弾性ローラの製造方法
【課題】リングヘッド塗布工程での、特に塗布開始時及び終了時の塗布ムラ・液ダレを防ぎ、弾性ローラに発生する塗布ムラや液ダレを抑えることで画像不良を防ぎ、量産性に優れた高品質な弾性ローラを安定して製造する弾性ローラの製造方法を提供することである。
【解決手段】芯金上に設けられた弾性層に対して所定の間隔を形成する距離に全周に開口されたリング塗布ヘッドの吐出口から塗布液を吐出して薄膜層を塗布する工程を有する弾性ローラの製造方法において、
該塗布工程が、該弾性ローラを保持する部材に塗布液を吐出した後、連続的に該弾性ローラを塗布する工程を有する
ことを特徴とする弾性ローラの製造方法。
【解決手段】芯金上に設けられた弾性層に対して所定の間隔を形成する距離に全周に開口されたリング塗布ヘッドの吐出口から塗布液を吐出して薄膜層を塗布する工程を有する弾性ローラの製造方法において、
該塗布工程が、該弾性ローラを保持する部材に塗布液を吐出した後、連続的に該弾性ローラを塗布する工程を有する
ことを特徴とする弾性ローラの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、特にＬＢＰ（Ｌａｓｅｒ Ｂｅａｍ Ｐｒｉｎｔｅｒ）、複写機及びファクシミリ等のＯＡ機器における、電子写真プロセスを利用した画像形成装置に用いる弾性ローラ（帯電ローラ、現像ローラ等）の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年の画像形成装置は、高速化、高耐久化に伴い、画像形成装置に使用される弾性ローラ（ゴムローラ）も、高精度、高耐久化が要求されてきている。
【０００３】
画像形成装置に使用される帯電ゴムローラは、帯電部材のうち最も一般的なものであり、感光体ドラムに接触して感光体ドラム表面に所定の極性・電位で一様に帯電処理を行うものである。また、現像ゴムローラも現像部材のうち最も一般的なものであり、感光体ドラムに接触して感光体ドラム表面にトナーを安定して供給するものである。帯電ローラに関しては、外径精度や表面性が悪いと感光体ドラムに接触している部分の圧力、接触面積が均一ではなく、結果としてその接触部分の抵抗値が変化してしまい、感光体ドラム表面を均一に帯電することが難しくなるという場合がある。現像ローラに関しては、外径精度や表面性が悪いとトナー供給ローラから供給されるトナー帯電特性（帯電量等）のバラツキが大きくトナー量が安定せず、感光体ドラム表面にトナーを安定して供給することが難しくなるという場合がある。特に、帯電ローラや現像ローラは、性能上、ゴムローラ表面に塗料や表面処理剤を塗布したものが多い。そのため、塗料や表面処理剤の種類（粘度等）や塗布条件（塗布方法、塗布速度等）にもよるが、塗布工程での塗布ムラや液ダレは画像不良にもつながる場合があるため非常に重要な課題である。
【０００４】
リングヘッド塗布方法は、全周に開口されたリング塗布ヘッドのスリット状の吐出口から円周均一に定量の塗布液を吐出してリング塗布ヘッドとゴムローラを相対的に移動させることにより、薄膜層を高速で塗布することが可能である。しかし、塗布液の粘度や塗布速度にもよるが、特に塗布開始時及び終了時に塗布ムラ・液ダレが生じてゴムローラに塗布ムラや液ダレが発生してしまう場合がある。
【０００５】
ここで、円筒状基材（感光体ドラム）の塗布方法として、スライドホッパー型リングヘッド塗布方法が検討されている。そして、塗布ムラや塗布欠陥を防ぐために円筒状基材の筒軸を合わせて積み重ね、下から上へ垂直に押し上げながら垂直に塗布する方法が検討されている（特許文献１、特許文献２参照）。しかし、これらは弾性層（ゴムローラ）への塗布方法に関しての記載はなく、またゴムローラを保持する部材にリング塗布ヘッドから塗布液を吐出してゴムローラの塗布を開始するような製造方法に関して記載していない。
【特許文献１】特開平９−１０６６２号公報
【特許文献２】特開平９−２０６６６０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の目的は、高品位な電子写真画像を与える弾性ローラを安定して量産することができる弾性ローラの製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明に従って、芯金上に設けられた弾性層に対して所定の間隔を形成する距離に全周に開口されたリング塗布ヘッドの吐出口から塗布液を吐出して薄膜層を塗布する工程を有する弾性ローラの製造方法において、
該塗布工程が、該弾性ローラを保持する部材に塗布液を吐出した後、連続的に該弾性ローラを塗布する工程を含む
ことを特徴とする弾性ローラの製造方法が提供される。
【発明の効果】
【０００８】
本発明により、特に塗布開始時及び終了時の塗布ムラ・液ダレを防ぎ、ゴムローラに発生する塗布ムラや液ダレを抑えることが可能である。また通常、塗布速度を速めるとゴムローラに発生する塗布ムラや液ダレが悪化する傾向にある。しかし本発明によれば、塗布速度を速めても特に塗布開始時及び終了時の塗布ムラ・液ダレを防ぐことができる。その結果、高品位な弾性ローラの量産性を向上させることが可能である。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
以下、本発明にかかる弾性ローラ（ゴムローラ）を更に詳細に説明する。
【００１０】
まず、芯金上にゴム層が設けられたゴムローラの成形方法としては、円筒金型に同心に軸状の芯金を保持する２つの円筒駒を組み、ゴム材料を注入後加熱することにより材料を硬化させてゴムローラを成形する射出成形が挙げられる。また、ゴム材料をチューブ状に押出した後、芯金にチューブ状のゴム材料を被せる、或いは芯金とゴム材料を一体に押出して円筒状のゴムローラを成形する押出成形、トランスファー成形、プレス成形等が挙げられるが、特に限定されるものではない。製造時間の短縮を考えるとゴム材料を芯金と一体に押出してゴムローラを成形する押出成形が好ましい。
【００１１】
ゴムローラの加熱方法に関しては、熱風炉、加硫缶、熱盤、遠・近赤外線、誘導加熱等のいずれの方法でもよく、更に加熱状態の円筒状又は平面状の部材に回転させながら押し当てる方法を用いてもよい。
【００１２】
また、加熱後に所望のローラ形状、ローラ表面粗さにするために回転砥石を用いた乾式研磨をする場合もある。
【００１３】
ここで、図１には押出機の模式図を示す。押出機１はクロスヘッド２を備える。クロスヘッドは、芯金送りローラ３によって送られた芯金４を後ろから挿入でき、芯金と同時に円筒状のゴム材料を一体に押出すことができる。ゴム材料を芯金の周囲に円筒状に成形した後に、端部を切断・除去処理５を行い、ゴムローラ６とした。
【００１４】
前記ゴムローラの芯金として使用する材質は、ニッケルメッキしたＳＵＭ材等の鋼材を含むステンレススチール棒、リン青銅棒、アルミニウム棒、耐熱樹脂棒が好ましい。また、芯金上に設けられたゴム層は、導電性の弾性層である。ポリマーとしては、天然ゴム、ブタジエンゴム、ヒドリンゴム、スチレン−ブタジエンゴム、ニトリルゴム、エチレン−プロピレンゴム、ブチルゴム、シリコーンゴム、ウレタンゴム、フッソゴム、塩素ゴム、熱可塑エラストマー等のいずれでもよい。ポリマー中に分散させる導電粉としては、カーボンブラック、導電性カーボン等のカーボン類、及び金属粉、導電性の繊維、或いは酸化スズ等の半導電性金属酸化物粉体、更にこれらの混合物等のいずれでもよい。
【００１５】
次に、本発明のゴムローラのリングヘッド塗布方法について詳細に説明する。
【００１６】
まず、前記のような方法等で得られたゴムローラを垂直状態に保持する。ここで、ゴムローラを保持する上側・下側の部材の外径は、薄膜層が形成される前のゴムローラの外径に対して±０．２ｍｍ以内であることが好ましい。ゴムローラを保持する部材の外径がゴムローラの外径に対して＋０．２ｍｍよりも大きい場合、ゴムローラを保持する部材とゴムローラとの間の段差が大きくなり、塗布時に液キレが発生する可能性がある。また、ゴムローラを保持する部材の外径がゴムローラの外径に対して−０．２ｍｍよりも小さい場合も、ゴムローラを保持する部材とゴムローラとの間の段差が大きくなり、塗布時にゴムローラ端部の側面に液残りが発生する可能性がある。
【００１７】
ゴムローラを保持する部材の材質としては、ステンレス、鉄、アルミニウム、銅、真鋳等の金属やフッ素樹脂、フェノール樹脂、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリスチレン等の樹脂を用いることができる。中でも、加工精度が高いステンレス等の鋼材を用いることが好ましい。ゴムローラを保持する部材と塗布液との濡れ性については、ゴムローラと塗布液との濡れ性と同程度以上であることが好ましく、極端に濡れ性が小さい場合には、ゴムローラの塗布時にゴムローラを保持する部材から塗布液が液ダレしてくる可能性がある。また、ゴムローラを保持する部材の表面粗さＲｚｊｉｓ（ＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１）は２．０μｍ以上２０．０μｍ以下が好ましい。この範囲内であることで塗布液の乾燥が速まりゴムローラを保持する部材からの塗布ムラや液ダレを防止することができる。その結果、塗布ムラや液ダレによる画像不良を防ぎ高品質なゴムローラを安定して得られる。塗布液の種類（粘度等）にもよるが、表面粗さＲｚｊｉｓが２．０μｍよりも小さい場合には、ゴムローラを保持する部材からの液ダレがし易くなる傾向になる。また、表面粗さＲｚｊｉｓが２０．０μｍよりも大きい場合には、ゴムローラを保持する部材に吐出された塗布液を洗浄・除去するのが困難になると考えられ、量産性にかける。ここで、ゴムローラを保持する部材を粗面化する加工方法としては、これに拘らないがサンドブラスト、エアーブラスト、ショットブラスト等のブラスト加工を用いるのが好ましい。
【００１８】
図２を用いてリングヘッド塗布方法を説明する。リング塗布ヘッド７は、ゴムローラを保持する上側・下側の部材８とゴムローラ６に対して所定の間隔を形成する距離に全周に開口されたリング塗布ヘッドのスリット状の吐出口９を有する。そして、リング塗布ヘッドの外部にある液供給手段（シリンジポンプ）により、リング塗布ヘッドに具備される１箇所以上の液供給口１１より塗料や表面処理剤が供給される。リング塗布ヘッド内においては、合流し周方向に分配するための液分配室１２を１箇所以上、液絞り部１０を１箇所以上、有する。ゴムローラを保持する部材８及びゴムローラ６とリング塗布ヘッドとを所定の速度（１乃至２００ｍｍ／ｓ程度）で相対移動させる。塗布液を全周均一に適量のみゴムローラを保持する上側の部材表面に塗布した後、連続的にゴムローラ表面に塗布し、ゴムローラを保持する下側の部材表面で塗布を終了した。
【００１９】
薄膜層は１層以上設けることができ、１層の場合は上記のようにリング塗布ヘッドを１つ設置し、２層や３層と複層の場合は層数に応じたリング塗布ヘッドを設置し、塗布することができる。
【００２０】
また、１層以上塗布することにより弾性ローラ表面に形成される薄膜層の層厚は、弾性ローラの電気特性或いは強度の上で、薄膜である方がよく、１０ｎｍ以上１０００ｎｍ未満が好ましい。ここで、例えば、薄膜層の層厚が１０ｎｍ未満の場合、薄膜層としての電気特性や表面自由エネルギー特性を満足しきれない可能性がある。また、薄膜層の層厚が１０００ｎｍ以上の場合、薄膜層の硬度が大きいと薄膜層がゴム層に追従しきれずに割れる可能性がある。
【００２１】
ゴムローラを保持する部材に塗布を開始、又は終了する位置としては特に限定はしないが、ゴムローラのゴム層の端部から５ｍｍ以上離れた位置の方が液ダレをより抑えることができるため好ましい。
【００２２】
ゴムローラを保持する部材表面及びゴムローラ表面への吐出量については、所望の塗布膜厚、塗布液の固形分の比率、塗布液の粘度、塗布速度（ゴムローラとリング塗布ヘッドとの相対移動速度）を考慮して算出する。所望の塗布膜厚によっては１本中のゴムローラ表面への吐出量を変量させながら吐出を制御してもよく、更にゴムローラを保持する部材表面への吐出量を変量させながら吐出を制御してもよい。また、ゴムローラを保持する部材表面への吐出量とゴムローラ表面への吐出量を変化させて制御してもよい。例えばゴムローラ表面への吐出量を所望の塗布膜厚等より算出し、これよりも少ない吐出量でゴムローラを保持する部材表面に塗布するとゴムローラを保持する部材からの液ダレを抑制できると考えられる。
【００２３】
リング塗布ヘッドの全周に開口されたスリット状の吐出口の開口幅（スリット幅）は０．０１ｍｍ以上１．０ｍｍ以下が好ましく、塗料や表面処理剤の液粘度、塗料や表面処理剤中の添加材料によって選択・決定される。リング塗布ヘッドの材質としては、ステンレス、鉄、アルミニウム、銅、真鋳等の金属やフッ素樹脂、フェノール樹脂、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリスチレン等の樹脂を用いることができる。中でも、加工精度が高いステンレス等の鋼材を用いることが好ましい。
【００２４】
塗料や表面処理剤としては、シリコーン系、フッ素系、ウレタン系、アクリル系、ウレタン変性アクリル系、シリコーン変性ウレタン系材料が用いられる。特にフッ化アルキル基及びオキシアルキレン基を有するポリシロキサンを含有する材料が好ましい。ここで、表面処理剤とはゴムローラ表面に膜を形成するもの、或いはゴムローラ表面から含浸されるもののどちらも含む。
【００２５】
ここで、フッ化アルキル基及びオキシアルキレン基を有するポリシロキサンを含有する材料について詳細に説明する。
【００２６】
前記フッ化アルキル基としては、例えば、直鎖型又は分岐型のアルキル基の水素原子の一部又は全部をフッ素原子で置換したものが挙げられる。その中でも、炭素数６以上３１以下の直鎖状のパーフルオロアルキル基が好ましい。
【００２７】
前記オキシアルキレン基とは、−Ｏ−Ｒ−（Ｒ：アルキレン基）で示される構造を有する２価の基（「アルキレンエーテル基」と呼ばれることもある。）である。このＲ（アルキレン基）としては、炭素数１以上６以下のアルキレン基が好ましい。
【００２８】
前記ポリシロキサン中のフッ化アルキル基の含有量は、ポリシロキサン全質量に対して５．０質量％以上５０．０質量％以下であることが好ましい。また、前記ポリシロキサン中のオキシアルキレン基の含有量は、ポリシロキサンの全質量に対して５．０質量％以上７０．０質量％以下であることが好ましい。ポリシロキサン中のシロキサン部分（−Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ−Ｏ−・・・で示される構造を有する部分）の含有量は、ポリシロキサンの全質量に対して２０．０質量％以上９０．０質量％以下であることが好ましい。
