強磁性ナノ粒子の製造方法、それによって製造された強磁性ナノ粒子、およびそれを含む磁気記録媒体
【課題】 本発明の課題は、強磁性ナノ粒子の製造方法、それによって製造された強磁性ナノ粒子、およびそれを含む磁気記録媒体を提供するもことである。特に、新規なレーザー加熱手段による強磁性ナノ粒子の製造方法、それによって製造された強磁性ナノ粒子、およびそれを含む磁気記録媒体を提供することである。
【解決手段】 本発明の課題は、ＣｕＡｕ型またはＣｕ3Ａｕ型強磁性規則合金相を形成しうる合金ナノ粒子を含む分散液をスリット間隙を通過させ、該スリットの長手方向に沿ってレーザー光を線状に照射することにより前記分散液に含まれる合金ナノ粒子に加熱処理を施して、該合金ナノ粒子を規則結晶化することを特徴とする強磁性規則合金ナノ粒子の製造方法によって解決された。さらに、それによって製造された合金ナノ粒子、並びにそれを用いた磁気記録媒体が開示される。
【解決手段】 本発明の課題は、ＣｕＡｕ型またはＣｕ3Ａｕ型強磁性規則合金相を形成しうる合金ナノ粒子を含む分散液をスリット間隙を通過させ、該スリットの長手方向に沿ってレーザー光を線状に照射することにより前記分散液に含まれる合金ナノ粒子に加熱処理を施して、該合金ナノ粒子を規則結晶化することを特徴とする強磁性規則合金ナノ粒子の製造方法によって解決された。さらに、それによって製造された合金ナノ粒子、並びにそれを用いた磁気記録媒体が開示される。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、強磁性ナノ粒子の製造方法、それによって製造された強磁性ナノ粒子、およびそれを含む磁気記録媒体に関する。特に、新規なレーザー加熱手段による強磁性ナノ粒子の製造方法、それによって製造された強磁性ナノ粒子、およびそれを含む磁気記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
磁気記録媒体に使用する磁性体の粒子サイズを小さくする事は磁気記録密度を高くする上で必要である。たとえば、ビデオテープ、コンピューターテープ、ディスク等として広く用いられている磁気記録媒体では，強磁性体の質量が同じ場合、粒子サイズを小さくしていった方がノイズは下がる。
【０００３】
ＣｕＡｕ型あるいはＣｕ3Ａｕ型強磁性規則合金は、規則化時に発生する歪みのために結晶磁気異方性が大きく、粒子サイズを小さくしても強磁性を示すことから、磁気記録密度向上に有望な素材である。
【０００４】
ＣｕＡｕ型あるいはＣｕ3Ａｕ型強磁性規則合金を形成しうる合金ナノ粒子は、作製直後は面心立方晶となる。面心立方晶は通常、軟磁性または常磁性を示す。軟磁性または常磁性では、保磁力が低いために記録媒体には適していない。磁気記録媒体に必要な９５．５ｋＡ／ｍ以上の保磁力を有する強磁性規則合金を得るには、不規則相から規則相へ変態する変態温度以上で加熱処理を施す必要がある。通常は、５００℃以上で変態が起こることが知られている。このため、工業的に使用できる支持体が、耐熱性の高い無機物に限られていた。
【０００５】
分散液の状態で強磁性ナノ粒子を得ることができれば、支持体の材質を問わずに磁気記録媒体を作製することが可能となる。分散液の状態で強磁性ナノ粒子を得る方法として、非特許文献１、２および特許文献１などが知られている。非特許文献１では、界面活性剤だけで保護されたナノ粒子を支持体表面に静置沈降させることで強磁性体ナノ粒子塗布物を得ているが、この様な静置沈降させる方法は時間がかかり工業的に好ましくない。非特許文献２ではバインダー中で磁性ナノ粒子を合成することが示唆されているが、バインダー中で磁性ナノ粒子を合成しただけでは、磁気記録媒体に必要とされる保磁力Ｈｃが９５．５ｋＡ／ｍ（１２００Ｏｅ）以上の強磁性ナノ粒子を得ることはできない。特許文献１では、高保磁力を有する強磁性ナノ粒子分散液が得られているが、磁性ナノ粒子の分散状態は、十分ではない。
【０００６】
一方、金属ナノ粒子の分散液にレーザ光を照射する技術が特許文献２により知られている。しかし、この方法では、金属ナノ粒子にレーザ光が不均一に当たるうえ、金属ナノ粒子同士が融合するため、均一な規則結晶を得ることはできない。
【非特許文献１】Ｓｃｉｅｎｃｅ、Ｖｏｌ．２８７、Ｐ．１９８９（２０００）
【非特許文献２】Ｓｔｕｄｉｅｓ ｉｎ Ｓｕｒｆａｃｅ ａｎｄ Ｃａｔａｌｙｓ ｉｓ １ ３２、ｐ．２４３（２００１）
【特許文献１】特開２００５−１０５４０８号明細書
【特許文献２】特開２００４−９７９１０号明細書
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、強磁性ナノ粒子の製造方法、それによって製造された強磁性ナノ粒子、およびそれを含む磁気記録媒体を提供するものである。特に、新規なレーザー加熱手段による強磁性ナノ粒子の製造方法、それによって製造された強磁性ナノ粒子、およびそれを含む磁気記録媒体を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記の課題を解決すべく鋭意検討の結果、本発明者は以下に示す手段により解決できることを見出した。
＜１＞ ＣｕＡｕ型またはＣｕ3Ａｕ型強磁性規則合金ナノ粒子の製造方法であって、前記ＣｕＡｕ型またはＣｕ3Ａｕ型強磁性規則合金相を形成しうる合金ナノ粒子を含む分散液をスリット間隙を通過させ、該スリットの長手方向に沿ってレーザー光を線状に照射することにより前記分散液に含まれる合金ナノ粒子に加熱処理を施して、該合金ナノ粒子を規則結晶化することを特徴とする強磁性規則合金ナノ粒子の製造方法。
＜２＞ 前記スリットの短方向間隙が１μｍ以上１００μｍ以下、且つ、前記スリットの長手方向間隙が前記短方向間隙の２倍以上の長さを有することを特徴とする＜１＞に記載の強磁性規則合金ナノ粒子の製造方法。
＜３＞ 複数のレーザーの発振源を有し、前記スリットの長手方向に並列にレーザー光が照射されることを特徴とする＜１＞または＜２＞に記載の強磁性規則合金ナノ粒子の製造方法。
＜４＞ 前記分散液のスリット間隙の流れ方向に沿って複数箇所においてレーザ光を線状照射することを特徴とする、＜１＞〜＜３＞のいずれか１項に記載の強磁性規則合金ナノ粒子の製造方法。
＜５＞ 前記レーザ光の波長が３６０ｎｍ以上８８０ｎｍ以下であることを特徴とする＜１＞〜＜４＞のいずれか１項に記載の強磁性規則合金ナノ粒子の製造方法。
＜６＞ ＜１＞〜＜５＞のいずれか１項に記載の製造方法によって製造された強磁性規則合金ナノ粒子。
＜７＞ 磁性層を有する磁気記録媒体であって、＜６＞に記載の強磁性規則合金ナノ粒子を含有することを特徴とする磁気記録媒体。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、新たな強磁性ナノ粒子の製造方法、それによって製造された強磁性ナノ粒子、およびそれを含む磁気記録媒体がを提供される。特に、新規なレーザー加熱手段による強磁性ナノ粒子の製造方法、それによって製造された強磁性ナノ粒子、およびそれを含む磁気記録媒体が提供される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下において、本発明を詳細に説明する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることであるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。なお、本発明書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
【００１１】
１．強磁性規則合金ナノ粒子
１）組成
【００１２】
本発明における多元系合金磁性ナノ粒子としては、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｒ等の酸化還元電位が卑な金属（−０．２Ｖ（ｖｓ．Ｎ．Ｈ．Ｅ）程度以下の金属）とＰｔ、Ｐｄ、Ｒｈ等の酸化還元電位が貴な金属（−０．２Ｖ（ｖｓ．Ｎ．Ｈ．Ｅ）程度以上の金属）の合金が好ましく挙げられる。さらに、アニ−ル処理時の結晶変態温度を下げるために、前記２元系合金に、Ｓｂ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｃｕ、Ａｇ、Ｚｎ、Ｉｎなどの第三元素を有しても良い。前記酸化還元電位が卑な金属と酸化還元電位が貴な金属の原子比率は、７０：３０〜３０：７０が好ましく、６０：４０〜４０：６０がより好ましく、さらに５５：４５〜４５：５５が好ましい。前記第三元素の添加量は、２元系合金に対し、１原子％〜３０原子％がであることが好ましく、５原子％〜２０原子％であることがより好ましい。
【００１３】
２）液相合成法
本発明におけるＣｕＡｕ型構造の磁性ナノ粒子を形成しうる液相合成法としては、沈殿法で分類すると、（１）１級アルコールを用いるアルコール還元法、（２）２級、３級、２価または３価のアルコールを用いるポリオール還元法、（３）熱分解法、（４）超音波分解法、（５）強力還元剤還元法、などを利用することができる。
また、反応系で分類すると、（６）高分子存在法、（７）高沸点溶媒法、（８）正常ミセル法、（９）逆ミセル法、などを利用することができる。この内、（２）と（６）の組み合わせ、（５）と（６）の組み合わせおよび（５）と（９）の組み合わせが好ましく利用できる。特に、粒径が制御しやすい点から逆ミセル法が好ましい。
【００１４】
（逆ミセル法）
逆ミセル法は、少なくとも、（１）２種の逆ミセル溶液を混合して還元反応を行う還元工程と、（２）還元反応後に所定温度で熟成する熟成工程と、を有する。以下、各工程について説明する。
【００１５】
（１）還元工程：
まず、界面活性剤を含有する非水溶性有機溶媒と還元剤水溶液とを混合した逆ミセル溶液（Ｉ）を調製する。
【００１６】
前記界面活性剤としては、油溶性界面活性剤が用いられる。具体的には、スルホン酸塩型（例えば、エーロゾルＯＴ（和光純薬製））、４級アンモニウム塩型（例えば、セチルトリメチルアンモニウムブロマイド）、エーテル型（例えば、ペンタエチレングリコールドデシルエーテル）などが挙げられる。
非水溶性有機溶媒中の界面活性剤量は、２０ｇ／Ｌ〜２００ｇ／Ｌであることが好ましい。
【００１７】
前記界面活性剤を溶解する非水溶性有機溶媒として好ましいものは、アルカン、エーテル等が挙げられる。
アルカンとしては、炭素数７〜１２のアルカン類であることが好ましい。具体的には、ヘプタン、オクタン、イソオクタン、ノナン、デカン、ウンデカン、またはドデカン等が好ましい。
エーテルとしては、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、またはジブチルエーテル等が好ましい。
【００１８】
還元剤水溶液中の還元剤としては、アルコール類；ポリオール類；Ｈ2；ＨＣＨＯ、Ｓ2Ｏ62-、Ｈ2ＰＯ2-、ＢＨ4-、Ｎ2Ｈ5+、Ｈ2ＰＯ3-などを含む化合物；を単独で使用、または２種以上を併用することが好ましい。
水溶液中の還元剤量は、金属塩１モルに対して、３モル〜５０モルであることが好ましい。
【００１９】
ここで、逆ミセル溶液（Ｉ）溶液中の水と界面活性剤との質量比（水／界面活性剤）は、２０以下となるようにすることが好ましい。質量比が２０以下であると、沈殿の生成を抑え、粒子も揃いやすいといった利点がある。質量比は、１５以下とすることが好ましく、０．５〜１０とすることがより好ましい。なお、逆ミセル溶液（Ｉ）溶液とともに、目的に応じて、上記質量比や使用原料を変えた逆ミセル溶液（Ｉ’）、（Ｉ’’）等を調製し、これらを併用してもよい。
【００２０】
上記とは別に、界面活性剤を含有する非水溶性有機溶媒と金属塩水溶液とを混合した逆ミセル溶液（II）を調製する。
界面活性剤および非水溶性有機溶媒の条件（使用する物質、濃度等）については、逆ミセル溶液（Ｉ）の場合と同様である。
なお、逆ミセル溶液（Ｉ）と同種のものまたは異種のものを使用することができる。また、逆ミセル溶液（II）中の水と界面活性剤との質量比も逆ミセル溶液（Ｉ）の場合と同様であり、逆ミセル溶液（Ｉ）の質量比と同一としてもよく、異なっていてもよい。また、逆ミセル溶液（II）とともに、目的に応じて、上記質量比や使用原料を変えた逆ミセル溶液（II’）、（II’’）等を調製し、これらを併用してもよい。
【００２１】
金属塩水溶液に含有される金属塩としては、作製しようとする磁性粒子がＣｕＡｕ型あるいはＣｕ3Ａｕ型強磁性規則合金を形成し得るように、適宜選択することが好ましい。
ここで、当該ＣｕＡｕ型強磁性規則合金としては、ＦｅＮｉ、ＦｅＰｄ、ＦｅＰｔ、ＣｏＰｔ、ＣｏＡｕなどが挙げられ、なかでもＦｅＰｄ、ＦｅＰｔ、ＣｏＰｔであることが好ましい。
Ｃｕ3Ａｕ型強磁性規則合金としては、Ｎｉ3Ｆｅ、ＦｅＰｄ3、Ｆｅ3Ｐｔ、ＦｅＰｔ3、ＣｏＰｔ3、Ｎｉ3Ｐｔ、ＣｒＰｔ3、Ｎｉ3Ｍｎが挙げられ、なかでもＦｅＰｄ3、ＦｅＰｔ3、ＣｏＰｔ3、Ｆｅ3Ｐｄ、Ｆｅ3Ｐｔ、Ｃｏ3Ｐｔが好ましい。
【００２２】
金属塩の具体例としては、Ｈ2ＰｔＣｌ6、Ｋ2ＰｔＣｌ4、Ｐｔ（ＣＨ3ＣＯＣＨＣＯＣＨ3）2、Ｎａ2ＰｄＣｌ4、Ｐｄ（ＯＣＯＣＨ3）2、ＰｄＣｌ2、Ｐｄ（ＣＨ3ＣＯＣＨＣＯＣＨ3）2、ＨＡｕＣｌ4、Ｆｅ2（ＳＯ4）3、Ｆｅ（ＮＯ3）3、（ＮＨ4）3Ｆｅ（Ｃ2Ｏ4）3、Ｆｅ（ＣＨ3ＣＯＣＨＣＯＣＨ3）3、ＮｉＳＯ4、ＣｏＣｌ2、Ｃｏ（ＯＣＯＣＨ3）2などが挙げられる。
【００２３】
金属塩水溶液中の濃度（金属塩濃度として）は、０．１μｍｏｌ／ｍＬ〜１０００μｍｏｌ／ｍＬであることが好ましく、１μｍｏｌ／ｍＬ〜１００μｍｏｌ／ｍＬであることがより好ましい。
【００２４】
以上のようにして調製した逆ミセル溶液（Ｉ）と（II）とを混合する。混合方法としては、特に限定されるものではないが、還元の均一性を考慮して、逆ミセル溶液（Ｉ）を撹拌しながら、逆ミセル溶液（II）を添加していって混合することが好ましい。混合終了後、還元反応を進行させることになるが、その際の温度は、−５℃〜３０℃の範囲で、一定の温度とすることが好ましい。
還元温度を−５℃〜３０℃とすることで、水相が凝結して還元反応が不均一になるといった問題を解消し、凝集または沈殿が起こりやすく系が不安定となる問題をも解消することができる。好ましい還元温度は０℃〜２５℃であり、より好ましくは５℃〜２５℃である。
ここで、前記「一定温度」とは、設定温度をＴ（℃）とした場合、当該ＴがＴ±３℃の範囲にあることをいう。なお、このようにした場合であっても、当該Ｔの上限および下限は、上記還元温度（−５℃〜３０℃）の範囲にあるものとする。
【００２５】
還元反応の時間は、逆ミセル溶液の量等により適宜設定する必要があるが、１分〜３０分とすることが好ましく、５分〜２０分とすることがより好ましい。
【００２６】
還元反応は、粒径分布の単分散性に大きな影響を与えるため、できるだけ高速攪拌しながら行うことが好ましい。
好ましい攪拌装置は高剪断力を有する攪拌装置であり、詳しくは、攪拌羽根が基本的にタービン型あるいはパドル型の構造を有し、さらに、その羽根の端もしくは、羽根と接する位置に鋭い刃を付けた構造であり、羽根をモーターで回転させる攪拌装置である。具体的には、ディゾルバー（特殊機化工業製）、オムニミキサー（ヤマト科学製）、ホモジナイザー（ＳＭＴ製）などの装置が有用である。これらの装置を用いることにより、単分散な合金粒子を安定な分散液として合成することができる。
上記装置の回転数は、２０００ｒｐｍ〜２００００ｒｐｍにすることが好ましい。
【００２７】
前記逆ミセル溶液（Ｉ）および（II）の反応後に、アミノ基またはカルボキシ基を１個〜３個有する少なくとも１種の分散剤を、作製しようとする合金粒子１モル当たり、０．００１モル〜１０モル添加することが好ましい。
【００２８】
かかる分散剤を添加することで、より単分散で、凝集の無い合金粒子を得ることが可能となる。添加量が、０．００１モル〜１０モルとすることで、合金粒子の単分散性をより向上させながら、凝集の発生を抑制することができる。
【００２９】
前記分散剤としては、合金粒子表面に吸着する基を有する有機化合物が好ましい。具体的には、アミノ基、カルボキシ基、スルホン酸基またはスルフィン酸基を１個〜３個有するものであり、これらを単独または併用して用いることができる。
構造式としては、Ｒ−ＮＨ2、ＮＨ2−Ｒ−ＮＨ2、ＮＨ2−Ｒ（ＮＨ2）−ＮＨ2、Ｒ−ＣＯＯＨ、ＣＯＯＨ−Ｒ−ＣＯＯＨ、ＣＯＯＨ−Ｒ（ＣＯＯＨ）−ＣＯＯＨ、Ｒ−ＳＯ3Ｈ、ＳＯ3Ｈ−Ｒ−ＳＯ3Ｈ、ＳＯ3Ｈ−Ｒ（ＳＯ3Ｈ）−ＳＯ3Ｈ、Ｒ−ＳＯ2Ｈ、ＳＯ2Ｈ−Ｒ−ＳＯ2Ｈ、ＳＯ2Ｈ−Ｒ（ＳＯ2Ｈ）−ＳＯ2Ｈで表される化合物であり、式中のＲは直鎖、分岐または環状の飽和、不飽和の炭化水素である。
【００３０】
分散剤として特に好ましい化合物はオレイン酸である。オレイン酸はコロイドの安定化において周知の界面活性剤であり、鉄等の金属粒子を保護するのに用いられてきた。オレイン酸の比較的長い（たとえば、オレイン酸は１８炭素鎖を有し長さは〜２０オングストローム（〜２ｎｍ）である。オレイン酸は脂肪族ではなく二重結合が１つある）鎖は粒子間の強い磁気相互作用を打ち消す重要な立体障害を与える。
エルカ酸やリノール酸など類似の長鎖カルボン酸もオレイン酸同様に（たとえば、８〜２２の間の炭素原子を有する長鎖有機酸を単独でまたは組み合わせて用いることができる）用いられる。オレイン酸は（オリーブ油など）容易に入手できる安価な天然資源であるので好ましい。また、オレイン酸から誘導されるオレイルアミンもオレイン酸同様有用な分散剤である。
【００３１】
以上のような還元工程では、ＣｕＡｕ型あるいはＣｕ3Ａｕ型強磁性規則合金相中のＣｏ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｒ等の酸化還元電位が卑な金属（−０．２Ｖ（ｖｓ．Ｎ．Ｈ．Ｅ）程度以下の金属）が還元し、極小サイズで単分散な状態で析出させることが好ましい。その後、昇温段階および後述する熟成工程において、析出した卑な金属を核とし、その表面で、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈ等の酸化還元電位が貴な金属（−０．２Ｖ（ｖｓ．Ｎ．Ｈ．Ｅ）程度以上の金属）が卑な金属で還元されて置換、析出させることが好ましい。イオン化した卑な金属は還元剤で再度還元されて析出すると考えられる。このような繰返しによって、ＣｕＡｕ型あるいはＣｕ3Ａｕ型強磁性規則合金を形成し得る合金粒子が得られる。
【００３２】
（２）熟成工程：
還元反応終了後、反応後の溶液を熟成温度まで昇温する。
前記熟成温度は、３０℃〜９０℃で一定の温度とすることが好ましく、その温度は、前記還元反応の温度より高くする。また、熟成時間は、５分〜１８０分とすることが好ましい。熟成温度および時間が上記範囲にあることで、凝集または沈殿を防ぎ、不完全な反応による組成変化を防ぐことができる。好ましい熟成温度および時間は４０℃〜８０℃および１０分〜１５０分であり、より好ましい熟成温度および時間は４０℃〜７０℃および２０分〜１２０分である。
【００３３】
ここで、前記「一定温度」とは、還元反応の温度の場合と同義（但し、この場合、「還元温度」は「熟成温度」となる）であるが、特に、上記熟成温度の範囲（３０℃〜９０℃）内で、前記還元反応の温度より５℃以上高いことが好ましく、１０℃以上高いことがより好ましい。５℃以上高くすることで、処方通りの組成が得られやすくなる。
【００３４】
以上のような熟成工程では、還元工程で還元析出した卑な金属上に貴な金属が析出する。
すなわち、卑な金属上でのみ貴な金属の還元が起こり、卑な金属と貴な金属とが別々に析出することが無いため、ＣｕＡｕ型あるいはＣｕ3Ａｕ型強磁性規則合金を形成し得る合金粒子を、高収率で処方組成比どおりに作製することが可能で、所望の組成に制御することができる。
【００３５】
前記熟成を行った後は、水と１級アルコールとの混合溶液で前記熟成後の溶液を洗浄し、その後、１級アルコールで沈殿化処理を施して沈殿物を生成させ、該沈殿物を有機溶媒で分散させる洗浄・分散工程を設けることが好ましい。
かかる洗浄・分散工程を設けることで、不純物が除去され、磁気記録媒体の磁性層を塗布により形成する際の塗布性をより向上させることができる。
上記洗浄および分散は、少なくともそれぞれ１回、好ましくは、それぞれ２回以上行う。
【００３６】
洗浄で用いる前記１級アルコールとしては、特に限定されるものではないが、メタノール、エタノール等が好ましい。体積混合比（水／１級アルコール）は、１０／１〜２／１の範囲にあることが好ましく、５／１〜３／１の範囲にあることがより好ましい。水の比率が高いと、界面活性剤が除去されにくくなることがあり、逆に１級アルコールの比率が高いと、凝集を起こしてしまうことがある。
【００３７】
以上のようにして、溶液中に分散した合金粒子（合金粒子含有液）が得られる。当該合金粒子は、単分散であるため、支持体に塗布しても、これらが凝集することなく均一に分散した状態を保つことができる。従って、アニール処理を施しても、それぞれの合金粒子が凝集することがないため、効率良く強磁性化することが可能で、塗布適性に優れる。
【００３８】
（還元法）
還元法でＣｕＡｕ型あるいはＣｕ3Ａｕ型強磁性規則合金を形成し得る合金粒子を作製するには種々の方法があるが、少なくとも、酸化還元電位が卑な金属（以下、単に「卑な金属」ということがある）と、酸化還元電位が貴な金属（以下、単に「貴な金属」ということがある）と、を有機溶剤もしくは水、または有機溶剤と水との混合溶液中で還元剤等を使用して還元する方法を適用することが好ましい。
卑な金属と貴な金属との還元順序は、特に限定されず、同時に還元してもよい。
【００３９】
前記有機溶剤としては、アルコール、ポリアルコール等を使用することが可能で、アルコールとしては、メタノール、エタノール、およびブタノール等が挙げられ、ポリアルコールとしては、エチレングリコール、グリセリン等が挙げられる。
なお、ＣｕＡｕ型あるいはＣｕ3Ａｕ型強磁性規則合金の例としては、既述の逆ミセル法の場合と同様である。
また、貴な金属を先に析出させて合金粒子を調製する方法としては、特開２００３−７３７０５号公報の段落１８〜３０等に記載の方法等を適用することができる。
【００４０】
酸化還元電位が貴な金属としては、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈ等が好ましく用いることができ、Ｈ2ＰｔＣｌ6・６Ｈ2Ｏ、Ｐｔ（ＣＨ3ＣＯＣＨＣＯＣＨ3）2、ＲｈＣｌ3・３Ｈ2Ｏ、Ｐｄ（ＯＣＯＣＨ3）2、ＰｄＣｌ2、Ｐｄ（ＣＨ3ＣＯＣＨＣＯＣＨ3）2等を溶媒に溶解して用いることができる。溶液中の金属の濃度は、０．１μｍｏｌ／ｍＬ〜１０００μｍｏｌ／ｍＬが好ましく、０．１μｍｏｌ／ｍＬ〜１００μｍｏｌ／ｍＬがより好ましい。
【００４１】
また、酸化還元電位が卑な金属としては、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｒを好ましく用いることができ、特に好ましくは、Ｆｅ、Ｃｏである。このような金属は、ＦｅＳＯ4・７Ｈ2Ｏ、ＮｉＳＯ4・７Ｈ2Ｏ、ＣｏＣｌ2・６Ｈ2Ｏ、Ｃｏ（ＯＣＯＣＨ3）2・４Ｈ2Ｏ等を溶媒に溶解して用いることができる。溶液中の金属の濃度は、０．１μｍｏｌ／ｍＬ〜１０００μｍｏｌ／ｍＬが好ましく、０．１μｍｏｌ／ｍＬ〜１００μｍｏｌ／ｍＬがより好ましい。
【００４２】
本発明においては、既述の逆ミセル法と同様に二元系合金に、第三元素を加える事で強磁性規則合金への変態温度を下げる。添加量としては逆ミセル法と同様である。
【００４３】
例えば、還元剤を用いて卑な金属と貴な金属とをこの順に還元して析出させる場合、−０．２Ｖ（ｖｓ．Ｎ．Ｈ．Ｅ）より卑な還元電位を持つ還元剤を用いて卑な金属あるいは卑な金属と貴な金属の一部を還元したものを、貴な金属源に加え酸化還元電位が−０．２Ｖ（ｖｓ．Ｎ．Ｈ．Ｅ）より貴な還元剤を用いて還元した後、−０．２Ｖ（ｖｓ．Ｎ．Ｈ．Ｅ）より卑な還元電位を持つ還元剤を用いて還元する事が好ましい。
酸化還元電位は系のｐＨに依存するが、酸化還元電位が−０．２Ｖ（ｖｓ．Ｎ．Ｈ．Ｅ）より貴な還元剤には、１，２−ヘキサデカンジオール等のアルコール類、グリセリン類、Ｈ2、ＨＣＨＯが好ましく用いられる。
−０．２Ｖ（ｖｓ．Ｎ．Ｈ．Ｅ）より卑な還元剤にはＳ2Ｏ62-、Ｈ2ＰＯ2-、ＢＨ4-、Ｎ2Ｈ5+、Ｈ2ＰＯ3-が好ましく用いる事ができる。
なお、卑な金属の原料として、Ｆｅカルボニル等の０価の金属化合物と用いる場合は、特に卑な金属の還元剤は必要ない。
【００４４】
