性ラジカルを生成しうる。また、Ｓ−Ｓ結合を有する化合物もＳ−Ｓ解裂による増感が知られる。
α−置換メチルカルボニル化合物：酸化により、カルボニル−α炭素間の結合解裂により、活性ラジカルを生成しうる。また、カルボニルをオキシムエーテルに変換したものも同様の作用を示す。具体的には、２−アルキル−１−［４−（アルキルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパノン−１類、並びに、これらと、ヒドロキシアミン類とを反応したのち、Ｎ−ＯＨをエーテル化したオキシムエーテル類、およびＮ−ＯＨをエステル化したオキシムエステル類をあげることができる。
スルフィン酸塩類：還元的に活性ラジカルを生成しうる。具体的は、アリールスルフィン酸ナトリウム等を挙げることができる。
【０１２５】
（ｃ）ラジカルと反応し高活性ラジカルに変換、もしくは連鎖移動剤として作用する化合物
ラジカルと反応し高活性ラジカルに変換、もしくは連鎖移動剤として作用する化合物としては、例えば、分子内にＳＨ、ＰＨ、ＳｉＨ、ＧｅＨを有する化合物群が用いられる。
これらは、低活性のラジカル種に水素供与して、ラジカルを生成するか、もしくは、酸化された後、脱プロトンする事によりラジカルを生成しうる。具体的には、例えば、２−メルカプトベンズイミダゾール類等が挙げられる。
【０１２６】
これらの共増感剤のより具体的な例としては、特開平９−２３６９１３号公報中に感度向上を目的とした添加剤として記載されている化合物を挙げることができる。以下に、その一部を例示するが、本発明はこれらに限定されるものはない。
【０１２７】
【化２９】

