成膜材料供給装置

【課題】３個以上のリングハースに対しても均等に成膜材料を供給することができること。
【解決手段】長期間の連続運転に耐える多量の成膜材料を収容する成膜材料供給室から供給される成膜材料を成膜室内のリングハース上で蒸発させて上方を移送される基板に膜を形成させる真空蒸着装置において、前記リングハースは前記移送される基板の幅方向に３個以上並設されていて、少なくとも両端のリングハースを除く中間のリングハースには、前記成膜材料の供給量を調節可能な電磁振動フィーダにより供給することを特徴とする。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は成膜材料供給装置に関するものであり、更に詳しくは、真空蒸着装置において、成膜材料を成膜材料供給室から成膜室のリングハースへ定量的に供給する成膜材料供給装置に関するものである。
【０００２】
プラズマテレビに使用されているプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）のパネルとなる前面のガラス基板には放電電極が形成されており、その放電電極を保護するために酸化マグネシウム（ＭｇＯ）の膜が形成されている。近年のプラズマテレビの著しい普及によってパネルの需要が急激に増大しており、それに応じてＭｇＯ成膜用の真空蒸着装置にも生産能力の増大が求められている。
【０００３】
従来のＭｇＯ成膜用の真空蒸着装置におけるＭｇＯの供給装置としては、図２１に示すようなものが知られている。図２１を参照し、真空蒸着装置の成膜室１２０の上部には、電極の形成された基板Ｇを水平な姿勢で搬入し搬出する搬送手段１２８が設けられており、ガラス基板Ｇの下方には、保護膜の材料であるＭｇＯペレットを蒸発させるための２個のリングハ−ス１５０が電子ビームを発生させるピアスガン１５１と共に配置されている。また、成膜室１２０の両側部の上方には成膜材料供給室１１０が設けられており、成膜材料供給室１１０にはＭｇＯペレットを成膜室１２０内へ送り込む第２供給手段が設けられ、成膜材料供給室１１０とはゲートバルブ１１３を介して接続されている。成膜室１２０内にはＭｇＯペレットをリングハース１５０へ供給する第１供給手段である回転円筒フィーダ１４１が設けられている。そして成膜室１２０は真空ポンプ１０９によって真空排気され、成膜材料供給室１１０は図示されない真空ポンプによって真空排気される。なお、ＭｇＯペレットは粗目状や円柱状（例えば、直径が５〜６ｍｍで高さ３〜５ｍｍ）のものとして供給される。
【背景技術】
【０００４】
然るに最近のガラス基板の大型化に伴い、成膜室１２０内にリングハース１５０を図２２に示すように３個並設する必要が生じてきた。これらの上方には図２２に示すようにガラス基板Ｇが搬送手段１２８により紙面に対して垂直方向に移送されるのであるが、中央のリングハース１５０に成膜材料ＭｇＯペレットを供給するために、左右両端のリングハース１５０と同様の成膜材料供給装置を設けようとしても図から明らかなように、ガラス基板Ｇに影響を与えずに成膜材料供給室１１０および回転円筒フィーダ１４１を設置することができない
【０００５】
他方、特開２００３−３２１７６８号公報には、円周上に並べられた３個のリングハースが回転して順に電子銃で加熱され、これら上方に円形の基板ホルダに保持された複数の基板が回転されてリングハースからの成膜材料を蒸着させる装置が記載されている。これらリングハースにはリニアフィーダにより成膜材料を供給するようにしている。これにより３個のリングハースには均等に成膜材料を供給することができるとしている。本願発明のように基板が下方に並設されたリングハースの上方を所定方向に移送される装置ではなく、また、リニアフィーダについても何ら制御性については述べられていない。