貴な金属を還元析出させる際に吸着剤を存在させる事で合金粒子を安定して調製することができる。吸着剤としてはポリマーや界面活性剤を使用することが好ましい。
ポリマー種としては、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリＮ−ビニル−２ピロリドン（ＰＶＰ）、ゼラチン等が挙げられる。好ましくはＰＶＰである。
また、分子量は２万〜６万が好ましく、より好ましくは３万〜５万である。ポリマーの量は生成する合金粒子の質量の０．１倍〜１０倍であることが好ましく、０．１倍〜５倍がより好ましい。
【００４５】
吸着剤として好ましく用いられる界面活性剤は、一般式：Ｒ−Ｘ、で表される長鎖有機化合物である「有機安定剤」を含むことが好ましい。上記一般式中のＲは、直鎖または分岐ハイドロカーボンまたはフルオロカーボン鎖である「テール基」であり、通常８個〜２２個の炭素原子を含む。また、上記一般式中のＸは、合金粒子表面に特定の化学結合を提供する部分（Ｘ）である「ヘッド基」であり、スルフィネート（−ＳＯＯＨ）、スルホネート（−ＳＯ2ＯＨ）、ホスフィネート（−ＰＯＯＨ）、ホスホネート（−ＯＰＯ（ＯＨ）2）、カルボキシレート、およびチオールのいずれかであることが好ましい。
【００４６】
前記有機安定剤としては、スルホン酸（Ｒ−ＳＯ2ＯＨ）、スルフィン酸（Ｒ−ＳＯＯＨ）、ホスフィン酸（Ｒ2ＰＯＯＨ）、ホスホン酸（Ｒ−ＯＰＯ（ＯＨ）2）、カルボン酸（Ｒ−ＣＯＯＨ）、またはチオール（Ｒ−ＳＨ）等のいずれかであることが好ましい。これらのなかでも、逆ミセル法と同様のオレイン酸が特に好ましい。
【００４７】
前記ホスフィンと有機安定剤との組合せ（トリオルガノホスフィン／酸等）は、粒子の成長および安定化に対する優れた制御性を提供することができる。ジデシルエーテルおよびジドデシルエーテルも用いることができるが、フェニルエーテルまたはｎ−オクチルエーテルはその低コストおよび高沸点のため溶媒として好適に用いられる。
【００４８】
還元は必要な合金粒子および溶媒の沸点に合わせ、８０℃〜３６０℃の範囲の温度で行うことが好ましく、８０℃〜２４０℃がより好ましい。温度がこの温度範囲にあることで、制御性のよい粒子成長を促進し、望ましくない副産物の生成を抑制することができる。
【００４９】
粒径を大きくする方法としては種晶法が有効である。その際、粒子の酸化が懸念されるため、予め粒子を水素化処理することが好ましい。
【００５０】
また、合金粒子合成後に溶液から塩類を除くことは、合金粒子の分散安定性を向上させる意味から好ましい。脱塩にはアルコールを過剰に加え、軽凝集を起こし、自然沈降あるいは遠心沈降させ塩類を上澄みと共に除去する方法があるが、一般還元法では凝集が生じやすいため、限外濾過法を採用することが好ましい。以上のようにして、溶液中に分散した合金粒子（合金粒子含有液）が得られる。
【００５１】
３）アニール処理工程
合成後の合金粒子は不規則相である。既述のように不規則相では強磁性は得られない。そこで、規則相とするためには、熱処理（アニール処理）を施す必要がある。
【００５２】
本発明の製造方法におけるアニール処理は、前記合金分散物を溶媒を含んだ湿潤状態で、スリットを通過させ、該スリット部の通過中にレーザー光を照射することによって前記分散液に含まれる合金ナノ粒子に加熱処理を施すことを特徴とする。該スリット部の分散物が流動する間隙は、スリット部の特徴をなす狭い間隙と比較的広い幅を有する。本発明では前者をスリットの短方向間隙、後者をスリットの長手方向間隙と称する。
短方向間隙は、照射されたレーザー光が到達しその効果を及ぼし得る厚みで決定される。
本発明においては、好ましくは、前記スリットの短方向間隙が１μｍ以上１００μｍ以下である。短方向間隙が１μｍより小さいとアニール処理の生産性が低くなり好ましくなく、１００μｍを超えるとスリットを通過する合金分散物に十分に均一にレーザーが照射されないために好ましくない。
また、長手方向間隙は、線状に照射されるレーザー光の有効幅によって決定され、レーザー発振源の数を増やすことによって有効幅をいかようにも広げることができるが、生産性とコストの点から適切な幅が選択される。本発明においては、好ましくは、前記スリットの長手方向間隙が前記短方向間隙の２倍以上の長さである。
【００５３】
好ましくは、前記スリットの長手方向に複数のレーザー発振源を並列に配して、前記スリットの長手方向に均一にレーザー光が照射される。レーザー発振源の数は、前記スリットの長手方向の長さとレーザーの照射口径によって決定される。照射されたレーザーは合金粒子によって吸収され熱エネルギーに変換され、発熱する。発生した熱エネルギーは該粒子だけでなく近接する粒子にも伝達されるので、レーザー発振源は、前記スリットの長手方向に渉って必ずしも間隙なく密に配置する必要はない。レーザー発振源の数は、実効的に加熱効率の高い間隔で配置されるのが工業的コスト効率から好ましい。
【００５４】
レーザー照射は、前記分散液のスリット間隙の流れ方向に沿って１個所だけでなく、複数箇所において線状照射しても良い。配列の間隔は、前列におけるレーザー照射による加熱温度が放熱により低下しアニ−ル効果を失う前に行うのが好ましく、合金分散物のスリットを通過する流速と流量の放熱の関係から工業的に決定される。
【００５５】
前記レーザ光の波長は、前記合金による光吸収特性から適切は波長が選ばれるが、好ましくは３６０ｎｍ以上８８０ｎｍ以下である。
【００５６】
本発明によるスリット部におけるレーザーの線状照射について、より理解を深めるために図面による説明を行う。
図１は、本発明によるスリット部におけるレーザーの線状照射を示す模式図である。スリット部は、本体部２と蓋部１より構成され、本体部２には溝部を有する。本体部２における溝部の深さはスリットの短方向間隙を形成し、溝部の幅はスリットの長手方向間隙を形成する。本体部２と蓋部１を重ねて作動状態では、蓋部１と本体部２の溝部より形成される間隙部（スリット部）が構成される。スリット部の流入口３より合金分散物の流体が導入され、流出口４より排出される。合金分散物の流体はスリット部を通過する間に線状に配置されたレーザー光源を有するレーザー照射部６でレーザー照射される。レーザー照射部は、図１では１箇所のみを示しているが、照射効率を高めるために，流体の流れに沿って複数箇所設けることが好ましい。
【００５７】
アニール処理は１５０℃〜３５０℃かつ１ＭＰａ〜５０ＭＰａの条件下で行うことが好ましい。より好ましくは２００℃〜３５０℃かつ３ＭＰａ〜４０ＭＰａ、さらに好ましくは２００℃〜３５０℃かつ５ＭＰａ〜３０ＭＰａの条件下で行うことが好ましい。
アニール処理を１５０℃〜３５０℃かつ１ＭＰａ〜５０ＭＰａの条件下とすることで、溶媒中での規則相化をより促進することが可能となり、強磁性（特に、硬磁性）にすることができる。
【００５８】
使用する有機溶媒としては、非酸化性のものが好ましく、還元性の溶媒が特に好ましい。具体的には、エタノールアミン、オクチルアミンが好ましく、トリエタノールアミン、トリオクチルアミンがより好ましい。
この場合、当該有機溶媒は、合金粒子１ｍｇあたり、１００ｍＬ〜１０００ｍＬとすることが好ましく、２００ｍＬ〜５００ｍＬでリフラックス処理することがより好ましい。
【００５９】
上記以外に、本発明のアニール処理時の溶媒としては、アルカン類とアルコール類との混合溶媒を使用することが好ましい。具体例としては、アルカンは炭素数６〜１４の、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、イソオクタン、ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン、トリデカン、およびテトラデカンが挙げられ、アルコール類は、エチルアルコール、ブチルアルコール、ヘキシルアルコール、オクチルアルコール、１，２−エタンジオール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、および１，２−ヘキサンジオールなどが挙げられる。
溶媒は、合金粒子１ｇあたり、１０ｍＬ〜１００００ｍＬとすることが好ましく、１００ｍＬ〜１０００ｍＬがより好ましい。アルカン類とアルコール類の体積比は１／９〜９／１の範囲で用いることが好ましい。
【００６０】
アニール処理時の有機溶媒中には、分散剤を共存させることが好ましい。好ましい分散剤としては、合金粒子作製工程で述べた分散剤が有用である。
【００６１】
以上のようなアニール処理を施すことで、合金粒子が不規則相から規則相に相変態し、強磁性を有する磁性粒子が得られる。
【００６２】
合金相を有する磁性粒子の粒径は、ノイズを下げる観点から小さいことが好ましいが、小さすぎるとアニール後に超常磁性となり、磁気記録に不適当となることがある。本発明の合金粒子は、数平均粒径で１ｎｍ〜３０ｎｍが好ましく、２ｎｍ〜２０ｎｍであることがより好ましく、３ｎｍ〜１０ｎｍであることがさらに好ましい。
数平均粒径を１ｎｍ〜３０ｎｍとすることで、強磁性で、ノイズの低い磁気記録媒体とすることができる。
なお、数平均粒径は、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）で撮影した粒子写真を実測することにより測定することができる。
【００６３】
磁気記録媒体として用いるには合金相を有する磁性粒子を最密充填することが記録容量を高くする上で好ましく、そのためには、該磁性粒子の粒径の標準偏差は２０％以下が好ましく、より好ましくは１０％以下である。
【００６４】
合金相を有する磁性粒子の粒径評価には透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）を用いることができる。該磁性粒子の結晶系を決めるにはＴＥＭによる電子回折でもよいが、Ｘ線回折を用いた方が精度高く好ましい。該磁性粒子の個々の組成分析には、電子線を細く絞ることができるＦＥ−ＴＥＭにＥＤＡＸを付け評価することが好ましい。また、該磁性粒子の磁気的性質の評価はＶＳＭを用いて行うことができる。
【００６５】
本発明の製造方法により製造される磁性粒子は、その保磁力が９５．５〜９５５ｋＡ／ｍ（１２００〜１２０００Ｏｅ）であることが好ましく、磁気記録媒体に適用した場合、記録ヘッドが対応できることを考慮して１５９〜４７８ｋＡ／ｍ（２０００〜６０００Ｏｅ）であることがより好ましい。
【００６６】
２．磁気記録媒体
本発明の磁気記録媒体は、前記ＣｕＡｕ型またはＣｕ3Ａｕ型強磁性規則合金相を有する磁性粒子を含有する磁性層が支持体上に設けられてなる。
本発明の磁気記録媒体は、支持体上に形成された磁性層に本発明の磁性粒子を含有してなることを特徴とする。
当該磁気記録媒体としては、ビデオテープ、コンピュータテープ等の磁気テープ；フロッピー（登録商標）ディスク、ハードディスク等の磁気ディスク；等が挙げられる。
【００６７】
１）溶媒
アニール処理後の磁性粒子は、有機溶媒中に分散した状態で存在する。この磁性粒子を用いて磁性層を形成する場合、アニール処理後の磁性粒子含有液に結合剤を添加して塗布する必要がある。しかし、ウレタン樹脂等の結合剤は、極性溶媒を用いなければ溶解することができない。そこで、磁性粒子含有液に極性溶媒を添加し、結合剤を溶解することが考えられるが、極性溶媒を加えると磁性粒子の凝集が生じ、機械的に再分散を行う必要がある。磁性粒子はその粒径が非常に微小であるため、機械的な再分散では、充分な分散性が得られない。
【００６８】
上記現象は、本発明者らの次の実験からも明らかである。例えば、磁性粒子含有液（磁性粒子：２０質量％）に非極性溶媒（トルエン）を混合して、磁性粒子の含有量を１０質量％とした場合、磁性粒子は、良好な分散状態を保っている。これに対し、磁性粒子含有液（磁性粒子：２０質量％）に極性溶媒（シクロヘキサノン）を混合して、磁性粒子の含有量を１０質量％とした場合では、磁性粒子がやや凝集していることが確認できる。
一方、混合した後の両溶液に、結合剤（ウレタン樹脂）を混合すると、非極性溶媒を含有する溶液では、結合剤は溶解しないに対し、極性溶媒を含有する溶液では、結合剤が溶解するのを確認できる。
【００６９】
そこで、本発明では、磁性粒子含有液中に、非極性溶媒を添加し、その後、極性溶媒および結合剤を添加して塗布液を調製する。非極性溶媒を含有させることで、極性溶媒の価電で粒子の安定性を乱す効果を緩和する作用が生じ、磁性粒子の凝集が防がれると考えられる。
【００７０】
非極性溶媒は、磁性粒子の凝集を防ぐために含有させるものであるから、極性溶媒より先に磁性粒子含有液に添加することが好ましいが、極性溶媒と混合した状態、または、極性溶媒および結合剤と混合した状態で磁性粒子含有液に添加してもよい。
【００７１】
非極性溶媒としては、トルエン、ベンゼン、またはキシレン等の芳香族炭化水素類や、オクタン、デカン、ヘキサン、またはノナン等を少なくとも１種使用することが好ましい。非極性溶媒は、塗布液とする前の状態で２０〜９５質量％含有されていることが好ましく、３０〜８５質量％含有されていることがより好ましい。
【００７２】
極性溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、またはメチルイソブチルケトン等のケトン類；メタノール、エタノール、またはプロパノール等のアルコール類；酢酸メチル、酢酸ブチル、または酢酸イソブチル等のエステル類；グリコールジメチルエーテル、グリコールモノエチルエーテル等のグリコールエーテル系；シクロヘキサノン等を少なくとも１種使用することが好ましい。
極性溶媒は、塗布液とする前の状態で、２０質量％〜９５質量％含有されていることが好ましく、３０質量％〜８５質量％含有されていることがより好ましい。
【００７３】
結合剤の溶解性と磁性粒子の凝固防止との両立を図る観点から、極性溶媒と非極性溶媒との質量比（極性溶媒／非極性溶媒）は、１／９〜９／１であることが好ましく、２／８〜８／２であることがより好ましい。
【００７４】
２）結合剤
結合剤としては、公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂やこれらの混合物を使用することができる。
熱可塑性樹脂としては、ガラス転移温度が−１００℃〜１５０℃、数平均分子量が１，０００〜２００，０００（好ましくは１０，０００〜１００，０００）、重合度が約５０〜１０００のものを使用することが好ましい。
【００７５】
このような熱可塑性樹脂の例としては、塩化ビニル、酢酸ビニル、ビニルアルコール、マレイン酸、アクリル酸、アクリル酸エステル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、メタクリル酸、メタクリル酸エステル、スチレン、ブタジエン、エチレン、ビニルブチラール、ビニルアセタール、またはビニルエーテル等を構成単位として含む重合体または共重合体、ポリウレタン樹脂、各種ゴム系樹脂がある。
【００７６】
また、熱硬化性樹脂または反応型樹脂としては、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、アクリル系反応樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリコーン樹脂、エポキシーポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂とイソシアネートプレポリマーとの混合物、ポリエステルポリオールとポリイソシアネートとの混合物、ポリウレタンとポリイソシアネートとの混合物等が挙げられる。
これらの樹脂については、朝倉書店発行の「プラスチックハンドブック」に詳細に記載されている。また、公知の電子線硬化型樹脂を各層に使用することも可能である。これらの例とその製造方法については、特開昭６２−２５６２１９号公報に詳細に記載されている。
【００７７】
以上の樹脂は単独または組合せて使用できるが、好ましいものとしては、ポリウレタン単独の場合や、塩化ビニル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル酢酸ビニルビニルアルコール共重合体、塩化ビニル酢酸ビニル無水マレイン酸共重合体、から選ばれる少なくとも１種とポリウレタン樹脂との組合せ、または、上記した共重合体等にポリイソシアネートを組み合わせたものが挙げられる。
【００７８】
ポリウレタン樹脂の構造は、ポリエステルポリウレタン、ポリエーテルポリウレタン、ポリエーテルポリエステルポリウレタン、ポリカーボネートポリウレタン、ポリエステルポリカーボネートポリウレタン、またはポリカプロラクトンポリウレタン等が使用できる。
【００７９】
上記したすべての結合剤について、より優れた分散性と耐久性とを得るためには必要に応じ、−ＣＯＯＭ、−ＳＯ3Ｍ、−ＯＳＯ3Ｍ、−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）2、−Ｏ−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）2（以上につき「Ｍ」は水素原子、またはアルカリ金属塩基を表す）、ＯＨ、ＮＲ2、Ｎ+Ｒ3（以上につき「Ｒ」は炭化水素基を表す）やエポキシ基、ＳＨ、ＣＮ、等から選ばれる少なくとも１以上の極性基を共重合または付加反応で導入したものを用いることが好ましい。なかでも、−ＳＯ3Ｍが検討した中では好ましかった。このような極性基の量は１０-1モル／ｇ〜１０-8モル／ｇであることが好ましく、１０-2モル／ｇ〜１０-6モル／ｇであることがより好ましい。
【００８０】
本発明に用いられるこれらの結合剤の具体的な例（製品名）としては、ＶＡＧＨ、ＶＹＨＨ、ＶＭＣＨ、ＶＡＧＦ、ＶＡＧＤ、ＶＲＯＨ、ＶＹＥＳ、ＶＹＮＣ、ＶＭＣＣ、ＸＹＨＬ、ＸＹＳＧ、ＰＫＨＨ、ＰＫＨＪ、ＰＫＨＣ、ＰＫＦＥ（以上、ユニオンカーバイト社製）、ＭＰＲ−ＴＡ、ＭＰＲ−ＴＡ５、ＭＰＲ−ＴＡＬ、ＭＰＲ−ＴＳＮ、ＭＰＲ−ＴＭＦ、ＭＰＲ−ＴＳ、ＭＰＲ−ＴＭ、ＭＰＲ−ＴＡＯ（以上、日信化学工業社製）、１０００Ｗ、ＤＸ８０、ＤＸ８１、ＤＸ８２、ＤＸ８３、１００ＦＤ（以上、電気化学社製）、ＭＲ−１０４、ＭＲ−１０５、ＭＲ１１０、ＭＲ１００、ＭＲ５５５、４００Ｘ−１１０Ａ（以上、日本ゼオン社製）、ニッポランＮ２３０１、Ｎ２３０２、Ｎ２３０４（以上、日本ポリウレタン社製）、パンデックスＴ−５１０５、Ｔ−Ｒ３０８０、Ｔ−５２０１、バーノックＤ−４００、Ｄ−２１０−８０、クリスボン６１０９、７２０９（以上、大日本インキ社製）、バイロンＵＲ８２００、ＵＲ８３００、ＵＲ８７００、ＲＶ５３０、ＲＶ２８０（以上、東洋紡社製）、ダイフェラミン４０２０、５０２０、５１００、５３００、９０２０、９０２２、７０２０（以上、大日精化社製）、ＭＸ５００４（三菱化成社製）、サンプレンＳＰ−１５０（三洋化成社製）、サランＦ３１０、Ｆ２１０（以上、旭化成社製）等が挙げられる。
【００８１】
結合剤は、磁性層だけでなく非磁性層が形成される場合には、当該非磁性層にも含有される。非磁性層および磁性層に用いられる結合剤は、非磁性層の場合は非磁性粉末の全質量、磁性層の場合は強磁性規則合金（磁性粒子）の全質量に対し、２質量％〜５０質量％の範囲で使用することが好ましく、１０質量％〜３０質量％の範囲で使用することがより好ましい。塩化ビニル系樹脂を用いる場合は５質量％〜３０質量％、ポリウレタン樹脂を用いる場合は２質量％〜２０質量％、ポリイソシアネートは２質量％〜２０質量％の範囲でこれらを組み合わせて用いることが好ましいが、例えば、微量の脱塩素によりヘッド腐食が起こる場合は、ポリウレタン樹脂のみまたはポリウレタン樹脂とイソシアネートのみを使用することも可能である。
【００８２】
また、ポリウレタン樹脂を用いる場合は、そのガラス転移温度が−５０℃〜１５０℃であることが好ましく、０℃〜１００℃であることがより好ましく、３０℃〜９０℃であることがさらに好ましい。また、破断伸びは１００％〜２０００％であることが好ましく、破断応力は０．０５ｋｇ／ｍｍ2〜１０ｋｇ／ｍｍ2（０．４９ＭＰａ〜９８ＭＰａ）であることが好ましく、降伏点は０．０５ｋｇ／ｍｍ2〜１０ｋｇ／ｍｍ2（０．４９ＭＰａ〜９８ＭＰａ）であることが好ましい。
【００８３】
本発明の磁気記録媒体の磁性層は単層でもかまわないが、好ましくは２層以上から構成される。従って、結合剤量、結合剤中に含有される塩化ビニル系樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイソシアネート、あるいはそれ以外の樹脂の量、磁性層を形成する各樹脂の分子量、極性基量、あるいは先に述べた樹脂の物理特性などを必要に応じ各層で変えることはもちろん可能であり、むしろ各層で最適化すべきであり、多層磁性層に関する公知技術を適用できる。
例えば、各層で結合剤量を変更する場合、磁性層表面の擦傷を減らすためには磁性層の結合剤量を増量することが有効であり、ヘッドに対するヘッドタッチを良好にするためには、非磁性層の結合剤量を多くして柔軟性を持たせることができる。
【００８４】
ポリイソシアネートとしては、トリレンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレン−１、５−ジイソシアネート、ｏ−トルイジンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート等のイソシアネート類、また、これらのイソシアネート類とポリアルコールとの生成物、また、イソシアネート類の縮合によって生成したポリイソシアネート等を使用することができる。
これらのイソシアネート類の市販されている商品名としては、日本ポリウレタン社製コロネートＬ、コロネートＨＬ、コロネート２０３０、コロネート２０３１、ミリオネートＭＲ、ミリオネートＭＴＬ；武田薬品社製タケネートＤ−１０２、タケネートＤ−１１０Ｎ、タケネートＤ−２００、タケネートＤ−２０２；住友バイエル社製デスモジュールＬ、デスモジュールＩＬ、デスモジュールＮ、デスモジュールＨＬ；等があり、これらを単独または硬化反応性の差を利用して２種以上の組合せで各層とも用いることができる。
【００８５】
３）塗布
磁性粒子含有液に、結合剤、極性溶媒および非極性溶媒を添加して調製した塗布液は、後述する手段により支持体上に塗布（塗布工程）し、適宜乾燥等を行って磁性層を形成することで、本発明の磁気記録媒体が製造される。
【００８６】
以上のようにして作製された本発明の磁気記録媒体では、既述の塗布液を用いて磁性層が形成されるため、当該磁性層には、磁性粒子と、結合剤と、極性溶媒と、非極性溶媒と、が含有されている。
既述のように、上記塗布液中では磁性粒子同士が互いに凝集することなく高分散な状態で存在する。従って、かかる塗布液を使用して形成された磁性層中の磁性粒子の表面には、結合剤、極性溶媒、非極性溶媒が存在するため、互いに凝集することがなく、高い効率で強磁性を発揮することが可能となる。また、磁性粒子の再分散等を必要としないため、生産性の高い磁気記録媒体とすることができる。このような工程を経て、磁気記録媒体を作製するのがよい。そして、最終的には、極性溶媒、非極性溶媒が残留することになる。
【００８７】
なお、磁性粒子の存在は、Ｘ線回折法等により確認できるが、結合剤、極性溶媒、非極性溶媒は、磁気記録媒体に残留する溶媒をガスクロマトグラフィー等で測定することで評価・確認できる。
【００８８】
本発明の磁気記録媒体は、支持体上に、磁性粒子、結合剤、極性溶媒および非極性溶媒を含有する磁性層が形成されていれば、その構成は特に限定されるものではない。例えば、支持体上に、非磁性層、磁性層を順次形成した構成とし、適宜、バック層や下塗層等を形成した構成とすることができる。また、磁性層等には、上記４つの成分の他に、種々の添加剤を含有させることができる。
以下、支持体および磁性層を始めとした各層について説明する。
【００８９】
４）支持体
本発明の支持体としては、磁気記録媒体に使用される支持体であれば、無機物および有機物のいずれでもよい。本発明の磁性粒子は、すでに溶媒中でアニール処理が施され、強磁性化されているので、基板に塗布した後で高温のアニール処理を施す必要がない。従って、耐熱性に問題がある有機物支持体にも問題なく適用できる。かかる観点から、有機物支持体に特に好ましく用いる事ができる。
【００９０】
無機物の支持体としては、Ａｌ、Ａｌ−Ｍｇ、Ｍｇ−Ａｌ−Ｚｎ等のＭｇ合金、ガラス、石英、カーボン、シリコン、セラミックス等が用いられる。これらの支持体は耐衝撃性に優れ、また薄型化や高速回転に適した剛性を有する。また、有機物の支持体と比較して、熱に強い特徴を有している。
【００９１】
