説明

感光性樹脂組成物、それを用いた塗膜及びカラーフィルタ

【課題】微小ラインパターンの密着性に優れた感光性樹脂組成物、それを用いて形成した塗膜及びカラーフィルタを提供する。
【解決手段】一般式(a−1)で表される樹脂と単官能エポキシ化合物とを反応させて得られ、酸価が1〜100mgKOH/gの範囲にあるアルカリ可溶性樹脂(A)と、光塩基発生剤(B)と、光重合性モノマー(D)と、光重合開始剤(E)とを含有する。式中、Ra1〜Ra5、Y、Y、Pは9,9−フルオレニル基等を示し、Xはカルボン酸残基を示す。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、感光性樹脂組成物、それを用いて形成した塗膜及びカラーフィルタに関する。
【背景技術】
【0002】
液晶パネルやイメージセンサ等に使用するカラーフィルタは、一般にリソグラフィ法により製造される。このリソグラフィ法では、まず基板に黒色の感光性樹脂組成物を塗布した後、露光、現像し、ブラックマトリクスを形成する。次いで、緑、青、赤の各色の有機顔料を添加した感光性樹脂組成物毎に、塗布、露光、現像を繰り返すことで、各色のパターンを所定の位置に形成してカラーフィルタを製造する。
【0003】
このとき、感光性樹脂組成物には、透明性、耐熱性、密着性等に優れることが要求されており、ビスフェノール型樹脂を成分に用いることが提案されている。特に、特許文献1では、ビスフェノール型樹脂をさらに単官能性エポキシ化合物と反応させて得られ、酸価が1〜100mgKOH/gの範囲にあるアルカリ可溶性樹脂を用いることにより、高透明性、耐熱黄変性に加え、良好な細線形成を可能とした感光性樹脂組成物が報告されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【特許文献1】特開2006−284784号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
近年、製品の信頼性を確保するため、微小パターンを形成した場合にも基板に密着するような高い密着性が要求されている。上記特許文献1で提案された感光性樹脂組成物は、微小ラインパターンの密着性について満足のいくものではなかった。
【0006】
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、上記特許文献1に提案されたようなアルカリ可溶性樹脂を用いながら、微小ラインパターンの密着性に優れた感光性樹脂組成物を提供することを目的とする。また、他の目的は、この感光性樹脂組成物を用いて形成した塗膜及びカラーフィルタを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本発明者らは、上記目的を達成するため鋭意研究を重ねた結果、特許文献1に提案された樹脂と特定の化合物とを感光性樹脂組成物の成分とすることにより、上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。
【0008】
本発明の第一の態様は、下記式(a−1)で表される樹脂と単官能エポキシ化合物とを反応させて得られ、酸価が1〜100mgKOH/gの範囲にあるアルカリ可溶性樹脂(A)と、下記式(b−1)で表される化合物(B)と、光重合性モノマー(D)と、光重合開始剤(E)とを含有することを特徴とする感光性樹脂組成物である。
【化1】

(式中、Ra1、Ra2、Ra3、Ra4は、それぞれ独立に水素原子、炭素数1〜5のアルキル基、ハロゲン原子又はフェニル基を示し、Ra5は水素原子又はメチル基を示す。また、Pは−CO−、−SO−、−C(CF−、−Si(CH−、−CH−、−C(CH−、−O−、9,9−フルオレニル基又は単結合を示し、Xは4価のカルボン酸残基を示し、Y、Yはそれぞれ独立に水素原子又は−OC−Q−(COOH)を示し、Qはカルボン酸残基(mは1〜3の整数を示す)を示し、nは1〜200の整数を示す。)
【化2】

(式中、Rb1及びRb2は、それぞれ独立に水素原子又は有機基を示す。ただし、Rb1及びRb2の少なくとも一方は有機基を示す。Rb1及びRb2は、それらが結合して環状構造を形成していてもよく、ヘテロ原子の結合を含んでいてもよい。Rb3は、単結合又は有機基を示す。Rb4及びRb5は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、メルカプト基、スルフィド基、シリル基、シラノール基、ニトロ基、ニトロソ基、スルフィノ基、スルホ基、スルホナト基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスホノ基、ホスホナト基、又は有機基を示す。Rb6、Rb7、Rb8、及びRb9は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、メルカプト基、スルフィド基、シリル基、シラノール基、ニトロ基、ニトロソ基、スルフィノ基、スルホ基、スルホナト基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスホノ基、ホスホナト基、アミノ基、アンモニオ基、又は有機基を示す。ただし、Rb6及びRb7が水酸基となることはない。Rb6、Rb7、Rb8、及びRb9は、それらの2つ以上が結合して環状構造を形成していてもよく、ヘテロ原子の結合を含んでいてもよい。Rb10は、水素原子又は有機基を示す。)
【0009】
本発明の第二の態様は、本発明に係る感光性樹脂組成物を硬化させて形成した塗膜であり、本発明の第三の態様は、本発明に係る感光性樹脂組成物を塗布、硬化させて得られる塗膜が形成されてなるカラーフィルタである。
【発明の効果】
【0010】
本発明によれば、透明性、耐熱黄変性が良好とされる特許文献1に提案されたアルカリ可溶性樹脂を用いながら、微小ラインパターンの密着性に優れた感光性樹脂組成物を得ることができる。このため、本発明の感光性樹脂組成物は、特にカラーフィルタ用感光性樹脂組成物に適し、カラー液晶表示装置、ディスプレイ、カラーファクシミリ、イメージセンサ等の各種の多色表示体に好適に使用することができる。
【発明を実施するための形態】
【0011】
≪感光性樹脂組成物≫
本発明に係る感光性樹脂組成物は、アルカリ可溶性樹脂(A)、化合物(B)、光重合性モノマー(D)、及び光重合開始剤(E)を必須成分として含有する感光性樹脂組成物であり、アルカリ現像型感光性樹脂組成物としての性質を有する。その他、好ましい任意成分として、下記の(F)、(G)成分がある。
(F)着色剤
(G)1つ以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物
【0012】
<アルカリ可溶性樹脂(A)>
本発明に係る感光性樹脂組成物の必須成分であるアルカリ可溶性樹脂(A)は、下記式(a−1)で表される樹脂と単官能性エポキシ化合物とを反応させて得られ、酸価が1〜100mgKOH/gの範囲にある樹脂である。酸価が100mgKOH/gを超えると、アルカリ可溶性が高すぎ、露光部のパターンがアルカリ水溶液に浸透され、パターン部に欠けやフリンジ状の形状が形成されやすくなるため好ましくない。
【化3】

【0013】
上記式(a−1)中、Ra1、Ra2、Ra3、Ra4は、それぞれ独立に水素原子、炭素数1〜5のアルキル基、ハロゲン原子又はフェニル基を示し、Ra5は水素原子又はメチル基を示す。また、Pは−CO−、−SO−、−C(CF−、−Si(CH−、−CH−、−C(CH−、−O−、9,9−フルオレニル基又は単結合を示し、Xは4価のカルボン酸残基を示し、Y、Yはそれぞれ独立に水素原子又は−OC−Q−(COOH)を示し、Qはカルボン酸残基(mは1〜3の整数を示す)を示し、nは1〜200の整数を示す。
【0014】
ここで、上記式(a−1)で表される樹脂は、ビスフェノール類から誘導される2個のグリシジルエーテル基を有するエポキシ化合物に、(メタ)アクリル酸を反応させ、得られたヒドロキシ基を有する化合物に、さらに多価カルボン酸類と反応させて得られたエポキシ(メタ)アクリレート酸付加物である。この樹脂は、光重合可能な不飽和結合を有する(メタ)アクリル酸に由来する不飽和基を有するため重合性を有する他、多価カルボン酸類に由来する酸性基を有するためアルカリ可溶性を示す。なお、本明細書において、酸成分というときは、多価カルボン酸類を意味し、(メタ)アクリル酸は、アクリル酸、メタクリル酸又は両方を意味する。
【0015】
上記式(a−1)で表される樹脂は、好ましくは、下記式(a−2)で表されるエポキシ化合物と下記式(a−3)で表される(メタ)アクリル酸から誘導される。このエポキシ化合物はビスフェノール類から誘導される。
【化4】

【0016】
上記式(a−2)において、Ra1、Ra2、Ra3、Ra4、Pは、上記式(a−1)と同じであるが、好ましくはRa1、Ra2、Ra3、Ra4は水素原子であり、好ましくはPは9,9−フルオレニル基である。lは0〜10の整数であるが、好ましくは0又は平均値として0〜2の範囲である。ここで、9,9−フルオレニル基は、下記式(a−4)で表される基をいう。
【化5】