【０００６】
【特許文献１】特開２００３−３２１７６８号公報
【特許文献２】特開２０００−１９９０５０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本願発明は上述の問題に鑑みてなされ、移送される基板の幅方向に３個以上並設されたリングハースに対して、両端のリングハースを除く中間のリングハースにも成膜材料の供給ができ、しかもすべてのリングハースに均等に成膜材料を供給することができる成膜材料供給装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
以上の課題は、長期間の連続運転に耐える多量の成膜材料を収容する成膜材料供給室から供給される成膜材料を成膜室内のリングハース上で蒸発させて上方を移送される基板に膜を形成させる真空蒸着装置において、前記リングハースは前記移送される基板の幅方向に３個以上並設されていて、少なくとも両端のリングハースを除く中間のリングハースには、前記成膜材料の供給量を調節可能な電磁振動フィーダにより供給することを特徴とする真空蒸着装置の成膜材料供給装置によって解決される。
【０００９】
また、以上の課題は、長期間の連続運転に耐える多量の成膜材料を収容する成膜材料供給室から供給される成膜材料を成膜室内のリングハース上で蒸発させて上方を移送される基板に膜を形成させる真空蒸着装置において、前記リングハースは前記移送される基板の幅方向に３個以上並設されていて、少なくとも両端のリングハースを除く中間のリングハースには、前記成膜材料の供給量を調節可能な電磁振動フィーダにより供給され、両端の前記成膜材料供給室内においては、前記成膜材料を下方へ排出する成膜材料ホッパーと、前記成膜材料ホッパーから排出される前記成膜材料を計量して一定量の前記成膜材料を受ける計量ホッパーと、前記計量ホッパーから排出される一定量の前記成膜材料を受けて下方へ排出する漏斗状ホッパーと、前記成膜室内に設置され、前記漏斗状ホッパーから排出される前記成膜材料を受けて下方の前記リングハースへ所定の供給速度で供給する定量移送機器が設置されていることを特徴とする真空蒸着装置の成膜材料供給装置によって解決される。
【発明の効果】
【００１０】
リングハースが移送される基板の幅方向に３個以上並設され、成膜すべき基板がこれら上方を移送される場合にも、それぞれのリングハースに成膜材料を均等に供給することができ、基板に均一な膜を形成することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
本発明の成膜材料供給装置は、図１に示すように従来例の図２２に示したものと同様な構成の真空蒸着装置に据え付けられ、両端のリングハースに対する成膜材料供給装置における成膜材料供給室を図２〜図５によって示す。すなわち、図２は成膜材料供給室１０を概略的に示す縦断面図であり、図３は成膜材料供給室１０の平面図である。また図４は図２における［４］−［４］線方向の断面図であり、図５は図２における［５］−［５］線方向の断面図である。
【００１２】
図２を参照して、成膜材料供給室１０の内部には成膜材料ホッパー１１、成膜材料ホッパー１１の第１排出口１２の直下には計量ホッパー２１、計量ホッパー２１の第２排出口２２の直下には漏斗状ホッパー３１が設けられており、漏斗状ホッパー３１の底部の排出管３２は成膜室２０内へ挿入される。そして、成膜材料供給室１０は真空ポンプ９によって真空排気されている。また、図２、図３、図５を参照して、成膜材料供給室１０の天井部１から垂下され、成膜材料ホッパー１１内の成膜材料であるＭｇＯペレット内へ突っ込むように１２本のパイプ状ヒーター１７が設けられている。加えて計量ホッパー２１の外壁にはヒーターが巻き付けられている。そのほか、図２〜図４を参照して、天井部１には、成膜材料ホッパー１１内へＭｇＯペレットを投入する時に開放される投入蓋４が設けられている。