有機物の支持体としては、ポリエステル類（ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等）、ポリオレフィン類、セルロ−ストリアセテート、ポリカ−ボネート、脂肪族ポリアミド、芳香族ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリスルフォン、ポリベンゾオキサゾール等を用いることができる。
【００９２】
また、必要に応じて、支持体の磁性層とバック層を塗布する面の表面粗さを変えるため特開平３−２２４１２７号公報に記載されるような積層タイプの支持体を用いることもできる。これらの支持体にはあらかじめコロナ放電処理、プラズマ処理、易接着処理、熱処理、除塵処理等を施しておいてもよい。
【００９３】
支持体としてＷＹＫＯ社製ＴＯＰＯ−３Ｄで測定した中心面平均表面粗さ（Ｒａ）は、通常、８．０ｎｍ以下であることが好ましく、４．０ｎｍ以下であることがより好ましく、２．０ｎｍ以下であることがさらにが好ましい。これらの支持体は単に中心面平均表面粗さが小さいだけではなく、０．５μｍ以上の粗大突起がないことが好ましい。
【００９４】
また、表面の粗さ形状は必要に応じて支持体に添加されるフィラーの大きさと量により自由にコントロールされるものである。これらのフィラーの一例としては、Ｃａ、Ｓｉ、Ｔｉなどの酸化物や炭酸塩の無機微粒子、アクリル系などの有機微粉末が挙げられる。支持体の最大高さＲｍａｘは１μｍ以下であることが好ましく、十点平均粗さＲｚは０．５μｍ以下であることが好ましく、中心面山高さＲｐは０．５μｍ以下であることが好ましく、中心面谷深さＲｖは０．５μｍ以下であることが好ましく、中心面面積率Ｓｒは１０％〜９０％であることが好ましく、平均波長λａは５μｍ〜３００μｍが好ましい。所望の電磁変換特性と耐久性を得るため、これら支持体の表面突起分布をフィラーにより任意にコントロールできるものであり、０．０１μｍ〜１μｍの大きさのもの各々を０．１ｍｍ2あたり０個から２０００個の範囲で制御することができる。
【００９５】
また、支持体のＦ−５値は好ましくは５ｋｇ／ｍｍ2〜５０ｋｇ／ｍｍ2（４９ＭＰａ〜４９０ＭＰａ）である。さらに、支持体の１００℃３０分での熱収縮率は好ましくは３％以下、さらに好ましくは１．５％以下、８０℃３０分での熱収縮率は好ましくは１％以下、さらに好ましくは０．５％以下である。破断強度は５ｋｇ／ｍｍ2〜１００ｋｇ／ｍｍ2（４９ＭＰａ〜９８０ＭＰａ）であることが好ましく、弾性率は１００ｋｇ／ｍｍ2〜２０００ｋｇ／ｍｍ2（０．９８ＧＰａ〜１９．６ＧＰａ）が好ましい。温度膨張係数は１０-4／℃〜１０-8／℃であることが好ましく、１０-5／℃〜１０-6／℃であることがより好ましい。湿度膨張係数は１０-4／％ＲＨ以下であることが好ましく、１０-5／％ＲＨ以下であることがより好ましい。これらの熱特性、寸法特性、機械強度特性は支持体の面内各方向に対し１０％以内の差でほぼ等しいことが好ましい。
【００９６】
支持体の厚みは、２μｍ〜１００μｍであることが好ましく、２μｍ〜８０μｍであることがより好ましい。コンピュータテープの場合の支持体は、３．０μｍ〜６．５μｍであることが好ましく、３．０μｍ〜６．０μｍであることがより好ましく、４．０μｍ〜５．５μｍであることがさらに好ましい。
【００９７】
５）磁性層
磁性層には、既述の磁性粒子、結合剤、極性溶媒および非極性溶媒の他に、必要に応じて、種々の添加剤等が含有されてなる。
本発明の磁気記録媒体は、既述の磁性層を支持体の片面だけに設けてもよく、両面に設けてもよい。また、潤滑剤の供給源とする観点および支持体の突起を被覆する観点から、支持体と磁性層との間に非磁性層を設けてもよい。
支持体上に非磁性層を形成する場合、当該磁性層（上層または上層磁性層ともいう）は、非磁性層を塗布により形成した後、非磁性層が湿潤状態のうち（Ｗ／Ｗ）に設けてもよく、または、非磁性層が乾燥した後（Ｗ／Ｄ）に設けてもよい。生産得率の点から同時、または逐次湿潤塗布が好ましいが、ディスクの場合は乾燥後塗布でも十分に使用できる。
重層構成（非磁性層＋磁性層）で、両層を同時に、または、逐次湿潤塗布（Ｗ／Ｗ）では非磁性層＋磁性層が同時に形成できるため、カレンダー工程などの表面処理工程を有効に活用でき、超薄層でも上層の磁性層の表面粗さを良化できる。
【００９８】
磁性層の厚みは、０．００５μｍ〜０．２０μｍであることが好ましく、０．０１μｍ〜０．１０μｍであることがよりに好ましい。０．００５μｍ〜０．２０μｍとすることで、再生出力の低下、オーバーライト特性および分解能の劣化を防ぐことができる。
【００９９】
６）カーボンブラック、研磨剤
磁性層には、カーボンブラックを含有させることが好ましい。当該カーボンブラックとしては、ゴム用ファーネス、ゴム用サーマル、カラー用ブラック、アセチレンブラック等を用いることができる。
カーボンブラックのＳＢＥＴは５ｍ2／ｇ〜５００ｍ2／ｇであることが好ましく、ＤＢＰ吸油量は１０ｍＬ／１００ｇ〜４００ｍＬ／１００ｇであることが好ましい。平均粒子径は５ｎｍ〜３００ｎｍであることが好ましく、１０ｎｍ〜２５０ｎｍであることがより好ましく、２０ｎｍ〜２００ｎｍであるであることがさらに好ましい。ｐＨは２〜１０であることが好ましく、含水率は０．１％〜１０％であることが好ましく、タップ密度は０．１ｇ／ｍＬ〜１ｇ／ｍＬであることが好ましい。
【０１００】
上記カーボンブラックの具体的な例としては、ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ−２０００、１３００、１０００、９００、９０５、８００、７００、ＶＵＬＣＡＮ ＸＣ−７２（以上、キャボット社製）、＃８０、＃６０、＃５５、＃５０、＃３５（以上、旭カーボン社製）、＃２４００Ｂ、＃２３００、＃９００、＃１０００、＃３０、＃４０、＃１０Ｂ（以上、三菱化成工業社製）、ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ ＳＣ、ＲＡＶＥＮ１５０、５０、４０、１５、ＲＡＶＥＮ−ＭＴ−Ｐ（以上、コロンビアンカーボン社製）、ケッチェンブラックＥＣ（日本ＥＣ社製）等が挙げられる。
【０１０１】
カーボンブラックは、分散剤などで表面処理したり、樹脂でグラフト化して使用してもよい。また、その表面の一部をグラファイト化したものを使用してもよい。さらに、カーボンブラックを磁性塗料に添加する前にあらかじめ結合剤で分散してもかまわない。
これらのカーボンブラックは単独、または組み合わせて使用することができる。カーボンブラックを使用する場合は磁性体（磁性粒子）に対する全質量の０．１％〜３０％の範囲で使用することが好ましい。カーボンブラックは磁性層の帯電防止、摩擦係数低減、遮光性付与、膜強度向上などの働きがあり、これらは用いるカーボンブラックにより異なる。従って、本発明に使用されるこれらのカーボンブラックは上層の磁性層、下層の非磁性層でその種類、量、組合せを変え、粒子サイズ、吸油量、電導度、ｐＨなどの先に示した諸特性をもとに目的に応じて使い分けることはもちろん可能であり、むしろ各層で最適化すべきものである。本発明の磁性層で使用できるカーボンブラックは、例えば、「カーボンブラック便覧」（カーボンブラック協会編）を参考にすることができる。
【０１０２】
また、磁性層には研磨剤を含有させることが好ましい。研磨剤としては、α化率９０％以上のα−アルミナ、β−アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、コランダム、人造ダイヤモンド、窒化ケイ素、炭化ケイ素チタンカーバイド、酸化チタン、二酸化ケイ素、または窒化ホウ素等、主としてモース硬度６以上の公知の材料が単独または組合せで使用される。また、これらの研磨剤どうしの複合体（研磨剤を他の研磨剤で表面処理したもの）を使用してもよい。これらの研磨剤には主成分以外の化合物または元素が含まれる場合もあるが主成分が９０質量％以上であれば効果にかわりはない。
【０１０３】
これら研磨剤の粒子サイズは０．０１μｍ〜２μｍであることが好ましく、０．０５μｍ〜１．０μｍであることがより好ましく、０．０５μｍ〜０．５μｍであることがさらに好ましい。
特に電磁変換特性を高めるためには、その粒度分布が狭い方が好ましい。また耐久性を向上させるには必要に応じて粒子サイズの異なる研磨剤を組み合わせたり、単独の研磨剤でも粒径分布を広くして同様の効果をもたせることも可能である。研磨剤のタップ密度は０．３ｇ／ｍＬ〜２ｇ／ｍＬであることが好ましく、含水率は０．１％〜５％であることが好ましく、ｐＨは２〜１１であることが好ましく、ＳＢＥＴは１ｍ2／ｇ〜３０ｍ2／ｇであることが好ましい。研磨剤の形状は針状、球状、サイコロ状、のいずれでもよいが、形状の一部に角を有するものが研磨性を高くすることができ好ましい。
【０１０４】
具体的には、ＡＫＰ−１２、ＡＫＰ−１５、ＡＫＰ−２０、ＡＫＰ−３０、ＡＫＰ−５０、ＨＩＴ２０、ＨＩＴ−３０、ＨＩＴ−５５、ＨＩＴ６０Ａ、ＨＩＴ７０、ＨＩＴ８０、ＨＩＴ１００（以上、住友化学社製）、ＥＲＣ−ＤＢＭ、ＨＰ−ＤＢＭ、ＨＰＳ−ＤＢＭ（以上、レイノルズ社製）、ＷＡ１００００（不二見研磨剤社製）、ＵＢ２０（上村工業社製）、Ｇ−５、クロメックスＵ２、クロメックスＵ１（以上、日本化学工業社製）、ＴＦ１００、ＴＦ１４０（以上、戸田工業社製）、ベータランダムウルトラファイン（イビデン社製）、Ｂ−３（昭和鉱業社製）等が挙げられる。これらの研磨剤は必要に応じ非磁性層に添加することもできる。非磁性層に添加することで表面形状を制御したり、研磨剤の突出状態を制御したりすることができる。これら磁性層、非磁性層の添加する研磨剤の粒径、量はむろん最適値に設定すべきものである。
【０１０５】
７）その他の添加剤
磁性層および後述の非磁性層には、種々の添加剤を含有させることが好ましい。使用される添加剤としては、潤滑効果、帯電防止効果、分散効果、可塑効果等の少なくとも１つの効果を有するものが適宜使用される。
【０１０６】
例えば、二硫化モリブデン、二硫化タングステングラファイト、窒化ホウ素、フッ化黒鉛、シリコーンオイル、極性基をもつシリコーン、脂肪酸変性シリコーン、フッ素含有シリコーン、フッ素含有アルコール、フッ素含有エステル、ポリオレフィン、ポリグリコール、アルキル燐酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、アルキル硫酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、ポリフェニルエーテル、フェニルホスホン酸、αナフチル燐酸、フェニル燐酸、ジフェニル燐酸、ｐ−エチルベンゼンホスホン酸、フェニルホスフィン酸、アミノキノン類、各種シランカップリング剤、チタンカップリング剤、フッ素含有アルキル硫酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、炭素数１０〜２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また、分岐していてもよい）、および、これらの金属塩（Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｕなど）または、炭素数１２〜２２の一価、二価、三価、四価、五価、六価アルコール（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもよい）、炭素数１２〜２２のアルコキシアルコール、炭素数１０〜２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもよい）と炭素数２〜１２の一価、二価、三価、四価、五価、六価アルコールのいずれか一つ（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもよい）とからなるモノ脂肪酸エステルまたはジ脂肪酸エステルまたはトリ脂肪酸エステル、アルキレンオキシド重合物のモノアルキルエーテルの脂肪酸エステル、炭素数８〜２２の脂肪酸アミド、炭素数８〜２２の脂肪族アミン、等が使用できる。
【０１０７】
より具体的には、脂肪酸では、カプリン酸、カプリル酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、オレイン酸、エライジン酸、リノール酸、リノレン酸、およびイソステアリン酸などが挙げられる。エステル類ではブチルステアレート、オクチルステアレート、アミルステアレート、イソオクチルステアレート、ブチルミリステート、オクチルミリステート、ブトキシエチルステアレート、ブトキシジエチルステアレート、２−エチルヘキシルステアレート、２−オクチルドデシルパルミテート、２−ヘキシルドデシルパルミテート、イソヘキサデシルステアレート、オレイルオレエート、ドデシルステアレート、トリデシルステアレート、エルカ酸オレイル、ネオペンチルグリコールジデカノエート、エチレングリコールジオレイル；アルコール類ではオレイルアルコール、ステアリルアルコール、およびラウリルアルコール等が挙げられる。
【０１０８】
また、アルキレンオキサイド系、グリセリン系、グリンドール系、アルキルフェノールエチレンオキサイド付加体、等のノニオン界面活性剤；環状アミン、エステルアミド、第四級アンモニウム塩類、ヒダントイン誘導体、複素環類、ホスホニウムまたはスルホニウム類等のカチオン系界面活性剤；カルボン酸、スルホン酸、燐酸、硫酸エステル基、または燐酸エステル基などの酸性基を含むアニオン界面活性剤；アミノ酸類、アミノスルホン酸類、アミノアルコールの硫酸または燐酸エステル類、アルキルベダイン型等の両性界面活性剤；等も使用できる。
これらの界面活性剤については、「界面活性剤便覧」（産業図書（株）発行）に詳細に記載されている。これらの潤滑剤、帯電防止剤等は必ずしも１００％純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応物、副反応物、分解物、酸化物等の不純物が含まれてもかまわない。これらの不純物は３０質量％以下が好ましく、１０％以下がより好ましい。
【０１０９】
これらの潤滑剤および界面活性剤は個々に異なる物理的作用を有するものであり、その種類、量、および相乗的効果を生み出す潤滑剤または界面活性剤の併用比率は目的に応じ最適に定められるべきものである。当該目的としては、（１）非磁性層、磁性層で融点の異なる脂肪酸を用い表面へのにじみ出しを制御する、（２）沸点、融点や極性の異なるエステル類を用い表面へのにじみ出しを制御する、（３）界面活性剤量を調節することで塗布の安定性を向上させる、（４）潤滑剤の添加量を中間層で多くして潤滑効果を向上させる、等考えられ、無論ここに示した例のみに限られるものではない。一般には、潤滑剤の総量としては、磁性体（磁性粒子）または非磁性粉末に対し、０．１質量％〜５０質量％とすることが好ましく、２質量％〜２５質量％とすることがより好ましい。
【０１１０】
また、本発明で用いられる添加剤のすべて、または、その一部は、磁性塗料製造および非磁性塗料製造のどの工程で添加してもかまわない。例えば、混練工程前に磁性体と混合する場合、磁性体と結合剤と溶剤とによる混練工程で添加する場合、分散工程で添加する場合、分散後に添加する場合、塗布直前に添加する場合などがある。
【０１１１】
また、目的に応じて磁性層を塗布した後、同時または逐次塗布で、添加剤の一部または全部を塗布することにより目的が達成される場合がある。さらに、目的によってはカレンダー処理を施した後、またはスリット終了後、磁性層表面に潤滑剤を塗布することもできる。
【０１１２】
８）非磁性層
次に、非磁性層に関する詳細な内容について説明する。非磁性層は実質的に非磁性であればその構成は制限されるべきものではないが、通常、少なくとも樹脂からなり、好ましくは、粉体、例えば、無機粉末もしくは有機粉末が樹脂中に分散されたものが挙げられる。無機粉末は、好ましくは非磁性粉末であるが、非磁性層が実質的に非磁性である範囲で磁性粉末も使用することができる。
【０１１３】
これら非磁性粉末の粒子サイズ（粒径）は、０．００５μｍ〜２μｍの範囲が好ましいが、必要に応じて粒子サイズの異なる非磁性粉末を組み合わせたり、単独の非磁性粉末でも粒径分布を広くして同様の効果をもたせることもできる。とりわけ好ましい非磁性粉末の粒子サイズは、０．０１μｍ〜０．２μｍの範囲である。特に、非磁性粉末が粒状金属酸化物である場合は、平均粒子径は０．０８μｍ以下が好ましい。針状金属酸化物である場合は、長軸長が０．３μｍ以下であることが好ましく、０．２μｍ以下であることがさらに好ましい。タップ密度は０．０５ｇ／ｍＬ〜２ｇ／ｍＬであることが好ましく、０．２ｇ／ｍＬ〜１．５ｇ／ｍＬであることがより好ましい。非磁性粉末の含水率は０．１質量％〜５質量％であることが好ましく、０．２質量％〜３質量％であることがより好ましく、０．３〜１．５質量％であることがさらに好ましい。非磁性粉末のｐＨは２〜１１であることが好ましく、ｐＨは５．５〜１０であることが特に好ましい。
【０１１４】
非磁性粉末のＳＢＥＴ（比表面積）は１ｍ2／ｇ〜１００ｍ2／ｇであることが好ましく、５ｍ2／ｇ〜８０ｍ2／ｇであることがより好ましく、１０ｍ2／ｇ〜７０ｍ2／ｇであることがさらに好ましい。非磁性粉末の結晶子サイズ（結晶子径）は０．００４μｍ〜１μｍが好ましく、０．０４μｍ〜０．１μｍが更に好ましい。ＤＢＰ（ジブチルフタレート）を用いた吸油量は５〜１００ｍＬ／１００ｇであることが好ましく、１０〜８０ｍＬ／１００ｇであることがより好ましく、２０〜６０ｍＬ／１００ｇであることがさらに好ましい。非磁性粉末の比重は１〜１２であることが好ましく、３〜６であることがより好ましい。形状は針状、球状、多面体状、板状のいずれでも良い。モース硬度は４以上１０以下のものが好ましい。
非磁性粉末のＳＡ（ステアリン酸）吸着量は１μｍｏｌ／ｍ2〜２０μｍｏｌ／ｍ2であることが好ましく、２μｍｏｌ／ｍ2〜１５μｍｏｌ／ｍ2であることがより好ましく、３μｍｏｌ／ｍ2〜８μｍｏｌ／ｍ2であることがさらに好ましい。ｐＨは３〜６の間が好ましい。
【０１１５】
非磁性粉末としては、例えば、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化物等の無機化合物から選択することができる。
無機化合物としては、例えば、α化率９０％以上のα−アルミナ、β−アルミナ、γ−アルミナ、θ−アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、ヘマタイト、ゲータイト、コランダム、窒化ケイ素、チタンカーバイト、酸化チタン、二酸化ケイ素、酸化スズ、酸化マグネシウム、酸化タングステン、酸化ジルコニウム、窒化ホウ素、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、または二硫化モリブデンなどを単独または組合せて使用される。特に好ましいのは、粒度分布の小ささ、機能付与の手段が多いこと等から、二酸化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄、または硫酸バリウムであり、最も好ましいのは、二酸化チタン、α酸化鉄である。
【０１１６】
非磁性粉末の具体的な例（製品名）としては、ナノタイト（昭和電工製）、ＨＩＴ−１００、ＺＡ−Ｇ１（以上、住友化学製）、αへマタイトＤＰＮ−２５０、ＤＰＮ−２５０ＢＸ、ＤＰＮ−２４５、ＤＰＮ−２７０ＢＸ、ＤＰＮ−５００ＢＸ、ＤＢＮ−ＳＡ１、ＤＢＮ−ＳＡ３（以上、戸田工業社製）、酸化チタンＴＴＯ−５１Ｂ、ＴＴＯ−５５Ａ、ＴＴＯ−５５Ｂ、ＴＴＯ−５５Ｃ、ＴＴＯ−５５Ｓ、ＴＴＯ−５５Ｄ、ＳＮ−１００、αへマタイトＥ２７０、Ｅ２７１、Ｅ３００、Ｅ３０３（以上、石原産業製）、酸化チタンＳＴＴ−４Ｄ、ＳＴＴ−３０Ｄ、ＳＴＴ−３０、ＳＴＴ−６５Ｃ、αへマタイトα−４０（以上、チタン工業製）、ＭＴ−１００Ｓ、ＭＴ−１００Ｔ、ＭＴ−１５０Ｗ、ＭＴ−５００Ｂ、ＭＴ−６００Ｂ、ＭＴ−１００Ｆ、ＭＴ−５００ＨＤ（以上、テイカ製）、ＦＩＮＥＸ−２５、ＢＦ−１、ＢＦ−１０、ＢＦ−２０、ＳＴ−Ｍ（以上、堺化学製）、ＤＥＦＩＣ−Ｙ、ＤＥＦＩＣ−Ｒ（以上、同和鉱業製）、ＡＳ２ＢＭ、ＴｉＯ２Ｐ２５（以上、日本アエロジル製）、１００Ａ、５００Ａ（以上、宇部興産製）等が挙げられる。特に好ましい非磁性粉末は二酸化チタンとα−酸化鉄である。
【０１１７】
これらの非磁性粉末の表面には、表面処理を施すことによりＡｌ2Ｏ3、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2、ＳｎＯ2、Ｓｂ2Ｏ3、ＺｎＯ、またはＹ2Ｏ3のいずれか１以上を存在させることが好ましい。分散性を考慮すると、Ａｌ2Ｏ3、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2、またはＺｒＯ2であることが好ましいが、更に好ましいのはＡｌ2Ｏ3、ＳｉＯ2、またはＺｒＯ2である。
これらは組み合わせて使用しても良いし、単独で用いることもできる。また、目的に応じて共沈させた表面処理層を用いてもよいし、先ずアルミナを存在させた後にその表層をシリカで処理する方法、またはその逆の方法を採ることもできる。また、表面処理層は目的に応じて多孔質層にしても構わないが、均質で密である方が一般には好ましい。
【０１１８】
非磁性層中にカーボンブラックを混合させて表面電気抵抗Ｒｓを下げること、光透過率を小さくすることができるとともに、所望のマイクロビッカース硬度を得る事ができる。
また、非磁性層にカーボンブラックを含ませることで潤滑剤貯蔵の効果をもたらすことも可能である。カーボンブラックの種類はゴム用ファーネス、ゴム用サーマル、カラー用ブラック、またはアセチレンブラック等を用いることができる。非磁性層のカーボンブラックは所望する効果によって、以下のような特性を最適化すべきであり、併用することでより効果が得られることがある。
【０１１９】
非磁性層のカーボンブラックのＳＢＥＴは１００ｍ2／ｇ〜５００ｍ2／ｇであることが好ましく、１５０ｍ2／ｇ〜４００ｍ2／ｇであることがより好ましい。ＤＢＰ吸油量は２０〜４００ｍＬ／１００ｇであることが好ましく、３０〜４００ｍＬ／１００ｇであることがより好ましい。カーボンブラックの粒子径は５ｎｍ〜８０ｎｍであることが好ましく、１０ｎｍ〜５０ｎｍであることがより好ましく、１０ｎｍ〜４０ｎｍであることがさらに好ましい。カーボンブラックのｐＨは２〜１０であることが好ましく、含水率は０．１％〜１０％であることが好ましく、タップ密度は０．１ｇ／ｍＬ〜１ｇ／ｍＬであることが好ましい。
【０１２０】
本発明に用いられるカーボンブラックの具体的な例（製品名）としては、ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ２０００、１３００、１０００、９００、８００、８８０、７００、ＶＵＬＣＡＮＸＣ−７２（以上、キャボット社製）、＃３０５０Ｂ、＃３１５０Ｂ、＃３２５０Ｂ、＃３７５０Ｂ、＃３９５０Ｂ、＃９５０、＃６５０Ｂ、＃９７０Ｂ、＃８５０Ｂ、ＭＡ−６００、ＭＡ−２３０、＃４０００、＃４０１０（以上、三菱化成工業社製）、ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ ＳＣ、ＲＡＶＥＮ ８８００、８０００、７０００、５７５０、５２５０、３５００、２１００、２０００、１８００、１５００、１２５５、１２５０（以上、コロンビアンカーボン社製）、ケッチェンブラックＥＣ（アクゾー社製）等が挙げられる。
【０１２１】
カーボンブラックは、分散剤などで表面処理したり、樹脂でグラフト化して使用してもよく、またその表面の一部をグラファイト化したものを使用してもかまわない。さらに、カーボンブラックを塗料に添加する前にあらかじめ結合剤で分散してもよい。これらのカーボンブラックは上記無機粉末に対して５０質量％を越えない範囲で、かつ、非磁性層の総質量の４０％を越えない範囲で使用できる。これらのカーボンブラックは単独、または組み合わせて使用することができる。本発明で使用できるカーボンブラックは例えば「カーボンブラック便覧」（カーボンブラック協会編）を参考にすることができる。
【０１２２】
また、非磁性層には有機質粉末を目的に応じて、添加することもできる。例えば、アクリルスチレン系樹脂粉末、ベンゾグアナミン樹脂粉末、メラミン系樹脂粉末、およびフタロシアニン系顔料が挙げられるが、ポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、またはポリフッ化エチレン樹脂も使用することができる。その製法は、特開昭６２−１８５６４号公報、特開昭６０−２５５８２７号公報に記載されているような方法を使用できる。