【化6】

【0017】
上記式(a−3)において、Ra5は上記式(a−1)のRa5と同じである。
【0018】
上記式(a−2)で表されるエポキシ化合物はビスフェノール類から誘導される。上記式(a−2)を与えるビスフェノール類としては、ビス(4−ヒドロキシフェニル)ケトン、ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)ケトン、ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジクロロフェニル)ケトン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホン、ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)スルホン、ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジクロロフェニル)スルホン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン、ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)ヘキサフルオロプロパン、ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジクロロフェニル)ヘキサフルオロプロパン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)ジメチルシラン、ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)ジメチルシラン、ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジクロロフェニル)ジメチルシラン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)メタン、ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジクロロフェニル)メタン、ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジブロモフェニル)メタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシジクロロフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3−クロロフェニル)プロパン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)エーテル、ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)エーテル、ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジクロロフェニル)エーテル等が挙げられる。また、Pが9,9−フルオレニル基である9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−クロロフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−ブロモフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−フルオロフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジクロロフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジブロモフェニル)フルオレン等も好ましく挙げられる。さらには、4,4’−ビフェノール、3,3’−ビフェノール等も好ましく挙げられる。
【0019】
上記式(a−1)で表される樹脂は、上記のようなビスフェノール類から誘導されるエポキシ化合物を経由して得ることができるが、かかるエポキシ化合物の他にフェノールノボラック型エポキシ化合物や、クレゾールノボラック型エポキシ化合物等も2個のグリシジルエーテル基を有する化合物を有意に含むものであれば使用することができる。また、ビスフェノール類をグリシジルエーテル化する際に、オリゴマー単位が混入することになるが、式(a−2)におけるlの平均値が0〜10、好ましくは0〜2の範囲であれば、感光性樹脂組成物の性能には問題はない。
【0020】
このようなエポキシ化合物と(メタ)アクリル酸との反応は、エポキシ化合物1モルに対し、約2モルの(メタ)アクリル酸を使用して行えばよい。この反応で得られる反応物は、下記式(a−5)で表されるようなエポキシ(メタ)アクリレート化合物である。
【化7】

【0021】
上記式(a−5)において、Ra1、Ra2、Ra3、Ra4、Ra5、及びPは、上記式(a−1)と同じである。
【0022】
エポキシ化合物と(メタ)アクリル酸との反応で得られた反応物と、酸成分を反応させて上記式(a−1)で表される樹脂を得る。酸成分としては、エポキシ(メタ)アクリレート化合物の分子中のヒドロキシ基と反応し得る多価カルボン酸又はこれらの酸無水物(カルボン酸類という)が使用され、好ましくは、ジカルボン酸類とテトラカルボン酸類が併用される。
【0023】
ここで、ジカルボン酸類としては、鎖式炭化水素ジカルボン酸又はその酸無水物や脂環式ジカルボン酸又はその酸無水物、芳香族ジカルボン酸やその酸無水物が使用される。
鎖式炭化水素ジカルボン酸又はその酸無水物としては、例えば、コハク酸、アセチルコハク酸、マレイン酸、アジピン酸、イタコン酸、アゼライン酸、シトラリンゴ酸、マロン酸、グルタル酸、クエン酸、酒石酸、オキソグルタル酸、ピメリン酸、セバシン酸、スベリン酸、ジグリコール酸等の化合物があり、さらには任意の置換基の導入されたジカルボン酸類又はその酸無水物でもよい。
また、脂環式ジカルボン酸又はその酸無水物としては、例えば、ヘキサヒドロフタル酸、シクロブタンジカルボン酸、シクロペンタンジカルボン酸、ノルボルナンジカルボン酸等の化合物があり、さらには任意の置換基の導入されたジカルボン酸類又はその酸無水物でもよい。
さらに、芳香族ジカルボン酸やその酸無水物としては、例えばフタル酸、イソフタル酸等の化合物があり、さらには任意の置換基の導入されたジカルボン酸類又はその酸無水物でもよい。
【0024】
また、テトラカルボン酸類としては、鎖式炭化水素テトラカルボン酸又はその酸二無水物や脂環式テトラカルボン酸又はその酸二無水物、あるいは、芳香族多価カルボン酸あるいはその酸二無水物が使用される。
ここで、鎖状テトラカルボン酸又はその酸無水物としては、例えば、ブタンテトラカルボン酸、ペンタンテトラカルボン酸、ヘキサンテトラカルボン酸等があり、さらには置換基の導入されたテトラカルボン酸類又はその酸無水物でもよい。また、脂環式テトラカルボン酸又はその酸無水物としては、例えば、シクロブタンテトラカルボン酸、シクロペンタンテトラカルボン酸、シクロヘキサンテトラカルボン酸、シクロヘプタンテトラカルボン酸ノルボルナンテトラカルボン酸等があり、さらには置換基の導入されたテトラカルボン酸類又はその酸無水物でもよい。
さらに、芳香族テトラカルボン酸やその酸無水物としては、例えば、ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸、ビフェニルテトラカルボン酸、ビフェニルエーテルテトラカルボン酸又はその酸無水物が挙げられ、さらには置換基の導入されたテトラカルボン酸類又はその酸無水物でもよい。
【0025】
ジカルボン酸類とテトラカルボン酸類は、それぞれ1種以上を使用することができ、ジカルボン酸類とテトラカルボン酸類の使用割合は、ジカルボン酸/テトラカルボン酸のモル比として0.1〜10となる範囲、好ましくは0.2〜1.0となる範囲である。この使用割合は、最適分子量、アルカリ現像性、光透過性、耐熱性、耐溶剤性、パターン形状の効果に適した割合を選択することができるが、テトラカルボン酸類の使用割合が大きいほどアルカリ溶解性が大となり、分子量が大となる傾向がある。
【0026】
エポキシ化合物と(メタ)アクリル酸との反応で得られた反応物である上記式(a−5)と、カルボン酸類を反応させて上記式(a−1)で表される樹脂を製造する方法については、特に限定されるものでなく、上記特許文献1に記載されたような公知の方法を採用することができる。有利には、エポキシ(メタ)アクリレート化合物分子中のヒドロキシ基1モル当たり酸成分が1/2モルとなるように定量的に反応させることが望ましい。また、反応温度としては、90〜130℃、好ましくは95〜125℃である。
【0027】
上記式(a−1)で表される樹脂を製造する方法の一例を9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレンを出発原料とする場合について示せば、次のようである。
先ず、9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレンとエピクロロヒドリンとを反応させて上記式(a−2)で表されるビスフェノールフルオレン型エポキシ化合物を合成し、このビスフェノールフルオレン型エポキシ化合物と上記式(a−3)で表される(メタ)アクリル酸とを反応させて上記式(a−5)で表されるビスフェノールフルオレン型エポキシアクリレート樹脂を合成し、次いでプロピレングリコールモノメチル溶剤中でビスフェノールフルオレン型エポキシアクリレート樹脂と上記酸成分とを加熱下に反応させ、上記式(a−1)で表されるフルオレン型の樹脂を得る。
【0028】
上記のようにして得られた上記式(a−1)で表される樹脂は、単官能エポキシ化合物と反応され、酸価が1〜100mgKOH/gの範囲にあるアルカリ可溶性樹脂(A)となる。アルカリ可溶性樹脂と単官能エポキシ化合物との反応は、60〜80℃で6時間以上反応させればよい。
【0029】
ここで、反応で用いられる単官能エポキシ樹脂としては、単官能のエポキシ樹脂であれば特に制限されるものではないが、例えばエポキシプロピルフタルイミド、エポキシノルボルネン等の常温で粉体の化合物や、フェニルグリシジルエーテル、p−ブチルフェノールグリシジルエーテル等の常温で液状の化合物等の高沸点の化合物が挙げられる。単官能エポキシ樹脂の中でも、下記式(c−1)で表されるものが好ましく、スチレンオキサイド、グリシドール等が好ましいものとして例示される。下記式(c−1)において、Zは−C2r+1、−C又は−C2s−OHを示し、r及びsは、それぞれ1〜10の整数を示す。
【化8】

【0030】
上記式(a−1)で表される樹脂と上記式(c−1)で表される単官能エポキシ化合物との反応は、反応させて得られるアルカリ可溶性樹脂(A)の酸価が、樹脂(a−1)の酸価の1/10〜9/10、好ましくは2/10〜8/10となるように、単官能エポキシ化合物を反応させることがよい。
【0031】
アルカリ可溶性樹脂(A)の質量平均分子量は、1000〜40000であることが好ましく、2000〜30000であることがより好ましい。上記の範囲とすることにより、良好な現像性を得ながら、十分な耐熱性、膜強度を得ることができる。
【0032】
アルカリ可溶性樹脂(A)は、感光性樹脂組成物の固形分に対して5〜80質量%であることが好ましく、15〜50質量%であることがより好ましい。上記の範囲とすることにより、現像性のバランスがとりやすい傾向がある。
【0033】
<化合物(B)>
本発明に係る感光性樹脂組成物の他の必須成分は、下記式(b−1)で表される化合物(B)である。この化合物は、有機溶剤への溶解性が良好であり、また、放射線照射又は加熱により塩基を発生するため、塩基発生剤としても機能する。このため、感光性樹脂組成物に含有させた際に基板への密着性を高める効果を奏し、微小ラインパターンの密着性を良好にすることが可能である。
【化9】

