接触クリーニング・ローラのクリーニング
接触クリーニング・ローラをクリーニングするための改善された方法がここに記載される。親液性及び親水性のマイクロファイバを含むクリーニング面を使用して、接触クリーニング・ローラをクリーニングするための改善された方法が記載される。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、接触クリーニング・ローラをクリーニングするための改善された方法に関する。より具体的には、本発明は、親液性及び親水性のマイクロファイバを含むクリーニング面を使用して、接触クリーニング・ローラをクリーニングするための改善された方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
電子構成要素の製造に際して基板表面をクリーニングするために、粘着ローラと連携する接触クリーニングが一般に用いられる。例えば、我々は国際公開第９９／２４１７８号、同第２００７／０３４２４４号、及び同第２００８／０４１０００号の各パンフレットを参照する。これらの文献は、参照することにより本明細書中に引用される。
【０００３】
接触クリーニング中、粘着ローラをエラストマ・クリーニング・ローラに接触させ、そしてデブリ（ｄｅｂｒｉｓ）、例えば小さな汚染性粒子を除去することにより、エラストマ・クリーニング・ローラを通常きれいなままに保つ。しかしながら、既存の問題は、粘着ローラがエラストマ・クリーニング・ローラからデブリを除去しはするものの、親液性堆積物、例えば油性物質（例えばグリース）がエラストマ・クリーニング・ローラ上に残ってしまうことである。エラストマ・クリーニング・ローラはまた、メンテナンスのために取り外されると、デブリ及び油性堆積物（例えばグリース）で汚染されるようになるおそれもある。
【０００４】
業界内の目下の処置は、イソ―プロパノール又は任意の他の好適な炭化水素溶剤中で飽和された布ワイプを使用して、親液性堆積物、例えば油性物質を除去することである。あるいは、ローラをクリーニングするために水を使用することを提唱する製造業者もいるが、しかし界面活性剤が使用されるのでなければ、水がグリースを除去することはない。この方法の大きな問題は、界面活性剤がエラストマ・クリーニング・ローラの表面上に、これが乾燥した後に残り、クリーニングされている表面に移り得ることである。これにより、製造された電子構成要素が汚染されたものとなり、結果として欠陥電子装置がもたらされるおそれがある。
【０００５】
さらなる問題点は、多くの接触クリーニング利用者が溶剤を使用することを好まないことである。それというのも溶剤は有害で引火性の高い物質であるからである。イソ―プロパノールのような多くの溶剤はまた、いくつかの国では使用禁止物質である。
【０００６】
本発明の少なくとも１つの態様の目的は、前述の問題点の少なくとも１つ又は２つ以上を取り除くか又は軽減することである。
【０００７】
本発明の少なくとも１つの態様の別の目的は、接触クリーニング・ローラをクリーニングするための改善された方法を提供することである。
【０００８】
本発明の少なくとも１つの態様の別の目的は、親液性及び親水性のマイクロファイバを含む布地を使用する、接触クリーニング・ローラをクリーニングするための改善された方法を提供することである。
【０００９】
本発明の少なくとも１つの態様のさらに別の目的は、接触クリーニング・ローラをクリーニングし、そしてデブリ、及び親液性堆積物、例えば油性物質（例えばグリース）を除去するための改善された方法を提供することである。
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の第１の態様によれば、汚染された接触クリーニング・ローラをクリーニングする方法であって、
親液性及び親水性のマイクロファイバを含むクリーニング面を用意し、
クリーニング面と親液性及び親水性のマイクロファイバとを、汚染された接触クリーニング・ローラに押し付け、
クリーニング面が、汚染された接触クリーニング・ローラから、油性汚染性物質及び汚染性粒子を除去することを有する、汚染された接触クリーニング・ローラをクリーニングする方法が提供される。
【００１１】
従って、本発明は、接触クリーニング・ローラの汚染された表面から炭化水素系物質、及び汚染性粒子、例えば遊離したデブリを除去するためにクリーニング面を使用することに関する。
【００１２】
クリーニング面は、任意の好適な材料、例えば多孔質（例えば微孔質）及び／又は可撓性の材料から形成されていてよい。材料は織布又は不織布であってよい。クリーニング面はマイクロファイバを基材とする材料、例えば布地から形成されていてよい。
【００１３】
典型的には、クリーニング面は複数の親液性及び疎液性のマイクロファイバを含んでいてよい。マイクロファイバは、それぞれ親液性又は疎液性の材料からファイバを製造することにより、親液性又は疎液性にさせられてよい。あるいは、ファイバは、親液性及び／又は疎液性の材料で含浸及び／又は被覆されたファイバを製造するために、親液性又は疎液性の材料中に浸漬されてもよい。
【００１４】
クリーニング面上でマイクロファイバを形成するファイバは、長さが約０．０１〜１００μｍ、約０．１〜１０μｍ、又は約５μｍのマイクロ・スケールの微細繊維であってよい。
【００１５】
親液性マイクロファイバは、炭化水素系物質（例えばグリース）のような油性汚染性物質、並びに遊離したデブリのような汚染性粒子を捕集及び／又は除去するために使用することができる。親液性ファイバは、油性汚染性物質を引き付け、ひいては、接触クリーニング・ローラの表面をクリーニングすることができる。例えば、親液性ファイバは、汚染された接触クリーニング・ローラからグリース傷を除去するために使用することができる。炭化水素系物質は、Ｃ10―Ｃ30炭化水素であってよい。エラストマ・クリーニング・ローラは加えて、メンテナンスのために取り外されたときに、デブリ及び油性堆積物（例えばグリース）で汚染されるようになるおそれがあり、本発明における上記方法は、この目的に著しく適している。親液性とは、炭化水素系物質、例えば油（例えばグリース）に対する強い親和性を有していることを意味する。
【００１６】
親液性マイクロファイバが、炭化水素系物質を、このような物質に対する強い親和性を用いて除去することによる化学作用を有するだけではなく、機械的な擦り取り作用をも提供するという点で二重機能をもたらす。従ってこの機械的な擦り取り作用も、接触クリーニング・ローラの汚染された表面からデブリを除去するために利用することができる。
【００１７】