【０１２３】
非磁性層の厚みは、０．２μｍ〜５．０μｍとすることが好ましく、０．３μｍ〜３．０μｍとすることがより好ましく、１．０μｍ〜２．５μｍとすることがさらに好ましい。
なお、非磁性層は実質的に非磁性であればその効果を発揮するものであり、例えば、不純物として、または意図的に少量の磁性体（磁性材料）を含んでいてもよい。「実質的に非磁性」とは残留磁束密度が０．０１Ｔ以下または保磁力が７．９６ｋＡ／ｍ（１００Ｏｅ以下）であることを示し、好ましくは残留磁束密度と保磁力をもたないことを示す。
【０１２４】
非磁性層の結合剤樹脂、潤滑剤、分散剤、添加剤、溶剤、分散方法その他は、磁性層のそれが適用できる。特に、結合剤樹脂量、種類、添加剤、分散剤の添加量、種類に関しては磁性層に関する公知技術が適用できる。
【０１２５】
支持体と非磁性層または磁性層との間には密着性向上のための下塗層を設けてもかまわない。下塗層の厚みは０．０１μｍ〜０．５μｍが好ましく、０．０２μｍ〜０．５μｍであることがより好ましい。本発明の磁気記録媒体は、支持体両面に非磁性層と磁性層とを設けてなるディスク状媒体であっても、片面のみに設けたテープ状媒体またはディスク状媒体でもよい。この場合、帯電防止やカール補正等の効果を出すために非磁性層、磁性層側と反対側にバック層を設けてもかまわない。バック層の厚みは、０．１μｍ〜４μｍであることが好ましく、０．３μｍ〜２．０μｍであることがより好ましい。これらの下塗層、後述するバック層には公知の材料が使用できる。
【０１２６】
９）バック層
一般に、コンピュータデータ記録用の磁気テープは、ビデオテープ、オーディオテープに比較して、繰り返し走行性が強く要求される。このような高い走行耐久性を維持させるために、バック層には、カーボンブラックと無機粉末とが含有されていることが好ましい。
【０１２７】
カーボンブラックは、平均粒子径の異なる二種類のものを組み合わせて使用することが好ましい。この場合、平均粒子径が１０ｎｍ〜２０ｎｍの微粒子状カーボンブラックと平均粒子径が２３０ｎｍ〜３００ｎｍの粗粒子状カーボンブラックを組み合わせて使用することが好ましい。
【０１２８】
一般に、上記のような微粒子状のカーボンブラックの添加により、バック層の表面電気抵抗を低く設定でき、また光透過率も低く設定できる。磁気記録装置によっては、テープの光透過率を利用し、動作の信号に使用しているものが多くあるため、このような場合には特に微粒子状のカーボンブラックの添加は有効になる。また微粒子状カーボンブラックは一般に液体潤滑剤の保持力に優れ、潤滑剤併用時、摩擦係数の低減化に寄与する。
【０１２９】
一方、体積平均粒子径が２３０ｎｍ〜３００ｎｍの粗粒子状カーボンブラックは、固体潤滑剤としての機能を有しており、また、バック層の表面に微小突起を形成し、接触面積を低減化して、摩擦係数の低減化に寄与する。しかし、粗粒子状カーボンブラックを単独で用いると、過酷な走行系では、テープ摺動により、バック層からの脱落が生じ易くなり、エラー比率の増大につながる欠点を有している。
【０１３０】
微粒子状カーボンブラックの具体的な製品名としては、以下のものを挙げることができる。カッコ内は体積平均粒子径を示す。すなわち、ＲＡＶＥＮ２０００Ｂ（１８ｎｍ）、ＲＡＶＥＮ１５００Ｂ（１７ｎｍ）（以上、コロンビアカーボン社製）、ＢＰ８００（１７ｎｍ）（キャボット社製）、ＰＲＩＮＮＴＥＸ９０（１４ｎｍ）、ＰＲＩＮＴＥＸ９５（１５ｎｍ）、ＰＲＩＮＴＥＸ８５（１６ｎｍ）、ＰＲＩＮＴＥＸ７５（１７ｎｍ）（以上、デグサ社製）、＃３９５０（１６ｎｍ）（三菱化成工業（株）製）等である。
また、粗粒子カーボンブラックの具体的な製品名としては、サーマルブラック（２７０ｎｍ）（カーンカルブ社製）、ＲＡＶＥＮ ＭＴＰ（２７５ｎｍ）（コロンビアカーボン社製）を挙げることができる。
【０１３１】
バック層において、平均粒子径の異なる二種類のものを使用する場合、体積平均粒径が１０ｎｍ〜２０ｎｍの微粒子状カーボンブラックと２３０ｎｍ〜３００ｎｍの粗粒子状カーボンブラックの含有比率（質量比）は、前者：後者＝９８：２〜７５：２５の範囲にあることが好ましく、さらに好ましくは、９５：５〜８５：１５の範囲である。
【０１３２】
バック層中のカーボンブラック（２種類のものを使用する場合には、その全量）の含有量は、結合剤１００質量部に対して、通常３０質量部〜８０質量部の範囲であり、好ましくは、４５〜６５質量部の範囲である。
【０１３３】
無機粉末は、硬さの異なる２種類のものを併用することが好ましい。具体的には、モース硬度３〜４．５の軟質無機粉末とモース硬度５〜９の硬質無機粉末とを使用することが好ましい。モース硬度が３〜４．５の軟質無機粉末を添加することで、繰り返し走行による摩擦係数の安定化を図ることができる。しかもこの範囲の硬さでは、摺動ガイドポールが削られることもない。またこの無機粉末の平均粒子径は、３０ｎｍ〜５０ｎｍの範囲にあることが好ましい。
【０１３４】
モース硬度が３〜４．５の軟質無機粉末としては、例えば、硫酸カルシウム、炭酸カルシウム、珪酸カルシウム、硫酸バリウム、炭酸マグネシウム、炭酸亜鉛、及び酸化亜鉛を挙げることができる。これらは、単独で、あるいは２種以上を組み合わせて使用することができる。
【０１３５】
バック層内の軟質無機粉末の含有量は、カーボンブラック１００質量部に対して１０質量部〜１４０質量部の範囲にあることが好ましく、さらに好ましくは、３５質量部〜１００質量部である。
【０１３６】
モース硬度が５〜９の硬質無機粉末を添加することにより、バック層の強度が強化され、走行耐久性が向上する。これらの無機粉末をカーボンブラックや前記軟質無機粉末と共に使用すると、繰り返し摺動に対しても劣化が少なく、強いバック層となる。また、この無機粉末の添加により、適度の研磨力が付与され、テープガイドポール等への削り屑の付着が低減する。特に軟質無機粉末と併用すると、表面の粗いガイドポールに対しての摺動特性が向上し、バック層の摩擦係数の安定化も図ることができる。
【０１３７】
硬質無機粉末は、その平均粒子サイズが８０ｎｍ〜２５０ｎｍ（さらに好ましくは、１００ｎｍ〜２１０ｎｍ）の範囲にあることが好ましい。
【０１３８】
モース硬度が５〜９の硬質無機質粉未としては、例えば、α−酸化鉄、α−アルミナ、及び酸化クロム（Ｃｒ2Ｏ3）を挙げることができる。これらの粉末は、それぞれ単独で用いても良いし、あるいは併用しても良い。これらの内では、α−酸化鉄又はα−アルミナが好ましい。硬質無機粉末の含有量は、カーボンブラック１００質量部に対して通常３〜３０質量部であり、好ましくは、３質量部〜２０質量部である。
【０１３９】
バック層に前記軟質無機粉末と硬質無機粉末とを併用する場合、軟質無機粉末と硬質無機粉末との硬さの差が、２以上（更に好ましくは、２．５以上、特に、３以上）であるように軟質無機粉末と硬質無機粉末とを選択して使用することが好ましい。
【０１４０】
バック層には、前記それぞれ特定の平均粒子サイズを有するモース硬度の異なる二種類の無機粉末と、前記平均粒子サイズの異なる２種類のカーボンブラックとが含有されていることが好ましい。
【０１４１】
バック層には、潤滑剤を含有させることができる。潤滑剤は、前述した非磁性層、あるいは磁性層に使用できる潤滑剤として挙げた潤滑剤の中から適宜選択して使用できる。バック層において、潤滑剤は、結合剤１００質量部に対して通常１〜５質量部の範囲で添加される。
【０１４２】
１０）保護膜等
また、磁性層上に非常に薄い保護膜を形成することで、耐磨耗性を改善し、さらにその保護膜上に潤滑剤を塗布して滑り性を高めることによって、十分な信頼性を有する磁気記録媒体とすることができる。
【０１４３】
保護膜の材質としては、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、酸化コバルト、または酸化ニッケルなどの酸化物；窒化チタン、窒化ケイ素、または窒化ホウ素などの窒化物；炭化ケイ素、炭化クロム、または炭化ホウ素等の炭化物；グラファイト、無定型カーボンなどの炭素（カーボン）；等があげられるが、特に好ましくは、一般に、ダイヤモンドライクカーボンと呼ばれる硬質の非晶質のカーボンである。
【０１４４】
カーボンからなるカーボン保護膜は、非常に薄い膜厚で十分な耐磨耗性を有し、摺動部材に焼き付きを生じ難いため、保護膜の材料としては好適である。
カーボン保護膜の形成方法として、ハードディスクにおいては、スパッタリング法が一般的であるが、ビデオテープ等の連続成膜を行う必要のある製品ではより成膜速度の高いプラズマＣＶＤを用いる方法が多数提案されている。従って、これらの方法を適用することが好ましい。
中でもプラズマインジェクションＣＶＤ（ＰＩ−ＣＶＤ）法は成膜速度が非常に高く、得られるカーボン保護膜も硬質かつピンホールが少ない良質な保護膜が得られると報告されている（例えば、特開昭６１−１３０４８７号公報、特開昭６３−２７９４２６号公報、特開平３−１１３８２４号公報等）。
【０１４５】
このカーボン保護膜は、ビッカース硬度で１０００ｋｇ／ｍｍ2以上であることが好ましく、２０００ｋｇ／ｍｍ2以上であることがより好ましい。また、その結晶構造はアモルファス構造であり、かつ非導電性であることが好ましい。
そして、カーボン保護膜として、ダイヤモンド状炭素（ダイヤモンドライクカーボン）膜を使用した場合、この構造はラマン光分光分析によって確認することができる。すなわち、ダイヤモンド状炭素膜を測定した場合には、１５２０ｃｍ-1〜１５６０ｃｍ-1にピークが検出されることによって確認することができる。炭素膜の構造がダイヤモンド状構造からずれてくるとラマン光分光分析により検出されるピークが上記範囲からずれるとともに、保護膜としての硬度も低下する。
【０１４６】
このカーボン保護膜を形成するための炭素原料としては、メタン、エタン、プロパン、またはブタン等のアルカン；エチレン、プロピレン等のアルケン；アセチレン等のアルキン；をはじめとした炭素含有化合物を用いることが好ましい。また、必要に応じてアルゴンなどのキャリアガスや膜質改善のための水素や窒素などの添加ガスを加えることができる。
【０１４７】
カーボン保護膜の膜厚が厚いと、電磁変換特性の悪化や磁性層に対する密着性の低下が生じ、膜厚が薄いと耐磨耗性が不足する。従って、膜厚は、２．５ｎｍ〜２０ｎｍとすることが好ましく、５ｎｍ〜１０ｎｍとすることがより好ましい。
また、この保護膜と基板となる磁性層の密着性を改善するために、あらかじめ磁性層表面を不活性ガスでエッチングしたり、酸素等の反応性ガスプラズマに曝して表面改質する事が好ましい。
【０１４８】
走行耐久性および耐食性を改善するため、上記磁性層もしくは保護膜上に潤滑剤や防錆剤を付与することが好ましい。添加する潤滑剤としては公知の炭化水素系潤滑剤、フッ素系潤滑剤、極圧添加剤などが使用できる。
【０１４９】
炭化水素系潤滑剤としては、ステアリン酸、オレイン酸等のカルボン酸類；ステアリン酸ブチル等のエステル類；オクタデシルスルホン酸等のスルホン酸類；リン酸モノオクタデシル等のリン酸エステル類；ステアリルアルコール、オレイルアルコール等のアルコール類；ステアリン酸アミド等のカルボン酸アミド類；ステアリルアミン等のアミン類；などが挙げられる。
【０１５０】
フッ素系潤滑剤としては、上記炭化水素系潤滑剤のアルキル基の一部または全部をフルオロアルキル基もしくはパーフルオロポリエーテル基で置換した潤滑剤が挙げられる。
パーフルオロポリエーテル基としては、パーフルオロメチレンオキシド重合体、パーフルオロエチレンオキシド重合体、パーフルオロ−ｎ−プロピレンオキシド重合体（ＣＦ2ＣＦ2ＣＦ2Ｏ）n、パーフルオロイソプロピレンオキシド重合体（ＣＦ（ＣＦ3）ＣＦ2Ｏ）nまたはこれらの共重合体等である。
【０１５１】
また、炭化水素系潤滑剤のアルキル基の末端や分子内に水酸基、エステル基、カルボキシル基などの極性官能基を有する化合物が、摩擦力を低減する効果が高く好適である。
さらに、この分子量は、５００〜５０００、好ましくは１０００〜３０００である。５００〜５０００とすることで、揮発を抑え、また潤滑性の低下を抑えることができる。また、粘度が高くなるのを防ぎ、スライダーとディスクが吸着しやすなって走行停止やヘッドクラッシュなどを発生するのを防ぐことができる。
このパーフルオロポリエーテルは、具体例として、ＦＯＭＢＬＩＮ（アウジモンド社製）、ＫＲＹＴＯＸ（デュポン社製）などの商品名で市販されている。
【０１５２】
極圧添加剤としては、リン酸トリラウリル等のリン酸エステル類、亜リン酸トリラウリル等の亜リン酸エステル類、またはトリチオ亜リン酸トリラウリル等のチオ亜リン酸エステルやチオリン酸エステル類、二硫化ジベンジル等の硫黄系極圧剤、等が挙げられる。
【０１５３】
前記潤滑剤は単独もしくは複数を併用して使用される。これらの潤滑剤を磁性層もしくは保護膜上に付与する方法としては、潤滑剤を有機溶剤に溶解し、ワイヤーバー法、グラビア法、スピンコート法、ディップコート法等で塗布するか、真空蒸着法によって付着させればよい。
【０１５４】
防錆剤としては、ベンゾトリアゾール、ベンゾイミダゾール、プリン、またはピリミジン等の窒素含有複素環類およびこれらの母核にアルキル側鎖等を導入した誘導体；ベンゾチアゾール、２−メルカプトンベンゾチアゾール、テトラザインデン環化合物、またはチオウラシル化合物等の窒素および硫黄含有複素環類およびこの誘導体；等が挙げられる。
【０１５５】
１１）物理特性
本発明の磁気記録媒体は、以下に説明するような物理特性を有することが好ましい。
本発明になる磁気記録媒体の磁性層の飽和磁束密度は、好ましくは０．１Ｔ〜０．３Ｔである。磁性層の保磁力Ｈｃは９５．５ｋＡ／ｍ（１２００Ｏｅ）〜９５５ｋＡ／ｍ（１２０００Ｏｅ）が好ましく、１５９ｋＡ／ｍ（２０００〜６０００Ｏｅ）〜４７８ｋＡ／ｍ（２０００〜６０００Ｏｅ）がより好ましい。保磁力の分布は狭い方が好ましく、ＳＦＤは０．６以下が好ましい。
【０１５６】
磁気ディスクの場合、角形比は２次元ランダムの場合は０．５５以上０．６７以下で、好ましくは０．５８以上、０．６４以下、３次元ランダムの場合は０．４５以上、０．５５以下が好ましく、垂直配向の場合は垂直方向に０．６以上好ましくは０．７以上、反磁界補正を行った場合は０．７以上好ましくは０．８以上である。２次元ランダム、３次元ランダムとも配向度比は０．８以上が好ましい。２次元ランダムの場合、垂直方向の角形比、Ｂｒ、Ｈｃは面内方向の０．１〜０．５倍以内とすることが好ましい。
【０１５７】
磁気テープの場合、角型比は通常、０．５５以上であり、好ましくは０．７以上である。本発明の磁気記録媒体のヘッドに対する摩擦係数は温度−１０℃から４０℃、湿度０％から９５％の範囲において０．５以下、好ましくは０．３以下、表面固有抵抗は好ましくは磁性層表面１０4オーム／ｓｑ〜１０12オーム／ｓｑ、帯電位は−５００Ｖから＋５００Ｖ以内が好ましい。磁性層の０．５％伸びでの弾性率は面内各方向で好ましくは１００ｋｇ／ｍｍ2〜２０００ｋｇ／ｍｍ2（０．９８ＧＰａ〜１９．６ＧＰａ）、破断強度は好ましくは１０ｋｇ／ｍｍ2〜７０ｋｇ／ｍｍ2（９８ＭＰａ〜６８６ＭＰａ）、磁気記録媒体の弾性率は面内各方向で好ましくは１００ｋｇ／ｍｍ2〜１５００ｋｇ／ｍｍ2（０．９８ＧＰａ〜１４．７ＧＰａ）、残留のびは好ましくは０．５％以下、１００℃以下のあらゆる温度での熱収縮率は好ましくは１％以下、さらに好ましくは０．５％以下、もっとも好ましくは０．１％以下である。磁性層のガラス転移温度（１１０Ｈｚで測定した動的粘弾性測定の損失弾性率の極大点）は５０℃以上１２０℃以下が好ましく、下層非磁性層のそれは０℃〜１００℃が好ましい。
【０１５８】
損失弾性率は１×１０9μＮ／ｃｍ2〜８×１０10μＮ／ｃｍ2の範囲にあることが好ましく、損失正接は０．２以下であることが好ましい。損失正接が大きすぎると粘着故障が発生しやすい。これらの熱特性や機械特性は媒体の面内各方向で１０％以内にあることが好ましい。磁性層中に含まれる残留溶媒は好ましくは１００ｍｇ／ｍ2以下、さらに好ましくは１０ｍｇ／ｍ2以下である。塗布層が有する空隙率は非磁性層、磁性層とも好ましくは３０容量％以下、さらに好ましくは２０容量％以下である。空隙率は高出力を果たすためには小さい方が好ましいが、目的によってはある値を確保した方が良い場合がある。例えば、繰り返し用途が重視されるディスク媒体では空隙率が大きい方が走行耐久性は好ましいことが多い。
【０１５９】
磁性層の中心面平均表面粗さＲａはＷＹＫＯ社製ＴＯＰＯ−３Ｄを用いて、２５０μｍ×２５０μｍの面積での測定で４．０ｎｍ以下、好ましくは３．８ｎｍ以下、さらに好ましくは３．５ｎｍ以下である。磁性層の最大高さＲｍａｘは０．５μｍ以下、十点平均粗さＲｚは０．３μｍ以下、中心面山高さＲｐは０．３μｍ以下、中心面谷深さＲｖは０．３μｍ以下、中心面面積率Ｓｒは２０％以上８０％以下、平均波長λａは５μｍ以上、３００μｍ以下が好ましい。磁性層の表面突起は前述の通りに設定することにより電磁変換特性、摩擦係数を最適化することが好ましい。これらは支持体のフィラーによる表面性のコントロールや前述したように磁性層に添加する粉体の粒径と量、カレンダー処理のロール表面形状などで容易にコントロールすることができる。カールは±３ｍｍ以内とすることが好ましい。
【０１６０】
本発明の磁気記録媒体で、非磁性層と磁性層とを有する場合、目的に応じ非磁性層と磁性層でこれらの物理特性を変えることができるのは容易に推定されることである。例えば、磁性層の弾性率を高くし走行耐久性を向上させると同時に非磁性層の弾性率を磁性層より低くして磁気記録媒体のヘッドへの当りを良くするなどである。
【０１６１】
支持体上に磁性粒子を塗布するには、前記アニール処理を施した後の磁性粒子含有液に必要に応じて種々の添加剤を添加して、支持体上に塗布すればよい。このときの磁性粒子の含有量は所望の濃度（０．００１ｇ／ｍＬ〜０．１ｇ／ｍＬ）とすることが好ましい。
【０１６２】
支持体に塗布する方法としては、エアードクターコート、ブレードコート、ロッドコート、押出しコート、エアナイフコート、スクイズコート、含浸コート、リバースロールコート、トランスファーロールコート、グラビヤコート、キスコート、キャストコート、スプレイコート、またはスピンコート等が利用できる。
【０１６３】
既述のように支持体上に磁性粒子（磁性粒子含有液）を塗布し、４０℃〜２００℃で乾燥処理等を施して、磁性層を形成し、本発明の磁気記録媒体とすることができる。
本発明の磁気記録媒体は、磁性層にすでに強磁性化された磁性粒子を含有するため、支持体上に塗布した後に高温でのアニール処理をする必要がない。従って、高温による磁性粒子の凝集がなく、磁性粒子が高分散な状態で磁性層中に存在する磁気記録媒体とすることができる。
【０１６４】
形成される磁性層の厚さは、適用される磁気記録媒体の種類にもよるが、４ｎｍ〜１μｍであることが好ましく、４ｎｍ〜１００ｎｍであることがより好ましい。
【０１６５】
以上のようにして製造される磁気記録媒体は、表面の中心線平均粗さが、カットオフ値０．２５ｍｍにおいて、好ましくは０．１ｎｍ〜５ｎｍ、より好ましくは０．１ｎｍ〜３ｎｍの範囲とする。このように、極めて優れた平滑性を有する表面とすることが、高密度記録用の磁気記録媒体として好ましいからである。
このような表面を得る方法として、磁性層を形成した後にカレンダー処理を施す方法が挙げられる。また、バーニッシュ処理を施してもよい。
【０１６６】
得られた磁気記録媒体は、適宜、打ち抜き機で打ち抜いたり、裁断機などを使用して所望の大きさに裁断して使用することができる。
【０１６７】
３．本発明の用途
本発明の強磁性規則合金ナノ粒子は、ビデオテープ、コンピュータテープ等の磁気テープ；フロッピー（登録商標）ディスク、ハードディスク等の磁気ディスク；等の磁気記録媒体に用いられる。
【実施例】
【０１６８】
以下、実施例をもとに本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１６９】
（実施例１〜８）
化学的な合成法により作製したＦｅＰｔ合金ナノ粒子分散溶液（濃度：４質量％、溶媒：デカン）を図１に示されるスリットを通過させ、レーザ光を照射して、磁性ナノ粒子分散液を作製した。スリットの条件、および照射したレーザー光の波長を表１に示した。
得られた磁性ナノ粒子分散物における粒子の融合の有無を表１に示したが、いずれも融合を生じなかった。
【０１７０】
【表１】
【０１７１】
（比較例１、２）
実施例１〜８と同様に化学的な合成法により作製したＦｅＰｔ合金ナノ粒子分散溶液をガラス容器に入れて撹拌しながら、レーザ光を照射して、磁性ナノ粒子分散液を作製した。
得られた磁性ナノ粒子分散物における粒子には、いずれもかなりの粒子融合が認められた。
【０１７２】
【表２】
【０１７３】
《磁気特性の評価》
実施例１〜８および比較例１〜２で作製した磁性ナノ粒子について、磁気特性の評価を行った。磁気特性の評価（保磁力の測定）は、東英工業製の高感度磁化ベクトル測定機と同社製ＤＡＴＡ処理装置を使用し、印加磁場７９０ｋＡ／ｍ（１０ｋＯｅ）の条件で行った。また、結晶構造の解析は、理学電機製のＸ線回折装置を用い、管電圧５０ｋＶ、管電流３００ｍＡとし、線源にＣｕＫα線を使用しゴニオメーターを用いた粉末法で行った。
得られた結果を表３に示した。
【０１７４】
スリット部の短方向深さが１μｍ〜１００μｍのスリットを用いてレーザ照射を施した実施例１〜６の磁性ナノ粒子は、いずれも面心正方晶の規則相を有するものであり、磁気記録媒体として十分な保磁力を示した。実施例７および８では、保磁力が増加したが実施例１〜６には及ばなかった。また、一部に規則相が見られたが、不規則相の粒子が多く、保磁力は低かった。また、実施例７、８では、粒子の融合が見られた。これは、レーザの焦点から外れた流域を通る粒子が多くなったためと考えられる。また、比較例１および２では、面心立方晶の不規則相で、保磁力は低く、粒子の融合も多く見られた。
【０１７５】
【表３】
【０１７６】
（実施例９）
１．磁気記録媒体の作製
【０１７７】
実施例１〜８および比較例１、２で作製した磁性粒子を、宇部興産製のユーピレックス（材質：ポリイミド、厚さ：７５μｍ）上に塗布し、２００℃で乾燥して磁性層を形成し、磁気記録媒体を作製した。
２．性能評価
本発明による磁性体を用いた磁気記録媒体においては、磁性層に含有される磁性粒子は、互いに凝集することなく、高分散な状態を維持していた。かかる結果から、本発明の磁性体粒子は塗布適性にも優れていることが確認された。特に実施例１〜６の磁性体粒子が優れていた。
一方、比較例の磁性体粒子を用いた磁気記録媒体においては、磁性層に含有される磁性粒子は、磁性体粒子の融合が原因と思われる凝集が認められ、塗布膜の面状が不均一であった。
【図面の簡単な説明】
【０１７８】
【図１】本発明を実施するためのスリット部の構成を示す模式図である。
【符号の説明】
【０１７９】
１ 蓋部
２ 本体部
３ 流入口
４ 流出口
５ 液の流れる方向
６ レーザ光
【技術分野】
【０００１】
本発明は、強磁性ナノ粒子の製造方法、それによって製造された強磁性ナノ粒子、およびそれを含む磁気記録媒体に関する。特に、新規なレーザー加熱手段による強磁性ナノ粒子の製造方法、それによって製造された強磁性ナノ粒子、およびそれを含む磁気記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
磁気記録媒体に使用する磁性体の粒子サイズを小さくする事は磁気記録密度を高くする上で必要である。たとえば、ビデオテープ、コンピューターテープ、ディスク等として広く用いられている磁気記録媒体では，強磁性体の質量が同じ場合、粒子サイズを小さくしていった方がノイズは下がる。
【０００３】
ＣｕＡｕ型あるいはＣｕ3Ａｕ型強磁性規則合金は、規則化時に発生する歪みのために結晶磁気異方性が大きく、粒子サイズを小さくしても強磁性を示すことから、磁気記録密度向上に有望な素材である。
【０００４】
ＣｕＡｕ型あるいはＣｕ3Ａｕ型強磁性規則合金を形成しうる合金ナノ粒子は、作製直後は面心立方晶となる。面心立方晶は通常、軟磁性または常磁性を示す。軟磁性または常磁性では、保磁力が低いために記録媒体には適していない。磁気記録媒体に必要な９５．５ｋＡ／ｍ以上の保磁力を有する強磁性規則合金を得るには、不規則相から規則相へ変態する変態温度以上で加熱処理を施す必要がある。通常は、５００℃以上で変態が起こることが知られている。このため、工業的に使用できる支持体が、耐熱性の高い無機物に限られていた。
【０００５】