【０１２８】
これらの共増感剤に関しても、先の増感色素と同様、さらに、平版印刷版原版の感光層の特性を改良するための様々な化学修飾を行うことも可能である。例えば、増感色素や重合開始剤、付加重合性不飽和化合物その他のラジカル発生パートとの結合、親水性部位の導入、相溶性向上、結晶析出抑制のための置換基導入、密着性を向上させる置換基導入、ポリマー化等の方法が利用できる。これらの共増感剤は、単独でまたは２種以上併用して用いることができる。使用量は重合性化合物１００質量部に対し０．０５〜１００質量部、好ましくは１〜８０質量部、さらに好ましくは３〜５０質量部の範囲が適当である。
【０１２９】
＜マイクロカプセル＞
本発明においては、上記の感光層構成成分および後述のその他の構成成分を感光層に含有させる方法として、例えば、特開２００１−２７７７４０号公報、特開２００１−２７７７４２号公報に記載のごとく該構成成分の一部、あるいは全部をマイクロカプセルに内包させて感光層に添加することができる。その場合、各構成成分はマイクロカプセル内および外に、任意の比率で含有させることが可能である。
【０１３０】
感光層構成成分をマイクロカプセル化する方法としては、公知の方法が適用できる。例えばマイクロカプセルの製造方法としては、米国特許第２８００４５７号、同第２８００４５８号明細書にみられるコアセルベーションを利用した方法、米国特許第３２８７１５４号の各明細書、特公昭３８−１９５７４号、同４２−４４６号の各公報にみられる界面重合法による方法、米国特許第３４１８２５０号、同第３６６０３０４号明細書にみられるポリマーの析出による方法、米国特許第３７９６６６９号明細書に見られるイソシアナートポリオール壁材料を用いる方法、米国特許第３９１４５１１号明細書に見られるイソシアナート壁材料を用いる方法、米国特許第４００１１４０号、同第４０８７３７６号、同第４０８９８０２号の各明細書にみられる尿素―ホルムアルデヒド系または尿素ホルムアルデヒド−レゾルシノール系壁形成材料を用いる方法、米国特許第４０２５４４５号明細書にみられるメラミン−ホルムアルデヒド樹脂、ヒドロキシセルロース等の壁材を用いる方法、特公昭３６−９１６３号、同５１−９０７９号の各公報にみられるモノマー重合によるｉｎ ｓｉｔｕ法、英国特許第９３０４２２号、米国特許第３１１１４０７号明細書にみられるスプレードライング法、英国特許第９５２８０７号、同第９６７０７４号の各明細書にみられる電解分散冷却法などがあるが、これらに限定されるものではない。
【０１３１】
本発明に用いられる好ましいマイクロカプセル壁は、３次元架橋を有し、溶剤によって膨潤する性質を有するものである。このような観点から、マイクロカプセルの壁材は、ポリウレア、ポリウレタン、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアミド、およびこれらの混合物が好ましく、特に、ポリウレアおよびポリウレタンが好ましい。また、マイクロカプセル壁に、上記の非水溶性高分子に導入可能なエチレン性不飽和結合等の架橋性官能基を有する化合物を導入してもよい。
【０１３２】
上記のマイクロカプセルの平均粒径は、０．０１〜３．０μｍが好ましい。０．０５〜２．０μｍがさらに好ましく、０．１０〜１．０μｍが特に好ましい。この範囲内で良好な解像度と経時安定性が得られる。
【０１３３】
＜その他の感光層成分＞
本発明の感光層には、さらに、必要に応じて種々の添加剤を含有させることができる。以下、それらについて説明する。
【０１３４】
＜界面活性剤＞
本発明において、感光層には、現像性の促進および塗布面状を向上させるために界面活性剤を用いるのが好ましい。界面活性剤としては、ノニオン界面活性剤、アニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、両性界面活性剤、フッ素系界面活性剤等が挙げられる。界面活性剤は、単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【０１３５】
本発明に用いられるノニオン界面活性剤は、特に限定されず、従来公知のものを用いることができる。例えば、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリスチリルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンアルキルエーテル類、グリセリン脂肪酸部分エステル類、ソルビタン脂肪酸部分エステル類、ペンタエリスリトール脂肪酸部分エステル類、プロピレングリコールモノ脂肪酸エステル類、ショ糖脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸部分エステル類、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル類、ポリグリセリン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレン化ひまし油類、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸部分エステル類、脂肪酸ジエタノールアミド類、Ｎ，Ｎ−ビス−２−ヒドロキシアルキルアミン類、ポリオキシエチレンアルキルアミン、トリエタノールアミン脂肪酸エステル、トリアルキルアミンオキシド、ポリエチレングリコール、ポリエチレングリコールとポリプロピレングリコールの共重合体が挙げられる。
【０１３６】
本発明に用いられるアニオン界面活性剤は、特に限定されず、従来公知のものを用いることができる。例えば、脂肪酸塩類、アビエチン酸塩類、ヒドロキシアルカンスルホン酸塩類、アルカンスルホン酸塩類、ジアルキルスルホ琥珀酸エステル塩類、直鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、分岐鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、アルキルフェノキシポリオキシエチレンプロピルスルホン酸塩類、ポリオキシエチレンアルキルスルホフェニルエーテル塩類、Ｎ−メチル−Ｎ−オレイルタウリンナトリウム塩、Ｎ−アルキルスルホコハク酸モノアミド二ナトリウム塩、石油スルホン酸塩類、硫酸化牛脂油、脂肪酸アルキルエステルの硫酸エステル塩類、アルキル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩類、脂肪酸モノグリセリド硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、ポ
リオキシエチレンスチリルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、アルキルリン酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルリン酸エステル塩類、スチレン／無水マレイン酸共重合物の部分けん化物類、オレフィン／無水マレイン酸共重合物の部分けん化物類、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン縮合物類が挙げられる。
【０１３７】
本発明に用いられるカチオン界面活性剤は、特に限定されず、従来公知のものを用いることができる。例えば、アルキルアミン塩類、第四級アンモニウム塩類、ポリオキシエチレンアルキルアミン塩類、ポリエチレンポリアミン誘導体が挙げられる。
本発明に用いられる両性界面活性剤は、特に限定されず、従来公知のものを用いることができる。例えば、カルボキシベタイン類、アミノカルボン酸類、スルホベタイン類、アミノ硫酸エステル類、イミタゾリン類が挙げられる。
【０１３８】
なお、上記界面活性剤の中で、「ポリオキシエチレン」とあるものは、ポリオキシメチレン、ポリオキシプロピレン、ポリオキシブチレン等の「ポリオキシアルキレン」に読み替えることもでき、本発明においては、それらの界面活性剤も用いることができる。
【０１３９】
更に好ましい界面活性剤としては、分子内にパーフルオロアルキル基を含有するフッ素系界面活性剤が挙げられる。このようなフッ素系界面活性剤としては、例えば、パーフルオロアルキルカルボン酸塩、パーフルオロアルキルスルホン酸塩、パーフルオロアルキルリン酸エステル等のアニオン型；パーフルオロアルキルベタイン等の両性型；パーフルオロアルキルトリメチルアンモニウム塩等のカチオン型；パーフルオロアルキルアミンオキサイド、パーフルオロアルキルエチレンオキシド付加物、パーフルオロアルキル基および親水性基を含有するオリゴマー、パーフルオロアルキル基および親油性基を含有するオリゴマー、パーフルオロアルキル基、親水性基および親油性基を含有するオリゴマー、パーフルオロアルキル基および親油性基を含有するウレタン等のノニオン型が挙げられる。また、特開昭６２−１７０９５０号、同６２−２２６１４３号および同６０−１６８１４４号の公報に記載されているフッ素系界面活性剤も好適に挙げられる。
【０１４０】
界面活性剤は、単独でまたは２種以上を組み合わせて用いることができる。
界面活性剤の含有量は、感光層の全固形分に対して、０．００１〜１０質量％であるのが好ましく、０．０１〜７質量％であるのがより好ましい。
【０１４１】
＜親水性ポリマー＞
本発明においては、現像性の向上、マイクロカプセルの分散安定性向上などのため、親水性ポリマーを含有させることができる。
親水性ポリマーとしては、例えば、ヒドロキシ基、カルボキシル基、カルボキシレート基、ヒドロキシエチル基、ポリオキシエチル基、ヒドロキシプロピル基、ポリオキシプロピル基、アミノ基、アミノエチル基、アミノプロピル基、アンモニウム基、アミド基、カルボキシメチル基、スルホン酸基、リン酸基等の親水性基を有するものが好適に挙げられる。
【０１４２】
具体例として、アラビアゴム、カゼイン、ゼラチン、デンプン誘導体、カルボキシメチルセルロースおよびそのナトリウム塩、セルロースアセテート、アルギン酸ナトリウム、酢酸ビニル−マレイン酸コポリマー類、スチレン−マレイン酸コポリマー類、ポリアクリル酸類およびそれらの塩、ポリメタクリル酸類およびそれらの塩、ヒドロキシエチルメタクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシエチルアクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシピロピルメタクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシプロピルアクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシブチルメタクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシブチルアクリレートの
ホモポリマーおよびコポリマー、ポリエチレングリコール類、ヒドロキシプロピレンポリマー類、ポリビニルアルコール類、加水分解度が６０モル％以上、好ましくは８０モル％以上である加水分解ポリビニルアセテート、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール、ポリビニルピロリドン、アクリルアミドのホモポリマーおよびコポリマー、メタクリルアミドのホモポリマーおよびポリマー、Ｎ−メチロールアクリルアミドのホモポリマーおよびコポリマー、ポリビニルピロリドン、アルコール可溶性ナイロン、２，２−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−プロパンとエピクロロヒドリンとのポリエーテル等が挙げられる。
【０１４３】
親水性ポリマーは、質量平均分子量が５０００以上であるのが好ましく、１万〜３０万であるのがより好ましい。親水性ポリマーは、ランダムポリマー、ブロックポリマー、グラフトポリマー等のいずれでもよい。
親水性ポリマーの感光層への含有量は、感光層全固形分の２０質量％以下が好ましく、１０質量％以下がより好ましい。
【０１４４】
＜着色剤＞
本発明では、可視光域に大きな吸収を持つ染料を画像の着色剤として使用することができる。具体的には、オイルイエロー＃１０１、オイルイエロー＃１０３、オイルピンク＃３１２、オイルグリーンＢＧ、オイルブルーＢＯＳ、オイルブルー＃６０３、オイルブラックＢＹ、オイルブラックＢＳ、オイルブラックＴ−５０５（以上オリエント化学工業（株）製）、ビクトリアピュアブルー、クリスタルバイオレット（ＣＩ４２５５５）、メチルバイオレット（ＣＩ４２５３５）、エチルバイオレット、ローダミンＢ（ＣＩ１４５１７０Ｂ）、マラカイトグリーン（ＣＩ４２０００）、メチレンブルー（ＣＩ５２０１５）等、および特開昭６２−２９３２４７号公報に記載されている染料を挙げることができる。また、フタロシアニン系顔料、アゾ系顔料、カーボンブラック、酸化チタン等の顔料も好適に用いることができる。
【０１４５】
これらの着色剤は、画像形成後、画像部と非画像部の区別がつきやすいので、添加する方が好ましい。なお、添加量は、画像記録材料全固形分に対し、０．０１〜１０質量％の割合が好ましい。
【０１４６】
＜焼き出し剤＞
本発明の感光層には、焼き出し画像生成のため、酸またはラジカルによって変色する化合物を添加することができる。このような化合物としては、例えばジフェニルメタン系、トリフェニルメタン系、チアジン系、オキサジン系、キサンテン系、アンスラキノン系、イミノキノン系、アゾ系、アゾメチン系等の各種色素が有効に用いられる。
【０１４７】
具体例としては、ブリリアントグリーン、エチルバイオレット、メチルグリーン、クリスタルバイオレット、ベイシックフクシン、メチルバイオレット２Ｂ、キナルジンレッド、ローズベンガル、メタニルイエロー、チモールスルホフタレイン、キシレノールブルー、メチルオレンジ、パラメチルレッド、コンゴーフレッド、ベンゾプルプリン４Ｂ、α−ナフチルレッド、ナイルブルー２Ｂ、ナイルブルーＡ、メチルバイオレット、マラカイドグリーン、パラフクシン、ビクトリアピュアブルーＢＯＨ［保土ケ谷化学（株）製］、オイルブルー＃６０３［オリエント化学工業（株）製］、オイルピンク＃３１２［オリエント化学工業（株）製］、オイルレッド５Ｂ［オリエント化学工業（株）製］、オイルスカーレット＃３０８［オリエント化学工業（株）製］、オイルレッドＯＧ［オリエント化学工業（株）製］、オイルレッドＲＲ［オリエント化学工業（株）製］、オイルグリーン＃５０２［オリエント化学工業（株）製］、スピロンレッドＢＥＨスペシャル［保土ケ谷化学工業（株）製］、ｍ−クレゾールパープル、クレゾールレッド、ローダミンＢ、ローダミン６Ｇ、スルホローダミンＢ、オーラミン、４−ｐ−ジエチルアミノフェニルイミノナフトキノン、２−カルボキシアニリノ−４−ｐ−ジエチルアミノフェニルイミノナフトキノン、２−カルボキシステアリルアミノ−４−ｐ−Ｎ，Ｎ−ビス（ヒドロキシエチル）アミノ−フェニルイミノナフトキノン、１−フェニル−３−メチル−４−ｐ−ジエチルアミノフェニルイミノ−５−ピラゾロン、１−β−ナフチル−４−ｐ−ジエチルアミノフェニルイミノ−５−ピラゾロン等の染料やｐ，ｐ'，ｐ"−ヘキサメチルトリアミノトリフェニルメタン（ロイコクリスタルバイオレット）、Pergascript Blue SRB（チバガイギー社製）等のロイコ染料が挙げられる。
【０１４８】
上記の他に、感熱紙や感圧紙用の素材として知られているロイコ染料も好適なものとして挙げられる。具体例としては、クリスタルバイオレットラクトン、マラカイトグリーンラクトン、ベンゾイルロイコメチレンブルー、２−（Ｎ−フェニル−Ｎ−メチルアミノ）−６−（Ｎ−ｐ−トリル−Ｎ−エチル）アミノ−フルオラン、２−アニリノ−３−メチル−６−（Ｎ−エチル−ｐ−トルイジノ）フルオラン、３，６−ジメトキシフルオラン、３−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）−５−メチル−７−（Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ）−フルオラン、３−（Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−メチルアミノ）−６−メチル−７−アニリノフルオラン、３−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）−６−メチル−７−アニリノフルオラン、３−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）−６−メチル−７−キシリジノフルオラン、３−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）−６−メチルー７−クロロフルオラン、３−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）−６−メトキシ−７−アミノフルオラン、３−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）−７−（４−クロロアニリノ）フルオラン、３−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）−７−クロロフルオラン、３−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）−７−ベンジルアミノフルオラン、３−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）−７，８−ベンゾフルオラン、３−（Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノ）−６−メチル−７−アニリノフルオラン、３−（Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノ）−６−メチル−７−キシリジノフルオラン、３−ピペリジノ−６−メチル−７−アニリノフルオラン、３−ピロリジノ−６−メチル−７−アニリノフルオラン、３，３−ビス（１−エチル−２−メチルインドール−３−イル）フタリド、３，３−ビス（１−ｎ−ブチル−２−メチルインドール−３−イル）フタリド、３，３−ビス（ｐ−ジメチルアミノフェニル）−６−ジメチルアミノフタリド、３−（４−ジエチルアミノ−２−エトキシフェニル）−３−（１−エチル−２−メチルインドール−３−イル）−４−ザフタリド、３−（４−ジエチルアミノフェニル）−３−（１−エチル−２−メチルインドール−３−イル）フタリド、などが挙げられる。
【０１４９】
酸またはラジカルによって変色する染料の好適な添加量は、それぞれ、感光層固形分に対して０．０１〜１５質量％の割合である。
【０１５０】
＜重合禁止剤＞
本発明の感光層には、感光層の製造中または保存中において、ラジカル重合性化合物の不要な熱重合を防止するために、少量の熱重合防止剤を添加するのが好ましい。
熱重合防止剤としては、例えば、ハイドロキノン、ｐ−メトキシフェノール、ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ピロガロール、ｔ−ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４′−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２′−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、Ｎ−ニトロソ−Ｎ−フェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩が好適に挙げられる。
熱重合防止剤の添加量は、感光層の全固形分に対して、約０．０１〜約５質量％であるのが好ましい。
【０１５１】
＜高級脂肪酸誘導体等＞
本発明の感光層には、酸素による重合阻害を防止するために、ベヘン酸やベヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加して、塗布後の乾燥の過程で感光層の表面に偏在させてもよい。高級脂肪酸誘導体の添加量は、感光層の全固形分に対して、約０．１〜約１
０質量％であるのが好ましい。
【０１５２】
＜可塑剤＞
本発明の感光層は可塑剤を含有してもよい。可塑剤としては、例えば、ジメチルフタレート、ジエチルフタレート、ジブチルフタレート、ジイソブチルフタレート、ジオクチルフタレート、オクチルカプリルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート、ジトリデシルフタレート、ブチルベンジルフタレート、ジイソデシルフタレート、ジアリルフタレート等のフタル酸エステル類；ジメチルグリコールフタレート、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、トリエチレングリコールジカプリル酸エステル等のグリコールエステル類；トリクレジルホスフェート、トリフェニルホスフェート等のリン酸エステル類；ジイソブチルアジペート、ジオクチルアジペート、ジメチルセバケート、ジブチルセバケート、ジオクチルアゼレート、ジブチルマレエート等の脂肪族二塩基酸エステル類；ポリグリシジルメタクリレート、クエン酸トリエチル、グリセリントリアセチルエステル、ラウリン酸ブチル等が好適に挙げられる。可塑剤の含有量は、感光層の全固形分に対して、約３０質量％以下であるのが好ましい。
【０１５３】
＜無機微粒子＞
本発明の感光層は、画像部の硬化皮膜強度向上のために、無機微粒子を含有してもよい。無機微粒子としては、例えば、シリカ、アルミナ、酸化マグネシウム、酸化チタン、炭酸マグネシウム、アルギン酸カルシウムまたはこれらの混合物が好適に挙げられる。これらは光熱変換性でなくても、皮膜の強化、表面粗面化による界面接着性の強化等に用いることができる。無機微粒子は、平均粒径が５ｎｍ〜１０μｍであるのが好ましく、０．５〜３μｍであるのがより好ましい。上記範囲内であると、感光層中に安定に分散して、感光層の膜強度を十分に保持し、印刷時の汚れを生じにくい親水性に優れる非画像部を形成することができる。
上述したような無機微粒子は、コロイダルシリカ分散物等の市販品として容易に入手することができる。
無機微粒子の含有量は、感光層の全固形分に対して、２０質量％以下であるのが好ましく、１０質量％以下であるのがより好ましい。
【０１５４】
＜低分子親水性化合物＞
本発明の感光層は、現像性向上のため、親水性低分子化合物を含有することができる。親水性低分子化合物としては、例えば、水溶性有機化合物としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール等のグリコール類およびそのエーテルまたはエステル誘導体類、グリセリン、ペンタエリスリトール等のポリヒドロキシ類、トリエタノールアミン、ジエタノールアミンモノエタノールアミン等の有機アミン類およびその塩、トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸等の有機スルホン酸類およびその塩、フェニルホスホン酸等の有機ホスホン酸類およびその塩、酒石酸、シュウ酸、クエン酸、リンゴ酸、乳酸、グルコン酸、アミノ酸類等の有機カルボン酸類およびその塩や、テトラエチルアミン塩酸塩等の有機４級アンモニウム塩等が挙げられる。
【０１５５】
＜感光層の形成＞
本発明の感光層は、必要な上記各成分を溶剤に分散または溶解して塗布液を調製し、塗布して形成される。ここで使用する溶剤としては、エチレンジクロリド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、１−メトキシ−２−プロパノール、２−メトキシエチルアセテート、１−メトキシ−２−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレア、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチルラクトン、トルエン、水等を挙げることができるが、これに限定されるものではない。これらの溶剤は、単独または混合して使用される。塗布液の固形分濃度は、好ましくは１〜５０質量％である。