疎液性マイクロファイバも、例えば接触クリーニング・ローラの汚染された表面からデブリを除去するための機械的な擦り取り作用を提供することにより、クリーニング過程を促進する。疎液性マイクロファイバは、炭化水素系物質以外の材料を引き付けるために使用されてよい。疎液性とは、炭化水素系物質、例えば油（例えばグリース）に対する強い親和性を有していないことを意味する。
【００１８】
クリーニング面（例えば布地）は、クリーニング過程を促進し得る水でわずかに湿らされてよい。
【００１９】
本発明における上記クリーニング面は、接触クリーニング・ローラから油性物質（例えばグリース）及びデブリ（例えば遊離した粒子）を除去するために特に有用であることが判っている。このことは、イソ―プロパノール又は任意の他の好適な炭化水素溶剤中で飽和された布ワイプを使用する現行のクリーニング法における問題点を克服する。界面活性剤も一般に使用されているが、しかし、界面活性剤はクリーニング・ローラの表面上に、これが乾燥した後に残り、クリーニングされている表面に移るおそれがある。このことは、製造された電子構成要素に問題を招くおそれがある。従って本発明は従来技術の問題点を克服し、そしてクリーニング・ローラをクリーニングするための迅速且つ容易な方法を提供した。
【００２０】
さらに、本発明の上記クリーニング面は、クリーニング・ローラ上の微細構造面をクリーニングするために有利に役立つ場合がある。
【００２１】
従って、クリーニング面は、微視的なサイズの汚染性粒子及び油性物質で汚染された接触クリーニング・ローラをクリーニングするために使用されてよい。例えば、微視的なサイズの粒子は、約１０ミクロン（１０，０００ｎｍ）未満；約５ミクロン（５，０００ｎｍ）未満；約１ミクロン（１，０００ｎｍ）未満；約０．１ミクロン（１００ｎｍ）未満；約０．０１ミクロン（１０ｎｍ）未満；又は０．００５ミクロン（５ｎｍ）未満のうちのいずれか１つ又はこれらの組み合わせである断面直径を有していてよい。あるいは、微視的なサイズの汚染性粒子は、約１ｎｍ〜約１０ミクロン（１０，０００ｎｍ）；約１０ｎｍ〜約１０ミクロン（１０，０００ｎｍ）；約１０ｎｍ〜約１ミクロン（１，０００ｎｍ）；約１０ｎｍ〜約０．１ミクロン（１００ｎｍ）；又は約１ｎｍ〜約０．０１ミクロン（１０ｎｍ）のうちのいずれか１つ又はこれらの組み合わせである断面直径を有していてもよい。
【００２２】
具体的には、本発明の上記クリーニングは、電子構成要素、例えばプラスチック電子装置、太陽光発電装置及びフラットパネル・ディスプレイを形成するための製造過程に使用されることになっている表面のクリーニングにおいて用いることができる。
【００２３】
本発明の第２の態様によれば、汚染された接触クリーニング・ローラをクリーニングする際の、親液性及び親水性のマイクロファイバを含むクリーニング面の使用法であって、
親液性及び親水性のマイクロファイバを含むクリーニング面を、汚染された接触クリーニング・ローラに押し付け、
クリーニング面が、汚染された接触クリーニング・ローラから、油性汚染性物質及び汚染性粒子を除去することを有する、親液性及び親水性のマイクロファイバを含むクリーニング面の使用法が提供される。
【００２４】
クリーニング面は、任意の好適な材料、例えば多孔質（例えば微孔質）及び／又は可撓性の材料から形成されていてよい。材料は織布又は不織布であってよい。クリーニング面はマイクロファイバを基材とする材料、例えば布地から形成されていてよい。
【００２５】
典型的には、クリーニング面は複数の親液性及び疎液性のマイクロファイバを含んでいてよい。マイクロファイバは、それぞれ親液性又は疎液性の材料からファイバを製造することにより、親液性又は疎液性にさせられてよい。あるいは、ファイバは、親液性及び／又は疎液性の材料で含浸及び／又は被覆されたファイバを製造するために、親液性又は疎液性の材料中に浸漬されてもよい。
【００２６】
クリーニング面上でマイクロファイバを形成するファイバは、長さが約０．０１〜１００μｍ、約０．１〜１０μｍ、又は約５μｍのマイクロ・スケールの微細繊維であってよい。
【００２７】
親液性マイクロファイバは、炭化水素系物質（例えばグリース）のような油性汚染性物質、並びに遊離したデブリのような汚染性粒子を捕集及び／又は除去するために使用することができる。親液性ファイバは、油性汚染性物質を引き付け、ひいては、接触クリーニング・ローラの表面をクリーニングすることができる。例えば、親液性ファイバは、汚染された接触クリーニング・ローラからグリース傷を除去するために使用することができる。炭化水素系物質は、Ｃ10―Ｃ30炭化水素であってよい。エラストマ・クリーニング・ローラは加えて、メンテナンスのために取り外されたときに、デブリ及び油性堆積物（例えばグリース）で汚染されるようになるおそれがあり、本発明における上記方法は、この目的に著しく適している。親液性とは、炭化水素系物質、例えば油（例えばグリース）に対する強い親和性を有していることを意味する。
【００２８】
親液性マイクロファイバが、炭化水素系物質を、このような物質に対する強い親和性を用いて除去することによる化学作用を有するだけではなく、機械的な擦り取り作用をも提供するという点で二重機能をもたらす。従ってこの機械的な擦り取り作用も、接触クリーニング・ローラの汚染された表面からデブリを除去するために利用することができる。
【００２９】
疎液性マイクロファイバも、例えば接触クリーニング・ローラの汚染された表面からデブリを除去するための機械的な擦り取り作用を提供することにより、クリーニング過程を促進する。疎液性マイクロファイバは、炭化水素系物質以外の材料を引き付けるために使用されてよい。疎液性とは、炭化水素系物質、例えば油（例えばグリース）に抗する強い親和性を有していることを意味する。
【００３０】
クリーニング面（例えば布地）は、クリーニング過程を促進し得る水でわずかに湿らされてよい。
【００３１】
本発明における上記クリーニング面は、接触クリーニング・ローラから油性物質（例えばグリース）及びデブリ（例えば遊離した粒子）を除去するために特に有用であることが判っている。このことは、イソ―プロパノール又は任意の他の好適な炭化水素溶剤中で飽和された布ワイプを使用する現行のクリーニング法における問題点を克服する。界面活性剤も一般に使用されているが、しかし、界面活性剤はクリーニング・ローラの表面上に、これが乾燥した後に残り、クリーニングされている表面に移るおそれがある。このことは、製造された電子構成要素に問題を招くおそれがある。従って本発明は従来技術の問題点を克服し、そしてクリーニング・ローラをクリーニングするための迅速且つ容易な方法を提供した。
【００３２】