分散液の状態で強磁性ナノ粒子を得ることができれば、支持体の材質を問わずに磁気記録媒体を作製することが可能となる。分散液の状態で強磁性ナノ粒子を得る方法として、非特許文献１、２および特許文献１などが知られている。非特許文献１では、界面活性剤だけで保護されたナノ粒子を支持体表面に静置沈降させることで強磁性体ナノ粒子塗布物を得ているが、この様な静置沈降させる方法は時間がかかり工業的に好ましくない。非特許文献２ではバインダー中で磁性ナノ粒子を合成することが示唆されているが、バインダー中で磁性ナノ粒子を合成しただけでは、磁気記録媒体に必要とされる保磁力Ｈｃが９５．５ｋＡ／ｍ（１２００Ｏｅ）以上の強磁性ナノ粒子を得ることはできない。特許文献１では、高保磁力を有する強磁性ナノ粒子分散液が得られているが、磁性ナノ粒子の分散状態は、十分ではない。
【０００６】
一方、金属ナノ粒子の分散液にレーザ光を照射する技術が特許文献２により知られている。しかし、この方法では、金属ナノ粒子にレーザ光が不均一に当たるうえ、金属ナノ粒子同士が融合するため、均一な規則結晶を得ることはできない。
【非特許文献１】Ｓｃｉｅｎｃｅ、Ｖｏｌ．２８７、Ｐ．１９８９（２０００）
【非特許文献２】Ｓｔｕｄｉｅｓ ｉｎ Ｓｕｒｆａｃｅ ａｎｄ Ｃａｔａｌｙｓ ｉｓ １ ３２、ｐ．２４３（２００１）
【特許文献１】特開２００５−１０５４０８号明細書
【特許文献２】特開２００４−９７９１０号明細書
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、強磁性ナノ粒子の製造方法、それによって製造された強磁性ナノ粒子、およびそれを含む磁気記録媒体を提供するものである。特に、新規なレーザー加熱手段による強磁性ナノ粒子の製造方法、それによって製造された強磁性ナノ粒子、およびそれを含む磁気記録媒体を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記の課題を解決すべく鋭意検討の結果、本発明者は以下に示す手段により解決できることを見出した。
＜１＞ ＣｕＡｕ型またはＣｕ3Ａｕ型強磁性規則合金ナノ粒子の製造方法であって、前記ＣｕＡｕ型またはＣｕ3Ａｕ型強磁性規則合金相を形成しうる合金ナノ粒子を含む分散液をスリット間隙を通過させ、該スリットの長手方向に沿ってレーザー光を線状に照射することにより前記分散液に含まれる合金ナノ粒子に加熱処理を施して、該合金ナノ粒子を規則結晶化することを特徴とする強磁性規則合金ナノ粒子の製造方法。
＜２＞ 前記スリットの短方向間隙が１μｍ以上１００μｍ以下、且つ、前記スリットの長手方向間隙が前記短方向間隙の２倍以上の長さを有することを特徴とする＜１＞に記載の強磁性規則合金ナノ粒子の製造方法。
＜３＞ 複数のレーザーの発振源を有し、前記スリットの長手方向に並列にレーザー光が照射されることを特徴とする＜１＞または＜２＞に記載の強磁性規則合金ナノ粒子の製造方法。
＜４＞ 前記分散液のスリット間隙の流れ方向に沿って複数箇所においてレーザ光を線状照射することを特徴とする、＜１＞〜＜３＞のいずれか１項に記載の強磁性規則合金ナノ粒子の製造方法。
＜５＞ 前記レーザ光の波長が３６０ｎｍ以上８８０ｎｍ以下であることを特徴とする＜１＞〜＜４＞のいずれか１項に記載の強磁性規則合金ナノ粒子の製造方法。
＜６＞ ＜１＞〜＜５＞のいずれか１項に記載の製造方法によって製造された強磁性規則合金ナノ粒子。
＜７＞ 磁性層を有する磁気記録媒体であって、＜６＞に記載の強磁性規則合金ナノ粒子を含有することを特徴とする磁気記録媒体。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、新たな強磁性ナノ粒子の製造方法、それによって製造された強磁性ナノ粒子、およびそれを含む磁気記録媒体がを提供される。特に、新規なレーザー加熱手段による強磁性ナノ粒子の製造方法、それによって製造された強磁性ナノ粒子、およびそれを含む磁気記録媒体が提供される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下において、本発明を詳細に説明する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることであるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。なお、本発明書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
【００１１】
１．強磁性規則合金ナノ粒子
１）組成
【００１２】
本発明における多元系合金磁性ナノ粒子としては、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｒ等の酸化還元電位が卑な金属（−０．２Ｖ（ｖｓ．Ｎ．Ｈ．Ｅ）程度以下の金属）とＰｔ、Ｐｄ、Ｒｈ等の酸化還元電位が貴な金属（−０．２Ｖ（ｖｓ．Ｎ．Ｈ．Ｅ）程度以上の金属）の合金が好ましく挙げられる。さらに、アニ−ル処理時の結晶変態温度を下げるために、前記２元系合金に、Ｓｂ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｃｕ、Ａｇ、Ｚｎ、Ｉｎなどの第三元素を有しても良い。前記酸化還元電位が卑な金属と酸化還元電位が貴な金属の原子比率は、７０：３０〜３０：７０が好ましく、６０：４０〜４０：６０がより好ましく、さらに５５：４５〜４５：５５が好ましい。前記第三元素の添加量は、２元系合金に対し、１原子％〜３０原子％がであることが好ましく、５原子％〜２０原子％であることがより好ましい。
【００１３】
２）液相合成法
本発明におけるＣｕＡｕ型構造の磁性ナノ粒子を形成しうる液相合成法としては、沈殿法で分類すると、（１）１級アルコールを用いるアルコール還元法、（２）２級、３級、２価または３価のアルコールを用いるポリオール還元法、（３）熱分解法、（４）超音波分解法、（５）強力還元剤還元法、などを利用することができる。
また、反応系で分類すると、（６）高分子存在法、（７）高沸点溶媒法、（８）正常ミセル法、（９）逆ミセル法、などを利用することができる。この内、（２）と（６）の組み合わせ、（５）と（６）の組み合わせおよび（５）と（９）の組み合わせが好ましく利用できる。特に、粒径が制御しやすい点から逆ミセル法が好ましい。
【００１４】
（逆ミセル法）
逆ミセル法は、少なくとも、（１）２種の逆ミセル溶液を混合して還元反応を行う還元工程と、（２）還元反応後に所定温度で熟成する熟成工程と、を有する。以下、各工程について説明する。
【００１５】
（１）還元工程：
まず、界面活性剤を含有する非水溶性有機溶媒と還元剤水溶液とを混合した逆ミセル溶液（Ｉ）を調製する。
【００１６】
前記界面活性剤としては、油溶性界面活性剤が用いられる。具体的には、スルホン酸塩型（例えば、エーロゾルＯＴ（和光純薬製））、４級アンモニウム塩型（例えば、セチルトリメチルアンモニウムブロマイド）、エーテル型（例えば、ペンタエチレングリコールドデシルエーテル）などが挙げられる。
非水溶性有機溶媒中の界面活性剤量は、２０ｇ／Ｌ〜２００ｇ／Ｌであることが好ましい。
【００１７】
前記界面活性剤を溶解する非水溶性有機溶媒として好ましいものは、アルカン、エーテル等が挙げられる。
アルカンとしては、炭素数７〜１２のアルカン類であることが好ましい。具体的には、ヘプタン、オクタン、イソオクタン、ノナン、デカン、ウンデカン、またはドデカン等が好ましい。
エーテルとしては、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、またはジブチルエーテル等が好ましい。
【００１８】
還元剤水溶液中の還元剤としては、アルコール類；ポリオール類；Ｈ2；ＨＣＨＯ、Ｓ2Ｏ62-、Ｈ2ＰＯ2-、ＢＨ4-、Ｎ2Ｈ5+、Ｈ2ＰＯ3-などを含む化合物；を単独で使用、または２種以上を併用することが好ましい。
水溶液中の還元剤量は、金属塩１モルに対して、３モル〜５０モルであることが好ましい。
【００１９】
ここで、逆ミセル溶液（Ｉ）溶液中の水と界面活性剤との質量比（水／界面活性剤）は、２０以下となるようにすることが好ましい。質量比が２０以下であると、沈殿の生成を抑え、粒子も揃いやすいといった利点がある。質量比は、１５以下とすることが好ましく、０．５〜１０とすることがより好ましい。なお、逆ミセル溶液（Ｉ）溶液とともに、目的に応じて、上記質量比や使用原料を変えた逆ミセル溶液（Ｉ’）、（Ｉ’’）等を調製し、これらを併用してもよい。
【００２０】
上記とは別に、界面活性剤を含有する非水溶性有機溶媒と金属塩水溶液とを混合した逆ミセル溶液（II）を調製する。
界面活性剤および非水溶性有機溶媒の条件（使用する物質、濃度等）については、逆ミセル溶液（Ｉ）の場合と同様である。
なお、逆ミセル溶液（Ｉ）と同種のものまたは異種のものを使用することができる。また、逆ミセル溶液（II）中の水と界面活性剤との質量比も逆ミセル溶液（Ｉ）の場合と同様であり、逆ミセル溶液（Ｉ）の質量比と同一としてもよく、異なっていてもよい。また、逆ミセル溶液（II）とともに、目的に応じて、上記質量比や使用原料を変えた逆ミセル溶液（II’）、（II’’）等を調製し、これらを併用してもよい。
【００２１】
金属塩水溶液に含有される金属塩としては、作製しようとする磁性粒子がＣｕＡｕ型あるいはＣｕ3Ａｕ型強磁性規則合金を形成し得るように、適宜選択することが好ましい。
ここで、当該ＣｕＡｕ型強磁性規則合金としては、ＦｅＮｉ、ＦｅＰｄ、ＦｅＰｔ、ＣｏＰｔ、ＣｏＡｕなどが挙げられ、なかでもＦｅＰｄ、ＦｅＰｔ、ＣｏＰｔであることが好ましい。
Ｃｕ3Ａｕ型強磁性規則合金としては、Ｎｉ3Ｆｅ、ＦｅＰｄ3、Ｆｅ3Ｐｔ、ＦｅＰｔ3、ＣｏＰｔ3、Ｎｉ3Ｐｔ、ＣｒＰｔ3、Ｎｉ3Ｍｎが挙げられ、なかでもＦｅＰｄ3、ＦｅＰｔ3、ＣｏＰｔ3、Ｆｅ3Ｐｄ、Ｆｅ3Ｐｔ、Ｃｏ3Ｐｔが好ましい。
【００２２】
金属塩の具体例としては、Ｈ2ＰｔＣｌ6、Ｋ2ＰｔＣｌ4、Ｐｔ（ＣＨ3ＣＯＣＨＣＯＣＨ3）2、Ｎａ2ＰｄＣｌ4、Ｐｄ（ＯＣＯＣＨ3）2、ＰｄＣｌ2、Ｐｄ（ＣＨ3ＣＯＣＨＣＯＣＨ3）2、ＨＡｕＣｌ4、Ｆｅ2（ＳＯ4）3、Ｆｅ（ＮＯ3）3、（ＮＨ4）3Ｆｅ（Ｃ2Ｏ4）3、Ｆｅ（ＣＨ3ＣＯＣＨＣＯＣＨ3）3、ＮｉＳＯ4、ＣｏＣｌ2、Ｃｏ（ＯＣＯＣＨ3）2などが挙げられる。
【００２３】
金属塩水溶液中の濃度（金属塩濃度として）は、０．１μｍｏｌ／ｍＬ〜１０００μｍｏｌ／ｍＬであることが好ましく、１μｍｏｌ／ｍＬ〜１００μｍｏｌ／ｍＬであることがより好ましい。
【００２４】
以上のようにして調製した逆ミセル溶液（Ｉ）と（II）とを混合する。混合方法としては、特に限定されるものではないが、還元の均一性を考慮して、逆ミセル溶液（Ｉ）を撹拌しながら、逆ミセル溶液（II）を添加していって混合することが好ましい。混合終了後、還元反応を進行させることになるが、その際の温度は、−５℃〜３０℃の範囲で、一定の温度とすることが好ましい。
還元温度を−５℃〜３０℃とすることで、水相が凝結して還元反応が不均一になるといった問題を解消し、凝集または沈殿が起こりやすく系が不安定となる問題をも解消することができる。好ましい還元温度は０℃〜２５℃であり、より好ましくは５℃〜２５℃である。
ここで、前記「一定温度」とは、設定温度をＴ（℃）とした場合、当該ＴがＴ±３℃の範囲にあることをいう。なお、このようにした場合であっても、当該Ｔの上限および下限は、上記還元温度（−５℃〜３０℃）の範囲にあるものとする。
【００２５】
還元反応の時間は、逆ミセル溶液の量等により適宜設定する必要があるが、１分〜３０分とすることが好ましく、５分〜２０分とすることがより好ましい。
【００２６】
還元反応は、粒径分布の単分散性に大きな影響を与えるため、できるだけ高速攪拌しながら行うことが好ましい。
好ましい攪拌装置は高剪断力を有する攪拌装置であり、詳しくは、攪拌羽根が基本的にタービン型あるいはパドル型の構造を有し、さらに、その羽根の端もしくは、羽根と接する位置に鋭い刃を付けた構造であり、羽根をモーターで回転させる攪拌装置である。具体的には、ディゾルバー（特殊機化工業製）、オムニミキサー（ヤマト科学製）、ホモジナイザー（ＳＭＴ製）などの装置が有用である。これらの装置を用いることにより、単分散な合金粒子を安定な分散液として合成することができる。
上記装置の回転数は、２０００ｒｐｍ〜２００００ｒｐｍにすることが好ましい。
【００２７】
前記逆ミセル溶液（Ｉ）および（II）の反応後に、アミノ基またはカルボキシ基を１個〜３個有する少なくとも１種の分散剤を、作製しようとする合金粒子１モル当たり、０．００１モル〜１０モル添加することが好ましい。
【００２８】
かかる分散剤を添加することで、より単分散で、凝集の無い合金粒子を得ることが可能となる。添加量が、０．００１モル〜１０モルとすることで、合金粒子の単分散性をより向上させながら、凝集の発生を抑制することができる。
【００２９】
前記分散剤としては、合金粒子表面に吸着する基を有する有機化合物が好ましい。具体的には、アミノ基、カルボキシ基、スルホン酸基またはスルフィン酸基を１個〜３個有するものであり、これらを単独または併用して用いることができる。
構造式としては、Ｒ−ＮＨ2、ＮＨ2−Ｒ−ＮＨ2、ＮＨ2−Ｒ（ＮＨ2）−ＮＨ2、Ｒ−ＣＯＯＨ、ＣＯＯＨ−Ｒ−ＣＯＯＨ、ＣＯＯＨ−Ｒ（ＣＯＯＨ）−ＣＯＯＨ、Ｒ−ＳＯ3Ｈ、ＳＯ3Ｈ−Ｒ−ＳＯ3Ｈ、ＳＯ3Ｈ−Ｒ（ＳＯ3Ｈ）−ＳＯ3Ｈ、Ｒ−ＳＯ2Ｈ、ＳＯ2Ｈ−Ｒ−ＳＯ2Ｈ、ＳＯ2Ｈ−Ｒ（ＳＯ2Ｈ）−ＳＯ2Ｈで表される化合物であり、式中のＲは直鎖、分岐または環状の飽和、不飽和の炭化水素である。
【００３０】
分散剤として特に好ましい化合物はオレイン酸である。オレイン酸はコロイドの安定化において周知の界面活性剤であり、鉄等の金属粒子を保護するのに用いられてきた。オレイン酸の比較的長い（たとえば、オレイン酸は１８炭素鎖を有し長さは〜２０オングストローム（〜２ｎｍ）である。オレイン酸は脂肪族ではなく二重結合が１つある）鎖は粒子間の強い磁気相互作用を打ち消す重要な立体障害を与える。
エルカ酸やリノール酸など類似の長鎖カルボン酸もオレイン酸同様に（たとえば、８〜２２の間の炭素原子を有する長鎖有機酸を単独でまたは組み合わせて用いることができる）用いられる。オレイン酸は（オリーブ油など）容易に入手できる安価な天然資源であるので好ましい。また、オレイン酸から誘導されるオレイルアミンもオレイン酸同様有用な分散剤である。
【００３１】
以上のような還元工程では、ＣｕＡｕ型あるいはＣｕ3Ａｕ型強磁性規則合金相中のＣｏ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｒ等の酸化還元電位が卑な金属（−０．２Ｖ（ｖｓ．Ｎ．Ｈ．Ｅ）程度以下の金属）が還元し、極小サイズで単分散な状態で析出させることが好ましい。その後、昇温段階および後述する熟成工程において、析出した卑な金属を核とし、その表面で、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈ等の酸化還元電位が貴な金属（−０．２Ｖ（ｖｓ．Ｎ．Ｈ．Ｅ）程度以上の金属）が卑な金属で還元されて置換、析出させることが好ましい。イオン化した卑な金属は還元剤で再度還元されて析出すると考えられる。このような繰返しによって、ＣｕＡｕ型あるいはＣｕ3Ａｕ型強磁性規則合金を形成し得る合金粒子が得られる。
【００３２】
（２）熟成工程：
還元反応終了後、反応後の溶液を熟成温度まで昇温する。
前記熟成温度は、３０℃〜９０℃で一定の温度とすることが好ましく、その温度は、前記還元反応の温度より高くする。また、熟成時間は、５分〜１８０分とすることが好ましい。熟成温度および時間が上記範囲にあることで、凝集または沈殿を防ぎ、不完全な反応による組成変化を防ぐことができる。好ましい熟成温度および時間は４０℃〜８０℃および１０分〜１５０分であり、より好ましい熟成温度および時間は４０℃〜７０℃および２０分〜１２０分である。
【００３３】
ここで、前記「一定温度」とは、還元反応の温度の場合と同義（但し、この場合、「還元温度」は「熟成温度」となる）であるが、特に、上記熟成温度の範囲（３０℃〜９０℃）内で、前記還元反応の温度より５℃以上高いことが好ましく、１０℃以上高いことがより好ましい。５℃以上高くすることで、処方通りの組成が得られやすくなる。
【００３４】
以上のような熟成工程では、還元工程で還元析出した卑な金属上に貴な金属が析出する。
すなわち、卑な金属上でのみ貴な金属の還元が起こり、卑な金属と貴な金属とが別々に析出することが無いため、ＣｕＡｕ型あるいはＣｕ3Ａｕ型強磁性規則合金を形成し得る合金粒子を、高収率で処方組成比どおりに作製することが可能で、所望の組成に制御することができる。
【００３５】
前記熟成を行った後は、水と１級アルコールとの混合溶液で前記熟成後の溶液を洗浄し、その後、１級アルコールで沈殿化処理を施して沈殿物を生成させ、該沈殿物を有機溶媒で分散させる洗浄・分散工程を設けることが好ましい。
かかる洗浄・分散工程を設けることで、不純物が除去され、磁気記録媒体の磁性層を塗布により形成する際の塗布性をより向上させることができる。
上記洗浄および分散は、少なくともそれぞれ１回、好ましくは、それぞれ２回以上行う。
【００３６】
洗浄で用いる前記１級アルコールとしては、特に限定されるものではないが、メタノール、エタノール等が好ましい。体積混合比（水／１級アルコール）は、１０／１〜２／１の範囲にあることが好ましく、５／１〜３／１の範囲にあることがより好ましい。水の比率が高いと、界面活性剤が除去されにくくなることがあり、逆に１級アルコールの比率が高いと、凝集を起こしてしまうことがある。
【００３７】
以上のようにして、溶液中に分散した合金粒子（合金粒子含有液）が得られる。当該合金粒子は、単分散であるため、支持体に塗布しても、これらが凝集することなく均一に分散した状態を保つことができる。従って、アニール処理を施しても、それぞれの合金粒子が凝集することがないため、効率良く強磁性化することが可能で、塗布適性に優れる。
【００３８】
（還元法）
還元法でＣｕＡｕ型あるいはＣｕ3Ａｕ型強磁性規則合金を形成し得る合金粒子を作製するには種々の方法があるが、少なくとも、酸化還元電位が卑な金属（以下、単に「卑な金属」ということがある）と、酸化還元電位が貴な金属（以下、単に「貴な金属」ということがある）と、を有機溶剤もしくは水、または有機溶剤と水との混合溶液中で還元剤等を使用して還元する方法を適用することが好ましい。
卑な金属と貴な金属との還元順序は、特に限定されず、同時に還元してもよい。
【００３９】
前記有機溶剤としては、アルコール、ポリアルコール等を使用することが可能で、アルコールとしては、メタノール、エタノール、およびブタノール等が挙げられ、ポリアルコールとしては、エチレングリコール、グリセリン等が挙げられる。
なお、ＣｕＡｕ型あるいはＣｕ3Ａｕ型強磁性規則合金の例としては、既述の逆ミセル法の場合と同様である。
また、貴な金属を先に析出させて合金粒子を調製する方法としては、特開２００３−７３７０５号公報の段落１８〜３０等に記載の方法等を適用することができる。
【００４０】
酸化還元電位が貴な金属としては、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈ等が好ましく用いることができ、Ｈ2ＰｔＣｌ6・６Ｈ2Ｏ、Ｐｔ（ＣＨ3ＣＯＣＨＣＯＣＨ3）2、ＲｈＣｌ3・３Ｈ2Ｏ、Ｐｄ（ＯＣＯＣＨ3）2、ＰｄＣｌ2、Ｐｄ（ＣＨ3ＣＯＣＨＣＯＣＨ3）2等を溶媒に溶解して用いることができる。溶液中の金属の濃度は、０．１μｍｏｌ／ｍＬ〜１０００μｍｏｌ／ｍＬが好ましく、０．１μｍｏｌ／ｍＬ〜１００μｍｏｌ／ｍＬがより好ましい。
【００４１】
また、酸化還元電位が卑な金属としては、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｒを好ましく用いることができ、特に好ましくは、Ｆｅ、Ｃｏである。このような金属は、ＦｅＳＯ4・７Ｈ2Ｏ、ＮｉＳＯ4・７Ｈ2Ｏ、ＣｏＣｌ2・６Ｈ2Ｏ、Ｃｏ（ＯＣＯＣＨ3）2・４Ｈ2Ｏ等を溶媒に溶解して用いることができる。溶液中の金属の濃度は、０．１μｍｏｌ／ｍＬ〜１０００μｍｏｌ／ｍＬが好ましく、０．１μｍｏｌ／ｍＬ〜１００μｍｏｌ／ｍＬがより好ましい。
【００４２】
本発明においては、既述の逆ミセル法と同様に二元系合金に、第三元素を加える事で強磁性規則合金への変態温度を下げる。添加量としては逆ミセル法と同様である。
【００４３】
例えば、還元剤を用いて卑な金属と貴な金属とをこの順に還元して析出させる場合、−０．２Ｖ（ｖｓ．Ｎ．Ｈ．Ｅ）より卑な還元電位を持つ還元剤を用いて卑な金属あるいは卑な金属と貴な金属の一部を還元したものを、貴な金属源に加え酸化還元電位が−０．２Ｖ（ｖｓ．Ｎ．Ｈ．Ｅ）より貴な還元剤を用いて還元した後、−０．２Ｖ（ｖｓ．Ｎ．Ｈ．Ｅ）より卑な還元電位を持つ還元剤を用いて還元する事が好ましい。
酸化還元電位は系のｐＨに依存するが、酸化還元電位が−０．２Ｖ（ｖｓ．Ｎ．Ｈ．Ｅ）より貴な還元剤には、１，２−ヘキサデカンジオール等のアルコール類、グリセリン類、Ｈ2、ＨＣＨＯが好ましく用いられる。
−０．２Ｖ（ｖｓ．Ｎ．Ｈ．Ｅ）より卑な還元剤にはＳ2Ｏ62-、Ｈ2ＰＯ2-、ＢＨ4-、Ｎ2Ｈ5+、Ｈ2ＰＯ3-が好ましく用いる事ができる。
なお、卑な金属の原料として、Ｆｅカルボニル等の０価の金属化合物と用いる場合は、特に卑な金属の還元剤は必要ない。
【００４４】
貴な金属を還元析出させる際に吸着剤を存在させる事で合金粒子を安定して調製することができる。吸着剤としてはポリマーや界面活性剤を使用することが好ましい。
ポリマー種としては、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリＮ−ビニル−２ピロリドン（ＰＶＰ）、ゼラチン等が挙げられる。好ましくはＰＶＰである。
また、分子量は２万〜６万が好ましく、より好ましくは３万〜５万である。ポリマーの量は生成する合金粒子の質量の０．１倍〜１０倍であることが好ましく、０．１倍〜５倍がより好ましい。
【００４５】
吸着剤として好ましく用いられる界面活性剤は、一般式：Ｒ−Ｘ、で表される長鎖有機化合物である「有機安定剤」を含むことが好ましい。上記一般式中のＲは、直鎖または分岐ハイドロカーボンまたはフルオロカーボン鎖である「テール基」であり、通常８個〜２２個の炭素原子を含む。また、上記一般式中のＸは、合金粒子表面に特定の化学結合を提供する部分（Ｘ）である「ヘッド基」であり、スルフィネート（−ＳＯＯＨ）、スルホネート（−ＳＯ2ＯＨ）、ホスフィネート（−ＰＯＯＨ）、ホスホネート（−ＯＰＯ（ＯＨ）2）、カルボキシレート、およびチオールのいずれかであることが好ましい。
【００４６】
前記有機安定剤としては、スルホン酸（Ｒ−ＳＯ2ＯＨ）、スルフィン酸（Ｒ−ＳＯＯＨ）、ホスフィン酸（Ｒ2ＰＯＯＨ）、ホスホン酸（Ｒ−ＯＰＯ（ＯＨ）2）、カルボン酸（Ｒ−ＣＯＯＨ）、またはチオール（Ｒ−ＳＨ）等のいずれかであることが好ましい。これらのなかでも、逆ミセル法と同様のオレイン酸が特に好ましい。
【００４７】
前記ホスフィンと有機安定剤との組合せ（トリオルガノホスフィン／酸等）は、粒子の成長および安定化に対する優れた制御性を提供することができる。ジデシルエーテルおよびジドデシルエーテルも用いることができるが、フェニルエーテルまたはｎ−オクチルエーテルはその低コストおよび高沸点のため溶媒として好適に用いられる。
【００４８】
還元は必要な合金粒子および溶媒の沸点に合わせ、８０℃〜３６０℃の範囲の温度で行うことが好ましく、８０℃〜２４０℃がより好ましい。温度がこの温度範囲にあることで、制御性のよい粒子成長を促進し、望ましくない副産物の生成を抑制することができる。
【００４９】
粒径を大きくする方法としては種晶法が有効である。その際、粒子の酸化が懸念されるため、予め粒子を水素化処理することが好ましい。
【００５０】
また、合金粒子合成後に溶液から塩類を除くことは、合金粒子の分散安定性を向上させる意味から好ましい。脱塩にはアルコールを過剰に加え、軽凝集を起こし、自然沈降あるいは遠心沈降させ塩類を上澄みと共に除去する方法があるが、一般還元法では凝集が生じやすいため、限外濾過法を採用することが好ましい。以上のようにして、溶液中に分散した合金粒子（合金粒子含有液）が得られる。
【００５１】
３）アニール処理工程
合成後の合金粒子は不規則相である。既述のように不規則相では強磁性は得られない。そこで、規則相とするためには、熱処理（アニール処理）を施す必要がある。
【００５２】