本発明の感光層は、同一または異なる上記各成分を同一または異なる溶剤に分散、または溶かした塗布液を複数調製し、複数回の塗布、乾燥を繰り返して形成することも可能である。
【０１５６】
また塗布、乾燥後に得られる支持体上の感光層塗布量（固形分）は、用途によって異なるが、一般的に０．３〜３．０ｇ／ｍ²が好ましい。この範囲内で、良好な感度と感光層の良好な皮膜特性が得られる。
塗布する方法としては、種々の方法を用いることができる。例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げられる。
【０１５７】
（保護層）
本発明の平版印刷版原版には、露光時の重合反応を妨害する酸素の拡散侵入を遮断するため、感光層上に保護層（酸素遮断層）を設けることが好ましい。本発明に用いられる保護層は２５℃、１気圧下における酸素透過性Ａが１．０≦Ａ≦２０（ｍＬ／ｍ²・ｄａｙ）であることが好ましい。酸素透過性Ａが１．０（ｍＬ／ｍ²・ｄａｙ）未満で極端に低い場合は、製造時・生保存時に不要な重合反応が生じたり、また画像露光時に、不要なカブリ、画線の太りが生じたりという問題を生じる。逆に、酸素透過性Ａが２０（ｍＬ／ｍ²・ｄａｙ）を超えて高すぎる場合は感度の低下を招く。酸素透過性Ａは、より好ましくは１．５≦Ａ≦１２ （ｍＬ／ｍ²・ｄａｙ）、更に好ましくは２．０≦Ａ≦１０．０（ｍＬ／ｍ²・ｄａｙ）の範囲である。また、保護層に望まれる特性としては、上記酸素透過性以外に、さらに、露光に用いる光の透過は実質阻害せず、感光層との密着性に優れ、かつ、露光後の現像工程で容易に除去できる事が望ましい。この様な保護層に関する工夫が従来なされており、米国特許第３，４５８，３１１号明細書、特公昭５５−４９７２９号公報に詳しく記載されている。
【０１５８】
保護層に使用できる材料としては例えば、比較的結晶性に優れた水溶性高分子化合物を用いることが好ましく、具体的には、ポリビニルアルコール、ビニルアルコール／フタル酸ビニル共重合体、酢酸ビニル／ビニルアルコール／フタル酸ビニル共重合体、酢酸ビニル／クロトン酸共重合体、ポリビニルピロリドン、酸性セルロース類、ゼラチン、アラビアゴム、ポリアクリル酸、ポリアクリルアミドなどのような水溶性ポリマーが挙げられ、これらは単独または混合して使用できる。これらの内、ポリビニルアルコールを主成分として用いる事が、酸素遮断性、現像除去性といった基本特性的にもっとも良好な結果を与える。
【０１５９】
保護層に使用するポリビニルアルコールは、必要な酸素遮断性と水溶性を有するための、未置換ビニルアルコール単位を含有する限り、一部がエステル、エーテル、およびアセタールで置換されていても良い。また、同様に一部が他の共重合成分を有していても良い。ポリビニルアルコールの具体例としては７１〜１００モル％加水分解され、重合繰り返し単位が３００から２４００の範囲のものをあげる事ができる。具体的には、株式会社クラレ製のＰＶＡ−１０５、ＰＶＡ−１１０、ＰＶＡ−１１７、ＰＶＡ−１１７Ｈ、ＰＶＡ−１２０、ＰＶＡ−１２４、ＰＶＡ−１２４Ｈ、ＰＶＡ−ＣＳ、ＰＶＡ−ＣＳＴ、ＰＶＡ−ＨＣ、ＰＶＡ−２０３、ＰＶＡ−２０４、ＰＶＡ−２０５、ＰＶＡ−２１０、ＰＶＡ−２１７、ＰＶＡ−２２０、ＰＶＡ−２２４、ＰＶＡ−２１７ＥＥ、ＰＶＡ−２１７Ｅ、ＰＶＡ−２２０Ｅ、ＰＶＡ−２２４Ｅ、ＰＶＡ−４０５、ＰＶＡ−４２０、ＰＶＡ−６１３、Ｌ−８等が挙げられ、これらは単独または混合して使用できる。好ましい態様としてはポリビニルアルコールの保護層中の含有率が２０〜９５質量％、より好ましくは、３０〜９０質量％である。
【０１６０】
また、公知の変性ポリビニルアルコールも好ましく用いることができる。例えば、カルボキシル基、スルホ基等のアニオンで変性されたアニオン変性部位、アミノ基、アンモニウム基等のカチオンで変性されたカチオン変性部位、シラノール変性部位、チオール変性部位等種々の親水性変性部位をランダムに有す各種重合度のポリビニルアルコール、前記のアニオン変性部位、前記のカチオン変性部位、シラノール変性部位、チオール変性部位、更にはアルコキシル変性部位、スルフィド変性部位、ビニルアルコールと各種有機酸とのエステル変性部位、前記アニオン変性部位とアルコール類等とのエステル変性部位、エポキシ変性部位等種々の変性部位をポリマー鎖末端に有す各種重合度のポリビニルアルコール等が挙げられる。
【０１６１】
ポリビニルアルコールと混合して使用する成分としてはポリビニルピロリドンまたはその変性物が酸素遮断性、現像除去性といった観点から好ましく、保護層中の含有率が３．５〜８０質量％、好ましくは１０〜６０質量％、さらに好ましくは１５〜３０質量％である。
【０１６２】
保護層の成分（ＰＶＡの選択、添加剤の使用）、塗布量等は、酸素遮断性・現像除去性の他、カブリ性や密着性・耐傷性を考慮して選択される。一般には使用するＰＶＡの加水分解率が高い程（保護層中の未置換ビニルアルコール単位含率が高い程）、膜厚が厚い程酸素遮断性が高くなり、感度の点で有利である。上記ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）等の（共）重合体の分子量は、２０００〜１０００万の範囲のものが使用でき、好ましくは２万〜３００万範囲のものが適当である。
【０１６３】
保護層への他の添加剤として、グリセリン、ジプロピレングリコール等を（共）重合体に対して数質量％相当量添加して可撓性を付与することができ、また、アルキル硫酸ナトリウム、アルキルスルホン酸ナトリウム等のアニオン界面活性剤；アルキルアミノカルボン酸塩、アルキルアミノジカルボン酸塩等の両性界面活性剤；ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル等の非イオン界面活性剤を（共）重合体に対して数質量％添加することができる。
【０１６４】
また、画像部との密着性や、耐傷性も版の取り扱い上極めて重要である。すなわち、水溶性ポリマーからなる親水性の層を親油性の感光層に積層すると、接着力不足による膜剥離が発生しやすく、剥離部分が酸素の重合阻害により膜硬化不良などの欠陥を引き起こす。これに対し、これら２層間の接着性を改良すべく種々の提案がなされている。例えば米国特許出願番号第２９２，５０１号、米国特許出願番号第４４，５６３号には、主にポリビニルアルコールからなる親水性ポリマー中に、アクリル系エマルジョンまたは水不溶性ビニルピロリドン−ビニルアセテート共重合体などを２０〜６０質量％混合し、感光層の上に積層することにより、十分な接着性が得られることが記載されている。本発明における保護層に対しては、これらの公知の技術をいずれも適用することができる。このような保護層の塗布方法については、例えば米国特許第３，４５８，３１１号明細書、特公昭５５−４９７２９号公報に詳しく記載されている。
【０１６５】
さらに、本発明の平版印刷版原版における保護層には、酸素遮断性や感光層表面保護性を向上させる目的で、無機質の層状化合物を含有させることも好ましい。
ここで無機質の層状化合物とは、薄い平板状の形状を有する粒子であり、例えば、下記一般式
Ａ（Ｂ，Ｃ）_2-5 Ｄ₄ Ｏ₁₀（ＯＨ，Ｆ，Ｏ）₂
〔ただし、ＡはＫ，Ｎａ，Ｃａの何れか、ＢおよびＣはＦｅ（ＩＩ），Ｆｅ（ＩＩＩ），
Ｍｎ，Ａｌ，Ｍｇ，Ｖの何れかであり、ＤはＳｉまたはＡｌである。〕で表される天然雲母、合成雲母等の雲母群、式３ＭｇＯ・４ＳｉＯ・Ｈ₂Ｏで表されるタルク、テニオライト、モンモリロナイト、サポナイト、ヘクトライト、りん酸ジルコニウムなどが挙げられる。
【０１６６】
上記雲母群においては、天然雲母としては白雲母、ソーダ雲母、金雲母、黒雲母および鱗雲母が挙げられる。また、合成雲母としては、フッ素金雲母ＫＭｇ₃ （ＡｌＳｉ₃Ｏ₁₀）Ｆ₂、カリ四ケイ素雲母ＫＭｇ_2.5 Ｓｉ₄ Ｏ₁₀）Ｆ₂等の非膨潤性雲母、およびＮａテトラシリリックマイカＮａＭｇ_2.5 （Ｓｉ₄ Ｏ₁₀）Ｆ₂、ＮａまたはＬｉテニオライト（Ｎａ，Ｌｉ）Ｍｇ₂ Ｌｉ（Ｓｉ₄ Ｏ₁₀）Ｆ₂、モンモリロナイト系のＮａまたはＬｉヘクトライト（Ｎａ，Ｌｉ）_1/8 Ｍｇ_{2 /5}Ｌｉ_1/8 （Ｓｉ₄Ｏ₁₀）Ｆ₂等の膨潤性雲母等が挙げられる。更に合成スメクタイトも有用である。
【０１６７】
本発明においては、上記の無機質の層状化合物の中でも、合成の無機質の層状化合物であるフッ素系の膨潤性雲母が特に有用である。すなわち、この膨潤性合成雲母や、モンモリロナイト、サポナイト、ヘクトライト、ベントナイト等の膨潤性粘度鉱物類等は、１０〜１５Å程度の厚さの単位結晶格子層からなる積層構造を有し、格子内金属原子置換が他の粘度鉱物より著しく大きい。その結果、格子層は正電荷不足を生じ、それを補償するために層間にＮａ⁺、Ｃａ²⁺、Ｍｇ²⁺等の陽イオンを吸着している。これらの層間に介在している陽イオンは交換性陽イオンと呼ばれ、いろいろな陽イオンと交換する。特に層間の陽イオンがＬｉ⁺ 、Ｎａ⁺ の場合、イオン半径が小さいため層状結晶格子間の結合が弱く、水により大きく膨潤する。その状態でシェアーをかけると容易に劈開し、水中で安定したゾルを形成する。ベントナイトおよび膨潤性合成雲母はこの傾向が強く、本発明において有用であり、特に膨潤性合成雲母が好ましく用いられる。
【０１６８】
本発明で使用する無機質の層状化合物の形状としては、拡散制御の観点からは、厚さは薄ければ薄いほどよく、平面サイズは塗布面の平滑性や活性光線の透過性を阻害しない限りにおいて大きいほどよい。従って、アスペクト比は２０以上であり、好ましくは１００以上、特に好ましくは２００以上である。なお、アスペクト比は粒子の長径に対する厚さの比であり、たとえば、粒子の顕微鏡写真による投影図から測定することができる。アスペクト比が大きい程、得られる効果が大きい。
【０１６９】
本発明で使用する無機質の層状化合物の粒子径は、その平均長径が０．３〜２０μｍ、好ましくは０．５〜１０μｍ、特に好ましくは１〜５μｍである。また、該粒子の平均の厚さは、０．１μｍ以下、好ましくは、０．０５μｍ以下、特に好ましくは、０．０１μｍ以下である。例えば、無機質の層状化合物のうち、代表的化合物である膨潤性合成雲母のサイズは厚さが１〜５０ｎｍ、面サイズが１〜２０μｍ程度である。
【０１７０】
このようにアスペクト比が大きい無機質の層状化合物の粒子を保護層に含有させると、塗膜強度が向上し、また、酸素や水分の透過を効果的に防止しうるため、変形などによる保護層の劣化を防止し、高湿条件下において長期間保存しても、湿度の変化による平版印刷版原版における画像形成性の低下もなく保存安定性に優れる。
【０１７１】
保護層中の無機質層状化合物の含有量は、保護層に使用されるバインダーの量に対し、質量比で５／１〜１／１００であることが好ましい。複数種の無機質の層状化合物を併用した場合でも、これら無機質の層状化合物の合計量が上記の質量比であることが好ましい。
【０１７２】
次に、保護層に用いる無機質層状化合物の一般的な分散方法の例について述べる。まず、水１００質量部に先に無機質層状化合物の好ましいものとして挙げた膨潤性の層状化合物を５〜１０質量部添加し、充分水になじませ、膨潤させた後、分散機にかけて分散する。ここで用いる分散機としては、機械的に直接力を加えて分散する各種ミル、大きな剪断力を有する高速攪拌型分散機、高強度の超音波エネルギーを与える分散機等が挙げられる。具体的には、ボールミル、サンドグラインダーミル、ビスコミル、コロイドミル、ホモジナイザー、ティゾルバー、ポリトロン、ホモミキサー、ホモブレンダー、ケディミル、ジェットアジター、毛細管式乳化装置、液体サイレン、電磁歪式超音波発生機、ポールマン笛を有する乳化装置等が挙げられる。上記の方法で分散した無機質層状化合物の５〜１０質量％の分散物は高粘度あるいはゲル状であり、保存安定性は極めて良好である。この分散物を用いて保護層塗布液を調製する際には、水で希釈し、充分攪拌した後、バインダー溶液と配合して調製するのが好ましい。
【０１７３】
この保護層塗布液には、上記無機質層状化合物の他に、塗布性を向上させための界面活性剤や皮膜の物性改良のための水溶性可塑剤など公知の添加剤を加えることができる。水溶性の可塑剤としては、例えば、プロピオンアミド、シクロヘキサンジオール、グリセリン、ソルビトール等が挙げられる。また、水溶性の（メタ）アクリル系ポリマーを加えることもできる。さらに、この塗布液には、感光層との密着性、塗布液の経時安定性を向上するための公知の添加剤を加えてもよい。
【０１７４】
このように調製された保護層塗布液を、支持体上に備えられた感光層の上に塗布し、乾燥して保護層を形成する。塗布溶剤はバインダーとの関連において適宜選択することができるが、水溶性ポリマーを用いる場合には、蒸留水、精製水を用いることが好ましい。保護層の塗布方法は、特に制限されるものではなく、米国特許第３，４５８，３１１号明細書または特公昭５５−４９７２９号公報に記載されている方法など公知の方法を適用することができる。具体的には、例えば、保護層は、ブレード塗布法、エアナイフ塗布法、グラビア塗布法、ロールコーティング塗布法、スプレー塗布法、ディップ塗布法、バー塗布法等が挙げられる。
【０１７５】
保護層の塗布量としては、乾燥後の塗布量で、０．０５〜１０ｇ／ｍ² の範囲であることが好ましく、無機質の層状化合物を含有する場合には、０．１〜０．５ｇ／ｍ²の範囲であることがさらに好ましく、無機質の層状化合物を含有しない場合には、０．５〜５ｇ／ｍ²の範囲であることがさらに好ましい。
【０１７６】
（支持体）
本発明の平版印刷版原版に用いられる支持体は、特に限定されず、寸度的に安定な板状な親水性支持体であればよい。例えば、紙、プラスチック（例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等）がラミネートされた紙、金属板（例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等）、プラスチックフィルム（例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等）、上述した金属がラミネートされまたは蒸着された紙またはプラスチックフィルム等が挙げられる。好ましい支持体としては、ポリエステルフィルムおよびアルミニウム板が挙げられる。中でも、寸法安定性がよく、比較的安価であるアルミニウム板が好ましい。
【０１７７】
アルミニウム板は、純アルミニウム板、アルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板、または、アルミニウムもしくはアルミニウム合金の薄膜にプラスチックがラミネートされているものである。アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタン等がある。合金中の異元素の含有量は１０質量％以下であるのが好ましい。本発明においては、純アルミニウム板が好ましいが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、
わずかに異元素を含有するものでもよい。アルミニウム板は、その組成が特定されるものではなく、公知公用の素材のものを適宜利用することができる。
【０１７８】
支持体の厚さは０．１〜０．６ｍｍであるのが好ましく、０．１５〜０．４ｍｍであるのがより好ましく、０．２〜０．３ｍｍであるのが更に好ましい。
【０１７９】
アルミニウム板を使用するに先立ち、粗面化処理、陽極酸化処理等の表面処理を施すのが好ましい。表面処理により、親水性の向上および感光層と支持体との密着性の確保が容易になる。アルミニウム板を粗面化処理するに先立ち、所望により、表面の圧延油を除去するための界面活性剤、有機溶剤、アルカリ性水溶液等による脱脂処理が行われる。
【０１８０】
アルミニウム板表面の粗面化処理は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的粗面化処理、電気化学的粗面化処理（電気化学的に表面を溶解させる粗面化処理）、化学的粗面化処理（化学的に表面を選択溶解させる粗面化処理）が挙げられる。
機械的粗面化処理の方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨法等の公知の方法を用いることができる。
電気化学的粗面化処理の方法としては、例えば、塩酸、硝酸等の酸を含有する電解液中で交流または直流により行う方法が挙げられる。また、特開昭５４−６３９０２号公報に記載されているような混合酸を用いる方法も挙げられる。
【０１８１】
粗面化処理されたアルミニウム板は、必要に応じて、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等の水溶液を用いてアルカリエッチング処理を施され、更に、中和処理された後、所望により、耐摩耗性を高めるために陽極酸化処理を施される。
【０１８２】
アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成させる種々の電解質の使用が可能である。一般的には、硫酸、塩酸、シュウ酸、クロム酸またはそれらの混酸が用いられる。それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜決められる。
陽極酸化処理の条件は、用いられる電解質により種々変わるので一概に特定することはできないが、一般的には、電解質濃度１〜８０質量％溶液、液温度５〜７０℃、電流密度５〜６０Ａ／d ｍ² 、電圧１〜１００Ｖ、電解時間１０秒〜５分であるのが好ましい。形成される陽極酸化皮膜の量は、１．０〜５．０ｇ／ｍ² であるのが好ましく、１．５〜４．０ｇ／ｍ² であるのがより好ましい。この範囲内で、良好な耐刷性と平版印刷版の非画像部の良好な耐傷性が得られる。
【０１８３】
本発明で用いられる支持体としては、上記のような表面処理をされ陽極酸化皮膜を有する基板そのままでもよいが、上層との接着性、親水性、汚れ難さ、断熱性などの一層改良のため、必要に応じて、特開２００１−２５３１８１号や特開２００１−３２２３６５号の公報に記載されている陽極酸化皮膜のマイクロポアの拡大処理、マイクロポアの封孔処理、および親水性化合物を含有する水溶液に浸漬する表面親水化処理などを適宜選択して行うことができる。もちろんこれら拡大処理、封孔処理は、これらに記載のものに限られたものではなく従来公知の何れも方法も行うことができる。
【０１８４】
封孔処理としては、蒸気封孔のほかフッ化ジルコン酸の単独処理、フッ化ナトリウムによる処理など無機フッ素化合物を含有する水溶液による封孔処理、塩化リチウムを添加した蒸気封孔、熱水による封孔処理でも可能である。
なかでも、無機フッ素化合物を含有する水溶液による封孔処理、水蒸気による封孔処理および熱水による封孔処理が好ましい。
【０１８５】
親水化処理としては、米国特許第２，７１４，０６６号、同第３，１８１，４６１号、
同第３，２８０，７３４号および同第３，９０２，７３４号の明細書に記載されているようなアルカリ金属シリケート法がある。この方法においては、支持体をケイ酸ナトリウム等の水溶液で浸漬処理し、または電解処理する。そのほかに、特公昭３６−２２０６３号公報に記載されているフッ化ジルコン酸カリウムで処理する方法、米国特許第３，２７６，８６８号、同第４，１５３，４６１号および同第４，６８９，２７２号の明細書に記載されているようなポリビニルホスホン酸で処理する方法等が挙げられる。
【０１８６】
本発明の支持体としてポリエステルフィルムなど表面の親水性が不十分な支持体を用いる場合は、親水層を塗布して表面を親水性にすることが望ましい。親水層としては、特開２００１−１９９１７５号公報に記載の、ベリリウム、マグネシウム、アルミニウム、珪素、チタン、硼素、ゲルマニウム、スズ、ジルコニウム、鉄、バナジウム、アンチモンおよび遷移金属から選択される少なくとも一つの元素の酸化物または水酸化物のコロイドを含有する塗布液を塗布してなる親水層や、特開２００２−７９７７２号公報に記載の、有機親水性ポリマーを架橋あるいは疑似架橋することにより得られる有機親水性マトリックスを有する親水層や、ポリアルコキシシラン、チタネート、ジルコネートまたはアルミネートの加水分解、縮合反応からなるゾル−ゲル変換により得られる無機親水性マトリックスを有する親水層、あるいは、金属酸化物を含有する表面を有する無機薄膜からなる親水層が好ましい。中でも、珪素の酸化物または水酸化物のコロイドを含有する塗布液を塗布してなる親水層が好ましい。
【０１８７】
また、本発明の支持体としてポリエステルフィルム等を用いる場合には、支持体の親水性層側または反対側、あるいは両側に、帯電防止層を設けるのが好ましい。帯電防止層を支持体と親水性層との間に設けた場合には、親水性層との密着性向上にも寄与する。帯電防止層としては、特開２００２−７９７７２号公報に記載の、金属酸化物微粒子やマット剤を分散したポリマー層等が使用できる。
【０１８８】
支持体は、中心線平均粗さが０．１０〜１．２μｍであるのが好ましい。この範囲内で、感光層との良好な密着性、良好な耐刷性と良好な汚れ難さが得られる。
また、支持体の色濃度としては、反射濃度値として０．１５〜０．６５であるのが好ましい。この範囲内で、画像露光時のハレーション防止による良好な画像形成性と現像後の良好な検版性が得られる。
【０１８９】
（下塗り層）
本発明の平版印刷版原版においては、感光層と支持体との間に下塗り層を設ける。
本発明における下塗り層は、（Ａ）エチレン性不飽和結合と支持体表面に相互作用する官能基とを有する、質量平均分子量１００〜１００００の範囲の化合物と、（Ｂ）エチレン性不飽和結合、支持体表面に相互作用する官能基および親水性官能基を有する、質量平均分子量１００００〜５０００００の範囲の高分子化合物を含有する。
支持体表面に相互作用する官能基としては、支持体上に存在する金属、金属酸化物、水酸基などと共有結合、イオン結合、水素結合、極性相互作用、ファンデルワールズ相互作用などの相互作用が可能な基が挙げられる。
中でも、支持体に吸着する官能基（吸着性基）が好ましい。
【０１９０】
支持体表面への吸着性の有無に関しては、例えば以下のような方法で判断できる。
試験化合物を易溶性の溶媒に溶解させた塗布液を作成し、その塗布液を乾燥後の塗布量が３０ｍｇ／ｍ²となるように支持体上に塗布・乾燥させる。試験化合物を塗布した支持体を、易溶性溶媒を用いて十分に洗浄した後、洗浄除去されなかった試験化合物の残存量を測定して支持体吸着量を算出する。ここで残存量の測定は、残存化合物量を直接定量してもよいし、洗浄液中に溶解した試験化合物量を定量して算出してもよい。化合物の定量法としては、例えば蛍光Ｘ線測定、反射分光吸光度測定、液体クロマトグラフィー測定で
実施できる。支持体吸着性がある化合物は、上記のような洗浄処理を行っても０．１ｍｇ／ｍ²以上残存する化合物である。
支持体表面への吸着性基は、支持体表面に存在する物質（例、金属、金属酸化物）あるいは官能基（例、水酸基）と、化学結合（例、イオン結合、水素結合、配位結合、分子間力による結合）を引き起こすことができる官能基である。吸着性基は、酸基またはカチオン性基が好ましい。
酸基は、酸解離定数（ｐＫａ）が７以下であることが好ましい。酸基の例としては、フェノール性水酸基、カルボキシル基、−ＳＯ₃Ｈ、−ＯＳＯ₃Ｈ、−ＰＯ₃Ｈ₂、−ＯＰＯ₃Ｈ₂、−ＣＯＮＨＳＯ₂−、−ＳＯ₂ＮＨＳＯ₂−および−ＣＯＣＨ₂ＣＯＣＨ₃が挙げられる。なかでもリン酸基（−ＯＰＯ₃Ｈ₂、−ＰＯ₃Ｈ₂）が特に好ましい。
カチオン性基は、オニウム基であることが好ましい。オニウム基の例としては、アンモニウム基、ホスホニウム基、アルソニウム基、スチボニウム基、オキソニウム基、スルホニウム基、セレノニウム基、スタンノニウム基、ヨードニウム基等が挙げられる。なかでもアンモニウム基、ホスホニウム基およびスルホニウム基が好ましく、アンモニウム基およびホスホニウム基がさらに好ましく、アンモニウム基が最も好ましい。
以下に、支持体表面に吸着する官能基の例を示す。
【０１９１】
【化３０】