【００２９】
また、前記ポリシロキサンは、更にアルキル基及びフェニル基を有するものが好ましい。アルキル基としては、炭素数１以上２１以下の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が好ましく、更にはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ヘキシル基及びデシル基がより好ましい。
【００３０】
前記ポリシロキサンが更にアルキル基及びフェニル基を有する場合、前記ポリシロキサン中のフッ化アルキル基、オキシアルキレン基、アルキル基、フェニル基及びシロキサン部分の含有量は、ポリシロキサンの全質量に対し、次の値であることが好ましい。
・フッ化アルキル基 ： ５．０質量％以上５０．０質量％以下
・オキシアルキレン基： ５．０質量％以上３０．０質量％以下
・アルキル基 ： ５．０質量％以上３０．０質量％以下
・フェニル基 ： ５．０質量％以上３０．０質量％以下
・シロキサン部分 ：２０．０質量％以上８０．０質量％以下
【００３１】
前記フッ化アルキル基及びオキシアルキレン基を有するポリシロキサンは、下記工程（Ｉ）及び（ＩＩ）を経て得られるポリシロキサンであることが好ましい。
（Ｉ）カチオン重合可能な基を有する加水分解性シラン化合物と、フッ化アルキル基を有する加水分解性シラン化合物とを加水分解し、縮合させる縮合工程
（ＩＩ）該カチオン重合可能な基を開裂させることにより、工程（Ｉ）により得られた加水分解性縮合物を架橋させる架橋工程
前記カチオン重合可能な基を有する加水分解性シラン化合物としては、下記式（２）で示される構造を有する加水分解性シラン化合物が好適である。
【００３２】
【化１】
【００３３】
式（２）中、Ｒ２１は、飽和又は不飽和の１価の炭化水素基を示す。Ｒ２２は、飽和又は不飽和の１価の炭化水素基を示す。Ｚ２１は、２価の有機基を示す。Ｒｃ２１は、カチオン重合可能な基を示す。ｄは、０以上２以下の整数を示し、ｅは、１以上３以下の整数を示し、ｄ＋ｅ＝３である。
【００３４】
前記式（２）中のＲｃ２１で示されるカチオン重合可能な基とは、開裂によってオキシアルキレン基を生成するカチオン重合可能な有機基を意味し、例えば、エポキシ基やオキセタン基等の環状エーテル基、及び、ビニルエーテル基等が挙げられる。これらの中でも、入手の容易性及び反応制御の容易性の観点から、エポキシ基であることが好ましい。
【００３５】
前記式（２）中のＲ２１及びＲ２２で示される飽和又は不飽和の１価の炭化水素基としては、例えば、アルキル基、アルケニル基及びアリール基等が挙げられる。これらの中でも、炭素数１以上３以下の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が好ましく、更にはメチル基、エチル基がより好ましい。
【００３６】
前記式（２）中のＺ２１で示される２価の有機基としては、例えば、アルキレン基及びアリーレン基等が挙げられる。これらの中でも、炭素数１以上６以下のアルキレン基が好ましく、更にはエチレン基がより好ましい。
【００３７】
前記式（２）中のｅは、３であることが好ましい。また、前記式（２）中のｄが２の場合、２個のＲ２１は同一であってもよく、異なっていてもよい。また、前記式（２）中のｅが２又は３の場合、２個又は３個のＲ２２は、同一であってもよく、異なっていてもよい。
【００３８】
以下に、前記式（２）で示される構造を有する加水分解性シラン化合物の具体例を示す。
【００３９】
（２−１）：グリシドキシプロピルトリメトキシシラン
（２−２）：グリシドキシプロピルトリエトキシシラン
（２−３）：エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシラン
（２−４）：エポキシシクロヘキシルエチルトリエトキシシラン
【００４０】
また、前記フッ化アルキル基を有する加水分解性シラン化合物としては、下記式（３）で示される構造を有する加水分解性シラン化合物が好適である。
【００４１】
【化２】
【００４２】
式（３）中、Ｒ３１は、飽和又は不飽和の１価の炭化水素基を示す。Ｒ３２は、飽和又は不飽和の１価の炭化水素基を示す。Ｚ３１は、２価の有機基を示す。Ｒｆ３１は、炭素数１以上３１以下の直鎖状のパーフルオロアルキル基を示す。ｆは、０以上２以下の整数を示し、ｇは、１以上３以下の整数を示し、ｆ＋ｇ＝３である。
【００４３】
前記式（３）中のＲ３１及びＲ３２で示される飽和又は不飽和の１価の炭化水素基としては、例えば、アルキル基、アルケニル基及びアリール基等が挙げられる。これらの中でも、炭素数１以上３以下の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が好ましく、更にはメチル基、エチル基がより好ましい。
【００４４】
前記式（３）中のＺ３１で示される２価の有機基としては、例えば、アルキレン基及びアリーレン基等が挙げられる。これらの中でも、炭素数１以上６以下のアルキレン基が好ましく、更にはエチレン基がより好ましい。
【００４５】
前記式（３）中のＲｆ３１で示される炭素数１以上３１以下の直鎖状のパーフルオロアルキル基としては、処理性の観点から、特に炭素数６以上３１以下の直鎖状のパーフルオロアルキル基が好ましい。
【００４６】
前記式（３）中のｇは、３であることが好ましい。また、前記式（３）中のｆが２の場合、２個のＲ３１は、同一であってもよく、異なっていてもよい。また、前記式（３）中のｇが２又は３の場合、２個又は３個のＲ３２は、同一であってもよく、異なっていてもよい。
【００４７】
以下に、前記式（３）で示される構造を有する加水分解性シラン化合物の具体例を示す。
【００４８】
（３−１）：ＣＦ３−（ＣＨ２）２−Ｓｉ−（ＯＲ）３
（３−２）：Ｆ（ＣＦ２）２−（ＣＨ２）２−Ｓｉ−（ＯＲ）３
（３−３）：Ｆ（ＣＦ２）４−（ＣＨ２）２−Ｓｉ−（ＯＲ）３
（３−４）：Ｆ（ＣＦ２）６−（ＣＨ２）２−Ｓｉ−（ＯＲ）３
（３−５）：Ｆ（ＣＦ２）８−（ＣＨ２）２−Ｓｉ−（ＯＲ）３
（３−６）：Ｆ（ＣＦ２）１０−（ＣＨ２）２−Ｓｉ−（ＯＲ）３
（式（３−１）乃至（３−６）中のＲは、メチル基又はエチル基を示す。）
【００４９】
前記式（３−１）乃至（３−６）で示される化合物の中でも、前記式（３−４）乃至（３−６）で示される化合物が好ましい。
【００５０】
前記カチオン重合可能な基を有する加水分解性シラン化合物及び前記フッ化アルキル基を有する加水分解性シラン化合物は、それぞれ１種のみを用いてもよいし、２種以上を用いてもよい。
【００５１】
特に、前記式（３）で示される構造を有する加水分解性シラン化合物を用いる場合、Ｒｆ３１の炭素数ｎＡが６以上３１以下であって、炭素数ｎＡが相互に異なる２種以上の化合物を組み合わせて用いることが好ましい。このような組み合わせで前記式（３）で示される構造を有する加水分解性シラン化合物を用いると、得られるポリシロキサンは、炭素数の異なるパーフルオロアルキル基を有することになる。パーフルオロアルキル基は、薄膜層の表面に向かって配向する傾向にある。このため、薄膜層に含有されるポリシロキサンが炭素数の異なるパーフルオロアルキル基を有していれば、薄膜層の表面に向かって長さの異なるパーフルオロアルキル基が配向することになる。この場合、単一の長さのパーフルオロアルキル基が薄膜層の表面に向かって配向する場合に比べて、薄膜層の表面近傍のフッ素原子濃度が高くなり、薄膜層の表面自由エネルギーが低くなる。表面自由エネルギーが低下するような薄膜層は、トナー及びトナーに付着している外添剤によるゴムローラ表面の汚れ防止に効果がある。
【００５２】
前記式（３）で示される構造を有する加水分解性シラン化合物を２種以上用いる場合は、前記式（３−４）乃至（３−６）で示される化合物の中から２種以上選択することが好ましい。
【００５３】
本発明においては、前述のとおり、まず、縮合工程（Ｉ）でカチオン重合可能な基を有する加水分解性シラン化合物と、フッ化アルキル基を有する加水分解性シラン化合物とを加水分解し、縮合させて、加水分解性縮合物を得る。次いで、架橋工程（ＩＩ）で該カチオン重合可能な基を開裂させることにより、該加水分解性縮合物を架橋させることによって、本発明の弾性ローラに用いられるポリシロキサンを得ることができる。弾性ローラの表面特性の制御の観点から、加水分解性縮合物を得る縮合工程（Ｉ）において、更に、下記式（１）で示される構造を有する加水分解性シラン化合物を併用することが好ましい。
【００５４】
【化３】
【００５５】
式（１）中、Ｒ１１は、フェニル基置換のアルキル基もしくは無置換のアルキル基、又は、アルキル基置換のアリール基もしくは無置換のアリール基を示す。Ｒ１２は、飽和又は不飽和の１価の炭化水素基を示す。ａは、０以上３以下の整数を、ｂは、１以上４以下の整数を示し、ａ＋ｂ＝４である。
【００５６】
前記式（１）中のＲ１１で示されるフェニル基置換のアルキル基又は無置換のアルキル基のアルキル基としては、炭素数１以上２１以下の直鎖状のアルキル基が好ましい。また、前記式（１）中のＲ１１で示されるアルキル基置換のアリール基もしくは無置換のアリール基のアリール基としては、フェニル基が好ましい。
【００５７】
前記式（１）中のａは、１以上３以下の整数であることが好ましく、特には１であることがより好ましい。また、前記式（１）中のｂは、１以上３以下の整数であることが好ましく、特には３であることがより好ましい。
【００５８】
前記式（１）中のＲ１２で示される飽和又は不飽和の１価の炭化水素基としては、例えば、アルキル基、アルケニル基及びアリール基等が挙げられる。これらの中でも、炭素数１以上３以下の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が好ましく、更にはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基がより好ましい。
【００５９】
前記式（１）中のａが２又は３の場合、２個又は３個のＲ１１は同一であってもよく、異なっていてもよい。また、前記式（１）中のｂが２、３又は４の場合、２個、３個又は４個のＲ１２は同一であってもよく、異なっていてもよい。
【００６０】
以下に、前記式（１）で示される構造を有する加水分解性シラン化合物の具体例を示す。
【００６１】
（１−１）：テトラメトキシシラン
（１−２）：テトラエトキシシラン
（１−３）：テトラプロポキシシラン
（１−４）：メチルトリメトキシシラン
（１−５）：メチルトリエトキシシラン
（１−６）：メチルトリプロポキシシラン
（１−７）：エチルトリメトキシシラン
（１−８）：エチルトリエトキシシラン
（１−９）：エチルトリプロポキシシラン
（１−１０）：プロピルトリメトキシシラン
（１−１１）：プロピルトリエトキシシラン
（１−１２）：プロピルトリプロポキシシラン
（１−１３）：ヘキシルトリメトキシシラン
（１−１４）：ヘキシルトリエトキシシラン
（１−１５）：ヘキシルトリプロポキシシラン
（１−１６）：デシルトリメトキシシラン
（１−１７）：デシルトリエトキシシラン
（１−１８）：デシルトリプロポキシシラン
（１−１９）：フェニルトリメトキシシラン
（１−２０）：フェニルトリエトキシシラン
（１−２１）：フェニルトリプロポキシシラン
（１−２２）：ジフェニルジメトキシシラン
（１−２３）：ジフェニルジエトキシシラン
【００６２】
前記式（１）で示される構造を有する加水分解性シラン化合物及び前記式（３）で示される構造を有する加水分解性シラン化合物を併用する場合、前記式（１）中のａは１以上３以下の整数であることが好ましく、ｂは１以上３以下の整数であることが好ましい。更に、ａ個のＲ１１のうちの１個のＲ１１は、炭素数１以上２１以下の直鎖状のアルキル基であることが好ましい。
【００６３】
更に、該炭素数１以上２１以下の直鎖状のアルキル基の炭素数をｎ１とし、前記式（３）中のＲｆ３１の炭素数をｎ２としたとき、ｎ１は、次の式の関係を満たすことが好ましい。
【００６４】
ｎ２−１≦ｎ１≦ｎ２＋１
上記式中、ｎ１は１以上２１以下の整数、ｎ２は１以上３１以下の整数を示す。
【００６５】
前記炭素数１以上２１以下の直鎖状のアルキル基は、パーフルオロアルキル基と同様、帯電ローラの薄膜層中で表面に向かって配向する傾向にある。上記関係を満たす直鎖状のアルキル基を有する前記式（１）で示される加水分解性シラン化合物を用いると、前記式（３）で示される構造を有する加水分解性シラン化合物のパーフルオロアルキル基による効果が損なわれることがなく好ましい。
【００６６】
前記式（１）で示される構造を有する加水分解性シラン化合物は、１種のみ用いてもよいし、２種以上用いてもよい。２種以上用いる場合には、前記式（１）中のＲ１１がアルキル基のものと前記式（１）中のＲ１１がフェニル基のものを併用することが好ましい。
【００６７】
以下、本発明の弾性ローラの具体的な製造方法（前記ポリシロキサンを含有する最表面層の具体的な形成方法）について説明する。
【００６８】
まず、カチオン重合可能な基を有する加水分解性シラン化合物及びフッ化アルキル基を有する加水分解性シラン化合物、ならびに、必要に応じて前記の他の加水分解性シラン化合物を水の存在下で加水分解し、縮合させることによって加水分解性縮合物を得る。加水分解し、縮合させる際に、温度やｐＨ等を制御することで、所望の縮合度の加水分解性縮合物を得ることができる。
【００６９】
また、加水分解し、縮合させる際に、加水分解反応の触媒として金属アルコキシド等を利用し、縮合度を制御してもよい。金属アルコキシドとしては、例えば、アルミニウムアルコキシド、チタニウムアルコキシド及びジルコニアアルコキシド等、ならびに、これらの錯体（アセチルアセトン錯体等）等が挙げられる。
【００７０】
また、加水分解性縮合物を得る際、カチオン重合可能な基を有する加水分解性シラン化合物及びフッ化アルキル基を有する加水分解性シラン化合物の配合割合は、得られるポリシロキサンが、下記基等を下記含有量で含むものとなるように定めることが好ましい。
・フッ化アルキル基：ポリシロキサン全質量に対して５．０質量％以上５０．０質量％以下
・オキシアルキレン基：ポリシロキサン全質量に対して５．０質量％以上７０．０質量％以下
・シロキサン部分：ポリシロキサン全質量に対して２０．０質量％以上９０．０質量％以下