さらに、本発明の上記クリーニング面は、クリーニング・ローラ上の微細構造面をクリーニングするために有利に役立つ場合がある。
【００３３】
従って、クリーニング面は、微視的なサイズの汚染性粒子及び油性物質で汚染された接触クリーニング・ローラをクリーニングするために使用されてよい。例えば、微視的なサイズの粒子は、約１０ミクロン（１０，０００ｎｍ）未満；約５ミクロン（５，０００ｎｍ）未満；約１ミクロン（１，０００ｎｍ）未満；約０．１ミクロン（１００ｎｍ）未満；約０．０１ミクロン（１０ｎｍ）未満；又は０．００５ミクロン（５ｎｍ）未満のうちのいずれか１つ又はこれらの組み合わせである断面直径を有していてよい。あるいは、微視的なサイズの汚染性粒子は、約１ｎｍ〜約１０ミクロン（１０，０００ｎｍ）；約１０ｎｍ〜約１０ミクロン（１０，０００ｎｍ）；約１０ｎｍ〜約１ミクロン（１，０００ｎｍ）；約１０ｎｍ〜約０．１ミクロン（１００ｎｍ）；又は約１ｎｍ〜約０．０１ミクロン（１０ｎｍ）のうちのいずれか１つ又はこれらの組み合わせである断面直径を有していてもよい。
【００３４】
具体的には、本発明の上記クリーニングは、電子構成要素、例えばプラスチック電子装置、太陽光発電装置及びフラットパネル・ディスプレイを形成するための製造過程に使用されることになっている表面のクリーニングにおいて用いることができる。
【００３５】
添付の図面を参照しながら、本発明の実施形態を一例として次に説明する。
【図面の簡単な説明】
【００３６】
【図１】表面クリーニング装置を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００３７】
図１は、全体的に符号１００で示す、従来技術による表面クリーニング装置を示す図である。図１に示されているように、表面クリーニング装置１００は、接触クリーニング・ローラ１１２と粘着ローラ１１４とを含んでいる。接触クリーニング・ローラ１１２は、汚染された物質を基板１１０から捕集して除去する。押し付け手段（図示せず）が基板１１０を接触クリーニング・ローラ１１２に押し付ける。図１に示されているように、接触クリーニング・ローラ１１２は、粘着ローラ１４４とは逆回転する。粘着ローラは接触クリーニング・ローラ１１２上に形成された、汚染された粒子を除去する。この過程中、接触クリーニング・ローラ１１２上に、炭化水素系物質、並びに汚染性粒子、例えば遊離したデブリを移すことができる。接触クリーニング・ローラは加えて、メンテナンスのために取り外されたときに、デブリ及び油性堆積物（例えばグリース）で汚染されるようになるおそれがあり、本発明における上記方法は、この物質をクリーニングするのに著しく適している。
【００３８】
基板１１０の符号「Ａ」によって示された領域はクリーニングされておらず、符号「Ｂ」によって示された領域はクリーニング済みであり、次いで電子構成要素、例えばプラスチック電子装置、太陽光発電装置及びフラットパネル・ディスプレイの製造に際して使用することができる。
【００３９】
本発明は、汚染された接触クリーニング・ローラをクリーニングする方法に関する。汚染された接触クリーニング・ローラをクリーニング面に押し付ける（例えばワイピングする）ことができ、このクリーニング面は、汚染された接触クリーニング・ローラから親液性物質を除去する。本発明は従って、接触クリーニング・ローラの汚染された表面から親液性物質を除去するために、クリーニング面を使用することに関する。
【００４０】
クリーニング面は、多孔質（例えば微孔質）及び／又は可撓性の材料から形成されている。材料は織布又は不織布であってよい。クリーニング面はマイクロファイバを基材とする材料、例えば布地から形成されている。
【００４１】
クリーニング面は複数の親液性及び疎液性のマイクロファイバを含んでいる。親液性ファイバは、炭化水素系物質のような油性汚染性物質を捕集及び／又は除去するために使用される。例えば、親液性ファイバは、汚染された接触クリーニング・ローラからグリース傷を除去するために使用される。
【００４２】
親液性マイクロファイバは、炭化水素系物質を、このような物質に対する強い親和性を用いて除去することによる化学作用を有するだけではなく、機械的な擦り取り作用をも提供するという点で二重機能をもたらす。この機械的な擦り取り作用は、接触クリーニング・ローラの汚染された表面から、遊離したデブリを除去するために利用される。
【００４３】
疎液性マイクロファイバも、例えば接触クリーニング・ローラの汚染された表面からデブリを除去するための機械的な擦り取り作用を提供することにより、クリーニング過程を促進する。
【００４４】
例えば布地から形成されたクリーニング面は、クリーニング過程を促進する水でわずかに湿らされてよい。
【００４５】
クリーニング面は、接触クリーニング・ローラから油性物質（例えばグリース）及びデブリ（例えば遊離した粒子）を除去するために特に有用であることが判っている。
【００４６】
さらに、クリーニング面は、クリーニング・ローラ上の微細構造面をクリーニングするために有利に役立つ。
【００４７】
従って、本発明の上記クリーニング面は、微視的なサイズの粒子及び油性物質で汚染された接触クリーニング・ローラをクリーニングする上で有用である。例えば、微視的なサイズの粒子は、約１０ミクロン（１０，０００ｎｍ）未満；約５ミクロン（５，０００ｎｍ）未満；約１ミクロン（１，０００ｎｍ）未満；約０．１ミクロン（１００ｎｍ）未満；約０．０１ミクロン（１０ｎｍ）未満；又は０．００５ミクロン（５ｎｍ）未満のうちのいずれか１つ又はこれらの組み合わせである断面直径を有している。あるいは、微視的なサイズの汚染性粒子は、約１ｎｍ〜約１０ミクロン（１０，０００ｎｍ）；約１０ｎｍ〜約１０ミクロン（１０，０００ｎｍ）；約１０ｎｍ〜約１ミクロン（１，０００ｎｍ）；約１０ｎｍ〜約０．１ミクロン（１００ｎｍ）；又は約１ｎｍ〜約０．０１ミクロン（１０ｎｍ）のうちのいずれか１つ又はこれらの組み合わせである断面直径を有している。
【００４８】
本発明の具体的な実施形態を上で説明してきたが、言うまでもなく、記載した実施形態を逸脱したものも本発明の範囲に含まれることがある。例えば、汚染された接触クリーニング・ローラをクリーニングするために、好適なものであればいずれのタイプのクリーニング面を使用してもよい。汚染は、炭化水素系物質及び／又はデブリのいずれかのタイプによって引き起こされ得る。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、接触クリーニング・ローラをクリーニングするための改善された方法に関する。より具体的には、本発明は、親液性及び親水性のマイクロファイバを含むクリーニング面を使用して、接触クリーニング・ローラをクリーニングするための改善された方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