【０１９２】
上記式中、Ｒ₁₁〜Ｒ₁₃は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、アルキニル基またはアルケニル基である。Ｍ₁およびＭ₂はそれぞれ独立に、水素原子、金属原子またはアンモニウム基である。Ｘ^-はカウンターアニオンである。
吸着性基としては、オニウム基（例、アンモニウム基、ピリジニウム基）、リン酸エステル基、ホウ酸基、β−ジケトン基（例、アセチルアセトン基）が特に好ましい。
【０１９３】
本発明における化合物（Ａ）は、下記式（Ｉ）または（ＩＩ）で表される。
【０１９４】
【化３１】

【０１９５】
［式中、Ｒ_１、Ｒ_２およびＲ_３は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子または炭素原子数が１から６のアルキル基であり；Ｘは酸素原子、硫黄原子、またはイミノであり；Ｌはｎ＋１価の連結基であり；ｎは１、２または３であり、Ｙ_１およびＹ_２は支持体に吸着する官能基である。］
【０１９６】
式（Ｉ）および（ＩＩ）において、Ｘは、酸素原子であることがさらに好ましい。
式（Ｉ）および（ＩＩ）において、Ｌが２価の連結基である場合、Ｌは、２価の脂肪族基（アルキレン基、置換アルキレン基、アルケニレン基、置換アルケニレン基、アルキニレン基、置換アルキニレン基）、２価の芳香族基（アリーレン基、置換アリーレン基）または２価の複素環基であるか、あるいはそれらと、酸素原子（−Ｏ−）、硫黄原子（−Ｓ−）、イミノ（−ＮＨ−）、置換イミノ（−ＮＲ−、Ｒは脂肪族基、芳香族基または複素環基）またはカルボニル（−ＣＯ−）との組み合わせであることが好ましい。
Ｌが３価または４価の連結基である場合は、３〜４価の脂肪族基、３〜４価の芳香族基、３〜４価の複素環基が例示される。
【０１９７】
脂肪族基は、環状構造または分岐構造を有していてもよい。脂肪族基の炭素原子数は、１乃至２０が好ましく、１乃至１５がさらに好ましく、１乃至１０が最も好ましい。脂肪族基は、不飽和脂肪族基よりも飽和脂肪族基の方が好ましい。脂肪族基は、置換基を有していてもよい。置換基の例としては、ハロゲン原子、ヒドロキシル、芳香族基および複素環基が挙げられる。
芳香族基の炭素原子数は、６乃至２０が好ましく、６乃至１５がさらに好ましく、６乃至１０が最も好ましい。芳香族基は、置換基を有していてもよい。置換基の例は、ハロゲン原子、ヒドロキシル、脂肪族基、芳香族基および複素環基を含む。
複素環基は、複素環として５員環または６員環を有することが好ましい。複素環には他の複素環、脂肪族環または芳香族環が縮合していてもよい。複素環基は、置換基を有していてもよい。置換基の例としては、ハロゲン原子、ヒドロキシル、オキソ（＝Ｏ）、チオ（＝Ｓ）、イミノ（＝ＮＨ）、置換イミノ基（＝Ｎ−Ｒ、Ｒは脂肪族基、芳香族基または複素環基）、脂肪族基、芳香族基および複素環基が挙げられる。
【０１９８】
Ｌは、複数のポリオキシアルキレン構造を含む二価の連結基であることが好ましい。ポリオキシアルキレン構造は、ポリオキシエチレン構造であることがさらに好ましい。即ち
、Ｌは、−（ＯＣＨ₂ＣＨ₂）_n−（ｎは、２以上の整数）を含むことが好ましい。ここで、ｎは１〜５０が好ましく、より好ましくは１〜２０である。
【０１９９】
式（Ｉ）および（ＩＩ）において、Ｙ_１およびＹ_２は、吸着性基である。吸着性基については、前述した通りである。
【０２００】
式（Ｉ）の化合物の具体例としては、下記の市販品が挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
［Ａ］ＣＨ₂ ＝Ｃ（ＣＨ₃ ）ＣＯＯ（Ｃ₂ Ｈ₄ Ｏ）_n Ｐ＝Ｏ（ＯＨ）₂
ｎ＝１；ユニケミカル（株）；ホスマーＭ、日本化薬（株）；カヤマーＰＭ−１、共栄社油脂（株）；ライトエステルＰ−Ｍ、新中村化学（株）；ＮＫエステルＳＡ、ｎ＝２；ユニケミカル（株）；ホスマーＰＥ２、ｎ＝４〜５；ユニケミカル（株）；ホスマーＰＥ、ｎ＝８；ユニケミカル（株）；ホスマーＰＥ８、
［Ｂ］［ＣＨ₂ ＝Ｃ（ＣＨ₃ ）ＣＯＯ（Ｃ₂ Ｈ₄ Ｏ）_n ］_m Ｐ＝Ｏ（ＯＨ）_3-m
ｎ＝１、ｍ＝１と２の混合物；大八化学（株）；ＭＲ−２００、
［Ｃ］ＣＨ₂ ＝ＣＨＣＯＯ（Ｃ₂ Ｈ₄ Ｏ）_n Ｐ＝Ｏ（ＯＨ）₂
ｎ＝１；ユニケミカル（株）；ホスマーＡ、共栄社油脂（株）；ライトエステルＰ−Ａ、
［Ｄ］［ＣＨ₂ ＝ＣＨＣＯＯ（Ｃ₂ Ｈ₄ Ｏ）_n ］_m Ｐ＝Ｏ（ＯＨ）_3-m
ｎ＝１、ｍ＝１と２の混合物；大八化学（株）；ＡＲ−２００
［Ｅ］ＣＨ₂ ＝Ｃ（ＣＨ₃ ）ＣＯＯ（Ｃ₂ Ｈ₄ Ｏ）_n Ｐ＝Ｏ（ＯＣ₄ Ｈ₉ ）₂
ｎ＝１；大八化学（株）；ＭＲ−２０４、
［Ｆ］ＣＨ₂ ＝ＣＨＣＯＯ（Ｃ₂ Ｈ₄ Ｏ）_n Ｐ＝Ｏ（ＯＣ₄ Ｈ₉ ）₂
ｎ＝１；大八化学（株）；ＡＲ−２０４、
［Ｇ］ＣＨ₂ ＝Ｃ（ＣＨ₃ ）ＣＯＯ（Ｃ₂ Ｈ₄ Ｏ）_n Ｐ＝Ｏ（ＯＣ₈ Ｈ₁₇）₂ ｎ＝１；大八化学（株）；ＭＲ−２０８、
［Ｈ］ＣＨ₂ ＝ＣＨＣＯＯ（Ｃ₂ Ｈ₄ Ｏ）_n Ｐ＝Ｏ（ＯＣ₈ Ｈ₁₇）₂ ｎ＝１；大八化学（株）；ＡＲ−２０８、
［Ｉ］ＣＨ₂=Ｃ（ＣＨ₃）ＣＯＯ(Ｃ₂Ｈ₄Ｏ) Ｐ＝Ｏ（ＯＨ）(ＯＮＨ₃ Ｃ₂ Ｈ₄ ＯＨ)
ｎ＝１；ユニケミカル（株）；ホスマーＭＨ、
［Ｊ］ＣＨ₂ ＝Ｃ（ＣＨ₃ ）ＣＯＯ（Ｃ₂ Ｈ₄ Ｏ）_n Ｐ＝Ｏ（ＯＨ）（ＯＮＨ（ＣＨ₃ ）₂ Ｃ₂ Ｈ₄ ＯＣＯＣ（ＣＨ₃ ）＝ＣＨ₂ ） ｎ＝１；ユニケミカル（株）；ホスマーＤＭ、
［Ｋ］ＣＨ₂ ＝Ｃ（ＣＨ₃ ）ＣＯＯ（Ｃ₂ Ｈ₄ Ｏ）_n Ｐ＝Ｏ（ＯＨ）（ＯＮＨ（Ｃ₂Ｈ₅）₂ Ｃ₂ Ｈ₄ ＯＣＯＣ（ＣＨ₃ ）＝ＣＨ₂ ） ｎ＝１；ユニケミカル（株）；ホスマーＤＥ、
［Ｌ］ＣＨ₂ ＝ＣＨＣＯＯ（Ｃ₂ Ｈ₄ Ｏ）_n Ｐ＝Ｏ（Ｏ−ｐｈ）₂（ｐｈ：ベンゼン環を示す） ｎ＝１；大八化学（株）；ＡＲ−２６０、
［Ｍ］ＣＨ₂ ＝Ｃ（ＣＨ₃ ）ＣＯＯ（Ｃ₂ Ｈ₄ Ｏ）_n Ｐ＝Ｏ（Ｏ−ｐｈ）₂ ｎ＝１；大八化学（株）；ＭＲ−２６０、
［Ｑ］［ＣＨ₂ ＝ＣＨＣＯＯ（Ｃ₂ Ｈ₄ Ｏ）_n ］₂ Ｐ＝Ｏ（ＯＣ₄ Ｈ₉ ） ｎ＝１；大八化学（株）；ＰＳ−Ａ４、
［Ｎ］［ＣＨ₂ ＝Ｃ（ＣＨ₃ ）ＣＯＯ（Ｃ₂ Ｈ₄ Ｏ）_n ］₂ Ｐ＝Ｏ（ＯＨ） ｎ＝１；大八化学（株）；ＭＲ−２００、日本化薬（株）；カヤマーＰＭ−２、日本化薬（株）；カヤマーＰＭ−２１、
［Ｏ］［ＣＨ₂ ＝ＣＨＣＯＯ（Ｃ₂ Ｈ₄ Ｏ）_n ］₃ Ｐ＝Ｏｎ＝１；大阪有機（株）；ビスコート３ＰＡ。
【０２０１】
これらの化合物は、「実験化学座講座」や「紫外線硬化システム」加藤清視著等に記載されるように、一般のアクリル系モノマーと同様に、アクリル酸又はメタクリル酸とリン酸化合物とによる脱水反応又はエステル交換により合成することができる。また、リン化
合物はいくつかの化合物を任意の比で混合して用いてもよい。式中エチレンオキサイドの鎖長ｎの数は、合成上ｎ数が大きくなるにつれて純品を合成する事が困難であり、前後の混合物となる。具体的な数としては、ｎ＝０、１、２、約４〜５、約５〜６、約７〜９、約１４、約２３、約４０、約５０であるが、これらに限定されるものではない。
【０２０２】
以下に、式（ＩＩ）で表される化合物の例を示す。
【０２０３】
【化３２】

【０２０４】
【化３３】

【０２０５】
【化３４】

【０２０６】
【化３５】

【０２０７】
【化３６】

【０２０８】
【化３７】

【０２０９】
【化３８】

【０２１０】
式（ＩＩ）で表される化合物は二種類以上併用してもよい。
【０２１１】
また、以下に示す化合物例も支持体表面に吸着する官能基を有する化合物として好ましく挙げられる。
【０２１２】
【化３９】

【０２１３】
【化４０】

【０２１４】
【化４１】

【０２１５】
【化４２】

【０２１６】
化合物（Ａ）の質量平均分子量は１００〜１００００が好ましく、２００〜２０００がさらに好ましい。
【０２１７】
次に化合物（Ｂ）について説明する。化合物（Ｂ）は、エチレン性不飽和結合、支持体表面に相互作用する官能基および親水性官能基を有する、質量平均分子量１００００〜５０００００の範囲の高分子化合物（以下「特定共重合体」ともいう）であって、（ａ１）エチレン性不飽和結合を少なくとも一つ含有する繰り返し単位と、（ａ２）支持体表面と相互作用する官能基を少なくとも一つ含有する繰り返し単位と、（ａ３）親水性基を少なくとも一つ含有する繰り返し単位とを有する高分子化合物であるのが好ましい。
【０２１８】
上記特定共重合体としては、下記式（Ｉ）で表される繰り返し単位を含有するものが好ましい。
【０２１９】
【化４３】

【０２２０】
式（Ｉ）中、Ａ_１はエチレン性不飽和結合を少なくとも１つ含有する繰り返し単位を表し、Ａ_２は支持体表面と相互作用する官能基を少なくとも１つ含有する繰り返し単位を表す。ｘ、ｙは共重合比を表す。
式（Ｉ）において、Ａ₁で表される繰り返し単位は、好ましくは下記式（Ａ１）で表される。
【０２２１】
【化４４】

【０２２２】
式中、Ｒ₁〜Ｒ₃はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、またはハロゲン原子を表す。Ｒ₄〜Ｒ₆はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、ハロゲン原子、アシル基、またはアシルオキシ基を表す。またＲ₄とＲ₅、またはＲ₅とＲ₆で環を形成してもよい。Ｌは−ＣＯ−、−Ｏ−、−ＮＨ−、二価の脂肪族基、二価の芳香族基およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表す。
【０２２３】
組み合わせからなるＬの具体例を以下に挙げる。なお、下記例において左側が主鎖に結合し、右側がエチレン性不飽和結合に結合する。
Ｌ１：−ＣＯ−ＮＨ−二価の脂肪族基−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ２：−ＣＯ−二価の脂肪族基−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ３：−ＣＯ−Ｏ−二価の脂肪族基−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ４：−二価の脂肪族基−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ５：−ＣＯ−ＮＨ−二価の芳香族基−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ６：−ＣＯ−二価の芳香族基−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ７：−二価の芳香族基−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ８：−ＣＯ−Ｏ−二価の脂肪族基−ＣＯ−Ｏ−二価の脂肪族基−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ９：−ＣＯ−Ｏ−二価の脂肪族基−Ｏ−ＣＯ−二価の脂肪族基−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ１０：−ＣＯ−Ｏ−二価の芳香族基−ＣＯ−Ｏ−二価の脂肪族基−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ１１：−ＣＯ−Ｏ−二価の芳香族基−Ｏ−ＣＯ−二価の脂肪族基−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ１２：−ＣＯ−Ｏ−二価の脂肪族基−ＣＯ−Ｏ−二価の芳香族基−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ１３：−ＣＯ−Ｏ−二価の脂肪族基−Ｏ−ＣＯ−二価の芳香族基−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ１４：−ＣＯ−Ｏ−二価の芳香族基−ＣＯ−Ｏ−二価の芳香族基−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ１５：−ＣＯ−Ｏ−二価の芳香族基−Ｏ−ＣＯ−二価の芳香族基−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ１６：−ＣＯ−Ｏ−二価の芳香族基−Ｏ−ＣＯ−ＮＨ−二価の脂肪族基−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ１７：−ＣＯ−Ｏ−二価の脂肪族基−Ｏ−ＣＯ−ＮＨ−二価の脂肪族基−Ｏ−ＣＯ−
【０２２４】
二価の脂肪族基とは、アルキレン基、置換アルキレン基、アルケニレン基、置換アルケニレン基、アルキニレン基、置換アルキニレン基またはポリアルキレンオキシ基を意味する。なかでもアルキレン基、置換アルキレン基、アルケニレン基、および置換アルケニレン基が好ましく、アルキレン基および置換アルキレン基がさらに好ましい。
二価の脂肪族基は、環状構造よりも鎖状構造の方が好ましく、さらに分岐を有する鎖状構造よりも直鎖状構造の方が好ましい。
二価の脂肪族基の炭素原子数は、１乃至２０であることが好ましく、１乃至１５であることがより好ましく、１乃至１２であることがさらに好ましく、１乃至１０であることがさらにまた好ましく、１乃至８であることが最も好ましい。
二価の脂肪族基の置換基の例としては、ハロゲン原子（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アミノ基、シアノ基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アリールアミノ基およびジアリールアミノ基等が挙げられる。
【０２２５】
二価の芳香族基とは、アリレン基または置換アリレン基を意味する。好ましくは、フェニレン、置換フェニレン基、ナフチレンおよび置換ナフチレン基である。
二価の芳香族基の置換基の例としては、上記二価の脂肪族基の置換基の例に加えて、アルキル基が挙げられる。
前記Ｌ１からＬ１７の中では、Ｌ１、Ｌ３、Ｌ５、Ｌ７、Ｌ１７が好ましい。
【０２２６】
式（Ｉ）において、Ａ₂で表される繰り返し単位は、具体的には下記式（Ａ２）で表される。
【０２２７】
【化４５】

【０２２８】
式中、Ｒ₁〜Ｒ₃およびＬは前記式（Ａ１）で表されるものと同義である。Ｑは支持体表面と相互作用する官能基（以下、「特定官能基」と略記する場合がある。）を表す。
特定官能基としては、例えば、支持体上に存在する金属、金属酸化物、水酸基などと共有結合、イオン結合、水素結合、極性相互作用、ファンデルワールズ相互作用などの相互作用が可能な基が挙げられる。
特定官能基の具体例を以下に挙げる。
【０２２９】
【化４６】