【００７１】
また、上記加水分解性シラン化合物のほかに、更に、前記式（１）で示される構造を有する加水分解性シラン化合物を用いる場合においても、得られるポリシロキサンが、上記基等を上記含有量で含むものとなるように配合割合を定めればよい。
【００７２】
具体的には、フッ化アルキル基を有する加水分解性シラン化合物を、全加水分解性シラン化合物に対して０．５ｍｏｌ％以上２０．０ｍｏｌ％以下の範囲になるように配合することが好ましい。特には１．０ｍｏｌ％以上１０．０ｍｏｌ％以上の範囲になるように配合することがより好ましい。
【００７３】
また、前記式（１）で示される構造を有する加水分解性シラン化合物を併用する場合には、更に、カチオン重合可能な基を有する加水分解性シラン化合物を配合することが好ましい。この場合の配合量としては、モル比（ＭＣ：Ｍ１）が１０：１〜１：１０の範囲になるように配合することが好ましい。ここで、Ｍｃは、前記式（１）で示される構造を有する加水分解性シラン化合物のモル数である。またＭ１はカチオン重合可能な基を有する加水分解性シラン化合物のモル数である。
【００７４】
次に、得られた加水分解性縮合物を含む薄膜層を形成するための塗布液を調製し、ゴムローラ表面に塗布し乾燥する。ゴムローラ表面に塗布液を吐出する際には、前記のリング塗布ヘッドを用いたリングヘッド塗布方法が好ましい。塗布液を調製する際には、塗布性向上のために、加水分解性縮合物以外に、適当な溶剤を用いてもよい。適当な溶剤としては、例えば、エタノール、２−ブタノール等のアルコールや、酢酸エチルや、メチルエチルケトン等、或いは、これらを混合したものが挙げられる。塗布液の粘度は特に限定しないが、１０ｎｍ以上１０００ｎｍ未満の薄膜層を形成するためには低粘度の塗布液の方が好ましく、Ｂ型粘度計の値で０．５ｍＰａ・ｓ以上２．０ｍＰａ・ｓ以下が好ましい。また、速乾性のある溶剤希釈系を用いると乾燥が速まり、塗布ムラや液ダレを抑えることができ、好ましい。
【００７５】
また、前記のようなリングヘッド塗布方法により、ゴムローラを保持する部材表面及びゴムローラ表面に対して塗布液を吐出した直後に、リング乾燥ヘッドの気体の吹出口より塗布液が乾燥する前に定量の気体を吹きつけることが好ましい。これにより、塗布液の乾燥が速まりゴムローラに発生する塗布ムラや液ダレを抑えることが可能になる。
【００７６】
リング乾燥ヘッドからの気体の吹きつけは、ゴムローラを保持する部材のみにだけ吹きつけてもよいが、ゴムローラを保持する部材へ吹きつけ後、連続的にゴムローラ表面にも吹きつけてよい。この場合、ゴムローラ表面の塗布液の乾燥が速まりゴムローラに発生する塗布ムラや液ダレを抑えることやゴムローラ表面のホコリ、異物等の付着を防ぐことが可能になる。
【００７７】
ゴムローラ表面の塗布工程後のリング乾燥ヘッドからの気体の吹きつけについて図３を用いて詳細に説明する。リング乾燥ヘッド１３は、ゴムローラを保持する部材８で垂直状態に支持し、このゴムローラを保持する部材８及びゴムローラ６に対して所定の間隔を形成する距離に全周に開口されたスリット状の吹出口１４を有する。また、リング乾燥ヘッド１３には、リング乾燥ヘッドの外部にある気体の供給側圧力ラインから精密レギュレータから所望の圧力に設定されて、リング乾燥ヘッドの気体の供給口１６に供給される。また、リング乾燥ヘッド１３には、リング乾燥ヘッド１３に供給された気体を、リング乾燥ヘッド内において合流させ、周方向に分配するための気体分配室１７を１箇所以上、気体絞り部１５を１箇所以上、有する。ゴムローラとリング乾燥ヘッドとを所定の速度（１乃至２００ｍｍ／ｓ程度）で相対移動させ、気体を全周均一にゴムローラを保持する上側の部材表面に吹きつけた後、連続的にゴムローラ表面に吹きつけ、ゴムローラを保持する下側の部材表面で吹きつけを終了した。
【００７８】
吹きつける気体としては、化学的に不活性で安全な気体が好適である。例えば、空気、窒素ガス等が挙げられる。また、気体の温度、湿度を任意に設定してもよい。更に、供給側圧力ラインのドレンやゴミ等を防止するために供給側圧力ラインと精密レギュレータの間に、エアフィルタ、ミストセパレイタを入れることが好ましい。
【００７９】
精密レギュレータで設定される圧力については、０．０１ＭＰａ以上０．６ＭＰａ以下の間で調整することが好ましい。圧力が０．０１ＭＰａより小さい場合、塗布液の乾燥を促進させる効果が低い。また、圧力が０．６ＭＰａより大きい場合、ゴムローラ表面の塗布液の液面形状にはじき、ムラ等の乱れが生じ易くなる。ここで、１本中のゴムローラ表面に吹きつける気体の圧力を変化させながら制御してもよく、更にゴムローラを保持する部材表面に吹きつける気体の圧力を変化させながら制御してもよい。また、ゴムローラ表面に吹きつける気体の圧力とゴムローラを保持する部材表面に吹きつける気体の圧力を変化させて制御してもよい。
【００８０】
リング乾燥ヘッドの全周に開口されたスリット状の吹出口の開口幅（スリット幅）は、０．０１ｍｍ以上１．０ｍｍ以下の範囲内で使用することが好ましく、ゴムローラ表面の塗布液の液面形状にはじき、ムラ等の乱れが生じないところで選択・決定される。また、スリット状の吹出口の角度は０°（ゴムローラの外周面に対して垂直になる角度）から反時計回りで６０°（ゴムローラの外周面の移動方向側に寝かす方向）にすることが好ましい。リング乾燥ヘッドの材質としては、ステンレス、鉄、アルミニウム、銅、真鋳等の金属やフッ素樹脂、フェノール樹脂、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリスチレン等の樹脂を用いることができる。中でも、加工精度が高いステンレス等の鋼材を用いることが好ましい。
【００８１】
次に、ゴムローラ表面に塗布液を吐出して形成した薄膜層の硬化方法について説明する。薄膜層は加熱硬化させてもよい。この場合は、熱風炉、熱盤、遠・近赤外線、誘導加熱等のいずれの方法でもよく、或いはこれらの加熱方法を併用してもよい。また、活性エネルギー線を照射して硬化させてもよく、この場合は短時間での硬化が可能になる。活性エネルギー線は紫外線でも電子線でもよい。活性エネルギー線による硬化は、塗布液に含まれる加水分解性縮合物中のカチオン重合可能な基が開裂して、これによって該加水分解性縮合物を架橋させることができる。加水分解性縮合物は架橋によって硬化され薄膜層が形成される。また、薄膜層を活性エネルギー線で照射する場合は、ゴム層も同時に改質・硬化される。特に、ゴム層が二重結合を有するゴムである場合は、活性エネルギー線での照射による改質・硬化の効果が大きいため好ましい。
【００８２】
ここでは、紫外線の照射によって架橋・硬化して薄膜層を形成する方法について詳細に説明する。塗料や表面処理剤を塗布したゴムローラは、ローラ回転部材によって一定の回転数で回転られ、紫外線照射口よりその表面に紫外線が照射される。紫外線ランプは、高出力低圧水銀ランプ、無電極低圧水銀ランプ、エキシマランプ、高圧水銀ランプ、メタルハライドランプのいずれでもよいが、必要波長や表面処理の効果に応じて適宜選択すればよい。本発明では高出力低圧水銀ランプを用いており、主に２５４ｎｍの波長を代表とする紫外線である。なお、紫外線の積算光量は、下記で定義される。
【００８３】
紫外線積算光量（ｍＪ／ｃｍ２）＝紫外線強度（ｍＷ／ｃｍ２）×照射時間（ｓｅｃ）
【００８４】
紫外線の積算光量については、紫外線硬化や表面処理の効果に応じて適宜選択すればよい。その調節は、照射時間、ランプ出力、ランプとローラとの距離のいずれでも行うことが可能であり、所望の積算光量が得られるように決めればよい。今回、２５４ｎｍの波長を代表とする紫外線に関しては、紫外線の積算光量をウシオ電機株式会社製のＵＩＴ−１５０−Ａ、ＵＶＤ−Ｓ２５４の紫外線強度計、積算光量計を用いて測定した。
【００８５】
また、紫外線ランプの外側に反射板を配置してもよく、反射板の材質としては、アルミニウム、ステンレス又は鉄を用い、反射面は鏡面加工又は反射率を向上させるコート処理や表面処理が施されることが好ましい。より好ましくは、材質が９９．９％以上の高純度アルミニウムで表面に反射率９０％以上の光沢アルマイト処理を施すことである。ここで、ステンレスに鏡面加工を施した反射板の場合は、紫外線の反射率が約８０％で、高純度アルミニウムの表面に光沢アルマイト処理を施した反射板の場合は、紫外線の反射率が９０％以上である。反射板とゴムローラの距離は任意に設定でき、紫外線積算光量や反射板からの輻射による熱の影響を考慮して決定される。
【００８６】
また、紫外線の照射方法については、塗料や表面処理剤を塗布した複数のゴムローラを管状の紫外線ランプを中心に同心円上に配置して、更にその外側の同心円上に円筒状又は円弧状の反射板を配置して、ゴムローラを回転させながら紫外線を照射する方法でもよい。
【００８７】
本発明の実施の形態である弾性ローラの製造方法により得られたゴムローラは、ＬＢＰ（Ｌａｓｅｒ Ｂｅａｍ Ｐｒｉｎｔｅｒ：レーザープリンタ）、複写機及びファクシミリ等の画像形成装置の電子写真用部材として用いられる。ここでは、帯電ローラとして用いた場合の使用形態を図４に示した。
【００８８】
画像形成装置は、回転ドラム型・転写方式の電子写真装置であって、像担持体としての電子写真感光体（感光ドラム）１８は、時計方向に所定の周速度（プロセススピード）をもって回転駆動される。感光ドラム１８は、その回転過程で帯電手段としての電源Ｅ１から帯電バイアスを印加した帯電ローラ１９により周面が所定の極性・電位（本実施例では−６００Ｖ）に一様帯電処理される。次いで、露光系２０により目的の画像情報に対応したネガ画像露光（原稿像のアナログ露光、デジタル走査露光）を受けて周面に目的画像情報の静電潜像が形成される。次いで、その静電潜像がマイナストナーによる反転現像方式のトナー現像ローラ２１によりトナー画像として現像される。そして、そのトナー画像が感光ドラムと転写手段としての転写ローラ２２との間の転写部に不図示の給紙手段から所定のタイミングで転写材が給送され。そして、転写ローラに対して電源Ｅ２から約＋２ｋＶ以上３ｋＶ以下の転写バイアスが印加され感光ドラム面の反転現像されたトナー像が転写材に対して順次転写されていく。トナー画像の転写を受けた転写材Ｐは、感光ドラム面から分離されて不図示の定着手段へ導入されて像定着処理を受ける。トナー画像転写後の感光ドラム面は、クリーニング手段２３で転写残りトナー等の付着汚染物の除去処理を受けて清浄面化されて繰り返して作像に供される。
【００８９】
以上説明したように、本発明によれば、塗布開始時及び終了時の塗布ムラ・液ダレを防ぎ、弾性ローラ端部に発生する塗布ムラや液ダレを抑えることが可能になる。更に、ゴムローラ端部の塗布ムラや液ダレを抑えて量産性を向上させることが可能である。その結果、塗布ムラや液ダレによる画像不良を防ぎ帯電性能が良いゴムローラを安定して得られる。
【００９０】
ここで、図５に本発明の実施形態で得られる弾性ローラである帯電ゴムローラの断面の模式図を示す。４は芯金、２４は弾性層（ゴム層）、２５は薄膜層、２６は紫外線照射処理層である。
【実施例】
【００９１】
以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されない。
【００９２】
（実施例１）
＜ゴムローラの作製＞
以下の原料を加圧式ニーダーで１５分間混練した。
・ＮＢＲ １００質量部
（商品名「Ｎｉｐｏｌ ＤＮ２１９」：日本ゼオン（株）製）
・カーボンブラック１ １４質量部
（商品名「旭ＨＳ−５００」：旭カーボン（株）製）
・カーボンブラック２ ４質量部
（商品名「ケッチェンブラックＥＣ６００ＪＤ」：ライオン（株）製）
・ステアリン酸亜鉛 １質量部
・酸化亜鉛 ５質量部
・炭酸カルシウム ３０質量部
（商品名「ナノックス＃３０」：丸尾カルシウム（株）製）
更に、加硫促進剤（ＤＭ：ジ−２−ベンゾチアゾリルジスルフィド）１質量部、加硫促進剤（ＴＢｚＴＤ：テトラベンジルチウラムジスルフィド）３質量部及び加硫剤としてイオウ１．２質量部を加えた。その後、１５分間オープンロールで混練して未加硫ゴム組成物を作製した。次いで、外径φ６ｍｍ、長さ２５２ｍｍのステンレス棒の芯金を用意した。ここで、図１に模式的に示される押出機を用いて上記芯金と未加硫ゴム組成物とを一体に押出してゴムローラを成形した。その後、１６０℃で１時間の加熱加硫を行い、更に回転砥石を用いた乾式研磨、端部の切断・除去処理により、厚み１．２５ｍｍ、長さ２３２ｍｍのゴムローラを得た（ゴムローラ外径φ８．５ｍｍ）。
【００９３】
＜薄膜層の形成方法＞
下記原料を用意した。
・グリシドキシプロピルトリエトキシシラン（ＧＰＴＥＳ）：２７．８４ｇ（０．１ｍｏｌ）
・メチルトリエトキシシラン（ＭＴＥＳ）： １７．８３ｇ（０．１ｍｏｌ）
・トリデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロオクチルトリエトキシシラン（ＦＴＳ、パーフルオロアルキル基の炭素数６）： ７．６８ｇ（０．０１５１ｍｏｌ）（加水分解性シラン化合物総量に対して７ｍｏｌ％相当））
・水： １７．４３ｇ
・エタノール： ３７．８８ｇ
上記原料を混合した後、室温で攪拌し、次いで２４時間加熱還流を行うことによって、加水分解性シラン化合物を加水分解し、縮合して加水分解性縮合物を得た。この加水分解性縮合物を２−ブタノール／エタノールの混合溶剤に添加することによって、固形分７質量％の加水分解性縮合物含有アルコール溶液を調製した。この加水分解性縮合物含有アルコール溶液１００ｇに対して０．３５ｇの光カチオン重合開始剤としての芳香族スルホニウム塩（商品名：アデカオプトマーＳＰ−１５０、旭電化工業（株）製）を添加した。更に、固形分０．５質量％となるようにエタノールで希釈して薄膜層用の塗布液を調製した。
【００９４】
前記塗布液を密閉容器に入れ、密閉容器を液供給手段であるシリンジポンプに繋ぎ、更にリング塗布ヘッドに具備された１箇所の液供給口に繋ぎ、リング塗布ヘッド内に適量の塗布液を供給した。塗布液は、リング塗布ヘッド内で合流し周方向に分配するための液分配室を有するリング塗布ヘッド内に充填された。
【００９５】
