説明

弁カード、基質処理装置、並びに処理レンジ

【課題】基質へ処理流体を制御可能に吐出するようになっている基質処理装置のための新規な弁カードを提供する。
【解決手段】基質処理装置は開成位置と閉成位置との間で作動可能であり、少なくとも一部が、対応する専用の流体吐出ジェットと流体連通している複数の選択的に作動可能な弁１〜１７と、弁カード３６０へ電力を供給するための電力ケーブルを受入れるようになっている電力入力ポートと、制御ユニットからの弁作動命令を弁カード３６０へ送信するための弁制御ケーブルを受入れるようになっている命令データ入力ポートと、前記弁が選択的に開閉されるように、前記データ入力ポートからの命令を、電力供給された弁を作動するための命令に変換するようになっている集積回路盤と、を組合せで具備している。弁カード３６０は、前記基質処理装置内で独立的に作動するのに適しており、前記基質処理装置から一体構造体として取外し可能である。

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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基質へ処理流体を制御可能に吐出するようになっている基質処理装置に使用するための弁カードであって、
開成位置と閉成位置との間で作動可能であり、開成位置にあるときに、着色剤および化学組成物からなるグループから選択された前記処理流体を前記基質へ制御可能に吐出する対応する専用の流体吐出ジェットと、少なくとも一部が流体連通している複数の選択的に作動可能な弁と、
弁カードへ電力を供給するための電力ケーブルを受入れるようになっている電力入力ポートと、
制御ユニットからの弁作動命令を弁カードへ送信するための弁制御ケーブルを受入れるようになっている命令データ入力ポートと、
前記弁が選択的に開閉されるように、前記データ入力ポートからの命令を、電力供給された弁を作動するための命令に変換するようになっている集積回路盤と、を組合せで具備し、弁カードは、前記基質処理装置内で独立的に作動するのに適しており、前記基質処理装置から一体構造体として取外し可能であるモジュラーユニットである、弁カード。
【請求項２】
前記弁カードは、更に、電子確認コードを保持し、そして送信するようになっている確認盤を備えている、請求項１弁カードに記載の弁カード。
３２弁カード４
【請求項３】
前記確認盤は、前記電力入力ポートを通して前記確認コードを送信するようになっている、請求項２に記載の弁カード。
【請求項４】
着色剤および化学組成物のうちの少なくとも一方を基質へ制御可能に吐出するようになっている基質処理装置であって、
着色剤および化学組成物からなるグループから選択された処理流体を前記基質へ吐出するようになっている複数の独立的に作動可能なモジュラー弁カードを具備し、これらモジュラー弁カードの少なくとも一部は、
開成位置と閉成位置との間で作動可能であり、開成位置にあるときに、着色剤および化学組成物からなるグループから選択された前記処理流体を前記基質へ制御可能に吐出する対応する専用の流体吐出ジェットと、少なくとも一部が流体連通している複数の選択的に作動可能な弁と、
弁カードへの電力の供給用の電力ケーブルを受入れるようになっている電力入力ポートと、
制御ユニットからの弁作動命令を弁カードへ送信するための弁制御ケーブルを受入れるようになっている命令データ入力ポートと、
前記弁が選択的に開閉されるように、前記データ入力ポートからの命令を、電力供給された弁を作動するための命令に変換するようになっている集積回路盤と、を組合せで具備し、前記モジュラー弁カードの前記少なくとも一部は、前記基質処理装置内で独立的に作動するのに適していて、前記基質処理装置から一体構造体として独立的に取外し可能であるモジュラーユニットである、基質処理装置。
【請求項５】
４基質処理装置６５基質処理装置７４基質処理装置８ 前記モジュラー弁カードの前記少なくとも一部は、更に、電子確認コードを保持し、そして送信するようになっている確認盤を備えている、請求項４に記載の基質処理装置。
【請求項６】
前記確認盤は、前記電力入力ポートを通して前記確認コードを送信するようになっている、請求項５に記載の基質処理装置。
【請求項７】
基質処理装置は、更に、流体吐出ジェットと基質との間の距離を調整するための調整機構を備えている、請求項４に記載の基質処理装置。
【請求項８】
着色材および化学組成物のうちの少なくとも一方を布基質に塗布するための処理レンジであって、
前記少なくとも一方の着色剤または化学組成物を制御可能に吐出するようになっている基質処理装置と、
基質処理装置に入る前に基質を加熱するようになっている前処理ステーションと、
前記前処理ステーションの下流に配置されている少なくとも１つの処理ステーションと、を具備しており、前記処理装置は、
着色剤および化学組成物からなるグループから選択されたへ開成位置にあるときに、着色剤および化学組成物からなるグループから選択された前記処理流体を前記基質へ制御可能に吐出する、少なくとも一部が 着色剤および化学組成物からなるグループから選択された処理流体を前記基質へ吐出するようになっている複数の独立的に作動可能なモジュラー弁カードを備えており、前記モジュラー弁カードの少なくとも一部は、
開成位置と閉成位置との間で作動可能であり、開成位置にあるときに、着色剤および化学組成物からなるグループから選択された前記処理流体を前記基質へ制御可能に吐出する対応する専用の流体吐出ジェットと、少なくとも一部が流体連通している複数の選択的に作動可能な弁と、
弁カードへ電力を供給するための電力ケーブルを受入れるようになっている電力入力ポートと、
制御ユニットからの弁作動命令を弁カードへ送信するための弁制御ケーブルを受入れるようになっている命令データ入力ポートと、
前記弁が選択的に開閉されるように、前記データ入力ポートからの命令を、電力供給された弁を作動するための命令に変換するようになっている集積回路盤と、を備えており、前記モジュラー弁の前記少なくとも一部は、前記基質処理装置内で独立的に作動するのに適していて、前記基質処理装置から一体構造体として独立的に取外し可能である、処理レンジ。
【図１】
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【図１Ａ】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１１Ａ】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１３Ａ】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３Ａ】
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【図２３Ｂ】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図３１】
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【図３２】
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【図３３】
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【図３４】
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【図３５】
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【図３６】
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【図３７】
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【図３８】
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【図３９】
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【図４０】
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【図４１Ａ】
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【図４１Ｂ】
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【図４２Ａ】
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【図４２Ｂ】
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【図４３】
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【図４４】
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【図４５】
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【図４６】
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【図４６Ａ】
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【図４７Ａ】
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【図４７Ｂ】
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【図４７Ｃ】
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【図４８】
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【図４９】
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【図５０】
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【図５１】
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【図５２】
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【図５３】
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【図５４Ａ】
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【図５４Ｂ】
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【図５５】
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【図５６】
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【図５７】
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【図５８】
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【図５９】
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【図６０】
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【図６１】
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【図６２】
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【図６３】
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【図６４】
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【図６５】
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【図６６】
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【図６７】
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【図６８】
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【図６９】
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【図７０】
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【図７１】
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【図７２】
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【図７３】
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【図７４】
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【図７５】
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【図７６】
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【図７７】
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【図７８】
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【図７９】
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【図８０】
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【図８１】
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【図８２】
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【図８３】
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【図８４】
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【図８５】
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【図８６】
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【図８７】
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【図８８】
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【図８９】
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【図９０】
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【図９１】
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【図９２】
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【図９３】
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【図９４】
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【図９５】
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【図９６】
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【図９７】
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【図９８】
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【図９９】
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【図１００】
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【図１０１】
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【図１０２】
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【図１０３】
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【図１０４】
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【図１０５】
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【図１０６】
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【図１０７】
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【図１０８】