【０２３０】
（上記式中、Ｒ₁₁〜Ｒ₁₃はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、アルキニル基、またはアルケニル基を表し、Ｍ₁およびＭ₂はそれぞれ独立に、水素原子、金属原子、またはアンモニウム基を表し、Ｘ^-はカウンターアニオンを表す。）
これらのなかでも特定官能基としては、アンモニウム基、ピリジニウム基等のオニウム塩基、リン酸エステル基、ホスホン酸基、ホウ酸基、アセチルアセトン基などのβ−ジケトン基などが好適である。
【０２３１】
式（Ａ２）において、Ｌは−ＣＯ−、−Ｏ−、−ＮＨ−、二価の脂肪族基、二価の芳香族基およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表す。
組み合わせからなるＬの具体例としては、前記式（Ａ１）におけるＬの具体例に加えて以下のものを挙げることができる。なお、下記例において左側が主鎖に結合する。
Ｌ１８： −ＣＯ−ＮＨ−
Ｌ１９： −ＣＯ−Ｏ−
Ｌ２０： −二価の芳香族基−
【０２３２】
式（Ａ２）で表される繰り返し単位中には親水性部分を有していてもよい。式（Ａ２）に親水性部分が含まれない場合には、本発明で用いられる前記共重合体には共重合成分としてさらに下記式（Ａ３）で表される繰り返し単位を含有することが好ましい。
【０２３３】
【化４７】

【０２３４】
式中、Ｒ１〜Ｒ３およびＬは前記式（Ａ１）で表されるものと同義である。Ｗは下記基を表す。
【０２３５】
【化４８】

【０２３６】
ただし、Ｍ₁は前記式（Ａ２）の説明で表されるものと同義である。
Ｒ₇およびＲ₈はそれぞれ独立に、水素原子、あるいは炭素数１〜６の直鎖または分岐のアルキル基を表す。Ｒ₉は炭素数１〜６の直鎖または分岐のアルキレン基を表し、エチレン基が好ましい。Ｒ₁₀は水素原子または炭素数１〜１２のアルキル基を表す。ｎは１〜１００の整数を表し、１〜３０が好ましい。
前記（Ａ３）で表される親水性基を少なくとも１つ含有する繰り返し単位は、そのｌｏｇＰが、−３〜３であるのが好ましく、−１〜２であるのがより好ましい。この範囲で、良好な機上現像性が得られる。
ここでｌｏｇＰとは、Medicinal Chemistry Project．Pomona College，Claremont．Californiaで開発され、Daylight Chemical Information System Inc．より入手できるソフトウェアＰＣＭｏｄｅｌｓを用いて算出した化合物のオクタノール／水分配係数（Ｐ）の値の対数である。
前記Ｗとしては、アルキレンオキシ基を含むものが好ましい。
前記特定共重合体の分子量としては、質量平均分子量で１００００〜５００，０００の範囲が好ましく、５００００〜２０００００の範囲がより好ましい。また（ａ１）は全共重合モノマーに対して５〜８０モル％が好ましく、１０〜５０モル％がより好ましい。（ａ２）は全共重合モノマーに対して５〜８０モル％が好ましく、１０〜５０モル％がより好ましい。さらに、（ａ３）は全共重合モノマーに対して５〜８０モル％が好ましく、１０〜５０モル％がより好ましい。
【０２３７】
本発明において用いられる前記特定共重合体の具体例を以下に示すが、これらに限定されるものではない。
【０２３８】
【化４９】