前記より得られたゴムローラを、ゴムローラを保持する部材で垂直状態に支持した。このときゴムローラの外径がφ８．５ｍｍに対して、ゴムローラを保持する上側・下側の部材の外径はφ８．５ｍｍ、表面粗さＲｚｊｉｓは１．１μｍで使用した。このゴムローラの外径に対して０．５ｍｍの間隔を形成する距離に全周に開口されたスリット状の吐出口がくるようにリング塗布ヘッドを配置した。この時、リング塗布ヘッドの全周に開口されたスリット状の吐出口の開口幅（スリット幅）は０．１ｍｍで使用した。リング塗布ヘッドをゴムローラのゴム層の端部から２０ｍｍの位置で、ゴムローラを保持する上側の部材に配置し、この箇所から塗布を開始した。そして、ゴムローラを保持する上側の部材表面から連続的にゴムローラ表面、ゴムローラを保持する下側の部材表面へ、５０ｍｍ／ｓの一定の速度で垂直移動すると同時に上記塗布液を適量（０．０７ｍＬ）、０．０１３ｍＬ／ｓの吐出速度で全周均一に塗布を行った。塗布はゴムローラのゴム層の端部から２０ｍｍに位置するゴムローラを保持する下側の部材で終了させた。
【００９６】
その後、高出力低圧水銀ランプ（ハリソン東芝ライティング製）による紫外線照射を５分間行った。高出力低圧水銀ランプに関しては、主に２５４ｎｍの波長を代表とする紫外線で、この時の紫外線積算光量は約１００００ｍＪ／ｃｍ２であった（紫外線強度は３５ｍＷ／ｃｍ２）。
【００９７】
塗布ムラや液ダレ等の塗布欠陥については、ゴムローラの端部、中央部の薄膜層を目視で評価することにより判断した。評価は、
◎：塗布ムラや液ダレ等の塗布欠陥が全く見られないもの
○：塗布ムラや液ダレ等の塗布欠陥がほぼ見られないもの
△：塗布ムラや液ダレ等の塗布欠陥が数箇所に見られるもの
×：塗布ムラや液ダレ等の塗布欠陥が数多く見られるもの
と判定した。
【００９８】
本発明における、ゴムローラを保持する部材の表面粗さＲｚｊｉｓ測定は、ＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１における十点平均粗さ評価に則した方法で行った。装置として、（株）小坂研究所製の表面粗さ測定器ＳＥ−３４００を用いて、カットオフを０．８ｍｍ、測定速度を０．５ｍｍ／ｓ、測定長さを８ｍｍとして測定を行った。
【００９９】
本発明における膜厚測定は、Ｘ線光電子分析装置（ＥＳＣＡ）にて深さ方向分析を用いて行った。ＥＳＣＡは、Ｑｕａｎｔｕｍ２０００（アルバックファイ社製）を用い、Ｘ線発生条件としてモノクロＡｌＫα線２５Ｗ、１５ｋＶの条件で行った。測定は、φ１００μｍの領域についてｔｉｌｔ ４５°にてＳｉ２Ｐピークをパスエネルギー２３．５ｅＶ、ステップ幅０．１ｅＶ、スキャン回数５回で取り込み、スパッタ時間６秒の繰り返しスパッタにてＳｉ２Ｐピーク強度が一定になるまで行った。スパッタはＡｒイオンを用い、スパッタ条件は、加速電圧４ｋＶ、スパッタ領域は２×２ｍｍ２とした。ここでＳｉ２Ｐピーク強度が一定になるまでに要した合計スパッタ時間を、予め求めておいたスパッタ率にて膜厚に換算した。この時のスパッタ率は３０ｎｍ／ｍｉｎ．であった。スパッタ率は、膜厚を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）や透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）等で測定したものと同等の試料をＥＳＣＡにて深さ方向分析を行うことで決定した。なおＥＳＣＡの測定サンプルは、ローラの表面から表面層が５×５ｍｍ２の大きさになるように切り出した。薄膜層の膜厚は、ローラ上の任意の点を５箇所測定したものを平均して求めた。
【０１００】
本実施例のゴムローラ表面を目視で観察・評価した結果、ゴムローラの端部、中央部とも塗布ムラや液ダレ等の塗布欠陥がほぼ観察されなかった（○／○）。また、ＥＳＣＡによる膜厚測定の結果、薄膜層の膜厚は１２ｎｍであった。結果を表１に示す。
【０１０１】
（実施例２）
＜ゴムローラの作製＞
実施例１と同様な方法でゴムローラを得た（ゴムローラ外径φ８．５ｍｍ）。
【０１０２】
＜薄膜層の形成方法＞
リング塗布ヘッドを、ゴムローラを保持する上側の部材表面から連続的にゴムローラ表面、ゴムローラを保持する下側の部材表面へ、８５ｍｍ／ｓの一定の速度で垂直移動させた。また当該垂直移動と同時に上記塗布液を適量（０．０７ｍＬ）、０．０２３ｍＬ／ｓの吐出速度で全周均一に塗布を行った。それ以外は実施例１と同様にしてゴムローラの塗布を行った。その後、紫外線照射による硬化を行った。
【０１０３】
本実施例のゴムローラ表面を目視で観察・評価した結果、ゴムローラの端部、中央部とも塗布ムラや液ダレ等の塗布欠陥がほぼ観察されなかった（○／○）。また、ＥＳＣＡによる膜厚測定の結果、薄膜層の膜厚は１５ｎｍであった。結果を表１に示す。
【０１０４】
（実施例３）
＜ゴムローラの作製＞
実施例１と同様な方法でゴムローラを得た（ゴムローラ外径φ８．５ｍｍ）。
【０１０５】
＜薄膜層の形成方法＞
薄膜層用の塗布液を固形分１．０質量％となるようにエタノールで希釈して調製した。また、下記の方法でゴムローラを保持する部材表面及びゴムローラ表面にリング乾燥ヘッドから空気を吹きつけた。それ以外は実施例１と同様なリングヘッド塗布方法でゴムローラの塗布、空気の吹きつけを行い、紫外線照射による硬化を行った。
【０１０６】
リング塗布ヘッドに対して同心上にリング乾燥ヘッドを配置・固定して、前記リングヘッド塗布を行った後に連続的にリング乾燥ヘッドを垂直移動させて空気の吹きつけを行った。空気の供給側圧力ラインから精密レギュレータにより圧力０．０３ＭＰａに設定され、リング乾燥ヘッドに具備された１箇所の供給口に繋ぎ、リング乾燥ヘッド内に空気を供給した。空気は、リング乾燥ヘッド内で合流し周方向に分配するための分配室を有するリング乾燥ヘッド内に供給された。前記より得られたゴムローラを、ゴムローラを保持する部材（外径φ８．５ｍｍ、表面粗さＲｚｊｉｓ１．１μｍ）で垂直状態に支持した。このときゴムローラの外径に対して１ｍｍの間隔を形成する距離に全周に開口されたスリット状の吹出口がくるようにリング乾燥ヘッドを配置した。リング乾燥ヘッドの全周に開口されたスリット状の吹出口の開口幅（スリット幅）は０．０５ｍｍで使用した。リング乾燥ヘッドをゴムローラのゴム層の端部から３０ｍｍの位置で、ゴムローラを保持する上側の部材に配置した。そして、ゴムローラを保持する上側の部材表面から連続的にゴムローラ表面、ゴムローラを保持する下側の部材表面へ、８５ｍｍ／ｓの一定の速度で垂直移動する。垂直移動してリング塗布ヘッドより塗布液を吐出した直後に、圧力０．０３ＭＰａの空気を全周均一にゴムローラを保持する上側の部材表面に吹きつけ、連続的にゴムローラ表面に吹きつけ、ゴムローラを保持する下側の部材表面で吹きつけを終了した。
【０１０７】
本実施例のゴムローラ表面を目視で観察・評価した結果、ゴムローラの端部、中央部とも塗布ムラや液ダレ等の塗布欠陥が全く観察されなかった（◎／◎）。また、ＥＳＣＡによる膜厚測定の結果、薄膜層の膜厚は２０ｎｍであった。結果を表１に示す。
【０１０８】
（実施例４）
＜ゴムローラの作製＞
実施例１と同様な方法でゴムローラを得た（ゴムローラ外径φ８．５ｍｍ）。
【０１０９】
＜薄膜層の形成方法＞
ゴムローラを保持する上下の部材の外径がφ８．３ｍｍ、表面粗さＲｚｊｉｓが２．８μｍで使用したこと以外は、実施例３と同様にしてゴムローラの塗布、空気の吹きつけを行い、紫外線照射による硬化を行った。
【０１１０】
本実施例のゴムローラ表面を目視で観察・評価した結果、ゴムローラの端部、中央部とも塗布ムラや液ダレ等の塗布欠陥が全く観察されなかった（◎／◎）。また、ＥＳＣＡによる膜厚測定の結果、薄膜層の膜厚は１９ｎｍであった。結果を表１に示す。
【０１１１】
（実施例５）
＜ゴムローラの作製＞
実施例１と同様な方法でゴムローラを得た（ゴムローラ外径φ８．５ｍｍ）。
【０１１２】
＜薄膜層の形成方法＞
薄膜層用の塗布液を固形分１．０質量％となるようにエタノールで希釈して調製した。また、ゴムローラを保持する上下の部材の外径がφ８．３ｍｍ、表面粗さＲｚｊｉｓが２．８μｍで使用した。それ以外は実施例１と同様にしてゴムローラの塗布を行った。その後、紫外線照射による硬化を行った。
【０１１３】
本実施例のゴムローラ表面を目視で観察・評価した結果、ゴムローラの端部では塗布ムラや液ダレ等の塗布欠陥が全く観察されず、またゴムローラの中央部でも塗布ムラや液ダレ等の塗布欠陥がほぼ観察されなかった（◎／○）。また、ＥＳＣＡによる膜厚測定の結果、薄膜層の膜厚は２５ｎｍであった。結果を表１に示す。
【０１１４】
（実施例６）
＜ゴムローラの作製＞
実施例１と同様な方法でゴムローラを得た（ゴムローラ外径φ８．５ｍｍ）。
【０１１５】
＜薄膜層の形成方法＞
薄膜層用の塗布液を固形分１．０質量％となるようにエタノールで希釈して調製した。また、ゴムローラを保持する上下の部材の外径がφ８．５ｍｍであり、また表面をブラスト加工により表面粗さＲｚｊｉｓを７．４μｍにした。それ以外は実施例１と同様にしてゴムローラの塗布を行った。その後、紫外線照射による硬化を行った。
【０１１６】
本実施例のゴムローラ表面を目視で観察・評価した結果、ゴムローラの端部では塗布ムラや液ダレ等の塗布欠陥が全く観察されず、またゴムローラの中央部でも塗布ムラや液ダレ等の塗布欠陥がほぼ観察されなかった（◎／○）。また、ＥＳＣＡによる膜厚測定の結果、薄膜層の膜厚は２７ｎｍであった。結果を表１に示す。
【０１１７】
（実施例７）
＜ゴムローラの作製＞
実施例１と同様な方法でゴムローラを得た（厚み１．２ｍｍ、長さ２３２ｍｍのゴムローラ、外径φ８．４ｍｍ）。
【０１１８】
＜薄膜層の形成方法＞
薄膜層用の塗布液を固形分１．０質量％となるようにエタノールで希釈して調製した。また、ゴムローラを保持する上下の部材の外径がφ８．６ｍｍであり、また表面をブラスト加工により表面粗さＲｚｊｉｓを１７．２μｍにした。それ以外は実施例１と同様にしてゴムローラの塗布を行った。その後、紫外線照射による硬化を行った。
【０１１９】
本実施例のゴムローラ表面を目視で観察・評価した結果、ゴムローラの端部では塗布ムラや液ダレ等の塗布欠陥が全く観察されず、またゴムローラの中央部でも塗布ムラや液ダレ等の塗布欠陥がほぼ観察されなかった（◎／○）。また、ＥＳＣＡによる膜厚測定の結果、薄膜層の膜厚は２３ｎｍであった。結果を表１に示す。
【０１２０】
【表１】
【０１２１】
（比較例１）
＜ゴムローラの作製＞
実施例１と同様な方法でゴムローラを得た（ゴムローラ外径φ８．５ｍｍ）。
【０１２２】
＜薄膜層の形成方法＞
ゴムローラのゴム層端部位置とリング塗布ヘッド吐出口の位置を合わせて、ゴムローラを保持する部材には塗布液を吐出せず、ゴムローラ表面にのみ塗布を行ったこと、以外は実施例１と同様なリングヘッド塗布方法でゴムローラの塗布を行った。その後、紫外線照射による硬化を行った。
【０１２３】
本比較例のゴムローラ表面を目視で観察・評価した結果、ゴムローラの端部では塗布ムラや液ダレ等の塗布欠陥が数箇所で観察されたが、ゴムローラの中央部では塗布ムラや液ダレ等の塗布欠陥がほぼ観察されなかった（△／○）。特に、塗布開始位置及び終了位置であるゴムローラの端部に塗布ムラや液ダレ等の塗布欠陥が観察された。結果を表２に示す。
【０１２４】
（比較例２）
＜ゴムローラの作製＞
実施例１と同様な方法でゴムローラを得た（ゴムローラ外径φ８．５ｍｍ）。
【０１２５】
＜薄膜層の形成方法＞
ゴムローラのゴム層端部位置とリング塗布ヘッド吐出口の位置を合わせて、ゴムローラを保持する部材には塗布液を吐出せず、ゴムローラ表面にのみ塗布を行った。また、リング塗布ヘッドを、８５ｍｍ／ｓの一定の速度で垂直移動すると同時に上記塗布液を適量（０．０７ｍＬ）、０．０２３ｍＬ／ｓの吐出速度で全周均一に塗布を行った。それ以外は実施例１と同様なリングヘッド塗布方法でゴムローラの塗布を行った。その後、紫外線照射による硬化を行った。
【０１２６】
本比較例のゴムローラ表面を目視で観察・評価した結果、ゴムローラの端部では塗布ムラや液ダレ等の塗布欠陥が数多く観察されたが、ゴムローラの中央部では塗布ムラや液ダレ等の塗布欠陥がほぼ観察されなかった（×／○）。特に、塗布開始位置及び終了位置であるゴムローラの端部に塗布ムラや液ダレ等の塗布欠陥が観察された。結果を表２に示す。
【０１２７】
【表２】
【図面の簡単な説明】
【０１２８】
【図１】弾性ローラの押出機の模式図である。
【図２】ローラ保持部材とリングヘッド塗布方法の模式図である。
【図３】ローラ保持部材とリングヘッド塗布方法／リングヘッド乾燥方法の模式図である。
【図４】本発明の弾性ローラを有する画像形成装置の概略を示す構成図である。
【図５】本発明の弾性ローラである帯電ゴムローラの断面の模式図である。
【符号の説明】
【０１２９】
１ 押出機
２ 押出機のクロスヘッド
３ 芯金送りローラ
４ 芯金
５ 切断・除去処理
６ 弾性ローラ（ゴムローラ）
７ リング塗布ヘッド
８ 弾性ローラ（ゴムローラ）を保持する部材
９ 全周に開口されたスリット状の吐出口
１０ 液絞り部
１１ 液供給口
１２ 液分配室
１３ リング乾燥ヘッド
１４ 全周に開口されたスリット状の吹出口
１５ 気体絞り部
１６ 気体の供給口
１７ 気体分配室
１８ 電子写真感光体（感光ドラム）
１９ 帯電ローラ（帯電手段）
２０ 露光系
２１ 現像ローラ（現像手段）
２２ 転写ローラ（転写手段）
２３ クリーニング手段
Ｅ１、Ｅ２、Ｅ３ バイアス印加用電源
２４ 弾性層（ゴム層）
２５ 薄膜層
２６ 紫外線照射処理層
【技術分野】
【０００１】
本発明は、特にＬＢＰ（Ｌａｓｅｒ Ｂｅａｍ Ｐｒｉｎｔｅｒ）、複写機及びファクシミリ等のＯＡ機器における、電子写真プロセスを利用した画像形成装置に用いる弾性ローラ（帯電ローラ、現像ローラ等）の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年の画像形成装置は、高速化、高耐久化に伴い、画像形成装置に使用される弾性ローラ（ゴムローラ）も、高精度、高耐久化が要求されてきている。
【０００３】
画像形成装置に使用される帯電ゴムローラは、帯電部材のうち最も一般的なものであり、感光体ドラムに接触して感光体ドラム表面に所定の極性・電位で一様に帯電処理を行うものである。また、現像ゴムローラも現像部材のうち最も一般的なものであり、感光体ドラムに接触して感光体ドラム表面にトナーを安定して供給するものである。帯電ローラに関しては、外径精度や表面性が悪いと感光体ドラムに接触している部分の圧力、接触面積が均一ではなく、結果としてその接触部分の抵抗値が変化してしまい、感光体ドラム表面を均一に帯電することが難しくなるという場合がある。現像ローラに関しては、外径精度や表面性が悪いとトナー供給ローラから供給されるトナー帯電特性（帯電量等）のバラツキが大きくトナー量が安定せず、感光体ドラム表面にトナーを安定して供給することが難しくなるという場合がある。特に、帯電ローラや現像ローラは、性能上、ゴムローラ表面に塗料や表面処理剤を塗布したものが多い。そのため、塗料や表面処理剤の種類（粘度等）や塗布条件（塗布方法、塗布速度等）にもよるが、塗布工程での塗布ムラや液ダレは画像不良にもつながる場合があるため非常に重要な課題である。