【００１３】
成膜材料ホッパー１１の円筒形状の第１排出口１２は第１回動軸１３によって回動される第１開閉腕１４の平板部１４ｐの先端側に固定された円柱形状部１５ｂとその上の同径の円錐形状部１５ａとからなる挿入栓１５が下方から挿入されて閉じられ、挿入栓１５が下方へ引き抜かれることによって開かれる。また、計量ホッパー２１の第２排出口２２は第２回動軸２３によって回動される蓋板２５が傾斜した状態で下方から当接されることによって閉じられ、蓋板２５が下方へ離脱されることにより開かれる。そして、図４を参照し、成膜材料ホッパー１１の第１排出口１２を開閉させる第１回動軸１３はエアシリンダ１６によって駆動され、図５を参照し、計量ホッパー２１の第２排出口２２を開閉させる第２回動軸２３はエアシリンダ２６によって駆動される。
【００１４】
上記の成膜材料ホッパー１１は真空蒸着装置を例えば２週間以上連続運転することができる量のＭｇＯペレットを収納することができる。そして、計量ホッパー２１は底部の第２排出口２２を閉じた状態で、上方の成膜材料ホッパー１１の第１排出口１２を開いて排出されるＭｇＯペレットを受けるが、受ける量は常に一定量とされる。すなわち、図２を参照して、計量ホッパー２１には所定の高さ位置において対向する側壁の一方の側壁に取り付けられた発光素子２７ａと、他方の側壁に取り付けられた受光素子２７ｂとからなる第１光センサ２７が設けられており、成膜材料ホッパー１１から受け入れるＭｇＯペレットの量が増大し、そのＭｇＯペレットによって第１光センサ２７の発光素子２７ａから受光素子２７ｂに至る光が遮断されるとその遮断を検出して成膜材料ホッパー１１の第１排出口１２が閉じられるようになっている。計量ホッパー２１に計量されるＭｇＯペレットの量は成膜室２０内の後述する回転円筒フィーダ４１への供給量に見合う量である。
【００１５】
計量ホッパー２１の第２排出口２２の直下に存在する漏斗状ホッパー３１は、計量ホッパー２１から排出されるＭｇＯペレットを散逸させることなく受けてそのまま成膜室２０内に設置されている回転円筒フィーダ４１へ導くためのホッパーであり、底部は開閉されることなく、底部に取り付けられた鉛直方向の排出管３２が上述したように成膜室２０へ挿入されている。
【００１６】
図６は上記の第１光センサ２７と、成膜材料ホッパー１１の第１排出口１２の開閉、および計量ホッパー２１の第２排出口２２の開閉によるＭｇＯペレットの排出、計量を概略的に示す部分省略斜視図である。すなわち、図６−Ａは成膜材料ホッパー１１の第１排出口１２が閉じられており、成膜材料ホッパー１１内にＭｇＯペレットが収容されており、計量用の第１光センサ２７が取り付けられている計量ホッパー２１の第２排出口２２は閉じられている状態、図６−Ｂは第１回動軸１３が第１開閉腕１４と挿入栓１５を下方へ回動させて成膜材料ホッパー１１の第１排出口１２を開いてＭｇＯペレットを下方の計量ホッパー２１へ排出している状態、図６−Ｃは計量ホッパー２１に収容されたＭｇＯペレットの表面レベルが高くなり、第１光センサ２７の発光素子２７ａから受光素子２７ｂに至る光線が遮断されたことにより、第１回動軸１３を逆方向へ回動させて成膜材料ホッパー１１の第１排出口１２へ挿入栓１５を挿入して閉じて、一定量のＭｇＯペレットを収容した後、第２回動軸２３が蓋板２５を下方へ回動させたことにより、成膜材料ホッパー１１内に計量された一定量のＭｇＯペレットが漏斗状ホッパー３１を経由して下方の成膜室２０における流入ガイド３０の上流端部へ排出されている状態を示す。
