微細霧化粒子洗浄装置
【課題】 従来の超音波洗浄装置では、微細粒子を除去することができないという点であり、又、洗浄した後の乾燥に問題があるという点である。
【解決手段】 霧化部６は霧化液体供給装置７から霧化液体８が供給され、霧化液体８の中に超音波振動子９が装着されて、超音波振動子９に発振器１０から発振出力が供給されることにより霧化液体８が霧化されて霧化粒子１１が発生し、霧化部６の上部に搬送ガス供給装置１２が接続され、霧化部６内に仕切板１３が形成され、搬送ガス供給装置１２から供給された搬送ガスによって、超音波振動子９で発生した霧化粒子１１は仕切板１３で大径の霧化粒子が除去され、微小霧化粒子が霧化部６から搬送管１３を通ってデミスタ部１４に搬送され、デミスタ部１４にフィルタ１５が装着され、フィルタ１５を通過した搬送ガスと微細霧化粒子は搬送管１６、ノズル部１７を介して被洗浄体１８に吹き付けられる。
【解決手段】 霧化部６は霧化液体供給装置７から霧化液体８が供給され、霧化液体８の中に超音波振動子９が装着されて、超音波振動子９に発振器１０から発振出力が供給されることにより霧化液体８が霧化されて霧化粒子１１が発生し、霧化部６の上部に搬送ガス供給装置１２が接続され、霧化部６内に仕切板１３が形成され、搬送ガス供給装置１２から供給された搬送ガスによって、超音波振動子９で発生した霧化粒子１１は仕切板１３で大径の霧化粒子が除去され、微小霧化粒子が霧化部６から搬送管１３を通ってデミスタ部１４に搬送され、デミスタ部１４にフィルタ１５が装着され、フィルタ１５を通過した搬送ガスと微細霧化粒子は搬送管１６、ノズル部１７を介して被洗浄体１８に吹き付けられる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体ウエハ、液晶硝子基板等の被洗浄物を洗浄するようにした微細霧化粒子洗浄装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来の超音波洗浄装置としては、図３に示すように、ノズル１に装着した洗浄液供給管２からノズル１の内部に洗浄液を供給し、超音波発振器からリード線３を介してノズル１内の超音波振動子に発振出力を供給することにより、回転する半導体ウエハのような被洗浄物５の上にノズル１から洗浄液４が供給されるとともに、この洗浄液４に超音波振動子からの超音波を乗せて被洗浄物５に照射して洗浄するようにした洗浄装置が提案されている。
【０００３】
しかしながら、最近の半導体製造技術では、０．１５μｍ以細レベルの超微細パターンによって半導体ウエハを形成しているが、このような微細パターンにおいて、その障害となる超微粒子の許容形状は０．０３μｍのオーダであり、このような障害となる超微粒子を除去するには、図３に示すような超音波洗浄装置では、対応することができないという問題があり、又、流水が半導体の表面に吹き付けられるために、被洗浄体である半導体の表面を乾燥しなければならないという問題があった。
【特許文献１】特願２０００−３６９４９０
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
解決しようとする問題点は、従来の超音波洗浄装置では、微細粒子を除去することができないという点であり、又、洗浄した後の乾燥に問題があるという点である。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明では、霧化部は液体供給装置から霧化液体が供給され、超音波振動子によって霧化液体が霧化され、搬送ガス供給装置から供給されたガスで超音波振動子で霧化された霧化粒子を搬送し、デミスタ部は霧化部から搬送された霧化粒子から大径の霧化粒子を除去するフィルタを備え、ノズル部はデミスタ部から搬送ガスとともに搬送された小径の霧化粒子を吹き出し、ノズル部から小径の霧化粒子を被洗浄体に吹き付けて洗浄するものである。