【0034】
上記式(b−1)中、Rb1及びRb2は、それぞれ独立に水素原子又は有機基を示すが、Rb1及びRb2の少なくとも一方は有機基を示す。
b1及びRb2における有機基としては、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アリール基、アラルキル基等が挙げられる。この有機基は、該有機基中にヘテロ原子等の炭化水素基以外の結合や置換基を含んでいてもよい。また、この有機基は、直鎖状、分岐鎖状、環状のいずれでもよい。
この有機基は、通常は1価であるが、環状構造を形成する場合等には、2価以上の有機基となり得る。
【0035】
b1及びRb2は、それらが結合して環状構造を形成していてもよく、ヘテロ原子の結合をさらに含んでいてもよい。環状構造としては、ヘテロシクロアルキル基、ヘテロアリール基等が挙げられ、縮合環であってもよい。
【0036】
b1及びRb2の有機基中の炭化水素基以外の結合としては、本発明の効果が損なわれない限り特に限定されず、酸素原子、窒素原子、珪素原子等のヘテロ原子を含む結合が挙げられる。具体例としては、エーテル結合、チオエーテル結合、カルボニル結合、チオカルボニル結合、エステル結合、アミド結合、ウレタン結合、イミノ結合(−N=C(−R)−、−C(=NR)−:Rは水素原子又は有機基を示す)、カーボネート結合、スルホニル結合、スルフィニル結合、アゾ結合等が挙げられる。
【0037】
耐熱性の観点から、Rb1及びRb2の有機基中の炭化水素基以外の結合としては、エーテル結合、チオエーテル結合、カルボニル結合、チオカルボニル結合、エステル結合、アミド結合、ウレタン結合、イミノ結合(−N=C(−R)−、−C(=NR)−:Rは水素原子又は1価の有機基を示す)、カーボネート結合、スルホニル結合、スルフィニル結合が好ましい。
【0038】
b1及びRb2の有機基中の炭化水素基以外の置換基としては、本発明の効果が損なわれない限り特に限定されず、ハロゲン原子、水酸基、メルカプト基、スルフィド基、シアノ基、イソシアノ基、シアナト基、イソシアナト基、チオシアナト基、イソチオシアナト基、シリル基、シラノール基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、チオカルバモイル基、ニトロ基、ニトロソ基、カルボキシル基、カルボキシラート基、アシル基、アシルオキシ基、スルフィノ基、スルホ基、スルホナト基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスホノ基、ホスホナト基、ヒドロキシイミノ基、アルキルエーテル基、アルケニルエーテル基、アルキルチオエーテル基、アルケニルチオエーテル基、アリールエーテル基、アリールチオエーテル基、アミノ基(−NH、−NHR、−NRR’:R及びR’はそれぞれ独立に炭化水素基を示す)等が挙げられる。上記置換基に含まれる水素原子は、炭化水素基によって置換されていてもよい。また、上記置換基に含まれる炭化水素基は、直鎖状、分岐鎖状、及び環状のいずれでもよい。
【0039】
b1及びRb2の有機基中の炭化水素基以外の置換基としては、ハロゲン原子、水酸基、メルカプト基、スルフィド基、シアノ基、イソシアノ基、シアナト基、イソシアナト基、チオシアナト基、イソチオシアナト基、シリル基、シラノール基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、チオカルバモイル基、ニトロ基、ニトロソ基、カルボキシル基、カルボキシラート基、アシル基、アシルオキシ基、スルフィノ基、スルホ基、スルホナト基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスホノ基、ホスホナト基、ヒドロキシイミノ基、アルキルエーテル基、アルケニルエーテル基、アルキルチオエーテル基、アルケニルチオエーテル基、アリールエーテル基、アリールチオエーテル基が好ましい。
【0040】
以上の中でも、Rb1及びRb2としては、少なくとも一方が炭素数1〜12のアルキル基若しくは炭素数1〜12のアリール基であるか、互いに結合して炭素数2〜20のヘテロシクロアルキル基若しくはヘテロアリール基を形成するものであることが好ましい。ヘテロシクロアルキル基としては、ピペリジノ基、モルホリノ基等が挙げられ、ヘテロアリール基としては、イミダゾリル基、ピラゾリル基等が挙げられる。
【0041】
上記式(b−1)中、Rb3は、単結合又は有機基を示す。
b3における有機基としては、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アリール基、アラルキル基等から1個の水素原子を除いた基が挙げられる。この有機基は、該有機基中に置換基を含んでいてもよい。置換基としては、Rb1及びRb2において例示したものが挙げられる。また、この有機基は、直鎖状、分岐鎖状のいずれでもよい。
【0042】
以上の中でも、Rb3としては、単結合、又は炭素数1〜12のアルキル基若しくは炭素数1〜12のアリール基から1個の水素原子を除いた基であることが好ましい。
【0043】
上記式(b−1)中、Rb4及びRb5は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、メルカプト基、スルフィド基、シリル基、シラノール基、ニトロ基、ニトロソ基、スルフィノ基、スルホ基、スルホナト基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスホノ基、ホスホナト基、又は有機基を示す。
b4及びRb5における有機基としては、Rb1及びRb2において例示したものが挙げられる。この有機基は、Rb1及びRb2の場合と同様に、該有機基中にヘテロ原子等の炭化水素基以外の結合や置換基を含んでいてもよい。また、この有機基は、直鎖状、分岐鎖状、環状のいずれでもよい。
【0044】
以上の中でも、Rb4及びRb5としては、それぞれ独立に水素原子、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数4〜13のシクロアルキル基、炭素数4〜13のシクロアルケニル基、炭素数7〜16のアリールオキシアルキル基、炭素数7〜20のアラルキル基、シアノ基を有する炭素数2〜11のアルキル基、水酸基を有する炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のアルコキシ基、炭素数2〜11のアミド基、炭素数1〜10のアルキルチオ基、炭素数1〜10のアシル基、炭素数2〜11のエステル基(−COOR、−OCOR:Rは炭化水素基を示す)、炭素数6〜20のアリール基、電子供与性基及び/又は電子吸引性基が置換した炭素数6〜20のアリール基、電子供与性基及び/又は電子吸引性基が置換したベンジル基、シアノ基、メチルチオ基であることが好ましい。より好ましくは、Rb4及びRb5の両方が水素原子であるか、又はRb4がメチル基であり、Rb5が水素原子である。
【0045】
上記式(b−1)中、Rb6、Rb7、Rb8、及びRb9は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、メルカプト基、スルフィド基、シリル基、シラノール基、ニトロ基、ニトロソ基、スルフィノ基、スルホ基、スルホナト基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスホノ基、ホスホナト基、アミノ基、アンモニオ基、又は有機基を示す。
b6、Rb7、Rb8、及びRb9における有機基としては、Rb1及びRb2において例示したものが挙げられる。この有機基は、Rb1及びRb2の場合と同様に、該有機基中にヘテロ原子等の炭化水素基以外の結合や置換基を含んでいてもよい。また、この有機基は、直鎖状、分岐鎖状、環状のいずれでもよい。
【0046】
なお、上記式(b−1)中、Rb6及びRb7が水酸基となることはない。Rb6又はRb7が水酸基である場合、放射線照射及び加熱によって環化反応が生じ、そのためにエネルギーが消費されるので、微小ラインパターンの密着性が十分得られないからである。
【0047】
b6、Rb7、Rb8、及びRb9は、それらの2つ以上が結合して環状構造を形成していてもよく、ヘテロ原子の結合を含んでいてもよい。環状構造としては、ヘテロシクロアルキル基、ヘテロアリール基等が挙げられ、縮合環であってもよい。例えば、Rb6、Rb7、Rb8、及びRb9は、それらの2つ以上が結合して、Rb6、Rb7、Rb8、及びRb9が結合しているベンゼン環の原子を共有してナフタレン、アントラセン、フェナントレン、インデン等の縮合環を形成してもよい。
【0048】
以上の中でも、Rb6、Rb7、Rb8、及びRb9としては、それぞれ独立に水素原子、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数4〜13のシクロアルキル基、炭素数4〜13のシクロアルケニル基、炭素数7〜16のアリールオキシアルキル基、炭素数7〜20のアラルキル基、シアノ基を有する炭素数2〜11のアルキル基、水酸基を有する炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のアルコキシ基、炭素数2〜11のアミド基、炭素数1〜10のアルキルチオ基、炭素数1〜10のアシル基、炭素数2〜11のエステル基、炭素数6〜20のアリール基、電子供与性基及び/又は電子吸引性基が置換した炭素数6〜20のアリール基、電子供与性基及び/又は電子吸引性基が置換したベンジル基、シアノ基、メチルチオ基、ニトロ基であることが好ましい。
【0049】
また、Rb6、Rb7、Rb8、及びRb9としては、それらの2つ以上が結合して、Rb6、Rb7、Rb8、及びRb9が結合しているベンゼン環の原子を共有してナフタレン、アントラセン、フェナントレン、インデン等の縮合環を形成している場合も、吸収波長が長波長化する点から好ましい。
より好ましくは、Rb6、Rb7、Rb8、及びRb9の全てが水素原子であるか、又はRb6、Rb7、Rb8、及びRb9のいずれか1つがニトロ基であり、残り3つが水素原子である。
【0050】
上記式(b−1)中、Rb10は、水素原子又は有機基を示す。
b10における有機基としては、Rb1及びRb2において例示したものが挙げられる。この有機基は、Rb1及びRb2の場合と同様に、該有機基中にヘテロ原子等の炭化水素基以外の結合や置換基を含んでいてもよい。また、この有機基は、直鎖状、分岐鎖状、環状のいずれでもよい。
上記式(b−1)で表される化合物(B)は、ベンゼン環のパラ位に−ORb10基を有するため、有機溶剤への溶解性が良好である。
【0051】
以上の中でも、Rb10としては、水素原子、又は炭素数1〜12のアルキル基であることが好ましく、メチル基であることがより好ましい。
【0052】
上記式(b−1)で表される化合物(B)のうち、特に好ましい具体例としては、下記式で表される化合物が挙げられる。
【0053】
【化10】