本発明の製造方法におけるアニール処理は、前記合金分散物を溶媒を含んだ湿潤状態で、スリットを通過させ、該スリット部の通過中にレーザー光を照射することによって前記分散液に含まれる合金ナノ粒子に加熱処理を施すことを特徴とする。該スリット部の分散物が流動する間隙は、スリット部の特徴をなす狭い間隙と比較的広い幅を有する。本発明では前者をスリットの短方向間隙、後者をスリットの長手方向間隙と称する。
短方向間隙は、照射されたレーザー光が到達しその効果を及ぼし得る厚みで決定される。
本発明においては、好ましくは、前記スリットの短方向間隙が１μｍ以上１００μｍ以下である。短方向間隙が１μｍより小さいとアニール処理の生産性が低くなり好ましくなく、１００μｍを超えるとスリットを通過する合金分散物に十分に均一にレーザーが照射されないために好ましくない。
また、長手方向間隙は、線状に照射されるレーザー光の有効幅によって決定され、レーザー発振源の数を増やすことによって有効幅をいかようにも広げることができるが、生産性とコストの点から適切な幅が選択される。本発明においては、好ましくは、前記スリットの長手方向間隙が前記短方向間隙の２倍以上の長さである。
【００５３】
好ましくは、前記スリットの長手方向に複数のレーザー発振源を並列に配して、前記スリットの長手方向に均一にレーザー光が照射される。レーザー発振源の数は、前記スリットの長手方向の長さとレーザーの照射口径によって決定される。照射されたレーザーは合金粒子によって吸収され熱エネルギーに変換され、発熱する。発生した熱エネルギーは該粒子だけでなく近接する粒子にも伝達されるので、レーザー発振源は、前記スリットの長手方向に渉って必ずしも間隙なく密に配置する必要はない。レーザー発振源の数は、実効的に加熱効率の高い間隔で配置されるのが工業的コスト効率から好ましい。
【００５４】
レーザー照射は、前記分散液のスリット間隙の流れ方向に沿って１個所だけでなく、複数箇所において線状照射しても良い。配列の間隔は、前列におけるレーザー照射による加熱温度が放熱により低下しアニ−ル効果を失う前に行うのが好ましく、合金分散物のスリットを通過する流速と流量の放熱の関係から工業的に決定される。
【００５５】
前記レーザ光の波長は、前記合金による光吸収特性から適切は波長が選ばれるが、好ましくは３６０ｎｍ以上８８０ｎｍ以下である。
【００５６】
本発明によるスリット部におけるレーザーの線状照射について、より理解を深めるために図面による説明を行う。
図１は、本発明によるスリット部におけるレーザーの線状照射を示す模式図である。スリット部は、本体部２と蓋部１より構成され、本体部２には溝部を有する。本体部２における溝部の深さはスリットの短方向間隙を形成し、溝部の幅はスリットの長手方向間隙を形成する。本体部２と蓋部１を重ねて作動状態では、蓋部１と本体部２の溝部より形成される間隙部（スリット部）が構成される。スリット部の流入口３より合金分散物の流体が導入され、流出口４より排出される。合金分散物の流体はスリット部を通過する間に線状に配置されたレーザー光源を有するレーザー照射部６でレーザー照射される。レーザー照射部は、図１では１箇所のみを示しているが、照射効率を高めるために，流体の流れに沿って複数箇所設けることが好ましい。
【００５７】
アニール処理は１５０℃〜３５０℃かつ１ＭＰａ〜５０ＭＰａの条件下で行うことが好ましい。より好ましくは２００℃〜３５０℃かつ３ＭＰａ〜４０ＭＰａ、さらに好ましくは２００℃〜３５０℃かつ５ＭＰａ〜３０ＭＰａの条件下で行うことが好ましい。
アニール処理を１５０℃〜３５０℃かつ１ＭＰａ〜５０ＭＰａの条件下とすることで、溶媒中での規則相化をより促進することが可能となり、強磁性（特に、硬磁性）にすることができる。
【００５８】
使用する有機溶媒としては、非酸化性のものが好ましく、還元性の溶媒が特に好ましい。具体的には、エタノールアミン、オクチルアミンが好ましく、トリエタノールアミン、トリオクチルアミンがより好ましい。
この場合、当該有機溶媒は、合金粒子１ｍｇあたり、１００ｍＬ〜１０００ｍＬとすることが好ましく、２００ｍＬ〜５００ｍＬでリフラックス処理することがより好ましい。
【００５９】
上記以外に、本発明のアニール処理時の溶媒としては、アルカン類とアルコール類との混合溶媒を使用することが好ましい。具体例としては、アルカンは炭素数６〜１４の、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、イソオクタン、ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン、トリデカン、およびテトラデカンが挙げられ、アルコール類は、エチルアルコール、ブチルアルコール、ヘキシルアルコール、オクチルアルコール、１，２−エタンジオール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、および１，２−ヘキサンジオールなどが挙げられる。
溶媒は、合金粒子１ｇあたり、１０ｍＬ〜１００００ｍＬとすることが好ましく、１００ｍＬ〜１０００ｍＬがより好ましい。アルカン類とアルコール類の体積比は１／９〜９／１の範囲で用いることが好ましい。
【００６０】
アニール処理時の有機溶媒中には、分散剤を共存させることが好ましい。好ましい分散剤としては、合金粒子作製工程で述べた分散剤が有用である。
【００６１】
以上のようなアニール処理を施すことで、合金粒子が不規則相から規則相に相変態し、強磁性を有する磁性粒子が得られる。
【００６２】
合金相を有する磁性粒子の粒径は、ノイズを下げる観点から小さいことが好ましいが、小さすぎるとアニール後に超常磁性となり、磁気記録に不適当となることがある。本発明の合金粒子は、数平均粒径で１ｎｍ〜３０ｎｍが好ましく、２ｎｍ〜２０ｎｍであることがより好ましく、３ｎｍ〜１０ｎｍであることがさらに好ましい。
数平均粒径を１ｎｍ〜３０ｎｍとすることで、強磁性で、ノイズの低い磁気記録媒体とすることができる。
なお、数平均粒径は、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）で撮影した粒子写真を実測することにより測定することができる。
【００６３】
磁気記録媒体として用いるには合金相を有する磁性粒子を最密充填することが記録容量を高くする上で好ましく、そのためには、該磁性粒子の粒径の標準偏差は２０％以下が好ましく、より好ましくは１０％以下である。
【００６４】
合金相を有する磁性粒子の粒径評価には透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）を用いることができる。該磁性粒子の結晶系を決めるにはＴＥＭによる電子回折でもよいが、Ｘ線回折を用いた方が精度高く好ましい。該磁性粒子の個々の組成分析には、電子線を細く絞ることができるＦＥ−ＴＥＭにＥＤＡＸを付け評価することが好ましい。また、該磁性粒子の磁気的性質の評価はＶＳＭを用いて行うことができる。
【００６５】
本発明の製造方法により製造される磁性粒子は、その保磁力が９５．５〜９５５ｋＡ／ｍ（１２００〜１２０００Ｏｅ）であることが好ましく、磁気記録媒体に適用した場合、記録ヘッドが対応できることを考慮して１５９〜４７８ｋＡ／ｍ（２０００〜６０００Ｏｅ）であることがより好ましい。
【００６６】
２．磁気記録媒体
本発明の磁気記録媒体は、前記ＣｕＡｕ型またはＣｕ3Ａｕ型強磁性規則合金相を有する磁性粒子を含有する磁性層が支持体上に設けられてなる。
本発明の磁気記録媒体は、支持体上に形成された磁性層に本発明の磁性粒子を含有してなることを特徴とする。
当該磁気記録媒体としては、ビデオテープ、コンピュータテープ等の磁気テープ；フロッピー（登録商標）ディスク、ハードディスク等の磁気ディスク；等が挙げられる。
【００６７】
１）溶媒
アニール処理後の磁性粒子は、有機溶媒中に分散した状態で存在する。この磁性粒子を用いて磁性層を形成する場合、アニール処理後の磁性粒子含有液に結合剤を添加して塗布する必要がある。しかし、ウレタン樹脂等の結合剤は、極性溶媒を用いなければ溶解することができない。そこで、磁性粒子含有液に極性溶媒を添加し、結合剤を溶解することが考えられるが、極性溶媒を加えると磁性粒子の凝集が生じ、機械的に再分散を行う必要がある。磁性粒子はその粒径が非常に微小であるため、機械的な再分散では、充分な分散性が得られない。
【００６８】
上記現象は、本発明者らの次の実験からも明らかである。例えば、磁性粒子含有液（磁性粒子：２０質量％）に非極性溶媒（トルエン）を混合して、磁性粒子の含有量を１０質量％とした場合、磁性粒子は、良好な分散状態を保っている。これに対し、磁性粒子含有液（磁性粒子：２０質量％）に極性溶媒（シクロヘキサノン）を混合して、磁性粒子の含有量を１０質量％とした場合では、磁性粒子がやや凝集していることが確認できる。
一方、混合した後の両溶液に、結合剤（ウレタン樹脂）を混合すると、非極性溶媒を含有する溶液では、結合剤は溶解しないに対し、極性溶媒を含有する溶液では、結合剤が溶解するのを確認できる。
【００６９】
そこで、本発明では、磁性粒子含有液中に、非極性溶媒を添加し、その後、極性溶媒および結合剤を添加して塗布液を調製する。非極性溶媒を含有させることで、極性溶媒の価電で粒子の安定性を乱す効果を緩和する作用が生じ、磁性粒子の凝集が防がれると考えられる。
【００７０】
非極性溶媒は、磁性粒子の凝集を防ぐために含有させるものであるから、極性溶媒より先に磁性粒子含有液に添加することが好ましいが、極性溶媒と混合した状態、または、極性溶媒および結合剤と混合した状態で磁性粒子含有液に添加してもよい。
【００７１】
非極性溶媒としては、トルエン、ベンゼン、またはキシレン等の芳香族炭化水素類や、オクタン、デカン、ヘキサン、またはノナン等を少なくとも１種使用することが好ましい。非極性溶媒は、塗布液とする前の状態で２０〜９５質量％含有されていることが好ましく、３０〜８５質量％含有されていることがより好ましい。
【００７２】
極性溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、またはメチルイソブチルケトン等のケトン類；メタノール、エタノール、またはプロパノール等のアルコール類；酢酸メチル、酢酸ブチル、または酢酸イソブチル等のエステル類；グリコールジメチルエーテル、グリコールモノエチルエーテル等のグリコールエーテル系；シクロヘキサノン等を少なくとも１種使用することが好ましい。
極性溶媒は、塗布液とする前の状態で、２０質量％〜９５質量％含有されていることが好ましく、３０質量％〜８５質量％含有されていることがより好ましい。
【００７３】
結合剤の溶解性と磁性粒子の凝固防止との両立を図る観点から、極性溶媒と非極性溶媒との質量比（極性溶媒／非極性溶媒）は、１／９〜９／１であることが好ましく、２／８〜８／２であることがより好ましい。
【００７４】
２）結合剤
結合剤としては、公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂やこれらの混合物を使用することができる。
熱可塑性樹脂としては、ガラス転移温度が−１００℃〜１５０℃、数平均分子量が１，０００〜２００，０００（好ましくは１０，０００〜１００，０００）、重合度が約５０〜１０００のものを使用することが好ましい。
【００７５】
このような熱可塑性樹脂の例としては、塩化ビニル、酢酸ビニル、ビニルアルコール、マレイン酸、アクリル酸、アクリル酸エステル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、メタクリル酸、メタクリル酸エステル、スチレン、ブタジエン、エチレン、ビニルブチラール、ビニルアセタール、またはビニルエーテル等を構成単位として含む重合体または共重合体、ポリウレタン樹脂、各種ゴム系樹脂がある。
【００７６】
また、熱硬化性樹脂または反応型樹脂としては、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、アクリル系反応樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリコーン樹脂、エポキシーポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂とイソシアネートプレポリマーとの混合物、ポリエステルポリオールとポリイソシアネートとの混合物、ポリウレタンとポリイソシアネートとの混合物等が挙げられる。
これらの樹脂については、朝倉書店発行の「プラスチックハンドブック」に詳細に記載されている。また、公知の電子線硬化型樹脂を各層に使用することも可能である。これらの例とその製造方法については、特開昭６２−２５６２１９号公報に詳細に記載されている。
【００７７】
以上の樹脂は単独または組合せて使用できるが、好ましいものとしては、ポリウレタン単独の場合や、塩化ビニル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル酢酸ビニルビニルアルコール共重合体、塩化ビニル酢酸ビニル無水マレイン酸共重合体、から選ばれる少なくとも１種とポリウレタン樹脂との組合せ、または、上記した共重合体等にポリイソシアネートを組み合わせたものが挙げられる。
【００７８】
ポリウレタン樹脂の構造は、ポリエステルポリウレタン、ポリエーテルポリウレタン、ポリエーテルポリエステルポリウレタン、ポリカーボネートポリウレタン、ポリエステルポリカーボネートポリウレタン、またはポリカプロラクトンポリウレタン等が使用できる。
【００７９】
上記したすべての結合剤について、より優れた分散性と耐久性とを得るためには必要に応じ、−ＣＯＯＭ、−ＳＯ3Ｍ、−ＯＳＯ3Ｍ、−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）2、−Ｏ−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）2（以上につき「Ｍ」は水素原子、またはアルカリ金属塩基を表す）、ＯＨ、ＮＲ2、Ｎ+Ｒ3（以上につき「Ｒ」は炭化水素基を表す）やエポキシ基、ＳＨ、ＣＮ、等から選ばれる少なくとも１以上の極性基を共重合または付加反応で導入したものを用いることが好ましい。なかでも、−ＳＯ3Ｍが検討した中では好ましかった。このような極性基の量は１０-1モル／ｇ〜１０-8モル／ｇであることが好ましく、１０-2モル／ｇ〜１０-6モル／ｇであることがより好ましい。
【００８０】
本発明に用いられるこれらの結合剤の具体的な例（製品名）としては、ＶＡＧＨ、ＶＹＨＨ、ＶＭＣＨ、ＶＡＧＦ、ＶＡＧＤ、ＶＲＯＨ、ＶＹＥＳ、ＶＹＮＣ、ＶＭＣＣ、ＸＹＨＬ、ＸＹＳＧ、ＰＫＨＨ、ＰＫＨＪ、ＰＫＨＣ、ＰＫＦＥ（以上、ユニオンカーバイト社製）、ＭＰＲ−ＴＡ、ＭＰＲ−ＴＡ５、ＭＰＲ−ＴＡＬ、ＭＰＲ−ＴＳＮ、ＭＰＲ−ＴＭＦ、ＭＰＲ−ＴＳ、ＭＰＲ−ＴＭ、ＭＰＲ−ＴＡＯ（以上、日信化学工業社製）、１０００Ｗ、ＤＸ８０、ＤＸ８１、ＤＸ８２、ＤＸ８３、１００ＦＤ（以上、電気化学社製）、ＭＲ−１０４、ＭＲ−１０５、ＭＲ１１０、ＭＲ１００、ＭＲ５５５、４００Ｘ−１１０Ａ（以上、日本ゼオン社製）、ニッポランＮ２３０１、Ｎ２３０２、Ｎ２３０４（以上、日本ポリウレタン社製）、パンデックスＴ−５１０５、Ｔ−Ｒ３０８０、Ｔ−５２０１、バーノックＤ−４００、Ｄ−２１０−８０、クリスボン６１０９、７２０９（以上、大日本インキ社製）、バイロンＵＲ８２００、ＵＲ８３００、ＵＲ８７００、ＲＶ５３０、ＲＶ２８０（以上、東洋紡社製）、ダイフェラミン４０２０、５０２０、５１００、５３００、９０２０、９０２２、７０２０（以上、大日精化社製）、ＭＸ５００４（三菱化成社製）、サンプレンＳＰ−１５０（三洋化成社製）、サランＦ３１０、Ｆ２１０（以上、旭化成社製）等が挙げられる。
【００８１】
結合剤は、磁性層だけでなく非磁性層が形成される場合には、当該非磁性層にも含有される。非磁性層および磁性層に用いられる結合剤は、非磁性層の場合は非磁性粉末の全質量、磁性層の場合は強磁性規則合金（磁性粒子）の全質量に対し、２質量％〜５０質量％の範囲で使用することが好ましく、１０質量％〜３０質量％の範囲で使用することがより好ましい。塩化ビニル系樹脂を用いる場合は５質量％〜３０質量％、ポリウレタン樹脂を用いる場合は２質量％〜２０質量％、ポリイソシアネートは２質量％〜２０質量％の範囲でこれらを組み合わせて用いることが好ましいが、例えば、微量の脱塩素によりヘッド腐食が起こる場合は、ポリウレタン樹脂のみまたはポリウレタン樹脂とイソシアネートのみを使用することも可能である。
【００８２】
また、ポリウレタン樹脂を用いる場合は、そのガラス転移温度が−５０℃〜１５０℃であることが好ましく、０℃〜１００℃であることがより好ましく、３０℃〜９０℃であることがさらに好ましい。また、破断伸びは１００％〜２０００％であることが好ましく、破断応力は０．０５ｋｇ／ｍｍ2〜１０ｋｇ／ｍｍ2（０．４９ＭＰａ〜９８ＭＰａ）であることが好ましく、降伏点は０．０５ｋｇ／ｍｍ2〜１０ｋｇ／ｍｍ2（０．４９ＭＰａ〜９８ＭＰａ）であることが好ましい。
【００８３】
本発明の磁気記録媒体の磁性層は単層でもかまわないが、好ましくは２層以上から構成される。従って、結合剤量、結合剤中に含有される塩化ビニル系樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイソシアネート、あるいはそれ以外の樹脂の量、磁性層を形成する各樹脂の分子量、極性基量、あるいは先に述べた樹脂の物理特性などを必要に応じ各層で変えることはもちろん可能であり、むしろ各層で最適化すべきであり、多層磁性層に関する公知技術を適用できる。
例えば、各層で結合剤量を変更する場合、磁性層表面の擦傷を減らすためには磁性層の結合剤量を増量することが有効であり、ヘッドに対するヘッドタッチを良好にするためには、非磁性層の結合剤量を多くして柔軟性を持たせることができる。
【００８４】
ポリイソシアネートとしては、トリレンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレン−１、５−ジイソシアネート、ｏ−トルイジンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート等のイソシアネート類、また、これらのイソシアネート類とポリアルコールとの生成物、また、イソシアネート類の縮合によって生成したポリイソシアネート等を使用することができる。
これらのイソシアネート類の市販されている商品名としては、日本ポリウレタン社製コロネートＬ、コロネートＨＬ、コロネート２０３０、コロネート２０３１、ミリオネートＭＲ、ミリオネートＭＴＬ；武田薬品社製タケネートＤ−１０２、タケネートＤ−１１０Ｎ、タケネートＤ−２００、タケネートＤ−２０２；住友バイエル社製デスモジュールＬ、デスモジュールＩＬ、デスモジュールＮ、デスモジュールＨＬ；等があり、これらを単独または硬化反応性の差を利用して２種以上の組合せで各層とも用いることができる。
【００８５】
３）塗布
磁性粒子含有液に、結合剤、極性溶媒および非極性溶媒を添加して調製した塗布液は、後述する手段により支持体上に塗布（塗布工程）し、適宜乾燥等を行って磁性層を形成することで、本発明の磁気記録媒体が製造される。
【００８６】
以上のようにして作製された本発明の磁気記録媒体では、既述の塗布液を用いて磁性層が形成されるため、当該磁性層には、磁性粒子と、結合剤と、極性溶媒と、非極性溶媒と、が含有されている。
既述のように、上記塗布液中では磁性粒子同士が互いに凝集することなく高分散な状態で存在する。従って、かかる塗布液を使用して形成された磁性層中の磁性粒子の表面には、結合剤、極性溶媒、非極性溶媒が存在するため、互いに凝集することがなく、高い効率で強磁性を発揮することが可能となる。また、磁性粒子の再分散等を必要としないため、生産性の高い磁気記録媒体とすることができる。このような工程を経て、磁気記録媒体を作製するのがよい。そして、最終的には、極性溶媒、非極性溶媒が残留することになる。
【００８７】
なお、磁性粒子の存在は、Ｘ線回折法等により確認できるが、結合剤、極性溶媒、非極性溶媒は、磁気記録媒体に残留する溶媒をガスクロマトグラフィー等で測定することで評価・確認できる。
【００８８】
本発明の磁気記録媒体は、支持体上に、磁性粒子、結合剤、極性溶媒および非極性溶媒を含有する磁性層が形成されていれば、その構成は特に限定されるものではない。例えば、支持体上に、非磁性層、磁性層を順次形成した構成とし、適宜、バック層や下塗層等を形成した構成とすることができる。また、磁性層等には、上記４つの成分の他に、種々の添加剤を含有させることができる。
以下、支持体および磁性層を始めとした各層について説明する。
【００８９】
４）支持体
本発明の支持体としては、磁気記録媒体に使用される支持体であれば、無機物および有機物のいずれでもよい。本発明の磁性粒子は、すでに溶媒中でアニール処理が施され、強磁性化されているので、基板に塗布した後で高温のアニール処理を施す必要がない。従って、耐熱性に問題がある有機物支持体にも問題なく適用できる。かかる観点から、有機物支持体に特に好ましく用いる事ができる。
【００９０】
無機物の支持体としては、Ａｌ、Ａｌ−Ｍｇ、Ｍｇ−Ａｌ−Ｚｎ等のＭｇ合金、ガラス、石英、カーボン、シリコン、セラミックス等が用いられる。これらの支持体は耐衝撃性に優れ、また薄型化や高速回転に適した剛性を有する。また、有機物の支持体と比較して、熱に強い特徴を有している。
【００９１】
有機物の支持体としては、ポリエステル類（ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等）、ポリオレフィン類、セルロ−ストリアセテート、ポリカ−ボネート、脂肪族ポリアミド、芳香族ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリスルフォン、ポリベンゾオキサゾール等を用いることができる。
【００９２】
また、必要に応じて、支持体の磁性層とバック層を塗布する面の表面粗さを変えるため特開平３−２２４１２７号公報に記載されるような積層タイプの支持体を用いることもできる。これらの支持体にはあらかじめコロナ放電処理、プラズマ処理、易接着処理、熱処理、除塵処理等を施しておいてもよい。
【００９３】
支持体としてＷＹＫＯ社製ＴＯＰＯ−３Ｄで測定した中心面平均表面粗さ（Ｒａ）は、通常、８．０ｎｍ以下であることが好ましく、４．０ｎｍ以下であることがより好ましく、２．０ｎｍ以下であることがさらにが好ましい。これらの支持体は単に中心面平均表面粗さが小さいだけではなく、０．５μｍ以上の粗大突起がないことが好ましい。
【００９４】
また、表面の粗さ形状は必要に応じて支持体に添加されるフィラーの大きさと量により自由にコントロールされるものである。これらのフィラーの一例としては、Ｃａ、Ｓｉ、Ｔｉなどの酸化物や炭酸塩の無機微粒子、アクリル系などの有機微粉末が挙げられる。支持体の最大高さＲｍａｘは１μｍ以下であることが好ましく、十点平均粗さＲｚは０．５μｍ以下であることが好ましく、中心面山高さＲｐは０．５μｍ以下であることが好ましく、中心面谷深さＲｖは０．５μｍ以下であることが好ましく、中心面面積率Ｓｒは１０％〜９０％であることが好ましく、平均波長λａは５μｍ〜３００μｍが好ましい。所望の電磁変換特性と耐久性を得るため、これら支持体の表面突起分布をフィラーにより任意にコントロールできるものであり、０．０１μｍ〜１μｍの大きさのもの各々を０．１ｍｍ2あたり０個から２０００個の範囲で制御することができる。
【００９５】
また、支持体のＦ−５値は好ましくは５ｋｇ／ｍｍ2〜５０ｋｇ／ｍｍ2（４９ＭＰａ〜４９０ＭＰａ）である。さらに、支持体の１００℃３０分での熱収縮率は好ましくは３％以下、さらに好ましくは１．５％以下、８０℃３０分での熱収縮率は好ましくは１％以下、さらに好ましくは０．５％以下である。破断強度は５ｋｇ／ｍｍ2〜１００ｋｇ／ｍｍ2（４９ＭＰａ〜９８０ＭＰａ）であることが好ましく、弾性率は１００ｋｇ／ｍｍ2〜２０００ｋｇ／ｍｍ2（０．９８ＧＰａ〜１９．６ＧＰａ）が好ましい。温度膨張係数は１０-4／℃〜１０-8／℃であることが好ましく、１０-5／℃〜１０-6／℃であることがより好ましい。湿度膨張係数は１０-4／％ＲＨ以下であることが好ましく、１０-5／％ＲＨ以下であることがより好ましい。これらの熱特性、寸法特性、機械強度特性は支持体の面内各方向に対し１０％以内の差でほぼ等しいことが好ましい。
【００９６】
支持体の厚みは、２μｍ〜１００μｍであることが好ましく、２μｍ〜８０μｍであることがより好ましい。コンピュータテープの場合の支持体は、３．０μｍ〜６．５μｍであることが好ましく、３．０μｍ〜６．０μｍであることがより好ましく、４．０μｍ〜５．５μｍであることがさらに好ましい。