【発明の効果】
【０００６】
本発明の微細粒子洗浄装置では、超音波振動子によって霧化液体が霧化された霧化粒子をデミスタ部のフィルタを通すことによって、大径の霧化粒子を除去し、微細な霧化粒子のみをノズル部から被洗浄体に吹き付けることによって、被洗浄体の表面に付着している障害となる微細粒子を除去することにより、被洗浄物を洗浄することができるという利点がある。
【実施例】
【０００７】
図１は本発明の実施例の微細霧化粒子洗浄装置の構成図で、霧化部６は霧化液体供給装置７から霧化液体８が供給され、霧化液体８の中に超音波振動子９が装着されて、超音波振動子９に発振器１０から発振出力が供給されることにより霧化液体８が霧化されて霧化粒子１１が発生し、又、霧化部６の上部に搬送ガス供給装置１２が接続され、霧化部６内に仕切板１３が形成され、搬送ガス供給装置１２から供給された搬送ガスによって、超音波振動子９で発生した霧化粒子１１は仕切板６ａで大径の霧化粒子が除去され、微小霧化粒子が霧化部６から搬送管１３を通ってデミスタ部１４に搬送される。
【０００８】
デミスタ部１４にフィルタ１５が装着され、搬送ガスとともに搬送された微小霧化粒子の中でさらに大径の霧化粒子は除去され、フィルタ１５を通過した搬送ガスで搬送される微細霧化粒子は搬送管１６からノズル部１７に搬送され、ノズル部１７から被洗浄体１８に吹き付けられて、被洗浄体１８の微細パターン及びその間に付着している微細粒子が微細霧化粒子によって除去される。
【０００９】
このように構成された本実施例の微細粒子洗浄装置では、霧化部６で超音波振動子９により発生した微小霧化粒子は搬送ガスとともに搬送管１３を通ってデミスタ部１４に搬送され、デミスタ部１４で微細粒子のみが通過されるフィルタ１５で大径の霧化粒子及び微小霧化粒子が除去され、微小霧化粒子のみが搬送管１４を通ってノズル部１７から被洗浄体１８に吹き付けられることにより、被洗浄体１８の微細パターン及びその間に付着している微細粒子がノズル部１７から吹き付けられる微細霧化粒子によって被洗浄体１８の微細パターン及びその間に付着している微細粒子が除去される。
【００１０】
図２は本発明の他の実施例の微細霧化粒子洗浄装置の構成図で、６は霧化部、６ａは仕切板、７は霧化液体供給装置、８は霧化液体、９は超音波振動子、１０は発振器、１１は霧化粒子、１２は搬送ガス供給装置、１３は搬送管、１４はデミスタ部、１５はフィルタ、１６は搬送管、１７はノズル部、１８は被洗浄体であり、これらの構成は上記実施例と同じであるので、説明は省略するが、本実施例では、デミスタ部１４に接続された搬送管１３は冷却装置１９を装着した冷却部２０に接続され、冷却部２０に接続された搬送管２１にノズル部１７が接続されている。
【００１１】
このように構成された本実施例の微細霧化粒子洗浄装置では、デミスタ部１４のフィルタ１５で微小霧化粒子となって搬送ガスとともに搬送された霧化粒子は冷却部２０で冷却されて、さらに微小霧化粒子が除去され、微細霧化粒子のみが搬送ガスとともに搬送管２１からノズル部１７に搬送され、ノズル部１７から被洗浄体１８に吹き付けられ、被洗浄体１８の微細パターン及びその間に付着している微細粒子が除去される。
【００１２】
本実施例は、このように構成することにより、ノズル部１７から被洗浄体１８に吹き付けられる霧化粒子乾燥され、それによってさらに微細な霧化粒子を作ることにより、被洗浄体１８の微細パターン及びその間に付着しているさらに微細な粒子が除去される。
【産業上の利用可能性】
【００１３】