【００１７】
図７は成膜室２０の内部に設置されるリングハ−ス５０と共に示す回転円筒フィーダ４１を示す図であり、図７−Ａは部分省略した平面図、図７−Ｂは部分破断側面図である。図７−Ｂに示すように、回転円筒フィーダ４１は、軸心を傾斜して回転される円筒状容器４２の内周面にリボン状スクリュー４３を取り付けたものであり、円筒状容器４２の回転軸４４は軸受４５を介してブラケット４６に支持されている。円筒状容器４２の内容積は計量ホッパー２１内のＭｇＯペレット量よりも大とされている。そして、回転軸４４はモータ４７によって駆動され減速器４８によって減速されて回転する。上記の回転軸４４は水平面に対して角度５５度に傾斜されている。そして、図８に示すように、リボン状スクリュー４３が取り付けられている円筒状容器４２内のＭｇＯペレットは、回転される円筒状容器４２の内壁面の最も低くなる部分に沿って上方へ移送され、円筒状容器４２の上端縁の最も低くなる部分から送り出される。
【００１８】
なお、図示せずとも、回転軸４４の回転数をモニタリングしている第２光センサが回転軸４４に近接して設けられている。そして、回転軸４４の回転数によって回転円筒フィーダ４１からリングハース５０へのＭｇＯペレットの供給量が算出されており、供給量が所定の値に達すると、計量ホッパー２１の第２排出口２２を開けて、ＭｇＯペレットが漏斗状ホッパー３１を経て回転円筒フィーダ４１へ排出される。
【００１９】
更には、回転円筒フィーダ４１の下流側に近接して、回転円筒フィーダ４１の円筒状容器４２から送り出されるＭｇＯペレットを受けてリングハース５０に供給するための供給シュート４９が設けられている。すなわち、供給シュート４９の一端側は回転する円筒状容器４２の上端縁に囲うよう近接されており、他端側はリングハース５０の直上まで延在している。また、成膜材料供給室１０と回転円筒フィーダ４１とリングハース５０とを示す部分省略斜視図であり、本発明の実施の形態の成膜材料供給装置を示す図でもある図９を参照して、漏斗状ホッパー３１の底部の排出管３２が挿入される成膜室２０においては、排出管３２の直下に位置してＭｇＯペレットを回転円筒フィーダ４１へ導くための流入ガイド３０が設けられており、流入ガイド３０の下流端は回転する円筒状容器４２の上へ僅かの間隙をあけてかぶさるよう設置されている。また回転円筒フィーダ４１の下流側には上記の供給シュート４９が設置されている。
【００２０】
次に、前記と同様の成膜材料供給室１０からの成膜材料を中央のリングハース５０に供給する手段として用いられる電磁振動フィーダＦについて説明する。これは、図１０〜図１４に示すように樋状のトラフ３３の下方に基台３４が配設されているが、これと傾斜した一対の板ばね３５により結合され、トラフ３３はトラフ取付部材３６にボルトにより固定されている。この取付部材３６の下方には電磁コイル３７が上述の基台３４に固定されている。電磁コイル３７に交流を通電すると図１７を参照して固定コア３８と可動コア３９との間に交番磁気吸収力が発生し、一対の板ばね３５が傾斜配設されているためにトラフ３３は矢印α方向（図１２）に振動し、トラフ３３上のＭｇＯは矢印Ｐ方向（図１２）に搬送される。
【００２１】
図１５はコイル電流値とＭｇＯ搬送量の関係を示すものである。これは１０回測定した値の平均値より作成したもので、確度はかなり高いものである。コイル電流値を横軸にして、大きくしていくと、ＭｇＯ搬送量ｋg／ｈｒはほぼリニアに増大していることがわかる。これによりコイルに流す電流を、例えば可変抵抗の大きさを変えることにより、簡単にＭｇＯ搬送量を調節できることがわかる。これにより、両端部のリングハース５０に対しては成膜材料供給装置１０から供給されるのであるが、これらの供給量と等しくなるようにコイル電流値を調節すれば３個のリングハース５０にＭｇＯを均等に供給することができる。