【００９７】
５）磁性層
磁性層には、既述の磁性粒子、結合剤、極性溶媒および非極性溶媒の他に、必要に応じて、種々の添加剤等が含有されてなる。
本発明の磁気記録媒体は、既述の磁性層を支持体の片面だけに設けてもよく、両面に設けてもよい。また、潤滑剤の供給源とする観点および支持体の突起を被覆する観点から、支持体と磁性層との間に非磁性層を設けてもよい。
支持体上に非磁性層を形成する場合、当該磁性層（上層または上層磁性層ともいう）は、非磁性層を塗布により形成した後、非磁性層が湿潤状態のうち（Ｗ／Ｗ）に設けてもよく、または、非磁性層が乾燥した後（Ｗ／Ｄ）に設けてもよい。生産得率の点から同時、または逐次湿潤塗布が好ましいが、ディスクの場合は乾燥後塗布でも十分に使用できる。
重層構成（非磁性層＋磁性層）で、両層を同時に、または、逐次湿潤塗布（Ｗ／Ｗ）では非磁性層＋磁性層が同時に形成できるため、カレンダー工程などの表面処理工程を有効に活用でき、超薄層でも上層の磁性層の表面粗さを良化できる。
【００９８】
磁性層の厚みは、０．００５μｍ〜０．２０μｍであることが好ましく、０．０１μｍ〜０．１０μｍであることがよりに好ましい。０．００５μｍ〜０．２０μｍとすることで、再生出力の低下、オーバーライト特性および分解能の劣化を防ぐことができる。
【００９９】
６）カーボンブラック、研磨剤
磁性層には、カーボンブラックを含有させることが好ましい。当該カーボンブラックとしては、ゴム用ファーネス、ゴム用サーマル、カラー用ブラック、アセチレンブラック等を用いることができる。
カーボンブラックのＳＢＥＴは５ｍ2／ｇ〜５００ｍ2／ｇであることが好ましく、ＤＢＰ吸油量は１０ｍＬ／１００ｇ〜４００ｍＬ／１００ｇであることが好ましい。平均粒子径は５ｎｍ〜３００ｎｍであることが好ましく、１０ｎｍ〜２５０ｎｍであることがより好ましく、２０ｎｍ〜２００ｎｍであるであることがさらに好ましい。ｐＨは２〜１０であることが好ましく、含水率は０．１％〜１０％であることが好ましく、タップ密度は０．１ｇ／ｍＬ〜１ｇ／ｍＬであることが好ましい。
【０１００】
上記カーボンブラックの具体的な例としては、ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ−２０００、１３００、１０００、９００、９０５、８００、７００、ＶＵＬＣＡＮ ＸＣ−７２（以上、キャボット社製）、＃８０、＃６０、＃５５、＃５０、＃３５（以上、旭カーボン社製）、＃２４００Ｂ、＃２３００、＃９００、＃１０００、＃３０、＃４０、＃１０Ｂ（以上、三菱化成工業社製）、ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ ＳＣ、ＲＡＶＥＮ１５０、５０、４０、１５、ＲＡＶＥＮ−ＭＴ−Ｐ（以上、コロンビアンカーボン社製）、ケッチェンブラックＥＣ（日本ＥＣ社製）等が挙げられる。
【０１０１】
カーボンブラックは、分散剤などで表面処理したり、樹脂でグラフト化して使用してもよい。また、その表面の一部をグラファイト化したものを使用してもよい。さらに、カーボンブラックを磁性塗料に添加する前にあらかじめ結合剤で分散してもかまわない。
これらのカーボンブラックは単独、または組み合わせて使用することができる。カーボンブラックを使用する場合は磁性体（磁性粒子）に対する全質量の０．１％〜３０％の範囲で使用することが好ましい。カーボンブラックは磁性層の帯電防止、摩擦係数低減、遮光性付与、膜強度向上などの働きがあり、これらは用いるカーボンブラックにより異なる。従って、本発明に使用されるこれらのカーボンブラックは上層の磁性層、下層の非磁性層でその種類、量、組合せを変え、粒子サイズ、吸油量、電導度、ｐＨなどの先に示した諸特性をもとに目的に応じて使い分けることはもちろん可能であり、むしろ各層で最適化すべきものである。本発明の磁性層で使用できるカーボンブラックは、例えば、「カーボンブラック便覧」（カーボンブラック協会編）を参考にすることができる。
【０１０２】
また、磁性層には研磨剤を含有させることが好ましい。研磨剤としては、α化率９０％以上のα−アルミナ、β−アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、コランダム、人造ダイヤモンド、窒化ケイ素、炭化ケイ素チタンカーバイド、酸化チタン、二酸化ケイ素、または窒化ホウ素等、主としてモース硬度６以上の公知の材料が単独または組合せで使用される。また、これらの研磨剤どうしの複合体（研磨剤を他の研磨剤で表面処理したもの）を使用してもよい。これらの研磨剤には主成分以外の化合物または元素が含まれる場合もあるが主成分が９０質量％以上であれば効果にかわりはない。
【０１０３】
これら研磨剤の粒子サイズは０．０１μｍ〜２μｍであることが好ましく、０．０５μｍ〜１．０μｍであることがより好ましく、０．０５μｍ〜０．５μｍであることがさらに好ましい。
特に電磁変換特性を高めるためには、その粒度分布が狭い方が好ましい。また耐久性を向上させるには必要に応じて粒子サイズの異なる研磨剤を組み合わせたり、単独の研磨剤でも粒径分布を広くして同様の効果をもたせることも可能である。研磨剤のタップ密度は０．３ｇ／ｍＬ〜２ｇ／ｍＬであることが好ましく、含水率は０．１％〜５％であることが好ましく、ｐＨは２〜１１であることが好ましく、ＳＢＥＴは１ｍ2／ｇ〜３０ｍ2／ｇであることが好ましい。研磨剤の形状は針状、球状、サイコロ状、のいずれでもよいが、形状の一部に角を有するものが研磨性を高くすることができ好ましい。
【０１０４】
具体的には、ＡＫＰ−１２、ＡＫＰ−１５、ＡＫＰ−２０、ＡＫＰ−３０、ＡＫＰ−５０、ＨＩＴ２０、ＨＩＴ−３０、ＨＩＴ−５５、ＨＩＴ６０Ａ、ＨＩＴ７０、ＨＩＴ８０、ＨＩＴ１００（以上、住友化学社製）、ＥＲＣ−ＤＢＭ、ＨＰ−ＤＢＭ、ＨＰＳ−ＤＢＭ（以上、レイノルズ社製）、ＷＡ１００００（不二見研磨剤社製）、ＵＢ２０（上村工業社製）、Ｇ−５、クロメックスＵ２、クロメックスＵ１（以上、日本化学工業社製）、ＴＦ１００、ＴＦ１４０（以上、戸田工業社製）、ベータランダムウルトラファイン（イビデン社製）、Ｂ−３（昭和鉱業社製）等が挙げられる。これらの研磨剤は必要に応じ非磁性層に添加することもできる。非磁性層に添加することで表面形状を制御したり、研磨剤の突出状態を制御したりすることができる。これら磁性層、非磁性層の添加する研磨剤の粒径、量はむろん最適値に設定すべきものである。
【０１０５】
７）その他の添加剤
磁性層および後述の非磁性層には、種々の添加剤を含有させることが好ましい。使用される添加剤としては、潤滑効果、帯電防止効果、分散効果、可塑効果等の少なくとも１つの効果を有するものが適宜使用される。
【０１０６】
例えば、二硫化モリブデン、二硫化タングステングラファイト、窒化ホウ素、フッ化黒鉛、シリコーンオイル、極性基をもつシリコーン、脂肪酸変性シリコーン、フッ素含有シリコーン、フッ素含有アルコール、フッ素含有エステル、ポリオレフィン、ポリグリコール、アルキル燐酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、アルキル硫酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、ポリフェニルエーテル、フェニルホスホン酸、αナフチル燐酸、フェニル燐酸、ジフェニル燐酸、ｐ−エチルベンゼンホスホン酸、フェニルホスフィン酸、アミノキノン類、各種シランカップリング剤、チタンカップリング剤、フッ素含有アルキル硫酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、炭素数１０〜２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また、分岐していてもよい）、および、これらの金属塩（Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｕなど）または、炭素数１２〜２２の一価、二価、三価、四価、五価、六価アルコール（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもよい）、炭素数１２〜２２のアルコキシアルコール、炭素数１０〜２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもよい）と炭素数２〜１２の一価、二価、三価、四価、五価、六価アルコールのいずれか一つ（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもよい）とからなるモノ脂肪酸エステルまたはジ脂肪酸エステルまたはトリ脂肪酸エステル、アルキレンオキシド重合物のモノアルキルエーテルの脂肪酸エステル、炭素数８〜２２の脂肪酸アミド、炭素数８〜２２の脂肪族アミン、等が使用できる。
【０１０７】
より具体的には、脂肪酸では、カプリン酸、カプリル酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、オレイン酸、エライジン酸、リノール酸、リノレン酸、およびイソステアリン酸などが挙げられる。エステル類ではブチルステアレート、オクチルステアレート、アミルステアレート、イソオクチルステアレート、ブチルミリステート、オクチルミリステート、ブトキシエチルステアレート、ブトキシジエチルステアレート、２−エチルヘキシルステアレート、２−オクチルドデシルパルミテート、２−ヘキシルドデシルパルミテート、イソヘキサデシルステアレート、オレイルオレエート、ドデシルステアレート、トリデシルステアレート、エルカ酸オレイル、ネオペンチルグリコールジデカノエート、エチレングリコールジオレイル；アルコール類ではオレイルアルコール、ステアリルアルコール、およびラウリルアルコール等が挙げられる。
【０１０８】
また、アルキレンオキサイド系、グリセリン系、グリンドール系、アルキルフェノールエチレンオキサイド付加体、等のノニオン界面活性剤；環状アミン、エステルアミド、第四級アンモニウム塩類、ヒダントイン誘導体、複素環類、ホスホニウムまたはスルホニウム類等のカチオン系界面活性剤；カルボン酸、スルホン酸、燐酸、硫酸エステル基、または燐酸エステル基などの酸性基を含むアニオン界面活性剤；アミノ酸類、アミノスルホン酸類、アミノアルコールの硫酸または燐酸エステル類、アルキルベダイン型等の両性界面活性剤；等も使用できる。
これらの界面活性剤については、「界面活性剤便覧」（産業図書（株）発行）に詳細に記載されている。これらの潤滑剤、帯電防止剤等は必ずしも１００％純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応物、副反応物、分解物、酸化物等の不純物が含まれてもかまわない。これらの不純物は３０質量％以下が好ましく、１０％以下がより好ましい。
【０１０９】
これらの潤滑剤および界面活性剤は個々に異なる物理的作用を有するものであり、その種類、量、および相乗的効果を生み出す潤滑剤または界面活性剤の併用比率は目的に応じ最適に定められるべきものである。当該目的としては、（１）非磁性層、磁性層で融点の異なる脂肪酸を用い表面へのにじみ出しを制御する、（２）沸点、融点や極性の異なるエステル類を用い表面へのにじみ出しを制御する、（３）界面活性剤量を調節することで塗布の安定性を向上させる、（４）潤滑剤の添加量を中間層で多くして潤滑効果を向上させる、等考えられ、無論ここに示した例のみに限られるものではない。一般には、潤滑剤の総量としては、磁性体（磁性粒子）または非磁性粉末に対し、０．１質量％〜５０質量％とすることが好ましく、２質量％〜２５質量％とすることがより好ましい。
【０１１０】
また、本発明で用いられる添加剤のすべて、または、その一部は、磁性塗料製造および非磁性塗料製造のどの工程で添加してもかまわない。例えば、混練工程前に磁性体と混合する場合、磁性体と結合剤と溶剤とによる混練工程で添加する場合、分散工程で添加する場合、分散後に添加する場合、塗布直前に添加する場合などがある。
【０１１１】
また、目的に応じて磁性層を塗布した後、同時または逐次塗布で、添加剤の一部または全部を塗布することにより目的が達成される場合がある。さらに、目的によってはカレンダー処理を施した後、またはスリット終了後、磁性層表面に潤滑剤を塗布することもできる。
【０１１２】
８）非磁性層
次に、非磁性層に関する詳細な内容について説明する。非磁性層は実質的に非磁性であればその構成は制限されるべきものではないが、通常、少なくとも樹脂からなり、好ましくは、粉体、例えば、無機粉末もしくは有機粉末が樹脂中に分散されたものが挙げられる。無機粉末は、好ましくは非磁性粉末であるが、非磁性層が実質的に非磁性である範囲で磁性粉末も使用することができる。
【０１１３】
これら非磁性粉末の粒子サイズ（粒径）は、０．００５μｍ〜２μｍの範囲が好ましいが、必要に応じて粒子サイズの異なる非磁性粉末を組み合わせたり、単独の非磁性粉末でも粒径分布を広くして同様の効果をもたせることもできる。とりわけ好ましい非磁性粉末の粒子サイズは、０．０１μｍ〜０．２μｍの範囲である。特に、非磁性粉末が粒状金属酸化物である場合は、平均粒子径は０．０８μｍ以下が好ましい。針状金属酸化物である場合は、長軸長が０．３μｍ以下であることが好ましく、０．２μｍ以下であることがさらに好ましい。タップ密度は０．０５ｇ／ｍＬ〜２ｇ／ｍＬであることが好ましく、０．２ｇ／ｍＬ〜１．５ｇ／ｍＬであることがより好ましい。非磁性粉末の含水率は０．１質量％〜５質量％であることが好ましく、０．２質量％〜３質量％であることがより好ましく、０．３〜１．５質量％であることがさらに好ましい。非磁性粉末のｐＨは２〜１１であることが好ましく、ｐＨは５．５〜１０であることが特に好ましい。
【０１１４】
非磁性粉末のＳＢＥＴ（比表面積）は１ｍ2／ｇ〜１００ｍ2／ｇであることが好ましく、５ｍ2／ｇ〜８０ｍ2／ｇであることがより好ましく、１０ｍ2／ｇ〜７０ｍ2／ｇであることがさらに好ましい。非磁性粉末の結晶子サイズ（結晶子径）は０．００４μｍ〜１μｍが好ましく、０．０４μｍ〜０．１μｍが更に好ましい。ＤＢＰ（ジブチルフタレート）を用いた吸油量は５〜１００ｍＬ／１００ｇであることが好ましく、１０〜８０ｍＬ／１００ｇであることがより好ましく、２０〜６０ｍＬ／１００ｇであることがさらに好ましい。非磁性粉末の比重は１〜１２であることが好ましく、３〜６であることがより好ましい。形状は針状、球状、多面体状、板状のいずれでも良い。モース硬度は４以上１０以下のものが好ましい。
非磁性粉末のＳＡ（ステアリン酸）吸着量は１μｍｏｌ／ｍ2〜２０μｍｏｌ／ｍ2であることが好ましく、２μｍｏｌ／ｍ2〜１５μｍｏｌ／ｍ2であることがより好ましく、３μｍｏｌ／ｍ2〜８μｍｏｌ／ｍ2であることがさらに好ましい。ｐＨは３〜６の間が好ましい。
【０１１５】
非磁性粉末としては、例えば、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化物等の無機化合物から選択することができる。
無機化合物としては、例えば、α化率９０％以上のα−アルミナ、β−アルミナ、γ−アルミナ、θ−アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、ヘマタイト、ゲータイト、コランダム、窒化ケイ素、チタンカーバイト、酸化チタン、二酸化ケイ素、酸化スズ、酸化マグネシウム、酸化タングステン、酸化ジルコニウム、窒化ホウ素、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、または二硫化モリブデンなどを単独または組合せて使用される。特に好ましいのは、粒度分布の小ささ、機能付与の手段が多いこと等から、二酸化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄、または硫酸バリウムであり、最も好ましいのは、二酸化チタン、α酸化鉄である。
【０１１６】
非磁性粉末の具体的な例（製品名）としては、ナノタイト（昭和電工製）、ＨＩＴ−１００、ＺＡ−Ｇ１（以上、住友化学製）、αへマタイトＤＰＮ−２５０、ＤＰＮ−２５０ＢＸ、ＤＰＮ−２４５、ＤＰＮ−２７０ＢＸ、ＤＰＮ−５００ＢＸ、ＤＢＮ−ＳＡ１、ＤＢＮ−ＳＡ３（以上、戸田工業社製）、酸化チタンＴＴＯ−５１Ｂ、ＴＴＯ−５５Ａ、ＴＴＯ−５５Ｂ、ＴＴＯ−５５Ｃ、ＴＴＯ−５５Ｓ、ＴＴＯ−５５Ｄ、ＳＮ−１００、αへマタイトＥ２７０、Ｅ２７１、Ｅ３００、Ｅ３０３（以上、石原産業製）、酸化チタンＳＴＴ−４Ｄ、ＳＴＴ−３０Ｄ、ＳＴＴ−３０、ＳＴＴ−６５Ｃ、αへマタイトα−４０（以上、チタン工業製）、ＭＴ−１００Ｓ、ＭＴ−１００Ｔ、ＭＴ−１５０Ｗ、ＭＴ−５００Ｂ、ＭＴ−６００Ｂ、ＭＴ−１００Ｆ、ＭＴ−５００ＨＤ（以上、テイカ製）、ＦＩＮＥＸ−２５、ＢＦ−１、ＢＦ−１０、ＢＦ−２０、ＳＴ−Ｍ（以上、堺化学製）、ＤＥＦＩＣ−Ｙ、ＤＥＦＩＣ−Ｒ（以上、同和鉱業製）、ＡＳ２ＢＭ、ＴｉＯ２Ｐ２５（以上、日本アエロジル製）、１００Ａ、５００Ａ（以上、宇部興産製）等が挙げられる。特に好ましい非磁性粉末は二酸化チタンとα−酸化鉄である。
【０１１７】
これらの非磁性粉末の表面には、表面処理を施すことによりＡｌ2Ｏ3、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2、ＳｎＯ2、Ｓｂ2Ｏ3、ＺｎＯ、またはＹ2Ｏ3のいずれか１以上を存在させることが好ましい。分散性を考慮すると、Ａｌ2Ｏ3、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2、またはＺｒＯ2であることが好ましいが、更に好ましいのはＡｌ2Ｏ3、ＳｉＯ2、またはＺｒＯ2である。
これらは組み合わせて使用しても良いし、単独で用いることもできる。また、目的に応じて共沈させた表面処理層を用いてもよいし、先ずアルミナを存在させた後にその表層をシリカで処理する方法、またはその逆の方法を採ることもできる。また、表面処理層は目的に応じて多孔質層にしても構わないが、均質で密である方が一般には好ましい。
【０１１８】
非磁性層中にカーボンブラックを混合させて表面電気抵抗Ｒｓを下げること、光透過率を小さくすることができるとともに、所望のマイクロビッカース硬度を得る事ができる。
また、非磁性層にカーボンブラックを含ませることで潤滑剤貯蔵の効果をもたらすことも可能である。カーボンブラックの種類はゴム用ファーネス、ゴム用サーマル、カラー用ブラック、またはアセチレンブラック等を用いることができる。非磁性層のカーボンブラックは所望する効果によって、以下のような特性を最適化すべきであり、併用することでより効果が得られることがある。
【０１１９】
非磁性層のカーボンブラックのＳＢＥＴは１００ｍ2／ｇ〜５００ｍ2／ｇであることが好ましく、１５０ｍ2／ｇ〜４００ｍ2／ｇであることがより好ましい。ＤＢＰ吸油量は２０〜４００ｍＬ／１００ｇであることが好ましく、３０〜４００ｍＬ／１００ｇであることがより好ましい。カーボンブラックの粒子径は５ｎｍ〜８０ｎｍであることが好ましく、１０ｎｍ〜５０ｎｍであることがより好ましく、１０ｎｍ〜４０ｎｍであることがさらに好ましい。カーボンブラックのｐＨは２〜１０であることが好ましく、含水率は０．１％〜１０％であることが好ましく、タップ密度は０．１ｇ／ｍＬ〜１ｇ／ｍＬであることが好ましい。
【０１２０】
本発明に用いられるカーボンブラックの具体的な例（製品名）としては、ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ２０００、１３００、１０００、９００、８００、８８０、７００、ＶＵＬＣＡＮＸＣ−７２（以上、キャボット社製）、＃３０５０Ｂ、＃３１５０Ｂ、＃３２５０Ｂ、＃３７５０Ｂ、＃３９５０Ｂ、＃９５０、＃６５０Ｂ、＃９７０Ｂ、＃８５０Ｂ、ＭＡ−６００、ＭＡ−２３０、＃４０００、＃４０１０（以上、三菱化成工業社製）、ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ ＳＣ、ＲＡＶＥＮ ８８００、８０００、７０００、５７５０、５２５０、３５００、２１００、２０００、１８００、１５００、１２５５、１２５０（以上、コロンビアンカーボン社製）、ケッチェンブラックＥＣ（アクゾー社製）等が挙げられる。
【０１２１】
カーボンブラックは、分散剤などで表面処理したり、樹脂でグラフト化して使用してもよく、またその表面の一部をグラファイト化したものを使用してもかまわない。さらに、カーボンブラックを塗料に添加する前にあらかじめ結合剤で分散してもよい。これらのカーボンブラックは上記無機粉末に対して５０質量％を越えない範囲で、かつ、非磁性層の総質量の４０％を越えない範囲で使用できる。これらのカーボンブラックは単独、または組み合わせて使用することができる。本発明で使用できるカーボンブラックは例えば「カーボンブラック便覧」（カーボンブラック協会編）を参考にすることができる。
【０１２２】
また、非磁性層には有機質粉末を目的に応じて、添加することもできる。例えば、アクリルスチレン系樹脂粉末、ベンゾグアナミン樹脂粉末、メラミン系樹脂粉末、およびフタロシアニン系顔料が挙げられるが、ポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、またはポリフッ化エチレン樹脂も使用することができる。その製法は、特開昭６２−１８５６４号公報、特開昭６０−２５５８２７号公報に記載されているような方法を使用できる。
【０１２３】
非磁性層の厚みは、０．２μｍ〜５．０μｍとすることが好ましく、０．３μｍ〜３．０μｍとすることがより好ましく、１．０μｍ〜２．５μｍとすることがさらに好ましい。
なお、非磁性層は実質的に非磁性であればその効果を発揮するものであり、例えば、不純物として、または意図的に少量の磁性体（磁性材料）を含んでいてもよい。「実質的に非磁性」とは残留磁束密度が０．０１Ｔ以下または保磁力が７．９６ｋＡ／ｍ（１００Ｏｅ以下）であることを示し、好ましくは残留磁束密度と保磁力をもたないことを示す。
【０１２４】
非磁性層の結合剤樹脂、潤滑剤、分散剤、添加剤、溶剤、分散方法その他は、磁性層のそれが適用できる。特に、結合剤樹脂量、種類、添加剤、分散剤の添加量、種類に関しては磁性層に関する公知技術が適用できる。
【０１２５】
支持体と非磁性層または磁性層との間には密着性向上のための下塗層を設けてもかまわない。下塗層の厚みは０．０１μｍ〜０．５μｍが好ましく、０．０２μｍ〜０．５μｍであることがより好ましい。本発明の磁気記録媒体は、支持体両面に非磁性層と磁性層とを設けてなるディスク状媒体であっても、片面のみに設けたテープ状媒体またはディスク状媒体でもよい。この場合、帯電防止やカール補正等の効果を出すために非磁性層、磁性層側と反対側にバック層を設けてもかまわない。バック層の厚みは、０．１μｍ〜４μｍであることが好ましく、０．３μｍ〜２．０μｍであることがより好ましい。これらの下塗層、後述するバック層には公知の材料が使用できる。
【０１２６】
９）バック層
一般に、コンピュータデータ記録用の磁気テープは、ビデオテープ、オーディオテープに比較して、繰り返し走行性が強く要求される。このような高い走行耐久性を維持させるために、バック層には、カーボンブラックと無機粉末とが含有されていることが好ましい。
【０１２７】
カーボンブラックは、平均粒子径の異なる二種類のものを組み合わせて使用することが好ましい。この場合、平均粒子径が１０ｎｍ〜２０ｎｍの微粒子状カーボンブラックと平均粒子径が２３０ｎｍ〜３００ｎｍの粗粒子状カーボンブラックを組み合わせて使用することが好ましい。
【０１２８】
一般に、上記のような微粒子状のカーボンブラックの添加により、バック層の表面電気抵抗を低く設定でき、また光透過率も低く設定できる。磁気記録装置によっては、テープの光透過率を利用し、動作の信号に使用しているものが多くあるため、このような場合には特に微粒子状のカーボンブラックの添加は有効になる。また微粒子状カーボンブラックは一般に液体潤滑剤の保持力に優れ、潤滑剤併用時、摩擦係数の低減化に寄与する。
【０１２９】
一方、体積平均粒子径が２３０ｎｍ〜３００ｎｍの粗粒子状カーボンブラックは、固体潤滑剤としての機能を有しており、また、バック層の表面に微小突起を形成し、接触面積を低減化して、摩擦係数の低減化に寄与する。しかし、粗粒子状カーボンブラックを単独で用いると、過酷な走行系では、テープ摺動により、バック層からの脱落が生じ易くなり、エラー比率の増大につながる欠点を有している。
【０１３０】