なお、上記実施例では、霧化部６に仕切板６ａを入れて大径の霧化粒子を除去するようにしたが、霧化部６で霧化した霧化粒子をそのまま搬送ガスとともに搬送してもよいし、他の構成で大径の霧化粒子を除去してもよいし、霧化部６は霧化部粒子を発生すればよく、又、搬送ガス供給装置１２から供給されるガスとしては窒素ガス、アルゴン、炭酸ガス又はドライエアーが有効であり、又、霧化液体としては、機能水、純水、電解イオン水、アルコール水溶液が使用され、さらに、上記図１及び図２のノズル部１７の近傍に別の搬送ガス供給装置を接続して、ノズル部１７から噴射するガスの加速用に使用してもよい。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明の実施例の微細霧化粒子洗浄装置の構成図である。
【図２】本発明の他の実施例の微細霧化粒子洗浄装置の構成図である。
【図３】従来の超音波洗浄装置の斜視図である。
【符号の説明】
【００１５】
６ 霧化部
６ａ 仕切板
７ 霧化液体供給装置
８ 霧化液体
９ 超音波振動子
１０ 発振器
１１ 霧化粒子
１２ 搬送ガス供給装置
１３ 搬送管
１４ デミスタ部
１５ フィルタ
１６ 搬送管
１７ ノズル部
１８ 被洗浄体
１９ 冷却装置
２０ 冷却部
２１ 搬送管
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体ウエハ、液晶硝子基板等の被洗浄物を洗浄するようにした微細霧化粒子洗浄装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来の超音波洗浄装置としては、図３に示すように、ノズル１に装着した洗浄液供給管２からノズル１の内部に洗浄液を供給し、超音波発振器からリード線３を介してノズル１内の超音波振動子に発振出力を供給することにより、回転する半導体ウエハのような被洗浄物５の上にノズル１から洗浄液４が供給されるとともに、この洗浄液４に超音波振動子からの超音波を乗せて被洗浄物５に照射して洗浄するようにした洗浄装置が提案されている。
【０００３】
しかしながら、最近の半導体製造技術では、０．１５μｍ以細レベルの超微細パターンによって半導体ウエハを形成しているが、このような微細パターンにおいて、その障害となる超微粒子の許容形状は０．０３μｍのオーダであり、このような障害となる超微粒子を除去するには、図３に示すような超音波洗浄装置では、対応することができないという問題があり、又、流水が半導体の表面に吹き付けられるために、被洗浄体である半導体の表面を乾燥しなければならないという問題があった。
【特許文献１】特願２０００−３６９４９０
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
解決しようとする問題点は、従来の超音波洗浄装置では、微細粒子を除去することができないという点であり、又、洗浄した後の乾燥に問題があるという点である。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明では、霧化部は液体供給装置から霧化液体が供給され、超音波振動子によって霧化液体が霧化され、搬送ガス供給装置から供給されたガスで超音波振動子で霧化された霧化粒子を搬送し、デミスタ部は霧化部から搬送された霧化粒子から大径の霧化粒子を除去するフィルタを備え、ノズル部はデミスタ部から搬送ガスとともに搬送された小径の霧化粒子を吹き出し、ノズル部から小径の霧化粒子を被洗浄体に吹き付けて洗浄するものである。
【発明の効果】
【０００６】
本発明の微細粒子洗浄装置では、超音波振動子によって霧化液体が霧化された霧化粒子をデミスタ部のフィルタを通すことによって、大径の霧化粒子を除去し、微細な霧化粒子のみをノズル部から被洗浄体に吹き付けることによって、被洗浄体の表面に付着している障害となる微細粒子を除去することにより、被洗浄物を洗浄することができるという利点がある。
【実施例】
【０００７】