【０００４】
リングヘッド塗布方法は、全周に開口されたリング塗布ヘッドのスリット状の吐出口から円周均一に定量の塗布液を吐出してリング塗布ヘッドとゴムローラを相対的に移動させることにより、薄膜層を高速で塗布することが可能である。しかし、塗布液の粘度や塗布速度にもよるが、特に塗布開始時及び終了時に塗布ムラ・液ダレが生じてゴムローラに塗布ムラや液ダレが発生してしまう場合がある。
【０００５】
ここで、円筒状基材（感光体ドラム）の塗布方法として、スライドホッパー型リングヘッド塗布方法が検討されている。そして、塗布ムラや塗布欠陥を防ぐために円筒状基材の筒軸を合わせて積み重ね、下から上へ垂直に押し上げながら垂直に塗布する方法が検討されている（特許文献１、特許文献２参照）。しかし、これらは弾性層（ゴムローラ）への塗布方法に関しての記載はなく、またゴムローラを保持する部材にリング塗布ヘッドから塗布液を吐出してゴムローラの塗布を開始するような製造方法に関して記載していない。
【特許文献１】特開平９−１０６６２号公報
【特許文献２】特開平９−２０６６６０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の目的は、高品位な電子写真画像を与える弾性ローラを安定して量産することができる弾性ローラの製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明に従って、芯金上に設けられた弾性層に対して所定の間隔を形成する距離に全周に開口されたリング塗布ヘッドの吐出口から塗布液を吐出して薄膜層を塗布する工程を有する弾性ローラの製造方法において、
該塗布工程が、該弾性ローラを保持する部材に塗布液を吐出した後、連続的に該弾性ローラを塗布する工程を含む
ことを特徴とする弾性ローラの製造方法が提供される。
【発明の効果】
【０００８】
本発明により、特に塗布開始時及び終了時の塗布ムラ・液ダレを防ぎ、ゴムローラに発生する塗布ムラや液ダレを抑えることが可能である。また通常、塗布速度を速めるとゴムローラに発生する塗布ムラや液ダレが悪化する傾向にある。しかし本発明によれば、塗布速度を速めても特に塗布開始時及び終了時の塗布ムラ・液ダレを防ぐことができる。その結果、高品位な弾性ローラの量産性を向上させることが可能である。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
以下、本発明にかかる弾性ローラ（ゴムローラ）を更に詳細に説明する。
【００１０】
まず、芯金上にゴム層が設けられたゴムローラの成形方法としては、円筒金型に同心に軸状の芯金を保持する２つの円筒駒を組み、ゴム材料を注入後加熱することにより材料を硬化させてゴムローラを成形する射出成形が挙げられる。また、ゴム材料をチューブ状に押出した後、芯金にチューブ状のゴム材料を被せる、或いは芯金とゴム材料を一体に押出して円筒状のゴムローラを成形する押出成形、トランスファー成形、プレス成形等が挙げられるが、特に限定されるものではない。製造時間の短縮を考えるとゴム材料を芯金と一体に押出してゴムローラを成形する押出成形が好ましい。
【００１１】
ゴムローラの加熱方法に関しては、熱風炉、加硫缶、熱盤、遠・近赤外線、誘導加熱等のいずれの方法でもよく、更に加熱状態の円筒状又は平面状の部材に回転させながら押し当てる方法を用いてもよい。
【００１２】
また、加熱後に所望のローラ形状、ローラ表面粗さにするために回転砥石を用いた乾式研磨をする場合もある。
【００１３】
ここで、図１には押出機の模式図を示す。押出機１はクロスヘッド２を備える。クロスヘッドは、芯金送りローラ３によって送られた芯金４を後ろから挿入でき、芯金と同時に円筒状のゴム材料を一体に押出すことができる。ゴム材料を芯金の周囲に円筒状に成形した後に、端部を切断・除去処理５を行い、ゴムローラ６とした。
【００１４】
前記ゴムローラの芯金として使用する材質は、ニッケルメッキしたＳＵＭ材等の鋼材を含むステンレススチール棒、リン青銅棒、アルミニウム棒、耐熱樹脂棒が好ましい。また、芯金上に設けられたゴム層は、導電性の弾性層である。ポリマーとしては、天然ゴム、ブタジエンゴム、ヒドリンゴム、スチレン−ブタジエンゴム、ニトリルゴム、エチレン−プロピレンゴム、ブチルゴム、シリコーンゴム、ウレタンゴム、フッソゴム、塩素ゴム、熱可塑エラストマー等のいずれでもよい。ポリマー中に分散させる導電粉としては、カーボンブラック、導電性カーボン等のカーボン類、及び金属粉、導電性の繊維、或いは酸化スズ等の半導電性金属酸化物粉体、更にこれらの混合物等のいずれでもよい。
【００１５】
次に、本発明のゴムローラのリングヘッド塗布方法について詳細に説明する。
【００１６】
まず、前記のような方法等で得られたゴムローラを垂直状態に保持する。ここで、ゴムローラを保持する上側・下側の部材の外径は、薄膜層が形成される前のゴムローラの外径に対して±０．２ｍｍ以内であることが好ましい。ゴムローラを保持する部材の外径がゴムローラの外径に対して＋０．２ｍｍよりも大きい場合、ゴムローラを保持する部材とゴムローラとの間の段差が大きくなり、塗布時に液キレが発生する可能性がある。また、ゴムローラを保持する部材の外径がゴムローラの外径に対して−０．２ｍｍよりも小さい場合も、ゴムローラを保持する部材とゴムローラとの間の段差が大きくなり、塗布時にゴムローラ端部の側面に液残りが発生する可能性がある。
【００１７】
ゴムローラを保持する部材の材質としては、ステンレス、鉄、アルミニウム、銅、真鋳等の金属やフッ素樹脂、フェノール樹脂、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリスチレン等の樹脂を用いることができる。中でも、加工精度が高いステンレス等の鋼材を用いることが好ましい。ゴムローラを保持する部材と塗布液との濡れ性については、ゴムローラと塗布液との濡れ性と同程度以上であることが好ましく、極端に濡れ性が小さい場合には、ゴムローラの塗布時にゴムローラを保持する部材から塗布液が液ダレしてくる可能性がある。また、ゴムローラを保持する部材の表面粗さＲｚｊｉｓ（ＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１）は２．０μｍ以上２０．０μｍ以下が好ましい。この範囲内であることで塗布液の乾燥が速まりゴムローラを保持する部材からの塗布ムラや液ダレを防止することができる。その結果、塗布ムラや液ダレによる画像不良を防ぎ高品質なゴムローラを安定して得られる。塗布液の種類（粘度等）にもよるが、表面粗さＲｚｊｉｓが２．０μｍよりも小さい場合には、ゴムローラを保持する部材からの液ダレがし易くなる傾向になる。また、表面粗さＲｚｊｉｓが２０．０μｍよりも大きい場合には、ゴムローラを保持する部材に吐出された塗布液を洗浄・除去するのが困難になると考えられ、量産性にかける。ここで、ゴムローラを保持する部材を粗面化する加工方法としては、これに拘らないがサンドブラスト、エアーブラスト、ショットブラスト等のブラスト加工を用いるのが好ましい。
【００１８】
図２を用いてリングヘッド塗布方法を説明する。リング塗布ヘッド７は、ゴムローラを保持する上側・下側の部材８とゴムローラ６に対して所定の間隔を形成する距離に全周に開口されたリング塗布ヘッドのスリット状の吐出口９を有する。そして、リング塗布ヘッドの外部にある液供給手段（シリンジポンプ）により、リング塗布ヘッドに具備される１箇所以上の液供給口１１より塗料や表面処理剤が供給される。リング塗布ヘッド内においては、合流し周方向に分配するための液分配室１２を１箇所以上、液絞り部１０を１箇所以上、有する。ゴムローラを保持する部材８及びゴムローラ６とリング塗布ヘッドとを所定の速度（１乃至２００ｍｍ／ｓ程度）で相対移動させる。塗布液を全周均一に適量のみゴムローラを保持する上側の部材表面に塗布した後、連続的にゴムローラ表面に塗布し、ゴムローラを保持する下側の部材表面で塗布を終了した。
【００１９】
薄膜層は１層以上設けることができ、１層の場合は上記のようにリング塗布ヘッドを１つ設置し、２層や３層と複層の場合は層数に応じたリング塗布ヘッドを設置し、塗布することができる。
【００２０】
また、１層以上塗布することにより弾性ローラ表面に形成される薄膜層の層厚は、弾性ローラの電気特性或いは強度の上で、薄膜である方がよく、１０ｎｍ以上１０００ｎｍ未満が好ましい。ここで、例えば、薄膜層の層厚が１０ｎｍ未満の場合、薄膜層としての電気特性や表面自由エネルギー特性を満足しきれない可能性がある。また、薄膜層の層厚が１０００ｎｍ以上の場合、薄膜層の硬度が大きいと薄膜層がゴム層に追従しきれずに割れる可能性がある。
【００２１】
ゴムローラを保持する部材に塗布を開始、又は終了する位置としては特に限定はしないが、ゴムローラのゴム層の端部から５ｍｍ以上離れた位置の方が液ダレをより抑えることができるため好ましい。
【００２２】
ゴムローラを保持する部材表面及びゴムローラ表面への吐出量については、所望の塗布膜厚、塗布液の固形分の比率、塗布液の粘度、塗布速度（ゴムローラとリング塗布ヘッドとの相対移動速度）を考慮して算出する。所望の塗布膜厚によっては１本中のゴムローラ表面への吐出量を変量させながら吐出を制御してもよく、更にゴムローラを保持する部材表面への吐出量を変量させながら吐出を制御してもよい。また、ゴムローラを保持する部材表面への吐出量とゴムローラ表面への吐出量を変化させて制御してもよい。例えばゴムローラ表面への吐出量を所望の塗布膜厚等より算出し、これよりも少ない吐出量でゴムローラを保持する部材表面に塗布するとゴムローラを保持する部材からの液ダレを抑制できると考えられる。
【００２３】
リング塗布ヘッドの全周に開口されたスリット状の吐出口の開口幅（スリット幅）は０．０１ｍｍ以上１．０ｍｍ以下が好ましく、塗料や表面処理剤の液粘度、塗料や表面処理剤中の添加材料によって選択・決定される。リング塗布ヘッドの材質としては、ステンレス、鉄、アルミニウム、銅、真鋳等の金属やフッ素樹脂、フェノール樹脂、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリスチレン等の樹脂を用いることができる。中でも、加工精度が高いステンレス等の鋼材を用いることが好ましい。
【００２４】
塗料や表面処理剤としては、シリコーン系、フッ素系、ウレタン系、アクリル系、ウレタン変性アクリル系、シリコーン変性ウレタン系材料が用いられる。特にフッ化アルキル基及びオキシアルキレン基を有するポリシロキサンを含有する材料が好ましい。ここで、表面処理剤とはゴムローラ表面に膜を形成するもの、或いはゴムローラ表面から含浸されるもののどちらも含む。
【００２５】
ここで、フッ化アルキル基及びオキシアルキレン基を有するポリシロキサンを含有する材料について詳細に説明する。
【００２６】
前記フッ化アルキル基としては、例えば、直鎖型又は分岐型のアルキル基の水素原子の一部又は全部をフッ素原子で置換したものが挙げられる。その中でも、炭素数６以上３１以下の直鎖状のパーフルオロアルキル基が好ましい。
【００２７】
前記オキシアルキレン基とは、−Ｏ−Ｒ−（Ｒ：アルキレン基）で示される構造を有する２価の基（「アルキレンエーテル基」と呼ばれることもある。）である。このＲ（アルキレン基）としては、炭素数１以上６以下のアルキレン基が好ましい。
【００２８】
前記ポリシロキサン中のフッ化アルキル基の含有量は、ポリシロキサン全質量に対して５．０質量％以上５０．０質量％以下であることが好ましい。また、前記ポリシロキサン中のオキシアルキレン基の含有量は、ポリシロキサンの全質量に対して５．０質量％以上７０．０質量％以下であることが好ましい。ポリシロキサン中のシロキサン部分（−Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ−Ｏ−・・・で示される構造を有する部分）の含有量は、ポリシロキサンの全質量に対して２０．０質量％以上９０．０質量％以下であることが好ましい。
【００２９】
また、前記ポリシロキサンは、更にアルキル基及びフェニル基を有するものが好ましい。アルキル基としては、炭素数１以上２１以下の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が好ましく、更にはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ヘキシル基及びデシル基がより好ましい。
【００３０】
前記ポリシロキサンが更にアルキル基及びフェニル基を有する場合、前記ポリシロキサン中のフッ化アルキル基、オキシアルキレン基、アルキル基、フェニル基及びシロキサン部分の含有量は、ポリシロキサンの全質量に対し、次の値であることが好ましい。
・フッ化アルキル基 ： ５．０質量％以上５０．０質量％以下
・オキシアルキレン基： ５．０質量％以上３０．０質量％以下
・アルキル基 ： ５．０質量％以上３０．０質量％以下
・フェニル基 ： ５．０質量％以上３０．０質量％以下
・シロキサン部分 ：２０．０質量％以上８０．０質量％以下
【００３１】
前記フッ化アルキル基及びオキシアルキレン基を有するポリシロキサンは、下記工程（Ｉ）及び（ＩＩ）を経て得られるポリシロキサンであることが好ましい。
（Ｉ）カチオン重合可能な基を有する加水分解性シラン化合物と、フッ化アルキル基を有する加水分解性シラン化合物とを加水分解し、縮合させる縮合工程
（ＩＩ）該カチオン重合可能な基を開裂させることにより、工程（Ｉ）により得られた加水分解性縮合物を架橋させる架橋工程
前記カチオン重合可能な基を有する加水分解性シラン化合物としては、下記式（２）で示される構造を有する加水分解性シラン化合物が好適である。
【００３２】
【化１】
【００３３】
式（２）中、Ｒ２１は、飽和又は不飽和の１価の炭化水素基を示す。Ｒ２２は、飽和又は不飽和の１価の炭化水素基を示す。Ｚ２１は、２価の有機基を示す。Ｒｃ２１は、カチオン重合可能な基を示す。ｄは、０以上２以下の整数を示し、ｅは、１以上３以下の整数を示し、ｄ＋ｅ＝３である。
【００３４】
前記式（２）中のＲｃ２１で示されるカチオン重合可能な基とは、開裂によってオキシアルキレン基を生成するカチオン重合可能な有機基を意味し、例えば、エポキシ基やオキセタン基等の環状エーテル基、及び、ビニルエーテル基等が挙げられる。これらの中でも、入手の容易性及び反応制御の容易性の観点から、エポキシ基であることが好ましい。