【００２２】
図１８はＭｇＯペレット粒径Ｘ（ｍｍ）対スプラッシュ発生頻度（個／分）の関係を示すもので、電子銃の加速電圧は２０ｋｖ、蒸着速度3.6ｎｍ／ｓ、電子銃のエミッション電流２００ｍＡに対するグラフであるが、ＭｇＯ粒径Ｘが径０.８〜１.５ではスプラッシュ発生頻度が１.２回であるのに対して、ＭｇＯ粒径Ｘが径１〜３、２〜３、及び４〜５では０回である。従って図１９で示すようにトラフ３３に分級手段として金網（例えば、パンチングメタル）Ｓを張設し、その孔径を１ｍｍまたは１.５ｍｍ以下にしておけばそれ以下の粒径のＭｇＯを除くことができ、スプラッシュの発生を殆ど無くすことができる。
【００２３】
図１９において、５２は金網Ｓの孔から落ちたＭｇＯを回収するためのガイド筒である。この下方には粒径の小さいＭｇＯを収容するための受け箱５３が設けられている。
【００２４】
なお、図１９の金網Ｓを張設する代わりに、トラフ３３を材料の移送方向ｊに対し若干上向きにしておけば、公知の振動作用により粒子の小さいＭｇＯは移送される層の下方を徐々に占めるようになり、これらはトラフ３３の図において右端部に集まるので、右端に受け箱５３を設けるだけでよい。
【００２５】
図１７では電磁コイル３７のシール機構を図示しているが、コイル３７を囲むようにケーシング４０が基台３４にシールリングｇを介して取り付けられている。この基台３４に図示せずとも貫通孔を設け（勿論シールリングｇの内側に）電磁コイル３７に流す電流を供給するリード線が挿通されており、また、図示せずとも電磁コイル３７を冷却するための冷却パイプが同じ貫通孔を介して挿通される。
【００２６】
電磁コイル３７は公知のようにして製造されるが、その外部の絶縁材には、例えば絶縁を確かにするためにワニスが含浸される。真空中でこのコイル３７に電流を流すと、当然のことながら発熱し高い温度となる。これによってワニスその他の蒸発物によって真空雰囲気が汚染され、成膜室２０での膜形成に悪影響を及ぼす。従って、上述したようにコイル３７はケーシング４０によって真空雰囲気とは絶縁しておくことが望ましい。しかしコイル３７の構造によっては、あるいはコイルの発熱温度によっては、密閉するケーシング４０を省略して成膜室２０に露出させるようにしてもよい。
【００２７】
本発明の成膜材料供給装置の実施例は以上のように構成されているが、次にその作用を説明する。
【００２８】
図１〜図５を参照して、図２では成膜材料供給室１０の成膜材料ホッパー１１は底部の円筒形状の第１排出口１２へ円錐形状部１５ａ付き挿入栓１５が挿入されて第１排出口１２は閉じた状態にあり、成膜材料ホッパー１１の内部には真空蒸着装置の２週間以上の連続運転が可能である量のＭｇＯペレットが収容されており、成膜材料ホッパー１１内のＭｇＯペレットに挿入されているパイプ状ヒーター１７によって加熱状態にあり、かつ、成膜材料供給室１０は真空ポンプ９で真空排気されており、ＭｇＯペレットに含まれている水分は充分に取り除かれているものとする。また、計量ホッパー２１は第２排出口２２が閉じられ計量された所定量のＭｇＯペレットが収容されているものとする。更には図９を援用し真空排気されている成膜室２０においても、回転円筒フィーダ４１の円筒状容器４２内には一定量のＭｇＯペレットが収容されており、回転円筒フィーダ４１およびリングハース５０は起動されているものとする。
【００２９】