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【図１０９】
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【図１１０】
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【図１１１】
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【図１１２】
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【図１１３】
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【図１１４】
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【図１１５】
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【図１１６】
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【図１１７】
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【図１１８】
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【図１１９】
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【図１２０】
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【図１２１】
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【図１２２】
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【図１２３】
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【図１２４】
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【図１２５】
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【図１２６】
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【図１２７】
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【図１２８】
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【図１２９】
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【図１３０】
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【図１３１】
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【図１３２】
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【図１３３】
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【図１３４】
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【図１３５】
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【図１３６】
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【図１３７】
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【図１３８】
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【図１３９】
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【図１４０】
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【図１４１】
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【図１４２】
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【図１４３】
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【図１４４】
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【図１４５】
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【図１４６】
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【図１４７】
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【図１４８】
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【図１４９】
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【図１５０】
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【図１５１】
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【図１５２】
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【図１５３】
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【図１５４】
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【図１５５】
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【図１５６】
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【図１５８】
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【図１５９】
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【図１６０】
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【図１６１】
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【図１６２】
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【図１６３】
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【図１６４】
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【図１６５】
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【図１６６】
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【図１６７】
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【図１６８】
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【図１６９】
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【図１７０】
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【図１７１】
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【図１７２】
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【図１７３】
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【図１７４】
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【図１７５】
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【図１７６】
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【図１７７】
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【図１７８】
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【図１７９】
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【図１８０】
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【図１８１】
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【図１８２】
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【図１８３】
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【図１８４】
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【図１８５】
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【図１８６】
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【図１８７】
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【図１８９】
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【図１９０】
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【図１９１】
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【図１９２】
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【図１９４】
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【図１９５】
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【図１９８】
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【図１９９】
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【図２００】
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【図２０１】
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【図２０２】
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【図２０３】
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【図２０４】
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【図２０５】
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【図２０６】
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【図２０７】
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【図２０８】
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【図２０９】
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【図２１０】
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【図２１１】
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【図２１２】
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【図２１３】
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【図２１４】
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【図２１５】
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【図２１６】
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【図２１７】
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【図２１８】
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【図２１９】
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【図２２０】
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【図２２１】
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【図２２２】
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【図２２３】
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【図２２４】
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【図２２５】
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【図２２６】
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【図２２７】
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【図２２８】
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【図２２９】
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【図２３０】
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【図２３１】
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【図２３２】
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【図２３３】
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【図２３４】
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【図２３５】
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【図２３６】
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【図２３７】
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【図２４０】
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【図２５４】
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【図２５５】
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【公開番号】特開２００９−１５００４４（Ｐ２００９−１５００４４Ａ）
【公開日】平成２１年７月９日（２００９．７．９）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−３７２４２（Ｐ２００９−３７２４２）
【出願日】平成２１年２月１９日（２００９．２．１９）
【分割の表示】特願２００６−５００９３４（Ｐ２００６−５００９３４）の分割
【原出願日】平成１６年１月１３日（２００４．１．１３）
【出願人】（５９９０６０７８８）ミリケン・アンド・カンパニー (65)
【氏名又は名称原語表記】Ｍｉｌｌｉｋｅｎ　＆　Ｃｏｍｐａｎｙ
【Ｆターム（参考）】

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