【0054】
【化11】

【0055】
【化12】

【0056】
上記式(b−1)で表される化合物(B)は、後述する実施例のようにして合成することが可能である。
【0057】
化合物(B)の含有量は、後述する光重合開始剤(E)100質量部に対して3〜200質量部であることが好ましく、50〜100質量部であることがより好ましい。上記の範囲とすることにより、良好な現像性を得ながら、微小ラインパターンの密着性を良好にすることができる。
【0058】
<光重合性モノマー(D)>
本発明に係る感光性樹脂組成物の他の必須成分は、光重合性モノマー(D)である。光重合性モノマーとしては、単官能モノマーと多官能モノマーとがある。
【0059】
単官能モノマーとしては、(メタ)アクリルアミド、メチロール(メタ)アクリルアミド、メトキシメチル(メタ)アクリルアミド、エトキシメチル(メタ)アクリルアミド、プロポキシメチル(メタ)アクリルアミド、ブトキシメトキシメチル(メタ)アクリルアミド、N−メチロール(メタ)アクリルアミド、N−ヒドロキシメチル(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリル酸、フマル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、イタコン酸、無水イタコン酸、シトラコン酸、無水シトラコン酸、クロトン酸、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸、tert−ブチルアクリルアミドスルホン酸、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−フェノキシ−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−(メタ)アクリロイルオキシ−2−ヒドロキシプロピルフタレート、グリセリンモノ(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノ(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、2,2,2−トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル(メタ)アクリレート、フタル酸誘導体のハーフ(メタ)アクリレート等が挙げられる。これらの単官能モノマーは、単独又は2種以上組み合わせて用いることができる。
【0060】
一方、多官能モノマーとしては、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、グリセリンジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、2,2−ビス(4−(メタ)アクリロキシジエトキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−(メタ)アクリロキシポリエトキシフェニル)プロパン、2−ヒドロキシ−3−(メタ)アクリロイルオキシプロピル(メタ)アクリレート、エチレングリコールジグリシジルエーテルジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジグリシジルエーテルジ(メタ)アクリレート、フタル酸ジグリシジルエステルジ(メタ)アクリレート、グリセリントリアクリレート、グリセリンポリグリシジルエーテルポリ(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート(すなわち、トリレンジイソシアネート)、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネートとヘキサメチレンジイソシアネートと2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートとの反応物、メチレンビス(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリルアミドメチレンエーテル、多価アルコールとN−メチロール(メタ)アクリルアミドとの縮合物等の多官能モノマーや、トリアクリルホルマール等が挙げられる。これらの多官能モノマーは、単独又は2種以上組み合わせて用いることができる。
【0061】
光重合性モノマー(D)の含有量は、感光性樹脂組成物の固形分に対して1〜30質量%であることが好ましく、5〜20質量%であることがより好ましい。上記の範囲とすることにより、感度、現像性、解像性のバランスがとりやすい傾向がある。
【0062】
また、上記アルカリ可溶性樹脂(A)と光重合性モノマー(D)の配合割合は、質量比(A)/(D)で20/80〜90/10、好ましくは20/80〜80/20、より好ましくは40/60〜80/20である。(A)/(D)が低いと、光硬化後の硬化物が脆くなり、また、未露光部において塗膜の酸価が低いためにアルカリ現像液に対する溶解性が低下し、パターンエッジががたつきシャープにならないといった問題が生じやすい。(A)/(D)が高いと、樹脂に占める光反応性官能基の割合が少なく架橋構造の形成が十分でなく、さらに、樹脂成分における酸価度が高過ぎて、露光部におけるアルカリ現像液に対する溶解性が高くなることから、形成されたパターンが目標とする線幅より細くなったり、パターンの欠落が生じやすくなるといった問題が生じる恐れがある。
【0063】
<光重合開始剤(E)>
本発明に係る感光性樹脂組成物の他の必須成分は、光重合開始剤(E)である。光重合開始剤としては、特に限定されず、従来公知の光重合開始剤を用いることができる。
【0064】
光重合開始剤として具体的には、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−〔4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル〕−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、1−(4−ドデシルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、ビス(4−ジメチルアミノフェニル)ケトン、2−メチル−1−〔4−(メチルチオ)フェニル〕−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタン−1−オン、エタノン,1−[9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9H−カルバゾル−3−イル],1−(o−アセチルオキシム)、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、4−ベンゾイル−4’−メチルジメチルスルフィド、4−ジメチルアミノ安息香酸、4−ジメチルアミノ安息香酸メチル、4−ジメチルアミノ安息香酸エチル、4−ジメチルアミノ安息香酸ブチル、4−ジメチルアミノ−2−エチルヘキシル安息香酸、4−ジメチルアミノ−2−イソアミル安息香酸、ベンジル−β−メトキシエチルアセタール、ベンジルジメチルケタール、1−フェニル−1,2−プロパンジオン−2−(o−エトキシカルボニル)オキシム、o−ベンゾイル安息香酸メチル、2,4−ジエチルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン、1−クロロ−4−プロポキシチオキサントン、チオキサンテン、2−クロロチオキサンテン、2,4−ジエチルチオキサンテン、2−メチルチオキサンテン、2−イソプロピルチオキサンテン、2−エチルアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、1,2−ベンズアントラキノン、2,3−ジフェニルアントラキノン、アゾビスイソブチロニトリル、ベンゾイルパーオキシド、クメンパーオキシド、2−メルカプトベンゾイミダール、2−メルカプトベンゾオキサゾール、2−メルカプトベンゾチアゾール、2−(o−クロロフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体、2−(o−クロロフェニル)−4,5−ジ(メトキシフェニル)イミダゾール二量体、2−(o−フルオロフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体、2−(o−メトキシフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体、2−(p−メトキシフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体、2,4,5−トリアリールイミダゾール二量体、ベンゾフェノン、2−クロロベンゾフェノン、4,4’−ビスジメチルアミノベンゾフェノン(すなわち、ミヒラーズケトン)、4,4’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン(すなわち、エチルミヒラーズケトン)、4,4’−ジクロロベンゾフェノン、3,3−ジメチル−4−メトキシベンゾフェノン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン−n−ブチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、アセトフェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、p−ジメチルアセトフェノン、p−ジメチルアミノプロピオフェノン、ジクロロアセトフェノン、トリクロロアセトフェノン、p−tert−ブチルアセトフェノン、p−ジメチルアミノアセトフェノン、p−tert−ブチルトリクロロアセトフェノン、p−tert−ブチルジクロロアセトフェノン、α,α−ジクロロ−4−フェノキシアセトフェノン、チオキサントン、2−メチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、ジベンゾスベロン、ペンチル−4−ジメチルアミノベンゾエート、9−フェニルアクリジン、1,7−ビス−(9−アクリジニル)ヘプタン、1,5−ビス−(9−アクリジニル)ペンタン、1,3−ビス−(9−アクリジニル)プロパン、p−メトキシトリアジン、2,4,6−トリス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−メチル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−[2−(5−メチルフラン−2−イル)エテニル]−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−[2−(フラン−2−イル)エテニル]−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−[2−(4−ジエチルアミノ−2−メチルフェニル)エテニル]−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−[2−(3,4−ジメトキシフェニル)エテニル]−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−メトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−エトキシスチリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−n−ブトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2,4−ビス−トリクロロメチル−6−(3−ブロモ−4−メトキシ)フェニル−s−トリアジン、2,4−ビス−トリクロロメチル−6−(2−ブロモ−4−メトキシ)フェニル−s−トリアジン、2,4−ビス−トリクロロメチル−6−(3−ブロモ−4−メトキシ)スチリルフェニル−s−トリアジン、2,4−ビス−トリクロロメチル−6−(2−ブロモ−4−メトキシ)スチリルフェニル−s−トリアジン等が挙げられる。これらの中でも、オキシム系の光重合開始剤を用いることが、感度の面で特に好ましい。これらの光重合開始剤は、単独又は2種以上組み合わせて用いることができる。
【0065】
光重合開始剤(E)の含有量は、感光性樹脂組成物の固形分100質量部に対して0.5〜20質量部であることが好ましい。上記の範囲とすることにより、十分な耐熱性、耐薬品性を得ることができ、また塗膜形成能を向上させ、硬化不良を抑制することができる。
【0066】
<着色剤(F)>
本発明に係る感光性樹脂組成物は、着色剤(F)を含有していてもよい。着色剤を含有することにより、例えば、液晶表示ディスプレイのカラーフィルタ形成用途として好ましく使用される。また、着色剤として遮光剤を含むことにより、例えば、カラーフィルタにおけるブラックマトリクス形成用途として好ましく使用される。
【0067】
着色剤としては、特に限定されないが、例えば、カラーインデックス(C.I.;The Society of Dyers and Colourists社発行)においてピグメント(Pigment)に分類されている化合物、具体的には、下記のようなカラーインデックス(C.I.)番号が付されているものを用いることが好ましい。
【0068】
C.I.ピグメントイエロー1(以下、「C.I.ピグメントイエロー」は同様であり、番号のみを記載する。)、3、11、12、13、14、15、16、17、20、24、31、53、55、60、61、65、71、73、74、81、83、86、93、95、97、98、99、100、101、104、106、108、109、110、113、114、116、117、119、120、125、126、127、128、129、137、138、139、147、148、150、151、152、153、154、155、156、166、167、168、175、180、185;
C.I.ピグメントオレンジ1(以下、「C.I.ピグメントオレンジ」は同様であり、番号のみを記載する。)、5、13、14、16、17、24、34、36、38、40、43、46、49、51、55、59、61、63、64、71、73;
C.I.ピグメントバイオレット1(以下、「C.I.ピグメントバイオレット」は同様であり、番号のみを記載する。)、19、23、29、30、32、36、37、38、39、40、50;
C.I.ピグメントレッド1(以下、「C.I.ピグメントレッド」は同様であり、番号のみを記載する。)、2、3、4、5、6、7、8、9、10、11、12、14、15、16、17、18、19、21、22、23、30、31、32、37、38、40、41、42、48:1、48:2、48:3、48:4、49:1、49:2、50:1、52:1、53:1、57、57:1、57:2、58:2、58:4、60:1、63:1、63:2、64:1、81:1、83、88、90:1、97、101、102、104、105、106、108、112、113、114、122、123、144、146、149、150、151、155、166、168、170、171、172、174、175、176、177、178、179、180、185、187、188、190、192、193、194、202、206、207、208、209、215、216、217、220、223、224、226、227、228、240、242、243、245、254、255、264、265;