成膜室２０において、図７−Ｂを参照し、傾斜した回転軸４４によって回転される回転円筒フィーダ４１の円筒状容器４２内のＭｇＯペレットは、図８に示すように、リボン状スクリュー４３によって内周面を上昇し上端縁の最も低い部分から定量的に送り出され、供給シュート４９を経て低い回転速度（例えば１時間に１回転）で回転しているリングハース５０上へ均等に供給され、成膜室２０において基板にＭｇＯ蒸着膜を均等に形成させる。そして、第２光センサによって回転円筒フィーダ４１の回転軸４４の回転数がモニタリングされており、円筒状容器４２からリングハース５０への供給量が算出されているので、供給量が所定の値に達すると第２エアシリンダ２６が駆動され第２回動軸２３が回動されて蓋板２５が共に回動されて計量ホッパー２１の第２排出口２２を開くので、計量ホッパー２１からＭｇＯペレットが排出されて漏斗状ホッパー３１で受けられ、漏斗状ホッパー３１の底部の鉛直な排出管３２から成膜室２０の流入ガイド３０を経由して、回転円筒フィーダ４１の円筒状容器４２内へ排出される。円筒状容器４２の容積は計量ホッパー２１内のＭｇＯペレット量よりも大に製作されているので、円筒状容器４２から溢れ出すことはない。
【００３０】
計量ホッパー２１の蓋板２５が開けられて所定の時間が経過すると、第２エアシリンダ２６が起動されて第２回動軸２３が逆方向へ回動されて蓋板２５が計量ホッパー２１の第２排出口２２を閉じる。続いて図６も参照して、第１エアシリンダ１６が駆動されて第１回動軸１３が第１開閉腕１４と共に回動され、成膜材料ホッパー１１の第１排出口１２を閉じている挿入栓１５が第１排出口１２から引き抜かれて成膜材料ホッパー１１からＭｇＯペレットが自重によって計量ホッパー２１へ排出される。時間が経過すると共に計量ホッパー２１内に収容されるＭｇＯペレットの表面レベルは高くなるが、収容されたＭｇＯペレットによって第１光センサ２７の発光素子２７ａから受光素子２７ｂに至る光線の遮断が検出されると、上記の第１エアシリンダ１６が逆向きに駆動され第１排出口１２へ挿入栓１５が挿入されて成膜材料ホッパー１１の第１排出口１２が閉じられる。この時、挿入栓１５の円錐形状部１５ａの円錐面が円筒状の第１排出口１２の下端に当接して閉じられるが、第１排出口１２の下端と円錐形状部１５ａの円錐面との間にＭｇＯペレットのサイズより小さい距離をあけて挿入栓１５を停止させてもよい。このようにして、計量ホッパー２１内に所定量のＭｇＯペレットが収容される。以降は同様な作用が繰り返されて、成膜材料供給装置による基板ＧへのＭｇＯ膜の成膜が長期間に亘って連続的に行われる。
【００３１】
上記の挿入栓１５のほか、径を若干小さくした円柱形状部（図２の１５ｂに相当）と円錐形状部（図２の１５ａに相当）とし、その円柱形状部（図２の１５ｂに相当）の外周面と第１排出口１２の内面との隙間がＭｇＯペレットのサイズより小であるような挿入栓（図２の１５に相当）としてもよい。こうすることにより、ＭｇＯペレットは上記の隙間を落下しないので、第1排出口１２の下端と挿入栓（図２の１５に相当）が固定されている第１開閉腕１４の平板部１４ｐとの間にＭｇＯペレットが挟み込まれることはない。そのほか挿入栓１５の底面と同径の底面を有する円錐形状の挿入栓、または上記若干小径の挿入栓（図２の１５に相当）の底面と同径の底面を有する円錐形状の挿入栓も採用し得る。
【００３２】
また、本発明によれば３個並設されたリングハース５０のうち中央のリングハース５０には電磁振動フィーダＦからＭｇＯが供給されている。図１に示すように成膜すべき基板Ｇが並設方向に直角方向に移送されているのであるが、この両側の成膜材料供給室１０のように装置高さを大とすることなく、これらより低い高さで電磁振動フィーダＦを配設しているので、装置構造上は何ら問題となることなく、また図１５において説明したようにコイル電流値を例えば図１５と同様に0.4〜0.7Ａまで変化させるとＭｇＯ搬送量ｋｇ／ｈｒがほぼリニアに変化することが試験的に確認されている。特に図１５のグラフは１０回測定の平均値から測定したものであり、この確度はかなり高い。このグラフを制御装置の記憶装置に関数としてメモリすれば、この関係を利用して両側の成膜材料供給室１０からの供給量と等しくなるようにコイルの電流値を調整して中央のリングハース５０にも両側と同じ量で供給することができる。