【００３５】
前記式（２）中のＲ２１及びＲ２２で示される飽和又は不飽和の１価の炭化水素基としては、例えば、アルキル基、アルケニル基及びアリール基等が挙げられる。これらの中でも、炭素数１以上３以下の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が好ましく、更にはメチル基、エチル基がより好ましい。
【００３６】
前記式（２）中のＺ２１で示される２価の有機基としては、例えば、アルキレン基及びアリーレン基等が挙げられる。これらの中でも、炭素数１以上６以下のアルキレン基が好ましく、更にはエチレン基がより好ましい。
【００３７】
前記式（２）中のｅは、３であることが好ましい。また、前記式（２）中のｄが２の場合、２個のＲ２１は同一であってもよく、異なっていてもよい。また、前記式（２）中のｅが２又は３の場合、２個又は３個のＲ２２は、同一であってもよく、異なっていてもよい。
【００３８】
以下に、前記式（２）で示される構造を有する加水分解性シラン化合物の具体例を示す。
【００３９】
（２−１）：グリシドキシプロピルトリメトキシシラン
（２−２）：グリシドキシプロピルトリエトキシシラン
（２−３）：エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシラン
（２−４）：エポキシシクロヘキシルエチルトリエトキシシラン
【００４０】
また、前記フッ化アルキル基を有する加水分解性シラン化合物としては、下記式（３）で示される構造を有する加水分解性シラン化合物が好適である。
【００４１】
【化２】
【００４２】
式（３）中、Ｒ３１は、飽和又は不飽和の１価の炭化水素基を示す。Ｒ３２は、飽和又は不飽和の１価の炭化水素基を示す。Ｚ３１は、２価の有機基を示す。Ｒｆ３１は、炭素数１以上３１以下の直鎖状のパーフルオロアルキル基を示す。ｆは、０以上２以下の整数を示し、ｇは、１以上３以下の整数を示し、ｆ＋ｇ＝３である。
【００４３】
前記式（３）中のＲ３１及びＲ３２で示される飽和又は不飽和の１価の炭化水素基としては、例えば、アルキル基、アルケニル基及びアリール基等が挙げられる。これらの中でも、炭素数１以上３以下の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が好ましく、更にはメチル基、エチル基がより好ましい。
【００４４】
前記式（３）中のＺ３１で示される２価の有機基としては、例えば、アルキレン基及びアリーレン基等が挙げられる。これらの中でも、炭素数１以上６以下のアルキレン基が好ましく、更にはエチレン基がより好ましい。
【００４５】
前記式（３）中のＲｆ３１で示される炭素数１以上３１以下の直鎖状のパーフルオロアルキル基としては、処理性の観点から、特に炭素数６以上３１以下の直鎖状のパーフルオロアルキル基が好ましい。
【００４６】
前記式（３）中のｇは、３であることが好ましい。また、前記式（３）中のｆが２の場合、２個のＲ３１は、同一であってもよく、異なっていてもよい。また、前記式（３）中のｇが２又は３の場合、２個又は３個のＲ３２は、同一であってもよく、異なっていてもよい。
【００４７】
以下に、前記式（３）で示される構造を有する加水分解性シラン化合物の具体例を示す。
【００４８】
（３−１）：ＣＦ３−（ＣＨ２）２−Ｓｉ−（ＯＲ）３
（３−２）：Ｆ（ＣＦ２）２−（ＣＨ２）２−Ｓｉ−（ＯＲ）３
（３−３）：Ｆ（ＣＦ２）４−（ＣＨ２）２−Ｓｉ−（ＯＲ）３
（３−４）：Ｆ（ＣＦ２）６−（ＣＨ２）２−Ｓｉ−（ＯＲ）３
（３−５）：Ｆ（ＣＦ２）８−（ＣＨ２）２−Ｓｉ−（ＯＲ）３
（３−６）：Ｆ（ＣＦ２）１０−（ＣＨ２）２−Ｓｉ−（ＯＲ）３
（式（３−１）乃至（３−６）中のＲは、メチル基又はエチル基を示す。）
【００４９】
前記式（３−１）乃至（３−６）で示される化合物の中でも、前記式（３−４）乃至（３−６）で示される化合物が好ましい。
【００５０】
前記カチオン重合可能な基を有する加水分解性シラン化合物及び前記フッ化アルキル基を有する加水分解性シラン化合物は、それぞれ１種のみを用いてもよいし、２種以上を用いてもよい。
【００５１】
特に、前記式（３）で示される構造を有する加水分解性シラン化合物を用いる場合、Ｒｆ３１の炭素数ｎＡが６以上３１以下であって、炭素数ｎＡが相互に異なる２種以上の化合物を組み合わせて用いることが好ましい。このような組み合わせで前記式（３）で示される構造を有する加水分解性シラン化合物を用いると、得られるポリシロキサンは、炭素数の異なるパーフルオロアルキル基を有することになる。パーフルオロアルキル基は、薄膜層の表面に向かって配向する傾向にある。このため、薄膜層に含有されるポリシロキサンが炭素数の異なるパーフルオロアルキル基を有していれば、薄膜層の表面に向かって長さの異なるパーフルオロアルキル基が配向することになる。この場合、単一の長さのパーフルオロアルキル基が薄膜層の表面に向かって配向する場合に比べて、薄膜層の表面近傍のフッ素原子濃度が高くなり、薄膜層の表面自由エネルギーが低くなる。表面自由エネルギーが低下するような薄膜層は、トナー及びトナーに付着している外添剤によるゴムローラ表面の汚れ防止に効果がある。
【００５２】
前記式（３）で示される構造を有する加水分解性シラン化合物を２種以上用いる場合は、前記式（３−４）乃至（３−６）で示される化合物の中から２種以上選択することが好ましい。
【００５３】
本発明においては、前述のとおり、まず、縮合工程（Ｉ）でカチオン重合可能な基を有する加水分解性シラン化合物と、フッ化アルキル基を有する加水分解性シラン化合物とを加水分解し、縮合させて、加水分解性縮合物を得る。次いで、架橋工程（ＩＩ）で該カチオン重合可能な基を開裂させることにより、該加水分解性縮合物を架橋させることによって、本発明の弾性ローラに用いられるポリシロキサンを得ることができる。弾性ローラの表面特性の制御の観点から、加水分解性縮合物を得る縮合工程（Ｉ）において、更に、下記式（１）で示される構造を有する加水分解性シラン化合物を併用することが好ましい。
【００５４】
【化３】
【００５５】
式（１）中、Ｒ１１は、フェニル基置換のアルキル基もしくは無置換のアルキル基、又は、アルキル基置換のアリール基もしくは無置換のアリール基を示す。Ｒ１２は、飽和又は不飽和の１価の炭化水素基を示す。ａは、０以上３以下の整数を、ｂは、１以上４以下の整数を示し、ａ＋ｂ＝４である。
【００５６】
前記式（１）中のＲ１１で示されるフェニル基置換のアルキル基又は無置換のアルキル基のアルキル基としては、炭素数１以上２１以下の直鎖状のアルキル基が好ましい。また、前記式（１）中のＲ１１で示されるアルキル基置換のアリール基もしくは無置換のアリール基のアリール基としては、フェニル基が好ましい。
【００５７】
前記式（１）中のａは、１以上３以下の整数であることが好ましく、特には１であることがより好ましい。また、前記式（１）中のｂは、１以上３以下の整数であることが好ましく、特には３であることがより好ましい。
【００５８】
前記式（１）中のＲ１２で示される飽和又は不飽和の１価の炭化水素基としては、例えば、アルキル基、アルケニル基及びアリール基等が挙げられる。これらの中でも、炭素数１以上３以下の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が好ましく、更にはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基がより好ましい。
【００５９】
前記式（１）中のａが２又は３の場合、２個又は３個のＲ１１は同一であってもよく、異なっていてもよい。また、前記式（１）中のｂが２、３又は４の場合、２個、３個又は４個のＲ１２は同一であってもよく、異なっていてもよい。
【００６０】
以下に、前記式（１）で示される構造を有する加水分解性シラン化合物の具体例を示す。
【００６１】
（１−１）：テトラメトキシシラン
（１−２）：テトラエトキシシラン
（１−３）：テトラプロポキシシラン
（１−４）：メチルトリメトキシシラン
（１−５）：メチルトリエトキシシラン
（１−６）：メチルトリプロポキシシラン
（１−７）：エチルトリメトキシシラン
（１−８）：エチルトリエトキシシラン
（１−９）：エチルトリプロポキシシラン
（１−１０）：プロピルトリメトキシシラン
（１−１１）：プロピルトリエトキシシラン
（１−１２）：プロピルトリプロポキシシラン
（１−１３）：ヘキシルトリメトキシシラン
（１−１４）：ヘキシルトリエトキシシラン
（１−１５）：ヘキシルトリプロポキシシラン
（１−１６）：デシルトリメトキシシラン
（１−１７）：デシルトリエトキシシラン
（１−１８）：デシルトリプロポキシシラン
（１−１９）：フェニルトリメトキシシラン
（１−２０）：フェニルトリエトキシシラン
（１−２１）：フェニルトリプロポキシシラン
（１−２２）：ジフェニルジメトキシシラン
（１−２３）：ジフェニルジエトキシシラン
【００６２】
前記式（１）で示される構造を有する加水分解性シラン化合物及び前記式（３）で示される構造を有する加水分解性シラン化合物を併用する場合、前記式（１）中のａは１以上３以下の整数であることが好ましく、ｂは１以上３以下の整数であることが好ましい。更に、ａ個のＲ１１のうちの１個のＲ１１は、炭素数１以上２１以下の直鎖状のアルキル基であることが好ましい。
【００６３】
更に、該炭素数１以上２１以下の直鎖状のアルキル基の炭素数をｎ１とし、前記式（３）中のＲｆ３１の炭素数をｎ２としたとき、ｎ１は、次の式の関係を満たすことが好ましい。
【００６４】
ｎ２−１≦ｎ１≦ｎ２＋１
上記式中、ｎ１は１以上２１以下の整数、ｎ２は１以上３１以下の整数を示す。
【００６５】
前記炭素数１以上２１以下の直鎖状のアルキル基は、パーフルオロアルキル基と同様、帯電ローラの薄膜層中で表面に向かって配向する傾向にある。上記関係を満たす直鎖状のアルキル基を有する前記式（１）で示される加水分解性シラン化合物を用いると、前記式（３）で示される構造を有する加水分解性シラン化合物のパーフルオロアルキル基による効果が損なわれることがなく好ましい。
【００６６】
前記式（１）で示される構造を有する加水分解性シラン化合物は、１種のみ用いてもよいし、２種以上用いてもよい。２種以上用いる場合には、前記式（１）中のＲ１１がアルキル基のものと前記式（１）中のＲ１１がフェニル基のものを併用することが好ましい。
【００６７】
以下、本発明の弾性ローラの具体的な製造方法（前記ポリシロキサンを含有する最表面層の具体的な形成方法）について説明する。
【００６８】
まず、カチオン重合可能な基を有する加水分解性シラン化合物及びフッ化アルキル基を有する加水分解性シラン化合物、ならびに、必要に応じて前記の他の加水分解性シラン化合物を水の存在下で加水分解し、縮合させることによって加水分解性縮合物を得る。加水分解し、縮合させる際に、温度やｐＨ等を制御することで、所望の縮合度の加水分解性縮合物を得ることができる。
【００６９】
また、加水分解し、縮合させる際に、加水分解反応の触媒として金属アルコキシド等を利用し、縮合度を制御してもよい。金属アルコキシドとしては、例えば、アルミニウムアルコキシド、チタニウムアルコキシド及びジルコニアアルコキシド等、ならびに、これらの錯体（アセチルアセトン錯体等）等が挙げられる。
【００７０】
また、加水分解性縮合物を得る際、カチオン重合可能な基を有する加水分解性シラン化合物及びフッ化アルキル基を有する加水分解性シラン化合物の配合割合は、得られるポリシロキサンが、下記基等を下記含有量で含むものとなるように定めることが好ましい。
・フッ化アルキル基：ポリシロキサン全質量に対して５．０質量％以上５０．０質量％以下
・オキシアルキレン基：ポリシロキサン全質量に対して５．０質量％以上７０．０質量％以下
・シロキサン部分：ポリシロキサン全質量に対して２０．０質量％以上９０．０質量％以下
【００７１】
また、上記加水分解性シラン化合物のほかに、更に、前記式（１）で示される構造を有する加水分解性シラン化合物を用いる場合においても、得られるポリシロキサンが、上記基等を上記含有量で含むものとなるように配合割合を定めればよい。
【００７２】
具体的には、フッ化アルキル基を有する加水分解性シラン化合物を、全加水分解性シラン化合物に対して０．５ｍｏｌ％以上２０．０ｍｏｌ％以下の範囲になるように配合することが好ましい。特には１．０ｍｏｌ％以上１０．０ｍｏｌ％以上の範囲になるように配合することがより好ましい。
【００７３】
また、前記式（１）で示される構造を有する加水分解性シラン化合物を併用する場合には、更に、カチオン重合可能な基を有する加水分解性シラン化合物を配合することが好ましい。この場合の配合量としては、モル比（ＭＣ：Ｍ１）が１０：１〜１：１０の範囲になるように配合することが好ましい。ここで、Ｍｃは、前記式（１）で示される構造を有する加水分解性シラン化合物のモル数である。またＭ１はカチオン重合可能な基を有する加水分解性シラン化合物のモル数である。
【００７４】
次に、得られた加水分解性縮合物を含む薄膜層を形成するための塗布液を調製し、ゴムローラ表面に塗布し乾燥する。ゴムローラ表面に塗布液を吐出する際には、前記のリング塗布ヘッドを用いたリングヘッド塗布方法が好ましい。塗布液を調製する際には、塗布性向上のために、加水分解性縮合物以外に、適当な溶剤を用いてもよい。適当な溶剤としては、例えば、エタノール、２−ブタノール等のアルコールや、酢酸エチルや、メチルエチルケトン等、或いは、これらを混合したものが挙げられる。塗布液の粘度は特に限定しないが、１０ｎｍ以上１０００ｎｍ未満の薄膜層を形成するためには低粘度の塗布液の方が好ましく、Ｂ型粘度計の値で０．５ｍＰａ・ｓ以上２．０ｍＰａ・ｓ以下が好ましい。また、速乾性のある溶剤希釈系を用いると乾燥が速まり、塗布ムラや液ダレを抑えることができ、好ましい。
【００７５】
また、前記のようなリングヘッド塗布方法により、ゴムローラを保持する部材表面及びゴムローラ表面に対して塗布液を吐出した直後に、リング乾燥ヘッドの気体の吹出口より塗布液が乾燥する前に定量の気体を吹きつけることが好ましい。これにより、塗布液の乾燥が速まりゴムローラに発生する塗布ムラや液ダレを抑えることが可能になる。
【００７６】