C.I.ピグメントブルー1(以下、「C.I.ピグメントブルー」は同様であり、番号のみを記載する。)、2、15、15:3、15:4、15:6、16、22、60、64、66;
C.I.ピグメントグリーン7、C.I.ピグメントグリーン36、C.I.ピグメントグリーン37;
C.I.ピグメントブラウン23、C.I.ピグメントブラウン25、C.I.ピグメントブラウン26、C.I.ピグメントブラウン28;
C.I.ピグメントブラック1、C.I.ピグメントブラック7。
【0069】
また、着色剤を遮光剤とする場合、遮光剤としては黒色顔料を用いることが好ましい。黒色顔料としては、カーボンブラック、チタンブラック、銅、鉄、マンガン、コバルト、クロム、ニッケル、亜鉛、カルシウム、銀等の金属酸化物、複合酸化物、金属硫化物、金属硫酸塩、金属炭酸塩等、有機物、無機物を問わず各種の顔料を挙げることができる。これらの中でも、高い遮光性を有するカーボンブラックを用いることが好ましい。
【0070】
カーボンブラックとしては、チャンネルブラック、ファーネスブラック、サーマルブラック、ランプブラック等の公知のカーボンブラックを用いることができるが、遮光性に優れるチャンネルブラックを用いることが好ましい。また、樹脂被覆カーボンブラックを使用してもよい。
【0071】
樹脂被覆カーボンブラックは、樹脂被覆のないカーボンブラックに比べて導電性が低いことから、液晶表示ディスプレイのブラックマトリクスとして使用した場合に電流のリークが少なく、信頼性の高い低消費電力のディスプレイを製造できる。
【0072】
また、カーボンブラックの色調を調整するために、補助顔料として上記の有機顔料を適宜添加してもよい。
【0073】
また、着色剤を感光性樹脂組成物において均一に分散させるために、さらに分散剤を使用してもよい。このような分散剤としては、ポリエチレンイミン系、ウレタン樹脂系、アクリル樹脂系の高分子分散剤を用いることが好ましい。特に、着色剤としてカーボンブラックを用いる場合には、分散剤としてアクリル樹脂系の分散剤を用いることが好ましい。
【0074】
また、無機顔料及び有機顔料は、それぞれ単独で用いてもよく、併用してもよいが、併用する場合には、無機顔料と有機顔料との総量100質量部に対して、有機顔料を10〜80質量部の範囲で用いることが好ましく、20〜40質量部の範囲で用いることがより好ましい。
【0075】
着色剤(F)の含有量は、感光性樹脂組成物の用途に応じて適宜決定すればよいが、一例として、感光性樹脂組成物の固形分100質量部に対して、5〜70質量部が好ましく、25〜60質量部がより好ましい。
特に、感光性樹脂組成物を使用してブラックマトリクスを形成する場合には、ブラックマトリクスの膜厚1μm当たりのOD値が4以上となるように、感光性樹脂組成物における遮光剤の量を調整することが好ましい。ブラックマトリクスにおける膜厚1μm当たりのOD値が4以上あれば、液晶表示ディスプレイのブラックマトリクスに用いた場合に、十分な表示コントラストを得ることができる。
【0076】
<1つ以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物(G)>
本発明に係る感光性樹脂組成物は、1つ以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物(G)を含有していてもよい。エポキシ化合物にはさらなる密着性向上、耐アルカリ性の向上を目的にエポキシ樹脂を混合することができる。
【0077】
エポキシ基を有する化合物としては、例えばフェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂、フェニルグリシジルエーテル、p−ブチルフェノールグリシジルエーテル、トリグリシジルイソシアヌレート、ジグリシジルイソシアヌレート、アリルグリシジルエーテル、グリシジルメタクリレート等のエポキシ基を少なくとも1個有する化合物等が挙げられる。
【0078】
このエポキシ化合物(G)の含有量は、感光性樹脂組成物の固形分100質量部に対して、1〜30質量部が好ましく、5〜20質量部がより好ましい。
【0079】
本発明に係る感光性樹脂組成物をカラーフィルタ用等に使用する場合においては、上記の成分の他に有機溶剤を使用することが好ましい。
【0080】
有機溶剤としては、例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコール−n−プロピルエーテル、エチレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、ジエチレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、プロピレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノエチルエーテル等の(ポリ)アルキレングリコールモノアルキルエーテル類;エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等の(ポリ)アルキレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類;ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等の他のエーテル類;メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、2−ヘプタノン、3−ヘプタノン等のケトン類;2−ヒドロキシプロピオン酸メチル、2−ヒドロキシプロピオン酸エチル等の乳酸アルキルエステル類;2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオン酸エチル、3−メトキシプロピオン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、2−ヒドロキシ−3−メチルブタン酸メチル、3−メチル−3−メトキシブチルアセテート、3−メチル−3−メトキシブチルプロピオネート、酢酸エチル、酢酸n−プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸n−ブチル、酢酸イソブチル、蟻酸n−ペンチル、酢酸イソペンチル、プロピオン酸n−ブチル、酪酸エチル、酪酸n−プロピル、酪酸イソプロピル、酪酸n−ブチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸n−プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、2−オキソブタン酸エチル等の他のエステル類;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;N−メチルピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等のアミド類等が挙げられる。これらの有機溶剤は、単独又は2種以上組み合わせて用いることができる。
【0081】
上記有機溶剤の中でも、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、シクロヘキサノン、3−メトキシブチルアセテートは、上記アルカリ可溶性樹脂(A)、上記光重合性モノマー(D)、上記光重合開始剤(E)、及び上記式(b−1)で表される化合物(B)に対して優れた溶解性を示すとともに、上記着色剤(F)の分散性を良好にすることができるため好ましく、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、3−メトキシブチルアセテートを用いることが特に好ましい。
【0082】
有機溶剤の含有量は、感光性樹脂組成物の固形分濃度が1〜50質量%となる量が好ましく、5〜30質量%となる量がより好ましい。
【0083】
本発明に係る感光性樹脂組成物は、必要に応じて、各種の添加剤を含有していてもよい。添加剤としては、増感剤、硬化促進剤、充填剤、密着促進剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、凝集防止剤、熱重合禁止剤、消泡剤、界面活性剤等が挙げられる。
【0084】
このような感光性樹脂組成物は、上記の各成分を撹拌機で混合することにより調製される。なお、調製された感光性樹脂組成物が均一なものとなるよう、メンブランフィルタ等を用いて濾過してもよい。
【0085】
≪塗膜≫
本発明に係る塗膜は、例えば、上記感光性樹脂組成物の溶液を、基板等に塗布し、乾燥し、光(紫外線、放射線等を含む)を照射し、これを硬化させることにより得られる。光が当たる部分と当たらない部分とを設けて、光が当たる部分だけを硬化させ、他の部分をアルカリ溶液で溶解させれば、所望のパターンの塗膜が得られる。
【0086】
≪カラーフィルタ≫
次に、感光性樹脂組成物を用いたカラーフィルタの製造法について説明する。まず、基板の表面上に、必要に応じて、画素を形成する部分を区画するように遮光層を形成し、この基板上に、例えば赤色の顔料が分散された感光性樹脂組成物の液状組成物を塗布した後、プレベークを行って溶剤を蒸発させ、塗膜を形成する。次いで、この塗膜にフォトマスクを介して露光したのち、アルカリ性現像液を用いて現像して、塗膜の未露光部を溶解除去し、その後ポストベークすることにより、赤色の画素パターンが所定の配列で配置された画素アレイを形成する。その後、緑色又は青色の顔料が分散された感光性樹脂組成物の液状組成物を用い、上記と同様にして、各液状組成物の塗布、プリベーク、露光、現像及びポストベークを行って、緑色の画素アレイ及び青色の画素アレイを同一基板上に順次形成することにより、赤色、緑色及び青色の三原色の画素アレイが基板上に配置し、さらに、この上に保護膜として、感光性樹脂組成物の液状組成物を上記と同様にして、各液状組成物の塗布、プリベーク、露光、現像及びポストベークを行って、保護膜が形成されたカラーフィルタを得る。
【0087】
感光性樹脂組成物の液状組成物を基板に塗布する際には、公知の溶液浸漬法、スプレー法の他、ローラーコータ機、ランドコータ機やスピナー機を用いる方法等のいずれの方法をも採用することができる。これらの方法によって、所望の厚さに塗布した後、溶剤を除去する(プリベーク)ことにより、被膜が形成される。プリベークはオーブン、ホットプレート等による加熱、真空乾燥又はこれらの組み合わせることによって行われる。プリベークにおける加熱温度及び加熱時間は使用する溶剤に応じて適宜選択され、例えば80〜120℃で1〜10分間行われる。
【0088】
カラーフィルタを作製する際に使用される放射線としては、例えば、可視光線、紫外線、遠紫外線、電子線、X線等を使用することができるが、波長が250〜450nmの範囲にある放射線が好ましい。また、このアルカリ現像に適した現像液としては、例えば、アルカリ金属やアルカリ土類金属の炭酸塩の水溶液、アルカリ金属の水酸化物の水溶液等を挙げることができるが、特に炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウム等の炭酸塩を0.05〜10質量%含有する弱アルカリ性水溶液を用いて2〜30℃で現像するのがよく、市販の現像機や超音波洗浄機等を用いて微細な画像を精密に形成することができる。なお、アルカリ現像後は、通常、水洗する。現像処理法としては、シャワー現像法、スプレー現像法、ディップ(浸漬)現像法、パドル(液盛り)現像法等を適用することができる。現像条件は、常温で10〜120秒が好ましい。
このようにして現像した後、180〜250℃、20〜100分の条件で熱処理(ポストベーク)が行われる。このポストベークは、パターニングされた塗膜と基板との密着性を高めるため等の目的で行われる。これはプリベークと同様に、オーブン、ホットプレート等により加熱することによって行われる。本発明のパターニングされた塗膜は、以上のフォトリソグラフィ法による各工程を経て形成される。
【0089】
画素及び/又はブラックマトリックスを備えたカラーフィルタを形成する際に使用される基板としては、例えば、ガラス、透明フィルム(例えば、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルスルフォン等)上にITO、金等の透明電極が蒸着あるいはパターニングされたもの等が用いられる。また、これらの基板には、所望により、シランカップリング剤等による薬品処理、プラズマ処理、イオンプレーティング、スパッタリング、気相反応法、真空蒸着等の適宜の前処理を施しておくこともできる。
【実施例】
【0090】
以下、実施例を示して本発明をさらに具体的に説明するが、本発明の範囲は、これらの実施例に限定されるものではない。
【0091】
<アルカリ可溶性樹脂(A)の合成>
上記式(a−1)で表される樹脂と単官能性エポキシ化合物とを反応させて得られる酸価が1〜100mgKOH/gの範囲にあるアルカリ可溶性樹脂(A)は上記特許文献1に記載された方法に従い合成した。
【0092】
[アルカリ可溶性樹脂(A−1)]
還流冷却器つき500mL四ツ口フラスコ中に、フルオレン型エポキシアクリレートASF−400(商品名:新日鐵化学社製)の50%プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液198.53gと、シクロヘキサンカルボン酸二無水物27.6g、無水コハク酸8.13g及びトリフェニルホスフィン0.45gを仕込み、120〜125℃に加熱下1時間撹拌し、さらに75〜80℃にて6時間撹拌した。その後、スチレンオキシド8.6gを投入し、さらに80℃で6時間撹拌して、アルカリ可溶性樹脂溶液(A−1)を合成した。得られた樹脂溶液の固形分は55質量%、酸価(固体分換算)は80mgKOH/gであった。
【0093】
[アルカリ可溶性樹脂(A−2)]
還流冷却器つき500mL四ツ口フラスコ中に、フルオレン型エポキシアクリレートASF−400(商品名:新日鐵化学社製)の50%プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液198.53gと、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物16.1g、無水コハク酸8.13g及びトリフェニルホスフィン0.45gを仕込み、120〜125℃に加熱下1時間撹拌し、さらに75〜80℃にて6時間撹拌した。その後、スチレンオキシド8.6gを投入し、さらに80℃で6時間撹拌して、アルカリ可溶性樹脂溶液(A−2)を合成した。得られた樹脂溶液の固形分は55質量%、酸価(固体分換算)は80mgKOH/gであった。
【0094】
<化合物(B)の合成>
上記式(b−1)で表される化合物として、下記式で表される化合物1〜20を準備した。この化合物1〜20の合成法を下記に示す。また、比較のため、下記式で表される比較化合物1〜8を準備した。
【0095】
【化13】