微粒子状カーボンブラックの具体的な製品名としては、以下のものを挙げることができる。カッコ内は体積平均粒子径を示す。すなわち、ＲＡＶＥＮ２０００Ｂ（１８ｎｍ）、ＲＡＶＥＮ１５００Ｂ（１７ｎｍ）（以上、コロンビアカーボン社製）、ＢＰ８００（１７ｎｍ）（キャボット社製）、ＰＲＩＮＮＴＥＸ９０（１４ｎｍ）、ＰＲＩＮＴＥＸ９５（１５ｎｍ）、ＰＲＩＮＴＥＸ８５（１６ｎｍ）、ＰＲＩＮＴＥＸ７５（１７ｎｍ）（以上、デグサ社製）、＃３９５０（１６ｎｍ）（三菱化成工業（株）製）等である。
また、粗粒子カーボンブラックの具体的な製品名としては、サーマルブラック（２７０ｎｍ）（カーンカルブ社製）、ＲＡＶＥＮ ＭＴＰ（２７５ｎｍ）（コロンビアカーボン社製）を挙げることができる。
【０１３１】
バック層において、平均粒子径の異なる二種類のものを使用する場合、体積平均粒径が１０ｎｍ〜２０ｎｍの微粒子状カーボンブラックと２３０ｎｍ〜３００ｎｍの粗粒子状カーボンブラックの含有比率（質量比）は、前者：後者＝９８：２〜７５：２５の範囲にあることが好ましく、さらに好ましくは、９５：５〜８５：１５の範囲である。
【０１３２】
バック層中のカーボンブラック（２種類のものを使用する場合には、その全量）の含有量は、結合剤１００質量部に対して、通常３０質量部〜８０質量部の範囲であり、好ましくは、４５〜６５質量部の範囲である。
【０１３３】
無機粉末は、硬さの異なる２種類のものを併用することが好ましい。具体的には、モース硬度３〜４．５の軟質無機粉末とモース硬度５〜９の硬質無機粉末とを使用することが好ましい。モース硬度が３〜４．５の軟質無機粉末を添加することで、繰り返し走行による摩擦係数の安定化を図ることができる。しかもこの範囲の硬さでは、摺動ガイドポールが削られることもない。またこの無機粉末の平均粒子径は、３０ｎｍ〜５０ｎｍの範囲にあることが好ましい。
【０１３４】
モース硬度が３〜４．５の軟質無機粉末としては、例えば、硫酸カルシウム、炭酸カルシウム、珪酸カルシウム、硫酸バリウム、炭酸マグネシウム、炭酸亜鉛、及び酸化亜鉛を挙げることができる。これらは、単独で、あるいは２種以上を組み合わせて使用することができる。
【０１３５】
バック層内の軟質無機粉末の含有量は、カーボンブラック１００質量部に対して１０質量部〜１４０質量部の範囲にあることが好ましく、さらに好ましくは、３５質量部〜１００質量部である。
【０１３６】
モース硬度が５〜９の硬質無機粉末を添加することにより、バック層の強度が強化され、走行耐久性が向上する。これらの無機粉末をカーボンブラックや前記軟質無機粉末と共に使用すると、繰り返し摺動に対しても劣化が少なく、強いバック層となる。また、この無機粉末の添加により、適度の研磨力が付与され、テープガイドポール等への削り屑の付着が低減する。特に軟質無機粉末と併用すると、表面の粗いガイドポールに対しての摺動特性が向上し、バック層の摩擦係数の安定化も図ることができる。
【０１３７】
硬質無機粉末は、その平均粒子サイズが８０ｎｍ〜２５０ｎｍ（さらに好ましくは、１００ｎｍ〜２１０ｎｍ）の範囲にあることが好ましい。
【０１３８】
モース硬度が５〜９の硬質無機質粉未としては、例えば、α−酸化鉄、α−アルミナ、及び酸化クロム（Ｃｒ2Ｏ3）を挙げることができる。これらの粉末は、それぞれ単独で用いても良いし、あるいは併用しても良い。これらの内では、α−酸化鉄又はα−アルミナが好ましい。硬質無機粉末の含有量は、カーボンブラック１００質量部に対して通常３〜３０質量部であり、好ましくは、３質量部〜２０質量部である。
【０１３９】
バック層に前記軟質無機粉末と硬質無機粉末とを併用する場合、軟質無機粉末と硬質無機粉末との硬さの差が、２以上（更に好ましくは、２．５以上、特に、３以上）であるように軟質無機粉末と硬質無機粉末とを選択して使用することが好ましい。
【０１４０】
バック層には、前記それぞれ特定の平均粒子サイズを有するモース硬度の異なる二種類の無機粉末と、前記平均粒子サイズの異なる２種類のカーボンブラックとが含有されていることが好ましい。
【０１４１】
バック層には、潤滑剤を含有させることができる。潤滑剤は、前述した非磁性層、あるいは磁性層に使用できる潤滑剤として挙げた潤滑剤の中から適宜選択して使用できる。バック層において、潤滑剤は、結合剤１００質量部に対して通常１〜５質量部の範囲で添加される。
【０１４２】
１０）保護膜等
また、磁性層上に非常に薄い保護膜を形成することで、耐磨耗性を改善し、さらにその保護膜上に潤滑剤を塗布して滑り性を高めることによって、十分な信頼性を有する磁気記録媒体とすることができる。
【０１４３】
保護膜の材質としては、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、酸化コバルト、または酸化ニッケルなどの酸化物；窒化チタン、窒化ケイ素、または窒化ホウ素などの窒化物；炭化ケイ素、炭化クロム、または炭化ホウ素等の炭化物；グラファイト、無定型カーボンなどの炭素（カーボン）；等があげられるが、特に好ましくは、一般に、ダイヤモンドライクカーボンと呼ばれる硬質の非晶質のカーボンである。
【０１４４】
カーボンからなるカーボン保護膜は、非常に薄い膜厚で十分な耐磨耗性を有し、摺動部材に焼き付きを生じ難いため、保護膜の材料としては好適である。
カーボン保護膜の形成方法として、ハードディスクにおいては、スパッタリング法が一般的であるが、ビデオテープ等の連続成膜を行う必要のある製品ではより成膜速度の高いプラズマＣＶＤを用いる方法が多数提案されている。従って、これらの方法を適用することが好ましい。
中でもプラズマインジェクションＣＶＤ（ＰＩ−ＣＶＤ）法は成膜速度が非常に高く、得られるカーボン保護膜も硬質かつピンホールが少ない良質な保護膜が得られると報告されている（例えば、特開昭６１−１３０４８７号公報、特開昭６３−２７９４２６号公報、特開平３−１１３８２４号公報等）。
【０１４５】
このカーボン保護膜は、ビッカース硬度で１０００ｋｇ／ｍｍ2以上であることが好ましく、２０００ｋｇ／ｍｍ2以上であることがより好ましい。また、その結晶構造はアモルファス構造であり、かつ非導電性であることが好ましい。
そして、カーボン保護膜として、ダイヤモンド状炭素（ダイヤモンドライクカーボン）膜を使用した場合、この構造はラマン光分光分析によって確認することができる。すなわち、ダイヤモンド状炭素膜を測定した場合には、１５２０ｃｍ-1〜１５６０ｃｍ-1にピークが検出されることによって確認することができる。炭素膜の構造がダイヤモンド状構造からずれてくるとラマン光分光分析により検出されるピークが上記範囲からずれるとともに、保護膜としての硬度も低下する。
【０１４６】
このカーボン保護膜を形成するための炭素原料としては、メタン、エタン、プロパン、またはブタン等のアルカン；エチレン、プロピレン等のアルケン；アセチレン等のアルキン；をはじめとした炭素含有化合物を用いることが好ましい。また、必要に応じてアルゴンなどのキャリアガスや膜質改善のための水素や窒素などの添加ガスを加えることができる。
【０１４７】
カーボン保護膜の膜厚が厚いと、電磁変換特性の悪化や磁性層に対する密着性の低下が生じ、膜厚が薄いと耐磨耗性が不足する。従って、膜厚は、２．５ｎｍ〜２０ｎｍとすることが好ましく、５ｎｍ〜１０ｎｍとすることがより好ましい。
また、この保護膜と基板となる磁性層の密着性を改善するために、あらかじめ磁性層表面を不活性ガスでエッチングしたり、酸素等の反応性ガスプラズマに曝して表面改質する事が好ましい。
【０１４８】
走行耐久性および耐食性を改善するため、上記磁性層もしくは保護膜上に潤滑剤や防錆剤を付与することが好ましい。添加する潤滑剤としては公知の炭化水素系潤滑剤、フッ素系潤滑剤、極圧添加剤などが使用できる。
【０１４９】
炭化水素系潤滑剤としては、ステアリン酸、オレイン酸等のカルボン酸類；ステアリン酸ブチル等のエステル類；オクタデシルスルホン酸等のスルホン酸類；リン酸モノオクタデシル等のリン酸エステル類；ステアリルアルコール、オレイルアルコール等のアルコール類；ステアリン酸アミド等のカルボン酸アミド類；ステアリルアミン等のアミン類；などが挙げられる。
【０１５０】
フッ素系潤滑剤としては、上記炭化水素系潤滑剤のアルキル基の一部または全部をフルオロアルキル基もしくはパーフルオロポリエーテル基で置換した潤滑剤が挙げられる。
パーフルオロポリエーテル基としては、パーフルオロメチレンオキシド重合体、パーフルオロエチレンオキシド重合体、パーフルオロ−ｎ−プロピレンオキシド重合体（ＣＦ2ＣＦ2ＣＦ2Ｏ）n、パーフルオロイソプロピレンオキシド重合体（ＣＦ（ＣＦ3）ＣＦ2Ｏ）nまたはこれらの共重合体等である。
【０１５１】
また、炭化水素系潤滑剤のアルキル基の末端や分子内に水酸基、エステル基、カルボキシル基などの極性官能基を有する化合物が、摩擦力を低減する効果が高く好適である。
さらに、この分子量は、５００〜５０００、好ましくは１０００〜３０００である。５００〜５０００とすることで、揮発を抑え、また潤滑性の低下を抑えることができる。また、粘度が高くなるのを防ぎ、スライダーとディスクが吸着しやすなって走行停止やヘッドクラッシュなどを発生するのを防ぐことができる。
このパーフルオロポリエーテルは、具体例として、ＦＯＭＢＬＩＮ（アウジモンド社製）、ＫＲＹＴＯＸ（デュポン社製）などの商品名で市販されている。
【０１５２】
極圧添加剤としては、リン酸トリラウリル等のリン酸エステル類、亜リン酸トリラウリル等の亜リン酸エステル類、またはトリチオ亜リン酸トリラウリル等のチオ亜リン酸エステルやチオリン酸エステル類、二硫化ジベンジル等の硫黄系極圧剤、等が挙げられる。
【０１５３】
前記潤滑剤は単独もしくは複数を併用して使用される。これらの潤滑剤を磁性層もしくは保護膜上に付与する方法としては、潤滑剤を有機溶剤に溶解し、ワイヤーバー法、グラビア法、スピンコート法、ディップコート法等で塗布するか、真空蒸着法によって付着させればよい。
【０１５４】
防錆剤としては、ベンゾトリアゾール、ベンゾイミダゾール、プリン、またはピリミジン等の窒素含有複素環類およびこれらの母核にアルキル側鎖等を導入した誘導体；ベンゾチアゾール、２−メルカプトンベンゾチアゾール、テトラザインデン環化合物、またはチオウラシル化合物等の窒素および硫黄含有複素環類およびこの誘導体；等が挙げられる。
【０１５５】
１１）物理特性
本発明の磁気記録媒体は、以下に説明するような物理特性を有することが好ましい。
本発明になる磁気記録媒体の磁性層の飽和磁束密度は、好ましくは０．１Ｔ〜０．３Ｔである。磁性層の保磁力Ｈｃは９５．５ｋＡ／ｍ（１２００Ｏｅ）〜９５５ｋＡ／ｍ（１２０００Ｏｅ）が好ましく、１５９ｋＡ／ｍ（２０００〜６０００Ｏｅ）〜４７８ｋＡ／ｍ（２０００〜６０００Ｏｅ）がより好ましい。保磁力の分布は狭い方が好ましく、ＳＦＤは０．６以下が好ましい。
【０１５６】
磁気ディスクの場合、角形比は２次元ランダムの場合は０．５５以上０．６７以下で、好ましくは０．５８以上、０．６４以下、３次元ランダムの場合は０．４５以上、０．５５以下が好ましく、垂直配向の場合は垂直方向に０．６以上好ましくは０．７以上、反磁界補正を行った場合は０．７以上好ましくは０．８以上である。２次元ランダム、３次元ランダムとも配向度比は０．８以上が好ましい。２次元ランダムの場合、垂直方向の角形比、Ｂｒ、Ｈｃは面内方向の０．１〜０．５倍以内とすることが好ましい。
【０１５７】
磁気テープの場合、角型比は通常、０．５５以上であり、好ましくは０．７以上である。本発明の磁気記録媒体のヘッドに対する摩擦係数は温度−１０℃から４０℃、湿度０％から９５％の範囲において０．５以下、好ましくは０．３以下、表面固有抵抗は好ましくは磁性層表面１０4オーム／ｓｑ〜１０12オーム／ｓｑ、帯電位は−５００Ｖから＋５００Ｖ以内が好ましい。磁性層の０．５％伸びでの弾性率は面内各方向で好ましくは１００ｋｇ／ｍｍ2〜２０００ｋｇ／ｍｍ2（０．９８ＧＰａ〜１９．６ＧＰａ）、破断強度は好ましくは１０ｋｇ／ｍｍ2〜７０ｋｇ／ｍｍ2（９８ＭＰａ〜６８６ＭＰａ）、磁気記録媒体の弾性率は面内各方向で好ましくは１００ｋｇ／ｍｍ2〜１５００ｋｇ／ｍｍ2（０．９８ＧＰａ〜１４．７ＧＰａ）、残留のびは好ましくは０．５％以下、１００℃以下のあらゆる温度での熱収縮率は好ましくは１％以下、さらに好ましくは０．５％以下、もっとも好ましくは０．１％以下である。磁性層のガラス転移温度（１１０Ｈｚで測定した動的粘弾性測定の損失弾性率の極大点）は５０℃以上１２０℃以下が好ましく、下層非磁性層のそれは０℃〜１００℃が好ましい。
【０１５８】
損失弾性率は１×１０9μＮ／ｃｍ2〜８×１０10μＮ／ｃｍ2の範囲にあることが好ましく、損失正接は０．２以下であることが好ましい。損失正接が大きすぎると粘着故障が発生しやすい。これらの熱特性や機械特性は媒体の面内各方向で１０％以内にあることが好ましい。磁性層中に含まれる残留溶媒は好ましくは１００ｍｇ／ｍ2以下、さらに好ましくは１０ｍｇ／ｍ2以下である。塗布層が有する空隙率は非磁性層、磁性層とも好ましくは３０容量％以下、さらに好ましくは２０容量％以下である。空隙率は高出力を果たすためには小さい方が好ましいが、目的によってはある値を確保した方が良い場合がある。例えば、繰り返し用途が重視されるディスク媒体では空隙率が大きい方が走行耐久性は好ましいことが多い。
【０１５９】
磁性層の中心面平均表面粗さＲａはＷＹＫＯ社製ＴＯＰＯ−３Ｄを用いて、２５０μｍ×２５０μｍの面積での測定で４．０ｎｍ以下、好ましくは３．８ｎｍ以下、さらに好ましくは３．５ｎｍ以下である。磁性層の最大高さＲｍａｘは０．５μｍ以下、十点平均粗さＲｚは０．３μｍ以下、中心面山高さＲｐは０．３μｍ以下、中心面谷深さＲｖは０．３μｍ以下、中心面面積率Ｓｒは２０％以上８０％以下、平均波長λａは５μｍ以上、３００μｍ以下が好ましい。磁性層の表面突起は前述の通りに設定することにより電磁変換特性、摩擦係数を最適化することが好ましい。これらは支持体のフィラーによる表面性のコントロールや前述したように磁性層に添加する粉体の粒径と量、カレンダー処理のロール表面形状などで容易にコントロールすることができる。カールは±３ｍｍ以内とすることが好ましい。
【０１６０】
本発明の磁気記録媒体で、非磁性層と磁性層とを有する場合、目的に応じ非磁性層と磁性層でこれらの物理特性を変えることができるのは容易に推定されることである。例えば、磁性層の弾性率を高くし走行耐久性を向上させると同時に非磁性層の弾性率を磁性層より低くして磁気記録媒体のヘッドへの当りを良くするなどである。
【０１６１】
支持体上に磁性粒子を塗布するには、前記アニール処理を施した後の磁性粒子含有液に必要に応じて種々の添加剤を添加して、支持体上に塗布すればよい。このときの磁性粒子の含有量は所望の濃度（０．００１ｇ／ｍＬ〜０．１ｇ／ｍＬ）とすることが好ましい。
【０１６２】
支持体に塗布する方法としては、エアードクターコート、ブレードコート、ロッドコート、押出しコート、エアナイフコート、スクイズコート、含浸コート、リバースロールコート、トランスファーロールコート、グラビヤコート、キスコート、キャストコート、スプレイコート、またはスピンコート等が利用できる。
【０１６３】
既述のように支持体上に磁性粒子（磁性粒子含有液）を塗布し、４０℃〜２００℃で乾燥処理等を施して、磁性層を形成し、本発明の磁気記録媒体とすることができる。
本発明の磁気記録媒体は、磁性層にすでに強磁性化された磁性粒子を含有するため、支持体上に塗布した後に高温でのアニール処理をする必要がない。従って、高温による磁性粒子の凝集がなく、磁性粒子が高分散な状態で磁性層中に存在する磁気記録媒体とすることができる。
【０１６４】
形成される磁性層の厚さは、適用される磁気記録媒体の種類にもよるが、４ｎｍ〜１μｍであることが好ましく、４ｎｍ〜１００ｎｍであることがより好ましい。
【０１６５】
以上のようにして製造される磁気記録媒体は、表面の中心線平均粗さが、カットオフ値０．２５ｍｍにおいて、好ましくは０．１ｎｍ〜５ｎｍ、より好ましくは０．１ｎｍ〜３ｎｍの範囲とする。このように、極めて優れた平滑性を有する表面とすることが、高密度記録用の磁気記録媒体として好ましいからである。
このような表面を得る方法として、磁性層を形成した後にカレンダー処理を施す方法が挙げられる。また、バーニッシュ処理を施してもよい。
【０１６６】
得られた磁気記録媒体は、適宜、打ち抜き機で打ち抜いたり、裁断機などを使用して所望の大きさに裁断して使用することができる。
【０１６７】
３．本発明の用途
本発明の強磁性規則合金ナノ粒子は、ビデオテープ、コンピュータテープ等の磁気テープ；フロッピー（登録商標）ディスク、ハードディスク等の磁気ディスク；等の磁気記録媒体に用いられる。
【実施例】
【０１６８】
以下、実施例をもとに本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１６９】
（実施例１〜８）
化学的な合成法により作製したＦｅＰｔ合金ナノ粒子分散溶液（濃度：４質量％、溶媒：デカン）を図１に示されるスリットを通過させ、レーザ光を照射して、磁性ナノ粒子分散液を作製した。スリットの条件、および照射したレーザー光の波長を表１に示した。
得られた磁性ナノ粒子分散物における粒子の融合の有無を表１に示したが、いずれも融合を生じなかった。
【０１７０】
【表１】
【０１７１】
（比較例１、２）
実施例１〜８と同様に化学的な合成法により作製したＦｅＰｔ合金ナノ粒子分散溶液をガラス容器に入れて撹拌しながら、レーザ光を照射して、磁性ナノ粒子分散液を作製した。
得られた磁性ナノ粒子分散物における粒子には、いずれもかなりの粒子融合が認められた。
【０１７２】
【表２】
【０１７３】
《磁気特性の評価》
実施例１〜８および比較例１〜２で作製した磁性ナノ粒子について、磁気特性の評価を行った。磁気特性の評価（保磁力の測定）は、東英工業製の高感度磁化ベクトル測定機と同社製ＤＡＴＡ処理装置を使用し、印加磁場７９０ｋＡ／ｍ（１０ｋＯｅ）の条件で行った。また、結晶構造の解析は、理学電機製のＸ線回折装置を用い、管電圧５０ｋＶ、管電流３００ｍＡとし、線源にＣｕＫα線を使用しゴニオメーターを用いた粉末法で行った。
得られた結果を表３に示した。
【０１７４】
スリット部の短方向深さが１μｍ〜１００μｍのスリットを用いてレーザ照射を施した実施例１〜６の磁性ナノ粒子は、いずれも面心正方晶の規則相を有するものであり、磁気記録媒体として十分な保磁力を示した。実施例７および８では、保磁力が増加したが実施例１〜６には及ばなかった。また、一部に規則相が見られたが、不規則相の粒子が多く、保磁力は低かった。また、実施例７、８では、粒子の融合が見られた。これは、レーザの焦点から外れた流域を通る粒子が多くなったためと考えられる。また、比較例１および２では、面心立方晶の不規則相で、保磁力は低く、粒子の融合も多く見られた。
【０１７５】
【表３】
【０１７６】
（実施例９）
１．磁気記録媒体の作製
【０１７７】
実施例１〜８および比較例１、２で作製した磁性粒子を、宇部興産製のユーピレックス（材質：ポリイミド、厚さ：７５μｍ）上に塗布し、２００℃で乾燥して磁性層を形成し、磁気記録媒体を作製した。
２．性能評価
本発明による磁性体を用いた磁気記録媒体においては、磁性層に含有される磁性粒子は、互いに凝集することなく、高分散な状態を維持していた。かかる結果から、本発明の磁性体粒子は塗布適性にも優れていることが確認された。特に実施例１〜６の磁性体粒子が優れていた。
一方、比較例の磁性体粒子を用いた磁気記録媒体においては、磁性層に含有される磁性粒子は、磁性体粒子の融合が原因と思われる凝集が認められ、塗布膜の面状が不均一であった。
【図面の簡単な説明】
【０１７８】
【図１】本発明を実施するためのスリット部の構成を示す模式図である。
【符号の説明】
【０１７９】
１ 蓋部
２ 本体部
３ 流入口
４ 流出口
５ 液の流れる方向
６ レーザ光
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＣｕＡｕ型またはＣｕ3Ａｕ型強磁性規則合金ナノ粒子の製造方法であって、前記ＣｕＡｕ型またはＣｕ3Ａｕ型強磁性規則合金相を形成しうる合金ナノ粒子を含む分散液をスリットを通過させ、該スリットの長手方向に沿ってレーザー光を線状に照射することにより前記分散液に含まれる合金ナノ粒子に加熱処理を施して、該合金ナノ粒子を規則結晶化することを特徴とする強磁性規則合金ナノ粒子の製造方法。
【請求項２】
前記スリットの短方向間隙が１μｍ以上１００μｍ以下、且つ、前記スリットの長手方向間隙が前記短方向間隙の２倍以上の長さを有することを特徴とする請求項１に記載の強磁性規則合金ナノ粒子の製造方法。
【請求項３】
複数のレーザーの発振源を有し、前記スリットの長手方向に並列にレーザー光が照射されることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の強磁性規則合金ナノ粒子の製造方法。
【請求項４】
前記分散液のスリット間隙の流れ方向に沿って複数箇所においてレーザ光を線状照射することを特徴とする、請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の強磁性規則合金ナノ粒子の製造方法。
【請求項５】
前記レーザ光の波長が３６０ｎｍ以上８８０ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の強磁性規則合金ナノ粒子の製造方法。
【請求項６】
請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載の製造方法によって製造された強磁性規則合金ナノ粒子。
【請求項７】
磁性層を有する磁気記録媒体であって、請求項６に記載の強磁性規則合金ナノ粒子を含有することを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項１】
ＣｕＡｕ型またはＣｕ3Ａｕ型強磁性規則合金ナノ粒子の製造方法であって、前記ＣｕＡｕ型またはＣｕ3Ａｕ型強磁性規則合金相を形成しうる合金ナノ粒子を含む分散液をスリットを通過させ、該スリットの長手方向に沿ってレーザー光を線状に照射することにより前記分散液に含まれる合金ナノ粒子に加熱処理を施して、該合金ナノ粒子を規則結晶化することを特徴とする強磁性規則合金ナノ粒子の製造方法。
【請求項２】
前記スリットの短方向間隙が１μｍ以上１００μｍ以下、且つ、前記スリットの長手方向間隙が前記短方向間隙の２倍以上の長さを有することを特徴とする請求項１に記載の強磁性規則合金ナノ粒子の製造方法。
【請求項３】
複数のレーザーの発振源を有し、前記スリットの長手方向に並列にレーザー光が照射されることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の強磁性規則合金ナノ粒子の製造方法。
【請求項４】
前記分散液のスリット間隙の流れ方向に沿って複数箇所においてレーザ光を線状照射することを特徴とする、請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の強磁性規則合金ナノ粒子の製造方法。
【請求項５】
前記レーザ光の波長が３６０ｎｍ以上８８０ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の強磁性規則合金ナノ粒子の製造方法。
【請求項６】
請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載の製造方法によって製造された強磁性規則合金ナノ粒子。
【請求項７】
磁性層を有する磁気記録媒体であって、請求項６に記載の強磁性規則合金ナノ粒子を含有することを特徴とする磁気記録媒体。
【図１】
【公開番号】特開２００７−３９７２６（Ｐ２００７−３９７２６Ａ）
【公開日】平成１９年２月１５日（２００７．２．１５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００５−２２３８３７（Ｐ２００５−２２３８３７）
【出願日】平成１７年８月２日（２００５．８．２）
【出願人】（０００００５２０１）富士フイルムホールディングス株式会社 (7,609)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１９年２月１５日（２００７．２．１５）
【国際特許分類】
【出願日】平成１７年８月２日（２００５．８．２）
【出願人】（０００００５２０１）富士フイルムホールディングス株式会社 (7,609)
【Ｆターム（参考）】
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