【０２３９】
【化５０】

【０２４０】
【化５１】

【０２４１】
【化５２】

【０２４２】
【化５３】

【０２４３】
【化５４】

【０２４４】
【化５５】

【０２４５】
【化５６】

【０２４６】
前記化合物（Ａ）と（Ｂ）の混合比は、耐刷性と現像性両立の観点から、質量比として、（Ａ）／（Ｂ）＝０．１〜１０の範囲が好ましく、０．１〜５．０の範囲がさらに好ましく、０．３〜３．０の範囲がとくに好ましい。また、化合物（Ａ）と化合物（Ｂ）の塗布量の和が１〜１００ｍｇ／ｍ²の範囲であることが好ましく、１．０〜５０ｍｇ／ｍ² であるのがさらに好ましく、５．０〜２０ｍｇ／ｍ² であるのがとくに好ましい。
【０２４７】
また、本発明においては、下塗り層に重合開始剤を添加する形態が好ましい。この形態によれば、下塗り層と感光層との界面付近での重合反応の頻度を高くして、化合物（Ａ）によって増強された架橋性基を有効に機能させることができる。重合開始剤としては、感光層に用いる重合開始剤が例示される。また下塗り層中の重合開始剤の添加量は、
下塗り層の固形分中、５〜８０質量％が好ましく、１０〜５０質量％がさらに好ましい。
【０２４８】
この下塗り層は、水又はメタノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有機溶剤もしくはそれらの混合溶剤に上記化合物を溶解させた溶液を支持体上に塗布、乾燥する方法、又は水又はメタノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有機溶剤もしくはそれらの混合溶剤に上記化合物を溶解させた溶液に、支持体を浸漬して上記化合物を吸着さ
せ、しかる後、水などによって洗浄、乾燥する方法によって設けることができる。前者の方法では、上記化合物の濃度０．００５〜１０質量％の溶液を種々の方法で塗布できる。例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布などいずれの方法を用いてもよい。また、後者の方法では、溶液の濃度は０．０１〜２０質量％、好ましくは０．０５〜５質量％であり、浸漬温度は２０〜９０℃、好ましくは２５〜５０℃であり、浸漬時間は０．１秒〜２０分、好ましくは２秒〜１分である。
【０２４９】
下塗り層の塗布量（固形分）は、０．１〜１００ｍｇ／ｍ² であるのが好ましく、３〜３０ｍｇ／ｍ² であるのがより好ましい。
【０２５０】
（バックコート層）
支持体に表面処理を施した後または下塗り層を形成させた後、必要に応じて、支持体の裏面にバックコートを設けることができる。
バックコートとしては、例えば、特開平５−４５８８５号公報に記載されている有機高分子化合物、特開平６−３５１７４号公報に記載されている有機金属化合物または無機金属化合物を加水分解および重縮合させて得られる金属酸化物からなる被覆層が好適に挙げられる。中でも、Ｓｉ（ＯＣＨ₃ ）₄ 、Ｓｉ（ＯＣ₂ Ｈ₅ ）₄ 、Ｓｉ（ＯＣ₃ Ｈ₇ ）₄ 、Ｓｉ（ＯＣ₄ Ｈ₉ ）₄ 等のケイ素のアルコキシ化合物を用いるのが、原料が安価で入手しやすい点で好ましい。
【０２５１】
〔製版方法〕
本発明における平版印刷版原版を、３５０ｎｍ〜４５０ｎｍの光源で画像露光した後、自動現像機により、ｐＨが３〜１０の現像液の存在下、擦り部材で版面を擦ることにより、保護層および非露光部の感光層を一括除去し、支持体表面に画像を形成することができる。
すなわち、保護層および非露光部の感光層を一括除去した後、直ちに印刷機にセットして印刷することができる。
また、このような自動現像機での処理は、機上現像の場合に生ずる保護層／感光層の由来の現像カスへの対応から開放されるという優位性がある。
【０２５２】
〔現像〕
本発明における平版印刷版原版を画像露光した後、現像液により保護層及び非露光部の感光層を除去し、親水性支持体表面に画像を形成することができる。
【０２５３】
本発明において好適に用いられる現像液は、（１）pHが１０以上のもの、（２）pHが２〜１０の水溶液のもの、の２つに分けられる。
上記したように、（１）の現像液を用いる場合には、感光層に用いられるバインダーポリマーとしてアルカリ可溶性バインダーを用いることが好ましく、（２）の現像液を用いる場合には、前記の酸価が0.3meq/g以下のバインダーポリマーを用いることが好ましい。
本発明において好適に用いられるpHが１０以上の現像液について説明する。
pHが１０以上の現像液は、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、第三リン酸ナトリウム、第二リン酸ナトリウム、第三リン酸アンモニウム、第二リン酸アンモニウム、メタケイ酸ナトリウム、重炭酸ナトリウム、アンモニア水などのような無機アルカリ剤やモノエタノールアミン又はジエタノールアミンなどのような有機アルカリ剤の水溶液が適当である。このようなアルカリ溶液の濃度が０．１〜１０質量％、好ましくは０．５〜５質量％になるように添加される。
また、このようなアルカリ性水溶液には、必要に応じて界面活性剤やべンジルアルコール、２−フェノキシエタノール、２−ブトキシエタノールのような有機溶媒を少量含むことができる。例えば、米国特許第３３７５１７１号明細書及び同第３６１５４８０号明細書に記載されているものを挙げることができる。
pHが１０以上の現像液は、取扱い性と現像性の両立の観点からpHが１０〜１４の範囲のものが好ましく、さらにはpHが１１〜１３の範囲のものが好ましい。
【０２５４】
本発明において好適に用いられるもう一つの現像液は、ｐＨが２〜１０の水溶液である。例えば、水単独または水を主成分（水を６０質量％以上含有）とする水溶液が好ましく、特に、一般的に公知な湿し水と同様組成の水溶液、界面活性剤（アニオン系、ノニオン系、カチオン系等）を含有する水溶液や、水溶性高分子化合物を含有する水溶液が好ましい。特に、界面活性剤と水溶性高分子化合物の両方を含有する水溶液が好ましい。現像液のｐＨは、より好ましくは３〜８、さらに好ましくは４〜６．９の弱酸性である。
上記２つのタイプの現像液各々に含有することができる成分について、下記に詳述する。
【０２５５】
本発明の現像液に用いられるアニオン系界面活性剤としては、脂肪酸塩類、アビエチン酸塩類、ヒドロキシアルカンスルホン酸塩類、アルカンスルホン酸塩類、ジアルキルスルホコハク酸塩類、直鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、分岐鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、アルキルフェノキシポリオキシエチレンプロピルスルホン酸塩類、ポリオキシエチレンアルキルスルホフェニルエーテル塩類、Ｎ−メチル−Ｎ−オレイルタウリンナトリウム類、Ｎ−アルキルスルホコハク酸モノアミド二ナトリウム塩類、石油スルホン酸塩類、硫酸化ヒマシ油、硫酸化牛脂油、脂肪酸アルキルエステルの硫酸エステル塩類、アルキル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩類、脂肪酸モノグリセリド硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、アルキル燐酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル燐酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル燐酸エステル塩類、スチレン−無水マレイン酸共重合物の部分ケン化物類、オレフィン−無水マレイン酸共重合物の部分ケン化物類、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン縮合物類等が挙げられる。これらの中でもジアルキルスルホコハク酸塩類、アルキル硫酸エステル塩類およびアルキルナフタレンスルホン酸塩類が特に好ましく用いられる。
【０２５６】
本発明の現像液に用いられるカチオン系界面活性剤としては、特に限定されず、従来公知のものを用いることができる。例えば、アルキルアミン塩類、第四級アンモニウム塩類、ポリオキシエチレンアルキルアミン塩類、ポリエチレンポリアミン誘導体が挙げられる。
【０２５７】
本発明の現像液に用いられるノニオン系界面活性剤としては、ポリエチレングリコール型の高級アルコールエチレンオキサイド付加物、アルキルフェノールエチレンオキサイド付加物、脂肪酸エチレンオキサイド付加物、多価アルコール脂肪酸エステルエチレンオキサイド付加物、高級アルキルアミンエチレンオキサイド付加物、脂肪酸アミドエチレンオキサイド付加物、油脂のエチレンオキサイド付加物、ポリプロピレングリコールエチレンオキサイド付加物、ジメチルシロキサン−エチレンオキサイドブロックコポリマー、ジメチルシロキサン−（プロピレンオキサイド−エチレンオキサイド）ブロックコポリマー等や、多価アルコール型のグリセロールの脂肪酸エステル、ペンタエリスリトールの脂肪酸エステル、ソルビトールおよびソルビタンの脂肪酸エステル、ショ糖の脂肪酸エステル、多価アルコールのアルキルエーテル、アルカノールアミン類の脂肪酸アミド等が挙げられる。
これらノニオン性界面活系剤は、単独でも、２種以上を混合して用いても良い。本発明においては、ソルビトールおよび／またはソルビタン脂肪酸エステルのエチレンオキサイド付加物、ポリプロピレングリコールエチレンオキサイド付加物、ジメチルシロキサン−エチレンオキサイドブロックコポリマー、ジメチルシロキサン−（プロピレンオキサイド−エチレンオキサイド）ブロックコポリマー、多価アルコールの脂肪酸エステルがより好
ましい。
【０２５８】
また、水に対する安定な溶解性あるいは混濁性の観点から、本発明の現像液に使用するノニオン系界面活性剤としては、ＨＬＢ（Ｈｙｄｏｒｏｐｈｉｌｅ−Ｌｉｐｏｐｈｉｌｅ
Ｂａｌａｎｃｅ）値が、６以上であることが好ましく、８以上であることがより好ましい。さらに、現像液中に含有するノニオン性界面活性剤の比率は、０．０１〜１０質量％が好ましく、０．０１〜５質量％がより好ましい。
またアセチレングリコール系とアセチレンアルコール系のオキシエチレン付加物、フッ素系、シリコン系等の界面活性剤も同様に使用することができる。
本発明の現像液に使用する界面活性剤としては、抑泡性の観点から、ノニオン性界面活性剤が特に好適である。
【０２５９】
また、本発明の現像液に用いられる水溶性高分子化合物としては、大豆多糖類、変性澱粉、アラビアガム、デキストリン、繊維素誘導体（例えばカルボキシメチルセルロース、カルボキシエチルセルロース、メチルセルロース等）およびその変性体、プルラン、ポリビニルアルコールおよびその誘導体、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミドおよびアクリルアミド共重合体、ビニルメチルエーテル／無水マレイン酸共重合体、酢酸ビニル／無水マレイン酸共重合体、スチレン／無水マレイン酸共重合体などが挙げられる。
【０２６０】
上記大豆多糖類は、公知ものが使用でき、例えば市販品として商品名ソヤファイブ（不二製油（株）製）があり、各種グレードのものを使用することができる。好ましく使用できるものは、１０質量％水溶液の粘度が１０〜１００mPa／secの範囲にあるものである。
【０２６１】
上記変性澱粉も、公知のものが使用でき、トウモロコシ、じゃがいも、タピオカ、米、小麦等の澱粉を酸または酵素等で１分子当たりグルコース残基数５〜３０の範囲で分解し、更にアルカリ中でオキシプロピレンを付加する方法等で作ることができる。
【０２６２】
水溶性高分子化合物は２種以上を併用することもできる。水溶性高分子化合物の現像液中における含有量は、０．１〜２０質量％が好ましく、より好ましくは０.５〜１０質量％である。
【０２６３】
また、本発明の現像液には、有機溶剤を含有しても良い。含有可能な有機溶剤としては、例えば、脂肪族炭化水素類（ヘキサン、ヘプタン、”アイソパーＥ、Ｈ、Ｇ”（エッソ化学（株）製）あるいはガソリン、灯油等）、芳香族炭化水素類（トルエン、キシレン等）、あるいはハロゲン化炭化水素（メチレンジクロライド、エチレンジクロライド、トリクレン、モノクロルベンゼン等）や、極性溶剤が挙げられる。
【０２６４】
極性溶剤としては、アルコール類（メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ベンジルアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、２−エトキシエタノール、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ポリエチレングリコールモノメチルエーテル、ポリプロピレングリコール、テトラエチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノベンジルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、メチルフェニルカルビノール、ｎ−アミルアルコール、メチルアミルアルコール等）、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、エチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等）、エステル類（酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸アミル、酢酸ベンジル、乳酸メチル、乳酸ブチル、エチレングリコールモノブチルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールアセテート、ジエチルフタレート、レブリン酸ブチル等）、その他（トリエチルフォスフェート、トリクレジルホスフェート、Ｎ−フェニルエタノールアミン、Ｎ−フェニルジエタノールアミン等）等が挙げられる。
【０２６５】
また、上記有機溶剤が水に不溶な場合は、界面活性剤等を用いて水に可溶化して使用することも可能であり、現像液に、有機溶剤を含有する場合は、安全性、引火性の観点から、溶剤の濃度は４０質量％未満が望ましい。
【０２６６】
本発明の現像液には上記の他に、防腐剤、キレート化合物、消泡剤、有機酸、無機酸、無機塩などを含有することができる。
【０２６７】
防腐剤としては、フェノールまたはその誘導体、ホルマリン、イミダゾール誘導体、デヒドロ酢酸ナトリウム、４−イソチアゾリン−３−オン誘導体、ベンゾイソチアゾリン−３−オン、ベンズトリアゾール誘導体、アミジングアニジン誘導体、四級アンモニウム塩類、ピリジン、キノリン、グアニジン等の誘導体、ダイアジン、トリアゾール誘導体、オキサゾール、オキサジン誘導体、ニトロブロモアルコール系の２−ブロモ−２−ニトロプロパン−１，３ジオール、１，１−ジブロモ−１−ニトロ−２−エタノール、１，１−ジブロモ−１−ニトロ−２−プロパノール等が好ましく使用できる。
【０２６８】
キレート化合物としては、例えば、エチレンジアミンテトラ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩；ジエチレントリアミンペンタ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩；トリエチレンテトラミンヘキサ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩、ヒドロキシエチルエチレンジアミントリ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩；ニトリロトリ酢酸、そのナトリウム塩；１−ヒドロキシエタン−１，１−ジホスホン酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩；アミノトリ（メチレンホスホン酸）、そのカリウム塩、そのナトリウム塩などのような有機ホスホン酸類あるいはホスホノアルカントリカルボン酸類を挙げることができる。上記キレート剤のナトリウム塩、カリウム塩の代りに有機アミンの塩も有効である。
【０２６９】
消泡剤としては一般的なシリコン系の自己乳化タイプ、乳化タイプ、ノニオン系界面活性剤のＨＬＢが５以下等の化合物を使用することができる。シリコン消泡剤が好ましい。
その中で乳化分散型および可溶化等がいずれも使用できる。
【０２７０】
有機酸としては、クエン酸、酢酸、蓚酸、マロン酸、サリチル酸、カプリル酸、酒石酸、リンゴ酸、乳酸、レブリン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、キシレンスルホン酸、フィチン酸、有機ホスホン酸などが挙げられる。有機酸は、そのアルカリ金属塩またはアンモニウム塩の形で用いることもできる。
【０２７１】
無機酸および無機塩としては、リン酸、メタリン酸、第一リン酸アンモニウム、第二リン酸アンモニウム、第一リン酸ナトリウム、第二リン酸ナトリウム、第一リン酸カリウム、第二リン酸カリウム、トリポリリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウム、ヘキサメタリン酸ナトリウム、硝酸マグネシウム、硝酸ナトリウム、硝酸カリウム、硝酸アンモニウム、硫酸ナトリウム、硫酸カリウム、硫酸アンモニウム、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸アンモニウム、硫酸水素ナトリウム、硫酸ニッケルなどが挙げられる。
【０２７２】
上記の現像液は、露光された平版印刷版原版の現像液および現像補充液として用いることができ、後述の自動処理機に適用することが好ましい。自動処理機を用いて現像する場合、処理量に応じて現像液が疲労してくるので、補充液または新鮮な現像液を用いて処理能力を回復させてもよい。本発明の平版印刷版の作製方法においてもこの補充方式が好ましく適用される。
【０２７３】
本発明におけるｐＨ２〜１０の水溶液による現像処理は、現像液の供給手段および擦り部材を備えた自動処理機により好適に実施することができる。自動処理機としては、例えば、画像記録後の平版印刷版原版を搬送しながら擦り処理を行う、特開平２−２２００６１号、特開昭６０−５９３５１号各公報に記載の自動処理機や、シリンダー上にセットされた画像記録後の平版印刷版原版を、シリンダーを回転させながら擦り処理を行う、米国特許５１４８７４６号、同５５６８７６８号、英国特許２２９７７１９号に記載の自動処理機等が挙げられる。なかでも、擦り部材として、回転ブラシロールを用いる自動処理機が特に好ましい。
【０２７４】
本発明に好ましく使用できる回転ブラシロールは、画像部の傷つき難さ、さらには、平版印刷版原版の支持体の腰の強さ等を考慮して適宜選択することができる。 上記回転ブラシロールとしては、ブラシ素材をプラスチックまたは金属のロールに植え付けて形成された公知のものが使用できる。例えば、特開昭５８−１５９５３３号公報や、特開平３−１００５５４号公報記載のものや、実公昭６２−１６７２５３号公報に記載されているような、ブラシ素材を列状に植え込んだ金属またはプラスチックの溝型材を芯となるプラスチックまたは金属のロールに隙間なく放射状に巻き付けたブラシロールが使用できる。
また、ブラシ素材としては、プラスチック繊維（例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステル系、ナイロン６．６、ナイロン６．１０等のポリアミド系、ポリアクリロニトリル、ポリ（メタ）アクリル酸アルキル等のポリアクリル系、および、ポリプロピレン、ポリスチレン等のポリオレフィン系の合成繊維）を使用することができ、例えば、繊維の毛の直径は、２０〜４００μｍ、毛の長さは、５〜３０ｍｍのものが好適に使用できる。
さらに、回転ブラシロールの外径は、３０〜２００ｍｍが好ましく、版面を擦るブラシの先端の周速は、０．１〜５ｍ／ｓｅｃが好ましい。
また、回転ブラシロールは、２本以上の複数本用いることが好ましい。
【０２７５】
本発明に用いる回転ブラシロールの回転方向は、本発明の平版印刷版原版の搬送方向に対し、同一方向であっても、逆方向であってもよいが、図１に例示した自動処理機のように、２本以上の回転ブラシロールを使用する場合は、少なくとも１本の回転ブラシロールが、同一方向に回転し、少なくとも１本の回転ブラシロールが、逆方向に回転することが好ましい。これにより、非画像部の感熱層の除去が、さらに確実となる。さらに、回転ブラシロールを、ブラシロールの回転軸方向に揺動させることも効果的である。
【０２７６】
上記現像液の温度は、任意の温度で使用できるが、好ましくは１０℃〜５０℃である。
【０２７７】
なお、本発明において、擦り処理後の平版印刷版を、引き続いて、水洗、乾燥処理、不感脂化処理することも任意に可能である。不感脂化処理では、公知の不感脂化液を用いることができる。
【０２７８】
その他、本発明の平版印刷版原版からの平版印刷版の製版プロセスとしては、必要に応じ、露光前、露光中、露光から現像までの間に、全面を加熱してもよい。この様な加熱により、該感光層中の画像形成反応が促進され、感度や耐刷性の向上や感度の安定化といった利点が生じ得る。さらに、画像強度・耐刷性の向上を目的として、現像後の画像に対し、全面後加熱もしくは全面露光を行うことも有効である。通常現像前の加熱は１５０℃以下の穏和な条件で行うことが好ましい。温度が高すぎると、非画像部迄がかぶってしまう等の問題を生じる。現像後の加熱には非常に強い条件を利用する。通常は２００〜５００℃の範囲である。温度が低いと十分な画像強化作用が得られず、高すぎる場合には支持体の劣化、画像部の熱分解といった問題を生じる。
【０２７９】
以上の処理によって得られた平版印刷版はオフセット印刷機に掛けられ、多数枚の印刷
に用いられる。
印刷時、版上の汚れ除去のため使用するプレートクリーナーとしては、従来知られているＰＳ版用プレートクリーナーが使用され、例えば、ＣＬ-１、ＣＬ-２、ＣＰ、ＣＮ-４、ＣＮ、ＣＧ-１、ＰＣ-１、ＳＲ、ＩＣ（富士フイルム株式会社製）等が挙げられる。
【実施例】
【０２８０】
以下、実施例により本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０２８１】
〔平版印刷版原版の作製〕
（１）支持体の作製
厚み０．３ｍｍのアルミニウム板（材質１０５０）の表面の圧延油を除去するため、１０質量％アルミン酸ソーダ水溶液を用いて５０℃で３０秒間、脱脂処理を施した後、毛径０．３ｍｍの束植ナイロンブラシ３本とメジアン径２５μｍのパミス−水懸濁液（比重１．１ｇ／ｃｍ³）を用いアルミニウム表面を砂目立てして、水でよく洗浄した。この板を４５℃の２５質量％水酸化ナトリウム水溶液に９秒間浸漬してエッチングを行い、水洗後、さらに６０℃で２０質量％硝酸に２０秒間浸漬し、水洗した。この時の砂目立て表面のエッチング量は約３ｇ／ｍ²であった。
【０２８２】
次に、６０Ｈｚの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、硝酸１質量％水溶液（アルミニウムイオンを０．５質量％含む）、液温５０℃であった。交流電源波形は、電流値がゼロからピークに達するまでの時間ＴＰが０．８ｍｓｅｃ、ｄｕｔｙ比１：１、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電流密度は電流のピーク値で３０Ａ／ｄｍ²、補助陽極には電源から流れる電流の５％を分流させた。
硝酸電解における電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量１７５Ｃ／ｄｍ²であった。
その後、スプレーによる水洗を行った。
【０２８３】
次に、塩酸０．５質量％水溶液（アルミニウムイオンを０．５質量％含む）、液温５０℃の電解液にて、アルミニウム板が陽極時の電気量５０Ｃ／ｄｍ²の条件で、硝酸電解と同様の方法で、電気化学的な粗面化処理を行い、その後、スプレーによる水洗を行った。この板を１５質量％硫酸（アルミニウムイオンを０．５質量％含む）を電解液として電流密度１５Ａ／ｄｍ²で２．５ｇ／ｍ²の直流陽極酸化皮膜を設けた後、水洗、乾燥し、以下の実験に用いる支持体を作製した。
このようにして得た支持体表面の中心線平均粗さＲａ（ＪＩＳ Ｂ０６０１）を直径２μｍの針を用いて測定したところ、０．５１μｍであった。
【０２８４】
（２）下塗り層の形成
上記で作製した支持体上に、下記下塗り層塗布液をバー塗布した後、８０℃、１０秒でオーブン乾燥し、式（Ｉ）または（ＩＩ）で表される下塗り化合物（Ａ１）〜（Ａ３１）、下塗り化合物（Ｂ１）〜（Ｂ１０）および下塗り化合物（Ｘ１）〜（Ｘ５）の乾燥塗布量が下記表１のような値となるよう塗布した。
【０２８５】
（３）感光層・保護層の形成
上記の下塗り層を付与した支持体上に、下記感光層塗布液（１）をバー塗布した後、１００℃、４４秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量１.３ｇ／ｍ²の感光層を形成し、この上に下記組成よりなる保護層塗布液（１）を、乾燥塗布量が０．８ｇ／ｍ²となるようにバーを用いて塗布した後、１２５℃、７０秒で間乾燥して平版印刷版原版を得た。
【０２８６】
＜保護層塗布液（１）＞
・下記雲母分散液（１） １３．０ｇ
・ポリビニルアルコール（ケン化度９８モル％、重合度５００） １．３ｇ
・２−エチルヘキシルスルホコハク酸ソーダ ０．２ｇ
・ポリ（ビニルピロリドン／酢酸ビニル（１／１））分子量７万 ０．０５ｇ
・界面活性剤（エマレックス７１０、日本エマルジョン（株）製） ０．０５ｇ
・水 １３３ｇ
【０２８７】
（雲母分散液（１）の調製）
水３６８ｇに合成雲母（「ソマシフＭＥ−１００」：コープケミカル社製、アスペクト比：１０００以上）の３２ｇを添加し、ホモジナイザーを用いて平均粒径（レーザー散乱法）０．５μｍになる迄分散し、雲母分散液（１）を得た。
【０２８８】
さらに、保護層の酸素透過率を以下の条件で測定したところ、上記保護層の酸素透過率は、３．８ｍｌ／（ｍ²・ｄａｙ・ａｔｏｍ）であった。
【０２８９】
（酸素透過率の測定）
両面を厚さ約２０μｍのポリエチレンでコートした厚さ約２００μｍの印画紙用原紙の表面に、前記光重合性層上に塗布するのと同様に保護層を塗布、乾燥し、測定用の試料を作製した。予め測定した印画紙用原紙の酸素透過率は、下記測定条件において約７００ｍｌ／（ｍ²・ｄａｙ・ａｔｏｍ）であり、保護層における酸素透過率を測定する際には十
分無視できる値であった。
このようにして得られた試料を用い、ＪＩＳ Ｋ７１２６ＢおよびＡＳＴＭ Ｄ３９８５に記載の気体透過度試験方法に準じて、モコン社製ＯＸ−ＴＲＡＮ２／２０を用いて、２５℃６０％ＲＨの条件で酸素透過率〔ｍｌ／（ｍ²・ｄａｙ・ａｔｏｍ）〕を測定した。
【０２９０】
〔平版印刷版の作製〕
＜露光、現像＞
得られた平版印刷版原版各々を、出力１００ｍＷの４０５ｎｍ半導体レーザーを用いて、感材上の露光量が０．０５ｍＪ／ｃｍ^２になるように画像様露光を行った。その後、１１５℃／１２秒でプレヒートを行い、次に下記非アルカリ現像液１、非アルカリ現像液２またはアルカリ現像液１を用い、図１に示す構造の自動現像処理機にて、現像処理を実施した。自動現像処理機は、回転ブラシロールを２本有する自動処理機であり、回転ブラシロールとしては、１本目のブラシロールに、ポリブチレンテレフタレート製の繊維（毛の直径２００μｍ、毛の長さ１７ｍｍ）を植え込んだ外径９０ｍｍのブラシロールを用い、搬送方向と同一方向に毎分２００回転（ブラシの先端の周速０．９４ｍ／ｓｅｃ）させ、２本目のブラシロールには、ポリブチレンテレフタレート製の繊維（毛の直径２００μｍ、毛の長さ１７ｍｍ）を植え込んだ外径６０ｍｍのブラシロールを用い、搬送方向と反対方向に毎分２００回転（ブラシの先端の周速０．６３ｍ／ｓｅｃ）させた。平版印刷版原版の搬送は、搬送速度１００ｃｍ／ｍｉｎで行った。
現像液は、循環ポンプによりスプレーパイプからシャワーリングして、版面に供給した。現像液のタンク容量は、１０リットルであった。
【０２９１】
［実施例１］
下記下塗り層塗布液（１）、下記感光層塗布液（１）を用いて、上記の平版印刷版原版の作製方法に従って平版印刷版原版を得た。続いて、上記の方法に従って露光し、組成の１０重量％で下記界面活性剤（１）を含むｐＨ７の非アルカリ現像液１を用いて現像を行い、平版印刷版を得た。
【０２９２】
＜下塗り層塗布液（１）＞
・下塗り化合物（Ａ１） ０．００１０ｇ
・下塗り化合物（Ｂ１） ０．０１０ｇ
・メタノール ９．００ｇ
・水 １．００ｇ
【０２９３】
【化５７】