リング乾燥ヘッドからの気体の吹きつけは、ゴムローラを保持する部材のみにだけ吹きつけてもよいが、ゴムローラを保持する部材へ吹きつけ後、連続的にゴムローラ表面にも吹きつけてよい。この場合、ゴムローラ表面の塗布液の乾燥が速まりゴムローラに発生する塗布ムラや液ダレを抑えることやゴムローラ表面のホコリ、異物等の付着を防ぐことが可能になる。
【００７７】
ゴムローラ表面の塗布工程後のリング乾燥ヘッドからの気体の吹きつけについて図３を用いて詳細に説明する。リング乾燥ヘッド１３は、ゴムローラを保持する部材８で垂直状態に支持し、このゴムローラを保持する部材８及びゴムローラ６に対して所定の間隔を形成する距離に全周に開口されたスリット状の吹出口１４を有する。また、リング乾燥ヘッド１３には、リング乾燥ヘッドの外部にある気体の供給側圧力ラインから精密レギュレータから所望の圧力に設定されて、リング乾燥ヘッドの気体の供給口１６に供給される。また、リング乾燥ヘッド１３には、リング乾燥ヘッド１３に供給された気体を、リング乾燥ヘッド内において合流させ、周方向に分配するための気体分配室１７を１箇所以上、気体絞り部１５を１箇所以上、有する。ゴムローラとリング乾燥ヘッドとを所定の速度（１乃至２００ｍｍ／ｓ程度）で相対移動させ、気体を全周均一にゴムローラを保持する上側の部材表面に吹きつけた後、連続的にゴムローラ表面に吹きつけ、ゴムローラを保持する下側の部材表面で吹きつけを終了した。
【００７８】
吹きつける気体としては、化学的に不活性で安全な気体が好適である。例えば、空気、窒素ガス等が挙げられる。また、気体の温度、湿度を任意に設定してもよい。更に、供給側圧力ラインのドレンやゴミ等を防止するために供給側圧力ラインと精密レギュレータの間に、エアフィルタ、ミストセパレイタを入れることが好ましい。
【００７９】
精密レギュレータで設定される圧力については、０．０１ＭＰａ以上０．６ＭＰａ以下の間で調整することが好ましい。圧力が０．０１ＭＰａより小さい場合、塗布液の乾燥を促進させる効果が低い。また、圧力が０．６ＭＰａより大きい場合、ゴムローラ表面の塗布液の液面形状にはじき、ムラ等の乱れが生じ易くなる。ここで、１本中のゴムローラ表面に吹きつける気体の圧力を変化させながら制御してもよく、更にゴムローラを保持する部材表面に吹きつける気体の圧力を変化させながら制御してもよい。また、ゴムローラ表面に吹きつける気体の圧力とゴムローラを保持する部材表面に吹きつける気体の圧力を変化させて制御してもよい。
【００８０】
リング乾燥ヘッドの全周に開口されたスリット状の吹出口の開口幅（スリット幅）は、０．０１ｍｍ以上１．０ｍｍ以下の範囲内で使用することが好ましく、ゴムローラ表面の塗布液の液面形状にはじき、ムラ等の乱れが生じないところで選択・決定される。また、スリット状の吹出口の角度は０°（ゴムローラの外周面に対して垂直になる角度）から反時計回りで６０°（ゴムローラの外周面の移動方向側に寝かす方向）にすることが好ましい。リング乾燥ヘッドの材質としては、ステンレス、鉄、アルミニウム、銅、真鋳等の金属やフッ素樹脂、フェノール樹脂、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリスチレン等の樹脂を用いることができる。中でも、加工精度が高いステンレス等の鋼材を用いることが好ましい。
【００８１】
次に、ゴムローラ表面に塗布液を吐出して形成した薄膜層の硬化方法について説明する。薄膜層は加熱硬化させてもよい。この場合は、熱風炉、熱盤、遠・近赤外線、誘導加熱等のいずれの方法でもよく、或いはこれらの加熱方法を併用してもよい。また、活性エネルギー線を照射して硬化させてもよく、この場合は短時間での硬化が可能になる。活性エネルギー線は紫外線でも電子線でもよい。活性エネルギー線による硬化は、塗布液に含まれる加水分解性縮合物中のカチオン重合可能な基が開裂して、これによって該加水分解性縮合物を架橋させることができる。加水分解性縮合物は架橋によって硬化され薄膜層が形成される。また、薄膜層を活性エネルギー線で照射する場合は、ゴム層も同時に改質・硬化される。特に、ゴム層が二重結合を有するゴムである場合は、活性エネルギー線での照射による改質・硬化の効果が大きいため好ましい。
【００８２】
ここでは、紫外線の照射によって架橋・硬化して薄膜層を形成する方法について詳細に説明する。塗料や表面処理剤を塗布したゴムローラは、ローラ回転部材によって一定の回転数で回転られ、紫外線照射口よりその表面に紫外線が照射される。紫外線ランプは、高出力低圧水銀ランプ、無電極低圧水銀ランプ、エキシマランプ、高圧水銀ランプ、メタルハライドランプのいずれでもよいが、必要波長や表面処理の効果に応じて適宜選択すればよい。本発明では高出力低圧水銀ランプを用いており、主に２５４ｎｍの波長を代表とする紫外線である。なお、紫外線の積算光量は、下記で定義される。
【００８３】
紫外線積算光量（ｍＪ／ｃｍ２）＝紫外線強度（ｍＷ／ｃｍ２）×照射時間（ｓｅｃ）
【００８４】
紫外線の積算光量については、紫外線硬化や表面処理の効果に応じて適宜選択すればよい。その調節は、照射時間、ランプ出力、ランプとローラとの距離のいずれでも行うことが可能であり、所望の積算光量が得られるように決めればよい。今回、２５４ｎｍの波長を代表とする紫外線に関しては、紫外線の積算光量をウシオ電機株式会社製のＵＩＴ−１５０−Ａ、ＵＶＤ−Ｓ２５４の紫外線強度計、積算光量計を用いて測定した。
【００８５】
また、紫外線ランプの外側に反射板を配置してもよく、反射板の材質としては、アルミニウム、ステンレス又は鉄を用い、反射面は鏡面加工又は反射率を向上させるコート処理や表面処理が施されることが好ましい。より好ましくは、材質が９９．９％以上の高純度アルミニウムで表面に反射率９０％以上の光沢アルマイト処理を施すことである。ここで、ステンレスに鏡面加工を施した反射板の場合は、紫外線の反射率が約８０％で、高純度アルミニウムの表面に光沢アルマイト処理を施した反射板の場合は、紫外線の反射率が９０％以上である。反射板とゴムローラの距離は任意に設定でき、紫外線積算光量や反射板からの輻射による熱の影響を考慮して決定される。
【００８６】
また、紫外線の照射方法については、塗料や表面処理剤を塗布した複数のゴムローラを管状の紫外線ランプを中心に同心円上に配置して、更にその外側の同心円上に円筒状又は円弧状の反射板を配置して、ゴムローラを回転させながら紫外線を照射する方法でもよい。
【００８７】
本発明の実施の形態である弾性ローラの製造方法により得られたゴムローラは、ＬＢＰ（Ｌａｓｅｒ Ｂｅａｍ Ｐｒｉｎｔｅｒ：レーザープリンタ）、複写機及びファクシミリ等の画像形成装置の電子写真用部材として用いられる。ここでは、帯電ローラとして用いた場合の使用形態を図４に示した。
【００８８】
画像形成装置は、回転ドラム型・転写方式の電子写真装置であって、像担持体としての電子写真感光体（感光ドラム）１８は、時計方向に所定の周速度（プロセススピード）をもって回転駆動される。感光ドラム１８は、その回転過程で帯電手段としての電源Ｅ１から帯電バイアスを印加した帯電ローラ１９により周面が所定の極性・電位（本実施例では−６００Ｖ）に一様帯電処理される。次いで、露光系２０により目的の画像情報に対応したネガ画像露光（原稿像のアナログ露光、デジタル走査露光）を受けて周面に目的画像情報の静電潜像が形成される。次いで、その静電潜像がマイナストナーによる反転現像方式のトナー現像ローラ２１によりトナー画像として現像される。そして、そのトナー画像が感光ドラムと転写手段としての転写ローラ２２との間の転写部に不図示の給紙手段から所定のタイミングで転写材が給送され。そして、転写ローラに対して電源Ｅ２から約＋２ｋＶ以上３ｋＶ以下の転写バイアスが印加され感光ドラム面の反転現像されたトナー像が転写材に対して順次転写されていく。トナー画像の転写を受けた転写材Ｐは、感光ドラム面から分離されて不図示の定着手段へ導入されて像定着処理を受ける。トナー画像転写後の感光ドラム面は、クリーニング手段２３で転写残りトナー等の付着汚染物の除去処理を受けて清浄面化されて繰り返して作像に供される。
【００８９】
以上説明したように、本発明によれば、塗布開始時及び終了時の塗布ムラ・液ダレを防ぎ、弾性ローラ端部に発生する塗布ムラや液ダレを抑えることが可能になる。更に、ゴムローラ端部の塗布ムラや液ダレを抑えて量産性を向上させることが可能である。その結果、塗布ムラや液ダレによる画像不良を防ぎ帯電性能が良いゴムローラを安定して得られる。
【００９０】
ここで、図５に本発明の実施形態で得られる弾性ローラである帯電ゴムローラの断面の模式図を示す。４は芯金、２４は弾性層（ゴム層）、２５は薄膜層、２６は紫外線照射処理層である。
【実施例】
【００９１】
以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されない。
【００９２】
（実施例１）
＜ゴムローラの作製＞
以下の原料を加圧式ニーダーで１５分間混練した。
・ＮＢＲ １００質量部
（商品名「Ｎｉｐｏｌ ＤＮ２１９」：日本ゼオン（株）製）
・カーボンブラック１ １４質量部
（商品名「旭ＨＳ−５００」：旭カーボン（株）製）
・カーボンブラック２ ４質量部
（商品名「ケッチェンブラックＥＣ６００ＪＤ」：ライオン（株）製）
・ステアリン酸亜鉛 １質量部
・酸化亜鉛 ５質量部
・炭酸カルシウム ３０質量部
（商品名「ナノックス＃３０」：丸尾カルシウム（株）製）
更に、加硫促進剤（ＤＭ：ジ−２−ベンゾチアゾリルジスルフィド）１質量部、加硫促進剤（ＴＢｚＴＤ：テトラベンジルチウラムジスルフィド）３質量部及び加硫剤としてイオウ１．２質量部を加えた。その後、１５分間オープンロールで混練して未加硫ゴム組成物を作製した。次いで、外径φ６ｍｍ、長さ２５２ｍｍのステンレス棒の芯金を用意した。ここで、図１に模式的に示される押出機を用いて上記芯金と未加硫ゴム組成物とを一体に押出してゴムローラを成形した。その後、１６０℃で１時間の加熱加硫を行い、更に回転砥石を用いた乾式研磨、端部の切断・除去処理により、厚み１．２５ｍｍ、長さ２３２ｍｍのゴムローラを得た（ゴムローラ外径φ８．５ｍｍ）。
【００９３】
＜薄膜層の形成方法＞
下記原料を用意した。
・グリシドキシプロピルトリエトキシシラン（ＧＰＴＥＳ）：２７．８４ｇ（０．１ｍｏｌ）
・メチルトリエトキシシラン（ＭＴＥＳ）： １７．８３ｇ（０．１ｍｏｌ）
・トリデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロオクチルトリエトキシシラン（ＦＴＳ、パーフルオロアルキル基の炭素数６）： ７．６８ｇ（０．０１５１ｍｏｌ）（加水分解性シラン化合物総量に対して７ｍｏｌ％相当））
・水： １７．４３ｇ
・エタノール： ３７．８８ｇ
上記原料を混合した後、室温で攪拌し、次いで２４時間加熱還流を行うことによって、加水分解性シラン化合物を加水分解し、縮合して加水分解性縮合物を得た。この加水分解性縮合物を２−ブタノール／エタノールの混合溶剤に添加することによって、固形分７質量％の加水分解性縮合物含有アルコール溶液を調製した。この加水分解性縮合物含有アルコール溶液１００ｇに対して０．３５ｇの光カチオン重合開始剤としての芳香族スルホニウム塩（商品名：アデカオプトマーＳＰ−１５０、旭電化工業（株）製）を添加した。更に、固形分０．５質量％となるようにエタノールで希釈して薄膜層用の塗布液を調製した。
【００９４】
前記塗布液を密閉容器に入れ、密閉容器を液供給手段であるシリンジポンプに繋ぎ、更にリング塗布ヘッドに具備された１箇所の液供給口に繋ぎ、リング塗布ヘッド内に適量の塗布液を供給した。塗布液は、リング塗布ヘッド内で合流し周方向に分配するための液分配室を有するリング塗布ヘッド内に充填された。
【００９５】
前記より得られたゴムローラを、ゴムローラを保持する部材で垂直状態に支持した。このときゴムローラの外径がφ８．５ｍｍに対して、ゴムローラを保持する上側・下側の部材の外径はφ８．５ｍｍ、表面粗さＲｚｊｉｓは１．１μｍで使用した。このゴムローラの外径に対して０．５ｍｍの間隔を形成する距離に全周に開口されたスリット状の吐出口がくるようにリング塗布ヘッドを配置した。この時、リング塗布ヘッドの全周に開口されたスリット状の吐出口の開口幅（スリット幅）は０．１ｍｍで使用した。リング塗布ヘッドをゴムローラのゴム層の端部から２０ｍｍの位置で、ゴムローラを保持する上側の部材に配置し、この箇所から塗布を開始した。そして、ゴムローラを保持する上側の部材表面から連続的にゴムローラ表面、ゴムローラを保持する下側の部材表面へ、５０ｍｍ／ｓの一定の速度で垂直移動すると同時に上記塗布液を適量（０．０７ｍＬ）、０．０１３ｍＬ／ｓの吐出速度で全周均一に塗布を行った。塗布はゴムローラのゴム層の端部から２０ｍｍに位置するゴムローラを保持する下側の部材で終了させた。
【００９６】
その後、高出力低圧水銀ランプ（ハリソン東芝ライティング製）による紫外線照射を５分間行った。高出力低圧水銀ランプに関しては、主に２５４ｎｍの波長を代表とする紫外線で、この時の紫外線積算光量は約１００００ｍＪ／ｃｍ２であった（紫外線強度は３５ｍＷ／ｃｍ２）。
【００９７】
塗布ムラや液ダレ等の塗布欠陥については、ゴムローラの端部、中央部の薄膜層を目視で評価することにより判断した。評価は、
◎：塗布ムラや液ダレ等の塗布欠陥が全く見られないもの
○：塗布ムラや液ダレ等の塗布欠陥がほぼ見られないもの
△：塗布ムラや液ダレ等の塗布欠陥が数箇所に見られるもの
×：塗布ムラや液ダレ等の塗布欠陥が数多く見られるもの
と判定した。
【００９８】
本発明における、ゴムローラを保持する部材の表面粗さＲｚｊｉｓ測定は、ＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１における十点平均粗さ評価に則した方法で行った。装置として、（株）小坂研究所製の表面粗さ測定器ＳＥ−３４００を用いて、カットオフを０．８ｍｍ、測定速度を０．５ｍｍ／ｓ、測定長さを８ｍｍとして測定を行った。
【００９９】
本発明における膜厚測定は、Ｘ線光電子分析装置（ＥＳＣＡ）にて深さ方向分析を用いて行った。ＥＳＣＡは、Ｑｕａｎｔｕｍ２０００（アルバックファイ社製）を用い、Ｘ線発生条件としてモノクロＡｌＫα線２５Ｗ、１５ｋＶの条件で行った。測定は、φ１００μｍの領域についてｔｉｌｔ ４５°にてＳｉ２Ｐピークをパスエネルギー２３．５ｅＶ、ステップ幅０．１ｅＶ、スキャン回数５回で取り込み、スパッタ時間６秒の繰り返しスパッタにてＳｉ２Ｐピーク強度が一定になるまで行った。スパッタはＡｒイオンを用い、スパッタ条件は、加速電圧４ｋＶ、スパッタ領域は２×２ｍｍ２とした。ここでＳｉ２Ｐピーク強度が一定になるまでに要した合計スパッタ時間を、予め求めておいたスパッタ率にて膜厚に換算した。この時のスパッタ率は３０ｎｍ／ｍｉｎ．であった。スパッタ率は、膜厚を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）や透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）等で測定したものと同等の試料をＥＳＣＡにて深さ方向分析を行うことで決定した。なおＥＳＣＡの測定サンプルは、ローラの表面から表面層が５×５ｍｍ２の大きさになるように切り出した。薄膜層の膜厚は、ローラ上の任意の点を５箇所測定したものを平均して求めた。