図１は本発明の実施例の微細霧化粒子洗浄装置の構成図で、霧化部６は霧化液体供給装置７から霧化液体８が供給され、霧化液体８の中に超音波振動子９が装着されて、超音波振動子９に発振器１０から発振出力が供給されることにより霧化液体８が霧化されて霧化粒子１１が発生し、又、霧化部６の上部に搬送ガス供給装置１２が接続され、霧化部６内に仕切板１３が形成され、搬送ガス供給装置１２から供給された搬送ガスによって、超音波振動子９で発生した霧化粒子１１は仕切板６ａで大径の霧化粒子が除去され、微小霧化粒子が霧化部６から搬送管１３を通ってデミスタ部１４に搬送される。
【０００８】
デミスタ部１４にフィルタ１５が装着され、搬送ガスとともに搬送された微小霧化粒子の中でさらに大径の霧化粒子は除去され、フィルタ１５を通過した搬送ガスで搬送される微細霧化粒子は搬送管１６からノズル部１７に搬送され、ノズル部１７から被洗浄体１８に吹き付けられて、被洗浄体１８の微細パターン及びその間に付着している微細粒子が微細霧化粒子によって除去される。
【０００９】
このように構成された本実施例の微細粒子洗浄装置では、霧化部６で超音波振動子９により発生した微小霧化粒子は搬送ガスとともに搬送管１３を通ってデミスタ部１４に搬送され、デミスタ部１４で微細粒子のみが通過されるフィルタ１５で大径の霧化粒子及び微小霧化粒子が除去され、微小霧化粒子のみが搬送管１４を通ってノズル部１７から被洗浄体１８に吹き付けられることにより、被洗浄体１８の微細パターン及びその間に付着している微細粒子がノズル部１７から吹き付けられる微細霧化粒子によって被洗浄体１８の微細パターン及びその間に付着している微細粒子が除去される。
【００１０】
図２は本発明の他の実施例の微細霧化粒子洗浄装置の構成図で、６は霧化部、６ａは仕切板、７は霧化液体供給装置、８は霧化液体、９は超音波振動子、１０は発振器、１１は霧化粒子、１２は搬送ガス供給装置、１３は搬送管、１４はデミスタ部、１５はフィルタ、１６は搬送管、１７はノズル部、１８は被洗浄体であり、これらの構成は上記実施例と同じであるので、説明は省略するが、本実施例では、デミスタ部１４に接続された搬送管１３は冷却装置１９を装着した冷却部２０に接続され、冷却部２０に接続された搬送管２１にノズル部１７が接続されている。
【００１１】
このように構成された本実施例の微細霧化粒子洗浄装置では、デミスタ部１４のフィルタ１５で微小霧化粒子となって搬送ガスとともに搬送された霧化粒子は冷却部２０で冷却されて、さらに微小霧化粒子が除去され、微細霧化粒子のみが搬送ガスとともに搬送管２１からノズル部１７に搬送され、ノズル部１７から被洗浄体１８に吹き付けられ、被洗浄体１８の微細パターン及びその間に付着している微細粒子が除去される。
【００１２】
本実施例は、このように構成することにより、ノズル部１７から被洗浄体１８に吹き付けられる霧化粒子乾燥され、それによってさらに微細な霧化粒子を作ることにより、被洗浄体１８の微細パターン及びその間に付着しているさらに微細な粒子が除去される。
【産業上の利用可能性】
【００１３】
なお、上記実施例では、霧化部６に仕切板６ａを入れて大径の霧化粒子を除去するようにしたが、霧化部６で霧化した霧化粒子をそのまま搬送ガスとともに搬送してもよいし、他の構成で大径の霧化粒子を除去してもよいし、霧化部６は霧化部粒子を発生すればよく、又、搬送ガス供給装置１２から供給されるガスとしては窒素ガス、アルゴン、炭酸ガス又はドライエアーが有効であり、又、霧化液体としては、機能水、純水、電解イオン水、アルコール水溶液が使用され、さらに、上記図１及び図２のノズル部１７の近傍に別の搬送ガス供給装置を接続して、ノズル部１７から噴射するガスの加速用に使用してもよい。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明の実施例の微細霧化粒子洗浄装置の構成図である。
【図２】本発明の他の実施例の微細霧化粒子洗浄装置の構成図である。
【図３】従来の超音波洗浄装置の斜視図である。