【0096】
【化14】

【0097】
【化15】

【0098】
[化合物1の合成法]
3−(4−メトキシフェニル)アクリル酸クロリド5.90g(30mmol)を50mlの乾燥したエーテルに溶解し、トリエチルアミン4.59ml(当量比1.1)、ジエチルアミン2.41ml(当量比1.1)を加え、室温にて1時間撹拌した。水50ml、飽和NaHCO水溶液50ml、及び1N塩酸で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。ヘキサン−酢酸エチルを展開溶媒とし、シリカゲルを支持担体としてカラムクロマトグラフィにより精製を行い、対応する化合物1(4.65g,20mmol)を得た。アクリル酸クロリド基準の収率は67%であった。
【0099】
[化合物2の合成法]
3−(4−メトキシフェニル)アクリル酸クロリド5.90g(30mmol)を50mlの乾燥したエーテルに溶解し、トリエチルアミン4.59ml(当量比1.1)、アニリン3.07ml(当量比1.1)を加え、室温にて1時間撹拌した。水50ml、飽和NaHCO水溶液50ml、及び1N塩酸で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。ヘキサン−酢酸エチルを展開溶媒とし、シリカゲルを支持担体としてカラムクロマトグラフィにより精製を行い、対応する化合物2(6.31g,25mmol)を得た。アクリル酸クロリド基準の収率は83%であった。
【0100】
[化合物3の合成法]
3−(4−メトキシフェニル)アクリル酸クロリド5.90g(30mmol)を50mlの乾燥したエーテルに溶解し、トリエチルアミン4.59ml(当量比1.1)、イミダゾール2.25ml(当量比1.1)を加え、室温にて1時間撹拌した。水50ml、飽和NaHCO水溶液50ml、及び1N塩酸で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。ヘキサン−酢酸エチルを展開溶媒とし、シリカゲルを支持担体としてカラムクロマトグラフィにより精製を行い、対応する化合物3(3.41g,15mmol)を得た。アクリル酸クロリド基準の収率は50%であった。
【0101】
[化合物4の合成法]
3−(4−メトキシフェニル)アクリル酸クロリド5.90g(30mmol)を50mlの乾燥したエーテルに溶解し、トリエチルアミン4.59ml(当量比1.1)、モルホリン2.25ml(当量比1.1)を加え、室温にて1時間撹拌した。水50ml、飽和NaHCO水溶液50ml、及び1N塩酸で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。ヘキサン−酢酸エチルを展開溶媒とし、シリカゲルを支持担体としてカラムクロマトグラフィにより精製を行い、対応する化合物4(3.41g,15mmol)を得た。アクリル酸クロリド基準の収率は50%であった。
【0102】
[化合物5の合成法]
3−(2−ニトロ−4−メトキシフェニル)アクリル酸クロリド7.25g(30mmol)を50mlの乾燥したエーテルに溶解し、トリエチルアミン4.59ml(当量比1.1)、イミダゾール2.25ml(当量比1.1)を加え、室温にて1時間撹拌した。水50ml、飽和NaHCO水溶液50ml、及び1N塩酸で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。ヘキサン−酢酸エチルを展開溶媒とし、シリカゲルを支持担体としてカラムクロマトグラフィにより精製を行い、対応する化合物5(4.08g,15mmol)を得た。アクリル酸クロリド基準の収率は50%であった。
【0103】
[化合物6の合成法]
3−(3−ニトロ−4−メトキシフェニル)アクリル酸クロリド7.25g(30mmol)を50mlの乾燥したエーテルに溶解し、トリエチルアミン4.59ml(当量比1.1)、イミダゾール2.25ml(当量比1.1)を加え、室温にて1時間撹拌した。水50ml、飽和NaHCO水溶液50ml、及び1N塩酸で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。ヘキサン−酢酸エチルを展開溶媒とし、シリカゲルを支持担体としてカラムクロマトグラフィにより精製を行い、対応する化合物6(4.08g,15mmol)を得た。アクリル酸クロリド基準の収率は50%であった。
【0104】
[化合物7の合成法]
2−メチル−3−(2−ニトロ−4−メトキシフェニル)アクリル酸クロリド7.67g(30mmol)を50mlの乾燥したエーテルに溶解し、トリエチルアミン4.59ml(当量比1.1)、イミダゾール2.25ml(当量比1.1)を加え、室温にて1時間撹拌した。水50ml、飽和NaHCO水溶液50ml、及び1N塩酸で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。ヘキサン−酢酸エチルを展開溶媒とし、シリカゲルを支持担体としてカラムクロマトグラフィにより精製を行い、対応する化合物7(4.29g,15mmol)を得た。アクリル酸クロリド基準の収率は50%であった。
【0105】
[化合物8の合成法]
2−メチル−3−(3−ニトロ−4−メトキシフェニル)アクリル酸クロリド7.67g(30mmol)を50mlの乾燥したエーテルに溶解し、トリエチルアミン4.59ml(当量比1.1)、イミダゾール2.25ml(当量比1.1)を加え、室温にて1時間撹拌した。水50ml、飽和NaHCO水溶液50ml、及び1N塩酸で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。ヘキサン−酢酸エチルを展開溶媒とし、シリカゲルを支持担体としてカラムクロマトグラフィにより精製を行い、対応する化合物8(3.41g,15mmol)を得た。アクリル酸クロリド基準の収率は50%であった。
【0106】
[化合物9の合成法]
3−(2−ニトロ−4−メトキシフェニル)アクリル酸クロリド7.25g(30mmol)を50mlの乾燥したエーテルに溶解し、トリエチルアミン4.59ml(当量比1.1)、ジエチルアミン2.41ml(当量比1.1)を加え、室温にて1時間撹拌した。水50ml、飽和NaHCO水溶液50ml、及び1N塩酸で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。ヘキサン−酢酸エチルを展開溶媒とし、シリカゲルを支持担体としてカラムクロマトグラフィにより精製を行い、対応する化合物9(5.55g,20mmol)を得た。アクリル酸クロリド基準の収率は67%であった。
【0107】
[化合物10の合成法]
3−(3−ニトロ−4−メトキシフェニル)アクリル酸クロリド7.25g(30mmol)を50mlの乾燥したエーテルに溶解し、トリエチルアミン4.59ml(当量比1.1)、ジエチルアミン2.41ml(当量比1.1)を加え、室温にて1時間撹拌した。水50ml、飽和NaHCO水溶液50ml、及び1N塩酸で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。ヘキサン−酢酸エチルを展開溶媒とし、シリカゲルを支持担体としてカラムクロマトグラフィにより精製を行い、対応する化合物9(5.55g,20mmol)を得た。アクリル酸クロリド基準の収率は67%であった。
【0108】
[化合物11の合成法]
2−メチル−3−(2−ニトロ−4−メトキシフェニル)アクリル酸クロリド7.67g(30mmol)を50mlの乾燥したエーテルに溶解し、トリエチルアミン4.59ml(当量比1.1)、ジエチルアミン2.41ml(当量比1.1)を加え、室温にて1時間撹拌した。水50ml、飽和NaHCO水溶液50ml、及び1N塩酸で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。ヘキサン−酢酸エチルを展開溶媒とし、シリカゲルを支持担体としてカラムクロマトグラフィにより精製を行い、対応する化合物11(5.83g,20mmol)を得た。アクリル酸クロリド基準の収率は67%であった。
【0109】
[化合物12の合成法]
2−メチル−3−(3−ニトロ−4−メトキシフェニル)アクリル酸クロリド7.67g(30mmol)を50mlの乾燥したエーテルに溶解し、トリエチルアミン4.59ml(当量比1.1)、ジエチルアミン2.41ml(当量比1.1)を加え、室温にて1時間撹拌した。水50ml、飽和NaHCO水溶液50ml、及び1N塩酸で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。ヘキサン−酢酸エチルを展開溶媒とし、シリカゲルを支持担体としてカラムクロマトグラフィにより精製を行い、対応する化合物12(5.83g,20mmol)を得た。アクリル酸クロリド基準の収率は67%であった。
【0110】
[化合物13の合成法]