電子構成要素の製造に際して基板表面をクリーニングするために、粘着ローラと連携する接触クリーニングが一般に用いられる。例えば、我々は国際公開第９９／２４１７８号、同第２００７／０３４２４４号、及び同第２００８／０４１０００号の各パンフレットを参照する。これらの文献は、参照することにより本明細書中に引用される。
【０００３】
接触クリーニング中、粘着ローラをエラストマ・クリーニング・ローラに接触させ、そしてデブリ（ｄｅｂｒｉｓ）、例えば小さな汚染性粒子を除去することにより、エラストマ・クリーニング・ローラを通常きれいなままに保つ。しかしながら、既存の問題は、粘着ローラがエラストマ・クリーニング・ローラからデブリを除去しはするものの、親液性堆積物、例えば油性物質（例えばグリース）がエラストマ・クリーニング・ローラ上に残ってしまうことである。エラストマ・クリーニング・ローラはまた、メンテナンスのために取り外されると、デブリ及び油性堆積物（例えばグリース）で汚染されるようになるおそれもある。
【０００４】
業界内の目下の処置は、イソ―プロパノール又は任意の他の好適な炭化水素溶剤中で飽和された布ワイプを使用して、親液性堆積物、例えば油性物質を除去することである。あるいは、ローラをクリーニングするために水を使用することを提唱する製造業者もいるが、しかし界面活性剤が使用されるのでなければ、水がグリースを除去することはない。この方法の大きな問題は、界面活性剤がエラストマ・クリーニング・ローラの表面上に、これが乾燥した後に残り、クリーニングされている表面に移り得ることである。これにより、製造された電子構成要素が汚染されたものとなり、結果として欠陥電子装置がもたらされるおそれがある。
【０００５】
さらなる問題点は、多くの接触クリーニング利用者が溶剤を使用することを好まないことである。それというのも溶剤は有害で引火性の高い物質であるからである。イソ―プロパノールのような多くの溶剤はまた、いくつかの国では使用禁止物質である。
【０００６】
本発明の少なくとも１つの態様の目的は、前述の問題点の少なくとも１つ又は２つ以上を取り除くか又は軽減することである。
【０００７】
本発明の少なくとも１つの態様の別の目的は、接触クリーニング・ローラをクリーニングするための改善された方法を提供することである。
【０００８】
本発明の少なくとも１つの態様の別の目的は、親液性及び親水性のマイクロファイバを含む布地を使用する、接触クリーニング・ローラをクリーニングするための改善された方法を提供することである。
【０００９】
本発明の少なくとも１つの態様のさらに別の目的は、接触クリーニング・ローラをクリーニングし、そしてデブリ、及び親液性堆積物、例えば油性物質（例えばグリース）を除去するための改善された方法を提供することである。
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の第１の態様によれば、汚染された接触クリーニング・ローラをクリーニングする方法であって、
親液性及び親水性のマイクロファイバを含むクリーニング面を用意し、
クリーニング面と親液性及び親水性のマイクロファイバとを、汚染された接触クリーニング・ローラに押し付け、
クリーニング面が、汚染された接触クリーニング・ローラから、油性汚染性物質及び汚染性粒子を除去することを有する、汚染された接触クリーニング・ローラをクリーニングする方法が提供される。
【００１１】
従って、本発明は、接触クリーニング・ローラの汚染された表面から炭化水素系物質、及び汚染性粒子、例えば遊離したデブリを除去するためにクリーニング面を使用することに関する。
【００１２】
クリーニング面は、任意の好適な材料、例えば多孔質（例えば微孔質）及び／又は可撓性の材料から形成されていてよい。材料は織布又は不織布であってよい。クリーニング面はマイクロファイバを基材とする材料、例えば布地から形成されていてよい。
【００１３】
典型的には、クリーニング面は複数の親液性及び疎液性のマイクロファイバを含んでいてよい。マイクロファイバは、それぞれ親液性又は疎液性の材料からファイバを製造することにより、親液性又は疎液性にさせられてよい。あるいは、ファイバは、親液性及び／又は疎液性の材料で含浸及び／又は被覆されたファイバを製造するために、親液性又は疎液性の材料中に浸漬されてもよい。
【００１４】
クリーニング面上でマイクロファイバを形成するファイバは、長さが約０．０１〜１００μｍ、約０．１〜１０μｍ、又は約５μｍのマイクロ・スケールの微細繊維であってよい。
【００１５】
親液性マイクロファイバは、炭化水素系物質（例えばグリース）のような油性汚染性物質、並びに遊離したデブリのような汚染性粒子を捕集及び／又は除去するために使用することができる。親液性ファイバは、油性汚染性物質を引き付け、ひいては、接触クリーニング・ローラの表面をクリーニングすることができる。例えば、親液性ファイバは、汚染された接触クリーニング・ローラからグリース傷を除去するために使用することができる。炭化水素系物質は、Ｃ10―Ｃ30炭化水素であってよい。エラストマ・クリーニング・ローラは加えて、メンテナンスのために取り外されたときに、デブリ及び油性堆積物（例えばグリース）で汚染されるようになるおそれがあり、本発明における上記方法は、この目的に著しく適している。親液性とは、炭化水素系物質、例えば油（例えばグリース）に対する強い親和性を有していることを意味する。
【００１６】
親液性マイクロファイバが、炭化水素系物質を、このような物質に対する強い親和性を用いて除去することによる化学作用を有するだけではなく、機械的な擦り取り作用をも提供するという点で二重機能をもたらす。従ってこの機械的な擦り取り作用も、接触クリーニング・ローラの汚染された表面からデブリを除去するために利用することができる。
【００１７】
疎液性マイクロファイバも、例えば接触クリーニング・ローラの汚染された表面からデブリを除去するための機械的な擦り取り作用を提供することにより、クリーニング過程を促進する。疎液性マイクロファイバは、炭化水素系物質以外の材料を引き付けるために使用されてよい。疎液性とは、炭化水素系物質、例えば油（例えばグリース）に対する強い親和性を有していないことを意味する。
【００１８】
クリーニング面（例えば布地）は、クリーニング過程を促進し得る水でわずかに湿らされてよい。
【００１９】