【０２９４】
下塗り化合物（Ａ１）（質量平均分子量３６４、エチレンオキシド鎖数ｎ≒４．５）
【０２９５】
【化５８】

【０２９６】
下塗り化合物（Ｂ１）（質量平均分子量１１万、組成比１０／２０／７０）
【０２９７】
＜感光層塗布液（１）＞
・下記バインダーポリマー（１）（質量平均分子量１２万） ０．５４ｇ
・重合性化合物１ ０．４０ｇ
・下記増感色素（１） ０．０６ｇ
・下記重合開始剤（１） ０．１８ｇ
・下記連鎖移動剤（１） ０．０７ｇ
・ε―フタロシアニン顔料の分散物 ０．４０ｇ
（顔料：１５質量部、分散剤 バインダーポリマー（１）：１０質量部、溶剤 シクロヘキサノン／メトキシプロピルアセテート／１−メトキシ−２−プロパノール＝１５質量部／２０質量部／４０質量部）
・熱重合禁止剤 ０．０１ｇ
Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩
・下記水溶性フッ素系界面活性剤（１） ０．００１ｇ
・ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレン縮合物 ０．０４ｇ
（旭電化工業（株）製、プルロニックＬ４４）
・テトラエチルアミン塩酸塩 ０．０１ｇ
・１−メトキシ−２−プロパノール ３．５ｇ
・メチルエチルケトン ８．０ｇ
【０２９８】
【化５９】

【０２９９】
【化６０】

【０３００】
【化６１】

【０３０１】
【化６２】

【０３０２】
【化６３】

【０３０３】
【化６４】

【０３０４】
＜非アルカリ現像液１＞
・下記界面活性剤（１） ７ｇ
・第一リン酸アンモニウム ０．１０ｇ
・クエン酸 ０．１０ｇ
・ＥＤＴＡ−４−ナトリウム塩 ０．１０ｇ
・２−ブロモ−２−ニトロプロパン−１，３ジオール ０．００１ｇ
・２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オン ０．００１ｇ
・水 ９２．７０ｇ
ｐＨを７に調整
【０３０５】
【化６５】

【０３０６】
［実施例２］
上記下塗り層塗布液（１）を下記組成の下塗り層塗布液（２）に変更した以外は、実施例１と同様にして、平版印刷版を得た。
【０３０７】
＜下塗り層塗布液（２）＞
・下塗り化合物（Ａ１） ０．００５０ｇ
・下塗り化合物（Ｂ１） ０．０１０ｇ
・メタノール ９．００ｇ
・水 １．００ｇ
【０３０８】
［実施例３］
上記下塗り層塗布液（１）を下記組成の下塗り層塗布液（３）に変更した以外は、実施例１と同様にして、平版印刷版を得た。
【０３０９】
＜下塗り層塗布液（３）＞
・下塗り化合物（Ａ１） ０．０１０ｇ
・下塗り化合物（Ｂ１） ０．０１０ｇ
・メタノール ９．００ｇ
・水 １．００ｇ
【０３１０】
［実施例４］
上記下塗り層塗布液（１）を下記組成の下塗り層塗布液（４）に変更した以外は、実施
例１と同様にして、平版印刷版を得た。
【０３１１】
＜下塗り層塗布液（４）＞
・下塗り化合物（Ａ１） ０．０５０ｇ
・下塗り化合物（Ｂ１） ０．０１０ｇ
・メタノール ９．００ｇ
・水 １．００ｇ
【０３１２】
［実施例５］
上記下塗り層塗布液（１）を下記組成の下塗り層塗布液（５）に変更した以外は、実施例１と同様にして、平版印刷版を得た。
【０３１３】
＜下塗り層塗布液（５）＞
・下塗り化合物（Ａ１） ０．１０ｇ
・下塗り化合物（Ｂ１） ０．０１０ｇ
・メタノール ９．００ｇ
・水 １．００ｇ
【０３１４】
［実施例６］
上記下塗り層塗布液（１）を下記組成の下塗り層塗布液（６）に変更した以外は、実施例１と同様にして、平版印刷版原を得た。
【０３１５】
＜下塗り層塗布液（６）＞
・下塗り化合物（Ａ１） ０．０１０ｇ
・下塗り化合物（Ｂ１） ０．０１０ｇ
・上記重合開始剤１ ０．０１５ｇ
・メタノール ８．００ｇ
【０３１６】
［比較例１］
上記下塗り層塗布液（１）を下記組成の下塗り層塗布液（７）に変更した以外は、実施例１と同様にして、平版印刷版を得た。
【０３１７】
＜下塗り層塗布液（７）＞
・下塗り化合物（Ｂ１） ０．０１０ｇ
・メタノール ９．００ｇ
・水 １．００ｇ
【０３１８】
［比較例２］
上記下塗り層塗布液（１）を下記組成の下塗り層塗布液（８）に変更した以外は、実施例１と同様にして、平版印刷版を得た。
【０３１９】
＜下塗り層塗布液（８）＞
・下塗り化合物（Ａ１） ０．０１０ｇ
・メタノール ９．００ｇ
・水 １．００ｇ
【０３２０】
［実施例７］
上記下塗り層塗布液（１）を下記組成の下塗り層塗布液（９）に変更した以外は、実施例１と同様にして、平版印刷版を得た。
【０３２１】
＜下塗り層塗布液（９）＞
・下塗り化合物（Ａ１） ０．００３３ｇ
・下塗り化合物（Ｂ１） ０．００６７ｇ
・メタノール ９．００ｇ
・水 １．００ｇ
【０３２２】
［実施例８］
上記下塗り層塗布液（１）を下記組成の下塗り層塗布液（１０）に変更した以外は、実施例１と同様にして、平版印刷版を得た。
【０３２３】
＜下塗り層塗布液（１０）＞
・下塗り化合物（Ａ１） ０．０５０ｇ
・下塗り化合物（Ｂ１） ０．１００ｇ
・メタノール ９．００ｇ
・水 １．００ｇ
【０３２４】
［比較例３］
上記実施例２の下塗り化合物Ｂ１を、親水性基を有しない質量平均分子量１１万の下塗り化合物Ｘ１に変更した以外は、実施例２と同様にして、平版印刷版を得た。
【０３２５】
【化６６】

【０３２６】
［比較例４］
上記比較例１の、感光層塗布液（１）のバインダーポリマー（１）を下記バインダーポリマー（２）（分子量１２万）に変更し、現像に用いる現像液を非アルカリ現像液１の界面活性剤（１）の代わりにブチルナフタレンスルホネート（花王（株）製ペレックスＮＢＬ）を含有する非アルカリ現像液２に変更した以外は、比較例１と同様にして、平版印刷版を得た。
【０３２７】
【化６７】

【０３２８】
［実施例９］
上記比較例４の下塗り層塗布液（７）を上記下塗り層塗布液（２）に変更した以外は、上記比較例４と同様にして、平版印刷版を得た。
【０３２９】
［実施例１０］
上記実施例２の質量平均分子量３６４でエチレンオキシド鎖数ｎ＝４．５の化合物Ａ１
を、式（Ｉ）で表される下記Ａ２（分子量４０９）に変更した以外は、実施例２と同様にして、平版印刷版を得た。
【０３３０】
［実施例１１］
上記実施例２の質量平均分子量３６４でエチレンオキシド鎖数ｎ＝４．５の下塗り化合物Ａ１を、式（Ｉ）で表される下記Ａ３（分子量４９７）に変更した以外は、実施例２と同様にして、平版印刷版を得た。
【０３３１】
［実施例１２］
上記実施例２の質量平均分子量３６４でエチレンオキシド鎖数ｎ＝４．５の下塗り化合物Ａ１を、式（Ｉ）で表される下記Ａ４（分子量６７３）に変更した以外は、実施例２と同様にして、平版印刷版を得た。
【０３３２】
［実施例１３］
上記実施例２の質量平均分子量３６４でエチレンオキシド鎖数ｎ＝４．５の下塗り化合物Ａ１を、式（Ｉ）で表される下記Ａ５（分子量４５４）に変更した以外は、実施例２と同様にして、平版印刷版を得た。
【０３３３】
［実施例１４］
上記実施例２の質量平均分子量３６４でエチレンオキシド鎖数ｎ＝４．５の下塗り化合物Ａ１を、式（Ｉ）で表される下記Ａ６（分子量４４９）に変更した以外は、実施例２と同様にして、平版印刷版を得た。
【０３３４】
［実施例１５］
上記実施例２の質量平均分子量３６４でエチレンオキシド鎖数ｎ＝４．５の下塗り化合物Ａ１を、式（Ｉ）で表される下記Ａ７（分子量２９５）に変更した以外は、実施例２と同様にして、平版印刷版を得た。
【０３３５】
［実施例１６］
上記実施例２の質量平均分子量３６４でエチレンオキシド鎖数ｎ＝４．５の下塗り化合物Ａ１を、式（Ｉ）で表される下記Ａ８（分子量３４６）に変更した以外は、実施例２と同様にして、平版印刷版を得た。
【０３３６】
［実施例１７］
上記実施例２の質量平均分子量３６４でエチレンオキシド鎖数ｎ＝４．５の下塗り化合物Ａ１を、式（Ｉ）で表される下記Ａ９（分子量３９８）に変更した以外は、実施例２と同様にして、平版印刷版を得た。
【０３３７】
［実施例１８］
上記実施例２の質量平均分子量３６４でエチレンオキシド鎖数ｎ＝４．５の下塗り化合物Ａ１を、式（Ｉ）で表される下記Ａ１０（分子量４１５）に変更した以外は、実施例２と同様にして、平版印刷版を得た。
【０３３８】
［実施例１９］
上記実施例２の質量平均分子量３６４でエチレンオキシド鎖数ｎ＝４．５の下塗り化合物Ａ１を、式（Ｉ）で表される下記Ａ１１（分子量５１０）に変更した以外は、実施例２と同様にして、平版印刷版を得た。
［実施例２０］
上記実施例２の質量平均分子量３６４でエチレンオキシド鎖数ｎ＝４．５の下塗り化合物Ａ１を、式（Ｉ）で表される下記Ａ１２（分子量４８３）に変更した以外は、実施例２
と同様にして、平版印刷版を得た。
【０３３９】
［実施例２１］
上記実施例２の質量平均分子量３６４でエチレンオキシド鎖数ｎ＝４．５の下塗り化合物Ａ１を、式（Ｉ）で表される下記Ａ１３（分子量４４０）に変更した以外は、実施例２と同様にして、平版印刷版を得た。
【０３４０】
【化６８】

【０３４１】
【化６９】

【０３４２】
［実施例２２］
上記実施例２の質量平均分子量３６４でエチレンオキシド鎖数ｎ＝４．５の下塗り化合物Ａ１を、式（Ｉ）で表される下記Ａ１４（分子量３８４）に変更した以外は、実施例２と同様にして、平版印刷版を得た。
【０３４３】
［実施例２３］
上記実施例２の質量平均分子量３６４でエチレンオキシド鎖数ｎ＝４．５の下塗り化合物Ａ１を、式（Ｉ）で表される下記Ａ１５（分子量３８５）に変更した以外は、実施例２と同様にして、平版印刷版を得た。
【０３４４】
［実施例２４］
上記実施例２の質量平均分子量３６４でエチレンオキシド鎖数ｎ＝４．５の下塗り化合物Ａ１を、式（Ｉ）で表される下記Ａ１６（分子量３６６）に変更した以外は、実施例２と同様にして、平版印刷版を得た。
【０３４５】
［実施例２５］
上記実施例２の質量平均分子量３６４でエチレンオキシド鎖数ｎ＝４．５の下塗り化合物Ａ１を、式（Ｉ）で表される下記Ａ１７（分子量５４２）に変更した以外は、実施例２と同様にして、平版印刷版を得た。
【０３４６】
［実施例２６］
上記実施例２の質量平均分子量３６４でエチレンオキシド鎖数ｎ＝４．５の下塗り化合物Ａ１を、式（Ｉ）で表される下記Ａ１８（分子量８０６）に変更した以外は、実施例２と同様にして、平版印刷版を得た。
【０３４７】
［実施例２７］
上記実施例２の質量平均分子量３６４でエチレンオキシド鎖数ｎ＝４．５の下塗り化合物Ａ１を、式（Ｉ）で表される下記Ａ１９（分子量７７８）に変更した以外は、実施例２と同様にして、平版印刷版を得た。
【０３４８】
［実施例２８］
上記実施例２の質量平均分子量３６４でエチレンオキシド鎖数ｎ＝４．５の下塗り化合物Ａ１を、式（ＩＩ）で表される下記Ａ２０（分子量３７２）に変更した以外は、実施例２と同様にして、平版印刷版を得た。
【０３４９】
［実施例２９］
上記実施例２の質量平均分子量３６４でエチレンオキシド鎖数ｎ＝４．５の下塗り化合物Ａ１を、式（ＩＩ）で表される下記Ａ２１（分子量３８６）に変更した以外は、実施例２と同様にして、平版印刷版を得た。
【０３５０】
［実施例３０］
上記実施例２の質量平均分子量３６４でエチレンオキシド鎖数ｎ＝４．５の下塗り化合物Ａ１を、式（ＩＩ）で表される下記Ａ２２（分子量４２９）に変更した以外は、実施例２と同様にして、平版印刷版を得た。
【０３５１】
［実施例３１］
上記実施例２の質量平均分子量３６４でエチレンオキシド鎖数ｎ＝４．５の下塗り化合物Ａ１を、式（ＩＩ）で表される下記Ａ２３（分子量４２３）に変更した以外は、実施例２と同様にして、平版印刷版を得た。
【０３５２】
［実施例３２］
上記実施例２の質量平均分子量３６４でエチレンオキシド鎖数ｎ＝４．５の下塗り化合物Ａ１を、式（ＩＩ）で表される下記Ａ２４（分子量５１３）に変更した以外は、実施例２と同様にして、平版印刷版を得た。
【０３５３】
［実施例３３］
上記実施例２の質量平均分子量３６４でエチレンオキシド鎖数ｎ＝４．５の下塗り化合物Ａ１を、式（ＩＩ）で表される下記Ａ２５（分子量４０４）に変更した以外は、実施例２と同様にして、平版印刷版を得た。
【０３５４】
【化７０】

【０３５５】
【化７１】

【０３５６】
【化７２】

【０３５７】
【化７３】

【０３５８】
【化７４】

【０３５９】
【化７５】

【０３６０】
【化７６】

【０３６１】
【化７７】

【０３６２】
【化７８】

【０３６３】
【化７９】

【０３６４】
【化８０】

【０３６５】
【化８１】

【０３６６】
［実施例３４］
上記実施例２の下塗り化合物Ｂ１を、下記Ｂ２（質量平均分子量１１万、組成比１０／２０／７０）に変更した以外は、実施例２と同様にして、平版印刷版を得た。
【０３６７】
［実施例３５］
上記実施例２の下塗り化合物Ｂ１を、下記Ｂ３（質量平均分子量１１万、組成比１０／２０／７０）に変更した以外は、実施例２と同様にして、平版印刷版を得た。
【０３６８】
［実施例３６］
上記実施例２の下塗り化合物Ｂ１を、下記Ｂ４（質量平均分子量１１万、組成比１０／２０／７０）に変更した以外は、実施例２と同様にして、平版印刷版を得た。
【０３６９】
［実施例３７］
上記実施例２の下塗り化合物Ｂ１を、下記Ｂ５（質量平均分子量１１万、組成比１０／２０／７０）に変更した以外は、実施例２と同様にして、平版印刷版を得た。
【０３７０】
［実施例３８］
上記実施例２の下塗り化合物Ｂ１を、下記Ｂ６（質量平均分子量１１万、組成比１０／２０／７０）に変更した以外は、実施例２と同様にして、平版印刷版を得た。
【０３７１】
［実施例３９］
上記実施例２の下塗り化合物Ｂ１を、下記Ｂ７（質量平均分子量１１万、組成比１０／２０／７０）に変更した以外は、実施例２と同様にして、平版印刷版を得た。
【０３７２】
【化８２】