3−(2−ニトロ−4−メトキシフェニル)アクリル酸クロリド7.25g(30mmol)を50mlの乾燥したエーテルに溶解し、トリエチルアミン4.59ml(当量比1.1)、ピペリジン2.81ml(当量比1.1)を加え、室温にて1時間撹拌した。水50ml、飽和NaHCO水溶液50ml、及び1N塩酸で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。ヘキサン−酢酸エチルを展開溶媒とし、シリカゲルを支持担体としてカラムクロマトグラフィにより精製を行い、対応する化合物13(5.62g,23mmol)を得た。アクリル酸クロリド基準の収率は77%であった。
【0111】
[化合物14の合成法]
3−(3−ニトロ−4−メトキシフェニル)アクリル酸クロリド7.25g(30mmol)を50mlの乾燥したエーテルに溶解し、トリエチルアミン4.59ml(当量比1.1)、ピペリジン2.81ml(当量比1.1)を加え、室温にて1時間撹拌した。水50ml、飽和NaHCO水溶液50ml、及び1N塩酸で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。ヘキサン−酢酸エチルを展開溶媒とし、シリカゲルを支持担体としてカラムクロマトグラフィにより精製を行い、対応する化合物14(5.62g,23mmol)を得た。アクリル酸クロリド基準の収率は67%であった。
【0112】
[化合物15の合成法]
2−メチル−3−(2−ニトロ−4−メトキシフェニル)アクリル酸クロリド7.67g(30mmol)を50mlの乾燥したエーテルに溶解し、トリエチルアミン4.59ml(当量比1.1)、ピペリジン2.81ml(当量比1.1)を加え、室温にて1時間撹拌した。水50ml、飽和NaHCO水溶液50ml、及び1N塩酸で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。ヘキサン−酢酸エチルを展開溶媒とし、シリカゲルを支持担体としてカラムクロマトグラフィにより精製を行い、対応する化合物15(5.83g,23mmol)を得た。アクリル酸クロリド基準の収率は67%であった。
【0113】
[化合物16の合成法]
2−メチル−3−(3−ニトロ−4−メトキシフェニル)アクリル酸クロリド7.67g(30mmol)を50mlの乾燥したエーテルに溶解し、トリエチルアミン4.59ml(当量比1.1)、ピペリジン2.81ml(当量比1.1)を加え、室温にて1時間撹拌した。水50ml、飽和NaHCO水溶液50ml、及び1N塩酸で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。ヘキサン−酢酸エチルを展開溶媒とし、シリカゲルを支持担体としてカラムクロマトグラフィにより精製を行い、対応する化合物16(5.83g,23mmol)を得た。アクリル酸クロリド基準の収率は67%であった。
【0114】
[化合物17の合成法]
3−(4−メトキシフェニル)アクリル酸クロリド5.90g(30mmol)を50mlの乾燥したエーテルに溶解し、トリエチルアミン4.59ml(当量比1.1)、ピペリジン2.81ml(当量比1.1)を加え、室温にて1時間撹拌した。水50ml、飽和NaHCO水溶液50ml、及び1N塩酸で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。ヘキサン−酢酸エチルを展開溶媒とし、シリカゲルを支持担体としてカラムクロマトグラフィにより精製を行い、対応する化合物17(3.41g,15mmol)を得た。アクリル酸クロリド基準の収率は50%であった。
【0115】
[化合物18の合成法]
2−メチル−3−(4−メトキシフェニル)アクリル酸クロリド6.32g(30mmol)を50mlの乾燥したエーテルに溶解し、トリエチルアミン4.59ml(当量比1.1)、イミダゾール2.25ml(当量比1.1)を加え、室温にて1時間撹拌した。水50ml、飽和NaHCO水溶液50ml、及び1N塩酸で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。ヘキサン−酢酸エチルを展開溶媒とし、シリカゲルを支持担体としてカラムクロマトグラフィにより精製を行い、対応する化合物18(3.62g,15mmol)を得た。アクリル酸クロリド基準の収率は50%であった。
【0116】
[化合物19の合成法]
2−メチル−3−(4−メトキシフェニル)アクリル酸クロリド6.32g(30mmol)を50mlの乾燥したエーテルに溶解し、トリエチルアミン4.59ml(当量比1.1)、ジエチルアミン2.41ml(当量比1.1)を加え、室温にて1時間撹拌した。水50ml、飽和NaHCO水溶液50ml、及び1N塩酸で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。ヘキサン−酢酸エチルを展開溶媒とし、シリカゲルを支持担体としてカラムクロマトグラフィにより精製を行い、対応する化合物19(4.93g,20mmol)を得た。アクリル酸クロリド基準の収率は67%であった。
【0117】
[化合物20の合成法]
2−メチル−3−(4−メトキシフェニル)アクリル酸クロリド6.32g(30mmol)を50mlの乾燥したエーテルに溶解し、トリエチルアミン4.59ml(当量比1.1)、アニリン3.07ml(当量比1.1)を加え、室温にて1時間撹拌した。水50ml、飽和NaHCO水溶液50ml、及び1N塩酸で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。ヘキサン−酢酸エチルを展開溶媒とし、シリカゲルを支持担体としてカラムクロマトグラフィにより精製を行い、対応する化合物20(4.29g,25mmol)を得た。アクリル酸クロリド基準の収率は83%であった。
【0118】
<感光性樹脂組成物の調製>
[実施例1]
以下の各成分を、3−メトキシブチルアセテート(MA)/プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PM)/シクロヘキサノン(AN)=60/20/20(質量比)の溶媒に加え、撹拌機で2時間混合した後、5μmのメンブランフィルタで濾過し、固形分濃度15質量%の感光性樹脂組成物を調製した。
・アルカリ可溶性樹脂(A)
樹脂(A−1)(固形分55%、溶媒:PM)・・・310質量部
・光重合性モノマー(D)
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPHA)・・・175質量部
・光重合開始剤(E)
「OXE−02」(商品名:BASF社製)・・・100質量部
・上記式(b−1)で表される化合物(B)
化合物1・・・100質量部
・着色剤(F)
カーボン分散液「CFブラック」(商品名:御国色素社製 固形分25%、溶剤:MA)・・・450質量部
・エポキシ化合物(G)
「オグソール EG−200」(商品名:大阪ガスケミカル社製)・・・50質量部
【0119】
[実施例2〜20]
化合物1の代わりにそれぞれ上記化合物2〜20を用いた他は、実施例1と同様にして感光性樹脂組成物を調製した。
【0120】
[実施例21〜40]
樹脂(A−1)の代わりに上記樹脂(A−2)を用いた他は実施例1〜20と同様の手法で、感光性樹脂組成物を調製した。
【0121】
[比較例1〜8]
化合物1の代わりにそれぞれ上記比較化合物1〜8を用いた他は、実施例1と同様にして感光性樹脂組成物を調製した。
[比較例9〜16]
樹脂(A−1)の代わりに上記樹脂(A−2)を用いた他は比較例1〜8と同様の手法で、感光性樹脂組成物を調製した。
【0122】
<評価>
実施例1〜40、比較例1〜16の感光性樹脂組成物を、ガラス基板(100mm×100mm)上にスピンコータを用いて塗布し、90℃で120秒間プリベークを行い、膜厚1.0μmの塗膜を形成した。次いで、ミラープロジェクションアライナー(製品名:TME−150RTO、株式会社トプコン製)を使用し、露光ギャップを50μmとして、20μmのラインパターンの形成されたネガマスクを介して、塗膜に紫外線を照射した。露光量は、20,40,60,120mJ/cmの4段階とした。露光後の塗膜を、26℃の0.04質量%KOH水溶液で40秒間現像後、230℃にて30分間ポストベークを行うことにより、ラインパターンを形成した。
同様に、2,5,10,20μmのラインパターンの形成されたネガマスクを介して、露光ギャップ50μmにて、塗膜に紫外線を照射した。露光量は20mJ/cmとした。露光後の塗膜を、26℃の0.04質量%KOH水溶液で40秒間現像後、230℃にて30分間ポストベークを行うことにより、ラインパターンを形成した。
【0123】
形成されたラインパターンを光学顕微鏡により観察し、パターン直進性を評価した。パターン直進性は、ラインのエッジにがたつきがないものを「良好」、がたつきがあるものを「不良」として評価した。
また、ラインパターンを光学顕微鏡により観察し、パターン密着性を評価した。パターン密着性は、基板から剥がれずラインパターンが形成されたものを「良好」、ラインパターンは形成されているがパターン欠けが発生しているものを「不良」、基板から剥がれてラインパターンが形成されなかったものを「なし」として評価した。
さらに、現像後の未露光部における残渣の有無について評価した。
結果を下記表1〜8に示す。
【0124】
【表1】