【００３３】
以上、本発明の実施例について説明したが、勿論、本発明はこれらに限定されることなく、本発明の技術的思想に基いて種々の変形が可能である。
【００３４】
例えば以上の実施の形態においてはリングハース５０を３個並設するようにしたが、更に多数のリングハースを並設するようにしてもよい。また以上の実施の形態では３個のリングハースが適用され、中央のリングハース５０に対して電磁振動フィーダＦでＭｇＯを供給するようにしたが、３個以上の場合には両端のリングハースを除くリングハースに対して全て電磁振動フィーダＦで供給するようにしてもよい。
【００３５】
更に、両端のリングハース５０に対しても上述の回転円筒フィーダ４１代えて電磁振動フィーダＦで供給するようにしてもよい。また更に、電磁振動フィーダの最上流端においても、図１における両側の成膜材料供給室１０と同じ装置からＭｇＯを供給するようにしてもよい。勿論、これに代えて通常のホッパーからＭｇＯを電磁振動フィーダに供給するよにしてもよい。
【００３６】
図２０は、本発明の変形例を示すがこの場合には両側の回転円筒フィーダ４１は省略され、この代わりに電磁振動フィーダＦ１、Ｆ３、Ｆ４が排出口をリングハース５０に臨むように配設されている。両端の電磁振動フィーダＦ１、Ｆ４の上流側端部には上方に段差をもって同様な電磁振動フィーダＦ２、Ｆ５の下流側端部が位置するように配設される。勿論、電磁振動フィーダＦ２、Ｆ３、Ｆ５の上流側端部にはＭｇＯを収容するためのホッパー、または図１で示すような成膜材料供給室１０を設けるようにしてもよい。この場合には電磁振動フィーダの特性を十分に生かすことができる。成膜装置全体の高さを上述の実施の形態よりはるか低くすることできる。また図２０で示すように電磁振動フィーダの段差をもって直角または斜め方向の配設接続などにより限られた真空室空間を有効に用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【００３７】
【図１】本発明の第１の実施の形態による成膜装置の正面断面図。
【図２】同装置における成膜材料供給室の縦断面図。
【図３】本発明の第１の実施の形態における成膜材料供給装置の平面図。
【図４】図２における［４］−［４］線方向の矢視図。
【図５】図２における［５］−［５］線方向の矢視図。
【図６】第１光センサと成膜材料ホッパーの第１排出口の開閉及び計量ホッパー第２排出口の開閉によるＭｇＯペレットの移動、計量を概念的に示す断面図。
【図７】成膜室における回転円筒フィーダとリングハースを示す図であり、図７−Ａは部分省略平面図、図７−Ｂは部分破断側面図。
【図８】回転円筒フィーダの作用を示す断面図。
【図９】成膜材料供給室における３個のホッパーと成膜室における回転円筒フィーダとからなる成膜材料供給装置を概念的に示す部分省略斜視図である。
【図１０】本発明の実施の形態に適用される電磁振動フィーダの平面図。
【図１１】同側面図。
【図１２】図１０における［１２］−［１２］線方向の断面図。
【図１３】図１２における［１３］−［１３］線方向の断面図。
【図１４】同正面図。
【図１５】電磁振動フィーダにおけるコイル電流値とＭｇＯ搬送量との関係を示すグラフ。
【図１６】各段差を設けて３段の電磁振動フィーダを整列させた場合の側面図。
【図１７】同電磁振動フィーダのコイルの真空シールを説明する部分側面図。