【符号の説明】
【００１５】
６ 霧化部
６ａ 仕切板
７ 霧化液体供給装置
８ 霧化液体
９ 超音波振動子
１０ 発振器
１１ 霧化粒子
１２ 搬送ガス供給装置
１３ 搬送管
１４ デミスタ部
１５ フィルタ
１６ 搬送管
１７ ノズル部
１８ 被洗浄体
１９ 冷却装置
２０ 冷却部
２１ 搬送管
【特許請求の範囲】
【請求項１】
霧化液体が供給される液体供給装置、霧化液体を霧化する超音波振動子、該超音波振動子で霧化された霧化粒子を搬送するガスを供給する搬送ガス供給装置を設けた霧化部と、該霧化部から搬送された霧化粒子から大径の霧化粒子を除去するフィルタを備えたデミスタ部と、該デミスタ部から搬送ガスとともに搬送された小径の霧化粒子を吹き出すノズル部とを備え、該ノズル部から小径の霧化粒子を被洗浄体に吹き付けて洗浄することを特徴とする微細霧化粒子洗浄装置。
【請求項２】
前記デミスタ部から搬送ガスとともに搬送された霧化粒子を冷却装置で冷却して、さらに大径の霧化粒子を除去し、前記ノズル部から前記被洗浄体に吹き付けて洗浄することを特徴とする請求項１記載の微細霧化粒子洗浄装置。
【請求項３】
前記搬送ガス供給装置から搬送されるガスは窒素ガス、アルゴン、炭酸ガス又はドライエアーであることを特徴とする請求項１及び２のいずれか１項記載の微細霧化粒子洗浄装置。
【請求項４】
前記霧化液体はアルコール水溶液、機能水又は電解イオン水であることを特徴とする請求項１及び２のいずれか１項記載の微細霧化粒子洗浄装置。
【請求項１】
霧化液体が供給される液体供給装置、霧化液体を霧化する超音波振動子、該超音波振動子で霧化された霧化粒子を搬送するガスを供給する搬送ガス供給装置を設けた霧化部と、該霧化部から搬送された霧化粒子から大径の霧化粒子を除去するフィルタを備えたデミスタ部と、該デミスタ部から搬送ガスとともに搬送された小径の霧化粒子を吹き出すノズル部とを備え、該ノズル部から小径の霧化粒子を被洗浄体に吹き付けて洗浄することを特徴とする微細霧化粒子洗浄装置。
【請求項２】
前記デミスタ部から搬送ガスとともに搬送された霧化粒子を冷却装置で冷却して、さらに大径の霧化粒子を除去し、前記ノズル部から前記被洗浄体に吹き付けて洗浄することを特徴とする請求項１記載の微細霧化粒子洗浄装置。
【請求項３】
前記搬送ガス供給装置から搬送されるガスは窒素ガス、アルゴン、炭酸ガス又はドライエアーであることを特徴とする請求項１及び２のいずれか１項記載の微細霧化粒子洗浄装置。
【請求項４】
前記霧化液体はアルコール水溶液、機能水又は電解イオン水であることを特徴とする請求項１及び２のいずれか１項記載の微細霧化粒子洗浄装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図２】
【図３】
【公開番号】特開２００７−３５６６２（Ｐ２００７−３５６６２Ａ）
【公開日】平成１９年２月８日（２００７．２．８）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００５−２１２０３９（Ｐ２００５−２１２０３９）
【出願日】平成１７年７月２２日（２００５．７．２２）
【出願人】（０００２４３３６４）本多電子株式会社 (255)
【出願人】（５０３２６８１４３）超音波醸造所有限会社 (20)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１９年２月８日（２００７．２．８）
【国際特許分類】
【出願日】平成１７年７月２２日（２００５．７．２２）
【出願人】（０００２４３３６４）本多電子株式会社 (255)
【出願人】（５０３２６８１４３）超音波醸造所有限会社 (20)
【Ｆターム（参考）】
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