本発明における上記クリーニング面は、接触クリーニング・ローラから油性物質（例えばグリース）及びデブリ（例えば遊離した粒子）を除去するために特に有用であることが判っている。このことは、イソ―プロパノール又は任意の他の好適な炭化水素溶剤中で飽和された布ワイプを使用する現行のクリーニング法における問題点を克服する。界面活性剤も一般に使用されているが、しかし、界面活性剤はクリーニング・ローラの表面上に、これが乾燥した後に残り、クリーニングされている表面に移るおそれがある。このことは、製造された電子構成要素に問題を招くおそれがある。従って本発明は従来技術の問題点を克服し、そしてクリーニング・ローラをクリーニングするための迅速且つ容易な方法を提供した。
【００２０】
さらに、本発明の上記クリーニング面は、クリーニング・ローラ上の微細構造面をクリーニングするために有利に役立つ場合がある。
【００２１】
従って、クリーニング面は、微視的なサイズの汚染性粒子及び油性物質で汚染された接触クリーニング・ローラをクリーニングするために使用されてよい。例えば、微視的なサイズの粒子は、約１０ミクロン（１０，０００ｎｍ）未満；約５ミクロン（５，０００ｎｍ）未満；約１ミクロン（１，０００ｎｍ）未満；約０．１ミクロン（１００ｎｍ）未満；約０．０１ミクロン（１０ｎｍ）未満；又は０．００５ミクロン（５ｎｍ）未満のうちのいずれか１つ又はこれらの組み合わせである断面直径を有していてよい。あるいは、微視的なサイズの汚染性粒子は、約１ｎｍ〜約１０ミクロン（１０，０００ｎｍ）；約１０ｎｍ〜約１０ミクロン（１０，０００ｎｍ）；約１０ｎｍ〜約１ミクロン（１，０００ｎｍ）；約１０ｎｍ〜約０．１ミクロン（１００ｎｍ）；又は約１ｎｍ〜約０．０１ミクロン（１０ｎｍ）のうちのいずれか１つ又はこれらの組み合わせである断面直径を有していてもよい。
【００２２】
具体的には、本発明の上記クリーニングは、電子構成要素、例えばプラスチック電子装置、太陽光発電装置及びフラットパネル・ディスプレイを形成するための製造過程に使用されることになっている表面のクリーニングにおいて用いることができる。
【００２３】
本発明の第２の態様によれば、汚染された接触クリーニング・ローラをクリーニングする際の、親液性及び親水性のマイクロファイバを含むクリーニング面の使用法であって、
親液性及び親水性のマイクロファイバを含むクリーニング面を、汚染された接触クリーニング・ローラに押し付け、
クリーニング面が、汚染された接触クリーニング・ローラから、油性汚染性物質及び汚染性粒子を除去することを有する、親液性及び親水性のマイクロファイバを含むクリーニング面の使用法が提供される。
【００２４】
クリーニング面は、任意の好適な材料、例えば多孔質（例えば微孔質）及び／又は可撓性の材料から形成されていてよい。材料は織布又は不織布であってよい。クリーニング面はマイクロファイバを基材とする材料、例えば布地から形成されていてよい。
【００２５】
典型的には、クリーニング面は複数の親液性及び疎液性のマイクロファイバを含んでいてよい。マイクロファイバは、それぞれ親液性又は疎液性の材料からファイバを製造することにより、親液性又は疎液性にさせられてよい。あるいは、ファイバは、親液性及び／又は疎液性の材料で含浸及び／又は被覆されたファイバを製造するために、親液性又は疎液性の材料中に浸漬されてもよい。
【００２６】
クリーニング面上でマイクロファイバを形成するファイバは、長さが約０．０１〜１００μｍ、約０．１〜１０μｍ、又は約５μｍのマイクロ・スケールの微細繊維であってよい。
【００２７】
親液性マイクロファイバは、炭化水素系物質（例えばグリース）のような油性汚染性物質、並びに遊離したデブリのような汚染性粒子を捕集及び／又は除去するために使用することができる。親液性ファイバは、油性汚染性物質を引き付け、ひいては、接触クリーニング・ローラの表面をクリーニングすることができる。例えば、親液性ファイバは、汚染された接触クリーニング・ローラからグリース傷を除去するために使用することができる。炭化水素系物質は、Ｃ10―Ｃ30炭化水素であってよい。エラストマ・クリーニング・ローラは加えて、メンテナンスのために取り外されたときに、デブリ及び油性堆積物（例えばグリース）で汚染されるようになるおそれがあり、本発明における上記方法は、この目的に著しく適している。親液性とは、炭化水素系物質、例えば油（例えばグリース）に対する強い親和性を有していることを意味する。
【００２８】
親液性マイクロファイバが、炭化水素系物質を、このような物質に対する強い親和性を用いて除去することによる化学作用を有するだけではなく、機械的な擦り取り作用をも提供するという点で二重機能をもたらす。従ってこの機械的な擦り取り作用も、接触クリーニング・ローラの汚染された表面からデブリを除去するために利用することができる。
【００２９】
疎液性マイクロファイバも、例えば接触クリーニング・ローラの汚染された表面からデブリを除去するための機械的な擦り取り作用を提供することにより、クリーニング過程を促進する。疎液性マイクロファイバは、炭化水素系物質以外の材料を引き付けるために使用されてよい。疎液性とは、炭化水素系物質、例えば油（例えばグリース）に抗する強い親和性を有していることを意味する。
【００３０】
クリーニング面（例えば布地）は、クリーニング過程を促進し得る水でわずかに湿らされてよい。
【００３１】
本発明における上記クリーニング面は、接触クリーニング・ローラから油性物質（例えばグリース）及びデブリ（例えば遊離した粒子）を除去するために特に有用であることが判っている。このことは、イソ―プロパノール又は任意の他の好適な炭化水素溶剤中で飽和された布ワイプを使用する現行のクリーニング法における問題点を克服する。界面活性剤も一般に使用されているが、しかし、界面活性剤はクリーニング・ローラの表面上に、これが乾燥した後に残り、クリーニングされている表面に移るおそれがある。このことは、製造された電子構成要素に問題を招くおそれがある。従って本発明は従来技術の問題点を克服し、そしてクリーニング・ローラをクリーニングするための迅速且つ容易な方法を提供した。
【００３２】
さらに、本発明の上記クリーニング面は、クリーニング・ローラ上の微細構造面をクリーニングするために有利に役立つ場合がある。
【００３３】
従って、クリーニング面は、微視的なサイズの汚染性粒子及び油性物質で汚染された接触クリーニング・ローラをクリーニングするために使用されてよい。例えば、微視的なサイズの粒子は、約１０ミクロン（１０，０００ｎｍ）未満；約５ミクロン（５，０００ｎｍ）未満；約１ミクロン（１，０００ｎｍ）未満；約０．１ミクロン（１００ｎｍ）未満；約０．０１ミクロン（１０ｎｍ）未満；又は０．００５ミクロン（５ｎｍ）未満のうちのいずれか１つ又はこれらの組み合わせである断面直径を有していてよい。あるいは、微視的なサイズの汚染性粒子は、約１ｎｍ〜約１０ミクロン（１０，０００ｎｍ）；約１０ｎｍ〜約１０ミクロン（１０，０００ｎｍ）；約１０ｎｍ〜約１ミクロン（１，０００ｎｍ）；約１０ｎｍ〜約０．１ミクロン（１００ｎｍ）；又は約１ｎｍ〜約０．０１ミクロン（１０ｎｍ）のうちのいずれか１つ又はこれらの組み合わせである断面直径を有していてもよい。