【図１８】搬送されるＭｇＯの粒径とスプラッシュ発生頻度との関係を示すグラフ。
【図１９】トラフに金網を張設した場合を示す側面図。
【図２０】成膜装置の変形例を示す概略平面図。
【図２１】従来例の成膜装置の断面正面図。
【図２２】図２１においてリングハースを３個並設した場合を示す断面正面図。
【符号の説明】
【００３８】
１０・・・成膜材料供給室、１１・・・成膜材料ホッパー、１２・・・第１排出口、１３・・・第１回動軸、１４・・・第１開閉腕、１５・・・挿入栓、１６・・・第１エアシリンダ、１７・・パイプ状ヒーター、２０・・・成膜室、２１・・・計量ホッパー、２２・・・第２排出口、２３・・・第２回動軸、２５・・・蓋板、２６・・・第２エアシリンダ、２７・・・第１光センサ、３０・・・流入ガイド、３１・・・漏斗状ホッパー、３２・・・排出管、３３・・・トラフ、３４・・・基台、３５・・・板ばね、３７・・・コイル、４１・・・回転円筒フィーダ、４２・・・円筒状容器、４３・・・リボン状スクリュー、４４・・・回転軸、４７・・・モータ、４８・・・減速器、４９・・・供給シュート、５０・・・リングハ−ス、Ｆ・・・電磁振動フィーダ、Ｓ・・・金網

【特許請求の範囲】
【請求項１】
長期間の連続運転に耐える多量の成膜材料を収容する成膜材料供給室から供給される成膜材料を成膜室内のリングハース上で蒸発させて上方を移送される基板に膜を形成させる真空蒸着装置において、前記リングハースは前記移送される基板の幅方向に３個以上並設されていて、少なくとも両端のリングハースを除く中間のリングハースには、前記成膜材料の供給量を調節可能な電磁振動フィーダにより供給することを特徴とする真空蒸着装置の成膜材料供給装置。
【請求項２】
前記電磁振動フィーダは直線的なトラフとこれを駆動する電磁コイルとから成ることを特徴とする請求項１に記載の成膜材料供給装置。
【請求項３】
前記電磁振動フィーダには分級手段が設けられていることを特徴とする請求項２に記載の成膜材料供給装置。
【請求項４】
前記電磁振動フィーダの前記トラフ内には金網が張設されていることを特徴とする請求項３に記載の成膜材料供給装置。
【請求項５】
前記電磁コイルのコイル本体は密閉ケーシングにより前記電磁振動フィーダの基台に対し真空シールされて固定されており、前記基台には前記電磁コイルに電源を供給するための電気リード線が挿通されており、また前記電磁コイル本体を冷却するための冷却コイルの冷却媒体供給管及び排出管が大気側に導出されていることを特徴とする請求項２に記載の成膜材料供給装置。
【請求項６】
前記電磁コイル本体に流される電流の大きさを変えることにより成膜材料の搬送量を調節するようにしたことを特徴とする請求項２に記載の成膜材料供給装置。
【請求項７】
前記電磁振動フィーダは、各段差を設けて複数台の電磁振動フィーダ部より成ることを特徴とする請求項１に記載の成膜材料供給装置。
【請求項８】
長期間の連続運転に耐える多量の成膜材料を収容する成膜材料供給室から供給される成膜材料を成膜室内のリングハース上で蒸発させて上方を移送される基板に膜を形成させる真空蒸着装置において、前記成膜材料供給室内には成膜材料ホッパーと、前記成膜材料ホッパーから排出される一定量の成膜材料を受ける計量ホッパーと、前記計量ホッパーから排出される成膜材料を受けて下方へ排出する漏斗状ホッパーとが設けられ、前記成膜室には前記漏斗状ホッパーから排出される成膜材料を前記リングハースへ所定の供給速度で供給する定量移送手段が設けられて成り、前記成膜室内の移送される基板の幅方向に３個以上並設されるリングハースの少なくとも両端のリングハースを除く中間のリングハースへ成膜材料を供給する前記定量移送手段として電磁振動フィーダを用いることを特徴とする真空蒸着装置の成膜材料供給装置。

【図１】