【０１００】
本実施例のゴムローラ表面を目視で観察・評価した結果、ゴムローラの端部、中央部とも塗布ムラや液ダレ等の塗布欠陥がほぼ観察されなかった（○／○）。また、ＥＳＣＡによる膜厚測定の結果、薄膜層の膜厚は１２ｎｍであった。結果を表１に示す。
【０１０１】
（実施例２）
＜ゴムローラの作製＞
実施例１と同様な方法でゴムローラを得た（ゴムローラ外径φ８．５ｍｍ）。
【０１０２】
＜薄膜層の形成方法＞
リング塗布ヘッドを、ゴムローラを保持する上側の部材表面から連続的にゴムローラ表面、ゴムローラを保持する下側の部材表面へ、８５ｍｍ／ｓの一定の速度で垂直移動させた。また当該垂直移動と同時に上記塗布液を適量（０．０７ｍＬ）、０．０２３ｍＬ／ｓの吐出速度で全周均一に塗布を行った。それ以外は実施例１と同様にしてゴムローラの塗布を行った。その後、紫外線照射による硬化を行った。
【０１０３】
本実施例のゴムローラ表面を目視で観察・評価した結果、ゴムローラの端部、中央部とも塗布ムラや液ダレ等の塗布欠陥がほぼ観察されなかった（○／○）。また、ＥＳＣＡによる膜厚測定の結果、薄膜層の膜厚は１５ｎｍであった。結果を表１に示す。
【０１０４】
（実施例３）
＜ゴムローラの作製＞
実施例１と同様な方法でゴムローラを得た（ゴムローラ外径φ８．５ｍｍ）。
【０１０５】
＜薄膜層の形成方法＞
薄膜層用の塗布液を固形分１．０質量％となるようにエタノールで希釈して調製した。また、下記の方法でゴムローラを保持する部材表面及びゴムローラ表面にリング乾燥ヘッドから空気を吹きつけた。それ以外は実施例１と同様なリングヘッド塗布方法でゴムローラの塗布、空気の吹きつけを行い、紫外線照射による硬化を行った。
【０１０６】
リング塗布ヘッドに対して同心上にリング乾燥ヘッドを配置・固定して、前記リングヘッド塗布を行った後に連続的にリング乾燥ヘッドを垂直移動させて空気の吹きつけを行った。空気の供給側圧力ラインから精密レギュレータにより圧力０．０３ＭＰａに設定され、リング乾燥ヘッドに具備された１箇所の供給口に繋ぎ、リング乾燥ヘッド内に空気を供給した。空気は、リング乾燥ヘッド内で合流し周方向に分配するための分配室を有するリング乾燥ヘッド内に供給された。前記より得られたゴムローラを、ゴムローラを保持する部材（外径φ８．５ｍｍ、表面粗さＲｚｊｉｓ１．１μｍ）で垂直状態に支持した。このときゴムローラの外径に対して１ｍｍの間隔を形成する距離に全周に開口されたスリット状の吹出口がくるようにリング乾燥ヘッドを配置した。リング乾燥ヘッドの全周に開口されたスリット状の吹出口の開口幅（スリット幅）は０．０５ｍｍで使用した。リング乾燥ヘッドをゴムローラのゴム層の端部から３０ｍｍの位置で、ゴムローラを保持する上側の部材に配置した。そして、ゴムローラを保持する上側の部材表面から連続的にゴムローラ表面、ゴムローラを保持する下側の部材表面へ、８５ｍｍ／ｓの一定の速度で垂直移動する。垂直移動してリング塗布ヘッドより塗布液を吐出した直後に、圧力０．０３ＭＰａの空気を全周均一にゴムローラを保持する上側の部材表面に吹きつけ、連続的にゴムローラ表面に吹きつけ、ゴムローラを保持する下側の部材表面で吹きつけを終了した。
【０１０７】
本実施例のゴムローラ表面を目視で観察・評価した結果、ゴムローラの端部、中央部とも塗布ムラや液ダレ等の塗布欠陥が全く観察されなかった（◎／◎）。また、ＥＳＣＡによる膜厚測定の結果、薄膜層の膜厚は２０ｎｍであった。結果を表１に示す。
【０１０８】
（実施例４）
＜ゴムローラの作製＞
実施例１と同様な方法でゴムローラを得た（ゴムローラ外径φ８．５ｍｍ）。
【０１０９】
＜薄膜層の形成方法＞
ゴムローラを保持する上下の部材の外径がφ８．３ｍｍ、表面粗さＲｚｊｉｓが２．８μｍで使用したこと以外は、実施例３と同様にしてゴムローラの塗布、空気の吹きつけを行い、紫外線照射による硬化を行った。
【０１１０】
本実施例のゴムローラ表面を目視で観察・評価した結果、ゴムローラの端部、中央部とも塗布ムラや液ダレ等の塗布欠陥が全く観察されなかった（◎／◎）。また、ＥＳＣＡによる膜厚測定の結果、薄膜層の膜厚は１９ｎｍであった。結果を表１に示す。
【０１１１】
（実施例５）
＜ゴムローラの作製＞
実施例１と同様な方法でゴムローラを得た（ゴムローラ外径φ８．５ｍｍ）。
【０１１２】
＜薄膜層の形成方法＞
薄膜層用の塗布液を固形分１．０質量％となるようにエタノールで希釈して調製した。また、ゴムローラを保持する上下の部材の外径がφ８．３ｍｍ、表面粗さＲｚｊｉｓが２．８μｍで使用した。それ以外は実施例１と同様にしてゴムローラの塗布を行った。その後、紫外線照射による硬化を行った。
【０１１３】
本実施例のゴムローラ表面を目視で観察・評価した結果、ゴムローラの端部では塗布ムラや液ダレ等の塗布欠陥が全く観察されず、またゴムローラの中央部でも塗布ムラや液ダレ等の塗布欠陥がほぼ観察されなかった（◎／○）。また、ＥＳＣＡによる膜厚測定の結果、薄膜層の膜厚は２５ｎｍであった。結果を表１に示す。
【０１１４】
（実施例６）
＜ゴムローラの作製＞
実施例１と同様な方法でゴムローラを得た（ゴムローラ外径φ８．５ｍｍ）。
【０１１５】
＜薄膜層の形成方法＞
薄膜層用の塗布液を固形分１．０質量％となるようにエタノールで希釈して調製した。また、ゴムローラを保持する上下の部材の外径がφ８．５ｍｍであり、また表面をブラスト加工により表面粗さＲｚｊｉｓを７．４μｍにした。それ以外は実施例１と同様にしてゴムローラの塗布を行った。その後、紫外線照射による硬化を行った。
【０１１６】
本実施例のゴムローラ表面を目視で観察・評価した結果、ゴムローラの端部では塗布ムラや液ダレ等の塗布欠陥が全く観察されず、またゴムローラの中央部でも塗布ムラや液ダレ等の塗布欠陥がほぼ観察されなかった（◎／○）。また、ＥＳＣＡによる膜厚測定の結果、薄膜層の膜厚は２７ｎｍであった。結果を表１に示す。
【０１１７】
（実施例７）
＜ゴムローラの作製＞
実施例１と同様な方法でゴムローラを得た（厚み１．２ｍｍ、長さ２３２ｍｍのゴムローラ、外径φ８．４ｍｍ）。
【０１１８】
＜薄膜層の形成方法＞
薄膜層用の塗布液を固形分１．０質量％となるようにエタノールで希釈して調製した。また、ゴムローラを保持する上下の部材の外径がφ８．６ｍｍであり、また表面をブラスト加工により表面粗さＲｚｊｉｓを１７．２μｍにした。それ以外は実施例１と同様にしてゴムローラの塗布を行った。その後、紫外線照射による硬化を行った。
【０１１９】
本実施例のゴムローラ表面を目視で観察・評価した結果、ゴムローラの端部では塗布ムラや液ダレ等の塗布欠陥が全く観察されず、またゴムローラの中央部でも塗布ムラや液ダレ等の塗布欠陥がほぼ観察されなかった（◎／○）。また、ＥＳＣＡによる膜厚測定の結果、薄膜層の膜厚は２３ｎｍであった。結果を表１に示す。
【０１２０】
【表１】
【０１２１】
（比較例１）
＜ゴムローラの作製＞
実施例１と同様な方法でゴムローラを得た（ゴムローラ外径φ８．５ｍｍ）。
【０１２２】
＜薄膜層の形成方法＞
ゴムローラのゴム層端部位置とリング塗布ヘッド吐出口の位置を合わせて、ゴムローラを保持する部材には塗布液を吐出せず、ゴムローラ表面にのみ塗布を行ったこと、以外は実施例１と同様なリングヘッド塗布方法でゴムローラの塗布を行った。その後、紫外線照射による硬化を行った。
【０１２３】
本比較例のゴムローラ表面を目視で観察・評価した結果、ゴムローラの端部では塗布ムラや液ダレ等の塗布欠陥が数箇所で観察されたが、ゴムローラの中央部では塗布ムラや液ダレ等の塗布欠陥がほぼ観察されなかった（△／○）。特に、塗布開始位置及び終了位置であるゴムローラの端部に塗布ムラや液ダレ等の塗布欠陥が観察された。結果を表２に示す。
【０１２４】
（比較例２）
＜ゴムローラの作製＞
実施例１と同様な方法でゴムローラを得た（ゴムローラ外径φ８．５ｍｍ）。
【０１２５】
＜薄膜層の形成方法＞
ゴムローラのゴム層端部位置とリング塗布ヘッド吐出口の位置を合わせて、ゴムローラを保持する部材には塗布液を吐出せず、ゴムローラ表面にのみ塗布を行った。また、リング塗布ヘッドを、８５ｍｍ／ｓの一定の速度で垂直移動すると同時に上記塗布液を適量（０．０７ｍＬ）、０．０２３ｍＬ／ｓの吐出速度で全周均一に塗布を行った。それ以外は実施例１と同様なリングヘッド塗布方法でゴムローラの塗布を行った。その後、紫外線照射による硬化を行った。
【０１２６】
本比較例のゴムローラ表面を目視で観察・評価した結果、ゴムローラの端部では塗布ムラや液ダレ等の塗布欠陥が数多く観察されたが、ゴムローラの中央部では塗布ムラや液ダレ等の塗布欠陥がほぼ観察されなかった（×／○）。特に、塗布開始位置及び終了位置であるゴムローラの端部に塗布ムラや液ダレ等の塗布欠陥が観察された。結果を表２に示す。
【０１２７】
【表２】
【図面の簡単な説明】
【０１２８】
【図１】弾性ローラの押出機の模式図である。
【図２】ローラ保持部材とリングヘッド塗布方法の模式図である。
【図３】ローラ保持部材とリングヘッド塗布方法／リングヘッド乾燥方法の模式図である。
【図４】本発明の弾性ローラを有する画像形成装置の概略を示す構成図である。
【図５】本発明の弾性ローラである帯電ゴムローラの断面の模式図である。
【符号の説明】
【０１２９】
１ 押出機
２ 押出機のクロスヘッド
３ 芯金送りローラ
４ 芯金
５ 切断・除去処理
６ 弾性ローラ（ゴムローラ）
７ リング塗布ヘッド
８ 弾性ローラ（ゴムローラ）を保持する部材
９ 全周に開口されたスリット状の吐出口
１０ 液絞り部
１１ 液供給口
１２ 液分配室
１３ リング乾燥ヘッド
１４ 全周に開口されたスリット状の吹出口
１５ 気体絞り部
１６ 気体の供給口
１７ 気体分配室
１８ 電子写真感光体（感光ドラム）
１９ 帯電ローラ（帯電手段）
２０ 露光系
２１ 現像ローラ（現像手段）
２２ 転写ローラ（転写手段）
２３ クリーニング手段
Ｅ１、Ｅ２、Ｅ３ バイアス印加用電源
２４ 弾性層（ゴム層）
２５ 薄膜層
２６ 紫外線照射処理層
【特許請求の範囲】
【請求項１】
芯金上に設けられた弾性層に対して所定の間隔を形成する距離に全周に開口されたリング塗布ヘッドの吐出口から塗布液を吐出して薄膜層を塗布する工程を有する弾性ローラの製造方法において、
該塗布工程が、該弾性ローラを保持する部材に塗布液を吐出した後、連続的に該弾性ローラを塗布する工程を含む
ことを特徴とする弾性ローラの製造方法。
【請求項２】
前記塗布工程後に、更に、前記弾性ローラを保持する部材と前記弾性ローラに対して所定の間隔を形成する距離に全周に開口されたリング乾燥ヘッドの気体の吹出口より気体を吹きつける工程を有する請求項１に記載の弾性ローラの製造方法。
【請求項３】
前記弾性ローラを保持する部材の表面粗さＲｚｊｉｓ（ＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１）が、２．０μｍ以上２０．０μｍ以下である請求項１又は２に記載の弾性ローラの製造方法。
【請求項４】
前記弾性ローラを保持する部材の外径が、薄膜層が形成される前の弾性ローラの外径に対して±０．２ｍｍ以内であり、かつ
前記弾性ローラ表面に形成された薄膜層が、１０ｎｍ以上１０００ｎｍ未満である
請求項１乃至３のいずれかに記載の弾性ローラの製造方法。
【請求項５】
前記弾性ローラ表面に形成された薄膜層が、活性エネルギー線を照射して硬化された層である請求項１乃至４のいずれかに記載の弾性ローラの製造方法。
【請求項１】
芯金上に設けられた弾性層に対して所定の間隔を形成する距離に全周に開口されたリング塗布ヘッドの吐出口から塗布液を吐出して薄膜層を塗布する工程を有する弾性ローラの製造方法において、
該塗布工程が、該弾性ローラを保持する部材に塗布液を吐出した後、連続的に該弾性ローラを塗布する工程を含む
ことを特徴とする弾性ローラの製造方法。
【請求項２】
前記塗布工程後に、更に、前記弾性ローラを保持する部材と前記弾性ローラに対して所定の間隔を形成する距離に全周に開口されたリング乾燥ヘッドの気体の吹出口より気体を吹きつける工程を有する請求項１に記載の弾性ローラの製造方法。
【請求項３】
前記弾性ローラを保持する部材の表面粗さＲｚｊｉｓ（ＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１）が、２．０μｍ以上２０．０μｍ以下である請求項１又は２に記載の弾性ローラの製造方法。
【請求項４】
前記弾性ローラを保持する部材の外径が、薄膜層が形成される前の弾性ローラの外径に対して±０．２ｍｍ以内であり、かつ
前記弾性ローラ表面に形成された薄膜層が、１０ｎｍ以上１０００ｎｍ未満である
請求項１乃至３のいずれかに記載の弾性ローラの製造方法。
【請求項５】
前記弾性ローラ表面に形成された薄膜層が、活性エネルギー線を照射して硬化された層である請求項１乃至４のいずれかに記載の弾性ローラの製造方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【公開番号】特開２００８−２９９０９４（Ｐ２００８−２９９０９４Ａ）
【公開日】平成２０年１２月１１日（２００８．１２．１１）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００７−１４５１８８（Ｐ２００７−１４５１８８）
【出願日】平成１９年５月３１日（２００７．５．３１）
【出願人】（０００００１００７）キヤノン株式会社 (59,756)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２０年１２月１１日（２００８．１２．１１）
【国際特許分類】
【出願日】平成１９年５月３１日（２００７．５．３１）
【出願人】（０００００１００７）キヤノン株式会社 (59,756)
【Ｆターム（参考）】
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