【００３４】
具体的には、本発明の上記クリーニングは、電子構成要素、例えばプラスチック電子装置、太陽光発電装置及びフラットパネル・ディスプレイを形成するための製造過程に使用されることになっている表面のクリーニングにおいて用いることができる。
【００３５】
添付の図面を参照しながら、本発明の実施形態を一例として次に説明する。
【図面の簡単な説明】
【００３６】
【図１】表面クリーニング装置を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００３７】
図１は、全体的に符号１００で示す、従来技術による表面クリーニング装置を示す図である。図１に示されているように、表面クリーニング装置１００は、接触クリーニング・ローラ１１２と粘着ローラ１１４とを含んでいる。接触クリーニング・ローラ１１２は、汚染された物質を基板１１０から捕集して除去する。押し付け手段（図示せず）が基板１１０を接触クリーニング・ローラ１１２に押し付ける。図１に示されているように、接触クリーニング・ローラ１１２は、粘着ローラ１４４とは逆回転する。粘着ローラは接触クリーニング・ローラ１１２上に形成された、汚染された粒子を除去する。この過程中、接触クリーニング・ローラ１１２上に、炭化水素系物質、並びに汚染性粒子、例えば遊離したデブリを移すことができる。接触クリーニング・ローラは加えて、メンテナンスのために取り外されたときに、デブリ及び油性堆積物（例えばグリース）で汚染されるようになるおそれがあり、本発明における上記方法は、この物質をクリーニングするのに著しく適している。
【００３８】
基板１１０の符号「Ａ」によって示された領域はクリーニングされておらず、符号「Ｂ」によって示された領域はクリーニング済みであり、次いで電子構成要素、例えばプラスチック電子装置、太陽光発電装置及びフラットパネル・ディスプレイの製造に際して使用することができる。
【００３９】
本発明は、汚染された接触クリーニング・ローラをクリーニングする方法に関する。汚染された接触クリーニング・ローラをクリーニング面に押し付ける（例えばワイピングする）ことができ、このクリーニング面は、汚染された接触クリーニング・ローラから親液性物質を除去する。本発明は従って、接触クリーニング・ローラの汚染された表面から親液性物質を除去するために、クリーニング面を使用することに関する。
【００４０】
クリーニング面は、多孔質（例えば微孔質）及び／又は可撓性の材料から形成されている。材料は織布又は不織布であってよい。クリーニング面はマイクロファイバを基材とする材料、例えば布地から形成されている。
【００４１】
クリーニング面は複数の親液性及び疎液性のマイクロファイバを含んでいる。親液性ファイバは、炭化水素系物質のような油性汚染性物質を捕集及び／又は除去するために使用される。例えば、親液性ファイバは、汚染された接触クリーニング・ローラからグリース傷を除去するために使用される。
【００４２】
親液性マイクロファイバは、炭化水素系物質を、このような物質に対する強い親和性を用いて除去することによる化学作用を有するだけではなく、機械的な擦り取り作用をも提供するという点で二重機能をもたらす。この機械的な擦り取り作用は、接触クリーニング・ローラの汚染された表面から、遊離したデブリを除去するために利用される。
【００４３】
疎液性マイクロファイバも、例えば接触クリーニング・ローラの汚染された表面からデブリを除去するための機械的な擦り取り作用を提供することにより、クリーニング過程を促進する。
【００４４】
例えば布地から形成されたクリーニング面は、クリーニング過程を促進する水でわずかに湿らされてよい。
【００４５】
クリーニング面は、接触クリーニング・ローラから油性物質（例えばグリース）及びデブリ（例えば遊離した粒子）を除去するために特に有用であることが判っている。
【００４６】
さらに、クリーニング面は、クリーニング・ローラ上の微細構造面をクリーニングするために有利に役立つ。
【００４７】
従って、本発明の上記クリーニング面は、微視的なサイズの粒子及び油性物質で汚染された接触クリーニング・ローラをクリーニングする上で有用である。例えば、微視的なサイズの粒子は、約１０ミクロン（１０，０００ｎｍ）未満；約５ミクロン（５，０００ｎｍ）未満；約１ミクロン（１，０００ｎｍ）未満；約０．１ミクロン（１００ｎｍ）未満；約０．０１ミクロン（１０ｎｍ）未満；又は０．００５ミクロン（５ｎｍ）未満のうちのいずれか１つ又はこれらの組み合わせである断面直径を有している。あるいは、微視的なサイズの汚染性粒子は、約１ｎｍ〜約１０ミクロン（１０，０００ｎｍ）；約１０ｎｍ〜約１０ミクロン（１０，０００ｎｍ）；約１０ｎｍ〜約１ミクロン（１，０００ｎｍ）；約１０ｎｍ〜約０．１ミクロン（１００ｎｍ）；又は約１ｎｍ〜約０．０１ミクロン（１０ｎｍ）のうちのいずれか１つ又はこれらの組み合わせである断面直径を有している。
【００４８】
本発明の具体的な実施形態を上で説明してきたが、言うまでもなく、記載した実施形態を逸脱したものも本発明の範囲に含まれることがある。例えば、汚染された接触クリーニング・ローラをクリーニングするために、好適なものであればいずれのタイプのクリーニング面を使用してもよい。汚染は、炭化水素系物質及び／又はデブリのいずれかのタイプによって引き起こされ得る。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
汚染された接触クリーニング・ローラをクリーニングする方法であって、
親液性及び親水性のマイクロファイバを含むクリーニング面を用意し、
前記クリーニング面と前記親液性及び親水性のマイクロファイバとを、前記汚染された接触クリーニング・ローラに押し付け、
前記クリーニング面が、前記汚染された接触クリーニング・ローラから、油性汚染性物質及び汚染性粒子を除去することを有する、汚染された接触クリーニング・ローラをクリーニングする方法。
【請求項２】
前記クリーニング面は、多孔質（例えば微孔質）又は可撓性の材料から形成されている、請求項１に記載の汚染された接触クリーニング・ローラをクリーニングする方法。
【請求項３】