【0125】
【表2】

【0126】
【表3】

【0127】
【表4】

【0128】
【表5】

【0129】
【表6】

【0130】
【表7】

【0131】
【表8】

【0132】
表1及び2からわかるように、上記式(b−1)で表される化合物1〜20を含有する実施例1〜40の感光性樹脂組成物を用いた場合には、60mJ/cmという低露光量であっても、直線性に優れたラインパターンを形成することができた。特に、化合物1、3、7、9、18、19を含有する感光性樹脂組成物では、20mJ/cmという非常に低い露光量であっても、直線性に優れたラインパターンを形成することができた。
【0133】
また、表3及び4からわかるように、20mJ/cmという低露光量であっても、10μmのラインパターンが基板に密着し、さらに、現像残渣も存在しなかった。特に化合物1、3、7、9を含有する感光性樹脂組成物では、2μmの微小パターンでも密着性が良好だった。
【0134】
これに対して、比較化合物1〜8を含有する感光性樹脂組成物は、60mJ/cm以下の露光量では、いずれも直線性に優れたラインパターンを形成することができなかった。また、20mJ/cmという低露光量では、20μmのラインパターンしか基板に密着せず、これより小さいラインパターンは剥離した。

【特許請求の範囲】
【請求項1】
下記式(a−1)で表される樹脂と単官能エポキシ化合物とを反応させて得られ、酸価が1〜100mgKOH/gの範囲にあるアルカリ可溶性樹脂(A)と、下記式(b−1)で表される化合物(B)と、光重合性モノマー(D)と、光重合開始剤(E)とを含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。
【化1】

(式中、Ra1、Ra2、Ra3、Ra4は、それぞれ独立に水素原子、炭素数1〜5のアルキル基、ハロゲン原子又はフェニル基を示し、Ra5は水素原子又はメチル基を示す。また、Pは−CO−、−SO−、−C(CF−、−Si(CH−、−CH−、−C(CH−、−O−、9,9−フルオレニル基又は単結合を示し、Xは4価のカルボン酸残基を示し、Y、Yはそれぞれ独立に水素原子又は−OC−Q−(COOH)を示し、Qはカルボン酸残基(mは1〜3の整数を示す)を示し、nは1〜200の整数を示す。)
【化2】

(式中、Rb1及びRb2は、それぞれ独立に水素原子又は有機基を示す。ただし、Rb1及びRb2の少なくとも一方は有機基を示す。Rb1及びRb2は、それらが結合して環状構造を形成していてもよく、ヘテロ原子の結合を含んでいてもよい。Rb3は、単結合又は有機基を示す。Rb4及びRb5は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、メルカプト基、スルフィド基、シリル基、シラノール基、ニトロ基、ニトロソ基、スルフィノ基、スルホ基、スルホナト基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスホノ基、ホスホナト基、又は有機基を示す。Rb6、Rb7、Rb8、及びRb9は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、メルカプト基、スルフィド基、シリル基、シラノール基、ニトロ基、ニトロソ基、スルフィノ基、スルホ基、スルホナト基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスホノ基、ホスホナト基、アミノ基、アンモニオ基、又は有機基を示す。ただし、Rb6及びRb7が水酸基となることはない。Rb6、Rb7、Rb8、及びRb9は、それらの2つ以上が結合して環状構造を形成していてもよく、ヘテロ原子の結合を含んでいてもよい。Rb10は、水素原子又は有機基を示す。)
【請求項2】
前記単官能エポキシ化合物が、下記一般式(c−1)で表されるものである請求項1記載の感光性樹脂組成物。
【化3】

(式中、Zは、−C2r+1、−C又は−C2s−OHを示し、r及びsは、それぞれ1〜10の整数を示す。)
【請求項3】
着色剤(F)をさらに含有する請求項1又は2記載の感光性樹脂組成物。
【請求項4】
1つ以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物(G)をさらに含有する請求項1から3のいずれかに記載の感光性樹脂組成物。
【請求項5】
請求項1から4のいずれかに記載の感光性樹脂組成物を硬化させて形成した塗膜。
【請求項6】
請求項1から4のいずれかに記載の感光性樹脂組成物を塗布、硬化させて得られる塗膜が形成されてなるカラーフィルタ。

【公開番号】特開2013−80207(P2013−80207A)
【公開日】平成25年5月2日(2013.5.2)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2012−174873(P2012−174873)
【出願日】平成24年8月7日(2012.8.7)
【出願人】(000220239)東京応化工業株式会社 (1,407)
【Fターム(参考)】