【０３７３】
【化８３】

【０３７４】
［比較例５］
上記実施例２の質量平均分子量１１万の下塗り化合物Ｂ１を、上記下塗り化合物Ｂ１と同じ構造式で表され、質量平均分子量１０００の下塗り化合物Ｘ２に変更した以外は、実施例２と同様にして、平版印刷版を得た。
【０３７５】
［比較例６］
上記実施例２の質量平均分子量１１万の下塗り化合物Ｂ１を、上記下塗り化合物Ｂ１と同じ構造式で表され、質量平均分子量５０００の下塗り化合物Ｘ３に変更した以外は、実施例２と同様にして、平版印刷版を得た。
【０３７６】
［実施例４０］
上記実施例２の質量平均分子量１１万の下塗り化合物Ｂ１を、上記下塗り化合物Ｂ１と同じ構造式で表され、同じ組成比である質量平均分子量１００００の下塗り化合物Ｂ８に変更した以外は、実施例２と同様にして、平版印刷版を得た。
【０３７７】
［実施例４１］
上記実施例２の質量平均分子量１１万の下塗り化合物Ｂ１を、上記下塗り化合物Ｂ１と同じ構造式で表され、同じ組成比である質量平均分子量５００００の下塗り化合物Ｂ９に変更した以外は、実施例２と同様にして、平版印刷版を得た。
【０３７８】
［実施例４２］
上記実施例２の質量平均分子量１１万の下塗り化合物Ｂ１を、上記下塗り化合物Ｂ１と同じ構造式で表され、同じ組成比である質量平均分子量５０００００の下塗り化合物Ｂ１０に変更した以外は、実施例２と同様にして、平版印刷版を得た。
【０３７９】
［比較例７］
上記実施例２の質量平均分子量１１万の下塗り化合物Ｂ１を、上記下塗り化合物Ｂ１と同じ構造式で表され、同じ組成比である質量平均分子量１００００００の下塗り化合物Ｘ４に変更した以外は、実施例２と同様にして、平版印刷版を得た。
【０３８０】
［実施例４３］
上記実施例２の質量平均分子量３６４でエチレンオキシド鎖数ｎ＝４．５の下塗り化合物Ａ１を、エチレンオキシド鎖数ｎ＝１で分子量２１０の下記下塗り化合物Ａ２６に変更した以外は、実施例２と同様にして、平版印刷版を得た。
【０３８１】
【化８４】

【０３８２】
［実施例４４］
上記実施例２の質量平均分子量３６４でエチレンオキシド鎖数ｎ＝４．５の下塗り化合物Ａ１を、エチレンオキシド鎖数ｎ＝１０で分子量６０６の下塗り化合物Ａ２７に変更した以外は、実施例２と同様にして、平版印刷版を得た。
【０３８３】
【化８５】

【０３８４】
［実施例４５］
上記実施例２の質量平均分子量３６４でエチレンオキシド鎖数ｎ＝４．５の下塗り化合物Ａ１を、エチレンオキシド鎖数ｎ＝１９で分子量１００２の下塗り化合物Ａ２８に変更した以外は、実施例２と同様にして、平版印刷版を得た。
【０３８５】
【化８６】

【０３８６】
［実施例４６］
上記実施例２の質量平均分子量３６４でエチレンオキシド鎖数ｎ＝４．５の下塗り化合物Ａ１を、エチレンオキシド鎖数ｎ＝４２で分子量２０１４の下塗り化合物Ａ２９に変更した以外は、実施例２と同様にして、平版印刷版を得た。
【０３８７】
【化８７】

【０３８８】
［実施例４７］
上記実施例２の質量平均分子量３６４でエチレンオキシド鎖数ｎ＝４．５の下塗り化合物Ａ１を、エチレンオキシド鎖数ｎ＝１０９で分子量５００６の下塗り化合物Ａ３０に変更した以外は、実施例２と同様にして、平版印刷版を得た。
【０３８９】
【化８８】

【０３９０】
［実施例４８］
上記実施例２の質量平均分子量３６４でエチレンオキシド鎖数ｎ＝４．５の下塗り化合物Ａ１を、エチレンオキシド鎖数ｎ＝１９９で分子量９０１０の下塗り化合物Ａ３１に変更した以外は、実施例２と同様にして、平版印刷版を得た。
【０３９１】
【化８９】

【０３９２】
［比較例８］
上記実施例２の質量平均分子量３６４でエチレンオキシド鎖数ｎ＝４．５の下塗り化合物Ａ１を、エチレンオキシド鎖数ｎ＝３００で分子量１３３６６の下塗り化合物Ｘ５に変更した場合は、溶媒に対する下塗り化合物の溶解性が悪く平版印刷版は得られなかった。
【０３９３】
【化９０】

【０３９４】
［実施例４９］
上記実施例２の、感光層塗布液（１）のバインダーポリマー１を下記バインダーポリマー３（分子量１２万）に変更し、非アルカリ現像液（１）を下記アルカリ現像液（１）に変更した以外は、実施例２と同様にして、平版印刷版を得た。
【０３９５】
【化９１】

【０３９６】
＜アルカリ現像液（１）＞
・水酸化カリウム ０．１５ｇ
・ポリオキシエチレンナフチルエーテル（ｎ＝１３） ５．０ｇ
（日本乳化剤（株）製ニューコールＢ１３）
・キレスト４００（キレート剤） ０．１ｇ
・水 ９４．２５ｇ
ｐＨは１２に調整
【０３９７】
［比較例９］
【０３９８】
上記比較例７の、感光層塗布液（１）のバインダーポリマー１を下記バインダーポリマー３に変更し、非アルカリ現像液（１）を上記アルカリ現像液（１）を変更した以外は、比較例７と同様にして、平版印刷版を得た。
【０３９９】
〔平版印刷版の評価〕
＜印刷＞
現像後の平版印刷版を、ガム引きを行った後、ハイデルベルグ社製印刷機ＳＯＲ−Ｍに取り付け、湿し水（ＥＵ−３（富士写真フイルム（株）製エッチ液）／水／イソプロピルアルコール＝１／８９／１０（容量比））とＴＲＡＮＳ−Ｇ（Ｎ）墨インキ（大日本インキ化学工業（株）製）とを用い、毎時６０００枚の印刷速度で印刷を行った。各平版印刷版について、画像部耐刷性および非画像部汚れ性を下記のように評価した。結果を表１〜６に示す。
【０４００】
＜画像部耐刷性＞
上記のようにして印刷枚数を増やしていくと、徐々に感光層が磨耗しインキ受容性が低下するため、印刷用紙におけるインキ濃度が低下した。インキ濃度（反射濃度）が印刷開始時よりも０．１低下したときの印刷枚数により、耐刷性を評価した。
【０４０１】
＜印刷性評価（非画像部汚れ性）＞
非画像部耐汚れ性を評価するために、上記の印刷条件で５００枚まで印刷を行い、汚れを６段階評価した。３以上が許容レベルとし、点数が大きくなる程、程度が良化している様子を示している。
【０４０２】
【表１】

【０４０３】
表１の結果から明らかなように、非アルカリ現像液を用いて、本発明の特定下塗り化合物を混合した下塗り層および重合開始剤とを有する平版印刷版原版を用いた場合は、それぞれを混合しない場合と比べて、許容範囲内の汚れ性（３以上）の中でより優れた耐刷性を示すことがわかる。
【０４０４】
より詳細には、親水性基を有する化合物（Ｂ）のみを６ｍｇ／ｍ^２で塗布した比較例１と比べて、より低分子量の化合物（Ａ）の塗布量を変えて添加した場合（実施例１〜５）
、添加する化合物（Ａ）の塗布量の増加とともに耐刷性が向上する傾向にあり、かつ低分子量化合物（Ａ）（塗布量６ｍｇ／ｍ２）のみの比較例２と比べて、汚れ性が向上することが分かる。
【０４０５】
そこで、実施例２の下塗層に対して、１０ｍｇ／ｍ^２の開始剤を添加した実施例６では、添加された下塗り化合物（Ａ１）の架橋性基の作用が強まり、汚れ性を維持したまま耐刷性がさらに向上することができた。
また、下塗層の全塗布量６ｍｇ／ｍ^２にして、（Ａ）／（Ｂ）比＝０．５とした実施例７では、実施例２と比べて耐刷性は大きく変わらないものの、汚れ性は悪化した。さらに、全下塗層塗布量を大幅に大きくした実施例８では、汚れ性は維持できた一方で耐刷性の良化は見られなかった。これらのことは、耐刷性をより向上させる一方で、汚れ性を維持するのに好適な下塗り化合物（Ｂ）の塗布量と好適な（Ａ）／（Ｂ）比があることを示している。
【０４０６】
また、親水性基のない高分子の化合物を用いた比較例３では、実施例２および実施例３と比べて耐刷性はほぼ同等だが、汚れ性は悪化したことから、下塗り化合物（Ｂ）の親水性基が汚れ性維持のために必要であることが示された。
【０４０７】
さらに、異なるバインダーポリマー（２）を用いた場合にも、下塗り化合物Ａ１と下塗り化合物Ｂ１を混合することで得られる効果と同様の効果が得られることが明らかである。
【０４０８】
【表２】

【０４０９】
式（Ｉ）で表され、異なる官能基を有する下塗り化合物（Ａ２）〜（Ａ１９）を用いた場合の耐刷性と汚れ性の結果を表２に示す。表２の結果から、支持体密着性基や架橋性基の異なる本発明の下塗り化合物（Ａ２）〜（Ａ１３）及び、架橋性基の数の異なる本発明の下塗り化合物（Ａ１４）〜（Ａ１９）を用いても、これらを本発明の特定下塗り化合物（Ｂ１）と混合することで、許容の範囲内の汚れ性で実施例２と同様の効果が得られることが明らかである。
【０４１０】
【表３】

【０４１１】
式（ＩＩ）で表され、異なる支持体密着性基を有する下塗り化合物（Ａ２０）〜（Ａ２５）を用いた場合の耐刷性と汚れ性の結果を表３に示す。表３の結果から、本発明の式（ＩＩ）で表される下塗り化合物（Ａ２０）〜（Ａ２５）を用いても、本発明の特定下塗り化合物（Ｂ１）と混合することで、許容の範囲内の汚れ性で実施例２と同様の効果を得られることが明らかである。
【０４１２】
【表４】

【０４１３】
異なる支持体密着性基部および異なる架橋性基部を有する共重合体である、本発明の下塗り化合物（Ｂ２）〜（Ｂ７）を用いた場合の耐刷性と汚れ性の結果を表４に示す。表４の結果から、下塗り化合物（Ｂ２）〜（Ｂ７）を用いても、本発明の下塗り化合物（Ａ１）と混合することで、許容の範囲内の汚れ性で実施例２と同様の効果を得られることが明らかである。
【０４１４】
【表５】

【０４１５】
なお、比較例７では溶媒に対する下塗り化合物（Ｘ５）の溶解性が低く塗布液の調製不可であった。
【０４１６】
異なる分子量の下塗り化合物（Ａ）および異なる分子量の下塗り化合物（Ｂ）を用いた場合の耐刷性と汚れ性の結果を表５に示す。表５の結果から、下塗り化合物（Ａ１）と質量平均分子量１００００未満の下塗り化合物（Ｘ２）、（Ｘ３）を混合した場合には、汚れ性が大きく悪化してしまうのに対して、下塗り化合物（Ａ１）と質量平均分子量１００００以上５０００００以下の下塗り化合物（Ｂ８）〜（Ｂ１０）を混合した場合には、許容範囲内の汚れ性で実施例２と同様の効果が得られることが明らかである。また、分子量が５０００００を超える下塗り化合物（Ｘ４）を用いると、下塗り化合物の溶解性が低く下塗り塗布液の調製が困難となり好適な条件ではないことが分かる。
【０４１７】
また、下塗り剤化合物（Ａ１）のエチレンオキシド鎖の鎖長を変えることで分子量の異なる下塗り化合物を用いた場合には、分子量が１００〜１００００の範囲内の下塗り化合物（Ａ２６）〜（Ａ３１）を下塗り化合物（Ｂ１）と混合して用いることで、許容範囲内の汚れ性で実施例２と同様の効果を得ることが出来る。それに対して、分子量が１００００を超える下塗り化合物（Ｘ５）と下塗り化合物（Ｂ１）を混合すると、許容範囲内の汚れ性ではあるが耐刷性は実施例２のような効果が得られないことが明らかである。
【０４１８】
【表６】

【０４１９】
表６の結果から、アルカリ現像液１で現像可能である、異なるバインダーポリマー（３
）を用いた場合にも、下塗り化合物Ａ１と下塗り化合物Ｂ１を混合することで、実施例２および実施例９で得られる効果と同様の効果が得られることが明らかである。
【０４２０】
上記の結果から、本発明の、エチレン性不飽和結合と支持体表面に相互作用する官能基とを有する化合物で質量平均分子量１００〜１００００の範囲の化合物（Ａ）と、エチレン性不飽和結合、支持体表面と相互作用する官能基と親水性官能基とを有する、質量平均分子量１００００〜５０００００の範囲の高分子化合物（Ｂ）を、好適な塗布量と好適な比率で含有する下塗り層を用いることで、許容範囲内の汚れ性とより高い耐刷性を有する感光性印刷版を得ることができることが明らかである。また、下塗り層に開始剤を添加することで、上記の効果をより大きいものにすることができる。
【図面の簡単な説明】
【０４２１】
【図１】自動現像処理機の構造
【符号の説明】
【０４２２】
１：回転ブラシロール
２：受けロール
３：搬送ロール
４：搬送ガイド板
５：スプレーパイプ
６：管路
７：フィルター
８：給版台
９：排版台
１０：現像液タンク
１１：循環ポンプ
１２：版

【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体上に、下塗り層と、画像記録層とをこの順に有する平版印刷版原版であって、前記下塗り層が、（Ａ）エチレン性不飽和結合と支持体表面に相互作用する官能基とを有する、質量平均分子量１００〜１００００の範囲の化合物と、（Ｂ）エチレン性不飽和結合、支持体表面に相互作用する官能基および親水性官能基を有する、質量平均分子量１００００〜５０００００の範囲の高分子化合物を含有することを特徴とする平版印刷版原版。
【請求項２】
前記画像記録層が、重合開始剤と増感色素と重合性化合物とを含む重合性感光層であることを特徴とする請求項１に記載の平版印刷版原版。
【請求項３】
前記増感色素が波長３５０ｎｍ〜４５０ｎｍの範囲に吸収極大を持つことを特徴とする請求項２に記載の平版印刷版原版。
【請求項４】
前記化合物（Ａ）が下記式（Ｉ）または（ＩＩ）で表されることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の平版印刷版原版。
【化１】

［式中、Ｒ_１、Ｒ_２およびＲ_３は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子または炭素原子数が１から６のアルキル基であり；Ｘは酸素原子、硫黄原子、またはイミノであり；Ｌはｎ＋１価の連結基であり；ｎは１、２または３であり、Ｙ_１およびＹ_２は支持体に吸着する官能基である。］
【請求項５】
化合物（Ｂ）が（ａ１）エチレン性不飽和結合を少なくとも一つ含有する繰り返し単位と、（ａ２）支持体表面と相互作用する官能基を少なくとも一つ含有する繰り返し単位と、（ａ３）親水性基を少なくとも一つ含有する繰り返し単位とを有する、質量平均分子量１００００〜５０００００の範囲の化合物であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の平版印刷版原版。
【請求項６】
前記化合物（Ａ）と（Ｂ）の混合比が質量比として、（Ａ）／（Ｂ）＝０．１〜１０の範囲であることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の平版印刷版原版。
【請求項７】
前記化合物（Ａ）と化合物（Ｂ）の塗布量の和が１から１００ｍｇ／ｍ²の範囲であることを特徴とする請求項１〜６に記載の平版印刷版原版。
【請求項８】
前記下塗り層が重合開始剤を含有することを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載
の平版印刷版原版。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれかに記載の平版印刷版原版に対して、画像様にレーザー露光した後、ｐＨ２〜１０の現像液を用いて非露光部の画像記録層を除去して現像処理する工程を含む平版印刷版の作製方法。

【図１】

【公開番号】特開２００８−２５０２２６（Ｐ２００８−２５０２２６Ａ）
【公開日】平成２０年１０月１６日（２００８．１０．１６）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００７−９４７７９（Ｐ２００７−９４７７９）
【出願日】平成１９年３月３０日（２００７．３．３０）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【Ｆターム（参考）】