前記クリーニング面は、織布又は不織布から形成されている、請求項１又は請求項２に記載の汚染された接触クリーニング・ローラをクリーニングする方法。
【請求項４】
前記クリーニング面は、マイクロファイバを基材とする布地である、請求項１から請求項３のいずれか一つの請求項に記載の汚染された接触クリーニング・ローラをクリーニングする方法。
【請求項５】
前記クリーニング面は、複数の親液性及び疎液性のマイクロファイバを含む、請求項１から請求項４のいずれか一つの請求項に記載の汚染された接触クリーニング・ローラをクリーニングする方法。
【請求項６】
前記マイクロファイバは、それぞれ親液性又は疎液性の材料からファイバを製造することにより、親液性又は疎液性にさせられる、請求項１から請求項５のいずれか一つの請求項に記載の汚染された接触クリーニング・ローラをクリーニングする方法。
【請求項７】
前記ファイバは、親液性及び疎液性の少なくともいずれか一方の材料で含浸及び被覆の少なくともいずれか一方がなされたファイバを製造するために、親液性又は疎液性の材料中に浸漬される、請求項１から請求項６のいずれか一つの請求項に記載の汚染された接触クリーニング・ローラをクリーニングする方法。
【請求項８】
前記クリーニング面上のマイクロファイバの長さは、約０．０１〜１００μｍ、約０．１〜１０μｍ、又は約５μｍのマイクロ・スケールの微細繊維である、請求項１から請求項７のいずれか一つの請求項に記載の汚染された接触クリーニング・ローラをクリーニングする方法。
【請求項９】
親液性マイクロファイバは、炭化水素系物質（例えばグリース）のような油性汚染性物質、並びに遊離したデブリのような汚染性粒子を捕集及び除去の少なくともいずれか一方をするために使用される、請求項１から請求項８のいずれか一つの請求項に記載の汚染された接触クリーニング・ローラをクリーニングする方法。
【請求項１０】
前記親液性マイクロファイバは、油性汚染性物質を引き付け、ひいては、前記接触クリーニング・ローラの表面をクリーニングする、請求項１から請求項９のいずれか一つの請求項に記載の汚染された接触クリーニング・ローラをクリーニングする方法。
【請求項１１】
前記親液性マイクロファイバは、前記汚染された接触クリーニング・ローラからグリース傷を除去するために使用される、請求項１から請求項１０のいずれか一つの請求項に記載の汚染された接触クリーニング・ローラをクリーニングする方法。
【請求項１２】
前記親液性マイクロファイバは、炭化水素系物質を、このような物質に対する強い親和性を用いて除去することによる化学作用を有するだけではなく、機械的な擦り取り作用をも提供するという点で二重機能をもたらす、請求項１から請求項１１のいずれか一つの請求項に記載の汚染された接触クリーニング・ローラをクリーニングする方法。
【請求項１３】
前記疎液性マイクロファイバはまた、前記接触クリーニング・ローラの汚染された表面からデブリを除去するための機械的な擦り取り作用を提供することにより、クリーニング過程を促進する、請求項１から請求項１２のいずれか一つの請求項に記載の汚染された接触クリーニング・ローラをクリーニングする方法。
【請求項１４】
前記疎液性マイクロファイバは、炭化水素系物質以外の材料を引き付けるために使用される、請求項１から請求項１３のいずれか一つの請求項に記載の汚染された接触クリーニング・ローラをクリーニングする方法。
【請求項１５】
前記クリーニング面は、クリーニング過程を促進するために、水でわずかに湿らされる、請求項１から請求項１４のいずれか一つの請求項に記載の汚染された接触クリーニング・ローラをクリーニングする方法。
【請求項１６】
前記クリーニング面は、クリーニング・ローラ上の微細構造面をクリーニングするために有用である、請求項１から請求項１５のいずれか一つの請求項に記載の汚染された接触クリーニング・ローラをクリーニングする方法。
【請求項１７】
前記クリーニング面は、約１０ミクロン（１０，０００ｎｍ）未満；約５ミクロン（５，０００ｎｍ）未満；約１ミクロン（１，０００ｎｍ）未満；約０．１ミクロン（１００ｎｍ）未満；約０．０１ミクロン（１０ｎｍ）未満；又は０．００５ミクロン（５ｎｍ）未満のうちのいずれか１つ又はこれらの組み合わせである断面直径を有する、微視的なサイズの汚染性粒子で汚染された接触クリーニング・ローラをクリーニングするために使用される、請求項１から請求項１６のいずれか一つの請求項に記載の汚染された接触クリーニング・ローラをクリーニングする方法。
【請求項１８】
前記クリーニング面は、約１ｎｍ〜約１０ミクロン（１０，０００ｎｍ）；約１０ｎｍ〜約１０ミクロン（１０，０００ｎｍ）；約１０ｎｍ〜約１ミクロン（１，０００ｎｍ）；約１０ｎｍ〜約０．１ミクロン（１００ｎｍ）；又は約１ｎｍ〜約０．０１ミクロン（１０ｎｍ）のうちのいずれか１つ又はこれらの組み合わせである断面直径を有する、微視的なサイズの汚染性粒子で汚染された接触クリーニング・ローラをクリーニングするために使用される、請求項１から請求項１７のいずれか一つの請求項に記載の汚染された接触クリーニング・ローラをクリーニングする方法。
【請求項１９】
汚染された接触クリーニング・ローラをクリーニングする際の、親液性及び親水性のマイクロファイバを含むクリーニング面の使用法であって、
前記親液性及び親水性のマイクロファイバを含む前記クリーニング面を、前記汚染された接触クリーニング・ローラに押し付け、
前記クリーニング面が、前記汚染された接触クリーニング・ローラから、油性汚染性物質及び汚染性粒子を除去することを有する、親液性及び親水性のマイクロファイバを含むクリーニング面の使用法。
【請求項１】
汚染された接触クリーニング・ローラをクリーニングする方法であって、
親液性及び親水性のマイクロファイバを含むクリーニング面を用意し、
前記クリーニング面と前記親液性及び親水性のマイクロファイバとを、前記汚染された接触クリーニング・ローラに押し付け、
前記クリーニング面が、前記汚染された接触クリーニング・ローラから、油性汚染性物質及び汚染性粒子を除去することを有する、汚染された接触クリーニング・ローラをクリーニングする方法。
【請求項２】
前記クリーニング面は、多孔質（例えば微孔質）又は可撓性の材料から形成されている、請求項１に記載の汚染された接触クリーニング・ローラをクリーニングする方法。
【請求項３】
前記クリーニング面は、織布又は不織布から形成されている、請求項１又は請求項２に記載の汚染された接触クリーニング・ローラをクリーニングする方法。
【請求項４】
前記クリーニング面は、マイクロファイバを基材とする布地である、請求項１から請求項３のいずれか一つの請求項に記載の汚染された接触クリーニング・ローラをクリーニングする方法。
【請求項５】
前記クリーニング面は、複数の親液性及び疎液性のマイクロファイバを含む、請求項１から請求項４のいずれか一つの請求項に記載の汚染された接触クリーニング・ローラをクリーニングする方法。
【請求項６】
前記マイクロファイバは、それぞれ親液性又は疎液性の材料からファイバを製造することにより、親液性又は疎液性にさせられる、請求項１から請求項５のいずれか一つの請求項に記載の汚染された接触クリーニング・ローラをクリーニングする方法。
【請求項７】
前記ファイバは、親液性及び疎液性の少なくともいずれか一方の材料で含浸及び被覆の少なくともいずれか一方がなされたファイバを製造するために、親液性又は疎液性の材料中に浸漬される、請求項１から請求項６のいずれか一つの請求項に記載の汚染された接触クリーニング・ローラをクリーニングする方法。
【請求項８】
前記クリーニング面上のマイクロファイバの長さは、約０．０１〜１００μｍ、約０．１〜１０μｍ、又は約５μｍのマイクロ・スケールの微細繊維である、請求項１から請求項７のいずれか一つの請求項に記載の汚染された接触クリーニング・ローラをクリーニングする方法。
【請求項９】
親液性マイクロファイバは、炭化水素系物質（例えばグリース）のような油性汚染性物質、並びに遊離したデブリのような汚染性粒子を捕集及び除去の少なくともいずれか一方をするために使用される、請求項１から請求項８のいずれか一つの請求項に記載の汚染された接触クリーニング・ローラをクリーニングする方法。
【請求項１０】
前記親液性マイクロファイバは、油性汚染性物質を引き付け、ひいては、前記接触クリーニング・ローラの表面をクリーニングする、請求項１から請求項９のいずれか一つの請求項に記載の汚染された接触クリーニング・ローラをクリーニングする方法。
【請求項１１】
前記親液性マイクロファイバは、前記汚染された接触クリーニング・ローラからグリース傷を除去するために使用される、請求項１から請求項１０のいずれか一つの請求項に記載の汚染された接触クリーニング・ローラをクリーニングする方法。
【請求項１２】
前記親液性マイクロファイバは、炭化水素系物質を、このような物質に対する強い親和性を用いて除去することによる化学作用を有するだけではなく、機械的な擦り取り作用をも提供するという点で二重機能をもたらす、請求項１から請求項１１のいずれか一つの請求項に記載の汚染された接触クリーニング・ローラをクリーニングする方法。
【請求項１３】
前記疎液性マイクロファイバはまた、前記接触クリーニング・ローラの汚染された表面からデブリを除去するための機械的な擦り取り作用を提供することにより、クリーニング過程を促進する、請求項１から請求項１２のいずれか一つの請求項に記載の汚染された接触クリーニング・ローラをクリーニングする方法。
【請求項１４】
前記疎液性マイクロファイバは、炭化水素系物質以外の材料を引き付けるために使用される、請求項１から請求項１３のいずれか一つの請求項に記載の汚染された接触クリーニング・ローラをクリーニングする方法。
【請求項１５】
前記クリーニング面は、クリーニング過程を促進するために、水でわずかに湿らされる、請求項１から請求項１４のいずれか一つの請求項に記載の汚染された接触クリーニング・ローラをクリーニングする方法。
【請求項１６】
前記クリーニング面は、クリーニング・ローラ上の微細構造面をクリーニングするために有用である、請求項１から請求項１５のいずれか一つの請求項に記載の汚染された接触クリーニング・ローラをクリーニングする方法。
【請求項１７】
前記クリーニング面は、約１０ミクロン（１０，０００ｎｍ）未満；約５ミクロン（５，０００ｎｍ）未満；約１ミクロン（１，０００ｎｍ）未満；約０．１ミクロン（１００ｎｍ）未満；約０．０１ミクロン（１０ｎｍ）未満；又は０．００５ミクロン（５ｎｍ）未満のうちのいずれか１つ又はこれらの組み合わせである断面直径を有する、微視的なサイズの汚染性粒子で汚染された接触クリーニング・ローラをクリーニングするために使用される、請求項１から請求項１６のいずれか一つの請求項に記載の汚染された接触クリーニング・ローラをクリーニングする方法。
【請求項１８】
前記クリーニング面は、約１ｎｍ〜約１０ミクロン（１０，０００ｎｍ）；約１０ｎｍ〜約１０ミクロン（１０，０００ｎｍ）；約１０ｎｍ〜約１ミクロン（１，０００ｎｍ）；約１０ｎｍ〜約０．１ミクロン（１００ｎｍ）；又は約１ｎｍ〜約０．０１ミクロン（１０ｎｍ）のうちのいずれか１つ又はこれらの組み合わせである断面直径を有する、微視的なサイズの汚染性粒子で汚染された接触クリーニング・ローラをクリーニングするために使用される、請求項１から請求項１７のいずれか一つの請求項に記載の汚染された接触クリーニング・ローラをクリーニングする方法。
【請求項１９】
汚染された接触クリーニング・ローラをクリーニングする際の、親液性及び親水性のマイクロファイバを含むクリーニング面の使用法であって、
前記親液性及び親水性のマイクロファイバを含む前記クリーニング面を、前記汚染された接触クリーニング・ローラに押し付け、
前記クリーニング面が、前記汚染された接触クリーニング・ローラから、油性汚染性物質及び汚染性粒子を除去することを有する、親液性及び親水性のマイクロファイバを含むクリーニング面の使用法。
【図１】
【公表番号】特表２０１２−５１９５８０（Ｐ２０１２−５１９５８０Ａ）
【公表日】平成２４年８月３０日（２０１２．８．３０）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−５５２５２０（Ｐ２０１１−５５２５２０）
【出願日】平成２２年３月３日（２０１０．３．３）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＧＢ２０１０／０５０３７２
【国際公開番号】ＷＯ２０１０／１００４９１
【国際公開日】平成２２年９月１０日（２０１０．９．１０）
【出願人】（５１１２１５０５６）アイティーダブリュ シーエス（ユーケー）リミティド (2)
【Ｆターム（参考）】
【公表日】平成２４年８月３０日（２０１２．８．３０）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年３月３日（２０１０．３．３）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＧＢ２０１０／０５０３７２
【国際公開番号】ＷＯ２０１０／１００４９１
【国際公開日】平成２２年９月１０日（２０１０．９．１０）
【出願人】（５１１２１５０５６）アイティーダブリュ シーエス（ユーケー）リミティド (2)
【Ｆターム（参考）】
[ Back to top ]